JP2019212398A - Uv-curable resin composition for sealing organic el element, method for manufacturing organic el light-emitting device, and organic el light-emitting device - Google Patents

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Abstract

To provide a UV-curable resin composition for sealing an organic EL element, which contains a moisture absorbent, which can be used to fabricate a sealing material for an organic EL light-emitting device, which can impart the adhesion with a member made of an inorganic material to such a sealing material, and which hardly causes the rise in viscosity.SOLUTION: The composition comprises: an acrylic compound (A); a photo-polymerization initiator (B); and a moisture absorbent (E) of 200 nm or less in average particle size. The acrylic compound (A) includes a compound (A1) represented by the formula (1) where Ris H or a methyl group, X is a single bond or a divalent hydrocarbon group, Rto Reach represent H, an alkyl group or -R-OH, Ris an alkylene group, at least one of Rto Ris an alkyl group or -R-OH, and Rto Rdo not make a chemical bond with each other.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物、有機EL発光装置の製造方法及び有機EL発光装置に関し、詳しくは、有機EL発光装置における封止材を作製するために好適な有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物、この有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物を用いる有機EL発光装置の製造方法、及びこの封止材を備える有機EL発光装置に関する。   The present invention relates to an ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element, a method for producing an organic EL light-emitting device, and an organic EL light-emitting device, and more specifically, an organic material suitable for producing a sealing material in the organic EL light-emitting device. The present invention relates to an ultraviolet curable resin composition for sealing an EL element, a method for producing an organic EL light emitting device using the ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element, and an organic EL light emitting device including the sealing material.

有機EL発光装置は、照明、ディスプレイなどに適用されており、今後の更なる普及が期待されている。   Organic EL light-emitting devices are applied to lighting, displays, and the like, and are expected to become more widespread in the future.

有機EL発光装置のうち、トップエミッションタイプと呼ばれるものは、例えば支持基板上に有機EL素子を配置し、支持基板に対向するように透明基板を配置し、支持基板と透明基板との間に透明な封止材を充填して構成される。この場合、有機EL素子が発する光は封止材及び透明基板を通過して外部へ出射する。   Among organic EL light-emitting devices, what is called the top emission type is, for example, an organic EL element is disposed on a support substrate, a transparent substrate is disposed so as to face the support substrate, and transparent between the support substrate and the transparent substrate. It is configured by filling a sealing material. In this case, the light emitted from the organic EL element is emitted to the outside through the sealing material and the transparent substrate.

有機EL発光装置における封止材を、インクジェット法で作製することが提案されている。例えば特許文献1には、75〜95wt.%のポリエチレングリコールジメタクリレートモノマー等と、4〜10wt.%のペンタエリスリトールテトラアクリレート等と、22℃で約14から約18cpsの範囲内の粘度及び22℃で約35から約39ダイン/cmの範囲内の表面張力を有する1〜15wt.%の展着改質剤とを含むインク組成物を用い、インクジェット法で封止材を作製することが、開示されている。   It has been proposed to produce a sealing material in an organic EL light emitting device by an inkjet method. For example, in Patent Document 1, 75 to 95 wt. % Polyethylene glycol dimethacrylate monomer and the like, 4 to 10 wt. % Pentaerythritol tetraacrylate, etc., having a viscosity in the range of about 14 to about 18 cps at 22 ° C. and a surface tension in the range of about 35 to about 39 dynes / cm at 22 ° C. It is disclosed that an encapsulant is produced by an ink jet method using an ink composition containing a% spread modifier.

封止材を作製するための組成物中に吸湿剤を配合することで封止材に吸湿性を付与することも提案されている。例えば特許文献2には、ラジカル重合性化合物と、重合開始剤及び/又は硬化剤と、粉末状モレキュラーシーブとを含有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤が開示されている。   It has also been proposed to impart hygroscopicity to the sealing material by blending a hygroscopic agent in the composition for producing the sealing material. For example, Patent Document 2 discloses a sealing agent for organic electroluminescence display elements containing a radical polymerizable compound, a polymerization initiator and / or a curing agent, and a powdered molecular sieve.

特表2017−531049号公報Special table 2017-553049 gazette 特開2016−012559号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-012559

有機EL発光装置においては、透明基板、有機EL素子を保護するパッシベーション層などとして、無機材料製の部材が適用されることが多い。封止材と無機材料製の部材との間の密着性が低いと、有機EL発光装置内に侵入した水分が封止材と部材との間に生じた隙間を通じて有機EL素子に到達し、有機EL素子を劣化させてしまう危険性がある。このため、封止材には、無機材料製の部材との密着性が要求されることがある。   In an organic EL light emitting device, a member made of an inorganic material is often applied as a transparent substrate, a passivation layer for protecting an organic EL element, or the like. If the adhesion between the sealing material and the inorganic material member is low, the moisture that has entered the organic EL light emitting device reaches the organic EL element through the gap formed between the sealing material and the member, and the organic There is a risk of deteriorating the EL element. For this reason, the sealing material may be required to have adhesiveness with a member made of an inorganic material.

しかし、特許文献1に記載されているようなアクリル系の組成物から封止材が作製されると、組成物を低粘度化させてインクジェット法で成形可能としながら封止材と無機材料製の部材との間の密着性を確保することは困難であった。特許文献2のように組成物に吸湿剤を含ませる場合には、組成物の低粘度化は更に困難となる。特に、封止材の薄型化のためにインクジェット法で吐出される液滴の径を小さくする場合は、組成物を非常に低粘度化させる必要があり、そのような場合に封止材と無機材料製の部材との間の密着性を確保することは非常に困難であった。   However, when an encapsulant is produced from an acrylic composition as described in Patent Document 1, the encapsulant and inorganic material are made while reducing the viscosity of the composition and allowing it to be molded by the inkjet method. It was difficult to ensure adhesion between the members. When a hygroscopic agent is included in the composition as in Patent Literature 2, it is more difficult to lower the viscosity of the composition. In particular, in order to reduce the diameter of the droplets ejected by the inkjet method in order to reduce the thickness of the sealing material, it is necessary to reduce the viscosity of the composition. It was very difficult to ensure adhesion between the material members.

本発明の課題は、吸湿剤を含有し、有機EL発光装置における封止材を作製するために使用でき、封止材に無機材料製の部材との密着性を付与することができ、かつ粘度上昇を起こしにくい有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物、この有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物を用いる有機EL発光装置の製造方法、及びこの有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる封止材を備える有機EL発光装置を提供することである。   The subject of this invention contains a hygroscopic agent, can be used in order to produce the sealing material in an organic electroluminescent light-emitting device, can provide adhesiveness with the member made from an inorganic material, and viscosity. An ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element that hardly causes an increase, a method for producing an organic EL light emitting device using the ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element, and an ultraviolet curable for sealing the organic EL element It is providing an organic electroluminescent light emitting device provided with the sealing material which consists of hardened | cured material of a conductive resin composition.

本発明の一態様に係る有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物は、アクリル化合物(A)、光重合開始剤(B)及び平均粒径200nm以下の吸湿剤(E)を含有し、前記アクリル化合物(A)は、下記式(1)に示す化合物(A1)を含有する。   The ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL device according to one embodiment of the present invention contains an acrylic compound (A), a photopolymerization initiator (B), and a hygroscopic agent (E) having an average particle size of 200 nm or less, The acrylic compound (A) contains a compound (A1) represented by the following formula (1).

前記式(1)において、R0はH又はメチル基であり、Xは単結合又は二価の炭化水素基であり、R1からR11の各々はH、アルキル基又は−R12−OH、R12はアルキレン基でありかつR1からR11のうち少なくとも一つはアルキル基又は−R12−OHであり、R1からR11は互いに化学結合していない。 In the formula (1), R 0 is H or a methyl group, X is a single bond or a divalent hydrocarbon group, and each of R 1 to R 11 is H, an alkyl group, or —R 12 —OH, R 12 is an alkylene group, and at least one of R 1 to R 11 is an alkyl group or —R 12 —OH, and R 1 to R 11 are not chemically bonded to each other.

本発明の一態様に係る有機EL発光装置の製造方法は、有機EL素子と前記有機EL素子を覆う封止材とを備える有機EL発光装置を製造する方法であり、前記有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、前記有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させることで前記封止材を作製することを含む。   The manufacturing method of the organic EL light-emitting device which concerns on 1 aspect of this invention is a method of manufacturing an organic EL light-emitting device provided with an organic EL element and the sealing material which covers the said organic EL element, For the said organic EL element sealing After forming an ultraviolet curable resin composition by an inkjet method, the ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element is irradiated with ultraviolet rays and cured to prepare the sealing material.

本発明の一態様に係る有機EL発光装置は、有機EL素子と、前記有機EL素子を覆う封止材とを備え、前記封止材は、前記有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物である。   The organic EL light emitting device according to an aspect of the present invention includes an organic EL element and a sealing material that covers the organic EL element, and the sealing material is the ultraviolet curable resin composition for sealing the organic EL element. It is a cured product.

本発明の一態様によれば、吸湿剤を含有し、有機EL発光装置における封止材を作製するために使用でき、封止材に無機材料製の部材との密着性を付与することができ、かつ粘度上昇を起こしにくい有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物、この有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物を用いる有機EL発光装置の製造方法、及びこの有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる封止材を備える有機EL発光装置を、提供できる。   According to one embodiment of the present invention, it contains a hygroscopic agent and can be used to produce a sealing material in an organic EL light-emitting device, and can impart adhesion to a member made of an inorganic material to the sealing material. In addition, an ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element that hardly causes an increase in viscosity, a method for producing an organic EL light emitting device using the ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element, and the sealing of the organic EL element An organic EL light-emitting device including a sealing material made of a cured product of the ultraviolet curable resin composition for use can be provided.

図1は、有機EL発光装置の第一例の概略の断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a first example of an organic EL light emitting device. 図2は、有機EL発光装置の第二例の概略の断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a second example of the organic EL light emitting device.

以下、本発明の一実施形態について説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.

1.実施形態の概要
本実施形態に係る有機EL発光装置1は、有機EL素子4と、有機EL素子4を覆う封止材5とを備える。
1. Outline of Embodiment The organic EL light emitting device 1 according to this embodiment includes an organic EL element 4 and a sealing material 5 that covers the organic EL element 4.

有機EL発光装置1の構造の第一例を、図1を参照して説明する。この有機EL発光装置1は、トップエミッションタイプである。有機EL発光装置1は、支持基板2、支持基板2と間隔をあけて対向する透明基板3、支持基板2の透明基板3と対向する面の上にある有機EL素子4、及び支持基板2と透明基板3との間に充填されている封止材5とを備える。また、図1に示す例では、有機EL発光装置1は、支持基板2の透明基板3と対向する面及び有機EL素子4を覆うパッシベーション層6を備える。   A first example of the structure of the organic EL light emitting device 1 will be described with reference to FIG. The organic EL light emitting device 1 is a top emission type. The organic EL light emitting device 1 includes a support substrate 2, a transparent substrate 3 that faces the support substrate 2 with a space therebetween, an organic EL element 4 on the surface of the support substrate 2 that faces the transparent substrate 3, and the support substrate 2. The sealing material 5 filled between the transparent substrates 3 is provided. In the example shown in FIG. 1, the organic EL light emitting device 1 includes a passivation layer 6 that covers the surface of the support substrate 2 facing the transparent substrate 3 and the organic EL element 4.

支持基板2は、例えば樹脂材料から作製されるが、これに限定されない。透明基板3は透光性を有する材料から作製される。透明基板3は、例えば、ガラス製基板又は透明樹脂製基板である。有機EL素子4は有機発光ダイオードとも呼ばれる。有機EL素子4は、例えば一対の電極と、電極間にある有機発光層とを備える。パッシベーション層6は窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されることが好ましい。   The support substrate 2 is made of, for example, a resin material, but is not limited to this. The transparent substrate 3 is made from a material having translucency. The transparent substrate 3 is, for example, a glass substrate or a transparent resin substrate. The organic EL element 4 is also called an organic light emitting diode. The organic EL element 4 includes, for example, a pair of electrodes and an organic light emitting layer located between the electrodes. The passivation layer 6 is preferably made from silicon nitride or silicon oxide.

有機EL発光装置1の構造の第二例を、図2を参照して説明する。なお、図1に示す第一例と共通する要素については、図1と同じ符号を付して、詳細な説明を適宜省略する。図2に示す有機EL発光装置1も、トップエミッションタイプである。有機EL発光装置1は、支持基板2、支持基板2と間隔をあけて対向する透明基板3、支持基板2の透明基板3と対向する面の上にある有機EL素子4、及び有機EL素子4を覆う封止材5を備える。   A second example of the structure of the organic EL light emitting device 1 will be described with reference to FIG. Elements common to the first example shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 1, and detailed description thereof is omitted as appropriate. The organic EL light emitting device 1 shown in FIG. 2 is also a top emission type. The organic EL light-emitting device 1 includes a support substrate 2, a transparent substrate 3 facing the support substrate 2 with a gap, an organic EL element 4 on the surface of the support substrate 2 facing the transparent substrate 3, and the organic EL element 4 The sealing material 5 which covers is provided.

有機EL素子4は、第一例の場合と同様、例えば一対の電極41、43と、電極41、43間にある有機発光層42とを備える。有機発光層42は、例えば正孔注入層421、正孔輸送層422、発光層423及び電子輸送層424を備え、これらの層は前記の順番に積層している。   As in the case of the first example, the organic EL element 4 includes, for example, a pair of electrodes 41 and 43 and an organic light emitting layer 42 between the electrodes 41 and 43. The organic light emitting layer 42 includes, for example, a hole injection layer 421, a hole transport layer 422, a light emitting layer 423, and an electron transport layer 424, and these layers are stacked in the order described above.

有機EL発光装置1は複数の有機EL素子4を備え、かつ複数の有機EL素子4が、支持基板2上でアレイ9(以下素子アレイ9という)を構成している。素子アレイ9は、隔壁7も備える。隔壁7は、支持基板2上にあり、隣合う二つの有機EL素子4の間を仕切っている。隔壁7は、例えば感光性の樹脂材料をフォトリソグラフィ法で成形することで作製される。素子アレイ9は、隣合う有機EL素子4の電極43及び電子輸送層424同士を電気的に接続する接続配線8も備える。接続配線8は、隔壁7上に設けられている。   The organic EL light emitting device 1 includes a plurality of organic EL elements 4, and the plurality of organic EL elements 4 constitute an array 9 (hereinafter referred to as an element array 9) on the support substrate 2. The element array 9 also includes a partition wall 7. The partition wall 7 is on the support substrate 2 and partitions between the two adjacent organic EL elements 4. The partition wall 7 is produced, for example, by molding a photosensitive resin material by a photolithography method. The element array 9 also includes connection wirings 8 that electrically connect the electrodes 43 and the electron transport layers 424 of the adjacent organic EL elements 4. The connection wiring 8 is provided on the partition wall 7.

有機EL発光装置1は、有機EL素子4を覆うパッシベーション層6も備える。パッシベーション層6は窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されることが好ましい。パッシベーション層6は、第一パッシベーション層61と第二パッシベーション層62とを含む。第一パッシベーション層61は素子アレイ9に直接接触した状態で、素子アレイ9を覆うことで、有機EL素子4を覆っている。第二パッシベーション層62は、第一パッシベーション層61に対して、素子アレイ9とは反対側の位置に配置され、かつ第二パッシベーション層62と第一パッシベーション層61との間には間隔があけられている。第一パッシベーション層61と第二パッシベーション層62との間に、封止材5が充填されている。すなわち、有機EL素子4と、有機EL素子4を覆う封止材5との間に、第一パッシベーション層61が介在している。   The organic EL light emitting device 1 also includes a passivation layer 6 that covers the organic EL element 4. The passivation layer 6 is preferably made from silicon nitride or silicon oxide. The passivation layer 6 includes a first passivation layer 61 and a second passivation layer 62. The first passivation layer 61 covers the organic EL element 4 by covering the element array 9 while in direct contact with the element array 9. The second passivation layer 62 is disposed at a position opposite to the element array 9 with respect to the first passivation layer 61, and a space is provided between the second passivation layer 62 and the first passivation layer 61. ing. A sealing material 5 is filled between the first passivation layer 61 and the second passivation layer 62. That is, the first passivation layer 61 is interposed between the organic EL element 4 and the sealing material 5 that covers the organic EL element 4.

