JP2020197747A - Flexible substrate - Google Patents

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Abstract

To provide a flexible display device in which, when the display device is bent, disconnection of a wire in a bent region is suppressed.SOLUTION: In one embodiment, a display device includes a flexible substrate, a first insulating film disposed on the flexible substrate, a switching element disposed on the first insulating film, a signal wire electrically connected to the switching element, a first organic film disposed on the signal wire, a connection wire disposed on the first organic film, a second organic film disposed on the connection wire, and a pad electrode disposed on the second organic film. The connection wire is held between the first organic film and the second organic film, and is in contact with the first organic film and the second organic film.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明の実施形態は、フレキシブル基板に関する。 Embodiments of the present invention relate to flexible substrates.

液晶パネルや有機エレクトロルミネッセンス(EL)パネルなどの平面表示装置は、各種分野で利用されている。近年では、表示装置の基板として柔軟性材料で形成されたフレキシブル基板を用いることによって、折り曲げ可能なフレキシブル表示装置が開発されている。 Plane display devices such as liquid crystal panels and organic electroluminescence (EL) panels are used in various fields. In recent years, a flexible display device that can be bent has been developed by using a flexible substrate made of a flexible material as a substrate of the display device.

表示装置は、一般的に、画像を表示する表示領域と、表示領域の周辺に位置し、駆動回路や外部回路と接続する額縁領域とを備えている。 The display device generally includes a display area for displaying an image and a frame area located around the display area and connected to a drive circuit or an external circuit.

このような表示装置は、性能面やデザイン性等の観点から、表示領域の割合がより大きくなるように、額縁領域を狭くすること(狭額縁化)が強く求められている。フレキシブル表示装置の狭額縁化の手段には、フレキシブル表示装置の額縁領域を折り曲げ、折り曲げ領域より外側の額縁領域をフレキシブル表示装置の裏面側に配置し、表示領域の面積を実行的に拡げることが行われている。 From the viewpoint of performance, design, and the like, such a display device is strongly required to narrow the frame area (narrowing the frame) so that the ratio of the display area becomes larger. As a means for narrowing the frame of the flexible display device, the frame area of the flexible display device is bent, the frame area outside the bent area is arranged on the back surface side of the flexible display device, and the area of the display area is practically expanded. It is done.

特開2015−148728号公報JP-A-2015-148728 特許第5720222号公報Japanese Patent No. 5720222

しかしながら、上述した従来のフレキシブル表示装置では、フレキシブル基板の全面に水分の侵入防止のために無機絶縁膜が配置されている。無機絶縁膜は、一般的に、フレキシブル基板と比べて曲げ応力に対して高い耐性を有する。そのため、無機絶縁膜がフレキシブル表示装置を折り曲げる領域に配置すると、折り曲げ時に無機絶縁膜に曲げ応力が加えられ、無機絶縁膜にクラックが発生することがある。その結果、無機絶縁膜のクラック発生に伴って、無機絶縁膜上に配置された配線が断線するおそれがある。 However, in the conventional flexible display device described above, an inorganic insulating film is arranged on the entire surface of the flexible substrate in order to prevent the intrusion of moisture. Inorganic insulating films generally have higher resistance to bending stresses than flexible substrates. Therefore, when the inorganic insulating film is arranged in the bending region of the flexible display device, bending stress is applied to the inorganic insulating film at the time of bending, and cracks may occur in the inorganic insulating film. As a result, the wiring arranged on the inorganic insulating film may be broken due to the occurrence of cracks in the inorganic insulating film.

本実施形態によると、絶縁性の基板と、前記絶縁性の基板上に配置された第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜上に配置されたスイッチング素子と、前記スイッチング素子と電気的に接続された信号配線と、前記信号配線上に配置された第1有機膜と、前記信号配線と電気的に接続する接続配線と、前記接続配線上に配置された第2有機膜と、前記接続配線と電気的に接続するパッド電極と、を備え、前記スイッチング素子がマトリクス状に配置された領域を囲む額縁領域を有し、前記額縁領域は、前記スイッチング素子がマトリクス状に配置された領域と隣接する第1領域と、前記第1領域と隣接する第2領域と、前記第2領域と隣接する第3領域と、を有し、前記第1絶縁膜は、前記第1領域及び前記第3領域に設けられ、前記第1有機膜は、前記第2領域において、前記絶縁性の基板と接し、前記接続配線及び前記第2有機膜は、前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域に設けられ、前記接続配線は、前記第1有機膜及び前記第2有機膜との間に位置し、前記第1有機膜及び前記第2有機膜に接し、前記接続配線は、前記第1領域において前記信号配線と接続し、前記第3領域において前記パッド電極と接続し、前記絶縁性の基板は、前記第3領域の少なくとも一部が、前記スイッチング素子がマトリクス状に配置された領域の下方に位置するように、前記第2領域で折り曲げられている、フレキシブル基板が提供される。 According to the present embodiment, the insulating substrate, the first insulating film arranged on the insulating substrate, the switching element arranged on the first insulating film, and the switching element are electrically connected to each other. The signal wiring, the first organic film arranged on the signal wiring, the connection wiring electrically connected to the signal wiring, the second organic film arranged on the connection wiring, and the connection wiring. It comprises a pad electrode electrically connected to and has a frame region surrounding a region in which the switching elements are arranged in a matrix, and the frame region is adjacent to a region in which the switching elements are arranged in a matrix. The first insulating film has a first region, a second region adjacent to the first region, and a third region adjacent to the second region, and the first insulating film is the first region and the third region. The first organic film is in contact with the insulating substrate in the second region, and the connection wiring and the second organic film are formed in the first region, the second region, and the third region. Provided in the region, the connecting wiring is located between the first organic film and the second organic film, is in contact with the first organic film and the second organic film, and the connecting wiring is the first organic film. The insulating substrate is connected to the signal wiring in the region and connected to the pad electrode in the third region, and at least a part of the third region is a region in which the switching elements are arranged in a matrix. A flexible substrate that is bent in the second region so as to be located below is provided.

