JP2020075499A - Tray for optical shaping and method for manufacturing the same - Google Patents

Tray for optical shaping and method for manufacturing the same Download PDF

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Abstract

To suppress peeling of a release layer from a tray for optical shaping in the optical shaping.SOLUTION: There is provided a tray for optical shaping, the tray for optical shaping stores a photocurable material having fluidity in the optical shaping. The tray for optical shaping comprises a tray body having a light irradiation surface, and a first layer that covers a surface in an opposite side to the light irradiation surface of the tray body and has a contact surface with the photocurable material. The first layer is composed of a cured product of a composition containing a fluorine-containing curable resin having a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon. In the first layer, an interface between the first layer and an underlying layer and its vicinity, a residue in which a functional group derived from a material forming the underlying layer and the first reactive group react or interact with each other exists.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、光造形において光硬化性材料を収容するための光造形用トレイに関する。   The present invention relates to a stereolithography tray for containing a photocurable material in stereolithography.

3Dプリンタを始めとする三次元光造形技術において、少量の光硬化性材料を用いた成形が可能である観点から、例えば、吊り下げ方式の光造形が注目されている。   In a three-dimensional stereolithography technique such as a 3D printer, for example, a suspension-type stereolithography is drawing attention from the viewpoint that molding with a small amount of a photocurable material is possible.

図3は、一般的な吊り下げ方式による三次元光造形のパターニング方法の工程を説明するための断面模式図である。図3に示されるように、吊り下げ方式の光造形では、まず、プラットフォーム104のパターン形成面104aを光造形用トレイ101内に収容された光硬化性材料(パターニング材料)102に浸漬する。これにより、パターン形成面104aと光造形用トレイ101のトレイ本体101cの内底面に配された離型層101dとの間に光硬化性材料102の液膜102aを形成する(工程(i))。トレイ本体101cの底部101b(具体的には、外側の底面)は、光造形用トレイ101の下方に配置された光源105に対向する露光面101aを備えている。光源105からパターン形成面104aに向かって放たれた光Lは、トレイ本体101cの底部101bおよび離型層101dを透過して液膜102aに吸収される。これにより、液膜102aが光硬化して二次元パターン102bが形成される(工程(ii))。工程(ii)の後、パターン形成面104aを上昇させて、パターン102bと、離型層101dとの間に、パターニング材料の液膜102aをさらに形成する(工程(iii))。そして、光源105から液膜102aに対して光Lを照射し、液膜102aを硬化させて別のパターン102bを形成する。これにより、二次元のパターン102bに、別のパターン102bが積層され(工程(iv))、三次元パターンが形成される。さらに、工程(iii)と工程(iv)とを複数回繰り返すと、様々な厚みを有する三次元パターンが形成される。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view for explaining the steps of a patterning method for three-dimensional stereolithography by a general hanging method. As shown in FIG. 3, in the hanging type stereolithography, first, the pattern forming surface 104 a of the platform 104 is dipped in the photocurable material (patterning material) 102 housed in the stereolithography tray 101. As a result, the liquid film 102a of the photocurable material 102 is formed between the pattern forming surface 104a and the release layer 101d arranged on the inner bottom surface of the tray body 101c of the stereolithography tray 101 (step (i)). .. A bottom portion 101b (specifically, an outer bottom surface) of the tray body 101c includes an exposure surface 101a that faces a light source 105 arranged below the stereolithography tray 101. The light L emitted from the light source 105 toward the pattern forming surface 104a passes through the bottom portion 101b of the tray body 101c and the release layer 101d and is absorbed by the liquid film 102a. As a result, the liquid film 102a is photo-cured to form the two-dimensional pattern 102b (step (ii)). After the step (ii), the pattern forming surface 104a is raised to further form the liquid film 102a of the patterning material between the pattern 102b and the release layer 101d (step (iii)). Then, the liquid film 102a is irradiated with light L from the light source 105 to cure the liquid film 102a and form another pattern 102b. As a result, another pattern 102b is stacked on the two-dimensional pattern 102b (step (iv)) to form a three-dimensional pattern. Furthermore, when the step (iii) and the step (iv) are repeated a plurality of times, three-dimensional patterns having various thicknesses are formed.

このように、吊り下げ方式の光造形では、トレイの内底面から光硬化パターンを剥離させプラットフォームとともに上昇させるため、トレイの内底面に離型層が形成される。光硬化パターンを損傷なく取り出す観点から、離型層にはある程度の弾性が求められるとともに、光源からの光に対する透過性が求められる。そのため、離型層には、一般に、シリコーンゴムが使用されている。また、トレイの底に可撓性の弾性分離層を配置することも検討されている(例えば、特許文献1)。   As described above, in the hanging-type stereolithography, since the photo-curing pattern is peeled off from the inner bottom surface of the tray and lifted together with the platform, a release layer is formed on the inner bottom surface of the tray. From the viewpoint of taking out the photo-cured pattern without damage, the release layer is required to have a certain degree of elasticity and also to be transparent to the light from the light source. Therefore, silicone rubber is generally used for the release layer. Further, disposing a flexible elastic separation layer on the bottom of the tray has also been studied (for example, Patent Document 1).

特許文献2には、光造形用トレイにおいて、酸素透過性を有する樹脂を含む樹脂層を少なくとも備える離型層を設けることが提案されている。この場合、樹脂層中に酸素を供給するために樹脂層を大気中に露出させる酸素供給窓が設けられている。酸素供給窓から供給された酸素により、離型層と光硬化性材料との界面付近における硬化反応が阻害され、これにより、得られる光硬化パターンの離型層に対する剥離性を高めている。   Patent Document 2 proposes that a release layer including at least a resin layer containing a resin having oxygen permeability is provided in a tray for stereolithography. In this case, an oxygen supply window for exposing the resin layer to the atmosphere is provided in order to supply oxygen into the resin layer. Oxygen supplied from the oxygen supply window hinders the curing reaction in the vicinity of the interface between the release layer and the photocurable material, thereby enhancing the releasability of the obtained photocurable pattern from the release layer.

特開2008−137392号公報JP, 2008-137392, A 特開2017−159621号公報JP, 2017-159621, A

離型層を備えるトレイを用いる場合でも、光硬化パターンは、離型層に結着した状態で形成されるため、ある程度の力で離型層から剥離する必要がある。吊り下げ方式の光造形では、光硬化パターンの剥離を繰り返すたびに、離型層に剥離応力が加わり、離型層が白化するなど劣化することがある。離型層が劣化すると、離型性が低下して光硬化パターンを剥離し難くなり、さらに大きな剥離応力が離型層に加わることになる。離型層は、シリコーンゴムなどの離型性の高い材料で形成されているため、離型層の、トレイの内底面側の表面の離型性も高い。そのため、光硬化パターンを剥離する際に離型層に大きな剥離応力が加わると、離型層がトレイから剥離してしまう。   Even when a tray provided with a release layer is used, the photo-curing pattern is formed in a state of being bound to the release layer, so it is necessary to peel it from the release layer with a certain amount of force. In hanging-type stereolithography, peeling stress may be applied to the release layer every time the photocuring pattern is peeled off, and the release layer may be whitened and deteriorated. When the release layer is deteriorated, the releasability is lowered and it becomes difficult to peel off the photocured pattern, and a larger peeling stress is applied to the release layer. Since the release layer is formed of a material having a high releasability such as silicone rubber, the releasability of the surface of the release layer on the inner bottom surface side of the tray is also high. Therefore, when a large peeling stress is applied to the release layer when peeling the photocured pattern, the release layer is peeled off from the tray.

本発明の一局面は、光造形において流動性を有する光硬化性材料を収容する光造形用トレイであって、
露光面を有するトレイ本体と、
前記トレイ本体の前記露光面の反対側の面を覆い、かつ前記光硬化性材料との接触面を有する第1層と、を備え、
前記第1層は、ケイ素に直接的または間接的に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含む組成物の硬化物で構成され、
前記第1層と、前記第1層の下地層との界面およびその近傍に、前記下地層を構成する材料に由来する官能基と前記第1反応性基とが反応または相互作用した残基が存在する、光造形用トレイに関する。
One aspect of the present invention is a stereolithography tray that contains a photocurable material having fluidity in stereolithography,
A tray body having an exposure surface,
A first layer covering a surface of the tray body opposite to the exposure surface, and having a contact surface with the photocurable material;
The first layer is composed of a cured product of a composition containing a fluorine-containing curable resin having a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon,
At the interface between the first layer and the underlayer of the first layer and in the vicinity thereof, a residue in which a functional group derived from the material forming the underlayer and the first reactive group react or interact with each other, It relates to existing stereolithography trays.

本発明の他の局面は、光造形において流動性を有する光硬化性材料を収容する光造形用トレイを製造する方法であって、
露光面を有するトレイ本体を準備する工程と、
前記トレイ本体の前記露光面の反対側の面を覆うように、ケイ素に直接的または間接的に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を硬化させて、前記光硬化性材料との接触面を有する第1層を形成するとともに、前記第1層の下地層を構成する材料に由来する官能基と、前記第1反応性基とを反応または相互作用させて、前記第1層を前記下地層に密着させる工程と、を含む、光造形用トレイの製造方法に関する。
Another aspect of the present invention is a method for producing a stereolithography tray containing a photocurable material having fluidity in stereolithography.
A step of preparing a tray body having an exposed surface,
A curable resin composition containing a fluorine-containing curable resin having a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon is applied so as to cover a surface of the tray body opposite to the exposed surface. A step of forming a coating film,
The coating film is cured to form a first layer having a contact surface with the photocurable material, and a functional group derived from the material forming the underlayer of the first layer and the first reactivity. And a step of reacting or interacting with a base to bring the first layer into close contact with the base layer.

光造形において、光造形用トレイからの離型層の剥離を抑制できる。   In stereolithography, peeling of the release layer from the tray for stereolithography can be suppressed.

本発明の一実施形態に係る光造形用トレイの概略縦断面図である。It is a schematic longitudinal cross-sectional view of the tray for stereolithography according to an embodiment of the present invention. 本発明の他の実施形態に係る光造形用トレイの概略縦断面図である。It is a schematic longitudinal cross-sectional view of the tray for stereolithography according to another embodiment of the present invention. 一般的な吊り下げ方式による光造形のパターニング方法の工程を説明するための断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the process of the patterning method of the stereolithography by a general suspension system.

[光造形用トレイ]
本発明の一局面に係る光造形用トレイは、光造形において流動性を有する光硬化性材料を収容するものである。このような光造形用トレイは、一般には、樹脂槽とも呼ばれる。上記局面に係る光造形用トレイは、露光面を有するトレイ本体と、トレイ本体の露光面の反対側の面を覆うとともに光硬化性材料との接触面を有する第1層と、を備える。第1層は、ケイ素に直接的または間接的に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含む組成物の硬化物で構成されている。第1層と、第1層の下地層との界面およびその近傍に、下地層を構成する材料に由来する官能基と第1反応性基とが反応または相互作用した残基が存在する。なお、残基は、下地層を構成する材料に由来する官能基と第1反応性基とが反応または相互作用した結果形成される構造または結合を意味する。
[Stereolithography]
The tray for stereolithography according to one aspect of the present invention accommodates a photocurable material having fluidity in stereolithography. Such a tray for stereolithography is generally called a resin tank. The stereolithography tray according to the above aspect includes a tray main body having an exposure surface, and a first layer that covers a surface of the tray main body opposite to the exposure surface and that has a contact surface with the photocurable material. The first layer is composed of a cured product of a composition containing a fluorine-containing curable resin having a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon. At the interface between the first layer and the underlayer of the first layer and in the vicinity thereof, there are residues in which the functional group derived from the material forming the underlayer and the first reactive group react or interact with each other. The residue means a structure or a bond formed as a result of the reaction or interaction between the functional group derived from the material forming the underlayer and the first reactive group.

従来の光造形用トレイにおいて、光硬化性材料と接触する離型層は、シリコーンゴムなどの高い離型性を有する材料で形成されている。離型層の両面とも高い離型性を備えるため、離型層の下地層に対する密着性が低くなり易い。トレイに離型層を設ける場合でも、光硬化と光硬化パターンの剥離とを繰り返すと、光硬化パターンが離型層から剥離し難くなり、大きな剥離応力が離型層に加わることになる。また、光硬化性材料が離型層の内部まで浸透する場合がある。この場合、浸透した光硬化性材料も光硬化されて離型層上に形成される光硬化パターンと一体化した状態となる。離型層内部で浸透した光硬化性材料が硬化すると、離型層が白化し、光透過性が損なわれる。また、浸透した光硬化性材料が光硬化パターンと一体化した状態で硬化すると、光硬化パターンを離型層から剥離する際には特に大きな剥離応力が離型層に加わることになる。大きな剥離応力が離型層に繰り返し加わると、離型層が下地層から剥離する。離型層の光硬化パターンが剥離される剥離面および離型層が下地層から剥離した剥離面はいずれも平滑ではなく、光硬化性材料に照射される光が乱反射し易くなる点も白化の原因となる。離型層の剥離や白化が起こると、光造形を続けることが難しくなる。なお、従来、光造形用トレイの内底面と接着していない状態のフィルム状の離型層を用いる場合もある。この場合、光硬化パターンを剥離する際にフィルム状の離型層が撓み易く、離型層に皺が生じて、光造形の精度を確保し難い。特に、光造形トレイのサイズが大きくなるとフィルム状の離型層の皺が形成されやすくなる。   In the conventional tray for stereolithography, the release layer that comes into contact with the photocurable material is formed of a material having a high release property such as silicone rubber. Since both surfaces of the release layer have high releasability, the adhesion of the release layer to the underlying layer tends to be low. Even when the mold release layer is provided on the tray, if the photocuring and the peeling of the photocurable pattern are repeated, the photocurable pattern becomes difficult to peel from the mold releasing layer, and a large peeling stress is applied to the mold releasing layer. Further, the photocurable material may penetrate into the inside of the release layer. In this case, the permeated photo-curable material is also photo-cured to be in an integrated state with the photo-curable pattern formed on the release layer. When the photocurable material that has penetrated inside the release layer is cured, the release layer is whitened and the light transmittance is impaired. Further, if the permeated photo-curable material is cured in a state where it is integrated with the photo-curable pattern, a particularly large peel stress is applied to the release layer when the photo-curable pattern is peeled from the release layer. When a large peel stress is repeatedly applied to the release layer, the release layer peels from the underlayer. The release surface from which the photo-curing pattern of the release layer is released and the release surface from which the release layer is released from the underlying layer are not smooth, and the light irradiating the photo-curable material is likely to be diffusely reflected. Cause. If peeling or whitening of the release layer occurs, it becomes difficult to continue stereolithography. In addition, conventionally, there is a case where a film-shaped release layer in a state of not being adhered to the inner bottom surface of the tray for stereolithography is used. In this case, when the photocurable pattern is peeled off, the film-shaped release layer is easily bent, and wrinkles are formed on the release layer, and it is difficult to ensure the accuracy of stereolithography. In particular, as the size of the stereolithography tray increases, wrinkles in the film-shaped release layer are likely to be formed.

