JP2020026490A - Conductive polymer-containing ink and use therefor - Google Patents

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Abstract

To provide a polythiophene conductive polymer-containing composition (ink) that is improved in the probability of occurrence of dark spots, the durability of elements and the yield in making devices.SOLUTION: The present invention provides a composition containing polythiophene containing a specific structural unit containing SOM group (A), polyacrylic acid water-soluble resin (B), glycol (C), glycol ether (D), and aprotic polar solvent (E). The contents of (A), (B), (C) and (D) are 0.01-1.0 wt.%, 0.1-10 wt.%, and 0.01-30 wt.%, and 0.01-30 wt.%, and the total of (C), (D) and (E) is 60-99 wt.%.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、良好な正孔輸送性と耐久性を両立した導電性高分子膜を作製できる新規な導電性高分子含有インクに関する。   The present invention relates to a novel conductive polymer-containing ink capable of producing a conductive polymer film having both good hole transportability and durability.

ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等に代表されるπ共役系高分子に、電子受容性化合物をドーパントとしてドープした導電性高分子材料が開発され、例えば、帯電防止材、コンデンサの固体電解質、導電性塗料、電磁波シールド、エレクトロクロミック素子、電極材料、正孔注入材料、熱電変換材料、透明導電膜、化学センサ、アクチュエータ等への応用が検討されている。これらの導電性高分子材料の中でも、化学的安定性の面からポリチオフェン系導電性高分子材料が実用上有用である。   Conductive polymer materials have been developed in which a π-conjugated polymer represented by polyacetylene, polythiophene, polyaniline, polypyrrole, etc. is doped with an electron-accepting compound as a dopant, for example, an antistatic material, a solid electrolyte of a capacitor, and a conductive polymer. Applications to paints, electromagnetic wave shields, electrochromic devices, electrode materials, hole injection materials, thermoelectric conversion materials, transparent conductive films, chemical sensors, actuators, etc. are being studied. Among these conductive polymer materials, a polythiophene-based conductive polymer material is practically useful from the viewpoint of chemical stability.

ポリチオフェン系導電性高分子材料としては、(i)ドーパントとなるポリスチレンスルホン酸(PSS)又はパーフルオロエチレンスルホン酸の水溶液中で、3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)を重合させることで得られるPEDOT/PSS、PEDOT/パーフルオロエチレンスルホン酸を含む水性分散液や、(ii)水溶性の付与とドーピング作用を兼ね備えた置換基(スルホ基、スルホネート基等)を直接又はスペーサを介してポリマー主鎖中に有する、いわゆる自己ドープ型導電性高分子(例えば、スルホン化ポリアニリン、PEDOT−S、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−プロパンスルホン酸 ポリマー等)等が知られている(例えば、非特許文献1、2、特許文献1参照)。   The polythiophene-based conductive polymer material is obtained by polymerizing 3,4-ethylenedioxythiophene (EDOT) in an aqueous solution of (i) polystyrenesulfonic acid (PSS) or perfluoroethylenesulfonic acid as a dopant. Aqueous dispersion containing PEDOT / PSS, PEDOT / perfluoroethylene sulfonic acid, or (ii) a polymer having a substituent (sulfo group, sulfonate group, etc.) having both water solubility and doping function directly or via a spacer A so-called self-doping type conductive polymer having in the main chain (for example, sulfonated polyaniline, PEDOT-S, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2) -Yl) methoxy] -1-methyl-1-propanesulfonic acid polymer and the like are known. (E.g., Non-Patent Documents 1 and 2, Patent Document 1).

導電性高分子の用途は、従来の帯電防止剤や固体電解コンデンサの固体電解質への利用のみならず、有機エレクトロルミネセンス素子、有機薄膜太陽電池などの正孔注入層として開発が進められている。   The use of conductive polymers is being developed not only as conventional antistatic agents and solid electrolytes for solid electrolytic capacitors, but also as hole injection layers for organic electroluminescent devices and organic thin-film solar cells. .

正孔注入層は、上記導電性高分子を含有するインクを透明電極上に塗布・乾燥して得られる数十〜百数十nmの有機薄膜であり、適度な導電率(10−3S/cm未満)と平滑性が必要とされる。上記導電性高分子を含有するインクの報告例としては、例えば、PEDOT/PSSの場合、エチレングリコール等の水より高い沸点を有する溶媒を10〜50重量%、典型的には30重量%を含む水性分散液であるインクが報告されている(特許文献2)。又、メタノール、エタノール、1−プロパノール等のアルコール溶剤、2−ブトキシエタノール等のアルコールエーテル溶剤を5〜50重量%を含む水性分散液が報告されている(特許文献3)。更に、PEDOT/パーフルオロエチレンスルホン酸の場合、イソプロパノール等のアルコールを含み、且つHOを少なくとも40重量%含む水性分散液が報告されている(特許文献4)。 The hole injection layer is an organic thin film having a thickness of several tens to one hundred and several tens nm obtained by applying and drying the ink containing the conductive polymer on a transparent electrode, and having an appropriate conductivity (10 −3 S / cm) and smoothness is required. Examples of reports of inks containing the conductive polymer include, for example, in the case of PEDOT / PSS, a solvent having a higher boiling point than water, such as ethylene glycol, containing 10 to 50% by weight, typically 30% by weight. An ink that is an aqueous dispersion has been reported (Patent Document 2). Further, an aqueous dispersion containing 5 to 50% by weight of an alcohol solvent such as methanol, ethanol and 1-propanol and an alcohol ether solvent such as 2-butoxyethanol has been reported (Patent Document 3). Further, in the case of PEDOT / perfluoroethylenesulfonic acid, an aqueous dispersion containing an alcohol such as isopropanol and containing at least 40% by weight of H 2 O has been reported (Patent Document 4).

また、自己ドープ型ポリチオフェン系導電性高分子の正孔注入層の応用例としては、具体的な実施例がないものの、0.001〜10重量%の1価値又は2価値のアルコールを含有してもよい水溶性インクの記載が明細書に書かれている(特許文献5)。   As an application example of the hole injection layer of the self-doping type polythiophene-based conductive polymer, although there is no specific example, it contains 0.001 to 10% by weight of a 1-value or 2-value alcohol. A description of a good water-soluble ink is described in the specification (Patent Document 5).

このように、従来の正孔注入層に供するポリチオフェン系導電性高分子含有インクは、50重量%以上の水を含有している。   As described above, the conventional polythiophene-based conductive polymer-containing ink used for the hole injection layer contains 50% by weight or more of water.

一方で、上記の導電性高分子含有インクを透明電極上に塗布する方法としては、通常、スピンコート法等が頻繁に利用されるが、材料利用効率・大型基板への適用を考慮するとインクジェット法での塗布が望ましい。インクジェット法は、目的の画素上に滴下したインクを画素内に均一に広げ、均一膜厚の薄膜を形成させるものであるが、しばしば、周辺の膜厚が厚くなる(Coffee Strain Effect)、ノズル先端が閉塞する等の問題を生じる。従って、適度なインク粘度(25mPa・s以下)と表面張力(40mN/m以下)を有し、インクジェット法での連続吐出が可能なことが必要であり、現状、満足できるものではない。   On the other hand, as a method of applying the conductive polymer-containing ink on the transparent electrode, a spin coating method or the like is usually frequently used. However, in consideration of material use efficiency and application to a large substrate, an ink jet method is used. Is preferred. The ink jet method uniformly spreads ink dropped on a target pixel in a pixel to form a thin film having a uniform film thickness. However, the peripheral film thickness often becomes large (Coffee Strain Effect). This causes problems such as blockage. Therefore, it is necessary to have an appropriate ink viscosity (25 mPa · s or less) and a surface tension (40 mN / m or less) and to be capable of continuous ejection by an inkjet method, which is not satisfactory at present.

国際公開第2014/007299号パンフレットWO 2014/007299 pamphlet 特許第5235660号公報Japanese Patent No. 5235660 特表2006−520994号公報JP 2006-520994 A 特表2006−500463号公報JP 2006-500463 A 特開2017−222831号公報JP 2017-222831 A

Journal of American Chemical Society,112,2801−2803(1990)Journal of American Chemical Society, 112, 2801-2803 (1990). Advanced Materials,Vol.23(38)4403−4408(2011)Advanced Materials, Vol. 23 (38) 4403-4408 (2011)

上述のように、従来公知のポリチオフェン系導電性高分子(例えばPEDOT:PSS)を含有するインクは、水を50重量%以上含有するものであるが、水は、有機EL等の有機デバイスにおいては劣化因子でもあり、所謂ダークスポット(非発光領域)の発生確率を増大させ、その結果、有機デバイスの耐久性及び製品歩留まりが低下する課題がある。又、従来公知のポリチオフェン系導電性高分子は分散液のためにノズル先端で閉塞しやすい課題がある。このため、水含有量が50%未満であり、インクジェット法でのノズル閉塞の問題がないポリチオフェン系導電性高分子を含有する組成物(インク)が求められている。   As described above, conventionally known inks containing a polythiophene-based conductive polymer (for example, PEDOT: PSS) contain 50% by weight or more of water, but water is used in an organic device such as an organic EL. It is also a deterioration factor and increases the probability of occurrence of so-called dark spots (non-light-emitting regions). As a result, there is a problem that the durability and the product yield of the organic device are reduced. In addition, conventionally known polythiophene-based conductive polymers have a problem that they are easily blocked at the nozzle tip due to the dispersion liquid. Therefore, there is a need for a composition (ink) containing a polythiophene-based conductive polymer having a water content of less than 50% and having no problem of nozzle clogging in an ink jet method.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、後述する導電性高分子含有組成物(インク)が、水含有量50重量%未満でありながら、インクジェット法でのノズル閉塞の課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。   The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above-mentioned problems. As a result, the conductive polymer-containing composition (ink) described below has a water content of less than 50% by weight, and the nozzle blockage by the inkjet method has been suppressed. It has been found that the above problem can be solved, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は以下[1]〜[16]に存する。
[1] 下記式(1)で表される構造単位及び下記式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン(A)、ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)、グリコール(C)、下記一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)、及び非プロトン性極性溶媒(E)を含む組成物であって、(A)、(B)、(C)及び(D)の含有量が、各々、0.005〜1.0重量%、0.1〜10重量%、0.01〜30重量%、及び0.01〜30重量%であり、尚且つ(C)、(D)及び(E)の合計が60〜99重量%であることを特徴とする組成物。
That is, the present invention resides in the following [1] to [16].
[1] Polythiophene (A) containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2), a polyacrylic acid-based water-soluble A composition comprising a resin (B), a glycol (C), a glycol ether (D) represented by the following general formula (3), and an aprotic polar solvent (E), wherein (A) and (B) , (C) and (D) are 0.005 to 1.0% by weight, 0.1 to 10% by weight, 0.01 to 30% by weight, and 0.01 to 30% by weight, respectively. A composition, wherein the total of (C), (D) and (E) is 60 to 99% by weight.

Figure 2020026490
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[式(1)において、Mは、水素イオン、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第4級アンモニウムカチオンを表す。式(1)及び(2)において、Rは、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3〜6の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基、又はフッ素原子を表し、mは1〜10の整数を表し、nは0又は1を表す。] [In the formula (1), M represents a hydrogen ion, an alkali metal ion, a conjugate acid of an amine compound, or a quaternary ammonium cation. In the formulas (1) and (2), R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a substituent. Represents a group or a fluorine atom, m represents an integer of 1 to 10, and n represents 0 or 1. ]

Figure 2020026490
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(式中、Rは、炭素数3〜6の直鎖又は分岐アルキル基を表す。R及びRは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表す。pは1又は2を表す。)
[2] (C)、(D)及び(E)の合計が70〜98重量%であることを特徴とする[1]記載の組成物。
[3] (C)、(D)及び(E)の合計が80〜98重量%であることを特徴とする[1]記載の組成物。
[4] ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)を、ポリチオフェン(A)1重量部に対して、5〜40重量部含有することを特徴とする[1]乃至[3]のいずれか一つに記載の組成物。
[5] グリコール(C)が、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブチレングリコール、2,3−ブタンジオール、及び2−メチル−2,4−ペンタンジオールからなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする[1]乃至[4]のいずれか1つに記載の組成物。
[6] グリコール(C)の含有量が0.1〜15重量%であることを特徴とする[1]乃至[5]のいずれか1つに記載の組成物。
[7] グリコールエーテル(D)が、エチレングリコール モノn−プロピルエーテル、エチレングリコール モノn−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノn−プロピルエーテル、プロピレングリコール モノn−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノn−プロピルエーテル、ジエチレングリコール モノn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール モノn−プロピルエーテル、又はジプロピレングリコール モノn−ブチルエーテルであることを特徴とする[1]乃至[6]のいずれかに記載の組成物。
[8] グリコールエーテル(D)の含有量が0.1〜15重量%であることを特徴とする[1]乃至[7]のいずれか1つに記載の組成物。
[9] 非プロトン性極性溶媒(E)が、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、及びN−エチルピロリドンからなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする[1]乃至[8]のいずれかに記載の組成物。
[10] ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)が、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ(アクリル酸―スチレンスルホン酸)共重合体、又はポリ(メタクリル酸―スチレンスルホン酸)共重合体であることを特徴とする[1]乃至[9]のいずれか1つに記載の組成物。
[11] ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)の重量平均分子量が1千〜50万であることを特徴とする[1]乃至[10]のいずれか1つに記載の組成物。
[12] さらに水を含有することを特徴とする[1]乃至[11]のいずれかに記載の組成物。
[13] 20℃での粘度が20mPa・s以下であり、尚且つ表面張力が20〜40mN/mであることを特徴とする[1]乃至[12]のいずれか1つに記載の組成物。
[14] [1]乃至[13]のいずれかに記載の組成物からなる導電性高分子含有インク。
[15] [1]乃至[13]のいずれかに記載の組成物を塗布した後、乾燥させることを特徴とする膜の製造方法。
[16] [15]に記載の製造方法で得られた膜を含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネセンス素子又は有機光電変換素子のいずれかの有機電子素子。
(Wherein, R 2 represents a straight-chain or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. P represents 1 or 2) .)
[2] The composition according to [1], wherein the total of (C), (D) and (E) is 70 to 98% by weight.
[3] The composition according to [1], wherein the total of (C), (D) and (E) is 80 to 98% by weight.
[4] Any one of [1] to [3], wherein the polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) is contained in an amount of 5 to 40 parts by weight based on 1 part by weight of the polythiophene (A). A composition according to claim 1.
[5] Glycol (C) is a group consisting of ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butylene glycol, 2,3-butanediol, and 2-methyl-2,4-pentanediol. The composition according to any one of [1] to [4], which is at least one member selected from the group consisting of:
[6] The composition according to any one of [1] to [5], wherein the content of the glycol (C) is 0.1 to 15% by weight.
[7] The glycol ether (D) is ethylene glycol mono n-propyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, propylene glycol mono n-propyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, diethylene glycol mono n-propyl ether, diethylene glycol mono n The composition according to any one of [1] to [6], which is -butyl ether, dipropylene glycol mono n-propyl ether, or dipropylene glycol mono n-butyl ether.
[8] The composition according to any one of [1] to [7], wherein the content of the glycol ether (D) is 0.1 to 15% by weight.
[9] The aprotic polar solvent (E) is at least one selected from the group consisting of dimethylformamide, dimethylacetamide, diethylacetamide, N-methylpyrrolidone, and N-ethylpyrrolidone. ] The composition according to any one of [8] to [8].
[10] The polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) is polyacrylic acid, polymethacrylic acid, a poly (acrylic acid-styrenesulfonic acid) copolymer, or a poly (methacrylic acid-styrenesulfonic acid) copolymer. The composition according to any one of [1] to [9], wherein:
[11] The composition according to any one of [1] to [10], wherein the polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) has a weight average molecular weight of 1,000 to 500,000.
[12] The composition according to any one of [1] to [11], further comprising water.
[13] The composition according to any one of [1] to [12], which has a viscosity at 20 ° C. of 20 mPa · s or less and a surface tension of 20 to 40 mN / m. .
[14] An ink containing a conductive polymer, comprising the composition according to any one of [1] to [13].
[15] A method for producing a film, comprising applying the composition according to any one of [1] to [13] and drying the composition.
[16] An organic electronic device of any one of an organic electroluminescence device and an organic photoelectric conversion device, comprising the film obtained by the production method according to [15].

