JP2020007674A - Cleaning cloth - Google Patents

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JP2020007674A JP2018130343A JP2018130343A JP2020007674A JP 2020007674 A JP2020007674 A JP 2020007674A JP 2018130343 A JP2018130343 A JP 2018130343A JP 2018130343 A JP2018130343 A JP 2018130343A JP 2020007674 A JP2020007674 A JP 2020007674A
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大原 康之
Yasuyuki Ohara
康之 大原
禎浩 安藤
Sadahiro Ando
禎浩 安藤
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Tsuchiya TSCO Co Ltd
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Tsuchiya TSCO Co Ltd
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Abstract

To provide a cleaning cloth capable of cleaning deposited materials adhered to a mesh filter.SOLUTION: A cleaning cloth comprises a cloth-like base fabric holding an abrasive. The base fabric is a cloth-like woven fabric having the abrasive dispersed in at least a portion of the warp and/or the weft. At least a portion of the abrasive in the warp and/or the weft is exposed on the surface of the cloth-like woven fabric. Further, the cleaning cloth has: a plurality of cut pile yarns formed by napping one side of the base fabric obtained by weaving a synthetic fiber not containing the abrasive into a portion of the base fabric using either the warp or the weft as a binding yarn; or a plurality of loop pile yarns formed by napping one side of the base fabric obtained by weaving a fiber in which the abrasive is dispersed as a pile yarn in a loop shape using either the warp or the weft as a binding yarn.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、クリーニング布に関する。   The present invention relates to a cleaning cloth.

機器内の少なくとも一部を冷却するための送風を行うファンと、ファンにより生じる空気の吸気側に設けられた第1のフィルタ部と、第1のフィルタ部の吸気側に設けられたメッシュ状のスクリーンと、スクリーンに接触し移動するクリーニングブラシからなりスクリーンから塵埃を除去するクリーニング手段とを含む第2のフィルタ部と、第2のフィルタ部に塵埃を回収する塵受けトレーとから構成したフィルタ機構が知られている(特許文献1)。   A fan that blows air for cooling at least a part of the device, a first filter unit provided on an intake side of air generated by the fan, and a mesh-shaped unit provided on an intake side of the first filter unit. A filter mechanism including a screen, a second filter unit including a cleaning brush that contacts and moves the screen and includes a cleaning unit that removes dust from the screen, and a dust receiving tray that collects dust in the second filter unit. Is known (Patent Document 1).

二重芯鞘構造を有する複合モノフィラメントからなる研磨用ブラシ毛材であって、複合モノフィラメントの芯部が合成樹脂と砥材粒子との混合物からなり、且つ鞘部が芯部の合成樹脂とは異なる他の合成樹脂からなる研磨用ブラシ毛材も知られている(特許文献2)。   A polishing brush bristle made of a composite monofilament having a double core-sheath structure, wherein the core of the composite monofilament is made of a mixture of synthetic resin and abrasive particles, and the sheath is different from the synthetic resin of the core. A brush bristle material made of another synthetic resin is also known (Patent Document 2).

特開2016−172409号公報JP-A-2006-172409 特開2007−136571号公報JP 2007-136571 A

本発明は、メッシュ状のフィルタに固着した固着物をクリーニングすることができるクリーニング布を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a cleaning cloth capable of cleaning adhered matter adhered to a mesh filter.

前記課題を解決するために、請求項1に記載のクリーニング布は、
研磨材を保持する布状の基布を備えたクリーニング布であって、
前記基布は、経糸及び/又は緯糸の少なくとも一部に研磨材が分散された布状織物である、
ことを特徴とする。
In order to solve the problem, the cleaning cloth according to claim 1 is
A cleaning cloth having a cloth-like base cloth for holding an abrasive,
The base cloth is a cloth-like woven fabric in which an abrasive is dispersed in at least a part of a warp and / or a weft.
It is characterized by the following.

請求項2記載の発明は、請求項1に記載のクリーニング布において、
前記基布の一部に前記経糸又は前記緯糸のいずれか一方を絡糸として、研磨材を含有しない合成繊維を織り込んで前記基布の一面に起毛された複数本のカットパイル糸を更に備えた、
ことを特徴とする。
The invention according to claim 2 is the cleaning cloth according to claim 1,
A part of the base fabric is further provided with a plurality of cut pile yarns raised on one surface of the base fabric by weaving a synthetic fiber containing no abrasive, using either the warp or the weft as an entanglement. ,
It is characterized by the following.

