JP2020060419A - Foreign matter monitoring device and foreign matter monitoring method - Google Patents

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祐太郎 石橋
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Abstract

To provide a foreign matter monitoring device and foreign matter monitoring method capable of appropriately detecting the distribution of foreign matters in a manufacturing area.SOLUTION: A foreign matter monitoring device 1 includes: a foreign matter detection unit 2 for detecting the amount of foreign matters in a plurality of measurement places in a manufacturing area; a foreign matter distribution generation unit 3 for generating a foreign matter distribution image showing the distribution of the amount of foreign matters in the manufacturing area, on the basis of the detection result; an abnormal region detection unit 4 for detecting the abnormal region in which the amount of foreign matters exceeds a previously determined threshold on the basis of the foreign matter distribution image; and a notification unit 5 for reporting the abnormal region.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、異物監視装置および異物監視方法に関する。   The present invention relates to a foreign matter monitoring device and a foreign matter monitoring method.

半導体の製造などにおいて、多くの工程が存在する。いずれかの工程において、異物が混入すると、製品の品質不良が生じる。   There are many steps in the manufacture of semiconductors and the like. If a foreign substance is mixed in in any of the steps, the quality of the product is deteriorated.

特許文献1には、クリーンルームの環境情報である異物の数量の情報をデータベース化し、各製造処理装置内と各製造処理装置周辺のクリーン度と、製品の品質との関係を求め、求められた関係に基づいて、品質監視または品質管理の基準を作成する方法が記載されている。   In Patent Document 1, information on the quantity of foreign substances, which is environmental information of a clean room, is compiled into a database, and the relationship between the cleanliness in each manufacturing processing apparatus and the periphery of each manufacturing processing apparatus and the product quality is obtained, and the obtained relationship is obtained. Based on the above, a method for creating a standard for quality monitoring or quality control is described.

特開2012−47878号公報JP, 2012-47878, A

しかしながら、特許文献1では、パーティクルカウンタなどを使用してクリーンルーム内のクリーン度を計測しているが、クリーンルーム内における異物の分布を適切に検出することができない。   However, in Patent Document 1, although the cleanliness level in the clean room is measured using a particle counter or the like, the distribution of foreign matter in the clean room cannot be properly detected.

それゆえに、本発明の目的は、製造エリア内における異物の分布を適切に検出することができる異物監視装置および異物監視方法を提供することである。   Therefore, an object of the present invention is to provide a foreign matter monitoring device and a foreign matter monitoring method that can appropriately detect the distribution of foreign matter in a manufacturing area.

本発明の異物監視装置は、製造エリア内の複数の測定箇所における異物の数量を検出する異物検出部と、検出の結果に基づいて、製造エリアにおける異物の数量の分布を表わす異物分布画像を作成する異物分布作成部と、異物分布画像に基づいて、異物の数量が予め決められた閾値を超えている異常領域を検出する異常領域検出部と、異常領域を通知する通知部とを備える。   The foreign matter monitoring apparatus of the present invention creates a foreign matter distribution image showing the distribution of the number of foreign matter in the manufacturing area based on the result of the foreign matter detection unit that detects the number of foreign matter at a plurality of measurement points in the manufacturing area. A foreign matter distribution creating unit, an abnormal region detecting unit that detects an abnormal region in which the number of foreign substances exceeds a predetermined threshold based on the foreign substance distribution image, and a notification unit that notifies the abnormal region.

本発明によれば、製造エリア内における異物の分布を適切に検出することができる。   According to the present invention, it is possible to appropriately detect the distribution of foreign matter in the manufacturing area.

実施の形態1の異物監視装置の構成を表わす図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a foreign matter monitoring device according to the first embodiment. 実施の形態1の異物検出部2の構成を表す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a foreign matter detection unit 2 according to the first embodiment. 製造エリアを表わす図である。It is a figure showing a manufacturing area. 実施の形態1の異物検出情報の例を表わす図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of foreign matter detection information according to the first embodiment. 実施の形態1の正規分布の例を表わす図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a normal distribution according to the first embodiment. 実施の形態1の異物分布画像の例を表わす図である。FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a foreign substance distribution image according to the first embodiment. 実施の形態1の異物監視装置1の動作手順を表わすフローチャートである。5 is a flowchart showing an operation procedure of foreign matter monitoring device 1 of the first embodiment. 実施の形態2の異物検出部2の構成を表す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of a foreign matter detection unit 2 according to the second embodiment. 実施の形態2の異物の検出手順を表わすフローチャートである。9 is a flowchart showing a foreign matter detection procedure according to the second embodiment. 撮影画像の例を表わす図である。It is a figure showing the example of a picked-up image. 実施の形態2の異物検出情報の例を表す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating an example of foreign substance detection information according to the second embodiment. 実施の形態3の異物検出部2の構成を表す図である。FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a foreign matter detection unit 2 according to the third embodiment. 実施の形態3の異物種類判定モデルの学習手順を表わすフローチャートである。16 is a flowchart showing a learning procedure of the foreign matter type determination model of the third embodiment. (a)〜(c)は、撮影画像の例を表わす図である。(A)-(c) is a figure showing the example of a picked-up image. 実施の形態3の異物の検出手順を表わすフローチャートである。9 is a flowchart showing a foreign matter detection procedure according to the third embodiment. 実施の形態3の異物検出情報の例を表わす図である。FIG. 16 is a diagram illustrating an example of foreign substance detection information according to the third embodiment. 実施の形態4の正規分布の例を表わす図である。FIG. 16 is a diagram illustrating an example of a normal distribution according to the fourth embodiment. 実施の形態4の異物分布画像の例を表わす図である。FIG. 16 is a diagram illustrating an example of a foreign substance distribution image according to the fourth embodiment. 実施の形態5の異物監視装置1の構成を表わす図である。It is a figure showing the structure of the foreign material monitoring apparatus 1 of Embodiment 5. 気流分析の手順を表わすフローチャートである。It is a flowchart showing the procedure of airflow analysis. 気流ベクトルを説明するための図である。It is a figure for demonstrating an air flow vector. 実施の形態6の異物監視システム100の構成を表わす図である。It is a figure showing the structure of the foreign material monitoring system 100 of Embodiment 6. 実施の形態6の異物監視システム100の動作手順を表わすフローチャートである。20 is a flowchart showing an operation procedure of foreign matter monitoring system 100 of the sixth embodiment. 異常領域に含まれる測定箇所RA1における異物の数量の時間変化を表わす図である。It is a figure showing the time change of the quantity of the foreign material in measurement location RA1 contained in an abnormal area. 実施の形態6における抽出された1個以上のエリア内イベントデータが示すイベントを表わす図である。FIG. 28 is a diagram showing an event indicated by one or more extracted in-area event data in the sixth embodiment. 実施の形態7の異物監視システム200の構成を表わす図である。It is a figure showing the structure of the foreign material monitoring system 200 of Embodiment 7. 異常領域に含まれる測定箇所RA1における異物の数量の時間変化を表わす図である。It is a figure showing the time change of the quantity of the foreign material in measurement location RA1 contained in an abnormal area. 実施の形態7における抽出されたエリア内イベントデータが示すイベントを表わす図である。FIG. 28 is a diagram showing an event indicated by the extracted in-area event data in the seventh embodiment. 実施の形態8の異物監視システム300の構成を表わす図である。It is a figure showing the structure of the foreign material monitoring system 300 of Embodiment 8. 異常領域に含まれる測定箇所RA1における異物の数量の時間変化を表わす図である。It is a figure showing the time change of the quantity of the foreign material in measurement location RA1 contained in an abnormal area. 実施の形態8における抽出された1個以上のエリア内イベントデータが示すイベント表わす図である。FIG. 27 is a diagram illustrating an event indicated by one or more extracted in-area event data according to the eighth embodiment. 実施の形態9の異物監視システム400の構成を表わす図である。It is a figure showing the structure of the foreign material monitoring system 400 of Embodiment 9. 異常領域に含まれる測定箇所RA1における異物の数量の時間変化を表わす図である。It is a figure showing the time change of the quantity of the foreign material in measurement location RA1 contained in an abnormal area. 実施の形態9における抽出されたフレーム画像を表わす図である。FIG. 28 is a diagram showing an extracted frame image in the ninth embodiment. 実施の形態10の異物監視システム500の構成を表わす図である。It is a figure showing the structure of the foreign material monitoring system 500 of Embodiment 10. 実施の形態10の異物監視システム500の動作手順を表わすフローチャートである。21 is a flowchart showing an operation procedure of foreign matter monitoring system 500 of the tenth embodiment. 品質管理情報の例を表わす図である。It is a figure showing the example of quality control information. 異物監視装置1のハードウェア構成の一例を表わす図である。It is a figure showing an example of the hardware constitutions of the foreign material monitoring apparatus 1. 異物監視装置1のハードウェア構成の別の例を表わす図である。It is a figure showing another example of the hardware constitutions of the foreign material monitoring apparatus 1.

以下、図面を参照して、実施の形態を説明する。
実施の形態1.
図1は、実施の形態1の異物監視装置の構成を表わす図である。
Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.
Embodiment 1.
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of the foreign matter monitoring apparatus according to the first embodiment.

異物監視装置1は、異物検出部2と、異物分布作成部3と、異常領域検出部4と、通知部5とを備える。   The foreign matter monitoring device 1 includes a foreign matter detection unit 2, a foreign matter distribution creation unit 3, an abnormal area detection unit 4, and a notification unit 5.

異物検出部2は、製造エリア内の複数の測定箇所における異物の数量を検出する。
図2は、実施の形態1の異物検出部2の構成を表す図である。図3は、製造エリアを表わす図である。
The foreign substance detection unit 2 detects the number of foreign substances at a plurality of measurement points in the manufacturing area.
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of the foreign matter detection unit 2 according to the first embodiment. FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing area.

図2に示すように、異物検出部2は、複数個のパーティクルカウンタPC1〜PCNと、異物検出情報作成部52とを備える。   As shown in FIG. 2, the foreign matter detection unit 2 includes a plurality of particle counters PC1 to PCN and a foreign matter detection information creation unit 52.

パーティクルカウンタPCi(i=1〜N)は、異物のサイズの区分ごとに異物の数量をカウントする。たとえば、パーティクルカウンタPCiは、0.1〜0.5μmの異物の数を10,000個、0.5〜1μmの異物の数を2,000個、1〜10μmの異物の数を15個のように、異物のサイズの区分ごとの数量を求める。   The particle counter PCi (i = 1 to N) counts the number of foreign matters for each size of foreign matter. For example, the particle counter PCi has a number of foreign matter of 0.1 to 0.5 μm of 10,000, a number of foreign matter of 0.5 to 1 μm of 2,000, and a number of foreign matter of 1 to 10 μm of 15 for each size of foreign matter. Ask for the quantity.

図3に示すように、パーティクルカウンタPCiは、対応の測定箇所RAiに設置される。測定箇所RAiは、作業台WR1〜WR6上、床面、製造装置AP1〜AP5のいずれの近辺などである。測定箇所は、実際に製品に付着することによって、製品を不良にする異物が堆積している箇所、あるいは、微小な異物の数の変化が大きい箇所とするのが望ましい。   As shown in FIG. 3, the particle counter PCi is installed at the corresponding measurement point RAi. The measurement points RAi are on the work benches WR1 to WR6, on the floor, in the vicinity of any of the manufacturing apparatuses AP1 to AP5, and the like. It is desirable that the measurement location is a location where foreign matter that actually adheres to the product and makes the product defective is accumulated, or a location where the change in the number of minute foreign matter is large.

パーティクルカウンタPCiによって検出可能な異物は、クリーンルーム内で管理されるような、気流中を舞っている微小異物、非クリーンルームの作業領域に堆積している繊維、樹脂クズ、または人由来の数μmを超える異物である。   The foreign matter that can be detected by the particle counter PCi is a minute foreign matter that is flowing in the air stream as managed in a clean room, a fiber accumulated in a work area of a non-clean room, a resin scrap, or a few μm of human origin. It is a foreign substance that exceeds.