本発明の新規な導電性高分子含有組成物(インク)から作製される導電性高分子膜は、従来公知の導電性高分子含有組成物から作製されるものに比べてデバイス寿命に悪影響を及ぼすインク中の水の含有量が小さいため、高耐久性化及び高性能化という顕著な効果を奏する。   The conductive polymer film prepared from the novel conductive polymer-containing composition (ink) of the present invention has a more adverse effect on the device life than that prepared from a conventionally known conductive polymer-containing composition. Since the content of water in the ink is small, a remarkable effect of high durability and high performance is achieved.

また、本発明の新規な導電性高分子含有組成物(インク)は、適度なインク粘度と表面張力を有するため、大型基板の印刷法としてプロセス上有利なインクジェット法に適したインク特性を有する。   In addition, the novel conductive polymer-containing composition (ink) of the present invention has an appropriate ink viscosity and surface tension, and thus has ink characteristics suitable for an inkjet method which is advantageous in process as a printing method for a large substrate.

本願発明の導電性高分子含有組成物(インク)は、含水率を低く制御することによって、表面張力をより低く調整できるために、PEDOT/PSSを含有する導電性インクに比べて、インクジェット法での塗膜均一性を向上させることができるという効果を奏する。   The conductive polymer-containing composition (ink) of the present invention can be adjusted to have a lower surface tension by controlling the water content to be lower. Therefore, the conductive polymer-containing composition (ink) is produced by an inkjet method as compared with the conductive ink containing PEDOT / PSS. Has the effect of improving the uniformity of the coating film.

本願発明の導電性高分子含有組成物(インク)は、PEDOT/PSSを含有する導電性インクに比べて耐熱性、耐分解性が高く、保存安定性に優れるという効果を奏する。また、このような耐久性に基づいて、本願発明の導電性高分子含有組成物(インク)は、PEDOT/PSSを含有する導電性インクに比べてインクジェットノズル先端での目詰まりを起こしにくいという顕著な効果を奏する。   The conductive polymer-containing composition (ink) of the present invention has effects such as higher heat resistance and decomposition resistance and excellent storage stability as compared to the conductive ink containing PEDOT / PSS. In addition, based on such durability, the conductive polymer-containing composition (ink) of the present invention is remarkably less likely to cause clogging at the tip of the inkjet nozzle than the conductive ink containing PEDOT / PSS. Effect.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明は、下記式(1)で表される構造単位及び下記式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン(A)、ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)、グリコール(C)、下記一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)、及び非プロトン性極性溶媒(E)を含む組成物であって、(A)、(B)、(C)及び(D)の含有量が、各々、0.005〜1.0重量%、0.1〜10重量%、0.01〜30重量%、及び0.01〜30重量%であり、尚且つ(C)、(D)及び(E)の合計が60〜99重量%であることを特徴とする組成物である。   The present invention provides a polythiophene (A) containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2), and a polyacrylic acid-based aqueous solution. A composition comprising an aprotic resin (B), a glycol (C), a glycol ether (D) represented by the following general formula (3), and an aprotic polar solvent (E), wherein (A), (B) ), (C) and (D) are 0.005 to 1.0% by weight, 0.1 to 10% by weight, 0.01 to 30% by weight, and 0.01 to 30% by weight, respectively. Wherein the total of (C), (D) and (E) is 60 to 99% by weight.

Figure 2020026490
Figure 2020026490

[式(1)において、Mは、水素イオン、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第4級アンモニウムカチオンを表す。式(1)及び(2)において、Rは、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3〜6の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基、又はフッ素原子を表し、mは1〜10の整数を表し、nは0又は1を表す。] [In the formula (1), M represents a hydrogen ion, an alkali metal ion, a conjugate acid of an amine compound, or a quaternary ammonium cation. In the formulas (1) and (2), R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a substituent. Represents a group or a fluorine atom, m represents an integer of 1 to 10, and n represents 0 or 1. ]

Figure 2020026490
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(式中、Rは、炭素数3〜6の直鎖又は分岐アルキル基を表す。R及びRは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表す。pは1又は2を表す。)
上記式(1)において、Mは、水素イオン、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第4級アンモニウムカチオンを表す。
(Wherein, R 2 represents a straight-chain or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. P represents 1 or 2) .)
In the above formula (1), M represents a hydrogen ion, an alkali metal ion, a conjugate acid of an amine compound, or a quaternary ammonium cation.

前記のアルカリ金属イオンとしては、特に限定するものではないが、例えば、Liイオン、Naイオン、Kイオン、Rbイオン、又はCsイオンが挙げられるが、これらのうち、Liイオン、Naイオン、又はKイオンが実用上好ましい。   Although it does not specifically limit as said alkali metal ion, For example, Li ion, Na ion, K ion, Rb ion, or Cs ion is mentioned, Among these, Li ion, Na ion, or K ion Ions are practically preferred.

前記のアミン化合物の共役酸としては、アミン化合物にヒドロン(H+)が付加してカチオン種になったものを示す。当該アミン化合物としては、スルホン酸基と反応して共役酸を形成するアミン化合物であればよく、特に限定するものではないが、例えば、sp3混成軌道を有するN(Rで表されるアミン化合物[共役酸としては[NH(Rで表される。]、又はsp2混成軌道を有するアミン化合物(例えば、ピリジン類化合物、イミダゾール類化合物)等が挙げられる。 As the conjugate acid of the above-mentioned amine compound, a conjugate acid obtained by adding hydron (H +) to the amine compound is shown. The amine compound is not particularly limited as long as it is an amine compound which reacts with a sulfonic acid group to form a conjugate acid, and is not particularly limited. For example, the amine compound is represented by N (R 5 ) 3 having an sp3 hybrid orbital. An amine compound [a conjugate acid is represented by [NH (R 5 ) 3 ] + . Or an amine compound having an sp2 hybrid orbital (for example, a pyridine compound or an imidazole compound).

上記の置換基Rは、特に限定するものではないが、各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基、又は置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基を表す。 The substituent R 5 is not particularly limited, but each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a substituent. Represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

上記の炭素数3〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、シクロペンチル基、n−へキシル基、2−エチルブチル基、又はシクロヘキシル基等が挙げられる。   The straight-chain or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms is not particularly limited, and examples thereof include an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, and a sec-butyl group. Tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, 2-ethylbutyl group, and cyclohexyl group.

上記の置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、置換基を有するメチル基、置換基を有するエチル基、置換基を有する炭素数3〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられ、当該置換基を有する炭素数3〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、置換基を有するn−プロピル基、置換基を有するイソプロピル基、置換基を有するn−ブチル基、置換基を有するイソブチル基、置換基を有するsec−ブチル基、置換基を有するtert−ブチル基、置換基を有するn−ペンチル基、置換基を有するイソペンチル基、置換基を有するネオペンチル基、置換基を有するtert−ペンチル基、置換基を有するシクロペンチル基、置換基を有するn−へキシル基、置換基を有する2−エチルブチル基、又は置換基を有するシクロヘキシル基等が挙げられる。   The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a substituent is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group having a substituent, an ethyl group having a substituent, and a 3 to 6 carbon atoms having a substituent. Linear or branched alkyl group of 3 to 6 carbon atoms having the substituent is not particularly limited, for example, the substituent N-propyl group having, isopropyl group having a substituent, n-butyl group having a substituent, isobutyl group having a substituent, sec-butyl group having a substituent, tert-butyl group having a substituent, N-pentyl group having a substituent, isopentyl group having a substituent, neopentyl group having a substituent, tert-pentyl group having a substituent, cyclopentyl group having a substituent, having a substituent - hexyl, 2-ethylbutyl group having a substituent group, or a cyclohexyl group having a substituent.

また、上記の置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基における置換基としては、特に限定するものではないが、例えば、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、アミノ基、及びヒドロキシ基からなる群より選ばれる基が挙げられ、当該置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基としては、特に限定するものではないが、具体的には、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、又は2−ヒドロキシプロピル基等が例示される。   The substituent in the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having the above substituent is not particularly limited, and examples thereof include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom) and an amino group. Group, and a group selected from the group consisting of a hydroxy group. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having the substituent include, but are not particularly limited to, a trifluoromethyl group, Examples thereof include a 2-hydroxyethyl group and a 2-hydroxypropyl group.

これらのうち、置換基Rとしては、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、又は2−ヒドロキシエチル基が好ましい。 Among these, the substituent R 5, independently, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a 2-hydroxyethyl group is preferred.

上記のアミン化合物の共役酸を形成するN(Rで表されるアミン化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ノルマル−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ノルマルブチルアミン、ターシャリーブチルアミン、ヘキシルアミン、エタノールアミン化合物(例えば、アミノエタノール、ジメチルアミノエタノール、メチルアミノエタノール、ジエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン)、3−アミノ−1,2−プロパンジオール、3−メチルアミノ−1,2−プロパンジオール、3−ジメチルアミノ−1,2−プロパンジオール、又は1,4−ブタンジアミン等が挙げられる。 The amine compound represented by N (R 5 ) 3 that forms the conjugate acid of the above amine compound is not particularly limited, and examples thereof include ammonia, methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, and triethylamine. , Normal-propylamine, isopropylamine, normal butylamine, tertiary butylamine, hexylamine, ethanolamine compounds (eg, aminoethanol, dimethylaminoethanol, methylaminoethanol, diethanolamine, N-methyldiethanolamine, triethanolamine), 3- Amino-1,2-propanediol, 3-methylamino-1,2-propanediol, 3-dimethylamino-1,2-propanediol, 1,4-butanediamine, and the like And the like.

また、上記のアミン化合物の共役酸を形成するsp2混成軌道を有するアミン化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、イミダゾール化合物(例えば、イミダゾール、N−メチルイミダゾール、又は1、2−ジメチルイミダゾール等)、ピリジン、ピコリン、又はルチジン等が挙げられる。   The amine compound having a sp2 hybrid orbital that forms a conjugate acid of the above amine compound is not particularly limited. For example, an imidazole compound (for example, imidazole, N-methylimidazole, or 1,2-dimethyl) Imidazole, etc.), pyridine, picoline, lutidine and the like.

これらのうち、アミン化合物の共役酸に用いるアミン化合物としては、好ましくは、アンモニア、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、又はイミダゾールである。   Of these, the amine compound used for the conjugate acid of the amine compound is preferably ammonia, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, or imidazole.

すなわち、アミン化合物の共役酸としては、導電性に優れる点で、アンモニウム、モノエタノールアミンの共役酸、ジエタノールアミンの共役酸、トリエタノールアミンの共役酸、又はイミダゾールの共役酸が好ましい。   That is, as the conjugate acid of the amine compound, ammonium, a conjugate acid of monoethanolamine, a conjugate acid of diethanolamine, a conjugate acid of triethanolamine, or a conjugate acid of imidazole is preferable in terms of excellent conductivity.

上記の第4級アンモニウムカチオンとしては、特に限定するものではないが、例えば、テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオン、テトラノルマルプロピルアンモニウムカチオン、テトラノルマルブチルアンモニウムカチオン、又はテトラノルマルヘキシルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。これらのうち、入手の観点から、好ましくは、テトラメチルアンモニウムカチオン、又はテトラエチルアンモニウムカチオンである。   Although it does not specifically limit as said quaternary ammonium cation, For example, a tetramethyl ammonium cation, a tetraethyl ammonium cation, a tetra normal propyl ammonium cation, a tetra normal butyl ammonium cation, or a tetra normal hexyl ammonium cation is mentioned. Can be Of these, from the viewpoint of availability, a tetramethylammonium cation or a tetraethylammonium cation is preferred.

上記式(1)及び式(2)中、Rは、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3〜6の直鎖状若しくは分岐状アルキル基、置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基、又はフッ素原子を表す。 In the formulas (1) and (2), R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a C 1 to C 6 group having a substituent. Represents an alkyl group or a fluorine atom.

上記の炭素数3〜6の直鎖状若しくは分岐状アルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、シクロペンチル基、n−へキシル基、2−エチルブチル基、又はシクロヘキシル基等が挙げられる。   The straight-chain or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms is not particularly limited. For example, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, Examples include a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a tert-pentyl group, a cyclopentyl group, an n-hexyl group, a 2-ethylbutyl group, and a cyclohexyl group.

上記の置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基については、特に限定するものではないが、例えば、置換基を有するメチル基、置換基を有するエチル基、置換基を有する炭素数3〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられ、当該置換基を有する炭素数3〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、置換基を有するn−プロピル基、置換基を有するイソプロピル基、置換基を有するn−ブチル基、置換基を有するイソブチル基、置換基を有するsec−ブチル基、置換基を有するtert−ブチル基、置換基を有するn−ペンチル基、置換基を有するイソペンチル基、置換基を有するネオペンチル基、置換基を有するtert−ペンチル基、置換基を有するシクロペンチル基、置換基を有するn−へキシル基、置換基を有する2−エチルブチル基、又は置換基を有するシクロヘキシル基等が挙げられる。   The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a substituent is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group having a substituent, an ethyl group having a substituent, and a carbon atom having 3 to 6 carbon atoms having a substituent. Linear or branched alkyl group of 3 to 6 carbon atoms having the substituent is not particularly limited, for example, the substituent N-propyl group having, isopropyl group having a substituent, n-butyl group having a substituent, isobutyl group having a substituent, sec-butyl group having a substituent, tert-butyl group having a substituent, N-pentyl group having a substituent, isopentyl group having a substituent, neopentyl group having a substituent, tert-pentyl group having a substituent, cyclopentyl group having a substituent, having a substituent n- hexyl, 2-ethylbutyl group having a substituent group, or a cyclohexyl group having a substituent.

