JP2019206636A - Resin composition, and sheet - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 57
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 100
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 88
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 88
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 59
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 31
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 21
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 claims abstract description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 118
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 64
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 50
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 47
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 17
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 17
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 17
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 32
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 24
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 24
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 22
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 22
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 20
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 17
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 16
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 14
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Natural products OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 9
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 7
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Chemical group 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical class O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- BSWWXRFVMJHFBN-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tribromophenol Chemical compound OC1=C(Br)C=C(Br)C=C1Br BSWWXRFVMJHFBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical group 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 4
- SZCWBURCISJFEZ-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C(C)(C)CO SZCWBURCISJFEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CGXOAAMIQPDTPE-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-amine Chemical compound CN1C(C)(C)CC(N)CC1(C)C CGXOAAMIQPDTPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-dodecoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(O)=CC=2)O)=N1 FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RSUCJIJELNXPQI-UHFFFAOYSA-N [4-[[4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl]methyl]phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical class C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1CC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 RSUCJIJELNXPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VCYCUECVHJJFIQ-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(benzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 VCYCUECVHJJFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CETWDUZRCINIHU-UHFFFAOYSA-N 2-heptanol Chemical compound CCCCCC(C)O CETWDUZRCINIHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZKSECIXORKHQS-UHFFFAOYSA-N Heptan-3-ol Chemical compound CCCCC(O)CC RZKSECIXORKHQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- IAXXETNIOYFMLW-GYSYKLTISA-N [(1r,3r,4r)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@@]2(C)[C@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-GYSYKLTISA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 125000000853 cresyl group Chemical group C1(=CC=C(C=C1)C)* 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 2
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005704 oxymethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])O[*:1] 0.000 description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- NEXZVOLIDKSFBH-UHFFFAOYSA-N (1,1-diphenyl-2-phosphonooxyethyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(COP(O)(O)=O)(OC(=O)C(=C)C)C1=CC=CC=C1 NEXZVOLIDKSFBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRIOTLGRXFJRTJ-UHFFFAOYSA-N (1,1-diphenyl-2-phosphonooxyethyl) prop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(=O)C=C)(COP(O)(=O)O)C1=CC=CC=C1 YRIOTLGRXFJRTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAGVOJJKZPIRMS-UHFFFAOYSA-N (1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-3-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN1C(C)(C)CCC(OC(=O)C(C)=C)C1(C)C LAGVOJJKZPIRMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWPIOULNZLJZHU-UHFFFAOYSA-N (1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN1C(C)(C)CC(OC(=O)C(C)=C)CC1(C)C NWPIOULNZLJZHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEOSQBZZSQXYDO-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)ON1C(C)(C)CCCC1(C)C SEOSQBZZSQXYDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYPLZYIQAVZEDP-UHFFFAOYSA-N (2,6-dibromo-4-butylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC1=CC(Br)=C(OC(=O)C(C)=C)C(Br)=C1 QYPLZYIQAVZEDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRDYFMQRUKNGTP-UHFFFAOYSA-N (2,6-dibromo-4-butylphenyl) prop-2-enoate Chemical compound CCCCC1=CC(Br)=C(OC(=O)C=C)C(Br)=C1 JRDYFMQRUKNGTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPIZCXOIOINPNM-UHFFFAOYSA-N (2-ethenylcyclopropyl)benzene Chemical class C=CC1CC1C1=CC=CC=C1 OPIZCXOIOINPNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COC(=O)C=C ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYJIYUNJTKCRHL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC(=O)C=C YYJIYUNJTKCRHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKCNEIWFQCSCM-UHFFFAOYSA-N (2-methyl-4-phenylpent-4-en-2-yl)benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)CC(=C)C1=CC=CC=C1 ZOKCNEIWFQCSCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHVSZQDWMXYFRT-UHFFFAOYSA-N (3-butyloxetan-2-yl)methyl prop-2-enoate Chemical group C(C=C)(=O)OCC1OCC1CCCC QHVSZQDWMXYFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPROYXZQNOFAGV-UHFFFAOYSA-N (3-butyloxetan-3-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1(CCCC)COC1 XPROYXZQNOFAGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-2-hydroxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CCl DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POTYORUTRLSAGZ-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-2-hydroxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound ClCC(O)COC(=O)C=C POTYORUTRLSAGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSHKWPIEJYAPCL-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1(CC)COC1 RSHKWPIEJYAPCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYEYLPDXIYOCJK-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1(CC)COC1 PYEYLPDXIYOCJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLYZWJKNCZQGOJ-UHFFFAOYSA-N (3-hexyloxetan-3-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCC1(COC(=O)C(C)=C)COC1 OLYZWJKNCZQGOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKAURSXJEXKNFA-UHFFFAOYSA-N (3-hexyloxetan-3-yl)methyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCC1(COC(=O)C=C)COC1 CKAURSXJEXKNFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGILRHVKKLYKNE-UHFFFAOYSA-N (3-methyloxetan-3-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1(C)COC1 CGILRHVKKLYKNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQANLNZCIDSHKI-UHFFFAOYSA-N (3-methyloxetan-3-yl)methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1(C)COC1 LQANLNZCIDSHKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNBHNRXUAJVQE-UHFFFAOYSA-N (4-benzoyl-3-hydroxyphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound OC1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IMNBHNRXUAJVQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJWQJECMFUGUDV-UHFFFAOYSA-N (4-benzoyl-3-hydroxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound OC1=CC(OC(=O)C=C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 LJWQJECMFUGUDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- ULPMRIXXHGUZFA-UHFFFAOYSA-N (R)-4-Methyl-3-hexanone Natural products CCC(C)C(=O)CC ULPMRIXXHGUZFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUGXDEDGRPYWHG-UHFFFAOYSA-N (dimethylamino)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)COC(=O)C(C)=C UUGXDEDGRPYWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QERNPKXJOBLNFM-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentane Chemical compound CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F QERNPKXJOBLNFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(F)CF MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWHNXXMYEICZAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-ol Chemical compound CN1C(C)(C)CC(O)CC1(C)C NWHNXXMYEICZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(O)C(O)CO JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGRXUECZGSQQRL-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroxypropan-2-yloxy)-3-methoxypropan-2-ol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.COCC(O)COC(C)CO XGRXUECZGSQQRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHLWGJNVYHBNBV-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroxypropan-2-yloxy)-3-methoxypropan-2-ol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COCC(O)COC(C)CO UHLWGJNVYHBNBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQVRBCMAYYDFRP-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(1-hydroxypropan-2-yloxy)propan-2-yloxy]-3-methoxypropan-2-ol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.COCC(O)COC(C)COC(C)CO AQVRBCMAYYDFRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRSGFPUWHKVFJW-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(1-hydroxypropan-2-yloxy)propan-2-yloxy]-3-methoxypropan-2-ol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COCC(O)COC(C)COC(C)CO GRSGFPUWHKVFJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUPUTCOATBREJA-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-bis(2-methylprop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]-2-methylprop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)N1CN(C(=O)C(C)=C)CN(C(=O)C(C)=C)C1 IUPUTCOATBREJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=C(C=C)C=C1 WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUWHRGURWQOAMW-UHFFFAOYSA-N 1-butoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOC(O)COCCO DUWHRGURWQOAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOCWFZYXOMHKQJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CCOC(O)COCCO AOCWFZYXOMHKQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNIRVVPHSLTEP-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(O)COCCO OBNIRVVPHSLTEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- QTKPMCIBUROOGY-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)F QTKPMCIBUROOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBHXIMACZBQHPX-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)COC(=O)C=C VBHXIMACZBQHPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNJXRXXJPIFFAO-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F ZNJXRXXJPIFFAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSVZYSKAPMBSMY-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)C(F)F RSVZYSKAPMBSMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHJHZYSXJKREEE-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)C(F)(F)COC(=O)C=C VHJHZYSXJKREEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKNLMAXAQYNOQZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO XKNLMAXAQYNOQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMIZWXDKTUGEES-UHFFFAOYSA-N 2,2-di(cyclopenten-1-yloxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1CCCC=1OC(COC(=O)C(=C)C)OC1=CCCC1 JMIZWXDKTUGEES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBDUTFCZTZGGCC-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6-tribromophenoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1=C(Br)C=C(Br)C=C1Br UBDUTFCZTZGGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMBJXYFIMKHOQE-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6-tribromophenoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound BrC1=CC(Br)=C(OCCOC(=O)C=C)C(Br)=C1 AMBJXYFIMKHOQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOCCOC(=O)C=C FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUZOCQFKYXPSNM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethylhexyl)oxirane-2-carboxylic acid Chemical compound CCCCC(CC)CC1(C(O)=O)CO1 CUZOCQFKYXPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PITLEXLWAKFCAI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 PITLEXLWAKFCAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAMASUILMZETHW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 IAMASUILMZETHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCS)C(=O)C2=C1 UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERMTQDXDMQZIF-UHFFFAOYSA-N 2-(4-nonylphenoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(OCCOC(=O)C(C)=C)C=C1 CERMTQDXDMQZIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRDWUOXPTYBFFU-UHFFFAOYSA-N 2-(4-nonylphenoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(OCCOC(=O)C=C)C=C1 CRDWUOXPTYBFFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COORVRSSRBIIFJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]-1-methoxyethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(O)COCCOCCO COORVRSSRBIIFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFZBUNLOTDDXNY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)OCC(C)OC(=O)C(C)=C JFZBUNLOTDDXNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIOCEWASVZHBTK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-oxo-2-phenylacetyl)oxyethoxy]ethyl 2-oxo-2-phenylacetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FIOCEWASVZHBTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWDBMKZHFCSOOL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]propoxy]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)COC(C)COC(C)COC(=O)C(C)=C OWDBMKZHFCSOOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHCUUVLMXARGTH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propoxy]propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OC(=O)C=C OHCUUVLMXARGTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIVJXJNCTSUKAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]propoxy]propoxy]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OC(=O)C(C)=C BIVJXJNCTSUKAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLJFHOQFPSGZPC-UHFFFAOYSA-N 2-[2-hydroxy-5-(2-methylprop-2-enoyloxy)pentoxy]carbonylbenzoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCC(O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O VLJFHOQFPSGZPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLRIDXPGSFXPDT-UHFFFAOYSA-N 2-[3-hydroxy-4-(1,3,5-triazin-2-yl)phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound OC1=C(C=CC(=C1)OCCOC(C(=C)C)=O)C1=NC=NC=N1 KLRIDXPGSFXPDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTNKWKKYIJODNG-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-3-hydroxyphenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound OC1=CC(OCCOC(=O)C(=C)C)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 JTNKWKKYIJODNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZECXYPXVSNXCV-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-3-hydroxyphenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound Oc1cc(OCCOC(=O)C=C)ccc1-c1nc(nc(n1)-c1ccccc1)-c1ccccc1 JZECXYPXVSNXCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RABLPXGTMOYVMI-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4,6-bis(2-ethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-3-hydroxyphenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCc1ccccc1-c1nc(nc(n1)-c1ccccc1CC)-c1ccc(OCCOC(=O)C=C)cc1O RABLPXGTMOYVMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DULUGOJTGOGPGL-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4,6-bis(2-methoxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-3-hydroxyphenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound COc1ccccc1-c1nc(nc(n1)-c1ccccc1OC)-c1ccc(OCCOC(=O)C=C)cc1O DULUGOJTGOGPGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C=C PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNUGVECARVKIPH-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxypropane Chemical compound CC(C)OC=C GNUGVECARVKIPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JREKMQNEGCRTPI-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-3-phenyloxirane Chemical class C=CC1OC1C1=CC=CC=C1 JREKMQNEGCRTPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXYJVFYWCLAXHO-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C(C)=C YXYJVFYWCLAXHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKVUWTYSNLGBJY-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)N1CCOCC1 AKVUWTYSNLGBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQIGLEFUZMIVHU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C(C)=C YQIGLEFUZMIVHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVUFZLGLMCACRE-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-1,3-dioxepane Chemical compound C=C1OCCCCO1 AVUFZLGLMCACRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMADMUIDBVATJT-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enamide;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.CC(C)=O.CC(=C)C(N)=O JMADMUIDBVATJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMIAEABAUAFDPD-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid propanoic acid Chemical compound C(CC)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O.C(C(=C)C)(=O)O UMIAEABAUAFDPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZNJOQNLFEAKG-UHFFFAOYSA-N 2-morpholin-4-ylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN1CCOCC1 MNZNJOQNLFEAKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWNIMFWVBMOWHI-UHFFFAOYSA-N 2-morpholin-4-ylethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN1CCOCC1 HWNIMFWVBMOWHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(O)=O SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WUGOQZFPNUYUOO-UHFFFAOYSA-N 2-trimethylsilyloxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO[Si](C)(C)C WUGOQZFPNUYUOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQWCMLILJZDGQG-UHFFFAOYSA-N 2-trimethylsilyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C[Si](C)(C)OCCOC(=O)C=C RQWCMLILJZDGQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical class C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBZFBSFGXQBQTB-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F HBZFBSFGXQBQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWJCRUKUIQRCGP-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCCOC(=O)C(C)=C WWJCRUKUIQRCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFQHFMGRRVQFNA-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCCOC(=O)C=C UFQHFMGRRVQFNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 3-hexanone Chemical compound CCCC(=O)CC PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULYIFEQRRINMJQ-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C(C)=C ULYIFEQRRINMJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C=C ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRIZQBRESDQTOJ-UHFFFAOYSA-N 4,7-dimethyl-2-methylidene-1,3-dioxepane Chemical compound CC1CCC(C)OC(=C)O1 YRIZQBRESDQTOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNJWBNGKPHTQGG-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybutan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCC(C)OC(=O)C(C)=C DNJWBNGKPHTQGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCLIJRLAEQWUKH-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybutan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound COCCC(C)OC(=O)C=C CCLIJRLAEQWUKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLQGITSKRNWIOT-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylamino)furan-2-carbaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C=O)O1 ZLQGITSKRNWIOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCCC2OC21C=C XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGZUCVGMNQGGNA-UHFFFAOYSA-N 7-[5-(2-acetamidoethyl)-2-hydroxyphenyl]-3,5,6,8-tetrahydroxy-9,10-dioxoanthracene-1,2-dicarboxylic acid 7-[5-(2-amino-2-carboxyethyl)-2-hydroxyphenyl]-3,5,6,8-tetrahydroxy-9,10-dioxoanthracene-1,2-dicarboxylic acid 3,5,6,8-tetrahydroxy-7-[2-hydroxy-5-(2-hydroxyethyl)phenyl]-9,10-dioxoanthracene-1,2-dicarboxylic acid 3,6,8-trihydroxy-1-methyl-9,10-dioxoanthracene-2-carboxylic acid Chemical compound Cc1c(C(O)=O)c(O)cc2C(=O)c3cc(O)cc(O)c3C(=O)c12.OCCc1ccc(O)c(c1)-c1c(O)c(O)c2C(=O)c3cc(O)c(C(O)=O)c(C(O)=O)c3C(=O)c2c1O.CC(=O)NCCc1ccc(O)c(c1)-c1c(O)c(O)c2C(=O)c3cc(O)c(C(O)=O)c(C(O)=O)c3C(=O)c2c1O.NC(Cc1ccc(O)c(c1)-c1c(O)c(O)c2C(=O)c3cc(O)c(C(O)=O)c(C(O)=O)c3C(=O)c2c1O)C(O)=O NGZUCVGMNQGGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJVIKVWFGPLAFS-UHFFFAOYSA-N 9-(2-methylprop-2-enoyloxy)nonyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C YJVIKVWFGPLAFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enoyloxynonyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C=C PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N Bisphenol F Chemical class C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMFHIWANENBHDR-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)O.COC(COCCOCCO)O.C(C(=C)C)(=O)OCCOCCCC Chemical compound C(C(=C)C)(=O)O.COC(COCCOCCO)O.C(C(=C)C)(=O)OCCOCCCC FMFHIWANENBHDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Natural products CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSVDQVJQWXJJSS-UHFFFAOYSA-N [2,6-dibromo-4-[2-(3,5-dibromo-4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical class C=1C(Br)=C(OC(=O)C=C)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(OC(=O)C=C)C(Br)=C1 VSVDQVJQWXJJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGDVLRJIQHJYTK-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] benzoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C1=CC=CC=C1 RGDVLRJIQHJYTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHYQKYQCONBVIE-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C FHYQKYQCONBVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGSJXFMTUNHAQK-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] benzoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C1=CC=CC=C1 LGSJXFMTUNHAQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXRNWUYCCQFHIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C UXRNWUYCCQFHIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQHMGFSAURFQAF-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COC(=O)C(C)=C OQHMGFSAURFQAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUJXBUNMDOEWOG-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-[6-(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropoxy)hexoxy]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COCCCCCCOCC(O)COC(=O)C=C SUJXBUNMDOEWOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDOBUBKZCXYOTA-UHFFFAOYSA-N [3-[4-[4,6-bis(2-methylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-3-hydroxyphenoxy]-2-hydroxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=C(C=CC=C1)C1=NC(=NC(=N1)C1=C(C=CC=C1)C)C1=C(C=C(C=C1)OCC(COC(C=C)=O)O)O LDOBUBKZCXYOTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003435 aroyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- JTAQPVJHOOJLSP-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylprop-2-enoylperoxy)phosphoryl 2-methylprop-2-eneperoxoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OOP(=O)(OOC(=O)C(C)=C)OOC(=O)C(C)=C JTAQPVJHOOJLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXQUUSYNZQZROM-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enoylperoxy)phosphoryl prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOP(=O)(OOC(=O)C=C)OOC(=O)C=C YXQUUSYNZQZROM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- WRKRMDNAUJERQT-UHFFFAOYSA-N cumene hydroxyperoxide Chemical compound OOOO.CC(C)C1=CC=CC=C1 WRKRMDNAUJERQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical group C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- GTBGXKPAKVYEKJ-UHFFFAOYSA-N decyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GTBGXKPAKVYEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N decyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C=C FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQNSVANSEBPSMK-UHFFFAOYSA-N dicyclopentenyl methacrylate Chemical compound C12CC=CC2C2CC(OC(=O)C(=C)C)C1C2.C12C=CCC2C2CC(OC(=O)C(=C)C)C1C2 AQNSVANSEBPSMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004862 dioxolanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- IYNRVIKPUTZSOR-HWKANZROSA-N ethenyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC=C IYNRVIKPUTZSOR-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGBZOHMCHDADGY-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-ethylhexanoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OC=C IGBZOHMCHDADGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC=C FFYWKOUKJFCBAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N ethenyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC=C GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWFBNMYFYINAD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopropane Chemical class C=CC1CC1 YIWFBNMYFYINAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- USPLKTKSLPLUJG-UHFFFAOYSA-N hexan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(C)OC(=O)C(C)=C USPLKTKSLPLUJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LULWTBQRAIOSQN-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCO.C(C(=C)C)(=O)OCO LULWTBQRAIOSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZXXBDPXXIDUBP-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCO.C(C=C)(=O)OCO ZZXXBDPXXIDUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003392 indanyl group Chemical group C1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(2-methylphenoxy)-3-phenylpropyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.C=1C=CC=CC=1C(CCNC)OC1=CC=CC=C1C LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- ZZSKMNCIAKKVRB-UHFFFAOYSA-N morpholin-4-yl-(2-nitrophenyl)methanone Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C(=O)N1CCOCC1 ZZSKMNCIAKKVRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N n,n,2-trimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C(C)=C QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMCVCHBBHPFWBF-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C(C)=C JMCVCHBBHPFWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylprop-2-enamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C=C OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical compound N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- KUKFKAPJCRZILJ-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;prop-2-enoic acid Chemical compound C=CC#N.OC(=O)C=C KUKFKAPJCRZILJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- RSVDRWTUCMTKBV-UHFFFAOYSA-N sbb057044 Chemical compound C12CC=CC2C2CC(OCCOC(=O)C=C)C1C2 RSVDRWTUCMTKBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005329 tetralinyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) benzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C(C(=O)OCC=C)=C1 GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
本発明は、新規な樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、本発明の樹脂組成物は、防汚性、耐候性に優れた塗膜を形成し、例えば塗料やコーティング剤などの用途において、好適に使用することが可能である。 The present invention relates to a novel resin composition. More specifically, the resin composition of the present invention forms a coating film excellent in antifouling properties and weather resistance, and can be suitably used in applications such as paints and coating agents.
