JP2020129493A - Conductive device, antenna device, and method for manufacturing conductive device - Google Patents

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Abstract

To provide a conductive device, an antenna device, and a method for manufacturing a conductive device which are capable of improving form accuracy of a conductive portion.SOLUTION: A conductive device 1 comprises a substrate 2 and a conductive portion 3. The conductive portion 3 is formed on the substrate 2. The conductive portion 3 has a conductive part 4. The conductive part 4 is formed on the substrate 2, and includes conductive particles and an organic binder. On the substrate 2, grooves 23 which overlap the conductive portion 3 in a plan view from a thickness direction D1 of the substrate 2 are formed along edges 33 of the conductive portion 3. In a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2, the edges 33 of the conductive portion 3 and an opening edge 231 closer to the edges 33 of the conductive portion 3 of a pair of opening edges 231, 232 in a width direction D2 of the grooves 23 are overlapped. The conductive portion 3 has protrusions 32 penetrated into the grooves 23.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、一般に、導電デバイス、アンテナ装置、及び導電デバイスの製造方法に関し、より詳細には、基板と導電性部分と備える導電デバイス、導電デバイスを備えるアンテナ装置、及び、基板と導電性部分とを備える導電デバイスの製造方法に関するものである。 The present disclosure generally relates to a conductive device, an antenna device, and a method of manufacturing a conductive device, and more specifically, a conductive device including a substrate and a conductive portion, an antenna device including the conductive device, and a substrate and a conductive portion. The present invention relates to a method for manufacturing a conductive device including:

従来、導電デバイスとして、例えば、基材(基板)と、該基材上に形成された導電部と、を有する電極であって、導電部が、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、硬化剤、及び金属粒子を含有する導電性組成物からなる、電極が知られている(特許文献1)。 Conventionally, as a conductive device, for example, an electrode having a base material (substrate) and a conductive portion formed on the base material, wherein the conductive portion is a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a curing agent, An electrode composed of a conductive composition containing a metal particle and a metal particle is known (Patent Document 1).

特開2013−164990号公報JP, 2013-164990, A

基板と、導電性粒子と有機バインダとを含む導電部と、備える導電デバイスにおいては、基板の厚さ方向からの平面視で導電部が所望の領域よりもはみ出していることがあった。 In a conductive device including a substrate and a conductive portion including conductive particles and an organic binder, the conductive portion sometimes protrudes from a desired region in a plan view from the thickness direction of the substrate.

本開示の目的は、導電性部分の形状精度の向上を図ることが可能な導電デバイス、アンテナ装置、及び導電デバイスの製造方法を提供することにある。 An object of the present disclosure is to provide a conductive device, an antenna device, and a method for manufacturing a conductive device that can improve the shape accuracy of a conductive portion.

本開示に係る一態様の導電デバイスは、基板と、導電性部分と、を備える。前記導電性部分は、前記基板上に形成されている。前記導電性部分は、導電部を有する。前記導電部は、前記基板上に形成されており、導電性粒子と有機バインダとを含む。前記基板は、前記基板の厚さ方向からの平面視で前記導電性部分に重なり前記導電性部分の縁に沿った溝が形成されている。前記基板の前記厚さ方向からの平面視で、前記導電性部分の前記縁と、前記溝の幅方向の一対の開口縁のうち前記導電性部分の前記縁に近い開口縁と、が重なっている。前記導電性部分は、前記溝に入り込んでいる突部を有する。 A conductive device according to one aspect of the present disclosure includes a substrate and a conductive portion. The conductive portion is formed on the substrate. The conductive portion has a conductive portion. The conductive portion is formed on the substrate and includes conductive particles and an organic binder. The substrate is formed with a groove that overlaps with the conductive portion and is along the edge of the conductive portion when seen in a plan view from the thickness direction of the substrate. When seen in a plan view from the thickness direction of the substrate, the edge of the conductive portion and an opening edge of the pair of opening edges in the width direction of the groove close to the edge of the conductive portion overlap each other. There is. The conductive portion has a protrusion that extends into the groove.

本開示に係る一態様のアンテナ装置は、前記導電デバイスを備える。 An antenna device according to an aspect of the present disclosure includes the conductive device.

本開示に係る一態様の導電デバイスの製造方法は、前記一態様の導電デバイスを製造する方法である。この導電デバイスの製造方法では、前記溝を有する基板を準備する基板準備工程と、前記基板上の前記導電部の形成予定領域に前記導電性粒子と前記有機バインダと溶剤とを含む導電性ペーストを塗布する塗布工程と、前記導電性ペーストを加熱して前記導電部を形成する熱硬化工程と、を備える。 A method for manufacturing a conductive device according to an aspect of the present disclosure is a method for manufacturing the conductive device according to the above aspect. In this method for manufacturing a conductive device, a substrate preparing step of preparing a substrate having the groove, and a conductive paste containing the conductive particles, the organic binder, and a solvent in a region where the conductive portion is to be formed on the substrate. A coating step of coating and a thermosetting step of heating the conductive paste to form the conductive portion are provided.

本開示の導電デバイス、アンテナ装置、及び導電デバイスの製造方法では、導電性部分の形状精度の向上を図ることが可能となる。 In the conductive device, the antenna device, and the method of manufacturing the conductive device according to the present disclosure, it is possible to improve the shape accuracy of the conductive portion.

図1は、実施形態1に係る導電デバイスに関し、導電性部分の長手方向に直交する断面図である。1 is a cross-sectional view of a conductive device according to a first embodiment, which is orthogonal to a longitudinal direction of a conductive portion. 図2は、同上の導電デバイスの一部破断した斜視図である。FIG. 2 is a partially cutaway perspective view of the above conductive device. 図3は、同上の導電デバイスに関し、導電性部分の幅方向に直交する断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the conductive device of the above, which is orthogonal to the width direction of the conductive portion. 図4は、同上の導電デバイスの製造方法において準備する基板の一部破断した平面図である。FIG. 4 is a partially cutaway plan view of a substrate prepared in the above-described method for manufacturing a conductive device. 図5Aは、同上の導電デバイスの製造方法において導電性ペーストを塗布する工程の説明図である。図5Bは、同上の導電デバイスの製造方法において導電部を形成する工程の説明図である。FIG. 5A is an explanatory diagram of a step of applying a conductive paste in the above-described method for manufacturing a conductive device. FIG. 5B is an explanatory diagram of a step of forming a conductive portion in the above-described method for manufacturing a conductive device. 図6は、同上の導電デバイスの製造方法において導電性インクを塗布する工程の説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of a step of applying a conductive ink in the above-described method for manufacturing a conductive device. 図7は、同上の導電デバイスを備えるアンテナ装置の平面図である。FIG. 7 is a plan view of an antenna device including the above conductive device. 図8は、同上の導電デバイスを備えるフィルムインサート成形品の断面図である。FIG. 8: is sectional drawing of the film insert molded product provided with the electrically conductive device same as the above. 図9は、同上の導電デバイスを備える無線器の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a radio device including the above conductive device. 図10は、実施形態1の変形例に係る導電デバイスの平面図である。FIG. 10 is a plan view of a conductive device according to a modified example of the first embodiment. 図11は、実施形態2に係る導電デバイスに関し、導電性部分の長手方向に直交する断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of the conductive device according to the second embodiment, which is orthogonal to the longitudinal direction of the conductive portion. 図12は、実施形態3に係る導電デバイスに関し、導電性部分の長手方向に直交する断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view of the conductive device according to the third embodiment, which is orthogonal to the longitudinal direction of the conductive portion.

下記の実施形態等において説明する図1〜12は、模式的な図であり、図中の各構成要素の大きさや厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。 1 to 12 described in the following embodiments and the like are schematic views, and the ratio of the size and thickness of each component in the drawings does not always reflect the actual dimensional ratio. Absent.

(実施形態1)
(1)概要
以下では、実施形態1に係る導電デバイス1について図1〜4に基づいて説明する。
(Embodiment 1)
(1) Overview Hereinafter, the conductive device 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS.

導電デバイス1は、基板2と、導電性部分3と、を備える。導電性部分3は、基板2上に形成されている。導電性部分3は、基板2の厚さ方向D1において基板2の一部に重なるように形成されている。導電性部分3は、導電部4を有する。また、導電性部分3は、低抵抗導電層5を更に備える。また、導電デバイス1は、保護シート7を更に備える。保護シート7は、導電性部分3を覆うように基板2に積層されている。 The conductive device 1 includes a substrate 2 and a conductive portion 3. The conductive portion 3 is formed on the substrate 2. The conductive portion 3 is formed so as to overlap a part of the substrate 2 in the thickness direction D1 of the substrate 2. The conductive portion 3 has a conductive portion 4. In addition, the conductive portion 3 further includes a low resistance conductive layer 5. In addition, the conductive device 1 further includes a protective sheet 7. The protective sheet 7 is laminated on the substrate 2 so as to cover the conductive portion 3.

(2)導電デバイスの各構成要素
次に、導電デバイス1の各構成要素について、図面を参照して説明する。
(2) Each Component of Conductive Device Next, each component of the conductive device 1 will be described with reference to the drawings.

(2.1)基板
基板2は、第1主面21及び第1主面21とは反対側の第2主面22を有する。
(2.1) Substrate The substrate 2 has a first main surface 21 and a second main surface 22 opposite to the first main surface 21.

