JP2020000405A - Plasma therapeutic device - Google Patents

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貴也 大下
Takaya Oshita
貴也 大下
上原 剛
Takeshi Uehara
剛 上原
東儀 彰子
Akiko Tougi
彰子 東儀
雅宏 ▲高▼田
雅宏 ▲高▼田
Masahiro Takada
安宅 元晴
Motoharu Ataka
元晴 安宅
麻友華 多田
Mayuka TADA
麻友華 多田
悠 長原
Yu Nagahara
悠 長原
井上 毅
Takeshi Inoue
毅 井上
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Abstract

To provide a plasma therapeutic device that allows a user to recognize a plasma and an active gas discharged from a nozzle during therapy.SOLUTION: An active gas irradiation device 100 (plasma therapeutic device) includes: a plasma generation part for generating a plasma; a nozzle for discharging any one or both of a plasma and an active gas generated by the plasma; and a notification part 80 for notifying a user of any one or both of the plasma and the active gas discharged from the nozzle.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、プラズマ式治療装置に関する。   The present invention relates to a plasma therapy device.

歯科治療等において創傷等の患部にプラズマやプラズマによって発生した活性ガスを照射して患部の治癒を図るプラズマ式治療装置が知られている。プラズマ式治療装置としては、プラズマジェット照射装置(例えば特許文献1)及び活性ガス照射装置(例えば特許文献2)がある。プラズマジェット照射装置は、プラズマ及びプラズマによって発生した活性種をノズルから吐出し、被照射物に照射する。活性ガス照射装置は、プラズマによって発生した活性種を含む活性ガスをノズルから吐出し、被照射物に照射する。   2. Description of the Related Art There is known a plasma treatment apparatus for irradiating an affected part such as a wound with plasma or an active gas generated by the plasma to cure the affected part in a dental treatment or the like. Examples of the plasma treatment device include a plasma jet irradiation device (for example, Patent Document 1) and an active gas irradiation device (for example, Patent Document 2). The plasma jet irradiation apparatus discharges plasma and active species generated by the plasma from a nozzle, and irradiates an object to be irradiated. The active gas irradiation device discharges an active gas containing active species generated by plasma from a nozzle and irradiates the object with the active gas.

特許第5441066号公報Japanese Patent No. 544066 特開2017−50267号公報JP 2017-50267 A

活性ガス照射装置における活性ガスは無色であるため、ノズルから活性ガスを吐出していることを治療中に使用者が認識できない。
プラズマジェット照射装置におけるプラズマは有色である。しかし、口腔内等にノズルを挿入している場合、ノズルからプラズマを吐出していることを治療中に使用者が認識しにくい。
Since the active gas in the active gas irradiation device is colorless, the user cannot recognize that the active gas is being discharged from the nozzle during treatment.
The plasma in the plasma jet irradiation device is colored. However, when a nozzle is inserted into the oral cavity or the like, it is difficult for the user to recognize that plasma is being discharged from the nozzle during treatment.

本発明は、ノズルからプラズマや活性ガスを吐出していることを治療中に使用者が認識できるプラズマ式治療装置を提供する。   The present invention provides a plasma therapy apparatus that allows a user to recognize that plasma or active gas is being discharged from a nozzle during therapy.

本発明は、下記の態様を有する。
<1>プラズマが発生するプラズマ発生部と、前記プラズマ及び前記プラズマによって発生した活性ガスのいずれか一方又は両方を吐出するノズルと、前記ノズルから前記プラズマ及び前記活性ガスのいずれか一方又は両方を吐出していることを報知する報知部とを備えた、プラズマ式治療装置。
<2>前記報知部が、音、光及び振動からなる群から選ばれる少なくとも1種を発する、前記<1>のプラズマ式治療装置。
<3>使用者が操作することによって、前記ノズルからの前記プラズマ及び前記活性ガスのいずれか一方又は両方の吐出を開始するための電気信号を発信する操作部と、前記操作部からの電気信号に基づいて前記報知部を制御する制御部とをさらに備えた、前記<1>又は<2>のプラズマ式治療装置。
<4>前記プラズマ発生部に供給する電気の電流を計測する電流計、前記プラズマ発生部に供給する電気の電圧を計測する電圧計、及び前記プラズマ発生部に供給するプラズマ発生用ガスの流量を計測する流量計からなる群から選ばれる少なくとも1種の計測部と、前記計測部からの情報に基づいて前記報知部を制御する制御部とをさらに備えた、前記<1>又は<2>のプラズマ式治療装置。
The present invention has the following aspects.
<1> A plasma generating unit for generating plasma, a nozzle for discharging one or both of the plasma and the active gas generated by the plasma, and one or both of the plasma and the active gas from the nozzle. A plasma treatment device comprising: a notifying unit for notifying that discharge is being performed.
<2> The plasma treatment apparatus according to <1>, wherein the notification unit emits at least one type selected from the group consisting of sound, light, and vibration.
<3> an operation unit for transmitting an electric signal for starting discharge of one or both of the plasma and the active gas from the nozzle by a user's operation, and an electric signal from the operation unit The plasma treatment apparatus according to <1> or <2>, further comprising: a control unit configured to control the notification unit based on the information.
<4> An ammeter for measuring an electric current supplied to the plasma generating unit, a voltmeter for measuring a voltage of the electric power supplied to the plasma generating unit, and a flow rate of a plasma generating gas supplied to the plasma generating unit. <1> or <2>, further comprising at least one type of measurement unit selected from the group consisting of flowmeters to be measured, and a control unit that controls the notification unit based on information from the measurement unit. Plasma treatment device.

本発明のプラズマ式治療装置は、ノズルからプラズマや活性ガスを吐出していることを治療中に使用者が認識できる。   The plasma treatment apparatus of the present invention allows the user to recognize that plasma or active gas is being discharged from the nozzle during treatment.

本発明の第一の実施形態のプラズマ式治療装置を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a plasma treatment device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第一の実施形態のプラズマ式治療装置を構成する照射器具の部分断面図である。It is a partial sectional view of an irradiation instrument which constitutes a plasma treatment device of a first embodiment of the present invention. 図2の照射器具のx−x断面図である。It is xx sectional drawing of the irradiation instrument of FIG. 本発明の第一の実施形態のプラズマ式治療装置の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram showing a schematic structure of a plasma type treatment device of a first embodiment of the present invention. 本発明の第二の実施形態のプラズマ式治療装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the plasma treatment apparatus of the second embodiment of the present invention.

本発明のプラズマ式治療装置は、プラズマが発生するプラズマ発生部と、プラズマ及びプラズマによって発生した活性ガスのいずれか一方又は両方を吐出するノズルと、ノズルからプラズマ及び活性ガスのいずれか一方又は両方を吐出していることを報知する報知部とを備える。
本発明のプラズマ式治療装置は、プラズマ発生部とノズルと報知部とを備えたものであれば、プラズマジェット照射装置であってもよく、活性ガス照射装置であってもよい。
The plasma treatment apparatus of the present invention is a plasma generating unit that generates plasma, a nozzle that discharges one or both of plasma and active gas generated by plasma, and one or both of plasma and active gas from the nozzle. And a notifying unit for notifying that the liquid is discharged.
The plasma treatment device of the present invention may be a plasma jet irradiation device or an active gas irradiation device as long as it has a plasma generation unit, a nozzle, and a notification unit.

プラズマジェット照射装置は、プラズマを発生させる。プラズマジェット照射装置は、発生したプラズマと活性種とを被照射物に直接照射する。活性種は、プラズマ中の気体又はプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。活性種としては、活性酸素種、活性窒素種等を例示できる。活性酸素種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル等を例示できる。活性窒素種としては、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。
活性ガス照射装置は、プラズマを発生させる。活性ガス照射装置は、活性種を含む活性ガスを被照射物に照射する。活性種は、プラズマ中の気体又はプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。
The plasma jet irradiation device generates plasma. The plasma jet irradiation device directly irradiates the object to be irradiated with the generated plasma and active species. The active species are generated by a reaction between a gas in the plasma or a gas around the plasma and the plasma. Examples of the active species include active oxygen species and active nitrogen species. Examples of the active oxygen species include a hydroxyl radical, singlet oxygen, ozone, hydrogen peroxide, and a superoxide anion radical. Examples of the active nitrogen species include nitric oxide, nitrogen dioxide, peroxynitrite, nitrous oxide, nitrous oxide and the like.
The active gas irradiation device generates plasma. The active gas irradiation device irradiates an irradiation target with an active gas containing active species. The active species are generated by a reaction between a gas in the plasma or a gas around the plasma and the plasma.

<第一の実施形態>
以下、本発明のプラズマ式治療装置の第一の実施形態について説明する。
本実施形態のプラズマ式治療装置は、活性ガス照射装置である。
図1に示すように、本実施形態の活性ガス照射装置100は、照射器具10(インスツルメント)と、供給ユニット20と、ガス管路30と、電気配線40とを備える。
照射器具10は、照射器具10内で発生した活性ガスを吐出する。供給ユニット20は、照射器具10に電気及びプラズマ発生用ガスを供給する。ガス管路30は、照射器具10と供給ユニット20とを接続している。電気配線40は、照射器具10と供給ユニット20とを接続している。本実施形態において、ガス管路30と電気配線40とは、各々独立しているが、ガス管路30と電気配線40とは一体でもよい。
<First embodiment>
Hereinafter, a first embodiment of the plasma treatment apparatus of the present invention will be described.
The plasma treatment device of the present embodiment is an active gas irradiation device.
As shown in FIG. 1, the active gas irradiation device 100 of the present embodiment includes an irradiation device 10 (instrument), a supply unit 20, a gas pipeline 30, and an electric wiring 40.
The irradiation device 10 discharges the active gas generated in the irradiation device 10. The supply unit 20 supplies the irradiation device 10 with electricity and a gas for generating plasma. The gas line 30 connects the irradiation device 10 and the supply unit 20. The electric wiring 40 connects the irradiation device 10 and the supply unit 20. In the present embodiment, the gas pipeline 30 and the electrical wiring 40 are independent of each other, but the gas pipeline 30 and the electrical wiring 40 may be integrated.

