JP2019518700A - Purification method and production method of carbonyl fluoride - Google Patents
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- SYNPRNNJJLRHTI-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)butane-1,4-diol Chemical compound OCCC(CO)CO SYNPRNNJJLRHTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 117
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 238000000746 purification Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 63
- 239000012043 crude product Substances 0.000 claims abstract description 45
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 237
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 155
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 53
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 38
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 31
- REYHXKZHIMGNSE-UHFFFAOYSA-M silver monofluoride Chemical compound [F-].[Ag+] REYHXKZHIMGNSE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 13
- 229940096017 silver fluoride Drugs 0.000 claims description 12
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 10
- GWFAVIIMQDUCRA-UHFFFAOYSA-L copper(ii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Cu+2] GWFAVIIMQDUCRA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 10
- HPNURIVGONRLQI-UHFFFAOYSA-K trifluoroeuropium Chemical compound F[Eu](F)F HPNURIVGONRLQI-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 9
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 7
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims description 7
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims description 7
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910021594 Copper(II) fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 claims description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 4
- -1 carbonyl halides Chemical class 0.000 claims 1
- JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N trifluorochlorine Chemical compound FCl(F)F JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract description 6
- 101100441092 Danio rerio crlf3 gene Proteins 0.000 abstract description 4
- 229910020323 ClF3 Inorganic materials 0.000 abstract 2
- OMRRUNXAWXNVFW-UHFFFAOYSA-N fluoridochlorine Chemical compound ClF OMRRUNXAWXNVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 89
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 39
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 38
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 38
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 16
- KNSWNNXPAWSACI-UHFFFAOYSA-N chlorine pentafluoride Chemical compound FCl(F)(F)(F)F KNSWNNXPAWSACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 11
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 4
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910016655 EuF 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016509 CuF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 2
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 2
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODNBVEIAQAZNNM-UHFFFAOYSA-N 1-(6-chloroimidazo[1,2-b]pyridazin-3-yl)ethanone Chemical compound C1=CC(Cl)=NN2C(C(=O)C)=CN=C21 ODNBVEIAQAZNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K Antimony trifluoride Inorganic materials F[Sb](F)F GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004341 Octafluorocyclobutane Substances 0.000 description 1
- CQXADFVORZEARL-UHFFFAOYSA-N Rilmenidine Chemical compound C1CC1C(C1CC1)NC1=NCCO1 CQXADFVORZEARL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(dinaphthalen-2-ylamino)phenyl]phenyl]-n-naphthalen-2-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N(C=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC(=CC=3)N(C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N octafluorocyclobutane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019407 octafluorocyclobutane Nutrition 0.000 description 1
- QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N octafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004065 perflutren Drugs 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVVTSALYXIJSS-UHFFFAOYSA-L silver(ii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ag+2] KWVVTSALYXIJSS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B9/00—General methods of preparing halides
- C01B9/08—Fluorides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
本発明は、精製ガスをフッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物と反応させ、フッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物を除去し、上記精製ガスは、ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種であることを含むフッ化カルボニルの精製方法を提供する。かかる精製方法、フッ化カルボニルの反応粗生成物を精製し、精製ガスとしてClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種を使用し、精製装置でフッ化カルボニルの反応粗生成物と反応させ、フッ化カルボニル以外の様々な不純物、特に、CO2、CO、H2O、ホスゲン(COCl2)、N2Oなどの不純物を除去し、不純物の含有量を低減させる。精製後のフッ化カルボニル精製ガスは、COF2の純度≧99.95%、CO2含有量≦150×10-6(体積比)、COCl2含有量≦150×10-6(体積比)である。In the present invention, the purified gas is reacted with the impurities in the carbonyl fluoride crude product gas to remove the impurities in the carbonyl fluoride crude product gas, and the purified gas is any of ClF, ClF3, ClF5, and F2. A method of purifying carbonyl fluoride is provided which comprises one or more. Such a purification method, a crude reaction product of carbonyl fluoride is purified, and any one or more kinds of ClF, ClF3, ClF5, and F2 are used as a purified gas, and a crude reaction product of carbonyl fluoride in a purification apparatus To remove various impurities other than carbonyl fluoride, in particular, impurities such as CO 2, CO, H 2 O, phosgene (COCl 2), N 2 O, and the like, to reduce the content of the impurities. The purified carbonyl fluoride purified gas after purification has COF 2 purity 99.9 99.95%, CO 2 content ≦ 150 × 10 −6 (volume ratio), and COCl 2 content ≦ 150 × 10 −6 (volume ratio).
Description
本発明は、化学工業の技術分野に関し、特に、フッ化カルボニルの精製方法及び製造方法に関する。 The present invention relates to the technical field of the chemical industry, and in particular to a purification method and production method of carbonyl fluoride.
現在、半導体および液晶製造の分野において、パーフルオロカーボンをエッチングガス及びクリーニングガスとすることが多いが、上記ガスは、一般的に地球温暖化係数(GWP, Global Warming Potential)値が比較的高く、温室効果を低減するために、GWPの低い代替製品を開発する必要がある。
フッ化カルボニル(COF2)は、比較的低いGWPを有する半導体用エッチングガス、半導体用クリーニングガス、及び有機合成におけるフッ素化剤ないし重要な中間体である。
At present, in the field of semiconductor and liquid crystal production, perfluorocarbon is often used as etching gas and cleaning gas, but the above gas generally has a relatively high global warming potential (GWP) value and is a greenhouse In order to reduce the effect, it is necessary to develop alternative products with low GWP.
Carbonyl fluoride (COF 2 ) is a semiconductor etching gas having relatively low GWP, a semiconductor cleaning gas, and a fluorinating agent or an important intermediate in organic synthesis.
現在、フッ化カルボニルの製造方法は、一般的に以下の4種類に分けられる。
1)一酸化炭素又は二酸化炭素をフッ素ガス、ジフルオロ銀(II)などのフッ素化剤と反応させる方法であり、当該方法は、爆発が起こりやすく、かつ高価な耐食性材料が必要であり、製造されたフッ化カルボニルの収率と純度が低い。
2)ホスゲン(COCl2)をフッ化水素、三フッ化アンチモン、三フッ化ヒ素、フッ化ナトリウムなどのフッ素化剤と反応させる方法であり、当該方法が使用する原料のホスゲンは、毒性の高い物質であり、かつ製造されたフッ化カルボニルの純度が低い。
3)トリフルオロメタンを酸素ガスと反応させる方法であり、当該方法は、反応条件が過酷であり、500℃以上の高温が必要である。
4)テトラフルオロエチレンを酸素ガスと反応させる方法であり、当該方法は、反応中において非常に大きな反応熱を生じ、爆発の危険性がある。
At present, methods for producing carbonyl fluoride are generally divided into the following four types.
1) A method in which carbon monoxide or carbon dioxide is reacted with a fluorinating agent such as fluorine gas, difluorosilver (II), etc., and the method requires an expensive corrosion resistant material which is prone to explosion and is produced. The yield and purity of carbonyl fluoride are low.
2) A method of reacting phosgene (COCl 2 ) with a fluorinating agent such as hydrogen fluoride, antimony trifluoride, arsenic trifluoride, sodium fluoride and the like, and phosgene of the raw material used by the method is highly toxic. It is a substance and the purity of the produced carbonyl fluoride is low.
3) A method of reacting trifluoromethane with oxygen gas, the reaction conditions are severe, and a high temperature of 500 ° C. or more is required.
4) A method of reacting tetrafluoroethylene with oxygen gas, which generates a very large heat of reaction during the reaction, and there is a risk of explosion.
また、以上の異なるCOF2の製造方法と反応条件により製造されたフッ化カルボニルCOF2の粗生成物ガスは、一般的に、HCl、HF、ホスゲン(COCl2)、CF4、CO2、CO、H2O、N2O、空気中のN2及びO2などの不純物を含むことが多い。中でも、COF2の沸点は−84.57℃であり、CO2の沸点は−78.45℃であり、沸点が近く、沸点の差はたった約6℃と小さく、かつCOF2とCO2分子の物理的化学的性質、分子サイズは比較的近いため、通常の吸着法、精留法による精製分離は困難である。同時にそれらはいずれもアルカリ性物質と反応しやすいために、中和による分離も困難である。現在では、国内外でCOF2中のCO2の精製について、報告された特許はほとんどない。 Also, more different COF 2 of the method for manufacturing the crude product gas manufactured carbonyl fluoride COF 2 by reaction conditions, generally, HCl, HF, phosgene (COCl 2), CF 4, CO 2, CO Often contain impurities such as H 2 O, N 2 O, N 2 and O 2 in air. Among them, the boiling point of COF 2 is -84.57 ° C, the boiling point of CO 2 is -78.45 ° C, the boiling point is close, the difference between the boiling points is as small as only about 6 ° C, and COF 2 and CO 2 molecules Because the physical and chemical properties and molecular size of these compounds are relatively close, purification and separation by conventional adsorption methods and rectification methods are difficult. At the same time, they are also susceptible to reaction with alkaline substances, so separation by neutralization is also difficult. At present, few patents have been reported for the purification of CO 2 in COF 2 at home and abroad.