パーティクルカウンタPCiは、時間帯ごとおよび異物のサイズの区分ごとに、異物の数をカウントする。時間帯の幅は、たとえば、1分、または10分などに設定することができる。   The particle counter PCi counts the number of foreign substances for each time zone and each size of foreign substances. The width of the time zone can be set to, for example, 1 minute or 10 minutes.

図4(a)〜(c)は、実施の形態1の異物検出情報の例を表わす図である。
異物検出情報作成部52は、図4(a)〜(c)に示すように、各測定箇所における、各時間帯、各異物のサイズの区分における異物の数量を表わす異物検出情報を作成する。
4A to 4C are diagrams showing an example of foreign substance detection information according to the first embodiment.
As shown in FIGS. 4A to 4C, the foreign matter detection information creation unit 52 creates foreign matter detection information representing the number of foreign matter in each measurement location at each time slot and size of each foreign matter.

図4(a)は、測定箇所RA1の異物検出情報である。図4(b)は、測定箇所RA2における異物検出情報である。図4(c)は、測定箇所RA3における異物検出情報である。   FIG. 4A shows foreign substance detection information at the measurement location RA1. FIG. 4B is foreign matter detection information at the measurement location RA2. FIG. 4C shows foreign substance detection information at the measurement location RA3.

異物分布作成部3は、異物の数量の検出の結果に基づいて、製造エリアにおける異物の数量の分布を表わす異物分布画像を作成する。   The foreign substance distribution creation unit 3 creates a foreign substance distribution image showing the distribution of the number of foreign substances in the manufacturing area based on the result of detection of the number of foreign substances.

異物分布作成部3は、異物検出情報に基づいて、時間帯および異物のサイズの区分ごとの異物の分布を表わす異物分布画像を生成する。すなわち、時間帯および異物のサイズの区分の1つのセットに対して、1つの異物分布画像が生成される。たとえば、時間帯T1および異物のサイズの区分S1の異物分布画像の画素の値は、その画素に対応する箇所の時間帯T1および異物のサイズの区分S1の異物の数量を表わす。   The foreign matter distribution creation unit 3 generates a foreign matter distribution image representing the distribution of foreign matter for each time zone and each size of foreign matter based on the foreign matter detection information. That is, one foreign matter distribution image is generated for one set of time zone and foreign matter size section. For example, the pixel value of the foreign matter distribution image in the time zone T1 and the foreign matter size category S1 represents the number of foreign matter in the time zone T1 and the foreign matter size category S1 at the location corresponding to the pixel.

あるいは、異物分布作成部3は、異物検出情報に基づいて、異物のサイズの区分ごとの異物の分布を表わす異物分布画像を生成してもよい。すなわち、異物のサイズの区分に対して、1つの異物分布画像が生成される。たとえば、異物のサイズの区分S1の異物分布画像の画素の値は、その画素に対応する箇所のすべての時間帯における異物のサイズの区分S1の異物の数量の総和を表わす。   Alternatively, the foreign matter distribution creation unit 3 may generate a foreign matter distribution image representing the distribution of foreign matter for each size of foreign matter based on the foreign matter detection information. That is, one foreign matter distribution image is generated for each size of foreign matter. For example, the pixel value of the foreign matter distribution image in the foreign matter size section S1 represents the total number of foreign matter in the foreign matter size section S1 in all time zones at the location corresponding to the pixel.

あるいは、異物分布作成部3は、異物検出情報に基づいて、時間帯ごとの異物の分布を表わす異物分布画像を生成してもよい。すなわち、時間帯ごとに、1つの異物分布画像が生成される。たとえば、時間帯T1の異物分布画像の画素の値は、その画素に対応する箇所の時間帯T1におけるすべての異物のサイズの区分の異物の数量の総和を表わす。   Alternatively, the foreign substance distribution creation unit 3 may generate a foreign substance distribution image representing the distribution of foreign substances for each time period based on the foreign substance detection information. That is, one foreign matter distribution image is generated for each time period. For example, the pixel value of the foreign matter distribution image in the time zone T1 represents the total number of foreign matter in all the foreign matter size categories in the time zone T1 at the location corresponding to the pixel.

あるいは、異物分布作成部3は、異物検出情報に基づいて、すべての時間帯およびすべての時間帯の異物の分布を表わす異物分布画像を生成してもよい。すなわち、1つの異物分布画像が生成される。異物分布画像の画素の値は、その画素に対応する箇所のすべての時間におけるすべての異物のサイズの区分の異物の数量の総和を表わす。   Alternatively, the foreign matter distribution creation unit 3 may generate a foreign matter distribution image representing the foreign matter distribution in all time zones and all time zones based on the foreign matter detection information. That is, one foreign substance distribution image is generated. The pixel value of the foreign substance distribution image represents the sum of the numbers of foreign substances in all the sizes of the foreign substances at the time corresponding to the pixel.

実施の形態1では、異物分布作成部3は、各測定箇所を中心とする2次元の異物数量推定分布を作成する。異物分布作成部3は、作成されたすべての異物数量推定分布を合成することによって、製造エリア全体の異物分布画像を作成する。異物分布画像の1つの画素は、製造エリア全体を2次元の同一の大きさの区画に分割したときの1つの区画に対応する。異物分布画像の画素値は、すべての異物数量推定分布を合成した合成分布の値である。2次元の異物数量推定分布として、たとえば、以下の式に示すように、2次元の正規分布に測定箇所の異物数量が乗算された分布とすることができる。   In the first embodiment, the foreign matter distribution creation unit 3 creates a two-dimensional foreign matter quantity estimation distribution centered on each measurement point. The foreign matter distribution creation unit 3 creates a foreign matter distribution image of the entire manufacturing area by synthesizing all the created foreign matter quantity estimation distributions. One pixel of the foreign substance distribution image corresponds to one section when the entire manufacturing area is divided into two-dimensional sections of the same size. The pixel value of the foreign substance distribution image is a value of a combined distribution obtained by combining all the foreign substance quantity estimation distributions. As the two-dimensional foreign matter quantity estimation distribution, for example, a distribution obtained by multiplying the two-dimensional normal distribution by the foreign matter quantity at the measurement point as shown in the following formula can be used.

Figure 2020060419
Figure 2020060419

ここで、製造エリアの一方向をX方向、X方向に垂直な方向をY方向とする。μX、μYは、測定箇所の位置を表わす。標準偏差σX、σYは、たとえば「1」とすることができる。Pは、測定箇所の異物数量である。 Here, one direction of the manufacturing area is an X direction, and a direction perpendicular to the X direction is a Y direction. μ X and μ Y represent the positions of measurement points. The standard deviations σ X and σ Y can be set to “1”, for example. P is the quantity of foreign matter at the measurement location.

図5は、実施の形態1の異物数量推定分布の例を表わす図である。
測定箇所RA1の異物の数がP(RA1)の場合には、測定箇所RA1を中心とする異物数量推定分布N1が作成される。異物数量推定分布N1の測定箇所RA1における値は、P(RA1)となる。測定箇所RA2の異物の数がP(RA2)の場合に、測定箇所RA2を中心とする異物数量推定分布N2が作成される。異物数量推定分布N2の測定箇所RA2における値は、P(RA2)となる。測定箇所RA1と測定箇所RA2との2次元の距離をD(1,2)とする。
FIG. 5 is a diagram showing an example of the foreign substance quantity estimation distribution according to the first embodiment.
When the number of foreign matters at the measurement location RA1 is P (RA1), the foreign matter quantity estimation distribution N1 centered on the measurement location RA1 is created. The value at the measurement point RA1 of the foreign substance quantity estimation distribution N1 is P (RA1). When the number of foreign matter at the measurement location RA2 is P (RA2), the foreign matter quantity estimation distribution N2 centered on the measurement location RA2 is created. The value at the measurement point RA2 of the foreign substance quantity estimation distribution N2 is P (RA2). The two-dimensional distance between the measurement point RA1 and the measurement point RA2 is D (1,2).

異物分布作成部3は、作成された異物数量推定分布N1と異物数量推定分布N2とを合成することによって、合成分布CDを生成する。合成分布CDの値が、異物分布画像の画素値となる。   The foreign matter distribution creation unit 3 creates a combined distribution CD by combining the created foreign matter quantity estimation distribution N1 and the created foreign matter quantity estimation distribution N2. The value of the composite distribution CD becomes the pixel value of the foreign substance distribution image.

図6は、実施の形態1の異物分布画像の例を表わす図である。
実施の形態1の異物分布の作成方法は、拡散性の低い特性を有するサイズが大きな異物に対して有効と考えられる。異物分布作成部3によって、異物分布が明らかになることによって、製品の品質不具合に影響する異物が、どの位置、およびどのタイミングで発生しているかを推測することができる。
FIG. 6 is a diagram showing an example of the foreign substance distribution image according to the first embodiment.
It is considered that the method of creating the foreign matter distribution of the first embodiment is effective for the foreign matter of large size having the property of low diffusibility. By the foreign matter distribution creation unit 3 clarifying the foreign matter distribution, it is possible to estimate at which position and at what timing the foreign matter that affects the quality defect of the product occurs.

異常領域検出部4は、作成された異物分布画像に基づいて、異物の数量が予め決められた閾値を超えている異常領域を検出する。すなわち、異常領域検出部4は、異物分布画像の画素のうち、閾値を超える画素値を有する1個以上の画素を抽出して、抽出した1個以上の画素を異常領域に設定する。閾値は、位置、時間帯、または異物のサイズの区分に応じて、異なる値を用いることもできる。   The abnormal area detection unit 4 detects an abnormal area in which the number of foreign particles exceeds a predetermined threshold value based on the created foreign particle distribution image. That is, the abnormal area detection unit 4 extracts one or more pixels having a pixel value exceeding the threshold value from the pixels of the foreign substance distribution image, and sets the extracted one or more pixels as the abnormal area. Different thresholds may be used depending on the position, time zone, or size of the foreign matter.

通知部5は、異常領域を通知する。たとえば、通知部5は、異物分布画像における異常領域を他の箇所と異なる色で表示装置に表示することができる。また、通知部5は、異常領域が検出された場合に、音またはアラームを発報するようにしてもよい。これによって、異物の数量の変化を周知することができるので、たとえば低品質の製造物が生成されるのを防止することができる。   The notification unit 5 notifies the abnormal area. For example, the notification unit 5 can display the abnormal area in the foreign substance distribution image on the display device in a color different from that of other areas. In addition, the notification unit 5 may issue a sound or an alarm when an abnormal area is detected. As a result, it is possible to make known the change in the quantity of foreign substances, and thus it is possible to prevent, for example, production of low-quality products.

図7は、実施の形態1の異物監視装置1の動作手順を表わすフローチャートである。
ステップS201において、異物検出部2は、製造エリア内の複数の測定箇所における異物の数量を検出する。
FIG. 7 is a flowchart showing an operation procedure of foreign substance monitoring apparatus 1 of the first embodiment.
In step S201, the foreign matter detection unit 2 detects the number of foreign matter at a plurality of measurement points in the manufacturing area.

ステップS202において、異物分布作成部3は、異物の数量の検出の結果に基づいて、製造エリアにおける異物の数量の分布を表わす異物分布画像を作成する。   In step S202, the foreign substance distribution creation unit 3 creates a foreign substance distribution image showing the distribution of the number of foreign substances in the manufacturing area based on the result of detection of the number of foreign substances.

ステップS203において、異常領域検出部4は、作成された異物分布画像に基づいて、異物の数量が予め決められた閾値を超えている異常領域があるかどうかを判定する。異常領域が検出された場合に、処理がステップS204に進む。   In step S203, the abnormal area detection unit 4 determines whether there is an abnormal area in which the number of foreign particles exceeds a predetermined threshold value, based on the created foreign object distribution image. If the abnormal area is detected, the process proceeds to step S204.

ステップS204において、通知部5は、異常領域を通知する。
以上のように、本実施の形態によれば、製造エリアにおいて、異物サイズの区分ごとに異物の数量の分布を知ることができる。これにより、製品に影響を及ぼす異物のサイズを絞り込んだうえで、効果的に対策を行うことができる。
In step S204, the notification unit 5 notifies the abnormal area.
As described above, according to the present embodiment, it is possible to know the distribution of the quantity of foreign matter for each classification of foreign matter size in the manufacturing area. As a result, the size of the foreign matter that affects the product can be narrowed down and effective countermeasures can be taken.