従来より、様々な物の表面を保護や、美観を付与、特殊な機能を付与することなどを目的として様々な塗料やコーティング剤が提案されている。近年では、屋外用途での需要が高まっており、耐候性、耐光性だけでなく美観維持のため防汚性なども重要になっている。 Conventionally, various paints and coating agents have been proposed for the purpose of protecting the surface of various objects, imparting aesthetics, and imparting special functions. In recent years, the demand for outdoor use is increasing, and not only weather resistance and light resistance, but also antifouling properties are important for maintaining beauty.
これまで、側鎖にポリジメチルシロキサン構造とエポキシ骨格とを有する共重合体からなる樹脂にアクリル酸変性し光反応性基を導入した樹脂からなる樹脂組成物および硬化膜について、耐候性について評価されているものの、塗膜の防汚性についての記述は明示されていない。(特許文献1) So far, weather resistance has been evaluated for resin compositions and cured films made of resins modified with acrylic acid and introduced with photoreactive groups into resins made of copolymers having a polydimethylsiloxane structure and an epoxy skeleton in the side chain. However, there is no description of the antifouling property of the coating film. (Patent Document 1)
一方、側鎖にポリジメチルシロキサン構造とエポキシ骨格とを有する共重合体からなる樹脂にアクリル酸変性し光反応性基を導入した樹脂からなる塗膜は、撥水性、撥油性、耐候性、耐汚染性等を有するという特徴がある(特許文献2) On the other hand, a coating film made of a resin comprising a copolymer having a polydimethylsiloxane structure and an epoxy skeleton in the side chain and modified with acrylic acid and introduced with a photoreactive group has a water repellency, oil repellency, weather resistance, It has the characteristic of having contamination etc. (patent document 2)
また、紫外線吸収剤骨格を持つモノマーとエポキシ骨格とを有する共重合体からなる樹脂にアクリル酸変性し光反応性基を導入した化合物に関する特許も報告されている。(特許文献3) Patents relating to compounds in which a photoreactive group is introduced by modifying acrylic resin into a resin comprising a copolymer having a monomer having an ultraviolet absorber skeleton and an epoxy skeleton have also been reported. (Patent Document 3)
上記の特許が示すように、樹脂骨格中に架橋性基を導入することで塗膜作成時のエネルギーにより硬化することで耐候性や防汚性を発現していることを特徴としている。 As shown in the above-mentioned patent, it is characterized in that weather resistance and antifouling properties are expressed by curing with energy at the time of preparing a coating film by introducing a crosslinkable group into the resin skeleton.
本発明はポリシロキサン骨格、エポキシ骨格、およびベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造を含む共重合体にラジカル重合性二重結合を有していなくとも、より高い耐汚染性と耐候性の両立が可能な塗膜を提供することを目的とする。 The present invention has a radically polymerizable double bond in a copolymer containing at least one ultraviolet absorbing structure selected from the group consisting of a polysiloxane skeleton, an epoxy skeleton, and a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group. Even if it does not, it aims at providing the coating film which can make higher pollution resistance and weather resistance compatible.
本発明者らは、鋭意検討の結果、重合成分として、エポキシ基を含有する(メタ)アクリレートと、ポリシロキサンモノ(メタ)アクリレートを含み、ベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造(c)を有する樹脂を、樹脂組成物としてコーティングすることにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies, the inventors of the present invention include (meth) acrylate containing an epoxy group and polysiloxane mono (meth) acrylate as polymerization components, and the group consisting of a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group. It has been found that the above-mentioned problems can be solved by coating a resin having at least one selected ultraviolet-absorbing structure (c) as a resin composition, and the present invention has been completed.
本発明は、樹脂(A)、活性エネルギー線硬化性化合物(B)、および液状媒体(C)を含有する樹脂組成物であって、
樹脂(A)が、エポキシ基を含有する構造単位(a)、ポリシロキサンを有する構造単位(b)、並びにベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造(c)を有する樹脂(A)であることを特徴とする樹脂組成物に関する。
The present invention is a resin composition containing a resin (A), an active energy ray-curable compound (B), and a liquid medium (C),
The resin (A) has at least one ultraviolet absorbing property selected from the group consisting of a structural unit (a) containing an epoxy group, a structural unit (b) having a polysiloxane, and a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group. It is related with the resin composition characterized by being resin (A) which has a structure (c).
また本発明は、樹脂(A)が、一般式(1)で表されるピペリジル構造(d)を含むことを特徴とする上記記載の樹脂組成物に関する。
一般式(1)
(一般式(1)中、R1は水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜12のアラルキル基、アシル基、オキシラジカル基、またはOR4を表し、R4は、水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜12のアラルキル基、またはアシル基を表し、R2、及び、R3はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、またはフェニル基を示す。「*」は結合手であることを示す。)
Moreover, this invention relates to the said resin composition characterized by the resin (A) containing the piperidyl structure (d) represented by General formula (1).
General formula (1)
(In General Formula (1), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an acyl group, an oxy radical group, or OR. 4 and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, or an acyl group, and R 2 and R 3 each independently represents a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group, and “*” represents a bond.)
また本発明は、樹脂(A)が、一般式(2)で表される構造単位を含むことを特徴とする上記記載の樹脂組成物に関する。
一般式(2)
(一般式(2)中、R5はHまたはCH3を表し、Aは炭素数1〜8のアルキレンオキシ基、−(CH2CH2−O−)m−、−O−CH2CH(−OH)−CH2−R6−、または−O−CH2CH(CH2OH)−R6−を表し、mは2〜5の整数であり、R6は、−NH−、基または、−O−であり、 Xはベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造(c)または一般式(1)で表されるピペリジル構造(d)である。)
Moreover, this invention relates to the said resin composition characterized by the resin (A) containing the structural unit represented by General formula (2).
General formula (2)
(In General Formula (2), R 5 represents H or CH 3 , A represents an alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms, — (CH 2 CH 2 —O—) m —, —O—CH 2 CH ( -OH) -CH 2 -R 6 -, or -O-CH 2 CH (CH 2 OH) -R 6 - represents, m is an integer from 2 to 5, R 6 are, -NH-, group or -O-, and X is at least one ultraviolet absorbing structure (c) selected from the group consisting of a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group, or a piperidyl structure (d) represented by the general formula (1) .)
また本発明は、一般式(2)中のAが、−O−CH2CH(−OH)−CH2−R6−、または−O−CH2CH(CH2OH)−R6−であることを特徴とする、上記記載の樹脂組成物に関する The present invention, A in the general formula (2) is, -O-CH 2 CH (-OH ) -CH 2 -R 6 -, or -O-CH 2 CH (CH 2 OH) -R 6 - in The present invention relates to the resin composition as described above,
また本発明は、活性エネルギー線硬化性樹脂(B)が、ウレタンアクリレートもしくはアクリルアクリレートである上記記載の樹脂組成物に関する。 The present invention also relates to the resin composition as described above, wherein the active energy ray-curable resin (B) is urethane acrylate or acrylic acrylate.
液状媒体(C)の相対蒸発速度が、50〜180である上記記載の樹脂組成物に関する。 It is related with the said resin composition whose relative evaporation rate of a liquid medium (C) is 50-180.
また本発明は、上記記載の樹脂組成物から形成された樹脂層とを有するコーティングシートに関する。 Moreover, this invention relates to the coating sheet which has a resin layer formed from the said resin composition.
本発明の樹脂をコーティング剤用の組成物に使用することにより、高い耐候性および高い防汚性を両立した極めて優れた塗膜を提供することができる。 By using the resin of the present invention in a composition for a coating agent, it is possible to provide an extremely excellent coating film that achieves both high weather resistance and high antifouling properties.
なお、本願では、「(メタ)アクリロイル」、「(メタ)アクリル」、「(メタ)アクリル酸」、「(メタ)アクリレート」、及び「(メタ)アクリロイルオキシ」と表記した場合には、特に説明がない限り、それぞれ、「アクリロイル及び/又はメタクリロイル」、「アクリル及び/又はメタクリル」、「アクリル酸及び/又はメタクリル酸」、「アクリレート及び/又はメタクリレート」、及び「アクリロイルオキシ及び/又はメタクリロイルオキシ」を表すものとする。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、樹脂組成物と記載する場合がある。 In the present application, when “(meth) acryloyl”, “(meth) acryl”, “(meth) acrylic acid”, “(meth) acrylate”, and “(meth) acryloyloxy” are particularly expressed, Unless otherwise stated, “acryloyl and / or methacryloyl”, “acrylic and / or methacrylic”, “acrylic acid and / or methacrylic acid”, “acrylate and / or methacrylate”, and “acryloyloxy and / or methacryloyloxy”, respectively. ". The active energy ray-curable resin composition may be described as a resin composition.
<樹脂(A)>
樹脂(A)は、ポリシロキサンを含有する構成単位、エポキシ基を含有する構成単位、ならびに、ベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造を含有する樹脂である。樹脂骨格中にポリシロキサン構造を有する構成単位を含むことで、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗工し塗膜形成する際に、塗膜の表面へ共重合している紫外線吸収剤構造および、ポリシロキサン構造が偏在することによって、塗膜の耐汚染性と耐候性を両立することが可能となる。
また、樹脂(A)中にエポキシ基を有する構成単位が存在することで、親水的なエポキシ基と疎水的なポリシロキサンユニットおよびベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造とが親−疎水相互作用により反発することで、ポリシロキサンユニットを含有する樹脂(A)が塗工後の塗膜の最表面に浮きやすくなるため、耐汚染性および耐候性がより向上する。
<Resin (A)>
The resin (A) contains a structural unit containing polysiloxane, a structural unit containing an epoxy group, and at least one ultraviolet absorbing structure selected from the group consisting of a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group. Resin. By including a structural unit having a polysiloxane structure in the resin skeleton, when an active energy ray-curable resin composition is applied to form a coating film, an ultraviolet absorber structure copolymerized on the surface of the coating film and When the polysiloxane structure is unevenly distributed, both the stain resistance and the weather resistance of the coating film can be achieved.
Further, since the structural unit having an epoxy group is present in the resin (A), at least selected from the group consisting of a hydrophilic epoxy group, a hydrophobic polysiloxane unit, a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group. Resin (A) containing a polysiloxane unit is likely to float on the outermost surface of the coating film after coating due to repulsion with one UV-absorbing structure due to the hydrophilic-hydrophobic interaction. More improved.
樹脂(A)を構成するために用いられる、エポキシ基を含有するモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、α―エチル(メタ)アクリル酸グリシジル、α−n―プロピル(メタ)アクリル酸グリシジル、α−n―ブチル(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸−3,4−エポキシブチル、(メタ)アクリル酸−4,5−エポキシペンチル、(メタ)アクリル酸−3,4−エポキシブチル、(メタ)アクリル酸−6,7−エポキシペンチル、α−エチル(メタ)アクリル酸−6,7−エポキシペンチル、β―メチルグリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸−3,4−エポキシシクロヘキシル、ラクトン変性(メタ)アクリル酸−3,4―エポキシシクロヘキシル、ビニルシクロヘキセンオキシド等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上併用しても良い。好ましくは、エポキシ基を含有する(メタ)アクリレートであり、入手しやすさの観点から(メタ)アクリル酸グリシジルが好ましい。 Examples of the monomer containing an epoxy group used for constituting the resin (A) include glycidyl (meth) acrylate, glycidyl α-ethyl (meth) acrylate, α-n-propyl (meth) acrylic acid. Glycidyl, glycidyl α-n-butyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-3,4-epoxybutyl, (meth) acrylic acid-4,5-epoxypentyl, (meth) acrylic acid-3,4- Epoxy butyl, (meth) acrylic acid-6,7-epoxypentyl, α-ethyl (meth) acrylic acid-6,7-epoxypentyl, β-methylglycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-3,4 -Epoxycyclohexyl, lactone-modified (meth) acrylic acid-3,4-epoxycyclohexyl, vinylcyclohexene oxide, etc. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Preferably, it is a (meth) acrylate containing an epoxy group, and glycidyl (meth) acrylate is preferable from the viewpoint of availability.
エポキシ基を含有するモノマーの存在により、樹脂(A)が塗工後の塗膜において、塗膜の最表面に偏在し、得られる樹脂組成物からなる塗膜の最表面に耐汚染性や耐候性が付与される。 Due to the presence of the epoxy group-containing monomer, the resin (A) is unevenly distributed on the outermost surface of the coating film in the coated film, and the outermost surface of the coating film made of the resulting resin composition is resistant to contamination and weathering. Sex is imparted.
エポキシ基含有モノマーは、モノマー100重量%中、30〜90重量%含有することが望ましく、50〜80重量%がより好ましく、60〜75重量%が特に好ましい。
上記好ましい範囲をエポキシ基の当量で示すと、150〜500が好ましく、180〜300がより好ましく、190〜250が特に好ましい。
The epoxy group-containing monomer is desirably contained in an amount of 30 to 90% by weight, more preferably 50 to 80% by weight, and particularly preferably 60 to 75% by weight in 100% by weight of the monomer.
When the said preferable range is shown by the equivalent of an epoxy group, 150-500 are preferable, 180-300 are more preferable, 190-250 are especially preferable.
(エポキシ当量)
エポキシ当量は「1当量のエポキシ基を含む樹脂の質量」として示され、本明細書では下記式のより算出した。
[エポキシ当量]= [全仕込モノマー質量(g) + 開始剤の質量 (g)]/ [エポキシ基を持つモノマーのモル数(mol)]
(Epoxy equivalent)
The epoxy equivalent is shown as “mass of resin containing 1 equivalent of an epoxy group”, and was calculated from the following formula in this specification.
[Epoxy equivalent] = [Total charged monomer mass (g) + Initiator mass (g)] / [Mole number of monomer having epoxy group (mol)]
樹脂(A)を構成するために用いられる、ポリシロキサンモノ(メタ)アクリレートとしては、1分子中に1つの(メタ)アクリロイル基と、オルガノポリシロキサン単位を有しするものであれば特に限定されないが、下記一般式(1)で表される化合物が、入手性、製造コストや性能の面から好ましい。 The polysiloxane mono (meth) acrylate used for constituting the resin (A) is not particularly limited as long as it has one (meth) acryloyl group and an organopolysiloxane unit in one molecule. However, the compound represented by the following general formula (1) is preferable in terms of availability, production cost, and performance.
一般式(3)
(一般式(3)中、R7は水素原子、またはメチル基であり、R8〜R11はそれぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基であり、R12は、炭素数1〜4のアルキル基、水酸基、アルコキシ基、または水素原子であり、L1は、置換または無置換の、直鎖アルキレン基、分岐アルキレン基、シクロアルキレン基、またはアリーレン基であり、nは1〜300の整数である。)
General formula (3)
(In General Formula (3), R 7 is a hydrogen atom or a methyl group, R 8 to R 11 are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 12 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. An alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, or a hydrogen atom, L 1 is a substituted or unsubstituted linear alkylene group, branched alkylene group, cycloalkylene group, or arylene group, and n is 1 to 300. (It is an integer.)
一般式(3)における、R8〜R11の炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、ターシャリブチル基、イソブチル基、または、セカンダリーブチル基が挙げられる。 As the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms of R 8 to R 11 in the general formula (3), a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, a tertiary butyl group, an isobutyl group, or A secondary butyl group is mentioned.
一般式(3)におけるL1である置換または無置換の、直鎖アルキレン基、分岐アルキレン基、またはシクロアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン、または、1,2−シクロヘキセン基、1,3−シクロヘキセン基、1,4−シクロヘキセン基、2−メチルプロペン基等が挙げられる。 Examples of the substituted or unsubstituted linear alkylene group, branched alkylene group, or cycloalkylene group represented by L 1 in the general formula (3) include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a trimethylene group, and a tetramethylene group. , Hexamethylene group, octamethylene, 1,2-cyclohexene group, 1,3-cyclohexene group, 1,4-cyclohexene group, 2-methylpropene group and the like.
一般式(3)におけるL1である置換または無置換のアリーレン基としてはフェニレン基、ノニルフェニレン基、または、パラクミルフェニレン基等が挙げられる。 Examples of the substituted or unsubstituted arylene group as L 1 in the general formula (3) include a phenylene group, a nonylphenylene group, and a paracumylphenylene group.
ポリシロキサンモノ(メタ)アクリレートの存在により、得られる樹脂組成物塗膜の表面に耐汚染性や繰返し耐汚染性が付与される。 Due to the presence of the polysiloxane mono (meth) acrylate, the surface of the resulting resin composition coating film is imparted with stain resistance and repeated stain resistance.
一般式(3)で示されるポリシロキサンモノ(メタ)アクリレートにおける、好ましいnの範囲としては、n=5〜200であり、好ましくはn=5〜170であり、さらに好ましくはn=30〜100である。上記範囲内であると、耐汚染性に優れる。 In the polysiloxane mono (meth) acrylate represented by the general formula (3), a preferable range of n is n = 5 to 200, preferably n = 5 to 170, and more preferably n = 30 to 100. It is. Within the above range, the stain resistance is excellent.
