JP2021020899A - Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern - Google Patents
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- 150000003839 salts Chemical class 0.000 title claims abstract description 187
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 136
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 150
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 73
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 434
- -1 methacryloyloxy group Chemical group 0.000 claims description 354
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 289
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 177
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 94
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 92
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 92
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 76
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 61
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 41
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 41
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 claims description 33
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 24
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 23
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 23
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims description 4
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 186
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 81
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 80
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 70
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 52
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 37
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 36
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 36
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 36
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 33
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 32
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 23
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 22
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 21
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 20
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 20
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 20
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 20
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 19
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 16
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 16
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 14
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 13
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 13
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 13
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 13
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 13
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 13
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 13
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 12
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 12
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 12
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 11
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 11
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 10
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 9
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 9
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 9
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 8
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 8
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 7
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 7
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 7
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 7
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 7
- 125000005008 perfluoropentyl group Chemical group FC(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 7
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 6
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 6
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- DMPRDSPPYMZQBT-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-benzylpiperidin-1-yl)-1-hydroxypropyl]phenol;2,3-dihydroxybutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(O)C(O)C(O)=O.C1CC(CC=2C=CC=CC=2)CCN1C(C)C(O)C1=CC=C(O)C=C1.C1CC(CC=2C=CC=CC=2)CCN1C(C)C(O)C1=CC=C(O)C=C1 DMPRDSPPYMZQBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 4
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002592 cumenyl group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)C(C)C 0.000 description 4
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 4
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 4
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 3
- WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 2,6-di(propan-2-yl)aniline Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005074 adamantylmethyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical group O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 3
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 3
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 3
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004702 alkoxy alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004350 aryl cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 2
- 125000004186 cyclopropylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004998 naphthylethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 2
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 2
- 125000006611 nonyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N o-toluidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005069 octynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 2
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005460 perfluorocycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005459 perfluorocyclohexyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005804 perfluoroheptyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 2
- 125000004351 phenylcyclohexyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)C1(CCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- OQZAQBGJENJMHT-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromo-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(Br)=CC(Br)=C1 OQZAQBGJENJMHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBYHSSAVUBIJMK-UHFFFAOYSA-N 1,4-oxathiane Chemical group C1CSCCO1 JBYHSSAVUBIJMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBFHILNBYXCJKD-UHFFFAOYSA-N 1-(6-methylpyridin-3-yl)-2-(4-methylsulfonylphenyl)ethanone Chemical compound C1=NC(C)=CC=C1C(=O)CC1=CC=C(S(C)(=O)=O)C=C1 YBFHILNBYXCJKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLPZCIDHOZATMA-UHFFFAOYSA-N 2,2-dioxooxathiiran-3-one Chemical compound O=C1OS1(=O)=O OLPZCIDHOZATMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)-n,n-bis[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]ethanamine Chemical compound COCCOCCN(CCOCCOC)CCOCCOC XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIBUCGCVLAPQG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-pyridin-2-ylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1CCC1=CC=CC=N1 WBIBUCGCVLAPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1N OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKEOCEQLCZEBMK-BQYQJAHWSA-N 2-[(e)-2-pyridin-2-ylethenyl]pyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1/C=C/C1=CC=CC=N1 HKEOCEQLCZEBMK-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M 2-carboxyphenolate;tetrabutylazanium Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CCO KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 2-naphthylamine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N)=CC=C21 JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRKPCXYPIHAOFI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound [CH2]C1=CC=CC(N)=C1 FRKPCXYPIHAOFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylene bis(2-methylaniline) Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHBAPGWWRFVTFS-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dipyridyl disulfide Chemical compound C=1C=NC=CC=1SSC1=CC=NC=C1 UHBAPGWWRFVTFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQRKTVIJNCVZAX-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-ylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CCC1=CC=NC=C1 DQRKTVIJNCVZAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGNCVVRIKNGJHQ-UHFFFAOYSA-N 4-(3-pyridin-4-ylpropyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CCCC1=CC=NC=C1 OGNCVVRIKNGJHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-ethylphenyl)methyl]-2-ethylaniline Chemical compound C1=C(N)C(CC)=CC(CC=2C=C(CC)C(N)=CC=2)=C1 CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)ethyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CCC1=CC=C(N)C=C1 UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 4-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGJOFCCBFCHEHK-UHFFFAOYSA-N 4-pyridin-4-ylsulfanylpyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1SC1=CC=NC=C1 XGJOFCCBFCHEHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical group O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N Adamantane Natural products C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N Heptylamine Chemical compound CCCCCCCN WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCCALZHGUWNJW-UHFFFAOYSA-N N-Cyclohexyl-N-methylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C)C1CCCCC1 GSCCALZHGUWNJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N N-Methyldioctylamine Chemical compound CCCCCCCCN(C)CCCCCCCC YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- YPWFISCTZQNZAU-UHFFFAOYSA-N Thiane Chemical group C1CCSCC1 YPWFISCTZQNZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical group O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N binaphthyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FGNLEIGUMSBZQP-UHFFFAOYSA-N cadaverine dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.NCCCCCN FGNLEIGUMSBZQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005112 cycloalkylalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004850 cyclobutylmethyl group Chemical group C1(CCC1)C* 0.000 description 1
- 125000000062 cyclohexylmethoxy group Chemical group [H]C([H])(O*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 125000006547 cyclononyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N diazo(sulfonyl)methane Chemical compound [N-]=[N+]=C=S(=O)=O CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N diazonaphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=[N]=[N])C=CC2=C1 URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)C1CCCCC1 QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPOWUYJWCJRLEE-UHFFFAOYSA-N dipyridin-2-ylmethanone Chemical compound C=1C=CC=NC=1C(=O)C1=CC=CC=N1 QPOWUYJWCJRLEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N meta-toluidine Natural products CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N n,n-di(nonyl)nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CCCCCCCCC)CCCCCCCCC ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N n,n-diheptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CCCCCCC)CCCCCCC CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-ethylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(CC)CCCC BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-methylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(C)CCCC MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N n-decyl-n-ethyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCCC YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATBNMWWDBWBAHM-UHFFFAOYSA-N n-decyl-n-methyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCCC ATBNMWWDBWBAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N n-decyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCNCCCCCCCCCC GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZAHTXZMBSBSFM-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CC)CCCCCCC PZAHTXZMBSBSFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CC)CCCCCC ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GESMBXUFPAHBOJ-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCC GESMBXUFPAHBOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-octyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CC)CCCCCCCC KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CC)CCCCC PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BXYHQXUPLKMYDE-UHFFFAOYSA-N n-heptyl-n-methylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(C)CCCCCCC BXYHQXUPLKMYDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCNCCCCCCC NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-n-methylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(C)CCCCCC POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNCCCCCC PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IITLRKXIQJEWFI-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCC IITLRKXIQJEWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(C)CCCCC JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFHKEJIIHDNPQE-UHFFFAOYSA-N n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCNCCCCCCCCC MFHKEJIIHDNPQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCNCCCCC JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HMMPCBAWTWYFLR-UHFFFAOYSA-N n-pyridin-2-ylpyridin-2-amine Chemical compound C=1C=CC=NC=1NC1=CC=CC=N1 HMMPCBAWTWYFLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006574 non-aromatic ring group Chemical group 0.000 description 1
- FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000005071 nonynyl group Chemical group C(#CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N octafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005981 pentynyl group Chemical group 0.000 description 1
- YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N perfluorooctane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004065 perflutren Drugs 0.000 description 1
- 125000005562 phenanthrylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CPOUUWYFNYIYLQ-UHFFFAOYSA-M tetra(propan-2-yl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC(C)[N+](C(C)C)(C(C)C)C(C)C CPOUUWYFNYIYLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical group C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M tetraoctylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-O thiolan-1-ium Chemical group C1CC[SH+]C1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N tridecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCN ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
本発明は、塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a salt, an acid generator, a resist composition and a resist pattern.
特許文献1には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
特許文献2には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物がそれぞれ記載されている。
特許文献3には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
特許文献4には、下記式で表される塩及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
Patent Document 1 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
Patent Document 2 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
Patent Document 3 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
Patent Document 4 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
本発明は、上記の塩を含有するレジスト組成物から形成されたレジストパターンよりも、パターン倒れ耐性(PCM)が良好なレジストパターンを形成するレジスト組成物を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a resist composition that forms a resist pattern having better pattern collapse resistance (PCM) than a resist pattern formed from the resist composition containing the above salt.
本発明は、以下の発明を含む。
[1]式(I)で表される塩。
[式(I)中、
L1は、置換基を有してもよい炭素数1〜28の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
X1は、*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−又は*−O−を表し、*は、L1との結合部位を表す。
R1は、置換基を有してもよい炭素数1〜24の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
m1は、1〜3のいずれかの整数を表し、m1が2以上のとき、複数のL1、X1及びR1は、互いに同一であっても異なってもよい。
R2は、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
m2は、0〜4のいずれかの整数を表し、m2が2以上のとき、複数のR2は互いに同一であっても異なってもよい。
Z+は、有機カチオンを表す。]
[2]R1が、炭素数3〜18の環状炭化水素基(該環状炭化水素基は置換基を有してもよい。)を含む炭化水素基(該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)である[1]記載の塩。
[3]L1が炭素数1〜4のアルカンジイル基である[1]又は[2]に記載の塩。
[4]m1が2である[1]〜[3]のいずれかに記載の塩。
[5][1]〜[4]のいずれかに記載の塩を含有する酸発生剤。
[6][5]記載の酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。
[7]酸不安定基を有する樹脂が、式(a1−1)で表される構造単位及び式(a1−2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む[6]記載のレジスト組成物。
[式(a1−1)及び式(a1−2)中、
La1及びLa2は、それぞれ独立に、−O−又は*−O−(CH2)k1−CO−O−を表し、k1は1〜7のいずれかの整数を表し、*は−CO−との結合部位を表す。
Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ra6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。
m1は、0〜14のいずれかの整数を表す。
n1は、0〜10のいずれかの整数を表す。
n1’は、0〜3のいずれかの整数を表す。]
[8]酸不安定基を有する樹脂が、式(a2−A)で表される構造単位を含む[6]又は[7]記載のレジスト組成物。
[式(a2−A)中、
Ra50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
Ra51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基、炭素数2〜4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Aa50は、単結合又は*−Xa51−(Aa52−Xa52)nb−を表し、*は−Ra50が結合する炭素原子との結合部位を表す。
Aa52は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
Xa51及びXa52は、それぞれ独立に、−O−、−CO−O−又は−O−CO−を表す。
nbは、0又は1を表す。
mbは0〜4のいずれかの整数を表す。mbが2以上のいずれかの整数である場合、複数のRa51は互いに同一であっても異なってもよい。]
[9]酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する[6]〜[8]のいずれかに記載のレジスト組成物。
[10](1)[6]〜[9]のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程、
を含むレジストパターンの製造方法。
The present invention includes the following inventions.
[1] A salt represented by the formula (I).
[In formula (I),
L 1 represents a hydrocarbon group which may carbons 1 to 28 that may have a substituent, -CH 2 contained in the hydrocarbon group - is -O -, - S -, - SO 2 - or It may be replaced with −CO−.
X 1 represents * -CO-O-, * -O-CO-, * -O-CO-O- or * -O-, and * represents the binding site with L 1 .
R 1 represents a hydrocarbon group which may having 1 to 24 carbon atoms which may have a substituent, -CH 2 contained in the hydrocarbon group - is -O -, - S -, - SO 2 - or It may be replaced with −CO−.
m1 represents an integer of 1 to 3, when m1 is 2 or more, L 1, X 1 and R 1 may be the same or different from each other.
R 2 represents a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
m2 represents any integer from 0 to 4, and when m2 is 2 or more, a plurality of R 2s may be the same or different from each other.
Z + represents an organic cation. ]
[2] R 1 is a hydrocarbon group containing a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the cyclic hydrocarbon group may have a substituent) (-CH 2 contained in the hydrocarbon group). - is, -O -, - S -, - SO 2 -. of or -CO- may be substituted with) a [1] salt according.
[3] The salt according to [1] or [2], wherein L 1 is an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
[4] The salt according to any one of [1] to [3], wherein m1 is 2.
[5] An acid generator containing the salt according to any one of [1] to [4].
[6] A resist composition containing the acid generator according to [5] and a resin having an acid unstable group.
[7] The resin having an acid unstable group contains at least one selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (a1-1) and the structural unit represented by the formula (a1-2) [6]. ] The resist composition described.
[In the formula (a1-1) and the formula (a1-2),
L a1 and L a2 independently represent -O- or * -O- (CH 2 ) k1 -CO-O-, k1 represents an integer of 1 to 7, and * represents -CO-. Represents the binding site with.
R a4 and R a5 independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a6 and R a7 independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group combining these groups.
m1 represents any integer from 0 to 14.
n1 represents any integer from 0 to 10.
n1'represents an integer of 0 to 3. ]
[8] The resist composition according to [6] or [7], wherein the resin having an acid unstable group contains a structural unit represented by the formula (a2-A).
[In formula (a2-A),
R a50 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom.
Ra51 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, and acryloyl. Represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
A a50 represents a single bond or * −X a51 − (A a52 −X a52 ) nb −, and * represents a binding site with a carbon atom to which −R a50 is bonded.
A a52 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
X a51 and X a52 independently represent -O-, -CO -O- or -O-CO-, respectively.
nb represents 0 or 1.
mb represents any integer from 0 to 4. When mb is any integer of 2 or more, the plurality of Ra 51s may be the same as or different from each other. ]
[9] The resist composition according to any one of [6] to [8], which further contains a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator.
[10] (1) A step of applying the resist composition according to any one of [6] to [9] onto a substrate.
(2) A step of drying the applied composition to form a composition layer,
(3) Step of exposing the composition layer,
(4) A step of heating the composition layer after exposure, and (5) A step of developing the composition layer after heating,
A method for producing a resist pattern including.
本発明の塩を含有するレジスト組成物を用いることにより、良好なパターン倒れ耐性(PCM)でレジストパターンを製造することができる。 By using the resist composition containing the salt of the present invention, a resist pattern can be produced with good pattern collapse resistance (PCM).
本明細書において、「(メタ)アクリル系モノマー」とは、「アクリル系モノマー及びメタクリル系モノマーの少なくとも一種」を意味する。「(メタ)アクリレート」及び「(メタ)アクリル酸」等の表記も、同様の意味を表す。本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。「組み合わせた基」とは、例示した基を2種以上、それらの価数を適宜変更して結合させた基を意味する。「由来する」又は「誘導される」とは、その分子中に含まれる重合性C=C結合が重合により−C−C−基となることを指す。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を含む。 As used herein, the term "(meth) acrylic monomer" means "at least one of an acrylic monomer and a methacrylic monomer". Notations such as "(meth) acrylate" and "(meth) acrylic acid" have the same meaning. Any of the groups described in the present specification that can have both a linear structure and a branched structure may be used. The “combined group” means a group obtained by combining two or more of the exemplified groups by appropriately changing their valences. By "derived" or "derived", it means that the polymerizable C = C bond contained in the molecule becomes a -CC- group by polymerization. If stereoisomers are present, they include all stereoisomers.
〔式(I)で表される塩〕
本発明は、式(I)で表される塩(以下「塩(I)」という場合がある)に関する。
塩(I)のうち、負電荷を有する側を「アニオン(I)」、正電荷を有する側を「カチオン(I)」と称することがある。
[式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。]
[Salt represented by formula (I)]
The present invention relates to a salt represented by the formula (I) (hereinafter sometimes referred to as "salt (I)").
Of the salt (I), the side having a negative charge may be referred to as "anion (I)", and the side having a positive charge may be referred to as "cation (I)".
[In the formula, all the symbols have the same meanings as described above. ]
式(I)において、L1における2価の炭化水素基としては、アルカンジイル基等の2価の鎖式炭化水素基、単環式又は多環式の2価の脂環式炭化水素基、2価の芳香族炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組み合わせた基(例えば脂環式炭化水素基とアルカンジイル基とから形成される2価の炭化水素基)でもよい。
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基、トリデカン−1,13−ジイル基、テトラデカン−1,14−ジイル基、ペンタデカン−1,15−ジイル基、ヘキサデカン−1,16−ジイル基及びヘプタデカン−1,17−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;及び
エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。アルカンジイル基の炭素数は、好ましくは1〜12であり、より好ましくは1〜9であり、さらに好ましくは1〜6であり、より一層好ましくは1〜4である。
単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;及び
ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3〜18であり、より好ましくは3〜16であり、さらに好ましくは3〜12である。
2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、ビフェニレン基、フェナントリレン基等のアリーレン基等の芳香族炭化水素基が挙げられる。芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは6〜18であり、より好ましくは6〜14であり、さらに好ましくは6〜10である。
2種以上を組み合わせた基としては、脂環式飽和炭化水素基とアルカンジイル基とを組み合わせた基及び芳香族炭化水素基とアルカンジイル基とを組み合わせた基が挙げられる。
脂環式飽和炭化水素基とアルカンジイル基とを組み合わせた基としては、例えば、−2価の脂環式飽和炭化水素基−アルカンジイル基−、−アルカンジイル基−2価の脂環式飽和炭化水素基−アルカンジイル基−、−アルカンジイル基−2価の脂環式飽和炭化水素基−等が挙げられる。
芳香族炭化水素基とアルカンジイル基とを組み合わせた基としては、例えば、−2価の芳香族炭化水素基−アルカンジイル基−、−アルカンジイル基−2価の芳香族炭化水素基−アルカンジイル基−、−アルカンジイル基−2価の芳香族炭化水素基−等が挙げられる。
L1の炭素数1〜28の2価の炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
L1の炭素数1〜28の炭化水素基に含まれる−CH2−が−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の炭素数とする。
In the formula (I), as the divalent hydrocarbon group in L 1 , a divalent chain hydrocarbon group such as an alcandiyl group, a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic hydrocarbon group, A divalent aromatic hydrocarbon group may be mentioned, and a group in which two or more of these groups are combined (for example, a divalent hydrocarbon group formed from an alicyclic hydrocarbon group and an alcandiyl group) may be used. ..
As the alkanediyl group, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane- 1,7-Diyl Group, Octane-1,8-Diyl Group, Nonan-1,9-Diyl Group, Decane-1,10-Diyl Group, Undecane-1,11-Diyl Group, Dodecane-1,12-Diyl Linear group such as group, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group. Alkanediyl group; and ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group , 2-Methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group and other branched alkanediyl groups. The group is mentioned. The number of carbon atoms of the alkanediyl group is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 9, still more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
Examples of the monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group and cyclo. Monocyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group which is a cycloalkandyl group such as octane-1,5-diyl group; and norbornan-1,4-diyl group, norbornan-2,5-diyl group, Examples thereof include a polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group such as an adamantan-1,5-diyl group and an adamantan-2,6-diyl group. The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 18 carbon atoms, more preferably 3 to 16 carbon atoms, and further preferably 3 to 12 carbon atoms.
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group include aromatic hydrocarbon groups such as an arylene group such as a phenylene group, a naphthylene group, an anthrylene group, a biphenylene group and a phenanthrylene group. The number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.
Examples of the group in which two or more kinds are combined include a group in which an alicyclic saturated hydrocarbon group and an alkanediyl group are combined and a group in which an aromatic hydrocarbon group and an alkanediyl group are combined.
Examples of the group in which the alicyclic saturated hydrocarbon group and the alkandiyl group are combined include a -valent alicyclic saturated hydrocarbon group-alkandyl group- and a-alkandyl group-2 valent alicyclic saturated. Examples thereof include a hydrocarbon group-alcandiyl group-, an alcandiyl group-a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group-and the like.
Examples of the group in which the aromatic hydrocarbon group and the alkandiyl group are combined include a −2 valent aromatic hydrocarbon group − alcandiyl group −, a − alkandiyl group − 2 valent aromatic hydrocarbon group − alkandiyl. Examples thereof include a group-, an alcandiyl group-a divalent aromatic hydrocarbon group-and the like.
Is, -O - - -CH 2 contained in the divalent hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 28 of L 1, - S -, - SO 2 - or -CO- may be replaced with.
When -CH 2- contained in the hydrocarbon group having 1 to 28 carbon atoms of L1 is replaced with -O-, -S-, -SO 2- or -CO-, the carbon number before the replacement is replaced with the hydrocarbon. Let it be the carbon number of the hydrogen group.
L1が有してもよい置換基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基、炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基又はこれらを組み合わせた基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
炭素数1〜12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜9であり、より好ましくは1〜6であり、さらに好ましくは1〜4である。
炭素数1〜12のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基及び炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
置換基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子であることが好ましく、炭素数1〜4のアルキル基又はハロゲン原子であることがより好ましく、メチル基又はフッ素原子であることがさらに好ましい。
Examples of the substituent that L 1 may have include a hydroxy group, a carboxy group, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkoxy group having 2 to 13 carbon atoms. Examples thereof include a carbonyl group, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms, or a group combining these groups.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and a nonyl group. The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 9, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
The alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms includes a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group and an undecyloxy group. Groups, dodecyloxy groups and the like can be mentioned.
The alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, the alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, and the alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms are groups in which a carbonyl group or a carbonyloxy group is bonded to the above-mentioned alkyl group or alkoxy group. Represents.
Examples of the alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group, and examples of the alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group. Examples of the alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a butyryloxy group.
The substituent is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group or a halogen atom, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom, and a methyl group or a fluorine atom. Is even more preferable.
L1は、炭素数1〜4のアルカンジイル基(但し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)、炭素数1〜4のアルカンジイル基と炭素数3〜18の脂環式炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)又は炭素数1〜4のアルカンジイル基と置換基を有してもよい炭素数6〜18の芳香族炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)であることが好ましく、炭素数1〜4のアルカンジイル基、炭素数1〜4のアルカンジイル基と炭素数3〜18の脂環式炭化水素基とを組み合わせてなる基(但し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)又は炭素数1〜4のアルカンジイル基と置換基を有してもよいフェニレン基とを組み合わせてなる基(但し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)であることがより好ましく、炭素数1〜4のアルカンジイル基であることがさらに好ましく、メチレン基又はエチレン基であることがさらにより好ましい。 L 1 is an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms (however, -CH 2 − contained in the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-) and 1 to 4 carbon atoms. A group consisting of a combination of an alkanediyl group and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (however, -CH 2 − contained in the alkanediyl group is replaced with -O- or -CO-. -CH 2 is good, contained in the alicyclic hydrocarbon group - is, -O -, - S -, - SO 2 -. or -CO- may be replaced by) or 1 to 4 carbon atoms A group composed of a combination of an alkanediyl group and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent (however, −CH 2 − contained in the alkanediyl group is −O− or −. It may be replaced with CO−), and an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms are used. It has a group consisting of a combination (however, -CH 2 − contained in the alkanediyl group may be replaced with −O− or −CO−) or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms and a substituent. It is more preferable that the group is composed of a combination of a phenylene group which may be used (however, −CH 2 − contained in the alkanediyl group may be replaced with −O− or −CO−). It is more preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, and even more preferably a methylene group or an ethylene group.
R1における炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等の鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基)、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基等が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜9であり、より好ましくは1〜4である。アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜12であり、より好ましくは1〜9であり、さらに好ましくは1〜6であり、より一層好ましくは1〜4である。
アルケニル基としては、エテニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、tert−ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクチニル基、イソオクチニル基、ノネニル基が挙げられる。
アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、イソプロピニル基、ブチニル基、イソブチニル基、tert−ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、オクチニル基、ノニニル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、単環式、多環式及びスピロ環のいずれでもよく、飽和及び不飽和のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式シクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基等の多環式シクロアルキル基が挙げられる。脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3〜18であり、より好ましくは3〜16であり、さらに好ましくは5〜16である。
具体的に、脂環式炭化水素基としては、以下に表される基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、ビナフチル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは6〜18であり、より好ましくは6〜14であり、さらに好ましくは6〜10である。
As the hydrocarbon group in R 1 , an aliphatic hydrocarbon group (chain hydrocarbon group such as alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and alicyclic hydrocarbon group), aromatic hydrocarbon group and a combination thereof can be used. Examples include the groups formed.
As the alkyl group, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, 2 Examples thereof include -ethylhexyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group and the like. The alkyl group preferably has 1 to 9 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 9 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and even more preferably 1 to 4 carbon atoms.
Examples of the alkenyl group include an ethenyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, a tert-butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octynyl group, an isooctynyl group and a nonenyl group.
Examples of the alkynyl group include an ethynyl group, a propynyl group, an isopropynyl group, a butynyl group, an isobutynyl group, a tert-butynyl group, a pentynyl group, a hexynyl group, an octynyl group and a nonynyl group.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic, polycyclic or spiro ring, and may be saturated or unsaturated. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include monocyclic groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group, cyclodecyl group and cyclododecyl group. Cycloalkyl groups can be mentioned. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a polycyclic cycloalkyl group such as a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, and a norbornyl group. The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 18 carbon atoms, more preferably 3 to 16 carbon atoms, and further preferably 5 to 16 carbon atoms.
Specifically, examples of the alicyclic hydrocarbon group include the groups represented below.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, an anthryl group, a phenanthryl group and a binaphthyl group. The number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.
組み合わせた基の場合、上述の基において価数の異なる基(アルカンジイル基、アルカントリイル基、シクロアルカンジイル基、シクロアルカントリイル基等)が含まれていてもよい。
組み合わせることにより形成される基としては、芳香族炭化水素基と鎖式炭化水素基とを組み合わせた基(例えば、芳香族炭化水素基−アルカンジイル基−*、アルキル基−芳香族炭化水素基−*)、脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基とを組み合わせた基(例えば、脂環式炭化水素基−アルカンジイル基−*、アルキル基−脂環式炭化水素基−*)、芳香族炭化水素基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えば、芳香族炭化水素基−脂環式炭化水素基−*、脂環式炭化水素基−芳香族炭化水素基−*)が挙げられる。*は結合部位を表す。
芳香族炭化水素基−アルカンジイル基−*としては、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基が挙げられる。
アルキル基−芳香族炭化水素基−*としては、トリル基、キシリル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基−アルカンジイル基−*としては、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、1−(アダマンタン−1−イル)メチル基、1−(アダマンタン−1−イル)−1−メチルエチル等のシクロアルキルアルキル基等が挙げられる。
アルキル基−脂環式炭化水素基−*としては、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、2−アルキルアダマンタン−2−イル基等のアルキル基を有するシクロアルキル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基−脂環式炭化水素基−*としては、フェニルアダマンチル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基−芳香族炭化水素基−*としては、アダマンチルフェニル基等が挙げられる。
In the case of a combined group, groups having different valences (alkanediyl group, alkanetriyl group, cycloalkanediyl group, cycloalkanetriyl group, etc.) may be contained in the above-mentioned groups.