(照射器具)
図2は、照射器具10における軸線に沿う断面を示す部分断面図である。図3は、図2の照射器具のx−x断面図である。
照射器具10は、長尺状のカウリング2と、カウリング2の先端から突出するノズル1と、カウリング2内に位置するプラズマ発生部12と、カウリング2の外周面に設けられた操作スイッチ9(操作部)とを備える。
(Irradiation equipment)
FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a cross section of the irradiation device 10 along the axis. FIG. 3 is an xx sectional view of the irradiation device of FIG.
The irradiation device 10 includes a long cowling 2, a nozzle 1 protruding from the tip of the cowling 2, a plasma generating unit 12 located in the cowling 2, and an operation switch 9 (operation) provided on the outer peripheral surface of the cowling 2. Part).

カウリング2は、胴体部2bと、胴体部2bの先端を塞ぐヘッド部2aとを備える。
胴体部2bは、管軸O1方向に延びる円筒状の部材である。胴体部2bは、円筒形に限らず、四角筒、六角筒、八角筒等の多角筒形でもよい。
The cowling 2 includes a body 2b and a head 2a that closes a tip of the body 2b.
The body 2b is a cylindrical member extending in the tube axis O1 direction. The body 2b is not limited to a cylindrical shape, and may be a polygonal cylinder such as a square cylinder, a hexagonal cylinder, and an octagonal cylinder.

胴体部2bの材料としては、特に限定されないが、絶縁性を有する材料が好ましい。胴体部2bは、電気絶縁性の材料のみで形成されてもよいし、電気絶縁性の材料とその表面に金属材料の層を有する多層構造でもよい。絶縁性の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等を例示できる。熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)等を例示できる。熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコン樹脂等を例示できる。金属材料としては、アルミニウム、銅、鉄、ステンレス鋼等を例示できる。
胴体部2bの大きさは、特に制限はなく、手指で把持しやすい大きさとすることができる。
The material of the body 2b is not particularly limited, but is preferably a material having an insulating property. The body 2b may be formed of only an electrically insulating material, or may have a multilayer structure having an electrically insulating material and a metal material layer on its surface. Examples of the insulating material include a thermoplastic resin and a thermosetting resin. Examples of the thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin), and the like. Examples of the thermosetting resin include a phenol resin, a melamine resin, a urea resin, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, and a silicone resin. Examples of the metal material include aluminum, copper, iron, and stainless steel.
The size of the body 2b is not particularly limited, and may be a size that can be easily grasped with fingers.

ヘッド部2aは、先端に向かい漸次窄んでいる。即ち、ヘッド部2aは、円錐形である。ヘッド部2aは、円錐形に限らず、四角錘、六角錘、八角錘等の多角錘形でもよい。
ヘッド部2aは、先端に嵌合孔2cを有している。嵌合孔2cは、ノズル1を受け入れる孔である。ノズル1は、ヘッド部2aに着脱可能になっている。ヘッド部2aは、管軸O1方向に延びる第一の活性ガス流路7を内部に有している。管軸O1は、胴体部2bの管軸である。
The head portion 2a is gradually narrowed toward the tip. That is, the head 2a has a conical shape. The head portion 2a is not limited to a conical shape, and may be a polygonal pyramid such as a quadrangular pyramid, a hexagonal pyramid, or an octagonal pyramid.
The head 2a has a fitting hole 2c at the tip. The fitting hole 2c is a hole for receiving the nozzle 1. The nozzle 1 is detachable from the head 2a. The head portion 2a has a first active gas flow path 7 extending in the tube axis O1 direction therein. The tube axis O1 is the tube axis of the body 2b.

ヘッド部2aの材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、絶縁性を有しなくてもよい。ヘッド部2aの材料としては、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス鋼等の金属を例示できる。ヘッド部2aと胴体部2bとの材料は、同じでもよく、異なってもよい。
ヘッド部2aの大きさは、活性ガス照射装置100の用途等を勘案して決定できる。例えば、活性ガス照射装置100が口腔内用治療器具である場合、ヘッド部2aの大きさは、口腔内に挿入できる大きさが好ましい。
The material of the head portion 2a is not particularly limited, and may have insulating properties or may not have insulating properties. As a material of the head portion 2a, a material having excellent wear resistance and corrosion resistance is preferable. Examples of the material having excellent wear resistance and corrosion resistance include metals such as stainless steel. The material of the head portion 2a and the body portion 2b may be the same or different.
The size of the head 2a can be determined in consideration of the use of the active gas irradiation device 100 and the like. For example, when the active gas irradiation device 100 is an intraoral treatment instrument, the size of the head portion 2a is preferably a size that can be inserted into the oral cavity.

ノズル1は、嵌合孔2cに嵌合する台座部1bと、台座部1bから突出する照射管1cとを備える。台座部1bと照射管1cとは一体になっている。ノズル1は、その内部に、第二の活性ガス流路8を有している。ノズル1は、先端に照射口1aを有している。第二の活性ガス流路8と第一の活性ガス流路7とは、連通している。   The nozzle 1 includes a pedestal portion 1b fitted into the fitting hole 2c, and an irradiation tube 1c protruding from the pedestal portion 1b. The pedestal portion 1b and the irradiation tube 1c are integrated. The nozzle 1 has a second active gas flow path 8 therein. The nozzle 1 has an irradiation port 1a at the tip. The second active gas channel 8 and the first active gas channel 7 are in communication.

ノズル1の材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、導電性を有してもよい。ノズル1の材料としては、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス鋼等の金属を例示できる。ノズル1は、衛生上の点から、ディスポーザブル式であってもよい。この場合のノズル1の材料は、ディスポーザブル材料が好ましい。   The material of the nozzle 1 is not particularly limited, and may have an insulating property or a conductive property. As a material of the nozzle 1, a material having excellent wear resistance and corrosion resistance is preferable. Examples of the material having excellent wear resistance and corrosion resistance include metals such as stainless steel. The nozzle 1 may be of a disposable type in terms of hygiene. In this case, the material of the nozzle 1 is preferably a disposable material.

ノズル1における照射管1c内の流路の長さ(即ち、距離L2)は、活性ガス照射装置100の用途等を勘案して、適宜決定できる。
照射口1aの開口径は、例えば、0.5〜5mmが好ましい。開口径が上記下限値以上であると、活性ガスの圧力損失を抑制できる。開口径が上記上限値以下であると、照射する活性ガスの流速を高めて、患部の治癒等を促進できる。
照射管1cは、管軸O1に対して屈曲している。
照射管1cの管軸O2と管軸O1とのなす角度θは、活性ガス照射装置100の用途等を勘案して決定できる。
The length of the flow path in the irradiation tube 1c of the nozzle 1 (that is, the distance L2) can be appropriately determined in consideration of the use of the active gas irradiation device 100 and the like.
The opening diameter of the irradiation port 1a is preferably, for example, 0.5 to 5 mm. When the opening diameter is equal to or more than the lower limit, the pressure loss of the active gas can be suppressed. When the opening diameter is equal to or less than the upper limit, the flow rate of the active gas to be irradiated can be increased, and the healing of the affected part can be promoted.
The irradiation tube 1c is bent with respect to the tube axis O1.
The angle θ between the tube axis O2 and the tube axis O1 of the irradiation tube 1c can be determined in consideration of the use of the active gas irradiation device 100 and the like.

プラズマ発生部12は、管状誘電体3と、内部電極4と、外部電極5とを備える。
管状誘電体3と内部電極4と外部電極5とは、管軸O1を中心として同心円状に位置している。
内部電極4の外周面と外部電極5の内周面とは、管状誘電体3を挟んで互いに対向している。
The plasma generation unit 12 includes a tubular dielectric 3, an internal electrode 4, and an external electrode 5.
The tubular dielectric 3, the internal electrode 4, and the external electrode 5 are concentrically located around the tube axis O1.
The outer peripheral surface of the internal electrode 4 and the inner peripheral surface of the external electrode 5 face each other with the tubular dielectric 3 interposed therebetween.

管状誘電体3は、管軸O1方向に延びる円筒状の部材である。管状誘電体3は、管軸O1方向に延びるガス流路6を内部に有している。第一の活性ガス流路7とガス流路6とは連通している。なお、管軸O1は、管状誘電体3の管軸と同じである。   The tubular dielectric 3 is a cylindrical member extending in the tube axis O1 direction. The tubular dielectric 3 has therein a gas flow path 6 extending in the direction of the tube axis O1. The first active gas flow path 7 and the gas flow path 6 communicate with each other. Note that the tube axis O1 is the same as the tube axis of the tubular dielectric 3.

管状誘電体3の材料としては、公知のプラズマ装置に使用する誘電体材料を適用できる。管状誘電体3の材料としては、例えば、ガラス、セラミックス、合成樹脂等を例示できる。管状誘電体3の誘電率は低いほど好ましい。   As a material of the tubular dielectric 3, a dielectric material used for a known plasma device can be applied. Examples of the material of the tubular dielectric 3 include glass, ceramics, and synthetic resin. The lower the dielectric constant of the tubular dielectric 3, the better.

