JP2020027802A - Domain wall displacement type device, data recording method thereof, and recording apparatus - Google Patents

Domain wall displacement type device, data recording method thereof, and recording apparatus Download PDF

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Abstract

To provide a technique capable of being easily manufactured and writing desired data on a plurality of magnetic thin wires with one recording element.SOLUTION: A data recording method of a domain wall displacement type device repeats a first magnetic domain forming step of forming a magnetic domain in a first magnetization direction in an introduction region 11 of a magnetic thin wire 10 by a magnetic field generated by flowing a current A to conductor wiring 20, a first domain wall driving step of driving a domain wall formed in the introduction region 11 of the magnetic thin wire by flowing a current S to the magnetic thin wire to be recorded with data of the first magnetization direction, a second magnetic domain forming step of forming a magnetic domain in the second magnetization direction in the introduction region 11 of the magnetic thin wire 10 by a magnetic field generated by flowing a current B through the conductor wiring 20, and a second domain wall driving step of driving the domain wall formed in the introduction region 11 of the magnetic thin wire by flowing the current S to the target magnetic thin wire to which data of the second magnetization direction is recorded, according to a predetermined order until a termination condition is satisfied.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、磁壁移動型デバイスおよびそのデータ記録方法ならびに記録装置に関する。   The present invention relates to a domain wall displacement type device, a data recording method thereof, and a recording apparatus.

近年、スピントランスファー効果による磁壁の電流駆動現象が注目されている(例えば非特許文献1参照)。非特許文献1に記載されたレーストラックメモリは、磁性細線を基板に対して垂直方向にも延伸させたU字型の3次元構造を持つメモリである。レーストラックメモリでは、磁性細線に直交するように配置された書き込みヘッド(記録素子)で磁性細線中に磁区を形成し、磁性細線にパルス電流を印加してその位置を動かしてデータを記録する。この書き込みヘッドは、書き込み電流が通電される配線からの漏れ磁場により、磁性細線に所定磁化方向のデータの書き込みを行っている。なお、レーストラックメモリでは、再生時には、読み出したいデータ(磁区)が、磁性細線に直交するように配置された読出しヘッド(再生素子)の直下に来るまで磁性細線にパルス電流を印加して磁区を移動させている。   In recent years, a current driving phenomenon of a domain wall due to a spin transfer effect has attracted attention (for example, see Non-Patent Document 1). The race track memory described in Non-Patent Document 1 is a memory having a U-shaped three-dimensional structure in which magnetic thin wires are extended also in a direction perpendicular to a substrate. In a race track memory, magnetic domains are formed in a magnetic thin wire by a write head (recording element) arranged orthogonally to the magnetic thin wire, and a pulse current is applied to the magnetic thin wire to move the position to record data. This write head writes data in a predetermined magnetization direction on a magnetic thin wire by a leakage magnetic field from a wiring to which a write current is applied. In the race track memory, at the time of reproduction, a pulse current is applied to the magnetic thin line until the data to be read (magnetic domain) is immediately below a read head (reproducing element) arranged orthogonally to the magnetic thin line, thereby forming the magnetic domain. It is moving.

このように書き込み電流が通電される配線からの漏れ磁場により磁性細線に所定磁化方向のデータを書き込む従来技術では、磁性細線のそれぞれに、記録素子および再生素子を1つずつ使用しているのが現状である。なお、特許文献1には、磁性細線に対して所定磁化方向のデータを書き込む原理が異なるものの、複数の磁性細線へ1つの書き込み磁性線でデータを書き込む技術が開示されている。   As described above, in the related art of writing data in a predetermined magnetization direction to a magnetic thin wire by a leakage magnetic field from a wiring through which a write current is applied, one recording element and one reproducing element are used for each magnetic thin wire. It is the current situation. Patent Document 1 discloses a technique for writing data to a plurality of magnetic thin wires with one write magnetic line, although the principle of writing data in a predetermined magnetization direction to a magnetic thin wire is different.

特開2015−60971号公報JP-A-2015-60971

Parkin Stuart S. P.et al.,” Magnetic Domain-Wall Racetrack Memory”, Science, 11 Apr 2008, Vol. 320, Issue 5873, pp. 190-194Parkin Stuart S. P. et al., “Magnetic Domain-Wall Racetrack Memory”, Science, 11 Apr 2008, Vol. 320, Issue 5873, pp. 190-194.

漏れ磁場により磁性細線に所定磁化方向のデータを書き込む従来技術では、磁性細線のそれぞれに記録素子が必要である。そのため、磁性細線の数が多くなるほど構造が複雑になり、加工にコストが掛かり、製造しにくいという問題があった。また、製造し易くするために記録素子を減らした場合、どのようにすれば1つの記録素子で複数の磁性細線に所望のデータを書き込むことができるのか明らかではなかった。さらに、特許文献1に開示された技術は、構造が複雑で製造しにくいという問題があった。そのため、従来の磁壁移動型デバイスには、改良の余地があった。   In the related art in which data in a predetermined magnetization direction is written on a magnetic wire by a leakage magnetic field, a recording element is required for each magnetic wire. For this reason, there has been a problem that the structure becomes more complicated as the number of the magnetic thin wires increases, the processing cost increases, and the manufacturing is difficult. In addition, when the number of recording elements is reduced to facilitate manufacturing, it has not been clear how a single recording element can write desired data on a plurality of magnetic wires. Furthermore, the technology disclosed in Patent Document 1 has a problem that the structure is complicated and it is difficult to manufacture. Therefore, there is room for improvement in the conventional domain wall motion type device.

本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、製造し易く1つの記録素子で複数の磁性細線に所望のデータを書き込むことができる磁壁移動型デバイスおよびそのデータ記録方法ならびに記録装置を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and is a domain wall displacement type device that is easy to manufacture and can write desired data on a plurality of magnetic wires with one recording element, and a data recording method thereof, and It is an object to provide a recording device.

前記課題を解決するために、本発明に係るデータ記録方法は、データを導入する導入領域と前記導入領域に隣接したデータ領域とを長さ方向に有して平行に配置された複数の磁性細線と、前記複数の磁性細線のそれぞれの前記導入領域に直交するように配置された直線状の導体配線と、を備える磁壁移動型デバイスにおいて、前記複数の磁性細線のそれぞれに形成される磁壁を所定の順序にしたがって駆動することで前記磁壁移動型デバイスの前記導入領域に書き込まれた所定の磁化方向のデータを前記データ領域に記録する磁壁移動型デバイスのデータ記録方法であって、前記導体配線に第1方向の電流を流すことで発生する磁場により前記磁性細線のそれぞれの前記導入領域に第1磁化方向の磁区を形成する第1磁区形成工程と、前記所定の順序にしたがって前記第1磁化方向のデータを記録する対象の前記磁性細線に対して磁壁を駆動するための電流を流すことで当該磁性細線の前記導入領域に形成されている磁壁を駆動する第1磁壁駆動工程と、前記導体配線に前記第1方向とは逆方向である第2方向の電流を流すことで発生する磁場により前記磁性細線のそれぞれの前記導入領域に第2磁化方向の磁区を形成する第2磁区形成工程と、前記所定の順序にしたがって前記第2磁化方向のデータを記録する対象の前記磁性細線に対して磁壁を駆動するための電流を流すことで当該磁性細線の前記導入領域に形成されている磁壁を駆動する第2磁壁駆動工程と、を前記所定の順序にしたがって終了条件を満たすまで繰り返し行う。   In order to solve the above-mentioned problem, a data recording method according to the present invention includes a plurality of magnetic thin wires arranged in parallel with an introduction area for introducing data and a data area adjacent to the introduction area in a length direction. And a linear conductor wiring disposed so as to be orthogonal to the introduction region of each of the plurality of magnetic fine wires, wherein a domain wall formed in each of the plurality of magnetic fine wires is determined by a predetermined method. A data recording method for a domain wall motion type device, wherein data in a predetermined magnetization direction written in the introduction region of the domain wall motion type device is recorded in the data region by driving according to the order of: A first magnetic domain forming step of forming a magnetic domain in a first magnetization direction in each of the introduction regions of the magnetic wire by a magnetic field generated by flowing a current in a first direction; Driving a domain wall formed in the introduction region of the magnetic thin wire by passing a current for driving the domain wall to the magnetic thin wire on which data of the first magnetization direction is to be recorded in accordance with the order of A magnetic domain generated by flowing a current in a second direction opposite to the first direction through the conductor wiring in the one domain wall driving step to form a magnetic domain in a second magnetization direction in each of the introduction regions of the magnetic thin wire. Forming a second magnetic domain, and applying a current for driving a domain wall to the magnetic thin wire on which data in the second magnetization direction is to be recorded in accordance with the predetermined order, thereby introducing the magnetic thin wire. The second domain wall driving step of driving the domain wall formed in the region is repeatedly performed according to the predetermined order until the end condition is satisfied.

また、本発明に係る磁壁移動型デバイスは、データを導入する導入領域と前記導入領域に隣接したデータ領域とを長さ方向に有して平行に配置された複数の磁性細線と、前記複数の磁性細線のそれぞれの前記導入領域に直交するように配置され通電によって発生する磁場により前記複数の磁性細線のそれぞれの前記導入領域に磁区を形成する直線状の導体配線と、を備え、前記磁性細線は、当該磁性細線中に形成される磁壁を駆動するための電流を流す導線に接続される電極を長さ方向の両端部に有し、複数の前記磁性細線が、前記導体配線の長さ方向に離間しつつ平行に配列されると共に、前記導体配線の厚み方向に離間しつつ平行に配列された構成を備えている。   Further, the domain wall motion type device according to the present invention, a plurality of magnetic thin wires arranged in parallel having an introduction region for introducing data and a data region adjacent to the introduction region in the length direction, Linear conductor wiring that is arranged so as to be orthogonal to each of the introduction regions of the magnetic thin wires and forms magnetic domains in each of the introduction regions of the plurality of magnetic thin wires by a magnetic field generated by energization; Has, at both ends in the length direction, electrodes connected to a conductor through which a current for driving a domain wall formed in the magnetic wire is passed, and a plurality of the magnetic wires are arranged in the length direction of the conductor wiring. And arranged in parallel while being separated in the thickness direction of the conductor wiring.

また、本発明に係る記録装置は、前記磁壁移動型デバイスと、前記磁性細線にパルス電流を印加するパルス電流源と、入力された情報信号を分割し、前記導体配線に前記パルス電流を供給すると共に、前記パルス電流源から前記磁性細線への前記パルス電流の供給タイミングを制御する記録系制御部と、を備え、前記記録系制御部は、前記導体配線に第1方向の電流を流すことで発生する磁場により前記磁性細線のそれぞれの前記導入領域に第1磁化方向の磁区を形成する第1磁区形成処理と、前記所定の順序にしたがって前記第1磁化方向のデータを記録する対象の前記磁性細線に対して磁壁を駆動するための電流を流すことで当該磁性細線の前記導入領域に形成されている磁壁を駆動する第1磁壁駆動処理と、前記導体配線に前記第1方向とは逆方向である第2方向の電流を流すことで発生する磁場により前記磁性細線のそれぞれの前記導入領域に第2磁化方向の磁区を形成する第2磁区形成処理と、前記所定の順序にしたがって前記第2磁化方向のデータを記録する対象の前記磁性細線に対して磁壁を駆動するための電流を流すことで当該磁性細線の前記導入領域に形成されている磁壁を駆動する第2磁壁駆動処理と、を前記所定の順序にしたがって終了条件を満たすまで繰り返し実行する構成を備えている。   Further, the recording apparatus according to the present invention is configured such that the domain wall motion type device, a pulse current source for applying a pulse current to the magnetic thin wire, an input information signal is divided, and the pulse current is supplied to the conductor wiring A recording system control unit that controls the supply timing of the pulse current from the pulse current source to the magnetic fine wire, wherein the recording system control unit causes a current in a first direction to flow through the conductor wiring. A first magnetic domain forming process of forming a magnetic domain of a first magnetization direction in each of the introduction regions of the magnetic wire by a generated magnetic field; and a magnetic recording target for recording data of the first magnetization direction in the predetermined order. A first domain wall driving process for driving a domain wall formed in the introduction region of the magnetic thin wire by passing an electric current for driving the domain wall to the thin wire; A second magnetic domain forming process of forming a magnetic domain in a second magnetization direction in each of the introduction regions of the magnetic thin wire by a magnetic field generated by flowing a current in a second direction opposite to the predetermined direction; Therefore, a second domain wall drive that drives a domain wall formed in the introduction region of the magnetic wire by passing a current for driving the domain wall to the magnetic wire on which data of the second magnetization direction is to be recorded. And processing are repeatedly executed in accordance with the predetermined order until the end condition is satisfied.

