JP2019198256A - Plant cultivation device - Google Patents

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千尋 渡部
Chihiro Watabe
千尋 渡部
祐子 福井
Yuko Fukui
祐子 福井
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Abstract

To provide a plant cultivation device that can irradiate leaf surfaces of plants with appropriate light volume.SOLUTION: A plant cultivation device comprises: a planting part 4 into which plants 1 are planted; a light irradiation part 3 which irradiates the planting part 4 with light from a first direction; and an intensity setting part 31 which increases a preset value of the irradiation intensity of the light irradiation part 3 as exposure rate, in which the planting part 4 is not covered by the plants 1 but exposed in the case of seeing from the first direction, becomes smaller.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、植物工場等の室内において人工光源が発した光を植物に照射することによって植物を栽培する植物栽培装置に関する。   The present invention relates to a plant cultivation apparatus for cultivating a plant by irradiating the plant with light emitted from an artificial light source in a room such as a plant factory.

栽培に必要な光として、LED(Light Emitting Diode)などの人工光源を使用して発生させた人工光を植物に照射する人工光型の植物栽培装置(以下、単に「装置」ともいう)の開発が進められている。そのような装置の多くで、人工光を効率よく利用するため、種々の工夫がなされている。具体的には、例えば、植物の地上部(植物を植え込む地表面部よりも上の部分。以下「植物地上部」ともいう)を含む空間を、反射板で囲ったり、地表面部を、白色の発泡スチロールなど光をよく反射する素材で形成したりする工夫がみられる。   Development of artificial light type plant cultivation device (hereinafter also simply referred to as “device”) that irradiates plants with artificial light generated using artificial light sources such as LEDs (Light Emitting Diode) as light necessary for cultivation Is underway. Many devices have been devised in order to efficiently use artificial light. Specifically, for example, a space including a ground part of a plant (a part above the ground surface part where the plant is planted; hereinafter referred to as “plant ground part”) is surrounded by a reflector, or the ground surface part is white. There is an idea to make it with a material that reflects light well, such as polystyrene foam.

植物地上部の成長は、大きく、水平方向への展開(成長)と、背丈の伸長(成長)と、に分けられる。人工光の照射により植物の栽培する植物栽培装置では、そのふたつの成長につれて、次のような現象がおこる。
(現象1)植物地上部(主には葉)が水平方向に展開することにより、植物栽培装置の地表面部が覆われ、植物地上部を含む空間内の反射光が減少して暗くなり、葉面に照射される光量が減少する。
(現象2)植物の背丈が高くなるにつれて、植物と人工光源との間の距離が小さくなり、葉面に照射される光量が増加する。
The growth of the above-ground part of the plant is largely divided into horizontal development (growth) and height extension (growth). In a plant cultivation apparatus that grows plants by irradiation of artificial light, the following phenomenon occurs as the two grow.
(Phenomenon 1) When the plant ground part (mainly leaves) expands in the horizontal direction, the ground surface part of the plant cultivation device is covered, and the reflected light in the space including the plant ground part is reduced and darkened. The amount of light applied to the leaf surface is reduced.
(Phenomenon 2) As the height of the plant increases, the distance between the plant and the artificial light source decreases, and the amount of light applied to the leaf surface increases.

前者(現象1)は、植物の光合成速度の低下の原因となり、植物の成長の鈍化を招きうる。植物の成長速度は、植物栽培装置の日産を左右し、ひいては生産コストを大きく左右する。このため、植物の成長の鈍化は、植物栽培装置の使用者には重要な課題である。   The former (Phenomenon 1) causes a decrease in the photosynthetic rate of the plant, and can lead to a slowdown in plant growth. The growth rate of the plant affects Nissan of the plant cultivation device, and thus greatly affects the production cost. For this reason, slowing down of plant growth is an important issue for users of plant cultivation apparatuses.

一方、後者(現象2)は、過剰な人工光の照射によって葉の光呼吸を増加させて成長障害を誘引する他、結果的に必要以上の電力を無駄に消費させることとなり、これも生産コストを左右する。   On the other hand, the latter (Phenomenon 2) increases leaf photorespiration by irradiating excessive artificial light and induces growth failure. As a result, more power is wasted than necessary, which is also a production cost. Influences.

すなわち、葉面に対する光量は、ふたつの成長(水平方向への展開、及び、背丈の伸長)の程度を鑑みて、調製される必要がある。   That is, the amount of light with respect to the leaf surface needs to be adjusted in consideration of the degree of two growths (horizontal expansion and height extension).

後者(現象2)の問題を解決することを目的に、特許文献1には、植物が成長している期間、植物の高さの情報を撮像によって得て、その情報から照射すべき光量を設定し、装置内に固定された光量検出部が、目標値と同値を示すまで光量を調整するという技術が開示されている。   In order to solve the latter problem (Phenomenon 2), Patent Document 1 obtains information on the height of a plant during imaging while the plant is growing, and sets the amount of light to be irradiated from that information. However, a technique is disclosed in which the light amount detecting unit fixed in the apparatus adjusts the light amount until it shows the same value as the target value.

国際公開第2017/002321号International Publication No. 2017/002321

しかしながら、特許文献1に開示された技術は、あくまで後者(現象2)の課題を解決することを目的にしており、植物地上部の水平方向の成長によって生じる葉面への光量の減少を考慮していない。このため、植物の成長過程で葉面への光量が不適切になる可能性がある。   However, the technique disclosed in Patent Document 1 is intended only to solve the problem of the latter (phenomenon 2), and it takes into account the reduction in the amount of light on the foliage caused by the horizontal growth of the plant ground part. Not. For this reason, there is a possibility that the amount of light on the leaf surface becomes inappropriate during the plant growth process.

また、レタスを始めとする葉菜類などの地上部が大きく成長する植物に対して、特許文献1に開示の技術を用いる場合、固定された光量検出部を備えるには、設計上の課題が生じる。つまり、光量検出部を、栽培されている植物に接触せず、植物の陰に入らず、かつ、葉面への光量と相関が取れるような適切な位置に固定しなければならない。   Moreover, when using the technique disclosed in Patent Document 1 for plants in which the above-ground part such as leafy vegetables such as lettuce grows greatly, a design problem arises in order to provide a fixed light amount detection part. That is, the light amount detection unit must be fixed at an appropriate position so as not to contact the plant being cultivated, to enter the shade of the plant, and to be correlated with the light amount to the leaf surface.

しかし、地上部が生い茂るような植物を大量に栽培するような場合、特に、同一仕様の装置を複数の異なる形状の植物へ適用することを想定している場合には、上述したような光量検出部の位置取りは実質的に困難である。つまり、複数の形状の異なる植物では、光量検出部の適切な位置が互いに異なり、位置が固定された光量検出部により、異なる形状の植物について葉面への光量を適切に検出することは困難である。このため、特許文献1に開示の技術を適用できる植物は、地上部の形状により限定されてしまう。   However, when cultivating a large amount of plants where the above-ground part grows, especially when it is assumed that the same specification device is applied to a plurality of plants having different shapes, the light amount detection as described above. The position of the part is substantially difficult. That is, in a plurality of plants having different shapes, the appropriate positions of the light amount detection units are different from each other, and it is difficult to appropriately detect the light amount to the leaf surface of plants having different shapes by the light amount detection unit having a fixed position. is there. For this reason, plants to which the technique disclosed in Patent Document 1 can be applied are limited by the shape of the above-ground part.

本発明は、このような課題を解決するもので、植物の葉面に適切な光量を照射できるようにした植物栽培装置を提供することを目的とする。   This invention solves such a subject, and it aims at providing the plant cultivation apparatus which enabled the suitable light quantity to be irradiated to the leaf surface of a plant.

上記目的を達成するために、本発明の植物栽培装置は、植物が植え込まれる植込部と、前記植込部へ第一方向から光を照射する光照射部と、前記第一方向から視た場合において前記植込部が前記植物に覆われずに露出する露出率Pxが低くなるほど、前記光照射部の照射強度の設定値ISxを高くする強度設定部と、を備える。   In order to achieve the above object, a plant cultivation apparatus according to the present invention includes a planting unit in which a plant is planted, a light irradiation unit that irradiates light from a first direction to the planting unit, and a view from the first direction. And an intensity setting unit that increases the set value ISx of the irradiation intensity of the light irradiation unit as the exposure rate Px at which the planted part is exposed without being covered with the plant is reduced.

本発明によれば、植物の水平方向の成長を鑑みた上で、葉面に照射される光量が目標光量となるように、光照射部の照射強度を調整でき、これによって、植物の葉面に過不足のない光量を照射できる。   According to the present invention, it is possible to adjust the irradiation intensity of the light irradiation unit so that the amount of light irradiated on the leaf surface becomes the target amount of light after considering the growth in the horizontal direction of the plant. It is possible to irradiate the light with no excess or deficiency.