As the group formed by the combination, a group in which an aromatic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group are combined (for example, an aromatic hydrocarbon group-alkandyl group- *, an alkyl group-an aromatic hydrocarbon group- *), A group combining an alicyclic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group (for example, an alicyclic hydrocarbon group-alkandyl group- *, an alkyl group-alicyclic hydrocarbon group- *), aroma A group combining a group hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group (for example, an aromatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-*, an alicyclic hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group-*) Can be mentioned. * Represents the binding site.
Examples of the aromatic hydrocarbon group-alkandyl group-* include an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group.
Examples of the alkyl group-aromatic hydrocarbon group- * include a tolyl group and a xsilyl group.
The alicyclic hydrocarbon group-alkanediyl group-* includes cyclohexylmethyl group, cyclohexylethyl group, 1- (adamantan-1-yl) methyl group, 1- (adamantan-1-yl) -1-methylethyl, etc. Cycloalkylalkyl group and the like.
Examples of the alkyl group-alicyclic hydrocarbon group- * include a cycloalkyl group having an alkyl group such as a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, and a 2-alkyladamantan-2-yl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-* include a phenyladamantyl group and the like.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group-* include an adamantylphenyl group and the like.
炭化水素基に含まれる−CH2−が、−O−又は−CO−に置き換わった基としては、ヒドロキシ基、カルボキシル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、シクロヘキシルオキシ基等のシクロアルコキシ基、シクロヘキシルメトキシ基等のシクロアルキルアルコキシ基、アセチル基等のアルキルカルボニル基、メトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセチルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、ブトキシカルボニルオキシ基等のアルコキシカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等の芳香族炭化水素基−カルボニルオキシ基等が挙げられる。
また、脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−が、−O−、−CO−又は−SO2−で置き換わった基としては、以下に表される基等が挙げられる。
炭化水素基に含まれる−CH2−が、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−で置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の総炭素数とする。また、その数は、1つでもよいし、2以上でもよい、
Examples of the group in which -CH 2- contained in the hydrocarbon group is replaced with -O- or -CO- include an alkoxy group such as a hydroxy group, a carboxyl group, a methoxy group, an ethoxy group and a butoxy group, and a cyclohexyloxy group. Cycloalkyl alkoxy group such as cycloalkoxy group and cyclohexylmethoxy group, alkylcarbonyl group such as acetyl group, alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group, alkylcarbonyloxy group such as acetyloxy group, alkoxycarbonyloxy such as butoxycarbonyloxy group Examples include an aromatic hydrocarbon group such as a group and a benzoyloxy group-carbonyloxy group.
Further, -CH 2 contained in the alicyclic hydrocarbon group - is, -O -, - CO- or -SO 2 - as a substituted groups include groups represented below.
When -CH 2- contained in the hydrocarbon group is replaced by -O-, -S-, -SO 2- or -CO-, the number of carbon atoms before the replacement is defined as the total number of carbon atoms of the hydrocarbon group. .. Further, the number may be one or two or more.
R1の炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜12のアルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
炭素数1〜12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜9であり、より好ましくは1〜6であり、さらに好ましくは1〜4である。
置換基として、アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該アルキル基の総炭素数とする。置き換わった基としては、ヒドロキシ基(メチル基中に含まれる−CH2−が、−O−に置き換わった基)、カルボキシル基(エチル基中に含まれる−CH2−CH2−が、−O−CO−に置き換わった基)、アルコキシ基(アルキル基中に含まれる任意の位置の−CH2−が、−O−に置き換わった基)、アルコキシカルボニル基(アルキル基中に含まれる任意の位置の−CH2−CH2−が、−O−CO−に置き換わった基)、アルキルカルボニル基(アルキル基中に含まれる任意の位置の−CH2−が、−CO−に置き換わった基)、アルキルカルボニルオキシ基(アルキル基中に含まれる任意の位置の−CH2−CH2−が、−CO−O−に置き換わった基)等が挙げられる。
アルコキシ基としては、炭素数1〜11のアルコキシ基が挙げられ。例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基等が挙げられる。アルコキシ基の炭素数は、好ましくは1〜6であり、より好ましくは1〜4である。
アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基及びアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
アルコキシカルボニル基としては、炭素数2〜11のアルコキシカルボニル基が挙げられ、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、アルキルカルボニル基としては、炭素数2〜12のアルキルカルボニル基が挙げられ、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、アルキルカルボニルオキシ基としては、炭素数2〜11のアルキルカルボニルオキシ基が挙げられ、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基の炭素数は、好ましくは2〜6であり、より好ましくは2〜4である。アルキルカルボニル基の炭素数は、好ましくは2〜6であり、より好ましくは2〜4である。アルキルカルボニルオキシ基の炭素数は、好ましくは2〜6であり、より好ましくは2〜4である。
R1における炭化水素基は、1つの置換基又は複数の置換基を有していてもよい。
The substituents that the hydrocarbon group of R 1 may have include a halogen atom, a cyano group, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (-CH 2 − contained in the alkyl group is -O-,-. It may be replaced with S-, -CO- or -SO 2- ).
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and a nonyl group. The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 9, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 4.
When -CH 2- contained in the alkyl group as a substituent is replaced with -O- or -CO-, the number of carbon atoms before the replacement is taken as the total number of carbon atoms of the alkyl group. As the replaced group, a hydroxy group (-CH 2 − contained in the methyl group is replaced with −O −) and a carboxyl group (−CH 2 −CH 2 − contained in the ethyl group are −O. -CO-replaced group), alkoxy group (-CH 2 − at any position contained in the alkyl group is replaced with -O-), alkoxycarbonyl group (arbitrary position contained in the alkyl group) -CH 2 -CH 2 -replaced with -O-CO-), alkylcarbonyl group (group in which -CH 2-at any position contained in the alkyl group is replaced with -CO-), Examples thereof include an alkylcarbonyloxy group (a group in which −CH 2 −CH 2− at an arbitrary position contained in an alkyl group is replaced with −CO−O−) and the like.
Examples of the alkoxy group include an alkoxy group having 1 to 11 carbon atoms. Examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group and an undecyloxy group. The number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 4.
The alkoxycarbonyl group, alkylcarbonyl group and alkylcarbonyloxy group represent a group in which a carbonyl group or a carbonyloxy group is bonded to the above-mentioned alkyl group or alkoxy group.
Examples of the alkoxycarbonyl group include an alkoxycarbonyl group having 2 to 11 carbon atoms, and examples thereof include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group. Examples of the alkylcarbonyl group include alkyl having 2 to 12 carbon atoms. Examples of the carbonyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group, and examples of the alkylcarbonyloxy group include an alkylcarbonyloxy group having 2 to 11 carbon atoms, for example, an acetyloxy group and a propionyloxy group. Examples include a group and a butyryloxy group. The alkoxycarbonyl group preferably has 2 to 6 carbon atoms, more preferably 2 to 4 carbon atoms. The alkylcarbonyl group preferably has 2 to 6 carbon atoms, more preferably 2 to 4 carbon atoms. The alkylcarbonyloxy group preferably has 2 to 6 carbon atoms, more preferably 2 to 4 carbon atoms.
The hydrocarbon group in R 1 may have one substituent or a plurality of substituents.
R1における炭化水素基としては、炭素数3〜18の環状炭化水素基(該環状炭化水素基は置換基を有してもよい。)を含む炭化水素基(該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)であることが好ましい。 As the hydrocarbon group in R 1, a hydrocarbon group containing a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the cyclic hydrocarbon group may have a substituent) (included in the hydrocarbon group-. CH 2 - is, -O -, - S -, - SO 2 -. of or -CO- may be substituted with) is preferably.
環状炭化水素基を含む炭化水素基としては、単環式又は多環式の炭素数3〜18の脂環式炭化水素基及び炭素数6〜18の芳香族炭化水素基等の環状炭化水素基もしくはこれらを組み合わせた基、単環式又は多環式の炭素数3〜18の脂環式炭化水素基及び炭素数6〜18の芳香族炭化水素基等の環状炭化水素基と炭素数1〜6の鎖式炭化水素基(アルキル基、アルケニル基、アルキニル基)とを任意に組み合わせた基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、鎖式炭化水素基としては、上述した基と同様のものが挙げられる。
Examples of the hydrocarbon group containing a cyclic hydrocarbon group include a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. Alternatively, a group in which these are combined, a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms and a cyclic hydrocarbon group having 1 to 1 carbon atoms are monocyclic or polycyclic. Examples thereof include a group in which the chain hydrocarbon group (alkyl group, alkenyl group, alkynyl group) of No. 6 is arbitrarily combined.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group, the aromatic hydrocarbon group, and the chain hydrocarbon group include the same groups as those described above.
組み合わせた基としては、
脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基とを組み合わせた基(該組み合わせた基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)、脂環式炭化水素基と鎖式炭化水素基(アルキル基、アルケニル基、アルキニル基)とを組み合わせた基(該組み合わせた基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)及び芳香族炭化水素基と鎖式炭化水素基(アルキル基、アルケニル基、アルキニル基)とを組み合わせた基(該組み合わせた基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)が挙げられる。
なお、組み合わせにおいて、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、鎖状炭化水素基(アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等)は、それぞれ2種以上を組み合わせてもよい。また、いずれの基がX1に結合していてもよい。また、上述の基において価数の異なる基(アルカンジイル基、アルカントリイル基、シクロアルカンジイル基、シクロアルカントリイル基等)が含まれていてもよい。R1における環状炭化水素基を含む炭化水素基の合計炭素数は、例えば、3〜24が挙げられ、4〜18が好ましく、5〜16がより好ましい。
As a combined group,
Is, -O - - -CH 2 contained in the alicyclic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group (a group formed by combining said a combination of a group, - S -, - CO- or -SO 2 - to have replaced A group that combines an alicyclic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group (alkyl group, alkenyl group, alkynyl group) (-CH 2 − contained in the combined group is -O-, -S-, -CO- or -SO 2- may be replaced) and a group combining an aromatic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group (alkyl group, alkenyl group, alkynyl group) (the combination thereof). -CH 2- contained in the group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO 2- ).
In the combination, two or more alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and chain hydrocarbon groups (alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, etc.) may be combined. Moreover, any group may be bonded to X 1 . Further, the above-mentioned groups may contain groups having different valences (alkanediyl group, alkanetriyl group, cycloalkanediyl group, cycloalkanetriyl group, etc.). The total carbon number of the hydrocarbon group containing a cyclic hydrocarbon group for R 1 is, for example, 3 to 24 and the like, preferably 4 to 18, 5 to 16 is more preferable.
組み合わせた基の具体例としては、
アダマンチルメチル基、アダマンチルエチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基等の、脂環式炭化水素基−鎖式炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)、
メチルアダマンチル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基等の、鎖式炭化水素基−脂環式炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)、
トリル基、キシリル基等の、鎖式炭化水素基−芳香族炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)、
メチルシクロヘキシルメチル基等の、鎖式炭化水素基−脂環式炭化水素基−鎖式炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)、
ベンジル基、フェネチル基等の、芳香族炭化水素基−鎖式炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)、
トリルメチル基等の、鎖式炭化水素基−芳香族炭化水素基−鎖式炭化水素基−*(該鎖式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)、
フェニルアダマンチル基等の、芳香族炭化水素基−脂環式炭化水素基−*(該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)、
シクロヘキシルフェニル基、アダマンチルフェニル基等の、脂環式炭化水素基−芳香族炭化水素基−*(該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)等が挙げられる。ここで、*はX1との結合部位を表す。
As a specific example of the combined group,
Alicyclic hydrocarbon group such as adamantylmethyl group, adamantylethyl group, cyclohexylmethyl group, cyclohexylethyl group-chain hydrocarbon group- * (included in the chain hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group) -CH 2- may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO 2- ),
Chain hydrocarbon groups such as methyladamantyl group, methylcyclohexyl group and dimethylcyclohexyl group-Alicyclic hydrocarbon group-* (contained in the chain hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group-CH 2- May be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO 2- ),
Chain hydrocarbon groups such as tolyl groups and xsilyl groups-aromatic hydrocarbon groups-* (-CH 2 − contained in the chain hydrocarbon groups is -O-, -S-, -CO- or- It may be replaced with SO 2- ),
Methylcyclohexylmethyl groups, etc., chain hydrocarbon groups-alicyclic hydrocarbon groups-chain hydrocarbon groups-* (contained in the chain hydrocarbon groups and the alicyclic hydrocarbon groups-CH 2- , -O-, -S-, -CO- or -SO 2- ),
Aromatic hydrocarbon groups such as benzyl group and phenethyl group-chain hydrocarbon group-* (-CH 2 − contained in the chain hydrocarbon group is -O-, -S-, -CO- or- It may be replaced with SO 2- ),
Chain hydrocarbon groups such as trillmethyl groups-aromatic hydrocarbon groups-chain hydrocarbon groups-* (-CH 2 − contained in the chain hydrocarbon groups are -O-, -S-, -CO -Or -SO 2- may be replaced),
Aromatic hydrocarbon groups such as phenyladamantyl groups-alicyclic hydrocarbon groups-* (-CH 2 − contained in the alicyclic hydrocarbon groups is -O-, -S-, -CO- or- It may be replaced with SO 2- ),
Alicyclic hydrocarbon groups such as cyclohexylphenyl group and adamantylphenyl group-aromatic hydrocarbon groups-* (-CH 2 − contained in the alicyclic hydrocarbon groups is -O-, -S-,- It may be replaced with CO- or -SO 2- ) and the like. Here, * represents the binding site with X 1 .
環状炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜12のアルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)が挙げられる。
ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO2−に置き換わっていてもよい)としては、上述した基と同様のものが挙げられる。
The substituents that the cyclic hydrocarbon group may have include a halogen atom, a cyano group, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (-CH 2 − contained in the alkyl group is -O-, -S-. , -CO- or -SO 2- may be replaced).
(- is -O - -CH 2 contained in the alkyl group, - S -, - CO- or -SO 2 - may also have been replaced with) a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms as is Examples are similar to the groups described above.
炭素数3〜18の環状炭化水素基(該環状炭化水素基は置換基を有してもよい。)は、
炭素数3〜18の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基は、置換基を有してもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)、又は、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基(該芳香族炭化水素基は、置換基を有してもよい)であることが好ましく、
炭素数3〜18の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)、又は、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基(該芳香族炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよい)であることがより好ましく、
炭素数5〜16の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)であることがさらに好ましい。
The cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the cyclic hydrocarbon group may have a substituent) is
An alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the alicyclic hydrocarbon group may have a substituent, and −CH 2 − contained in the alicyclic hydrocarbon group is −O−. , -S-, -SO 2- or -CO-), or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms (the aromatic hydrocarbon group may have a substituent). Good), preferably
An alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the alicyclic hydrocarbon group may have one or more selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and a fluorine atom. , -CH 2- contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO 2- or -CO-), or an aroma having 6 to 18 carbon atoms. More preferably, it is a group hydrocarbon group (the aromatic hydrocarbon group may have one or more selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and a fluorine atom).
An alicyclic hydrocarbon group having 5 to 16 carbon atoms (the alicyclic hydrocarbon group may have one or more selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and a fluorine atom. , -CH 2 contained in the alicyclic hydrocarbon group - is, -O -, - S -, - SO 2 - it is more preferable that it is or may be substituted with -CO-).
炭素数3〜18の環状炭化水素基(該環状炭化水素基は置換基を有してもよい。)を含む炭化水素基としては、
好ましくは、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を含む炭化水素基(該脂環式炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)、又は、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を含む炭化水素基(該芳香族炭化水素基は、置換基を有してもよく、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)であり、
より好ましくは、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を含む炭化水素基(該脂環式炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよく、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)、又は、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を含む炭化水素基(該芳香族炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよく、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)であり、
さらに好ましくは、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基と炭素数1〜6の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基(該脂環式炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよく、該組み合わせた基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基(該芳香族炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよい)、又は、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基と炭素数1〜6の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基(該芳香族炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよく、該組み合わせた基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)であり、
さらにより好ましくは、炭素数5〜16の脂環式炭化水素基(該脂環式炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)、又は、炭素数5〜16の脂環式炭化水素基と炭素数1〜4の鎖式炭化水素基とを組み合わせた基(該脂環式炭化水素基は、炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシ基及びフッ素原子からなる群より選ばれる1以上を有してもよく、該組み合わせた基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい)である。
Examples of the hydrocarbon group containing a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the cyclic hydrocarbon group may have a substituent) include.
Preferably, a hydrocarbon group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the alicyclic hydrocarbon group may have a substituent and is contained in the hydrocarbon group −CH 2 −. May be replaced with -O-, -S-, -SO 2- or -CO-), or a hydrocarbon group containing an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms (the aromatic hydrocarbon). The group may have a substituent, and -CH 2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO 2- or -CO-). ,
More preferably, a hydrocarbon group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the alicyclic hydrocarbon group is selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and a fluorine atom. -CH 2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO 2- or -CO-), or carbon. A hydrocarbon group containing an aromatic hydrocarbon group of number 6 to 18 (the aromatic hydrocarbon group has one or more selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and a fluorine atom. is, -O - - -CH 2 is good, contained in the hydrocarbon group, - S -, - are or may be replaced by -CO-), - SO 2
More preferably, it has an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (the alicyclic hydrocarbon group has one or more selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and a fluorine atom. may be, -CH 2 contained in the alicyclic hydrocarbon group - is, -O -, - S -, - SO 2 - or -CO- may be replaced by), 3 to 18 carbon atoms A group in which an alicyclic hydrocarbon group of 1 to 6 is combined with a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (the alicyclic hydrocarbon group is composed of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and a fluorine atom. It may have one or more selected from the group, and -CH 2- contained in the combined group may be replaced with -O-, -S-, -SO 2- or -CO-),. An aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms (the aromatic hydrocarbon group may have one or more selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and a fluorine atom). Alternatively, a group in which an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms and a chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms are combined (the aromatic hydrocarbon group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxy group). and may have one or more selected from the group consisting of fluorine atom, -CH 2 contained in the group comprising a combination the - is, -O -, - S -, - SO 2 - or -CO- in has been replaced May be)
Even more preferably, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 16 carbon atoms (the alicyclic hydrocarbon group is one or more selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and a fluorine atom). -CH 2- contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -SO 2- or -CO-) or the number of carbon atoms. A group in which an alicyclic hydrocarbon group of 5 to 16 and a chain hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms are combined (the alicyclic hydrocarbon group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and fluorine. It may have one or more selected from the group consisting of atoms, and -CH 2- contained in the combined group may be replaced with -O-, -S-, -SO 2- or -CO-. Good).
m1は、1〜3のいずれかの整数であり、1又は2が好ましく、2がより好ましい。m1が1又は2である場合、SO3 −に対して、m置換である下記の構造であることが好ましい。
m1 is an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2, and more preferably 2. When m1 is 1 or 2, it is preferable that the structure is as follows, which is m substitution with respect to SO 3 − .
R2の炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜4であり、より好ましくは1〜3である。
R2のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
m2は、0〜4のいずれかの整数であり、0〜2のいずれかの整数であることが好ましい。一実施形態では、m2は0であるものが好ましい。また、別の実施形態では、m2が1又は2であるものが好ましい。m2が1である場合、R2がハロゲン原子であることが好ましく、R2がフッ素原子又ヨウ素原子であることがより好ましい。m2が2である場合、R2の一方がハロゲン原子であり、他方がハロゲン原子又は炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましく、R2の一方がフッ素原子又ヨウ素原子であり、他方がフッ素原子、ヨウ素原子又は炭素数1〜3のアルキル基であることがより好ましい。
The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms R 2, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert- butyl group, a pentyl group, an alkyl group such as hexyl group. The alkyl group preferably has 1 to 4 carbon atoms, and more preferably 1 to 3 carbon atoms.
Examples of the halogen atom of R 2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
m2 is any integer from 0 to 4, and preferably any integer from 0 to 2. In one embodiment, m2 is preferably 0. Moreover, in another embodiment, it is preferable that m2 is 1 or 2. When m2 is 1, it is preferable that R 2 is a halogen atom, and more preferably R 2 is a fluorine atom or an iodine atom. If m2 is 2, one of R 2 is a halogen atom, preferably the other is an alkyl group having 1 to 4 carbon halogen atom or atoms, one of R 2 is a fluorine atom The iodine atom, the other Is more preferably a fluorine atom, an iodine atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
アニオン(I)としては、例えば、以下のアニオンが挙げられる。なかでも、式(Ia−1)〜式(Ia−8)、式(Ia−14)、式(Ia−15)〜式(Ia−23)、式(Ia−29)、式(Ia−30)で表されるアニオンが好ましい。
Examples of the anion (I) include the following anions. Among them, formulas (Ia-1) to formulas (Ia-8), formulas (Ia-14), formulas (Ia-15) to formulas (Ia-23), formulas (Ia-29), formulas (Ia-30). ) Is preferable.
Z+の有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。具体的には、式(b2−1)〜式(b2−4)のいずれかで表されるカチオン(以下、式番号に応じて「カチオン(b2−1)」等という場合がある。)が挙げられる。 Examples of the Z + organic cations include organic onium cations, organic sulfonium cations, organic iodonium cations, organic ammonium cations, benzothiazolium cations, and organic phosphonium cations. Among these, organic sulfonium cations and organic iodonium cations are preferable, and aryl sulfonium cations are more preferable. Specifically, the cation represented by any of the formulas (b2-1) to (b2-4) (hereinafter, may be referred to as "cation (b2-1)" or the like depending on the formula number). Can be mentioned.
式(b2−1)〜式(b2−4)において、
Rb4〜Rb6は、それぞれ独立に、炭素数1〜30の鎖式炭化水素基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数3〜12の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数1〜12のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Rb4とRb5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わってもよい。
Rb7及びRb8は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す。
m2及びn2は、それぞれ独立に0〜5のいずれかの整数を表す。
m2が2以上のとき、複数のRb7は同一でも異なってもよく、n2が2以上のとき、複数のRb8は同一でも異なってもよい。
Rb9及びRb10は、それぞれ独立に、炭素数1〜36の鎖式炭化水素基又は炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表す。
Rb9とRb10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わってもよい。
Rb11は、水素原子、炭素数1〜36の鎖式炭化水素基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表す。
Rb12は、炭素数1〜12の鎖式炭化水素基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数1〜12のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
Rb11とRb12とは、互いに結合してそれらが結合する−CH−CO−を含めて環を形成していてもよく、該環に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わってもよい。
Rb13〜Rb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す。
Lb31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
o2、p2、s2、及びt2は、それぞれ独立に、0〜5のいずれかの整数を表す。
q2及びr2は、それぞれ独立に、0〜4のいずれかの整数を表す。
u2は0又は1を表す。
o2が2以上のとき、複数のRb13は同一又は相異なり、p2が2以上のとき、複数のRb14は同一又は相異なり、q2が2以上のとき、複数のRb15は同一又は相異なり、r2が2以上のとき、複数のRb16は同一又は相異なり、s2が2以上のとき、複数のRb17は同一又は相異なり、t2が2以上のとき、複数のRb18は同一又は相異なる。
In equations (b2-1) to (b2-4),
R b4 to R b6 independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms. The hydrogen atom contained in the chain hydrocarbon group is a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. It may be substituted, and the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms or a glycidyloxy group. It may be substituted, and the hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
R b4 and R b5 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2 − contained in the ring may be -O-, -S- or. It may be replaced with −CO−.
R b7 and R b8 independently represent a halogen atom, a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
m2 and n2 each independently represent an integer of 0 to 5.
When m2 is 2 or more, the plurality of R b7s may be the same or different, and when n2 is 2 or more, the plurality of R b8s may be the same or different.
R b9 and R b10 independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms.
R b9 and R b10 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2 − contained in the ring may be -O-, -S- or. It may be replaced with −CO−.
R b11 represents a hydrogen atom, a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R b12 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the chain hydrocarbon group can be used as the chain hydrocarbon group. The contained hydrogen atom may be substituted with an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or 1 carbon atom. It may be substituted with ~ 12 alkylcarbonyloxy groups.
R b11 and R b12 may form a ring including −CH—CO− to which they are bonded to each other, and −CH 2− contained in the ring is −O−, −S. It may be replaced with − or −CO−.
R b13 to R b18 each independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
L b31 represents a sulfur atom or an oxygen atom.
o2, p2, s2, and t2 each independently represent an integer of 0 to 5.
q2 and r2 each independently represent an integer of 0 to 4.
u2 represents 0 or 1.
When o2 is 2 or more, a plurality of R b13s are the same or different, when p2 is 2 or more, a plurality of R b14s are the same or different, and when q2 is 2 or more, a plurality of R b15s are the same or different. when r2 is 2 or more, plural R b16 same or different, when s2 is 2 or more, plural R b17 same or different, when t2 is 2 or more, plural R b18 same or different different.
脂肪族炭化水素基とは、鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基を表す。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2−エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。
特に、Rb9〜Rb12の鎖式炭化水素基は、好ましくは炭素数1〜12である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。
特に、Rb9〜Rb12の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜18、より好ましくは炭素数4〜12である。
The aliphatic hydrocarbon group represents a chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the chain hydrocarbon group include an alkyl group of a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and a 2-ethylhexyl group. Can be mentioned.
In particular, the chain hydrocarbon groups of R b9 to R b12 preferably have 1 to 12 carbon atoms.