一般式(3)で示されるポリシロキサンモノ(メタ)アクリレートとしては、商品名「X−22−174DX」(信越シリコーン社製)「X−22−2426」(信越シリコーン社製)、商品名「X−22−174ASX」(信越シリコーン社製)、商品名「サイラプレーンFM−0721」(JNC(株)社製)、商品名「サイラプレーンFM−0711」(JNC(株)社製)、商品名「サイラプレーンFM−0725」(JNC(株)社製)等として容易に入手することが出来る。また、これらのモノマーを単独で用いても、複数混合してもよい。 As polysiloxane mono (meth) acrylate represented by the general formula (3), trade names “X-22-174DX” (manufactured by Shin-Etsu Silicone) “X-22-2426” (manufactured by Shin-Etsu Silicone), trade names “ X-22-174ASX "(manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), trade name" Silaplane FM-0721 "(manufactured by JNC Corporation), trade name" Silaplane FM-0711 "(manufactured by JNC Corporation), commodity It can be easily obtained under the name “Silaplane FM-0725” (manufactured by JNC Corporation). These monomers may be used alone or in combination.
ポリシロキサンモノ(メタ)アクリレートは、モノマー100重量%中、1〜70重量%含有することが好ましく、3〜50重量%がより好ましく、5〜30重量%が特に好ましい。 The polysiloxane mono (meth) acrylate is preferably contained in an amount of 1 to 70% by weight, more preferably 3 to 50% by weight, and particularly preferably 5 to 30% by weight in 100% by weight of the monomer.
樹脂(A)を構成するために用いられる、紫外線吸収性構造(c)は、ベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基およびトリアジン基からなる群より少なくとも1つ選ばれる構造である。 The ultraviolet absorbing structure (c) used for constituting the resin (A) is a structure selected from at least one selected from the group consisting of a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group.
具体的に樹脂(A)を構成するために、紫外線吸収性構造(c)を導入する方法としては、樹脂(A)に共重合したエポキシ基を含有する(メタ)アクリレートのエポキシ置と、反応し得る置換基を持つ紫外線吸収性構造(c)含有化合物との付加反応によって形成すること、もしくは、紫外線吸収性構造を有するエチレン性不飽和単量体が挙げられる。好ましくは、樹脂(A)に共重合したエポキシ基を含有する(メタ)アクリレートのエポキシ基と、反応し得る置換基を持つ紫外線吸収性構造(c)含有化合物との付加反応によって形成する方法である。 Specifically, in order to construct the resin (A), the ultraviolet absorbing structure (c) is introduced by the reaction of an epoxy group of (meth) acrylate containing an epoxy group copolymerized with the resin (A), and reaction. And an ethylenically unsaturated monomer having a UV-absorbing structure, or an addition reaction with a compound having a UV-absorbing structure (c) having a substituent. Preferably, it is a method of forming by an addition reaction between an epoxy group of (meth) acrylate containing an epoxy group copolymerized with resin (A) and a compound containing an ultraviolet absorbing structure (c) having a reactive substituent. is there.
好ましい理由としては、付加反応によって一般式(2)で示される構造を形成することにより、樹脂(A)の主鎖と紫外線吸収性構造(c)との間に水酸基が導入されることになる。それにより、樹脂側鎖に親水性置換基が導入され、樹脂(A)を構成する、疎水性ユニットであるポリシロキサンモノ(メタ)アクリレートや紫外線吸収性構造(c)との間で親水−疎水相互作用が働く事により塗膜形成時に塗膜再表面の空気界面に疎水成分が偏在しやすくなることで、高い防汚性および耐候性が両立できることが推察される。 As a preferable reason, a hydroxyl group is introduced between the main chain of the resin (A) and the ultraviolet absorbing structure (c) by forming a structure represented by the general formula (2) by an addition reaction. . Thereby, a hydrophilic substituent is introduced into the resin side chain, and hydrophilicity-hydrophobicity between the polysiloxane mono (meth) acrylate and the ultraviolet absorbing structure (c) which are the hydrophobic units constituting the resin (A). It is presumed that high antifouling properties and weather resistance can be achieved by the interaction between the hydrophobic components that are likely to be unevenly distributed at the air interface on the resurface of the coating film when the coating film is formed.
樹脂(A)に共重合したエポキシ基を含有する(メタ)アクリレートのエポキシ基と、反応し得る置換基を持つピペリジル構造含有化合部との付加反応の具体的な導入方法としては、樹脂(A)に共重合したエポキシ基を含有する(メタ)アクリレートのエポキシ置換基とアミノ基、水酸基、もしくは酸基を有する紫外線吸収性構造(c)を持つ化合物の反応である。また詳細は参考文献1記載の方法によって合成することが可能であり特に条件は限定するものではない。このようにして得られた付加反応生成物は一般式(2)で示される構造を含む。 As a specific introduction method of the addition reaction between the epoxy group of (meth) acrylate containing an epoxy group copolymerized with the resin (A) and the piperidyl structure-containing compound having a reactive substituent, a resin (A ) Is a reaction of a compound having an ultraviolet-absorbing structure (c) having an amino group, a hydroxyl group, or an acid group with an epoxy substituent of (meth) acrylate containing an epoxy group copolymerized with (a). The details can be synthesized by the method described in Reference 1, and the conditions are not particularly limited. The addition reaction product thus obtained contains a structure represented by the general formula (2).
参考文献1
『架橋反応ハンドブック 中山薙晴著 丸善出版』
Reference 1
"Cross-linking reaction handbook by Masaharu Nakayama Maruzen Publishing"
一般式(2)
(一般式(2)中、R5はHまたはメチル基を表し、Aは炭素数1〜8のアルキレンオキシ基、−(−CH2CH2−O−)m、−O−CH2CH(−OH)−CH2−R6−、または−O−CH2CH(CH2OH)−R6−を表し、mは2〜5の整数であり、R5は、−NH−、基または、−O−であり、 Xは、ベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造(c)または一般式(1)で表されるピペリジル構造(d)である。)
General formula (2)
(In General Formula (2), R 5 represents H or a methyl group, A represents an alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms, — (— CH 2 CH 2 —O—) m , —O—CH 2 CH ( -OH) -CH 2 -R 6 -, or -O-CH 2 CH (CH 2 OH) -R 6 - represents, m is an integer from 2 to 5, R 5 is, -NH-, group or , -O-, and X is at least one ultraviolet absorbing structure (c) selected from the group consisting of a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group, or a piperidyl structure (d) represented by the general formula (1) ).)
一般式(2) 中におけるAの炭素数1〜8のアルキレンオキシ基としては、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブテン基、オキシペンテン基、オキシヘプテン基、オキシオクテン基が挙げられる。 Examples of the alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms of A in the general formula (2) include an oxymethylene group, an oxyethylene group, an oxypropylene group, an oxybutene group, an oxypentene group, an oxyheptene group, and an oxyoctene group.
樹脂(A)に共重合したエポキシ基を含有する(メタ)アクリレートのエポキシ置換基とアミノ基、または水酸基を有する紫外線吸収性構造(c)を持つ化合物との反応が好ましく、Aは、−O−CH2CH(−OH)−CH2−R6−、または−O−CH2CH(CH2OH)−R6−であることが好ましい。 A reaction between the epoxy substituent of (meth) acrylate containing an epoxy group copolymerized with the resin (A) and a compound having an ultraviolet-absorbing structure (c) having an amino group or a hydroxyl group is preferred, and A is —O It is preferably —CH 2 CH (—OH) —CH 2 —R 6 — or —O—CH 2 CH (CH 2 OH) —R 6 —.
アミノ基、水酸基、もしくは酸基を有する紫外線吸収性構造(c)を持つ化合物の具体例としては、
2‐[4,6‐ビス(2,4‐ジメチルフェニル)‐1,3,5‐トリアジン‐2‐イル]‐5‐[3‐(ドデシロキシ)‐2‐ヒドロキシプロピル]フェニル(BASF社製「TINUVIN400」)、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンと(2−エチルヘキシル)−グリシド酸エステルの反応生成物(BASF社製「TINUVIN405」)等の紫外線吸収性構造とアミノ基、水酸基、および、酸基が含有している化合物であれば特に限定しない。
Specific examples of the compound having an ultraviolet-absorbing structure (c) having an amino group, a hydroxyl group, or an acid group include
2- [4,6-Bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl] -5- [3- (dodecyloxy) -2-hydroxypropyl] phenyl (manufactured by BASF TINUVIN 400 "), 2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6-bis- (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and (2-ethylhexyl) -glycidic acid ester There is no particular limitation as long as it is a compound containing an ultraviolet absorbing structure such as a product (“TINUVIN405” manufactured by BASF) and an amino group, a hydroxyl group, and an acid group.
より具体的には、下記一般式(4)の重合性ベンゾトリアゾール化合物、下記一般式(5)の重合性ベンゾトリアジン化合物、下記一般式(6)の重合性ベンゾフェノン化合物等が挙げられる。 More specifically, a polymerizable benzotriazole compound of the following general formula (4), a polymerizable benzotriazine compound of the following general formula (5), a polymerizable benzophenone compound of the following general formula (6), and the like can be given.
一般式(4)
(一般式(4)中、Zは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、アラルキル基、炭素数1〜6のアルコキシル基またはハロゲン原子、R13は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基及び環状アルキル基、クミル基または炭素数1〜4のアルコキシ基、R14は水素原子またはメチル基、Bは炭素数1〜8のアルキレンオキシ基 を示す。)
General formula (4)
(In General Formula (4), Z is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms or a halogen atom, R 13 is a hydrogen atom, and 1 to 3 carbon atoms. 8 alkyl groups and cyclic alkyl groups, cumyl groups or alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, R 14 represents a hydrogen atom or a methyl group, and B represents an alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)
一般式(4)中におけるZの炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ノルマルプロピル基、ターシャリブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ノルマルペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms of Z in the general formula (4) include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, normal propyl group, tertiary butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, and normal pentyl. Group, isopentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, and isohexyl group.
一般式(4)中におけるZのアリール基としては、単環又は多環のアリール基を意味し、多環アリール基の場合は、完全不飽和環に加え、部分飽和環を有する基も包含する。具体的には、フェニル基、ナフチル基、アズレニル基、インデニル基、インダニル基、テトラリニル基等が挙げられ、炭素数6〜10のアリール基が好ましい。 The aryl group of Z in the general formula (4) means a monocyclic or polycyclic aryl group. In the case of a polycyclic aryl group, a group having a partially saturated ring in addition to a fully unsaturated ring is also included. . Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an azulenyl group, an indenyl group, an indanyl group, a tetralinyl group, and the like, and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is preferable.
一般式(4)中におけるZのアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル等の炭素原子数7〜10のアラルキル基が挙げられる。 Examples of the aralkyl group of Z in the general formula (4) include aralkyl groups having 7 to 10 carbon atoms such as benzyl group and phenethyl.
一般式(4)中におけるZの炭素数1〜6のアルコキシル基としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基等が挙げられる。 Specific examples of the alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms of Z in the general formula (4) include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, t- And a butoxy group.
一般式(4)中におけるR13の炭素数1〜8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ノルマルプロピル基、ターシャリブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ノルマルペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基が挙げられる。 As the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms of R 13 in the general formula (4), methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, normal propyl group, tertiary butyl group, isobutyl group, secondary butyl group, normal Examples include a pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, an n-hexyl group, an isohexyl group, a heptyl group, and an octyl group.
一般式(4)中におけるR13の環状アルキル基としては、炭素数3〜8のシクロアルキル基であり、具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。 The cyclic alkyl group represented by R 13 in the general formula (4) is a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and specifically includes a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloheptyl group. Group, cyclooctyl group and the like.
一般式(4)中におけるR13の炭素数1〜4のアルコキシ基としては、前述の一般式(4)におけるZに記載の炭素数1〜6のアルコキシ基と同義である。 The alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms of R 13 in the general formula (4) has the same meaning as the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms described in Z in the general formula (4).
一般式(4)中におけるBの炭素数1〜8のアルキレンオキシ基としては、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブテン基、オキシペンテン基、オキシヘプテン基、オキシオクテン基が挙げられる。 Examples of the alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms of B in the general formula (4) include an oxymethylene group, an oxyethylene group, an oxypropylene group, an oxybutene group, an oxypentene group, an oxyheptene group, and an oxyoctene group.
一般式(5)
一般式(5)中、R15,R16,R17は、同一または異なり水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルコキシル基、R18は水素原子またはメチル基、−E− は炭素数1〜8のアルキレンオキシ基、−(−CH2CH2−O−)p−で示されp が2〜5である基、−CH2CH(−OH)−CH2−O−)を示す。) In the general formula (5), R 15 , R 16 and R 17 are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 18 represents a hydrogen atom or a methyl group. , -E- alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms, - (- CH 2 CH 2 -O-) indicated by p-p is 2 to 5 groups, -CH 2 CH (-OH) -CH 2- O-). )
一般式(5)中におけるR15,R16,R17の炭素数1〜6のアルキル基としては、一般式(4)におけるZの炭素数1〜6のアルキル基と同義である。 The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms of R 15 , R 16 and R 17 in the general formula (5) has the same definition as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in Z in the general formula (4).
一般式(5)中におけるR15,R16,R17の炭素数1〜6のアルコキシル基としては、一般式(4)におけるZの炭素数1〜6のアルコキシル基と同義である。 The alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms of R 15 , R 16 and R 17 in the general formula (5) has the same meaning as the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the general formula (4).
一般式(5)中におけるEの炭素数1〜8のアルキレンオキシ基としては、一般式(4) 中におけるBの炭素数1〜8のアルキレンオキシ基と同義である。 The alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms in E in the general formula (5) has the same meaning as the alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms in B in the general formula (4).
一般式(6)
(一般式(6)中、R19は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルコキシル基、R20は水素原子またはメチル基、−F−は炭素数1〜8のアルキレンオキシ基、−(CH2CH2−O−)r−で示されrが2〜5である基、−CH2CH(−OH)−CH2O)−を示す。)
General formula (6)
(In General Formula (6), R 19 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 20 is a hydrogen atom or a methyl group, and -F- is 1 carbon atom. An alkyleneoxy group of ˜8, a group represented by — (CH 2 CH 2 —O—) r—, wherein r is 2 to 5, and —CH 2 CH (—OH) —CH 2 O) —. )
一般式(6)中における−R19の炭素数1〜6のアルキル基としては、一般式(4)におけるZの炭素数1〜6のアルキル基と同義である。 The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms of —R 19 in the general formula (6) has the same meaning as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms of Z in the general formula (4).
一般式(6)中における−R19の炭素数1〜6のアルコキシル基としては、一般式(4)におけるZの炭素数1〜6のアルコキシル基と同義である。 The alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms of —R 19 in the general formula (6) has the same meaning as the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms of Z in the general formula (4).
一般式(6)中におけるFの炭素数1〜8のアルキレンオキシ基としては、一般式(4) 中におけるFの炭素数1〜8のアルキレンオキシ基と同義である。 The alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms in F in the general formula (6) has the same meaning as the alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms in F in the general formula (4).
一般式(4)の重合性ベンゾトリアゾール化合物の具体例としては、例えば、2−(2 ’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’ −ヒドロキシ−5 ’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフェニル)−5−クロロ−2 H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2− (2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5 ’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。 Specific examples of the polymerizable benzotriazole compound of the general formula (4) include, for example, 2- (2′-hydroxy-5 ′-(meth) acryloyloxyethylphenyl) -2H-benzotriazole, 2- (2′- Hydroxy-5 '-(meth) acryloyloxyethylphenyl) -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-(meth) acryloyloxypropylphenyl) -2H-benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5 '-(meth) acryloyloxypropylphenyl) -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-(meth) acryloyl Oxyethylphenyl) -2H-benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-tert- Chill -5 '- (meth) acryloyloxyethyl phenyl) -5-chloro -2H- it can be mentioned benzotriazole.
一般式(5)の重合性トリアジン化合物の具体例としては、例えば、2,4−ジフェニル−6−[2−ヒドロキシ−4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]−s−トリアジン、2,4−ビス(2−メチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−s−トリアジン、2,4−ビス(2−メトキシフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]−s−トリアジン、2,4−ビス(2−エチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]−s−トリアジン、2,4−ビス(2−エトキシフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(2 −アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]−s−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−[2−ヒドロキシ−4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ)フェニル]−s−トリアジン、2,4−ビス(2−メチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ)フェニル]−s−トリアジン等を挙げることができる。 Specific examples of the polymerizable triazine compound of the general formula (5) include 2,4-diphenyl-6- [2-hydroxy-4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] -s-triazine, 2,4 -Bis (2-methylphenyl) -6- [2-hydroxy-4- (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) phenyl] -s-triazine, 2,4-bis (2-methoxyphenyl) -6 -[2-Hydroxy-4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] -s-triazine, 2,4-bis (2-ethylphenyl) -6- [2-hydroxy-4- (2-acryloyloxyethoxy) Phenyl] -s-triazine, 2,4-bis (2-ethoxyphenyl) -6- [2-hydroxy-4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl Enyl] -s-triazine, 2,4-diphenyl-6- [2-hydroxy-4- (2-methacryloyloxyethoxy) phenyl] -s-triazine, 2,4-bis (2-methylphenyl) -6 And [2-hydroxy-4- (2-methacryloyloxyethoxy) phenyl] -s-triazine.
一般式(6)の重合性ベンゾフェノン化合物の具体例としては、2−ヒドロキシ−4−アクリロイルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メタクリロイルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(2−アクリロイルオキシ)エトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(2−メタクリロイルオキシ)エトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(2−メチル−2−アクリロイルオキシ)エトキシベンゾフェノン等を挙げることができる。 Specific examples of the polymerizable benzophenone compound of the general formula (6) include 2-hydroxy-4-acryloyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methacryloyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4- (2-acryloyloxy) ethoxybenzophenone. 2-hydroxy-4- (2-methacryloyloxy) ethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4- (2-methyl-2-acryloyloxy) ethoxybenzophenone, and the like.
紫外線吸収性基含有不飽和単量体は、これらのうちのいずれかを単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 Any of these UV-absorbing group-containing unsaturated monomers may be used alone, or two or more of them may be used in combination.
紫外線吸収性構造(c)を有する化合物は、樹脂(A)中の固形分に対して、1重量%〜5重量%含有することが好ましく、さらに1重量%〜3重量%含有することが好ましい。 The compound having the ultraviolet absorbing structure (c) is preferably contained in an amount of 1 to 5% by weight, more preferably 1 to 3% by weight, based on the solid content in the resin (A). .
樹脂(A)は更に、一般式(1)で表されるピペリジル構造(d)を含むことができる。 The resin (A) can further contain a piperidyl structure (d) represented by the general formula (1).