本発明の実施の形態1における植物栽培装置の全体構成を説明するための断面模式図Sectional schematic diagram for demonstrating the whole structure of the plant cultivation apparatus in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1における植物栽培装置の垂直撮像部の撮像範囲を説明するための模式図であって、地表面部の平面図It is a schematic diagram for demonstrating the imaging range of the vertical imaging part of the plant cultivation apparatus in Embodiment 1 of this invention, Comprising: The top view of a ground surface part 本発明の実施の形態1における植物栽培装置の地上空間を、水平撮像部の撮像方向から視た模式図The schematic diagram which looked at the ground space of the plant cultivation apparatus in Embodiment 1 of this invention from the imaging direction of the horizontal imaging part. 植物の栽培を開始してからの経過時間と、地表面部の露出率との関係を示す図The figure which shows the relationship between the elapsed time after starting cultivation of a plant, and the exposure rate of a ground surface part 植物の栽培を開始してからの経過時間と地上空間光量との関係を示す図The figure which shows the relationship between the elapsed time from the start of plant cultivation and the amount of ground space light 地表面部露出率と地上空間光量との関係を示す図The figure which shows the relationship between the ground surface part exposure rate and the ground space light quantity 光照射部からの距離と葉面光量の関係を示す図The figure which shows the relationship between the distance from a light irradiation part, and leaf surface light quantity 栽培経過時間に対する照射強度設定値を示す図The figure which shows the irradiation intensity setting value with respect to cultivation elapsed time 栽培経過時間と葉面光量との相関関係を示す図The figure which shows the correlation with cultivation elapsed time and leaf light quantity 本発明の実施の形態1における植物栽培装置の制御部の機能ブロック図Functional block diagram of the control unit of the plant cultivation apparatus in Embodiment 1 of the present invention 本発明の実施の形態1における照射強度設定値の決定処理を説明するためのフローチャートThe flowchart for demonstrating the determination process of the irradiation intensity setting value in Embodiment 1 of this invention 本発明の実施の形態2における植物栽培装置の制御部の機能ブロック図Functional block diagram of the control unit of the plant cultivation apparatus in Embodiment 2 of the present invention 本発明の実施の形態2における照射強度設定値の決定処理を説明するためのフローチャートThe flowchart for demonstrating the determination process of the irradiation intensity setting value in Embodiment 2 of this invention

以下、本発明の実施の形態に係る植物栽培装置について、図面を参照しながら説明する。以下に示す各実施の形態はあくまでも例示に過ぎず、以下の各実施の形態で明示しない種々の変形や技術の適用を排除するものではない。また、各実施の形態の各構成は、それらの趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。さらに、各実施の形態の各構成は、必要に応じて取捨選択することができ、あるいは適宜組み合わせることができる。   Hereinafter, a plant cultivation apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Each embodiment described below is merely an example, and does not exclude various modifications and technical applications that are not clearly described in each embodiment below. In addition, each configuration of each embodiment can be implemented with various modifications without departing from the spirit thereof. Furthermore, each structure of each embodiment can be selected as needed, or can be combined suitably.

なお、各実施の形態を説明するための全図において、同一要素は原則として同一の符号を付し、その説明を省略することもある。   Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the description thereof may be omitted.

[1.実施の形態1]
[1−1.植物栽培装置によって栽培される植物]
図1は、本発明の実施の形態1の植物栽培装置100の全体構成を説明するための断面模式図である。図1に示される植物栽培装置100を用いて栽培される植物1の例として、レタス等の葉菜類が挙げられる。ただし、植物栽培装置100によって栽培され得る植物1は、これに限定されるものではなく、主に、栄養成長段階にある植物であって、その地上部(栽培対象部、ここでは主に葉であり以下「植物地上部」ともいう)が食用とされ、水耕栽培される。
[1. Embodiment 1]
[1-1. Plants cultivated with plant cultivation equipment]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining the overall configuration of the plant cultivation apparatus 100 according to Embodiment 1 of the present invention. Examples of the plant 1 cultivated using the plant cultivation apparatus 100 shown in FIG. 1 include leaf vegetables such as lettuce. However, the plant 1 that can be cultivated by the plant cultivation apparatus 100 is not limited to this, and is mainly a plant in a vegetative growth stage, and its ground part (cultivation target part, here mainly a leaf). (Hereinafter also referred to as “plant above-ground part”) is edible and hydroponically cultivated.

[1−2.植物栽培装置の全体構成]
図1に示されるように、実施の形態1の植物栽培装置100は、密閉された空間を構成する筐体200内に設置されている。筐体200には扉(図示省略)が設けられており、栽培作業をする者は、この扉を開閉して筐体200内に出入りすることができる。
[1-2. Overall configuration of plant cultivation equipment]
As shown in FIG. 1, the plant cultivation apparatus 100 according to Embodiment 1 is installed in a housing 200 that forms a sealed space. The housing 200 is provided with a door (not shown), and a person who performs cultivation work can open and close the door 200 by opening and closing the door.

植物栽培装置100は、地表面部4(植込部)により、地上空間21(栽培空間)と地下空間25とに分けられる。   The plant cultivation device 100 is divided into a ground space 21 (cultivation space) and an underground space 25 by the ground surface portion 4 (planting portion).

地表面部4は、植物が植え込まれるものであり、貫通孔4Aを有する板状のもので、白い発泡スチロールのような照射された光を反射しやすい素材で構成されている。貫通孔4Aには、培地41が挿入される。培地41は浸透した水分を保持し得るスポンジなどで構成される。植物1において主に地下空間25に配置される地下部(以下「植物地下部」ともいう)1Bの一部を包んだ培地41が、貫通孔4Aに挿入されることで、植物1は、地表面部4に固定される。 The ground surface portion 4 is a plant in which plants are planted and is a plate-like one having a through hole 4A, and is made of a material that easily reflects irradiated light, such as white polystyrene foam. The culture medium 41 is inserted into the through hole 4A. The culture medium 41 is composed of a sponge or the like that can retain permeated moisture. In the plant 1, the culture medium 41 that wraps a part of the underground part (hereinafter also referred to as “plant underground part”) 1 </ b> B disposed mainly in the underground space 25 is inserted into the through-hole 4 </ b> A. It is fixed to the surface part 4.

地下空間25は、栽培槽5によって構成されている。栽培槽5には、培養液8が満たされている。培養液8は、ポンプ12の動力によって、タンク11から供給配管5Aを介して栽培槽5に供給され、さらに、栽培槽5から排出配管5Bを介してタンク11へと戻される。すなわち、培養液8は、栽培槽5とタンク11との間を循環する。   The underground space 25 is configured by the cultivation tank 5. The cultivation tank 5 is filled with a culture solution 8. The culture solution 8 is supplied from the tank 11 to the cultivation tank 5 through the supply pipe 5A by the power of the pump 12, and is further returned from the cultivation tank 5 to the tank 11 through the discharge pipe 5B. That is, the culture solution 8 circulates between the cultivation tank 5 and the tank 11.

なお、本実施の形態1の植物栽培装置100は、DFT(Deep Flow Technique)に適用したものを一例として示しているが、本発明は、DFTへの適用に限定されるものではない。本発明は、例えばNFT(Nutrient Film Technique)にも適用できる。   In addition, although the plant cultivation apparatus 100 of this Embodiment 1 has shown as an example what applied to DFT (Deep Flow Technique), this invention is not limited to application to DFT. The present invention can also be applied to, for example, NFT (Nutrient Film Technique).

地上空間21は、上部が上面反射板6により、側部が側面反射板7により囲われるようにして構成されている。上面反射板6の地上空間21に向かう面には、照明支持部35を介して(本実施の形態1では一対の)光照射部3が固定されている。光照射部3は、植物地上部1Aに光(人工光)を照射する。   The ground space 21 is configured such that the upper part is surrounded by the upper surface reflection plate 6 and the side part is surrounded by the side surface reflection plate 7. A light irradiation unit 3 (a pair in the first embodiment) is fixed to the surface of the upper surface reflecting plate 6 toward the ground space 21 via an illumination support unit 35. The light irradiation part 3 irradiates light (artificial light) to the plant ground part 1A.

植物栽培装置100は、地表面部4を植物地上部1Aの上側から(第一方向から)撮像する垂直撮像部91(第一撮像部)を備えている。垂直撮像部91は、上面反射板6の下面に固定されている。本実施の形態1では、一対の光照射部3の相互間において、上面反射板6の下面の幅方向中央(図1の紙面左右方向中央)に配置されている。   The plant cultivation apparatus 100 includes a vertical imaging unit 91 (first imaging unit) that images the ground surface portion 4 from above the plant ground portion 1A (from the first direction). The vertical imaging unit 91 is fixed to the lower surface of the upper surface reflector 6. In the first embodiment, between the pair of light irradiation units 3, it is arranged at the center in the width direction (the center in the left-right direction in FIG. 1) of the lower surface of the upper reflector 6.