本発明の一実施形態に係る表示装置の概略平面図。The schematic plan view of the display device which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る、図1のII−II線に沿った概略断面図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1 according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態に係る、図1のIII−III線に沿った概略断面図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 1 according to the first embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る表示装置の端子領域の拡大平面図。The enlarged plan view of the terminal area of the display device which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る表示装置の折り曲げる前の状態を示す概略側面図(A)、及び表示装置の折り曲げた状態を示す概略側面図(B)。A schematic side view (A) showing a state before bending of the display device according to an embodiment of the present invention, and a schematic side view (B) showing a folded state of the display device. 本発明の第2実施形態に係る、図1のII−II線に沿った概略断面図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1 according to the second embodiment of the present invention. 本発明の第2実施形態に係る、図1のIII−III線に沿った概略断面図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 1 according to the second embodiment of the present invention.

以下に、図面を参照しながら、いくつかの実施形態について説明する。実施形態を通して同一又は類似の構成には同一の符号を付すものとし、重複する説明は省略する。また、各図は実施形態の理解を促すための模式図であり、その形状や寸法、比などは実際と異なる場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。 Hereinafter, some embodiments will be described with reference to the drawings. The same or similar configurations shall be designated by the same reference numerals throughout the embodiments, and duplicate description will be omitted. In addition, each figure is a schematic view for promoting understanding of the embodiment, and its shape, dimensions, ratio, etc. may differ from the actual one, but it is merely an example and does not limit the interpretation of the present invention. ..

以下の実施の形態では、表示装置の例として、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置の場合について説明するが、本発明は他の表示装置、例えば、液晶表示装置にも適用することができる。また、以下の実施の形態では、トップエミッション型の有機EL表示装置である場合について説明するが、ボトムエミッション型の有機EL表示装置にも適用することができる。 In the following embodiments, the case of an organic EL (electroluminescence) display device will be described as an example of the display device, but the present invention can be applied to other display devices, for example, a liquid crystal display device. Further, in the following embodiment, the case where the top emission type organic EL display device is used will be described, but it can also be applied to the bottom emission type organic EL display device.

(第1実施形態)
第1実施形態に係る表示装置DSP−1を図1〜図5を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る表示装置の概略平面図、図2は、本発明の第1実施形態に係る、図1のII−II線に沿った概略断面図、図3は、本発明の第1実施形態に係る、図1のIII−III線に沿った概略断面図、図4は本発明の一実施形態に係る表示装置の端子領域の拡大平面図、図5の(A)は本発明の一実施形態に係る表示装置の折り曲げる前の状態を示す概略側面図、図5の(B)は本発明の一実施形態に係る表示装置の折り曲げた状態を示す概略側面図である。
(First Embodiment)
The display device DSP-1 according to the first embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 5. FIG. 1 is a schematic plan view of a display device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along line II-II of FIG. 1 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. , A schematic cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 1 according to the first embodiment of the present invention, FIG. 4 is an enlarged plan view of a terminal region of the display device according to the first embodiment of the present invention, FIG. A) is a schematic side view showing a state before bending of the display device according to one embodiment of the present invention, and FIG. 5 (B) is a schematic side view showing a folded state of the display device according to one embodiment of the present invention. Is.

本実施形態においては、表示装置DSP−1の短辺に平行な方向を第1方向Xとし、表示装置DSP−1の長辺に平行な方向を第2方向Yとし、第1方向X及び第2方向Yに垂直な方向を第3方向Zとしている。なお、第1方向X及び第2方向Yは、互いに直交しているが、90°以外の角度で交差していても良い。 In the present embodiment, the direction parallel to the short side of the display device DSP-1 is the first direction X, the direction parallel to the long side of the display device DSP-1 is the second direction Y, and the first direction X and the first direction X. The direction perpendicular to the two directions Y is the third direction Z. Although the first direction X and the second direction Y are orthogonal to each other, they may intersect at an angle other than 90 °.

また、本実施形態においては、第3方向Zの正の向きを上又は上方と定義し、第3方向Zの負の向きを下又は下方と定義する。また、「第1部材の上方の第2部材」及び「第1部材の下方の第2部材」とした場合、第2部材は、第1部材に接していても良く、又は第1部材から離れて位置していても良い。後者の場合は、第1部材と第2部材との間に、第3の部材が介在していても良い。一方、「第1部材の上の第2部材」及び「第1部材の下の第2部材」とした場合、第2部材は第1部材に接している。 Further, in the present embodiment, the positive direction of the third direction Z is defined as up or up, and the negative direction of the third direction Z is defined as down or down. Further, in the case of "the second member above the first member" and "the second member below the first member", the second member may be in contact with the first member or may be separated from the first member. It may be located. In the latter case, a third member may be interposed between the first member and the second member. On the other hand, in the case of "the second member above the first member" and "the second member below the first member", the second member is in contact with the first member.

また、本実施形態において、第3方向Zの正の方向から、フレキシブル基板SUBを見ることを平面視と定義する。 Further, in the present embodiment, viewing the flexible substrate SUB from the positive direction of the third direction Z is defined as a plan view.

図1に示すように、表示装置DSP−1は、フレキシブル基板SUB上に配置された画像表示領域DAと、画像表示領域DAを囲む額縁状の非表示領域FAとを備えている。非表示領域FAは、画像表示領域DAの例えば右側に隣接して位置する端子領域TAを有している。この端子領域TAは、画像表示領域DAに隣接するコンタクト領域CAと、コンタクト領域CAに隣接する折り曲げ領域BAと、折り曲げ領域BAに隣接するパッド領域PAとを備えている。なお、本実施形態においては、コンタクト領域CAは第1領域に相当し、折り曲げ領域BAは第2領域に相当し、パッド領域PAは第3領域に相当する。 As shown in FIG. 1, the display device DSP-1 includes an image display area DA arranged on the flexible substrate SUB and a frame-shaped non-display area FA surrounding the image display area DA. The non-display area FA has a terminal area TA located adjacent to, for example, the right side of the image display area DA. The terminal area TA includes a contact area CA adjacent to the image display area DA, a bending area BA adjacent to the contact area CA, and a pad area PA adjacent to the bending area BA. In the present embodiment, the contact region CA corresponds to the first region, the bending region BA corresponds to the second region, and the pad region PA corresponds to the third region.

