JP2019186376A - Method for drying glass article - Google Patents

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利久 岡田
Toshihisa Okada
利久 岡田
博敬 三木
Hirotaka Miki
博敬 三木
長岡 和俊
Kazutoshi Nagaoka
和俊 長岡
伸次郎 土屋
Shinjiro Tsuchiya
伸次郎 土屋
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Speedfam Clean System Co Ltd
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Asahi Glass Co Ltd
Speedfam Clean System Co Ltd
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Abstract

To provide a method for drying a glass article, capable of reducing the number of particles on the surface of the glass article.SOLUTION: A method for drying a glass article includes a step of soaking the glass article into process liquid while placing the article on a holding cassette where the bottom of V-shaped groove and a receiving groove extending downward from the bottom are formed in a plate having the V-shaped groove, and a step of removing the process liquid adhering to the surface of the glass article while moving the holding cassette, in a state where the glass article is placed, in gas atmosphere containing isopropyl alcohol vapor from the process liquid.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、ガラス物品の乾燥方法に関する。   The present invention relates to a method for drying glass articles.

携帯電話、携帯情報端末、またはノート型コンピュータなどに使用される半導体部品を製造する際に、ガラス基板、ガラスパネル、またはガラスレンズなど種々のガラス物品が使用されている。   Various glass articles such as a glass substrate, a glass panel, or a glass lens are used in manufacturing semiconductor components used in a mobile phone, a portable information terminal, a notebook computer, or the like.

こうしたガラス物品は、その製造工程において、基板保持カセットの溝にガラス基板の一部を挟持させた状態で保持される。基板保持カセットに保持された基板は、純水や水系洗浄剤などで洗浄された後、基板を乾燥して、基板の表面の純水など処理液を除去している(例えば、特許文献1参照)。   In the manufacturing process, such a glass article is held in a state where a part of the glass substrate is sandwiched in the groove of the substrate holding cassette. The substrate held in the substrate holding cassette is washed with pure water or a water-based cleaning agent, and then dried to remove a processing solution such as pure water on the surface of the substrate (see, for example, Patent Document 1). ).

特開2003−318256号公報JP 2003-318256 A

しかしながら、従来の技術のように、基板保持カセットの溝に基板の一部を挟持させる場合、基板保持カセットの溝と基板との間の狭い間隙に処理液が残り易い傾向にある。そのため、基板保持カセットの溝に基板の一部を挟持させた状態で基板を乾燥させると、基板保持カセットの溝と基板との間に残った処理液が基板の主面に拡散して、水シミ(ウォーターマーク)が発生してしまう可能性があった。基板表面に水シミが発生することで、洗浄後の基板の粒子(パーティクル)が多くなる可能性があった。   However, when a part of the substrate is sandwiched in the groove of the substrate holding cassette as in the prior art, the processing liquid tends to remain in a narrow gap between the groove of the substrate holding cassette and the substrate. For this reason, when the substrate is dried in a state where a part of the substrate is sandwiched in the groove of the substrate holding cassette, the processing liquid remaining between the groove of the substrate holding cassette and the substrate diffuses to the main surface of the substrate, and water There was a possibility that a spot (watermark) would occur. The generation of water stains on the substrate surface may increase the number of particles on the substrate after cleaning.

本発明の一態様は、ガラス物品の表面にある粒子数を少なくすることができるガラス物品の乾燥方法を提供することを目的とする。   An object of one embodiment of the present invention is to provide a method for drying a glass article that can reduce the number of particles on the surface of the glass article.

本発明の一態様に係るガラス物品の乾燥方法は、ガラス物品を、V字状溝を有した板に、前記V字状溝の底部および前記底部から下方に伸びる受け溝が形成された保持カセットに載置した状態で前記処理液に浸漬する工程と、前記ガラス物品が載置された状態で前記保持カセットを、前記処理液からイソプロピルアルコールの蒸気を含むガス雰囲気中に移動しながら前記ガラス物品の表面に付着している前記処理液を除去する工程とを含む。   In the method for drying a glass article according to one aspect of the present invention, the glass article is a holding cassette in which a plate having a V-shaped groove is formed with a bottom portion of the V-shaped groove and a receiving groove extending downward from the bottom portion. The glass article while being immersed in the treatment liquid in a state where the glass article is placed, and the holding cassette being moved from the treatment liquid into a gas atmosphere containing isopropyl alcohol vapor while being placed on the glass article. Removing the treatment liquid adhering to the surface of the substrate.

本発明の一態様に係るガラス物品の乾燥方法は、ガラス物品の表面にある粒子数を少なくすることができる。   The glass article drying method according to one embodiment of the present invention can reduce the number of particles on the surface of the glass article.

