JP2020007298A - Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern - Google Patents

Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern Download PDF

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Abstract

To provide a salt capable of producing a resist pattern having good CD uniformity.SOLUTION: The salt is represented by formula (I) [where Qand Qeach independently represent a fluorine atom or the like; Rand Reach independently represent a hydrogen atom or the like; z represents an integer of 0-6; Xrepresents *-CO-O- or the like; L, Land Leach independently represent a single bond, a C1-12 alkanediyl group or the like; Arepresents a divalent norbornane lactone ring represented above or the like; Rand Reach independently represent a hydrogen atom or the like; Rrepresents an optionally substituted C3-18 cyclic hydrocarbon group or the like; and Zrepresents an organic cation].SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、半導体の微細加工に用いられる酸発生剤用の塩、該塩を含む酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。   The present invention relates to a salt for an acid generator used for fine processing of a semiconductor, an acid generator containing the salt, a resist composition, and a method for producing a resist pattern.

特許文献1には、下記式で表される塩、及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
特許文献2には、下記式で表される塩、及び該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
Patent Literature 1 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.
Patent Literature 2 describes a salt represented by the following formula and a resist composition containing the salt as an acid generator.

特開2013−082665号公報JP 2013-082665 A 特開2011−046694号公報JP 2011-046694 A

本発明は、上記のレジスト組成物から形成されたレジストパターンよりも、良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造することができる塩を提供する。   The present invention provides a salt capable of producing a resist pattern with better CD uniformity (CDU) than a resist pattern formed from the above resist composition.

本発明は、以下の発明を含む。
[1]式(I)で表される塩。
[式(I)中、
及びQは、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
及びRは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
zは、0〜6のいずれかの整数を表し、zが2以上のとき、複数のR及びRは互いに同一であっても異なってもよい。
1は、*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−又は*−O−を表し、*は、C(R)(R)又はC(Q)(Q)との結合位を表す。
、L及びLは、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜12のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
は、以下で表される2価のノルボルナンラクトン環を表し、該環に含まれる−CH2−は、−O−に置き換わっていてもよく、該環は、置換基を有してもよい。
及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6の飽和炭化水素基を表す。
は、置換基を有してもよい炭素数3〜18の環状炭化水素基を表し、該環状炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。
は、有機カチオンを表す。]
[2]Rが、置換基を有してもよい炭素数6〜18の芳香族炭化水素基である[1]記載の塩。
[3]Lが、カルボニル基である[1]又は[2]記載の塩。
[4][1]〜[3]のいずれかに記載の塩を含有する酸発生剤。
[5][4]記載の酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。
[6]酸不安定基を有する樹脂が、式(a1−1)で表される構造単位及び式(a1−2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む[5]記載のレジスト組成物。
[式(a1−1)及び式(a1−2)中、
a1及びLa2は、それぞれ独立に、−O−又は*−O−(CHk1−CO−O−を表し、k1は1〜7の整数を表し、*は−CO−との結合手を表す。
a4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。
m1は、0〜14のいずれかの整数を表す。
n1は、0〜10のいずれかの整数を表す。
n1’は、0〜3のいずれかの整数を表す。]
[7]酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する[5]又は[6]記載のレジスト組成物。
[8](1)[5]〜[7]のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。
The present invention includes the following inventions.
[1] A salt represented by the formula (I).
[In the formula (I),
Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
z represents an integer of any of 0 to 6. When z is 2 or more, a plurality of R 1 and R 2 may be the same or different.
X 1 represents * -CO-O-, * -O-CO-, * -O-CO-O- or * -O-, and * represents C (R 1 ) (R 2 ) or C (Q 1 ) represents a bonding position with (Q 2 ).
L 1 , L 2, and L 3 each independently represent a single bond or an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the alkanediyl group is represented by It may be replaced.
A 1 represents a divalent norbornane lactone ring represented by the following, -CH 2- contained in the ring may be replaced by -O-, and the ring may have a substituent. Good.
R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
R 5 represents a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2- contained in the cyclic hydrocarbon group is -O-, -S-, -CO-. or -SO 2 - may be replaced to.
Z + represents an organic cation. ]
[2] The salt according to [1], wherein R 5 is an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent.
[3] The salt according to [1] or [2], wherein L 2 is a carbonyl group.
[4] An acid generator containing the salt according to any one of [1] to [3].
[5] A resist composition comprising the acid generator according to [4] and a resin having an acid labile group.
[6] The resin having an acid labile group contains at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (a1-1) and a structural unit represented by the formula (a1-2) [5] ] The resist composition as described above.
[In the formulas (a1-1) and (a1-2),
L a1 and L a2 each independently, -O- or * -O- (CH 2) k1 -CO -O- the stands, k1 represents an integer of 1-7, * the binding of -CO- Represent hand.
R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
m1 represents any integer of 0 to 14.
n1 represents any integer of 0-10.
n1 ′ represents any integer of 0 to 3. ]
[7] The resist composition according to [5] or [6], further comprising a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator.
[8] (1) a step of applying the resist composition according to any one of [5] to [7] on a substrate;
(2) drying the composition after application to form a composition layer;
(3) exposing the composition layer to light,
A method for producing a resist pattern, comprising: (4) a step of heating the composition layer after exposure; and (5) a step of developing the composition layer after heating.

本発明のレジスト組成物を用いることにより、良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造することができる。   By using the resist composition of the present invention, a resist pattern can be manufactured with good CD uniformity (CDU).

本明細書において、「(メタ)アクリル系モノマー」とは、「CH2=CH−CO−」の構造を有するモノマー及び「CH2=C(CH3)−CO−」の構造を有するモノマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を意味する。同様に「(メタ)アクリレート」及び「(メタ)アクリル酸」とは、それぞれ「アクリレート及びメタクリレートからなる群より選ばれる少なくとも1種」及び「アクリル酸及びメタクリル酸からなる群より選ばれる少なくとも1種」を意味する。「CH2=C(CH3)−CO−」又は「CH2=CH−CO−」を有する構造単位が例示されている場合には、双方の基を有する構造単位が同様に例示されているものとする。また、本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。「組み合わせた基」とは、例示した基を2種以上結合させた基を意味し、それら基の価数は結合形態によって適宜変更してもよい。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を含む。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤(E)を除いた成分の合計を意味する。
In the present specification, “(meth) acrylic monomer” refers to a monomer having a structure of “CH 2 CHCH—CO—” and a monomer having a structure of “CH 2 CC (CH 3 ) —CO—”. At least one selected from the group consisting of: Similarly, “(meth) acrylate” and “(meth) acrylic acid” mean “at least one selected from the group consisting of acrylate and methacrylate” and “at least one selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid,” respectively. Means. When a structural unit having “CH 2 CC (CH 3 ) —CO—” or “CH 2 CHCH—CO—” is exemplified, a structural unit having both groups is also exemplified. Shall be. In addition, any of the groups described in this specification that can have both a linear structure and a branched structure may be used. The term “combined group” means a group in which two or more of the exemplified groups are bonded, and the valence of these groups may be appropriately changed depending on the bonding form. If stereoisomers are present, they include all stereoisomers.
In the present specification, the “solid content of the resist composition” means the sum of components excluding a solvent (E) described later from the total amount of the resist composition.

<式(I)で表される塩>
本発明は、式(I)で表される塩(以下「塩(I)」という場合がある)に関する。
塩(I)のうち、負電荷を有する側を「アニオン(I)」、正電荷を有する側を「カチオン(I)」と称することがある。
<Salt represented by formula (I)>
The present invention relates to a salt represented by the formula (I) (hereinafter sometimes referred to as “salt (I)”).
Of the salt (I), the side having a negative charge may be referred to as “anion (I)” and the side having a positive charge may be referred to as “cation (I)”.

、Q、R及びRのペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。
及びQは、それぞれ独立に、好ましくはトリフルオロメチル基又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
及びRは、それぞれ独立に、好ましくは水素原子又はフッ素原子である。
zは、0であることが好ましい。
Examples of the perfluoroalkyl group for Q 1 , Q 2 , R 1 and R 2 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, and a perfluorotert-butyl group. , Perfluoropentyl group, perfluorohexyl group and the like.
Q 1 and Q 2 are each independently preferably a trifluoromethyl group or a fluorine atom, more preferably a fluorine atom.
R 1 and R 2 are each independently preferably a hydrogen atom or a fluorine atom.
z is preferably 0.

は、*−CO−O−又は*−O−CO−O−(*はC(R)(R)又はC(Q)(Q)との結合手を表す。)であることが好ましい。 X 1 is, * - CO-O- or * -O-CO-O - ( * is C (R 1) (R 2 ) or C (Q 1) (representing a bond to Q 2).) In Preferably, there is.

、L及びLの炭素数1〜12のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
としては、単結合又は炭素数1〜8のアルカンジイル基(該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)であることが好ましく、単結合又はメチレン基であることがより好ましく、単結合であることがさらに好ましい。
としては、単結合又は炭素数1〜8のアルカンジイル基(該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)であることが好ましく、単結合、カルボニル基又はメチレン基であることがより好ましく、単結合又はカルボニル基であることがさらに好ましい。
としては、単結合又は炭素数1〜3のアルカンジイル基(該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。)であることが好ましく、単結合、カルボニル基又はメチレン基であることがより好ましく、単結合又はメチレン基であることがさらに好ましく、メチレン基であることがより一層好ましい。
L 1, examples of alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms L 2 and L 3, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5 -Diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane Linear alkanediyl groups such as -1,11-diyl group and dodecane-1,12-diyl group;
Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- Examples thereof include a branched alkanediyl group such as a 1,3-diyl group, a 2-methylpropane-1,2-diyl group, a pentane-1,4-diyl group, and a 2-methylbutane-1,4-diyl group.
L 1 may be a single bond or an alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms (-CH 2- contained in the alkanediyl group may be replaced by -O- or -CO-). Preferably, it is a single bond or a methylene group, more preferably a single bond.
L 2 may be a single bond or an alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms (-CH 2- contained in the alkanediyl group may be replaced by -O- or -CO-). It is more preferably a single bond, a carbonyl group or a methylene group, and further preferably a single bond or a carbonyl group.
L 3 may be a single bond or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms (-CH 2- contained in the alkanediyl group may be replaced by -O- or -CO-). Preferably, it is a single bond, a carbonyl group or a methylene group, more preferably a single bond or a methylene group, and even more preferably a methylene group.

は、以下で表される2価のノルボルナンラクトン環を表し、該環に含まれる−CH2−は、−O−に置き換わっていてもよく、該環は、置換基を有してもよい。
A 1 represents a divalent norbornane lactone ring represented by the following, -CH 2- contained in the ring may be replaced by -O-, and the ring may have a substituent. Good.

の2価のノルボルナンラクトン環が有する置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基及びこれらの基のうち2種以上を組み合わせた基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
炭素数1〜12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。
炭素数1〜12のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
2種以上を組み合わせた基としては、炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基及び炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基が挙げられる。
炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基及び炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
で表される2価のノルボルナンラクトン環は、1つの置換基又は複数の置換基を有していてもよい。
Examples of the substituent of the divalent norbornane lactone ring of A 1 include a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group, a carboxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and Among them, a group obtained by combining two or more kinds is exemplified.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, and a nonyl group.
As the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, undecyloxy Group, dodecyloxy group and the like.
Examples of the group in which two or more kinds are combined include an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, and an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms.
An alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms and an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms are the above-mentioned alkyl groups or alkoxy groups to which a carbonyl group or a carbonyloxy group is bonded. Represents
Examples of the alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group. Examples of the alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group. Examples of the alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a butyryloxy group.
The divalent norbornane lactone ring represented by A 1 may have one substituent or a plurality of substituents.

としては、以下で表される2価のノルボルナンラクトン環等が挙げられる。
Examples of A 1 include a divalent norbornane lactone ring represented by the following.

及びRの炭素数1〜6の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;及びこれらを組合せることにより形成される基(例えばシクロアルキルアルキル基)が挙げられる。
及びRは、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はエチル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、一方が水素原子、他方が水素原子又はメチル基であることがさらに好ましく、双方が水素原子であることがより一層好ましい。
Examples of the saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms for R 3 and R 4 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. An alkyl group; a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group; and a group formed by combining these (eg, a cycloalkylalkyl group).
R 3 and R 4 are each independently preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, one is a hydrogen atom, and the other is a hydrogen atom or a methyl group. More preferably, both are more preferably hydrogen atoms.

で表される炭素数3〜18の環状炭化水素基としては、単環式又は多環式の脂環式飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。 Examples of the cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms represented by R 5 include a monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and the like.

単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
多環式の脂環式飽和炭化水素基としては、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基等が挙げられる。
Examples of the monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group.
Examples of the polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include a norbornyl group and an adamantyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group and an anthryl group.

の環状炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基及びこれらの基のうち2種以上を組み合わせた基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
炭素数1〜12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。
炭素数1〜12のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
2種以上を組み合わせた基としては、炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基及び炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基が挙げられる。
炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基及び炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
炭素数2〜13のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数2〜13のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数2〜13のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
で表される炭素数3〜18の環状炭化水素基は、1つの置換基又は複数の置換基を有していてもよい。
Examples of the substituent which the cyclic hydrocarbon group of R 5 may have include a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group, a carboxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms and these. And a group obtained by combining two or more of the above groups.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, and a nonyl group.
As the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, undecyloxy Group, dodecyloxy group and the like.
Examples of the group in which two or more kinds are combined include an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, and an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms.
An alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms and an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms are the above-mentioned alkyl groups or alkoxy groups to which a carbonyl group or a carbonyloxy group is bonded. Represents
Examples of the alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group. Examples of the alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group. Examples of the alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a butyryloxy group.
The cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms represented by R 5 may have one substituent or a plurality of substituents.

で表される炭素数3〜18の環状炭化水素基は、置換基を有してもよい炭素数6〜18の芳香族炭化水素基であることが好ましく、置換基を有してもよいフェニル基であることがより好ましい。 The cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms represented by R 5 is preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and may have a substituent. More preferably, it is a good phenyl group.

塩(I)におけるアニオンとしては、例えば、以下の式(Ia−1)〜式(Ia−34)で表されるアニオンが挙げられる。中でも、式(Ia−1)〜式(Ia−12)、式(Ia−29)〜式(Ia−34)で表されるアニオンが好ましく、式(Ia−1)〜式(Ia−6)、式(Ia−29)〜式(Ia−31)で表されるアニオンがより好ましい。
Examples of the anion in the salt (I) include anions represented by the following formulas (Ia-1) to (Ia-34). Among them, anions represented by the formulas (Ia-1) to (Ia-12), (Ia-29) to (Ia-34) are preferable, and the formulas (Ia-1) to (Ia-6) are preferable. And the anions represented by the formulas (Ia-29) to (Ia-31) are more preferable.

の有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。具体的には、式(b2−1)〜式(b2−4)のいずれかで表されるカチオン(以下、式番号に応じて「カチオン(b2−1)」等という場合がある。)が挙げられる。 Examples of the organic cation for Z + include an organic onium cation, an organic sulfonium cation, an organic iodonium cation, an organic ammonium cation, a benzothiazolium cation, and an organic phosphonium cation. Among these, an organic sulfonium cation and an organic iodonium cation are preferable, and an aryl sulfonium cation is more preferable. Specifically, a cation represented by any of formulas (b2-1) to (b2-4) (hereinafter, may be referred to as “cation (b2-1)” or the like depending on the formula number). No.

式(b2−1)〜式(b2−4)において、
b4〜Rb6は、それぞれ独立に、炭素数1〜30の鎖式炭化水素基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数3〜12の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数1〜12のアルコキシ基で置換されていてもよい。
b4とRb5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わってもよい。
b7及びRb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す。
m2及びn2は、それぞれ独立に0〜5のいずれかの整数を表す。
m2が2以上のとき、複数のRb7は同一でも異なってもよく、n2が2以上のとき、複数のRb8は同一でも異なってもよい。
b9及びRb10は、それぞれ独立に、炭素数1〜36の鎖式炭化水素基又は炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表す。
b9とRb10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わってもよい。
b11は、水素原子、炭素数1〜36の鎖式炭化水素基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表す。
b12は、炭素数1〜12の鎖式炭化水素基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素に含まれる水素原子は、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数1〜12のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
b11とRb12とは、互いに結合してそれらが結合する−CH−CO−を含めて環を形成していてもよく、該環に含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わってもよい。
b13〜Rb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す。
b31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
o2、p2、s2、及びt2は、それぞれ独立に、0〜5のいずれかの整数を表す。
q2及びr2は、それぞれ独立に、0〜4のいずれかの整数を表す。
u2は0又は1を表す。
o2が2以上のとき、複数のRb13は同一又は相異なり、p2が2以上のとき、複数のRb14は同一又は相異なり、q2が2以上のとき、複数のRb15は同一又は相異なり、r2が2以上のとき、複数のRb16は同一又は相異なり、s2が2以上のとき、複数のRb17は同一又は相異なり、t2が2以上のとき、複数のRb18は同一又は相異なる。
In the formulas (b2-1) to (b2-4),
R b4 to R b6 each independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms; The hydrogen atom contained in the chain hydrocarbon group is a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. The hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group which may be substituted is a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms or a glycidyloxy group. A hydrogen atom included in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
R b4 and R b5 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2- contained in the ring is -O-, -S- or It may be replaced by -CO-.
R b7 and R b8 each independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
m2 and n2 each independently represent an integer of 0 to 5;
When m2 is 2 or more, a plurality of R b7 may be the same or different, and when n2 is 2 or more, a plurality of R b8 may be the same or different.
R b9 and R b10 each independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms.
R b9 and R b10 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2- contained in the ring is -O-, -S- or It may be replaced by -CO-.
R b11 represents a hydrogen atom, a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R b12 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and is included in the chain hydrocarbon. May be substituted with an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms. It may be substituted with 12 alkylcarbonyloxy groups.
R b11 and R b12 may be bonded to each other to form a ring including —CH—CO— to which they are bonded, and —CH 2 — contained in the ring includes —O— and —S -Or -CO-.
R b13 to R b18 each independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
L b31 represents a sulfur atom or an oxygen atom.
o2, p2, s2, and t2 each independently represent any integer of 0 to 5.
q2 and r2 each independently represent an integer from 0 to 4.
u2 represents 0 or 1.
When o2 is 2 or more, a plurality of R b13 are the same or different. When p2 is 2 or more, a plurality of R b14 are the same or different. When q2 is 2 or more, a plurality of R b15 are the same or different. , When r2 is 2 or more, a plurality of R b16 are the same or different; when s2 is 2 or more, a plurality of R b17 are the same or different; when t2 is 2 or more, a plurality of R b18 are the same or different. different.

脂肪族炭化水素基とは、鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基を表す。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2−エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。
特に、Rb9〜Rb12の鎖式炭化水素基は、好ましくは炭素数1〜12である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。
特に、Rb9〜Rb12の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜18、より好ましくは炭素数4〜12である。
The aliphatic hydrocarbon group represents a chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the chain hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and an alkyl group of a 2-ethylhexyl group. No.
In particular, the chain hydrocarbon group of R b9 to R b12 preferably has 1 to 12 carbon atoms.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic, and the monocyclic alicyclic hydrocarbon group may be a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, Cycloalkyl groups such as a heptyl group, a cyclooctyl group and a cyclodecyl group are exemplified. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups.
In particular, the alicyclic hydrocarbon group of R b9 to R b12 preferably has 3 to 18 carbon atoms, more preferably 4 to 12 carbon atoms.

水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、2−メチルアダマンタン−2−イル基、2−エチルアダマンタン−2−イル基、2−イソプロピルアダマンタン−2−イル基、メチルノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好ましくは20以下である。   Examples of the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a 2-methyladamantan-2-yl group, and a 2-ethyladamantan-2-yl group. , 2-isopropyladamantan-2-yl group, methylnorbornyl group, isobornyl group and the like. In the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom has been substituted with an aliphatic hydrocarbon group, the total carbon number of the alicyclic hydrocarbon group and the aliphatic hydrocarbon group is preferably 20 or less.

芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p−エチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)及び脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロへキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)等が挙げられる。なお、芳香族炭化水素基が、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有する場合は、炭素数1〜18の鎖式炭化水素基及び炭素数3〜18の脂環式炭化水素基が好ましい。
水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、p−メトキシフェニル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された鎖式炭化水素基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。
Examples of the aromatic hydrocarbon group include aryl groups such as a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, and a phenanthryl group. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group. The aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group (tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group) Group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.) and an aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group ( p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.). In addition, when an aromatic hydrocarbon group has a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, it has a C1-C18 chain hydrocarbon group and a C3-C18 alicyclic hydrocarbon group. Is preferred.
Examples of the aromatic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an alkoxy group include a p-methoxyphenyl group.
Examples of the chain hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aromatic hydrocarbon group include aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group, phenylpropyl group, trityl group, naphthylmethyl group, and naphthylethyl group.

