JP2021004814A - Ion source abnormality detection device and mass spectroscope using the same - Google Patents

Ion source abnormality detection device and mass spectroscope using the same Download PDF

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Abstract

To provide an ion source abnormality detection device which can automatically detect the spray abnormality in the ionization process of a mass spectroscope, and provide the mass spectroscope using the same.SOLUTION: There are provided: an ion source abnormality detection device for detecting the abnormality in an ion source of spraying a sample liquid containing an analysis object component into an ion source spray chamber by using spray means and ionizing the analysis object component; and a mass spectroscope using the same. The ion source abnormality detection device comprises: irradiation means which emits light into an ion source spray chamber; photographing means which photographs the inside of the ion source spray chamber; photographed image storage means which stores a photographed image including a spray tip portion of the spray means photographed by the photographing means; spray state determination condition setting means which previously sets and stores the setting value for the luminance gradation value of at least one or more determination pixels in the photographed image; and spray abnormality detection means which detects the abnormality in the spray state by using the stored luminance gradation value and setting value of the determination pixel in the photographed image.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、大気圧中に試料液体をスプレー噴霧して、微小帯電液滴を形成および加熱気化によりイオン化し、化学分析をする質量分析装置およびそのイオン源に係り、試料液体の噴霧異常を検出するイオン源異常検出装置、およびそれを用いた質量分析装置に関する。 The present invention relates to a mass spectrometer for chemical analysis by spray-spraying a sample liquid in atmospheric pressure to form microcharged droplets and ionizing by heating vaporization, and an ion source thereof, and detects an abnormality in spraying the sample liquid. The present invention relates to an ion source abnormality detection device and a mass spectrometer using the same.

液体クロマトグラフィー質量分析装置などでは、分析する液体試料を、大気圧スプレーを用いて帯電した微小液滴を形成し、それを加熱気化させることで、液体資料に含まれる成分をイオン化し、質量分析装置に導入することで、化学分析が行われる。 In a liquid chromatography mass spectrometer or the like, a liquid sample to be analyzed is subjected to mass spectrometry by forming charged microdroplets using an atmospheric pressure spray and heating and vaporizing the liquid sample to ionize the components contained in the liquid material. By introducing it into the device, chemical analysis is performed.

同装置では、液体試料を安定にイオン化することが必要であり、そのためには、大気圧スプレーで安定した微小液滴を形成することが重要である。しかし、大気圧スプレープロセスは、ノズルの汚染などの要因で不安定化しやすく、スプレー噴霧状態や形成される液滴の状態に影響を及ぼす。そこで、大気圧イオン化質量分析装置において、大気圧スプレープロセスの状態を安定化することは、重要である。 In this device, it is necessary to stably ionize a liquid sample, and for that purpose, it is important to form stable microdroplets with an atmospheric pressure spray. However, the atmospheric pressure spray process tends to be destabilized due to factors such as nozzle contamination, which affects the spray spray state and the state of the droplets formed. Therefore, it is important to stabilize the state of the atmospheric pressure spray process in the atmospheric pressure ionized mass spectrometer.

質量分析装置では、大気圧化で分析対象試料を分散保持する溶液を噴霧および帯電することでイオン化し、電界の力で質量分析装置に導入し、分析対象試料の分析を行う。このイオン化プロセスは、質量分析装置の測定精度に大きく影響する。 In the mass spectrometer, a solution that disperses and holds the sample to be analyzed at atmospheric pressure is ionized by spraying and charging, and introduced into the mass spectrometer by the force of an electric field to analyze the sample to be analyzed. This ionization process greatly affects the measurement accuracy of the mass spectrometer.

一般的な質量分析装置では、分析対象試料を分散保持する溶液の微滴化およびイオン化には、エレクトロスプレー法という方法が用いられる。この方法は、液体を供給するキャピラリーを高速気体噴流中に配置して液体を微小液滴化し噴霧する方法やキャピラリーと対向する電極間に高電圧を印加し、液体を電界でキャピラリーから引き出すことで噴霧する方法などがもちいられる。いずれの方法においても、噴霧される液滴は直径が数10μm以下と小さいとともに、その後、加熱することなどにより急速に気化し、液中に分散している分析対象の溶媒をイオン化する。 In a general mass spectrometer, a method called an electrospray method is used for atomization and ionization of a solution that disperses and holds a sample to be analyzed. In this method, a capillary that supplies the liquid is placed in a high-speed gas jet to atomize the liquid and spray it, or a high voltage is applied between the electrodes facing the capillary and the liquid is pulled out from the capillary by an electric field. A method such as spraying can be used. In either method, the sprayed droplets have a small diameter of several tens of μm or less, and are then rapidly vaporized by heating or the like to ionize the solvent to be analyzed dispersed in the liquid.

このイオン化プロセスは、質量分析装置の測定精度に大きく影響することから、高い安定性が求められる。一般的質量分析装置で、噴霧プロセスの状態を観測するために窓が設けられており、操作者が窓から噴霧状態を観測することが可能である。しかし、液体を供給するキャピラリーの直径が100μm程度と細いとともに、噴霧される液体の量も少なく、その直径も数10μm以下と極めて小さく、加えて短時間で気か消失することから、噴霧状態の目視観察は極めて困難であるとともに、目視による異常判断には限界がある。 Since this ionization process greatly affects the measurement accuracy of the mass spectrometer, high stability is required. In a general mass spectrometer, a window is provided for observing the state of the spraying process, and the operator can observe the spraying state from the window. However, the diameter of the capillary that supplies the liquid is as small as about 100 μm, the amount of liquid sprayed is small, the diameter is extremely small as several tens of μm or less, and in addition, it disappears in a short time. Visual observation is extremely difficult, and there is a limit to visual abnormality judgment.

一部の質量分析装置には、噴霧状態をより観察しやすくするために、大気圧スプレー部にカメラを設置したものもある。微細なキャピラリー先端やそこから噴出される液滴の状態を観測するためには、拡大観測することが必要である。しかし、噴霧ノズルから噴霧される液体の飛散によるカメラレンズの汚染などを考慮すると、カメラを測定対象に近接して測定することは難しく、拡大率にも限界がある。 Some mass spectrometers have a camera installed in the atmospheric pressure spray section to make it easier to observe the spray state. In order to observe the state of the minute capillary tip and the droplets ejected from it, it is necessary to make magnified observations. However, considering the contamination of the camera lens due to the scattering of the liquid sprayed from the spray nozzle, it is difficult to measure the camera close to the measurement target, and the magnification is limited.

これらに関連して、特許文献1ではノズル先端部を観察するカメラを設置するとともに、噴霧ノズル先端に液滴が形成されるのを検出し、それをガス吹付け手段により制御することで、噴霧ノズル先端の液滴を除去する構成が開示されている。 In relation to these, in Patent Document 1, a camera for observing the tip of the nozzle is installed, and the formation of droplets at the tip of the spray nozzle is detected and controlled by the gas spraying means to spray. A configuration for removing droplets at the tip of a nozzle is disclosed.

また、特許文献2では、電極に高電圧を印加して液滴を形成するエレクトロスプレー法において、ノズル先端を観測するカメラを用いて、電極先端の液体の状態を観測し、エレクトロスプレーの電極に印加する電圧を制御する。 Further, in Patent Document 2, in the electrospray method in which a high voltage is applied to an electrode to form droplets, the state of the liquid at the tip of the electrode is observed by using a camera that observes the tip of the nozzle, and the electrode of the electrospray is used. Control the applied voltage.

特開2007−127555号公報JP-A-2007-127555 特許24080893号Patent No. 24080893

特許文献1は、噴霧ノズル先端に液滴が形成されることを防止することで、ノズル先端を正常に保つことを目的としている。然しながら本システムでは、カメラで検出するのは、直径1mm程度の比較的大きな液滴としており、数μm以下の液滴で形成される噴霧状態そのものを観測することはできない。 Patent Document 1 aims to keep the nozzle tip normal by preventing the formation of droplets on the tip of the spray nozzle. However, in this system, the camera detects relatively large droplets with a diameter of about 1 mm, and it is not possible to observe the spray state itself formed by droplets of several μm or less.

また特許文献2において、ここに記載されている電極先端の液体状態を観測するためには、カメラをかなりノズル先端に接近させることが必要であり、汚染などの点から、実際の観測装置に常時設置するのは難しいと思われる。 Further, in Patent Document 2, in order to observe the liquid state of the electrode tip described here, it is necessary to bring the camera considerably close to the nozzle tip, and from the viewpoint of contamination and the like, the actual observation device is always used. It seems difficult to install.