基板2は、例えば、フレキシブル基板であり、可撓性を有する。基板2の厚さは、例えば、30μm以上200μm以下であり、一例として、50μmである。基板2は、例えば、プラスチックフィルムである。プラスチックフィルムは、ポリエチレンテレフタラートフィルムであるが、これに限らず、例えば、ABSフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルム等であってもよい。基板2は、プラスチックフィルムに限らず、例えば、無機基板であってもよい。無機基板は、例えば、ガラス基板、圧電基板等である。 The substrate 2 is, for example, a flexible substrate and has flexibility. The thickness of the substrate 2 is, for example, 30 μm or more and 200 μm or less, and is 50 μm as an example. The substrate 2 is, for example, a plastic film. The plastic film is a polyethylene terephthalate film, but is not limited to this, and may be, for example, an ABS film, a polyethylene naphthalate film, a polyether sulfone film, a polycarbonate film, a polyester film, or the like. The substrate 2 is not limited to a plastic film, and may be, for example, an inorganic substrate. The inorganic substrate is, for example, a glass substrate, a piezoelectric substrate, or the like.

基板2では、第1主面21に複数の溝20(図4参照)が形成されている。複数の溝20は、例えば、等間隔で並んでいるが、これに限らず、例えば、不等間隔で並んでいてもよい。溝20の深さDP1は、例えば、5μm〜10μmである。また、溝20の幅方向の開口幅H1は、例えば、5μm〜10μmである。また、隣り合う溝20間の距離L1は、例えば、10μm〜30μmである。なお、複数の溝20の長さは、同じあってもよいし、異なっていてもよい。また、複数の溝20は、直線状であるが、これに限らず、例えば、曲線状であってもよいし、環状であってもよい。また、複数の溝20の各々は、溝20の長さ方向に直交する基板2の断面視においてU字状の溝であるが、これに限らず、例えば、基板2の断面視においてV字状の溝であってもよい。 In the substrate 2, a plurality of grooves 20 (see FIG. 4) are formed on the first main surface 21. The plurality of grooves 20 are arranged at equal intervals, for example, but the present invention is not limited to this, and they may be arranged at unequal intervals, for example. The depth DP1 of the groove 20 is, for example, 5 μm to 10 μm. The opening width H1 of the groove 20 in the width direction is, for example, 5 μm to 10 μm. The distance L1 between the adjacent grooves 20 is, for example, 10 μm to 30 μm. The lengths of the plurality of grooves 20 may be the same or different. Further, the plurality of grooves 20 are linear, but not limited to this, and may be, for example, curved or annular. Further, each of the plurality of grooves 20 is a U-shaped groove in the cross-sectional view of the substrate 2 orthogonal to the longitudinal direction of the groove 20, but the present invention is not limited to this, and for example, a V-shaped groove in the cross-sectional view of the substrate 2 is provided. It may be a groove.

複数の溝20は、基板2の厚さ方向D1からの平面視で導電性部分3に重なり導電性部分3の縁33に沿った溝23(以下、第1溝23ともいう)を含む。第1溝23は、導電性部分3の縁33に沿うように形成されている。第1溝23の形成位置は、例えば、基板2の厚さ方向D1からの平面視で、導電性部分3の縁33と、第1溝23の幅方向D2の一対の開口縁231、232のうち導電性部分3の縁33に近い開口縁231と、が重なるように規定されている。 The plurality of grooves 20 include a groove 23 (hereinafter, also referred to as a first groove 23) that overlaps the conductive portion 3 and is along the edge 33 of the conductive portion 3 in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2. The first groove 23 is formed along the edge 33 of the conductive portion 3. The formation position of the first groove 23 is, for example, in plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2, the edge 33 of the conductive portion 3 and the pair of opening edges 231 and 232 of the first groove 23 in the width direction D2. Of these, the opening edge 231 near the edge 33 of the conductive portion 3 is defined to overlap.

複数の溝20は、基板2の厚さ方向D1からの平面視で導電性部分3における縁33よりも内側の部分に重なる部位に形成されている複数の溝25(以下、第2溝25ともいう)を含む。第2溝25は、基板2の厚さ方向D1からの平面視で第1溝23と同じ方向に沿っている。ここでは、第2溝25は、例えば、基板2の厚さ方向D1からの平面視で第1溝23と平行である。また、複数の溝20は、基板2の厚さ方向D1からの平面視で導電部4に重なり導電部4の縁43に沿った溝24(以下、第3溝24ともいう)を含む。第3溝24は、複数の第2溝25に含まれている。第3溝24の形成位置は、例えば、基板2の厚さ方向D1からの平面視で、導電部4の縁43の外周と、第3溝24の幅方向の一対の開口縁241、242のうち導電部4の縁43に近い開口縁241と、が重なるように規定されている。 The plurality of grooves 20 are formed in a portion overlapping with a portion inside the edge 33 of the conductive portion 3 in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2 (hereinafter, also referred to as the second groove 25). Including). The second groove 25 extends along the same direction as the first groove 23 in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2. Here, the second groove 25 is, for example, parallel to the first groove 23 in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2. In addition, the plurality of grooves 20 include a groove 24 (hereinafter, also referred to as a third groove 24) that overlaps the conductive portion 4 and is along the edge 43 of the conductive portion 4 in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2. The third groove 24 is included in the plurality of second grooves 25. The formation position of the third groove 24 is, for example, in plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2, the outer circumference of the edge 43 of the conductive portion 4 and the pair of opening edges 241 and 242 in the width direction of the third groove 24. Of these, the opening edge 241 close to the edge 43 of the conductive portion 4 is defined to overlap.

また、複数の溝20は、基板2の厚さ方向D1からの平面視で保護シート7と導電性部分3とのうち保護シート7のみが重なる領域に形成されている複数の凹部26を含む。 Further, the plurality of grooves 20 include a plurality of recesses 26 formed in a region where only the protective sheet 7 overlaps with the protective sheet 7 and the conductive portion 3 in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2.

なお、導電デバイス1において基板2に複数の溝20が形成されていることは必須ではなく、導電デバイス1では、複数の溝20のうち少なくとも溝23が基板2に形成されていればよい。 Note that it is not essential that the plurality of grooves 20 be formed in the substrate 2 in the conductive device 1, and in the conductive device 1, at least the groove 23 of the plurality of grooves 20 may be formed in the substrate 2.

基板2は、インプリント法を利用して形成されているが、これに限らず、例えば、成形法により形成されていてもよい。 The substrate 2 is formed by using the imprint method, but not limited to this, and may be formed by, for example, a molding method.

(2.2)導電性部分
導電性部分3は、基板2上に形成されており、基板2と密着している。導電性部分3は、導電部4と、低抵抗導電層5と、を有している。導電性部分3の形状は、例えば、基板2の厚さ方向D1からの平面視でライン状である。ここにおいて、導電性部分3の形状は、導電性部分3の長さ方向に直交する断面において半円状である。
(2.2) Conductive Part The conductive part 3 is formed on the substrate 2 and is in close contact with the substrate 2. The conductive portion 3 has a conductive portion 4 and a low resistance conductive layer 5. The conductive portion 3 has, for example, a line shape in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2. Here, the shape of the conductive portion 3 is semicircular in a cross section orthogonal to the length direction of the conductive portion 3.

導電部4は、基板2上に形成されている。導電部4の形状は、例えば、基板2の厚さ方向D1からの平面視で導電性部分3よりも幅狭のライン状である。ここにおいて、導電部4の形状は、導電部4の長さ方向に直交する断面において半円状である。 The conductive portion 4 is formed on the substrate 2. The shape of the conductive portion 4 is, for example, a line shape that is narrower than the conductive portion 3 in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2. Here, the conductive portion 4 has a semicircular shape in a cross section orthogonal to the lengthwise direction of the conductive portion 4.

導電部4は、伸縮性を有する。ここにおいて、導電部4は、例えば、銅はく、めっき層等と比べて伸縮性を有する。導電部4は、導電性ペースト400(図5A参照)を利用して形成されている。導電部4は、導電性粒子410(図3参照)と有機バインダ420(図3参照)とを含む。導電性粒子410は、金属粒子であるが、これに限らず、例えば、金属化合物粒子等であってもよい。導電性ペースト400は、例えば、銀ペーストであるが、これに限らず、例えば、銅ペースト等であってもよい。導電性ペースト400が銀ペーストの場合、導電性粒子410は、例えば、銀粒子である。導電性ペースト400が銅ペーストの場合、導電性粒子410は、銅粒子である。 The conductive portion 4 has elasticity. Here, the conductive part 4 has elasticity compared with, for example, a copper foil, a plating layer, or the like. The conductive portion 4 is formed by using the conductive paste 400 (see FIG. 5A). The conductive portion 4 includes conductive particles 410 (see FIG. 3) and an organic binder 420 (see FIG. 3). The conductive particles 410 are metal particles, but are not limited thereto, and may be metal compound particles or the like, for example. The conductive paste 400 is, for example, a silver paste, but is not limited to this, and may be, for example, a copper paste or the like. When the conductive paste 400 is a silver paste, the conductive particles 410 are, for example, silver particles. When the conductive paste 400 is a copper paste, the conductive particles 410 are copper particles.

