JP2020204006A - Composite, method for producing the same, and curable resin composition - Google Patents

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Abstract

To provide a novel composite useful as a latent curing agent, and a method for producing the same.SOLUTION: The composite contains a compound having a basic nitrogen atom, and a block copolymer. The block copolymer has: a first block structure containing a constituent unit derived from a compound having an acidic group, and a constituent unit derived from a compound having a hydrophobic group; and a second block structure containing a constituent unit derived from a compound having a hydrophilic group. The compound having a basic nitrogen atom is contained in the block copolymer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、複合体及びその製造方法、並びに硬化性樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a composite, a method for producing the same, and a curable resin composition.

エポキシ樹脂は、求核性を有する化合物によって開環反応が進行するエポキシ基を有する化合物である。エポキシ樹脂は、求核性を有する化合物(硬化促進剤)と共存させると、硬化促進剤によって開環されたエポキシ基が他のエポキシ基に対して次々に反応(アニオン重合)することによって、高分子量化して硬化物を形成することが知られている。また、エポキシ樹脂は、求核性を有する置換基を複数有する化合物(硬化剤)と共存させると、硬化剤に含まれる置換基のそれぞれがエポキシ基を開環して共有結合(架橋)を形成することによって、高度に架橋された硬化物を形成することが知られている。このようなエポキシ樹脂の硬化反応を利用した接着剤は、エポキシ接着剤と呼ばれ、優れた接着剤として各種接着用途に使用される。また、その硬化物は、優れた耐久性及び寸法安定性を示すことから、例えば、電気製品の基板上における電子部品の封入、立体造形物の製作、一部が欠損した部材の補修用途等に使用されている。 The epoxy resin is a compound having an epoxy group in which the ring-opening reaction proceeds by the compound having nucleophilicity. When an epoxy resin is allowed to coexist with a compound having a nucleophilicity (curing accelerator), the epoxy group ring-opened by the curing accelerator reacts with other epoxy groups one after another (anionic polymerization), resulting in high concentration. It is known to be molecularly weighted to form a cured product. Further, when the epoxy resin coexists with a compound having a plurality of nucleophilic substituents (curing agent), each of the substituents contained in the curing agent opens the epoxy group to form a covalent bond (crosslink). By doing so, it is known to form a highly crosslinked cured product. Adhesives that utilize the curing reaction of such epoxy resins are called epoxy adhesives and are used in various adhesive applications as excellent adhesives. In addition, since the cured product exhibits excellent durability and dimensional stability, for example, it is used for encapsulation of electronic parts on a substrate of an electric product, production of a three-dimensional model, repair of a partially defective member, and the like. in use.

なお、上述のとおり、エポキシ樹脂は、硬化促進剤によってエポキシ基がアニオン重合して硬化する場合もあるし、硬化剤によってエポキシ基が架橋反応を受けて硬化する場合もあるが、いずれの場合もエポキシ樹脂が高分子量化して硬化するという点では変わりがない。そこで、本明細書においては、硬化促進剤及び硬化剤の両者を含む概念として、「硬化剤」という用語を用いる。 As described above, in the epoxy resin, the epoxy group may be anion-polymerized by the curing accelerator to be cured, or the epoxy group may be cured by undergoing a cross-linking reaction by the curing agent. In either case. There is no difference in that the epoxy resin becomes high molecular weight and hardens. Therefore, in the present specification, the term "curing agent" is used as a concept including both a curing accelerator and a curing agent.

通常、エポキシ接着剤は、未硬化のエポキシ樹脂を含む主剤と、エポキシ基と反応する化合物を含む硬化剤とからなり、使用の直前に両者をおよそ1:1の比率で混合して使用される。エポキシ接着剤における硬化反応は主剤と硬化剤とを混合した直後から開始するので、エポキシ接着剤は、主剤と硬化剤とを混合した状態で保存しておくことができず、その使用ごとに、主剤と硬化剤とを1:1の比率で混合させる必要があり、優れた硬化物が得られる反面、作業が煩雑であるという問題も有する。 Epoxy adhesives are usually composed of a main agent containing an uncured epoxy resin and a curing agent containing a compound that reacts with an epoxy group, and are used by mixing the two in a ratio of about 1: 1 immediately before use. .. Since the curing reaction in the epoxy adhesive starts immediately after the main agent and the curing agent are mixed, the epoxy adhesive cannot be stored in a mixed state of the main agent and the curing agent, and each time it is used, It is necessary to mix the main agent and the curing agent at a ratio of 1: 1 and an excellent cured product can be obtained, but there is also a problem that the work is complicated.

このような問題を解決するために、一液型のエポキシ接着剤が提案されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1には、硬化剤を無機質薄層で被覆してカプセル型の硬化剤を形成させ、これを未硬化のエポキシ樹脂とともに配合することにより、常温での硬化が抑制される一方で、加熱により硬化するエポキシ接着剤が開示されている。このようなエポキシ接着剤で使用されるカプセル型の硬化剤は、常温では硬化剤がカプセルの内部に存在し、エポキシ樹脂の硬化反応が抑制されるが、加熱下では硬化剤を覆うカプセルが崩壊することによって、内部から硬化剤が放出され、エポキシ樹脂の硬化反応が促進される。 In order to solve such a problem, a one-component epoxy adhesive has been proposed (see, for example, Patent Document 1). According to Patent Document 1, a curing agent is coated with an inorganic thin layer to form a capsule-type curing agent, which is blended with an uncured epoxy resin to suppress curing at room temperature while heating. Epoxy adhesives that cure with are disclosed. In the capsule-type curing agent used in such an epoxy adhesive, the curing agent exists inside the capsule at room temperature, and the curing reaction of the epoxy resin is suppressed, but the capsule covering the curing agent collapses under heating. By doing so, the curing agent is released from the inside, and the curing reaction of the epoxy resin is promoted.

また、硬化性を発揮するためのアミノ基等の官能基を保護基によって保護された硬化剤を潜在性硬化剤として用いる、一液式のエポキシ接着剤が提案されている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2に記載の潜在性硬化剤は、加熱等により保護基が脱離して、エポキシ樹脂の硬化反応が進行する。 Further, a one-component epoxy adhesive has been proposed in which a curing agent in which a functional group such as an amino group for exhibiting curability is protected by a protecting group is used as a latent curing agent (for example, Patent Document 2). reference). In the latent curing agent described in Patent Document 2, the protecting group is removed by heating or the like, and the curing reaction of the epoxy resin proceeds.

また、硬化性を有する官能基を側鎖に有するブロック共重合体を使用してコアシェル構造を有する粒子を形成させることも提案されている(例えば、特許文献3参照)。この場合、常温ではエポキシ樹脂の硬化反応が進行しないが、加熱によりシェル構造が崩壊することによって硬化性が発現し、エポキシ樹脂の硬化反応が進行する。 It has also been proposed to use a block copolymer having a curable functional group in the side chain to form particles having a core-shell structure (see, for example, Patent Document 3). In this case, the curing reaction of the epoxy resin does not proceed at room temperature, but the shell structure collapses due to heating to develop curability, and the curing reaction of the epoxy resin proceeds.

特開平2−036389号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-03638 特開平9−100456号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-100456 特開2012−57146号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-57146

本発明は、潜在性硬化剤として有用な新規な複合体及びその製造方法を提供することを主な目的とする。 A main object of the present invention is to provide a novel complex useful as a latent curing agent and a method for producing the same.

本発明の一側面は、塩基性窒素原子を有する化合物と、ブロック共重合体とを含有し、ブロック共重合体が、酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第1のブロック構造と、親水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第2のブロック構造とを有し、塩基性窒素原子を有する化合物が、ブロック共重合体に内包されている、複合体を提供する。 One aspect of the present invention is derived from a compound having a basic nitrogen atom and a block copolymer, and the block copolymer is derived from a compound having a structural unit derived from a compound having an acidic group and a compound having a hydrophobic group. A compound having a first block structure containing a structural unit to be used and a second block structure containing a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group and having a basic nitrogen atom is included in the block copolymer. It provides a complex that has been used.

酸性基を有する化合物に由来する構成単位は、下記一般式(11)で表される構成単位であってよい。 The structural unit derived from the compound having an acidic group may be the structural unit represented by the following general formula (11).


[一般式(11)中、R11は水素原子又はメチル基を示し、R12は酸性の有機基を示す。]

[In the general formula (11), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 12 represents an acidic organic group. ]

前記R12は、下記一般式(12)で表される基であってよい。 The R 12 may be a group represented by the following general formula (12).


[一般式(12)中、R13は炭素数1〜20のアルキル基を示し、aは0〜3の整数を示す。]

[In the general formula (12), R 13 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a represents an integer of 0 to 3. ]

前記疎水性基を有する化合物に由来する構成単位は、下記一般式(21)で表される構成単位であってよい。 The structural unit derived from the compound having a hydrophobic group may be a structural unit represented by the following general formula (21).


[一般式(21)中、R21は水素原子又はメチル基を示し、R22は炭素数1〜20のアルキル基を示し、bは0〜3の整数を示す。]

[In the general formula (21), R 21 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 22 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and b represents an integer of 0 to 3. ]

親水性基を有する化合物に由来する構成単位は、下記一般式(31)で表される構成単位であってよい。 The structural unit derived from the compound having a hydrophilic group may be the structural unit represented by the following general formula (31).


[一般式(31)中、R31は水素原子又はメチル基を示す。]

[In the general formula (31), R 31 represents a hydrogen atom or a methyl group. ]

第2のブロック構造は、下記一般式(41)で表される構成単位をさらに含んでいてもよい。 The second block structure may further include a structural unit represented by the following general formula (41).


[一般式(41)中、R41は水素原子又はメチル基を示し、R42は炭素数1〜20のアルキル基を示す。]

[In the general formula (41), R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 42 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. ]

塩基性窒素原子を有する化合物は、イミダゾール骨格、イミダゾリン骨格、トリアジン骨格、又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物であってよい。 The compound having a basic nitrogen atom may be a compound having an imidazole skeleton, an imidazoline skeleton, a triazine skeleton, or an isocyanuric acid skeleton.

複合体は、エポキシ樹脂の潜在性硬化剤であってよい。 The composite may be a latent curing agent for the epoxy resin.

別の側面において、本発明は、エポキシ樹脂と、上述の複合体とを含有する、硬化性樹脂組成物を提供する。 In another aspect, the present invention provides a curable resin composition containing an epoxy resin and the composite described above.

別の側面において、本発明は、一態様として、塩基性窒素原子を有する化合物、ブロック共重合体、及び第1の有機溶媒を含む混合液、並びに、第2の有機溶媒を準備し、混合液を第2の有機溶媒に加えて、複合体を得る工程を備える複合体の製造方法を提供する。ブロック共重合体は、酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第1のブロック構造と、親水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第2のブロック構造とを有する。複合体は、塩基性窒素原子を有する化合物が、ブロック共重合体に内包されている。 In another aspect, the present invention prepares, in one aspect, a mixed solution containing a compound having a basic nitrogen atom, a block copolymer, and a first organic solvent, and a second organic solvent, and the mixed solution. Is added to the second organic solvent to provide a method for producing a composite, which comprises a step of obtaining the composite. The block copolymer contains a first block structure containing a structural unit derived from a compound having an acidic group and a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group, and a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group. It has a second block structure. In the complex, a compound having a basic nitrogen atom is encapsulated in a block copolymer.

別の側面において、本発明は、他の一態様として、塩基性窒素原子を有する化合物、ブロック共重合体、及び第1の有機溶媒を含む第1の混合液を準備し、第1の混合液に対して、親水性溶媒を加えて、第2の混合液を得る工程と、第2の混合液に対して、第2の有機溶媒を加えて、複合体を得る工程とを備える複合体の製造方法を提供する。ブロック共重合体は、酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第1のブロック構造と、親水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第2のブロック構造とを有する。複合体は、塩基性窒素原子を有する化合物が、ブロック共重合体に内包されている。 In another aspect, the present invention, as another aspect, prepares a first mixed solution containing a compound having a basic nitrogen atom, a block copolymer, and a first organic solvent, and prepares a first mixed solution. A complex comprising a step of adding a hydrophilic solvent to obtain a second mixed solution and a step of adding a second organic solvent to the second mixed solution to obtain a complex. Provide a manufacturing method. The block copolymer contains a first block structure containing a structural unit derived from a compound having an acidic group and a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group, and a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group. It has a second block structure. In the complex, a compound having a basic nitrogen atom is encapsulated in a block copolymer.