本発明の上記実施形態によれば、第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含む組成物の硬化物で離型層に相当する第1層を形成する。第1層と、第1層の下地層との界面およびその近傍には、ケイ素に結合した第1反応性基と下地層を構成する材料に由来する官能基とが反応または相互作用した残基が存在する。第1層と下地層とが分子レベルで反応または相互作用した状態となるため、第1層と下地層との間で高い密着性を確保することができる。従って、第1層の光硬化性材料との接触面では離型性を確保しながらも、下地層に対して高い密着性を確保することができる。また、第1層がフッ素含有硬化性樹脂を含む組成物の硬化物で構成されるため、第1層への光硬化性材料の浸透が抑制され、高い離型性を確保できる。よって、光硬化と光硬化パターンの剥離とを繰り返しても、第1層の下地層からの剥離を抑制できる。光硬化性材料の第1層への透過が抑制されることで、白化などの第1層の劣化を顕著に抑制することもできる。また、第1層と下地層との間で高い密着性を確保することができるため、第1層が撓んで皺になることも抑制され、高い精度での光造形が可能となる。   According to the above-described embodiment of the present invention, the first layer corresponding to the release layer is formed of the cured product of the composition containing the fluorine-containing curable resin having the first reactive group. At the interface between the first layer and the underlayer of the first layer and in the vicinity thereof, a residue in which the first reactive group bonded to silicon and the functional group derived from the material forming the underlayer react or interact with each other. Exists. Since the first layer and the underlayer are in a state of reacting or interacting with each other at the molecular level, it is possible to secure high adhesion between the first layer and the underlayer. Therefore, it is possible to secure high releasability to the underlying layer while securing releasability on the contact surface of the first layer with the photocurable material. Moreover, since the first layer is composed of a cured product of a composition containing a fluorine-containing curable resin, the penetration of the photocurable material into the first layer is suppressed, and high releasability can be secured. Therefore, even if the photocuring and the peeling of the photocuring pattern are repeated, the peeling of the first layer from the underlying layer can be suppressed. Since the transmission of the photocurable material to the first layer is suppressed, deterioration of the first layer such as whitening can be significantly suppressed. Further, since it is possible to secure high adhesion between the first layer and the base layer, it is possible to prevent the first layer from bending and becoming wrinkled, and it is possible to perform stereolithography with high accuracy.

なお、市販の接着剤には、フッ素含有接着剤またはシリコーン系接着剤などもある。しかし、接着剤は、2つ以上の被着体を接着するために使用されるものである。そのため、接着剤を用いることで、高い接着性または密着性は確保できても、通常は、全く逆の特性である離型性を確保することは困難であると予想される。   Note that commercially available adhesives include fluorine-containing adhesives and silicone-based adhesives. However, the adhesive is used to bond two or more adherends. Therefore, although it is possible to secure high adhesiveness or adhesiveness by using an adhesive, it is generally expected that it is difficult to secure releasability, which is a completely opposite characteristic.

上記局面に係る光造形用トレイは、例えば、図3のトレイ101に代えて用いることで、図3に示されるような工程で三次元光造形物を形成することができる。   By using the stereolithography tray according to the above aspect, for example, in place of the tray 101 in FIG. 3, a three-dimensional stereolithography object can be formed through the steps shown in FIG.

第1層の光硬化性材料との接触面は、光造形用トレイに光硬化性材料を収容したときに、光硬化性材料と接触することになる領域である。
トレイ本体の露光面とは、トレイ本体の表面のうち光源に対向する表面において、光源から照射された光(光硬化性材料の)が直接当たり得る領域を言う。吊り下げ方式では、トレイ本体の底面側から光が照射される。そのため、トレイ本体の露光面は、通常、トレイ本体の外底面において光源から照射された光が当たり得る領域である。
The contact surface of the first layer with the photocurable material is a region that comes into contact with the photocurable material when the photocurable material is housed in the stereolithography tray.
The exposed surface of the tray body means a region of the surface of the tray body facing the light source, to which light (of the photocurable material) emitted from the light source can directly hit. In the hanging method, light is emitted from the bottom side of the tray body. Therefore, the exposed surface of the tray body is usually an area on the outer bottom surface of the tray body to which the light emitted from the light source can hit.

第1層の下地層は、トレイ本体であってもよい。また、トレイ本体と第1層との間に第2層を配して、第2層を第1層の下地層としてもよい。   The first base layer may be the tray body. In addition, the second layer may be disposed between the tray body and the first layer, and the second layer may be used as a base layer for the first layer.

下地層を構成する材料に由来する官能基とは、少なくとも第1層を下地層上に形成する段階で下地層を構成する材料が有している官能基を言い、第1反応性基と反応または相互作用可能な基または原子を含む。上記官能基は、例えば、完成した光造形用トレイの下地層中に存在するものであってもよく、残存しないものであってもよい。例えば、完成した光造形用トレイの下地層が硬化性材料の硬化物で形成される場合、第1層は、半硬化状態または完全に硬化した状態の下地層上に形成できる。このような状態の下地層において、下地層を構成する材料(半硬化状態の硬化性材料または硬化性材料の硬化物など)が上記の官能基を有していればよい。   The functional group derived from the material forming the underlayer means a functional group contained in the material forming the underlayer at least at the stage of forming the first layer on the underlayer, and reacts with the first reactive group. Alternatively, it includes an interactable group or atom. The functional group may be present in the underlayer of the completed stereolithography tray, or may not be present. For example, when the foundation layer of the completed stereolithography tray is formed of a cured product of a curable material, the first layer can be formed on the foundation layer in a semi-cured state or a completely cured state. In the underlayer in such a state, the material forming the underlayer (semi-cured curable material or cured product of the curable material) may have the above functional group.

なお、本発明では、光造形用トレイの構成要素(トレイ本体、第1層、下地層など)は、光源から照射される光に晒される領域においては、照射される光を透過する必要がある。光造形用トレイは、少なくとも光に晒される領域において、例えば、光源から照射される光に対する光線透過率が、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。なお、光源から照射される光としては、例えば、紫外光から可視光領域の光が利用される。   In the present invention, the components of the stereolithography tray (the tray body, the first layer, the base layer, etc.) need to transmit the emitted light in the area exposed to the light emitted from the light source. .. In the stereolithography tray, at least in a region exposed to light, for example, the light transmittance to the light emitted from the light source is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. As the light emitted from the light source, for example, light in the visible light region from ultraviolet light is used.

図1は、本発明の一実施形態に係る光造形用トレイの概略縦断面図である。図2は、本発明の他の実施形態に係る光造形用トレイの概略縦断面図である。
図1では、光造形用トレイ1は、露光面1aを底部1bに有するトレイ本体1cと、トレイ本体1cの露光面1aとは反対側の面を覆う第1層1dとを備える。この場合、第1層1dの下地層は、トレイ本体1cとなる。
FIG. 1 is a schematic vertical sectional view of a stereolithography tray according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic vertical sectional view of a tray for stereolithography according to another embodiment of the present invention.
In FIG. 1, the tray for stereolithography 1 includes a tray body 1c having an exposure surface 1a on a bottom portion 1b, and a first layer 1d that covers a surface of the tray body 1c opposite to the exposure surface 1a. In this case, the underlying layer of the first layer 1d becomes the tray body 1c.

図2では、光造形用トレイ11は、露光面11aを底部11bに有するトレイ本体11cと、トレイ本体11cの露光面とは反対側の面を覆う第1層11dと、トレイ本体11cと第1層11dとの間に設けられた第2層11eと、を備える。この場合、第1層11dの下地層は、第2層11eとなる。   In FIG. 2, the tray 11 for stereolithography has a tray body 11c having an exposure surface 11a on a bottom portion 11b, a first layer 11d that covers the surface of the tray body 11c opposite to the exposure surface, a tray body 11c, and a first body 11c. A second layer 11e provided between the second layer 11d and the layer 11d. In this case, the underlying layer of the first layer 11d becomes the second layer 11e.

以下、光造形用トレイの構成要素についてより詳細に説明する。
光造形用トレイは、光硬化性材料を収容するトレイ本体と、トレイ本体の内側(つまり、光硬化性材料を収容する側)の表面に配された第1層とを備える。トレイ本体と第1層との間に第2層が設けられていてもよい。
Hereinafter, the components of the tray for stereolithography will be described in more detail.
The tray for stereolithography includes a tray body that contains the photocurable material, and a first layer that is disposed on the inner surface of the tray body (that is, the side that contains the photocurable material). A second layer may be provided between the tray body and the first layer.

(第1層)
第1層は、トレイ本体の露光面の反対側の面、すなわち、光硬化性材料を収容する側の面を覆うように配されている。第1層は、光硬化性材料との接触面を有する。第1層は、光硬化パターンを剥離し易くするために、少なくとも露光される領域に配されていればよい。光硬化性材料に光がより均一に照射されるとともに、光硬化パターンを剥離し易い観点から、第1層は、図1または図2に示されるように、トレイ本体の内底面全体を覆うように配された状態とすることが好ましい。
(First layer)
The first layer is arranged so as to cover the surface of the tray body opposite to the exposed surface, that is, the surface on the side containing the photocurable material. The first layer has a contact surface with the photocurable material. The first layer may be arranged at least in the exposed area in order to facilitate peeling of the photocurable pattern. From the viewpoint that the photocurable material is more uniformly irradiated with light and the photocurable pattern is easily peeled off, the first layer covers the entire inner bottom surface of the tray main body as shown in FIG. 1 or 2. It is preferable that they are arranged in

第1層は、ケイ素に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含む組成物の硬化物で構成される。第1反応性基は、ケイ素に直接結合していてもよく、間接的に結合していてもよい。間接的に結合しているとは、第1反応性基が、連結基を介してケイ素に結合していることを言う。第1反応性基は、下地層が有する官能基の種類に応じて選択される。第1反応性基としては、例えば、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ビニル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、エポキシ基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基、メルカプト基などが挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのC1−6アルコキシ基(中でも、C1−4アルコキシ基)が好ましい。エポキシ基には、グリシドキシ基、エポキシシクロアルキル基などが含まれる。フッ素含有硬化性樹脂は、一種の第1反応性基を有するものであってもよく、二種以上の第1反応性基を有するものであってもよい。また、フッ素含有硬化性樹脂は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。二種以上のフッ素含有硬化性樹脂を用いる場合、第1反応性基の種類は同じであってもよく、異なっていてもよい。なお、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基を合わせて(メタ)アクリロイルオキシ基と呼ぶものとする。 The first layer is composed of a cured product of a composition containing a fluorine-containing curable resin having a silicon-bonded first reactive group. The first reactive group may be directly bonded to silicon or indirectly bonded to silicon. Indirectly bonded means that the first reactive group is bonded to silicon via a linking group. The first reactive group is selected according to the type of functional group contained in the underlayer. Examples of the first reactive group include an alkoxy group, a hydroxy group, a vinyl group, a (meth) acryloyloxy group, an epoxy group, an amino group, a ureido group, an isocyanate group and a mercapto group. As the alkoxy group, a C 1-6 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group and a butoxy group (among others, a C 1-4 alkoxy group) is preferable. The epoxy group includes a glycidoxy group, an epoxycycloalkyl group and the like. The fluorine-containing curable resin may have one kind of first reactive group, or may have two or more kinds of first reactive groups. The fluorine-containing curable resin may be used alone or in combination of two or more. When using two or more kinds of fluorine-containing curable resins, the types of the first reactive groups may be the same or different. The acryloyloxy group and the methacryloyloxy group are collectively referred to as a (meth) acryloyloxy group.

連結基としては、ケイ素と反応性基とを連結できればよく、例えば、2価の炭化水素基、ジアルキルアミンに対応する2価基などが挙げられる。2価の炭化水素基としては、例えば、直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基、アリーレン基、アレーンジアルキレン基などが挙げられる。アルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、ブチレンなどのC1-6アルキレン基(C1-4アルキレン基など)が挙げられる。アリーレン基としては、フェニレン、トリレン、ナフチレン基などのC6-14アリーレン基などが挙げられる。アレーンジアルキレン基としては、例えば、キシリレン基などのC6-10アレーンジC1-4アルキレン基などが挙げられる。しかし、連結基は、これらに限定されるものではない。 The linking group may be any group as long as it can link silicon and a reactive group, and examples thereof include a divalent hydrocarbon group and a divalent group corresponding to a dialkylamine. Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group, an arylene group, an arene dialkylene group, and the like. Examples of the alkylene group include C 1-6 alkylene groups such as methylene, ethylene, propylene, trimethylene, and butylene (C 1-4 alkylene groups, etc.). Examples of the arylene group include C 6-14 arylene groups such as phenylene, tolylene and naphthylene groups. Examples of the arenedialkylene group include C 6-10 arenedi C 1-4 alkylene groups such as a xylylene group. However, the linking group is not limited to these.

中でも、第1反応性基がケイ素に結合した基として、シラノール基(Si−OH)、アルコキシシリル基(Si−OR)、ビニルシリル基(Si−CH=CH)などが好ましい。Rは、アルコキシ基に対応するアルキル基である。アルコキシ基−ORとしては上記で例示のアルコキシ基が挙げられる。 Among them, as the group first reactive group is bonded to a silicon, a silanol group (Si-OH), alkoxysilyl groups (Si-OR), vinylsilyl (Si-CH = CH 2), etc. are preferable. R is an alkyl group corresponding to an alkoxy group. Examples of the alkoxy group —OR include the alkoxy groups exemplified above.

