JP2020106606A - Electromagnetic wave adjusting dispersion element and electromagnetic wave adjusting element - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電磁波調整用分散体及び電磁波調整素子に関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave adjusting dispersion and an electromagnetic wave adjusting element.
省エネルギー、プライバシー保護、防眩等の観点から、可視光、近赤外線等の電磁波の透過率又は散乱強度を電気的に制御可能な電磁波調整素子への関心が高まっている。これまで電磁波調整素子としては、エレクトロクロミック、液晶、粒子分散液等を用いたタイプのものがそれぞれ検討及び実用化されている。 From the viewpoints of energy saving, privacy protection, antiglare, and the like, there is an increasing interest in electromagnetic wave adjustment elements capable of electrically controlling the transmittance or scattering intensity of electromagnetic waves such as visible light and near infrared rays. Heretofore, electromagnetic wave adjusting elements of the type using electrochromic, liquid crystal, particle dispersion liquid, etc. have been studied and put into practical use.
上記の中でも粒子分散液を用いたタイプは、電圧の印加により分散液中の粒子の状態を、ランダムに分散した状態と、電場に沿って配向した状態との間で変化させることによって電磁波の透過率を制御するものである。例えば、ヨウ素を含む針状粒子を含む分散液に電圧を印加して粒子の配向の状態を変化させることで、可視光の透過状態を制御する方法が特許文献１に記載されている。 Among the above, the type using the particle dispersion liquid is the transmission of electromagnetic waves by changing the state of particles in the dispersion liquid by applying a voltage between a randomly dispersed state and a state oriented along an electric field. It controls the rate. For example, Patent Document 1 describes a method of controlling the transmission state of visible light by applying a voltage to a dispersion liquid containing needle-shaped particles containing iodine to change the state of particle orientation.
特許文献１に記載の方法では、遮光状態での電磁波調整素子は青色を呈するが、電磁波調整の手段としてヨウ素を含む粒子を用いているため、青色以外の色調に変更することは困難である。このため、電磁波調整素子の用途の多様化に対応するにあたっては、遮光状態での色調を制御しうる技術の開発が有用である。また、可視光に限らず所望の波長の電磁波の吸収を制御しうる技術の開発が有用である。 In the method described in Patent Document 1, the electromagnetic wave adjusting element in the light-shielded state exhibits a blue color, but since particles containing iodine are used as a means for adjusting the electromagnetic wave, it is difficult to change the color tones other than blue. Therefore, in order to cope with diversified uses of the electromagnetic wave adjustment element, it is useful to develop a technique capable of controlling the color tone in the light-shielded state. Further, it is useful to develop a technique capable of controlling absorption of electromagnetic waves having a desired wavelength, not limited to visible light.
本発明は上記事情に鑑み、電磁波の透過状態を制御可能な電磁波調整用分散体及び電磁波調整素子を提供することを課題とする。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide an electromagnetic wave adjusting dispersion and an electromagnetic wave adjusting element capable of controlling the transmission state of electromagnetic waves.
上記課題を解決するための手段には、以下の実施態様が含まれる。
＜１＞第１の金属を含むコアと、前記コアを被覆し第２の金属を含むシェルとを備え、長軸の長さが１０ｎｍ〜４００ｎｍであり、アスペクト比が２．０以上である金属粒子と、分散媒とを含む、電磁波調整用分散体。
＜２＞前記第１の金属は金（Ａｕ）である、＜１＞に記載の電磁波調整用分散体。
＜３＞前記第２の金属はパラジウム（Ｐｄ）である、＜１＞又は＜２＞に記載の電磁波調整用分散体。
＜４＞短軸の長さが５０ｎｍ以下である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の電磁波調整用分散体。
＜５＞前記金属粒子における前記コアと前記シェルとの質量比（コア：シェル）が、１：０．５〜１：３０である、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の電磁波調整用分散体。
＜６＞さらに分散剤を含む、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の電磁波調整用分散体。
＜７＞前記金属粒子と前記分散剤の質量比（金属粒子：分散剤）が、１：１〜１：３００である、＜６＞に記載の電磁波調整用分散体。
＜８＞さらにマトリックス樹脂を含み、前記金属粒子を含む前記分散媒が液滴状に前記マトリックス樹脂中に存在している、＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の電磁波調整用分散体。
＜９＞一対の導電性基材と、前記一対の導電性基材の間に配置される＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の電磁波調整用分散体と、を有する電磁波調整素子。
＜１０＞前記導電性基材と前記電磁波調整用分散体との間に絶縁層を有する、＜９＞に記載の電磁波調整素子。
Means for solving the above problems include the following embodiments.
<1> A metal having a core containing a first metal and a shell covering the core and containing a second metal, having a major axis length of 10 nm to 400 nm and an aspect ratio of 2.0 or more. An electromagnetic wave adjustment dispersion containing particles and a dispersion medium.
<2> The electromagnetic wave adjusting dispersion according to <1>, wherein the first metal is gold (Au).
<3> The electromagnetic wave adjustment dispersion according to <1> or <2>, wherein the second metal is palladium (Pd).
<4> The electromagnetic wave adjustment dispersion according to any one of <1> to <3>, wherein the minor axis length is 50 nm or less.
<5> The mass ratio of the core and the shell in the metal particles (core: shell) is 1:0.5 to 1:30, according to any one of <1> to <4>. Dispersion for adjusting electromagnetic waves.
<6> The electromagnetic wave adjusting dispersion according to any one of <1> to <5>, further including a dispersant.
<7> The electromagnetic wave adjusting dispersion according to <6>, wherein a mass ratio of the metal particles and the dispersant (metal particles:dispersant) is 1:1 to 1:300.
<8> For electromagnetic wave adjustment according to any one of <1> to <7>, further containing a matrix resin, and the dispersion medium containing the metal particles being present in the matrix resin in a droplet form. Dispersion.
<9> Electromagnetic wave adjustment comprising a pair of conductive base materials and the electromagnetic wave adjustment dispersion described in any one of <1> to <8> arranged between the pair of conductive base materials. element.
<10> The electromagnetic wave adjusting element according to <9>, which has an insulating layer between the conductive base material and the electromagnetic wave adjusting dispersion.
本発明によれば、電磁波の透過状態を制御可能な電磁波調整用分散体及び電磁波調整素子が提供される。 According to the present invention, there are provided an electromagnetic wave adjusting dispersion and an electromagnetic wave adjusting element capable of controlling the transmission state of electromagnetic waves.
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。 Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the following embodiments, the constituent elements (including element steps and the like) are not essential unless otherwise specified. The same applies to numerical values and ranges thereof, and does not limit the present invention.
本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本開示において「〜」を用いて示された数値範囲には、「〜」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本開示において「層」又は「膜」との語には、当該層又は膜が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
本開示において「電磁波調整」とは、電圧の印加により電磁波を調整することを意味する。具体的には、分散体に電圧を印加した状態と、電圧を印加していない状態とで電磁波の透過状態（透過率、透過波長等）を変化させることを意味する。
In the present disclosure, the term “process” includes not only a process independent from other processes but also the process if the purpose of the process is achieved even when the process cannot be clearly distinguished from the other process. ..
In the present disclosure, the numerical range indicated by using "to" includes the numerical values before and after "to" as the minimum value and the maximum value, respectively.
In the numerical ranges described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of the numerical range described in other stages. .. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
In the present disclosure, each component may include a plurality of types of corresponding substances. When there are multiple types of substances corresponding to each component in the composition, the content rate or content of each component is the total content rate or content of the multiple types of substances present in the composition unless otherwise specified. Means quantity.
In the present disclosure, a plurality of types of particles corresponding to each component may be included. When a plurality of types of particles corresponding to each component are present in the composition, the particle size of each component means a value for a mixture of the plurality of types of particles present in the composition, unless otherwise specified.
In the present disclosure, the term “layer” or “film” means that when the region in which the layer or film is present is observed, in addition to being formed over the entire region, only in a part of the region. The case of being formed is also included.
In the present disclosure, “electromagnetic wave adjustment” means adjusting an electromagnetic wave by applying a voltage. Specifically, it means changing the transmission state (transmittance, transmission wavelength, etc.) of electromagnetic waves depending on whether a voltage is applied to the dispersion or not.
＜電磁波調整用分散体＞
本開示の電磁波調整用分散体は、第１の金属を含むコアと、前記コアを被覆し第２の金属を含むシェルとを備え、長軸の長さが１０ｎｍ〜４００ｎｍであり、アスペクト比が２．０以上である金属粒子と、分散媒とを含む、電磁波調整用分散体（以下、単に分散体とも称する）である。
<Electromagnetic wave adjustment dispersion>
An electromagnetic wave adjustment dispersion of the present disclosure includes a core containing a first metal and a shell covering the core and containing a second metal, the major axis length is 10 nm to 400 nm, and the aspect ratio is An electromagnetic wave adjusting dispersion (hereinafter, also simply referred to as a dispersion) containing metal particles of 2.0 or more and a dispersion medium.
