JP2020021063A - Optical filter and display device - Google Patents

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Abstract

To provide an optical filter useful for a display device or the like.SOLUTION: The present invention provides an optical filter containing a compound represented by formula (I) [where R-Rindependently represent a hydrogen atom or an optionally substituted C1-6 monovalent hydrocarbon group. Tand Tindependently represent a hydrogen atom or an optionally substituted C1-6 monovalent hydrocarbon group. One of Yand Yis an optionally substituted monovalent aromatic group and the other is an optionally substituted monovalent aromatic group, a hydrogen atom, a halogen atom or an optionally substituted C1-6 monovalent hydrocarbon group (the hydrocarbon group is a group other than a monovalent aromatic group, -CH- included in the hydrocarbon group is optionally substituted with -O- or -CO-)].SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光学フィルタ及び表示装置に関する。   The present invention relates to an optical filter and a display device.

液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置等の表示装置では、色調の調整や色純度を向上することが行われている。特許文献1には、プラズマディスプレイから放射されるネオン発光を有効にカットすることができるプラズマディスプレイパネル用フィルターに、スクアリリウム系化合物を用いることが記載されている。   2. Description of the Related Art In display devices such as liquid crystal display devices and organic electroluminescence (organic EL) display devices, adjustment of color tone and improvement of color purity are performed. Patent Literature 1 discloses that a squarylium-based compound is used for a filter for a plasma display panel capable of effectively cutting neon light emitted from a plasma display.

特開2001−183522号公報JP 2001-183522 A

本発明は、表示装置等に有用な光学フィルタ及び表示装置の提供を目的とする。   An object of the present invention is to provide an optical filter and a display device useful for a display device and the like.

本発明は、以下に示す光学フィルタ及び表示装置を提供する。
〔1〕 式(I)で表される化合物を含む光学フィルタ。

Figure 2020021063

[式中、
〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びTは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びYは、いずれか一方が置換基を有していてもよい1価の芳香族基を表し、他方が置換基を有していてもよい1価の芳香族基、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基(該炭化水素基は1価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)を表す。]
〔2〕 さらに、接着層を含み、
前記接着層は、前記式(I)で表される化合物を含む、〔1〕に記載の光学フィルタ。
〔3〕 〔1〕又は〔2〕に記載の光学フィルタと画像表示素子とを有する表示装置であって、
前記光学フィルタは、前記画像表示素子よりも視認側に配置される、表示装置。
〔4〕 液晶表示装置又は有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、〔3〕に記載の表示装置。 The present invention provides an optical filter and a display device described below.
[1] An optical filter containing the compound represented by the formula (I).
Figure 2020021063

[Where,
R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
T 1 and T 2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
Y 1 and Y 2 each represent a monovalent aromatic group optionally having a substituent, and the other one may represent a monovalent aromatic group optionally having a substituent, a hydrogen atom, A halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent (the hydrocarbon group is a group other than a monovalent aromatic group, and- CH 2 — may be replaced by —O— or —CO—. ]
[2] Furthermore, an adhesive layer is included,
The optical filter according to [1], wherein the adhesive layer includes a compound represented by the formula (I).
[3] A display device having the optical filter according to [1] or [2] and an image display element,
The display device, wherein the optical filter is disposed on a viewing side with respect to the image display element.
[4] The display according to [3], which is a liquid crystal display or an organic electroluminescence display.

本発明の光学フィルタは、表示装置に好適に用いることができる。   The optical filter of the present invention can be suitably used for a display device.

(a)及び(b)は、本発明の光学フィルタの一例を示す概略断面図である。(A) and (b) are schematic sectional views showing an example of the optical filter of the present invention. (a)は、有機EL表示装置の一例を示す概略断面図であり、(b)は、液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。(A) is a schematic sectional view showing an example of an organic EL display device, and (b) is a schematic sectional view showing an example of a liquid crystal display device.

(式(I)で表される化合物)
本発明の光学フィルタは、下記式(I)で表される化合物(以下、「化合物(I)」ということがある。)を含む。

Figure 2020021063

[式中、
〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びTは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びYは、いずれか一方が置換基を有していてもよい1価の芳香族基を表し、他方が置換基を有していてもよい1価の芳香族基、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基(該炭化水素基は1価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)を表す。] (Compound represented by Formula (I))
The optical filter of the present invention contains a compound represented by the following formula (I) (hereinafter, may be referred to as “compound (I)”).
Figure 2020021063

[Where,
R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
T 1 and T 2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
Y 1 and Y 2 each represent a monovalent aromatic group optionally having a substituent, and the other one may represent a monovalent aromatic group optionally having a substituent, a hydrogen atom, A halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent (the hydrocarbon group is a group other than a monovalent aromatic group, and- CH 2 — may be replaced by —O— or —CO—. ]

化合物(I)には、式(I)で表される表記以外にも、例えば下式で表されるような共鳴構造の互変異性体が存在する。化合物(I)はあらゆる互変異性体を含むものとする。

Figure 2020021063
In the compound (I), for example, in addition to the notation represented by the formula (I), tautomers having a resonance structure represented by the following formula exist. Compound (I) is intended to include all tautomers.
Figure 2020021063

式(I)中、R〜Rにおける炭素数1〜6の1価の炭化水素基としては、1価の飽和炭化水素基又は1価の不飽和炭化水素基が挙げられる。
1価の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、又はヘキシル基等の直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、又はネオペンチル基等の分岐鎖状アルキル基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、又はシクロヘキシル基等の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
1価の不飽和炭化水素基としては、芳香族炭化水素基であるフェニル基;ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、又はペンテニル基等の1価の不飽和脂肪族炭化水素基;シクロプロペニル基、シクロペンテニル基、又はシクロヘキセニル基等の1価の脂環式不飽和炭化水素基等が挙げられる。
In Formula (I), examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms in R 1 to R 4 include a monovalent saturated hydrocarbon group or a monovalent unsaturated hydrocarbon group.
Examples of the monovalent saturated hydrocarbon group include a linear alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group; an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. A branched alkyl group such as a group, an isopentyl group or a neopentyl group; and an alicyclic saturated hydrocarbon group such as a cyclopropyl group, a cyclopentyl group or a cyclohexyl group.
Examples of the monovalent unsaturated hydrocarbon group include a phenyl group which is an aromatic hydrocarbon group; a monovalent unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as a vinyl group, a propenyl group, a butenyl group, or a pentenyl group; a cyclopropenyl group; Examples thereof include a monovalent alicyclic unsaturated hydrocarbon group such as a cyclopentenyl group or a cyclohexenyl group.

式(I)中、R〜Rにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基の置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトロ基、スルファモイル基、スルホ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。
In the formula (I), examples of the substituent of the optionally substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms in R 1 to R 4 include a halogen atom, a hydroxy group, an amino group, and a nitro group. Group, sulfamoyl group, sulfo group and the like.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

式(I)中、T及びTにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基としては、R〜Rにおいて例示したものが挙げられる。 In Formula (I), examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent in T 1 and T 2 include those exemplified for R 1 to R 4 .

式(I)中、Y及びYは、いずれか一方が置換基を有していてもよい1価の芳香族基であればよく、両方がそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい1価の芳香族基であってもよい。Y及びYのうち、一方が1価の芳香族基である場合、他方は、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基であってもよく、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。 In the formula (I), one of Y 1 and Y 2 may be a monovalent aromatic group which may have a substituent, and both of them independently have a substituent. It may be a monovalent aromatic group which may be substituted. When one of Y 1 and Y 2 is a monovalent aromatic group, the other is a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. And —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.

及びYにおける置換基を有していてもよい1価の芳香族基としては、置換基を有していてもよい1価の芳香族炭化水素基、又は、置換基を有していてもよい1価の芳香族複素環基が挙げられる。1価の芳香族基は、単環構造であってもよく、縮合環構造であってもよい。
1価の芳香族炭化水素基の炭素数は、通常6〜30であり、6〜20であることが好ましく、6〜13であることがより好ましい。1価の芳香族炭化水素基としては、フェニル基;ナフチル基;アントラセニル基;フェナントリル基;ピレニル基;フルオレニル基等が挙げられる。また、1価の芳香族炭化水素基は、上記した基に含まれる水素がアルキル基(該アルキル基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい)、アリール基等の炭化水素基に置換された基であるものを含み、例えば、トリル基、キシリル基、メシチル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、プロピルビフェニル基等であってもよい。
The monovalent aromatic group which may have a substituent in Y 1 and Y 2 includes a monovalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or a monovalent aromatic hydrocarbon group which has a substituent. And a monovalent aromatic heterocyclic group which may be substituted. The monovalent aromatic group may have a single ring structure or a condensed ring structure.
The number of carbon atoms of the monovalent aromatic hydrocarbon group is usually from 6 to 30, preferably from 6 to 20, and more preferably from 6 to 13. Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, and a fluorenyl group. Further, in the monovalent aromatic hydrocarbon group, hydrogen contained in the above group is an alkyl group (-CH 2- contained in the alkyl group may be replaced by -O- or -CO-), Including those substituted with a hydrocarbon group such as an aryl group, for example, tolyl group, xylyl group, mesityl group, propylphenyl group, butylphenyl group, hexylphenyl group, biphenyl group, terphenyl group, propylbiphenyl And the like.

1価の芳香族複素環基の炭素数は、通常2〜30であり、4〜20であることが好ましく、4〜10であることがより好ましい。
1価の芳香族複素環基における複素原子は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等を表す。1価の芳香族複素環基としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、フラザン、トリアゾール、オキサジアゾール、イソオキサゾール、テトラゾール、ピラン、ピリジン、チオピラン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、インドリン、イソインドリン、クロメン、イソクロメン、クロマン、イソクロマン、ベンゾピラン、キノリン、イソキノリン、キノリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアジアゾール、インダゾール、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、キナゾリジン、シンノリン、フタラジン、プリン、プテリジン、カルバゾール、キサンテン、フェナントリジン、アクリジン、β-カルボリン、ペリミジン、フェナントロリン、チアントレン、フェノキサチイン、フェノキサジン、フェノチアジン、フェナジン等の複素環式化合物から水素原子を1個除いた基が挙げられる。また、1価の芳香族複素環基は、上記した基に含まれる水素がアルキル基、アリール等の炭化水素基に置換された基であるものを含み、例えば、N−ビフェニルカルバゾールから水素原子を1個除いた基であってもよい。
The carbon number of the monovalent aromatic heterocyclic group is usually 2 to 30, preferably 4 to 20, and more preferably 4 to 10.
The hetero atom in the monovalent aromatic heterocyclic group represents a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or the like. Examples of the monovalent aromatic heterocyclic group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, furazane, triazole, oxadiazole, isoxazole, tetrazole, pyran, pyridine, thiopyran, Pyridazine, pyrimidine, pyrazine, triazine, benzofuran, isobenzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, indoline, isoindoline, chromene, isochromene, chroman, isochroman, benzopyran, quinoline, isoquinoline, quinolidine, benzimidazole, benzothiazole , Benzothiadiazole, indazole, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, quinazolidin, cinnoline, phthalazine, A group obtained by removing one hydrogen atom from a heterocyclic compound such as phosphorus, pteridine, carbazole, xanthene, phenanthridine, acridine, β-carboline, perimidine, phenanthroline, thianthrene, phenoxatiin, phenoxazine, phenothiazine, or phenazine. No. Further, the monovalent aromatic heterocyclic group includes a group in which hydrogen contained in the above-mentioned group is substituted with a hydrocarbon group such as an alkyl group and an aryl group. For example, a hydrogen atom is converted from N-biphenylcarbazole. It may be a group excluding one.

置換基を有していてもよい1価の芳香族基における置換基としては、例えば上記したハロゲン原子;ヒドロキシ基;アミノ基;ニトロ基;アリールオキシ基;アリールカルボニル基;アリールオキシカルボニル基;カルボキシ基;スルホ基;カルバモイル基;スルファモイル基等が挙げられる。   Examples of the substituent in the optionally substituted monovalent aromatic group include the above-mentioned halogen atom; hydroxy group; amino group; nitro group; aryloxy group; arylcarbonyl group; Group; sulfo group; carbamoyl group; sulfamoyl group and the like.

式(I)中、Y及びYのうちのいずれかにおける、1価の芳香族基以外の炭化水素基であって、置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基としては、R〜Rにおいて例示した置換基を有していてもよい1価の飽和炭化水素基、置換基を有していてもよい1価の不飽和脂肪族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい1価の脂環式不飽和炭化水素基等が挙げられる。
該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、このような基としては、例えば−C(=O)CH、−C(=O)−OCHCHが挙げられる。
In Formula (I), any one of Y 1 and Y 2 , which is a hydrocarbon group other than a monovalent aromatic group and has 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the hydrocarbon group include monovalent saturated hydrocarbon groups which may have a substituent and monovalent unsaturated aliphatic hydrocarbons which may have a substituent, as exemplified in R 1 to R 4 . And a monovalent alicyclic unsaturated hydrocarbon group which may have a group or a substituent.
—CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—, and examples of such a group include —C (= O) CH 3 and —C (= O). —OCH 2 CH 3 is mentioned.

化合物(I)としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。

Figure 2020021063

Figure 2020021063

Figure 2020021063

Figure 2020021063
Examples of the compound (I) include a compound represented by the following formula.
Figure 2020021063

Figure 2020021063

Figure 2020021063

Figure 2020021063

化合物(I)は、表示装置等における光学フィルタに用いることができる。例えば光学フィルタをなす層に化合物(I)を添加することにより、580nm付近(575〜590nm)の光(好ましくは最大吸収波長が580nmの光)を吸収することができる光学フィルタとすることができる。これにより、光学フィルタを透過した光は、光学フィルタに入射する光に比較して、緑色の光と赤色の光との分離性を高め、緑色の光及び赤色の光の色純度を向上することが期待できる。そのため、化合物(I)を用いた光学フィルタを表示装置等に適用することにより、色純度を向上した表示装置を得ることができる。   Compound (I) can be used for an optical filter in a display device or the like. For example, by adding the compound (I) to a layer forming an optical filter, an optical filter capable of absorbing light near 580 nm (575 to 590 nm) (preferably light having a maximum absorption wavelength of 580 nm) can be obtained. . Thereby, the light transmitted through the optical filter can increase the separability of green light and red light, and improve the color purity of green light and red light, as compared with light incident on the optical filter. Can be expected. Therefore, a display device with improved color purity can be obtained by applying an optical filter using the compound (I) to a display device or the like.

(式(II)で表される化合物)
下記式(II)で表される化合物(以下、「化合物(II)」ということがある。)は、化合物(I)を製造するための中間体として用いることができる。

Figure 2020021063

[式中、
〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びTは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びXは、いずれか一方が群Aより選ばれるいずれかの基を表し、他方が群Aより選ばれるいずれかの基、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基(該炭化水素基は1価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)を表す。
群A:ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−B(OH)からなる群。] (Compound represented by Formula (II))
A compound represented by the following formula (II) (hereinafter sometimes referred to as “compound (II)”) can be used as an intermediate for producing compound (I).
Figure 2020021063

[Where,
R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
T 1 and T 2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
X 1 and X 2 each represent any group selected from group A, and the other represents any group selected from group A, a hydrogen atom or a carbon atom 1 which may have a substituent. To 6 monovalent hydrocarbon groups (the hydrocarbon group is a group other than a monovalent aromatic group, and -CH 2- contained in the hydrocarbon group is replaced by -O- or -CO-. May be used.)
Group A: a group consisting of a halogen atom, a borate group, and -B (OH) 2 . ]

化合物(II)には、式(II)で表される表記以外にも、例えば下式で表されるような共鳴構造の互変異性体が存在する。化合物(II)はあらゆる互変異性体を含むものとする。

Figure 2020021063
In the compound (II), in addition to the notation represented by the formula (II), for example, tautomers of a resonance structure represented by the following formula exist. Compound (II) is intended to include all tautomers.
Figure 2020021063

式(II)中、R〜R、T及びTにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。 In the formula (II), the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 4 , T 1 and T 2 includes those described above.

式(II)中、X及びXは、いずれか一方が群Aより選ばれるいずれかの基を表し、両方が群Aより選ばれるいずれかの基であってもよい。X及びXのうち、一方が群Aより選ばれるいずれかの基である場合、他方は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基であってもよく、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。 In the formula (II), one of X 1 and X 2 represents any group selected from Group A, and both may be any groups selected from Group A. When one of X 1 and X 2 is any group selected from group A, the other is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. And —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.

式(II)中、群Aにおけるハロゲン原子は、上記したものが挙げられる。
及びXにおけるホウ酸エステル基としては、下記式で表される基が挙げられる。下記式中、*は結合手を表す。

Figure 2020021063
In the formula (II), examples of the halogen atom in the group A include those described above.
Examples of the borate group for X 1 and X 2 include groups represented by the following formula. In the following formula, * represents a bond.
Figure 2020021063

式(II)中、X及びXのうちのいずれかにおける、1価の芳香族基以外の炭化水素基であって、置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基としては、R〜Rにおいて例示した1価の飽和炭化水素基、1価の不飽和脂肪族炭化水素基、又は1価の脂環式不飽和炭化水素基等が挙げられる。
該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、このような基としては、例えば−C(=O)CH、−C(=O)−OCHCHが挙げられる。
In the formula (II), any one of X 1 and X 2 , which is a hydrocarbon group other than a monovalent aromatic group and has 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the hydrocarbon group include monovalent saturated hydrocarbon groups, monovalent unsaturated aliphatic hydrocarbon groups, and monovalent alicyclic unsaturated hydrocarbon groups exemplified in R 1 to R 4 . .
—CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—, and examples of such a group include —C (= O) CH 3 and —C (= O). —OCH 2 CH 3 is mentioned.

化合物(II)としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。

Figure 2020021063
Examples of the compound (II) include a compound represented by the following formula.
Figure 2020021063

(化合物(I)の製造方法[1])
化合物(I)において、Y及びYの両方が置換基を有していてもよい1価の芳香族基である場合の化合物(下記式(Ia)で表される化合物(以下、「化合物(Ia)」ということがある。))の製造方法について説明する。
(Production method of compound (I) [1])
In the compound (I), when both Y 1 and Y 2 are monovalent aromatic groups which may have a substituent (compound represented by the following formula (Ia) (hereinafter referred to as “compound (Ia) "))).