請求項3記載の発明は、請求項1に記載のクリーニング布において、
前記基布は、前記布状織物として織り上げられた状態において、前記経糸及び/又は前記緯糸における前記研磨材の少なくとも一部が表面に露出したものである、
ことを特徴とする。
The invention according to claim 3 is the cleaning cloth according to claim 1,
In the state in which the base fabric is woven as the cloth-like woven fabric, at least a part of the abrasive in the warp and / or the weft is exposed on a surface,
It is characterized by the following.

前記課題を解決するために、請求項4に記載のクリーニング布は、
布状の基布を構成する経糸又は緯糸のいずれか一方を絡糸として、研磨材が分散された繊維をパイル糸としてループ状に織り込んで、前記基布の一面に起毛された複数本のループパイル糸を備えた、
ことを特徴とする。
In order to solve the problem, the cleaning cloth according to claim 4 is
A plurality of loops brushed on one surface of the base cloth, in which one of the warp and the weft constituting the cloth-like base cloth is entangled, and the fibers in which the abrasive is dispersed are woven in a loop form as a pile yarn. With pile yarn,
It is characterized by the following.

請求項5記載の発明は、請求項1ないし4のいずれか1項に記載のクリーニング布において、
前記研磨材は、アルミナ、シリカゲル、二酸化チタン、チタン酸バリウム、炭化ケイ素、酸化セリウムからなる群より選択される少なくとも一種の無機酸化物である、
ことを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the cleaning cloth according to any one of the first to fourth aspects,
The abrasive is alumina, silica gel, titanium dioxide, barium titanate, silicon carbide, at least one inorganic oxide selected from the group consisting of cerium oxide,
It is characterized by the following.

請求項6記載の発明は、請求項1ないし5のいずれか1項に記載のクリーニング布において、
前記クリーニング布は、メッシュ状のフィルタに固着した固着物をクリーニングする清掃具に用いられるものである、
ことを特徴とする。
The invention according to claim 6 is the cleaning cloth according to any one of claims 1 to 5,
The cleaning cloth is used for a cleaning tool for cleaning the adhered matter adhered to the mesh filter.
It is characterized by the following.

請求項1に記載の発明によれば、メッシュ状のフィルタに固着した固着物を掻き出してクリーニングすることができる。   According to the first aspect of the present invention, it is possible to scrape and clean the adhered matter adhered to the mesh filter.

請求項2に記載の発明によれば、メッシュ状のフィルタに固着した固着物を掻き出すとともに掻き出した固着物を拭き取ることができる。   According to the second aspect of the present invention, it is possible to scrape out the fixed matter fixed to the mesh filter and wipe off the scraped-out fixed matter.

請求項3に記載の発明によれば、メッシュ状のフィルタに固着した固着物を掻き出しながら拭き取ることができる。   According to the third aspect of the present invention, it is possible to wipe off the adhered matter adhered to the mesh-shaped filter.

請求項4に記載の発明によれば、メッシュ状のフィルタに固着した固着物を効率的に掻き出してクリーニングすることができる。   According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to efficiently scrape and clean the adhered matter adhered to the mesh filter.

請求項5に記載の発明によれば、メッシュ状のフィルタに固着した固着物を掻き出すことができる。   According to the fifth aspect of the present invention, it is possible to scrape out the adhered matter adhered to the mesh filter.

請求項6に記載の発明によれば、メッシュ状のフィルタに固着した固着物を掻き出してクリーニングすることができる清掃具を提供することができる。   According to the invention as set forth in claim 6, it is possible to provide a cleaning tool that can scrape and remove the adhered matter adhered to the mesh filter.