光造形用トレイでは、第1反応性基と下地層の官能基との反応または相互作用により形成される残基が、第1層と下地層との界面およびその近傍に存在することになる。このような残基の存在により、第1層と下地層との間の密着性を確保することができ、第1層の剥離が抑制される。第1反応性基と下地層の官能基(または後述の第2反応性基)との反応としては、例えば、(a)エポキシ基と、アミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシ基との反応、(b)アミノ基と、塩素原子、酸クロライド基、エポキシ基、イソシアネート基、ヒドロキシ基、アミノ基、スルホン酸基、またはカルボキシ基との反応、(c)ビニル基のグラフト化反応、(d)(メタ)アクリロイルオキシ基と、重合性不飽和炭素炭素結合を有する官能基との重合反応、(e)イソシアネート基と、アミノ基、ヒドロキシ基、またはカルボキシ基との反応、メルカプト基と、酸アミドまたは炭素炭素二重結合を有する官能基との反応などが挙げられる。また、第1反応性基と下地層の官能基との反応としては、第1反応性基と第2反応性基との縮合反応、または第1反応性基と第2反応性基との付加反応を利用することで残基を形成してもよい。このような反応としては、(f)第1反応性基としてのアルコキシ基またはヒドロキシ基を利用した縮合反応、(g)第1反応性基としてのビニル基を利用した付加反応なども挙げられる。反応(f)について、フッ素含有硬化性樹脂がシラノール基またはアルコキシシリル基を有する場合、シラノール基同士またはアルコキシシリル基同士の縮合反応を利用して下地層の官能基と反応させることができる。また、反応(g)について、フッ素含有硬化性樹脂がビニルシリル基を有する場合、ビニルシリル基とヒドロシリル基との付加反応を利用して下地層の官能基と反応させることができる。第1反応性基と下地層の官能基との付加反応を利用する場合、第1層と下地層との密着性をさらに高めることができる。また、付加反応の場合、第1層の硬化後、第1層の表面には、第1反応性基が残存した状態となり難いため、第1層による高い離型性をさらに確保し易くなる。   In the tray for stereolithography, the residue formed by the reaction or interaction between the first reactive group and the functional group of the underlayer is present at the interface between the first layer and the underlayer and its vicinity. Due to the presence of such a residue, adhesion between the first layer and the underlayer can be secured, and peeling of the first layer is suppressed. Examples of the reaction between the first reactive group and the functional group of the underlayer (or the second reactive group described later) include (a) a reaction between an epoxy group and an amino group, a hydroxy group or a carboxy group, (b) ) Reaction of amino group with chlorine atom, acid chloride group, epoxy group, isocyanate group, hydroxy group, amino group, sulfonic acid group, or carboxy group, (c) grafting reaction of vinyl group, (d) (meta ) Polymerization reaction of an acryloyloxy group and a functional group having a polymerizable unsaturated carbon-carbon bond, (e) reaction of an isocyanate group with an amino group, a hydroxy group, or a carboxy group, a mercapto group, an acid amide or carbon Examples thereof include reaction with a functional group having a carbon double bond. Further, as the reaction between the first reactive group and the functional group of the underlayer, a condensation reaction between the first reactive group and the second reactive group, or an addition between the first reactive group and the second reactive group The residue may be formed by utilizing a reaction. Examples of such a reaction include (f) a condensation reaction using an alkoxy group or a hydroxy group as the first reactive group, and (g) an addition reaction using a vinyl group as the first reactive group. Regarding the reaction (f), when the fluorine-containing curable resin has a silanol group or an alkoxysilyl group, it can be reacted with the functional group of the underlayer by utilizing the condensation reaction between silanol groups or alkoxysilyl groups. Regarding the reaction (g), when the fluorine-containing curable resin has a vinylsilyl group, it can be reacted with the functional group of the underlayer by utilizing the addition reaction between the vinylsilyl group and the hydrosilyl group. When the addition reaction between the first reactive group and the functional group of the underlayer is used, the adhesion between the first layer and the underlayer can be further enhanced. In addition, in the case of the addition reaction, since it is difficult for the first reactive group to remain on the surface of the first layer after the curing of the first layer, it becomes easier to secure high releasability by the first layer.

フッ素含有硬化性樹脂は、ケイ素と、ケイ素に直接または間接的に結合した第1反応性基と、フッ素とを含み、光硬化性であれば、その骨格は特に制限されない。光硬化パターンを損傷なく取り出し易い観点からは、第1層を構成する硬化物が、ゴム弾性を有することが好ましい。中でも、第1層は、フッ素含有シリコーンゴムで構成することが好ましい。フッ素含有シリコーンゴムは、フッ化アルキレンユニットを含むことが好ましい。光硬化性材料の第1層への浸透を抑制しながら、適度なゴム弾性を確保する観点から、フッ素含有シリコーンゴムは、フッ化アルキレンユニットとして、少なくともパーフッ化アルキレンユニットを含むことが好ましい。フッ素含有シリコーンゴムは、パーフッ化アルキレンユニットとして、テトラフルオロエチレンユニットを含んでもよいが、適度なゴム弾性を確保し易い観点から、ヘキサフルオロプロピレンユニットを少なくとも含むことが好ましい。フッ化アルキレンユニットは、フッ素含有シリコーンゴムに、フッ化アルキレンユニットの繰り返し構造として含まれていてもよく、フッ化アルキレンオキサイドユニットの繰り返し構造として含まれていてもよく、これらの双方として含まれていてもよい。   The fluorine-containing curable resin contains silicon, a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon, and fluorine, and its skeleton is not particularly limited as long as it is photocurable. From the viewpoint of easily taking out the photo-cured pattern without damage, the cured product forming the first layer preferably has rubber elasticity. Above all, the first layer is preferably composed of fluorine-containing silicone rubber. The fluorine-containing silicone rubber preferably contains an alkylene fluoride unit. From the viewpoint of securing appropriate rubber elasticity while suppressing the penetration of the photocurable material into the first layer, the fluorine-containing silicone rubber preferably contains at least a perfluorinated alkylene unit as the fluorinated alkylene unit. The fluorine-containing silicone rubber may contain a tetrafluoroethylene unit as the perfluorinated alkylene unit, but preferably contains at least a hexafluoropropylene unit from the viewpoint of easily securing an appropriate rubber elasticity. The fluorinated alkylene unit may be included in the fluorine-containing silicone rubber as a repeating structure of a fluorinated alkylene unit, may be included as a repeating structure of a fluorinated alkylene oxide unit, or is included as both of these. May be.

フッ素含有硬化性樹脂としては、市販品を用いてもよく、公知の合成方法またはその組み合わせにより合成したものを用いてもよい。フッ素含有シリコーンゴムとしては、例えば、フッ化アルキレンユニットまたはフッ化アルキレンオキサイドユニットの繰り返し構造と両末端のビニルシリル基とを有する化合物、フッ化アルキレンユニットまたはフッ化アルキレンオキサイドユニットの繰り返し構造と両末端のヒドロシリル基とを有する化合物、ヒドロシリル化反応触媒、希釈剤(溶剤)などを混合することにより得られる組成物を用いてもよい。ヒドロシリル化反応触媒としては、例えば、白金系触媒(例えば、白金族金属(カーボンやアルミナなどの担体に担持されたものも含む)、白金族金属を含む錯体など)が用いられるが、これらに限定されるものではない。このようなフッ素含有シリコーンゴムの製法としては、例えば、特開2008−115277号公報の含フッ素エラストマー組成物の調製方法を参照できる。フッ化アルキレンユニットまたはフッ化アルキレンオキサイドユニットの繰り返し構造と、両末端のビニルシリル基またはヒドロシリル基とを有する化合物としては、市販品を用いてもよく、公知の合成法を用いて合成したものを用いてもよい。ビニルシリル基またはヒドロシリル基は、例えば、カップリング剤などを用いてフッ化アルキレンユニットまたはフッ化アルキレンオキサイドユニットの繰り返し構造を有する主鎖の末端に導入できるが、この場合に限定されるものではない。   As the fluorine-containing curable resin, a commercially available product may be used, or a resin synthesized by a known synthesis method or a combination thereof may be used. The fluorine-containing silicone rubber, for example, a compound having a repeating structure of a fluorinated alkylene unit or a fluorinated alkylene oxide unit and vinylsilyl groups at both ends, a fluorinated alkylene unit or a repeating structure of a fluorinated alkylene oxide unit and both ends of A composition obtained by mixing a compound having a hydrosilyl group, a hydrosilylation reaction catalyst, a diluent (solvent) and the like may be used. As the hydrosilylation reaction catalyst, for example, a platinum-based catalyst (for example, platinum group metal (including those supported on a carrier such as carbon or alumina), a platinum group metal-containing complex, etc.) is used, but is not limited thereto. It is not something that will be done. As a method for producing such a fluorine-containing silicone rubber, for example, the method for preparing a fluorine-containing elastomer composition described in JP 2008-115277 A can be referred to. As the compound having a repeating structure of a fluorinated alkylene unit or a fluorinated alkylene oxide unit and a vinylsilyl group or a hydrosilyl group at both ends, a commercially available product may be used, and a compound synthesized using a known synthesis method is used. You may. The vinylsilyl group or the hydrosilyl group can be introduced into the terminal of the main chain having a repeating structure of a fluorinated alkylene unit or a fluorinated alkylene oxide unit by using, for example, a coupling agent, but is not limited to this case.

第1層を形成する硬化物の23℃におけるショアA硬度は、第1層のゴム弾性を確保する観点から、例えば、80以下であり、60以下であることが好ましく、55以下または50以下であることがさらに好ましい。光硬化パターンをスムーズに剥離させ易い観点から、硬化物の23℃におけるショアA硬度は、1以上であることが好ましい。   The Shore A hardness of the cured product forming the first layer at 23 ° C. is, for example, 80 or less, preferably 60 or less, and 55 or less or 50 or less from the viewpoint of ensuring the rubber elasticity of the first layer. It is more preferable that there is. The Shore A hardness at 23 ° C. of the cured product is preferably 1 or more from the viewpoint of easily peeling off the photocured pattern smoothly.

本明細書中、硬化物のショアA硬度は、JIS K6253:2012に準拠して、市販のデュロメーター(タイプAデュロメーター)を用いて、下記の条件で測定できる。その他の条件は、JIS K6253:2012に従う。
試験温度:23℃
加圧板および押針:JIS K6253:2012に記載のタイプAの加圧板および押針
荷重:1kg
試験片(硬化物)のサイズ:縦30mm×横40mm×厚み4mm以上(具体的には、4mm)
測定位置:試験片の端から押針の先端までの距離5mm
測定時間:加圧板を試験片に接触させた後、5秒後に測定
測定点数:5点
In the present specification, the Shore A hardness of the cured product can be measured according to JIS K6253: 2012 using a commercially available durometer (type A durometer) under the following conditions. Other conditions are in accordance with JIS K6253: 2012.
Test temperature: 23 ℃
Pressure plate and push needle: Type A pressure plate and push needle described in JIS K6253: 2012 Load: 1 kg
Size of test piece (cured product): length 30 mm x width 40 mm x thickness 4 mm or more (specifically, 4 mm)
Measurement position: Distance 5mm from the end of the test piece to the tip of the push needle
Measurement time: 5 seconds after contacting the test piece with the pressure plate Measurement points: 5 points

第1層は、必要に応じて、離型層に配合されるような公知の成分を含むことができる。   The 1st layer can contain the well-known component as mix | blended with a mold release layer as needed.

第1層の厚みは、例えば、1μm以上であり、10μm以上または20μm以上としてもよい。第1層の厚みは、30μm以上が好ましく、40μm以上がさらに好ましい。第1層の厚みは、例えば、3cm以下であり、1cm以下であってもよく、1000μm以下または100μm以下であってもよい。第1層の厚みがこのような範囲である場合、光硬化性材料の浸透を抑制しながらも、第1層の適度な弾性が得られやすく、光硬化パターンを剥離し易い。よって、光硬化性材料の光硬化と第1層からの光硬化パターンの剥離とを繰り返しても第1層の離型性を確保し易い。下地層がトレイ本体である場合、第1層の厚みは、10μm以上とすることが好ましい。下地層が第2層である場合、第1層の厚みは、30μm以上または40μm以上が好ましく、1mm以下または100μm以下としてもよい。
これらの下限値と上限値とは任意に組み合わせることができる。
The thickness of the first layer is, for example, 1 μm or more, and may be 10 μm or more or 20 μm or more. The thickness of the first layer is preferably 30 μm or more, more preferably 40 μm or more. The thickness of the first layer is, for example, 3 cm or less, may be 1 cm or less, and may be 1000 μm or less or 100 μm or less. When the thickness of the first layer is in such a range, appropriate elasticity of the first layer is easily obtained while suppressing the penetration of the photocurable material, and the photocured pattern is easily peeled off. Therefore, the releasability of the first layer can be easily ensured even if the photocuring of the photocurable material and the peeling of the photocurable pattern from the first layer are repeated. When the underlying layer is the tray body, the thickness of the first layer is preferably 10 μm or more. When the underlayer is the second layer, the thickness of the first layer is preferably 30 μm or more or 40 μm or more, and may be 1 mm or less or 100 μm or less.
The lower limit value and the upper limit value can be arbitrarily combined.

第1層の厚みは、1μm以上(または10μm以上)3cm以下、1μm以上(または10μm以上)1cm以下、1μm以上(または10μm以上)1000μm以下、1μm以上(または10μm以上)100μm以下、20μm以上(または30μm以上)3cm以下、20μm以上(または30μm以上)1cm以下、20μm以上(または30μm以上)1000μm以下、20μm以上(または30μm以上)100μm以下、40μm以上3cm以下(または1cm以下)、あるいは40μm以上1000μm以下(または100μm以下)であってもよい。   The thickness of the first layer is 1 μm or more (or 10 μm or more) 3 cm or less, 1 μm or more (or 10 μm or more) 1 cm or less, 1 μm or more (or 10 μm or more) 1000 μm or less, 1 μm or more (or 10 μm or more) 100 μm or less, 20 μm or more ( Or 30 μm or more) 3 cm or less, 20 μm or more (or 30 μm or more) 1 cm or less, 20 μm or more (or 30 μm or more) 1000 μm or less, 20 μm or more (or 30 μm or more) 100 μm or less, 40 μm or more 3 cm or less (or 1 cm or less), or 40 μm or more It may be 1000 μm or less (or 100 μm or less).