管状誘電体3の内径Rは、内部電極4の外径dを勘案して適宜決定できる。内径Rは、後述する距離sを所望の範囲とするように決定する。   The inner diameter R of the tubular dielectric 3 can be appropriately determined in consideration of the outer diameter d of the internal electrode 4. The inner diameter R is determined so that a distance s described later is in a desired range.

内部電極4は、管軸O1方向に延びる略円柱状の部材である。内部電極4は、管状誘電体3の内部に位置し、管状誘電体3の内面と離間している。
内部電極4は、管軸O1方向に延びる軸部と、軸部の外周面のねじ山とを備える。軸部は、中実でもよいし、中空でもよい。軸部は中実が好ましい。軸部が中実であれば、加工が容易であり、かつ機械的な耐久性を高められる。内部電極4のねじ山は、軸部の周方向に周回する螺旋状のねじ山である。内部電極4の形態は、雄ねじと同様の形態である。
内部電極4は、外周面にねじ山を有することで、ねじ山先端部の電界が局所的に強くなり、放電開始電圧が低くなる。このため、低電力でプラズマを生成し、維持できる。
なお、内部電極4は、外周面にねじ山等の凹凸を有しなくてもよい。即ち、内部電極4は、外周面に凹凸を有しない円柱の部材でもよい。
The internal electrode 4 is a substantially columnar member extending in the tube axis O1 direction. The internal electrode 4 is located inside the tubular dielectric 3 and is separated from the inner surface of the tubular dielectric 3.
The internal electrode 4 includes a shaft portion extending in the tube axis O1 direction, and a thread on the outer peripheral surface of the shaft portion. The shaft may be solid or hollow. The shaft is preferably solid. If the shaft portion is solid, processing is easy and mechanical durability can be enhanced. The screw thread of the internal electrode 4 is a spiral screw thread orbiting in the circumferential direction of the shaft portion. The form of the internal electrode 4 is the same as that of the male screw.
Since the internal electrode 4 has a thread on the outer peripheral surface, the electric field at the tip of the thread is locally increased, and the firing voltage is reduced. Therefore, plasma can be generated and maintained with low power.
Note that the internal electrode 4 may not have unevenness such as a thread on the outer peripheral surface. That is, the internal electrode 4 may be a cylindrical member having no irregularities on the outer peripheral surface.

内部電極4の外径dは、活性ガス照射装置100の用途(即ち、照射器具10の大きさ)等を勘案して、適宜決定できる。活性ガス照射装置100が口腔内用治療器具である場合、外径dは、0.5〜20mmが好ましく、1〜10mmがより好ましい。外径dが上記下限値以上であると、内部電極4を容易に製造できる。加えて、外径dが上記下限値以上であると、内部電極4の表面積が大きくなり、プラズマをより効率的に発生して、治癒等をより促進できる。外径dが上記上限値以下であると、照射器具10を過度に大きくすることなく、プラズマをより効率的に発生し、治癒等をより促進できる。   The outer diameter d of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the use of the active gas irradiation device 100 (that is, the size of the irradiation device 10) and the like. When the active gas irradiation device 100 is an intraoral treatment device, the outer diameter d is preferably 0.5 to 20 mm, more preferably 1 to 10 mm. When the outer diameter d is equal to or larger than the lower limit, the internal electrode 4 can be easily manufactured. In addition, when the outer diameter d is equal to or larger than the lower limit, the surface area of the internal electrode 4 is increased, and plasma is generated more efficiently, and healing and the like can be further promoted. When the outer diameter d is equal to or less than the above upper limit, plasma can be generated more efficiently without excessively increasing the size of the irradiation device 10, and healing and the like can be further promoted.

内部電極4のねじ山の高さhは、内部電極4の外径dを勘案して適宜決定できる。
内部電極4のねじ山のピッチpは、内部電極4の長さや外径d等を勘案して適宜決定できる。ピッチpは、0.2〜3.0mmが好ましく、0.2〜2.5mmがより好ましく、0.2〜2.0mmがさらに好ましい。
The height h of the thread of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the outer diameter d of the internal electrode 4.
The pitch p of the thread of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the length, the outer diameter d, and the like of the internal electrode 4. The pitch p is preferably from 0.2 to 3.0 mm, more preferably from 0.2 to 2.5 mm, even more preferably from 0.2 to 2.0 mm.

内部電極4の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用する金属を適用できる。内部電極4の材料としては、ステンレス鋼、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。   The material of the internal electrode 4 is not particularly limited as long as it is a conductive material, and a metal used for an electrode of a known plasma device can be applied. Examples of the material of the internal electrode 4 include metals such as stainless steel, copper, and tungsten, and carbon.

内部電極4としては、JIS B 0205:2001のメートルねじの規格品(M2、M2.2、M2.5、M3、M3.5等)、JIS B 2016:1987のメートル台形ねじの規格品(Tr8×1.5、Tr9×2、Tr9×1.5等)、JIS B 0206:1973のユニファイ並目ねじの規格品(No.1−64UNC、No.2−56UNC、No.3−48UNC等)等と同等の仕様が好ましい。これらの規格品と同等の仕様であれば、コスト面で優位である。   As the internal electrode 4, JIS B 0205: Standard metric screws (M2, M2.2, M2.5, M3, M3.5, etc.) according to 2001, JIS B 2016: 1987 standard metric screws (Tr8) × 1.5, Tr9 × 2, Tr9 × 1.5, etc.), JIS B 0206: 1973, unified coarse thread standard products (No. 1-64UNC, No. 2-56UNC, No. 3-48UNC, etc.) Specifications equivalent to the above are preferable. If the specification is equivalent to these standard products, it is superior in cost.

内部電極4の外面と管状誘電体3の内面との距離sは、0.05〜5mmが好ましく、0.1〜1mmがより好ましい。距離sが上記下限値以上であると、所望量のプラズマ発生用ガスを容易に通流できる。距離sが上記上限値以下であると、プラズマをさらに効率的に発生し、活性ガスの温度を低くできる。   The distance s between the outer surface of the internal electrode 4 and the inner surface of the tubular dielectric 3 is preferably 0.05 to 5 mm, and more preferably 0.1 to 1 mm. When the distance s is equal to or greater than the lower limit, a desired amount of the plasma generating gas can easily flow. When the distance s is equal to or less than the upper limit, plasma is generated more efficiently, and the temperature of the active gas can be lowered.

内部電極4と外部電極5とが対向している領域の長さL3は、1〜50mmが好ましく、3〜40mmがより好ましく、5〜30mmがさらに好ましい。長さL3が上記下限値以上であれば、プラズマの発生個所を増やして、より効率的にプラズマを発生できる。長さL3が上記上限値以下であれば、活性ガスの温度の上昇をより良好に抑制できる。本実施形態において、長さL3は、外部電極5の長さと等しい。
なお、外部電極5は、管軸O1方向に2つ以上に分かれていてもよい。外部電極5が管軸O1方向に分かれている場合、長さL3は、内部電極4と、2つの外部電極の後端から先端までとが対向している領域の長さであり、2つの外部電極の間の距離を含むものとする。
The length L3 of the region where the internal electrode 4 and the external electrode 5 face each other is preferably 1 to 50 mm, more preferably 3 to 40 mm, and still more preferably 5 to 30 mm. If the length L3 is equal to or greater than the lower limit, plasma generation locations can be increased and plasma can be generated more efficiently. When the length L3 is equal to or less than the upper limit, an increase in the temperature of the active gas can be more favorably suppressed. In the present embodiment, the length L3 is equal to the length of the external electrode 5.
The external electrode 5 may be divided into two or more in the direction of the tube axis O1. When the external electrode 5 is divided in the direction of the tube axis O1, the length L3 is the length of a region where the internal electrode 4 and the rear end to the front end of the two external electrodes are opposed to each other. It shall include the distance between the electrodes.

外部電極5は、管状誘電体3の外周面に沿って周回する環状の電極である。外部電極5は、管状誘電体3の外周面の一部に存在する。   The external electrode 5 is an annular electrode that goes around the outer peripheral surface of the tubular dielectric 3. The external electrode 5 exists on a part of the outer peripheral surface of the tubular dielectric 3.

外部電極5の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用する金属を適用できる。外部電極5の材料としては、ステンレス鋼、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。   The material of the external electrode 5 is not particularly limited as long as it is a conductive material, and a metal used for an electrode of a known plasma device can be applied. Examples of the material of the external electrode 5 include metals such as stainless steel, copper, and tungsten, and carbon.

内部電極4と外部電極5とが対向している領域の先端Q1からヘッド部2aの先端Q2までの距離L1と、先端Q2から照射口1aまでの距離L2との合計(即ち、内部電極4と外部電極5とが対向している領域から照射口1aまでの道のり)は、活性ガス照射装置100に求める大きさや、照射した活性ガスが当たる面(被照射面)における温度等を勘案して適宜決定する。距離L1と距離L2の合計が長ければ、被照射面の温度を低くできる。距離L1と距離L2の合計が短ければ、活性ガスのラジカル密度がさらに高くなり、被照射面における清浄化、賦活化、治癒等の効果がさらに高くなる。なお、先端Q2は、管軸O1と管軸O2との交点である。   The sum of the distance L1 from the tip Q1 of the region where the internal electrode 4 and the external electrode 5 face each other to the tip Q2 of the head 2a, and the distance L2 from the tip Q2 to the irradiation port 1a (that is, the internal electrode 4 The distance from the region facing the external electrode 5 to the irradiation port 1a) is appropriately determined in consideration of the size required for the active gas irradiation device 100, the temperature on the surface (surface to be irradiated) to which the irradiated active gas is applied, and the like. decide. If the sum of the distance L1 and the distance L2 is long, the temperature of the irradiated surface can be lowered. If the sum of the distance L1 and the distance L2 is short, the radical density of the active gas is further increased, and the effect of cleaning, activating, healing, etc. on the irradiated surface is further enhanced. Note that the tip Q2 is an intersection between the tube axis O1 and the tube axis O2.

