JP2020053672A - Organic electroluminescent device, organic electroluminescent panel, and electronic apparatus - Google Patents

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JP2020053672A JP2019091166A JP2019091166A JP2020053672A JP 2020053672 A JP2020053672 A JP 2020053672A JP 2019091166 A JP2019091166 A JP 2019091166A JP 2019091166 A JP2019091166 A JP 2019091166A JP 2020053672 A JP2020053672 A JP 2020053672A
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Hideyuki Shirahase
英幸 白波瀬
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Abstract

To provide an organic electroluminescent element capable of improving light extraction efficiency, an organic electroluminescent panel including the same, and an electronic apparatus.SOLUTION: The organic electroluminescent element includes: an anode; a light-emitting layer; and a cathode in this order, and includes a low refractive index layer having a lower refractive index than the light-emitting layer at least between the light-emitting layer and the cathode or between the anode and the light-emitting layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、有機電界発光素子、有機電界発光パネルおよび電子機器に関する。   The present disclosure relates to an organic electroluminescent device, an organic electroluminescent panel, and an electronic device.

有機電界発光素子を用いた有機電界発光装置(有機電界発光ディスプレイ)として、種々のものが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Various types of organic electroluminescent devices (organic electroluminescent displays) using organic electroluminescent elements have been proposed (see, for example, Patent Document 1).

特開2017−072812号公報JP 2017-072812 A

ところで、有機電界発光装置では、一般的に、有機電界発光素子の光取り出し効率を向上させることが求められている。そのため、光取り出し効率を向上させることの可能な有機電界発光素子、ならびにそのような有機電界発光素子を備えた、有機電界発光パネルおよび電子機器を提供することが望ましい。   By the way, in the organic electroluminescent device, generally, it is required to improve the light extraction efficiency of the organic electroluminescent element. Therefore, it is desirable to provide an organic electroluminescent element capable of improving light extraction efficiency, and an organic electroluminescent panel and an electronic device including such an organic electroluminescent element.

本開示の一実施の形態の有機電界発光素子は、陽極、発光層および陰極をこの順に備えるとともに、発光層と陰極との間、および陽極と発光層との間の少なくとも一方に、発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を備える。   An organic electroluminescent device according to an embodiment of the present disclosure includes an anode, a light-emitting layer and a cathode in this order, between the light-emitting layer and the cathode, and at least one between the anode and the light-emitting layer, A low refractive index layer having a lower refractive index is provided.

本開示の一実施の形態の有機電界発光パネルは、複数の画素を備えている。各画素は、上記の有機電界発光素子を有している。   An organic electroluminescent panel according to an embodiment of the present disclosure includes a plurality of pixels. Each pixel has the above-mentioned organic electroluminescent element.

本開示の一実施の形態の電子機器は、上記の有機電界発光パネルと、上記の有機電界発光パネルを駆動する駆動回路とを備えている。   An electronic device according to an embodiment of the present disclosure includes the organic electroluminescent panel described above, and a drive circuit that drives the organic electroluminescent panel.

本開示の一実施の形態の有機電界発光素子、有機電界発光パネルおよび電子機器では、発光層と陰極との間、および陽極と発光層との間の少なくとも一方に、発光層の屈折率よりも低い低屈折率層が設けられている。これにより、発光層から低屈折率層へ向かう光にとって、低屈折率層の界面における臨界角が小さくなるので、発光層から低屈折率層へ向かう光が低屈折率層の界面で反射される割合が、低屈折率層を設けなかった場合と比べて大きくなる。その結果、陽極および陽極近傍で表面プラズモン等によって無輻射失活する割合(エバネッセントモード)が低くなるので、外部放出モードおよび導波路モードの割合が増える。   In an organic electroluminescent element, an organic electroluminescent panel, and an electronic device according to an embodiment of the present disclosure, the refractive index of the light emitting layer is lower than at least one of between the light emitting layer and the cathode and between the anode and the light emitting layer. A low low refractive index layer is provided. Thereby, for light traveling from the light emitting layer to the low refractive index layer, the critical angle at the interface of the low refractive index layer becomes small, so that light traveling from the light emitting layer to the low refractive index layer is reflected at the interface of the low refractive index layer. The ratio is higher than when the low refractive index layer is not provided. As a result, the ratio of non-radiative deactivation (evanescent mode) due to surface plasmons and the like in the anode and in the vicinity of the anode is reduced, so that the ratio of the external emission mode and the waveguide mode is increased.

本開示の一実施の形態の有機電界発光素子、有機電界発光パネルおよび電子機器によれば、発光層と陰極との間、および陽極と発光層との間の少なくとも一方に、発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を設けるようにしたので、外部放出モードおよび導波路モードの割合を増やすことができる。その結果、光取り出し効率を向上させることができる。なお、本開示の効果は、ここに記載された効果に必ずしも限定されず、本明細書中に記載されたいずれの効果であってもよい。   According to the organic electroluminescent device, the organic electroluminescent panel, and the electronic apparatus according to the embodiment of the present disclosure, the refractive index of the light emitting layer is provided between the light emitting layer and the cathode, and at least one between the anode and the light emitting layer. Since a lower refractive index layer is provided, the ratio of the external emission mode and the waveguide mode can be increased. As a result, light extraction efficiency can be improved. Note that the effects of the present disclosure are not necessarily limited to the effects described here, and may be any of the effects described in this specification.

本開示の第1の実施の形態に係る有機電界発光素子の断面構成例を表す図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration example of an organic electroluminescent device according to a first embodiment of the present disclosure. (A)比較例に係る有機電界発光素子で発生するエネルギーの伝搬モードのモード比の一例を表したものである。(B)実施例に係る有機電界発光素子で発生するエネルギーの伝搬モードの構成例を表したものである。(A) illustrates an example of a mode ratio of a propagation mode of energy generated in an organic electroluminescent element according to a comparative example. (B) illustrates a configuration example of a propagation mode of energy generated in the organic electroluminescent element according to the embodiment. 赤色光を発する有機電界発光素子における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との一例を表したものである。FIG. 4 illustrates an example of a refractive index of a low refractive index layer and a mode ratio of a propagation mode in an organic electroluminescent element that emits red light. 緑色光を発する有機電界発光素子における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との一例を表したものである。FIG. 4 illustrates an example of a refractive index of a low refractive index layer and a mode ratio of a propagation mode in an organic electroluminescent device that emits green light. 青色光を発する有機電界発光素子における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との一例を表したものである。FIG. 4 illustrates an example of a refractive index of a low refractive index layer and a mode ratio of a propagation mode in an organic electroluminescent device that emits blue light. FIG. (A)比較例に係る有機電界発光素子で発生するエネルギーの伝搬モードのモード比の一例を表したものである。(B)実施例に係る有機電界発光素子で発生するエネルギーの伝搬モードの構成例を表したものである。(A) illustrates an example of a mode ratio of a propagation mode of energy generated in an organic electroluminescent element according to a comparative example. (B) illustrates a configuration example of a propagation mode of energy generated in the organic electroluminescent element according to the embodiment. 赤色光を発する有機電界発光素子における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との一例を表したものである。FIG. 4 illustrates an example of a refractive index of a low refractive index layer and a mode ratio of a propagation mode in an organic electroluminescent element that emits red light. 緑色光を発する有機電界発光素子における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との一例を表したものである。FIG. 4 illustrates an example of a refractive index of a low refractive index layer and a mode ratio of a propagation mode in an organic electroluminescent device that emits green light. 青色光を発する有機電界発光素子における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との一例を表したものである。FIG. 4 illustrates an example of a refractive index of a low refractive index layer and a mode ratio of a propagation mode in an organic electroluminescent device that emits blue light. FIG. 図1の有機電界発光素子の断面構成の一変形例を表す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a modification of the cross-sectional configuration of the organic electroluminescent device of FIG. 1. 図1の有機電界発光素子の断面構成の一変形例を表す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a modification of the cross-sectional configuration of the organic electroluminescent device of FIG. 1. 図10の有機電界発光素子の断面構成の一変形例を表す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating a modification of the cross-sectional configuration of the organic electroluminescence device of FIG. 10. 図11,図12の有機電界発光素子の断面構成の一例を表す図である。FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a cross-sectional configuration of the organic electroluminescent device of FIGS. 11 and 12. 図11,図12の有機電界発光素子の断面構成の一例を表す図である。FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a cross-sectional configuration of the organic electroluminescent device of FIGS. 11 and 12. 図11,図12の有機電界発光素子の断面構成の一例を表す図である。FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a cross-sectional configuration of the organic electroluminescent device of FIGS. 11 and 12. 本開示の第2の実施の形態に係る有機電界発光装置の概略構成例を表す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a schematic configuration example of an organic electroluminescent device according to a second embodiment of the present disclosure. 図16の各画素に含まれる副画素の回路構成例を表す図である。FIG. 17 is a diagram illustrating a circuit configuration example of a sub-pixel included in each pixel in FIG. 16. 図16の有機電界発光パネルの概略構成例を表す図である。FIG. 17 is a diagram illustrating a schematic configuration example of the organic electroluminescent panel of FIG. 16. 図18の有機電界発光パネルのA−A線での断面構成例を表す図である。FIG. 19 is a diagram illustrating an example of a cross-sectional configuration taken along line AA of the organic electroluminescent panel of FIG. 18. 図18の有機電界発光パネルのB−B線での断面構成例を表す図である。FIG. 19 is a diagram illustrating an example of a cross-sectional configuration taken along line BB of the organic electroluminescent panel of FIG. 18. 図18の有機電界発光パネルのC−C線での断面構成例を表す図である。FIG. 19 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel of FIG. 18 taken along line CC. 図16の有機電界発光パネルの概略構成の一変形例を表す図である。FIG. 17 is a diagram illustrating a modification of the schematic configuration of the organic electroluminescent panel of FIG. 16. 図22の有機電界発光パネルのB−B線での断面構成例を表す図である。FIG. 23 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel of FIG. 22 taken along line BB. 図22の有機電界発光パネルのC−C線での断面構成例を表す図である。FIG. 23 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel of FIG. 22 taken along line CC. 図18の有機電界発光パネルのA−A線での断面構成の一変形例を表す図である。FIG. 19 is a diagram illustrating a modification of the cross-sectional configuration taken along line AA of the organic electroluminescent panel of FIG. 18. 図18の有機電界発光パネルのB−B線での断面構成の一変形例を表す図である。FIG. 19 is a diagram illustrating a modification of the cross-sectional configuration taken along line BB of the organic electroluminescent panel of FIG. 18. 図18の有機電界発光パネルのC−C線での断面構成の一変形例を表す図である。FIG. 19 is a diagram illustrating a modification of the cross-sectional configuration taken along line CC of the organic electroluminescent panel of FIG. 18. 本開示の有機電界発光装置を備えた電子機器の外観の一例を斜視的に表す図である。FIG. 1 is a perspective view schematically illustrating an example of an external appearance of an electronic apparatus including an organic electroluminescent device according to the present disclosure. 本開示の有機電界発光素子を備えた照明装置の外観の一例を斜視的に表す図である。FIG. 1 is a perspective view schematically illustrating an example of an external appearance of a lighting device including the organic electroluminescent element of the present disclosure.

以下、本開示を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。以下に説明する実施の形態は、いずれも本開示の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態などは、一例であって本開示を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本開示の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。なお、説明は以下の順序で行う。

1.第1の実施の形態(有機電界発光素子)
発光層と陰極との間に低屈折率層を設けた例
2.第1の実施の形態の変形例(有機電界発光素子)
変形例A:陽極と発光層との間に低屈折率層を設けた例
変形例B:正孔注入層を積層体で構成した例
変形例C:陰極上に配光制御層を設けた例
3.第2の実施の形態(有機電界発光パネル、有機電界発光装置)
第1の実施の形態、変形例Aおよび変形例Bに係る
有機電界発光素子を設けた例
4.第2の実施の形態の変形例(有機電界発光パネル、有機電界発光装置)
変形例Cに係る有機電界発光素子を設けた例
5.適用例(電子機器、照明装置)
Hereinafter, embodiments for carrying out the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. Each of the embodiments described below shows a preferred specific example of the present disclosure. Therefore, the numerical values, shapes, materials, constituent elements, arrangement positions of constituent elements, connection forms, and the like shown in the following embodiments are merely examples and do not limit the present disclosure. Therefore, among the components in the following embodiments, components that are not described in the independent claims that indicate the highest concept of the present disclosure are described as arbitrary components. Each drawing is a schematic diagram, and is not necessarily strictly illustrated. In addition, in each of the drawings, substantially the same configuration is denoted by the same reference numeral, and redundant description will be omitted or simplified. The description will be made in the following order.

1. First embodiment (organic electroluminescent device)
1. Example in which a low refractive index layer is provided between a light emitting layer and a cathode Modification of First Embodiment (Organic Electroluminescent Element)
Modification A: An example in which a low refractive index layer is provided between an anode and a light emitting layer Modification B: An example in which a hole injection layer is formed of a laminate Modification C: An example in which a light distribution control layer is provided on a cathode 3. Second embodiment (organic electroluminescent panel, organic electroluminescent device)
3. Example in which organic electroluminescent element according to first embodiment, modification A and modification B is provided. Modified example of second embodiment (organic electroluminescent panel, organic electroluminescent device)
4. Example in which organic electroluminescent element according to modification C is provided Application examples (electronic equipment, lighting equipment)

<1.第1の実施の形態>
[構成]
図1は、本開示の第1の実施の形態に係る有機電界発光素子1の断面構成の一例を表したものである。有機電界発光素子1は、例えば、基板10上に設けられたものである。有機電界発光素子1は、例えば、発光層14と、発光層14を挟み込むように配置された、陽極11および陰極17を備えている。有機電界発光素子1は、例えば、さらに、陽極11と、発光層14との間に、正孔注入層12および正孔輸送層13を陽極11側からこの順に備えている。有機電界発光素子1は、例えば、さらに、発光層14と、陰極17との間に、電子輸送層15および電子注入層16を発光層14側からこの順に備えている。なお、正孔注入層12および正孔輸送層13のうち少なくとも一方が省略されていてもよい。
<1. First Embodiment>
[Constitution]
FIG. 1 illustrates an example of a cross-sectional configuration of the organic electroluminescent device 1 according to the first embodiment of the present disclosure. The organic electroluminescent element 1 is provided, for example, on a substrate 10. The organic electroluminescent device 1 includes, for example, a light-emitting layer 14 and an anode 11 and a cathode 17 arranged so as to sandwich the light-emitting layer 14. The organic electroluminescent device 1 further includes, for example, a hole injection layer 12 and a hole transport layer 13 between the anode 11 and the light emitting layer 14 in this order from the anode 11 side. The organic electroluminescent element 1 further includes, for example, an electron transport layer 15 and an electron injection layer 16 between the light emitting layer 14 and the cathode 17 in this order from the light emitting layer 14 side. Note that at least one of the hole injection layer 12 and the hole transport layer 13 may be omitted.

電子輸送層15および電子注入層16のいずれか一方が、本開示の「低屈折率層」の一具体例に相当する。以下では、電子輸送層15および電子注入層16のうち、本開示の「低屈折率層」の一具体例に相当する方の層を、低屈折率層と称する。なお、電子輸送層15および電子注入層16のうち、本開示の「低屈折率層」の一具体例に相当しない方の層は、省略されていてもよい。   Either the electron transport layer 15 or the electron injection layer 16 corresponds to a specific example of the “low refractive index layer” of the present disclosure. Hereinafter, of the electron transport layer 15 and the electron injection layer 16, a layer corresponding to a specific example of the “low refractive index layer” of the present disclosure is referred to as a low refractive index layer. Note that, of the electron transport layer 15 and the electron injection layer 16, a layer that does not correspond to a specific example of the “low refractive index layer” of the present disclosure may be omitted.

有機電界発光素子1は、例えば、さらに、陰極17上に、封止層18を備えている。有機電界発光素子1は、例えば、陽極11、正孔注入層12、正孔輸送層13、発光層14、電子輸送層15、電子注入層16、陰極17および封止層18を基板10側からこの順に含んで構成された素子構造となっている。有機電界発光素子1において、さらに他の機能層が含まれていてもよい。   The organic electroluminescent device 1 further includes, for example, a sealing layer 18 on the cathode 17. The organic electroluminescent device 1 includes, for example, an anode 11, a hole injection layer 12, a hole transport layer 13, a light emitting layer 14, an electron transport layer 15, an electron injection layer 16, a cathode 17, and a sealing layer 18 from the substrate 10 side. The element structure includes the elements in this order. The organic electroluminescent device 1 may further include another functional layer.

基板10は、例えば、透明基板等の光透過性を有する透光基板であり、例えば、ガラス材からなるガラス基板である。なお、基板10は、ガラス基板に限るものではなく、ポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂等の透光性樹脂材料からなる透光性樹脂基板や、有機EL表示装置のバックプレーンであるTFT(薄膜トランジスタ)基板であってもよい。   The substrate 10 is, for example, a light-transmitting substrate having light transmissivity such as a transparent substrate, and is, for example, a glass substrate made of a glass material. The substrate 10 is not limited to a glass substrate, but may be a translucent resin substrate made of a translucent resin material such as a polycarbonate resin or an acrylic resin, or a TFT (thin film transistor) substrate which is a back plane of an organic EL display device. There may be.

陽極11は、例えば、基板10の上に形成されている。陽極11は、例えば、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、アルミニウムもしくは銀の合金等、または、反射性を有する反射電極である。なお、陽極11は、反射電極に限るものではなく、例えば、透光性を有する透明電極であってもよい。透明電極の材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)又はIZO(Indium Zinc Oxide)等の透明導電性材料が挙げられる。陽極11は、反射電極と透明電極とが積層されたものであってもよい。   The anode 11 is formed, for example, on the substrate 10. The anode 11 is, for example, aluminum (Al), silver (Ag), an alloy of aluminum or silver, or a reflective electrode having reflectivity. The anode 11 is not limited to a reflective electrode, and may be, for example, a transparent electrode having a light transmitting property. Examples of the material for the transparent electrode include a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). The anode 11 may be a laminate of a reflective electrode and a transparent electrode.

正孔注入層12は、正孔注入効率を高めるための層である。正孔注入層12は、陽極11から注入された正孔を発光層14へ注入する機能を有する。正孔注入層12は、例えば、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、タングステン(W)、ニッケル(Ni)、イリジウム(Ir)などの酸化物、あるいは、PEDOT(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)などの導電性ポリマー材料によって構成されている。正孔注入層12は、単層で構成されていてもよいし、複数の層が積層された構造となっていてもよい。   The hole injection layer 12 is a layer for improving hole injection efficiency. The hole injection layer 12 has a function of injecting holes injected from the anode 11 into the light emitting layer 14. The hole injection layer 12 is made of, for example, an oxide such as silver (Ag), molybdenum (Mo), chromium (Cr), vanadium (V), tungsten (W), nickel (Ni), iridium (Ir), or It is made of a conductive polymer material such as PEDOT (a mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid). The hole injection layer 12 may be composed of a single layer, or may have a structure in which a plurality of layers are stacked.

正孔輸送層13は、陽極11から注入された正孔を発光層14へ輸送する機能を有する。正孔輸送層13は、例えば、陽極11から注入された正孔を発光層14へ輸送する機能を有する材料(正孔輸送性材料)によって構成されている。上記の正孔輸送性材料としては、例えば、アリールアミン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体等、または、これらの組み合わせからなる材料が挙げられる。正孔注入層12と正孔輸送層13の各材料のHOMO(最高被占軌道,Highest occupied molecular orbital)レベルの差異は、ホール注入性を考慮すると、0.5eV以下となっていることが好ましい。   The hole transport layer 13 has a function of transporting holes injected from the anode 11 to the light emitting layer 14. The hole transport layer 13 is made of, for example, a material (a hole transport material) having a function of transporting holes injected from the anode 11 to the light emitting layer 14. Examples of the hole transporting material include, for example, an arylamine derivative, a triazole derivative, an oxadiazole derivative, an imidazole derivative, a polyarylalkane derivative, a pyrazoline derivative and a pyrazolone derivative, a phenylenediamine derivative, an amino-substituted chalcone derivative, an oxazole derivative, Materials including a styrylanthracene derivative, a fluorenone derivative, a hydrazone derivative, a stilbene derivative, a butadiene compound, a polystyrene derivative, a hydrazone derivative, a triphenylmethane derivative, a tetraphenylbenzine derivative, and the like, or a combination thereof are given. The difference in the HOMO (highest occupied molecular orbital) level of each material of the hole injection layer 12 and the hole transport layer 13 is preferably 0.5 eV or less in consideration of the hole injection property. .

発光層14は、陽極11から注入された正孔と、陰極17から注入された電子とが、発光層14内で再結合することで励起子が生成されて発光する層である。発光層14は、例えば、有機発光材料によって構成されている。発光層14は、例えば、塗布膜であり、例えば、有機発光材料を溶質とする溶液の塗布および乾燥により形成されている。発光層14は、蒸着膜で構成されていてもよい。   The light emitting layer 14 is a layer in which holes injected from the anode 11 and electrons injected from the cathode 17 are recombined in the light emitting layer 14 to generate excitons and emit light. The light emitting layer 14 is made of, for example, an organic light emitting material. The light emitting layer 14 is, for example, a coating film, and is formed, for example, by applying and drying a solution containing an organic light emitting material as a solute. The light emitting layer 14 may be composed of a deposited film.