また、上記の置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基における置換基としては、特に限定するものではないが、例えば、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、アミノ基、及びヒドロキシ基からなる群より選ばれる基が挙げられ、当該置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基としては、特に限定するものではないが、具体的には、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、又は2−ヒドロキシプロピル基等が例示される。   The substituent in the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having the above substituent is not particularly limited, and examples thereof include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom) and an amino group. Group, and a group selected from the group consisting of a hydroxy group. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having the substituent include, but are not particularly limited to, a trifluoromethyl group, Examples thereof include a 2-hydroxyethyl group and a 2-hydroxypropyl group.

上記の式(1)及び式(2)のRについては、成膜性の点で、水素原子、メチル基、エチル基、又はフッ素原子であることが好ましい。 R 1 in the above formulas (1) and (2) is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a fluorine atom from the viewpoint of film formability.

上記の式(1)及び式(2)中、mは、1〜10の整数を表し、好ましくは、1〜4の整数であり、より好ましくは2である。   In the above formulas (1) and (2), m represents an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 4, and more preferably 2.

上記の式(1)及び式(2)中、nは、0又は1を表し、好ましくは、1である。   In the above formulas (1) and (2), n represents 0 or 1, and is preferably 1.

上記の式(2)で表される構造単位は、上記の式(1)で表される構造単位のドーピング状態を表す。   The structural unit represented by the above formula (2) represents the doping state of the structural unit represented by the above formula (1).

ドーピングにより絶縁体−金属転移を引き起こすドーパントは、アクセプタとドナーに分けられる。前者は、ドーピングにより導電性ポリマーの高分子鎖の近くに入り主鎖の共役系からπ電子を奪う。結果として、主鎖上に正電荷(正孔、ホール)が注入されるため、p型ドーパントとも呼ばれる。また、後者は、逆に主鎖の共役系に電子を与えることになり、この電子が主鎖の共役系を動くことになるため、n型ドーパントとも呼ばれる。   Dopants that cause an insulator-metal transition by doping are divided into acceptors and donors. The former enters near the polymer chain of the conductive polymer by doping and removes π electrons from the conjugate system of the main chain. As a result, positive charges (holes, holes) are injected on the main chain, and thus are also called p-type dopants. In the latter, on the other hand, electrons are given to the conjugate system of the main chain, and the electrons move in the conjugate system of the main chain.

本発明におけるドーパントは、ポリマー分子主鎖に共有結合で結びついたスルホ基又はスルホナート基であり、p型ドーパントである。このように外部からドーパントを添加することなく導電性を発現するポリマーは自己ドープ型導電性高分子と呼ばれている。   The dopant in the present invention is a sulfo group or a sulfonate group covalently bonded to the polymer main chain, and is a p-type dopant. Such a polymer exhibiting conductivity without adding a dopant from the outside is called a self-doping type conductive polymer.

本発明のポリチオフェン(A)は、下記式(4)で表されるチオフェンモノマーを、水又はアルコール溶媒中、酸化剤の存在下に重合させることで製造することができる。   The polythiophene (A) of the present invention can be produced by polymerizing a thiophene monomer represented by the following formula (4) in water or an alcohol solvent in the presence of an oxidizing agent.

Figure 2020026490
Figure 2020026490

[上記式(4)中、R、m、及びnは、上記式(1)及び(2)におけるR、m、及びnと同じ定義である。Mは、金属イオンを表わす。]
式(4)におけるMで表される金属イオンとしては、特に限定するものではないが、遷移金属イオン、貴金属イオン、非鉄金属イオン、アルカリ金属イオン(例えば、Liイオン、Naイオン、及びKイオン)、アルカリ土類金属イオン等が挙げられる。
In [the formula (4), R 1, m, and n are the same definition as R 1, m, and n in the formula (1) and (2). M represents a metal ion. ]
The metal ion represented by M in the formula (4) is not particularly limited, but may be a transition metal ion, a noble metal ion, a non-ferrous metal ion, or an alkali metal ion (eg, Li ion, Na ion, and K ion). And alkaline earth metal ions.

上記式(4)で表されるチオフェンモノマーを重合して得られるポリチオフェン(A)は金属塩となる。当該金属塩については、必要に応じて、酸で処理することでMを水素イオンへ変換可能であり、さらにこれ(水素イオン変換物)をアミン化合物で処理することで、Mがアミン化合物の共役酸であるポリチオフェン(A)が得られる。   Polythiophene (A) obtained by polymerizing the thiophene monomer represented by the above formula (4) becomes a metal salt. With regard to the metal salt, if necessary, M can be converted to a hydrogen ion by treating with an acid, and by treating this (hydrogen ion conversion product) with an amine compound, M can be conjugated with the amine compound. Polythiophene (A) which is an acid is obtained.

上記式(4)で表されるチオフェンモノマーとしては、具体的には、6−(2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イル)ヘキサン−1−スルホン酸、6−(2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イル)ヘキサン−1−スルホン酸ナトリウム、6−(2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イル)ヘキサン−1−スルホン酸リチウム、6−(2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イル)ヘキサン−1−スルホン酸カリウム、8−(2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イル)オクタン−1−スルホン酸、8−(2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イル)オクタン−1−スルホン酸ナトリウム、及び8−(2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イル)オクタン−1−スルホン酸カリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−プロパンスルホン酸カリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−エチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−プロピル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−ブチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−ペンチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−ヘキシル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−イソプロピル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−イソブチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−イソペンチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−フルオロ−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−プロパンスルホン酸カリウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−プロパンスルホン酸、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−プロパンスルホン酸アンモニウム、3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−プロパンスルホン酸トリエチルアンモニウム、4−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−ブタンスルホン酸ナトリウム、4−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−ブタンスルホン酸カリウム、4−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−ブタンスルホン酸ナトリウム、4−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−ブタンスルホン酸カリウム、4−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−フルオロ−1−ブタンスルホン酸ナトリウム、又は4−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−フルオロ−1−ブタンスルホン酸カリウム等が例示される。   As the thiophene monomer represented by the above formula (4), specifically, 6- (2,3-dihydro-thieno [3,4-b] [1,4] dioxin-2-yl) hexane-1 -Sulfonic acid, sodium 6- (2,3-dihydro-thieno [3,4-b] [1,4] dioxin-2-yl) hexane-1-sulfonate, 6- (2,3-dihydro-thieno Lithium [3,4-b] [1,4] dioxin-2-yl) hexane-1-sulfonate, 6- (2,3-dihydro-thieno [3,4-b] [1,4] dioxin- 2- (yl) hexane-1-sulfonic acid potassium, 8- (2,3-dihydro-thieno [3,4-b] [1,4] dioxin-2-yl) octane-1-sulfonic acid, 8- ( 2,3-dihydro-thieno [3,4-b] [1,4] dioxin-2 Yl) sodium octane-1-sulfonate, and potassium 8- (2,3-dihydro-thieno [3,4-b] [1,4] dioxin-2-yl) octane-1-sulfonate, 3- [ Sodium (2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-propanesulfonate, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b] ]-[1,4] Dioxin-2-yl) methoxy] -1-propanesulfonic acid potassium salt, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) ) Methoxy] -1-methyl-1-propanesulfonic acid sodium salt, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-ethyl- 1-propanesulfonic acid sodium Lithium, sodium 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-propyl-1-propanesulfonate, 3-[(2 Sodium 3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-butyl-1-propanesulfonate, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4- b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-pentyl-1-propanesulfonic acid sodium salt, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] Dioxin-2-yl) methoxy] sodium 1-hexyl-1-propanesulfonate, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-isopropyl- Sodium 1-propanesulfonate, sodium 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-isobutyl-1-propanesulfonate, 3 -[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-isopentyl-1-propanesulfonate, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-fluoro-1-propanesulfonic acid sodium salt, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]- Potassium [1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-methyl-1-propanesulfonate, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2 -Ill) Toxy] -1-methyl-1-propanesulfonic acid, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-methyl-1- Ammonium propanesulfonate, triethylammonium 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-methyl-1-propanesulfonate, 4- Sodium [(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-butanesulfonate, 4-[(2,3-dihydrothieno [3,4- b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-butanesulfonate, 4-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2- Yl) methoxy]- -Methyl-1-butanesulfonic acid sodium salt, 4-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-methyl-1-butanesulfonic acid Potassium, sodium 4-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-fluoro-1-butanesulfonate, or 4-[(2 And potassium 3-, 3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-fluoro-1-butanesulfonate.

一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)において、Rは、炭素数3〜6の直鎖又は分岐アルキル基を表す。R及びRは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表す。 In the glycol ether represented by the general formula (3) (D), R 2 represents a linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.

前記Rにおける炭素数3〜6の直鎖又は分岐アルキル基については、特に限定するものではないが、例えば、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、シクロペンチル基、n−へキシル基、2−エチルブチル基、又はシクロヘキシル基等が挙げられる。 Wherein the linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms in R 2, is not particularly limited, for example, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, isobutyl group, sec- butyl group, Examples include a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a tert-pentyl group, a cyclopentyl group, an n-hexyl group, a 2-ethylbutyl group, and a cyclohexyl group.

については、ポリチオフェン(A)及びポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)の溶解性・分散性に優れる点で、炭素数3又は4の直鎖又は分岐のアルキル基であることが好ましく、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、又はtert−ブチル基であることがより好ましい。 R 2 is preferably a linear or branched alkyl group having 3 or 4 carbon atoms from the viewpoint of excellent solubility and dispersibility of the polythiophene (A) and the polyacrylic acid-based water-soluble resin (B). More preferably, they are an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group.

及びRについては、ポリチオフェン(A)及びポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)の溶解性・分散性に優れる点で、両方が水素原子であるか又は一方がメチル基で他方が水素原子であることが好ましい。 R 3 and R 4 are both hydrogen atoms or one is a methyl group and the other is a hydrogen atom, because the polythiophene (A) and the polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) are excellent in solubility and dispersibility. It is preferably an atom.

一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)において、pは、1又は2を表すが、成膜性の点で、pは1であることが好ましい。   In the glycol ether (D) represented by the general formula (3), p represents 1 or 2, and it is preferable that p is 1 from the viewpoint of film formability.

一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)としては、特に限定するものではないが、例えば、エチレングリコール モノアルキルエーテル、ジエチレングリコール モノアルキルエーテル、プロピレングリコール モノアルキルエーテル、又はジプロピレングリコール モノアルキルエーテルが挙げられる。   The glycol ether (D) represented by the general formula (3) is not particularly limited. For example, ethylene glycol monoalkyl ether, diethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, or dipropylene glycol monoalkyl Ethers.

前記のエチレングリコール モノアルキルエーテルとしては、特に限定するものではないが、例えば、エチレングリコール モノメチルエーテル、エチレングリコール モノエチルエーテル、エチレングリコール モノn−プロピルエーテル、エチレングリコール モノiso−プロピルエーテル、エチレングリコール モノn−ブチルエーテル、エチレングリコール モノiso−ブチルエーテル、エチレングリコール モノsec−ブチルエーテル、エチレングリコール モノtert−ブチルエーテル、エチレングリコール モノn−ペンチルエーテル、エチレングリコール モノiso−ペンチルエーテル、エチレングリコール モノneo−ペンチルエーテル、エチレングリコール モノtert−ペンチルエーテル、エチレングリコール モノn−ヘキシルエーテル、又はエチレングリコール モノiso−ヘキシルエーテル等が挙げられる。   Examples of the ethylene glycol monoalkyl ether include, but are not particularly limited to, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-propyl ether, ethylene glycol mono iso-propyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether. n-butyl ether, ethylene glycol mono iso-butyl ether, ethylene glycol mono sec-butyl ether, ethylene glycol mono tert-butyl ether, ethylene glycol mono n-pentyl ether, ethylene glycol mono iso-pentyl ether, ethylene glycol mono neo-pentyl ether, ethylene Glycol mono-tert-pentyl ether, ethylene glycol Mono-n-hexyl ether or ethylene glycol mono-iso-hexyl ether is exemplified.

前記のジエチレングリコール モノアルキルエーテルとしては、特に限定するものではないが、例えば、ジエチレングリコール モノメチルエーテル、ジエチレングリコール モノエチルエーテル、ジエチレングリコール モノn−プロピルエーテル、ジエチレングリコール モノiso−プロピルエーテル、ジエチレングリコール モノn−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノiso−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノsec−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノtert−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノn−ペンチルエーテル、ジエチレングリコール モノiso−ペンチルエーテル、ジエチレングリコール モノneo−ペンチルエーテル、ジエチレングリコール モノtert−ペンチルエーテル、ジエチレングリコール モノn−ヘキシルエーテル、又はジエチレングリコール モノiso−ヘキシルエーテル等が挙げられる。   The diethylene glycol monoalkyl ether is not particularly limited. For example, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono n-propyl ether, diethylene glycol mono iso-propyl ether, diethylene glycol mono n-butyl ether, diethylene glycol mono iso-butyl ether, diethylene glycol mono sec-butyl ether, diethylene glycol mono tert-butyl ether, diethylene glycol mono n-pentyl ether, diethylene glycol mono iso-pentyl ether, diethylene glycol mono neo-pentyl ether, diethylene glycol mono tert-pentyl ether Ether, diethylene glycol mono-n- hexyl ether, or diethylene glycol iso- hexyl ether.

前記のプロピレングリコール モノアルキルエーテルとしては、特に限定するものではないが、例えば、プロピレングリコール モノメチルエーテル、プロピレングリコール モノエチルエーテル、プロピレングリコール モノn−プロピルエーテル、プロピレングリコール モノiso−プロピルエーテル、プロピレングリコール モノn−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノiso−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノsec−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノtert−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノn−ペンチルエーテル、プロピレングリコール モノiso−ペンチルエーテル、プロピレングリコール モノneo−ペンチルエーテル、プロピレングリコール モノtert−ペンチルエーテル、プロピレングリコール モノn−ヘキシルエーテル、又はプロピレングリコール モノiso−ヘキシルエーテル等が挙げられる。   The propylene glycol monoalkyl ether is not particularly limited, but includes, for example, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono n-propyl ether, propylene glycol monoiso-propyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, propylene glycol mono iso-butyl ether, propylene glycol mono sec-butyl ether, propylene glycol mono tert-butyl ether, propylene glycol mono n-pentyl ether, propylene glycol mono iso-pentyl ether, propylene glycol mono neo-pentyl ether, propylene Glycol mono-tert-pentylue Ether, propylene glycol mono-n- hexyl ether, or propylene glycol monomethyl iso- hexyl ether.