画像表示領域DAは、例えば、矩形状であり、m×n個(但し、m及びnは正の整数である)のマトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている。表示装置DSP−1は、画像表示領域DAにおいて、複数の信号配線(図示せず)を有する。これらの信号配線は、複数の走査線と、これらの走査線と平行して配置される複数の電源線と、走査線と直交して配置される複数のデータ信号線(いずれも図示せず)から構成されている。 The image display area DA is, for example, rectangular, and is composed of a plurality of pixels PX arranged in a matrix of m × n (where m and n are positive integers). The display device DSP-1 has a plurality of signal wirings (not shown) in the image display area DA. These signal wirings include a plurality of scanning lines, a plurality of power supply lines arranged in parallel with these scanning lines, and a plurality of data signal lines arranged orthogonal to the scanning lines (none of which are shown). It is composed of.

表示装置DSP−1は、図2及び図3に示すようにフレキシブル基板SUBを備える。フレキシブル基板SUBは、絶縁性の折り曲げ可能な基板であり、例えばポリイミド(PI)等を主成分とする柔軟性材料で形成されている。フレキシブル基板SUBは、例えば5〜30μmの厚さを有する。フレキシブル基板SUBの材料は、ポリイミドの他に、ポリアミドイミド、ポリアラミド等の耐熱性が高い材料が用いられる。すなわち、フレキシブル基板SUBは、第1絶縁膜11、第2絶縁膜12、第3絶縁膜13等の成膜、スイッチング素子SWの形成等において高温のプロセスに曝される。そのため、フレキシブル基板SUBは高い耐熱性を有する。第1実施形態の表示装置DSP−1のフレキシブル基板SUBは必ずしも透明性を有している必要はなく、フレキシブル基板SUBはが着色されていてもよい。フレキシブル基板SUBは、例えばガラス基板等の仮基板上に、ポリイミド等の材料を塗布することにより形成することができる。なお、フレキシブル基板SUBを形成する工程において使用した仮基板は、表示装置DSP−1に駆動回路や外部回路を実装した後に、フレキシブル基板SUBから剥離される。 The display device DSP-1 includes a flexible substrate SUB as shown in FIGS. 2 and 3. The flexible substrate SUB is an insulating and bendable substrate, and is formed of, for example, a flexible material containing polyimide (PI) or the like as a main component. The flexible substrate SUB has a thickness of, for example, 5 to 30 μm. As the material of the flexible substrate SUB, in addition to polyimide, a material having high heat resistance such as polyamideimide and polyaramid is used. That is, the flexible substrate SUB is exposed to a high temperature process in the film formation of the first insulating film 11, the second insulating film 12, the third insulating film 13, and the like, the formation of the switching element SW, and the like. Therefore, the flexible substrate SUB has high heat resistance. The flexible substrate SUB of the display device DSP-1 of the first embodiment does not necessarily have to have transparency, and the flexible substrate SUB may be colored. The flexible substrate SUB can be formed by applying a material such as polyimide on a temporary substrate such as a glass substrate. The temporary substrate used in the step of forming the flexible substrate SUB is peeled off from the flexible substrate SUB after mounting the drive circuit and the external circuit on the display device DSP-1.

フレキシブル基板SUB上には、第1絶縁膜11が配置されている。第1絶縁膜11はフレキシブル基板SUBからイオン性の不純物や、水分等が後述するスイッチン素子に浸入することを抑制する。このような第1絶縁膜11は、例えばシリコン窒化物(SiN)、シリコン酸化膜(SiO)、シリコン酸窒化物(SiON)等の無機系材料で形成され、単層又は積層体によって構成されている。 The first insulating film 11 is arranged on the flexible substrate SUB. The first insulating film 11 prevents ionic impurities, water, and the like from entering the switchon element described later from the flexible substrate SUB. Such a first insulating film 11 is formed of an inorganic material such as silicon nitride (SiN), silicon oxide film (SiO), or silicon oxynitride (SiON), and is composed of a single layer or a laminate. There is.

画像表示領域DAにおいて、複数のスイッチング素子SW1、SW2、SW3は第1絶縁膜11上に設けられている。これらスイッチング素子SW1、SW2、SW3はそれぞれ一つの画素PXに対応している。例えば、スイッチング素子SW1は、赤色の画素に、スイッチング素子SW2は緑色の画素に、スイッチング素子SW1は、青色の画素に対応している。これらのスイッチング素子SW1、SW2、SW3は、例えばそれぞれ半導体層SCを備えた薄膜トランジスタ(TFT)である。スイッチング素子SW1、SW2、SW3は、いずれも同一構造であるため、ここでは、スイッチング素子SW1に着目してその構造を具体的に説明する。 In the image display area DA, the plurality of switching elements SW1, SW2, and SW3 are provided on the first insulating film 11. Each of these switching elements SW1, SW2, and SW3 corresponds to one pixel PX. For example, the switching element SW1 corresponds to a red pixel, the switching element SW2 corresponds to a green pixel, and the switching element SW1 corresponds to a blue pixel. These switching elements SW1, SW2, and SW3 are, for example, thin film transistors (TFTs) each including a semiconductor layer SC. Since the switching elements SW1, SW2, and SW3 all have the same structure, the structure thereof will be specifically described here by focusing on the switching element SW1.

スイッチング素子SW1は、トップゲート型に構成されているが、ボトムゲート型であってもよい。スイッチング素子SW1は、例えばアモルファスシリコンから作られる半導体層SCを備える。半導体層SCは、チャネル領域と、ソース領域と、ドレイン領域とを備える。半導体層SCは、第2絶縁膜12によって覆われている。また、第2絶縁膜12は、第1絶縁膜11上にも配置されている。第2絶縁膜12は、例えばオルトテトラケイ酸エチル(TEOS)等の無機系材料で形成されている。 The switching element SW1 is configured as a top gate type, but may be a bottom gate type. The switching element SW1 includes, for example, a semiconductor layer SC made of amorphous silicon. The semiconductor layer SC includes a channel region, a source region, and a drain region. The semiconductor layer SC is covered with the second insulating film 12. The second insulating film 12 is also arranged on the first insulating film 11. The second insulating film 12 is made of an inorganic material such as ethyl orthotetrasilicate (TEOS).