一般式(1)
(一般式(1)中、R1は水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜12のアラルキル基、アシル基、オキシラジカル基、またはOR4を表し、R4は、水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜12のアラルキル基、またはアシル基を表し、R2、及び、R3はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、またはフェニル基を示す。「*」は結合手であることを示す。)
General formula (1)
(In General Formula (1), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an acyl group, an oxy radical group, or OR. 4 and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, or an acyl group, and R 2 and R 3 each independently represents a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group, and “*” represents a bond.)
上記、一般式(1)において、R1及びR4の炭素数1〜18のアルキル基としては、直
鎖状、分岐状、環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、n―ブチル基、t―ブチル基、n―ヘキシル基、シクロヘキシル基、n―オクチル基、ヘキサデシル基等を挙げることが出来る。
In the general formula (1), examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms of R 1 and R 4 include linear, branched, and cyclic alkyl groups. Group, normal propyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, hexadecyl group and the like.
また、上記一般式(1)においてR1及びR4の炭素数6〜20のアリール基としては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等を挙げることが出来る。 In the general formula (1), examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms of R 1 and R 4 include a phenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group.
また、上記一般式(1)において、R1及びR4の炭素数7〜12のアラルキル基としては、例えば、炭素数6〜10のアリール基に炭素数1〜8のアルキル基が結合した基が挙げられ、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、α―メチルベンジル基、2−フェニルプロパン−2−イル基等を挙げることが出来る。 In the general formula (1), examples of the aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms of R 1 and R 4 include a group in which an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is bonded to an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. Specific examples include benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 2-phenylpropan-2-yl group and the like.
また、一般式(1)において、R1及びR4のアシル基としては、炭素数2〜8のアルカノイル基及び、アロイル基が挙げられ、具体的にはアセチル基、ベンゾイル基等を挙げることが出来る。
本発明において、R1としては、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、オキシラジカル基が好ましく、さらに水素原子、メチル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。
In the general formula (1), examples of the acyl group of R 1 and R 4 include alkanoyl groups having 2 to 8 carbon atoms and aroyl groups, and specific examples include acetyl groups and benzoyl groups. I can do it.
In the present invention, R 1 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an oxy radical group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and particularly preferably a methyl group.
具体的に樹脂(A)を構成するために、一般式(1)で表されるピペリジル構造(d)を導入する方法としては、樹脂(A)に共重合したエポキシ基を含有する(メタ)アクリレートのエポキシ基と、反応し得る置換基を持つピペリジル構造含有化合物との付加反応によって形成すること、もしくは、一般式(1)で表されるピペリジン骨格を有するエチレン性不飽和単量体が挙げられる。好ましくは、樹脂(A)に共重合したエポキシ基を含有する(メタ)アクリレートのエポキシ基と、反応し得る置換基を持つピペリジル構造含有化合物との付加反応によって形成する方法である。 As a method for introducing the piperidyl structure (d) represented by the general formula (1) to specifically configure the resin (A), an epoxy group copolymerized with the resin (A) is contained (meth). Forming by an addition reaction between an epoxy group of acrylate and a piperidyl structure-containing compound having a reactive substituent, or an ethylenically unsaturated monomer having a piperidine skeleton represented by the general formula (1) It is done. Preferably, it is a method of forming by an addition reaction between an epoxy group of (meth) acrylate containing an epoxy group copolymerized with the resin (A) and a piperidyl structure-containing compound having a reactive substituent.
好ましい理由と付加反応の具体的な導入方法としては、紫外線吸収性構造で述べたものと同義である。 The reason why it is preferable and the specific introduction method of the addition reaction are the same as those described for the ultraviolet absorbing structure.
樹脂(A)に共重合したエポキシ基を含有する(メタ)アクリレートのエポキシ置換基とアミノ基、または水酸基を有するピペリジル構造を持つ化合物との反応が好ましく、Aは、−O−CH2CH(−OH)−CH2−R6−、または−O−CH2CH(CH2OH)−R6−であることが好ましい。 Reaction of the epoxy substituent of (meth) acrylate containing an epoxy group copolymerized with the resin (A) and a compound having an amino group or a piperidyl structure having a hydroxyl group is preferred, and A represents —O—CH 2 CH ( -OH) -CH 2 -R 6 -, or -O-CH 2 CH (CH 2 OH) -R 6 - is preferably.
アミノ基、水酸基、もしくは酸基を有するピペリジル構造を持つ化合物の具体例としては、4−アミノ−1,2,2,6,6,―ペンタメチルピペリジン、4−ヒドロキシ−1,2,2,6,6,―ペンタメチルピペリジンが好ましい。 Specific examples of the compound having an amino group, a hydroxyl group, or an acid group and having a piperidyl structure include 4-amino-1,2,2,6,6, -pentamethylpiperidine, 4-hydroxy-1,2,2, 6,6, -Pentamethylpiperidine is preferred.
一般式(1)で表されるピペリジン骨格を有するエチレン性不飽和単量体は、樹脂(A)中の固形分に対して、1重量%〜5重量%含有することが好ましく、さらに1重量%〜3重量%含有することが好ましい。 The ethylenically unsaturated monomer having a piperidine skeleton represented by the general formula (1) is preferably contained in an amount of 1 to 5% by weight based on the solid content in the resin (A), and further 1% by weight. It is preferable to contain 3 to 3 weight%.
上記、ピペリジル骨格を有するエチレン性不飽和単量体の具体例としては2,2,6,6−テトラメチルピペリジルメタクリレート、1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジルメタクリレートが好ましく、特に1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジルメタクリレートが挙げられる。 Specific examples of the ethylenically unsaturated monomer having a piperidyl skeleton are preferably 2,2,6,6-tetramethylpiperidyl methacrylate and 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl methacrylate. 2,2,6,6-pentamethylpiperidyl methacrylate.
樹脂(A)を構成するために用いられる、エポキシ基を含有する(メタ)アクリレート(a)、ポリシロキサン(メタ)アクリレート(b)、およびベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造(c)との相溶性の観点から、相溶性を上げるために、他のモノマーを樹脂(A)の構成モノマーとして加えることができる。 From the group consisting of (meth) acrylate (a), polysiloxane (meth) acrylate (b) containing an epoxy group, and benzotriazole group, benzophenone group, and triazine group, which are used for constituting the resin (A) From the viewpoint of compatibility with at least one selected UV-absorbing structure (c), another monomer can be added as a constituent monomer of the resin (A) in order to increase the compatibility.
樹脂(A)を調製するにあたり、他に使用することができるモノマーとしては、ポリシロキサンモノ(メタ)アクリレートと、エポキシ基含有モノマーとラジカル重合可能な(メタ)アクリレートであれば特に限定されず、用途に応じて適宜選択することができる。例えば、 In preparing the resin (A), other monomers that can be used are not particularly limited as long as they are polysiloxane mono (meth) acrylate and (meth) acrylate capable of radical polymerization with an epoxy group-containing monomer. It can select suitably according to a use. For example,
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、又はイソステアリル(メタ)アクリレート等の直鎖又は分岐アルキル(メタ)アクリレート類; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, octyl ( (Meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, isomyristyl Linear or branched alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, or isostearyl (meth) acrylate;
シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ターシャリブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、又はイソボルニル(メタ)アクリレート等の環状アルキル(メタ)アクリレート類; Cyclohexyl (meth) acrylate, tertiary butylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) ) Acrylates or cyclic alkyl (meth) acrylates such as isobornyl (meth) acrylate;
トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、又はテトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート等のフルオロアルキル(メタ)アクリレート類;テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、又は3−メチル−3−オキセタニル(メタ)アクリレート等の複素環を有する(メタ)アクリレート類; Fluoroalkyl (meth) acrylates such as trifluoroethyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, or tetrafluoropropyl (meth) acrylate; tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate Or (meth) acrylates having a heterocyclic ring such as 3-methyl-3-oxetanyl (meth) acrylate;
ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、パラクミルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、パラクミルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、又はノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等の芳香族環を有する(メタ)アクリレート類; Benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, paracumylphenoxyethyl (meth) acrylate, paracumylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, or nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, etc. (Meth) acrylates having the following aromatic ring;
2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシビニルベンゼン、2−ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレートまたはこれらモノマーのカプロラクトン付加物(不可モル数は1〜5)等の水酸基を有する(メタ)アクリレート類; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, 4-hydroxyvinylbenzene, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate or (Meth) acrylates having a hydroxyl group such as caprolactone adducts of these monomers (immol number is 1 to 5);
メトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクトキシポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、n − ブトキシエチル(メタ)アクリレート、n − ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2 − メトキシエチル(メタ)アクリレート、2 −エトキシエチル(メタ)アクリレート等のエーテル基を有する(メタ)アクリレート類; Methoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate, octoxy polyethylene glycol polypropylene glycol mono (meth) acrylate, lauroxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate, stearoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate, Phenoxy polyethylene glycol polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, Lauroxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate, Nonylphenoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate, Nonylphenoxy polypropylene glycol mono (meth) acrylate, Nonylphenoxy polyethylene glycol polypro Lenglycol mono (meth) acrylate, phenoxypolyethyleneglycol mono (meth) acrylate, methoxypolyethyleneglycol (meth) acrylate, n-butoxyethyl (meth) acrylate, n-butoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) (Meth) acrylates having an ether group such as acrylate and 2-ethoxyethyl (meth) acrylate;
3−(アクリロイルオキシメチル)3−メチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)3−メチルオキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)3−エチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)3−エチルオキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)3−ブチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)3−ブチルオキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)3−ヘキシルオキセタン及び3−(メタクリロイルオキシメチル)3−ヘキシルオキセタン等のオキセタニル基を有する(メタ)アクリレート類;
あるいは、これらの混合物があげられる。
3- (acryloyloxymethyl) 3-methyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) 3-methyloxetane, 3- (acryloyloxymethyl) 3-ethyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) 3-ethyloxetane, 3- Oxetanyl groups such as (acryloyloxymethyl) 3-butyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) 3-butyloxetane, 3- (acryloyloxymethyl) 3-hexyloxetane and 3- (methacryloyloxymethyl) 3-hexyloxetane (Meth) acrylates having;
Alternatively, a mixture thereof can be mentioned.
その他の重合性単量体としては、エポキシ基を有する(メタ)アクリレート(a)、ポリシロキサンモノ(メタ)アクリレート(b)、およびベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造(c)との重合性および、モノマー同士の相溶性の観点からアルキル(メタ)アクリレート類が好ましい。 The other polymerizable monomer is selected from the group consisting of (meth) acrylate (a) having an epoxy group, polysiloxane mono (meth) acrylate (b), and benzotriazole group, benzophenone group, and triazine group. Alkyl (meth) acrylates are preferred from the viewpoints of polymerizability with at least one ultraviolet-absorbing structure (c) and compatibility between the monomers.
アルキル(メタ)アクリレート類は特に限定されないが、直鎖アルキル(メタ)アクリレート類としてはメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレートが好ましい。 Alkyl (meth) acrylates are not particularly limited, but linear alkyl (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, dodecyl (meth) Acrylate is preferred.
分岐アルキル(メタ)アクリレート類としてはターシャリブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレートが好ましい。 As the branched alkyl (meth) acrylates, tertiary butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and isostearyl (meth) acrylate are preferable.
また、上記以外にその他の重合性単量体も使用することができる。重合性単量体としては、
スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸ビニル、又は(メタ)アクリル酸アリル等のビニル類;
(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、又はアクリロイルモルホリン等のN置換型(メタ)アクリルアミド類;
(メタ)アクリロニトリル等のニトリル類;
In addition to the above, other polymerizable monomers can also be used. As a polymerizable monomer,
Vinyls such as styrene, α-methylstyrene, vinyl acetate, vinyl (meth) acrylate, or allyl (meth) acrylate;
N-substituted types such as (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, or acryloylmorpholine ) Acrylamides;
Nitriles such as (meth) acrylonitrile;
エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、又はイソブチルビニルエーテル等のエーテル基を有するビニルエーテル類;
などが挙げられる。
Vinyl ethers having an ether group such as ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, or isobutyl vinyl ether;
Etc.
これらのモノマーは、モノマー100重量%中、10〜50重量%含有することが望ましく、10〜30重量%がより好ましく、10〜20重量%が特に好ましい。 These monomers are desirably contained in an amount of 10 to 50% by weight, more preferably 10 to 30% by weight, and particularly preferably 10 to 20% by weight in 100% by weight of the monomer.
樹脂(A)の重量平均分子量(ポリスチレン換算)は、10,000〜100,000であることが好ましく、10,000〜30,000であることがより好ましい。本明細書において重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定されたポリスチレン換算分子量を示す。 The weight average molecular weight (polystyrene conversion) of the resin (A) is preferably 10,000 to 100,000, and more preferably 10,000 to 30,000. In this specification, the weight average molecular weight indicates a molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).
樹脂(A)は、公知の方法、例えば、溶液重合で合成することができる。重合時の溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのエチル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンなどの芳香族類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類などの使用が可能である。溶媒は、2種以上を混合して用いてもよいが、後述の液状媒体(C)で示す酢酸ノルマルブチル、および、メチルイソブチルケトンを用いることが、塗膜の最表面の機能発現の観点から好ましい。 The resin (A) can be synthesized by a known method, for example, solution polymerization. Solvents used during polymerization include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, ethyls such as tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol dimethyl ether, aromatics such as benzene, toluene, xylene, and cumene, and acetic acid. Esters such as ethyl and butyl acetate can be used. Two or more solvents may be mixed and used, but from the viewpoint of expressing the function of the outermost surface of the coating, it is possible to use normal butyl acetate and methyl isobutyl ketone shown in the liquid medium (C) described later. preferable.
樹脂(A)を合成時の重合開始剤としては、通常の過酸化物またはアゾ化合物、例えば、過酸化ベンゾイル、アゾイソブチルバレノニトリル、アゾビスイソブチロニトリル、ジ−t−ブチルペルオキシド、t−ブチルペルベンゾエート、t−ブチルペルオクトエート、クメンヒドロキシペルオキシドなどが用いられ、重合温度は、好ましくは50〜140℃、さらに好ましくは70〜140℃である。 As a polymerization initiator at the time of synthesizing the resin (A), an ordinary peroxide or an azo compound, for example, benzoyl peroxide, azoisobutylvalenonitrile, azobisisobutyronitrile, di-t-butyl peroxide, t -Butyl perbenzoate, t-butyl peroctoate, cumene hydroxy peroxide and the like are used, and the polymerization temperature is preferably 50 to 140 ° C, more preferably 70 to 140 ° C.
<活性エネルギー線硬化性化合物(B)>
活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、化合物中にラジカル反応性不飽和基を有しており、活性エネルギー線を照射することによって重合される化合物である。本発明における活性エネルギー線硬化性化合物とは、分子中にラジカル重合可能な骨格を少なくとも一つ以上を有する化合物を意味する。また、これらは、いずれも常温、常圧で液体ないし固体のモノマー、オリゴマー、ないしポリマーの化学形態を持つものである。
<Active energy ray-curable compound (B)>
The active energy ray-curable compound (B) is a compound having a radical reactive unsaturated group in the compound and polymerized by irradiation with active energy rays. The active energy ray-curable compound in the present invention means a compound having at least one skeleton capable of radical polymerization in the molecule. These have chemical forms of liquid or solid monomers, oligomers or polymers at normal temperature and pressure.
C=C結合当量とは、分子中に含まれる二重結合量の尺度となるものであり、同じ分子量の化合物であれば、C=C結合当量の数値が小さいほど二重結合の導入量が多くなる。
C=C結合当量は下記式により算出した。
[C=C結合当量]=[活性エネルギー線硬化性化合物の分子量]/[活性エネルギー線硬化性化合物の官能基数]
C = C bond equivalent is a measure of the amount of double bonds contained in the molecule. If the compounds have the same molecular weight, the smaller the C = C bond equivalent value, the more the amount of double bonds introduced. Become more.
The C = C bond equivalent was calculated by the following formula.
[C = C bond equivalent] = [molecular weight of active energy ray curable compound] / [number of functional groups of active energy ray curable compound]
このような活性エネルギー線硬化性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸およびそれらの塩、エステル、酸アミド、酸無水物などが挙げられ、さらには、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、アクリル(メタ)アクリレート、エステル(メタ)アクリレートアクリロニトリル、スチレン誘導体、種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウレタン等があげられるが、これらに限定されるものではない。以下に、本発明における活性エネルギー線硬化性化合物の具体例を挙げる。 Examples of such active energy ray-curable compounds include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid and their salts, esters, acid amides, acid anhydrides. In addition, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, acrylic (meth) acrylate, ester (meth) acrylate acrylonitrile, styrene derivatives, various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides , Unsaturated polyurethane and the like, but are not limited thereto. Below, the specific example of the active energy ray hardening compound in this invention is given.
活性エネルギー線硬化性化合物(B)としては、特に限定されないが、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、および、アクリル(メタ)アクリレートなどが挙げられるが、その中でも、アクリル(メタ)アクリレート、および、ウレタン(メタ)アクリレートが好ましく、より好ましくは多官能(メタ)アクリレート、多官能ウレタン(メタ)アクリレートである。 The active energy ray-curable compound (B) is not particularly limited, but includes epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, acrylic (meth) acrylate, and the like. Among them, acrylic (meth) acrylate and urethane (meth) acrylate are preferable, and polyfunctional (meth) acrylate and polyfunctional urethane (meth) acrylate are more preferable.
具体的に好ましい活性エネルギー線硬化性化合物(B)としては、C=C結合当量が550以下、もしくは活性エネルギー線硬化性化合物(B)のC=Cの官能基数が4官能以上の(メタ)アクリレート、また、4官能以上のウレタン(メタ)アクリレートが好ましい。 As a particularly preferred active energy ray-curable compound (B), the C = C bond equivalent is 550 or less, or the active energy ray-curable compound (B) has a C = C functional group number of 4 or more (meth). Preferred are acrylates and tetrafunctional or higher urethane (meth) acrylates.
以下に、本発明における活性エネルギー線硬化性化合物(B)の具体例を挙げる。 Specific examples of the active energy ray-curable compound (B) in the present invention are given below.