前記のジプロピレングリコール モノアルキルエーテルとしては、特に限定するものではないが、例えば、ジプロピレングリコール モノメチルエーテル、ジプロピレングリコール モノエチルエーテル、ジプロピレングリコール モノn−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール モノiso−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール モノn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール モノiso−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール モノsec−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール モノtert−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール モノn−ペンチルエーテル、ジプロピレングリコール モノiso−ペンチルエーテル、ジプロピレングリコール モノneo−ペンチルエーテル、ジプロピレングリコール モノtert−ペンチルエーテル、ジプロピレングリコール モノn−ヘキシルエーテル、又はジプロピレングリコール モノiso−ヘキシルエーテル等が挙げられる。   The dipropylene glycol monoalkyl ether is not particularly limited. For example, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono n-propyl ether, dipropylene glycol mono iso-propyl Ether, dipropylene glycol mono n-butyl ether, dipropylene glycol mono iso-butyl ether, dipropylene glycol mono sec-butyl ether, dipropylene glycol monotert-butyl ether, dipropylene glycol mono n-pentyl ether, dipropylene glycol mono iso-pentyl Ether, dipropylene glycol mono neo-pentyl ether, dipropylene glycol Mono-tert-pentyl ether, dipropylene glycol mono-n-hexyl ether, dipropylene glycol mono-iso-hexyl ether and the like can be mentioned.

一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)については、本発明の組成物から作製される有機薄膜の平坦性が優れる点で、エチレングリコール モノn−プロピルエーテル、エチレングリコール モノiso−プロピルエーテル、エチレングリコール モノn−ブチルエーテル、エチレングリコール モノiso−ブチルエーテル、エチレングリコール モノsec−ブチルエーテル、エチレングリコール モノtert−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノn−プロピルエーテル、ジエチレングリコール モノiso−プロピルエーテル、ジエチレングリコール モノn−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノiso−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノsec−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノtert−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノn−プロピルエーテル、プロピレングリコール モノiso−プロピルエーテル、プロピレングリコール モノn−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノiso−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノsec−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノtert−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール モノn−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール モノiso−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール モノn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール モノiso−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール モノsec−ブチルエーテル、又はジプロピレングリコール モノtert−ブチルエーテルであることがより好ましく、エチレングリコール モノn−プロピルエーテル、エチレングリコール モノn−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノn−プロピルエーテル、プロピレングリコール モノn−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノn−プロピルエーテル、ジエチレングリコール モノn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール モノn−プロピルエーテル、又はジプロピレングリコール モノn−ブチルエーテルであることがより好ましい。   Regarding the glycol ether (D) represented by the general formula (3), ethylene glycol mono-n-propyl ether and ethylene glycol mono-iso-propyl are preferred in that the organic thin film produced from the composition of the present invention has excellent flatness. Ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, ethylene glycol mono iso-butyl ether, ethylene glycol mono sec-butyl ether, ethylene glycol mono tert-butyl ether, diethylene glycol mono n-propyl ether, diethylene glycol mono iso-propyl ether, diethylene glycol mono n-butyl ether, Diethylene glycol mono iso-butyl ether, diethylene glycol mono sec-butyl ether, diethylene glycol mono tert-butyl ether, propylene glycol mono n-propyl ether, propylene glycol mono iso-propyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, propylene glycol mono iso-butyl ether, propylene glycol mono sec-butyl ether, propylene glycol monotert-butyl ether, dipropylene Glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-iso-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol mono-iso-butyl ether, dipropylene glycol mono-sec-butyl ether, or dipropylene glycol mono-tert-butyl ether More preferably, ethylene glycol Mono n-propyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, propylene glycol mono n-propyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, diethylene glycol mono n-propyl ether, diethylene glycol mono n-butyl ether, dipropylene glycol mono n-propyl More preferably, it is ether or dipropylene glycol mono n-butyl ether.

上記一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)については純品を単独で用いてもよいし、複数のグリコールエーテルを組み合わせて用いても良い。   As for the glycol ether (D) represented by the general formula (3), a pure product may be used alone, or a plurality of glycol ethers may be used in combination.

本発明における一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)の含有量は、0.01〜30重量%であるが、インクジェット法、スピンコート法等の方法により作製される塗布膜の平坦性に優れる点で、0.1〜20重量%であることが好ましく、0.1重量%以上、15重量%以下であることがより好ましい。   The content of the glycol ether (D) represented by the general formula (3) in the present invention is 0.01 to 30% by weight, but the flatness of a coating film produced by a method such as an ink jet method or a spin coating method. In terms of excellent properties, the content is preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.1% by weight or more and 15% by weight or less.

本発明の組成物は、グリコール(C)を含むことを特徴とする。   The composition of the present invention is characterized by containing glycol (C).

当該グリコール(C)としては、特に限定するものではないが、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブチレングリコール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、又は1,2,6−ヘキサントリオール等が挙げられる。   The glycol (C) is not particularly limited. For example, ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butylene glycol, 2,3-butanediol, 1,4-butane Diol, 1,5-pentanediol, 2-butene-1,4-diol, 2-methyl-2,4-pentanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, glycerin, or 1,2,6-hexane Triol and the like.

これらの中でも、本発明の組成物からの乾燥速度が早いという点で、沸点が220℃以下のグリコール(C)が好ましく、具体的には、エチレングリコール(沸点197℃)、プロピレングリコール(沸点188℃)、1,3−プロパンジオール(沸点210℃)、1,3−ブチレングリコール(沸点207℃)、2,3−ブタンジオール(沸点182℃)、又は2−メチル−2,4−ペンタンジオール(沸点197℃)が好ましい。   Among these, glycol (C) having a boiling point of 220 ° C. or less is preferred from the viewpoint that the drying rate from the composition of the present invention is high. Specifically, ethylene glycol (boiling point 197 ° C.) ° C), 1,3-propanediol (boiling point 210 ° C), 1,3-butylene glycol (boiling point 207 ° C), 2,3-butanediol (boiling point 182 ° C), or 2-methyl-2,4-pentanediol (Boiling point 197 ° C.).

本発明の組成物におけるグリコール(C)の含有量は、0.01〜30重量%である。当該グリコール(C)の含有量については、本発明の組成物の成膜時の平滑性、及び粘度が低い点で、0.1〜20重量%であることが好ましく、0.1〜15重量%であることがより好ましい。   The content of the glycol (C) in the composition of the present invention is 0.01 to 30% by weight. The content of the glycol (C) is preferably from 0.1 to 20% by weight, and more preferably from 0.1 to 15% by weight, since the composition of the present invention has low smoothness and low viscosity during film formation. % Is more preferable.

本発明において使用するポリチオフェン(A)については、特に限定するものではないが、その導電率が、フィルム状態での導電率(電気伝導度)として、10S/cm以上を示すものであることが好ましい。   The polythiophene (A) used in the present invention is not particularly limited, but preferably has a conductivity of 10 S / cm or more as a conductivity (electric conductivity) in a film state. .

本発明の組成物におけるポリチオフェン(A)の含有量(組成)は、0.005〜1.0重量%である。当該ポリチオフェン(A)の含有量(組成)については、正孔注入材料として優れた性能を示す点で、0.01重量%〜0.5重量%であることが好ましく、0.02重量%〜0.3重量%であることがより好ましい。   The content (composition) of polythiophene (A) in the composition of the present invention is 0.005 to 1.0% by weight. The content (composition) of the polythiophene (A) is preferably from 0.01% by weight to 0.5% by weight, and more preferably from 0.02% by weight, from the viewpoint of exhibiting excellent performance as a hole injection material. More preferably, it is 0.3% by weight.

本発明の組成物におけるポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)は、特に限定するものではないが、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸等のαβ不飽和カルボン酸化合物の単一重合物、又はこれらの共重合物を挙げることができる。前記の単一重合物としては、特に限定するものではないが、例えば、ポリアクリル酸、又はポリメタクリル酸等が挙げられる。また前記の共重合物としては、少なくとも1種類のαβ不飽和カルボン酸モノマーとコモノマーを用いて共重合させたものを例示することができ、当該コモノマーとしては当該αβ不飽和カルボン酸モノマーと共重合可能なものを用いることができる。当該共重合物としては、特に限定するものではないが、例えば、ポリ(アクリル酸−メタクリル酸)共重合体、ポリ(アクリル酸−ヒドロキシエチルアクリレート)共重合体、ポリ(アクリル酸―マレイン酸)共重合体、ポリ(アクリル酸―ビニルスルホン酸)共重合体、ポリ(アクリル酸−スチレンスルホン酸)共重合体、ポリ(メタクリル酸−スチレンスルホン酸)共重合体、又はポリ(ヒドロキシエチルメタクリレート−スチレンスルホン酸)共重合体等が挙げられる。当該共重合物については、ブロック共重合体であってもよいし、ランダム共重合体であってもよいし、交互重合体であってもよい。   The polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) in the composition of the present invention is not particularly limited, but a homopolymer of an αβ unsaturated carboxylic acid compound such as acrylic acid, methacrylic acid, and maleic acid, or a homopolymer thereof. Can be mentioned. The homopolymer is not particularly limited, and examples thereof include polyacrylic acid and polymethacrylic acid. Examples of the copolymer include those obtained by copolymerizing at least one kind of αβ unsaturated carboxylic acid monomer and a comonomer, and the comonomer may be copolymerized with the αβ unsaturated carboxylic acid monomer. Anything possible can be used. The copolymer is not particularly limited. For example, poly (acrylic acid-methacrylic acid) copolymer, poly (acrylic acid-hydroxyethyl acrylate) copolymer, poly (acrylic acid-maleic acid) Copolymer, poly (acrylic acid-vinyl sulfonic acid) copolymer, poly (acrylic acid-styrene sulfonic acid) copolymer, poly (methacrylic acid-styrene sulfonic acid) copolymer, or poly (hydroxyethyl methacrylate) (Styrene sulfonic acid) copolymer. The copolymer may be a block copolymer, a random copolymer, or an alternating polymer.

前記ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)としては、導電性高分子の耐久性に優れる点で、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ(アクリル酸−スチレンスルホン酸)共重合体、又はポリ(メタクリル酸−スチレンスルホン酸)共重合体であることが好ましい。   As the polyacrylic acid-based water-soluble resin (B), polyacrylic acid, polymethacrylic acid, poly (acrylic acid-styrenesulfonic acid) copolymer, or poly ( Methacrylic acid-styrenesulfonic acid) copolymer is preferred.

本発明のポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)については、特に限定されないが、その分子量が1千〜500万であることが好ましく、1千〜50万であることがより好ましく、1万〜30万であることがより好ましい。   The polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) of the present invention is not particularly limited, but preferably has a molecular weight of 1,000 to 5,000,000, more preferably 1,000 to 500,000, and more preferably 10,000 to 500,000. More preferably, it is 300,000.

本発明の組成物におけるポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)の含有量(組成)は、0.1〜10重量%である。当該ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)の含有量(組成)については、本発明の組成物の粘度を適正に制御しやすい点で、0.3〜5.0重量%であることが好ましく、0.5〜3.0重量%であることがより好ましい。   The content (composition) of the polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) in the composition of the present invention is 0.1 to 10% by weight. The content (composition) of the polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) is preferably 0.3 to 5.0% by weight from the viewpoint that the viscosity of the composition of the present invention can be appropriately controlled. , 0.5 to 3.0% by weight.

なお、本発明の組成物において、ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)とポリチオフェン(A)の重量比については、有機電気素子用正孔注入材として導電性を適切に制御しやすい点で、(B)/(A)で表される重量比(重量/重量)が1〜40を満たすものが好ましく、5〜40を満たすものがより好ましく、15〜40を満たすものがより好ましく、20〜40を満たすものがより好ましい。   In the composition of the present invention, the weight ratio of the polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) to the polythiophene (A) is such that conductivity can be appropriately controlled as a hole injecting material for an organic electric element. It is preferable that the weight ratio (weight / weight) represented by (B) / (A) satisfies 1 to 40, more preferably satisfies 5 to 40, more preferably satisfies 15 to 40, and 20 to 20. Those satisfying 40 are more preferable.

上記の非プロトン性極性溶媒(E)としては、特に限定するものではないが、沸点が150〜240℃の非プロトン性極性溶媒であることが好ましく、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、及びN−エチルピロリドンからなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。   The aprotic polar solvent (E) is not particularly limited, but is preferably an aprotic polar solvent having a boiling point of 150 to 240 ° C. For example, dimethylformamide, dimethylacetamide, diethylacetamide, It is preferably at least one selected from the group consisting of N-methylpyrrolidone and N-ethylpyrrolidone.

本発明の組成物において、非プロトン性極性溶媒(E)の含有量(組成)は、ポリチオフェン(A)の溶解性の観点から、30〜95重量%であることが好ましく、40〜90重量%であることがより好ましく、50〜85重量%であることがより好ましい。   In the composition of the present invention, the content (composition) of the aprotic polar solvent (E) is preferably from 30 to 95% by weight and from 40 to 90% by weight from the viewpoint of the solubility of the polythiophene (A). Is more preferable, and more preferably 50 to 85% by weight.

本発明の組成物は、上記のポリチオフェン(A)、ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)、グリコール(C)、上式一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)、及び非プロトン性極性溶媒(E)を含む組成物であり、(A)、(B)、(C)及び(D)の含有量が、各々、0.005〜1.0重量%、0.1〜10重量%、0.01〜30重量%、及び0.01〜30重量%であり、尚且つ、(C)、(D)、及び(E)の総含有量が60〜99重量%であることを特徴とする。なお、(C)、(D)、及び(E)の総含有量については、70〜98重量%であることが好ましく、80〜98重量%であることがより好ましい。   The composition of the present invention comprises the above polythiophene (A), polyacrylic acid-based water-soluble resin (B), glycol (C), glycol ether (D) represented by the above general formula (3), and aprotic It is a composition containing a polar solvent (E), wherein the content of (A), (B), (C) and (D) is 0.005 to 1.0% by weight, % By weight, 0.01 to 30% by weight, and 0.01 to 30% by weight, and the total content of (C), (D), and (E) is 60 to 99% by weight. It is characterized by. The total content of (C), (D), and (E) is preferably from 70 to 98% by weight, and more preferably from 80 to 98% by weight.

本発明の組成物は、その成分として、さらに水を含有していることが好ましい。当該水の含有量としては、0.01〜30重量%であることが好ましく、0.01〜20重量%であることがより好ましく、0.01〜15重量%であることがより好ましく、0.01〜10重量%であることがより好ましい。   The composition of the present invention preferably further contains water as a component thereof. The water content is preferably from 0.01 to 30% by weight, more preferably from 0.01 to 20% by weight, even more preferably from 0.01 to 15% by weight. More preferably, it is 0.01 to 10% by weight.

また、本発明の組成物については、基材への濡れ性に優れる点で、20℃における粘度、及び表面張力が、各々、25mPa・s以下、及び15〜50mN/mであることが好ましく、各々、20mPa・s以下、及び20〜40mN/mであることがより好ましい。   Further, with respect to the composition of the present invention, the viscosity at 20 ° C. and the surface tension are preferably 25 mPa · s or less, and 15 to 50 mN / m, respectively, from the viewpoint of excellent wettability to the substrate, More preferably, they are respectively 20 mPa · s or less, and 20 to 40 mN / m.

本発明の組成物は、必要に応じて、界面活性剤を含んでいてもよい。当該界面活性剤としては、特に限定するものではないが、例えば、高分子型非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。   The composition of the present invention may contain a surfactant, if necessary. Examples of the surfactant include, but are not particularly limited to, a polymer type nonionic surfactant, an amphoteric surfactant, a fluorine-based surfactant, and a silicone-based surfactant.