スイッチング素子SW1のゲート電極WGは、第2絶縁膜12上に配置され、半導体層SCのチャネル領域の直上に位置している。ゲート電極WGは、第3絶縁膜13によって覆われている。また、第3絶縁膜13は、第2絶縁膜12上にも配置されている。第3絶縁膜13は、例えばオルトテトラケイ酸エチル(TEOS)等の無機系材料で形成されている。スイッチング素子SW1のソース電極WS及びドレイン電極WDは、第3絶縁膜13上に位置し、第3絶縁膜13に形成されたコンタクトホールを介して、半導体層SCのソース領域及びドレイン領域に接続されている。 The gate electrode WG of the switching element SW1 is arranged on the second insulating film 12 and is located directly above the channel region of the semiconductor layer SC. The gate electrode WG is covered with a third insulating film 13. The third insulating film 13 is also arranged on the second insulating film 12. The third insulating film 13 is made of an inorganic material such as ethyl orthotetrasilicate (TEOS). The source electrode WS and drain electrode WD of the switching element SW1 are located on the third insulating film 13 and are connected to the source region and drain region of the semiconductor layer SC via a contact hole formed in the third insulating film 13. ing.

信号線SGLは、第3絶縁膜13上に位置し、スイッチング素子SW1と電気的に接続されている。信号線SGLは、画像表示領域DAに隣接したコンタクト領域CAまで延出している。信号線SGLは、例えばMoW等で形成されている。 The signal line SGL is located on the third insulating film 13 and is electrically connected to the switching element SW1. The signal line SGL extends to the contact area CA adjacent to the image display area DA. The signal line SGL is formed of, for example, MoW or the like.

ソース電極WS、ドレイン電極WD、及び信号配線SGLは、第1有機膜14によって覆われている。また、第1有機膜14は、第3絶縁膜13上にも配置されている。第1有機膜14は、緩衝性の高い有機材料、例えばハードレジンコート(HRC)等で形成されている。反射層15は、第1有機膜14上に配置されている。反射層15は、例えばアルミニウムや銀等で形成されている。 The source electrode WS, the drain electrode WD, and the signal wiring SGL are covered with the first organic film 14. The first organic film 14 is also arranged on the third insulating film 13. The first organic film 14 is formed of an organic material having a high cushioning property, for example, a hard resin coat (HRC) or the like. The reflective layer 15 is arranged on the first organic film 14. The reflective layer 15 is made of, for example, aluminum or silver.

第1電極PEは、反射層15上に配置され、第1有機膜14に形成されたコンタクトホールを介して各スイッチング素子SW1、SW2、SW3のドレイン電極WDに電気的に接続されている。第1電極PEは、例えばインジウムスズ酸化物(ITO)またはインジウム亜鉛酸化物(IZO)等の透明な導電材料で形成されている。 The first electrode PE is arranged on the reflective layer 15 and is electrically connected to the drain electrodes WD of each of the switching elements SW1, SW2, and SW3 via a contact hole formed in the first organic film 14. The first electrode PE is formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

リブ16は、画像表示領域DAが位置する第1有機膜14上の第1電極PEを互いに電気的に絶縁するために例えば格子状またはストライプ状に配置されている。 The ribs 16 are arranged, for example, in a grid pattern or a stripe pattern in order to electrically insulate the first electrode PEs on the first organic film 14 in which the image display region DA is located.

第1接続配線LL1は、図2に示すように端子領域TAにおいて、第1有機膜14上に位置し、第1有機膜14に形成された第1コンタクトホールCH1を介して第3絶縁膜13上の信号配線SGLと電気的に接続されている。第1接続配線LL1は、例えばMoW/Al等で形成されている。 As shown in FIG. 2, the first connection wiring LL1 is located on the first organic film 14 in the terminal region TA, and the third insulating film 13 passes through the first contact hole CH1 formed in the first organic film 14. It is electrically connected to the signal wiring SGL above. The first connection wiring LL1 is formed of, for example, MoW / Al or the like.

第2接続配線LL2は、図3に示すように端子領域TAにおいて、第1有機膜14上に位置し、第1有機膜14に形成された第2コンタクトホールCH2を介して第3絶縁膜13上の他の信号配線SGLと電気的に接続されている。第2接続配線LL2は、例えばMoW/Al等で形成されている。 As shown in FIG. 3, the second connection wiring LL2 is located on the first organic film 14 in the terminal region TA, and the third insulating film 13 passes through the second contact hole CH2 formed in the first organic film 14. It is electrically connected to the other signal wiring SGL above. The second connection wiring LL2 is formed of, for example, MoW / Al or the like.

第1及び第2接続配線LL1、LL2は、第2有機膜17によって覆われている。また、第2有機膜17は、第1有機膜14の上にも配置されている。第2有機膜17は、緩衝性の高い有機材料、例えばハードレジンコート(HRC)、感光性透明アクリル樹脂や感光性透明ポリイミド等で形成されている。第2有機膜17は、リブ16と同一の材料からなり、リブ16と同一のプロセスで形成することができる。 The first and second connection wirings LL1 and LL2 are covered with a second organic film 17. The second organic film 17 is also arranged on the first organic film 14. The second organic film 17 is formed of an organic material having a high cushioning property, for example, a hard resin coat (HRC), a photosensitive transparent acrylic resin, a photosensitive transparent polyimide, or the like. The second organic film 17 is made of the same material as the rib 16 and can be formed by the same process as the rib 16.

第1パッド電極PD1は、図2及び図4に示すようにパッド領域PAの第2有機膜17上に配置され、第2有機膜17に形成された第3コンタクトホールCH3を介して第1接続配線LL1と電気的に接続されている。 The first pad electrode PD1 is arranged on the second organic film 17 of the pad region PA as shown in FIGS. 2 and 4, and is first connected via the third contact hole CH3 formed in the second organic film 17. It is electrically connected to the wiring LL1.