さらに、第二パッシベーション層62と透明基板3との間に、第二封止材52が充填されている。第二封止材52は、例えば透明な樹脂材料から作製される。第二封止材52の材質は特に制限されない。第二封止材52の材質は、封止材5と同じであっても、異なっていてもよい。   Further, a second sealing material 52 is filled between the second passivation layer 62 and the transparent substrate 3. The second sealing material 52 is made of, for example, a transparent resin material. The material of the second sealing material 52 is not particularly limited. The material of the second sealing material 52 may be the same as or different from that of the sealing material 5.

封止材5を、本実施形態に係る有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物から作製することができる。すなわち、有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物は、有機EL素子4のための封止材5を作製するために用いられる。更に言い換えれば、有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物は、好ましくは封止材作製用の組成物、有機EL素子封止用の組成物、あるいは有機EL発光装置製造用の組成物である。   The sealing material 5 can be produced from the ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element according to this embodiment. That is, the ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element is used for producing a sealing material 5 for the organic EL element 4. In other words, the ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element is preferably a composition for preparing a sealing material, a composition for sealing an organic EL element, or a composition for manufacturing an organic EL light emitting device. is there.

2.有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物
有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物(以下、組成物(X)ともいう)について説明する。
2. UV curable resin composition for sealing organic EL elements An ultraviolet curable resin composition for sealing organic EL elements (hereinafter also referred to as composition (X)) will be described.

組成物(X)は、アクリル化合物(A)、光重合開始剤(B)及び平均粒径200nm以下の吸湿剤(E)を含有する。   The composition (X) contains an acrylic compound (A), a photopolymerization initiator (B), and a hygroscopic agent (E) having an average particle size of 200 nm or less.

アクリル化合物(A)は、下記式(1)に示す化合物(A1)を含有する。化合物(A1)によって、組成物(X)から作製される封止材5に、パッシベーション層6といった無機材料製の部材との密着性が付与されうる。   The acrylic compound (A) contains a compound (A1) represented by the following formula (1). By the compound (A1), the sealing material 5 produced from the composition (X) can be provided with adhesion to a member made of an inorganic material such as the passivation layer 6.

また、特開2016−012559号公報に開示されている場合のように封止材5に単に吸湿剤を分散させるだけでは、封止材5の透明性の低下を招いてしまい、有機EL発光装置1の発光効率が低下してしまう。封止材の粒径を小さくすると封止材5の透明性向上が期待できるが、その場合は封止材5を作製するための組成物の粘度が増大してしまい、組成物を成形することが困難になる。組成物に単に低粘度の成分を含有させて低粘度化するだけでは、その成分が組成物から揮発しやすくなり、そのため保管中に組成物の組成が変化しやすくなってしまう。   Further, simply dispersing the hygroscopic agent in the encapsulant 5 as disclosed in JP-A-2006-012559 causes a decrease in the transparency of the encapsulant 5, and the organic EL light emitting device. The light emission efficiency of 1 will fall. If the particle size of the encapsulant is reduced, the transparency of the encapsulant 5 can be expected to improve, but in this case, the viscosity of the composition for producing the encapsulant 5 increases, and the composition is molded. Becomes difficult. If the composition is simply made to contain a low-viscosity component to reduce the viscosity, the component is likely to volatilize from the composition, and the composition of the composition is likely to change during storage.

しかし、本実施形態では、組成物(X)は、吸湿剤(E)を含有するため、硬化物は優れた吸湿性を有する。また、吸湿剤(E)の平均粒径が200nm以下であるため、硬化物は高い透明性を有することができる。   However, in this embodiment, since the composition (X) contains the hygroscopic agent (E), the cured product has excellent hygroscopicity. Moreover, since the average particle diameter of a hygroscopic agent (E) is 200 nm or less, hardened | cured material can have high transparency.

また、組成物(X)は、化合物(A1)を含有することで、平均粒径が200nm以下という小さい粒径の吸湿剤(E)を含有するにもかかわらず、低い粘度を有することができる。このため、封止材5を作製する際などに組成物(X)を塗布する場合の塗布性が良好である。このため、キャスティング法、インクジェット法などで組成物(X)を塗布することが可能であり、常温下でインクジェット法で組成物(X)を塗布することも可能である。   Further, the composition (X) contains the compound (A1), so that it can have a low viscosity despite containing the hygroscopic agent (E) having a small particle diameter of 200 nm or less. . For this reason, the applicability | paintability in the case of apply | coating composition (X) at the time of producing the sealing material 5 is favorable. For this reason, it is possible to apply the composition (X) by a casting method, an inkjet method or the like, and it is also possible to apply the composition (X) by an inkjet method at room temperature.

さらに、化合物(A1)は、低い粘度を有するわりには、揮発しにくい性質を有する。そのため、組成物(X)を保存していても、組成物(X)には単官能カチオン重合性化合物(D)の揮発による組成の変化が生じにくい。また、化合物(A1)は、吸湿剤(E)、特にゼオライト粒子と反応しにくいため、反応による粘度上昇も引き起こしにくい。このため、組成物(X)の保存安定性を損わずに組成物(X)を低粘度化できる。   Furthermore, the compound (A1) has a property of being less volatile in spite of having a low viscosity. Therefore, even if the composition (X) is stored, the composition (X) hardly changes in composition due to volatilization of the monofunctional cationically polymerizable compound (D). Moreover, since the compound (A1) does not easily react with the moisture absorbent (E), particularly zeolite particles, it is difficult to cause an increase in viscosity due to the reaction. For this reason, the composition (X) can be reduced in viscosity without impairing the storage stability of the composition (X).

これにより、本実施形態では、吸湿剤(E)を含有し、有機EL発光装置1における封止材5を作製するために使用でき、封止材5に無機材料製の部材との密着性を付与することができ、かつ粘度上昇を起こしにくい組成物(X)が得られる。   Thereby, in this embodiment, it can use in order to produce the sealing material 5 in the organic EL light-emitting device 1 containing a hygroscopic agent (E), and the sealing material 5 has adhesiveness with the member made of an inorganic material. A composition (X) that can be applied and hardly raises the viscosity is obtained.

式(1)において、R0はH又はメチル基である。Xは単結合又は二価の炭化水素基である。R1からR11の各々はH、アルキル基又は−R12−OH、R12はアルキレン基でありかつR1からR11のうち少なくとも一つはアルキル基又は−R12−OHである。R1からR11は互いに化学結合していない。 In the formula (1), R 0 is H or a methyl group. X is a single bond or a divalent hydrocarbon group. Each of R 1 to R 11 is H, an alkyl group or —R 12 —OH, R 12 is an alkylene group, and at least one of R 1 to R 11 is an alkyl group or —R 12 —OH. R 1 to R 11 are not chemically bonded to each other.

Xが二価の炭化水素基である場合、Xの炭素数は1以上5以下であることが好ましく、1以上3以下であることがより好ましい。二価の炭化水素基は、例えばメチレン基、エチレン基又はプロピレン基である。Xが単結合又はメチレン基であれば特に好ましい。この場合、化合物(A1)が分子量が小さく低粘度であるという利点がある。   When X is a divalent hydrocarbon group, the number of carbon atoms in X is preferably 1 or more and 5 or less, and more preferably 1 or more and 3 or less. The divalent hydrocarbon group is, for example, a methylene group, an ethylene group or a propylene group. It is particularly preferred if X is a single bond or a methylene group. In this case, there is an advantage that the compound (A1) has a small molecular weight and a low viscosity.

1からR11のうち少なくとも一つがアルキル基である場合、アルキル基の炭素数は1以上8以下であることが好ましい。アルキル基は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基又はオクチル基である。アルキル基は直鎖状であっても分岐を有してもよい。すなわち、例えばアルキル基がブチル基である場合、ブチル基は、t−ブチル基でもよく、n−ブチル基でもよく、sec−ブチル基でもよい。アルキル基がヘキシル基である場合、ヘキシル基は、t−ヘキシル基でもよく、n−ヘキシル基でもよく、sec−ヘキシル基でもよい。アルキル基がオクチル基である場合、オクチル基は例えばt−オクチル基でもよい。アルキル基がメチル基又はt−ブチル基であれば特に好ましい。この場合、化合物(A1)が分子量が小さく低粘度であるという利点がある。 When at least one of R 1 to R 11 is an alkyl group, the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. The alkyl group is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group or an octyl group. The alkyl group may be linear or branched. That is, for example, when the alkyl group is a butyl group, the butyl group may be a t-butyl group, an n-butyl group, or a sec-butyl group. When the alkyl group is a hexyl group, the hexyl group may be a t-hexyl group, an n-hexyl group, or a sec-hexyl group. When the alkyl group is an octyl group, the octyl group may be, for example, a t-octyl group. It is particularly preferable that the alkyl group is a methyl group or a t-butyl group. In this case, there is an advantage that the compound (A1) has a small molecular weight and a low viscosity.

式(1)において、シクロヘキサン環の4位のみに、アルキル基又は−R12−OHが接続していることが好ましい。すなわち、R1からR11のうち、R6及びR7の少なくとも一方がアルキル基又は−R12−OHであり、残りの各々がHであることが、好ましい。R1からR11のうち、R6のみがアルキル基又は−R12−OHであり、残りの各々がHであることが、特に好ましい。この場合、式(1)に示す化合物は、良好な反応性を有することができ、かつ封止材5に無機材料製の部材との密着性を特に付与しやすい。これは、式(1)に示す化合物におけるシクロヘキサン環がボート型の立体配座を有し、かつ4位にある嵩高いアルキル基又は−R12−OHが擬エクアトリアル位に位置しやすいためであると、考えられる。式(1)に示す化合物がこのような構造を有することで、式(1)に示す化合物における(メタ)アクリロイル基の反応性が高められると考えられる。また、式(1)に示す化合物がこのような構造を有すると、式(1)に示す化合物は、封止材5中の自由体積を大きくしうる。そのため封止材5と無機材料製の部材との間の界面自由エネルギーが小さくなりやすく、そのため封止材5と無機材料製の部材との密着性が高くなりやすいと、考えられる。アルキル基又は−R12−OHが嵩高いほど、アルキル基又は−R12−OHが擬エクアトリアル位に位置しやすくなる。この観点からすると、アルキル基又は−R12−OHの炭素数が多いほど好ましく、またアルキル基又は−R12−OHが分岐を有していることが好ましい。例えばアルキル基又は−R12−OHがt−ブチル基であることが好ましい。 In the formula (1), it is preferable that an alkyl group or —R 12 —OH is connected only to the 4-position of the cyclohexane ring. That is, it is preferable that at least one of R 6 and R 7 among R 1 to R 11 is an alkyl group or —R 12 —OH, and each of the remaining is H. Among R 1 to R 11 , it is particularly preferred that only R 6 is an alkyl group or —R 12 —OH, and the remaining each is H. In this case, the compound represented by the formula (1) can have good reactivity, and is particularly easy to impart adhesion to the sealing material 5 with a member made of an inorganic material. This is because the cyclohexane ring in the compound represented by the formula (1) has a boat-type conformation, and the bulky alkyl group at the 4-position or -R 12 -OH is easily located at the pseudo-equatorial position. it is conceivable that. It is considered that the reactivity of the (meth) acryloyl group in the compound represented by the formula (1) is enhanced by the compound represented by the formula (1) having such a structure. Moreover, when the compound shown by Formula (1) has such a structure, the compound shown by Formula (1) can enlarge the free volume in the sealing material 5. FIG. Therefore, it is considered that the interface free energy between the sealing material 5 and the member made of an inorganic material tends to be small, and the adhesion between the sealing material 5 and the member made of an inorganic material tends to be high. The higher the bulk alkyl group or -R 12 -OH, alkyl or -R 12 -OH is likely located in pseudo equatorial position. From this point of view, it is preferable that preferably larger the number of carbon atoms in the alkyl group or -R 12 -OH, also an alkyl group or -R 12 -OH and a branch. For example, the alkyl group or —R 12 —OH is preferably a t-butyl group.

式(1)において、シクロヘキサン環の3位及び5位の各々のみに、アルキル基又は−R12−OHが接続していることも好ましい。すなわち、R1からR11のうち、R4及びR5の少なくとも一方がアルキル基又は−R12−OHであり、R8及びR9の少なくとも一方がアルキル基又は−R12−OHであり、残りの各々がHであることが、好ましい。R1からR11のうち、R4及びR5の一方のみがアルキル基又は−R12−OHであり、R8及びR9の少なくとも一方がアルキル基又は−R12−OHであり、残りの各々がHであることが、より好ましい。R1からR11のうち、R4及びR5の少なくとも一方がアルキル基又は−R12−OHであり、R8及びR9の一方のみがアルキル基又は−R12−OHであり、残りの各々がHであることも、より好ましい。この場合も、式(1)に示す化合物は、良好な反応性を有することができ、かつ封止材5に無機材料製の部材との密着性を特に付与しやすい。これは、式(1)に示す化合物におけるシクロヘキサン環がボート型の立体配座を有し、かつ3位と5位の各々における嵩高いアルキル基又は−R12−OHが擬エクアトリアル位に位置しやすいためであると、考えられる。このために、シクロヘキサン環の4位のみにアルキル基又は−R12−OHが接続している場合と同様に、式(1)に示す化合物における(メタ)アクリロイル基の反応性が高められ、かつ封止材5と無機材料製の部材との密着性が高くなりやすいと、考えられる。アルキル基又は−R12−OHが嵩高いほど、アルキル基又は−R12−OHが擬エクアトリアル位に位置しやすくなる。この観点からすると、アルキル基又は−R12−OHの炭素数が多いほど好ましく、またアルキル基又は−R12−OHが分岐を有していることが好ましい。例えばアルキル基又は−R12−OHがt−ブチル基であることが好ましい。 In the formula (1), it is also preferable that an alkyl group or —R 12 —OH is connected to each of the 3-position and 5-position of the cyclohexane ring. That is, among R 1 to R 11 , at least one of R 4 and R 5 is an alkyl group or —R 12 —OH, at least one of R 8 and R 9 is an alkyl group or —R 12 —OH, It is preferred that each remaining is H. Of R 1 to R 11 , only one of R 4 and R 5 is an alkyl group or —R 12 —OH, at least one of R 8 and R 9 is an alkyl group or —R 12 —OH, and the rest More preferably, each is H. Among R 1 to R 11 , at least one of R 4 and R 5 is an alkyl group or —R 12 —OH, only one of R 8 and R 9 is an alkyl group or —R 12 —OH, and the rest It is also more preferable that each is H. Also in this case, the compound represented by the formula (1) can have good reactivity, and is particularly easy to impart adhesion to the sealing material 5 with a member made of an inorganic material. This is because the cyclohexane ring in the compound represented by the formula (1) has a boat-type conformation, and a bulky alkyl group or —R 12 —OH in each of the 3-position and 5-position is located in the pseudo-equatorial position. This is probably because it is easy. For this reason, the reactivity of the (meth) acryloyl group in the compound represented by the formula (1) is increased as in the case where an alkyl group or —R 12 —OH is connected only to the 4-position of the cyclohexane ring, and It is considered that the adhesion between the sealing material 5 and the inorganic material member tends to be high. The higher the bulk alkyl group or -R 12 -OH, alkyl or -R 12 -OH is likely located in pseudo equatorial position. From this point of view, it is preferable that preferably larger the number of carbon atoms in the alkyl group or -R 12 -OH, also an alkyl group or -R 12 -OH and a branch. For example, the alkyl group or —R 12 —OH is preferably a t-butyl group.

