JP2020139211A - Particle coating method and particle coating device - Google Patents

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輝晃 難波
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Abstract

To provide a particle coating method and a particle coating device capable of forming a coat with restrained dispersion of thickness on a surface of a magnetic particle.SOLUTION: A particle coating method includes the steps of: putting first magnetic particles and second magnetic particles with a larger average grain diameter than that of the first magnetic particle into a container; fixing the first magnetic particles with a first magnetic force, and fixing the second magnetic particles with a second magnetic force stronger than the first magnetic force at a perpendicular lower part than the first magnetic force; and forming a coat on the surface of the first magnetic particles and the surface of the second magnetic particles by an atomic layer deposition method, while the first and second magnetic particles are fixed. Also, it is preferable that the first and second magnetic particles are heated while the first magnetic particles are fixed with the first magnetic force and the second magnetic particles are fixed with the second magnetic force.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、粒子被覆方法および粒子被覆装置に関するものである。 The present invention relates to a particle coating method and a particle coating device.

インダクター等に用いられる磁性粉末では、粒子表面に絶縁処理を施し、粒子間に流れる渦電流を抑制する必要がある。このため、各種成膜法を用いて、磁性粉末の粒子表面に絶縁被膜を形成する方法が検討されている。 In magnetic powder used for inductors and the like, it is necessary to insulate the surface of the particles to suppress eddy currents flowing between the particles. Therefore, a method of forming an insulating film on the particle surface of the magnetic powder by using various film forming methods has been studied.

例えば、特許文献1には、粒子に被覆材料をスパッタすることにより、粒子表面に薄膜をコーティングする方法として、有底円筒形状の粒子容器に粒子を収容し、粒子容器を円筒の軸を回転軸とし、かつ、回転軸を水平方向に対して所定角度傾斜させつつ回転させながら、被覆材料をスパッタする方法が開示されている。 For example, in Patent Document 1, as a method of coating a thin film on a particle surface by sputtering a coating material on the particles, the particles are housed in a bottomed cylindrical particle container, and the particle container is rotated around the axis of the cylinder. A method is disclosed in which the coating material is sputtered while rotating the rotating shaft while inclining it at a predetermined angle with respect to the horizontal direction.

特開2007−204784号公報JP-A-2007-204784

一方、被覆材料を被覆する対象の粒子の粒径に分布がある場合、すなわち、含まれる粒子の粒径にバラつきがある場合、粒子ごとに薄膜の膜厚が大きく異なるおそれがある。例えば、被覆材料がスパッタされる際、被覆材料の飛行方向から見たとき、粒径が大きな粒子の陰に小さな粒子が隠れてしまう場合がある。このような場合、小さい粒子の表面には薄膜が全く形成されない可能性もある。そうすると、その小さな粒子の絶縁性が確保されず、磁性粉末全体の特性が低下するおそれがある。したがって、粒子の粒径に分布がある場合、つまり粒径が大きな粒子と小さな粒子とが混在している場合でも、薄膜の膜厚のバラつきを小さくすることが求められる。 On the other hand, when there is a distribution in the particle size of the particles to be coated with the coating material, that is, when the particle size of the contained particles varies, the film thickness of the thin film may differ greatly for each particle. For example, when the coating material is sputtered, small particles may be hidden behind particles having a large particle size when viewed from the flight direction of the coating material. In such a case, it is possible that no thin film is formed on the surface of the small particles. Then, the insulating property of the small particles is not ensured, and the characteristics of the entire magnetic powder may deteriorate. Therefore, it is required to reduce the variation in the film thickness of the thin film even when the particle size of the particles is distributed, that is, even when the particles having a large particle size and the particles having a small particle size are mixed.

本発明の適用例に係る粒子被覆方法は、容器内に第1磁性粒子および前記第1磁性粒子より平均粒径が大きい第2磁性粒子を入れる工程と、第1磁力で前記第1磁性粒子を固定し、前記第1磁力よりも鉛直下方において前記第1磁力よりも強い第2磁力で前記第2磁性粒子を固定する工程と、前記第1磁性粒子および前記第2磁性粒子を固定した状態で、原子層堆積法により、前記第1磁性粒子の表面および前記第2磁性粒子の表面に被膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。 The particle coating method according to the application example of the present invention includes a step of putting a first magnetic particle and a second magnetic particle having a larger average particle size than the first magnetic particle in a container, and the first magnetic particle with the first magnetic force. In the step of fixing and fixing the second magnetic particle with a second magnetic force stronger than the first magnetic force vertically below the first magnetic force, and in a state where the first magnetic particle and the second magnetic particle are fixed. It is characterized by having a step of forming a film on the surface of the first magnetic particles and the surface of the second magnetic particles by an atomic layer deposition method.

実施形態に係る粒子被覆装置1を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the particle coating apparatus 1 which concerns on embodiment. 図1のA−A線断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 被膜を形成する前における、図1に示す磁性粒子の近傍を示す部分拡大図である。It is a partially enlarged view which shows the vicinity of the magnetic particle shown in FIG. 1 before forming a film. 被膜を形成した後における、図1に示す磁性粒子の近傍を示す部分拡大図である。It is a partially enlarged view which shows the vicinity of the magnetic particle shown in FIG. 1 after forming a film. 図1のB部拡大図である。It is the B part enlarged view of FIG. 実施形態に係る粒子被覆方法を示す工程図である。It is a process drawing which shows the particle coating method which concerns on embodiment. 図6に示す粒子被覆方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the particle coating method shown in FIG.

以下、本発明の粒子被覆方法および粒子被覆装置の好適な実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, a preferred embodiment of the particle coating method and the particle coating apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

[粒子被覆装置]
まず、実施形態に係る粒子被覆装置について説明する。
[Particle coating device]
First, the particle coating device according to the embodiment will be described.

図1は、実施形態に係る粒子被覆装置1を示す断面図である。図2は、図1のA−A線断面図である。図3は、被膜92を形成する前における、図1に示す磁性粒子91の近傍を示す部分拡大図である。図4は、被膜92を形成した後における、図1に示す磁性粒子91の近傍を示す部分拡大図である。図5は、図1のB部拡大図である。なお、図1および図2ならびに後述する図では、説明の便宜上、互いに直交する3つの軸として、X軸、Y軸およびZ軸を設定している。そして、+Z側を上方、−Z側を下方として説明する。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing a particle coating device 1 according to an embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. FIG. 3 is a partially enlarged view showing the vicinity of the magnetic particles 91 shown in FIG. 1 before forming the coating film 92. FIG. 4 is a partially enlarged view showing the vicinity of the magnetic particles 91 shown in FIG. 1 after the coating film 92 is formed. FIG. 5 is an enlarged view of part B of FIG. In FIGS. 1 and 2 and the drawings described later, the X-axis, the Y-axis, and the Z-axis are set as three axes orthogonal to each other for convenience of explanation. Then, the + Z side will be described as upward, and the −Z side will be described as downward.

図1に示す粒子被覆装置1は、磁性粒子91を収容するチャンバー22(容器)を備え、原子層堆積法(ALD : Atomic Layer Deposition)により、磁性粒子91の表面に被膜92を形成する成膜装置2と、チャンバー22内に磁力を発生させ、磁性粒子91を固定する磁力発生部3と、を有している。また、成膜装置2は、前述したチャンバー22の他、チャンバー22内に磁性粒子91を供給する粒子供給部23と、チャンバー22内を排気する排気部24と、チャンバー22内にガスを導入するガス導入部26と、加熱部28と、を備えている。 The particle coating device 1 shown in FIG. 1 includes a chamber 22 (container) for accommodating the magnetic particles 91, and forms a film 92 on the surface of the magnetic particles 91 by an atomic layer deposition method (ALD). It has a device 2 and a magnetic force generating unit 3 that generates a magnetic force in the chamber 22 and fixes the magnetic particles 91. Further, in addition to the chamber 22 described above, the film forming apparatus 2 introduces a particle supply unit 23 that supplies magnetic particles 91 into the chamber 22, an exhaust unit 24 that exhausts the inside of the chamber 22, and a gas into the chamber 22. A gas introduction unit 26 and a heating unit 28 are provided.

かかる粒子被覆装置1では、図3に示すように、磁力発生部3により発生させた磁力で磁性粒子91を固定した状態で、磁性粒子91の表面に被膜92を形成する。これにより、磁性粒子91が自重で落下することなく、磁性粒子91をチャンバー22内に固定した状態で被膜92を形成することができる。これにより、図4に示す被膜付き磁性粒子93を安定して製造することができる。 In such a particle coating device 1, as shown in FIG. 3, a coating film 92 is formed on the surface of the magnetic particles 91 in a state where the magnetic particles 91 are fixed by the magnetic force generated by the magnetic force generating unit 3. As a result, the coating film 92 can be formed with the magnetic particles 91 fixed in the chamber 22 without the magnetic particles 91 falling due to their own weight. As a result, the magnetic particles 93 with a coating shown in FIG. 4 can be stably produced.

それに加え、磁力発生部3は、チャンバー22内の鉛直方向の互いに異なる位置において、互いに異なる強さの磁界を発生させるように構成されている。これにより、磁性粒子91には、鉛直方向の異なる位置において互いに異なる強さの磁力が作用する。その結果、磁性粒子91は、その粒径ごとに、鉛直方向の異なる位置に固定される。具体的には、磁性粒子91は、後述するように、第1磁性粒子911と、第1磁性粒子911より粒径が大きい第2磁性粒子912と、第2磁性粒子912より粒径が大きい第3磁性粒子913と、を含んでいる。そして、第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913は、図3に示すように、チャンバー22内において鉛直上方からこの順で互いに異なる位置に固定される。そうすると、粒径をある程度揃えた状態で磁性粒子91を固定することができるので、従来のような粒径の大きな粒子の陰に小さな粒子が隠れるという事象が発生する確率は低くなる。これにより、磁性粒子91に形成される被膜92の膜厚のバラつきを小さく抑えることができる。 In addition, the magnetic force generating unit 3 is configured to generate magnetic fields of different strengths at different positions in the vertical direction in the chamber 22. As a result, magnetic forces of different strengths act on the magnetic particles 91 at different positions in the vertical direction. As a result, the magnetic particles 91 are fixed at different positions in the vertical direction for each particle size. Specifically, as will be described later, the magnetic particles 91 have a first magnetic particle 911, a second magnetic particle 912 having a larger particle size than the first magnetic particle 911, and a second magnetic particle 91 having a larger particle size than the second magnetic particle 912. 3 Magnetic particles 913 and. Then, as shown in FIG. 3, the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913 are fixed at different positions in the chamber 22 from vertically above in this order. Then, since the magnetic particles 91 can be fixed with the particle sizes aligned to some extent, the probability that the small particles are hidden behind the conventional particles having a large particle size is low. As a result, variations in the film thickness of the coating film 92 formed on the magnetic particles 91 can be suppressed to a small extent.

以下、粒子被覆装置1の各部について詳述する。
前述したように、図1に示す成膜装置2は、チャンバー22と、粒子供給部23と、排気部24と、ガス導入部26と、加熱部28と、を備えている。このような成膜装置2では、粒子供給部23によってチャンバー22内に磁性粒子91を供給し、排気部24によってチャンバー22内を排気した後、ガス導入部26によりガスを導入する。そして、加熱部28によってチャンバー22および磁性粒子91を加熱する。この加熱によりチャンバー22内に導入された原料ガスが熱分解され、磁性粒子91の表面に分解物が吸着し、最終的に被膜92が形成される。
Hereinafter, each part of the particle coating device 1 will be described in detail.
As described above, the film forming apparatus 2 shown in FIG. 1 includes a chamber 22, a particle supply unit 23, an exhaust unit 24, a gas introduction unit 26, and a heating unit 28. In such a film forming apparatus 2, the magnetic particles 91 are supplied into the chamber 22 by the particle supply unit 23, the inside of the chamber 22 is exhausted by the exhaust unit 24, and then the gas is introduced by the gas introduction unit 26. Then, the chamber 22 and the magnetic particles 91 are heated by the heating unit 28. By this heating, the raw material gas introduced into the chamber 22 is thermally decomposed, the decomposed product is adsorbed on the surface of the magnetic particles 91, and finally the film 92 is formed.