本発明によれば、製造し易く1つの記録素子で複数の磁性細線に所望のデータを書き込むことができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, desired data can be written to several magnetic thin wires by one recording element easily and manufacturing.

(a)は、本発明の第1実施形態に係る磁壁移動型デバイスの模式図であって、(b)は、磁化方向が下向きの磁区が形成された磁性細線の模式図である。(A) is a schematic diagram of a domain wall motion type device according to the first embodiment of the present invention, and (b) is a schematic diagram of a magnetic fine wire in which a magnetic domain whose magnetization direction is downward is formed. 磁化方向が上向きの磁区が形成された磁性細線の模式図である。It is a schematic diagram of the magnetic fine wire in which the magnetic domain whose magnetization direction was upward was formed. (a)−(c)は、それぞれ磁壁移動型デバイスのデータ記録方法の模式的な説明図(その1)である。(A)-(c) is a typical explanatory view (the 1) of a data recording method of a domain wall motion type device, respectively. (a)−(d)は、それぞれ磁壁移動型デバイスのデータ記録方法の模式的な説明図(その2)である。(A)-(d) is a typical explanatory view (the 2) of a data recording method of a domain wall motion type device, respectively. (a)は、本発明の第2実施形態に係る磁壁移動型デバイスの模式図であって、(b)は、磁化方向が下向きの磁区が形成された磁性細線の模式図である。(A) is a schematic diagram of a domain wall motion type device according to a second embodiment of the present invention, and (b) is a schematic diagram of a magnetic thin wire in which a magnetic domain whose magnetization direction is downward is formed. 本発明の第3実施形態に係る磁壁移動型デバイスにおいて、磁化方向が下向きの磁区が形成された磁性細線の模式図である。FIG. 13 is a schematic diagram of a magnetic thin wire in which a magnetic domain whose magnetization direction is downward is formed in the domain wall motion device according to the third embodiment of the present invention. 磁壁移動型デバイスを適用した磁性細線メモリを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the magnetic wire memory which applied the domain wall motion type device. 磁壁移動型デバイスを適用した空間光変調器を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the spatial light modulator which applied the domain wall displacement type device.

(第1実施形態)
[磁壁移動型デバイスの構造]
まず、磁壁移動型デバイスの構造について図1、図2および図3(a)を参照して説明する。磁壁移動型デバイス1は、図示しない基板上に、複数の磁性細線10と、1つの導体配線20と、を備えている。ここでは、磁壁移動型デバイス1は、複数の磁性細線10として、3本の磁性細線10a,10b,10cを備えているが、個数は特に限定されない。なお、これらを区別しない場合には、単に磁性細線10と表記する。
(1st Embodiment)
[Structure of domain wall displacement type device]
First, the structure of the domain wall motion device will be described with reference to FIGS. 1, 2 and 3A. The domain wall motion type device 1 includes a plurality of magnetic thin wires 10 and one conductor wiring 20 on a substrate (not shown). Here, the domain wall displacement type device 1 includes three magnetic thin wires 10a, 10b, and 10c as the plurality of magnetic thin wires 10, but the number is not particularly limited. When these are not distinguished, they are simply referred to as magnetic thin wires 10.

図1(a)では、磁性細線10の長さ方向がx軸方向である。導体配線20の長さ方向がy軸方向である。また、磁性細線10および導体配線20の厚み方向がz軸方向である。なお、磁性細線10の幅方向がy軸方向であり、導体配線20の幅方向がx軸方向である。
磁性細線10は、導体配線20の上(z軸方向の正の向き)に設けられている。複数の磁性細線10は、平行に配置されている。y軸方向に隣り合う磁性細線10は、微小距離だけ離間して配設されている。隣り合う磁性細線10の間には絶縁層を設けてもよい。
導体配線20は、各磁性細線10に直交するように配置された直線状の配線である。導体配線20は、通電によって発生する磁場により各磁性細線10に磁区を形成する。
In FIG. 1A, the length direction of the magnetic thin wire 10 is the x-axis direction. The length direction of the conductor wiring 20 is the y-axis direction. The thickness direction of the magnetic thin wire 10 and the conductor wiring 20 is the z-axis direction. The width direction of the magnetic thin wire 10 is the y-axis direction, and the width direction of the conductor wiring 20 is the x-axis direction.
The magnetic thin wire 10 is provided on the conductor wiring 20 (positive direction in the z-axis direction). The plurality of magnetic wires 10 are arranged in parallel. The magnetic thin wires 10 adjacent to each other in the y-axis direction are arranged apart from each other by a minute distance. An insulating layer may be provided between the adjacent magnetic wires 10.
The conductor wiring 20 is a linear wiring arranged so as to be orthogonal to each magnetic thin wire 10. The conductor wiring 20 forms a magnetic domain in each magnetic wire 10 by a magnetic field generated by energization.

以下の説明では、y軸方向における正の方向(第1方向)へ導体配線20中を流れる電流が電流A(図1(b))であり、y軸方向における負の方向(第2方向)へ導体配線20中を流れる電流が電流B(図2)であるものとする。また、電流Aを流すことで導体配線20の周囲に発生する磁場が磁場A(図1(b))であり、電流Bを流すことで導体配線20の周囲に発生する磁場が磁場B(図2)であるものとする。   In the following description, the current flowing through the conductor wiring 20 in the positive direction (first direction) in the y-axis direction is the current A (FIG. 1B), and the current is negative in the y-axis direction (second direction). It is assumed that the current flowing through the conductor wire 20 is the current B (FIG. 2). The magnetic field generated around the conductor wiring 20 when the current A flows is the magnetic field A (FIG. 1B), and the magnetic field generated around the conductor wiring 20 when the current B flows is the magnetic field B (FIG. 1B). 2).

磁性細線10は、磁性体を厚さおよび幅に対して十分に長い細線状に形成してなる。磁性細線10としては、磁化方向が膜厚方向(z軸方向)に向き易い垂直磁化膜を採用することができる。垂直磁化膜は、垂直磁気異方性の磁気材料で形成される。このような材料としては、公知の強磁性材料を適用できる。具体的には、Co等の遷移金属とPd,Pt,Cuとを繰り返し積層したCo/Pd多層膜のような多層膜、またTb−Fe−Co,Gd−Fe等の希土類金属と遷移金属との合金(RE−TM合金)、Tb/Coなどの希土類多層膜が挙げられる。   The magnetic fine wire 10 is formed by forming a magnetic material into a thin wire shape that is sufficiently long with respect to thickness and width. As the magnetic thin wire 10, a perpendicular magnetization film whose magnetization direction is easily oriented in the film thickness direction (z-axis direction) can be adopted. The perpendicular magnetization film is formed of a magnetic material having perpendicular magnetic anisotropy. A known ferromagnetic material can be used as such a material. Specifically, a multilayer film such as a Co / Pd multilayer film in which a transition metal such as Co and Pd, Pt, and Cu are repeatedly laminated, or a rare earth metal such as Tb-Fe-Co and Gd-Fe and a transition metal are used. (RE-TM alloy), and rare earth multilayer films such as Tb / Co.

これらの材料はスパッタリング法等の公知の方法により成膜され、フォトリソグラフィと、エッチングまたはリフトオフとにより、細線形状に成形されて磁性細線10となる。本実施形態においては、磁性細線10は垂直磁気異方性材料であるので、異なる2つの磁化方向とは、上向きまたは下向きのいずれかを指す。以下では、磁性細線10中に形成される下向きの磁化方向を例えば第1磁化方向とも呼び、上向きの磁化方向を例えば第2磁化方向とも呼ぶ。また、下向きの磁化方向を例えばデータ「0」に対応付け、上向きの磁化方向を例えばデータ「1」に対応付けるようにしてもよい。   These materials are formed into a film by a known method such as a sputtering method, and are formed into a fine line shape by photolithography and etching or lift-off to form the magnetic thin line 10. In the present embodiment, since the magnetic thin wire 10 is a perpendicular magnetic anisotropic material, the two different magnetization directions indicate either upward or downward. Hereinafter, the downward magnetization direction formed in the magnetic wire 10 is also referred to as, for example, a first magnetization direction, and the upward magnetization direction is also referred to as, for example, a second magnetization direction. Further, a downward magnetization direction may be associated with, for example, data “0”, and an upward magnetization direction may be associated with, for example, data “1”.

また、磁性細線10は、長さ方向の両端部に図示しない電極を接続するための領域を備えている。これらの電極は、Cu,Al,Au,Pt,Ag等の金属やその合金のような一般的な電極用金属材料からなる。また、これら一対の電極は、例えば磁性細線10の一端側の上面部と、他端側の下面部とに形成され、磁性細線10中に形成される磁壁を駆動するための電流を流す導線15にそれぞれ接続される。また、磁性細線10には、磁区の境界である磁壁の位置制御のために適所に括れを形成しておいてもよい。   The magnetic thin wire 10 has regions for connecting electrodes (not shown) at both ends in the length direction. These electrodes are made of general metal materials for electrodes such as metals such as Cu, Al, Au, Pt, and Ag and alloys thereof. The pair of electrodes are formed, for example, on the upper surface at one end and the lower surface at the other end of the magnetic thin wire 10, and the conducting wire 15 through which a current for driving a domain wall formed in the magnetic thin wire 10 flows. Connected to each other. In addition, a constriction may be formed in the magnetic thin wire 10 at an appropriate position for controlling the position of a domain wall which is a boundary between magnetic domains.

図3(a)に示すように、磁性細線10は、長さ方向に、データを導入する導入領域11と、導入領域11に隣接したデータ領域12と、を少なくとも備えている。図3(a)に示す例では、磁性細線10の長さ方向がx軸方向である。この磁性細線10において図中左側の一部の領域が導入領域11として利用され、その右側の大部分の領域がデータ領域12として利用される。導入領域11とデータ領域12は、磁性細線10を形式的に区分するものであり、磁性細線10は物理的には連続的に形成されている。導入領域11は、データとして上向きまたは下向きの所望の磁化方向を書き込む領域である。データ領域12は、データを記録するための記録領域である。磁性細線10の導入領域11には、上向きまたは下向きの磁化方向の磁区が形成され、磁性細線10への通電により、この磁区が細線の長さ方向に移動してデータ領域12に到達する。   As shown in FIG. 3A, the magnetic thin wire 10 includes at least an introduction region 11 for introducing data and a data region 12 adjacent to the introduction region 11 in the length direction. In the example shown in FIG. 3A, the length direction of the magnetic thin wire 10 is the x-axis direction. In the magnetic thin wire 10, a part of the area on the left side in the figure is used as the introduction area 11, and most of the area on the right side is used as the data area 12. The introduction region 11 and the data region 12 formally divide the magnetic thin wire 10, and the magnetic thin wire 10 is physically formed continuously. The introduction region 11 is a region for writing a desired upward or downward magnetization direction as data. The data area 12 is a recording area for recording data. A magnetic domain having an upward or downward magnetization direction is formed in the introduction region 11 of the magnetic wire 10, and when the magnetic wire 10 is energized, the magnetic domain moves in the length direction of the wire and reaches the data region 12.