Figure 2020021063

[式中、
〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びTは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
1a及びY2aは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい1価の芳香族基を表す。]
Figure 2020021063

[Where,
R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
T 1 and T 2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
Y 1a and Y 2a each independently represent a monovalent aromatic group which may have a substituent. ]

式(Ia)中、R〜R、T及びTにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
式(Ia)中のY1a及びY2aにおける置換基を有していてもよい1価の芳香族基は、上記した式(I)中のY及びYで表される置換基を有していてもよい1価の芳香族基として例示したものが挙げられる。
In the formula (Ia), the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 4 , T 1 and T 2 includes those described above.
The monovalent aromatic group which may have a substituent in Y 1a and Y 2a in the formula (Ia) has a substituent represented by Y 1 and Y 2 in the above formula (I). Examples of the monovalent aromatic group that may be used include those described above.

化合物(Ia)の製造方法は、式(IIa)で表される化合物と、式(III−1a)で表される化合物と、式(III−2a)で表される化合物とを、ニッケル触媒又はパラジウム触媒の存在下で反応させる工程を含んでいてもよい。   The method for producing the compound (Ia) includes the steps of: converting a compound represented by the formula (IIa), a compound represented by the formula (III-1a), and a compound represented by the formula (III-2a) into a nickel catalyst or A step of reacting in the presence of a palladium catalyst may be included.

Figure 2020021063

[式中、
〜Rは、前記と同じ意味を表す。
及びTは、前記と同じ意味を表す。
1a及びX2aは、それぞれ独立して、群Aより選ばれるいずれかの基を表す。
群A:ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−B(OH)からなる群。]
Figure 2020021063

[Where,
R 1 to R 4 represent the same meaning as described above.
T 1 and T 2 represent the same meaning as described above.
X 1a and X 2a each independently represent any group selected from Group A.
Group A: a group consisting of a halogen atom, a borate group, and -B (OH) 2 . ]

1a−Z (III−1a)
2a−Z (III−2a)
[式(III−1a)及び式(III−2a)中、
1a及びY2aは、前記と同じ意味を表す。
及びZは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−B(OH)、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基を表す。]
Y 1a -Z 1 (III-1a)
Y 2a -Z 2 (III-2a)
[In the formulas (III-1a) and (III-2a),
Y 1a and Y 2a have the same meaning as described above.
Z 1 and Z 2 each independently represent a halogen atom, a borate group, —B (OH) 2 , an alkylsulfonate group, or an arylsulfonate group. ]

式(IIa)中、R〜R、T及びTにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
式(IIa)中のX1a及びX2aの群Aにおけるハロゲン原子、ホウ酸エステル基は、上記したものが挙げられる。
式(III−1a)及び式(III−2a)中、Z及びZにおけるハロゲン原子、ホウ酸エステル基は、上記したものが挙げられる。
及びZにおけるアルキルスルホネート基としては、メタンスルホネート基、エタンスルホネート基、又はトリフルオロメタンスルホネート基等のハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキルスルホネート基が挙げられる。ハロゲン原子としては、上記で例示したものが挙げられる。
及びZにおけるアリールスルホネート基としては、ベンゼンスルホネート基、p−トルエンスルホネート基、ベンジルスルホネート基等の炭素数6〜18のアリールスルホネート基が挙げられる。
及びZは、それぞれ独立してハロゲン原子、ホウ酸エステル基、又は−B(OH)が好ましい。
In the formula (IIa), the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 4 , T 1 and T 2 includes those described above.
The halogen atom and the borate group in Group A of X 1a and X 2a in the formula (IIa) include those described above.
In the formulas (III-1a) and (III-2a), the halogen atom and the borate group in Z 1 and Z 2 are as described above.
Examples of the alkyl sulfonate group in Z 1 and Z 2, methanesulfonate group, ethanesulfonate group, or an alkyl sulfonate group halogen atom carbon atoms, which may have 1 to 6 such as a trifluoromethanesulfonate group. Examples of the halogen atom include those exemplified above.
Examples of the aryl sulfonate group in Z 1 and Z 2, a benzene sulfonate group, p- toluenesulfonate group, an aryl sulfonate group having 6 to 18 carbon atoms such as a benzyl sulfonate group.
Z 1 and Z 2 are each independently preferably a halogen atom, a borate group, or —B (OH) 2 .

式(IIa)で表される化合物としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。

Figure 2020021063
Examples of the compound represented by the formula (IIa) include a compound represented by the following formula.
Figure 2020021063

式(III−1a)及び式(III−2a)で表される化合物としては、2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノール、3,4,5−トリメトキシフェニルボロン酸、4−ヘキシルフェニルボロン酸、4−ヘキシルオキシフェニルボロン酸、4−(ジメチルアミノ)フェニルボロン酸、4−(ジフェニルアミノ)フェニルボロン酸、4’−プロピル−4−ビフェニルボロン酸、6−エトキシ−2−ナフタレンボロン酸、9,9−ジメチルフルオレン−2−ボロン酸、ベンゾ[b]チオフェン−2−ボロン酸、9−エチルカルバゾール−3−ボロン酸、9−(4−ビフェニリル)カルバゾール−3−ボロン酸ピナコール、4−tert−ブチルフェニルボロン酸、4−メトキシ−3,5−ジメチルフェニルボロン酸、4−カルボキシフェニルボロン酸ピナコール、1−チアントレニルボロン酸、4−メチル−1−ナフタレンボロン酸等を挙げることができる。   Compounds represented by the formulas (III-1a) and (III-2a) include 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborane-2) -Yl) phenol, 3,4,5-trimethoxyphenylboronic acid, 4-hexylphenylboronic acid, 4-hexyloxyphenylboronic acid, 4- (dimethylamino) phenylboronic acid, 4- (diphenylamino) phenylboron Acid, 4'-propyl-4-biphenylboronic acid, 6-ethoxy-2-naphthaleneboronic acid, 9,9-dimethylfluorene-2-boronic acid, benzo [b] thiophen-2-boronic acid, 9-ethylcarbazole -3-boronic acid, 9- (4-biphenylyl) carbazole-3-boronic acid pinacol, 4-tert-butylphenylboronic acid, 4-methoxy 3,5-dimethylphenyl boronic acid, 4-carboxyphenyl boronic acid pinacol, 1-Chi entrée alkenyl boronic acid, and 4-methyl-1-naphthalene boronic acid.

化合物(Ia)を製造する工程では、式(IIa)で表される化合物と、式(III−1a)で表される化合物と、式(III−2a)で表される化合物とを、パラジウム触媒存在下又はニッケル触媒存在下によりカップリングする方法が好ましく、パラジウム触媒存在下によるカップリング方法が最も好ましい。
パラジウム触媒としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)及びヘキサクロロパラジウム(IV)酸カリウム等が挙げられる。
ニッケル触媒としては、テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(0)、[ビス(1,5−シクロオクタジエン)]ニッケル(0)、[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ジクロロニッケル(II)、ビス(2,4−ペンタンジオナト)ニッケル(II)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(II)ジクロリド及びハロゲン化ニッケル(II)等が挙げられる。
パラジウム触媒又はニッケル触媒の使用量は、式(IIa)で表される化合物1モルに対して、0.1モル%以上50モル%以下であることが好ましい。
In the step of producing the compound (Ia), a compound represented by the formula (IIa), a compound represented by the formula (III-1a), and a compound represented by the formula (III-2a) are treated with a palladium catalyst A coupling method in the presence or in the presence of a nickel catalyst is preferred, and a coupling method in the presence of a palladium catalyst is most preferred.
Examples of the palladium catalyst include tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), palladium (II) acetate, dichlorobistriphenylphosphinepalladium (II) and potassium hexachloropalladium (IV). And the like.
As the nickel catalyst, tetrakis (triphenylphosphine) nickel (0), [bis (1,5-cyclooctadiene)] nickel (0), [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] dichloronickel (II) ), Bis (2,4-pentanedionato) nickel (II), bis (triphenylphosphine) nickel (II) dichloride, nickel (II) halide and the like.
The amount of the palladium catalyst or nickel catalyst used is preferably 0.1 mol% or more and 50 mol% or less based on 1 mol of the compound represented by the formula (IIa).

式(III−1a)で表される化合物の使用量は、式(IIa)で表される化合物1モルに対して、1モル以上5モル以下であることが好ましく、1.1モル以上3モル以下であることがより好ましい。
式(III−2a)で表される化合物の使用量は、式(IIa)で表される化合物1モルに対して、1モル以上5モル以下であることが好ましく、1.1モル以上3モル以下であることがより好ましい。
The amount of the compound represented by the formula (III-1a) to be used is preferably 1 mol or more and 5 mol or less, more preferably 1.1 mol or more and 3 mol, per 1 mol of the compound represented by the formula (IIa). It is more preferred that:
The amount of the compound represented by the formula (III-2a) to be used is preferably from 1 mol to 5 mol, and more preferably from 1.1 mol to 3 mol, per 1 mol of the compound represented by the formula (IIa). It is more preferred that:

反応温度は、30℃〜180℃であることが好ましく、80℃〜140℃であることがより好ましい。反応時間は、1時間〜20時間であることが好ましく、3時間〜15時間であることがより好ましい。   The reaction temperature is preferably 30C to 180C, more preferably 80C to 140C. The reaction time is preferably from 1 hour to 20 hours, more preferably from 3 hours to 15 hours.

反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;ヘキサン、シクロヘキサン、デカリン等の炭化水素溶媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール溶媒;ニトロベンゼン等のニトロ炭化水素溶媒;メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、1−メチル−2−ピロリドン等のアミド溶媒;等が挙げられ、これらを混合して使用してもよい。これらのうち、テトラヒドロフランが好ましい。また、パラジウム触媒を用いたカップリング反応のような水との2相系又は混合系での反応で行うこともできる。有機溶媒の使用量は、式(IIa)で表される化合物1質量部に対して、10質量部以上200質量部以下であることが好ましく、20質量部以上150質量部以下であることがより好ましい。   The reaction is preferably performed in an organic solvent from the viewpoint of yield. Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane and decalin; ether solvents such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and dimethoxyethane; chlorobenzene, dichlorobenzene, chloroform and the like. Halogenated hydrocarbon solvents; alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol and butanol; nitrohydrocarbon solvents such as nitrobenzene; ketone solvents such as methyl isobutyl ketone; N, N-dimethylformamide, 1-methyl-2-pyrrolidone Amide solvent; and these may be used as a mixture. Of these, tetrahydrofuran is preferred. Further, the reaction can be carried out by a two-phase or mixed reaction with water, such as a coupling reaction using a palladium catalyst. The amount of the organic solvent to be used is preferably 10 parts by mass or more and 200 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or more and 150 parts by mass or less with respect to 1 part by mass of the compound represented by the formula (IIa). preferable.

また、式(IIa)で表される化合物、式(III−1a)で表される化合物及び式(III−2a)で表される化合物の反応には、塩基を添加してもよい。該塩基は、反応に用いる溶媒に十分に溶解するものが好ましい。塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、リン酸三カリウム等の無機塩基;ブチルリチウム、カリウム−tert−ブトキシド、ナトリウム−tert−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、フッ化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム等の有機塩基が挙げられる。塩基を混合する方法としては、反応液をアルゴンや窒素等の不活性雰囲気下で撹拌しながら、塩基の溶液を添加する方法や、塩基の溶液に反応液を添加する方法が挙げられる。
塩基の使用量は、式(IIa)で表される化合物1モルに対して、2モル以上20モル以下であることが好ましい。
In addition, a base may be added to the reaction of the compound represented by the formula (IIa), the compound represented by the formula (III-1a), and the compound represented by the formula (III-2a). The base is preferably one that sufficiently dissolves in the solvent used for the reaction. Examples of the base include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, potassium fluoride, cesium fluoride, tripotassium phosphate; butyllithium, potassium-tert-butoxide, sodium-tert-butoxide, sodium methoxide, Organic bases such as sodium ethoxide, tetrabutylammonium fluoride, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, tetraethylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide are exemplified. Examples of the method of mixing the base include a method of adding a base solution while stirring the reaction solution under an inert atmosphere such as argon or nitrogen, and a method of adding the reaction solution to the base solution.
The amount of the base to be used is preferably 2 mol or more and 20 mol or less based on 1 mol of the compound represented by the formula (IIa).

反応混合物から目的化合物である化合物(Ia)を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用できる。例えば冷却後、析出した結晶を濾取する方法が挙げられる。濾取した結晶は、水等で洗浄し、次いで乾燥することが好ましい。また、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等の公知の手法によってさらに精製してもよい。   The method for obtaining the target compound (Ia) from the reaction mixture is not particularly limited, and various known methods can be employed. For example, there is a method in which the precipitated crystals are collected by filtration after cooling. The crystals collected by filtration are preferably washed with water or the like and then dried. Further, if necessary, it may be further purified by a known method such as recrystallization, column chromatography and the like.

(化合物(I)の製造方法[2])
化合物(I)において、Yが置換基を有していてもよい1価の芳香族基であり、Yが水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基(該炭化水素基は1価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)である場合の化合物(下記式(Ib)で表される化合物(以下、「化合物(Ib)」ということがある。))の製造方法について説明する。
(Method for producing compound (I) [2])
In the compound (I), Y 1 is a monovalent aromatic group which may have a substituent, and Y 2 is a hydrogen atom or a monovalent C 1 to C 6 which may have a substituent. (The hydrocarbon group is a group other than a monovalent aromatic group, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.) The method for producing the compound (wherein the compound is represented by the following formula (Ib) (hereinafter sometimes referred to as “compound (Ib)”)) is described.

Figure 2020021063

[式中、
〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びTは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
1bは、置換基を有していてもよい1価の芳香族基を表す。
2bは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基(該炭化水素基は1価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)を表す。]
Figure 2020021063

[Where,
R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
T 1 and T 2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
Y 1b represents a monovalent aromatic group which may have a substituent.
X 2b represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent (the hydrocarbon group is a group other than a monovalent aromatic group, and the hydrocarbon group -CH 2 contained in the - represents may be replaced by -O- or -CO-).. ]

式(Ib)中、R〜R、T及びTにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記した式(I)中のR〜Rで例示したものが挙げられる。
式(Ib)中、Y1bにおける置換基を有していてもよい1価の芳香族基は、上記した式(I)中のY及びYで例示したものが挙げられる。
式(Ib)中、X2bにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記した式(I)中のR〜Rで例示したものが挙げられる。
In the formula (Ib), the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 4 , T 1 and T 2 is represented by R in the above formula (I) include those exemplified in 1 to R 4.
In the formula (Ib), examples of the optionally substituted monovalent aromatic group for Y 1b include those exemplified for Y 1 and Y 2 in the above formula (I).
In the formula (Ib), the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent in X 2b is exemplified by R 1 to R 4 in the above formula (I). No.

化合物(Ib)の製造方法は、式(IIb)で表される化合物と、式(III−1b)で表される化合物とを、ニッケル触媒又はパラジウム触媒の存在下で反応させる工程を含んでいてもよい。   The method for producing the compound (Ib) includes a step of reacting the compound represented by the formula (IIb) with the compound represented by the formula (III-1b) in the presence of a nickel catalyst or a palladium catalyst. Is also good.

Figure 2020021063

[式中、
〜Rは、前記と同じ意味を表す。
及びTは、前記と同じ意味を表す。
1bは、群Aより選ばれるいずれかの基を表す。
群A:ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、及び−B(OH)からなる群。
2bは、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020021063

[Where,
R 1 to R 4 represent the same meaning as described above.
T 1 and T 2 represent the same meaning as described above.
X 1b represents any group selected from Group A.
Group A: a group consisting of a halogen atom, a borate group, and -B (OH) 2 .
X 2b has the same meaning as described above. ]

1b−Z (III−1b)
[式中、
1bは、前記と同じ意味を表す。
は、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−B(OH)、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基を表す。]
Y 1b -Z 1 (III-1b)
[Where,
Y 1b has the same meaning as described above.
Z 1 represents a halogen atom, a borate group, —B (OH) 2 , an alkylsulfonate group, or an arylsulfonate group. ]

式(IIb)及び式(III−1b)中、R〜R、T及びT、X2bにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記した式(I)中のR〜Rで例示したものが挙げられる。
式(IIb)及び式(III−1b)中、Y1bにおける置換基を有していてもよい1価の芳香族基は、上記した式(I)中のY及びYで例示したものが挙げられる。
式(IIb)中、X1bにおけるハロゲン原子、ホウ酸エステル基は、上記したものが挙げられる。
In the formulas (IIb) and (III-1b), the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 4 , T 1 and T 2 , and X 2b is And those exemplified for R 1 to R 4 in the above formula (I).
In the formula (IIb) and the formula (III-1b), the optionally substituted monovalent aromatic group for Y 1b is exemplified by the above-mentioned Y 1 and Y 2 in the formula (I). Is mentioned.
In the formula (IIb), the halogen atom and the borate group for X 1b include those described above.

式(IIb)で表される化合物としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。

Figure 2020021063
Examples of the compound represented by the formula (IIb) include a compound represented by the following formula.
Figure 2020021063

式(III−1b)で表される化合物としては、上記した式(III−1a)及び式(III−2a)で表される化合物に例示した化合物が挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (III-1b) include the compounds exemplified as the compounds represented by the above formulas (III-1a) and (III-2a).

化合物(Ib)を製造する工程では、式(IIb)で表される化合物と、式(III−1b)で表される化合物とを、パラジウム触媒存在下又はニッケル触媒存在下によりカップリングする方法が好ましく、パラジウム触媒存在下によるカップリング方法が最も好ましい。パラジウム触媒及びニッケル触媒としては上記したものが挙げられる。   In the step of producing the compound (Ib), a method of coupling a compound represented by the formula (IIb) and a compound represented by the formula (III-1b) in the presence of a palladium catalyst or a nickel catalyst is known. Preferably, a coupling method in the presence of a palladium catalyst is most preferable. The palladium catalyst and the nickel catalyst include those described above.

式(III−1b)で表される化合物の使用量は、式(IIb)で表される化合物1モルに対して、1モル以上5モル以下であることが好ましく、1.1モル以上3モル以下であることがより好ましい。
パラジウム触媒又はニッケル触媒の使用量は、式(IIb)で表される化合物1モルに対して、0.1モル%以上50モル%以下であることが好ましい。
The amount of the compound represented by the formula (III-1b) is preferably 1 mol or more and 5 mol or less, more preferably 1.1 mol or more and 3 mol or less, per 1 mol of the compound represented by the formula (IIb). It is more preferred that:
The use amount of the palladium catalyst or the nickel catalyst is preferably 0.1 mol% or more and 50 mol% or less based on 1 mol of the compound represented by the formula (IIb).