このように、質量分析装置のイオン化プロセスにおける噴霧状態は、重要なプロセスであるにもかかわらず、観測が難しく、異常の発生を検知できないという課題を有している。 As described above, although the spray state in the ionization process of the mass spectrometer is an important process, it has a problem that it is difficult to observe and the occurrence of an abnormality cannot be detected.

以上のことから本発明においては、例えば質量分析装置のイオン化プロセスにおける噴霧異常を自動的に検出可能なイオン源異常検出装置、およびそれを用いた質量分析装置を提供することを目的とする。 From the above, it is an object of the present invention to provide, for example, an ion source abnormality detection device capable of automatically detecting a spray abnormality in the ionization process of a mass spectrometer, and a mass spectrometer using the ion source abnormality detection device.

本発明は、被分析成分を含有する試料液体を、噴霧手段を用いて、イオン源噴霧チャンバ内に噴霧するとともに、被分析成分をイオン化するイオン源の異常を検知するイオン源異常検出装置およびそれを用いた質量分析装置であって、イオン源噴霧チャンバ内に光を照射する照射手段と、イオン源噴霧チャンバ内を撮影する撮影手段と、撮影手段で撮影された噴霧手段の噴霧先端部分を含む撮影画像を記憶する撮影画像記憶手段と、撮影画像における少なくとも一つ以上の判定画素の輝度諧調値について、その設定値を予め設定し記憶する噴霧状態判定条件設定手段と、記憶された撮影画像における判定画素の輝度諧調値と設定値を用いて噴霧状態の異常を検出する噴霧異常検出手段を備えることを特徴とする。 The present invention is an ion source abnormality detecting device for spraying a sample liquid containing a component to be analyzed into an ion source spraying chamber by using a spraying means and detecting an abnormality of the ion source for ionizing the component to be analyzed. A mass spectrometer using the above, which includes an irradiation means for irradiating the inside of the ion source spray chamber with light, a photographing means for photographing the inside of the ion source spray chamber, and a spray tip portion of the spraying means photographed by the photographing means. In the captured image storage means for storing the captured image, the spray state determination condition setting means for presetting and storing the set values for the brightness gradation value of at least one or more determination pixels in the captured image, and the stored captured image. It is characterized by comprising a spray abnormality detecting means for detecting an abnormality in a spray state by using a brightness gradation value and a set value of a determination pixel.

本発明の上記構成によれば、例えば質量分析装置のイオン化プロセスにおける噴霧異常を自動的に検出可能なイオン源異常検出装置、およびそれを用いた質量分析装置を提供することができる。 According to the above configuration of the present invention, for example, an ion source abnormality detecting device capable of automatically detecting a spray abnormality in the ionization process of a mass spectrometer, and a mass spectrometer using the ion source abnormality detecting device can be provided.

本発明のイオン源異常検出手段、およびそれを用いた質量分析装置のシステム全体構成を示す図。The figure which shows the system whole system structure of the ion source anomaly detection means of this invention, and the mass spectrometer using it. イオン源噴霧チャンバ2の噴霧ノズル1を拡大して示した図。The figure which showed the spray nozzle 1 of the ion source spray chamber 2 in an enlarged view. 撮影手段4により撮影される画像を模式的に示した図。The figure which showed typically the image taken by the photographing means 4. 本発明に係る噴霧異常を判断する処理フロー。A processing flow for determining a spray abnormality according to the present invention. 噴霧異常が発生した際の撮影画像の状態を模式的に示した図。The figure which showed typically the state of the photographed image when a spray abnormality occurred.

以下図面を用いて、本発明のイオン源異常検出手段、およびそれを用いた質量分析装置の一実施例を説明する。 Hereinafter, an embodiment of the ion source abnormality detecting means of the present invention and a mass spectrometer using the same will be described with reference to the drawings.

最初にイオン源異常検出手段、およびそれを用いた質量分析装置の全体構成について説明する。 First, the ion source abnormality detecting means and the overall configuration of the mass spectrometer using the means will be described.

図1は、本発明のイオン源異常検出手段、およびそれを用いた質量分析装置のシステム全体構成を示す図である。図の左側は、異常検知対象であるイオン源30を模式的に示し、図の右側は異常検知のための噴霧状態監視手段11および質量分析装置の全体制御手段15を示す。イオン源30には、イオン源噴霧チャンバ2と、試料溶液を供給するとともに噴霧する噴霧ノズル1が配置されている。本発明においては、イオン源30に照明手段3と撮影手段4を配置し、撮影手段4から得られる限られた画像情報から、噴霧状態監視手段11で画像処理と判断を行いイオン源30の異常を検出する。 FIG. 1 is a diagram showing the entire system configuration of the ion source abnormality detecting means of the present invention and the mass spectrometer using the means. The left side of the figure schematically shows the ion source 30 which is the target of abnormality detection, and the right side of the figure shows the spray state monitoring means 11 for detecting an abnormality and the overall control means 15 of the mass spectrometer. The ion source 30 is provided with an ion source spray chamber 2 and a spray nozzle 1 for supplying and spraying a sample solution. In the present invention, the lighting means 3 and the photographing means 4 are arranged in the ion source 30, and the spray state monitoring means 11 determines that the image processing is performed based on the limited image information obtained from the photographing means 4, and the ion source 30 is abnormal. Is detected.

次に、イオン源30の構造と動作について説明する。まず、質量分析装置のイオン源20におけるイオン形成プロセスについて簡単に説明する。 Next, the structure and operation of the ion source 30 will be described. First, the ion formation process in the ion source 20 of the mass spectrometer will be briefly described.

図2は、イオン源噴霧チャンバ2の噴霧手段である噴霧ノズル1を拡大して示したもので、試料液滴を噴霧し微小液滴にするとともに、気化してイオン化するプロセスを説明するための図である。 FIG. 2 is an enlarged view of a spray nozzle 1 which is a spray means of the ion source spray chamber 2, and is for explaining a process of spraying a sample droplet into fine droplets and vaporizing and ionizing the sample droplets. It is a figure.

噴霧ノズル1は、試料液体供給管17と噴霧ガス供給管18の二重管構造となっている。試料液体供給管17で供給される試料液体19は、噴霧ガス供給管18で供給される高速ガス噴流の中に、供給されるため、高速ガス流の力で引きちぎられて、液滴に分断噴霧される。試料液体は、水もしくはメタノールなどのアルコール系の溶媒に試料成分が分散した溶液である。高速ガスとしては、空気もしくは窒素ガスなどが利用できる。 The spray nozzle 1 has a double pipe structure consisting of a sample liquid supply pipe 17 and a spray gas supply pipe 18. Since the sample liquid 19 supplied by the sample liquid supply pipe 17 is supplied into the high-speed gas jet supplied by the spray gas supply pipe 18, it is torn off by the force of the high-speed gas flow and is split and sprayed onto the droplets. Will be done. The sample liquid is a solution in which the sample components are dispersed in an alcohol-based solvent such as water or methanol. As the high-speed gas, air or nitrogen gas can be used.

また、イオン源30の噴霧プロセスでは、噴霧ノズル1に電圧を印加することで、分断噴霧された液滴に電荷が付与される。その後、形成された帯電液滴の溶媒成分を気化させることで、液滴の電荷密度が上昇し、クーロン爆発と呼ばれる現象が発生し、液滴は爆発分裂を繰り返す。そして、最終的には試料成分単体のイオンが生成される。生成された試料成分のイオンは、静電力によって質量分析装置に取り込まれ成分の同定が行われる。 Further, in the spraying process of the ion source 30, an electric charge is applied to the divided sprayed droplets by applying a voltage to the spray nozzle 1. After that, by vaporizing the solvent component of the formed charged droplet, the charge density of the droplet increases, a phenomenon called Coulomb explosion occurs, and the droplet repeats explosive splitting. Finally, ions of the sample component alone are generated. The generated ion of the sample component is taken into the mass spectrometer by electrostatic force to identify the component.