操作スイッチ9は、使用者が操作することによって、ノズル1からの活性ガスの吐出を開始するための電気信号を発信する。
操作スイッチ9は、例えば、押釦である。操作スイッチ9が押釦である場合、操作スイッチ9は、使用者が押釦を1回押したときに電気信号を1回だけ発信する構成を有してもよく、使用者が押釦を押し続けている間、電気信号を発信し続ける構成を有してもよい。
The operation switch 9 transmits an electric signal for starting discharge of the active gas from the nozzle 1 when operated by a user.
The operation switch 9 is, for example, a push button. When the operation switch 9 is a push button, the operation switch 9 may have a configuration in which an electric signal is transmitted only once when the user presses the push button once, and the user keeps pressing the push button. During this time, a configuration in which the electric signal is continuously transmitted may be provided.

(供給ユニット)
図4は、活性ガス照射装置100の概略構成を示すブロック図である。
供給ユニット20は、給電部50と、ガス調整部60と、ガス供給源70と、報知部80と、制御部90と、これらを収容する筐体21とを備える。
筐体21は、ガス供給源70を離脱可能に収容する。これにより、筐体21に収容されたガス供給源70内のガスがなくなったとき、ガス供給源70を交換できる。
(Supply unit)
FIG. 4 is a block diagram showing a schematic configuration of the active gas irradiation device 100.
The supply unit 20 includes a power supply unit 50, a gas adjustment unit 60, a gas supply source 70, a notification unit 80, a control unit 90, and a housing 21 that accommodates them.
The housing 21 houses the gas supply source 70 detachably. Thereby, when the gas in the gas supply source 70 accommodated in the housing 21 runs out, the gas supply source 70 can be replaced.

給電部50は、照射器具10のプラズマ発生部12にプラズマ発生用の電気を供給する高周波高圧電源(図示略)と、これとは別系統の、供給ユニット20の制御部90に各機器の制御用及び作動用の電気を供給する電源(図示略)とを有する。
給電部50の高周波高圧電源は、プラズマ発生部12の内部電極4と外部電極5との間に印加する電圧及び周波数を調整できる。
給電部50は、例えば、100Vの家庭用電源等の外部電源(図示略)と接続されている。
給電部50は、プラズマ発生部12に供給する電気の電流を計測する電流計(計測部、図示略)、及びプラズマ発生部12に供給する電気の電圧を計測する電圧計(計測部、図示略)を備える。
The power supply unit 50 includes a high-frequency high-voltage power supply (not shown) that supplies electricity for plasma generation to the plasma generation unit 12 of the irradiation apparatus 10, and a control unit 90 of the supply unit 20, which is a separate system, controls each device. And a power supply (not shown) for supplying electricity for operation and operation.
The high-frequency high-voltage power supply of the power supply unit 50 can adjust the voltage and frequency applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 of the plasma generation unit 12.
The power supply unit 50 is connected to an external power supply (not shown) such as a 100 V household power supply.
The power supply unit 50 includes an ammeter (measurement unit, not shown) that measures the current of electricity supplied to the plasma generation unit 12 and a voltmeter (measurement unit, not shown) that measures the voltage of electricity supplied to the plasma generation unit 12. ).

ガス調整部60は、ガス供給源70とガス管路30とを接続するガス配管65を備える。ガス配管65には、電磁弁61、圧力レギュレータ63、流量コントローラ64及び圧力センサ62が取り付けられている。   The gas adjusting section 60 includes a gas pipe 65 that connects the gas supply source 70 and the gas pipeline 30. An electromagnetic valve 61, a pressure regulator 63, a flow controller 64, and a pressure sensor 62 are attached to the gas pipe 65.

電磁弁61は、開閉の切り替えによって、ガス供給源70から照射器具10へのプラズマ発生用ガスの供給の開始及び停止を切り替える。図示例では、電磁弁61は、弁開度が調節できる構成ではなく、開閉の切り替えのみができる構成である。なお、電磁弁61は、弁開度が調節できる構成であってもよい。   The electromagnetic valve 61 switches between start and stop of the supply of the plasma generating gas from the gas supply source 70 to the irradiation device 10 by switching between opening and closing. In the illustrated example, the electromagnetic valve 61 is not configured to be able to adjust the valve opening, but is configured to be able to switch only between opening and closing. Note that the electromagnetic valve 61 may have a configuration in which the valve opening can be adjusted.

圧力レギュレータ63は、電磁弁61とガス供給源70との間に配置される。圧力レギュレータ63は、ガス供給源70から電磁弁61に向かうプラズマ発生用ガスの圧力を低下(プラズマ発生用ガスを減圧)させる。   The pressure regulator 63 is arranged between the solenoid valve 61 and the gas supply source 70. The pressure regulator 63 reduces the pressure of the plasma generating gas from the gas supply source 70 toward the electromagnetic valve 61 (reduces the plasma generating gas).

流量コントローラ64は、電磁弁61とガス管路30との間に配置される。流量コントローラ64は、電磁弁61を通過したプラズマ発生用ガスの流量(単位時間当たりの供給量)を調整する。流量コントローラ64は、プラズマ発生用ガスの流量を、例えば3L/minに調整する。
流量コントローラ64は、プラズマ発生用ガスの流量を計測する流量計(計測部、図示略)を備える。
The flow controller 64 is arranged between the solenoid valve 61 and the gas line 30. The flow rate controller 64 adjusts the flow rate (supply amount per unit time) of the plasma generating gas that has passed through the electromagnetic valve 61. The flow rate controller 64 adjusts the flow rate of the plasma generating gas to, for example, 3 L / min.
The flow controller 64 includes a flow meter (a measuring unit, not shown) that measures the flow rate of the plasma generating gas.

圧力センサ62は、ガス供給源70内の圧力(残圧)を計測する。圧力センサ62は、圧力レギュレータ63とガス供給源70との間(圧力レギュレータ63よりも一次側)を通過するプラズマ発生用ガスの圧力(一次圧)を、ガス供給源70の圧力として計測する。圧力センサ62としては、例えば、キーエンス社のAP−V80シリーズ(具体的には、例えばAP−15S)等を採用できる。   The pressure sensor 62 measures the pressure (residual pressure) in the gas supply source 70. The pressure sensor 62 measures the pressure (primary pressure) of the plasma generation gas passing between the pressure regulator 63 and the gas supply source 70 (primary side of the pressure regulator 63) as the pressure of the gas supply source 70. As the pressure sensor 62, for example, an AP-V80 series (specifically, for example, AP-15S) of Keyence Corporation can be adopted.

ガス配管65のガス供給源70側の端部には、継手66が設けられている。継手66には、ガス供給源70が着脱可能に装着されている。ガス供給源70を継手66に着脱させることで、ガス調整部60を筐体21に固定したまま、ガス供給源70を交換できる。この場合、交換前のガス供給源70、交換後のガス供給源70のいずれについても共通のガス調整部60を使用できる。なお、ガス調整部60は、ガス供給源70に固定され、ガス供給源70と一体的に筐体21から離脱可能であってもよい。   A joint 66 is provided at an end of the gas pipe 65 on the gas supply source 70 side. A gas supply source 70 is detachably attached to the joint 66. By attaching and detaching the gas supply source 70 to and from the joint 66, the gas supply source 70 can be replaced while the gas adjustment unit 60 is fixed to the housing 21. In this case, a common gas adjustment unit 60 can be used for both the gas supply source 70 before replacement and the gas supply source 70 after replacement. Note that the gas adjustment unit 60 may be fixed to the gas supply source 70 and may be detachable from the housing 21 integrally with the gas supply source 70.

ガス供給源70は、プラズマ発生部12にプラズマ発生用ガスを供給する。ガス供給源70は、内部にプラズマ発生用ガスが収容された耐圧容器である。ガス供給源70は、筐体21内に配置されたガス調整部60に対して着脱可能に装着されている。   The gas supply source 70 supplies a plasma generation gas to the plasma generation unit 12. The gas supply source 70 is a pressure-resistant container containing a plasma generating gas therein. The gas supply source 70 is detachably attached to the gas adjustment unit 60 disposed in the housing 21.

報知部92は、供給ユニット20の筐体21の外面に筐体21と一体に設けられている。
報知部80は、制御部90によって制御されており、ノズル1から活性ガスを吐出していることを報知する。
報知部80は、音、光、振動等を発することができるような構成を有する。
報知部80としては、スピーカ、ランプ、ディスプレイ、バイブレータ、ブザー等を例示できる。
The notification unit 92 is provided integrally with the housing 21 on the outer surface of the housing 21 of the supply unit 20.
The notification unit 80 is controlled by the control unit 90 and notifies that the active gas is being discharged from the nozzle 1.
The notification unit 80 has a configuration capable of emitting sound, light, vibration, and the like.
Examples of the notification unit 80 include a speaker, a lamp, a display, a vibrator, and a buzzer.

