JP2020115508A - ウェーハの加工方法 - Google Patents

Abstract

【課題】品質を低下させることなくデバイスチップを形成する。【解決手段】複数のデバイスが表面に形成されたウェーハを個々のデバイスチップに分割するウェーハの加工方法であって、ウェーハの裏面にポリエステル系シートを配設するポリエステル系シート配設工程と、該ポリエステル系シートを加熱し、熱圧着により該ウェーハと、該ポリエステル系シートと、を一体化させる一体化工程と、開口部を有し複数の磁石を備える第１のフレームと、開口部を有する第２のフレームと、で構成されるフレームを使用して、磁力により該第１のフレームと、該第２のフレームと、の間にポリエステル系シートの外周部を挟持してポリエステル系シートを該フレームで支持するフレーム支持工程と、該分割予定ラインに沿って分割溝を形成して該ウェーハを個々のデバイスチップに分割する分割工程と、該ポリエステル系シートを冷却しデバイスチップを突き上げるピックアップ工程と、を備える。【選択図】図４

Description

本発明は、複数のデバイスが分割予定ラインによって区画された表面の各領域に形成されたウェーハを個々のデバイスチップに分割するウェーハの加工方法に関する。

携帯電話やパソコン等の電子機器に使用されるデバイスチップの製造工程では、まず、半導体等の材料からなるウェーハの表面に複数の交差する分割予定ライン（ストリート）を設定する。そして、該分割予定ラインで区画される各領域にＩＣ（Integrated Circuit）、ＬＳＩ（Large-Scale Integrated circuit）、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等のデバイスを形成する。

その後、開口を有する環状のフレームに該開口を塞ぐように貼られたダイシングテープと呼ばれる粘着テープを該ウェーハの裏面に貼着し、ウェーハと、粘着テープと、環状のフレームと、が一体となったフレームユニットを形成する。そして、フレームユニットに含まれるウェーハを該分割予定ラインに沿って加工して分割すると、個々のデバイスチップが形成される。

ウェーハの分割には、例えば、レーザー加工装置が使用される（特許文献１参照）。レーザー加工装置は、粘着テープを介してウェーハを保持するチャックテーブル、及びウェーハに対して吸収性を有する波長のレーザービームを該ウェーハに照射するレーザー加工ユニットを備える。

ウェーハを分割する際には、チャックテーブルの上にフレームユニットを載せ、粘着テープを介してチャックテーブルにウェーハを保持させる。そして、チャックテーブルと、レーザー加工ユニットと、をチャックテーブルの上面に平行な方向に沿って相対移動させながら該レーザー加工ユニットからウェーハに該レーザービームを照射する。レーザービームが照射されるとアブレーションにより各分割予定ラインに沿ってウェーハに分割溝が形成され、ウェーハが分割される。

その後、レーザー加工装置からフレームユニットを搬出し、粘着テープに紫外線を照射する等の処理を施して粘着テープの粘着力を低下させ、デバイスチップをピックアップする。デバイスチップの生産効率が高い加工装置として、ウェーハの分割と、粘着テープへの紫外線の照射と、を一つの装置で連続して実施できる加工装置が知られている（特許文献２参照）。粘着テープ上からピックアップされたデバイスチップは、所定の配線基板等に実装される。

特開平１０−３０５４２０号公報 特許第３０７６１７９号公報

粘着テープは、例えば、塩化ビニールシート等で形成された基材層と、該基材層上に配設された糊層と、を含む。レーザー加工装置では、アブレーション加工によりウェーハを確実に分割するために、ウェーハの表面から裏面に至る分割溝を確実に形成できる条件でレーザービームがウェーハに照射される。そのため、形成された分割溝の下方やその周囲では、レーザービームの照射による熱的な影響により粘着テープの糊層が溶融し、ウェーハから形成されたデバイスチップの裏面側に糊層の一部が固着する。

この場合、粘着テープからデバイスチップをピックアップする際に粘着テープに紫外線を照射する等の処理を実施しても、ピックアップされたデバイスチップの裏面側には糊層の該一部が残存してしまう。そのため、デバイスチップの品質の低下が問題となる。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、形成されるデバイスチップの裏面側に糊層が付着せず、デバイスチップに糊層の付着に由来する品質の低下が生じないウェーハの加工方法を提供することである。