反応温度は、30℃〜180℃であることが好ましく、80℃〜140℃であることがより好ましい。反応時間は、1時間〜20時間であることが好ましく、3時間〜15時間であることがより好ましい。   The reaction temperature is preferably 30C to 180C, more preferably 80C to 140C. The reaction time is preferably from 1 hour to 20 hours, more preferably from 3 hours to 15 hours.

反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、上記で例示したものが挙げられる。有機溶媒の使用量は、式(IIb)で表される化合物1質量部に対して、10質量部以上200質量部以下であることが好ましく、20質量部以上150質量部以下であることがより好ましい。   The reaction is preferably performed in an organic solvent from the viewpoint of yield. Examples of the organic solvent include those exemplified above. The amount of the organic solvent to be used is preferably 10 parts by mass or more and 200 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or more and 150 parts by mass or less with respect to 1 part by mass of the compound represented by the formula (IIb). preferable.

反応混合物から目的化合物である化合物(Ib)を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法が挙げられる。   The method for obtaining the target compound (Ib) from the reaction mixture is not particularly limited, and various known methods can be adopted, for example, the above-described methods.

(化合物(I)の製造方法[3])
化合物(I)の製造方法は、下記式(IV)で表されるスクアリン酸(3,4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン)又は式(IV−1)で表される化合物(以下、化合物(IV−1)という場合がある。)と、下記式(V1)で表される化合物(以下、「ピロール系化合物(V1)」ということがある。)と、下記式(V2)で表される化合物(以下、「ピロール系化合物(V2)」ということがある。)とを反応させる工程を含んでいてもよい。
(Method for producing compound (I) [3])
The production method of the compound (I) is based on the following method: (3,4-dihydroxy-3-cyclobutene-1,2-dione) represented by the formula (IV) or the compound represented by the formula (IV-1) ( Hereinafter, the compound may be referred to as a compound (IV-1).), A compound represented by the following formula (V1) (hereinafter, sometimes referred to as a "pyrrole compound (V1)"), and a compound represented by the following formula (V2). (Hereinafter, may be referred to as “pyrrole-based compound (V2)”).

Figure 2020021063

[式(IV−1)、式(V1)及び式(V2)中、
〜Rは、前記と同じ意味を表す。
及びYは、いずれか一方が置換基を有していてもよい1価の芳香族基を表し、他方が置換基を有していてもよい1価の芳香族基、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基(該炭化水素基は1価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)を表す。
及びTは、前記と同じ意味を表す。
11及びR12は、それぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル基を表す。]
Figure 2020021063

[In the formulas (IV-1), (V1) and (V2),
R 1 to R 4 represent the same meaning as described above.
Y 1 and Y 2 each represent a monovalent aromatic group optionally having a substituent, and the other one may represent a monovalent aromatic group optionally having a substituent, a hydrogen atom, A halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent (the hydrocarbon group is a group other than a monovalent aromatic group, and- CH 2 — may be replaced by —O— or —CO—.
T 1 and T 2 represent the same meaning as described above.
R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]

式(V1)及び式(V2)中、R〜R、T及びTにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
式(V1)及び式(V2)中、Y及びYにおける置換基を有していてもよい1価の芳香族基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
In the formulas (V1) and (V2), the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 4 , T 1 and T 2 is as described above. No.
In the formulas (V1) and (V2), a monovalent aromatic group which may have a substituent in Y 1 and Y 2 , a halogen atom, and a carbon atom having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the monovalent hydrocarbon group include those described above.

ピロール系化合物(V1)及びピロール系化合物(V2)としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。

Figure 2020021063

Figure 2020021063
Examples of the pyrrole compound (V1) and the pyrrole compound (V2) include compounds represented by the following formulas.
Figure 2020021063

Figure 2020021063

化合物(I)を製造する工程では、スクアリン酸と、ピロール系化合物(V1)と、ピロール系化合物(V2)とを、有機溶媒中、脱水縮合する方法が好ましい。有機溶媒としては、上記したものが挙げられ、ブタノール及びトルエンの混合溶媒が好ましい。   In the step of producing the compound (I), a method in which squaric acid, a pyrrole compound (V1), and a pyrrole compound (V2) are dehydrated and condensed in an organic solvent is preferable. Examples of the organic solvent include those described above, and a mixed solvent of butanol and toluene is preferable.

スクアリン酸とピロール系化合物(V1)とピロール系化合物(V2)とを反応させる工程でのスクアリン酸の使用量は、ピロール系化合物(V1)及びピロール系化合物(V2)の合計1モルに対して、0.45モル以上0.6モル以下であることが好ましく、0.47モル以上0.51モル以下であることがより好ましい。
ピロール系化合物(V2)の使用量は、ピロール系化合物(V1)1モルに対して、1モル以上1.5モル以下であることが好ましい。
The amount of squaric acid used in the step of reacting squaric acid with the pyrrole compound (V1) and the pyrrole compound (V2) is based on 1 mol of the pyrrole compound (V1) and the pyrrole compound (V2) in total. , 0.45 mol or more and 0.6 mol or less, more preferably 0.47 mol or more and 0.51 mol or less.
The amount of the pyrrole compound (V2) to be used is preferably 1 mol or more and 1.5 mol or less per 1 mol of the pyrrole compound (V1).

式(IV)で表される化合物又は化合物(IV−1)と、ピロール系化合物(V1)と、ピロール系化合物(V2)との反応は、式(IV)で表される化合物又は化合物(IV−1)とピロール系化合物(V1)とピロール系化合物(V2)とを混合することにより行う。反応は、式(IV)で表される化合物又は化合物(IV−1)とピロール系化合物(V1)とピロール系化合物(V2)とを全て一緒に反応させてもよい。また、式(IV)で表される化合物又は化合物(IV−1)とピロール系化合物(1)とを先に混合させ、その後ピロール系化合物(2)を混合する方法であってもよいし、式(IV)で表される化合物又は化合物(IV−1)とピロール系化合物(2)とを先に混合させ、その後ピロール系化合物(1)を混合する方法であってもよい。   The reaction between the compound represented by the formula (IV) or the compound (IV-1), the pyrrole-based compound (V1), and the pyrrole-based compound (V2) is performed by the compound represented by the formula (IV) or the compound (IV -1), the pyrrole compound (V1) and the pyrrole compound (V2). In the reaction, the compound represented by the formula (IV) or the compound (IV-1), the pyrrole compound (V1), and the pyrrole compound (V2) may all be reacted together. Further, a method of mixing the compound represented by the formula (IV) or the compound (IV-1) with the pyrrole compound (1) first, and then mixing the pyrrole compound (2), A method in which the compound represented by the formula (IV) or the compound (IV-1) and the pyrrole compound (2) are mixed first, and then the pyrrole compound (1) may be mixed.

反応温度は、30℃〜180℃であることが好ましく、80℃〜140℃であることがより好ましい。反応時間は、1時間〜20時間であることが好ましく、3時間〜15時間であることがより好ましい。   The reaction temperature is preferably 30C to 180C, more preferably 80C to 140C. The reaction time is preferably from 1 hour to 20 hours, more preferably from 3 hours to 15 hours.

反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、上記で例示したものが挙げられる。有機溶媒の使用量は、スクアリン酸1質量部に対して、5質量部以上200質量部以下であることが好ましく、8質量部以上160質量部以下であることがより好ましい。   The reaction is preferably performed in an organic solvent from the viewpoint of yield. Examples of the organic solvent include those exemplified above. The amount of the organic solvent to be used is preferably 5 parts by mass or more and 200 parts by mass or less, more preferably 8 parts by mass or more and 160 parts by mass or less with respect to 1 part by mass of squaric acid.

反応混合物から目的化合物である化合物(I)を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法が挙げられる。   The method for obtaining the target compound (I) from the reaction mixture is not particularly limited, and various known methods can be employed, and examples thereof include the methods described above.

ピロール系化合物(V1)は、例えば、下記式(V1’)(以下、「ピロール系化合物(V1’)」ということがある。)と、ハロゲン化剤とを反応させた後、この反応生成物と下記式(III−1)で表される化合物(以下、「化合物(III−1)」ということがある。)とを反応させることによって製造することができる。また、ピロール系化合物(V2)は、例えば、下記式(V2’)で表される化合物(以下、「ピロール系化合物(V2’)」ということがある。)と、ハロゲン化剤とを反応させた後、この反応生成物と下記式(III−2)で表される化合物(以下、「化合物(III−2)」ということがある。)とを反応させることによって製造することができる。また、所望の位置に化合物(III−1)及び化合物(III−2)を反応させるため、(V1’)及び(V2’)は反応させたくない位置にエトキシカルボニル基のような保護基を有していてもよく、反応後に脱保護することにより、所望のピロール系化合物(V1)及びピロール系化合物(V2)を製造することができる。   The pyrrole compound (V1) is obtained by reacting, for example, the following formula (V1 ′) (hereinafter sometimes referred to as “pyrrole compound (V1 ′)”) with a halogenating agent, And a compound represented by the following formula (III-1) (hereinafter sometimes referred to as “compound (III-1)”). The pyrrole-based compound (V2) is obtained by reacting, for example, a compound represented by the following formula (V2 ′) (hereinafter, sometimes referred to as “pyrrole-based compound (V2 ′)”) with a halogenating agent. Then, the reaction product can be produced by reacting the reaction product with a compound represented by the following formula (III-2) (hereinafter, sometimes referred to as “compound (III-2)”). Further, in order to react compound (III-1) and compound (III-2) at desired positions, (V1 ′) and (V2 ′) have a protecting group such as an ethoxycarbonyl group at a position not to be reacted. The desired pyrrole compound (V1) and the desired pyrrole compound (V2) can be produced by deprotection after the reaction.

Figure 2020021063

[式(V1’)及び式(V2’)中、
〜Rは、前記と同じ意味を表す。
及びTは、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020021063

[In the formulas (V1 ′) and (V2 ′),
R 1 to R 4 represent the same meaning as described above.
T 1 and T 2 represent the same meaning as described above. ]

式(V1’)及び式(V2’)中のR〜R、T及びTにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。 The monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 4 , T 1 and T 2 in the formulas (V1 ′) and (V2 ′) is as described above. Things.

−Z (III−1)
−Z (III−2)
[式(III−1)及び式(III−2)中、
及びYは、前記と同じ意味を表す。
及びZは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−B(OH)、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基を表す。]
Y 1 -Z 1 (III-1)
Y 2 -Z 2 (III-2)
[In the formulas (III-1) and (III-2),
Y 1 and Y 2 represent the same meaning as described above.
Z 1 and Z 2 each independently represent a halogen atom, a borate group, —B (OH) 2 , an alkylsulfonate group, or an arylsulfonate group. ]

式(III−1)及び式(III−2)中、Y及びYにおける置換基を有していてもよい1価の芳香族基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
式(III−1)及び式(III−2)中、Z及びZにおけるハロゲン原子、ホウ酸エステル基、アルキルスルホネート基、又はアリールスルホネート基は、上記したものが挙げられる。
In the formulas (III-1) and (III-2), a monovalent aromatic group optionally having a substituent in Y 1 and Y 2 , a halogen atom, and a carbon atom optionally having a substituent Examples of the monovalent hydrocarbon group of Formulas 1 to 6 include those described above.
In the formulas (III-1) and (III-2), the halogen atom, the borate ester group, the alkylsulfonate group, or the arylsulfonate group in Z 1 and Z 2 include those described above.

ピロール系化合物(V1’)及びピロール系化合物(V2’)としては、例えば2,4−ジメチルピロールが挙げられる。
化合物(III−1)及び化合物(III−2)としては、例えば4−ヘキシルフェニルボロン酸等が挙げられる。
Examples of the pyrrole compound (V1 ′) and the pyrrole compound (V2 ′) include 2,4-dimethylpyrrole.
Examples of the compound (III-1) and the compound (III-2) include 4-hexylphenylboronic acid.

ハロゲン化剤としては、N−ハロゲンスクシンイミド(NXS)として表される、N−フルオロスクシンイミド(NFS)、N−クロロスクシンイミド(NCS)、N−ブロモスクシンイミド(NBS)、N−ヨードスクシンイミド(NIS)、N−クロロフタル酸イミド、N−クロロジエチルアミン、N−クロロジブチルアミン、N−クロロシクロへキシルアミン、塩素、ヨウドトリクロライド、三塩化アルミ、塩化テルル(IV)、塩化モリブデン、塩化アンチモン、塩化鉄(III)、四塩化チタン、五塩化リン、塩化チオニル、N−ブロモフタル酸イミド、N−ブロモジトリフルオロメチルアミン、臭素、1,2−ジブロモエタン、三臭化ホウ素、臭化銅、臭化銀、臭化−t−ブチル、酸化臭素等が挙げられ、N−ハロゲンスクシンイミドが好ましい。   As the halogenating agent, N-fluorosuccinimide (NFS), N-chlorosuccinimide (NCS), N-bromosuccinimide (NBS), N-iodosuccinimide (NIS) represented as N-halogen succinimide (NXS), N-chlorophthalimide, N-chlorodiethylamine, N-chlorodibutylamine, N-chlorocyclohexylamine, chlorine, iodotrichloride, aluminum trichloride, tellurium (IV) chloride, molybdenum chloride, antimony chloride, iron (III) chloride , Titanium tetrachloride, phosphorus pentachloride, thionyl chloride, N-bromophthalimide, N-bromoditrifluoromethylamine, bromine, 1,2-dibromoethane, boron tribromide, copper bromide, silver bromide, bromide -T-butyl, bromine oxide and the like; Bromide is preferred.

ピロール系化合物(V1)及びピロール系化合物(V2)を製造する工程において、ピロール系化合物(V1’)又はピロール系化合物(V2’)とハロゲン化剤とを反応させて得られる反応生成物と、化合物(III−1)又は化合物(III−2)との反応は、パラジウム触媒存在下又はニッケル触媒存在下によりカップリングする方法が好ましく、パラジウム触媒存在下によるカップリング方法が最も好ましい。パラジウム触媒及びニッケル触媒としては、上記したものが挙げられる。   In the step of producing the pyrrole compound (V1) and the pyrrole compound (V2), a reaction product obtained by reacting the pyrrole compound (V1 ′) or the pyrrole compound (V2 ′) with a halogenating agent; The reaction with compound (III-1) or compound (III-2) is preferably performed in the presence of a palladium catalyst or in the presence of a nickel catalyst, and most preferably in the presence of a palladium catalyst. Examples of the palladium catalyst and the nickel catalyst include those described above.

ピロール系化合物(V1’)又はピロール系化合物(V2’)とハロゲン化剤との反応生成物と、化合物(III−1)又は化合物(III−2)との反応をパラジウム触媒存在下で行い、ハロゲン化剤によって反応生成物に導入された置換基がハロゲン原子である場合、化合物(III−1)におけるZ又は化合物(III−2)におけるZは、それぞれ独立して、ホウ酸エステル基又は−B(OH)であることが好ましい。上記反応をニッケル触媒存在下で行い、ハロゲン化剤によって反応生成物に導入された置換基がハロゲン原子である場合、Z及びZはそれぞれ独立してハロゲン原子であることが好ましい。また、上記反応をパラジウム触媒存在下で行い、ハロゲン化剤によって反応生成物に導入された置換基を常法によりホウ酸エステル基又は−B(OH)に変換した場合、Z及びZはそれぞれ独立してアルキルスルホネート基又はアリールスルホネート基であることが好ましい。 A reaction product of a pyrrole compound (V1 ′) or a pyrrole compound (V2 ′) with a halogenating agent, and a reaction of the compound (III-1) or the compound (III-2) in the presence of a palladium catalyst; When the substituent introduced into the reaction product by the halogenating agent is a halogen atom, Z 1 in compound (III-1) or Z 2 in compound (III-2) is each independently a borate ester group Alternatively, it is preferably -B (OH) 2 . When the above reaction is carried out in the presence of a nickel catalyst, and the substituent introduced into the reaction product by the halogenating agent is a halogen atom, Z 1 and Z 2 are preferably each independently a halogen atom. When the above reaction is carried out in the presence of a palladium catalyst and the substituent introduced into the reaction product by the halogenating agent is converted into a borate group or -B (OH) 2 by a conventional method, Z 1 and Z 2 Is preferably each independently an alkylsulfonate group or an arylsulfonate group.

ピロール系化合物(V1’)又はピロール系化合物(V2’)とハロゲン化剤との反応は、ピロール系化合物(V1’)又はピロール系化合物(V2’)1モルに対して、ハロゲン化剤が1モル以上5モル以下であることが好ましく、1.05モル以上3モル以下であることがより好ましい。   The reaction between the pyrrole compound (V1 ′) or the pyrrole compound (V2 ′) and the halogenating agent is performed by reacting the halogenating agent with 1 mole of the pyrrole compound (V1 ′) or the pyrrole compound (V2 ′). It is preferably from 5 mol to 5 mol, more preferably from 1.05 mol to 3 mol.

反応温度は、−80℃〜溶媒の沸点であることが好ましい。反応時間は、1時間〜20時間であることが好ましく、3時間〜15時間であることがより好ましい。   The reaction temperature is preferably from -80 ° C to the boiling point of the solvent. The reaction time is preferably from 1 hour to 20 hours, more preferably from 3 hours to 15 hours.

反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、上記で例示したものが挙げられる。有機溶媒の使用量は、ピロール系化合物(V1’)又はピロール系化合物(V2’)1質量部に対して、5質量部以上100質量部以下であることが好ましく、8質量部以上50質量部以下であることがより好ましい。   The reaction is preferably performed in an organic solvent from the viewpoint of yield. Examples of the organic solvent include those exemplified above. The amount of the organic solvent to be used is preferably 5 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, more preferably 8 parts by mass or more and 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the pyrrole compound (V1 ′) or the pyrrole compound (V2 ′). It is more preferred that:

反応混合物から目的化合物であるピロール系化合物(V1’)又はピロール系化合物(V2’)とハロゲン化剤との反応生成物を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法が挙げられる。   The method for obtaining the reaction product of the pyrrole compound (V1 ′) or the pyrrole compound (V2 ′) as the target compound from the reaction mixture and the halogenating agent is not particularly limited, and various known methods can be adopted. For example, the method described above can be used.