第2パッド電極PD2は、図3及び図4に示すようにパッド領域PAの第2有機膜17上に配置され、第2有機膜17に形成された第4コンタクトホールCH4を介して第2接続配線LL2と電気的に接続されている。 The second pad electrode PD2 is arranged on the second organic film 17 of the pad region PA as shown in FIGS. 3 and 4, and is second-connected via the fourth contact hole CH4 formed in the second organic film 17. It is electrically connected to the wiring LL2.

第1及び第2パッド電極PD1、PD2は、駆動回路や外部回路(図示せず)と電気的に接続されており、駆動回路や外部回路から電源電圧や各種の信号を取り入れることができる。 The first and second pad electrodes PD1 and PD2 are electrically connected to a drive circuit and an external circuit (not shown), and can take in a power supply voltage and various signals from the drive circuit and the external circuit.

第1及び第2コンタクトホールCH1、CH2は、図4に示すように第1方向Xに交互に複数配列されている。すなわち、第1及び第2コンタクトホールCH1、CH2は、平面視において、千鳥状に配列されている。第3及び第4コンタクトホールCH3、CH4は、図4に示すように第1方向Xに交互に複数配列、つまり平面視において、千鳥状に配列されている。第1及び第2コンタクトホールCH1、CH2又は第3及び第4コンタクトホールCH3、CH4を直線状に配列した場合には、第1及び第2コンタクトホールCH1、CH2又は第3及び第4コンタクトホールCH3、CH4等に割り当てられる面積領域により、接続配線及びパッド電極の配置密度を高めることには限界がある。しかし、第1及び第2コンタクトホールCH1、CH2、及び/又は第3及び第4コンタクトホールを千鳥状に配列することにより、第1コンタクトホールCH1と第2コンタクトホールCH2とが、また第3コンタクトホールCH3と第4コンタクトホールCH4とが、第1方向Xに互いにずれて配置されるため、第1及び第2接続配線LL1、LL2、第1から第4コンタクトホールCH1、CH2、CH3、CH4並びにパッド電極PDをより高密度で配置することができる。 A plurality of the first and second contact holes CH1 and CH2 are alternately arranged in the first direction X as shown in FIG. That is, the first and second contact holes CH1 and CH2 are arranged in a staggered pattern in a plan view. As shown in FIG. 4, the third and fourth contact holes CH3 and CH4 are alternately arranged in a plurality of arrangements in the first direction X, that is, arranged in a staggered manner in a plan view. When the first and second contact holes CH1, CH2 or the third and fourth contact holes CH3 and CH4 are linearly arranged, the first and second contact holes CH1, CH2 or the third and fourth contact holes CH3 , There is a limit to increasing the arrangement density of the connection wiring and the pad electrode depending on the area area allocated to CH4 and the like. However, by arranging the first and second contact holes CH1, CH2, and / or the third and fourth contact holes in a staggered manner, the first contact hole CH1 and the second contact hole CH2 become the third contact again. Since the hole CH3 and the fourth contact hole CH4 are arranged so as to be offset from each other in the first direction X, the first and second connection wirings LL1, LL2, the first to fourth contact holes CH1, CH2, CH3, CH4, and the like. The pad electrode PD can be arranged at a higher density.

前述した表示装置DSP−1は、図5の(A)に示すように折り曲げる前の状態では、端子領域TAにおいて、コンタクト領域CA、折り曲げ領域BA及びパッド領域PAが第2方向Yに隣接して配置されている。図5の(B)に示すように折り曲げられた状態では、パッド領域PAがフレキシブル基板SUBの画像表示領域DAの下方に位置するように、折り曲げ領域BAが折り曲げられている。 As shown in FIG. 5A, in the display device DSP-1 described above, in the terminal area TA, the contact area CA, the bending area BA, and the pad area PA are adjacent to each other in the second direction Y in the state before bending. Have been placed. In the folded state as shown in FIG. 5B, the bent region BA is bent so that the pad region PA is located below the image display region DA of the flexible substrate SUB.

なお、第1実施形態に係る表示装置DSP−1はアクティブマトリクス型の表示装置を採用したものであり、図には示していないが、第1電極PE上には有機発光層、第2電極、封止層、対向基板等が配置されている。 The display device DSP-1 according to the first embodiment employs an active matrix type display device, and although not shown in the figure, an organic light emitting layer, a second electrode, and the like are placed on the first electrode PE. A sealing layer, an opposing substrate, etc. are arranged.

このような第1実施形態によれば、図5の(B)に示すように端子領域TAにおいて、パッド領域PAがフレキシブル基板SUBの画像表示領域DAの下方に位置するように、折り曲げ領域BAを折り曲げたことで、端子領域TAの幅を狭くすることができ、画像表示領域DAの面積を実行的に広くすることができる。 According to such a first embodiment, in the terminal area TA as shown in FIG. 5B, the bent area BA is set so that the pad area PA is located below the image display area DA of the flexible substrate SUB. By bending, the width of the terminal region TA can be narrowed, and the area of the image display region DA can be practically widened.

また、図5の(A)に示す状態から図5の(B)に示す状態のように折り曲げ領域BAを折り曲げると、折り曲げ領域BAに位置する第1乃至第3絶縁膜11乃至13に曲げ応力が加えられ、クラックが発生することがある。このため、折り曲げ領域BAに位置するこれら第1乃至第3絶縁膜11乃至13の上に位置する第1及び第2接続配線LL1、LL2にクラックが伝播するおそれがある。 Further, when the bending region BA is bent from the state shown in FIG. 5A to the state shown in FIG. 5B, bending stress is applied to the first to third insulating films 11 to 13 located in the bending region BA. May be added and cracks may occur. Therefore, cracks may propagate to the first and second connection wirings LL1 and LL2 located on the first to third insulating films 11 to 13 located in the bent region BA.