The alicyclic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic, and the monocyclic alicyclic hydrocarbon group includes a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclo. Cycloalkyl groups such as heptyl group, cyclooctyl group and cyclodecyl group can be mentioned. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group and the following groups.
In particular, the alicyclic hydrocarbon groups of R b9 to R b12 preferably have 3 to 18 carbon atoms, and more preferably 4 to 12 carbon atoms.
水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、2−メチルアダマンタン−2−イル基、2−エチルアダマンタン−2−イル基、2−イソプロピルアダマンタン−2−イル基、メチルノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好ましくは20以下である。 Examples of the alicyclic hydrocarbon group in which the hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a 2-methyladamantan-2-yl group, and a 2-ethyladamantan-2-yl group. , 2-Isopropyl adamantan-2-yl group, methylnorbornyl group, isobornyl group and the like. In the alicyclic hydrocarbon group in which the hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group, the total number of carbon atoms of the alicyclic hydrocarbon group and the aliphatic hydrocarbon group is preferably 20 or less.
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p−エチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)及び脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロへキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)等が挙げられる。
なお、芳香族炭化水素基が、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有する場合は、炭素数1〜18の鎖式炭化水素基及び炭素数3〜18の脂環式炭化水素基が好ましい。
水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、p−メトキシフェニル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された鎖式炭化水素基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。
Examples of the aromatic hydrocarbon group include aryl groups such as a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group and a phenanthryl group. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, and the aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group (trill group, xsilyl group, cumenyl group, mesityl). Aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group (group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.) p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.) and the like.
When the aromatic hydrocarbon group has a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, a chain hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms are used. Is preferable.
Examples of the aromatic hydrocarbon group in which the hydrogen atom is substituted with an alkoxy group include a p-methoxyphenyl group.
Examples of the chain hydrocarbon group in which the hydrogen atom is substituted with an aromatic hydrocarbon group include an aralkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a trityl group, a naphthylmethyl group and a naphthylethyl group.
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び2−エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group and a dodecyloxy group.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group and the like.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
The alkylcarbonyloxy group includes methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, tert-butylcarbonyloxy group and pentylcarbonyloxy group. , Hexylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, 2-ethylhexylcarbonyloxy group and the like.
Rb4とRb5とが互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、炭素数3〜18の環が挙げられ、好ましくは炭素数4〜18の環である。また、硫黄原子を含む環は、3員環〜12員環が挙げられ、好ましくは3員環〜7員環であり、例えば下記の環が挙げられる。*は結合部位を表す。
The ring formed by R b4 and R b5 bonding to each other and together with the sulfur atom to which they bond can be monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated or unsaturated. It may be a ring of. Examples of this ring include a ring having 3 to 18 carbon atoms, preferably a ring having 4 to 18 carbon atoms. The ring containing a sulfur atom may be a 3-membered ring to a 12-membered ring, preferably a 3-membered ring to a 7-membered ring, and examples thereof include the following rings. * Represents the binding site.
Rb9とRb10とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環〜12員環が挙げられ、好ましくは3員環〜7員環である。例えば、チオラン−1−イウム環(テトラヒドロチオフェニウム環)、チアン−1−イウム環、1,4−オキサチアン−4−イウム環等が挙げられる。
Rb11とRb12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環〜12員環が挙げられ、好ましくは3員環〜7員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。
The ring formed by R b9 and R b10 together may be a monocyclic ring, a polycyclic ring, an aromatic ring, a non-aromatic ring, a saturated ring, or an unsaturated ring. This ring may be a 3-membered ring to a 12-membered ring, preferably a 3-membered ring to a 7-membered ring. For example, a thiolan-1-ium ring (tetrahydrothiophenium ring), a thian-1-ium ring, a 1,4-oxathian-4-ium ring and the like can be mentioned.
The ring formed by R b11 and R b12 together may be monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated or unsaturated. This ring may be a 3-membered ring to a 12-membered ring, preferably a 3-membered ring to a 7-membered ring. Examples thereof include an oxocycloheptane ring, an oxocyclohexane ring, an oxonorbornane ring, and an oxoadamantane ring.
カチオン(b2−1)〜カチオン(b2−4)の中でも、好ましくは、カチオン(b2−1)である。
カチオン(b2−1)としては、以下のカチオンが挙げられる。
Among the cations (b2-1) to cations (b2-4), the cation (b2-1) is preferable.
Examples of the cation (b2-1) include the following cations.
カチオン(b2−2)としては、以下のカチオンが挙げられる。
Examples of the cation (b2-2) include the following cations.
カチオン(b2−3)としては、以下のカチオンが挙げられる。
Examples of the cation (b2-3) include the following cations.
カチオン(b2−4)としては、以下のカチオンが挙げられる。
Examples of the cation (b2-4) include the following cations.
塩(I)は、上述のアニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。塩(I)としては、好ましくは、式(Ia−1)〜式(Ia−8)、式(Ia−14)、式(Ia−15)〜式(Ia−23)、式(Ia−29)、式(Ia−30)のいずれかで表されるアニオンと、カチオン(b2−1)、カチオン(b2−2)又はカチオン(b2−3)との組合せが挙げられる。 The salt (I) is a combination of the above-mentioned anion and the above-mentioned organic cation, and these can be arbitrarily combined. The salt (I) is preferably formulated (Ia-1) to (Ia-8), formula (Ia-14), formula (Ia-15) to formula (Ia-23), formula (Ia-29). ), The anion represented by any of the formulas (Ia-30), and a combination of a cation (b2-1), a cation (b2-2) or a cation (b2-3).
塩(I)としては、表1記載の塩が挙げられる。下記表において、各符号は、上述のアニオンやカチオンを表す構造に付した符号を表す。たとえば、塩(I−1)は、式(Ia−1)で示されるアニオンと式(b2−c−1)で表されるカチオンとからなる塩を意味し、以下に示す塩を表す。
なかでも、塩(I)は、塩(I−1)〜塩(I−8)、塩(I−14)、塩(I−15)〜塩(I−23)、塩(I−29)、塩(I−30)、塩(I−34)〜塩(I−41)、塩(I−47)、塩(I−48)〜塩(I−56)、塩(I−62)、塩(I−63)、塩(I−67)〜塩(I−74)、塩(I−80)、塩(I−81)〜塩(I−89)、塩(I−95)、塩(I−96)、塩(I−100)〜塩(I−107)、塩(I−113)、塩(I−114)〜塩(I−122)、塩(I−128)、塩(I−129)、塩(I−133)〜塩(I−140)、塩(I−146)、塩(I−147)〜塩(I−155)、塩(I−161)、塩(I−162)、塩(I−166)〜塩(I−173)、塩(I−179)、塩(I−180)〜塩(I−188)、塩(I−194)、塩(I−195)、塩(I−199)〜塩(I−206)、塩(I−212)、塩(I−213)〜塩(I−221)、塩(I−227)、塩(I−228)が好ましい。
Examples of the salt (I) include the salts shown in Table 1. In the table below, each reference numeral represents a reference numeral assigned to the above-mentioned structure representing an anion or cation. For example, the salt (I-1) means a salt composed of an anion represented by the formula (Ia-1) and a cation represented by the formula (b2-c-1), and represents the salt shown below.
Among them, the salt (I) is salt (I-1) to salt (I-8), salt (I-14), salt (I-15) to salt (I-23), salt (I-29). , Salt (I-30), Salt (I-34) to Salt (I-41), Salt (I-47), Salt (I-48) to Salt (I-56), Salt (I-62), Salt (I-63), salt (I-67) to salt (I-74), salt (I-80), salt (I-81) to salt (I-89), salt (I-95), salt (I-96), salt (I-100) to salt (I-107), salt (I-113), salt (I-114) to salt (I-122), salt (I-128), salt ( I-129), salt (I-133) to salt (I-140), salt (I-146), salt (I-147) to salt (I-155), salt (I-161), salt (I) -162), salt (I-166) to salt (I-173), salt (I-179), salt (I-180) to salt (I-188), salt (I-194), salt (I- 195), salt (I-199) to salt (I-206), salt (I-212), salt (I-213) to salt (I-221), salt (I-227), salt (I-228) ) Is preferable.
<塩(I)の製造方法>
塩(I)は、式(I−a)で表される塩と、式(I−b)で表される塩とを溶剤中で反応させることにより製造することができる。
[式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。Xは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はCH3SO4を表す。]
溶剤としては、クロロホルム、モノクロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、酢酸エチル、水などが挙げられる。
反応温度は、通常15℃〜80℃であり、反応時間は、通常0.5〜24時間である。
<Manufacturing method of salt (I)>
The salt (I) can be produced by reacting a salt represented by the formula (Ia) with a salt represented by the formula (Ib) in a solvent.
[In the formula, all the symbols have the same meanings as described above. X represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or CH 3 SO 4 . ]
Examples of the solvent include chloroform, monochlorobenzene, dimethylformamide, acetonitrile, ethyl acetate, water and the like.
The reaction temperature is usually 15 ° C. to 80 ° C., and the reaction time is usually 0.5 to 24 hours.
式(I−a)で表される塩としては、下記式で表される塩等が挙げられ、市場より容易に入手することができ、また、公知の製法により、容易に製造することができる。
Examples of the salt represented by the formula (Ia) include salts represented by the following formula, which can be easily obtained from the market and can be easily produced by a known manufacturing method. ..
式(I−b)で表される塩は、式(I−c)で表される塩と、式(I−d)で表される化合物とを、塩基触媒存在下、溶剤中で反応させることにより製造することができる。
[式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。]
塩基としては、炭酸カリウム、ヨウ化カリウム、ピリジン、トリエチルアミンなどが挙げられる。
溶剤としては、クロロホルム、モノクロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、酢酸エチル、水などが挙げられる。
反応温度は、通常15℃〜80℃であり、反応時間は、通常0.5〜24時間である。
For the salt represented by the formula (Ib), the salt represented by the formula (Ic) and the compound represented by the formula (Id) are reacted in a solvent in the presence of a base catalyst. It can be manufactured by.
[In the formula, all the symbols have the same meanings as described above. ]
Examples of the base include potassium carbonate, potassium iodide, pyridine, triethylamine and the like.
Examples of the solvent include chloroform, monochlorobenzene, dimethylformamide, acetonitrile, ethyl acetate, water and the like.
The reaction temperature is usually 15 ° C. to 80 ° C., and the reaction time is usually 0.5 to 24 hours.
式(I−c)で表される塩は、例えば、以下で表される塩などが挙げられ、市場より容易に入手することができる。
式(I−d)で表される化合物は、例えば、以下で表される化合物などが挙げられ、市場より容易に入手することができ、また、公知の製法により容易に製造することもできる。
Examples of the salt represented by the formula (Ic) include salts represented by the following, which can be easily obtained from the market.
Examples of the compound represented by the formula (Id) include the compounds represented by the following, which can be easily obtained from the market, and can also be easily produced by a known production method.
〔酸発生剤〕
本発明の酸発生剤は、塩(I)を含有する酸発生剤である。塩(I)を1種含んでいてもよいし、塩(I)を2種以上含んでいてもよい。
本発明の酸発生剤は、塩(I)に加えて、レジスト分野で公知の酸発生剤(以下「酸発生剤(B)」という場合がある)を含有していてもよい。酸発生剤(B)は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[Acid generator]
The acid generator of the present invention is an acid generator containing a salt (I). It may contain one kind of salt (I), or may contain two or more kinds of salt (I).
In addition to the salt (I), the acid generator of the present invention may contain an acid generator known in the field of resist (hereinafter, may be referred to as "acid generator (B)"). The acid generator (B) may be used alone or in combination of two or more.
酸発生剤(B)は、非イオン系又はイオン系のいずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤としては、スルホネートエステル類(例えば2−ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、N−スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン 4−スルホネート)、スルホン類(例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン)等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニウムカチオンを含むオニウム塩(例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩)が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。 As the acid generator (B), either a nonionic type or an ionic type may be used. Nonionic acid generators include sulfonate esters (eg 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphthoquinone 4-sulfonate), sulfones (eg disulfone, etc.). Ketosulfone, sulfonyldiazomethane) and the like. As the ionic acid generator, an onium salt containing an onium cation (for example, a diazonium salt, a phosphonium salt, a sulfonium salt, an iodonium salt) is typical. Examples of the onium salt anion include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, and a sulfonylmethide anion.
酸発生剤(B)としては、特開昭63−26653号、特開昭55−164824号、特開昭62−69263号、特開昭63−146038号、特開昭63−163452号、特開昭62−153853号、特開昭63−146029号、米国特許第3,779,778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤(B)は、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the acid generator (B) include Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-26653, Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-164824, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-69263, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-146038, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-163452. Kaisho 62-153853, JP-A-63-146029, US Pat. No. 3,779,778, US Pat. No. 3,849,137, German Patent No. 3914407, European Patent No. 126,712, etc. A compound that generates an acid by the radiation described in the above can be used. Moreover, you may use the compound produced by the known method. The acid generator (B) may be used in combination of two or more.
酸発生剤(B)は、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式(B1)で表される塩(以下「酸発生剤(B1)」という場合がある。但し、塩(I)を除く。)である。
[式(B1)中、
Qb1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
Lb1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜24の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S(O)2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
Z1+は、有機カチオンを表す。]
The acid generator (B) is preferably a fluorine-containing acid generator, and more preferably a salt represented by the formula (B1) (hereinafter, may be referred to as “acid generator (B1)”, but the salt (I). ) Is excluded.).
[In equation (B1),
Q b1 and Q b2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. , The hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have a methyl group which may have a substituent or a substituent, and is contained in the alicyclic hydrocarbon group. CH 2- may be replaced with −O−, −S (O) 2− or −CO−.
Z1 + represents an organic cation. ]
Qb1及びQb2の表すペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
Qb1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、ともにフッ素原子であることがより好ましい。
The perfluoroalkyl groups represented by Q b1 and Q b2 include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, perfluorotert-butyl group, perfluoropentyl group and Examples thereof include a perfluorohexyl group.
It is preferable that Q b1 and Q b2 are independently fluorine atoms or trifluoromethyl groups, and it is more preferable that both are fluorine atoms.
Lb1における2価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基、トリデカン−1,13−ジイル基、テトラデカン−1,14−ジイル基、ペンタデカン−1,15−ジイル基、ヘキサデカン−1,16−ジイル基及びヘプタデカン−1,17−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group in L b1 include a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. It may be a group formed by combining two or more of the groups.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1 , 7-Diyl Group, Octane-1,8-Diyl Group, Nonan-1,9-Diyl Group, Decane-1,10-Diyl Group, Undecane-1,11-Diyl Group, Dodecane-1,12-Diyl Group , Tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group. Alcandiyl group;
Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- A branched alkanediyl group such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Monocyclic 2 which is a cycloalkanediyl group such as cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclooctane-1,5-diyl group, etc. Valuable alicyclic saturated hydrocarbon group;
Polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbons such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group. The group etc. can be mentioned.
Lb1で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH2−が−O−又は−CO−で置き換わった基としては、例えば、式(b1−1)〜式(b1−3)のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式(b1−1)〜式(b1−3)及びそれらの具体例である式(b1−4)〜式(b1−11)で表される基において、*は−Yとの結合部位を表す。 Examples of the group in which -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 is replaced with -O- or -CO- include formulas (b1-1) to (b1-3). A group represented by any of the above can be mentioned. In the groups represented by the formulas (b1-1) to (b1-3) and their specific examples, the formulas (b1-4) to (b1-11), * is the binding site with -Y. Represents.
[式(b1−1)中、
Lb2は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Lb3は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb2とLb3との炭素数合計は、22以下である。
式(b1−2)中、
Lb4は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Lb5は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb4とLb5との炭素数合計は、22以下である。
式(b1−3)中、
Lb6は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
Lb7は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb6とLb7との炭素数合計は、23以下である。
*及び**は結合部位を表し、*はYとの結合部位を表す。]
[In equation (b1-1),
L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated hydrocarbon group may be substituted. -CH 2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
However, the total number of carbon atoms of L b2 and L b3 is 22 or less.
In equation (b1-2),
L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated hydrocarbon group may be substituted. -CH 2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
However, the total number of carbon atoms of L b4 and L b5 is 22 or less.
In equation (b1-3),
L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated hydrocarbon group may be substituted. -CH 2- contained in the hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
However, the total number of carbon atoms of L b6 and L b7 is 23 or less.
* And ** represent the binding site, and * represents the binding site with Y. ]
式(b1−1)〜式(b1−3)で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる−CH2−が−O−又は−CO−に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
2価の飽和炭化水素基としては、Lb1の2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
Lb2は、好ましくは単結合である。
Lb3は、好ましくは炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
Lb4は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基であり、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Lb5は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb6は、好ましくは単結合又は炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Lb7は、好ましくは単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
In the groups represented by the formulas (b1-1) to (b1-3), when -CH 2 − contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with -O- or -CO-, the carbon before the replacement Let the number be the number of carbon atoms of the saturated hydrocarbon group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group include those similar to the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 .
L b2 is preferably a single bond.
L b3 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
Lb1で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH2−が−O−又は−CO−で置き換わった基としては、式(b1−1)又は式(b1−3)で表される基が好ましい。
式(b1−1)で表される基としては、式(b1−4)〜式(b1−8)でそれぞれ表される基が挙げられる。
[式(b1−4)中、
Lb8は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式(b1−5)中、
Lb9は、炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
Lb10は、単結合又は炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb9及びLb10の合計炭素数は20以下である。
式(b1−6)中、
Lb11は、炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
Lb12は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb11及びLb12の合計炭素数は21以下である。
式(b1−7)中、
Lb13は、炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基を表す。
Lb14は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
Lb15は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb13〜Lb15の合計炭素数は19以下である。
式(b1−8)中、
Lb16は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
Lb17は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
Lb18は、単結合又は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb16〜Lb18の合計炭素数は19以下である。
*及び**は結合部位を表し、*はYとの結合部位を表す。]
Lb8は、好ましくは炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
Lb9は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb10は、好ましくは単結合又は炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb11は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb12は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb13は、好ましくは炭素数1〜12の2価の飽和炭化水素基である。
Lb14は、好ましくは単結合又は炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基である。
Lb15は、好ましくは単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
Lb16は、好ましくは炭素数1〜12の2価の飽和炭化水素基である。
Lb17は、好ましくは炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基である。
Lb18は、好ましくは単結合又は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
The group in which -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 is replaced with -O- or -CO- is represented by the formula (b1-1) or the formula (b1-3). Is preferred.
Examples of the group represented by the formula (b1-1) include groups represented by the formulas (b1-4) to (b1-8), respectively.
[In equation (b1-4),
L b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
In equation (b1-5),
L b9 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
L b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ..
However, the total number of carbon atoms of L b9 and L b10 is 20 or less.
In equation (b1-6),
L b11 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ..
However, the total number of carbon atoms of L b11 and L b12 is 21 or less.
In equation (b1-7),
L b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms.
L b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group is replaced with -O- or -CO-. May be good.
L b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ..
However, the total number of carbon atoms of L b13 to L b15 is 19 or less.
In equation (b1-8),
L b16 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-.
L b17 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b18 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. ..
However, the total number of carbon atoms of L b16 to L b18 is 19 or less.
* And ** represent the binding site, and * represents the binding site with Y. ]
L b8 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b9 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b10 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b15 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b16 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b17 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b18 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
式(b1−3)で表される基としては、式(b1−9)〜式(b1−11)でそれぞれ表される基が挙げられる。
[式(b1−9)中、
Lb19は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Lb20は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb19及びLb20の合計炭素数は23以下である。
式(b1−10)中、
Lb21は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Lb22は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
Lb23は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb21、Lb22及びLb23の合計炭素数は21以下である。
式(b1−11)中、
Lb24は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Lb25は、炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
Lb26は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb24、Lb25及びLb26の合計炭素数は21以下である。
*及び**は結合部位を表し、*はYとの結合部位を表す。]
Examples of the group represented by the formula (b1-3) include groups represented by the formulas (b1-9) to (b1-11), respectively.
[In equation (b1-9),
L b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. May be good. -CH 2 − contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with −O− or −CO−, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxy group.
However, the total number of carbon atoms of L b19 and L b20 is 23 or less.
In equation (b1-10),
L b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. May be good. -CH 2 − contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with −O− or −CO−, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b21 , L b22 and L b23 is 21 or less.
In equation (b1-11),
L b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. May be good. -CH 2 − contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with −O− or −CO−, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxy group.
However, L b24, the total number of carbon atoms of L b25 and L b26 is 21 or less.
* And ** represent the binding site, and * represents the binding site with Y. ]
なお、式(b1−9)で表される基から式(b1−11)で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
In addition, in the group represented by the formula (b1-11) from the group represented by the formula (b1-9), when the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with the alkylcarbonyloxy group, it is replaced. Let the previous carbon number be the carbon number of the saturated hydrocarbon group.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group, an adamantylcarbonyloxy group and the like.
式(b1−4)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-4) include the following.
式(b1−5)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-5) include the following.
式(b1−6)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-6) include the following.
式(b1−7)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-7) include the following.
式(b1−8)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-8) include the following.
式(b1−2)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-2) include the following.
式(b1−9)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-9) include the following.
式(b1−10)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-10) include the following.
式(b1−11)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-11) include the following.
Yで表される脂環式炭化水素基としては、式(Y1)〜式(Y11)、式(Y36)〜式(Y38)で表される基が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−が−O−、−S(O)2−又は−CO−で置き換わる場合、その数は1つでもよいし、2以上でもよい。そのような基としては、式(Y12)〜式(Y35)、式(Y39)〜式(Y43)で表される基が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基としては、好ましくは式(Y1)〜式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)〜式(Y43)のいずれかで表される基であり、より好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y16)、式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)、式(Y40)、式(Y42)又は式(Y43)で表される基であり、さらに好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)、式(Y40)、式(Y42)又は式(Y43)で表される基である。
Yで表される脂環式炭化水素基が式(Y28)〜式(Y35)、式(Y39)、式(Y40)、式(Y42)又は式(Y43)等の酸素原子を含むスピロ環である場合には、2つの酸素原子間のアルカンジイル基は、1以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていないのが好ましい。
Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y include groups represented by formulas (Y1) to (Y11) and formulas (Y36) to (Y38).
When -CH 2- contained in the alicyclic hydrocarbon group represented by Y is replaced by -O-, -S (O) 2- or -CO-, the number may be one or two or more. Good. Examples of such groups include groups represented by the formulas (Y12) to (Y35) and the formulas (Y39) to (Y43).
The alicyclic hydrocarbon group represented by Y is preferably Formula (Y1) to Formula (Y20), Formula (Y26), Formula (Y27), Formula (Y30), Formula (Y31), Formula (Y39). A group represented by any of the formulas (Y43), more preferably the formula (Y11), the formula (Y15), the formula (Y16), the formula (Y20), the formula (Y26), the formula (Y27), and the formula. (Y30), formula (Y31), formula (Y39), formula (Y40), formula (Y42) or formula (Y43), more preferably formula (Y11), formula (Y15), formula. (Y20), formula (Y26), formula (Y27), formula (Y30), formula (Y31), formula (Y39), formula (Y40), formula (Y42) or formula (Y43). ..
The alicyclic hydrocarbon group represented by Y is a spiro ring containing an oxygen atom of the formulas (Y28) to (Y35), formula (Y39), formula (Y40), formula (Y42) or formula (Y43). In some cases, the alkylandyl group between the two oxygen atoms preferably has one or more fluorine atoms. Further, among the alkanediyl groups contained in the ketal structure, it is preferable that the methylene group adjacent to the oxygen atom is not substituted with a fluorine atom.
Yで表されるメチル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基、−(CH2)ja−CO−O−Rb1基又は−(CH2)ja−O−CO−Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。jaは、0〜4のいずれかの整数を表す。該アルキル基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S(O)2−又は−CO−で置き換わっていてもよく、該アルキル基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子に置き換わっていてもよい。)等が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基(該アルキル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−で置き換わっていてもよい。)、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、炭素数7〜21のアラルキル基、グリシジルオキシ基、−(CH2)ja−CO−O−Rb1基又は−(CH2)ja−O−CO−Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。jaは、0〜4のいずれかの整数を表す。該アルキル基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S(O)2−又は−CO−で置き換わっていてもよく、該アルキル基、該脂環式炭化水素基及び該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子に置き換わっていてもよい。)等が挙げられる。
Examples of the substituent of the methyl group represented by Y include a halogen atom, a hydroxy group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group, and-(. CH 2 ) ja- CO-O-R b1 group or-(CH 2 ) ja- O-CO-R b1 group (in the formula, R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms and 3 to 16 carbon atoms. It represents an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group in which they are combined. Ja represents an integer of 0 to 4. The alkyl group and the alicyclic carbonization. The −CH 2 − contained in the hydrogen group may be replaced by −O−, −S (O) 2− or −CO−, and the alkyl group, the alicyclic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon may be replaced. The hydrogen atom contained in the group may be replaced with a hydroxy group or a fluorine atom.) And the like.
As the substituent of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y, an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group or a hydroxy group (-CH 2 contained in the alkyl group). -May be replaced with -O- or -CO-), an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and 7 to 21 carbon atoms. Aralkyl group, glycidyloxy group,-(CH 2 ) ja- CO-O-R b1 group or- (CH 2 ) ja- O-CO-R b1 group (in the formula, R b1 has 1 to 16 carbon atoms. It represents an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group combining these. Ja represents an integer of 0 to 4. The -CH 2- contained in the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group may be replaced by -O-, -S (O) 2- or -CO-, and the alkyl group, the alicyclic group. The hydrogen atom contained in the hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group may be replaced with a hydroxy group or a fluorine atom) and the like.