アクリレート類の例:
単官能アクリレート類の例:
メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、イソアミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート。2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート、1H−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルアクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、2,6−ジブロモ−4−ブチルフェニルアクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチルアクリレート、2,4,6−トリブロモフェノール3EO付加アクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、1,3−ブチレングリコールメチルエーテルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコール#400アクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキシトリプロピレングリコールアクリレート、メトキシポリプロピレングリコールアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、クレジルポリエチレングリコールアクリレート、p−ノニルフェノキシエチルアクリレート、p−ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、グリシジルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリレート、モルホリノエチルアクリレート、トリメチルシロキシエチルアクリレート、ジフェニル−2−アクリロイルオキシエチルホスフェート、2−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性−2−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、2−ヒドロキシ−1−アクリロキシ−3−メタクリロキシプロパン。
Examples of acrylates:
Examples of monofunctional acrylates:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, butyl acrylate, isoamyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, decyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate , Dicyclopentenyloxyethyl acrylate, benzyl acrylate. 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3 -Tetrafluoropropyl acrylate, 1H-hexafluoroisopropyl acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl acrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl acrylate, 2,6-dibromo-4-butylphenyl acrylate, 2,4,6-tribromophenoxyethyl acrylate, 2,4,6-tribromophenol 3EO addition acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 1,3-butylene glycol methyl ether acrylate , Butoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxypolyethylene glycol # 400 acrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methoxytripropylene glycol acrylate, methoxypolypropylene glycol acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, ethyl carbitol acrylate, 2-ethylhexyl carbitol Acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate, cresyl polyethylene glycol acrylate, p-nonylphenoxyethyl acrylate, p-nonylphenoxy polyethylene glycol Chryrate, glycidyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminopropyl acrylate, morpholinoethyl acrylate, trimethylsiloxyethyl acrylate, diphenyl-2-acryloyloxyethyl phosphate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate, caprolactone Modified-2-acryloyloxyethyl acid phosphate, 2-hydroxy-1-acryloxy-3-methacryloxypropane.
2官能アクリレート類の例:
1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール#200ジアクリレート、ポリエチレングリコール#300ジアクリレート、ポリエチレングリコール#400ジアクリレート、ポリエチレングリコール#600ジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコール#400ジアクリレート、ポリプロピレングリコール#700ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールビス(2−ヒドロキシ−3−アクリロイルオキシプロピル)エーテル、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、1,9−ノナンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノベンゾエート、ビスフェノールAジアクリレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、PO変性ビスフェノールAジアクリレート、水素化ビスフェノールAジアクリレート、EO変性水素化ビスフェノールAジアクリレート、PO変性水素化ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールFジアクリレート、EO変性ビスフェノールFジアクリレート、PO変性ビスフェノールFジアクリレート、EO変性テトラブロモビスフェノールAジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン。
Examples of bifunctional acrylates:
1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol # 200 diacrylate, polyethylene glycol # 300 Diacrylate, polyethylene glycol # 400 diacrylate, polyethylene glycol # 600 diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tetrapropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol # 400 diacrylate, polypropylene glycol # 700 diacrylate, neo Pentyl glycol diacrylate, ne Pentyl glycol PO-modified diacrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester diacrylate, caprolactone adduct diacrylate of hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, 1,6-hexanediol bis (2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl) ether Bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 1,9-nonanediol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol diacrylate monostearate, pentaerythritol diacrylate monobenzoate, bisphenol A diacrylate, EO-modified bisphenol A diacrylate, PO-modified bisphenol A diacrylate, hydrogenated bisphenol A diacrylate, EO Hydrogenated bisphenol A diacrylate, PO-modified hydrogenated bisphenol A diacrylate, bisphenol F diacrylate, EO-modified bisphenol F diacrylate, PO-modified bisphenol F diacrylate, EO-modified tetrabromobisphenol A diacrylate, tricyclodecane dimethylol Diacrylate, isocyanuric acid EO-modified diacrylate, 2-hydroxy-1,3-diacryloxypropane.
3官能アクリレート類の例:
グリセリンPO変性トリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ε−カプロラクトン変性トリアクリレート、1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−s−トリアジン、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレートトリプロピオネート。
Examples of trifunctional acrylates:
Glycerin PO modified triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane EO modified triacrylate, trimethylolpropane PO modified triacrylate, isocyanuric acid EO modified triacrylate, isocyanuric acid EO modified ε-caprolactone modified triacrylate, 1,3 5-triacryloylhexahydro-s-triazine, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate tripropionate.
4官能以上のアクリレート類の例:
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルテトラアクリレート、トリス(アクリロイルオキシ)ホスフェート。
Examples of tetrafunctional or higher acrylates:
Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate monopropionate, dipentaerythritol hexaacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester tetraacrylate, tris (acryloyloxy) phosphate.
メタクリレート類の例:
単官能メタクリレート類の例:
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソアミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、2−ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、デシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピルメタクリレート、2−メタクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルメタクリレート、1H−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、2,6−ジブロモ−4−ブチルフェニルメタクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチルメタクリレート、2,4,6−トリブロモフェノール3EO付加メタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、1,3−ブチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール#400メタクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、メトキシトリプロピレングリコールメタクリレート、メトキシポリプロピレングリコールメタクリレート、メタクリル酸−2−(ビニロキシエトキシ)エチル、エトキシジエチレングリコールメタクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、クレジルポリエチレングリコールメタクリレート、p−ノニルフェノキシエチルメタクリレート、p−ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、モルホリノエチルメタクリレート、トリメチルシロキシエチルメタクリレート、ジフェニル−2−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、2−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性−2−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート等。
Examples of methacrylates:
Examples of monofunctional methacrylates:
Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, butyl methacrylate, isoamyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, octyl methacrylate, decyl methacrylate, lauryl methacrylate, stearyl methacrylate, isobornyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate Dicyclopentenyl methacrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, -Hydroxy-3-allyloxypropyl methacrylate, 2-methacryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate, 1H-hexafluoro Isopropyl methacrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl methacrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate, 2,6-dibromo-4-butylphenyl methacrylate, 2,4,6-tribromophenoxyethyl Methacrylate, 2,4,6-tribromophenol 3EO addition methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 1,3-butylene glycol methyl ether methacrylate, butoxyethyl methacrylate Methoxytriethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol # 400 methacrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, methoxytripropylene glycol methacrylate, methoxypolypropylene glycol methacrylate, methacrylic acid-2- (vinyloxyethoxy) ethyl, ethoxydiethylene glycol methacrylate, 2 -Ethylhexyl carbitol methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenoxydiethylene glycol methacrylate, phenoxy polyethylene glycol methacrylate, cresyl polyethylene glycol methacrylate, p-nonylphenoxyethyl methacrylate, p-nonylphenoxy polyethylene Glycol methacrylate, glycidyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminopropyl methacrylate, morpholinoethyl methacrylate, trimethylsiloxyethyl methacrylate, diphenyl-2-methacryloyloxyethyl phosphate, 2-methacryloyl Oxyethyl acid phosphate, caprolactone-modified-2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, etc.
2官能メタクリレート類の例:
1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコール#200ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#300ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#400ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#600ジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコール#400ジメタクリレート、ポリプロピレングリコール#700ジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールビス(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロピル)エーテル、1,9−ノナンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモノベンゾエート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ビスフェノールAジメタクリレート、EO変性ビスフェノールAジメタクリレート、PO変性ビスフェノールAジメタクリレート、水素化ビスフェノールAジメタクリレート、EO変性水素化ビスフェノールAジメタクリレート、PO変性水素化ビスフェノールAジメタクリレート、ビスフェノールFジメタクリレート、EO変性ビスフェノールFジメタクリレート、PO変性ビスフェノールFジメタクリレート、EO変性テトラブロモビスフェノールAジメタクリレート、トリシクロデカンジメチロールジメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジメタクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジメタクリロキシプロパン。
Examples of bifunctional methacrylates:
1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol # 200 dimethacrylate, polyethylene glycol # 300 Dimethacrylate, polyethylene glycol # 400 dimethacrylate, polyethylene glycol # 600 dimethacrylate, dipropylene glycol dimethacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, tetrapropylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol # 400 dimethacrylate, polypropylene glycol # 700 dimethacrylate, neopenty Glycol dimethacrylate, neopentyl glycol PO-modified dimethacrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester dimethacrylate, caprolactone adduct dimethacrylate of hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, 1,6-hexanediol bis (2-hydroxy-3- (Methacryloyloxypropyl) ether, 1,9-nonanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate monostearate, pentaerythritol dimethacrylate monobenzoate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane , Bisphenol A dimethacrylate, EO modified bisphenol A dimethacrylate, PO modified bisphenol A dimethacrylate, hydrogenated bisphenol A dimethacrylate, EO modified hydrogenated bisphenol A dimethacrylate, PO modified hydrogenated bisphenol A dimethacrylate, bisphenol F dimethacrylate, EO modified bisphenol F dimethacrylate, PO modified bisphenol F dimethacrylate, EO modified Tetrabromobisphenol A dimethacrylate, tricyclodecane dimethylol dimethacrylate, isocyanuric acid EO-modified dimethacrylate, 2-hydroxy-1,3-dimethacryloxypropane.
3官能メタクリレート類の例:
グリセリンPO変性トリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリメタクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性ε−カプロラクトン変性トリメタクリレート、1,3,5−トリメタクリロイルヘキサヒドロ−s−トリアジン、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレートトリプロピオネート。
Examples of trifunctional methacrylates:
Glycerin PO modified trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane EO modified trimethacrylate, trimethylolpropane PO modified trimethacrylate, isocyanuric acid EO modified trimethacrylate, isocyanuric acid EO modified ε-caprolactone modified tri Methacrylate, 1,3,5-trimethacryloyl hexahydro-s-triazine, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate tripropionate.
4官能以上のメタクリレート類の例:
ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、オリゴエステルテトラメタクリレート、トリス(メタクリロイルオキシ)ホスフェート。
Examples of tetrafunctional or higher methacrylates:
Pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate monopropionate, dipentaerythritol hexamethacrylate, tetramethylolmethane tetramethacrylate, oligoester tetramethacrylate, tris (methacryloyloxy) phosphate.
アリレート類の例:
アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、イソシアヌル酸トリアリレート。
Examples of arylates:
Allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, triallyl trimellitate, isocyanuric acid triarylate.
酸アミド類の例:
アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、メタクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、ジアセトンメタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルメタクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド、メタクリロイルモルホリン。
Examples of acid amides:
Acrylamide, N-methylolacrylamide, diacetoneacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N-isopropylacrylamide, acryloylmorpholine, methacrylamide, N-methylolmethacrylamide, diacetone methacrylamide, N, N -Dimethylmethacrylamide, N, N-diethylmethacrylamide, N-isopropylmethacrylamide, methacryloylmorpholine.
スチレン類の例:
スチレン、p−ヒドロキシスチレン、p−クロロスチレン、p−ブロモスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−t−ブトキシスチレン、p−t−ブトキシカルボニルスチレン、p−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン。
Examples of styrenes:
Styrene, p-hydroxystyrene, p-chlorostyrene, p-bromostyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, pt-butoxystyrene, pt-butoxycarbonylstyrene, pt-butoxycarbonyloxystyrene 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene.
他のビニル化合物の例:
酢酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバル酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、アジピン酸ジビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、2−エチルヘキサン酸ビニル、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン等。
Examples of other vinyl compounds:
Vinyl acetate, vinyl monochloroacetate, vinyl benzoate, vinyl pivalate, vinyl butyrate, vinyl laurate, divinyl adipate, vinyl methacrylate, vinyl crotonate, vinyl 2-ethylhexanoate, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone etc.
上記のラジカル重合性化合物は、以下に示すメーカーの市販品として、容易に入手することができる。例えば、共栄社油脂化学工業(株)社製の「ライトアクリレート」、「ライトエステル」、「エポキシエステル」、「ウレタンアクリレート」および「高機能性オリゴマー」シリーズ、新中村化学(株)社製の「NKエステル」および「NKオリゴ」シリーズ、日立化成工業(株)社製の「ファンクリル」シリーズ、東亞合成化学(株)社製の「アロニックスM」シリーズ、大八化学工業(株)社製の「機能性モノマー」シリーズ、大阪有機化学工業(株)社製の「特殊アクリルモノマー」シリーズ、三菱レイヨン(株)社製の「アクリエステル」および「ダイヤビームオリゴマー」シリーズ、日本化薬(株)社製の「カヤラッド」および「カヤマー」シリーズ、(株)日本触媒社製の「アクリル酸/メタクリル酸エステルモノマー」シリーズ、日本合成化学工業(株)社製の「NICHIGO−UV紫光ウレタンアクリレートオリゴマー」シリーズ、信越酢酸ビニル(株)社製の「カルボン酸ビニルエステルモノマー」シリーズ、(株)興人社製の「機能性モノマー」シリーズ等が挙げられる。 Said radically polymerizable compound can be easily obtained as a commercial product of the manufacturer shown below. For example, `` Light acrylate '', `` Light ester '', `` Epoxy ester '', `` Urethane acrylate '' and `` Highly functional oligomer '' series manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd., Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. "NK Ester" and "NK Oligo" series, "Funkril" series manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., "Aronix M" series manufactured by Toagosei Co., Ltd., manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd. "Functional monomer" series, "Special acrylic monomer" series manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., "Acryester" and "Diabeam oligomer" series manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Nippon Kayaku Co., Ltd. “Kayarad” and “Kayamar” series manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. “Acrylic acid / methacrylic acid ester monomer” series manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., Nippon Synthetic Chemical Industry Made in "Nichigo-UV Shiko urethane acrylate oligomer" series, Shin-Etsu vinyl acetate Co., Ltd. "carboxylic vinyl ester monomers" series include Co. Kohjin Co. "functional monomer" series, and the like.
また以下に示す環状化合物もラジカル重合性化合物として挙げられる。
三員環化合物の例:
ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.)、第17巻、3169頁(1979年)記載のビニルシクロプロパン類、マクロモレキュラー・ケミー・ラピッド・コミュニケーション(Makromol.Chem.Rapid Commun.)、第5巻、63頁(1984年)記載の1−フェニル−2−ビニルシクロプロパン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.)、第23巻、1931頁(1985年)およびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.)、第21巻、4331頁(1983年)記載の2−フェニル−3−ビニルオキシラン類、日本化学会第50春期年会講演予稿集、1564頁(1985年)記載の2,3−ジビニルオキシラン類。
Moreover, the cyclic compound shown below is also mentioned as a radically polymerizable compound.
Examples of three-membered ring compounds:
Journal of Polymer Science Polymer Chemistry Edition (J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.), Vol. 17, 3169 (1979), vinylcyclopropanes, Macromolecular Chemie Rapid Communication (Makromol. Chem. Rapid Commun.), Volume 5, p. 63 (1984), 1-phenyl-2-vinylcyclopropanes, Journal of Polymer Science Polymer Chemistry Edition ( J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed.), 23, 1931 (1985) and Journal of Polymer Science Polymer Letter Edition (J. Polym. Sci. Polym. Lett. Ed. 21), 4331 (1983), 2-phenyl-3-vinyloxiranes, Proceedings of the 50th Annual Meeting of the Chemical Society of Japan, 1564 (1985) Mounting No 2,3-vinyl oxirane.
環状ケテンアセタール類の例:
ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.)、第20巻、3021頁(1982年)およびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.)、第21巻、373頁(1983年)記載の2−メチレン−1,3−ジオキセパン、ポリマー・プレプレプリント(Polym.Preprints)、第34巻、152頁(1985年)記載のジオキソラン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.)、第20巻、361頁(1982年)、マクロモレキュラー・ケミー(Makromol.Chem.)、第183巻、1913頁(1982年)およびマクロモレキュラー・ケミー(Makromol.Chem.)、第186巻、1543頁(1985年)記載の2−メチレン−4−フェニル−1,3−ジオキセパン、マクロモレキュルズ(Macromolecules)、第15巻、1711頁(1982年)記載の4,7−ジメチル−2−メチレン−1,3−ジオキセパン、ポリマー・プレプレプリント(Polym.Preprints)、第34巻、154頁(1985年)記載の5,6−ベンゾ−2−メチレン−1,3−ジオセパン。
Examples of cyclic ketene acetals:
Journal of Polymer Science Polymer Chemistry Edition (J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.), Volume 20, p. 3021 (1982) and Journal of Polymer Science Polymer Letter Edition (J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.), Vol. 21, 373 (1983), 2-methylene-1,3-dioxepane, polymer pre-prints (Polym. Preprints), No. 34, 152 (1985), dioxolanes, Journal of Polymer Science, Polymer Letter Edition (J. Polym. Sci. Polym. Lett. Ed.), 20, 361 (1982) 2) described in Macromolecular Chemie, 183, 1913 (1982) and Macromolecular Chem., 186, 1543 (1985). -Methylene-4-phenyl-1,3-dioxepane, 4,7-dimethyl-2-methylene-1,3-dioxepane, polymer described in Macromolecules, Vol. 15, page 1711 (1982) -5,6-benzo-2-methylene-1,3-diosepane described in Polypre. Preprints, Vol. 34, page 154 (1985).
さらに、重合性化合物(B)は、以下に示す文献に記載のものも挙げることができる。例えば、山下晋三ら編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年、大成社)や加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」、(1985年、高分子刊行会)、ラドテック研究会編、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技術」、(1987年、シーエムシー)、遠藤剛編、「熱硬化性高分子の精密化」、(1986年、シーエムシー)、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)、ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、(2002年、シーエムシー)が挙げられる。 Furthermore, the polymeric compound (B) can also mention the thing as described in the literature shown below. For example, edited by Shinzo Yamashita et al., “Cross-linking agent handbook” (1981, Taiseisha), Kiyoto Kato edition, “UV / EB curing handbook (raw material edition)”, (1985, Polymer publication society), Radtech Research Association, Kiyoshi Akamatsu, “New Technology for Photosensitive Resins” (1987, CMC), Takeshi Endo, “Refinement of Thermosetting Polymers” (1986, CMC), Takiyama Soichiro, “Polyester Resin Handbook” (1988, Nikkan Kogyo Shimbun), Radtech Study Group, “Application and Market of UV / EB Curing Technology” (2002, CMC).
活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、ただ一種のみを用いてもよいし、所望とする特性を向上するために任意の比率で2種以上混合したものを用いてもよい。 Only one kind of active energy ray-curable compound (B) may be used, or a mixture of two or more kinds in any ratio may be used in order to improve desired properties.