第1実施形態に係るクリーニング布の織組織状態を示す正面図である。It is a front view showing the state of woven organization of the cleaning cloth concerning a 1st embodiment. 第1実施形態に係るクリーニング布の拡大断面模式図である。FIG. 2 is an enlarged schematic cross-sectional view of the cleaning cloth according to the first embodiment. 経糸の拡大模式図である。It is an expansion schematic diagram of a warp. クリーニング布の作用を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the effect | action of a cleaning cloth. 第2実施形態に係るクリーニング布を示す斜視図である。It is a perspective view showing the cleaning cloth concerning a 2nd embodiment. 第2実施形態に係るクリーニング布の構造を示す拡大断面模式図である。It is an expanded sectional schematic diagram which shows the structure of the cleaning cloth concerning 2nd Embodiment. 第3実施形態に係るクリーニング布の構造を示す拡大断面模式図である。FIG. 9 is an enlarged schematic cross-sectional view illustrating a structure of a cleaning cloth according to a third embodiment. (a)は被クリーニング体をクリーニングする清掃具の一例を示す斜視図、(b)は平面図である。(A) is a perspective view showing an example of a cleaning tool for cleaning a cleaning object, and (b) is a plan view.

次に図面を参照しながら、以下に実施形態及び具体例を挙げ、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態及び具体例に限定されるものではない。
また、以下の図面を使用した説明において、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なることに留意すべきであり、理解の容易のために説明に必要な部材以外の図示は適宜省略されている。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings and embodiments and specific examples, but the present invention is not limited to these embodiments and specific examples.
In the following description using the drawings, it should be noted that the drawings are schematic and ratios of respective dimensions and the like are different from actual ones. Illustrations other than members are omitted as appropriate.

「第1実施形態」
(1)クリーニング布の構成
図1は本実施形態に係るクリーニング布1の織組織状態を示す正面図、図2はクリーニング布1の拡大断面模式図、図3は経糸11の拡大模式図、図4はクリーニング布1の作用を説明する模式図である。
"First Embodiment"
(1) Configuration of Cleaning Cloth FIG. 1 is a front view showing a weaving state of the cleaning cloth 1 according to the present embodiment, FIG. 2 is an enlarged schematic cross-sectional view of the cleaning cloth 1, and FIG. FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the operation of the cleaning cloth 1.

図1に示すように、クリーニング布1は、複数の経糸11と連続した一本の緯糸12とで製織された布状の基布10を備えた布状織物であって、ニードル織機、シャトル織機、又は、レピア織機等を用いて製織された平織りの織物である。
尚、織機としては、織り速度が速いと織口が安定せずほつれが発生する虞があり、シャトル織機が望ましい。
As shown in FIG. 1, the cleaning cloth 1 is a cloth-like cloth provided with a cloth-like base cloth 10 woven by a plurality of warps 11 and one continuous weft 12, and is a needle loom, a shuttle loom. Or a plain-woven fabric woven using a rapier loom or the like.
If the weaving speed is high, the weaving flap may not be stable and fraying may occur. Therefore, a shuttle loom is preferable.

基布10における複数の経糸11及び/又は経糸21は、図3に模式的に示すように、少なくとも一部に研磨材Gが分散された繊維で構成されている。
一部に研磨材Gが分散された繊維は、その繊維径が0.1〜0.5mmのフィラメント糸であり、ナイロンやポリエステルなどの基材に研磨材Gを均一分散したものである。研磨材Gとしては、アルミナ、シリカゲル、二酸化チタン、チタン酸バリウム、炭化ケイ素、酸化セリウムからなる群より選択される少なくとも一種の無機酸化物が挙げられ、繊維中に1〜30Wt%含有されている。
これら研磨材Gは、繊維の表面にも露出して、被クリーニング体と摺擦することにより、被クリーニング体に固着した固着物を掻き出すことができる。
As shown schematically in FIG. 3, the plurality of warps 11 and / or the warps 21 in the base fabric 10 are composed of fibers in which the abrasive G is dispersed at least partially.
The fiber in which the abrasive G is partially dispersed is a filament yarn having a fiber diameter of 0.1 to 0.5 mm, and the abrasive G is uniformly dispersed in a base material such as nylon or polyester. Examples of the abrasive G include at least one inorganic oxide selected from the group consisting of alumina, silica gel, titanium dioxide, barium titanate, silicon carbide, and cerium oxide, and the fiber contains 1 to 30 Wt%. .
These abrasives G are also exposed on the surface of the fiber, and can rub off the object to be cleaned by scraping the object to be cleaned.