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び2−エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group, and a dodecyloxy group.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include a methylcarbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, a propylcarbonyloxy group, an isopropylcarbonyloxy group, a butylcarbonyloxy group, a sec-butylcarbonyloxy group, a tert-butylcarbonyloxy group, a pentylcarbonyloxy group Hexylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group and 2-ethylhexylcarbonyloxy group.

b4とRb5とが互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、炭素数3〜18の環が挙げられ、好ましくは炭素数4〜18の環である。また、硫黄原子を含む環は、3員環〜12員環が挙げられ、好ましくは3員環〜7員環であり、例えば下記の環が挙げられる。*は結合部位を表す。
The ring formed by R b4 and R b5 together with the sulfur atom to which they are bonded may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated. May be a ring of The ring includes a ring having 3 to 18 carbon atoms, and is preferably a ring having 4 to 18 carbon atoms. The ring containing a sulfur atom may be a 3- to 12-membered ring, preferably a 3- to 7-membered ring, for example, the following rings. * Represents a binding site.

b9とRb10とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環〜12員環が挙げられ、好ましくは3員環〜7員環である。例えば、チオラン−1−イウム環(テトラヒドロチオフェニウム環)、チアン−1−イウム環、1,4−オキサチアン−4−イウム環等が挙げられる。
b11とRb12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、3員環〜12員環が挙げられ、好ましくは3員環〜7員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。
The ring formed by R b9 and R b10 together may be any of a monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated ring. The ring may be a 3- to 12-membered ring, preferably a 3- to 7-membered ring. For example, a thiolan-1-ium ring (tetrahydrothiophenium ring), a thiane-1-ium ring, a 1,4-oxathian-4-ium ring and the like can be mentioned.
The ring formed by R b11 and R b12 together may be any of a monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated ring. The ring may be a 3- to 12-membered ring, preferably a 3- to 7-membered ring. Oxocycloheptane ring, oxocyclohexane ring, oxonorbornane ring, oxoadamantane ring and the like.

カチオン(b2−1)〜カチオン(b2−4)の中でも、好ましくは、カチオン(b2−1)である。
カチオン(b2−1)としては、以下のカチオンが挙げられる。
Among the cations (b2-1) to cations (b2-4), the cation (b2-1) is preferable.
Examples of the cation (b2-1) include the following cations.

カチオン(b2−2)としては、以下のカチオン等が挙げられる。
Examples of the cation (b2-2) include the following cations.

カチオン(b2−3)としては、以下のカチオン等が挙げられる。
Examples of the cation (b2-3) include the following cations.

カチオン(b2−4)としては、以下のカチオン等が挙げられる。
Examples of the cation (b2-4) include the following cations.

塩(I)は、上述のアニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。塩(I)としては、好ましくは式(Ia−1)〜式(Ia−12)、(Ia−29)〜式(Ia−34)のいずれかで表されるアニオンと、カチオン(b2−1)又はカチオン(b2−3)との組合せが挙げられる。   The salt (I) is a combination of the above-mentioned anion and the above-mentioned organic cation, and these can be arbitrarily combined. As the salt (I), preferably, an anion represented by any of the formulas (Ia-1) to (Ia-12), (Ia-29) to (Ia-34), and a cation (b2-1) ) Or cations (b2-3).

塩(I)の具体例としては、下記表に記載の塩が挙げられる。下記表において、各符号は、上述のアニオンやカチオンを表す構造に付した符号を表す。たとえば、塩(I−1)は、式(Ia−1)で示されるアニオンと式(b2−c−1)で表されるカチオンとからなる塩を意味し、以下に示す塩を表す。






















Specific examples of the salt (I) include the salts described in the following table. In the following table, each symbol represents the symbol attached to the structure representing the above-described anion or cation. For example, the salt (I-1) means a salt composed of an anion represented by the formula (Ia-1) and a cation represented by the formula (b2-c-1), and represents the following salts.






















中でも、塩(I)は、塩(I−1)〜塩(I−6)、塩(I−25)〜塩(I−30)、塩(I−49)〜塩(I−54)、塩(I−73)〜塩(I−78)、塩(I−97)〜塩(I−102)、塩(I−121)〜塩(I−126)、塩(I−145)〜塩(I−150)、塩(I−169)〜塩(I−174)、塩(I−225)〜塩(I−227)、塩(I−231)〜塩(I−233)、塩(I−237)〜塩(I−239)、塩(I−243)〜塩(I−245)、塩(I−249)〜塩(I−251)、塩(I−255)〜塩(I−257)、塩(I−261)〜塩(I−263)、塩(I−267)〜塩(I−269)が好ましい。   Among them, the salt (I) is a salt (I-1) to a salt (I-6), a salt (I-25) to a salt (I-30), a salt (I-49) to a salt (I-54), Salt (I-73) to salt (I-78), salt (I-97) to salt (I-102), salt (I-121) to salt (I-126), salt (I-145) to salt (I-150), salt (I-169) to salt (I-174), salt (I-225) to salt (I-227), salt (I-231) to salt (I-233), salt ( I-237) to salt (I-239), salt (I-243) to salt (I-245), salt (I-249) to salt (I-251), salt (I-255) to salt (I -257), salt (I-261) to salt (I-263), and salt (I-267) to salt (I-269).

<塩(I)の製造方法>
塩(I)において、Xが、*−CO−O−である塩(式(I1)で表される塩)は、例えば、式(I1−a)で表される塩とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式(I1−b)で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常5℃〜80℃であり、反応時間は通常0.5時間〜24時間である。
式(I1−a)で表される塩は、例えば、以下で表される塩などが挙げられ、特開2008−127367号公報に記載された方法で製造することができる。
<Method for producing salt (I)>
In the salt (I), a salt in which X 1 is * —CO—O— (a salt represented by the formula (I1)) is, for example, a salt represented by the formula (I1-a) and carbonyldiimidazole Is reacted in a solvent, and further reacted with a compound represented by the formula (I1-b).
(In the formula, all symbols represent the same meaning as described above.)
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile and the like.
The reaction temperature is usually 5 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.
Examples of the salt represented by the formula (I1-a) include salts represented by the following, and can be produced by the method described in JP-A-2008-127367.

式(I1−b)で表される化合物は、例えば、式(I1−c)で表される化合物と式(I1−d)で表される化合物とを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることにより製造することができる。
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
この反応における塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。
この反応における溶媒としては、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常5℃〜80℃であり、反応時間は通常0.5時間〜24時間である。
式(I1−c)で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手できる。
式(I1−d)で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手できる。
The compound represented by the formula (I1-b) is obtained, for example, by reacting a compound represented by the formula (I1-c) with a compound represented by the formula (I1-d) in a solvent in the presence of a base. It can be manufactured by doing.
(In the formula, all symbols represent the same meaning as described above.)
Examples of the base in this reaction include triethylamine, pyridine, dimethylaminopyridine and the like.
Examples of the solvent in this reaction include dimethylformamide, tetrahydrofuran, chloroform, acetonitrile and the like.
The reaction temperature is usually 5 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.
Examples of the compound represented by the formula (I1-c) include a compound represented by the following formula and the like, which can be easily obtained from the market.
Examples of the compound represented by the formula (I1-d) include a compound represented by the following formula and the like, which can be easily obtained from the market.

塩(I)において、Xが、*−O−CO−である塩(式(I2)で表される塩)は、例えば、式(I2−b)で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式(I2−a)で表される塩と反応させることにより製造することができる。
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常5℃〜80℃であり、反応時間は通常0.5時間〜24時間である。
式(I2−a)で表される塩は、例えば、以下で表される塩などが挙げられ、特開2012−193170号公報に記載された方法で製造することができる。
In the salt (I), the salt wherein X 1 is * -O-CO- (the salt represented by the formula (I2)) is, for example, a compound represented by the formula (I2-b) and carbonyldiimidazole Is reacted in a solvent, and further reacted with a salt represented by the formula (I2-a).
(In the formula, all symbols represent the same meaning as described above.)
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile and the like.
The reaction temperature is usually 5 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.
Examples of the salt represented by the formula (I2-a) include salts represented by the following, and can be produced by the method described in JP-A-2012-193170.

式(I2−b)で表される化合物は、例えば、式(I2−c)で表される化合物と式(I1−d)で表される化合物とを、塩基の存在下、溶媒中で反応させた後、水酸化ナトリウム水溶液で処理することにより製造することができる。
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
この反応における塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。
この反応における溶媒としては、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常5℃〜80℃であり、反応時間は通常0.5時間〜24時間である。
式(I2−c)で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手できる。
The compound represented by the formula (I2-b) is obtained by, for example, reacting a compound represented by the formula (I2-c) with a compound represented by the formula (I1-d) in a solvent in the presence of a base. After that, it can be produced by treating with an aqueous sodium hydroxide solution.
(In the formula, all symbols represent the same meaning as described above.)
Examples of the base in this reaction include triethylamine, pyridine, dimethylaminopyridine and the like.
Examples of the solvent in this reaction include dimethylformamide, tetrahydrofuran, chloroform, acetonitrile and the like.
The reaction temperature is usually 5 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.
Examples of the compound represented by the formula (I2-c) include a compound represented by the following formula and the like, which can be easily obtained from the market.

塩(I)において、Xが、*−O−CO−O−である塩(式(I3)で表される塩)は、例えば、式(I2−a)で表される塩とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式(I1−b)で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
この反応における酸触媒としては、トリフルオロ酢酸等が挙げられる。
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常5℃〜80℃であり、反応時間は通常0.5時間〜24時間である。
In the salt (I), the salt in which X 1 is * —O—CO—O— (the salt represented by the formula (I3)) is, for example, a salt represented by the formula (I2-a) and a carbonyldiamine It can be produced by reacting imidazole with a solvent and then reacting with a compound represented by the formula (I1-b).
(In the formula, all symbols represent the same meaning as described above.)
Examples of the acid catalyst in this reaction include trifluoroacetic acid and the like.
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile and the like.
The reaction temperature is usually 5 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.

塩(I)において、Xが、*−O−である塩(式(I4)で表される塩)は、例えば、式(I2−a)で表される塩と式(I1−b)で表される化合物とを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることにより製造することができる。
(式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。)
この反応における塩基としては、水酸化カリウム等が挙げられる。
この反応における溶媒としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常5℃〜80℃であり、反応時間は通常0.5時間〜24時間である。
In the salt (I), the salt in which X 1 is * —O— (the salt represented by the formula (I4)) is, for example, a salt represented by the formula (I2-a) and a salt represented by the formula (I1-b) Can be produced by reacting a compound represented by the formula with a solvent in the presence of a base.
(In the formula, all symbols represent the same meaning as described above.)
Examples of the base in this reaction include potassium hydroxide and the like.
Examples of the solvent in this reaction include chloroform, acetonitrile and the like.
The reaction temperature is usually 5 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.

<酸発生剤>
本発明の酸発生剤は、塩(I)を1種含んでいてもよいし、塩(I)を2種以上含んでいてもよい。
本発明の酸発生剤は、塩(I)に加えて、レジスト分野で公知の酸発生剤(以下「酸発生剤(B)」という場合がある)を含有していてもよい。酸発生剤(B)は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Acid generator>
The acid generator of the present invention may contain one kind of salt (I), or may contain two or more kinds of salt (I).
The acid generator of the present invention may contain, in addition to the salt (I), an acid generator known in the field of resist (hereinafter sometimes referred to as “acid generator (B)”). The acid generator (B) may be used alone or in combination of two or more.

酸発生剤(B)は、非イオン系又はイオン系のいずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤としては、スルホネートエステル類(例えば2−ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、N−スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン 4−スルホネート)、スルホン類(例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン)等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニウムカチオンを含むオニウム塩(例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩)が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。   The acid generator (B) may be either nonionic or ionic. Examples of the nonionic acid generator include sulfonate esters (eg, 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphthoquinone 4-sulfonate), sulfones (eg, disulfone, Ketosulfone, sulfonyldiazomethane) and the like. Representative examples of the ionic acid generator include onium salts containing onium cations (eg, diazonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts, iodonium salts). Examples of the anion of the onium salt include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, and a sulfonylmethide anion.

酸発生剤(B)としては、特開昭63−26653号、特開昭55−164824号、特開昭62−69263号、特開昭63−146038号、特開昭63−163452号、特開昭62−153853号、特開昭63−146029号、米国特許第3,779,778号、米国特許第3,849,137号、独国特許第3914407号、欧州特許第126,712号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤(B)は、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the acid generator (B) include JP-A-63-26653, JP-A-55-164824, JP-A-62-69263, JP-A-63-146038, and JP-A-63-163452. JP-A-62-153853, JP-A-63-146029, U.S. Pat. No. 3,779,778, U.S. Pat. No. 3,849,137, German Patent No. 3,914,407, European Patent No. 126,712, etc. The compounds capable of generating an acid by the radiation described in (1) can be used. Further, a compound produced by a known method may be used. The acid generator (B) may be used in combination of two or more.

酸発生剤(B)は、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式(B1)で表される塩(以下「酸発生剤(B1)」という場合がある。)である。
[式(B1)中、
b1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
b1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Yは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S(O)−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
Z1は、有機カチオンを表す。]
The acid generator (B) is preferably a fluorine-containing acid generator, and more preferably a salt represented by the formula (B1) (hereinafter sometimes referred to as “acid generator (B1)”).
[In the formula (B1),
Q b1 and Q b2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. The hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and-is included in the alicyclic hydrocarbon group. CH 2 — may be replaced by —O—, —S (O) 2 — or —CO—.
Z1 + represents an organic cation. ]

b1及びQb2の表すペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
b1及びQb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、ともにフッ素原子であることがより好ましい。
Examples of the perfluoroalkyl group represented by Q b1 and Q b2 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group and And perfluorohexyl groups.
Q b1 and Q b2 are each independently preferably a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and more preferably both are fluorine atoms.

b1における2価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち2種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基、トリデカン−1,13−ジイル基、テトラデカン−1,14−ジイル基、ペンタデカン−1,15−ジイル基、ヘキサデカン−1,16−ジイル基及びヘプタデカン−1,17−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;
エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;
シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の2価の脂環式飽和炭化水素基;
ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L b1 include a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. It may be a group formed by combining two or more of the groups.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1 , 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group Linear groups such as tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group Alkanediyl group;
Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- Branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Monocyclic 2 which is a cycloalkanediyl group such as a cyclobutane-1,3-diyl group, a cyclopentane-1,3-diyl group, a cyclohexane-1,4-diyl group, a cyclooctane-1,5-diyl group; Divalent alicyclic saturated hydrocarbon group;
Polycyclic divalent saturated alicyclic hydrocarbons such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group And the like.

b1で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−が−O−又は−CO−で置き換わった基としては、例えば、式(b1−1)〜式(b1−3)のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式(b1−1)〜式(b1−3)で表される基及びそれらの具体例である式(b1−4)〜式(b1−11)で表される基において、*及び**は結合部位を表し、*は−Yとの結合部位を表す。 -CH 2 contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 - as has been replaced by -O- or -CO- group, for example, the formula (b1-1) ~ formula (b1-3) And a group represented by any of the above. In the groups represented by the formulas (b1-1) to (b1-3) and the groups represented by the formulas (b1-4) to (b1-11), which are specific examples, * and * * Represents a binding site, and * represents a binding site to -Y.

[式(b1−1)中、
b2は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b3は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb2とLb3との炭素数合計は、22以下である。
式(b1−2)中、
b4は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb4とLb5との炭素数合計は、22以下である。
式(b1−3)中、
b6は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
b7は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
ただし、Lb6とLb7との炭素数合計は、23以下である。]
式(b1−1)〜式(b1−3)で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる−CH−が−O−又は−CO−に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
2価の飽和炭化水素基としては、Lb1の2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
[In the formula (b1-1),
L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group; —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
However, the total number of carbon atoms of L b2 and L b3 is 22 or less.
In the formula (b1-2),
L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group; —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
However, the total number of carbon atoms of L b4 and L b5 is 22 or less.
In the formula (b1-3),
L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group; —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
However, the total number of carbon atoms of L b6 and L b7 is 23 or less. ]
In the groups represented by the formulas (b1-1) to (b1-3), when —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by —O— or —CO—, the carbon before replacement is Let the number be the carbon number of the saturated hydrocarbon group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group include the same as the divalent saturated hydrocarbon group for L b1 .

b2は、好ましくは単結合である。
b3は、好ましくは炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
b4は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基であり、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b5は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b6は、好ましくは単結合又は炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
b7は、好ましくは単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
L b2 is preferably a single bond.
L b3 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group; —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.

b1で表される2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−が−O−又は−CO−で置き換わった基としては、式(b1−1)又は式(b1−3)で表される基が好ましい。 The group in which —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 is replaced by —O— or —CO— is represented by the formula (b1-1) or the formula (b1-3). Are preferred.

式(b1−1)で表される基としては、式(b1−4)〜式(b1−8)でそれぞれ表される基が挙げられる。
[式(b1−4)中、
b8は、単結合又は炭素数1〜22の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式(b1−5)中、
b9は、炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
b10は、単結合又は炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb9及びLb10の合計炭素数は20以下である。
式(b1−6)中、
b11は、炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b12は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb11及びLb12の合計炭素数は21以下である。
式(b1−7)中、
b13は、炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基を表す。
b14は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
b15は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb13〜Lb15の合計炭素数は19以下である。
式(b1−8)中、
b16は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
b17は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
b18は、単結合又は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb16〜Lb18の合計炭素数は19以下である。]
Examples of the group represented by the formula (b1-1) include groups represented by the formulas (b1-4) to (b1-8).
[In the formula (b1-4),
L b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
In the formula (b1-5),
L b9 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
L b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group .
However, the total carbon number of L b9 and L b10 is 20 or less.
In the formula (b1-6),
L b11 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group .
However, the total carbon number of L b11 and L b12 is 21 or less.
In the formula (b1-7),
L b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms.
L b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, wherein -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group is replaced by -O- or -CO-. Is also good.
L b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group .
However, the total number of carbon atoms of L b13 ~L b15 is 19 or less.
In the formula (b1-8),
L b16 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.
L b17 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b18 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group .
However, the total carbon number of L b16 to L b18 is 19 or less. ]

b8は、好ましくは炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
b9は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b10は、好ましくは単結合又は炭素数1〜19の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b11は、好ましくは炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b12は、好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b13は、好ましくは炭素数1〜12の2価の飽和炭化水素基である。
b14は、好ましくは単結合又は炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基である。
b15は、好ましくは単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜8の2価の飽和炭化水素基である。
b16は、好ましくは炭素数1〜12の2価の飽和炭化水素基である。
b17は、好ましくは炭素数1〜6の2価の飽和炭化水素基である。
b18は、好ましくは単結合又は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数1〜4の2価の飽和炭化水素基である。
L b8 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b9 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b10 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b15 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b16 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b17 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b18 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

式(b1−3)で表される基としては、式(b1−9)〜式(b1−11)でそれぞれ表される基が挙げられる。
式(b1−9)中、
b19は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b20は、単結合又は炭素数1〜23の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb19及びLb20の合計炭素数は23以下である。
式(b1−10)中、
b21は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b22は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b23は、単結合又は炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb21、Lb22及びLb23の合計炭素数は21以下である。
式(b1−11)中、
b24は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
b25は、炭素数1〜21の2価の飽和炭化水素基を表す。
b26は、単結合又は炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Lb24、Lb25及びLb26の合計炭素数は21以下である。
Examples of the group represented by the formula (b1-3) include groups represented by the formulas (b1-9) to (b1-11).
In the formula (b1-9),
L b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. Is also good. -CH 2 contained in the alkylcarbonyloxy group - may be replaced by -O- or -CO-, hydrogen atoms contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted by a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b19 and L b20 is 23 or less.
In the formula (b1-10),
L b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. Is also good. -CH 2 contained in the alkylcarbonyloxy group - may be replaced by -O- or -CO-, hydrogen atoms contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted by a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b21 , L b22 and L b23 is 21 or less.
In the formula (b1-11),
L b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. Is also good. -CH 2 contained in the alkylcarbonyloxy group - may be replaced by -O- or -CO-, hydrogen atoms contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted by a hydroxy group.
However, L b24, the total number of carbon atoms of L b25 and L b26 is 21 or less.

なお、式(b1−9)で表される基から式(b1−11)で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。   In addition, in the group represented by the formula (b1-11) from the group represented by the formula (b1-9), when the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted by an alkylcarbonyloxy group, the group is replaced. The previous carbon number is the carbon number of the saturated hydrocarbon group.

アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group, an adamantylcarbonyloxy group, and the like.

式(b1−4)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-4) include the following.

式(b1−5)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-5) include the following.

式(b1−6)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-6) include the following.

式(b1−7)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-7) include the following.

式(b1−8)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-8) include the following.

式(b1−2)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-2) include the following.

式(b1−9)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-9) include the following.

式(b1−10)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-10) include the following.

式(b1−11)で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-11) include the following.