実施の形態2.
パーティクルカウンタPCiで管理可能な異物サイズは通常5μm以下である。クリーンルーム以外の場所で行われる組立工程および基板実装工程では、それよりも大きい、殆ど空気中に舞わずに堆積する異物(以下、降下塵)を検出することは困難である。
Embodiment 2.
The particle size that can be managed by the particle counter PCi is usually 5 μm or less. In an assembly process and a substrate mounting process performed in a place other than a clean room, it is difficult to detect a larger foreign substance (hereinafter referred to as dust falling) that hardly accumulates in the air and accumulates.

実施の形態2では、降下塵を検出するために、カメラまたは顕微鏡などの撮影装置を用いる。   In the second embodiment, a photographing device such as a camera or a microscope is used to detect the dustfall.

図8は、実施の形態2の異物検出部2の構成を表す図である。
図8に示すように、異物検出部2は、複数個の撮影装置IM1〜IMNと、画像処理部53と、異物検出情報作成部62とを備える。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of the foreign matter detection unit 2 according to the second embodiment.
As shown in FIG. 8, the foreign matter detection unit 2 includes a plurality of imaging devices IM1 to IMN, an image processing unit 53, and a foreign matter detection information creation unit 62.

撮影装置IMi(i〜1〜N)は、実施の形態1のパーティクルカウンタPCiと同様に、測定箇所RAiに設置される。   The image capturing device IMi (i to 1 to N) is installed at the measurement location RAi, as in the particle counter PCi of the first embodiment.

図9は、実施の形態2の異物の検出手順を表わすフローチャートである。図10は、撮影画像の例を表わす図である。図11は、実施の形態2の異物検出情報の例を表す図である。   FIG. 9 is a flowchart showing a foreign matter detection procedure according to the second embodiment. FIG. 10 is a diagram illustrating an example of a captured image. FIG. 11 is a diagram showing an example of foreign substance detection information according to the second embodiment.

ステップS101において、複数個の撮影装置IM1〜IMNの各々は、設置されている測定箇所RAi付近を撮影して、図10に示すような撮影画像を生成する。撮影画像は、RGB画像であるとする。   In step S101, each of the plurality of imaging devices IM1 to IMN images the vicinity of the installed measurement location RAi to generate a captured image as shown in FIG. The captured image is an RGB image.

ステップS102において、画像処理部53は、撮影画像の赤色成分の値(以下、R値)が閾値TRを超える画素の集合CRを特定する。画像処理部53は、撮影画像の緑色成分の値(以下、G値)が閾値TGを超える画素の集合CGを特定する。画像処理部53は、撮影画像の青色成分の値(以下、B値)が閾値TBを超える画素の集合CBを特定する。   In step S102, the image processing unit 53 identifies a set CR of pixels whose red component value (hereinafter, R value) of the captured image exceeds a threshold value TR. The image processing unit 53 identifies a set CG of pixels in which the value of the green component (hereinafter, G value) of the captured image exceeds the threshold value TG. The image processing unit 53 identifies a set CB of pixels in which the value of the blue component (hereinafter, B value) of the captured image exceeds the threshold value TB.

ステップS103において、画像処理部53は、画素の集合CRに含まれる画素の数を赤色を主要色成分とする異物の数として算出する。画像処理部53は、画素の集合CGに含まれる画素の数を緑色を主要色成分とする異物の数として算出する。画像処理部53は、画素の集合CBに含まれる画素の数を青色を主要色成分とする異物の数として算出する。   In step S103, the image processing unit 53 calculates the number of pixels included in the pixel set CR as the number of foreign matters having red as a main color component. The image processing unit 53 calculates the number of pixels included in the pixel set CG as the number of foreign substances whose main color component is green. The image processing unit 53 calculates the number of pixels included in the pixel set CB as the number of foreign matters having blue as a main color component.

ステップS104において、異物検出情報作成部62は、図11に示すような、各測定箇所における、各時間帯、各異物の主要色成分における異物の数量を表わす異物検出情報を作成する。図11(a)は、測定箇所RA1の異物検出情報である。図11(b)は、測定箇所RA2における異物検出情報である。図11(c)は、測定箇所RA3における異物検出情報である。   In step S104, the foreign matter detection information creation unit 62 creates foreign matter detection information representing the number of foreign matter in the main color components of each foreign matter at each measurement time point at each measurement point, as shown in FIG. FIG. 11A shows foreign matter detection information of the measurement location RA1. FIG. 11B shows foreign object detection information at the measurement location RA2. FIG. 11C shows foreign substance detection information at the measurement location RA3.

以上のように、本実施の形態によれば、製造エリアにおいて、異物の主要色成分ごとに異物の数量の分布を知ることができる。   As described above, according to the present embodiment, it is possible to know the distribution of the number of foreign substances for each main color component of the foreign substances in the manufacturing area.

実施の形態3.
図12は、実施の形態3の異物検出部2の構成を表す図である。
Embodiment 3.
FIG. 12 is a diagram showing a configuration of the foreign matter detection unit 2 according to the third embodiment.

図12に示すように、異物検出部2は、複数個の撮影装置IM1〜IMNと、画像処理部54と、異物種類判定部91と、異物検出情報作成部59とを備える。   As shown in FIG. 12, the foreign matter detection unit 2 includes a plurality of imaging devices IM1 to IMN, an image processing unit 54, a foreign matter type determination unit 91, and a foreign matter detection information creation unit 59.

撮影装置IMiは、実施の形態1のパーティクルカウンタPCiと同様に、測定箇所RAiに設置される。   The imaging device IMi is installed at the measurement location RAi, as in the particle counter PCi of the first embodiment.

画像処理部54は、コンピュータなどで実現される。
図13は、実施の形態3の異物種類判定モデルの学習手順を表わすフローチャートである。図14(a)〜(c)は、撮影画像の例を表わす図である。
The image processing unit 54 is realized by a computer or the like.
FIG. 13 is a flowchart showing the learning procedure of the foreign matter type determination model of the third embodiment. 14A to 14C are diagrams showing examples of captured images.

ステップS500において、ia,ib,icが1に設定される。
ステップS501において、製造エリア内の複数個の撮影装置IM1〜IMNのうちの1つの撮影装置(以下、撮影装置IMkとする)の付近に種類αの異物αiaを発生させる。
In step S500, ia, ib, and ic are set to 1.
In step S501, a foreign substance αia of type α is generated in the vicinity of one of the plurality of imaging devices IM1 to IMN in the manufacturing area (hereinafter referred to as imaging device IMk).

ステップS502において、撮影装置IMkは、設置されている測定箇所付近を撮影して、図14(a)に示すような、種類αの異物αiaが含まれる撮影画像を生成する。   In step S502, the image capturing apparatus IMk captures the vicinity of the installed measurement location and generates a captured image including the foreign matter αia of the type α as shown in FIG. 14A.

ステップS503において、ia=NAでない場合には、処理がステップS504に進む。ia=NAの場合、処理がステップS505に進む。   In step S503, if ia = NA is not satisfied, the process proceeds to step S504. If ia = NA, the process proceeds to step S505.

ステップS504において、iaがインクリメントされて、処理がステップS501に戻る。   In step S504, ia is incremented and the process returns to step S501.

ステップS501〜S504によって、種類αの異物が発生したときのNA個の撮影画像が生成される。   Through steps S501 to S504, NA captured images when a foreign substance of type α is generated are generated.

ステップS505において、撮影装置IMkの付近に種類βの異物βibを発生させる。
ステップS506において、撮影装置IMkは、設置されている測定箇所付近を撮影して、図14(b)に示すような、種類βの異物βibが含まれる撮影画像を生成する。
In step S505, a foreign substance βib of type β is generated in the vicinity of the imaging device IMk.
In step S506, the image capturing apparatus IMk captures the vicinity of the installed measurement location and generates a captured image including the foreign matter βib of type β as shown in FIG. 14B.

ステップS507において、ib=NBでない場合には、処理がステップS508に進む。ib=NBの場合、処理がステップS509に進む。   If ib = NB is not true in step S507, the process proceeds to step S508. If ib = NB, the process proceeds to step S509.

ステップS508において、ibがインクリメントされて、処理がステップS505に戻る。   In step S508, ib is incremented, and the process returns to step S505.

ステップS505〜S508によって、種類βの異物が発生したときのNB個の撮影画像が生成される。   Through steps S505 to S508, NB captured images when a foreign substance of type β is generated are generated.

ステップS509において、撮影装置IMkの付近に種類γの異物γicを発生させる。
ステップS510において、撮影装置IMkは、設置されている測定箇所付近を撮影して、図14(c)に示すような、種類γの異物γicが含まれる撮影画像を生成する。
In step S509, a foreign substance γic of type γ is generated in the vicinity of the imaging device IMk.
In step S510, the image capture device IMk captures an image of the vicinity of the installed measurement location, and generates a captured image including the foreign substance γic of type γ as illustrated in FIG. 14C.

ステップS511において、ic=NCでない場合には、処理がステップS512に進む。ic=NCの場合、処理がステップS513に進む。   In step S511, if ic = NC is not satisfied, the process proceeds to step S512. If ic = NC, the process proceeds to step S513.

ステップS512において、icがインクリメントされて、処理がステップS509に戻る。   In step S512, ic is incremented and the process returns to step S509.

ステップS509〜S512によって、種類γの異物が発生したときのNC個の撮影画像が生成される。   Through steps S509 to S512, NC captured images when a foreign substance of type γ is generated are generated.

ステップS513において、異物種類判定部91は、種類αの異物が発生したときのNA個の撮影画像、種類βの異物が発生したときのNB個の撮影画像、種類γの異物が発生したときのNC個の撮影画像を用いて、入力を撮影画像、出力を異物の種類とするニューラルネットワークによる異物種類判定モデルを学習する。   In step S <b> 513, the foreign matter type determination unit 91 determines NA captured images when a foreign matter of type α occurs, NB captured images when a foreign matter of type β occurs, and foreign matter of type γ occurs. A foreign substance type determination model by a neural network in which an input is a captured image and an output is a foreign substance type is learned using NC captured images.

図15は、実施の形態3の異物の検出手順を表わすフローチャートである。図16は、実施の形態3の異物検出情報の例を表わす図である。   FIG. 15 is a flowchart showing a foreign matter detection procedure according to the third embodiment. FIG. 16 is a diagram showing an example of foreign substance detection information according to the third embodiment.

ステップS601において、複数個の撮影装置IM1〜IMNの各々は、設置されている測定箇所付近を撮影して、撮影画像を生成する。   In step S601, each of the plurality of imaging devices IM1 to IMN captures an image of the vicinity of the installed measurement location and generates a captured image.

ステップS602において、異物種類判定部91は、各撮影画像を学習済みの異物種類判定モデルのニューラルネットワークに入力して、ニューラルネットワークの出力から、異物の種類を判定する。   In step S602, the foreign matter type determination unit 91 inputs each captured image into the learned neural network of the foreign matter type determination model, and determines the foreign matter type from the output of the neural network.

ステップS603において、画像処理部54は、各撮影画像を二値化する。
ステップS604において、画像処理部54は、二値化された各撮影画像の「1」の画素の数をカウントすることによって、判定された種類の異物の数を求める。
In step S603, the image processing unit 54 binarizes each captured image.
In step S604, the image processing unit 54 obtains the number of foreign substances of the determined type by counting the number of “1” pixels of each binarized captured image.

ステップS605において、異物検出情報作成部59は、図16に示すような、各測定箇所における、各時間帯、各異物の種類について、異物の数量を表わす異物検出情報を作成する。図16(a)は、測定箇所RA1の異物検出情報である。図16(b)は、測定箇所RA2における異物検出情報である。図16(c)は、測定箇所RA3における異物検出情報である。   In step S605, the foreign matter detection information creation unit 59 creates foreign matter detection information indicating the number of foreign matter for each time zone and each kind of foreign matter at each measurement location as shown in FIG. FIG. 16A shows foreign substance detection information at the measurement location RA1. FIG. 16B shows foreign substance detection information at the measurement location RA2. FIG. 16C shows foreign substance detection information at the measurement location RA3.