1からR11のうち少なくとも一つが−R12−OHである場合、R12の炭素数は1以上5以下であることが好ましく、1以上3以下であることがより好ましい。R12は、例えばメチレン基、エチレン基又はプロピレン基である。R12はがメチレン基であれば特に好ましい。この場合、化合物(A1)が分子量が小さく低粘度であるという利点がある。 When at least one of R 1 to R 11 is —R 12 —OH, the number of carbon atoms in R 12 is preferably 1 or more and 5 or less, and more preferably 1 or more and 3 or less. R 12 is, for example, a methylene group, an ethylene group or a propylene group. R 12 is particularly preferably methylene group. In this case, there is an advantage that the compound (A1) has a small molecular weight and a low viscosity.

式(1)において、R1からR11の各々がH又はアルキル基であり、かつR1からR11のうち少なくとも一つがアルキル基であれば、特に好ましい。この場合、式(1)に示す化合物は、特に低い粘度を有することができ、そのため組成物(X)が特に低い粘度を有することができる。そのため、組成物(X)をインクジェット法で特に成形しやすくなる。 In formula (1), it is particularly preferred if each of R 1 to R 11 is H or an alkyl group, and at least one of R 1 to R 11 is an alkyl group. In this case, the compound represented by formula (1) can have a particularly low viscosity, so that the composition (X) can have a particularly low viscosity. Therefore, the composition (X) is particularly easy to mold by the ink jet method.

化合物(A1)は、下記式(11)に示す化合物、下記式(12)に示す化合物及び下記式(13)に示す化合物からなる群から選択される、少なくとも一種の化合物を含むことが好ましい。   The compound (A1) preferably contains at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (11), a compound represented by the following formula (12) and a compound represented by the following formula (13).

化合物(A1)が、式(11)に示す化合物と式(12)に示す化合物とのうち少なくとも一方を含有すれば、特に好ましい。この場合、組成物(X)を特に低粘度化しやすく、封止材5のガラス転移温度を特に高めやすく、更に封止材5と無機材料製の部材との密着性を特に高めやすい。また、式(11)に示す化合物及び式(12)に示す化合物は、揮発しにくいため、組成物(X)の保存安定性を向上させやすい。   It is particularly preferred that the compound (A1) contains at least one of the compound represented by the formula (11) and the compound represented by the formula (12). In this case, the composition (X) can be particularly easily reduced in viscosity, the glass transition temperature of the sealing material 5 can be particularly easily increased, and the adhesion between the sealing material 5 and the member made of an inorganic material can be particularly easily increased. Moreover, since the compound shown to Formula (11) and the compound shown to Formula (12) are hard to volatilize, it is easy to improve the storage stability of composition (X).

化合物(A1)中に含まれる化合物の沸点は、200℃以上であることが好ましく、250℃以上であることがより好ましい。この場合、化合物(A1)は、組成物(X)の保存安定性を特に向上させやすい。式(11)に示す化合物の沸点は265℃、式(12)に示す化合物の沸点は234℃、式(13)に示す化合物の沸点は294℃であるので、この点からも、これらの化合物は好ましい。   The boiling point of the compound contained in the compound (A1) is preferably 200 ° C. or higher, and more preferably 250 ° C. or higher. In this case, the compound (A1) is particularly likely to improve the storage stability of the composition (X). Since the boiling point of the compound represented by the formula (11) is 265 ° C., the boiling point of the compound represented by the formula (12) is 234 ° C., and the boiling point of the compound represented by the formula (13) is 294 ° C. Is preferred.

アクリル化合物(A)全体に対する、化合物(A1)の量は、5質量%以上80質量%以下であることが好ましい。この場合、封止材5は、高いガラス転移温度と無機材料製の部材との密着性とを両立できる。化合物(A1)の量は5質量%以上60質量%以下であればより好ましく、5質量%以上50質量%以下であれば特に好ましい。   The amount of the compound (A1) relative to the entire acrylic compound (A) is preferably 5% by mass or more and 80% by mass or less. In this case, the sealing material 5 can achieve both a high glass transition temperature and adhesion with a member made of an inorganic material. The amount of the compound (A1) is more preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less, and particularly preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less.

アクリル化合物(A)は、化合物(A1)以外の化合物(A2)を更に含有してもよい。   The acrylic compound (A) may further contain a compound (A2) other than the compound (A1).

化合物(A2)は、例えば一分子中に二つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリル化合物(A21)を含有する。この場合、多官能アクリル化合物(A21)は、組成物(X)の硬化物のガラス転移温度を高めることができ、このため、硬化物及び封止材5の耐熱性を高めることができる。   Compound (A2) contains, for example, a polyfunctional acrylic compound (A21) having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. In this case, polyfunctional acrylic compound (A21) can raise the glass transition temperature of the hardened | cured material of composition (X), and can improve the heat resistance of hardened | cured material and the sealing material 5 for this reason.

アクリル化合物(A)が多官能アクリル化合物(A21)を含有する場合、アクリル化合物(A)全量に対する多官能アクリル化合物(A21)の量は、5質量%以上85質量%以下であることが好ましい。多官能アクリル化合物(A21)の量が5質量%以上であると、多官能アクリル化合物(A21)は硬化物のガラス転移温度を特に高めやすい。多官能アクリル化合物(A21)の量が85質量%以下であると、封止材5の無機材料製の部材との密着性を高めることができる。   When the acrylic compound (A) contains the polyfunctional acrylic compound (A21), the amount of the polyfunctional acrylic compound (A21) with respect to the total amount of the acrylic compound (A) is preferably 5% by mass or more and 85% by mass or less. When the amount of the polyfunctional acrylic compound (A21) is 5% by mass or more, the polyfunctional acrylic compound (A21) is particularly likely to increase the glass transition temperature of the cured product. Adhesiveness with the member made from an inorganic material of the sealing material 5 can be improved as the quantity of a polyfunctional acrylic compound (A21) is 85 mass% or less.

多官能アクリル化合物(A21)は、例えば1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールオリゴアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ビスフェノールAポリエトキシジアクリレート、ビスフェノールFポリエトキシジアクリレート、ペンタトリエストールテトラアクリレート、プロポキシ化(2)ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシ化(3)トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化(3)グリセリルトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化(4)ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アクリル酸2−(2−エトキシエトキシ)エチル、ヘキサジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールトリアクリレート、ビスペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エトキシ化1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化リン酸トリアクリレート、エトキシ化トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、及びプロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。   The polyfunctional acrylic compound (A21) is, for example, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol oligoacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol oligoacrylate, neopentyl glycol diacrylate, Triethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, cyclohexane dimethanol diacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, bisphenol A polyethoxy diacrylate, bisphenol F polyethoxy diacrylate, pentatriestol tetra Acrylate, propoxylated (2) neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triac Rate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, pentaerythritol triacrylate, ethoxylated (3) trimethylolpropane triacrylate, propoxylated (3) glyceryl triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, Ethoxylated (4) pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate, hexadiol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, tripropylene glycol triacrylate, bis Pentaerythritol hexaacrylate, ethylene glycol diacryl 1,6-hexanediol diacrylate, ethoxylated 1,6-hexanediol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol diacrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, hydroxypivalate trimethylolpropane triacrylate, ethoxylated phosphate triacrylate, ethoxylated tripropylene glycol diacrylate Acrylate, neopentyl glycol modified trimethylolpropane diacrylate, stearic acid modified pentaerythritol diacrylate, tetramethylolpropane triacrylate Lilate, tetramethylol methane triacrylate, caprolactone modified trimethylol propane triacrylate, propoxylate glyceryl triacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexaacrylate, di Pentaerythritol hydroxypentaacrylate, neopentyl glycol oligoacrylate, trimethylolpropane oligoacrylate, pentaerythritol oligoacrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, propoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di ( Me ) Acrylate contains at least one compound selected ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, and from the group consisting of propoxylated trimethylol propane triacrylate.

多官能アクリル化合物(A21)のアクリル当量は、150g/eq以下であることが好ましく、90g/eq以上150g/eq以下であることがより好ましい。多官能アクリル化合物(A21)の重量平均分子量は、例えば100以上1000以下であり、200以上800以下がより好ましい。   The acrylic equivalent of the polyfunctional acrylic compound (A21) is preferably 150 g / eq or less, and more preferably 90 g / eq or more and 150 g / eq or less. The weight average molecular weight of the polyfunctional acrylic compound (A21) is, for example, from 100 to 1,000, and more preferably from 200 to 800.

多官能アクリル化合物(A21)は、ベンゼン環、脂環及び極性基のうち少なくとも一つを有することが好ましい。極性基は、例えばOH基及びNHCO基のうち少なくとも一方である。この場合、組成物(X1)が硬化する際の収縮を特に低減できる。さらに、硬化物と、窒化ケイ素、酸化ケイ素といった無機化合物との間の密着性を高めることもできる。多官能アクリル化合物(A21)は、特にトリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ビスフェノールAポリエトキシジアクリレート、ビスフェノールFポリエトキシジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート及びペンタトリエストールテトラアクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが好ましい。これらの化合物は、組成物(X)が硬化する際の収縮を特に低減できる。さらに、これらの化合物は、硬化物と、窒化ケイ素、酸化ケイ素といった無機材料製の部材との間の密着性を、更に高めることもできる。   The polyfunctional acrylic compound (A21) preferably has at least one of a benzene ring, an alicyclic ring and a polar group. The polar group is, for example, at least one of an OH group and an NHCO group. In this case, the shrinkage when the composition (X1) is cured can be particularly reduced. Furthermore, the adhesion between the cured product and an inorganic compound such as silicon nitride or silicon oxide can be enhanced. The polyfunctional acrylic compound (A21) is particularly selected from the group consisting of tricyclodecane dimethanol diacrylate, bisphenol A polyethoxydiacrylate, bisphenol F polyethoxydiacrylate, trimethylolpropane triacrylate and pentatriestol tetraacrylate. It is preferable to contain at least one compound. These compounds can particularly reduce shrinkage when the composition (X) is cured. Furthermore, these compounds can further enhance the adhesion between the cured product and a member made of an inorganic material such as silicon nitride or silicon oxide.

化合物(A2)は、化合物(A1)以外の、一分子中に一つのみの(メタ)アクリロイル基を有する単官能アクリル化合物(A22)を含有することも好ましい。単官能アクリル化合物(A22)は、組成物(X)の硬化時の収縮を抑制できる。   It is also preferable that the compound (A2) contains a monofunctional acrylic compound (A22) having only one (meth) acryloyl group in one molecule other than the compound (A1). The monofunctional acrylic compound (A22) can suppress shrinkage during curing of the composition (X).

アクリル化合物(A)全量に対する単官能アクリル化合物(A22)の量は、0質量%より多く70質量%以下であることが好ましい。単官能アクリル化合物(A22)の量が0質量%より多ければ、単官能アクリル化合物(A22)によって組成物(X)の硬化時の収縮を抑制できる。   The amount of the monofunctional acrylic compound (A22) with respect to the total amount of the acrylic compound (A) is preferably more than 0% by mass and 70% by mass or less. When the amount of the monofunctional acrylic compound (A22) is greater than 0% by mass, the monofunctional acrylic compound (A22) can suppress shrinkage during curing of the composition (X).

単官能アクリル化合物(A22)は、例えば、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボロニルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、エトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジキシルエチルアクリレート、エチルジグリコールアクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマルモノアクリレート、イミドアクリレート、イソアミルアクリレート、エトキシ化コハク酸アクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソデシルアクリレート、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノールアクリレート、イソオクチルアクリレート、オクチル/デシルアクリレート、トリデシルアクリレート、カプロラクトンアクリレート、エトキシ化(4)のニルフェノールアクリレート、メトキシポリエチレングリコール(350)モノアクリレート、メトキシポリエチレングリコール(550)モノアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジルアクリレート、メチルフェノキシエチルアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、エトキシ化トリブロモフェニルアクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、2−フェノキシエチルアクリレートのエチレンオキサイド付加物、2−フェノキシエチルアクリレートのプロピレンオキサイド付加物、イソボルニルアクリレート、モルホリンアクリレート、ジエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、ペンタメチルピペリジルメタクリレ−ト、ジシクロペンタニルアクリレ−ト、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、3−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド及びジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ−トからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。   The monofunctional acrylic compound (A22) is, for example, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate , Methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, ethoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxydixylethyl acrylate, ethyl diglycol acrylate, cyclic trimethylolpropane formal monoacrylate, Imido acrylate, isoamyl acrylate, ethoxylated succinate Acrylate, trifluoroethyl acrylate, ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, cyclohexyl acrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate, stearyl acrylate, diethylene glycol monobutyl ether acrylate, lauryl acrylate, isodecyl acrylate, 3,3,5- Trimethylcyclohexanol acrylate, isooctyl acrylate, octyl / decyl acrylate, tridecyl acrylate, caprolactone acrylate, ethoxylated (4) nylphenol acrylate, methoxypolyethylene glycol (350) monoacrylate, methoxypolyethylene glycol (550) monoacrylate, phenoxy Ethyl acrylate, cyclohexyl (medium Acrylate), dicyclopentanyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, benzyl acrylate, methylphenoxyethyl acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl acrylate, tribromophenyl acrylate, ethoxylated tribromophenyl acrylate, 2- Phenoxyethyl acrylate, ethylene oxide adduct of 2-phenoxyethyl acrylate, propylene oxide adduct of 2-phenoxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, morpholine acrylate, diethyl acrylamide, dimethylaminopropyl acrylamide, pentamethylpiperidyl methacrylate, Dicyclopentanyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate And at least one compound selected from the group consisting of 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 3-methacryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-acryloyloxymethylcyclohexene oxide and dicyclopentenyloxyethyl acrylate .

単官能アクリル化合物(A22)は、脂環式構造を有する化合物及び環状エーテル構造を有する化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが好ましい。   The monofunctional acrylic compound (A22) preferably contains at least one compound selected from the group consisting of a compound having an alicyclic structure and a compound having a cyclic ether structure.

脂環式構造を有する化合物は、例えばシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレ−ト及びジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ−トからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。   Compounds having an alicyclic structure include, for example, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate. It contains at least one compound selected from the group consisting of a rate and dicyclopentenyloxyethyl acrylate.

特にアクリル化合物(A)は、イソボルニルアクリレートとジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ−トとのうち、少なくとも一方を含有することが好ましい。イソボルニルアクリレート及びジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ−トは、高いガラス転移温度を有し、封止材5のガラス転移温度を特に高めることができる。   In particular, the acrylic compound (A) preferably contains at least one of isobornyl acrylate and dicyclopentenyloxyethyl acrylate. Isobornyl acrylate and dicyclopentenyloxyethyl acrylate have a high glass transition temperature, and can particularly increase the glass transition temperature of the sealing material 5.

環状エーテル構造を有する化合物における環状エーテル構造の環員数は3以上が好ましく、3以上4以下がより好ましい。環状エーテル構造に含まれる炭素原子数は、2以上9以下が好ましく、2以上6以下がより好ましい。環状エーテル構造を有する化合物は、例えば3−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド及び3−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイドからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。   The number of members of the cyclic ether structure in the compound having a cyclic ether structure is preferably 3 or more, and more preferably 3 or more and 4 or less. The number of carbon atoms contained in the cyclic ether structure is preferably 2 or more and 9 or less, and more preferably 2 or more and 6 or less. The compound having a cyclic ether structure contains, for example, at least one compound selected from the group consisting of 3-methacryloyloxymethylcyclohexene oxide and 3-acryloyloxymethylcyclohexene oxide.

化合物(A2)は、ポリエチレングリコールジメタクリレートとポリエチレングリコールジアクリレートとのうち少なくとも一方からなるアクリル成分(A23)を含有してもよい。アクリル成分(A23)は、230以上430以下の数平均分子量を有することが好ましい。   The compound (A2) may contain an acrylic component (A23) composed of at least one of polyethylene glycol dimethacrylate and polyethylene glycol diacrylate. The acrylic component (A23) preferably has a number average molecular weight of 230 or more and 430 or less.