導電性粒子410の形状は、例えば、鱗片状であるが、これに限らず、例えば、球状であってもよい。導電性粒子410の平均粒径は、例えば、1μm〜4μmである。導電性粒子410の平均粒径は、例えば、導電部4を基板2の厚さ方向D1に沿って切断した試料の断面を例えば走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)によって観察して断面SEM画像を取得し、その断面SEM画像を画像処理して求めた導電性粒子410の粒径値を用いて算出される値である。「粒径値」は、断面SEM画像から得られる導電性粒子410の面積と同一面積を有する円の直径であり、「平均粒径」は、所定数(例えば、50個)の導電性粒子410の粒径値の平均値である。平均粒径の相対的な大小関係を議論する上では、平均粒径は、上述の平均値に限らず、例えば、個数基準粒度分布曲線から求められるメディアン径(d50)でもよい。個数基準粒度分布曲線は、画像イメージング法により粒度分布を測定することで得られる。具体的には、個数基準粒度分布曲線は、上述のSEM画像を画像処理して求めた導電性粒子410の大きさ(二軸平均径)と個数とから得られる曲線である。個数基準粒度分布曲線においては、積算値が50%のときの粒径値をメディアン径(d50)という。 The shape of the conductive particles 410 is, for example, a scaly shape, but is not limited to this and may be, for example, a spherical shape. The average particle size of the conductive particles 410 is, for example, 1 μm to 4 μm. The average particle diameter of the conductive particles 410 is, for example, a cross section SEM obtained by observing a cross section of a sample obtained by cutting the conductive portion 4 along the thickness direction D1 of the substrate 2 by, for example, a scanning electron microscope (SEM). This is a value calculated using the particle size value of the conductive particles 410 obtained by acquiring the image and performing image processing on the cross-sectional SEM image. The “particle size value” is the diameter of a circle having the same area as the area of the conductive particles 410 obtained from the cross-sectional SEM image, and the “average particle size” is a predetermined number (for example, 50) of the conductive particles 410. Is the average value of the particle size values of. In discussing the relative size relationship of the average particle size, the average particle size is not limited to the above-mentioned average value, and may be, for example, the median size (d 50 ) obtained from the number-based particle size distribution curve. The number-based particle size distribution curve is obtained by measuring the particle size distribution by an image imaging method. Specifically, the number-based particle size distribution curve is a curve obtained from the size (biaxial average diameter) and the number of the conductive particles 410 obtained by image-processing the above SEM image. In the number-based particle size distribution curve, the particle size value when the integrated value is 50% is called the median diameter (d 50 ).

有機バインダ420としては、例えば、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ジアクリルフタレート樹脂、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、その他の熱可塑性樹脂、又は、これらの樹脂を構成する単量体の2種以上の共重合体である。 Examples of the organic binder 420 include acrylic resin, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyether sulfone, polyarylate, polycarbonate resin, polyurethane, polyacrylonitrile, polyvinyl acetal, polyamide, polyimide, diacryl phthalate. It is a resin, a cellulosic resin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, another thermoplastic resin, or a copolymer of two or more kinds of monomers constituting these resins.

低抵抗導電層5は、例えば、導電部4の表面41の全部に積層されている。導電部4の表面41は、導電部4において基板2に接していない面である。低抵抗導電層5の形状は、例えば、基板2の厚さ方向D1からの平面視で導電部4よりも幅広のライン状である。ここにおいて、低抵抗導電層5の形状は、低抵抗導電層5の長さ方向に直交する断面において円弧状である。 The low resistance conductive layer 5 is, for example, laminated on the entire surface 41 of the conductive portion 4. The surface 41 of the conductive portion 4 is a surface of the conductive portion 4 that is not in contact with the substrate 2. The low-resistance conductive layer 5 has, for example, a line shape wider than the conductive portion 4 in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2. Here, the shape of the low resistance conductive layer 5 is an arc shape in a cross section orthogonal to the length direction of the low resistance conductive layer 5.

低抵抗導電層5は、導電性インク500(図6A参照)を利用して形成されている。低抵抗導電層5は、複数の導電性ナノ粒子を含む焼結金属層である。焼結金属層は、導電性ナノ粒子同士が焼結により結合された焼結体である。焼結金属層は、多孔質金属である。したがって、低抵抗導電層5は、銅はく、めっき層等と比べて伸縮性を有する。 The low resistance conductive layer 5 is formed by using the conductive ink 500 (see FIG. 6A). The low resistance conductive layer 5 is a sintered metal layer containing a plurality of conductive nanoparticles. The sintered metal layer is a sintered body in which conductive nanoparticles are bonded together by sintering. The sintered metal layer is a porous metal. Therefore, the low resistance conductive layer 5 has elasticity compared with copper foil, a plating layer and the like.

導電性ナノ粒子の形状は、例えば、球状である。導電性ナノ粒子の平均粒径は、導電性粒子410の平均粒径よりも小さい。導電性ナノ粒子の平均粒径は、例えば、10nm〜300nmである。導電性ナノ粒子の平均粒径は、例えば、低抵抗導電層5を基板2の厚さ方向D1に沿って切断した試料の断面を例えば透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope:TEM)によって観察して断面TEM画像を取得し、その断面TEM画像を画像処理して求めた導電性ナノ粒子の粒径値を用いて算出される値である。「粒径値」は、断面TEM画像から得られる導電性ナノ粒子の面積と同一面積を有する円の直径であり、「平均粒径」は、所定数(例えば、50個)の導電性ナノ粒子の粒径値の平均値である。平均粒径の相対的な大小関係を議論する上では、平均粒径は、上述の平均値に限らず、例えば、個数基準粒度分布曲線から求められるメディアン径(d50)でもよい。個数基準粒度分布曲線は、画像イメージング法により粒度分布を測定することで得られる。具体的には、個数基準粒度分布曲線は、上述のTEM画像を画像処理して求めた導電性ナノ粒子の大きさ(二軸平均径)と個数とから得られる曲線である。個数基準粒度分布曲線においては、積算値が50%のときの粒径値をメディアン径(d50)という。 The shape of the conductive nanoparticles is, for example, spherical. The average particle size of the conductive nanoparticles is smaller than the average particle size of the conductive particles 410. The average particle size of the conductive nanoparticles is, for example, 10 nm to 300 nm. The average particle size of the conductive nanoparticles can be determined by, for example, observing a cross section of a sample obtained by cutting the low-resistance conductive layer 5 along the thickness direction D1 of the substrate 2 with a transmission electron microscope (TEM). It is a value calculated using the particle size value of the conductive nanoparticles obtained by acquiring the cross-sectional TEM image and image-processing the cross-sectional TEM image. The “particle size value” is the diameter of a circle having the same area as the area of the conductive nanoparticles obtained from the cross-sectional TEM image, and the “average particle size” is a predetermined number (for example, 50) of the conductive nanoparticles. Is the average value of the particle size values of. In discussing the relative size relationship of the average particle size, the average particle size is not limited to the above-mentioned average value, and may be, for example, the median size (d 50 ) obtained from the number-based particle size distribution curve. The number-based particle size distribution curve is obtained by measuring the particle size distribution by an image imaging method. Specifically, the number-based particle size distribution curve is a curve obtained from the size (biaxial average diameter) and the number of the conductive nanoparticles obtained by image-processing the above-mentioned TEM image. In the number-based particle size distribution curve, the particle size value when the integrated value is 50% is called the median diameter (d 50 ).

低抵抗導電層5では、導電性ナノ粒子が、例えば、銀ナノ粒子であり、焼結金属層が、例えば、焼結銀層(多孔質銀層)である。 In the low resistance conductive layer 5, the conductive nanoparticles are, for example, silver nanoparticles, and the sintered metal layer is, for example, a sintered silver layer (porous silver layer).

導電デバイス1では、基板2の厚さ方向D1からの平面視で、導電性部分3の縁33と、溝23の幅方向D2の一対の開口縁231、232のうち導電性部分3の縁33に近い開口縁231と、が重なっている。導電性部分3は、溝23に入り込んでいる突部32を有する。突部32は、溝23の内面に接している。突部32は、対応する溝23の内面における底面及び一対の内側面それぞれの全体に亘って接しているのが好ましい。導電性部分3の縁33は、低抵抗導電層5の縁53により構成されている。導電性部分3の突部32は、低抵抗導電層5のうち溝23に入り込んでいる突部52により構成されている。 In the conductive device 1, in the plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2, the edge 33 of the conductive portion 3 and the edge 33 of the conductive portion 3 of the pair of opening edges 231 and 232 of the groove 23 in the width direction D2. And the opening edge 231 close to are overlapped. The conductive portion 3 has a protrusion 32 that is inserted into the groove 23. The protrusion 32 is in contact with the inner surface of the groove 23. The protrusion 32 is preferably in contact with the entire bottom surface of the inner surface of the corresponding groove 23 and the pair of inner side surfaces. The edge 33 of the conductive portion 3 is constituted by the edge 53 of the low resistance conductive layer 5. The protrusion 32 of the conductive portion 3 is formed by the protrusion 52 that is in the groove 23 of the low resistance conductive layer 5.