本開示の分散体は、電磁波の透過状態を制御することが可能である。その理由は下記のとおりである。 The dispersion of the present disclosure can control the transmission state of electromagnetic waves. The reason is as follows.
分散体に含まれる金属粒子は、大きさがナノメートルオーダーであることで、表面プラズモンによる電磁波吸収を示す。本開示の電磁波調整用分散体は、この現象を利用して、入射した電磁波の吸収波長を制御している。 The size of the metal particles contained in the dispersion is on the order of nanometers, so that the surface plasmon absorbs electromagnetic waves. The electromagnetic wave adjustment dispersion of the present disclosure utilizes this phenomenon to control the absorption wavelength of the incident electromagnetic wave.
さらに、分散体に含まれる金属粒子は、アスペクト比が２．０以上である。これにより、金属粒子が分散媒中にランダムに分散している場合と、一定方向に配向している状態とで、電磁波の透過率に変化をつけている。 Further, the metal particles contained in the dispersion have an aspect ratio of 2.0 or more. As a result, the electromagnetic wave transmittance is changed depending on whether the metal particles are randomly dispersed in the dispersion medium or oriented in a certain direction.
さらに、分散体に含まれる金属粒子は、第１の金属を含むコアと、第２の金属を含むシェルとを備えることで、コアとシェルとに含まれる金属種の組み合わせ、コアとシェルとの質量比等によって金属粒子の材質、形状等を調製することができる。これにより、単一種の金属からなる金属粒子では達成できないような電磁波吸収特性の調整を可能にしている。 Furthermore, the metal particles contained in the dispersion are provided with a core containing the first metal and a shell containing the second metal, so that the combination of the metal species contained in the core and the shell, and the combination of the core and the shell. The material, shape, and the like of the metal particles can be adjusted by the mass ratio and the like. This makes it possible to adjust the electromagnetic wave absorption characteristics that cannot be achieved with metal particles made of a single kind of metal.
分散体による電磁波の吸収波長は、分散媒中に分散している金属粒子の配向の状態に影響される。金属粒子の配向の状態の制御は、分散体への電圧の印加によって行うことができる。 The absorption wavelength of electromagnetic waves by the dispersion is affected by the orientation state of the metal particles dispersed in the dispersion medium. The state of orientation of the metal particles can be controlled by applying a voltage to the dispersion.
すなわち、分散体に電圧を印加していない状態では、金属粒子は分散体中でランダムに分散している（金属粒子の長軸が一定方向に配向していない）。この状態では、金属粒子による電磁波の吸収が金属粒子の長軸側の表面で行われるか、短軸側の表面で行われるかは個々の金属粒子の向きによって異なる。 That is, when no voltage is applied to the dispersion, the metal particles are randomly dispersed in the dispersion (the major axis of the metal particles is not oriented in a fixed direction). In this state, whether the electromagnetic waves are absorbed by the metal particles on the surface of the metal particles on the long axis side or the surface of the metal particles on the short axis side depends on the orientation of each metal particle.
他方、分散体に電圧を印加した状態では、個々の金属粒子の長軸が電場の方向に沿うように、一定方向に配向する。その結果、電磁波は主に金属粒子の短軸側の表面に入射し、表面プラズモンによる電磁波の吸収は主に金属粒子の短軸側の表面で行われる。 On the other hand, when a voltage is applied to the dispersion, the individual metal particles are oriented in a fixed direction such that the long axis of the dispersion is along the direction of the electric field. As a result, the electromagnetic wave mainly enters the surface of the metal particle on the minor axis side, and the surface plasmon absorbs the electromagnetic wave mainly on the surface of the metal particle on the minor axis side.
以上のように、分散体への電圧の印加の有無、印加される電圧の強弱等によって分散体中の金属粒子の配向の状態を制御でき、電磁波吸収を制御することができる。 As described above, the state of orientation of the metal particles in the dispersion can be controlled by controlling the presence/absence of voltage application to the dispersion, the strength of the applied voltage, etc., and electromagnetic wave absorption can be controlled.
（金属粒子）
本開示で使用する金属粒子は、第１の金属を含むコアと、前記コアを被覆し第２の金属を含むシェルとを備え、長軸の長さが１０ｎｍ〜４００ｎｍであり、アスペクト比が２．０以上である。
(Metal particles)
The metal particles used in the present disclosure include a core containing a first metal and a shell covering the core and containing a second metal, the major axis length is 10 nm to 400 nm, and the aspect ratio is 2 It is 0.0 or more.
金属粒子のコアとシェルとに含まれる第１の金属と第２の金属の組み合わせは、特に制限されない。第１の金属と第２の金属は、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、モリブデン（Ｍｏ）、ビスマス（Ｂｉ）、ニッケル（Ｎｉ）等からそれぞれ選択することができる。分散体は、第１の金属と第２の金属の組み合わせが同じ金属粒子のみを含んでも、異なる組み合わせの金属粒子を含んでもよい。 The combination of the first metal and the second metal contained in the core and the shell of the metal particles is not particularly limited. The first metal and the second metal are, for example, gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), platinum (Pt), palladium (Pd), cobalt (Co), iron (Fe), molybdenum ( It can be selected from Mo), bismuth (Bi), nickel (Ni) and the like. The dispersion may include only metal particles in which the combination of the first metal and the second metal is the same, or may include metal particles in a different combination.
ある実施態様では、金属粒子のコアに含まれる第１の金属は金（Ａｕ）であり、シェルに含まれる第２の金属はパラジウム（Ｐｄ）である。このような構成の金属粒子（以下、パラジウム被覆金粒子ともいう）の分光分布は、図１に示すように、主に可視光（４００ｎｍ〜８００ｎｍ程度）を広くカバーする。 In one embodiment, the first metal contained in the core of the metal particles is gold (Au) and the second metal contained in the shell is palladium (Pd). As shown in FIG. 1, the spectral distribution of the metal particles having such a configuration (hereinafter, also referred to as palladium-coated gold particles) mainly covers a wide range of visible light (400 nm to 800 nm).
金属粒子におけるコアとシェルの割合は特に制限されず、所望の電磁波吸収特性に応じて調整できる。例えば、上述したパラジウム被覆金粒子の場合、粒子全体に占めるパラジウム被覆の割合が小さいほど金に由来する表面プラズモン吸収が強まり、５３０ｎｍ付近に吸収ピークが発現して赤味がかった色を呈する傾向にある。したがって、粒子全体に占めるパラジウム被覆の割合を大きくすることで、赤味を抑制して色調を無彩色に近づけることができる。一方、粒子径が増大して沈澱しやすくなるのを抑制する観点からは、パラジウム被覆の割合は大きすぎないことが好ましい。 The ratio of the core to the shell in the metal particles is not particularly limited and can be adjusted according to the desired electromagnetic wave absorption characteristics. For example, in the case of the above-mentioned palladium-coated gold particles, the smaller the proportion of the palladium coating in the whole particle is, the stronger the surface plasmon absorption derived from gold is, and the absorption peak appears at around 530 nm, which tends to give a reddish color. is there. Therefore, by increasing the proportion of the palladium coating in the entire particle, it is possible to suppress redness and bring the color tone closer to an achromatic color. On the other hand, it is preferable that the proportion of the palladium coating is not too large from the viewpoint of suppressing the increase in particle size and the tendency of precipitation.
金属粒子の長軸の長さは、１０ｎｍ〜４００ｎｍである。金属粒子の長軸の長さが１０ｎｍ以上であると、分散した状態の金属粒子により可視域の電磁波が充分に吸収され、電磁波の透過率が有効に低下する（遮光する）傾向にある。一方、金属粒子の長軸が４００ｎｍ以下であると、分散した状態の金属粒子による電磁波の散乱が抑制されてヘイズの上昇が抑制される傾向にある。
金属粒子の長軸の長さは、２０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、４６ｎｍ〜９０ｎｍであることがより好ましい。
The major axis length of the metal particles is 10 nm to 400 nm. When the length of the major axis of the metal particles is 10 nm or more, electromagnetic waves in the visible region are sufficiently absorbed by the dispersed metal particles, and the electromagnetic wave transmittance tends to be effectively reduced (shielding). On the other hand, when the major axis of the metal particles is 400 nm or less, scattering of electromagnetic waves by the metal particles in a dispersed state is suppressed, and an increase in haze tends to be suppressed.
The major axis length of the metal particles is preferably 20 nm to 100 nm, more preferably 46 nm to 90 nm.