本発明の一態様によれば、複数のデバイスが、分割予定ラインによって区画された表面の各領域に形成されたウェーハを個々のデバイスチップに分割するウェーハの加工方法であって、ウェーハの裏面にポリエステル系シートを配設するポリエステル系シート配設工程と、該ポリエステル系シートを加熱し、熱圧着により該ウェーハと、該ポリエステル系シートと、を一体化させる一体化工程と、該一体化工程の前または後に、該ウェーハを収容できる大きさの開口部を有し複数の磁石を備える第１のフレームと、該ウェーハを収容できる大きさの開口部を有する第２のフレームと、で構成されるフレームを使用して、該磁石により生じる磁力により該第１のフレームと、該第２のフレームと、の間に該ポリエステル系シートの外周部を挟持して該ポリエステル系シートを該フレームで支持するフレーム支持工程と、該ウェーハに対して吸収性を有する波長のレーザービームを該分割予定ラインに沿って該ウェーハに照射し、分割溝を形成して該ウェーハを個々のデバイスチップに分割する分割工程と、該ポリエステル系シートの各デバイスチップに対応する個々の領域において、該ポリエステル系シートを冷却し、該ポリエステル系シート側から該デバイスチップを突き上げ、該ポリエステル系シートから該デバイスチップをピックアップするピックアップ工程と、を備えることを特徴とするウェーハの加工方法が提供される。

好ましくは、該一体化工程において、赤外線の照射によって該熱圧着を実施する。

また、好ましくは、該ピックアップ工程において、該ポリエステル系シートを拡張して各デバイスチップ間の間隔を広げる。

また、好ましくは、該ポリエステル系シートは、ポリエチレンテレフタレートシート、ポリエチレンナフタレートシートのいずれかである。

さらに、好ましくは、該一体化工程において、該ポリエステル系シートが該ポリエチレンテレフタレートシートである場合に加熱温度は２５０℃〜２７０℃であり、該ポリエステル系シートが該ポリエチレンナフタレートシートである場合に加熱温度は１６０℃〜１８０℃である。

また、好ましくは、該ウェーハは、Ｓｉ、ＧａＮ、ＧａＡｓ、ガラスのいずれかで構成される。

本発明の一態様に係るウェーハの加工方法では、フレームユニットに糊層を有する粘着テープを使用せず、糊層を備えないポリエステル系シートを用いてフレームと、ウェーハと、を一体化する。ポリエステル系シートと、ウェーハと、を一体化させる一体化工程は、熱圧着により実現される。

本発明の一態様に係るウェーハの加工方法では、ウェーハを収容できる大きさの開口部を有する第１のフレームと、ウェーハを収容できる大きさの開口部を有する第２のフレームと、で構成されるフレームが使用される。第１のフレームは複数の磁石を備え、第１のフレーム及び第２のフレームは、該磁石により生じる磁力により互いに引き寄せられる。

そして、フレーム支持工程では、該第１のフレームと、該第２のフレームと、の間にポリエステル系シートを配し、該第１のフレームと、該第２のフレームと、で挟持して該ポリエステル系シートをフレームで支持できる。

すなわち、ポリエステル系シートが糊層を備えていなくても、該一体化工程及びフレーム支持工程を実施することで、ウェーハと、ポリエステル系シートと、フレームと、を一体化させてフレームユニットを形成できる。

その後、ウェーハに対して吸収性を有する波長のレーザービームをウェーハに照射し、アブレーションにより分割予定ラインに沿った分割溝を形成して該ウェーハを分割する。その後、ポリエステル系シートの各デバイスチップに対応する個々の領域において、該ポリエステル系シートを冷却し、該ポリエステル系シート側から該デバイスチップを突き上げ、ポリエステル系シートからデバイスチップをピックアップする。ピックアップされたデバイスチップは、それぞれ、所定の実装対象に実装される。なお、ピックアップの際にポリエステル系シートを冷却すると、ポリエステル系シートが収縮してポリエステル系シートの剥離が容易となるためデバイスチップにかかる負荷を軽減できる。

ウェーハにアブレーション加工を実施すると、レーザービームの照射により生じる熱が分割溝の下方やその近傍においてポリエステル系シートに伝わる。しかしながら、ポリエステル系シートは糊層を備えないため、該糊層が溶融してデバイスチップの裏面側に固着することがない。

すなわち、本発明の一態様によると、糊層を備えないポリエステル系シートを用いてフレームユニットを形成できるため、糊層を備えた粘着テープが不要であり、結果として糊層の付着に起因するデバイスチップの品質低下が生じない。

したがって、本発明の一態様によると、形成されるデバイスチップの裏面側に糊層が付着せず、デバイスチップに糊層の付着に由来する品質の低下が生じないウェーハの加工方法が提供される。