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。脂環式炭化水素基は、鎖式炭化水素基を有していてもよく、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基等が挙げられる。脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3〜12であり、より好ましくは3〜10である。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p−エチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)及び脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロへキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)等が挙げられる。芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは6〜14であり、より好ましくは6〜10である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜12であり、より好ましくは1〜9であり、さらに好ましくは1〜6であり、より一層好ましくは1〜4である。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキル基に含まれる−CH2−が−O−、−S(O)2−又は−CO−等で置き換わった基としては、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基又はこれらを組み合わせた基などが挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。アルコキシ基の炭素数は、好ましくは1〜12であり、より好ましくは1〜6であり、さらに好ましくは1〜4である。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基の炭素数は、好ましくは2〜12であり、より好ましくは2〜6であり、さらに好ましくは2〜4である。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基の炭素数は、好ましくは2〜12であり、より好ましくは2〜6であり、さらに好ましくは2〜4である。
アルキルカルボニルオキシ基としては、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。アルキルカルボニルオキシ基の炭素数は、好ましくは2〜12であり、より好ましくは2〜6であり、さらに好ましくは2〜4である。
組み合わせた基としては、例えば、アルコキシ基とアルキル基とを組み合わせた基、アルコキシ基とアルコキシ基とを組み合わせた基、アルコキシ基とアルキルカルボニル基とを組み合わせた基、アルコキシ基とアルキルカルボニルオキシ基とを組み合わせた基等が挙げられる。
アルコキシ基とアルキル基とを組み合わせた基としては、例えば、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、エトキシメチル基等のアルコキシアルキル基等が挙げられる。アルコキシアルキル基の炭素数は、好ましくは2〜12であり、より好ましくは2〜6であり、さらに好ましくは2〜4である。
アルコキシ基とアルコキシ基とを組み合わせた基としては、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基等が挙げられる。アルコキシアルコキシ基の炭素数は、好ましくは2〜12であり、より好ましくは2〜6であり、さらに好ましくは2〜4である。
アルコキシ基とアルキルカルボニル基とを組み合わせた基としては、メトキシアセチル基、メトキシプロピオニル基、エトキシアセチル基、エトキシプロピオニル基等のアルコキシアルキルカルボニル基等が挙げられる。アルコキシアルキルカルボニル基の炭素数は、好ましくは3〜13であり、より好ましくは3〜7であり、さらに好ましくは3〜5である。
アルコキシ基とアルキルカルボニルオキシ基とを組み合わせた基としては、メトキシアセチルオキシ基、メトキシプロピオニルオキシ基、エトキシアセチルオキシ基、エトキシプロピオニルオキシ基等のアルコキシアルキルカルボニルオキシ基等が挙げられる。アルコキシアルキルカルボニルオキシ基の炭素数は、好ましくは3〜13であり、より好ましくは3〜7であり、さらに好ましくは3〜5である。
脂環式炭化水素基に含まれる−CH2−が−O−、−S(O)2−又は−CO−等で置き換わった基としては、式(Y12)〜式(Y35)、式(Y39)〜式(Y43)で表される基等が挙げられる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, an adamantyl group and the like. The alicyclic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group, and examples thereof include a methylcyclohexyl group and a dimethylcyclohexyl group. The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 12 carbon atoms, and more preferably 3 to 10 carbon atoms.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an anthryl group and a phenanthryl group. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, and the aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group (trill group, xsilyl group, cumenyl group, mesityl). Aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group (group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.) p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.) and the like. The number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 14, and more preferably 6 to 10.
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, a 2-ethylhexyl group, an octyl group and a nonyl group. Examples include a group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group and the like. The alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 9 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and even more preferably 1 to 4 carbon atoms.
Examples of the alkyl group substituted with the hydroxy group include hydroxyalkyl groups such as a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group.
Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group and a naphthylethyl group.
Examples of the group in which -CH 2- contained in the alkyl group is replaced with -O-, -S (O) 2- or -CO-, etc. include an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkylcarbonyl group, an alkylcarbonyloxy group, or these. Examples include a group that combines.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group and a dodecyloxy group. The alkoxy group has preferably 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and further preferably 1 to 4 carbon atoms.
Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group and the like. The alkoxycarbonyl group has preferably 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, and even more preferably 2 to 4 carbon atoms.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group and the like. The alkylcarbonyl group preferably has 2-12 carbon atoms, more preferably 2-6 carbon atoms, and even more preferably 2-4 carbon atoms.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group and the like. The alkylcarbonyloxy group preferably has 2-12 carbon atoms, more preferably 2-6 carbon atoms, and even more preferably 2-4 carbon atoms.
Examples of the combined group include a group combining an alkoxy group and an alkyl group, a group combining an alkoxy group and an alkoxy group, a group combining an alkoxy group and an alkylcarbonyl group, and an alkoxy group and an alkylcarbonyloxy group. Examples include a group in which the above are combined.
Examples of the group in which the alkoxy group and the alkyl group are combined include an alkoxyalkyl group such as a methoxymethyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group and an ethoxymethyl group. The alkoxyalkyl group has preferably 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, and further preferably 2 to 4 carbon atoms.
Examples of the group in which the alkoxy group and the alkoxy group are combined include an alkoxyalkoxy group such as a methoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, an ethoxymethoxy group, and an ethoxyethoxy group. The alkoxyalkoxy group has preferably 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, and further preferably 2 to 4 carbon atoms.
Examples of the group in which the alkoxy group and the alkylcarbonyl group are combined include an alkoxyalkylcarbonyl group such as a methoxyacetyl group, a methoxypropionyl group, an ethoxyacetyl group, and an ethoxypropionyl group. The alkoxyalkylcarbonyl group preferably has 3 to 13 carbon atoms, more preferably 3 to 7 carbon atoms, and even more preferably 3 to 5 carbon atoms.
Examples of the group in which the alkoxy group and the alkylcarbonyloxy group are combined include an alkoxyalkylcarbonyloxy group such as a methoxyacetyloxy group, a methoxypropionyloxy group, an ethoxyacetyloxy group, and an ethoxypropionyloxy group. The alkoxyalkylcarbonyloxy group preferably has 3 to 13 carbon atoms, more preferably 3 to 7 carbon atoms, and even more preferably 3 to 5 carbon atoms.
The groups in which -CH 2- contained in the alicyclic hydrocarbon group is replaced by -O-, -S (O) 2- or -CO-, etc. are represented by the formulas (Y12) to (Y35) and (Y39). ) ~ Groups represented by the formula (Y43) and the like.
Yとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of Y include the following.
Yは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3〜24の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3〜20の脂環式炭化水素基であり、さらに好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基であり、より一層好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又はアダマンチル基を構成する−CH2−は−CO−、−S(O)2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。Yは、具体的に好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基、オキソアダマンチル基又は式(Y42)、式(Y100)〜式(Y114)で表される基である。 Y is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have a substituent, and more preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms which may have a substituent. It is a hydrocarbon group, more preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and even more preferably an adamantyl group which may have a substituent. -CH 2 − constituting the alicyclic hydrocarbon group or adamantyl group may be replaced with −CO−, −S (O) 2- or −CO−. Specifically, Y is preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, an oxoadamantyl group or a group represented by the formula (Y42) and the formulas (Y100) to (Y114).
式(B1)で表される塩におけるアニオンとしては、式(B1−A−1)〜式(B1−A−59)で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン(B1−A−1)」等という場合がある。〕が好ましく、式(B1−A−1)〜式(B1−A−4)、式(B1−A−9)、式(B1−A−10)、式(B1−A−24)〜式(B1−A−33)、式(B1−A−36)〜式(B1−A−40)、式(B1−A−47)〜式(B1−A−59)のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。 Examples of the anion in the salt represented by the formula (B1) include anions represented by the formulas (B1-A-1) to (B1-A-59) [hereinafter, "anion (B1-A)" according to the formula number. -1) ”and so on. ] Are preferable, and formulas (B1-A-1) to (B1-A-4), formulas (B1-A-9), formulas (B1-A-10), formulas (B1-A-24) to formulas (B1-A-24) to formulas. (B1-A-33), formulas (B1-A-36) to formulas (B1-A-40), formulas (B1-A-47) to formulas (B1-A-59). Anions are more preferred.
ここでRi2〜Ri7は、互いに独立に、例えば、炭素数1〜4のアルキル基、好ましくはメチル基又はエチル基である。Ri8は、例えば、炭素数1〜12の鎖式炭化水素基、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数5〜12の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。LA41は、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基である。Qb1及びQb2は、上記と同じ意味を表す。
式(B1)で表される塩におけるアニオンとしては、具体的には、特開2010−204646号公報に記載されたアニオンが挙げられる。
Here, R i2 to R i7 are, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group, independently of each other. R i8 is formed, for example, by a chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a combination thereof. Group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group. LA41 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms. Q b1 and Q b2 have the same meanings as described above.
Specific examples of the anion in the salt represented by the formula (B1) include the anion described in JP-A-2010-204646.
式(B1)で表される塩におけるアニオンとして好ましくは、式(B1a−1)〜式(B1a−38)でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。
Preferred examples of the anion in the salt represented by the formula (B1) include anions represented by the formulas (B1a-1) to (B1a-38).
なかでも、式(B1a−1)〜式(B1a−3)、式(B1a−7)〜式(B1a−16)、式(B1a−18)、式(B1a−19)、式(B1a−22)〜式(B1a−38)のいずれかで表されるアニオンが好ましい。 Among them, equations (B1a-1) to (B1a-3), equations (B1a-7) to (B1a-16), equations (B1a-18), equations (B1a-19), equations (B1a-22). )-Anion represented by any of the formulas (B1a-38) is preferable.
Z1+の有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。アリールスルホニウムカチオンとしては、式(I)におけるカチオンZ+と同様のものが挙げられる。 Examples of the Z1 + organic cations include organic onium cations, organic sulfonium cations, organic iodonium cations, organic ammonium cations, benzothiazolium cations, and organic phosphonium cations. Among these, organic sulfonium cations and organic iodonium cations are preferable, and aryl sulfonium cations are more preferable. Examples of the aryl sulfonium cation include those similar to the cation Z + in the formula (I).
酸発生剤(B)は、上述のアニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1a−1)〜式(B1a−3)及び式(B1a−7)〜式(B1a−16)、式(B1a−18)、式(B1a−19)、式(B1a−22)〜式(B1a−38)のいずれかで表されるアニオンと、カチオン(b2−1)又はカチオン(b2−3)との組合せが挙げられる。 The acid generator (B) is a combination of the above-mentioned anion and the above-mentioned organic cation, and these can be arbitrarily combined. As the acid generator (B), the formulas (B1a-1) to (B1a-3), formulas (B1a-7) to formulas (B1a-16), formulas (B1a-18), and formulas (B1a-) are preferably used. 19), a combination of an anion represented by any of the formulas (B1a-22) to (B1a-38) and a cation (b2-1) or a cation (b2-3) can be mentioned.
酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1−1)〜式(B1−56)でそれぞれ表されるものが挙げられる、中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式(B1−1)〜式(B1−3)、式(B1−5)〜式(B1−7)、式(B1−11)〜式(B1−14)、式(B1−20)〜式(B1−26)、式(B1−29)、式(B1−31)〜式(B1−56)で表されるものがとりわけ好ましい。
Examples of the acid generator (B) preferably include those represented by the formulas (B1-1) to (B1-56), and among them, those containing an arylsulfonium cation are preferable, and the acid generator (B) contains the arylsulfonium cation, and the formula (B1-1). ~ Formula (B1-3), Formula (B1-5) ~ Formula (B1-7), Formula (B1-11) ~ Formula (B1-14), Formula (B1-20) ~ Formula (B1-26), Those represented by the formulas (B1-29) and the formulas (B1-31) to (B1-56) are particularly preferable.
酸発生剤として塩(I)及び酸発生剤(B)を含有する場合、塩(I)と酸生剤(B)との含有量の比(質量比;塩(I):酸発生剤(B))は、通常、1:99〜99:1であり、好ましくは2:98〜98:2であり、より好ましくは5:95〜95:5であり、さらに好ましくは10:90〜90:10であり、特に好ましくは15:85〜85:15である。
本発明のレジスト組成物においては、酸発生剤の合計の含有率は、後述の樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1質量部以上45質量部以下、より好ましくは1質量部以上40質量部以下、さらに好ましくは3質量部以上35質量部以下である。
When the salt (I) and the acid generator (B) are contained as the acid generator, the ratio of the contents of the salt (I) and the acid biochemical agent (B) (mass ratio; salt (I): acid generator ( B)) is usually 1:99 to 99: 1, preferably 2:98 to 98: 2, more preferably 5:95 to 95: 5, and even more preferably 10:90 to 90. : 10, particularly preferably 15:85-85:15.
In the resist composition of the present invention, the total content of the acid generator is preferably 1 part by mass or more and 45 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or more, with respect to 100 parts by mass of the resin (A) described later. It is 40 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or more and 35 parts by mass or less.
〔レジスト組成物〕
本発明のレジスト組成物は、塩(I)を含む酸発生剤と、酸不安定基を有する樹脂(以下「樹脂(A)」という場合がある)とを含有する。ここで、「酸不安定基」とは、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、構成単位が親水性基(例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基)を有する構成単位に変換する基を意味する。
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩等のクエンチャー(以下「クエンチャー(C)」という場合がある)を含有することが好ましく、溶剤(以下「溶剤(E)」という場合がある)を含有することが好ましい。
[Resist composition]
The resist composition of the present invention contains an acid generator containing a salt (I) and a resin having an acid unstable group (hereinafter, may be referred to as "resin (A)"). Here, the "acid-unstable group" has a leaving group, and the leaving group is removed by contact with an acid, and the constituent unit has a hydrophilic group (for example, a hydroxy group or a carboxy group). It means a group to be converted into a unit.
The resist composition of the present invention preferably contains a quencher (hereinafter, may be referred to as "quencher (C)") such as a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator. , A solvent (hereinafter sometimes referred to as "solvent (E)") is preferably contained.
<樹脂(A)>
樹脂(A)は、酸不安定基を有する構造単位(以下「構造単位(a1)」という場合がある)を有する。樹脂(A)は、さらに、構造単位(a1)以外の構造単位を含むことが好ましい。構造単位(a1)以外の構造単位としては、酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(s)」という場合がある)、構造単位(a1)及び構造単位(s)以外の構造単位(例えば、後述するハロゲン原子を有する構造単位(以下「構造単位(a4)」という場合がある)、後述する非脱離炭化水素基を有する構造単位(以下「構造単位(a5)」という場合がある)及びその他の当該分野で公知のモノマーに由来する構造単位等が挙げられる。
<Resin (A)>
The resin (A) has a structural unit having an acid unstable group (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1)”). The resin (A) preferably further contains a structural unit other than the structural unit (a1). Structural units other than the structural unit (a1) include structural units having no acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (s)"), structural units (a1), and structural units other than the structural unit (s). A structural unit (for example, a structural unit having a halogen atom described later (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a4)”) and a structural unit having a non-desorbed hydrocarbon group described later (hereinafter referred to as “structural unit (a5)”). In some cases) and other structural units derived from monomers known in the art.
〈構造単位(a1)〉
構造単位(a1)は、酸不安定基を有するモノマー(以下「モノマー(a1)」という場合がある)から導かれる。
樹脂(A)に含まれる酸不安定基は、式(1)で表される基(以下、基(1)とも記す)及び/又は式(2)で表される基(以下、基(2)とも記す)が好ましい。
[式(1)中、Ra1、Ra2及びRa3は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ra1及びRa2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数3〜20の脂環式炭化水素基を形成する。
ma及びnaは、それぞれ独立して、0又は1を表し、ma及びnaの少なくとも一方は1を表す。
*は結合部位を表す。]
[式(2)中、Ra1'及びRa2'は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Ra3'は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、Ra2'及びRa3'は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに炭素数3〜20の複素環基を形成し、該炭化水素基及び該複素環基に含まれる−CH2−は、−O−又は−S−で置き換わってもよい。
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
na’は、0又は1を表す。
*は結合部位を表す。]
<Structural unit (a1)>
The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid unstable group (hereinafter, may be referred to as “monomer (a1)”).
The acid-unstable group contained in the resin (A) is a group represented by the formula (1) (hereinafter, also referred to as a group (1)) and / or a group represented by the formula (2) (hereinafter, a group (2). ) Is also preferable.
[In the formula (1), R a1 , R a2, and R a3 independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a group combining these groups. R a1 and R a2 are bonded to each other to form an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.
ma and na independently represent 0 or 1, and at least one of ma and na represents 1.
* Represents the binding site. ]
[In the formula (2), R a1'and R a2' each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R a3' represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Represented, R a2'and R a3' are bonded to each other to form a heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom and X to which they are bonded, and are contained in the hydrocarbon group and the heterocyclic group-. CH 2- may be replaced by −O− or −S−.
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
na'represents 0 or 1.
* Represents the binding site. ]
Ra1、Ra2及びRa3におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
Ra1、Ra2及びRa3における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等が挙げられる。Ra1、Ra2及びRa3の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3〜16である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられる。
好ましくは、maは0であり、naは1である。
Ra1及びRa2が互いに結合して脂環式炭化水素基を形成する場合の−C(Ra1)(Ra2)(Ra3)としては、下記の基が挙げられる。脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜12である。*は−O−との結合部位を表す。
Examples of the alkyl group in R a1 , R a2 and R a3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group and the like.
The alicyclic hydrocarbon group in R a1 , R a2 and R a3 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group and the following groups (* indicates a binding site). The alicyclic hydrocarbon groups of R a1 , R a2 and R a3 have preferably 3 to 16 carbon atoms.
Examples of the group in which the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group are combined include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a methylnorbornyl group, a cyclohexylmethyl group, an adamantylmethyl group, an adamantyldimethyl group and a norbornyl group. Examples include an ethyl group.
Preferably, ma is 0 and na is 1.
Examples of -C (R a1 ) (R a2 ) (R a3 ) in the case where R a1 and R a 2 are bonded to each other to form an alicyclic hydrocarbon group include the following groups. The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 12 carbon atoms. * Represents the binding site with -O-.
Ra1'、Ra2'及びRa3'における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ra1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(シクロアルキルアルキル基等)、アラルキル基(ベンジル基等)、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロヘキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)、アリール−シクロアルキル基(フェニルシクロヘキシル基等)等が挙げられる。
Ra2'及びRa3'が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに複素環を形成する場合、−C(Ra1')(Ra2')−X−Ra3'としては、下記の環が挙げられる。*は、結合部位を表す。
Ra1'及びRa2'のうち、少なくとも1つは水素原子であることが好ましい。
na’は、好ましくは0である。
Examples of the hydrocarbon group in R a1' , R a2' and R a3' include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group and a group formed by combining these.
Examples of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group include the same groups as those mentioned in R a1 , R a2 and R a3 .
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group and a phenanthryl group.
Examples of the combined group include a group combining the above-mentioned alkyl group and alicyclic hydrocarbon group (cycloalkylalkyl group, etc.), an aralkyl group (benzyl group, etc.), and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-. Methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, trill group, xsilyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon group Examples thereof include an aromatic hydrocarbon group having (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), an aryl-cycloalkyl group (phenylcyclohexyl group, etc.) and the like.
When R a2'and R a3'bond to each other to form a heterocycle with the carbon atom and X to which they are bonded, -C (R a1' ) (R a2' )-X-R a3'is as follows. Ring of. * Represents the binding site.
Of R a1 'and R a2', it is preferable that at least one is a hydrogen atom.
na'is preferably 0.
基(1)としては、以下の基が挙げられる。
式(1)においてRa1、Ra2及びRa3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。当該基としては、tert−ブトキシカルボニル基が好ましい。
式(1)において、Ra1、Ra2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマンチル基を形成し、Ra3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。
式(1)において、Ra1及びRa2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ra3がアダマンチル基であり、ma=0であり、na=1である基。
基(1)としては、具体的には以下の基が挙げられる。*は結合部位を表す。
Examples of the group (1) include the following groups.
A group in which R a1 , R a2, and R a3 are alkyl groups in the formula (1), ma = 0, and na = 1. As the group, a tert-butoxycarbonyl group is preferable.
In formula (1), R a1 and R a2 form an adamantyl group together with the carbon atom to which they are bonded, and R a3 is an alkyl group, ma = 0, and na = 1. ..
In the formula (1), R a1 and R a2 are independently alkyl groups, R a3 is an adamantyl group, ma = 0, and na = 1.
Specific examples of the group (1) include the following groups. * Represents the binding site.
基(2)の具体例としては、以下の基が挙げられる。*は結合部位を表す。
Specific examples of the group (2) include the following groups. * Represents the binding site.
モノマー(a1)は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーである。 The monomer (a1) is preferably a monomer having an acid unstable group and an ethylenically unsaturated bond, and more preferably a (meth) acrylic monomer having an acid unstable group.
酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数5〜20の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー(a1)に由来する構造単位を有する樹脂(A)をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。 Among the (meth) acrylic monomers having an acid unstable group, those having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms are preferable. If the resin (A) having a structural unit derived from the monomer (a1) having a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group is used in the resist composition, the resolution of the resist pattern can be improved.
基(1)を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位として、式(a1−0)で表される構造単位(以下、構造単位(a1−0)という場合がある。)、式(a1−1)で表される構造単位(以下、構造単位(a1−1)という場合がある。)又は式(a1−2)で表される構造単位(以下、構造単位(a1−2)という場合がある。)が挙げられる。好ましくは、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)からなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位である。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
[式(a1−0)、式(a1−1)及び式(a1−2)中、
La01、La1及びLa2は、それぞれ独立に、−O−又は*−O−(CH2)k1−CO−O−を表し、k1は1〜7のいずれかの整数を表し、*は−CO−との結合部位を表す。
Ra01、Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ra02、Ra03及びRa04は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
Ra6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
m1は0〜14のいずれかの整数を表す。
n1は0〜10のいずれかの整数を表す。
n1’は0〜3のいずれかの整数を表す。]
As the structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having the group (1), the structural unit represented by the formula (a1-0) (hereinafter, may be referred to as the structural unit (a1-0)), the formula ( The structural unit represented by a1-1) (hereinafter, may be referred to as a structural unit (a1-1)) or the structural unit represented by the formula (a1-2) (hereinafter, referred to as a structural unit (a1-2)). In some cases.) Preferably, it is at least one structural unit selected from the group consisting of the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2). These may be used alone or in combination of two or more.
[In the formula (a1-0), the formula (a1-1) and the formula (a1-2),
L a01, L a1 and L a2 each independently, -O- or * -O- (CH 2) k1 -CO -O- the stands, k1 represents an integer of 1-7, and * Represents the binding site with −CO−.
R a01 , R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a02 , R a03 and R a04 independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group combining these groups.
R a6 and R a7 independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining them.
m1 represents any integer from 0 to 14.
n1 represents any integer from 0 to 10.
n1'represents an integer of 0 to 3. ]
Ra01、Ra4及びRa5は、好ましくはメチル基である。
La01、La1及びLa2は、好ましくは酸素原子又は*−O−(CH2)k01−CO−O−であり(但し、k01は、好ましくは1〜4のいずれかの整数、より好ましくは1である。)、より好ましくは酸素原子である。
Ra02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7におけるアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式(1)のRa1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様の基が挙げられる。
Ra02、Ra03、及びRa04におけるアルキル基は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
Ra6及びRa7におけるアルキル基は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
Ra02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは5〜12であり、より好ましくは5〜10である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、18以下であることが好ましい。
Ra02及びRa03は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ra04は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数5〜12の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
Ra6及びRa7は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
m1は、好ましくは0〜3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1は、好ましくは0〜3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1’は好ましくは0又は1である。
R a01 , R a4 and R a5 are preferably methyl groups.
L a01, L a1 and L a2 are preferably oxygen atom or * -O- (CH 2) k01 -CO -O- and is (however, k01 is preferably either 1 to 4 integer, more preferably Is 1.), More preferably an oxygen atom.
Alkyl groups, alicyclic hydrocarbon groups in R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 and groups combining these are the groups listed in R a1 , R a2 and R a3 of the formula (1). The same group as.
The alkyl group in R a02 , R a03 , and R a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and further preferably a methyl group.
The alkyl group in R a6 and R a7 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, and further preferably an ethyl group or an isopropyl group.
The alicyclic hydrocarbon groups of R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 have preferably 5 to 12 carbon atoms, more preferably 5 to 10 carbon atoms.
The group in which the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group are combined preferably has a total carbon number of 18 or less in combination with these alkyl groups and the alicyclic hydrocarbon group.
R a02 and R a03 are preferably alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably methyl groups or ethyl groups.
R a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group.
R a6 and R a7 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, and further preferably an ethyl group or an isopropyl group.
m1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 1.
n1 is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1'is preferably 0 or 1.
構造単位(a1−0)としては、例えば、式(a1−0−1)〜式(a1−0−12)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1−0)におけるRa01に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1−0−1)〜式(a1−0−10)のいずれかで表される構造単位が好ましい。
The structural unit (a1-0) includes, for example, the structural unit represented by any of the formulas (a1-0-1) to (a1-0-12) and R a01 in the structural unit (a1-0). Examples thereof include structural units in which the corresponding methyl group is replaced with a hydrogen atom, and structural units represented by any of the formulas (a1-0-1) to (a1-0-10) are preferable.
構造単位(a1−1)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式(a1−1−1)〜式(a1−1−4)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1−1)におけるRa4に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式(a1−1−1)〜式(a1−1−4)のいずれかで表される構造単位がより好ましい。
Examples of the structural unit (a1-1) include structural units derived from the monomers described in JP-A-2010-204646. Among them, the structural unit represented by any of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) and the methyl group corresponding to R a4 in the structural unit (a1-1) were replaced with hydrogen atoms. Structural units are preferable, and structural units represented by any of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) are more preferable.
構造単位(a1−2)としては、式(a1−2−1)〜式(a1−2−6)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1−2)におけるRa5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1−2−2)、式(a1−2−5)及び式(a1−2−6)のいずれかで表される構造単位が好ましい。
The structural unit (a1-2) corresponds to the structural unit represented by any of the formulas (a1-2-1) to (a1-2-6) and R a5 in the structural unit (a1-2). Examples thereof include structural units in which a methyl group is replaced with a hydrogen atom, and structural units represented by any of the formulas (a1-2-2), (a1-2-5) and (a1-2-6) are used. preferable.
