JP2019218492A - Method for producing modified film - Google Patents

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Abstract

To provide a method for producing a modified film in which an olefinic polymer film is efficiently modified, preferably mainly at a specific site (e.g. surface).SOLUTION: A method for producing a modified film in which an olefinic polymer film with a melting point and/or glass transition temperature of 50°C or more and 300°C or less is partially or wholly modified, has a step 1 in which a radical containing an atom (α) of an element selected from a group 15 element and a group 16 element and an atom (β) of a group 17 element in one molecule, at a ratio of the number of atoms (α): the number of atoms (β)=1:1-4:1.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、変性フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a modified film.

オレフィン系重合体は、その産業上利用価値の高さから、種々の方法で工業的に製造され、年間1億トンを超える生産量があるとされている。このオレフィン系重合体は、炭素と水素を主成分とするので、安定、安価な材料であることが特徴でもある。一方で、官能基を有さない構造は、極性を有する材料との親和性に乏しく、着色性、接着性などの改質を行い難い性質を併せ持っている。   Olefin-based polymers are industrially produced by various methods because of their high industrial utility value, and are said to have a production volume exceeding 100 million tons per year. Since the olefin polymer contains carbon and hydrogen as main components, it is also characterized by a stable and inexpensive material. On the other hand, a structure having no functional group has a poor affinity for a material having polarity, and also has a property that it is difficult to modify coloring and adhesion.

オレフィン系重合体フィルムの改質方法としては、コロナ放電処理、プラズマ処理などの表面処理等が知られている(例:特許文献1)。   As a method for modifying an olefin-based polymer film, surface treatment such as corona discharge treatment and plasma treatment is known (eg, Patent Document 1).

特開2003−211814号公報JP-A-2003-218814

しかしながら、前記従来のオレフィン系重合体フィルムの改質方法では、該フィルムを構成する重合体の分子量の低下や、架橋反応が起こったり、重合体の劣化や黄変などが起こりやすい傾向にあることが分かった。
特に、分子量の低下は、フィルムの場合、強度だけでなく耐久性の低下につながる場合があり、また、分子量分布が狭くなり、成形し難くなる可能性も考えられる。
However, in the conventional method for modifying an olefin-based polymer film, the molecular weight of the polymer constituting the film is reduced, a cross-linking reaction occurs, and the polymer tends to be easily deteriorated or yellowed. I understood.
In particular, in the case of a film, a decrease in the molecular weight may lead to a decrease in not only the strength but also the durability, and the molecular weight distribution may be narrowed to make molding difficult.

また、例えば、離型用のフィルムや、外装フィルム、絵や図柄の部分となる箇所だけに色素や塗料を伏すようなディスプレイ用フィルムは、例えば、該フィルムの一部だけが改質されていれば良い場合がある。
本発明者らは、特定の箇所(例:表面)をメインに改質できれば、フィルムとしての強度の低下を抑制しつつ、改質効果を高めることが期待できると考えた。
In addition, for example, a release film, an exterior film, a display film in which a dye or a paint is laid down only in a portion that becomes a part of a picture or a pattern, for example, only a part of the film is modified. Sometimes it is good.
The present inventors considered that if a specific portion (eg, surface) could be mainly modified, it would be possible to expect a higher modification effect while suppressing a decrease in strength as a film.

本発明は以上の点に鑑みてなされた発明であり、オレフィン系重合体フィルムを、効率よく、好ましくは特定の箇所(例:表面)をメインに変性した変性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to provide a method for producing a modified film obtained by modifying an olefin polymer film efficiently, preferably at a specific location (eg, surface). Aim.

本発明者らが研究を進めた結果、下記構成例によれば、前記課題を解決できることを見出した。本発明の構成例は、以下の通りである。   As a result of research conducted by the present inventors, they have found that the above-described problems can be solved according to the following configuration examples. A configuration example of the present invention is as follows.

[1] 1分子中に、15族元素および16族元素から選ばれる元素の原子(α)と17族元素の原子(β)とを、原子(α)の数:原子(β)の数=1:1〜4:1の比で含むラジカルの存在下に光照射する工程1を含む、
融点および/またはガラス転移温度が50℃以上300℃以下であるオレフィン系重合体フィルムの一部または全部を変性した変性フィルムの製造方法。
[1] In one molecule, the atom (α) of the element selected from the group 15 element and the group 16 element and the atom (β) of the group 17 element are obtained by dividing the number of atoms (α) by the number of atoms (β) = Step 1 of irradiating with light in the presence of a radical containing at a ratio of 1: 1 to 4: 1.
A method for producing a modified film obtained by modifying a part or all of an olefin polymer film having a melting point and / or a glass transition temperature of 50 ° C. or more and 300 ° C. or less.

[2] 前記工程1が、前記ラジカルおよび前記フィルムの存在下に、前記ラジカルに光照射して前記フィルムを変性する工程である、[1]に記載の変性フィルムの製造方法。
[3] 前記工程1が、前記ラジカルおよび前記フィルムの存在下に、前記ラジカルおよび前記フィルムに光照射して前記フィルムを変性する工程である、[1]または[2]に記載の変性製布の製造方法。
[2] The method for producing a modified film according to [1], wherein the step 1 is a step of irradiating the radical with light in the presence of the radical and the film to modify the film.
[3] The modified fabric according to [1] or [2], wherein the step 1 is a step of irradiating the radical and the film with light in the presence of the radical and the film to modify the film. Manufacturing method.

[4] 前記変性フィルムの厚さが1〜1000μmである、[1]〜[3]のいずれかに記載の変性フィルムの製造方法。   [4] The method for producing a modified film according to any one of [1] to [3], wherein the thickness of the modified film is 1 to 1000 μm.

[5] 前記ラジカルが二酸化塩素ラジカルである、[1]〜[4]のいずれかに記載の変性フィルムの製造方法。   [5] The method for producing a modified film according to any one of [1] to [4], wherein the radical is a chlorine dioxide radical.

[6] 前記オレフィン系重合体が、4−メチル−1−ペンテン系重合体である、[1]〜[5]のいずれかに記載の変性フィルムの製造方法。   [6] The method for producing a modified film according to any one of [1] to [5], wherein the olefin polymer is a 4-methyl-1-pentene polymer.

[7] 前記変性フィルムが多孔質フィルムである、[1]〜[6]のいずれかに記載の変性フィルムの製造方法。
[8] 前記変性フィルムが離型フィルムである、[1]〜[7]のいずれかに記載の変性フィルムの製造方法。
[7] The method for producing a modified film according to any one of [1] to [6], wherein the modified film is a porous film.
[8] The method for producing a modified film according to any one of [1] to [7], wherein the modified film is a release film.

本発明の製造方法によれば、効率よく、オレフィン系重合体フィルムの特定の箇所を主として変性することができる。それゆえ、該フィルムを構成する重合体の分子量の低下、架橋反応、劣化、黄変などを抑制でき、フィルム本来の特性を生かしつつ、改質性や意匠性に優れる変性フィルムを提供することができると考えられる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the manufacturing method of this invention, a specific location of an olefin polymer film can be mainly mainly modified efficiently. Therefore, it is possible to provide a modified film which is capable of suppressing a decrease in the molecular weight of the polymer constituting the film, a crosslinking reaction, deterioration, yellowing, etc., and making use of the original properties of the film, and having excellent modifying properties and design properties. It is considered possible.

図1は、実施例で行った、TPXフィルムを変性する際の状態を示す概略模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a state when a TPX film is modified in an example. 図2は、実施例におけるTPXフィルムの親水性評価結果を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the results of evaluating the hydrophilicity of a TPX film in Examples.

以下、本発明について、例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、本発明は、以下の説明により限定されない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following description.