本開示において金属粒子の長軸の長さは、任意に選択した金属粒子１００個の長軸の長さをＳＥＭ観察写真、ＳＴＥＭ観察写真、又はＴＥＭ観察写真を用いて計測した合計１００点のデータから、上下１０％を除いた８０点のデータを用意し、それらの算術平均値を求めることによって算出する。本開示では、シェルで被覆する前の粒子（以下、コア粒子とも称する）の長軸の長さとシェルで被覆した後の粒子（以下、コアシェル粒子）の長軸の長さのいずれも、この方法により算出する。 In the present disclosure, the length of the long axis of the metal particles is 100 points of data obtained by measuring the length of the long axis of 100 arbitrarily selected metal particles using an SEM observation photograph, a STEM observation photograph, or a TEM observation photograph. It is calculated by preparing 80 points of data excluding the upper and lower 10% and obtaining the arithmetic mean value thereof. In the present disclosure, both the length of the major axis of the particles before being coated with the shell (hereinafter, also referred to as core particles) and the length of the major axis of the particles after being coated with the shell (hereinafter, core-shell particles) are determined by this method. Calculate by
金属粒子の短軸の長さは特に制限されないが、５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。金属粒子の短軸の長さが５０ｎｍ以下であると、配向した状態での金属粒子による電磁波の吸収が抑制されて高い透過率を維持できる。
金属粒子の短軸の長さの下限は特に制限されないが、金属粒子を作製する際の形状制御性、作製後の安定性等の観点からは１５ｎｍ以上であることが好ましい。
The length of the minor axis of the metal particles is not particularly limited, but is preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and further preferably 25 nm or less. When the length of the minor axis of the metal particles is 50 nm or less, absorption of electromagnetic waves by the metal particles in the oriented state is suppressed, and high transmittance can be maintained.
The lower limit of the length of the minor axis of the metal particles is not particularly limited, but it is preferably 15 nm or more from the viewpoint of shape controllability when producing metal particles, stability after production, and the like.
本開示において金属粒子の短軸の長さは、任意に選択した金属粒子１００個の長軸の長さをＳＥＭ観察写真、ＳＴＥＭ観察写真、又はＴＥＭ観察写真を用いて計測した合計１００点のデータから、上下１０％を除いた８０点のデータを用意し、それらの算術平均値を求めることによって算出する。本開示では、コア粒子の短軸の長さとコアシェル粒子の短軸の長さのいずれも、この方法により算出する。 In the present disclosure, the length of the short axis of the metal particles is 100 points of data obtained by measuring the length of the long axis of 100 arbitrarily selected metal particles using an SEM observation photograph, a STEM observation photograph, or a TEM observation photograph. It is calculated by preparing 80 points of data excluding the upper and lower 10% and obtaining the arithmetic mean value thereof. In the present disclosure, both the length of the minor axis of the core particle and the length of the minor axis of the core shell particle are calculated by this method.
金属粒子が、太さが一定の形状（棒状、ロッド状、ワイヤー状、柱状等）である場合は、長さ方向の寸法を長軸の長さとし、太さ（直径）を短軸の長さとしてもよい。 When the metal particles have a uniform thickness (rod, rod, wire, column, etc.), the dimension in the length direction is the major axis length, and the thickness (diameter) is the minor axis length. May be
金属粒子のアスペクト比は、２．０以上である。金属粒子のアスペクト比が２．０以上であると、金属粒子が分散した状態と配向した状態の切り替えにより、電磁波の透過率を有効に変化させることができる。また、金属粒子のアスペクト比を変化させることで、金属粒子の電磁波吸収の状態（吸収波長等）を調整することができる。金属粒子のアスペクト比は、２．５以上であることが好ましく、２．７以上であることがより好ましい。
金属粒子のアスペクト比の上限は特に制限されないが、電磁波を効果的に制御する観点からは２０以下であることが好ましい。
The aspect ratio of the metal particles is 2.0 or more. When the aspect ratio of the metal particles is 2.0 or more, the electromagnetic wave transmittance can be effectively changed by switching between the dispersed state and the oriented state of the metal particles. Further, by changing the aspect ratio of the metal particles, the electromagnetic wave absorption state (absorption wavelength, etc.) of the metal particles can be adjusted. The aspect ratio of the metal particles is preferably 2.5 or more, more preferably 2.7 or more.
The upper limit of the aspect ratio of the metal particles is not particularly limited, but it is preferably 20 or less from the viewpoint of effectively controlling electromagnetic waves.
本開示において金属粒子のアスペクト比は、金属粒子の形状を表す指数であり、金属粒子の長径対長径に直交する幅の比（長径／長径に直交する幅；例えば、棒状粒子の場合は長軸の長さ／短軸の長さ、板状粒子の場合は平面最大長／厚さ）として定義される。 In the present disclosure, the aspect ratio of the metal particles is an index representing the shape of the metal particles, and the ratio of the major axis of the metal particles to the width orthogonal to the major axis (major axis/width orthogonal to the major axis; for example, in the case of rod-shaped particles, the major axis Length/minor axis length, and in the case of plate-like particles, maximum plane length/thickness).
金属粒子の形状（長軸又は短軸の長さ、アスペクト比）を制御する方法は、特に制限されない。例えば、原料となるコア粒子の長軸又は短軸の長さ、コア粒子の周囲を被覆するシェルの厚さ等によって制御することができる。 The method of controlling the shape of the metal particles (length of long axis or short axis, aspect ratio) is not particularly limited. For example, it can be controlled by the length of the major axis or minor axis of the core particle as a raw material, the thickness of the shell that coats the periphery of the core particle, and the like.
金属粒子におけるコアとシェルとの質量比（コア：シェル）は、例えば、１：０．５〜１：３０であってもよく、１：１〜１：２０であってもよい。 The mass ratio of the core and the shell in the metal particles (core:shell) may be, for example, 1:0.5 to 1:30, or 1:1 to 1:20.
本開示において金属粒子のコアとシェルとの質量比は、例えば、ＳＥＭ観察写真、ＳＴＥＭ観察写真、又はＴＥＭ観察写真から計測される粒子の寸法から体積を求めることによって算出することができる。具体的には、上述した方法で算出されるコア粒子の長軸及び短軸の長さよりコアの体積を算出し、コアシェル粒子の長軸及び短軸の長さから算出したコアシェル粒子の体積との差分を求め、シェルの体積を算出する。得られたコアの体積及びシェルの体積に、それぞれを構成する金属の密度を掛け合わせることで計算される質量の比を、コアとシェルとの質量比とすることができる。 In the present disclosure, the mass ratio of the core and the shell of the metal particles can be calculated by, for example, obtaining the volume from the particle size measured from the SEM observation photograph, the STEM observation photograph, or the TEM observation photograph. Specifically, by calculating the volume of the core from the length of the long axis and the short axis of the core particles calculated by the method described above, with the volume of the core-shell particles calculated from the length of the long axis and the short axis of the core-shell particles The difference is calculated and the shell volume is calculated. The mass ratio of the core and the shell can be the mass ratio calculated by multiplying the obtained volume of the core and the volume of the shell by the density of the metal constituting each.
金属粒子のシェルの厚さは、例えば、１ｎｍ〜３０ｎｍであってもよく、２ｎｍ〜２０ｎｍであることが好ましく、３ｎｍ〜１０ｎｍであることがより好ましい。 The shell thickness of the metal particles may be, for example, 1 nm to 30 nm, preferably 2 nm to 20 nm, and more preferably 3 nm to 10 nm.
コア粒子の周囲を被覆するシェルの厚さは、例えば、上述した方法によって測定されるコア粒子の長軸及び短軸の長さと、コアシェル粒子の長軸及び短軸の長さとから計算により求めることができる。 The thickness of the shell that coats the periphery of the core particle is calculated, for example, from the lengths of the major axis and the minor axis of the core particle measured by the method described above, and the lengths of the major axis and the minor axis of the core-shell particle. You can
具体的には、コア粒子の長軸及び短軸（長軸に直交する幅）の長さがそれぞれＸ０［ｎｍ］及びＹ０［ｎｍ］であり、コアシェル粒子の長軸及び短軸がそれぞれＸ１［ｎｍ］及びＹ１［ｎｍ］である場合、長軸方向のシェルの厚さＰＸ［ｎｍ］は下記式（１）、短軸方向のシェルの厚さＰＹ［ｎｍ］は下記式（２）、粒子全体のシェルの厚さ（平均膜厚）Ｐａｖｅ［ｎｍ］は下記式（３）によりそれぞれ求めることができる。 Specifically, the lengths of the major axis and the minor axis (width orthogonal to the major axis) of the core particle are X 0 [nm] and Y 0 [nm], respectively, and the major axis and the minor axis of the core-shell particle are respectively. In the case of X 1 [nm] and Y 1 [nm], the shell thickness P X [nm] in the major axis direction is the following formula (1), and the shell thickness P Y [nm] in the minor axis direction is The formula (2) and the shell thickness (average film thickness) P ave [nm] of the entire particles can be determined by the following formula (3).