樹脂(A)が構造単位(a1−0)及び/又は構造単位(a1−1)及び/又は構造単位(a1−2)を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常10〜95モル%であり、好ましくは15〜90モル%であり、より好ましくは20〜85モル%であり、さらに好ましくは25〜80モル%であり、さらにより好ましくは30〜75モル%である。 When the resin (A) contains the structural unit (a1-0) and / or the structural unit (a1-1) and / or the structural unit (a1-2), the total content of these is the total structure of the resin (A). It is usually 10 to 95 mol%, preferably 15 to 90 mol%, more preferably 20 to 85 mol%, still more preferably 25 to 80 mol%, still more preferably, based on the unit. It is 30 to 75 mol%.
構造単位(a1)において基(2)を有する構造単位としては、式(a1−4)で表される構造単位(以下、「構造単位(a1−4)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a1−4)中、
Ra32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
Ra33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基、炭素数2〜4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
laは0〜4のいずれかの整数を表す。laが2以上である場合、複数のRa33は互いに同一であっても異なってもよい。
Ra34及びRa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Ra36は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、Ra35及びRa36は互いに結合してそれらが結合する−C−O−とともに炭素数2〜20の2価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該2価の炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−S−で置き換わってもよい。]
Examples of the structural unit having the group (2) in the structural unit (a1) include a structural unit represented by the formula (a1-4) (hereinafter, may be referred to as a “structural unit (a1-4)”). ..
[In equation (a1-4),
R a32 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a33 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, and acryloyl. Represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
la represents any integer from 0 to 4. When la is 2 or more, a plurality of Ra 33s may be the same or different from each other.
R a34 and R a35 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R a36 may represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, R a35 and R a36 are bonded to each other Then, together with -CO- to which they are bonded, a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms is formed, and the hydrocarbon group and the −CH 2 − contained in the divalent hydrocarbon group are − It may be replaced by O- or -S-. ]
Ra32及びRa33におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
Ra32及びRa33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
Ra34、Ra35及びRa36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせた基が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えばシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロヘキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のアリール−シクロアルキル基等が挙げられる。特に、Ra36としては、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
Examples of the alkyl group in R a32 and R a33 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group and a hexyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a methyl group.
Examples of the halogen atom in R a32 and R a33 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, and 1,1,. 2,2-Tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3 4,4-Octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, etc. Can be mentioned.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Of these, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is even more preferable.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group and the like.
As the hydrocarbon group for R a34, R a35 and R a36, an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and a group formed by combining these.
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group and the like.
The alicyclic hydrocarbon group may be either a monocyclic or polycyclic group. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group and the following groups (* indicates a binding site).
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group and a phenanthryl group.
Examples of the combined group include a group combining the above-mentioned alkyl group and alicyclic hydrocarbon group (for example, cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methyl). Phenyl group, p-tert-butylphenyl group, trill group, xsilyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon group Examples thereof include an aromatic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), an aryl-cycloalkyl group such as a phenylcyclohexyl group, and the like. In particular, Ra36 includes an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining them. Can be mentioned.
式(a1−4)において、Ra32としては、水素原子が好ましい。
Ra33としては、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
laとしては、0又は1が好ましく、0がより好ましい。
Ra34は、好ましくは、水素原子である。
Ra35は、好ましくは、炭素数1〜12のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ra36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基であり、より好ましくは、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数7〜18のアラルキル基である。Ra36におけるアルキル基及び前記脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ra36における芳香族炭化水素基は、炭素数6〜10のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
In the formula (a1-4), a hydrogen atom is preferable as Ra32 .
As R a33 , an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group and an ethoxy group are more preferable, and a methoxy group is further preferable.
As la, 0 or 1 is preferable, and 0 is more preferable.
R a34 is preferably a hydrogen atom.
R a35 is preferably an alkyl group or an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
The hydrocarbon group of R a36 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof. It is a group to be formed, more preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. The alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group in Ra36 are preferably unsubstituted. Aromatic hydrocarbon group for R a36 is an aromatic ring preferably has an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.
構造単位(a1−4)における−OC(Ra34)(Ra35)−O−Ra36は、酸(例えばp−トルエンスルホン酸)と接触して脱離し、ヒドロキシ基を形成する。 -OC (R a34) (R a35 ) -O-R a36 in the structural unit (a1-4) is desorbed by contact with an acid (e.g. p- toluenesulfonic acid) to form a hydroxy group.
構造単位(a1−4)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式(a1−4−1)〜式(a1−4−12)でそれぞれ表される構造単位及びRa32に相当する水素原子がメチル基に置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式(a1−4−1)〜式(a1−4−5)、式(a1−4−10)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit (a1-4) include a monomer-derived structural unit described in JP-A-2010-204646. Preferably, hydrogen atom corresponding to the structural units and R a32 each represented by formula (a1-4-1) ~ formula (a1-4-12) are exemplified a structural unit replacing a methyl group, more preferably , (A1-4-1) to (a1-4-5), and structural units represented by the formulas (a1-4-10), respectively.
樹脂(A)が、構造単位(a1−4)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、5〜60モル%であることが好ましく、5〜50モル%であることがより好ましく、10〜40モル%であることがさらに好ましい。 When the resin (A) has a structural unit (a1-4), the content thereof is preferably 5 to 60 mol%, preferably 5 to 50, based on the total of all the structural units of the resin (A). It is more preferably mol%, and even more preferably 10-40 mol%.
基(2)を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式(a1−5)で表される構造単位(以下「構造単位(a1−5)」という場合がある)も挙げられる。
式(a1−5)中、
Ra8は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Za1は、単結合又は*−(CH2)h3−CO−L54−を表し、h3は1〜4のいずれかの整数を表し、*は、L51との結合部位を表す。
L51、L52、L53及びL54は、それぞれ独立に、−O−又は−S−を表す。
s1は、1〜3のいずれかの整数を表す。
s1’は、0〜3のいずれかの整数を表す。
Examples of the structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having the group (2) include a structural unit represented by the formula (a1-5) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1-5)”). Be done.
In equation (a1-5),
R a8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom which may have a halogen atom.
Z a1 represents a single bond or * - (CH 2) h3 -CO -L 54 - represents, h3 represents an integer of 1 to 4, * represents a binding site with L 51.
L 51 , L 52 , L 53 and L 54 independently represent -O- or -S-, respectively.
s1 represents an integer of 1 to 3.
s1'represents an integer of 0 to 3.
ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式(a1−5)においては、Ra8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が好ましい。
L51は、酸素原子が好ましい。
L52及びL53のうち、一方が−O−であり、他方が−S−であることが好ましい。
s1は、1が好ましい。
s1’は、0〜2のいずれかの整数が好ましい。
Za1は、単結合又は*−CH2−CO−O−が好ましい。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom, and a fluorine atom is preferable.
Alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, fluoromethyl group and trifluoromethyl. Group is mentioned.
In the formula (a1-5), R a8 is preferably a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
L 51 is preferably an oxygen atom.
Of L 52 and L 53 , it is preferable that one is −O− and the other is −S−.
s1 is preferably 1.
s1'is preferably an integer of 0 to 2.
Z a1 is preferably a single bond or * -CH 2- CO-O-.
構造単位(a1−5)としては、例えば、特開2010−61117号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式(a1−5−1)〜式(a1−5−4)でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式(a1−5−1)又は式(a1−5−2)で表される構造単位がより好ましい。
Examples of the structural unit (a1-5) include a monomer-derived structural unit described in JP-A-2010-61117. Among them, the structural units represented by the formulas (a1-5-1) to (a1-5-2) are preferable, and they are represented by the formula (a1-5-1) or the formula (a1-5-2). Structural units are more preferred.
樹脂(A)が、構造単位(a1−5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1〜50モル%が好ましく、3〜45モル%がより好ましく、5〜40モル%がさらに好ましく、5〜30モル%がさらにより好ましい。 When the resin (A) has a structural unit (a1-5), the content thereof is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 3 to 45 mol%, based on all the structural units of the resin (A). , 5-40 mol% is even more preferred, and 5-30 mol% is even more preferred.
また、構造単位(a1)としては、以下の構造単位も挙げられる。
Moreover, the following structural unit is also mentioned as a structural unit (a1).
樹脂(A)が上記、(a1−3−1)〜(a1−3−7)のような構造単位を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、5〜60モル%が好ましく、5〜50モル%がより好ましく、10〜40モル%がさらに好ましい。 When the resin (A) contains structural units such as (a1-3-1) to (a1-3-7) described above, the content thereof is 5 to 5 with respect to all the structural units of the resin (A). 60 mol% is preferable, 5 to 50 mol% is more preferable, and 10 to 40 mol% is further preferable.
〈構造単位(s)〉
構造単位(s)は、酸不安定基を有さないモノマー(以下「モノマー(s)」という場合がある)から導かれる。構造単位(s)を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位(s)としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a2)」という場合がある)及び/又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a3)」という場合がある)を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
<Structural unit (s)>
The structural unit (s) is derived from a monomer having no acid-labile group (hereinafter, may be referred to as “monomer (s)”). As the monomer for deriving the structural unit (s), a monomer having no acid unstable group known in the resist field can be used.
The structural unit (s) preferably has a hydroxy group or a lactone ring. A structure having a hydroxy group and no acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a2)") and / or a lactone ring and no acid-labile group. If a resin having a unit (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a3)") is used in the resist composition of the present invention, the resolution of the resist pattern and the adhesion to the substrate can be improved.
〈構造単位(a2)〉
構造単位(a2)が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてKrFエキシマレーザ(248nm)、電子線又はEUV(超紫外光)等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位(a2)として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)が好ましく、後述する構造単位(a2−A)を用いることがより好ましい。また、ArFエキシマレーザ(193nm)等を用いる場合には、構造単位(a2)として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)が好ましく、後述する構造単位(a2−1)を用いることがより好ましい。構造単位(a2)としては、1種を単独で含んでいてもよく、2種以上を含んでいてもよい。
<Structural unit (a2)>
The hydroxy group contained in the structural unit (a2) may be an alcoholic hydroxy group or a phenolic hydroxy group.
When a resist pattern is produced from the resist composition of the present invention, when a high-energy ray such as a KrF excimer laser (248 nm), an electron beam or EUV (ultraviolet light) is used as an exposure light source, the structural unit (a2) is used. , The structural unit (a2) having a phenolic hydroxy group is preferable, and it is more preferable to use the structural unit (a2-A) described later. When an ArF excimer laser (193 nm) or the like is used, the structural unit (a2) is preferably a structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group, and a structural unit (a2-1) described later may be used. preferable. As the structural unit (a2), one type may be contained alone, or two or more types may be included.
構造単位(a2)においてフェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては式(a2−A)で表される構造単位(以下「構造単位(a2−A)」という場合がある)が挙げられる。
[式(a2−A)中、
Ra50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
Ra51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基、炭素数2〜4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Aa50は、単結合又は*−Xa51−(Aa52−Xa52)nb−を表し、*は−Ra50が結合する炭素原子との結合部位を表す。
Aa52は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
Xa51及びXa52は、それぞれ独立に、−O−、−CO−O−又は−O−CO−を表す。
nbは、0又は1を表す。
mbは0〜4のいずれかの整数を表す。mbが2以上のいずれかの整数である場合、複数のRa51は互いに同一であっても異なってもよい。]
Examples of the structural unit having a phenolic hydroxy group in the structural unit (a2) include a structural unit represented by the formula (a2-A) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a2-A)”).
[In formula (a2-A),
Ra50 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom.
Ra51 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, and acryloyl. Represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
A a50 represents a single bond or * -X a51 - (A a52 -X a52) nb - represents, * represents a binding site to the carbon atom to which -R a50 binds.
A a52 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
X a51 and X a52 independently represent -O-, -CO -O- or -O-CO-, respectively.
nb represents 0 or 1.
mb represents any integer from 0 to 4. When mb is any integer of 2 or more, the plurality of Ra 51s may be the same or different from each other. ]
Ra50におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
Ra50におけるハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
Ra50は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
Ra51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
Ra51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基が挙げられる。炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
Ra51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ra51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
Ra51は、メチル基が好ましい。
Examples of the halogen atom in Ra50 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom in Ra50 include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group and 1 , 1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3 , 3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group and perfluorohexyl Group is mentioned.
R a50 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Examples of the alkyl group in Ra51 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.
Examples of the alkoxy group in Ra51 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group. An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is further preferable.
Examples of the alkylcarbonyl group in Ra51 include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group and the like.
Examples of the alkylcarbonyloxy group in Ra51 include an acetyloxy group, a propionyloxy group and a butyryloxy group.
R a51 is preferably a methyl group.
*−Xa51−(Aa52−Xa52)nb−としては、*−O−、*−CO−O−、*−O−CO−、*−CO−O−Aa52−CO−O−、*−O−CO−Aa52−O−、*−O−Aa52−CO−O−、*−CO−O−Aa52−O−CO−、*−O−CO−Aa52−O−CO−、が挙げられる。なかでも、*−CO−O−、*−CO−O−Aa52−CO−O−又は*−O−Aa52−CO−O−が好ましい。 * -X a51- (A a52- X a52 ) nb- is * -O- , * -CO-O-, * -O - CO- , * -CO-O-A a52- CO-O-, * -O-CO-A a52 -O -, * - O-A a52 -CO-O -, * - CO-O-A a52 -O-CO -, * - O-CO-A a52 -O-CO -, Can be mentioned. Of these, * -CO-O-, * -CO-O-A a52- CO-O- or * -O-A a52- CO-O- are preferable.
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基及び2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。
Aa52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
The alkanediyl group includes methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group and hexane-. 1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group and 2 -Methylbutane-1,4-diyl group and the like can be mentioned.
A a52 is preferably a methylene group or an ethylene group.
Aa50は、単結合、*−CO−O−又は*−CO−O−Aa52−CO−O−であることが好ましく、単結合、*−CO−O−又は*−CO−O−CH2−CO−O−であることがより好ましく、単結合又は*−CO−O−であることがさらに好ましい。 A a50 is preferably single bond, * -CO-O- or * -CO-O-A a52- CO-O-, single bond, * -CO-O- or * -CO-O-CH. It is more preferably 2- CO-O-, and even more preferably a single bond or * -CO-O-.
mbは0、1又は2が好ましく、0又は1がより好ましく、0が特に好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のオルト位又はパラ位に結合することが好ましく、パラ位に結合することがより好ましい。
The mb is preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.
The hydroxy group is preferably bonded to the ortho-position or para-position of the benzene ring, and more preferably to the para-position.
構造単位(a2−A)としては、特開2010−204634号公報、特開2012−12577号公報に記載されているモノマー由来の構造単位が挙げられる。
構造単位(a2−A)としては、式(a2−2−1)〜式(a2−2−6)で表される構造単位及び式(a2−2−1)〜式(a2−2−6)で表される構造単位において構造単位(a2−A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。構造単位(a2−A)は、式(a2−2−1)で表される構造単位、式(a2−2−3)で表される構造単位、式(a2−2−6)で表される構造単位及び式(a2−2−1)で表される構造単位、式(a2−2−3)で表される構造単位又は式(a2−2−6)で表される構造単位において、構造単位(a2−A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。
Examples of the structural unit (a2-A) include monomer-derived structural units described in JP-A-2010-204634 and JP-A-2012-12577.
As the structural unit (a2-A), the structural unit represented by the formulas (a2-2-1) to (a2-2-6) and the formulas (a2-2-1) to (a2-2-6) are used. In the structural unit represented by), a structural unit in which the methyl group corresponding to Ra50 in the structural unit (a2-A) is replaced with a hydrogen atom can be mentioned. The structural unit (a2-A) is represented by a structural unit represented by the formula (a2-2-1), a structural unit represented by the formula (a2-2-3), and a formula (a2-2-6). In the structural unit represented by the formula (a2-2-1), the structural unit represented by the formula (a2-2-3), or the structural unit represented by the formula (a2-2-6). It is preferable that the methyl group corresponding to Ra50 in the structural unit (a2-A) is a structural unit in which a hydrogen atom is replaced.
樹脂(A)中に構造単位(a2−A)が含まれる場合の構造単位(a2−A)の含有率は、全構造単位に対して、好ましくは5〜80モル%であり、より好ましくは10〜70モル%であり、さらに好ましくは15〜65モル%であり、さらにより好ましくは20〜65モル%である。
構造単位(a2−A)は、例えば構造単位(a1−4)を用いて重合した後、p−トルエンスルホン酸等の酸で処理することにより、樹脂(A)に含ませることができる。また、アセトキシスチレン等を用いて重合した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリで処理することにより、構造単位(a2−A)を樹脂(A)に含ませることができる。
When the structural unit (a2-A) is contained in the resin (A), the content of the structural unit (a2-A) is preferably 5 to 80 mol%, more preferably 5 to 80 mol%, based on the total structural units. It is 10 to 70 mol%, more preferably 15 to 65 mol%, and even more preferably 20 to 65 mol%.
The structural unit (a2-A) can be included in the resin (A) by, for example, polymerizing using the structural unit (a1-4) and then treating with an acid such as p-toluenesulfonic acid. Further, the structural unit (a2-A) can be contained in the resin (A) by polymerizing with acetoxystyrene or the like and then treating with an alkali such as tetramethylammonium hydroxide.
構造単位(a2)においてアルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては、式(a2−1)で表される構造単位(以下「構造単位(a2−1)」という場合がある。)が挙げられる。
式(a2−1)中、
La3は、−O−又は*−O−(CH2)k2−CO−O−を表し、
k2は1〜7のいずれかの整数を表す。*は−CO−との結合部位を表す。
Ra14は、水素原子又はメチル基を表す。
Ra15及びRa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
o1は、0〜10のいずれかの整数を表す。
Examples of the structural unit having an alcoholic hydroxy group in the structural unit (a2) include a structural unit represented by the formula (a2-1) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a2-1)”).
In equation (a2-1),
La3 represents −O− or * −O− (CH 2 ) k2 −CO−O−.
k2 represents any integer from 1 to 7. * Represents the binding site with -CO-.
R a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a15 and R a16 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxy group.
o1 represents any integer from 0 to 10.
式(a2−1)では、La3は、好ましくは、−O−、−O−(CH2)f1−CO−O−であり(前記f1は、1〜4のいずれかの整数を表す)、より好ましくは−O−である。
Ra14は、好ましくはメチル基である。
Ra15は、好ましくは水素原子である。
Ra16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
o1は、好ましくは0〜3のいずれかの整数、より好ましくは0又は1である。
Formula (a2-1), L a3 is preferably, -O -, - O- (CH 2) f1 -CO-O- and is (wherein f1 represents an integer of 1 to 4) , More preferably -O-.
R a14 is preferably a methyl group.
R a15 is preferably a hydrogen atom.
R a16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxy group.
o1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 1.
構造単位(a2−1)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式(a2−1−1)〜式(a2−1−6)のいずれかで表される構造単位が好ましく、式(a2−1−1)〜式(a2−1−4)のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式(a2−1−1)又は式(a2−1−3)で表される構造単位がさらに好ましい。
Examples of the structural unit (a2-1) include structural units derived from the monomers described in JP-A-2010-204646. The structural unit represented by any of the formulas (a2-1-1) to (a2-1-6) is preferable, and any of the formulas (a2-1-1) to (a2-1-4) The structural unit represented is more preferable, and the structural unit represented by the formula (a2-1-1) or the formula (a2-1-3) is further preferable.
樹脂(A)が構造単位(a2−1)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常1〜45モル%であり、好ましくは1〜40モル%であり、より好ましくは1〜35モル%であり、さらに好ましくは1〜20モル%であり、さらにより好ましくは1〜10モル%である。 When the resin (A) contains the structural unit (a2-1), the content thereof is usually 1 to 45 mol%, preferably 1 to 40 mol%, based on all the structural units of the resin (A). It is more preferably 1 to 35 mol%, further preferably 1 to 20 mol%, and even more preferably 1 to 10 mol%.
〈構造単位(a3)〉
構造単位(a3)が有するラクトン環は、β−プロピオラクトン環、γ−ブチロラクトン環、δ−バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ−ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ−ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環(例えば下式(a3−2)で表される構造単位)が挙げられる。
<Structural unit (a3)>
The lactone ring of the structural unit (a3) may be a monocyclic ring such as β-propiolactone ring, γ-butyrolactone ring, or δ-valerolactone ring, or a fused ring of a monocyclic lactone ring and another ring. But it may be. Preferably, a γ-butyrolactone ring, an adamantane lactone ring, or a bridged ring containing a γ-butyrolactone ring structure (for example, a structural unit represented by the following formula (a3-2)) can be mentioned.
構造単位(a3)は、好ましくは、式(a3−1)、式(a3−2)、式(a3−3)又は式(a3−4)で表される構造単位である。これらの1種を単独で含有してもよく、2種以上を含有してもよい。
[式(a3−1)、式(a3−2)、式(a3−3)及び式(a3−4)中、
La4、La5及びLa6は、それぞれ独立に、−O−又は*−O−(CH2)k3−CO−O−(k3は1〜7のいずれかの整数を表す。)で表される基を表す。
La7は、−O−、*−O−La8−O−、*−O−La8−CO−O−、*−O−La8−CO−O−La9−CO−O−又は*−O−La8−O−CO−La9−O−を表す。
La8及びLa9は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
*はカルボニル基との結合部位を表す。
Ra18、Ra19及びRa20は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ra24は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Xa3は、−CH2−又は酸素原子を表す。
Ra21は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
Ra22、Ra23及びRa25は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
p1は0〜5のいずれかの整数を表す。
q1は、0〜3のいずれかの整数を表す。
r1は、0〜3のいずれかの整数を表す。
w1は、0〜8のいずれかの整数を表す。
p1、q1、r1及び/又はw1が2以上のとき、複数のRa21、Ra22、Ra23及び/又はRa25は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。]
The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3) or the formula (a3-4). One of these may be contained alone, or two or more thereof may be contained.
[In the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3) and the formula (a3-4),
La4 , La5, and La6 are independently represented by -O- or * -O- (CH 2 ) k3 -CO-O- (k3 represents an integer of 1 to 7). Represents a group.
L a7 is, -O -, * - O- L a8 -O -, * - O-L a8 -CO-O -, * - O-L a8 -CO-O-L a9 -CO-O- or * Represents −O−L a8 −O−CO−L a9 −O−.
La 8 and La 9 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
* Represents the binding site with the carbonyl group.
R a18 , R a19 and R a20 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a24 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom which may have a halogen atom.
X a3 represents −CH 2- or an oxygen atom.
R a21 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
R a22 , R a23 and R a25 each independently represent a carboxy group, a cyano group or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
p1 represents any integer from 0 to 5.
q1 represents any integer from 0 to 3.
r1 represents any integer from 0 to 3.
w1 represents any integer from 0 to 8.
When p1, q1, r1 and / or w1 is 2 or more, a plurality of R a21 , R a22 , R a23 and / or R a25 may be the same as or different from each other. ]
Ra21、Ra22、Ra23及びRa25における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基及びtert−ブチル基等のアルキル基が挙げられる。
Ra24におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ra24におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
Ra24におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
La8及びLa9におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基及び2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group in R a21 , R a22 , R a23 and R a25 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group. Be done.
Examples of the halogen atom in Ra24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkyl group in Ra24 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group and a hexyl group, and preferably have 1 to 4 carbon atoms. Alkyl group of, more preferably methyl group or ethyl group.
Alkyl groups having a halogen atom in Ra24 include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, perfluorotert-butyl group, perfluoropentyl group and perfluoro. Examples thereof include a hexyl group, a trichloromethyl group, a tribromomethyl group, and a triiodomethyl group.
The alkanediyl groups in La8 and La9 include methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, and pentane-1,5. -Diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1, Examples thereof include 4-diyl group and 2-methylbutane-1,4-diyl group.
式(a3−1)〜式(a3−3)において、La4〜La6は、それぞれ独立に、好ましくは−O−又は、*−O−(CH2)k3−CO−O−において、k3が1〜4のいずれかの整数である基、より好ましくは−O−及び、*−O−CH2−CO−O−、さらに好ましくは酸素原子である。
Ra18〜Ra21は、好ましくはメチル基である。
Ra22及びRa23は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
p1、q1及びr1は、それぞれ独立に、好ましくは0〜2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
In the formula (a3-1) ~ formula (a3-3), L a4 ~L a6 are each independently preferably -O- or, * - O- (CH 2) k3 -CO-O- in, k3 Is an integer of 1 to 4, more preferably -O- and * -O-CH 2- CO-O-, still more preferably an oxygen atom.
R a18 to R a21 are preferably methyl groups.
R a22 and R a23 are each independently, preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
p1, q1 and r1 are independently, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.
式(a3−4)において、Ra24は、好ましくは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ra25は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
La7は、好ましくは−O−又は*−O−La8−CO−O−であり、より好ましくは−O−、−O−CH2−CO−O−又は−O−C2H4−CO−O−である。
w1は、好ましくは0〜2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
特に、式(a3−4)は、式(a3−4)’が好ましい。
(式中、Ra24、La7は、上記と同じ意味を表す。)
In the formula (a3-4), R a24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group Is.
R a25 is preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
L a7 is preferably -O- or * -O-L a8 -CO-O-, more preferably an -O -, - O-CH 2 -CO-O- or -O-C 2 H 4 - It is CO-O-.
w1 is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1.
In particular, the formula (a3-4) is preferably the formula (a3-4)'.
(In the formula, R a24 and La 7 have the same meanings as above.)
構造単位(a3)としては、特開2010−204646号公報に記載されたモノマー、特開2000−122294号公報に記載されたモノマー、特開2012−41274号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位(a3)としては、式(a3−1−1)、式(a3−1−2)、式(a3−2−1)、式(a3−2−2)、式(a3−3−1)、式(a3−3−2)及び式(a3−4−1)〜式(a3−4−12)のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式(a3−1)〜式(a3−4)におけるRa18、Ra19、Ra20及びRa24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましい。 The structural unit (a3) is a structure derived from the monomer described in JP-A-2010-204646, the monomer described in JP-A-2000-122294, and the monomer described in JP-A-2012-41274. The unit is mentioned. The structural unit (a3) includes the formula (a3-1-1), the formula (a3-1-2), the formula (a3-2-1), the formula (a3-2-2), and the formula (a3-3-3). 1), the structural unit represented by any of the formulas (a3-3-2) and the formulas (a3-4-1) to (a3-4-12), and in the structural unit, the formula (a3-1). ) R a18 in ~ formula (a3-4), R a19, R a20 and structural units in which a methyl group is replaced by a hydrogen atom corresponding to R a24 are preferred.