発光層14の原料(材料)である有機発光材料は、例えば、ホスト材料とドーパント材料とが組み合わされた材料である。発光層14の原料(材料)である有機発光材料は、ドーパント材料単独であってもよい。ホスト材料は、主に電子又は正孔の電荷輸送の機能を担っており、ドーパント材料は、発光の機能を担っている。ホスト材料およびドーパント材料は1種類のみに限られるものではなく、2種類以上の組み合わせであってもよい。   The organic light emitting material, which is the raw material (material) of the light emitting layer 14, is, for example, a material in which a host material and a dopant material are combined. The organic light emitting material that is the raw material (material) of the light emitting layer 14 may be a single dopant material. The host material mainly has a function of transporting electrons or holes, and the dopant material has a function of emitting light. The host material and the dopant material are not limited to only one type, and may be a combination of two or more types.

発光層14のホスト材料としては、例えば、アミン化合物、縮合多環芳香族化合物、ヘテロ環化合物が用いられる。アミン化合物としては、例えば、モノアミン誘導体、ジアミン誘導体、トリアミン誘導体、テトラアミン誘導体が用いられる。縮合多環芳香族化合物としては、例えば、アントラセン誘導体、ナフタレン誘導体、ナフタセン誘導体、フェナントレン誘導体、クリセン誘導体、フルオランテン誘導体、トリフェニレン誘導体、ペンタセン誘導体、または、ペリレン誘導体等が挙げられる。ヘテロ環化合物としては、例えば、カルバゾール誘導体、フラン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピロール誘導体、インドール誘導体、アザインドール誘導体、アザカルバゾール、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、または、フタロシアニン誘導体等が挙げられる。   As the host material of the light emitting layer 14, for example, an amine compound, a condensed polycyclic aromatic compound, or a heterocyclic compound is used. As the amine compound, for example, a monoamine derivative, a diamine derivative, a triamine derivative, and a tetraamine derivative are used. Examples of the condensed polycyclic aromatic compound include an anthracene derivative, a naphthalene derivative, a naphthacene derivative, a phenanthrene derivative, a chrysene derivative, a fluoranthene derivative, a triphenylene derivative, a pentacene derivative, and a perylene derivative. As the heterocyclic compound, for example, carbazole derivative, furan derivative, pyridine derivative, pyrimidine derivative, triazine derivative, imidazole derivative, pyrazole derivative, triazole derivative, oxazole derivative, oxadiazole derivative, pyrrole derivative, indole derivative, azaindole derivative, Examples include azacarbazole, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, and phthalocyanine derivatives.

また、発光層14のドーパント材料としては、例えば、ピレン誘導体、フルオランテン誘導体、アリールアセチレン誘導体、フルオレン誘導体、ペリレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アントラセン誘導体、または、クリセン誘導体が用いられる。また、発光層14の蛍光ドーパント材料としては、金属錯体が用いられてもよい。金属錯体としては、例えば、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、オスミウム(Os)、金(Au)、レニウム(Re)、もしくは、ルテニウム(Ru)等の金属原子と配位子とを有するものが挙げられる。   As the dopant material of the light emitting layer 14, for example, a pyrene derivative, a fluoranthene derivative, an arylacetylene derivative, a fluorene derivative, a perylene derivative, an oxadiazole derivative, an anthracene derivative, or a chrysene derivative is used. Further, a metal complex may be used as the fluorescent dopant material of the light emitting layer 14. Examples of the metal complex include those having a metal atom such as iridium (Ir), platinum (Pt), osmium (Os), gold (Au), rhenium (Re), or ruthenium (Ru) and a ligand. Is mentioned.

電子輸送層15は、陰極17から注入された電子を発光層14へ輸送する機能を有する。電子輸送層15は、例えば、陰極17から注入された電子を発光層14へ輸送する機能を有する材料(電子輸送性材料)を含んで構成されている。電子輸送層15は、例えば、蒸着膜またはスパッタ膜で構成されている。電子輸送層15は、発光層14から陰極17への電荷(本実施の形態では正孔)の突き抜けを抑制する電荷ブロック機能や、発光層14の励起状態の消光を抑制する機能等を有していることが好ましい。   The electron transport layer 15 has a function of transporting electrons injected from the cathode 17 to the light emitting layer 14. The electron transport layer 15 includes, for example, a material (electron transport material) having a function of transporting electrons injected from the cathode 17 to the light emitting layer 14. The electron transport layer 15 is composed of, for example, a vapor-deposited film or a sputtered film. The electron transport layer 15 has a charge blocking function of suppressing penetration of charges (holes in the present embodiment) from the light emitting layer 14 to the cathode 17, a function of suppressing quenching of the excited state of the light emitting layer 14, and the like. Is preferred.

上記の電子輸送性材料は、例えば、分子内にヘテロ原子を1個以上含有する芳香族ヘテロ環化合物である。芳香族ヘテロ環化合物としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ベンズイミダゾール環、フェナントロリン環、キナゾリン環等を骨格に含む化合物が挙げられる。上記の電子輸送性材料には、電子輸送性を有する金属がドープされている場合がある。この場合、電子輸送層15は、ドープ金属を含む有機電子輸送層である。電子輸送性を有する金属が電子輸送層15に含まれていることで、電子輸送層15の電子輸送性を向上できる。電子輸送層15に含まれるドープ金属としては、例えば、Yb(イッテルビウム)などの遷移金属が挙げられる。   The above-mentioned electron transporting material is, for example, an aromatic heterocyclic compound containing one or more hetero atoms in the molecule. Examples of the aromatic heterocyclic compound include compounds having a skeleton of a pyridine ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a benzimidazole ring, a phenanthroline ring, a quinazoline ring, and the like. The above electron transporting material may be doped with a metal having an electron transporting property. In this case, the electron transport layer 15 is an organic electron transport layer containing a doped metal. Since the electron transport layer 15 contains a metal having an electron transport property, the electron transport property of the electron transport layer 15 can be improved. Examples of the doped metal contained in the electron transport layer 15 include a transition metal such as Yb (ytterbium).

電子注入層16は、陰極17から注入された電子を電子輸送層15、発光層14へ注入する機能を有する。電子注入層16は、例えば、陰極17から電子輸送層15、発光層14への電子の注入を促進させる機能を有する材料(電子注入性材料)によって構成されている。上記の電子注入性材料は、例えば、電子注入性を有する有機材料に、電子注入性を有する金属がドープされたものであってもよい。電子注入層16に含まれるドープ金属は、例えば、電子輸送層15に含まれるドープ金属と同じ金属である。   The electron injection layer 16 has a function of injecting electrons injected from the cathode 17 into the electron transport layer 15 and the light emitting layer 14. The electron injection layer 16 is made of, for example, a material (electron injectable material) having a function of promoting injection of electrons from the cathode 17 to the electron transport layer 15 and the light emitting layer 14. The above-mentioned electron injecting material may be, for example, a material in which an organic material having an electron injecting property is doped with a metal having an electron injecting property. The doping metal contained in the electron injection layer 16 is, for example, the same metal as the doping metal contained in the electron transporting layer 15.

陰極17は、例えば、ITO膜等の透明電極である。なお、陰極17は、透明電極に限るものではなく、光反射性を有する反射電極であってもよい。反射電極の材料としては、例えば、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、銀(Ag)、アルミニウム−リチウム合金、マグネシウム−銀合金等が用いられる。本実施の形態において、基板10及び陽極11が反射性を有し、陰極17が透光性を有している場合には、有機電界発光素子1は、陰極17側から光が放出するトップエミッション構造となっている。なお、本実施の形態において、基板10及び陽極11が透光性を有し、陰極17が反射性を有している場合には、有機電界発光素子1は、基板10側から光が放出するボトムエミッション構造となっている。   The cathode 17 is, for example, a transparent electrode such as an ITO film. In addition, the cathode 17 is not limited to a transparent electrode, and may be a reflective electrode having light reflectivity. As a material of the reflective electrode, for example, aluminum (Al), magnesium (Mg), silver (Ag), an aluminum-lithium alloy, a magnesium-silver alloy, or the like is used. In the present embodiment, when the substrate 10 and the anode 11 have reflectivity and the cathode 17 has translucency, the organic electroluminescent device 1 has a top emission in which light is emitted from the cathode 17 side. It has a structure. In this embodiment, when the substrate 10 and the anode 11 have translucency and the cathode 17 has reflectivity, the organic electroluminescent element 1 emits light from the substrate 10 side. It has a bottom emission structure.

封止層18は、陰極17の上に形成されている。封止層18は、例えば、陰極17の上面に接して形成されている。封止層28は、例えば、樹脂材料からなる。封止層28に用いられる樹脂材料としては、例えば、エポキシ樹脂や、ビニル系樹脂などが挙げられる。   The sealing layer 18 is formed on the cathode 17. The sealing layer 18 is formed, for example, in contact with the upper surface of the cathode 17. The sealing layer 28 is made of, for example, a resin material. Examples of the resin material used for the sealing layer 28 include an epoxy resin and a vinyl resin.

次に、低屈折率層について説明する。低屈折率層は、発光層14と陰極17との間に設けられており、電子輸送層15および電子注入層16のいずれか一方の層である。つまり、低屈折率層は、陰極17から注入された電子を発光層14へ注入もしくは輸送する機能を有している。なお、電子注入層16が単層で構成されている場合に、低屈折率層は、例えば、電子注入層16の全体に該当していてもよい。電子注入層16が複数の層の積層体で構成されている場合に、低屈折率層は、例えば、電子注入層16の全体に該当していてもよいし、電子注入層16に含まれる少なくとも1つの層に該当していてもよい。また、電子輸送層15が単層で構成されている場合に、低屈折率層は、例えば、電子輸送層15の全体に該当していてもよい。電子輸送層15が複数の層の積層体で構成されている場合に、低屈折率層は、例えば、電子輸送層15の全体に該当していてもよいし、電子輸送層15に含まれる少なくとも1つの層に該当していてもよい。   Next, the low refractive index layer will be described. The low refractive index layer is provided between the light emitting layer 14 and the cathode 17 and is one of the electron transport layer 15 and the electron injection layer 16. That is, the low refractive index layer has a function of injecting or transporting electrons injected from the cathode 17 to the light emitting layer 14. When the electron injection layer 16 is formed of a single layer, the low refractive index layer may correspond to, for example, the entire electron injection layer 16. When the electron injection layer 16 is composed of a stacked body of a plurality of layers, the low refractive index layer may correspond to, for example, the entire electron injection layer 16 or may include at least the low refractive index layer included in the electron injection layer 16. It may correspond to one layer. Further, when the electron transport layer 15 is formed as a single layer, the low refractive index layer may correspond to, for example, the entire electron transport layer 15. When the electron transport layer 15 is composed of a laminate of a plurality of layers, the low refractive index layer may correspond to, for example, the entire electron transport layer 15, or may be included in the electron transport layer 15 at least. It may correspond to one layer.

低屈折率層は、発光層14および陰極17の屈折率とは異なる屈折率を有する材料によって形成されている。具体的には、低屈折率層は、陰極17の屈折率よりも大きく、発光層14の屈折率よりも小さな屈折率を有している。ここで、陰極17が、例えば屈折率0.3の金属材料で構成されるとともに、発光層14が、例えば屈折率1.7の有機材料で構成されている場合には、低屈折率層は、0.3よりも大きく、1.7よりも小さな屈折率の材料で構成されている。   The low refractive index layer is formed of a material having a refractive index different from that of the light emitting layer 14 and the cathode 17. Specifically, the low refractive index layer has a refractive index larger than the refractive index of the cathode 17 and smaller than the refractive index of the light emitting layer 14. Here, when the cathode 17 is made of, for example, a metal material with a refractive index of 0.3 and the light emitting layer 14 is made of, for example, an organic material with a refractive index of 1.7, the low refractive index layer is , 0.3 and smaller than 1.7.

図2(A)は、比較例に係る有機電界発光素子で発生するエネルギーの伝搬モードのモード比の一例を表したものである。図2(B)は、実施例に係る有機電界発光素子で発生するエネルギーの伝搬モードの構成例を表したものである。実施例では、電子輸送層15および電子注入層16のいずれか一方の層の屈折率が、陰極17の屈折率よりも大きく、発光層14の屈折率よりも小さくなっている。比較例および実施例におけるその他の条件は、以下のようになっている。なお、図2(A),図2(B)において、OCは外部放出モード、SGは基板モード、BTは封止層18とは逆側(つまり基板10側)へ漏れるモード(漏れモード)、ALは有機電界発光素子内での吸収によるロスが発生するモード(ロスモード)、GMは導波路モード、ECはエバネッセント(無輻射)モードをそれぞれ指している。   FIG. 2A illustrates an example of a mode ratio of a propagation mode of energy generated in the organic electroluminescent element according to the comparative example. FIG. 2B illustrates a configuration example of a propagation mode of energy generated in the organic electroluminescent element according to the embodiment. In the embodiment, the refractive index of one of the electron transport layer 15 and the electron injection layer 16 is larger than the refractive index of the cathode 17 and smaller than the refractive index of the light emitting layer 14. Other conditions in the comparative example and the example are as follows. 2 (A) and 2 (B), OC indicates an external emission mode, SG indicates a substrate mode, BT indicates a mode leaking to the side opposite to the sealing layer 18 (that is, the substrate 10 side) (leakage mode), AL indicates a mode in which a loss occurs due to absorption in the organic electroluminescent device (loss mode), GM indicates a waveguide mode, and EC indicates an evanescent (non-radiation) mode.

図2(A),(B)には、2次干渉(セカンドキャビティ)を発生させるとともに発光位置が陰極側となっているマイクロキャビティ構造を備えた有機電界発光素子におけるシミュレーション結果が示されている。ここで、比較例では、陽極を、厚さ200μm、屈折率0.7の材料で構成し、正孔注入層を、厚さ10nm、屈折率1.7の材料で構成し、正孔輸送層を、厚さ180nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ60nm、屈折率1.7の材料で構成した。比較例では、さらに、電子輸送層を、厚さ10nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層を、厚さ10nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。一方、実施例では、陽極11を、厚さ200μm、屈折率0.7の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nm、屈折率1.7の材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ180nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ60nm、屈折率1.7の材料で構成した。実施例では、さらに、電子輸送層15を、厚さ10nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ10nm、屈折率1.3の材料で構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。   FIGS. 2A and 2B show simulation results of an organic electroluminescent device having a microcavity structure that generates secondary interference (second cavity) and emits light on the cathode side. . Here, in the comparative example, the anode was formed of a material having a thickness of 200 μm and a refractive index of 0.7, the hole injection layer was formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.7, and a hole transport layer was formed. Was formed of a material having a thickness of 180 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was formed of a material having a thickness of 60 nm and a refractive index of 1.7. In the comparative example, the electron transport layer was further formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer was formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 2.0, and the cathode was formed of a material having a thickness of 2.0. The sealing layer was made of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8. On the other hand, in the embodiment, the anode 11 is formed of a material having a thickness of 200 μm and a refractive index of 0.7, the hole injection layer 12 is formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.7, and the hole transport is performed. The layer 13 was made of a material having a thickness of 180 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 60 nm and a refractive index of 1.7. In the embodiment, the electron transport layer 15 is further formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.3, and a cathode 17 is formed. Was formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of 0.3, and the sealing layer 18 was formed of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図2(A),図2(B)から、発光層14と陰極17との間に低屈折率層を設けることにより、フォトンのエネルギーが、エバネッセントモードから、導波路モードへ移行していることがわかる。また、フォトンのエネルギーが、エバネッセントモードから導波路モードへ移行するに伴い、外部放出モードが増加していることがわかる。なお、導波路モードに移行したフォトンのエネルギーは、例えば、第2の実施の形態で登場するリフレクタ構造によって反射され、正面方向に立ち上がった光として外部に出射され得る。   2A and 2B, the provision of the low-refractive-index layer between the light-emitting layer 14 and the cathode 17 allows the photon energy to shift from the evanescent mode to the waveguide mode. I understand. Further, it can be seen that the external emission mode increases as the photon energy shifts from the evanescent mode to the waveguide mode. The energy of the photons that have shifted to the waveguide mode is reflected by, for example, the reflector structure that appears in the second embodiment, and can be emitted to the outside as light rising in the front direction.

ところで、発光層14と陰極17との間に低屈折率層を設けることは、発光層14から低屈折率層へ向かう光にとって、低屈折率層の界面における臨界角が小さくなることを指している。そのため、本実施の形態および実施例では、発光層14から低屈折率層へ向かう光が低屈折率層の界面で反射される割合が、低屈折率層を設けなかった場合と比べて大きくなる。その結果、陽極11近傍で表面プラズモン等によって無輻射失活する割合が低くなるので、外部放出モードおよび導波路モードの割合が増える。また、励起子からのエネルギー放射分布は、周辺の環境(材料)の性質(誘電率、屈折率等)の影響を受けて大きく変化し、例えば屈折率の大きい場が存在すると、そちらへ向けてエネルギー放射されやすくなる等の報告がある。このような現象も含め、他のモードへの移行割合が増えている事が推察される。   The provision of the low-refractive-index layer between the light-emitting layer 14 and the cathode 17 means that the critical angle at the interface of the low-refractive-index layer becomes smaller for light traveling from the light-emitting layer 14 to the low-refractive-index layer. I have. Therefore, in the present embodiment and examples, the ratio of light traveling from the light-emitting layer 14 to the low-refractive-index layer at the interface of the low-refractive-index layer is larger than that in the case where the low-refractive-index layer is not provided. . As a result, the ratio of non-radiative deactivation due to surface plasmons or the like in the vicinity of the anode 11 decreases, so that the ratio of the external emission mode and the waveguide mode increases. Also, the energy radiation distribution from the excitons greatly changes under the influence of the properties (dielectric constant, refractive index, etc.) of the surrounding environment (material). For example, if there is a field having a large refractive index, it is directed toward the field. There are reports that energy is easily emitted. It is guessed that the rate of transition to other modes including this phenomenon is increasing.

図3は、赤色光を発する有機電界発光素子1における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との一例を表したものである。図4は、緑色光を発する有機電界発光素子1における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との一例を表したものである。図5は、青色光を発する有機電界発光素子1における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との一例を表したものである。   FIG. 3 shows an example of the refractive index of the low refractive index layer and the mode ratio of the propagation mode in the organic electroluminescent device 1 that emits red light. FIG. 4 illustrates an example of the refractive index of the low refractive index layer and the mode ratio of the propagation mode in the organic electroluminescent device 1 that emits green light. FIG. 5 illustrates an example of the refractive index of the low refractive index layer and the mode ratio of the propagation mode in the organic electroluminescent device 1 that emits blue light.

図3〜図5には、有機電界発光素子1が2次干渉(セカンドキャビティ)を発生させるとともに発光位置が陰極17側となっているマイクロキャビティ構造を備えている場合のシミュレーション結果が例示されている。図3〜図5に記載された横軸の低屈折率層の屈折率は、電子注入層16の屈折率を示す。   FIGS. 3 to 5 exemplify simulation results in the case where the organic electroluminescent device 1 has a microcavity structure in which secondary interference (second cavity) is generated and the light emission position is on the cathode 17 side. I have. The refractive index of the low refractive index layer on the horizontal axis shown in FIGS. 3 to 5 indicates the refractive index of the electron injection layer 16.

図3では、陽極11を、厚さ200μm、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ220nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ60nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図3では、電子輸送層15を、厚さ10nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ10nmで構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。   In FIG. 3, the anode 11 is formed of a material having a thickness of 200 μm and a refractive index of 0.3, the hole injection layer 12 is formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, and the hole transport layer 13 is formed of a material having a thickness of 10 nm. The light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 60 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 3, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a thickness of 10 nm, and the cathode 17 is formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of The sealing layer 18 was made of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図4では、陽極11を、厚さ200μm、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ180nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ60nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図4では、電子輸送層15を、厚さ10nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ10nmで構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。   In FIG. 4, the anode 11 is made of a material having a thickness of 200 μm and a refractive index of 0.3, the hole injection layer 12 is made of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, and the hole transport layer 13 is formed of a material having a thickness of 10 nm. The light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 60 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 4, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a thickness of 10 nm, and the cathode 17 is formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of The sealing layer 18 was made of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図5では、陽極11を、厚さ200μm、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ140nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ40nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図5では、電子輸送層15を、厚さ10nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ10nmで構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。   In FIG. 5, the anode 11 is formed of a material having a thickness of 200 μm and a refractive index of 0.3, the hole injection layer 12 is formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, and the hole transport layer 13 is formed of a material having a thickness of 10 nm. The light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 40 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 5, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a thickness of 10 nm, and the cathode 17 is formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of The sealing layer 18 was made of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

上述したように、各発光色の有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、陰極17の屈折率(例えば、0.3)よりも大きく、発光層14の屈折率(例えば、1.7)よりも小さくなっていることが好ましい。赤色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、導波路モードの割合が増える、0.5以上となっていることが好ましい。従って、赤色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、図3の「a」の範囲内の値となっていることが好ましく、図3の「b」の範囲内の値となっていることがより好ましい。   As described above, in the organic electroluminescent device 1 of each emission color, the refractive index of the low refractive index layer is larger than the refractive index of the cathode 17 (for example, 0.3) and the refractive index of the light emitting layer 14 (for example, 0.3). It is preferable to be smaller than 1.7). In the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the low refractive index layer preferably has a refractive index of 0.5 or more, which increases the ratio of the waveguide mode. Therefore, in the organic electroluminescent element 1 that emits red light, the refractive index of the low refractive index layer preferably has a value within the range of “a” in FIG. 3 and within the range of “b” in FIG. Is more preferable.