上記のイオン化プロセスにおいては、試料溶液から噴霧形成された初期液滴径が、小さいほど短い時間で効率よく溶媒を気化でき、イオン生成することができる。このため、イオン源30で噴霧生成される初期液滴径は、より小さいことが求められている。噴霧ノズル1で、生成される液滴の粒径は、噴霧に用いる高速ガスの流速が大きいほど小さくなる。高速ガスの流速を、100m/sから音速に近い数100m/s程度にすることで、数μmから数10μm程度の液滴が形成できる。 In the above ionization process, the smaller the initial droplet diameter formed by spraying from the sample solution, the more efficiently the solvent can be vaporized in a shorter time, and ions can be generated. Therefore, the initial droplet diameter generated by spraying with the ion source 30 is required to be smaller. The particle size of the droplets produced by the spray nozzle 1 decreases as the flow velocity of the high-speed gas used for spraying increases. By setting the flow velocity of the high-speed gas from 100 m / s to several hundred m / s, which is close to the speed of sound, droplets of several μm to several tens of μm can be formed.

液滴を短時間でより効率よく溶媒を気化するために、噴霧液体に数100℃の高温の加熱ガス21を吹き付けるように構成されている。高温ガスの吹付ノズルは、図1および図2には図示していないが、加熱ガス21は、図2の太矢印に示すように、噴霧直後の液体に吹き付けることで、液滴の溶媒の気化を促進させる。 In order to vaporize the solvent more efficiently in a short time, the spray liquid is configured to blow a high-temperature heating gas 21 at several hundred degrees Celsius. Although the high temperature gas spray nozzle is not shown in FIGS. 1 and 2, the heating gas 21 is vaporized as a solvent of the droplets by spraying the heating gas 21 onto the liquid immediately after spraying as shown by the thick arrow in FIG. To promote.

試料溶媒19と高速ガス流20および高温加熱ガス流21を用いるイオン化プロセスは、周囲への汚染と安全性を確保するために、イオン源噴霧チャンバ2内で行われる。本実施例のイオン源噴霧チャンバ2では、噴霧ガスの流れを考慮し、直径約10cm厚さ約5cm程度の円筒形アルミ製チャンバを用いている。 The ionization process using the sample solvent 19, the high-speed gas stream 20, and the high-temperature heating gas stream 21 is performed in the ion source spray chamber 2 in order to ensure contamination and safety to the surroundings. In the ion source spray chamber 2 of this embodiment, a cylindrical aluminum chamber having a diameter of about 10 cm and a thickness of about 5 cm is used in consideration of the flow of the spray gas.

次に、イオン源30の噴霧状態を観測するための観測部の構成を説明する。本実施例の構成では、試料溶液の噴霧状態を観測するために照明手段3と撮影手段4を配置した。照明手段3とカメラなどの撮影手段4は、噴霧ガス流や加熱ガス流など噴霧プロセスへの影響や汚染などを考慮して、図1に示しているようにイオン源噴霧チャンバ2に照明手段用窓5と撮影手段用窓6を設けている。これらの窓5、6にはガラスを配し、照明手段3と撮影手段4は、イオン源噴霧チャンバ2の外側に配置した。 Next, the configuration of the observation unit for observing the spray state of the ion source 30 will be described. In the configuration of this embodiment, the lighting means 3 and the photographing means 4 are arranged in order to observe the sprayed state of the sample solution. The lighting means 3 and the photographing means 4 such as a camera are used for lighting means in the ion source spray chamber 2 as shown in FIG. 1 in consideration of the influence on the spray process such as the spray gas flow and the heating gas flow and the contamination. A window 5 and a window 6 for photographing means are provided. Glass was arranged in these windows 5 and 6, and the lighting means 3 and the photographing means 4 were arranged outside the ion source spray chamber 2.

これらの制約により、カメラなどの撮影手段4を噴霧ノズル1の噴霧先端付近に近接させることができないとともに、レンズ直径などにも制約があることから、高倍率での撮像は難しい。さらに、前記したように、噴霧ノズルから噴霧される液滴は、数μmから数10μm程度と非常に小さいとともに、飛翔速度も噴霧ガス速度である100m/sから数100m/s近くに達する。さらに、噴霧直後の液滴は、加熱ガスなどによって急速に気化され、噴霧直後に数μmから数10μm程度あった液滴径は急速に小さくなる。これらのことから、噴霧ノズルから吹き出す噴霧液滴を直接観察することできない。 Due to these restrictions, it is not possible to bring the photographing means 4 such as a camera close to the vicinity of the spray tip of the spray nozzle 1, and there are also restrictions on the lens diameter and the like, so that it is difficult to perform imaging at high magnification. Further, as described above, the droplets sprayed from the spray nozzle are very small, about several μm to several tens of μm, and the flight speed reaches from 100 m / s, which is the spray gas speed, to nearly several hundred m / s. Further, the droplet immediately after spraying is rapidly vaporized by a heating gas or the like, and the diameter of the droplet, which was about several μm to several tens of μm immediately after spraying, rapidly decreases. For these reasons, it is not possible to directly observe the spray droplets ejected from the spray nozzle.

そこで、本実施例では、イオン源噴霧チャンバ2の外側に配置した照明手段3によって、噴霧ノズル1先端付近に光を照射するように構成した。そして、イオン源噴霧チャンバ2の外側に配置した撮影手段4で、噴霧ノズル付近を観測できるように構成した。 Therefore, in this embodiment, the lighting means 3 arranged outside the ion source spray chamber 2 is configured to irradiate the vicinity of the tip of the spray nozzle 1 with light. Then, the photographing means 4 arranged outside the ion source spray chamber 2 is configured so that the vicinity of the spray nozzle can be observed.

このように、構成して、噴霧中の噴霧ノズル付近を撮影すると、図2に示すように、噴霧ノズル1の直下の領域22では、噴霧液滴により散乱した光を観測することができる。しかし、前記したように、噴霧液滴は急速に気化することから、噴霧ノズル直下より、少し下側の噴霧領域23では、噴霧液滴による散乱項は観測できなかった。これは、照明の光を散乱することができないほど液滴径が小さくなっているためである。本発明では、この照明光による噴霧ノズル直下の散乱光の撮影情報をもとに、噴霧異常を検知する方法を提案するものである。 When the vicinity of the spray nozzle during spraying is photographed in this way, as shown in FIG. 2, the light scattered by the spray droplets can be observed in the region 22 immediately below the spray nozzle 1. However, as described above, since the spray droplets vaporize rapidly, the scattering term due to the spray droplets could not be observed in the spray region 23 slightly below the spray nozzle. This is because the droplet diameter is so small that the illumination light cannot be scattered. The present invention proposes a method for detecting a spray abnormality based on the imaging information of the scattered light directly under the spray nozzle by the illumination light.

次に、噴霧ノズル直下の散乱光の撮影画像を用いて、噴霧異常を検知する方法を説明する。 Next, a method of detecting a spray abnormality will be described using a captured image of scattered light directly under the spray nozzle.

図3は、本実施例の撮影手段4により撮影される画像を模式的に示した図であり、噴霧ノズル直下付近の各画素を示している。 FIG. 3 is a diagram schematically showing an image taken by the photographing means 4 of this embodiment, and shows each pixel in the vicinity immediately below the spray nozzle.

図3に例示する撮影画像によれば、照明光が反射した部分は白く発光し、そのほかの部分は全く発光しないことが見て取れる。反射により白く発光した部分は、一定のレベル以上の直径を有する噴霧液滴と噴霧ノズル先端である。 According to the photographed image illustrated in FIG. 3, it can be seen that the portion where the illumination light is reflected emits white light and the other portion does not emit light at all. The parts that emit white light due to reflection are spray droplets having a diameter above a certain level and the tip of the spray nozzle.

図3において、31で示した部分の左側の発光領域(背景画素に比較して白い部分)が噴霧ノズル先端部での反射光であり、32で示される部分の左側の発光領域が噴霧直後の液滴による散乱光である。実際のイオン源のノズル先端の噴霧画像でも、図3に示すような局所的な限られた領域で発光した画像が観測できる。このように、背景に照射光の反射光が入らないようにすれば、図3に示すような極めて高いコントラストで、ノズル先端とその直下の噴霧液滴による散乱光を検知することが可能である。 In FIG. 3, the light emitting region on the left side of the portion indicated by 31 (white portion as compared with the background pixel) is the reflected light at the tip of the spray nozzle, and the light emitting region on the left side of the portion indicated by 32 is immediately after spraying. It is scattered light by droplets. Even in the spray image of the nozzle tip of the actual ion source, an image that emits light in a local limited region as shown in FIG. 3 can be observed. By preventing the reflected light of the irradiation light from entering the background in this way, it is possible to detect the scattered light from the nozzle tip and the spray droplets immediately below it with extremely high contrast as shown in FIG. ..