本発明によれば、潜在性硬化剤として有用な新規な複合体及びその製造方法が提供される。また、本発明によれば、このような複合体を含有する硬化性樹脂組成物が提供される。 According to the present invention, a novel complex useful as a latent curing agent and a method for producing the same are provided. Further, according to the present invention, a curable resin composition containing such a composite is provided.

図1は、複合体が自己組織化によって形成される様子を示す模式図である。図1(a)は、複合体が沈殿法(1段階自己組織化法)によって形成される様子を示す模式図であり、図1(b)は、複合体が2段階自己組織化法によって形成される様子を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing how a complex is formed by self-organization. FIG. 1A is a schematic view showing how the complex is formed by the precipitation method (one-step self-organization method), and FIG. 1B is a schematic view showing how the complex is formed by the two-step self-organization method. It is a schematic diagram which shows the state of being done.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

本明細書において、(メタ)アクリレートは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイル等の他の類似表現についても同様である。 As used herein, (meth) acrylate means acrylate or the corresponding methacrylate. The same applies to other similar expressions such as (meth) acrylic acid, (meth) acrylamide, and (meth) acryloyl.

[複合体]
一実施形態の複合体は、塩基性窒素原子を有する化合物と、ブロック共重合体とを含有する。
[Complex]
The complex of one embodiment contains a compound having a basic nitrogen atom and a block copolymer.

<塩基性窒素原子を有する化合物>
塩基性の窒素原子を有する化合物としては、例えば、第1級アミン、第2級アミン、第3級アミン、含窒素複素環式化物等が挙げられる。これらの中でも、塩基性の窒素原子を有する化合物は、含窒素複素環式化物であってよく、イミダゾール骨格、イミダゾリン骨格、トリアジン骨格、又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物であってもよい。これらの化合物としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチル−イミダゾリルー(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンのイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール臭化水素酸塩、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンのイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジンのイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。塩基性窒素原子を有する化合物は、イミダゾール骨格を有する化合物であってもよく、2−フェニルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、又は1−ベンジル−2−メチルイミダゾールであってもよく、2−フェニルイミダゾールであってもよい。
<Compound with basic nitrogen atom>
Examples of the compound having a basic nitrogen atom include a primary amine, a secondary amine, a tertiary amine, a nitrogen-containing heterocyclic compound and the like. Among these, the compound having a basic nitrogen atom may be a nitrogen-containing heterocyclic compound, or may be a compound having an imidazole skeleton, an imidazoline skeleton, a triazine skeleton, or an isocyanuric acid skeleton. Examples of these compounds include 2-methylimidazole, 2-undecyl imidazole, 2-heptadecyl imidazole, 2-ethyl-4-methyl imidazole, 2-phenyl imidazole, 2-phenyl-4-methyl imidazole, 1-. Benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2 -Phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl imidazolium trimerite, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimerite, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1') ] -Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl- 4'-methyl-imidazolylou (1')] -ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, Isocyanuric acid adduct of 2-phenylimidazole, isocyanuric acid adduct of 2-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3- Dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole hydrobromide, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2-methylimidazoline, 2 -Phenylimidazolin, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s Examples thereof include an isocyanuric acid adduct of −triazine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine. The compound having a basic nitrogen atom may be a compound having an imidazole skeleton, or 2-phenylimidazole, 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, or 1-benzyl-2-methylimidazole. It may be 2-phenylimidazole.

<ブロック共重合体>
ブロック共重合体は、酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第1のブロック構造と、親水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第2のブロック構造とを有する。当該ブロック共重合体は、有機溶媒又は親水性溶媒に対して、異なる親和性の異なる少なくとも2つのブロック構造を有する。そのため、当該ブロック共重合体は、後述の方法によって、自己組織化して、塩基性の窒素原子を有する化合物及び第1のブロック構造でコア構造を形成し、第2のブロック構造でシェルを形成して、コアシェル型の複合体を得ることができる。
<Block copolymer>
The block copolymer contains a first block structure containing a structural unit derived from a compound having an acidic group and a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group, and a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group. It has a second block structure. The block copolymer has at least two block structures having different affinities for an organic solvent or a hydrophilic solvent. Therefore, the block copolymer is self-assembled by the method described later to form a core structure with a compound having a basic nitrogen atom and a first block structure, and a shell with a second block structure. Therefore, a core-shell type complex can be obtained.

(第1のブロック構造)
第1のブロック構造は、酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む。酸性基を有する化合物に由来する構成単位は、塩基性の窒素原子を有する化合物と水素結合等の相互作用し得る構成単位であり、疎水性基を有する化合物に由来する構成単位は、コア構造を形成する際に、塩基性の窒素原子を有する化合物を内包し得る構成単位である。
(First block structure)
The first block structure contains a structural unit derived from a compound having an acidic group and a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group. A structural unit derived from a compound having an acidic group is a structural unit capable of interacting with a compound having a basic nitrogen atom such as a hydrogen bond, and a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group has a core structure. When formed, it is a structural unit that can contain a compound having a basic nitrogen atom.

酸性基を有する化合物に由来する構成単位は、下記一般式(11)で表される構成単位であってよい。 The structural unit derived from the compound having an acidic group may be the structural unit represented by the following general formula (11).

一般式(11)中、R11は水素原子又はメチル基を示し、R12は酸性の有機基を示す。 In the general formula (11), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 12 represents an acidic organic group.

12は、特に制限されないが、カルボキシル基、スルホ基等の酸性基を有する有機基であってよく、カルボキシル基を有する有機基であってもよい。有機基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の分枝を有してもよい炭素数1〜20のアルキレン基、置換基を有してもよいフェニレン基、置換基を有してもよいナフチレン基等の芳香族基などが挙げられる。 R 12 is not particularly limited, but may be an organic group having an acidic group such as a carboxyl group or a sulfo group, or may be an organic group having a carboxyl group. Examples of the organic group include an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms which may have a branch such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group and an isopropylene group, a phenylene group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include aromatic groups such as a naphthylene group which may have a group.

12は、安定したコア構造を形成し易いことから、下記一般式(12)で表される基であってもよい。 Since R 12 can easily form a stable core structure, it may be a group represented by the following general formula (12).

一般式(12)中、R13は炭素数1〜20のアルキル基を示し、aは0〜3の整数を示す。 In the general formula (12), R 13 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a represents an integer of 0 to 3.

酸性基を有する化合物としては、例えば、4−ビニル安息香酸、3−ビニル安息香酸、2−ビニル安息香酸、(メタ)アクリル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロフタル酸、5−メチル−2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルシュウ酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルシュウ酸、クロトン酸、ソルビン酸等が挙げられる。これらの中でも、酸性基を有する化合物は、4−ビニル安息香酸であってよい。 Examples of the compound having an acidic group include 4-vinylbenzoic acid, 3-vinylbenzoic acid, 2-vinylbenzoic acid, (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2-(. Meta) Acryloyloxypropyl Hexahydrophthalic Acid, 2- (Meta) Acryloyloxyethyl Tetrahydrophthalic Acid, 2- (Meta) Acryloyloxypropyl Tetrahydrophthalic Acid, 5-Methyl-2- (Meta) Acryloyloxyethyl Hexahydrophthalic Acid , 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl phthalic acid, crotonic acid, sorbic acid And so on. Among these, the compound having an acidic group may be 4-vinylbenzoic acid.

疎水性基を有する化合物に由来する構成単位は、下記一般式(21)で表される構成単位であってよい。 The structural unit derived from the compound having a hydrophobic group may be a structural unit represented by the following general formula (21).

一般式(21)中、R21は水素原子又はメチル基を示し、R22は炭素数1〜20のアルキル基を示し、bは0〜3の整数を示す。 In the general formula (21), R 21 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 22 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and b represents an integer of 0 to 3.