導体配線20は、y軸方向に延設された直線状の配線である。図1(a)および図3(a)に示すように、導体配線20は、導入領域11で磁性細線10に直交するように配置される。
導体配線20の材料としては、一般的な電極材料を適用できる。具体的には、例えば、導電性のよいCu,Al,Au,Ag,Ta,Cr等の金属やその合金を挙げることができる。一例としては、導体配線20の材料に、Cuを用いることが好適である。
例えば特許文献1に記載された技術は、磁性体の相互作用に基づいて磁区を形成するため、磁性材料で構成された書き込み配線を用いている。これに対して、本実施形態の磁壁移動型デバイス1は、導体配線20の材料を非磁性材料とすることで、磁性細線10において磁壁を駆動するための電流(後記する電流S)を低減することができる。
The conductor wiring 20 is a linear wiring extending in the y-axis direction. As shown in FIGS. 1A and 3A, the conductor wiring 20 is arranged so as to be orthogonal to the magnetic thin wire 10 in the introduction region 11.
As a material of the conductor wiring 20, a general electrode material can be applied. Specifically, for example, metals such as Cu, Al, Au, Ag, Ta, and Cr having good conductivity and alloys thereof can be used. As an example, it is preferable to use Cu as the material of the conductor wiring 20.
For example, the technique described in Patent Document 1 uses a write wiring made of a magnetic material to form a magnetic domain based on the interaction of a magnetic substance. On the other hand, in the domain wall displacement type device 1 of the present embodiment, the current for driving the domain wall in the magnetic thin wire 10 (current S described later) is reduced by using a non-magnetic material for the conductor wiring 20. be able to.

導体配線20の形成方法としては、例えばスパッタリング法等の公知の方法により電極材料を成膜し、フォトリソグラフィ工程と、エッチングまたはリフトオフ法等の工程とを用いることができる。導体配線20の幅は、40nm以下であることが好ましく、10nm以上40nm以下であることがより好ましい。導体配線20の材料を非磁性材料とすることで、磁壁移動型デバイス1は、必ずしも真空装置等を用いた一貫したプロセスで製造する必要はない。よって、例えば磁性細線10を真空装置等を用いて形成する工程とは別に導体配線20を形成しておき、複数の磁性細線10上に導体配線20を後付けすることもできる。   As a method for forming the conductor wiring 20, for example, an electrode material is formed by a known method such as a sputtering method, and a photolithography process and a process such as an etching or a lift-off method can be used. The width of the conductor wiring 20 is preferably 40 nm or less, more preferably 10 nm or more and 40 nm or less. By making the material of the conductor wiring 20 a nonmagnetic material, the domain wall motion type device 1 does not necessarily need to be manufactured by a consistent process using a vacuum device or the like. Therefore, for example, the conductor wiring 20 can be formed separately from the step of forming the magnetic thin wire 10 using a vacuum device or the like, and the conductor wiring 20 can be retrofitted on the plurality of magnetic thin wires 10.

導体配線20と磁性細線10との距離は、数十nm以下であることが好ましく、短ければ短いほど望ましい。導体配線20に流れる電流をIとし、導体配線20からの距離をrとすると、導体配線20に電流を流したときに発生する磁界Hは、H=I/(2πr)で与えられるため、距離rが近いほど、より小さな電流Iで磁区を形成することができる。   The distance between the conductor wiring 20 and the magnetic thin wire 10 is preferably several tens nm or less, and the shorter the better, the better. Assuming that the current flowing through the conductor wiring 20 is I and the distance from the conductor wiring 20 is r, the magnetic field H generated when the current flows through the conductor wiring 20 is given by H = I / (2πr). As r is closer, a magnetic domain can be formed with a smaller current I.

具体的には、磁性細線10への磁区形成過程のマイクロマグネティックシミュレーションを行ったところ、距離rが5nmのときに、磁性細線10上に十分な長さの磁区が形成されることが確認できた。詳細には、このシミュレーションでは、簡単のため、1本の磁性細線10に対して、下記の計算条件でLLG(Landau-Lifshitz-Gilbert)方程式を用いて計算した。なお、磁性細線10上のメッシュサイズは4nmとした。また、予め磁性細線10の全体に第2磁化方向(上向き)の磁区を形成しておいた。その上で、図1(b)に示すように、導体配線20に電流Aを流すことで発生する磁場Aにより1本の磁性細線10に第1磁化方向(下向き)の磁区を形成した。電流を印加して1[ns]後の磁化状態を計算したところ、z軸方向に5nm離れた導体配線20からの電流磁界によって導体配線20から見てx軸における正の方向の側において、磁性細線10上に200nm以上に亘って下向き磁区が形成された。   Specifically, a micromagnetic simulation of the process of forming magnetic domains in the magnetic wire 10 was performed, and it was confirmed that a magnetic domain having a sufficient length was formed on the magnetic wire 10 when the distance r was 5 nm. . Specifically, in this simulation, for simplicity, calculation was performed on one magnetic thin wire 10 using the LLG (Landau-Lifshitz-Gilbert) equation under the following calculation conditions. The mesh size on the magnetic fine wire 10 was 4 nm. Further, a magnetic domain in the second magnetization direction (upward) was formed in the entire magnetic thin wire 10 in advance. Then, as shown in FIG. 1B, a magnetic domain having a first magnetization direction (downward) was formed in one magnetic thin wire 10 by a magnetic field A generated by passing a current A through the conductor wiring 20. When a magnetization state after 1 [ns] was calculated by applying a current, the magnetic field on the x-axis in the positive direction with respect to the conductor wiring 20 when viewed from the conductor wiring 20 due to the current magnetic field from the conductor wiring 20 separated by 5 nm in the z-axis direction. Downward magnetic domains were formed on the thin wire 10 over 200 nm or more.

[計算条件]
(磁性細線の構造)
長さ(x軸方向):1.6[μm]
幅 (y軸方向):60[nm]
膜厚(z軸方向):12[nm]
(磁性細線の磁気特性)
飽和磁化Ms:0.25[T]
異方性磁界H:8.5[kOe]
交換結合係数A:1.2×10-11[J/m]
(導体配線の構造)
長さ(y軸方向):1.4[μm]
幅 (x軸方向):40[nm]
膜厚(z軸方向):40[nm]
導体配線と磁性細線との間の距離(z軸方向)h:5[nm]
導体配線への印加電流:0.5[A]
また、1[Oe]=103/(4π)[A/m]である。
[Calculation condition]
(Structure of magnetic fine wire)
Length (x-axis direction): 1.6 [μm]
Width (y-axis direction): 60 [nm]
Film thickness (z-axis direction): 12 [nm]
(Magnetic properties of magnetic fine wire)
Saturation magnetization Ms: 0.25 [T]
Anisotropic magnetic field H k : 8.5 [kOe]
Exchange coupling coefficient A: 1.2 × 10 −11 [J / m]
(Conductor wiring structure)
Length (y-axis direction): 1.4 [μm]
Width (x-axis direction): 40 [nm]
Film thickness (z-axis direction): 40 [nm]
Distance (z-axis direction) between conductor wiring and magnetic thin wire h: 5 [nm]
Applied current to conductor wiring: 0.5 [A]
Also, 1 [Oe] = 10 3 / (4π) [A / m].

図1(a)に示す例では、磁壁移動型デバイス1は、磁性細線10と導体配線20との間に絶縁層30を備えている。絶縁層30は、導体配線20と磁性細線10とを絶縁するものである。絶縁層30は、導体配線20上に形成されている。絶縁層30の上には磁性細線10が形成されている。絶縁層30を形成する絶縁体は、一般的な絶縁体材料で構成されている。このような材料として、例えばSiO2やAl23等の酸化膜や、Si34やMgF2等を挙げることができる。絶縁層30は、図示しない基板上で安定に支持されていればその形状は図示した平板状に限定されない。導体配線20との間に絶縁材料を充填したり、導体配線20の周囲に絶縁材料を敷き詰めたりすることが好ましい。導体配線20と磁性細線10との間には、厚みが数nm以上の絶縁層30が配置されることが望ましい。ただし、絶縁層30が無い場合であっても、磁性細線10の電気抵抗値が、導体配線20の電気抵抗値に対して非常に大きい場合には問題ないと考えられる。 In the example illustrated in FIG. 1A, the domain wall motion device 1 includes an insulating layer 30 between the magnetic thin wire 10 and the conductor wiring 20. The insulating layer 30 insulates the conductor wiring 20 from the magnetic fine wire 10. The insulating layer 30 is formed on the conductor wiring 20. The magnetic thin wire 10 is formed on the insulating layer 30. The insulator forming the insulating layer 30 is made of a general insulator material. Examples of such a material include an oxide film such as SiO 2 and Al 2 O 3 , and Si 3 N 4 and MgF 2 . The shape of the insulating layer 30 is not limited to the illustrated flat plate as long as it is stably supported on a substrate (not illustrated). It is preferable that an insulating material is filled between the conductive wiring 20 and the conductive wiring 20 or that the insulating material is spread around the conductive wiring 20. It is desirable that an insulating layer 30 having a thickness of several nm or more is disposed between the conductor wiring 20 and the magnetic thin wire 10. However, even when the insulating layer 30 is not provided, it is considered that there is no problem when the electric resistance value of the magnetic thin wire 10 is much larger than the electric resistance value of the conductor wiring 20.

[磁壁移動型デバイスのデータ記録方法]
次に、磁壁移動型デバイス1のデータ記録方法の概要を説明する。
この磁壁移動型デバイス1におけるデータ記録方法は、複数の磁性細線10のそれぞれに形成される磁壁を所定の順序にしたがって駆動することで磁壁移動型デバイス1の導入領域11に書き込まれた所定の磁化方向のデータをデータ領域12に記録するものである。すなわち、この方法では、いずれかの磁化データを磁性細線10の導入領域11に書き込むことで磁区を形成する工程と、磁性細線10において導入領域11に既に書き込まれているデータの磁区を駆動させて情報をデータ領域12に移動させる工程とを有している。
[Data recording method of domain wall displacement type device]
Next, an outline of a data recording method of the domain wall motion type device 1 will be described.
In the data recording method in the domain wall displacement type device 1, a predetermined magnetization written in the introduction region 11 of the domain wall displacement type device 1 is obtained by driving a domain wall formed on each of the plurality of magnetic wires 10 in a predetermined order. The direction data is recorded in the data area 12. In other words, in this method, a magnetic domain is formed by writing any magnetization data into the introduction region 11 of the magnetic wire 10, and a magnetic domain of data already written in the introduction region 11 in the magnetic wire 10 is driven. Moving information to the data area 12.