一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法に用いられる乾燥装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the drying apparatus used for the drying method of the glass article which concerns on one Embodiment. 保持カセットの構成の一例を示す外観斜視図である。It is an external appearance perspective view which shows an example of a structure of a holding | maintenance cassette. 保持カセットに形成される溝の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of the groove | channel formed in a holding | maintenance cassette. 一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法の工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of the drying method of the glass article which concerns on one Embodiment. ガラス物品の乾燥方法の一部を説明する図である。It is a figure explaining a part of drying method of a glass article. ガラス物品の乾燥方法の一部を説明する図である。It is a figure explaining a part of drying method of a glass article. ガラス物品の乾燥方法の一部を説明する図である。It is a figure explaining a part of drying method of a glass article. ガラス物品の乾燥方法の一部を説明する図である。It is a figure explaining a part of drying method of a glass article. 一実施形態に係る乾燥方法が用いられる乾燥装置を備えた洗浄乾燥装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the washing | cleaning drying apparatus provided with the drying apparatus with which the drying method which concerns on one Embodiment is used. 洗浄乾燥方法の工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of the washing-drying method.

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、理解の容易のため、図面における各部材の縮尺は実際とは異なる場合がある。また、以下の説明において、乾燥装置の高さ方向の一方を上または上方といい、乾燥装置の高さ方向の他方を下または下方という場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. For ease of understanding, the scale of each member in the drawings may be different from the actual scale. Moreover, in the following description, one of the height direction of a drying apparatus may be called upper or upper direction, and the other of the height direction of a drying apparatus may be called lower or lower direction.

<乾燥装置>
一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法に用いられる乾燥装置について説明する。図1は、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法に用いられる乾燥装置の一例を示す概略構成図である。図1に示すように、乾燥装置10は、処理槽20、処理液揮発部30、およびガス供給部40を有している。また、乾燥装置10は、処理槽20および処理液揮発部30を囲う処理室50を有する。処理室50の下方に処理槽20が設置され、処理槽20の上方が処理液揮発部30となる。なお、図1では、処理室50の上部が開放されているが、乾燥装置10自体は閉空間となっており、大気開放されているわけではない。
<Drying device>
A drying apparatus used in the method for drying a glass article according to an embodiment will be described. Drawing 1 is a schematic structure figure showing an example of a drying device used for a drying method of a glass article concerning one embodiment. As shown in FIG. 1, the drying apparatus 10 includes a treatment tank 20, a treatment liquid volatilization unit 30, and a gas supply unit 40. In addition, the drying apparatus 10 includes a processing chamber 50 that surrounds the processing tank 20 and the processing liquid volatilizing unit 30. A treatment tank 20 is installed below the treatment chamber 50, and the treatment liquid volatilization unit 30 is located above the treatment tank 20. In FIG. 1, the upper portion of the processing chamber 50 is open, but the drying apparatus 10 itself is a closed space and is not open to the atmosphere.

処理槽20は、ガラス物品Pを洗浄すると共に乾燥の前段階としてガラス物品を液体に浸漬させるものであり、槽本体21と、外槽22とを有する。   The processing tank 20 cleans the glass article P and immerses the glass article in a liquid as a pre-drying stage, and includes a tank body 21 and an outer tank 22.

ガラス物品Pとしては、例えば、ガラスウェハ(ガラス基板)、ガラスパネル、またはガラスレンズなどが挙げられる。ガラス基板の用途として、支持ガラスやカバーガラスなどが挙げられる。   Examples of the glass article P include a glass wafer (glass substrate), a glass panel, or a glass lens. Examples of the use of the glass substrate include support glass and cover glass.

槽本体21は、ガラス物品Pを収容するのに充分な大きさを有すればよく、例えば箱型であってもよい。槽本体21には、純水Wが供給される。槽本体21内に供給された純水Wは、適宜外部に排出される。   The tank body 21 only needs to be large enough to accommodate the glass article P, and may be, for example, a box shape. Pure water W is supplied to the tank body 21. The pure water W supplied into the tank body 21 is appropriately discharged outside.

外槽22は、槽本体21からオーバーフローした純水Wを回収でき、且つ後述の処理液揮発部30の不活性ガス雰囲気を形成できれば、その構成は特に限定されない。例えば、図1では、外槽22は、槽本体21の外周に、槽本体21と入れ子のような状態で槽本体21を囲うように設けられている。外槽22内の純水Wは、適宜外部に排出される。   The configuration of the outer tub 22 is not particularly limited as long as the pure water W overflowed from the tub body 21 can be collected and an inert gas atmosphere of the processing liquid volatilization unit 30 described later can be formed. For example, in FIG. 1, the outer tank 22 is provided on the outer periphery of the tank body 21 so as to surround the tank body 21 in a state of being nested with the tank body 21. The pure water W in the outer tub 22 is appropriately discharged outside.