ウェーハを模式的に示す斜視図である。 チャックテーブルの保持面上にウェーハを位置付ける様子を模式的に示す斜視図である。 ポリエステル系シート配設工程を模式的に示す斜視図である。 一体化工程の一例を模式的に示す斜視図である。 一体化工程の一例を模式的に示す斜視図である。 一体化工程の一例を模式的に示す斜視図である。 図７（Ａ）は、フレーム支持工程を模式的に示す斜視図であり、図７（Ｂ）は、形成されたフレームユニットを模式的に示す斜視図である。 分割工程を模式的に示す斜視図である。 ピックアップ装置へのフレームユニットの搬入を模式的に示す斜視図である。 図１０（Ａ）は、フレーム支持台の上に固定されたフレームユニットを模式的に示す断面図であり、図１０（Ｂ）は、ピックアップ工程を模式的に示す断面図である。

添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。まず、本実施形態に係るウェーハの加工方法で加工されるウェーハについて説明する。図１は、ウェーハ１を模式的に示す斜視図である。

ウェーハ１は、例えば、Ｓｉ（シリコン）、ＳｉＣ（シリコンカーバイド）、ＧａＮ（ガリウムナイトライド）、ＧａＡｓ（ヒ化ガリウム）、若しくは、その他の半導体等の材料、または、サファイア、ガラス、石英等の材料からなる略円板状の基板等である。該ガラスは、例えば、アルカリガラス、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、鉛ガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等である。

ウェーハ１の表面１ａは格子状に配列された複数の分割予定ライン３で区画される。また、ウェーハ１の表面１ａの分割予定ライン３で区画された各領域にはＩＣやＬＳＩ、ＬＥＤ等のデバイス５が形成される。本実施形態に係るウェーハ１の加工方法では、アブレーション加工により分割予定ライン３に沿った分割溝をウェーハ１に形成してウェーハ１を分割し、個々のデバイスチップを形成する。

アブレーション加工が実施されるレーザー加工装置１０（図８参照）にウェーハ１を搬入する前に、ウェーハ１と、ポリエステル系シートと、フレームと、が一体化され、フレームユニットが形成される。ウェーハ１は、フレームユニットの状態でレーザー加工装置に搬入され、加工される。形成された個々のデバイスチップはポリエステル系シートに支持される。その後、ポリエステル系シートを拡張することでデバイスチップ間の間隔を広げ、ピックアップ装置によりデバイスチップをピックアップする。

環状のフレーム７（図７（Ａ）及び図７（Ｂ）等参照）は、例えば、金属等の材料で形成され、ウェーハ１を収容できる大きさの開口部７ｂを有する第１のフレーム７ａと、ウェーハ１を収容できる大きさの開口部７ｇを有する第２のフレーム７ｆと、の２つの部材で構成される。例えば、第１のフレーム７ａと、第２のフレーム７ｆと、は略同一の形状である。

第１のフレーム７ａは、上面７ｃ上に複数のピン７ｄを備える。また、第１のフレーム７ａの上面７ｃには、複数の磁石７ｅが埋め込まれて配設される。第２のフレーム７ｆには、厚さ方向に貫通する複数の貫通孔７ｉが設けられる。第１のフレーム７ａと、第２のフレーム７ｆと、を重ね合わせた際に、第１のフレーム７ａのピン７ｄが該貫通孔７ｉに嵌め入れられるように、第２のフレーム７ｆの該貫通孔７ｉは第１のフレーム７ａのピン７ｄに対応する数、位置及び大きさで形成される。

ポリエステル系シート９（図３等参照）は、柔軟性を有する樹脂系シートであり、表裏面が平坦である。そして、ポリエステル系シート９は、フレーム７を構成する第１のフレーム７ａの開口部７ｂ及び第２のフレーム７ｆの開口部７ｇの径よりも大きい径を有し、糊層を備えない。ポリエステル系シート９は、ジカルボン酸（２つのカルボキシル基を有する化合物）と、ジオール（２つのヒドロキシル基を有する化合物）と、をモノマーとして合成されるポリマーのシートであり、例えば、ポリエチレンテレフタレートシート、または、ポリエチレンナフタレートシート等の可視光に対して透明または半透明なシートである。ただし、ポリエステル系シート９はこれに限定されず、不透明でもよい。

ポリエステル系シート９は、粘着性を備えないため室温ではウェーハ１に貼着できない。しかしながら、ポリエステル系シート９は熱可塑性を有するため、所定の圧力を印加しながらウェーハ１と接合させた状態で融点近傍の温度まで加熱すると、部分的に溶融してウェーハ１に接着できる。

本実施形態に係るウェーハ１の加工方法では、熱圧着によりウェーハ１の裏面１ｂ側にポリエステル系シート９を接着し、ポリエステル系シート９の外周部を第１のフレーム７ａと、第２のフレーム７ｆと、の間に挟持してフレームユニットを形成する。

次に、本実施形態に係るウェーハ１の加工方法の各工程について説明する。まず、ウェーハ１と、ポリエステル系シート９と、を一体化させる準備のために、ポリエステル系シート配設工程を実施する。図２は、チャックテーブル２の保持面２ａ上にウェーハ１を位置付ける様子を模式的に示す斜視図である。図２に示す通り、ポリエステル系シート配設工程は、上部に保持面２ａを備えるチャックテーブル２上で実施される。