磁性細線10へデータを書き込むには、記録したい2値情報(0または1)に対応させて上向きまたは下向きの十分な強度の磁界を導体配線20により発生させる。導体配線20に電流を流すと、磁場が発生し、磁性細線10上において、導体配線20から僅かに離間した位置に磁壁が導入される。例えば導体配線20から下向きの磁界を発生させた場合、磁性細線10の導入領域11が下向きに磁化され、1ビット分の情報が磁区として書き込まれる。また、この方法では、導体配線20に交互に反対向きの電流を流すことで、連続的に下向きの磁化データと上向きの磁化データとを交互に磁性細線10の導入領域11に書き続ける。これにより、導入領域11上のデータは上書きされ続ける。よって、磁性細線10上において、磁壁をx軸方向における正の方向へ進め、情報が導入領域11からデータ領域12に移動することで、磁壁移動型デバイス1へのデータ記録が行われる。   In order to write data to the magnetic thin wire 10, an upward or downward magnetic field of sufficient strength is generated by the conductor wiring 20 in accordance with the binary information (0 or 1) to be recorded. When a current is applied to the conductor wiring 20, a magnetic field is generated, and a domain wall is introduced on the magnetic fine wire 10 at a position slightly separated from the conductor wiring 20. For example, when a downward magnetic field is generated from the conductor wiring 20, the introduction region 11 of the magnetic thin wire 10 is magnetized downward, and information of one bit is written as a magnetic domain. Also, in this method, by passing a current in the opposite direction through the conductor wiring 20 alternately, downward magnetization data and upward magnetization data are continuously written alternately in the introduction region 11 of the magnetic thin wire 10. As a result, the data on the introduction area 11 continues to be overwritten. Therefore, on the magnetic thin wire 10, the domain wall is advanced in the positive direction in the x-axis direction, and information is moved from the introduction region 11 to the data region 12, so that data is recorded on the domain wall displacement type device 1.

次に磁壁移動型デバイス1のデータ記録方法の詳細について図1〜図4を参照して説明する。データ記録方法は、第1磁区形成工程と、第1磁壁駆動工程と、第2磁区形成工程と、第2磁壁駆動工程と、を一連の工程として行う。
第1磁区形成工程は、図1(b)および図3(b)に示すように、導体配線20に第1方向の電流(電流A)を流すことで発生する磁場Aにより各磁性細線10のそれぞれの導入領域11に第1磁化方向(下向き)の磁区を形成する工程である。これにより、一度に複数の磁性細線10に対して第1磁化方向(下向き)の磁区を形成できる。ここでは、図1(b)および図3(b)において、一例として下向きの磁化はドットで示されている。また、磁性細線10に下向きの磁区を形成する前の初期状態では、図3(a)に示すように、磁性細線10に磁区が形成されていないものとする。
Next, details of a data recording method of the domain wall motion type device 1 will be described with reference to FIGS. In the data recording method, a first magnetic domain forming step, a first domain wall driving step, a second magnetic domain forming step, and a second domain wall driving step are performed as a series of steps.
In the first magnetic domain forming step, as shown in FIGS. 1B and 3B, a magnetic field A generated by applying a current (current A) in the first direction to the conductor wiring 20 causes each magnetic thin wire 10 to be formed. This is a step of forming a magnetic domain in the first magnetization direction (downward) in each of the introduction regions 11. Thereby, a magnetic domain in the first magnetization direction (downward) can be formed on the plurality of magnetic wires 10 at a time. Here, in FIGS. 1B and 3B, as an example, the downward magnetization is indicated by a dot. Further, in the initial state before the downward magnetic domains are formed in the magnetic fine wire 10, it is assumed that no magnetic domains are formed in the magnetic fine wire 10, as shown in FIG.

第1磁壁駆動工程は、前記第1磁区形成工程に続けて行われる工程である。第1磁壁駆動工程は、図3(c)に示すように、前記所定の順序にしたがって第1磁化方向のデータを記録する対象の磁性細線10(図3(c)では磁性細線10b)に対して磁壁を駆動するための電流(以下、電流Sという)を流すことで当該磁性細線10bの導入領域11に形成されている磁壁を駆動する工程である。図示しない電源からの電流Sは、導線15と、磁性細線10の両端部の一対の電極を介して磁性細線10に流れる。   The first domain wall driving step is a step performed subsequent to the first magnetic domain forming step. In the first domain wall driving step, as shown in FIG. 3 (c), the magnetic thin wire 10 (the magnetic thin wire 10b in FIG. 3 (c)) on which data in the first magnetization direction is to be recorded according to the predetermined order. This is a step of driving a domain wall formed in the introduction region 11 of the magnetic fine wire 10b by flowing a current (hereinafter, referred to as a current S) for driving the domain wall. A current S from a power supply (not shown) flows through the conductive wire 15 and a pair of electrodes at both ends of the magnetic wire 10 to the magnetic wire 10.

詳細には、磁性細線10bの長さ方向にパルス電流(電流S)を印加すると、負の電荷を持った電子eが図3において右へ移動し、当該磁性細線10bに形成されている磁壁を駆動する。この磁壁電流駆動現象により、磁性細線10bの導入領域11に形成されていた下向き磁区を1ビット分の長さだけ図3において右方向へ高速に駆動(ビットシフト)させることができる。なお、図3ではビットシフトの向きを直感的に理解し易いように電子eの移動方向を電流Sの向きとして図示しているが、パルス電流(電流S)は電子の移動方向とは逆向きに流す。また、磁壁駆動方向は、電子の移動方向に限定されるものではなく、磁性細線10の磁性膜を構成する材料によっては、電子の移動方向とは逆方向(電流方向)に磁壁が駆動する場合がある。
この第1磁壁駆動工程では、磁性細線10に流す電流Sに連動させて、導体配線20に電流Aを流し続けていることで発生する磁場Aにより各磁性細線10の導入領域11に第1磁化方向(下向きの磁化)の磁区を形成し続けている。この第1磁壁駆動工程によって、磁性細線10bのデータ領域12には、下向き磁区が記録される。一方、磁性細線10a,10cのデータ領域12には、まだ磁区が記録されていない。
Specifically, when a pulse current (current S) is applied in the length direction of the magnetic wire 10b, electrons e having negative charges move to the right in FIG. 3, and the domain wall formed on the magnetic wire 10b Drive. Due to the domain wall current driving phenomenon, the downward magnetic domain formed in the introduction region 11 of the magnetic thin wire 10b can be driven (bit-shifted) rightward in FIG. 3 by a length of one bit at a high speed. In FIG. 3, the moving direction of the electron e is shown as the direction of the current S so that the direction of the bit shift can be easily understood intuitively. However, the pulse current (current S) is opposite to the moving direction of the electrons. Flow in the direction. The domain wall driving direction is not limited to the electron moving direction. Depending on the material forming the magnetic film of the magnetic thin wire 10, the domain wall driving direction may be opposite to the electron moving direction (current direction). There is.
In the first domain wall drive step, the first magnetization is applied to the introduction region 11 of each magnetic wire 10 by the magnetic field A generated by keeping the current A flowing through the conductor wiring 20 in conjunction with the current S flowing through the magnetic wire 10. It continues to form magnetic domains in the direction (downward magnetization). By this first domain wall driving step, downward magnetic domains are recorded in the data area 12 of the magnetic thin wire 10b. On the other hand, no magnetic domains have yet been recorded in the data area 12 of the magnetic thin wires 10a and 10c.

第2磁区形成工程は、前記第1磁壁駆動工程に続けて行われる工程である。
第2磁区形成工程は、図2および図4(a)に示すように、導体配線20に第1方向とは逆方向である第2方向の電流(電流B)を流すことで発生する磁場Bにより各磁性細線10のそれぞれの導入領域11に第2磁化方向(上向き)の磁区を形成する工程である。これにより、各磁性細線10の導入領域11上のデータは、第2磁化方向(上向き)の磁区に上書きされる。つまり、一度に複数の磁性細線10に対して第2磁化方向(上向き)の磁区を形成できる。ここでは、図2および図4(a)において、一例として上向きの磁化はクロスハッチングで示されている。なお、このとき、各磁性細線10のデータ領域12上のデータには変化がない。
The second magnetic domain forming step is a step performed following the first domain wall driving step.
In the second magnetic domain forming step, as shown in FIGS. 2 and 4A, a magnetic field B generated by flowing a current (current B) in the second direction opposite to the first direction through the conductor wiring 20 is used. Is a step of forming a magnetic domain in the second magnetization direction (upward) in each of the introduction regions 11 of the magnetic thin wires 10. Thereby, the data on the introduction region 11 of each magnetic wire 10 is overwritten on the magnetic domain in the second magnetization direction (upward). In other words, a magnetic domain in the second magnetization direction (upward) can be formed on a plurality of magnetic wires 10 at a time. Here, in FIGS. 2 and 4A, the upward magnetization is shown by cross-hatching as an example. At this time, there is no change in the data on the data area 12 of each magnetic thin wire 10.

第2磁壁駆動工程は、前記第2磁区形成工程に続けて行われる工程である。第2磁壁駆動工程は、図4(b)に示すように、前記所定の順序にしたがって第2磁化方向のデータを記録する対象の磁性細線10(図4(b)では磁性細線10a,10c)に対して電流Sを流すことで当該磁性細線10a,10cの導入領域11に形成されている磁壁を駆動する工程である。これにより、磁性細線10a,10cの導入領域11に形成されていた上向き磁区を1ビット分の長さだけビットシフトさせることができる。この第2磁壁駆動工程では、磁性細線10に流す電流Sに連動させて、導体配線20に電流Bを流し続けていることで発生する磁場Bにより各磁性細線10の導入領域11に第2磁化方向(上向きの磁化)の磁区を形成し続けている。この第2磁壁駆動工程によって、磁性細線10a,10cのデータ領域12には、上向き磁区が記録される。一方、磁性細線10bのデータ領域12上のデータには変化がない。   The second domain wall driving step is a step performed following the second magnetic domain forming step. In the second domain wall driving step, as shown in FIG. 4 (b), the magnetic thin wires 10 for recording data in the second magnetization direction in accordance with the predetermined order (the magnetic thin wires 10a and 10c in FIG. 4 (b)). This is a step of driving a domain wall formed in the introduction region 11 of the magnetic fine wires 10a and 10c by applying a current S to the magnetic thin wires 10a and 10c. Thereby, the upward magnetic domain formed in the introduction region 11 of the magnetic thin wires 10a and 10c can be bit-shifted by the length of one bit. In the second domain wall driving step, the second magnetization is applied to the introduction region 11 of each magnetic wire 10 by the magnetic field B generated by keeping the current B flowing through the conductor wiring 20 in conjunction with the current S flowing to the magnetic wire 10. The magnetic domain in the direction (upward magnetization) continues to be formed. By the second domain wall driving step, upward magnetic domains are recorded in the data areas 12 of the magnetic thin wires 10a and 10c. On the other hand, there is no change in the data on the data area 12 of the magnetic thin wire 10b.

データ記録方法は、第1磁区形成工程と、第1磁壁駆動工程と、第2磁区形成工程と、第2磁壁駆動工程と、を前記所定の順序にしたがって終了条件を満たすまで繰り返し行う。よって、例えば終了条件が満たされていなければ、第2磁壁駆動工程に続けて、再び、第1磁区形成工程を行う。この場合、図4(c)に示すように、各磁性細線10の導入領域11上のデータは、第1磁化方向(下向き)の磁区に上書きされる。なお、このとき、各磁性細線10のデータ領域12上のデータには変化がない。   In the data recording method, the first magnetic domain forming step, the first domain wall driving step, the second magnetic domain forming step, and the second domain wall driving step are repeatedly performed in accordance with the above-described predetermined order until the end condition is satisfied. Therefore, for example, if the termination condition is not satisfied, the first magnetic domain forming step is performed again after the second domain wall driving step. In this case, as shown in FIG. 4C, the data on the introduction region 11 of each magnetic wire 10 is overwritten on the magnetic domain in the first magnetization direction (downward). At this time, there is no change in the data on the data area 12 of each magnetic thin wire 10.