前記高分子型非イオン界面活性剤としては、特に限定するものではないが、例えば、ポリビニルピロリドン及びポリビニルピロリドンの共重合体、ポリアルキレングリコール等が挙げられる。本発明に使用されるポリビニルピロリドンの平均分子量は1千〜200万であることが好ましく、好ましくは1万〜150万である。当該ポリビニルピロリドンの共重合体としては、特に限定するものではないが、親水性部と疎水性部をポリマー鎖中に併せ持つものが好ましく、例えば、ポリビニルピロリドンをポリビニルアルコールにグラフトしたコポリマーや、[ビニルピロリドン−酢酸ビニル]ブロック共重合体、[ビニルピロリドン−メチルメタクリレート]共重合体、[ビニルピロリドン−ノルマルブチルメタクリレート]共重合体、又は[ビニルピロリドン−アクリルアミド]共重合体などが例示できる。   Examples of the polymer type nonionic surfactant include, but are not particularly limited to, polyvinylpyrrolidone, a copolymer of polyvinylpyrrolidone, and a polyalkylene glycol. The average molecular weight of the polyvinylpyrrolidone used in the present invention is preferably from 1,000 to 2,000,000, and more preferably from 10,000 to 1.5,000,000. The copolymer of polyvinylpyrrolidone is not particularly limited, but a copolymer having both a hydrophilic part and a hydrophobic part in a polymer chain is preferable. For example, a copolymer in which polyvinylpyrrolidone is grafted on polyvinyl alcohol or [vinyl Examples thereof include a [pyrrolidone-vinyl acetate] block copolymer, a [vinyl pyrrolidone-methyl methacrylate] copolymer, a [vinyl pyrrolidone-normal butyl methacrylate] copolymer, and a [vinyl pyrrolidone-acrylamide] copolymer.

又、ポリアルキレングリコールとしては、特に制限するものではないが、例えば、三洋化成工業(株)製、商品名:ニューポールPE−61、PE−62、PE−64、PE−68、PE−71、PE−74、PE−75、PE−78、PE−108、PE−128、第一工業製薬(株)製、商品名:エパン450、750、785、U−103、U−105、U108等のポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコールブロックポリマー類、三洋化成工業(株)製、商品名:サンニックスGP−250、GP−400、GP−600、GP−1000、GP−3000、GP−4000等のポリオキシプロピル化グリセリンを例示できる。   The polyalkylene glycol is not particularly limited, but may be, for example, Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd., trade names: Newpol PE-61, PE-62, PE-64, PE-68, PE-71. , PE-74, PE-75, PE-78, PE-108, PE-128, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade names: Epan 450, 750, 785, U-103, U-105, U108, etc. Polyethylene glycol / polypropylene glycol block polymers, manufactured by Sanyo Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Polyoxy such as Sanix GP-250, GP-400, GP-600, GP-1000, GP-3000, GP-4000 An example is propylated glycerin.

前記両性界面活性剤としては特に限定するものではないが、例えば、ベタイン型両性界面活性剤が挙げられる。当該ベタイン型両性界面活性剤としては特に限定するものではないが、例えば、アルキルジメチルベタイン、ラウリルジメチルベタイン、ステアリルジメチルベタイン、又はラウリルジヒドロキシエチルベタイン等が挙げられる。   The amphoteric surfactant is not particularly limited, and examples thereof include a betaine-type amphoteric surfactant. The betaine-type amphoteric surfactant is not particularly limited, and examples thereof include alkyl dimethyl betaine, lauryl dimethyl betaine, stearyl dimethyl betaine, and lauryl dihydroxyethyl betaine.

前記フッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキル基を有するものであれば特に限定されないが、例えば、パーフルオロアルカン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルスルホン酸、又はパーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物などが挙げられる。   The fluorosurfactant is not particularly limited as long as it has a perfluoroalkyl group.For example, perfluoroalkane, perfluoroalkylcarboxylic acid, perfluoroalkylsulfonic acid, or perfluoroalkylethylene oxide adduct And the like.

前記シリコーン系界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテルエステル変性ポリジメチルシロキサン、ヒドロキシル基含有ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、アクリル基含有ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、アクリル基含有ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、又はシリコーン変性アクリル化合物などが挙げられる。   Examples of the silicone surfactant include, but are not particularly limited to, polyether-modified polydimethylsiloxane, polyetherester-modified polydimethylsiloxane, hydroxyl group-containing polyether-modified polydimethylsiloxane, and acryl group-containing polyether-modified polydimethylsiloxane. And acrylic group-containing polyester-modified polydimethylsiloxane, perfluoropolyether-modified polydimethylsiloxane, perfluoropolyester-modified polydimethylsiloxane, and silicone-modified acrylic compound.

フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤については、レベリング剤として本発明の組成物の塗膜の平坦性を改善するのに有効である。   Fluorine surfactants and silicone surfactants are effective as leveling agents for improving the flatness of the coating film of the composition of the present invention.

また、上記以外の界面活性剤としては、特に限定するものではないが、例えば、アセチレングリコール型界面活性剤が挙げられる。   In addition, the surfactant other than the above is not particularly limited, and examples thereof include an acetylene glycol-type surfactant.

本発明の組成物を調製する方法としては、特に限定するものではないが、例えば、上記のポリチオフェン(A)の水溶液又は固体と、ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)の水溶液又は固体と、グリコール(C)、上式一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)及び非プロトン性極性溶媒(E)、必要に応じて水と、必要に応じてその他添加剤を、本発明の範囲で任意に、混合する方法を挙げることができる。各成分を混合するに当たり特に順番に限定はなく、各成分を任意の順で混合することにより本発明の組成物を調製することができる。   The method for preparing the composition of the present invention is not particularly limited. For example, an aqueous solution or solid of the polythiophene (A) and an aqueous solution or solid of the polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) may be used. Glycol (C), glycol ether (D) represented by the above general formula (3) and aprotic polar solvent (E), water as required, and other additives as required Arbitrary mixing methods can be mentioned within the range. The order of mixing the components is not particularly limited, and the composition of the present invention can be prepared by mixing the components in any order.

ここで、各成分を混合する際の温度は、特に限定するものではないが、例えば、室温〜加温下で行うことができ、0℃以上100℃以下であることが好ましい。   Here, the temperature at which the respective components are mixed is not particularly limited, but, for example, the mixing can be performed at room temperature to under heating, and preferably from 0 ° C to 100 ° C.

混合する際の雰囲気は、特に限定するものではないが、大気中でも、不活性ガス中でも良い。   The atmosphere at the time of mixing is not particularly limited, but may be air or an inert gas.

本発明の組成物を混合する際には、スターラーチップ、攪拌羽根等による一般的な混合溶解操作に加えて、超音波照射、ホモジナイズ処理(例えば、メカニカルホモジナイザー、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー等の使用)を行ってもよい。   When mixing the composition of the present invention, in addition to a general mixing and dissolving operation using a stirrer chip, a stirring blade, and the like, ultrasonic irradiation and homogenization treatment (for example, use of a mechanical homogenizer, an ultrasonic homogenizer, a high-pressure homogenizer, or the like) ) May be performed.

ホモジナイズ処理する場合には、ポリチオフェン(A)の熱劣化を防ぐため、冷温しながら行うことが好ましい。   In the case of performing the homogenization treatment, it is preferable to perform the homogenization treatment at a low temperature in order to prevent the thermal degradation of the polythiophene (A).

本発明の組成物の濃度調整は、配合比で調整しても良いし、配合後に濃縮により調整しても良い。濃縮の方法は、減圧下に溶媒を留去する方法であっても、限外ろ過膜を利用する方法であっても良い。   The concentration of the composition of the present invention may be adjusted by a compounding ratio or may be adjusted by concentration after compounding. The method of concentration may be a method of distilling off the solvent under reduced pressure or a method of using an ultrafiltration membrane.

本発明の組成物については、導電性高分子を含有し、インク特性に優れるため、導電性高分子含有導電性インクであることが好ましい。   Since the composition of the present invention contains a conductive polymer and has excellent ink properties, it is preferably a conductive ink containing a conductive polymer.

本発明の組成物(又は導電性高分子含有導電性インク)から導電性を有する膜を製造することができる。例えば、本発明の組成物(又は導電性高分子含有導電性インク)を、支持体に塗布し乾燥することで支持体上に導電性を有する膜を製造させることができる。   A film having conductivity can be produced from the composition of the present invention (or conductive ink containing a conductive polymer). For example, a film having conductivity can be produced on a support by applying the composition (or the conductive ink containing a conductive polymer) of the present invention to the support and drying the composition.

支持体としては、本発明の組成物が塗布可能なものであれば特に限定するものではなく、例えば、高分子基材又は無機基材が挙げられる。高分子基材としては、特に限定するものではないが、例えば、熱可塑性樹脂、不織布、紙、又はレジスト膜基板等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、特に限定するものではないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアクリレート、又はポリカーボネート等が挙げられる。不織布としては、特に限定するものではないが、例えば、天然繊維不織布、合成繊維不織布、又はガラス繊維不織布等が挙げられる。紙としては一般的なセルロースを主成分とするものでよい。無機基材としては、特に限定するものではないが、例えば、ガラス、ITOなどの金属酸化物、セラミックス、酸化アルミニウム、又は酸化タンタル等が挙げられる。   The support is not particularly limited as long as the composition of the present invention can be applied, and examples thereof include a polymer substrate and an inorganic substrate. The polymer substrate is not particularly limited, and examples thereof include a thermoplastic resin, a nonwoven fabric, paper, and a resist film substrate. Although it does not specifically limit as a thermoplastic resin, For example, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyacrylate, polycarbonate, etc. are mentioned. The nonwoven fabric is not particularly limited, and examples thereof include a natural fiber nonwoven fabric, a synthetic fiber nonwoven fabric, and a glass fiber nonwoven fabric. The paper may be a paper containing general cellulose as a main component. Examples of the inorganic substrate include, but are not particularly limited to, glass, metal oxides such as ITO, ceramics, aluminum oxide, and tantalum oxide.

本発明の組成物(又は導電性高分子含有導電性インク)の塗布方法としては、特に限定するものではないが、例えば、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ディスペンサ法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、スピンコート法、又はインクジェット法等が挙げられる。好ましくは、バーコート法、スピンコート法、又はインクジェット法が挙げられる。   The method for applying the composition (or conductive polymer-containing conductive ink) of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a casting method, a dipping method, a bar coating method, a dispenser method, a roll coating method, and gravure. Examples include a coating method, a flexographic printing method, a spray coating method, a spin coating method, and an inkjet method. Preferably, a bar coating method, a spin coating method, or an ink jet method is used.

塗膜の乾燥温度は、均一な導電性高分子膜が得られる温度及び基材の耐熱温度以下であれば特に限定するものではないが、室温〜300℃の範囲であり、好ましくは室温〜240℃の範囲であり、さらに好ましくは室温〜220℃の範囲である。   The drying temperature of the coating film is not particularly limited as long as it is equal to or lower than the temperature at which a uniform conductive polymer film is obtained and the heat-resistant temperature of the substrate, and is in the range of room temperature to 300 ° C., preferably room temperature to 240 ° C. ° C, more preferably from room temperature to 220 ° C.

乾燥雰囲気は大気中、不活性ガス中、真空中、又は減圧下のいずれであってもよい。高分子膜の劣化抑制の観点からは、窒素、アルゴン等の不活性ガス中が好ましい。   The drying atmosphere may be in the air, in an inert gas, in a vacuum, or under reduced pressure. From the viewpoint of suppressing deterioration of the polymer film, it is preferable to use an inert gas such as nitrogen or argon.

得られる導電性を有する膜の膜厚としては特に限定するものではないが、20〜200nmの範囲が好ましい。より好ましくは30〜80nmである。   The thickness of the obtained conductive film is not particularly limited, but is preferably in the range of 20 to 200 nm. More preferably, it is 30 to 80 nm.

上記の方法で製造した本発明の導電性を有する膜については、有機エレクトロルミネッセンス素子又は有機光電発光素子等の有機電子素子における導電体として用いることができる。   The conductive film of the present invention produced by the above method can be used as a conductor in an organic electronic device such as an organic electroluminescent device or an organic photoelectric light emitting device.

当該導電性を有する膜の導電率としては、10−2S/cm以下であることが好ましいが、例えば、有機エレクトロニクス素子、有機光電変換素子等の正孔注入剤として用いる場合、10−8S/cm〜10−3S/cmであることがより好ましく、より好ましくは、10−7〜10−4S/cmである。 The conductivity of the conductive film is preferably 10 −2 S / cm or less. For example, when the film is used as a hole injection agent for an organic electronic element, an organic photoelectric conversion element, or the like, 10 −8 S / cm. / Cm to 10 −3 S / cm, more preferably 10 −7 to 10 −4 S / cm.

本発明の組成物を乾燥させて得られる導電性を有する膜については、特に限定するものではないが、例えば、有機電子阻止の正孔注入材料、又は正孔輸送材料として用いることが可能である。そのため、当該導電性を有する膜については、特に限定するものではないが、例えば、有機エレクトロルミネセンス素子又は有機光電変換素子のいずれかの有機電子素子に包含されて用いられることが好ましい。   The conductive film obtained by drying the composition of the present invention is not particularly limited. For example, it can be used as a hole injection material for blocking organic electrons, or a hole transport material. . For this reason, the conductive film is not particularly limited, but is preferably used by being included in, for example, an organic electronic element such as an organic electroluminescence element or an organic photoelectric conversion element.

以下に本発明に関する実施例を示す。   Examples of the present invention will be described below.