本実施例における噴霧異常を検知する方法においては、図3の撮像画像について、この画像のなかで、正常な噴霧状態において、安定的に非発光画素となる画素領域を非発光検知領域35とし、安定的に発光画素となる画素領域を発光検知領域34として、判定画素として用いる。そして、噴霧状態でこれらのうち非発光検知領域35の判定画素が既定の輝度以下か否か、および発光検知領域34の判定画素が既定の輝度以上か否か、で噴霧が正常か否かの判定を行うものである。 In the method for detecting a spray abnormality in this embodiment, in the captured image of FIG. 3, the pixel region that stably becomes a non-light emitting pixel in a normal spray state is defined as a non-light emitting detection region 35. A pixel region that stably becomes a light emitting pixel is used as a light emitting detection region 34 and as a determination pixel. Then, in the sprayed state, whether or not the determination pixel in the non-emission detection area 35 is equal to or less than the predetermined brightness and whether or not the determination pixel in the light emission detection area 34 is equal to or more than the predetermined brightness indicates whether or not the spray is normal. It makes a judgment.

図4は、本発明に係る噴霧異常を判断する処理フローである。この処理は計算機により実行されるのがよい。図4の最初の処理ステップS1では、照明手段3により照射し、撮影手段4により噴霧ノズル1を含むイオン源噴霧チャンバ2内の撮像を実施する。 FIG. 4 is a processing flow for determining a spray abnormality according to the present invention. This process should be performed by a computer. In the first processing step S1 of FIG. 4, irradiation is performed by the lighting means 3, and imaging is performed by the photographing means 4 in the ion source spray chamber 2 including the spray nozzle 1.

処理ステップS2では、入手した撮像画像について、発光検知領域34の画素情報と、非発光検知領域35の画素情報を入手する。この場合に各画素の輝度が、例えば256諧調により表現されている。諧調が高い場合に発光あり、諧調が低い場合に発光なしを表している。なお、発光検知領域34と非発光検知領域35については、事前の検討により領域が定められており、各領域について判定画素とする画素が事前に定められているものとする。判定画素は複数であってもよい。 In the processing step S2, the pixel information of the light emission detection area 34 and the pixel information of the non-light emission detection area 35 are obtained from the obtained captured image. In this case, the brightness of each pixel is expressed by, for example, 256 gradations. When the tone is high, it indicates that there is light emission, and when the tone is low, it indicates that there is no light emission. It is assumed that the light emitting detection area 34 and the non-light emitting detection area 35 are determined by prior examination, and the pixels to be the determination pixels are determined in advance for each area. The number of determination pixels may be plural.

処理ステップS3では、発光検知領域34の画素情報について規定の輝度以上か否かを判定する。ここでは規定の輝度について、例えば256諧調のうち、200諧調以上であることを確認し、200諧調以上である場合に処理ステップS5において正常と判定する。また200諧調以下である場合に、発光不足であることから処理ステップS5において異常と判定する。ここでは想定される異常理由も併せて提示するのがよい。 In the process step S3, it is determined whether or not the pixel information in the light emission detection region 34 has a predetermined brightness or higher. Here, it is confirmed that the specified brightness is, for example, 200 tones or more out of 256 tones, and if it is 200 tones or more, it is determined to be normal in the processing step S5. Further, when the tone is 200 tones or less, it is determined as abnormal in the processing step S5 because the light emission is insufficient. Here, it is advisable to also present the possible reasons for the abnormality.

処理ステップS4では、非発光検知領域35の画素情報について規定の輝度以下か否かを判定する。ここでは規定の輝度について、例えば256諧調のうち、50諧調以下であることを確認し、50諧調以下である場合に処理ステップS5において正常と判定する。また50諧調以上である場合に、発光過多であることから処理ステップS7において異常と判定する。ここでは想定される異常理由として、例えば発行フレームが正常な形状ではなく、異常に長く形成されている、あるいは斜め方向に形成されているといった異常事象の状態も併せて提示するのがよい。 In the processing step S4, it is determined whether or not the pixel information in the non-emission detection region 35 has a predetermined brightness or less. Here, it is confirmed that the specified brightness is, for example, 50 tones or less out of 256 tones, and if it is 50 tones or less, it is determined to be normal in the processing step S5. Further, when the tone is 50 or more, it is determined as abnormal in the processing step S7 because the light emission is excessive. Here, as a possible reason for the abnormality, it is preferable to also present the state of an abnormal event such that the issuing frame is not formed in a normal shape but is formed abnormally long or diagonally.

このような判定方式を用いることで、質量分析装置のイオン源30における限られた観測画像からでも、非発光領域と発光領域の変化から、噴霧状態の変化を検知可能となる。たとえば、噴霧液体の初期液滴の液滴径が大きくなると発光領域が広がり、非発光領域の画素の輝度が増加する。また、初期液滴の液滴径が小さくなり、あるいは噴霧が停止すると、発光領域の輝度が低下する。このような変化から、噴霧ノズルから噴出する初期液滴の状態を検知することが可能となる。液滴径の変化は、供給される試料液体の流量変動や噴霧ガスの噴出速度変動や加熱ガスの温度変動などの要因で生じることが推察される。また、噴霧ノズル先端に異物が付くなどした場合、噴霧液滴による発光領域が左右にぶれるなどの異常として検知される。 By using such a determination method, it is possible to detect a change in the spray state from the change in the non-light emitting region and the light emitting region even from the limited observation image in the ion source 30 of the mass spectrometer. For example, as the droplet diameter of the initial droplet of the sprayed liquid increases, the light emitting region expands and the brightness of the pixels in the non-light emitting region increases. Further, when the droplet diameter of the initial droplet becomes small or the spraying is stopped, the brightness of the light emitting region decreases. From such a change, it becomes possible to detect the state of the initial droplet ejected from the spray nozzle. It is presumed that the change in the droplet diameter is caused by factors such as fluctuations in the flow rate of the supplied sample liquid, fluctuations in the ejection speed of the spray gas, and fluctuations in the temperature of the heating gas. In addition, when foreign matter adheres to the tip of the spray nozzle, it is detected as an abnormality such as the light emitting region due to the spray droplets moving to the left or right.

図5は、噴霧異常が発生した際の撮影画像の状態を模式的に示したものである。図5左は噴霧される液滴径が増加した場合の撮影画像の状態を模式的に示した図であり、図5中央は、左側に噴霧方向が曲がった状態を模式的に示した図であり、図5右は、噴霧が停止し、液滴による散乱がなくなった状態を模式的に示した図である。 FIG. 5 schematically shows the state of the captured image when a spray abnormality occurs. The left side of FIG. 5 is a diagram schematically showing the state of the captured image when the diameter of the sprayed droplets increases, and the center of FIG. 5 is a diagram schematically showing the state where the spraying direction is bent to the left side. The right side of FIG. 5 is a diagram schematically showing a state in which spraying is stopped and scattering by droplets is eliminated.

次に異常検知処理プロセスについて説明する。 Next, the abnormality detection processing process will be described.

図1の右側に示す噴霧状態監視手段11における異常検知処理プロセス構成を説明する。まず、予め質量分析装置の全体制御手段15より、既定の試料溶液を既定の適正条件で噴霧した際の噴霧状態を判定するための異常判定画素情報および異常判定条件を設定する。異常判定画素情報とは図3の判定画素に相当し、異常判定条件とは発光検知領域34および非発光検知領域35の判定画素の輝度として既定した輝度情報である。これらの異常判定画素情報および異常判定条件は、予め、噴霧状態監視手段11の異常判定画素および異常判定条件記憶手段12に記憶される。 The abnormality detection processing process configuration in the spray state monitoring means 11 shown on the right side of FIG. 1 will be described. First, from the overall control means 15 of the mass spectrometer, abnormality determination pixel information and abnormality determination conditions for determining the spray state when a predetermined sample solution is sprayed under predetermined appropriate conditions are set in advance. The abnormality determination pixel information corresponds to the determination pixels in FIG. 3, and the abnormality determination condition is the luminance information defined as the luminance of the determination pixels in the light emission detection area 34 and the non-light emission detection area 35. These abnormality determination pixel information and abnormality determination conditions are stored in advance in the abnormality determination pixels and abnormality determination condition storage means 12 of the spray state monitoring means 11.

質量分析装置制御手段15はイオン源30を動かすための噴霧制御手段16により、噴霧動作を開始した後、噴霧状態を確認するための噴霧観測信号26を噴霧状態監視手段11に送信する。噴霧観測信号26によって、噴霧状態監視手段11が噴霧状態を確認し、異常があれば異常検知信号13を質量分析装置制御手段15に送信するように構成されている。 The mass spectrometer control means 15 transmits a spray observation signal 26 for confirming the spray state to the spray state monitoring means 11 after starting the spray operation by the spray control means 16 for moving the ion source 30. The spray observation signal 26 is configured so that the spray state monitoring means 11 confirms the spray state, and if there is an abnormality, the abnormality detection signal 13 is transmitted to the mass spectrometer control means 15.