さらに、この第1磁区形成工程に続けて、再び、第1磁壁駆動工程を行ったときの磁化状態を図4(d)に示す。この第1磁壁駆動工程では、図4(d)に示すように、前記所定の順序にしたがって第1磁化方向のデータを記録する対象の磁性細線10(図4(d)では磁性細線10a,10b)に対して電流Sを流すことで当該磁性細線10a,10bの導入領域11に形成されている磁壁を駆動する。この第1磁壁駆動工程では、磁性細線10に流す電流Sに連動させて、導体配線20に電流Aを流し続けていることで発生する磁場Aにより各磁性細線10の導入領域11に第1磁化方向(下向きの磁化)の磁区を形成し続けている。この第1磁壁駆動工程によって、磁性細線10a,10bの導入領域11に形成されていた下向き磁区を1ビット分の長さだけビットシフトさせることができる。このとき、磁性細線10aのデータ領域12に既に記録されていた1ビット分の情報(上向き磁区)は磁性細線10a中を1ビット分の長さだけビットシフトする。また、磁性細線10bのデータ領域12に既に記録されていた1ビット分の情報(下向き磁区)は磁性細線10b中を1ビット分の長さだけビットシフトする。なお、磁性細線10cのデータ領域12上のデータには変化がない。   Further, FIG. 4D shows a magnetization state when the first domain wall driving step is performed again after the first magnetic domain forming step. In the first domain wall driving step, as shown in FIG. 4D, the magnetic thin wire 10 on which data in the first magnetization direction is recorded according to the predetermined order (the magnetic thin wires 10a and 10b in FIG. 4D). 4), the domain wall formed in the introduction region 11 of the magnetic fine wires 10a and 10b is driven. In the first domain wall drive step, the first magnetization is applied to the introduction region 11 of each magnetic wire 10 by the magnetic field A generated by keeping the current A flowing through the conductor wiring 20 in conjunction with the current S flowing through the magnetic wire 10. It continues to form magnetic domains in the direction (downward magnetization). By the first domain wall driving step, the downward magnetic domain formed in the introduction region 11 of the magnetic fine wires 10a and 10b can be shifted by one bit. At this time, the information of one bit (upward magnetic domain) already recorded in the data area 12 of the magnetic wire 10a is bit-shifted in the magnetic wire 10a by the length of one bit. The information of one bit (downward magnetic domain) already recorded in the data area 12 of the magnetic thin wire 10b is shifted by one bit in the magnetic thin wire 10b. The data on the data area 12 of the magnetic thin wire 10c does not change.

以後は同様に磁区形成およびビットシフトを繰り返すことによって、各磁性細線10の長さ方向にシーケンシャルな磁区列のデータを蓄積することができる。磁性細線10のデータ領域12は、順次情報をデータ領域12中にそのままの順番で蓄積することが可能なFirst-in-first-out型のメモリ構成である。上記のように、磁壁移動型デバイス1のデータ記録方法では、1本の記録素子(導体配線20)に電流Aと電流Bを交互に流すことによる複数の磁性細線10への磁区形成と、磁性細線10に個別に電流Sを流すことによる磁壁駆動(ビットシフト)とを組み合わせることで、例えば図4(d)に示すように、磁性細線10a,10,10cに個別に所望のデータ列を記録することができる。図4(d)には、各磁性細線10のデータ領域12の磁化状態の一例が示されている。前記所定の順序は、どの磁性細線10に、どのような順番で2値データを記録することを所望するのかによって決定すればよい。例えば、すべての磁性細線10における理想的な最終記録状態から逆算して、各磁性細線10に電流Sを流す順番を決定することで、効率的に書き込み動作を行うことが可能である。また、前記所定の順序における最後の書き込みがなされることで終了条件が満たされることになる。   Thereafter, by repeating the magnetic domain formation and the bit shift in the same manner, it is possible to accumulate data of a sequential magnetic domain row in the length direction of each magnetic thin wire 10. The data area 12 of the magnetic thin wire 10 has a first-in-first-out type memory configuration in which information can be sequentially stored in the data area 12 in the same order. As described above, in the data recording method of the domain wall displacement type device 1, magnetic domains are formed on the plurality of magnetic fine wires 10 by alternately applying the current A and the current B to one recording element (conductor wiring 20). By combining with domain wall drive (bit shift) by applying a current S individually to the thin wires 10, for example, as shown in FIG. 4D, a desired data string is individually recorded on the magnetic thin wires 10a, 10 and 10c. can do. FIG. 4D shows an example of the magnetization state of the data region 12 of each magnetic wire 10. The predetermined order may be determined depending on which magnetic thin wire 10 and in what order it is desired to record the binary data. For example, the write operation can be efficiently performed by determining the order of applying the current S to each magnetic thin wire 10 by calculating backward from the ideal final recording state of all the magnetic thin wires 10. The end condition is satisfied by performing the last writing in the predetermined order.

なお、各磁性細線10の初期状態では磁区が形成されていないものとして説明したが、これに限らない。例えば、磁性細線10において、部分的に上向きの磁化と下向きの磁化とがランダムに配置された状態(ランダム磁化)であっても構わない。また、上記説明では、最初に第1磁区形成工程を行うものとしたが、所定の順序にしたがっていれば、最初に第2磁区形成工程を行ってもよいし、第1磁区形成工程と第2磁区形成工程の回数が異なっていてもよい。   Although the description has been made on the assumption that no magnetic domain is formed in the initial state of each magnetic thin wire 10, the present invention is not limited to this. For example, the magnetic wire 10 may be in a state in which upward magnetization and downward magnetization are partially arranged at random (random magnetization). In the above description, the first magnetic domain forming step is performed first. However, if a predetermined order is followed, the second magnetic domain forming step may be performed first, or the first magnetic domain forming step and the second magnetic domain forming step may be performed. The number of times of the magnetic domain forming step may be different.

(第2実施形態)
[磁壁移動型デバイスの構造]
次に、第2実施形態に係る磁壁移動型デバイスの構造について図5(a)を参照して説明する。図5(a)に示すように、第2実施形態に係る磁壁移動型デバイス1Bでは、磁性細線10が、導体配線20の上だけではなく、導体配線20の下にも設けられている点が第1実施形態に係る磁壁移動型デバイス1と相違している。以下では、図1に示す磁壁移動型デバイス1と同じ構成には同じ符号を付して説明を省略する。
(2nd Embodiment)
[Structure of domain wall displacement type device]
Next, the structure of the domain wall motion device according to the second embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 5A, in the domain wall motion type device 1B according to the second embodiment, the magnetic thin wire 10 is provided not only above the conductor wiring 20 but also below the conductor wiring 20. This is different from the domain wall displacement type device 1 according to the first embodiment. In the following, the same components as those of the domain wall motion device 1 shown in FIG.

磁壁移動型デバイス1Bは、複数の磁性細線10a〜10fと、1つの導体配線20と、を備えている。ここでは、磁壁移動型デバイス1Bは、複数の磁性細線10として、6本の磁性細線10a〜10fを備えているが、個数は特に限定されない。なお、これらを区別しない場合には、単に磁性細線10と表記する。各磁性細線10は、長さ方向に、データを導入する導入領域11と、導入領域11に隣接したデータ領域12と、を有している(図3(a)参照)。導体配線20は、直線状であり、各磁性細線10a〜10fのそれぞれの導入領域11に直交するように配置されている。   The domain wall motion type device 1B includes a plurality of magnetic thin wires 10a to 10f and one conductor wiring 20. Here, the domain wall motion type device 1B includes six magnetic wires 10a to 10f as the plurality of magnetic wires 10, but the number is not particularly limited. When these are not distinguished, they are simply referred to as magnetic thin wires 10. Each magnetic wire 10 has, in the length direction, an introduction region 11 for introducing data and a data region 12 adjacent to the introduction region 11 (see FIG. 3A). The conductor wiring 20 has a linear shape, and is arranged so as to be orthogonal to the introduction region 11 of each of the magnetic fine wires 10a to 10f.

複数の磁性細線10a〜10fは、導体配線20の長さ方向(y軸方向)に離間しつつ平行に配置されると共に、導体配線20の厚み方向(z軸方向)に離間しつつ平行に配列されている。図5(a)に示すように、磁壁移動型デバイス1Bは、導体配線20の厚み方向(z軸方向)において導体配線20を挟んで2つの磁性細線10が対向して配置されている。具体的には、磁性細線10aと磁性細線10dとが対向して配置されている。また、磁性細線10bと磁性細線10eとが対向して配置されている。さらに、磁性細線10cと磁性細線10fとが対向して配置されている。   The plurality of magnetic fine wires 10a to 10f are arranged in parallel while being separated in the length direction (y-axis direction) of the conductor wiring 20, and are arranged in parallel while being separated in the thickness direction (z-axis direction) of the conductor wiring 20. Have been. As shown in FIG. 5A, in the domain wall motion type device 1 </ b> B, two magnetic thin wires 10 are arranged to face each other across the conductor wiring 20 in the thickness direction (z-axis direction) of the conductor wiring 20. Specifically, the magnetic thin wires 10a and 10d are arranged to face each other. The magnetic thin wire 10b and the magnetic thin wire 10e are arranged to face each other. Further, the magnetic thin wire 10c and the magnetic thin wire 10f are arranged to face each other.

図5(a)に示す例では、磁壁移動型デバイス1Bは、磁性細線10d,10e,10fと導体配線20との間に絶縁層30aを備えている。また、磁壁移動型デバイス1Bは、磁性細線10a,10b,10cと導体配線20との間に絶縁層30bを備えている。絶縁層30a,30bを形成する絶縁体は、前記した一般的な絶縁体材料で構成されている。   In the example shown in FIG. 5A, the domain wall motion type device 1B includes an insulating layer 30a between the magnetic thin wires 10d, 10e, and 10f and the conductor wiring 20. Further, the domain wall motion type device 1B includes an insulating layer 30b between the magnetic thin wires 10a, 10b, 10c and the conductor wiring 20. The insulator forming the insulating layers 30a and 30b is made of the above-mentioned general insulator material.

絶縁層30bは、導体配線20上に形成されており、絶縁層30bの上面31bには磁性細線10a,10b,10cが形成されている。この例では、絶縁層30bの上面31bは、磁性細線10の配置面である。また、絶縁層30aは、導体配線20の下に形成されており、絶縁層30aの下面31aには磁性細線10d,10e,10fが形成されている。この例では、絶縁層30aの下面31aも、磁性細線10の配置面である。つまり、磁壁移動型デバイス1Bは、導体配線20の上下に磁性細線10の配置面を有している。   The insulating layer 30b is formed on the conductor wiring 20, and magnetic fine wires 10a, 10b, and 10c are formed on the upper surface 31b of the insulating layer 30b. In this example, the upper surface 31b of the insulating layer 30b is a surface on which the magnetic thin wires 10 are arranged. The insulating layer 30a is formed below the conductor wiring 20, and magnetic thin wires 10d, 10e, and 10f are formed on the lower surface 31a of the insulating layer 30a. In this example, the lower surface 31a of the insulating layer 30a is also the surface on which the magnetic fine wires 10 are arranged. That is, the domain wall motion type device 1 </ b> B has an arrangement surface of the magnetic thin wires 10 above and below the conductor wiring 20.