疎水性基を有する化合物としては、例えば、スチレン、p−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、3,4−ジメチルスチレン、3,5−ジメチルスチレン、p−ターシャリーブチルスチレン等のアルキルスチレン;p−クロロスチレン、m−クロロスチレン、o−クロロスチレン、p−ブロモスチレン、m−ブロモスチレン、o−ブロモスチレン、p−フルオロスチレン、m−フルオロスチレン、o−フルオロスチレン、o−メチル−p−フルオロスチレン等のハロゲン化スチレン;4−ビニルビフェニル、3−ビニルビフェニル、2−ビニルビフェニル等のビニルビフェニル類;1−(4−ビニルフェニル)−ナフタレン、2−(4−ビニルフェニル)−ナフタレン、1−(3−ビニルフェニル)−ナフタレン、2−(3−ビニルフェニル)−ナフタレン、1−(2−ビニルフェニル)−ナフタレン、2−(2−ビニルフェニル)ナフタレン等のビニルフェニルナフタレン類;1−(4−ビニルフェニル)−アントラセン、2−(4−ビニルフェニル)−アントラセン、9−(4−ビニルフェニル)−アントラセン、1−(3−ビニルフェニル)−アントラセン、2−(3−ビニルフェニル)−アントラセン、9−(3−ビニルフェニル)−アントラセン、1−(2−ビニルフェニル)−アントラセン、2−(2−ビニルフェニル)−アントラセン、9−(2−ビニルフェニル)−アントラセン等のビニルフェニルアントラセン類;1−(4−ビニルフェニル)−フェナントレン、2−(4−ビニルフェニル)−フェナントレン、3−(4−ビニルフェニル)−フェナントレン、4−(4−ビニルフェニル)−フェナントレン、9−(4−ビニルフェニル)−フェナントレン、1−(3−ビニルフェニル)−フェナントレン、2−(3−ビニルフェニル)−フェナントレン、3−(3−ビニルフェニル)−フェナントレン、4−(3−ビニルフェニル)−フェナントレン、9−(3−ビニルフェニル)−フェナントレン、1−(2−ビニルフェニル)−フェナントレン、2−(2−ビニルフェニル)−フェナントレン、3−(2−ビニルフェニル)−フェナントレン、4−(2−ビニルフェニル)−フェナントレン、9−(2−ビニルフェニル)−フェナントレン等のビニルフェニルフェナントレン類;1−(4−ビニルフェニル)−ピレン、2−(4−ビニルフェニル)−ピレン、1−(3−ビニルフェニル)−ピレン、2−(3−ビニルフェニル)−ピレン、1−(2−ビニルフェニル)−ピレン、2−(2−ビニルフェニル)−ピレン等のビニルフェニルピレン類;4−ビニル−p−ターフェニル、4−ビニル−m−ターフェニル、4−ビニル−o−ターフェニル、3−ビニル−p−ターフェニル、3−ビニル−m−ターフェニル、3−ビニル−o−ターフェニル、2−ビニル−p−ターフェニル、2−ビニル−m−ターフェニル、2−ビニル−o−ターフェニル等のビニルターフェニル類;4−(4−ビニルフェニル)−p−ターフェニル等のビニルフェニルターフェニル類;4−ビニル−4’−メチルビフェニル、4−ビニル−3’−メチルビフェニル、4−ビニル−2’−メチルビフェニル、2−メチル−4−ビニルビフェニル、3−メチル−4−ビニルビフェニル等のビニルアルキルビフェニル類;4−ビニル−4’−フルオロビフェニル、4−ビニル−3’−フルオロビフェニル、4−ビニル−2’−フルオロビフェニル、4−ビニル−2−フルオロビフェニル、4−ビニル−3−フルオロビフェニル、4−ビニル−4’−クロロビフェニル、4−ビニル−3’−クロロビフェニル、4−ビニル−2’−クロロビフェニル、4−ビニル−2−クロロビフェニル、4−ビニル−3−クロロビフェニル、4−ビニル−4’−ブロモビフェニル、4−ビニル−3’−ブロモビフェニル、4−ビニル−2’−ブロモビフェニル、4−ビニル−2−ブロモビフェニル、4−ビニル−3−ブロモビフェニル等のハロゲン化ビニルビフェニル類;4−ビニル−4’−トリメチルシリルビフェニル等のトリアルキルシリルビニルビフェニル類;4−ビニル−4’−トリメチルスタンニルビフェニル、4−ビニル−4’−トリブチルスタンニルビフェニル等のトリアルキルスタンニルビニルビフェニル類;4−ビニル−4’−トリメチルシリルメチルビフェニル等のトリアルキルシリルメチルビニルビフェニル類;4−ビニル−4’−トリメチルスタンニルメチルビフェニル、4−ビニル−4’−トリブチルスタンニルメチルビフェニル等のトリアルキルスタンニルメチルビニルビフェニル類;p−クロロエチルスチレン、m−クロロエチルスチレン、o−クロロエチルスチレン等のハロゲン置換アルキルスチレン;p−トリメチルシリルスチレン、m−トリメチルシリルスチレン、o−トリメチルシリルスチレン、p−トリエチルシリルスチレン、m−トリエチルシリルスチレン、o−トリエチルシリルスチレン、p−ジメチルターシャリ−ブチルシリルスチレン等のアルキルシリルスチレン類;p−ジメチルフェニルシリルスチレン、p−メチルジフェニルシリルスチレン、p−トリフェニルシリルスチレン等のフェニル基含有シリルスチレン類;p−ジメチルクロロシリルスチレン、p−メチルジクロロシリルスチレン、p−トリクロロシリルスチレン、p−ジメチルブロモシリルスチレン、p−ジメチルヨードシリルスチレン等のハロゲン含有シリルスチレン類;p−(p−トリメチルシリル)ジメチルシリルスチレン等のシリル基含有シリルスチレン類などが挙げられる。 Examples of the compound having a hydrophobic group include styrene, p-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 3,4-dimethylstyrene, 3 , 5-Dimethylstyrene, alkylstyrenes such as p-terchary butylstyrene; p-chlorostyrene, m-chlorostyrene, o-chlorostyrene, p-bromostyrene, m-bromostyrene, o-bromostyrene, p-fluoro Halogenized styrene such as styrene, m-fluorostyrene, o-fluorostyrene, o-methyl-p-fluorostyrene; vinyl biphenyls such as 4-vinylbiphenyl, 3-vinylbiphenyl, 2-vinylbiphenyl; 1- (4) -Vinylphenyl) -naphthalene, 2- (4-vinylphenyl) -naphthalene, 1- (3-vinylphenyl) -naphthalene, 2- (3-vinylphenyl) -naphthalene, 1- (2-vinylphenyl) -naphthalene , 2- (2-Vinylphenyl) Naphthalene and other vinylphenylnaphthalene; 1- (4-vinylphenyl) -anthracene, 2- (4-vinylphenyl) -anthracene, 9- (4-vinylphenyl) -anthracene, 1- (3-vinylphenyl) -anthracene, 2- (3-vinylphenyl) -anthracene, 9- (3-vinylphenyl) -anthracene, 1- (2-vinylphenyl) -anthracene, 2- (2-vinyl) Vinylphenyl anthracenes such as phenyl) -anthracene, 9- (2-vinylphenyl) -anthracene; 1- (4-vinylphenyl) -phenanthrene, 2- (4-vinylphenyl) -phenanthrene, 3- (4-vinyl) Phenyl) -phenanthrene, 4- (4-vinylphenyl) -phenanthrene, 9- (4-vinylphenyl) -phenanthrene, 1- (3-vinylphenyl) -phenanthrene, 2- (3-vinylphenyl) -phenanthrene, 3 -(3-Vinylphenyl) -Phenylentren, 4- (3-Vinylphenyl) -Phenylentren, 9- (3-Vinylphenyl) -Phenylentren, 1- (2-Vinylphenyl) -Phenylentren, 2- (2-Vinylphenyl) )-Phenylphenyl phenanthrenes such as 3- (2-vinylphenyl) -phenanthrene, 4- (2-vinylphenyl) -phenanthrene, 9- (2-vinylphenyl) -phenanthrene; 1- (4-vinylphenyl) ) -Pile , 2- (4-vinylphenyl) -pyrene, 1- (3-vinylphenyl) -pyrene, 2- (3-vinylphenyl) -pyrene, 1- (2-vinylphenyl) -pyrene, 2- (2) -Vinylphenyl) -vinylphenyl pyrene such as pyrene; 4-vinyl-p-terphenyl, 4-vinyl-m-terphenyl, 4-vinyl-o-terphenyl, 3-vinyl-p-terphenyl, 3 -Vinyl terphenyls such as -vinyl-m-terphenyl, 3-vinyl-o-terphenyl, 2-vinyl-p-terphenyl, 2-vinyl-m-terphenyl, 2-vinyl-o-terphenyl; Vinylphenyl terphenyls such as 4- (4-vinylphenyl) -p-terphenyl; 4-vinyl-4'-methylbiphenyl, 4-vinyl-3'-methylbiphenyl, 4-vinyl-2'-methylbiphenyl , 2-Methyl-4-vinylbiphenyl, 3-methyl-4-vinylbiphenyl and other vinylalkylbiphenyls; 4-vinyl-4'-fluorobiphenyl, 4-vinyl-3'-fluorobiphenyl, 4-vinyl-2 '-Fluorobiphenyl, 4-vinyl-2-fluorobiphenyl, 4-vinyl-3-fluorobiphenyl, 4-vinyl-4'-chlorobiphenyl, 4-vinyl-3'-chlorobiphenyl, 4-vinyl-2'- Chlorobiphenyl, 4-vinyl-2-chlorobiphenyl, 4-vinyl-3-chlorobiphenyl, 4-vinyl-4'-bromobiphenyl, 4-vinyl-3'-bromobiphenyl, 4-vinyl-2'-bromobiphenyl , 4-Vinyl-2-bromobiphenyl, 4-vinyl-3-bromobiphenyl and other halogenated vinyl biphenyls; 4-vinyl-4'-trimethylsilylbiphenyl and other trialkylsilylvinylbiphenyls; 4-vinyl-4' Trialkylstannylvinylbiphenyls such as −trimethylstannylbiphenyl, 4-vinyl-4'-tributylstannylbiphenyl; trialkylsilylmethylvinylbiphenyls such as 4-vinyl-4'-trimethylsilylmethylbiphenyl; 4-vinyl Trialkylstannylmethylvinylbiphenyls such as -4'-trimethylstannylmethylbiphenyl, 4-vinyl-4'-tributylstannylmethylbiphenyl; p-chloroethylstyrene, m-chloroethylstyrene, o-chloroethylstyrene Halogen-substituted alkyl styrenes such as p-trimethylsilylstyrene, m-trimethy Alkylsilylstyrenes such as lusilylstyrene, o-trimethylsilylstyrene, p-triethylsilylstyrene, m-triethylsilylstyrene, o-triethylsilylstyrene, p-dimethyltersary-butylsilylstyrene; p-dimethylphenylsilylstyrene, Penyl group-containing silyl styrenes such as p-methyldiphenylsilylstyrene and p-triphenylsilylstyrene; p-dimethylchlorosilylstyrene, p-methyldichlorosilylstyrene, p-trichlorosilylstyrene, p-dimethylbromosilylstyrene, p. Halogen-containing silyl styrenes such as −dimethyliodosilylstyrene; silyl group-containing silylstyrenes such as p- (p-trimethylsilyl) dimethylsilylstyrene and the like can be mentioned.

第1のブロック構造は、例えば、下記一般式(50)で表される構造であってよい。 The first block structure may be, for example, a structure represented by the following general formula (50).

一般式(50)中、Aは疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を示し、Bは酸性基を有する化合物に由来する構成単位を示す。なお、−r−は、ランダム共重合体であることを示す符号である。kは疎水性基を有する化合物に由来する構成単位の重合度を示し、lは酸性基を有する化合物に由来する構成単位の重合度を示す。kは、20〜200、35〜180、又は45〜160であってよい。lは、60〜500、150〜400、又は220〜350であってよい。kに対するlの比(l/k)は、1.8以上、2.0以上、又は2.2以上であってよく、4.5以下、4.2以下、又は4.0以下であってよい。 In the general formula (50), A represents a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group, and B represents a structural unit derived from a compound having an acidic group. In addition, -r- is a code indicating that it is a random copolymer. k indicates the degree of polymerization of the structural unit derived from the compound having a hydrophobic group, and l indicates the degree of polymerization of the structural unit derived from the compound having an acidic group. k may be 20-200, 35-180, or 45-160. l may be 60-500, 150-400, or 220-350. The ratio of l to k (l / k) may be 1.8 or more, 2.0 or more, or 2.2 or more, 4.5 or less, 4.2 or less, or 4.0 or less. Good.

第1のブロック構造は、酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位以外の構成単位を含んでいてもよい。 The first block structure may contain a structural unit other than the structural unit derived from the compound having an acidic group and the structural unit derived from the compound having a hydrophobic group.

(第2のブロック構造)
第2のブロック構造は、親水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む。親水性基を有する化合物に由来する構成単位は、コアシェル型のシェル構造を形成し得る構成単位である。
(Second block structure)
The second block structure contains structural units derived from compounds having hydrophilic groups. A structural unit derived from a compound having a hydrophilic group is a structural unit capable of forming a core-shell type shell structure.

親水性基を有する化合物に由来する構成単位は、下記一般式(31)で表される構成単位であってよい。一般式(31)で表される構成単位に含まれるアミド基は、水素結合によってアミド基同士で強固に会合できるため、後述する方法で自己組織化によってコアシェル型の複合体を形成する際において、シェル構造を形成することができる。 The structural unit derived from the compound having a hydrophilic group may be the structural unit represented by the following general formula (31). Since the amide groups contained in the structural unit represented by the general formula (31) can be strongly associated with each other by hydrogen bonds, when forming a core-shell type complex by self-assembly by the method described later, A shell structure can be formed.

一般式(31)中、R31は水素原子又はメチル基を示す。 In the general formula (31), R 31 represents a hydrogen atom or a methyl group.

親水性基を有する化合物は、(メタ)アクリルアミドであってよい。 The compound having a hydrophilic group may be (meth) acrylamide.

第2のブロック構造は、親水性基を有する化合物に由来する構成単位以外の構成単位を含んでいてもよい。このような構成単位としては、例えば、下記一般式(41)で表される構成単位(アルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位)等が挙げられる。第2のブロック構造が一般式(41)で表される構成単位を含むことによって、第2のブロック構造の合成が簡便となり、親水性基を有する化合物に由来する構成単位の水素結合の作用を低下させ、シェル構造の安定性を低下させることで、シェル構造が崩壊する温度を調整することが可能となる。そのため、本実施形態の複合体をエポキシ樹脂の潜在性硬化剤として用いるとき、硬化温度の調整が可能となる。 The second block structure may contain a structural unit other than the structural unit derived from the compound having a hydrophilic group. Examples of such a structural unit include a structural unit represented by the following general formula (41) (a structural unit derived from an alkyl (meth) acrylate). By including the structural unit represented by the general formula (41) in the second block structure, the synthesis of the second block structure becomes easy, and the action of hydrogen bonding of the structural unit derived from the compound having a hydrophilic group can be suppressed. By lowering the stability of the shell structure, it is possible to adjust the temperature at which the shell structure collapses. Therefore, when the composite of the present embodiment is used as a latent curing agent for an epoxy resin, the curing temperature can be adjusted.

一般式(41)中、R41は水素原子又はメチル基を示し、R42は炭素数1〜20のアルキル基を示す。 In the general formula (41), R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 42 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

一般式(41)で表される構成単位を構成する化合物としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチルヘプチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、一般式(41)で表される構成単位を構成する化合物は、メチル(メタ)アクリレートであってよい。 Examples of the compound constituting the structural unit represented by the general formula (41) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and tert-butyl (meth). Acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octylheptyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl ( Meta) acrylate and the like can be mentioned. Among these, the compound constituting the structural unit represented by the general formula (41) may be methyl (meth) acrylate.