チャックテーブル２は、上部中央にウェーハ１の外径よりも大きな径の多孔質部材を備える。該多孔質部材の上面は、チャックテーブル２の保持面２ａとなる。チャックテーブル２は、図３に示す如く一端が該多孔質部材に通じた排気路を内部に有し、該排気路の他端側には吸引源２ｂが配設される。排気路には、連通状態と、切断状態と、を切り替える切り替え部２ｃが配設され、切り替え部２ｃが連通状態であると保持面２ａに置かれた被保持物に吸引源２ｂにより生じた負圧が作用し、被保持物がチャックテーブル２に吸引保持される。

ポリエステル系シート配設工程では、まず、図２に示す通り、チャックテーブル２の保持面２ａ上にウェーハ１を載せる。この際、ウェーハ１の表面１ａ側を下方に向ける。次に、ウェーハ１の裏面１ｂ上にポリエステル系シート９を配設する。図３は、ポリエステル系シート配設工程を模式的に示す斜視図である。図３に示す通り、ウェーハ１を覆うようにウェーハ１の上にポリエステル系シート９を配設する。

なお、ポリエステル系シート配設工程では、ポリエステル系シート９の径よりも小さい径の保持面２ａを備えるチャックテーブル２が使用される。後に実施される一体化工程でチャックテーブル２による負圧をポリエステル系シート９に作用させる際に、保持面２ａの全体がポリエステル系シート９により覆われていなければ、負圧が隙間から漏れてしまい、ポリエステル系シート９に適切に圧力を印加できないためである。

本実施形態に係るウェーハ１の加工方法では、次に、ポリエステル系シート９を加熱し、熱圧着によりウェーハ１と、該ポリエステル系シート９と、を一体化する一体化工程を実施する。図４は、一体化工程の一例を模式的に示す斜視図である。図４では、可視光に対して透明または半透明であるポリエステル系シート９を通して視認できるものを破線で示す。

一体化工程では、まず、チャックテーブル２の切り替え部２ｃを作動させて吸引源２ｂをチャックテーブル２の上部の多孔質部材に接続する連通状態とし、吸引源２ｂによる負圧をポリエステル系シート９に作用させる。すると、大気圧によりポリエステル系シート９がウェーハ１に対して密着する。

次に、吸引源２ｂによりポリエステル系シート９を吸引しながらポリエステル系シート９を加熱して、熱圧着を実施する。ポリエステル系シート９の加熱は、例えば、図４に示す通り、チャックテーブル２の上方に配された赤外線ランプ４が使用される。赤外線ランプ４は、少なくともポリエステル系シート９の材料が吸収性を有する波長の赤外線４ａを照射可能である。

赤外線ランプ４を作動させて、ポリエステル系シート９に赤外線４ａを照射してポリエステル系シート９を加熱する。すると、ポリエステル系シート９がウェーハ１に熱圧着される。

ポリエステル系シート９の加熱は、他の方法により実施されてもよい。図５は、一体化工程の他の一例を模式的に示す斜視図である。図５では、可視光に対して透明または半透明であるポリエステル系シート９を通して視認できるものを破線で示す。図５に示す一体化工程は、チャックテーブル２の上方に配設されるヒートガン６により実施される。

ヒートガン６は、電熱線等の加熱手段と、ファン等の送風機構と、を内部に備え、空気を加熱し噴射できる。吸引源２ｂによる負圧をポリエステル系シート９に作用させながらヒートガン６によりポリエステル系シート９に上面から熱風６ａを供給し、ポリエステル系シート９を所定の温度に加熱すると、ポリエステル系シート９がウェーハ１に熱圧着される。

また、ポリエステル系シート９の加熱は、さらに他の方法により実施されてもよく、例えば、所定の温度に加熱された部材でウェーハ１を上方から押圧することで実施される。図６は一体化工程の他の一例を模式的に示す斜視図である。図６では、可視光に対して透明または半透明であるポリエステル系シート９を通して視認できるものを破線で示す。

図６に示す一体化工程では、例えば、内部に熱源を備えるヒートローラー８を使用する。図６に示す一体化工程においても、まず、吸引源２ｂによる負圧をポリエステル系シート９に作用させ、大気圧によりポリエステル系シート９をウェーハ１に密着させる。

その後、ヒートローラー８を所定の温度に加熱して、チャックテーブル２の保持面２ａの一端に該ヒートローラー８を載せる。そして、ヒートローラー８を回転させ、該一端から他端にまでチャックテーブル２上でヒートローラー８を転がす。すると、ポリエステル系シート９がウェーハ１に熱圧着される。この際、ヒートローラー８によりポリエステル系シート９を押し下げる方向に力を印加すると、大気圧より大きい圧力で熱圧着が実施される。尚、ヒートローラー８の表面をフッ素樹脂で被覆することが好ましい。