図2は、本発明の実施の形態1における地表面部4の平面図である。図2に示される垂直撮像部撮像範囲(以下、単に「撮像範囲」ともいう)92は、垂直撮像部91の撮像範囲である。すなわち、撮像範囲92は、垂直撮像部91が取得する画像データ(撮像情報)の範囲である。   FIG. 2 is a plan view of ground surface portion 4 in the first embodiment of the present invention. A vertical imaging unit imaging range (hereinafter, also simply referred to as “imaging range”) 92 illustrated in FIG. 2 is an imaging range of the vertical imaging unit 91. That is, the imaging range 92 is a range of image data (imaging information) acquired by the vertical imaging unit 91.

この撮像範囲92は、少なくとも一個体の植物地上部1Aの全体を含むように、望ましくは地表面部4に植えられた複数個体の植物地上部1Aの全部を含むように設定され、地表面部4の全体に亘る範囲あるいは地表面部4の一部だけに亘る範囲として設定される   The imaging range 92 is preferably set so as to include all of the plurality of individual plant ground portions 1A planted on the ground surface portion 4 so as to include at least one individual plant ground portion 1A. 4 is set as a range over the whole of 4 or a range over only a part of the ground surface portion 4

図1に示すように、植物栽培装置100は、地上空間21ひいては植物地上部1Aを水平方向(第一方向と交差する第二方向)から撮像する水平撮像部95(第二撮像部)をさらに備えている。水平撮像部95は、側面反射板7の内側面に固定されている。   As shown in FIG. 1, the plant cultivation apparatus 100 further includes a horizontal imaging unit 95 (second imaging unit) that images the ground space 21 and thus the plant ground part 1A from the horizontal direction (second direction intersecting the first direction). I have. The horizontal imaging unit 95 is fixed to the inner side surface of the side reflector 7.

図3を参照して水平撮像部95について更に説明する。図3は、水平撮像部95の撮像方向から地上空間21を視た模式図である。図3に示すように、水平撮像部95は、植物1の背丈hx(詳しくは地表面部4の上面を基準とする植物地上部1Aの背丈)を含む範囲の画像データ(撮像情報)を取得する。なお、図3中の符合「H」は、地表面部4と光照射部3との距離を示す。   The horizontal imaging unit 95 will be further described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic view of the ground space 21 viewed from the imaging direction of the horizontal imaging unit 95. As shown in FIG. 3, the horizontal imaging unit 95 obtains image data (imaging information) in a range including the height hx of the plant 1 (specifically, the height of the plant ground part 1A based on the upper surface of the ground surface part 4). To do. Note that the symbol “H” in FIG. 3 indicates the distance between the ground surface portion 4 and the light irradiation portion 3.

垂直撮像部91及び水平撮像部95は、それぞれ一般的に使用されているビデオカメラである。ただし、垂直撮像部91及び水平撮像部95は、それぞれ、植物1を周囲の物体から識別できるものであれば、ビデオカメラに限らず、例えば赤外線カメラなどでもよい。   Each of the vertical imaging unit 91 and the horizontal imaging unit 95 is a video camera that is generally used. However, the vertical imaging unit 91 and the horizontal imaging unit 95 are not limited to video cameras as long as they can identify the plant 1 from surrounding objects, and may be infrared cameras, for example.

植物栽培装置100は、図1に示すように制御部30をさらに備える。制御部30は、垂直撮像部91及び水平撮像部95から画像データを取得し、後述するように、垂直撮像部91の画像データから地表面部露出率Pxを検出し、水平撮像部95の画像データから背丈hxを検出する。   The plant cultivation apparatus 100 further includes a control unit 30 as shown in FIG. The control unit 30 acquires the image data from the vertical imaging unit 91 and the horizontal imaging unit 95, detects the ground surface portion exposure rate Px from the image data of the vertical imaging unit 91, and the image of the horizontal imaging unit 95, as will be described later. The height hx is detected from the data.

[1−3.制御部の構成及び照射強度設定値の決定方法]
制御部30は、光照射部3の制御を実行するためのプログラムがインストールされたコンピュータである。図1に示すように、制御部30は、強度設定部31と、照明調整部32と、を備えて構成される。
[1-3. Configuration of control unit and method for determining irradiation intensity setting value]
The control unit 30 is a computer in which a program for executing control of the light irradiation unit 3 is installed. As shown in FIG. 1, the control unit 30 includes an intensity setting unit 31 and an illumination adjustment unit 32.

強度設定部31は、植物1の成長過程のそれぞれの時点、すなわち植物栽培装置100による植物1の栽培の開始後の任意の時点における光照射部3の照射強度設定値ISxを、下式(1)によって決定する。   The intensity setting unit 31 calculates the irradiation intensity setting value ISx of the light irradiation unit 3 at each point in the growth process of the plant 1, that is, at an arbitrary point after the start of cultivation of the plant 1 by the plant cultivation apparatus 100, using the following formula (1 ).

Figure 2019198256
Figure 2019198256

この式(1)における背丈hx,地表面部露出率(以下「露出率」ともいう)Px,距離H,基準高さha,目標光量Ia,基準面積率Pa,基準光量If及び基準照射強度Laは下表の通りである。   Height hx, ground surface exposure rate (hereinafter also referred to as “exposure rate”) Px, distance H, reference height ha, target light amount Ia, reference area rate Pa, reference light amount If, and reference irradiation intensity La in this formula (1) Is as shown in the table below.

Figure 2019198256
Figure 2019198256

すなわち、背丈hxは上述の通り植物地上部1Aの背丈である(図3参照)。露出率Pxは、植物1に覆われずに露出している地表面部4の面積の比率であって、詳しくは、垂直撮像部91の撮像範囲92(図2参照)の面積(撮像面積)に対する、植物1に覆われずに露出している地表面部4の面積(露出面積)の比率である。距離Hは、上述したとおり光照射部3と地表面部4との距離(図3参照)である。基準高さhaは、基準となる経過時間Ta(以下「基準時間Ta」ともいう)における植物地上部1Aの背丈hxである。目標光量Iaは、基準高さhaで測定された地上空間21の光量(以下「地上空間光量」ともいう)Ixの内、基準時間Taでの地上空間光量である。基準露出率Paは基準時間Taにおける露出率Pxである。基準照射強度Laは、基準時間Taにおける光照射部3の照射強度設定値ISxである。基準光量Ifは露出率Pxが0(零)となる時の地上空間光量Ixである。基準時間Taの決定方法については後述する。   That is, the height hx is the height of the plant ground portion 1A as described above (see FIG. 3). The exposure rate Px is a ratio of the area of the ground surface portion 4 that is exposed without being covered by the plant 1, and more specifically, the area (imaging area) of the imaging range 92 (see FIG. 2) of the vertical imaging unit 91. It is a ratio of the area (exposed area) of the ground surface part 4 exposed without being covered with the plant 1 with respect to. The distance H is the distance (see FIG. 3) between the light irradiation part 3 and the ground surface part 4 as described above. The reference height ha is the height hx of the plant ground portion 1A at a reference elapsed time Ta (hereinafter also referred to as “reference time Ta”). The target light amount Ia is the ground space light amount at the reference time Ta among the light amount (hereinafter also referred to as “ground space light amount”) Ix measured at the reference height ha. The reference exposure rate Pa is the exposure rate Px at the reference time Ta. The reference irradiation intensity La is the irradiation intensity setting value ISx of the light irradiation unit 3 at the reference time Ta. The reference light amount If is the ground space light amount Ix when the exposure rate Px is 0 (zero). A method for determining the reference time Ta will be described later.

上式(1)を使用して決定されることで、照射強度設定値ISxは、露出率Pxが低くなるほど高い値に設定され、植物1の地上空間部1Aの背丈hxが高くなるほど低い値に設定される。   By determining using the above equation (1), the irradiation intensity setting value ISx is set to a higher value as the exposure rate Px is lower, and is set to a lower value as the height hx of the ground space portion 1A of the plant 1 is higher. Is set.

以下、上式(1)についてさらに説明する。   Hereinafter, the above formula (1) will be further described.

図2中の斜線部は、垂直撮像部91から視た場合において、植物地上部1Aに覆われていない地表面部4の露出部を示す。地表面部4の所定範囲内における露出部の面積A1の、当該所定範囲の面積A0に対する比率を地表面部露出率Px(=A1/A0)としている。本実施の形態1では、当該所定範囲は撮像範囲92である。露出率Pxは、植物地上部1Aの水平方向の成長、すなわち葉の展開に応じて小さくなり、やがて0(零)となる値である。   The hatched portion in FIG. 2 indicates an exposed portion of the ground surface portion 4 that is not covered with the plant ground portion 1A when viewed from the vertical imaging unit 91. The ratio of the area A1 of the exposed portion within the predetermined range of the ground surface portion 4 to the area A0 of the predetermined range is the ground surface portion exposure rate Px (= A1 / A0). In the first embodiment, the predetermined range is the imaging range 92. The exposure rate Px is a value that decreases as the plant ground portion 1A grows in the horizontal direction, that is, expands leaves, and eventually becomes 0 (zero).