第2のブロック構造は、例えば、下記一般式(60)で表される構造であってよい。 The second block structure may be, for example, a structure represented by the following general formula (60).

一般式(60)中、Cは親水性基を有する化合物に由来する構成単位を示し、Dは親水性基を有する化合物に由来する構成単位以外の構成単位(例えば、一般式(41)で表される構成単位)を示す。なお、−r−は、ランダム共重合体であることを示す符号である。mは親水性基を有する化合物に由来する構成単位の重合度を示し、nは親水性基を有する化合物に由来する構成単位以外の構成単位の重合度を示す。mは、20〜360、40〜250、又は80〜200であってよい。nは、0〜100、5〜50、又は10〜25であってよい。mに対するnの比(n/m)は、0以上、0.01以上、又は0.03以上であってよく、1以下、0.8以下、又は0.6以下であってよい。 In the general formula (60), C represents a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group, and D is a structural unit other than the structural unit derived from a compound having a hydrophilic group (for example, represented by the general formula (41). The structural unit to be used) is shown. In addition, -r- is a code indicating that it is a random copolymer. m indicates the degree of polymerization of the structural unit derived from the compound having a hydrophilic group, and n indicates the degree of polymerization of the structural unit other than the structural unit derived from the compound having a hydrophilic group. m may be 20-360, 40-250, or 80-200. n may be 0 to 100, 5 to 50, or 10 to 25. The ratio of n to m (n / m) may be 0 or more, 0.01 or more, or 0.03 or more, and may be 1 or less, 0.8 or less, or 0.6 or less.

ブロック共重合体は、例えば、下記一般式(70)で表される構造を有するブロック共重合体であってよい。 The block copolymer may be, for example, a block copolymer having a structure represented by the following general formula (70).

一般式(70)中、A、B、C、D、k、l、m、及びnは、上述と同義である。なお、−r−は、ランダム共重合体であることを示す符号であり、−b−は、ブロック共重合体であることを示す符号である。R及びRは、後述のブロック共重合体を合成する際に導入される末端部分であり、例えば、後述の連鎖移動剤(CTA)の残基であり得る。連鎖移動剤(CTA)として、[1−(O−エチルザンチル)エチル]ベンゼンを使用した場合、Rはフェニルエチル基であり、Rはエトキシチオカルボニルチオ基である。また、クミルジチオベンゾエートを使用した場合、Rはクミル基であり、Rはフェニルチオカルボニルチオ基である。 In the general formula (70), A, B, C, D, k, l, m, and n have the same meanings as described above. In addition, -r- is a code indicating that it is a random copolymer, and -b- is a code indicating that it is a block copolymer. R A and R B are terminal portion to be introduced in the synthesis of block copolymer described later, for example, may be the residue of a chain transfer agent described later (CTA). As a chain transfer agent (CTA), when using [1-(O-Echiruzanchiru) ethyl] benzene, R A is a phenyl ethyl group, R B is ethoxy thiocarbonyl thio group. Also, when using cumyl dithiobenzoate, R A is a cumyl group, R B is phenyl thiocarbonyl thio group.

ブロック共重合体の数平均分子量は、例えば、20000〜150000、30000〜100000、又は40000〜70000であってよい。なお、数平均分子量は、以下の方法によって求めることができる。まず、一般式(50)で表される構造を有するランダム共重合体の数平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算した値)と、H−NMR測定によって得られる一般式(70)で表される構造を有するブロック共重合体の組成比とから、平均重合度であるk、l、m、及びnを求める。次いで、これらの平均重合度と各成分の分子量との積を算出し、算出された積の和を求めることによって、ブロック共重合体の数平均分子量を求めることができる。 The number average molecular weight of the block copolymer may be, for example, 20000 to 150,000, 30,000 to 100,000, or 40,000 to 70,000. The number average molecular weight can be determined by the following method. First, the number average molecular weight of a random copolymer having a structure represented by the general formula (50) (a value measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted using a calibration line using standard polystyrene) and 1 The average degrees of polymerization k, l, m, and n are obtained from the composition ratio of the block copolymer having the structure represented by the general formula (70) obtained by H-NMR measurement. Next, the product of these average degrees of polymerization and the molecular weight of each component is calculated, and the sum of the calculated products is obtained to obtain the number average molecular weight of the block copolymer.

ブロック共重合体の合成方法は、特に制限されず、公知の各種有機合成方法を使用することができる。これらの有機合成方法の中でも、金属触媒等を用いないため、金属に配位する塩基部分を有するモノマーの重合も容易に行うことができる点から、有機合成方法は、リビングラジカル重合の一種である可逆的付加開裂連鎖移動(RAFT:Reversible Addition−Fragmentation Chain Transfer)重合法であってよい。次に、RAFT重合法を用いたブロック共重合体の合成法の一例について説明する。 The method for synthesizing the block copolymer is not particularly limited, and various known organic synthesis methods can be used. Among these organic synthesis methods, the organic synthesis method is a kind of living radical polymerization because it does not use a metal catalyst or the like and can easily polymerize a monomer having a base moiety coordinated with a metal. It may be a reversible addition cleavage chain transfer (RAFT) polymerization method (RAFT: Reversible Addition-Fragmentation Chain Transfer). Next, an example of a method for synthesizing a block copolymer using the RAFT polymerization method will be described.

まず、第1のブロック構造を形成するための酸性基を有する化合物、疎水性基を有する化合物等の第1のモノマーを含む溶液に、ラジカル重合開始剤及び連鎖移動剤を添加して、ラジカル重合させる。 First, a radical polymerization initiator and a chain transfer agent are added to a solution containing a first monomer such as a compound having an acidic group and a compound having a hydrophobic group to form a first block structure, and radical polymerization is carried out. Let me.

ラジカル重合開始剤としては、公知のラジカル重合開始剤を使用することができ、例えば、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノプロピオン酸)、(2RS,2’RS)−アゾビス(4−メトキシー2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物の重合開始剤、過酸化ベンゾイル等の過酸化物の重合開始剤などが挙げられる。 As the radical polymerization initiator, a known radical polymerization initiator can be used, for example, azobisisobutyronitrile (AIBN), 1,1'-azobis (cyclohexanecarbonitrile), 2,2'-azobis. Polymerization of azo compounds such as (2-methylpropionitrile), 4,4'-azobis (4-cyanopropionic acid), (2RS, 2'RS) -azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) Examples thereof include an initiator and a polymerization initiator of a peroxide such as benzobis peroxide.

連鎖移動剤(RAFT剤)としては、例えば、2−シアノ−2−ベンゾジチオエート、4−シアノ−4−(フェニルカルボノチオイルチオ)ペンタン酸、2−シアノ−2−プロピルドデシルトリチオカルボネート、4−シアノ−4−[(ドデシルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]ペンタン酸、2−(ドデシルチオカルボノチオイルチオ)−2−メチルプロピオン酸、シアノメチルドデシルトリチオカルボネート、シアノメチルメチル(フェニル)カルバモジチオエート、ビス(チオベンゾイル)ジスルフィド、ビス(ドデシルスルファニルチオカルボニル)ジスルフィド、クミルジチオベンゾエート、[1−(O−エチルザンチル)エチル]ベンゼン、4−トリメチルシリルベンジルジチオプロピネート等のジチオエステル化合物などが挙げられる。 Examples of the chain transfer agent (RAFT agent) include 2-cyano-2-benzodithioate, 4-cyano-4- (phenylcarbonotioilthio) pentanoic acid, and 2-cyano-2-propyldodecyltrithiocarbonate. , 4-Cyano-4-[(dodecylsulfanylthiocarbonyl) sulfanyl] pentanoic acid, 2- (dodecylthiocarbonothioilthio) -2-methylpropionic acid, cyanomethyldodecyltrithiocarbonate, cyanomethylmethyl (phenyl) Dithioester compounds such as carbamodithioate, bis (thiobenzoyl) disulfide, bis (dodecylsulfanylthiocarbonyl) disulfide, cumyldithiobenzoate, [1- (O-ethylzantyl) ethyl] benzene, 4-trimethylsilylbenzyl dithiopropinate. And so on.

第1のモノマー、ラジカル重合開始剤、及び連鎖移動剤のモル比率は、第1のブロック構造の所望の特性に合わせて適宜設定することができるが、例えば、第1のモノマー:ラジカル重合開始剤:連鎖移動剤は、1000:0.5〜50:10〜100であってよく、1000:0.5:10であってもよい。 The molar ratios of the first monomer, radical polymerization initiator, and chain transfer agent can be appropriately set according to the desired properties of the first block structure, and for example, the first monomer: radical polymerization initiator. : The chain transfer agent may be 1000: 0.5 to 50: 10 to 100, or 1000: 0.5: 10.

上記RAFT重合によって、第1のブロック構造を形成することができる。このとき、第1のブロック構造の両端には、使用した連鎖移動剤(RAFT剤)の残基が存在している。そのため、第1のブロック構造は、第2のブロック構造を合成する際において、第1のブロック構造自体が連鎖移動剤(RAFT剤)として作用する。 The first block structure can be formed by the RAFT polymerization. At this time, residues of the chain transfer agent (RAFT agent) used are present at both ends of the first block structure. Therefore, in the first block structure, the first block structure itself acts as a chain transfer agent (RAFT agent) when synthesizing the second block structure.

次に、第1のブロック構造を含む溶液に、第2のブロック構造を形成するための親水性基を有する化合物等の第2のモノマー及びラジカル重合開始剤を添加して、第1のブロック構造の片末端に第2のブロック構造を形成する。ラジカル重合開始剤は、第1のブロック構造を合成する際に用いたものと同様のものを使用することができる。 Next, a second monomer such as a compound having a hydrophilic group for forming the second block structure and a radical polymerization initiator are added to the solution containing the first block structure to form the first block structure. A second block structure is formed at one end of the. As the radical polymerization initiator, the same one used in synthesizing the first block structure can be used.

第1のブロック構造、第2のモノマー、及びラジカル重合開始剤のモル比率は、ブロック共重合体の所望の特性に合わせて適宜設定することができるが、例えば、第1のブロック構造:第2のモノマー:ラジカル重合開始剤は、1:0.1〜50:0.01〜0.1であってよく、1:1:0.04であってもよい。 The molar ratios of the first block structure, the second monomer, and the radical polymerization initiator can be appropriately set according to the desired properties of the block copolymer. For example, the first block structure: the second. Monomer: The radical polymerization initiator may be 1: 0.1 to 50: 0.01 to 0.1, or 1: 1: 0.04.

以上の合成方法によって、一般式(70)で表される構造を有するブロック共重合体を得ることができる。 By the above synthesis method, a block copolymer having a structure represented by the general formula (70) can be obtained.

本実施形態の複合体は、塩基性窒素原子を有する化合物が、ブロック共重合体に内包されている。ブロック共重合体は、自己組織化によって、塩基性の窒素原子を有する化合物及び第1のブロック構造でコア構造を形成し、第2のブロック構造でシェル構造を形成して、コアシェル型の複合体を形成することができる。 In the complex of the present embodiment, a compound having a basic nitrogen atom is encapsulated in a block copolymer. The block copolymer is a core-shell type complex in which a compound having a basic nitrogen atom and a first block structure form a core structure and a second block structure forms a shell structure by self-assembly. Can be formed.

