JP2020161780A - Surge absorption circuit - Google Patents
Surge absorption circuit Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020161780A JP2020161780A JP2019063044A JP2019063044A JP2020161780A JP 2020161780 A JP2020161780 A JP 2020161780A JP 2019063044 A JP2019063044 A JP 2019063044A JP 2019063044 A JP2019063044 A JP 2019063044A JP 2020161780 A JP2020161780 A JP 2020161780A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- voltage
- power supply
- surge
- inverter circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、電源ラインまたはラインに発生するいわゆるESD(静電気放電)などのサージ電圧から半導体集積回路を保護するサージ吸収回路に関する。 The present invention relates to a surge absorbing circuit that protects a semiconductor integrated circuit from a surge voltage such as so-called ESD (electrostatic discharge) generated in a power supply line or a line.
大規模集積回路(Large Scale Integrated:以下、LSI)等の半導体集積回路は、微細なトランジスタの集合体であるが故に、静電気放電(Electro Static Discharge:以下、ESD)に曝されるとさまざまな誤作動や破壊が生じる。例えば、一瞬の誤動作から、機能低下や停止に繋がるシリコンの溶融、金属配線の断線などの破壊も生じる。よって、ESDからLSIを保護するESD保護回路としてのサージ吸収回路を搭載する場合がある。 Since semiconductor integrated circuits such as large scale integrated circuits (LSIs) are aggregates of fine transistors, various errors occur when exposed to Electro Static Discharge (ESDs). Operation or destruction occurs. For example, a momentary malfunction may cause damage such as melting of silicon and disconnection of metal wiring, which may lead to functional deterioration or stoppage. Therefore, a surge absorption circuit as an ESD protection circuit that protects the LSI from ESD may be mounted.
図1は、公知のESD保護回路の1例を示している。 FIG. 1 shows an example of a known ESD protection circuit.
この公知のESD保護回路においては、互いに直列に接続された抵抗R3とキャパシタC1とを含む時定数回路GCが電源端子VCCQ及び接地端子VSSQに接続されている(例えば特許文献1参照)。 In this known ESD protection circuit, a time constant circuit GC including a resistor R3 and a capacitor C1 connected in series with each other is connected to a power supply terminal VCSQ and a ground terminal VSSQ (see, for example, Patent Document 1).
キャパシタC1のチャージ電圧は、インバータ回路INV1、INV2の入力端子に供給される。これらのインバータ回路INV1及びINV2の出力端子は、出力線GTDV及びWLDVに接続される。 The charge voltage of the capacitor C1 is supplied to the input terminals of the inverter circuits INV1 and INV2. The output terminals of these inverter circuits INV1 and INV2 are connected to the output lines GTDV and WLDV.
例えば、電源端子VCCQに正のサージ電圧が発生した時、INV1及びINV2にはVCCQから動作電圧が供給され、INV1及びINV2の入力端子には時定数回路により遅れてサージ電圧に対応したハイレベルが入力される。したがって、インバータ回路INV1及びINV2は、電源端子VCCQに正のサージ電圧が発生した時からキャパシタC1のチャージ電圧がインバータ回路INV1及びINV2の論理しきい値電圧に到達するまでの間ハイレベルを維持し、IOセルに分散して設けられたMOSFETQ3がオン状態となってこのサージ電圧が放電される。 For example, when a positive surge voltage is generated at the power supply terminal VCSQ, the operating voltage is supplied from the VCSQ to INV1 and INV2, and the input terminals of INV1 and INV2 are delayed by the time constant circuit to have a high level corresponding to the surge voltage. Entered. Therefore, the inverter circuits INV1 and INV2 maintain a high level from the time when a positive surge voltage is generated at the power supply terminal VCSQ until the charge voltage of the capacitor C1 reaches the logical threshold voltage of the inverter circuits INV1 and INV2. , The MOSFET Q3 distributed in the IO cell is turned on and this surge voltage is discharged.