制御部90には、電磁弁61、圧力センサ62、流量コントローラ64、給電部50、報知部80、及び照射器具10の操作スイッチ9が電気的に接続されている。
制御部90は、電磁弁61、流量コントローラ64、給電部50及び報知部80を制御する。
制御部90は、情報処理装置を用いて構成される。すなわち、制御部90は、バスで接続されたCPU(Central Processor Unit)、メモリ及び補助記憶装置を備える。制御部90は、プログラムを実行することによって動作する。
The control unit 90 is electrically connected to an electromagnetic valve 61, a pressure sensor 62, a flow controller 64, a power supply unit 50, a notification unit 80, and an operation switch 9 of the irradiation device 10.
The control unit 90 controls the solenoid valve 61, the flow controller 64, the power supply unit 50, and the notification unit 80.
The control unit 90 is configured using an information processing device. That is, the control unit 90 includes a CPU (Central Processor Unit), a memory, and an auxiliary storage device connected by a bus. The control unit 90 operates by executing a program.

制御部90には、照射器具10の操作スイッチ9が電気配線40を介して電気的に接続されている。使用者が操作スイッチ9を操作することによって、操作スイッチ9から制御部90に電気信号が送られる。操作スイッチ9からの電気信号を制御部90が受け付けると、制御部90は、電磁弁61、流量コントローラ64、給電部50及び報知部80を作動させる。   The operation switch 9 of the irradiation device 10 is electrically connected to the control unit 90 via the electric wiring 40. When the user operates the operation switch 9, an electric signal is sent from the operation switch 9 to the control unit 90. When the control unit 90 receives an electric signal from the operation switch 9, the control unit 90 operates the solenoid valve 61, the flow controller 64, the power supply unit 50, and the notification unit 80.

操作スイッチ9が押釦であり、使用者が押釦を1回押したときに電気信号を1回だけ発信する場合は、制御部90は、例えば、以下のように電磁弁61、流量コントローラ64、給電部50及び報知部80を制御する。
操作スイッチ9からの電気信号を制御部90が受け付けると、制御部90が、電磁弁61を所定時間、開放して電磁弁61を通過したプラズマ発生用ガスの流量を流量コントローラ64に調整させる。また、制御部90が、給電部50を制御して内部電極4と外部電極5との間に電圧を所定時間、印加する。その結果、ガス供給源70からプラズマ発生部12に一定量のプラズマ発生用ガスが供給され、ノズル1から活性ガスが所定時間(例えば、数秒から数十秒程度)、継続して吐出される。
また、制御部90は、ノズル1から活性ガスが吐出される所定時間、ノズルから活性ガスを吐出していることを報知部80に報知させる。
When the operation switch 9 is a push button and the electric signal is transmitted only once when the user presses the push button once, the control unit 90 includes, for example, an electromagnetic valve 61, a flow controller 64, and a power supply as follows. It controls the unit 50 and the notification unit 80.
When the control unit 90 receives an electric signal from the operation switch 9, the control unit 90 opens the electromagnetic valve 61 for a predetermined time and causes the flow controller 64 to adjust the flow rate of the plasma generating gas passing through the electromagnetic valve 61. Further, the control unit 90 controls the power supply unit 50 to apply a voltage between the internal electrode 4 and the external electrode 5 for a predetermined time. As a result, a certain amount of plasma generating gas is supplied from the gas supply source 70 to the plasma generating unit 12, and the active gas is continuously discharged from the nozzle 1 for a predetermined time (for example, about several seconds to several tens of seconds).
Further, the control unit 90 causes the notification unit 80 to notify that the active gas is being discharged from the nozzle for a predetermined time during which the active gas is discharged from the nozzle 1.

操作スイッチ9が押釦であり、使用者が押釦を押し続けている間、電気信号を発信し続ける場合は、制御部90は、例えば、以下のように電磁弁61、流量コントローラ64、給電部50及び報知部80を制御する。
操作スイッチ9からの電気信号を制御部90が受け付けている間、制御部90が、電磁弁61を開放して電磁弁61を通過したプラズマ発生用ガスの流量を流量コントローラ64に調整させる。また、制御部90が、給電部50を制御して内部電極4と外部電極5との間に電圧を印加する。その結果、使用者が操作スイッチ9を押し続けている間、ガス供給源70からプラズマ発生部12にプラズマ発生用ガスが供給され、ノズル1から活性ガスが継続して吐出される。
また、制御部90は、使用者が操作スイッチ9を押し続け、操作スイッチ9が電気信号を発信し続けている間、ノズルから活性ガスを吐出していることを報知部80に報知させる。
When the operation switch 9 is a push button and the electric signal is continuously transmitted while the user keeps pressing the push button, the control unit 90 includes, for example, the electromagnetic valve 61, the flow rate controller 64, and the power supply unit 50 as described below. And the notification unit 80.
While the control unit 90 receives the electric signal from the operation switch 9, the control unit 90 opens the solenoid valve 61 and causes the flow rate controller 64 to adjust the flow rate of the plasma generation gas passing through the solenoid valve 61. Further, the control unit 90 controls the power supply unit 50 to apply a voltage between the internal electrode 4 and the external electrode 5. As a result, while the user keeps pressing the operation switch 9, the plasma generating gas is supplied from the gas supply source 70 to the plasma generating unit 12, and the active gas is continuously discharged from the nozzle 1.
Further, the control unit 90 causes the notification unit 80 to notify that the active gas is being discharged from the nozzle while the user keeps pressing the operation switch 9 and the operation switch 9 continues to transmit the electric signal.

(ガス管路)
ガス管路30は、供給ユニット20から照射器具10にプラズマ発生用ガスを供給する経路である。ガス管路30は、照射器具10の管状誘電体3の後端部に接続している。ガス管路30の材料は特に制限はなく、公知のガス管に用いる材料を適用できる。ガス管路30の材料としては、例えば、樹脂製の配管、ゴム製のチューブ等を例示でき、可撓性を有する材料が好ましい。
(Gas pipeline)
The gas pipe 30 is a path for supplying a plasma generation gas from the supply unit 20 to the irradiation device 10. The gas conduit 30 is connected to the rear end of the tubular dielectric 3 of the irradiation device 10. The material of the gas pipe 30 is not particularly limited, and a known material used for a gas pipe can be applied. Examples of the material of the gas pipeline 30 include a resin pipe and a rubber tube, and a flexible material is preferable.

(電気配線)
電気配線40は、供給ユニット20の給電部50から照射器具10のプラズマ発生部12に電気を供給する配線、及び照射器具10の操作スイッチ9と供給ユニット20の制御部90とを電気的に接続する配線を備える。
電気配線40は、照射器具10の内部電極4、外部電極5及び操作スイッチ9に接続している。電気配線40の材料は特に制限はなく、公知の電気配線に用いる材料を適用できる。電気配線40の材料としては、絶縁材料で被覆した金属導線等を例示できる。
(Electric wiring)
The electric wiring 40 is a wiring for supplying electricity from the power supply unit 50 of the supply unit 20 to the plasma generation unit 12 of the irradiation device 10, and electrically connects the operation switch 9 of the irradiation device 10 and the control unit 90 of the supply unit 20. Wiring to be provided.
The electric wiring 40 is connected to the internal electrode 4, the external electrode 5 and the operation switch 9 of the irradiation device 10. The material of the electric wiring 40 is not particularly limited, and a known material used for electric wiring can be applied. Examples of the material of the electric wiring 40 include a metal conductor covered with an insulating material.

(使用方法)
次に、活性ガス照射装置100の使用方法を説明する。
例えば医師等の使用者は、照射器具10を持って移動させ、ノズル1を後述する被照射物に向ける。この状態で操作スイッチ9を押し、供給ユニット20のガス供給源70からガス調整部60及びガス管路30を介して照射器具10のプラズマ発生部12にプラズマ発生用ガスを供給し、供給ユニット20の給電部50から照射器具10のプラズマ発生部12に電気を供給する。
プラズマ発生部12に供給したプラズマ発生用ガスは、管状誘電体3の後端部から管状誘電体3の内空部に流入する。プラズマ発生用ガスは、電圧を印加した内部電極4と外部電極5とが対向する位置において電離し、プラズマになる。
(how to use)
Next, a method of using the active gas irradiation device 100 will be described.
For example, a user such as a doctor moves the irradiation device 10 while holding it, and directs the nozzle 1 at an irradiation target described later. In this state, the operation switch 9 is pressed to supply a plasma generation gas from the gas supply source 70 of the supply unit 20 to the plasma generation unit 12 of the irradiation device 10 via the gas adjustment unit 60 and the gas pipe 30. Is supplied from the power supply unit 50 to the plasma generation unit 12 of the irradiation apparatus 10.
The gas for plasma generation supplied to the plasma generator 12 flows into the inner space of the tubular dielectric 3 from the rear end of the tubular dielectric 3. The plasma generating gas is ionized at a position where the internal electrode 4 and the external electrode 5 to which the voltage is applied oppose, and becomes plasma.

本実施形態においては、内部電極4と外部電極5とが、プラズマ発生用ガスの流れる方向と直交する向きに対向している。内部電極4の外周面と外部電極5の内周面とが対向する位置で発生したプラズマは、ガス流路6と、第一の活性ガス流路7と、第二の活性ガス流路8とをこの順に通流する。この間、プラズマは、ガス組成を変化しつつ通流し、ラジカル等の活性種を含む活性ガスとなる。   In the present embodiment, the internal electrode 4 and the external electrode 5 face each other in a direction orthogonal to the direction in which the plasma generating gas flows. The plasma generated at a position where the outer peripheral surface of the internal electrode 4 and the inner peripheral surface of the external electrode 5 face each other has a gas flow path 6, a first active gas flow path 7, and a second active gas flow path 8. Flow in this order. During this time, the plasma flows while changing the gas composition, and becomes an active gas containing active species such as radicals.