≪変性フィルムの製造方法≫
本発明に係る変性フィルムの製造方法(以下「本方法」ともいう。)は、融点および/またはガラス転移温度が50℃以上300℃以下であるオレフィン系重合体フィルムの一部または全部を変性した変性フィルムの製造方法であって、
1分子中に、15族元素および16族元素から選ばれる元素の原子(α)と17族元素の原子(β)とを、原子(α)の数:原子(β)の数=1:1〜4:1の比で含むラジカルの存在下に光照射する工程1を含む。
なお、以下では、変性前のオレフィン系重合体フィルムを単に「フィルム」ともいい、変性後のフィルムを「変性フィルム」という。
製造 Method for producing modified film≫
In the method for producing a modified film according to the present invention (hereinafter also referred to as “the present method”), a part or all of an olefin polymer film having a melting point and / or a glass transition temperature of 50 ° C. or more and 300 ° C. or less is modified. A method for producing a modified film,
In one molecule, the atom (α) of the element selected from the group 15 element and the group 16 element and the atom (β) of the group 17 element are defined as the number of atoms (α): the number of atoms (β) = 1: 1. Step 1 of irradiating light in the presence of radicals contained in a ratio of 4: 1.
Hereinafter, the olefin polymer film before modification is simply referred to as “film”, and the film after modification is referred to as “modified film”.

このような本方法によれば、フィルムを効率よく、具体的には、フィルム本来の特性を生かしつつ、フィルムの表面等の特定の箇所を主として変性した変性フィルムを容易に得ることができる。
また、従来の改質方法では、改質効果は経時劣化しやすい傾向にあったが、本方法によれば、該経時劣化の抑制も期待できる。
According to such a method, it is possible to easily obtain a modified film in which a specific portion such as the surface of the film is mainly modified while efficiently utilizing the film, specifically, the inherent properties of the film.
Further, in the conventional reforming method, the reforming effect tends to deteriorate with time, but according to the present method, suppression of the deterioration with time can be expected.

本方法によれば、前記ラジカルに光照射するのみの極めて簡便な方法で、また、例えば、常温および常圧等のきわめて温和な条件下でも、フィルムを効率よく変性(例:酸化処理)することができる。さらに、本方法によれば、例えば、取扱い温度において不安定な場合がある過酸化物やアゾ化合物などのラジカル発生剤を用いずに、フィルムを効率よく変性(酸化反応)することができる。   According to this method, the film can be efficiently denatured (eg, oxidized) by a very simple method of merely irradiating the radical with light and under extremely mild conditions such as normal temperature and normal pressure. Can be. Furthermore, according to the present method, for example, the film can be efficiently modified (oxidation reaction) without using a radical generator such as a peroxide or an azo compound which may be unstable at the handling temperature.

<工程1>
前記工程1は、1分子中に、15族元素および16族元素から選ばれる元素の原子(α)と17族元素の原子(β)とを、原子(α)の数:原子(β)の数=1:1〜4:1の比で含むラジカルの存在下に光照射する工程である。
該工程1は、前記ラジカルの存在下で光照射すればよいが、好ましくは前記ラジカルの存在下に該ラジカルに光照射する工程である。
<Step 1>
In the step 1, in one molecule, the atom (α) of an element selected from the group 15 element and the group 16 element and the atom (β) of the group 17 element are added to the number of atoms (α): This is a step of irradiating light in the presence of a radical containing the number = 1: 1 to 4: 1.
The step 1 may be light irradiation in the presence of the radical, but is preferably a step of irradiating the radical with light in the presence of the radical.

前記フィルムの変性方法としては特に制限されないが、前記ラジカルおよびフィルムの存在下に該ラジカルに光照射する方法(I)[前記ラジカルおよびフィルムの存在下に、前記ラジカルに光照射して前記フィルムを変性する方法]が好ましい。
前記フィルムの変性方法としては、この方法(I)以外に、例えば、前記工程1を行った系と前記フィルムとを接触させる方法(II)を挙げることもできる。
The method for modifying the film is not particularly limited, and the method (I) of irradiating the radicals with light in the presence of the radicals and the film [the film is irradiated with the radicals in the presence of the radicals and the film, Modification Method] is preferred.
As a method for modifying the film, besides this method (I), for example, a method (II) of contacting the film subjected to the step 1 with the film can also be mentioned.

前記方法(I)は、前記ラジカルに光照射すればよいが、前記ラジカルおよびフィルムに光照射する方法[前記ラジカルおよび前記フィルムの存在下に、前記ラジカルおよび前記フィルムに光照射して前記フィルムを変性する方法]であることも好ましく、前記フィルムに光を照射しない方法でもよい。
前記ラジカルおよびフィルムに光照射する場合、前記ラジカルおよび前記フィルムのそれぞれに、別途光を照射してもよいが、例えば、1つの光源からの光によって前記ラジカルおよびフィルムに同時に光照射することが好ましい。
The method (I) may be performed by irradiating the radicals with light. The method of irradiating the radicals and the film with light [in the presence of the radicals and the film, irradiating the radicals and the film with light] Modification Method], and a method in which the film is not irradiated with light may be used.
When irradiating the radical and the film with light, each of the radical and the film may be separately illuminated with light. For example, it is preferable to irradiate the radical and the film with light from one light source at the same time. .

前記工程1は、前記ラジカルを含む水相および/または有機相にフィルムを浸漬(接触)させて行う、液相方法でもよく、前記ラジカルを含む水相および/または有機相と、フィルムとを接触させずに行う、気相方法でもよく、前記ラジカルおよびフィルムを含む気相で行う、気相方法でもよいが、該フィルムとして、例えば、吸湿性等のあるフィルムを用いる場合や、残存溶媒等が問題になる場合には、状況によっては、気相方法が好ましい。   The step 1 may be a liquid phase method in which the film is immersed (contacted) in the aqueous phase and / or the organic phase containing the radical, and the film is brought into contact with the aqueous phase and / or the organic phase containing the radical. Performed without performing, may be a gas phase method, may be performed in a gas phase containing the radicals and the film, may be a gas phase method, as the film, for example, when using a film having a hygroscopic property, the residual solvent and the like If problematic, the gas phase method is preferred in some circumstances.

前記ラジカルは、15族元素および16族元素から選ばれる元素の原子(α)と17族元素の原子(β)とを含む。
前記ラジカルは、15族元素の原子を2種以上含んでいてもよく、16族元素の原子を2種以上含んでいてもよく、15族元素および16族元素の原子をそれぞれ1種以上含んでいてもよく、17族元素の原子を2種以上含んでいてもよい。ただし、これらの場合、前記原子の数の比は、15族元素および16族元素の原子の合計の数と17族元素の原子の合計の数との比である。
The radical includes an atom (α) of an element selected from a Group 15 element and a Group 16 element and an atom (β) of a Group 17 element.
The radical may include two or more atoms of a Group 15 element, may include two or more atoms of a Group 16 element, and may include one or more atoms of a Group 15 element and a Group 16 element, respectively. And may contain two or more atoms of Group 17 elements. However, in these cases, the ratio of the number of atoms is the ratio of the total number of atoms of the group 15 element and the group 16 element to the total number of atoms of the group 17 element.

原子(α)としては、好ましくは、窒素、酸素、硫黄が挙げられ、特に好ましくは酸素である。
原子(β)としては、好ましくは、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、塩素、臭素が好ましい。これらの中でも、塩素を含むラジカルが、入手が容易であるため、塩素がより好ましい。塩素を含むラジカルを用いる場合、照射する光としては、紫外線を含む光が好ましく、臭素やヨウ素を含むラジカルを用いる場合、紫外線より長波長の光も用いることができると考えられる。従って、光の選択自由度を考慮する場合や、フィルムに光劣化が生じる可能性がある場合など、状況によっては、臭素、ヨウ素が好ましい。
The atom (α) preferably includes nitrogen, oxygen, and sulfur, and is particularly preferably oxygen.
The atom (β) preferably includes chlorine, bromine and iodine, and chlorine and bromine are preferable. Among these, chlorine is more preferable because a radical containing chlorine is easily available. When a radical containing chlorine is used, the light to be irradiated is preferably light containing ultraviolet light. When a radical containing bromine or iodine is used, light having a longer wavelength than the ultraviolet light can be used. Therefore, bromine and iodine are preferable in some situations, such as when the degree of freedom of light selection is taken into consideration, or when there is a possibility that light deterioration may occur in the film.

前記ラジカルは、該ラジカル1分子中の原子(β)1個に対する原子(α)の割合が、1〜4個であり、好ましくは1または2個であり、より好ましくは2個である。   In the radical, the ratio of the atom (α) to the atom (β) in one molecule of the radical is 1 to 4, preferably 1 or 2, and more preferably 2.