また、内部に熱源を備え、平たい底板を有するアイロン状の押圧部材をヒートローラー８に代えて使用してポリエステル系シート９の熱圧着を実施してもよい。この場合、該押圧部材を所定の温度に加熱して熱板とし、チャックテーブル２に保持されたポリエステル系シート９を該押圧部材で上方から押圧する。

いずれかの方法によりポリエステル系シート９がその融点近傍の温度にまで加熱されると、ポリエステル系シート９がウェーハ１に熱圧着される。ポリエステル系シート９を熱圧着した後は、切り替え部２ｃを作動させてチャックテーブル２の多孔質部材と、吸引源２ｂと、の連通状態を解除し、チャックテーブル２による吸着を解除する。

なお、熱圧着を実施する際にポリエステル系シート９は、好ましくは、その融点以下の温度に加熱される。加熱温度が融点を超えると、ポリエステル系シート９が溶解してシートの形状を維持できなくなる場合があるためである。また、ポリエステル系シート９は、好ましくは、その軟化点以上の温度に加熱される。加熱温度が軟化点に達していなければ熱圧着を適切に実施できないためである。すなわち、ポリエステル系シート９は、その軟化点以上でかつその融点以下の温度に加熱されるのが好ましい。

さらに、一部のポリエステル系シート９は、明確な軟化点を有しない場合もある。そこで、熱圧着を実施する際にポリエステル系シート９は、好ましくは、その融点よりも２０℃低い温度以上でかつその融点以下の温度に加熱される。

また、ポリエステル系シート９がポリエチレンテレフタレートシートである場合、加熱温度は２５０℃〜２７０℃とされるのが好ましい。また、該ポリエステル系シート９がポリエチレンナフタレートシートである場合、加熱温度は１６０℃〜１８０℃とされるのが好ましい。

ここで、加熱温度とは、一体化工程を実施する際のポリエステル系シート９の温度をいう。例えば、赤外線ランプ４、ヒートガン６、ヒートローラー８等の熱源では出力温度を設定できる機種が実用に供されているが、該熱源を使用してポリエステル系シート９を加熱しても、ポリエステル系シート９の温度が設定された該出力温度にまで達しない場合もある。そこで、ポリエステル系シート９を所定の温度に加熱するために、熱源の出力温度をポリエステル系シート９の融点よりも高く設定してもよい。

本実施形態に係るウェーハ１の加工方法では、該一体化工程の前または後に、ポリエステル系シート９をフレーム７で支持するフレーム支持工程を実施する。図７（Ａ）は、フレーム支持工程を模式的に示す斜視図である。フレーム支持工程では、該第１のフレーム７ａと、該第２のフレーム７ｆと、の間にポリエステル系シート９の外周部を挟持してポリエステル系シート９を該フレーム７で支持する。

まず、第１のフレーム７ａの上面７ｃの上にポリエステル系シート９を載せる。この際、第１のフレーム７ａの開口部７ｂをすべて塞ぐようにポリエステル系シート９の位置を決める。次に、第２のフレーム７ｆを下方に下面７ｈを向けた状態でポリエステル系シート９の上に載せる。この際、第２のフレーム７ｆの貫通孔７ｉが第１のフレーム７ａのピン７ｄに嵌め入れられるように第２のフレーム７ｆの位置を決める。

第１のフレーム７ａと、第２のフレーム７ｆと、を重ねると第１のフレーム７ａが備える複数の磁石７ｅにより生じる磁力が作用して両フレームが互いに引き寄せられ、ポリエステル系シート９の外周部が両フレーム間に挟持される。したがって、ポリエステル系シート９がフレーム７に支持される。このとき、第１のフレーム７ａのピン７ｄが第２のフレーム７ｆの貫通孔７ｉに嵌め入れられるため、第１のフレーム７ａ及び第２のフレーム７ｆは、互いに水平方向にずれることがない。

なお、一体化工程の後にフレーム支持工程を実施する場合について説明したが、本実施形態に係るウェーハの加工方法はこれに限定されない。例えば、フレーム支持工程の後に一体化工程を実施してもよい。この場合、一体化工程における加熱によりポリエステル系シート９の外周部が第１のフレーム７ａ及び第２のフレーム７ｆに接着されて、ポリエステル系シート９がより強い力でフレーム７に支持される。

次に、本実施形態に係るウェーハの加工方法では、フレームユニット１１の状態となったウェーハ１をアブレーション加工して、分割予定ライン３に沿った分割溝を形成して該ウェーハ１を分割する分割工程を実施する。分割工程は、例えば、図８に示すレーザー加工装置で実施される。図８は、分割工程を模式的に示す斜視図である。