生じた活性ガスはノズル1の照射口1aから吐出される。吐出された活性ガスは、照射口1a近傍の気体の一部をさらに活性化して活性種を生成する。これらの活性種を含む活性ガスを被照射物に照射する。
また、活性ガスがノズル1の照射口1aから吐出される間、報知部80は、音、光、振動等を発することによって、ノズル1から活性ガスを吐出していることを使用者に報知する。
The generated active gas is discharged from the irradiation port 1a of the nozzle 1. The discharged active gas further activates a part of the gas near the irradiation port 1a to generate an active species. An object to be irradiated is irradiated with an active gas containing these active species.
In addition, while the active gas is discharged from the irradiation port 1a of the nozzle 1, the notification unit 80 notifies the user that the active gas is being discharged from the nozzle 1 by emitting sound, light, vibration, or the like. .

被照射物としては、例えば、細胞、生体組織、生物個体等を例示できる。
生体組織としては、各器官(内臓等)、体表や体腔の内面を覆う上皮組織、歯周組織(歯肉、歯槽骨、歯根膜、セメント質等)、歯、骨等を例示できる。活性ガスの照射によって処理可能な疾患及び症状としては、例えば、歯肉炎、歯周病等の口腔内の疾患、皮膚の創傷等を例示できる。
生物個体としては、哺乳類(ヒト、犬、猫、豚等)、鳥類、魚類等を例示できる。
As the irradiation object, for example, a cell, a living tissue, a living individual, and the like can be exemplified.
Examples of the living tissue include various organs (such as internal organs), epithelial tissue covering the surface of the body and the inner surface of the body cavity, periodontal tissue (gingiva, alveolar bone, periodontal ligament, cementum, etc.), teeth, bones, and the like. Examples of diseases and symptoms that can be treated by irradiation with active gas include diseases in the oral cavity such as gingivitis and periodontal disease, and wounds on the skin.
Examples of living organisms include mammals (humans, dogs, cats, pigs, etc.), birds, fish and the like.

プラズマ発生用ガスとしては、例えば、希ガス(ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン等)、窒素、酸素、空気等を例示できる。これらのガスは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
プラズマ発生用ガスは、窒素を主成分とすることが好ましい。ここで、窒素を主成分とするとは、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量が50体積%超であることをいう。
即ち、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量は、50体積%超が好ましく、70体積%以上がより好ましく、80〜100質量%がさらに好ましく、90〜100質量%が特に好ましい。プラズマ発生用ガス中の窒素以外のガス成分としては、例えば、酸素、希ガス等を例示できる。
Examples of the plasma generating gas include a rare gas (such as helium, neon, argon, and krypton), nitrogen, oxygen, and air. These gases may be used alone or in combination of two or more.
The plasma generating gas preferably contains nitrogen as a main component. Here, “mainly containing nitrogen” means that the content of nitrogen in the plasma generating gas is more than 50% by volume.
That is, the content of nitrogen in the plasma generation gas is preferably more than 50% by volume, more preferably 70% by volume or more, further preferably 80 to 100% by mass, and particularly preferably 90 to 100% by mass. Examples of gas components other than nitrogen in the plasma generating gas include oxygen, a rare gas, and the like.

活性ガス照射装置100が口腔内用治療器具である場合、管状誘電体3に導入するプラズマ発生用ガスの酸素濃度は、1体積%以下が好ましい。酸素濃度が上限値以下であると、オゾンの発生を低減できる。   When the active gas irradiation device 100 is an intraoral treatment device, the oxygen concentration of the plasma generating gas introduced into the tubular dielectric 3 is preferably 1% by volume or less. When the oxygen concentration is equal to or lower than the upper limit, generation of ozone can be reduced.

管状誘電体3に導入するプラズマ発生用ガスの流量は、1〜10L/minが好ましい。管状誘電体3に導入するプラズマ発生用ガスの流量が上記下限値以上であると、被照射物における被照射面の温度の上昇を抑制しやすい。プラズマ発生用ガスの流量が上記上限値以下であると、被照射物の清浄化、賦活化又は治癒をさらに促進できる。   The flow rate of the plasma generating gas introduced into the tubular dielectric 3 is preferably 1 to 10 L / min. When the flow rate of the plasma generating gas introduced into the tubular dielectric 3 is equal to or more than the above lower limit, it is easy to suppress an increase in the temperature of the irradiated surface of the irradiated object. When the flow rate of the plasma generating gas is equal to or less than the upper limit, cleaning, activation, or healing of the irradiation target can be further promoted.

内部電極4と外部電極5との間に印加する交流電圧は、5kVpp以上20kVpp以下が好ましい。ここで、交流電圧を表す単位「Vpp(Volt peak to peak)」は、交流電圧波形の最高値と最低値との電位差である。
なお、内部電極4が外周面に凹凸を有しない円柱の部材である場合、内部電極4と外部電極5との間に印加する交流電圧は、10kVpp以上が好ましい。外周面に凹凸を有さない内部電極4を用いる場合、外周面に凹凸を有する内部電極4を用いる場合に比べて、内部電極4と外部電極5との間に印加する交流電圧を高める必要がある。
印加する交流電圧が上記上限値以下であると、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。印加する交流電圧が上記下限値以上であると、さらに効率的にプラズマを発生できる。
The AC voltage applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 is preferably 5 kVpp or more and 20 kVpp or less. Here, the unit “Vpp (Volt peak to peak)” representing the AC voltage is a potential difference between the highest value and the lowest value of the AC voltage waveform.
When the internal electrode 4 is a cylindrical member having no irregularities on the outer peripheral surface, the AC voltage applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 is preferably 10 kVpp or more. When the internal electrode 4 having no unevenness on the outer peripheral surface is used, it is necessary to increase the AC voltage applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 as compared with the case of using the internal electrode 4 having the unevenness on the outer peripheral surface. is there.
When the applied AC voltage is equal to or lower than the above upper limit, the temperature of the generated plasma can be kept low. When the applied AC voltage is equal to or higher than the lower limit, plasma can be generated more efficiently.

内部電極4と外部電極5との間に印加する交流の周波数は、0.5kHz以上20kHz未満が好ましく、1kHz以上15kHz未満がより好ましく、2kHz以上10kHz未満がさらに好ましく、3kHz以上9kHz未満が特に好ましく、4kHz以上8kHz未満が最も好ましい。交流の周波数が上記上限値以下であると、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。交流の周波数が上記下限値以上であると、さらに効率的にプラズマを発生できる。   The frequency of the alternating current applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5 is preferably 0.5 kHz or more and less than 20 kHz, more preferably 1 kHz or more but less than 15 kHz, further preferably 2 kHz or more and less than 10 kHz, and particularly preferably 3 kHz or more and less than 9 kHz. Most preferably, 4 kHz or more and less than 8 kHz. When the frequency of the alternating current is lower than the upper limit, the temperature of the generated plasma can be kept low. When the AC frequency is equal to or higher than the lower limit, plasma can be generated more efficiently.

ノズル1の照射口1aから照射する活性ガスの温度は、50℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましく、40℃以下がさらに好ましい。ノズル1の照射口1aから照射する活性ガスの温度が上記上限値以下であると、被照射面の温度を40℃以下にしやすい。被照射面の温度を40℃以下にすることで、被照射部分が患部である場合にも、患部への刺激を低減できる。ノズル1の照射口1aから照射する活性ガスの温度の下限値は、特に制限はなく、例えば、10℃である。活性ガスの温度は、照射口1aにおける活性ガスの温度を熱電対で測定した値である。   The temperature of the active gas irradiated from the irradiation port 1a of the nozzle 1 is preferably 50 ° C or lower, more preferably 45 ° C or lower, and further preferably 40 ° C or lower. When the temperature of the active gas irradiated from the irradiation port 1a of the nozzle 1 is equal to or lower than the upper limit, the temperature of the irradiated surface is easily reduced to 40 ° C or lower. By setting the temperature of the surface to be irradiated at 40 ° C. or less, even when the irradiated portion is the affected part, the stimulation to the affected part can be reduced. The lower limit of the temperature of the active gas irradiated from the irradiation port 1a of the nozzle 1 is not particularly limited, and is, for example, 10 ° C. The temperature of the active gas is a value obtained by measuring the temperature of the active gas at the irradiation port 1a with a thermocouple.

照射口1aから被照射面までの距離(照射距離)は、例えば、1.0〜10mmが好ましい。照射距離が上記下限値以上であると、被照射面の温度を低くし、被照射面への刺激をさらに緩和できる。照射距離が上記上限値以下であると、治癒等の効果をさらに高められる。   The distance (irradiation distance) from the irradiation port 1a to the surface to be irradiated is preferably, for example, 1.0 to 10 mm. When the irradiation distance is equal to or more than the lower limit, the temperature of the irradiated surface can be lowered, and the stimulus to the irradiated surface can be further reduced. When the irradiation distance is equal to or less than the upper limit, effects such as healing can be further enhanced.

照射口1aから1mm以上10mm以下の距離で離れた位置の被照射面の温度は、40℃以下が好ましい。被照射面の温度が40℃以下であると、被照射面への刺激を低減できる。被照射面の温度の下限値は特に制限はないが、例えば10℃である。
被照射面の温度は、内部電極4と外部電極5との間に印加する交流電圧、照射する活性ガスの吐出量、内部電極4と外部電極5とが対向している領域の先端Q1から照射口1aまでの道のり等の組み合わせで調節できる。被照射面の温度は、熱電対を用いて測定できる。
The temperature of the irradiated surface at a distance of 1 mm or more and 10 mm or less from the irradiation port 1 a is preferably 40 ° C. or less. When the temperature of the surface to be irradiated is 40 ° C. or lower, the stimulation to the surface to be irradiated can be reduced. The lower limit of the temperature of the irradiated surface is not particularly limited, but is, for example, 10 ° C.
The temperature of the surface to be irradiated is determined by the AC voltage applied between the internal electrode 4 and the external electrode 5, the discharge amount of the active gas to be applied, and the irradiation from the front end Q1 of the region where the internal electrode 4 and the external electrode 5 face each other. It can be adjusted by a combination of the distance to the mouth 1a. The temperature of the irradiated surface can be measured using a thermocouple.