また、導電デバイス1では、基板2の厚さ方向D1からの平面視で、導電部4の縁43と、溝24の幅方向の一対の開口縁241、242のうち導電部4の縁43に近い開口縁241と、が重なっている。導電部4は、溝24に入り込んでいる突部34を有する。突部34は、溝24の内面に接している。突部34は、対応する溝24の内面における底面及び一対の内側面それぞれの全体に亘って接しているのが好ましい。 In the conductive device 1, the edge 43 of the conductive portion 4 and the edge 43 of the conductive portion 4 of the pair of opening edges 241 and 242 in the width direction of the groove 24 are seen in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2. The adjacent opening edge 241 overlaps. The conductive portion 4 has a protrusion 34 that is inserted into the groove 24. The protrusion 34 is in contact with the inner surface of the groove 24. The protrusions 34 are preferably in contact with the entire bottom surface of the inner surface of the corresponding groove 24 and the pair of inner side surfaces.

また、導電性部分3は、導電性部分3の突部32(以下、第1突部32ともいう)とは別に、基板2の複数の第2溝25のうち第3溝24以外の第2溝25に入り込んでいる第2突部35を更に有する。第2突部35は、第2溝25の内面に接している。第2突部35は、対応する第2溝25の内面における底面及び一対の内側面それぞれの全体に亘って接しているのが好ましい。 In addition to the protrusion 32 of the conductive portion 3 (hereinafter also referred to as the first protrusion 32 ), the conductive portion 3 is a second second groove 25 of the plurality of substrates 2 other than the third groove 24. It further has the 2nd projection part 35 which has entered into groove 25. The second protrusion 35 is in contact with the inner surface of the second groove 25. It is preferable that the second protrusion 35 is in contact with the entire bottom surface of the inner surface of the corresponding second groove 25 and the pair of inner side surfaces.

(2.3)保護シート
保護シート7は、導電性部分3を保護するためのシートである。ここにおいて、保護シート7は、ガスバリア性及び耐湿性を有するのが好ましい。保護シート7は、撥水性を有していてもよい。
(2.3) Protective Sheet The protective sheet 7 is a sheet for protecting the conductive portion 3. Here, the protective sheet 7 preferably has gas barrier properties and moisture resistance. The protective sheet 7 may have water repellency.

保護シート7は、基板2に積層されており、導電性部分3を覆っている。ここにおいて、保護シート7は、基板2の第1主面21側において、基板2及び導電性部分3を覆っている。保護シート7は、基板2側とは反対側の主面71を有する。保護シート7は、例えば、可撓性を有する。保護シート7の厚さは、例えば、30μm以上200μm以下であり、一例として、50μmである。保護シート7は、例えば、プラスチックフィルムである。プラスチックフィルムは、ポリエチレンテレフタラートフィルムであるが、これに限らず、例えば、ABSフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルム等であってもよい。 The protective sheet 7 is laminated on the substrate 2 and covers the conductive portion 3. Here, the protective sheet 7 covers the substrate 2 and the conductive portion 3 on the side of the first main surface 21 of the substrate 2. The protective sheet 7 has a main surface 71 on the side opposite to the substrate 2 side. The protection sheet 7 has flexibility, for example. The thickness of the protective sheet 7 is, for example, 30 μm or more and 200 μm or less, and as an example, 50 μm. The protection sheet 7 is, for example, a plastic film. The plastic film is a polyethylene terephthalate film, but is not limited to this, and may be, for example, an ABS film, a polyethylene naphthalate film, a polyether sulfone film, a polycarbonate film, a polyester film, or the like.

保護シート7は、基板2にラミネートされている。保護シート7は、複数の凹部26に一対一に入り込んでいる複数の突部76を有する。複数の突部76の各々は、複数の凹部26のうち対応する凹部26の内面に接している。複数の突部76の各々は、複数の凹部26のうち対応する凹部26の内面における底面及び一対の内側面それぞれの全体に亘って接しているのが好ましい。 The protective sheet 7 is laminated on the substrate 2. The protective sheet 7 has a plurality of protrusions 76 that are inserted one-on-one into the plurality of recesses 26. Each of the plurality of protrusions 76 is in contact with the inner surface of the corresponding recess 26 among the plurality of recesses 26. It is preferable that each of the plurality of protrusions 76 is in contact with the entire bottom surface of the corresponding recess 26 of the plurality of recesses 26 and the entire pair of inner side surfaces.

(3)導電デバイスの製造方法
以下、導電デバイス1の製造方法について、図4、5A、5B及び6を参照して説明する。
(3) Manufacturing Method of Conductive Device Hereinafter, a manufacturing method of the conductive device 1 will be described with reference to FIGS. 4, 5A, 5B and 6.

導電デバイス1の製造方法では、例えば、以下の第1工程〜第5工程を順次行う。 In the method for manufacturing the conductive device 1, for example, the following first step to fifth step are sequentially performed.

第1工程では、図4に示すように、複数の溝20を有する基板2を準備する。ここにおいて、複数の溝20は、第1溝23、複数の第2溝25及び複数の凹部26を含んでいるが、少なくとも第1溝23を含んでいればよい。実施形態1に係る導電デバイスの製造方法では、第1工程が、溝23を有する基板2を準備する基板準備工程を構成している。 In the first step, as shown in FIG. 4, a substrate 2 having a plurality of grooves 20 is prepared. Here, the plurality of grooves 20 include the first groove 23, the plurality of second grooves 25, and the plurality of recesses 26, but it is sufficient that the plurality of grooves 20 include at least the first groove 23. In the method of manufacturing a conductive device according to the first embodiment, the first step constitutes a substrate preparation step of preparing the substrate 2 having the groove 23.

第2工程では、図5Aに示すように、基板2上の導電部4の形成予定領域に導電性粒子410と有機バインダ420と溶剤とを含む導電性ペースト400を塗布する。実施形態1に係る導電デバイス1の製造方法では、第2工程が、基板2上の導電部4の形成予定領域に導電性粒子410と有機バインダ420と溶剤とを含む導電性ペースト400を塗布する塗布工程(第1塗布工程)を構成している。導電性ペースト400としては、例えば、複数の導電性粒子410を含む粉末に有機バインダ420および有機溶剤を混合させたペーストを用いる。第2工程では、例えば、ディスペンサシステム(dispenser system)等を利用して導電性ペースト400を塗布する。ディスペンサシステムは、基板2を保持するテーブル、ディスペンサヘッド441(図5A参照)と、ディスペンサヘッド441に保持され導電性ペースト400を吐出するノズル442(図5A参照)と、を備える。図5Aでは、ライン状の導電部4を形成するためにディスペンサヘッド441を基板2上に導電部4の形成予定領域に沿って移動させつつ、ノズル442から導電性ペースト400を吐出させて塗布する様子を模式的に示してある。 In the second step, as shown in FIG. 5A, the conductive paste 400 containing the conductive particles 410, the organic binder 420, and the solvent is applied to the region where the conductive portion 4 is to be formed on the substrate 2. In the method for manufacturing the conductive device 1 according to the first embodiment, the second step is to apply the conductive paste 400 containing the conductive particles 410, the organic binder 420, and the solvent to the region where the conductive portion 4 is to be formed on the substrate 2. The coating process (first coating process) is configured. As the conductive paste 400, for example, a paste obtained by mixing a powder containing a plurality of conductive particles 410 with an organic binder 420 and an organic solvent is used. In the second step, for example, the conductive paste 400 is applied using a dispenser system or the like. The dispenser system includes a table that holds the substrate 2, a dispenser head 441 (see FIG. 5A), and a nozzle 442 (see FIG. 5A) that is held by the dispenser head 441 and discharges the conductive paste 400. In FIG. 5A, in order to form the linear conductive portion 4, the dispenser head 441 is moved on the substrate 2 along the area where the conductive portion 4 is to be formed, and the conductive paste 400 is discharged from the nozzle 442 and applied. The situation is schematically shown.

図5Aの例では、ディスペンサヘッド441の吐出速度を変化させることにより、単位時間当たりの導電性ペーストの滴下量(塗布量)を変化させることができ、滴下量とディスペンサヘッド441の移動速度を変えることにより、単位面積当たりに塗布する導電性ペースト400の量を制御することができ、導電性ペースト400を導電部4の形状に基づく塗布形状とすることが可能となる。ここにおいて、ディスペンサシステムは、ディスペンサヘッド441を移動させるロボットからなる移動機構と、テーブルから基板2の第1主面21及びノズル442それぞれまでの高さを測定するセンサ部と、移動機構及びノズル442からの導電性ペースト400の吐出速度を制御するコントローラと、を備えているのが好ましい。コントローラは、例えば、マイクロコンピュータに適宜のプログラムを搭載することにより実現することができる。コントローラは、例えば、CAD(Computer Aided Design)で設計された導電部4の設計形状における平面視での所定パターンのデータに基づいてディスペンサヘッド441を移動させる。 In the example of FIG. 5A, by changing the discharge speed of the dispenser head 441, the dropping amount (application amount) of the conductive paste per unit time can be changed, and the dropping amount and the moving speed of the dispenser head 441 can be changed. As a result, the amount of the conductive paste 400 applied per unit area can be controlled, and the conductive paste 400 can have a coating shape based on the shape of the conductive portion 4. Here, the dispenser system includes a moving mechanism including a robot that moves the dispenser head 441, a sensor unit that measures the height from the table to the first main surface 21 of the substrate 2 and the nozzle 442, the moving mechanism and the nozzle 442. And a controller for controlling the discharge speed of the conductive paste 400 from the above. The controller can be realized, for example, by mounting an appropriate program on a microcomputer. The controller moves the dispenser head 441 based on data of a predetermined pattern in plan view in the design shape of the conductive portion 4 designed by CAD (Computer Aided Design), for example.