図4は、植物1の栽培を開始してからの経過時間(以下「栽培経過時間」ともいう)Txと、露出率Pxとの関係を示す図である。図4に示されるように、露出率Pxは、経過時間Txが、Px=0となる経過時間Tfとなるまで、経過時間Txが進むにしたがって直線的に減少する。ここで基準時間Taにおける露出率Pxが上述のとおり目標露出率Paに設定される。基準時間Taは、植物1の栽培を始めてから、露出率Pxが0(零)となるまでの期間Yに属する時点である。基準時間Taは、この期間Yの範囲内において、露出率Px、地上空間光量Ix、植物地上部1Aの背丈hx(すなわち基準露出率Pa、目標光量Ia、基準高さha)の値を実測や解析によって得ることができる時点を任意に選択すれば良い。   FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the elapsed time (hereinafter also referred to as “cultivated elapsed time”) Tx after the cultivation of the plant 1 is started and the exposure rate Px. As shown in FIG. 4, the exposure rate Px decreases linearly as the elapsed time Tx progresses until the elapsed time Tx reaches the elapsed time Tf at which Px = 0. Here, the exposure rate Px at the reference time Ta is set to the target exposure rate Pa as described above. The reference time Ta is a time point belonging to a period Y from the start of cultivation of the plant 1 until the exposure rate Px becomes 0 (zero). The reference time Ta is obtained by measuring the exposure rate Px, the ground space light amount Ix, and the height hx of the plant ground portion 1A (that is, the reference exposure rate Pa, the target light amount Ia, and the reference height ha) within the range of the period Y. The time point that can be obtained by analysis may be arbitrarily selected.

ただし、垂直撮像部91の画像データから露出率Pxを検出する場合、露出率Pxの検出値の誤差が大きいため、基準時間Taに、露出率Pxが100%または0%に近い値となる時点を選択することは推奨されない。本実施の形態1では、10%≦Px≦90%の範囲で許容できる露出率Pxの検出精度が確認された。本実施の形態1では、基準時間Taを栽培開始から1日経過時とし、この基準時間Taでの露出率Pxすなわち基準露出率Paはおよそ80%であった。   However, when the exposure rate Px is detected from the image data of the vertical imaging unit 91, since the error in the detection value of the exposure rate Px is large, the time when the exposure rate Px becomes a value close to 100% or 0% at the reference time Ta. Selecting is not recommended. In the first embodiment, the detection accuracy of the exposure rate Px allowable within the range of 10% ≦ Px ≦ 90% was confirmed. In the first embodiment, the reference time Ta is set to 1 day after the start of cultivation, and the exposure rate Px at the reference time Ta, that is, the reference exposure rate Pa is about 80%.

図5に、植物1の栽培を開始してからの経過時間Txと、地上空間光量Ixとの関係を示す。この地上空間光量Ixは上述のとおり基準高さhaで測定した地上空間21の光量である。言い換えれば、地上空間光量Ixは、光照射部3から一定の距離H−haにおいて測定された値である。地上空間光量Ixは、光照射部3から測定地点の間に遮蔽物がない状態で測定されている。地上空間光量Ixは、経過時間Tfまでは、経過時間Txが進むに従って直線的に減少し、経過時間Tf以降はほぼ一定の値を示す。なお、上述の通り、経過時間Tfにおける地上空間光量Ixが上式(1)における基準光量Ifである。   In FIG. 5, the relationship between the elapsed time Tx after starting cultivation of the plant 1 and the ground space light quantity Ix is shown. This ground space light quantity Ix is the light quantity of the ground space 21 measured at the reference height ha as described above. In other words, the amount of ground space light Ix is a value measured at a certain distance H-ha from the light irradiation unit 3. The amount of ground space light Ix is measured in a state where there is no shield between the light irradiation unit 3 and the measurement point. The ground space light quantity Ix decreases linearly as the elapsed time Tx advances until the elapsed time Tf, and shows a substantially constant value after the elapsed time Tf. As described above, the ground space light amount Ix at the elapsed time Tf is the reference light amount If in the above equation (1).

図6に、露出率Pxと地上空間光量Ixとの関係を示す。露出率Pxと地上空間光量Ixとは直線的な相関関係となっている。   FIG. 6 shows the relationship between the exposure rate Px and the ground space light quantity Ix. The exposure rate Px and the ground space light quantity Ix have a linear correlation.

なお、図4、図5及び図6は、一例として、植物1としてフリルレタス(商品名フリルアイス、雪印種苗株式会社)を栽培した場合の結果を示している。植物1として他の品種を栽培した場合、図4に示される経過時間Txに対する露出率Pxの相関関係、並びに、図5に示される経過時間Txに対する地上空間光量Ixの相関関係は、それぞれ、経過時間Tf以前では、傾向が異なる場合がある(相関関係を表す相関ラインの概形が異なる場合がある)。   In addition, FIG.4, FIG.5 and FIG.6 has shown the result at the time of growing the frill lettuce (brand name frill ice, Snow Brand Seed Seed Co., Ltd.) as the plant 1 as an example. When other varieties are cultivated as the plant 1, the correlation of the exposure rate Px to the elapsed time Tx shown in FIG. 4 and the correlation of the ground space light quantity Ix to the elapsed time Tx shown in FIG. Before time Tf, the tendency may be different (the outline of the correlation line representing the correlation may be different).

例えば、グリーンリーフ(商品名グリーンジャケット、中原採種場株式会社)を植物1として栽培した場合、図4に示されるような経過時間Txに対する地表面部露出率Pxの相関ラインは、経過時間Tf以前では、上に凸の二次曲線に近似した単調減少するラインとなった。図5に示されるような経過時間Txに対する地上空間光量Ixの相関ラインは、経過時間Tf以前では、下に凸の二次曲線に近似した単調減少するラインとなった。   For example, when a green leaf (trade name Green Jacket, Nakahara Seed Co., Ltd.) is cultivated as a plant 1, the correlation line of the ground surface exposure rate Px with respect to the elapsed time Tx as shown in FIG. 4 is before the elapsed time Tf. Then, it became a monotonically decreasing line approximating an upward convex quadratic curve. The correlation line of the ground space light quantity Ix with respect to the elapsed time Tx as shown in FIG. 5 is a monotonically decreasing line approximating a downwardly convex quadratic curve before the elapsed time Tf.

しかし、露出率Pxと地上空間光量Ixとの関係については、グリーンリーフを植物1として栽培した場合も、図6に示されるフリルレタスのものと同様、直線的な相関関係となった。つまり、植物地上部1Aの水平方向の成長(すなわち葉の展開)によって、地表面部4が葉に覆われて地表面部4の露出部分が減少するのに伴って、植物1の品種によらず、地上空間光量Ixは直線的に減少する。すなわち、露出率Pxと地上空間光量Ixとの関係は、傾きや切片が異なるものの一次曲線(一次関数)によって表される。   However, as for the relationship between the exposure rate Px and the amount of ground space light Ix, even when the green leaf was cultivated as the plant 1, a linear correlation was obtained as in the frill lettuce shown in FIG. That is, depending on the variety of the plant 1 as the ground surface portion 4 is covered with leaves and the exposed portion of the ground surface portion 4 decreases due to the horizontal growth of the plant ground portion 1A (that is, the development of the leaves). The ground space light quantity Ix decreases linearly. That is, the relationship between the exposure rate Px and the ground space light quantity Ix is expressed by a linear curve (linear function) having different slopes and intercepts.

図7に、植物栽培装置100における光照射部3からの葉面までの距離D(=H−hx、図3参照)と、葉面に照射される光量(以下「葉面光量」ともいう)LIxとの関係を示している。図7に示すように、一般的に、葉面光量LIxは、光源から葉面までの距離Dの2乗に反比例して減少する。   In FIG. 7, the distance D (= H-hx, refer FIG. 3) from the light irradiation part 3 in the plant cultivation apparatus 100, and the light quantity irradiated to a leaf surface (henceforth "the leaf surface light quantity"). The relationship with LIx is shown. As shown in FIG. 7, generally, the leaf surface light quantity LIx decreases in inverse proportion to the square of the distance D from the light source to the leaf surface.

以上の図6及び図7に示される相関関係を鑑みると、照射強度を初期(栽培開始)から一定にした場合の任意の栽培経過時間Txにおける葉面光量LIxは、距離H、露出率Pa,Px、目標光量Ia、背丈ha,hx、基準光量Ifを用いて下式(2)の式で表される。   In view of the correlation shown in FIGS. 6 and 7 above, the leaf surface light quantity LIx at any cultivation elapsed time Tx when the irradiation intensity is constant from the initial stage (cultivation start) is the distance H, the exposure rate Pa, It is expressed by the following equation (2) using Px, target light amount Ia, height ha, hx, and reference light amount If.