第1層の厚みは、第1層の厚み方向に平行な断面写真から求められる。断面写真において、第1層の任意の複数箇所(例えば、5箇所)について厚みを測定し、平均化することにより第1層の厚みが求められる。   The thickness of the first layer is obtained from a photograph of a cross section parallel to the thickness direction of the first layer. In the cross-sectional photograph, the thickness of the first layer is obtained by measuring and averaging the thickness at arbitrary plural points (for example, 5 points) of the first layer.

特許文献2では、離型層を構成する樹脂層に酸素透過性を付与し、樹脂層が大気中に露出する酸素供給窓を設けている。特許文献2では、酸素供給窓から供給される酸素により離型層と光硬化性材料との界面付近における硬化反応が阻害されることで、光硬化パターンの離型層に対する剥離を容易にしている。それに対し、本発明の上記局面に係る光造形用トレイでは、特定の材料を第1層に用いるとともに、光硬化性材料の第1層への浸透が抑制されることで、第1層の光硬化性材料との接触面において優れた離型性を確保することができる。よって、上記局面に係る光造形用トレイでは、第1層(および第2層の双方)に上記のような酸素供給窓を設ける必要がない。   In Patent Document 2, oxygen permeability is imparted to the resin layer forming the release layer, and an oxygen supply window through which the resin layer is exposed to the atmosphere is provided. In Patent Document 2, the curing reaction in the vicinity of the interface between the release layer and the photocurable material is inhibited by oxygen supplied from the oxygen supply window, thereby facilitating the peeling of the photocuring pattern from the release layer. .. On the other hand, in the stereolithography tray according to the above aspect of the present invention, the specific material is used for the first layer, and the penetration of the photocurable material into the first layer is suppressed, whereby the light of the first layer is suppressed. Excellent releasability can be secured on the contact surface with the curable material. Therefore, in the tray for stereolithography according to the above aspect, it is not necessary to provide the oxygen supply window as described above in the first layer (and the second layer).

なお、酸素供給窓とは、第1層および/または第2層に酸素を供給するために、大気中に露出する部分である。つまり、酸素供給窓は、光造形用トレイに光硬化性材料を収容した後は、光硬化性材料と接触することなく大気中に露出した状態とする必要がある。そのため、本発明の上記局面に係る光造形用トレイでは、光造形を行う間、光硬化性材料を収容した後、第1層(および第2層の双方)が大気中に露出しない状態とすることが好ましい。このような観点からは、第1層(および第2層)は、いずれもトレイ本体の内底面を覆うように形成することが好ましい。トレイ本体の内側の側面が第1層と接触する部分の高さと、第1層の厚みとの差は、小さいことが好ましく、この差が、例えば、1mm以下または100μm以下であることが好ましい。なお、下地層が第2層である場合には、トレイ本体の内側の側面が第1層および第2層の各層と接触する部分の高さの合計と、第1層および第2層の厚みの合計との差が、上記の範囲であることが好ましい。   The oxygen supply window is a portion exposed to the atmosphere in order to supply oxygen to the first layer and / or the second layer. That is, the oxygen supply window needs to be exposed to the atmosphere without coming into contact with the photocurable material after the photocurable material is stored in the stereolithography tray. Therefore, in the stereolithography tray according to the above aspect of the present invention, the first layer (and the second layer) is not exposed to the atmosphere after the photocurable material is housed during the stereolithography. Preferably. From this point of view, it is preferable that the first layer (and the second layer) be formed so as to cover the inner bottom surface of the tray body. The difference between the height of the portion where the inner side surface of the tray body contacts the first layer and the thickness of the first layer is preferably small, and this difference is preferably 1 mm or less or 100 μm or less. When the underlying layer is the second layer, the total height of the portions where the inner side surface of the tray body contacts the first layer and the second layer, and the thickness of the first layer and the second layer It is preferable that the difference from the sum of the above is within the above range.

第1層において、高い離型性が得られ易い観点からは、光硬化性材料との接触面の光硬化性材料に対する接触角が高い方が好ましい。このような第1層は、一般に、水に対する接触角も高いため、本明細書では、光硬化性材料に対する接触角に代えて、水に対する接触角を用いてその離型性を表すものとする。第1層の光硬化性材料との接触面の水に対する接触角は、例えば、90°よりも大きいことが好ましく、95°以上であることがさらに好ましく、100°以上であってもよい。   From the viewpoint of easily obtaining high releasability in the first layer, it is preferable that the contact angle of the contact surface with the photocurable material with respect to the photocurable material is high. Since such a first layer generally has a high contact angle with respect to water, in this specification, the releasability is expressed by using the contact angle with water instead of the contact angle with the photocurable material. .. The contact angle of water on the contact surface of the first layer with the photocurable material is, for example, preferably greater than 90 °, more preferably 95 ° or more, and may be 100 ° or more.

(第2層)
第2層を設ける場合、第2層が第1層との下地層となる。第2層は、第1層とトレイ本体との間において、光硬化性材料に照射される光がより均一となるように、少なくとも光が透過する領域に形成されていることが好ましい。同様の観点から、図2に示すように、トレイ本体の内底面全体を覆うように第2層が配され、この第2層のトレイ本体とは反対側の表面全体を覆うように第1層が配された状態であることがさらに好ましい。
(Second layer)
When the second layer is provided, the second layer serves as a base layer with the first layer. The second layer is preferably formed between at least the first layer and the tray body in at least a region through which light is transmitted so that the light applied to the photocurable material becomes more uniform. From the same viewpoint, as shown in FIG. 2, the second layer is arranged so as to cover the entire inner bottom surface of the tray body, and the first layer is arranged so as to cover the entire surface of the second layer opposite to the tray body. Is more preferably arranged.

第2層は、樹脂を含む。第2層は、少なくとも第1層が形成される段階で、第1層の第1反応性基と反応または相互作用する官能基を有するような材料で構成される。少なくとも第1層が形成される段階でこのような官能基が第2層に存在することにより、第1層と第2層との間の密着性が向上する。また、第1層への光硬化性材料の浸透が抑制されることで第1層の光硬化性材料との接触面の離型性が高まるため、光硬化パターンの形成と剥離とを繰り返しても、第1層および第2層がトレイ本体から剥離することも抑制される。   The second layer contains a resin. The second layer is composed of a material having a functional group that reacts or interacts with the first reactive group of the first layer at least at the stage where the first layer is formed. The presence of such a functional group in the second layer at least when the first layer is formed improves the adhesion between the first layer and the second layer. Further, since the permeation of the photo-curable material into the first layer is suppressed, the releasability of the contact surface of the first layer with the photo-curable material is enhanced, so that the formation of the photo-curable pattern and the peeling are repeated. Also, peeling of the first layer and the second layer from the tray body is suppressed.

官能基は、第1反応性基と反応または相互作用可能であればよく、第1反応性基の種類に応じて適宜選択される。官能基は、第1反応性基と反応する反応性基(第2反応性基)を含むことが好ましく、中でもケイ素に結合した第2反応性基を含むものが好ましい。このような場合、第1反応性基と第2反応性基との反応により、第1層と第2層との密着性をさらに高めることができる。少なくとも第1層が形成される段階で、第2層を構成する材料に含まれる上記の官能基および第2反応性基のそれぞれの種類は同じであってもよく、異なっていてもよい。ケイ素に結合した第2反応性基では、第2反応性基は、ケイ素に直接結合していてもよく、連結基を介して間接的に結合していてもよい。連結基としては、第1層について例示したものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   The functional group has only to be capable of reacting or interacting with the first reactive group, and is appropriately selected according to the type of the first reactive group. The functional group preferably contains a reactive group that reacts with the first reactive group (second reactive group), and particularly preferably contains a silicon-bonded second reactive group. In such a case, the adhesion between the first layer and the second layer can be further enhanced by the reaction between the first reactive group and the second reactive group. At least at the stage where the first layer is formed, the functional group and the second reactive group contained in the material forming the second layer may be the same or different. In the second reactive group bonded to silicon, the second reactive group may be directly bonded to silicon or indirectly bonded via a linking group. Examples of the connecting group include, but are not limited to, those exemplified for the first layer.

第2反応性基としては、第1反応性基の種類に応じて、上記反応(a)〜(e)について例示した反応性基が挙げられる。反応(a)を例に挙げて説明すると、第1反応性基がエポキシ基の場合、第2反応性基は、アミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシ基などである。反応(b)〜(e)についても、反応(a)の場合に準じて第2反応性基が挙げられる。反応(f)において、シラノール基同士の縮合反応を利用する場合、シラノール基に含まれるヒドロキシ基が第2反応性基として挙げられる。反応(f)において、アルコキシシリル基同士の縮合反応を利用する場合、アルコキシシリル基に含まれるアルコキシ基が第2反応性基として挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、第1層について例示したものから選択される。反応(g)では、ヒドロシリル基に含まれる水素原子を第2反応性基として挙げることができる。   Examples of the second reactive group include the reactive groups exemplified for the above reactions (a) to (e) depending on the type of the first reactive group. Explaining the reaction (a) as an example, when the first reactive group is an epoxy group, the second reactive group is an amino group, a hydroxy group or a carboxy group. Also in the reactions (b) to (e), the second reactive group can be mentioned according to the case of the reaction (a). When the condensation reaction between silanol groups is used in the reaction (f), the hydroxy group contained in the silanol groups is mentioned as the second reactive group. When the condensation reaction between alkoxysilyl groups is used in the reaction (f), the alkoxy group contained in the alkoxysilyl group is mentioned as the second reactive group. The alkoxy group is selected from those exemplified for the first layer, for example. In the reaction (g), the hydrogen atom contained in the hydrosilyl group can be mentioned as the second reactive group.

トレイ本体と第2層との界面およびその近傍には、必要に応じて、トレイ本体が有する官能基と第2層を構成する材料に由来する官能基(上記の官能基または第2反応性基も含む)とが反応または相互作用して残基が存在していてもよい。このような残基が形成されることで、第2層を形成する場合にも、トレイ本体と第2層および第1層との高い密着性を確保し易くなる。   At the interface between the tray main body and the second layer and in the vicinity thereof, if necessary, a functional group derived from the material constituting the tray main body and the material forming the second layer (the above-mentioned functional group or the second reactive group). May also be present) to produce a residue. By forming such a residue, it becomes easy to secure high adhesion between the tray body and the second layer and the first layer even when the second layer is formed.

第2層を構成する樹脂は、第1層が形成される段階で第2層が上記の官能基または第2反応性基を有するものであればよく、熱可塑性樹脂および/または硬化性樹脂が挙げられる。硬化性樹脂は、光硬化性樹脂であってもよく、熱硬化性樹脂であってもよい。なお、硬化性樹脂は、完成した光造形用トレイの第2層において硬化性樹脂の硬化物に変換されている。   The resin constituting the second layer may be any resin as long as the second layer has the above-mentioned functional group or second reactive group at the stage when the first layer is formed, and a thermoplastic resin and / or a curable resin may be used. Can be mentioned. The curable resin may be a photocurable resin or a thermosetting resin. The curable resin is converted into a cured product of the curable resin in the second layer of the completed stereolithography tray.

第2層を形成する樹脂としては、ゴム状重合体、フッ素樹脂、スチレン樹脂、オレフィン樹脂などが例示できる。第2樹脂は、単独重合体であってもよく、共重合体であってもよい。光硬化性パターンを損傷なく取り出し易い観点からは、第1層に加え、第2層もゴム弾性を有することが好ましい。このような観点から、第2層は、ゴム状重合体で形成されることが好ましい。第2層は、光透過性を有する必要もあるため、ゴム状重合体としては、例えば、シリコーンゴム、ニトリルゴムなどが好ましい。第2反応性基を導入し易い観点からは、第2層がシリコーンゴムで形成されることが好ましい。また、第2層をシリコーンゴムで形成すると、フッ素含有シリコーンゴムで形成される第1層との親和性も高いため、両層間の密着性を高める上で有利である。   Examples of the resin forming the second layer include rubber-like polymers, fluororesins, styrene resins, olefin resins and the like. The second resin may be a homopolymer or a copolymer. From the viewpoint of easily taking out the photocurable pattern without damage, it is preferable that the second layer also has rubber elasticity in addition to the first layer. From such a viewpoint, the second layer is preferably formed of a rubber-like polymer. Since the second layer also needs to have optical transparency, the rubber-like polymer is preferably, for example, silicone rubber or nitrile rubber. From the viewpoint of easy introduction of the second reactive group, the second layer is preferably formed of silicone rubber. Further, when the second layer is made of silicone rubber, it has a high affinity with the first layer made of fluorine-containing silicone rubber, which is advantageous in enhancing the adhesion between both layers.

第2層のゴム弾性を確保する観点から、第2層を形成する材料(硬化物など)の23℃におけるショアA硬度は、例えば、90以下であり、60以下または50以下であってもよい。硬化物の23℃におけるショアA硬度の下限は特に制限されないが、例えば、1以上である。   From the viewpoint of ensuring the rubber elasticity of the second layer, the Shore A hardness at 23 ° C. of the material forming the second layer (cured product or the like) is, for example, 90 or less, and may be 60 or less or 50 or less. .. The lower limit of Shore A hardness at 23 ° C. of the cured product is not particularly limited, but is, for example, 1 or more.

第2層を形成する場合、光透過性を確保し易い観点から、第1層と第2層の合計厚みは、例えば、5cm以下であり、3cm以下または1cm以下であってもよい。   When forming the second layer, the total thickness of the first layer and the second layer is, for example, 5 cm or less, and may be 3 cm or less or 1 cm or less, from the viewpoint of easily securing the light transmittance.