緑色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、導波路モードの割合が増える、0.5以上となっていることが好ましい。従って、緑色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、図4の「a」の範囲内の値となっていることが好ましく、図4の「c」の範囲内の値となっていることがより好ましい。   In the organic electroluminescent device 1 that emits green light, the low refractive index layer preferably has a refractive index of 0.5 or more, which increases the ratio of the waveguide mode. Therefore, in the organic electroluminescent device 1 that emits green light, the refractive index of the low refractive index layer preferably has a value within the range of “a” in FIG. 4, and within the range of “c” in FIG. Is more preferable.

青色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、導波路モードの割合が増える、0.5以上となっていることが好ましい。従って、青色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、図5の「a」の範囲内の値となっていることが好ましく、図5の「d」の範囲内の値となっていることがより好ましい。   In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 0.5 or more, which increases the ratio of the waveguide mode. Therefore, in the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the refractive index of the low refractive index layer preferably has a value within the range of “a” in FIG. 5, and within the range of “d” in FIG. Is more preferable.

[効果]
次に、本実施の形態に係る有機電界発光素子1の効果について説明する。
[effect]
Next, effects of the organic electroluminescent device 1 according to the present embodiment will be described.

有機電界発光素子を用いた有機電界発光装置として、種々のものが提案されている。有機電界発光素子は、陰極および陽極から注入された電子および正孔が発光層で再結合することにより励起子が発生し、その励起子が低エネルギー準位又は基底状態に戻る際に光を放出する素子である。従って、有機電界発光素子では、効果的にキャリアを注入するとともに、効果的に光を外部に取り出すことが必要である。   Various organic electroluminescent devices using organic electroluminescent elements have been proposed. The organic electroluminescent device emits light when excitons are generated by the recombination of electrons and holes injected from the cathode and anode in the light emitting layer, and the excitons return to a low energy level or a ground state. Element. Therefore, in the organic electroluminescent element, it is necessary to effectively inject carriers and effectively extract light to the outside.

ここで、キャリア注入のうち、正孔注入に着目すると、正孔注入層12は、発光層14に正孔を注入するとともに、発光中心で生成した励起子のエネルギーが陽極11付近で失われる失活の発生割合を低くする作用を有していることが重要となる。そこで、本実施の形態では、発光層14と陰極17との間に、陰極17の屈折率よりも大きく、発光層14の屈折率よりも小さな屈折率を有する低屈折率層が設けられている。これにより、発光層14から低屈折率層へ向かう光にとって、低屈折率層の界面における臨界角が小さくなるので、発光層14から低屈折率層へ向かう光が低屈折率層の界面で反射される割合が、低屈折率層を設けなかった場合と比べて大きくなる。その結果、励起子が陽極11近傍で表面プラズモン等によって無輻射失活する割合が低くなるので、外部放出モードおよび導波路モードの割合が増える。従って、低屈折率層によって、発光層14への正孔注入もしくは輸送を促すとともに、光取り出し効率を向上させることができる。   Here, focusing on hole injection among carrier injections, the hole injection layer 12 injects holes into the light emitting layer 14 and loses energy of excitons generated at the emission center near the anode 11. It is important to have the effect of lowering the activity generation rate. Therefore, in the present embodiment, a low refractive index layer having a refractive index larger than the refractive index of the cathode 17 and smaller than the refractive index of the light emitting layer 14 is provided between the light emitting layer 14 and the cathode 17. . Thereby, the critical angle at the interface of the low-refractive-index layer becomes smaller for light traveling from the light-emitting layer 14 to the low-refractive-index layer, so that the light traveling from the light-emitting layer 14 to the low-refractive-index layer is reflected at the interface of the low-refractive-index layer. The ratio is larger than when the low refractive index layer is not provided. As a result, the rate at which excitons radiate and deactivate near the anode 11 due to surface plasmons and the like decreases, so that the rates of the external emission mode and the waveguide mode increase. Therefore, the low-refractive-index layer can promote injection or transport of holes into the light-emitting layer 14 and can improve light extraction efficiency.

また、本実施の形態において、低屈折率層が0.3よりも大きく、1.7よりも小さな屈折率の材料で構成されている場合には、発光層14から低屈折率層へ向かう光にとって、低屈折率層の界面における臨界角が小さくなるので、発光層14から低屈折率層へ向かう光が低屈折率層の界面で反射される割合が、低屈折率層を設けなかった場合と比べて大きくなる。その結果、励起子が陽極11近傍で表面プラズモン等によって無輻射失活する割合が低くなるので、外部放出モードおよび導波路モードの割合が増える。従って、低屈折率層によって、発光層14への正孔注入もしくは輸送を促すとともに、光取り出し効率を向上させることができる。   In the present embodiment, when the low refractive index layer is made of a material having a refractive index larger than 0.3 and smaller than 1.7, light traveling from the light emitting layer 14 to the low refractive index layer is used. Therefore, the critical angle at the interface of the low-refractive-index layer becomes smaller, so that the rate at which light traveling from the light-emitting layer 14 toward the low-refractive-index layer is reflected at the interface of the low-refractive-index layer is not provided. It is larger than. As a result, the rate at which excitons radiate and deactivate near the anode 11 due to surface plasmons and the like decreases, so that the rates of the external emission mode and the waveguide mode increase. Therefore, the low-refractive-index layer can promote injection or transport of holes into the light-emitting layer 14 and can improve light extraction efficiency.

また、本実施の形態に係る赤色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率が0.5以上、1.7以下となっている場合には、導波路モードの割合が大きくなる。これにより、発光層14への正孔注入もしくは輸送を促すとともに、光取り出し効率を向上させることができる。   In the organic electroluminescent device 1 that emits red light according to the present embodiment, when the refractive index of the low refractive index layer is 0.5 or more and 1.7 or less, the ratio of the waveguide mode is reduced. growing. Thereby, the injection or transport of holes into the light emitting layer 14 is promoted, and the light extraction efficiency can be improved.

また、本実施の形態に係る緑色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率が0.5以上、1.7以下となっている場合には、導波路モードの割合が大きくなる。これにより、発光層14への正孔注入もしくは輸送を促すとともに、光取り出し効率を向上させることができる。   Further, in the organic electroluminescent device 1 that emits green light according to the present embodiment, when the refractive index of the low refractive index layer is 0.5 or more and 1.7 or less, the ratio of the waveguide mode is reduced. growing. Thereby, the injection or transport of holes into the light emitting layer 14 is promoted, and the light extraction efficiency can be improved.

また、本実施の形態に係る青色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率が0.5以上、1.7以下となっている場合には、導波路モードの割合が大きくなる。これにより、発光層14への正孔注入もしくは輸送を促すとともに、光取り出し効率を向上させることができる。   In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light according to the present embodiment, when the refractive index of the low refractive index layer is 0.5 or more and 1.7 or less, the ratio of the waveguide mode is reduced. growing. Thereby, the injection or transport of holes into the light emitting layer 14 is promoted, and the light extraction efficiency can be improved.

<2.第1の実施の形態の変形例>
次に、上記第1の実施の形態に係る有機電界発光素子1の変形例について説明する。
<2. Modification of First Embodiment>
Next, a modification of the organic electroluminescent device 1 according to the first embodiment will be described.

[変形例A]
上記実施の形態では、低屈折率層が、発光層14と陰極17との間に設けられていた。しかし、上記実施の形態において、低屈折率層が、発光層14と陰極17との間ではなく、陽極11と発光層14との間に設けられていてもよい。また、上記実施の形態において、低屈折率層が、発光層14と陰極17との間に設けられるとともに、陽極11と発光層14との間にも設けられていてもよい。以下では、陽極11と発光層14との間に設けた低屈折率層について説明する。
[Modification A]
In the above embodiment, the low refractive index layer is provided between the light emitting layer 14 and the cathode 17. However, in the above embodiment, the low refractive index layer may be provided between the anode 11 and the light emitting layer 14 instead of between the light emitting layer 14 and the cathode 17. In the above embodiment, the low refractive index layer may be provided between the light emitting layer 14 and the cathode 17 and also between the anode 11 and the light emitting layer 14. Hereinafter, the low refractive index layer provided between the anode 11 and the light emitting layer 14 will be described.

低屈折率層は、陽極11と発光層14との間に設けられており、正孔注入層12および正孔輸送層13のいずれか一方の層である。つまり、低屈折率層は、陽極11から注入された正孔を発光層14へ注入もしくは輸送する機能を有している。なお、正孔注入層12が単層で構成されている場合に、低屈折率層は、例えば、正孔注入層12の全体に該当していてもよい。正孔注入層12が複数の層の積層体で構成されている場合に、低屈折率層は、例えば、正孔注入層12の全体に該当していてもよいし、正孔注入層12に含まれる少なくとも1つの層に該当していてもよい。また、正孔輸送層13が単層で構成されている場合に、低屈折率層は、例えば、正孔輸送層13の全体に該当していてもよい。正孔輸送層13が複数の層の積層体で構成されている場合に、低屈折率層は、例えば、正孔輸送層13の全体に該当していてもよいし、正孔輸送層13に含まれる少なくとも1つの層に該当していてもよい。   The low refractive index layer is provided between the anode 11 and the light emitting layer 14 and is one of the hole injection layer 12 and the hole transport layer 13. That is, the low refractive index layer has a function of injecting or transporting holes injected from the anode 11 to the light emitting layer 14. When the hole injection layer 12 is formed of a single layer, the low refractive index layer may correspond to, for example, the entire hole injection layer 12. When the hole injection layer 12 is composed of a laminate of a plurality of layers, the low refractive index layer may correspond to, for example, the entire hole injection layer 12, It may correspond to at least one layer included. When the hole transport layer 13 is formed as a single layer, the low refractive index layer may correspond to, for example, the entire hole transport layer 13. When the hole transport layer 13 is composed of a multilayer body of a plurality of layers, the low refractive index layer may correspond to, for example, the entire hole transport layer 13 or may be a layer having a low refractive index. It may correspond to at least one layer included.

低屈折率層は、陽極11および発光層14の屈折率とは異なる屈折率を有する材料によって形成されている。具体的には、低屈折率層は、陽極11の屈折率よりも大きく、発光層14の屈折率よりも小さな屈折率を有している。ここで、陽極11が、例えば屈折率0.3の金属材料で構成されるとともに、発光層14が、例えば屈折率1.7の有機材料で構成されている場合には、低屈折率層は、0.3よりも大きく、1.7よりも小さな屈折率の材料で構成されている。   The low refractive index layer is formed of a material having a refractive index different from that of the anode 11 and the light emitting layer 14. Specifically, the low refractive index layer has a refractive index larger than the refractive index of the anode 11 and smaller than the refractive index of the light emitting layer 14. Here, when the anode 11 is made of, for example, a metal material having a refractive index of 0.3 and the light emitting layer 14 is made of, for example, an organic material having a refractive index of 1.7, the low refractive index layer is , 0.3 and smaller than 1.7.

図6(A)は、比較例に係る有機電界発光素子で発生するエネルギーの伝搬モードのモード比の一例を表したものである。図6(B)は、実施例に係る有機電界発光素子で発生するエネルギーの伝搬モードの構成例を表したものである。比較例では、正孔注入層12および正孔輸送層13のいずれの屈折率も、発光層14の屈折率と等しくなっている。一方、実施例では、正孔注入層12および正孔輸送層13のいずれか一方の層の屈折率が、陽極11の屈折率よりも大きく、発光層14の屈折率よりも小さくなっている。比較例および実施例におけるその他の条件は、以下のようになっている。なお、図6(A),図6(B)において、OCは外部放出モード、SGは基板モード、BTは封止層18とは逆側(つまり基板10側)へ漏れるモード(漏れモード)、ALは有機電界発光素子内での吸収によるロスが発生するモード(ロスモード)、GMは導波路モード、ECはエバネッセント(無輻射)モードをそれぞれ指している。   FIG. 6A illustrates an example of a mode ratio of a propagation mode of energy generated in the organic electroluminescent element according to the comparative example. FIG. 6B illustrates a configuration example of a propagation mode of energy generated in the organic electroluminescent element according to the embodiment. In the comparative example, the refractive indexes of both the hole injection layer 12 and the hole transport layer 13 are equal to the refractive index of the light emitting layer 14. On the other hand, in the example, the refractive index of one of the hole injection layer 12 and the hole transport layer 13 is larger than the refractive index of the anode 11 and smaller than the refractive index of the light emitting layer 14. Other conditions in the comparative example and the example are as follows. 6A and 6B, OC indicates an external emission mode, SG indicates a substrate mode, and BT indicates a mode leaking to the side opposite to the sealing layer 18 (that is, the substrate 10 side) (leakage mode). AL indicates a mode in which a loss occurs due to absorption in the organic electroluminescent device (loss mode), GM indicates a waveguide mode, and EC indicates an evanescent (non-radiation) mode.

図6(A),(B)には、2次干渉(セカンドキャビティ)を発生させるとともに発光位置が陽極側となっているマイクロキャビティ構造を備えた有機電界発光素子におけるシミュレーション結果が示されている。ここで、比較例では、陽極を、厚さ200μm、屈折率0.7の材料で構成し、正孔注入層を、厚さ10nm、屈折率1.7の材料で構成し、正孔輸送層を、厚さ20nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ90nm、屈折率1.7の材料で構成した。比較例では、さらに、電子輸送層を、厚さ30nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層を、厚さ80nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。一方、実施例では、陽極11を、厚さ200μm、屈折率0.7の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nm、屈折率1.3の材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ20nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ90nm、屈折率1.7の材料で構成した。実施例では、さらに、電子輸送層15を、厚さ30nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ80nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。   FIGS. 6A and 6B show simulation results of an organic electroluminescent device having a microcavity structure that generates secondary interference (second cavity) and emits light on the anode side. . Here, in the comparative example, the anode was formed of a material having a thickness of 200 μm and a refractive index of 0.7, the hole injection layer was formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.7, and a hole transport layer was formed. Was composed of a material having a thickness of 20 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was composed of a material having a thickness of 90 nm and a refractive index of 1.7. In the comparative example, the electron transport layer was further formed of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer was formed of a material having a thickness of 80 nm and a refractive index of 2.0, and the cathode was formed of a material having a thickness of 2.0. The sealing layer was made of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8. On the other hand, in the embodiment, the anode 11 is made of a material having a thickness of 200 μm and a refractive index of 0.7, and the hole injection layer 12 is made of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.3. The layer 13 was made of a material having a thickness of 20 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 90 nm and a refractive index of 1.7. In the embodiment, further, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a material having a thickness of 80 nm and a refractive index of 2.0, and the cathode 17 is formed. Was formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of 0.3, and the sealing layer 18 was formed of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図6(A),図6(B)から、陽極11と発光層14との間に低屈折率層を設けることにより、フォトンのエネルギーが、エバネッセントモードから、導波路モードへ移行していることがわかる。また、フォトンのエネルギーが、エバネッセントモードから導波路モードへ移行するに伴い、外部放出モードが増加していることがわかる。なお、導波路モードに移行したフォトンのエネルギーは、例えば、第2の実施の形態で登場するリフレクタ構造によって反射され、正面方向に立ち上がった光として外部に出射され得る。   6A and 6B that the energy of photons is shifted from the evanescent mode to the waveguide mode by providing a low refractive index layer between the anode 11 and the light emitting layer 14. I understand. Further, it can be seen that the external emission mode increases as the photon energy shifts from the evanescent mode to the waveguide mode. The energy of the photons that have shifted to the waveguide mode is reflected by, for example, the reflector structure that appears in the second embodiment, and can be emitted to the outside as light rising in the front direction.

ところで、陽極11と発光層14との間に低屈折率層を設けることは、発光層14から低屈折率層へ向かう光にとって、低屈折率層の界面における臨界角が小さくなることを指している。そのため、本実施の形態および実施例では、発光層14から低屈折率層へ向かう光が低屈折率層の界面で反射される割合が、低屈折率層を設けなかった場合と比べて大きくなる。その結果、陽極11近傍で表面プラズモン等によって無輻射失活する割合が低くなるので、外部放出モードおよび導波路モードの割合が増える。また、励起子からのエネルギー放射分布は、周辺の環境(材料)の性質(誘電率、屈折率等)の影響を受けて大きく変化し、例えば屈折率の大きい場が存在すると、そちらへ向けてエネルギー放射されやすくなる等の報告がある。このような現象も含め、他のモードへの移行割合が増えている事が推察される。   The provision of the low-refractive-index layer between the anode 11 and the light-emitting layer 14 means that the critical angle at the interface of the low-refractive-index layer becomes smaller for light traveling from the light-emitting layer 14 to the low-refractive-index layer. I have. Therefore, in the present embodiment and examples, the ratio of light traveling from the light-emitting layer 14 to the low-refractive-index layer at the interface of the low-refractive-index layer is larger than that in the case where the low-refractive-index layer is not provided. . As a result, the ratio of non-radiative deactivation due to surface plasmons or the like in the vicinity of the anode 11 decreases, so that the ratio of the external emission mode and the waveguide mode increases. Also, the energy radiation distribution from the excitons greatly changes under the influence of the properties (dielectric constant, refractive index, etc.) of the surrounding environment (material). For example, if there is a field having a large refractive index, it is directed toward the field. There are reports that energy is easily emitted. It is guessed that the rate of transition to other modes including this phenomenon is increasing.

図7は、赤色光を発する有機電界発光素子1における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との関係の一例を表したものである。図8は、緑色光を発する有機電界発光素子1における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との関係の一例を表したものである。図9は、青色光を発する有機電界発光素子1における、低屈折率層の屈折率と伝搬モードのモード比との関係の一例を表したものである。   FIG. 7 shows an example of the relationship between the refractive index of the low refractive index layer and the mode ratio of the propagation mode in the organic electroluminescent device 1 that emits red light. FIG. 8 illustrates an example of the relationship between the refractive index of the low refractive index layer and the mode ratio of the propagation mode in the organic electroluminescent device 1 that emits green light. FIG. 9 illustrates an example of the relationship between the refractive index of the low refractive index layer and the mode ratio of the propagation mode in the organic electroluminescent device 1 that emits blue light.

図7〜図9には、有機電界発光素子1が2次干渉(セカンドキャビティ)を発生させるとともに発光位置が陽極11側となっているマイクロキャビティ構造を備えている場合のシミュレーション結果が例示されている。図7〜図9に記載された横軸の低屈折率層の屈折率は、正孔注入層12の屈折率を示す。   FIGS. 7 to 9 exemplify simulation results in the case where the organic electroluminescent device 1 has a microcavity structure in which secondary interference (second cavity) is generated and the light emission position is on the anode 11 side. I have. The refractive index of the low refractive index layer on the horizontal axis shown in FIGS. 7 to 9 indicates the refractive index of the hole injection layer 12.

図6では、陽極11を、厚さ200μm、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ30nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ120nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図6では、電子輸送層15を、厚さ30nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ80nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。   In FIG. 6, the anode 11 is formed of a material having a thickness of 200 μm and a refractive index of 0.3, the hole injection layer 12 is formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, and the hole transport layer 13 is formed of a material having a thickness of 10 nm. The light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 120 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 6, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a material having a thickness of 80 nm and a refractive index of 2.0, and the cathode 17 is formed. Was formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of 0.3, and the sealing layer 18 was formed of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図7では、陽極11を、厚さ200μm、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ20nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ90nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図7では、電子輸送層15を、厚さ30nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ80nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。   In FIG. 7, the anode 11 is formed of a material having a thickness of 200 μm and a refractive index of 0.3, the hole injection layer 12 is formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, and the hole transport layer 13 is formed of a material having a thickness of 10 nm. The light-emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 90 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 7, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a material having a thickness of 80 nm and a refractive index of 2.0, and the cathode 17 is formed. Was formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of 0.3, and the sealing layer 18 was formed of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図8では、陽極11を、厚さ200μm、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ20nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ40nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図8では、電子輸送層15を、厚さ30nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ80nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。   In FIG. 8, the anode 11 is formed of a material having a thickness of 200 μm and a refractive index of 0.3, the hole injection layer 12 is formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, and the hole transport layer 13 is formed of a material having a thickness of 10 nm. The light-emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 40 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 8, the electron transport layer 15 is made of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is made of a material having a thickness of 80 nm and a refractive index of 2.0, and a cathode 17 is formed. Was formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of 0.3, and the sealing layer 18 was formed of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

上述したように、各発光色の有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、陽極11の屈折率(例えば、0.3)よりも大きく、発光層14の屈折率(例えば、1.7)よりも小さくなっていることが好ましい。赤色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、導波路モードの割合が増える、0.75以上となっていることが好ましい。赤色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、外部放出モードがエバネッセントモードよりも支配的となる、1.4以下となっていることが好ましい。従って、赤色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、図7の「a」の範囲内の値となっていることが好ましく、図7の「b」の範囲内の値となっていることがより好ましい。   As described above, in the organic electroluminescent element 1 of each emission color, the refractive index of the low refractive index layer is larger than the refractive index of the anode 11 (for example, 0.3), and the refractive index of the light emitting layer 14 (for example, It is preferable to be smaller than 1.7). In the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the low refractive index layer preferably has a refractive index of 0.75 or more, which increases the ratio of the waveguide mode. In the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.4 or less, in which the external emission mode is more dominant than the evanescent mode. Therefore, in the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the refractive index of the low refractive index layer preferably has a value within the range of “a” in FIG. 7 and within the range of “b” in FIG. Is more preferable.