本実施形態では、図1に示すように、経糸11の組織に、研磨材Gが分散された繊維を本数の比率で5〜100%(100%は、全ての繊維が研磨材Gを含有する)使用して基布10を構成している。一例として、経糸200本中に、研磨材Gが分散された繊維を10本程度使用する(5%)ことで、被クリーニング体に固着した固着物を効果的に掻き出すことができる。
また、緯糸12の組織には、研磨材Gが分散された繊維を本数の比率で0〜100%(0%は使用しないことを意味する)使用して基布10を構成している。緯糸12は、経糸11に比べて少ない本数で使用された場合、複数の経糸11に対して織物の耳部(図1では、左右両端部分)で折り返されて繰り返し緯入れされ、基布10の表面に露出しにくいことから、研磨材Gを含有しない合成繊維のみを使用してもよい。
In the present embodiment, as shown in FIG. 1, in the structure of the warp 11, the fibers in which the abrasive G is dispersed are 5 to 100% in proportion to the number of fibers (100% indicates that all the fibers contain the abrasive G). ) Is used to form the base fabric 10. As an example, by using about 10 fibers (5%) in which the abrasive G is dispersed in 200 warp yarns, the adhered matter adhered to the object to be cleaned can be effectively scraped out.
In the weft 12 structure, the base fabric 10 is constituted by using fibers in which the abrasive G is dispersed in a ratio of the number of the fibers by 0 to 100% (0% means not used). When the weft 12 is used in a smaller number than the warp 11, the weft 12 is folded back at the ears of the woven fabric (left and right ends in FIG. 1) and repeatedly inserted into the plurality of warps 11, and Since it is difficult to be exposed on the surface, only synthetic fibers containing no abrasive G may be used.

このように、複数の経糸11及び/又は経糸21が少なくとも一部に研磨材Gが分散された繊維で構成された基布10を有するクリーニング布1によれば、被クリーニング部の表面に摺擦した際に、図2に模式的に示すように、無機酸化物からなる研磨材Gが基布10の表面に露出することで、被クリーニング体の表面に対して引っ掻いて掻き出すように作用して、固着物をクリーニングすることができる。   As described above, according to the cleaning cloth 1 having the base cloth 10 composed of the fibers in which the plurality of warps 11 and / or the warps 21 are at least partially dispersed with the abrasive G, the surface of the portion to be cleaned is rubbed. At this time, as schematically shown in FIG. 2, the abrasive G made of an inorganic oxide is exposed on the surface of the base cloth 10, thereby acting to scratch and scrape the surface of the body to be cleaned. In addition, the adhered matter can be cleaned.

図4には、被クリーニング体として円筒状のフィルタFに形成された小さなメッシュに付着した固着物をクリーニングする状態のクリーニング布1を模式的に示している。
例えば、図4に示すように、表面に多数の貫通孔MSが形成されたメッシュ(例えば、Φ0.15〜0.2mm)を有する円筒状のフィルタFから空気を取り入れる装置(例えば、ヘアドライヤ:図中 矢印参照)において、粘着物(例えば、整髪料)とともに吸い込まれた埃がメッシュに固着している場合、通常の布等で拭いても、固着した埃をクリーニングすることは困難である。
FIG. 4 schematically shows the cleaning cloth 1 in a state in which the adhered matter attached to the small mesh formed on the cylindrical filter F as a cleaning target is cleaned.
For example, as shown in FIG. 4, a device (for example, a hair dryer: FIG. 4) that takes in air from a cylindrical filter F having a mesh (for example, Φ0.15 to 0.2 mm) having a large number of through holes MS formed on the surface. When the dust sucked together with the adhesive (for example, a hairdressing agent) adheres to the mesh (see the middle arrow), it is difficult to clean the adhered dust even by wiping with a normal cloth or the like.

本実施形態に係るクリーニング布1は、基布10を構成する経糸11が研磨材Gが分散された繊維で構成されているために、研磨材Gは経糸11の表面にも露出し、フィルタFの表面に摺擦すると、研磨材Gがメッシュの貫通孔MSに入り込んで、メッシュに固着した埃を引っ掻きながら掻き出してクリーニングすることができる。   In the cleaning cloth 1 according to the present embodiment, since the warp 11 constituting the base cloth 10 is formed of the fiber in which the abrasive G is dispersed, the abrasive G is also exposed on the surface of the warp 11 and the filter F When the surface of the mesh is rubbed, the abrasive G enters the through hole MS of the mesh, and can be cleaned by scraping out the dust fixed to the mesh while scratching it.