第1層の厚みの下地層(第2層)の厚みに対する比は、例えば、0.001〜1であり、0.001〜0.1であってもよく、0.001〜0.05または0.01〜0.05としてもよい。厚み比がこのような範囲である場合、第2層の適度な柔軟性および/または弾性などにより、光硬化パターンの第1層からの剥離が容易になる。また、第2層にシリコーンゴムなどの比較的安価な材料を用いることができるため、第1層と第2層との間の高い密着性を確保しながらも、コストを抑えることができる。
なお、第2層の厚みは、第1層の厚みの場合に準じて測定される。
The ratio of the thickness of the first layer to the thickness of the base layer (second layer) is, for example, 0.001 to 1, may be 0.001 to 0.1, or may be 0.001 to 0.05 or It may be 0.01 to 0.05. When the thickness ratio is within such a range, the photo-curing pattern can be easily peeled from the first layer due to appropriate flexibility and / or elasticity of the second layer. Further, since a relatively inexpensive material such as silicone rubber can be used for the second layer, the cost can be suppressed while ensuring high adhesion between the first layer and the second layer.
The thickness of the second layer is measured according to the case of the thickness of the first layer.

上述のように、本発明の上記局面によれば、第1層に加え、第2層にも、酸素供給窓を設けなくても高い離型性を確保できる。
第2層は、必要に応じて添加剤を含んでもよい。
As described above, according to the above aspect of the present invention, high releasability can be secured without providing an oxygen supply window in the second layer in addition to the first layer.
The second layer may contain an additive as required.

(トレイ本体)
トレイ本体の形状は、光硬化性材料を収容可能である限り特に制限されない。トレイ本体は、例えば、方形や円形などの形状を有する底部と、底部の周縁から高さ方向に延びる側壁とを備えている。トレイ本体は、例えば、皿やバットなどの形状を有している。
(Tray body)
The shape of the tray body is not particularly limited as long as it can accommodate the photocurable material. The tray main body includes, for example, a bottom having a shape such as a square or a circle, and a side wall extending in the height direction from the peripheral edge of the bottom. The tray body has, for example, a shape such as a plate or a bat.

プラットフォームのパターン形成面に向かって光硬化性材料に光源から照射される光を遮らないように、トレイ本体の底部の露光面およびその近傍の領域(好ましくはプラットフォームのパターン形成面の下方に位置する領域)は光源からの光を透過可能である。トレイ本体の底部の周縁部や側壁などは特に光源からの光を透過可能である必要はないが、トレイ本体全体を、光源からの光を透過可能(例えば、透明)にしてもよい。   The exposed surface of the bottom of the tray body and an area in the vicinity thereof (preferably located below the patterned surface of the platform) so as not to block the light emitted from the light source toward the patterned surface of the platform. The area) can transmit light from the light source. It is not necessary that the peripheral portion of the bottom portion of the tray body, the side wall, and the like be able to transmit the light from the light source, but the entire tray body may be able to transmit the light from the light source (for example, transparent).

トレイ本体は、例えば、樹脂などの有機材料、ガラスなどの無機材料などで構成される。トレイ本体の光が照射される領域は、樹脂および/またはガラスで構成される。トレイ本体を構成する樹脂としては、照射される光を透過可能な樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ゴム状重合体(シリコーンゴム、アクリルゴムなど)などが挙げられる。トレイ本体は、これらの材料を一種含んでいてもよく、二種以上含んでいてもよい。トレイ本体は、必要に応じて、公知の添加剤を含んでもよい。   The tray body is made of, for example, an organic material such as resin or an inorganic material such as glass. The light-irradiated area of the tray body is made of resin and / or glass. Examples of the resin that constitutes the tray body include resins that can transmit irradiated light, such as polycarbonate resin, acrylic resin, silicone resin, and rubber-like polymer (silicone rubber, acrylic rubber, etc.). The tray body may contain one kind of these materials, or may contain two or more kinds thereof. The tray body may contain known additives, if necessary.

第1層の下地層がトレイ本体である場合、トレイ本体は、少なくとも第1層が形成される段階で、第1層の第1反応性基と反応または相互作用する官能基を有するような材料で構成される。少なくとも第1層が形成される段階でこのような官能基がトレイ本体の少なくとも第1層側の表面に存在することにより、第1層と下地層であるトレイ本体との間の密着性が向上する。また、第1層への光硬化性材料の浸透が抑制されることで第1層の光硬化性材料との接触面の離型性が高まるため、光硬化パターンの形成と剥離とを繰り返しても、第1層がトレイ本体から剥離することも抑制される。   When the first base layer is the tray body, the tray body has a functional group that reacts or interacts with the first reactive group of the first layer at least at the stage when the first layer is formed. Composed of. The presence of such a functional group on the surface of at least the first layer side of the tray main body at least at the stage of forming the first layer improves the adhesion between the first layer and the tray main body as the underlayer. To do. Further, since the permeation of the photo-curable material into the first layer is suppressed, the releasability of the contact surface of the first layer with the photo-curable material is enhanced, so that the formation of the photo-curable pattern and the peeling are repeated. Also, peeling of the first layer from the tray body is suppressed.

官能基は、第1反応性基と反応または相互作用可能であればよく、第1反応性基の種類に応じて適宜選択される。官能基は、第1反応性基と反応する反応性基(第3反応性基)、例えば、ケイ素に結合した第3反応性基を含んでもよい。第3反応性基としては、第2反応性基についての記載が参照できる。   The functional group has only to be capable of reacting or interacting with the first reactive group, and is appropriately selected according to the type of the first reactive group. The functional group may include a reactive group that reacts with the first reactive group (third reactive group), for example, a silicon-bonded third reactive group. For the third reactive group, the description of the second reactive group can be referred to.

第1層および第2層に酸素供給窓が形成されないように、トレイ本体には、第1層および/または第2層が大気中に露出するような孔(または開口部)が形成されていないことが好ましい。   The tray body is not formed with holes (or openings) for exposing the first layer and / or the second layer to the atmosphere so that the oxygen supply window is not formed in the first layer and the second layer. Preferably.

本発明の上記局面に係る光造形用トレイは、例えば、図3の光造形用トレイ101に代えて用いることができ、既述の手順で光造形を行うことができる。
図3では、面露光方式の場合を例に挙げたが(工程(ii)および(iv))、露光方式については特に制限されず、点露光でも、面露光でもよい。光源としては、光硬化に使用される公知の光源が使用できる。点露光方式の場合には、例えば、プロッター式、ガルバノレーザ(またはガルバノスキャナ)方式、SLA(ステレオリソグラフィー)方式などが挙げられる。面露光方式の場合には、光源としてプロジェクタを用いると簡便である。プロジェクタとしては、LCD(透過型液晶)方式、LCoS(反射型液晶)方式、およびDLP(登録商標、Digital Light Processing)方式などが例示できる。露光波長は、光硬化性材料の成分の種類などに応じて適宜選択できる。
The stereolithography tray according to the above aspect of the present invention can be used, for example, in place of the stereolithography tray 101 in FIG. 3, and stereolithography can be performed by the procedure described above.
In FIG. 3, the case of the surface exposure method is taken as an example (steps (ii) and (iv)), but the exposure method is not particularly limited, and either point exposure or surface exposure may be used. As the light source, a known light source used for photocuring can be used. Examples of the point exposure method include a plotter method, a galvano laser (or galvano scanner) method, and an SLA (stereolithography) method. In the case of the surface exposure method, it is easy to use a projector as a light source. Examples of the projector include LCD (transmissive liquid crystal) system, LCoS (reflective liquid crystal) system, and DLP (registered trademark, Digital Light Processing) system. The exposure wavelength can be appropriately selected according to the type of components of the photocurable material.

[光硬化性材料]
光造形用トレイに収容される光硬化性材料は、光造形において使用される流動性を有する光硬化性材料であれば特に制限なく使用することができる。光硬化性材料は、例えば、光硬化性モノマー、光硬化性前駆体(光硬化性オリゴマー、光硬化性プレポリマーなど)を含んでおり、さらに光重合開始剤を含む場合もある。光硬化性材料は通常、室温(例えば、20〜35℃)で液状である。
[Photocurable material]
The photocurable material contained in the tray for stereolithography can be used without particular limitation as long as it is a photocurable material having fluidity used in stereolithography. The photocurable material includes, for example, a photocurable monomer and a photocurable precursor (photocurable oligomer, photocurable prepolymer, etc.), and may further include a photopolymerization initiator. The photocurable material is usually liquid at room temperature (for example, 20 to 35 ° C).

光硬化性モノマーとしては、光照射により発生したラジカルやカチオンなどの作用により硬化または重合可能なモノマーが使用される。ラジカル重合光硬化性モノマーとしては、重合性の官能基を複数有する多官能性モノマーが好ましい。光硬化性モノマーにおける重合性官能基の個数は、例えば、2〜8個である。重合性官能基としては、ビニル基、アリル基などの重合性炭素−炭素不飽和結合を有する基、エポキシ基などが例示できる。   As the photocurable monomer, a monomer that can be cured or polymerized by the action of radicals or cations generated by light irradiation is used. The radical polymerization photocurable monomer is preferably a polyfunctional monomer having a plurality of polymerizable functional groups. The number of polymerizable functional groups in the photocurable monomer is, for example, 2 to 8. Examples of the polymerizable functional group include a group having a polymerizable carbon-carbon unsaturated bond such as a vinyl group and an allyl group, and an epoxy group.

より具体的には、光硬化性モノマーとしては、例えば、アクリル系モノマーなどのラジカル重合性モノマー、エポキシ系モノマー、ビニル系モノマー、ジエン系モノマーなどのカチオン重合性モノマーなどが挙げられる。光硬化性モノマーは、一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。   More specifically, examples of the photocurable monomer include radical polymerizable monomers such as acrylic monomers, cationic polymerizable monomers such as epoxy monomers, vinyl monomers, and diene monomers. The photocurable monomers may be used alone or in combination of two or more.

アクリル系モノマーとしては、例えば、ポリオールの(メタ)アクリル酸エステルが使用される。ポリオールは、例えば、脂肪族ポリオールであってもよく、芳香環または脂肪族環を有してもよい。なお、本明細書中、アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルを、(メタ)アクリル酸エステルまたは(メタ)アクリレートと総称する。   As the acrylic monomer, for example, a (meth) acrylic acid ester of polyol is used. The polyol may be, for example, an aliphatic polyol, and may have an aromatic ring or an aliphatic ring. In the present specification, acrylic acid ester and methacrylic acid ester are collectively referred to as (meth) acrylic acid ester or (meth) acrylate.

ビニル系モノマーとしては、ポリオールポリ(ビニルエーテル)などのビニルエーテル、スチレンなどの芳香族ビニルモノマー、ビニルアルコキシシランなどが例示できる。ポリオールポリ(ビニルエーテル)を構成するポリオールとしては、アクリル系モノマーについて例示したポリオールが例示される。
ジエン系モノマーとしては、例えば、イソプレン、ブタジエンなどが挙げられる。
Examples of vinyl monomers include vinyl ethers such as polyol poly (vinyl ether), aromatic vinyl monomers such as styrene, and vinylalkoxysilanes. Examples of the polyol that constitutes the poly (vinyl ether) include the polyols exemplified for the acrylic monomer.
Examples of the diene-based monomer include isoprene and butadiene.

エポキシ系モノマーとしては、分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物を挙げることができる。エポキシ系モノマーは、例えば、エポキシシクロヘキサン環または2,3−エポキシプロピロキシ基を含むものであってよい。   Examples of the epoxy-based monomer include compounds having two or more epoxy groups in the molecule. The epoxy-based monomer may include, for example, an epoxycyclohexane ring or a 2,3-epoxypropoxy group.

光硬化性前駆体としては、前記例示の光重合性モノマーのオリゴマー、ウレタンアクリレート系オリゴマー、ジアリルフタレートプレポリマーなどが例示できる。これらは、光重合によりさらに高分子量化が可能である。ジアリルフタレートプレポリマーは、複数のジアリルフタレートユニットが連なったオリゴマーまたはポリマーである。ジアリルフタレートプレポリマーは、一種のジアリルフタレートユニットを含んでもよく、二種以上のジアリルフタレートユニットを含んでもよい。二種以上のジアリルフタレートユニットとは、例えば、アリルオキシカルボニル基の置換位置が異なる複数のジアリルフタレートユニットが挙げられる。なお、o−ジアリルフタレートユニットの連結鎖を含むオルソ型ジアリルフタレートプレポリマー、m−ジアリルフタレートユニットの連結鎖を含むイソ型ジアリルフタレートプレポリマーなどを用いてもよい。   Examples of the photocurable precursor include oligomers of the above-exemplified photopolymerizable monomers, urethane acrylate oligomers, diallyl phthalate prepolymers, and the like. These can be made higher in molecular weight by photopolymerization. The diallyl phthalate prepolymer is an oligomer or polymer in which a plurality of diallyl phthalate units are connected. The diallyl phthalate prepolymer may contain one kind of diallyl phthalate unit, or may contain two or more kinds of diallyl phthalate units. The two or more types of diallyl phthalate units include, for example, a plurality of diallyl phthalate units having different substitution positions of allyloxycarbonyl groups. In addition, you may use the ortho type diallyl phthalate prepolymer containing the connecting chain of o-diallyl phthalate unit, the iso type diallyl phthalate prepolymer containing the connecting chain of m-diallyl phthalate unit, etc.

光硬化性前駆体の重量平均分子量は、例えば、5,000〜150,000であり、10,000〜150,000または30,000〜150,000であってもよい。
本明細書中、平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン基準の平均分子量である。
The weight average molecular weight of the photocurable precursor is, for example, 5,000 to 150,000, and may be 10,000 to 150,000 or 30,000 to 150,000.
In the present specification, the average molecular weight is an average molecular weight based on polystyrene measured by gel permeation chromatography.

非芳香族性の骨格(例えば、脂肪族骨格および/または脂環族骨格)を有する硬化性樹脂を含む光硬化性材料を用いる場合、従来のシリコーンゴム製などの離型層に浸透し易い。そのため、光硬化パターンの形成と離型層からの剥離とを繰り返すうちに、離型層の白化などの劣化が顕著になり、離型性が損なわれる。このような状態で光硬化パターンを剥離すると離型層に大きな剥離応力が加わり、離型層が光造形用トレイから剥離する。それに対し、本発明の上記局面によれば、非芳香族性の骨格を有する硬化性樹脂を含む光硬化性材料を用いる場合であっても第1層への浸透が抑制されるため、第1層の劣化を抑制でき、第1層の下地層からの剥離を抑制できる。   When a photocurable material containing a curable resin having a non-aromatic skeleton (for example, an aliphatic skeleton and / or an alicyclic skeleton) is used, it easily penetrates into a conventional release layer made of silicone rubber or the like. Therefore, during repeated formation of the photocurable pattern and peeling from the release layer, deterioration such as whitening of the release layer becomes remarkable, and the releasability is impaired. When the photo-curing pattern is peeled off in such a state, a large peeling stress is applied to the release layer, and the release layer is peeled off from the stereolithography tray. On the other hand, according to the above aspect of the present invention, even when a photocurable material containing a curable resin having a non-aromatic skeleton is used, penetration into the first layer is suppressed, The deterioration of the layer can be suppressed, and the peeling of the first layer from the underlayer can be suppressed.