チャンバー22は、図1および図2に示すように、Z軸方向、すなわち鉛直方向に平行な軸を有する円筒形状をなしている。そして、チャンバー22は、バルブ82を介して上下に分割されている。このうち、上方に位置する処理室222は、磁性粒子91の表面に被膜92を形成する成膜処理を施す空間を形成するチャンバーである。一方、下方に位置する回収室224は、被膜付き磁性粒子93を回収するための空間を形成するチャンバーである。 As shown in FIGS. 1 and 2, the chamber 22 has a cylindrical shape having axes parallel to the Z-axis direction, that is, the vertical direction. The chamber 22 is divided into upper and lower parts via a valve 82. Of these, the processing chamber 222 located above is a chamber that forms a space for performing a film forming process for forming a film 92 on the surface of the magnetic particles 91. On the other hand, the recovery chamber 224 located below is a chamber that forms a space for collecting the magnetic particles 93 with a coating film.

処理室222の構成材料としては、それぞれ、石英ガラスのようなガラス材料、アルミナのようなセラミックス材料、アルミニウム、チタン、パーマロイのような非磁性金属材料等が挙げられる。 Examples of the constituent material of the processing chamber 222 include a glass material such as quartz glass, a ceramic material such as alumina, and a non-magnetic metal material such as aluminum, titanium, and permalloy.

一方、回収室224の構成材料としては、前述した処理室222の構成材料の他、ステンレス鋼のような金属材料も挙げられる。 On the other hand, examples of the constituent material of the recovery chamber 224 include a metal material such as stainless steel in addition to the constituent material of the processing chamber 222 described above.

処理室222の下端と回収室224の上端との間を隔てるバルブ82は、真空用ゲートバルブ等で構成され、処理室222と回収室224との間を開閉することができる。 The valve 82 that separates the lower end of the processing chamber 222 and the upper end of the recovery chamber 224 is composed of a vacuum gate valve or the like, and can open and close between the processing chamber 222 and the recovery chamber 224.

回収室224の下端は、フランジ84で気密封止されている。このフランジ84には、貫通孔842が設けられ、この貫通孔842に排気部24が接続されている。 The lower end of the recovery chamber 224 is hermetically sealed with a flange 84. A through hole 842 is provided in the flange 84, and the exhaust portion 24 is connected to the through hole 842.

粒子供給部23は、磁性粒子91を貯留する粒子貯留部232と、粒子貯留部232の下端と処理室222の上端とを接続するフランジ234と、フランジ234に設けられた貫通孔を開閉するバルブ236と、を備えている。バルブ236を開くと、粒子貯留部232に貯留されている磁性粒子91がその自重で処理室222内に落下するようになっている。 The particle supply unit 23 includes a particle storage unit 232 that stores magnetic particles 91, a flange 234 that connects the lower end of the particle storage unit 232 and the upper end of the processing chamber 222, and a valve that opens and closes a through hole provided in the flange 234. 236 and. When the valve 236 is opened, the magnetic particles 91 stored in the particle storage unit 232 fall into the processing chamber 222 by its own weight.

排気部24は、貫通孔842に取り付けられたバルブ242と、排気ポンプ244と、バルブ242と排気ポンプ244とを接続する配管246と、を備えている。排気部24によってチャンバー22内を排気することにより、チャンバー22内を減圧させ、いわゆる真空状態にすることができる。 The exhaust unit 24 includes a valve 242 attached to the through hole 842, an exhaust pump 244, and a pipe 246 connecting the valve 242 and the exhaust pump 244. By exhausting the inside of the chamber 22 by the exhaust unit 24, the inside of the chamber 22 can be depressurized to a so-called vacuum state.

バルブ242は、閉じられることにより、貫通孔842を閉塞し、排気を一時的に停止させることができる。 By closing the valve 242, the through hole 842 can be closed and the exhaust can be temporarily stopped.

ガス導入部26は、処理室222の上部に気密接続されている支持部材262と、支持部材262の内部に設けられたノズル263、264と、原料ガスを貯留する原料ガス貯留部265と、酸化剤を貯留する酸化剤貯留部266と、原料ガス貯留部265とノズル263とを接続する配管267と、酸化剤貯留部266とノズル264とを接続する配管268と、を備えている。ガス導入部26により、被膜92の形成に必要な原料ガス、酸化剤等がチャンバー22内に供給される。 The gas introduction unit 26 includes a support member 262 airtightly connected to the upper part of the processing chamber 222, nozzles 263 and 264 provided inside the support member 262, a raw material gas storage unit 265 for storing the raw material gas, and oxidation. It is provided with an oxidant storage unit 266 for storing the agent, a pipe 267 for connecting the raw material gas storage unit 265 and the nozzle 263, and a pipe 268 for connecting the oxidant storage unit 266 and the nozzle 264. The gas introduction unit 26 supplies the raw material gas, the oxidizing agent, and the like necessary for forming the coating film 92 into the chamber 22.

支持部材262は、X軸方向に平行な軸を持つ有底の筒状をなしており、その開口部とチャンバー22とが接続されている。これにより、支持部材262の内部とチャンバー22とで閉空間が形成されている。被膜92の形成時には、この閉空間が減圧状態になる。 The support member 262 has a bottomed tubular shape having an axis parallel to the X-axis direction, and the opening thereof and the chamber 22 are connected to each other. As a result, a closed space is formed between the inside of the support member 262 and the chamber 22. When the film 92 is formed, this closed space is in a reduced pressure state.

ノズル263は、支持部材262の内部に設けられ、配管267を介して送られてくる原料ガスをチャンバー22内に噴霧する。また、ノズル264も、支持部材262の内部に設けられ、配管268を介して送られてくる酸化剤をチャンバー22内に噴霧する。これにより、チャンバー22内に原料ガスおよび酸化剤をそれぞれ均一に供給することができ、チャンバー22内に収容される磁性粒子91の表面に所定の膜厚の被膜92を形成することが可能になる。 The nozzle 263 is provided inside the support member 262 and sprays the raw material gas sent through the pipe 267 into the chamber 22. Further, the nozzle 264 is also provided inside the support member 262, and sprays the oxidant sent through the pipe 268 into the chamber 22. As a result, the raw material gas and the oxidizing agent can be uniformly supplied into the chamber 22, and a film 92 having a predetermined film thickness can be formed on the surface of the magnetic particles 91 housed in the chamber 22. ..

なお、配管267、268の途中には、それぞれ原料ガスや酸化剤の流量を調整するバルブが設けられ、チャンバー22内における原料ガスおよび酸化剤の各分圧を制御することができる。 In the middle of the pipes 267 and 268, valves for adjusting the flow rates of the raw material gas and the oxidizing agent are provided, and the partial pressures of the raw material gas and the oxidizing agent in the chamber 22 can be controlled.

また、原料ガスおよび酸化剤は、必要に応じて、窒素ガスやアルゴンガスのような不活性ガスを主成分とするキャリアガスとともに供給される。 Further, the raw material gas and the oxidizing agent are supplied together with a carrier gas containing an inert gas such as nitrogen gas or argon gas as a main component, if necessary.

加熱部28は、チャンバー22の外部に設けられている。本実施形態では、図1に示すように、磁力発生部3のチャンバー22とは反対側に設けられている。このような加熱部28は、チャンバー22の内面に固定した磁性粒子91を、チャンバー22の外部から加熱して昇温させる。 The heating unit 28 is provided outside the chamber 22. In this embodiment, as shown in FIG. 1, the magnetic force generating unit 3 is provided on the opposite side of the chamber 22. Such a heating unit 28 heats the magnetic particles 91 fixed to the inner surface of the chamber 22 from the outside of the chamber 22 to raise the temperature.

このような加熱部28としては、チャンバー22の内部に収容された磁性粒子91を加熱可能な部材であれば、加熱原理や配置は特に限定されるものではないが、ヒーター配線を内蔵したヒーターブロック、フィルムヒーター、シートヒーター、シーズヒーター、赤外線を放射する赤外線放射ヒーター等が用いられる。 As long as the heating unit 28 is a member capable of heating the magnetic particles 91 housed inside the chamber 22, the heating principle and arrangement are not particularly limited, but the heater block incorporating the heater wiring is not particularly limited. , Film heaters, seat heaters, sheathed heaters, infrared radiation heaters that emit infrared rays, etc. are used.

以上のような成膜装置2では、前述したように、原子層堆積法により被膜92を形成する。原子層堆積法は、原料ガスと酸化剤という2種類またはそれ以上の種類のガスを交互に導入、排気を繰り返すことにより、被成膜面に吸着させた原料分子を反応させて膜化する方法である。この方法では、形成する被膜92の膜厚を高精度に制御することができる。このため、特に薄い被膜92を形成することができる。したがって、磁性粒子91が軟磁性を有している場合、その表面を被覆する被膜92の膜厚を薄くすることができれば、磁性粒子91同士の絶縁性を良好に維持しながら単位体積当たりの磁性粒子91の密度が高い圧粉磁心を製造することができる。これにより、特に磁束密度や透磁率等の磁気特性が高い圧粉磁心等を製造可能な被膜付き磁性粒子93を実現することができる。 In the film forming apparatus 2 as described above, the film 92 is formed by the atomic layer deposition method as described above. The atomic layer deposition method is a method in which two or more types of gases, a raw material gas and an oxidant, are alternately introduced and exhausted repeatedly to react the raw material molecules adsorbed on the surface to be filmed to form a film. Is. In this method, the film thickness of the film 92 to be formed can be controlled with high accuracy. Therefore, a particularly thin film 92 can be formed. Therefore, when the magnetic particles 91 have soft magnetism, if the film thickness of the coating film 92 covering the surface thereof can be reduced, the magnetism per unit volume while maintaining good insulation between the magnetic particles 91. It is possible to produce a dust core having a high density of particles 91. As a result, it is possible to realize the magnetic particles 93 with a coating film capable of producing a dust core or the like having particularly high magnetic characteristics such as magnetic flux density and magnetic permeability.

また、細かな隙間にも原料ガスや酸化剤が回り込んで成膜されるため、成膜されない部分、すなわちピンホールが発生しにくく、均一な膜厚の被膜92を形成することができる。このため、均一で薄い膜厚の被膜92で磁性粒子91の表面が被覆されてなる被膜付き磁性粒子93を得ることができる。このような被膜付き磁性粒子93は、粒子間の絶縁性が良好な圧粉磁心の実現に寄与する。 Further, since the raw material gas and the oxidizing agent wrap around the small gaps to form a film, a portion that is not formed, that is, pinholes are less likely to occur, and a film 92 having a uniform film thickness can be formed. Therefore, it is possible to obtain a coated magnetic particle 93 in which the surface of the magnetic particle 91 is coated with a uniform and thin film 92. Such coated magnetic particles 93 contribute to the realization of a dust core having good insulation between particles.

磁力発生部3は、一対の電磁石321、322で構成され、処理室222の上部に対応して設けられた第1電磁石32と、一対の電磁石341、342で構成され、処理室222の鉛直方向の中央部に対応して設けられた第2電磁石34と、一対の電磁石361、362で構成され、処理室222の下部に対応して設けられた第3電磁石36と、これらの第1電磁石32、第2電磁石34および第3電磁石36と電気的に接続されている制御部38と、を備えている。 The magnetic force generating unit 3 is composed of a pair of electromagnets 321 and 222, and is composed of a first electromagnet 32 provided corresponding to the upper part of the processing chamber 222 and a pair of electromagnets 341 and 342 in the vertical direction of the processing chamber 222. A second electromagnet 34 provided corresponding to the central portion of the above, a third electromagnet 36 composed of a pair of electromagnets 361 and 362 and provided corresponding to the lower part of the processing chamber 222, and a first electromagnet 32 thereof. , A control unit 38 that is electrically connected to the second electromagnet 34 and the third electromagnet 36.

第1電磁石32は、処理室222の上部において、処理室222の外面に沿って密着するように設けられている。第1電磁石32は、処理室222の外面に沿って湾曲した面を有し、その湾曲面と処理室222の外面とが重なるように配置されている。 The first electromagnet 32 is provided in the upper part of the processing chamber 222 so as to be in close contact with the outer surface of the processing chamber 222. The first electromagnet 32 has a curved surface along the outer surface of the processing chamber 222, and the curved surface thereof and the outer surface of the processing chamber 222 are arranged so as to overlap each other.