しかし、第1実施形態に係る表示装置DSP−1では、第1及び第2接続配線LL1、LL2は、第1乃至第3絶縁膜11乃至13に直接接触せず、第1有機膜14の上に設けられている。さらに、第1及び第2接続配線LL1、LL2は、第2有機膜17によって覆われている。すなわち、第1及び第2接続配線LL1、LL2は、第1有機膜14及び第2有機膜17の間に挟まれている。その結果、表示装置DSP−1の折り曲げ領域BAに位置する第1乃至第3絶縁膜11乃至13にクラックが発生しても、第1有機膜14でクラックの発生を吸収できる。また、第1及び第2接続配線LL1、LL2は第1及び第2有機膜14、17の間に挟まれているため、クラックの伝播を抑制することができる。従って、第1及び第2接続配線LL1、LL2の断線を抑制することができ、信頼性の高い表示装置DSP−1を得ることができる。 However, in the display device DSP-1 according to the first embodiment, the first and second connection wirings LL1 and LL2 do not come into direct contact with the first to third insulating films 11 to 13 and are on the first organic film 14. It is provided in. Further, the first and second connection wirings LL1 and LL2 are covered with the second organic film 17. That is, the first and second connection wirings LL1 and LL2 are sandwiched between the first organic film 14 and the second organic film 17. As a result, even if cracks occur in the first to third insulating films 11 to 13 located in the bent region BA of the display device DSP-1, the generation of cracks can be absorbed by the first organic film 14. Further, since the first and second connection wirings LL1 and LL2 are sandwiched between the first and second organic films 14 and 17, the propagation of cracks can be suppressed. Therefore, disconnection of the first and second connection wirings LL1 and LL2 can be suppressed, and a highly reliable display device DSP-1 can be obtained.

(第2実施形態)
第2実施形態に係る表示装置DSP−2を図6及び図7を参照して詳細に説明する。図6は、第2実施形態に係る図1のII−II線に沿った概略断面図、図7は、第2実施形態に係る図1のIII−III線に沿った概略断面図であるが、断面構造は第1実施形態の図2、図3と相違する。なお、第1実施形態で説明した図1〜図5と同様な部材は同じ符号を付して説明を省略する。
(Second Embodiment)
The display device DSP-2 according to the second embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view taken along line II-II of FIG. 1 according to the second embodiment, and FIG. 7 is a schematic cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 1 according to the second embodiment. The cross-sectional structure is different from that of FIGS. 2 and 3 of the first embodiment. The same members as those in FIGS. 1 to 5 described in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

第2実施形態に係る表示装置DSP−2は、端子領域TAにおいて、第1絶縁膜11、第2絶縁膜12及び第3絶縁膜13はコンタクト領域CA及びパッド領域PAに配置され、折り曲げ領域BAには配置されていない。すなわち、折り曲げ領域BAに位置するフレキシブル基板SUB上には第1乃至第3絶縁膜11乃至13が存在しない。 In the display device DSP-2 according to the second embodiment, in the terminal region TA, the first insulating film 11, the second insulating film 12, and the third insulating film 13 are arranged in the contact region CA and the pad region PA, and the bending region BA. Is not placed in. That is, the first to third insulating films 11 to 13 do not exist on the flexible substrate SUB located in the bending region BA.

信号線SGLは、第3絶縁層13上に位置し、スイッチング素子SW1と電気的に接続されている。信号線SGLは、画像表示領域DAに隣接したコンタクト領域CAまで延出している。信号線SGLは、例えばMoW等で形成されている。ソース電極WS、ドレイン電極WD、及び信号配線SGLは、第1有機膜21によって覆われている。また、第1有機膜21は、第3絶縁膜13上にも配置されている。さらに、フレキシブル基板SUBの上にも配置されている。第1有機膜21は、緩衝性の高い有機材料、例えばハードレジンコート(HRC)等で形成されている。 The signal line SGL is located on the third insulating layer 13 and is electrically connected to the switching element SW1. The signal line SGL extends to the contact area CA adjacent to the image display area DA. The signal line SGL is formed of, for example, MoW or the like. The source electrode WS, the drain electrode WD, and the signal wiring SGL are covered with the first organic film 21. The first organic film 21 is also arranged on the third insulating film 13. Further, it is also arranged on the flexible substrate SUB. The first organic film 21 is formed of an organic material having a high cushioning property, for example, a hard resin coat (HRC) or the like.

第1接続配線LL1は図6に示すように端子領域TAにおいて、第1有機膜21の上に配置され、第1有機膜21に形成された第1コンタクトホールCH1を介して第3絶縁膜13上の信号配線SGLと電気的に接続されている。第2接続配線LL2は図7に示すように端子領域TAにおいて、第1有機膜21の上に配置され、第1有機膜21に形成された第2コンタクトホールCH2を介して第3絶縁膜13上の他の信号配線SGLと電気的に接続されている。 As shown in FIG. 6, the first connection wiring LL1 is arranged on the first organic film 21 in the terminal region TA, and the third insulating film 13 is provided through the first contact hole CH1 formed in the first organic film 21. It is electrically connected to the signal wiring SGL above. As shown in FIG. 7, the second connection wiring LL2 is arranged on the first organic film 21 in the terminal region TA, and the third insulating film 13 is provided through the second contact hole CH2 formed in the first organic film 21. It is electrically connected to the other signal wiring SGL above.

第1及び第2接続配線LL1、LL2は、第2有機膜17によって覆われている。また、第2有機膜17は、第1有機膜21上にも配置されている。第2有機膜17は、緩衝性の高い有機材料、例えばハードレジンコート(HRC)、感光性透明アクリル樹脂や感光性透明ポリイミド等で形成されている。 The first and second connection wirings LL1 and LL2 are covered with a second organic film 17. The second organic film 17 is also arranged on the first organic film 21. The second organic film 17 is formed of an organic material having a high cushioning property, for example, a hard resin coat (HRC), a photosensitive transparent acrylic resin, a photosensitive transparent polyimide, or the like.