Figure 2019198256
Figure 2019198256

なお、上述した通り、地上空間光量Ixとは、基準時間Taでの背丈hx(=基準高さha)における光量である。すなわち、例えば、基準高さhaが10cmであれば、地表面部4から10cm上の高さを固定の測定高さとし、この測定高さにおける光量が、地上空間光量Ixである。基準時間Taでは、葉面の高さは背丈ha(例えば10cm)であるから、基準時間Taでの葉面光量LIxは、基準高さha(例えば10cm)における地上空間光量Ix、すなわち目標光量Iaそのものとなる。   As described above, the ground space light amount Ix is a light amount at the height hx (= reference height ha) at the reference time Ta. That is, for example, if the reference height ha is 10 cm, the height 10 cm above the ground surface portion 4 is a fixed measurement height, and the light quantity at this measurement height is the ground space light quantity Ix. At the reference time Ta, the leaf surface height is the height ha (for example, 10 cm), so the leaf surface light amount LIx at the reference time Ta is the ground space light amount Ix at the reference height ha (for example, 10 cm), that is, the target light amount Ia. It becomes itself.

Figure 2019198256
Figure 2019198256

そして、任意の経過時点Txにおいて、葉面光量を一定して基準時間Taにおける葉面光量(すなわち目標光量Ia)となるようにするには、上式(3)により照射強度設定値ISxを決定すればよい。すなわち、上式(2)で表される「照射強度を一定とした場合の葉面光量LIx」と、目標光量Iaとの比の逆数(=LIx/Ia)を基準照射強度Laに乗じて照射強度設定値ISxを求めればよい。   In order to make the leaf surface light amount constant at the arbitrary time point Tx so as to be the leaf surface light amount (that is, the target light amount Ia) at the reference time Ta, the irradiation intensity setting value ISx is determined by the above equation (3). do it. That is, the irradiation is performed by multiplying the reference irradiation intensity La by the reciprocal (= LIx / Ia) of the ratio between “the leaf surface light intensity LIx when the irradiation intensity is constant” expressed by the above formula (2) and the target light intensity Ia. What is necessary is just to obtain | require intensity setting value ISx.

そして、この上式(3)の葉面光量LIxに、上式(2)の葉面光量LIxの算出式を代入することで、任意の栽培経過時間Txにおける、目標の光量を葉面に照射するための照射強度設定値ISxは、上式(1)で表されることになる。   Then, by substituting the calculation formula of the leaf surface light amount LIx in the above equation (2) into the leaf surface light amount LIx in the above equation (3), the target surface light amount is irradiated on the leaf surface in an arbitrary cultivation elapsed time Tx. The irradiation intensity setting value ISx for doing so is expressed by the above equation (1).

なお、上式(1)及び上式(2)は、あらゆる品種の植物や栽培環境で共通であることが保証されるものではなく、植物栽培装置100で栽培する植物1の品種や、栽培環境によって異なることも考えられる。このため、植物1の品種や栽培環境が大きく異なる場合には、植物栽培装置100で栽培を実施する前に、植物1の品種毎、栽培環境毎に、上式(1)及び上式(2)に相当する式を実験によって確かめる必要がある。例えば、上式(2)には、図6に示される露出率Pxと地上空間光量Ixとの相関関係を示す相関ラインの概形が最も影響するが、この露出率Pxと地上空間光量Ixの相関ラインが、一次曲線的とはならない品種がないとも限らない。しかし、その場合も、上式(2)の右辺の前半部〔(Ia−If)×Px/Pa+If〕を、回帰曲線の方程式(回帰分析より得た露出率Pxと地上空間光量Ixとの相関式)に置き換えればよい。   It should be noted that the above formula (1) and the above formula (2) are not guaranteed to be common among plants and cultivation environments of all varieties, and the varieties and cultivation environments of the plants 1 cultivated by the plant cultivation apparatus 100 It may be different depending on the situation. For this reason, when the kind and cultivation environment of the plant 1 differ greatly, before implementing cultivation with the plant cultivation apparatus 100, for each kind of plant 1 and every cultivation environment, the above formula (1) and the above formula (2 ) Needs to be confirmed by experiment. For example, in the above equation (2), the outline of the correlation line indicating the correlation between the exposure rate Px and the ground space light amount Ix shown in FIG. There may be no varieties whose correlation line is not linear. However, even in this case, the first half of the right side of the above equation (2) [(Ia−If) × Px / Pa + If] is represented by the regression curve equation (correlation between the exposure rate Px obtained from the regression analysis and the ground space light quantity Ix. It may be replaced with (formula).

栽培経過時間Txに応じて上式(1)により求めた照射強度設定値ISxを図8に示す。   FIG. 8 shows the irradiation intensity set value ISx obtained by the above equation (1) according to the cultivation elapsed time Tx.

これに対し、光照射部3の照射強度を、栽培経過時間Txにかかわらず一定とした場合における、栽培経過時間Txと葉面光量LIxとの相関関係を図9に示す。図9からも明らかなように、露出率Pが0(零)となる経過時間Tf以降は、栽培経過時間Txが進んで植物1の背丈hが伸びるにつれ、植物地上部1Aと光照射部3との距離Dが短くなるので、葉面光量LIxが上昇し過剰気味となる。   In contrast, FIG. 9 shows the correlation between the cultivation elapsed time Tx and the leaf surface light amount LIx when the irradiation intensity of the light irradiation unit 3 is constant regardless of the cultivation elapsed time Tx. As is clear from FIG. 9, after the elapsed time Tf when the exposure rate P becomes 0 (zero), as the cultivation elapsed time Tx advances and the height h of the plant 1 increases, the plant ground part 1A and the light irradiation part 3 The distance D between the two becomes shorter, so that the leaf surface light quantity LIx increases and it becomes excessive.

なお、図8に示される栽培経過時間Txと照射強度設定値ISxとの関係(相関ライン)、及び、図9に示される栽培経過時間Txと葉面光量LIxとの関係(相関ライン)は一例である。植物1の品種や光照射部3の光質などによっては、このような相関ラインが図8や図9に示されるものと同様の形状になるとは限らない。なぜなら、植物1の水平方向と垂直方向との成長のバランスが、図8や図9に示されるような相関ラインの形状に大きく影響するからである。   In addition, the relationship (correlation line) between the cultivation elapsed time Tx and the irradiation intensity setting value ISx shown in FIG. 8 and the relationship (correlation line) between the cultivation elapsed time Tx and the leaf surface light amount LIx shown in FIG. 9 are examples. It is. Depending on the variety of the plant 1 and the light quality of the light irradiation unit 3, such a correlation line is not necessarily in the same shape as that shown in FIG. 8 or FIG. This is because the growth balance between the horizontal direction and the vertical direction of the plant 1 greatly affects the shape of the correlation line as shown in FIGS.

再び図1を参照して説明する。照明調整部32は、強度設定部31で定められた照射強度設定値ISxに基づいて、光照射部3の照射強度を調整する。つまり、現状の照射強度が、照射強度設定値ISxよりも大きければ(又は照射強度が、照射強度設定値ISxよりも所定強度以上大きければ)、照射強度をISxまで低下させ、逆に、現状の照射強度が、照射強度設定値ISxよりも小さければ(又は照射強度が、照射強度設定値ISxよりも所定強度以上小さければ)、照射強度を照射強度設定値ISxまで上昇させる。この結果、植物1の葉面には、常に、目標光量Ia(又は目標光量Iaと略同じ光量)が照射される。   A description will be given with reference to FIG. 1 again. The illumination adjustment unit 32 adjusts the irradiation intensity of the light irradiation unit 3 based on the irradiation intensity setting value ISx determined by the intensity setting unit 31. That is, if the current irradiation intensity is greater than the irradiation intensity setting value ISx (or if the irradiation intensity is greater than the irradiation intensity setting value ISx by a predetermined intensity or more), the irradiation intensity is reduced to ISx. If the irradiation intensity is smaller than the irradiation intensity setting value ISx (or if the irradiation intensity is smaller than the irradiation intensity setting value ISx by a predetermined intensity or more), the irradiation intensity is increased to the irradiation intensity setting value ISx. As a result, the leaf surface of the plant 1 is always irradiated with the target light amount Ia (or substantially the same light amount as the target light amount Ia).

図10を参照して強度設定部31についてさらに説明する。図10は、本実施の形態1の植物栽培装置100の制御部30の機能ブロック図である。図10に示すように、強度設定部31は、記憶部312と、演算部313と、露出率検出部314と、背丈検出部315とを含む。   The strength setting unit 31 will be further described with reference to FIG. FIG. 10 is a functional block diagram of the control unit 30 of the plant cultivation apparatus 100 according to the first embodiment. As illustrated in FIG. 10, the strength setting unit 31 includes a storage unit 312, a calculation unit 313, an exposure rate detection unit 314, and a height detection unit 315.

記憶部312は、上式(1)に基づいて照射強度設定値ISxを設定するのに必要な定数を記憶している。具体的には、記憶部312は、光照射部3と地表面部4との距離H、目標光量Ia、基準露出率Pa、基準高さha、基準照射強度La、及び、基準光量Ifを記憶している。   The storage unit 312 stores constants necessary for setting the irradiation intensity setting value ISx based on the above equation (1). Specifically, the storage unit 312 stores the distance H between the light irradiation unit 3 and the ground surface portion 4, the target light amount Ia, the reference exposure rate Pa, the reference height ha, the reference irradiation intensity La, and the reference light amount If. doing.