また、一対の電磁石321、322は、処理室222側の極性が互いに異なるように、その電流方向が設定されている。電磁石321の処理室222側の極性がN極である場合、電磁石322の処理室222側の極性がS極になる。このため、処理室222内には、電磁石321と電磁石322とを結ぶ磁力線に基づく磁界が発生する。そして、この磁界中に磁性粒子91が入ると、磁性粒子91に第1磁力が発生し、この第1磁力で処理室222の内面の第1電磁石32と重なる領域に磁性粒子91を固定する。 Further, the current directions of the pair of electromagnets 321 and 222 are set so that the polarities on the processing chamber 222 side are different from each other. When the polarity of the electromagnet 321 on the processing chamber 222 side is N pole, the polarity of the electromagnet 322 on the processing chamber 222 side is S pole. Therefore, a magnetic field based on the magnetic field line connecting the electromagnet 321 and the electromagnet 322 is generated in the processing chamber 222. Then, when the magnetic particles 91 enter the magnetic field, a first magnetic force is generated in the magnetic particles 91, and the magnetic particles 91 are fixed in a region overlapping the first electromagnet 32 on the inner surface of the processing chamber 222 by the first magnetic force.

第2電磁石34は、処理室222の中央部において、処理室222の外面に沿って密着するように設けられている。第2電磁石34は、処理室222の外面に沿って湾曲した面を有し、その湾曲面と処理室222の外面とが重なるように配置されている。 The second electromagnet 34 is provided in the central portion of the processing chamber 222 so as to be in close contact with the outer surface of the processing chamber 222. The second electromagnet 34 has a curved surface along the outer surface of the processing chamber 222, and the curved surface thereof and the outer surface of the processing chamber 222 are arranged so as to overlap each other.

また、一対の電磁石341、342は、処理室222側の極性が互いに異なるように、その電流方向が設定されている。電磁石341の処理室222側の極性がN極である場合、電磁石342の処理室222側の極性がS極になる。このため、処理室222内には、電磁石341と電磁石342とを結ぶ磁力線に基づく磁界が発生する。そして、この磁界中に磁性粒子91が入ると、磁性粒子91に第2磁力が発生し、この第2磁力で処理室222の内面の第2電磁石34と重なる領域に磁性粒子91を固定する。なお、この第2磁力は、第1磁力よりも強くなるように設定される。 Further, the current directions of the pair of electromagnets 341 and 342 are set so that the polarities on the processing chamber 222 side are different from each other. When the polarity of the electromagnet 341 on the processing chamber 222 side is N pole, the polarity of the electromagnet 342 on the processing chamber 222 side is S pole. Therefore, a magnetic field based on the magnetic field line connecting the electromagnet 341 and the electromagnet 342 is generated in the processing chamber 222. Then, when the magnetic particles 91 enter the magnetic field, a second magnetic force is generated in the magnetic particles 91, and the magnetic particles 91 are fixed in a region overlapping the second electromagnet 34 on the inner surface of the processing chamber 222 by the second magnetic force. The second magnetic force is set to be stronger than the first magnetic force.

第3電磁石36は、処理室222の下部において、処理室222の外面に沿って密着するように設けられている。第3電磁石36は、処理室222の外面に沿って湾曲した面を有し、その湾曲面と処理室222の外面とが重なるように配置されている。 The third electromagnet 36 is provided in the lower part of the processing chamber 222 so as to be in close contact with the outer surface of the processing chamber 222. The third electromagnet 36 has a curved surface along the outer surface of the processing chamber 222, and the curved surface thereof and the outer surface of the processing chamber 222 are arranged so as to overlap each other.

また、一対の電磁石361、362は、処理室222側の極性が互いに異なるように、その電流方向が設定されている。電磁石361の処理室222側の極性がN極である場合、電磁石362の処理室222側の極性がS極になる。このため、処理室222内には、電磁石361と電磁石362とを結ぶ磁力線に基づく磁界が発生する。そして、この磁界中に磁性粒子91が入ると、磁性粒子91に第3磁力が発生し、この第3磁力で処理室222の内面の第3電磁石36と重なる領域に磁性粒子91を固定する。なお、この第3磁力は、第2磁力よりも強くなるように設定される。 Further, the current directions of the pair of electromagnets 361 and 362 are set so that the polarities on the processing chamber 222 side are different from each other. When the polarity of the electromagnet 361 on the processing chamber 222 side is N pole, the polarity of the electromagnet 362 on the processing chamber 222 side is S pole. Therefore, a magnetic field based on the magnetic field line connecting the electromagnet 361 and the electromagnet 362 is generated in the processing chamber 222. Then, when the magnetic particles 91 enter the magnetic field, a third magnetic force is generated in the magnetic particles 91, and the magnetic particles 91 are fixed in a region overlapping the third electromagnet 36 on the inner surface of the processing chamber 222 by the third magnetic force. The third magnetic force is set to be stronger than the second magnetic force.

制御部38は、マイコン、IC等を含む回路で構成され、第1電磁石32、第2電磁石34および第3電磁石36に流れる電流の向きと大きさを制御する。これにより、処理室222内の磁性粒子91に作用する第1磁力、第2磁力および第3磁力の向きと強さを制御する。 The control unit 38 is composed of a circuit including a microcomputer, an IC, and the like, and controls the direction and magnitude of the current flowing through the first electromagnet 32, the second electromagnet 34, and the third electromagnet 36. As a result, the directions and strengths of the first magnetic force, the second magnetic force, and the third magnetic force acting on the magnetic particles 91 in the processing chamber 222 are controlled.

以上のような磁力発生部3により、処理室222内に磁界を発生させると、磁力線に沿って処理室222内に投入された磁性粒子91を捕捉することができる。具体的には、粒子供給部23から処理室222内に磁性粒子91が供給されると、磁性粒子91は自重で処理室222内を落下する。このとき、第1電磁石32では磁性粒子91に対して第1磁力が発生するような磁界を形成し、第2電磁石34では磁性粒子91に対して第2磁力が発生するような磁界を形成し、第3電磁石36では磁性粒子91に対して第3磁力が発生するような磁界を形成する。 When a magnetic field is generated in the processing chamber 222 by the magnetic force generating unit 3 as described above, the magnetic particles 91 thrown into the processing chamber 222 along the lines of magnetic force can be captured. Specifically, when the magnetic particles 91 are supplied from the particle supply unit 23 into the processing chamber 222, the magnetic particles 91 fall into the processing chamber 222 by their own weight. At this time, the first electromagnet 32 forms a magnetic field that generates a first magnetic field with respect to the magnetic particles 91, and the second electromagnet 34 forms a magnetic field that generates a second magnetic field with respect to the magnetic particles 91. , The third electromagnet 36 forms a magnetic field that generates a third magnetic force with respect to the magnetic particles 91.

一方、粒子供給部23から供給される磁性粒子91には、様々な粒径の粒子が含まれている。このような粒径のバラつきは、程度の差はあるものの、一般的な製造方法で製造されたあらゆる粉末において存在する。ここでは、一例として、相対的に小さい磁性粒子91のことを特に「第1磁性粒子911」という。また、第1磁性粒子911よりも大きい磁性粒子91のことを特に「第3磁性粒子913」という。さらに、第1磁性粒子911より大きく第3磁性粒子913より小さい磁性粒子91のことを特に「第2磁性粒子912」という。したがって、第1磁性粒子911、第2磁性粒子912、第3磁性粒子913の順で徐々に粒径が大きくなっている。このような第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913が混在した磁性粒子91が、粒子供給部23から供給されると、処理室222内を落下中の磁性粒子91に対して、第1磁力、第2磁力、第3磁力がこの順で作用することになる。 On the other hand, the magnetic particles 91 supplied from the particle supply unit 23 include particles having various particle sizes. Such variations in particle size are present, to varying degrees, in all powders produced by common manufacturing methods. Here, as an example, the relatively small magnetic particles 91 are particularly referred to as "first magnetic particles 911". Further, the magnetic particles 91 larger than the first magnetic particles 911 are particularly referred to as "third magnetic particles 913". Further, the magnetic particles 91 which are larger than the first magnetic particles 911 and smaller than the third magnetic particles 913 are particularly referred to as "second magnetic particles 912". Therefore, the particle size gradually increases in the order of the first magnetic particle 911, the second magnetic particle 912, and the third magnetic particle 913. When the magnetic particles 91 in which the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913 are mixed are supplied from the particle supply unit 23, they become the magnetic particles 91 falling in the processing chamber 222. On the other hand, the first magnetic force, the second magnetic force, and the third magnetic force act in this order.

なお、前述した「粒径」とは、第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913がそれぞれ複数個ある場合には、それらの平均粒径とする。したがって、複数の第2磁性粒子912は、その平均粒径が複数の第1磁性粒子911の平均粒径よりも大きければよい。同様に、複数の第3磁性粒子913は、その平均粒径が複数の第2磁性粒子912の平均粒径よりも大きければよい。 The above-mentioned "particle size" is the average particle size of the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913 when there are a plurality of them. Therefore, the average particle size of the plurality of second magnetic particles 912 may be larger than the average particle size of the plurality of first magnetic particles 911. Similarly, the average particle size of the plurality of third magnetic particles 913 may be larger than the average particle size of the plurality of second magnetic particles 912.

また、第1磁性粒子911と第2磁性粒子912との粒径の差、および、第2磁性粒子912と第3磁性粒子913との粒径の差は、磁性粒子91の平均粒径に応じて決まるため、それぞれ特に限定されないが、一例として1μm以上30μm以下であるのが好ましく、3μm以上20μm以下であるのがより好ましい。このような差が確保されていれば、磁性粒子91に形成される被膜92の膜厚のバラつきを小さく抑える、という効果をより顕著に得ることができる。 The difference in particle size between the first magnetic particles 911 and the second magnetic particles 912 and the difference in particle size between the second magnetic particles 912 and the third magnetic particles 913 depend on the average particle size of the magnetic particles 91. However, as an example, it is preferably 1 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 3 μm or more and 20 μm or less. If such a difference is secured, the effect of suppressing the variation in the film thickness of the coating film 92 formed on the magnetic particles 91 to be small can be obtained more remarkably.

また、前述したように、第1磁力は、第2磁力および第3磁力よりも弱い。このため、粒子供給部23から供給され、落下を開始した磁性粒子91のうち、相対的に小さい第1磁性粒子911は、第1磁力に捕捉され、処理室222の内面に固定される。一方、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913は第1磁力に捕捉されることなく、引き続き落下する。第2磁性粒子912および第3磁性粒子913は、質量が相対的に大きいため、これらの重力が第1磁力を上回るためである。換言すれば、このような選択的な捕捉が生じるように、第1磁力の強さを設定する。 Further, as described above, the first magnetic force is weaker than the second magnetic force and the third magnetic force. Therefore, among the magnetic particles 91 supplied from the particle supply unit 23 and starting to fall, the relatively small first magnetic particles 911 are captured by the first magnetic force and fixed to the inner surface of the processing chamber 222. On the other hand, the second magnetic particles 912 and the third magnetic particles 913 continue to fall without being captured by the first magnetic force. This is because the second magnetic particles 912 and the third magnetic particles 913 have relatively large masses, so that their gravitational forces exceed the first magnetic force. In other words, the strength of the first magnetic force is set so that such selective capture occurs.

その後、第1磁性粒子911より大きく第3磁性粒子913より小さい第2磁性粒子912は、第2磁力に捕捉され、処理室222の内面に固定される。一方、第3磁性粒子913は第2磁力にも捕捉されることなく、引き続き落下する。第3磁性粒子913は、質量が相対的に大きく、その重力が第2磁力を上回るためである。換言すれば、このような選択的な捕捉が生じるように、第2磁力の強さを設定する。 After that, the second magnetic particles 912, which are larger than the first magnetic particles 911 and smaller than the third magnetic particles 913, are captured by the second magnetic force and fixed to the inner surface of the processing chamber 222. On the other hand, the third magnetic particles 913 continue to fall without being captured by the second magnetic force. This is because the third magnetic particle 913 has a relatively large mass and its gravity exceeds the second magnetic force. In other words, the strength of the second magnetic force is set so that such selective capture occurs.

その後、第3磁性粒子913は、第3磁力に捕捉され、処理室222の内面に固定される。 After that, the third magnetic particles 913 are captured by the third magnetic force and fixed to the inner surface of the processing chamber 222.