しかしながら、インバータ回路はpチャネル型MOSFET、nチャネル型MOSFETの相補的FET対の複合素子である故、回路面積が大きくなる。それ故、図1に示した事例の複数のインバータ回路を含むESD保護回路においてはICチップ上に形成されるこのESD保護回路の占有面積が大きくなってしまう。すなわち、回路レイアウト制約やICチップの肥大化などの問題が挙げられる。 However, since the inverter circuit is a composite element of complementary FET pairs of the p-channel MOSFET and the n-channel MOSFET, the circuit area becomes large. Therefore, in the ESD protection circuit including the plurality of inverter circuits of the example shown in FIG. 1, the occupied area of the ESD protection circuit formed on the IC chip becomes large. That is, there are problems such as circuit layout restrictions and bloated IC chips.
また、サージ電圧に耐えられる耐圧特性を持つMOSFETは、ゲート抵抗が高くなる。すなわち、MOSFETのドレインにサージ電圧が印加された時、高いゲート抵抗によるスイッチング動作の遅延が生じ、MOSFETが破壊に至る虞がある。 Further, a MOSFET having a withstand voltage characteristic that can withstand a surge voltage has a high gate resistance. That is, when a surge voltage is applied to the drain of the MOSFET, the switching operation is delayed due to the high gate resistance, and the MOSFET may be destroyed.
本発明は、回路レイアウトの自由度の向上とICチップ縮小化を可能とし、且つ耐久性に秀でたサージ吸収回路を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a surge absorbing circuit which is capable of improving the degree of freedom in circuit layout and reducing the size of an IC chip and has excellent durability.
本発明に係るサージ吸収回路は、電源ラインと接地ラインの間に生ずるサージ電圧に応答してトリガ電圧を出力する時定数回路及びインバータ回路を含むトリガ回路と、前記トリガ電圧に応答して前記電源ラインと前記接地ラインの間を短絡するバイパス素子と、シャントnMOSFETのスイッチング応答速度を高速化するプルダウン抵抗と、通常動作時にサージ吸収回路外部から接地ラインを経由してサージ吸収回路内部にノイズが流入するのを阻止するダイオードと、を有する。 The surge absorption circuit according to the present invention includes a trigger circuit including a time constant circuit and an inverter circuit that output a trigger voltage in response to a surge voltage generated between a power supply line and a ground line, and the power supply in response to the trigger voltage. A bypass element that short-circuits between the line and the ground line, a pull-down resistor that speeds up the switching response speed of the shunt nMOSFET, and noise flows from the outside of the surge absorption circuit to the inside of the surge absorption circuit via the ground line during normal operation. It has a diode that prevents it from doing so.
本発明に係るサージ吸収回路においては、静電気放電に伴うサージ電圧が電源ラインに印加されると、サージ電圧が時定数回路及びインバータ回路の動作電源電圧端子に印加される。前記時定数回路によりサージ電圧はインバータ回路の入力端子に遅延して印加され、サージ発生とほぼ同時に印加された動作電源電圧との間に電位差が生じる。これによりインバータ回路はオン状態となり、サージ電圧相当のハイレベルのトリガ電圧を出力し、出力されたトリガ電圧はダイオードを介してシャントnMOSFETのゲートに印加される。シャントnMOSFETのゲートにトリガ電圧が印加されることでシャントnMOSFETがオン状態となりドレイン−ソース間が導通状態となる故、静電気放電に伴うサージ電圧はシャントnMOSFETを介して放電される。 In the surge absorption circuit according to the present invention, when a surge voltage associated with electrostatic discharge is applied to the power supply line, the surge voltage is applied to the operating power supply voltage terminals of the time constant circuit and the inverter circuit. Due to the time constant circuit, the surge voltage is applied to the input terminal of the inverter circuit with a delay, and a potential difference is generated between the surge generation and the applied operating power supply voltage almost at the same time. As a result, the inverter circuit is turned on, a high-level trigger voltage corresponding to the surge voltage is output, and the output trigger voltage is applied to the gate of the shunt nMOSFET via the diode. When the trigger voltage is applied to the gate of the shunt nMOSFET, the shunt nMOSFET is turned on and the drain and source are in a conductive state. Therefore, the surge voltage accompanying the electrostatic discharge is discharged via the shunt nMOSFET.