緑色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、導波路モードの割合が増える、0.5以上となっていることが好ましい。従って、緑色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、図8の「a」の範囲内の値となっていることが好ましく、図8の「c」の範囲内の値となっていることがより好ましい。   In the organic electroluminescent device 1 that emits green light, the low refractive index layer preferably has a refractive index of 0.5 or more, which increases the ratio of the waveguide mode. Therefore, in the organic electroluminescent device 1 that emits green light, the refractive index of the low refractive index layer preferably has a value within the range of “a” in FIG. 8, and within the range of “c” in FIG. Is more preferable.

青色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、導波路モードの割合が増える、0.5以上となっていることが好ましい。青色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、エバネッセントモードの割合が50%以下となる、1.5以下となっていることが好ましい。従って、青色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率は、図9の「a」の範囲内の値となっていることが好ましく、図9の「d」の範囲内の値となっていることがより好ましい。   In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 0.5 or more, which increases the ratio of the waveguide mode. In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.5 or less at which the ratio of the evanescent mode is 50% or less. Therefore, in the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the refractive index of the low-refractive-index layer is preferably a value within the range of “a” in FIG. 9 and within the range of “d” in FIG. Is more preferable.

[効果]
次に、本変形例に係る有機電界発光素子1の効果について説明する。
[effect]
Next, the effect of the organic electroluminescent device 1 according to the present modification will be described.

本変形例では、陽極11と発光層14との間に、陽極11の屈折率よりも大きく、発光層14の屈折率よりも小さな屈折率を有する低屈折率層が設けられている。これにより、発光層14から低屈折率層へ向かう光にとって、低屈折率層の界面における臨界角が小さくなるので、発光層14から低屈折率層へ向かう光が低屈折率層の界面で反射される割合が、低屈折率層を設けなかった場合と比べて大きくなる。その結果、励起子が陽極11近傍で表面プラズモン等によって無輻射失活する割合が低くなるので、外部放出モードおよび導波路モードの割合が増える。従って、低屈折率層によって、発光層14への正孔注入もしくは輸送を促すとともに、光取り出し効率を向上させることができる。   In this modification, a low refractive index layer having a refractive index larger than the refractive index of the anode 11 and smaller than the refractive index of the light emitting layer 14 is provided between the anode 11 and the light emitting layer 14. Thereby, the critical angle at the interface of the low-refractive-index layer becomes smaller for light traveling from the light-emitting layer 14 to the low-refractive-index layer, so that the light traveling from the light-emitting layer 14 to the low-refractive-index layer is reflected at the interface of the low-refractive-index layer. The ratio is larger than when the low refractive index layer is not provided. As a result, the rate at which excitons radiate and deactivate near the anode 11 due to surface plasmons and the like decreases, so that the rates of the external emission mode and the waveguide mode increase. Therefore, the low-refractive-index layer can promote injection or transport of holes into the light-emitting layer 14 and can improve light extraction efficiency.

また、本変形例において、低屈折率層が0.3よりも大きく、1.7よりも小さな屈折率の材料で構成されている場合には、発光層14から低屈折率層へ向かう光にとって、低屈折率層の界面における臨界角が小さくなるので、発光層14から低屈折率層へ向かう光が低屈折率層の界面で反射される割合が、低屈折率層を設けなかった場合と比べて大きくなる。その結果、励起子が陽極11近傍で表面プラズモン等によって無輻射失活する割合が低くなるので、外部放出モードおよび導波路モードの割合が増える。従って、低屈折率層によって、発光層14への正孔注入もしくは輸送を促すとともに、光取り出し効率を向上させることができる。   Further, in this modification, when the low refractive index layer is made of a material having a refractive index larger than 0.3 and smaller than 1.7, light emitted from the light emitting layer 14 to the low refractive index layer is not used. Since the critical angle at the interface of the low-refractive-index layer is reduced, the ratio of light from the light-emitting layer 14 toward the low-refractive-index layer at the interface of the low-refractive-index layer is the same as when the low-refractive-index layer is not provided. It will be larger than that. As a result, the rate at which excitons radiate and deactivate near the anode 11 due to surface plasmons and the like decreases, so that the rates of the external emission mode and the waveguide mode increase. Therefore, the low-refractive-index layer can promote injection or transport of holes into the light-emitting layer 14 and can improve light extraction efficiency.

また、本変形例に係る赤色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率が0.75以上、1.4以下となっている場合には、導波路モードの割合が大きく、外部放出モードがエバネッセントモードよりも支配的となる。これにより、発光層14への正孔注入もしくは輸送を促すとともに、光取り出し効率を向上させることができる。   In the organic electroluminescent device 1 according to the present modification that emits red light, when the refractive index of the low refractive index layer is 0.75 or more and 1.4 or less, the ratio of the waveguide mode is large. , The external emission mode becomes more dominant than the evanescent mode. Thereby, the injection or transport of holes into the light emitting layer 14 is promoted, and the light extraction efficiency can be improved.

また、本変形例に係る緑色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率が0.5以上、1.7以下となっている場合には、導波路モードの割合が大きくなる。これにより、発光層14への正孔注入もしくは輸送を促すとともに、光取り出し効率を向上させることができる。   In the organic electroluminescent device 1 that emits green light according to the present modification, when the refractive index of the low refractive index layer is 0.5 or more and 1.7 or less, the ratio of the waveguide mode is large. Become. Thereby, the injection or transport of holes into the light emitting layer 14 is promoted, and the light extraction efficiency can be improved.

また、本変形例に係る青色光を発する有機電界発光素子1において、低屈折率層の屈折率が0.5以上、1.5以下となっている場合には、導波路モードの割合が大きく、エバネッセントモードの割合が50%以下となる。これにより、発光層14への正孔注入もしくは輸送を促すとともに、光取り出し効率を向上させることができる。   In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light according to the present modification, when the refractive index of the low refractive index layer is 0.5 or more and 1.5 or less, the ratio of the waveguide mode is large. , The ratio of the evanescent mode becomes 50% or less. Thereby, the injection or transport of holes into the light emitting layer 14 is promoted, and the light extraction efficiency can be improved.

[変形例B]
図10は、上記実施の形態および変形例Aに係る有機電界発光素子1の断面構成の一変形例を表したものである。本変形例に係る有機電界発光素子1において、正孔注入層12は、例えば、金属酸化物層12Aと、金属酸化物層12Aに積層された有機物層12Bとを含んで構成されている。
[Modification B]
FIG. 10 illustrates a modification of the cross-sectional configuration of the organic electroluminescent element 1 according to the embodiment and the modification A. In the organic electroluminescent device 1 according to the present modification, the hole injection layer 12 includes, for example, a metal oxide layer 12A and an organic material layer 12B laminated on the metal oxide layer 12A.

金属酸化物層12Aは、酸化タングステン(組成式WOxにおいて、xは概ね2<x<3の範囲における実数)を含んで構成されている。金属酸化物層12Aの膜厚は、2nm以上となっており、例えば、10nmとなっている。金属酸化物層12Aには、通常混入し得る程度の極微量の不純物が含まれていてもよい。   The metal oxide layer 12A is configured to include tungsten oxide (in the composition formula WOx, x is generally a real number in the range of 2 <x <3). The thickness of the metal oxide layer 12A is 2 nm or more, for example, 10 nm. The metal oxide layer 12A may contain a trace amount of impurities that can be mixed normally.

金属酸化物層12Aの膜厚を2nm以上とすることにより、均一な酸化タングステン膜を成膜しやすくなり、また、以下に示す陽極11と金属酸化物層12Aとの間のショットキーオーミック接続を形成しやすくなる。ショットキーオーミック接続は、酸化タングステン膜の膜厚が2nm以上で安定して形成される。そのため、これより厚く酸化タングステン膜を形成すれば、ショットキーオーミック接続を利用して、陽極11から金属酸化物層12Aへの安定したホール注入効率を期待できる。なお、「ショットキーオーミック接続」とは、陽極11のフェルミレベルと、金属酸化物層12Aのフェルミ面近傍の占有準位で最も低い結合エネルギーとの差が所定値以下に収まっている接続を言う。金属酸化物層12Aの厚さは、例えば、5nm以上20nm以下となっている。   By setting the thickness of the metal oxide layer 12A to 2 nm or more, it is easy to form a uniform tungsten oxide film, and a Schottky ohmic connection between the anode 11 and the metal oxide layer 12A described below is established. It is easy to form. The Schottky ohmic connection is formed stably when the thickness of the tungsten oxide film is 2 nm or more. Therefore, if a thicker tungsten oxide film is formed, a stable hole injection efficiency from the anode 11 to the metal oxide layer 12A can be expected using the Schottky ohmic connection. The “Schottky ohmic connection” refers to a connection in which the difference between the Fermi level of the anode 11 and the lowest binding energy at the occupied level near the Fermi surface of the metal oxide layer 12A is less than or equal to a predetermined value. . The thickness of the metal oxide layer 12A is, for example, 5 nm or more and 20 nm or less.

有機物層12Bは、金属酸化物層12Aに接触して形成されている。有機物層12Bは、電子ブロッキング性を有している。有機物層12Bは、導電性ポリマー材料などの有機材料によって形成されている。有機物層12Bは、例えば、PEDOT(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)などの導電性ポリマー材料の有機高分子溶液を、金属酸化物層12A上に塗布し乾燥させることにより形成されている。この場合、有機物層12Bは、塗布膜によって構成されている。有機物層12Bは、さらに、例えば、溶解性および不溶化の機能のために、その分子構造中に、可溶性基と、熱解離可溶性基、架橋性基または脱離性保護基などの不溶化基とを有している。つまり、有機物層12Bは、不溶化層となっている。   The organic layer 12B is formed in contact with the metal oxide layer 12A. The organic layer 12B has an electron blocking property. The organic layer 12B is formed of an organic material such as a conductive polymer material. The organic layer 12B is formed by, for example, applying an organic polymer solution of a conductive polymer material such as PEDOT (a mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid) on the metal oxide layer 12A and drying. In this case, the organic material layer 12B is constituted by a coating film. The organic material layer 12B further has, for example, a soluble group and an insolubilizing group such as a heat dissociable soluble group, a crosslinkable group or a removable protective group in its molecular structure for the function of solubility and insolubilization. doing. That is, the organic layer 12B is an insolubilized layer.

青色の有機電界発光素子1の有機物層12Bの厚さは、発光効率の観点からは、例えば、20nm以上となっていることが好ましい。なお、青色の有機電界発光素子1の有機物層12Bの厚さは、色度の観点からは、例えば、30nm以上となっていることが好ましい。緑色の有機電界発光素子1の有機物層12Bの厚さは、発光効率の観点からは、例えば、10nm以上20nm以下となっていることが好ましい。赤色の有機電界発光素子12rの有機物層12Bの厚さは、発光効率の観点からは、例えば、30nm以上となっていることが好ましい。赤色の有機電界発光素子12rの有機物層12Bの厚さは、成膜時間短縮の観点からは、例えば、50nm以下となっていることが好ましい。   The thickness of the organic layer 12B of the blue organic electroluminescent element 1 is preferably, for example, 20 nm or more from the viewpoint of luminous efficiency. The thickness of the organic layer 12B of the blue organic electroluminescent element 1 is preferably, for example, 30 nm or more from the viewpoint of chromaticity. The thickness of the organic layer 12B of the green organic electroluminescent element 1 is preferably, for example, 10 nm or more and 20 nm or less from the viewpoint of luminous efficiency. The thickness of the organic layer 12B of the red organic electroluminescent element 12r is preferably, for example, 30 nm or more from the viewpoint of luminous efficiency. The thickness of the organic layer 12B of the red organic electroluminescent element 12r is preferably, for example, 50 nm or less from the viewpoint of shortening the film formation time.

[変形例C]
図11は、上記実施の形態および変形例Aに係る有機電界発光素子1の断面構成の一変形例を表したものである。図12は、上記変形例Bに係る有機電界発光素子1の断面構成の一変形例を表したものである。本変形例に係る有機電界発光素子1は、陰極17と封止層18との間に、陰極17の上面に接する配光制御層19を有している。配光制御層19は、例えば、図13に示したように、光透過層19A,19B,19Cを陰極17側からこの順に積層して構成された複合層となっている。光透過層19A,19B,19Cは、例えば、透明導電性材料または透明誘電体材料によって形成されている。
[Modification C]
FIG. 11 illustrates a modification of the cross-sectional configuration of the organic electroluminescent device 1 according to the above embodiment and Modification A. FIG. 12 illustrates a modification of the cross-sectional configuration of the organic electroluminescent element 1 according to the modification B. The organic electroluminescent device 1 according to the present modification has a light distribution control layer 19 that is in contact with the upper surface of the cathode 17 between the cathode 17 and the sealing layer 18. The light distribution control layer 19 is, for example, a composite layer formed by laminating light transmitting layers 19A, 19B, and 19C in this order from the cathode 17 side, as shown in FIG. The light transmission layers 19A, 19B, 19C are formed of, for example, a transparent conductive material or a transparent dielectric material.

光透過層19A,19B,19Cに用いられる透明導電性材料としては、例えば、ITOまたはIZO等が挙げられる。光透過層19A,19B,19Cに用いられる透明誘電体材料としては、例えば酸化ケイ素(例えばSiO2),酸窒化ケイ素(例えばSiON)または窒化ケイ素(例えばSiN)等が挙げられる。光透過層19A,19B,19Cは、陰極17としての機能を有していてもよく、あるいは、パッシベーション膜として機能するようになっていてもよい。光透過層19A,19B,19Cは、例えば、MgFまたはNaFなどの低屈折率材料によって形成されていてもよい。 Examples of the transparent conductive material used for the light transmission layers 19A, 19B, and 19C include ITO and IZO. Examples of the transparent dielectric material used for the light transmitting layers 19A, 19B, 19C include silicon oxide (for example, SiO 2 ), silicon oxynitride (for example, SiON), silicon nitride (for example, SiN), and the like. The light transmission layers 19A, 19B, and 19C may have a function as the cathode 17, or may function as a passivation film. The light transmitting layers 19A, 19B, and 19C may be formed of a low refractive index material such as MgF or NaF, for example.

陽極11と光透過層19A,19B,19Cとによって共振器構造が構成される。本変形例では、封止層18は、陽極11と光透過層19A,19B,19Cとの間で構成される共振器構造への外部からの干渉を防ぐ機能も有している。   The anode 11 and the light transmitting layers 19A, 19B, 19C form a resonator structure. In the present modified example, the sealing layer 18 also has a function of preventing external interference with a resonator structure formed between the anode 11 and the light transmitting layers 19A, 19B, and 19C.

陽極11の上面には、陽極11と、陽極11の上面に接する層(正孔注入層12もしくは正孔輸送層13)との屈折率差によって反射面S1が形成されている。反射面S1は、発光層14の発光中心14aから光学距離L1の位置に配置されている。光学距離L1は、発光層14の発光スペクトルの中心波長λ1の光を、反射面S1と、発光中心14aとの間における干渉によって強め合うように設定されている。具体的には、光学距離L1は、以下の式(1),(2)を満たすように構成されている。なお、式(1),(2)において、L1,λ1,λ11の単位は、nmとなっている。   A reflection surface S1 is formed on the upper surface of the anode 11 due to a difference in refractive index between the anode 11 and a layer (the hole injection layer 12 or the hole transport layer 13) in contact with the upper surface of the anode 11. The reflection surface S1 is arranged at a position at an optical distance L1 from the emission center 14a of the emission layer 14. The optical distance L1 is set so that the light having the center wavelength λ1 of the emission spectrum of the light emitting layer 14 is strengthened by interference between the reflection surface S1 and the light emission center 14a. Specifically, the optical distance L1 is configured to satisfy the following equations (1) and (2). In addition, in the expressions (1) and (2), the unit of L1, λ1, and λ11 is nm.

(2L1/λ11)+(a1/2π)=m1…(1)
λ1−150<λ11<λ1+80…(2)
a1:発光層14から出射された光が反射面S1で反射する際の位相変化
λ11:式(2)を満たす波長
m1:0以上の整数
(2L1 / λ11) + (a1 / 2π) = m1 (1)
λ1-150 <λ11 <λ1 + 80 (2)
a1: a phase change λ11 when light emitted from the light emitting layer 14 is reflected by the reflecting surface S1: a wavelength m1 satisfying the expression (2) m1: an integer of 0 or more.

a1は、陽極11の複素屈折率N=n0-jk(n0:屈折率、k:消衰係数)のn0、kと、発光層14の屈折率とを用いて計算することができる(例えば、Principles of Optics, Max Born and Emil Wolf, 1974 (PERGAMON PRESS)などを参照)。陽極11の複素屈折率や発光層14の屈折率は、例えば、分光エリプソメトリー測定装置を用いて測定することができる。   a1 can be calculated using n0, k of the complex refractive index N = n0-jk (n0: refractive index, k: extinction coefficient) of the anode 11 and the refractive index of the light emitting layer 14 (for example, Principles of Optics, Max Born and Emil Wolf, 1974 (PERGAMON PRESS) etc.). The complex refractive index of the anode 11 and the refractive index of the light-emitting layer 14 can be measured using, for example, a spectroscopic ellipsometer.

m1の値が大きいといわゆるマイクロキャビティ(微小共振器)効果が得られないため、m1=0であることが好ましい。例えば、光学距離L11は、以下の式(3),(4)を共に満たしていることが好ましい。なお、式(4)において、λ1=600nmとなっている。   If the value of m1 is large, a so-called microcavity (micro-resonator) effect cannot be obtained, so it is preferable that m1 = 0. For example, it is preferable that the optical distance L11 satisfies both the following expressions (3) and (4). In equation (4), λ1 = 600 nm.

(2L1/λ11)+(a1/2π)=0…(3)
λ1−150=450<λ11=600<λ1+80=680…(4)
(2L1 / λ11) + (a1 / 2π) = 0 (3)
λ1-150 = 450 <λ11 = 600 <λ1 + 80 = 680 (4)

式(3)を満たす反射面S1は、0次の干渉の位置に設けられているので、広い波長帯域にわたって、高い透過率を示す。このため、式(4)に示したように、λ11を中心波長λ1から大きくずらすことも可能である。   Since the reflection surface S1 satisfying the expression (3) is provided at the position of the 0th-order interference, it exhibits high transmittance over a wide wavelength band. Therefore, as shown in Expression (4), λ11 can be greatly shifted from the center wavelength λ1.

陰極17の上面には、陰極17と、陰極17の上面に接する層(光透過層19A)との屈折率差によって反射面S2が形成されている。反射面S2は、発光層14の発光中心14aから光学距離L2の位置に配置されている。光学距離L2は、発光層14の発光スペクトルの中心波長λ1の光を、反射面S2と、発光中心14aとの間における干渉によって強め合うように設定されている。具体的には、光学距離L2は、以下の式(5),(6)を満たすように構成されている。なお、式(5),(6)において、L2,λ1,λ12の単位は、nmとなっている。   A reflection surface S2 is formed on the upper surface of the cathode 17 due to a difference in refractive index between the cathode 17 and a layer (light transmission layer 19A) in contact with the upper surface of the cathode 17. The reflection surface S2 is arranged at a position at an optical distance L2 from the light emission center 14a of the light emitting layer 14. The optical distance L2 is set so that light of the center wavelength λ1 of the emission spectrum of the light emitting layer 14 is strengthened by interference between the reflection surface S2 and the light emission center 14a. Specifically, the optical distance L2 is configured to satisfy the following equations (5) and (6). In the expressions (5) and (6), the unit of L2, λ1, and λ12 is nm.

(2L2/λ12)+(a2/2π)=m2…(5)
λ1−80<λ12<λ1+80…(6)
a2:発光層14から出射された光が反射面S2で反射する際の位相変化
λ12:式(6)を満たす波長
m2:0以上の整数
(2L2 / λ12) + (a2 / π) = m2 (5)
λ1-80 <λ12 <λ1 + 80 (6)
a2: a phase change λ12 when light emitted from the light emitting layer 14 is reflected by the reflection surface S2: a wavelength m2 satisfying the expression (6): an integer of 0 or more.

a2は、光透過層19Aの複素屈折率N=n0-jk(n0:屈折率、k:消衰係数)のn0、kと、発光層14の屈折率とを用いて計算することができる。光透過層19Aの複素屈折率や発光層14の屈折率は、例えば、分光エリプソメトリー測定装置を用いて測定することができる。   a2 can be calculated using n0 and k of the complex refractive index N = n0-jk (n0: refractive index, k: extinction coefficient) of the light transmitting layer 19A and the refractive index of the light emitting layer 14. The complex refractive index of the light transmitting layer 19A and the refractive index of the light emitting layer 14 can be measured using, for example, a spectroscopic ellipsometer.

m2の値が大きいといわゆるマイクロキャビティ(微小共振器)効果が得られないため、m2=1であることが好ましい。   If the value of m2 is large, a so-called microcavity (micro-resonator) effect cannot be obtained, so it is preferable that m2 = 1.