ＰＸ＝（Ｘ１−Ｘ０）／２ …式（１）
ＰＹ＝（Ｙ１−Ｙ０）／２ …式（２）
Ｐａｖｅ＝（ＰＸ・Ｙ０＋ＰＹ・Ｘ０）／（Ｘ０＋Ｙ０） …式（３）
P X =(X 1 −X 0 )/2 Equation (1)
P Y =(Y 1 −Y 0 )/2 Equation (2)
P ave =(P X ·Y 0 +P Y ·X 0 )/(X 0 +Y 0 )... Formula (3)
シェルの厚さを測定する別の方法としては、高角散乱環状暗視野走査透過顕微鏡法（Ｈｉｇｈ−ａｎｇｌｅ Ａｎｎｕｌａｒ Ｄａｒｋ Ｆｉｅｌｄ Ｓｃａｎｎｉｎｇ ＴＥＭ；ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ）を用いる方法が挙げられる。具体的には、ＨＡＡＤＦ−ＳＴＥＭ像から任意に１０個の粒子を選択し、それぞれの粒子の任意の部位１０点においてシェルの厚さを測定し、合計１００点（粒子１０個×１０点）のデータについて、上下１０％を除いた８０点の算術平均値を、シェルの厚さとすることができる。 Another method for measuring the thickness of the shell is a method using high-angle scattering annular dark field scanning transmission TEM (HAADF-STEM). Specifically, 10 particles are arbitrarily selected from the HAADF-STEM image, and the thickness of the shell is measured at 10 arbitrary points on each particle, and a total of 100 points (10 particles×10 points) are measured. For the data, the arithmetic mean value of 80 points excluding the upper and lower 10% can be used as the shell thickness.
シェルの厚さを測定する別の方法としては、エネルギー分散型Ｘ線分光器（ＥＤＳ）と透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）を併用してコアシェル粒子の元素マッピングを行い、これによって得られたＥＤＳ像より、シェルの厚さを測定する方法が挙げられる。
更に、粒子径が既知のコア粒子を使用し、シェルで被覆した場合は、被覆前後の粒子径の増大分をシェルの厚さとして測定してもよい。
Another method of measuring the thickness of the shell is to perform elemental mapping of the core-shell particles using an energy dispersive X-ray spectrometer (EDS) and a transmission electron microscope (TEM) together, and from the EDS image obtained by this , A method of measuring the thickness of the shell.
Furthermore, when core particles having a known particle diameter are used and coated with a shell, the increase in the particle diameter before and after coating may be measured as the thickness of the shell.
コアシェル構造を有する金属粒子を作製する方法は、特に制限されず、公知の手法を参照して行ってもよい。例えば、第１の金属を含むコア粒子を準備し、その周囲に第２の金属を含むシェルを形成して金属粒子を作製してもよい。 The method for producing the metal particles having a core-shell structure is not particularly limited, and a known method may be referred to. For example, a core particle containing the first metal may be prepared, and a shell containing the second metal may be formed around the core particle to produce the metal particle.
コア粒子を合成により準備する場合、合成方法としてはソフトテンプレート合成法、ハードテンプレート合成法等が挙げられる。金属粒子の形状（特に短軸方向の寸法）の制御の容易性の観点からは、ソフトテンプレート合成法により作製することが好ましい。ソフトテンプレート合成法としては、例えば、四級アンモニウム塩である臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（ＣＴＡＢ）を過剰に含む水溶液中で金イオンを還元して金ナノロッド粒子を合成する方法が挙げられる。当該方法の詳細については、例えば、特開２００６−１１８０３６号公報、特開２００６−１６９５４４号公報、Ｃｈｅｍ. Ｃｏｍｍｕｎ. （２００３）, ｐｐ. ２３７６−２３７７．等を参照することができる。 When preparing the core particles by synthesis, examples of the synthesis method include a soft template synthesis method and a hard template synthesis method. From the viewpoint of easy control of the shape of the metal particles (in particular, the dimension in the short axis direction), it is preferable to produce the metal particles by the soft template synthesis method. Examples of the soft template synthesis method include a method of synthesizing gold nanorod particles by reducing gold ions in an aqueous solution containing an excessive amount of hexadecyltrimethylammonium bromide (CTAB) which is a quaternary ammonium salt. Details of the method are described in, for example, JP 2006-118036 A, JP 2006-169544 A, Chem. Commun. (2003), pp. 2376-2377. Etc. can be referred to.
コア粒子の周囲にシェルを形成する方法は、特に制限されない。例えば、Ｎａｎｏ Ｌｅｔｔ．，（２００６），Ｖｏｌ．６，Ｎｏ．１０，ｐｐ．２２９０−２２９４に記載されている金ナノロッド粒子の表面をパラジウムで被覆する方法が挙げられる。 The method for forming the shell around the core particles is not particularly limited. For example, Nano Lett. , (2006), Vol. 6, No. 10, pp. The method of coating the surface of the gold nanorod particles described in 2290-2294 with palladium is mentioned.
分散体は、分散剤をさらに含んでもよい。分散体が分散剤を含み、分散剤を有していてもよい。金属粒子の表面に分散剤が存在することで、分散媒への金属粒子の分散性が向上し、ランダムに分散した状態と配向した状態の切り替えをより安定的かつ可逆的に行うことができる。さらに、分散剤の種類によっては金属粒子と分散媒との親和性を向上させることができる。 The dispersion may further include a dispersant. The dispersion contains a dispersant and may have a dispersant. The presence of the dispersant on the surface of the metal particles improves the dispersibility of the metal particles in the dispersion medium, and can more stably and reversibly switch between the randomly dispersed state and the oriented state. Furthermore, depending on the type of dispersant, the affinity between the metal particles and the dispersion medium can be improved.
金属粒子に対する分散剤の量は、特に制限されない。例えば、金属粒子１質量部に対して分散剤が１〜３００質量部であってもよく、金属粒子１質量部に対して分散剤が１０〜２０質量部であることが好ましい。金属粒子１質量部に対する分散剤の量が１質量部以上であると、充分な分散性が得られ、また金属粒子の凝集が有効に抑制される。金属粒子１質量部に対する分散剤の量が３００質量部以下であると、分散剤による電磁波の吸収が分散体全体の分光特性に与える影響を小さくできる。また、分散媒中で分散剤が析出して白濁等が生じるのを抑制できる。 The amount of the dispersant with respect to the metal particles is not particularly limited. For example, the dispersant may be 1 to 300 parts by mass with respect to 1 part by mass of the metal particles, and the dispersant is preferably 10 to 20 parts by mass with respect to 1 part by mass of the metal particles. When the amount of the dispersant is 1 part by mass or more with respect to 1 part by mass of the metal particles, sufficient dispersibility is obtained, and aggregation of the metal particles is effectively suppressed. When the amount of the dispersant with respect to 1 part by mass of the metal particles is 300 parts by mass or less, the influence of the electromagnetic wave absorption by the dispersant on the spectral characteristics of the entire dispersion can be reduced. Further, it is possible to suppress the occurrence of white turbidity or the like due to the dispersant being precipitated in the dispersion medium.
分散剤の種類は、特に制限されない。たとえば、金属粒子への吸着性に優れる元素である窒素原子を含む化合物から選択してもよい。窒素原子を含む化合物としては、窒素原子を含む基（アミノ基等）を主鎖中に有し、かつ分散媒に対して親和性のある基を側鎖に有する化合物などが挙げられる。 The type of dispersant is not particularly limited. For example, you may select from the compound containing the nitrogen atom which is an element which is excellent in the adsorption|suction property to a metal particle. Examples of the compound containing a nitrogen atom include compounds having a group containing a nitrogen atom (such as an amino group) in the main chain and a group having an affinity for the dispersion medium in its side chain.
分散剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は、例えば、１０，０００以上であってもよく、２０，０００以上であることが好ましく、３０，０００以上であることがより好ましい。分散剤のＭｗが１０，０００以上であると、金属粒子の分散媒への分散性がより向上し、金属粒子が分散した状態をより安定的に維持することができる。分散剤のＭｗの上限は特に制限されないが、分散媒への溶解性の観点からは、１００，０００以下であることが好ましい。 The weight average molecular weight (Mw) of the dispersant may be, for example, 10,000 or more, preferably 20,000 or more, and more preferably 30,000 or more. When the Mw of the dispersant is 10,000 or more, the dispersibility of the metal particles in the dispersion medium is further improved, and the state in which the metal particles are dispersed can be maintained more stably. The upper limit of Mw of the dispersant is not particularly limited, but it is preferably 100,000 or less from the viewpoint of solubility in the dispersion medium.
分散剤のＭｗは、公知の質量分析計を用いて測定できる。例えば、高速ＧＰＣ装置（ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ、東ソー株式会社）を用いて測定できる。 The Mw of the dispersant can be measured using a known mass spectrometer. For example, it can be measured using a high-speed GPC device (HLC-8320GPC, Tosoh Corporation).