また、導電性ペースト400の塗布形状は、例えば、導電性ペースト400の粘度、チクソ性等を調整することで制御することも可能である。また、導電性ペースト400の塗布形状は、例えば、導電性ペースト400の粘度等を調整することで制御することも可能である。導電部4の表面41の曲率は、導電性ペースト400の粘度、表面張力等によって調整可能である。曲率を大きくすることは、例えば、導電性ペースト400の粘度を高くしたり、表面張力を大きくしたりすることで実現可能となる。ディスペンサシステムは、塗布前の導電性ペースト400の粘度が所望の粘度になるように導電性ペースト400を加熱するヒータを備えていてもよい。 Further, the coating shape of the conductive paste 400 can be controlled by adjusting the viscosity, thixotropy, etc. of the conductive paste 400, for example. Further, the application shape of the conductive paste 400 can be controlled by adjusting the viscosity of the conductive paste 400, for example. The curvature of the surface 41 of the conductive portion 4 can be adjusted by the viscosity and surface tension of the conductive paste 400. Increasing the curvature can be realized by, for example, increasing the viscosity of the conductive paste 400 or increasing the surface tension. The dispenser system may include a heater that heats the conductive paste 400 so that the viscosity of the conductive paste 400 before application becomes a desired viscosity.

第3工程では、導電性ペースト400を加熱して導電部4を形成する(図5B参照)。実施形態1に係る導電デバイスの製造方法では、第3工程が、導電性ペースト400を加熱して導電部4を形成する熱硬化工程を構成している。 In the third step, the conductive paste 400 is heated to form the conductive portion 4 (see FIG. 5B). In the method for manufacturing a conductive device according to the first embodiment, the third step constitutes a thermosetting step of heating the conductive paste 400 to form the conductive portion 4.

第4工程では、導電性ナノ粒子を含む導電性インク500(図6参照)を導電部4の表面41を覆うように塗布する。実施形態1に係る導電デバイス1の製造方法では、第4工程が、低抵抗導電層5の形成予定領域に低抵抗導電層5の元になる導電性インク500を塗布する第2塗布工程を構成している。導電性インク500は、導電性ナノ粒子(例えば、銀ナノ粒子)と揮発性のバインダと溶剤とを含むインクである。第4工程では、ディスペンサシステム等を利用して導電性インク500を塗布する。第4工程で用いるディスペンサシステムは、第2工程で用いるディスペンサシステムと略同じ構成であり、ディスペンサヘッド441の代わりに、ディスペンサヘッド551を備え、導電性ペースト400を吐出するノズル442の代わりに、導電性インク500を吐出するノズル552を備える点で相違する。第4工程で用いるディスペンサシステムにおけるコントローラは、例えば、CADで設計された低抵抗導電層5の設計形状における平面視での所定パターンのデータに基づいてディスペンサヘッド551を移動させる。導電性インク500の粘度は、導電性ペースト400の粘度よりも小さい。なお、粘度の値は、例えば、円錐平板型回転粘度計を用いて常温下で測定した値を採用することができる。 In the fourth step, the conductive ink 500 containing conductive nanoparticles (see FIG. 6) is applied so as to cover the surface 41 of the conductive portion 4. In the method for manufacturing the electrically conductive device 1 according to the first embodiment, the fourth step constitutes a second application step of applying the conductive ink 500, which is the base of the low resistance conductive layer 5, to the region where the low resistance conductive layer 5 is to be formed. doing. The conductive ink 500 is an ink containing conductive nanoparticles (for example, silver nanoparticles), a volatile binder, and a solvent. In the fourth step, the conductive ink 500 is applied using a dispenser system or the like. The dispenser system used in the fourth step has substantially the same configuration as the dispenser system used in the second step, and includes a dispenser head 551 instead of the dispenser head 441, and a conductive material instead of the nozzle 442 that discharges the conductive paste 400. The difference is that a nozzle 552 for ejecting the sexual ink 500 is provided. The controller in the dispenser system used in the fourth step moves the dispenser head 551 based on data of a predetermined pattern in plan view in the design shape of the low resistance conductive layer 5 designed by CAD, for example. The viscosity of the conductive ink 500 is smaller than the viscosity of the conductive paste 400. The value of the viscosity may be, for example, a value measured at room temperature using a cone-and-plate type rotary viscometer.

第5工程では、導電性インク500を乾燥させてから加熱することによって低抵抗導電層5(図2参照)を形成する。第5工程では、隣り合う導電性ナノ粒子同士を金属結合させる。実施形態1に係る導電デバイス1の製造方法では、第5工程が、導電性インク500から低抵抗導電層5を形成する熱処理工程を構成している。 In the fifth step, the low resistance conductive layer 5 (see FIG. 2) is formed by drying the conductive ink 500 and then heating it. In the fifth step, adjacent conductive nanoparticles are metal-bonded to each other. In the method for manufacturing the conductive device 1 according to the first embodiment, the fifth step constitutes a heat treatment step of forming the low resistance conductive layer 5 from the conductive ink 500.

(4)導電デバイスの応用例
導電デバイス1は、導電機能を有する構成要素として導電性部分3を備えるデバイスである。
(4) Application Example of Conductive Device The conductive device 1 is a device including the conductive portion 3 as a component having a conductive function.

以下では、導電デバイス1の応用例として、図7に示すように導電デバイス1を備えるアンテナ装置100を例示する。 Hereinafter, as an application example of the conductive device 1, an antenna device 100 including the conductive device 1 as illustrated in FIG. 7 is illustrated.

アンテナ装置100は、誘電体基板102と、誘電体基板102上で一方向に並んでいる2つの放射導体103と、を備えるダイポールアンテナである。2つの放射導体103は、上記一方向において給電部106の両側に1つずつ配置されている。2つの放射導体103の各々は、メアンダ状である。アンテナ装置100の誘電体基板102は、導電デバイス1の基板2により構成されている。2つの放射導体103の各々は、導電デバイス1の導電性部分3により構成されている。図7では、保護シート7の図示を省略してある。 The antenna device 100 is a dipole antenna including a dielectric substrate 102 and two radiation conductors 103 arranged in one direction on the dielectric substrate 102. The two radiation conductors 103 are arranged one on each side of the power feeding unit 106 in the one direction. Each of the two radiation conductors 103 has a meandering shape. The dielectric substrate 102 of the antenna device 100 is composed of the substrate 2 of the conductive device 1. Each of the two radiation conductors 103 is constituted by the conductive portion 3 of the conductive device 1. In FIG. 7, the protective sheet 7 is not shown.

導電デバイス1は、保護シート7を備えずに、図8に示すように、フィルムインサート成形品8におけるフィルム81を構成してもよい。フィルムインサート成形品8は、フィルム81と、樹脂構造体80と、備える。フィルムインサート成形品8では、フィルム81が樹脂構造体80にフィルムインサート成形されている。 The conductive device 1 may include the protective sheet 7 and may form the film 81 in the film insert molded product 8 as shown in FIG. 8. The film insert molded product 8 includes a film 81 and a resin structure 80. In the film insert molded product 8, the film 81 is film insert molded on the resin structure 80.

アンテナ装置100は、例えば、図9に示すように、無線器800に用いられる。無線器800は、ハウジング801を備える。ハウジング801は、導電デバイス1を備えるアンテナ装置100をフィルムとしたフィルムインサート成形品である。ここにおいて、導電デバイス1は、保護シート7を備えずにハウジング801にフィルムインサート成形されている。また、無線器800は、ハウジング801内に収納されている無線通信モジュール810を備える。無線通信モジュール810は、アンテナ装置100を介して無線器800の外部の機器との間で無線通信を行う。無線通信モジュール810は、例えば、プリント配線基板と、プリント配線基板に実装され、プリント配線基板とともに無線通信回路を構成する複数の電子部品と、を含む。 The antenna device 100 is used for a wireless device 800, for example, as shown in FIG. The wireless device 800 includes a housing 801. The housing 801 is a film insert molded product in which the antenna device 100 including the conductive device 1 is used as a film. Here, the conductive device 1 is formed by film insert molding on the housing 801 without the protection sheet 7. Further, the wireless device 800 includes a wireless communication module 810 housed in the housing 801. The wireless communication module 810 performs wireless communication with a device outside the wireless device 800 via the antenna device 100. The wireless communication module 810 includes, for example, a printed wiring board and a plurality of electronic components mounted on the printed wiring board and forming a wireless communication circuit together with the printed wiring board.

(5)効果
実施形態1に係る導電デバイス1及びそれを備えるアンテナ装置100では、導電性部分3の形状精度の向上を図ることが可能となる。ここにおいて、導電性部分3の形状精度は、導電性部分3の設計形状における平面視での所定パターンに対する導電性部分3の形状精度を含む。導電デバイス1では、導電性部分3の縁33が所定パターンの縁から外側又は内側に位置していないほど導電性部分3の形状精度が高い。
(5) Effects In the conductive device 1 according to the first embodiment and the antenna device 100 including the conductive device 1, it is possible to improve the shape accuracy of the conductive portion 3. Here, the shape accuracy of the conductive portion 3 includes the shape accuracy of the conductive portion 3 with respect to a predetermined pattern in plan view in the designed shape of the conductive portion 3. In the conductive device 1, the shape accuracy of the conductive portion 3 is higher as the edge 33 of the conductive portion 3 is located outside or inside of the edge of the predetermined pattern.