以上のような磁力発生部3によれば、磁性粒子91に含まれた様々な粒径の粒子を、粒径ごとに分級しながら、互いに異なる領域に固定することができる。つまり、第1磁性粒子911を処理室222内の上部に固定し、第2磁性粒子912を処理室222内の中央部に固定し、第3磁性粒子913を処理室222内の下部に固定することができる。 According to the magnetic force generating unit 3 as described above, particles having various particle diameters contained in the magnetic particles 91 can be fixed in different regions while being classified for each particle size. That is, the first magnetic particles 911 are fixed to the upper part in the processing chamber 222, the second magnetic particles 912 are fixed to the central part in the processing chamber 222, and the third magnetic particles 913 are fixed to the lower part in the processing chamber 222. be able to.

そして、その後、成膜装置2において原子層堆積法による成膜処理を施すと、磁性粒子91の表面に被膜92が形成される。このとき、互いに粒径が異なる第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913は、それぞれ粒径ごとに異なる領域に区分されているため、従来のような、粒径が大きな粒子の陰に小さな粒子が隠れてしまうという問題は発生しにくい。このため、本実施形態に係る粒子被覆装置1によれば、磁性粒子91の粒径に分布がある場合でも、被膜92の膜厚のバラつきを小さく抑えることが可能になる。 Then, when the film forming process is performed by the atomic layer deposition method in the film forming apparatus 2, the film 92 is formed on the surface of the magnetic particles 91. At this time, since the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913, which have different particle sizes, are divided into different regions for each particle size, the particle size is large as in the conventional case. The problem that small particles are hidden behind the particles is unlikely to occur. Therefore, according to the particle coating device 1 according to the present embodiment, it is possible to keep the variation in the film thickness of the coating film 92 small even when the particle size of the magnetic particles 91 is distributed.

また、磁力発生部3によって処理室222内に磁界を発生させると、磁力線に沿って処理室222内に収容されている磁性粒子91同士が連なる。これにより、多数の磁性粒子91を固定し、保持することができる。その結果、原子層堆積法により被膜92を成膜する際、処理室222内を排気したとしても、磁性粒子91が舞い上がることが抑制される。このため、磁性粒子91が排気部24に巻き込まれるのを抑制し、排気部24の故障や磁性粒子91の逸失を抑制することができる。 Further, when a magnetic field is generated in the processing chamber 222 by the magnetic force generating unit 3, the magnetic particles 91 housed in the processing chamber 222 are connected to each other along the lines of magnetic force. As a result, a large number of magnetic particles 91 can be fixed and held. As a result, when the film 92 is formed by the atomic layer deposition method, the magnetic particles 91 are suppressed from flying up even if the inside of the processing chamber 222 is exhausted. Therefore, it is possible to suppress the magnetic particles 91 from being caught in the exhaust unit 24, and to suppress the failure of the exhaust unit 24 and the loss of the magnetic particles 91.

さらに、磁力線に沿って磁性粒子91同士が連なると、図3に示すように針状の磁性粒子91の集合体が多数形成される。その際、このような集合体は、処理室222内に並列するように形成されるため、集合体同士の間には隙間が生じる。このため、各磁性粒子91の表面の多くが露出することになり、原子層堆積法において供給された原料が磁性粒子91の表面に堆積して被膜92を形成する際、磁性粒子91同士が接している一部を除いて、多くの表面に被膜92を形成することができる。その結果、被膜92の被覆率を高めることができる。また、磁性粒子91同士の連なり方を変えるなどして、複数回に分けて被膜92を形成することにより、図4に示すように、磁性粒子91の表面のほぼ全面を被覆する被膜92を形成することが可能になる。 Further, when the magnetic particles 91 are connected to each other along the lines of magnetic force, a large number of needle-shaped aggregates of the magnetic particles 91 are formed as shown in FIG. At that time, since such aggregates are formed so as to be parallel to each other in the processing chamber 222, a gap is generated between the aggregates. Therefore, most of the surfaces of the magnetic particles 91 are exposed, and when the raw materials supplied in the atomic layer deposition method are deposited on the surface of the magnetic particles 91 to form a film 92, the magnetic particles 91 come into contact with each other. A coating 92 can be formed on many surfaces, except for some of them. As a result, the coverage of the coating film 92 can be increased. Further, by forming the coating film 92 in a plurality of times by changing the way in which the magnetic particles 91 are connected to each other, as shown in FIG. 4, the coating film 92 that covers almost the entire surface of the magnetic particles 91 is formed. It becomes possible to do.

なお、電磁石321、322、341、342、361、362の配置は、図示した配置とは異なっていてもよい。また、電磁石321、322、341、342、361、362と処理室222との間には、必要に応じて任意の介在物が配置されていてもよい。 The arrangement of the electromagnets 321, 322, 341, 342, 361, and 362 may be different from the arrangement shown in the drawing. Further, if necessary, any inclusions may be arranged between the electromagnets 321, 322, 341, 342, 361, 362 and the processing chamber 222.

また、電磁石321、322、341、342、361、362の少なくとも1つは、永久磁石に代替されてもよい。 Further, at least one of the electromagnets 321, 322, 341, 342, 361 and 362 may be replaced with permanent magnets.

さらに、本実施形態に係る磁力発生部3は、第1電磁石32、第2電磁石34および第3電磁石36の3つを含んでいるが、この電磁石の数は特に限定されず、2つ、すなわち第1電磁石32および第2電磁石34のみであってもよく、4つ以上であってもよい。 Further, the magnetic force generating unit 3 according to the present embodiment includes three electromagnets 32, a second electromagnet 34, and a third electromagnet 36, but the number of these electromagnets is not particularly limited, that is, two, that is, There may be only the first electromagnet 32 and the second electromagnet 34, or four or more.

以上のように、実施形態に係る粒子被覆装置1は、原子層堆積法により、磁性粒子91の表面に被膜92を形成する成膜装置2と、チャンバー22(容器)内に磁界を発生させ、磁界による磁力で磁性粒子91を固定する磁力発生部3と、を有する。また、成膜装置2は、磁性粒子91を収容する容器であるチャンバー22と、チャンバー22内を排気して減圧する排気部24と、チャンバー22内に原料ガス等を導入するガス導入部26と、を備えている。さらに、磁力発生部3は、チャンバー22内に第1磁力、第1磁力よりも強い第2磁力、および第2磁力よりも強い第3磁力を発生させ、第1磁力で第1磁性粒子911を固定し、第2磁力で第2磁性粒子912を固定し、第3磁力で第3磁性粒子913を固定する。 As described above, the particle coating device 1 according to the embodiment generates a magnetic field in the film forming device 2 for forming the coating film 92 on the surface of the magnetic particles 91 and the chamber 22 (container) by the atomic layer deposition method. It has a magnetic force generating unit 3 for fixing the magnetic particles 91 by a magnetic force generated by a magnetic field. Further, the film forming apparatus 2 includes a chamber 22 which is a container for accommodating magnetic particles 91, an exhaust unit 24 which exhausts the inside of the chamber 22 to reduce the pressure, and a gas introduction unit 26 which introduces a raw material gas or the like into the chamber 22. , Is equipped. Further, the magnetic force generating unit 3 generates a first magnetic force, a second magnetic force stronger than the first magnetic force, and a third magnetic force stronger than the second magnetic force in the chamber 22, and the first magnetic force generates the first magnetic particles 911. It is fixed, the second magnetic particle 912 is fixed by the second magnetic force, and the third magnetic particle 913 is fixed by the third magnetic force.

このような粒子被覆装置1によれば、磁性粒子91の粒径に分布がある場合でも、被膜92の膜厚のバラつきを小さく抑えることが可能になる。 According to such a particle coating device 1, even when the particle size of the magnetic particles 91 is distributed, it is possible to suppress the variation in the film thickness of the coating film 92 to be small.

また、磁力発生部3である第1電磁石32、第2電磁石34および第3電磁石36は、前述したように、それぞれチャンバー22の外部に設けられている。このため、第1電磁石32、第2電磁石34および第3電磁石36に磁性粒子91が直接付着することがなく、被膜92を形成した後の被膜付き磁性粒子93を磁力から容易に引き剥がすことができる。これにより、被膜付き磁性粒子93を容易に回収することができる。 Further, the first electromagnet 32, the second electromagnet 34, and the third electromagnet 36, which are the magnetic force generating units 3, are provided outside the chamber 22, respectively, as described above. Therefore, the magnetic particles 91 do not directly adhere to the first electromagnet 32, the second electromagnet 34, and the third electromagnet 36, and the coated magnetic particles 93 after forming the coating 92 can be easily peeled off from the magnetic force. it can. As a result, the magnetic particles 93 with a coating can be easily recovered.

さらに、本実施形態では、磁力発生部3として、第1磁力を発生させる第1電磁石32、第2磁力を発生させる第2電磁石34、および第3磁力を発生させる第3電磁石36を用いている。電磁石とは、電流を流すことで磁界を発生させる部材である。これにより、目的とするタイミングで磁力を発生させることができるので、例えば磁性粒子91を移送する際には磁力を発生させない一方、排気部24によりチャンバー22内を排気する際には磁力を発生させる、といった制御が可能になる。その結果、磁性粒子91の舞い上がりの抑制と、磁性粒子91の容易な移送と、を両立させることができる。 Further, in the present embodiment, as the magnetic force generating unit 3, a first electromagnet 32 that generates a first magnetic force, a second electromagnet 34 that generates a second magnetic force, and a third electromagnet 36 that generates a third magnetic force are used. .. An electromagnet is a member that generates a magnetic field by passing an electric current. As a result, the magnetic force can be generated at the desired timing. Therefore, for example, the magnetic force is not generated when the magnetic particles 91 are transferred, while the magnetic force is generated when the inside of the chamber 22 is exhausted by the exhaust unit 24. , Etc. can be controlled. As a result, it is possible to achieve both suppression of the soaring of the magnetic particles 91 and easy transfer of the magnetic particles 91.

また、容器であるチャンバー22は、その内面に撥水処理が施されているのが好ましい。これにより、磁性粒子91がチャンバー22の内面に付着するのを抑制することができる。特に、磁性粒子91の表面には、後述するような前処理を施して除去したとしても、わずかな水分が残留することがあるが、この水分は、磁性粒子91がチャンバー22の内面に付着する原因の1つになり得る。そこで、チャンバー22の内面に撥水処理が施されることにより、水分が原因となった付着を抑制することができる。 Further, it is preferable that the inner surface of the chamber 22, which is a container, is water-repellent. As a result, it is possible to prevent the magnetic particles 91 from adhering to the inner surface of the chamber 22. In particular, even if the surface of the magnetic particles 91 is removed by performing a pretreatment as described later, a small amount of water may remain, but the water adheres to the inner surface of the chamber 22. It can be one of the causes. Therefore, by applying a water repellent treatment to the inner surface of the chamber 22, it is possible to suppress adhesion caused by moisture.

なお、撥水処理としては、フッ素系材料またはシリコーン系材料を含む被膜の形成、フッ素プラズマ処理等が挙げられる。 Examples of the water-repellent treatment include formation of a film containing a fluorine-based material or a silicone-based material, fluorine plasma treatment, and the like.

さらに、容器であるチャンバー22は、特に石英ガラスを主材料とするのが好ましい。このようなチャンバー22は、磁性をほとんど有さないので、磁力発生部3で発生させた磁界がチャンバー22を貫通しやすくなる。このため、チャンバー22越しに多量の磁性粒子91を固定することができる。 Further, it is preferable that the chamber 22, which is a container, is mainly made of quartz glass. Since such a chamber 22 has almost no magnetism, the magnetic field generated by the magnetic force generating unit 3 easily penetrates the chamber 22. Therefore, a large amount of magnetic particles 91 can be fixed through the chamber 22.

また、石英ガラスは赤外線を透過するため、石英ガラスを主材料とするチャンバー22は、透光性、すなわち赤外線透過性を有する。このため、チャンバー22(容器)の外部から赤外線を照射して第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913を加熱することができる。加熱部28として赤外線放射ヒーターを用いた場合、加熱部28は、チャンバー22(容器)の外部から赤外線を照射して第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913を加熱する。これにより、処理室222内の圧力によらず、第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913を効率よく加熱することができる。 Further, since quartz glass transmits infrared rays, the chamber 22 made of quartz glass as a main material has translucency, that is, infrared transmissivity. Therefore, the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913 can be heated by irradiating infrared rays from the outside of the chamber 22 (container). When an infrared radiation heater is used as the heating unit 28, the heating unit 28 irradiates infrared rays from the outside of the chamber 22 (container) to heat the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913. .. As a result, the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913 can be efficiently heated regardless of the pressure in the processing chamber 222.