前記ラジカルとしては、二酸化塩素ラジカルが好ましい。
二酸化塩素ラジカル(ClO2・)の存在下に光照射した場合、例えば、二酸化塩素ラジカルに光が照射されることで、塩素ラジカル(Cl・)および酸素分子(O2)が発生すると考えられる。
As the radical, a chlorine dioxide radical is preferable.
When light irradiation is performed in the presence of chlorine dioxide radicals (ClO 2. ), For example, it is considered that chlorine radicals (Cl.) And oxygen molecules (O 2 ) are generated by irradiating the chlorine dioxide radicals with light.

前記光照射に使用する光(の波長)は、用いるラジカルによって適宜選択すればよい。具体的には、赤外線領域から紫外線領域まで幅広い領域を選択可能であるが、例えば200nm以上であり、例えば800nm以下である。
光照射時間は特に限定されないが、例えば1分以上であり、例えば1000時間以下である。
The light (wavelength) used for the light irradiation may be appropriately selected depending on the radical used. Specifically, a wide range from the infrared region to the ultraviolet region can be selected, but is, for example, 200 nm or more, for example, 800 nm or less.
The light irradiation time is not particularly limited, but is, for example, 1 minute or more, for example, 1000 hours or less.

前記光照射における光源は特に限定されないが、簡便さの点から、例えば、太陽光等の自然光が挙げられる。また、例えば、前記自然光に代えて、またはこれに加え、キセノンランプ、ハロゲンランプ、蛍光灯、水銀ランプ等の光源を適宜用いてもよい。さらに、必要により、必要波長以外の波長をカットするフィルターを適宜用いてもよい。   Although the light source in the light irradiation is not particularly limited, for example, natural light such as sunlight is used from the viewpoint of simplicity. Further, for example, a light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a fluorescent lamp, and a mercury lamp may be appropriately used instead of or in addition to the natural light. Further, if necessary, a filter for cutting a wavelength other than the required wavelength may be appropriately used.

前記工程1を行う際の温度、圧力、雰囲気も特に制限されないが、反応温度は、例えば0℃以上であり、例えば100℃以下であり、圧力は、例えば0.1MPa以上であり、100MPa以下であり、雰囲気は、例えば、空気雰囲気、不活性ガス雰囲気が挙げられる。
本方法は、例えば、後述の実施例に示すように、加熱、加圧、減圧等を一切行わずに、大気中、常温(例:5〜35℃)および常圧(大気圧)下で行なうことも可能である。
The temperature, pressure, and atmosphere for performing the step 1 are not particularly limited, but the reaction temperature is, for example, 0 ° C. or more, for example, 100 ° C. or less, and the pressure is, for example, 0.1 MPa or more, and 100 MPa or less. The atmosphere includes, for example, an air atmosphere and an inert gas atmosphere.
This method is performed, for example, in the air at normal temperature (eg, 5 to 35 ° C.) and normal pressure (atmospheric pressure) without performing any heating, pressurizing, depressurizing, or the like, as described in Examples below. It is also possible.

前記光照射は、水相、有機相および/または気相中に存在するラジカルに対して行われる。環境への負荷や人体への影響を低減させる等の点を重視する場合は、水相や気相に存在するラジカルに対して行うことが好ましい。   The light irradiation is performed on radicals present in an aqueous phase, an organic phase and / or a gas phase. When importance is placed on reducing the load on the environment and the effect on the human body, it is preferable to perform the treatment on radicals present in the aqueous phase or gas phase.

前記フィルムを水相または有機相に浸漬する場合の該水相または有機相中における、前記フィルムの使用量は、特に限定されないが、水相または有機相に対し、例えば1g/L以上であり、例えば10g/L以下である。   When the film is immersed in an aqueous or organic phase, the amount of the film used in the aqueous or organic phase is not particularly limited, but is, for example, 1 g / L or more with respect to the aqueous or organic phase, For example, it is 10 g / L or less.

前記水相としては水を含めば特に制限されない。   The aqueous phase is not particularly limited as long as it contains water.

前記有機相は、有機溶媒を含めば特に制限されない。
前記有機溶媒は特に制限されないが、例えば、炭化水素溶媒、ハロゲン化溶媒が挙げられる。
前記有機溶媒は、1種類でもよく、2種類以上でもよい。
The organic phase is not particularly limited as long as it contains an organic solvent.
The organic solvent is not particularly limited, and examples thereof include a hydrocarbon solvent and a halogenated solvent.
The organic solvent may be one kind or two or more kinds.

前記炭化水素溶媒としては特に限定されないが、例えば、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレンが挙げられる。   Although it does not specifically limit as said hydrocarbon solvent, For example, n-hexane, cyclohexane, benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, and p-xylene are mentioned.

前記ハロゲン化溶媒としては特に限定されないが、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素、フルオラス溶媒が挙げられる。   The halogenated solvent is not particularly restricted but includes, for example, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, carbon tetrabromide and fluorous solvents.

前記フルオラス溶媒は、炭化水素の水素原子の全てまたは大部分がフッ素原子に置換された溶媒をいう。前記フルオラス溶媒は、例えば、炭化水素の水素原子数の50%以上、60%以上、70%以上、80%以上または90%以上がフッ素原子に置換された溶媒であってもよい。   The fluorous solvent is a solvent in which all or most of the hydrogen atoms of a hydrocarbon are substituted with fluorine atoms. The fluorous solvent may be, for example, a solvent in which 50% or more, 60% or more, 70% or more, 80% or more, or 90% or more of the number of hydrogen atoms of a hydrocarbon are substituted with fluorine atoms.

前記フルオラス溶媒としては、例えば、CF3−(CF2n−CF3(nは4〜7)、N−((CF2nCF33(nは1または4)、ヘキサフルオロベンゼン、1−(トリフルオロメチル)ウンデカフルオロシクロヘキサン、1−(トリフルオロメチル)ペンタフルオロベンゼン、オクタデカフルオロデカヒドロナフタレンが挙げられ、その中でも、例えば、CF3(CF24CF3が好ましい。 As the fluorous solvent, for example, CF 3 - (CF 2) n -CF 3 (n is 4~7), N - ((CF 2) n CF 3) 3 (n is 1 or 4), hexafluorobenzene , 1- (trifluoromethyl) undecafluorocyclohexane, 1- (trifluoromethyl) pentafluorobenzene, and octadecafluorodecahydronaphthalene, among which, for example, CF 3 (CF 2 ) 4 CF 3 is preferable. .

フルオラス溶媒は、例えば、溶媒自体の反応性が低いために、副反応を抑制または防止できるという利点がある。該副反応としては、例えば、溶媒の酸化反応、ラジカルによる溶媒の水素引き抜き反応や塩素化反応が挙げられる。   Fluorous solvents have the advantage that side reactions can be suppressed or prevented, for example, due to the low reactivity of the solvent itself. Examples of the side reaction include an oxidation reaction of a solvent, a hydrogen abstraction reaction of a solvent by radicals, and a chlorination reaction.

前記水相は、前記ラジカルおよび水以外の他の成分を含んでいてもよく、前記有機相は、前記ラジカルおよび有機溶媒以外の他の成分を含んでいてもよい。
該他の成分としては、特に限定されないが、例えば、前記ラジカルの発生源、ブレンステッド酸、ルイス酸、酸素(O2)が挙げられる。
これらはそれぞれ、1種を用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
前記他の成分は、水相および/または有機相に溶解してもよいが、溶解していなくてもよい。
なお、1つの物質がルイス酸およびブレンステッド酸を兼ねていてもよい。「ルイス酸」は、前記ラジカルの発生源に対してルイス酸として働く物質をいう。
The aqueous phase may include components other than the radicals and water, and the organic phase may include components other than the radicals and the organic solvent.
Examples of the other components include, but are not particularly limited to, a source of the radical, a Bronsted acid, a Lewis acid, and oxygen (O 2 ).
Each of these may be used alone or in combination of two or more.
The other component may be dissolved in the aqueous phase and / or the organic phase, but may not be dissolved.
Note that one substance may also serve as a Lewis acid and a Bronsted acid. "Lewis acid" refers to a substance that acts as a Lewis acid for the source of the radical.