上記の問題点に鑑みて、本発明の解決しようとする技術的課題は、製造されたフッ化カルボニルガスが高純度であるフッ化カルボニルの精製方法及び製造方法を提供することにある。 In view of the above problems, the technical problem to be solved by the present invention is to provide a purification method and a production method of carbonyl fluoride in which the produced carbonyl fluoride gas has high purity.
本発明は、
精製ガスをフッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物と反応させ、フッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物を除去し、前記精製ガスは、ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種であることを含む、フッ化カルボニルの精製方法を提供する。
好ましくは、前記反応の温度は、−99℃〜499℃であり、前記反応の圧力は、−0.09MPa〜5MPaである。
好ましくは、前記反応の温度は、−49℃〜299℃であり、前記反応の圧力は、−0.05MPa〜1MPaである。
好ましくは、前記反応の温度は、1℃〜199℃であり、前記反応の圧力は、−0.05MPa〜1MPaである。
好ましくは、前記反応は、さらに、反応終了後、蒸留、精留、又は凍結真空排気のような方法により精製ガス及び反応で発生する不純物を除去することを含む。
好ましくは、前記フッ化カルボニル粗生成物ガスにおける不純物は、CO2、CO、H2O、COCl2、N2Oの不純物ガスの少なくとも1つを含む。
好ましくは、前記反応は、さらに触媒を含み、前記触媒は、セシウムのフッ化物、ナトリウムのフッ化物、カリウムのフッ化物、ユウロピウムのフッ化物、銅のフッ化物、アルミニウムのフッ化物、及び銀のフッ化物のいずれか1種又は複数種を含む。
好ましくは、前記精製ガスとフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は、100〜0.001: 1である。
The present invention
The purified gas is reacted with the impurities in the carbonyl fluoride crude product gas to remove the impurities in the carbonyl fluoride crude product gas, and the purified gas is any of ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 Provided is a method for purifying carbonyl fluoride, which comprises one or more species.
Preferably, the temperature of the reaction is -99 ° C to 499 ° C, and the pressure of the reaction is -0.09 MPa to 5 MPa.
Preferably, the temperature of the reaction is −49 ° C. to 299 ° C., and the pressure of the reaction is −0.05 MPa to 1 MPa.
Preferably, the temperature of the reaction is 1 ° C. to 199 ° C., and the pressure of the reaction is −0.05 MPa to 1 MPa.
Preferably, the reaction further comprises removing purified gas and impurities generated in the reaction after completion of the reaction by a method such as distillation, rectification or freeze evacuation.
Preferably, the impurities in the carbonyl fluoride crude product gas include at least one of an impurity gas of CO 2 , CO, H 2 O, COCl 2 , N 2 O.
Preferably, said reaction further comprises a catalyst, said catalyst comprising: cesium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, europium fluoride, copper fluoride, aluminum fluoride, and silver fluoride Containing any one or more of the halides.
Preferably, the molar ratio of the purified gas to the carbonyl fluoride crude product gas is 100 to 0.001: 1.
本発明は、さらに、
CO、CO2のいずれか1種又は複数種をフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製し、前記フッ素含有ガスは、ClF、ClF3、及びClF5のいずれか1種又は複数種であり、
あるいは、COFClをフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製し、前記フッ素含有ガスは、ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種ことを含む、フッ化カルボニルの製造方法を提供する。
好ましくは、前記反応の温度は、−99℃〜499℃であり、前記反応の圧力は、−0.09MPa〜5MPaである。
好ましくは、前記反応の温度は、−49℃〜299℃であり、前記反応の圧力は、−0.05MPa〜1MPaである。
好ましくは、前記反応の温度は、1℃〜199℃であり、前記反応の圧力は、−0.05MPa〜1MPaである。
好ましくは、前記フッ素含有ガスとCO、CO2のいずれか1種又は複数種、又はCOFClとのモル比は、100〜0.001: 1である。
好ましくは、前記反応は、さらに触媒を含み、前記触媒は、セシウムのフッ化物、ナトリウムのフッ化物、カリウムのフッ化物、ユウロピウムのフッ化物、銅のフッ化物、アルミニウムのフッ化物、及び銀のフッ化物のいずれか1種又は複数種を含む。
The invention further provides:
Any one or more of CO and CO 2 are reacted with a fluorine-containing gas to prepare carbonyl fluoride, and the fluorine-containing gas is any one or more of ClF, ClF 3 , and ClF 5 Yes,
Alternatively, COFCl is reacted with a fluorine-containing gas to prepare carbonyl fluoride, and the fluorine-containing gas contains any one or more of ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2. Provide a manufacturing method of
Preferably, the temperature of the reaction is -99 ° C to 499 ° C, and the pressure of the reaction is -0.09 MPa to 5 MPa.
Preferably, the temperature of the reaction is −49 ° C. to 299 ° C., and the pressure of the reaction is −0.05 MPa to 1 MPa.
Preferably, the temperature of the reaction is 1 ° C. to 199 ° C., and the pressure of the reaction is −0.05 MPa to 1 MPa.
Preferably, the molar ratio of the fluorine-containing gas to one or more of CO and CO 2 , or COFCl is 100 to 0.001: 1.
Preferably, said reaction further comprises a catalyst, said catalyst comprising: cesium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, europium fluoride, copper fluoride, aluminum fluoride, and silver fluoride Containing any one or more of the halides.
本発明は、従来技術と比較して、精製ガスをフッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物と反応させ、フッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物を除去し、前記精製ガスは、ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種であることを含むフッ化カルボニルの精製方法を提供する。本発明が提供する精製方法は、フッ化カルボニルの反応粗生成物を精製し、ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種を精製ガスとし、精製装置でフッ化カルボニルの反応粗生成物と反応させ、フッ化カルボニル以外の様々な不純物、特に、CO2、CO、H2O、ホスゲン(COCl2)、N2Oなどの不純物を除去し、不純物の含有量を大きく低減させる。精製されたフッ化カルボニル精製ガスは、COF2純度≧99.95%、CO2含有量≦150×10-6(体積比)、COCl2含有量≦150×10-6(体積比)である。 According to the present invention, the purified gas is reacted with the impurities in the carbonyl fluoride crude product gas to remove the impurities in the carbonyl fluoride crude product gas, compared with the prior art, and the purified gas is ClF, ClF 3, ClF 5, and provides a method for purifying carbonyl fluoride containing that any one or more of F 2. In the purification method provided by the present invention, a crude reaction product of carbonyl fluoride is purified, and any one or more of ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 are used as a purified gas, and fluorination is performed in a purification apparatus. React with the reaction crude product of carbonyl to remove various impurities other than carbonyl fluoride, in particular, impurities such as CO 2 , CO, H 2 O, phosgene (COCl 2 ), N 2 O, etc., and the content of impurities Greatly reduce The purified carbonyl fluoride purified gas has COF 2 purity 99.9 99.95%, CO 2 content ≦ 150 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 content ≦ 150 × 10 −6 (volume ratio) .
本発明は、さらに、CO、CO2のいずれか1種又は複数種をフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製する(前記フッ素含有ガスは、ClF、ClF3、及びClF5のいずれか1種又は複数種である)、又は、COFClとフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製する(前記フッ素含有ガスは、ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種である)ことを含むフッ化カルボニルの製造方法を提供する。本発明は、上記ガスを原料として使用し、調製されたフッ化カルボニルガスが、高い収率及び純度を有する。同時に、より高い安定性と経済的利益がある。 In the present invention, one or more of CO and CO 2 are further reacted with a fluorine-containing gas to prepare carbonyl fluoride (the fluorine-containing gas is any of ClF, ClF 3 , and ClF 5 ). Or one or more of them are reacted with COFCl and a fluorine-containing gas to prepare a carbonyl fluoride (the fluorine-containing gas is any one or more of ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 ) The present invention provides a method for producing carbonyl fluoride, which comprises two or more species. The present invention uses the above gas as a raw material, and the prepared carbonyl fluoride gas has high yield and purity. At the same time, there is higher stability and economic benefits.