本発明のイオン源30は、イオン化プロセスへの影響を避けるために、イオン源噴霧チャンバ2の外側に照明手段3と撮影手段4を配置している。噴霧状態監視手段11は、照明手段3と撮影手段4を制御する照明およびカメラ制御手段7を備え、質量分析装置からの噴霧観測信号26を受信した後、噴霧画像の撮影を実施する。撮影した画像情報を画像記憶手段8で一時記憶した後、噴霧画素及び輝度情報抽出手段9で、噴霧異常を判定するための噴霧ノズル近傍の画素画像(図3や図4)およびその輝度情報を抽出する。そして、撮影画像からの抽出情報と、予め設定した異常判定画素および異常判定条件記憶手段12に記憶されている情報を比較手段および異常判断手段10で比較判定し、異常と判断された場合は、質量分析装置制御手段15に異常検知信号13を送信する。質量分析装置制御手段15は、装置を停止するなど異常検知時装置動作制御を行う。 In the ion source 30 of the present invention, the lighting means 3 and the photographing means 4 are arranged outside the ion source spraying chamber 2 in order to avoid the influence on the ionization process. The spray state monitoring means 11 includes lighting for controlling the lighting means 3 and the photographing means 4, and a camera controlling means 7, and after receiving the spray observation signal 26 from the mass spectrometer, photographs the spray image. After the captured image information is temporarily stored by the image storage means 8, the spray pixel and the brightness information extraction means 9 store a pixel image (FIGS. 3 and 4) in the vicinity of the spray nozzle for determining a spray abnormality and its brightness information. Extract. Then, the information extracted from the captured image and the information stored in the preset abnormality determination pixels and the abnormality determination condition storage means 12 are compared and determined by the comparison means and the abnormality determination means 10, and if it is determined to be abnormal, it is determined. The abnormality detection signal 13 is transmitted to the mass spectrometer control means 15. The mass spectrometer control means 15 controls the operation of the device when an abnormality is detected, such as stopping the device.

次にイオン源噴霧チャンバ2の外側に設けた照明手段3による照明のありかたについて説明する。 Next, a method of lighting by the lighting means 3 provided on the outside of the ion source spray chamber 2 will be described.

本発明の異常検知装置では、撮影する画像の背景と噴霧液滴による反射光のコントラスト、つまり輝度差が明確なほど噴霧状態の異常判定が容易になる。このため、背景部への照明光の入り込みをなくすことが重要となる。背景部への照明光の入り込みは、噴霧チャンバ内壁面で反射する。本実施例では、照明手段3の照明光がイオン源噴霧チャンバ2の内壁に反射して光ることを防止するために、イオン源噴霧チャンバ2の内壁を粗面するとともに黒色に着色処理した。着色処理としては、耐熱塗装やアルマイト処理などを用いることができる。 In the abnormality detection device of the present invention, the clearer the contrast between the background of the image to be captured and the reflected light by the spray droplets, that is, the difference in brightness, the easier it is to determine the abnormality in the spray state. Therefore, it is important to eliminate the entry of the illumination light into the background portion. The entry of illumination light into the background is reflected by the inner wall surface of the spray chamber. In this embodiment, in order to prevent the illumination light of the lighting means 3 from being reflected by the inner wall of the ion source spray chamber 2 and shining, the inner wall of the ion source spray chamber 2 is roughened and colored black. As the coloring treatment, heat resistant coating, alumite treatment and the like can be used.

本実施例の噴霧チャンバ2では、アルマイト処理と耐熱塗装を組み合わせた処理を施している。撮影画像には、図3及び図5に示すように、噴霧ノズル先端付近一部も写ってしまう。今回の実施例では実施していないが、噴霧ノズル先端付近の反射抑制処理によっても、さらに判定しやすい画像が得られると思われる。 In the spray chamber 2 of this embodiment, a treatment that combines an alumite treatment and a heat-resistant coating is performed. As shown in FIGS. 3 and 5, a part of the vicinity of the tip of the spray nozzle is also captured in the captured image. Although not carried out in this example, it is considered that an image that is easier to judge can be obtained by the reflection suppression treatment near the tip of the spray nozzle.

反射光を抑制するそのほかの方法としては、噴霧液滴に照射した後の光もしくは、その反射光を排気ダクト側に導く様に配置設計する方法が考えられる。この方法は、噴霧チャンバ2内における照射手段3の設置位置や内面形状に影響を与えることから、噴霧チャンバ2および内部の各種部品の配置設計が難しい。 As another method of suppressing the reflected light, a method of arranging and designing the light after irradiating the spray droplets or the reflected light to the exhaust duct side can be considered. Since this method affects the installation position and inner surface shape of the irradiation means 3 in the spray chamber 2, it is difficult to design the arrangement of the spray chamber 2 and various internal parts.

また、背景部への照明光の入り込みを抑制するためには、照射手段3による光の照射方向と撮影手段4との角度関係も重要である。撮影手段4と対向する位置に照明手段3を配置すると背景が明るくなるので避けるべきである。また、撮影手段と同軸方向への照明配置も噴霧チャンバ2の壁面反射の影響が大きいことからさけたほうが良い。照明手段と撮影手段には、角度を設けるとともに、反射光が撮影画像に影響場所を選定することも必要である。事前検討では、撮影手段と照明手段の光軸線の角度が、30〜60度付近の時に、反射光の入り込みが抑制できた。本実施例では、撮影手段の対抗側、斜め45度付近に照明手段を配置した。 Further, in order to suppress the entry of the illumination light into the background portion, the angular relationship between the irradiation direction of the light by the irradiation means 3 and the photographing means 4 is also important. If the lighting means 3 is arranged at a position facing the photographing means 4, the background becomes bright and should be avoided. Further, it is better to avoid the arrangement of the illumination in the coaxial direction with the photographing means because the influence of the wall reflection of the spray chamber 2 is large. It is necessary to provide an angle between the lighting means and the photographing means and to select a place where the reflected light affects the photographed image. In the preliminary examination, when the angle between the optical axis of the photographing means and the lighting means was around 30 to 60 degrees, the intrusion of reflected light could be suppressed. In this embodiment, the lighting means is arranged on the opposite side of the photographing means, at an angle of about 45 degrees.

次にイオン源噴霧チャンバ2の外側に設けた撮影手段4による撮影のありかたについて説明する。 Next, a method of photographing by the photographing means 4 provided outside the ion source spraying chamber 2 will be described.

撮影手段4の撮影方向としては、図1に示す本実施例では円筒形をしたイオン源噴霧チャンバ2の円筒側面に配置している。図1のイオン源噴霧チャンバの図では、質量分析装置への導入口は記載していないが、円筒形状のイオン源噴霧チャンバ2の円筒中央付近の紙面奥側に質量分析装置への導入口は配置されている。撮影手段4が、円筒側面に配置されているために、質量分析装置への導入口方向側つまり、紙面に垂直方向への噴霧曲りは検出しやすいが、紙面と平行な方向への曲りは検出するのが難しい。 As the photographing direction of the photographing means 4, in this embodiment shown in FIG. 1, it is arranged on the cylindrical side surface of the cylindrical ion source spray chamber 2. In the figure of the ion source spray chamber of FIG. 1, the introduction port to the mass spectrometer is not shown, but the introduction port to the mass spectrometer is located on the back side of the paper surface near the center of the cylinder of the cylindrical ion source spray chamber 2. Have been placed. Since the photographing means 4 is arranged on the side surface of the cylinder, it is easy to detect the spray bending on the side toward the introduction port to the mass spectrometer, that is, the direction perpendicular to the paper surface, but the bending in the direction parallel to the paper surface is detected. Difficult to do.