ガラス物品Pは、ガラス物品Pを保持する保持カセット60を用いて、槽本体21内の純水W中に浸漬される。図2は、保持カセット60の構成の一例を示す外観斜視図であり、図3は、保持カセット60の部分拡大図である。図2および図3に示すように、保持カセット60は、長手方向に伸びる支持部61を短手方向に所定間隔で3つ有する。保持カセット60は、支持部61に、それぞれ、ガラス物品Pを保持することが可能な溝62を複数有する。   The glass article P is immersed in the pure water W in the tank body 21 using the holding cassette 60 that holds the glass article P. FIG. 2 is an external perspective view showing an example of the configuration of the holding cassette 60, and FIG. 3 is a partially enlarged view of the holding cassette 60. As shown in FIGS. 2 and 3, the holding cassette 60 has three support portions 61 extending in the longitudinal direction at predetermined intervals in the short direction. The holding cassette 60 has a plurality of grooves 62 that can hold the glass article P in the support portion 61.

溝62は、保持カセット60の長手端面を短手方向に見たとき、略V字状に形成されたV字状溝621と、V字状溝621の底部から支持部61の長手側の端面に沿って下方に伸びた受け溝622とを有する。   The groove 62 includes a V-shaped groove 621 formed in a substantially V shape when the longitudinal end surface of the holding cassette 60 is viewed in the short direction, and an end surface on the long side of the support portion 61 from the bottom of the V-shaped groove 621. And a receiving groove 622 extending downward along the line.

ガラス物品Pが溝62に挿入されると、V字状溝621の隙間がガラス物品Pの厚みと略同等の位置で、ガラス物品Pの両主面は、V字状溝621に挟み込まれる。これにより、ガラス物品Pは、V字状溝621に挟持された状態で支持される。よって、ガラス物品Pは、3つの支持部61の溝62によって支持された状態で、保持カセット60に載置される。なお、V字状溝621の傾斜角度は、ガラス物品Pを挟み込んで支持できれば、特に限定されない。また、V字状溝621は、略V字状に形成されていれば、底部側から上面側に向けて末広がりになるように形成されていてもよい。また、支持部61の個数と位置は、ガラス物品Pが支持できれば、特に限定されない。   When the glass article P is inserted into the groove 62, the two main surfaces of the glass article P are sandwiched between the V-shaped grooves 621 at a position where the gap of the V-shaped groove 621 is substantially equal to the thickness of the glass article P. Thereby, the glass article P is supported in a state of being sandwiched between the V-shaped grooves 621. Therefore, the glass article P is placed on the holding cassette 60 while being supported by the grooves 62 of the three support portions 61. The inclination angle of the V-shaped groove 621 is not particularly limited as long as the glass article P can be sandwiched and supported. Further, as long as the V-shaped groove 621 is formed in a substantially V shape, the V-shaped groove 621 may be formed so as to widen toward the top surface from the bottom side. Moreover, the number and position of the support part 61 will not be specifically limited if the glass article P can be supported.

受け溝622は、保持カセット60の長手端面を短手方向に見たとき、略U状に形成されている。受け溝622は、ガラス物品PからV字状溝621を介して落ちてくる純水Wを回収し、下方に伸びた受け溝622を介して、下方へ落とす。なお、受け溝622は、支持部61の両面に形成されている。   The receiving groove 622 is formed in a substantially U shape when the longitudinal end surface of the holding cassette 60 is viewed in the short direction. The receiving groove 622 collects the pure water W falling from the glass article P through the V-shaped groove 621 and drops it downward through the receiving groove 622 extending downward. The receiving groove 622 is formed on both surfaces of the support portion 61.