「第2実施形態」
図5は、本実施形態に係るクリーニング布2を示す斜視図、図6はクリーニング布2の構造を示す拡大断面模式図である。
"Second embodiment"
FIG. 5 is a perspective view showing the cleaning cloth 2 according to the present embodiment, and FIG. 6 is an enlarged schematic sectional view showing the structure of the cleaning cloth 2.

クリーニング布2は、図5に示すように、複数の経糸21と連続した一本の緯糸22とで製織された布状の基布20と、基布20の一部に経糸21又は緯糸22のいずれか一方を絡糸として、研磨材Gを含有しない合成繊維を織り込んで基布20の一面(表面)に起毛された複数本のカットパイル糸23と、から構成されている。   As shown in FIG. 5, the cleaning cloth 2 includes a cloth-like base cloth 20 woven by a plurality of warps 21 and one continuous weft 22, and a warp 21 or a weft 22 on a part of the base cloth 20. A plurality of cut pile yarns 23 are formed on one surface (surface) of the base fabric 20 by weaving a synthetic fiber containing no abrasive G as one of the entangled yarns.

基布20における複数の経糸21及び/又は緯糸22が少なくとも一部にアルミナ、シリカゲル、二酸化チタン、チタン酸バリウム、炭化ケイ素、酸化セリウムからなる群より選択される少なくとも一種の無機酸化物からなる研磨材Gが1〜30Wt%分散して含有された繊維で構成されている。本実施形態においては、経糸21にのみ、研磨材Gが分散された繊維を本数の比率で5〜10%使用し、緯糸22には研磨材Gを含まない繊維を用いて基布20を構成し、合成繊維からなるカットパイル糸23は、緯糸22を絡糸として起毛している。   A plurality of warps 21 and / or wefts 22 in the base fabric 20 are at least partially made of at least one inorganic oxide selected from the group consisting of alumina, silica gel, titanium dioxide, barium titanate, silicon carbide, and cerium oxide. Material G is composed of fibers containing 1 to 30 Wt% dispersed therein. In the present embodiment, only the warp 21 uses fibers in which the abrasive G is dispersed in a ratio of 5 to 10% in terms of the number of fibers, and the weft 22 includes the base fabric 20 using fibers containing no abrasive G. The cut pile yarn 23 made of synthetic fiber is raised with the weft 22 as a tangled yarn.

カットパイル糸23は、例えば、ナイロン等のポリアミド類、ポリブチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル類、ポリエチレン(PE)やポリプロピレン(PP)などのポリオレフィン類などの合成繊維からなるフィラメント糸からなり、本実施形態においては、ナイロンが用いられている。
フィラメント糸の太さは、特に制限されないが、クリーニング布1としての拭き取り性が発揮できる繊度であればよく、0.05〜0.25mm程度の範囲である。
The cut pile yarn 23 is, for example, a filament yarn made of synthetic fibers such as polyamides such as nylon, polyesters such as polybutylene terephthalate (PET), and polyolefins such as polyethylene (PE) and polypropylene (PP). In the embodiment, nylon is used.
The thickness of the filament yarn is not particularly limited, but may be any fineness that can exhibit wiping properties as the cleaning cloth 1, and is in the range of about 0.05 to 0.25 mm.