反射面S1,S2は、ともに、発光層14で発生した光を、発光中心14aとの間で強め合うように構成されている。この増幅効果により、620nm付近に透過率のピークが発生する。   Both of the reflection surfaces S1 and S2 are configured to reinforce light generated in the light emitting layer 14 with the light emission center 14a. Due to this amplification effect, a peak of the transmittance occurs near 620 nm.

なお、例えば、図14に示したように、陰極17を設けずに、光透過層19Aに陰極17の役割を持たせ、かつ、反射面S2を、電子輸送層15もしくは電子注入層16と光透過層19Aとの屈折率差によって形成するようにしてもよい。   For example, as shown in FIG. 14, the cathode 17 is not provided, the light transmitting layer 19A has the role of the cathode 17, and the reflection surface S2 is in contact with the electron transport layer 15 or the electron injection layer 16 by light. It may be formed by a refractive index difference from the transmission layer 19A.

また、例えば、図15に示したように、光透過層19Aと光透過層19Bとの間に光透過層19Dを設けて、この光透過層19Dと光透過層19Aとの屈折率差によって反射面S2を形成するようにしてもよい。   For example, as shown in FIG. 15, a light transmitting layer 19D is provided between the light transmitting layer 19A and the light transmitting layer 19B, and the light is reflected by a difference in refractive index between the light transmitting layer 19D and the light transmitting layer 19A. The surface S2 may be formed.

光透過層19Aの上面には、光透過層19Aと、光透過層19Aの上面に接する層(光透過層19B)との屈折率差によって反射面S3が形成されている。反射面S3は、発光層14の発光中心14aから光学距離L3の位置に配置されている。赤色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L3は、発光層14の発光スペクトルの中心波長λ1(λ1R)の光を、反射面S3と、発光中心14aとの間における干渉によって弱め合うように設定されている。青色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L3は、発光層14の発光スペクトルの中心波長λ1(λ1B)の光を、反射面S3と、発光中心14aとの間における干渉によって強め合うように設定されている。具体的には、赤色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L3は、以下の式(7),(8)を満たすように構成されている。青色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L3は、以下の式(9),(10)を満たすように構成されている。なお、式(7),(8),(9),(10)において、L3,λ1,λ13の単位は、nmとなっている。   A reflection surface S3 is formed on the upper surface of the light transmission layer 19A due to a difference in refractive index between the light transmission layer 19A and a layer (light transmission layer 19B) in contact with the upper surface of the light transmission layer 19A. The reflection surface S3 is arranged at a position at an optical distance L3 from the light emission center 14a of the light emitting layer 14. In the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the optical distance L3 is set so that light of the central wavelength λ1 (λ1R) of the emission spectrum of the light emitting layer 14 is weakened by interference between the reflection surface S3 and the light emission center 14a. Is set to In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the optical distance L3 is such that light of the central wavelength λ1 (λ1B) of the emission spectrum of the light-emitting layer 14 is strengthened by interference between the reflection surface S3 and the light-emitting center 14a. Is set to Specifically, in the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the optical distance L3 is configured to satisfy the following equations (7) and (8). In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the optical distance L3 is configured to satisfy the following expressions (9) and (10). In the equations (7), (8), (9), and (10), the unit of L3, λ1, and λ13 is nm.

(2L3/λ13)+(a3/2π)=m3+1/2…(7)
λ1R−150<λ13<λ1R+150…(8)
(2L3/λ23)+(a3/2π)=n3…(9)
λ1B−150<λ23<λ1B+150…(10)
a3:発光層14から出射された光が反射面S3で反射する際の位相変化
λ13:式(8)を満たす波長
λ23:式(10)を満たす波長
m3,n3:0以上の整数
(2L3 / λ13) + (a3 / 2π) = m3 + 1/2 (7)
λ1R−150 <λ13 <λ1R + 150 (8)
(2L3 / λ23) + (a3 / 2π) = n3 (9)
λ1B−150 <λ23 <λ1B + 150 (10)
a3: phase change when light emitted from the light emitting layer 14 is reflected by the reflecting surface S3 λ13: wavelength satisfies the equation (8) λ23: wavelength m3 satisfies the equation (10), n3: an integer of 0 or more.

光透過層19Bの上面には、光透過層19Bと、光透過層19Bの上面に接する層(光透過層19C)との屈折率差によって反射面S4が形成されている。反射面S4は、発光層14の発光中心14aから光学距離L4の位置に配置されている。赤色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L4は、発光層14の発光スペクトルの中心波長λ1(λ1R)の光を、反射面S4と、発光中心14aとの間における干渉によって弱め合うように設定されている。青色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L4は、発光層14の発光スペクトルの中心波長λ1(λ1B)の光を、反射面S4と、発光中心14aとの間における干渉によって強め合うように設定されている。具体的には、赤色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L4は、以下の式(11),(12)を満たすように構成されている。青色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L4は、以下の式(13),(14)を満たすように構成されている。なお、式(11),(12),(13),(14)において、L4,λ1,λ14の単位は、nmとなっている。   A reflection surface S4 is formed on the upper surface of the light transmission layer 19B due to a difference in refractive index between the light transmission layer 19B and a layer (light transmission layer 19C) in contact with the upper surface of the light transmission layer 19B. The reflection surface S4 is arranged at a position at an optical distance L4 from the light emission center 14a of the light emitting layer 14. In the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the optical distance L4 is set so that light of the center wavelength λ1 (λ1R) of the emission spectrum of the light emitting layer 14 is weakened by interference between the reflection surface S4 and the light emission center 14a. Is set to In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the optical distance L4 is such that light of the central wavelength λ1 (λ1B) of the emission spectrum of the light-emitting layer 14 is strengthened by interference between the reflection surface S4 and the light-emitting center 14a. Is set to Specifically, in the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the optical distance L4 is configured to satisfy the following expressions (11) and (12). In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the optical distance L4 is configured to satisfy the following expressions (13) and (14). In the equations (11), (12), (13), and (14), the unit of L4, λ1, and λ14 is nm.

(2L4/λ14)+(a4/2π)=m4+1/2…(11)
λ1R−150<λ14<λ1R+150…(12)
(2L4/λ24)+(a3/2π)=n4…(13)
λ1B−150<λ24<λ1B+150…(14)
a4:発光層14から出射された光が反射面S4で反射する際の位相変化
λ14:式(11)を満たす波長
λ24:式(13)を満たす波長
m4,n4:0以上の整数
(2L4 / λ14) + (a4 / 2π) = m4 + 1/2 (11)
λ1R-150 <λ14 <λ1R + 150 (12)
(2L4 / λ24) + (a3 / 2π) = n4 (13)
λ1B−150 <λ24 <λ1B + 150 (14)
a4: a phase change when light emitted from the light emitting layer 14 is reflected by the reflection surface S4 λ14: a wavelength λ24 that satisfies the expression (11): a wavelength m4 that satisfies the expression (13), n4: an integer of 4 or more

a3は、光透過層19Bの複素屈折率N=n0-jk(n0:屈折率、k:消衰係数)のn0、kと、発光層14の屈折率とを用いて計算することができる。a4は、光透過層19Cの複素屈折率N=n0-jk(n0:屈折率、k:消衰係数)のn0、kと、発光層14の屈折率とを用いて計算することができる。光透過層19B,19Cの複素屈折率や発光層14の屈折率は、例えば、分光エリプソメトリー測定装置を用いて測定することができる。   a3 can be calculated using n0, k of the complex refractive index N = n0-jk (n0: refractive index, k: extinction coefficient) of the light transmitting layer 19B and the refractive index of the light emitting layer 14. a4 can be calculated using n0, k of the complex refractive index N = n0-jk (n0: refractive index, k: extinction coefficient) of the light transmitting layer 19C and the refractive index of the light emitting layer 14. The complex refractive index of the light transmitting layers 19B and 19C and the refractive index of the light emitting layer 14 can be measured using, for example, a spectroscopic ellipsometer.

詳細は後述するが、このように反射面S3,S4での反射条件を、赤色光を発する有機電界発光素子1と青色光を発する有機電界発光素子1とで異ならせることができるので、有機電界発光素子1の発光色ごとに、発光状態を調整することができる。   Although the details will be described later, the reflection conditions on the reflection surfaces S3 and S4 can be made different between the organic electroluminescent element 1 emitting red light and the organic electroluminescent element 1 emitting blue light. The light emission state can be adjusted for each light emission color of the light emitting element 1.

反射面S3での反射が加わることにより、赤色の発光層14で発生した光が弱められ、スペクトルの半値幅が広がっている。また、反射面S4での反射が加わることにより、赤色の発光層14で発生した光が更に弱められ、スペクトルの半値幅がより広がっている。このようにスペクトルのピーク近傍をなだらかにすることにより、角度による輝度および色相の急激な変化を抑えることができる。また、反射面S4での反射が加わることにより、青色の発光層14で発生した光が強められ、ピークが大きくなっている。このように、急峻なピークをもたせることにより、光取出効率を高めることができる。また、色度点を向上させることも可能である。反射面S1、S2で形成されるスペクトルのピークの位置と、反射面S3,S4で形成されるスペクトルのピークの位置とを合わせるようにしてもよいし、これらをずらすようにしてもよい。反射面S1、S2で形成されるスペクトルのピークの位置と、反射面S3,S4で形成されるスペクトルのピークの位置とをずらした場合には、共振器構造の効果が得られる波長帯域を拡大させ、また急峻な輝度および色相の変化を抑えることができる。   By the reflection at the reflection surface S3, the light generated in the red light emitting layer 14 is weakened, and the half width of the spectrum is widened. Further, by the reflection at the reflection surface S4, the light generated in the red light emitting layer 14 is further weakened, and the half width of the spectrum is further widened. By making the vicinity of the peak of the spectrum gentle as described above, it is possible to suppress a sudden change in luminance and hue depending on the angle. Further, by the reflection on the reflection surface S4, the light generated in the blue light emitting layer 14 is strengthened, and the peak is increased. As described above, by giving a steep peak, light extraction efficiency can be increased. It is also possible to improve the chromaticity point. The position of the peak of the spectrum formed by the reflecting surfaces S1 and S2 may be matched with the position of the peak of the spectrum formed by the reflecting surfaces S3 and S4, or they may be shifted. When the position of the peak of the spectrum formed by the reflection surfaces S1 and S2 and the position of the peak of the spectrum formed by the reflection surfaces S3 and S4 are shifted, the wavelength band in which the effect of the resonator structure is obtained is expanded. And sharp changes in luminance and hue can be suppressed.

緑色光を発する有機電界発光素子1は、例えば、青色光を発する有機電界発光素子1と同様に構成された、反射面S1〜S4を有している。具体的には、反射面S1〜S4が、緑色の発光層14の発光スペクトルの中心波長に対して強め合うように構成されている。   The organic electroluminescent device 1 that emits green light has, for example, reflection surfaces S1 to S4 configured similarly to the organic electroluminescent device 1 that emits blue light. Specifically, the reflection surfaces S1 to S4 are configured to reinforce with respect to the center wavelength of the emission spectrum of the green light-emitting layer 14.

次に、本変形例に係る有機電界発光素子1の作用・効果について説明する。   Next, the operation and effect of the organic electroluminescent device 1 according to the present modification will be described.

本変形例では、発光層14から出射された光は、反射面S1と反射面S4との間で多重反射され、光取出面SDRから取り出される。ところで、一般的な有機電界発光装置では、配光特性を向上させることが容易ではない。   In this modification, the light emitted from the light emitting layer 14 is multiple-reflected between the reflection surface S1 and the reflection surface S4, and is extracted from the light extraction surface SDR. By the way, it is not easy to improve the light distribution characteristics in a general organic electroluminescent device.

例えば、所望の波長の光が共振するように、光透過性電極と反射性電極の間の膜厚を設定し、これにより発光効率を高める方法が提案されている(例えば、国際公開WO01/039554号パンフレット)。また、例えば、有機層の膜厚を制御することにより、三原色(赤色、緑色、青色)の減衰のバランスをコントロールし、白色の色度点の視野角特性を高める試みもなされている(例えば、特開2011−159433号公報)。   For example, a method has been proposed in which the film thickness between the light-transmitting electrode and the reflective electrode is set so that light of a desired wavelength resonates, thereby increasing the luminous efficiency (for example, International Publication WO 01/039554). No. pamphlet). Further, for example, attempts have been made to control the balance of attenuation of the three primary colors (red, green, and blue) by controlling the film thickness of the organic layer, and to enhance the viewing angle characteristics of the chromaticity point of white (for example, JP, 2011-159433, A).

しかし、これらの構成では、有機電界発光素子の積層構造が、取り出される光のスペクトルに対して、半値幅の狭い干渉フィルタとして機能する。そのため、光取出面を斜め方向から見た場合には、光の波長が大きくシフトする。このため、視野角によって発光強度の低下等が生じ、視野角依存性が高くなってしまう。   However, in these configurations, the stacked structure of the organic electroluminescent element functions as an interference filter having a narrow half-width with respect to the spectrum of the extracted light. Therefore, when the light extraction surface is viewed from an oblique direction, the wavelength of light shifts significantly. For this reason, the emission intensity is reduced depending on the viewing angle, and the viewing angle dependency is increased.

また、例えば、特開2006−244713号公報では、視野角による色相変化を低減するための構造が提案されている。しかし、この構造では、単色に適用し、輝度の視野角依存性を低減することは可能かもしれないが、十分に広い波長帯域に適用することが困難である。適用可能な波長帯域を広げるために、反射率をあげることも考え得るが、この場合には、光取出効率が著しく低下する。   For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-244713 proposes a structure for reducing a change in hue due to a viewing angle. However, this structure may be applied to a single color and reduce the viewing angle dependence of luminance, but is difficult to apply to a sufficiently wide wavelength band. It is conceivable to increase the reflectivity in order to widen the applicable wavelength band, but in this case, the light extraction efficiency is significantly reduced.

上記のように、有機電界発光素子の積層構造内の位置関係および発光位置等を調整することにより角度依存性を低減する方法が考え得るものの、この方法では調整が困難となる場合がある。例えば、各発光層から出射される光のスペクトルによって、屈折率の波長分散が生じる場合である。屈折率の波長分散では、構成材料の屈折率が各波長によって異なるため、赤色有機電界発光素子,緑色有機電界発光素子,青色有機電界発光素子間で、共振器構造の効果に差異が生じる。例えば、赤色有機電界発光素子では、取り出される赤色光のピークが急峻になり過ぎ、青色有機電界発光素子では、取り出される青色光のピークがなだらかになり過ぎる。このように、素子領域毎に共振器構造の効果が大きく異なると、輝度および色相の角度依存性が大きくなり、配光特性が低下する。   As described above, a method of reducing the angle dependency by adjusting the positional relationship and the light emitting position in the stacked structure of the organic electroluminescent element can be considered, but this method may make adjustment difficult. For example, there is a case where wavelength dispersion of the refractive index occurs due to the spectrum of light emitted from each light emitting layer. In the wavelength dispersion of the refractive index, since the refractive index of the constituent material varies depending on each wavelength, a difference occurs in the effect of the resonator structure among the red organic electroluminescent element, the green organic electroluminescent element, and the blue organic electroluminescent element. For example, in a red organic electroluminescent device, the peak of the extracted red light is too steep, and in a blue organic electroluminescent device, the peak of the extracted blue light is too gentle. As described above, if the effect of the resonator structure greatly differs for each element region, the angle dependence of luminance and hue increases, and the light distribution characteristics deteriorate.

これに対して、本変形例では、赤色の発光層14で発生した光に対して、反射面S3,S4が及ぼす影響と、青色の発光層14で発生した光に対して反射面S3,S4が及ぼす影響とが互いに異なっている。具体的には、赤色の発光層14で発生した光および青色の発光層14で発生した光は以下のようになる。   On the other hand, in this modification, the reflection surfaces S3 and S4 affect the light generated in the red light-emitting layer 14 and the reflection surfaces S3 and S4 affect the light generated in the blue light-emitting layer 14. Have different effects. Specifically, light generated in the red light emitting layer 14 and light generated in the blue light emitting layer 14 are as follows.

赤色の発光層14で発生した光は、赤色の発光層14の発光中心14aと赤色の副画素22Rの反射面S3,S4との間における干渉によって弱められる。一方、青色の発光層14で発生した光は、青色の発光層14の発光中心14aと青色の有機電界発光素子1の反射面S3,S4との間における干渉によって強められる。   Light generated in the red light emitting layer 14 is weakened by interference between the light emitting center 14a of the red light emitting layer 14 and the reflecting surfaces S3 and S4 of the red sub-pixel 22R. On the other hand, light generated in the blue light emitting layer 14 is enhanced by interference between the light emitting center 14a of the blue light emitting layer 14 and the reflection surfaces S3, S4 of the blue organic electroluminescent element 1.

これにより、赤色の有機電界発光素子1では、光取出面SDRからピーク近傍がなだらかな赤色光が取り出され、青色の有機電界発光素子1では、光取出面SDBから急峻なピークを有する青色光が取り出される。したがって、赤色の有機電界発光素子1の共振器構造の効果と、青色の有機電界発光素子1の共振器構造の効果との違いが小さくなり、輝度および色相の角度依存性が小さくなる。よって、配光特性を向上させることができる。また、高い配光特性を有する有機電界発光装置2は、高い画品位を要する表示装置にも好適であり、表示装置の生産性を向上させることができる。   Thereby, in the red organic electroluminescent element 1, red light whose peak vicinity is gentle is extracted from the light extraction surface SDR, and in the blue organic electroluminescent element 1, blue light having a steep peak is extracted from the light extraction surface SDB. Taken out. Therefore, the difference between the effect of the resonator structure of the red organic electroluminescent element 1 and the effect of the resonator structure of the blue organic electroluminescent element 1 is reduced, and the angle dependence of luminance and hue is reduced. Therefore, the light distribution characteristics can be improved. Further, the organic electroluminescent device 2 having high light distribution characteristics is also suitable for a display device requiring high image quality, and can improve the productivity of the display device.

本変形例に係る有機電界発光素子1では、45°の視野角においても、Δuv≦0.015、輝度60%以上を維持することができ、高画質を実現することができる。   In the organic electroluminescent device 1 according to this modification, even at a viewing angle of 45 °, Δuv ≦ 0.015 and a luminance of 60% or more can be maintained, and high image quality can be realized.

以上のように、本変形例に係る有機電界発光素子1では、赤色の副画素22Rの反射面S3,S4が、赤色の発光層14で発生した光を弱め合うように設けられているのに対し、青色の副画素22Bの反射面S3,S4が、青色の発光層14で発生した光を強め合うように設けられている。これにより、副画素22ごとに、共振器構造の効果を調整することができるので、配光特性を向上させることが可能となる。   As described above, in the organic electroluminescent element 1 according to the present modification, the reflection surfaces S3 and S4 of the red sub-pixel 22R are provided so as to weaken the light generated in the red light-emitting layer 14. On the other hand, the reflection surfaces S3 and S4 of the blue sub-pixel 22B are provided so as to enhance the light generated in the blue light emitting layer. Thus, the effect of the resonator structure can be adjusted for each sub-pixel 22, so that the light distribution characteristics can be improved.

また、広い波長帯域にわたって、高い光透過率が得られるので光取出効率を向上させることができる。これにより、消費電力を抑えることも可能となる。   Further, high light transmittance can be obtained over a wide wavelength band, so that light extraction efficiency can be improved. As a result, power consumption can be reduced.

なお、反射面S3,S4を厚み5nm以上の金属薄膜を積層させて形成した場合には、広い波長帯域にわたって、高い光透過率を得ることが可能となる。   When the reflecting surfaces S3 and S4 are formed by laminating metal thin films having a thickness of 5 nm or more, it is possible to obtain high light transmittance over a wide wavelength band.

また、本変形例に係る有機電界発光素子1は、発光層14が印刷層である場合に好適である。発光層14は、乾燥工程を経ることなどによって、領域による厚みの大小が生じやすい。即ち、発光層14に膜厚分布が生じやすい。本変形例に係る有機電界発光素子1では、この膜厚分布に起因した、有機電界発光素子1ごとの共振器構造の効果の違いを調整することができる。   Further, the organic electroluminescent device 1 according to the present modification is suitable when the light emitting layer 14 is a printing layer. The thickness of the light emitting layer 14 is likely to vary depending on the region, for example, through a drying process. That is, a film thickness distribution easily occurs in the light emitting layer 14. In the organic electroluminescent element 1 according to the present modification, it is possible to adjust the difference in the effect of the resonator structure of each organic electroluminescent element 1 caused by the film thickness distribution.