槽本体21の上部は開放されているので、ガラス物品Pの乾燥時に、後述する混合ガスGなどの供給が停止した後、槽本体21内へ外気が流れ込んでくるため、空気の流れの変化などが生じ易い。ガラス物品Pの端面とV字状溝621の底部との間、またはガラス物品Pの主面とV字状溝621との間に純水Wが残る場合がある。混合ガスGによって純水Wがガラス物品Pの主面に広がることが防止できるが、外気が流れ込んできて、残った純水Wが完全に乾燥しきるまでに長い時間を要する。その間に混合ガスGの供給を断ってしまうと、残っている純水Wがガラス物品Pの主面に広がり易い傾向にある。溝62が受け溝622を有することで、これらの残っている純水Wを受け溝622に排出することができる。   Since the upper part of the tank main body 21 is open, since the outside air flows into the tank main body 21 after the supply of the mixed gas G, which will be described later, is stopped when the glass article P is dried, the air flow changes, etc. Is likely to occur. The pure water W may remain between the end surface of the glass article P and the bottom of the V-shaped groove 621 or between the main surface of the glass article P and the V-shaped groove 621. Although it is possible to prevent the pure water W from spreading on the main surface of the glass article P by the mixed gas G, it takes a long time for the outside air to flow in and the remaining pure water W to be completely dried. If the supply of the mixed gas G is turned off during that time, the remaining pure water W tends to easily spread on the main surface of the glass article P. Since the groove 62 has the receiving groove 622, these remaining pure water W can be received and discharged into the groove 622.

なお、受け溝622の前記開口部の大きさは、ガラス物品Pが入らなければ、特に限定されない。また、受け溝622は、純水Wが下に抜けていくように、支持部61の下方まで伸びている。また、受け溝622は、支持部61の表裏両面側に形成されているのが好ましい。   In addition, the magnitude | size of the said opening part of the receiving groove 622 will not be specifically limited if the glass article P does not enter. Further, the receiving groove 622 extends to the lower side of the support portion 61 so that the pure water W passes downward. The receiving grooves 622 are preferably formed on both the front and back sides of the support portion 61.

本実施形態では、支持部61同士の間隔、または溝62の大きさや数は、特に限定されるものではなく、ガラス物品Pの大きさ、厚みなどに応じて、これらは設定可能である。   In this embodiment, the space | interval of the support parts 61 or the magnitude | size and number of the groove | channel 62 are not specifically limited, According to the magnitude | size, thickness, etc. of the glass article P, these can be set.

また、図2では、溝62が保持カセット60に一体化されている構成を示しているが、特に限定されない。例えば、溝62を含む支持部61が保持カセット60と一体化されておらず、支持部と、支持部が設けられるカセット部とが別々の構成であってもよい。   Further, FIG. 2 shows a configuration in which the groove 62 is integrated with the holding cassette 60, but is not particularly limited. For example, the support part 61 including the groove 62 may not be integrated with the holding cassette 60, and the support part and the cassette part provided with the support part may have different configurations.

処理液揮発部30は、処理室50の上方に形成される混合ガス雰囲気の空間である。混合ガス雰囲気は、イソプロピルアルコール(IPA)の蒸気(以下、IPA蒸気ともいう)と不活性ガス(例えば、窒素(N2)ガスやアルゴン(Ar)ガスなど)とを含む雰囲気である。槽本体21で処理されたガラス物品Pは、槽本体21から処理液揮発部30に移動され、処理液揮発部30で保持される。 The processing liquid volatilization unit 30 is a mixed gas atmosphere space formed above the processing chamber 50. The mixed gas atmosphere is an atmosphere containing isopropyl alcohol (IPA) vapor (hereinafter also referred to as IPA vapor) and an inert gas (for example, nitrogen (N 2 ) gas or argon (Ar) gas). The glass article P processed in the tank main body 21 is moved from the tank main body 21 to the processing liquid volatilizing unit 30 and is held in the processing liquid volatilizing unit 30.

処理液揮発部30では、IPA蒸気の濃度は、純水Wの表面側の方が純水Wの表面から遠い側(上方)よりも高い。Nガス濃度は、純水Wの表面側の方が純水Wの表面から遠い側(上方)よりも低い。 In the treatment liquid volatilizing unit 30, the concentration of the IPA vapor is higher on the surface side of the pure water W than on the side farther from the surface of the pure water W (upward). The N 2 gas concentration is lower on the surface side of the pure water W than on the side farther from the surface of the pure water W (upward).

ガス供給部40は、IPA蒸気を不活性ガスに含んだ混合ガスGを外槽22内に供給する。   The gas supply unit 40 supplies a mixed gas G containing IPA vapor in an inert gas into the outer tank 22.

IPA蒸気の供給方法としては、特に限定はされないが、例えば、IPA溶液が溜まった容器にN2ガスなどの不活性ガスをバブリングすることにより発生させる方法、または超音波によりIPA蒸気を発生させる方法を適用してもよい。 A method for supplying the IPA vapor is not particularly limited. For example, a method for generating an IPA vapor by bubbling an inert gas such as N 2 gas in a container in which an IPA solution is accumulated, or a method for generating an IPA vapor by ultrasonic waves. May be applied.