なお、排気部24の配管246の途中には、図5に示すような粒子トラップ248が設けられていてもよい。粒子トラップ248とは、チャンバー22内を排気する際、意図せず配管246に巻き込まれてしまった被膜付き磁性粒子93を捕捉する機構のことをいう。 A particle trap 248 as shown in FIG. 5 may be provided in the middle of the pipe 246 of the exhaust unit 24. The particle trap 248 is a mechanism for capturing the magnetic particles 93 with a coating film that are unintentionally caught in the pipe 246 when the inside of the chamber 22 is exhausted.

図5に示す粒子トラップ248は、配管246の延在方向を90°屈曲させてなる屈曲部2461と、屈曲部2461に設けられた永久磁石2481と、で構成される。このような粒子トラップ248では、意図せず配管246に巻き込まれてしまった被膜付き磁性粒子93を、永久磁石2481の磁力を用いて捕捉する。これにより、被膜付き磁性粒子93が排気ポンプ244にまで達してしまうのを抑制することができ、排気ポンプ244に故障が発生するのを抑制することができる。なお、捕捉するのは、磁性粒子91であってもよい。 The particle trap 248 shown in FIG. 5 is composed of a bent portion 2461 formed by bending the extending direction of the pipe 246 by 90 ° and a permanent magnet 2481 provided on the bent portion 2461. In such a particle trap 248, the magnetic particles 93 with a coating that have been unintentionally caught in the pipe 246 are captured by using the magnetic force of the permanent magnet 2481. As a result, it is possible to prevent the coated magnetic particles 93 from reaching the exhaust pump 244, and it is possible to prevent the exhaust pump 244 from failing. It should be noted that the magnetic particles 91 may be captured.

また、図5では、配管246の途中の2か所に粒子トラップ248を設けている。これにより、被膜付き磁性粒子93をより高い確率で捕捉することができる。なお、粒子トラップ248の数は、特に限定されない。 Further, in FIG. 5, particle traps 248 are provided at two places in the middle of the pipe 246. As a result, the magnetic particles 93 with a coating can be captured with a higher probability. The number of particle traps 248 is not particularly limited.

さらに、図5では、配管246のうち、屈曲部2461における曲線が描く弧の外側に永久磁石2481を配置している。これにより、排気の流れに乗って屈曲部2461に到達した被膜付き磁性粒子93が屈曲部2461を曲がるとき、遠心力で弧の外側に集まるのを利用し、より高い確率で被膜付き磁性粒子93を永久磁石2481において捕捉することができる。 Further, in FIG. 5, the permanent magnet 2481 is arranged outside the arc drawn by the curve at the bent portion 2461 in the pipe 246. As a result, when the coated magnetic particles 93 that have reached the bent portion 2461 along the exhaust flow bend around the bent portion 2461, they gather outside the arc due to centrifugal force, and the coated magnetic particles 93 have a higher probability. Can be captured by the permanent magnet 2484.

次に、磁性粒子91について説明する。
磁性粒子91としては、硬磁性を有する粒子であってもよいが、好ましくは軟磁性を有する粒子が用いられる。軟磁性を有する粒子は、磁界の有無で粒子の磁化が制御可能であるため、磁力発生部3による磁界発生の有無によって、固定と固定解除とを切り替えることができる。このため、磁性粒子91や被膜付き磁性粒子93の搬送等を容易に行うことができる。
Next, the magnetic particles 91 will be described.
The magnetic particles 91 may be particles having hard magnetism, but particles having soft magnetism are preferably used. Since the magnetization of the soft magnetic particles can be controlled by the presence or absence of a magnetic field, it is possible to switch between fixing and releasing depending on the presence or absence of a magnetic field generated by the magnetic force generating unit 3. Therefore, the magnetic particles 91 and the magnetic particles 93 with a coating can be easily transported.

磁性粒子91の構成材料としては、純鉄、ケイ素鋼のようなFe−Si系合金、パーマロイのようなFe−Ni系合金、パーメンジュールのようなFe−Co系合金、センダストのようなFe−Si−Al系合金、Fe−Cr−Si系合金等の各種Fe系合金の他、各種Ni系合金、各種Co系合金、各種アモルファス合金等が挙げられる。このうち、アモルファス合金としては、Fe−Si−B系、Fe−Si−B−C系、Fe−Si−B−Cr−C系、Fe−Si−Cr系、Fe−B系、Fe−P−C系、Fe−Co−Si−B系、Fe−Si−B−Nb系、Fe−Zr−B系のようなFe系合金、Ni−Si−B系、Ni−P−B系のようなNi系合金、Co−Si−B系のようなCo系合金等が挙げられる。 The constituent materials of the magnetic particles 91 include pure iron, Fe-Si alloys such as silicon steel, Fe—Ni alloys such as Permalloy, Fe—Co alloys such as Permenzur, and Fe such as Sendust. In addition to various Fe-based alloys such as −Si—Al-based alloys and Fe—Cr—Si-based alloys, various Ni-based alloys, various Co-based alloys, various amorphous alloys and the like can be mentioned. Of these, the amorphous alloys include Fe-Si-B series, Fe-Si-BC series, Fe-Si-B-Cr-C series, Fe-Si-Cr series, Fe-B series, and Fe-P. -C series, Fe-Co-Si-B series, Fe-Si-B-Nb series, Fe-based alloys such as Fe-Zr-B series, Ni-Si-B series, Ni-P-B series, etc. Ni-based alloys, Co-based alloys such as Co—Si—B based, and the like can be mentioned.

磁性粒子91の平均粒径は、特に限定されないが、50μm以下であるのが好ましく、1μm以上30μm以下であるのがより好ましく、2μm以上20μm以下であるのがさらに好ましい。このような比較的微小な磁性粒子91は、磁性粒子91が軟磁性である場合、渦電流損失を少なく抑えられることから、圧粉磁心用の磁性粒子として有用である。 The average particle size of the magnetic particles 91 is not particularly limited, but is preferably 50 μm or less, more preferably 1 μm or more and 30 μm or less, and further preferably 2 μm or more and 20 μm or less. Such relatively fine magnetic particles 91 are useful as magnetic particles for a dust core because the eddy current loss can be suppressed to be small when the magnetic particles 91 are soft magnetic.

[粒子被覆方法]
次に、実施形態に係る粒子被覆方法として、図1に示す粒子被覆装置1を用いて磁性粒子91の表面に被膜92を形成する方法について説明する。
[Particle coating method]
Next, as a particle coating method according to the embodiment, a method of forming a film 92 on the surface of the magnetic particles 91 by using the particle coating device 1 shown in FIG. 1 will be described.

図6は、実施形態に係る粒子被覆方法を示す工程図である。図7は、図6に示す粒子被覆方法を説明するための図である。 FIG. 6 is a process diagram showing a particle coating method according to the embodiment. FIG. 7 is a diagram for explaining the particle coating method shown in FIG.

(S01)磁性粒子の投入
まず、粒子貯留部232に磁性粒子91を投入する。磁性粒子91には、相対的に小径の第1磁性粒子911、相対的に中径の第2磁性粒子912、および相対的に大径の第3磁性粒子913が含まれている。このとき、粒子貯留部232の下端を開閉するバルブ236を閉じておく。
(S01) Insertion of Magnetic Particles First, the magnetic particles 91 are charged into the particle storage portion 232. The magnetic particles 91 include a first magnetic particle 911 having a relatively small diameter, a second magnetic particle 912 having a relatively medium diameter, and a third magnetic particle 913 having a relatively large diameter. At this time, the valve 236 that opens and closes the lower end of the particle storage portion 232 is closed.

(S02)磁性粒子の固定
次に、バルブ82を閉じた後、第1電磁石32、第2電磁石34および第3電磁石36にそれぞれ通電して処理室222内に磁界を発生させる。その後、バルブ236を開いて、磁性粒子91を処理室222内に徐々に落下させる。そうすると、落下中の磁性粒子91は、まず、第1電磁石32によって発生した磁界を通過する。このとき、磁性粒子91には第1磁力が作用する。一方、磁性粒子91には、継続的に重力も作用する。その結果、重力よりも第1磁力が上回った場合、磁性粒子91を処理室222の内面の第1電磁石32に対応する領域に固定することができる。なお、重力は磁性粒子91の質量に比例するため、磁性粒子91の質量、すなわち磁性粒子91の粒径に応じて、磁性粒子91が固定されるか否かが決まることとなる。
(S02) Fixation of Magnetic Particles Next, after closing the valve 82, the first electromagnet 32, the second electromagnet 34, and the third electromagnet 36 are energized to generate a magnetic field in the processing chamber 222. After that, the valve 236 is opened to gradually drop the magnetic particles 91 into the processing chamber 222. Then, the falling magnetic particles 91 first pass through the magnetic field generated by the first electromagnet 32. At this time, the first magnetic force acts on the magnetic particles 91. On the other hand, gravity also continuously acts on the magnetic particles 91. As a result, when the first magnetic force exceeds the gravity, the magnetic particles 91 can be fixed to the region corresponding to the first electromagnet 32 on the inner surface of the processing chamber 222. Since gravity is proportional to the mass of the magnetic particles 91, whether or not the magnetic particles 91 are fixed is determined according to the mass of the magnetic particles 91, that is, the particle size of the magnetic particles 91.

本実施形態では、第1磁性粒子911が第1電磁石32に対応する領域に固定され、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913はこの領域を通過する。このため、この領域には、主に第1磁性粒子911が選択的に固定されることとなる。 In the present embodiment, the first magnetic particles 911 are fixed in the region corresponding to the first electromagnet 32, and the second magnetic particles 912 and the third magnetic particles 913 pass through this region. Therefore, the first magnetic particles 911 are mainly selectively fixed in this region.

続いて、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913は、第2電磁石34によって発生した磁界を通過する。このとき、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913には第2磁力および重力が作用する。本実施形態では、第2磁性粒子912が第2電磁石34に対応する領域に固定され、第3磁性粒子913はこの領域を通過する。このため、この領域には、主に第2磁性粒子912が選択的に固定されることとなる。 Subsequently, the second magnetic particles 912 and the third magnetic particles 913 pass through the magnetic field generated by the second electromagnet 34. At this time, a second magnetic force and gravity act on the second magnetic particles 912 and the third magnetic particles 913. In the present embodiment, the second magnetic particles 912 are fixed in the region corresponding to the second electromagnet 34, and the third magnetic particles 913 pass through this region. Therefore, the second magnetic particles 912 are mainly selectively fixed in this region.

続いて、第3磁性粒子913は、第3電磁石36によって発生した磁界を通過する。このとき、第3磁性粒子913には第3磁力および重力が作用する。本実施形態では、第3磁性粒子913が第3電磁石36に対応する領域に固定される。このため、この領域には、主に第3磁性粒子913が選択的に固定されることとなる。 Subsequently, the third magnetic particle 913 passes through the magnetic field generated by the third electromagnet 36. At this time, a third magnetic force and gravity act on the third magnetic particles 913. In the present embodiment, the third magnetic particles 913 are fixed in the region corresponding to the third electromagnet 36. Therefore, the third magnetic particles 913 are mainly selectively fixed in this region.

以上のようにして、第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913が、互いに異なる領域に固定される。なお、このとき、どの領域にも固定されなかった磁性粒子91については、処理室222から除去するようにしてもよい。これにより、著しく粗大な磁性粒子91を排除することができ、粒径を揃えることができる。 As described above, the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913 are fixed in different regions from each other. At this time, the magnetic particles 91 that are not fixed in any region may be removed from the processing chamber 222. As a result, the extremely coarse magnetic particles 91 can be eliminated, and the particle sizes can be made uniform.

なお、第1磁力、第2磁力および第3磁力の強さは、磁界の強さを適宜変えることによって調整可能である。したがって、本工程では、第1電磁石32で発生させる磁界よりも第2電磁石34で発生させる磁界を強くし、第2電磁石34で発生させる磁界よりも第3電磁石36で発生させる磁界を強くすればよい。 The strengths of the first magnetic force, the second magnetic force, and the third magnetic force can be adjusted by appropriately changing the strength of the magnetic field. Therefore, in this step, if the magnetic field generated by the second electromagnet 34 is stronger than the magnetic field generated by the first electromagnet 32, and the magnetic field generated by the third electromagnet 36 is stronger than the magnetic field generated by the second electromagnet 34. Good.