レーザー加工装置１０は、ウェーハ１をアブレーション加工するレーザー加工ユニット１２と、ウェーハ１を保持するチャックテーブル（不図示）と、を備える。レーザー加工ユニット１２は、レーザーを発振できるレーザー発振器（不図示）を備え、ウェーハ１に対して吸収性を有する波長の（ウェーハ１が吸収できる波長の）レーザービーム１４を出射できる。該チャックテーブルは、上面に平行な方向に沿って移動（加工送り）できる。

レーザー加工ユニット１２は、該レーザー発振器から出射されたレーザービーム１４を該チャックテーブルに保持されたウェーハ１に照射する。レーザー加工ユニット１２が備える加工ヘッド１２ａは、レーザービーム１４をウェーハ１の所定の高さ位置に集光する機構を有する。

ウェーハ１をアブレーション加工する際には、チャックテーブルの上にフレームユニット１１を載せ、ポリエステル系シート９を介してチャックテーブルにウェーハ１を保持させる。そして、チャックテーブルを回転させウェーハ１の分割予定ライン３をレーザー加工装置１０の加工送り方向に合わせる。また、分割予定ライン３の延長線の上方に加工ヘッド１２ａが配設されるように、チャックテーブル及びレーザー加工ユニット１２の相対位置を調整する。

次に、レーザー加工ユニット１２からウェーハ１にレーザービーム１４を照射しながらチャックテーブルと、レーザー加工ユニット１２と、をチャックテーブルの上面に平行な加工送り方向に沿って相対移動させる。すると、分割予定ライン３に沿ってレーザービーム１４がウェーハ１に照射され、アブレーションにより分割予定ライン３に沿った分割溝３ａがウェーハ１に形成される。

分割工程におけるレーザービーム１４の照射条件は、例えば、以下のように設定される。ただし、レーザービーム１４の照射条件は、これに限定されない。
波長 ：３５５ｎｍ
繰り返し周波数：５０ｋＨｚ
平均出力 ：５Ｗ
送り速度 ：２００ｍｍ／秒

一つの分割予定ライン３に沿ってアブレーション加工を実施した後、チャックテーブル及びレーザー加工ユニット１２を加工送り方向とは垂直な割り出し送り方向に相対的に移動させ、他の分割予定ライン３に沿って同様にウェーハ１のアブレーション加工を実施する。一つの方向に沿った全ての分割予定ライン３に沿って分割溝３ａを形成した後、チャックテーブルを保持面に垂直な軸の回りに回転させ、他の方向に沿った分割予定ライン３に沿って同様にウェーハ１をアブレーション加工する。

ウェーハ１のすべての分割予定ライン３に沿ってウェーハ１がアブレーション加工されると、分割工程が完了する。分割工程が完了し、すべての分割予定ライン３に沿って表面１ａから裏面１ｂに至る分割溝３ａがウェーハ１に形成されると、ウェーハ１が分割され個々のデバイスチップが形成される。

レーザー加工ユニット１２によりウェーハ１にアブレーション加工を実施すると、レーザービーム１４の被照射箇所からウェーハ１に由来する加工屑が発生し、該加工屑が該被照射箇所の周囲に飛散してウェーハ１の表面１ａに付着する。ウェーハ１にアブレーション加工を実施した後、ウェーハ１の表面１ａを後述の洗浄ユニットにより洗浄しても、付着した加工屑を完全に除去するのは容易ではない。ウェーハ１から形成されるデバイスチップに該加工屑が残存すると、デバイスチップの品質が低下する。

そこで、レーザー加工装置１０でアブレーション加工されるウェーハ１の表面１ａには、予め、ウェーハ１の表面１ａを保護する保護膜として機能する水溶性の液状樹脂が塗布されていてもよい。該液状樹脂がウェーハ１の表面１ａに塗布されていると、アブレーション加工を実施する際に飛散する加工屑が該液状樹脂の上面に付着するため、加工屑はウェーハ１の表面１ａに直接付着しない。そして、次に説明する洗浄ユニットにより、該加工屑は該液状樹脂ごと除去される。

レーザー加工装置１０は、洗浄ユニット（不図示）を備えてもよい。この場合、レーザー加工ユニット１２によりアブレーション加工されたウェーハ１は、該洗浄ユニットに搬送され、該洗浄ユニットにより洗浄される。例えば、洗浄ユニットはフレームユニット１１を保持する洗浄テーブルと、フレームユニット１１の上方を往復移動できる洗浄水供給ノズルと、を備える。