本実施例では、質量分析装置への導入口方向側への噴霧まがりのほうが、測定結果への影響が大きいと思われることから、撮影手段4を円筒側面に配置した。しかし、噴霧方向の曲りを検知するためには、複数の方向に撮影手段を配置することが望ましいことは言うまでもない。この場合は、照明手段3の照射光がいずれの撮像手段の画像にも影響しない角度で、照明手段3を配置することが必要である。さらに、一つの撮影手段で全方向への噴霧曲りを観測する方法としては、噴霧ノズルの真下側にカメラを配置する方法も考えられるが、噴霧する液体による撮影手段3への汚れ対策などが必須となると思われる。 In this embodiment, the photographing means 4 is arranged on the side surface of the cylinder because it seems that the spraying on the side toward the introduction port to the mass spectrometer has a greater influence on the measurement result. However, it goes without saying that it is desirable to arrange the photographing means in a plurality of directions in order to detect the bending in the spraying direction. In this case, it is necessary to arrange the illumination means 3 at an angle at which the irradiation light of the illumination means 3 does not affect the image of any of the imaging means. Further, as a method of observing the spray bending in all directions with one photographing means, a method of arranging the camera directly under the spray nozzle is conceivable, but it is essential to take measures against stains on the photographing means 3 by the sprayed liquid. It seems that

次に異常検知時の処理について説明する。 Next, the processing at the time of abnormality detection will be described.

噴霧状態監視手段11が、異常噴霧を検知し、異常検知信号13を送信した後の処理としては、装置を停止させる方法や注意アラームを発報させる方法が取り得る。 As processing after the spray state monitoring means 11 detects the abnormal spray and transmits the abnormality detection signal 13, a method of stopping the device or a method of issuing a caution alarm can be taken.

さらに、本発明の異常噴霧検知時の検知画像を解析する手段も設ければ、図5で説明したように、異常噴霧の状態を知ることも可能となる。たとえば、図5左の異常検知画像では、その原因として噴霧液滴径が大きくなっているもしくは、噴霧液量が増加していることが予測される。そこで、噴霧ガス圧、試料液体流量、ノズル印加電圧、噴霧ガス温度などの液体試料を噴霧しイオン化するためのイオン源パラメータの少なくとも一つ以上を可変調整し、適正な噴霧状態になるように、フィードバック制御に利用することも可能である。 Further, if a means for analyzing the detected image at the time of detecting the abnormal spray of the present invention is also provided, it is possible to know the state of the abnormal spray as described with reference to FIG. For example, in the abnormality detection image on the left of FIG. 5, it is predicted that the spray droplet diameter is large or the spray liquid amount is increasing as the cause. Therefore, at least one of the ion source parameters for spraying and ionizing the liquid sample, such as the spray gas pressure, the sample liquid flow rate, the nozzle application voltage, and the spray gas temperature, is variably adjusted so that the spray state becomes appropriate. It can also be used for feedback control.

また、図5中央のように、噴霧方向の曲りを検知した場合は、その原因として、噴霧ノズル先端のつまりや汚染が予測される。この場合は、ノズル先端を洗浄するプロセスを行うことで復旧する可能性がある。そこで、質量分析装置に、噴霧ノズルのつまり解消や洗浄を行うための噴霧ノズル洗浄プロセスを備える、既噴霧異常検出手段の判定結果により、質量分析を中断し、既噴霧ノズル洗浄プロセスを動作させるなどの処理をおこなえば、質量分析装置の自動復旧を行わせることも可能である。 Further, when the bending in the spraying direction is detected as shown in the center of FIG. 5, it is predicted that the tip of the spray nozzle is clogged or contaminated as the cause. In this case, it may be recovered by performing a process of cleaning the tip of the nozzle. Therefore, the mass spectrometer is provided with a spray nozzle cleaning process for clearing or cleaning the spray nozzle, and the mass spectrometry is interrupted and the existing spray nozzle cleaning process is operated depending on the determination result of the already sprayed abnormality detecting means. It is also possible to have the mass spectrometer automatically recover by performing the above processing.

このように非発光検知領域で発光が検知される異常を検知するためには、判定画素の位置は、噴霧ノズルの先端部分から離れた直下の位置、並びに噴霧ノズルの先端部分から離れた両側の位置に設定されているのがよい。これにより、発光炎の延長、発光炎の揺らぎなどを検知することができる。 In order to detect an abnormality in which light emission is detected in the non-light emission detection region in this way, the positions of the determination pixels are the position directly below the tip portion of the spray nozzle and both sides away from the tip portion of the spray nozzle. It should be set to the position. This makes it possible to detect the extension of the luminescent flame, the fluctuation of the luminescent flame, and the like.

本発明の異常検知方式の検知結果を利用し、上記のような異常復帰処理を質量分析装置に組込むことで、高い信頼性と安定性を有する質量分析装置を提供できる。 By utilizing the detection result of the abnormality detection method of the present invention and incorporating the above-mentioned abnormality recovery process into the mass spectrometer, it is possible to provide a mass spectrometer having high reliability and stability.

次に汚染対策処理について説明する。 Next, pollution control treatment will be described.

本発明の噴霧異常検知をより安定に行うためには、イオン源噴霧チャンバ内の噴霧試料による汚染対策を施すことが有効である。上記したように、本発明における噴霧異常検知は、噴霧ノズル直下に光照射し、比較的液滴径の大きな初期の噴霧液滴による散乱光の形状を特徴的な輝度状態となる画素に着目して判定するものである。 In order to detect the spray abnormality of the present invention more stably, it is effective to take measures against contamination by the spray sample in the ion source spray chamber. As described above, the spray abnormality detection in the present invention focuses on a pixel that irradiates light directly under the spray nozzle and has a characteristic brightness state of the shape of the scattered light by the initial spray droplet having a relatively large droplet diameter. It is judged by.

この方法では、イオン源噴霧チャンバ2内に付着する噴霧液などによる汚れで、照射手段3による照射光の散乱状態が変わり、判定画素に影響を与える可能性がある。特に、撮影手段4側のカメラ保護窓6が噴霧された試料液滴液などで汚染された場合、判定画素への影響が懸念される。 In this method, the scattering state of the irradiation light by the irradiation means 3 may change due to the dirt caused by the spray liquid or the like adhering to the inside of the ion source spray chamber 2, which may affect the determination pixels. In particular, when the camera protection window 6 on the photographing means 4 side is contaminated with the sprayed sample droplet liquid or the like, there is a concern that the determination pixels may be affected.

このようなイオン源噴霧チャンバ2内の汚れに対するロバスト性を確保する方法ための一実施例を説明する。このためには、例えば汚れによる検知誤りを防止するために、噴霧を行わない状態で、照明手段3による照明光を照射し、撮影手段4で画像を取得する。そして、撮影した画像の中で、異常判定画素に異常な輝度値を検知した場合、その判定画素を異常画素として記憶する。このように、噴霧動作を行わない状態で画像を取得し、異常判断を行うことで、異常画素を抽出することができる。そして、実際の噴霧ノズルから噴霧時の異常判定処理において、その異常画素を除いた判定画素で、異常噴霧の判断を行うようにすれば、汚れなどによる影響を防止することができる。但し、異常画素の数が多くなると異常噴霧の判定精度も低下することから、異常画素の発生数が既定数を超えた場合は、噴霧チャンバ内を洗浄するなどの対応が必要である。異常画素の発生数が既定数を超えた場合、噴霧チャンバ洗浄要の発報を行う。 An embodiment for a method for ensuring robustness against dirt in the ion source spray chamber 2 will be described. For this purpose, for example, in order to prevent a detection error due to dirt, the illumination means 3 irradiates the illumination light without spraying, and the photographing means 4 acquires an image. Then, when an abnormal brightness value is detected in the abnormality determination pixel in the captured image, the determination pixel is stored as an abnormality pixel. In this way, abnormal pixels can be extracted by acquiring an image without performing the spraying operation and performing an abnormality determination. Then, in the abnormality determination process at the time of spraying from the actual spray nozzle, if the determination pixel excluding the abnormality pixel is used to determine the abnormality spray, the influence of dirt or the like can be prevented. However, as the number of abnormal pixels increases, the accuracy of determining abnormal spraying also decreases. Therefore, when the number of abnormal pixels generated exceeds the predetermined number, it is necessary to take measures such as cleaning the inside of the spray chamber. When the number of abnormal pixels generated exceeds the predetermined number, the spray chamber cleaning required is notified.