光重合開始剤は、光の作用により活性化して、光硬化性モノマーおよび/または前駆体の重合を開始させる。光重合開始剤としては、例えば、光の作用によりラジカルを発生するラジカル重合開始剤のほか、光の作用により酸(またはカチオン)を生成するもの(具体的には、カチオン発生剤)が挙げられる。光重合開始剤は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。光重合開始剤は、光硬化性モノマーのタイプ、例えば、ラジカル重合性であるか、カチオン重合性であるかなどに応じて選択してもよい。ラジカル重合開始剤(ラジカル光重合開始剤)としては、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤などが挙げられる。   The photopolymerization initiator is activated by the action of light to start the polymerization of the photocurable monomer and / or precursor. Examples of the photopolymerization initiator include radical polymerization initiators that generate radicals by the action of light, and those that generate an acid (or cation) by the action of light (specifically, a cation generator). .. The photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. The photopolymerization initiator may be selected depending on the type of the photocurable monomer, for example, whether it is radically polymerizable or cationically polymerizable. Examples of the radical polymerization initiator (radical photopolymerization initiator) include alkylphenone photopolymerization initiators and acylphosphine oxide photopolymerization initiators.

光硬化性材料は、さらに、その他の公知の硬化性樹脂などを含んでもよい。
また、光硬化性材料は、公知の添加剤を含むことができる。
The photo-curable material may further contain other known curable resins.
Further, the photocurable material may include known additives.

[光造形用トレイの製造方法]
上記局面に係る光造形用トレイは、トレイ本体を準備する工程と、第1層の原料とする硬化性樹脂組成物の塗膜を形成する工程と、塗膜を硬化させて第1層を形成し、下地層に密着させる工程と、を含む製造方法により製造できる。第2層を配する場合には、製造方法は、さらに、塗膜形成工程の前に第2層を形成する工程を含む。以下に各工程についてより具体的に説明する。
[Method for manufacturing tray for stereolithography]
In the tray for stereolithography according to the above aspect, a step of preparing a tray body, a step of forming a coating film of a curable resin composition that is a raw material of the first layer, and a step of curing the coating film to form the first layer Then, it can be manufactured by a manufacturing method including a step of closely adhering to the underlayer. When disposing the second layer, the manufacturing method further includes a step of forming the second layer before the coating film forming step. Each step will be described more specifically below.

(トレイ本体の準備工程)
トレイ本体としては、市販のものを入手してもよく、トレイ本体を構成する材料を成形することにより製造してもよい。このようにしてトレイ本体が準備される。トレイ本体の材料としては、前述の樹脂および/またはガラスなどが使用される。トレイ本体が第1層の下地層となる場合には、トレイ本体を成形する際に、第1反応性基と反応または相互作用可能な官能基を有するとともに、成形後のトレイ本体の少なくとも表面(特に内側の表面)およびその近傍には官能基が残存するような材料を用いることが好ましい。
(Preparation process of tray body)
The tray body may be a commercially available one, or may be manufactured by molding the material forming the tray body. In this way, the tray body is prepared. As the material of the tray body, the above-mentioned resin and / or glass is used. When the tray body serves as the first underlayer, it has a functional group capable of reacting or interacting with the first reactive group when the tray body is molded, and at least the surface of the molded tray body ( In particular, it is preferable to use a material in which a functional group remains on the inner surface) and its vicinity.

トレイ本体は、少なくとも底部の露光面およびその近傍領域が光源からの光を透過可能となるように形成される。また、酸素供給窓を形成するような孔(または開口部)をトレイ本体に形成することなく準備することが好ましい。   The tray body is formed so that at least the exposed surface at the bottom and a region in the vicinity thereof can transmit light from the light source. Further, it is preferable to prepare without forming a hole (or an opening) for forming an oxygen supply window in the tray body.

(第2層形成工程)
第2層は、トレイ本体の露光面の反対側の面(つまり、トレイ本体の内底面)を覆うように形成される。第2層は、トレイ本体の内底面において、少なくとも露光面上に位置する部分に形成すればよく、図2に例示されるように内底面全体を覆うように形成してもよい。また、トレイ本体の内底面全体を覆うとともに、トレイ本体の内側壁の一部を覆うように第2層を形成してもよい。
(Second layer forming step)
The second layer is formed so as to cover the surface of the tray body opposite to the exposed surface (that is, the inner bottom surface of the tray body). The second layer may be formed on at least a portion of the inner bottom surface of the tray body located on the exposure surface, and may be formed so as to cover the entire inner bottom surface as illustrated in FIG. Further, the second layer may be formed so as to cover the entire inner bottom surface of the tray body and also cover a part of the inner side wall of the tray body.

第2層は、少なくとも、樹脂を含むコーティング剤を塗布することにより形成される。コーティング剤の塗布は、コーティング剤の塗布後、必要に応じて、乾燥を行ってもよい。乾燥は、大気圧下で行ってもよく、減圧下で行ってもよい。乾燥は、必要に応じて、加熱下で行うこともできる。   The second layer is formed by applying a coating agent containing at least a resin. The application of the coating agent may be performed after the application of the coating agent, if necessary. Drying may be performed under atmospheric pressure or under reduced pressure. Drying can also be performed under heating, if necessary.

例えば、樹脂として熱可塑性樹脂が用いられる場合、熱可塑性樹脂とこれを希釈する溶剤と必要に応じて添加剤などとを含むコーティング剤をトレイ本体の内底面の少なくとも一部に塗布し、乾燥することにより第2層を形成できる。   For example, when a thermoplastic resin is used as the resin, a coating agent containing the thermoplastic resin, a solvent for diluting the thermoplastic resin, and optionally additives is applied to at least a part of the inner bottom surface of the tray main body and dried. Thereby, the second layer can be formed.

樹脂として硬化性樹脂が用いられる場合、硬化性樹脂と、硬化剤、硬化促進剤、硬化触媒および/または重合開始剤などと、必要に応じて添加剤などとを含む硬化性樹脂組成物をコーティング剤として用い、塗布により形成される塗膜を硬化させることにより第2層が形成される。硬化は、必要により、加熱下および/または光照射下で行ってもよい。
硬化性樹脂組成物は、一液硬化型および二液硬化型のいずれであってもよい。
When a curable resin is used as the resin, it is coated with a curable resin composition containing a curable resin, a curing agent, a curing accelerator, a curing catalyst and / or a polymerization initiator, and optionally additives. The second layer is formed by using as an agent and curing the coating film formed by coating. The curing may be performed under heating and / or under irradiation of light, if necessary.
The curable resin composition may be either a one-component curing type or a two-component curing type.

硬化性樹脂組成物を用いる場合には、第1層を形成する際に、第1反応性基と反応する官能基を第2層が有する状態となるように、硬化状態を調節してもよい。例えば、後続の塗膜形成工程に供する際に、第2層が、例えば、半硬化状態または完全硬化状態となるように硬化状態を調節してもよい。硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、希釈用の溶剤を含んでもよい。溶剤は、硬化性樹脂組成物の構成成分の種類などに応じて選択できる。硬化性樹脂組成物を用いる場合にも、必要に応じて適当な段階で乾燥を行うことができる。   When the curable resin composition is used, when forming the first layer, the cured state may be adjusted so that the second layer has a functional group that reacts with the first reactive group. .. For example, when subjected to the subsequent coating film forming step, the cured state may be adjusted so that the second layer is in a semi-cured state or a fully cured state, for example. The curable resin composition may include a solvent for dilution, if necessary. The solvent can be selected according to the type of constituent components of the curable resin composition. Even when the curable resin composition is used, it can be dried at an appropriate stage if necessary.

乾燥および硬化の温度および時間は、第2層を構成する樹脂の種類、所望する硬化状態、および/または溶剤の種類などに応じて、決定すればよい。   The temperature and time for drying and curing may be determined according to the type of resin forming the second layer, the desired curing state, and / or the type of solvent.

第2層を形成する際に、トレイ本体が有する官能基と第2層を構成する材料に由来する官能基とを反応または相互作用させてもよい。例えば、コーティング材を硬化、乾燥および/または加熱する際に、各官能基間の反応または相互作用が進行して、残基が形成される。このような残基を形成することで、トレイ本体と、第2層(および第1層)との密着性を高めることができる。   When forming the second layer, the functional group of the tray main body and the functional group derived from the material forming the second layer may react or interact with each other. For example, when the coating material is cured, dried and / or heated, a reaction or interaction between the functional groups proceeds to form a residue. By forming such a residue, the adhesion between the tray body and the second layer (and the first layer) can be enhanced.

(塗膜形成工程)
本工程では、下地層上に、第1層の原料となる硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する。塗膜は、トレイ本体の露光面の反対側の面(つまり、トレイ本体の内底面)を覆うように形成される。塗膜は、トレイ本体の内底面において、少なくとも露光面上に位置する部分に形成すればよく、図1または図2に例示されるように内底面全体を覆うように形成してもよい。また、トレイ本体の内底面全体を覆うとともに、トレイ本体の内側壁の一部を覆うように塗膜を形成してもよい。塗膜は、トレイ本体の所定の箇所に直接形成してもよく、第2層を介して形成してもよい。
(Coating film formation process)
In this step, a curable resin composition, which is a raw material for the first layer, is applied onto the underlayer to form a coating film. The coating film is formed so as to cover the surface of the tray body opposite to the exposed surface (that is, the inner bottom surface of the tray body). The coating film may be formed on at least a portion of the inner bottom surface of the tray body located on the exposure surface, and may be formed so as to cover the entire inner bottom surface as illustrated in FIG. 1 or 2. Further, the coating film may be formed so as to cover the entire inner bottom surface of the tray body and also a part of the inner side wall of the tray body. The coating film may be formed directly on a predetermined portion of the tray body, or may be formed via the second layer.

硬化性樹脂組成物は、ケイ素に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含むとともに、室温(例えば、20〜35℃)で液状であればよい。硬化性樹脂組成物は、硬化性樹脂の種類に応じて、硬化剤、硬化促進剤、硬化触媒、および/または重合開始剤などを含んでいる。硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、添加剤など離型層に使用される公知の成分などを含んでいてもよい。   The curable resin composition may include a fluorine-containing curable resin having a silicon-bonded first reactive group and be liquid at room temperature (for example, 20 to 35 ° C.). The curable resin composition contains a curing agent, a curing accelerator, a curing catalyst, and / or a polymerization initiator, etc., depending on the type of the curable resin. The curable resin composition may contain known components used in the release layer, such as additives, if necessary.

硬化性樹脂組成物の25℃における粘度は、例えば、0.1mPa・s以上10Pa・s以下であり、0.1mPa・s以上1Pa・s以下であることが好ましく、0.1mPa・s以上500mPa・s以下であることがさらに好ましい。粘度がこのような範囲である場合、より均一な第1層を形成し易く、高い離型性を確保し易い。   The viscosity of the curable resin composition at 25 ° C. is, for example, 0.1 mPa · s or more and 10 Pa · s or less, preferably 0.1 mPa · s or more and 1 Pa · s or less, and 0.1 mPa · s or more 500 mPa -It is more preferable that it is s or less. When the viscosity is within such a range, it is easy to form a more uniform first layer, and it is easy to ensure high releasability.

硬化性樹脂組成物の粘度は、例えば、E型粘度計(東機産業社製、TVE−25)を用いて、下記の条件で測定することができる。
温度(循環水の温度):25℃
ロータ:コーンプレート(コーン角度1°34’)
サンプル量:1.0mL
ずり速度:3.83×ロータ回転数/s
回転速度:100rpm
The viscosity of the curable resin composition can be measured, for example, using an E-type viscometer (TVE-25 manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) under the following conditions.
Temperature (circulating water temperature): 25 ° C
Rotor: cone plate (cone angle 1 ° 34 ')
Sample volume: 1.0 mL
Shear speed: 3.83 x rotor speed / s
Rotation speed: 100 rpm

塗膜形成の前に、溶剤を用いて希釈することにより、硬化性樹脂組成物の粘度を調節してもよい。このとき、塗膜形成に供される硬化性樹脂組成物の粘度が上記の範囲になるように、希釈することが好ましい。溶剤は、硬化性樹脂組成物の構成成分の種類などに応じて選択される。溶剤を用いて希釈することにより、より均一な第1層を形成し易くなり、高い離型性を確保し易い。
硬化性樹脂組成物は、一液硬化型および二液硬化型のいずれであってもよい。
Before forming the coating film, the viscosity of the curable resin composition may be adjusted by diluting with a solvent. At this time, it is preferable to dilute the curable resin composition used for forming the coating film so that the viscosity thereof falls within the above range. The solvent is selected according to the type of constituent components of the curable resin composition and the like. By diluting with a solvent, it becomes easier to form a more uniform first layer, and it is easy to ensure high releasability.
The curable resin composition may be either a one-component curing type or a two-component curing type.