プルダウン抵抗がシャントnMOSFETのゲートとソース間に並列に接続されているため、シャントnMOSFET素子内のゲートとソース間抵抗及びゲートとソース寄生容量による時定数はプルダウン抵抗により減少する。時定数減少に伴い、シャントnMOSFETのゲート印加電圧の立ち上がりが早くなることでシャントnMOSFETのスイッチング応答速度は高速化され、ドレインとソース間に過電圧が印加される時間が短くなり、アバランシェ破壊を抑制することが可能となる。 Since the pull-down resistor is connected in parallel between the gate and the source of the shunt nMOSFET, the time constant due to the gate-source resistance and the gate-source parasitic capacitance in the shunt nMOSFET element is reduced by the pull-down resistor. As the time constant decreases, the rise of the gate applied voltage of the shunt nMOSFET becomes faster, so that the switching response speed of the shunt nMOSFET becomes faster, the time when the overvoltage is applied between the drain and the source becomes shorter, and the avalanche breakdown is suppressed. It becomes possible.
したがって、サージ吸収回路は電源ラインと接地ラインの間に並列に接続されている他のLSI内部回路を保護することが可能となると共に、サージ吸収回路内のシャントnMOSFETの破壊を抑制することが可能となる。 Therefore, the surge absorption circuit can protect other LSI internal circuits connected in parallel between the power supply line and the ground line, and can suppress the destruction of the shunt nMOSFET in the surge absorption circuit. It becomes.
図2は、実施例1のサージ吸収回路10の回路図である。サージ吸収回路10は、抵抗21とキャパシタ22からなる時定数回路20と、時定数回路20の出力に応答してトリガ電圧を出力するインバータ回路30と、を有する。また、サージ吸収回路10は、トリガ電圧に応答してオン状態となり電源ラインVDDと接地ラインVSSの間を短絡するシャントnMOSFET61と、シャントnMOSFET61のスイッチング応答速度を高速化するプルダウン抵抗51と、通常動作時にサージ吸収回路10の外部から接地ラインVSSを経由してサージ吸収回路10内部にノイズが流入するのを阻止するダイオード41と、を有する。
FIG. 2 is a circuit diagram of the
サージ吸収回路10は、電源ラインVDDと接地ラインVSSの間に、図示しないLSI内部回路と並列に接続される。サージ吸収回路10は、電源ラインVDDと接地ラインVSSとの間において互いに直列に接続された抵抗21とキャパシタ22とを含む時定数回路20を含んでいる。具体的には、時定数回路20の抵抗21が電源ラインVDDと、キャパシタ22が接地ラインVSSと接続される。
The
インバータ回路30は、入力端子が時定数回路20の抵抗21とキャパシタ22との間に接続された入力端子と、電源ラインVDD及び接地ラインVSSに接続された動作電源電圧端子とを有している。インバータ回路30は、入力端子からの入力信号を反転して出力する。すなわち、入力電圧Vinと動作電源電圧VDDとの電位差がインバータ回路30の閾値電圧を上回る場合(ロウレベル:VDD−Vin>Vth)には、インバータ回路30は動作電源電位VDD(ハイレベル)を出力する。また、入力電圧Vinと動作電源電圧VDDとの電位差がインバータ回路30の閾値電圧未満の場合(ハイレベル:VDD−Vin<Vth)、インバータ回路30は接地電位VSS(ロウレベル)を出力する。
The
ダイオード41は、アノードがインバータ回路30の出力に接続され、カソードが接地ラインVSSに接続されているダイオードである。すなわち、ダイオード41のアノードには、出力Voutが入力される。
The
シャントnMOSFET61は、ドレインが電源ラインVDDと接続され、ソースが接地ラインVSSに接続され、ゲートがダイオード41のカソードに接続され、バックゲートがインバータ回路30の出力に接続されているMOSFETである。すなわち、シャントnMOSFET61のバックゲートにはインバータ回路30の出力Voutが入力され、ゲートにはダイオード41を介したインバータ回路30の出力Voutが入力される。
The shunt nMOSFET 61 is a MOSFET in which the drain is connected to the power supply line VDD, the source is connected to the ground line VSS, the gate is connected to the cathode of the