活性ガスに含まれる活性種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。活性ガスに含まれる活性種の種類は、例えば、プラズマ発生用ガスの種類等によって調節できる。   The active species contained in the active gas include hydroxyl radical, singlet oxygen, ozone, hydrogen peroxide, superoxide anion radical, nitric oxide, nitrogen dioxide, peroxynitrite, peroxynitrite, nitrous oxide and the like. Can be illustrated. The type of the active species contained in the active gas can be adjusted by, for example, the type of the gas for generating plasma.

活性ガス中におけるヒドロキシルラジカルの密度(ラジカル密度)は、0.1〜300μmol/Lが好ましく、0.1〜100μmol/Lがより好ましく、0.1〜50μmol/Lがさらに好ましい。ラジカル密度が上記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。ラジカル密度が上記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。   The density (radical density) of hydroxyl radicals in the active gas is preferably from 0.1 to 300 μmol / L, more preferably from 0.1 to 100 μmol / L, even more preferably from 0.1 to 50 μmol / L. When the radical density is equal to or more than the above lower limit, it is easy to promote cleaning, activation, or abnormal abnormality healing of an irradiation target selected from cells, living tissues, and living organisms. When the radical density is equal to or less than the upper limit, the stimulation on the irradiated surface can be reduced.

ラジカル密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
DMPO(5,5−ジメチル−1−ピロリン−N−オキシド)0.2mol/L溶液0.2mLに対して、活性ガスを30秒間照射する。この際、照射口1aから液面までの距離を5.0mmとする。活性ガスを照射した溶液について、電子スピン共鳴(ESR)法を利用してヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル密度とする。
The radical density can be measured, for example, by the following method.
The active gas is irradiated to 0.2 mL of a 0.2 mol / L solution of DMPO (5,5-dimethyl-1-pyrroline-N-oxide) for 30 seconds. At this time, the distance from the irradiation port 1a to the liquid surface is 5.0 mm. The hydroxyl radical concentration of the solution irradiated with the active gas is measured by using an electron spin resonance (ESR) method, and this is defined as a radical density.

活性ガス中における一重項酸素の密度(一重項酸素密度)は、0.1〜300μmol/Lが好ましく、0.1〜100μmol/Lがより好ましく、0.1〜50μmol/Lがさらに好ましい。一重項酸素密度が上記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体等の被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。上記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。   The density of singlet oxygen (singlet oxygen density) in the active gas is preferably from 0.1 to 300 μmol / L, more preferably from 0.1 to 100 μmol / L, even more preferably from 0.1 to 50 μmol / L. When the singlet oxygen density is equal to or higher than the above lower limit, it is easy to promote the cleaning, activation, or healing of an object to be irradiated such as a cell, a living tissue, or a living individual. When the value is equal to or less than the above upper limit, stimulation to the irradiated surface can be reduced.

一重項酸素密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
TPC(2,2,5,5−テトラメチル−3−ピロリン−3−カルボキサミド)0.1mol/L溶液0.4mLに対して、活性ガスを30秒間照射する。この際、照射口1aから液面までの距離を5.0mmとする。活性ガスを照射した溶液について、電子スピン共鳴(ESR)法を利用して一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素密度とする。
The singlet oxygen density can be measured, for example, by the following method.
An active gas is irradiated for 30 seconds to 0.4 mL of a 0.1 mol / L solution of TPC (2,2,5,5-tetramethyl-3-pyrroline-3-carboxamide). At this time, the distance from the irradiation port 1a to the liquid surface is 5.0 mm. The singlet oxygen concentration of the solution irradiated with the active gas is measured by using an electron spin resonance (ESR) method, and this is defined as a singlet oxygen density.

照射口1aから吐出する活性ガスの流量は、1〜10L/minが好ましい。
照射口1aから吐出する活性ガスの流量が上記下限値以上であると、活性ガスが被照射面に作用する効果を充分に高められる。照射口1aから吐出する活性ガスの流量が上記上限値以下であると、活性ガスの被照射面の温度が過度に高まることを防止できる。加えて、被照射面が濡れている場合には、被照射面の急速な乾燥を防止できる。さらに、被照射面が患部である場合には、患者への刺激を抑制できる。活性ガス照射装置100において、照射口1aから吐出する活性ガスの流量は、管状誘電体3へのプラズマ発生用ガスの供給量で調節できる。
The flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1a is preferably 1 to 10 L / min.
When the flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1a is equal to or greater than the lower limit, the effect of the active gas acting on the irradiated surface can be sufficiently enhanced. When the flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1a is equal to or less than the upper limit, it is possible to prevent the temperature of the surface to be irradiated with the active gas from excessively increasing. In addition, when the irradiated surface is wet, rapid drying of the irradiated surface can be prevented. Furthermore, when the surface to be irradiated is an affected part, stimulation to the patient can be suppressed. In the active gas irradiation device 100, the flow rate of the active gas discharged from the irradiation port 1 a can be adjusted by the supply amount of the plasma generating gas to the tubular dielectric 3.

活性ガス照射装置100によって生じる活性ガスは、外傷や異常の治癒を促進する効果を有する。活性ガスを細胞、生体組織又は生物個体に照射することによって、その被照射部分の清浄化、賦活化、又はその被照射部分の治癒を促進できる。   The active gas generated by the active gas irradiation device 100 has an effect of promoting healing of wounds and abnormalities. By irradiating a cell, a living tissue or a living individual with an active gas, it is possible to promote the cleaning and activation of the irradiated part or the healing of the irradiated part.

外傷や異常の治癒を促進する目的で活性ガスを照射する場合、その照射頻度、照射回数及び照射期間は特に制限はない。例えば、1〜5.0L/minの照射量で活性ガスを患部に照射する場合、1日1〜5回、毎回10秒〜10分、1〜30日間、等の照射条件が、治癒を促進する観点から好ましい。   When irradiating active gas for the purpose of promoting healing of trauma or abnormalities, the frequency of irradiation, the number of times of irradiation, and the irradiation period are not particularly limited. For example, when irradiating the affected area with an active gas at an irradiation amount of 1 to 5.0 L / min, irradiation conditions such as 1 to 5 times a day, 10 seconds to 10 minutes each time, and 1 to 30 days promote healing. It is preferable from the viewpoint of doing.

本実施形態の活性ガス照射装置100は、特に口腔内用治療器具、歯科用治療器具として有用である。また、本実施形態の活性ガス照射装置100は、動物治療用器具としても好適である。   The active gas irradiation device 100 of the present embodiment is particularly useful as an intraoral treatment instrument and a dental treatment instrument. Further, the active gas irradiation device 100 of the present embodiment is also suitable as an animal treatment instrument.

(作用機序)
以上説明した本実施形態の活性ガス照射装置100にあっては、報知部80が、ノズル1から活性ガスを吐出していることを報知する。したがって、ノズル1から活性ガスを吐出していることを治療中に使用者が認識できる。
(Mechanism of action)
In the active gas irradiation device 100 of the present embodiment described above, the notification unit 80 notifies that the active gas is being discharged from the nozzle 1. Therefore, the user can recognize that the active gas is being discharged from the nozzle 1 during the treatment.

<第二の実施形態>
以下、本発明のプラズマ式治療装置の第二の実施形態について説明する。
本実施形態のプラズマ式治療装置は、活性ガス照射装置である。
図5に示すように、本実施形態の活性ガス照射装置100Bは、第一の実施形態と同様に、照射器具10と、供給ユニット20と、ガス管路30と、電気配線40とを備える。
本実施形態の活性ガス照射装置100Bは、報知部80を設けた位置が第一の実施形態と異なること以外は、第一の実施形態の活性ガス照射装置100と同様である。
<Second embodiment>
Hereinafter, a second embodiment of the plasma treatment apparatus of the present invention will be described.
The plasma treatment device of the present embodiment is an active gas irradiation device.
As shown in FIG. 5, the active gas irradiation device 100B of the present embodiment includes an irradiation device 10, a supply unit 20, a gas pipeline 30, and an electric wiring 40, as in the first embodiment.
The active gas irradiation device 100B of the present embodiment is the same as the active gas irradiation device 100 of the first embodiment except that the position where the notification unit 80 is provided is different from that of the first embodiment.

本実施形態における報知部80は、照射器具10のカウリング2の外周面に設けられている。
電気配線40は、供給ユニット20の給電部50から照射器具10のプラズマ発生部12に電気を供給する配線、照射器具10の操作スイッチ9と供給ユニット20の制御部90とを電気的に接続する配線、及び報知部80と供給ユニット20の制御部90とを電気的に接続する配線を備える。
The notification unit 80 in the present embodiment is provided on the outer peripheral surface of the cowling 2 of the irradiation device 10.
The electric wiring 40 is a wiring for supplying electricity from the power supply unit 50 of the supply unit 20 to the plasma generation unit 12 of the irradiation device 10, and electrically connects the operation switch 9 of the irradiation device 10 and the control unit 90 of the supply unit 20. Wiring and wiring for electrically connecting the notification unit 80 and the control unit 90 of the supply unit 20 are provided.