磁界の強さの差は、前述したような分級が可能になるように適宜設定されるが、一例として、第2電磁石34で発生させる磁界は、第1電磁石32で発生させる磁界よりも10%以上強いことが好ましく、第3電磁石36で発生させる磁界は、第2電磁石34で発生させる磁界よりも10%以上強いことが好ましい。このようにすれば、磁性粒子91をより確実に分級することができる。 The difference in magnetic field strength is appropriately set so as to enable the classification as described above, but as an example, the magnetic field generated by the second electromagnet 34 is 10% of the magnetic field generated by the first electromagnet 32. It is preferable that the magnetic field generated by the third electromagnet 36 is 10% or more stronger than the magnetic field generated by the second electromagnet 34. In this way, the magnetic particles 91 can be classified more reliably.

また、第1電磁石32の表面における磁束密度は、1000mT以上であるのが好ましい。これにより、第1電磁石32で発生させる磁界の強さを十分な強さにして、前述したような作用を奏することができる。 Further, the magnetic flux density on the surface of the first electromagnet 32 is preferably 1000 mT or more. As a result, the strength of the magnetic field generated by the first electromagnet 32 can be made sufficiently strong, and the above-mentioned action can be achieved.

(S03)チャンバー内の減圧
次に、バルブ236を閉じた後、バルブ82を開け、排気ポンプ244により、チャンバー22内を排気する。これにより、チャンバー22内が減圧され、真空状態となる。この際、特に排気ポンプ244の稼働時には、チャンバー22内の空気が急激に撹拌されるため、磁性粒子91の舞い上がりが懸念される。しかしながら、本実施形態では、磁性粒子91を磁力で固定しているため、この舞い上がりを抑制することができる。このため、磁性粒子91の舞い上がりに伴う、排気ポンプ244の故障や磁性粒子91の逸失等を抑制することができる。
排気によりチャンバー22内が目的の圧力に達したら、バルブ82を閉じる。
(S03) Decompression in the chamber Next, after closing the valve 236, the valve 82 is opened, and the inside of the chamber 22 is exhausted by the exhaust pump 244. As a result, the pressure inside the chamber 22 is reduced to a vacuum state. At this time, especially when the exhaust pump 244 is in operation, the air in the chamber 22 is agitated rapidly, so that there is a concern that the magnetic particles 91 may fly up. However, in the present embodiment, since the magnetic particles 91 are fixed by magnetic force, this soaring can be suppressed. Therefore, it is possible to suppress the failure of the exhaust pump 244 and the loss of the magnetic particles 91 due to the soaring of the magnetic particles 91.
When the pressure inside the chamber 22 is reached by exhaust gas, the valve 82 is closed.

(S04)前処理
次に、処理室222の内面に固定した磁性粒子91に前処理を施す。前処理としては、オゾン処理、ラジカル処理、紫外線処理、プラズマ処理、コロナ処理、加熱処理、乾燥処理、溶剤処理等が挙げられる。
(S04) Pretreatment Next, the magnetic particles 91 fixed on the inner surface of the treatment chamber 222 are pretreated. Examples of the pretreatment include ozone treatment, radical treatment, ultraviolet treatment, plasma treatment, corona treatment, heat treatment, drying treatment, solvent treatment and the like.

このうち、前処理は、磁性粒子91の表面を酸化させる処理、または、磁性粒子91を乾燥させる処理を含むのが好ましい。磁性粒子91の表面を酸化させる処理では、磁性粒子91の表面の酸化膜を増強することができる。これにより、後述する被膜92の形成において、原料ガスの吸着が促進されるため、被膜92をより均一に形成することができる。 Of these, the pretreatment preferably includes a treatment of oxidizing the surface of the magnetic particles 91 or a treatment of drying the magnetic particles 91. In the treatment of oxidizing the surface of the magnetic particles 91, the oxide film on the surface of the magnetic particles 91 can be strengthened. As a result, in the formation of the coating film 92 described later, the adsorption of the raw material gas is promoted, so that the coating film 92 can be formed more uniformly.

磁性粒子91の表面を酸化させる処理としては、オゾン処理、ラジカル処理等が挙げられる。オゾン処理では、チャンバー22内にオゾンガスを導入する。オゾンガスに接触した磁性粒子91では、表面の酸化膜が増強される。また、ラジカル処理では、チャンバー22内に過酸化水素を導入することにより、ヒドロキシラジカルを発生させ、磁性粒子91の表面の酸化膜が増強される。 Examples of the treatment for oxidizing the surface of the magnetic particles 91 include ozone treatment and radical treatment. In the ozone treatment, ozone gas is introduced into the chamber 22. In the magnetic particles 91 that have come into contact with ozone gas, the oxide film on the surface is strengthened. Further, in the radical treatment, by introducing hydrogen peroxide into the chamber 22, hydroxyl radicals are generated, and the oxide film on the surface of the magnetic particles 91 is strengthened.

磁性粒子91を乾燥させる処理では、磁性粒子91の表面に吸着している水分を除去する。このような水分は、後述する被膜92の形成を阻害する原因となる。このため、前処理において水分を除去することにより、被膜92の密着性を高めることができる。磁性粒子91を乾燥させる処理としては、磁性粒子91を加熱する加熱処理、脱水したガスに曝す乾燥処理、アルコール等の水溶性の溶剤に曝す溶剤処理等が挙げられる。 In the process of drying the magnetic particles 91, the water adsorbed on the surface of the magnetic particles 91 is removed. Such moisture causes the formation of the coating film 92, which will be described later, to be inhibited. Therefore, the adhesion of the coating film 92 can be improved by removing the water content in the pretreatment. Examples of the treatment for drying the magnetic particles 91 include a heat treatment for heating the magnetic particles 91, a drying treatment for exposing the magnetic particles 91 to a dehydrated gas, and a solvent treatment for exposing the magnetic particles 91 to a water-soluble solvent such as alcohol.

なお、前述したように磁力で固定した磁性粒子91は、複数が連なるように分布し、いわゆる針状に整列する。このため、各磁性粒子91の周囲には隙間が多く存在することになる。その結果、その隙間を介して前処理を均一かつ効率よく行うことができる。 As described above, the magnetic particles 91 fixed by magnetic force are distributed so as to be continuous, and are arranged in a so-called needle shape. Therefore, there are many gaps around each magnetic particle 91. As a result, the pretreatment can be performed uniformly and efficiently through the gap.

また、その際、一対の電磁石321、322、一対の電磁石341、342、および一対の電磁石361、362において、流す電流の向きをそれぞれ切り替えながら前処理を施すようにしてもよい。つまり、電磁石321と電磁石322とで、処理室222側の面の極性を互いに入れ替えるようにしてもよい。これにより、磁力線の向きが変化するため、磁化した各磁性粒子91の姿勢を変化させることができる。そして、その状態で再び前処理が施されることにより、各磁性粒子91の表面全体に対して前処理をムラなく施すことができるので、後述する被膜92の密着性をさらに高めることができる。 At that time, the pair of electromagnets 321 and 322, the pair of electromagnets 341 and 342, and the pair of electromagnets 361 and 362 may be subjected to pretreatment while switching the direction of the flowing current. That is, the electromagnet 321 and the electromagnet 322 may exchange the polarities of the surfaces on the processing chamber 222 side with each other. As a result, the direction of the magnetic field lines changes, so that the posture of each magnetized magnetic particle 91 can be changed. Then, by performing the pretreatment again in that state, the pretreatment can be applied evenly to the entire surface of each magnetic particle 91, so that the adhesion of the coating film 92, which will be described later, can be further improved.

その後、必要に応じてチャンバー22内を窒素ガス、アルゴンガスのような不活性ガス等で置換した後、再び排気ポンプ244により、チャンバー22内を排気する。
なお、前処理は、必要に応じて行えばよく、省略してもよい。
Then, if necessary, the inside of the chamber 22 is replaced with an inert gas such as nitrogen gas or argon gas, and then the inside of the chamber 22 is exhausted again by the exhaust pump 244.
The preprocessing may be performed as needed or may be omitted.

(S05)被膜の形成
次に、バルブ82を閉じ、処理室222内を封じ切った状態で、処理室222内に原料ガス、すなわちプリカーサーを導入する。原料ガスは、磁性粒子91の表面に吸着する。このとき、原料ガスは、磁性粒子91の表面に吸着すると、それ以上、多層には吸着しにくい。このため、最終的に得られる被膜92の膜厚を高精度に制御することが可能である。また、原料ガスは、陰や隙間になる部分にも回り込んで吸着するため、最終的に被膜92を高アスペクト比でも均一に形成することができる。
(S05) Formation of Film Next, the raw material gas, that is, the precursor is introduced into the processing chamber 222 with the valve 82 closed and the inside of the processing chamber 222 sealed. The raw material gas is adsorbed on the surface of the magnetic particles 91. At this time, if the raw material gas is adsorbed on the surface of the magnetic particles 91, it is more difficult to be adsorbed in multiple layers. Therefore, it is possible to control the film thickness of the finally obtained film 92 with high accuracy. Further, since the raw material gas wraps around and adsorbs to the shaded or gapped portion, the coating film 92 can be finally formed uniformly even at a high aspect ratio.

処理室222内の温度は、原料ガスや酸化剤の組成等に応じて適宜設定されるが、一例として、50℃以上500℃以下であるのが好ましく、100℃以上400℃以下であるのがより好ましい。
また、処理室222の圧力は、100Pa以下に設定される。
The temperature inside the treatment chamber 222 is appropriately set according to the composition of the raw material gas and the oxidizing agent, but as an example, it is preferably 50 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, and 100 ° C. or higher and 400 ° C. or lower. More preferred.
The pressure in the processing chamber 222 is set to 100 Pa or less.

原料ガスとしては、被膜92の前駆体を含むガスが挙げられる。具体的には、ケイ素系の被膜92を形成する場合には、原料ガスとして、ジメチルアミン、メチルエチルアミン、ジエチルアミンのような第二級アミン、トリスジメチルアミノシラン、ビスジエチルアミノシラン、ビスターシャリブチルアミノシランのような、第二級アミンとトリハロシランとの反応物等が挙げられる。 Examples of the raw material gas include a gas containing a precursor of the coating film 92. Specifically, when forming a silicon-based coating 92, as a raw material gas, secondary amines such as dimethylamine, methylethylamine, and diethylamine, trisdimethylaminosilane, bisdiethylaminosilane, and vistershaributylaminosilane. Examples thereof include a reaction product of a secondary amine and trihalosilane.

次に、バルブ82を開いて原料ガスを排出した後、必要に応じて不活性ガスを導入する。これにより、原料ガスを置換する。 Next, the valve 82 is opened to discharge the raw material gas, and then the inert gas is introduced as needed. This replaces the raw material gas.

次に、バルブ82を閉じた後、処理室222内に酸化剤を導入する。酸化剤としては、オゾン、プラズマ酸素、水蒸気等が挙げられる。 Next, after closing the valve 82, an oxidizing agent is introduced into the processing chamber 222. Examples of the oxidizing agent include ozone, plasma oxygen, water vapor and the like.

酸化剤は、磁性粒子91の表面に吸着している原料ガスと反応し、被膜92が形成される。酸化剤も、原料ガスと同様、陰や隙間になる部分にも回り込むため、被膜92の膜厚を高精度にかつ均一に制御することができる。 The oxidizing agent reacts with the raw material gas adsorbed on the surface of the magnetic particles 91 to form a film 92. Since the oxidant also wraps around the shades and gaps like the raw material gas, the film thickness of the coating film 92 can be controlled with high accuracy and uniformly.

次に、バルブ82を開いて酸化剤を排出した後、必要に応じて不活性ガスを導入し、酸化剤を置換する。 Next, after the valve 82 is opened to discharge the oxidant, an inert gas is introduced as needed to replace the oxidant.

以上のようにして図4に示すような被膜付き磁性粒子93が得られる。すなわち、第1磁性粒子911の表面の被膜92が形成されてなる被膜付き第1磁性粒子931、第2磁性粒子912の表面に被膜92が形成されてなる被膜付き第2磁性粒子932、および第3磁性粒子913の表面に被膜92が形成されてなる被膜付き第3磁性粒子933が得られる。 As described above, the magnetic particles 93 with a coating as shown in FIG. 4 can be obtained. That is, the first magnetic particle 931 with a coating formed by forming a coating 92 on the surface of the first magnetic particle 911, the second magnetic particle 932 with a coating formed by forming a coating 92 on the surface of the second magnetic particle 912, and the second magnetic particle 932 with a coating. A coated third magnetic particle 933 having a coating 92 formed on the surface of the three magnetic particles 913 can be obtained.