Yで表される脂環式炭化水素基としては、式(Y1)〜式(Y11)、式(Y36)〜式(Y38)で表される基が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基に含まれる−CH−が−O−、−S(O)−又は−CO−で置き換わる場合、その数は1つでもよいし、2以上でもよい。そのような基としては、式(Y12)〜式(Y35)、式(Y39)〜式(Y41)で表される基が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基としては、好ましくは式(Y1)〜式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)、式(Y31)、式(Y39)又は式(Y40)のいずれかで表される基であり、より好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y16)、式(Y20)、式(Y26)、式(Y27)、式(Y30)〜式(Y31)又は式(Y39)〜式(Y40)で表される基であり、さらに好ましくは式(Y11)、式(Y15)、式(Y20)、式(Y30)、式(Y39)又は式(Y40)で表される基である。
Yで表される脂環式炭化水素基が式(Y28)〜式(Y35)、式(Y39)又は式(Y40)等の、酸素原子を含むスピロ環である場合には、2つの酸素原子間のアルカンジイル基は、1以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていないのが好ましい。
Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y include groups represented by formulas (Y1) to (Y11) and formulas (Y36) to (Y38).
Is -O - - -CH 2 contained in the alicyclic hydrocarbon group represented by Y, - S (O) 2 - or replaced by -CO-, to the number it may be one, even in two or more Good. Examples of such a group include groups represented by Formulas (Y12) to (Y35) and Formulas (Y39) to (Y41).
As the alicyclic hydrocarbon group represented by Y, preferably, formulas (Y1) to (Y20), formula (Y26), formula (Y27), formula (Y30), formula (Y31), and formula (Y39) Or a group represented by formula (Y40), more preferably formula (Y11), formula (Y15), formula (Y16), formula (Y20), formula (Y26), formula (Y27), A group represented by formula (Y30) to formula (Y31) or formula (Y39) to formula (Y40), more preferably formula (Y11), formula (Y15), formula (Y20), formula (Y30), (Y39) or a group represented by the formula (Y40).
When the alicyclic hydrocarbon group represented by Y is a spiro ring containing an oxygen atom, such as those represented by formulas (Y28) to (Y35), (Y39) or (Y40), two oxygen atoms The intervening alkanediyl group preferably has one or more fluorine atoms. Further, among the alkanediyl groups contained in the ketal structure, it is preferable that the methylene group adjacent to the oxygen atom is not substituted with a fluorine atom.

Yで表されるメチル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基、−(CHja−CO−O−Rb1基又は−(CHja−O−CO−Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。jaは、0〜4のいずれかの整数を表す。炭素数1〜16のアルキル基、及び炭素数3〜16の脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S(O)−又は−CO−で置き換わっていてもよい。)等が挙げられる。
Yで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基、炭素数7〜21のアラルキル基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基、グリシジルオキシ基、−(CHja−CO−O−Rb1基又は−(CHja−O−CO−Rb1基(式中、Rb1は、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数3〜16の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。jaは、0〜4のいずれかの整数を表す。炭素数1〜16のアルキル基、及び炭素数3〜16の脂環式炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S(O)−又は−CO−で置き換わっていてもよい。)等が挙げられる。
Examples of the substituent of the methyl group represented by Y include a halogen atom, a hydroxy group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group,-( CH 2 ) ja —CO—O—R b1 group or — (CH 2 ) ja —O—CO—R b1 group (where R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, Represents an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof; ja represents an integer of any of 0 to 4. an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms; And —CH 2 — contained in the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms may be replaced by —O—, —S (O) 2 —, or —CO—.
Examples of the substituent of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y include a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted by a hydroxy group, and an alicyclic group having 3 to 16 carbon atoms. A hydrocarbon group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, a glycidyloxy group,-( CH 2 ) ja —CO—O—R b1 group or — (CH 2 ) ja —O—CO—R b1 group (where R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, Represents an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof; ja represents an integer of any of 0 to 4. an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms; and -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms - are O -, - S (O) 2 -. Or -CO- in may be replaced), and the like.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
なお、脂環式炭化水素基は鎖式炭化水素基を有していてもよく、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基としては、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、p−エチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等が挙げられ、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基としては、p−シクロへキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, an adamantyl group, and the like.
The alicyclic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group, and examples thereof include a methylcyclohexyl group and a dimethylcyclohexyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a biphenylyl group, a naphthyl group, and a phenanthryl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group. Examples of the aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group include a tolyl group, a xylyl group, and a cumenyl group. , A mesityl group, a p-ethylphenyl group, a p-tert-butylphenyl group, a 2,6-diethylphenyl group, a 2-methyl-6-ethylphenyl group and the like, and an aromatic group having an alicyclic hydrocarbon group. Examples of the hydrocarbon group include a p-cyclohexylphenyl group and a p-adamantylphenyl group.
Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, 2-ethylhexyl, octyl, and nonyl. Group, decyl group, undecyl group, dodecyl group and the like.
Examples of the alkyl group substituted with a hydroxy group include a hydroxyalkyl group such as a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group, and a dodecyloxy group.
Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group and a naphthylethyl group.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.

Yとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of Y include the following.

Yがメチル基であり、かつLb1が炭素数1〜17の2価の直鎖状又は分岐状飽和炭化水素基である場合、Lb1におけるYと隣接する−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていることが好ましい。 When Y is a methyl group and L b1 is a divalent linear or branched saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, —CH 2 — adjacent to Y in L b1 is —O— Alternatively, it is preferable to be replaced by -CO-.

Yは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基であり、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又はアダマンチル基を構成する−CH−は−CO−、−S(O)−又は−CO−に置き換わっていてもよい。Yは、さらに好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基、オキソアダマンチル基又は下記で表される基である。
Y is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and more preferably an adamantyl group which may have a substituent. is -CO - - -CH 2 constituting a hydrogen group or an adamantyl group, - S (O) 2 - or -CO- may be replaced with. Y is more preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, an oxoadamantyl group or a group represented by the following.

式(B1)で表される塩におけるアニオンとしては、式(B1−A−1)〜式(B1−A−55)で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン(B1−A−1)」等という場合がある。〕が好ましく、式(B1−A−1)〜式(B1−A−4)、式(B1−A−9)、式(B1−A−10)、式(B1−A−24)〜式(B1−A−33)、式(B1−A−36)〜式(B1−A−40)、式(B1−A−47)〜式(B1−A−55)のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。
As the anion in the salt represented by the formula (B1), an anion represented by the formula (B1-A-1) to the formula (B1-A-55) [hereinafter referred to as “anion (B1-A -1) ". Are preferred, and the formulas (B1-A-1) to (B1-A-4), the formula (B1-A-9), the formula (B1-A-10), and the formulas (B1-A-24) to (B1-A-33), Formula (B1-A-36) to Formula (B1-A-40), Formula (B1-A-47) to Formula (B1-A-55) Anions are more preferred.

ここでRi2〜Ri7は、互いに独立に、例えば、炭素数1〜4のアルキル基、好ましくはメチル基又はエチル基である。Ri8は、例えば、炭素数1〜12の鎖式炭化水素基、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数5〜12の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。LA4は、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基である。
b1及びQb2は、上記と同じ意味を表す。
式(B1)で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、具体的には、特開2010−204646号公報に記載されたアニオンが挙げられる。
Here, R i2 to R i7 each independently represent, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group. R i8 is formed, for example, by a chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a combination thereof. And more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group. L A4 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Q b1 and Q b2 represent the same meaning as described above.
Specific examples of the sulfonic acid anion in the salt represented by the formula (B1) include anions described in JP-A-2010-204646.

式(B1)で表される塩におけるアニオンとして好ましくは、式(B1a−1)〜式(B1a−34)でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。
The anion in the salt represented by the formula (B1) is preferably an anion represented by each of the formulas (B1a-1) to (B1a-34).

なかでも、式(B1a−1)〜式(B1a−3)及び式(B1a−7)〜式(B1a−16)、式(B1a−18)、式(B1a−19)、式(B1a−22)〜式(B1a−30)のいずれかで表されるアニオンが好ましい。   Among them, the formulas (B1a-1) to (B1a-3) and the formulas (B1a-7) to (B1a-16), the formula (B1a-18), the formula (B1a-19), and the formula (B1a-22) ) To anion represented by any one of formulas (B1a-30).

Z1の有機カチオンとしては、塩(I)における有機カチオンZと同じものが挙げられる。 Examples of the organic cation of Z1 + include the same organic cation as Z + in salt (I).

酸発生剤(B)は、上述のアニオン及び有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1a−1)〜式(B1a−3)及び式(B1a−7)〜式(B1a−16)、式(B1a−18)、式(B1a−19)、式(B1a−22)〜式(B1a−34)のいずれかで表されるアニオンと、カチオン(b2−1)又はカチオン(b2−3)との組合せが挙げられる。   The acid generator (B) is a combination of the above-mentioned anions and organic cations, and these can be arbitrarily combined. As the acid generator (B), preferably, the formulas (B1a-1) to (B1a-3) and the formulas (B1a-7) to (B1a-16), the formulas (B1a-18), and the formulas (B1a-) 19) and a combination of an anion represented by any one of formulas (B1a-22) to (B1a-34) with a cation (b2-1) or a cation (b2-3).

酸発生剤(B)としては、好ましくは式(B1−1)〜式(B1−48)でそれぞれ表されるものが挙げられる。中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式(B1−1)〜式(B1−3)、式(B1−5)〜式(B1−7)、式(B1−11)〜式(B1−14)、式(B1−20)〜式(B1−26)、式(B1−29)、式(B1−31)〜式(B1−48)で表されるものがとりわけ好ましい。
The acid generator (B) preferably includes those represented by the formulas (B1-1) to (B1-48). Above all, those containing an arylsulfonium cation are preferable, and formulas (B1-1) to (B1-3), formulas (B1-5) to (B1-7), and formulas (B1-11) to (B1-14) ), (B1-20) to (B1-26), (B1-29), (B1-31) to (B1-48).

酸発生剤として塩(I)及び酸発生剤(B)を含有する場合、塩(I)と酸生剤(B)との含有量の比(質量比;塩(I):酸発生剤(B))は、通常、1:99〜99:1であり、好ましくは2:98〜98:2であり、より好ましくは5:95〜95:5であり、さらに好ましくは10:90〜90:10であり、特に好ましくは15:85〜85:15である。   When the salt (I) and the acid generator (B) are contained as the acid generator, the ratio of the content of the salt (I) to the acid generator (B) (mass ratio; salt (I): acid generator ( B)) is usually from 1:99 to 99: 1, preferably from 2:98 to 98: 2, more preferably from 5:95 to 95: 5, still more preferably from 10:90 to 90:90. : 10, particularly preferably 15:85 to 85:15.

<レジスト組成物>
本発明のレジスト組成物は、塩(I)を含む酸発生剤と、酸不安定基を有する樹脂(以下「樹脂(A)」という場合がある)とを含有する。ここで、「酸不安定基」とは、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、構成単位が親水性基(例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基)を有する構成単位に変換する基を意味する。
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩等のクエンチャー(以下「クエンチャー(C)」という場合がある)を含有することが好ましく、溶剤(以下「溶剤(E)」という場合がある)を含有することが好ましい。
<Resist composition>
The resist composition of the present invention contains an acid generator containing a salt (I) and a resin having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “resin (A)”). Here, the term “acid-labile group” refers to a group having a leaving group, the leaving group being eliminated by contact with an acid, and the structural unit having a hydrophilic group (for example, a hydroxy group or a carboxy group). It means a group to be converted into a unit.
The resist composition of the present invention preferably contains a quencher such as a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (hereinafter sometimes referred to as “quencher (C)”). And a solvent (hereinafter sometimes referred to as “solvent (E)”).

<酸発生剤>
本発明のレジスト組成物においては、酸発生剤の合計の含有率は、後述の樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1質量部以上40質量部以下、より好ましくは3質量部以上35質量部以下、さらに好ましくは10質量部以上35質量部以下である。
<Acid generator>
In the resist composition of the present invention, the total content of the acid generator is preferably 1 part by mass or more and 40 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the resin (A) described below. It is 35 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or more and 35 parts by mass or less.

<樹脂(A)>
樹脂(A)は、酸不安定基を有する構造単位(以下「構造単位(a1)」という場合がある)を有する。樹脂(A)は、さらに、構造単位(a1)以外の構造単位を含むことが好ましい。構造単位(a1)以外の構造単位としては、酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(s)」という場合がある)、構造単位(a1)及び構造単位(s)以外の構造単位(例えば、後述するハロゲン原子を有する構造単位(以下「構造単位(a4)」という場合がある)、後述する非脱離炭化水素基を有する構造単位(以下「構造単位(a5)という場合がある)及びその他の当該分野で公知のモノマーに由来する構造単位等が挙げられる。
<Resin (A)>
The resin (A) has a structural unit having an acid labile group (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1)”). The resin (A) preferably further contains a structural unit other than the structural unit (a1). Examples of the structural unit other than the structural unit (a1) include a structural unit having no acid labile group (hereinafter, may be referred to as a “structural unit (s)”), a structural unit (a1), and a structural unit other than the structural unit (s). A structural unit (for example, a structural unit having a halogen atom described below (hereinafter sometimes referred to as a “structural unit (a4)”), and a structural unit having a non-eliminable hydrocarbon group described below (hereinafter referred to as a “structural unit (a5)”) And other structural units derived from monomers known in the art.

〈構造単位(a1)〉
構造単位(a1)は、酸不安定基を有するモノマー(以下「モノマー(a1)」という場合がある)から導かれる。
樹脂(A)に含まれる酸不安定基は、式(1)で表される基(以下、基(1)とも記す)及び/又は式(2)で表される基(以下、基(2)とも記す)が好ましい。
[式(1)中、Ra1、Ra2及びRa3は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ra1及びRa2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数3〜20の脂環式炭化水素基を形成する。
ma及びnaは、それぞれ独立して、0又は1を表し、ma及びnaの少なくとも一方は1を表す。
*は結合部位を表す。]
[式(2)中、Ra1'及びRa2'は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Ra3'は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、Ra2'及びRa3'は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに炭素数3〜20の複素環基を形成し、該炭化水素基及び該複素環基に含まれる−CH−は、−O−又は−S−で置き換わってもよい。
Xは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
na’は、0又は1を表す。
*は結合部位を表す。]
<Structural unit (a1)>
The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “monomer (a1)”).
The acid labile group contained in the resin (A) includes a group represented by the formula (1) (hereinafter, also referred to as a group (1)) and / or a group represented by the formula (2) (hereinafter, a group (2) ) Is also preferred.
[In the formula (1), R a1 , R a2 and R a3 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a group obtained by combining these. R a1 and R a2 are bonded to each other to form an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.
ma and na each independently represent 0 or 1, and at least one of ma and na represents 1.
* Represents a binding site. ]
[In formula (2), R a1 ′ and R a2 ′ each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R a3 ′ represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. R a2 ′ and R a3 ′ are bonded to each other to form a heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom and X to which they are bonded, and are included in the hydrocarbon group and the heterocyclic group; CH 2 - may be replaced by -O- or -S-.
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
na ′ represents 0 or 1.
* Represents a binding site. ]

a1、Ra2及びRa3におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
a1、Ra2及びRa3における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等が挙げられる。Ra1、Ra2及びRa3の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは3〜16である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられる。
好ましくは、maは0であり、naは1である。
a1及びRa2が互いに結合して脂環式炭化水素基を形成する場合の−C(Ra1)(Ra2)(Ra3)としては、下記の基が挙げられる。脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数3〜12である。*は−O−との結合部位を表す。
The alkyl group in which R a1, R a2 and a R a3, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group.
The alicyclic hydrocarbon group for R a1 , R a2 and R a3 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups (* represents a bonding site). R a1, the number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group R a2 and R a3 is preferably 3 to 16.
Examples of a group obtained by combining an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group include, for example, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a methylnorbornyl group, a cyclohexylmethyl group, an adamantylmethyl group, an adamantyldimethyl group, and a norbornyl group. And an ethyl group.
Preferably, ma is 0 and na is 1.
When R a1 and R a2 are bonded to each other to form an alicyclic hydrocarbon group, examples of —C (R a1 ) (R a2 ) (R a3 ) include the following groups. The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 12 carbon atoms. * Represents a binding site to -O-.

a1'、Ra2'及びRa3'における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ra1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えばシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロヘキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のアリール−シクロアルキル基等が挙げられる。
a2’及びRa3’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びXとともに複素環を形成する場合、−C(Ra1’)(Ra3’)−X−Ra2’としては、下記の環が挙げられる。*は、結合部位を表す。
a1'及びRa2'のうち、少なくとも1つは水素原子であることが好ましい。
na’は、好ましくは0である。
Examples of the hydrocarbon group for R a1 ′ , R a2 ′ and R a3 ′ include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.
Examples of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group include the same groups as those described for R a1 , R a2 and R a3 .
Examples of the aromatic hydrocarbon group include aryl groups such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group.
Examples of the combined group include a group obtained by combining the above-described alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group (for example, a cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methyl). Phenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon group Aromatic hydrocarbon groups (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.) and aryl-cycloalkyl groups such as phenylcyclohexyl group.
When R a2 ′ and R a3 ′ are bonded to each other to form a heterocyclic ring together with the carbon atom and X to which they are bonded, —C (R a1 ′ ) (R a3 ′ ) —X—R a2 ′ includes the following: Ring. * Represents a binding site.
Preferably, at least one of R a1 ′ and R a2 ′ is a hydrogen atom.
na ′ is preferably 0.

基(1)としては、以下の基が挙げられる。
式(1)においてRa1、Ra2及びRa3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。当該基としては、tert−ブトキシカルボニル基が好ましい。
式(1)において、Ra1、Ra2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマンチル基を形成し、Ra3がアルキル基であり、ma=0であり、na=1である基。
式(1)において、Ra1及びRa2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ra3がアダマンチル基であり、ma=0であり、na=1である基。
基(1)としては、具体的には以下の基が挙げられる。*は結合部位を表す。
The group (1) includes the following groups.
In the formula (1), R a1 , R a2 and R a3 are alkyl groups, ma = 0 and na = 1. As the group, a tert-butoxycarbonyl group is preferable.
In the formula (1), R a1 and R a2 together with the carbon atom to which they are attached form an adamantyl group, R a3 is an alkyl group, ma = 0 and na = 1. .
In the formula (1), a group wherein R a1 and R a2 are each independently an alkyl group, R a3 is an adamantyl group, ma = 0, and na = 1.
Specific examples of the group (1) include the following groups. * Represents a binding site.

基(2)の具体例としては、以下の基が挙げられる。*は結合部位を表す。
Specific examples of the group (2) include the following groups. * Represents a binding site.

モノマー(a1)は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーである。   The monomer (a1) is preferably a monomer having an acid labile group and an ethylenically unsaturated bond, more preferably a (meth) acrylic monomer having an acid labile group.

酸不安定基を有する(メタ)アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数5〜20の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー(a1)に由来する構造単位を有する樹脂(A)をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。   Among the (meth) acrylic monomers having an acid labile group, those having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms are preferable. When a resin (A) having a structural unit derived from a monomer (a1) having a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group is used for a resist composition, the resolution of a resist pattern can be improved.

基(1)を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位として、式(a1−0)で表される構造単位(以下、構造単位(a1−0)という場合がある。)、式(a1−1)で表される構造単位(以下、構造単位(a1−1)という場合がある。)又は式(a1−2)で表される構造単位(以下、構造単位(a1−2)という場合がある。)が挙げられる。好ましくは、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)からなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位である。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
[式(a1−0)、式(a1−1)及び式(a1−2)中、
a01、La1及びLa2は、それぞれ独立に、−O−又は*−O−(CHk1−CO−O−を表し、k1は1〜7のいずれかの整数を表し、*は−CO−との結合部位を表す。
a01、Ra4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a02、Ra03及びRa04は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
m1は0〜14のいずれかの整数を表す。
n1は0〜10のいずれかの整数を表す。
n1’は0〜3のいずれかの整数を表す。]
As a structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having the group (1), a structural unit represented by the formula (a1-0) (hereinafter, sometimes referred to as a structural unit (a1-0)), a formula ( a1-1) (hereinafter may be referred to as a structural unit (a1-1)) or a structural unit represented by the formula (a1-2) (hereinafter referred to as a structural unit (a1-2)). In some cases). Preferably, it is at least one structural unit selected from the group consisting of the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2). These may be used alone or in combination of two or more.
[In the formulas (a1-0), (a1-1) and (a1-2),
L a01, L a1 and L a2 each independently, -O- or * -O- (CH 2) k1 -CO -O- the stands, k1 represents an integer of 1-7, and * Represents a binding site to —CO—.
R a01 , R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a02 , R a03 and R a04 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these.
m1 represents any integer of 0 to 14.
n1 represents any integer of 0-10.
n1 'represents any integer of 0-3. ]

a01、Ra4及びRa5は、好ましくはメチル基である。
a01、La1及びLa2は、好ましくは酸素原子又は*−O−(CHk01−CO−O−であり(但し、k01は、好ましくは1〜4のいずれかの整数、より好ましくは1である。)、より好ましくは酸素原子である。
a02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7におけるアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式(1)のRa1、Ra2及びRa3で挙げた基と同様の基が挙げられる。
a02、Ra03、及びRa04におけるアルキル基は、好ましくは炭素数1〜6であり、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
a6及びRa7におけるアルキル基は、好ましくは炭素数1〜6であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
a02、Ra03、Ra04、Ra6及びRa7の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは5〜12であり、より好ましくは5〜10である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、18以下であることが好ましい。
a02及びRa03は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a04は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数5〜12の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
a6及びRa7は、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
m1は、好ましくは0〜3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1は、好ましくは0〜3のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
n1’は好ましくは0又は1である。
R a01 , R a4 and R a5 are preferably a methyl group.
L a01 , L a1 and L a2 are preferably an oxygen atom or * -O- (CH 2 ) k01 -CO-O- (however, k01 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably Is 1.), more preferably an oxygen atom.
Examples of the alkyl group, alicyclic hydrocarbon group, and a combination thereof in R a02 , R a03 , R a04 , R a6, and R a7 include the groups listed in R a1 , R a2, and R a3 in Formula (1). And the same groups as mentioned above.
The alkyl group in R a02, R a03, and R a04 is preferably 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, more preferably a methyl group.
The alkyl group for R a6 and R a7 preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, and still more preferably an ethyl group or an isopropyl group.
R a02, R a03, R a04 , the number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group of R a6 and R a7 is preferably 5 to 12, more preferably from 5 to 10.
The group obtained by combining the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group preferably has a total carbon number of 18 or less obtained by combining the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group.
Ra02 and Ra03 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group.
Ra04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group.
R a6 and R a7 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, and further preferably an ethyl group or an isopropyl group.
m1 is preferably an integer of any of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1 is preferably an integer of any of 0 to 3, and more preferably 0 or 1.
n1 ′ is preferably 0 or 1.