前記ラジカルの発生源は特に限定されないが、前記ラジカルが二酸化塩素ラジカルである場合、例えば、亜塩素酸(HClO2)またはその塩が挙げられる。亜塩素酸の塩としては特に限定されないが、例えば、金属塩が挙げられる。該金属塩は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、希土類塩が挙げられる。
前記二酸化塩素ラジカルの発生源は、より具体的には、例えば、亜塩素酸ナトリウム(NaClO2)、亜塩素酸リチウム(LiClO2)、亜塩素酸カリウム(KClO2)、亜塩素酸マグネシウム(Mg(ClO22)、亜塩素酸カルシウム(Ca(ClO22)が挙げられる。これらの中でも、コスト、取扱い易さ等の点から、亜塩素酸ナトリウムが好ましい。
The source of the radical is not particularly limited, but when the radical is a chlorine dioxide radical, for example, chlorous acid (HClO 2 ) or a salt thereof may be mentioned. The salt of chlorite is not particularly limited, and examples thereof include metal salts. Examples of the metal salt include an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt, and a rare earth salt.
More specifically, the source of the chlorine dioxide radical is, for example, sodium chlorite (NaClO 2 ), lithium chlorite (LiClO 2 ), potassium chlorite (KClO 2 ), magnesium chlorite (Mg (ClO 2 ) 2 ) and calcium chlorite (Ca (ClO 2 ) 2 ). Among these, sodium chlorite is preferred in terms of cost, ease of handling, and the like.

前記水相および/または有機相中における、前記ラジカルの発生源の濃度は特に限定されないが、例えば0.0001mol/L以上であり、例えば1mol/L以下である。   The concentration of the radical generating source in the aqueous phase and / or the organic phase is not particularly limited, but is, for example, 0.0001 mol / L or more, for example, 1 mol / L or less.

前記ルイス酸は特に制限されず、例えば、有機物質でも、無機物質でもよい。
前記有機物質としては、例えば、アンモニウムイオン、有機酸(例:カルボン酸)が挙げられる。
前記無機物質は、金属イオンおよび非金属イオンの一方または両方を含んでいてもよい。前記金属イオンは、典型金属イオンおよび遷移金属イオンの一方または両方を含んでいてもよい。
前記無機物質は、例えば、アルカリ土類金属イオン(例えばCa2+等)、希土類イオン、Mg2+、Sc3+、Li+、Fe2+、Fe3+、Al3+、ケイ酸イオンおよびホウ酸イオンからなる群から選択される少なくとも一つであってもよい。
前記アルカリ土類金属イオンとしては、例えば、カルシウム、ストロンチウム、バリウムまたはラジウムのイオンが挙げられ、より具体的には、Ca2+、Sr2+、Ba2+およびRa2+が挙げられる。
前記「希土類」は、スカンジウム、イットリウムの2元素と、ランタンからルテチウムまでの15元素(ランタノイド)の計17元素の総称である。希土類イオンとしては、例えば、3価の陽イオンが挙げられる。
The Lewis acid is not particularly limited, and may be, for example, an organic substance or an inorganic substance.
Examples of the organic substance include an ammonium ion and an organic acid (eg, carboxylic acid).
The inorganic substance may include one or both of a metal ion and a non-metal ion. The metal ion may include one or both of a typical metal ion and a transition metal ion.
Examples of the inorganic substance include alkaline earth metal ions (eg, Ca 2+ ), rare earth ions, Mg 2+ , Sc 3+ , Li + , Fe 2+ , Fe 3+ , Al 3+ , silicate ions, and the like. It may be at least one selected from the group consisting of borate ions.
Examples of the alkaline earth metal ion include calcium, strontium, barium and radium ions, and more specifically, Ca 2+ , Sr 2+ , Ba 2+ and Ra 2+ .
The "rare earth" is a general term for two elements, scandium and yttrium, and 15 elements (lanthanoids) from lanthanum to lutetium, for a total of 17 elements. Examples of the rare earth ion include a trivalent cation.

また、前記ルイス酸がイオンである場合、前記ルイス酸は、該イオンのカウンターイオンを有する物質であってもよく、該カウンターイオンとしては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸イオン(CF3SO3 -)、トリフルオロ酢酸イオン(CF3COO-)、酢酸イオン、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、亜硫酸イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、リン酸イオン、亜リン酸イオンが挙げられる。 Further, when the Lewis acid is an ion, the Lewis acid may be a substance having a counter ion of the ion, such as trifluoromethanesulfonic acid ion (CF 3 SO 3 ). , Trifluoroacetate ion (CF 3 COO ), acetate ion, fluoride ion, chloride ion, bromide ion, iodide ion, sulfate ion, hydrogen sulfate ion, sulfite ion, nitrate ion, nitrite ion, phosphate ion And phosphite ions.

また、前記ルイス酸は、AlCl3、AlMeCl2、AlMe2Cl、BF3、BPh3、BMe3、TiCl4、SiF4およびSiCl4からなる群から選択される少なくとも一つであってもよい。なお、これらのうち、「Ph」はフェニル基を表し、「Me」はメチル基を表す。 The Lewis acid may be at least one selected from the group consisting of AlCl 3 , AlMeCl 2 , AlMe 2 Cl, BF 3 , BPh 3 , BMe 3 , TiCl 4 , SiF 4 and SiCl 4 . Among these, “Ph” represents a phenyl group, and “Me” represents a methyl group.

前記ルイス酸のルイス酸性度は、例えば、0.4eV以上であるが、これには限定されない。前記ルイス酸性度の上限値は特に限定されないが、例えば、20eV以下である。なお、前記ルイス酸性度は、例えば、Ohkubo, K.; Fukuzumi, S. Chem. Eur. J., 2000, 6, 4532、J. AM. CHEM. SOC. 2002, 124, 10270-10271、またはJ. Org. Chem. 2003, 68, 4720-4726に記載の方法により測定することができる。   The Lewis acidity of the Lewis acid is, for example, 0.4 eV or more, but is not limited thereto. The upper limit of the Lewis acidity is not particularly limited, but is, for example, 20 eV or less. The Lewis acidity is, for example, Ohkubo, K .; Fukuzumi, S. Chem. Eur. J., 2000, 6, 4532, J. AM.CHEM. SOC. 2002, 124, 10270-10271, or J. Org. Chem. 2003, 68, 4720-4726.

前記ブレンステッド酸としては特に限定されないが、例えば、無機酸、有機酸が挙げられ、具体的には、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、フッ化水素酸、塩化水素酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、亜硫酸、硝酸、亜硝酸、リン酸、亜リン酸が挙げられる。
前記ブレンステッド酸の酸解離定数pKaは、例えば10以下である。前記pKaの下限値は、特に限定されないが、例えば、−10以上である。
The Bronsted acid is not particularly limited, but includes, for example, an inorganic acid and an organic acid, and specifically, for example, trifluoromethanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, acetic acid, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, and odor. Examples include hydrofluoric acid, hydroiodic acid, sulfuric acid, sulfurous acid, nitric acid, nitrous acid, phosphoric acid, and phosphorous acid.
Acid dissociation constant pK a of the Bronsted acid is, for example, 10 or less. The lower limit of the pK a is not particularly limited, for example, is -10 or more.

前記水相および/または有機相中における、前記ルイス酸およびブレンステッド酸の少なくとも一方の濃度は特に限定されず、適宜設定することができるが、例えば1mg/L以上であり、例えば1g/L以下である。   The concentration of at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid in the aqueous phase and / or the organic phase is not particularly limited, and can be appropriately set, but is, for example, 1 mg / L or more, for example, 1 g / L or less. It is.