なお、本実施例で用いた分析機器及び測定方法を以下に列記する。
[表面抵抗率測定]
装置:三菱化学社製ロレスタGP MCP−T600
装置:三菱化学社製ハイレスタUX MCP−HT8000
[膜厚測定]
装置:BRUKER社製 DEKTAK XT
[導電性高分子の導電率測定]
本発明の導電性高分子含有インク約0.4mlを縦横それぞれ33mm角の無アルカリガラス板に塗布後、MIKASA製スピンコーターMS−A150を用いて成膜した(条件=1000rpm(20秒))。その後、ホットプレート上で200℃にて20分加熱して導電性高分子膜を得た。膜厚及び表面抵抗値から、以下の式に基づき算出した。
導電率[S/cm]=10/(表面抵抗率[Ω/□]×膜厚[μm])
[表面張力測定]
装置:毛管上昇方式表面張力計DG−1(表面側器製)
[平滑性評価]
イソプロパノール洗浄、O洗浄した縦横それぞれ33mm角のガラス基板に、導電性高分子含有組成物(インク)を塗布後、1000rpm(20秒)でスピンコートし(MIKASA製スピンコーターMS−A150使用)、得られた数十nmの薄膜の状態(不均一性、又は凹凸の有無)を目視により観察した。
[粘度測定]
コンプリート型粘度計/BROOKFIELD VISCOMETER DV−1 Prime
[ポリアクリル酸系水溶性樹脂のGPC測定]
装置 :ビルドアップGPCシステム
カラム:TSKgel GMPWXL(7.8mmID×30cm)×2本
検出器:RI検出器
溶離液:0.2M−リン酸緩衝液(pH=7.0)/アセトニトリル=9/1
流速 :1.0ml/min
濃度 :0.05wt%
注入量:100μl
カラム温度:40℃
合成例1.
3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム[下記式(5)で表される化合物]の合成.
窒素雰囲気下、1000mlナス型フラスコに60%水素化ナトリウム 4.4g(109mmol)、トルエン 400mlを仕込んだ後、(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b][1,4]ジオキシン−2−イル)メタノール 15.2g(88.4ml)を添加した。その後、反応液を還流温度に昇温させ同温度で1時間攪拌した。その後、2,4−ブタンスルトン 12.1g(89mmol)とトルエン 100mlとからなる混合液を滴下し、同温度で2時間攪拌した。冷却後、得られた反応液をアセトン 1500mlに滴下し再沈を行った。得られた粉末を濾過し、真空乾燥させることで18.0gの淡黄色粉末を収率62%で得た。NMR測定から、これが下記式(5)で表される3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウムであることを確認した。
The analytical instruments and measuring methods used in this example are listed below.
[Surface resistivity measurement]
Apparatus: Mitsubishi Chemical Corporation Loresta GP MCP-T600
Apparatus: Mitsubishi Chemical Corporation Hiresta UX MCP-HT8000
[Thickness measurement]
Equipment: DEKTAK XT manufactured by BRUKER
[Conductivity measurement of conductive polymer]
About 0.4 ml of the conductive polymer-containing ink of the present invention was applied to a non-alkali glass plate having a length of 33 mm and a width of 33 mm, and then a film was formed using a spin coater MS-A150 manufactured by MIKASA (condition = 1000 rpm (20 seconds)). Then, it heated on a hot plate at 200 degreeC for 20 minutes, and obtained the conductive polymer film. It was calculated from the film thickness and the surface resistance value based on the following formula.
Conductivity [S / cm] = 10 4 / (surface resistivity [Ω / □] × film thickness [μm])
[Surface tension measurement]
Apparatus: Capillary rise type surface tensiometer DG-1 (manufactured by surface side unit)
[Smoothness evaluation]
After applying a conductive polymer-containing composition (ink) to a glass substrate of 33 mm each in length and width washed with isopropanol and O 3 , spin-coating was performed at 1000 rpm (20 seconds) (using a spin coater MS-A150 manufactured by MIKASA). The state of the obtained thin film of several tens nm (non-uniformity or presence or absence of irregularities) was visually observed.
[Viscosity measurement]
Complete Viscometer / BROOKFIELD VISCOMETER DV-1 Prime
[GPC measurement of polyacrylic acid-based water-soluble resin]
Apparatus: Build-up GPC system Column: TSKgel GMPWXL (7.8 mm ID × 30 cm) × 2 Detector: RI detector Eluent: 0.2 M-phosphate buffer (pH = 7.0) / acetonitrile = 9/1
Flow rate: 1.0 ml / min
Concentration: 0.05wt%
Injection volume: 100 μl
Column temperature: 40 ° C
Synthesis Example 1
Sodium 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-methyl-1-propanesulfonate [represented by the following formula (5) Compound].
Under a nitrogen atmosphere, 4.4 g (109 mmol) of 60% sodium hydride and 400 ml of toluene were charged into a 1000 ml eggplant-shaped flask, and then (2,3-dihydrothieno [3,4-b] [1,4] dioxin-2- Il) Methanol 15.2 g (88.4 ml) was added. Thereafter, the reaction solution was heated to the reflux temperature and stirred at the same temperature for 1 hour. Thereafter, a mixed solution comprising 12.1 g (89 mmol) of 2,4-butanesultone and 100 ml of toluene was added dropwise, and the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours. After cooling, the obtained reaction solution was dropped into 1500 ml of acetone to perform reprecipitation. The obtained powder was filtered and dried under vacuum to obtain 18.0 g of a pale yellow powder in a yield of 62%. From NMR measurement, this was 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-methyl-1 represented by the following formula (5). -It was confirmed to be sodium propanesulfonate.

Figure 2020026490
Figure 2020026490

1H−NMR(DO)δ(ppm);6.67(s,2H),4.54−4.60(m,1H),4.45(dd,1H,J=12.0,2.2Hz),4.26(dd,1H,J=12.0,6.8Hz),3.90−3.81(m,4H),3.10−3.18(m,1H),2.30−2.47(m,1H),1.77−1.92(m,1H),1.45(d,3H)
13C−NMR(DO)δ(ppm);14.91,31.22,53.13,66.18,69.18,73.29,73.36,100.81,100.94,140.88,141.06。
1H-NMR (D 2 O) δ (ppm); 6.67 (s, 2H), 4.54 to 4.60 (m, 1H), 4.45 (dd, 1H, J = 12.0, 2) .2 Hz), 4.26 (dd, 1H, J = 12.0, 6.8 Hz), 3.90-3.81 (m, 4H), 3.10-3.18 (m, 1H), 2 .30-2.47 (m, 1H), 1.77-1.92 (m, 1H), 1.45 (d, 3H)
13C-NMR (D 2 O) δ (ppm); 14.91, 31.22, 53.13, 66.18, 69.18, 73.29, 73.36, 100.81, 100.94, 140 .88, 141.06.

合成例2.
ポリチオフェン(A)[下記式(6)及び下記式(7)で表される構造単位を含む重合体]の合成.
500mlセパラブルフラスコに、合成例1に準じて合成した3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム 10g(30mmol)と水 150gを加えた。溶解後、室温下、無水塩化鉄(III) 2.94g(18.1mmol)を加えて20分攪拌した。その後、過硫酸ナトリウム 14.5g(60.4mmol)と水 100gからなる混合溶液を反応液温度が30℃以下を保持しながら滴下した。室温で3時間攪拌したのち、反応液を800gのアセトンに滴下させ黒色のNa型のポリマーを析出させた。ポリマーを濾過・真空乾燥することで、18.0gの3−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−[1,4]ジオキシン−2−イル)メトキシ]−1−メチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウムの粗ポリマーを得た。
Synthesis Example 2.
Synthesis of polythiophene (A) [polymer containing structural units represented by the following formulas (6) and (7)].
In a 500 ml separable flask, 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-methyl-1 synthesized according to Synthesis Example 1. -10 g (30 mmol) of sodium propanesulfonate and 150 g of water were added. After dissolution, 2.94 g (18.1 mmol) of anhydrous iron (III) chloride was added at room temperature, and the mixture was stirred for 20 minutes. Thereafter, a mixed solution consisting of 14.5 g (60.4 mmol) of sodium persulfate and 100 g of water was added dropwise while maintaining the temperature of the reaction solution at 30 ° C. or lower. After stirring at room temperature for 3 hours, the reaction solution was dropped into 800 g of acetone to precipitate a black Na-type polymer. The polymer was filtered and dried under vacuum to obtain 18.0 g of 3-[(2,3-dihydrothieno [3,4-b]-[1,4] dioxin-2-yl) methoxy] -1-methyl-1. A crude polymer of sodium propanesulfonate was obtained.

次に、この粗ポリマー 14.5gに水を加え1重量%溶液に調製した水溶液 1450gを、陽イオン交換樹脂Lewatit MonoPlus S100(H型) 350mlを充填したカラムに通液(空間速度=1.1)することによりH型のポリマー水溶液を1550g得た。更に、本ポリマー水溶液をクロスフロー式限外ろ過(分画分子量=10,000、透過倍率=20)により精製することにより下記式(6)及び式(7)で表される構造単位を含む重合体(ポリチオフェン(A))の濃群青色水溶液 579gを得た。   Next, 1450 g of the crude polymer was mixed with water to prepare a 1% by weight aqueous solution (1450 g), and then passed through a column packed with 350 ml of cation exchange resin Lewatit MonoPlus S100 (H type) (space velocity = 1.1). ) To obtain 1550 g of an H-type polymer aqueous solution. Further, the polymer aqueous solution is purified by a cross-flow type ultrafiltration (fraction molecular weight = 10,000, transmission factor = 20) to obtain a polymer containing structural units represented by the following formulas (6) and (7). As a result, 579 g of a deep ultramarine blue aqueous solution of the combination (polythiophene (A)) was obtained.

ポリチオフェン(A)水溶液に含まれるポリマー量は1.51重量%であった。又、鉄イオン、及びナトリウムイオンを、各々44ppm、及び12ppm(対ポリマー)含有していた。本ポリマー水溶液を用いて薄膜を作成し、導電率を測定したところ、230S/cmであった。   The amount of polymer contained in the aqueous solution of polythiophene (A) was 1.51% by weight. Further, they contained 44 ppm and 12 ppm (based on polymer) of iron ion and sodium ion, respectively. When a thin film was formed using the present polymer aqueous solution and the electrical conductivity was measured, it was 230 S / cm.

Figure 2020026490
Figure 2020026490

Figure 2020026490
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合成例3(スチレンスルホン酸/メタクリル酸共重合体(モル比 10/90)の合成)
300mlナス型フラスコに、スチレンスルホン酸ナトリウム(東ソー・ファインケム製、純分=88.2wt%) 2.50g(10.7mmol)、メタクリル酸ナトリウム 10.5g(97.2mmol)及び水 142gを加えたのち、窒素雰囲気下、均一になるまで室温下撹拌した。その後、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸塩 59mg(0.21mmol)を加え、80℃で20時間撹拌した。冷却後、得られた反応液をアセトン 2Lに再沈させた。濾過・乾燥の後、12.5gのポリスチレン酸ナトリウム/メタクリル酸ナトリウム共重合体(モル比 10/90)を得た。GPC測定の結果、共重合体の重量平均分子量は170,000(Mw/Mn=1.8)であった。
Synthesis Example 3 (Synthesis of styrene sulfonic acid / methacrylic acid copolymer (molar ratio 10/90))
To a 300 ml eggplant-shaped flask, 2.50 g (10.7 mmol) of sodium styrenesulfonate (manufactured by Tosoh Finechem, pure content = 88.2 wt%), 10.5 g (97.2 mmol) of sodium methacrylate, and 142 g of water were added. Thereafter, the mixture was stirred at room temperature under a nitrogen atmosphere until the mixture became uniform. Thereafter, 59 mg (0.21 mmol) of 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 20 hours. After cooling, the obtained reaction solution was reprecipitated in 2 L of acetone. After filtration and drying, 12.5 g of a sodium polystyreneate / sodium methacrylate copolymer (molar ratio 10/90) was obtained. As a result of GPC measurement, the weight average molecular weight of the copolymer was 170,000 (Mw / Mn = 1.8).

得られた共重合体を水で希釈後、イオン交換樹脂Lewatit S108H 120mlに通液しイオン交換することにより、スチレンスルホン酸/メタクリル酸共重合体(モル比 10/90) (共重合体Aと略す)を2.7wt%の水溶液として298g得た(収率=76%,粘度=8.3mPa・s(20℃))。   The obtained copolymer was diluted with water, passed through 120 ml of ion exchange resin Lewatit S108H, and ion-exchanged to obtain a styrene sulfonic acid / methacrylic acid copolymer (molar ratio 10/90) (copolymer A and copolymer A). 298 g was obtained as a 2.7 wt% aqueous solution (yield = 76%, viscosity = 8.3 mPa · s (20 ° C.)).

合成例4(スチレンスルホン酸/メタクリル酸共重合体(モル比 25/75)の合成)
スチレンスルホン酸ナトリウム、及びメタクリル酸ナトリウムを各々6.57g(28.1mmol)、9.10g(84.2mmol)に変更した以外は合成例3と同様な操作を行い15.5gのスチレンスルホン酸ナトリウム/メタクリル酸ナトリウム共重合体(モル比 25/75)を得た。GPC測定の結果、共重合体の重量平均分子量は220,000(Mw/Mn=2.0)であった。
Synthesis Example 4 (Synthesis of styrene sulfonic acid / methacrylic acid copolymer (molar ratio 25/75))
The same operation as in Synthesis Example 3 was performed except that sodium styrenesulfonate and sodium methacrylate were changed to 6.57 g (28.1 mmol) and 9.10 g (84.2 mmol), respectively, to thereby obtain 15.5 g of sodium styrenesulfonate. / Sodium methacrylate copolymer (molar ratio 25/75) was obtained. As a result of GPC measurement, the weight average molecular weight of the copolymer was 220,000 (Mw / Mn = 2.0).

合成例3と同様にイオン交換処理を行うことによりスチレンスルホン酸/メタクリル酸共重合体(モル比 25/75) (共重合体Bと略す)を2.5wt%の水溶液として301g得た(収率=77%,粘度=9.3mPa・s(20℃)。   By performing ion exchange treatment in the same manner as in Synthesis Example 3, 301 g of a 2.5 wt% aqueous solution of a styrenesulfonic acid / methacrylic acid copolymer (molar ratio: 25/75) (abbreviated as copolymer B) was obtained. Rate = 77%, viscosity = 9.3 mPa · s (20 ° C.).

実施例1.
30mlサンプル瓶に、20重量%のポリアクリル酸(分子量250,000)水溶液 1.52g、プロピレングリコール n−プロピルエーテル 2.00g、ジメチルアセトアミド 11.49g、及びエチレングリコール 4.44gを加えて均一溶液(溶液−1)を得た。その均一溶液 19.45gに、合成例2で得られたポリチオフェン(A)[前記式(6)及び前記式(7)で表される構造単位を含む重合体][導電率230S/cm]を1.51重量%含む水溶液 0.57gを加えて一晩室温にて撹拌し、導電性高分子含有インク(HIM01)を得た。得られたHIM01中のポリチオフェン(A)、ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)、エチレングリコール(C)、プロピレングリコール n−プロピルエーテル(D)、及びジメチルアセトアミド(E)の各濃度は、各々、0.043重量%、1.5重量%、22.1重量%、10.0重量%、及び57.5重量%であった。
Embodiment 1 FIG.
To a 30 ml sample bottle, 1.52 g of a 20% by weight aqueous solution of polyacrylic acid (molecular weight 250,000), 2.00 g of propylene glycol n-propyl ether, 11.49 g of dimethylacetamide, and 4.44 g of ethylene glycol were added, and a homogeneous solution was added. (Solution-1) was obtained. To 19.45 g of the homogeneous solution, the polythiophene (A) obtained in Synthesis Example 2 [the polymer containing the structural units represented by the formulas (6) and (7)] [conductivity 230 S / cm] was added. 0.57 g of an aqueous solution containing 1.51% by weight was added and stirred overnight at room temperature to obtain a conductive polymer-containing ink (HIMOl). The concentrations of polythiophene (A), polyacrylic acid-based water-soluble resin (B), ethylene glycol (C), propylene glycol n-propyl ether (D), and dimethylacetamide (E) in the obtained HIM01 were respectively , 0.043%, 1.5%, 22.1%, 10.0% and 57.5% by weight.

HIM01の粘度、表面張力は、各々、11.3mPa・s、35mN/mであった。   The viscosity and surface tension of HIM01 were 11.3 mPa · s and 35 mN / m, respectively.