構造単位(a1−0)としては、例えば、式(a1−0−1)〜式(a1−0−12)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1−0)におけるRa01に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1−0−1)〜式(a1−0−10)のいずれかで表される構造単位が好ましい。
The structural unit (a1-0), for example, the R a01 in equation (a1-0-1) structural units and structural units represented by any one of the - formula (a1-0-12) (a1-0) Examples include a structural unit in which a corresponding methyl group is replaced by a hydrogen atom, and a structural unit represented by any of formulas (a1-0-1) to (a1-0-10) is preferable.

構造単位(a1−1)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式(a1−1−1)〜式(a1−1−4)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1−1)におけるRa4に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式(a1−1−1)〜式(a1−1−4)のいずれかで表される構造単位がより好ましい。
Examples of the structural unit (a1-1) include a structural unit derived from a monomer described in JP-A-2010-204646. Above all, a methyl group corresponding to R a4 in the structural unit represented by any of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) and the structural unit (a1-1) was replaced with a hydrogen atom. Structural units are preferable, and structural units represented by any of formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) are more preferable.

構造単位(a1−2)としては、式(a1−2−1)〜式(a1−2−6)のいずれかで表される構造単位及び構造単位(a1−2)におけるRa5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式(a1−2−2)、式(a1−2−5)及び式(a1−2−6)で表される構造単位が好ましい。
The structural unit (a1-2) corresponds to the structural unit represented by any of the formulas (a1-2-1) to (a1-2-6) and R a5 in the structural unit (a1-2). Examples include a structural unit in which a methyl group is replaced by a hydrogen atom, and a structural unit represented by Formula (a1-2-2), Formula (a1-2-5), or Formula (a1-2-6) is preferable.

樹脂(A)が構造単位(a1−0)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常1〜60モル%であり、好ましくは3〜50モル%であり、より好ましくは5〜40モル%である。
樹脂(A)が構造単位(a1−1)及び/又は構造単位(a1−2)を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、
通常10〜95モル%であり、好ましくは15〜90モル%であり、より好ましくは15〜85モル%であり、さらに好ましくは20〜75モル%であり、さらにより好ましくは20〜70モル%である。
When the resin (A) contains the structural unit (a1-0), its content is usually 1 to 60 mol%, preferably 3 to 50 mol%, based on all structural units of the resin (A). And more preferably 5 to 40 mol%.
When the resin (A) contains the structural unit (a1-1) and / or the structural unit (a1-2), the total content thereof is based on all structural units of the resin (A).
Usually, it is 10 to 95 mol%, preferably 15 to 90 mol%, more preferably 15 to 85 mol%, further preferably 20 to 75 mol%, and still more preferably 20 to 70 mol%. It is.

構造単位(a1)において基(2)を有する構造単位としては、式(a1−4)で表される構造単位(以下、「構造単位(a1−4)」という場合がある。)が挙げられる。
[式(a1−4)中、
a32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
a33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基、炭素数2〜4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
laは0〜4のいずれかの整数を表す。laが2以上である場合、複数のRa33は互いに同一でも異なっていてもよい。
a34及びRa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Ra36は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、Ra35及びRa36は互いに結合してそれらが結合する−C−O−とともに炭素数2〜20の2価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該2価の炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−S−で置き換わってもよい。]
Examples of the structural unit having the group (2) in the structural unit (a1) include a structural unit represented by the formula (a1-4) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a1-4)”). .
[In the formula (a1-4),
Ra32 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a33 represents a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, acryloyl. Represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
la represents any integer of 0-4. When la is 2 or more, a plurality of Ra33 may be the same or different from each other.
R a34 and R a35 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R a36 may represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, R a35 and R a36 are bonded to each other to with -C-O-which they are attached to form a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, -CH 2 contained in the hydrocarbon group of the hydrocarbon group and the divalent - is - It may be replaced by O- or -S-. ]

a32及びRa33におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
a32及びRa33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
a34、Ra35及びRa36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、及びこれらを組み合わせた基が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基(例えばシクロアルキルアルキル基)、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基(p−メチルフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、2,6−ジエチルフェニル基、2−メチル−6−エチルフェニル基等)、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基(p−シクロヘキシルフェニル基、p−アダマンチルフェニル基等)、フェニルシクロヘキシル基等のアリール−シクロヘキシル基等が挙げられる。特に、Ra36としては、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。
Examples of the alkyl group for Ra32 and Ra33 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and further preferably a methyl group.
Examples of the halogen atom for R a32 and R a33 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, , 2,2-tetrafluoroethyl, ethyl, perfluoropropyl, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl, propyl, perfluorobutyl, 1,1,2,2,3,3 , 4,4-octafluorobutyl, butyl, perfluoropentyl, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl, pentyl, hexyl, perfluorohexyl, etc. Is mentioned.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Among them, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is further preferable.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, and the like.
As the hydrocarbon group for R a34, R a35 and R a36, an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon groups, and groups formed by combining these.
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups (* represents a bonding site).
Examples of the aromatic hydrocarbon group include aryl groups such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group.
Examples of the combined group include a group obtained by combining the above-described alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group (for example, a cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methyl). Phenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon group Aromatic hydrocarbon groups (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.) and aryl-cyclohexyl groups such as phenylcyclohexyl group. In particular, R a36 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these. Is mentioned.

式(a1−4)において、Ra32としては、水素原子が好ましい。
a33としては、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
laとしては、0又は1が好ましく、0がより好ましい。
a34は、好ましくは、水素原子である。
a35は、好ましくは、炭素数1〜12のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
a36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基、炭素数6〜18の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基であり、より好ましくは、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数7〜18のアラルキル基である。Ra36におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ra36における芳香族炭化水素基は、炭素数6〜10のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
In the formula (a1-4), R a32 is preferably a hydrogen atom.
As Ra33 , an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group and an ethoxy group are more preferable, and a methoxy group is further preferable.
As la, 0 or 1 is preferable, and 0 is more preferable.
Ra34 is preferably a hydrogen atom.
Ra35 is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
The hydrocarbon group of Ra36 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof. It is a group formed, more preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. The alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group for R a36 are preferably unsubstituted. Aromatic hydrocarbon group for R a36 is an aromatic ring preferably has an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.

構造単位(a1−4)における−OC(Ra34)(Ra35)−O−Ra36は、酸(例えばp−トルエンスルホン酸)と接触して脱離し、ヒドロキシ基を形成する。 -OC (R a34) (R a35 ) -O-R a36 in the structural unit (a1-4) is desorbed by contact with an acid (e.g. p- toluenesulfonic acid) to form a hydroxy group.

構造単位(a1−4)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式(a1−4−1)〜式(a1−4−12)でそれぞれ表される構造単位及び構造単位(a1−4)におけるRa32に相当する水素原子がメチル基に置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式(a1−4−1)〜式(a1−4−5)、式(a1−4−10)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit (a1-4) include a structural unit derived from a monomer described in JP-A-2010-204646. Preferably, hydrogen atom corresponding to R a32 in equation (a1-4-1) represented respectively to Formula (a1-4-12) structural units and structural units (a1-4) is replaced by a methyl group structure Units, and more preferably, structural units represented by formulas (a1-4-1) to (a1-4-5) and (a1-4-10).

樹脂(A)が、構造単位(a1−4)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位の合計に対して、10〜95モル%であることが好ましく、15〜90モル%であることがより好ましく、20〜85モル%であることがさらに好ましく、20〜70モル%であることがさらにより好ましく、20〜60モル%であることが特に好ましい。   When the resin (A) contains the structural unit (a1-4), its content is preferably from 10 to 95 mol%, preferably from 15 to 90 mol%, based on the total of all the structural units of the resin (A). Mol%, more preferably 20 to 85 mol%, still more preferably 20 to 70 mol%, and particularly preferably 20 to 60 mol%.

基(2)を有する(メタ)アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式(a1−5)で表される構造単位(以下「構造単位(a1−5)」という場合がある)も挙げられる。
式(a1−5)中、
a8は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a1は、単結合又は*−(CH2h3−CO−L54−を表し、h3は1〜4のいずれかの整数を表し、*は、L51との結合部位を表す。
51、L52、L53及びL54は、それぞれ独立に、−O−又は−S−を表す。
s1は、1〜3のいずれかの整数を表す。
s1’は、0〜3のいずれかの整数を表す。
Examples of the structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having the group (2) include a structural unit represented by the formula (a1-5) (hereinafter, also referred to as “structural unit (a1-5)”). Can be
In the formula (a1-5),
R a8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom.
Z a1 represents a single bond or * - (CH 2) h3 -CO -L 54 - represents, h3 represents an integer of 1 to 4, * represents a binding site with L 51.
L 51 , L 52 , L 53 and L 54 each independently represent —O— or —S—.
s1 represents an integer of any of 1 to 3.
s1 ′ represents an integer from 0 to 3.

ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式(a1−5)においては、Ra8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が好ましい。
51は、酸素原子が好ましい。
52及びL53のうち、一方が−O−であり、他方が−S−であることが好ましい。
s1は、1が好ましい。
s1’は、0〜2のいずれかの整数が好ましい。
a1は、単結合又は*−CH2−CO−O−が好ましい。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom, and a fluorine atom is preferable.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a fluoromethyl group and a trifluoro group. And a methyl group.
In the formula (a1-5), R a8 is preferably a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
L 51 is preferably an oxygen atom.
Of L 52 and L 53, one of -O-, and is preferably other is -S-.
s1 is preferably 1.
s1 ′ is preferably an integer of 0 to 2.
Z a1 represents a single bond or * -CH 2 -CO-O- are preferable.

構造単位(a1−5)としては、例えば、特開2010−61117号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式(a1−5−1)〜式(a1−5−4)でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式(a1−5−1)又は式(a1−5−2)で表される構造単位がより好ましい。
Examples of the structural unit (a1-5) include a structural unit derived from a monomer described in JP-A-2010-61117. Among them, the structural units represented by the formulas (a1-5-1) to (a1-5-4) are preferable, and represented by the formula (a1-5-1) or the formula (a1-5-2). Structural units are more preferred.

樹脂(A)が、構造単位(a1−5)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1〜50モル%が好ましく、3〜45モル%がより好ましく、5〜40モル%がさらに好ましく、5〜30モル%がさらにより好ましい。   When the resin (A) contains the structural unit (a1-5), its content is preferably from 1 to 50 mol%, more preferably from 3 to 45 mol%, based on all structural units of the resin (A). , 5 to 40 mol% is still more preferable, and 5 to 30 mol% is still more preferable.

また、構造単位(a1)としては、以下の構造単位も挙げられる。
The structural unit (a1) also includes the following structural units.

樹脂(A)が上記、(a1−3−1)〜(a1−3−7)のような構造単位を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、10〜95モル%が好ましく、15〜90モル%がより好ましく、20〜85モル%がさらに好ましく、20〜70モル%がさらにより好ましく、20〜60モル%が特に好ましい。   When the resin (A) contains the above structural units such as (a1-3-1) to (a1-3-7), the content is 10 to 10% of the total structural units of the resin (A). 95 mol% is preferable, 15 to 90 mol% is more preferable, 20 to 85 mol% is further preferable, 20 to 70 mol% is further more preferable, and 20 to 60 mol% is particularly preferable.

〈構造単位(s)〉
構造単位(s)は、酸不安定基を有さないモノマー(以下「モノマー(s)」という場合がある)から導かれる。構造単位(s)を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位(s)としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a2)」という場合がある)及び/又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位(以下「構造単位(a3)」という場合がある)を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。
<Structural unit (s)>
The structural unit (s) is derived from a monomer having no acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “monomer (s)”). As the monomer for deriving the structural unit (s), a monomer having no acid labile group known in the resist field can be used.
The structural unit (s) preferably has a hydroxy group or a lactone ring. Structure having a hydroxy group and not having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2)”) and / or having a lactone ring and having no acid labile group Use of a resin having units (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a3)”) in the resist composition of the present invention can improve the resolution of a resist pattern and the adhesion to a substrate.

〈構造単位(a2)〉
構造単位(a2)が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてKrFエキシマレーザ(248nm)、電子線又はEUV(超紫外光)等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位(a2)として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)を用いることが好ましい。また、ArFエキシマレーザ(193nm)等を用いる場合には、構造単位(a2)として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位(a2)が好ましく、後述する構造単位(a2−1)又は構造単位(a2−A)を用いることがより好ましい。構造単位(a2)としては、1種を単独で含んでいてもよく、2種以上を含んでいてもよい。
<Structural unit (a2)>
The hydroxy group contained in the structural unit (a2) may be an alcoholic hydroxy group or a phenolic hydroxy group.
When manufacturing a resist pattern from the resist composition of the present invention, when using a high energy ray such as a KrF excimer laser (248 nm), an electron beam or EUV (ultra-ultraviolet light) as an exposure light source, the structural unit (a2) is used. It is preferable to use a structural unit (a2) having a phenolic hydroxy group. When an ArF excimer laser (193 nm) or the like is used, a structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group is preferable as the structural unit (a2), and a structural unit (a2-1) or a structural unit (a2) described later. -A) is more preferably used. As the structural unit (a2), one type may be included alone, or two or more types may be included.

構造単位(a2)においてフェノール性ヒドロキシ基有する構造単位としては式(a2−A)で表される構造単位(以下「構造単位(a2−A)」という場合がある)が挙げられる。
[式(a2−A)中、
a50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
a51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜4のアルキルカルボニル基、炭素数2〜4のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
a50は、単結合又は*−Xa51−(Aa52−Xa52nb−を表し、*は−Ra50が結合する炭素原子との結合部位を表す。
a52は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
a51及びXa52は、それぞれ独立に、−O−、−CO−O−又は−O−CO−を表す。
nbは、0又は1を表す。
mbは0〜4のいずれかの整数を表す。mbが2以上のいずれかの整数である場合、複数のRa51は互いに同一でも異なっていてもよい。]
Examples of the structural unit having a phenolic hydroxy group in the structural unit (a2) include a structural unit represented by the formula (a2-A) (hereinafter, may be referred to as “structural unit (a2-A)”).
[In the formula (a2-A),
Ra50 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a51 represents a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, acryloyl. Represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
A a50 represents a single bond or * -X a51 - (A a52 -X a52) nb - represents, * represents a binding site to the carbon atom to which -R a50 binds.
A a52 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
X a51 and X a52 each independently represent -O-, -CO -O-, or -O-CO-.
nb represents 0 or 1.
mb represents any integer of 0-4. When mb is any integer of 2 or more, a plurality of R a51 may be the same or different. ]

a50におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
a50におけるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
a50は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
a51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
a51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基が挙げられる。炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
a51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
a51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
a51は、メチル基が好ましい。
Examples of the halogen atom for Ra50 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom at R a50 include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2 3,3,4,4-octafluorobutyl, butyl, perfluoropentyl, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl, pentyl, hexyl and perfluoro A hexyl group.
Ra50 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Examples of the alkyl group for Ra51 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.
Examples of the alkoxy group for Ra51 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group. An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferred, a methoxy group or an ethoxy group is more preferred, and a methoxy group is even more preferred.
Examples of the alkylcarbonyl group for R a51 include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.
Examples of the alkylcarbonyloxy group for Ra51 include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a butyryloxy group.
Ra51 is preferably a methyl group.

*−Xa51−(Aa52−Xa52nb−としては、*−O−、*−CO−O−、*−O−CO−、*−CO−O−Aa52−CO−O−、*−O−CO−Aa52−O−、*−O−Aa52−CO−O−、*−CO−O−Aa52−O−CO−、*−O−CO−Aa52−O−CO−、が挙げられる。なかでも、*−CO−O−、*−CO−O−Aa52−CO−O−又は*−O−Aa52−CO−O−が好ましい。 * -X a51 - (A a52 -X a52) nb - The, * - O -, * - CO-O -, * - O-CO -, * - CO-O-A a52 -CO-O-, * -O-CO- Aa52 -O-, * -OAa52 -CO-O-, * -CO- OAa52 -O- CO- , * -O-CO- Aa52- O-CO -. Especially, * -CO-O-, * -CO- OAa52- CO-O- or * -OAa52- CO-O- is preferable.

アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基及び2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。
a52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。
Examples of the alkanediyl group include methylene, ethylene, propane-1,3-diyl, propane-1,2-diyl, butane-1,4-diyl, pentane-1,5-diyl, and hexane-. 1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group and 2 -Methylbutane-1,4-diyl group and the like.
A a52 is preferably a methylene group or an ethylene group.

a50は、単結合、*−CO−O−又は*−CO−O−Aa52−CO−O−であることが好ましく、単結合、*−CO−O−又は*−CO−O−CH2−CO−O−であることがより好ましく、単結合又は*−CO−O−であることがさらに好ましい。 A a50 is preferably a single bond, * -CO-O- or * -CO-O-A a52 -CO-O-, and a single bond, * -CO-O- or * -CO-O-CH It is more preferably 2- CO-O-, even more preferably a single bond or * -CO-O-.

mbは0、1又は2が好ましく、0又は1がより好ましく、0が特に好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のo−位又はp−位に結合することが好ましく、p−位に結合することがより好ましい。
mb is preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.
The hydroxy group is preferably bonded to the o- or p-position of the benzene ring, and more preferably bonded to the p-position.

構造単位(a2−A)としては、特開2010−204634号公報、特開2012−12577号公報に記載されているモノマー由来の構造単位が挙げられる。   Examples of the structural unit (a2-A) include structural units derived from monomers described in JP-A-2010-204634 and JP-A-2012-12577.

構造単位(a2−A)としては、式(a2−2−1)〜式(a2−2−6)で表される構造単位及び、式(a2−2−1)〜式(a2−2−6)で表される構造単位において構造単位(a2−A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。構造単位(a2−A)は、式(a2−2−1)で表される構造単位、式(a2−2−3)で表される構造単位、式(a2−2−6)で表される構造単位及び式(a2−2−1)で表される構造単位、式(a2−2−3)で表される構造単位又は式(a2−2−6)で表される構造単位において、構造単位(a2−A)におけるRa50に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。
Examples of the structural unit (a2-A) include structural units represented by Formulas (a2-2-1) to (a2-2-6) and Formulas (a2-2-1) to (a2-2-2-). Examples of the structural unit represented by 6) include a structural unit in which a methyl group corresponding to R a50 in the structural unit (a2-A) is replaced with a hydrogen atom. The structural unit (a2-A) is a structural unit represented by the formula (a2-2-1), a structural unit represented by the formula (a2-2-3), or a structural unit represented by the formula (a2-2-6). Structural unit represented by the formula (a2-2-1), structural unit represented by the formula (a2-2-3) or structural unit represented by the formula (a2-2-6): It is preferable that the methyl unit corresponding to R a50 in the structural unit (a2-A) is a structural unit in which a hydrogen atom is replaced.

樹脂(A)中に構造単位(a2−A)が含まれる場合の構造単位(a2−A)の含有率は、全構造単位に対して、好ましくは5〜80モル%であり、より好ましくは10〜70モル%であり、さらに好ましくは15〜65モル%であり、さらにより好ましくは20〜65モル%である。
構造単位(a2−A)は、例えば構造単位(a1−4)を用いて重合した後、p−トルエンスルホン酸等の酸で処理することにより、樹脂(A)に含ませることができる。また、アセトキシスチレン等を用いて重合した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリで処理することにより、構造単位(a2−A)を樹脂(A)に含ませることができる。
When the resin (A) contains the structural unit (a2-A), the content of the structural unit (a2-A) is preferably from 5 to 80 mol%, more preferably from all structural units. It is 10 to 70 mol%, further preferably 15 to 65 mol%, and still more preferably 20 to 65 mol%.
The structural unit (a2-A) can be included in the resin (A) by, for example, polymerizing using the structural unit (a1-4) and then treating with an acid such as p-toluenesulfonic acid. After polymerization using acetoxystyrene or the like, the resin (A) can be made to contain the structural unit (a2-A) by treating with an alkali such as tetramethylammonium hydroxide.

構造単位(a2)においてアルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては、式(a2−1)で表される構造単位(以下「構造単位(a2−1)」という場合がある。)が挙げられる。
式(a2−1)中、
a3は、−O−又は*−O−(CH2k2−CO−O−を表し、
k2は1〜7のいずれかの整数を表す。*は−CO−との結合部位を表す。
a14は、水素原子又はメチル基を表す。
a15及びRa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
o1は、0〜10のいずれかの整数を表す。
Examples of the structural unit having an alcoholic hydroxy group in the structural unit (a2) include a structural unit represented by the formula (a2-1) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2-1)”).
In the formula (a2-1),
L a3 is, -O- or * -O- (CH 2) k2 -CO -O- the stands,
k2 represents any integer of 1 to 7. * Represents a binding site to -CO-.
R a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a15 and R a16 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxy group.
o1 represents any integer of 0-10.