プルダウン抵抗51は、一端がダイオード41のカソード及びシャントnMOSFET61のゲートに接続され、他端が接地ラインVSSに接続されている抵抗である。すなわち、ダイオード41のカソード及びシャントnMOSFET61のゲートは、プルダウン抵抗51を介して接地ラインVSSに接続されている。
The pull-
図3は、図2におけるインバータ回路30を相補的MOSFETであるpチャネル型MOSFET31とnチャネル型MOSFET32とによって構成した回路図である。インバータ回路30は、pチャネルMOSFET31とnチャネルMOSFET32のドレイン同士が接続されたMOSFET対である。入力端子をpチャネル型MOSFET31とnチャネル型MOSFET32のゲートとし、電源ラインVDD側の動作電源電圧端子をpチャネル型MOSFET31のソースとし、接地ラインVSS側の動作電源電圧端子をnチャネル型MOSFET32のソースとする相補的MOSFETで構成される。インバータ回路30の出力端子は、pチャネル型MOSFET31とnチャネル型MOSFET32の双方のドレインである。
FIG. 3 is a circuit diagram in which the
インバータ回路30の入力電圧と電源ラインVDD側の動作電源電圧端子に電位差が生じない場合、nチャネル型MOSFET32がオン状態となり、インバータ回路30からは接地電位VSSが出力される。一方、インバータ回路30の入力電圧と電源ラインVDD側の動作電源電圧端子に電位差が生じこの電位差がpチャネル型MOSFET31の閾値電圧を超えた場合、pチャネル型MOSFET31がオン状態となり、インバータ回路30からは電源電位VDDが出力される。
When there is no potential difference between the input voltage of the
次に、上述したサージ吸収回路10の動作について説明する。
Next, the operation of the
まず、サージ電圧の生じていない通常動作時、時定数回路20、インバータ回路30の動作電源電圧端子及び入力端子電圧VinにはVDDが印加されており、pチャネル型MOSFET31のソースには電源ライン電位VDDが印加されており、nチャネル型MOSFET32のソースには接地電位VSSが印加されている。したがって、nチャネル型MOSFET32のゲート−ソース間にて電位差が生じる(Vin−VSS>Vth)ため、nチャネル型MOSFET32はオン状態となり、ソース−ドレイン間が導通状態となる。したがって、インバータ回路30の出力端子からはトリガ電圧Vout=VSSが出力される。
First, during normal operation in which no surge voltage is generated, VDD is applied to the operating power supply voltage terminal and input terminal voltage Vin of the time
インバータ回路から出力された電圧Voutは、ダイオード41を介してシャントnMOSFET61のゲートに印加される。通常動作時において、Vout=VSSなので、シャントnMOSFET61はオフ状態となる。すなわち、通常動作時において、インバータ回路30の動作電圧端子と出力端子間及びシャントnMOSFET61のドレインとソース間は非導通状態となり、抵抗21及びキャパシタ22には電流が流れない。したがって、サージ吸収回路10に並列に接続されるLSI内部回路には、通常動作電圧の電源電圧VDDが供給される。
The voltage Vout output from the inverter circuit is applied to the gate of the
また、通常動作時、サージ吸収回路10に並列に接続される被保護回路から接地ラインVSSを経由しサージ吸収回路10に信号ノイズが流入した場合、信号ノイズはダイオード41によりインバータ回路30のバックゲートに印加されない。すなわち、インバータ回路30のセルフターンオンによる誤動作は発生しない。
Further, during normal operation, when signal noise flows into the
電源ラインVDDに静電気放電が発生した場合、静電気放電に伴うサージ電圧は、時定数回路20と、インバータ回路30のVDD側の動作電源電圧端子と、シャントnMOSFET61のドレインとに印加される。インバータ回路30の入力電圧Vinは、時定数回路20によって遅延したサージ電圧が印加される。Vinのサージ電圧印加の遅延により、pチャネル型MOSFET31のゲートとソース間にて電位差が生じる(サージ電圧−Vin>Vth)。これにより、pチャネル型MOSFET31はオン状態となり、ソースとドレイン間が導通状態となる。したがって、インバータ回路30の出力端子からはトリガ電圧Vout=サージ電圧が出力される。
When electrostatic discharge occurs in the power supply line VDD, the surge voltage accompanying the electrostatic discharge is applied to the time
インバータ回路30から出力されたサージ電圧であるトリガ電圧は、シャントnMOSFET61のゲート及びバックゲートに印加され、シャントnMOSFET61はオン状態となる。すなわち、シャントnMOSFET61がオン状態になることで、サージ吸収回路10はシャントnMOSFET61を介してVDD−VSS間が短絡して、サージ電圧は放電される。
The trigger voltage, which is the surge voltage output from the