活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、上記モノマー以外にオリゴマー、プレポリマーと呼ばれるものを使用できる。具体的には、ダイセルUCB社製「Ebecryl230、244、245、270、280/15IB、284、285、4830、4835、4858、4883、8402、8803、8800、254、264、265、294/35HD、1259、1264、4866、9260、8210、1290.1290K、5129、2000、2001、2002、2100、KRM7222、KRM7735、4842、210、215、4827、4849、6700、6700−20T、204、205、6602、220、4450、770、IRR567、81、84、83、80、657、800、805、808、810、812、1657、1810、IRR302、450、670、830、835、870、1830、1870、2870、IRR267、813、IRR483、811、436、438、446、505、524、525、554W、584、586、745、767、1701、1755、740/40TP、600、601、604、605、607、608、609、600/25TO、616、645、648、860、1606、1608、1629、1940、2958、2959、3200、3201、3404、3411、3412、3415、3500、3502、3600、3603、3604、3605、3608、3700、3700−20H、3700−20T、3700−25R、3701、3701−20T、3703、3702、RDX63182、6040、IRR419」、サートマー社製「CN104、CN120、CN124、CN136、CN151、CN2270、CN2271E、CN435、CN454、CN970、CN971、CN972、CN9782、CN981、CN9893、CN991」、BASF社製「Laromer EA81、LR8713、LR8765、LR8986、PE56F、PE44F、LR8800、PE46T、LR8907、PO43F、PO77F、PE55F、LR8967、LR8981、LR8982、LR8992、LR9004、LR8956、LR8985、LR8987、UP35D、UA19T、LR9005、PO83F、PO33F、PO84F、PO94F、LR8863、LR8869、LR8889、LR8997、LR8996、LR9013、LR9019、PO9026V、PE9027V」、コグニス社製「フォトマー3005、3015、3016、3072、3982、3215、5010、5429、5430、5432、5662、5806、5930、6008、6010、6019、6184、6210、6217、6230、6891、6892、6893−20R、6363、6572、3660」、根上工業社製「アートレジンUN−9000HP、9000PEP、9200A、7600、5200、1003、1255、3320HA、3320HB、3320HC、3320HS、901T、1200TPK、6060PTM、6060P」、日本合成化学社製「紫光UV−6630B、7000B、7510B、7461TE、3000B、3200B、3210EA、3310B、3500BA、3520TL、3700B、6100B、6640B、1400B、1700B、6300B、7550B、7605B、7610B、7620EA、7630B、7640B、2000B、2010B、2250EA、2750B」、日本化薬社製「カヤラッドR−280、R−146、R131、R−205、EX2320、R190、R130、R−300、C−0011、TCR−1234、ZFR−1122、UX−2201、UX−2301、UX3204、UX−3301、UX−4101、UX−6101、UX−7101、MAX−5101、MAX−5100,MAX−3510、UX−4101」等が挙げられる。 As the active energy ray-curable compound (B), in addition to the above monomers, those called oligomers and prepolymers can be used. Specifically, “Ebecryl 230, 244, 245, 270, 280 / 15IB, 284, 285, 4830, 4835, 4858, 4883, 8402, 8803, 8800, 254, 264, 265, 294 / 35HD, manufactured by Daicel UCB, 1259, 1264, 4866, 9260, 8210, 1290.1290K, 5129, 2000, 2001, 2002, 2100, KRM7222, KRM7735, 4842, 210, 215, 4827, 4849, 6700, 6700-20T, 204, 205, 6602, 220, 4450, 770, IRR567, 81, 84, 83, 80, 657, 800, 805, 808, 810, 812, 1657, 1810, IRR302, 450, 670, 830, 835, 870, 1 30, 1870, 2870, IRR267, 813, IRR483, 811, 436, 438, 446, 505, 524, 525, 554W, 584, 586, 745, 767, 1701, 1755, 740 / 40TP, 600, 601, 604, 605, 607, 608, 609, 600 / 25TO, 616, 645, 648, 860, 1606, 1608, 1629, 1940, 2958, 2959, 3200, 3201, 3404, 3411, 3412, 3415, 3500, 3502, 3600, 3603, 3604, 3605, 3608, 3700, 3700-20H, 3700-20T, 3700-25R, 3701, 3701-20T, 3703, 3702, RDX63182, 6040, IRR419 ", manufactured by Sartomer CN104, CN120, CN124, CN136, CN151, CN2270, CN2271E, CN435, CN454, CN970, CN971, CN972, CN9782, CN981, CN9873, CN991, "Laromar EA81L, F87" manufactured by BASF LR8800, PE46T, LR8907, PO43F, PO77F, PE55F, LR8967, LR8981, LR8982, LR8992, LR9004, LR8956, LR8985, LR8987, UP35D, UA19T, LR9005, PO83F, PO33F, L8489, L9489 LR8996, LR9013 LR9019, PO9026V, PE9027V "manufactured by Cognis" Photomer 3005, 3015, 3016, 3072, 3982, 3215, 5010, 5429, 5430, 5432, 5662, 5806, 5930, 6008, 6010, 6019, 6184, 6210, 6217, 6230, 6891, 6892, 6893-20R, 6363, 6572, 3660 "," Art Resin UN-9000HP, 9000PEP, 9200A, 7600, 5200, 1003, 1255, 3320HA, 3320HB, 3320HC, 3320HS, 901T, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. "1200TPK, 6060PTM, 6060P", "Nippon Gosei Co., Ltd." "purple light UV-6630B, 7000B, 7510B, 7461TE, 3000B, 3200" B, 3210EA, 3310B, 3500BA, 3520TL, 3700B, 6100B, 6640B, 1400B, 1700B, 6300B, 7550B, 7605B, 7610B, 7620EA, 7630B, 7640B, 2000B, 2010B, 2250EA, 2750B, “Kayarad” R-280, R-146, R131, R-205, EX2320, R190, R130, R-300, C-0011, TCR-1234, ZFR-1122, UX-2201, UX-2301, UX3204, UX-3301, UX-4101, UX-6101, UX-7101, MAX-5101, MAX-5100, MAX-3510, UX-4101 "and the like.
アクリル(メタ)アクリレート類の例:
三井化学社製「オレスターRA3055、オレスターRA3050、オレスターRA3081、オレスターRA3057、オレスターRA3091、オレスターRA5000、オレスターRA3030、オレスターRA5000」、(MIWON社製「MiramerSC9050」などが、挙げられる。
Examples of acrylic (meth) acrylates:
“Orestar RA3055, OlesterRA3050, OlesterRA3081, OlesterRA3091, OlesterRA5000, OlesterRA3030, OlesterRA5000” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. (“Miramer SC9050” manufactured by MIWON, etc.) .
ウレタン(メタ)アクリレート類の例:
ダイセルUCB社製「Ebecryl 220、4500、4200、4666、8210、8405、1290、5129、8254、8301R、KRM8200、8452」、日本合成化学社製「紫光 1700B、6300B、7605B、7610B、7620EA、7630B、7640B、7650B」、日本化薬社製「KAYARAD DPHA−40H、UX−5000、UX−5102D−M20、UX−5103D、UX−5005」根上工業社製「アートレジンUN−3320HA、3320HC、3320HS、904、906S、901T、905、952」、新中村化学工業社製「U−6LPA、U−10HA、U−10PA、UA−1100H、U−15HA」などが挙げられる。
Examples of urethane (meth) acrylates:
“Ebecryl 220, 4500, 4200, 4666, 8210, 8405, 1290, 5129, 8254, 8301R, KRM8200, 8452” manufactured by Daicel UCB, “purple light 1700B, 6300B, 7605B, 7610B, 7620EA, 7630B, 7640B, 7650B "," KAYARAD DPHA-40H, UX-5000, UX-5102D-M20, UX-5103D, UX-5005 "manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd." Art Resins UN-3320HA, 3320HC, 3320HS, 904 "manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. , 906S, 901T, 905, 952 ”,“ U-6LPA, U-10HA, U-10PA, UA-1100H, U-15HA ”manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., and the like.
活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、ただ一種のみを用いてもよいし、所望とする特性を向上するために任意の比率で2種以上混合したものを用いてもよい。 Only one kind of active energy ray-curable compound (B) may be used, or a mixture of two or more kinds in any ratio may be used in order to improve desired properties.
<液状媒体(C)>
液状媒体(C)は、有機溶剤が好ましく、分散安定性、さらには基材との密着性及び被膜の平滑性、均一性などの面から、エネルギー線硬化型組成物中に配合して用いられる。
<Liquid medium (C)>
The liquid medium (C) is preferably an organic solvent, and is used by blending it in the energy ray curable composition from the viewpoints of dispersion stability, adhesion to the substrate, smoothness of the coating, uniformity, and the like. .
液状媒体(C)に用いられる有機溶剤としては、酢酸ノルマルブチルを100としたときの相対蒸発速度が、50〜180の有機溶剤であることが好ましく、80〜160がより好ましく、100〜150が更に好ましい。 The organic solvent used in the liquid medium (C) is preferably an organic solvent having a relative evaporation rate of 50 to 180 when n-butyl acetate is 100, more preferably 80 to 160, and 100 to 150. Further preferred.
相対蒸発速度が50以上であると、樹脂(A)が塗膜表面へ浮きやすくなることで、最表面のポリシロキサンの量が多くなり、耐汚染性や耐候性が発現しやすい。また、相対蒸発速度が180以下であると、組成物が増粘するより先に樹脂(A)が最表面に存在し、耐汚染性が発現しやすい。 When the relative evaporation rate is 50 or more, the resin (A) is likely to float on the surface of the coating film, so that the amount of polysiloxane on the outermost surface is increased and contamination resistance and weather resistance are easily developed. Further, when the relative evaporation rate is 180 or less, the resin (A) is present on the outermost surface before the composition is thickened, and the stain resistance is easily exhibited.
相対蒸発速度とは、ASTM−D3539に準拠して測定される蒸発速度であり、下記の式(1)で表される数値である。具体的には、25℃、乾燥空気下における酢酸n−ブチルの蒸発時間と各溶媒の
蒸発時間との比の値として定義される。
相対蒸発速度=(酢酸ノルマルブチルが蒸発するのに要する時間)/(各溶媒が蒸発するのに要する時間)×100・・・(1)
The relative evaporation rate is an evaporation rate measured according to ASTM-D3539, and is a numerical value represented by the following formula (1). Specifically, it is defined as the value of the ratio between the evaporation time of n-butyl acetate and the evaporation time of each solvent at 25 ° C. in dry air.
Relative evaporation rate = (time required for normal butyl acetate to evaporate) / (time required for each solvent to evaporate) × 100 (1)
相対蒸発速度が50〜180の溶剤としては、ノルマルプロパノール、イソプロピルアルコール、2−ヘプタノール、および、3−ヘプタノールなどのアルコール類、酢酸ノルマルブチル、酢酸イソブチル、および、プロピオン酸プロピルなどのエステル類、2−ヘキサノン、3−ヘキサノン、および、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、トルエン、ならびに、1,4−ジオキサンなどの非極性溶剤を1種もしくは2種以上組み合わせたものを用いても良い。 Examples of the solvent having a relative evaporation rate of 50 to 180 include alcohols such as normal propanol, isopropyl alcohol, 2-heptanol, and 3-heptanol, normal butyl acetate, isobutyl acetate, and esters such as propyl propionate, 2 A combination of one or two or more nonpolar solvents such as hexanone, 3-hexanone, and ketones such as methyl isobutyl ketone, toluene, and 1,4-dioxane may be used.
液状媒体(C)には、樹脂(A)の合成時に用いた有機溶剤および活性エネルギー線硬化性化合物の製品中に含まれる液状媒体も含まれるが、液状媒体(C)の総量での相対蒸発速度が上記範囲内であれば良い。 The liquid medium (C) includes the liquid medium contained in the product of the organic solvent and active energy ray-curable compound used in the synthesis of the resin (A), but the relative evaporation in the total amount of the liquid medium (C). The speed may be within the above range.
なお、各種溶剤の相対蒸発速度は、チャールズハンセンらによって開発されたソフトフェア(ソフト名:Hansen Solubility Parameter in Practice(HSPiP)Version 4.1.07)により求めることができる。 2種以上の溶剤を組み合わせる場合は、下記の式により混合溶剤の相対蒸発速度を近似的に求めることもできる。
式 [2種混合溶剤の相対蒸発速度]=[液状媒体aの相対蒸発速度]×[全液状媒体中に液状媒体aが占める割合(体積%)]+[液状媒体bの相対蒸発速度]×[全液状媒体中に液状媒体bが占める割合(体積%)]
In addition, the relative evaporation rates of various solvents can be obtained by software developed by Charles Hansen et al. (Software name: Hansen Solubility Parameter in Practice (HSPIP) Version 4.1.07). When combining two or more kinds of solvents, the relative evaporation rate of the mixed solvent can be approximately determined by the following formula.
Formula [Relative evaporation rate of the two mixed solvents] = [Relative evaporation rate of the liquid medium a] × [Ratio of the liquid medium a in the total liquid medium (volume%)] + [Relative evaporation rate of the liquid medium b] × [Ratio (volume%) of the liquid medium b in the total liquid medium]
<樹脂組成物>
次に、樹脂組成物(活性エネルギー線硬化性組成)の製造方法について説明する。
製造方法は特に限定されないが、一部の液状媒体(C)中で樹脂(A)と活性エネルギー線硬化性化合物(B)を混合し、攪拌したのちに更に液状媒体(C)を添加し、希釈することが好ましい。
<Resin composition>
Next, the manufacturing method of a resin composition (active energy ray curable composition) is demonstrated.
The production method is not particularly limited, but the resin (A) and the active energy ray-curable compound (B) are mixed in a part of the liquid medium (C), and after stirring, the liquid medium (C) is further added, It is preferred to dilute.
樹脂組成物の粘度は、25℃の条件下において回転式粘度計を用いて測定した値であり、JIS Z 8803(2011)に準拠して測定できる。回転式粘度計としては、B型粘度計、E型粘度計、および、EMS粘度計での測定が好ましい。 The viscosity of the resin composition is a value measured using a rotary viscometer under the condition of 25 ° C., and can be measured according to JIS Z 8803 (2011). As the rotary viscometer, measurement with a B-type viscometer, an E-type viscometer, and an EMS viscometer is preferable.
本願の樹脂組成物の粘度の測定条件は、25℃の条件下で測定した値である。せん断速度とせん断応力との比例係数から粘度を算出するレオメーターや、試料溶液中の金属球の回転速度から粘度を算出するEMS粘度計が挙げられる。 The measurement condition of the viscosity of the resin composition of the present application is a value measured under the condition of 25 ° C. Examples include a rheometer that calculates the viscosity from the proportional coefficient between the shear rate and the shear stress, and an EMS viscometer that calculates the viscosity from the rotation speed of the metal sphere in the sample solution.
測定した樹脂組成物の粘度は80mPa・s以下であることが好ましい。粘度が80mPa・sよりも高くなると、樹脂組成物を塗膜にした際に樹脂(A)の運動性が低下し、樹脂(A)が塗工後の塗膜の最表面に浮きにくくなる。そのため、最表面におけるポリシロキサンが占める割合が低下するため、耐汚染性が発現しなくなる。3〜70mPa・sがより好ましく、3〜50mPa・sが更に好ましい。 The measured viscosity of the resin composition is preferably 80 mPa · s or less. When the viscosity is higher than 80 mPa · s, the mobility of the resin (A) is lowered when the resin composition is formed into a coating film, and the resin (A) is less likely to float on the outermost surface of the coating film after coating. For this reason, the proportion of polysiloxane on the outermost surface is reduced, so that the stain resistance is not exhibited. 3 to 70 mPa · s is more preferable, and 3 to 50 mPa · s is still more preferable.
活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、樹脂組成物中の固形分の全量を基準とし、20〜95重量%用いる事が好ましい。20重量%より少ないと皮膜物性が劣化し、95重量%より多いと耐汚染性等の塗膜物性を十分に発現させることが難しい場合がある。 The active energy ray-curable compound (B) is preferably used in an amount of 20 to 95% by weight based on the total amount of solids in the resin composition. If it is less than 20% by weight, the physical properties of the film are deteriorated.
樹脂(A)と活性エネルギー線硬化性化合物(B)の比率としては、重量比が1:3〜1:100が好ましい。樹脂(A)の量が不足すると満足する耐汚染性や繰返し耐汚染性が発現されず、樹脂(A)の量が多いと塗工時にハジキの原因や硬化膜のゆず肌の原因となる場合がある。 As a ratio of the resin (A) and the active energy ray-curable compound (B), a weight ratio of 1: 3 to 1: 100 is preferable. When the amount of the resin (A) is insufficient, satisfactory stain resistance and repeated stain resistance are not expressed, and when the amount of the resin (A) is large, it causes cissing at the time of coating and it causes the cured skin to be distorted. There is.
樹脂組成物を硬化させるために用いる活性エネルギー線としては、例えば紫外線、電子線等のいずれでもよい。電子線等により樹脂組成物を硬化させる場合には光重合開始剤は不要であるが、紫外線により硬化させる場合には、樹脂組成物100重量部に対し、通常、光重合開始剤1〜15重量部程度を含有させることができる。光重合開始剤としては、ダロキュアー1173、イルガキュアー651、イルガキュアー184、イルガキュアー907、イルガキュアー754(いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、エサキュアONE(ランバルティ製)、ベンゾフェノン等の各種の公知のものを使用できる。 As the active energy ray used for curing the resin composition, any of ultraviolet rays, electron beams and the like may be used, for example. When the resin composition is cured with an electron beam or the like, a photopolymerization initiator is not required, but when cured with ultraviolet rays, the photopolymerization initiator is usually 1 to 15 weights per 100 parts by weight of the resin composition. About parts can be contained. As the photopolymerization initiator, various known types such as Darocur 1173, Irgacure 651, Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 754 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Esacure ONE (Lamberti), benzophenone, and the like. Can be used.
紫外線発生源としては実用的、経済性の面から紫外線ランプが一般に用いられており、具体的には、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。照射する雰囲気は電子線の場合、窒素等不活性ガス中でなくてはならないが、紫外線の場合は空気中でもよいし、窒素、アルゴン等の不活性ガス中でもよい。 As an ultraviolet ray generation source, an ultraviolet lamp is generally used in terms of practicality and economy, and specific examples include a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, and a metal halide lamp. In the case of an electron beam, the irradiation atmosphere must be in an inert gas such as nitrogen, but in the case of ultraviolet light, the atmosphere may be air or an inert gas such as nitrogen or argon.
<コーティングシート>
本発明のコーティングシートは、基材を有し、樹脂層(硬化膜)が本発明の感光性組成物を用いて形成されていれば特に制限はない。
<Coating sheet>
If the coating sheet of this invention has a base material and the resin layer (cured film) is formed using the photosensitive composition of this invention, there will be no restriction | limiting in particular.
本発明の樹脂組成物は、基材シートに塗布し硬化させることにより防汚性ハードコートシートとして提供される。基材シートとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートなどの透明な樹脂フィルムを挙げることができる。前記基材シートは、着色されていても無着色であっても構わない。基材シートの厚みは25〜200μm程度に構成するのが好ましい。 The resin composition of the present invention is provided as an antifouling hard coat sheet by applying it to a substrate sheet and curing it. Examples of the base sheet include transparent resin films such as polyethylene terephthalate and polycarbonate. The base sheet may be colored or uncolored. The thickness of the base sheet is preferably about 25 to 200 μm.