異常画素を除いての判定は汚染対策としては有効であるが、異常画素数が増えた場合、判定画素数が少なくなり、噴霧異常の判定ができなくなるという問題が生じる。そこで、汚染した判定画素も利用することで、判定画素数を減らさずに噴霧異常を判定する方法として、次の一実施例も考えられる。上記と同様に、噴霧を行わない状態で、照明手段による照明光を照射し、撮影手段で画像を取得する。そして、噴霧停止時の判定画素の輝度情報を記憶する。そして、実際の噴霧ノズルからの噴霧時の異常反映処理において、噴霧を行わない状態での輝度情報との差分処理を行い、差分処理後の画像を判定画像として用いる。このような処理を行えば、判定画素の汚染による輝度のずれをある程度除いた、異常判別を行うことができる。但し、この方法においても、汚染が正確な異常検知は難しくなることは言うまでもない。 The determination excluding the abnormal pixels is effective as a pollution countermeasure, but when the number of abnormal pixels increases, the number of determination pixels decreases, and there arises a problem that the determination of spray abnormality cannot be performed. Therefore, the following embodiment can be considered as a method of determining a spray abnormality without reducing the number of determination pixels by using the contaminated determination pixels. In the same manner as described above, the illumination light is irradiated by the illumination means without spraying, and the image is acquired by the photographing means. Then, the brightness information of the determination pixel when the spray is stopped is stored. Then, in the abnormality reflection processing at the time of spraying from the actual spray nozzle, the difference processing with the luminance information in the state where the spray is not performed is performed, and the image after the difference processing is used as the determination image. By performing such processing, it is possible to perform abnormality determination by removing the deviation in brightness due to contamination of the determination pixels to some extent. However, it goes without saying that even with this method, it becomes difficult to accurately detect anomalies due to contamination.

次に各種噴霧条件への対応について説明する。 Next, the correspondence to various spray conditions will be described.

噴霧ノズルによる試料溶液の噴霧条件は、測定する試料の種類や濃度および溶媒の種類で条件を可変する場合がある。これによって、噴霧ノズルから噴霧される初期液滴の径や量さらには、気化までの時間などが影響を受ける場合がある。この場合、本発明の撮影手法で撮影した画像の状況にも影響を与える。そこで、噴霧条件や測定試料条件に合わせて、噴霧異常を判別する画素や判別する輝度閾値条件など変更する必要などが生じる。 The conditions for spraying the sample solution by the spray nozzle may vary depending on the type and concentration of the sample to be measured and the type of solvent. As a result, the diameter and amount of the initial droplets sprayed from the spray nozzle, the time until vaporization, and the like may be affected. In this case, it also affects the condition of the image taken by the shooting method of the present invention. Therefore, it is necessary to change the pixel for discriminating the spray abnormality and the brightness threshold condition for discriminating according to the spraying condition and the measurement sample condition.

そこで、本実施例のイオン源異常検出手段およびそれを用いた質量分析装置においては、複数の噴霧状態判定条件を記憶可能にし、測定対象の試料または試料溶媒条件もしくは、噴霧ガス圧、試料液体流量、ノズル印加電圧、噴霧ガス温度などの液体試料を噴霧しイオン化するためのイオン源パラメータ条件の少なくとも一つ以上によって、既2つ以上の噴霧状態判定条件を切替える噴霧状態判定条件切替手段を設けることで、より高精度に噴霧異常の判別を可能とすることができる。 Therefore, in the ion source abnormality detecting means of this embodiment and the mass spectrometer using the same, a plurality of spray state determination conditions can be stored, and the sample or sample solvent condition to be measured, the spray gas pressure, and the sample liquid flow rate can be stored. Provide a spray state determination condition switching means for switching two or more spray state determination conditions according to at least one or more ion source parameter conditions for spraying and ionizing a liquid sample such as nozzle applied voltage and spray gas temperature. Therefore, it is possible to discriminate the spray abnormality with higher accuracy.

以上説明した本発明のイオン源異常検出装置およびそれを用いた質量分析装置では、イオン源の試料溶液の噴霧状態異常を正確に検出可能にするとともに、それを用いて、高安定かつ高信頼の質量分析装置を提供できるものである。 The ion source anomaly detection device of the present invention and the mass spectrometer using the ion source abnormality detector described above can accurately detect an abnormality in the spray state of the sample solution of the ion source, and can be used for high stability and high reliability. A mass spectrometer can be provided.

本発明の説明をわかり易くするために、本発明の液滴形成手段として現在広く使われているエアーノズルやエレクトロスプレーをイメージした噴霧ノズルとして説明したが、本発明異常検出手法は、噴霧ノズル以外の微小液滴を形成する各種噴霧手段に関しても広く、応用可能であることは言うまでもない。 In order to make the description of the present invention easy to understand, the spray nozzle is based on the image of an air nozzle or an electrospray currently widely used as the droplet forming means of the present invention. However, the abnormality detection method of the present invention is other than the spray nozzle. Needless to say, it is widely applicable to various spraying means for forming fine droplets.

より具体的に述べると本発明によれば、噴霧異常検知に用いる光照射手段と撮影手段をイオン源チャンバの外側に配置することから、光照射手段と撮影手段が噴霧液体によって汚染されることはないとともに、光照射手段と撮影手段が噴霧ノズルから噴霧される試料の液体形成状態に影響を与えることもない。イオン源チャンバの外側に配置した撮影手段による撮影画像は、倍率を十分に高くすることができないために、噴霧された微小な液滴を個別に識別することができない。しかし、上記構成によれば、ノズル先端の噴霧ガスによる散乱光の発生領域と周辺との輝度差などの情報を抽出することで、低倍率の既噴霧画像から噴霧状態を識別が可能になる。さらに、上記構成によれば、予め設定した判定画素と既判定画素の判定閾値輝度情報を比較することで検知することから、低解像度の撮影画像からでも、高速で安定な異常検出が可能になる。そして、上記構成によって、判定情報に合わせた質量分析装置の制御を構築することで、適正なイオン化条件を安定維持することが可能な質量分析装置を提供できる。 More specifically, according to the present invention, since the light irradiation means and the photographing means used for detecting the spray abnormality are arranged outside the ion source chamber, the light irradiation means and the photographing means are not contaminated by the spray liquid. In addition, the light irradiation means and the photographing means do not affect the liquid formation state of the sample sprayed from the spray nozzle. Images taken by an imaging means arranged outside the ion source chamber cannot be individually identified because the magnification cannot be increased sufficiently. However, according to the above configuration, the spray state can be identified from the low-magnification already-sprayed image by extracting information such as the brightness difference between the scattered light generation region due to the spray gas at the tip of the nozzle and the periphery. Further, according to the above configuration, since the detection is performed by comparing the determination threshold luminance information of the preset determination pixel and the already determined pixel, high-speed and stable abnormality detection becomes possible even from a low-resolution captured image. .. Then, by constructing the control of the mass spectrometer according to the determination information by the above configuration, it is possible to provide the mass spectrometer capable of stably maintaining the appropriate ionization conditions.

1:噴霧ノズル
2:イオン源噴霧チャンバ
3:照明手段
4:撮影手段
5:照明保護窓
6:カメラ保護窓
7:照明およびカメラ制御手段
8:画像記憶手段
9:噴霧画素および輝度情報抽出手段
10:比較手段および異常判断手段
11:噴霧状態監視手段
12:異常判定画素および異常判定条件記憶手段
13:異常検知情報
14:異常判定条件情報
15:質量分析装置制御手段
16:噴霧制御手段
17:試料溶液供給管
18:噴霧ガス供給管
19:試料溶液
20:噴霧ガス流
21:加熱ガス流
22:噴霧領域(散乱領域)
23:噴霧領域(非散乱領域)
34:判定画素(発光検知領域)
35:判定画素(非発光検知領域)
26:噴霧観測信号
1: Spray nozzle 2: Ion source spray chamber 3: Lighting means 4: Imaging means 5: Lighting protection window 6: Camera protection window 7: Lighting and camera control means 8: Image storage means 9: Spray pixel and brightness information extraction means 10 : Comparison means and abnormality determination means 11: Spray state monitoring means 12: Abnormality determination pixel and abnormality determination condition storage means 13: Abnormality detection information 14: Abnormality determination condition information 15: Mass analyzer control means 16: Spray control means 17: Sample Solution supply pipe 18: Spray gas supply pipe 19: Sample solution 20: Spray gas flow 21: Heating gas flow 22: Spray region (scattering region)
23: Spray area (non-scattering area)
34: Judgment pixel (light emission detection area)
35: Judgment pixel (non-emission detection area)
26: Spray observation signal

Claims (13)