樹脂(A)が構造単位(a3)を含む場合、その合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常5〜70モル%であり、好ましくは10〜65モル%であり、より好ましくは10〜60モル%である。
また、構造単位(a3−1)、構造単位(a3−2)、構造単位(a3−3)又は構造単位(a3−4)の含有率は、それぞれ、樹脂(A)の全構造単位に対して、5〜60モル%が好ましく、5〜50モル%がより好ましく、10〜50モル%がさらに好ましい。
When the resin (A) contains the structural unit (a3), the total content thereof is usually 5 to 70 mol%, preferably 10 to 65 mol%, based on all the structural units of the resin (A). , More preferably 10 to 60 mol%.
The content of the structural unit (a3-1), the structural unit (a3-2), the structural unit (a3-3), or the structural unit (a3-4) is set with respect to all the structural units of the resin (A). 5 to 60 mol% is preferable, 5 to 50 mol% is more preferable, and 10 to 50 mol% is further preferable.
〈構造単位(a4)〉
構造単位(a4)としては、以下の構造単位が挙げられる。
[式(a4)中、
R41は、水素原子又はメチル基を表す。
R42は、炭素数1〜24のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。]
R42で表される飽和炭化水素基は、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
<Structural unit (a4)>
Examples of the structural unit (a4) include the following structural units.
[In equation (a4),
R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 42 represents a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom having 1 to 24 carbon atoms, and −CH 2 − contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with −O− or −CO−. ]
Examples of the saturated hydrocarbon group represented by R 42 include a chain hydrocarbon group, a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基、−脂環式炭化水素基−アルキル基、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基−アルキル基等が挙げられる。
Chain hydrocarbon groups include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group and octadecyl group. Can be mentioned. Examples of the monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group; decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups. Examples thereof include a polycyclic alicyclic hydrocarbon group such as (* represents a binding site).
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups and one or more alicyclic hydrocarbon groups, and examples thereof include-alkanediyl groups-. Examples thereof include an alicyclic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an alkyl group, an alkanediyl group, an alicyclic hydrocarbon group, and an alkyl group.
構造単位(a4)としては、式(a4−0)、式(a4−1)、式(a4−2)、式(a4−3)及び式(a4−4)からなる群から選択される少なくとも1つで表される構造単位が挙げられる。
[式(a4−0)中、
R5は、水素原子又はメチル基を表す。
L4aは、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基を表す。
L3aは、炭素数1〜8のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数3〜12のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
R6は、水素原子又はフッ素原子を表す。]
The structural unit (a4) is at least selected from the group consisting of the formula (a4-0), the formula (a4-1), the formula (a4-2), the formula (a4-3), and the formula (a4-4). A structural unit represented by one can be mentioned.
[In equation (a4-0),
R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 4a represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L 3a represents a perfluoroalkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms or a perfluorocycloalkanediyl group having 3 to 12 carbon atoms.
R 6 represents a hydrogen atom or a fluorine atom. ]
L4aにおけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基及び2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
L3aにおけるペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパン−1,1−ジイル基、ペルフルオロプロパン−1,3−ジイル基、ペルフルオロプロパン−1,2−ジイル基、ペルフルオロプロパン−2,2−ジイル基、ペルフルオロブタン−1,4−ジイル基、ペルフルオロブタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロブタン−1,2−ジイル基、ペルフルオロペンタン−1,5−ジイル基、ペルフルオロペンタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロペンタン−3,3−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−1,6−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−2,2−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−3,3−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−1,7−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−3,4−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−4,4−ジイル基、ペルフルオロオクタン−1,8−ジイル基、ペルフルオロオクタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロオクタン−3,3−ジイル基、ペルフルオロオクタン−4,4−ジイル基等が挙げられる。
L3aにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
Examples of the alkanediyl group in L 4a include a linear alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and an ethane-1,1-diyl group. Examples include branched alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group. Be done.
The perfluoroalkanediyl group in L 3a includes a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group, a perfluoropropane-1,1-diyl group, a perfluoropropane-1,3-diyl group, a perfluoropropane-1,2-diyl group, and a perfluoropropane. -2,2-diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,2-diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane -2,2-diyl group, perfluoropentane-3,3-diyl group, perfluorohexane-1,6-diyl group, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane -1,7-diyl group, perfluoroheptane-2,2-diyl group, perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane Examples thereof include -2,2-diyl group, perfluorooctane-3,3-diyl group, perfluorooctane-4,4-diyl group and the like.
Examples of the perfluorocycloalkandyl group in L 3a include a perfluorocyclohexanediyl group, a perfluorocyclopentanediyl group, a perfluorocycloheptanediyl group, a perfluoroadamantandiyl group and the like.
L4aは、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは、単結合、メチレン基である。
L3aは、好ましくは炭素数1〜6のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のペルフルオロアルカンジイル基である。
L 4a is preferably a single bond, a methylene group or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.
L 3a is preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.
構造単位(a4−0)としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位(a4−0)におけるR5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit (a4-0) include the structural unit shown below and the structural unit in which the methyl group corresponding to R 5 in the structural unit (a4-0) in the following structural unit is replaced with a hydrogen atom.
[式(a4−1)中、
Ra41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ra42は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
Aa41は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルカンジイル基又は式(a−g1)で表される基を表す。ただし、Aa41及びRa42のうち少なくとも1つは、置換基としてハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)を有する。
〔式(a−g1)中、
sは0又は1を表す。
Aa42及びAa44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜5の2価の飽和炭化水素基を表す。
Aa43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜5の2価の脂肪族炭化水素基を表す。
Xa41及びXa42は、それぞれ独立に、−O−、−CO−、−CO−O−又は−O−CO−を表す。
ただし、Aa42、Aa43、Aa44、Xa41及びXa42の炭素数の合計は7以下である。〕
*は結合部位であり、右側の*が−O−CO−Ra42との結合部位である。]
[In equation (a4-1),
R a41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a42 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and −CH 2 − contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with −O− or −CO−. You may.
A a41 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent or a group represented by the formula ( ag1 ). However, at least one of A a41 and R a42 has a halogen atom (preferably a fluorine atom) as a substituent.
[In the formula (ag1),
s represents 0 or 1.
A a42 and A a44 each independently represent a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
A a43 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a single bond or a substituent.
X a41 and X a42 independently represent -O-, -CO-, -CO -O- or -O-CO-, respectively.
However, the total number of carbon atoms of A a42 , A a43 , A a44 , X a41 and X a42 is 7 or less. ]
* Is the binding site, and * on the right is the binding site with -O-CO-R a42 . ]
Ra42における飽和炭化水素基としては、鎖式飽和炭化水素基及び単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
鎖式飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。
単環又は多環の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、−アルカンジイル基−脂環式飽和炭化水素基、−脂環式飽和炭化水素基−アルキル基、−アルカンジイル基−脂環式飽和炭化水素基−アルキル基等が挙げられる。
Examples of the saturated hydrocarbon group in R a42 include a chain saturated hydrocarbon group, a monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group, and a group formed by combining these groups.
The chain saturated hydrocarbon groups include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group and octadecyl group. Can be mentioned.
Examples of the monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group; decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups. Examples thereof include a polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group such as (* represents a binding site).
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups and one or more alicyclic saturated hydrocarbon groups, and a-alkandyl group. -Alicyclic saturated hydrocarbon group, -Alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group, -Alkanediyl group-Alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group and the like.
Ra42が有する置換基としては、ハロゲン原子及び式(a−g3)で表される基からなる群から選択される少なくとも1種が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。
[式(a−g3)中、
Xa43は、酸素原子、カルボニル基、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す。
Aa45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
*はRa42との結合部位を表す。]
ただし、Ra42−Xa43−Aa45において、Ra42がハロゲン原子を有しない場合は、Aa45は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
Examples of the substituent contained in R a42 include at least one selected from the group consisting of a halogen atom and a group represented by the formula ( ag3 ). Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.
[In the formula (ag3),
X a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, * -O -CO- or * -CO-O-.
A a45 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
* Represents the binding site with Ra42 . ]
However, in R a42- X a43- A a45 , when R a42 does not have a halogen atom, A a45 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms having at least one halogen atom.
Aa45における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基;
シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式の脂環式炭化水素基;並びにデカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基、−脂環式炭化水素基−アルキル基、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基−アルキル基等が挙げられる。
The aliphatic hydrocarbon group in A a45 includes methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group and Alkyl groups such as octadecyl groups;
Monocyclic alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group; and decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups (* represents a binding site). A polycyclic alicyclic hydrocarbon group such as.) Can be mentioned.
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups and one or more alicyclic hydrocarbon groups, and examples thereof include-alkanediyl groups-. Examples thereof include an alicyclic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an alkyl group, an alkanediyl group, an alicyclic hydrocarbon group, and an alkyl group.
Ra42は、ハロゲン原子を有してもよい飽和炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び/又は式(a−g3)で表される基を有する飽和炭化水素基がより好ましい。
Ra42がハロゲン原子を有する飽和炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が1〜6のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数1〜3のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
Ra42が、式(a−g3)で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、式(a−g3)で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ra42の総炭素数は、15以下が好ましく、12以下がより好ましい。式(a−g3)で表される基を置換基として有する場合、その数は1個が好ましい。
R a42 is preferably a saturated hydrocarbon group which may have a halogen atom, and more preferably an alkyl group having a halogen atom and / or a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (ag3).
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, and further preferably having 1 to 1 carbon atoms. It is a perfluoroalkyl group of 6, and particularly preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the perfluoroalkyl group include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a perfluoroheptyl group and a perfluorooctyl group. Examples of the perfluorocycloalkyl group include a perfluorocyclohexyl group.
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3), the total carbon of R a42 including the number of carbon atoms contained in the group represented by the formula ( ag3 ). The number is preferably 15 or less, more preferably 12 or less. When the group represented by the formula (ag3) is used as a substituent, the number thereof is preferably one.
Ra42が式(a−g3)で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、Ra42は、さらに好ましくは式(a−g2)で表される基である。
[式(a−g2)中、
Aa46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表す。
Xa44は、**−O−CO−又は**−CO−O−を表す(**はAa46との結合部位を表す)。
Aa47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Aa46、Aa47及びXa44の炭素数の合計は18以下であり、Aa46及びAa47のうち、少なくとも一方は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する。
*はカルボニル基との結合部位を表す。]
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3), R a42 is more preferably a group represented by the formula (a-g2).
[In the formula (ag2),
A a46 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
X a44 represents **-O-CO- or **-CO-O- (** represents the binding site with A a46 ).
A a47 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
However, the total number of carbon atoms of A a46 , A a47 and X a44 is 18 or less, and at least one of A a46 and A a47 has at least one halogen atom.
* Represents the binding site with the carbonyl group. ]
Aa46の飽和炭化水素基の炭素数は1〜6が好ましく、1〜3がより好ましい。
Aa47の脂肪族炭化水素基の炭素数は4〜15が好ましく、5〜12がより好ましく、Aa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。
The saturated hydrocarbon group of A a46 preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms.
The aliphatic hydrocarbon group of A a47 preferably has 4 to 15 carbon atoms, more preferably 5 to 12 carbon atoms, and further preferably A a47 has a cyclohexyl group or an adamantyl group.
式(a−g2)で表される基の好ましい構造は、以下の構造である(*はカルボニル基との結合部位である)。
The preferred structure of the group represented by the formula (ag2) is the following structure (* is a binding site with a carbonyl group).
Aa41におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、1−メチルブタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
Aa41のアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
Aa41は、好ましくは炭素数1〜4のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数2〜4のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
The alkanediyl group in A a41 includes a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, and a hexane-1,6-diyl group. Linear alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, etc. Examples thereof include branched alkanediyl groups such as 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Examples of the substituent in the alkanediyl group of A a41 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
A a41 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and further preferably an ethylene group.
式(a−g1)で表される基におけるAa42、Aa43及びAa44の表す2価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環又は多環の2価の脂環式炭化水素基、並びに、アルカンジイル基及び2価の脂環式炭化水素基を組合せることにより形成される基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、1−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等が挙げられる。
Aa42、Aa43及びAa44の表す2価の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
sは、0であることが好ましい。
The divalent saturated hydrocarbon group represented by A a42 , A a43 and A a44 in the group represented by the formula (a-g1) includes a linear or branched alkandiyl group and a monocyclic or polycyclic divalent group. Examples thereof include an alicyclic hydrocarbon group and a group formed by combining an alcandiyl group and a divalent alicyclic hydrocarbon group. Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, 1-methylpropane-1,3-diyl group, Examples thereof include 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group.
Examples of the substituent of the divalent saturated hydrocarbon group represented by A a42 , A a43 and A a44 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
s is preferably 0.
式(a−g1)で表される基において、Xa42が−O−、−CO−、−CO−O−又は−O−CO−である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、*及び**はそれぞれ結合部位を表わし、**が−O−CO−Ra42との結合部位である。
In the group represented by the formula (a-g1), examples of the group in which X a42 is -O-, -CO- , -CO -O- or -O-CO- include the following groups. In the following examples, * and ** represent the binding site, respectively, and ** is the binding site with -O-CO-R a42 .
式(a4−1)で表される構造単位としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の式(a4−1)で表される構造単位におけるRa41に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
As the structural unit represented by the formula (a4-1), the methyl group corresponding to Ra41 in the structural unit shown below and the structural unit represented by the formula (a4-1) in the following structural unit is a hydrogen atom. Examples include replaced structural units.
構造単位(a4)としては、式(a4−2)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a4−2)中、
Rf5は、水素原子又はメチル基を表す。
L44は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
Rf6は、炭素数1〜20のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、L44及びRf6の合計炭素数の上限は21である。]
Examples of the structural unit (a4) include a structural unit represented by the formula (a4-2).
[In equation (a4-2),
R f5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 44 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and −CH 2 − contained in the alkanediyl group may be replaced with −O− or −CO−.
R f6 represents a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom having 1 to 20 carbon atoms.
However, the upper limit of the total carbon number of L 44 and R f6 is 21. ]
L44の炭素数1〜6のアルカンジイル基は、Aa41におけるアルカンジイル基で例示したものと同様の基が挙げられる。
Rf6の飽和炭化水素基は、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。
L44における炭素数1〜6のアルカンジイル基としては、炭素数2〜4のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
Examples of the alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms of L 44 include the same groups as those exemplified for the alkanediyl group in A a41 .
Examples of the saturated hydrocarbon group of R f6 include the same groups as those exemplified in R a42 .
As the alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms in L 44, an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms is preferable, and an ethylene group is more preferable.
式(a4−2)で表される構造単位としては、例えば、式(a4−1−1)〜式(a4−1−11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4−2)におけるRf5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4−2)で表される構造単位として挙げられる。 Examples of the structural unit represented by the formula (a4-2) include structural units represented by the formulas (a4-1-1) to (a4-1-11). A structural unit in which the methyl group corresponding to R f5 in the structural unit (a4-2) is replaced with a hydrogen atom is also mentioned as a structural unit represented by the formula (a4-2).
構造単位(a4)としては、式(a4−3)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a4−3)中、
Rf7は、水素原子又はメチル基を表す。
L5は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
Af13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
Xf12は、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す(*はAf13との結合部位を表す。)。
Af14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表す。
但し、Af13及びAf14の少なくとも1つは、フッ素原子を有し、L5、Af13及びAf14の合計炭素数の上限は20である。]
Examples of the structural unit (a4) include a structural unit represented by the formula (a4-3).
[In equation (a4-3),
R f7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 5 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
A f13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a fluorine atom.
X f12 represents * -O-CO- or * -CO-O- (* represents the binding site with A f13 ).
A f14 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a fluorine atom.
However, at least one of A f13 and A f14 has a fluorine atom, and the upper limit of the total carbon number of L 5 , A f13 and A f14 is 20. ]
L5におけるアルカンジイル基としては、Aa41におけるアルカンジイル基で例示したものと同様の基が挙げられる。
Af13におけるフッ素原子を有していてもよい2価の飽和炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子を有していてもよい2価の鎖式飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい2価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイル基である。
フッ素原子を有していてもよい2価の鎖式炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基;ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい2価の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
Af14の飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい飽和炭化水素基は、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペルフルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチルメチル基等が好ましい。
Examples of the alkanediyl group in L 5 include the same groups as those exemplified in the alkanediyl group in Aa41 .
The divalent saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom in A f13 preferably has a divalent chain saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom and a fluorine atom. It is also a good divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, more preferably a perfluoroalcandiyl group.
Examples of the divalent chain hydrocarbon group which may have a fluorine atom include an alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanjiyl group and a pentandiyl group; a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group and a perfluoro Examples thereof include a perfluoroalkandyl group such as a propanediyl group, a perfluorobutandyl group and a perfluoropentanediyl group.
The divalent alicyclic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be either a monocyclic type or a polycyclic type. Examples of the monocyclic group include a cyclohexanediyl group and a perfluorocyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic group include an adamantandiyl group, a norbornanediyl group, a perfluoroadamantandiyl group and the like.
Examples of the saturated hydrocarbon group of A f14 and the saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom include the same groups as those exemplified in Ra42 . Among them, trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,5,5,5-Nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, heptyl group, perfluoroheptyl group, octyl group, perfluorooctyl group, etc. Alkyl group, cyclopropylmethyl group, cyclopropyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, perfluorocyclohexyl group, adamantyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornyl group, norbornylmethyl group, perfluoroadamantyl group , Perfluoroadamantylmethyl group and the like are preferable.
式(a4−3)において、L5は、エチレン基が好ましい。
Af13の2価の飽和炭化水素基は、炭素数1〜6の2価の鎖式炭化水素基及び炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数2〜3の2価の鎖式炭化水素基がさらに好ましい。
Af14の飽和炭化水素基は、炭素数3〜12の鎖式炭化水素基及び炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数3〜10の鎖式炭化水素基及び炭素数3〜10の脂環式炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Af14は、好ましくは炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、シクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。
In the formula (a4-3), L 5 is preferably an ethylene group.
The divalent saturated hydrocarbon group of A f13 is preferably a group containing a divalent chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms. A few divalent chain hydrocarbon groups are more preferred.
The saturated hydrocarbon group of A f14 is preferably a group containing a chain hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and a chain hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. And a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms is more preferable. Among them, A f14 is preferably a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group and an adamantyl group.
式(a4−3)で表される構造単位としては、例えば、式(a4−1’−1)〜式(a4−1’−11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4−3)におけるRf7に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4−3)で表される構造単位として挙げられる。 Examples of the structural unit represented by the formula (a4-3) include structural units represented by the formulas (a4-1'-1) to (a4-1'-11). A structural unit in which the methyl group corresponding to R f7 in the structural unit (a4-3) is replaced with a hydrogen atom is also mentioned as a structural unit represented by the formula (a4-3).
構造単位(a4)としては、式(a4−4)で表される構造単位も挙げられる。
[式(a4−4)中、
Rf21は、水素原子又はメチル基を表す。
Af21は、−(CH2)j1−、−(CH2)j2−O−(CH2)j3−又は−(CH2)j4−CO−O−(CH2)j5−を表す。
j1〜j5は、それぞれ独立に、1〜6のいずれかの整数を表す。
Rf22は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の飽和炭化水素基を表す。]
The structural unit (a4) also includes a structural unit represented by the formula (a4-4).
[In equation (a4-4),
R f21 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f21 represents − (CH 2 ) j1 −, − (CH 2 ) j2 −O− (CH 2 ) j3 − or − (CH 2 ) j4 −CO−O− (CH 2 ) j5− .
j1 to j5 each independently represent an integer of 1 to 6.
R f22 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom. ]
Rf22の飽和炭化水素基は、Ra42で表される飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。Rf22は、フッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数1〜10の脂環式炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基がさらに好ましい。 Examples of the saturated hydrocarbon group of R f22 include the same saturated hydrocarbon group represented by R a42 . R f22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom or an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom is more preferable. Preferably, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a fluorine atom is more preferable.
式(a4−4)においては、Af21としては、−(CH2)j1−が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 In the formula (a4-4), as A f21 , − (CH 2 ) j1 − is preferable, an ethylene group or a methylene group is more preferable, and a methylene group is further preferable.
式(a4−4)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び以下の式で表される構造単位において、構造単位(a4−4)におけるRf21に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
As the structural unit represented by the formula (a4-4), for example, in the following structural unit and the structural unit represented by the following formula, the methyl group corresponding to R f21 in the structural unit (a4-4) is hydrogen. Examples include structural units that have been replaced by atoms.
樹脂(A)が、構造単位(a4)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1〜20モル%が好ましく、2〜15モル%がより好ましく、3〜10モル%がさらに好ましい。 When the resin (A) has a structural unit (a4), the content thereof is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 2 to 15 mol%, and 3) with respect to all the structural units of the resin (A). 10 mol% is more preferable.
〈構造単位(a5)〉
構造単位(a5)が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位(a5)は、脂環式炭化水素基を有する基が好ましい。
構造単位(a5)としては、例えば、式(a5−1)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a5−1)中、
R51は、水素原子又はメチル基を表す。
R52は、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
L55は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。]
<Structural unit (a5)>
Examples of the non-eliminating hydrocarbon group contained in the structural unit (a5) include a group having a linear, branched or cyclic hydrocarbon group. Among them, the structural unit (a5) is preferably a group having an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the structural unit (a5) include a structural unit represented by the formula (a5-1).
[In equation (a5-1),
R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 52 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. ..
L 55 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-. .. ]
R52における脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2−エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、3−メチルアダマンチル基などが挙げられる。
R52は、好ましくは、無置換の炭素数3〜18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
L55における2価の飽和炭化水素基としては、2価の鎖式飽和炭化水素基及び2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは2価の鎖式飽和炭化水素基である。
2価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
The alicyclic hydrocarbon group in R 52 may be either a monocyclic or polycyclic group. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include an adamantyl group and a norbornyl group.
The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms includes, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and 2 -Alkyl groups such as ethylhexyl groups can be mentioned.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a substituent include a 3-methyladamantyl group.
R 52 is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and more preferably an adamantyl group, a norbornyl group or a cyclohexyl group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group in L 55 include a divalent chain-type saturated hydrocarbon group and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and a divalent chain-type saturated hydrocarbon group is preferable. ..
Examples of the divalent chain saturated hydrocarbon group include an alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanjiyl group and a pentandiyl group.
The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include a cycloalkanediyl group such as a cyclopentanediyl group and a cyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include an adamantandiyl group and a norbornanediyl group.
L55の表す2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH2−が、−O−又は−CO−で置き換わった基としては、例えば、式(L1−1)〜式(L1−4)で表される基が挙げられる。下記式中、*及び**は各々結合部位手を表し、*は酸素原子との結合部位を表す。
式(L1−1)中、
Xx1は、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す(*はLx1との結合部位を表す。)。
Lx1は、炭素数1〜16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Lx2は、単結合又は炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx1及びLx2の合計炭素数は、16以下である。
式(L1−2)中、
Lx3は、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Lx4は、単結合又は炭素数1〜16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx3及びLx4の合計炭素数は、17以下である。
式(L1−3)中、
Lx5は、炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Lx6及びLx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜14の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx5、Lx6及びLx7の合計炭素数は、15以下である。
式(L1−4)中、
Lx8及びLx9は、単結合又は炭素数1〜12の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Wx1は、炭素数3〜15の2価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx8、Lx9及びWx1の合計炭素数は、15以下である。
Examples of the group in which -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L 55 is replaced with -O- or -CO- are represented by the formulas (L1-1) to (L1-4). The groups represented are mentioned. In the following formula, * and ** represent the binding site hand, and * represents the binding site with the oxygen atom.
In formula (L1-1),
X x1 represents * -O-CO- or * -CO-O- (* represents the binding site with L x1 ).
L x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
L x2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms of L x1 and L x2 is 16 or less.
In formula (L1-2),
L x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms.
L x4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms of L x3 and L x4 is 17 or less.
In formula (L1-3),
L x5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
L x6 and L x7 each independently represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms of L x5 , L x6 and L x7 is 15 or less.
In formula (L1-4),
L x8 and L x9 represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
W x 1 represents a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
However, the total number of carbon atoms of L x8 , L x9 and W x1 is 15 or less.
Lx1は、好ましくは、炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Lx2は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合である。
Lx3は、好ましくは、炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Lx4は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Lx5は、好ましくは、炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Lx6は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Lx7は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Lx8は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Lx9は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Wx1は、好ましくは、炭素数3〜10の2価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
L x1 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x2 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond.
L x3 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x5 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x6 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x8 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond or a methylene group.
L x9 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond or a methylene group.
W x 1 is preferably a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, and more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantandiyl group.
式(L1−1)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-1) include the divalent groups shown below.
式(L1−2)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-2) include the divalent groups shown below.
式(L1−3)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-3) include the divalent groups shown below.
式(L1−4)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-4) include the divalent groups shown below.
L55は、好ましくは、単結合又は式(L1−1)で表される基である。 L 55 is preferably a single bond or a group represented by the formula (L1-1).
構造単位(a5−1)としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位(a5−1)におけるR51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
樹脂(A)が、構造単位(a5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1〜30モル%が好ましく、2〜20モル%がより好ましく、3〜15モル%がさらに好ましい。
Examples of the structural unit (a5-1) include the structural unit shown below and the structural unit in which the methyl group corresponding to R 51 in the structural unit (a5-1) in the following structural unit is replaced with a hydrogen atom.
When the resin (A) has a structural unit (a5), the content thereof is preferably 1 to 30 mol%, more preferably 2 to 20 mol%, based on all the structural units of the resin (A). More preferably ~ 15 mol%.