分散剤としては、市販品を用いてもよい。分散剤の市販品としては、ビックケミー・ジャパン株式会社製の「ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ」、味の素ファインテクノ株式会社製の「アジスパー」、日本ルーブリゾール株式会社製の「ソルスパーズ」、共栄社化学株式会社製の「フローレン」等が挙げられる。より具体的には、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０１３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ９０７６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ９０７７、ソルスパーズ１１２００、ソルスパーズ１３２４０、ソルスパーズ１３９４０、ソルスパーズ２００００、ソルスパーズ２４０００ＳＣ、ソルスパーズ２４０００ＧＲ、ソルスパーズ３２０００、ソルスパーズ３３０００、ソルスパーズ３４７５０、ソルスパーズ３５１００、ソルスパーズ３７５００、ソルスパーズ３９０００、フローレンＤＯＰＡ−１５ＢＨＦＳ、フローレンＤＯＰＡ−１７ＨＦ、フローレンＤＯＰＡ−３５、フローレンＤＯＰＡ−３５、アジスパーＰＮ４１１アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＢ８２４又はアジスパーＰＢ８８１等が挙げられる。これらの分散剤の酸価、塩基価（アミン価）等の物性は、メーカー作成のデータシート等によって公開されている。 As the dispersant, a commercially available product may be used. Commercially available dispersants include "DisperBYK" manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd., "Azisper" manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd., "Solspers" manufactured by Lubrizol Co., Ltd., and "Floren" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Etc. More specifically, DisperBYK108, DisperBYK142, DisperBYK145, DisperBYK164, DisperBYK185, DisperBYK2001, DisperBYK2008, DisperBYK2013, DisperBYK2022, DisperBYK2025, DisperBYK2050, DisperBYK2150, DisperBYK9076, DisperBYK9077, SOLSPERSE 11200, SOLSPERSE 13240, SOLSPERSE 13940, SOLSPERSE 20000, SOLSPERSE 24000SC, SOLSPERSE 24000GR, Sol Spurs 32000, Sol Spurs 33000, Sol Spurs 34750, Sol Spurs 35100, Sol Spurs 37500, Sol Spurs 39000, Floren DOPA-15BHFS, Floren DOPA-17HF, Floren DOPA-35, Floren DOPA-35, Addisper PN411 Addisper PB821B, Addisper PB88, Addisper PB822, Addisper PB822. Alternatively, AJISPER PB881 and the like can be mentioned. Physical properties such as acid value and base value (amine value) of these dispersants are disclosed in data sheets prepared by manufacturers.
（分散媒）
本実施の形態で使用する分散媒の種類は特に制限されず、金属粒子の種類、電磁波調整素子の使用環境等に応じて選択できる。例えば、金属粒子の材質が酸化しやすい場合は、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等を分散媒として選択することが好ましい。吸湿による性能低下を抑制する観点からは、一般的に疎水性であるシリコーン樹脂を用いることが好ましい。
(Dispersion medium)
The type of dispersion medium used in the present embodiment is not particularly limited, and can be selected according to the type of metal particles, the environment in which the electromagnetic wave adjustment element is used, and the like. For example, when the material of the metal particles is easily oxidized, it is preferable to select acrylic resin, silicone resin or the like as the dispersion medium. From the viewpoint of suppressing performance deterioration due to moisture absorption, it is generally preferable to use a hydrophobic silicone resin.
分散媒として使用するアクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリルモノマーを重合させて得られるものが挙げられる。アクリル樹脂は、（メタ）アクリルモノマーのみの重合体であっても、その他のモノマーとの共重合体であってもよい。本開示において（メタ）アクリルとは、アクリル及びメタクリルのいずれか一方又は両方を意味する。 Examples of the acrylic resin used as the dispersion medium include those obtained by polymerizing a (meth)acrylic monomer such as a (meth)acrylic acid ester. The acrylic resin may be a polymer of only a (meth)acrylic monomer or a copolymer with other monomers. In the present disclosure, (meth)acrylic means either or both of acrylic and methacrylic.
分散媒として使用するシリコーン樹脂の種類は、特に制限されない。例えば、シリコーン樹脂は、ジアルキルシリコーン樹脂、アルキルアリールシリコーン樹脂、ジアリールシリコーン樹脂等であってもよい。中でも低ガス透過性、低含水率、後述するマトリックス樹脂と併用する場合の屈折率制御等の観点からは、ジメチルジフェニルシリコーン樹脂が好ましい。シリコーン樹脂は、直鎖型であっても分岐鎖型であってもよい。 The type of silicone resin used as the dispersion medium is not particularly limited. For example, the silicone resin may be a dialkyl silicone resin, an alkylaryl silicone resin, a diaryl silicone resin, or the like. Among them, dimethyldiphenyl silicone resin is preferable from the viewpoint of low gas permeability, low water content, and control of refractive index when used in combination with a matrix resin described later. The silicone resin may be linear or branched.
シリコーン樹脂は、変性基を有する変性シリコーン樹脂であってもよい。変性シリコーン樹脂としては、主鎖であるポリシロキサン鎖の側鎖に変性基を有する側鎖型、主鎖であるポリシロキサン鎖の両末端に変性基を有する両末端型、主鎖であるポリシロキサン鎖の片末端に変性基を有する片末端型、主鎖であるポリシロキサン鎖の側鎖及び末端の両方に変性基を有する側鎖両末端型等が挙げられる。変性シリコーン樹脂は、直鎖型であっても分岐鎖型であってもよい。 The silicone resin may be a modified silicone resin having a modifying group. Examples of the modified silicone resin include a side chain type having a modifying group on the side chain of a polysiloxane chain which is the main chain, a both-end type having a modifying group on both ends of the polysiloxane chain which is the main chain, and a polysiloxane which is the main chain. Examples thereof include a single-end type having a modifying group at one end of the chain, a both-end side chain type having a modifying group at both the side chain and the end of the polysiloxane chain as the main chain. The modified silicone resin may be linear or branched.
変性シリコーン樹脂における変性基の種類は特に制限されず、目的等に応じて選択することができる。変性基として具体的には、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシ基、ポリエーテル基、アラルキル基、フルオロアルキル基、長鎖アルキル基、高級脂肪酸エステル基、高級脂肪酸アミド基、シラノール基等が挙げられる。 The type of the modifying group in the modified silicone resin is not particularly limited and can be selected depending on the purpose and the like. Specific examples of the modifying group include an amino group, a monoalkylamino group, a dialkylamino group, a monoarylamino group, a diarylamino group, an epoxy group, an alicyclic epoxy group, a hydroxy group, a mercapto group, a carboxy group, and a polyether group. , Aralkyl groups, fluoroalkyl groups, long-chain alkyl groups, higher fatty acid ester groups, higher fatty acid amide groups, silanol groups and the like.
分散媒として変性シリコーン樹脂を用いることで、例えば、金属粒子の分散性をより向上させることができる。また、後述するマトリックス樹脂中に、安定的に液滴を形成することができる。 By using the modified silicone resin as the dispersion medium, for example, the dispersibility of the metal particles can be further improved. Further, droplets can be stably formed in the matrix resin described later.
電磁波調整素子を温度変化の大きい環境で使用する場合は、温度変化による応答速度の差を小さくする観点から、粘度の温度依存性が小さい分散媒を選択することが好ましい。このような分散媒としては、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、アクリル樹脂とシリコーン樹脂とからなるグラフト共重合体等のポリシロキサン構造を有する樹脂が挙げられる。分散媒は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。 When the electromagnetic wave adjustment element is used in an environment where the temperature change is large, it is preferable to select a dispersion medium having a small temperature dependence of viscosity from the viewpoint of reducing the difference in response speed due to the temperature change. Examples of such a dispersion medium include resins having a polysiloxane structure such as silicone resins, modified silicone resins, and graft copolymers of acrylic resins and silicone resins. As the dispersion medium, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
分散媒としてアクリル樹脂とシリコーン樹脂とからなるグラフト共重合体を用いる場合、その分子構造は特に制限されない。例えば、主鎖がアクリル樹脂に由来する構造の化合物であっても、主鎖がシリコーン樹脂に由来する構造の化合物であってもよい。 When a graft copolymer composed of an acrylic resin and a silicone resin is used as the dispersion medium, its molecular structure is not particularly limited. For example, it may be a compound whose main chain is derived from an acrylic resin or a compound whose main chain is derived from a silicone resin.
分散媒の粘度は特に制限されず、目的等に応じて適宜選択できる。金属粒子の分散安定性と電磁波調整素子の応答速度のバランスの観点からは、２５℃での粘度が１ｍＰａ・ｓ〜５０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、１００ｍＰａ・ｓ〜５０００ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。分散媒を２種以上併用する場合、上記粘度は、併用する分散媒の混合物の粘度を意味する。 The viscosity of the dispersion medium is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose and the like. From the viewpoint of the balance between the dispersion stability of the metal particles and the response speed of the electromagnetic wave adjusting element, the viscosity at 25° C. is preferably 1 mPa·s to 5000 mPa·s, and 100 mPa·s to 5000 mPa·s. More preferable. When two or more dispersion media are used in combination, the above viscosity means the viscosity of the mixture of the dispersion media used in combination.
本開示において分散媒の粘度は、コーンプレート型粘度計により測定される。 In the present disclosure, the viscosity of the dispersion medium is measured by a cone plate type viscometer.