被分析成分を含有する試料液体を、噴霧手段を用いて、イオン源噴霧チャンバ内に噴霧するとともに、前記被分析成分をイオン化するイオン源の異常を検知するイオン源異常検出装置であって、
前記イオン源噴霧チャンバ内に光を照射する照射手段と、前記イオン源噴霧チャンバ内を撮影する撮影手段と、前記撮影手段で撮影された前記噴霧手段の噴霧先端部分を含む撮影画像を記憶する撮影画像記憶手段と、前記撮影画像における少なくとも一つ以上の判定画素の輝度諧調値について、その設定値を予め設定し記憶する噴霧状態判定条件設定手段と、記憶された撮影画像における前記判定画素の輝度諧調値と前記設定値を用いて噴霧状態の異常を検出する噴霧異常検出手段を備えることを特徴とするイオン源異常検出装置。
An ion source abnormality detection device that sprays a sample liquid containing a component to be analyzed into an ion source spray chamber using a spraying means and detects an abnormality in the ion source that ionizes the component to be analyzed.
An imaging means for irradiating the inside of the ion source spraying chamber with light, a photographing means for photographing the inside of the ion source spraying chamber, and an imaging image for storing a photographed image including a spray tip portion of the spraying means photographed by the photographing means. The image storage means, the spray state determination condition setting means for presetting and storing the set values for the brightness gradation values of at least one or more determination pixels in the captured image, and the brightness of the determination pixels in the stored captured image. An ion source abnormality detecting device comprising a spray abnormality detecting means for detecting an abnormality in a spray state using a gradation value and the set value.
請求項1に記載のイオン源異常検出装置であって、
前記噴霧異常検出手段は、前記噴霧手段の噴霧先端部分を含む前記撮影画像について、発光検知領域と非発光検知領域があらかじめ設定されており、発光検知領域内に設定された前記判定画素の輝度諧調値が前記設定値よりも低く、または非発光検知領域内に設定された前記判定画素の輝度諧調値が前記設定値よりも高いことをもって噴霧状態の異常を検出することを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source abnormality detection device according to claim 1.
The spray abnormality detecting means has a light emission detection region and a non-light emission detection region set in advance for the captured image including the spray tip portion of the spray means, and the brightness gradation of the determination pixel set in the light emission detection region. An ion source abnormality is characterized in that an abnormality in a spray state is detected when the value is lower than the set value or the brightness gradation value of the determination pixel set in the non-emission detection region is higher than the set value. Detection device.
請求項2に記載のイオン源異常検出装置であって、
前記発光検知領域は、前記噴霧手段の噴霧先端部分近傍に設定され、前記非発光検知領域は、前記噴霧手段の噴霧先端部分から離れた位置に設定されていることを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source abnormality detection device according to claim 2.
The light emission detection region is set near the spray tip portion of the spray means, and the non-light emission detection region is set at a position away from the spray tip portion of the spray means. apparatus.
請求項3に記載のイオン源異常検出装置であって、
前記非発光検知領域内に設定された前記判定画素の位置は、前記噴霧手段の噴霧先端部分から離れた直下の位置、並びに前記噴霧手段の噴霧先端部分から離れた両側の位置に設定されていることを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source abnormality detection device according to claim 3.
The positions of the determination pixels set in the non-emission detection region are set at positions directly below the spray tip portion of the spray means and positions on both sides away from the spray tip portion of the spray means. An ion source anomaly detection device characterized by this.
請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のイオン源異常検出装置であって、
前記被分析成分を含有する試料液体を噴霧する噴霧手段は、試料液体を供給する試料供給細管と前記試料供給細管の先端部に高速気体噴流を供給する高速気体噴流供給手段より構成されることを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source anomaly detection device according to any one of claims 1 to 4.
The spraying means for spraying the sample liquid containing the component to be analyzed is composed of a sample supply thin tube for supplying the sample liquid and a high-speed gas jet supply means for supplying a high-speed gas jet to the tip of the sample supply thin tube. A characteristic ion source abnormality detection device.
請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のイオン源異常検出装置であって、
前記イオン源噴霧チャンバは、その内面およびその内部に設置される機器の全面もしくは一部に、照射光の反射を抑制する着色もしくは表面処理が施されていることを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source anomaly detection device according to any one of claims 1 to 5.
The ion source spray chamber is an ion source abnormality detection device characterized in that the inner surface thereof and the entire surface or a part of the equipment installed inside the ion source spray chamber are colored or surface-treated to suppress reflection of irradiation light. ..
請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のイオン源異常検出装置であって、
前記前記噴霧異常検出手段が異常を判定した際に、噴霧異常発生信号を発生させことを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source anomaly detection device according to any one of claims 1 to 6.
An ion source abnormality detection device, characterized in that a spray abnormality generation signal is generated when the spray abnormality detecting means determines an abnormality.
請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のイオン源異常検出装置であって、
前記噴霧異常検出手段の判定結果に応じて、噴霧ガス圧、試料液体流量、ノズル印加電圧、噴霧ガス温度などの液体試料を噴霧しイオン化するためのイオン源パラメータの少なくとも一つ以上を可変調整する噴霧条件制御手段を備えることを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source abnormality detection device according to any one of claims 1 to 7.
At least one or more ion source parameters for spraying and ionizing a liquid sample such as spray gas pressure, sample liquid flow rate, nozzle application voltage, and spray gas temperature are variably adjusted according to the determination result of the spray abnormality detecting means. An ion source abnormality detection device including a spray condition control means.
請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のイオン源異常検出装置であって、
前記噴霧異常検出手段の判定結果に応じて、前記噴霧手段のつまり解消や洗浄を行うための噴霧手段洗浄プロセスを備えるとともに、前記噴霧異常検出手段の判定結果により、質量分析を中断し、前記噴霧手段洗浄プロセスを動作させることを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source anomaly detection device according to any one of claims 1 to 8.
According to the determination result of the spray abnormality detecting means, the spraying means cleaning process for eliminating or cleaning the clogging of the spraying means is provided, and the mass spectrometry is interrupted according to the determination result of the spray abnormality detecting means, and the spraying is performed. Means An ion source anomaly detection device characterized by operating a cleaning process.
請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のイオン源異常検出装置であって、
前記噴霧手段による噴霧を停止させた状態で画像を取得し、噴霧停止時の取得画像における判定画素が異常範囲か否かを判定することで、非噴霧時欠陥画素を判定する欠陥画素検出手段を備え、前記欠陥画素検出手段により検出された欠陥画素を、噴霧時の異常検知のための判定画素から除いて、噴霧異常の判定処理することを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source anomaly detection device according to any one of claims 1 to 9.
A defect pixel detecting means for determining a non-spraying defective pixel by acquiring an image in a state where spraying by the spraying means is stopped and determining whether or not the determination pixel in the acquired image when spraying is stopped is in an abnormal range. An ion source abnormality detecting device comprising, removing defective pixels detected by the defective pixel detecting means from determination pixels for detecting abnormality at the time of spraying, and performing determination processing of spray abnormality.
請求項1から請求項10のいずれか1項に記載のイオン源異常検出装置であって、
噴霧停止時の画像を取得記憶するとともに、噴霧時の撮影画像の輝度情報から噴霧停止時の撮影画像の輝度情報を差分処理する差分処理手段を有し、前記差分処理後の画像を前記噴霧異常検出手段で異常判定画像として用いることを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source anomaly detection device according to any one of claims 1 to 10.
It has a difference processing means for acquiring and storing an image at the time of spray stop and performing difference processing from the brightness information of the photographed image at the time of spraying to the brightness information of the photographed image at the time of spray stop. An ion source abnormality detection device characterized in that it is used as an abnormality determination image by a detection means.
請求項1から請求項11のいずれか1項に記載のイオン源異常検出装置であって、
少なくとも2つ以上の噴霧状態判定条件を記憶可能にするとともに、測定対象の試料または試料溶媒条件もしくは、噴霧ガス圧、試料液体流量、ノズル印加電圧、噴霧ガス温度などの液体試料を噴霧しイオン化するためのイオン源パラメータ条件の少なくとも一つ以上によって、前記2つ以上の噴霧状態判定条件を切替える噴霧状態判定条件切替手段を備えることを特徴とするイオン源異常検出装置。
The ion source abnormality detection device according to any one of claims 1 to 11.
At least two or more spray state determination conditions can be memorized, and a sample or sample solvent condition to be measured, or a liquid sample such as spray gas pressure, sample liquid flow rate, nozzle application voltage, spray gas temperature, etc. is sprayed and ionized. An ion source abnormality detecting apparatus comprising: a spray state determination condition switching means for switching the two or more spray state determination conditions according to at least one or more of the ion source parameter conditions for the purpose.
請求項1から請求項12のいずれか1項に記載のイオン源異常検出装置を備えた質量分析装置。 A mass spectrometer comprising the ion source anomaly detection device according to any one of claims 1 to 12.
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