洗浄テーブルを保持面に垂直な軸の回りに回転させ、洗浄水供給ノズルから純水等の洗浄液をウェーハ１に供給しながら、洗浄水供給ノズルを該保持面の中央の上方を通る経路で水平方向に往復移動させると、ウェーハ１の表面１ａ側を洗浄できる。

本実施形態に係るウェーハ１の加工方法では、次に、ポリエステル系シート９から個々の該デバイスチップをピックアップするピックアップ工程を実施する。ピックアップ工程では、図９下部に示すピックアップ装置１６を使用する。図９は、ピックアップ装置１６へのフレームユニット１１の搬入を模式的に示す斜視図である。

ピックアップ装置１６は、ウェーハ１の径よりも大きい径を有する円筒状のドラム１８と、フレーム支持台２２を含むフレーム保持ユニット２０と、を備える。フレーム保持ユニット２０のフレーム支持台２２は、該ドラム１８の径よりも大きい径の開口を備え、該ドラム１８の上端部と同様の高さに配設され、該ドラム１８の上端部を外周側から囲む。

フレーム支持台２２の外周側には、クランプ２４が配設される。フレーム支持台２２の上にフレームユニット１１を載せ、クランプ２４によりフレームユニット１１のフレーム７を把持させると、フレームユニット１１がフレーム支持台２２に固定される。

フレーム支持台２２は、鉛直方向に沿って伸長する複数のロッド２６により支持され、各ロッド２６の下端部には、該ロッド２６を昇降させるエアシリンダ２８が配設される。複数のエアシリンダ２８は、円板状のベース３０に支持される。各エアシリンダ２８を作動させると、フレーム支持台２２がドラム１８に対して引き下げられる。

ドラム１８の内部には、ポリエステル系シート９に支持されたデバイスチップを下方から突き上げる突き上げ機構３２が配設される。突き上げ機構３２は、ペルチェ素子等の冷却機構を内包する冷却部３２ａを上端に備える。また、ドラム１８の上方には、デバイスチップを吸引保持できるコレット３４（図１０（Ｂ）参照）が配設される。突き上げ機構３２及びコレット３４は、フレーム支持台２２の上面に沿った水平方向に移動可能である。また、コレット３４は、切り替え部３４ｂ（図１０（Ｂ）参照）を介して吸引源３４ａ（図１０（Ｂ）参照）に接続される。

ピックアップ工程では、まず、ピックアップ装置１６のドラム１８の上端の高さと、フレーム支持台２２の上面の高さと、が概略一致するように、エアシリンダ２８を作動させてフレーム支持台２２の高さを調節する。例えば、フレーム支持台２２の上面の高さ位置は、ドラム１８の上端よりも第１のフレーム７ａの厚さの分だけ低い高さ位置に位置付けられてもよい。次に、レーザー加工装置１０から搬出されたフレームユニット１１をピックアップ装置１６のドラム１８の上に載せる。

その後、クランプ２４によりフレーム支持台２２の上にフレームユニット１１のフレーム７を固定する。図１０（Ａ）は、フレーム支持台２２の上に固定されたフレームユニット１１を模式的に示す断面図である。ウェーハ１には、分割工程により分割溝３ａが形成され分割されている。

次に、エアシリンダ２８を作動させてフレーム保持ユニット２０のフレーム支持台２２をドラム１８に対して引き下げる。すると、図１０（Ｂ）に示す通り、ポリエステル系シート９が外周方向に拡張される。図１０（Ｂ）は、ピックアップ工程を模式的に示す断面図である。

ポリエステル系シート９が外周方向に拡張されると、ポリエステル系シート９に支持された各デバイスチップ１ｃの間隔が広げられる。すると、デバイスチップ１ｃ同士が接触しにくくなり、個々のデバイスチップ１ｃのピックアップが容易となる。そして、ピックアップの対象となるデバイスチップ１ｃを決め、該デバイスチップ１ｃの下方に突き上げ機構３２を移動させ、該デバイスチップ１ｃの上方にコレット３４を移動させる。

その後、冷却部３２ａを作動させて温度を低下させ、冷却部３２ａをポリエステル系シート９の該デバイスチップ１ｃに対応する領域に接触させて該領域を冷却する。さらに、突き上げ機構３２を作動させてポリエステル系シート９側から該デバイスチップ１ｃを突き上げる。そして、切り替え部３４ｂを作動させてコレット３４を吸引源３４ａに連通させる。すると、コレット３４により該デバイスチップ１ｃが吸引保持され、デバイスチップ１ｃがポリエステル系シート９からピックアップされる。ピックアップされた個々のデバイスチップ１ｃは、その後、所定の配線基板等に実装されて使用される。