<3.第2の実施の形態>
[構成]
図16は、本開示の第2の実施の形態に係る有機電界発光装置2の概略構成例を表したものである。図17は、有機電界発光装置2に設けられた各画素21に含まれる副画素22の回路構成の一例を表したものである。有機電界発光装置2は、例えば、有機電界発光パネル20、コントローラ30およびドライバ40を備えている。ドライバ40は、例えば、有機電界発光パネル20の外縁部分に実装されている。有機電界発光パネル20は、行列状に配置された複数の画素21を有している。コントローラ30およびドライバ40は、外部から入力された映像信号Dinおよび同期信号Tinに基づいて、有機電界発光パネル20(複数の画素21)を駆動する。
<3. Second Embodiment>
[Constitution]
FIG. 16 illustrates a schematic configuration example of an organic electroluminescent device 2 according to the second embodiment of the present disclosure. FIG. 17 illustrates an example of a circuit configuration of a sub-pixel 22 included in each pixel 21 provided in the organic electroluminescent device 2. The organic electroluminescent device 2 includes, for example, an organic electroluminescent panel 20, a controller 30, and a driver 40. The driver 40 is mounted on, for example, an outer edge portion of the organic electroluminescent panel 20. The organic electroluminescent panel 20 has a plurality of pixels 21 arranged in a matrix. The controller 30 and the driver 40 drive the organic electroluminescent panel 20 (the plurality of pixels 21) based on the video signal Din and the synchronization signal Tin input from the outside.

(有機電界発光パネル20)
有機電界発光パネル20は、コントローラ30およびドライバ40によって各画素21がアクティブマトリクス駆動されることにより、外部から入力された映像信号Dinおよび同期信号Tinに基づく画像を表示する。有機電界発光パネル20は、行方向に延在する複数の走査線WSLと、列方向に延在する複数の信号線DTLおよび複数の電源線DSLと、行列状に配置された複数の画素21とを有している。
(Organic electroluminescent panel 20)
The organic electroluminescent panel 20 displays an image based on the video signal Din and the synchronization signal Tin input from the outside by driving each pixel 21 by the active matrix driving by the controller 30 and the driver 40. The organic electroluminescent panel 20 includes a plurality of scanning lines WSL extending in a row direction, a plurality of signal lines DTL and a plurality of power supply lines DSL extending in a column direction, and a plurality of pixels 21 arranged in a matrix. have.

走査線WSLは、各画素21の選択に用いられるものであり、各画素21を所定の単位(例えば画素行)ごとに選択する選択パルスを各画素21に供給するものである。信号線DTLは、映像信号Dinに応じた信号電圧Vsigの、各画素21への供給に用いられるものであり、信号電圧Vsigを含むデータパルスを各画素21に供給するものである。電源線DSLは、各画素21に電力を供給するものである。   The scanning line WSL is used for selecting each pixel 21 and supplies a selection pulse for selecting each pixel 21 for each predetermined unit (for example, a pixel row) to each pixel 21. The signal line DTL is used to supply a signal voltage Vsig corresponding to the video signal Din to each pixel 21, and supplies a data pulse including the signal voltage Vsig to each pixel 21. The power supply line DSL supplies power to each pixel 21.

各画素21は、例えば、赤色光を発する副画素22、緑色光を発する副画素22、および青色光を発する副画素22を含んで構成されている。なお、各画素21は、例えば、さらに、他の色(例えば、白色や、黄色など)を発する副画素22を含んで構成されていてもよい。各画素21において、複数の副画素22は、例えば、所定の方向に一列に並んで配置されている。   Each pixel 21 includes, for example, a sub-pixel 22 that emits red light, a sub-pixel 22 that emits green light, and a sub-pixel 22 that emits blue light. Note that each pixel 21 may further include, for example, a sub-pixel 22 that emits another color (for example, white or yellow). In each pixel 21, the plurality of sub-pixels 22 are arranged, for example, in a line in a predetermined direction.

各信号線DTLは、後述の水平セレクタ41の出力端に接続されている。各画素列には、例えば、複数の信号線DTLが1本ずつ、割り当てられている。各走査線WSLは、後述のライトスキャナ42の出力端に接続されている。各画素行には、例えば、複数の走査線WSLが1本ずつ、割り当てられている。各電源線DSLは、電源の出力端に接続されている。各画素行には、例えば、複数の電源線DSLが1本ずつ、割り当てられている。   Each signal line DTL is connected to an output terminal of a horizontal selector 41 described later. For example, a plurality of signal lines DTL are assigned to each pixel column. Each scanning line WSL is connected to an output terminal of a write scanner 42 described later. For example, a plurality of scanning lines WSL are assigned to each pixel row one by one. Each power supply line DSL is connected to an output terminal of a power supply. For example, a plurality of power supply lines DSL are assigned to each pixel row.

各副画素22は、画素回路22−1と、有機電界発光素子22−2とを有している。有機電界発光素子22−2は、上記第1の実施の形態、変形例Aおよび変形例Bに係る有機電界発光素子1である。   Each sub-pixel 22 has a pixel circuit 22-1 and an organic electroluminescent element 22-2. The organic electroluminescent element 22-2 is the organic electroluminescent element 1 according to the first embodiment, Modification A and Modification B.

画素回路22−1は、有機電界発光素子22−2の発光・消光を制御する。画素回路22−1は、後述の書込走査によって各副画素22に書き込んだ電圧を保持する機能を有している。画素回路22−1は、例えば、駆動トランジスタTr1、書込トランジスタTr2および保持容量Csを含んで構成されている。   The pixel circuit 22-1 controls light emission and extinction of the organic electroluminescent element 22-2. The pixel circuit 22-1 has a function of holding a voltage written to each sub-pixel 22 by a write scan described later. The pixel circuit 22-1 includes, for example, a driving transistor Tr1, a writing transistor Tr2, and a storage capacitor Cs.

書込トランジスタTr2は、駆動トランジスタTr1のゲートに対する、映像信号Dinに対応した信号電圧Vsigの印加を制御する。具体的には、書込トランジスタTr2は、信号線DTLの電圧をサンプリングするとともに、サンプリングにより得られた電圧を駆動トランジスタTr1のゲートに書き込む。駆動トランジスタTr1は、有機電界発光素子22−2に直列に接続されている。駆動トランジスタTr1は、有機電界発光素子22−2を駆動する。駆動トランジスタTr1は、書込トランジスタTr2によってサンプリングされた電圧の大きさに応じて有機電界発光素子22−2に流れる電流を制御する。保持容量Csは、駆動トランジスタTr1のゲート−ソース間に所定の電圧を保持するものである。保持容量Csは、所定の期間中に駆動トランジスタTr1のゲート−ソース間電圧Vgsを一定に保持する役割を有する。なお、画素回路22−1は、上述の2Tr1Cの回路に対して各種容量やトランジスタを付加した回路構成となっていてもよいし、上述の2Tr1Cの回路構成とは異なる回路構成となっていてもよい。   The write transistor Tr2 controls application of a signal voltage Vsig corresponding to the video signal Din to the gate of the drive transistor Tr1. Specifically, the write transistor Tr2 samples the voltage of the signal line DTL, and writes the voltage obtained by the sampling to the gate of the drive transistor Tr1. The driving transistor Tr1 is connected in series to the organic electroluminescent element 22-2. The driving transistor Tr1 drives the organic electroluminescent element 22-2. The driving transistor Tr1 controls the current flowing through the organic electroluminescent element 22-2 according to the magnitude of the voltage sampled by the writing transistor Tr2. The storage capacitor Cs holds a predetermined voltage between the gate and the source of the driving transistor Tr1. The storage capacitor Cs has a role of holding the gate-source voltage Vgs of the drive transistor Tr1 constant during a predetermined period. Note that the pixel circuit 22-1 may have a circuit configuration in which various capacitors and transistors are added to the above-described 2Tr1C circuit, or may have a circuit configuration different from the above-described 2Tr1C circuit configuration. Good.

各信号線DTLは、後述の水平セレクタ41の出力端と、書込トランジスタTr2のソースまたはドレインとに接続されている。各走査線WSLは、後述のライトスキャナ42の出力端と、書込トランジスタTr2のゲートとに接続されている。各電源線DSLは、電源回路と、駆動トランジスタTr1のソースまたはドレインに接続されている。   Each signal line DTL is connected to an output terminal of a later-described horizontal selector 41 and a source or a drain of the write transistor Tr2. Each scanning line WSL is connected to an output terminal of a write scanner 42 described later and a gate of the write transistor Tr2. Each power supply line DSL is connected to a power supply circuit and the source or drain of the drive transistor Tr1.

書込トランジスタTr2のゲートは、走査線WSLに接続されている。書込トランジスタTr2のソースまたはドレインが信号線DTLに接続されている。書込トランジスタTr2のソースおよびドレインのうち信号線DTLに未接続の端子が駆動トランジスタTr1のゲートに接続されている。駆動トランジスタTr1のソースまたはドレインが電源線DSLに接続されている。駆動トランジスタTr1のソースおよびドレインのうち電源線DSLに未接続の端子が有機電界発光素子21−2の陽極11に接続されている。保持容量Csの一端が駆動トランジスタTr1のゲートに接続されている。保持容量Csの他端が駆動トランジスタTr1のソースおよびドレインのうち有機電界発光素子21−2側の端子に接続されている。   The gate of the writing transistor Tr2 is connected to the scanning line WSL. The source or the drain of the write transistor Tr2 is connected to the signal line DTL. The terminal of the source and drain of the write transistor Tr2 that is not connected to the signal line DTL is connected to the gate of the drive transistor Tr1. The source or the drain of the driving transistor Tr1 is connected to the power supply line DSL. A terminal of the source and drain of the driving transistor Tr1 that is not connected to the power supply line DSL is connected to the anode 11 of the organic electroluminescent element 21-2. One end of the storage capacitor Cs is connected to the gate of the drive transistor Tr1. The other end of the storage capacitor Cs is connected to a terminal on the organic electroluminescent element 21-2 side of the source and the drain of the driving transistor Tr1.

(ドライバ40)
ドライバ40は、例えば、水平セレクタ41およびライトスキャナ42を有している。水平セレクタ41は、例えば、制御信号の入力に応じて(同期して)、コントローラ30から入力されたアナログの信号電圧Vsigを、各信号線DTLに印加する。ライトスキャナ42は、複数の副画素22を所定の単位ごとに走査する。
(Driver 40)
The driver 40 has, for example, a horizontal selector 41 and a write scanner 42. The horizontal selector 41 applies the analog signal voltage Vsig input from the controller 30 to each signal line DTL, for example, in response to (in synchronization with) the input of a control signal. The light scanner 42 scans the plurality of sub-pixels 22 in predetermined units.

(コントローラ30)
次に、コントローラ30について説明する。コントローラ30は、例えば、外部から入力されたデジタルの映像信号Dinに対して所定の補正を行い、それにより得られた映像信号に基づいて、信号電圧Vsigを生成する。コントローラ30は、例えば、生成した信号電圧Vsigを水平セレクタ41に出力する。コントローラ30は、例えば、外部から入力された同期信号Tinに応じて(同期して)、ドライバ40内の各回路に対して制御信号を出力する。
(Controller 30)
Next, the controller 30 will be described. For example, the controller 30 performs a predetermined correction on a digital video signal Din input from the outside, and generates a signal voltage Vsig based on the video signal obtained thereby. The controller 30 outputs the generated signal voltage Vsig to the horizontal selector 41, for example. For example, the controller 30 outputs a control signal to each circuit in the driver 40 in response to (in synchronization with) a synchronization signal Tin input from the outside.

次に、図18、図19、図20、図21を参照して、有機電界発光素子22−2について説明する。図18は、有機電界発光パネル20の概略構成例を表したものである。図19は、図14の有機電界発光パネル20のA−A線での断面構成例(つまり副画素22(22R)の行方向の断面構成例)を表したものである。図20は、図18の有機電界発光パネル20のB−B線での断面構成例(つまり副画素22(22R)の列方向の断面構成例)を表したものである。図21は、図18の有機電界発光パネル20のC−C線での断面構成例(つまり副画素22(22R)の列方向の断面構成例)を表したものである。なお、図20には、後述の桟部24Bを避けた箇所での断面構成例が示されている。図21には、桟部24Bを含む箇所での断面構成例が示されている。   Next, the organic electroluminescent device 22-2 will be described with reference to FIGS. 18, 19, 20, and 21. FIG. FIG. 18 illustrates a schematic configuration example of the organic electroluminescent panel 20. FIG. 19 illustrates a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel 20 of FIG. 14 taken along line AA (that is, a cross-sectional configuration example of the sub-pixel 22 (22R) in the row direction). FIG. 20 illustrates a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel 20 of FIG. 18 taken along the line BB (that is, a cross-sectional configuration example of the sub-pixel 22 (22R) in the column direction). FIG. 21 illustrates a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel 20 of FIG. 18 taken along line CC (that is, a cross-sectional configuration example of the sub-pixel 22 (22R) in the column direction). FIG. 20 shows a cross-sectional configuration example at a location avoiding a crosspiece 24B described later. FIG. 21 shows an example of a cross-sectional configuration at a location including the crosspiece 24B.

有機電界発光パネル20は、行列状に配置された複数の画素21を有している。各画素21は、例えば、上述したように、赤色光を発する副画素22(22R)、緑色光を発する副画素22(22G)、および青色光を発する副画素22(22B)を含んで構成されている。   The organic electroluminescent panel 20 has a plurality of pixels 21 arranged in a matrix. Each pixel 21 includes, for example, the sub-pixel 22 (22R) that emits red light, the sub-pixel 22 (22G) that emits green light, and the sub-pixel 22 (22B) that emits blue light, as described above. ing.

副画素22Rは、赤色の光を発する有機電界発光素子22−2(22r)を含んで構成されている。副画素22Gは、緑色の光を発する有機電界発光素子22−2(22g)を含んで構成されている。副画素22Bは、青色の光を発する有機電界発光素子22−2(22b)を含んで構成されている。副画素22R,22G,22Bは、例えば、ストライプ配列となっている。各画素21において、例えば、副画素22R,22G,22Bが、行方向に並んで配置されている。さらに、各画素行において、例えば、同一色の光を発する複数の副画素22が、列方向に並んで配置されている。   The sub-pixel 22R includes an organic electroluminescent element 22-2 (22r) that emits red light. The sub-pixel 22G includes an organic electroluminescent element 22-2 (22g) that emits green light. The sub-pixel 22B includes an organic electroluminescent element 22-2 (22b) that emits blue light. The sub-pixels 22R, 22G, and 22B have, for example, a stripe arrangement. In each pixel 21, for example, sub-pixels 22R, 22G, and 22B are arranged in a row direction. Further, in each pixel row, for example, a plurality of sub-pixels 22 that emit light of the same color are arranged in the column direction.

有機電界発光パネル20は、基板10を有している。基板10は、例えば、各有機電界発光素子22−2、絶縁層24および各ラインバンク23などを支持する基材と、基材上に設けられた配線層とによって構成されている。基板10内の基材は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラスまたは石英などによって形成されている。基板10内の基材は、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、またはアルミナなどによって形成されていてもよい。基板10内の配線層には、例えば、各画素21の画素回路22−1が形成されている。   The organic electroluminescent panel 20 has a substrate 10. The substrate 10 includes, for example, a base material that supports the organic electroluminescent elements 22-2, the insulating layer 24, the line banks 23, and the like, and a wiring layer provided on the base material. The base material in the substrate 10 is formed of, for example, non-alkali glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphate glass, borate glass, quartz, or the like. The substrate in the substrate 10 may be formed of, for example, an acrylic resin, a styrene resin, a polycarbonate resin, an epoxy resin, polyethylene, polyester, a silicone resin, or alumina. For example, a pixel circuit 22-1 of each pixel 21 is formed in a wiring layer in the substrate 10.

有機電界発光パネル20は、さらに、基板10上に絶縁層24を有している。絶縁層24は、各副画素22を区画するためのものである。絶縁層24の厚さの上限は、膜厚ばらつき、ボトム線幅の制御の観点から製造上形状制御の可能な範囲内となっていることが好ましく、10μm以下となっていることが好ましい。また、絶縁層24の厚さの上限は、露光工程での露光時間増大によるタクト増加を抑え、量産工程での生産性低下を抑えることの可能な範囲内となっていることがより好ましく、7μm以下となっていることがより好ましい。また、絶縁層24の厚さの下限は、膜厚が薄くなるとともにボトム線幅を膜厚とほぼ同程度に補足する必要があることから、露光機および材料の解像度限界により決定される。絶縁層24の厚さの下限は、半導体ステッパーを用いる場合には、1μm以上となっていることが好ましく、フラットパネル用のステッパーおよびスキャナーを用いる場合には、2μm以上となっていることが好ましい。従って、絶縁層24の厚さは、1μm以上10μm以下となっていることが好ましく、2μm以上7μm以下となっていることがより好ましい。   The organic electroluminescent panel 20 further has an insulating layer 24 on the substrate 10. The insulating layer 24 is for dividing each sub-pixel 22. The upper limit of the thickness of the insulating layer 24 is preferably within a range in which shape control is possible in manufacturing, from the viewpoint of controlling film thickness variation and bottom line width, and is preferably 10 μm or less. Further, the upper limit of the thickness of the insulating layer 24 is more preferably within a range capable of suppressing an increase in tact due to an increase in exposure time in an exposure step and suppressing a decrease in productivity in a mass production step. It is more preferred that: In addition, the lower limit of the thickness of the insulating layer 24 is determined by the resolution limit of the exposure apparatus and the material since the bottom line width needs to be supplemented to be approximately the same as the film thickness as the film thickness decreases. The lower limit of the thickness of the insulating layer 24 is preferably 1 μm or more when using a semiconductor stepper, and is preferably 2 μm or more when using a flat panel stepper and scanner. . Therefore, the thickness of the insulating layer 24 is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 7 μm or less.

絶縁層24は、各副画素22を区画する複数の列規制部24Cおよび複数の行規制部24Dを有している。各列規制部24Cは列方向に延在しており、各行規制部24Dは行方向に延在している。複数の列規制部24Cは、列方向に延在するとともに、行方向に所定の間隙を介して並列配置されている。複数の行規制部24Dは、行方向に延在するとともに、列方向に所定の間隙を介して並列配置されている。複数の列規制部24Cおよび複数の行規制部24Dは、互いに交差(例えば直交)しており、格子状のレイアウトとなっている。各副画素22は、互いに隣接する2つの列規制部24Cと、互いに隣接する2つの行規制部24Dとによって囲まれており、各副画素22を区画している。   The insulating layer 24 has a plurality of column regulating sections 24C and a plurality of row regulating sections 24D that partition each sub-pixel 22. Each column regulating portion 24C extends in the column direction, and each row regulating portion 24D extends in the row direction. The plurality of column restricting portions 24C extend in the column direction and are arranged in parallel in the row direction with a predetermined gap. The plurality of row restricting portions 24D extend in the row direction and are arranged in parallel in the column direction with a predetermined gap. The plurality of column restricting portions 24C and the plurality of row restricting portions 24D intersect (for example, orthogonally) with each other and have a grid-like layout. Each sub-pixel 22 is surrounded by two adjacent column restricting portions 24C and two adjacent row restricting portions 24D, and defines each sub-pixel 22.

絶縁層24は、副画素22ごとに、列方向に延在する複数(例えば2つ)の桟部24Bを有している。複数の桟部24Bは、列方向に延在するとともに、行方向に所定の間隙を介して並列配置されている。さらに、絶縁層24は、互いに隣接する2つの列規制部24Cと、互いに隣接する2つの行規制部24Dとによって囲まれた領域内であって、かつ、各桟部24Bの未形成の箇所に、複数(例えば3つ)のスリット状の開口部24Aを有している。各開口部24Aの底面には、後述の陽極11の表面が露出している。そのため、各開口部24Aの底面に露出した陽極11から供給される正孔と、後述の陰極17から供給される電子とが、後述の発光層14で再結合することにより、後述の発光層14で発光が生じる。従って、後述の発光層14のうち、開口部24Aと対向する領域が、発光領域14Aとなる。   The insulating layer 24 has a plurality of (for example, two) crosspieces 24B extending in the column direction for each sub-pixel 22. The plurality of crosspieces 24B extend in the column direction and are arranged in parallel in the row direction with a predetermined gap therebetween. Furthermore, the insulating layer 24 is located in a region surrounded by two adjacent column regulating portions 24C and two adjacent row regulating portions 24D, and at an unformed portion of each bar portion 24B. , A plurality of (for example, three) slit-shaped openings 24A. At the bottom surface of each opening 24A, a surface of an anode 11 described later is exposed. Therefore, the holes supplied from the anode 11 exposed on the bottom surface of each opening 24A and the electrons supplied from the cathode 17 described later are recombined in the light emitting layer 14 described later, thereby forming the light emitting layer 14 described later. Luminescence occurs. Therefore, in the light emitting layer 14 described later, a region facing the opening 24A becomes the light emitting region 14A.

各桟部24Bは、例えば、図18〜図21に示したように、互いに隣接する2つの行規制部24Dをまたぐように形成されていてもよいし、例えば、図22〜図24に示したように、互いに隣接する2つの行規制部24Dから離れた箇所に形成されていてもよい。図22は、有機電界発光パネル20の概略構成例を表したものである。図23は、図22の有機電界発光パネル20のB−B線での断面構成例(つまり副画素22(22R)の列方向の断面構成例)を表したものである。図24は、図22の有機電界発光パネル20のC−C線での断面構成例(つまり副画素22(22R)の列方向の断面構成例)を表したものである。なお、図22の有機電界発光パネル20のA−A線での断面構成例(つまり副画素22(22R)の行方向の断面構成例)は、上述の図19と共通となっている。   Each cross section 24B may be formed so as to straddle two adjacent row regulating sections 24D as shown in FIGS. 18 to 21, for example, or as shown in FIGS. 22 to 24, for example. As described above, it may be formed at a position distant from two adjacent row regulating portions 24D. FIG. 22 illustrates a schematic configuration example of the organic electroluminescent panel 20. FIG. 23 illustrates a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel 20 of FIG. 22 taken along line BB (that is, a cross-sectional configuration example of the sub-pixel 22 (22R) in the column direction). FIG. 24 illustrates a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel 20 of FIG. 22 along the line CC (that is, a cross-sectional configuration example of the sub-pixel 22 (22R) in the column direction). Note that the cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel 20 of FIG. 22 along the line AA (that is, the cross-sectional configuration example of the sub-pixel 22 (22R) in the row direction) is common to FIG. 19 described above.