ピロール系化合物(V1’)とハロゲン化剤との反応生成物及び化合物(III−1)の反応において、化合物(III−1)の使用量はピロール系化合物(V1’)1モルに対して1モル以上5モル以下であることが好ましく、1.1モル以上3モル以下であることがより好ましい。
ピロール系化合物(V2’)とハロゲン化剤との反応生成物及び化合物(III−2)の反応において、化合物(III−2)の使用量は、ピロール系化合物(V2’)1モルに対して1モル以上5モル以下であることが好ましく、1.1モル以上3モル以下であることがより好ましい。
In the reaction of the reaction product of the pyrrole compound (V1 ′) with the halogenating agent and the compound (III-1), the amount of the compound (III-1) to be used is 1 to 1 mol of the pyrrole compound (V1 ′). It is preferably from 5 mol to 5 mol, and more preferably from 1.1 mol to 3 mol.
In the reaction of the reaction product of the pyrrole compound (V2 ') with the halogenating agent and the compound (III-2), the amount of the compound (III-2) used is based on 1 mol of the pyrrole compound (V2'). It is preferably from 1 mol to 5 mol, more preferably from 1.1 mol to 3 mol.

反応温度は、30℃〜180℃であることが好ましく、80℃〜140℃であることがより好ましい。反応時間は、1時間〜20時間であることが好ましく、3時間〜15時間であることがより好ましい。   The reaction temperature is preferably 30C to 180C, more preferably 80C to 140C. The reaction time is preferably from 1 hour to 20 hours, more preferably from 3 hours to 15 hours.

反応混合物から目的化合物であるピロール系化合物(V1)又はピロール系化合物(V2)を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法が挙げられる。   The method for obtaining the pyrrole-based compound (V1) or the pyrrole-based compound (V2) as the target compound from the reaction mixture is not particularly limited, and various known techniques can be employed, and examples thereof include the above-described methods.

(化合物(I)の製造方法[4])
化合物(I)において、Yが置換基を有していてもよい1価の芳香族基であり、Yがハロゲン原子である場合の化合物(以下、「化合物(Ic)」ということがある。))の製造方法について説明する。
(Production method of compound (I) [4])
In the compound (I), a compound in which Y 1 is a monovalent aromatic group which may have a substituent and Y 2 is a halogen atom (hereinafter, may be referred to as “compound (Ic)” ))) Will be described.

化合物(Ic)は、上記した式(Ib)で表される化合物のX2bが水素原子である化合物において、このX2bで表される水素原子をハロゲン化することによって製造することができる。ハロゲン化は、例えば上記したハロゲン化剤を用いて行うことができる。 Compound (Ic) can be produced by halogenating the hydrogen atom represented by X 2b in the compound represented by the above formula (Ib) wherein X 2b is a hydrogen atom. Halogenation can be performed, for example, using the above-mentioned halogenating agent.

(化合物(II)の製造方法(1))
化合物(II)の製造方法は、例えば、化合物(II)が式(II)においてX及びXがハロゲン原子である化合物(以下、「化合物(IIc)」ということがある。)の場合は、上記した式(IV)で表されるスクアリン酸と、上記したピロール系化合物(V1’)と、ピロール系化合物(V2’)とを反応させて、下記式(II’)で表される化合物(以下、「化合物(II’)」)を得る工程と、化合物(II’)とハロゲン化剤とを反応させて化合物(IIc)を得る工程とを含むことができる。

Figure 2020021063

[式中、
〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びTは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。] (Production method (1) of compound (II))
The production method of the compound (II) is, for example, when the compound (II) is a compound of the formula (II) wherein X 1 and X 2 are halogen atoms (hereinafter, sometimes referred to as “compound (IIc)”). Reacting the squaric acid represented by the above formula (IV), the pyrrole compound (V1 ′), and the pyrrole compound (V2 ′) to form a compound represented by the following formula (II ′) (Hereinafter, “compound (II ′)”) and a step of reacting compound (II ′) with a halogenating agent to obtain compound (IIc).
Figure 2020021063

[Where,
R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
T 1 and T 2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. ]

式(II’)中、R〜R、T及びTにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基は、上記したものが挙げられる。
ハロゲン化剤としては、上記したものが挙げられる。
In the formula (II ′), the monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent in R 1 to R 4 , T 1 and T 2 includes those described above.
Examples of the halogenating agent include those described above.

上記化合物(II’)としては、例えば下式で表される化合物が挙げられる。

Figure 2020021063
Examples of the compound (II ′) include a compound represented by the following formula.
Figure 2020021063

スクアリン酸とピロール系化合物(V1’)とピロール系化合物(V2’)とを反応させる工程でのスクアリン酸の使用量は、ピロール系化合物(V1’)及びピロール系化合物(V2’)の合計1モルに対して、0.45モル以上0.6モル以下であることが好ましく、0.47モル以上0.51モル以下であることが好ましい。
ピロール系化合物(V2’)の使用量は、ピロール系化合物(V1’)1モルに対して、1モル以上1.5モル以下であることが好ましい。
The amount of squaric acid used in the step of reacting squaric acid with the pyrrole compound (V1 ′) and the pyrrole compound (V2 ′) is 1 in total of the pyrrole compound (V1 ′) and the pyrrole compound (V2 ′). It is preferably from 0.45 mol to 0.6 mol, and more preferably from 0.47 mol to 0.51 mol, based on the mol.
The amount of the pyrrole compound (V2 ') to be used is preferably 1 mol or more and 1.5 mol or less based on 1 mol of the pyrrole compound (V1').

反応温度は、30℃〜180℃であることが好ましく、80℃〜140℃であることがより好ましい。反応時間は、1時間〜20時間であることが好ましく、3時間〜15時間であることがより好ましい。   The reaction temperature is preferably 30C to 180C, more preferably 80C to 140C. The reaction time is preferably from 1 hour to 20 hours, more preferably from 3 hours to 15 hours.

反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、上記で例示したものを用いることができる。有機溶媒の使用量は、ピロール系化合物(V1’)及びピロール系化合物(V2’)の合計1質量部に対して、5質量部以上200質量部以下であることが好ましく、8質量部以上100質量部以下であることがより好ましい。   The reaction is preferably performed in an organic solvent from the viewpoint of yield. As the organic solvent, those exemplified above can be used. The amount of the organic solvent to be used is preferably 5 parts by mass or more and 200 parts by mass or less, more preferably 8 parts by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to a total of 1 part by mass of the pyrrole compound (V1 ′) and the pyrrole compound (V2 ′). More preferably, the amount is not more than part by mass.

反応混合物から目的化合物である化合物(II’)を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法を用いることができる。   The method for obtaining the target compound (II ') from the reaction mixture is not particularly limited, and various known methods can be employed, for example, the above-described methods can be used.

化合物(II’)とハロゲン化剤との反応は、化合物(II’)1モルに対して、ハロゲン化剤を2モル以上6モル以下であることが好ましく、2.2モル以上5モル以下であることが好ましい。
反応温度は、−80℃〜溶媒の沸点であることが好ましい。反応時間は、1時間〜20時間であることが好ましく、3時間〜15時間であることがより好ましい。
In the reaction of compound (II ′) with a halogenating agent, the halogenating agent is preferably used in an amount of 2 to 6 mol, preferably 2.2 to 5 mol, per 1 mol of compound (II ′). Preferably, there is.
The reaction temperature is preferably from -80 ° C to the boiling point of the solvent. The reaction time is preferably from 1 hour to 20 hours, more preferably from 3 hours to 15 hours.

反応は、収率の点から、有機溶媒中で行うことが好ましい。有機溶媒としては、上記で例示したものを用いることができる。有機溶媒の使用量は、化合物(II’)1質量部に対して、5質量部以上200質量部以下であることが好ましく、10質量部以上100質量部以下であることがより好ましい。   The reaction is preferably performed in an organic solvent from the viewpoint of yield. As the organic solvent, those exemplified above can be used. The amount of the organic solvent to be used is preferably 5 parts by mass or more and 200 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to 1 part by mass of compound (II ').

反応混合物から目的化合物である化合物(IIc)を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用でき、例えば上記した方法を用いることができる。   The method for obtaining the target compound (IIc) from the reaction mixture is not particularly limited, and various known methods can be employed, for example, the methods described above.

(化合物(II)の製造方法(2))
化合物(II)の製造方法は、式(II)においてX及びXがホウ酸エステル基又は−B(OH)である化合物(以下、「化合物(IId)」ということがある。)の場合、例えば、化合物(IIc)[式(II)においてX及びXがハロゲン原子である化合物]とマグネシウム小片とを反応させてGrignard中間体を調製し、これに2−イソプロピルオキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン等を作用させる方法;塩基の存在下で、パラジウム触媒を用いて、化合物(IIc)とビス(ピナコラト)ジボロンとを反応させることにより、ホウ酸エステル化する方法;トリメトキシボランやトリイソプロピルオキシボラン等を作用させた後に加水分解することでホウ酸化する方法等が挙げられる。
(Production method (2) of compound (II))
In the method for producing the compound (II), a compound in which X 1 and X 2 in the formula (II) are a borate group or —B (OH) 2 (hereinafter, may be referred to as “compound (IId)”). In such a case, for example, a compound (IIc) [a compound in which X 1 and X 2 are halogen atoms in the formula (II)] is reacted with a small piece of magnesium to prepare a Grignard intermediate, and 2-isopropyloxy-4, A method of reacting 4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane or the like; by reacting compound (IIc) with bis (pinacolato) diboron using a palladium catalyst in the presence of a base. , Boric acid esterification method; a method in which trimethoxyborane, triisopropyloxyborane or the like is allowed to act, and then hydrolyzed to borate. It is.

(光学フィルタ)
本発明の光学フィルタは化合物(I)を含み、本発明の光学フィルタは表示装置等に用いることができる。光学フィルタは、通常、透光性を有する(好ましくは光学的に透明な)熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂を含む組成物から形成される層であり、例えばフィルム状物とすることができるものである。光学フィルタは、化合物(I)を含む層(以下、「色補正層」ということがある。)を有していればよく、色補正層の単層構造からなる色補正フィルムであってもよいし、色補正層を含む多層構造を有する積層体であってもよい。光学フィルタが多層構造の場合、1層の色補正層が含まれていてもよく、2層以上の色補正層が含まれていてもよく、2層以上の層に含まれる化合物(I)は互いに同じであってもよく互いに異なっていてもよい。
(Optical filter)
The optical filter of the present invention contains the compound (I), and the optical filter of the present invention can be used for a display device or the like. The optical filter is usually a layer formed from a composition containing a thermoplastic resin or a thermosetting resin having a light-transmitting property (preferably optically transparent), for example, a film-like material. It is. The optical filter only needs to have a layer containing the compound (I) (hereinafter, sometimes referred to as “color correction layer”), and may be a color correction film having a single-layer structure of the color correction layer. Alternatively, a laminate having a multilayer structure including a color correction layer may be used. When the optical filter has a multilayer structure, the color filter may include one color correction layer, may include two or more color correction layers, and may include the compound (I) included in the two or more layers. They may be the same or different.

光学フィルタが積層体である場合、色補正層は、接着層であってもよく、接着層以外の樹脂層(以下、単に「樹脂層」ということがある。)であってもよい。色補正層が接着層である場合、光学フィルタに含まれる2つの層を互いに貼合するものであってもよく、光学フィルタを、例えば画像表示素子等の他部材に貼合するためのものであってもよい。接着層は、接着剤組成物で形成された接着剤層、粘着剤組成物で形成された粘着剤層、又は、接着剤組成物及び粘着剤組成物で形成された層とすることができる。   When the optical filter is a laminate, the color correction layer may be an adhesive layer or a resin layer other than the adhesive layer (hereinafter, may be simply referred to as “resin layer”). When the color correction layer is an adhesive layer, the two layers included in the optical filter may be bonded to each other, and the optical filter may be bonded to another member such as an image display device. There may be. The adhesive layer can be an adhesive layer formed of an adhesive composition, an adhesive layer formed of an adhesive composition, or a layer formed of an adhesive composition and an adhesive composition.

色補正層が、単層構造の光学フィルタ(色補正フィルム)である場合や、多層構造の光学フィルタにおいて接着層以外の樹脂層である場合、色補正フィルムや樹脂層に化合物(I)を含有させる方法は特に限定されない。例えば、[i]色補正フィルムや樹脂層をなす樹脂と混練してフィルム状に加熱成形する方法、[ii]色補正フィルムや樹脂層をなす樹脂又はこの樹脂の単量体と、化合物(I)とを、有機溶剤に分散又は溶解させ、キャスト法等によりフィルム状に成形する方法、を採用することができる。また、[iii]化合物(I)をバインダー樹脂や有機溶剤に分散又は溶解させたコーティング液を、樹脂基材フィルムにコーティングしたものを樹脂層としてもよく、この樹脂層から樹脂基材フィルムを剥離したものを色補正フィルムとしてもよい。色補正フィルムや樹脂層の厚みは特に限定されないが、例えば1μm〜200μmとすることができる。   When the color correction layer is an optical filter (color correction film) having a single-layer structure or a resin layer other than the adhesive layer in an optical filter having a multilayer structure, the color correction film or the resin layer contains the compound (I). There is no particular limitation on the method used. For example, [i] a method of kneading with a resin for forming a color correction film or a resin layer and heat-forming the film, [ii] a resin for forming a color correction film or a resin layer or a monomer of the resin, and a compound (I) ) Is dispersed or dissolved in an organic solvent and formed into a film by a casting method or the like. Further, a coating solution obtained by dispersing or dissolving the compound (I) in a binder resin or an organic solvent on a resin base film may be used as the resin layer, and the resin base film may be peeled from the resin layer. The resulting film may be used as a color correction film. The thickness of the color correction film or the resin layer is not particularly limited, but may be, for example, 1 μm to 200 μm.

色補正フィルムや樹脂層が化合物(I)を含有する場合、その含有量は特に限定されない。例えば、色補正フィルムや樹脂層をなすベースポリマー100質量部に対して、化合物(I)を0.001質量部以上とすることができ、0.02質量部以上であることが好ましく、0.05質量部以上であることがより好ましく、また、10質量部以下とすることができ、3質量部以下であることが好ましく、0.5質量部以下であることがより好ましい。   When the color correction film or the resin layer contains the compound (I), the content is not particularly limited. For example, the compound (I) can be used in an amount of at least 0.001 part by mass, preferably at least 0.02 part by mass, based on 100 parts by mass of the base polymer forming the color correction film or the resin layer. It is more preferably at least 05 parts by mass, and can be at most 10 parts by mass, preferably at most 3 parts by mass, more preferably at most 0.5 part by mass.

色補正層が接着層である場合に、接着層に化合物(I)を含有させる方法についても特に限定されず、接着層をなす接着剤組成物又は粘着剤組成物を調製する際に、化合物(I)を添加すればよい。接着層の厚みは特に限定されないが、例えば1μm〜100μmとすることができる。   When the color correction layer is an adhesive layer, the method for incorporating the compound (I) into the adhesive layer is not particularly limited, and when preparing the adhesive composition or the pressure-sensitive adhesive composition forming the adhesive layer, the compound (I) I) may be added. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but may be, for example, 1 μm to 100 μm.

接着層が化合物(I)を含有する場合も、その含有量は特に限定されない。例えば、接着層に含まれる接着剤組成物及び/又は粘着剤組成物をなすベースポリマー100質量部に対して、化合物(I)を0.01質量部以上とすることができ、0.02質量部以上であることが好ましく、0.05質量部以上であることがより好ましく、また、10質量部以下とすることができ、5質量部以下であることが好ましく、0.5質量部以下であることがより好ましい。   When the adhesive layer contains the compound (I), the content is not particularly limited. For example, the compound (I) can be used in an amount of 0.01 part by mass or more based on 100 parts by mass of the base polymer constituting the adhesive composition and / or the pressure-sensitive adhesive composition contained in the adhesive layer, and 0.02 parts by mass. Is preferably at least 0.05 part by mass, and more preferably at most 10 parts by mass, and preferably at most 5 parts by mass, more preferably at most 0.5 part by mass. More preferably, there is.

光学フィルタは、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置や液晶表示装置等の表示装置に用いることができ、この表示装置の画像表示素子の視認側に貼合して用いることができる。この場合、光学フィルタは、接着層と接着層以外の樹脂層とを有することが好ましく、接着層及び樹脂層のうちの少なくとも一方が、化合物(I)を含む色補正層であることが好ましい。   The optical filter can be used for a display device such as an organic electroluminescence (organic EL) display device or a liquid crystal display device, and can be used by being bonded to a viewing side of an image display element of the display device. In this case, the optical filter preferably has an adhesive layer and a resin layer other than the adhesive layer, and at least one of the adhesive layer and the resin layer is preferably a color correction layer containing the compound (I).

光学フィルタが積層体である場合、その積層構造は特に限定されないが、例えば、図1(a)及び(b)に示す積層構造を有することができる。図1(a)及び(b)は、光学フィルタの一例を示す概略断面図である。図1(a)に示す光学フィルタ10は、有機EL表示装置に用いることができる。光学フィルタ10は、例えば、画像表示素子用粘着剤層11、位相差フィルム12、粘着剤層13、第1保護フィルム14、偏光フィルム15、第2保護フィルム16をこの順に含むことができる。画像表示素子用粘着剤層11及び粘着剤層13は、いずれも上記した接着層に相当し、位相差フィルム12、第1保護フィルム14、偏光フィルム15、及び第2保護フィルム16は、いずれも上記した樹脂層に相当する。   When the optical filter is a laminate, the laminate structure is not particularly limited. For example, the optical filter can have a laminate structure shown in FIGS. 1A and 1B. 1A and 1B are schematic cross-sectional views illustrating an example of an optical filter. The optical filter 10 shown in FIG. 1A can be used for an organic EL display device. The optical filter 10 can include, for example, an adhesive layer 11 for an image display element, a retardation film 12, an adhesive layer 13, a first protective film 14, a polarizing film 15, and a second protective film 16 in this order. Each of the pressure-sensitive adhesive layer 11 and the pressure-sensitive adhesive layer 13 for an image display element corresponds to the above-described adhesive layer, and the retardation film 12, the first protective film 14, the polarizing film 15, and the second protective film 16 are all This corresponds to the resin layer described above.