分散媒の屈折率は特に制限されず、目的とする吸収波長の範囲、電磁波調整素子の構成材料の種類（金属粒子、後述のマトリックス樹脂、絶縁層等）などに応じて適宜選択できる。電磁波調整素子における可視光調整の観点からは、２５℃での屈折率が１．３３〜１．５８であることが好ましく、１．３９〜１．５１であることがより好ましい。分散媒を２種以上併用する場合、上記屈折率は、併用する分散媒の混合物の屈折率を意味する。 The refractive index of the dispersion medium is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the target absorption wavelength range, the type of constituent material of the electromagnetic wave adjustment element (metal particles, matrix resin described later, insulating layer, etc.). From the viewpoint of adjusting visible light in the electromagnetic wave adjusting element, the refractive index at 25° C. is preferably 1.33 to 1.58, and more preferably 1.39 to 1.51. When two or more dispersion media are used in combination, the above-mentioned refractive index means the refractive index of the mixture of the dispersion media used in combination.
本開示において分散媒の屈折率は、アッベ屈折計（例えば、ＤＲ−Ａ１（商品名）、（株）アタゴ製）、デジタル屈折計（例えば、ＲＸ−９０００α（商品名）、（株）アタゴ製）等を用いて、２５℃で常法により測定される。 In the present disclosure, the refractive index of the dispersion medium is Abbe refractometer (for example, DR-A1 (trade name), manufactured by Atago Co., Ltd.), digital refractometer (for example, RX-9000α (trade name), manufactured by Atago Co., Ltd.). ) And the like at 25° C. by a conventional method.
（マトリックス樹脂）
分散体は、さらにマトリックス樹脂を含み、金属粒子を含む分散媒がマトリックス樹脂中に液滴状に存在している状態であってもよい。
分散体が上記状態であると、電磁波調整素子を構成したときに金属粒子の凝集、沈降等がより抑制され、ムラのない電磁波調整効果が得られる傾向にある。
(Matrix resin)
The dispersion may further contain a matrix resin, and the dispersion medium containing the metal particles may be in a state of being present in a droplet form in the matrix resin.
When the dispersion is in the above state, aggregation and sedimentation of metal particles are further suppressed when an electromagnetic wave adjusting element is configured, and a uniform electromagnetic wave adjusting effect tends to be obtained.
マトリックス樹脂は、分散媒と相分離しうるものであることが好ましい。マトリックス樹脂と分散媒とが相分離する現象を利用して、マトリックス樹脂中に分散媒が液滴状に存在する状態を容易に作り出すことができる。 The matrix resin is preferably one that can undergo phase separation with the dispersion medium. By utilizing the phenomenon that the matrix resin and the dispersion medium are phase-separated, it is possible to easily create a state in which the dispersion medium exists in the form of droplets in the matrix resin.
分散媒がマトリックス樹脂中に液滴状に存在する状態とする方法は、特に制限されない。例えば、特許文献１の段落［０００９］〜［００３６］に記載の方法を参照することができる。 The method for making the dispersion medium in the form of droplets in the matrix resin is not particularly limited. For example, the method described in paragraphs [0009] to [0036] of Patent Document 1 can be referred to.
マトリックス樹脂は、分散媒が液滴状に存在する状態を安定的に作り出す観点から、硬化可能であることが好ましく、紫外線により硬化可能であることがより好ましい。マトリックス樹脂を硬化させることで、マトリックス樹脂中に液滴状に存在している分散媒の位置が固定され、よりムラのない電磁波調整効果が得られる傾向にある。 The matrix resin is preferably curable, and more preferably UV-curable, from the viewpoint of stably producing a state in which the dispersion medium exists in the form of droplets. By curing the matrix resin, the position of the dispersion medium existing in the form of droplets in the matrix resin is fixed, and a more uniform electromagnetic wave adjusting effect tends to be obtained.
分散体がマトリックス樹脂を含む場合、併用する分散媒との２５℃での屈折率差は０．０１以内であることが好ましく、０．００５以内であることがより好ましい。分散媒とマトリックス樹脂の屈折率差が０．０１以内であると、両者の界面での散乱が抑制されて良好な電磁波調整効果が得られる傾向にある。 When the dispersion contains a matrix resin, the difference in refractive index at 25° C. with the dispersion medium used together is preferably 0.01 or less, and more preferably 0.005 or less. When the difference in refractive index between the dispersion medium and the matrix resin is 0.01 or less, scattering at the interface between the two is suppressed, and a good electromagnetic wave adjusting effect tends to be obtained.
分散媒とマトリックス樹脂の組み合わせとしては、例えば、分散媒が（メタ）アクリル酸エステルオリゴマー等のアクリル樹脂であり、マトリックス樹脂が紫外線硬化型シリコーン樹脂である組み合わせが挙げられる。 Examples of the combination of the dispersion medium and the matrix resin include a combination in which the dispersion medium is an acrylic resin such as a (meth)acrylic acid ester oligomer and the matrix resin is an ultraviolet curable silicone resin.
（その他の成分）
分散体は、必要に応じて金属粒子、分散剤、分散媒及びマトリックス樹脂以外の成分を含んでもよい。このような成分としては、界面活性剤、粘度調整のための増粘剤、遮光及び透過状態における電磁波調整素子の色調を補正するための顔料、染料等の着色剤などが挙げられる。
(Other ingredients)
The dispersion may contain components other than the metal particles, the dispersant, the dispersion medium, and the matrix resin, if necessary. Examples of such a component include a surfactant, a thickener for adjusting the viscosity, a pigment for correcting the color tone of the electromagnetic wave adjusting element in the light-shielding and transmitting states, and a coloring agent such as a dye.
分散体が着色剤を含む場合、ヘイズ抑制の観点からその平均粒子径は５００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましい。ここでの平均粒子径は、粒度分布曲線において小粒径側からの体積基準の累積値が５０％となるときの粒子径（Ｄ５０）であり、例えば、ＳＡＬＤ−７１００（商品名、（株）島津製作所製）等のレーザ回折式粒度分布測定装置を用いて測定される値である。 When the dispersion contains a colorant, the average particle size thereof is preferably 500 nm or less, more preferably 100 nm or less, from the viewpoint of haze suppression. The average particle size here is a particle size (D50) when the volume-based cumulative value from the small particle size side is 50% in the particle size distribution curve, and is, for example, SALD-7100 (trade name, manufactured by Co., Ltd.). The value is measured by using a laser diffraction type particle size distribution measuring device (manufactured by Shimadzu Corporation) or the like.
＜電磁波調整素子＞
本実施の形態の電磁波調整素子は、一対の導電性基材と、前記一対の導電性基材の間に配置される電磁波調整用分散体と、を有する。電磁波調整用分散体は、金属粒子と、分散媒とを含み、その詳細及び好ましい態様は上述したとおりである。
<Electromagnetic wave adjustment element>
The electromagnetic wave adjusting element of the present embodiment has a pair of conductive base materials and an electromagnetic wave adjusting dispersion arranged between the pair of conductive base materials. The electromagnetic wave adjusting dispersion contains metal particles and a dispersion medium, and the details and preferable embodiments thereof are as described above.
電磁波調整素子の構造の一例について、図２を参照して説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。また、各図における部材の大きさは概念的なものであり、部材間の大きさの相対的な関係はこれに限定されない。 An example of the structure of the electromagnetic wave adjustment element will be described with reference to FIG. However, the present invention is not limited to this. Further, the sizes of the members in each drawing are conceptual, and the relative size relationship between the members is not limited to this.
電磁波調整素子１は、導電層５、７がそれぞれコーティングされた基材４、６を有する導電性基材２、３を備えている。導電性基材２と導電性基材３との間には、電磁波調整用分散体８が層状に配置されている。電磁波調整用分散体８は、金属粒子９及び分散媒１０を含有している。必要に応じ、導電層５と導電層７とが金属粒子９を介して短絡することを防止するために、導電層５、７と電磁波調整分散体８の間に絶縁層を形成してもよい。 The electromagnetic wave adjusting element 1 includes conductive base materials 2 and 3 having base materials 4 and 6 coated with conductive layers 5 and 7, respectively. The electromagnetic wave adjusting dispersion 8 is arranged in layers between the conductive base material 2 and the conductive base material 3. The electromagnetic wave adjustment dispersion 8 contains metal particles 9 and a dispersion medium 10. If necessary, in order to prevent the conductive layer 5 and the conductive layer 7 from being short-circuited via the metal particles 9, an insulating layer may be formed between the conductive layers 5 and 7 and the electromagnetic wave adjustment dispersion 8. ..