<構造単位(II)>
樹脂(A)は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位(以下、「構造単位(II)」という場合がある)を含有してもよい。構造単位(II)としては、具体的には特開2016−79235号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。
<Structural unit (II)>
The resin (A) may further contain a structural unit (hereinafter, may be referred to as “structural unit (II)”) that decomposes by exposure to generate an acid. Specific examples of the structural unit (II) include the structural units described in JP-A-2016-79235, and the structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group and an organic cation in the side chain or sulfonio in the side chain. It is preferably a structural unit having a group and an organic anion.
側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基を有する構造単位は、式(II−2−A’)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−2−A’)中、
XIII3は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
AX1は、炭素数1〜8のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
RA−は、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
RIII3は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
ZA+は、有機カチオンを表す。]
The structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group in the side chain is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A').
[In formula (II-2-A'),
X III3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S- or -CO-. Often, the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, or a hydroxy group.
A X1 represents an alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
RA − represents a sulfonate group or a carboxylate group.
R III3 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom.
ZA + represents an organic cation. ]
RIII3で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
RIII3で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基と同じものが挙げられる。
AX1で表される炭素数1〜8のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。
AX1において置換されていてもよい炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
Examples of the halogen atom represented by R III3 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R III3, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 The same can be mentioned.
The alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by A X1, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl, butane-1,4-diyl, pentane-1,5-diyl , Hexane-1,6-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2, 4-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group, etc. Can be mentioned.
The perfluoroalkyl group carbon atoms which may be have 1-6 substituents in A X1, trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, a perfluoro sec- butyl group, perfluoro tert -Butyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group and the like can be mentioned.
XIII3で表される炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これらの組み合わせてあってもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基等の2価の単環式脂環式飽和炭化水素基;ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の2価の多環式脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by X III3 include a linear or branched alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. And these may be combined.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1 , 6-Diyl Group, Heptane-1,7-Diyl Group, Octane-1,8-Diyl Group, Nonan-1,9-Diyl Group, Decane-1,10-Diyl Group, Undecane-1,11-Diyl Group , Dodecane-1,12-diyl group and other linear alcandiyl groups; butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group , Pentan-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group and other branched alkandiyl groups; cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1 , 4-Diyl group, cyclooctane-1,5-Diyl group and other cycloalkandyl groups and other divalent monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups; norbornan-1,4-diyl group, norbornan-2, Examples thereof include a divalent polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group such as a 5-diyl group, an adamantan-1,5-diyl group and an adamantan-2,6-diyl group.
飽和炭化水素基に含まれる−CH2−が、−O−、−S−又は−CO−で置き換わったものとしては、例えば式(X1)〜式(X53)で表される2価の基が挙げられる。ただし、飽和炭化水素基に含まれる−CH2−が、−O−、−S−又は−CO−で置き換わる前の炭素数はそれぞれ17以下である。下記式において、*及び**は結合部位を表し、*はAX1との結合部位を表す。
When -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by -O-, -S- or -CO-, for example, a divalent group represented by the formulas (X1) to (X53) is used. Can be mentioned. However, the number of carbon atoms before each of -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by -O-, -S- or -CO- is 17 or less. In the following formulas, * and ** represent the binding site, and * represents a binding site with A X1.
X3は、2価の炭素数1〜16の飽和炭化水素基を表す。
X4は、2価の炭素数1〜15の飽和炭化水素基を表す。
X5は、2価の炭素数1〜13の飽和炭化水素基を表す。
X6は、2価の炭素数1〜14の飽和炭化水素基を表す。
X7は、3価の炭素数1〜14の飽和炭化水素基を表す。
X8は、2価の炭素数1〜13の飽和炭化水素基を表す。
X 3 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 16 divalent carbon atoms.
X 4 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 15 divalent carbon atoms.
X 5 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 13 divalent carbon atoms.
X 6 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 14 divalent carbon atoms.
X 7 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 14 trivalent carbon atoms.
X 8 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 13 divalent carbon atoms.
式(II−2−A’)中のZA+は、塩(I)におけるカチオンZ+と同様のものが挙げられる。 The ZA + in the formula (II-2-A') includes the same as the cation Z + in the salt (I).
式(II−2−A’)で表される構造単位は、式(II−2−A)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−2−A)中、
RIII3、XIII3及びZA+は、上記と同じ意味を表す。
z2Aは、0〜6のいずれかの整数を表す。
RIII2及びRIII4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、z2Aが2以上のとき、複数のRIII2及びRIII4は互いに同一でも、異なっていてもよい。
Qa及びQbは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。]
The structural unit represented by the formula (II-2-A') is preferably the structural unit represented by the formula (II-2-A).
[In formula (II-2-A),
R III3 , X III3 and ZA + have the same meanings as above.
z2A represents any integer from 0 to 6.
R III2 and R III4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, when z2A is 2 or more, even the plurality of R III2 and R III4 mutually the same or different May be.
Q a and Q b each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]
RIII2、RIII4、Qa及びQbで表される炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基としては、前述のQb1で表される炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基と同じものが挙げられる。 The R III2, R III4, Q perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by a and Q b, include those similar to the perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by the aforementioned Q b1 ..
式(II−2−A)で表される構造単位は、式(II−2−A−1)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−2−A−1)中、
RIII2、RIII3、RIII4、Qa、Qb及びZA+は、上記と同じ意味を表す。
RIII5は、炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
z2A1は、0〜6のいずれかの整数を表す。
XI2は、炭素数1〜11の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。]
The structural unit represented by the formula (II-2-A) is preferably the structural unit represented by the formula (II-2-A-1).
[In formula (II-2-A-1),
R III2, R III3, R III4 , Q a, Q b and ZA + are the same as defined above.
R III5 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
z2A1 represents any integer from 0 to 6.
X I2 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 11 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S- or -CO-. Often, the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom or a hydroxy group. ]
RIII5で表される炭素数1〜12の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
XI2で表される2価の飽和炭化水素基としては、XIII3で表される2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
Examples of the saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms represented by R III5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group and a hexyl group. Examples thereof include a linear or branched alkyl group such as a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group and a dodecyl group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by X I 2 include those similar to the divalent saturated hydrocarbon group represented by X III 3 .
式(II−2−A−1)で表される構造単位としては、式(II−2−A−2)で表される構造単位が好ましい。
[式(II−2−A−2)中、
RIII3、RIII5及びZA+は、上記と同じ意味を表す。
m及びnは、それぞれ独立に、1又は2を表す。]
As the structural unit represented by the formula (II-2-A-1), the structural unit represented by the formula (II-2-A-2) is preferable.
[In formula (II-2-A-2),
R III3 , R III5 and ZA + have the same meanings as above.
m and n independently represent 1 or 2, respectively. ]
式(II−2−A’)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位、RIII3のメチル基に相当する基が水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子)又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基(例えば、トリフルオロメチル基等)に置き換わった構造単位及び国際公開第2012/050015号記載の構造単位が挙げられる。ZA+は、有機カチオンを表す。
As the structural unit represented by the formula (II-2-A'), for example, the following structural unit, the group corresponding to the methyl group of R III3 is a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom) or a halogen atom. Examples thereof include structural units replaced with alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (for example, trifluoromethyl groups, etc.) and structural units described in WO 2012/050015. ZA + represents an organic cation.
側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位は、式(II−1−1)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−1−1)中、
AII1は、単結合又は2価の連結基を表す。
RII1は、炭素数6〜18の2価の芳香族炭化水素基を表す。
RII2及びRII3は、それぞれ独立して、炭素数1〜18の炭化水素基を表し、RII2及びRII3は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成していてもよい。
RII4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
A−は、有機アニオンを表す。]
RII1で表される炭素数6〜18の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
RII2及びRII3で表される炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。具体的には、Ra1’、Ra2’及びRa3’における炭化水素基と同じものが挙げられる。
RII4で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
RII4で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基と同じものが挙げられる。
AII1で表される2価の連結基としては、例えば、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基が挙げられ、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−で置き換わっていてもよい。具体的には、XIII3で表される炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
The structural unit having a sulfonio group and an organic anion in the side chain is preferably a structural unit represented by the formula (II-1-1).
[In formula (II-1-1),
A II1 represents a single bond or a divalent linking group.
R II1 represents a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R II2 and R II3 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and R II2 and R II3 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded.
R II4 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom.
A − represents an organic anion. ]
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms represented by R II1 include a phenylene group and a naphthylene group.
Examples of the hydrocarbon group represented by R II2 and R II3 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these. Specifically, the same hydrocarbon groups in R a1' , R a2' and R a3' can be mentioned.
Examples of the halogen atom represented by R II4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R II4 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 The same can be mentioned.
Examples of the divalent linking group represented by A II1 include a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and −CH 2 − contained in the divalent saturated hydrocarbon group is It may be replaced by -O-, -S- or -CO-. Specifically, the same divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by X III3 can be mentioned.
式(II−1−1)中のカチオンを含む構造単位としては、以下で表される構造単位及びRII4のメチル基に相当する基が、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基等に置き換わった構造単位などが挙げられる。
As the structural unit containing a cation in the formula (II-1-1), the structural unit represented by the following and the group corresponding to the methyl group of R II4 are replaced with hydrogen atom, fluorine atom, trifluoromethyl group and the like. Structural units and the like.
A−で表される有機アニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。A−で表される有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、前述の式(B1)で表される塩に含まれるアニオンであることがより好ましい。 Examples of the organic anion represented by A − include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a sulfonylmethide anion, and a carboxylic acid anion. The organic anion represented by A − is preferably a sulfonic acid anion, and the sulfonic acid anion is more preferably an anion contained in the salt represented by the above formula (B1).
A−で表されるスルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of the sulfonylimide anion represented by A − include the following.
スルホニルメチドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of the sulfonylmethide anion include the following.
カルボン酸アニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of the carboxylic acid anion include the following.
式(II−1−1)で表される構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (II-1-1) include structural units represented by the following.
樹脂(A)中に、構造単位(II)を含有する場合の構造単位(II)の含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、好ましくは1〜20モル%であり、より好ましくは2〜15モル%であり、さらに好ましくは3〜10モル%である。 When the structural unit (II) is contained in the resin (A), the content of the structural unit (II) is preferably 1 to 20 mol% with respect to all the structural units of the resin (A), and more. It is preferably 2 to 15 mol%, more preferably 3 to 10 mol%.
樹脂(A)は、上述の構造単位以外の構造単位を有していてもよく、このような構造単位としては、当技術分野で周知の構造単位が挙げられる。 The resin (A) may have a structural unit other than the above-mentioned structural unit, and examples of such a structural unit include structural units well known in the art.
樹脂(A)は、好ましくは、構造単位(a1)と構造単位(s)とからなる樹脂、すなわち、モノマー(a1)とモノマー(s)との共重合体である。
構造単位(a1)は、好ましくは構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)(好ましくはシクロヘキシル基、及びシクロペンチル基を有する該構造単位)からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは少なくとも二種であり、さらに好ましくは、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)からなる群から選ばれる少なくとも二種である。
構造単位(s)は、好ましくは構造単位(a2)及び構造単位(a3)からなる群から選ばれる少なくとも一種である。構造単位(a2)は、好ましくは構造単位(a2−1)又は構造単位(a2−A)である。構造単位(a3)は、好ましくは式(a3−1)で表される構造単位、式(a3−2)で表される構造単位及び式(a3−4)で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。
樹脂(A)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組み合わせて用いてもよく、これら構造単位を導くモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(A)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(A)の重量平均分子量は、好ましくは、2,000以上(より好ましくは2,500以上、さらに好ましくは3,000以上)、50,000以下(より好ましくは30,000以下、さらに好ましくは15,000以下)である。本明細書では、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで実施例に記載の条件により求めた値である。
The resin (A) is preferably a resin composed of a structural unit (a1) and a structural unit (s), that is, a copolymer of a monomer (a1) and a monomer (s).
The structural unit (a1) is preferably a group consisting of a structural unit (a1-0), a structural unit (a1-1) and a structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group and a cyclopentyl group). It is at least one selected from, more preferably at least two, and even more preferably at least two selected from the group consisting of structural units (a1-1) and structural units (a1-2).
The structural unit (s) is preferably at least one selected from the group consisting of the structural unit (a2) and the structural unit (a3). The structural unit (a2) is preferably a structural unit (a2-1) or a structural unit (a2-A). The structural unit (a3) is preferably a group consisting of a structural unit represented by the formula (a3-1), a structural unit represented by the formula (a3-2), and a structural unit represented by the formula (a3-4). At least one selected from.
Each structural unit constituting the resin (A) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, a radical polymerization method) using a monomer that derives these structural units. be able to. The content of each structural unit of the resin (A) can be adjusted by adjusting the amount of the monomer used for the polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, still more preferably 3,000 or more) and 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, still more preferable. Is 15,000 or less). In the present specification, the weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography under the conditions described in Examples.
<樹脂(A)以外の樹脂>
本発明のレジスト組成物は、樹脂(A)以外の樹脂を含んでいてもよい。
樹脂(A)以外の樹脂としては、例えば、構造単位(a4)又は構造単位(a5)を含有する樹脂(以下、樹脂(X)という場合がある)等が挙げられる。
樹脂(X)としては、なかでも、構造単位(a4)を含む樹脂が好ましい。つまり、フッ素原子を有する構造単位を含む樹脂であることが好ましい。
樹脂(X)において、構造単位(a4)の含有率は、樹脂(X)の全構造単位の合計に対して、30モル%以上であることが好ましく、40モル%以上であることがより好ましく、45モル%以上であることがさらに好ましい。
樹脂(X)がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位(a1)、構造単位(a2)、構造単位(a3)及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、樹脂(X)は、構造単位(a4)及び/又は構造単位(a5)のみからなる樹脂であることが好ましい。
樹脂(X)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(X)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(X)の重量平均分子量は、好ましくは6,000以上(より好ましくは7,000以上)、80,000以下(より好ましくは60,000以下)である。樹脂(X)の重量平均分子量の測定手段は、樹脂(A)の場合と同様である。
<Resin other than resin (A)>
The resist composition of the present invention may contain a resin other than the resin (A).
Examples of the resin other than the resin (A) include a resin containing a structural unit (a4) or a structural unit (a5) (hereinafter, may be referred to as a resin (X)).
As the resin (X), a resin containing a structural unit (a4) is particularly preferable. That is, it is preferable that the resin contains a structural unit having a fluorine atom.
In the resin (X), the content of the structural unit (a4) is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, based on the total of all the structural units of the resin (X). , 45 mol% or more is more preferable.
Examples of the structural unit that the resin (X) may further include include a structural unit (a1), a structural unit (a2), a structural unit (a3), and a structural unit derived from other known monomers. Above all, the resin (X) is preferably a resin composed of only the structural unit (a4) and / or the structural unit (a5).
Each structural unit constituting the resin (X) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, a radical polymerization method) using a monomer for inducing these structural units. can do. The content of each structural unit of the resin (X) can be adjusted by adjusting the amount of the monomer used for the polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (X) is preferably 6,000 or more (more preferably 7,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less). The means for measuring the weight average molecular weight of the resin (X) is the same as that of the resin (A).
本発明のレジスト組成物が、樹脂(X)を含む場合、その含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1〜60質量部であり、より好ましくは1〜50質量部であり、さらに好ましくは1〜40質量部であり、特に好ましくは1〜30質量部であり、特に好ましくは1〜8質量部である。 When the resist composition of the present invention contains the resin (X), the content thereof is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A). It is more preferably 1 to 40 parts by mass, particularly preferably 1 to 30 parts by mass, and particularly preferably 1 to 8 parts by mass.
レジスト組成物における樹脂(A)の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90質量%以上99質量%以下がより好ましい。また、樹脂(A)以外の樹脂を含む場合は、樹脂(A)と樹脂(A)以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90質量%以上99質量%以下がより好ましい。本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤(E)を除いた成分の合計を意味する。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。 The content of the resin (A) in the resist composition is preferably 80% by mass or more and 99% by mass or less, and more preferably 90% by mass or more and 99% by mass or less, based on the solid content of the resist composition. When a resin other than the resin (A) is contained, the total content of the resin (A) and the resin other than the resin (A) is 80% by mass or more and 99% by mass with respect to the solid content of the resist composition. It is preferably 90% by mass or more and 99% by mass or less. In the present specification, the "solid content of the resist composition" means the total amount of the components excluding the solvent (E) described later from the total amount of the resist composition. The solid content of the resist composition and the content of the resin relative to the solid content can be measured by a known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.
<溶剤(E)>
溶剤(E)の含有率は、レジスト組成物中、通常90質量%以上99.9質量%以下であり、好ましくは92質量%以上99質量%以下であり、より好ましくは94質量%以上99質量%以下である。溶剤(E)の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤(E)としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン等の環状エステル類;等を挙げることができる。溶剤(E)の1種を単独で使用してもよく、2種以上を使用してもよい。
<Solvent (E)>
The content of the solvent (E) in the resist composition is usually 90% by mass or more and 99.9% by mass or less, preferably 92% by mass or more and 99% by mass or less, and more preferably 94% by mass or more and 99% by mass or less. % Or less. The content of the solvent (E) can be measured by a known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.
Examples of the solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate and ethyl pyruvate. Esters; ketones such as acetone, methylisobutylketone, 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone; and the like. One type of solvent (E) may be used alone, or two or more types may be used.
<クエンチャー(C)>
クエンチャー(C)としては、塩基性の含窒素有機化合物及び酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩が挙げられる。レジスト組成物がクエンチャー(C)を含有する場合、クエンチャー(C)の含有量は、レジスト組成物の固形分量を基準に、0.01〜15質量%程度であることが好ましく、0.1〜10質量%程度であることがより好ましく、0.1〜5質量%程度であることがより一層好ましく、0.1〜3質量%であることがさらに一層好ましい。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
アミンとしては、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、2−,3−又は4−メチルアニリン、4−ニトロアニリン、N−メチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔2−(2−メトキシエトキシ)エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチルジフェニルメタン、2,2’−メチレンビスアニリン、イミダゾール、4−メチルイミダゾール、ピリジン、4−メチルピリジン、1,2−ジ(2−ピリジル)エタン、1,2−ジ(4−ピリジル)エタン、1,2−ジ(2−ピリジル)エテン、1,2−ジ(4−ピリジル)エテン、1,3−ジ(4−ピリジル)プロパン、1,2−ジ(4−ピリジルオキシ)エタン、ジ(2−ピリジル)ケトン、4,4’−ジピリジルスルフィド、4,4’−ジピリジルジスルフィド、2,2’−ジピリジルアミン、2,2’−ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリンが挙げられ、より好ましくは2,6−ジイソプロピルアニリンが挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、3−(トリフルオロメチル)フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−n−ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。
<Quencher (C)>
Examples of the quencher (C) include a basic nitrogen-containing organic compound and a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B). When the resist composition contains the quencher (C), the content of the quencher (C) is preferably about 0.01 to 15% by mass based on the solid content of the resist composition, and is 0. It is more preferably about 1 to 10% by mass, further preferably about 0.1 to 5% by mass, and even more preferably 0.1 to 3% by mass.
Examples of the basic nitrogen-containing organic compound include amine and ammonium salts. Examples of amines include aliphatic amines and aromatic amines. Aliphatic amines include primary amines, secondary amines and tertiary amines.
Examples of amines include 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-,3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N, N-dimethylaniline, diphenylamine, hexylamine, Heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, trypentylamine, trihexylamine, tri Heptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, methyldibutylamine, methyldipentylamine, methyldihexylamine, methyldicyclohexylamine, methyldiheptylamine, methyldioctylamine, methyldinonylamine, methyldidecylamine, Ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, ethyldioctylamine, ethyldinonylamine, ethyldidecylamine, dicyclohexylmethylamine, tris [2- (2-methoxyethoxy) ethyl] amine, tri Isopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3 , 3'-diethyldiphenylmethane, 2,2'-methylenebisaniline, imidazole, 4-methylimidazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2-di (2-pyridyl) ethane, 1,2-di (4-di) Pyridyl) ethane, 1,2-di (2-pyridyl) ethene, 1,2-di (4-pyridyl) ethane, 1,3-di (4-pyridyl) propane, 1,2-di (4-pyridyloxy) ) Ethan, di (2-pyridyl) ketone, 4,4'-dipyridyl sulfide, 4,4'-dipyridyl disulfide, 2,2'-dipyridylamine, 2,2'-dipicorylamine, bipyridine and the like. Diisopropylaniline is preferable, and 2,6-diisopropylaniline is more preferable.
Ammonium salts include tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, 3- (trifluoromethyl) phenyltrimethyl. Ammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate, choline and the like can be mentioned.
酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、酸解離定数(pKa)で示される。酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常−3<pKaの塩であり、好ましくは−1<pKa<7の塩であり、より好ましくは0<pKa<5の塩である。
酸発生剤(B)から発生ずる酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、特開2015−147926号公報記載の式(D)で表される塩(以下、「弱酸分子内塩(D)という場合がある。」)、並びに特開2012−229206号公報、特開2012−6908号公報、特開2012−72109号公報、特開2011−39502号公報及び特開2011−191745号公報記載の塩が挙げられる。酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩として、好ましくは、酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱いカルボン酸を発生する塩(カルボン酸アニオンを有する塩)であり、より好ましくは、弱酸分子内塩(D)である。
The acidity of a salt that produces an acid that is weaker than the acid generated by the acid generator (B) is indicated by the acid dissociation constant (pKa). The salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) is a salt having an acid dissociation constant of the acid generated from the salt usually -3 <pKa, preferably -1 <. It is a salt of pKa <7, more preferably a salt of 0 <pKa <5.
Examples of the salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) include a salt represented by the following formula and a salt represented by the formula (D) described in JP-A-2015-147926. (Hereinafter, it may be referred to as "weak acid intramolecular salt (D)"), and JP-A-2012-229206, JP-A-2012-6908, JP-A-2012-72109, JP-A-2011-39502. Examples thereof include salts described in JP-A-2011-191745. As a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B), preferably a salt (carboxylic acid) that generates a carboxylic acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B). A salt having an acid anion), more preferably a weak acid intramolecular salt (D).
弱酸分子内塩(D)としては、以下の塩が挙げられる。
Examples of the weak acid intramolecular salt (D) include the following salts.
〈その他の成分〉
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分(以下「その他の成分(F)」という場合がある。)を含有していてもよい。その他の成分(F)に特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。
<Other ingredients>
The resist composition of the present invention may contain components other than the above-mentioned components (hereinafter, may be referred to as "other components (F)"), if necessary. The other component (F) is not particularly limited, and additives known in the resist field, such as sensitizers, dissolution inhibitors, surfactants, stabilizers, dyes, and the like can be used.
〈レジスト組成物の調製〉
本発明のレジスト組成物は、塩(I)、樹脂(A)及び酸発生剤(B)、並びに、必要に応じて、用いられる樹脂(A)以外の樹脂、溶剤(E)、クエンチャー(C)及びその他の成分(F)を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、10〜40℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤(E)に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、0.5〜24時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径0.003〜0.2μm程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。
<Preparation of resist composition>
The resist composition of the present invention comprises a salt (I), a resin (A) and an acid generator (B), and if necessary, a resin other than the resin (A) used, a solvent (E), and a quencher ( It can be prepared by mixing C) and the other component (F). The mixing order is arbitrary and is not particularly limited. The temperature at the time of mixing can be selected from 10 to 40 ° C., depending on the type of resin or the like and the solubility of the resin or the like in the solvent (E). As the mixing time, an appropriate time can be selected from 0.5 to 24 hours depending on the mixing temperature. The mixing means is not particularly limited, and stirring and mixing or the like can be used.
After mixing each component, it is preferable to filter using a filter having a pore size of about 0.003 to 0.2 μm.
〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
(1)本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成されていてもよい。
塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること(いわゆるプリベーク)により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、50〜200℃であることが好ましく、加熱時間は、10〜180秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、1〜1.0×105Pa程度であることが好ましい。
得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、KrFエキシマレーザ(波長248nm)、ArFエキシマレーザ(波長193nm)、F2エキシマレーザ(波長157nm)のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源(YAG又は半導体レーザ等)からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光(EUV)を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。
露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理(いわゆるポストエキスポジャーベーク)を行う。加熱温度は、通常50〜200℃程度、好ましくは70〜150℃程度である。
加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は、例えば、5〜60℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、5〜300秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。
本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや(2−ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウムヒドロキシド(通称コリン)の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液(以下「有機系現像液」という場合がある)を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、2−ヘキサノン、2−ヘプタノン等のケトン溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル溶剤;酢酸ブチル等のエステル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル溶剤;N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤;アニソール等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、90質量%以上100質量%以下が好ましく、95質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び/又は2−ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び2−ヘプタノンの合計含有率は、50質量%以上100質量%以下が好ましく、90質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び/又は2−ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。
現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
<Manufacturing method of resist pattern>
The method for producing a resist pattern of the present invention is
(1) A step of applying the resist composition of the present invention on a substrate,
(2) A step of drying the applied composition to form a composition layer,
(3) Step of exposing the composition layer,
It includes (4) a step of heating the composition layer after exposure and (5) a step of developing the composition layer after heating.
The resist composition can be applied onto the substrate by a commonly used device such as a spin coater. Examples of the substrate include an inorganic substrate such as a silicon wafer. The substrate may be washed before the resist composition is applied, or an antireflection film or the like may be formed on the substrate.
By drying the composition after coating, the solvent is removed and a composition layer is formed. Drying is performed, for example, by evaporating the solvent using a heating device such as a hot plate (so-called prebaking), or by using a decompression device. The heating temperature is preferably 50 to 200 ° C., and the heating time is preferably 10 to 180 seconds. The pressure at the time of vacuum drying is preferably about 1~1.0 × 10 5 Pa.
The obtained composition layer is usually exposed to an exposure machine. The exposure machine may be an immersion exposure machine. Exposure light sources include those that emit ultraviolet laser light such as KrF excimer laser (wavelength 248 nm), ArF excimer laser (wavelength 193 nm), and F 2 excimer laser (wavelength 157 nm), and solid-state laser light sources (YAG or semiconductor laser). Etc.), wavelength-converted laser light from far-ultraviolet region or vacuum ultraviolet region to emit harmonic laser light, electron beam, super-ultraviolet light (EUV) irradiation, etc. Can be done. In addition, in this specification, irradiation of these radiations may be generically referred to as "exposure". At the time of exposure, the exposure is usually performed through a mask corresponding to the required pattern. When the exposure light source is an electron beam, the exposure may be performed by drawing directly without using a mask.