例えば、水相および/または有機相に、空気または酸素ガスを吹き込むことにより、水相および/または有機相中に酸素(O2)を溶解させることができる。このとき、例えば、水相および/または有機相を、酸素(O2)で飽和させてもよい。
水相および/または有機相が前記酸素(O2)を含むことで、例えば、フィルムの変性(酸化反応)を促進させることができる。
For example, oxygen (O 2 ) can be dissolved in the aqueous phase and / or the organic phase by blowing air or oxygen gas into the aqueous phase and / or the organic phase. At this time, for example, the aqueous phase and / or the organic phase may be saturated with oxygen (O 2 ).
When the aqueous phase and / or the organic phase contains the oxygen (O 2 ), for example, the denaturation (oxidation reaction) of the film can be promoted.

<ラジカル生成工程>
本方法は、前記ラジカルを生成するラジカル生成工程を含んでいてもよく、具体的には、前記ラジカル発生源から前記ラジカルを生成する工程が挙げられる。
<Radical generation step>
The method may include a radical generating step of generating the radical, specifically, a step of generating the radical from the radical generating source.

前記ラジカル生成工程は特に限定されないが、例えば、前記ラジカル発生源(例:亜塩素酸またはその塩)を水に溶解させて静置し、ラジカル発生源から前記ラジカルを自然発生させることで行なうことができる。このとき、例えば、前記水中に前記ルイス酸およびブレンステッド酸の少なくとも一方が存在することで、前記ラジカルの生成を促進することができる。また、例えば、前記ラジカル発生源を水に溶解させた水相に光照射することで前記ラジカルを生成させることもできる。この光照射は、前記工程1における光照射であってもよく、つまり、ラジカルを生成させながら、そのラジカルに光照射してもよい。   The radical generating step is not particularly limited. For example, the radical generating step (eg, chlorous acid or a salt thereof) is dissolved in water and allowed to stand, and the radical generating step is performed by spontaneously generating the radical from the radical generating source. Can be. At this time, for example, the presence of at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid in the water can promote the generation of the radical. Also, for example, the radicals can be generated by irradiating light to an aqueous phase in which the radical generating source is dissolved in water. The light irradiation may be the light irradiation in the above step 1, that is, the radicals may be irradiated with light while generating the radicals.

例えば、亜塩素酸イオンから二酸化塩素ラジカルが発生するメカニズム(機構)は、例えば、下記スキーム1のように推測される。ただし、下記スキーム1は、推測されるメカニズムの一例であり、本発明をなんら限定しない。
下記スキーム1の第1の(上段の)反応式は、亜塩素酸イオン(ClO2 -)の不均化反応を示し、この反応系中にルイス酸およびブレンステッド酸の少なくとも一方が存在することで、平衡が右側に移動しやすくなると考えられる。
下記スキーム1中の第2の(中段の)反応式は、二量化反応を示し、不均化反応で生成した次亜塩素酸イオン(ClO-)と亜塩素酸イオンとが反応して二酸化二塩素(Cl22)が生成する。この反応は、水中にプロトンH+が多いほど、すなわち酸性であるほど進行しやすいと考えられる。
下記スキーム1中の第3の(下段の)反応式は、ラジカル生成を表す。この反応では、二量化反応で生成した二酸化二塩素が、亜塩素酸イオンと反応して二酸化塩素ラジカルを生成する。
For example, the mechanism (mechanism) for generating chlorine dioxide radicals from chlorite ions is assumed, for example, as shown in Scheme 1 below. However, the following scheme 1 is an example of a presumed mechanism, and does not limit the present invention at all.
The first (upper) reaction formula of the following scheme 1 shows a disproportionation reaction of chlorite ion (ClO 2 ), and the presence of at least one of a Lewis acid and a Bronsted acid in the reaction system. It is thought that the equilibrium is likely to move to the right.
The second (middle) reaction formula in Scheme 1 below shows a dimerization reaction, in which hypochlorite ion (ClO ) generated in the disproportionation reaction reacts with chlorite ion to form dioxide. Chlorine (Cl 2 O 2 ) is produced. This reaction is considered to proceed more easily as the amount of protons H + in the water increases, that is, as the water becomes more acidic.
The third (lower) reaction scheme in Scheme 1 below represents radical generation. In this reaction, dichlorine dioxide generated by the dimerization reaction reacts with chlorite ions to generate chlorine dioxide radicals.

また、本方法では、前記フィルムが炭素−水素単結合を有するため、例えば、特開2017−155017号公報に記載されているエタンの酸化反応のメカニズム(機構)と同様のメカニズムで反応が進行するものと推測できる。   Further, in the present method, since the film has a carbon-hydrogen single bond, the reaction proceeds by the same mechanism as the mechanism (mechanism) of the ethane oxidation reaction described in JP-A-2017-155017, for example. I can guess.

<フィルム>
前記フィルムは、融点および/またはガラス転移温度が50℃以上300℃以下であるオレフィン系重合体を含むフィルムである。
<Film>
The film is a film containing an olefin polymer having a melting point and / or a glass transition temperature of 50 ° C. or more and 300 ° C. or less.

前記オレフィン系重合体としては特に制限されないが、例えば、エチレン系重合体、プロピレン系重合体、ブテン系重合体、4−メチル−1−ペンテン系重合体、環状オレフィン系重合体や、エチレン、プロピレン、ブテン、4−メチル−1−ペンテン、ヘキセン、オクテンなどの複数のオレフィンを用いて得られる共重合体が挙げられる。また、例えば、前記共重合体の原料として、オレフィン以外の化合物、例えば、スチレンなどの芳香族ビニル化合物や(メタ)アクリル酸(エステル)類を用いてもよい。
これらの中でも、エチレン系重合体、プロピレン系重合体、ブテン系重合体、4−メチル−1−ペンテン系重合体が好ましく、エチレン系重合体、プロピレン系重合体、4−メチル−1−ペンテン系重合体がより好ましく、用途にもよるが、4−メチル−1−ペンテン系重合体が特に好ましい。
The olefin polymer is not particularly limited, and examples thereof include an ethylene polymer, a propylene polymer, a butene polymer, a 4-methyl-1-pentene polymer, a cyclic olefin polymer, and ethylene and propylene. , Butene, 4-methyl-1-pentene, hexene, octene, and other olefins. Further, for example, as a raw material of the copolymer, a compound other than an olefin, for example, an aromatic vinyl compound such as styrene or (meth) acrylic acid (ester) may be used.
Among these, ethylene-based polymers, propylene-based polymers, butene-based polymers, and 4-methyl-1-pentene-based polymers are preferable, and ethylene-based polymers, propylene-based polymers, and 4-methyl-1-pentene-based polymers are preferred. Polymers are more preferred, and depending on the application, 4-methyl-1-pentene polymers are particularly preferred.

前記オレフィン系重合体は、従来公知の方法で合成して得てもよく、市販品でもよい。
前記オレフィン系重合体を得る手段は多くの報告があり、それらを制限なく採用することができ、例えば、分子量の高いエチレン重合体を得る方法としては、国際公開第2008/013144号、国際公開第2016/136540号などに記載の方法が挙げられ、4−メチル−1−ペンテン系重合体を得る方法としては、国際公開第2006/054613号などに記載の方法が挙げられる。
The olefin polymer may be synthesized by a conventionally known method, or may be a commercially available product.
There are many reports on the means for obtaining the olefin-based polymer, and they can be adopted without limitation. For example, as a method for obtaining an ethylene polymer having a high molecular weight, International Publication Nos. 2008/01144 and 2008/013144. As a method for obtaining a 4-methyl-1-pentene-based polymer, a method described in WO 2006/054613 or the like can be mentioned.

前記オレフィン系重合体の市販品としては、三井化学グループから市販されている、ハイゼックス、ハイゼックスミリオン、ミペロン、プライムポリプロ、TPX(いずれも登録商標)などが挙げられる。   Examples of commercially available products of the olefin-based polymer include Hizex, Hizex Million, Miperone, Prime Polypro, TPX (registered trademark), and the like, which are commercially available from the Mitsui Chemicals Group.

前記オレフィン系重合体としては、融点および/またはガラス転移温度が50〜300℃の重合体であればよい。前記の融点やガラス転移温度は、下記示差走査熱量測定装置(DSC装置)を使用して以下の方法またはこれと同等の方法で測定した場合のものである。なお、下記装置と同等の結果を与えることが確認されていれば、他の示差走査熱量計を用いてもよい。   The olefin-based polymer may be a polymer having a melting point and / or a glass transition temperature of 50 to 300 ° C. The above melting point and glass transition temperature are measured by the following method or a method equivalent thereto using the following differential scanning calorimeter (DSC device). Note that another differential scanning calorimeter may be used as long as it is confirmed that the same result as the following apparatus is obtained.

