JP2020110226A - Hypochlorous acid gas emission system and hypochlorous acid gas emission method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、次亜塩素酸ガス放出システム及び次亜塩素酸ガス放出方法に関する。 The present invention relates to a hypochlorous acid gas releasing system and a hypochlorous acid gas releasing method.
例えば、特許文献1には、次亜塩素酸ガスを含むガスを発生するガス発生装置が開示されている。
For example,
従来のガス発生装置が空間中に次亜塩素酸ガスを含むガスを放出した場合、空間内で次亜塩素酸ガスの濃度が均一になるのに長い時間を必要とする。 When a conventional gas generator releases a gas containing hypochlorous acid gas into the space, it takes a long time for the concentration of the hypochlorous acid gas to become uniform in the space.
そこで、本発明は、空間内の次亜塩素酸ガスの濃度を短期間で均一にすることができる次亜塩素酸ガス放出システム及び次亜塩素酸ガス放出方法などを提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a hypochlorous acid gas releasing system and a hypochlorous acid gas releasing method, which can make the concentration of hypochlorous acid gas in a space uniform in a short period of time. ..
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る次亜塩素酸ガス放出システムは、次亜塩素酸ガスを含む気体を放出する放出口と、前記放出口からの前記気体の放出方向を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記放出方向を経時変化させる第1制御を、前記気体の放出開始から所定期間実行し、前記放出方向を固定する第2制御を、前記所定期間の経過後に実行する。 In order to achieve the above object, a hypochlorous acid gas release system according to an aspect of the present invention controls a release port for releasing a gas containing hypochlorous acid gas and a release direction of the gas from the release port. The control unit executes a first control for changing the discharge direction with time for a predetermined period from the start of discharging the gas, and a second control for fixing the discharge direction for the predetermined period. Execute after a lapse of time.
また、本発明の一態様に係る次亜塩素酸ガス放出方法は、次亜塩素酸ガスを含む気体を放出する放出口からの前記気体の放出方向を経時変化させる第1制御を、前記気体の放出開始から所定期間実行し、前記放出方向を固定する第2制御を、前記所定期間の経過後に実行する。 Further, the hypochlorous acid gas releasing method according to an aspect of the present invention, the first control for changing the emission direction of the gas from an emission port for emitting the gas containing the hypochlorous acid gas with time, The second control is executed for a predetermined period from the start of the discharge and the second control for fixing the discharge direction is executed after the lapse of the predetermined period.
また、本発明の一態様は、上記次亜塩素酸ガス放出方法をコンピュータに実行させるためのプログラムとして実現することができる。あるいは、当該プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体として実現することもできる。 Further, one embodiment of the present invention can be realized as a program for causing a computer to execute the above-mentioned hypochlorous acid gas releasing method. Alternatively, it can be realized as a computer-readable recording medium that stores the program.
本発明によれば、空間内の次亜塩素酸ガスの濃度を短期間で均一にすることができる。 According to the present invention, the concentration of hypochlorous acid gas in the space can be made uniform in a short period of time.
以下では、本発明の実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム及び次亜塩素酸ガス放出方法などについて、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本発明の一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置及び接続形態、ステップ、ステップの順序などは、一例であり、本発明を限定する趣旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。 Hereinafter, a hypochlorous acid gas releasing system, a hypochlorous acid gas releasing method, and the like according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that each of the embodiments described below shows one specific example of the present invention. Therefore, the numerical values, shapes, materials, components, arrangements and connection forms of components, steps, order of steps, and the like shown in the following embodiments are examples, and are not intended to limit the present invention. Therefore, among the constituents in the following embodiments, constituents not described in the independent claims are described as arbitrary constituents.
また、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。したがって、例えば、各図において縮尺などは必ずしも一致しない。また、各図において、実質的に同一の構成については同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。 In addition, each drawing is a schematic view, and is not necessarily strictly illustrated. Therefore, for example, the scales and the like in the drawings do not necessarily match. Further, in each of the drawings, the substantially same components are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted or simplified.
また、本明細書において、平行又は垂直などの要素間の関係性を示す用語、及び、要素の形状を示す用語、並びに、数値範囲は、厳格な意味のみを表す表現ではなく、実質的に同等な範囲、例えば数%程度の差異をも含むことを意味する表現である。 Further, in the present specification, a term indicating a relationship between elements such as parallel or vertical, a term indicating a shape of an element, and a numerical range are not expressions expressing only a strict meaning but are substantially equivalent. It is an expression that means that it also includes a range of, for example, a difference of about several percent.
また、本明細書において、「均一」とは、完全に均一な状態、すなわち、空間内の全ての地点の濃度が完全に等しくなることを意味するだけでなく、空間内の任意の地点の濃度と平均値との差が十分に小さいことを意味する。つまり、「均一」な状態とは、局所的に濃度の低い又は高い位置が空間内に形成されずに、空間内の全ての濃度が実質的に等しい状態である。例えば、「均一」な状態では、空間内の任意の地点の濃度は、平均値の±10%以内の範囲内である。 In addition, in the present specification, “uniform” means not only a completely uniform state, that is, the concentrations at all points in the space are completely equal, but also the concentrations at any points in the space. It means that the difference between the average value and the average value is sufficiently small. That is, the "uniform" state is a state in which all the concentrations in the space are substantially equal without locally forming low or high positions in the space. For example, in the “uniform” state, the concentration at any point in space is within ±10% of the average value.
(実施の形態1)
[構成]
まず、実施の形態1に係る次亜塩素酸ガス放出システムの構成について、図1及び図2を用いて説明する。
(Embodiment 1)
[Constitution]
First, the configuration of the hypochlorous acid gas releasing system according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
図1は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム1の構成を示すブロック図である。図2は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム1の放出口10を模式的に示す図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a hypochlorous acid
本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム1は、次亜塩素酸ガスを含む気体を空間(以下、対象空間と記載する場合がある)内に放出する。対象空間は、具体的には、建物の屋内空間などの閉じられた空間である。対象空間は、例えば、一般家庭の居住空間、又は、病院若しくは介護施設の室内空間である。なお、対象空間は、完全に閉じた空間でなくてもよく、屋外と繋がっていてもよい。また、対象空間は、建物内の空間だけでなく、電車又は自動車などの移動体の屋内の空間であってもよい。
The hypochlorous acid
次亜塩素酸ガスは、除菌及び脱臭効果を有する。具体的には、次亜塩素酸ガスは、酸化作用を有し、対象空間の浮遊菌、物体に付着した付着菌、又は、臭い物質を酸化により分解することで、除菌及び脱臭を行う。したがって、除菌及び脱臭効果は、次亜塩素酸ガスの濃度とガスとの接触時間との積であるCT値によって定められる。 Hypochlorous acid gas has sterilizing and deodorizing effects. Specifically, the hypochlorous acid gas has an oxidative effect, and disinfects and deodorizes by decomposing floating bacteria in the target space, adherent bacteria adhering to an object, or odorous substances by oxidation. Therefore, the disinfecting and deodorizing effects are determined by the CT value which is the product of the concentration of hypochlorous acid gas and the contact time with the gas.
図1に示されるように、次亜塩素酸ガス放出システム1は、放出口10と、制御部30とを備える。本実施の形態では、次亜塩素酸ガス放出システム1は、さらに、生成部20を備える。
As shown in FIG. 1, the hypochlorous acid
放出口10は、次亜塩素酸ガスを含む気体を放出する。本実施の形態では、放出口10は、生成部20が生成した次亜塩素酸ガスを含む気体を放出する。放出口10は、例えば、生成部20を収容する筐体に設けられた開口である。あるいは、放出口10は、対象空間を形成する壁面に設けられた開口であってもよい。
The
ここで、図2は、放出口10を正面から見たときの模式的な平面図を表している。図2に示されるように、放出口10には、可動式の複数のルーバー11及び12が設けられている。本実施の形態では、制御部30によって複数のルーバー11及び12の向きが変更されることにより、放出口10からの気体の放出方向が変更される。
Here, FIG. 2 shows a schematic plan view of the
放出口10は、例えば、水平面に対して所定の角度で傾いた状態で設けられている。所定の角度は、例えば30°であるが、これに限らない。また、放出口10は、水平面に平行であってもよく、垂直であってもよい。
The
複数のルーバー11はそれぞれ、水平方向に延びる長尺の板材である。複数のルーバー11は、例えば、水平方向を軸として回動可能であり、放出方向の上下方向への角度を変更することができる。
Each of the plurality of
複数のルーバー12はそれぞれ、放出口10を正面視した場合にルーバー11が延びる方向に直交する方向に延びる長尺の板材である。複数のルーバー12は、例えば、ルーバー12が延びる方向を軸として回動可能であり、放出方向の左右方向への角度を変更することができる。
Each of the plurality of
複数のルーバー11及び複数のルーバー12はそれぞれ、放出口10の法線方向を中心として左右に±15°の範囲を可動域とする。なお、ルーバー11及びルーバー12の可動域は、これに限定されず、±90°以下の範囲でもよく、例えば±45°でもよい。
Each of the plurality of
生成部20は、次亜塩素酸ガスを生成する。具体的には、生成部20は、食塩水を電気分解することで、次亜塩素酸ガスを生成する。例えば、生成部20は、水道水と塩タブレットとを混合することで食塩水を生成し、生成した食塩水を電気分解することで次亜塩素酸ガスを生成する。生成部20は、食塩水を貯める容器、電気分解用の電極及び電源回路などで実現される。
The
生成部20は、例えば、筐体の内部に設けられており、当該筐体に放出口10が設けられている。生成部20と放出口10とが離れて設けられている場合、生成部20と放出口10とは、ダクトなどで接続されていてもよい。例えば、生成部20は、対象空間の外に設けられていてもよい。
The
制御部30は、放出口10からの気体の放出方向を制御する。制御部30は、例えば、マイクロコンピュータなどである。具体的には、制御部30は、プログラムが格納された不揮発性メモリ、プログラムを実行するための一時的な記憶領域である揮発性メモリ、入出力ポート、及び、プログラムを実行するプロセッサなどで実現される。
The
制御部30は、拡散稼働制御と、安定稼働制御とを実行する。拡散稼働制御は、気体の放出方向を経時変化させる第1制御の一例である。安定稼働制御は、気体の放出方向を固定する第2制御の一例である。
The
本実施の形態では、制御部30は、拡散稼働制御を実行する場合に、図3に示されるように、放出方向を所定範囲内で連続的に変化させる。図3は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム1の放出方向を連続的に変更する例を示す図である。図3では、気体の放出方向が、放出口10を通過する矢印で表されている。
In the present embodiment, when executing the diffusion operation control, the
例えば、図3では、一例として、上下方向の角度調整用のルーバー11を固定した状態で、左右方向の角度調整用のルーバー12を連続的に変化させる例を示している。例えば、図3に示されるように、複数のルーバー12は、可動域の一方端(a)から中央(b)を通って他方端(c)まで所定の期間をかけて変化し、他方端(c)から中央(b)を通って一方端(a)まで所定の期間をかけて変化する。一方端(a)から他方端(c)への変化と他方端(c)から一方端(a)への変化とが交互に繰り返される。
For example, FIG. 3 shows an example in which the
これにより、次亜塩素酸ガスを含む気体の放出方向が連続的に変化する。なお、連続的とは、放出方向が滑らかに変化することである。例えば、1秒あたりに変化する放出方向の角度が5°以下である。 Thereby, the emission direction of the gas containing the hypochlorous acid gas continuously changes. Note that continuous means that the discharge direction changes smoothly. For example, the angle of the emission direction that changes per second is 5° or less.
制御部30は、時間計測機能を有する。制御部30は、次亜塩素酸ガス放出システム1の稼働開始からの経過時間に基づいて、拡散稼働制御と安定稼働制御とを切り替える。具体的には、制御部30は、拡散稼働制御を気体の放出開始から所定期間実行し、安定稼働制御を所定期間の経過後に実行する。
The
所定期間は、気体が放出される対象空間の換気回数に基づいて定められた期間である。例えば、所定期間は、1時間あたりの換気回数の逆数以下の期間である。具体的には、換気回数が1時間あたり6回である場合、所定期間は、1/6時間、すなわち、10分以下の期間である。これは、対象空間の換気が1回終わった時点で、次亜塩素酸ガスが対象空間の略全体に行き渡ったと考えられるためである。 The predetermined period is a period determined based on the number of ventilations of the target space from which the gas is released. For example, the predetermined period is a period equal to or less than the reciprocal of the ventilation rate per hour. Specifically, when the ventilation frequency is 6 times per hour, the predetermined period is ⅙ hour, that is, a period of 10 minutes or less. This is because it is considered that the hypochlorous acid gas has spread to almost the entire target space when ventilation of the target space is completed once.
なお、所定期間の最小値は、放出口10からの気体の放出速度及び放出範囲に基づいて定められる。例えば、所定期間の最小値は、放出口10からの気体の放出速度(すなわち、流速)と、放出方向における対象空間の奥行きとの積を、放出方向毎に累積した値として定められる。なお、放出方向が連続的に変化する場合には、放出方向の変化範囲を仮想的に所定数の放出方向に分割して考慮することができる。
In addition, the minimum value of the predetermined period is determined based on the discharge rate and the discharge range of the gas from the
具体的には、流速0.5m/秒で気体が放出される場合において、放出口10から各放出方向における対象空間の最奥部までの距離が10mである場合、気体が最奥部に到達するまでに20秒(=10m÷0.5/秒)要する。放出方向の変化範囲を10方向に分割して考慮した場合、空間の略全体に行き渡らせるには、200秒(=10方向×20秒)要する。したがって、所定期間は、例えば200秒以上である。
Specifically, when the gas is discharged at a flow rate of 0.5 m/sec and the distance from the
制御部30は、例えば、予め定められた所定期間を記憶するメモリを備えている。あるいは、制御部30は、換気回数、対象空間の大きさ及び放出口10の設置位置などの入力を受け付け、所定期間を演算により決定してもよい。
The
[動作]
続いて、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム1の動作、すなわち、次亜塩素酸ガス放出方法について説明する。
[motion]
Next, the operation of the hypochlorous acid
図4は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム1の動作を示すフローチャートである。図4に示されるように、まず、制御部30は、拡散稼働制御を実行する(S10)。制御部30は、気体の放出開始からの経過時間が所定期間に達するまで(S12でNo)、拡散稼働制御を維持する。これにより、所定期間においては、放出口10からの気体の放出方向が連続的に変化するので、次亜塩素酸ガスが対象空間に広がりやすくなる。
FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the hypochlorous acid
気体の放出開始から所定期間が経過した場合(S12でYes)、制御部30は、拡散稼働制御を停止し、安定稼働制御を実行する(S14)。具体的には、制御部30は、放出口10からの放出方向を一方向に固定する。固定される方向は、予め設定された方向である。予め設定された方向は、例えば、対象空間内で次亜塩素酸ガスの濃度が低下しやすい位置に向けて気体が放出されるような方向であってもよい。あるいは、固定される方向は、所定期間が経過した時点での放出方向であってもよい。
When the predetermined period has elapsed from the start of gas release (Yes in S12), the
以降、次亜塩素酸ガス放出システム1の動作が終了されるまで(S16でNo)、制御部30は、安定稼働制御を維持する。
After that, the
[シミュレーション結果]
以下では、安定稼働制御と拡散稼働制御との各々を単独で実行した場合における、対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度の時間変化をシミュレーションした結果について説明する。
[simulation result]
Below, the result of simulating the time change of the concentration of the hypochlorous acid gas in the target space when the stable operation control and the diffusion operation control are executed independently will be described.
シミュレーションの条件は、次の通りである。安定稼働制御では、放出方向を水平面から上向き30°、かつ、左右方向においては放出口10の正面方向に固定している。拡散稼働制御では、放出方向を水平面から上向き30°に固定した状態で、かつ、左右方向に±15°の範囲で連続的に変化させている。放出方向の変化範囲において一方端から他方端までに要する時間は27秒である。
The simulation conditions are as follows. In the stable operation control, the discharge direction is fixed at 30° upward from the horizontal plane, and in the left-right direction, it is fixed to the front direction of the
図5A及び図5Bはそれぞれ、安定稼働制御及び拡散稼働制御の開始直後における、対象空間内の位置毎の次亜塩素酸ガスの濃度のシミュレーション結果を示す図である。図5A及び図5Bの各々において、横軸は対象空間内の位置を表し、縦軸は次亜塩素酸ガスの濃度を表している。図5A及び図5Bは、気体の放出開始から25秒後の各位置での次亜塩素酸ガスの濃度を示している。 5A and 5B are diagrams showing simulation results of the concentration of hypochlorous acid gas at each position in the target space immediately after the start of stable operation control and diffusion operation control, respectively. In each of FIGS. 5A and 5B, the horizontal axis represents the position in the target space, and the vertical axis represents the concentration of hypochlorous acid gas. 5A and 5B show the concentration of hypochlorous acid gas at each position 25 seconds after the start of gas release.
図5A及び図5Bに示されるように、気体の放出を開始した直後では、対象空間の位置毎に次亜塩素酸ガスの濃度にばらつきが発生している。各図において白抜きの両矢印で示されるように、開始直後では、安定稼働制御及び拡散稼働制御のいずれの場合においても、次亜塩素酸ガスが検出されない位置が複数存在している。 As shown in FIGS. 5A and 5B, immediately after the start of gas release, the concentration of hypochlorous acid gas varies depending on the position of the target space. As indicated by the white double-headed arrow in each figure, immediately after the start, there are a plurality of positions where hypochlorous acid gas is not detected in both stable operation control and diffusion operation control.
このとき、拡散稼働制御の場合は、安定稼働制御よりも次亜塩素酸ガスが検出されない位置が少ない。つまり、拡散稼働制御の方が、次亜塩素酸ガスがより短期間で対象空間内に拡散されている。 At this time, in the diffusion operation control, there are fewer positions where the hypochlorous acid gas is not detected than in the stable operation control. That is, in the diffusion operation control, the hypochlorous acid gas is diffused in the target space in a shorter period of time.
図6A及び図6Bはそれぞれ、安定稼働制御及び拡散稼働制御の開始から一定期間経過後における、対象空間内の位置毎の次亜塩素酸ガスの濃度のシミュレーション結果を示す図である。図6A及び図6Bは、気体の放出開始から300秒後の各位置での次亜塩素酸ガスの濃度を示している。図6A及び図6Bの各々における縦軸及び横軸は、図5A及び図5Bと同様である。 6A and 6B are diagrams showing simulation results of the concentration of hypochlorous acid gas at each position in the target space after a certain period of time has elapsed since the start of stable operation control and diffusion operation control. 6A and 6B show the concentration of hypochlorous acid gas at each position after 300 seconds from the start of gas release. The vertical and horizontal axes in each of FIGS. 6A and 6B are the same as those in FIGS. 5A and 5B.
図6Aに示されるように、気体の放出開始から300秒後では、安定稼働制御の場合、対象空間内で次亜塩素酸ガスの濃度が均一になっている。一方で、図6Bに示されるように、拡散稼働制御の場合、次亜塩素酸ガスの濃度分布に波が生じており、均一度合いが低下していることが分かる。つまり、拡散稼働制御を継続し続けた場合、次亜塩素酸ガスの濃度が不均一になる。これは、拡散稼動により空間内の気流が乱されるためである。 As shown in FIG. 6A, after 300 seconds from the start of gas release, in the case of stable operation control, the concentration of hypochlorous acid gas is uniform in the target space. On the other hand, as shown in FIG. 6B, in the case of the diffusion operation control, it can be seen that waves are generated in the concentration distribution of the hypochlorous acid gas and the uniformity is lowered. That is, if the diffusion operation control is continued, the concentration of hypochlorous acid gas becomes non-uniform. This is because the air flow in the space is disturbed by the diffusion operation.
図7は、安定稼働制御と拡散稼働制御との各々を実行した場合の、次亜塩素酸ガスの濃度の対象空間内の均一度合いを表すシミュレーション結果を示す図である。図7において、横軸は気体の放出開始からの経過時間を表し、縦軸は次亜塩素酸ガスの濃度の均一度合いを表している。縦軸の上側程、均一度合いが高いことを意味している。 FIG. 7: is a figure which shows the simulation result showing the uniformity degree in the target space of the density|concentration of hypochlorous acid gas when each of stable operation control and diffusion operation control is performed. In FIG. 7, the horizontal axis represents the elapsed time from the start of gas release, and the vertical axis represents the degree of uniformity of the hypochlorous acid gas concentration. The higher the vertical axis is, the higher the uniformity is.
図7に示されるように、拡散稼働制御の方が安定稼働制御よりも短期間で均一度合いが高くなっている。一方で、開始3分後から10分後までの期間は、安定稼働制御の方が拡散稼働制御よりも均一度合いが高い。十分な時間が経過した定常状態においては、拡散稼働制御と安定稼働制御とでは、実質的に均一度合いが等しくなっている。 As shown in FIG. 7, the degree of uniformity of the diffusion operation control is higher than that of the stable operation control in a short period of time. On the other hand, during the period from 3 minutes to 10 minutes after the start, the stable operation control has a higher degree of uniformity than the diffusion operation control. In a steady state after a sufficient time has passed, the diffusion operation control and the stable operation control have substantially the same degree of uniformity.
本実施の形態では、気体の放出開始から所定期間、拡散稼働制御が実行される。これにより、対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度を短期間で均一度合いが高い状態にすることができる。所定期間の経過後には、拡散稼働制御から安定稼働制御に切り替えて安定稼働制御が実行される。これにより、均一度がより高い状態を維持することができる。 In the present embodiment, the diffusion operation control is executed for a predetermined period from the start of gas release. As a result, the concentration of the hypochlorous acid gas in the target space can be brought into a highly uniform state in a short period of time. After the elapse of a predetermined period, the diffusion operation control is switched to the stable operation control, and the stable operation control is executed. As a result, it is possible to maintain the state of higher uniformity.
[効果など]
以上のように、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム1は、次亜塩素酸ガスを含む気体を放出する放出口10と、放出口10からの気体の放出方向を制御する制御部30とを備える。制御部30は、放出方向を経時変化させる拡散稼働制御を、気体の放出開始から所定期間実行し、放出方向を固定する安定稼働制御を、所定期間の経過後に実行する。
[Effects]
As described above, the hypochlorous acid
これにより、拡散稼働制御を実行した後に安定稼働制御を実行することで、拡散稼働制御及び安定稼働制御の一方を常に実行する場合よりも短期間で対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度を均一化することができる。したがって、除菌効果が高い状態を短期間で対象空間内に形成することができる。 As a result, by performing the stable operation control after executing the diffusion operation control, the concentration of the hypochlorous acid gas in the target space can be reduced in a shorter period than in the case where one of the diffusion operation control and the stable operation control is always executed. It can be made uniform. Therefore, a state having a high sterilization effect can be formed in the target space in a short period of time.
また、対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度を短期間で均一にすることができるので、次亜塩素酸ガスの使用量を削減することができる。これにより、次亜塩素酸ガスを電気分解で生成する場合には、消費電力を削減することができる。また、次亜塩素酸ガスの原料となる水及び塩タブレットの補給回数を削減することができるので、メンテナンスの頻度も少なくすることができる。 Further, since the concentration of hypochlorous acid gas in the target space can be made uniform in a short period of time, the amount of hypochlorous acid gas used can be reduced. Thereby, when hypochlorous acid gas is generated by electrolysis, power consumption can be reduced. Further, the number of times of replenishing water and salt tablets, which are raw materials of hypochlorous acid gas, can be reduced, so that the frequency of maintenance can be reduced.
また、例えば、所定期間は、気体が放出される対象空間の換気回数に基づいて定められた期間である。 Further, for example, the predetermined period is a period determined based on the number of ventilations of the target space from which the gas is released.
これにより、対象空間のサイズによらず、短期間で次亜塩素酸ガスの濃度を均一にすることができる。換気回数は、例えば、空間設計の段階で空間の種別に応じて定められている。具体的には、対象空間が一般家庭などの居室の場合、換気回数は1時間あたり0.5回である。対象空間が病院又は介護施設など部屋の場合、換気回数は1時間あたり6回から12回の範囲内の回数である。このため、対象空間のサイズ及び換気回数の実測も必要ではなく、次亜塩素酸ガス放出システム1の稼働条件を簡便に設定することができる。
As a result, the concentration of hypochlorous acid gas can be made uniform in a short period of time regardless of the size of the target space. The ventilation frequency is set according to the type of space at the stage of space design, for example. Specifically, when the target space is a room such as an ordinary home, the ventilation frequency is 0.5 times per hour. When the target space is a room such as a hospital or nursing facility, the ventilation frequency is within the range of 6 to 12 times per hour. Therefore, it is not necessary to actually measure the size of the target space and the ventilation frequency, and the operating conditions of the hypochlorous acid
また、例えば、制御部30は、拡散稼働制御を実行する場合に、放出方向を所定範囲内で連続的に変化させる。
Further, for example, the
これにより、放出方向をアナログ的に変化させることができるので、次亜塩素酸ガスの濃度の均一度を高めることができる。 As a result, the release direction can be changed in an analog manner, so that the uniformity of the concentration of hypochlorous acid gas can be increased.
また、例えば、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出方法は、次亜塩素酸ガスを含む気体を放出する放出口10からの気体の放出方向を経時変化させる拡散稼働制御を、気体の放出開始から所定期間実行し、放出方向を固定する安定稼働制御を、所定期間の経過後に実行する。また、本実施の形態に係るプログラムは、上記次亜塩素酸ガス放出方法をコンピュータに実行させるためのプログラムである。
In addition, for example, the hypochlorous acid gas releasing method according to the present embodiment performs diffusion operation control for changing the emission direction of the gas from the
これにより、対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度を短期間で均一にすることができる。 Thereby, the concentration of hypochlorous acid gas in the target space can be made uniform in a short period of time.
[変形例]
ここで、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム1の変形例について説明する。
[Modification]
Here, a modified example of the hypochlorous acid
本変形例では、放出口10からの放出方向として、複数の放出方向が定められている。制御部30は、予め定められた複数の放出方向の中から1つを選択し、選択した放出方向に気体を放出口10から放出させる。例えば、制御部30は、拡散稼働制御を実行する場合に、放出方向を所定の範囲内で離散的に変化させる。具体的には、制御部30は、拡散稼働制御を実行する場合に、複数の放出方向から1つずつ順に選択し、選択した順で放出方向を順次変更する。つまり、制御部30は、時間の経過に従って複数の方向を遷移させる。
In this modification, a plurality of emission directions are defined as the emission directions from the
図8は、本変形例に係る次亜塩素酸ガス放出システム1による気体の放出方向の例を示す図である。図8は、放出口10から見たときの対象空間を3×3の9領域に分割したことを模式的に表している。9領域は、上下方向において「上」、「中央」及び「下」の3つと、左右方向において「左」、「中央」及び「右」の3つとの組み合わせで定められる。なお、上下方向における「上」の3つの放出方向A〜Cは、放出口10から遠い位置に向けて気体を放出することができる方向である。「下」の3つの放出方向G〜Iは、放出口10から近い位置にまで気体を放出することができる方向である。
FIG. 8: is a figure which shows the example of the gas discharge direction by the hypochlorous acid
本変形例では、制御部30は、放出方向A〜Iの9つの放出方向の中から1つを選択して、選択した放出方向に気体を放出させる。制御部30は、拡散稼働制御を実行する場合に、例えば放出方向A〜Iをこの順で1つずつ選択する。例えば、制御部30は、1つの方向につき1秒から数秒などの所定期間、選択された方向に放出方向を固定する。
In this modification, the
なお、放出方向の選択順序は、特に限定されない。例えば、制御部30は、放出方向I〜Aの順に選択してもよい。あるいは、制御部30は、「左」の3列、「中央」の3列、「右」の3列の順、又は、この逆の順に選択してもよい。また、制御部30は、9つの放出方向のうち1つ以上の放出方向を間引いて選択してもよい。例えば、制御部30は、放出方向A、C、E、G及びIのみをこの順で選択してもよい。
The order of selecting the emission directions is not particularly limited. For example, the
このとき、制御部30は、選択した放出方向に応じて、放出口10から放出される気体の風量を調整してもよい。例えば、図8に示されるように、「上」、「中央」及び「下」の3つに応じて、風量又は風速を「多」、「中」及び「少」の3段階で変更してもよい。これにより、例えば、「上」の3つの放出方向が選択されて、遠くまで気体を放出する際には、対象空間の最奥部まで十分な量の次亜塩素酸ガスを届かせることができる。
At this time, the
以上のように、本変形例に係る次亜塩素酸ガス放出システムでは、制御部30は、拡散稼働制御を実行する場合に、放出方向を所定範囲内で離散的に変化させる。
As described above, in the hypochlorous acid gas release system according to the present modification, the
これにより、放出方向がデジタル的に変更されるので、放出方向を変更するための構成及び制御を簡便にすることができる。 As a result, the emission direction is changed digitally, so that the configuration and control for changing the emission direction can be simplified.
(実施の形態2)
続いて、実施の形態2について説明する。
(Embodiment 2)
Next, the second embodiment will be described.
[構成]
図9は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム2の構成を示すブロック図である。図9に示されるように、次亜塩素酸ガス放出システム2は、実施の形態1に係る次亜塩素酸ガス放出システム1と比べて、新たに外乱検出センサ40を備える点と、制御部30の代わりに制御部31を備える点とが相違する。以下では、実施の形態1との相違点を中心に説明し、共通点の説明を省略又は簡略化する。
[Constitution]
FIG. 9 is a block diagram showing the configuration of the hypochlorous acid
外乱検出センサ40は、気体が放出される対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度を変化させる要因を検出する第1センサの一例である。ここでの要因は、放出口10からの放出量が一定の場合であっても次亜塩素酸ガスの濃度を変化させる要因であって、いわゆる外乱に相当する。具体的には、外乱検出センサ40は、人感センサ、開閉センサ、においセンサ及び紫外線光量計などの少なくとも1つを含んでいる。
The
人感センサは、人を検出する。具体的には、人感センサは、対象空間内での人の存在の有無及び人の動き、並びに、対象空間への人の出入りを検出する。対象空間への人の出入り及び対象空間内での人の動きによって対象空間内には気流が発生する。この気流によって、次亜塩素酸ガスの濃度分布が変化する場合がある。つまり、人は、次亜塩素酸ガスの濃度を変化させる外乱の1つである。人感センサは、例えば、赤外線センサ、可視光センサ及び超音波センサなどである。 The motion sensor detects a person. Specifically, the motion sensor detects the presence/absence of a person in the target space, the movement of the person, and the movement of the person in/out of the target space. An airflow is generated in the target space due to the movement of a person in and out of the target space and the movement of the person in the target space. This air flow may change the concentration distribution of hypochlorous acid gas. That is, a person is one of the disturbances that changes the concentration of hypochlorous acid gas. The human sensor is, for example, an infrared sensor, a visible light sensor, an ultrasonic sensor, or the like.
開閉センサは、対象空間と外部空間とを隔てる部材のうち、ドア又は窓などの開閉自在な部材の開閉を検出する。ドア又は窓が開閉された場合には、対象空間から外部空間へ、又は、外部空間から対象空間への気流が発生する恐れがあり、次亜塩素酸ガスの濃度分布が変化する場合がある。つまり、ドア又は窓の開閉は、次亜塩素酸ガスの濃度を変化させる外乱の1つである。開閉センサは、例えば、磁界変化を検出するセンサである。 The opening/closing sensor detects opening/closing of an openable/closable member such as a door or a window among the members separating the target space and the external space. When the door or the window is opened or closed, there is a possibility that an air flow from the target space to the external space or from the external space to the target space may occur, and the concentration distribution of hypochlorous acid gas may change. In other words, opening and closing the door or window is one of the disturbances that changes the concentration of hypochlorous acid gas. The open/close sensor is, for example, a sensor that detects a magnetic field change.
においセンサは、臭気物質を検出する。臭気物質は、例えば、アンモニア又はメチルメルカプタンなどのにおいを出す物質である。臭気物質は、次亜塩素酸ガスと反応して分解される。つまり、臭気物質が検出された場合に、次亜塩素酸ガスは、臭気物質の分解に利用されるので、次亜塩素酸ガスの濃度が低下する。このように、臭気物質は、次亜塩素酸ガスの濃度を変化させる外乱の1つである。においセンサは、例えば、半導体式センサ、接触燃焼式センサ、又は、電気化学式センサなどである。 The odor sensor detects odorous substances. Odorants are substances that give off an odor, such as ammonia or methyl mercaptan. Odorous substances are decomposed by reacting with hypochlorous acid gas. That is, when the odorous substance is detected, the hypochlorous acid gas is used for decomposing the odorous substance, so that the concentration of the hypochlorous acid gas is reduced. As described above, the odorous substance is one of the disturbances that changes the concentration of hypochlorous acid gas. The odor sensor is, for example, a semiconductor type sensor, a catalytic combustion type sensor, an electrochemical type sensor, or the like.
紫外線光量計は、紫外線を検出する。次亜塩素酸ガスは、紫外線が照射された場合に分解されるので、次亜塩素酸ガスの濃度が低下する。このように、紫外線は、次亜塩素酸ガスの濃度を変化させる外乱の1つである。紫外線光量計は、例えば、フォトダイオードなど受光センサである。 The ultraviolet photometer detects ultraviolet light. Since the hypochlorous acid gas is decomposed when it is irradiated with ultraviolet rays, the concentration of the hypochlorous acid gas is lowered. Thus, ultraviolet rays are one of the disturbances that change the concentration of hypochlorous acid gas. The ultraviolet photometer is, for example, a light receiving sensor such as a photodiode.
本実施の形態に係る制御部31は、制御部30の動作に加えて、安定稼働制御を実行している期間内に、外乱検出センサ40によって、次亜塩素酸ガスの濃度を変化させる要因が検出された場合、安定稼働制御を停止し、拡散稼働制御を所定期間実行する。具体的には、制御部31は、外乱検出センサ40から要因の検出結果を取得し、取得した検出結果に基づいて拡散稼働制御の実行の要否を判定する。制御部31は、拡散稼働制御を実行すると判定した場合、拡散稼働制御を所定期間実行し、所定期間の経過後に、再び安定稼働制御を実行する。
In the
例えば、制御部31は、対象空間への人の出入りが人感センサによって検出された場合に、拡散稼働制御を実行する。また、制御部31は、対象空間のドア又は窓の開閉が開閉センサによって検出された場合に、拡散稼働制御を実行する。あるいは、制御部31は、においセンサで検出された臭気指数と所定の基準値とを比較し、検出された臭気指数が基準値を越えた場合に、拡散稼働制御を実行する。制御部31は、紫外線光量計で検出された紫外線量と所定の基準値とを比較し、検出された紫外線量が基準値を越えた場合に、拡散稼働制御を実行する。
For example, the
[動作]
続いて、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム2の動作、すなわち、次亜塩素酸ガス放出方法について説明する。
[motion]
Next, the operation of the hypochlorous acid
図10は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム2の動作を示すフローチャートである。図10に示されるように、拡散稼働制御を実行してから安定稼働制御を維持するまでの処理(S10〜S16)は、実施の形態1と同じである。
FIG. 10 is a flowchart showing the operation of the hypochlorous acid
本実施の形態では、安定稼働制御が実行されている期間(S16でNo)において、制御部31は、外乱検出センサ40によって外乱が検出された場合(S18でYes)、ステップS10に戻り、再び拡散稼働制御を実行する。
In the present embodiment, when the disturbance is detected by the disturbance detection sensor 40 (Yes in S18) during the period in which the stable operation control is being executed (No in S16), the
外乱検出センサ40によって外乱が検出されない場合(S18でNo)、制御部31は、ステップS14に戻り、安定稼働制御を維持する。
When the disturbance is not detected by the disturbance detection sensor 40 (No in S18), the
[効果など]
以上のように、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム2は、さらに、気体が放出される空間内の次亜塩素酸ガスの濃度を変化させる要因を検出する外乱検出センサ40を備える。制御部31は、さらに、安定稼働制御を実行している期間内に、外乱検出センサ40によって要因が検出された場合、安定稼働制御を停止し、拡散稼働制御を前記所定期間実行する。
[Effects]
As described above, the hypochlorous acid
これにより、人の出入り又は窓の開閉などの要因によって対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度の均一性が損なわれうる場合に拡散稼働制御を実行することができる。このため、実際に次亜塩素酸ガスの濃度が変化したとしても、短期間で次亜塩素酸ガスの濃度を均一にすることができるので、対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度の均一性が高い状態を長期間、維持することができる。 Accordingly, the diffusion operation control can be executed when the uniformity of the concentration of hypochlorous acid gas in the target space may be impaired due to factors such as the entry and exit of people or the opening and closing of windows. Therefore, even if the concentration of hypochlorous acid gas actually changes, the concentration of hypochlorous acid gas can be made uniform in a short period of time, so that the concentration of hypochlorous acid gas in the target space can be made uniform. It is possible to maintain a high quality for a long period of time.
(実施の形態3)
続いて、実施の形態3について説明する。
(Embodiment 3)
Subsequently, a third embodiment will be described.
[構成]
図11は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム3の構成を示すブロック図である。図11に示されるように、次亜塩素酸ガス放出システム3は、実施の形態1に係る次亜塩素酸ガス放出システム1と比べて、新たに複数の次亜塩素酸ガスセンサ50を備える点と、制御部30の代わりに制御部32を備える点が相違する。以下では、実施の形態1との相違点を中心に説明し、共通点の説明を省略又は簡略化する。
[Constitution]
FIG. 11 is a block diagram showing the configuration of the hypochlorous acid
次亜塩素酸ガスセンサ50は、気体が放出される対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度を検出する第2センサの一例である。次亜塩素酸ガスセンサ50は、例えば電気化学式センサである。なお、次亜塩素酸ガスセンサ50は、直接的に次亜塩素酸を検出してもよく、次亜塩素酸が分解されて生成される塩素を検出することで、間接的に次亜塩素酸を検出してもよい。
The hypochlorous
本実施の形態では、次亜塩素酸ガスセンサ50は、対象空間内の所定位置の次亜塩素酸ガスの濃度を検出する。例えば、図12に示されるように、複数の次亜塩素酸ガスセンサ50は、空間90内において、互いに異なる位置の次亜塩素酸ガスの濃度を検出する。
In the present embodiment, the hypochlorous
図12は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム3における次亜塩素酸ガスセンサの検出位置の一例を示す図である。図12には、4つの次亜塩素酸ガスセンサ50a〜50dが示されている。4つの次亜塩素酸ガスセンサ50a〜50dはそれぞれ、図11に示される次亜塩素酸ガスセンサ50である。以下では、4つの次亜塩素酸ガスセンサ50a〜50dを特に区別する必要がない場合、次亜塩素酸ガスセンサ50として説明する。
FIG. 12 is a diagram showing an example of the detection position of the hypochlorous acid gas sensor in the hypochlorous acid
図12には、気体が放出される対象空間の一例である空間90と、空間90内の次亜塩素酸ガスの濃度分布とが模式的に示されている。空間90と外部空間とを隔てる壁には、ドア91、給気口92及び排気口93が設けられている。次亜塩素酸ガスの濃度分布は、ドットの密度が濃い部分程、次亜塩素酸ガスの濃度が高いことを表している。
FIG. 12 schematically shows a
ドア91の周辺、及び、給気口92から排気口93に至る経路は、気流が発生しやすく、次亜塩素酸ガスの濃度の変動が大きくなりやすい。例えば、ドア91の開閉、又は、給気口92及び排気口93を介した換気が行われた場合には、図12に示されるように、ドア91の周辺、及び、給気口92から排気口93に至る経路の次亜塩素酸ガスの濃度が低くなりやすい。次亜塩素酸ガスの濃度の低下が発生しやすい位置は、例えば、対象空間の設計段階で予め推定することができる。
Airflow is likely to occur around the
本実施の形態では、複数の次亜塩素酸ガスセンサ50による検出位置は、次亜塩素酸ガスの濃度の低下が発生しやすい位置である。例えば、図12に示されるように、次亜塩素酸ガスセンサ50aは、ドア91の近傍に配置され、配置された位置の次亜塩素酸ガスの濃度を検出する。次亜塩素酸ガスセンサ50b〜dは、給気口92から排気口93に至る経路上にそれぞれ配置され、配置された位置の次亜塩素酸ガスの濃度を検出する。
In the present embodiment, the positions detected by the plurality of hypochlorous
本実施の形態に係る制御部32は、制御部30の動作に加えて、安定稼働制御を実行している期間内に、次亜塩素酸ガスセンサ50によって、次亜塩素酸ガスの濃度の変化が検出された場合、安定稼働制御を停止し、拡散稼働制御を所定期間実行する。具体的には、制御部32は、複数の次亜塩素酸ガスセンサ50の各々から次亜塩素酸ガスの濃度の測定値を取得し、取得した測定値に基づいて拡散稼働制御の実行の要否を判定する。制御部32は、拡散稼働制御を実行すると判定した場合、拡散稼働制御を所定期間実行し、所定期間の経過後に、再び安定稼働制御を実行する。
In the
また、制御部32は、さらに、局所稼働制御を実行する。局所稼働制御とは、所定の位置に向けて気体を放出する第3制御の一例である。例えば、制御部32は、検出された濃度が予め定められた基準値を下回った場合に、局所稼働制御を実行する。ここでの基準値は、例えば、除菌効果を発揮させるために最低限必要な次亜塩素酸ガスの濃度である最低基準値である。なお、基準値は、最低基準値よりも高い値であってもよい。
Further, the
具体的には、制御部32は、次亜塩素酸ガスセンサ50によって濃度の低下が検出された場合、低下が検出された位置に向けて気体が放出されるように放出方向を制御する。図8に示される9つの放出方向の中から、濃度の低下が検出された方向を決定し、決定した方向に向けて気体を放出口10から放出させる。
Specifically, when the hypochlorous
例えば、図12に示される次亜塩素酸ガスセンサ50aの検出位置の濃度が低下した場合、当該検出位置は、放出口10の左側で、かつ、放出口10から遠い位置に位置している。このため、制御部32は、放出方向Aを選択し、放出方向Aに向けて放出口10から気体を放出させる。また、次亜塩素酸ガスセンサ50bの検出位置の濃度が低下した場合、当該検出位置は、放出口10の正面で、かつ、放出口10に近い位置に位置している。このため、制御部32は、放出方向Hを選択し、放出方向Hに向けて放出口10から気体を放出させる。
For example, when the concentration at the detection position of the hypochlorous
複数の検出位置で濃度の低下が検出された場合、制御部32は、例えば、当該検出位置に向けた放出方向を順に選択する。選択の順序は、例えば、濃度が低い順であるが、これに限らない。
When the decrease in the density is detected at the plurality of detection positions, the
[動作]
続いて、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム3の動作、すなわち、次亜塩素酸ガス放出方法について説明する。
[motion]
Next, the operation of the hypochlorous acid
図13は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム3の動作を示すフローチャートである。図13に示されるように、拡散稼働制御を実行してから安定稼働制御を維持するまでの処理(S10〜S16)は、実施の形態1と同じである。
FIG. 13 is a flowchart showing the operation of the hypochlorous acid
本実施の形態では、安定稼働制御が実行されている期間(S16でNo)において、制御部32は、複数の次亜塩素酸ガスセンサ50の少なくとも1つによって検出された次亜塩素酸ガスの濃度が変化したか否かを判定する(S20)。次亜塩素酸ガスの濃度が変化していない場合(S20でNo)、制御部32は、ステップS14に戻り、安定稼働制御を維持する。
In the present embodiment, during the period during which the stable operation control is being executed (No in S16), the
次亜塩素酸ガスの濃度が変化した場合(S20でYes)、制御部32は、検出された濃度と最低基準値とを比較する(S22)。検出された濃度が最低基準値以上である場合(S22でNo)、制御部32は、ステップS10に戻り、再び拡散稼働制御を実行する。これにより、次亜塩素酸ガスの濃度を短期間で均一な状態にすることができる。
When the concentration of hypochlorous acid gas has changed (Yes in S20), the
検出された濃度が最低基準値よりも低い場合(S22でYes)、制御部32は、局所稼働制御を実行する(S24)。具体的には、制御部32は、最低基準値よりも低い濃度が検出された位置に向けて、放出口10から気体を放出させる。制御部32は、局所稼働制御を一定期間実行した後、ステップS10に戻り、再び拡散稼働制御を実行する。これにより、次亜塩素酸ガスの濃度を短期間で均一な状態にすることができる。
When the detected concentration is lower than the minimum reference value (Yes in S22), the
なお、制御部32は、局所稼働制御を実行した後、拡散稼働制御を実行する前に、次亜塩素酸ガスの濃度と最低基準値との比較を行ってもよい。全ての次亜塩素酸ガスセンサ50による検出位置での濃度が最低基準値より高くなった場合に、制御部32は、拡散稼働制御を実行してもよい。
The
[効果など]
以上のように、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム3は、さらに、気体が放出される空間内の次亜塩素酸ガスの濃度を検出する次亜塩素酸ガスセンサ50を備える。制御部32は、さらに、安定稼働制御を実行している期間内に、次亜塩素酸ガスセンサ50によって次亜塩素酸ガスの濃度の変化が検出された場合、安定稼働制御を停止し、拡散稼働制御を所定期間実行する。
[Effects]
As described above, the hypochlorous acid
これにより、対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度の均一性が損なわれた場合に拡散稼働制御を実行することができる。このため、短期間で次亜塩素酸ガスの濃度を均一にすることができるので、対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度の均一性が高い状態を長期間、維持することができる。 As a result, the diffusion operation control can be executed when the uniformity of the concentration of hypochlorous acid gas in the target space is impaired. Therefore, the concentration of the hypochlorous acid gas can be made uniform in a short period of time, so that the state in which the concentration of the hypochlorous acid gas in the target space is highly uniform can be maintained for a long period of time.
また、例えば、次亜塩素酸ガス放出システム3は、さらに、気体が放出される空間内の所定位置の次亜塩素酸ガスの濃度を検出する次亜塩素酸ガスセンサ50を備えてもよい。制御部32は、さらに、次亜塩素酸ガスセンサ50によって次亜塩素酸ガスの濃度の低下が検出された場合、所定位置に向けて気体が放出されるように放出方向を制御する局所稼働制御を実行する。
Further, for example, the hypochlorous acid
これにより、次亜塩素酸ガスが不足した位置に向けて速やかに次亜塩素酸ガスを供給することができるので、対象空間内の除菌効果が高い状態を維持することができる。 As a result, the hypochlorous acid gas can be promptly supplied toward the position where the hypochlorous acid gas is insufficient, so that the state in which the disinfection effect in the target space is high can be maintained.
また、例えば、所定位置は、空間内の環境に基づいて予め決定された次亜塩素酸ガスの濃度の低下が発生しやすい位置である。 Further, for example, the predetermined position is a position where the concentration of hypochlorous acid gas, which is predetermined based on the environment in the space, is likely to decrease.
これにより、対象空間内に配置される次亜塩素酸ガスセンサ50の個数を削減することができるので、制御負荷の軽減、及び、低コスト化を実現することができる。また、次亜塩素酸ガスの濃度が低下しやすい位置の濃度を検出するので、対象空間内の濃度変化を適切に検出することができる。このため、対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度の均一性が高い状態を長期間、維持することができる。
Accordingly, the number of hypochlorous
複数の次亜塩素酸ガスセンサ50が設けられた場合には、対象空間内の次亜塩素酸ガスの濃度変化を細かく検出することができるので、次亜塩素酸ガスの濃度の均一化を高い精度で行うことができる。なお、次亜塩素酸ガス放出システム3が備える次亜塩素酸ガスセンサ50の個数は、1つのみでもよい。
When a plurality of hypochlorous
(実施の形態4)
続いて、実施の形態4について説明する。
(Embodiment 4)
Subsequently, a fourth embodiment will be described.
[構成]
図14は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム4の構成を示すブロック図である。図14に示されるように、次亜塩素酸ガス放出システム4は、実施の形態1に係る次亜塩素酸ガス放出システム1と比べて、新たに換気設備60及び空調設備70を備える点と、制御部30の代わりに制御部33を備える点とが相違する。以下では、実施の形態1との相違点を中心に説明し、共通点の説明を省略又は簡略化する。
[Constitution]
FIG. 14: is a block diagram which shows the structure of the hypochlorous acid
換気設備60は、気体が放出される対象空間内の換気を行う設備である。換気設備60は、例えば、換気扇、送風機又はベンチレーターなどである。
The
空調設備70は、気体が放出される対象空間内の空調を行う設備である。空調設備70は、例えば、対象空間内に気流を生成する。空調設備70は、エアコン、扇風機又は送風機などである。
The
本実施の形態に係る制御部33は、制御部30の動作に加えて、拡散稼働制御の実行を開始する以前に、換気設備60及び空調設備70の動作を停止させる。具体的には、制御部33は、換気設備60及び空調設備70の気流生成に関わる動作を停止させる。なお、拡散稼働制御の実行と、換気設備60及び空調設備70の動作の停止とは同時に行われてもよい。
In addition to the operation of the
[動作]
続いて、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム4の動作、すなわち、次亜塩素酸ガス放出方法について説明する。
[motion]
Next, the operation of the hypochlorous acid
図15は、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム4の動作を示すフローチャートである。図15に示されるように、開始信号が発せられると、まず、制御部33は、換気設備60及び空調設備70の動作を停止する(S30)。その後、制御部33は、拡散稼働制御を実行する(S10)。
FIG. 15 is a flowchart showing the operation of the hypochlorous acid
気体の放出開始から所定期間が経過した場合(S12でYes)、制御部33は、換気設備60及び空調設備70の動作を再開する(S32)。なお、動作の再開は行われなくてもよい。
When a predetermined period has elapsed from the start of gas release (Yes in S12), the
その後、制御部30は、拡散稼働制御を停止し、安定稼働制御を実行する(S14)。以降、次亜塩素酸ガス放出システム4の動作が終了されるまで(S16でNo)、制御部30は、安定稼働制御を維持する。本実施の形態に係るステップS10、S12、S14及びS16はそれぞれ、実施の形態1と同じである。
After that, the
[効果など]
以上のように、本実施の形態に係る次亜塩素酸ガス放出システム4は、さらに、前記気体が放出される空間の換気又は空調を行う換気設備60又は空調設備70を備える。制御部33は、さらに、拡散稼働制御の実行を開始する以前に、換気設備60又は空調設備70の動作を停止させる。
[Effects]
As described above, the hypochlorous acid
これにより、対象空間内では換気又は空調に起因する気流が抑制される。これにより、放出した次亜塩素酸ガスが排気により対象空間から排出されて消滅し、又は、空調機に吸引されて分解されるのを抑制することができる。このように、換気設備60又は空調設備70と連動させることで、次亜塩素酸ガスの消滅を抑制し、濃度をより短期間で均一化させることができる。
Thereby, the airflow resulting from ventilation or air conditioning is suppressed in the target space. As a result, it is possible to prevent the released hypochlorous acid gas from being discharged from the target space by the exhaust gas and disappearing, or being sucked into the air conditioner and decomposed. In this way, by interlocking with the
(その他)
以上、本発明に係る次亜塩素酸ガス放出システムなどについて、上記の実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではない。
(Other)
Although the hypochlorous acid gas releasing system and the like according to the present invention have been described above based on the above-described embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments.
例えば、放出口10には、ルーバー11及び12の少なくとも一方が設けられていなくてもよい。例えば、放出口10には、ルーバー11及び12の代わりに、風向を変更可能な送風機が設けられていてもよい。制御部30は、当該送風機を制御することで、気体の放出方向を変更してもよい。あるいは、制御部30は、空調設備70を制御することで、気体の放出方向を変更してもよい。
For example, the
また、放出口10は、同時に複数の方向に向けて次亜塩素酸ガスを含む気体を放出することができてもよい。例えば、複数のルーバー11及び複数のルーバー12の少なくとも一方は、それぞれが異なる方向に回動できてもよい。
Further, the
また、例えば、各実施の組み合わせを適宜組み合わせてもよい。次亜塩素酸ガス放出システムは、放出口10と、生成部20と、制御部30と、外乱検出センサ40と、次亜塩素酸ガスセンサ50と、換気設備60と、空調設備70とを備えてもよい。この場合において、制御部30は、各実施の形態で説明した各機能を実行する。
Further, for example, the combinations of the respective implementations may be combined appropriately. The hypochlorous acid gas release system includes an
例えば、次亜塩素酸ガス放出システム1が複数の次亜塩素酸ガスセンサ50を備える場合、制御部30は、安定稼働制御において固定する放出方向を、次亜塩素酸ガスセンサ50の検出結果に基づいて決定してもよい。例えば、制御部30は、複数の検出位置のうち最も低い濃度が検出された位置に向けて気体を放出させてもよい。
For example, when the hypochlorous acid
また、例えば、次亜塩素酸ガス放出システムは、生成部20と、外乱検出センサ40と、次亜塩素酸ガスセンサ50と、換気設備60と、空調設備70との少なくとも1つを備えなくてもよい。例えば、次亜塩素酸ガス放出システムは、生成部20を備えずに、他のシステムで生成された次亜塩素酸ガスを取得し、取得した次亜塩素酸ガスを含む気体を放出口10から放出してもよい。
Further, for example, the hypochlorous acid gas release system does not have to include at least one of the
また、上記実施の形態で説明した装置間の通信方法については特に限定されるものではない。装置間で無線通信が行われる場合、無線通信の方式(通信規格)は、例えば、ZigBee(登録商標)、Bluetooth(登録商標)、又は、無線LAN(Local Area Network)などの近距離無線通信である。あるいは、無線通信の方式(通信規格)は、インターネットなどの広域通信ネットワークを介した通信でもよい。また、装置間においては、無線通信に代えて、有線通信が行われてもよい。有線通信は、具体的には、電力線搬送通信(PLC:Power Line Communication)又は有線LANを用いた通信などである。 Further, the communication method between the devices described in the above embodiment is not particularly limited. When wireless communication is performed between devices, the wireless communication method (communication standard) is, for example, short-distance wireless communication such as ZigBee (registered trademark), Bluetooth (registered trademark), or wireless LAN (Local Area Network). is there. Alternatively, the wireless communication method (communication standard) may be communication via a wide area communication network such as the Internet. Wired communication may be performed between the devices instead of wireless communication. The wired communication is, for example, power line communication (PLC) or communication using a wired LAN.
また、上記実施の形態において、特定の処理部が実行する処理を別の処理部が実行してもよい。また、複数の処理の順序が変更されてもよく、あるいは、複数の処理が並行して実行されてもよい。また、次亜塩素酸ガス放出システム1、2、3又は4が備える構成要素の複数の装置への振り分けは、一例である。例えば、一の装置が備える構成要素を他の装置が備えてもよい。
Further, in the above-described embodiment, the processing executed by the specific processing unit may be executed by another processing unit. Further, the order of the plurality of processes may be changed, or the plurality of processes may be executed in parallel. Further, the allocation of the constituent elements of the hypochlorous acid
また、次亜塩素酸ガス放出システム1、2、3又は4は、単一の装置として実現されてもよい。例えば、上述した次亜塩素酸ガス放出システム1、2、3又は4は、1つの筐体に収納された単一の装置として実現されてもよい。当該単一の装置は、容易に持ち運びが可能であってもよく、空間内に自由に配置できてもよい。
Also, the hypochlorous acid
例えば、上記実施の形態において説明した処理は、単一の装置(システム)を用いて集中処理することによって実現してもよく、又は、複数の装置を用いて分散処理することによって実現してもよい。また、上記プログラムを実行するプロセッサは、単数であってもよく、複数であってもよい。すなわち、集中処理を行ってもよく、又は分散処理を行ってもよい。 For example, the processing described in the above embodiments may be realized by centralized processing using a single device (system), or may be realized by distributed processing using a plurality of devices. Good. Further, the processor that executes the above program may be a single processor or a plurality of processors. That is, centralized processing may be performed or distributed processing may be performed.
また、上記実施の形態において、制御部などの構成要素の全部又は一部は、専用のハードウェアで構成されてもよく、あるいは、各構成要素に適したソフトウェアプログラムを実行することによって実現されてもよい。各構成要素は、CPU(Central Processing Unit)又はプロセッサなどのプログラム実行部が、HDD(Hard Disk Drive)又は半導体メモリなどの記録媒体に記録されたソフトウェアプログラムを読み出して実行することによって実現されてもよい。 Further, in the above embodiment, all or some of the components such as the control unit may be configured by dedicated hardware, or realized by executing a software program suitable for each component. Good. Each component may be realized by a program executing unit such as a CPU (Central Processing Unit) or a processor reading and executing a software program recorded in a recording medium such as an HDD (Hard Disk Drive) or a semiconductor memory. Good.
また、制御部などの構成要素は、1つ又は複数の電子回路で構成されてもよい。1つ又は複数の電子回路は、それぞれ、汎用的な回路でもよいし、専用の回路でもよい。 In addition, components such as the control unit may be configured by one or a plurality of electronic circuits. Each of the one or more electronic circuits may be a general-purpose circuit or a dedicated circuit.
1つ又は複数の電子回路には、例えば、半導体装置、IC(Integrated Circuit)又はLSI(Large Scale Integration)などが含まれてもよい。IC又はLSIは、1つのチップに集積されてもよく、複数のチップに集積されてもよい。ここでは、IC又はLSIと呼んでいるが、集積の度合いによって呼び方が変わり、システムLSI、VLSI(Very Large Scale Integration)、又は、ULSI(Ultra Large Scale Integration)と呼ばれるかもしれない。また、LSIの製造後にプログラムされるFPGA(Field Programmable Gate Array)も同じ目的で使うことができる。 The one or more electronic circuits may include, for example, a semiconductor device, an IC (Integrated Circuit), an LSI (Large Scale Integration), or the like. The IC or LSI may be integrated on one chip or may be integrated on a plurality of chips. Although referred to as an IC or an LSI here, it may be called a system LSI, a VLSI (Very Large Scale Integration), or a ULSI (Ultra Large Scale Integration) depending on the degree of integration. An FPGA (Field Programmable Gate Array) that is programmed after manufacturing the LSI can also be used for the same purpose.
また、本発明の全般的又は具体的な態様は、システム、装置、方法、集積回路又はコンピュータプログラムで実現されてもよい。あるいは、当該コンピュータプログラムが記憶された光学ディスク、HDD若しくは半導体メモリなどのコンピュータ読み取り可能な非一時的記録媒体で実現されてもよい。また、システム、装置、方法、集積回路、コンピュータプログラム及び記録媒体の任意な組み合わせで実現されてもよい。 In addition, the general or specific aspects of the present invention may be implemented by a system, an apparatus, a method, an integrated circuit, or a computer program. Alternatively, it may be realized by a computer-readable non-transitory recording medium such as an optical disk, an HDD, or a semiconductor memory in which the computer program is stored. Further, the system, the device, the method, the integrated circuit, the computer program, and the recording medium may be implemented in any combination.
その他、各実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。 In addition, it is realized by making various modifications to those skilled in the art by those skilled in the art, or by arbitrarily combining the components and functions of each embodiment without departing from the spirit of the present invention. The form is also included in the present invention.
1、2、3、4 次亜塩素酸ガス放出システム
10 放出口
30、31、32、33 制御部
40 外乱検出センサ(第1センサ)
50、50a、50b、50c、50d 次亜塩素酸ガスセンサ(第2センサ)
60 換気設備
70 空調設備
90 空間
1, 2, 3, 4 Hypochlorous acid
50, 50a, 50b, 50c, 50d Hypochlorous acid gas sensor (second sensor)
60
Claims (11)
前記放出口からの前記気体の放出方向を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
前記放出方向を経時変化させる第1制御を、前記気体の放出開始から所定期間実行し、
前記放出方向を固定する第2制御を、前記所定期間の経過後に実行する
次亜塩素酸ガス放出システム。 A discharge port for discharging a gas containing hypochlorous acid gas,
And a control unit for controlling the discharge direction of the gas from the discharge port,
The control unit is
The first control for changing the release direction with time is executed for a predetermined period from the start of the release of the gas,
A hypochlorous acid gas release system that executes the second control for fixing the release direction after the lapse of the predetermined period.
請求項1に記載の次亜塩素酸ガス放出システム。 The hypochlorous acid gas release system according to claim 1, wherein the predetermined period is a period determined based on the number of ventilations of the space where the gas is released.
請求項1又は2に記載の次亜塩素酸ガス放出システム。 The hypochlorous acid gas release system according to claim 1, wherein the control unit continuously changes the release direction within a predetermined range when executing the first control.
請求項1又は2に記載の次亜塩素酸ガス放出システム。 The hypochlorous acid gas release system according to claim 1 or 2, wherein the control unit discretely changes the release direction within a predetermined range when executing the first control.
前記制御部は、さらに、前記第2制御を実行している期間内に、前記第1センサによって前記要因が検出された場合、前記第2制御を停止し、前記第1制御を前記所定期間実行する
請求項1〜4のいずれか1項に記載の次亜塩素酸ガス放出システム。 Furthermore, a first sensor for detecting a factor that changes the concentration of the hypochlorous acid gas in the space where the gas is released is provided,
The control unit further stops the second control and executes the first control for the predetermined period of time when the factor is detected by the first sensor within a period of executing the second control. The hypochlorous acid gas releasing system according to any one of claims 1 to 4.
前記制御部は、さらに、前記第2制御を実行している期間内に、前記第2センサによって前記次亜塩素酸ガスの濃度の変化が検出された場合、前記第2制御を停止し、前記第1制御を前記所定期間実行する
請求項1〜5のいずれか1項に記載の次亜塩素酸ガス放出システム。 Furthermore, a second sensor for detecting the concentration of hypochlorous acid gas in the space from which the gas is released is provided,
The control unit further stops the second control when a change in the concentration of the hypochlorous acid gas is detected by the second sensor within a period during which the second control is executed, The hypochlorous acid gas release system according to claim 1, wherein the first control is executed for the predetermined period.
前記制御部は、さらに、前記第2センサによって前記次亜塩素酸ガスの濃度の低下が検出された場合、前記所定位置に向けて前記気体が放出されるように前記放出方向を制御する第3制御を実行する
請求項1〜5のいずれか1項に記載の次亜塩素酸ガス放出システム。 Furthermore, a second sensor for detecting the concentration of the hypochlorous acid gas at a predetermined position in the space where the gas is released is provided,
The control unit further controls the discharge direction so that the gas is discharged toward the predetermined position when the decrease in the concentration of the hypochlorous acid gas is detected by the second sensor. The hypochlorous acid gas releasing system according to any one of claims 1 to 5, which executes control.
請求項7に記載の次亜塩素酸ガス放出システム。 The hypochlorous acid gas releasing system according to claim 7, wherein the predetermined position is a position where a decrease in concentration of hypochlorous acid gas, which is predetermined based on an environment in the space, is likely to occur.
前記制御部は、さらに、前記第1制御の実行を開始する以前に、前記設備の動作を停止させる
請求項1〜8のいずれか1項に記載の次亜塩素酸ガス放出システム。 Furthermore, it is equipped with equipment for ventilation or air conditioning of the space from which the gas is released,
The hypochlorous acid gas release system according to any one of claims 1 to 8, wherein the control unit further stops the operation of the equipment before starting the execution of the first control.
前記放出方向を固定する第2制御を、前記所定期間の経過後に実行する
次亜塩素酸ガス放出方法。 The first control for changing with time the emission direction of the gas from the emission port that emits the gas containing hypochlorous acid gas is executed for a predetermined period from the start of the emission of the gas,
The hypochlorous acid gas releasing method, wherein the second control for fixing the releasing direction is executed after the lapse of the predetermined period.
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