アクリル成分(A23)がポリエチレングリコールジメタクリレートを含有する場合、ポリエチレングリコールジメタクリレートは、例えば下記式(21)に示すポリエチレングリコール200ジメタクリレートを含む。式(21)中のnは平均4である。アクリル成分(A23)がポリエチレングリコールジアクリレートを含有する場合、ポリエチレングリコールジアクリレートは、例えば下記式(22)に示すポリエチレングリコール200ジアクリレートを含む。式(22)中のnは平均4である。   When the acrylic component (A23) contains polyethylene glycol dimethacrylate, the polyethylene glycol dimethacrylate includes, for example, polyethylene glycol 200 dimethacrylate represented by the following formula (21). N in the formula (21) is 4 on average. When the acrylic component (A23) contains polyethylene glycol diacrylate, the polyethylene glycol diacrylate includes, for example, polyethylene glycol 200 diacrylate represented by the following formula (22). N in the formula (22) is 4 on average.

CH2=C(CH3)−CO−(OCH2CH2n−OCO−C(CH3)=CH2 …(21)
CH2=CH−CO−(OCH2CH2n−OCO−CH=CH2 …(22)
化合物(A2)がアクリル成分(A23)を含有する場合、化合物(A2)は、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールテトラメタクリレートとのうち少なくとも一方からなるアクリル成分(A24)を更に含有することが好ましい。
CH 2 = C (CH 3) -CO- (OCH 2 CH 2) n -OCO-C (CH 3) = CH 2 ... (21)
CH 2 = CH-CO- (OCH 2 CH 2) n -OCO-CH = CH 2 ... (22)
When the compound (A2) contains an acrylic component (A23), the compound (A2) preferably further contains an acrylic component (A24) composed of at least one of pentaerythritol tetraacrylate and pentaerythritol tetramethacrylate.

化合物(A2)がアクリル成分(A23)を含有する場合、組成物(X)は、展着剤(C)を更に含有してもよい。展着剤(C)は、22℃で14mPa・s以上18mPa・s以下の粘度、及び22℃で35mN/m以上39mN/m以下の表面張力を有する。展着剤(C)は、組成物(X)の展着特性を調整できる。展着剤(C)は、成形温度において、アクリル成分(A23)よりも低い表面張力を有する液体であることが好ましい。成形温度とは、組成物(X)をインクジェット法などの方法で成形する際の組成物(X)の温度である。   When the compound (A2) contains the acrylic component (A23), the composition (X) may further contain a spreading agent (C). The spreading agent (C) has a viscosity of 14 mPa · s to 18 mPa · s at 22 ° C., and a surface tension of 35 mN / m to 39 mN / m at 22 ° C. The spreading agent (C) can adjust the spreading characteristics of the composition (X). The spreading agent (C) is preferably a liquid having a lower surface tension than the acrylic component (A23) at the molding temperature. The molding temperature is the temperature of the composition (X) when the composition (X) is molded by a method such as an ink jet method.

展着剤(C)は、特にアルコキシ化脂肪族ジアクリレート及びアルコキシ化脂肪族ジメタクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。   The spreading agent (C) preferably contains at least one component selected from the group consisting of alkoxylated aliphatic diacrylates and alkoxylated aliphatic dimethacrylates.

アルコキシ化脂肪族ジアクリレートは、例えば下記式(3)で表される。式(3)において、nは3から12までの数である。アルコキシ化脂肪族ジメタクリレートは、例えば下記式(4)で表される。式(4)において、nは3から12までの数である。   The alkoxylated aliphatic diacrylate is represented, for example, by the following formula (3). In the formula (3), n is a number from 3 to 12. The alkoxylated aliphatic dimethacrylate is represented, for example, by the following formula (4). In the formula (4), n is a number from 3 to 12.

CH2=CH−COO−(CH2n−OCO−CH=CH2 …(3)
CH2=C(CH3)−COO−(CH2n−OCO−C(CH3)=CH2 …(4)
アルコキシ化脂肪族ジアクリレートが含有できる成分の具体例は、サートマー社製の品番SR−238B(1,6ヘキサンジオールジアクリレート。25℃での表面張力約35mN/m)及びサートマー社製の品番SR−9209A(22℃での表面張力約35mN/m、22℃での粘度約25mN/m)を含む。
CH 2 = CH-COO- (CH 2) n -OCO-CH = CH 2 ... (3)
CH 2 = C (CH 3) -COO- (CH 2) n -OCO-C (CH 3) = CH 2 ... (4)
Specific examples of components that can be contained in the alkoxylated aliphatic diacrylate are Sartomer part number SR-238B (1,6 hexanediol diacrylate, surface tension of about 35 mN / m at 25 ° C.) and Sartomer part number SR. -9209A (surface tension at 22 ° C. about 35 mN / m, viscosity at 22 ° C. about 25 mN / m).

アクリル化合物(A)がアクリル成分(A23)を含有する場合、アクリル化合物(A)全量に対するアクリル成分(A23)の量は、5質量%以上60質量%以下であることが好ましい。アクリル化合物(A)がアクリル成分(A24)を含有する場合、アクリル化合物(A)全量に対するアクリル成分(A24)の量は、1質量%以上20質量%以下であることが好ましい。   When the acrylic compound (A) contains the acrylic component (A23), the amount of the acrylic component (A23) with respect to the total amount of the acrylic compound (A) is preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less. When the acrylic compound (A) contains the acrylic component (A24), the amount of the acrylic component (A24) with respect to the total amount of the acrylic compound (A) is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less.

アクリル化合物(A)は、窒素原子を有する化合物を含有しないことが好ましい。このため、アクリル化合物(A)はモルホリンアクリレート、ジエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、及びペンタメチルピペリジルメタクリレ−トをいずれも含有しないことが好ましい。この場合、組成物(X)の保存中に組成物(X)の粘度上昇が起こりにくい。これは、組成物(X)が窒素を有する化合物及び吸湿剤(E)を含有すると、窒素を有する化合物と吸湿剤(E)とが反応しやすいためであると考えられる。また、アクリル化合物(A)が窒素原子を有する化合物を含有しない場合は、封止材5が変色しにくくなるという利点もある。   The acrylic compound (A) preferably does not contain a compound having a nitrogen atom. For this reason, it is preferable that the acrylic compound (A) does not contain any of morpholine acrylate, diethyl acrylamide, dimethylaminopropyl acrylamide, and pentamethylpiperidyl methacrylate. In this case, the viscosity increase of the composition (X) hardly occurs during the storage of the composition (X). This is considered to be because when the composition (X) contains a compound having nitrogen and a hygroscopic agent (E), the compound having nitrogen and the hygroscopic agent (E) easily react. Moreover, when an acrylic compound (A) does not contain the compound which has a nitrogen atom, there also exists an advantage that the sealing material 5 becomes difficult to discolor.

組成物(X)は、アクリル化合物(A)以外のラジカル重合性化合物(D)を更に含有してもよい。ラジカル重合性化合物(D)は、一分子に二つ以上のラジカル重合性官能基を有する多官能ラジカル重合性化合物(E1)と、一分子に一つのみのラジカル重合性官能基を有する単官能ラジカル重合性化合物(E2)とのうち、いずれか一方又は両方を含有できる。   The composition (X) may further contain a radical polymerizable compound (D) other than the acrylic compound (A). The radical polymerizable compound (D) is composed of a polyfunctional radical polymerizable compound (E1) having two or more radical polymerizable functional groups in one molecule and a monofunctional having only one radical polymerizable functional group in one molecule. Either one or both of the radical polymerizable compound (E2) can be contained.

アクリル化合物(A)とラジカル重合性化合物(D)との合計量に対するラジカル重合性化合物(D)の量は、例えば10質量%以下である。   The amount of the radical polymerizable compound (D) with respect to the total amount of the acrylic compound (A) and the radical polymerizable compound (D) is, for example, 10% by mass or less.

多官能ラジカル重合性化合物(E1)は、例えば一分子中にエチレン性二重結合を2つ以上有する芳香族ウレタンオリゴマー、脂肪族ウレタンオリゴマー、エポキシアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートオリゴマー及びその他特殊オリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有してもよい。より具体的には、多官能ラジカル重合性化合物(A)は、例えば日本合成化学工業株式会社製のUV−2000B、UV−2750B、UV−3000B、UV−3010B、UV−3200B、UV−3300B、UV−3700B、UV−6640B、UV−8630B、UV−7000B、UV−7610B、UV−1700B、UV−7630B、UV−6300B、UV−6640B、UV−7550B、UV−7600B、UV−7605B、UV−7610B、UV−7630B、UV−7640B、UV−7650B、UT−5449、UT−5454;サートマー社製のCN902、CN902J75、CN929、CN940、CN944、CN944B85、CN959、CN961E75、CN961H81、CN962、CN963、CN963A80、CN963B80、CN963E75、CN963E80、CN963J85、CN964、CN965、CN965A80、CN966、CN966A80、CN966B85、CN966H90、CN966J75、CN968、CN969、CN970、CN970A60、CN970E60、CN971、CN971A80、CN971J75、CN972、CN973、CN973A80、CN973H85、CN973J75、CN975、CN977、CN977C70、CN978、CN980、CN981、CN981A75、CN981B88、CN982、CN982A75、CN982B88、CN982E75、CN983、CN984、CN985、CN985B88、CN986、CN989、CN991、CN992、CN994、CN996、CN997、CN999、CN9001、CN9002、CN9004、CN9005、CN9006、CN9007、CN9008、CN9009、CN9010、CN9011、CN9013、CN9018、CN9019、CN9024、CN9025、CN9026、CN9028、CN9029、CN9030、CN9060、CN9165、CN9167、CN9178、CN9290、CN9782、CN9783、CN9788、CN9893;並びにダイセル・サイテック株式会社製のEBECRYL210、EBECRYL220、EBECRYL230、EBECRYL270、KRM8200、EBECRYL5129、EBECRYL8210、EBECRYL8301、EBECRYL8804、EBECRYL8807、EBECRYL9260、KRM7735、KRM8296、KRM8452、EBECRYL4858、EBECRYL8402、EBECRYL9270、EBECRYL8311、EBECRYL8701からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。   The polyfunctional radically polymerizable compound (E1) is, for example, a group consisting of an aromatic urethane oligomer, an aliphatic urethane oligomer, an epoxy acrylate oligomer, a polyester acrylate oligomer, and other special oligomers having two or more ethylenic double bonds in one molecule. You may contain the at least 1 sort (s) of compound selected from these. More specifically, the polyfunctional radical polymerizable compound (A) is, for example, UV-2000B, UV-2750B, UV-3000B, UV-3010B, UV-3200B, UV-3300B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. UV-3700B, UV-6640B, UV-8630B, UV-7000B, UV-7610B, UV-1700B, UV-7630B, UV-6300B, UV-6640B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV- 7610B, UV-7630B, UV-7640B, UV-7650B, UT-5449, UT-5454; CN902, CN902J75, CN929, CN940, CN944, CN944B85, CN959, CN961E75, CN961 manufactured by Sartomer 62, CN963, CN963A80, CN963B80, CN963E75, CN963E80, CN963J85, CN964, CN965, CN965A80, CN966, CN966A80, CN966B85, CN966H90, CN966J75, CN968, CN969, CN970, CN970A60, CN970E60, CN971, CN971A80, CN971J75, CN972, CN973, CN973A80, CN973H85, CN973J75, CN975, CN977, CN977C70, CN978, CN980, CN981, CN981A75, CN981B88, CN982, CN982A75, CN982B88, CN982C98C, CN982C98C CN986, CN989, CN991, CN992, CN994, CN996, CN997, CN999, CN9001, CN9002, CN9004, CN9005, CN9006, CN9007, CN9008, CN9009, CN9010, C9011, CN9013, C9011, CN9013, C9090 CN9029, CN9030, CN9060, CN9165, CN9167, CN9178, CN9290, CN9782, CN9783, CN9788, CN9873; and EBECRYL210, EBECRYL220, EBECRYL230, EBECRYL270B, EBECRYL270B L8210, EBECRYL8301, EBECRYL8804, EBECRYL8807, EBECRYL9260, KRM7735, KRM8296, KRM8452, EBECRYL4858, EBECRYL8402, EBECRYL9270, EBECRYL8311, EBECRYL8311

単官能ラジカル重合性化合物(E2)は、例えばN−ビニルホルムアミド、ビニルカプロラクタム、ビニルピロリドン、フェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブタジエンモノオキサイド、1,2−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、1,2−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、3−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、N−ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタムからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。   Monofunctional radically polymerizable compound (E2) is, for example, N-vinylformamide, vinylcaprolactam, vinylpyrrolidone, phenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 1,2-butylene oxide, 1,3-butadiene monooxide, 1,2-epoxydodecane, epichlorohydrin, 1,2-epoxydecane, styrene oxide, cyclohexene oxide, 3-vinylcyclohexene oxide, 4-vinylcyclohexene It contains at least one compound selected from the group consisting of oxide, N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam.

光重合開始剤(B)は、紫外線が照射されるとラジカル種を生じさせる化合物であれば、特に制限されない。光重合開始剤(B)は、例えば芳香族ケトン類、アシルフォスフィンオキサイド化合物、芳香族オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物(チオキサントン化合物、チオフェニル基含有化合物など)、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、及びアルキルアミン化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。   The photopolymerization initiator (B) is not particularly limited as long as it is a compound that generates radical species when irradiated with ultraviolet rays. The photopolymerization initiator (B) includes, for example, aromatic ketones, acylphosphine oxide compounds, aromatic onium salt compounds, organic peroxides, thio compounds (thioxanthone compounds, thiophenyl group-containing compounds, etc.), hexaarylbiimidazole compounds And at least one compound selected from the group consisting of a ketoxime ester compound, a borate compound, an azinium compound, a metallocene compound, an active ester compound, a compound having a carbon halogen bond, and an alkylamine compound.

光重合開始剤(B)は、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤を含有することが好ましい。アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤の例は、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド及び2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィネートを含む。アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤の製品名の例は、BASF社製のIrgacureTPO、IrgacureTPO−L及びIrgacure819を含む。   The photopolymerization initiator (B) preferably contains an acylphosphine oxide photopolymerization initiator. Examples of the acylphosphine oxide-based photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphinate. Examples of product names of acylphosphine oxide photopolymerization initiators include Irgacure TPO, Irgacure TPO-L and Irgacure 819 manufactured by BASF.

組成物(X)100質量部に対する光重合開始剤(B)の量は、例えば1重量部以上10質量部以下である。   The amount of the photopolymerization initiator (B) with respect to 100 parts by mass of the composition (X) is, for example, 1 part by weight or more and 10 parts by weight or less.

光重合開始剤(B)は、光重合開始剤(B)の一部として増感剤を含有してもよい。増感剤は、光重合開始剤(B)のラジカル生成反応を促進させて、ラジカル重合の反応性を向上させ、かつ架橋密度を向上させうる。増感剤は、例えば9,10−ジブトキシアントラセン、9−ヒドロキシメチルアントラセン、チオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、アントラキノン、1,2−ジヒドロキシアントラキノン、2−エチルアントラキノン、1,4−ジエトキシナフタレン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジエチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノベンゾフェノン、p−ジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、p−ジメチルアミノベンズアルデヒド、及びp−ジエチルアミノベンズアルデヒドからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。   The photopolymerization initiator (B) may contain a sensitizer as part of the photopolymerization initiator (B). The sensitizer can promote the radical generation reaction of the photopolymerization initiator (B), improve the reactivity of radical polymerization, and can improve the crosslinking density. Examples of the sensitizer include 9,10-dibutoxyanthracene, 9-hydroxymethylanthracene, thioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, anthraquinone, 1,2- Dihydroxyanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1,4-diethoxynaphthalene, p-dimethylaminoacetophenone, p-diethylaminoacetophenone, p-dimethylaminobenzophenone, p-diethylaminobenzophenone, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, At least selected from the group consisting of 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, p-dimethylaminobenzaldehyde, and p-diethylaminobenzaldehyde It may contain one compound.