絶縁層は透明性が高く、導電性基材２、３を損傷せずに作製できることが好ましい。絶縁層の材質は特に制限されず、無機物であっても有機物であっても、無機物と有機物とのハイブリッド材料であってもよい。無機物としてはＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の酸化物、層状珪酸鉱物等のアルミノケイ酸塩、窒化ケイ素等の窒化物などが挙げられる。有機物としてはポリイミド樹脂、アクリル樹脂等の有機樹脂が挙げられる。絶縁層は、電磁波調整分散体８、マトリックス樹脂、及び導電性基材２、３の材質、後述の封着剤に対する親和性、化学的な安定性、電磁波調整素子１の使用環境条件（温度、湿度、日射等）などに応じて選択される。 It is preferable that the insulating layer has high transparency and can be manufactured without damaging the conductive substrates 2 and 3. The material of the insulating layer is not particularly limited, and may be an inorganic material, an organic material, or a hybrid material of an inorganic material and an organic material. Examples of the inorganic substance include oxides such as SiO 2 and Al 2 O 3 , aluminosilicates such as layered silicate minerals, and nitrides such as silicon nitride. Examples of the organic substance include organic resins such as polyimide resin and acrylic resin. The insulating layer is composed of the materials of the electromagnetic wave adjustment dispersion 8, the matrix resin, and the conductive base materials 2 and 3, affinity for a sealing agent described later, chemical stability, and environmental conditions of use of the electromagnetic wave adjustment element 1 (temperature, Humidity, solar radiation, etc.) and the like.
電磁波調整素子１には、スイッチ１１を介して電源１２が接続されている。電磁波調整素子１を作動させるための使用電源は、例えば、交流で、５Ｖ〜２００Ｖの電圧範囲（実効値）、３０Ｈｚ〜５００ｋＨｚの周波数範囲とすることができる。 A power supply 12 is connected to the electromagnetic wave adjustment element 1 via a switch 11. The power supply used to operate the electromagnetic wave adjusting element 1 can be, for example, alternating current, a voltage range (effective value) of 5 V to 200 V, and a frequency range of 30 Hz to 500 kHz.
図２に示す状態では、電磁波調整素子１のスイッチ１１が切られ、電界が印加されていないため、電磁波調整用分散体８中の金属粒子９は、ブラウン運動により、それぞれランダムな方向を向いている。そのため、電磁波調整素子１に入射した電磁波は、金属粒子９によって吸収され、透過率が低下する。 In the state shown in FIG. 2, since the switch 11 of the electromagnetic wave adjusting element 1 is turned off and the electric field is not applied, the metal particles 9 in the electromagnetic wave adjusting dispersion 8 respectively face in random directions by Brownian motion. There is. Therefore, the electromagnetic wave incident on the electromagnetic wave adjusting element 1 is absorbed by the metal particles 9 and the transmittance is reduced.
電磁波調整素子１のスイッチ１１を接続して電界を印加すると、長軸が電場（基材２と基材３が向かい合う方向）に沿うように金属粒子９が配向する。このため、金属粒子９による入射した電磁波の吸収の度合いは、電磁波調整素子１に電界が印加されていない状態に比べて小さくなる。その結果、電磁波調整素子１に電界が印加されていない状態に比べて電磁波透過率が高く維持される。 When the switch 11 of the electromagnetic wave adjusting element 1 is connected and an electric field is applied, the metal particles 9 are oriented so that the major axis is along the electric field (the direction in which the base material 2 and the base material 3 face each other). Therefore, the degree of absorption of the incident electromagnetic wave by the metal particles 9 becomes smaller than that in the state in which the electric field is not applied to the electromagnetic wave adjustment element 1. As a result, the electromagnetic wave transmittance is maintained higher than that in the state where no electric field is applied to the electromagnetic wave adjusting element 1.
電磁波調整素子の電磁波調整効果は、紫外可視赤外分光高度計（例えば、Ｖ−６７０（商品名）、日本分光（株））、分光ヘーズメーター（例えば、ＳＨ７０００（商品名）、日本電色工業（株））等を用いて各種印加電圧の可視光域の透過率を測定することで評価できる。 The electromagnetic wave adjustment effect of the electromagnetic wave adjustment element is as follows: UV-visible infrared spectrophotometer (for example, V-670 (trade name), JASCO Corporation), spectral haze meter (for example, SH7000 (trade name), Nippon Denshoku Industries ( It is possible to evaluate by measuring the transmittance of various applied voltages in the visible light region using the same).
（電磁波調整素子の製造方法）
電磁波調整素子の製造方法は、特に制限されない。例えば、以下の工程（１）及び工程（２）を含む方法によって製造することができる。
(Method of manufacturing electromagnetic wave adjustment element)
The method of manufacturing the electromagnetic wave adjustment element is not particularly limited. For example, it can be manufactured by a method including the following step (1) and step (2).
工程（１）では、一対の導電性基材を対向させて配置し、その間に封着剤を付与し、一対の導電性基材を接着する。これにより、電磁波調整用分散体の厚さに相当する空間が一対の導電性基材の間に形成される。封着剤を付与する位置は、例えば、導電性基材の端部とすることができる。あるいは、封着剤がスペーサービーズ等を含む場合には、導電性基材の対向面の全体又は一部とすることができる。導電性基材間の距離は、特に制限されない。例えば、５０μｍ〜３００μｍの範囲内とすることができる。導電性基材間の距離が５０μｍ以上であれば、電磁波調整素子の厚さの均一性を保持しやすい傾向があり、３００μｍ以下であれば、駆動電圧を小さくできる傾向がある。 In the step (1), a pair of conductive base materials are arranged facing each other, a sealing agent is applied therebetween, and the pair of conductive base materials are bonded. Thereby, a space corresponding to the thickness of the electromagnetic wave adjusting dispersion is formed between the pair of conductive base materials. The position where the sealing agent is applied can be, for example, the end of the conductive base material. Alternatively, when the sealing agent contains spacer beads or the like, it can be the whole or a part of the facing surface of the conductive base material. The distance between the conductive base materials is not particularly limited. For example, it can be set in the range of 50 μm to 300 μm. When the distance between the conductive base materials is 50 μm or more, it is easy to maintain the thickness uniformity of the electromagnetic wave adjusting element, and when it is 300 μm or less, the driving voltage tends to be small.
工程（２）では、一対の導電性基材間の空間に分散体を充填する。分散体は、例えば、上述した分散体の調製方法によって調製することができる。分散体の充填方法は特に制限されない。例えば、導電性基材の端部の封着剤で封止していない場所から毛細管現象によって充填することができる。導電性基材の間に分散体を充填した後、導電性基材の端部の封着剤で封着していない場所を封着剤で封止する。これにより、分散体は外気から隔離される。必要に応じ、紫外線照射等を行って、分散体に含まれるマトリックス樹脂を硬化させる。 In the step (2), the space between the pair of conductive base materials is filled with the dispersion. The dispersion can be prepared, for example, by the method for preparing a dispersion described above. The method of filling the dispersion is not particularly limited. For example, the conductive base material can be filled by capillarity from a position not sealed with the sealing agent at the end portion. After the dispersion is filled between the conductive base materials, the ends of the conductive base material which are not sealed with the sealant are sealed with the sealant. This isolates the dispersion from the outside air. If necessary, ultraviolet irradiation or the like is performed to cure the matrix resin contained in the dispersion.
電磁波調整素子を製造する他の方法としては、例えば、分散体を一方の導電性基材の面上に付与し、その後、分散体を付与した面にもう一方の導電性基材を貼り合わせて接着し、封止する方法が挙げられる。分散体の付与方法としては、バーコーター、アプリケーター、ドクターブレード、ロールコーター、ダイコーター、コンマコーター等を用いる方法、真空下での滴下注入法（Ｏｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌ、ＯＤＦ）などが挙げられる。分散体を導電性基材に付与する際は、必要に応じて、適当な溶剤で希釈してもよい。溶剤を用いた場合には、導電性基材上に分散体を付与した後で溶剤を揮発させることが好ましい。 As another method for producing the electromagnetic wave adjusting element, for example, the dispersion is applied onto the surface of one conductive base material, and then the other conductive base material is attached to the surface on which the dispersion is applied. Examples include a method of adhering and sealing. Examples of the method for applying the dispersion include a method using a bar coater, an applicator, a doctor blade, a roll coater, a die coater, a comma coater, and the like, and a drop injection method (One Drop Fill, ODF) under vacuum. When applying the dispersion to the conductive substrate, it may be diluted with a suitable solvent, if necessary. When a solvent is used, it is preferable to volatilize the solvent after applying the dispersion on the conductive substrate.
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、下記実施例ではコア粒子が金、シェルがパラジウムである金属粒子を作製しているが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Further, in the following examples, metal particles in which the core particle is gold and the shell is palladium are produced, but the present invention is not limited to these examples.
＜コアシェル粒子の作製＞
コアが金、シェルがパラジウムからなる金属粒子（パラジウム被覆金粒子）を、以下の工程（１）〜（３）によって作製した。
（１）金粒子を含む懸濁液の調製
（２）パラジウムによる金粒子の被覆
（３）パラジウム被覆金粒子を含む分散体の調製
<Preparation of core-shell particles>
Metal particles having a core of gold and a shell of palladium (palladium-coated gold particles) were produced by the following steps (1) to (3).