また、導電デバイス1を備えるフィルムインサート成形品8では、導電性部分3が伸縮性を有するので、フィルムインサート成形の際に導電性部分3が破断するのを抑制することが可能となる。 Further, in the film insert molded product 8 including the conductive device 1, since the conductive portion 3 has elasticity, it is possible to prevent the conductive portion 3 from breaking during the film insert molding.

また、実施形態1に係る導電デバイス1の製造方法では、導電性部分3の形状精度の向上を図ることが可能となる。また、実施形態1に係る導電デバイス1の製造方法では、導電性部分3の形状の再現性を向上させることが可能となり、導電デバイス1の特性のばらつきを低減することが可能となる。 Further, in the method for manufacturing the conductive device 1 according to the first embodiment, it is possible to improve the shape accuracy of the conductive portion 3. In addition, in the method for manufacturing the conductive device 1 according to the first embodiment, it is possible to improve the reproducibility of the shape of the conductive portion 3 and reduce variations in the characteristics of the conductive device 1.

また、実施形態1に係る導電デバイス1を備えるアンテナ装置100では、アンテナ特性の向上を図れる。ここにおいて、アンテナ装置100では、各放射導体103が低抵抗導電層5を含む導電性部分3により構成されているので、導電性部分3が導電部4のみにより構成されている場合と比べて、低抵抗化を図れるとともに、導電性部分3の表皮効果による伝送損失を低減できる。図3には、導電デバイス1の導電性部分3を高周波信号が伝わる場合の高周波信号の伝送経路を矢印F1で模式的に示してある。導電デバイス1と略同じ構成を有し低抵抗導電層5を備えていない比較例では、表皮効果によって、導電部4の表面41付近で導電部4の長さ方向に並んでいる複数の導電性粒子410の表面に沿って高周波信号が伝送される。このため、比較例では導電部4の表面41の凹凸に起因して伝送損失が大きくなるのに対し、低抵抗導電層5を備えた導電デバイス1では、表皮効果によって、低抵抗導電層5に沿って高周波信号が伝送されるので、伝送損失が小さくなる。 Further, in the antenna device 100 including the conductive device 1 according to the first embodiment, the antenna characteristics can be improved. Here, in the antenna device 100, since each radiating conductor 103 is configured by the conductive portion 3 including the low resistance conductive layer 5, as compared with the case where the conductive portion 3 is configured by only the conductive portion 4, The resistance can be reduced, and the transmission loss due to the skin effect of the conductive portion 3 can be reduced. In FIG. 3, a transmission path of a high frequency signal when the high frequency signal is transmitted through the conductive portion 3 of the conductive device 1 is schematically shown by an arrow F1. In the comparative example which has substantially the same configuration as the conductive device 1 and does not include the low resistance conductive layer 5, a plurality of conductive materials arranged in the length direction of the conductive portion 4 near the surface 41 of the conductive portion 4 due to the skin effect. A high frequency signal is transmitted along the surface of the particle 410. Therefore, in the comparative example, the transmission loss increases due to the unevenness of the surface 41 of the conductive portion 4, whereas in the conductive device 1 including the low resistance conductive layer 5, the low resistance conductive layer 5 is formed by the skin effect. Since the high frequency signal is transmitted along the line, the transmission loss is reduced.

(6)変形例
以下、実施形態1の変形例に係る導電デバイス1aについて、図10に基づいて説明する。
(6) Modification Example A conductive device 1a according to a modification example of Embodiment 1 will be described below with reference to FIG.

変形例に係る導電デバイス1aは、実施形態1に係る導電デバイス1と略同じであり、導電性部分3を複数備えている。変形例に係る導電デバイス1bに関し、実施形態1に係る導電デバイス1と同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。 The conductive device 1a according to the modification is substantially the same as the conductive device 1 according to the first embodiment, and includes a plurality of conductive portions 3. Regarding the conductive device 1b according to the modified example, the same components as those of the conductive device 1 according to the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

変形例に係る導電デバイス1aは、例えば、プリント配線板の代わりの配線装置として用いることができる。変形例に係る導電デバイス1aでは、例えば、複数の導電性部分3の各々が、配線部を構成している。 The conductive device 1a according to the modification can be used, for example, as a wiring device instead of a printed wiring board. In the conductive device 1a according to the modified example, for example, each of the plurality of conductive portions 3 constitutes a wiring portion.

変形例に係る導電デバイス1aでは、複数の導電性部分3の各々が、基板2の厚さ方向D1(図1参照)からの平面視で基板2の複数の溝20のうち少なくとも4つの溝20に重複するように形成されている。 In the conductive device 1a according to the modification, each of the plurality of conductive portions 3 has at least four grooves 20 among the plurality of grooves 20 of the substrate 2 in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2 (see FIG. 1). Are formed so as to overlap.

変形例に係る導電デバイス1aでは、実施形態1に係る導電デバイス1と同様、導電性部分3の形状精度の向上を図ることが可能となる。これにより、複数の導電性部分3の各々により構成される複数の配線部の配線幅の精度を向上させることができる。 In the conductive device 1a according to the modified example, it is possible to improve the shape accuracy of the conductive portion 3 as in the conductive device 1 according to the first embodiment. As a result, it is possible to improve the accuracy of the wiring width of the plurality of wiring portions formed by each of the plurality of conductive portions 3.

(実施形態2)
以下、実施形態2に係る導電デバイス1bについて、図11に基づいて説明する。
(Embodiment 2)
Hereinafter, the conductive device 1b according to the second embodiment will be described with reference to FIG.

実施形態2に係る導電デバイス1bは、実施形態1に係る導電デバイス1と略同じであり、導電性部分3の代わりに導電性部分3bを備える点で、実施形態1に係る導電デバイス1と相違する。実施形態2に係る導電デバイス1bに関し、実施形態1に係る導電デバイス1と同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。 The conductive device 1b according to the second embodiment is substantially the same as the conductive device 1 according to the first embodiment, and is different from the conductive device 1 according to the first embodiment in that a conductive portion 3b is provided instead of the conductive portion 3. To do. Regarding the conductive device 1b according to the second embodiment, the same components as those of the conductive device 1 according to the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

実施形態2に係る導電デバイス1bの導電性部分3bは、実施形態1に係る導電デバイス1の導電性部分3における導電部4と低抵抗導電層5とのうち導電部4のみで構成されている。 The conductive portion 3b of the conductive device 1b according to the second embodiment is composed of only the conductive portion 4 of the conductive portion 4 and the low resistance conductive layer 5 of the conductive portion 3 of the conductive device 1 according to the first embodiment. ..

導電デバイス1bでは、基板2の厚さ方向D1からの平面視で、導電性部分3bの縁33bと、溝23bの幅方向D2の一対の開口縁231b、232bのうち導電性部分3bの縁33bに近い開口縁231bと、が重なっている。導電性部分3bは、溝23bに入り込んでいる突部32bを有する。突部32bは、溝23bの内面に接している。突部32bは、対応する溝23bの内面における底面及び一対の内側面それぞれの全体に亘って接しているのが好ましい。 In the conductive device 1b, the edge 33b of the conductive portion 3b and the edge 33b of the conductive portion 3b of the pair of opening edges 231b, 232b of the groove 23b in the width direction D2 in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2. And the opening edge 231b close to are overlapped. The conductive portion 3b has a protrusion 32b that is inserted into the groove 23b. The protrusion 32b is in contact with the inner surface of the groove 23b. It is preferable that the protrusions 32b are in contact with the entire bottom surface of the inner surface of the corresponding groove 23b and the pair of inner side surfaces.

突部32bは、導電部4の突部34により構成されている。 The protrusion 32 b is formed by the protrusion 34 of the conductive portion 4.

実施形態2に係る導電デバイス1bの製造方法は、実施形態1に係る導電デバイス1の製造方法と略同じであって、第4工程及び第5工程を備えていない点で実施形態1に係る導電デバイス1の製造方法と相違する。 The method for manufacturing the conductive device 1b according to the second embodiment is substantially the same as the method for manufacturing the conductive device 1 according to the first embodiment, and does not include the fourth step and the fifth step. This is different from the method of manufacturing the device 1.

実施形態2に係る導電デバイス1bは、実施形態1に係る導電デバイス1と同様、導電性部分3の形状精度の向上を図ることが可能となる。 The conductive device 1b according to the second embodiment can improve the shape accuracy of the conductive portion 3 similarly to the conductive device 1 according to the first embodiment.

実施形態2に係る導電デバイス1bは、例えば、配線装置として用いることができる。 The conductive device 1b according to the second embodiment can be used as, for example, a wiring device.

(実施形態3)
以下、実施形態3に係る導電デバイス1cについて、図12に基づいて説明する。
(Embodiment 3)
Hereinafter, the conductive device 1c according to the third embodiment will be described with reference to FIG.