このような表示装置DSP−2は、前述した図5の(A)と同様に折り曲げる前の状態では、端子領域TAにおいて、コンタクト領域CA、折り曲げ領域BA及びパッド領域PAが第2方向Yに隣接して配置されている。第2実施形態に係る表示装置DSP−2は、前述した図5の(B)と同様に、パッド領域PAがフレキシブル基板SUBの画像表示領域DAの下方に位置するように、折り曲げ領域BAが折り曲げられている。 In such a display device DSP-2, in the same state as in FIG. 5A described above, in the state before bending, the contact area CA, the bending area BA, and the pad area PA are adjacent to the second direction Y in the terminal area TA. It is arranged. In the display device DSP-2 according to the second embodiment, the bent region BA is bent so that the pad region PA is located below the image display region DA of the flexible substrate SUB, as in FIG. 5B described above. Has been done.

このような第2実施形態によれば、図5の(B)に示すように、端子領域TAにおいて、パッド領域PAがフレキシブル基板SUBの画像表示領域DAの下方に位置するように、折り曲げ領域BAを折り曲げたことで、端子領域TAの幅を狭くすることができ、画像表示領域DAの面積を実行的に広くすることができる。 According to such a second embodiment, as shown in FIG. 5 (B), in the terminal region TA, the bent region BA is located below the image display region DA of the flexible substrate SUB. By bending the above, the width of the terminal region TA can be narrowed, and the area of the image display region DA can be practically widened.

また、第2実施形態によれば、折り曲げ領域BAには、図6及び図7に示すように、第1乃至第3絶縁膜11乃至13が存在しない。すなわち、第2実施形態によれば、折り曲げ領域BAには、第1有機膜21、第1及び第2接続配線LL1、LL2、及び第2有機膜17が配置されている。その結果、折り曲げ領域BAに曲げ応力が加えられても、前述した第1実施形態のように、クラックが発生しやすい第1乃至第3絶縁膜11乃至13が存在しないため、第1及び第2接続配線LL1、LL2の断線を抑制することができる。また、第1及び第2接続配線LL1、LL2は、第1及び第2有機膜21、17によって挟まれているため、第1及び第2接続配線LL1、LL2の断線をより一層抑制することができる。したがって信頼性の高い表示装置DSP−2を得ることができる。 Further, according to the second embodiment, as shown in FIGS. 6 and 7, the first to third insulating films 11 to 13 do not exist in the bent region BA. That is, according to the second embodiment, the first organic film 21, the first and second connection wirings LL1, LL2, and the second organic film 17 are arranged in the bent region BA. As a result, even if bending stress is applied to the bending region BA, the first to third insulating films 11 to 13 in which cracks are likely to occur do not exist as in the first embodiment described above, so that the first and second insulating films 11 to 13 do not exist. It is possible to suppress disconnection of the connection wirings LL1 and LL2. Further, since the first and second connection wirings LL1 and LL2 are sandwiched between the first and second organic films 21 and 17, it is possible to further suppress the disconnection of the first and second connection wirings LL1 and LL2. it can. Therefore, a highly reliable display device DSP-2 can be obtained.

なお、いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
以下に、原出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1]フレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板上に配置された第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜上に配置されたスイッチング素子と、
前記スイッチング素子と電気的に接続された信号配線と、
前記信号配線上に配置された第1有機膜と、
前記第1有機膜上に配置された接続配線と、
前記接続配線上に配置された第2有機膜と、
前記第2有機膜上に配置されたパッド電極とを有し、
前記接続配線は、前記第1有機膜及び前記第2有機膜に挟まれ、前記第1有機膜及び前記第2有機膜に接している表示装置。
[2]前記接続配線は、前記第1絶縁膜に接していない、[1]に記載の表示装置。
[3]前記信号配線と前記接続配線とは、前記第1有機膜に形成された第1コンタクトホールを介して電気的に接続されている、[1]又は[2]に記載の表示装置。
[4]前記接続配線と前記パッド電極とは、前記第2有機膜に形成された第2コンタクトホールを介して電気的に接続されている、[1]又は[2]に記載の表示装置。
[5]前記第1コンタクトホールと前記第2コンタクトホールの少なくとも一方は、平面視において、千鳥状に複数配列されている、[3]又は[4]に記載の表示装置。
[6]前記フレキシブル基板は、さらに、
複数の画素を有する画像表示領域と、前記画像表示領域を囲む非表示領域とを有し、
前記非表示領域は、記第1コンタクトホールが形成された第1領域と、前記第1領域と隣接し前記接続配線が配置された第2領域と、前記第2領域と隣接し前記パッド電極が配置された第3領域とを有する、[1]乃至[5]いずれか1つに記載の表示装置。
[7]前記フレキシブル基板は、前記第3領域の少なくとも一部が前記画像表示領域の下方に位置するように、前記第2領域で折り曲げられている、[6]に記載の表示装置。
[8]前記第1絶縁膜は、前記第2領域には配置されていない、[6]又は[7]に記載の表示装置。
[9]前記フレキシブル基板は、ポリイミドからなる、[1]乃至[8]いずれか1つに記載の表示装置。
Although some embodiments have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other embodiments, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the scope of the invention described in the claims and the equivalent scope thereof.
The inventions described in the original claims of the original application are added below.
[1] Flexible substrate and
The first insulating film arranged on the flexible substrate and
The switching element arranged on the first insulating film and
The signal wiring electrically connected to the switching element and
The first organic film arranged on the signal wiring and
With the connection wiring arranged on the first organic film,
The second organic film arranged on the connection wiring and
It has a pad electrode arranged on the second organic film and has.
A display device in which the connection wiring is sandwiched between the first organic film and the second organic film and is in contact with the first organic film and the second organic film.
[2] The display device according to [1], wherein the connection wiring is not in contact with the first insulating film.
[3] The display device according to [1] or [2], wherein the signal wiring and the connection wiring are electrically connected via a first contact hole formed in the first organic film.
[4] The display device according to [1] or [2], wherein the connection wiring and the pad electrode are electrically connected via a second contact hole formed in the second organic film.
[5] The display device according to [3] or [4], wherein a plurality of the first contact hole and at least one of the second contact holes are arranged in a staggered pattern in a plan view.
[6] The flexible substrate is further added.
It has an image display area having a plurality of pixels and a non-display area surrounding the image display area.
The non-display region includes a first region in which the first contact hole is formed, a second region in which the connection wiring is arranged adjacent to the first region, and a pad electrode adjacent to the second region. The display device according to any one of [1] to [5], which has an arranged third region.
[7] The display device according to [6], wherein the flexible substrate is bent in the second region so that at least a part of the third region is located below the image display region.
[8] The display device according to [6] or [7], wherein the first insulating film is not arranged in the second region.
[9] The display device according to any one of [1] to [8], wherein the flexible substrate is made of polyimide.