The exposed composition layer is heat treated (so-called post-exposure bake) to promote the deprotection reaction at the acid unstable group. The heating temperature is usually about 50 to 200 ° C, preferably about 70 to 150 ° C.
The composition layer after heating is usually developed using a developing solution using a developing device. Examples of the developing method include a dip method, a paddle method, a spray method, and a dynamic dispense method. The development temperature is preferably, for example, 5 to 60 ° C., and the development time is preferably, for example, 5 to 300 seconds. A positive resist pattern or a negative resist pattern can be produced by selecting the type of developer as follows.
When a positive resist pattern is produced from the resist composition of the present invention, an alkaline developer is used as the developer. The alkaline developer may be any alkaline aqueous solution used in this field. For example, an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide or (2-hydroxyethyl) trimethylammonium hydroxide (commonly known as choline) can be mentioned. The alkaline developer may contain a surfactant.
After development, it is preferable to wash the resist pattern with ultrapure water and then remove the substrate and water remaining on the pattern.
When a negative resist pattern is produced from the resist composition of the present invention, a developer containing an organic solvent (hereinafter, may be referred to as "organic developer") is used as the developer.
Examples of the organic solvent contained in the organic developing solution include a ketone solvent such as 2-hexanone and 2-heptanone; a glycol ether ester solvent such as propylene glycol monomethyl ether acetate; an ester solvent such as butyl acetate; and a glycol such as propylene glycol monomethyl ether. Examples thereof include ether solvents; amide solvents such as N and N-dimethylacetamide; aromatic hydrocarbon solvents such as anisole.
The content of the organic solvent in the organic developer is preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less, and further preferably substantially only the organic solvent.
Among them, as the organic developer, a developer containing butyl acetate and / or 2-heptanone is preferable. The total content of butyl acetate and 2-heptanone in the organic developer is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, and substantially butyl acetate and / or 2 -It is even more preferable that it is only heptanone.
The organic developer may contain a surfactant. Further, the organic developer may contain a small amount of water.
At the time of development, the development may be stopped by substituting with a solvent of a type different from that of the organic developer.
It is preferable to wash the developed resist pattern with a rinse solution. The rinsing solution is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, and an alcohol solvent or an ester solvent is preferable.
After cleaning, it is preferable to remove the rinse liquid remaining on the substrate and the pattern.
〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物、特に電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物として好適であり、半導体の微細加工に有用である。
<Use>
The resist composition of the present invention includes a resist composition for KrF excimer laser exposure, a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure, or a resist composition for EUV exposure, particularly electrons. It is suitable as a resist composition for linear (EB) exposure or a resist composition for EUV exposure, and is useful for fine processing of semiconductors.
実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「%」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。なお、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーの分析条件は下記のとおりである。
カラム:TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn(東ソー社製)
溶離液:テトラヒドロフラン
流量:1.0mL/min
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μl
分子量標準:標準ポリスチレン(東ソー社製)
化合物の構造は、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはAgilent製LC/MSD型)を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子イオンピークの値を「MASS」で示す。
The present invention will be described in more detail with reference to examples. In the examples, "%" and "part" representing the content or the amount used are based on mass unless otherwise specified.
The weight average molecular weight is a value determined by gel permeation chromatography. The analysis conditions for gel permeation chromatography are as follows.
Column: TSKgel Multipore HXL-M x 3 + guardcolumn (manufactured by Tosoh)
Eluent: tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 100 μl
Molecular weight standard: Standard polystyrene (manufactured by Tosoh)
The structure of the compound was confirmed by measuring the molecular ion peak using mass analysis (LC: Agilent 1100 type, MASS: Agilent LC / MSD type). In the following examples, the value of this molecular ion peak is indicated by "MASS".
実施例1:式(I−1)で表される塩の合成
式(I−1−a)で表される塩3部、炭酸カリウム1.55部及びジメチルホルムアミド30部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、50℃に昇温した。得られた混合溶液に、式(I−1−b)で表される化合物5.43部及びヨウ化カリウム0.46部を添加し、さらに、50℃で20時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、クロロホルム50部及びイオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式(I−1−c)で表される塩7.35部を得た。
式(I−1−c)で表される塩7.35部、 式(I−1−d)で表される塩3.23部、イオン交換水10部、クロロホルム50部及び酢酸エチル25部を混合し、23℃で8時間攪拌した。得られた混合溶液に、5%シュウ酸水溶液25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−1)で表される塩7.02部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 263.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M− 657.2
Example 1: Synthesis of salt represented by formula (I-1)
3 parts of the salt represented by the formula (I-1-a), 1.55 parts of potassium carbonate and 30 parts of dimethylformamide were mixed, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then heated to 50 ° C. To the obtained mixed solution, 5.43 parts of the compound represented by the formula (I-1-b) and 0.46 parts of potassium iodide were added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 20 hours and then up to 23 ° C. Cooled. To the obtained mixture, 50 parts of chloroform and 25 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 7.35 parts of a salt represented by the formula (I-1-c) was obtained.
7.35 parts of salt represented by formula (I-1-c), 3.23 parts of salt represented by formula (I-1-d), 10 parts of ion-exchanged water, 50 parts of chloroform and 25 parts of ethyl acetate. Was mixed and stirred at 23 ° C. for 8 hours. To the obtained mixed solution, 25 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. To the obtained organic layer, 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated to obtain a salt 7 represented by the formula (I-1). 0.02 copies were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 657.2
実施例2:式(I−16)で表される塩の合成
式(I−16−a)で表される塩2.51部、炭酸カリウム0.78部及びジメチルホルムアミド30部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、50℃に昇温した。得られた混合溶液に、式(I−1−b)で表される化合物2.72部及びヨウ化カリウム0.23部を添加し、さらに、50℃で20時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、クロロホルム50部及びイオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式(I−16−c)で表される塩4.71部を得た。
式(I−16−c)で表される塩4.65部、 式(I−1−d)で表される塩3.23部、イオン交換水10部、クロロホルム50部及び酢酸エチル25部を混合し、23℃で8時間攪拌した。得られた混合溶液に、5%シュウ酸水溶液25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−16)で表される塩4.29部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 263.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M− 407.1
Example 2: Synthesis of salt represented by formula (I-16)
2.51 parts of the salt represented by the formula (I-16-a), 0.78 parts of potassium carbonate and 30 parts of dimethylformamide were mixed, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then heated to 50 ° C. To the obtained mixed solution, 2.72 parts of the compound represented by the formula (I-1-b) and 0.23 parts of potassium iodide were added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 20 hours and then up to 23 ° C. Cooled. To the obtained mixture, 50 parts of chloroform and 25 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 4.71 parts of a salt represented by the formula (I-16-c) was obtained.
4.65 parts of salt represented by formula (I-16-c), 3.23 parts of salt represented by formula (I-1-d), 10 parts of ion-exchanged water, 50 parts of chloroform and 25 parts of ethyl acetate. Was mixed and stirred at 23 ° C. for 8 hours. To the obtained mixed solution, 25 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. To the obtained organic layer, 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then the supernatant was removed and concentrated to obtain the salt 4 represented by the formula (I-16). .29 copies were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 407.1
実施例3:式(I−100)で表される塩の合成
式(I−1−c)で表される塩7.35部、 式(I−100−d)で表される塩3.81部、クロロホルム50部及び酢酸エチル25部を混合し、23℃で8時間攪拌した。得られた混合溶液に、5%シュウ酸水溶液25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−100)で表される塩7.72部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 317.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M− 657.2
Example 3: Synthesis of salt represented by formula (I-100)
7.35 parts of the salt represented by the formula (I-1-c), 3.81 parts of the salt represented by the formula (I-100-d), 50 parts of chloroform and 25 parts of ethyl acetate are mixed and 23 ° C. Was stirred for 8 hours. To the obtained mixed solution, 25 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. To the obtained organic layer, 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated to obtain a salt 7 represented by the formula (I-100). .72 copies were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 317.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 657.2
実施例4:式(I−15)で表される塩の合成
式(I−1−a)で表される塩3部、炭酸カリウム1.55部及びジメチルホルムアミド30部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、50℃に昇温した。得られた混合溶液に、式(I−15−b)で表される化合物4.27部及びヨウ化カリウム0.46部を添加し、さらに、50℃で20時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、クロロホルム50部及びイオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式(I−15−c)で表される塩6.25部を得た。
式(I−15−c)で表される塩6.23部、 式(I−1−d)で表される塩3.23部、イオン交換水10部、クロロホルム50部及び酢酸エチル25部を混合し、23℃で8時間攪拌した。得られた混合溶液に、5%シュウ酸水溶液25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−15)で表される塩5.89部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 263.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M− 553.2
Example 4: Synthesis of salt represented by formula (I-15)
3 parts of the salt represented by the formula (I-1-a), 1.55 parts of potassium carbonate and 30 parts of dimethylformamide were mixed, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then heated to 50 ° C. To the obtained mixed solution, 4.27 parts of the compound represented by the formula (I-15-b) and 0.46 parts of potassium iodide were added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 20 hours and then up to 23 ° C. Cooled. To the obtained mixture, 50 parts of chloroform and 25 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 6.25 parts of a salt represented by the formula (I-15-c) was obtained.
6.23 parts of salt represented by formula (I-15-c), 3.23 parts of salt represented by formula (I-1-d), 10 parts of ion-exchanged water, 50 parts of chloroform and 25 parts of ethyl acetate. Was mixed and stirred at 23 ° C. for 8 hours. To the obtained mixed solution, 25 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. To the obtained organic layer, 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated to obtain a salt 5 represented by the formula (I-15). .89 copies were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 553.2
実施例5:式(I−6)で表される塩の合成
式(I−1−a)で表される塩3部、炭酸カリウム1.55部及びジメチルホルムアミド30部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、50℃に昇温した。得られた混合溶液に、式(I−6−b)で表される化合物8.65部及びヨウ化カリウム0.46部を添加し、さらに、50℃で20時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、クロロホルム50部及びイオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式(I−6−c)で表される塩10.75部を得た。
式(I−6−c)で表される塩10.46部、 式(I−1−d)で表される塩3.23部、イオン交換水10部、クロロホルム50部及び酢酸エチル25部を混合し、23℃で8時間攪拌した。得られた混合溶液に、5%シュウ酸水溶液25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−6)で表される塩10.22部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 263.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M− 945.2
Example 5: Synthesis of salt represented by formula (I-6)
3 parts of the salt represented by the formula (I-1-a), 1.55 parts of potassium carbonate and 30 parts of dimethylformamide were mixed, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then heated to 50 ° C. To the obtained mixed solution, 8.65 parts of the compound represented by the formula (I-6-b) and 0.46 parts of potassium iodide were added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 20 hours and then up to 23 ° C. Cooled. To the obtained mixture, 50 parts of chloroform and 25 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 10.75 parts of a salt represented by the formula (I-6-c) was obtained.
10.46 parts of salt represented by formula (I-6-c), 3.23 parts of salt represented by formula (I-1-d), 10 parts of ion-exchanged water, 50 parts of chloroform and 25 parts of ethyl acetate. Was mixed and stirred at 23 ° C. for 8 hours. To the obtained mixed solution, 25 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. To the obtained organic layer, 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then the supernatant was removed and concentrated to obtain the salt 10 represented by the formula (I-6). .22 copies were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 945.2
実施例6:式(I−114)で表される塩の合成
式(I−15−c)で表される塩6.23部、 式(I−100−d)で表される塩3.81部、イオン交換水10部、クロロホルム50部及び酢酸エチル25部を混合し、23℃で8時間攪拌した。得られた混合溶液に、5%シュウ酸水溶液25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−114)で表される塩6.74部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 317.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M− 553.2
Example 6: Synthesis of salt represented by formula (I-114)
6.23 parts of salt represented by formula (I-15-c), 3.81 parts of salt represented by formula (I-100-d), 10 parts of ion-exchanged water, 50 parts of chloroform and 25 parts of ethyl acetate. Was mixed and stirred at 23 ° C. for 8 hours. To the obtained mixed solution, 25 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. To the obtained organic layer, 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated to obtain a salt 6 represented by the formula (I-114). .74 copies were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 317.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 553.2
実施例7:式(I−105)で表される塩の合成
式(I−5−c)で表される塩10.46部、 式(I−100−d)で表される塩3.81部、イオン交換水10部、クロロホルム50部及び酢酸エチル25部を混合し、23℃で8時間攪拌した。得られた混合溶液に、5%シュウ酸水溶液25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−105)で表される塩10.62部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 317.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M− 945.2
Example 7: Synthesis of salt represented by formula (I-105)
10.46 parts of salt represented by formula (I-5-c), 3.81 parts of salt represented by formula (I-100-d), 10 parts of ion-exchanged water, 50 parts of chloroform and 25 parts of ethyl acetate. Was mixed and stirred at 23 ° C. for 8 hours. To the obtained mixed solution, 25 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. To the obtained organic layer, 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then the supernatant was removed and concentrated to obtain the salt 10 represented by the formula (I-105). .62 copies were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 317.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 945.2
実施例8:式(I−4)で表される塩の合成
式(I−1−a)で表される塩3部、炭酸カリウム1.55部及びジメチルホルムアミド30部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、50℃に昇温した。得られた混合溶液に、式(I−4−b)で表される化合物5.47部及びヨウ化カリウム0.46部を添加し、さらに、50℃で20時間攪拌した後、23℃まで冷却した。得られた混合物に、クロロホルム50部及びイオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式(I−4−c)で表される塩7.53部を得た。
式(I−4−c)で表される塩7.39部、 式(I−1−d)で表される塩3.23部、イオン交換水10部、クロロホルム50部及び酢酸エチル25部を混合し、23℃で8時間攪拌した。得られた混合溶液に、5%シュウ酸水溶液25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−4)で表される塩6.89部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 263.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M− 661.2
Example 8: Synthesis of salt represented by formula (I-4)
3 parts of the salt represented by the formula (I-1-a), 1.55 parts of potassium carbonate and 30 parts of dimethylformamide were mixed, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then heated to 50 ° C. To the obtained mixed solution, 5.47 parts of the compound represented by the formula (I-4-b) and 0.46 parts of potassium iodide were added, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 20 hours and then up to 23 ° C. Cooled. To the obtained mixture, 50 parts of chloroform and 25 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 7.53 parts of a salt represented by the formula (I-4-c) was obtained.
7.39 parts of salt represented by formula (I-4-c), 3.23 parts of salt represented by formula (I-1-d), 10 parts of ion-exchanged water, 50 parts of chloroform and 25 parts of ethyl acetate. Was mixed and stirred at 23 ° C. for 8 hours. To the obtained mixed solution, 25 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. To the obtained organic layer, 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to remove the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated to obtain a salt 6 represented by the formula (I-4). .89 copies were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 661.2.
樹脂の合成
樹脂(A)の合成に使用した化合物(モノマー)を下記に示す。以下、これらの化合物をその式番号に応じて、「モノマー(a1−1−3)」等という。
Synthesis of Resin The compounds (monomers) used for the synthesis of the resin (A) are shown below. Hereinafter, these compounds are referred to as "monomers (a1-1-3)" and the like according to their formula numbers.
合成例1〔樹脂A1の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)及びモノマー(a1−2−6)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6)〕が、38:24:38の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.3×103である樹脂A1(共重合体)を収率78%で得た。この樹脂A1は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 1 [Synthesis of resin A1]
As the monomer, a monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3) and a monomer (a1-2-6) are used, and their molar ratio [monomer (a1-4-2): monomer (a1-1-1). -3): Monomer (a1-2-6)] is mixed so that the ratio is 38:24:38, and the monomer mixture is further multiplied by 1.5 by mass with respect to the total mass of all the monomers. Methyl isobutyl ketone was mixed. Azobisisobutyronitrile as an initiator was added to the obtained mixture so as to be 7 mol% based on the total number of moles of all the monomers, and this was heated at 85 ° C. for about 5 hours to carry out polymerization. It was. Then, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours and then separated. The resulting organic layer, to precipitate a resin poured into a large amount of n- heptane by filtration and recovered, yield 78 resin A1 (copolymer) is the weight average molecular weight of about 5.3 × 10 3 Obtained in%. This resin A1 has the following structural units.
合成例2〔樹脂A2の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)及びモノマー(a1−2−6)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−2−6)〕が、38:62の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.4×103である樹脂A2(共重合体)を収率89%で得た。この樹脂A2は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 2 [Synthesis of resin A2]
As the monomer, a monomer (a1-4-2) and a monomer (a1-2-6) are used, and the molar ratio [monomer (a1-4-2): monomer (a1-2-6)] is 38:62. Methyl isobutyl ketone was further mixed with this monomer mixture in an amount of 1.5% by mass based on the total mass of all the monomers. Azobisisobutyronitrile as an initiator was added to the obtained mixture so as to be 7 mol% based on the total number of moles of all the monomers, and this was heated at 85 ° C. for about 5 hours to carry out polymerization. It was. Then, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours and then separated. The resulting organic layer, to precipitate a resin poured into a large amount of n- heptane by filtration and recovered, the resin weight average molecular weight of about 5.4 × 10 3 A2 (copolymer) to yield 89 Obtained in%. This resin A2 has the following structural units.
<レジスト組成物の調製>
表2に示すように、以下の各成分を混合し、得られた混合物を孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過することにより、レジスト組成物を調製した。
As shown in Table 2, each of the following components was mixed, and the obtained mixture was filtered through a fluororesin filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a resist composition.
<樹脂>
A1、A2:樹脂A1、樹脂A2
<塩(I)>
I−1:式(I−1)で表される塩
I−4:式(I−4)で表される塩
I−6:式(I−6)で表される塩
I−15:式(I−15)で表される塩
I−16:式(I−16)で表される塩
I−100:式(I−100)で表される塩
I−105:式(I−105)で表される塩
I−114:式(I−114)で表される塩
<酸発生剤>
IX−1
IX−2
IX−3
IX−4
IX−5
<クエンチャー(C)>
C1:特開2011−39502号公報記載の方法で合成
<溶剤>
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 400部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100部
γ−ブチロラクトン 5部
<Resin>
A1, A2: Resin A1, Resin A2
<Salt (I)>
I-1: Salt represented by the formula (I-1) I-4: Salt represented by the formula (I-4) I-6: Salt represented by the formula (I-6) I-15: Formula Salt represented by (I-15) I-16: Salt represented by formula (I-16) I-100: Salt represented by formula (I-100) I-105: Salt represented by formula (I-105) Salt represented by I-114: Salt represented by formula (I-114) <acid generator>
IX-1
IX-2
IX-3
IX-4
IX-5
<Quencher (C)>
C1: Synthesized by the method described in JP2011-39502.
<Solvent>
Propylene glycol monomethyl ether acetate 400 parts Propylene glycol monomethyl ether 100 parts γ-butyrolactone 5 parts
(レジスト組成物の電子線露光評価:アルカリ現像)
6インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて90℃で60秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が0.04μmとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表2の「PB」欄に示す温度で60秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔(株)エリオニクス製の「ELS−F125 125keV」〕を用い、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパターン(ピッチ60nm/ライン幅30nm)を直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表2の「PEB」欄に示す温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
得られたレジストパターンにおいて、ラインアンドスペースパターンのライン幅とスペース幅とが1:1になる露光量を実効感度とした。
(Electron beam exposure evaluation of resist composition: alkaline development)
A 6 inch silicon wafer was treated on a direct hot plate with hexamethyldisilazane at 90 ° C. for 60 seconds. The resist composition was spin-coated on this silicon wafer so that the film thickness of the composition layer was 0.04 μm. Then, on a direct hot plate, a composition layer was formed by prebaking at the temperature shown in the “PB” column of Table 2 for 60 seconds. An electron beam writer [“ELS-F125 125keV” manufactured by Elionix Inc.] was used on the composition layer formed on the wafer, and the exposure amount was changed stepwise to create a line-and-space pattern (pitch 60 nm / line). Width 30 nm) was drawn directly.
After exposure, post-exposure baking is performed on a hot plate at the temperature shown in the “PEB” column of Table 2 for 60 seconds, and paddle development is performed for 60 seconds with a 2.38 mass% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution. , A resist pattern was obtained.
In the obtained resist pattern, the exposure amount at which the line width and the space width of the line-and-space pattern are 1: 1 was defined as the effective sensitivity.
<パターン倒れ評価(PCM)評価>
ラインパターンの線幅は露光量が多いほど細くなり、パターン消失は起こりやすくなる。数字は、実効感度以上の露光量で形成されたラインパターンに倒れ又は剥がれによるパターン消失が観察されないレジストパターンの最小線幅(nm)を示す。その結果を表3に示す。
比較組成物1〜5と比較して、組成物1〜16でのパターン消失が観察されないレジストパターンの最小線幅が小さく、パターン倒れ評価が良好であった。
上記の結果から、本発明の塩、該塩を含むレジスト組成物によれば、パターン倒れ耐性(PCM)が良好であることがわかる。
<Pattern collapse evaluation (PCM) evaluation>
The line width of the line pattern becomes thinner as the exposure amount increases, and the pattern disappears more easily. The numbers indicate the minimum line width (nm) of the resist pattern in which no pattern disappearance due to collapse or peeling is observed in the line pattern formed at an exposure amount equal to or higher than the effective sensitivity. The results are shown in Table 3.
Compared with the comparative compositions 1 to 5, the minimum line width of the resist pattern in which the pattern disappearance was not observed in the compositions 1 to 16 was small, and the pattern collapse evaluation was good.
From the above results, it can be seen that the salt of the present invention and the resist composition containing the salt have good pattern collapse resistance (PCM).
本発明の塩及び該塩を含むレジスト組成物は、パターン倒れ耐性(PCM)が良好であり、半導体の微細加工に有用である。 The salt of the present invention and the resist composition containing the salt have good pattern collapse resistance (PCM) and are useful for microfabrication of semiconductors.
Claims (10)
[式(I)中、
L1は、置換基を有してもよい炭素数1〜28の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
X1は、*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−又は*−O−を表し、*は、L1との結合部位を表す。
R1は、置換基を有してもよい炭素数1〜24の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−SO2−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
m1は、1〜3のいずれかの整数を表し、m1が2以上のとき、複数のL1、X1及びR1は、互いに同一であっても異なってもよい。
R2は、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
m2は、0〜4のいずれかの整数を表し、m2が2以上のとき、複数のR2は互いに同一であっても異なってもよい。
Z+は、有機カチオンを表す。] A salt represented by the formula (I).
[In formula (I),
L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 28 carbon atoms which may have a substituent, and −CH 2 − contained in the hydrocarbon group is −O −, −S−, −SO 2− or. It may be replaced with −CO−.
X 1 represents * -CO-O-, * -O-CO-, * -O-CO-O- or * -O-, and * represents the binding site with L 1 .
R 1 represents a hydrocarbon group which may having 1 to 24 carbon atoms which may have a substituent, -CH 2 contained in the hydrocarbon group - is -O -, - S -, - SO 2 - or It may be replaced with −CO−.
m1 represents an integer of 1 to 3, when m1 is 2 or more, L 1, X 1 and R 1 may be the same or different from each other.
R 2 represents a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
m2 represents any integer from 0 to 4, and when m2 is 2 or more, a plurality of R 2s may be the same or different from each other.
Z + represents an organic cation. ]
[式(a1−1)及び式(a1−2)中、
La1及びLa2は、それぞれ独立に、−O−又は*−O−(CH2)k1−CO−O−を表し、k1は1〜7のいずれかの整数を表し、*は−CO−との結合部位を表す。
Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ra6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。
m1は、0〜14のいずれかの整数を表す。
n1は、0〜10のいずれかの整数を表す。
n1’は、0〜3のいずれかの整数を表す。] The resist composition according to claim 6, wherein the resin having an acid unstable group contains at least one of a structural unit represented by the formula (a1-1) and a structural unit represented by the formula (a1-2).
[In the formula (a1-1) and the formula (a1-2),
L a1 and L a2 independently represent -O- or * -O- (CH 2 ) k1 -CO-O-, k1 represents an integer of 1 to 7, and * represents -CO-. Represents the binding site with.
R a4 and R a5 independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a6 and R a7 independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group combining these groups.
m1 represents any integer from 0 to 14.
n1 represents any integer from 0 to 10.
n1'represents an integer of 0 to 3. ]
[式(a2−A)中、
Ra50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
Ra51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基、炭素数2〜4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Aa50は、単結合又は*−Xa51−(Aa52−Xa52)nb−を表し、*は−Ra50が結合する炭素原子との結合部位を表す。
Aa52は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
Xa51及びXa52は、それぞれ独立に、−O−、−CO−O−又は−O−CO−を表す。
nbは、0又は1を表す。
mbは0〜4のいずれかの整数を表す。mbが2以上のいずれかの整数である場合、複数のRa51は互いに同一であっても異なってもよい。] The resist composition according to claim 6 or 7, wherein the resin having an acid unstable group contains a structural unit represented by the formula (a2-A).
[In formula (a2-A),
R a50 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom.
Ra51 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, and acryloyl. Represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
A a50 represents a single bond or * −X a51 − (A a52 −X a52 ) nb −, and * represents a binding site with a carbon atom to which −R a50 is bonded.
A a52 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
X a51 and X a52 independently represent -O-, -CO -O- or -O-CO-, respectively.
nb represents 0 or 1.
mb represents any integer from 0 to 4. When mb is any integer of 2 or more, the plurality of Ra 51s may be the same or different from each other. ]
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程、
を含むレジストパターンの製造方法。 (1) A step of applying the resist composition according to any one of claims 6 to 9 onto a substrate.
(2) A step of drying the applied composition to form a composition layer,
(3) Step of exposing the composition layer,
(4) A step of heating the composition layer after exposure, and (5) A step of developing the composition layer after heating,
A method for producing a resist pattern including.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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