(1) Preparation of suspension containing gold particles (2) Coating of gold particles with palladium (3) Preparation of dispersion containing palladium-coated gold particles
（１）金粒子を含む懸濁液の調製
本工程では、Ｃｈｅｍ. Ｃｏｍｍｕｎ. （２００３）, ｐｐ. ２３７６−２３７７．に示されるような合成方法により、コアとなるナノロッド形状の金粒子を含む茶色の水分散液（懸濁液Ａ）を調製した。
(1) Preparation of suspension containing gold particles In this step, Chem. Commun. (2003), pp. 2376-2377. A brown aqueous dispersion (suspension A) containing nanorod-shaped gold particles serving as a core was prepared by the synthesis method as shown in FIG.
懸濁液Ａの最大吸収波長を、懸濁液Ａを任意の金濃度に水で希釈した際の光学特性を、紫外可視近赤外分光光度計ＭＰＣ３１００ＵＶ−３１００ＰＣ（株式会社島津製作所製）を用いて、光路長：１ｃｍ及び測定波長：３００ｎｍ〜１２００ｎｍの条件下で測定することにより確認した。その結果、懸濁液Ａの最大吸収波長は９００ｎｍであった。 The maximum absorption wavelength of the suspension A, the optical characteristics when the suspension A was diluted with water to an arbitrary gold concentration, the UV-visible near-infrared spectrophotometer MPC3100UV-3100PC (manufactured by Shimadzu Corporation) The optical path length was 1 cm and the measurement wavelength was 300 nm to 1200 nm. As a result, the maximum absorption wavelength of suspension A was 900 nm.
懸濁液Ａ中の金粒子の長軸及び短軸の長さを、超高分解能分析走査電子顕微鏡ＳＵ−７０（株式会社日立製作所製）を用いて、透過走査電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）観察を行うことにより確認した。その結果、金粒子の長軸及び短軸の長さはそれぞれ４５ｎｍ及び９ｎｍ（アスペクト比５．０）であった。 A transmission scanning electron microscope (STEM) observation is performed on the major axis and minor axis lengths of the gold particles in the suspension A using an ultra-high resolution analytical scanning electron microscope SU-70 (manufactured by Hitachi, Ltd.). Confirmed by As a result, the major axis length and the minor axis length of the gold particles were 45 nm and 9 nm (aspect ratio 5.0), respectively.
（２）パラジウムによる金粒子の被覆
工程（１）で作製した懸濁液Ａを用いて、Ｎａｎｏ Ｌｅｔｔ．，（２００６），Ｖｏｌ．６，Ｎｏ．１０，ｐｐ．２２９０−２２９４に示されるような方法で、パラジウムによる異方性金ナノ粒子の被覆を行い、パラジウム被覆金粒子を含む黒色の懸濁液Ｂを作製した。
(2) Coating of Gold Particles with Palladium Using the suspension A prepared in the step (1), Nano Lett. , (2006), Vol. 6, No. 10, pp. The anisotropic gold nanoparticles were coated with palladium by the method shown in 2290-2294 to prepare a black suspension B containing palladium-coated gold particles.
懸濁液Ｂを任意の金濃度に水で希釈し、工程（１）と同様にして測定した光学特性を図１に示す。図１に示すように、パラジウム被覆金粒子を含む懸濁液Ｂは、可視光を含む広い波長領域で明確なピークが観察されないフラットな吸光特性を有しており、黒色に近い色調を呈していた。 The optical characteristics of suspension B diluted with water to an arbitrary gold concentration and measured in the same manner as in step (1) are shown in FIG. As shown in FIG. 1, the suspension B containing palladium-coated gold particles has a flat light absorption characteristic in which no clear peak is observed in a wide wavelength range including visible light, and exhibits a color tone close to black. It was
懸濁液Ｂに含まれているパラジウム被覆金粒子の透過走査電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）画像を図３に示す。懸濁液Ｂ中のパラジウム被覆金粒子の長軸及び短軸の長さを、金粒子の長軸及び短軸の長さの測定と同様にして測定した。その結果、長軸及び短軸の長さはそれぞれ６０ｎｍ及び２０ｎｍ（アスペクト比３．０）であり、パラジウム層の膜厚は５．８ｎｍであった。 A transmission scanning electron microscope (STEM) image of the palladium-coated gold particles contained in the suspension B is shown in FIG. The lengths of the major axis and the minor axis of the palladium-coated gold particles in the suspension B were measured in the same manner as the measurement of the major axis and the minor axis of the gold particles. As a result, the lengths of the major axis and the minor axis were 60 nm and 20 nm (aspect ratio 3.0), and the film thickness of the palladium layer was 5.8 nm.
（３）パラジウム被覆金粒子を含む分散体の調製
工程（２）で得られたパラジウム被覆金粒子を含む分散体を作製した。具体的には、パラジウム被覆金粒子を含む懸濁液Ｂに、使用する分散媒（アクリル樹脂）に相溶する分散剤を添加してパラジウム被覆金ナノ粒子の表面に分散剤を付着させ、さらに溶剤（トルエンまたはヘキサン）で水を置換した。次いで、分散媒（アクリル樹脂）と混合し、エバポレータで溶剤を留去して、パラジウム被覆金ナノ粒子を含む分散体を調製した。
(3) Preparation of dispersion containing palladium-coated gold particles A dispersion containing palladium-coated gold particles obtained in step (2) was prepared. Specifically, to the suspension B containing the palladium-coated gold particles, a dispersant compatible with the dispersion medium (acrylic resin) used is added to adhere the dispersant to the surface of the palladium-coated gold nanoparticles. Water was replaced with a solvent (toluene or hexane). Then, it was mixed with a dispersion medium (acrylic resin) and the solvent was distilled off with an evaporator to prepare a dispersion containing palladium-coated gold nanoparticles.
＜電磁波調整素子の作製＞
工程（３）で得られたパラジウム被覆金粒子の分散体を用いて、電磁波調整特性の評価用のガラスセルを作製した。具体的には、ＩＴＯ電極を片面に有するガラス基板（４０ｍｍ×２０ｍｍ×０．７ｍｍ）のＩＴＯ電極の上にＳｉＯ２コロイド樹脂分散液を塗布し、樹脂成分を硬化させることで絶縁層を形成した。このガラス基板を２枚用意し、絶縁層側が対向するように配置して、パラジウム被覆金粒子の分散体１ｍＬ程度をその間に注入し、周囲を封止してガラスセルを作製した。本実施例では、封入空間の基板間距離を２５μｍとした。
<Production of electromagnetic wave adjusting element>
Using the dispersion of the palladium-coated gold particles obtained in the step (3), a glass cell for evaluation of electromagnetic wave adjusting characteristics was prepared. Specifically, a glass substrate (40 mm×20 mm×0.7 mm) having an ITO electrode on one surface was coated with the SiO 2 colloidal resin dispersion liquid on the ITO electrode, and the resin component was cured to form an insulating layer. .. Two glass substrates were prepared, arranged so that the insulating layer sides face each other, about 1 mL of a dispersion of palladium-coated gold particles was injected into the space, and the periphery was sealed to produce a glass cell. In this embodiment, the distance between the substrates in the enclosed space is 25 μm.
＜電磁波調整特性の評価＞
作製したガラスセルを用いて、電圧を印加していない状態（ＯＦＦ）、５０Ｖの電圧を印加した状態、及び１００Ｖの電圧を印加した状態での透過光強度（ａ．ｕ．）を測定した。駆動電圧は５００Ｈｚとした。測定は分光光度計を用いて、室温（２５℃）で行った。結果を図４に示す。
<Evaluation of electromagnetic wave adjustment characteristics>
Using the produced glass cell, the transmitted light intensity (au) was measured in a state where no voltage was applied (OFF), a state where a voltage of 50 V was applied, and a state where a voltage of 100 V was applied. The driving voltage was 500 Hz. The measurement was performed at room temperature (25° C.) using a spectrophotometer. The results are shown in Fig. 4.
図４に示されるように、作製したガラスセルは、電圧の印加の有無及び電圧の大きさによって透過光強度が異なり、電磁波調製効果を発揮することがわかった。これを利用して電磁波調製素子による電磁波の透過率、色調等を制御できることがわかった。 As shown in FIG. 4, it was found that the produced glass cell exhibits the electromagnetic wave adjusting effect because the transmitted light intensity varies depending on the presence or absence of voltage application and the voltage magnitude. It has been found that this can be used to control the transmittance, color tone, etc. of electromagnetic waves by the electromagnetic wave preparation element.
１：電磁波調整素子
２、３：導電性基材
４、６：基材
５、７：導電層
８：電磁波調整用分散体
９：パラジウム被覆金粒子
１０：分散媒
１１：スイッチ
１２：電源
1: Electromagnetic wave adjusting element 2, 3: Conductive base material 4, 6: Base material 5, 7: Conductive layer 8: Electromagnetic wave adjusting dispersion 9: Palladium-coated gold particles 10: Dispersion medium 11: Switch 12: Power supply
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