また、本発明の樹脂組成物中には必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、触媒、着色剤、帯電防止剤、滑剤、レベリング剤、消泡剤、重合促進剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、界面活性剤、表面改質剤等の添加成分を含ませることは任意である。 Further, in the resin composition of the present invention, if necessary, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a catalyst, a colorant, an antistatic agent, a lubricant, a leveling agent, an antifoaming agent, a polymerization accelerator, an antioxidant, It is optional to include additional components such as a flame retardant, an infrared absorber, a surfactant, and a surface modifier.
本発明の樹脂組成物を基材に塗布するには、ハケ塗り、スプレーコート、ディップコート、スピンコート、カーテンコートなどの方法が用いられる。放射線硬化型組成物の塗布量としては、硬化被膜の膜厚が3〜10μm、好ましくは5〜25μm、特に好ましくは8〜20μmである。硬化被膜の膜厚が3μm未満では十分な耐摩耗性が得られず、30μmを超える場合は、基材との密着性が低下したり、被膜にクラックが発生しやすくなったりする。 In order to apply the resin composition of the present invention to a substrate, methods such as brush coating, spray coating, dip coating, spin coating, and curtain coating are used. As a coating amount of the radiation curable composition, the film thickness of the cured film is 3 to 10 μm, preferably 5 to 25 μm, particularly preferably 8 to 20 μm. If the film thickness of the cured film is less than 3 μm, sufficient wear resistance cannot be obtained, and if it exceeds 30 μm, the adhesion to the substrate is lowered or cracks are likely to occur in the film.
本願の樹脂組成物からなるコーティングシートの最表面のSi元素濃度はX線光電子分光法により、K・Alpha+(サーモサイエンティフィック製)を用いて、下記の条件で測定を行う。
X線源:モノクロ(Al)
X線照射範囲:400μm×250μm(楕円)
測定元素:Si、C、O、N
The Si element density | concentration of the outermost surface of the coating sheet which consists of a resin composition of this application is measured on condition of the following by K-Alpha + (made by Thermo Scientific) by X-ray photoelectron spectroscopy.
X-ray source: Monochrome (Al)
X-ray irradiation range: 400 μm × 250 μm (ellipse)
Measurement elements: Si, C, O, N
塗膜最表面のSi元素の割合は下記の式により算出した。
[表面Si元素濃度]=[Siのピーク面積]/[Si、C、N、Oのピーク面積の総和]×100
硬化膜の最表面のSi元素濃度が8.0〜13.5の範囲でることが好ましく、耐汚染性及び耐候性に優れる。より好ましくは、9.0〜13.0である。
The ratio of Si element on the outermost surface of the coating film was calculated by the following formula.
[Surface Si element concentration] = [Si peak area] / [total sum of Si, C, N, and O peak areas] × 100
It is preferable that Si element density | concentration of the outermost surface of a cured film is the range of 8.0-13.5, and it is excellent in stain resistance and a weather resistance. More preferably, it is 9.0-13.0.
実施例中に単に部とあるのは質量部を示す。 In the examples, the term “parts” means parts by mass.
<共重合体(A−1)の合成>
片末端メタクリロキシ基含有ポリシロキサン化合物(JNC社製「サイラプレーンFM−0721」) 15部、グリシジルメタクリレート67部、メチルメタクリレート15部、メチルイソブチルケトン(MIBK)200部を冷却管、攪拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で攪拌しながら90℃ まで昇温してアゾビスイソブチロニトリル3部を加えて2時間重合反応を行い、さらにアゾビスイソブチロニトリル1部を加えて2時間重合を行った。その後、フラスコ内に、2‐[4,6‐ビス(2,4‐ジメチルフェニル)‐1,3,5‐トリアジン‐2‐イル]‐5‐[3‐(ドデシロキシ)‐2‐ヒドロキシプロピル]フェニル(BASF社製「TINUVIN400」)を3部、t−ブトキシカリウムを0.1部加え、60℃で5時間反応を行った。得られた共重合体A−1の重量平均分子量は約13,000であった。
<Synthesis of copolymer (A-1)>
15 parts of one-end methacryloxy group-containing polysiloxane compound ("Syla Plain FM-0721" manufactured by JNC), 67 parts of glycidyl methacrylate, 15 parts of methyl methacrylate, 200 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK), cooling tube, stirring device, thermometer Was added to a four-necked flask equipped with a nitrogen gas stream, heated to 90 ° C. with stirring under a nitrogen stream, added with 3 parts of azobisisobutyronitrile and subjected to a polymerization reaction for 2 hours. Further, azobisisobutyronitrile 1 Polymerization was carried out for 2 hours by adding a portion. Then 2- [4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl] -5- [3- (dodecyloxy) -2-hydroxypropyl] in the flask 3 parts of phenyl (“TINUVIN400” manufactured by BASF) and 0.1 part of t-butoxypotassium were added, and the reaction was performed at 60 ° C. for 5 hours. The resulting copolymer A-1 had a weight average molecular weight of about 13,000.
<共重合体(A−2)の合成>
片末端メタクリロキシ基含有ポリシロキサン化合物(JNC社製「サイラプレーンFM−0721」) 15部、グリシジルメタクリレート65部、ブチルメタクリレート15部、メチルイソブチルケトン(MIBK)200部を冷却管、攪拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で攪拌しながら90℃ まで昇温してアゾビスイソブチロニトリル3部を加えて2時間重合反応を行い、さらにアゾビスイソブチロニトリル1部を加えて2時間重合を行った。フラスコ内に、2−(4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−ヒドロキシフェニル、とオキシラン{特に、[(C10―C16、主としてC12―C13アルキルオキシ)メチル]オキシラン}との反応生成物(BASF社製「TINUVIN400」)を3部と、4−アミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン2部と、とt−ブトキシカリウムを0.1部加え、60℃で5時間反応を行った。得られた共重合体A−2の重量平均分子量は約13,000であった。
<Synthesis of copolymer (A-2)>
15 parts of one-terminal methacryloxy group-containing polysiloxane compound ("Syla Plain FM-0721" manufactured by JNC), 65 parts of glycidyl methacrylate, 15 parts of butyl methacrylate, 200 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK), cooling tube, stirring device, thermometer Was added to a four-necked flask equipped with a nitrogen gas stream, heated to 90 ° C. with stirring under a nitrogen stream, added with 3 parts of azobisisobutyronitrile and subjected to a polymerization reaction for 2 hours. Further, azobisisobutyronitrile 1 Polymerization was carried out for 2 hours by adding a portion. In the flask, 2- (4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl) -5-hydroxyphenyl and oxirane {especially [(C10-C16, Reaction product (mainly C12-C13 alkyloxy) methyl] oxirane} (“TINUVIN 400” manufactured by BASF), 2 parts 4-amino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, And 0.1 part of t-butoxypotassium were added and reacted at 60 ° C. for 5 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer A-2 was about 13,000.
<共重合体(A−3)の合成>
片末端メタクリロキシ基含有ポリシロキサン化合物(JNC社製「サイラプレーンFM−0721」) 15部、グリシジルメタクリレート67部、ブチルメタクリレート15部、2-[2-ヒドロキシ-5-[2-(メタクリロイルオキシ)エチル]フェニル]-2H-ベンゾトリアゾール(大塚化学社製「RUVA−93」)3部、メチルイソブチルケトン(MIBK)200部を冷却管、攪拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で攪拌しながら90℃ まで昇温してアゾビスイソブチロニトリル3部を加えて2時間重合反応を行い、さらにアゾビスイソブチロニトリル1部を加えて2時間重合を行った。得られた共重合体A−3の重量平均分子量は約15,000であった。
<Synthesis of copolymer (A-3)>
One-terminal methacryloxy group-containing polysiloxane compound ("Cylaplane FM-0721" manufactured by JNC) 15 parts, 67 parts of glycidyl methacrylate, 15 parts of butyl methacrylate, 2- [2-hydroxy-5- [2- (methacryloyloxy) ethyl ] Phenyl] -2H-benzotriazole ("RUVA-93" manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) 3 parts and 200 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK) were charged into a four-necked flask equipped with a condenser, a stirrer, and a thermometer, and nitrogen While stirring under an air stream, the temperature was raised to 90 ° C., 3 parts of azobisisobutyronitrile was added to conduct a polymerization reaction for 2 hours, and 1 part of azobisisobutyronitrile was further added to carry out the polymerization for 2 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer A-3 was about 15,000.
<共重合体(A−4)の合成>
片末端メタクリロキシ基含有ポリシロキサン化合物(JNC社製「サイラプレーンFM−0721」) 15部、グリシジルメタクリレート65部、メチルメタクリレート15部、2−[2−ヒドロキシ-5−[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]フェニル]-2H−ベンゾトリアゾール(大塚化学社製「RUVA−93」)3部、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルメタクリレート(ADEKA社製「LA−82」)2部、メチルイソブチルケトン(MIBK)200部を冷却管、攪拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で攪拌しながら90℃ まで昇温してアゾビスイソブチロニトリル3部を加えて2時間重合反応を行い、さらにアゾビスイソブチロニトリル1部を加えて2時間重合を行った。得られた共重合体A−4の重量平均分子量は約16,500であった。
<Synthesis of copolymer (A-4)>
15 parts of polysiloxane compound containing one-end methacryloxy group ("Syla Plain FM-0721" manufactured by JNC), 65 parts of glycidyl methacrylate, 15 parts of methyl methacrylate, 2- [2-hydroxy-5- [2- (methacryloyloxy) ethyl ] Phenyl] -2H-benzotriazole ("RUVA-93" manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) 3 parts, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl methacrylate ("LA-82" manufactured by ADEKA) 2 parts , 200 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK) was charged into a four-necked flask equipped with a condenser, a stirrer, and a thermometer, heated to 90 ° C. with stirring under a nitrogen stream, and 3 parts of azobisisobutyronitrile. Was added to carry out the polymerization reaction for 2 hours, and 1 part of azobisisobutyronitrile was further added to carry out the polymerization for 2 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer A-4 was about 16,500.
<共重合体(A−5)の合成>
片末端メタクリロキシ基含有ポリシロキサン化合物(JNC社製「サイラプレーンFM−0721」) 30部、グリシジルメタクリレート50部、メチルメタクリレート15部、メチルイソブチルケトン(MIBK)200部を冷却管、攪拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で攪拌しながら90℃ まで昇温してアゾビスイソブチロニトリル3部を加えて2時間重合反応を行い、さらにアゾビスイソブチロニトリル1部を加えて2時間重合を行った。フラスコ内に、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンと(2−エチルヘキシル)−グリシド酸エステルの反応生成物(BASF社製「TINUVIN405」)を3部と、4−アミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン2部と、とt−ブトキシカリウムを0.1部加え、60℃で5時間反応を行った。得られた共重合体A−5の重量平均分子量は約13,000であった。
<Synthesis of copolymer (A-5)>
One-terminal methacryloxy group-containing polysiloxane compound ("Syla Plain FM-0721" manufactured by JNC) 30 parts, glycidyl methacrylate 50 parts, methyl methacrylate 15 parts, methyl isobutyl ketone (MIBK) 200 parts are cooled, stirrer, thermometer Was added to a four-necked flask equipped with a nitrogen gas stream, heated to 90 ° C. with stirring under a nitrogen stream, added with 3 parts of azobisisobutyronitrile and subjected to a polymerization reaction for 2 hours. Further, azobisisobutyronitrile 1 Polymerization was carried out for 2 hours by adding a portion. Reaction reaction of 2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6-bis- (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and (2-ethylhexyl) -glycidic acid ester in the flask 3 parts of a product (“TINUVIN405” manufactured by BASF), 2 parts of 4-amino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine and 0.1 part of t-butoxy potassium were added at 60 ° C. The reaction was performed for 5 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer A-5 was about 13,000.
<共重合体(A−6)の合成>
片末端メタクリロキシ基含有ポリシロキサン化合物(JNC社製「サイラプレーンFM−0721」) 5部、グリシジルメタクリレート75部、メチルメタクリレート15部、メチルイソブチルケトン(MIBK)200部を冷却管、攪拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で攪拌しながら90℃ まで昇温してアゾビスイソブチロニトリル3部を加えて2時間重合反応を行い、さらにアゾビスイソブチロニトリル1部を加えて2時間重合を行った。フラスコ内に、フラスコ内に、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンと(2−エチルヘキシル)−グリシド酸エステルの反応生成物(BASF社製「TINUVIN405」)を3部と、4−ヒドロキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン2部と、t−ブトキシカリウムを0.1部加え、60℃で5時間反応を行った。得られた共重合体A−6の重量平均分子量は約13,000であった。
<Synthesis of copolymer (A-6)>
One-end methacryloxy group-containing polysiloxane compound ("Syla Plain FM-0721" manufactured by JNC) 5 parts, 75 parts of glycidyl methacrylate, 15 parts of methyl methacrylate, 200 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK), condenser, stirrer, thermometer Was added to a four-necked flask equipped with a nitrogen gas stream, heated to 90 ° C. with stirring under a nitrogen stream, added with 3 parts of azobisisobutyronitrile and subjected to a polymerization reaction for 2 hours. Further, azobisisobutyronitrile 1 Polymerization was carried out for 2 hours by adding a portion. In the flask, in the flask, 2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6-bis- (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and (2-ethylhexyl) -glycidic acid 3 parts of an ester reaction product (“TINUVIN405” manufactured by BASF), 2 parts of 4-hydroxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine and 0.1 part of t-butoxypotassium were added, Reaction was performed at 60 degreeC for 5 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer A-6 was about 13,000.
<樹脂(A−7)の合成>
片末端メタクリロキシ基含有ポリシロキサン化合物(JNC社製「サイラプレーンFM−0721」) 15部、グリシジルメタクリレート70部、メチルメタクリレート15部、メチルイソブチルケトン(MIBK)200部を冷却管、攪拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で攪拌しながら90℃ まで昇温してアゾビスイソブチロニトリル3部を加えて2時間重合反応を行い、さらにアゾビスイソブチロニトリル1部を加えて2時間重合を行った。得られた樹脂A−7の重量平均分子量は約15,000であった。
<Synthesis of Resin (A-7)>
15 parts of one-terminal methacryloxy group-containing polysiloxane compound ("Syla Plain FM-0721" manufactured by JNC), 70 parts of glycidyl methacrylate, 15 parts of methyl methacrylate, 200 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK), cooling tube, stirring device, thermometer Was added to a four-necked flask equipped with a nitrogen gas stream, heated to 90 ° C. with stirring under a nitrogen stream, added with 3 parts of azobisisobutyronitrile and subjected to a polymerization reaction for 2 hours. Further, azobisisobutyronitrile 1 Polymerization was carried out for 2 hours by adding a portion. The weight average molecular weight of Resin A-7 obtained was about 15,000.
<樹脂(A−8)の合成>
片末端メタクリロキシ基含有ポリシロキサン化合物(JNC社製「サイラプレーンFM−0721」) 15部、グリシジルメタクリレート70部、メチルメタクリレート15部、メチルイソブチルケトン(MIBK)200部を冷却管、攪拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で攪拌しながら90℃ まで昇温してアゾビスイソブチロニトリル3部を加えて2時間重合反応を行い、さらにアゾビスイソブチロニトリル1部を加えて2時間重合を行った。その後、100℃ まで昇温し流入ガスを窒素から空気に変更し、ジメチルベンジルアミン0.7部を加えた後、アクリル酸35部を約10分で滴下し、滴下後10時間反応させた。得られた樹脂A−8の重量平均分子量は約15,000であった。
<Synthesis of Resin (A-8)>
15 parts of one-terminal methacryloxy group-containing polysiloxane compound ("Syla Plain FM-0721" manufactured by JNC), 70 parts of glycidyl methacrylate, 15 parts of methyl methacrylate, 200 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK), cooling tube, stirring device, thermometer Was added to a four-necked flask equipped with a nitrogen gas stream, heated to 90 ° C. with stirring under a nitrogen stream, added with 3 parts of azobisisobutyronitrile and subjected to a polymerization reaction for 2 hours. Further, azobisisobutyronitrile 1 Polymerization was carried out for 2 hours by adding a portion. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C., the inflowing gas was changed from nitrogen to air, 0.7 part of dimethylbenzylamine was added, 35 parts of acrylic acid was dropped in about 10 minutes, and the reaction was carried out for 10 hours after the dropping. The obtained resin A-8 had a weight average molecular weight of about 15,000.
<樹脂(A−9)の合成>
片末端メタクリロキシ基含有ポリシロキサン化合物(JNC社製「サイラプレーンFM−0721」) 15部、グリシジルメタクリレート68部、メチルメタクリレート15部、メチルイソブチルケトン(MIBK)200部を冷却管、攪拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、窒素気流下で攪拌しながら90℃ まで昇温してアゾビスイソブチロニトリル3部を加えて2時間重合反応を行い、さらにアゾビスイソブチロニトリル1部を加えて2時間重合を行った。フラスコ内に、4−アミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン2部と、t−ブトキシカリウムを0.1部加え、60℃で5時間反応を行った。得られた樹脂A−9の重量平均分子量は約13,000であった。
<Synthesis of Resin (A-9)>
15 parts of one-terminal methacryloxy group-containing polysiloxane compound ("Syla Plain FM-0721" manufactured by JNC), 68 parts of glycidyl methacrylate, 15 parts of methyl methacrylate, 200 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK), cooling tube, stirring device, thermometer Was added to a four-necked flask equipped with a nitrogen gas stream, heated to 90 ° C. with stirring under a nitrogen stream, added with 3 parts of azobisisobutyronitrile and subjected to a polymerization reaction for 2 hours. Further, azobisisobutyronitrile 1 Polymerization was carried out for 2 hours by adding a portion. In the flask, 2 parts of 4-amino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine and 0.1 part of t-butoxypotassium were added and reacted at 60 ° C. for 5 hours. The weight average molecular weight of Resin A-9 obtained was about 13,000.
表1に樹脂Aの組成を示す。
<樹脂組成物の作成>
(実施例1)
攪拌羽根を有する混合機を用いて酢酸ノルマルブチル/イソプロピルアルコール=28/72(重量比)溶液25部にエサキュアONE(ランバルティ製)3.1部、イルガキュア907(BASF社製)0.8部を溶解させた。得られた溶液に、エネルギー線硬化性化合物(B)として、UV−6300B(日本合成化学社製,ウレタンアクリレート,C=C官能基数:7,C=C結合当量:530)44.8部を溶解させた。その後、樹脂(A−1)を固形分として1.3部添加し、攪拌混合した。得られた混合液に、酢酸ノルマルブチル/イソプロピルアルコール=28/72溶液に調製した混合溶液を24.0部添加し、攪拌混合することで、樹脂組成物を得た。
<Creation of resin composition>
Example 1
Using a mixer having a stirring blade, 3.1 parts of Esacure ONE (Lambarti) and 0.8 parts of Irgacure 907 (BASF) were added to 25 parts of a normal butyl acetate / isopropyl alcohol = 28/72 (weight ratio) solution. Dissolved. In the obtained solution, 44.8 parts of UV-6300B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., urethane acrylate, C = C functional group number: 7, C = C bond equivalent: 530) as an energy ray curable compound (B). Dissolved. Thereafter, 1.3 parts of the resin (A-1) as a solid content was added and mixed by stirring. 24.0 parts of the mixed solution prepared in the normal butyl acetate / isopropyl alcohol = 28/72 solution was added to the obtained mixed solution and mixed by stirring to obtain a resin composition.