(株)日立ハイテクサイエンス製のEXSTAR DSC6220型の示差走査熱量計を用いて、約5.0mgの試料を窒素雰囲気下で30℃から昇温速度10℃/分で320℃まで昇温し、その温度で10分間保持する(ただし、250℃以上320℃以下の温度領域で分解する重合体を用いる場合は、常法の通り、適宜保持する温度を低く調整してもよい。)。さらに降温速度10℃/分で30℃まで冷却し、その温度で5分間保持した後、昇温速度10℃/分で320℃まで昇温する(ただし、250以上320以下の温度領域で分解する重合体を用いる場合は、常法の通り、適宜昇温の際の上限温度を低く調整してもよい。)。この2度目の昇温の際に観測される吸熱ピークを融解ピークとし、融解ピークが現れる温度を融点(Tm)として求める。融解ピークが多峰性の場合は、最も高温側の融解ピークが現れる温度を融点とする。
また、ガラス転移温度(Tg)は、2度目の昇温の際に、比熱の変化によりDSC曲線が屈曲し、ベースラインが平行移動する形で感知される。この屈曲より低温のベースラインの接線と、屈曲した部分で傾きが最大となる点の接線との交点の温度をガラス転移温度(Tg)とする。
Using an EXSTAR DSC6220 type differential scanning calorimeter manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., about 5.0 mg of the sample was heated from 30 ° C. in a nitrogen atmosphere to 320 ° C. at a rate of 10 ° C./min. The temperature is maintained for 10 minutes (however, when a polymer that decomposes in a temperature range of 250 ° C. or more and 320 ° C. or less is used, the holding temperature may be appropriately adjusted to be low as usual). Further, the temperature is lowered to 30 ° C. at a rate of 10 ° C./min, maintained at that temperature for 5 minutes, and then raised to 320 ° C. at a rate of 10 ° C./min. In the case of using a polymer, the upper limit temperature at the time of raising the temperature may be appropriately adjusted to be low as usual.) The endothermic peak observed at the time of the second heating is defined as a melting peak, and the temperature at which the melting peak appears is determined as a melting point (Tm). When the melting peak is multimodal, the temperature at which the highest-temperature side melting peak appears is defined as the melting point.
The glass transition temperature (Tg) is sensed when the DSC curve is bent due to a change in specific heat and the base line moves in parallel when the temperature is raised for the second time. The temperature at the intersection of the tangent to the base line at a temperature lower than the bend and the tangent to the point where the inclination is maximum at the bent portion is defined as the glass transition temperature (Tg).

前記オレフィン系重合体の135℃、デカリン中での極限粘度[η]は、好ましくは0.5〜20dl/g、より好ましくは0.8〜18dl/g、特に好ましくは1〜15dl/gである。
前記オレフィン系重合体の極限粘度が前記範囲にあると、成形性と強度等のバランスが好適である。
The intrinsic viscosity [η] of the olefin polymer at 135 ° C. in decalin is preferably 0.5 to 20 dl / g, more preferably 0.8 to 18 dl / g, particularly preferably 1 to 15 dl / g. is there.
When the intrinsic viscosity of the olefin polymer is within the above range, the balance between moldability and strength is suitable.

前記オレフィン系重合体のASTM1238規格に準じて測定されるメルトフローレートは、用いる樹脂の融点によって、測定条件が後述するように異なるが、そのメルトフローレートの好ましい範囲は、0.1〜200g/10分である。好ましい下限値は、1g/10分、より好ましくは3g/10分、さらに好ましくは5g/10分である。一方、好ましい上限値は150g/10分、より好ましくは130g/10分である。
前記メルトフローレート(ASTM1238規格)の好ましい測定条件は、以下の通りである。
エチレン系重合体の場合は、190℃、2.16kg荷重、プロピレン系重合体の場合は230℃、2.16kg荷重、4−メチル−1−ペンテン系重合体の場合は、260℃、5kg荷重、環状オレフィン系重合体の場合は、260℃、2.16kg荷重である。
The melt flow rate of the olefin polymer measured according to the ASTM1238 standard varies depending on the melting point of the resin used, as described below. The preferred range of the melt flow rate is 0.1 to 200 g / m 2. 10 minutes. A preferred lower limit is 1 g / 10 minutes, more preferably 3 g / 10 minutes, and still more preferably 5 g / 10 minutes. On the other hand, a preferred upper limit is 150 g / 10 minutes, more preferably 130 g / 10 minutes.
Preferred measurement conditions for the melt flow rate (ASTM1238 standard) are as follows.
190 ° C., 2.16 kg load for ethylene polymer, 230 ° C., 2.16 kg load for propylene polymer, 260 ° C., 5 kg load for 4-methyl-1-pentene polymer In the case of a cyclic olefin polymer, the temperature is 260 ° C. and the load is 2.16 kg.

前記フィルムは、公知の方法で製造することができ、具体的には、押出成形(例:T−ダイ成形)、インフレーション成形、キャスト成形(スピンコート法を併用する場合などを含む)を代表例として挙げることができる。
また、前記フィルムとしては、これらの方法でフィルムを成形したのち、そのフィルムを延伸したフィルムであってもよい。この延伸を行うことにより、結晶化度や可視光における透視性を高めることが可能になったり、多孔化させることもできる。多孔化させる場合、分散させた微粒子を含むフィルムを延伸してもよい。
The film can be manufactured by a known method, and specific examples include extrusion molding (eg, T-die molding), inflation molding, and cast molding (including a case where a spin coating method is used in combination). It can be mentioned as.
Further, the film may be a film obtained by forming a film by these methods and then stretching the film. By performing this stretching, the degree of crystallinity and the transparency in visible light can be increased, or the film can be made porous. When making it porous, the film containing the dispersed fine particles may be stretched.

前記フィルムは、本発明の目的を損なわない範囲で、他の重合体、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐光安定剤、耐候安定剤などの各種安定剤、帯電防止剤、親水剤、撥水剤、核剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、顔料、難燃剤などの添加剤を含んでいてもよい。   The film may be any other polymer, various stabilizers such as an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, a weather stabilizer, an antistatic agent, a hydrophilic agent, and a water repellent, as long as the object of the present invention is not impaired. , A nucleating agent, a slip agent, an anti-blocking agent, an anti-fogging agent, a lubricant, a dye, a pigment, a flame retardant and the like.

前記フィルムの厚みは、好ましくは1〜1000μm、より好ましくは5〜500μm、さらに好ましくは10〜300μmである。
フィルムの厚みが前記範囲にあると、フィルムの強度などの機械特性を維持しつつ、表面特性などの機能を容易に付与することができる。使用する光線の波長とオレフィン重合体の吸光特性にもよるが、フィルムが薄すぎると表面などの一部分を主として変性するというような細かい設計がし難くなる場合がある。
The thickness of the film is preferably 1 to 1000 μm, more preferably 5 to 500 μm, and still more preferably 10 to 300 μm.
When the thickness of the film is within the above range, functions such as surface characteristics can be easily imparted while maintaining mechanical characteristics such as film strength. Although it depends on the wavelength of the light beam used and the light absorption characteristics of the olefin polymer, if the film is too thin, it may be difficult to make a fine design such as mainly modifying a part of the surface or the like.

[変性フィルム]
前記フィルムには、前記ラジカルに含まれる原子(α)を含む官能基が導入される場合もあるが、空気中の酸素由来などの15族、16族原子を含む官能基が導入される場合もある。この際に、前記ラジカルに含まれる原子(β)もフィルムに導入される可能性がある。
本方法によれば、このように原子(β)もフィルムに導入されると考えられるため、変性フィルムには、原子(β)の有する効果も期待できる場合がある。
[Modified film]
A functional group containing an atom (α) contained in the radical may be introduced into the film in some cases, and a functional group containing a Group 15 or 16 atom derived from oxygen in the air may be introduced into the film. is there. At this time, atoms (β) contained in the radicals may be introduced into the film.
According to the present method, since it is considered that the atoms (β) are also introduced into the film, the effect of the atoms (β) may be expected in the modified film in some cases.