また、図5に示すように、基布20には、その裏面側に熱可塑性樹脂からなるコーティング層24が設けられている。すなわち、基布20を構成する経糸21及び緯糸22は、基布20の裏面側に露出する部分がコーティング層24により覆われ、緯糸22を絡糸として基布20の一面(表面)に起毛されたカットパイル糸23は、コーティング層24によって緯糸22と接着されて毛抜けが抑制されている。
本実施形態では、緯糸22を構成するポリエステル系繊維が有機材料の繊維素材であるため、素材との接着性、汎用性等の観点から、アクリル合成樹脂系エマルジョンもしくは酢酸ビニル合成樹脂系エマルジョンよりなるコーティング剤が用いられている。
As shown in FIG. 5, the base fabric 20 is provided with a coating layer 24 made of a thermoplastic resin on the back surface side. That is, the warp yarn 21 and the weft yarn 22 constituting the base fabric 20 are covered with the coating layer 24 at the portion exposed on the back surface side of the base fabric 20, and are raised on one surface (front surface) of the base fabric 20 using the weft 22 as the entanglement yarn. The cut pile yarn 23 is adhered to the weft yarn 22 by the coating layer 24 to prevent hair loss.
In the present embodiment, since the polyester fiber constituting the weft 22 is a fiber material made of an organic material, the polyester fiber is made of an acrylic synthetic resin emulsion or a vinyl acetate synthetic resin emulsion from the viewpoint of adhesiveness to the material and versatility. Coating agents have been used.

このように、一部に研磨材Gが分散された経糸21と研磨材Gを含有しない緯糸22とで製織された布状の基布20と、基布20の一部に緯糸22を絡糸として合成繊維を織り込んで起毛したカットパイル糸23と、からなるクリーニング布によれば、被クリーニング体の表面に摺擦した際に、図6に示すように、基布20の表面に露出した研磨材Gが被クリーニング体の表面に対して引っ掻いて掻き出すように作用して、掻き出した固着物をカットパイル糸23で拭き取ることができる。   As described above, the cloth-like base cloth 20 woven by the warp 21 in which the abrasive G is partially dispersed and the weft 22 not containing the abrasive G, and the weft 22 being entangled with a part of the base 20 According to the cleaning cloth made of cut pile yarns 23 woven by raising synthetic fibers, when the surface of the object to be cleaned is rubbed, the polishing exposed on the surface of the base cloth 20, as shown in FIG. The material G acts so as to scratch the surface of the object to be cleaned, so that the scraped-out fixed substance can be wiped with the cut pile yarn 23.

「第3実施形態」
図7は、本実施形態に係るクリーニング布3の構造を示す拡大断面模式図である。
クリーニング布3は、図7に示すように、複数の経糸31と連続した一本の緯糸32とで製織された布状の基布30と、基布30の一部に経糸31又は緯糸32のいずれか一方を絡糸として、研磨材Gが分散された繊維をパイル糸としてループ状に織り込んで、基布30の一面(表面)に起毛された複数本のループパイル糸33と、から構成されている。
"Third embodiment"
FIG. 7 is an enlarged schematic sectional view showing the structure of the cleaning cloth 3 according to the present embodiment.
As shown in FIG. 7, the cleaning cloth 3 includes a cloth-like base cloth 30 woven by a plurality of warps 31 and one continuous weft 32, and a warp 31 or a weft 32 formed on a part of the base cloth 30. A plurality of loop pile yarns 33 raised on one surface (front surface) of the base fabric 30 by weaving the fibers in which the abrasive G is dispersed as pile yarns, using either one as a tangling yarn. ing.

基布30は、経糸31及び緯糸32を織り上げて得られる織布より形成されている。経糸31及び緯糸32には耐久性、柔軟性が高く、耐摩耗性に優れた繊維からなるフィラメント糸、紡績糸等の糸が使用されている。
このような繊維としては、ナイロン等のポリアミド類、ポリブチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル類、ポリエチレン(PE)やポリプロピレン(PP)などのポリオレフィン類などの合成繊維が挙げられる。本実施形態においては、ナイロンが使用されている。
The base fabric 30 is formed from a woven fabric obtained by weaving a warp 31 and a weft 32. As the warp yarn 31 and the weft yarn 32, yarns such as filament yarns and spun yarns made of fibers having high durability and flexibility and excellent wear resistance are used.
Examples of such fibers include synthetic fibers such as polyamides such as nylon, polyesters such as polybutylene terephthalate (PET), and polyolefins such as polyethylene (PE) and polypropylene (PP). In the present embodiment, nylon is used.