接地ラインVSSに静電気放電が発生した場合、静電気放電に伴うサージ電圧は、時定数回路20と、インバータ回路30のVSS側の動作電源電圧端子と、シャントnMOSFET61のソースとに印加される。通常動作時においてnチャネル型MOSFET32はオン状態なので、nチャネル型MOSFET32のドレインとソース間はすでに導通状態である。すなわち、インバータ回路30のVSS側の動作電源電圧端子に印加されたサージ電圧は直ちにインバータ回路30の出力端子からトリガ電圧として出力され、シャントnMOSFET61のゲート及びバックゲートに印加される。このトリガ電圧により、シャントnMOSFET61がオン状態になることで、サージ吸収回路10においてシャントnMOSFET61を介してVDDとVSS間が短絡してサージ電圧は放電される。
When electrostatic discharge occurs in the ground line VSS, the surge voltage accompanying the electrostatic discharge is applied to the time
図4は、シャントnMOSFET61における、シャントnMOSFET61素子とこれに寄生するバイポーラトランジスタ62素子を示すnチャネル型MOSFET素子60の等価回路である。このnチャネル型MOSFET素子60は、ゲートGとバックゲートBGにインバータ回路30の出力端子が接続されている。このn型MOSFET60のゲート側(チャネル層側)には、回路図上で表記されるドレインD、ゲートG、ソースS及びバックゲートBGを持つシャントnMOSFET61が構成されており、バックゲート側(ウェル層側)には、ドレインDをコレクタCとし、バックゲートBGをベースBとし、ソースSをエミッタEとする寄生バイポーラトランジスタ62が構成される。シャントnMOSFET61のドレイン及び寄生バイポーラトランジスタ62のコレクタが電源ラインVDDに接続されており、シャントnMOSFET61のソース及び寄生バイポーラトランジスタ62のエミッタが接地ラインVSSに接続される。シャントnMOSFET61のバックゲート及び寄生バイポーラトランジスタ62のベースはインバータ回路30の出力端子と接続されている。
FIG. 4 is an equivalent circuit of an n-
サージ電圧印加によりインバータ回路30からトリガ電圧が出力されnチャネル型MOSFET素子60のゲート及びバックゲートに印加される。トリガ電圧の印加によりシャントnMOSFET61はオン状態となり、ドレインからソースへと電流が流れる。また、サージ電圧印加により寄生バイポーラトランジスタ62にもベース電流が供給されオン状態となり、コレクタからエミッタへ電流を流すことが可能となる。したがって、ウェル層側でも電流を流すことができるため、大きな電流を流すことができ、迅速な放電が可能となる。
When the surge voltage is applied, the trigger voltage is output from the
プルダウン抵抗51がシャントnMOSFET61のゲートとソース間に接続されているため、シャントnMOSFET61のゲートとソース間抵抗およびプルダウン抵抗51が並列に接続される構成になる。すなわち、シャントnMOSFET61素子内のゲートとソース間抵抗を低くすることができ、シャントnMOSFET61の寄生容量による時定数を小さくすることが可能となる。そのため、シャントnMOSFET61のスイッチング動作を速くすることができ、サージ発生時にシャントnMOSFET61のドレイン電圧が急峻に立ち上がっても、ゲート印加電圧が素早く追従しシャントnMOSFET61をオン状態にするため、アバランシェ破壊を抑制することが可能となる。
Since the pull-
シャントnMOSFET61のゲート及びバックゲートにおいて、インバータ回路30から出力されたトリガ電圧がほぼ同時に印加されるため、シャントnMOSFET61のグート−バックゲート間に電位差が生じない。すなわち、シャントnMOSFET61のゲート−バックゲート間を貫通する貫通電流が生じないため、シャントnMOSFET61のゲート酸化膜は破壊され難くなる。
Since the trigger voltage output from the
サージ電圧が放電され、電源ライン電圧がサージ電圧から電源ライン電圧VDDまで電圧降下することにより、インバータ回路30及びシャントnMOSFET61はオフ状態となり、通常動作状態へ戻る。
When the surge voltage is discharged and the power supply line voltage drops from the surge voltage to the power supply line voltage VDD, the
したがって、サージ電圧が外部と接続された電源ラインVDD及び接地ラインVSSに印加された場合、サージ吸収回路10において、サージ電圧の印加に応答してシャントnMOSFET61のドレインとソース間が導通状態となり、サージ吸収回路10は電源ラインVDDと接地ラインVSSの間で短絡状態となる。これにより、サージ吸収回路10に並列に接続されている他の回路をサージ電圧およびサージ電流から保護する。
Therefore, when a surge voltage is applied to the power supply line VDD and the ground line VSS connected to the outside, the drain and the source of the
また、プルダウン抵抗51によりシャントnMOSFET61のスイッチング動作速度の高速化がなされることで、シャントnMOSFET61のアバランシェ破壊を抑制することが可能となる。