本発明は、精製ガスをフッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物と反応させ、フッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物を除去する(上記精製ガスは、ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種である)ことを含むフッ化カルボニルの精製方法を提供する。
本発明が提供する精製方法は、フッ化カルボニルの反応粗生成物を精製し、ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種を精製ガスとし、フッ化カルボニル粗生成物ガスと接触させることにより、精製装置で精製ガスをフッ化カルボニルの反応粗生成物中の不純物と反応させ、フッ化カルボニル以外の様々な不純物、特に、CO2、CO、H2O、ホスゲン(COCl2)、N2Oなどの不純物を除去し、不純物の含有量を大きく低減させ、操作プロセスが簡単であるとともに、フッ化カルボニルの収率を向上させる。
In the present invention, the purified gas is reacted with the impurities in the carbonyl fluoride crude product gas to remove the impurities in the carbonyl fluoride crude product gas (the above purified gases are ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F). A method for purifying carbonyl fluoride comprising the step of
In the purification method provided by the present invention, a crude reaction product of carbonyl fluoride is purified, and any one or more of ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 is used as a purified gas to produce carbonyl fluoride crudely. The purified gas is reacted with impurities in the reaction crude product of carbonyl fluoride in the purification apparatus by contacting with the gaseous product, and various impurities other than carbonyl fluoride, in particular, CO 2 , CO, H 2 O, phosgene The impurities such as (COCl 2 ) and N 2 O are removed, the content of the impurities is greatly reduced, the operation process is simple, and the yield of carbonyl fluoride is improved.
本発明にかかるフッ化カルボニル粗生成物ガスは、CO2、CO、H2O、COCl2、N2Oの不純物ガスを含むことが好ましく、CO2、COCl2含有量の多いガスを含むことがより好ましい。上記不純物の含有量≦10%(体積比)であることが好ましい。上記CO2不純物ガスの含有量≦5%(体積比)であることがより好ましく、上記COCl2不純物ガスの含有量≦5%(体積比)であることがさらに好ましい。
本発明は、かかるClF、ClF3、ClF5、及びF2には特に制限はないが、当該分野における通常のClF、ClF3、ClF5、及びF2であればよい。
The carbonyl fluoride crude product gas according to the present invention preferably contains an impurity gas of CO 2 , CO, H 2 O, COCl 2 , N 2 O, and contains a gas having a high content of CO 2 , COCl 2. Is more preferred. It is preferable that it is content of the said impurity <= 10% (volume ratio). The content of the CO 2 impurity gas is preferably 5% (volume ratio), and the content of the COCl 2 impurity gas is preferably 5% (volume ratio).
The present invention, according ClF, ClF 3, ClF 5, and is not particularly limited to F 2, conventional ClF in the art, ClF 3, ClF 5, and may be a F 2.
上記精製ガスは、単独で用いてもよいし、順番に用いてもよく、例えば、本発明における幾つかの具体的な実施例において、まず、三フッ化塩素(ClF3)で精製し、さらに、一フッ化塩素(ClF)で精製し、本発明における他の幾つかの実施例において、まず、一フッ化塩素(ClF)で精製し、さらに、三フッ化塩素(ClF3)で精製する。
ここで、常圧下(101.325kPa)、COF2の沸点は−84.57℃であり、ホスゲン(COCl2)の沸点は7.56℃であり、CO2の沸点は−78.45℃であり、COの沸点は−191.45℃であり、H2の沸点は−252.76℃であり、H2Oの沸点は100℃であり、O2の沸点は−182.98℃であり、Cl2の沸点は−34.03℃であり、ClF3の沸点は11.75℃であり、ClFの沸点は−100.1℃であり、ClF5の沸点は−13.1 ℃であり、F2の沸点は−188.2℃である。精製ガスにより精製された後、フッ化カルボニル粗生成物ガス中の複数種の不純物は反応して除去され、特に、CO2などの分離しにくい不純物と精製ガスとは反応して精製しやすい不純物となる。
The above purified gases may be used alone or in sequence, for example, in some specific embodiments of the present invention, first purified with chlorine trifluoride (ClF 3 ), , and purified by chlorine monofluoride (ClF), in some other embodiments of the present invention, first, purified by chlorine monofluoride (ClF), further purified by chlorine trifluoride (ClF 3) .
Here, under normal pressure (101.325 kPa), the boiling point of COF 2 is −84.57 ° C., the boiling point of phosgene (COCl 2 ) is 7.56 ° C., and the boiling point of CO 2 is −78.45 ° C. The boiling point of CO is -191.45 ° C, the boiling point of H 2 is -252.76 ° C, the boiling point of H 2 O is 100 ° C, and the boiling point of O 2 is -182.98 ° C. The boiling point of Cl 2 is −34.03 ° C., the boiling point of ClF 3 is 11.75 ° C., the boiling point of ClF is −100.1 ° C., and the boiling point of ClF 5 is −13.1 ° C. , F 2 boiling point is-188.2 ° C. After purification with a purified gas, several impurities in the carbonyl fluoride crude product gas are reacted and removed, and in particular, impurities that are difficult to separate such as CO 2 react with the purified gas and impurities that are easy to purify It becomes.
上記反応中において、かかる反応の温度は、−99℃〜499℃であることが好ましく、−49℃〜299℃であることがより好ましく、1℃〜199℃であることが最も好ましく、かかる反応の圧力は、−0.09MPa〜5MPaであることがことが好ましく、−0.05MPa〜1MPaであることがより好ましい。かかる圧力の数値は、ゲージ圧である。
好ましくは、かかるClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種、即ち精製ガスの全量とフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は、100〜0.001: 1であり、より好ましくは、50〜0.1: 1である。
During the above reaction, the temperature of such reaction is preferably -99 ° C to 499 ° C, more preferably -49 ° C to 299 ° C, and most preferably 1 ° C to 199 ° C, such reaction It is preferable that it is -0.09MPa-5MPa, and it is more preferable that it is -0.05MPa-1MPa. The value of such pressure is gauge pressure.
Preferably, the molar ratio of any one or more of such ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 , that is, the total amount of the purified gas to the carbonyl fluoride crude product gas is 100 to 0.001: 1. More preferably, it is 50 to 0.1: 1.
反応終了後で得られたものは、フッ化カルボニル精製ガスと残った精製ガスと反応副生成物との混合物であり、本発明は、さらに通常の蒸留、精留、又は凍結真空排気の方法により、残った精製ガス及び反応中において発生する不純物を除去することが好ましい。
本発明は、好ましくは、上記反応が、さらに、セシウムのフッ化物(好ましくは、CsF)、ナトリウムのフッ化物(好ましくは、NaF)、カリウムのフッ化物(好ましくは、KF)、ユウロピウムのフッ化物(好ましくは、EuF3)、銅のフッ化物(好ましくは、CuF2)、アルミニウムのフッ化物(好ましくは、AlF3)和銀のフッ化物(好ましくは、AgF)のいずれか1種又は複数種を含むことが好ましい触媒を含む。
What is obtained after completion of the reaction is a mixture of a purified gas of carbonyl fluoride, a remaining purified gas and a reaction by-product, and the present invention is further subjected to a conventional distillation, rectification or freeze evacuation method. It is preferable to remove the remaining purified gas and impurities generated during the reaction.
In the present invention, preferably, the above reaction further comprises a fluoride of cesium (preferably CsF), a fluoride of sodium (preferably NaF), a fluoride of potassium (preferably KF), a fluoride of europium (Preferably, EuF 3 ), fluoride of copper (preferably CuF 2 ), fluoride of aluminum (preferably AlF 3 ) mixed silver fluoride (preferably AgF) It is preferable to include a catalyst.
本発明は、上記触媒の用量には特に制限はないが、触媒の通常の用量であってもよいし、又は実験に従って自分で決定されてもよい。
本発明で得られたフッ化カルボニル精製ガスは、COF2の純度≧99.95%、CO2含有量≦150×10-6(体積比)、COCl2含有量≦150×10-6(体積比)である。
The present invention is not particularly limited to the dose of the above catalyst, but may be a normal dose of the catalyst, or may be determined by experiment according to an experiment.
The purified carbonyl fluoride gas obtained in the present invention has a purity of 99.999.95% of COF 2 , a CO 2 content ≦ 150 × 10 −6 (volume ratio), a COCl 2 content ≦ 150 × 10 −6 (volume) Ratio).