ループパイル糸33は、アルミナ、シリカゲル、二酸化チタン、チタン酸バリウム、炭化ケイ素、酸化セリウムからなる群より選択される少なくとも一種の無機酸化物からなる研磨材Gが1〜30Wt%分散して含有されたモノフィラメント糸からなり、図7に示すように、基布30を構成する緯糸32にループ状に植設されている。すなわち、基布30に織り込まれた状態のループパイル糸33は、その基端部が基布30の経糸31及び緯糸32で締め付けられることにより、両端部が固定されており、湾曲するループ状の頂部が被クリーニング体の表面と摺擦する。
研磨材Gを含有するループパイル糸33がループ状をなすことで、ループパイル糸33の表面に露出した研磨材Gが被クリーニング体の表面に対して引っ掻いて掻き出すように作用して、掻き出した固着物をループで囲い込むように捕捉することができる。
The loop pile yarn 33 contains 1 to 30 Wt% of an abrasive G dispersed in at least one inorganic oxide selected from the group consisting of alumina, silica gel, titanium dioxide, barium titanate, silicon carbide, and cerium oxide. As shown in FIG. 7, the monofilament yarn is formed in a loop on a weft 32 constituting the base fabric 30. That is, the loop pile yarn 33 woven into the base fabric 30 is fixed at both ends by being fastened at its base end by the warp 31 and the weft 32 of the base fabric 30, and has a curved loop shape. The top rubs against the surface of the object to be cleaned.
When the loop pile yarn 33 containing the abrasive material G forms a loop, the abrasive material G exposed on the surface of the loop pile yarn 33 acts to scratch the surface of the body to be cleaned and is scraped off. The fixation can be captured so as to enclose it with a loop.

ループパイル糸33の基布30からループの頂上までの長さは、特に限定されないがループが長すぎると繊維の弾力が無くなり、掻き取り性が低下する。一方、短すぎるとループの形成が不十分となり掻き取り効果が発揮されず、また、固着物の捕集領域が小さくなる。そのために、ループパイル糸33の長さとしては、2mm〜5mm、より好ましくは2mm〜4mmである。   The length of the loop pile yarn 33 from the base fabric 30 to the top of the loop is not particularly limited, but if the loop is too long, the elasticity of the fiber is lost and the scraping property is reduced. On the other hand, if the length is too short, the formation of the loop becomes insufficient and the scraping effect is not exhibited, and the trapping area of the adhered substance becomes small. Therefore, the length of the loop pile yarn 33 is 2 mm to 5 mm, more preferably 2 mm to 4 mm.

また、図7に示すように、基布30には、その裏面側にアクリル合成樹脂系エマルジョンもしくは酢酸ビニル合成樹脂系エマルジョンよりなるコーティング層34が設けられている。
基布30を構成する経糸31及び緯糸32は、基布30の裏面側に露出する部分がコーティング層34により覆われ、緯糸32を絡糸として基布30上に起毛されたループパイル糸33は、コーティング層34によって経糸31及び緯糸32と接着されて毛抜けが抑制されている。
As shown in FIG. 7, the base fabric 30 is provided with a coating layer 34 made of an acrylic synthetic resin emulsion or a vinyl acetate synthetic resin emulsion on the back surface side.
The warp yarn 31 and the weft yarn 32 constituting the base fabric 30 are covered with a coating layer 34 at a portion exposed on the back surface side of the base fabric 30, and the loop pile yarn 33 raised on the base fabric 30 using the weft 32 as an entanglement is The coating layer 34 adheres to the warp yarn 31 and the weft yarn 32 to suppress hair loss.

(3)清掃具
図8(a)は被クリーニング体をクリーニングする清掃具100の一例を示す斜視図、(b)は平面図である。
清掃具100は、被クリーニング体が、一例として図4に示すような円筒状のフィルタFである場合、被クリーニング体の形状に合わせて、全体が円形の支持体101の内面101aに本実施形態に係るクリーニング布1(または2、3)が、例えば3箇所に分割して貼り付けられている。
(3) Cleaning Tool FIG. 8A is a perspective view showing an example of a cleaning tool 100 for cleaning a body to be cleaned, and FIG. 8B is a plan view.
When the object to be cleaned is a cylindrical filter F as shown in FIG. 4 as an example, the cleaning tool 100 according to the present embodiment is provided on the inner surface 101a of the support 101 which is entirely circular in accordance with the shape of the object to be cleaned. The cleaning cloth 1 (or 2, 3) according to the above is divided and attached to, for example, three places.