露出率検出部314は、垂直撮像部91が取得した画像データを画像解析して、地表面部露出率Pxを検出する。   The exposure rate detection unit 314 performs image analysis on the image data acquired by the vertical imaging unit 91 and detects the ground surface portion exposure rate Px.

背丈検出部315は、水平撮像部95が取得した画像データを画像解析して、植物地上部1Aの背丈hxを検出する。   The height detection unit 315 analyzes the image data acquired by the horizontal imaging unit 95 and detects the height hx of the plant ground portion 1A.

演算部313は、露出率検出部314が検出した地表面部露出率Pxと、背丈検出部315が検出した背丈hxと、記憶部312が記憶している定数H,Ia,Pa,ha,La,Ifとを、上式(1)の式に代入することにより、葉面の光量が目標値Iaとなるような光照射部3の照射強度設定値ISxを算出する。   The calculation unit 313 includes a ground surface portion exposure rate Px detected by the exposure rate detection unit 314, a height hx detected by the height detection unit 315, and constants H, Ia, Pa, ha, La stored in the storage unit 312. , If are substituted into the above equation (1), the irradiation intensity setting value ISx of the light irradiation unit 3 is calculated such that the amount of light on the leaf surface becomes the target value Ia.

[1−4.照射強度設定値の決定処理]
図11を参照して、本実施の形態1で強度設定部31が行う照射強度設定値ISxの決定処理を説明する。図11は、本発明の実施の形態1における照射強度設定値ISxの決定処理を説明するためのフローチャートである。なお、この決定処理は、植物栽培装置100による栽培が実施されている間、周期的に繰り返し実行される。
[1-4. Irradiation intensity setting value determination process]
With reference to FIG. 11, the irradiation intensity setting value ISx determination process performed by the intensity setting unit 31 in the first embodiment will be described. FIG. 11 is a flowchart for explaining the process for determining the irradiation intensity set value ISx in the first embodiment of the present invention. This determination process is periodically and repeatedly executed while the plant cultivation apparatus 100 is cultivating.

先ず、ステップS21において、強度設定部31は、垂直撮像部91が撮像した、地表面部4を上側から見た画像データを、露出率検出部314に取得させる。ステップS22において、強度設定部31は、露出率検出部314に、前ステップS22で取得させた画像データを画像解析させて露出率Pxを検出させる。そして、ステップS23において、強度設定部31は、水平撮像部95が撮像した、植物地上部1Aを側方から撮像した画像データを、背丈検出部315に取得させる。ステップS24において、強度設定部31は、背丈検出部315に、前ステップS23で取得させた画像データを画像解析させて、植物地上部1Aの背丈hxを検出させる。そして、ステップS25において、強度設定部31は、演算部313に、露出率検出部314が検出した露出率Pxと、背丈検出部315が検出した背丈hxと、記憶部312が記憶している定数とを参照させ、上式(1)に基づいて照射強度設定値ISxを算出させる。   First, in step S <b> 21, the intensity setting unit 31 causes the exposure rate detection unit 314 to acquire image data obtained by the vertical imaging unit 91 as viewed from the upper side of the ground surface unit 4. In step S22, the intensity setting unit 31 causes the exposure rate detection unit 314 to perform image analysis on the image data acquired in the previous step S22 to detect the exposure rate Px. In step S <b> 23, the intensity setting unit 31 causes the height detection unit 315 to acquire image data captured by the horizontal imaging unit 95 and captured from the side of the plant ground unit 1 </ b> A. In step S24, the strength setting unit 31 causes the height detection unit 315 to perform image analysis on the image data acquired in the previous step S23 to detect the height hx of the plant ground portion 1A. In step S <b> 25, the strength setting unit 31 causes the calculation unit 313 to store the exposure rate Px detected by the exposure rate detection unit 314, the height hx detected by the height detection unit 315, and the constant stored in the storage unit 312. And the irradiation intensity set value ISx is calculated based on the above equation (1).

また、本実施の形態1の照射強度設定処理では、さらに、ステップS26の処理が行われる。すなわち、ステップS25で照射強度設定値ISxが算出されると、ステップS26において、強度設定部31は、露出率検出部314が検出した露出率Pxを参照する。露出率Pxが0(零)でなければ(Px≠0)であれば、強度設定部31は、ステップS21の処理に戻る。   Further, in the irradiation intensity setting process of the first embodiment, the process of step S26 is further performed. That is, when the irradiation intensity set value ISx is calculated in step S25, the intensity setting unit 31 refers to the exposure rate Px detected by the exposure rate detection unit 314 in step S26. If the exposure rate Px is not 0 (zero) (Px ≠ 0), the intensity setting unit 31 returns to the process of step S21.

その一方、ステップS26においてPx=0であれば、強度設定部31はステップS23の処理に戻る。これは、露出率Pxは、植物地上部1Aの水平方向の成長、すなわち葉の展開に応じて小さくなり、一旦0(零)となったら、以降は収穫まで一定して0(零)となる。このため、強度設定部31は、ステップS21,S22の処理により露出率Pxを改めて検出することが不要となり、ステップS21,S22をバイパスしてステップS23の処理へと進む。   On the other hand, if Px = 0 in step S26, the strength setting unit 31 returns to the process of step S23. This is because the exposure rate Px decreases as the plant ground portion 1A grows in the horizontal direction, i.e., leaves develop, and once it becomes 0 (zero), then it remains constant until harvest until it reaches 0 (zero). . For this reason, the intensity setting unit 31 does not need to detect the exposure rate Px again by the processes of steps S21 and S22, and proceeds to the process of step S23, bypassing steps S21 and S22.

そして、以上の照射強度設定値の決定処理が完了すると、その後、照射強度設定値ISxとなるように、照明調整部32が光照射部3の出力を調整する。   And if the determination process of the above irradiation intensity setting value is completed, the illumination adjustment part 32 will adjust the output of the light irradiation part 3 so that it may become irradiation intensity setting value ISx after that.

なお、ステップS26を省略し、ステップS25の処理が終了すると、強度設定部31は、一定してステップS21の処理に戻るようにしてもうよい。   Note that step S26 may be omitted, and when the process of step S25 ends, the strength setting unit 31 may return to the process of step S21 constantly.

[1−5.効果]
(1)本発明の実施の形態1によれば、植物1の垂直方向の成長だけでなく水平方向の成長を鑑みた上で、葉面光量LIxが目標光量Iaとなるように、光照射部3の照射強度設定値を自動で制御できる。これによって、植物の成長によって生じる葉面への光量の変化を相殺して、植物の葉面に適切な光量を照射できる。
[1-5. effect]
(1) According to the first embodiment of the present invention, in consideration of not only the vertical growth of the plant 1 but also the growth in the horizontal direction, the light irradiation unit so that the leaf surface light amount LIx becomes the target light amount Ia. The irradiation intensity setting value of 3 can be automatically controlled. Thereby, the change in the amount of light on the leaf surface caused by the growth of the plant can be offset, and an appropriate amount of light can be applied to the leaf surface of the plant.

(2)さらに、照射強度設定値ISxの決定を、植物1の上方からの画像データと、植物1の側方からの画像データとに基づいて行うので、照射強度設定値ISxの決定のみならず、同時に、これらの画像データに基づいて、植物1の成長の様子の監視・記録を併せて行うことが可能となる。   (2) Furthermore, since the determination of the irradiation intensity setting value ISx is performed based on the image data from above the plant 1 and the image data from the side of the plant 1, not only the determination of the irradiation intensity setting value ISx. At the same time, based on these image data, it is possible to simultaneously monitor and record the growth state of the plant 1.

[2.実施の形態2]
[2−1.植物栽培装置の要部(制御部)の構成]
以下、図12を参照して本実施の形態2の植物栽培装置の要部である制御部30Aの構成について説明する。図12は、本発明の実施の形態2の植物栽培装置の制御部30Aの機能ブロック図である。
[2. Second Embodiment]
[2-1. Configuration of main part (control part) of plant cultivation apparatus]
Hereinafter, the configuration of the control unit 30A, which is a main part of the plant cultivation apparatus according to the second embodiment, will be described with reference to FIG. FIG. 12 is a functional block diagram of the control unit 30A of the plant cultivation apparatus according to Embodiment 2 of the present invention.

本実施の形態2の植物栽培装置の構成は、実施の形態1の植物栽培装置100に対して、制御部30を図12に示される制御部30Aに置き換えると共に、水平撮像部95を省略したものであり、その他の構成は実施の形態1の植物栽培装置100と同様である。   The configuration of the plant cultivation apparatus according to the second embodiment is obtained by replacing the control unit 30 with the control unit 30A shown in FIG. 12 and omitting the horizontal imaging unit 95 with respect to the plant cultivation apparatus 100 according to the first embodiment. Other configurations are the same as those of the plant cultivation apparatus 100 of the first embodiment.