以上のように、本実施の形態によれば、製造エリアにおいて、異物の種類ごとに異物の数量の分布を知ることができる。   As described above, according to the present embodiment, it is possible to know the distribution of the quantity of foreign matter for each type of foreign matter in the manufacturing area.

実施の形態4.
実施の形態4では、異物分布作成部3は、異物の数量が最大となる測定位置を中心とする2次元の異物数量推定分布を作成する。異物分布作成部3は、全ての測定箇所において、異物数量推定分布の値と実際の測定値との差の平方和が最小となるように、異物数量推定分布のパラメータを決定する。
Fourth Embodiment
In the fourth embodiment, the foreign matter distribution creation unit 3 creates a two-dimensional foreign matter quantity estimation distribution centered on the measurement position where the number of foreign matter is maximum. The foreign matter distribution creation unit 3 determines the parameters of the foreign matter quantity estimation distribution so that the sum of squares of the differences between the values of the foreign matter quantity estimation distribution and the actual measurement values is minimized at all measurement points.

2次元の異物数量推定分布として、たとえば、前述の式(1)に示すように、2次元の正規分布に第1の測定箇所の異物数量が乗算された分布とすることができる。第1の測定箇所は、複数の測定箇所の中で、異物数量が最大となる測定箇所である。   The two-dimensional foreign matter quantity estimation distribution may be, for example, a distribution obtained by multiplying the two-dimensional normal distribution by the foreign matter quantity at the first measurement point, as shown in the above-mentioned formula (1). The first measurement location is a measurement location where the number of foreign matters is maximum among the plurality of measurement locations.

図17は、実施の形態4の異物数量推定分布の例を表わす図である。
製造エリア内において、測定箇所RA1の異物の数が最大値P(RA1)とする。
FIG. 17 is a diagram showing an example of the foreign substance quantity estimation distribution according to the fourth embodiment.
In the manufacturing area, the number of foreign matters at the measurement location RA1 is the maximum value P (RA1).

測定箇所RA1を中心とする異物数量推定分布N1が作成される。測定箇所RA2の異物の数がP(RA2)、測定箇所RA3の異物の数がP(RA3)、測定箇所RA4の異物の数がP(RA4)とする。異物数量推定分布N1の測定箇所RA2における値をG(RA2)、異物数量推定分布N1の測定箇所RA3における値をG(RA3)、異物数量推定分布N1の測定箇所RA4における値をG(RA4)とする。以下の式(2)のSが最小となるように、異物数量推定分布N1のパラメータを決定する。異物数量推定分布N1が、式(1)で示される場合、Sが最小となる標準偏差σx、σyを求めることができる。   A foreign substance quantity estimation distribution N1 centered on the measurement point RA1 is created. It is assumed that the number of foreign matter at the measurement location RA2 is P (RA2), the number of foreign matter at the measurement location RA3 is P (RA3), and the number of foreign matter at the measurement location RA4 is P (RA4). The value at the measurement point RA2 of the foreign matter quantity estimated distribution N1 is G (RA2), the value at the measurement point RA3 of the foreign matter quantity estimated distribution N1 is G (RA3), and the value at the measurement point RA4 of the foreign matter quantity estimated distribution N1 is G (RA4). And The parameters of the foreign substance quantity estimation distribution N1 are determined so that S in the following equation (2) is minimized. When the foreign substance quantity estimation distribution N1 is expressed by the equation (1), the standard deviations σx and σy that minimize S can be obtained.

S={P(RB2)-G(RB2)}2+{P(RB3)-G(RB3)}2+{P(RB4)-G(RB4)}2・・・(2)
異物分布作成部3は、パラメータが決定された異物数量推定分布N1によって、製造エリア全体の異物分布画像を作成する。異物数量推定分布N1の値が、異物分布画像の画素値となる。
S = {P (RB2) -G (RB2)} 2 + {P (RB3) -G (RB3)} 2 + {P (RB4) -G (RB4)} 2 ... (2)
The foreign matter distribution creation unit 3 creates a foreign matter distribution image of the entire manufacturing area based on the foreign matter quantity estimation distribution N1 whose parameters have been determined. The value of the foreign substance quantity estimation distribution N1 becomes the pixel value of the foreign substance distribution image.

図18は、実施の形態4の異物分布画像の例を表わす図である。
実施の形態4の異物分布の作成方法は、拡散性の高い特性を有するサイズが小さな異物に対して有効と考えられる。
FIG. 18 is a diagram showing an example of the foreign substance distribution image according to the fourth embodiment.
It is considered that the method of creating a foreign matter distribution according to the fourth embodiment is effective for a foreign matter having a high diffusibility and a small size.

なお、壁面等の障壁を設定しておくことで、その障壁を隔てた異物数量を表わす確率密度分布の値を0と見做すものとしてもよい。   Note that by setting a barrier such as a wall surface, the value of the probability density distribution representing the number of foreign substances across the barrier may be regarded as 0.

実施の形態5.
図19は、実施の形態5の異物監視装置1の構成を表わす図である。
Embodiment 5.
FIG. 19 is a diagram showing the configuration of foreign matter monitoring apparatus 1 of the fifth embodiment.

異物監視装置1は、実施の形態1と同様に、異物検出部2と、異物分布作成部3と、異常領域検出部4と、通知部5とを備える。   The foreign matter monitoring device 1 includes a foreign matter detecting unit 2, a foreign matter distribution creating unit 3, an abnormal area detecting unit 4, and a notifying unit 5, as in the first embodiment.

異物監視装置1は、さらに気流分析部21を備える。
気流分析部21は、標準異物の散布位置と、異物分布画像における標準異物の数量の分布に基づいて、異物の気流ベクトルを求める。
The foreign matter monitoring device 1 further includes an airflow analysis unit 21.
The airflow analysis unit 21 determines the airflow vector of the foreign matter based on the distribution position of the standard foreign matter and the distribution of the number of standard foreign matter in the foreign matter distribution image.

図20は、気流分析の手順を表わすフローチャートである。図21は、気流ベクトルを説明するための図である。   FIG. 20 is a flowchart showing the procedure of airflow analysis. FIG. 21 is a diagram for explaining the airflow vector.

ステップS300において、標準異物を散布する。標準異物として、たとえば、青色のチョーク粉などを用いることができる。   In step S300, standard foreign matter is sprayed. For example, blue chalk powder can be used as the standard foreign material.

ステップS301において、実施の形態1と同様にして、異物検出部2は、製造エリア内の複数の測定箇所における異物の数量を検出する。   In step S301, the foreign substance detecting unit 2 detects the number of foreign substances at a plurality of measurement points in the manufacturing area, as in the first embodiment.

ステップS302において、実施の形態1と同様にして、異物分布作成部3は、異物の数量の検出の結果に基づいて、製造エリアにおける異物の数量の分布を表わす異物分布画像を作成する。   In step S302, similar to the first embodiment, the foreign substance distribution creation unit 3 creates a foreign substance distribution image representing the distribution of the number of foreign substances in the manufacturing area based on the result of detecting the number of foreign substances.

ステップS303において、気流分析部21は、異物分布画像において、標準異物を散布した位置ORに対応する画素から各画素への第1の方向ベクトルVD1を生成する。第1の方向ベクトルVD1は、単位ベクトルとする。   In step S303, the airflow analysis unit 21 generates a first direction vector VD1 from the pixel corresponding to the position OR where the standard foreign matter is scattered to each pixel in the foreign matter distribution image. The first direction vector VD1 is a unit vector.

ステップS304において、気流分析部21は、異物分布画像の各画素において第2の方向ベクトルVD2を生成する。第2の方向ベクトルVD2は、単位ベクトルとする。すなわち、気流分析部21は、画素Pと隣接する8つの画素のうち、画素Pの画素値と最も差異が大きい画素値を有する画素が、画素Qのときに、第2の方向ベクトルVD2の方向を、画素Pと画素Qのうち画素値が大きい方の画素から画素値が小さい方の画素への方向とする。たとえば、画素(2,2)において、隣接する8つの画素のうち、画素(2,2)の画素値との差異が最も大きい画素値を有する画素が(1,1)であり、画素(1,1)の画素値の方が、画素(2,2)の画素値よりも大きい場合には、画素(1,1)から画素(2,2)へ向かう方向の第2の方向ベクトルVD2が生成される。   In step S304, the airflow analysis unit 21 generates the second direction vector VD2 in each pixel of the foreign substance distribution image. The second direction vector VD2 is a unit vector. That is, when the pixel having the largest pixel value difference from the pixel value of the pixel P among the eight pixels adjacent to the pixel P is the pixel Q, the airflow analysis unit 21 determines the direction of the second direction vector VD2. Is the direction from the pixel with the larger pixel value of the pixels P and Q to the pixel with the smaller pixel value. For example, in the pixel (2, 2), among the eight adjacent pixels, the pixel having the largest pixel value with the pixel value of the pixel (2, 2) is (1, 1), and the pixel (1 , 1) is larger than the pixel value of the pixel (2, 2), the second direction vector VD2 in the direction from the pixel (1, 1) to the pixel (2, 2) is Is generated.

ステップS305において、気流分析部21は、異物分布画像の各画素における第1の方向ベクトルVD1から第2の方向ベクトルVD2を減算することによって、気流ベクトルVAを生成する。   In step S305, the airflow analysis unit 21 generates the airflow vector VA by subtracting the second direction vector VD2 from the first direction vector VD1 in each pixel of the foreign substance distribution image.

通知部5は、異常領域検出部4によって検出された異常領域を表示装置に表示するとともに、気流分析部21によって得られた気流ベクトルVAを表示することができる。   The notification unit 5 can display the abnormal region detected by the abnormal region detection unit 4 on the display device and can also display the airflow vector VA obtained by the airflow analysis unit 21.

本実施の形態によれば、異常領域が気流ベクトルの方向、すなわち風下にあるか否かを分析することができる。   According to the present embodiment, it is possible to analyze whether the abnormal region is in the direction of the airflow vector, that is, whether it is leeward.

実施の形態6.
図22は、実施の形態6の異物監視システム100の構成を表わす図である。
Sixth Embodiment
FIG. 22 is a diagram showing the configuration of foreign matter monitoring system 100 of the sixth embodiment.

異物監視システム100は、異物監視装置1と、データ収集装置70とを備える。
データ収集装置70は、異物の数量の増加に関連する可能性のあるエリア内イベントデータを収集し、記憶する。実施の形態6では、移動体の位置変化を表わす情報をエリア内イベントデータとする。
The foreign matter monitoring system 100 includes a foreign matter monitoring apparatus 1 and a data collecting apparatus 70.
The data collection device 70 collects and stores in-area event data that may be related to an increase in the quantity of foreign matter. In the sixth embodiment, the information indicating the change in the position of the moving body is the in-area event data.

データ収集装置70は、複数個のビーコンBA1〜BANと、エリア内イベントデータ記憶部72とを備える。   The data collection device 70 includes a plurality of beacons BA1 to BAN and an in-area event data storage unit 72.

ビーコンBAi(i=1〜N)は、それぞれ自身を識別する識別情報と、自身の位置を表わす位置情報とを含む信号を送信する。ビーコンBAi(i=1〜N)は、移動体に搭載される。   Each beacon BAi (i = 1 to N) transmits a signal including identification information for identifying itself and position information indicating its own position. The beacon BAi (i = 1 to N) is mounted on the mobile body.

エリア内イベントデータ記憶部72は、複数のエリア内イベントデータを記憶する。各エリア内イベントデータは、ビーコンBAiから送信される信号に含まれる識別情報と位置情報、およびその位置情報の時刻とから構成される。位置情報の時刻は、その位置情報が含まれるビーコンBAiからの信号をデータ収集装置70が受信した時刻である。   The in-area event data storage unit 72 stores a plurality of in-area event data. The in-area event data includes identification information and position information included in the signal transmitted from the beacon BAi, and the time of the position information. The time of the position information is the time when the data collection device 70 receives the signal from the beacon BAi including the position information.