光学フィルタ10中の第1保護フィルム14、偏光フィルム15、及び第2保護フィルム16は、偏光板をなし、第1保護フィルム14及び第2保護フィルム16は、偏光フィルム15との貼合面側に接着層を有していてもよい。画像表示素子用粘着剤層11は、有機EL表示装置の画像表示素子である有機EL素子を含む発光層に貼合するために用いられる。画像表示素子用粘着剤層11の位相差フィルム12とは反対側の面には、図示しないセパレータ(剥離フィルム)が設けられていてもよい。   The first protective film 14, the polarizing film 15, and the second protective film 16 in the optical filter 10 form a polarizing plate, and the first protective film 14 and the second protective film 16 are bonded to the polarizing film 15. May have an adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive layer 11 for an image display element is used for bonding to a light emitting layer including an organic EL element which is an image display element of an organic EL display device. A separator (release film) (not shown) may be provided on the surface of the image display element pressure-sensitive adhesive layer 11 opposite to the retardation film 12.

図1(b)に示す光学フィルタ20は、液晶表示装置に用いることができる。光学フィルタ20は、例えば、画像表示素子用粘着剤層21、第1保護フィルム24、偏光フィルム25、第2保護フィルム26をこの順に含むことができる。画像表示素子用粘着剤層21は、上記した接着層に相当し、第1保護フィルム24、偏光フィルム25、及び第2保護フィルム26は、いずれも上記した樹脂層に相当する。   The optical filter 20 shown in FIG. 1B can be used for a liquid crystal display device. The optical filter 20 can include, for example, an adhesive layer 21 for an image display element, a first protective film 24, a polarizing film 25, and a second protective film 26 in this order. The pressure-sensitive adhesive layer 21 for an image display element corresponds to the above-described adhesive layer, and the first protective film 24, the polarizing film 25, and the second protective film 26 all correspond to the above-described resin layer.

光学フィルタ20中の第1保護フィルム24、偏光フィルム25、及び第2保護フィルム26は、偏光板をなし、第1保護フィルム24及び第2保護フィルム26は、偏光フィルム25との貼合面側に接着層を有していてもよい。画像表示素子用粘着剤層21は、液晶表示装置の画像表示素子である液晶セルに貼合するために用いられる。画像表示素子用粘着剤層21の第1保護フィルム24とは反対側の面には、図示しないセパレータ(剥離フィルム)が設けられていてもよい。   The first protective film 24, the polarizing film 25, and the second protective film 26 in the optical filter 20 form a polarizing plate, and the first protective film 24 and the second protective film 26 are bonded to the polarizing film 25. May have an adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive layer 21 for an image display element is used for bonding to a liquid crystal cell which is an image display element of a liquid crystal display device. A separator (release film) (not shown) may be provided on the surface of the image display element pressure-sensitive adhesive layer 21 opposite to the first protective film 24.

図1(a)及び(b)に示す光学フィルタ10及び20をなす樹脂層及び接着層の少なくともいずれかに、化合物(I)を含むことができる。図1(a)に示す光学フィルタ10では、例えば、画像表示素子用粘着剤層11、粘着剤層13、第1保護フィルム14、第2保護フィルム16のうちの1つ以上に、上記化合物(I)を含むことができる。図1(b)に示す光学フィルタ20では、例えば、画像表示素子用粘着剤層21、第1保護フィルム24、第2保護フィルム26のうちの1つ以上に、化合物(I)を含むことができる。   The compound (I) can be contained in at least one of the resin layer and the adhesive layer constituting the optical filters 10 and 20 shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b). In the optical filter 10 shown in FIG. 1A, for example, one or more of the pressure-sensitive adhesive layer 11 for an image display element, the pressure-sensitive adhesive layer 13, the first protective film 14, and the second protective film 16 are provided with the compound ( I). In the optical filter 20 shown in FIG. 1B, for example, one or more of the adhesive layer 21 for an image display element, the first protective film 24, and the second protective film 26 may contain the compound (I). it can.

図1(a)及び(b)に示す光学フィルタ10及び20は一例にすぎず、上記以外の積層構造を有するものであってもよい。例えば、第2保護フィルム16,26の偏光フィルム15,25とは反対側の面に、防眩機能付きフィルムや表面反射防止機能付きフィルム等のさらなる層を有していてもよい。また、第1保護フィルム14,24が、位相差フィルムとしての機能を有していてもよく、第2保護フィルム16,26が、防眩機能や表面反射防止機能、位相差フィルムとしての機能等を有していてもよい。さらに、図1(a)及び(b)に示す光学フィルタ10及び20をなす各層とは別に、化合物(I)を含む色補正層を任意の位置に設けてもよい。   The optical filters 10 and 20 shown in FIGS. 1A and 1B are merely examples, and may have a laminated structure other than the above. For example, the second protective films 16 and 26 may have further layers such as a film with an anti-glare function and a film with a surface anti-reflection function on the surface opposite to the polarizing films 15 and 25. Further, the first protective films 14 and 24 may have a function as a retardation film, and the second protective films 16 and 26 may have a function as an antiglare function, a surface antireflection function, a function as a retardation film, and the like. May be provided. Further, a color correction layer containing the compound (I) may be provided at an arbitrary position separately from the layers constituting the optical filters 10 and 20 shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b).

上記の光学フィルタは、化合物(I)を含むため、580nm付近(575〜590nm)の光(好ましくは最大吸収波長が580nmの光)を吸収することができる。これにより、上記の光学フィルタを、表示装置の画像表示素子の視認側に積層することにより、光学フィルタに入射する光から、580nm付近(575〜590nm)の波長域に吸収波長を有する光を吸収することができ、光学フィルタを透過した光は、光学フィルタに入射する光に比較して、緑色の光及び赤色の光の色純度を向上することができる。上記の光学フィルタを用いていない従来の表示装置では、緑色の光と赤色の光との分離性が十分ではなかったが、上記の光学フィルタを用いた表示装置では、緑色の光と赤色の光との分離性の向上が期待できる。   Since the above optical filter contains the compound (I), it can absorb light near 580 nm (575 to 590 nm) (preferably light having a maximum absorption wavelength of 580 nm). Thereby, by laminating the optical filter on the viewing side of the image display element of the display device, light having an absorption wavelength in a wavelength range around 580 nm (575 to 590 nm) is absorbed from light incident on the optical filter. The light transmitted through the optical filter can improve the color purity of the green light and the red light as compared with the light incident on the optical filter. In a conventional display device that does not use the above-described optical filter, the separability of green light and red light is not sufficient, but in a display device that uses the above-described optical filter, green light and red light are not used. Can be expected to be improved.

以下、光学フィルタをなす各部材について詳述する。
(接着層)
接着層に用いることができる接着剤組成物としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、及びこれらの組み合わせが挙げられる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤とは、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等が挙げられる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性(メタ)アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等が挙げられる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものが挙げられる。なお、本明細書において「(メタ)アクリル系」とは、「アクリル系及びメタクリル系の少なくとも1種」を意味する。
Hereinafter, each member constituting the optical filter will be described in detail.
(Adhesive layer)
Examples of the adhesive composition that can be used for the adhesive layer include a water-based adhesive, an active energy ray-curable adhesive, and a combination thereof. Examples of the water-based adhesive include a polyvinyl alcohol-based resin aqueous solution, a water-based two-part urethane-based emulsion adhesive, and the like. Active energy ray-curable adhesives are adhesives that are cured by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays, for example, those containing a polymerizable compound and a photopolymerizable initiator, those containing a photoreactive resin, Examples include those containing a binder resin and a photoreactive crosslinking agent. Examples of the polymerizable compound include photopolymerizable monomers such as photocurable epoxy monomers, photocurable (meth) acrylic monomers, and photocurable urethane monomers, and oligomers derived from these monomers. Examples of the photopolymerization initiator include those containing a substance that generates active species such as neutral radicals, anion radicals, and cation radicals upon irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays. In this specification, “(meth) acrylic” means “at least one of acrylic and methacrylic”.

接着層に用いることができる粘着剤組成物としては、従来公知の粘着剤組成物を用いることができる。粘着剤組成物としては、例えば、(メタ)アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、フッ素系粘着剤、ゴム系粘着剤等が挙げられる。また、エネルギー線硬化型粘着剤、熱硬化型粘着剤等であってもよい。これらの中でも、透明性、粘着力、信頼性等の観点から、(メタ)アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。   As the pressure-sensitive adhesive composition that can be used for the adhesive layer, a conventionally known pressure-sensitive adhesive composition can be used. Examples of the adhesive composition include (meth) acrylic adhesives, urethane-based adhesives, silicone-based adhesives, polyester-based adhesives, polyamide-based adhesives, polyether-based adhesives, fluorine-based adhesives, and rubber-based adhesives. An adhesive and the like can be mentioned. Further, an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, a thermosetting pressure-sensitive adhesive, or the like may be used. Among these, a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably used from the viewpoint of transparency, adhesive strength, reliability and the like.

アクリル系粘着剤としては、特に限定されるものではないが、(メタ)アクリル酸エステルを主成分とする(50質量%以上含有する)重合体であり、1種類の(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体であってもよく、(メタ)アクリル酸エステルと他の(メタ)アクリル酸エステル等との共重合体であってもよい。(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸2−フェノキシエチルが挙げられる。さらに、これらの(メタ)アクリル酸エステルを主体とする重合体には、極性モノマーが共重合されていてもよい。極性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリルアミド、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の、カルボキシ基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等の極性官能基を有するモノマーが挙げられる。アクリル系粘着剤に用いる(メタ)アクリル系樹脂は、重量平均分子量(Mw)が10万以上であるものを用いることができ、60万以上であることが好ましく、通常250万以下である。   The acrylic pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, but is a polymer having (meth) acrylic acid ester as a main component (containing 50% by mass or more), and one kind of (meth) acrylic acid ester It may be a homopolymer or a copolymer of (meth) acrylate and another (meth) acrylate. As the (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, (meth) acryl 2-phenoxyethyl acid. Further, a polar monomer may be copolymerized in these polymers mainly composed of (meth) acrylic acid esters. Examples of the polar monomer include (meth) acrylic acid, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, and 2- (N, N-dimethylamino) ethyl ( Monomers having a polar functional group such as a carboxy group, a hydroxyl group, an amide group, an amino group, and an epoxy group, such as meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate. As the (meth) acrylic resin used for the acrylic pressure-sensitive adhesive, a resin having a weight average molecular weight (Mw) of 100,000 or more can be used, and it is preferably 600,000 or more, and usually 2.5 million or less.

これらのアクリル系粘着剤は、単独で使用することもできるが、通常、架橋剤と併用される。架橋剤としては、2価又は多価金属イオンであって、カルボキシ基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの、アミン化合物であって、カルボキシ基との間でアミド結合を形成するもの、エポキシ化合物やジオール化合物であって、カルボキシ基との間でエステル結合を形成するもの、イソシアネート化合物であって、カルボキシ基との間でアミド結合を形成するもの等が挙げられる。中でも、イソシアネート化合物が好ましく用いられる。   These acrylic pressure-sensitive adhesives can be used alone, but are usually used in combination with a crosslinking agent. Examples of the crosslinking agent include divalent or polyvalent metal ions that form a metal carboxylate with a carboxy group, amine compounds that form an amide bond with a carboxy group, Examples include epoxy compounds and diol compounds which form an ester bond with a carboxy group, and isocyanate compounds which form an amide bond with a carboxy group. Among them, isocyanate compounds are preferably used.

イソシアネート系化合物の中でも、キシリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート若しくはヘキサメチレンジイソシアネート;これらのイソシアネート化合物にグリセロールやトリメチロールプロパン等のポリオールを反応させたアダクト体;これらのイソシアネート化合物を二量体、三量体等にしたもの又はそれらの混合物;以上に挙げたイソシアネート系化合物の2種以上の混合物等が、好ましく用いられる。
好適なイソシアネート系化合物として、トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートにポリオールを反応させたアダクト体、トリレンジイソシアネートの二量体、及びトリレンジイソシアネートの三量体、また、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートにポリオールを反応させたアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートの二量体、及びヘキサメチレンジイソシアネートの三量体が挙げられる。
Among the isocyanate compounds, xylylene diisocyanate, tolylene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate; an adduct obtained by reacting a polyol such as glycerol or trimethylolpropane with these isocyanate compounds; dimer or trimer of these isocyanate compounds Or a mixture thereof; a mixture of two or more of the above-mentioned isocyanate compounds is preferably used.
Preferred isocyanate-based compounds include tolylene diisocyanate, adducts obtained by reacting polyol with tolylene diisocyanate, dimers of tolylene diisocyanate, and trimers of tolylene diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate. An adduct obtained by reacting a polyol, a dimer of hexamethylene diisocyanate, and a trimer of hexamethylene diisocyanate are exemplified.

アクリル系粘着剤における架橋剤の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂の100質量部に対して、通常0質量部以上5質量部以下、好ましくは0.05質量部以上2質量部以下である。   The content of the crosslinking agent in the acrylic pressure-sensitive adhesive is generally 0 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, preferably 0.05 parts by mass or more and 2 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic resin. .

アクリル系粘着剤は、シラン化合物をさらに含有することができる。アクリル系粘着剤がシラン化合物を含有すると、得られる粘着剤層とガラス基板等の光学部材との密着性を高め得る。   The acrylic pressure-sensitive adhesive can further contain a silane compound. When the acrylic pressure-sensitive adhesive contains a silane compound, the adhesiveness between the obtained pressure-sensitive adhesive layer and an optical member such as a glass substrate can be enhanced.

シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、3−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシラン等が挙げられる。2種以上のシラン化合物を使用してもよい。   Examples of the silane compound include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyl Methyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-gly Sidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethoxymethylsilane, 3-glycidoxypropylethoxydimethylsilane and the like can be mentioned. Two or more silane compounds may be used.

シラン化合物は、シリコーンオリゴマータイプのものであってもよい。シリコーンオリゴマーを(単量体)オリゴマーの形式で示すと、例えば、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−グリジドキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー等が挙げられる。   The silane compound may be of the silicone oligomer type. When the silicone oligomer is shown in the form of a (monomer) oligomer, for example, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, mercaptomethyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane -Tetramethoxysilane copolymer, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, vinyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and the like.

アクリル系粘着剤におけるシラン化合物の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂100質量部に対して、通常0.01質量部以上10質量部以下、好ましくは0.05質量部以上5質量部以下、より好ましくは0.1質量部以上2質量部以下である。シラン化合物の含有量が0.01質量部以上であると、粘着剤層とガラス基板等の光学部材との密着性向上効果が得られやすい。またシラン化合物の含有量が10質量部以下であると、粘着剤層からのシラン化合物のブリードアウトを抑制することができる。   The content of the silane compound in the acrylic pressure-sensitive adhesive is usually 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.05 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (meth) acrylic resin. It is more preferably at least 0.1 part by mass and at most 2 parts by mass. When the content of the silane compound is 0.01 parts by mass or more, the effect of improving the adhesion between the pressure-sensitive adhesive layer and an optical member such as a glass substrate is easily obtained. When the content of the silane compound is 10 parts by mass or less, bleed out of the silane compound from the pressure-sensitive adhesive layer can be suppressed.

アクリル系粘着剤は、帯電防止性を付与するための帯電防止剤としてイオン性化合物をさらに含有していてもよい。イオン性化合物は、無機カチオン又は有機カチオンと、無機アニオン又は有機アニオンとを有する化合物である。アクリル系粘着剤は2種以上のイオン性化合物を含有していてもよい。   The acrylic pressure-sensitive adhesive may further contain an ionic compound as an antistatic agent for imparting antistatic properties. The ionic compound is a compound having an inorganic cation or an organic cation and an inorganic anion or an organic anion. The acrylic pressure-sensitive adhesive may contain two or more ionic compounds.

無機カチオンとしては、例えば、リチウムカチオン〔Li〕、ナトリウムカチオン〔Na〕、カリウムカチオン〔K〕等のアルカリ金属イオンや、ベリリウムカチオン〔Be2+〕、マグネシウムカチオン〔Mg2+〕、カルシウムカチオン〔Ca2+〕等のアルカリ土類金属イオン等が挙げられる。
有機カチオンとしては、例えば、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオン等が挙げられる。
Examples of the inorganic cation include alkali metal ions such as lithium cation [Li + ], sodium cation [Na + ], potassium cation [K + ], beryllium cation [Be 2+ ], magnesium cation [Mg 2+ ], and calcium cation. And alkaline earth metal ions such as [Ca 2+ ].
Examples of the organic cation include an imidazolium cation, a pyridinium cation, a pyrrolidinium cation, an ammonium cation, a sulfonium cation, and a phosphonium cation.