Further, the pull-
よって、本発明によれば、サージ吸収回路(ESD保護回路)に形成されるインバータ回路の数量を削減することが可能となる。すなわち、半導体集積回路内に形成されたサージ吸収回路の面積を縮小することが可能となり、回路レイアウトの自由度の向上とICチップ縮小化を可能とする。 Therefore, according to the present invention, it is possible to reduce the number of inverter circuits formed in the surge absorption circuit (ESD protection circuit). That is, it is possible to reduce the area of the surge absorption circuit formed in the semiconductor integrated circuit, improve the degree of freedom in circuit layout, and reduce the size of the IC chip.
また、電源ラインと接地ラインの間にサージ電圧が生じても、サージ吸収回路内のシャントnMOSFETが破壊されない耐久性に秀でたサージ吸収回路を提供することが可能となる。 Further, it is possible to provide a surge absorption circuit having excellent durability in which the shunt nMOSFET in the surge absorption circuit is not destroyed even if a surge voltage is generated between the power supply line and the ground line.
図5は実施例2のサージ吸収回路10Aを示す回路図である。同一導通方向に直列に接続された2個以上の複数のダイオード群42のアノードがインバータ回路30の出力と接続されており、且つ、複数のダイオード群42のカソードがシャントnMOSFET61のバックゲートと接続されている。シャントnMOSFET61のゲートがインバータ回路30の出力に接続されている。
FIG. 5 is a circuit diagram showing the
ダイオード群42は通常動作時に被保護回路から接地ラインVSSを経由して流入する信号ノイズの電圧レベルに応じて適切な個数(例えば3個)を同一導通方向に直列に接続される。なお、実施例1の回路においても、信号ノイズの電圧レベルに応じてダイオードを複数接続してもよい。
An appropriate number (for example, three) of the
実施例2の回路の動作は、上述の実施例1の動作と同様に、電源ラインVDD及び接地ラインVSSに静電気放電が発生した場合、サージ電圧の印加に応答してインバータ回路30及びシャントnMOSFET61はオン状態となり、シャントnMOSFET61のドレインとソース間が導通状態となることで、サージ電圧は放電される。なお、実施例2におけるサージ吸収回路10Aは、前述した実施例1の効果と同様の効果を有する。
The operation of the circuit of the second embodiment is the same as the operation of the first embodiment described above. When an electrostatic discharge occurs in the power supply line VDD and the ground line VSS, the
10、10A サージ吸収回路
20 時定数回路
30 インバータ回路
31 pチャネル型MOSFET
32 nチャネル型MOSFET
41、42 ダイオード
51 プルダウン抵抗
60 nチャネル型MOSFET素子
61 シャントnMOSFET
62 寄生バイポーラトランジスタ
10, 10A
32 n-channel MOSFET
41, 42
62 Parasitic bipolar transistor
Claims (5)
前記電源ライン、前記接地ライン及び前記インバータ回路に接続され、前記トリガ電圧の入力によって前記電源ラインと前記接地ラインの間を短絡するスイッチング素子と、
前記接地ラインと前記スイッチング素子に接続された第1の抵抗素子と、
前記インバータ回路と前記スイッチング素子の間、及び、前記接地ラインと前記スイッチング素子の間に接続された少なくとも1つのダイオードと、
を備えたサージ吸収回路。 An inverter circuit that is connected to the power supply line and the ground line, and the surge voltage generated between the power supply line and the ground line is input and the trigger voltage is output.
A switching element connected to the power supply line, the grounding line, and the inverter circuit, and short-circuiting between the power supply line and the grounding line by inputting the trigger voltage.