異物監視装置1は、実施の形態1と同様に、異物検出部2と、異物分布作成部3と、異常領域検出部4と、通知部5とを備える。   The foreign matter monitoring device 1 includes a foreign matter detecting unit 2, a foreign matter distribution creating unit 3, an abnormal area detecting unit 4, and a notifying unit 5, as in the first embodiment.

異物監視装置1は、さらに、異常要因分析部71を備える。
異常要因分析部71は、エリア内イベントデータ記憶部72に記憶されている複数のエリア内イベントデータの中から、異常領域が検出された時刻と異常領域の位置とに関連する1個以上のエリア内イベントデータを抽出する。
The foreign matter monitoring apparatus 1 further includes an abnormality factor analysis unit 71.
The abnormality factor analysis unit 71 selects one or more areas related to the time when the abnormal region is detected and the position of the abnormal region from the plurality of in-area event data stored in the in-area event data storage unit 72. Extract internal event data.

図23は、実施の形態6の異物監視システム100の動作手順を表わすフローチャートである。   FIG. 23 is a flowchart showing the operation procedure of foreign matter monitoring system 100 of the sixth embodiment.

ステップS701において、異物検出部2は、実施の形態1と同様に、製造エリア内の複数の測定箇所における異物の数量を検出する。   In step S701, the foreign substance detection unit 2 detects the number of foreign substances at a plurality of measurement points in the manufacturing area, as in the first embodiment.

ステップS702において、異物分布作成部3は、実施の形態1と同様に、異物の数量の検出の結果に基づいて、製造エリアにおける異物の数量の分布を表わす異物分布画像を作成する。   In step S702, the foreign substance distribution creation unit 3 creates a foreign substance distribution image representing the distribution of the number of foreign substances in the manufacturing area based on the result of detecting the number of foreign substances, as in the first embodiment.

ステップS703において、異常領域検出部4は、実施の形態1と同様に、作成された異物分布画像に基づいて、異物の数量が予め決められた閾値を超えている異常領域があるかどうかを判定する。異常領域が検出された場合に、処理がステップS705に進む。   In step S703, the abnormal area detection unit 4 determines whether or not there is an abnormal area in which the number of foreign particles exceeds a predetermined threshold value based on the created foreign particle distribution image, as in the first embodiment. To do. If an abnormal area is detected, the process proceeds to step S705.

ステップS704において、データ収集装置70内のビーコンBAi(i=1〜N)は、それぞれ自身を識別する識別情報と、自身の位置を表わす位置情報とを含む信号を送信する。エリア内イベントデータ記憶部72は、ビーコンBAiから送信される信号に含まれる識別情報と位置情報、およびその位置情報の時刻とから構成されるエリア内イベントデータを記憶する。位置情報の時刻は、ビーコンBAiからの信号を受信した時刻とする。   In step S704, the beacons BAi (i = 1 to N) in the data collection device 70 each transmit a signal including identification information for identifying itself and position information indicating the position of itself. The in-area event data storage unit 72 stores in-area event data including identification information and position information included in the signal transmitted from the beacon BAi, and the time of the position information. The time of the position information is the time when the signal from the beacon BAi is received.

ステップS705において、異常要因分析部71は、データ収集装置70内のエリア内イベントデータ記憶部72に記憶されている複数のエリア内イベントデータの中から、異常領域が検出された時刻および異常領域の位置に関連するエリア内イベントデータを抽出する。たとえば、異常要因分析部71は、複数のエリア内イベントデータの中から、異常領域が検出された時刻との差異がΔT以内および異常領域の位置との差異がΔR以内のエリア内イベントデータを抽出する。さらに、異常要因分析部71は、抽出されたエリア内イベントデータに基づいて、異常要因を分析してもよい。   In step S <b> 705, the abnormality factor analysis unit 71 selects the time at which the abnormal region is detected and the abnormal region from the plurality of in-area event data stored in the in-area event data storage unit 72 in the data collection device 70. Extract in-area event data related to position. For example, the abnormality factor analysis unit 71 extracts the in-area event data whose difference from the time when the abnormal region is detected is within ΔT and whose difference from the position of the abnormal region is within ΔR from the plurality of in-area event data. To do. Furthermore, the abnormality factor analysis unit 71 may analyze the abnormality factor based on the extracted in-area event data.

ステップS706において、通知部5は、異常領域とともに、抽出されたエリア内イベントデータを通知する。たとえば、通知部5は、エリア内イベントデータに基づく画像を表示することとしてもよい。   In step S706, the notification unit 5 notifies the extracted in-area event data together with the abnormal area. For example, the notification unit 5 may display an image based on the in-area event data.

図24は、異常領域に含まれる測定箇所RA1における異物の数量の時間変化を表わす図である。   FIG. 24 is a diagram showing the change over time in the quantity of foreign matter at the measurement point RA1 included in the abnormal area.

測定箇所RA1において、時刻t1において、異物の数量が急激に増加し、その結果、異常領域であると判定されている。   At the measurement point RA1, at time t1, the number of foreign substances sharply increases, and as a result, it is determined that it is an abnormal region.

図25は、実施の形態6における抽出された1個以上のエリア内イベントデータが示すイベントを表わす図である。   FIG. 25 is a diagram showing an event indicated by one or more extracted in-area event data in the sixth embodiment.

図25の例では、エリア内イベントデータは、時刻t1において、ビーコンBA1を有する移動体MA1の位置と、異常領域に含まれる測定箇所RA1との位置との差がΔR以内となったことを示している。   In the example of FIG. 25, the in-area event data indicates that at time t1, the difference between the position of the moving body MA1 having the beacon BA1 and the position of the measurement point RA1 included in the abnormal area is within ΔR. ing.

異常要因分析部71は、異常領域に含まれる測定箇所RA1において、異物の数量が増加した時刻t1において、ビーコンBA1を有する移動体が接近した時刻であるため、ビーコンBA1を有する移動体の接近と、異物の数量の増加に関連があると推測することとしてもよい。   The abnormality factor analysis unit 71 determines that the moving body having the beacon BA1 approaches the moving body having the beacon BA1 at the measurement point RA1 included in the abnormal region at the time t1 when the number of foreign substances increases at the time t1. It may be assumed that it is related to the increase in the number of foreign substances.

通知部5は、たとえば、図25に示すように、ビーコンBA1を有する移動体が、時刻t0〜時刻t1において測定箇所RA1に接近し、時刻t1〜時刻t2において測定箇所RA1から離れていくことを表わす映像と、図24に示すような異物の数量の時間変化を表すグラフとを表示してもよい。   For example, as shown in FIG. 25, the notification unit 5 indicates that the moving body having the beacon BA1 approaches the measurement location RA1 at time t0 to time t1 and moves away from the measurement location RA1 at time t1 to time t2. The displayed image and the graph showing the change over time in the number of foreign substances as shown in FIG. 24 may be displayed.

本実施の形態によれば、異物の数量が変動した場合に、異物の数量の変動に寄与した要因を提示することができる。これによって、たとえば、人または台車等の発塵源に対してその場からの退去を促したり、異物が混入する作業工程に対して中断を促したり、異物を発生させる行動を行っている作業者に正しい作業を行うように指導したりすることによって、製品の不良の発生を未然に防止することができる。   According to the present embodiment, when the quantity of foreign matter fluctuates, the factors contributing to the fluctuation of the quantity of foreign matter can be presented. As a result, for example, a worker who urges a dust source such as a person or a trolley to leave the site, urges interruption of a work process in which foreign matter is mixed, or causes foreign matter to occur. It is possible to prevent the occurrence of product defects by instructing the user to perform correct work.

実施の形態7.
図26は、実施の形態7の異物監視システム200の構成を表わす図である。
Embodiment 7.
FIG. 26 is a diagram showing the configuration of foreign matter monitoring system 200 of the seventh embodiment.

異物監視システム200は、異物監視装置1と、データ収集装置70とを備える。
データ収集装置70は、異物の数量の変動に関連する可能性のあるエリア内イベントデータを収集し、記憶する。実施の形態7では、扉の開閉を表わす情報をエリア内イベントデータとする。
The foreign matter monitoring system 200 includes the foreign matter monitoring apparatus 1 and the data collecting apparatus 70.
The data collection device 70 collects and stores in-area event data that may be related to fluctuations in the quantity of foreign matter. In the seventh embodiment, the information indicating the opening and closing of the door is the in-area event data.

データ収集装置70は、開閉センサDRと、エリア内イベントデータ記憶部72とを備える。   The data collection device 70 includes an opening / closing sensor DR and an in-area event data storage unit 72.

開閉センサDRは、扉TSの開閉を検出する。開閉センサDRは、扉TSが閉じたことを検出したときに、第1の検出信号を出力する。開閉センサDEは、扉TSが開かれたことを検出したときに、第2の検出信号を出力する。   The opening / closing sensor DR detects opening / closing of the door TS. The open / close sensor DR outputs a first detection signal when detecting that the door TS is closed. The open / close sensor DE outputs a second detection signal when detecting that the door TS is opened.

エリア内イベントデータ記憶部72は、複数のエリア内イベントデータを記憶する。各エリア内イベントデータは、扉TSが閉じられた時刻、または扉TSが開かれた時刻である。扉TSが閉じられた時刻は、データ収集装置70が第1の検出信号を受信した時刻とすることができる。扉TSが開かれた時刻は、データ収集装置70が第2の検出信号を受信した時刻とすることができる。   The in-area event data storage unit 72 stores a plurality of in-area event data. The event data in each area is the time when the door TS is closed or the time when the door TS is opened. The time when the door TS is closed can be the time when the data collection device 70 receives the first detection signal. The time when the door TS is opened can be the time when the data collection device 70 receives the second detection signal.

異物監視装置1は、実施の形態1と同様に、異物検出部2と、異物分布作成部3と、異常領域検出部4と、通知部5とを備える。   The foreign matter monitoring device 1 includes a foreign matter detecting unit 2, a foreign matter distribution creating unit 3, an abnormal area detecting unit 4, and a notifying unit 5, as in the first embodiment.

異物監視装置1は、さらに、異常要因分析部71を備える。
異常要因分析部71は、エリア内イベントデータ記憶部72に記憶されている複数のエリア内イベントデータの中から異常領域が検出された時刻に関連するエリア内イベントデータを抽出する。
The foreign matter monitoring apparatus 1 further includes an abnormality factor analysis unit 71.
The abnormality factor analysis unit 71 extracts the in-area event data related to the time when the abnormal region is detected from the plurality of in-area event data stored in the in-area event data storage unit 72.

図27は、異常領域に含まれる測定箇所RA1における異物の数量の時間変化を表わす図である。   FIG. 27 is a diagram showing a temporal change in the quantity of foreign matter at the measurement point RA1 included in the abnormal area.

測定箇所RA1において、時刻t1において、異物の数量が急激に増加し、その結果、異常領域であると判定されている。   At the measurement point RA1, at time t1, the number of foreign substances sharply increases, and as a result, it is determined that it is an abnormal region.

図28は、実施の形態7における抽出されたエリア内イベントデータが示すイベントを表わす図である。   FIG. 28 is a diagram showing an event indicated by the extracted in-area event data in the seventh embodiment.

図28の例では、エリア内イベントデータは、時刻t1において、扉TSが閉じた状態から開いた状態に変化したことを示されている。つまり、時刻t1において、扉TSを開く動作が開始されたことが示されている。   In the example of FIG. 28, the in-area event data indicates that the door TS has changed from the closed state to the open state at time t1. That is, it is indicated that the operation of opening the door TS is started at time t1.

異常要因分析部71は、異常領域が含まれる測定箇所RA1において、異物の数量が増加した時刻t1において、扉TSを開く動作が開始された時刻であるため、扉TSを開く動作と、異物の数量の増加に関連があると推測してもよい。   At the measurement point RA1 including the abnormal area, the abnormality factor analysis unit 71 is the time when the operation of opening the door TS is started at the time t1 when the number of foreign matters is increased. It may be inferred that it is related to the increase in quantity.