前記ラジカルを用いて、アルカンなどの低分子炭化水素化合物を変性する場合、17族原子の導入が抑制されることが報告されているが、本方法によれば、17族原子も15、16族原子と併せて、フィルムに導入できる場合がある。これは、メタンやエタンなどの低分子を変性する場合に比して、フィルムの炭素−水素結合の存在密度が高くなる傾向にあると考えられることや、フィルムとラジカルとが相互作用することでラジカルが安定化する場合があることがその一因ではないかと本発明者らは考えている。ただ、この推測によって、本発明は制限されない。   It has been reported that when a low molecular weight hydrocarbon compound such as an alkane is modified using the above radical, introduction of a group 17 atom is suppressed. In some cases, it can be introduced into the film together with the atoms. This is thought to be due to the fact that the density of carbon-hydrogen bonds in the film tends to be higher than when denaturing small molecules such as methane and ethane, and because the film interacts with radicals. The present inventors think that the stabilization of the radical may be one of the causes. However, the present invention is not limited by this estimation.

前記原子(α)を含む官能基としては、前記ラジカルが、酸素を含む場合、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、−C(=O)OOH、−O−O−が挙げられる。
フィルムに原子(β)が導入される場合、フィルムに導入される、原子(α)の合計量[Cα]と、原子(β)の合計量[Cβ]との比率[Cα]/[Cβ]の下限は、好ましくは、ゼロを超え、より好ましくは0.01、さらに好ましくは0.1、特に好ましくは0.5であり、上限値は、好ましくは5000、より好ましくは100、さらに好ましくは20である。
前記の[Cα]、[Cβ]値は、XPS法によって特定される値である。測定は、製品名AXIS−Nova(KRATOS社製)を用い常法で実施される。
As the functional group containing the atom (α), when the radical contains oxygen, for example, a hydroxy group, a carboxy group, an aldehyde group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, —C (= O) OOH, — O-O-.
When atoms (β) are introduced into the film, the ratio [Cα] / [Cβ] of the total amount of atoms (α) [Cα] and the total amount of atoms (β) [Cβ] to be introduced into the film. Is preferably more than zero, more preferably 0.01, further preferably 0.1, particularly preferably 0.5, and the upper limit is preferably 5000, more preferably 100, and still more preferably 20.
The [Cα] and [Cβ] values are values specified by the XPS method. The measurement is carried out using a product name AXIS-Nova (manufactured by KRATOS) by an ordinary method.

本方法によれば、変性する対象となるフィルムの表面を主として変性することができると期待される。従って、仮に変性の際に、フィルムを構成するオレフィン系重合体分子の切断や架橋が起こったとしても主にフィルム表面にとどまり、フィルムの強度等の性能に関するフィルム内部の性能への影響は最小限にできると考えられるので、フィルムの強度などを保持するうえで有利である。
前記表面とは、前記フィルムの表面からの深さが、その厚みの1/10以下、より好ましくは1/20以下の領域をいう。この変性される部分の深さは、例えば、XPS法で確認することができる。
According to this method, it is expected that the surface of the film to be modified can be mainly modified. Therefore, even if the olefin polymer molecules constituting the film are cut or cross-linked during modification, they remain mainly on the film surface, and the effect on the performance inside the film, such as the strength of the film, is minimal. This is advantageous in maintaining the strength of the film.
The surface refers to a region whose depth from the surface of the film is 1/10 or less, more preferably 1/20 or less of its thickness. The depth of the denatured portion can be confirmed by, for example, the XPS method.

本方法によれば、フィルムの全表面を変性することもできるし、一部の面のみを変性することもできるし、面の一部分のみを変性することもできる。
本方法は、光を介して進行するので、主として光の当たった場所を変性できることが期待される。
また、光をフィルムの一面だけに照射すれば、該一面だけ変性した変性フィルムや、フォトマスク等により、光の当たる部分を制御すれば、特定の箇所だけ変性することも可能となり、変性部分と未変性部分の比率を自由に制御することもできると期待される。
According to this method, the entire surface of the film can be modified, only a part of the surface can be modified, or only a part of the surface can be modified.
Since the present method proceeds through light, it is expected that the location mainly exposed to light can be modified.
In addition, if light is applied to only one side of the film, a modified film that has been modified only on one side or a photomask or the like can be used to control a portion that is exposed to light. It is expected that the ratio of the native portion can be freely controlled.

例えば、変性フィルムにおける、変性される部分の面積は、変性フィルムを窓等に貼りつけるような使用形態など、変性フィルムの所望の用途に応じて適宜選択すればよいが、変性フィルムの表面全体を100%として、好ましい下限値は、1%、5%、10%、20%、30%、50%の順に好ましく、好ましい上限値は100%であり、より好ましくは90%である。変性された領域は、XPS法などの公知の方法で特定することができる。
前記変性は、前記ラジカルの存在下に光が当たって発生する17族元素のラジカルを起点に反応が進行すると考えられる。従って、当該ラジカルが変性対象であるフィルムと接触した部分で変性が起こると考えられる。例えば、前記方法(I)において、前記ラジカルおよびフィルムに光照射する場合、変性対象であるフィルムに光照射された面積と変性された面積とは、ほぼ等価と考えることができる場合がある。
光を照射した周辺部や、光が届かない細孔の深層部が変性される場合もあるが、その割合は小さいと考えられる。
For example, in the modified film, the area of the portion to be modified may be appropriately selected according to a desired use of the modified film, such as a usage form of attaching the modified film to a window or the like, but the entire surface of the modified film may be used. As 100%, a preferred lower limit is preferably 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, and 50% in this order, and a preferred upper limit is 100%, and more preferably 90%. The denatured region can be specified by a known method such as the XPS method.
It is considered that the modification proceeds from a radical of a Group 17 element generated by being irradiated with light in the presence of the radical. Therefore, it is considered that denaturation occurs in a portion where the radical contacts the film to be denatured. For example, in the method (I), when the radicals and the film are irradiated with light, the area of the film to be modified that is irradiated with light may be considered to be substantially equivalent to the modified area.
In some cases, the peripheral part irradiated with light or the deep part of the pores that light does not reach may be modified, but the ratio is considered to be small.

本方法で得られた変性フィルムは、そのまま用いてもよいし、前記のように導入された官能基を、さらに他の成分と反応させることで、機能を強化したり、性質を変化させてもよい。例えば、前記の官能基を足場として、様々な構造のシリコーン成分と反応させることにより、極めて高い離型性を付与することができる。   The modified film obtained by this method may be used as it is, or the functional group introduced as described above may be further reacted with other components to enhance the function or change the properties. Good. For example, by using the functional group as a scaffold and reacting with silicone components having various structures, it is possible to impart extremely high releasability.

前記変性フィルムは、各種の用途に好ましく適用できると考えられる。
前記変性フィルムが多孔質フィルムである場合、例えば、電池などの各種セパレータ用途やフィルター用途、離型フィルムなどに好適であると考えられる。
前記離型フィルムは、例えば、前記TPX(登録商標)などのオレフィン系重合体フィルムを、紙やポリエステルフィルム等と貼り合わせた積層構造の離型フィルムとしてもよい。この場合、片面のみに本方法で得られた変性フィルムを用い、その変性面を紙やポリエステルフィルム等と貼合する態様とする場合、該紙やポリエステルフィルム等との接着性能を高め、他の面は離型性能を発揮できる、優れた積層離型フィルムとすることも期待できる。
It is considered that the modified film can be preferably applied to various uses.
When the modified film is a porous film, it is considered to be suitable for, for example, various separator applications such as batteries, filter applications, release films, and the like.
The release film may be, for example, a release film having a laminated structure in which an olefin-based polymer film such as TPX (registered trademark) is bonded to paper or a polyester film. In this case, using the modified film obtained by the present method only on one side, when the modified surface is to be bonded to paper or a polyester film, etc., the adhesive performance with the paper or polyester film or the like is enhanced, and other The surface can also be expected to be an excellent laminated release film that can exhibit release performance.