なお、形成される被膜92の例としては、酸化ケイ素、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化チタンのような酸化物、窒化アルミニウム、窒化チタン、窒化タンタルのような窒化物等が挙げられる。 Examples of the film 92 to be formed include oxides such as silicon oxide, hafnium oxide, tantalum oxide and titanium oxide, and nitrides such as aluminum nitride, titanium nitride and tantalum nitride.

被膜92の膜厚は、特に限定されないが、一例として、1nm以上500nm以下であるのが好ましく、2nm以上100nm以下であるのがより好ましい。このような膜厚であれば、比較的短時間で均一に形成することができる。 The film thickness of the coating film 92 is not particularly limited, but as an example, it is preferably 1 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 2 nm or more and 100 nm or less. With such a film thickness, it can be uniformly formed in a relatively short time.

また、原料ガスの導入や排出、酸化剤の導入や排出、不活性ガスの導入や排出等の各処理は、一対の電磁石321、322、一対の電磁石341、342、および一対の電磁石361、362において、流す電流の向きをそれぞれ切り替えながら行うようにしてもよい。これにより、各磁性粒子91の表面全体に対して各処理をムラなく施すことができる。 Further, each process such as introduction and discharge of raw material gas, introduction and discharge of oxidant, introduction and discharge of inert gas is performed by a pair of electromagnets 321 and 322, a pair of electromagnets 341 and 342, and a pair of electromagnets 361 and 362. In the above, the direction of the flowing current may be switched. As a result, each treatment can be applied evenly to the entire surface of each magnetic particle 91.

(S06)後処理
次に、処理室222内の被膜付き磁性粒子93に対して後処理を施す。後処理としては、除電処理、ラジカル処理等が挙げられる。
(S06) Post-treatment Next, the post-treatment is applied to the magnetic particles 93 with a coating in the treatment chamber 222. Examples of the post-treatment include static elimination treatment, radical treatment and the like.

このうち、除電処理は、被膜付き磁性粒子93の帯電による電荷量を減少させる処理である。このような除電処理を施すことにより、被膜付き磁性粒子93の帯電に伴う凝集、付着を抑制することができる。このため、後述するようにして被膜付き磁性粒子93に対して再度被膜92を形成する場合、意図しない凝集による成膜不良の発生を抑制することができる。除電処理には、イオナイザーが用いられる。 Of these, the static elimination treatment is a treatment for reducing the amount of electric charge due to charging of the magnetic particles 93 with a coating film. By performing such a static elimination treatment, it is possible to suppress aggregation and adhesion of the magnetic particles 93 with a film due to charging. Therefore, when the film 92 is formed again on the magnetic particles 93 with a film as described later, it is possible to suppress the occurrence of film formation defects due to unintended aggregation. An ionizer is used for the static elimination process.

また、以上のような後処理は、磁性粒子91の表面に被膜92を形成した後に施す処理であって、磁力発生部3から発生した磁界による磁力で被膜付き磁性粒子93を固定した状態で行うのが好ましい。これにより、各被膜付き磁性粒子93の周囲には隙間が多く存在することになり、その隙間を介して後処理を均一かつ効率よく行うことができる。 Further, the post-treatment as described above is a treatment performed after forming the coating film 92 on the surface of the magnetic particles 91, and is performed in a state where the magnetic particles 93 with the coating film are fixed by the magnetic force generated by the magnetic field generated from the magnetic force generating portion 3. Is preferable. As a result, there are many gaps around each of the coated magnetic particles 93, and the post-treatment can be performed uniformly and efficiently through the gaps.

なお、その際、一対の電磁石321、322、一対の電磁石341、342、および一対の電磁石361、362において、流す電流の向きをそれぞれ切り替えながら後処理を施すようにしてもよい。つまり、電磁石321と電磁石322とで、処理室222側の面の極性を互いに入れ替えるようにしてもよい。これにより、磁力線の向きが変化するため、磁化した各被膜付き磁性粒子93の姿勢を変化させることができる。そして、その状態で再び後処理が施されることにより、各被膜付き磁性粒子93の表面全体に対して後処理をムラなく施すことができる。
なお、後処理は、必要に応じて行えばよく、省略してもよい。
At that time, the pair of electromagnets 321 and 322, the pair of electromagnets 341 and 342, and the pair of electromagnets 361 and 362 may be subjected to post-processing while switching the direction of the flowing current. That is, the electromagnet 321 and the electromagnet 322 may exchange the polarities of the surfaces on the processing chamber 222 side with each other. As a result, the direction of the magnetic field lines changes, so that the posture of each magnetized magnetic particle 93 with a coating film can be changed. Then, by performing the post-treatment again in that state, the post-treatment can be uniformly applied to the entire surface of the magnetic particles 93 with the coating film.
The post-processing may be performed as needed or may be omitted.

また、被膜92の膜厚が不十分であれば、被膜付き磁性粒子93に対して再度被膜92を形成する。そして、被膜92を複数層積み重ねることにより、目的とする膜厚を満たす被膜92を形成することができる。 If the film thickness of the film 92 is insufficient, the film 92 is formed again on the magnetic particles 93 with the film. Then, by stacking a plurality of layers of the coating film 92, a coating film 92 satisfying a target film thickness can be formed.

つまり、上記のようにして、第1磁力で第1磁性粒子911を固定し、第2磁力で第2磁性粒子912を固定し、第3磁力で第3磁性粒子913を固定した状態で、第1磁性粒子911の表面、第2磁性粒子912の表面および第3磁性粒子913の表面に被膜92を形成し、被膜付き第1磁性粒子931、被膜付き第2磁性粒子932および被膜付き第3磁性粒子933を得る工程と、その後、第1磁力の向き、第2磁力の向きおよび第3磁力の向きの少なくとも1つまたは全てを変えた後、被膜付き第1磁性粒子931、被膜付き第2磁性粒子932および被膜付き第3磁性粒子933の表面にさらに被膜92を形成する工程と、を行うようにしてもよい。 That is, as described above, the first magnetic particle 911 is fixed by the first magnetic force, the second magnetic particle 912 is fixed by the second magnetic force, and the third magnetic particle 913 is fixed by the third magnetic force. A coating 92 is formed on the surface of the 1 magnetic particle 911, the surface of the second magnetic particle 912, and the surface of the third magnetic particle 913, and the first magnetic particle 931 with a coating, the second magnetic particle 932 with a coating, and the third magnetic with a coating are formed. After changing at least one or all of the steps of obtaining the particles 933 and then the direction of the first magnetic force, the direction of the second magnetic force, and the direction of the third magnetic force, the first magnetic particle 931 with a coating and the second magnetic with a coating are changed. A step of further forming a coating 92 on the surfaces of the particles 932 and the coated third magnetic particle 933 may be performed.

第1磁力の向きを変えるには、一対の電磁石321、322において、処理室222側の面の極性を互いに入れ替えるようにすればよく、第2磁力の向きを変えるには、一対の電磁石341、342において、処理室222側の面の極性を互いに入れ替えるようにすればよく、第3磁力の向きを変えるには、一対の電磁石361、362において、処理室222側の面の極性を互いに入れ替えるようにすればよい。これにより、磁力線の向きが変化するため、磁化した被膜付き第1磁性粒子931、被膜付き第2磁性粒子932および被膜付き第3磁性粒子933のそれぞれの姿勢を変化させることができる。そして、その状態で再び被膜92が形成されることにより、より均一に被膜92を形成することができる。 In order to change the direction of the first magnetic force, the polarities of the surfaces on the processing chamber 222 side may be exchanged with each other in the pair of electromagnets 321 and 222, and in order to change the direction of the second magnetic force, the pair of electromagnets 341, In 342, the polarities of the surfaces on the processing chamber 222 side may be exchanged with each other, and in order to change the direction of the third magnetic force, the polarities of the surfaces on the processing chamber 222 side should be exchanged with each other in the pair of electromagnets 361 and 362. It should be. As a result, the directions of the magnetic field lines change, so that the postures of the magnetized first magnetic particles with a coating 931, the second magnetic particles with a coating 932, and the third magnetic particles with a coating 933 can be changed. Then, by forming the coating film 92 again in that state, the coating film 92 can be formed more uniformly.

(S07)固定の解除
その後、被膜92の膜厚が十分であれば、バルブ82を閉じた後、第1電磁石32、第2電磁石34および第3電磁石36への通電を停止する。これにより、磁力が消失するので、被膜付き磁性粒子93の固定が解除される。その結果、被膜付き磁性粒子93が回収室224に落下する。
(S07) Release of Fixing Then, if the film thickness of the coating film 92 is sufficient, the valve 82 is closed, and then the energization of the first electromagnet 32, the second electromagnet 34, and the third electromagnet 36 is stopped. As a result, the magnetic force disappears, so that the magnetic particles 93 with a coating are released from being fixed. As a result, the coated magnetic particles 93 fall into the recovery chamber 224.

(S08)被膜付き磁性粒子の回収
次に、被膜付き磁性粒子93をチャンバー22から取り出して回収する。回収室224にアクセスドアを設け、このアクセスドアを介して被膜付き磁性粒子93を回収するようにすればよい。
(S08) Recovery of Coated Magnetic Particles Next, the coated magnetic particles 93 are taken out from the chamber 22 and recovered. An access door may be provided in the recovery chamber 224, and the coated magnetic particles 93 may be recovered through the access door.

以上のように、本実施形態に係る粒子被覆方法は、容器であるチャンバー22内に第1磁性粒子911、第1磁性粒子911より粒径が大きい第2磁性粒子912、および第2磁性粒子912より粒径が大きい第3磁性粒子913を入れる工程S01と、第1磁力で第1磁性粒子911を固定し、第1磁力よりも鉛直下方において第1磁力よりも強い第2磁力で第2磁性粒子912を固定し、第2磁力よりも鉛直下方において第2磁力よりも強い第3磁力で第3磁性粒子913を固定する工程S02と、第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913を固定した状態で、原子層堆積法により、第1磁性粒子911の表面、第2磁性粒子912の表面および第3磁性粒子913の表面に被膜92を形成する工程S05と、を有する方法である。 As described above, in the particle coating method according to the present embodiment, the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912 having a larger particle size than the first magnetic particles 911, and the second magnetic particles 912 are contained in the chamber 22 which is a container. In the step S01 in which the third magnetic particles 913 having a larger particle size are inserted, the first magnetic particles 911 are fixed by the first magnetic force, and the second magnetic force is stronger than the first magnetic force vertically below the first magnetic force. Step S02 of fixing the particles 912 and fixing the third magnetic particles 913 with a third magnetic force stronger than the second magnetic force vertically below the second magnetic force, and the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles. It has a step S05 of forming a film 92 on the surface of the first magnetic particle 911, the surface of the second magnetic particle 912, and the surface of the third magnetic particle 913 by the atomic layer deposition method with the magnetic particles 913 fixed. The method.

このような方法によれば、互いに粒径の異なる第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913を、粒径ごとに揃えながら、互いに異なる領域に固定することができる。つまり、第1磁性粒子911を処理室222の上部に第1磁力で固定し、第2磁性粒子912を処理室222の中央部に第2磁力で固定し、第3磁性粒子913を処理室222の下部に第3磁力で固定する。 According to such a method, the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913 having different particle sizes can be fixed to different regions while being aligned for each particle size. That is, the first magnetic particles 911 are fixed to the upper part of the processing chamber 222 by the first magnetic force, the second magnetic particles 912 are fixed to the central portion of the processing chamber 222 by the second magnetic force, and the third magnetic particles 913 are fixed to the processing chamber 222 by the second magnetic force. It is fixed to the lower part of the by the third magnetic force.

そして、その後、成膜装置2において原子層堆積法による成膜処理を施すと、磁性粒子91の表面に被膜92が形成される。このとき、互いに粒径が異なる第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913は、それぞれ粒径ごとに異なる領域に区分されているため、従来のような、粒径が大きな粒子の陰に小さな粒子が隠れてしまうという問題は発生しにくい。このため、本実施形態に係る粒子被覆方法によれば、磁性粒子91の粒径に分布がある場合でも、被膜92の膜厚のバラつきを小さく抑えることが可能になる。 Then, when the film forming process is performed by the atomic layer deposition method in the film forming apparatus 2, the film 92 is formed on the surface of the magnetic particles 91. At this time, since the first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913, which have different particle sizes, are divided into different regions for each particle size, the particle size is large as in the conventional case. The problem that small particles are hidden behind the particles is unlikely to occur. Therefore, according to the particle coating method according to the present embodiment, it is possible to suppress the variation in the film thickness of the coating film 92 to be small even when the particle size of the magnetic particles 91 is distributed.