本実施の形態2の植物栽培装置は、栽培する植物1の全栽培過程を通じて、露出率Pxと植物地上部1Aの背丈hxとに相関関係がある場合に有用である。すなわち、全栽培過程を通じて、露出率Pxが0(零)に達しないことが少なくとも必要である。また、任意の露出率Pxと背丈hxとの相関関係を実験やシミュレーションによって予め取得しておく必要がある。   The plant cultivation apparatus of the second embodiment is useful when there is a correlation between the exposure rate Px and the height hx of the plant ground portion 1A through the entire cultivation process of the plant 1 to be cultivated. That is, it is necessary at least that the exposure rate Px does not reach 0 (zero) throughout the entire cultivation process. Further, it is necessary to obtain in advance a correlation between an arbitrary exposure rate Px and a height hx through experiments and simulations.

制御部30Aは、図12に示すように、照明調整部32と、強度設定部31Aとを備え、強度設定部31Aの構成が、実施の形態1の強度設定部31の構成と異なる。具体的には、強度設定部31Aは、参照部311と、記憶部312Aと、演算部313と、露出率検出部314と、を備える。   As shown in FIG. 12, the control unit 30A includes an illumination adjustment unit 32 and an intensity setting unit 31A, and the configuration of the intensity setting unit 31A is different from the configuration of the intensity setting unit 31 of the first embodiment. Specifically, the intensity setting unit 31A includes a reference unit 311, a storage unit 312A, a calculation unit 313, and an exposure rate detection unit 314.

記憶部312Aは、定数H,Ia,Pa,ha,La,Ifに加えて、下表2に示されるような露出率Pxと背丈hxとの相関関係を示すデータテーブルDTを備える。   In addition to the constants H, Ia, Pa, ha, La, If, the storage unit 312A includes a data table DT indicating the correlation between the exposure rate Px and the height hx as shown in Table 2 below.

Figure 2019198256
Figure 2019198256

参照部311は、露出率検出部314が検出した露出率Pxに基づき、このデータテーブルDTにしたがって植物地上部1Aの背丈hxを選択する。例えば、露出率PxがP1である場合には、背丈hxとして背丈h1を選択する。なお、露出率Pxが、例えばP1とP2との間の値となる場合には、背丈h1,h2を補間して背丈hxを求める。   The reference unit 311 selects the height hx of the plant ground portion 1A based on the exposure rate Px detected by the exposure rate detection unit 314 according to the data table DT. For example, when the exposure rate Px is P1, the height h1 is selected as the height hx. When the exposure rate Px is a value between P1 and P2, for example, the height hx is obtained by interpolating the heights h1 and h2.

演算部313は、露出率検出部314が検出した露出率Pxと、参照部311が選択した背丈hxと、記憶部312Aが記憶している定数H,Ia,Pa,ha,La,Ifとを使用して、上式(1)により、葉面光量LIxが目標光量Iaとなるような光照射部3の照射強度設定値ISxを算出する。   The calculation unit 313 calculates the exposure rate Px detected by the exposure rate detection unit 314, the height hx selected by the reference unit 311 and the constants H, Ia, Pa, ha, La, If stored in the storage unit 312A. Using the above equation (1), the irradiation intensity setting value ISx of the light irradiation unit 3 is calculated such that the leaf surface light amount LIx becomes the target light amount Ia.

この他の構成は、実施の形態1と同様なので説明を省略する。   Since other configurations are the same as those of the first embodiment, the description thereof is omitted.

[2−2.照射強度設定値の決定処理]
図13を参照して、本実施の形態2で強度設定部31Aが行う照射強度設定値ISxの設定処理を説明する。図13は、本発明の実施の形態2における照射強度設定値の決定処理を説明するためのフローチャートである。なお、この決定処理は、植物栽培装置による栽培が実施されている間、周期的に繰り返し実行される。
[2-2. Irradiation intensity setting value determination process]
With reference to FIG. 13, the setting process of irradiation intensity setting value ISx performed by intensity setting unit 31A in the second embodiment will be described. FIG. 13 is a flowchart for explaining the irradiation intensity setting value determination process in the second embodiment of the present invention. In addition, this determination process is repeatedly performed periodically while cultivation with a plant cultivation apparatus is implemented.

先ず、ステップS31において、強度設定部31は、垂直撮像部91が撮像した地表面部4を上側から見た画像データを、露出率検出部314に取得させる。ステップS32において、強度設定部31は、露出率検出部314に、前ステップ32で取得させた画像データを画像解析させて地表面部露出率Pxを検出させる。ステップS33において、強度設定部31は、参照部311に、記憶部312AのデータテーブルDTを参照させ、地表面部露出率Pxに応じた植物地上部1Aの背丈hxを選択させる。ステップS34において、強度設定部31は、演算部313に、露出率検出部314が検出した露出率Pxと、参照部311が選択した背丈hxと、記憶部312Aが記憶している定数とを参照させ、上式(1)に基づいて照射強度設定値ISxを算出させる。   First, in step S31, the intensity setting unit 31 causes the exposure rate detection unit 314 to acquire image data obtained by viewing the ground surface portion 4 imaged by the vertical imaging unit 91 from the upper side. In step S32, the intensity setting unit 31 causes the exposure rate detection unit 314 to analyze the image data acquired in the previous step 32 and detect the ground surface portion exposure rate Px. In step S33, the strength setting unit 31 causes the reference unit 311 to refer to the data table DT of the storage unit 312A and selects the height hx of the plant ground portion 1A according to the ground surface portion exposure rate Px. In step S34, the intensity setting unit 31 refers to the calculation unit 313 with the exposure rate Px detected by the exposure rate detection unit 314, the height hx selected by the reference unit 311 and the constant stored in the storage unit 312A. Then, the irradiation intensity set value ISx is calculated based on the above equation (1).

そして、照明調整部32は、照明強度がこの照射強度設定値ISxとなるように光照射部3の出力を調整する。   And the illumination adjustment part 32 adjusts the output of the light irradiation part 3 so that illumination intensity becomes this irradiation intensity setting value ISx.

[2−3.効果]
本発明の実施の形態2によれば、実施の形態1の効果に加えて次のような効果が得られる。つまり、参照部311が、データテーブルDTを参照して、露出率Pxに応じて植物地上部1Aの背丈hxを選択するので、実施の形態1のように背丈hxを検出するための水平撮像部95が省略され、装置が簡素化される。
[2-3. effect]
According to the second embodiment of the present invention, the following effects are obtained in addition to the effects of the first embodiment. That is, since the reference unit 311 refers to the data table DT and selects the height hx of the plant ground portion 1A according to the exposure rate Px, the horizontal imaging unit for detecting the height hx as in the first embodiment. 95 is omitted and the apparatus is simplified.

[2−4.変形例]
上記の実施の形態2では、実施の形態1に対して、参照部311を設けて水平撮像部95及び背丈検出部315を省略したが、実施の形態1に対して、参照部311を設けて垂直撮像部91及び露出率検出部314を省略してもよい。この場合、背丈検出部315により、水平撮像部95の撮像データに基づいて植物地上部1Aの背丈hxを検出させ、参照部311が、データテーブルDTを参照して、背丈hxに応じて露出率Pxを選択する。
[2-4. Modified example]
In the second embodiment, the reference unit 311 is provided and the horizontal imaging unit 95 and the height detection unit 315 are omitted from the first embodiment. However, the reference unit 311 is provided in the first embodiment. The vertical imaging unit 91 and the exposure rate detection unit 314 may be omitted. In this case, the height detection unit 315 detects the height hx of the plant ground portion 1A based on the imaging data of the horizontal imaging unit 95, and the reference unit 311 refers to the data table DT and determines the exposure rate according to the height hx. Select Px.

[3.その他]
(1)上記各実施の形態では、光照射部3の照射強度が、強度設定部31,31Aにより決定された照射強度設定値ISxとなるように、照明調整部32が光照射部3の出力を自動調整するようにしたが、照明調整部32を省略してもよい。この場合、照射強度設定値ISxをモニタなどに表示させ、この表示を確認したオペレータが、光照射部3の照射強度が照射強度設定値ISxとなるように光照射部3の出力を手動で調整すればよい。
[3. Others]
(1) In each of the above embodiments, the illumination adjustment unit 32 outputs the light irradiation unit 3 so that the irradiation intensity of the light irradiation unit 3 becomes the irradiation intensity setting value ISx determined by the intensity setting units 31 and 31A. However, the illumination adjustment unit 32 may be omitted. In this case, the irradiation intensity setting value ISx is displayed on a monitor or the like, and the operator who confirms this display manually adjusts the output of the light irradiation unit 3 so that the irradiation intensity of the light irradiation unit 3 becomes the irradiation intensity setting value ISx. do it.

(2)上記各実施の形態では、植物栽培装置100による栽培が実施されている間、照射強度設定値ISxの決定処理を周期的に繰り返し実行するようにした。これに対し、例えばボタンを押すなどしてオペレータからの要求があったときだけ照射強度設定値ISxを再設定するようにしてもよい。   (2) In each said embodiment, while the cultivation by the plant cultivation apparatus 100 was implemented, the determination process of irradiation intensity setting value ISx was performed periodically and repeatedly. On the other hand, the irradiation intensity setting value ISx may be reset only when there is a request from the operator, for example, by pressing a button.