[複合体の製造方法]
複合体の製造方法について、以下図面を参照しながら説明する。図1は、複合体が自己組織化によって形成される様子を示す模式図である。図1(a)は、複合体が沈殿法(1段階自己組織化法)によって形成される様子を示す模式図であり、図1(b)は、複合体が2段階自己組織化法によって形成される様子を示す模式図である。なお、図1は、例として、第1の有機溶媒としてジメチルスルホキシド(DMSO)、第2の有機溶媒としてアセトニトリル、親水性溶媒として水を使用したものである。ブロック共重合体は、図1に示すように、第1のブロック構造と第2のブロック構造とを有する直鎖状の分子である。なお、実際には、当該直鎖状の分子の両端には、R及びRが存在するが、これらの置換基は第1のブロック構造及び第2のブロック構造に対して非常に分子量が小さいため、図1ではこれらを省略する。
[Manufacturing method of complex]
The method for producing the composite will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing how a complex is formed by self-organization. FIG. 1A is a schematic view showing how the complex is formed by the precipitation method (one-step self-organization method), and FIG. 1B is a schematic view showing how the complex is formed by the two-step self-organization method. It is a schematic diagram which shows the state of being done. In FIG. 1, as an example, dimethyl sulfoxide (DMSO) was used as the first organic solvent, acetonitrile was used as the second organic solvent, and water was used as the hydrophilic solvent. As shown in FIG. 1, a block copolymer is a linear molecule having a first block structure and a second block structure. In practice, the both ends of the linear molecule, although there are R A and R B, very molecular weight for these substituents first block structure and a second block structure Since they are small, they are omitted in FIG.

まず、図1(a)で示される沈殿法(1段階自己組織化法)による複合体の製造方法について説明する。図1(a)で示される複合体の製造方法は、塩基性窒素原子を有する化合物、ブロック共重合体、及び第1の有機溶媒を含む混合液、並びに、第2の有機溶媒を準備し、混合液を第2の有機溶媒に加えて、複合体を得る工程を備えている。ブロック共重合体は、酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第1のブロック構造と、親水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第2のブロック構造とを有する。複合体は、塩基性窒素原子を有する化合物が、ブロック共重合体に内包されている。 First, a method for producing a complex by the precipitation method (one-step self-organization method) shown in FIG. 1A will be described. In the method for producing the complex shown in FIG. 1A, a compound having a basic nitrogen atom, a block copolymer, a mixed solution containing a first organic solvent, and a second organic solvent are prepared. It comprises a step of adding a mixed solution to a second organic solvent to obtain a complex. The block copolymer contains a first block structure containing a structural unit derived from a compound having an acidic group and a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group, and a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group. It has a second block structure. In the complex, a compound having a basic nitrogen atom is encapsulated in a block copolymer.

このような複合体の製造方法では、まず、塩基性窒素原子を有する化合物、ブロック共重合体、及び第1の有機溶媒を含む混合液を準備する。ここで、第1の有機溶媒は、塩基性窒素原子を有する化合物及びブロック共重合体を溶解させることができ、後述の第2の有機溶媒と混合性を示す溶媒である。なお、ここでいう「混合性を示す」とは、第1の有機溶媒と第2の有機溶媒とが、必ずしも任意の容積比で混ざり合う必要はなく、少なくとも一部が混ざり合うものであれば足りる。 In the method for producing such a complex, first, a mixed solution containing a compound having a basic nitrogen atom, a block copolymer, and a first organic solvent is prepared. Here, the first organic solvent is a solvent that can dissolve a compound having a basic nitrogen atom and a block copolymer, and is miscible with the second organic solvent described later. The term "indicating mixability" as used herein means that the first organic solvent and the second organic solvent do not necessarily have to be mixed at an arbitrary volume ratio, and at least a part of the first organic solvent is mixed. Sufficient.

第1の有機溶媒は、塩基性窒素原子を有する化合物及びブロック共重合体を溶解させるものであれば特に制限されない。第1の有機溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)等が挙げられる。これらの第1の有機溶媒は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。第1の有機溶媒は、DMSO、DMAc、DMF、及びNMPからなる群より選ばれる少なくとも1種であってよく、DMSOであってもよい。 The first organic solvent is not particularly limited as long as it dissolves a compound having a basic nitrogen atom and a block copolymer. Examples of the first organic solvent include dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethylacetamide (DMAc), dimethylformamide (DMF), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and the like. These first organic solvents may be used alone or in combination of two or more. The first organic solvent may be at least one selected from the group consisting of DMSO, DMAc, DMF, and NMP, and may be DMSO.

第1の有機溶媒における塩基性窒素原子を有する化合物の濃度は、塩基性窒素原子を有する化合物の溶解性を考慮して適宜決定することができ、第1の有機溶媒の1mLあたり、塩基性窒素原子を有する化合物を50〜300mg溶解させることができればよく、100〜180mg溶解させることができればよい。 The concentration of the compound having a basic nitrogen atom in the first organic solvent can be appropriately determined in consideration of the solubility of the compound having a basic nitrogen atom, and basic nitrogen per 1 mL of the first organic solvent. It suffices if 50 to 300 mg of the compound having an atom can be dissolved, and 100 to 180 mg can be dissolved.

第1の有機溶媒におけるブロック共重合体の濃度は、ブロック共重合体の溶解性を考慮して適宜決定することができ、第1の有機溶媒の1mLあたり、ブロック共重合体を50〜500mg溶解させることができればよく、100〜150mg溶解させることができればよい。 The concentration of the block copolymer in the first organic solvent can be appropriately determined in consideration of the solubility of the block copolymer, and 50 to 500 mg of the block copolymer is dissolved in 1 mL of the first organic solvent. It suffices if it can be dissolved, and 100 to 150 mg can be dissolved.

第1の有機溶媒にブロック共重合体を溶解させるためには、公知の方法を特に限定されずに使用することができる。このような方法としては、例えば、第1の有機溶媒にブロック共重合体を加えた後に、撹拌したり、超音波振動を加えたりする方法が挙げられる。なお、第1の有機溶媒とブロック共重合体との混合物を加熱してもよい。 In order to dissolve the block copolymer in the first organic solvent, a known method can be used without particular limitation. Examples of such a method include a method in which a block copolymer is added to a first organic solvent and then stirred or ultrasonic vibration is applied. The mixture of the first organic solvent and the block copolymer may be heated.

次いで、得られた混合液を第2の有機溶媒に加えて、複合体を沈殿させる(析出させる)ことによって複合体を得ることができる。ここで、第2の有機溶媒は、第1の有機溶媒と混合性を示し、ブロック共重合体内のいずれのブロック構造とも溶解性を示さない溶媒である。得られた混合液を第2の有機溶媒に加えると、ブロック共重合体の溶解度が急激に低下し、ブロック共重合体が析出する。このときに、ブロック共重合体は、塩基性窒素原子を有する化合物を中心として、ブロック共重合体の第1のブロック構造を内側に、ブロック共重合体の第2ブロック構造を外側に向けて自己組織化し、塩基性の窒素原子を有する化合物及び第1のブロック構造でコア構造が形成され、第2のブロック構造同士で水素結合による会合体を形成して、シェル構造が形成されることが推測される。最後に、複合体を混合溶媒から分離し、乾燥させることによって、コアシェル型の複合体を得ることができる。 Then, the obtained mixed solution is added to a second organic solvent to precipitate (precipitate) the complex, whereby the complex can be obtained. Here, the second organic solvent is a solvent that is miscible with the first organic solvent and is not soluble in any of the block structures in the block copolymer. When the obtained mixed solution is added to the second organic solvent, the solubility of the block copolymer rapidly decreases, and the block copolymer precipitates. At this time, the block copolymer self-centers on the compound having a basic nitrogen atom, with the first block structure of the block copolymer facing inward and the second block structure of the block copolymer facing outward. It is speculated that the core structure is formed by the compound having a basic nitrogen atom and the first block structure, and the second block structures form an aggregate by hydrogen bonds to form a shell structure. Will be done. Finally, by separating the complex from the mixed solvent and drying it, a core-shell type complex can be obtained.

第2の有機溶媒は、第1の有機溶媒と混合性を示し、ブロック共重合体内のいずれのブロック構造とも溶解性を示さない溶媒であれば特に制限されずに用いることができる。なお、第2の有機溶媒は、第1の有機溶媒とは異なるものである。第2の有機溶媒としては、例えば、アセトニトリル、ジエチルエーテル、エチルアセテート、アセトン等が挙げられる。これらの第2の有機溶媒は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。第2の有機溶媒は、アセトニトリル、ジエチルエーテル、エチルアセテート、及びアセトンからなる群より選ばれる少なくとも1種であってよく、アセトニトリルであってもよい。 The second organic solvent can be used without particular limitation as long as it is a solvent that is miscible with the first organic solvent and does not show solubility in any block structure in the block copolymer. The second organic solvent is different from the first organic solvent. Examples of the second organic solvent include acetonitrile, diethyl ether, ethyl acetate, acetone and the like. These second organic solvents may be used alone or in combination of two or more. The second organic solvent may be at least one selected from the group consisting of acetonitrile, diethyl ether, ethyl acetate, and acetone, and may be acetonitrile.

次いで、図1(b)で示される2段階自己組織化法による複合体の製造方法について説明する。図1(a)で示される複合体の製造方法は、塩基性窒素原子を有する化合物、ブロック共重合体、及び第1の有機溶媒を含む第1の混合液を準備し、第1の混合液に対して、親水性溶媒を加えて、第2の混合液を得る工程と、第2の混合液に対して、第2の有機溶媒を加えて、複合体を得る工程とを備えている。ブロック共重合体は、酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第1のブロック構造と、親水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第2のブロック構造とを有する。複合体は、塩基性窒素原子を有する化合物が、ブロック共重合体に内包されている。 Next, a method for producing the complex by the two-step self-organization method shown in FIG. 1 (b) will be described. In the method for producing the complex shown in FIG. 1A, a first mixed solution containing a compound having a basic nitrogen atom, a block copolymer, and a first organic solvent is prepared, and the first mixed solution is prepared. On the other hand, a step of adding a hydrophilic solvent to obtain a second mixed solution and a step of adding a second organic solvent to the second mixed solution to obtain a complex are provided. The block copolymer contains a first block structure containing a structural unit derived from a compound having an acidic group and a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group, and a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group. It has a second block structure. In the complex, a compound having a basic nitrogen atom is encapsulated in a block copolymer.

このような複合体の製造方法では、まず、塩基性窒素原子を有する化合物、ブロック共重合体、及び第1の有機溶媒を含む混合液、第2の有機溶媒、及び親水性溶媒を準備する。次いで、塩基性窒素原子を有する化合物及びブロック共重合体を含む第1の混合液に対して、親水性溶媒を加える。これによって、ブロック共重合体の複数の分子が自己組織化し、ブロック共重合体の第1のブロック構造を内側に、ブロック共重合体の第2ブロック構造を外側に向けて自己組織化して粒子(ミセル)が形成される。このとき、塩基性窒素原子を有する化合物は、ブロック共重合体の第1のブロック構造との相互作用によって第1のブロック構造の内部に内包されてコア構造を形成する。ブロック共重合体の第2ブロック構造が外側に向かうのは、親水性溶媒の割合が大きくなるためである。このようにして、ミセルを含む第2の混合液を得ることができる。 In the method for producing such a complex, first, a compound having a basic nitrogen atom, a block copolymer, and a mixed solution containing a first organic solvent, a second organic solvent, and a hydrophilic solvent are prepared. Then, a hydrophilic solvent is added to the first mixed solution containing the compound having a basic nitrogen atom and the block copolymer. As a result, a plurality of molecules of the block copolymer are self-assembled, and the first block structure of the block copolymer is self-assembled inward and the second block structure of the block copolymer is self-assembled outward. Micelle) is formed. At this time, the compound having a basic nitrogen atom is encapsulated inside the first block structure by interaction with the first block structure of the block copolymer to form a core structure. The reason why the second block structure of the block copolymer is directed outward is that the proportion of the hydrophilic solvent increases. In this way, a second mixed solution containing micelles can be obtained.

ここで、ブロック共重合体が上記のようにミセルが形成される理由としては、3つの要素の存在が考えられる。第1には、上述のように、ブロック共重合体が親水性環境に置かれたことが考えられる。そして、第2には、第2のブロック構造に含まれるアミド基の存在が考えられる。上述の通り、アミド基は、水素結合により、複数のアミド基同士で会合することができる。このため、ミセルの形成を開始した複数のブロック共重合体は、第2のブロック構造同士で水素結合による会合体を形成して、シェル構造が形成されると考えられる。そして、第3には、第1のブロック構造同士の疎水性相互作用の存在が考えられる。第1のブロックは、疎水性であるので、親水性環境に置かれると第1のブロック同士で凝集してコア構造を形成すると考えられる。 Here, the existence of three elements can be considered as the reason why micelles are formed in the block copolymer as described above. First, as described above, it is conceivable that the block copolymer was placed in a hydrophilic environment. Secondly, the presence of an amide group contained in the second block structure is considered. As described above, the amide group can be associated with a plurality of amide groups by hydrogen bonding. Therefore, it is considered that the plurality of block copolymers that have started forming micelles form an aggregate by hydrogen bonds between the second block structures to form a shell structure. And thirdly, the existence of hydrophobic interaction between the first block structures is considered. Since the first block is hydrophobic, it is considered that the first blocks aggregate to form a core structure when placed in a hydrophilic environment.