実施形態3に係る導電デバイス1cは、実施形態2に係る導電デバイス1bと略同じであり、絶縁層6を更に備える点で、実施形態2に係る導電デバイス1bと相違する。実施形態3に係る導電デバイス1cに関し、実施形態2に係る導電デバイス1bと同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。 The conductive device 1c according to the third embodiment is substantially the same as the conductive device 1b according to the second embodiment, and differs from the conductive device 1b according to the second embodiment in that an insulating layer 6 is further provided. Regarding the conductive device 1c according to the third embodiment, the same components as those of the conductive device 1b according to the second embodiment are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

絶縁層6は、基板2上に形成されている。絶縁層6は、基板2の厚さ方向D1からの平面視で導電性部分3bの縁33bの外側に位置している。絶縁層6の材料は、基板2の材料とは異なる。絶縁層6の材料は、例えば、アクリル系ポリマー等である。ここにおいて、絶縁層6の材料は、基板2の材料と比べて導電性ペースト400に対する濡れ性の低い材料である。絶縁層6の材料は、基板2と比べて接触角が大きい。また、絶縁層6は、撥水性を有する。 The insulating layer 6 is formed on the substrate 2. The insulating layer 6 is located outside the edge 33b of the conductive portion 3b in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2. The material of the insulating layer 6 is different from the material of the substrate 2. The material of the insulating layer 6 is, for example, an acrylic polymer or the like. Here, the material of the insulating layer 6 is a material having lower wettability with respect to the conductive paste 400 than the material of the substrate 2. The material of the insulating layer 6 has a larger contact angle than the substrate 2. The insulating layer 6 has water repellency.

実施形態3に係る導電デバイス1cでは、基板2の厚さ方向D1からの平面視で絶縁層6と導電性部分3bとが接している。 In the conductive device 1c according to the third embodiment, the insulating layer 6 and the conductive portion 3b are in contact with each other in a plan view from the thickness direction D1 of the substrate 2.

実施形態3に係る導電デバイス1cの製造方法は、実施形態2に係る導電デバイス1bの製造方法と略同じであって、基板2上に導電性ペースト400を塗布する前に、基板2上に絶縁層6を形成する絶縁層形成工程を更に備える点で実施形態2に係る導電デバイス1bの製造方法と相違する。 The method for manufacturing the conductive device 1c according to the third embodiment is substantially the same as the method for manufacturing the conductive device 1b according to the second embodiment, and the method for insulating the conductive paste 400 on the substrate 2 before applying the conductive paste 400 to the substrate 2 is as follows. This is different from the method for manufacturing the conductive device 1b according to the second embodiment in that it further includes an insulating layer forming step of forming the layer 6.

実施形態3に係る導電デバイス1cは、実施形態2に係る導電デバイス1bと比べて、導電性部分3bの形状精度の更なる向上を図ることが可能となる。 The conductive device 1c according to the third embodiment can further improve the shape accuracy of the conductive portion 3b as compared with the conductive device 1b according to the second embodiment.

上記の実施形態は、本開示の様々な実施形態の一つに過ぎない。上記の実施形態は、本発明の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。 The above embodiment is only one of the various embodiments of the present disclosure. The above-described embodiment can be variously modified according to the design and the like as long as the object of the present invention can be achieved.

例えば、導電デバイス1の製造方法において、導電性ペースト400を塗布する方法は、ディスペンサシステムを用いた方法に限らず、例えば、スクリーン印刷法等であってもよい。 For example, in the method of manufacturing the conductive device 1, the method of applying the conductive paste 400 is not limited to the method using the dispenser system, and may be, for example, a screen printing method or the like.

また、導電デバイス1の製造方法において、導電性インク500を塗布する方法は、ディスペンサシステムを用いた方法に限らず、例えば、スクリーン印刷法等であってもよい。 Further, in the method of manufacturing the conductive device 1, the method of applying the conductive ink 500 is not limited to the method using the dispenser system, and may be, for example, a screen printing method or the like.

また、アンテナ装置100における放射導体103の形状は、メアンダ状に限定されず、他の形状であってもよい。また、アンテナ装置100は、ダイポールアンテナに限らず、他のアンテナであってもよい。 Further, the shape of the radiation conductor 103 in the antenna device 100 is not limited to the meander shape, and may be another shape. Further, the antenna device 100 is not limited to the dipole antenna and may be another antenna.

また、実施形態1に係る導電デバイス1において、実施形態3に係る導電デバイス1cの絶縁層6が設けられていてもよい。 Further, in the conductive device 1 according to the first embodiment, the insulating layer 6 of the conductive device 1c according to the third embodiment may be provided.

(まとめ)
第1の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)は、基板(2)と、導電性部分(3;3b)と、を備える。導電性部分(3;3b)は、基板(2)上に形成されている。導電性部分(3;3b)は、導電部(4)を有する。導電部(4)は、基板(2)上に形成されており、導電性粒子(410)と有機バインダ(420)とを含む。基板(2)は、基板(2)の厚さ方向(D1)からの平面視で導電性部分(3;3b)に重なり導電性部分(3;3b)の縁(33;33b)に沿った溝(23;23b)が形成されている。基板(2)の厚さ方向(D1)からの平面視で、導電性部分(3;3b)の縁(33;33b)と、溝(23;23b)の幅方向(D2)の一対の開口縁(231;231b,232;232b)のうち導電性部分(3;3b)の縁(33;33b)に近い開口縁(231;231b)と、が重なっている。導電性部分(3;3b)は、溝(23;23b)に入り込んでいる突部(32;32b)を有する。
(Summary)
The conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the first aspect includes a substrate (2) and a conductive portion (3; 3b). The conductive part (3; 3b) is formed on the substrate (2). The conductive part (3; 3b) has a conductive part (4). The conductive part (4) is formed on the substrate (2) and contains conductive particles (410) and an organic binder (420). The substrate (2) overlaps with the conductive portion (3; 3b) in a plan view from the thickness direction (D1) of the substrate (2) along the edge (33; 33b) of the conductive portion (3; 3b). Grooves (23; 23b) are formed. In a plan view from the thickness direction (D1) of the substrate (2), the edge (33; 33b) of the conductive portion (3; 3b) and the pair of openings in the width direction (D2) of the groove (23; 23b). Among the edges (231; 231b, 232; 232b), the opening edge (231; 231b) close to the edge (33; 33b) of the conductive portion (3; 3b) overlaps. The electrically conductive portion (3; 3b) has a protrusion (32; 32b) which fits into the groove (23; 23b).

第1の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、導電性部分(3;3b)の形状精度の向上を図ることが可能となる。 In the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the first aspect, it is possible to improve the shape accuracy of the conductive portion (3; 3b).

第2の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)は、第1の態様において、絶縁層(6)を更に備える。絶縁層(6)は、基板(2)上に形成されており、基板(2)の厚さ方向(D1)からの平面視で導電性部分(3;3b)の縁(33;33b)の外側に位置している。絶縁層(6)の材料は、基板(2)の材料とは異なる。 The conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the second aspect further comprises an insulating layer (6) in the first aspect. The insulating layer (6) is formed on the substrate (2) and is formed on the edge (33; 33b) of the conductive portion (3; 3b) in a plan view from the thickness direction (D1) of the substrate (2). It is located outside. The material of the insulating layer (6) is different from the material of the substrate (2).

第2の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、導電性部分(3;3b)の形状精度の更なる向上を図ることが可能となる。 In the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the second aspect, it is possible to further improve the shape accuracy of the conductive portion (3; 3b).

第3の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、第1又は2の態様において、基板(2)は、フレキシブル基板である。 In the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the third aspect, in the first or second aspect, the substrate (2) is a flexible substrate.

第3の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、平面に限らず、曲面又は凹凸形状を有する面等へ配置することも可能となる。 The conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the third aspect can be arranged not only on a flat surface but also on a curved surface or a surface having an uneven shape.

第4の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)は、第1〜3の態様のいずれか一つにおいて、保護シート(7)を更に備える。保護シート(7)は、基板(2)に積層されており、導電性部分(3;3b)を覆っている。 The conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the fourth aspect further includes a protective sheet (7) according to any one of the first to third aspects. The protective sheet (7) is laminated on the substrate (2) and covers the conductive portions (3; 3b).

第4の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、信頼性の向上を図れる。 The conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the fourth aspect can improve reliability.

第5の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、第4の態様において、基板(2)は、厚さ方向(D1)からの平面視で保護シート(7)と導電性部分(3;3b)とのうち保護シート(7)のみが重なる領域に複数の凹部(26)が形成されている。保護シート(7)は、複数の凹部(26)に一対一に入り込んでいる複数の突部(76)を有する。 In the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the fifth aspect, in the fourth aspect, the substrate (2) is electrically conductive with the protective sheet (7) in a plan view from the thickness direction (D1). A plurality of recesses (26) are formed in a region where only the protective sheet (7) overlaps with the portion (3; 3b). The protective sheet (7) has a plurality of protrusions (76) which are inserted one-to-one into the plurality of recesses (26).

第5の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、保護シート(7)と基板(2)との密着性の向上を図れる。 In the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the fifth aspect, the adhesion between the protective sheet (7) and the substrate (2) can be improved.