また、磁力で多数の磁性粒子91を固定し、保持するため、原子層堆積法により被膜92を成膜する際、処理室222内を排気したとしても、磁性粒子91が舞い上がることが抑制される。このため、磁性粒子91が排気部24に巻き込まれるのを抑制し、排気部24の故障や磁性粒子91の逸失を抑制することができる。 Further, since a large number of magnetic particles 91 are fixed and held by magnetic force, the magnetic particles 91 are suppressed from flying up even if the inside of the processing chamber 222 is exhausted when the coating film 92 is formed by the atomic layer deposition method. .. Therefore, it is possible to suppress the magnetic particles 91 from being caught in the exhaust unit 24, and to suppress the failure of the exhaust unit 24 and the loss of the magnetic particles 91.

さらに、図3に示すように針状の磁性粒子91の集合体が多数形成された際、このような集合体は、処理室222内に並列するように形成されるため、集合体同士の間には隙間が生じる。このため、各磁性粒子91の表面の多くが露出することになり、原子層堆積法において供給された原料が磁性粒子91の表面に堆積して被膜92を形成する際、磁性粒子91同士が接している一部を除いて、多くの表面に被膜92を形成することができる。したがって、磁性粒子91同士の連なり方を変えるなどして、複数回に分けて被膜92を形成することにより、図4に示すように、磁性粒子91の表面のほぼ全面を被覆する被膜92を形成することが可能になる。 Further, when a large number of aggregates of needle-shaped magnetic particles 91 are formed as shown in FIG. 3, such aggregates are formed so as to be parallel to each other in the processing chamber 222, so that the aggregates are between the aggregates. There is a gap in. Therefore, most of the surfaces of the magnetic particles 91 are exposed, and when the raw materials supplied in the atomic layer deposition method are deposited on the surface of the magnetic particles 91 to form a film 92, the magnetic particles 91 come into contact with each other. A coating 92 can be formed on many surfaces, except for some of them. Therefore, as shown in FIG. 4, the film 92 that covers almost the entire surface of the magnetic particles 91 is formed by forming the film 92 in a plurality of times by changing the way in which the magnetic particles 91 are connected to each other. It becomes possible to do.

また、被膜92を形成する際には、第1磁力で第1磁性粒子911を固定し、第2磁力で第2磁性粒子912を固定し、第3磁力で第3磁性粒子913を固定した状態で、第1磁性粒子911、第2磁性粒子912および第3磁性粒子913を加熱する。これにより、チャンバー22内に導入された原料ガスを熱分解させ、表面に分解物を吸着させることにより、最終的に被膜92を均一に形成することができる。 Further, when forming the coating film 92, the first magnetic particles 911 are fixed by the first magnetic force, the second magnetic particles 912 are fixed by the second magnetic force, and the third magnetic particles 913 are fixed by the third magnetic force. The first magnetic particles 911, the second magnetic particles 912, and the third magnetic particles 913 are heated. As a result, the raw material gas introduced into the chamber 22 is thermally decomposed and the decomposed product is adsorbed on the surface, so that the coating film 92 can be finally uniformly formed.

このときの加熱温度は、原料ガスの組成等に応じて適宜設定されるが、一例として、50℃以上500℃以下であるのが好ましく、100℃以上400℃以下であるのがより好ましい。 The heating temperature at this time is appropriately set according to the composition of the raw material gas and the like, but as an example, it is preferably 50 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, and more preferably 100 ° C. or higher and 400 ° C. or lower.

以上、本発明の粒子被覆方法および粒子被覆装置を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明の粒子被覆方法は、前記実施形態に任意の目的の工程が追加された方法であってもよい。また、前記実施形態の各工程の順序を入れ替えてもよく、複数の工程を同時または時間的に重複して行うようにしてもよい。さらに、本発明の粒子被覆装置では、前記実施形態の各部の構成が、同様の機能を有する任意の構成に置換されていてもよい。また、本発明の粒子被覆装置では、前記実施形態に他の任意の構成物が付加されていてもよい。 Although the particle coating method and the particle coating apparatus of the present invention have been described above based on the illustrated embodiment, the present invention is not limited thereto, and the particle coating method of the present invention is arbitrary in the above embodiment. It may be a method in which the desired step is added. Further, the order of the steps of the above-described embodiment may be changed, or a plurality of steps may be performed simultaneously or in a timely manner. Further, in the particle coating apparatus of the present invention, the configuration of each part of the embodiment may be replaced with an arbitrary configuration having the same function. Further, in the particle coating device of the present invention, any other constituent may be added to the embodiment.

1…粒子被覆装置、2…成膜装置、3…磁力発生部、22…チャンバー、23…粒子供給部、24…排気部、26…ガス導入部、28…加熱部、32…第1電磁石、34…第2電磁石、36…第3電磁石、38…制御部、82…バルブ、84…フランジ、91…磁性粒子、92…被膜、93…被膜付き磁性粒子、222…処理室、224…回収室、232…粒子貯留部、234…フランジ、236…バルブ、242…バルブ、244…排気ポンプ、246…配管、248…粒子トラップ、262…支持部材、263…ノズル、264…ノズル、265…原料ガス貯留部、266…酸化剤貯留部、267…配管、268…配管、321…電磁石、322…電磁石、341…電磁石、342…電磁石、361…電磁石、362…電磁石、842…貫通孔、911…第1磁性粒子、912…第2磁性粒子、913…第3磁性粒子、931…被膜付き第1磁性粒子、932…被膜付き第2磁性粒子、933…被膜付き第3磁性粒子、2461…屈曲部、2481…永久磁石 1 ... particle coating device, 2 ... film forming device, 3 ... magnetic force generating part, 22 ... chamber, 23 ... particle supply part, 24 ... exhaust part, 26 ... gas introduction part, 28 ... heating part, 32 ... first electromagnet, 34 ... 2nd electromagnet, 36 ... 3rd electromagnet, 38 ... control unit, 82 ... valve, 84 ... flange, 91 ... magnetic particles, 92 ... coating, 93 ... coated magnetic particles 222 ... processing chamber, 224 ... recovery chamber , 232 ... Particle storage, 234 ... Flange, 236 ... Valve, 242 ... Valve, 244 ... Exhaust pump, 246 ... Piping, 248 ... Particle trap, 262 ... Support member, 263 ... Nozzle, 264 ... Nozzle, 265 ... Raw material gas Storage part, 266 ... Oxidizing agent storage part, 267 ... Piping, 268 ... Piping, 321 ... Electromagnet, 322 ... Electromagnet, 341 ... Electromagnet, 342 ... Electromagnet, 361 ... Electromagnet, 362 ... Electromagnet, 842 ... Through hole, 911 ... No. 1 magnetic particle, 912 ... second magnetic particle, 913 ... third magnetic particle, 931 ... first magnetic particle with coating, 932 ... second magnetic particle with coating, 933 ... third magnetic particle with coating, 2461 ... bent portion, 2484 ... Permanent magnet

Claims (10)

容器内に第1磁性粒子および前記第1磁性粒子より平均粒径が大きい第2磁性粒子を入れる工程と、
第1磁力で前記第1磁性粒子を固定し、前記第1磁力よりも鉛直下方において前記第1磁力よりも強い第2磁力で前記第2磁性粒子を固定する工程と、
前記第1磁性粒子および前記第2磁性粒子を固定した状態で、原子層堆積法により、前記第1磁性粒子の表面および前記第2磁性粒子の表面に被膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする粒子被覆方法。
A step of putting the first magnetic particles and the second magnetic particles having a larger average particle size than the first magnetic particles in the container, and
A step of fixing the first magnetic particles with a first magnetic force and fixing the second magnetic particles with a second magnetic force stronger than the first magnetic force vertically below the first magnetic force.
A step of forming a film on the surface of the first magnetic particles and the surface of the second magnetic particles by an atomic layer deposition method with the first magnetic particles and the second magnetic particles fixed.
A particle coating method characterized by having.
前記第1磁力で前記第1磁性粒子を固定し、前記第2磁力で前記第2磁性粒子を固定した状態で、前記第1磁性粒子および前記第2磁性粒子を加熱する工程を含む、請求項1に記載の粒子被覆方法。 The claim comprises a step of fixing the first magnetic particles with the first magnetic force and heating the first magnetic particles and the second magnetic particles with the second magnetic particles fixed with the second magnetic force. The particle coating method according to 1. 前記容器は、透光性を有し、
前記容器の外部から赤外線を照射して前記第1磁性粒子および前記第2磁性粒子を加熱する請求項2に記載の粒子被覆方法。
The container is translucent and
The particle coating method according to claim 2, wherein the first magnetic particles and the second magnetic particles are heated by irradiating infrared rays from the outside of the container.
前記第1磁力で前記第1磁性粒子を固定し、前記第2磁力で前記第2磁性粒子を固定した状態で、前記第1磁性粒子の表面および前記第2磁性粒子の表面に被膜を形成し、被膜付き第1磁性粒子および被膜付き第2磁性粒子を得る工程と、
前記第1磁力の向きおよび前記第2磁力の向きの少なくとも一方を変えた後、前記被膜付き第1磁性粒子の表面および前記被膜付き第2磁性粒子の表面にさらに被膜を形成する工程と、
を有する請求項1ないし3のいずれか1項に記載の粒子被覆方法。
In a state where the first magnetic particles are fixed by the first magnetic force and the second magnetic particles are fixed by the second magnetic force, a film is formed on the surface of the first magnetic particles and the surface of the second magnetic particles. , The process of obtaining the first magnetic particles with a coating and the second magnetic particles with a coating,
After changing at least one of the direction of the first magnetic force and the direction of the second magnetic force, a step of further forming a film on the surface of the coated first magnetic particles and the surface of the coated second magnetic particles.
The particle coating method according to any one of claims 1 to 3.
第1磁性粒子および前記第1磁性粒子より粒径が大きい第2磁性粒子を収容する容器と、前記容器内を排気して減圧する排気部と、前記容器内にガスを導入するガス導入部と、を備え、原子層堆積法により、前記第1磁性粒子の表面および前記第2磁性粒子の表面に被膜を形成する成膜装置と、
前記容器内に第1磁力および前記第1磁力よりも強い第2磁力を発生させ、前記第1磁力で前記第1磁性粒子を固定し、前記第2磁力で前記第2磁性粒子を固定する磁力発生部と、
を有することを特徴とする粒子被覆装置。
A container that houses the first magnetic particles and a second magnetic particle having a particle size larger than that of the first magnetic particles, an exhaust unit that exhausts the inside of the container to reduce the pressure, and a gas introduction unit that introduces gas into the container. A film forming apparatus for forming a film on the surface of the first magnetic particles and the surface of the second magnetic particles by an atomic layer deposition method.
A first magnetic force and a second magnetic force stronger than the first magnetic force are generated in the container, the first magnetic force fixes the first magnetic particles, and the second magnetic force fixes the second magnetic particles. The generator and
A particle coating device characterized by having.
前記磁力発生部は、前記容器の外部に設けられている請求項5に記載の粒子被覆装置。 The particle coating device according to claim 5, wherein the magnetic force generating portion is provided outside the container. 前記磁力発生部は、前記第1磁力を発生させる第1電磁石と、前記第2磁力を発生させる第2電磁石と、を備えている請求項5または6に記載の粒子被覆装置。 The particle coating device according to claim 5 or 6, wherein the magnetic force generating unit includes a first electromagnet that generates the first magnetic force and a second electromagnet that generates the second magnetic force. 前記容器は、内面に撥水処理が施されている請求項5ないし7のいずれか1項に記載の粒子被覆装置。 The particle coating device according to any one of claims 5 to 7, wherein the container has a water-repellent treatment on its inner surface. 前記容器は、石英ガラスを主材料とする請求項5ないし8のいずれか1項に記載の粒子被覆装置。 The particle coating device according to any one of claims 5 to 8, wherein the container is made of quartz glass as a main material. 前記容器の外部に設けられ、赤外線を照射して前記第1磁性粒子および前記第2磁性粒子を加熱する加熱部を有する請求項9に記載の粒子被覆装置。 The particle coating device according to claim 9, further comprising a heating portion provided outside the container and irradiating infrared rays to heat the first magnetic particles and the second magnetic particles.
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