式(a2−1)では、La3は、好ましくは、−O−、−O−(CH2f1−CO−O−であり(前記f1は、1〜4のいずれかの整数を表す)、より好ましくは−O−である。
a14は、好ましくはメチル基である。
a15は、好ましくは水素原子である。
a16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
o1は、好ましくは0〜3のいずれかの整数、より好ましくは0又は1である。
Formula (a2-1), L a3 is preferably, -O -, - O- (CH 2) f1 -CO-O- and is (wherein f1 represents an integer of 1 to 4) And more preferably -O-.
R a14 is preferably a methyl group.
Ra15 is preferably a hydrogen atom.
Ra16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxy group.
o1 is preferably an integer of any of 0 to 3, more preferably 0 or 1.

構造単位(a2−1)としては、例えば、特開2010−204646号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式(a2−1−1)〜式(a2−1−6)のいずれかで表される構造単位が好ましく、式(a2−1−1)〜式(a2−1−4)のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式(a2−1−1)又は式(a2−1−3)で表される構造単位がさらに好ましい。
Examples of the structural unit (a2-1) include a structural unit derived from a monomer described in JP-A-2010-204646. Structural units represented by any of formulas (a2-1-1) to (a2-1-6) are preferable, and structural units represented by formulas (a2-1-1) to (a2-1-4) are preferable. The structural unit represented by the formula (a2-1-1) or the formula (a2-1-3) is more preferable.

樹脂(A)が構造単位(a2−1)を含む場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常1〜45モル%であり、好ましくは1〜40モル%であり、より好ましくは1〜35モル%であり、さらに好ましくは2〜20モル%である。   When the resin (A) contains the structural unit (a2-1), its content is usually from 1 to 45 mol%, preferably from 1 to 40 mol%, based on all the structural units of the resin (A). Yes, more preferably 1 to 35 mol%, even more preferably 2 to 20 mol%.

〈構造単位(a3)〉
構造単位(a3)が有するラクトン環は、β−プロピオラクトン環、γ−ブチロラクトン環、δ−バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ−ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ−ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環(例えば下式(a3−2)で表される構造単位)が挙げられる。
<Structural unit (a3)>
The lactone ring of the structural unit (a3) may be a monocyclic ring such as a β-propiolactone ring, a γ-butyrolactone ring, or a δ-valerolactone ring, or a condensed ring of a monocyclic lactone ring and another ring. May be. Preferably, a γ-butyrolactone ring, an adamantane lactone ring, or a bridged ring containing a γ-butyrolactone ring structure (for example, a structural unit represented by the following formula (a3-2)) is exemplified.

構造単位(a3)は、好ましくは、式(a3−1)、式(a3−2)、式(a3−3)又は式(a3−4)で表される構造単位である。これらの1種を単独で含有してもよく、2種以上を含有していてもよい。
[式(a3−1)、式(a3−2)、式(a3−3)及び式(a3−4)中、
a4、La5及びLa6は、それぞれ独立に、−O−又は*−O−(CHk3−CO−O−(k3は1〜7のいずれかの整数を表す。)で表される基を表す。
a7は、−O−、*−O−La8−O−、*−O−La8−CO−O−、*−O−La8−CO−O−La9−CO−O−又は*−O−La8−O−CO−La9−O−を表す。
a8及びLa9は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
*はカルボニル基との結合部位を表す。
a18、Ra19及びRa20は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a24は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
a3は、−CH−又は酸素原子を表す。
a21は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
a22、Ra23及びRa25は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基を表す。
p1は0〜5のいずれかの整数を表す。
q1は、0〜3のいずれかの整数を表す。
r1は、0〜3のいずれかの整数を表す。
w1は、0〜8のいずれかの整数を表す。
p1、q1、r1及び/又はw1が2以上のとき、複数のRa21、Ra22、Ra23及び/又はRa25は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。]
The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3) or the formula (a3-4). One of these may be contained alone, or two or more thereof may be contained.
[In the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3) and the formula (a3-4),
L a4, L a5 and L a6 each independently, -O- or * -O- (CH 2) k3 -CO -O- (k3 represents. An integer of 1-7) is represented by Represents a group.
L a7 is, -O -, * - O- L a8 -O -, * - O-L a8 -CO-O -, * - O-L a8 -CO-O-L a9 -CO-O- or * Represents -O- La8- O-CO- La9- O-.
La8 and La9 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
* Represents a bonding site with a carbonyl group.
R a18 , R a19 and R a20 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a24 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom.
X a3 represents —CH 2 — or an oxygen atom.
Ra21 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
R a22 , R a23 and R a25 each independently represent a carboxy group, a cyano group or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
p1 represents an integer of any of 0 to 5.
q1 represents any integer of 0 to 3.
r1 represents any integer of 0 to 3.
w1 represents an integer of any of 0 to 8.
When p1, q1, r1 and / or w1 are 2 or more, a plurality of R a21 , R a22 , R a23 and / or R a25 may be the same or different. ]

a21、Ra22、Ra23及びRa25における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基及びtert−ブチル基等のアルキル基が挙げられる。
a24におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
a24におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
a24におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。
a8及びLa9におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基及び2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R a21 , R a22 , R a23 and R a25 include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group and a tert-butyl group. Can be
Examples of the halogen atom for R a24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alkyl group for Ra24 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. And more preferably a methyl group or an ethyl group.
Examples of the alkyl group having a halogen atom at Ra24 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluoropentyl group. Examples include a hexyl group, a trichloromethyl group, a tribromomethyl group, and a triiodomethyl group.
The alkanediyl group in La8 and La9 includes a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5 -Diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1, Examples include a 4-diyl group and a 2-methylbutane-1,4-diyl group.

式(a3−1)〜式(a3−3)において、La4、La5及びLa6は、それぞれ独立に、好ましくは−O−又は、*−O−(CHk3−CO−O−において、k3が1〜4のいずれかの整数である基、より好ましくは−O−及び、*−O−CH−CO−O−、さらに好ましくは酸素原子である。
a18、Ra19、Ra20及びRa21は、好ましくはメチル基である。
a22及びRa23は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
p1、q1及びr1は、それぞれ独立に、好ましくは0〜2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
Formula (a3-1) ~ formula (a3-3), L a4, L a5 and L a6 are each independently preferably -O- or, * - O- (CH 2) k3 -CO-O- in, k3 groups is any integer of 1 to 4, more preferably -O- and, * - O-CH 2 -CO -O-, more preferably an oxygen atom.
R a18 , R a19 , R a20 and R a21 are preferably a methyl group.
Ra22 and Ra23 are each independently preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
p1, q1 and r1 are each independently preferably an integer of any of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.

式(a3−4)において、Ra24は、好ましくは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
a25は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
a7は、好ましくは−O−又は*−O−La8−CO−O−であり、より好ましくは−O−、−O−CH−CO−O−又は−O−C−CO−O−である。
w1は、好ましくは0〜2のいずれかの整数であり、より好ましくは0又は1である。
特に、式(a3−4)は、式(a3−4)’が好ましい。
(式中、Ra24、La7は、上記と同じ意味を表す。)
In the formula (a3-4), R a24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group. It is.
Ra25 is preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
L a7 is preferably -O- or * -O-L a8 -CO-O-, more preferably an -O -, - O-CH 2 -CO-O- or -O-C 2 H 4 - CO-O-.
w1 is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1.
Particularly, the formula (a3-4) is preferably the formula (a3-4) ′.
(In the formula, R a24 and L a7 represent the same meaning as described above.)

構造単位(a3)としては、特開2010−204646号公報に記載されたモノマー、特開2000−122294号公報に記載されたモノマー、特開2012−41274号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位(a3)としては、式(a3−1−1)、式(a3−1−2)、式(a3−2−1)、式(a3−2−2)、式(a3−3−1)、式(a3−3−2)及び式(a3−4−1)〜式(a3−4−12)のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式(a3−1)〜式(a3−4)におけるRa18、Ra19、Ra20及びRa24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましい。
Examples of the structural unit (a3) include a monomer described in JP-A-2010-204646, a monomer described in JP-A-2000-122294, and a structure derived from a monomer described in JP-A-2012-41274. Units. As the structural unit (a3), the formula (a3-1-1), the formula (a3-1-2), the formula (a3-2-1), the formula (a3-2-2), the formula (a3-3-3) 1), a structural unit represented by any one of formulas (a3-3-2) and formulas (a3-4-1) to (a3-4-12), and the structural unit represented by the formula (a3-1) ) To (a3-4), a structural unit in which a methyl group corresponding to R a18 , R a19 , R a20 and R a24 is replaced by a hydrogen atom is preferable.

樹脂(A)が構造単位(a3)を含む場合、その合計含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、通常5〜70モル%であり、好ましくは10〜65モル%であり、より好ましくは10〜60モル%である。
また、構造単位(a3−1)、構造単位(a3−2)、構造単位(a3−3)又は構造単位(a3−4)の含有率は、それぞれ、樹脂(A)の全構造単位に対して、5〜60モル%が好ましく、5〜50モル%がより好ましく、10〜50モル%がさらに好ましい。
When the resin (A) contains the structural unit (a3), the total content thereof is usually 5 to 70 mol%, preferably 10 to 65 mol%, based on all the structural units of the resin (A). , More preferably 10 to 60 mol%.
Further, the content of the structural unit (a3-1), the structural unit (a3-2), the structural unit (a3-3) or the content of the structural unit (a3-4) is respectively based on the total structural units of the resin (A). Therefore, 5 to 60 mol% is preferable, 5 to 50 mol% is more preferable, and 10 to 50 mol% is further preferable.

〈構造単位(a4)〉
構造単位(a4)としては、以下の構造単位が挙げられる。
[式(a4)中、
41は、水素原子又はメチル基を表す。
42は、炭素数1〜24のハロゲン原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−又は−COに置き換わっていてもよい。]
42で表される飽和炭化水素基は、鎖式飽和炭化水素基及び単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
<Structural unit (a4)>
Examples of the structural unit (a4) include the following structural units.
[In the formula (a4),
R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 42 represents a saturated hydrocarbon group having a halogen atom having 1 to 24 carbon atoms, -CH 2 contained in the saturated hydrocarbon group - may be replaced by -O- or -CO. ]
Examples of the saturated hydrocarbon group represented by R 42 include a chain saturated hydrocarbon group, a monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group, and a group formed by combining these.

鎖式飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。
単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合部位を表す。)等の多環式の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、−アルカンジイル基−脂環式飽和炭化水素基、−脂環式飽和炭化水素基−アルキル基、−アルカンジイル基−脂環式飽和炭化水素基−アルキル基等が挙げられる。
Examples of the chain-type saturated hydrocarbon group include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl and octadecyl. Is mentioned.
As the monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group, cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group; decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following And a polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group such as a group (* represents a bonding site).
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups with one or more alicyclic saturated hydrocarbon groups, and include a -alkanediyl group. -Alicyclic saturated hydrocarbon group,-alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group,-alkanediyl group-alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group, and the like.

構造単位(a4)としては、式(a4−0)で表される構造単位、式(a4−1)で表される構造単位、及び式(a4−4)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a4−0)中、
54は、水素原子又はメチル基を表す。
4aは、単結合又は炭素数1〜4のアルカンジイル基を表す。
3aは、炭素数1〜8のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数3〜12のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
64は、水素原子又はフッ素原子を表す。]
Examples of the structural unit (a4) include a structural unit represented by the formula (a4-0), a structural unit represented by the formula (a4-1), and a structural unit represented by the formula (a4-4). .
[In the formula (a4-0),
R 54 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 4a represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L 3a represents a perfluoroalkyl cycloalkanediyl group perfluoro alkanediyl group or 3 to 12 carbon atoms having 1 to 8 carbon atoms.
R 64 represents a hydrogen atom or a fluorine atom. ]

4aにおけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基及び2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group for L 4a include a linear alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, an ethane-1,1-diyl group, And branched alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group. Can be

3aにおけるペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパン−1,1−ジイル基、ペルフルオロプロパン−1,3−ジイル基、ペルフルオロプロパン−1,2−ジイル基、ペルフルオロプロパン−2,2−ジイル基、ペルフルオロブタン−1,4−ジイル基、ペルフルオロブタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロブタン−1,2−ジイル基、ペルフルオロペンタン−1,5−ジイル基、ペルフルオロペンタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロペンタン−3,3−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−1,6−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−2,2−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−3,3−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−1,7−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−3,4−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−4,4−ジイル基、ペルフルオロオクタン−1,8−ジイル基、ペルフルオロオクタン−2,2−ジイル基、ペルフルオロオクタン−3,3−ジイル基、ペルフルオロオクタン−4,4−ジイル基等が挙げられる。
3aにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
Examples of the perfluoroalkanediyl group for L 3a include a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group, a perfluoropropane-1,1-diyl group, a perfluoropropane-1,3-diyl group, a perfluoropropane-1,2-diyl group, and a perfluoropropane group. -2,2-diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,2-diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane -2,2-diyl group, perfluoropentane-3,3-diyl group, perfluorohexane-1,6-diyl group, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane -1,7-diyl group, perfluoro Tan-2,2-diyl group, perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane-2,2-diyl group, perfluoro An octane-3,3-diyl group, a perfluorooctane-4,4-diyl group and the like can be mentioned.
Examples of the perfluorocycloalkanediyl group in L 3a include a perfluorocyclohexanediyl group, a perfluorocyclopentanediyl group, a perfluorocycloheptanediyl group, a perfluoroadamantanediyl group, and the like.

4aは、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは、単結合、メチレン基である。
3aは、好ましくは炭素数1〜6のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数1〜3のペルフルオロアルカンジイル基である。
L 4a is preferably a single bond, a methylene group or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.
L 3a is preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.

構造単位(a4−0)としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位(a4−0)におけるR54に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
The structural unit (a4-0), a methyl group corresponding to R 54 may be mentioned a structural unit replacing a hydrogen atom in the structural units in the structural units and the following structural units shown below (a4-0).

[式(a4−1)中、
a41は、水素原子又はメチル基を表す。
a42は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
a41は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルカンジイル基又は式(a−g1)で表される基を表す。ただし、Aa41及びRa42のうち少なくとも1つは、置換基としてハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)を有する。
〔式(a−g1)中、
sは0又は1を表す。
a42及びAa44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜5の2価の飽和炭化水素基を表す。
a43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜5の2価の飽和炭化水素基を表す。
a41及びXa42は、それぞれ独立に、−O−、−CO−、−CO−O−又は−O−CO−を表す。
ただし、Aa42、Aa43、Aa44、Xa41及びXa42の炭素数の合計は7以下である。〕
*は結合部位であり、右側の*が−O−CO−Ra42との結合部位である。]
[In the formula (a4-1),
Ra41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a42 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by —O— or —CO—. You may.
A a41 represents an optionally substituted alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms or a group represented by the formula (a-g1). However, at least one of A a41 and R a42 has a halogen atom (preferably a fluorine atom) as a substituent.
[In the formula (a-g1),
s represents 0 or 1.
A a42 and A a44 each independently represent a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
A a43 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
X a41 and X a42 each independently represent -O-, -CO-, -CO -O-, or -O-CO-.
However, the total number of carbon atoms of A a42 , A a43 , A a44 , X a41 and X a42 is 7 or less. ]
* Is a binding site, and * on the right side is a binding site to -O-CO- Ra42 . ]

a42における飽和炭化水素基としては、アルキル基、単環又は多環の飽和脂環式炭化水素基、及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。 Examples of the saturated hydrocarbon group for Ra42 include an alkyl group, a monocyclic or polycyclic saturated alicyclic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.

アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等が挙げられる。
単環又は多環の飽和脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基;デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合手を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の飽和脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、−アルカンジイル基−飽和脂環式炭化水素基、−飽和脂環式炭化水素基−アルキル基、−アルカンジイル基−飽和脂環式炭化水素基−アルキル基等が挙げられる。
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group, and an octadecyl group. .
Examples of the monocyclic or polycyclic saturated alicyclic hydrocarbon group include cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cycloalkyl group such as cyclooctyl group; decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following. And a polycyclic alicyclic hydrocarbon group such as a group (* represents a bond).
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups with one or more saturated alicyclic hydrocarbon groups, and a -alkanediyl group -Saturated alicyclic hydrocarbon group, -saturated alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, -alkanediyl group-saturated alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, and the like.

a42が有していてもよい置換基として、ハロゲン原子及び式(a−g3)で表される基から選択される少なくとも1種が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。
[式(a−g3)中、
a43は、酸素原子、カルボニル基、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す(*はRa42との結合部位を表す。)。
a45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表す。
*は結合部位を表す。]
ただし、Ra42−Xa43−Aa45において、Ra42がハロゲン原子を有しない場合は、Aa45は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表す。
Examples of the substituent that Ra42 may have include at least one selected from a halogen atom and a group represented by the formula (a-g3). Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.
[In the formula (a-g3),
X a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, * -O -CO- or * -CO-O- (* represents a binding site to Ra42 ).
A a45 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
* Represents a binding site. ]
However, in R a42 -X a43 -A a45, when R a42 has no halogen atom, A a45 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms and having at least one halogen atom.

a45における飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式の脂環式炭化水素基;並びにデカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基(*は結合手を表す。)等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、1以上のアルキル基又は1以上のアルカンジイル基と、1以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基、−脂環式炭化水素基−アルキル基、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基−アルキル基等が挙げられる。
Examples of the saturated hydrocarbon group for A a45 include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl and octadecyl. An alkyl group such as a group; a monocyclic alicyclic hydrocarbon group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group; and a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups ( * Represents a bond.) And a polycyclic alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups with one or more alicyclic hydrocarbon groups. Alicyclic hydrocarbon group, -alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, and the like.

a42は、ハロゲン原子を有していてもよい飽和炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び/又は式(a−g3)で表される基を有する飽和炭化水素基がより好ましい。
a42がハロゲン原子を有する飽和炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が1〜6のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数1〜3のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
a42が、式(a−g3)で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、式(a−g3)で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ra42の総炭素数は、15以下が好ましく、12以下がより好ましい。式(a−g3)で表される基を置換基として有する場合、その数は1個が好ましい。
R a42 is preferably a saturated hydrocarbon group optionally having a halogen atom, more preferably an alkyl group having a halogen atom and / or a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3).
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, and further preferably a carbon number of 1 to 1. And is particularly preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the perfluoroalkyl group include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a perfluoroheptyl group, and a perfluorooctyl group. Examples of the perfluorocycloalkyl group include a perfluorocyclohexyl group.
When Ra42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3), the total carbon number of Ra42 including the number of carbon atoms contained in the group represented by the formula (a-g3) The number is preferably 15 or less, more preferably 12 or less. When it has a group represented by the formula (a-g3) as a substituent, the number is preferably one.

a42が式(a−g3)で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、Ra42は、さらに好ましくは式(a−g2)で表される基である。
[式(a−g2)中、
a46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表す。
a44は、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す(*はAa46との結合部位を表す。)。
a47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表す。
ただし、Aa46、Aa47及びXa44の炭素数の合計は18以下であり、Aa46及びAa47のうち、少なくとも一方は、少なくとも1つのハロゲン原子を有する。
*はカルボニル基との結合部位を表す。]
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3), R a42 is more preferably a group represented by the formula (a-g2).
[In the formula (a-g2),
A a46 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
X a44 represents * -O -CO- or * -CO-O- (* represents a binding site to A a46 ).
A a47 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
However, the total number of carbon atoms of A a46 , A a47 and X a44 is 18 or less, and at least one of A a46 and A a47 has at least one halogen atom.
* Represents a bonding site with a carbonyl group. ]

a46の飽和炭化水素基の炭素数は1〜6が好ましく、1〜3がより好ましい。
a47の飽和炭化水素基の炭素数は4〜15が好ましく、5〜12がより好ましく、Aa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。
The carbon number of the saturated hydrocarbon group for A a46 is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3.
The carbon number of the saturated hydrocarbon group of A a47 is preferably 4 to 15, more preferably 5 to 12, and A a47 is more preferably a cyclohexyl group or an adamantyl group.

式(a−g2)で表される基の好ましい構造は、以下の構造である(*はカルボニル基との結合部位である)。
The preferred structure of the group represented by the formula (a-g2) is the following structure (* is a bonding site with a carbonyl group).

a41におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、1−メチルブタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
a41の表すアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
a41は、好ましくは炭素数1〜4のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数2〜4のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。
Examples of the alkanediyl group in A a41 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, and a hexane-1,6-diyl group. Linear alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, Examples include a branched alkanediyl group such as a 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Examples of the substituent in the alkanediyl group represented by A a41 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
A a41 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and still more preferably an ethylene group.

式(a−g1)で表される基におけるAa42、Aa43及びAa44の表す2価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環又は多環の2価の脂環式飽和炭化水素基、並びに、アルカンジイル基及び2価の脂環式飽和炭化水素基を組合せることにより形成される基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、1−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基等が挙げられる。
a42、Aa43及びAa44の表す2価の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
sは、0であることが好ましい。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by A a42 , A a43 and A a44 in the group represented by the formula (a-g1) include a linear or branched alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent Examples thereof include an alicyclic saturated hydrocarbon group, and a group formed by combining an alkanediyl group and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. Specifically, a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a 1-methylpropane-1,3-diyl group, Examples thereof include a 2-methylpropane-1,3-diyl group and a 2-methylpropane-1,2-diyl group.
Examples of the substituent of the divalent saturated hydrocarbon group represented by A a42 , A a43 and A a44 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
s is preferably 0.