実施の形態8.
図29は、実施の形態8の異物監視システム300の構成を表わす図である。
Eighth embodiment.
FIG. 29 is a diagram showing the configuration of foreign matter monitoring system 300 of the eighth embodiment.

異物監視システム300は、異物監視装置1と、データ収集装置70とを備える。
データ収集装置70は、異物の数量の変動に関連する可能性のあるエリア内イベントデータを収集し、記憶する。実施の形態8では、移動体の位置変化を表わす情報をエリア内イベントデータとする。
The foreign matter monitoring system 300 includes the foreign matter monitoring apparatus 1 and the data collecting apparatus 70.
The data collection device 70 collects and stores in-area event data that may be related to fluctuations in the quantity of foreign matter. In the eighth embodiment, the information indicating the change in the position of the moving body is the in-area event data.

データ収集装置70は、複数の距離センサDS1〜DSNと、エリア内イベントデータ記憶部72とを備える。   The data collection device 70 includes a plurality of distance sensors DS1 to DSN and an in-area event data storage unit 72.

距離センサDSi(i=1〜N)は、撮影装置またはパーティクルカウンタが設置される測定箇所RAiに設置される。   The distance sensor DSi (i = 1 to N) is installed at the measurement location RAi where the imaging device or the particle counter is installed.

距離センサDSiは、移動体までの距離を検出し、移動体までの距離を表わす信号を出力する。   The distance sensor DSi detects the distance to the moving body and outputs a signal representing the distance to the moving body.

エリア内イベントデータ記憶部72は、複数のエリア内イベントデータを記憶する。エリア内イベントデータは、距離センサDSiを識別する識別情報と、距離センサDSiから移動体までの距離情報と、距離情報の時刻である。距離情報の時刻は、データ収集装置70が距離センサDSiから信号を受信した時刻とすることができる。   The in-area event data storage unit 72 stores a plurality of in-area event data. The in-area event data includes identification information for identifying the distance sensor DSi, distance information from the distance sensor DSi to the moving body, and time of the distance information. The time of the distance information can be the time when the data collection device 70 receives the signal from the distance sensor DSi.

異物監視装置1は、実施の形態1と同様に、異物検出部2と、異物分布作成部3と、異常領域検出部4と、通知部5とを備える。   The foreign matter monitoring device 1 includes a foreign matter detecting unit 2, a foreign matter distribution creating unit 3, an abnormal area detecting unit 4, and a notifying unit 5, as in the first embodiment.

異物監視装置1は、さらに、異常要因分析部71を備える。
異常要因分析部71は、エリア内イベントデータ記憶部72に記憶されている複数のエリア内イベントデータの中から、異常領域が検出された時刻と、異常領域の位置とに関連する1個以上のエリア内イベントデータを抽出する。
The foreign matter monitoring apparatus 1 further includes an abnormality factor analysis unit 71.
The abnormality factor analysis unit 71 includes one or more times associated with the time when the abnormal region is detected and the position of the abnormal region from the plurality of in-area event data stored in the in-area event data storage unit 72. Extract the event data in the area.

図30は、異常領域が含まれる測定箇所RA1における異物の数量の時間変化を表わす図である。   FIG. 30 is a diagram showing a temporal change in the quantity of foreign matter at the measurement location RA1 including the abnormal area.

測定箇所RA1において、時刻t1において、異物の数量が急激に増加し、その結果、異常領域であると判定されている。   At the measurement point RA1, at time t1, the number of foreign substances sharply increases, and as a result, it is determined that it is an abnormal region.

図31は、実施の形態8における抽出された1個以上のエリア内イベントデータが示すイベント表わす図である。   FIG. 31 is a diagram showing an event indicated by one or more extracted in-area event data in the eighth embodiment.

図31の例では、測定箇所RA1に距離センサDS1が設置され、エリア内イベントデータは、時刻t1において、移動体MA1の位置と、異常領域が含まれる測定箇所RA1との位置との差がΔR以内となったことを示している。   In the example of FIG. 31, the distance sensor DS1 is installed at the measurement location RA1, and the in-area event data shows that at time t1, the difference between the location of the moving body MA1 and the location of the measurement location RA1 including the abnormal area is ΔR. It shows that it is within the range.

異常要因分析部71は、異常領域が含まれる測定箇所RA1において、異物の数量が増加した時刻t1において、移動体MA1が接近した時刻であるため、移動体MA1の接近と、異物の数量の増加に関連があると推測してもよい。   At the measurement point RA1 including the abnormal area, the abnormality factor analysis unit 71 is the time when the moving body MA1 approaches at the time t1 when the number of foreign matter increases. Therefore, the moving body MA1 approaches and the number of foreign matter increases. May be inferred to be related to.

実施の形態9.
図32は、実施の形態9の異物監視システム400の構成を表わす図である。
Ninth Embodiment
FIG. 32 is a diagram showing the configuration of foreign matter monitoring system 400 according to the ninth embodiment.

異物監視システム400は、異物監視装置1と、データ収集装置70とを備える。
データ収集装置70は、異物の数量の変動に関連する可能性のあるフレーム画像を収集し、記憶する。実施の形態8では、作業者の動きを表わす画像がエリア内イベントデータである。
The foreign matter monitoring system 400 includes the foreign matter monitoring apparatus 1 and the data collecting apparatus 70.
The data collection device 70 collects and stores frame images that may be related to fluctuations in the quantity of foreign matter. In the eighth embodiment, the image representing the movement of the worker is the in-area event data.

データ収集装置70は、複数のカメラCM1〜CMNと、フレーム画像記憶部92とを備える。   The data collection device 70 includes a plurality of cameras CM1 to CMN and a frame image storage unit 92.

カメラCMi(i〜1〜M)は、設置されている周辺を撮影して、複数のフレーム画像からなる映像を生成する。   The cameras CMi (i to 1 to M) take pictures of the surrounding area and generate a video composed of a plurality of frame images.

フレーム画像記憶部92は、カメラCM1〜CMMで生成される映像に含まれる複数のフレーム画像およびそのフレーム画像の時刻を記憶する。   The frame image storage unit 92 stores a plurality of frame images included in the images generated by the cameras CM1 to CMM and the times of the frame images.

異物監視装置1は、実施の形態1と同様に、異物検出部2と、異物分布作成部3と、異常領域検出部4と、通知部5とを備える。   The foreign matter monitoring device 1 includes a foreign matter detecting unit 2, a foreign matter distribution creating unit 3, an abnormal area detecting unit 4, and a notifying unit 5, as in the first embodiment.

異物監視装置1は、さらに、異常要因分析部71を備える。
異常要因分析部71は、フレーム画像記憶部92に記憶されている複数のフレーム画像の中から、異常領域が検出された時刻と、異常領域の位置とに関連する1個以上のフレーム画像を抽出する。
The foreign matter monitoring apparatus 1 further includes an abnormality factor analysis unit 71.
The abnormality factor analysis unit 71 extracts one or more frame images associated with the time when the abnormal region is detected and the position of the abnormal region from the plurality of frame images stored in the frame image storage unit 92. To do.

図33は、異常領域が含まれる測定箇所RA1における、異物の数量の時間変化を表わす図である。   FIG. 33 is a diagram showing the change over time in the quantity of foreign matter at the measurement location RA1 including the abnormal area.

測定箇所RA1において、時刻t1において、異物の数量が急激に増加し、その結果、異常領域であると判定されている。   At the measurement point RA1, at time t1, the number of foreign substances sharply increases, and as a result, it is determined that it is an abnormal region.

図34は、実施の形態9における抽出されたフレーム画像を表わす図である。
異常要因分析部71は、カメラCM1〜CMNのうち、異常領域を撮影するカメラの映像に含まれる時刻t1の前後のフレーム画像を抽出する。
FIG. 34 is a diagram showing the extracted frame image in the ninth embodiment.
The abnormality factor analysis unit 71 extracts the frame images before and after the time t1 included in the image of the camera that captures the abnormal area among the cameras CM1 to CMN.

図34の例では、抽出されたフレーム画像には、時刻t1の前後において、異常領域が含まれる測定箇所RA1からΔR以内の箇所で、作業者PA1が通常とは異なる異常な動作をしたことが示されている。   In the example of FIG. 34, in the extracted frame image, before and after time t1, the worker PA1 performed an abnormal operation different from the normal operation at a location within ΔR from the measurement location RA1 including the abnormal area. It is shown.

本実施の形態によれば、管理者は、異物の数量が増加したときに、作業者の動作に異常があったかどうかを分析することができる。   According to the present embodiment, the administrator can analyze whether or not the operation of the worker is abnormal when the number of foreign substances increases.

実施の形態10.
図35は、実施の形態10の異物監視システム500の構成を表わす図である。
Embodiment 10.
FIG. 35 is a diagram showing the configuration of foreign matter monitoring system 500 of the tenth embodiment.

異物監視システム500は、異物監視装置1と、品質管理装置80とを備える。
品質管理装置80は、製造エリア内で製造される製品の生産工程および製品の良否を表わす品質管理情報を収集し、記憶する。
The foreign matter monitoring system 500 includes the foreign matter monitoring apparatus 1 and the quality control apparatus 80.
The quality control device 80 collects and stores quality control information indicating a production process of a product manufactured in the manufacturing area and quality of the product.

品質管理装置80は、情報入力部83と、品質管理情報記憶部82とを備える。
情報入力部83は、管理者の操作などによって、製品の製造工程および製品の良否を表わす品質管理情報を入力する。
The quality management device 80 includes an information input unit 83 and a quality management information storage unit 82.
The information input unit 83 inputs quality control information indicating the manufacturing process of the product and the quality of the product by the operation of the administrator.

品質管理情報記憶部82は、情報入力部83から入力された複数の品質管理情報を記憶する。   The quality control information storage unit 82 stores the plurality of quality control information input from the information input unit 83.

異物監視装置1は、実施の形態1と同様に、異物検出部2と、異物分布作成部3と、異常領域検出部4と、通知部5とを備える。   The foreign matter monitoring device 1 includes a foreign matter detecting unit 2, a foreign matter distribution creating unit 3, an abnormal area detecting unit 4, and a notifying unit 5, as in the first embodiment.

異物監視装置1は、さらに、異常要因分析部81を備える。
異常要因分析部81は、品質管理情報記憶部82に記憶されている複数の品質管理情報の中から、異常領域が検出された時刻と、異常領域の位置とに関連する品質管理情報を抽出する。
The foreign matter monitoring device 1 further includes an abnormality factor analysis unit 81.
The abnormality factor analysis unit 81 extracts quality control information related to the time when the abnormal region is detected and the position of the abnormal region from the plurality of quality control information stored in the quality control information storage unit 82. .

図36は、実施の形態10の異物監視システム500の動作手順を表わすフローチャートである。   FIG. 36 is a flowchart showing the operation procedure of foreign matter monitoring system 500 of the tenth embodiment.

ステップS801において、異物検出部2は、実施の形態1と同様に、製造エリア内の複数の測定箇所における異物の数量を検出する。   In step S801, the foreign substance detection unit 2 detects the number of foreign substances at a plurality of measurement points in the manufacturing area, as in the first embodiment.

ステップS802において、異物分布作成部3は、実施の形態1と同様に、異物の数量の検出の結果に基づいて、製造エリアにおける異物の数量の分布を表わす異物分布画像を作成する。   In step S802, the foreign substance distribution creation unit 3 creates a foreign substance distribution image representing the distribution of the number of foreign substances in the manufacturing area based on the result of detection of the number of foreign substances, as in the first embodiment.

ステップS803において、異常領域検出部4は、実施の形態1と同様に、作成された異物分布画像に基づいて、異物の数量が予め決められた閾値を超えている異常領域を検出する。   In step S803, the abnormal area detection unit 4 detects an abnormal area in which the number of foreign particles exceeds a predetermined threshold value based on the created foreign object distribution image, as in the first embodiment.