磁壁移動型デバイス1Bのデータ記録方法は、第1磁区形成工程と、第1磁壁駆動工程と、第2磁区形成工程と、第2磁壁駆動工程と、を所定の順序にしたがって終了条件を満たすまで繰り返し行う。例えば、第1磁区形成工程では、図5(b)に示すように、導体配線20に第1方向の電流(電流A)を流すことで発生する磁場Aにより各磁性細線10a〜10fのそれぞれの導入領域11に第1磁化方向(下向き)の磁区を形成する。他の工程も、磁壁移動型デバイス1のデータ記録方法と同様である(図3および図4参照)。よって、これ以上の説明を省略する。本実施形態によれば、第1実施形態に比べて、一度にデータを書き込むことができる磁性細線の本数を2倍に増加させることができる。   The data recording method of the domain wall motion type device 1B includes a first magnetic domain forming step, a first magnetic domain wall driving step, a second magnetic domain forming step, and a second magnetic domain wall driving step until a termination condition is satisfied in a predetermined order. Repeat. For example, in the first magnetic domain forming step, as shown in FIG. 5B, each of the magnetic fine wires 10a to 10f is caused by a magnetic field A generated by flowing a current (current A) in the first direction through the conductor wiring 20. A magnetic domain in the first magnetization direction (downward) is formed in the introduction region 11. Other steps are the same as the data recording method of the domain wall motion type device 1 (see FIGS. 3 and 4). Therefore, further description is omitted. According to the present embodiment, the number of magnetic thin wires to which data can be written at one time can be doubled compared to the first embodiment.

(第3実施形態)
[磁壁移動型デバイスの構造]
次に、第3実施形態に係る磁壁移動型デバイスの構造について図6を参照して説明する。以下では、図1に示す磁壁移動型デバイス1と同じ構成には同じ符号を付して説明を省略する。第3実施形態に係る磁壁移動型デバイス1Cは、複数の磁性細線10a〜10fと、1つの導体配線20Cと、を備えている。ここでは、磁壁移動型デバイス1Cは、複数の磁性細線10として、6本の磁性細線10a〜10fを備えているが、個数は特に限定されない。なお、これらを区別しない場合には、単に磁性細線10と表記する。各磁性細線10は、長さ方向に、データを導入する導入領域11と、導入領域11に隣接したデータ領域12と、を有している(図3(a)参照)。
(Third embodiment)
[Structure of domain wall displacement type device]
Next, the structure of the domain wall motion device according to the third embodiment will be described with reference to FIG. In the following, the same components as those of the domain wall motion device 1 shown in FIG. The domain wall motion device 1C according to the third embodiment includes a plurality of magnetic thin wires 10a to 10f and one conductor wiring 20C. Here, the domain wall motion device 1C includes six magnetic wires 10a to 10f as the plurality of magnetic wires 10, but the number is not particularly limited. When these are not distinguished, they are simply referred to as magnetic thin wires 10. Each magnetic wire 10 has, in the length direction, an introduction region 11 for introducing data and a data region 12 adjacent to the introduction region 11 (see FIG. 3A).

導体配線20Cは、直線状であり、各磁性細線10a〜10fのそれぞれの導入領域11に直交するように配置されている。ただし、導体配線20Cは、各磁性細線10の上下(z軸方向)に配置されるのではなく、x軸方向における各磁性細線10の一端側(図6において左側)に配置されている。また、導体配線20Cは、磁性細線10の厚みの少なくとも数倍の厚みを有している。ここでは、導体配線20Cは、厚み(z軸方向の長さ)が幅(x軸方向の長さ)よりも大きく形成されている。また、導体配線20Cの長さ(y軸方向の長さ)は、導体配線20Cの厚みおよび幅に比べて十分大きく形成されている。   The conductor wiring 20C has a linear shape and is arranged so as to be orthogonal to the introduction region 11 of each of the magnetic fine wires 10a to 10f. However, the conductor wiring 20C is not arranged above and below each magnetic thin wire 10 (in the z-axis direction), but is arranged on one end side (left side in FIG. 6) of each magnetic thin wire 10 in the x-axis direction. The conductor wiring 20 </ b> C has a thickness at least several times the thickness of the magnetic fine wire 10. Here, the conductor wiring 20C is formed to have a thickness (length in the z-axis direction) larger than a width (length in the x-axis direction). The length (length in the y-axis direction) of the conductor wiring 20C is formed sufficiently larger than the thickness and width of the conductor wiring 20C.

複数の磁性細線10a〜10fは、導体配線20の長さ方向(y軸方向)に離間しつつ平行に配置されると共に、導体配線20の厚み方向(z軸方向)に離間しつつ平行に配列されている。図6に示すように、磁壁移動型デバイス1Cは、導体配線20Cの幅方向(x軸方向)における一方の側(図6における右側)において、すべての磁性細線10a〜10fが配置されている   The plurality of magnetic fine wires 10a to 10f are arranged in parallel while being separated in the length direction (y-axis direction) of the conductor wiring 20, and are arranged in parallel while being separated in the thickness direction (z-axis direction) of the conductor wiring 20. Have been. As shown in FIG. 6, in the domain wall motion type device 1C, all the magnetic thin wires 10a to 10f are arranged on one side (the right side in FIG. 6) in the width direction (x-axis direction) of the conductor wiring 20C.

図6に示す例では、磁壁移動型デバイス1Cは、磁性細線10a〜10fと導体配線20Cとの間に絶縁層30cを備えている。また、磁壁移動型デバイス1Cは、磁性細線10の周囲に、絶縁層40a,40b,40cを備えている。絶縁層30c,40a〜40cを形成する絶縁体は、前記した一般的な絶縁体材料で構成されている。   In the example shown in FIG. 6, the domain wall motion device 1C includes an insulating layer 30c between the magnetic thin wires 10a to 10f and the conductor wiring 20C. Further, the domain wall motion device 1C includes insulating layers 40a, 40b, and 40c around the magnetic thin wire 10. The insulator forming the insulating layers 30c, 40a to 40c is made of the above-mentioned general insulator material.

絶縁層30cは、導体配線20Cと磁性細線10a〜10fとを絶縁するものであり、例えばyz平面に平行に形成されている。
絶縁層40aは、例えばxy平面に平行に形成されており、絶縁層40aの上面41aには磁性細線10e,10fが互いに平行に配置されて形成されている。この例では、絶縁層40aの上面41aは、磁性細線10e,10fの配置面である。
絶縁層40bは、磁性細線10e,10fの上に形成されており、絶縁層40bの上面41bには磁性細線10c,10dが互いに平行に配置されて形成されている。この例では、絶縁層40bの上面41bは、磁性細線10c,10dの配置面である。
絶縁層40cは、磁性細線10c,10dの上に形成されており、絶縁層40cの上面41cには磁性細線10a,10bが互いに平行に配置されて形成されている。この例では、絶縁層40cの上面41cは、磁性細線10a,10bの配置面である。
つまり、磁壁移動型デバイス1Cは、導体配線20Cの側方に磁性細線10の配置面を複数積層した構造を有している。
The insulating layer 30c insulates the conductor wiring 20C from the magnetic fine wires 10a to 10f, and is formed, for example, in parallel with the yz plane.
The insulating layer 40a is formed, for example, in parallel with the xy plane, and the magnetic thin wires 10e, 10f are formed on the upper surface 41a of the insulating layer 40a in parallel with each other. In this example, the upper surface 41a of the insulating layer 40a is a surface on which the magnetic fine wires 10e and 10f are arranged.
The insulating layer 40b is formed on the magnetic fine wires 10e and 10f, and the magnetic fine wires 10c and 10d are formed on the upper surface 41b of the insulating layer 40b so as to be parallel to each other. In this example, the upper surface 41b of the insulating layer 40b is a surface on which the magnetic fine wires 10c and 10d are arranged.
The insulating layer 40c is formed on the magnetic thin wires 10c and 10d, and the magnetic thin wires 10a and 10b are formed on the upper surface 41c of the insulating layer 40c so as to be parallel to each other. In this example, the upper surface 41c of the insulating layer 40c is the surface on which the magnetic wires 10a and 10b are arranged.
That is, the domain wall motion type device 1C has a structure in which a plurality of arrangement surfaces of the magnetic thin wires 10 are laminated on the side of the conductor wiring 20C.

磁壁移動型デバイス1Cのデータ記録方法は、磁壁移動型デバイス1のデータ記録方法と同様に、第1磁区形成工程と、第1磁壁駆動工程と、第2磁区形成工程と、第2磁壁駆動工程と、を所定の順序にしたがって終了条件を満たすまで繰り返し行う。例えば、第1磁区形成工程では、図6に示すように、導体配線20Cに第1方向の電流(電流A)を流すことで発生する磁場Aにより各磁性細線10a〜10fのそれぞれの導入領域11に第1磁化方向(下向き)の磁区を形成する。他の工程も、磁壁移動型デバイス1のデータ記録方法と同様である(図3および図4参照)。よって、これ以上の説明を省略する。
本実施形態によれば、第1実施形態に比べて、一度にデータを書き込むことができる磁性細線の本数を数倍に増加させることが可能である。なお、磁性細線10の配置面の積層数は3層に限らず、数十層でも構わない。
The data recording method of the domain wall displacement type device 1C is, similarly to the data recording method of the domain wall displacement type device 1, a first magnetic domain forming step, a first domain wall driving step, a second magnetic domain forming step, and a second domain wall driving step. Are repeated according to a predetermined order until the end condition is satisfied. For example, in the first magnetic domain forming step, as shown in FIG. 6, a magnetic field A generated by applying a current (current A) in the first direction to the conductor wiring 20C causes the introduction region 11 of each of the magnetic fine wires 10a to 10f to be formed. Then, a magnetic domain in the first magnetization direction (downward) is formed. Other steps are the same as the data recording method of the domain wall motion type device 1 (see FIGS. 3 and 4). Therefore, further description is omitted.
According to the present embodiment, it is possible to increase the number of magnetic thin wires to which data can be written at once several times as compared with the first embodiment. Note that the number of layers on which the magnetic fine wires 10 are arranged is not limited to three layers, and may be several tens of layers.

前記実施形態に係る磁壁移動型デバイス1,1B,1Cは、複数の磁性細線10と導体配線20(20C)との間に絶縁層30(30C)を備える形態で説明したが、本発明は、前記した実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、平板状の絶縁層30(30C)を有する代わりに、導体配線20(20C)に絶縁被膜を設けることもできる。   Although the domain wall motion devices 1, 1B, and 1C according to the embodiment have been described in the form in which the insulating layer 30 (30C) is provided between the plurality of magnetic thin wires 10 and the conductor wiring 20 (20C), the present invention provides: The present invention is not limited to the embodiment described above, and various modifications are possible. For example, instead of having the flat insulating layer 30 (30C), an insulating coating can be provided on the conductor wiring 20 (20C).