本発明は、さらに、
CO、CO2のいずれか1種又は複数種をフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製し、上記フッ素含有ガスは、ClF、ClF3、及びClF5のいずれか1種又は複数種であり、
或いは、COFClをフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製し、上記フッ素含有ガスは、ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種であることを含むフッ化カルボニルの製造方法を提供する。
The invention further provides:
Any one or more of CO and CO 2 are reacted with a fluorine-containing gas to prepare carbonyl fluoride, and the fluorine-containing gas is any one or more of ClF, ClF 3 , and ClF 5 Yes,
Alternatively, COFCl is reacted with a fluorine-containing gas to prepare carbonyl fluoride, wherein the fluorine-containing gas is any one or more of ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 . Provided is a method of producing a carbonyl.
本発明は、CO、CO2、及びCOFClのいずれか1種又は複数種、並びにClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種を原料として、調製されたフッ化カルボニルガスが、高い収率及び純度を有する。同時に、より高い安全性と経済的利益がある。
本発明は、上記CO、CO2、及びCOFClには特に制限はないが、当該分野における通常のCO、CO2、及びCOFClであればよい。
本発明は上記ClF、ClF3、ClF5、及びF2には特に制限はないが、当該分野における通常のClF、ClF3、ClF5、及びF2であればよい。
The present invention is a carbonyl fluoride prepared from any one or more of CO, CO 2 , and COFCl, and any one or more of ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 as a raw material The gas has a high yield and purity. At the same time, there are higher security and economic benefits.
The present invention is not particularly limited to the above-mentioned CO, CO 2 and COFCl, but it may be usual CO, CO 2 and COFCl in the relevant field.
The present invention is not particularly limited to the above ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 , but may be ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 which are usual in the art.
上記ClF、ClF3、ClF5、及びF2原料ガスは、単独で用いてもよいし、順番に用いてもよく、例えば、本発明における幾つかの具体的な実施例において、まず、三フッ化塩素(ClF3)を使用して調製し、さらに一フッ化塩素(ClF)を使用して調製し、本発明における他の幾つかの実施例において、まず、一フッ化塩素(ClF)を使用して調製し、さらに三フッ化塩素(ClF3)を使用して調製する。 The above ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 source gases may be used alone or sequentially, and for example, in some specific embodiments of the present invention, Prepared using chlorine chloride (ClF 3 ) and further using chlorine monofluoride (ClF), and in some other embodiments of the present invention, chlorine monofluoride (ClF) is first added Prepared using and further using chlorine trifluoride (ClF 3 ).
上記反応中において、かかる反応の温度は、−99℃〜499℃であることが好ましく、−49℃〜299℃であることがより好ましく、1℃〜199℃である最も好ましく、かかる反応の圧力は、−0.09MPa〜5MPaであることが好ましく、−0.05MPa〜1MPaであることがより好ましい。上記圧力の数値は、ゲージ圧である。
好ましくは、かかるClF、ClF3、及びClF5のいずれか1種又は複数種、即ちフッ素含有ガスの全量とCO、CO2のいずれか1種又は複数種とのモル比は、100〜0.001: 1であることが好ましく、50〜1: 1であることがより好ましい。
During the above reaction, the temperature of such reaction is preferably -99 ° C to 499 ° C, more preferably -49 ° C to 299 ° C, most preferably 1 ° C to 199 ° C, the pressure of such reaction It is preferable that it is -0.09MPa-5MPa, and it is more preferable that it is -0.05MPa-1MPa. The value of the pressure is a gauge pressure.
Preferably, the molar ratio of any one or more of ClF, ClF 3 , and ClF 5 , that is, the total amount of fluorine-containing gas, and one or more of CO, CO 2 is 100 to 0. It is preferable that it is 001: 1, and it is more preferable that it is 50-1: 1.
上記ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種、即ちフッ素含有ガスの全量とCOFClとのモル比は、100〜0.001: 1であることが好ましく、50〜1: 1であることがより好ましい。
反応終了後で得られたものは、フッ化カルボニル精製ガスと残た原料ガスと反応で発生する他のガスとの混合物であり、本発明は、通常の蒸留、精留、又は凍結真空排気の方法により残た原料ガス及び反応で発生する他のガスを除去することが好ましい。
The molar ratio of any one or more of ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 , that is, the total amount of fluorine-containing gas to COFCl is preferably 100 to 0.001: 1, More preferably, 1: 1.
What is obtained after completion of the reaction is a mixture of a purified gas of carbonyl fluoride and the remaining raw material gas and the other gases generated in the reaction, and the present invention is based on the conventional distillation, rectification or freeze evacuation. It is preferable to remove the raw material gas left by the method and other gases generated in the reaction.
本発明では、好ましくは、上記反応が、さらに、セシウムのフッ化物(好ましくは、CsF)、ナトリウムのフッ化物(好ましくは、NaF)、カリウムのフッ化物(好ましくは、KF)、ユウロピウムのフッ化物(好ましくは、EuF3)、銅のフッ化物(好ましくは、CuF2)、アルミニウムのフッ化物(好ましくは、AlF3)、及び銀のフッ化物(好ましくは、AgF)のいずれか1種又は複数種を含むことが好ましい触媒を含む。
本発明は、上記触媒の用量には特に制限はないが、触媒の通常の用量であってもよく、又は実験に従って自分で決定してもよい。
In the present invention, preferably, the above reaction further comprises a fluoride of cesium (preferably CsF), a fluoride of sodium (preferably NaF), a fluoride of potassium (preferably KF), a fluoride of europium (Preferably, EuF 3 ), copper fluoride (preferably CuF 2 ), aluminum fluoride (preferably AlF 3 ), and silver fluoride (preferably AgF) or any one or more thereof It contains a catalyst that preferably contains a species.
The present invention is not particularly limited to the dose of the above catalyst, but it may be a normal dose of the catalyst, or may be determined by experiment according to an experiment.
本発明は、調製されたフッ化カルボニルの用途には特に制限はないが、例えば、半導体製造装置のクリーニングガス及びエッチングガス、有機合成におけるフッ素化剤、原料、中間体などの他の広い分野に用いられることが好ましい。中でも、純度が高いため、半導体製造装置のクリーニングガス及びエッチングガスにさらに適用することができる。エッチング及びクリーニング条件は、プラズマエッチング、気相エッチング、イオンビームエッチング、マイクロ波エッチング、反応性エッチングなどのエッチング条件、及び対応するクリーニング条件であってもよい。上記フッ化カルボニルは、単独又は他のエッチングガス、クリーニングガスと混合物として用いてもよく、他のガスは、例えば、三フッ化窒素(NF3)、四フッ化炭素(CF4)、ヘキサフルオロエタン(C2F6)、オクタフルオロプロパン(C3F8)、オクタフルオロシクロブタン(C4F8)、1、3-ブタジエン、フッ化水素(HF)、塩化水素(HCl)、臭化水素(HBr)、塩素ガス(Cl2)、六フッ化硫黄(SF6)、四フッ化ケイ素(SiF4)、CHF3、CClF3、C2ClF5、BCl3、HFCl2、フッ素ガス(F2)などのガス、及び上記ガスと不活性ガス、希釈用ガス(例えば、He、N2、Ar、O2、H2など)との混合ガスである。混合する量の割合は特に制限されず、用途に応じて適宜選択することができる。 The present invention is not particularly limited in the application of the prepared carbonyl fluoride, but, for example, in other broad fields such as cleaning gas and etching gas for semiconductor manufacturing equipment, fluorination agent in organic synthesis, raw materials, intermediates, etc. Preferably it is used. Among them, since the purity is high, it can be further applied to a cleaning gas and an etching gas of a semiconductor manufacturing apparatus. The etching and cleaning conditions may be etching conditions such as plasma etching, gas phase etching, ion beam etching, microwave etching, reactive etching and the like and corresponding cleaning conditions. The above carbonyl fluoride may be used alone or as a mixture with other etching gas and cleaning gas, and the other gas may be, for example, nitrogen trifluoride (NF 3 ), carbon tetrafluoride (CF 4 ), hexafluorocarbon Ethane (C 2 F 6 ), octafluoropropane (C 3 F 8 ), octafluorocyclobutane (C 4 F 8 ), 1,3-butadiene, hydrogen fluoride (HF), hydrogen chloride (HCl), hydrogen bromide (HBr), chlorine gas (Cl 2 ), sulfur hexafluoride (SF 6 ), silicon tetrafluoride (SiF 4 ), CHF 3 , CClF 3 , C 2 ClF 5 , BCl 3 , HFCl 2 , fluorine gas (F 2 ) and the like, and a mixed gas of the above-mentioned gas with an inert gas and a dilution gas (for example, He, N 2 , Ar, O 2 , H 2, etc.). The ratio of the amount to be mixed is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the application.