The ground line, the first resistance element connected to the switching element, and
At least one diode connected between the inverter circuit and the switching element, and between the ground line and the switching element.
Surge absorption circuit with.
前記電源ライン、前記接地ライン及び前記時定数回路に接続され、1対の相補的トランジスタを有し、前記電源ラインと前記接地ラインの間に発生するサージ電圧が前記時定数回路を介して入力されてトリガ電圧を出力するインバータ回路と、
前記電源ライン、前記接地ライン及び前記インバータ回路に接続され、前記トリガ電圧の入力によって前記電源ラインと前記接地ラインの間を短絡するスイッチング素子と、
を備えたサージ吸収回路。 A time constant circuit having resistance elements and capacitors connected to the power line and ground line and connected in series with each other.
It is connected to the power supply line, the ground line and the time constant circuit, has a pair of complementary transistors, and a surge voltage generated between the power supply line and the ground line is input via the time constant circuit. And an inverter circuit that outputs the trigger voltage
A switching element connected to the power supply line, the grounding line, and the inverter circuit, and short-circuiting between the power supply line and the grounding line by inputting the trigger voltage.
Surge absorption circuit with.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019063044A JP7347951B2 (en) | 2019-03-28 | 2019-03-28 | surge absorption circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019063044A JP7347951B2 (en) | 2019-03-28 | 2019-03-28 | surge absorption circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020161780A true JP2020161780A (en) | 2020-10-01 |
JP7347951B2 JP7347951B2 (en) | 2023-09-20 |
Family
ID=72639967
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019063044A Active JP7347951B2 (en) | 2019-03-28 | 2019-03-28 | surge absorption circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7347951B2 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006121007A (en) * | 2004-10-25 | 2006-05-11 | Renesas Technology Corp | Semiconductor integrated circuit |
JP2009147040A (en) * | 2007-12-13 | 2009-07-02 | Renesas Technology Corp | Semiconductor integrated circuit device |
JP2016072349A (en) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | Semiconductor device |
US20170310103A1 (en) * | 2016-04-22 | 2017-10-26 | Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. | Integrated circuit electrostatic discharge protection |
-
2019
- 2019-03-28 JP JP2019063044A patent/JP7347951B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006121007A (en) * | 2004-10-25 | 2006-05-11 | Renesas Technology Corp | Semiconductor integrated circuit |
JP2009147040A (en) * | 2007-12-13 | 2009-07-02 | Renesas Technology Corp | Semiconductor integrated circuit device |
JP2016072349A (en) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | Semiconductor device |
US20170310103A1 (en) * | 2016-04-22 | 2017-10-26 | Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. | Integrated circuit electrostatic discharge protection |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7347951B2 (en) | 2023-09-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5955924B2 (en) | Electrostatic discharge protection circuit | |
US7280328B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US7755870B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US7692907B2 (en) | Circuit for electrostatic discharge (ESD) protection | |
US5946175A (en) | Secondary ESD/EOS protection circuit | |
US7295411B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JP6521792B2 (en) | Semiconductor device | |
US20180342865A1 (en) | Electrostatic protection circuit | |
TW201203509A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
KR100855265B1 (en) | Electrostatic discharge protection circuit | |
KR20070071465A (en) | Electrostatic discharge protection circuit | |
JP6405986B2 (en) | Electrostatic protection circuit and semiconductor integrated circuit device | |
JP5548284B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
US7154721B2 (en) | Electrostatic discharge input protection circuit | |
US10454269B2 (en) | Dynamically triggered electrostatic discharge cell | |
JP2005142494A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
US11233394B2 (en) | Electrostatic protection circuit | |
JP7347951B2 (en) | surge absorption circuit | |
US20180115156A1 (en) | Semiconductor integrated circuit and semiconductor device including the same | |
TW201703222A (en) | Output buffer circuit with an ESD self-protection | |
US11621556B2 (en) | Protective circuit | |
JP3440972B2 (en) | Surge protection circuit | |
KR960000517B1 (en) | Output buffer with electrostatic protection circuit | |
CN115189339A (en) | Electrostatic protection circuit | |
JP2013157482A (en) | Integrated circuit |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221017 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221018 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20221216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230523 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230724 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20230731 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230808 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230907 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7347951 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |