JP2020109854A - Support for roller mechanism, roller mechanism, and etching apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、2つのローラを回転可能に受けるローラ機構用の支持体、該支持体を備える
ローラ機構、及び該ローラ機構を備えるエッチング装置に関する。
The present invention relates to a support for a roller mechanism that rotatably receives two rollers, a roller mechanism including the support, and an etching apparatus including the roller mechanism.
例えばエッチング装置における半導体基板の被搬送板体(以下「ワーク」と呼ぶ。)を
2つのローラで上下に挟んで搬送するローラ機構が用いられる(例えば、特許文献1参照
)。ここで、ワークを挟む2つのローラは、その離間距離をワークの厚みに併せて定める
必要がある。
For example, a roller mechanism is used in an etching apparatus that transports a transported substrate (hereinafter referred to as a “work”) of a semiconductor substrate by vertically sandwiching it with two rollers (see, for example, Patent Document 1). Here, it is necessary to determine the distance between the two rollers sandwiching the work together with the thickness of the work.
従来、上側のローラと下側のローラとは同一のサイズであり、2つのローラを1の溝に
貫入して下側のローラを支え、その上にある上側のローラとの間にコロを設けていた。コ
ロのサイズによって2つのローラの離間距離を調整し、また、コロを介して2のローラが
連動して回転するものである。しかし、長時間の回転及び昇温冷却の繰り返しにより締結
が緩むことで、コロずれが生じてしまい、安定した搬送が困難になってしまう。また、締
結が緩まないように強くネジ締めすると、偏心が発生してしまう。安定した搬送には適さ
ないものであった。
Conventionally, the upper roller and the lower roller have the same size, and two rollers are inserted into one groove to support the lower roller, and a roller is provided between the upper roller and the upper roller. Was there. The separation distance between the two rollers is adjusted according to the size of the rollers, and the two rollers rotate in conjunction with each other via the rollers. However, loosening of the fastening due to repeated rotation for a long time and repeated heating and cooling causes a deviation of rollers, which makes stable transportation difficult. Further, if the screws are strongly tightened so that the fastening is not loosened, eccentricity will occur. It was not suitable for stable transportation.
そこで、2つのローラを、コロを接触することなく、それぞれ独立に位置決めして離間距
離を定めることのできるローラ機構が求められる。
Therefore, there is a demand for a roller mechanism that can position the two rollers independently of each other without contacting the rollers to determine the separation distance.
本発明は、2つのローラの軸受け位置を安定して定めることができるローラ機構用の支
持体、該支持体を用いるローラ機構、及び該ローラ機構を用いるエッチング装置を提供す
ることを課題とする。
It is an object of the present invention to provide a support for a roller mechanism that can stably determine the bearing positions of two rollers, a roller mechanism that uses the support, and an etching apparatus that uses the roller mechanism.
本発明のローラ機構用の支持体は、
2つのローラを回転可能に受けるローラ機構用の支持体であって、
第1の半円と、該第1の半円に該半円の弦に一辺の少なくとも一部を重ねて接続する第
1の矩形と、を含む断面形状に形成された下段溝と、
前記第1の半円よりも大きな直径を有し、前記第1の矩形と該矩形の前記一辺に対向す
る他辺側に少なくとも一部を重ねて接続する第2の半円のうち該矩形外の部分と、該第2
の半円に該半円の弦に一辺の少なくとも一部を重ねて接続する第2の矩形と、を含む断面
形状で、前記第2の矩形の前記一辺に対向する他辺側を開口して形成された上段溝と、
を備え、
前記第2の半円は、該半円の弦を前記第1の矩形の前記一辺と平行に向けることを特徴
とする。
The support for the roller mechanism of the present invention is
A support for a roller mechanism that rotatably receives two rollers,
A lower groove formed in a cross-sectional shape including a first semicircle and a first rectangle connecting at least a part of one side to a chord of the semicircle on the first semicircle;
Out of the second semicircle having a diameter larger than that of the first semicircle and connecting at least a part of the first rectangle and the other side opposite to the one side of the rectangle so as to overlap each other. Part and the second
A second rectangle in which at least a part of one side is overlapped and connected to the semicircle of the semicircle, and the other side opposite to the one side of the second rectangle is opened. With the upper groove formed,
Equipped with
The second semicircle is characterized in that the chord of the semicircle is oriented parallel to the one side of the first rectangle.
この特徴によれば、2つのローラの一方(下段ローラ)を上段溝の開口から挿入し第2
の矩形及び第2の半円を介して下段溝に受け、2つのローラの他方(上段ローラ)を上段
溝の開口から挿入して上段溝に受けることで、2つのローラの位置(離間距離)を安定し
て定めることができる。
According to this feature, one of the two rollers (lower roller) is inserted through the opening of the upper groove and the second roller is inserted.
Position of the two rollers (separation distance) by receiving the other of the two rollers (upper roller) from the opening of the upper groove by receiving the other of the two rollers (upper roller) through the rectangle and the second semicircle Can be determined stably.
本発明のローラ機構は、
本発明のローラ機構用の支持体と、
前記第1の半円と等しい直径の軸受けを有する下段ローラと、
前記第2の半円と等しい直径の軸受けを有する上段ローラと、
を備えることを特徴とする。
The roller mechanism of the present invention is
A support for the roller mechanism of the present invention;
A lower roller having a bearing having a diameter equal to that of the first semicircle;
An upper roller having a bearing having a diameter equal to that of the second semicircle;
It is characterized by including.
この特徴によれば、2つのローラの位置(離間距離)の安定したローラ機構を提供する
ことができる。
According to this feature, it is possible to provide a roller mechanism in which the positions (separation distances) of the two rollers are stable.
本発明のローラ機構は、
前記下段ローラ及び上段ローラにそれぞれ接続する2のギアを備え、
該2のギアを介して前記下段ローラ及び前記上段ローラが逆向きに等速度で回転するこ
とを特徴とする。
The roller mechanism of the present invention is
Two gears respectively connected to the lower roller and the upper roller are provided,
The lower roller and the upper roller rotate in opposite directions at a constant speed through the second gear.
この特徴によれば、下段ローラと上段ローラの回転を連動させ、逆向きに等速度で回転
することでワークに上下から同等の移動を与え、ワークを安定して搬送することができる
。
According to this feature, the lower roller and the upper roller are interlocked with each other to rotate at the same speed in the opposite direction, so that the workpiece can be moved equally from above and below, and the workpiece can be stably conveyed.
本発明のローラ機構は、
前記上段溝は、前記断面に直交する方向に高さの異なる第1及び第2段部を有し、
前記上段ローラの軸受けは、長手方向に高さの異なる第1及び第2端部を有することを
特徴とする。
The roller mechanism of the present invention is
The upper groove has first and second step portions having different heights in a direction orthogonal to the cross section,
The bearing of the upper roller has first and second end portions having different heights in the longitudinal direction.
この特徴によれば、上段ローラの軸受けを一向きに上段溝に入れて軸受けの第1及び第
2端部をそれぞれ上段溝の第1及び第2段部上に受け、上段ローラの軸受けを逆向きに上
段溝に入れて軸受けの第1及び第2端部のうちの低いほうを上段溝の第1及び第2段部の
うちの高いほうの上に支持することで、上段溝内で支持される上段ローラの高さを変える
ことができる。
According to this feature, the bearing of the upper roller is inserted into the upper groove in one direction so that the first and second end portions of the bearing are respectively received on the first and second step portions of the upper groove, and the bearing of the upper roller is reversed. In the upper groove by supporting the lower one of the first and second end portions of the bearing on the higher one of the first and second step portions of the upper groove so that the bearing is supported in the upper groove. The height of the upper roller can be changed.
本発明のローラ機構は、
前記上段ローラの軸受けは、前記第2の半円と等しい直径を有する2つの円弧と該2つ
の円弧の端部を接続する2つの直線とを含む外縁形状を有し、外縁形状の中心から前記2
つの円弧の一方側に偏心した軸受孔を有することを特徴とする。
The roller mechanism of the present invention is
The bearing of the upper roller has an outer edge shape including two circular arcs having a diameter equal to that of the second semicircle and two straight lines connecting the ends of the two circular arcs. Two
It is characterized by having an eccentric bearing hole on one side of two arcs.
この特徴によれば、上段ローラの軸受けを一向き又は逆向きに上段溝に入れて軸受けを
受けることで、上段溝内で支持される上段ローラの高さを変えることができる。
According to this feature, the height of the upper roller supported in the upper groove can be changed by inserting the bearing of the upper roller into the upper groove in one direction or in the opposite direction to receive the bearing.
本発明のエッチング装置は、
ワークにエッチング液を噴射するエッチング装置であって、
本発明のローラ機構と、
前記下段ローラの下方又は前記上段ローラの上方からエッチング液を噴射する噴射装置
と、
を備えることを特徴とする。
The etching apparatus of the present invention,
An etching device for injecting an etching liquid onto a work,
A roller mechanism of the present invention;
A spraying device that sprays an etching liquid from below the lower roller or above the upper roller,
It is characterized by including.
この特徴によれば、ワークを安定して搬送するエッチング装置を提供することができる
。
According to this feature, it is possible to provide an etching apparatus that stably conveys a work.
本発明のエッチング装置は、
前記下段ローラと上段ローラの離間距離はワークの厚さに略等しいことを特徴とする。
The etching apparatus of the present invention,
The distance between the lower roller and the upper roller is substantially equal to the thickness of the work.
この特徴によれば、ワークの厚さに合わせた設計で、ワークをさらに安定して搬送する
ことができる。ここで、「略等しい」とは、ワークを下段ローラと上段ローラで狭圧して
搬送できる状態であることを言う。
According to this feature, the work can be more stably transported by the design according to the thickness of the work. Here, “substantially equal” means that the work can be conveyed while being pressed by the lower roller and the upper roller.
本発明のローラ機構用の支持体によれば、下段ローラと上段ローラの離間距離を安定し
て定めることが可能となる。
According to the support for the roller mechanism of the present invention, it is possible to stably determine the separation distance between the lower roller and the upper roller.
本発明のローラ機構によれば、下段ローラと上段ローラの離間距離が安定しており、ワ
ークを安定して搬送することが可能となる。
According to the roller mechanism of the present invention, the distance between the lower roller and the upper roller is stable, and the work can be stably transported.
本発明のエッチング装置によれば、ワークが安定して搬送され、効率的なエッチング処
理が可能となる。
According to the etching apparatus of the present invention, a work is stably transported, and an efficient etching process can be performed.
以下、本発明の実施例について説明する。 Examples of the present invention will be described below.
本実施例は、ローラ機構の基本的な構成を示すものである。 This embodiment shows a basic structure of a roller mechanism.
図1は、ローラ機構用の支持体及びローラ機構の構成を示す側面図であり、ワーク20
の搬送方向が図面左右方向である。ローラ機構10は、対向する2つのローラによりワー
ク20を挟んで搬送する機構であり、支持体11、下段ローラ12、及び上段ローラ13
を備える。ここで、ワーク20として、例えば半導体基板を搬送することができる。
FIG. 1 is a side view showing a configuration of a roller mechanism support and a roller mechanism.
The conveyance direction of is the left-right direction in the drawing. The roller mechanism 10 is a mechanism that conveys the work 20 by sandwiching it between two opposing rollers, and includes a support 11, a lower roller 12, and an upper roller 13.
Equipped with. Here, for example, a semiconductor substrate can be transported as the work 20.
(支持体の構成)
支持体11は、下段ローラ12及び上段ローラ13を回転可能に受けるローラ機構用の
支持体である。下段ローラ12及び上段ローラ13のそれぞれの両端を支持するよう、一
対の支持体11が互いに対向して床面14上に配置される。支持体11は、ワーク20の
搬送方向を長手とする矩形状の板状部材であり、上辺に向かって開口する溝11aが長手
方向に複数並んで形成されている。なお、支持体11は、一軸方向に並設された1又は複
数の溝11aが形成されていれば、板状の一体物に限らず任意の形状及び構造を採用する
ことができる。
(Structure of support)
The support 11 is a support for a roller mechanism that rotatably receives the lower roller 12 and the upper roller 13. A pair of supports 11 are arranged on the floor surface 14 so as to face each other so as to support both ends of each of the lower roller 12 and the upper roller 13. The support body 11 is a rectangular plate-like member having a longitudinal direction in the transport direction of the work 20, and a plurality of grooves 11a opening toward the upper side are formed side by side in the longitudinal direction. In addition, the support body 11 is not limited to a plate-shaped integral body and may have any shape and structure as long as one or a plurality of grooves 11a arranged in parallel in the uniaxial direction are formed.
図2は、溝の形状を示す図である。溝11aは、下段溝11a1及び上段溝11a2を
含む。
FIG. 2 is a diagram showing the shape of the groove. The groove 11a includes a lower groove 11a 1 and an upper groove 11a 2 .
下段溝11a1は、第1の半円11a11及び第1の半円11a11にその半円の弦に
底辺を重ねて接続する第1の矩形11a12を含む形状に形成されている。第1の矩形1
1a12の底辺の全体が第1の半円11a11の弦の全体に重なっている。なお、第1の
矩形11a12に代えて上辺に対して底辺が短い台形を含むこととしてもよい。第1の半
円11a11の周縁部11cが、下段ローラ12を支持する。
The lower groove 11a 1 is formed in a shape including the first semicircle 11a 11 and the first semicircle 11a 11 that includes the first rectangle 11a 12 that connects the chords of the semicircle with their bottom sides overlapped. First rectangle 1
The entire base of 1a 12 overlaps the entire chord of the first semicircle 11a 11 . Note that the first rectangle 11a 12 may be replaced with a trapezoid whose base is shorter than its top. A peripheral portion 11c of the first semicircle 11a 11 supports the lower roller 12.
上段溝11a2は、第1の半円11a11よりも大きな直径を有し、第1の矩形11a
12とその上辺側に一部を重ねて接続する第2の半円11a21(第1の矩形11a12
の内部を除く:図において第2の半円11a21が第1の矩形11a12によって切り取
られている。)及び第2の半円11a21にその半円の弦に底辺を重ねて接続する第2の
矩形11a22を含む形状に形成され、第2の矩形11a22の上辺側を支持体11の上
辺に開口している。第2の矩形11a22の底辺の全体が第2の半円11a21の弦の全
体に重なっている。なお、第2の矩形11a22に代えて上辺に対して底辺が短い台形を
含むこととしてもよい。第2の半円11a21の周縁部11bが、上段ローラ13を支持
する。
The upper groove 11a 2 has a diameter larger than that of the first semi-circle 11a 11 , and the first rectangle 11a
12 and a second semicircle 11a 21 (first rectangle 11a 12) that partially overlaps and is connected to the upper side thereof.
Except inside: the second semicircle 11a 21 is cut off by the first rectangle 11a 12 in the figure. ) And the second semicircle 11a 21 and the second rectangle 11a 22 which connects the chords of the semicircle with the base overlapped, the upper side of the second rectangle 11a 22 being the upper side of the support 11. It is open to. The entire base of the second rectangle 11a 22 overlaps the entire chord of the second semicircle 11a 21 . The second rectangle 11a 22 may be replaced with a trapezoid whose base is shorter than its top. The peripheral portion 11b of the second semicircle 11a 21 supports the upper roller 13.
第2の半円11a21は、その半円の弦を第1の矩形11a12の上辺と平行に向け、
第2の矩形11a22は、側辺を第1の矩形11a12の側辺と平行に向けて、上段溝1
1a2を形成している。それにより、下段及び上段溝11a1,11a2が同一方向を向
き、下段ローラ12及び上段ローラ13を溝11aの開口を介してそれぞれの溝に容易に
入れることができる。なお、第2の半円11a21は、その半円の弦を第1の矩形11a
12の上辺に対して傾斜して支持体11の上辺側に向け、第2の矩形11a22は、側辺
を第1の矩形11a12の側辺と交差する方向に向けて、上段溝11a2を形成してもよ
い。つまり、上段溝11a2を下段溝11a1に対して傾けてもよい。また、下段溝11
a1を、上段溝11a2と同じ角度で又は異なる角度で傾けてもよい。これによっても、
下段ローラ12及び上段ローラ13を溝11aの開口を介してそれぞれの溝11aに容易
に入れることができる。
The second semicircle 11a 21 has the chord of the semicircle oriented parallel to the upper side of the first rectangle 11a 12 ,
The second rectangle 11a 22 has its side edges oriented parallel to the side edges of the first rectangle 11a 12 and the upper groove 1
1a 2 is formed. As a result, the lower and upper grooves 11a 1 and 11a 2 face the same direction, and the lower roller 12 and the upper roller 13 can be easily inserted into the respective grooves via the openings of the groove 11a. In addition, the second semicircle 11a 21 has the chord of the semicircle defined by the first rectangle 11a.
The second rectangle 11a 22 is inclined with respect to the upper side of the support 12 toward the upper side of the support body 11, and the second rectangle 11a 22 has the upper groove 11a 2 with its side oriented in the direction intersecting the side of the first rectangle 11a 12. May be formed. That is, the upper groove 11a 2 may be inclined with respect to the lower groove 11a 1 . Also, the lower groove 11
The a 1 may be tilted at the same angle as the upper groove 11 a 2 or at a different angle. This also
The lower roller 12 and the upper roller 13 can be easily put into the respective grooves 11a through the openings of the grooves 11a.
上述の構成の支持体11により、下段ローラ12を上段溝11a2(すなわち、溝11
a)の開口から挿入し、第2の矩形11a22及び第2の半円11a21を介して下段溝
11a1に受け、上段ローラ13を上段溝11a2(すなわち、溝11a)の開口から挿
入して上段溝11a2に受けることで、下段ローラ12及び上段ローラ13の軸受け位置
を安定して定めることができる。
With the support 11 having the above-described structure, the lower roller 12 is moved to the upper groove 11a 2 (that is, the groove 11a).
a), received from the lower groove 11a 1 via the second rectangle 11a 22 and the second semicircle 11a 21 , and the upper roller 13 inserted from the upper groove 11a 2 (that is, the groove 11a). by receiving the upper groove 11a 2 and it can define a bearing position of the lower roller 12 and upper roller 13 stably.
(ローラ機構の構成)
図3は、ローラ機構用の支持体及びローラ機構の構成を示す正面図である。下段ローラ
12は、複数の溝11aのそれぞれに挿入されて、ワーク20をその下側から支持しつつ
回転して搬送する部材であり、ローラ軸12a、軸受け12b及び搬送用円盤12cを有
する。
(Structure of roller mechanism)
FIG. 3 is a front view showing the configuration of the roller mechanism support and the roller mechanism. The lower roller 12 is a member that is inserted into each of the plurality of grooves 11a and that rotates and conveys the work 20 while supporting the work 20 from the lower side thereof, and has a roller shaft 12a, a bearing 12b, and a conveyance disk 12c.
ローラ軸12aは、下段ローラ12の回転軸となる軸体である。 The roller shaft 12a is a shaft body that serves as a rotation shaft of the lower roller 12.
軸受け12bは、第1の半円11a11と等しい直径を有するリング状の部材であり、
ローラ軸12aの両端に固定されて下段溝11a1の中で摺動回転する。軸受け12bが
第1の半円11a11に位置決めされ、ローラ軸12aの中心が第1の半円11a11の
中心に位置決めされる。
The bearing 12b is a ring-shaped member having a diameter equal to that of the first semicircle 11a 11 .
It is fixed to both ends of the roller shaft 12a and slides and rotates in the lower groove 11a 1 . The bearing 12b is positioned on the first semicircle 11a 11, and the center of the roller shaft 12a is positioned on the center of the first semicircle 11a 11 .
搬送用円盤12cは、ローラ軸12aと中心を合わせて設けられた円盤状の部材である
。ワーク20を下側から支持する。なお、複数の搬送用円盤12cは等経であり、ワーク
20は平面状に支持される。
The transport disk 12c is a disk-shaped member provided with its center aligned with the roller shaft 12a. The work 20 is supported from below. It should be noted that the plurality of transfer disks 12c are of equal length and the work 20 is supported in a planar shape.
上段ローラ13は、複数の溝11aのそれぞれに挿入されて、ワーク20をその上側か
ら支持しつつ回転して搬送する部材であり、ローラ軸13a、軸受け13b及び搬送用円
盤13cを有する。
The upper roller 13 is a member that is inserted into each of the plurality of grooves 11a and that rotates and conveys the work 20 while supporting it from the upper side thereof, and has a roller shaft 13a, a bearing 13b, and a disc 13c for conveyance.
ローラ軸13aは、上段ローラ13の回転軸となる軸体である。 The roller shaft 13a is a shaft body that serves as a rotation shaft of the upper roller 13.
軸受け13bは、第2の半円11a21と等しい直径を有するリング状の部材であり、
ローラ軸13aの両端に固定されて上段溝11a2の中で摺動回転する。軸受け13bが
第2の半円11a21に位置決めされ、ローラ軸13aの中心が第2の半円11a21の
中心に位置決めされる。
The bearing 13b is a ring-shaped member having a diameter equal to that of the second semicircle 11a 21 .
It is fixed to both ends of the roller shaft 13a and slides and rotates in the upper groove 11a 2 . The bearing 13b is positioned in the second semicircle 11a 21, and the center of the roller shaft 13a is positioned in the center of the second semicircle 11a 21 .
搬送用円盤13cは、ローラ軸13aと中心を合わせて設けられた円盤状の部材である
。ワーク20を上側から支持する。なお、複数の搬送用円盤13cは等経であり、ワーク
20は平面状に支持される。
The transport disk 13c is a disk-shaped member provided so as to be centered on the roller shaft 13a. The work 20 is supported from above. The plurality of transfer disks 13c are of equal length, and the work 20 is supported in a flat shape.
上述の下段ローラ12及び上段ローラ13の構成により、下段ローラ12及び上段ロー
ラ13を溝11aの開口から挿入して、下段ローラ12を下段溝11a1に受け、上段ロ
ーラ13を上段溝11a2に受けることで、下段ローラ12及び上段ローラ13のそれぞ
れの位置を独立に定めることができる。それにより、上段ローラ13の位置を調整するた
めの追加の位置合わせ部材(コロ等)を要さず、ローラ機構10を簡便に構成することが
可能となる。
With the configuration of the lower roller 12 and the upper roller 13 described above, the lower roller 12 and the upper roller 13 are inserted from the opening of the groove 11a to receive the lower roller 12 in the lower groove 11a 1 and the upper roller 13 in the upper groove 11a 2 . By receiving, the respective positions of the lower roller 12 and the upper roller 13 can be independently determined. Thereby, it is possible to simply configure the roller mechanism 10 without requiring an additional alignment member (roller or the like) for adjusting the position of the upper roller 13.
なお、ローラ機構10は、下段ローラ12及び上段ローラ13に接続するギア(不図示
)をさらに備えてもよい。下段ローラ12と上段ローラ13の回転を連動することができ
、それによりワークを安定して搬送することが可能となる。
The roller mechanism 10 may further include a gear (not shown) connected to the lower roller 12 and the upper roller 13. The rotations of the lower roller 12 and the upper roller 13 can be interlocked with each other, so that the work can be stably conveyed.
以上詳細に説明したように、支持体11は、第1の半円11a11、第1の半円11a
11にその半円の弦に一辺の少なくとも一部を重ねて接続する第1の矩形11a12を含
む形状に形成された下段溝11a1、第1の半円11a11よりも大きな直径を有し、第
1の矩形11a12とその矩形の一辺に対向する他辺側に少なくとも一部を重ねて接続す
る第2の半円11a21、第2の半円11a21にその半円の弦に一辺の少なくとも一部
を重ねて接続する第2の矩形11a22、を含む形状で、第2の矩形11a22の一辺に
対向する他辺側を開口して形成された上段溝11a2と、を備える。下段ローラ12を上
段溝11a2の開口から挿入し、第2の矩形11a22及び第2の半円11a21を介し
て下段溝11a1に受け、上段ローラ13を上段溝11a2の開口から挿入して上段溝1
1a2に受けることで、2つのローラの軸受け位置を独立に定めることができる。
As described in detail above, the support 11 includes the first semicircle 11a 11 and the first semicircle 11a.
11 has a lower groove 11a 1 formed in a shape including a first rectangle 11a 12 connecting at least a part of one side to the chord of the semicircle, and has a diameter larger than that of the first semicircle 11a 11. , A first semi-circle 11a 12 and a second semi-circle 11a 21 , which at least partly overlaps and is connected to the other side opposite to one side of the first rectangle 11a 12, and a second semi-circle 11a 21 which has a chord on the semi-circle. comprising of a shape including a second rectangular 11a 22, for connecting overlapping at least a portion, and the upper groove 11a 2 formed by opening the other side opposite to one side of the second rectangular 11a 22, the .. Insert the lower roller 12 from the opening of the upper groove 11a 2, received in the lower groove 11a 1 through the second rectangular 11a 22 and second semicircular 11a 21, inserting the upper roller 13 from the opening of the upper groove 11a 2 Then upper groove 1
By receiving the 1a 2, it is possible to determine the bearing position of the two rollers independently.
また、ローラ機構10は、支持体11、第1の半円11a11と等しい直径を有する下
段ローラ12、及び第2の半円11a21と等しい直径を有する上段ローラ13を備える
。下段ローラ12及び上段ローラ13を開口から挿入して、下段ローラ12を下段溝11
a1に受け、上段ローラ13を上段溝11a2に受けることで、下段ローラ12及び上段
ローラ13のそれぞれの軸受け位置を独立に定めることができる。
The roller mechanism 10 also includes a support 11, a lower roller 12 having a diameter equal to that of the first semicircle 11a 11 and an upper roller 13 having a diameter equal to that of the second semicircle 11a 21 . The lower roller 12 and the upper roller 13 are inserted from the openings to move the lower roller 12 into the lower groove 11
The bearing position of each of the lower roller 12 and the upper roller 13 can be independently determined by receiving the upper roller 13 in the a 1 and the upper roller 13 in the upper groove 11 a 2 .
本実施例は、ローラ機構を使用したエッチング装置を示すものである。ローラ機構は実
施例1と同様であり、詳細な説明を省略する。
This embodiment shows an etching apparatus using a roller mechanism. The roller mechanism is similar to that of the first embodiment, and detailed description thereof is omitted.
図4は、エッチング装置の構成を示す正面図である。エッチング装置1は、ワーク20
にエッチング液を噴射する装置であり、ローラ機構10、ギアモータ(不図示)、及び噴
射装置14を備える。
FIG. 4 is a front view showing the configuration of the etching apparatus. The etching apparatus 1 includes a work 20.
It is a device for injecting an etching liquid onto the substrate, and includes a roller mechanism 10, a gear motor (not shown), and an ejection device 14.
ローラ機構10は、先述のとおりの構成を有し、下段ローラ12及び上段ローラ13の
離間距離(すなわち、ローラ軸12a,13aの間隙のサイズ)はワーク20の厚さに略
等しくなるように、下段ローラ12及び上段ローラ13をそれぞれ受ける下段及び上段溝
11a1,11a2の高さ(すなわち、軸受け位置)が定められている。それにより、ワ
ーク20を下段ローラ12及び上段ローラ13により適当な力で挟圧して、それらの間を
介して安定に搬送することができる。
The roller mechanism 10 has the structure as described above, and the distance between the lower roller 12 and the upper roller 13 (that is, the size of the gap between the roller shafts 12a and 13a) is substantially equal to the thickness of the work 20. The heights (that is, bearing positions) of the lower and upper grooves 11a 1 and 11a 2 that respectively receive the lower roller 12 and the upper roller 13 are defined. As a result, the work 20 can be squeezed by the lower roller 12 and the upper roller 13 with an appropriate force, and can be stably conveyed through them.
ギアモータは、ワーク20を搬送するための動力を発生するモータであり、チェーン、
ギア等を介して下段ローラ12及び上段ローラ13に動力を伝達する。例えば、ギアモー
タの駆動軸をヘリカルギアを介して下段ローラ12に接続し、下段ローラ12をスパーギ
アを介して上段ローラ13に接続する。下段ローラ12及び上段ローラ13の回転速度、
すなわちワーク20の搬送速度は、ギア比及びインバータ制御により調整される。
The gear motor is a motor that generates power for transporting the work 20, and includes a chain,
Power is transmitted to the lower roller 12 and the upper roller 13 via gears and the like. For example, the drive shaft of the gear motor is connected to the lower roller 12 via the helical gear, and the lower roller 12 is connected to the upper roller 13 via the spur gear. The rotation speeds of the lower roller 12 and the upper roller 13,
That is, the conveyance speed of the work 20 is adjusted by the gear ratio and the inverter control.
噴射装置14は、一対の軸受け13の間で床面14上に設置されている。噴射装置14
は、下段ローラ12の下方から下段ローラ12の間隙を介してエッチング液を噴射して、
ローラ機構10により搬送されるワーク20の下面にエッチング液を噴射する。
The injection device 14 is installed on the floor surface 14 between the pair of bearings 13. Injection device 14
Is sprayed with an etching liquid from below the lower roller 12 through the gap between the lower rollers 12,
The etching liquid is sprayed onto the lower surface of the work 20 conveyed by the roller mechanism 10.
なお、噴射装置14は、ローラ機構10の上方に設けてもよい。噴射装置14は、上段
ローラ13の上方から上段ローラ13の間隙を介してエッチング液を噴射して、ローラ機
構10により搬送されるワーク20の上面にエッチング液を噴射する。
The ejection device 14 may be provided above the roller mechanism 10. The spraying device 14 sprays the etching liquid from above the upper roller 13 through the gap between the upper rollers 13 to spray the etching liquid onto the upper surface of the work 20 conveyed by the roller mechanism 10.
なお、噴射装置14は、床面14上及びローラ機構10の上方にそれぞれ設置してもよ
い。2つの噴射装置14により、ローラ機構10により下段ローラ12及び上段ローラ1
3との間を介してワーク20を搬送しつつ、噴射装置14によりワーク20の下面及び上
面にエッチング液を噴射することができる。
The ejecting device 14 may be installed on the floor surface 14 and above the roller mechanism 10, respectively. The lower ejecting roller 12 and the upper ejecting roller 1 are driven by the roller mechanism 10 by the two ejecting devices 14.
It is possible to spray the etching liquid onto the lower surface and the upper surface of the work 20 by the spraying device 14 while transporting the work 20 through the space between the work 20 and the work 3.
以上詳細に説明したように、エッチング装置1は、ローラ機構10及び下段ローラ12
の下方又は上段ローラ13の上方からエッチング液を噴射する噴射装置14を備える。ロ
ーラ機構10により下段ローラ12及び上段ローラ13との間を介してワーク20を搬送
しつつ、噴射装置14によりワーク20の下面又は上面にエッチング液を噴射することが
できる。
As described in detail above, the etching apparatus 1 includes the roller mechanism 10 and the lower roller 12.
An injection device 14 for injecting the etching liquid from below or above the upper roller 13 is provided. While the roller mechanism 10 conveys the work 20 between the lower roller 12 and the upper roller 13, the spraying device 14 can spray the etching liquid onto the lower surface or the upper surface of the work 20.
本実施例は、上段ローラと下段ローラの離間距離を可変とするローラ機構を示すもので
ある。本実施例において相違を示した点を除き実施例1と同様であり、詳細な説明を省略
する。また、本実施例のローラ機構は、実施例2に示したエッチング装置にも適用可能で
ある。
The present embodiment shows a roller mechanism in which the separation distance between the upper roller and the lower roller is variable. The present embodiment is the same as the first embodiment except that the difference is shown, and the detailed description is omitted. Further, the roller mechanism of this embodiment can be applied to the etching apparatus shown in the second embodiment.
図5は、ローラ機構用の支持体の構成を示す図である。ここで、図5(A)及び(B)
は、それぞれ、正面図及び図5(A)における中心線についての断面を示す図である。支
持体11は、第2の半円11a21の周縁部11bが、低い第1段部11b1及び高い第
2段部11b2を有する。第1及び第2段部11b1,11b2は、それぞれが正面視に
おいて第2の半円11a21に沿った底面を有する。
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a support for the roller mechanism. Here, FIGS. 5A and 5B
[Fig. 6] is a view showing a cross-section about a center line in the front view and Fig. 5(A), respectively. In the support body 11, the peripheral portion 11b of the second semicircle 11a 21 has a low first step 11b 1 and a high second step 11b 2 . Each of the first and second step portions 11b 1 and 11b 2 has a bottom surface along the second semicircle 11a 21 in a front view.
図6は、上段ローラの軸受けの構成を示す図である。ここで、図6(A)及び(B)は
、それぞれ、正面図及び図6(A)における中心線についての断面を示す図である。軸受
け13bは、長手方向(すなわち、ローラ軸13aの長手方向)に、低い第1端部13b
1及び高い第2端部13b2を有する。第1及び第2端部13b1,13b2は、それぞ
れが正面視において第2の半円11a21に等しい底面を有する。ここで、第1及び第2
端部13b1,13b2の高低差は、軸受け13bの第1及び第2段部11b1,11b
2の高低差に等しいものとする。
FIG. 6 is a diagram showing the structure of the bearing of the upper roller. Here, FIGS. 6A and 6B are views showing a front view and a cross section about the center line in FIG. 6A, respectively. The bearing 13b has a lower first end 13b in the longitudinal direction (that is, the longitudinal direction of the roller shaft 13a).
1 and a high second end 13b 2 . Each of the first and second end portions 13b 1 and 13b 2 has a bottom surface that is equal to the second semicircle 11a 21 in a front view. Where the first and second
The height difference between the end portions 13b 1 and 13b 2 is caused by the first and second step portions 11b 1 and 11b of the bearing 13b.
It is equal to the height difference of 2 .
図7は、ローラ機構の構成を示す図である。なお、簡単のため、下段ローラ12等は省
略する。ローラ機構10は、上述の支持体11及び上段ローラ13を備える。図7(A)
に示すように、上段ローラ13の軸受け13bを一向きに、すなわち第1及び第2端部1
3b1,13b2をそれぞれ支持体11の第1及び第2段部11b1,11b2に向けて
上段溝11a2に入れて、軸受け13bの第1及び第2端部13b1,13b2をそれぞ
れ上段溝11a2の第1及び第2段部11b1,11b2上に受けることができる。他方
、図7(B)に示すように、上段ローラ13の軸受け13bを逆向きに、すなわち第1及
び第2端部13b1,13b2をそれぞれ支持体11の第2及び第1段部11b2,11
b1に向けて上段溝11a2に入れて、軸受け13bの第1及び第2端部13b1,13
b2のうちの低いほう(この例では第1端部13b1)を上段溝11a2の第1及び第2
段部11b1,11b2のうちの高いほう(この例では第2段部11b2)の上に支持す
ることもできる。図7(A)に示す状態と図7(B)に示す状態とで、ローラ軸13aの
高さがDだけ相違する。Dの値は、第1段部11b1と第2段部11b2との高さの差に
等しい。これによって、上段ローラ13と下段ローラ12との離間距離もDだけ相違し、
ワーク20の厚さの相違等に対応することができる。
FIG. 7 is a diagram showing the configuration of the roller mechanism. For simplicity, the lower roller 12 and the like are omitted. The roller mechanism 10 includes the support 11 and the upper roller 13 described above. FIG. 7(A)
, The bearing 13b of the upper roller 13 is oriented in one direction, that is, the first and second end portions 1
3b 1 and 13b 2 are respectively inserted into the upper groove 11a 2 toward the first and second stepped portions 11b 1 and 11b 2 of the support body 11 to attach the first and second end portions 13b 1 and 13b 2 of the bearing 13b. each can be received on the upper groove portion first and second stage portions 11b of 11a 2 1, 11b 2. On the other hand, as shown in FIG. 7(B), the bearing 13b of the upper roller 13 is reversed, that is, the first and second end portions 13b 1 and 13b 2 are respectively attached to the second and first step portions 11b of the support body 11. 2 , 11
Put the upper groove 11a 2 toward the b 1, first and second end portions 13b of the bearing 13b 1, 13
low more ones of b 2 first and second (first end portion 13b 1 in this example) the upper groove 11a 2
It can also be supported on the higher one of the steps 11b 1 and 11b 2 (the second step 11b 2 in this example). The height of the roller shaft 13a differs by D between the state shown in FIG. 7A and the state shown in FIG. 7B. The value of D is equal to the difference in height between the first step 11b 1 and the second step 11b 2 . As a result, the separation distance between the upper roller 13 and the lower roller 12 is also different by D,
It is possible to cope with a difference in the thickness of the work 20.
Dの値は、0.5mm程度とすることが好ましい。 The value of D is preferably about 0.5 mm.
本実施例は、上段ローラと下段ローラの離間距離を可変とするローラ機構の別途の構成
を示すものである。
The present embodiment shows a separate structure of a roller mechanism that makes the distance between the upper roller and the lower roller variable.
図8は、上段ローラの軸受けの構成を示す図である。軸受け13bは、第2の半円11
a21と等しい直径を有する2つの円弧13b3,13b4とこれら2つの円弧の端部を
接続する2つの直線とを含む角丸長方形状の外縁形状を有し、中心から下方に偏心したロ
ーラ軸13aを通す軸受孔を有する。
FIG. 8 is a diagram showing the structure of the bearing of the upper roller. The bearing 13b is the second semicircle 11
A roller having a rounded rectangular outer edge shape including two circular arcs 13b 3 and 13b 4 having the same diameter as a 21 and two straight lines connecting the ends of these two circular arcs, and eccentric downward from the center. It has a bearing hole through which the shaft 13a passes.
図9は、ローラ機構の構成を示す図である。なお、簡単のため、下段ローラ12等は省
略する。ローラ機構10は、図1に示した支持体11及び上述の上段ローラ13を備える
。図9(A)に示すように、上段ローラ13の軸受け13bを一向き、すなわちローラ軸
13aを下方に偏心して上段溝11a2に入れて軸受け13bを受けることができる。他
方、図9(B)に示すように、上段ローラ13の軸受け13bを逆向きに、すなわちロー
ラ軸13aを上方に偏心して上段溝11a2に入れて軸受け13bを受けることもできる
。図9(A)に示す状態と図9(B)に示す状態とで、ローラ軸13aの高さがDだけ相
違する。Dの値は、軸受け13bの軸受孔の偏心距離(図8にdで示す。)の2倍に等し
い。これによって、上段ローラ13と下段ローラ12との離間距離もDだけ相違し、ワー
ク20の厚さの相違等に対応することができる。
FIG. 9 is a diagram showing the configuration of the roller mechanism. For simplicity, the lower roller 12 and the like are omitted. The roller mechanism 10 includes the support 11 shown in FIG. 1 and the upper roller 13 described above. As shown in FIG. 9 (A), it can be one facing the bearing 13b of the upper roller 13, that is placed in the upper groove 11a 2 eccentric roller shaft 13a downward receiving a bearing 13b. On the other hand, as shown in FIG. 9 (B), a bearing 13b of the upper roller 13 in the opposite direction, i.e. can receive bearing 13b placed in the upper groove 11a 2 eccentric roller shaft 13a upwardly. In the state shown in FIG. 9(A) and the state shown in FIG. 9(B), the height of the roller shaft 13a is different by D. The value of D is equal to twice the eccentric distance (shown by d in FIG. 8) of the bearing hole of the bearing 13b. Thereby, the separation distance between the upper roller 13 and the lower roller 12 is also different by D, and it is possible to cope with the difference in the thickness of the work 20 and the like.
2つのローラの軸受け位置を独立に定めることができるローラ機構用の支持体、該支持
体を用いるローラ機構、及び該ローラ機構を用いるエッチング装置である。ワークを安定
して搬送することができ、多くのローラ機構生産業者、ローラ機構使用業者、特に半導体
のエッチング処理実施者、による利用が考えられる。
It is a support for a roller mechanism that can independently determine the bearing positions of two rollers, a roller mechanism using the support, and an etching apparatus using the roller mechanism. The work can be stably conveyed, and it can be considered to be used by many roller mechanism manufacturers, roller mechanism users, especially semiconductor etching processing operators.
10 ローラ機構
11 支持体
11a 溝
11a1 下段溝
11a11 第1の半円
11a12 第1の矩形
11a2 上段溝
11a21 第2の半円
11a22 第2の矩形
12 下段ローラ
12a ローラ軸
12b 軸受け
13 上段ローラ
13a ローラ軸
13b 軸受け
20 ワーク
30 エッチング装置
31 噴射装置
10 Roller Mechanism 11 Support 11a Groove 11a 1 Lower Groove 11a 11 First Half Circle 11a 12 First Rectangle 11a 2 Upper Groove 11a 21 Second Half Circle 11a 22 Second Rectangle 12 Lower Roller 12a Roller Shaft 12b Bearing 13 Upper roller 13a Roller shaft 13b Bearing 20 Work 30 Etching device 31 Injection device
Claims (5)
第1の半円と、該第1の半円に該半円の弦に一辺を重ねて接続する第1の矩形と、を含
む断面形状に形成された下段溝と、
前記第1の半円よりも大きな直径を有し、前記第1の矩形と該矩形の前記一辺に対向す
る他辺側に一部を重ねて接続する第2の半円のうち該矩形外の部分と、該第2の半円に該
半円の弦に一辺を重ねて接続する第2の矩形と、を含む断面形状で、前記第2の矩形の前
記一辺に対向する他辺側を開口して形成された上段溝と、
を備え、
前記第2の半円は、該半円の弦を前記第1の矩形の前記一辺と平行に向けることを特徴
とする、ローラ機構用の支持体。 A support for a roller mechanism that rotatably receives two rollers,
A lower groove formed in a cross-sectional shape including a first semicircle and a first rectangle connecting one side of the first semicircle to the chord of the semicircle so as to overlap,
Of the second semicircle, which has a diameter larger than that of the first semicircle and is partially overlapped and connected to the first rectangle and the other side opposite to the one side of the rectangle, outside the rectangle. A cross-sectional shape including a portion and a second rectangle that connects the second semicircle to the chord of the semicircle by overlapping one side, and opens the other side opposite to the one side of the second rectangle. And the upper groove formed by
Equipped with
A support for a roller mechanism, wherein the second semicircle has a chord of the semicircle oriented parallel to the one side of the first rectangle.
前記第1の半円と等しい直径の軸受けを有する下段ローラと、
前記第2の半円と等しい直径の軸受けを有する上段ローラと、
を備えることを特徴とする、ローラ機構。 A support for the roller mechanism according to claim 1;
A lower roller having a bearing having a diameter equal to that of the first semicircle;
An upper roller having a bearing having a diameter equal to that of the second semicircle;
A roller mechanism comprising:
該2のギアを介して前記下段ローラ及び前記上段ローラが逆向きに等速度で回転するこ
とを特徴とする、請求項2に記載のローラ機構。 Two gears respectively connected to the lower roller and the upper roller are provided,
The roller mechanism according to claim 2, wherein the lower roller and the upper roller rotate in opposite directions at a constant speed via the second gear.
請求項2又は3に記載のローラ機構と、
前記下段ローラの下方又は前記上段ローラの上方からエッチング液を噴射する噴射装置
と、
を備えることを特徴とする、エッチング装置。 An etching device for injecting an etching liquid onto a work,
A roller mechanism according to claim 2 or 3,
A spraying device that sprays an etching liquid from below the lower roller or above the upper roller,
An etching apparatus comprising:
項4に記載のエッチング装置。 The etching apparatus according to claim 4, wherein the separation distance between the lower and upper rollers is substantially equal to the thickness of the work.
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---|---|---|---|
JP2020037502A JP2020109854A (en) | 2020-03-05 | 2020-03-05 | Support for roller mechanism, roller mechanism, and etching apparatus |
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