以下、本発明をさらに説明するために、本発明が提供するフッ化カルボニルの精製方法及び製造方法を、実施例を用いて詳細に説明する。
本発明において、上記圧力とは、特に言及しなければ、いずれもゲージ圧を意味する。
収率とは、ある生成物の理論収量に対する実際に得られた収量の割合を意味する。収率の計算は、使用量が不足である原料に基づいて計算する。
ここで、実施例1〜24は、フッ化カルボニル粗生成物ガスの精製プロセスの実施例であり、実験の必要に応じて上記特定の不純物を含むフッ化カルボニル粗生成物ガスを配合する。中でも、フッ化カルボニル粗生成物ガス中のCO2、CO、ホスゲン(COCl2)、N2O不純物の含有量は、それぞれ200×10-6(体積比)である。
Hereinafter, in order to further explain the present invention, the purification method and production method of carbonyl fluoride provided by the present invention will be described in detail using examples.
In the present invention, the above-mentioned pressure means any gauge pressure unless specifically mentioned.
The term "yield" means the ratio of the actually obtained yield to the theoretical yield of a certain product. The calculation of yield is based on the raw material which is used in short.
Here, Examples 1 to 24 are examples of the purification process of the carbonyl fluoride crude product gas, and the carbonyl fluoride crude product gas containing the above-mentioned specific impurities is blended according to the necessity of the experiment. Among them, the contents of CO 2 , CO, phosgene (COCl 2 ), and N 2 O impurities in the carbonyl fluoride crude product gas are each 200 × 10 −6 (volume ratio).
実施例1
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥された5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、三フッ化塩素を導入して反応させ、ClF3とフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は、1:1である。反応温度は499℃であり、反応圧力は5MPaであり、上記反応釜の排気口から反応生成物を排出し、温度が−110℃の低温冷却トラップに導入し、凍結真空排気の方法により不純物を除去し、精製されたガスをフッ化カルボニル精製ガスの貯蔵タンクに収集し、精製されたガスを検出した。
具体的には、精製されたガスをガスクロマトグラフ−質量分析計(GC−MS、型番:株式会社島津製作所製GC−2014)とフーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR、型番:Nicolet6700)に導入し、その組成を分析した。収集されたガスは、GC−MS及びFT−IRによりフッ化カルボニルと確認され、ガスクロマトグラフのデータ結果の主成分の積分面積から主成分の純度を算出した。
Example 1
Five moles of COF 2 crude product gas are introduced into the dried 5 L stainless steel reaction vessel, and then chlorine trifluoride is introduced and reacted, and the molar ratio of ClF 3 to carbonyl fluoride crude product gas is , 1: 1. The reaction temperature is 499 ° C., the reaction pressure is 5 MPa, the reaction product is discharged from the exhaust port of the reaction kettle, introduced into a low temperature cooling trap with a temperature of −110 ° C., and impurities are removed by a freeze evacuation method. The removed and purified gas was collected in a storage tank of carbonyl fluoride purified gas to detect the purified gas.
Specifically, the purified gas is used as a gas chromatograph-mass spectrometer (GC-MS, model number: GC-2014 manufactured by Shimadzu Corporation) and a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR, model number: Nicolet 6700) It was introduced and its composition was analyzed. The collected gas was confirmed as carbonyl fluoride by GC-MS and FT-IR, and the purity of the main component was calculated from the integrated area of the main component in the data result of the gas chromatograph.
ここで、ガスクロマトグラフによる測定には、Porapakカラム、モレキュラーシーブ13Xカラムを使用し、キャリアガスとしてHeガスを使用し、TCD検出器を使用し、Heキャリアガスの流速が60mL/minであり、カラム温度が23℃であり、注入口温度が60℃であり、TCD温度が60℃である。ガスクロマトグラムの最大のピークは、フッ化カルボニルに由来するピークである。
精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<50×10-6(体積比)、COCl2含有量<50×10-6(体積比)、CO含有量<5×10-6(体積比)、N2O含有量<5×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Here, for measurement by gas chromatography, using a Porapak column or a molecular sieve 13X column, using He gas as a carrier gas, using a TCD detector, the flow rate of the He carrier gas is 60 mL / min, and the column The temperature is 23 ° C., the inlet temperature is 60 ° C., and the TCD temperature is 60 ° C. The largest peak of the gas chromatogram is a peak derived from carbonyl fluoride.
When the purified gas was detected, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <50 × 10 −6 (volume ratio), the COCl 2 content <50 × 10 − 6 (volume ratio), CO content <5 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <5 × 10 -6 (volume ratio) were revealed.
実施例2
反応釜において、反応温度は−99℃であり、反応圧力は−0.09MPaであり、反応中において、触媒としてセシウムのフッ化物(CsF)2gを使用し、ClF3とフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は1000:1となった以外は、実施例1と同様にした。
実施例1の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<150×10-6(体積比)、COCl2含有量<150×10-6(体積比)、CO含有量<15×10-6(体積比)、N2O含有量<15×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 2
In the reaction kettle, the reaction temperature is −99 ° C., the reaction pressure is −0.09 MPa, and 2 g of cesium fluoride (CsF) is used as a catalyst during the reaction, ClF 3 and carbonyl fluoride crude product The procedure of Example 1 was repeated except that the molar ratio to gas was 1000: 1.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 1, the purified gas was carbonyl fluoride, the purity was 99.95%, the impurity CO 2 content <150 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <150 × 10 -6 (volume ratio), CO content <15 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <15 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例3
反応釜において、反応温度は299℃であり、反応圧力は1MPaであり、触媒としてナトリウムのフッ化物(NaF)2gを使用し、ClF3とフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は0.001:1となった以外は、実施例1と同様にした。
実施例1の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<70×10-6(体積比)、COCl2含有量<70×10-6(体積比)、CO含有量<7×10-6(体積比)、N2O含有量<7×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 3
In the reaction kettle, the reaction temperature is 299 ° C., the reaction pressure is 1 MPa, 2 g of sodium fluoride (NaF) is used as a catalyst, and the molar ratio of ClF 3 to carbonyl fluoride crude product gas is 0. The same procedure as in Example 1 was performed except that the ratio was 001: 1.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 1, the purified gas was carbonyl fluoride, the purity was 99.95%, the impurity CO 2 content <70 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <70 × 10 -6 (volume ratio), CO content <7 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <7 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例4
反応釜において、反応温度は199℃であり、反応圧力は−0.05MPaであり、触媒としてカリウムのフッ化物(KF)2gを使用した以外は、実施例1と同様にした。
実施例1の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<80×10-6(体積比)、COCl2含有量<80×10-6(体積比)、CO含有量<8×10-6(体積比)、N2O含有量<8×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 4
In the reaction kettle, the reaction temperature was 199 ° C., the reaction pressure was −0.05 MPa, and the same procedure as Example 1 was followed, except that 2 g of potassium fluoride (KF) was used as a catalyst.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 1, the purified gas was carbonyl fluoride, the purity was 99.95%, the impurity CO 2 content <80 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <80 × 10 -6 (volume ratio), CO content <8 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <8 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例5
反応釜において、反応温度は1℃であり、反応圧力は1MPaであり、触媒としてユウロピウムのフッ化物(EuF3)2gを使用した以外は、実施例1と同様にした。
実施例1の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<100×10-6(体積比)、COCl2含有量<100×10-6(体積比)、CO含有量<10×10-6(体積比)、N2O含有量<10×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 5
In the reaction kettle, the reaction temperature was 1 ° C., the reaction pressure was 1 MPa, and the procedure was the same as in Example 1 except that 2 g of europium fluoride (EuF 3 ) was used as a catalyst.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 1, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <100 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <100 × 10 -6 (volume ratio), CO content <10 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <10 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例6
反応釜において、反応温度は−49℃であり、反応圧力は5MPaであり、触媒として銅のフッ化物(CuF2)2gを使用した以外は、実施例1と同様にした。
実施例1の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<120×10-6(体積比)、COCl2含有量<120×10-6(体積比)、CO含有量<12×10-6(体積比)、N2O含有量<12×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 6
In the reaction kettle, the reaction temperature was −49 ° C., the reaction pressure was 5 MPa, and the same procedure as Example 1 was followed, except that 2 g of copper fluoride (CuF 2 ) was used as a catalyst.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 1, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <120 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <120 × 10 -6 (volume ratio), CO content <12 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <12 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例7
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応温度は499℃であり、反応圧力は5MPaであり、実施例1と同様にした。
実施例1の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<50×10-6(体積比)、COCl2含有量<50×10-6(体積比)、CO含有量<5×10-6(体積比)、N2O含有量<5×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 7
5 moles of COF 2 crude product gas is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 moles of chlorine monofluoride are introduced and reacted, the reaction temperature is 499 ° C., and the reaction pressure is 5 MPa The same as in Example 1.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 1, the purified gas was carbonyl fluoride, the purity was 99.95%, the impurity CO 2 content <50 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <50 × 10 -6 (volume ratio), CO content <5 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <5 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例8
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてアルミニウムのフッ化物(AlF3)2gを使用した以外は、実施例2と同様にした。
実施例2の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<150×10-6(体積比)、COCl2含有量<150×10-6(体積比)、CO含有量<15×10-6(体積比)、N2O含有量<15×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 8
Five moles of COF 2 crude product gas are introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then five moles of chlorine monofluoride are introduced and reacted, 2 g of aluminum fluoride (AlF 3 ) as a catalyst during the reaction Were the same as in Example 2 except that
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 2, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <150 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <150 × 10 -6 (volume ratio), CO content <15 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <15 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例9
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応中において触媒として銀のフッ化物(AgF)2gを使用した以外は、実施例3と同様にした。
実施例3の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<70×10-6(体積比)、COCl2含有量<70×10-6(体積比)、CO含有量<7×10-6(体積比)、N2O含有量<7×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 9
Five moles of COF 2 crude product gas are introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then five moles of chlorine monofluoride are introduced and reacted, and 2 g of silver fluoride (AgF) is reacted as a catalyst during the reaction The same as in Example 3 except that it was used.