式(a−g1)で表される基において、Xa42が−O−、−CO−、−CO−O−又は−O−CO−である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、*及び**はそれぞれ結合部位を表わし、**が−O−CO−Ra42との結合部位である。
In the group represented by the formula (a-g1), examples of the group in which X a42 is —O—, —CO— , —CO —O—, or —O—CO— include the following groups. In the following examples, * and ** each represent a binding site, and ** is a binding site to -O-CO- Ra42 .

式(a4−1)で表される構造単位としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の式(a4−1)で表される構造単位におけるRa41に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
As the structural unit represented by the formula (a4-1), a methyl group corresponding to R a41 in the following structural unit and a structural unit represented by the formula (a4-1) in the following structural unit is a hydrogen atom. Replaced structural units.

式(a4−1)で表される構造単位としては、式(a4−2)で表される構造単位及び式(a4−3)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a4−2)中、
f5は、水素原子又はメチル基を表す。
44は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
f6は、炭素数1〜20のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、L44及びRf6の合計炭素数の上限は21である。]
Examples of the structural unit represented by the formula (a4-1) include a structural unit represented by the formula (a4-2) and a structural unit represented by the formula (a4-3).
[In the formula (a4-2),
R f5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 44 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, -CH 2 contained in the alkanediyl group - may be replaced by -O- or -CO-.
R f6 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and a fluorine atom.
However, the upper limit of the total number of carbon atoms of L 44 and R f6 are 21. ]

44の炭素数1〜6のアルカンジイル基は、Aa41で例示したものと同様の基が挙げられる。
f6の飽和炭化水素基は、R42で例示したものと同様の基が挙げられる。
44におけるアルカンジイル基としては、炭素数2〜4のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
Alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms L 44 include the same groups as those exemplified in A a41.
As the saturated hydrocarbon group for R f6 , the same groups as those exemplified for R 42 can be mentioned.
The alkanediyl group in L 44, preferably alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and more preferably an ethylene group.

式(a4−2)で表される構造単位としては、例えば、式(a4−1−1)〜式(a4−1−11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4−2)におけるRf5に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4−2)で表される構造単位として挙げられる。 Examples of the structural unit represented by Formula (a4-2) include structural units represented by Formulas (a4-1-1) to (a4-1-11). A structural unit in which the methyl group corresponding to R f5 in the structural unit (a4-2) is replaced with a hydrogen atom is also exemplified as the structural unit represented by the formula (a4-2).

[式(a4−3)中、
f7は、水素原子又はメチル基を表す。
5は、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
f13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表す。
f12は、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す(*はAf13との結合部位を表す。)。
f14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表す。
但し、Af13及びAf14の少なくとも1つは、フッ素原子を有し、L5、Af13及びAf14の合計炭素数の上限は20である。]
[In the formula (a4-3),
R f7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 5 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
A f13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a fluorine atom.
X f12 represents * -O-CO- or * -CO-O- (* represents a binding site to A f13 ).
A f14 represents a C 1 to C 17 saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom.
However, at least one of A f13 and A f14 has a fluorine atom, and the upper limit of the total carbon number of L 5 , A f13 and A f14 is 20. ]

5におけるアルカンジイル基としては、Aa41のアルカンジイル基で例示したものと同様の基が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group for L 5 include the same groups as those exemplified for the alkanediyl group for A a41 .

f13におけるフッ素原子を有していてもよい2価の飽和炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子を有していてもよい2価の鎖式飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい2価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイル基である。
フッ素原子を有していてもよい2価の鎖式飽和炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基;ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。
As the divalent saturated hydrocarbon group optionally having a fluorine atom for A f13 , preferably a divalent chain-type saturated hydrocarbon group optionally having a fluorine atom or having a fluorine atom A divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and more preferably a perfluoroalkanediyl group.
Examples of the divalent chain-type saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom include alkanediyl groups such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanediyl group and a pentanediyl group; a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group, And perfluoroalkanediyl groups such as perfluoropropanediyl group, perfluorobutanediyl group and perfluoropentanediyl group.
The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic group include a cyclohexanediyl group and a perfluorocyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic group include an adamantanediyl group, a norbornanediyl group, a perfluoroadamantanediyl group, and the like.

f14の飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい飽和炭化水素基は、Ra42で例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペルフルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチルメチル基等が好ましい。 Or saturated hydrocarbon group which may have a saturated hydrocarbon group and a fluorine atom of A f14 include the same groups as those exemplified with R a42. Among them, trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, Fluorination of 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, heptyl group, perfluoroheptyl group, octyl group, perfluorooctyl group, etc. Alkyl group, cyclopropylmethyl group, cyclopropyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, Fluorocyclohexyl group, adamantyl group, adamantylmethyl group, adamantyl dimethyl group, norbornyl group, norbornylmethyl group, perfluoro adamantyl group, a perfluoroalkyl adamantylmethyl group and the like are preferable.

式(a4−3)において、L5は、エチレン基が好ましい。
f13の2価の飽和炭化水素基は、2価の炭素数1〜6の鎖式飽和炭化水素基及び2価の炭素数3〜12の脂環式飽和炭化水素基を含む基が好ましく、2価の炭素数2〜3の鎖式飽和炭化水素基がさらに好ましい。
f14の飽和炭化水素基は、炭素数3〜12の鎖式飽和炭化水素基及び炭素数3〜12の脂環式飽和炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数3〜10の鎖式飽和炭化水素基及び炭素数3〜10の脂環式飽和炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Af14は、好ましくは炭素数3〜12の脂環式飽和炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、シクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。
In the formula (a4-3), L 5 is preferably an ethylene group.
The divalent saturated hydrocarbon group of A f13 is preferably a group containing a divalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, Divalent chain saturated hydrocarbon groups having 2 to 3 carbon atoms are more preferred.
The saturated hydrocarbon group of A f14 is preferably a group containing a chain saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and a group containing an alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and is preferably a chain saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. A group containing a hydrocarbon group and an alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms is more preferable. Among them, A f14 is preferably a group containing an alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group, and an adamantyl group. .

式(a4−3)で表される構造単位としては、例えば、式(a4−1’−1)〜式(a4−1’−11)でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位(a4−3)におけるRf7に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式(a4−3)で表される構造単位として挙げられる。 Examples of the structural unit represented by the formula (a4-3) include structural units represented by the formulas (a4-1′-1) to (a4-1′-11). A structural unit in which the methyl group corresponding to R f7 in the structural unit (a4-3) is replaced with a hydrogen atom is also exemplified as the structural unit represented by the formula (a4-3).

構造単位(a4)としては、式(a4−4)で表される構造単位も挙げられる。
[式(a4−4)中、
f21は、水素原子又はメチル基を表す。
f21は、−(CH2j1−、−(CH2j2−O−(CH2j3−又は−(CH2j4−CO−O−(CH2j5−を表す。
j1〜j5は、それぞれ独立に、1〜6のいずれかの整数を表す。
f22は、フッ素原子を有する炭素数1〜10の飽和炭化水素基を表す。]
Examples of the structural unit (a4) also include a structural unit represented by Formula (a4-4).
[In the formula (a4-4),
R f21 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f21 is, - (CH 2) j1 - , - (CH 2) j2 -O- (CH 2) j3 - or - (CH 2) j4 -CO- O- (CH 2) j5 - represents a.
j1 to j5 each independently represent an integer of any of 1 to 6.
R f22 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having a fluorine atom. ]

f22の飽和炭化水素基は、Ra42で表される飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。Rf22は、フッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数1〜10の脂環式飽和炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数1〜6のアルキル基がさらに好ましい。 As the saturated hydrocarbon group for R f22 , the same as the saturated hydrocarbon group for R a42 can be mentioned. R f22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom or an alicyclic saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom is preferable. More preferably, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a fluorine atom is further preferable.

式(a4−4)においては、Af21としては、−(CH2j1−が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 In formula (A4-4), as the A f21, - (CH 2) j1 - , more preferably an ethylene group or a methylene group, more preferably a methylene group.

式(a4−4)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び以下の式で表される構造単位において、構造単位(a4−4)におけるRf21に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (a4-4) include a structural unit represented by the following formula and a methyl group corresponding to R f21 in the structural unit (a4-4): Structural units replaced by atoms are included.

樹脂(A)が、構造単位(a4)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1〜20モル%が好ましく、2〜15モル%がより好ましく、3〜10モル%がさらに好ましい。   When the resin (A) has the structural unit (a4), its content is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 2 to 15 mol%, and more preferably 3 to 15 mol%, based on all structural units of the resin (A). -10 mol% is more preferred.

〈構造単位(a5)〉
構造単位(a5)が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位(a5)は、脂環式炭化水素基を有する基が好ましい。
構造単位(a5)としては、例えば、式(a5−1)で表される構造単位が挙げられる。
[式(a5−1)中、
51は、水素原子又はメチル基を表す。
52は、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
55は、単結合又は炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。]
<Structural unit (a5)>
Examples of the non-eliminated hydrocarbon group contained in the structural unit (a5) include groups having a linear, branched, or cyclic hydrocarbon group. Among them, the structural unit (a5) is preferably a group having an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the structural unit (a5) include a structural unit represented by the formula (a5-1).
[In the formula (a5-1),
R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 52 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. .
L 55 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. . ]

52における脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び2−エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、3−メチルアダマンチル基などが挙げられる。
52は、好ましくは、無置換の炭素数3〜18の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。
The alicyclic hydrocarbon group for R 52 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include an adamantyl group and a norbornyl group.
Aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms include, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl and octyl. An alkyl group such as -ethylhexyl group.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a substituent include a 3-methyladamantyl group.
R 52 is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, more preferably an adamantyl group, a norbornyl group or a cyclohexyl group.

55における2価の飽和炭化水素基としては、2価の鎖式飽和炭化水素基及び2価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは2価の鎖式飽和炭化水素基である。
2価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
2価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の2価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L 55 include a divalent chain saturated hydrocarbon group and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and preferably a divalent chain saturated hydrocarbon group. .
Examples of the divalent chain saturated hydrocarbon group include alkanediyl groups such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanediyl group, and a pentanediyl group.
The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include a cycloalkanediyl group such as a cyclopentanediyl group and a cyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include an adamantanediyl group and a norbornanediyl group.

55の表す2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−が、−O−又は−CO−で置き換わった基としては、例えば、式(L1−1)〜式(L1−4)で表される基が挙げられる。下記式中、*及び**は各々結合手を表し、*は酸素原子との結合部位を表す。
式(L1−1)中、
x1は、*−O−CO−又は*−CO−O−を表す(*はLX1との結合部位を表す。)。
x1は、炭素数1〜16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x2は、単結合又は炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx1及びLx2の合計炭素数は、16以下である。
式(L1−2)中、
x3は、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x4は、単結合又は炭素数1〜16の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx3及びLx4の合計炭素数は、17以下である。
式(L1−3)中、
x5は、炭素数1〜15の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x6及びLx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜14の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx5、Lx6及びLx7の合計炭素数は、15以下である。
式(L1−4)中、
x8及びLx9は、単結合又は炭素数1〜12の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
x1は、炭素数3〜15の2価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Lx8、Lx9及びWx1の合計炭素数は、15以下である。
x1は、好ましくは、炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x2は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合である。
x3は、好ましくは、炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x4は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x5は、好ましくは、炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x6は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
x7は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基である。
x8は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
x9は、好ましくは、単結合又は炭素数1〜8の2価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
x1は、好ましくは、炭素数3〜10の2価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。
-CH 2 contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L 55 - is, the group replaced by -O- or -CO-, for example, by the formula (L1-1) ~ formula (L1-4) The groups represented are mentioned. In the following formulas, * and ** each represent a bond, and * represents a bonding site with an oxygen atom.
In the formula (L1-1),
X x1 represents * -O-CO- or * -CO-O- (* represents a binding site to L X1 ).
L x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
L x2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x1 and L x2 is 16 or less.
In the formula (L1-2),
L x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms.
L x4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x3 and L x4 is 17 or less.
In the formula (L1-3),
L x5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
L x6 and L x7 each independently represent a single bond or a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x5 , L x6 and L x7 is 15 or less.
In the formula (L1-4),
L x8 and L x9 each represent a single bond or a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
W x1 represents a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x8 , L x9 and W x1 is 15 or less.
L x1 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x2 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a single bond.
L x3 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lx4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x5 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
Lx6 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x8 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
L x9 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
W x1 is preferably a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantanediyl group.

式(L1−1)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-1) include the following divalent groups.

式(L1−2)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-2) include the following divalent groups.

式(L1−3)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-3) include the following divalent groups.

式(L1−4)で表される基としては、例えば、以下に示す2価の基が挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (L1-4) include the following divalent groups.

55は、好ましくは、単結合又は式(L1−1)で表される基である。 L 55 is preferably a single bond or a group represented by the formula (L1-1).

構造単位(a5−1)としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位(a5−1)におけるR51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
樹脂(A)が、構造単位(a5)を有する場合、その含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、1〜30モル%が好ましく、2〜20モル%がより好ましく、3〜15モル%がさらに好ましい。
The structural unit (a5-1), a methyl group corresponding to R 51 may be mentioned a structural unit replacing a hydrogen atom in the structural units in the structural units and the following structural units shown below (a5-1).
When the resin (A) has the structural unit (a5), its content is preferably from 1 to 30 mol%, more preferably from 2 to 20 mol%, based on all the structural units of the resin (A). ~ 15 mol% is more preferred.

<構造単位(II)>
樹脂(A)は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位(以下、「構造単位(II)という場合がある)を含有していてもよい。構造単位(II)としては、具体的には特開2016−79235号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。
<Structural unit (II)>
The resin (A) may further contain a structural unit capable of decomposing upon exposure to light to generate an acid (hereinafter, may be referred to as “structural unit (II)”). Specific examples include a structural unit described in JP-A-2006-79235, a structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group and an organic cation in a side chain or a structural unit having a sulfonio group and an organic anion in a side chain. It is preferred that

側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位は、式(II−2−A’)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−2−A’)中、
III3は、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
X1は、炭素数1〜8のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
RAは、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
III3は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
ZAは、有機カチオンを表す。]
The structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group in the side chain and an organic cation is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A ′).
[In the formula (II-2-A ′),
X III3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2- contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by -O-, -S- or -CO-. The hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom or a hydroxy group.
A X1 represents an alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
RA - represents a sulfonate or carboxylate groups.
R III3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
ZA + represents an organic cation. ]

III3で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
III3で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基と同じものが挙げられる。
x1で表される炭素数1〜8のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、エタン−1,1−ジイル基、プロパン−1,1−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−2,2−ジイル基、ペンタン−2,4−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等が挙げられる。
X1に置換されていてもよい炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec-ブチル基、ペルフルオロtert-ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
III3で表される炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の2価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これらの組み合わせであってもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基、ノナン−1,9−ジイル基、デカン−1,10−ジイル基、ウンデカン−1,11−ジイル基、ドデカン−1,12−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基;ブタン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,3−ジイル基、2−メチルプロパン−1,2−ジイル基、ペンタン−1,4−ジイル基、2−メチルブタン−1,4−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基;シクロブタン−1,3−ジイル基、シクロペンタン−1,3−ジイル基、シクロヘキサン−1,4−ジイル基、シクロオクタン−1,5−ジイル基等のシクロアルカンジイル基;ノルボルナン−1,4−ジイル基、ノルボルナン−2,5−ジイル基、アダマンタン−1,5−ジイル基、アダマンタン−2,6−ジイル基等の2価の多環式脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
飽和炭化水素基に含まれる−CH−が、−O−、−S−又は−CO−で置き換わったものとしては、例えば式(X1)〜式(X53)で表される2価の基が挙げられる。ただし、飽和炭化水素基に含まれる−CH−が、−O−、−S−又は−CO−で置き換わる前の炭素数はそれぞれ17以下である。下記式において、*及び**は結合部位を表し、*はAx1との結合部位を表す。
Examples of the halogen atom represented by R III3 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R III3, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 The same is mentioned.
Examples of the alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by A x1 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and a pentane-1,5-diyl group. Hexane-1,6-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2, 4-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group and the like. No.
Examples of the perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted by A X1 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, and a perfluorotert-butyl group. -Butyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group and the like.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by XIII3 include a linear or branched alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. It may be a combination of these.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1 , 6-Diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group Linear alkanediyl groups such as, dodecane-1,12-diyl group; butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group Alkanediyl groups such as pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group; cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1 , 4-diyl group, Cycloalkanediyl groups such as looctane-1,5-diyl group; norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, adamantane-2,6-diyl group And other divalent polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups.
Examples of the case where —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by —O—, —S— or —CO— include divalent groups represented by Formulas (X1) to (X53). No. However, -CH 2 contained in a saturated hydrocarbon group - is, -O -, - number of carbon atoms before replacing with S- or -CO- is respectively 17 or less. In the following formulas, * and ** represent the binding site, and * represents a binding site with A x1.

3は、炭素数1〜16の2価の飽和炭化水素基を表す。
4は、炭素数1〜15の2価の飽和炭化水素基を表す。
5は、炭素数1〜13の2価の飽和炭化水素基を表す。
6は、炭素数1〜14の2価の飽和炭化水素基を表す。
7は、炭素数1〜14の3価の飽和炭化水素基を表す。
8は、炭素数1〜13の2価の飽和炭化水素基を表す。
X 3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
X 4 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
X 5 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.
X 6 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X 7 represents a trivalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X 8 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.

ZA+で表される有機カチオンは、塩(I)における有機カチオンZと同様のものが挙げられる。 Examples of the organic cation represented by ZA + include those similar to the organic cation Z + in the salt (I).

式(II−2−A’)で表される構造単位は、式(II−2−A)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−2−A)中、RIII3、XIII3及びZAは、上記と同じ意味を表す。
z2Aは、0〜6のいずれかの整数を表す。
III2及びRIII4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、zが2以上のとき、複数のRIII2及びRIII4は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
及びQは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。]
III2、RIII4、Q及びQで表される炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基としては、後述のQb1で表される炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基と同じものが挙げられる。
The structural unit represented by the formula (II-2-A ′) is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A).
[In the formula (II-2-A), R III3 , X III3 and ZA + represent the same meaning as described above.
z2A represents any integer of 0 to 6.
R III2 and R III4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group, and when z is 2 or more, a plurality of R III2 and R III4 are the same as each other; Or different.
Q a and Q b are each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]
Examples of the C 1-6 perfluoroalkyl group represented by R III2 , R III4 , Q a and Q b include the same as the C 1-6 perfluoroalkyl group represented by Q b1 described below. .

式(II−2−A)で表される構造単位は、式(II−2−A−1)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−2−A−1)中、
III2、RIII3、RIII4、Qa、Qb及びZAは、上記と同じ意味を表す。
III5は、炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。
z2A1は、0〜6のいずれかの整数を表す。
I2は、炭素数1〜11の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S−又は−CO−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。]
III5で表される炭素数1〜12の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
I2で表される2価の飽和炭化水素基としては、XIII3で表される2価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。
The structural unit represented by the formula (II-2-A) is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A-1).
[In the formula (II-2-A-1),
R III2 , R III3 , R III4 , Q a , Q b and ZA + represent the same meaning as described above.
R III5 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
z2A1 represents an integer of any of 0 to 6.
X I2 represents a divalent saturated hydrocarbon group of 1 to 11 carbon atoms, -CH 2 contained in the saturated hydrocarbon group - is -O -, - it is replaced in S- or -CO- The hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom or a hydroxy group. ]
Examples of the saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms represented by R III5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, Examples thereof include a linear or branched alkyl group such as a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group and a dodecyl group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by X I2 include the same as the divalent saturated hydrocarbon group represented by X III3 .

式(II−2−A−1)で表される構造単位としては、式(II−2−A−2)で表される構造単位がさらに好ましい。
[式(II−2−A−2)中、RIII3、RIII5及びZAは、上記と同じ意味を表す。
m及びnは、それぞれ独立に、1又は2を表す。]
As the structural unit represented by the formula (II-2-A-1), a structural unit represented by the formula (II-2-A-2) is more preferable.
[In formula (II-2-A-2), R III3 , R III5 and ZA + represent the same meaning as described above.
m and n each independently represent 1 or 2. ]

式(II−2−A’)で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び国際公開第2012/050015号記載の構造単位が挙げられる。ZAは、有機カチオンを表す。
Examples of the structural unit represented by the formula (II-2-A ′) include the following structural units and the structural units described in WO2012 / 050015. ZA + represents an organic cation.

側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位は、式(II−1−1)で表される構造単位であることが好ましい。
[式(II−1−1)中、
II1は、単結合又は2価の連結基を表す。
II1は、炭素数6〜18の2価の芳香族炭化水素基を表す。
II2及びRII3は、それぞれ独立して、炭素数1〜18の炭化水素基を表し、RII2及びRII3は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成していてもよい。
II4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
は、有機アニオンを表す。]
II1で表される炭素数6〜18の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
II2及びRII3で表される炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。具体的には、Ra1’、Ra2’及びRa3’における炭化水素基と同じものが挙げられる。
II4で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
II4で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、Ra8で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基と同じものが挙げられる。
II1で表される2価の連結基としては、例えば、炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基が挙げられ、該2価の飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−O−、−S−又は−CO−で置き換わっていてもよい。具体的には、XIII3で表される炭素数1〜18の2価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
The structural unit having a sulfonio group and an organic anion in the side chain is preferably a structural unit represented by the formula (II-1-1).
[In the formula (II-1-1),
A II1 represents a single bond or a divalent linking group.
R II1 represents a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R II2 and R II3 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and R II2 and R II3 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded.
R II4 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
A - represents an organic anion. ]
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms represented by R II1 include a phenylene group and a naphthylene group.
Examples of the hydrocarbon group represented by R II2 and R II3 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these. Specific examples include the same hydrocarbon groups as R a1 ′ , R a2 ′ and R a3 ′ .
Examples of the halogen atom represented by R II4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R II4 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 The same is mentioned.
Examples of the divalent linking group represented by A II1 include a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2- contained in the divalent saturated hydrocarbon group is It may be replaced by -O-, -S- or -CO-. Specific examples include the same divalent saturated hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms represented by XIII3 .