また、前記フィルムとして、多孔質フィルムのような複雑な表面形状を有するフィルムを用いる場合であっても、本方法によれば、その細部まで変性できることが期待できる。本方法による変性は、前記の推定機構の通り、塩素ラジカルのような単純な構造のラジカルを起点とする変性であると考えられるので、その運動性の高さが期待できるためである。このような特性は、フィルム表面だけでなく、射出成形体のような成形体の微細な表面にも適用できると考えられる。   Further, even when a film having a complicated surface shape such as a porous film is used as the film, it can be expected that the method can be modified to the finest details. The denaturation by this method is considered to be a denaturation originating from a radical having a simple structure such as a chlorine radical, as described above, so that high mobility can be expected. It is considered that such characteristics can be applied to not only the film surface but also a fine surface of a molded article such as an injection molded article.

前記変性フィルムは、その変性により、オレフィン系重合体の分子量低下が少ないので、前記用途などにおいて、強度の低下が少なく、耐久性に優れる変性フィルムを容易に得ることができる。また、変性により、比較的多くの官能基を導入できるので、その変性により付与された性能の経年低下の割合も少ないことが期待できる。   Since the modified film has a small decrease in the molecular weight of the olefin polymer due to the modification, it is possible to easily obtain a modified film having a small decrease in strength and excellent durability in the above-mentioned applications. In addition, since a relatively large number of functional groups can be introduced by the modification, it is expected that the rate of deterioration over time of the performance imparted by the modification is small.

他の期待される用途としては、光照射時に、文字や絵の形状のフォトマスクを併用して所定の箇所だけ変性し、変性部分に色素などを接着させることによるディスプレイ用フィルムとして用いることも期待される。   Another expected application is that it is also expected to be used as a display film by using a photomask in the form of characters or pictures when irradiating light to modify only a predetermined portion and attaching a dye or the like to the modified portion. Is done.

以下、本発明の実施例について説明する。ただし、本発明は、以下の実施例には限定されない。   Hereinafter, examples of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to the following examples.

[実施例1]
ポリ容器に亜塩素酸ナトリウム(Sigma−Aldrich社製)10gおよび超純水100mLを入れ、亜塩素酸ナトリウムを超純水に溶解させた後、35〜37%塩酸水溶液(富士フイルム和光純薬(株)製)1mLを加えることで、混合液を作成した。この条件で混合液中に二酸化塩素ラジカルが存在していることは別途、ESR法で確認した。この混合液を約22cm×16cm×高さ1.5cmの浅型バットに入れて網棚に置いた。次いで、約28cm×20cmのTPXフィルム(ポリ4−メチル−1−ペンテン、三井化学(株)製、DX231、50μm厚、融点:231℃、メルトフローレート(ASTM1238規格、260℃、5kg荷重):100g/10分)を混合液に触れないようにバットの上に載せた(このときの状態を図1に示す。)。このフィルムの上部からパイフォトニクス(株)製のホロライト・カク DC12Vで波長365nmの光を10分間、50〜70mW/cm2で照射した。その後、その後、洗瓶を用いて、フィルム表面全体に超純水をかけて洗浄し、次いで減圧乾燥し、変性TPXフィルムを得た。
[Example 1]
10 g of sodium chlorite (manufactured by Sigma-Aldrich) and 100 mL of ultrapure water are put in a polycontainer, and sodium chlorite is dissolved in the ultrapure water, and then a 35 to 37% aqueous hydrochloric acid solution (Fujifilm Wako Pure Chemical Co., Ltd.) 1 ml) was added to prepare a mixed solution. The presence of chlorine dioxide radicals in the mixture under these conditions was separately confirmed by the ESR method. This mixed solution was placed in a shallow vat having a size of about 22 cm × 16 cm × 1.5 cm and placed on a net shelf. Then, a TPX film of about 28 cm × 20 cm (poly 4-methyl-1-pentene, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., DX231, 50 μm thickness, melting point: 231 ° C., melt flow rate (ASTM1238 standard, 260 ° C., 5 kg load): (100 g / 10 minutes) was placed on a vat so as not to touch the mixed solution (the state at this time is shown in FIG. 1). The film was irradiated with light having a wavelength of 365 nm at 50 to 70 mW / cm 2 for 10 minutes using Hollolight Kaku DC12V manufactured by Py Photonics KK from above the film. Thereafter, using a washing bottle, the entire surface of the film was washed with ultrapure water and then dried under reduced pressure to obtain a modified TPX film.

<TPXフィルムの親水性評価>
未処理のTPXフィルムおよび前記変性TPXフィルムそれぞれに対して、enercon社製の濡れ性確認用ペンセットVarietyに含まれる8本のEnerDyneペン(それぞれのダインレベル:30、32、35、38、41、44、48および56)で約1cmの線を引き、インクの濡れ性を目視で確認した。結果を表1に示す。また、この時のフィルムの状態を図2に示す。なお、図2の数字より上は、酸化TPXフィルムの状態を示し、数字より下は、未処理のTPXフィルムの状態を示す。
<Evaluation of hydrophilicity of TPX film>
For each of the untreated TPX film and the modified TPX film, eight EnerDyne pens (each having a Dyne level of 30, 32, 35, 38, 41, and 40) included in a pen set Variity for checking wettability manufactured by Enercon Inc. 44, 48 and 56), a line of about 1 cm was drawn, and the wettability of the ink was visually confirmed. Table 1 shows the results. FIG. 2 shows the state of the film at this time. In addition, above the number of FIG. 2, the state of an oxidized TPX film is shown, and below the number, the state of an untreated TPX film is shown.

Claims (8)

1分子中に、15族元素および16族元素から選ばれる元素の原子(α)と17族元素の原子(β)とを、原子(α)の数:原子(β)の数=1:1〜4:1の比で含むラジカルの存在下に光照射する工程1を含む、
融点および/またはガラス転移温度が50℃以上300℃以下であるオレフィン系重合体フィルムの一部または全部を変性した変性フィルムの製造方法。
In one molecule, the atom (α) of the element selected from the group 15 element and the group 16 element and the atom (β) of the group 17 element are defined as the number of atoms (α): the number of atoms (β) = 1: 1. Step 1 of irradiating light in the presence of radicals having a ratio of 44: 1.
A method for producing a modified film obtained by modifying a part or all of an olefin polymer film having a melting point and / or a glass transition temperature of 50 ° C. or more and 300 ° C. or less.
前記工程1が、前記ラジカルおよび前記フィルムの存在下に、前記ラジカルに光照射して前記フィルムを変性する工程である、請求項1に記載の変性フィルムの製造方法。   The method for producing a modified film according to claim 1, wherein the step 1 is a step of irradiating the radical with light in the presence of the radical and the film to modify the film. 前記工程1が、前記ラジカルおよび前記フィルムの存在下に、前記ラジカルおよび前記フィルムに光照射して前記フィルムを変性する工程である、請求項1または2に記載の変性製布の製造方法。   The method for producing a modified fabric according to claim 1 or 2, wherein the step 1 is a step of irradiating the radical and the film with light in the presence of the radical and the film to modify the film. 前記変性フィルムの厚さが1〜1000μmである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の変性フィルムの製造方法。   The method for producing a modified film according to any one of claims 1 to 3, wherein the thickness of the modified film is 1 to 1000 m. 前記ラジカルが二酸化塩素ラジカルである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の変性フィルムの製造方法。   The method for producing a modified film according to any one of claims 1 to 4, wherein the radical is a chlorine dioxide radical. 前記オレフィン系重合体が、4−メチル−1−ペンテン系重合体である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の変性フィルムの製造方法。   The method for producing a modified film according to any one of claims 1 to 5, wherein the olefin-based polymer is a 4-methyl-1-pentene-based polymer. 前記変性フィルムが多孔質フィルムである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の変性フィルムの製造方法。   The method for producing a modified film according to any one of claims 1 to 6, wherein the modified film is a porous film. 前記変性フィルムが離型フィルムである、請求項1〜7のいずれか1項に記載の変性フィルムの製造方法。   The method for producing a modified film according to any one of claims 1 to 7, wherein the modified film is a release film.
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