行規制部24Dの高さは、例えば、図18〜図21に示したように、列規制部24Cの高さよりも低くなっている。このとき、列方向に並ぶ複数の副画素22は、これらの副画素22の左右の2つの列規制部24Cによって形成された帯状の溝部の中に配置されており、例えば、発光層14、電子輸送層15および電子注入層16を互いに共有している。なお、列方向に並ぶ複数の副画素22は、例えば、正孔注入層12、正孔輸送層13、発光層14、電子輸送層15および電子注入層16を互いに共有していてもよい。なお、行規制部24Dの高さは、例えば、図22〜図24、図19に示したように、列規制部24Cの高さと同じ高さとなっていてもよい。このとき、各副画素22は、互いに隣接する2つの列規制部24Cと、互いに隣接する2つの行規制部24Dとによって形成された窪みの中に配置されており、例えば、それぞれ別個に発光層14を有している。   The height of the row restricting portion 24D is lower than the height of the column restricting portion 24C, for example, as shown in FIGS. At this time, the plurality of sub-pixels 22 arranged in the column direction are arranged in the band-shaped groove formed by the two left and right column restricting portions 24C of the sub-pixels 22. For example, the light emitting layer 14, the electron The transport layer 15 and the electron injection layer 16 are shared with each other. The plurality of sub-pixels 22 arranged in the column direction may share the hole injection layer 12, the hole transport layer 13, the light emitting layer 14, the electron transport layer 15, and the electron injection layer 16, for example. Note that the height of the row restricting portion 24D may be the same as the height of the column restricting portion 24C, for example, as shown in FIGS. 22 to 24 and FIG. At this time, each of the sub-pixels 22 is arranged in a depression formed by two adjacent column restricting portions 24C and two adjacent row restricting portions 24D. 14.

各開口部24Aの行方向の断面は、例えば、図19に示したように、上方に拡幅した台形形状となっている。また、各開口部24Aの列方向の断面は、例えば、図20、図23に示したように、上方に拡幅した台形形状となっている。つまり、各開口部24Aの側面は、後述の発光層14から発せられた光を立ち上げるリフレクタ構造となっている。封止層18の屈折率をn1、絶縁層24の屈折率をn2とすると、n1、n2は、以下の式(15),(16)を満たす。n2は、1.4以上、1.6以下となっていることが好ましい。これにより、後述の発光層14から発せられた光の、外部への取り出し効率が向上する。
1.1≦n1≦1.8…(15)
|n1−n2|≧0.20…(16)
The cross section in the row direction of each opening 24A has, for example, a trapezoidal shape widened upward as shown in FIG. In addition, the cross section of each opening 24A in the column direction has, for example, a trapezoidal shape widened upward as shown in FIGS. That is, the side surface of each of the openings 24A has a reflector structure for raising light emitted from the light emitting layer 14 described later. Assuming that the refractive index of the sealing layer 18 is n 1 and the refractive index of the insulating layer 24 is n 2 , n 1 and n 2 satisfy the following equations (15) and (16). n 2 is preferably 1.4 or more and 1.6 or less. Thereby, the efficiency of extracting light emitted from the light-emitting layer 14 described below to the outside is improved.
1.1 ≦ n 1 ≦ 1.8 (15)
| N 1 −n 2 | ≧ 0.20 (16)

また、さらに、各開口部24Aの深さD(つまり、絶縁層24の厚さ)、絶縁層24の上面側の開口幅Wh、絶縁層24の上面側の開口幅WLは、以下の式(17),(18)を満たすことが好ましい。
0.5≦WL/Wh≦0.8…(17)
0.5≦D/WL≦2.0…(18)
Further, the depth D of each opening 24A (that is, the thickness of the insulating layer 24), the opening width Wh on the upper surface side of the insulating layer 24, and the opening width WL on the upper surface side of the insulating layer 24 are represented by the following formula ( 17) and (18) are preferably satisfied.
0.5 ≦ WL / Wh ≦ 0.8 (17)
0.5 ≦ D / WL ≦ 2.0 (18)

係る形状、屈折率条件とすることにより、絶縁層24の開口部24Aによるリフレクタ構造により、発光層14からの光取り出し効率を向上させることができる。その結果、発明者らの検討によると、リフレクタ構造が無い場合に対し副画素22あたりの輝度を1.2〜1.5倍に増加させることができる。   With such a shape and a refractive index condition, the light extraction efficiency from the light emitting layer 14 can be improved by the reflector structure with the opening 24A of the insulating layer 24. As a result, according to the studies by the inventors, it is possible to increase the luminance per sub-pixel 22 by 1.2 to 1.5 times as compared with the case where there is no reflector structure.

絶縁層24は、例えば、絶縁性の有機材料によって形成されている。絶縁性の有機材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂などが挙げられる。絶縁層24は、例えば、耐熱性、溶媒に対する耐性を持つ絶縁性樹脂によって形成されていることが好ましい。列規制部24Cおよび行規制部24Dは、例えば、絶縁性樹脂をフォトリソグラフィおよび現像によって所望のパターンに加工することによって形成される。列規制部24Cの断面形状は、例えば、図19に示したような順テーパ型でとなっている。行規制部24Dの断面形状は、例えば、図20に示したような順テーパ型でとなっている。   The insulating layer 24 is formed of, for example, an insulating organic material. Examples of the insulating organic material include an acrylic resin, a polyimide resin, and a novolak type phenol resin. The insulating layer 24 is preferably made of, for example, an insulating resin having heat resistance and resistance to a solvent. The column regulating section 24C and the row regulating section 24D are formed by, for example, processing an insulating resin into a desired pattern by photolithography and development. The cross-sectional shape of the row regulating portion 24C is, for example, a forward tapered type as shown in FIG. The cross-sectional shape of the row restricting portion 24D is, for example, a forward tapered type as shown in FIG.

本実施の形態では、第1の実施の形態、変形例Aおよび変形例Bに係る有機電界発光素子1が各副画素22の有機電界発光素子22−2に用いられている。これにより、光取り出し効率の高い有機電界発光パネル20および有機電界発光装置2を実現することができる。   In the present embodiment, the organic electroluminescent device 1 according to the first embodiment, the modified examples A and B is used for the organic electroluminescent device 22-2 of each sub-pixel 22. Thereby, the organic electroluminescent panel 20 and the organic electroluminescent device 2 having high light extraction efficiency can be realized.

<4.第2の実施の形態の変形例>
上記第2の実施の形態において、各有機電界発光素子22−2は、例えば、図25、図26、図27に示したように、陰極17上に、配光制御層19を有していてもよい。なお、図25は、図18の有機電界発光パネル20のA−A線での断面構成例(つまり副画素22(22R)の行方向の断面構成例)を表したものである。図26は、図18の有機電界発光パネル20のB−B線での断面構成例(つまり副画素22(22R)の列方向の断面構成例)を表したものである。図27は、図18の有機電界発光パネル20のC−C線での断面構成例(つまり副画素22(22R)の列方向の断面構成例)を表したものである。
<4. Modification of Second Embodiment>
In the second embodiment, each organic electroluminescent element 22-2 has the light distribution control layer 19 on the cathode 17 as shown in FIGS. 25, 26, and 27, for example. Is also good. FIG. 25 illustrates a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel 20 of FIG. 18 taken along line AA (that is, a cross-sectional configuration example of the sub-pixel 22 (22R) in the row direction). FIG. 26 illustrates a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel 20 of FIG. 18 taken along line BB (that is, a cross-sectional configuration example of the sub-pixel 22 (22R) in the column direction). FIG. 27 illustrates a cross-sectional configuration example of the organic electroluminescent panel 20 of FIG. 18 taken along line CC (that is, a cross-sectional configuration example of the sub-pixel 22 (22R) in the column direction).

本変形例では、配光制御層19は、例えば、陰極17と、封止層18との間に設けられている。配光制御層19は、例えば、陰極17の表面全体に渡って接して形成されていてもよい。   In the present modified example, the light distribution control layer 19 is provided, for example, between the cathode 17 and the sealing layer 18. The light distribution control layer 19 may be formed, for example, in contact with the entire surface of the cathode 17.

本変形例では、赤色の発光層14で発生した光に対して、反射面S3,S4が及ぼす影響と、青色の発光層14で発生した光に対して反射面S3,S4が及ぼす影響とが互いに異なっている。具体的には、赤色の発光層14で発生した光および青色の発光層14で発生した光は以下のようになる。   In this modification, the effects of the reflecting surfaces S3 and S4 on the light generated in the red light emitting layer 14 and the effects of the reflecting surfaces S3 and S4 on the light generated in the blue light emitting layer 14 are described. Different from each other. Specifically, light generated in the red light emitting layer 14 and light generated in the blue light emitting layer 14 are as follows.

赤色の発光層14で発生した光は、赤色の発光層14の発光中心14aと赤色の副画素22Rの反射面S3,S4との間における干渉によって弱められる。一方、青色の発光層14で発生した光は、青色の発光層14の発光中心14aと青色の有機電界発光素子1の反射面S3,S4との間における干渉によって強められる。   Light generated in the red light emitting layer 14 is weakened by interference between the light emitting center 14a of the red light emitting layer 14 and the reflecting surfaces S3 and S4 of the red sub-pixel 22R. On the other hand, light generated in the blue light emitting layer 14 is enhanced by interference between the light emitting center 14a of the blue light emitting layer 14 and the reflection surfaces S3, S4 of the blue organic electroluminescent element 1.

これにより、赤色の有機電界発光素子1では、光取出面SDRからピーク近傍がなだらかな赤色光が取り出され、青色の有機電界発光素子1では、光取出面SDBから急峻なピークを有する青色光が取り出される。したがって、赤色の有機電界発光素子1の共振器構造の効果と、青色の有機電界発光素子1の共振器構造の効果との違いが小さくなり、輝度および色相の角度依存性が小さくなる。よって、配光特性を向上させることができる。また、高い配光特性を有する有機電界発光装置2は、高い画品位を要する表示装置にも好適であり、表示装置の生産性を向上させることができる。   Thereby, in the red organic electroluminescent element 1, red light whose peak vicinity is gentle is extracted from the light extraction surface SDR, and in the blue organic electroluminescent element 1, blue light having a steep peak is extracted from the light extraction surface SDB. Taken out. Therefore, the difference between the effect of the resonator structure of the red organic electroluminescent element 1 and the effect of the resonator structure of the blue organic electroluminescent element 1 is reduced, and the angle dependence of luminance and hue is reduced. Therefore, the light distribution characteristics can be improved. Further, the organic electroluminescent device 2 having high light distribution characteristics is also suitable for a display device requiring high image quality, and can improve the productivity of the display device.

<5.適用例>
[適用例その1]
以下では、上記第2の実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光装置2の適用例について説明する。上記第2の実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光装置2は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、シート状のパーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
<5. Application example>
[Application example 1]
Hereinafter, an application example of the organic electroluminescent device 2 according to the second embodiment and its modification will be described. The organic electroluminescent device 2 according to the second embodiment and the modification thereof includes a television device, a digital camera, a notebook personal computer, a sheet-shaped personal computer, a portable terminal device such as a mobile phone, a video camera, and the like. The present invention can be applied to a display device of an electronic device in any field that displays a video signal input from the outside or a video signal generated internally as an image or a video.

図28は、本適用例に係る電子機器3の外観を斜視的に表したものである。電子機器3は、例えば、筐体310の主面に表示面320を備えたシート状のパーソナルコンピュータである。電子機器3は、電子機器3の表示面320に、上記第2の実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光装置2を備えている。上記第2の実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光装置2は、有機電界発光パネル20が外側を向くように配置されている。本適用例では、上記第2の実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光装置2が表示面320に設けられているので、発光効率の高い電子機器3を実現することができる。   FIG. 28 is a perspective view of the appearance of the electronic device 3 according to the application example. The electronic device 3 is, for example, a sheet-shaped personal computer having a display surface 320 on a main surface of a housing 310. The electronic device 3 includes the organic electroluminescent device 2 according to the second embodiment and its modification on the display surface 320 of the electronic device 3. The organic electroluminescent device 2 according to the second embodiment and the modification thereof is arranged such that the organic electroluminescent panel 20 faces outward. In this application example, since the organic electroluminescent device 2 according to the second embodiment and the modification thereof is provided on the display surface 320, an electronic device 3 with high luminous efficiency can be realized.

[適用例その2]
以下では、上記第2の実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子22−2の適用例について説明する。上記第2の実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子22−2は、卓上用もしくは床置き用の照明装置、または、室内用の照明装置など、あらゆる分野の照明装置の光源に適用することが可能である。
[Application example 2]
Hereinafter, an application example of the organic electroluminescent element 22-2 according to the second embodiment and its modification will be described. The organic electroluminescent element 22-2 according to the second embodiment and the modified example thereof is applied to a light source of a lighting device in any field such as a desktop lighting device or a floor lighting device, or an indoor lighting device. It is possible to

図29は、上記第2の実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子22−2が適用される室内用の照明装置の外観を表したものである。この照明装置は、例えば、上記第2の実施の形態およびその変形例に係る1または複数の有機電界発光素子22−2を含んで構成された照明部410を有している。照明部410は、建造物の天井420に適宜の個数および間隔で配置されている。なお、照明部410は、用途に応じて、天井420に限らず、壁430または床(図示せず)など任意の場所に設置することが可能である。   FIG. 29 illustrates an appearance of an indoor lighting device to which the organic electroluminescent element 22-2 according to the second embodiment and its modification is applied. This illuminating device includes, for example, an illuminating unit 410 configured to include one or a plurality of organic electroluminescent elements 22-2 according to the second embodiment and its modifications. The lighting units 410 are arranged on the ceiling 420 of the building at appropriate numbers and intervals. Note that the lighting unit 410 can be installed not only on the ceiling 420 but also on an arbitrary place such as a wall 430 or a floor (not shown) depending on the use.

これらの照明装置では、上記第2の実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子22−2からの光により、照明が行われる。これにより、発光効率の高い照明装置を実現することができる。   In these illumination devices, illumination is performed by the light from the organic electroluminescent element 22-2 according to the second embodiment and its modification. Thereby, a lighting device with high luminous efficiency can be realized.

以上、実施の形態を挙げて本開示を説明したが、本開示は実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。なお、本明細書中に記載された効果は、あくまで例示である。本開示の効果は、本明細書中に記載された効果に限定されるものではない。本開示が、本明細書中に記載された効果以外の効果を持っていてもよい。   As described above, the present disclosure has been described with reference to the embodiments. However, the present disclosure is not limited to the embodiments, and can be variously modified. Note that the effects described in this specification are merely examples. The effects of the present disclosure are not limited to the effects described in this specification. The present disclosure may have effects other than those described herein.

また、例えば、本開示は以下のような構成を取ることができる。
(1)
陽極、発光層および陰極をこの順に備えるとともに、前記発光層と前記陰極との間、および前記陽極と前記発光層との間の少なくとも一方に、前記発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を備える
有機電界発光素子。
(2)
前記低屈折率層は、前記発光層と前記陰極との間に配置され、電子輸送性もしくは電子注入性を有する材料で構成されている
(1)に記載の有機電界発光素子。
(3)
前記低屈折率層は、前記陽極と前記発光層との間に配置され、正孔注入性もしくは正孔輸送性を有する材料で構成されている
(1)に記載の有機電界発光素子。
(4)
前記低屈折率層は、0.3よりも大きく、1.7よりも小さな屈折率の材料で構成されている
(2)または(3)に記載の有機電界発光素子。
(5)
前記低屈折率層は、0.75以上、1.4以下の屈折率の材料で構成されている
(3)に記載の有機電界発光素子。
(6)
前記低屈折率層は、0.5以上、1.7以下の屈折率の材料で構成されている
(2)または(3)に記載の有機電界発光素子。
(7)
前記低屈折率層は、0.5以上、1.5以下の屈折率の材料で構成されている
(3)に記載の有機電界発光素子。
(8)
複数の画素を備え、
各前記画素は、有機電界発光素子を有し、
前記有機電界発光素子は、
前記有機電界発光素子は、陽極、発光層および陰極をこの順に有するとともに、前記発光層と前記陰極との間、および前記陽極と前記発光層との間の少なくとも一方に、前記発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を有する
有機電界発光パネル。
(9)
前記低屈折率層は、各前記画素で共有されている
(8)に記載の有機電界発光パネル。
(10)
有機電界発光パネルと、前記有機電界発光パネルを駆動する駆動回路とを備え、
前記有機電界発光パネルは、複数の画素を有し、
各前記画素は、有機電界発光素子を有し、
前記有機電界発光素子は、陽極、発光層および陰極をこの順に有するとともに、前記発光層と前記陰極との間、および前記陽極と前記発光層との間の少なくとも一方に、前記発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を有する
電子機器。
Further, for example, the present disclosure can have the following configurations.
(1)
An anode, a light emitting layer and a cathode in this order, and a low refractive index layer lower than the refractive index of the light emitting layer, between the light emitting layer and the cathode, and at least one of the anode and the light emitting layer. An organic electroluminescent device comprising:
(2)
The organic electroluminescent device according to (1), wherein the low refractive index layer is disposed between the light emitting layer and the cathode, and is made of a material having an electron transporting property or an electron injecting property.
(3)
The organic electroluminescent device according to (1), wherein the low refractive index layer is disposed between the anode and the light emitting layer and is made of a material having a hole injecting property or a hole transporting property.
(4)
The organic electroluminescent device according to (2) or (3), wherein the low refractive index layer is made of a material having a refractive index larger than 0.3 and smaller than 1.7.
(5)
The organic electroluminescent device according to (3), wherein the low refractive index layer is made of a material having a refractive index of 0.75 or more and 1.4 or less.
(6)
The organic electroluminescent device according to (2) or (3), wherein the low refractive index layer is made of a material having a refractive index of 0.5 or more and 1.7 or less.
(7)
The organic electroluminescent device according to (3), wherein the low refractive index layer is made of a material having a refractive index of 0.5 or more and 1.5 or less.
(8)
With multiple pixels,
Each of the pixels has an organic electroluminescent element,
The organic electroluminescent device,
The organic electroluminescent element has an anode, a light emitting layer and a cathode in this order, and at least one of a refractive index of the light emitting layer between the light emitting layer and the cathode, and at least one between the anode and the light emitting layer. Organic electroluminescent panel having a lower refractive index layer than the lower.
(9)
The organic electroluminescent panel according to (8), wherein the low refractive index layer is shared by the pixels.
(10)
An organic electroluminescent panel, comprising a driving circuit for driving the organic electroluminescent panel,
The organic electroluminescent panel has a plurality of pixels,
Each of the pixels has an organic electroluminescent element,
The organic electroluminescent element has an anode, a light emitting layer and a cathode in this order, and at least one of a refractive index of the light emitting layer between the light emitting layer and the cathode, and at least one between the anode and the light emitting layer. An electronic device having a lower refractive index layer.

1…有機電界発光素子、2…有機電界発光装置、3…電子機器、11…陽極、12…正孔注入層、12A…金属酸化物層、12B…有機物層、13…正孔輸送層、14…発光層、14A…発光領域、15…電子輸送層、16…電子注入層、17…陰極、18…封止層、19…配光制御層、20…有機電界発光パネル、21…画素、22,22R,22G,22B…副画素、22−1…画素回路、22−2…有機電界発光素子、23…ラインバンク、24…絶縁層、24A…開口部、24B…桟部、24C…列規制部、24D…行規制部、30…コントローラ、40…ドライバ、41…水平セレクタ、42…ライトスキャナ、310…筐体、320…表示面、410…照明部、420…天井、430…壁、Tr1…駆動トランジスタ、Tr2…選択トランジスタ、Cs…保持容量、DSL…電源線、DTL…信号線、S1,S2,S3,S4…反射界面、Vgs…ゲート−ソース間電圧、Vsig…信号電圧、WSL…選択線。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic electroluminescent element, 2 ... Organic electroluminescent device, 3 ... Electronic equipment, 11 ... Anode, 12 ... Hole injection layer, 12A ... Metal oxide layer, 12B ... Organic material layer, 13 ... Hole transport layer, 14 ... Emission layer, 14A ... Emission region, 15 ... Electron transport layer, 16 ... Electron injection layer, 17 ... Cathode, 18 ... Sealing layer, 19 ... Light distribution control layer, 20 ... Organic electroluminescent panel, 21 ... Pixel, 22 , 22R, 22G, 22B: sub-pixel, 22-1: pixel circuit, 22-2: organic electroluminescent element, 23: line bank, 24: insulating layer, 24A: opening, 24B: beam, 24C: column regulation Unit, 24D: row regulating unit, 30: controller, 40: driver, 41: horizontal selector, 42: light scanner, 310: housing, 320: display surface, 410: lighting unit, 420: ceiling, 430: wall, Tr1 ... Driving transistor, Tr2 ... -Option transistor, Cs ... storage capacitor, DSL ... power supply line, DTL ... signal line, S1, S2, S3, S4 ... reflection interface, Vgs ... gate - source voltage, Vsig ... signal voltage, WSL ... select line.