(実施例2〜6)
実施例1において用いた、樹脂(A−1)を、実施例2〜6では、それぞれ樹脂(A−2)〜樹脂(A−6)に変更した点以外は、同様の方法で、実施例2〜6の樹脂組成物を作製した。
(Examples 2 to 6)
The resin (A-1) used in Example 1 was changed in the same manner as in Examples 2 to 6, except that the resin (A-2) to resin (A-6) were used. 2 to 6 resin compositions were prepared.
(実施例7)
実施例1において、活性エネルギー性樹脂(B)をUV−6300BからLaromer DPHA(BASF社製、アクリルアクリレート、C=C官能基数:6、C=C結合当量:96)にした以外は、同様にして樹脂組成物を作成した。
(Example 7)
In Example 1, the active energy resin (B) was changed from UV-6300B to Laromer DPHA (manufactured by BASF, acrylic acrylate, C = C functional group number: 6, C = C bond equivalent: 96). Thus, a resin composition was prepared.
(実施例8)
実施例1において、酢酸ノルマルブチル/イソプロピルアルコール=28/72溶液をイソプロピルアルコールにした以外は、同様にして樹脂組成物を作成した。
(Example 8)
A resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the normal butyl acetate / isopropyl alcohol = 28/72 solution was changed to isopropyl alcohol.
(実施例9)
実施例1において、酢酸ノルマルブチル/イソプロピルアルコール=28/72溶液を酢酸ノルマルブチルにした以外は、同様にして活性エネルギー線硬化性化合物組成物を作成した。
Example 9
An active energy ray-curable compound composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the normal butyl acetate / isopropyl alcohol = 28/72 solution was changed to normal butyl acetate.
(実施例10)
実施例1において、UV−6300BをUV−1700B(日本合成化学社製)にした以外は、同様にして活性エネルギー性樹脂組成物を作成した。
(Example 10)
An active energy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that UV-6300B was changed to UV-1700B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.).
(実施例11)
実施例1において、酢酸ノルマルブチル/イソプロピルアルコール=28/72溶液をメタノールにした以外は、同様にして活性エネルギー線硬化性化合物組成物を作成した。
(Example 11)
An active energy ray-curable compound composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the normal butyl acetate / isopropyl alcohol = 28/72 solution was changed to methanol.
(実施例12)
実施例1において、酢酸ノルマルブチル/イソプロピルアルコール=28/72溶液を1−ブタノールにした以外は、同様にして活性エネルギー線硬化性化合物組成物を作成した。
(Example 12)
An active energy ray-curable compound composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the normal butyl acetate / isopropyl alcohol = 28/72 solution was changed to 1-butanol.
(実施例13)
実施例1において、酢酸ノルマルブチル/イソプロピルアルコール=28/72溶液をN、N−ジメチルホルムアミドにした以外は、同様にして活性エネルギー線硬化性化合物組成物を作成した。
(Example 13)
An active energy ray-curable compound composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the normal butyl acetate / isopropyl alcohol = 28/72 solution was changed to N, N-dimethylformamide.
(実施例14)
攪拌羽根を有する混合機を用いて酢酸ノルマルブチル/イソプロピルアルコール=28/72溶液25部にエサキュアONE(ランバルティ製)4.0部、イルガキュア907(BASF社製)1.0部を溶解させた。得られた溶液に、エネルギー線硬化性樹脂(B)として、UV−6300B(日本合成化学社製)58.3部を溶解させた。その後、樹脂(A−1)を固形分として1.7部添加し、攪拌混合した。得られた混合液に、酢酸ノルマルブチル/イソプロピルアルコール=28/72溶液に調製した混合溶液を8.7部添加し、攪拌混合することで、樹脂組成物を得た。
(Example 14)
Using a mixer having a stirring blade, 4.0 parts of Esacure ONE (Lambarty) and 1.0 part of Irgacure 907 (BASF) were dissolved in 25 parts of a normal butyl acetate / isopropyl alcohol = 28/72 solution. In the obtained solution, 58.3 parts of UV-6300B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) was dissolved as the energy ray curable resin (B). Thereafter, 1.7 parts of the resin (A-1) was added as a solid content, and the mixture was stirred and mixed. To the obtained mixed solution, 8.7 parts of a mixed solution prepared in a normal butyl acetate / isopropyl alcohol = 28/72 solution was added and mixed by stirring to obtain a resin composition.
(比較例1〜3)
実施例1において、樹脂(A−1)を、比較例1〜3では、それぞれ樹脂(A−7)〜樹脂(A−9)にした以外は、同様にして樹脂組成物を作製した。
(Comparative Examples 1-3)
A resin composition was produced in the same manner as in Example 1, except that the resin (A-1) was changed to the resin (A-7) to the resin (A-9) in Comparative Examples 1 to 3, respectively.
<粘度測定>
測定温度25℃、モータ回転数1000rpm、球体プローブAl2mmの測定条件下のもと、EMS粘度計(京都電子工業社製)により測定した。
<Viscosity measurement>
Measurement was performed with an EMS viscometer (manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.) under the measurement conditions of a measurement temperature of 25 ° C., a motor rotation speed of 1000 rpm, and a spherical probe Al of 2 mm.
<樹脂組成物を用いたコーティングシートの作成>
前述で調製した活性エネルギー線硬化性化合物組成物を、100μm厚のコロナ処理PET基材(東洋紡績社製「コスモシャインA4100」)にバーコーター♯8で塗工し、40℃で30秒乾燥後、メタルハライドランプによる活性エネルギー線を50mJ/cm2で照射し、樹脂組成物からなるコーティングシートを得た。
<Creation of a coating sheet using a resin composition>
The active energy ray-curable compound composition prepared above was applied to a 100 μm thick corona-treated PET base material (“Cosmo Shine A4100” manufactured by Toyobo Co., Ltd.) with a bar coater # 8, and dried at 40 ° C. for 30 seconds. Then, active energy rays from a metal halide lamp were irradiated at 50 mJ / cm 2 to obtain a coating sheet made of a resin composition.
得られた塗工物からなるシートの最表面のSi元素濃度はX線光電子分光法により、K・Alpha+(サーモサイエンティフィック製)を用いて、下記の条件で測定を行った。評価結果を表1に記す。
X線源:モノクロ(Al)
X線照射範囲:400μm×250μm(楕円)
測定元素:Si、C、O、N
The Si element concentration on the outermost surface of the sheet made of the coated product was measured by X-ray photoelectron spectroscopy using K • Alpha + (manufactured by Thermo Scientific) under the following conditions. The evaluation results are shown in Table 1.
X-ray source: Monochrome (Al)
X-ray irradiation range: 400 μm × 250 μm (ellipse)
Measurement elements: Si, C, O, N
塗膜最表面のSi元素の割合は下記の式により算出した。
[表面Si元素濃度]=[Siのピーク面積]/[Si、C、N、Oのピーク面積の総和 ]×100
The ratio of Si element on the outermost surface of the coating film was calculated by the following formula.
[Surface Si element concentration] = [Si peak area] / [total sum of Si, C, N, and O peak areas] × 100
樹脂組成物の組成ならびに樹脂組成物の粘度と、下記の方法で評価した樹脂組成物塗膜の耐汚染性、並びに繰り返し汚染性評価を表2に示す。 Table 2 shows the composition of the resin composition, the viscosity of the resin composition, the stain resistance of the resin composition coating film evaluated by the following method, and the repeated stain resistance evaluation.
表2中の略称を下記に示す。
nBAc:酢酸ノルマルブチル
IPA:イソプロピルアルコール
MeOH:メタノール
1−BuOH:1−ブタノール
DMF:ジメチルホルムアミド
Abbreviations in Table 2 are shown below.
nBAc: normal butyl acetate IPA: isopropyl alcohol MeOH: methanol 1-BuOH: 1-butanol DMF: dimethylformamide
<耐汚染性評価>
樹脂組成物塗工物の塗膜面に対して油性マジック(寺西化学製 マジックインキ黒 No.500)で筆記後、30秒室温で乾燥させたのち、ティッシュペーパーで拭き取りを行い、後残りの状況を評価した。
評価基準
○ :乾拭きにて軽く拭き取り後、後残りなし
○△:乾拭きにて軽く拭き取り後、塗工物の下に白い紙を敷くと書き跡が残っている
△+:乾拭きにて軽く拭き取り後、書き跡が薄く残る
△ :乾拭きにて軽く拭き取り後、書き跡の残りあり
× :乾拭きにて拭き取り後、まったく拭き取れない
実用レベルは○である。
<Contamination resistance evaluation>
After writing with oil-based magic (Terani Chemical Co., Ltd. Magic Ink Black No. 500) on the coating surface of the resin composition coating, it was dried at room temperature for 30 seconds, and then wiped off with tissue paper. Evaluated.
Evaluation criteria ○: After wiping lightly with dry wipe, there is no remaining residue. ○ △: After wiping lightly with dry wipe, white paper is placed under the coated material. △ +: After lightly wiping with dry wipe △: The writing mark remains thin. △: Lightly wipes off with dry wiping, and the writing mark remains. X: After wiping off with dry wiping, the practical level that cannot be wiped off is ◯.
<繰返し耐汚染性評価>
樹脂組成物塗工物の塗膜面に対して油性マジック(寺西化学製 マジックインキ黒 No.500)で筆記後、30秒室温で乾燥させたのち、ティッシュペーパーで拭き取りを行い、拭取れた回数で評価した。
評価基準
◎ :拭取れた回数が15回以上
○ :拭取れた回数が10〜14回
○△:拭取れた回数が8〜9回
△+:拭取れた回数が6〜7回
△ :拭取れた回数が3〜5回
× :拭取れた回数が0〜2回
実用レベルは△以上である。
<Repetitive stain resistance evaluation>
Number of times the paint surface of the resin composition coating was wiped with tissue paper after writing with oil-based magic (Terani Chemical Co., Ltd. Magic Ink Black No. 500) and drying for 30 seconds at room temperature. It was evaluated with.
Evaluation criteria ◎: Number of wipes 15 or more ○: Number of wipes 10-14 times ○ △: Number of wipes 8-9 times Δ +: Number of wipes 6-7 times Δ: Wipe The number of removals is 3 to 5 times: The number of removals is 0 to 2 The practical level is Δ or more.
下記の方法で樹脂組成物塗膜の耐候性を評価し、表3に示す。 The weather resistance of the resin composition coating film was evaluated by the following method and shown in Table 3.
<耐候性評価>
得られた塗工物からなるシートについて、促進耐候性試験:JIS B7751規程の紫外線カーボンアーク燈式耐候性試験機(スガ試験機株式会社製)で、JIS A1415に準拠した試験を行い、1200時間経過後における劣化状態を、以下の試験項目にて確認を実施した結果について表2に示す。
<Weather resistance evaluation>
About the sheet | seat which consists of the obtained coating material, the test according to JISA1415 is performed with the ultraviolet-carbon-arc type | formula weathering tester (made by Suga Test Instruments Co., Ltd.) of JIS B7751 regulation, and 1200 hours Table 2 shows the results of confirming the deterioration state after the lapse of the following test items.
[光沢維持率]
光沢計VG−7000(日本電色工業製)を用いて、塗膜の60度光沢値を測定した。
光沢維持率は以下に示す式で求めた。
光沢維持率(%)=(促進試験後の光沢値/初期光沢値)×100
(評価基準)
〇:95%以上
△:85%以上94%未満
×:94%未満
[Gloss maintenance rate]
Using a gloss meter VG-7000 (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), the 60-degree gloss value of the coating film was measured.
The gloss retention rate was determined by the following formula.
Gloss maintenance rate (%) = (Gloss value after accelerated test / Initial gloss value) × 100
(Evaluation criteria)
○: 95% or more Δ: 85% or more and less than 94% ×: less than 94%
[透明性]
ヘイズメーターNDH2000(日本電色工業製)を用いて、塗膜の濁度の変化(ΔHz)を測定した。
(評価基準)
〇:ΔHzが1未満
△:ΔHzが1以上3未満
×:ΔHzが3以上
[transparency]
Using a haze meter NDH2000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), the change in turbidity (ΔHz) of the coating film was measured.
(Evaluation criteria)
○: ΔHz is less than 1 Δ: ΔHz is 1 or more and less than 3 ×: ΔHz is 3 or more
[黄変性]
色差計ZE6000(日本電色工業製)を用いて、塗膜の黄変の変化(Δb*値)を測定した。
(評価基準)
◎:Δbが1以下
〇:Δbが1以上3未満
△:Δbが3以上10未満
×:Δbが10以上
[残膜率]
塗膜または硬化膜の一部に、カプトンテープを貼り、促進試験後に剥がした。テープで保護されていた位置を基準にし、未保護面との段差(μm)を膜厚計F20−UV(フィルメトリクス社製)を用いて測定した。残膜率は以下に示す式で求めた。
残膜率(%)={(初期膜厚−段差)/初期膜厚}×100
なお、上述の通り、初期膜厚は本実施例においては、いずれも10μmであった。
(評価基準)
◎:98以上
〇:94%以上98%未満
△:85%以上94%未満
×:85%未満
[Yellowing]
Using a color difference meter ZE6000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), the yellowing change (Δb * value) of the coating film was measured.
(Evaluation criteria)
◎: Δb is 1 or less ○: Δb is 1 or more and less than 3 Δ: Δb is 3 or more and less than 10 ×: Δb is 10 or more
[Residual film rate]
Kapton tape was applied to a part of the coating film or the cured film, and was peeled off after the acceleration test. Using the position protected by the tape as a reference, the step (μm) from the unprotected surface was measured using a film thickness meter F20-UV (manufactured by Filmetrics). The remaining film rate was determined by the following formula.
Residual film ratio (%) = {(initial film thickness−step difference) / initial film thickness} × 100
As described above, the initial film thickness was 10 μm in this example.
(Evaluation criteria)
◎: 98 or more ○: 94% or more and less than 98%
以上のように、表2および表3の結果から、比較例1が示すように紫外線吸収性構造(c)を含まない樹脂(A)では得られたシートの耐候性が著しく低下することが示された。
また比較例2では、樹脂Aに架橋性基として、エポキシ基を含有する(メタ)アクリレートに対して、アクリル酸を反応させて得る樹脂(A−8)であるが、防汚性は比較的良好であるものの、光沢維持率や、透明性、黄変性が劣っている。
更に比較例3では、一般式(1)で表されるピペリジル構造(d)が含まれている樹脂樹脂(A−9)であるが、紫外線吸収性構造(c)を含まないことから十分な耐候性を示すには至っていない。
本発明の樹脂(A)を用いた組成物を架橋した塗膜(実施例1〜14)は、本発明外の構造を有する樹脂を用いた組成物を光硬化させた塗膜(比較例1〜3)と比較して、防汚性および、各種耐候性である、光沢維持率、透明性、黄変性、残膜率などの物性が明らかに優れていることが明らかとなった。
As described above, the results shown in Tables 2 and 3 show that the weather resistance of the obtained sheet is significantly lowered with the resin (A) not containing the ultraviolet absorbing structure (c) as shown in Comparative Example 1. It was done.
In Comparative Example 2, the resin A is a resin (A-8) obtained by reacting acrylic acid with a (meth) acrylate containing an epoxy group as a crosslinkable group, but the antifouling property is relatively high. Although good, gloss retention, transparency, and yellowing are inferior.
Furthermore, in Comparative Example 3, although the resin resin (A-9) contains the piperidyl structure (d) represented by the general formula (1), it is sufficient because it does not contain the ultraviolet absorbing structure (c). It has not yet shown weather resistance.
The coating film (Examples 1 to 14) obtained by crosslinking the composition using the resin (A) of the present invention was a coating film (Comparative Example 1) obtained by photocuring a composition using a resin having a structure outside the present invention. It became clear that the physical properties such as the antifouling property and various weather resistances, such as gloss maintenance rate, transparency, yellowing, and remaining film rate, are clearly superior to those of ˜3).
Claims (7)
樹脂(A)が、エポキシ基を含有する構造単位(a)、ポリシロキサンを有する構造単位(b)、並びにベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造(c)を有する樹脂(A)であることを特徴とする樹脂組成物。 A resin composition containing a resin (A), an active energy ray-curable compound (B), and a liquid medium (C),
The resin (A) has at least one ultraviolet absorbing property selected from the group consisting of a structural unit (a) containing an epoxy group, a structural unit (b) having a polysiloxane, and a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group. A resin composition, which is a resin (A) having a structure (c).
一般式(1)
(一般式(1)中、R1は水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜12のアラルキル基、アシル基、オキシラジカル基、またはOR4を表し、R4は、水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜12のアラルキル基、またはアシル基を表し、R2、及び、R3はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、またはフェニル基を示す。「*」は結合手であることを示す。) Resin (A) contains the piperidyl structure (d) represented by General formula (1), The resin composition of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
General formula (1)
(In General Formula (1), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an acyl group, an oxy radical group, or OR. 4 and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, or an acyl group, and R 2 and R 3 each independently represents a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group, and “*” represents a bond.)
一般式(2)
(一般式(2)中、R5はHまたはCH3を表し、Aは炭素数1〜8のアルキレンオキシ基、−(CH2CH2−O−)m−、−O−CH2CH(−OH)−CH2−R6−、または−O−CH2CH(CH2OH)−R6−を表し、mは2〜5の整数であり、R6は、−NH−または、−O−であり、 Xはベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基、およびトリアジン基からなる群より選ばれる少なくとも1つの紫外線吸収性構造(c)または一般式(1)で表されるピペリジル構造(d)である。) Resin (A) contains the structural unit represented by General formula (2), The resin composition of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.
General formula (2)
(In General Formula (2), R 5 represents H or CH 3 , A represents an alkyleneoxy group having 1 to 8 carbon atoms, — (CH 2 CH 2 —O—) m —, —O—CH 2 CH ( -OH) -CH 2 -R 6 -, or -O-CH 2 CH (CH 2 OH) -R 6 - represents, m is an integer from 2 to 5, R 6 are, -NH- or - X is a piperidyl structure (d) represented by at least one ultraviolet absorbing structure (c) or general formula (1) selected from the group consisting of a benzotriazole group, a benzophenone group, and a triazine group .)
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