第1の有機溶媒及び第2の有機溶媒は、上述で例示したものと同じものを使用することができる。 As the first organic solvent and the second organic solvent, the same ones as exemplified above can be used.

親水性溶媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;アセトンなどが挙げられる。これらの親水性溶媒は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、親水性溶媒は、水又はアルコールであってよく、水又はメタノールであってもよい。 Examples of the hydrophilic solvent include water; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; and acetone. These hydrophilic solvents may be used alone or in combination of two or more. Among these, the hydrophilic solvent may be water or alcohol, and may be water or methanol.

次いで、ミセルを含む第2の混合液に対して、第2の有機溶媒を加える。これによって、ブロック共重合体の溶解度が下がり、ブロック共重合体が徐々に析出する。このときに、第2のブロック構造同士で水素結合による会合体を形成して、シェル構造が形成され、複合体が生成すると推測される。最後に、複合体を混合溶媒から分離し、乾燥させることによって、コアシェル型の複合体を得ることができる。 Then, the second organic solvent is added to the second mixed solution containing micelles. As a result, the solubility of the block copolymer is lowered, and the block copolymer is gradually precipitated. At this time, it is presumed that the second block structures form an aggregate by hydrogen bonds to form a shell structure and form a complex. Finally, by separating the complex from the mixed solvent and drying it, a core-shell type complex can be obtained.

本実施形態の複合体は、塩基性窒素原子を有する化合物が、ブロック共重合体に内包されている。塩基性窒素原子を有する化合物は、例えば、エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤として作用するが、常温(例えば、25℃)では塩基性窒素原子を有する化合物は外部に露出しないため、エポキシ樹脂の硬化剤として作用しない。一方、複合体を加熱すると、シェル構造が崩壊して、塩基性の窒素原子を有する化合物が外部に露出し、エポキシ樹脂の硬化剤として作用する。このような作用により、本実施形態の複合体は、エポキシ樹脂の硬化剤として、温度変化を引き金とした潜在性を有する。なお、シェル構造(第2のブロック構造)に含まれるアクリルアミド基は窒素原子を含むが、当該窒素原子は、電子吸引性基であるカルボニル基が隣接しており、塩基性を示さないため、エポキシ樹脂の硬化剤として作用し得ない。本実施形態の複合体は、エポキシ樹脂の潜在性硬化剤であってよい。 In the complex of the present embodiment, a compound having a basic nitrogen atom is encapsulated in a block copolymer. A compound having a basic nitrogen atom acts as a curing agent for curing an epoxy resin, for example, but a compound having a basic nitrogen atom is not exposed to the outside at room temperature (for example, 25 ° C.), so that the epoxy resin has a compound. Does not act as a hardener. On the other hand, when the composite is heated, the shell structure collapses and the compound having a basic nitrogen atom is exposed to the outside and acts as a curing agent for the epoxy resin. Due to such an action, the composite of the present embodiment has a potential as a curing agent for an epoxy resin, triggered by a temperature change. The acrylamide group contained in the shell structure (second block structure) contains a nitrogen atom, but the nitrogen atom is adjacent to a carbonyl group, which is an electron-withdrawing group, and does not show basicity. It cannot act as a resin curing agent. The composite of this embodiment may be a latent curing agent for epoxy resin.

ブロック共重合体における第1のブロック構造と第2のブロック構造との割合は、上述のk、l、m、及びnを用いて、(k+l):(m+n)と表すことができ、それぞれコアの厚み及びシェルの厚みに対応する。(k+l)に対して(m+n)が小さいのであれば、シェルが崩壊し易くなり、より低温でエポキシ樹脂の硬化剤として作用する。一方で、(k+l)に対して(m+n)が大きいのであれば、シェルが崩壊し難くなり、より高温でエポキシ樹脂の硬化剤として作用する。なお、(k+l)と(m+n)の比は、重合反応を行う際に、第1のブロック構造を構成する第1のモノマーと第2のブロック構造を構成する第2のモノマーのモル比を調節することによって、調整することができる。 The ratio of the first block structure to the second block structure in the block copolymer can be expressed as (k + l) :( m + n) using the above-mentioned k, l, m, and n, and each core. Corresponds to the thickness of the shell and the thickness of the shell. If (m + n) is smaller than (k + l), the shell is likely to collapse and acts as a curing agent for the epoxy resin at a lower temperature. On the other hand, if (m + n) is larger than (k + l), the shell is less likely to collapse and acts as a curing agent for the epoxy resin at a higher temperature. The ratio of (k + l) to (m + n) adjusts the molar ratio of the first monomer constituting the first block structure and the second monomer constituting the second block structure when the polymerization reaction is carried out. It can be adjusted by doing so.

(k+l)と(m+n)との関係は、(k+l)/(m+n)が0.5〜3.3又は0.8〜2.2であってよい。(k+l)/(m+n)が3.3以下であると、硬化剤としての潜在性を良好に獲得できる傾向にある。 The relationship between (k + l) and (m + n) may be 0.5 to 3.3 or 0.8 to 2.2 for (k + l) / (m + n). When (k + l) / (m + n) is 3.3 or less, the potential as a curing agent tends to be satisfactorily obtained.

本実施形態の複合体は、異方導電性接着剤の潜在性硬化剤として、特に有用である。 The composite of the present embodiment is particularly useful as a latent curing agent for anisotropic conductive adhesives.

[硬化性樹脂組成物]
一実施形態の硬化性樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、上述の複合体とを含有する。通常、エポキシ樹脂と一般の硬化剤とを含有する硬化性樹脂組成物は、混合した直後から硬化反応が進行する。しかし、本実施形態の複合体は、硬化剤として作用する塩基性窒素原子を有する化合物が、ブロック共重合体に内包されていることから、常温(例えば、25℃)ではエポキシ樹脂の硬化反応が進行しない。
[Curable resin composition]
The curable resin composition of one embodiment contains an epoxy resin and the above-mentioned composite. Usually, a curable resin composition containing an epoxy resin and a general curing agent proceeds with a curing reaction immediately after being mixed. However, in the composite of the present embodiment, since the compound having a basic nitrogen atom acting as a curing agent is contained in the block copolymer, the curing reaction of the epoxy resin occurs at room temperature (for example, 25 ° C.). Does not progress.

エポキシ樹脂は、エポキシ基を有するものであれば特に制限されず、接着剤用途の分野で使用される、エポキシ基を有するポリマー、オリゴマー、又はモノマーを用いることができる。 The epoxy resin is not particularly limited as long as it has an epoxy group, and a polymer, oligomer, or monomer having an epoxy group used in the field of adhesive applications can be used.

エポキシ樹脂と複合体との含有割合は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して、潜在性硬化剤が0.001〜0.1当量又は0.002〜0.05当量であってよい。なお、ここでいう「当量」とは、モル当量を意味する。 The content ratio of the epoxy resin and the composite may be 0.001 to 0.1 equivalent or 0.002 to 0.05 equivalent of the latent curing agent with respect to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. The "equivalent" here means a molar equivalent.

硬化性樹脂組成物は、上述の複合体以外のその他の硬化剤を含有していてもよい。その他の硬化剤としては、例えば、フェノール類のレゾール若しくはノボラック、3級アミン化合物、酸無水物等が挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。フェノール類のノボラックとしては、例えば、フェノールノボラック、キシリレンノボラック、ビスフェノールAノボラック、トリフェニルメタンノボラック、ビフェニルノボラック、ジシクロペンタジエンフェノールノボラック、テルペンフェノールノボラック等が挙げられる。 The curable resin composition may contain a curing agent other than the above-mentioned composite. Examples of other curing agents include phenolic resole or novolak, tertiary amine compound, acid anhydride and the like. These may be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. Examples of the phenolic novolak include phenol novolak, xylylene novolak, bisphenol A novolak, triphenylmethane novolak, biphenyl novolak, dicyclopentadienephenol novolak, terpenphenol novolak and the like.

エポキシ樹脂とその他の硬化剤との含有割合は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して、潜在性硬化剤が0.5〜1.5当量であってよい。なお、ここでいう「当量」とは、モル当量を意味する。 The content ratio of the epoxy resin to the other curing agent may be 0.5 to 1.5 equivalents of the latent curing agent with respect to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. The "equivalent" here means a molar equivalent.

以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited thereto.

(製造例1−1:第1のブロック構造(P−1)の合成)
疎水性基を有する化合物としてスチレン(St)、酸性基を有する化合物として4−ビニル安息香酸(VBA)、反応開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、連鎖移動剤(CTA)として4−トリメチルシリルベンジルジチオプロピネートを用いて、RAFT重合を行った。50mLのシュレンク管に、4−トリメチルシリルベンジルジチオプロピネート0.048g(0.16mmol)、St1.67g(16mmol)、VBA4.74g(32mmol)及び重合溶媒として1,4−ジオキサン7mLを加え、撹拌して均一溶液を得た。当該溶液に、AIBN6.6mgを加えて溶解させ、凍結脱気を行うことによって、溶液中に存在する酸素及び反応系内の酸素を除去した。凍結脱気後、70℃で24時間撹拌することによって、重合反応を行った。得られた反応溶液を、冷メタノールを用いて急冷することによって、重合反応を停止させた。反応溶液を1,4−ジオキサンを用いて希釈し、クロロホルムを用いて再沈殿精製を行い、その後、吸引ろ過によって回収した固体を8時間減圧乾燥し、さらに再沈殿精製を複数回行った。第1のブロック構造PSt−r−PVBA(P−1)を黄色の固体として収量5.80g、収率89.9%で得た。第1のブロック構造(P−1)におけるkは153であり、lは383であり、数平均分子量(Mn)は73100であった。なお、下記式において、第1のブロック構造(P−1)に記載されている「−r−」は、ランダム共重合体であることを示す符号である。
(Production Example 1-1: Synthesis of the first block structure (P-1))
Styrene (St) as a compound having a hydrophobic group, 4-vinylbenzoic acid (VBA) as a compound having an acidic group, azobisisobutyronitrile (AIBN) as a reaction initiator, 4-as a chain transfer agent (CTA). RAFT polymerization was performed using trimethylsilylbenzyl dithiopropinate. To a 50 mL Schlenk tube, 0.048 g (0.16 mmol) of 4-trimethylsilylbenzyl dithiopropineto, 1.67 g (16 mmol) of St, 4.74 g (32 mmol) of VBA and 7 mL of 1,4-dioxane as a polymerization solvent are added and stirred. To obtain a uniform solution. 6.6 mg of AIBN was added to the solution to dissolve it, and freeze degassing was performed to remove oxygen present in the solution and oxygen in the reaction system. After freezing and degassing, the polymerization reaction was carried out by stirring at 70 ° C. for 24 hours. The polymerization reaction was stopped by quenching the obtained reaction solution with cold methanol. The reaction solution was diluted with 1,4-dioxane, reprecipitated and purified with chloroform, and then the solid recovered by suction filtration was dried under reduced pressure for 8 hours, and reprecipitation and purification were performed a plurality of times. The first block structure PSt-r-PVBA (P-1) was obtained as a yellow solid in a yield of 5.80 g and a yield of 89.9%. In the first block structure (P-1), k was 153, l was 383, and the number average molecular weight (Mn) was 73100. In the following formula, "-r-" described in the first block structure (P-1) is a symbol indicating that it is a random copolymer.