組成物(X)中の増感剤の含有量は、例えば組成物(X)の固形分100質量部に対して、0.1質量部以上5質量部以下であり、好ましくは0.1質量部以上3質量部以下である。増感剤の含有量がこのような範囲であれば、空気中で組成物(X)を硬化させることができ、組成物(X)の硬化を窒素雰囲気等の不活性雰囲気下で行う必要がなくなる。   The content of the sensitizer in the composition (X) is, for example, 0.1 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, preferably 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the composition (X). Part to 3 parts by mass. When the content of the sensitizer is in such a range, the composition (X) can be cured in the air, and the composition (X) needs to be cured in an inert atmosphere such as a nitrogen atmosphere. Disappear.

組成物(X)は、光重合開始剤(B)に加えて、重合促進剤を含有してもよい。重合促進剤は、例えば、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシル、p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、安息香酸−2−ジメチルアミノエチル、p−ジメチルアミノ安息香酸ブトキシエチルといったアミン化合物を含有する。   The composition (X) may contain a polymerization accelerator in addition to the photopolymerization initiator (B). Polymerization accelerators include, for example, ethyl p-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl p-dimethylaminobenzoate, methyl p-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, butoxy p-dimethylaminobenzoate. Contains amine compounds such as ethyl.

上記のとおり、組成物(X)は、平均粒径200nm以下の吸湿剤(E)を含有する。吸湿剤(E)は、吸湿性を有する無機粒子であることが好ましく、例えばゼオライト粒子、シリカゲル粒子、塩化カルシウム粒子、及び酸化チタンナノチューブ粒子からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。吸湿剤(E)がゼオライト粒子を含有することが特に好ましい。   As described above, the composition (X) contains a hygroscopic agent (E) having an average particle size of 200 nm or less. The hygroscopic agent (E) is preferably inorganic particles having hygroscopicity, and contains at least one component selected from the group consisting of zeolite particles, silica gel particles, calcium chloride particles, and titanium oxide nanotube particles, for example. Is preferred. It is particularly preferred that the hygroscopic agent (E) contains zeolite particles.

平均粒径200nm以下のゼオライト粒子は、例えば一般的な工業用ゼオライトを粉砕することで製造できる。ゼオライト粒子を製造するに当たって、ゼオライトを粉砕してから水熱合成などによって結晶化させてもよく、この場合、ゼオライト粒子は特に高い吸湿性を有することができる。このようなゼオライト粒子の製造方法は、特開2016−69266号公報、特開2013−049602号公報などにより公知である。   Zeolite particles having an average particle size of 200 nm or less can be produced, for example, by pulverizing general industrial zeolite. In producing the zeolite particles, the zeolite may be pulverized and then crystallized by hydrothermal synthesis or the like. In this case, the zeolite particles can have particularly high hygroscopicity. Such a method for producing zeolite particles is known from Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2006-69266 and 2013-049602.

ゼオライト粒子は、ナトリウムイオンを含有することが好ましい。そのためには、ゼオライト粒子は、ナトリウムイオンを含有するゼオライトから製造されることが好ましく、ナトリウムイオンのうちA型ゼオライト、X型ゼオライト及びY型ゼオライトからなる群から選択される少なくとも一種の材料から製造されることがより好ましい。ゼオライト粒子がA型ゼオライトのうち4A型ゼオライトから製造されることが特に好ましい。これらの場合、ゼオライト粒子は、水分の吸着に好適な結晶構造を有する。   The zeolite particles preferably contain sodium ions. For this purpose, the zeolite particles are preferably produced from zeolite containing sodium ions, and are produced from at least one material selected from the group consisting of A-type zeolite, X-type zeolite and Y-type zeolite among sodium ions. More preferably. It is particularly preferred that the zeolite particles are produced from 4A type zeolites among the A type zeolites. In these cases, the zeolite particles have a crystal structure suitable for moisture adsorption.

平均粒径200nm以下のゼオライト粒子の製造方法の一具体例を示す。まず、原料であるゼオライト粉を準備し、このゼオライト粉を物理粉砕する。例えばゼオライト粉を水と混合してスラリーを調製し、このスラリーをビーズミル粉砕機にかけることで、ゼオライト粉を物理粉砕できる。   A specific example of a method for producing zeolite particles having an average particle size of 200 nm or less is shown. First, a raw material zeolite powder is prepared, and the zeolite powder is physically pulverized. For example, the zeolite powder can be physically pulverized by mixing the zeolite powder with water to prepare a slurry and applying this slurry to a bead mill pulverizer.

続いて、水熱合成によりゼオライト粉を結晶化させる。例えば物理粉砕後のゼオライト粉を含むスラリーを、オートクレーブで加熱することで、水熱合成を行うことができる。水熱合成の条件は、例えば加熱温度150〜200℃の範囲内、加熱時間15〜24時間の範囲内である。   Subsequently, the zeolite powder is crystallized by hydrothermal synthesis. For example, hydrothermal synthesis can be performed by heating a slurry containing zeolite powder after physical pulverization in an autoclave. The conditions for hydrothermal synthesis are, for example, in the range of heating temperature 150 to 200 ° C. and in the range of heating time 15 to 24 hours.

続いて、ゼオライト粉を乾燥する。乾燥温度は例えば150〜200℃の範囲内であり、乾燥時間は例えば2〜3時間の範囲内である。続いて、必要に応じ、乾燥後のゼオライト粉を乳鉢などを用いて解砕してから篩いにかけることで粒径を整える。   Subsequently, the zeolite powder is dried. The drying temperature is, for example, in the range of 150 to 200 ° C., and the drying time is in the range of, for example, 2-3 hours. Subsequently, if necessary, the dried zeolite powder is crushed using a mortar or the like and then sieved to adjust the particle size.

続いて、必要に応じ、ゼオライト粉にイオン交換処理を施してもよい。イオン交換処理は、例えばゼオライト粉を、マグネシウムイオンを含有する水溶液中に分散させて混合物を調製し、この混合物を加熱することで行われる。より具体的には、イオン交換処理は例えば次のように行われる。まずゼオライト粉を、塩化マグネシウム及び水と混合し、得られた混合物を加熱しながら撹拌する処理をする。この処理の間、撹拌を一時的に停止してから混合物の上澄みを捨て、続いて混合物に水を補充してから撹拌を再開するという操作を、適当な間隔をあけて複数回繰り返すことが好ましい。この処理における加熱温度は40〜80℃の範囲内、処理時間は6〜8時間の範囲内であることが好ましい。   Subsequently, if necessary, the zeolite powder may be subjected to an ion exchange treatment. The ion exchange treatment is performed, for example, by dispersing a zeolite powder in an aqueous solution containing magnesium ions to prepare a mixture and heating the mixture. More specifically, the ion exchange process is performed as follows, for example. First, the zeolite powder is mixed with magnesium chloride and water, and the resulting mixture is stirred while heating. During this treatment, it is preferable to repeat the operation of temporarily stopping the stirring and then discarding the supernatant of the mixture, and then replenishing the mixture with water and restarting the stirring a plurality of times at appropriate intervals. . The heating temperature in this treatment is preferably in the range of 40 to 80 ° C., and the treatment time is preferably in the range of 6 to 8 hours.

イオン交換処理を施した場合、続いて、ゼオライト粉を乾燥する。乾燥温度は例えば150〜200℃の範囲内であり、乾燥時間は例えば2〜3時間の範囲内である。続いて、必要に応じ、乾燥後のゼオライト粉を乳鉢などを用いて解砕してから篩いにかけることで粒径を整える。これにより、平均粒径200nm以下のゼオライト粒子を得ることができる。   When the ion exchange treatment is performed, the zeolite powder is subsequently dried. The drying temperature is, for example, in the range of 150 to 200 ° C., and the drying time is in the range of, for example, 2-3 hours. Subsequently, if necessary, the dried zeolite powder is crushed using a mortar or the like and then sieved to adjust the particle size. Thereby, zeolite particles having an average particle size of 200 nm or less can be obtained.

ゼオライト粉の結晶化を、シリケート及びアルカリ金属酸化物の存在下で行うこともできる。その場合の平均粒径200nm以下のゼオライト粒子の製造方法の具体例を示す。まず、ゼオライト粉を準備する。ゼオライト粉は、aM12O・bSiO2・Al23・cMeの組成を有することが好ましい。M1はアルカリ金属、プロトン、又はアンモニウムイオン(NH4 +)であり、Meはアルカリ土類金属であり、aは0.01〜1の範囲内の数であり、bは20〜80の範囲内の数であり、cは0〜1の範囲内の数である。ゼオライト粉は、ナトリウムイオンを含有するゼオライトを含むことが好ましく、ナトリウムイオンのうちA型ゼオライト、X型ゼオライト及びY型ゼオライトからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含むことがより好ましい。ゼオライト粉がA型ゼオライトのうち4A型ゼオライトを含むことが特に好ましい。このゼオライト粉を物理粉砕する。例えばゼオライト粉をビーズミル粉砕機にかけることで、ゼオライト粉を物理粉砕できる。 Crystallization of the zeolite powder can also be performed in the presence of silicate and alkali metal oxide. The specific example of the manufacturing method of the zeolite particle of the average particle diameter of 200 nm or less in that case is shown. First, zeolite powder is prepared. The zeolite powder preferably has a composition of aM1 2 O · bSiO 2 · Al 2 O 3 · cMe. M1 is an alkali metal, proton, or ammonium ion (NH 4 + ), Me is an alkaline earth metal, a is a number in the range of 0.01 to 1, and b is in the range of 20 to 80. C is a number within the range of 0-1. The zeolite powder preferably contains a zeolite containing sodium ions, and more preferably contains at least one material selected from the group consisting of A-type zeolite, X-type zeolite and Y-type zeolite among sodium ions. It is particularly preferable that the zeolite powder contains 4A-type zeolite among A-type zeolites. The zeolite powder is physically pulverized. For example, zeolite powder can be physically pulverized by applying it to a bead mill pulverizer.

物理粉砕後のゼオライト粉を、M22O、SiO2及びH2Oを含有する溶液に分散させ、スラリーを調製する。M2はアルカリ金属であり、好ましくはK又はNaである。M22O/H2Oのモル比は例えば0.003〜0.01の範囲内であり、SiO2/H2Oのモル比は例えば0.006〜0.025の範囲内である。ゼオライト粉の量は、例えば溶液100mlに対して0.5〜10gである。 The zeolite powder after the physical pulverization is dispersed in a solution containing M2 2 O, SiO 2 and H 2 O to prepare a slurry. M2 is an alkali metal, preferably K or Na. The molar ratio of M2 2 O / H 2 O is, for example, in the range of 0.003 to 0.01, and the molar ratio of SiO 2 / H 2 O is, for example, in the range of 0.006 to 0.025. The amount of the zeolite powder is, for example, 0.5 to 10 g with respect to 100 ml of the solution.

このスラリーをオートクレーブで加熱することで、ゼオライト粉の結晶化を行うことができる。その条件は、例えば加熱温度100〜230℃の範囲内、加熱時間1〜24時間の範囲内である。続いて、ゼオライト粉を洗浄してから乾燥させる。これにより、平均粒径200nm以下のゼオライト粒子を得ることができる。   By heating this slurry in an autoclave, the zeolite powder can be crystallized. The conditions are, for example, in the range of heating temperature 100 to 230 ° C. and in the range of heating time 1 to 24 hours. Subsequently, the zeolite powder is washed and dried. Thereby, zeolite particles having an average particle size of 200 nm or less can be obtained.

ゼオライト粒子のpHは7以上10以下であることが好ましい。ゼオライト粒子のpHが7以上であると、ゼオライト粒子の結晶が破壊されにくくなり、そのためゼオライト粒子を含有する組成物(X)から作製された封止材が特に高い吸湿性を有することができる。また、ゼオライト粒子のpHが10以下であると、組成物(X)を硬化させる場合にゼオライト粒子が硬化を阻害しにくい。   The pH of the zeolite particles is preferably 7 or more and 10 or less. When the pH of the zeolite particles is 7 or more, the crystals of the zeolite particles are not easily broken, and therefore the sealing material produced from the composition (X) containing the zeolite particles can have a particularly high hygroscopic property. Further, when the pH of the zeolite particles is 10 or less, the zeolite particles hardly inhibit the curing when the composition (X) is cured.

なお、ゼオライト粒子のpHは、イオン交換水99.95gにゼオライト粒子0.05gを入れて得られた分散液を、90℃で24時間加熱してから、分散液の上澄みのpHをpH測定器で測定することで得られる値である。pH測定器としては、例えば堀場製作所製のコンパクトpHメータ<LAQUAtwin>B−711を用いることができる。   The pH of the zeolite particles was determined by heating the dispersion obtained by adding 0.05 g of zeolite particles to 99.95 g of ion-exchanged water at 90 ° C. for 24 hours, and then adjusting the pH of the supernatant of the dispersion to a pH measuring device. It is a value obtained by measuring with. As a pH measuring device, for example, a compact pH meter <LAQUATwin> B-711 manufactured by HORIBA, Ltd. can be used.

ゼオライト粒子のpHが7以上10以下であるためには、ゼオライト粒子が、カウンターカチオンとしてプロトンを有するFAU Y型のゼオライトからなることが好ましい。   In order for the pH of the zeolite particles to be 7 or more and 10 or less, the zeolite particles are preferably made of FAU Y type zeolite having protons as counter cations.

ゼオライト粒子を作製する過程において、ゼオライトの水熱合成を行う場合に、pHの調整のための処理を施してもよい。pHの調整のための処理は、例えば水熱合成のために調製されたゼオライト粉を含むスラリーを加熱する前、スラリーの加熱中、又はスラリーの加熱後に行われる。pHの調整は、例えばスラリーに酸を添加することで行われる。酸は、例えば塩酸、硫酸、硝酸といった無機酸と、ギ酸、酢酸、シュウ酸といった有機酸とからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。   In the process of producing zeolite particles, when hydrothermal synthesis of zeolite is performed, a treatment for adjusting pH may be performed. The treatment for adjusting the pH is performed, for example, before heating the slurry containing the zeolite powder prepared for hydrothermal synthesis, during the heating of the slurry, or after the heating of the slurry. Adjustment of pH is performed by adding an acid to a slurry, for example. The acid contains at least one component selected from the group consisting of inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid and organic acids such as formic acid, acetic acid and oxalic acid.

吸湿剤(E)の平均粒径は、10nm以上200nm以下であることが好ましい。この平均粒径が200nm以下であれば、硬化物は特に高い透明性を有することができる。また、この平均粒径が10nm以上であれば、吸湿剤(E)の良好な吸湿性を維持できる。なお、この平均粒径は、動的光散乱法による測定結果から算出されるメディアン径、すなわち累積50%径(D50)である。なお、測定装置としては、マイクロトラック・ベル株式会社のナノトラックNanotrac Waveシリーズを用いることができる。   The average particle diameter of the hygroscopic agent (E) is preferably 10 nm or more and 200 nm or less. If this average particle diameter is 200 nm or less, the cured product can have particularly high transparency. Moreover, if this average particle diameter is 10 nm or more, the good hygroscopicity of the hygroscopic agent (E) can be maintained. The average particle diameter is a median diameter calculated from a measurement result by a dynamic light scattering method, that is, a cumulative 50% diameter (D50). In addition, as a measuring apparatus, the nano track Nanotrac Wave series of Microtrack Bell Inc. can be used.

吸湿剤(E)の平均粒径は、150nm以下であることがより好ましく、100nm以下であれば更に好ましく、70nm以下であれば特に好ましい。また、吸湿剤(E)の平均粒径が20nm以上であることが好ましく、50nm以上であればより好ましい。この場合、硬化物は、特に良好な透明性と吸湿性とを有することができる。   The average particle diameter of the hygroscopic agent (E) is more preferably 150 nm or less, still more preferably 100 nm or less, and particularly preferably 70 nm or less. Moreover, it is preferable that the average particle diameter of a hygroscopic agent (E) is 20 nm or more, and it is more preferable if it is 50 nm or more. In this case, the cured product can have particularly good transparency and hygroscopicity.