式(II−1−1)中のカチオンを含む構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。
Examples of the structural unit containing a cation in the formula (II-1-1) include the following structural units.

で表される有機アニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。Aで表される有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、前述する酸発生剤(B1)に含まれるアニオンと同様のものが挙げられる。 Examples of the organic anion represented by A include a sulfonate anion, a sulfonylimide anion, a sulfonylmethide anion, and a carboxylate anion. The organic anion represented by A is preferably a sulfonic acid anion, and examples of the sulfonic acid anion include the same anions as those contained in the above-described acid generator (B1).

で表されるスルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of the sulfonylimide anion represented by A include the following.

スルホニルメチドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of the sulfonylmethide anion include the following.

カルボン酸アニオンとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of the carboxylate anion include the following.

式(II−1−1)で表される構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (II-1-1) include the following structural units.

樹脂(A)中に、構造単位(II)を含有する場合の構造単位(II)の含有率は、樹脂(A)の全構造単位に対して、好ましくは1〜20モル%であり、より好ましくは2〜15モル%であり、さらに好ましくは3〜10モル%である。   When the structural unit (II) is contained in the resin (A), the content of the structural unit (II) is preferably from 1 to 20 mol% based on all structural units of the resin (A). Preferably it is 2 to 15 mol%, more preferably 3 to 10 mol%.

樹脂(A)は、上述の構造単位以外の構造単位を有していてもよく、このような構造単位としては、当技術分野で周知の構造単位が挙げられる。   The resin (A) may have a structural unit other than the structural units described above, and examples of such a structural unit include structural units known in the art.

樹脂(A)は、好ましくは、構造単位(a1)と構造単位(s)とからなる樹脂である。
構造単位(a1)は、好ましくは構造単位(a1−0)、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)(好ましくはシクロヘキシル基、及びシクロペンチル基を有する該構造単位)からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは少なくとも二種であり、さらに好ましくは、構造単位(a1−1)及び構造単位(a1−2)からなる群から選ばれる少なくとも二種である。
構造単位(s)は、好ましくは構造単位(a2)及び構造単位(a3)からなる群から選ばれる少なくとも一種である。構造単位(a2)は、好ましくは構造単位(a2−1)又は構造単位(a2−A)である。構造単位(a3)は、好ましくは式(a3−1)で表される構造単位、式(a3−2)で表される構造単位及び式(a3−4)で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。
The resin (A) is preferably a resin composed of a structural unit (a1) and a structural unit (s).
The structural unit (a1) is preferably a group consisting of the structural unit (a1-0), the structural unit (a1-1), and the structural unit (a1-2) (preferably, the structural unit having a cyclohexyl group and a cyclopentyl group). And more preferably at least two, and further preferably at least two selected from the group consisting of the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2).
The structural unit (s) is preferably at least one selected from the group consisting of the structural unit (a2) and the structural unit (a3). The structural unit (a2) is preferably a structural unit (a2-1) or a structural unit (a2-A). The structural unit (a3) is preferably a group consisting of a structural unit represented by the formula (a3-1), a structural unit represented by the formula (a3-2), and a structural unit represented by the formula (a3-4). At least one selected from

樹脂(A)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組み合わせて用いてもよく、これら構造単位を導くモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(A)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(A)の重量平均分子量は、好ましくは、2,000以上(より好ましくは2,500以上、さらに好ましくは3,000以上)、50,000以下(より好ましくは30,000以下、さらに好ましくは15,000以下)である。本明細書では、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで実施例に記載の条件により求めた値である。
Each of the structural units constituting the resin (A) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, a radical polymerization method) using a monomer that leads to these structural units. be able to. The content of each structural unit of the resin (A) can be adjusted by the amount of the monomer used for polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, and still more preferably 3,000 or more), 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, and still more preferably). Is 15,000 or less). In the present specification, the weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography under the conditions described in Examples.

<樹脂(A)以外の樹脂>
本発明のレジスト組成物は、樹脂(A)以外の樹脂を併用してもよい。
樹脂(A)以外の樹脂としては、例えば、構造単位(a4)又は構造単位(a5)を含有する樹脂(以下、樹脂(X)という場合がある)等が挙げられる。
樹脂(X)としては、なかでも、構造単位(a4)を含む樹脂が好ましい。
樹脂(X)において、構造単位(a4)の含有率は、樹脂(X)の全構造単位の合計に対して、30モル%以上であることが好ましく、40モル%以上であることがより好ましく、45モル%以上であることがさらに好ましい。
樹脂(X)がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位(a2)、構造単位(a3)及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、樹脂(X)は、構造単位(a4)及び/又は構造単位(a5)のみからなる樹脂であることが好ましく、構造単位(a4)のみからなる樹脂であることがより好ましい。
樹脂(X)を構成する各構造単位は、1種のみ又は2種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法(例えばラジカル重合法)によって製造することができる。樹脂(X)が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂(X)の重量平均分子量は、それぞれ独立して、好ましくは6,000以上(より好ましくは7,000以上)、80,000以下(より好ましくは60,000以下)である。樹脂(X)の重量平均分子量の測定手段は、樹脂(A)の場合と同様である。
レジスト組成物が樹脂(X)を含む場合、その含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは1〜60質量部であり、より好ましくは1〜50質量部であり、さらに好ましくは1〜40質量部であり、特に好ましくは1〜30質量部であり、特に好ましくは1〜8質量部である。
<Resins other than resin (A)>
The resist composition of the present invention may use a resin other than the resin (A) in combination.
Examples of the resin other than the resin (A) include a resin containing a structural unit (a4) or a structural unit (a5) (hereinafter, sometimes referred to as a resin (X)).
As the resin (X), a resin containing the structural unit (a4) is preferable.
In the resin (X), the content of the structural unit (a4) is preferably at least 30 mol%, more preferably at least 40 mol%, based on the total of all the structural units of the resin (X). , 45 mol% or more.
Examples of the structural unit that the resin (X) may further have include a structural unit (a2), a structural unit (a3), and a structural unit derived from other known monomers. Among them, the resin (X) is preferably a resin composed of only the structural unit (a4) and / or the structural unit (a5), and more preferably a resin composed of only the structural unit (a4).
Each of the structural units constituting the resin (X) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, a radical polymerization method) using a monomer for deriving these structural units. can do. The content of each structural unit of the resin (X) can be adjusted by the amount of the monomer used for polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (X) is independently preferably 6,000 or more (more preferably 7,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less). The means for measuring the weight average molecular weight of the resin (X) is the same as that for the resin (A).
When the resist composition contains the resin (X), the content is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin (A). It is preferably 1 to 40 parts by mass, particularly preferably 1 to 30 parts by mass, particularly preferably 1 to 8 parts by mass.

レジスト組成物における樹脂(A)の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90質量%以上99質量%以下がより好ましい。また、樹脂(A)以外の樹脂を含む場合は、樹脂(A)と樹脂(A)以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、80質量%以上99質量%以下であることが好ましく、90質量%以上99質量%以下がより好ましい。本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤(E)を除いた成分の合計を意味する。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。   The content of the resin (A) in the resist composition is preferably from 80% by mass to 99% by mass, more preferably from 90% by mass to 99% by mass, based on the solid content of the resist composition. When a resin other than the resin (A) is contained, the total content of the resin (A) and the resin other than the resin (A) is from 80% by mass to 99% by mass based on the solid content of the resist composition. Or less, and more preferably 90% by mass or more and 99% by mass or less. In the present specification, the “solid content of the resist composition” means the sum of components excluding a solvent (E) described later from the total amount of the resist composition. The solid content of the resist composition and the content of the resin with respect to the solid content can be measured by known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.

<溶剤(E)>
溶剤(E)の含有率は、レジスト組成物中、通常90質量%以上99.9質量%以下であり、好ましくは92質量%以上99質量%以下であり、より好ましくは94質量%以上99質量%以下である。溶剤(E)の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤(E)としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン等の環状エステル類;等を挙げることができる。溶剤(E)の1種を単独で使用してもよく、2種以上を使用してもよい。
<Solvent (E)>
The content of the solvent (E) in the resist composition is usually from 90% by mass to 99.9% by mass, preferably from 92% by mass to 99% by mass, more preferably from 94% by mass to 99% by mass. % Or less. The content of the solvent (E) can be measured by a known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.
Examples of the solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate and ethyl pyruvate; Esters; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone; One kind of the solvent (E) may be used alone, or two or more kinds may be used.

<クエンチャー(C)>
クエンチャー(C)としては、塩基性の含窒素有機化合物、及び酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩が挙げられる。クエンチャー(C)の含有量は、レジスト組成物の固形分量を基準に、0.01〜5質量%程度であることが好ましい。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
アミンとしては、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、2−,3−又は4−メチルアニリン、4−ニトロアニリン、N−メチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔2−(2−メトキシエトキシ)エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチルジフェニルメタン、2,2’−メチレンビスアニリン、イミダゾール、4−メチルイミダゾール、ピリジン、4−メチルピリジン、1,2−ジ(2−ピリジル)エタン、1,2−ジ(4−ピリジル)エタン、1,2−ジ(2−ピリジル)エテン、1,2−ジ(4−ピリジル)エテン、1,3−ジ(4−ピリジル)プロパン、1,2−ジ(4−ピリジルオキシ)エタン、ジ(2−ピリジル)ケトン、4,4’−ジピリジルスルフィド、4,4’−ジピリジルジスルフィド、2,2’−ジピリジルアミン、2,2’−ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリン等の芳香族アミンが挙げられ、より好ましくは2,6−ジイソプロピルアニリンが挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、3−(トリフルオロメチル)フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−n−ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。
<Quencher (C)>
Examples of the quencher (C) include a basic nitrogen-containing organic compound and a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B). The content of the quencher (C) is preferably about 0.01 to 5% by mass based on the solid content of the resist composition.
Examples of the basic nitrogen-containing organic compound include amines and ammonium salts. Amines include aliphatic amines and aromatic amines. Aliphatic amines include primary, secondary and tertiary amines.
Examples of the amine include 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-, 3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N, N-dimethylaniline, diphenylamine, hexylamine, Heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, trihexylamine Heptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, methyldibutylamine, methyldipentylamine, methyldihexylamine, Rudicyclohexylamine, methyldiheptylamine, methyldioctylamine, methyldinonylamine, methyldidecylamine, ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, ethyldioctylamine, ethyldinonylamine, ethyl Didecylamine, dicyclohexylmethylamine, tris [2- (2-methoxyethoxy) ethyl] amine, triisopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4′-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, 2,2'-methylenebisaniline, imidazole, 4-methyli Dazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2-di (2-pyridyl) ethane, 1,2-di (4-pyridyl) ethane, 1,2-di (2-pyridyl) ethene, 1,2-di (4-pyridyl) ethene, 1,3-di (4-pyridyl) propane, 1,2-di (4-pyridyloxy) ethane, di (2-pyridyl) ketone, 4,4′-dipyridyl sulfide, 4, Examples include 4′-dipyridyl disulfide, 2,2′-dipyridylamine, 2,2′-dipicolylamine, bipyridine and the like, preferably aromatic amines such as diisopropylaniline, more preferably 2,6-diisopropyl Aniline is mentioned.
Examples of the ammonium salt include tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, and 3- (trifluoromethyl) phenyltrimethyl. Ammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate, choline and the like.

酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、酸解離定数(pKa)で示される。酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常−3<pKaの塩であり、好ましくは−1<pKa<7の塩であり、より好ましくは0<pKa<5の塩である。
酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、特開2015−147926号公報記載の式(D)で表される塩(以下、「弱酸分子内塩(D)」という場合がある。)、並びに特開2012−229206号公報、特開2012−6908号公報、特開2012−72109号公報、特開2011−39502号公報及び特開2011−191745号公報記載の塩が挙げられる。酸発生剤(B)から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩として好ましくは、弱酸分子内塩(D)である。
The acidity of a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) is represented by an acid dissociation constant (pKa). The salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) is a salt whose acid dissociation constant of the acid generated from the salt is usually −3 <pKa, preferably −1 <pKa. It is a salt with pKa <7, and more preferably a salt with 0 <pKa <5.
Examples of the salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) include a salt represented by the following formula and a salt represented by the formula (D) described in JP-A-2015-147926. (Hereinafter sometimes referred to as “weak acid inner salt (D)”), JP-A-2012-229206, JP-A-2012-6908, JP-A-2012-72109, and JP-A-2011-39502. And the salts described in JP-A-2011-191745. The salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) is preferably a weak acid inner salt (D).

弱酸分子内塩(D)としては、以下の塩が挙げられる。
Examples of the weak acid inner salt (D) include the following salts.

レジスト組成物がクエンチャー(C)を含有する場合、クエンチャー(C)の含有率は、レジスト組成物の固形分中、通常、0.01〜5質量%であり、好ましくは0.01〜3質量%である。   When the resist composition contains the quencher (C), the content of the quencher (C) is usually 0.01 to 5% by mass, preferably 0.01 to 5% by mass, based on the solid content of the resist composition. 3% by mass.

〈その他の成分〉
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分(以下「その他の成分(F)」という場合がある。)を含有していてもよい。その他の成分(F)に特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。
<Other ingredients>
The resist composition of the present invention may contain components other than the above-described components (hereinafter, sometimes referred to as “other components (F)”) as necessary. The other component (F) is not particularly limited, and additives known in the resist field, for example, a sensitizer, a dissolution inhibitor, a surfactant, a stabilizer, a dye, and the like can be used.

〈レジスト組成物の調製〉
本発明のレジスト組成物は、塩(I)及び樹脂(A)、並びに、必要に応じて、酸発生剤(B)、樹脂(A)以外の樹脂、溶剤(E)、クエンチャー(C)及びその他の成分(F)を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、10〜40℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤(E)に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、0.5〜24時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径0.003〜0.2μm程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。
<Preparation of resist composition>
The resist composition of the present invention comprises a salt (I) and a resin (A), and if necessary, an acid generator (B), a resin other than the resin (A), a solvent (E), and a quencher (C). And other components (F). The mixing order is arbitrary and is not particularly limited. An appropriate temperature can be selected from 10 to 40 ° C. depending on the type of the resin and the like and the solubility of the resin and the like in the solvent (E). An appropriate mixing time can be selected from 0.5 to 24 hours depending on the mixing temperature. The mixing means is not particularly limited, and stirring and mixing can be used.
After mixing each component, it is preferable to perform filtration using a filter having a pore size of about 0.003 to 0.2 μm.

〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
(1)本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成されていてもよい。
塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること(いわゆるプリベーク)により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、50〜200℃であることが好ましく、加熱時間は、10〜180秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、1〜1.0×105Pa程度であることが好ましい。
得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、KrFエキシマレーザ(波長248nm)、ArFエキシマレーザ(波長193nm)、F2エキシマレーザ(波長157nm)のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源(YAG又は半導体レーザ等)からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光(EUV)を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。
露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理(いわゆるポストエキスポジャーベーク)を行う。加熱温度は、通常50〜200℃程度、好ましくは70〜150℃程度である。
加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は、例えば、5〜60℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、5〜300秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。
本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや(2−ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウムヒドロキシド(通称コリン)の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液(以下「有機系現像液」という場合がある)を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、2−ヘキサノン、2−ヘプタノン等のケトン溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル溶剤;酢酸ブチル等のエステル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル溶剤;N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤;アニソール等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、90質量%以上100質量%以下が好ましく、95質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び/又は2−ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び2−ヘプタノンの合計含有率は、50質量%以上100質量%以下が好ましく、90質量%以上100質量%以下がより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び/又は2−ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。
現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。
<Resist pattern manufacturing method>
The method for producing a resist pattern according to the present invention includes:
(1) a step of applying the resist composition of the present invention on a substrate,
(2) drying the composition after application to form a composition layer;
(3) exposing the composition layer to light,
(4) a step of heating the composition layer after exposure, and (5) a step of developing the composition layer after heating.
The application of the resist composition onto the substrate can be performed by a commonly used apparatus such as a spin coater. Examples of the substrate include an inorganic substrate such as a silicon wafer. Before applying the resist composition, the substrate may be washed, or an antireflection film or the like may be formed on the substrate.
By drying the composition after application, the solvent is removed to form a composition layer. Drying is performed, for example, by evaporating the solvent using a heating device such as a hot plate (so-called prebaking), or using a decompression device. The heating temperature is preferably from 50 to 200 ° C., and the heating time is preferably from 10 to 180 seconds. The pressure at the time of drying under reduced pressure is preferably about 1 to 1.0 × 10 5 Pa.
The obtained composition layer is usually exposed using an exposure machine. The exposure machine may be an immersion exposure machine. The exposure light source, which emits laser light in a UV-region such as a KrF excimer laser (wavelength 248 nm), ArF excimer laser (wavelength 193 nm), F 2 excimer laser (wavelength 157 nm), solid-state laser source (YAG or semiconductor laser Etc.), use various types of laser light, such as one that emits harmonic laser light in the far ultraviolet or vacuum ultraviolet region by converting the wavelength of the laser light from the above, and one that irradiates an electron beam or ultra-ultraviolet light (EUV). Can be. In the present specification, irradiating these radiations may be collectively referred to as “exposure”. At the time of exposure, the exposure is usually performed through a mask corresponding to the required pattern. When the exposure light source is an electron beam, exposure may be performed by direct drawing without using a mask.
The composition layer after the exposure is subjected to a heat treatment (so-called post-exposure bake) in order to promote a deprotection reaction at the acid labile group. The heating temperature is usually about 50 to 200C, preferably about 70 to 150C.
The heated composition layer is usually developed using a developing solution using a developing device. Examples of the developing method include a dip method, a paddle method, a spray method, a dynamic dispense method, and the like. The development temperature is preferably, for example, 5 to 60 ° C., and the development time is, for example, preferably 5 to 300 seconds. By selecting the type of the developer as follows, a positive resist pattern or a negative resist pattern can be produced.
When producing a positive resist pattern from the resist composition of the present invention, an alkaline developer is used as a developer. The alkaline developer may be any of various alkaline aqueous solutions used in this field. For example, an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide or (2-hydroxyethyl) trimethylammonium hydroxide (commonly called choline) may be mentioned. The alkali developer may contain a surfactant.
After the development, it is preferable to wash the resist pattern with ultrapure water, and then remove water remaining on the substrate and the pattern.
When a negative resist pattern is produced from the resist composition of the present invention, a developer containing an organic solvent (hereinafter sometimes referred to as “organic developer”) is used as a developer.
Examples of the organic solvent contained in the organic developer include ketone solvents such as 2-hexanone and 2-heptanone; glycol ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; ester solvents such as butyl acetate; glycols such as propylene glycol monomethyl ether. Ether solvents; amide solvents such as N, N-dimethylacetamide; and aromatic hydrocarbon solvents such as anisole.
The content of the organic solvent in the organic developer is preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less, and further preferably substantially only the organic solvent.
Among them, as the organic developer, a developer containing butyl acetate and / or 2-heptanone is preferable. The total content of butyl acetate and 2-heptanone in the organic developer is preferably from 50% by mass to 100% by mass, more preferably from 90% by mass to 100% by mass, and substantially butyl acetate and / or 2% by mass. More preferably it is only heptanone.
The organic developer may contain a surfactant. Further, the organic developer may contain a trace amount of water.
At the time of development, the development may be stopped by substituting a solvent of a type different from the organic developer.
It is preferable to wash the developed resist pattern with a rinse solution. The rinsing solution is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, and is preferably an alcohol solvent or an ester solvent.
After the cleaning, it is preferable to remove the rinse liquid remaining on the substrate and the pattern.

〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、KrFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ArFエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物、特に電子線(EB)露光用のレジスト組成物又はEUV露光用のレジスト組成物として好適であり、半導体の微細加工に有用である。
<Applications>
The resist composition of the present invention includes a resist composition for KrF excimer laser exposure, a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure or a resist composition for EUV exposure, particularly It is suitable as a resist composition for line (EB) exposure or a resist composition for EUV exposure, and is useful for fine processing of semiconductors.

実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「%」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。なお、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーの分析条件は下記のとおりである。
カラム:TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn(東ソー社製)
溶離液:テトラヒドロフラン
流量:1.0mL/min
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μl
分子量標準:標準ポリスチレン(東ソー社製)
化合物の構造は、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはAgilent製LC/MSD型)を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子イオンピークの値を「MASS」で示す。
The present invention will be described more specifically with reference to examples. In the examples, "%" and "part" representing the content or the use amount are based on mass unless otherwise specified.
The weight average molecular weight is a value determined by gel permeation chromatography. The analysis conditions for gel permeation chromatography are as follows.
Column: TSKgel Multipore HXL-M x 3 + guardcolumn (Tosoh Corporation)
Eluent: tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 100 μl
Molecular weight standard: Standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation)
The structure of the compound was confirmed by measuring the molecular ion peak using mass spectrometry (LC: 1100, manufactured by Agilent, MASS: LC / MSD, manufactured by Agilent). In the following examples, the value of this molecular ion peak is indicated by “MASS”.