植物に適する光量は、植物の成長過程に応じて変化する。本発明は、植物の成長の様子をモニタリングしながら光量を制御するので、植物へ照射する光量を植物の成長に最適なものに設定できるので産業上の利用可能性は大きい。   The amount of light suitable for a plant varies depending on the growth process of the plant. Since the present invention controls the amount of light while monitoring the state of plant growth, the amount of light irradiated to the plant can be set to an optimum value for the growth of the plant, and thus the industrial applicability is great.

1 植物
1A 植物地上部(栽培対象部)
1B 植物地下部
3 光照射部
4 地表面部(植込部)
4A 貫通孔
5 栽培槽
5A 供給配管
5B 排出配管
6 上面反射板
7 側面反射板
8 培養液
11 タンク
12 ポンプ
21 地上空間(栽培空間)
25 地下空間
30,30A 制御部
31,31A 強度設定部
32 照明調整部
35 照明支持部
41 培地
91 垂直撮像部(第一撮像部)
92 垂直撮像部撮像範囲
95 水平撮像部(第二撮像部)
100 植物栽培装置
200 筐体
311 参照部
312,312A 記憶部
313 演算部
314 露出率検出部
315 背丈検出部
H 光照射部3と地表面部4との距離
ha 基準高さ
hx 植物地上部1Aの背丈
Ia 目標光量
If 基準光量
La 基準照射強度
Pa 基準露出率
Px 露出率
Ta 基準時間
Tx 経過時間
1 plant 1A plant above-ground part (cultivation target part)
1B Plant underground part 3 Light irradiation part 4 Ground surface part (planting part)
4A Through-hole 5 Cultivation tank 5A Supply pipe 5B Discharge pipe 6 Top reflector 7 Side reflector 8 Culture solution 11 Tank 12 Pump 21 Ground space (cultivation space)
25 underground space 30, 30A control unit 31, 31A intensity setting unit 32 illumination adjustment unit 35 illumination support unit 41 medium 91 vertical imaging unit (first imaging unit)
92 Vertical imaging unit imaging range 95 Horizontal imaging unit (second imaging unit)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Plant cultivation apparatus 200 Housing | casing 311 Reference part 312,312A Memory | storage part 313 Calculation part 314 Exposure rate detection part 315 Height detection part H Distance between the light irradiation part 3 and the ground surface part 4 ha Reference height hx Height Ia Target light amount If Reference light amount La Reference irradiation intensity Pa Reference exposure rate Px Exposure rate Ta Reference time Tx Elapsed time

Claims (7)

植物が植え込まれる植込部と、
前記植込部へ第一方向から光を照射する光照射部と、
前記第一方向から視た場合において前記植込部が前記植物に覆われずに露出する露出率Pxが低くなるほど、前記光照射部の照射強度の設定値ISxを高くする強度設定部と、を備える
植物栽培装置。
A planting part in which plants are planted;
A light irradiator that irradiates light from a first direction to the implanted part; and
An intensity setting unit that increases the set value ISx of the irradiation intensity of the light irradiation unit as the exposure rate Px at which the planting unit is exposed without being covered by the plant when viewed from the first direction is reduced; A plant cultivation device provided.
前記光照射部の照射強度が前記設定値ISxとなるように、前記光照射部の出力を調整する照明調整部をさらに備える
請求項1に記載の植物栽培装置。
The plant cultivation apparatus according to claim 1, further comprising an illumination adjustment unit that adjusts an output of the light irradiation unit such that an irradiation intensity of the light irradiation unit becomes the set value ISx.
前記強度設定部は、
前記植物の一部であって前記光照射部と前記植込部との間の栽培空間に配置される栽培対象部の背丈hxが高くなるほど、前記設定値ISxを低くする
請求項1又は2に記載の植物栽培装置。
The intensity setting unit
The said setting value ISx is made low, so that the height hx of the cultivation object part which is a part of the said plant and is arrange | positioned in the cultivation space between the said light irradiation part and the said planting part becomes high. The plant cultivation apparatus as described.
前記第一方向から前記植込部を撮像する第一撮像部と、
前記第一方向と交差する第二方向から、前記栽培空間を撮像する第二撮像部と、をさらに備え、
前記強度設定部は、
前記第一撮像部の撮像情報に基づいて、前記植込部が前記植物に覆われずに露出している露出部の面積である露出面積を求め、前記露出面積と、前記第一撮像部の撮像範囲の面積である撮像面積と、の比を、前記露出率Pxとして取得し、
前記第二撮像部の撮像情報に基づいて前記背丈hxを取得する
請求項3に記載の植物栽培装置。
A first imaging unit that images the implanted unit from the first direction;
From a second direction intersecting the first direction, further comprising a second imaging unit that images the cultivation space,
The intensity setting unit
Based on the imaging information of the first imaging unit, an exposed area that is an area of the exposed part that is exposed without the planted part being covered with the plant is obtained, and the exposed area and the first imaging unit The ratio of the imaging area which is the area of the imaging range is acquired as the exposure rate Px,
The plant cultivation apparatus according to claim 3, wherein the height hx is acquired based on imaging information of the second imaging unit.
前記第一方向から前記植込部を撮像する第一撮像部をさらに備え、
前記強度設定部は、
前記露出率Pxと前記背丈hxとの相関関係を記憶し、
前記第一撮像部の撮像情報に基づいて、前記植込部が前記植物に覆われずに露出している露出部の面積である露出面積を求め、前記露出面積と、前記第一撮像部の撮像範囲の面積である撮像面積と、の比を、前記露出率Pxとして取得し、
前記相関関係にしたがって、前記露出率Pxから前記前記背丈hxを取得する
請求項3に記載の植物栽培装置。
A first imaging unit that images the implanted unit from the first direction;
The intensity setting unit
Storing the correlation between the exposure rate Px and the height hx;
Based on the imaging information of the first imaging unit, an exposed area that is an area of the exposed part that is exposed without the planted part being covered with the plant is obtained, and the exposed area and the first imaging unit The ratio of the imaging area which is the area of the imaging range is acquired as the exposure rate Px,
The plant cultivation apparatus according to claim 3, wherein the height hx is acquired from the exposure rate Px according to the correlation.
前記第一方向と交差する第二方向から、前記栽培空間を撮像する第二撮像部をさらに備え、
前記強度設定部は、
前記露出率Pxと前記背丈hxとの相関関係を記憶し、
前記第二撮像部の撮像情報に基づいて前記背丈hxを取得し、
前記相関関係にしたがって、前記背丈hxから前記露出率Pxを取得する
請求項3に記載の植物栽培装置。
From the second direction intersecting the first direction, further comprising a second imaging unit that images the cultivation space,
The intensity setting unit
Storing the correlation between the exposure rate Px and the height hx;
Obtaining the height hx based on the imaging information of the second imaging unit;
The plant cultivation device according to claim 3 which acquires said exposure rate Px from said height hx according to said correlation.
前記強度設定部は、前記背丈hxと前記露出率Pxとに加え、それぞれ予め記憶した距離H、基準露出率Pa、基準高さha、目標光量Ia、基準照射強度La、及び、基準光量Ifとを使用して、前記設定値ISxを下式(1)より設定する
請求項3〜6の何れか一項に記載の植物栽培装置。
Figure 2019198256

ここで、前記距離Hは前記光照射部と前記植込部との距離であり、前記基準露出率Paは基準時間Taでの前記露出率Pxであり、前記基準高さhaは前記基準時間Taでの前記背丈hxであり、前記目標光量Iaは、前記栽培空間における前記基準時間Ta且つ前記基準高さhaでの光量Ixであり、前記基準照射強度Laは前記基準時間Taでの前記照射強度であり、前記基準光量Ifは前記露出率Pxが零となる時点での前記光量Ixであり、前記基準時間Taは、前記植物の栽培を開始してから前記露出率Pxが零になるまでの時間内において選択された時点である。
In addition to the height hx and the exposure rate Px, the intensity setting unit includes a distance H, a reference exposure rate Pa, a reference height ha, a target light amount Ia, a reference irradiation intensity La, and a reference light amount If, which are stored in advance. The plant cultivation apparatus according to any one of claims 3 to 6, wherein the set value ISx is set from the following formula (1) using:
Figure 2019198256

Here, the distance H is a distance between the light irradiation part and the implantation part, the reference exposure rate Pa is the exposure rate Px at a reference time Ta, and the reference height ha is the reference time Ta. The target light amount Ia is the light amount Ix at the reference time Ta and the reference height ha in the cultivation space, and the reference irradiation intensity La is the irradiation intensity at the reference time Ta. The reference light amount If is the light amount Ix at the time when the exposure rate Px becomes zero, and the reference time Ta is from the start of cultivation of the plant until the exposure rate Px becomes zero. It is the point in time selected in time.
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