ステップS804において、情報入力部83は、製品の生産工程および製品の良否を表わす品質管理情報を入力する。品質管理情報記憶部82は、情報入力部83から入力された品質管理情報を記憶する。   In step S804, the information input unit 83 inputs quality control information indicating the production process of the product and the quality of the product. The quality control information storage unit 82 stores the quality control information input from the information input unit 83.

ステップS805において、異常要因分析部81は、品質管理装置80の品質管理情報記憶部82に記憶されている複数の品質管理情報の中から、異常領域が検出された時刻および異常領域の位置に関連する品質管理情報を抽出する。さらに、異常要因分析部71は、抽出された品質管理情報に基づいて、異常要因を分析してよい。   In step S805, the abnormality factor analysis unit 81 relates to the time when the abnormal region is detected and the position of the abnormal region from the plurality of quality control information stored in the quality control information storage unit 82 of the quality control device 80. Quality control information to be extracted. Further, the abnormality factor analysis unit 71 may analyze the abnormality factor based on the extracted quality control information.

ステップS806において、通知部5は、異常領域とともに、抽出された品質管理情報を通知する。通知部5は、抽出された品質管理情報に基づいて推定した異常原因を表示することとしてもよい。   In step S806, the notification unit 5 notifies the extracted quality control information together with the abnormal area. The notification unit 5 may display the cause of abnormality estimated based on the extracted quality control information.

図37は、品質管理情報の例を表わす図である。
図37に示すように、品質管理情報は、製造番号、作業開始時刻、作業終了時刻、使用設備、使用治工具、作業者、材料のロット、部品のロット、製品の良否を含む。
FIG. 37 is a diagram showing an example of quality control information.
As shown in FIG. 37, the quality control information includes a manufacturing number, work start time, work end time, equipment used, jigs used, workers, lots of materials, lots of parts, and quality of products.

たとえば、2018年10月11日の10:50〜11:00の時間帯TAにおいて、異常領域Aが検出されたとする。異常領域Aは、使用設備a3に近い位置にあるとする。異常要因分析部81は、図37の品質管理情報の中から、時間帯TAおよび使用設備a3が含まれる製造番号3の製品に関する品質管理情報を抽出する。   For example, it is assumed that the abnormal area A is detected in the time zone TA from 10:50 to 11:00 on October 11, 2018. It is assumed that the abnormal area A is located near the facility a3 used. The abnormality factor analysis unit 81 extracts the quality control information regarding the product of the manufacturing number 3 including the time zone TA and the facility a3 used from the quality control information of FIG.

さらに、異常要因分析部81は、この品質管理情報において製造される製品が不良であることを確認し、使用設備a3、使用治工具b3、作業者p3、材料のロットp3、部品のロットM3の少なくとも1つが異常要因であると分析することとしてもよい。通知部5は、使用設備a3、使用治工具b3、作業者p3、材料のロットp3、部品のロットM3の少なくとも1つが異常要因である旨を表示装置に表示することとしてもよい。   Further, the abnormality factor analysis unit 81 confirms that the manufactured product is defective in this quality control information, and determines that the equipment a3, the jig / tool b3 used, the worker p3, the material lot p3, and the component lot M3 are used. At least one may be analyzed as an abnormal factor. The notification unit 5 may display on the display device that at least one of the equipment a3 used, the tool b3 used, the worker p3, the material lot p3, and the component lot M3 is the cause of the abnormality.

本実施の形態によれば、異物の数量が増加したときに、管理者は、異物の数量の増加に関連する品質管理情報を知ることができる。   According to the present embodiment, when the number of foreign matters increases, the manager can know the quality control information related to the increase in the number of foreign matters.

実施の形態11.
図38は、異物監視装置1のハードウェア構成の一例を表わす図である。
Eleventh Embodiment
FIG. 38 is a diagram showing an example of the hardware configuration of the foreign matter monitoring apparatus 1.

異物検出情報作成部52、62または72、異物分布作成部3、異常領域検出部4、画像処理部53または54、異物種類判定部91、気流分析部21、異常要因分析部71または81は、処理回路120によって構成される。処理回路は、専用のハードウェアであっても、メモリに格納されるプログラムを実行するCPU(Central Processing Unit、中央処理装置、処理装置、演算装置、マイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ、プロセッサ、DSPともいう)であってもよい。   The foreign matter detection information creation unit 52, 62 or 72, the foreign matter distribution creation unit 3, the abnormal area detection unit 4, the image processing unit 53 or 54, the foreign matter type determination unit 91, the air flow analysis unit 21, the abnormal factor analysis unit 71 or 81, It is configured by the processing circuit 120. The processing circuit is a CPU (Central Processing Unit, central processing unit, processing unit, arithmetic unit, microprocessor, microcomputer, processor, DSP) that executes a program stored in the memory even if it is dedicated hardware. May be

処理回路120が専用のハードウェアの場合、処理回路120は、たとえば、単一回路、複合回路、プログラム化したプロセッサ、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、FPGA(Field Programmable Gate Array)、またはこれらを組み合わせたものとすることができる。   When the processing circuit 120 is dedicated hardware, the processing circuit 120 may be, for example, a single circuit, a composite circuit, a programmed processor, an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), an FPGA (Field Programmable Gate Array), or a combination thereof. It can be

異物検出情報作成部52、62または72、異物分布作成部3、異常領域検出部4、画像処理部53または54、異物種類判定部91、気流分析部21、異常要因分析部71または81の各機能をそれぞれ対応の処理回路120によって実現することができる。あるいは、異物検出情報作成部52、62または72、異物分布作成部3、異常領域検出部4、画像処理部53または54、異物種類判定部91、気流分析部21、異常要因分析部71または81の各機能をまとめて1つの処理回路120によって実現することができる。   Foreign matter detection information creation unit 52, 62 or 72, foreign matter distribution creation unit 3, abnormal area detection unit 4, image processing unit 53 or 54, foreign matter type determination unit 91, airflow analysis unit 21, abnormal factor analysis unit 71 or 81. The functions can be realized by the corresponding processing circuits 120. Alternatively, the foreign matter detection information creation unit 52, 62 or 72, the foreign matter distribution creation unit 3, the abnormal area detection unit 4, the image processing unit 53 or 54, the foreign matter type determination unit 91, the airflow analysis unit 21, the abnormal factor analysis unit 71 or 81. It is possible to collectively realize the respective functions of 1 by the single processing circuit 120.

通知部5は、ディスプレイ150によって実現することができる。
図39は、図38の処理回路120の具体例を表わす図である。
The notification unit 5 can be realized by the display 150.
FIG. 39 is a diagram showing a specific example of the processing circuit 120 of FIG.

処理回路120が、プロセッサ130とメモリ140によって構成される。異物検出情報作成部52、62または72、異物分布作成部3、異常領域検出部4、画像処理部53または54、異物種類判定部91、気流分析部21、異常要因分析部71または81の機能は、プロセッサ130と、ソフトウェア、ファームウエア、またはソフトウェアとファームウエアとの組み合わせによって実現される。ソフトウェアおよびファームウエアは、プログラムとして記述され、メモリ140に格納される。プロセッサ130は、メモリ140に記憶されたプログラムを実行することによって、各部の機能を実現する。このプログラムは、異物検出情報作成部52、62または72、異物分布作成部3、異常領域検出部4、画像処理部53または54、異物種類判定部91、気流分析部21、異常要因分析部71または81の手順および方法をコンピュータに実行させるものであるともいえる。ここで、メモリとは、例えば、RAM、ROM、フラッシュメモリー、EPROM、EEPROM等の、不揮発性または揮発性の半導体メモリ、磁気ディスク、フレキシブルディスク、光ディスク、コンパクトディスク、ミニディスク、DVD等が該当する。   The processing circuit 120 includes a processor 130 and a memory 140. Functions of foreign matter detection information creation unit 52, 62 or 72, foreign matter distribution creation unit 3, abnormal area detection unit 4, image processing unit 53 or 54, foreign matter type determination unit 91, airflow analysis unit 21, abnormal factor analysis unit 71 or 81 Are implemented by the processor 130, software, firmware, or a combination of software and firmware. The software and firmware are described as programs and stored in the memory 140. The processor 130 realizes the function of each unit by executing the program stored in the memory 140. This program is executed by the foreign matter detection information creation unit 52, 62 or 72, the foreign matter distribution creation unit 3, the abnormal area detection unit 4, the image processing unit 53 or 54, the foreign matter type determination unit 91, the airflow analysis unit 21, the abnormal factor analysis unit 71. It can also be said that it causes a computer to execute the procedure and method of 81. Here, the memory corresponds to, for example, a nonvolatile or volatile semiconductor memory such as a RAM, a ROM, a flash memory, an EPROM, and an EEPROM, a magnetic disk, a flexible disk, an optical disk, a compact disk, a mini disk, and a DVD. .

なお、異物検出情報作成部52、62または72、異物分布作成部3、異常領域検出部4、画像処理部53または54、異物種類判定部91、気流分析部21、異常要因分析部71または81の各機能について、一部を専用のハードウェアで実現し、他の一部をソフトウェアまたはファームウエアで実現するようにしてもよい。   The foreign matter detection information creation unit 52, 62 or 72, the foreign matter distribution creation unit 3, the abnormal area detection unit 4, the image processing unit 53 or 54, the foreign matter type determination unit 91, the airflow analysis unit 21, the abnormal factor analysis unit 71 or 81. Each of the functions may be partially implemented by dedicated hardware, and the other part may be implemented by software or firmware.

このように、処理回路120は、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、またはこれらの組み合わせによって、上述の各機能を実現することができる。   In this way, the processing circuit 120 can realize each function described above by hardware, software, firmware, or a combination thereof.

通知部5は、ディスプレイ150によって実現することができる。
また、データ収集装置70におけるエリア内イベントデータ記憶部72、およびフレーム画像記憶部92、品質管理装置80における品質管理情報記憶部82は、メモリによって実現されるものとすることができる。品質管理装置80における情報入力部83は、キーボード、タッチパネル、マウスなどの入力装置によって実現されるものとすることができる。
The notification unit 5 can be realized by the display 150.
Further, the in-area event data storage unit 72 and the frame image storage unit 92 in the data collection device 70, and the quality management information storage unit 82 in the quality management device 80 can be realized by a memory. The information input unit 83 in the quality control device 80 can be realized by an input device such as a keyboard, a touch panel, or a mouse.

本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、たとえば、以下のような変形例も含む。   The present invention is not limited to the above embodiment, and includes, for example, the following modifications.

(1)異物数量推定分布
上記の実施の形態として、異物数量推定分布として正規分布をベースにしたが、これに限定されるものではなく、他の確率分布をベースにしてもよい。
(1) Foreign Material Quantity Estimated Distribution In the above embodiment, the foreign material quantity estimated distribution is based on the normal distribution, but the present invention is not limited to this, and other probability distributions may be based.

(2)2次元の異物数量推定分布
上記の実施形態では、2次元の異物数量推定布を用いたが、これに限定されるものではない。X軸についての異物数量推定分布と、Y軸についての異物数量推定分布とを用いてもよい。
(2) Two-dimensional foreign matter quantity estimation distribution In the above embodiment, the two-dimensional foreign matter quantity estimation cloth is used, but the invention is not limited to this. The foreign matter quantity estimated distribution about the X axis and the foreign matter quantity estimated distribution about the Y axis may be used.

(3)異物数量推定分布の合成
実施の形態1では、複数の異物数量推定分布を合成して、合成分布を得たが、複数の異物数量推定分布を単純に合成するのではなく、重み付き合成をするものとしてもよい。複数の測定箇所の間の距離が小さいときには、重みを小さくするものとしてもよい。
(3) Composition of Foreign Material Quantity Estimated Distribution In the first embodiment, a plurality of foreign material quantity estimated distributions are combined to obtain a composite distribution. However, a plurality of foreign material quantity estimated distributions are not simply combined, but weighted. It may be synthesized. When the distances between the plurality of measurement points are small, the weight may be reduced.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiments disclosed this time are to be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above description but by the claims, and is intended to include meanings equivalent to the claims and all modifications within the scope.