吸湿剤(E)の累積90%径(D90)が100nm以下であることも好ましい。この場合、硬化物は特に高い透明性を有することができる。   It is also preferable that the cumulative 90% diameter (D90) of the hygroscopic agent (E) is 100 nm or less. In this case, the cured product can have particularly high transparency.

組成物(X)の全量に対する吸湿剤(E)の割合は、1質量%以上20質量%以下であることが好ましい。吸湿剤(E)の割合が1質量%以上であれば硬化物は特に高い吸湿性を有することができる。また、吸湿剤(E)の割合が20質量%以下であれば組成物(X)の粘度を特に低減でき、組成物(X)がインクジェット法で塗布可能な程度の十分な低粘度を有することもできる。吸湿剤(E)の割合は、3質量%以上であれば更に好ましく、5質量%以上であれば特に好ましい。また、吸湿剤(E)の割合は、15質量%以下であればより好ましく、13質量%以下であれば特に好ましい。   The ratio of the hygroscopic agent (E) to the total amount of the composition (X) is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less. If the ratio of the hygroscopic agent (E) is 1% by mass or more, the cured product can have particularly high hygroscopicity. Moreover, if the ratio of the hygroscopic agent (E) is 20% by mass or less, the viscosity of the composition (X) can be particularly reduced, and the composition (X) has a sufficiently low viscosity that can be applied by an ink jet method. You can also. The proportion of the hygroscopic agent (E) is more preferably 3% by mass or more, and particularly preferably 5% by mass or more. Further, the proportion of the hygroscopic agent (E) is more preferably 15% by mass or less, and particularly preferably 13% by mass or less.

組成物(X)は、吸湿剤(E)以外の無機充填材を更に含有してもよい。特に、組成物(X)は、ナノサイズの高屈折率粒子を含有することが好ましい。高屈折率粒子の例はジルコニア粒子を含む。組成物(X)が高屈折率粒子を含有すると、硬化物の良好な透明性を維持しながら、硬化物を高屈折率化することができる。そのため、硬化物を有機EL発光装置1における封止材5に適用した場合に、封止材5を透過して外部へ出射する光の取り出し効率を向上することができる。高屈折率粒子の平均粒径は、5〜30nmの範囲内であることが好ましく、10〜20nmの範囲内であれば更に好ましい。   The composition (X) may further contain an inorganic filler other than the hygroscopic agent (E). In particular, the composition (X) preferably contains nano-sized high refractive index particles. Examples of high refractive index particles include zirconia particles. When the composition (X) contains high refractive index particles, the cured product can have a high refractive index while maintaining good transparency of the cured product. Therefore, when the cured product is applied to the sealing material 5 in the organic EL light-emitting device 1, it is possible to improve the extraction efficiency of light that passes through the sealing material 5 and is emitted to the outside. The average particle diameter of the high refractive index particles is preferably in the range of 5 to 30 nm, and more preferably in the range of 10 to 20 nm.

組成物(X)中の高屈折率粒子の割合は、硬化物が所望の屈折率を有するように適宜設計される。特に高屈折率粒子は、硬化物の屈折率が1.45以上、1.55未満の範囲内になるように組成物(X)に含有されることが好ましい。この場合、有機EL発光装置1の光の取り出し効率が特に向上する。   The ratio of the high refractive index particles in the composition (X) is appropriately designed so that the cured product has a desired refractive index. In particular, the high refractive index particles are preferably contained in the composition (X) such that the refractive index of the cured product is in the range of 1.45 or more and less than 1.55. In this case, the light extraction efficiency of the organic EL light emitting device 1 is particularly improved.

組成物(X)は、溶剤を含有しないことが好ましい。この場合、組成物(X)から硬化物を作製する際に組成物(X)を乾燥させて溶剤を揮発させるような必要がなくなる。   The composition (X) preferably contains no solvent. In this case, it is not necessary to dry the composition (X) and volatilize the solvent when producing a cured product from the composition (X).

上述の成分を混合することで、組成物(X)を調製できる。組成物(X)は25℃で液状であることが好ましい。   Composition (X) can be prepared by mixing the above-mentioned components. The composition (X) is preferably liquid at 25 ° C.

組成物(X)は、分散剤(F)を更に含有してもよい。分散剤(F)は、吸湿剤(E)に吸着しうる界面活性剤である。分散剤(F)は、例えば吸湿剤(E)の粒子に吸着しうる吸着基(アンカーともいう)と、吸着基が吸湿剤(E)の粒子に吸着することでこの粒子に付着する鎖状又は櫛形状の分子骨格であるテールとを、有する。分散剤(F)は、例えばテールがアクリル系の分子鎖であるアクリル系分散剤と、テールがウレタン系の分子鎖であるウレタン系分散剤と、テールがポリエステル系の分子鎖であるポリエステル系分散剤とからなら群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。   The composition (X) may further contain a dispersant (F). The dispersant (F) is a surfactant that can be adsorbed on the moisture absorbent (E). The dispersing agent (F) includes, for example, an adsorbing group (also referred to as an anchor) that can be adsorbed on the particles of the hygroscopic agent (E), and a chain that adheres to the particles of the adsorbing group adsorbed on the particles of the hygroscopic agent (E). Or a tail which is a comb-shaped molecular skeleton. The dispersing agent (F) includes, for example, an acrylic dispersing agent whose tail is an acrylic molecular chain, a urethane dispersing agent whose tail is a urethane molecular chain, and a polyester dispersing whose tail is a polyester molecular chain. It contains at least one component selected from the group.

組成物(X)が分散剤(F)を含有すると、吸湿剤(E)を組成物(X)中及び硬化物中で良好に分散させることができる。このため、硬化物及び封止材5が吸湿剤(E)を含有するにもかかわらず、硬化物及び封止材5の透明性が吸湿剤(E)によって低下されにくい。また、分散剤(F)は、組成物(X)の保管中における吸湿剤(E)の凝集を効果的に抑制できる。そのため組成物(X)の保存安定性が吸湿剤(E)によって低下されにくい。さらに、硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性が分散剤(F)によって低下されにくい。これは、分散剤(F)が前記のように吸湿剤(E)に吸着しやすいため、分散剤(F)が硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の界面に影響を与えにくいからであると、考えられる。このため、封止材5はガラス製の基材との高い密着性を有することができる。また、窒化ケイ素及び酸化ケイ素は有機EL発光装置1におけるパッシベーション層6の材料として使用されることがある。このため、パッシベーション層6が窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されている場合、封止材5はパッシベーション層6と高い密着性を有することができる。   When the composition (X) contains the dispersant (F), the hygroscopic agent (E) can be favorably dispersed in the composition (X) and the cured product. For this reason, although hardened | cured material and the sealing material 5 contain a hygroscopic agent (E), transparency of hardened | cured material and the sealing material 5 is hard to be reduced with a hygroscopic agent (E). Further, the dispersant (F) can effectively suppress the aggregation of the hygroscopic agent (E) during storage of the composition (X). Therefore, the storage stability of the composition (X) is not easily lowered by the hygroscopic agent (E). Furthermore, the adhesiveness between the cured product and silicon nitride and silicon oxide is not easily lowered by the dispersant (F). This is because the dispersant (F) is easily adsorbed to the moisture absorbent (E) as described above, and the dispersant (F) hardly affects the interface between the cured product, silicon nitride and silicon oxide. It is believed that there is. For this reason, the sealing material 5 can have high adhesiveness with a glass-made base material. Silicon nitride and silicon oxide may be used as a material for the passivation layer 6 in the organic EL light emitting device 1. For this reason, when the passivation layer 6 is made of silicon nitride or silicon oxide, the sealing material 5 can have high adhesion to the passivation layer 6.

分散剤(F)の沸点は200℃以上であることが好ましい。この場合、組成物(X)から分散剤(F)が揮発しにくいことから、組成物(X)の保存安定性が更に向上する。   The boiling point of the dispersant (F) is preferably 200 ° C. or higher. In this case, since the dispersant (F) is less likely to volatilize from the composition (X), the storage stability of the composition (X) is further improved.

分散剤(F)は、吸着基として、塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうちいずれか一方又は両方を有することが好ましい。この場合、吸湿剤(E)を組成物(X)中及び硬化物中で特に良好に分散させることができる。これは、分散剤(F)が塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうちいずれか一方又は両方を有することで、吸湿剤(E)に吸着しやすく、そのため吸湿剤(E)を分散させる作用が著しく発現するためと考えられる。   It is preferable that a dispersing agent (F) has any one or both of a basic polar functional group and an acidic polar functional group as an adsorption group. In this case, the hygroscopic agent (E) can be dispersed particularly well in the composition (X) and in the cured product. This is because the dispersant (F) has either one or both of a basic polar functional group and an acidic polar functional group, so that the dispersant (F) is easily adsorbed to the hygroscopic agent (E). This is thought to be due to the remarkable manifestation of the effect of dispersing the water.

分散剤(F)は、ポリマーを含んでもよい。ポリマーの重量平均分子量は例えば1000以上である。ポリマーは、例えば、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルとの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルとの塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエステルポリアミン、及びステアリルアミンアセテートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。分散剤(F)がポリマーを含有すると、ポリマーが吸湿剤(E)の粒子に吸着した際に生じる立体障害効果が向上することで、吸湿剤(E)の分散性が向上しうる。   The dispersant (F) may contain a polymer. The weight average molecular weight of the polymer is, for example, 1000 or more. Examples of the polymer include a hydroxyl group-containing carboxylic acid ester, a salt of a long chain polyaminoamide and a high molecular weight acid ester, a salt of a high molecular weight polycarboxylic acid, a salt of a long chain polyaminoamide and a polar acid ester, and a high molecular weight unsaturated acid ester. , Modified polyurethane, modified polyacrylate, polyether ester type anionic activator, salt of naphthalene sulfonic acid formalin condensate, polyoxyethylene alkyl phosphate ester, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyester polyamine, and stearylamine acetate Contains at least one component selected from the group. When the dispersant (F) contains a polymer, the steric hindrance effect produced when the polymer is adsorbed on the particles of the hygroscopic agent (E) is improved, and thus the dispersibility of the hygroscopic agent (E) can be improved.

分散剤(F)は、例えば塩基性の極性官能基を有する分散剤(F1)と酸性の極性官能基を有する分散剤(F2)とのうち、いずれか一方又は両方を含有できる。   The dispersant (F) can contain either one or both of, for example, a dispersant (F1) having a basic polar functional group and a dispersant (F2) having an acidic polar functional group.

塩基性の極性官能基を有する分散剤(F1)における塩基性の極性官能基は、例えばアミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、及び含窒素複素環基からなる群から選択される少なくとも一種の基を含む。分散剤(F1)が塩基性の極性官能基を有すると、分散剤(F1)は吸湿剤(E)に吸着しやすいため、吸湿剤(E)の分散性が向上しうる。塩基性の極性官能基は、分散剤(F1)の吸湿剤(E)への吸着能を特に高めることができること、吸湿剤(E)の分散性を特に向上できること、及び組成物(X)の粘度を特に低下できることから、アミノ基を含むことが好ましい。   The basic polar functional group in the dispersant (F1) having a basic polar functional group is, for example, at least one selected from the group consisting of an amino group, an imino group, an amide group, an imide group, and a nitrogen-containing heterocyclic group. Including the group When the dispersant (F1) has a basic polar functional group, the dispersant (F1) is likely to be adsorbed on the hygroscopic agent (E), so that the dispersibility of the hygroscopic agent (E) can be improved. The basic polar functional group can particularly enhance the adsorption ability of the dispersant (F1) to the moisture absorbent (E), can particularly improve the dispersibility of the moisture absorbent (E), and the composition (X). An amino group is preferably included because the viscosity can be particularly reduced.

塩基性の極性官能基を有する分散剤(F1)は、例えば商品名:ソルスパース24000(アミン価:41.6mgKOH/g)、商品名:ソルスパース32000(アミン価:31.2mgKOH/g)、商品名:ソルスパース39000(アミン価:25.7mgKOH/g)、商品名:ソルスパースJ100、商品名:ソルスパースJ200等の日本ルーブルリゾール株式会社製のソルスパースシリーズ;商品名:DISPERBYK−108、DISPERBYK−2013、DISPERBYK−180、DISPERBYK−106、DISPERBYK−162(アミン価:13mgKOH/g)、商品名:DISPERBYK−163(アミン価:10mgKOH/g)、商品名:DISPERBYK−168(アミン価:11mgKOH/g)、商品名:DISPERBYK−2050(アミン価:30.7mgKOH/g)、商品名:DISPERBYK−2150(アミン価:56.7mgKOH/g)等のビックケミー・ジャパン株式会社製のDISPERBYKシリーズ;商品名:BYKJET−9151(アミン価:17.2mgKOH/g)、商品名:BYKJET−9152(アミン価:27.3mgKOH/g)等のビックケミー・ジャパン株式会社製のBYKJETシリーズ、;及び商品名:アジスパーPB821(アミン価:11.2mgKOH/g)、商品名:アジスパーPB822(アミン価:18.2mgKOH/g)、商品名:アジスパーPB881(アミン価:17.4mgKOH/g)等の味の素ファインテクノ株式会社製のアジスパーシリーズを含む。   Examples of the dispersant (F1) having a basic polar functional group include trade name: Solsperse 24000 (amine value: 41.6 mgKOH / g), trade name: Solsperse 32000 (amine value: 31.2 mgKOH / g), trade name. : Solsperse 39000 (amine value: 25.7 mgKOH / g), trade name: Solsperse J100, trade name: Solsperse series manufactured by Japan Louvre Resol Co., Ltd .; trade name: DISPERBYK-108, DISPERBYK-2013, DISPERBYK -180, DISPERBYK-106, DISPERBYK-162 (amine value: 13 mgKOH / g), trade name: DISPERBYK-163 (amine value: 10 mgKOH / g), trade name: DISPERBYK-168 (amine value: 1 mgKOH / g), trade name: DISPERBYK-2050 (amine value: 30.7 mgKOH / g), trade name: DISPERBYK-2150 (amine value: 56.7 mgKOH / g), etc. Product name: BYKJET-9151 (amine value: 17.2 mgKOH / g), product name: BYKJET-9152 (amine value: 27.3 mgKOH / g), etc. BYKJET Japan made BYKJET series; and product name: Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., such as Ajisper PB821 (amine value: 11.2 mgKOH / g), trade name: Azisper PB822 (amine value: 18.2 mgKOH / g), trade name: Azisper PB881 (amine value: 17.4 mgKOH / g) Company made Including di-spar series.

分散剤(F1)のアミン価は、10mgKOH/g以上であることが好ましく、10mgKOH/g以上30mgKOH/g以下がより好ましく、15mgKOH/g以上30mgKOH/g以下が更に好ましい。また、分散剤(F1)は、リン酸基を有さないことが好ましい。分散剤(F1)がリン酸基を有する場合は、リン酸基に由来する酸価がアミン価の値以下であることが好ましい。この場合、分散剤(F1)が、吸湿剤(E)を特に良好に分散させることができ、組成物(X)の保存安定性を特に高めることができ、硬化物の透明性を特に高めることができ、更に硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性を特に高めることができる。分散剤(F1)に含まれうる成分のうち、アミノ基を有しリン酸基を有さない分散剤の例は、ビックケミー社製のDISPERBYK−108を含む。アミノ基及びリン酸基を有しかつリン酸基に由来する酸価がアミン価の値以下である分散剤の例は、ビックケミー社製のDISPERBYK−2013及びビックケミー社製のDISPERBYK−180を含む。   The amine value of the dispersant (F1) is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 10 mgKOH / g or more and 30 mgKOH / g or less, and further preferably 15 mgKOH / g or more and 30 mgKOH / g or less. Moreover, it is preferable that a dispersing agent (F1) does not have a phosphate group. When the dispersant (F1) has a phosphoric acid group, the acid value derived from the phosphoric acid group is preferably not more than the amine value. In this case, the dispersant (F1) can disperse the hygroscopic agent (E) particularly well, can particularly enhance the storage stability of the composition (X), and particularly enhance the transparency of the cured product. In addition, the adhesion between the cured product and silicon nitride and silicon oxide can be particularly enhanced. Of the components that can be contained in the dispersant (F1), examples of the dispersant having an amino group and not having a phosphate group include DISPERBYK-108 manufactured by BYK Chemie. Examples of the dispersant having an amino group and a phosphate group and having an acid value derived from the phosphate group equal to or less than the amine value include DISPERBYK-2013 manufactured by BYK Chemie and DISPERBYK-180 manufactured by BYK.