第6の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、第1〜5の態様のいずれか一つにおいて、基板(2)は、基板(2)の厚さ方向(D1)からの平面視で導電性部分(3;3b)における縁(33;33b)よりも内側の部分に重なる部位に、溝(23;23b)からなる第1溝とは異なる第2溝(25)が形成されている。導電性部分(3;3b)は、突部(32;32b)からなる第1突部とは別に、第2溝(25)に入り込んでいる第2突部(35)を有する。 In the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the sixth aspect, in any one of the first to fifth aspects, the substrate (2) extends from the thickness direction (D1) of the substrate (2). The second groove (25) different from the first groove composed of the grooves (23; 23b) is formed in a portion of the conductive portion (3; 3b) that overlaps the inner portion of the edge (33; 33b) in plan view. Has been formed. The conductive portion (3; 3b) has a second protrusion (35) which is inserted into the second groove (25), in addition to the first protrusion which is formed by the protrusion (32; 32b).

第6の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、導電性部分(3;3b)と基板(2)との密着性の更なる向上を図れる。 In the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the sixth aspect, the adhesion between the conductive portion (3; 3b) and the substrate (2) can be further improved.

第7の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、第6の態様において、第2溝(25)は、基板(2)の厚さ方向(D1)からの平面視で第1溝(23;23b)と同じ方向に沿っている。 In the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the seventh aspect, in the sixth aspect, the second groove (25) has a second shape in plan view from the thickness direction (D1) of the substrate (2). It is along the same direction as the one groove (23; 23b).

第8の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)は、第1〜7の態様のいずれか一つにおいて、導電性部分(3;3b)を複数備える。 A conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to an eighth aspect is the one according to any one of the first to seventh aspects, and includes a plurality of conductive portions (3; 3b).

第8の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)では、複数の導電性部分(3;3b)の形状精度を向上させることが可能となる。 In the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the eighth aspect, it is possible to improve the shape accuracy of the plurality of conductive portions (3; 3b).

第9の態様に係るアンテナ装置(100)は、第1〜8の態様のいずれか一つの導電デバイス(1;1a;1b;1c)を備える。 The antenna device (100) according to the ninth aspect includes the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to any one of the first to eighth aspects.

第9の態様に係るアンテナ装置(100)では、導電性部分(3;3b)の形状精度の向上を図ることが可能となる。 In the antenna device (100) according to the ninth aspect, it is possible to improve the shape accuracy of the conductive portions (3; 3b).

第10の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)の製造方法は、第1〜8のいずれか一項に記載の導電デバイス(1)の製造方法であって、溝(23;23b)を有する基板(2)を準備する基板準備工程と、基板(2)上の導電部(4)の形成予定領域に導電性粒子(410)と有機バインダ(420)と溶剤とを含む導電性ペースト(400)を塗布する塗布工程と、導電性ペースト(400)を加熱して導電部(4)を形成する熱硬化工程と、を備える。 A method of manufacturing a conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to a tenth aspect is the method of manufacturing a conductive device (1) according to any one of the first to eighth, wherein the groove (23; 23b) a substrate preparation step of preparing a substrate (2), and conductive containing conductive particles (410), an organic binder (420) and a solvent in a region where the conductive part (4) is to be formed on the substrate (2). And a heat curing step of heating the conductive paste (400) to form the conductive portion (4).

第10の態様に係る導電デバイス(1;1a;1b;1c)の製造方法では、導電性部分(3;3b)の形状精度の向上を図ることが可能となる。 In the method of manufacturing the conductive device (1; 1a; 1b; 1c) according to the tenth aspect, it is possible to improve the shape accuracy of the conductive portion (3; 3b).

1、1a、1b、1c 導電デバイス
2 基板
23、23b 溝(第1溝)
25 第2溝
26 凹部
231、231b 開口縁
232、232b 開口縁
3、3b 導電性部分
32、32b 突部(第1突部)
33、33b 縁
35 第2突部
4 導電部
41 表面
400 導電性ペースト
410 導電性粒子
420 有機バインダ
5 低抵抗導電層
500 導電性インク
6 絶縁層
7 保護シート
76 突部
100 アンテナ装置
800 無線器
801 ハウジング
D1 厚さ方向
D2 幅方向
1, 1a, 1b, 1c Conductive device 2 Substrate 23, 23b Groove (first groove)
25 2nd groove 26 Recess 231, 231b Opening edge 232, 232b Opening edge 3, 3b Conductive part 32, 32b Projection (1st projection)
33, 33b Edge 35 Second protrusion 4 Conductive portion 41 Surface 400 Conductive paste 410 Conductive particles 420 Organic binder 5 Low resistance conductive layer 500 Conductive ink 6 Insulating layer 7 Protective sheet 76 Protrusion 100 Antenna device 800 Radio device 801 Housing D1 Thickness direction D2 Width direction

Claims (10)

基板と、
前記基板上に形成されている導電性部分と、を備え、
前記導電性部分は、
前記基板上に形成されており、導電性粒子と有機バインダとを含む導電部を有し、
前記基板は、前記基板の厚さ方向からの平面視で前記導電性部分に重なり前記導電性部分の縁に沿った溝が形成されており、
前記基板の前記厚さ方向からの平面視で、前記導電性部分の前記縁と、前記溝の幅方向の一対の開口縁のうち前記導電性部分の前記縁に近い開口縁と、が重なっており、
前記導電性部分は、前記溝に入り込んでいる突部を有する、
導電デバイス。
Board,
A conductive portion formed on the substrate,
The conductive portion is
Formed on the substrate, having a conductive portion containing conductive particles and an organic binder,
The substrate has a groove formed along the edge of the conductive portion to overlap the conductive portion in a plan view from the thickness direction of the substrate,
When seen in a plan view from the thickness direction of the substrate, the edge of the conductive portion and an opening edge of the pair of opening edges in the width direction of the groove close to the edge of the conductive portion overlap each other. Cage,
The conductive portion has a protrusion that extends into the groove,
Conductive device.
前記基板上に形成されており、前記基板の前記厚さ方向からの平面視で前記導電性部分の前記縁の外側に位置している絶縁層を更に備え、
前記絶縁層の材料は、前記基板の材料とは異なる、
請求項1に記載の導電デバイス。
An insulating layer formed on the substrate, the insulating layer being located outside the edge of the conductive portion in a plan view from the thickness direction of the substrate,
The material of the insulating layer is different from the material of the substrate,
The conductive device according to claim 1.
前記基板は、フレキシブル基板である、
請求項1又は2に記載の導電デバイス。
The substrate is a flexible substrate,
The conductive device according to claim 1 or 2.
前記基板に積層されており、前記導電性部分を覆っている保護シートを更に備える、
請求項1〜3のいずれか一項に記載の導電デバイス。
Further comprising a protective sheet laminated on the substrate and covering the conductive portion,
The conductive device according to claim 1.
前記基板は、前記厚さ方向からの平面視で前記保護シートと前記導電性部分とのうち前記保護シートのみが重なる領域に複数の凹部が形成されており、
前記保護シートは、前記複数の凹部に一対一に入り込んでいる複数の突部を有する、
請求項4に記載の導電デバイス。
The substrate has a plurality of recesses formed in a region where only the protective sheet overlaps with the protective sheet and the conductive portion in a plan view from the thickness direction,
The protective sheet has a plurality of protrusions that are in a one-to-one correspondence with the plurality of recesses.
The conductive device according to claim 4.
前記基板は、前記厚さ方向からの平面視で前記導電性部分における前記縁よりも内側の部分に重なる部位に、前記溝からなる第1溝とは異なる第2溝が形成されており、
前記導電性部分は、前記突部からなる第1突部とは別に、前記第2溝に入り込んでいる第2突部を有する、
請求項1〜5のいずれか一項に記載の導電デバイス。
In the substrate, a second groove different from the first groove formed of the groove is formed in a portion overlapping with a portion inside the edge in the conductive portion in a plan view from the thickness direction,
The conductive portion has a second protrusion that is inserted into the second groove, in addition to the first protrusion that is the protrusion.
The conductive device according to claim 1.
前記第2溝は、前記基板の前記厚さ方向からの平面視で前記第1溝と同じ方向に沿っている、
請求項6に記載の導電デバイス。
The second groove extends along the same direction as the first groove in a plan view from the thickness direction of the substrate,
The conductive device according to claim 6.
前記導電性部分を複数備える、
請求項1〜7のいずれか一項に記載の導電デバイス。
A plurality of the conductive parts,
The conductive device according to claim 1.
請求項1〜8のいずれか一項に記載の導電デバイスを備える、
アンテナ装置。
A conductive device according to any one of claims 1 to 8 is provided,
Antenna device.
請求項1〜8のいずれか一項に記載の導電デバイスの製造方法であって、
前記溝を有する基板を準備する基板準備工程と、
前記基板上の前記導電部の形成予定領域に前記導電性粒子と前記有機バインダと溶剤とを含む導電性ペーストを塗布する塗布工程と、
前記導電性ペーストを加熱して前記導電部を形成する熱硬化工程と、を備える、
導電デバイスの製造方法。
A method of manufacturing a conductive device according to any one of claims 1 to 8, comprising:
A substrate preparation step of preparing a substrate having the groove,
A coating step of coating a conductive paste containing the conductive particles, the organic binder, and a solvent in a region where the conductive portion is to be formed on the substrate,
A thermosetting step of heating the conductive paste to form the conductive portion,
Manufacturing method of conductive device.
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