無機アニオンとしては、例えば、クロライドアニオン〔Cl〕、ブロマイドアニオン〔Br〕、ヨーダイドアニオン〔I〕、テトラクロロアルミネートアニオン〔AlCl 〕、ヘプタクロロジアルミネートアニオン〔AlCl 〕、テトラフルオロボレートアニオン〔BF 〕、ヘキサフルオロホスフェートアニオン〔PF 〕、パークロレートアニオン〔ClO 〕、ナイトレートアニオン〔NO 〕、ヘキサフルオロアーセネートアニオン〔AsF 〕、ヘキサフルオロアンチモネートアニオン〔SbF 〕、ヘキサフルオロニオベートアニオン〔NbF 〕、ヘキサフルオロタンタレートアニオン〔TaF 〕、ジシアナミドアニオン〔(CN)〕等が挙げられる。 Examples of the inorganic anion include a chloride anion [Cl ], a bromide anion [Br ], an iodide anion [I ], a tetrachloroaluminate anion [AlCl 4 ], a heptachlorodialuminate anion [Al 2 Cl 7 -], tetrafluoroborate anion [BF 4 -], hexafluorophosphate anion [PF 6 -], perchlorate anion [ClO 4 -], nitrate anion [NO 3 -], hexafluoro ah cell anion [AsF 6 ], Hexafluoroantimonate anion [SbF 6 ], hexafluoroniobate anion [NbF 6 ], hexafluorotantalate anion [TaF 6 ], dicyanamide anion [(CN) 2 N ] and the like. Be

有機アニオンとしては、例えば、アセテートアニオン〔CHCOO〕、トリフルオロアセテートアニオン〔CFCOO〕、メタンスルホネートアニオン〔CHSO 〕、トリフルオロメタンスルホネートアニオン〔CFSO 〕、p−トルエンスルホネートアニオン〔p−CHSO 〕、ビス(フルオロスルホニル)イミドアニオン〔(FSO〕、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオン〔(CFSO〕、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メタニドアニオン〔(CFSO〕、ジメチルホスフィネートアニオン〔(CHPOO〕、(ポリ)ハイドロフルオロフルオライドアニオン〔F(HF) 〕(nは1以上3以下程度)、チオシアンアニオン〔SCN〕、パーフルオロブタンスルホネートアニオン〔CSO 〕、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミドアニオン〔(CSO〕、パーフルオロブタノエートアニオン〔CCOO〕、(トリフルオロメタンスルホニル)(トリフルオロメタンカルボニル)イミドアニオン〔(CFSO)(CFCO)N〕等が挙げられる。 Examples of the organic anion include an acetate anion [CH 3 COO ], a trifluoroacetate anion [CF 3 COO ], a methanesulfonate anion [CH 3 SO 3 ], a trifluoromethane sulfonate anion [CF 3 SO 3 ], p- toluenesulfonate anion [p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 - ], bis (fluorosulfonyl) imide anion [(FSO 2) 2 N -], bis (trifluoromethanesulfonyl) imide anion [(CF 3 SO 2 ) 2 N -], tris (trifluoromethanesulfonyl) meth acetonide anion [(CF 3 SO 2) 3 C - ], dimethyl phosphinate anion [(CH 3) 2 POO -], (poly) hydrofluoroether fluoride anion [ F (HF) n ] (N is about 1 to 3), thiocyan anion [SCN ], perfluorobutane sulfonate anion [C 4 F 9 SO 3 ], bis (pentafluoroethane sulfonyl) imide anion [(C 2 F 5 SO 2 )] 2 N ], perfluorobutanoate anion [C 3 F 7 COO ], (trifluoromethanesulfonyl) (trifluoromethanecarbonyl) imide anion [(CF 3 SO 2 ) (CF 3 CO) N ] and the like. Can be

イオン性化合物の具体例は、上記カチオン成分とアニオン成分の組み合わせから選択することができる。   Specific examples of the ionic compound can be selected from combinations of the above-mentioned cation component and anion component.

有機カチオンを有するイオン性化合物の例としては、N−オクチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、N−オクチル−4−メチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、N−ブチル−4−メチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、N−デシルピリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、N−ヘキシルピリジニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、N−オクチルピリジニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド等のピリジニウム塩、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム ヘキサフルオロホスフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム p−トルエンスルホネート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、 1−エチル−3−メチルイミダゾリウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム メタンスルホネート等のイミダゾリウム塩;N−ブチル−N−メチルピロリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、N−ブチル−N−メチルピロリジニウム ビス(フルオロスルホニル)イミド、N−ブチル−N−メチルピロリジニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド等のピロリジニウム塩;テトラブチルアンモニウム ヘキサフルオロホスフェート、テトラブチルアンモニウム p−トルエンスルホネート等の4級アンモニウム塩が挙げられる。   Examples of the ionic compound having an organic cation include N-octylpyridinium hexafluorophosphate, N-octyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate, N-butyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate, N-decylpyridinium bis ( Pyridinium salts such as fluorosulfonyl) imide, N-hexylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N-octylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-ethyl- 3-methylimidazolium p-toluenesulfonate, 1-ethyl-3-methylimidazolium bis (fluorosulfonyl) imide, 1-ethyl-3-methyl Imidazolium salts such as imidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide and 1-butyl-3-methylimidazolium methanesulfonate; N-butyl-N-methylpyrrolidinium hexafluorophosphate, N-butyl-N-methylpyrrolidide Pyrrolidinium salts such as ammonium bis (fluorosulfonyl) imide and N-butyl-N-methylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide; quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium hexafluorophosphate and tetrabutylammonium p-toluenesulfonate Is mentioned.

無機カチオンを有するイオン性化合物の例としては、リチウム ブロマイド、リチウム ヨーダイド、ナトリウム ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。   Examples of the ionic compound having an inorganic cation include lithium bromide, lithium iodide, sodium hexafluorophosphate, and the like.

イオン性化合物は、帯電防止性能保持の観点から、室温において固体であることが好ましい。イオン性化合物は、30℃以上、さらには35℃以上の融点を有することが好ましい。一方で、その融点があまり高すぎると、(メタ)アクリル系樹脂との相溶性が悪くなるため、イオン性化合物の融点は、好ましくは90℃以下、より好ましくは70℃以下、さらに好ましくは50℃未満である。   The ionic compound is preferably solid at room temperature from the viewpoint of maintaining antistatic performance. The ionic compound preferably has a melting point of 30 ° C. or more, more preferably 35 ° C. or more. On the other hand, if the melting point is too high, the compatibility with the (meth) acrylic resin is deteriorated. Therefore, the melting point of the ionic compound is preferably 90 ° C. or lower, more preferably 70 ° C. or lower, and further preferably 50 ° C. or lower. It is below ° C.

アクリル系粘着剤におけるイオン性化合物の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1質量部以上8質量部以下、より好ましくは0.2質量部以上6質量部以下、さらに好ましくは0.5質量部以上5質量部以下、特に好ましくは1質量部以上5質量部以下である。イオン性化合物の含有量が0.1質量部以上であることは、帯電防止性能の向上に有利であり、8質量部以下であることは粘着剤層の耐久性維持に有利である。   The content of the ionic compound in the acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably 0.1 to 8 parts by mass, more preferably 0.2 to 6 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (meth) acrylic resin. Or less, more preferably 0.5 to 5 parts by mass, particularly preferably 1 to 5 parts by mass. When the content of the ionic compound is 0.1 parts by mass or more, it is advantageous for improving antistatic performance, and when it is 8 parts by mass or less, it is advantageous for maintaining the durability of the pressure-sensitive adhesive layer.

接着剤組成物や粘着剤組成物には、さらに各種の添加剤が配合されていてもよい。添加剤としては、リワーク剤、粘着性付与樹脂、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、腐食剤、微粒子等の光拡散剤等が挙げられる。   The adhesive composition and the pressure-sensitive adhesive composition may further contain various additives. Examples of the additives include a reworking agent, a tackifying resin, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an antifoaming agent, a corrosive, and a light diffusing agent such as fine particles.

(樹脂層)
樹脂層としては、偏光フィルム;偏光フィルム等の表面を保護するために設けられる保護フィルム;位相差フィルム;位相差フィルム以外の光学補償フィルム;表面に凹凸形状を有する防眩機能付きフィルム、表面反射防止機能付きフィルム;表面に反射機能を有する反射フィルム;反射機能と透過機能とを併せ持つ半透過反射フィルム;光拡散フィルム;ハードコートフィルム;色補正フィルム等が挙げられる。光学フィルタは、上記した樹脂層を1種又は2種以上含むことができる。
(Resin layer)
As the resin layer, a polarizing film; a protective film provided to protect the surface of the polarizing film or the like; a retardation film; an optical compensation film other than the retardation film; A film having an anti-reflection function; a reflection film having a reflection function on the surface; a transflective film having both a reflection function and a transmission function; a light diffusion film; a hard coat film; The optical filter may include one or more resin layers described above.

偏光フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂層にヨウ素が配向しているものや、液晶化合物と二色性色素とが配向したもの等が挙げられる。   Examples of the polarizing film include a film in which iodine is oriented in a polyvinyl alcohol-based resin layer and a film in which a liquid crystal compound and a dichroic dye are oriented.

樹脂層が、偏光フィルム以外である場合の材料としては、特に限定されないが、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂等)、環状ポリオレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂等)等のポリオレフィン系樹脂;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸メチル等の(メタ)アクリル系樹脂;ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂;ポリスチレン系樹脂;これらの混合物、共重合物等が挙げられる。これらの樹脂は、滑剤、可塑剤、分散剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、微粒子等の光拡散剤等の添加剤を1種又は2種以上含有していてもよい。   The material when the resin layer is other than the polarizing film is not particularly limited, and examples thereof include chain polyolefin resins (polyethylene resins, polypropylene resins, etc.) and cyclic polyolefin resins (norbornene resins, etc.). Polyolefin resins; cellulose ester resins such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellulose acetate propionate; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polycarbonate resins; (meth) acrylic acid, poly (meth) acrylic (Meth) acrylic resins such as methyl acid; vinyl alcohol resins such as polyvinyl alcohol and polyvinyl acetate; polystyrene resins; mixtures thereof, copolymers and the like. These resins may contain one or more additives such as lubricants, plasticizers, dispersants, heat stabilizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antistatic agents, antioxidants, and light diffusing agents such as fine particles. It may be contained.

(表示装置)
上記した光学フィルタは、有機EL表示装置、液晶表示装置、無機エレクトロルミネッセンス(無機EL)表示装置、電子放出表示装置等の表示装置に好適に用いることができる。光学フィルタを、表示装置の画像表示素子よりも視認側に配置することにより、光学フィルタに入射する光のうち、波長580nm付近(575〜590nm)の光(好ましくは最大吸収波長が580nmの光)を吸収することができる。これにより、光学フィルタを透過した光は、光学フィルタを透過しない場合に比較して、緑色の光及び赤色の光の色純度が高くなるため、表示装置において表現できる色域を拡大することができる。上記光学フィルタを用いていない従来の表示装置では、緑色の光と赤色の光との分離性が十分ではなかったが、上記した光学フィルタを用いた表示装置では、緑色の光と赤色の光との分離性を向上することが期待できる。
(Display device)
The above-described optical filter can be suitably used for display devices such as an organic EL display device, a liquid crystal display device, an inorganic electroluminescence (inorganic EL) display device, and an electron emission display device. By arranging the optical filter on the viewing side of the image display element of the display device, light having a wavelength of about 580 nm (575 to 590 nm) (preferably light having a maximum absorption wavelength of 580 nm) among the light incident on the optical filter. Can be absorbed. Accordingly, the light transmitted through the optical filter has higher color purity of the green light and the red light as compared with the case where the light does not transmit through the optical filter, so that the color gamut that can be expressed in the display device can be expanded. . In a conventional display device not using the optical filter, the separation between green light and red light was not sufficient, but in a display device using the above-described optical filter, green light and red light were used. Can be expected to improve the separation property.

図2(a)及び(b)は、光学フィルタを備えた表示装置の一例を示す概略断面図である。図2(a)に示す表示装置は、図1(a)に示す光学フィルタ10と、有機EL素子を含む発光層である画像表示素子1とを含む有機EL表示装置である。光学フィルタ10は、画像表示素子用粘着剤層11を介して、画像表示素子1の視認側に配置することができる。   2A and 2B are schematic cross-sectional views illustrating an example of a display device including an optical filter. The display device illustrated in FIG. 2A is an organic EL display device including the optical filter 10 illustrated in FIG. 1A and the image display device 1 that is a light emitting layer including the organic EL device. The optical filter 10 can be arranged on the viewing side of the image display element 1 via the adhesive layer 11 for the image display element.

図2(b)に示す表示装置は、図1(b)に示す光学フィルタ20と、液晶層を含む液晶セルである画像表示素子2とを含む液晶表示装置である。光学フィルタ20は、画像表示素子用粘着剤層21を介して、画像表示素子2の視認側に配置することができる。   The display device illustrated in FIG. 2B is a liquid crystal display device including the optical filter 20 illustrated in FIG. 1B and the image display element 2 which is a liquid crystal cell including a liquid crystal layer. The optical filter 20 can be disposed on the viewing side of the image display element 2 via the adhesive layer 21 for the image display element.

以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。合成例、比較合成例、実施例、比較例中の「%」及び「部」は、特記しない限り、質量%及び質量部である。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples. “%” And “parts” in Synthesis Examples, Comparative Synthesis Examples, Examples, and Comparative Examples are% by mass and parts by mass unless otherwise specified.

[化合物の同定]
化合物の構造は、質量分析(LC;Agilent製1200型、MASS;Agilent製LC/MSD型)を行って同定した。
[Identification of compound]
The structure of the compound was identified by mass spectrometry (LC; Model 1200 manufactured by Agilent, MASS; LC / MSD model manufactured by Agilent).

[最大吸収波長の測定]
合成例で得られた化合物(式(I)で表される化合物)を表1に示す溶媒に溶解して得た溶液について、紫外可視分光光度計(V−650DS;日本分光(株)製)(石英セル、光路長;1cm)を用いて最大吸収波長を測定した。
実施例及び比較例で得た粘着剤シートについても、上記紫外可視分光光度計を用いて最大吸収波長を測定した。
[Measurement of maximum absorption wavelength]
A solution obtained by dissolving the compound (compound represented by formula (I)) obtained in the synthesis example in a solvent shown in Table 1 was applied to an ultraviolet-visible spectrophotometer (V-650DS; manufactured by JASCO Corporation). (Quartz cell, optical path length; 1 cm), the maximum absorption wavelength was measured.
The pressure-sensitive adhesive sheets obtained in Examples and Comparative Examples were also measured for the maximum absorption wavelength using the ultraviolet-visible spectrophotometer.

〔合成例1(式(II)で表される化合物)〕
3,4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン(富士フィルム和光純薬(株)製)3.0部、2,4−ジメチルピロール(東京化成工業(株)製)5.0部、1−ブタノール175部及びトルエン290部を混合した。得られた混合物を、Dean−Stark管を用いて生成した水を除きながら温度110℃で3時間撹拌した。反応終了後、溶媒を溜去し、イオン交換水を300部加えた後、析出した固体を濾取した。濾取した固体をメタノール/イオン交換水で洗浄した。得られた固体を温度60℃で12時間減圧乾燥し、式(A−1)で示される化合物4.0部を得た。

Figure 2020021063
[Synthesis example 1 (compound represented by formula (II))]
3.0 parts of 3,4-dihydroxy-3-cyclobutene-1,2-dione (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 5.0 parts of 2,4-dimethylpyrrole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) , 1-butanol and 290 parts of toluene were mixed. The obtained mixture was stirred at a temperature of 110 ° C for 3 hours while removing generated water using a Dean-Stark tube. After completion of the reaction, the solvent was distilled off, 300 parts of ion-exchanged water was added, and the precipitated solid was collected by filtration. The solid collected by filtration was washed with methanol / ion exchanged water. The obtained solid was dried under reduced pressure at a temperature of 60 ° C. for 12 hours to obtain 4.0 parts of a compound represented by the formula (A-1).
Figure 2020021063

化合物(A−1)2.3部をテトラヒドロフラン200部の存在下、氷浴で冷却後、N−ブロモスクシンイミド(東京化成工業(株)製)3.2部を添加し、氷浴下で3時間撹拌した。得られた反応マス(反応液)を室温まで昇温後、チオ硫酸ナトリウム水溶液を添加し、反応をクエンチした。溶媒を溜去し、得られた固体をメタノール/イオン交換水で洗浄した。得られた固体を乾燥し、式(A−2)で表される化合物3.6部を得た。得られた化合物について、質量分析を行った。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 424.9
Exact Mass:423.9

Figure 2020021063
After cooling 2.3 parts of the compound (A-1) in an ice bath in the presence of 200 parts of tetrahydrofuran, 3.2 parts of N-bromosuccinimide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) is added, and the mixture is cooled in an ice bath. Stirred for hours. After the obtained reaction mass (reaction liquid) was heated to room temperature, an aqueous solution of sodium thiosulfate was added to quench the reaction. The solvent was distilled off, and the obtained solid was washed with methanol / ion-exchanged water. The obtained solid was dried to obtain 3.6 parts of a compound represented by the formula (A-2). The obtained compound was subjected to mass spectrometry.
(Mass spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 424.9
Exact Mass: 423.9
Figure 2020021063

〔合成例2(式(I)で表される化合物)〕
合成例1にて得られた式(A−2)で表される化合物0.85部、テトラヒドロフラン89部及びイオン交換水70部を混合した。1mol/Lの炭酸セシウム水溶液6部、トリス(ジベンジリデンアセトン)−ジパラジウム(0)0.37部、トリ−tert−ブチルホスホニウム テトラフルオロボレート0.46部、2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノール(東京化成工業(株)製)1.49部を添加し、2時間還流させた。反応終了後、10%酢酸水を添加し反応を停止した。10%食塩水を加え、分液後、有機層を濃縮した。得られた固体をトルエン/1−ブタノール=1/1の溶液100部で再結晶を行い、式(A−3)で表される化合物0.4部を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 509.2
Exact Mass:508.24

Figure 2020021063
[Synthesis Example 2 (Compound represented by Formula (I))]
0.85 part of the compound represented by the formula (A-2) obtained in Synthesis Example 1, 89 parts of tetrahydrofuran, and 70 parts of ion-exchanged water were mixed. 6 parts of 1 mol / L cesium carbonate aqueous solution, 0.37 parts of tris (dibenzylideneacetone) -dipalladium (0), 0.46 parts of tri-tert-butylphosphonium tetrafluoroborate, 2,6-dimethyl-4- ( 1.49 parts of 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added, and the mixture was refluxed for 2 hours. After completion of the reaction, 10% aqueous acetic acid was added to stop the reaction. A 10% saline solution was added, and after liquid separation, the organic layer was concentrated. The obtained solid was recrystallized from 100 parts of a toluene / 1-butanol = 1/1 solution to obtain 0.4 part of a compound represented by the formula (A-3). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 509.2
Exact Mass: 508.24
Figure 2020021063

〔合成例3(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、3,4,5−トリメトキシフェニルボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−4)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 601.3
Exact Mass:600.25

Figure 2020021063
[Synthesis Example 3 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 3,4,5-trimethoxyphenyl Except using boronic acid, it synthesize | combined similarly to the synthesis example 2, and obtained the compound represented by Formula (A-4). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 601.3
Exact Mass: 600.25
Figure 2020021063

〔合成例4(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、4−ヘキシルフェニルボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−5)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 589.4
Exact Mass:588.37

Figure 2020021063
[Synthesis example 4 (compound represented by formula (I))]
In place of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 4-hexylphenylboronic acid was used. Except for this, the compound was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain a compound represented by the formula (A-5). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 589.4
Exact Mass: 588.37
Figure 2020021063

〔合成例5(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、4−ヘキシルオキシフェニルボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−6)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 621.4
Exact Mass:620.36

Figure 2020021063
[Synthesis Example 5 (compound represented by formula (I))]
4-hexyloxyphenylboronic acid was used in place of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2. Except for the above, the compound was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain a compound represented by the formula (A-6). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 621.4
Exact Mass: 620.36
Figure 2020021063