酸性の極性官能基を有する分散剤(F2)における酸性の極性官能基は、例えばカルボキシル基である。分散剤(F2)は、例えばビックケミー社製のDISPERBYK−P105を含有する。   The acidic polar functional group in the dispersant (F2) having an acidic polar functional group is, for example, a carboxyl group. Dispersant (F2) contains DISPERBYK-P105 made by, for example, Big Chemie.

吸湿剤(E)100質量部に対する分散剤(F)の量は、5質量部以上60質量部以下であることが好ましい。分散剤(F)の量が5質量部以上であれば、分散剤(F)の利点を特に発揮させることができる。分散剤(F)の量が60質量部以下であれば、硬化物と、窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性を、より高めることができる。分散剤(F)の量は15質量部以上であればより好ましい。分散剤(F)の量は50質量部以下であればより好ましく、40質量部以下であればより更に好ましく、30質量部以下であれば特に好ましい。   The amount of the dispersant (F) with respect to 100 parts by mass of the hygroscopic agent (E) is preferably 5 parts by mass or more and 60 parts by mass or less. When the amount of the dispersant (F) is 5 parts by mass or more, the advantage of the dispersant (F) can be particularly exhibited. If the quantity of a dispersing agent (F) is 60 mass parts or less, the adhesiveness between hardened | cured material and silicon nitride and a silicon oxide can be improved more. The amount of the dispersant (F) is more preferably 15 parts by mass or more. The amount of the dispersant (F) is more preferably 50 parts by mass or less, still more preferably 40 parts by mass or less, and particularly preferably 30 parts by mass or less.

組成物(X)の25℃における粘度は50mPa・s以下であることが好ましい。この場合、組成物(X)を常温下でキャスティング法といった方法で成形することが容易であり、組成物(X)を常温下でインクジェット法で成形することも可能である。組成物(X)が化合物(A1)、特に上記の式(11)に示す化合物、式(12)に示す化合物及びモルホリンアクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物、を含有することで、このような組成物(X)の低粘度化が可能である。また、組成物(X)の25℃における粘度は、20mPa・s以下であればより好ましく、13mPa・s以下であれば特に好ましい。また、組成物(X)の粘度は、例えば1mPa・s以上であり、又は5mPa・s以上であり、又は10mPa・s以上である。   The viscosity at 25 ° C. of the composition (X) is preferably 50 mPa · s or less. In this case, the composition (X) can be easily molded by a method such as a casting method at room temperature, and the composition (X) can also be molded by an inkjet method at room temperature. The composition (X) contains the compound (A1), in particular, the compound represented by the above formula (11), the compound represented by the formula (12), and at least one compound selected from the group consisting of morpholine acrylate, Such composition (X) can be reduced in viscosity. The viscosity at 25 ° C. of the composition (X) is more preferably 20 mPa · s or less, and particularly preferably 13 mPa · s or less. Further, the viscosity of the composition (X) is, for example, 1 mPa · s or more, 5 mPa · s or more, or 10 mPa · s or more.

組成物(X)の40℃における粘度が1mPa・s以上50mPa・s以下であることも好ましい。この場合、常温における組成物(X)の粘度がいかなる値であっても、組成物(X)を僅かに加熱すれば低粘度化させることが可能である。このため、加熱すれば、組成物(X)をキャスティング法といった方法で成形することが容易であり、組成物(X)をインクジェット法で成形することも可能である。この粘度が20mPa・s以下であればより好ましく、13mPa・s以下であれば特に好ましい。また、組成物(X)の40℃における粘度は、例えば1mPa・s以上であり、又は5mPa・s以上であり、又は10mPa・s以上である。   It is also preferable that the viscosity at 40 ° C. of the composition (X) is 1 mPa · s or more and 50 mPa · s or less. In this case, even if the viscosity of the composition (X) at normal temperature is any value, the viscosity can be lowered by slightly heating the composition (X). Therefore, if heated, the composition (X) can be easily molded by a method such as a casting method, and the composition (X) can also be molded by an ink jet method. The viscosity is more preferably 20 mPa · s or less, and particularly preferably 13 mPa · s or less. Moreover, the viscosity at 40 ° C. of the composition (X) is, for example, 1 mPa · s or more, 5 mPa · s or more, or 10 mPa · s or more.

組成物(X)は、硬化することで、90℃以上のガラス転移温度を有する硬化物になることが好ましい。すなわち、組成物(X)の硬化物のガラス転移温度、並びに組成物(X)から作製される封止材5のガラス転移温度は、90℃以上であることが好ましい。この場合、組成物(X)から作製される封止材5は、耐熱性を有することができる。そのため、例えば有機EL発光装置1の製造時に高温の処理が施される場合、例えば封止材5に重ねてパッシベーション層6をプラズマCVD法等で作製する場合、並びに有機EL発光装置1が使用時に高温下に曝される場合、封止材5が劣化しにくい。ガラス転移温度は100℃以上であればより好ましく、120℃以上であれば特に好ましい。特に組成物(X)がアクリル成分(A23)といった多官能の化合物を含有すると、硬化物の分子構造が三次元化しやすくなることで、このような硬化物のガラス転移温度を達成することが可能である。   The composition (X) is preferably cured to become a cured product having a glass transition temperature of 90 ° C. or higher. That is, it is preferable that the glass transition temperature of the hardened | cured material of composition (X) and the glass transition temperature of the sealing material 5 produced from composition (X) are 90 degreeC or more. In this case, the sealing material 5 produced from the composition (X) can have heat resistance. Therefore, for example, when a high-temperature treatment is performed at the time of manufacturing the organic EL light-emitting device 1, for example, when the passivation layer 6 is formed on the sealing material 5 by a plasma CVD method, or when the organic EL light-emitting device 1 is used. When exposed to high temperatures, the sealing material 5 is unlikely to deteriorate. The glass transition temperature is more preferably 100 ° C. or higher, and particularly preferably 120 ° C. or higher. In particular, when the composition (X) contains a polyfunctional compound such as an acrylic component (A23), the molecular structure of the cured product can be easily made three-dimensional, so that the glass transition temperature of such a cured product can be achieved. It is.

組成物(X)の硬化物の、厚み寸法が10μmである場合の、全光透過率は、90%以上であることが好ましい。この場合、硬化物を有機EL発光装置1における封止材5に適用した場合に、封止材5を透過して外部へ出射する光の取り出し効率を特に向上できる。このような硬化物の高い光透過性は、上記で詳細に説明された組成物(X)の組成によって達成可能である。   When the thickness of the cured product of the composition (X) is 10 μm, the total light transmittance is preferably 90% or more. In this case, when the cured product is applied to the sealing material 5 in the organic EL light-emitting device 1, it is possible to particularly improve the extraction efficiency of light that passes through the sealing material 5 and is emitted to the outside. Such a high light transmittance of the cured product can be achieved by the composition of the composition (X) described in detail above.

3.封止材の作製方法及び有機EL発光装置の製造方法
組成物(X)を用いる封止材5の作製方法及び有機EL発光装置1の製造方法について説明する。
3. Manufacturing method of sealing material, and manufacturing method of organic EL light-emitting device The manufacturing method of the sealing material 5 using composition (X) and the manufacturing method of the organic EL light-emitting device 1 are demonstrated.

本実施形態では、組成物(X)をインクジェット法で成形してから、組成物(X)に紫外線を照射して硬化することで、封止材5を作製することが好ましい。本実施形態では組成物(X)の低粘度化が可能であるため、インクジェット法で組成物(X)を成形することが可能である。   In the present embodiment, it is preferable to prepare the encapsulant 5 by molding the composition (X) by an ink jet method and then curing the composition (X) by irradiating the composition with ultraviolet rays. In this embodiment, since the viscosity of the composition (X) can be reduced, the composition (X) can be molded by an ink jet method.

組成物(X)をインクジェット法で塗布するに当たっては、組成物(X)が常温で十分に低い粘度を有する場合、例えば25℃における粘度が50mPa・s以下、特に20mPa・s以下である場合には、組成物(X)を加熱せずにインクジェット法で塗布することで成形できる。   In applying the composition (X) by the inkjet method, when the composition (X) has a sufficiently low viscosity at room temperature, for example, when the viscosity at 25 ° C. is 50 mPa · s or less, particularly 20 mPa · s or less. Can be formed by applying the composition (X) by an inkjet method without heating.

組成物(X)が加熱されることで低粘度化する性質を有する場合、組成物(X)を加熱してから組成物(X)をインクジェット法で塗布して成形してもよい。組成物(X)の40℃における粘度が50mPa・s以下、特に20mPa・s以下である場合、組成物(X)を僅かに加熱しただけで低粘度化させることができ、この低粘度化した組成物(X)をインクジェット法で吐出することができる。組成物(X)の加熱温度は、例えば20℃以上50℃以下である。   In the case where the composition (X) has a property of lowering viscosity by being heated, the composition (X) may be heated and then applied by an inkjet method to be molded. When the viscosity at 40 ° C. of the composition (X) is 50 mPa · s or less, particularly 20 mPa · s or less, the composition (X) can be reduced in viscosity only by slightly heating. The composition (X) can be discharged by an inkjet method. The heating temperature of the composition (X) is, for example, 20 ° C. or more and 50 ° C. or less.

図1に示す第一例の有機EL発光装置1の作製方法について説明する。例えばまず、支持基板2を準備する。この支持基板2の一面上に、有機EL素子4を設ける。有機EL素子4は、蒸着法、塗布法といった適宜の方法で作製できる。特に有機EL素子4を、インクジェット法といった塗布法で作製することが好ましい。   A method for producing the organic EL light emitting device 1 of the first example shown in FIG. 1 will be described. For example, first, the support substrate 2 is prepared. An organic EL element 4 is provided on one surface of the support substrate 2. The organic EL element 4 can be produced by an appropriate method such as a vapor deposition method or a coating method. In particular, the organic EL element 4 is preferably produced by a coating method such as an inkjet method.

次に、パッシベーション層6を設ける。パッシベーション層6は、例えば蒸着法で作製できる。   Next, a passivation layer 6 is provided. The passivation layer 6 can be produced by, for example, a vapor deposition method.

次に、組成物(X)をインクジェット法で、支持基板2の一面及び有機EL素子4を覆うように成形する。なお、パッシベーション層6を設けている場合にはパッシベーション層6を覆うように組成物(X)を成形する。有機EL素子4の形成と組成物(X)の塗布のいずれにもインクジェット法を適用すれば、有機EL発光装置1の製造効率を特に向上できる。   Next, the composition (X) is molded by an inkjet method so as to cover one surface of the support substrate 2 and the organic EL element 4. In the case where the passivation layer 6 is provided, the composition (X) is formed so as to cover the passivation layer 6. If the inkjet method is applied to both the formation of the organic EL element 4 and the application of the composition (X), the production efficiency of the organic EL light-emitting device 1 can be particularly improved.

次に、透明基板3を組成物(X)に重ねる。透明基板3は、例えばガラス製基板又は透明樹脂製基板である。   Next, the transparent substrate 3 is overlaid on the composition (X). The transparent substrate 3 is, for example, a glass substrate or a transparent resin substrate.

次に外部から透明基板3へ向けて紫外線を照射する。紫外線は透明基板3を透過して組成物(X)へ到達する。これにより、組成物(X)内でラジカル重合反応が進行して組成物(X)が硬化し、硬化物からなる封止材5が作製される。封止材5の厚みは例えば5μm以上50μm以下である。   Next, ultraviolet rays are irradiated from the outside toward the transparent substrate 3. The ultraviolet rays pass through the transparent substrate 3 and reach the composition (X). Thereby, radical polymerization reaction advances in composition (X), composition (X) hardens | cures, and the sealing material 5 which consists of hardened | cured material is produced. The thickness of the sealing material 5 is, for example, 5 μm or more and 50 μm or less.

なお、組成物(X)をインクジェット法以外の方法で成形してもよく、例えばキャスティング法で成形してもよい。   The composition (X) may be formed by a method other than the ink jet method, for example, a casting method.

図2に示す第二例の有機EL発光装置1の作製方法について説明する。   A method for producing the organic EL light emitting device 1 of the second example shown in FIG. 2 will be described.

まず、支持基板2を準備する。この支持基板2の一面上に隔壁7を、例えば感光性の樹脂材料を用いてフォトリソグラフィ法で作製する。続いて、支持基板2の一面上に複数の有機EL素子4を設ける。有機EL素子4は、蒸着法、塗布法といった適宜の方法で作製できる。特に有機EL素子4を、インクジェット法といった塗布法で作製することが好ましい。これにより、支持基板2に素子アレイ9を作製する。   First, the support substrate 2 is prepared. A partition wall 7 is formed on one surface of the support substrate 2 by, for example, a photolithography method using a photosensitive resin material. Subsequently, a plurality of organic EL elements 4 are provided on one surface of the support substrate 2. The organic EL element 4 can be produced by an appropriate method such as a vapor deposition method or a coating method. In particular, the organic EL element 4 is preferably produced by a coating method such as an inkjet method. Thereby, the element array 9 is produced on the support substrate 2.

次に、素子アレイ9の上に第一パッシベーション層61を設ける。第一パッシベーション層61は、例えばプラズマCVD法といった蒸着法で作製できる。   Next, a first passivation layer 61 is provided on the element array 9. The first passivation layer 61 can be produced by a vapor deposition method such as a plasma CVD method.

次に、第一パッシベーション層61の上に組成物(X)を、例えばインクジェット法で成形して、塗膜を作製する。有機EL素子4の形成と組成物(X)の塗布のいずれにもインクジェット法を適用すれば、有機EL発光装置1の製造効率を特に向上できる。続いて、塗膜に紫外線を照射することで硬化させて、封止材5を作製する。封止材5の厚みは例えば5μm以上50μm以下である。   Next, composition (X) is shape | molded on the 1st passivation layer 61, for example with the inkjet method, and a coating film is produced. If the inkjet method is applied to both the formation of the organic EL element 4 and the application of the composition (X), the production efficiency of the organic EL light-emitting device 1 can be particularly improved. Subsequently, the encapsulant 5 is produced by curing the coating film by irradiating it with ultraviolet rays. The thickness of the sealing material 5 is, for example, 5 μm or more and 50 μm or less.

次に、封止材5の上に第二パッシベーション層62を設ける。第二パッシベーション層62は、例えばプラズマCVD法といった蒸着法で作製できる。   Next, a second passivation layer 62 is provided on the sealing material 5. The second passivation layer 62 can be produced by an evaporation method such as a plasma CVD method.

次に、支持基板2の一面上に、第二パッシベーション層62を覆うように、紫外線硬化性の樹脂材料を設けてから、この樹脂材料に透明基板3を重ねる。透明基板3は、例えばガラス製基板又は透明樹脂製基板である。   Next, an ultraviolet curable resin material is provided on one surface of the support substrate 2 so as to cover the second passivation layer 62, and then the transparent substrate 3 is overlaid on the resin material. The transparent substrate 3 is, for example, a glass substrate or a transparent resin substrate.

次に外部から透明基板3へ向けて紫外線を照射する。紫外線は透明基板3を透過して紫外線硬化性の樹脂材料へ到達する。これにより、紫外線硬化性の樹脂材料が硬化し、第二封止材52が作製される。   Next, ultraviolet rays are irradiated from the outside toward the transparent substrate 3. The ultraviolet rays pass through the transparent substrate 3 and reach the ultraviolet curable resin material. Thereby, the ultraviolet curable resin material is cured and the second sealing material 52 is produced.

以下、本発明の具体的な実施例を提示する。ただし、本発明は実施例のみに制限されない。   Hereinafter, specific examples of the present invention will be presented. However, the present invention is not limited to the examples.