[磁壁移動型デバイスの適用例]
(磁性細線メモリ)
磁壁移動型デバイス1は、例えば磁性細線メモリに適用することができる。図7に示す記録再生装置100は、図示しない基板上に設けられた磁性細線メモリ110と、パルス電流源120と、を備え、磁性細線メモリ110への情報の記録処理や磁性細線メモリ110から情報を読み出す再生処理を行う。磁性細線メモリ110は、データの記録トラックとしての複数の磁性細線10と、導体配線20と、再生用の磁気ヘッド(再生ヘッド)50と、を備えている。ここで、複数の磁性細線10と、導体配線20と、によって磁壁移動型デバイス1が構成されている。なお、図7では、絶縁層30を省略している。
[Application example of domain wall displacement type device]
(Magnetic wire memory)
The domain wall motion type device 1 can be applied to, for example, a magnetic wire memory. The recording / reproducing apparatus 100 shown in FIG. 7 includes a magnetic wire memory 110 provided on a substrate (not shown) and a pulse current source 120, and performs a process of recording information on the magnetic wire memory 110 and information from the magnetic wire memory 110. To perform a reproduction process for reading out. The magnetic wire memory 110 includes a plurality of magnetic wires 10 as data recording tracks, a conductor wiring 20, and a magnetic head (reproducing head) 50 for reproduction. Here, the domain wall motion type device 1 is constituted by the plurality of magnetic thin wires 10 and the conductor wiring 20. In FIG. 7, the insulating layer 30 is omitted.

磁性細線メモリ110は、不図示の基板上に複数の磁性細線10を備えている。ここで、磁性細線10は、予め例えばランダム磁化にしておく。また、隣接する磁性細線10は、互いに不図示の絶縁層を挟み、微小距離だけ離間して配設されている。各磁性細線10は、導体配線20とは反対側に所定距離だけ離れた所定位置に再生ヘッド50を有している。再生ヘッド50は、直下の磁区から生じた漏えい磁束の方向を検出し、磁化の向きに対応した信号を出力する。   The magnetic wire memory 110 includes a plurality of magnetic wires 10 on a substrate (not shown). Here, the magnetic thin wire 10 is previously made to have, for example, random magnetization. Adjacent magnetic wires 10 are spaced apart from each other by a very small distance with an insulating layer (not shown) therebetween. Each magnetic thin wire 10 has a reproducing head 50 at a predetermined position on a side opposite to the conductor wiring 20 at a predetermined distance. The reproducing head 50 detects the direction of the leakage magnetic flux generated from the magnetic domain immediately below, and outputs a signal corresponding to the direction of the magnetization.

各磁性細線10は、パルス電流源120に接続されている。各磁性細線10には、図7において右から左にパルス電流が流される。パルス電流を流す方向とは逆向き(図7において左から右)に電子が移動する。電子の移動方向と磁区Dの移動方向とは同じ向き(図7において左から右)である。これにより、磁区Dを再生ヘッド50に対向する位置に高速でシフト移動させて読出しを行うように構成されている。なお、磁性細線10の磁性膜を構成する材料によっては、電子の移動方向とは逆方向(電流方向)に磁壁が駆動する場合がある。   Each magnetic wire 10 is connected to a pulse current source 120. A pulse current is applied to each magnetic wire 10 from right to left in FIG. Electrons move in a direction opposite to the direction in which the pulse current flows (from left to right in FIG. 7). The moving direction of the electrons and the moving direction of the magnetic domain D are the same direction (from left to right in FIG. 7). Thus, the magnetic domain D is shifted at a high speed to a position facing the reproducing head 50 to perform reading. Depending on the material of the magnetic film of the magnetic thin wire 10, the domain wall may be driven in the direction opposite to the moving direction of electrons (current direction).

また、図7に示すように、記録再生装置100は、記録系制御部130と、再生系制御部140と、を備える。記録系制御部130は、入力された情報信号を分割し、分割された単位情報を各磁性細線10に記録するために、導体配線20に電流を供給すると共に、パルス電流源120から各磁性細線10へのパルス電流の供給タイミングを制御する。再生系制御部140は、各再生ヘッド50で得られた情報信号を合成して信号を復元し、外部に出力する。   As shown in FIG. 7, the recording / reproducing apparatus 100 includes a recording system control unit 130 and a reproduction system control unit 140. The recording system control unit 130 supplies an electric current to the conductor wiring 20 and divides the input information signal into each magnetic thin wire 10 to record the divided unit information on each magnetic thin wire 10. 10 controls the supply timing of the pulse current to 10. The reproduction system control section 140 restores the signal by synthesizing the information signal obtained by each reproduction head 50, and outputs the signal to the outside.

記録再生装置100が、磁性細線メモリ110へデータを記録する手順は、図3および図4を参照して説明した記録手順と同様なので、ここでは説明を省略する。
なお、記録再生装置100は、再生系制御部140を除く構成の記録装置101を備えている。すなわち、記録装置101は、磁性細線メモリ110と、パルス電流源120と、記録系制御部130と、を備え、磁性細線メモリ110への情報の記録処理を行うことができる。
The procedure in which the recording / reproducing apparatus 100 records data in the magnetic wire memory 110 is the same as the recording procedure described with reference to FIGS. 3 and 4, and a description thereof will be omitted.
The recording / reproducing apparatus 100 includes the recording apparatus 101 having a configuration excluding the reproducing system control unit 140. That is, the recording device 101 includes the magnetic thin wire memory 110, the pulse current source 120, and the recording system control unit 130, and can perform a process of recording information on the magnetic thin wire memory 110.

記録再生装置100が、磁性細線メモリ110に記録されている情報を再生するには、磁性細線10に連続的にパルス電流を印加して、記録された磁区列を再生ヘッド50の直下まで移動させる。これにより、再生ヘッド50は直下の磁区から生じた漏えい磁束の方向を検出し、磁化の向きに対応した信号を出力する。以後は、同様にビットシフト(磁壁駆動)および再生ヘッド50による磁区の検出を繰り返すことにより、元の2値情報を再生する。このような磁性細線10を複数用意し、それらを同期させて駆動することで、磁性細線メモリ110は高速記録を実現する。   In order for the recording / reproducing apparatus 100 to reproduce information recorded in the magnetic wire memory 110, a pulse current is continuously applied to the magnetic wire 10 to move the recorded magnetic domain sequence to just below the reproducing head 50. . As a result, the reproducing head 50 detects the direction of the leakage magnetic flux generated from the magnetic domain immediately below, and outputs a signal corresponding to the direction of the magnetization. Thereafter, the original binary information is reproduced by repeating the bit shift (domain wall drive) and the detection of the magnetic domain by the reproducing head 50 in the same manner. By preparing a plurality of such magnetic thin wires 10 and driving them in synchronization, the magnetic thin wire memory 110 realizes high-speed recording.

(空間光変調器)
磁壁移動型デバイス1は、例えば空間光変調器に適用することができる。図8は、磁壁移動型デバイス1を用いた空間光変調器200の構成を示す説明図である。この空間光変調器200は、不図示の基板上に導体配線20と、絶縁層30と、複数の磁性細線10と、偏光フィルタ201,202と、を備えている。なお、複数の磁性細線10と、導体配線20と、絶縁層30と、によって磁壁移動型デバイス1が構成されている。
(Spatial light modulator)
The domain wall motion type device 1 can be applied to, for example, a spatial light modulator. FIG. 8 is an explanatory diagram showing a configuration of the spatial light modulator 200 using the domain wall motion type device 1. The spatial light modulator 200 includes a conductor wiring 20, an insulating layer 30, a plurality of magnetic thin wires 10, and polarization filters 201 and 202 on a substrate (not shown). The plurality of magnetic wires 10, the conductor wiring 20, and the insulating layer 30 constitute the domain wall motion device 1.

空間光変調器200では、複数の磁性細線10にデータを記録するために、図7に示す記録装置101と同様の構成の記録装置を用いることができる。不図示の記録装置は、磁壁移動型デバイス1と、パルス電流源120と、記録系制御部130(図7参照)と、を備えている。
各磁性細線10は、パルス電流源120に接続されている。磁性細線10には、図8において右から左にパルス電流が流される。パルス電流を流す方向とは逆向き(図8において左から右)に電子が移動することで、磁壁が電子の移動方向に駆動する。なお、磁性細線10の磁性膜を構成する材料によっては、電子の移動方向とは逆方向(電流方向)に磁壁が駆動する場合がある。
記録系制御部130は、空間光変調器200で所定の明暗像を表示するためのデータを磁性細線10に記録する処理を行う。なお、磁性細線10へデータを記録する手順は、図3および図4を参照して説明した記録手順と同様なので、ここでは説明を省略する。
In the spatial light modulator 200, a recording device having the same configuration as the recording device 101 shown in FIG. 7 can be used to record data on the plurality of magnetic wires 10. The recording device (not shown) includes the domain wall motion device 1, a pulse current source 120, and a recording system control unit 130 (see FIG. 7).
Each magnetic wire 10 is connected to a pulse current source 120. A pulse current is applied to the magnetic wire 10 from right to left in FIG. When the electrons move in the opposite direction (from left to right in FIG. 8) to the direction in which the pulse current flows, the domain wall is driven in the direction in which the electrons move. Depending on the material of the magnetic film of the magnetic thin wire 10, the domain wall may be driven in the direction opposite to the moving direction of electrons (current direction).
The recording system control unit 130 performs a process of recording data for displaying a predetermined bright and dark image on the magnetic thin wire 10 by the spatial light modulator 200. Note that the procedure for recording data on the magnetic thin wire 10 is the same as the recording procedure described with reference to FIGS. 3 and 4, and a description thereof will be omitted.

一例として図8に示すように磁性細線10cに、長さ方向の右から順に、「下向き、下向き、下向き、上向き、上向き」のデータがそれぞれ記録されているものとする。この場合の空間光変調器200の動作は次の通りである。例えばレーザー光源等の光源300から空間光変調器200に照射された光は、様々な偏光成分を含んでいるが偏光フィルタ201を透過して1つの偏光成分の光301となり、磁性細線10cに入射する。磁性細線10cで反射した光のうち、特定の偏光302は、偏光フィルタ202で遮光される。また、磁性細線10cで反射した光のうち他の光303は、偏光フィルタ202を透過する。   As an example, as shown in FIG. 8, it is assumed that data of “downward, downward, downward, upward, upward” is recorded in the magnetic thin wire 10 c in order from the right in the length direction. The operation of the spatial light modulator 200 in this case is as follows. For example, the light emitted from the light source 300 such as a laser light source to the spatial light modulator 200 contains various polarization components, but passes through the polarization filter 201 to become one polarization component light 301 and enters the magnetic thin wire 10c. I do. The specific polarized light 302 of the light reflected by the magnetic thin wire 10 c is shielded by the polarizing filter 202. Further, other light 303 of the light reflected by the magnetic thin wire 10c passes through the polarizing filter 202.

詳細には、磁性細線10cに入射した光301は、磁性細線10cで反射したときに、その偏光の向きが、磁気光学効果により回転する(旋光する)。図8においては、磁性細線10cの上向きの磁化方向を示す領域で反射した光303は、入射光301に比べて+θKだけ旋光する。また、磁性細線10cの下向きの磁化方向を示す領域で反射した光302は、入射光301と比べて−θKだけ旋光する。したがって、空間光変調器200は、明暗像を表示することができる。 Specifically, when the light 301 incident on the magnetic thin wire 10c is reflected by the magnetic thin wire 10c, the direction of the polarization is rotated (rotated) by the magneto-optical effect. In FIG. 8, the light 303 reflected in the region indicating the upward magnetization direction of the magnetic thin wire 10 c rotates by + θ K as compared with the incident light 301. Further, the light 302 reflected in the region indicating the downward magnetization direction of the magnetic thin wire 10 c rotates by −θ K as compared with the incident light 301. Therefore, the spatial light modulator 200 can display a bright and dark image.