The purified gas was detected under the detection conditions of Example 3. The purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <70 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <70 × 10 -6 (volume ratio), CO content <7 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <7 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例10
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物(CsF)2gを使用した以外は、実施例4と同様にした。
実施例4の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<80×10-6(体積比)、COCl2含有量<80×10-6(体積比)、CO含有量<8×10-6(体積比)、N2O含有量<8×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 10
Five moles of COF 2 crude product gas are introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then five moles of chlorine monofluoride are introduced and reacted, and 2 g of cesium fluoride (CsF) as a catalyst is reacted during the reaction The same as Example 4 was carried out except that it was used.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 4, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <80 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <80 × 10 -6 (volume ratio), CO content <8 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <8 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例11
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてナトリウムのフッ化物(NaF)2gを使用した以外は、実施例5と同様にした。
実施例5の条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<100×10-6(体積比)、COCl2含有量<100×10-6(体積比)、CO含有量<10×10-6(体積比)、N2O含有量<10×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 11
Five moles of COF 2 crude product gas are introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then five moles of chlorine monofluoride are introduced and reacted, and 2 g of sodium fluoride (NaF) is reacted as a catalyst during the reaction Example 5 was repeated except that it was used.
When the purified gas was detected under the conditions of Example 5, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <100 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 contained It was revealed that the amount <100 × 10 -6 (volume ratio), the CO content <10 × 10 -6 (volume ratio), and the N 2 O content <10 × 10 -6 (volume ratio).
実施例12
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてカリウムのフッ化物(KF)2gを使用した以外は、実施例6と同様にした。
実施例6の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<120×10-6(体積比)、COCl2含有量<120×10-6(体積比)、CO含有量<12×10-6(体積比)、N2O含有量<12×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 12
Five moles of COF 2 crude product gas are introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then five moles of chlorine monofluoride are introduced and reacted, and 2 g of potassium fluoride (KF) as a catalyst is reacted during the reaction The same as Example 6 was carried out except that it was used.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 6, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <120 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <120 × 10 -6 (volume ratio), CO content <12 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <12 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例13
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入して反応させた以外は、実施例1と同様にした。
実施例1の条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<50×10-6(体積比)、COCl2含有量<50×10-6(体積比)、CO含有量<5×10-6(体積比)、N2O含有量<5×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 13
The procedure of Example 1 was repeated except that 5 moles of the COF 2 crude product gas was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 moles of chlorine pentafluoride were introduced and reacted.
When the purified gas was detected under the conditions of Example 1, the purified gas was carbonyl fluoride, the purity was 99.95%, the impurity CO 2 content <50 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 contained It was revealed that the amount <50 × 10 -6 (volume ratio), the CO content <5 × 10 -6 (volume ratio), and the N 2 O content <5 × 10 -6 (volume ratio).
実施例14
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてユウロピウムのフッ化物(EuF3)2gを使用した以外は、実施例2と同様にした。
実施例2の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<150×10-6(体積比)、COCl2含有量<150×10-6(体積比)、CO含有量<15×10-6(体積比)、N2O含有量<15×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 14
Five moles of COF 2 crude product gas are introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then five moles of chlorine pentafluoride are introduced and reacted, and 2 g of europium fluoride (EuF 3 ) as a catalyst during the reaction Were the same as in Example 2 except that
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 2, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <150 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <150 × 10 -6 (volume ratio), CO content <15 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <15 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例15
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応中において触媒として銅のフッ化物(CuF2)2gを使用した以外は、実施例3と同様にした。
実施例3の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<70×10-6(体積比)、COCl2含有量<70×10-6(体積比)、CO含有量<7×10-6(体積比)、N2O含有量<7×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 15
5 moles of COF 2 crude product gas is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 moles of chlorine pentafluoride are introduced and reacted, 2 g of copper fluoride (CuF 2 ) as a catalyst during the reaction Example 6 was the same as Example 3 except that
The purified gas was detected under the detection conditions of Example 3. The purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <70 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <70 × 10 -6 (volume ratio), CO content <7 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <7 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例16
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物(CsF)2gを使用した以外は、実施例4と同様にした。
実施例4の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<80×10-6(体積比)、COCl2含有量<80×10-6(体積比)、CO含有量<8×10-6(体積比)、N2O含有量<8×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 16
5 moles of COF 2 crude product gas is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 moles of chlorine pentafluoride are introduced and reacted, 2 g of cesium fluoride (CsF) as a catalyst during the reaction The same as Example 4 was carried out except that it was used.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 4, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <80 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <80 × 10 -6 (volume ratio), CO content <8 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <8 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例17
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてアルミニウムのフッ化物(AlF3)2gを使用した以外は、実施例5と同様にした。
実施例5の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<100×10-6(体積比)、COCl2含有量<100×10-6(体積比)、CO含有量<10×10-6(体積比)、N2O含有量<10×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 17
5 moles of COF 2 crude product gas is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 moles of chlorine pentafluoride are introduced and reacted, 2 g of aluminum fluoride (AlF 3 ) as a catalyst during the reaction Example 6 was the same as Example 5 except that
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 5, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <100 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <100 × 10 -6 (volume ratio), CO content <10 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <10 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例18
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入して反応させ、反応中において触媒として銀のフッ化物(AgF)2gを使用した以外は、実施例6と同様にした。
実施例6の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<120×10-6(体積比)、COCl2含有量<120×10-6(体積比)、CO含有量<12×10-6(体積比)、 N2O含有量<12×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 18
Five moles of COF 2 crude product gas are introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then five moles of chlorine pentafluoride are introduced and reacted, and 2 g of silver fluoride (AgF) is reacted as a catalyst during the reaction The same as Example 6 was carried out except that it was used.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 6, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <120 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <120 × 10 -6 (volume ratio), CO content <12 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <12 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例19
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス5モルを導入して反応させた以外は、実施例1と同様にした。
実施例1の条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<50×10-6(体積比)、COCl2含有量<50×10-6(体積比)、CO含有量<5×10-6(体積比)、N2O含有量<5×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 19
The procedure of Example 1 was repeated except that 5 moles of the COF 2 crude product gas was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 moles of fluorine gas was introduced and reacted.
When the purified gas was detected under the conditions of Example 1, the purified gas was carbonyl fluoride, the purity was 99.95%, the impurity CO 2 content <50 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 contained It was revealed that the amount <50 × 10 -6 (volume ratio), the CO content <5 × 10 -6 (volume ratio), and the N 2 O content <5 × 10 -6 (volume ratio).