〔合成例6(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、4−(ジメチルアミノ)フェニルボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−7)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 507.3
Exact Mass:506.27

Figure 2020021063
[Synthesis Example 6 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 4- (dimethylamino) phenylboronic acid Compound (A-7) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 except that was used to obtain a compound represented by the formula (A-7). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 507.3
Exact Mass: 506.27
Figure 2020021063

〔合成例7(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、4−(ジフェニルアミノ)フェニルボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−8)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 754.3
Exact Mass:754.33

Figure 2020021063
[Synthesis Example 7 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 4- (diphenylamino) phenylboronic acid Compound (A-8) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 except that was used to obtain a compound represented by the formula (A-8). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 754.3
Exact Mass: 754.33
Figure 2020021063

〔合成例8(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、4’−プロピル−4−ビフェニルボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−9)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 657.3
Exact Mass:656.34

Figure 2020021063
[Synthesis Example 8 (Compound represented by Formula (I))]
4'-propyl-4-biphenylborone instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2 Except that an acid was used, synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain a compound represented by the formula (A-9). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 657.3
Exact Mass: 656.34
Figure 2020021063

〔合成例9(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、6−エトキシ−2−ナフタレンボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−10)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 609.3
Exact Mass:608.27

Figure 2020021063
[Synthesis example 9 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 6-ethoxy-2-naphthaleneboronic acid Compound (A-10) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 except that was used to obtain a compound represented by the formula (A-10). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 609.3
Exact Mass: 608.27
Figure 2020021063

〔合成例10(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、9,9−ジメチルフルオレン−2−ボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−11)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 653.3
Exact Mass:652.31

Figure 2020021063
[Synthesis Example 10 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 9,9-dimethylfluoren-2-yl Except using boronic acid, it synthesize | combined similarly to the synthesis example 2, and obtained the compound represented by Formula (A-11). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 653.3
Exact Mass: 652.31
Figure 2020021063

〔合成例11(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、ベンゾ[b]チオフェン−2−ボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−12)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 533.1
Exact Mass:532.13

Figure 2020021063
[Synthesis Example 11 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, benzo [b] thiophen-2-boron Except for using an acid, the same synthesis as in Synthesis Example 2 was performed to obtain a compound represented by the formula (A-12). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 533.1
Exact Mass: 532.13
Figure 2020021063

〔合成例12(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、9−エチルカルバゾール−3−ボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−13)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 655.3
Exact Mass:654.30

Figure 2020021063
[Synthesis Example 12 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 9-ethylcarbazole-3-boronic acid Compound (A-13) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 except that was used to obtain a compound represented by the formula (A-13). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 655.3
Exact Mass: 654.30
Figure 2020021063

〔合成例13(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、9−(4−ビフェニリル)カルバゾール−3−ボロン酸ピナコールを用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−14)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 903.4
Exact Mass:902.36

Figure 2020021063
[Synthesis Example 13 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 9- (4-biphenylyl) carbazole- Except for using 3-boronic acid pinacol, the synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain a compound represented by the formula (A-14). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 903.4
Exact Mass: 902.36
Figure 2020021063

〔合成比較例1〕
合成例1の式(A−1)で表される化合物の合成法における2,4−ジメチルピロールに代えて、3−エチル−2,4−ジメチルピロールを用いたこと以外は、式(A−1)で表される化合物と同様に合成し、式(B−1)で表される化合物を得た。得られた化合物について、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。

Figure 2020021063
[Synthesis Comparative Example 1]
In the synthesis method of the compound represented by the formula (A-1) of Synthesis Example 1, except that 3-ethyl-2,4-dimethylpyrrole was used instead of 2,4-dimethylpyrrole. The compound represented by the formula (B-1) was synthesized in the same manner as in the compound represented by the formula (1). The maximum absorption wavelength of the obtained compound was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
Figure 2020021063

〔合成比較例2〕
合成例1の式(A−1)で表される化合物の合成法の手順で式(A−1)で表される化合物を得た。得られた化合物について、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
[Synthesis Comparative Example 2]
The compound represented by the formula (A-1) was obtained by the procedure of the synthesis method of the compound represented by the formula (A-1) in Synthesis Example 1. The maximum absorption wavelength of the obtained compound was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.

〔合成例14(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、4−tert−ブチルフェニルボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−15)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 533.3
Exact Mass:532.3

Figure 2020021063
[Synthesis Example 14 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 4-tert-butylphenylboronic acid was used. Except for using the compound, it was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain a compound represented by the formula (A-15). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 533.3
Exact Mass: 532.3
Figure 2020021063

〔合成例15(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、4−メトキシ−3,5−ジメチルフェニルボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−16)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 537.2
Exact Mass:536.3

Figure 2020021063
[Synthesis Example 15 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 4-methoxy-3,5-dimethyl Except that phenylboronic acid was used, synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain a compound represented by the formula (A-16). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 537.2
Exact Mass: 536.3
Figure 2020021063

〔合成例16(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、4−カルボキシフェニルボロン酸ピナコールを用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−17)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 509.5
Exact Mass:508.2

Figure 2020021063
[Synthesis Example 16 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 4-carboxyphenylboronic acid pinacol was used. Except for the above, the compound was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain a compound represented by the formula (A-17). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 509.5
Exact Mass: 508.2
Figure 2020021063

〔合成例17(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、1−チアントレニルボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−18)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 697.2
Exact Mass:696.1

Figure 2020021063
[Synthesis Example 17 (compound represented by formula (I))]
1-thianthrenylboronic acid was used in place of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2. Except for the above, the compound was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain a compound represented by the formula (A-18). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 697.2
Exact Mass: 696.1
Figure 2020021063

〔合成例18(式(I)で表される化合物)〕
合成例2における2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)フェノールに代えて、4−メチル−1−ナフタレンボロン酸を用いたこと以外は、合成例2と同様に合成し、式(A−19)で表される化合物を得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 549.2
Exact Mass:548.3

Figure 2020021063
[Synthesis example 18 (compound represented by formula (I))]
Instead of 2,6-dimethyl-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaboran-2-yl) phenol in Synthesis Example 2, 4-methyl-1-naphthaleneboronic acid Compound (A-19) was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2 except that was used to obtain a compound represented by the formula (A-19). About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 549.2
Exact Mass: 548.3
Figure 2020021063

〔合成例19(式(II)で表される化合物)〕
3,4−ジブトキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン(東京化成工業(株)製)11.89部及び1−ブタノール38.9部を混合し、110℃で加熱撹拌した。得られた混合物に、2,4−ジメチルピロール(東京化成工業(株)製)5.0部を10分かけて滴下し、3時間加熱還流を行った。得られた混合物を、室温まで冷却し、析出した結晶をろ過して溶液と結晶とを分別した。得られた結晶に対し、ヘキサン327部を用いてリパルプ洗浄を実施したところ、淡緑色の固体を得た。
濃塩酸7.1部及び蒸留水40部で調整した水溶液に、酢酸48.3部と前記固体とを混合し、110℃で2時間加熱還流を行ったところ、淡緑色から淡橙色へ色変化が起こり、反応が停止した。
得られた反応液を室温まで冷却し、淡橙色の粉体をろ別した。得られた粉末をヘキサン164部でリパルプ洗浄を行い、淡黄色の式(C−1)で表される化合物5.65部(収率56.2%)得た。

Figure 2020021063
[Synthesis example 19 (compound represented by formula (II))]
11.89 parts of 3,4-dibutoxy-3-cyclobutene-1,2-dione (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 38.9 parts of 1-butanol were mixed and heated and stirred at 110 ° C. To the obtained mixture, 5.0 parts of 2,4-dimethylpyrrole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was heated under reflux for 3 hours. The obtained mixture was cooled to room temperature, and the precipitated crystals were filtered to separate the solution from the crystals. When the obtained crystals were subjected to repulping washing using 327 parts of hexane, a pale green solid was obtained.
48.3 parts of acetic acid and the above solid were mixed with an aqueous solution adjusted with 7.1 parts of concentrated hydrochloric acid and 40 parts of distilled water, and the mixture was heated under reflux at 110 ° C. for 2 hours, and the color changed from pale green to pale orange. Occurred and the reaction stopped.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, and a pale orange powder was separated by filtration. The obtained powder was subjected to repulping washing with 164 parts of hexane to obtain 5.65 parts (yield: 56.2%) of a pale yellow compound represented by the formula (C-1).
Figure 2020021063

式(C−1)で表される化合物1.39部、3−アセチル−2,4−ジメチルピロール(東京化成工業(株)製)1.0部、1−ブタノール21.6部及びトルエン35.7部を混合し、110℃で3時間加熱還流を行った。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶を、ろ過を行い溶液と結晶を分別した。結晶に対し、ヘキサン327部を用いてリパルプ洗浄を行い、紫色の式(C−2)で表される化合物を0.96部(収率85.3%)得た。

Figure 2020021063
1.39 parts of the compound represented by the formula (C-1), 1.0 part of 3-acetyl-2,4-dimethylpyrrole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 21.6 parts of 1-butanol, and toluene 35 And then heated and refluxed at 110 ° C. for 3 hours. The resulting reaction solution was cooled to room temperature, and the precipitated crystals were filtered to separate the solution from the crystals. The crystals were subjected to repulping washing using 327 parts of hexane to obtain 0.96 parts (yield: 85.3%) of a compound represented by the formula (C-2) in purple.
Figure 2020021063

式(C−2)で表される化合物0.80部及び脱水テトラヒドロフラン59.5部を混合し、氷温下(5℃)で窒素置換を行いながら30分撹拌した。
得られた混合物に、N−ブロモスクシイミド0.94部を投入し、氷温下(5℃)で2時間撹拌した。得られた反応液に純水を加え、ろ過を行い、結晶を分取した。得られた結晶をテトラヒドロフランに再溶解させた後、純水を加え、再び結晶を析出させて、黒紫色の式(A−20)で表される化合物を0.91部(収率90.7%)得た。得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 389.2
Exact Mass:388.04

Figure 2020021063
0.80 part of the compound represented by the formula (C-2) and 59.5 parts of dehydrated tetrahydrofuran were mixed, and the mixture was stirred at an ice temperature (5 ° C) for 30 minutes while purging with nitrogen.
0.94 parts of N-bromosuccinimide was added to the obtained mixture, and the mixture was stirred at an ice temperature (5 ° C) for 2 hours. Pure water was added to the obtained reaction solution, and the mixture was filtered to collect crystals. After redissolving the obtained crystals in tetrahydrofuran, pure water was added to precipitate the crystals again, and 0.91 parts of a compound represented by the formula (A-20) in black purple color was obtained (yield: 90.7 parts). %)Obtained. About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 389.2
Exact Mass: 388.04
Figure 2020021063

〔合成例20(式(I)で表される化合物)〕
四つ口フラスコに、式(A−20)で表される化合物0.195部、テトラヒドロフラン22.2部及び、純水17.5部加え、80℃で60分間窒素ガスを導入し、バブリングを行った。得られた混合物にトリス(ジベンジリデンアセトン)パラジウムを0.092部、[トリ(ターシャリーブチル)ホスホニウム]テトラフルオロボレートを0.116部、1mol/Lの炭酸セシウム水溶液を1.5部加えた。反応液をオイルバスの温度が80℃の条件で撹拌しながら、0.243部のベンゾフラン−2−ボロン酸(東京化成工業(株)製)を6.66部のテトラヒドロフランに溶解させて得られた溶液を10分かけて滴下し、2時間撹拌した。得られた混合物に、10質量%の酢酸水溶液100部を加え、窒素雰囲気下で15分間撹拌した。
得られた混合物に、10%食塩水0.3部加え分液操作を行い有機層の分取を行った。有機層をエバポレータを用いて乾燥させ、タール状の粗精製物1を得た。粗精製物1に対し、メタノールを用いた抽出を行い、その後メタノールを除去することで、粗生成物2を得た。得られた粗生成物2に対し、トルエン/ブタノール=1/1の溶液100部を用い加熱溶解させ、再結晶を行うことで、式(A−21)で表される化合物0.07部(収率32.8%)を得た。
得られた化合物について、質量分析を行うとともに、最大吸収波長を測定した。表1に測定した最大吸収波長を示す。
(質量分析)イオン化モード=ESI+:m/z=[M+H] 427.1
Exact Mass:426.16

Figure 2020021063
[Synthesis Example 20 (Compound represented by Formula (I))]
0.195 parts of the compound represented by the formula (A-20), 22.2 parts of tetrahydrofuran, and 17.5 parts of pure water were added to a four-necked flask, and nitrogen gas was introduced at 80 ° C for 60 minutes to perform bubbling. went. 0.092 parts of tris (dibenzylideneacetone) palladium, 0.116 parts of [tri (tertiarybutyl) phosphonium] tetrafluoroborate and 1.5 parts of a 1 mol / L cesium carbonate aqueous solution were added to the obtained mixture. . The reaction solution is obtained by dissolving 0.243 parts of benzofuran-2-boronic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 6.66 parts of tetrahydrofuran while stirring the reaction solution at an oil bath temperature of 80 ° C. The solution was added dropwise over 10 minutes and stirred for 2 hours. To the obtained mixture, 100 parts of a 10% by mass acetic acid aqueous solution was added, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere for 15 minutes.
To the obtained mixture, 0.3 parts of 10% saline was added, and a liquid separation operation was performed to separate an organic layer. The organic layer was dried using an evaporator to obtain a tar-like crude product 1. The crude product 1 was subjected to extraction using methanol, and then methanol was removed to obtain a crude product 2. The obtained crude product 2 was heated and dissolved using 100 parts of a toluene / butanol = 1/1 solution, and recrystallized to obtain 0.07 part of a compound represented by the formula (A-21) ( Yield 32.8%).
About the obtained compound, while performing mass spectrometry, the maximum absorption wavelength was measured. Table 1 shows the measured maximum absorption wavelengths.
(Mass spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 427.1
Exact Mass: 426.16
Figure 2020021063

Figure 2020021063
Figure 2020021063

〔実施例1〕
((メタ)アクリル系樹脂の製造)
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌機を備えた反応容器に、溶媒としての酢酸エチル81.8部、単量体としてアクリル酸ブチル69.8部、アクリル酸メチル20部、アクリル酸2−ヒドロキシエチル1部、アクリル酸2−フェノキシエチル8部、アクリル酸2−メトキシエチル1部並びにアクリル酸0.2部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで反応容器内の空気を置換して酸素不含としながら内温を55℃に上げた。得られた混合溶液に、アゾビスイソブチロニトリル(重合開始剤)0.14部を酢酸エチル10部に溶かした溶液を全量添加した。得られた混合物を、内温を55℃で1時間保持し、次いで内温を55℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度17.3部/hrで反応容器内へ連続的に加え、(メタ)アクリル系樹脂の濃度が35%となった時点で酢酸エチルの添加を止めて8時間重合させた。最後に(メタ)アクリル系樹脂の濃度が20%となるように酢酸エチルを加えて、(メタ)アクリル系樹脂の酢酸エチル溶液を調製した。得られた(メタ)アクリル系樹脂について、重量平均分子量(Mw)及び多分散度(Mw/Mn)を測定したところ、重量平均分子量(Mw)は140万であり、多分散度(Mw/Mn)は5.1であった。
[Example 1]
(Production of (meth) acrylic resin)
In a reaction vessel equipped with a cooling pipe, a nitrogen introduction pipe, a thermometer and a stirrer, 81.8 parts of ethyl acetate as a solvent, 69.8 parts of butyl acrylate as a monomer, 20 parts of methyl acrylate, and 2 parts of acrylic acid -A mixture of 1 part of hydroxyethyl, 8 parts of 2-phenoxyethyl acrylate, 1 part of 2-methoxyethyl acrylate and 0.2 part of acrylic acid is charged, and the air in the reaction vessel is replaced with nitrogen gas to remove oxygen. The internal temperature was raised to 55 ° C. while containing the mixture. To the resulting mixed solution, a solution prepared by dissolving 0.14 parts of azobisisobutyronitrile (polymerization initiator) in 10 parts of ethyl acetate was added in total. The obtained mixture is maintained at an internal temperature of 55 ° C. for 1 hour, and then, while maintaining the internal temperature at 55 ° C., ethyl acetate is continuously added into the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts / hr, to give (meth) When the concentration of the acrylic resin reached 35%, the addition of ethyl acetate was stopped and polymerization was carried out for 8 hours. Finally, ethyl acetate was added so that the concentration of the (meth) acrylic resin became 20% to prepare a solution of the (meth) acrylic resin in ethyl acetate. When the weight average molecular weight (Mw) and polydispersity (Mw / Mn) of the obtained (meth) acrylic resin were measured, the weight average molecular weight (Mw) was 1.4 million, and the polydispersity (Mw / Mn) was found. ) Was 5.1.

(粘着剤組成物1の調製)
上記(メタ)アクリル系樹脂の製造で得た(メタ)アクリル系樹脂の固形分100部に対し、架橋剤(東ソー(株)から入手した「コロネートHXR」(ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性体))を0.6部、シラン化合物(信越化学工業(株)から入手した「KBM−403」(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)を0.5部、帯電防止剤としてN−ヘキシル−4−メチルピリジニウム6フッ化リンを3部、式(A−5)で表される化合物0.1部を混合し、さらに固形分濃度が14%となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物1の溶液を調製した。
(Preparation of adhesive composition 1)
A crosslinking agent ("Coronate HXR" (isocyanurate-modified hexamethylene diisocyanate) obtained from Tosoh Corporation) was used for 100 parts of the solid content of the (meth) acrylic resin obtained in the production of the (meth) acrylic resin. ), 0.5 part of a silane compound ("KBM-403" (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane) obtained from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and N-hexyl-4 as an antistatic agent. -Methylpyridinium Phosphorus hexafluoride (3 parts), the compound represented by the formula (A-5) (0.1 part) were mixed, and ethyl acetate was added so that the solid content became 14%. A solution of product 1 was prepared.