<他の実施形態>
なお、本発明のプラズマ式治療装置は、プラズマ発生部と、プラズマ及び活性ガスのいずれか一方又は両方を吐出するノズルと、ノズルからプラズマ及び活性ガスのいずれか一方又は両方を吐出していることを報知する報知部とを備えたものであればよく、上記の実施形態に限定されない。
<Other embodiments>
In addition, the plasma-type treatment apparatus of the present invention has a plasma generation unit, a nozzle that discharges one or both of plasma and active gas, and discharges one or both of plasma and active gas from the nozzle. It is only necessary to provide a notifying unit for notifying the user, and the present invention is not limited to the above embodiment.

例えば、図示例では、給電部50は、供給ユニット20の筐体21の内部に設けられているが、供給ユニット20から独立して設けられてもよい。
図示例では、制御部90は、供給ユニット20の筐体21の内部に設けられているが、供給ユニット20から独立して設けられてもよい。
図示例では、報知部80は、供給ユニット20の筐体21の外面に筐体21と一体に設けられている、または照射器具10のカウリング2の外周面にカウリング2と一体に設けられているが、供給ユニット20や照射器具10から独立して設けられてもよい。
図示例では、供給ユニット20は1つであるが、供給ユニットを複数設け、異種又は同種のガスの2種以上を照射器具10に供給してもよい。
For example, in the illustrated example, the power supply unit 50 is provided inside the housing 21 of the supply unit 20, but may be provided independently of the supply unit 20.
In the illustrated example, the control unit 90 is provided inside the housing 21 of the supply unit 20, but may be provided independently of the supply unit 20.
In the illustrated example, the notification unit 80 is provided integrally with the housing 21 on the outer surface of the housing 21 of the supply unit 20, or provided integrally with the cowling 2 on the outer peripheral surface of the cowling 2 of the irradiation device 10. May be provided independently of the supply unit 20 and the irradiation device 10.
In the illustrated example, the number of the supply units 20 is one. However, a plurality of supply units may be provided to supply two or more kinds of different or the same gas to the irradiation device 10.

操作スイッチ9が、上記の実施形態と異なってもよい。例えば、照射器具10に操作スイッチ9を設けることに代えて、供給ユニット20に足踏みペダルを設けてもよい。この場合、足踏みペダルを操作部とし、例えば使用者が足踏みペダルを踏んだときに、ガス供給源70からプラズマ発生用ガスをプラズマ発生部12に供給する構成を採用すること等ができる。   The operation switch 9 may be different from the above embodiment. For example, instead of providing the operation switch 9 on the irradiation device 10, a foot pedal may be provided on the supply unit 20. In this case, it is possible to adopt a configuration in which the foot pedal is used as the operation unit, and the gas for generating plasma is supplied from the gas supply source 70 to the plasma generation unit 12 when the user steps on the foot pedal, for example.

上記の実施形態では、制御部90が、操作スイッチ9からの電気信号に基づいて報知部80を制御している。他の実施形態としては、制御部90が、操作スイッチ9からの電気信号の代わりに、計測部からの情報(電流、電圧、ガス流量等)に基づいて報知部を制御してもよい。計測部は、プラズマ発生部12に供給する電気の電流を計測する電流計、プラズマ発生部12に供給する電気の電圧を計測する電圧計、及びプラズマ発生部12に供給するプラズマ発生用ガスの流量を計測する流量計からなる群から選ばれる少なくとも1種である。本実施形態における制御部90は、例えば、プラズマ発生部12に供給する電気の電流や電圧が所定値以上のときに、プラズマ発生部12でプラズマが発生していると判断して、ノズル1から活性ガスを吐出していることを報知部80に報知させる。また、制御部90は、プラズマ発生部12に供給するプラズマ発生用ガスの流量が所定値以上のときに、プラズマ発生部12でプラズマが発生していると判断して、ノズル1から活性ガスを吐出していることを報知部80に報知させる。   In the above embodiment, the control unit 90 controls the notification unit 80 based on the electric signal from the operation switch 9. As another embodiment, the control unit 90 may control the notification unit based on information (current, voltage, gas flow rate, and the like) from the measurement unit instead of the electric signal from the operation switch 9. The measuring unit is an ammeter for measuring the electric current supplied to the plasma generating unit 12, a voltmeter for measuring the voltage of the electric power supplied to the plasma generating unit 12, and the flow rate of the plasma generating gas supplied to the plasma generating unit 12. At least one selected from the group consisting of flow meters that measure The control unit 90 according to the present embodiment determines that plasma is being generated in the plasma generation unit 12 when the current or voltage of electricity supplied to the plasma generation unit 12 is equal to or higher than a predetermined value, for example. The notifying unit 80 notifies that the active gas is being discharged. Further, when the flow rate of the plasma generating gas supplied to the plasma generating unit 12 is equal to or more than a predetermined value, the control unit 90 determines that the plasma is being generated in the plasma generating unit 12 and sends the active gas from the nozzle 1. The notifying unit 80 notifies that the ink is being discharged.

上記の実施形態では、内部電極4の形状はねじ状であるが、内部電極と外部電極との間にプラズマを発生できれば、内部電極の形状は限定されない。
内部電極は、表面に凹凸を有してもよいし、表面に凹凸を有しなくてもよい。内部電極としては、外周面に凹凸を有する形状が好ましい。
内部電極の形状は、例えば、コイル状でもよいし、外周面に突起、穴、貫通孔が複数形成された棒形状又は筒形状でもよい。内部電極の断面形状としては、例えば、真円形、楕円形等の円形、四角形、六角形等の多角形を例示できる。
In the above embodiment, the shape of the internal electrode 4 is a screw shape, but the shape of the internal electrode is not limited as long as plasma can be generated between the internal electrode and the external electrode.
The internal electrode may have irregularities on the surface or may not have irregularities on the surface. As the internal electrode, a shape having irregularities on the outer peripheral surface is preferable.
The shape of the internal electrode may be, for example, a coil shape, or a rod shape or a cylindrical shape having a plurality of protrusions, holes, and through holes formed on the outer peripheral surface. Examples of the cross-sectional shape of the internal electrode include a circle such as a perfect circle and an ellipse, and a polygon such as a square and a hexagon.

その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記の実施形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、上記した実施形態や変形例を適宜組み合わせてもよい。   In addition, it is possible to appropriately replace the components in the above-described embodiments with well-known components without departing from the spirit of the present invention, and the above-described embodiments and modified examples may be appropriately combined.

本発明のプラズマ式治療装置は、口腔内用治療器具、歯科用治療器具、動物治療用器具等として有用である。本発明の治療方法は、生体組織の治癒促進に有効である。本発明の治療方法は、ヒトのみならず、ヒトを除く動物の治療にも有効である。   The plasma treatment apparatus of the present invention is useful as an intraoral treatment instrument, a dental treatment instrument, an animal treatment instrument, and the like. The treatment method of the present invention is effective for promoting healing of living tissue. The treatment method of the present invention is effective for treating not only humans but also animals other than humans.

1 ノズル、
9 操作スイッチ、
10 照射器具、
12 プラズマ発生部、
80 報知部、
90 制御部、
100 活性ガス照射装置、
100B 活性ガス照射装置。
1 nozzle,
9 operation switches,
10 irradiation equipment,
12 plasma generator,
80 Notification Department,
90 control unit,
100 active gas irradiation device,
100B Active gas irradiation device.

Claims (4)

プラズマが発生するプラズマ発生部と、
前記プラズマ及び前記プラズマによって発生した活性ガスのいずれか一方又は両方を吐出するノズルと、
前記ノズルから前記プラズマ及び前記活性ガスのいずれか一方又は両方を吐出していることを報知する報知部と
を備えた、プラズマ式治療装置。
A plasma generation unit for generating plasma;
A nozzle that discharges one or both of the plasma and the active gas generated by the plasma,
And a notifying unit for notifying that one or both of the plasma and the active gas are being discharged from the nozzle.
前記報知部が、音、光及び振動からなる群から選ばれる少なくとも1種を発する、請求項1に記載のプラズマ式治療装置。   The plasma treatment device according to claim 1, wherein the notification unit emits at least one selected from the group consisting of sound, light, and vibration. 使用者が操作することによって、前記ノズルからの前記プラズマ及び前記活性ガスのいずれか一方又は両方の吐出を開始するための電気信号を発信する操作部と、
前記操作部からの電気信号に基づいて前記報知部を制御する制御部と
をさらに備えた、請求項1又は2に記載のプラズマ式治療装置。
By operating by the user, an operating unit that transmits an electric signal for starting discharge of one or both of the plasma and the active gas from the nozzle,
The plasma treatment apparatus according to claim 1, further comprising: a control unit configured to control the notification unit based on an electric signal from the operation unit.
前記プラズマ発生部に供給する電気の電流を計測する電流計、前記プラズマ発生部に供給する電気の電圧を計測する電圧計、及び前記プラズマ発生部に供給するプラズマ発生用ガスの流量を計測する流量計からなる群から選ばれる少なくとも1種の計測部と、
前記計測部からの情報に基づいて前記報知部を制御する制御部と
をさらに備えた、請求項1又は2に記載のプラズマ式治療装置。
An ammeter for measuring a current of electricity supplied to the plasma generating unit, a voltmeter for measuring a voltage of electricity supplied to the plasma generating unit, and a flow rate for measuring a flow rate of a plasma generating gas supplied to the plasma generating unit At least one measuring unit selected from the group consisting of
The plasma treatment apparatus according to claim 1, further comprising: a control unit configured to control the notification unit based on information from the measurement unit.
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