溶剤としては、後続の密着工程において除去できるように揮発性のものが好適に用いられる。溶剤としては、通常、有機溶剤が用いられるが、構成成分の種類および/または密着工程の温度などによっては水、または水と有機溶剤との混合物を用いることもできる。有機溶剤としては、例えば、炭化水素、アルコール、エーテル、エステル、ケトン、アミド、ニトリル、スルホンなどが挙げられる。溶剤としては、フッ素含有溶剤などのハロゲン含有溶剤を用いてもよい。ハロゲン含有溶剤は、通常、有機溶剤であり、上記例示の有機溶剤にフッ素原子などのハロゲン原子が導入されたものなどが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素、ヨウ素、および/または臭素原子が含まれる。フッ素含有硬化性樹脂との親和性が高い観点からは、フッ素含有溶剤が好ましく、フッ素原子と他のハロゲン原子(例えば、塩素原子など)とを含むハロゲン含有溶剤であってもよい。溶剤は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   As the solvent, a volatile solvent is preferably used so that it can be removed in the subsequent adhesion step. As the solvent, an organic solvent is usually used, but water or a mixture of water and an organic solvent may be used depending on the type of the constituent components and / or the temperature of the adhesion step. Examples of the organic solvent include hydrocarbon, alcohol, ether, ester, ketone, amide, nitrile, sulfone and the like. A halogen-containing solvent such as a fluorine-containing solvent may be used as the solvent. The halogen-containing solvent is usually an organic solvent, and examples thereof include those obtained by introducing a halogen atom such as a fluorine atom into the above-exemplified organic solvents. The halogen atom includes a fluorine atom, chlorine, iodine, and / or bromine atom. From the viewpoint of high affinity with the fluorine-containing curable resin, a fluorine-containing solvent is preferable, and a halogen-containing solvent containing a fluorine atom and another halogen atom (for example, a chlorine atom) may be used. As the solvent, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

塗膜を形成した後、必要に応じて、乾燥を行ってもよい。乾燥は、大気圧下で行ってもよく、減圧下で行ってもよい。乾燥は、必要に応じて、加熱下で行うこともできる。   After forming a coating film, you may dry as needed. Drying may be performed under atmospheric pressure or under reduced pressure. Drying can also be performed under heating, if necessary.

(密着工程)
本工程では、塗膜形成工程で形成された塗膜(具体的には、塗膜に含まれる硬化性樹脂組成物)を硬化させて、第1層を形成するとともに、下地層を構成する材料に由来する官能基と、第1反応性基とを反応または相互作用させて、第1層を下地層に密着させる。官能基と第1反応性基との反応または相互作用は、通常、硬化反応が進行する際に並行して起こるが、この場合に限定されるものではない。例えば、必要に応じて、硬化反応後、官能基と第1反応性基との反応または相互作用が進行するように、さらに加熱および/または光照射などを行ってもよい。官能基と第1反応性基とが反応または相互作用することで、残基が、下地層と第1層との界面およびその近傍に形成される。これにより、第1層と下地層との密着性を高めることができる。
(Adhesion process)
In this step, the coating film formed in the coating film forming step (specifically, the curable resin composition contained in the coating film) is cured to form the first layer and the material forming the underlayer. The functional group derived from and the first reactive group are reacted or interacted with each other to bring the first layer into close contact with the underlayer. The reaction or interaction between the functional group and the first reactive group usually occurs in parallel as the curing reaction proceeds, but is not limited thereto. For example, if necessary, heating and / or light irradiation may be further performed after the curing reaction so that the reaction or interaction between the functional group and the first reactive group proceeds. When the functional group and the first reactive group react or interact with each other, a residue is formed at the interface between the underlayer and the first layer and in the vicinity thereof. Thereby, the adhesiveness between the first layer and the base layer can be enhanced.

第1反応性基は、硬化反応などの間に、下地層の官能基、硬化性樹脂組成物中に含まれる反応成分などと反応する。これにより、第1層の光硬化性材料との接触面では、遊離の第1反応性基の残存量が低減され、高い離型性が確保される。中でも、ケイ素に結合した第1反応性基として、アルコキシシリル基、シラノール基、および/またはビニルシリル基(特に、ビニルシリル基)などを有するフッ素含有硬化性樹脂を用いる場合、第1層の光硬化性材料との接触面において高い離型性を確保する上で有利である。   The first reactive group reacts with the functional group of the underlayer, the reaction component contained in the curable resin composition, and the like during the curing reaction and the like. Thereby, on the contact surface of the first layer with the photocurable material, the residual amount of the free first reactive group is reduced, and high releasability is secured. In particular, when a fluorine-containing curable resin having an alkoxysilyl group, a silanol group, and / or a vinylsilyl group (particularly a vinylsilyl group) as the first reactive group bonded to silicon is used, the photocurability of the first layer This is advantageous in ensuring high releasability at the contact surface with the material.

硬化性樹脂組成物の硬化は、必要に応じて、加熱下および/または光照射下で行ってもよい。硬化の温度および時間は、硬化性樹脂組成物の組成および/または溶剤の種類などに応じて決定すればよい。
必要に応じて、本工程の適当な段階で乾燥を行ってもよい。乾燥は、大気圧下で行ってもよく、減圧下で行ってもよい。乾燥は、必要に応じて加熱下で行ってもよい。
Curing of the curable resin composition may be carried out under heating and / or irradiation with light, if necessary. The curing temperature and time may be determined according to the composition of the curable resin composition and / or the type of solvent.
If necessary, drying may be performed at an appropriate stage of this process. Drying may be performed under atmospheric pressure or under reduced pressure. Drying may be performed under heating, if necessary.

[実施例]
以下、本発明を実施例および比較例に基づいて具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[Example]
Hereinafter, the present invention will be specifically described based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

実施例1〜5
トレイ本体としてのアクリル樹脂製のバット(内側の縦16cm×横16cm×深さ4cm)に、両末端にヒドロシリル基を有するシリコーン付加型硬化ゴム(東レダウコーニング(株)製、Sylgard184)を注ぎ、室温(25℃)で24時間静置することで硬化させて、厚み4mmの第2層を形成した。なお、シリコーン付加型硬化ゴムの硬化物について既述の手順で測定したショアA硬度は、50である。
Examples 1-5
Acrylic resin vat (16 cm in width × 16 cm in width × 4 cm in depth) as a tray body was poured with a silicone addition type cured rubber having hydrosilyl groups at both ends (Toray Dow Corning Co., Sylgard 184), The second layer having a thickness of 4 mm was formed by curing by standing at room temperature (25 ° C.) for 24 hours. The Shore A hardness of the cured product of the silicone-added type cured rubber measured by the procedure described above is 50.

フッ素含有シリコーン付加型硬化ゴムを第2層上に塗布し、しばらく静置した後、80℃で1晩加熱することにより硬化させて、表1に示す厚みの第1層を形成した。このようにして、第1層およびその下地層として第2層とを有する光造形用トレイを形成した。なお、上記のフッ素含有シリコーン付加型硬化ゴムの硬化物(厚み4mm)について既述の手順で測定したショアA硬度は、31である。   A fluorine-containing silicone-added type cured rubber was applied onto the second layer, allowed to stand for a while, and then cured by heating at 80 ° C. overnight to form a first layer having a thickness shown in Table 1. In this way, a stereolithography tray having the first layer and the second layer as the underlying layer was formed. The Shore A hardness of the cured product (thickness: 4 mm) of the above-mentioned fluorine-containing silicone addition type cured rubber was 31, measured by the procedure described above.

なお、上記のフッ素含有シリコーン付加型硬化ゴムは、次の手順で調製した。
白金触媒を溶媒(ハイドロフルオロエーテルCOCH)に溶解させた溶液(白金濃度0.5質量%)と、ヘキサフルオロプロピレンオキサイドユニットの繰り返し構造を有するとともに、両末端にビニルシリル基を有する化合物とを混合することによりA液を調製した。白金触媒としては、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体を用いた。
The above-mentioned fluorine-containing silicone addition type cured rubber was prepared by the following procedure.
A solution (platinum concentration: 0.5% by mass) in which a platinum catalyst is dissolved in a solvent (hydrofluoroether C 4 F 9 OCH 3 ) and a repeating structure of hexafluoropropylene oxide units, and vinyl silyl groups at both ends Solution A was prepared by mixing with the compound. A platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex was used as the platinum catalyst.

フッ化アルキレンユニットの繰り返し構造を有するとともに、両末端にヒドロシリル基を有する化合物を溶媒(ハイドロフルオロエーテルCOCH)で希釈することによりB液を調製した。 A solution B was prepared by diluting a compound having a repeating structure of a fluorinated alkylene unit and having a hydrosilyl group at both ends with a solvent (hydrofluoroether C 4 F 9 OCH 3 ).

得られたB液と上記のA液とを混合することにより、フッ素含有シリコーン付加型硬化ゴム(エラストマー組成物)を調製した。   A fluorine-containing silicone addition type cured rubber (elastomer composition) was prepared by mixing the obtained solution B with the above solution A.

比較例1
実施例1と同様にしてトレイ本体内に、第2層を形成した。この第2層を有するトレイを、第1層を形成することなく、光造形用トレイとして用いた。これら以外は、実施例1と同様に操作を行った。
Comparative Example 1
A second layer was formed in the tray body in the same manner as in Example 1. The tray having the second layer was used as a tray for stereolithography without forming the first layer. Except for these, the same operation as in Example 1 was performed.

比較例2
実施例1と同様にしてトレイ本体内に、第2層を形成した。ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を含むフッ素系コーティング剤(住鉱潤滑剤(株)製、スミロン2250スプレーPFOAフリー)を第2層上に塗布して乾燥させることにより、厚み20μmの第1層を形成した。これら以外は、実施例1と同様に操作を行った。
Comparative example 2
A second layer was formed in the tray body in the same manner as in Example 1. A fluorine-based coating agent containing polytetrafluoroethylene (PTFE) (Sumiron Lubricant Co., Ltd., Sumiron 2250 Spray PFOA-free) was applied onto the second layer and dried to form a 20 μm-thick first layer Formed. Except for these, the same operation as in Example 1 was performed.

<評価>
実施例および比較例で得られた光造形用トレイを用いて、以下の手順でサンプルと接触していた層(実施例および比較例2では第1層、比較例1では第2層)における離型性およびサンプルと接触していた層の下地層に対する密着性を評価した。
<Evaluation>
Using the stereolithography trays obtained in the examples and the comparative examples, separation in the layer (the first layer in the examples and the comparative examples 2 and the second layer in the comparative examples 1) that was in contact with the sample was performed in the following procedure. The moldability and the adhesion of the layer in contact with the sample to the underlayer were evaluated.

(1)離型性
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100質量部に対して、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤(BASF社製、Irgacure819)3質量部を添加し、80℃で加熱することにより均一な液状材料(光硬化性材料)を得た。光硬化性材料を光造形用トレイに収容して光造形により外径18mmのシリンダー状サンプルを作製した。光造形は、SLA方式の3Dプリンタ(XYZプリンティング社製、Novel1.0A)を用いて、1層当たりの照射時間10秒およびz軸(高さ方向)のピッチ100μmの条件で行った。
(1) Releasability 3 parts by mass of an acylphosphine oxide photopolymerization initiator (manufactured by BASF, Irgacure819) is added to 100 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, and heated at 80 ° C. to obtain a uniform liquid state. A material (photocurable material) was obtained. A photo-curable material was housed in a tray for stereolithography, and a cylindrical sample having an outer diameter of 18 mm was produced by stereolithography. Stereolithography was performed using a SLA 3D printer (Novel 1.0A, manufactured by XYZ Printing Co.) under conditions of irradiation time per layer of 10 seconds and z-axis (height direction) pitch of 100 μm.

離型性の指標として、サンプル作製後のサンプルと接触していた層の状態または白化の程度を目視で観察し、下記の基準で評価した。
A:透明のままで白化が全く見られない。
B:サンプルと接触した箇所がわずかに白くなっている。
C:サンプルと接触した箇所が顕著に白くなっている。
D:1層目の硬化物を第1層から剥離させる際に、第1層が第2層から剥離し、三次元造形ができなかった。
As an index of releasability, the state of the layer in contact with the sample after preparation of the sample or the degree of whitening was visually observed and evaluated according to the following criteria.
A: It remains transparent and no whitening is observed.
B: The part in contact with the sample is slightly white.
C: The part in contact with the sample is remarkably white.
D: When the cured product of the first layer was peeled from the first layer, the first layer was peeled from the second layer, and three-dimensional modeling could not be performed.

(2)密着性
実施例または比較例2と同様にして作製した光造形用トレイの第1層に、1マス2mm×2mmのサイズに切り込みを入れた(クロスカットした)。切り込みを入れた部分の中心付近に、約75mmの長さにカットした幅25mmの透明感圧付着テープの長さ方向の中心付近が当たるように貼り付けた。このとき、テープの中心付近の少なくとも長さ20mmの部分が平らになるように、テープを第1層の切り込みを入れた部分に指で押しつけ、擦った。テープを付着させてから5分以内に、引き剥がした。このとき、テープを貼り付けたカット部分において、剥離した部分の割合(%)を求め、下記の基準で密着性を評価した。剥離した部分の割合が少ないほど、密着性が高いことを示す。
A:剥離した部分の割合が0%である。
B:剥離した部分の割合が0%を超え50%以下である。
C:剥離した部分の割合が50%を超える。
実施例および比較例の評価結果を表1に示す。
(2) Adhesiveness The first layer of the tray for stereolithography produced in the same manner as in Example or Comparative Example 2 was cut (cross-cut) into a size of 1 mm 2 mm × 2 mm. The transparent pressure-sensitive adhesive tape having a width of 25 mm, which was cut to a length of about 75 mm, was attached to the vicinity of the center of the notched portion so that the vicinity of the center in the length direction hits. At this time, the tape was rubbed by pressing it with a finger on the notched portion of the first layer so that at least a portion having a length of 20 mm near the center of the tape was flat. It was peeled off within 5 minutes after the tape was applied. At this time, in the cut portion where the tape was attached, the ratio (%) of the peeled portion was obtained, and the adhesion was evaluated according to the following criteria. The smaller the ratio of the peeled portion, the higher the adhesiveness.
A: The ratio of the peeled portion is 0%.
B: The ratio of the peeled portion is more than 0% and 50% or less.
C: The ratio of the peeled portion exceeds 50%.
Table 1 shows the evaluation results of the examples and comparative examples.

Figure 2020075499
Figure 2020075499

比較例1では、シリンダー状サンプルの高さが10cmのときに、サンプルと接触していた層に白化が見られ、高さが15cmのときには、顕著な白化が見られた。比較例2では、離型性の評価において、1層目の硬化物を第1層から剥離する際に、第1層が第2層から剥離してしまい、引き続き造形を行うことができなかった。また、比較例2では、密着性の試験において、第1層の全てが剥離した(剥離した部分の割合が100%であった)。   In Comparative Example 1, when the height of the cylindrical sample was 10 cm, whitening was observed in the layer in contact with the sample, and when the height was 15 cm, remarkable whitening was observed. In Comparative Example 2, in the evaluation of releasability, when the cured product of the first layer was peeled off from the first layer, the first layer was peeled off from the second layer, and it was not possible to continue molding. . Further, in Comparative Example 2, in the adhesion test, all of the first layer was peeled (the ratio of the peeled portion was 100%).