1.組成物の調製
下記表に示す成分を混合することで、実施例及び比較例の組成物を調製した。なお、表中示される成分の詳細は次のとおりである。
・TBCHA:式(11)に示す化合物である4−ターシャルブチルシクロヘキシルアクリレート、25℃での粘度7mPa・s、ガラス転移温度77℃、沸点265℃。
・ビスコート#196:式(12)に示す化合物である3,3,5−トリメチルシクロヘキシルアクリレート、25℃での粘度3mPa・s、ガラス転移温度52℃、沸点234℃、大阪有機化学工業株式会社製。
・CHDMMA:式(13)に示す化合物であるシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、25℃での粘度88mPa・s、ガラス転移温度18℃、沸点294℃。
・ACMO:モルホリンアクリレート、25℃での粘度12mPa・s、ガラス転移温度145℃。
・IBXA:イソボルニルアクリレート、25℃での粘度8mPa・s、ガラス転移温度97℃。
・TMPTA:トリメチロールプロパントリアクリレート、25℃での粘度106mPa・s。
・ポリエチレングリコール200ジメタクリレート:新中村化学工業製、分子量330、25℃での粘度14mPa・s、ガラス転移温度41℃。
・ポリエチレングリコール200ジアクリレート、大阪有機化学製、分子量308、25℃での粘度17mPa・s、ガラス転移温度41℃。
・ビスフェノールAポリエトキシジアクリレート:日本化薬製、品番R551、25℃での粘度800mPa・s。
・Irgacure 184:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、BASF社製、品名Irgacure 184。
・Irgacure TPO:2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、BASF社製、品名Irgacure TPO。
・吸着剤:下記の方法で製造され、そのD50は60nm、そのD90は110nm、そのpHは11であるゼオライト粒子。
1. Preparation of composition The composition of an Example and a comparative example was prepared by mixing the component shown in the following table | surface. The details of the components shown in the table are as follows.
TBCHA: 4-tertiarybutylcyclohexyl acrylate which is a compound represented by the formula (11), a viscosity at 25 ° C. of 7 mPa · s, a glass transition temperature of 77 ° C., and a boiling point of 265 ° C.
-Biscote # 196: 3,3,5-trimethylcyclohexyl acrylate which is a compound represented by the formula (12), viscosity at 25 ° C. 3 mPa · s, glass transition temperature 52 ° C., boiling point 234 ° C., manufactured by Osaka Organic Chemical Industries, Ltd. .
CHDMMA: cyclohexanedimethanol monoacrylate which is a compound represented by the formula (13), viscosity at 25 ° C. 88 mPa · s, glass transition temperature 18 ° C., boiling point 294 ° C.
ACMO: morpholine acrylate, viscosity at 25 ° C. 12 mPa · s, glass transition temperature 145 ° C.
IBXA: isobornyl acrylate, viscosity at 25 ° C. 8 mPa · s, glass transition temperature 97 ° C.
TMPTA: trimethylolpropane triacrylate, viscosity at 25 ° C. 106 mPa · s.
Polyethylene glycol 200 dimethacrylate: manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., molecular weight 330, viscosity at 25 ° C .: 14 mPa · s, glass transition temperature: 41 ° C.
Polyethylene glycol 200 diacrylate, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd., molecular weight 308, viscosity at 25 ° C., 17 mPa · s, glass transition temperature 41 ° C.
Bisphenol A polyethoxydiacrylate: Nippon Kayaku, product number R551, viscosity at 25 ° C., 800 mPa · s.
Irgacure 184: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, manufactured by BASF, product name Irgacure 184.
Irgacure TPO: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, manufactured by BASF, product name Irgacure TPO.
Adsorbent: Zeolite particles produced by the following method, having a D50 of 60 nm, a D90 of 110 nm, and a pH of 11.

出発物質のゼオライト粉として平均粒径5μmの4A型ゼオライト・ナトリウムイオンを用意し、このゼオライト粉100gとイオン交換水100gとを混合してスラリーを調製した。このスラリー中のゼオライト粉を、ビーズミル粉砕機で、平均粒径が60nmになるように粉砕した。続いて、スラリーを、180℃の温度下で2〜3時間放置することで、微粉砕されたゼオライト粉を得た。このゼオライト粉を乳鉢で解砕してから、メッシュを通過させることで粒径を整えることで、ゼオライト粒子を得た。なお、ゼオライト粒子のpHは次の方法で測定した。ポリエチレン製の瓶にゼオライト粒子0.05gとイオン交換水99.95gとを入れてから、瓶を恒温槽に入れて、90℃で24時間加熱した。続いて、瓶の中の液の上澄みのpHを、堀場製作所製のコンパクトpHメータ<LAQUAtwin>B−711を用いて測定した。
・分散剤:ポリエチレンイミンを主骨格とする脂肪酸アミンの櫛型樹脂分散剤、アミン価31mgKOH/g、酸価15mgKOH/g、沸点200℃以上、ルーブリゾール社製、品名ソルスパース32000。
4A-type zeolite sodium ions having an average particle diameter of 5 μm were prepared as the starting material zeolite powder, and 100 g of this zeolite powder and 100 g of ion-exchanged water were mixed to prepare a slurry. The zeolite powder in this slurry was pulverized with a bead mill pulverizer such that the average particle size was 60 nm. Subsequently, the slurry was allowed to stand at a temperature of 180 ° C. for 2 to 3 hours to obtain finely pulverized zeolite powder. The zeolite powder was crushed with a mortar and then passed through a mesh to adjust the particle size to obtain zeolite particles. The pH of the zeolite particles was measured by the following method. After putting 0.05 g of zeolite particles and 99.95 g of ion-exchanged water in a polyethylene bottle, the bottle was put in a thermostatic bath and heated at 90 ° C. for 24 hours. Subsequently, the pH of the supernatant in the bottle was measured using a compact pH meter <LAQUATwin> B-711 manufactured by Horiba.
Dispersant: Comb-type resin dispersant of fatty acid amine having polyethyleneimine as the main skeleton, amine value 31 mgKOH / g, acid value 15 mgKOH / g, boiling point 200 ° C. or higher, manufactured by Lubrizol, product name Solsperse 32000.

2.評価試験
実施例及び比較例について、次の評価試験を実施した。その結果を表に示す。
2. Evaluation Test The following evaluation tests were conducted on the examples and comparative examples. The results are shown in the table.

(1)透過率
組成物を塗布して塗膜を作製し、この塗膜を、パナソニック電工株式会社製のLED−UV照射器(ピーク波長365nm)を用いて、約100mW/cm2の条件で15秒間紫外線照射して光硬化させることで、厚み10μmのフィルムを作製した。このフィルムの、JIS K7361−1による全光線透過率を測定した。
(1) Transmittance The composition was applied to prepare a coating film, and this coating film was subjected to a condition of about 100 mW / cm 2 using an LED-UV irradiator (peak wavelength 365 nm) manufactured by Panasonic Electric Works Co., Ltd. A film having a thickness of 10 μm was produced by photo-curing by irradiating with ultraviolet rays for 15 seconds. The total light transmittance of this film was measured according to JIS K7361-1.

(2)粘度
組成物の粘度を、レオメータ(アントンパール・ジャパン社製、型番DHR−2)を使用し、温度25℃、せん断速度1000s-1の条件で測定した。
(2) Viscosity The viscosity of the composition was measured using a rheometer (manufactured by Anton Paar Japan, model number DHR-2) under conditions of a temperature of 25 ° C. and a shear rate of 1000 s −1 .

(3)ガラス転移温度
組成物を塗布して塗膜を作製し、この塗膜を、パナソニック電工株式会社製のLED−UV照射器(ピーク波長365nm)を用いて、約100mW/cm2の条件で15秒間紫外線照射することで光硬化させ、厚み100μmのフィルムを作製した。
(3) Glass transition temperature A coating film was prepared by applying the composition, and this coating film was subjected to a condition of about 100 mW / cm 2 using an LED-UV irradiator (peak wavelength 365 nm) manufactured by Panasonic Electric Works Co., Ltd. Was cured by irradiating with ultraviolet rays for 15 seconds to produce a film having a thickness of 100 μm.

セイコーインスツルメンツ株式会社製の粘弾性スペクトロメータ「DMS6100」を用いて、上記で得られたフィルムのガラス転移温度を測定した。このとき、引張モジュールで周波数を10Hzとして動的粘弾性測定(DMA)を行い、昇温速度5℃/分の条件で室温から200℃まで昇温した際のtanδが極大を示す温度をガラス転移温度とした。   The glass transition temperature of the film obtained above was measured using a viscoelastic spectrometer “DMS6100” manufactured by Seiko Instruments Inc. At this time, dynamic viscoelasticity measurement (DMA) is performed with a tensile module at a frequency of 10 Hz, and the temperature at which tan δ is maximized when the temperature is raised from room temperature to 200 ° C. at a temperature increase rate of 5 ° C./min is a glass transition. It was temperature.

(4)インクジェット性
組成物をインクジェットプリンター(マイクロジェット社製、「NanoPrinter300」)のカートリッジに入れ、インクジェットプリンターにおけるノズルからカートリッジ内の組成物を吐出しうることを確認してから、ノズルから組成物を吐出させてテストパターンを連続で印刷した。その結果、組成物を1時間吐出できるとともに吐出動作が安定していた場合を「A」、組成物を1時間吐出できたが吐出動作が断続的に不安定になった場合を「B」、吐出開始から1時間経過前にノズルが詰まって組成物を吐出できなくなった場合を「C」と、評価した。
(4) Ink-jet property The composition is put into a cartridge of an ink-jet printer (manufactured by MicroJet, “NanoPrinter300”), and after confirming that the composition in the cartridge can be discharged from the nozzle in the ink-jet printer, the composition from the nozzle The test pattern was continuously printed by discharging the ink. As a result, “A” when the composition can be discharged for 1 hour and the discharge operation is stable, “B” when the composition can be discharged for 1 hour but the discharge operation becomes intermittently unstable. The case where the nozzle was clogged 1 hour after the start of discharge and the composition could not be discharged was evaluated as “C”.

(5)密着性
二つのスライドガラス(寸法76mm×52mm×1mm)の各々の上に、厚み100nmのSiON膜を形成することで、二つの基板を作製した。一方の基板のSiON膜に組成物を塗布して厚み50μmの塗膜を形成し、この塗膜の上に他方の基板のSiON膜製膜を重ねた。続いて、塗膜を、パナソニック電工株式会社製のLED−UV照射器(ピーク波長365nm)を用いて、約30mW/cm2の条件で20秒間紫外線照射することで、硬化させた。次に、二つの基板の間の密着強度を、JIS K6854に基づくT字ピール試験を行うことで、評価した。
(5) Adhesion Two substrates were produced by forming a SiON film having a thickness of 100 nm on each of two slide glasses (dimensions 76 mm × 52 mm × 1 mm). The composition was applied to the SiON film of one substrate to form a 50 μm-thick coating film, and the SiON film formation of the other substrate was overlaid on this coating film. Subsequently, the coating film was cured by UV irradiation for 20 seconds under the condition of about 30 mW / cm 2 using an LED-UV irradiator (peak wavelength 365 nm) manufactured by Panasonic Electric Works Co., Ltd. Next, the adhesion strength between the two substrates was evaluated by performing a T-peel test based on JIS K6854.

(6)保管性(保存安定性)
組成物を窒素雰囲気下、40℃の温度で1か月間放置した。この試験の前の組成物の粘度と、試験の後の組成物の粘度とを、レオメータ(アントンパール・ジャパン社製、型番DHR−2)を使用して、温度25℃、せん断速度1000s-1の条件で測定し、その結果から、粘度の変化率を算出した。この変化率が5%未満である場合を「A」、5%以上10%未満である場合を「B」、10%以上である場合を「C」と評価した。
(6) Storage property (storage stability)
The composition was left for 1 month at a temperature of 40 ° C. under a nitrogen atmosphere. The viscosity of the composition before the test and the viscosity of the composition after the test were measured using a rheometer (manufactured by Anton Paar Japan, model number DHR-2) at a temperature of 25 ° C. and a shear rate of 1000 s −1. From the results, the rate of change in viscosity was calculated. The case where this change rate was less than 5% was evaluated as “A”, the case where it was 5% or more and less than 10% was evaluated as “B”, and the case where it was 10% or more was evaluated as “C”.

Claims (9)

アクリル化合物(A)、光重合開始剤(B)及び平均粒径200nm以下の吸湿剤(E)を含有し、
前記アクリル化合物(A)は、下記式(1)に示す化合物(A1)を含有し、
前記式(1)において、R0はH又はメチル基であり、Xは単結合又は二価の炭化水素基であり、R1からR11の各々はH、アルキル基又は−R12−OH、R12はアルキレン基でありかつR1からR11のうち少なくとも一つはアルキル基又は−R12−OHであり、R1からR11は互いに化学結合していない、
有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
Containing an acrylic compound (A), a photopolymerization initiator (B), and a hygroscopic agent (E) having an average particle size of 200 nm or less,
The acrylic compound (A) contains a compound (A1) represented by the following formula (1),
In the formula (1), R 0 is H or a methyl group, X is a single bond or a divalent hydrocarbon group, and each of R 1 to R 11 is H, an alkyl group, or —R 12 —OH, R 12 is an alkylene group and at least one of R 1 to R 11 is an alkyl group or —R 12 —OH, and R 1 to R 11 are not chemically bonded to each other;
An ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element.
前記化合物(A1)は、下記式(11)に示す化合物、下記式(12)に示す化合物及び下記式(13)に示す化合物からなる群から選択される、少なくとも一種の化合物を含む、
請求項1に記載の有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
The compound (A1) includes at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (11), a compound represented by the following formula (12), and a compound represented by the following formula (13).
The ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL device according to claim 1.
インクジェット法で成形される、
請求項1又は2に記載の有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
Molded by inkjet method,
The ultraviolet curable resin composition for organic EL element sealing of Claim 1 or 2.
前記化合物(A1)は、前記式(1)に示す化合物のみを含有し、
前記アクリル化合物(A)は、窒素原子を有する化合物を含有しない、
請求項1から3のいずれか一項に記載の有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
The compound (A1) contains only the compound represented by the formula (1),
The acrylic compound (A) does not contain a compound having a nitrogen atom,
The ultraviolet curable resin composition for organic EL element sealing as described in any one of Claim 1 to 3.
硬化することで、90℃以上のガラス転移温度を有する硬化物になる、
請求項1から4のいずれか一項に記載の有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
By curing, it becomes a cured product having a glass transition temperature of 90 ° C. or higher.
The ultraviolet curable resin composition for organic electroluminescent element sealing as described in any one of Claim 1 to 4.
25℃での粘度が20mPa・s以下である、
請求項1から5のいずれか一項に記載の有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
The viscosity at 25 ° C. is 20 mPa · s or less,
The ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element according to any one of claims 1 to 5.
前記吸湿剤(E)は、ゼオライト粒子を含有する、
請求項1から6のいずれか一項に記載の有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
The hygroscopic agent (E) contains zeolite particles,
The ultraviolet curable resin composition for organic EL element sealing as described in any one of Claims 1-6.
有機EL素子と前記有機EL素子を覆う封止材とを備える有機EL発光装置を製造する方法であり、
請求項1から7のいずれか一項に記載の有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、前記有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させることで前記封止材を作製することを含む、
有機EL発光装置の製造方法。
An organic EL light emitting device comprising an organic EL element and a sealing material covering the organic EL element,
The ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element according to any one of claims 1 to 7 is molded by an ink jet method, and ultraviolet rays are then applied to the ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element. Including producing the sealing material by irradiation and curing;
Manufacturing method of organic EL light-emitting device.
有機EL素子と、前記有機EL素子を覆う封止材とを備え、前記封止材は、請求項1から7のいずれか一項に記載の有機EL素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物である、
有機EL発光装置。
An organic EL element and a sealing material covering the organic EL element, wherein the sealing material is an ultraviolet curable resin composition for sealing an organic EL element according to any one of claims 1 to 7. Is a cured product,
Organic EL light emitting device.
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