実施例20
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス5モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてユウロピウムのフッ化物(EuF3)2gを使用した以外は、実施例2と同様にした。
実施例2の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<150×10-6(体積比)、COCl2含有量<150×10-6(体積比)、CO含有量<15× 10-6(体積比)、N2O含有量<15×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 20
5 moles of COF 2 crude product gas is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 moles of fluorine gas is introduced and reacted, and 2 g of europium fluoride (EuF 3 ) is used as a catalyst during the reaction The same as Example 2 except for the above.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 2, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <150 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <150 × 10 -6 (volume ratio), CO content <15 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <15 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例21
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス5モルを導入して反応させ、反応中において触媒として銅のフッ化物(CuF2)2gを使用した以外は、実施例3と同様にした。
実施例3の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<70×10-6(体積比)、COCl2含有量<70×10-6(体積比)、CO含有量<7×10-6(体積比)、N2O含有量<7×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 21
5 moles of COF 2 crude product gas is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 moles of fluorine gas is introduced and reacted, and 2 g of copper fluoride (CuF 2 ) is used as a catalyst during the reaction Except for this, the procedure was the same as in Example 3.
The purified gas was detected under the detection conditions of Example 3. The purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <70 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <70 × 10 -6 (volume ratio), CO content <7 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <7 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例22
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス5モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物(CsF)2gを使用した以外は、実施例4と同様にした。
実施例4の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<80×10-6(体積比)、COCl2含有量<80×10-6(体積比)、CO含有量<8×10-6(体積比)、N2O含有量<8×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 22
Five moles of COF 2 crude product gas were introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then five moles of fluorine gas were introduced to react, and 2 g of cesium fluoride (CsF) was used as a catalyst during the reaction The same as in Example 4 except for the above.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 4, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <80 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <80 × 10 -6 (volume ratio), CO content <8 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <8 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例23
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス5モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてアルミニウムのフッ化物(AlF3)2gを使用した以外は、実施例5と同様にした。
実施例5の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.95%であり、不純物CO2含有量<100×10-6(体積比)、COCl2含有量<100×10-6(体積比)、CO含有量<10×10-6(体積比)、N2O含有量<10×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 23
5 moles of COF 2 crude product gas is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 moles of fluorine gas is introduced and reacted, and 2 g of aluminum fluoride (AlF 3 ) is used as a catalyst during the reaction Example 5 was repeated except for the above.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 5, the purified gas was carbonyl fluoride, and the purity was 99.95%, and the impurity CO 2 content <100 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <100 × 10 -6 (volume ratio), CO content <10 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <10 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例24
COF2粗生成物ガス5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス5モルを導入して反応させ、反応中において触媒として銀のフッ化物(AgF)2gを使用した以外は、実施例6と同様にした。
実施例6の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は99.9%であり、不純物CO2含有量<120×10-6(体積比)、COCl2含有量<120×10-6(体積比)、CO含有量<12×10-6(体積比)、N2O含有量<12×10-6(体積比)であることが明らかになった。
Example 24
5 moles of COF 2 crude product gas was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 moles of fluorine gas was introduced to react, and 2 g of silver fluoride (AgF) was used as a catalyst during the reaction The same as in Example 6 except for the above.
When the purified gas was detected under the detection conditions of Example 6, the purified gas was carbonyl fluoride, the purity was 99.9%, the impurity CO 2 content <120 × 10 −6 (volume ratio), COCl 2 It became clear that the content was <120 × 10 -6 (volume ratio), CO content <12 × 10 -6 (volume ratio), N 2 O content <12 × 10 -6 (volume ratio) .
実施例25
CO 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、三フッ化塩素を導入し、ClF3とCOガスとのモル比は1:1であり、反応釜において、反応温度は499℃であり、反応圧力は5MPaであり、上記反応釜の排気口から反応生成物を排出し、温度が-110℃の低温冷却トラップに導入し、凍結真空排気の方法により不純物を除去し、精製されたガスをフッ化カルボニル精製ガスの貯蔵タンクに収集し、調製されたガスを検出した。
具体的には、精製されたガスをガスクロマトグラフ-質量分析計(GC−MS、型番:株式会社島津製作所製GC−2014)とフーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR、型番:Nicolet6700)に導入し、その組成を分析した。収集されたガスは、GC-MS及びFT-IRによりフッ化カルボニルと確認され、ガスクロマトグラフのデータ結果の主成分の積分面積により主成分の純度を算出した。
ガスクロマトグラフによる測定には、Porapakカラム、モレキュラーシーブ 13X カラムを使用し、キャリアガスとしてHeガスを使用し、TCD検出器を使用し、Heキャリアガスの流速が60mL/minであり、カラム温度が23℃であり、注入口温度が60 ℃であり、TCD温度が60℃である。ガスクロマトグラムの最大のピークは、フッ化カルボニルに由来するピークである。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は95%であり、純度は96%であることが明らかになった。
Example 25
5 moles of CO are introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then chlorine trifluoride is introduced, the molar ratio of ClF 3 to CO gas is 1: 1, and in the reaction kettle, the reaction temperature is 499 The reaction pressure is 5MPa, the reaction product is discharged from the exhaust port of the reaction kettle, introduced into a low temperature cooling trap with a temperature of -110 ° C, impurities are removed by the method of freeze evacuation, and purification is performed. The collected gas was collected in a storage tank of carbonyl fluoride purified gas, and the prepared gas was detected.
Specifically, the purified gas is used as a gas chromatograph-mass spectrometer (GC-MS, model number: GC-2014 manufactured by Shimadzu Corporation) and a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR, model number: Nicolet 6700) It was introduced and its composition was analyzed. The collected gas was confirmed as carbonyl fluoride by GC-MS and FT-IR, and the purity of the main component was calculated from the integrated area of the main component in the data result of the gas chromatograph.
For measurement by gas chromatography, using a Porapak column and a molecular sieve 13X column, using He gas as a carrier gas, using a TCD detector, the flow rate of the He carrier gas is 60 mL / min, and the column temperature is 23 ° C, inlet temperature 60 ° C., TCD temperature 60 ° C. The largest peak of the gas chromatogram is a peak derived from carbonyl fluoride.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 95%, and the purity was 96%.
実施例26
反応釜において、反応温度は−99℃であり、反応圧力は−0.09MPaであり、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物2gを使用し、ClF3とCOガスとのモル比は100:1となった以外は、実施例25と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は83%であり、純度は88%であることが明らかになった。
Example 26
In the reaction kettle, the reaction temperature is −99 ° C., the reaction pressure is −0.09 MPa, 2 g of cesium fluoride is used as a catalyst during the reaction, and the molar ratio of ClF 3 to CO gas is 100: 1 Example 25 was similar to Example 25 except for the above.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 83%, and the purity was 88%.
実施例27
CO2 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、5モルの三フッ化塩素を導入し、反応中において触媒としてナトリウムのフッ化物(NaF)2gを使用し、ClF3とCO2ガスとのモル比は0.001:1となった以外は、実施例25と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は35%であり、純度は70%であることが明らかになった。
Example 27
5 moles of CO 2 are introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 moles of chlorine trifluoride are introduced, 2 g of sodium fluoride (NaF) as catalyst during the reaction, ClF 3 and The procedure of Example 25 was repeated except that the molar ratio to CO 2 gas was 0.001: 1.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 35%, and the purity was 70%.
実施例28
CO2 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、5モルの三フッ化塩素を導入し、反応中において触媒としてカリウムのフッ化物(KF)2gを使用した以外は、実施例26と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は42%であり、純度は74%であることが明らかになった。
Example 28
5 mol of CO 2 were introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 mol of chlorine trifluoride was introduced, and 2 g of potassium fluoride (KF) was used as a catalyst during the reaction. Same as Example 26.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 42%, and the purity was 74%.
実施例29
COFCl 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、5モルの三フッ化塩素を導入し、反応中において触媒としてユウロピウムのフッ化物EuF3 2gを使用した以外は、実施例25と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は85%、純度は90%であることが明らかになった。
Example 29
Example 25 except that 5 moles of COFCl was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 moles of chlorine trifluoride were introduced, and 2 g of europium fluoride EuF 3 was used as a catalyst during the reaction. It was the same as.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, and the yield was 85%, and the purity was 90%.
実施例30
COFCl 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、5モルの三フッ化塩素を導入し、反応中において触媒として銅のフッ化物(CuF2)2gを使用した以外は、実施例26と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は84%であり、純度は89%であることが明らかになった。
Example 30
5 mol of COFCl is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 mol of chlorine trifluoride is introduced, and 2 g of copper fluoride (CuF 2 ) is used as a catalyst during the reaction. Same as Example 26.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 84%, and the purity was 89%.
実施例31
CO 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒としてアルミニウムのフッ化物(AlF3)2gを使用した以外は、実施例25と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は80%であり、純度は92%であることが明らかになった。
Example 31
5 mol of CO is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 mol of chlorine monofluoride is introduced, and 2 g of aluminum fluoride (AlF 3 ) is used as a catalyst during the reaction; Same as 25.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 80%, and the purity was 92%.