それに対し、実施例では、比較例に比べて離型性および密着性が大きく向上している。実施例1〜4では、高さ20cmのシリンダー状サンプルを形成しても、サンプルと接触していた第1層の白化は見られなかった。実施例5では、高さ15cmのシリンダー状サンプルを形成したときに、第1層表面のサンプルと接触していた部分がわずかに白くなっていた。また、実施例では、第1層の剥離は全く見られず、高い密着性を確保することができた。このような結果は、下地層の材料のヒドロシリル基と第1層の材料のビニルシリル基との付加反応により、第1層と下地層との密着性が大きく向上したことによるものと考えられる。   On the other hand, in the example, the releasability and the adhesion are greatly improved as compared with the comparative example. In Examples 1 to 4, even when a cylindrical sample having a height of 20 cm was formed, whitening of the first layer in contact with the sample was not observed. In Example 5, when a cylindrical sample having a height of 15 cm was formed, the portion of the surface of the first layer that was in contact with the sample was slightly white. Further, in the example, peeling of the first layer was not observed at all, and high adhesion could be secured. It is considered that such a result is due to the fact that the adhesion between the first layer and the underlayer is greatly improved by the addition reaction of the hydrosilyl group of the underlayer material and the vinylsilyl group of the first layer material.

本発明の上記局面に係る光造形用トレイは、光造形において、トレイの内底面に配された第1層から硬化物を剥離し易く、繰り返し使用しても、第1層が下地層から剥離することを抑制できる。よって、3Dプリンタなどを用いる三次元光造形装置に使用される光硬化性材料を収容するためのトレイ(または樹脂槽)として有用である。   In the stereolithography tray according to the above aspect of the present invention, in the stereolithography, the cured product is easily peeled off from the first layer arranged on the inner bottom surface of the tray, and even after repeated use, the first layer is peeled off from the underlayer. Can be suppressed. Therefore, it is useful as a tray (or a resin tank) for accommodating a photocurable material used in a three-dimensional stereolithography apparatus using a 3D printer or the like.

1、11、101:光造形用トレイ、1a、11a、101a:露光面、1b、11b、101b:トレイ本体の底部、1c、11c、101c:トレイ本体、1d、11d:第1層、101d:離型層、11e:第2層、102:光硬化性材料、102a:液膜、102b:二次元のパターン、104:プラットフォーム、104a:パターン形成面、105:光源、L:光   1, 11, 101: tray for stereolithography, 1a, 11a, 101a: exposed surface, 1b, 11b, 101b: bottom of tray body, 1c, 11c, 101c: tray body, 1d, 11d: first layer, 101d: Release layer, 11e: second layer, 102: photocurable material, 102a: liquid film, 102b: two-dimensional pattern, 104: platform, 104a: pattern forming surface, 105: light source, L: light

本発明の第1局面は、光造形において流動性を有する光硬化性材料を収容する光造形用トレイであって、
露光面を有するトレイ本体と、
前記トレイ本体の前記露光面の反対側の面を覆い、かつ前記光硬化性材料との接触面を有する第1層と、を備え、
前記第1層は、ケイ素に直接的または間接的に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含む組成物の硬化物で構成され、
前記第1層と、前記第1層の下地層との界面およびその近傍に、前記下地層を構成する材料に由来する官能基と前記第1反応性基とが反応または相互作用した残基が存在し、
前記官能基は、ケイ素に直接的または間接的に結合した第2反応性基を含み、
前記残基は、前記第1反応性基と前記第2反応性基との付加反応により形成される、光造形用トレイに関する。
本発明の第2局面は、光造形において流動性を有する光硬化性材料を収容する光造形用トレイであって、
露光面を有するトレイ本体と、
前記トレイ本体の前記露光面の反対側の面を覆い、かつ前記光硬化性材料との接触面を有する第1層と、を備え、
前記第1層は、ケイ素に直接的または間接的に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含む組成物の硬化物で構成され、
前記第1層と、前記第1層の下地層との界面およびその近傍に、前記下地層を構成する材料に由来する官能基と前記第1反応性基とが反応または相互作用した残基が存在し、
前記第1層は、フッ素含有シリコーンゴムで構成され、
前記下地層は、シリコーンゴムを含む、光造形用トレイに関する。
A first aspect of the present invention is a tray for stereolithography that contains a photocurable material having fluidity in stereolithography.
A tray body having an exposure surface,
A first layer covering a surface of the tray body opposite to the exposure surface, and having a contact surface with the photocurable material;
The first layer is composed of a cured product of a composition containing a fluorine-containing curable resin having a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon,
At the interface between the first layer and the underlayer of the first layer and in the vicinity thereof, a residue in which a functional group derived from the material forming the underlayer and the first reactive group react or interact with each other, Exists ,
The functional group includes a second reactive group directly or indirectly bonded to silicon,
The residue, the Ru is formed with the first reactive group by the addition reaction of the second reactive group, to a tray for optical stereolithography.
A second aspect of the present invention is a tray for stereolithography that accommodates a photocurable material having fluidity in stereolithography.
A tray body having an exposure surface,
A first layer covering a surface of the tray body opposite to the exposure surface, and having a contact surface with the photocurable material;
The first layer is composed of a cured product of a composition containing a fluorine-containing curable resin having a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon,
At the interface between the first layer and the underlayer of the first layer and in the vicinity thereof, a residue in which a functional group derived from the material forming the underlayer and the first reactive group react or interact with each other, Exists,
The first layer is made of fluorine-containing silicone rubber,
The underlayer relates to a stereolithography tray containing silicone rubber.

本発明の第3局面は、上記の光造形用トレイを製造する方法であって、
露光面を有するトレイ本体を準備する工程と、
前記トレイ本体の前記露光面の反対側の面を覆うように、ケイ素に直接的または間接的に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を硬化させて、前記光硬化性材料との接触面を有する第1層を形成するとともに、前記第1層の下地層を構成する材料に由来する官能基と、前記第1反応性基とを反応または相互作用させて、前記第1層を前記下地層に密着させる工程と、を含む、光造形用トレイの製造方法に関する。
本発明の第4局面は、光造形において流動性を有する光硬化性材料を収容する光造形用トレイを製造する方法であって、
露光面を有するトレイ本体を準備する工程と、
前記トレイ本体の前記露光面の反対側の面を覆うように、ケイ素に直接的または間接的に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含み、かつ、25℃において0.1mPa・s以上10Pa・s以下の粘度を有する硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を硬化させて、前記光硬化性材料との接触面を有する第1層を形成するとともに、前記第1層の下地層を構成する材料に由来する官能基と、前記第1反応性基とを反応または相互作用させて、前記第1層を前記下地層に密着させる工程と、を含み、
前記塗膜形成工程の前に、前記トレイ本体の前記露光面の反対側の面を覆うように、樹脂を含む第2層を形成する工程をさらに含み、
前記第1層は、前記第2層を前記下地層として形成し、
前記塗膜形成工程の前に、フッ素含有溶剤を含む溶剤を用いて希釈することにより、前記硬化性樹脂組成物の粘度を調節する、光造形用トレイの製造方法に関する。
A third aspect of the present invention is a method for manufacturing the above-mentioned stereolithography tray,
A step of preparing a tray body having an exposed surface,
A curable resin composition containing a fluorine-containing curable resin having a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon is applied so as to cover a surface of the tray body opposite to the exposed surface. A step of forming a coating film,
The coating film is cured to form a first layer having a contact surface with the photocurable material, and a functional group derived from the material forming the underlayer of the first layer and the first reactivity. And a step of reacting or interacting with a base to bring the first layer into close contact with the base layer.
A fourth aspect of the present invention is a method for manufacturing a stereolithography tray that contains a photocurable material having fluidity in stereolithography.
A step of preparing a tray body having an exposed surface,
A fluorine-containing curable resin having a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon so as to cover a surface of the tray body opposite to the exposed surface, and 0.1 mPa at 25 ° C. A step of forming a coating film by applying a curable resin composition having a viscosity of s or more and 10 Pa · s or less,
The coating film is cured to form a first layer having a contact surface with the photocurable material, and a functional group derived from the material forming the underlayer of the first layer and the first reactivity. Reacting or interacting with a group to bring the first layer into close contact with the underlayer,
Prior to the coating film forming step, a step of forming a second layer containing a resin so as to cover the surface of the tray body opposite to the exposed surface,
The first layer forms the second layer as the base layer,
Before the coating film forming step, the present invention relates to a method for producing a stereolithography tray in which the viscosity of the curable resin composition is adjusted by diluting with a solvent containing a fluorine-containing solvent.

Claims (13)

光造形において流動性を有する光硬化性材料を収容する光造形用トレイであって、
露光面を有するトレイ本体と、
前記トレイ本体の前記露光面の反対側の面を覆い、かつ前記光硬化性材料との接触面を有する第1層と、を備え、
前記第1層は、ケイ素に直接的または間接的に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含む組成物の硬化物で構成され、
前記第1層と、前記第1層の下地層との界面およびその近傍に、前記下地層を構成する材料に由来する官能基と前記第1反応性基とが反応または相互作用した残基が存在する、光造形用トレイ。
A tray for stereolithography containing a photocurable material having fluidity in stereolithography,
A tray body having an exposure surface,
A first layer covering a surface of the tray body opposite to the exposure surface, and having a contact surface with the photocurable material;
The first layer is composed of a cured product of a composition containing a fluorine-containing curable resin having a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon,
At the interface between the first layer and the underlayer of the first layer and in the vicinity thereof, a residue in which a functional group derived from the material forming the underlayer and the first reactive group react or interact with each other, An existing tray for stereolithography.
前記下地層は、前記トレイ本体、または前記トレイ本体と前記第1層との間に配された樹脂を含む第2層である、請求項1に記載の光造形用トレイ。   The tray for stereolithography according to claim 1, wherein the base layer is the tray main body or a second layer containing a resin disposed between the tray main body and the first layer. 前記下地層は、前記第2層であり、
前記第1層の厚みの、前記第2層の厚みに対する比は、0.001〜1である、請求項2に記載の光造形用トレイ。
The base layer is the second layer,
The stereolithography tray according to claim 2, wherein a ratio of the thickness of the first layer to the thickness of the second layer is 0.001 to 1.
前記第1層の厚みは、1μm以上1000μm以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光造形用トレイ。   The optical modeling tray according to claim 1, wherein the first layer has a thickness of 1 μm or more and 1000 μm or less. 前記官能基は、ケイ素に直接的または間接的に結合した第2反応性基を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光造形用トレイ。   The stereolithography tray according to claim 1, wherein the functional group includes a second reactive group directly or indirectly bonded to silicon. 前記残基は、前記第1反応性基と前記第2反応性基との付加反応により形成される、請求項5に記載の光造形用トレイ。   The stereolithography tray according to claim 5, wherein the residue is formed by an addition reaction between the first reactive group and the second reactive group. 前記硬化物の23℃におけるショアA硬度は、60以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の光造形用トレイ。   The stereolithography tray according to any one of claims 1 to 6, wherein the cured product has a Shore A hardness at 23 ° C of 60 or less. 前記第1層は、フッ素含有シリコーンゴムで構成され、
前記下地層は、シリコーンゴムを含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の光造形用トレイ。
The first layer is made of fluorine-containing silicone rubber,
The tray for stereolithography according to claim 1, wherein the base layer contains silicone rubber.
光造形において流動性を有する光硬化性材料を収容する光造形用トレイを製造する方法であって、
露光面を有するトレイ本体を準備する工程と、
前記トレイ本体の前記露光面の反対側の面を覆うように、ケイ素に直接的または間接的に結合した第1反応性基を有するフッ素含有硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を硬化させて、前記光硬化性材料との接触面を有する第1層を形成するとともに、前記第1層の下地層を構成する材料に由来する官能基と、前記第1反応性基とを反応または相互作用させて、前記第1層を前記下地層に密着させる工程と、を含む、光造形用トレイの製造方法。
A method of manufacturing a stereolithography tray containing a photocurable material having fluidity in stereolithography, comprising:
A step of preparing a tray body having an exposed surface,
A curable resin composition containing a fluorine-containing curable resin having a first reactive group directly or indirectly bonded to silicon is applied so as to cover a surface of the tray body opposite to the exposed surface. A step of forming a coating film,
The coating film is cured to form a first layer having a contact surface with the photocurable material, and a functional group derived from the material forming the underlayer of the first layer and the first reactivity. A step of reacting or interacting with a base to bring the first layer into close contact with the underlayer, and a method for producing a tray for stereolithography.
前記塗膜形成工程の前に、前記トレイ本体の前記露光面の反対側の面を覆うように、樹脂を含む第2層を形成する工程をさらに含み、
前記第2層を前記下地層として前記第1層を形成する、請求項9に記載の光造形用トレイの製造方法。
Prior to the coating film forming step, a step of forming a second layer containing a resin so as to cover the surface of the tray body opposite to the exposed surface,
The method for manufacturing a stereolithography tray according to claim 9, wherein the first layer is formed by using the second layer as the base layer.
前記硬化性樹脂組成物は、25℃において、0.1mPa・s以上10Pa・s以下の粘度を有する、請求項10に記載の光造形用トレイの製造方法。   The method for producing a stereolithography tray according to claim 10, wherein the curable resin composition has a viscosity of 0.1 mPa · s or more and 10 Pa · s or less at 25 ° C. 前記塗膜形成工程の前に、溶剤を用いて希釈することにより、前記硬化性樹脂組成物の粘度を調節する、請求項11に記載の光造形用トレイの製造方法。   The method for producing a stereolithography tray according to claim 11, wherein the viscosity of the curable resin composition is adjusted by diluting with a solvent before the coating film forming step. 前記溶剤は、フッ素含有溶剤を含む、請求項12に記載の光造形用トレイの製造方法。   The method for manufacturing a stereolithography tray according to claim 12, wherein the solvent contains a fluorine-containing solvent.
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