(製造例1−2:第2のブロック構造の合成によるブロック共重合体(B−1)の合成)
親水性基を有する化合物としてアクリルアミド(AAm)、その他の化合物としてメタクリル酸メチル(MA)、反応開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、連鎖移動剤(CTA)として第1のブロック構造(P−1)(数平均分子量(Mn):73100)を用いて、RAFT重合を行った。50mLシュレンク管に、第1のブロック構造(P−1)2.1g(0.029mmol)、AAm0.28g(3.90mmol)、MA0.034g(0.39mmol)及び重合溶媒としてDMSO(ジメチルスルホキシド)4.5mLを加え、撹拌して均一溶液を得た。当該溶液に、AIBNを1.2mg加えて溶解させ、凍結脱気を行うことによって、溶液中に存在する酸素及び反応系内の酸素を除去した。凍結脱気後、70℃で24時間撹拌することによって、重合反応を行った。得られた反応溶液を、冷メタノールを用いて急冷することによって、重合反応を停止させた。反応溶液を、DMSOを用いて希釈し、クロロホルムを用いて再沈殿精製を行い、その後、吸引ろ過によって回収した固体を8時間減圧乾燥し、ブロック共重合体(B−1)を収量2.34g、収率97%で得た。ブロック共重合体(B−1)におけるkは153であり、lは383であり、mは88であり、nは13であった。なお、下記式において、ブロック共重合体(B−1)に記載されている「−r−」は、ランダム共重合体であることを示す符号であり、「−b−」は、ブロック共重合体であることを示す符号である。
(Production Example 1-2: Synthesis of block copolymer (B-1) by synthesis of second block structure)
The first block structure (AAm) as a compound having a hydrophilic group, methyl methacrylate (MA) as another compound, azobisisobutyronitrile (AIBN) as a reaction initiator, and a chain transfer agent (CTA). RAFT polymerization was carried out using P-1) (number average molecular weight (Mn): 73100). In a 50 mL Schlenk tube, 2.1 g (0.029 mmol) of the first block structure (P-1), 0.28 g (3.90 mmol) of AAm, 0.034 g (0.39 mmol) of MA, and DMSO (dimethyl sulfoxide) as a polymerization solvent. 4.5 mL was added and stirred to obtain a uniform solution. 1.2 mg of AIBN was added to the solution to dissolve it, and freeze degassing was performed to remove oxygen present in the solution and oxygen in the reaction system. After freezing and degassing, the polymerization reaction was carried out by stirring at 70 ° C. for 24 hours. The polymerization reaction was stopped by quenching the obtained reaction solution with cold methanol. The reaction solution is diluted with DMSO, reprecipitated and purified with chloroform, and then the solid recovered by suction filtration is dried under reduced pressure for 8 hours to yield 2.34 g of the block copolymer (B-1). , Yield 97%. In the block copolymer (B-1), k was 153, l was 383, m was 88, and n was 13. In the following formula, "-r-" described in the block copolymer (B-1) is a code indicating that it is a random copolymer, and "-b-" is a block copolymer weight. It is a code indicating that it is a coalescence.

(実施例1:2段階自己組織化法による2−フェニルイミダゾールとブロック共重合体(B−1)との複合体(C−1)の作製)
100mLナスフラスコに、ブロック共重合体(B−1)200mg及び第1の有機溶媒としてDMSO1mLを加え、撹拌して均一溶液を得た。得られた均一溶液に、塩基性窒素原子を有する化合物として2−フェニルイミダゾール(2−PhIm)200mgを加え、1時間撹拌した。撹拌後均一になった溶液に、シリンジポンプを用いて親水性溶媒として純水10mLを滴下し、室温で24時間撹拌し、第2の有機溶媒としてアセトニトリルを20mL加え、さらに24時間撹拌を行った。撹拌後、ガラスフィルターを用いてろ過し、減圧乾燥を行い、白色の固体を得た。得られた固体をアセトニトリルで洗浄し、減圧乾燥を行い、2−フェニルイミダゾールとブロック共重合体との複合体(C−1)を収率24%で得た。
(Example 1: Preparation of a complex (C-1) of 2-phenylimidazole and a block copolymer (B-1) by a two-step self-assembling method)
To a 100 mL eggplant flask, 200 mg of block copolymer (B-1) and 1 mL of DMSO as the first organic solvent were added and stirred to obtain a uniform solution. To the obtained uniform solution, 200 mg of 2-phenylimidazole (2-PhIm) as a compound having a basic nitrogen atom was added, and the mixture was stirred for 1 hour. To the solution that became uniform after stirring, 10 mL of pure water was added dropwise as a hydrophilic solvent using a syringe pump, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours, 20 mL of acetonitrile was added as a second organic solvent, and further stirring was performed for 24 hours. .. After stirring, the mixture was filtered using a glass filter and dried under reduced pressure to obtain a white solid. The obtained solid was washed with acetonitrile and dried under reduced pressure to obtain a complex (C-1) of 2-phenylimidazole and a block copolymer in a yield of 24%.

(製造例2−2:第2のブロック構造の合成によるブロック共重合体(B−2)の合成)
第1のブロック構造(P−1)の使用量を2.1gから1.5gに変更し、AAmの使用量を0.28gから0.218gに変更し、MAの使用量を0.034gから0gに変更した以外は、製造例1−2と同様にして、ブロック共重合体(B−2)を収量1.53g、収率89%で得た。ブロック共重合体(B−2)におけるkは153であり、lは383であり、mは114であり、nは0であった。
(Production Example 2-2: Synthesis of block copolymer (B-2) by synthesis of second block structure)
The amount of the first block structure (P-1) used was changed from 2.1 g to 1.5 g, the amount of AAm used was changed from 0.28 g to 0.218 g, and the amount of MA used was changed from 0.034 g. A block copolymer (B-2) was obtained in a yield of 1.53 g and a yield of 89% in the same manner as in Production Example 1-2 except that the weight was changed to 0 g. In the block copolymer (B-2), k was 153, l was 383, m was 114, and n was 0.

(実施例2:2段階自己組織化法による2−フェニルイミダゾールとブロック共重合体(B−2)との複合体(C−2)の作製)
ブロック共重合体(B−1)に代えてブロック共重合体(B−2)を用いた以外は、実施例1と同様にして、2−フェニルイミダゾールとブロック共重合体との複合体(C−2)を収率30%で得た。
(Example 2: Preparation of a complex (C-2) of 2-phenylimidazole and block copolymer (B-2) by a two-step self-assembling method)
A complex (C) of 2-phenylimidazole and a block copolymer (C) in the same manner as in Example 1 except that the block copolymer (B-2) was used instead of the block copolymer (B-1). -2) was obtained in a yield of 30%.

(製造例3−1:第1のブロック構造(P−3)の合成)
4−トリメチルシリルベンジルジチオプロピネートの使用量を0.048gから0.0902gに変更し、Stの使用量を1.67gから3.13gに変更し、VBAの使用量を4.74gから8.89gに変更し、AIBNの使用量を6.6mgから12.3mgに変更し、1,4−ジオキサンの使用量を7mLから13.2mLに変更した以外は、製造例1−1と同様にして、第1のブロック構造PSt−r−PVBA(P−3)を黄色の固体として収量10.9g、収率90%で得た。第1のブロック構造(P−3)におけるkは106であり、lは214であり、数平均分子量(Mn)は42900であった。
(Production Example 3-1: Synthesis of the first block structure (P-3))
The amount of 4-trimethylsilylbenzyldithiopropinate used was changed from 0.048 g to 0.0902 g, the amount of St used was changed from 1.67 g to 3.13 g, and the amount of VBA used was changed from 4.74 g to 8.89 g. In the same manner as in Production Example 1-1, except that the amount of AIBN used was changed from 6.6 mg to 12.3 mg and the amount of 1,4-dioxane used was changed from 7 mL to 13.2 mL. The first block structure PSt-r-PVBA (P-3) was obtained as a yellow solid in a yield of 10.9 g and a yield of 90%. In the first block structure (P-3), k was 106, l was 214, and the number average molecular weight (Mn) was 42900.

(製造例3−2:第2のブロック構造の合成によるブロック共重合体(B−3)の合成)
第1のブロック構造(P−1)2.1gを第1のブロック構造(P−3)1.70gに変更し、AAmの使用量を0.28gから0.403gに変更し、MAの使用量を0.034gから0.0244gに変更し、AIBNの使用量を1.2mgから1.64mgに変更し、DMSOの使用量を4.5mLから5.96mLに変更した以外は、製造例1−2と同様にして、ブロック共重合体(B−3)を収量1.48g、収率70%で得た。ブロック共重合体(B−3)におけるkは83であり、lは228であり、mは176であり、nは9であった。
(Production Example 3-2: Synthesis of block copolymer (B-3) by synthesis of second block structure)
2.1 g of the first block structure (P-1) was changed to 1.70 g of the first block structure (P-3), the amount of AAm used was changed from 0.28 g to 0.403 g, and MA was used. Production Example 1 except that the amount was changed from 0.034 g to 0.0244 g, the amount of AIBN used was changed from 1.2 mg to 1.64 mg, and the amount of DMSO used was changed from 4.5 mL to 5.96 mL. In the same manner as in -2, the block copolymer (B-3) was obtained in a yield of 1.48 g and a yield of 70%. In the block copolymer (B-3), k was 83, l was 228, m was 176, and n was 9.

(実施例3:2段階自己組織化法による2−フェニルイミダゾールとブロック共重合体(B−3)との複合体(C−3)の作製)
50mLナスフラスコに、ブロック共重合体(B−3)101mg及び第1の有機溶媒としてDMSO0.5mLを加え、撹拌して均一溶液を得た。得られた均一溶液に、塩基性窒素原子を有する化合物として2−フェニルイミダゾール(2−PhIm)100mgを加えて撹拌した。撹拌後均一になった溶液に、シリンジポンプを用いて純水10mLを滴下し、室温で24時間撹拌し、アセトニトリルを15mL加え、さらに24時間撹拌を行った。撹拌後、メンブレンフィルター(0.2μm)を用いてろ過した。アセトニトリルで洗浄を複数回行い、ろ過後、減圧乾燥を行い、2−フェニルイミダゾールとブロック共重合体との複合体(C−3)を収率21%で得た。
(Example 3: Preparation of a complex (C-3) of 2-phenylimidazole and block copolymer (B-3) by a two-step self-assembling method)
To a 50 mL eggplant flask, 101 mg of block copolymer (B-3) and 0.5 mL of DMSO as the first organic solvent were added, and the mixture was stirred to obtain a uniform solution. To the obtained uniform solution, 100 mg of 2-phenylimidazole (2-PhIm) as a compound having a basic nitrogen atom was added and stirred. To the solution that became uniform after stirring, 10 mL of pure water was added dropwise using a syringe pump, the mixture was stirred at room temperature for 24 hours, 15 mL of acetonitrile was added, and the mixture was further stirred for 24 hours. After stirring, the mixture was filtered using a membrane filter (0.2 μm). Washing with acetonitrile was performed a plurality of times, and after filtration, drying under reduced pressure was carried out to obtain a complex (C-3) of 2-phenylimidazole and a block copolymer in a yield of 21%.

(実施例4:沈殿法による2−メチルイミダゾールとブロック共重合体(B−3)との複合体(C−4)の作製)
10mLナスフラスコに、ブロック共重合体(B−3)84.6mg及び第1の有機溶媒としてDMSO0.5mLを加え、撹拌して均一溶液を得た。得られた均一溶液に、塩基性窒素原子を有する化合物として2−メチルイミダゾール(2−MIm)85.6mgを加えて撹拌した。撹拌後均一になった溶液をアセトニトリル25mLに滴下し、17時間撹拌させた。撹拌後、メンブレンフィルター(0.2μm)を用いてろ過した。アセトニトリルで洗浄を複数回行い、ろ過後、予備乾燥し、加熱減圧乾燥(75℃)を行い、2−メチルイミダゾールとブロック共重合体(B−3)との複合体(C−4)を収量25.1mg、収率15%で得た。
(Example 4: Preparation of complex (C-4) of 2-methylimidazole and block copolymer (B-3) by precipitation method)
84.6 mg of the block copolymer (B-3) and 0.5 mL of DMSO as the first organic solvent were added to a 10 mL eggplant flask, and the mixture was stirred to obtain a uniform solution. To the obtained uniform solution, 85.6 mg of 2-methylimidazole (2-MIm) as a compound having a basic nitrogen atom was added and stirred. The solution that became uniform after stirring was added dropwise to 25 mL of acetonitrile, and the mixture was stirred for 17 hours. After stirring, the mixture was filtered using a membrane filter (0.2 μm). Washing with acetonitrile multiple times, filtering, pre-drying, heating under reduced pressure drying (75 ° C.), yielding a complex (C-4) of 2-methylimidazole and block copolymer (B-3). It was obtained at 25.1 mg and a yield of 15%.