実施例32
CO 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒として銀のフッ化物(AgF)2gを使用した以外は、実施例26と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は73%であり、純度は88%であることが明らかになった。
Example 32
Example 26 except that 5 moles of CO was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 moles of chlorine monofluoride were introduced, and 2 g of silver fluoride (AgF) was used as a catalyst during the reaction. It was the same as.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 73%, and the purity was 88%.
実施例33
CO2 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物(CsF)2gを使用した以外は、実施例31と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は40%であり、純度は70%であることが明らかになった。
Example 33
5 mol of CO 2 was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 mol of chlorine monofluoride was introduced, and 2 g of cesium fluoride (CsF) was used as a catalyst during the reaction; Same as 31.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 40%, and the purity was 70%.
実施例34
CO2 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒としてナトリウムのフッ化物(NaF)2gを使用した以外は、実施例32と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は45%であり、純度は72%であることが明らかになった。
Example 34
5 mol of CO 2 was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 mol of chlorine monofluoride was introduced, and 2 g of sodium fluoride (NaF) was used as a catalyst during the reaction, except for the example Same as 32.
The prepared gas was detected to reveal that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 45%, and the purity was 72%.
実施例35
COFCl 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒としてカリウムのフッ化物2gを使用した以外は、実施例31と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は77%であり、純度は90%であることが明らかになった。
Example 35
5 mol of COFCl is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 mol of chlorine monofluoride is introduced, and 2 g of potassium fluoride is used as a catalyst during the reaction, as in Example 31 did.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 77%, and the purity was 90%.
実施例36
COFCl 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒を使用しなかった以外は、実施例32と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は76%であり、純度は89%であることが明らかになった。
Example 36
5 moles of COFCl was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 moles of chlorine monofluoride were introduced, and the procedure was as in Example 32, except that no catalyst was used during the reaction.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 76%, and the purity was 89%.
実施例37
CO 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物(CsF)2gを使用した以外は、実施例25と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は95%であり、純度は96%であることが明らかになった。
Example 37
Example 25 except that 5 moles of CO was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 moles of chlorine pentafluoride was introduced, and 2 g of cesium fluoride (CsF) was used as a catalyst during the reaction. It was the same as.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 95%, and the purity was 96%.
実施例38
CO 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒としてユウロピウムのフッ化物(EuF3)2gを使用した以外は、実施例26と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は81%であり、純度は88%であることが明らかになった。
Example 38
5 mol of CO is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 mol of chlorine pentafluoride is introduced, and 2 g of europium fluoride (EuF 3 ) is used as a catalyst during the reaction. Same as 26.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 81%, and the purity was 88%.
実施例39
CO2 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒として銅のフッ化物(CuF2)2gを使用した以外は、実施例37と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は44%であり、純度は70%であることが明らかになった。
Example 39
5 mol of CO 2 was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 mol of chlorine pentafluoride was introduced, and 2 g of copper fluoride (CuF 2 ) was used as a catalyst during the reaction. Same as Example 37.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 44%, and the purity was 70%.
実施例40
CO2 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒としてアルミニウムのフッ化物(AlF3)2gを使用した以外は、実施例38と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は40%であり、純度は72%であることが明らかになった。
Example 40
5 mol of CO 2 was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 mol of chlorine pentafluoride was introduced, and 2 g of aluminum fluoride (AlF 3 ) was used as a catalyst during the reaction. Same as Example 38.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 40%, and the purity was 72%.
実施例41
COFCl 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒を使用しなかった以外は、実施例37と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は83%であり、純度は90%であることが明らかになった。
Example 41
5 moles of COFCl was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 moles of chlorine pentafluoride were introduced, and the procedure was as in Example 37, except that no catalyst was used during the reaction.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 83%, and the purity was 90%.
実施例42
COFCl 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素5モルを導入し、反応中において触媒として銀のフッ化物2gを使用した以外は、実施例38と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は82%であり、純度は89%であることが明らかになった。
Example 42
5 mol of COFCl is introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, then 5 mol of chlorine pentafluoride is introduced, and 2 g of silver fluoride is used as a catalyst during the reaction, as in Example 38 did.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 82%, and the purity was 89%.
実施例43
COFCl 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス5モルを導入し、反応中において触媒を使用しなかった以外は、実施例25と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は81%であり、純度は88%であることが明らかになった。
Example 43
5 mol of COFCl was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 mol of fluorine gas was introduced, and the procedure of Example 25 was repeated except that no catalyst was used during the reaction.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 81%, and the purity was 88%.
実施例44
COFCl 5モルを乾燥の5Lのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス5モルを導入し、反応中において触媒として銀のフッ化物2gを使用した以外は、実施例26と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は80%であり、純度は87%であることが明らかになった。
Example 44
5 mol of COFCl was introduced into a dry 5 L stainless steel reaction vessel, and then 5 mol of fluorine gas was introduced, and the procedure of Example 26 was repeated except that 2 g of silver fluoride was used as a catalyst during the reaction.
Detection of the prepared gas revealed that the purified gas was carbonyl fluoride, the yield was 80%, and the purity was 87%.
上記実施例により、本発明が調製するフッ化カルボニルは、比較的に高い収率、及び純度を有する。
以上、実施例の説明は本発明の方法及びその主旨の理解を助けるためのものに過ぎない。なお、当業者にとっては、本発明は、その原理から逸脱することなく、若干の改良及び修飾も可能であり、それらの改良及び修飾はいずれも本発明の特許請求の範囲によって保護される範囲に包含される。
According to the above example, the carbonyl fluoride prepared by the present invention has relatively high yield and purity.
The above description of the embodiment is merely to assist in understanding the method of the present invention and the subject matter thereof. For those skilled in the art, the present invention can be slightly improved and modified without departing from its principle, and any improvements and modifications can be made within the scope of protection by the claims of the present invention. Is included.
Claims (14)
又は、COFClをフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製する(前記フッ素含有ガスは、ClF、ClF3、ClF5、及びF2のいずれか1種又は複数種である)ことを含むフッ化カルボニルの製造方法。 Any one or more of CO and CO 2 are reacted with a fluorine-containing gas to prepare carbonyl fluoride (the fluorine-containing gas is any one or more of ClF, ClF 3 , and ClF 5 ) is there),
Alternatively, a fluorine-containing gas comprising reacting COFCl with a fluorine-containing gas to prepare carbonyl fluoride (the fluorine-containing gas is any one or more of ClF, ClF 3 , ClF 5 , and F 2 ). Method of producing carbonyl halides.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/CN2016/085984 WO2017214923A1 (en) | 2016-06-16 | 2016-06-16 | Purification method and preparation method for carbonyl fluoride |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019518700A true JP2019518700A (en) | 2019-07-04 |
JP6807958B2 JP6807958B2 (en) | 2021-01-06 |
Family
ID=60662845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018563884A Active JP6807958B2 (en) | 2016-06-16 | 2016-06-16 | Method for Purifying and Producing Carbonyl Fluoride |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6807958B2 (en) |
WO (1) | WO2017214923A1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117482864A (en) * | 2023-10-28 | 2024-02-02 | 福建德尔科技股份有限公司 | Preparation system and method of electronic grade chlorine trifluoride |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0118241B1 (en) * | 1983-03-01 | 1987-10-21 | Imperial Chemical Industries Plc | Fluorination process |
US5648530A (en) * | 1994-12-22 | 1997-07-15 | Du Pont | Manufacture of carbonyl floride |
JP4166025B2 (en) * | 2002-03-18 | 2008-10-15 | セントラル硝子株式会社 | Method for producing carbonyl difluoride |
CN103213965B (en) * | 2013-04-24 | 2016-02-17 | 邯郸净化设备研究所 | A kind of preparation method of carbonyl fluoride |
CN103303894B (en) * | 2013-06-17 | 2015-03-11 | 邯郸净化设备研究所 | Carbonyl fluoride purifying method |
CN105565324B (en) * | 2015-12-23 | 2019-01-04 | 中国船舶重工集团公司第七一八研究所 | A kind of purification process of ocratation |
-
2016
- 2016-06-16 WO PCT/CN2016/085984 patent/WO2017214923A1/en active Application Filing
- 2016-06-16 JP JP2018563884A patent/JP6807958B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2017214923A1 (en) | 2017-12-21 |
JP6807958B2 (en) | 2021-01-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A711 | Notification of change in applicant |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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