1 異物監視装置、2 異物検出部、3 異物分布作成部、4 異常領域検出部、5 通知部、52,59,62 異物検出情報作成部、53,54 画像処理部、70 データ収集装置、71,81 異常要因分析部、72 エリア内イベントデータ記憶部、80 品質管理装置、82 品質管理情報記憶部、83 情報入力部、91 異物種類判定部、92 フレーム画像記憶部、100,500 異物監視システム、120 処理回路、130 プロセッサ、140 メモリ、150 ディスプレイ、1300 バス、PC1〜PCN パーティクルカウンタ、IM1〜IMN 撮影装置、BA1〜BAN ビーコン、DS1〜DSN 距離センサ、CM1〜CMM カメラ、DR 開閉センサ、TS 扉、WR1〜WR6 作業台、AP1〜AP5 製造装置。   1 foreign matter monitoring device, 2 foreign matter detecting unit, 3 foreign matter distribution creating unit, 4 abnormal area detecting unit, 5 notifying unit, 52, 59, 62 foreign matter detection information creating unit, 53, 54 image processing unit, 70 data collecting device, 71 , 81 Abnormality factor analysis unit, 72 In-area event data storage unit, 80 Quality management device, 82 Quality management information storage unit, 83 Information input unit, 91 Foreign matter type determination unit, 92 Frame image storage unit, 100,500 Foreign matter monitoring system , 120 processing circuit, 130 processor, 140 memory, 150 display, 1300 bus, PC1 to PCN particle counter, IM1 to IMN imaging device, BA1 to BAN beacon, DS1 to DSN distance sensor, CM1 to CMM camera, DR opening / closing sensor, TS Door, WR1 to WR6 workbench, AP1 to AP5 manufacturing Location.

Claims (15)

製造エリア内の複数の測定箇所における異物の数量を検出する異物検出部と、
前記検出の結果に基づいて、前記製造エリアにおける異物の数量の分布を表わす異物分布画像を作成する異物分布作成部と、
前記異物分布画像に基づいて、異物の数量が予め決められた閾値を超えている異常領域を検出する異常領域検出部と、
前記異常領域を通知する通知部とを備えた異物監視装置。
A foreign matter detection unit that detects the number of foreign matter at a plurality of measurement points in the manufacturing area,
A foreign matter distribution creation unit that creates a foreign matter distribution image representing the distribution of the quantity of foreign matter in the manufacturing area based on the detection result;
Based on the foreign matter distribution image, an abnormal area detection unit for detecting an abnormal area in which the number of foreign matter exceeds a predetermined threshold,
A foreign matter monitoring device, comprising: a notification unit that notifies the abnormal area.
前記異物検出部は、
前記複数の測定箇所に配置される複数のパーティクルカウンタを含む、
前記複数のパーティクルカウンタの各々は、大きさの区分ごとに異物の数量を検出する、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter detection unit,
Including a plurality of particle counters arranged at the plurality of measurement points,
The foreign matter monitoring apparatus according to claim 1, wherein each of the plurality of particle counters detects the number of foreign matter for each size division.
前記異物検出部は、
前記複数の測定箇所に配置される複数の撮影装置と、
前記複数の撮影装置の各々で生成された撮影画像に基づいて、主要な色成分ごとに異物の数量を検出する画像処理部とを備える、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter detection unit,
A plurality of imaging devices arranged at the plurality of measurement points,
The foreign matter monitoring apparatus according to claim 1, further comprising: an image processing unit that detects the number of foreign matter for each main color component based on a photographed image generated by each of the plurality of photographing apparatuses.
前記異物検出部は、
前記複数の測定箇所に配置される複数の撮影装置と、
前記撮影装置で撮影された撮影画像を入力し、前記異物の種類を出力する学習済みのモデルを用いて、前記複数の撮影装置の各々で生成された撮影画像に含まれる異物の種類を判定する異物種類判定部とを備える、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter detection unit,
A plurality of imaging devices arranged at the plurality of measurement points,
The type of foreign matter included in the captured image generated by each of the plurality of photographing apparatuses is determined using a learned model that inputs the photographed image photographed by the photographing apparatus and outputs the type of foreign matter. The foreign matter monitoring device according to claim 1, further comprising a foreign matter type determination unit.
前記異物検出部は、さらに、
前記複数の撮影装置の各々で生成された撮影画像を二値化し、二値化された撮影画像に基づいて、前記判定された種類の異物の数量を検出する画像処理部を備える、請求項4記載の異物監視装置。
The foreign matter detection unit further includes
The image processing unit that binarizes a captured image generated by each of the plurality of imaging devices, and detects an amount of the determined type of foreign matter based on the binarized captured image. The foreign matter monitoring device described.
前記異物分布作成部は、前記複数の測定箇所に対応する複数の異物数量推定分布を作成し、前記複数の異物数量推定分布の各々は、対応する測定箇所を中心とし、前記異物数量推定分布の中心における値が、対応する測定箇所の前記異物の数量である第1の値を示し、
前記異物分布作成部は、前記複数の異物数量推定分布を合成した合成分布を作成し、前記合成分布の値を前記異物分布画像の画素値とする、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter distribution creation unit creates a plurality of foreign matter quantity estimated distributions corresponding to the plurality of measurement points, and each of the plurality of foreign matter quantity estimated distributions has a corresponding foreign matter quantity estimated distribution as a center. The value at the center indicates the first value, which is the quantity of the foreign matter at the corresponding measurement point,
The foreign matter monitoring device according to claim 1, wherein the foreign matter distribution creating unit creates a combined distribution in which the plurality of foreign matter quantity estimation distributions are combined, and sets the value of the combined distribution as a pixel value of the foreign matter distribution image.
前記異物分布作成部は、前記複数の測定箇所における前記異物の数量の中の最大値が測定された第1の測定箇所を中心とする1つの異物数量推定分布を作成し、前記異物数量推定分布の中心における値が、前記第1の測定箇所の異物の数量である第1の値を示し、
前記異物分布作成部は、前記複数の測定箇所の各々における前記異物数量推定分布の値と、前記複数の測定箇所の各々における検出された前記異物の数量との差の2乗和が最小となるように、前記異物数量推定分布のパラメータを決定し、
前記決定されたパラメータを有する異物数量推定分布の値を前記異物分布画像の画素値とする、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter distribution creation unit creates one foreign matter quantity estimation distribution centered on a first measurement location where the maximum value among the foreign matter quantities at the plurality of measurement locations is measured, and the foreign matter quantity estimation distribution is created. The value at the center of indicates the first value, which is the quantity of foreign matter at the first measurement point,
The foreign matter distribution creation unit minimizes the sum of squares of the difference between the value of the foreign matter quantity estimation distribution at each of the plurality of measurement points and the detected quantity of the foreign matter at each of the plurality of measurement points. To determine the parameters of the foreign matter quantity estimation distribution,
The foreign matter monitoring apparatus according to claim 1, wherein a value of the foreign matter quantity estimation distribution having the determined parameter is set as a pixel value of the foreign matter distribution image.
前記異物数量推定分布は、正規分布に前記第1の値が乗算された分布である、請求項6または7記載の異物監視装置。   The foreign matter monitoring device according to claim 6 or 7, wherein the foreign matter quantity estimation distribution is a distribution obtained by multiplying a normal distribution by the first value. 前記異物検出部は、前記製造エリア内の複数の測定箇所において、第1の位置で散布された標準異物の数量を検出し、
前記異物分布作成部は、前記検出の結果に基づいて、前記製造エリアにおける前記標準異物の数量の分布を表わす異物分布画像を作成し、
前記異物監視装置は、さらに、
前記第1の位置と、前記異物分布画像における前記標準異物の数量の分布に基づいて、前記標準異物の気流ベクトルを求める気流分析部を備えた、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter detection unit detects the number of standard foreign matter scattered at the first position at a plurality of measurement points in the manufacturing area,
The foreign matter distribution creation unit creates a foreign matter distribution image representing a distribution of the number of standard foreign matter in the manufacturing area based on the detection result,
The foreign matter monitoring device further includes
The foreign matter monitoring device according to claim 1, further comprising an airflow analysis unit that obtains an airflow vector of the standard foreign matter based on the first position and a distribution of the number of the standard foreign matter in the foreign matter distribution image.
前記異物監視装置は、さらに、
各々が前記製造エリアを移動可能な移動体に搭載されたビーコンが出力する位置情報と、前記位置情報の時刻とからなる複数のエリア内イベントデータの中から、前記異常領域が検出された時刻と前記異常領域の位置とに関連する1個以上のエリア内イベントデータを抽出する異常要因分析部を備えた、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter monitoring device further includes
Position information output by beacons each mounted on a movable body that can move the manufacturing area, and the time when the abnormal area is detected from among a plurality of in-area event data consisting of the time of the position information and The foreign matter monitoring device according to claim 1, further comprising an abnormality factor analysis unit that extracts one or more in-area event data related to the position of the abnormal region.
前記異物監視装置は、さらに、
各々が前記製造エリアの扉の開閉動作を検出するセンサの信号によって得られる前記扉が閉じられた時刻または前記扉が開かれた時刻である複数のエリア内イベントデータの中から、前記異常領域が検出された時刻に関連するエリア内イベントデータを抽出する異常要因分析部を備えた、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter monitoring device further includes
From the event data in a plurality of areas, each of which is the time when the door is closed or the time when the door is opened, which is obtained by the signal of the sensor that detects the opening / closing operation of the door in the manufacturing area, the abnormal area is The foreign matter monitoring apparatus according to claim 1, further comprising an abnormality factor analysis unit that extracts event data in an area related to the detected time.
前記異物監視装置は、さらに、
各々が前記製造エリアの移動体までの距離を検出するセンサが出力する距離情報と、前記距離情報の時刻とからなる複数のエリア内イベントデータの中から、前記異常領域が検出された時刻と、前記異常領域の位置とに関連する1個以上のエリア内イベントデータを抽出する異常要因分析部を備えた、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter monitoring device further includes
From each of a plurality of in-area event data consisting of distance information output from a sensor that detects the distance to the moving body in the manufacturing area, and time of the distance information, the time when the abnormal area is detected, The foreign matter monitoring device according to claim 1, further comprising an abnormality factor analysis unit that extracts one or more in-area event data related to the position of the abnormal region.
前記異物監視装置は、さらに、
前記製造エリアを撮影した複数のフレーム画像の中から、前記異常領域が検出された時刻と、前記異常領域の位置とに関連する1個以上のフレーム画像を抽出する異常要因分析部を備えた、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter monitoring device further includes
An abnormality factor analysis unit that extracts one or more frame images related to the time when the abnormal region is detected and the position of the abnormal region from a plurality of frame images obtained by photographing the manufacturing area is provided. The foreign matter monitoring device according to claim 1.
前記異物監視装置は、さらに、
各々が前記製造エリア内において製造される製品の製造工程および製品の良否を表わす複数の品質管理情報の中から、前記異常領域が検出された時刻と、前記異常領域の位置とに関連する品質管理情報を抽出する異常要因分析部を備えた、請求項1記載の異物監視装置。
The foreign matter monitoring device further includes
Quality control relating to the time when the abnormal area is detected and the position of the abnormal area from among a plurality of quality control information representing the manufacturing process of each product manufactured in the manufacturing area and the quality of the product. The foreign matter monitoring apparatus according to claim 1, further comprising an abnormality factor analysis unit that extracts information.
製造エリア内の複数の測定箇所における異物の数量を検出するステップと、
前記検出の結果に基づいて、前記製造エリアにおける異物の数量の分布を表わす異物分布画像を作成するステップと、
前記異物分布画像に基づいて、異物の数量が予め決められた閾値を超えている異常領域を検出するステップと、
前記異常領域が検出されたことを通知するステップとを備えた異物監視方法。
Detecting the quantity of foreign matter at a plurality of measurement points in the manufacturing area,
Creating a foreign matter distribution image representing the distribution of the quantity of foreign matter in the manufacturing area based on the result of the detection;
Detecting an abnormal area in which the number of foreign substances exceeds a predetermined threshold value based on the foreign substance distribution image,
And a step of notifying that the abnormal area has been detected.
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