(粘着剤シート1の作製)
離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる第1セパレータフィルム(リンテック(株)から入手した「PLR−382190」)の離型処理面に、アプリケータを用いて、粘着剤組成物1を塗布し、100℃で1分間乾燥させて粘着剤層を作製した。得られた粘着剤層の厚みは20μmであった。得られた粘着剤層上に、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる第2セパレータフィルム(リンテック(株)から入手した「PLR−251130」)の離型処理面を貼り合わせ、粘着剤シート1とした。得られた粘着剤シート1のセパレータフィルムの片方を剥がし、無アルカリガラス(コーニング社製 EagleXG)の片方の面に貼合し、紫外可視分光光度計(島津製作所社製 UV−2450)を用いて最大吸収波長を測定した。その結果を表2に示す。なお、上記したセパレータフィルム及び無アルカリガラスの波長400nm〜700nmにおける吸光度はほぼ0である。
(Preparation of adhesive sheet 1)
Using an applicator, apply the pressure-sensitive adhesive composition 1 to the release-treated surface of a first separator film ("PLR-382190" obtained from Lintec Corporation) made of a polyethylene terephthalate film subjected to a release treatment. Then, it was dried at 100 ° C. for 1 minute to prepare an adhesive layer. The thickness of the obtained pressure-sensitive adhesive layer was 20 μm. On the obtained pressure-sensitive adhesive layer, a release-treated surface of a second separator film ("PLR-251130" obtained from Lintec Co., Ltd.) made of a polyethylene terephthalate film subjected to a release treatment was bonded. Sheet 1 was obtained. One of the separator films of the obtained pressure-sensitive adhesive sheet 1 was peeled off, bonded to one surface of non-alkali glass (EagleXG manufactured by Corning), and using an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-2450 manufactured by Shimadzu Corporation). The maximum absorption wavelength was measured. Table 2 shows the results. The absorbance of the above-described separator film and alkali-free glass at a wavelength of 400 nm to 700 nm is almost 0.

〔実施例2〕
式(A−5)に示す化合物の代わりに式(A−6)に示す化合物を使用したこと以外は粘着剤組成物1の調製と同様の方法により、粘着剤組成物2を調製した。得られた粘着剤組成物2を用いたこと以外は粘着剤シート1の作製と同様の方法により、粘着剤シート2を作製して、最大吸収波長を測定した。その結果を表2に示す。
[Example 2]
Pressure-sensitive adhesive composition 2 was prepared in the same manner as in preparation of pressure-sensitive adhesive composition 1, except that the compound represented by formula (A-6) was used instead of the compound represented by formula (A-5). A pressure-sensitive adhesive sheet 2 was prepared in the same manner as in the preparation of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 except that the obtained pressure-sensitive adhesive composition 2 was used, and the maximum absorption wavelength was measured. Table 2 shows the results.

〔実施例3〜11〕
式(A−5)に示す化合物の代わりに表2に示す化合物を使用したこと以外は粘着剤組成物1の調製と同様の方法により、粘着剤組成物5〜11を調製した。得られた粘着剤組成物5〜11を用いたこと以外は粘着剤シート1の作製と同様の方法により、粘着剤シート5〜11を作成して、最大吸収波長を測定した。その結果を表2に示す。
[Examples 3 to 11]
Pressure-sensitive adhesive compositions 5 to 11 were prepared in the same manner as in the preparation of pressure-sensitive adhesive composition 1, except that the compounds shown in Table 2 were used instead of the compound represented by the formula (A-5). Except that the obtained pressure-sensitive adhesive compositions 5 to 11 were used, pressure-sensitive adhesive sheets 5 to 11 were prepared in the same manner as in the preparation of pressure-sensitive adhesive sheet 1, and the maximum absorption wavelength was measured. Table 2 shows the results.

〔比較例1〕
式(A−5)に示す化合物の代わりに式(B−1)に示す化合物を使用したこと以外は粘着剤組成物1の調製と同様の方法により、粘着剤組成物3を調製した。得られた粘着剤組成物3を用いたこと以外は粘着剤シート1の作製と同様の方法により、粘着剤シート3を作製して、最大吸収波長を測定した。その結果を表2に示す。
[Comparative Example 1]
Pressure-sensitive adhesive composition 3 was prepared in the same manner as in preparation of pressure-sensitive adhesive composition 1, except that the compound represented by formula (B-1) was used instead of the compound represented by formula (A-5). A pressure-sensitive adhesive sheet 3 was prepared in the same manner as in the preparation of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 except that the obtained pressure-sensitive adhesive composition 3 was used, and the maximum absorption wavelength was measured. Table 2 shows the results.

〔比較例2〕
式(A−5)に示す化合物の代わりに式(A−1)に示す化合物を使用したこと以外は粘着剤組成物1の調製と同様の方法により、粘着剤組成物4を調製した。得られた粘着剤組成物4を用いたこと以外は粘着剤シート1の作製と同様の方法により、粘着剤シート4を作製して、最大吸収波長を測定した。その結果を表2に示す。
[Comparative Example 2]
Pressure-sensitive adhesive composition 4 was prepared in the same manner as in the preparation of pressure-sensitive adhesive composition 1, except that the compound represented by formula (A-1) was used instead of the compound represented by formula (A-5). The pressure-sensitive adhesive sheet 4 was prepared in the same manner as in the preparation of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 except that the obtained pressure-sensitive adhesive composition 4 was used, and the maximum absorption wavelength was measured. Table 2 shows the results.

Figure 2020021063
Figure 2020021063

〔比較例3〕
式(A−5)に示す化合物を使用しないこと以外は粘着剤組成物1の調製と同様の方法により、粘着剤組成物14を調製した。得られた粘着剤組成物14を用いたこと以外は粘着剤シート1の作製と同様の方法により、粘着剤シート14を作製した。
[Comparative Example 3]
Pressure-sensitive adhesive composition 14 was prepared in the same manner as in the preparation of pressure-sensitive adhesive composition 1, except that the compound represented by the formula (A-5) was not used. The pressure-sensitive adhesive sheet 14 was produced in the same manner as in the production of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 except that the obtained pressure-sensitive adhesive composition 14 was used.

(再現可能な色域範囲の算出)
適用例3の粘着剤シート5について得られた吸収スペクトルをもとに、粘着剤シート5を汎用のバックライト及び汎用のカラーフィルターを持つパネルに適用した際に、パネルにおいて再現可能な色域範囲[%]をシミュレーションにより算出した。なお、シミュレーションに用いた汎用のバックライトは、Blue LEDにYAG蛍光体を混ぜたものであり、汎用のカラーフィルターは、sRGB準拠の標準ディスプレイである。また、再現可能な色域範囲[%]については、DCI P3色規格に対する色再現可能範囲をCIE1976表色系で算出し比較を行った。
粘着剤シート5の代わりに粘着剤シート14を適用した場合についても同様に算出した。粘着剤シート14の色再現可能範囲を基準とし、以下の式に基づいて色再現可能範囲を算出した。
色再現可能範囲[%]=
(粘着剤シート5を適用した際の色再現可能範囲)/(粘着剤シート14を適用した際の色再現可能範囲)×100
(Calculation of reproducible color gamut)
Based on the absorption spectrum obtained for the pressure-sensitive adhesive sheet 5 of Application Example 3, when the pressure-sensitive adhesive sheet 5 is applied to a panel having a general-purpose backlight and a general-purpose color filter, a color gamut range that can be reproduced on the panel [%] Was calculated by simulation. The general-purpose backlight used for the simulation is a mixture of a Blue LED and a YAG phosphor, and the general-purpose color filter is an sRGB compliant standard display. Regarding the reproducible color gamut range [%], a color reproducible range with respect to the DCIP3 color standard was calculated using the CIE1976 color system and compared.
The same calculation was performed when the pressure-sensitive adhesive sheet 14 was used instead of the pressure-sensitive adhesive sheet 5. Based on the color reproducible range of the pressure-sensitive adhesive sheet 14, the color reproducible range was calculated based on the following equation.
Color reproduction range [%] =
(Color reproducible range when adhesive sheet 5 is applied) / (color reproducible range when adhesive sheet 14 is applied) × 100

粘着剤シート3及び粘着剤シート4についてもそれぞれ上記と同様にして再現可能な色域範囲を算出した。結果を表3に示す。   The reproducible color gamut ranges of the pressure-sensitive adhesive sheets 3 and 4 were calculated in the same manner as described above. Table 3 shows the results.

(バックライトの透過率の算出)
粘着剤層シート5を汎用のバックライト及び汎用のカラーフィルターを持つパネルに適用した際のバックライトの透過量をシミュレーションにより算出した。なお、シミュレーションに用いた汎用のバックライトは、Blue LEDにYAG蛍光体を混ぜたものであり、汎用のカラーフィルターは、sRGB準拠の標準ディスプレイである。
粘着剤シート5の代わりに粘着剤シート14を適用した場合についても同様に算出した。粘着剤シート14を適用した場合のバックライトの透過量を基準として、以下の計算式に基づき、粘着剤シート5をパネルに適用した際のバックライトの透過率を計算した。結果を表3に示す。
バックライトの透過率[%]=
(粘着剤シート5を適用した際のバックライトの透過量)/(粘着剤シート14を適用した際のバックライトの透過量)×100
(Calculation of backlight transmittance)
The amount of transmission of the backlight when the pressure-sensitive adhesive layer sheet 5 was applied to a panel having a general-purpose backlight and a general-purpose color filter was calculated by simulation. The general-purpose backlight used for the simulation is a mixture of a Blue LED and a YAG phosphor, and the general-purpose color filter is an sRGB compliant standard display.
The same calculation was performed when the pressure-sensitive adhesive sheet 14 was used instead of the pressure-sensitive adhesive sheet 5. Based on the amount of transmission of the backlight when the pressure-sensitive adhesive sheet 14 was applied, the transmittance of the backlight when the pressure-sensitive adhesive sheet 5 was applied to the panel was calculated based on the following calculation formula. Table 3 shows the results.
Backlight transmittance [%] =
(Transmission amount of backlight when pressure-sensitive adhesive sheet 5 is applied) / (Transmission amount of backlight when pressure-sensitive adhesive sheet 14 is applied) × 100

粘着剤シート3及び粘着剤シート4についてもそれぞれ上記と同様にしてバックライトの透過率を算出した。結果を表3に示す。   The backlight transmittance of each of the pressure-sensitive adhesive sheets 3 and 4 was calculated in the same manner as described above. Table 3 shows the results.

Figure 2020021063
Figure 2020021063

化合物(I)を(メタ)アクリル樹脂溶液に混合し、粘着剤シートを作製することで、波長580nm付近(波長575〜590nm)の波長域に最大吸収波長を有する光学フィルタを作製することができた。また、化合物(I)を含む粘着剤シート(光学フィルタ)を表示装置に適用することで、透過する光における緑色の光と赤色の光との分離性を向上することができるため、再現可能な色域範囲を拡大することができた。また、バックライトの透過率の低減も抑制できた。   By mixing the compound (I) with a (meth) acrylic resin solution to prepare an adhesive sheet, an optical filter having a maximum absorption wavelength in a wavelength range around 580 nm (wavelength 575 to 590 nm) can be manufactured. Was. In addition, by applying the pressure-sensitive adhesive sheet (optical filter) containing the compound (I) to a display device, the separation between green light and red light in transmitted light can be improved, and thus, reproducibility can be improved. The gamut range could be expanded. In addition, a decrease in the transmittance of the backlight could be suppressed.

〔実施例12(光硬化性接着剤液1の調製)〕
3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート80部に対し、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルを20部、光カチオン重合開始剤を3部、式(A−16)に示す化合物1部を混合し脱泡することにより光硬化性接着剤液1を調製した。
[Example 12 (Preparation of photocurable adhesive liquid 1)]
3 ′, 4′-Epoxycyclohexylmethyl To 80 parts of 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 20 parts of 1,4-butanediol diglycidyl ether, 3 parts of a cationic photopolymerization initiator, the formula (A-16) Was mixed and defoamed to prepare a photocurable adhesive liquid 1.

〔実施例13(光硬化性接着剤液2の調製)〕
式(A−16)に示す化合物の代わりに式(A−18)に示す化合物を添加した以外は光硬化性接着剤液1と同じ調製を行うことにより、光硬化性接着剤液2を調製した。
[Example 13 (Preparation of photocurable adhesive liquid 2)]
Photocurable adhesive liquid 2 was prepared by performing the same preparation as photocurable adhesive liquid 1 except that the compound represented by formula (A-18) was added instead of the compound represented by formula (A-16). did.

〔実施例14(偏光板1の作製)〕
紫外線吸収剤を含む厚さ60μmのトリアセチルセルロースフィルム〔商品名“フジタックTG60UL”、富士フィルム(株)製〕の表面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、上記で調製した光硬化性接着剤液1を硬化後の膜厚が約2μmとなるように、バーコーターを用いて塗工した。この塗工によって形成した接着剤層に、厚さ28μmのポリビニルアルコール−ヨウ素系偏光子を貼合した。また、環状ポリオレフィン系樹脂からなる厚さ50μmの位相差フィルム〔商品名“ZEONOR”、日本ゼオン(株)製〕の表面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、光硬化性接着剤液1を硬化後の膜厚が約2μmとなるように、バーコーターを用いて塗工した。この塗工によって形成した接着剤層に、上記で作製したトリアセチルセルロースフィルムが片面に貼合された偏光子の偏光子側を貼合し、積層物を作製した。この積層物の位相差フィルム側から、ベルトコンベア付き紫外線照射装置(ランプは、フュージョンUVシステムズ社製の“Dバルブ”使用)を用いて積算光量が200mJ/cmとなるように紫外線を照射し、接着剤を硬化させた。こうして、偏光子の両面に保護膜が貼合された偏光板1を作製した。得られた偏光板を40mm×40mmに裁断し、位相差フィルムと反対側の面より測定光を入射する形に配置して、紫外可視分光光度計(島津製作所社製 UV−2450)を用いて波長400nm〜700nmの範囲における偏光板の透過軸方向の透過スペクトル測定を行った。得られたスペクトルにおいて、透過率が極小となる波長を最大吸収波長とした。結果を表4に示す。
[Example 14 (production of polarizing plate 1)]
A surface of a 60 μm-thick triacetylcellulose film (trade name “Fujitack TG60UL”, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) containing an ultraviolet absorber is subjected to corona discharge treatment, and the corona discharge-treated surface is subjected to the photocuring prepared above The adhesive liquid 1 was applied using a bar coater so that the film thickness after curing was about 2 μm. A 28 μm-thick polyvinyl alcohol-iodine polarizer was bonded to the adhesive layer formed by this coating. In addition, a corona discharge treatment is applied to the surface of a 50 μm-thick retardation film (trade name “ZEONOR”, manufactured by Zeon Corporation) made of a cyclic polyolefin resin, and the photocurable adhesive is applied to the corona discharge treatment surface. Liquid 1 was applied using a bar coater so that the film thickness after curing was about 2 μm. The polarizer side of the polarizer having the above-prepared triacetylcellulose film bonded on one side was bonded to the adhesive layer formed by this coating to prepare a laminate. Ultraviolet light was irradiated from the retardation film side of this laminate using an ultraviolet irradiation device with a belt conveyor (the lamp used was a “D bulb” manufactured by Fusion UV Systems) so that the integrated light amount became 200 mJ / cm 2. The adhesive was cured. Thus, a polarizing plate 1 in which protective films were bonded to both surfaces of the polarizer was produced. The obtained polarizing plate was cut into a size of 40 mm × 40 mm, and arranged so that measurement light was incident from the surface opposite to the retardation film, and using an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-2450 manufactured by Shimadzu Corporation). The transmission spectrum of the polarizing plate in the transmission axis direction in the wavelength range of 400 nm to 700 nm was measured. In the obtained spectrum, the wavelength at which the transmittance becomes minimum was defined as the maximum absorption wavelength. Table 4 shows the results.

〔実施例15(偏光板2の作製)〕
光硬化性接着剤液1の代わりに光硬化性接着剤液2を用いたこと以外は偏光板1の作製と同様の方法により、偏光子の両面に保護膜が貼合された偏光板2を作製した。得られた偏光板を40mm×40mmに裁断し、偏光板1と同様の手法を用いて最大吸収波長を求めた。結果を表4に示す。
[Example 15 (production of polarizing plate 2)]
A polarizing plate 2 having a protective film attached to both surfaces of a polarizer was prepared in the same manner as in the production of the polarizing plate 1 except that the photocurable adhesive solution 2 was used instead of the photocurable adhesive solution 1. Produced. The obtained polarizing plate was cut into 40 mm × 40 mm, and the maximum absorption wavelength was obtained by using the same method as that for the polarizing plate 1. Table 4 shows the results.

Figure 2020021063
Figure 2020021063

1,2 画像表示素子、10 光学フィルタ、11 画像表示素子用粘着剤層、12 位相差フィルム、13 粘着剤層、14 第1保護フィルム、15 偏光フィルム、16 第2保護フィルム、20 光学積層体、21 画像表示素子用粘着剤層、24 第1保護フィルム、25 偏光フィルム、26 第2保護フィルム。   1, 2 image display element, 10 optical filter, 11 adhesive layer for image display element, 12 retardation film, 13 adhesive layer, 14 first protective film, 15 polarizing film, 16 second protective film, 20 optical laminate , 21 adhesive layer for image display element, 24 first protective film, 25 polarizing film, 26 second protective film.

Claims (4)

式(I)で表される化合物を含む光学フィルタ。
Figure 2020021063

[式中、
〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びTは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表す。
及びYは、いずれか一方が置換基を有していてもよい1価の芳香族基を表し、他方が置換基を有していてもよい1価の芳香族基、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の1価の炭化水素基(該炭化水素基は1価の芳香族基以外の基であり、該炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)を表す。]
An optical filter containing the compound represented by the formula (I).
Figure 2020021063

[Where,
R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
T 1 and T 2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
Y 1 and Y 2 each represent a monovalent aromatic group optionally having a substituent, and the other one may represent a monovalent aromatic group optionally having a substituent, a hydrogen atom, A halogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent (the hydrocarbon group is a group other than a monovalent aromatic group, and- CH 2 — may be replaced by —O— or —CO—. ]
さらに、接着層を含み、
前記接着層は、前記式(I)で表される化合物を含む、請求項1に記載の光学フィルタ。
In addition, including an adhesive layer,
The optical filter according to claim 1, wherein the adhesive layer includes a compound represented by the formula (I).
請求項1又は2に記載の光学フィルタと画像表示素子とを有する表示装置であって、
前記光学フィルタは、前記画像表示素子よりも視認側に配置される、表示装置。
A display device comprising the optical filter and the image display element according to claim 1 or 2,
The display device, wherein the optical filter is arranged on a viewing side with respect to the image display element.
液晶表示装置又は有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、請求項3に記載の表示装置。   The display device according to claim 3, which is a liquid crystal display device or an organic electroluminescence display device.
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