実施例1:式(I−1)で表される塩の合成
式(I−1−a)で表される化合物4.00部、トリエチルアミン4.08部及びジメチルホルムアミド20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−b)で表される化合物4.74部を10分かけて滴下し、その後、23℃で18時間撹拌した。得られた反応混合物に、酢酸エチル60部及びイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得らされた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(I−1−c)で表される化合物4.94部を得た。
式(I−1−d)で表される塩6.81部及びクロロホルム34.18部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物2.77部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた反応混合物に、式(I−1−c)で表される化合物4.94部を添加し、50℃で6時間撹拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を8回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮残渣に、酢酸エチル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−1)で表される塩7.43部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 475.1
Example 1 Synthesis of Salt Represented by Formula (I-1)
After mixing 4.00 parts of the compound represented by the formula (I-1-a), 4.08 parts of triethylamine and 20 parts of dimethylformamide, and stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, the compound of the formula (I-1-b) 4.74 parts of the represented compound were added dropwise over 10 minutes and then stirred at 23 ° C. for 18 hours. 60 parts of ethyl acetate and 30 parts of ion-exchanged water were added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mixture is subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 4.94 parts of a compound represented by the formula (I-1-c) was obtained.
After mixing 6.81 parts of the salt represented by the formula (I-1-d) and 34.18 parts of chloroform and stirring at 23 ° C. for 30 minutes, the compound 2 represented by the formula (I-1-e) is mixed. After adding 0.77 parts, the mixture was heated to 50 ° C. and stirred at 50 ° C. for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 4.94 parts of a compound represented by the formula (I-1-c) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 6 hours. After the obtained reaction mixture was cooled to 23 ° C., 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 25 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated eight times. The obtained organic layer was concentrated, 30 parts of ethyl acetate was added to the concentrated residue, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed and concentrated. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated. .43 parts were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 475.1

実施例2:式(I−73)で表される塩の合成
式(I−73−d)で表される塩7.09部及びクロロホルム35部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物2.77部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた反応混合物に、式(I−1−c)で表される化合物4.94部を添加し、50℃で6時間撹拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を8回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−73)で表される塩6.89部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 281.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 475.1
Example 2: Synthesis of salt represented by formula (I-73)
After mixing 7.09 parts of the salt represented by the formula (I-73-d) and 35 parts of chloroform and stirring at 23 ° C. for 30 minutes, the compound 2.77 represented by the formula (I-1-e) is mixed. Then, the mixture was heated to 50 ° C., and then stirred at 50 ° C. for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 4.94 parts of a compound represented by the formula (I-1-c) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 6 hours. After the obtained reaction mixture was cooled to 23 ° C., 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 25 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated eight times. The obtained organic layer was concentrated, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added to the concentrated residue, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed and concentrated to obtain the compound of the formula (I-73) 6.89 parts of the salt represented by are obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 281.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 475.1

実施例3:式(I−225)で表される塩の合成
式(I−225−d)で表される塩6.59部及びクロロホルム32.95部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物2.77部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた反応混合物に、式(I−1−c)で表される化合物4.94部を添加し、50℃で6時間撹拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を8回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮残渣に、酢酸エチル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−225)で表される塩7.12部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 505.1
Example 3: Synthesis of salt represented by formula (I-225)
After mixing 6.59 parts of the salt represented by the formula (I-225-d) and 32.95 parts of chloroform, stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, the compound 2 represented by the formula (I-1-e) After adding 0.77 parts, the mixture was heated to 50 ° C. and stirred at 50 ° C. for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 4.94 parts of a compound represented by the formula (I-1-c) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 6 hours. After the obtained reaction mixture was cooled to 23 ° C., 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 25 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated eight times. The obtained organic layer was concentrated, 30 parts of ethyl acetate was added to the concentrated residue, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed and concentrated. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated to obtain the salt 7 represented by the formula (I-225). .12 parts were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 505.1

実施例4:式(I−3)で表される塩の合成
式(I−1−a)で表される化合物4.00部、トリエチルアミン4.08部及びジメチルホルムアミド20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−3−b)で表される化合物5.28部を10分かけて添加し、その後、23℃で18時間撹拌した。得られた反応混合物に、酢酸エチル60部及びイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得らされた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(I−3−c)で表される化合物4.69部を得た。
式(I−1−d)で表される塩3.41部及びクロロホルム17.09部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.39部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた反応混合物に、式(I−3−c)で表される化合物2.61部を添加し、50℃で6時間撹拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を8回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮残渣に、酢酸エチル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−3)で表される塩3.33部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 493.0
Example 4: Synthesis of salt represented by formula (I-3)
After mixing 4.00 parts of the compound represented by the formula (I-1-a), 4.08 parts of triethylamine and 20 parts of dimethylformamide, and stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, the compound of the formula (I-3-b) 5.28 parts of the compound represented were added over 10 minutes and then stirred at 23 ° C. for 18 hours. 60 parts of ethyl acetate and 30 parts of ion-exchanged water were added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mixture is subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 4.69 parts of a compound represented by the formula (I-3-c) was obtained.
After mixing 3.41 parts of the salt represented by the formula (I-1-d) and 17.09 parts of chloroform, stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, the compound 1 represented by the formula (I-1-e) .39 parts were added, and the mixture was heated to 50 ° C and stirred at 50 ° C for 2 hours. 2.61 parts of a compound represented by the formula (I-3-c) was added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 50 ° C for 6 hours. After the obtained reaction mixture was cooled to 23 ° C., 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 25 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated eight times. The obtained organic layer was concentrated, 30 parts of ethyl acetate was added to the concentrated residue, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed and concentrated. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated to obtain the salt 3 represented by the formula (I-3). .33 parts were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 493.0

実施例5:式(I−5)で表される塩の合成
式(I−1−a)で表される化合物4.00部、トリエチルアミン4.08部及びジメチルホルムアミド20部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−5−b)で表される化合物5.82部を10分かけて添加し、その後、23℃で18時間撹拌した。得られた反応混合物に、酢酸エチル60部及びイオン交換水30部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得らされた有機層に、イオン交換水20部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を5回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮混合物をカラム(シリカゲル60N(球状、中性)100−210μm;関東化学(株)製、展開溶媒:n−ヘプタン/酢酸エチル=1/1)を用いて分取することにより、式(I−5−c)で表される化合物4.24部を得た。
式(I−1−d)で表される塩3.41部及びクロロホルム17.09部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.39部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた反応混合物に、式(I−5−c)で表される化合物2.75部を添加し、50℃で6時間撹拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を8回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮残渣に、酢酸エチル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−5)で表される塩3.01部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 263.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 511.0
Example 5: Synthesis of salt represented by formula (I-5)
After mixing 4.00 parts of the compound represented by the formula (I-1-a), 4.08 parts of triethylamine and 20 parts of dimethylformamide, and stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, the compound of the formula (I-5-b) 5.82 parts of the represented compound are added over 10 minutes and then stirred at 23 ° C. for 18 hours. 60 parts of ethyl acetate and 30 parts of ion-exchanged water were added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated five times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mixture is subjected to column chromatography (silica gel 60N (spherical, neutral) 100 to 210 μm; Kanto Chemical Co., Ltd., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 1/1). By fractionation, 4.24 parts of a compound represented by the formula (I-5-c) was obtained.
After mixing 3.41 parts of the salt represented by the formula (I-1-d) and 17.09 parts of chloroform, stirring the mixture at 23 ° C. for 30 minutes, the compound 1 represented by the formula (I-1-e) .39 parts were added, and the mixture was heated to 50 ° C and stirred at 50 ° C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 2.75 parts of a compound represented by the formula (I-5-c) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 6 hours. After the obtained reaction mixture was cooled to 23 ° C., 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 25 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated eight times. The obtained organic layer was concentrated, 30 parts of ethyl acetate was added to the concentrated residue, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed and concentrated. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed and concentrated, whereby the salt 3 represented by the formula (I-5) was obtained. 0.011 parts were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 511.0

実施例6:式(I−99)で表される塩の合成
式(I−99−d)で表される塩3.83部及びクロロホルム19.15部を混合し、23℃で30分間攪拌した後、式(I−1−e)で表される化合物1.39部を添加し、50℃に昇温後、50℃で2時間撹拌した。得られた反応混合物に、式(I−3−c)で表される化合物2.61部を添加し、50℃で6時間撹拌した。得られた反応混合物を23℃まで冷却した後、イオン交換水25部を加えて23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層に、イオン交換水25部を添加し、23℃で30分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を8回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮残渣に、酢酸エチル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮した。得られた濃縮残渣に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて、23℃で30分間攪拌した後、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式(I−99)で表される塩3.48部を得た。
MASS(ESI(+)Spectrum):M 317.1
MASS(ESI(−)Spectrum):M 493.0
Example 6: Synthesis of salt represented by formula (I-99)
After mixing 3.83 parts of the salt represented by the formula (I-99-d) and 19.15 parts of chloroform and stirring at 23 ° C. for 30 minutes, the compound 1 represented by the formula (I-1-e) is mixed. .39 parts were added, and the mixture was heated to 50 ° C and stirred at 50 ° C for 2 hours. 2.61 parts of a compound represented by the formula (I-3-c) was added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 50 ° C for 6 hours. After the obtained reaction mixture was cooled to 23 ° C., 25 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. 25 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then separated to take out the organic layer. This washing operation was repeated eight times. The obtained organic layer was concentrated, 30 parts of ethyl acetate was added to the concentrated residue, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed and concentrated. To the obtained concentrated residue, 30 parts of tert-butyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, the supernatant was removed, and the mixture was concentrated to obtain a salt 3 of the formula (I-99) 3 .48 parts were obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 317.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 493.0

樹脂の合成
樹脂(A)の合成に使用した化合物(モノマー)を下記に示す。以下、これらの化合物をその式番号に応じて、「モノマー(a1−1−3)」等という。
Synthesis of Resin The compounds (monomers) used in the synthesis of the resin (A) are shown below. Hereinafter, these compounds are referred to as “monomer (a1-1-3)” or the like according to the formula number.

合成例1〔樹脂A1の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)及びモノマー(a1−2−6)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6)〕が、38:24:38の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.3×10である樹脂A1(共重合体)を収率78%で得た。この樹脂A1は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 1 [Synthesis of Resin A1]
A monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3) and a monomer (a1-2-6) are used as monomers, and the molar ratio thereof is [monomer (a1-4-2): monomer (a1-1)]. -3): Monomer (a1-2-6)] is mixed at a ratio of 38:24:38, and this monomer mixture is further mixed with 1.5 times by mass with respect to the total mass of all monomers. Of methyl isobutyl ketone was mixed. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and collected, whereby a resin A1 (copolymer) having a weight average molecular weight of about 5.3 × 10 3 was obtained in a yield of 78. %. This resin A1 has the following structural units.

合成例2〔樹脂A2の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)、モノマー(a1−1−3)及びモノマー(a1−2−6)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−1−3):モノマー(a1−2−6)〕が、49:21:30の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.8×10である樹脂A2(共重合体)を収率84%で得た。この樹脂A2は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 2 [Synthesis of Resin A2]
A monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3) and a monomer (a1-2-6) are used as monomers, and the molar ratio thereof is [monomer (a1-4-2): monomer (a1-1)]. -3): Monomer (a1-2-6)] is mixed at a ratio of 49:21:30, and this monomer mixture is further mixed with 1.5 times by mass with respect to the total mass of all monomers. Of methyl isobutyl ketone was mixed. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, and the resin was filtered and collected, whereby a resin A2 (copolymer) having a weight average molecular weight of about 5.8 × 10 3 was obtained in a yield of 84. %. This resin A2 has the following structural units.

合成例3〔樹脂A3の合成〕
モノマーとして、モノマー(a1−4−2)及びモノマー(a1−2−6)を用い、そのモル比〔モノマー(a1−4−2):モノマー(a1−2−6)〕が、49:51の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマーの合計モル数に対して、7mol%となるように添加し、これを85℃で約5時間加熱することで重合を行った。その後、重合反応液に、p−トルエンスルホン酸水溶液を加え、6時間攪拌した後、分液した。得られた有機層を、大量のn−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約5.9×10である樹脂A3(共重合体)を収率88%で得た。この樹脂A3は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 3 [Synthesis of Resin A3]
The monomer (a1-4-2) and the monomer (a1-2-6) were used as the monomer, and the molar ratio [monomer (a1-4-2): monomer (a1-2-6)] was 49:51. And the monomer mixture was further mixed with methyl isobutyl ketone 1.5 times by mass with respect to the total mass of all the monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added in an amount of 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and the mixture was heated at 85 ° C. for about 5 hours to perform polymerization. Was. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and collected, whereby a resin A3 (copolymer) having a weight average molecular weight of about 5.9 × 10 3 was obtained in a yield of 88. %. This resin A3 has the following structural units.

<レジスト組成物の調製>
表2に示すように、以下の各成分を混合し、得られた混合物を孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過することにより、レジスト組成物を調製した。
<Preparation of resist composition>
As shown in Table 2, the following components were mixed, and the resulting mixture was filtered through a fluororesin filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a resist composition.

<樹脂>
A1〜A3:樹脂A1〜樹脂A3
<塩(I)>
I−1:式(I−1)で表される塩
I−3:式(I−3)で表される塩
I−5:式(I−5)で表される塩
I−73:式(I−73)で表される塩
I−99:式(I−99)で表される塩
I−225:式(I−225)で表される塩
<酸発生剤>
IX−1:式(IX−1)で表される塩(特開2013−082665号公報記載の方法で合成)
IX−2:式(IX−2)で表される塩(特開2011−046694号公報記載の方法で合成)
<クエンチャー(C)>
C1:特開2011−39502号公報記載の方法で合成
<溶剤>
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 400部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100部
γ−ブチロラクトン 5部
<Resin>
A1 to A3: Resin A1 to Resin A3
<Salt (I)>
I-1: Salt represented by formula (I-1) I-3: Salt represented by formula (I-3) I-5: Salt represented by formula (I-5) I-73: Formula Salt represented by (I-73) I-99: Salt represented by formula (I-99) I-225: Salt represented by formula (I-225) <Acid generator>
IX-1: Salt represented by formula (IX-1) (synthesized by the method described in JP-A-2013-082665)
IX-2: Salt represented by formula (IX-2) (synthesized by the method described in JP-A-2011-046694)
<Quencher (C)>
C1: synthesized by the method described in JP-A-2011-39502
<Solvent>
Propylene glycol monomethyl ether acetate 400 parts Propylene glycol monomethyl ether 100 parts γ-butyrolactone 5 parts

(レジスト組成物の電子線露光評価)
6インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて90℃で60秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が0.04μmとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表2の「PB」欄に示す温度で60秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔(株)エリオニクス製の「ELS−F125 125keV」〕を用い、露光量を段階的に変化させてコンタクトホールパターン(ホールピッチ40nm/ホール径17nm)を直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表2の「PEB」欄に示す温度で60秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
(Electron beam exposure evaluation of resist composition)
A 6-inch silicon wafer was treated at 60 ° C. for 60 seconds using hexamethyldisilazane on a direct hot plate. This silicon wafer was spin-coated with a resist composition such that the thickness of the composition layer was 0.04 μm. Thereafter, the composition was prebaked on a direct hot plate at a temperature shown in the “PB” column of Table 2 for 60 seconds to form a composition layer. A contact hole pattern (hole pitch 40 nm / hole) was formed on the composition layer formed on the wafer by using an electron beam lithography machine (“ELS-F125 125 keV” manufactured by Elionix Inc.) and changing the exposure stepwise. (Diameter 17 nm) was directly drawn.
After exposure, post-exposure baking is performed for 60 seconds on a hot plate at a temperature shown in the “PEB” column of Table 2, and paddle development is performed for 60 seconds with a 2.38% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide. Thus, a resist pattern was obtained.

現像後に得られたレジストパターンにおいて、前記マスクを用いて形成したホール径が17nmとなる露光量を実効感度とした。   In the resist pattern obtained after the development, the exposure amount at which the hole diameter formed using the mask was 17 nm was defined as the effective sensitivity.

<CD均一性(CDU)評価>
実効感度において、ホール径17nmのマスクで形成したパターンのホール径を、一つのホールにつき24回測定し、その平均値を一つのホールの平均ホール径とした。同一ウェハ内の、ホール径55nmのマスクで形成したパターンの平均ホール径を400箇所測定したものを母集団として標準偏差を求めた。
その結果を表3に示す。括弧内の数値は標準偏差(nm)を示す。

比較組成物1、2と比較して、組成物1〜8での標準偏差が小さく、CD均一性(CDU)評価が良好であった。
<CD uniformity (CDU) evaluation>
In the effective sensitivity, the hole diameter of a pattern formed using a mask having a hole diameter of 17 nm was measured 24 times for each hole, and the average value was defined as the average hole diameter of one hole. The standard deviation was determined using a population obtained by measuring 400 average hole diameters of a pattern formed using a mask having a hole diameter of 55 nm in the same wafer.
Table 3 shows the results. The values in parentheses indicate the standard deviation (nm).

Compared with Comparative Compositions 1 and 2, the standard deviation of Compositions 1 to 8 was small, and the CD uniformity (CDU) evaluation was good.

本発明の化合物を含むレジスト組成物は、良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを得られるため、半導体の微細加工に好適であり、産業上極めて有用である。   Since the resist composition containing the compound of the present invention can obtain a resist pattern having good CD uniformity (CDU), it is suitable for fine processing of semiconductors and is extremely useful in industry.

Claims (8)

式(I)で表される塩。
[式(I)中、
及びQは、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
及びRは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
zは、0〜6のいずれかの整数を表し、zが2以上のとき、複数のR及びRは互いに同一であっても異なってもよい。
1は、*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−又は*−O−を表し、*は、C(R)(R)又はC(Q)(Q)との結合位を表す。
、L及びLは、それぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜12のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−又は−CO−に置き換わっていてもよい。
は、以下で表される2価のノルボルナンラクトン環を表し、該環に含まれる−CH2−は、−O−に置き換わっていてもよく、該環は、置換基を有してもよい。
及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6の飽和炭化水素基を表す。
は、置換基を有してもよい炭素数3〜18の環状炭化水素基を表し、該環状炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−SO−に置き換わっていてもよい。
は、有機カチオンを表す。]
A salt represented by the formula (I).
[In the formula (I),
Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
z represents an integer of any of 0 to 6. When z is 2 or more, a plurality of R 1 and R 2 may be the same or different.
X 1 represents * -CO-O-, * -O-CO-, * -O-CO-O- or * -O-, and * represents C (R 1 ) (R 2 ) or C (Q 1 ) represents a bonding position with (Q 2 ).
L 1 , L 2, and L 3 each independently represent a single bond or an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the alkanediyl group is represented by It may be replaced.
A 1 represents a divalent norbornane lactone ring represented by the following, -CH 2- contained in the ring may be replaced by -O-, and the ring may have a substituent. Good.
R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
R 5 represents a cyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2- contained in the cyclic hydrocarbon group is -O-, -S-, -CO-. or -SO 2 - may be replaced to.
Z + represents an organic cation. ]
が、置換基を有してもよい炭素数6〜18の芳香族炭化水素基である請求項1記載の塩。 The salt according to claim 1, wherein R 5 is an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent. が、カルボニル基である請求項1又は2記載の塩。 The salt according to claim 1, wherein L 2 is a carbonyl group. 請求項1〜3のいずれかに記載の塩を含有する酸発生剤。   An acid generator containing the salt according to claim 1. 請求項4記載の酸発生剤と酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。   A resist composition comprising the acid generator according to claim 4 and a resin having an acid labile group. 酸不安定基を有する樹脂が、式(a1−1)で表される構造単位及び式(a1−2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む請求項5記載のレジスト組成物。
[式(a1−1)及び式(a1−2)中、
a1及びLa2は、それぞれ独立に、−O−又は*−O−(CHk1−CO−O−を表し、k1は1〜7の整数を表し、*は−CO−との結合手を表す。
a4及びRa5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
a6及びRa7は、それぞれ独立に、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜18の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せた基を表す。
m1は、0〜14のいずれかの整数を表す。
n1は、0〜10のいずれかの整数を表す。
n1’は、0〜3のいずれかの整数を表す。]
The resin according to claim 5, wherein the resin having an acid labile group contains at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (a1-1) and a structural unit represented by the formula (a1-2). Resist composition.
[In the formulas (a1-1) and (a1-2),
L a1 and L a2 each independently, -O- or * -O- (CH 2) k1 -CO -O- the stands, k1 represents an integer of 1-7, * the binding of -CO- Represent hand.
R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
m1 represents any integer of 0 to 14.
n1 represents any integer of 0-10.
n1 ′ represents any integer of 0 to 3. ]
酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する請求項5又は6記載のレジスト組成物。   7. The resist composition according to claim 5, further comprising a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator. (1)請求項5〜7のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
(2)塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
(3)組成物層に露光する工程、
(4)露光後の組成物層を加熱する工程、及び
(5)加熱後の組成物層を現像する工程、
を含むレジストパターンの製造方法。
(1) a step of applying the resist composition according to any one of claims 5 to 7 on a substrate,
(2) drying the composition after application to form a composition layer;
(3) exposing the composition layer to light,
(4) a step of heating the composition layer after exposure, and (5) a step of developing the composition layer after heating,
A method for producing a resist pattern comprising:
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