清掃者は清掃具100を、被クリーニング体に嵌め込むように装着して、例えば、図8に示す(矢印R 参照)ように、往復回転させることで、被クリーニング体に固着した固着物をクリーニングすることができる。
尚、清掃具100は、被クリーニング体の形状に合わせて支持体101の形状を適宜選択することで、平板状等他の形状とすることができる。
The cleaner attaches the cleaning tool 100 so as to be fitted into the object to be cleaned, and reciprocates as shown in FIG. 8 (see an arrow R), thereby cleaning the adhered matter adhered to the object to be cleaned. can do.
Note that the cleaning tool 100 can have another shape such as a flat plate shape by appropriately selecting the shape of the support 101 according to the shape of the object to be cleaned.

1、2、3・・・クリーニング布
10、20、30・・・基布
11、21、31・・・経糸
12、22、32・・・緯糸
23・・・カットパイル糸
33・・・ループパイル糸
24、34・・・コーティング層
100・・・清掃具
G・・・研磨材
1, 2, 3 ... cleaning cloth 10, 20, 30 ... base cloth 11, 21, 31 ... warp 12, 22, 32 ... weft 23 ... cut pile yarn 33 ... loop Pile yarns 24, 34: coating layer 100: cleaning tool G: abrasive

Claims (6)

研磨材を保持する布状の基布を備えたクリーニング布であって、
前記基布は、経糸及び/又は緯糸の少なくとも一部に研磨材が分散された布状織物である、
ことを特徴とするクリーニング布。
A cleaning cloth having a cloth-like base cloth for holding an abrasive,
The base cloth is a cloth-like woven fabric in which an abrasive is dispersed in at least a part of a warp and / or a weft.
Cleaning cloth characterized by the above-mentioned.
前記基布の一部に前記経糸又は前記緯糸のいずれか一方を絡糸として、研磨材を含有しない合成繊維を織り込んで前記基布の一面に起毛された複数本のカットパイル糸を更に備えた、
ことを特徴とする請求項1記載のクリーニング布。
A part of the base fabric is further provided with a plurality of cut pile yarns raised on one surface of the base fabric by weaving a synthetic fiber containing no abrasive, using either the warp or the weft as an entanglement. ,
The cleaning cloth according to claim 1, wherein:
前記基布は、前記布状織物として織り上げられた状態において、前記経糸及び/又は前記緯糸における前記研磨材の少なくとも一部が表面に露出したものである、
ことを特徴とする請求項1記載のクリーニング布。
In the state in which the base fabric is woven as the cloth-like fabric, at least a part of the abrasive in the warp and / or the weft is exposed on a surface,
The cleaning cloth according to claim 1, wherein:
布状の基布を構成する経糸又は緯糸のいずれか一方を絡糸として、研磨材が分散された繊維をパイル糸としてループ状に織り込んで、前記基布の一面に起毛された複数本のループパイル糸を備えた、
ことを特徴とするクリーニング布。
A plurality of loops brushed on one surface of the base cloth, in which one of the warp and the weft constituting the cloth-like base cloth is entangled, and the fibers in which the abrasive is dispersed are woven in a loop form as a pile yarn. With pile yarn,
Cleaning cloth characterized by the above-mentioned.
前記研磨材は、アルミナ、シリカゲル、二酸化チタン、チタン酸バリウム、炭化ケイ素、酸化セリウムからなる群より選択される少なくとも一種の無機酸化物である、
ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載のクリーニング布。
The abrasive is alumina, silica gel, titanium dioxide, barium titanate, silicon carbide, at least one inorganic oxide selected from the group consisting of cerium oxide,
The cleaning cloth according to any one of claims 1 to 4, wherein:
前記クリーニング布は、メッシュ状のフィルタに固着した固着物をクリーニングする清掃具に用いられるものである、
ことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載のクリーニング布。
The cleaning cloth is used for a cleaning tool for cleaning the adhered matter adhered to the mesh filter.
The cleaning cloth according to any one of claims 1 to 5, wherein:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111235719A (en) * 2020-02-27 2020-06-05 浙江英诺威纺织有限公司 Jacquard velvet production process for laminating shadow patterns by utilizing lodging

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