実施例2
エチレングリコールをプロピレングリコールに変えた以外は実施例1と同様な操作を行い、導電性高分子含有インクHIM02を得た。HIM02の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 2
The same operation as in Example 1 was performed except that ethylene glycol was changed to propylene glycol, to obtain a conductive polymer-containing ink HIM02. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM02.

実施例3
プロピレングリコール n−プロピルエーテルをエチレングリコール n−ブチルエーテルに変更した以外は実施例1と同様な操作を行い、導電性高分子含有インクHIM03を得た。HIM03の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 3
The same operation as in Example 1 was performed, except that propylene glycol n-propyl ether was changed to ethylene glycol n-butyl ether, to obtain a conductive polymer-containing ink HIM03. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM03.

実施例4
30mlサンプル瓶に、20重量%のポリアクリル酸(分子量250,000)水溶液 1.52g、エチレングリコール n−ブチルエーテル 2.00g、ジメチルアセトアミド 14.93g、及びプロピレングリコール 1.00gを加えて均一溶液(溶液−1)を得た。その均一溶液 19.45gに、合成例2で得られたポリチオフェン(A)[前記式(6)又は前記式(7)で表される構造単位を含む重合体][導電率230S/cm]を1.51重量%含む水溶液 0.57gを加えて一晩室温にて撹拌し、導電性高分子含有インク(HIM04)を得た。得られたHIM04中のポリチオフェン(A)、ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)、プロピレングリコール(C)、エチレングリコール n−ブチルエーテル(D)、及びジメチルアセトアミド(E)の各濃度は、各々、0.043重量%、1.5重量%、5.0重量%、10.0重量%、及び74.6重量%であった。
Example 4
To a 30 ml sample bottle, 1.52 g of a 20% by weight aqueous solution of polyacrylic acid (molecular weight: 250,000), 2.00 g of ethylene glycol n-butyl ether, 14.93 g of dimethylacetamide and 1.00 g of propylene glycol were added, and a homogeneous solution ( Solution-1) was obtained. To 19.45 g of the homogeneous solution, the polythiophene (A) obtained in Synthesis Example 2 [the polymer containing the structural unit represented by the formula (6) or (7)] [conductivity 230 S / cm] was added. 0.57 g of an aqueous solution containing 1.51% by weight was added and stirred overnight at room temperature to obtain a conductive polymer-containing ink (HIM04). The concentrations of polythiophene (A), polyacrylic acid-based water-soluble resin (B), propylene glycol (C), ethylene glycol n-butyl ether (D), and dimethylacetamide (E) in the obtained HIM04 were respectively 0.043%, 1.5%, 5.0%, 10.0% and 74.6% by weight.

HIM04の粘度、表面張力は、各々、6.7mPa・s、37mN/mであった。   The viscosity and surface tension of HIM04 were 6.7 mPa · s and 37 mN / m, respectively.

実施例5
エチレングリコール n−ブチルエーテル、プロピレングリコールの量を、それぞれ、1.00g、2.00gに変更した以外は実施例4と同様な操作を行い、導電性高分子含有インクHIM5を得た。HIM05の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 5
The same operation as in Example 4 was performed except that the amounts of ethylene glycol n-butyl ether and propylene glycol were changed to 1.00 g and 2.00 g, respectively, to obtain a conductive polymer-containing ink HIM5. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM05.

実施例6
エチレングリコール n−ブチルエーテル 2.0gをプロピレングリコール n−ブチルエーテル 1.0gに変更し、プロピレングリコールの量を1.0gから2.0gに変更した以外は実施例4と同様な操作を行い、導電性高分子含有インクHIM06を得た。HIM06の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 6
The same operation as in Example 4 was performed, except that 2.0 g of ethylene glycol n-butyl ether was changed to 1.0 g of propylene glycol n-butyl ether, and the amount of propylene glycol was changed from 1.0 g to 2.0 g. Polymer-containing ink HIM06 was obtained. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM06.

実施例7
エチレングリコール n−ブチルエーテル 2.0gをジエチレングリコール モノn−ブチルエーテル 1.0gに変更し、プロピレングリコールの量を1.0gから2.0g、及びジメチルアセトアミドをジエチルアセトアミドに変更した以外は実施例4と同様な操作を行い、導電性高分子含有インクHIM07を得た。HIM07の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 7
Same as Example 4 except that 2.0 g of ethylene glycol n-butyl ether was changed to 1.0 g of diethylene glycol mono-n-butyl ether, the amount of propylene glycol was changed from 1.0 g to 2.0 g, and dimethylacetamide was changed to diethylacetamide. By performing various operations, a conductive polymer-containing ink HIM07 was obtained. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM07.

実施例8
ジメチルアセトアミドをジエチルアセトアミドに変更した以外は実施例4と同様な操作を行い、導電性ポリマー含有インクHIM08を得た。HIM08の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 8
The same operation as in Example 4 was performed, except that dimethylacetamide was changed to diethylacetamide, to obtain a conductive polymer-containing ink HIM08. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM08.

実施例9
エチレングリコール n−ブチルエーテル 2.0gを1.0gに変更し、ジメチルアセトアミド 14.93gをジエチルアセトアミド 15.93gに変更した以外は実施例4と同様な操作を行い、導電性高分子含有インクHIM09を得た。HIM09の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 9
The same operation as in Example 4 was performed, except that 2.0 g of ethylene glycol n-butyl ether was changed to 1.0 g, and 14.93 g of dimethylacetamide was changed to 15.93 g of diethylacetamide, to prepare the conductive polymer-containing ink HIM09. Obtained. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM09.

実施例10
20重量%のポリアクリル酸(分子量250,000)水溶液 1.52gを20重量%のポリアクリル酸(分子量100,000)水溶液 1.51gに変更し、又、プロピレングリコールをエチレングリコールに変更し、エチレングリコール モノn−ブチルエーテルをプロピレングリコール n−ブチルエーテルに変更し、ジメチルアセトアミドをジエチルアセトアミドに変更した以外は実施例4と同様な操作を行い導電性高分子含有インクHIM10を得た。HIM10の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 10
1.52 g of a 20% by weight aqueous solution of polyacrylic acid (molecular weight 250,000) was changed to 1.51 g of a 20% by weight aqueous solution of polyacrylic acid (molecular weight 100,000), and propylene glycol was changed to ethylene glycol. Conductive polymer-containing ink HIM10 was obtained in the same manner as in Example 4, except that ethylene glycol mono n-butyl ether was changed to propylene glycol n-butyl ether and dimethylacetamide was changed to diethylacetamide. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM10.

実施例11
20重量%のポリアクリル酸(分子量100,000)水溶液50gを減圧濃縮することにより、30.0重量%のポリアクリル酸水溶液 33.2gを得た。実施例10中の20重量%ポリアクリル酸(分子量100,000)水溶液 1.51gを上記で得られた30.0重量のポリアクリル酸(分子量100,000)水溶液 1.00gに変更した以外は実施例10と同様な操作を行い導電性高分子インクHIM11を得た。HIM11の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 11
50 g of a 20% by weight aqueous solution of polyacrylic acid (molecular weight 100,000) was concentrated under reduced pressure to obtain 33.2 g of a 30.0% by weight aqueous solution of polyacrylic acid. Except that 1.51 g of the 20 wt% polyacrylic acid (molecular weight 100,000) aqueous solution in Example 10 was changed to 1.00 g of the 30.0 wt polyacrylic acid (molecular weight 100,000) aqueous solution obtained above. The same operation as in Example 10 was performed to obtain a conductive polymer ink HIM11. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM11.

実施例12
ポリチオフェン(A)[前記式(6)又は前記式(7)で表される構造単位を含む重合体][導電率230S/cm]を1.51重量%含む水溶液 0.57gを0.67gに変更し、ジメチルアセトアミドをジエチルアセトアミドに変更した以外は実施例4と同様な操作を行い導電性高分子インクHIM12を得た。HIM12の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 12
0.57 g of an aqueous solution containing 1.51% by weight of polythiophene (A) [a polymer containing a structural unit represented by the formula (6) or the formula (7)] [conductivity of 230 S / cm] is reduced to 0.67 g. A conductive polymer ink HIM12 was obtained in the same manner as in Example 4, except that the dimethylacetamide was changed to diethylacetamide. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM12.

実施例13
ポリチオフェン(A)[前記式(6)又は前記式(7)で表される構造単位を含む重合体][導電率230S/cm]を1.51重量%含む水溶液 0.57gを0.80gに変更し、ジメチルアセトアミドをジエチルアセトアミドに変更した以外は実施例4と同様な操作を行い導電性高分子インクHIM13を得た。HIM13の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。
Example 13
0.57 g of an aqueous solution containing 1.51% by weight of polythiophene (A) [a polymer containing a structural unit represented by the formula (6) or (7)] [conductivity of 230 S / cm] is reduced to 0.80 g. A conductive polymer ink HIM13 was obtained in the same manner as in Example 4, except that the dimethylacetamide was changed to diethylacetamide. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM13.

実施例14
合成例3で得られた2.7重量%の共重合体Aを含む水溶液 250gを減圧濃縮することにより、15.0重量%の共重合体Aを含む水溶液を粘調水溶液として45.1g得た。
Example 14
250 g of the aqueous solution containing 2.7% by weight of copolymer A obtained in Synthesis Example 3 was concentrated under reduced pressure to obtain 45.1 g of an aqueous solution containing 15.0% by weight of copolymer A as a viscous aqueous solution. Was.

20重量%のポリアクリル酸(分子量250,000)水溶液1.52gを上記で得られた15.0重量%の共重合体Aを含む水溶液 1.52gに変更した以外は実施例4と同様な操作を行い導電性高分子インクHIM14を得た。HIM14の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。   Same as Example 4 except that 1.52 g of a 20% by weight aqueous solution of polyacrylic acid (molecular weight 250,000) was changed to 1.52 g of an aqueous solution containing 15.0% by weight of copolymer A obtained above. The operation was performed to obtain a conductive polymer ink HIM14. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM14.

実施例15
合成例4で得られた2.5重量%の共重合体Bを含む水溶液 250gを減圧濃縮することにより、15.0重量%の共重合体Bを含む水溶液を粘調水溶液として得た。
Example 15
250 g of the aqueous solution containing 2.5% by weight of copolymer B obtained in Synthesis Example 4 was concentrated under reduced pressure to obtain an aqueous solution containing 15.0% by weight of copolymer B as a viscous aqueous solution.

20重量%のポリアクリル酸(分子量250,000)水溶液1.52gを上記で得られた15.0重量%の共重合体Bを含む水溶液 1.52gに変更した以外は実施例4と同様な操作を行い導電性高分子インクHIM15を得た。HIM15の粘度、表面張力の測定結果を表1に示す。   Same as Example 4 except that 1.52 g of a 20% by weight aqueous solution of polyacrylic acid (molecular weight 250,000) was changed to 1.52 g of an aqueous solution containing 15.0% by weight of copolymer B obtained above. The operation was performed to obtain a conductive polymer ink HIM15. Table 1 shows the measurement results of the viscosity and surface tension of HIM15.

Figure 2020026490
Figure 2020026490

実施例16(平滑性、膜厚及び導電率測定)
実施例1で調製した導電性高分子含有インクHIM01について、平滑性評価及び導電性高分子の導電性測定を行った。
Example 16 (Smoothness, film thickness and conductivity measurement)
With respect to the conductive polymer-containing ink HIM01 prepared in Example 1, the smoothness was evaluated and the conductivity of the conductive polymer was measured.

その結果、表2に示すように得られた薄膜の平滑性は良好(表中“○”で表現した)であり、導電率は6.7×10−6S/cmを示した。 As a result, as shown in Table 2, the smoothness of the obtained thin film was good (represented by “○” in the table), and the conductivity was 6.7 × 10 −6 S / cm.

実施例17〜30(平滑性、膜厚及び導電率測定)
実施例2〜15で調製した導電性高分子含有インクHIM02〜15について、平滑性評価及び導電性高分子の導電性測定を行った。結果を表2に示す。なお、平滑性評価の結果はいずれも良好であった。
Examples 17 to 30 (Smoothness, film thickness and conductivity measurement)
For the conductive polymer-containing inks HIM02 to HIM15 prepared in Examples 2 to 15, the smoothness was evaluated and the conductivity of the conductive polymer was measured. Table 2 shows the results. The results of the smoothness evaluation were all good.

Figure 2020026490
Figure 2020026490

比較例1
エチレングリコール モノn−ブチルエーテルをエタノールに変更した以外は実施例1と同様な操作を行い、導電性高分子含有インク(REF01)を得た。得られたREF01中のポリチオフェン(A)、ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)、プロピレングリコール、エタノール、及びジメチルアセトアミドの各濃度は、各々、0.043重量%、1.5重量%、22.2重量%、10.0重量%、及び57.6重量%であった。
Comparative Example 1
The same operation as in Example 1 was performed except that ethylene glycol mono-n-butyl ether was changed to ethanol, to obtain a conductive polymer-containing ink (REF01). The concentrations of polythiophene (A), polyacrylic acid-based water-soluble resin (B), propylene glycol, ethanol, and dimethylacetamide in the obtained REF01 were 0.043% by weight, 1.5% by weight, and 22%, respectively. 0.2 wt%, 10.0 wt%, and 57.6 wt%.

REF01の粘度、表面張力は、各々、7.7mPa・s、32mN/mであった。しかし、REF01から得られるスピンコート膜には凹凸が見られ平滑性はなかった。   The viscosity and surface tension of REF01 were 7.7 mPa · s and 32 mN / m, respectively. However, the spin coat film obtained from REF01 had unevenness and no smoothness.

比較例2〜3
エチレングリコール モノn−ブチルエーテルをプロピレングリコール モノメチルエーテル又はジエチレングリコール モノメチルエーテルに変更して実施例1と同様な操作を行い、導電性高分子含有インク(REF02、及び03)を得た。
Comparative Examples 2-3
The same operation as in Example 1 was performed except that ethylene glycol mono-n-butyl ether was changed to propylene glycol monomethyl ether or diethylene glycol monomethyl ether, to obtain conductive polymer-containing inks (REF02 and 03).

REF02の粘度、表面張力は、各々、12.7mPa・s、33mN/m、REF03の粘度、表面張力は、各々、13.0mPa・s、33mPa・sであった。しかし、比較例1と同様、REF02及び03共にスピンコート膜の平滑性はなかった。   The viscosity and surface tension of REF02 were 12.7 mPa · s and 33 mN / m, respectively, and the viscosity and surface tension of REF03 were 13.0 mPa · s and 33 mPa · s, respectively. However, as in Comparative Example 1, neither REF 02 nor 03 had smoothness of the spin-coated film.

実施例31.(素子の作製と評価)
厚さ200nmのITO透明電極(陽極)を積層したガラス基板をアセトンおよび純水による超音波洗浄、イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄を行った。さらに紫外線オゾン洗浄を行った。
Embodiment 31 FIG. (Device fabrication and evaluation)
A glass substrate on which a 200-nm-thick ITO transparent electrode (anode) was laminated was subjected to ultrasonic cleaning with acetone and pure water and boiling cleaning with isopropyl alcohol. Further, ultraviolet ozone cleaning was performed.