(実施例5:沈殿法による1,2−ジメチルイミダゾールとブロック共重合体(B−3)との複合体(C−5)の作製)
ブロック共重合体(B−3)の使用量を84.6mgから85.7mgに変更し、2−メチルイミダゾール(2−MIm)85.6mgを1,2−ジメチルイミダゾール(1,2−DIm)85.9mgに変更した以外は、実施例4と同様にして、1,2−ジメチルイミダゾールとブロック共重合体(B−3)との複合体(C−5)を収量36.0mg、収率21%で得た。
(Example 5: Preparation of complex (C-5) of 1,2-dimethylimidazole and block copolymer (B-3) by precipitation method)
The amount of block copolymer (B-3) used was changed from 84.6 mg to 85.7 mg, and 85.6 mg of 2-methylimidazole (2-MIm) was changed to 1,2-dimethylimidazole (1,2-DIm). The yield of the complex (C-5) of 1,2-dimethylimidazole and the block copolymer (B-3) was 36.0 mg and the yield was the same as in Example 4 except that the amount was changed to 85.9 mg. Obtained at 21%.

(実施例6:沈殿法による1−ベンジル−2−メチルイミダゾールとブロック共重合体(B−3)との複合体(C−6)の作製)
2−メチルイミダゾール(2−MIm)85.6mgを1−ベンジル−2−メチルイミダゾール(1−B−2MIm)85mgに変更した以外は、実施例4と同様にして、1,2−ジメチルイミダゾールとブロック共重合体(B−3)との複合体(C−6)を収量33.8mg、収率20%で得た。
(Example 6: Preparation of a complex (C-6) of 1-benzyl-2-methylimidazole and a block copolymer (B-3) by a precipitation method)
With 1,2-dimethylimidazole in the same manner as in Example 4, except that 85.6 mg of 2-methylimidazole (2-MIm) was changed to 85 mg of 1-benzyl-2-methylimidazole (1-B-2MIm). A complex (C-6) with the block copolymer (B-3) was obtained in a yield of 33.8 mg and a yield of 20%.

[評価]
1.内包率の算出
得られた実施例1〜6の複合体について、H−NMRを用いて、各複合体における塩基性窒素原子を有する化合物の割合(複合体に含まれる塩基性窒素原子を有する化合物/複合体)を百分率で求め、これを内包率とした。結果を表1に示す。
2.平均粒径の測定
得られた実施例1〜6の複合体について、動的光散乱法(DLS)によって、複合体の平均粒径を求めた。結果を表1に示す。
3.ガラス転移点の測定
得られた実施例1〜6の複合体5mgを用いて、窒素雰囲気下で−20℃から250℃の温度範囲で示差走査熱量測定(DSC測定)を行い、ガラス転移点Tgを測定した。結果を表1に示す。
4.潜在性硬化剤としての評価
得られた実施例1〜6の複合体を用いてエポキシ樹脂との硬化反応を検討した。ビスフェノールF型エポキシ樹脂50mg及び各実施例1〜6の複合体5mg(エポキシ樹脂に対して、10質量%)を混合し、窒素雰囲気下で、0℃から300℃の温度範囲でDSC測定を行い、硬化開始温度(Tci)、発熱ピークトップ温度(Ttop)、及び発熱エンタルピー(ΔH)を求めた。結果を表2に示す。
[Evaluation]
1. 1. Calculation of Encapsulation Ratio For the obtained complexes of Examples 1 to 6, the ratio of compounds having basic nitrogen atoms in each complex (having basic nitrogen atoms contained in the complex) using 1 H-NMR. Compound / complex) was determined as a percentage, and this was taken as the inclusion ratio. The results are shown in Table 1.
2. 2. Measurement of Average Particle Size The average particle size of the obtained composites of Examples 1 to 6 was determined by dynamic light scattering (DLS). The results are shown in Table 1.
3. 3. Measurement of glass transition point Using 5 mg of the obtained composite of Examples 1 to 6, differential scanning calorimetry (DSC measurement) was performed in a temperature range of -20 ° C to 250 ° C in a nitrogen atmosphere, and the glass transition point Tg. Was measured. The results are shown in Table 1.
4. Evaluation as a Latent Curing Agent The curing reaction with the epoxy resin was examined using the obtained composites of Examples 1 to 6. 50 mg of bisphenol F type epoxy resin and 5 mg of the composite of Examples 1 to 6 (10% by mass based on the epoxy resin) are mixed, and DSC measurement is performed in a temperature range of 0 ° C. to 300 ° C. under a nitrogen atmosphere. , Curing start temperature (Tci), exothermic peak top temperature (Ttop), and exothermic enthalpy (ΔH) were determined. The results are shown in Table 2.

以上のとおり、本発明の複合体は、潜在性硬化剤として有用であることが示された。また、第2のブロック構造において、親水性基を有する化合物に由来する構成単位及びアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を含む実施例1の複合体は、第2のブロック構造において、親水性基を有する化合物に由来する構成単位のみからなる実施例2の複合体に比べて、硬化開始温度(Tci)が10℃ほど低かった。これは、アルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を含むことによって、水素結合の密度が低くなり、凝集エンタルピーが小さくなったためであると考えられる。このことから、第2のブロック構造において、アルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を調整することによって、硬化開始温度(Tci)を調整することが可能となり得る。 As described above, the complex of the present invention has been shown to be useful as a latent curing agent. Further, in the second block structure, the composite of Example 1 containing a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group and a structural unit derived from an alkyl (meth) acrylate is hydrophilic in the second block structure. The curing start temperature (Tci) was about 10 ° C. lower than that of the complex of Example 2 consisting of only the structural units derived from the compound having a group. It is considered that this is because the density of hydrogen bonds is lowered and the aggregation enthalpy is reduced by containing the structural unit derived from the alkyl (meth) acrylate. From this, in the second block structure, it may be possible to adjust the curing start temperature (Tci) by adjusting the structural unit derived from the alkyl (meth) acrylate.

Claims (11)

塩基性窒素原子を有する化合物と、
ブロック共重合体と、
を含有し、
前記ブロック共重合体が、
酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第1のブロック構造と、
親水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第2のブロック構造と、
を有し、
前記塩基性窒素原子を有する化合物が、前記ブロック共重合体に内包されている、複合体。
Compounds with a basic nitrogen atom and
With block copolymers
Contains,
The block copolymer
A first block structure containing a structural unit derived from a compound having an acidic group and a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group, and
A second block structure containing a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group,
Have,
A complex in which the compound having a basic nitrogen atom is encapsulated in the block copolymer.
前記酸性基を有する化合物に由来する構成単位が、下記一般式(11)で表される構成単位である、請求項1に記載の複合体。

[一般式(11)中、R11は水素原子又はメチル基を示し、R12は酸性の有機基を示す。]
The complex according to claim 1, wherein the structural unit derived from the compound having an acidic group is a structural unit represented by the following general formula (11).

[In the general formula (11), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 12 represents an acidic organic group. ]
前記R12が、下記一般式(12)で表される基である、請求項2に記載の複合体。

[一般式(12)中、R13は炭素数1〜20のアルキル基を示し、aは0〜3の整数を示す。]
The complex according to claim 2, wherein R 12 is a group represented by the following general formula (12).

[In the general formula (12), R 13 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a represents an integer of 0 to 3. ]
前記疎水性基を有する化合物に由来する構成単位が、下記一般式(21)で表される構成単位である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の複合体。

[一般式(21)中、R21は水素原子又はメチル基を示し、R22は炭素数1〜20のアルキル基を示し、bは0〜3の整数を示す。]
The complex according to any one of claims 1 to 3, wherein the structural unit derived from the compound having a hydrophobic group is a structural unit represented by the following general formula (21).

[In the general formula (21), R 21 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 22 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and b represents an integer of 0 to 3. ]
前記親水性基を有する化合物に由来する構成単位が、下記一般式(31)で表される構成単位である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の複合体。

[一般式(31)中、R31は水素原子又はメチル基を示す。]
The complex according to any one of claims 1 to 4, wherein the structural unit derived from the compound having a hydrophilic group is the structural unit represented by the following general formula (31).

[In the general formula (31), R 31 represents a hydrogen atom or a methyl group. ]
前記第2のブロック構造が、下記一般式(41)で表される構成単位をさらに含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の複合体。

[一般式(41)中、R41は水素原子又はメチル基を示し、R42は炭素数1〜20のアルキル基を示す。]
The complex according to any one of claims 1 to 5, wherein the second block structure further includes a structural unit represented by the following general formula (41).

[In the general formula (41), R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 42 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. ]
前記塩基性窒素原子を有する化合物が、イミダゾール骨格、イミダゾリン骨格、トリアジン骨格、又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の複合体。 The complex according to any one of claims 1 to 6, wherein the compound having a basic nitrogen atom is a compound having an imidazole skeleton, an imidazoline skeleton, a triazine skeleton, or an isocyanuric acid skeleton. エポキシ樹脂の潜在性硬化剤である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の複合体。 The composite according to any one of claims 1 to 7, which is a latent curing agent for an epoxy resin. エポキシ樹脂と、請求項1〜8のいずれか一項に記載の複合体とを含有する、硬化性樹脂組成物。 A curable resin composition containing an epoxy resin and the composite according to any one of claims 1 to 8. 塩基性窒素原子を有する化合物、ブロック共重合体、及び第1の有機溶媒を含む混合液、並びに第2の有機溶媒を準備し、前記混合液を前記第2の有機溶媒に加えて、複合体を得る工程を備え、
前記ブロック共重合体が、
酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第1のブロック構造と、
親水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第2のブロック構造と、
を有し、
前記複合体は、前記塩基性窒素原子を有する化合物が、前記ブロック共重合体に内包されている、複合体の製造方法。
A compound having a basic nitrogen atom, a block copolymer, and a mixed solution containing a first organic solvent, and a second organic solvent are prepared, and the mixed solution is added to the second organic solvent to form a complex. With the process of obtaining
The block copolymer
A first block structure containing a structural unit derived from a compound having an acidic group and a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group, and
A second block structure containing a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group,
Have,
The complex is a method for producing a complex in which the compound having a basic nitrogen atom is contained in the block copolymer.
塩基性窒素原子を有する化合物、ブロック共重合体、及び第1の有機溶媒を含む第1の混合液を準備し、前記第1の混合液に対して、親水性溶媒を加えて、第2の混合液を得る工程と、
前記第2の混合液に対して、第2の有機溶媒を加えて、複合体を得る工程と、
を備え、
前記ブロック共重合体が、
酸性基を有する化合物に由来する構成単位及び疎水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第1のブロック構造と、
親水性基を有する化合物に由来する構成単位を含む第2のブロック構造と、
を有し、
前記複合体は、前記塩基性窒素原子を有する化合物が、前記ブロック共重合体に内包されている、複合体の製造方法。
A first mixed solution containing a compound having a basic nitrogen atom, a block copolymer, and a first organic solvent is prepared, and a hydrophilic solvent is added to the first mixed solution to add a second mixture. The process of obtaining a mixed solution and
A step of adding a second organic solvent to the second mixed solution to obtain a complex, and
With
The block copolymer
A first block structure containing a structural unit derived from a compound having an acidic group and a structural unit derived from a compound having a hydrophobic group, and
A second block structure containing a structural unit derived from a compound having a hydrophilic group,
Have,
The complex is a method for producing a complex in which the compound having a basic nitrogen atom is contained in the block copolymer.
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