なお、ポリエステル系シート９の該領域を冷却部３２ａにより冷却すると、ポリエステル系シート９が収縮してポリエステル系シート９と、デバイスチップと、の界面に大きな応力が生じ、剥離が容易となる。そのため、ポリエステル系シート９からの剥離時にデバイスチップにかかる負荷が軽減される。

例えば、粘着テープを使用してフレームユニット１１を形成する場合、分割工程においてレーザービーム１４の照射により生じる熱が該粘着テープに伝わり、粘着テープの糊層が溶融してデバイスチップの裏面側に固着する。そして、糊層の付着によるデバイスチップの品質の低下が問題となる。

これに対して、本実施形態に係るウェーハの加工方法によると、熱圧着により糊層を備えないポリエステル系シートを用いたフレームユニットの形成が可能となるため、糊層を備えた粘着テープが不要である。結果として裏面側への糊層の付着によるデバイスチップの品質低下が生じない。

なお、本発明は上記実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施形態では、ポリエステル系シート９が、例えば、ポリエチレンテレフタレートシート、または、ポリエチレンナフタレートシートである場合について説明したが、本発明の一態様はこれに限定されない。例えば、ポリエステル系シートは、他の材料が使用されてもよく、ポリトリメチレンテレフタレートシートや、ポリブチレンテレフタレートシート、ポリブチレンナフタレートシート等でもよい。

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。

１ ウェーハ
１ａ 表面
１ｂ 裏面
３ 分割予定ライン
３ａ 分割溝
５ デバイス
７，７ａ，７ｆ フレーム
７ｂ，７ｇ 開口部
７ｃ 上面
７ｄ ピン
７ｅ 磁石
７ｈ 下面
７ｉ 貫通孔
９ ポリエステル系シート
１１ フレームユニット
２ チャックテーブル
２ａ 保持面
２ｂ，３４ａ 吸引源
２ｃ，３４ｂ 切り替え部
４ 赤外線ランプ
４ａ 赤外線
６ ヒートガン
６ａ 熱風
８ ヒートローラー
１０ レーザー加工装置
１２ レーザー加工ユニット
１２ａ 加工ヘッド
１４ レーザービーム
１６ ピックアップ装置
１８ ドラム
２０ フレーム保持ユニット
２２ フレーム支持台
２４ クランプ
２６ ロッド
２８ エアシリンダ
３０ ベース
３２ 突き上げ機構
３２ａ 冷却部
３４ コレット

Claims (6)

1. 複数のデバイスが、分割予定ラインによって区画された表面の各領域に形成されたウェーハを個々のデバイスチップに分割するウェーハの加工方法であって、
   ウェーハの裏面にポリエステル系シートを配設するポリエステル系シート配設工程と、
   該ポリエステル系シートを加熱し、熱圧着により該ウェーハと、該ポリエステル系シートと、を一体化させる一体化工程と、
   該一体化工程の前または後に、該ウェーハを収容できる大きさの開口部を有し複数の磁石を備える第１のフレームと、該ウェーハを収容できる大きさの開口部を有する第２のフレームと、で構成されるフレームを使用して、該磁石により生じる磁力により該第１のフレームと、該第２のフレームと、の間に該ポリエステル系シートの外周部を挟持して該ポリエステル系シートを該フレームで支持するフレーム支持工程と、
   該ウェーハに対して吸収性を有する波長のレーザービームを該分割予定ラインに沿って該ウェーハに照射し、分割溝を形成して該ウェーハを個々のデバイスチップに分割する分割工程と、
   該ポリエステル系シートの各デバイスチップに対応する個々の領域において、該ポリエステル系シートを冷却し、該ポリエステル系シート側から該デバイスチップを突き上げ、該ポリエステル系シートから該デバイスチップをピックアップするピックアップ工程と、
   を備えることを特徴とするウェーハの加工方法。
2. 該一体化工程において、赤外線の照射によって該熱圧着を実施することを特徴とする請求項１記載のウェーハの加工方法。
3. 該ピックアップ工程では、該ポリエステル系シートを拡張して各デバイスチップ間の間隔を広げることを特徴とする請求項１記載のウェーハの加工方法。
4. 該ポリエステル系シートは、ポリエチレンテレフタレートシート、ポリエチレンナフタレートシートのいずれかであることを特徴とする請求項１記載のウェーハの加工方法。
5. 該一体化工程において、該ポリエステル系シートが該ポリエチレンテレフタレートシートである場合に加熱温度は２５０℃〜２７０℃であり、該ポリエステル系シートが該ポリエチレンナフタレートシートである場合に加熱温度は１６０℃〜１８０℃であることを特徴とする請求項４記載のウェーハの加工方法。
6. 該ウェーハは、Ｓｉ、ＧａＮ、ＧａＡｓ、ガラスのいずれかで構成されることを特徴とする請求項１記載のウェーハの加工方法。

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