実施例1で調製した導電性高分子含有インクHIM01を孔径0.4μmのフィルターでろ過し、スピンコート法(700rpm、20秒)によって塗布し、200℃で30分間乾燥した。その結果、63nmの正孔注入層が成膜された。   The conductive polymer-containing ink HIM01 prepared in Example 1 was filtered through a filter having a pore size of 0.4 μm, applied by a spin coating method (700 rpm, 20 seconds), and dried at 200 ° C. for 30 minutes. As a result, a hole injection layer having a thickness of 63 nm was formed.

次に、真空蒸着装置へ設置後、装置内が1.0×10−4Pa以下になるまで真空ポンプにて排気した。続いて、正孔輸送層用材料であるN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(α−NPD)を真空蒸着法により50nmの膜厚で成膜し、正孔輸送層を形成した。更に、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq)を真空蒸着法により50nmの膜厚で成膜し、発光層兼電子輸送層を形成した。 Next, after installing in a vacuum evaporation apparatus, the inside of the apparatus was evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 × 10 −4 Pa or less. Subsequently, N, N′-di (1-naphthyl) -N, N′-diphenylbenzidine (α-NPD), which is a material for a hole transport layer, is formed to a thickness of 50 nm by a vacuum evaporation method. A hole transport layer was formed. Further, tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ) was formed to a thickness of 50 nm by a vacuum evaporation method to form a light emitting layer and an electron transport layer.

引き続き、陰極としてLiFを1nm、アルミニウムを100nm成膜して金属電極を形成した。なお、それぞれの膜厚は触針式膜厚測定計(DEKTAK)で測定した。   Subsequently, a metal electrode was formed by forming a film of 1 nm of LiF and 100 nm of aluminum as a cathode. In addition, each film thickness was measured with a stylus-type film thickness meter (DEKTAK).

更に、窒素雰囲気下、封止用のガラス板をUV硬化樹脂で接着し、評価用の有機EL素子とした。   Further, a glass plate for sealing was bonded with a UV curing resin under a nitrogen atmosphere to obtain an organic EL element for evaluation.

このように作製した素子に10mA/cmの電流を印加し、駆動電圧を測定した。また、一定電流印加して初期輝度を1000cd/mとし、輝度が初期輝度の70%まで低下した時間をLT70として評価した。なお、LT70の値が大きい程、耐久性が良好であることを意味する。評価結果を表3に示した。 A current of 10 mA / cm 2 was applied to the device thus fabricated, and the driving voltage was measured. The initial luminance was set to 1000 cd / m 2 by applying a constant current, and the time during which the luminance decreased to 70% of the initial luminance was evaluated as LT70. In addition, it means that durability is so favorable that the value of LT70 is large. Table 3 shows the evaluation results.

実施例32〜45(素子の作製と評価)
実施例31において、導電性高分子含有インクHIM01の代わりに実施例2〜15で調製したHIM02〜15を用いた他は、実施例31と同様に有機EL素子を作製して、その駆動電圧およびLT70を測定した。評価結果を表3に示した。
Examples 32 to 45 (Production and Evaluation of Element)
In Example 31, an organic EL element was prepared in the same manner as in Example 31 except that HIM02 to HIM15 prepared in Examples 2 to 15 were used instead of the conductive polymer-containing ink HIM01, and the driving voltage and LT70 was measured. Table 3 shows the evaluation results.

比較例4.(素子の作製と評価)
実施例31において、導電性高分子含有インクHIM01の代わりに、PEDOT:PSS溶液(ヘレウス社製Clevios P VP AI4083)を用いた他は、実施例31と同様に素子を作製して駆動電圧およびLT70を測定した。評価結果を表3に示した。
Comparative Example 4. (Device fabrication and evaluation)
A device was prepared in the same manner as in Example 31 except that a PEDOT: PSS solution (Clebios PVP AI4083 manufactured by Heraeus) was used in place of the conductive polymer-containing ink HIM01 in Example 31, and the driving voltage and LT70 were used. Was measured. Table 3 shows the evaluation results.

なお、実施例31〜実施例45における測定結果については、比較例4の測定値を100として規格化して表示した。駆動電圧は発光に必要な電圧を表し、低ければ低いほど産業利用上優れる。LT70は発光素子寿命を表し、高ければ高いほど長寿命で産業利用上優れる。   In addition, about the measurement result in Examples 31-45, the measured value of Comparative Example 4 was set as 100 and it was normalized and displayed. The drive voltage indicates a voltage required for light emission, and the lower the drive voltage, the better the industrial use. LT70 indicates the life of the light emitting element, and the longer the LT70, the longer the life and the better the industrial use.

Figure 2020026490
Figure 2020026490

実施例46(インクジェットプリンターを用いた吐出性検討)
上記で調製した各導電性高分子含有インク(HIM01〜15)について、それぞれ、ジエチルアセトアミドを添加して、固形分濃度(成分(A)及び成分(B)の合計濃度)が1.2重量%になるように希釈し、インクジェット用組成物を取得した。富士フィルム Dimatix社製インクジェットプリンターDMP−2831を用い、以下の吐出検討を行った。
Example 46 (Examination of dischargeability using inkjet printer)
Diethylacetamide was added to each of the conductive polymer-containing inks (HIM01 to 15) prepared above, and the solid content concentration (total concentration of component (A) and component (B)) was 1.2% by weight. To obtain an inkjet composition. The following ejection studies were conducted using an inkjet printer DMP-2831 manufactured by Fuji Film Dimatix.

吐出検討は、打滴量=10plのヘッドカートリッジを用い、上記の各インクジェット用組成物を15分間連続吐出した際の状態を観察した。その結果、全てのインクジェット用組成物において、吐出中の不吐出、又は吐出乱れなど観察されることなく連続吐出が可能であることを確認した。   In the examination of ejection, a state in which each of the above-described inkjet compositions was continuously ejected for 15 minutes using a head cartridge having a droplet ejection amount of 10 pl was observed. As a result, it was confirmed that continuous ejection was possible without observing non-ejection during ejection or ejection disorder in all the inkjet compositions.

又、休止後の吐出安定性の評価も行った。休止後の吐出安定性の評価は、上記条件下、5分吐出を行い、一晩休止後、再び同条件で吐出を開始した際の状態を観察した。その結果、全てのインクジェット用組成物において、打滴指示と同時に問題なく吐出が可能であることを確認した。   In addition, the discharge stability after pausing was also evaluated. For the evaluation of the ejection stability after pausing, discharging was performed for 5 minutes under the above conditions, and after the pausing overnight, the state when discharging was started again under the same conditions was observed. As a result, it was confirmed that all the ink jet compositions can be ejected without any problem at the same time as the droplet ejection instruction.

本発明の導電性高分子含有インクは、良好な正孔輸送性(注入性)と耐久性を有する高分子膜を形成可能であり、それらを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、有機光電変換素子は素子寿命が改善された耐久性のある素子が作製可能である。特に、有機エレクトロルミネッセンス素子においては、蛍光発光性の有機EL素子だけでなく、消費電力の少ない燐光発光性の有機EL素子も提供することができる。   The conductive polymer-containing ink of the present invention can form a polymer film having good hole transporting property (injection property) and durability, and an organic electroluminescent element and an organic photoelectric conversion element using the same can be used as an element. A durable element with improved life can be manufactured. In particular, in the organic electroluminescence element, not only a fluorescent organic EL element but also a phosphorescent organic EL element with low power consumption can be provided.

この導電性高分子含有インクは、ガラスや金属などの基材以外にも、高分子基材への濡れ性が良く、ハジキや斑なく塗布が可能である。従って、各種基材への導電性コーティング剤(帯電防止剤)、固体電解コンデンサの固体電解質(陰極材料)などに使用できる。またこの導電性高分子膜で被覆された高分子基材からなる被覆物品は、帯電防止フィルム、固体電解コンデンサの固体電解質、巻回型アルミ電解コンデンサ用のセパレータへの利用が可能である。その他、エレクトロクロミック素子、透明電極、透明導電膜、熱電変換材料、化学センサ、アクチュエータ、電磁波シールド材、有機ELや太陽電池等の電極材料であるITO等の金属酸化物の表面コーティング材等への応用も期待できる。   This conductive polymer-containing ink has good wettability to a polymer base material other than a base material such as glass or metal, and can be applied without repelling or spotting. Therefore, it can be used as a conductive coating agent (antistatic agent) for various substrates, a solid electrolyte (cathode material) of a solid electrolytic capacitor, and the like. The coated article comprising the polymer substrate coated with the conductive polymer film can be used as an antistatic film, a solid electrolyte of a solid electrolytic capacitor, and a separator for a wound aluminum electrolytic capacitor. In addition, electrochromic devices, transparent electrodes, transparent conductive films, thermoelectric conversion materials, chemical sensors, actuators, electromagnetic wave shielding materials, surface coating materials of metal oxides such as ITO, which are electrode materials for organic EL and solar cells, etc. Applications can also be expected.

Claims (16)

下記式(1)で表される構造単位及び下記式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリチオフェン(A)、ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)、グリコール(C)、下記一般式(3)で表されるグリコールエーテル(D)、及び非プロトン性極性溶媒(E)を含む組成物であって、(A)、(B)、(C)及び(D)の含有量が、各々、0.005〜1.0重量%、0.1〜10重量%、0.01〜30重量%、及び0.01〜30重量%であり、尚且つ(C)、(D)及び(E)の合計が60〜99重量%であることを特徴とする組成物。
Figure 2020026490
[式(1)において、Mは、水素イオン、アルカリ金属イオン、アミン化合物の共役酸、又は第4級アンモニウムカチオンを表す。式(1)及び(2)において、Rは、水素原子、メチル基、エチル基、炭素数3〜6の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、置換基を有する炭素数1〜6のアルキル基、又はフッ素原子を表し、mは1〜10の整数を表し、nは0又は1を表す。]
Figure 2020026490
(式中、Rは、炭素数3〜6の直鎖又は分岐アルキル基を表す。R及びRは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表す。pは1又は2を表す。)
Polythiophene (A) containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2), a polyacrylic acid-based water-soluble resin (B ), Glycol (C), glycol ether (D) represented by the following general formula (3), and aprotic polar solvent (E), wherein (A), (B), (C) ) And (D) are 0.005 to 1.0% by weight, 0.1 to 10% by weight, 0.01 to 30% by weight, and 0.01 to 30% by weight, respectively. A composition, wherein the sum of (C), (D) and (E) is 60 to 99% by weight.
Figure 2020026490
[In the formula (1), M represents a hydrogen ion, an alkali metal ion, a conjugate acid of an amine compound, or a quaternary ammonium cation. In the formulas (1) and (2), R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a linear or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a substituent. Represents a group or a fluorine atom, m represents an integer of 1 to 10, and n represents 0 or 1. ]
Figure 2020026490
(Wherein, R 2 represents a straight-chain or branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. P represents 1 or 2) .)
(C)、(D)及び(E)の合計が70〜98重量%であることを特徴とする請求項1記載の組成物。   The composition according to claim 1, wherein the total of (C), (D) and (E) is 70 to 98% by weight. (C)、(D)及び(E)の合計が80〜98重量%であることを特徴とする請求項1記載の組成物。   The composition according to claim 1, wherein the total of (C), (D) and (E) is 80 to 98% by weight. ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)を、ポリチオフェン(A)1重量部に対して、5〜40重量部含有することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一つに記載の組成物。   The polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) is contained in an amount of 5 to 40 parts by weight based on 1 part by weight of the polythiophene (A). Composition. グリコール(C)が、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブチレングリコール、2,3−ブタンジオール、及び2−メチル−2,4−ペンタンジオールからなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1つに記載の組成物。   The glycol (C) is selected from the group consisting of ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butylene glycol, 2,3-butanediol, and 2-methyl-2,4-pentanediol. The composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the composition is at least one kind. グリコール(C)の含有量が0.1〜15重量%であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1つに記載の組成物。   The composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the content of the glycol (C) is 0.1 to 15% by weight. グリコールエーテル(D)が、エチレングリコール モノn−プロピルエーテル、エチレングリコール モノn−ブチルエーテル、プロピレングリコール モノn−プロピルエーテル、プロピレングリコール モノn−ブチルエーテル、ジエチレングリコール モノn−プロピルエーテル、ジエチレングリコール モノn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール モノn−プロピルエーテル、又はジプロピレングリコール モノn−ブチルエーテルであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の組成物。   The glycol ether (D) is ethylene glycol mono n-propyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, propylene glycol mono n-propyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, diethylene glycol mono n-propyl ether, diethylene glycol mono n-butyl ether, The composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the composition is dipropylene glycol mono n-propyl ether or dipropylene glycol mono n-butyl ether. グリコールエーテル(D)の含有量が0.1〜15重量%であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1つに記載の組成物。   The composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the content of the glycol ether (D) is 0.1 to 15% by weight. 非プロトン性極性溶媒(E)が、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、及びN−エチルピロリドンからなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の組成物。   9. The aprotic polar solvent (E) is at least one selected from the group consisting of dimethylformamide, dimethylacetamide, diethylacetamide, N-methylpyrrolidone, and N-ethylpyrrolidone. The composition according to any one of the above. ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)が、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ(アクリル酸―スチレンスルホン酸)共重合体、又はポリ(メタクリル酸―スチレンスルホン酸)共重合体であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1つに記載の組成物。   The polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) is a polyacrylic acid, polymethacrylic acid, poly (acrylic acid-styrenesulfonic acid) copolymer, or poly (methacrylic acid-styrenesulfonic acid) copolymer. A composition according to any one of claims 1 to 9, characterized in that: ポリアクリル酸系水溶性樹脂(B)の重量平均分子量が1千〜50万であることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1つに記載の組成物。   The composition according to any one of claims 1 to 10, wherein the polyacrylic acid-based water-soluble resin (B) has a weight average molecular weight of 1,000 to 500,000. さらに水を含有することを特徴とする請求項1乃至11のいずれかに記載の組成物。   The composition according to any one of claims 1 to 11, further comprising water. 20℃での粘度が20mPa・s以下であり、尚且つ表面張力が20〜40mN/mであることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1つに記載の組成物。   The composition according to any one of claims 1 to 12, wherein the composition has a viscosity at 20 ° C of 20 mPa · s or less and a surface tension of 20 to 40 mN / m. 請求項1乃至13のいずれかに記載の組成物からなる導電性高分子含有インク。   An ink containing a conductive polymer, comprising the composition according to claim 1. 請求項1乃至13のいずれかに記載の組成物を塗布した後、乾燥させることを特徴とする膜の製造方法。   A method for producing a film, comprising applying the composition according to claim 1 and drying the composition. 請求項15に記載の製造方法で得られた膜を含むことを特徴とする、有機エレクトロルミネセンス素子又は有機光電変換素子のいずれかの有機電子素子。   An organic electronic device, comprising an organic electroluminescent device or an organic photoelectric conversion device, comprising a film obtained by the method according to claim 15.
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