正孔輸送層13は、陽極11から注入された正孔を発光層14へ輸送する機能を有する。正孔輸送層13は、例えば、陽極11から注入された正孔を発光層14へ輸送する機能を有する材料(正孔輸送性材料)によって構成されている。上記の正孔輸送性材料としては、例えば、アリールアミン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体等、または、これらの組み合わせからなる材料が挙げられる。正孔注入層12と正孔輸送層13の各材料のHOMO(最高被占軌道,Highest occupied molecular orbital)レベルの差異は、ホール注入性を考慮すると、0.5eV以下となっていることが好ましい。 The hole transport layer 13 has a function of transporting holes injected from the anode 11 to the light emitting layer 14. The hole transport layer 13 is made of, for example, a material (a hole transport material) having a function of transporting holes injected from the anode 11 to the light emitting layer 14. Examples of the hole-transporting material include, for example, arylamine derivatives, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styryl anthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, butadiene compounds, polystyrene derivatives, Application Benefits triphenylmethane derivatives, tetraphenyl benzene derivatives, or materials mentioned consisting of combinations. The difference in the HOMO (highest occupied molecular orbital) level of each material of the hole injection layer 12 and the hole transport layer 13 is preferably 0.5 eV or less in consideration of the hole injection property. .

封止層18は、陰極17の上に形成されている。封止層18は、例えば、陰極17の上面に接して形成されている。封止層8は、例えば、樹脂材料からなる。封止層8に用いられる樹脂材料としては、例えば、エポキシ樹脂や、ビニル系樹脂などが挙げられる。 The sealing layer 18 is formed on the cathode 17. The sealing layer 18 is formed, for example, in contact with the upper surface of the cathode 17. The sealing layer 1 8 is, for example, made of a resin material. As the resin material used for the sealing layer 1 8, for example, epoxy resins, and vinyl resins.

図2(A),(B)には、2次干渉(セカンドキャビティ)を発生させるとともに発光位置が陰極側となっているマイクロキャビティ構造を備えた有機電界発光素子におけるシミュレーション結果が示されている。ここで、比較例では、陽極を、厚さ200m、屈折率0.7の材料で構成し、正孔注入層を、厚さ10nm、屈折率1.7の材料で構成し、正孔輸送層を、厚さ180nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ60nm、屈折率1.7の材料で構成した。比較例では、さらに、電子輸送層を、厚さ10nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層を、厚さ10nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。一方、実施例では、陽極11を、厚さ200m、屈折率0.7の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nm、屈折率1.7の材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ180nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ60nm、屈折率1.7の材料で構成した。実施例では、さらに、電子輸送層15を、厚さ10nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ10nm、屈折率1.3の材料で構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。 FIGS. 2A and 2B show simulation results of an organic electroluminescent device having a microcavity structure that generates secondary interference (second cavity) and emits light on the cathode side. . Here, in the comparative example, the anode, thickness of 200 n m, and composed of a material having a refractive index of 0.7, a hole injection layer, a thickness of 10 nm, made of a material having a refractive index of 1.7, a hole The transport layer was made of a material having a thickness of 180 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 60 nm and a refractive index of 1.7. In the comparative example, the electron transport layer was further formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer was formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 2.0, and the cathode was formed of a material having a thickness of 2.0. The sealing layer was made of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8. Meanwhile, in the embodiment, the anode 11, the thickness 200 n m, and composed of a material having a refractive index of 0.7, a hole injection layer 12, a thickness of 10 nm, made of a material having a refractive index of 1.7, a positive The hole transport layer 13 was made of a material having a thickness of 180 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 60 nm and a refractive index of 1.7. In the embodiment, the electron transport layer 15 is further formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.3, and a cathode 17 is formed. Was formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of 0.3, and the sealing layer 18 was formed of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図3では、陽極11を、厚さ200m、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ220nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ60nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図3では、電子輸送層15を、厚さ10nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ10nmで構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。 In Figure 3, the anode 11, the thickness 200 n m, and composed of a material having a refractive index of 0.3, a hole injection layer 12, formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, the hole transport layer 13 The light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 220 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 60 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 3, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a thickness of 10 nm, and the cathode 17 is formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of The sealing layer 18 was made of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図4では、陽極11を、厚さ200m、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ180nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ60nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図4では、電子輸送層15を、厚さ10nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ10nmで構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。 In Figure 4, the anode 11, the thickness 200 n m, and composed of a material having a refractive index of 0.3, a hole injection layer 12, formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, the hole transport layer 13 The light emitting layer 14 was formed of a material having a thickness of 180 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was formed of a material having a thickness of 60 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 4, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a thickness of 10 nm, and the cathode 17 is formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of The sealing layer 18 was made of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図5では、陽極11を、厚さ200m、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ140nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ40nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図5では、電子輸送層15を、厚さ10nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ10nmで構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。 In Figure 5, the anode 11, the thickness 200 n m, and composed of a material having a refractive index of 0.3, a hole injection layer 12, formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, the hole transport layer 13 The light emitting layer 14 was formed of a material having a thickness of 140 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was formed of a material having a thickness of 40 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 5, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 10 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a thickness of 10 nm, and the cathode 17 is formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of The sealing layer 18 was made of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図6(A),(B)には、2次干渉(セカンドキャビティ)を発生させるとともに発光位置が陽極側となっているマイクロキャビティ構造を備えた有機電界発光素子におけるシミュレーション結果が示されている。ここで、比較例では、陽極を、厚さ200m、屈折率0.7の材料で構成し、正孔注入層を、厚さ10nm、屈折率1.7の材料で構成し、正孔輸送層を、厚さ20nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ90nm、屈折率1.7の材料で構成した。比較例では、さらに、電子輸送層を、厚さ30nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層を、厚さ80nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。一方、実施例では、陽極11を、厚さ200m、屈折率0.7の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nm、屈折率1.3の材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ20nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ90nm、屈折率1.7の材料で構成した。実施例では、さらに、電子輸送層15を、厚さ30nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ80nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。 FIGS. 6A and 6B show simulation results of an organic electroluminescent device having a microcavity structure that generates secondary interference (second cavity) and emits light on the anode side. . Here, in the comparative example, the anode, thickness of 200 n m, and composed of a material having a refractive index of 0.7, a hole injection layer, a thickness of 10 nm, made of a material having a refractive index of 1.7, a hole The transport layer was made of a material having a thickness of 20 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 90 nm and a refractive index of 1.7. In the comparative example, the electron transport layer was further formed of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer was formed of a material having a thickness of 80 nm and a refractive index of 2.0, and the cathode was formed of a material having a thickness of 2.0. The sealing layer was made of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8. Meanwhile, in the embodiment, the anode 11, the thickness 200 n m, and composed of a material having a refractive index of 0.7, a hole injection layer 12, a thickness of 10 nm, made of a material of refractive index 1.3, a positive The hole transport layer 13 was made of a material having a thickness of 20 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 90 nm and a refractive index of 1.7. In the embodiment, further, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a material having a thickness of 80 nm and a refractive index of 2.0, and the cathode 17 is formed. Was formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of 0.3, and the sealing layer 18 was formed of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図6では、陽極11を、厚さ200m、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ30nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ120nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図6では、電子輸送層15を、厚さ30nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ80nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。 In Figure 6, the anode 11, the thickness 200 n m, and composed of a material having a refractive index of 0.3, a hole injection layer 12, formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, the hole transport layer 13 The light emitting layer 14 was formed of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.7, and the light emitting layer 14 was formed of a material having a thickness of 120 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 6, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a material having a thickness of 80 nm and a refractive index of 2.0, and the cathode 17 is formed. Was formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of 0.3, and the sealing layer 18 was formed of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図7では、陽極11を、厚さ200m、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ20nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ90nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図7では、電子輸送層15を、厚さ30nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ80nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。 In Figure 7, the anode 11, the thickness 200 n m, and composed of a material having a refractive index of 0.3, a hole injection layer 12, formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, the hole transport layer 13 The light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 90 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 7, the electron transport layer 15 is formed of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is formed of a material having a thickness of 80 nm and a refractive index of 2.0, and the cathode 17 is formed. Was formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of 0.3, and the sealing layer 18 was formed of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

図8では、陽極11を、厚さ200m、屈折率0.3の材料で構成し、正孔注入層12を、厚さ10nmの低屈折率材料で構成し、正孔輸送層13を、厚さ20nm、屈折率1.7の材料で構成し、発光層14を、厚さ40nm、屈折率1.7の材料で構成した。また、図8では、電子輸送層15を、厚さ30nm、屈折率1.8の材料で構成し、電子注入層16を、厚さ80nm、屈折率2.0の材料で構成し、陰極17を、厚さ15nm、屈折率0.3の材料で構成し、封止層18を、厚さ5μm、屈折率1.8の材料で構成した。 In Figure 8, the anode 11, the thickness 200 n m, and composed of a material having a refractive index of 0.3, a hole injection layer 12, formed of a low refractive index material having a thickness of 10 nm, the hole transport layer 13 The light emitting layer 14 was made of a material having a thickness of 40 nm and a refractive index of 1.7. In FIG. 8, the electron transport layer 15 is made of a material having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.8, the electron injection layer 16 is made of a material having a thickness of 80 nm and a refractive index of 2.0, and a cathode 17 is formed. Was formed of a material having a thickness of 15 nm and a refractive index of 0.3, and the sealing layer 18 was formed of a material having a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.8.

光透過層19Aの上面には、光透過層19Aと、光透過層19Aの上面に接する層(光透過層19B)との屈折率差によって反射面S3が形成されている。反射面S3は、発光層14の発光中心14aから光学距離L3の位置に配置されている。赤色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L3は、発光層14の発光スペクトルの中心波長λ1(λ1R)の光を、反射面S3と、発光中心14aとの間における干渉によって弱め合うように設定されている。青色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L3は、発光層14の発光スペクトルの中心波長λ1(λ1B)の光を、反射面S3と、発光中心14aとの間における干渉によって強め合うように設定されている。具体的には、赤色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L3は、以下の式(7),(8)を満たすように構成されている。青色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L3は、以下の式(9),(10)を満たすように構成されている。なお、式(7),(8),(9),(10)において、L3,λ1,λ13,λ23の単位は、nmとなっている。 A reflection surface S3 is formed on the upper surface of the light transmission layer 19A due to a difference in refractive index between the light transmission layer 19A and a layer (light transmission layer 19B) in contact with the upper surface of the light transmission layer 19A. The reflection surface S3 is arranged at a position at an optical distance L3 from the light emission center 14a of the light emitting layer 14. In the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the optical distance L3 is set so that light of the central wavelength λ1 (λ1R) of the emission spectrum of the light emitting layer 14 is weakened by interference between the reflection surface S3 and the light emission center 14a. Is set to In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the optical distance L3 is such that light of the central wavelength λ1 (λ1B) of the emission spectrum of the light-emitting layer 14 is strengthened by interference between the reflection surface S3 and the light-emitting center 14a. Is set to Specifically, in the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the optical distance L3 is configured to satisfy the following equations (7) and (8). In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the optical distance L3 is configured to satisfy the following expressions (9) and (10). In the equations (7), (8), (9), and (10), the unit of L3, λ1, λ13 , and λ23 is nm.

光透過層19Bの上面には、光透過層19Bと、光透過層19Bの上面に接する層(光透過層19C)との屈折率差によって反射面S4が形成されている。反射面S4は、発光層14の発光中心14aから光学距離L4の位置に配置されている。赤色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L4は、発光層14の発光スペクトルの中心波長λ1(λ1R)の光を、反射面S4と、発光中心14aとの間における干渉によって弱め合うように設定されている。青色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L4は、発光層14の発光スペクトルの中心波長λ1(λ1B)の光を、反射面S4と、発光中心14aとの間における干渉によって強め合うように設定されている。具体的には、赤色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L4は、以下の式(11),(12)を満たすように構成されている。青色光を発する有機電界発光素子1において、光学距離L4は、以下の式(13),(14)を満たすように構成されている。なお、式(11),(12),(13),(14)において、L4,λ1,λ14,λ24の単位は、nmとなっている。 A reflection surface S4 is formed on the upper surface of the light transmission layer 19B due to a difference in refractive index between the light transmission layer 19B and a layer (light transmission layer 19C) in contact with the upper surface of the light transmission layer 19B. The reflection surface S4 is arranged at a position at an optical distance L4 from the light emission center 14a of the light emitting layer 14. In the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the optical distance L4 is set so that light of the center wavelength λ1 (λ1R) of the emission spectrum of the light emitting layer 14 is weakened by interference between the reflection surface S4 and the light emission center 14a. Is set to In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the optical distance L4 is such that light of the central wavelength λ1 (λ1B) of the emission spectrum of the light-emitting layer 14 is strengthened by interference between the reflection surface S4 and the light-emitting center 14a. Is set to Specifically, in the organic electroluminescent device 1 that emits red light, the optical distance L4 is configured to satisfy the following expressions (11) and (12). In the organic electroluminescent device 1 that emits blue light, the optical distance L4 is configured to satisfy the following expressions (13) and (14). In the equations (11), (12), (13), and (14), the unit of L4, λ1, λ14 , and λ24 is nm.

また、さらに、各開口部24Aの深さD(つまり、絶縁層24の厚さ)、絶縁層24の上面側の開口幅Wh、絶縁層24の面側の開口幅WLは、以下の式(17),(18)を満たすことが好ましい。
0.5≦WL/Wh≦0.8…(17)
0.5≦D/WL≦2.0…(18)
Still further, the depth D of each opening 24A (i.e., the thickness of the insulating layer 24), the opening width Wh of the upper surface side of the insulating layer 24, the opening width WL of the lower surface side of the insulating layer 24 has the following formula It is preferable to satisfy (17) and (18).
0.5 ≦ WL / Wh ≦ 0.8 (17)
0.5 ≦ D / WL ≦ 2.0 (18)

また、例えば、本開示は以下のような構成を取ることができる。
(1)
陽極、発光層および陰極をこの順に備えるとともに、前記発光層と前記陰極との間、および前記陽極と前記発光層との間の少なくとも一方に、前記発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を備える
有機電界発光素子。
(2)
前記低屈折率層は、前記発光層と前記陰極との間に配置され、電子輸送性もしくは電子注入性を有する材料で構成されている
(1)に記載の有機電界発光素子。
(3)
前記低屈折率層は、前記陽極と前記発光層との間に配置され、正孔注入性もしくは正孔輸送性を有する材料で構成されている
(1)に記載の有機電界発光素子。
(4)
前記低屈折率層は、0.3よりも大きく、1.7よりも小さな屈折率の材料で構成されている
(2)または(3)に記載の有機電界発光素子。
(5)
前記低屈折率層は、0.75以上、1.4以下の屈折率の材料で構成されている
(3)に記載の有機電界発光素子。
(6)
前記低屈折率層は、0.5以上、1.7以下の屈折率の材料で構成されている
(2)または(3)に記載の有機電界発光素子。
(7)
前記低屈折率層は、0.5以上、1.5以下の屈折率の材料で構成されている
(3)に記載の有機電界発光素子。
(8)
複数の画素を備え、
各前記画素は、有機電界発光素子を有し、
前記有機電界発光素子は、陽極、発光層および陰極をこの順に有するとともに、前記発光層と前記陰極との間、および前記陽極と前記発光層との間の少なくとも一方に、前記発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を有する
有機電界発光パネル。
(9)
前記低屈折率層は、各前記画素で共有されている
(8)に記載の有機電界発光パネル。
(10)
有機電界発光パネルと、前記有機電界発光パネルを駆動する駆動回路とを備え、
前記有機電界発光パネルは、複数の画素を有し、
各前記画素は、有機電界発光素子を有し、
前記有機電界発光素子は、陽極、発光層および陰極をこの順に有するとともに、前記発光層と前記陰極との間、および前記陽極と前記発光層との間の少なくとも一方に、前記発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を有する
電子機器。
Further, for example, the present disclosure can have the following configurations.
(1)
An anode, a light emitting layer and a cathode in this order, and a low refractive index layer lower than the refractive index of the light emitting layer, between the light emitting layer and the cathode, and at least one of the anode and the light emitting layer. An organic electroluminescent device comprising:
(2)
The organic electroluminescent device according to (1), wherein the low refractive index layer is disposed between the light emitting layer and the cathode, and is made of a material having an electron transporting property or an electron injecting property.
(3)
The organic electroluminescent device according to (1), wherein the low refractive index layer is disposed between the anode and the light emitting layer and is made of a material having a hole injecting property or a hole transporting property.
(4)
The organic electroluminescent device according to (2) or (3), wherein the low refractive index layer is made of a material having a refractive index larger than 0.3 and smaller than 1.7.
(5)
The organic electroluminescent device according to (3), wherein the low refractive index layer is made of a material having a refractive index of 0.75 or more and 1.4 or less.
(6)
The organic electroluminescent device according to (2) or (3), wherein the low refractive index layer is made of a material having a refractive index of 0.5 or more and 1.7 or less.
(7)
The organic electroluminescent device according to (3), wherein the low refractive index layer is made of a material having a refractive index of 0.5 or more and 1.5 or less.
(8)
With multiple pixels,
Each of the pixels has an organic electroluminescent element,
The organic electroluminescent device has an anode, a light-emitting layer and a cathode in this order, and at least one of a refractive index of the light-emitting layer between the light-emitting layer and the cathode, and at least one between the anode and the light-emitting layer. Organic electroluminescent panel having a lower refractive index layer than the lower.
(9)
The organic electroluminescent panel according to (8), wherein the low refractive index layer is shared by the pixels.
(10)
An organic electroluminescent panel, comprising a driving circuit for driving the organic electroluminescent panel,
The organic electroluminescent panel has a plurality of pixels,
Each of the pixels has an organic electroluminescent element,
The organic electroluminescent device has an anode, a light-emitting layer and a cathode in this order, and at least one of a refractive index of the light-emitting layer between the light-emitting layer and the cathode, and at least one between the anode and the light-emitting layer. An electronic device having a lower refractive index layer.

Claims (7)

陽極、発光層および陰極をこの順に備えるとともに、前記発光層と前記陰極との間、および前記陽極と前記発光層との間の少なくとも一方に、前記発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を備える
有機電界発光素子。
An anode, a light emitting layer and a cathode in this order, and a low refractive index layer lower than the refractive index of the light emitting layer, between the light emitting layer and the cathode, and at least one of the anode and the light emitting layer. An organic electroluminescent device comprising:
前記低屈折率層は、前記発光層と前記陰極との間に配置され、電子輸送性もしくは電子注入性を有する材料で構成されている
請求項1に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the low refractive index layer is disposed between the light emitting layer and the cathode, and is made of a material having an electron transporting property or an electron injecting property.
前記低屈折率層は、0.3よりも大きく、1.7よりも小さな屈折率の材料で構成されている
請求項2に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescent device according to claim 2, wherein the low refractive index layer is made of a material having a refractive index larger than 0.3 and smaller than 1.7.
前記低屈折率層は、0.5以上、1.7以下の屈折率の材料で構成されている
請求項2に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescent device according to claim 2, wherein the low refractive index layer is made of a material having a refractive index of 0.5 or more and 1.7 or less.
複数の画素を備え、
各前記画素は、有機電界発光素子を有し、
前記有機電界発光素子は、陽極、発光層および陰極をこの順に有するとともに、前記発光層と前記陰極との間、および前記陽極と前記発光層との間の少なくとも一方に、前記発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を有する
有機電界発光パネル。
With multiple pixels,
Each of the pixels has an organic electroluminescent element,
The organic electroluminescent device has an anode, a light-emitting layer and a cathode in this order, and at least one of a refractive index of the light-emitting layer between the light-emitting layer and the cathode, and at least one between the anode and the light-emitting layer. Organic electroluminescent panel having a lower refractive index layer than the lower.
前記低屈折率層は、各前記画素で共有されている
請求項5に記載の有機電界発光パネル。
The organic electroluminescent panel according to claim 5, wherein the low refractive index layer is shared by each of the pixels.
有機電界発光パネルと、前記有機電界発光パネルを駆動する駆動回路とを備え、
前記有機電界発光パネルは、複数の画素を有し、
各前記画素は、有機電界発光素子を有し、
前記有機電界発光素子は、陽極、発光層および陰極をこの順に有するとともに、前記発光層と前記陰極との間、および前記陽極と前記発光層との間の少なくとも一方に、前記発光層の屈折率よりも低い低屈折率層を有する
電子機器。
An organic electroluminescent panel, comprising a driving circuit for driving the organic electroluminescent panel,
The organic electroluminescent panel has a plurality of pixels,
Each of the pixels has an organic electroluminescent element,
The organic electroluminescent device has an anode, a light-emitting layer and a cathode in this order, and at least one of a refractive index of the light-emitting layer between the light-emitting layer and the cathode, and at least one between the anode and the light-emitting layer. An electronic device having a lower refractive index layer.
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