DSP−1、DSP−2…表示装置 SUB…フレキシブル基板 DA…画像表示領域
FA…額縁領域 TA…端子領域 CA…コンタクト領域(第1領域) PA…パッド領域(第3領域) BA…折り曲げ領域(第2領域) LL1…第1接続配線 LL2…第2接続配線 PD…パッド電極 SW1、SW2、SW3…スイッチング素子 11…第1絶縁膜 12…第2絶縁膜 13…第3絶縁膜 14、21…第1有機膜 15…反射層 16…リブ 17…第2有機膜
DSP-1, DSP-2 ... Display device SUB ... Flexible substrate DA ... Image display area FA ... Frame area TA ... Terminal area CA ... Contact area (1st area) PA ... Pad area (3rd area) BA ... Bending area (Bending area) 2nd region) LL1 ... 1st connection wiring LL2 ... 2nd connection wiring PD ... Pad electrodes SW1, SW2, SW3 ... Switching element 11 ... 1st insulating film 12 ... 2nd insulating film 13 ... 3rd insulating film 14, 21 ... 1st organic film 15 ... Reflective layer 16 ... Ribs 17 ... 2nd organic film

Claims (8)

絶縁性の基板と、
前記絶縁性の基板上に配置された第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜上に配置されたスイッチング素子と、
前記スイッチング素子と電気的に接続された信号配線と、
前記信号配線上に配置された第1有機膜と、
前記信号配線と電気的に接続する接続配線と、
前記接続配線上に配置された第2有機膜と、
前記接続配線と電気的に接続するパッド電極と、を備え、
前記スイッチング素子がマトリクス状に配置された領域を囲む額縁領域を有し、
前記額縁領域は、前記スイッチング素子がマトリクス状に配置された領域と隣接する第1領域と、前記第1領域と隣接する第2領域と、前記第2領域と隣接する第3領域と、を有し、
前記第1絶縁膜は、前記第1領域及び前記第3領域に設けられ、
前記第1有機膜は、前記第2領域において、前記絶縁性の基板と接し、
前記接続配線及び前記第2有機膜は、前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域に設けられ、
前記接続配線は、前記第1有機膜及び前記第2有機膜との間に位置し、前記第1有機膜及び前記第2有機膜に接し、
前記接続配線は、前記第1領域において前記信号配線と接続し、前記第3領域において前記パッド電極と接続し、
前記絶縁性の基板は、前記第3領域の少なくとも一部が、前記スイッチング素子がマトリクス状に配置された領域の下方に位置するように、前記第2領域で折り曲げられている、フレキシブル基板。
Insulating board and
The first insulating film arranged on the insulating substrate and
The switching element arranged on the first insulating film and
The signal wiring electrically connected to the switching element and
The first organic film arranged on the signal wiring and
The connection wiring that electrically connects to the signal wiring,
The second organic film arranged on the connection wiring and
A pad electrode that electrically connects to the connection wiring is provided.
The switching element has a frame region surrounding a region arranged in a matrix, and has a frame region.
The frame region includes a first region adjacent to a region in which the switching element is arranged in a matrix, a second region adjacent to the first region, and a third region adjacent to the second region. And
The first insulating film is provided in the first region and the third region.
The first organic film is in contact with the insulating substrate in the second region.
The connection wiring and the second organic film are provided in the first region, the second region, and the third region.
The connection wiring is located between the first organic film and the second organic film, and is in contact with the first organic film and the second organic film.
The connection wiring is connected to the signal wiring in the first region and is connected to the pad electrode in the third region.
The insulating substrate is a flexible substrate in which at least a part of the third region is bent in the second region so that the switching elements are located below the region in which the switching elements are arranged in a matrix.
前記接続配線は、前記第1絶縁膜に接していない、請求項1に記載のフレキシブル基板。 The flexible substrate according to claim 1, wherein the connection wiring is not in contact with the first insulating film. 前記第1有機膜は、前記第1領域において、第1コンタクトホールを有し、
前記信号配線と前記接続配線とは、前記第1コンタクトホールを介して接続されている、請求項1又は2に記載のフレキシブル基板。
The first organic film has a first contact hole in the first region.
The flexible substrate according to claim 1 or 2, wherein the signal wiring and the connection wiring are connected via the first contact hole.
前記第2有機膜は、前記第3領域において、第2コンタクトホールを有し、
前記接続配線と前記パッド電極とは、前記第2コンタクトホールを介して接続されている、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のフレキシブル基板。
The second organic film has a second contact hole in the third region.
The flexible substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the connection wiring and the pad electrode are connected via the second contact hole.
前記第2有機膜は、前記第1領域において、前記第1コンタクトホールを覆っている、請求項3又は4に記載のフレキシブル基板。 The flexible substrate according to claim 3 or 4, wherein the second organic film covers the first contact hole in the first region. 前記第1絶縁膜は、前記第2領域には設けられていない、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のフレキシブル基板。 The flexible substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein the first insulating film is not provided in the second region. 前記第1有機膜は、前記第1領域及び前記第3領域における第1厚さと、前記第2領域における第2厚さと、を有し、
前記第2厚さは、前記第1厚さより大きい、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のフレキシブル基板。
The first organic film has a first thickness in the first region and the third region, and a second thickness in the second region.
The flexible substrate according to any one of claims 1 to 6, wherein the second thickness is larger than the first thickness.
前記信号配線は、前記スイッチング素子がマトリクス状に配置された領域に位置し、前記第1絶縁膜と前記第1有機膜との間に設けられている、請求項1乃至7のいずれか1項に記載のフレキシブル基板。 The signal wiring is located in a region where the switching elements are arranged in a matrix, and is provided between the first insulating film and the first organic film, according to any one of claims 1 to 7. The flexible substrate described in.
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