1、1B、1C 磁壁移動型デバイス
10、10a〜10f 磁性細線
11 導入領域
12 データ領域
15 導線
20、20C 導体配線
30、30C 絶縁層
31a 下面
31b 上面
40a、40b、40c 絶縁層
41a、41b、41c 上面
50 再生用の磁気ヘッド(再生ヘッド)
100 記録再生装置
101 記録装置
110 磁性細線メモリ
120 パルス電流源
130 記録系制御部
140 再生系制御部
200 空間光変調器
201 偏光フィルタ
202 偏光フィルタ
300 光源
301 入射光
302 偏光
303 反射光
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1B, 1C Domain wall displacement type device 10, 10a-10f Magnetic thin wire 11 Introducing area 12 Data area 15 Conducting wire 20, 20C Conducting wiring 30, 30C Insulating layer 31a Lower surface 31b Upper surface 40a, 40b, 40c Insulating layer 41a, 41b, 41c Top surface 50 Magnetic head for reproduction (reproduction head)
REFERENCE SIGNS LIST 100 recording / reproducing device 101 recording device 110 magnetic thin wire memory 120 pulse current source 130 recording system control unit 140 reproduction system control unit 200 spatial light modulator 201 polarization filter 202 polarization filter 300 light source 301 incident light 302 polarization 303 reflected light

Claims (6)

データを導入する導入領域と前記導入領域に隣接したデータ領域とを長さ方向に有して平行に配置された複数の磁性細線と、前記複数の磁性細線のそれぞれの前記導入領域に直交するように配置された直線状の導体配線と、を備える磁壁移動型デバイスにおいて、前記複数の磁性細線のそれぞれに形成される磁壁を所定の順序にしたがって駆動することで前記磁壁移動型デバイスの前記導入領域に書き込まれた所定の磁化方向のデータを前記データ領域に記録する磁壁移動型デバイスのデータ記録方法であって、
前記導体配線に第1方向の電流を流すことで発生する磁場により前記磁性細線のそれぞれの前記導入領域に第1磁化方向の磁区を形成する第1磁区形成工程と、
前記所定の順序にしたがって前記第1磁化方向のデータを記録する対象の前記磁性細線に対して磁壁を駆動するための電流を流すことで当該磁性細線の前記導入領域に形成されている磁壁を駆動する第1磁壁駆動工程と、
前記導体配線に前記第1方向とは逆方向である第2方向の電流を流すことで発生する磁場により前記磁性細線のそれぞれの前記導入領域に第2磁化方向の磁区を形成する第2磁区形成工程と、
前記所定の順序にしたがって前記第2磁化方向のデータを記録する対象の前記磁性細線に対して磁壁を駆動するための電流を流すことで当該磁性細線の前記導入領域に形成されている磁壁を駆動する第2磁壁駆動工程と、
を前記所定の順序にしたがって終了条件を満たすまで繰り返し行うデータ記録方法。
A plurality of magnetic thin wires arranged in parallel with an introduction area for introducing data and a data area adjacent to the introduction area in the length direction, and orthogonal to the introduction area of each of the plurality of magnetic thin wires. And a linear conductor wiring disposed in the magnetic domain wall moving device, wherein the domain wall formed in each of the plurality of magnetic thin wires is driven in a predetermined order to thereby form the introduction region of the domain wall moving device. A data recording method of a domain wall motion type device for recording data in a predetermined magnetization direction written in the data area,
A first magnetic domain forming step of forming a magnetic domain in a first magnetization direction in each of the introduction regions of the magnetic thin wire by a magnetic field generated by flowing a current in a first direction through the conductor wiring;
A current for driving a domain wall is applied to the magnetic thin wire on which data in the first magnetization direction is to be recorded in accordance with the predetermined order, thereby driving the domain wall formed in the introduction region of the magnetic thin wire. A first domain wall driving step to be performed;
A second magnetic domain formation for forming a magnetic domain in a second magnetization direction in each of the introduction regions of the magnetic fine wire by a magnetic field generated by flowing a current in a second direction opposite to the first direction to the conductor wiring. Process and
A current for driving a magnetic domain wall is applied to the magnetic thin wire on which data in the second magnetization direction is to be recorded in accordance with the predetermined order, thereby driving the magnetic domain wall formed in the introduction region of the magnetic thin wire. A second domain wall driving step of
Is repeatedly performed according to the predetermined order until the end condition is satisfied.
データを導入する導入領域と前記導入領域に隣接したデータ領域とを長さ方向に有して平行に配置された複数の磁性細線と、
前記複数の磁性細線のそれぞれの前記導入領域に直交するように配置され通電によって発生する磁場により前記複数の磁性細線のそれぞれの前記導入領域に磁区を形成する直線状の導体配線と、を備え、
前記磁性細線は、当該磁性細線中に形成される磁壁を駆動するための電流を流す導線に接続される電極を長さ方向の両端部に有し、
複数の前記磁性細線が、前記導体配線の長さ方向に離間しつつ平行に配列されると共に、前記導体配線の厚み方向に離間しつつ平行に配列された磁壁移動型デバイス。
A plurality of magnetic thin wires arranged in parallel with an introduction area for introducing data and a data area adjacent to the introduction area in the length direction,
Linear conductor wiring that is arranged so as to be orthogonal to each of the introduction regions of the plurality of magnetic thin wires and forms a magnetic domain in each of the introduction regions of the plurality of magnetic thin wires by a magnetic field generated by energization,
The magnetic fine wire has electrodes at both ends in the length direction connected to a conductive wire that flows a current for driving a domain wall formed in the magnetic fine wire,
A domain wall displacement type device in which a plurality of the magnetic thin wires are arranged in parallel while being separated in a length direction of the conductor wiring, and are arranged in parallel while being separated in a thickness direction of the conductor wiring.
前記導体配線の厚み方向において前記導体配線を挟んで2つの前記磁性細線が対向して配置されている請求項2に記載の磁壁移動型デバイス。   The domain wall displacement type device according to claim 2, wherein the two magnetic thin wires are arranged to face each other across the conductor wiring in a thickness direction of the conductor wiring. 前記導体配線の幅方向における一方の側において、すべての前記磁性細線が配置されている請求項2に記載の磁壁移動型デバイス。   3. The domain wall displacement type device according to claim 2, wherein all the magnetic thin wires are arranged on one side in the width direction of the conductor wiring. 請求項2から請求項4のいずれか一項に記載の磁壁移動型デバイスにおいて、前記複数の磁性細線のそれぞれに形成される磁壁を所定の順序にしたがって駆動することで前記磁壁移動型デバイスの前記導入領域に書き込まれた磁化方向のデータを前記データ領域に記録する磁壁移動型デバイスのデータ記録方法であって、
前記導体配線に第1方向の電流を流すことで発生する磁場により前記導体配線の長さ方向および厚み方向に配列された前記磁性細線のそれぞれの前記導入領域に第1磁化方向の磁区を形成する第1磁区形成工程と、
前記所定の順序にしたがって前記第1磁化方向のデータを記録する対象の前記磁性細線に対して磁壁を駆動するための電流を流すことで当該磁性細線の前記導入領域に形成されている磁壁を駆動する第1磁壁駆動工程と、
前記導体配線に前記第1方向とは逆方向である第2方向の電流を流すことで発生する磁場により前記導体配線の長さ方向および厚み方向に配列された前記磁性細線のそれぞれの前記導入領域に第2磁化方向の磁区を形成する第2磁区形成工程と、
前記所定の順序にしたがって前記第2磁化方向のデータを記録する対象の前記磁性細線に対して磁壁を駆動するための電流を流すことで当該磁性細線の前記導入領域に形成されている磁壁を駆動する第2磁壁駆動工程と、
を前記所定の順序にしたがって終了条件を満たすまで繰り返し行うデータ記録方法。
The domain wall motion device according to any one of claims 2 to 4, wherein the domain walls formed in each of the plurality of magnetic thin wires are driven in a predetermined order, thereby forming the domain wall motion device. A data recording method of a domain wall motion type device for recording data of a magnetization direction written in an introduction region in the data region,
A magnetic domain in a first magnetization direction is formed in each of the introduction regions of the magnetic thin wires arranged in the length direction and the thickness direction of the conductor wiring by a magnetic field generated by flowing a current in the first direction through the conductor wiring. A first magnetic domain forming step;
A current for driving a domain wall is applied to the magnetic thin wire on which data in the first magnetization direction is to be recorded in accordance with the predetermined order, thereby driving the domain wall formed in the introduction region of the magnetic thin wire. A first domain wall driving step to be performed;
Each of the introduction regions of the magnetic thin wires arranged in the length direction and the thickness direction of the conductor wiring by a magnetic field generated by flowing a current in a second direction opposite to the first direction to the conductor wiring. A second magnetic domain forming step of forming a magnetic domain in the second magnetization direction in
A current for driving a magnetic domain wall is applied to the magnetic thin wire on which data in the second magnetization direction is to be recorded in accordance with the predetermined order, thereby driving the magnetic domain wall formed in the introduction region of the magnetic thin wire. A second domain wall driving step of
Is repeatedly performed according to the predetermined order until the end condition is satisfied.
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の磁壁移動型デバイスと、
前記磁性細線にパルス電流を印加するパルス電流源と、
入力された情報信号を分割し、前記導体配線に前記パルス電流を供給すると共に、前記パルス電流源から前記磁性細線への前記パルス電流の供給タイミングを制御する記録系制御部と、を備え、
前記記録系制御部は、
前記導体配線に第1方向の電流を流すことで発生する磁場により前記磁性細線のそれぞれの前記導入領域に第1磁化方向の磁区を形成する第1磁区形成処理と、
前記所定の順序にしたがって前記第1磁化方向のデータを記録する対象の前記磁性細線に対して磁壁を駆動するための電流を流すことで当該磁性細線の前記導入領域に形成されている磁壁を駆動する第1磁壁駆動処理と、
前記導体配線に前記第1方向とは逆方向である第2方向の電流を流すことで発生する磁場により前記磁性細線のそれぞれの前記導入領域に第2磁化方向の磁区を形成する第2磁区形成処理と、
前記所定の順序にしたがって前記第2磁化方向のデータを記録する対象の前記磁性細線に対して磁壁を駆動するための電流を流すことで当該磁性細線の前記導入領域に形成されている磁壁を駆動する第2磁壁駆動処理と、
を前記所定の順序にしたがって終了条件を満たすまで繰り返し実行する記録装置。
A domain wall displacement type device according to any one of claims 1 to 4,
A pulse current source for applying a pulse current to the magnetic wire,
A recording system control unit that divides the input information signal, supplies the pulse current to the conductor wiring, and controls a timing of supplying the pulse current from the pulse current source to the magnetic wire.
The recording system control unit includes:
A first magnetic domain forming process of forming a magnetic domain in a first magnetization direction in each of the introduction regions of the magnetic thin wire by a magnetic field generated by flowing a current in a first direction through the conductor wiring;
A current for driving a domain wall is applied to the magnetic thin wire on which data in the first magnetization direction is to be recorded in accordance with the predetermined order, thereby driving the domain wall formed in the introduction region of the magnetic thin wire. A first domain wall driving process,
A second magnetic domain formation for forming a magnetic domain in a second magnetization direction in each of the introduction regions of the magnetic fine wire by a magnetic field generated by flowing a current in a second direction opposite to the first direction to the conductor wiring. Processing,
A current for driving a magnetic domain wall is applied to the magnetic thin wire on which data in the second magnetization direction is to be recorded in accordance with the predetermined order, thereby driving the magnetic domain wall formed in the introduction region of the magnetic thin wire. A second domain wall driving process,
A recording device that repeatedly executes the following until the end condition is satisfied in the predetermined order.
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