2ガスをバブリングする際は、気泡サイズを小さくしてIPA溶液と接触する表面積を大きくすることが好ましい。その方法として、例えば、多孔質体にN2ガスを通してバブリングする方法がある。 When bubbling N 2 gas, it is preferable to reduce the bubble size and increase the surface area in contact with the IPA solution. For example, there is a method of bubbling N 2 gas through a porous body.

なお、供給するIPA蒸気の量が多い場合、IPA蒸気を発生させるための容器の数を複数にすることが好ましい。これは、容器当りで発生させるIPA蒸気の必要量が多いと、必要とするN2ガスの量が多くなり、容器からIPA溶液が噴きこぼれてしまうおそれがあるからである。 In addition, when there is much quantity of the IPA vapor | steam supplied, it is preferable to make the number of the containers for generating an IPA vapor | steam into plurality. This is because if the required amount of IPA vapor generated per container is large, the amount of N 2 gas required increases and the IPA solution may spill out of the container.

IPA蒸気供給ノズル43は、外槽22の側壁に複数設けられている。IPA蒸気供給ノズル43は、IPA蒸気とN2ガスと含む混合ガスGを吹き出している。これにより、IPA蒸気供給ノズル43から、槽本体21内の純水Wから引き上げられるガラス物品Pに混合ガスGが吹き付けられる。外槽22の上部は開放されているので、IPA蒸気供給ノズル43から外槽22内に供給された混合ガスGは、外槽22の上部から放出される。 A plurality of IPA vapor supply nozzles 43 are provided on the side wall of the outer tub 22. The IPA vapor supply nozzle 43 blows out a mixed gas G containing IPA vapor and N 2 gas. Thereby, the mixed gas G is sprayed from the IPA vapor supply nozzle 43 to the glass article P pulled up from the pure water W in the tank body 21. Since the upper part of the outer tank 22 is open, the mixed gas G supplied from the IPA vapor supply nozzle 43 into the outer tank 22 is discharged from the upper part of the outer tank 22.

本実施形態では、IPA蒸気供給ノズル43は、処理槽20の外槽22の側壁の純水Wの表面近傍と、保持カセット60が処理液揮発部30に移動したときに、保持カセット60よりも上にある位置に、それぞれ、保持カセット60を挟むように対向して設けられている。これにより、混合ガスGは、IPA蒸気供給ノズル43により、純水Wと処理液揮発部30である不活性ガス雰囲気との界面付近に供給されると共に、保持カセット60が処理液揮発部30に移動した時に、保持カセット60が混合ガスGの雰囲気で包まれる。混合ガスG中のIPA蒸気の一部は、純水Wの表面から純水Wへ溶け込んでいく。一方、処理液揮発部30の上方は、大気開放されているために、混合ガスGは拡散し、IPA蒸気の濃度が低くなる。   In the present embodiment, the IPA vapor supply nozzle 43 is closer to the surface of the pure water W on the side wall of the outer tank 22 of the processing tank 20 and when the holding cassette 60 moves to the processing liquid volatilization unit 30 than the holding cassette 60. They are respectively provided at the upper positions so as to sandwich the holding cassette 60 therebetween. Thereby, the mixed gas G is supplied by the IPA vapor supply nozzle 43 to the vicinity of the interface between the pure water W and the inert gas atmosphere as the processing liquid volatilizing unit 30, and the holding cassette 60 is supplied to the processing liquid volatilizing unit 30. When moved, the holding cassette 60 is wrapped in the atmosphere of the mixed gas G. Part of the IPA vapor in the mixed gas G dissolves into the pure water W from the surface of the pure water W. On the other hand, since the upper part of the treatment liquid volatilizing unit 30 is open to the atmosphere, the mixed gas G diffuses and the concentration of the IPA vapor becomes low.

よって、保持カセット60を処理槽20内の純水Wから処理液揮発部30に引き上げ、IPA蒸気を含むガス雰囲気中に移動させる際、ガラス物品Pを、マランゴニ効果を用いた乾燥(マランゴニ乾燥)により、乾燥させることができる。これにより、ガラス物品Pの表面から純水Wを除去することができる。なお、純水Wは不純物濃度が低いが、少なからず純水W中に粒子などが分散している状態である。乾燥時に水シミが発生すると、これらの粒子がガラス表面に残ってしまう場合がある。また、水シミが発生した場合、ガラスのアルカリ成分やアルカリ土類成分など溶出しやすい成分が水シミに溶出するため、この水シミが乾燥した際に、溶出した成分がガラス表面に付着する現象が起こることがある。本実施形態では、水シミの発生を低減できるので、基板上に残る粒子を、従来方法と比較して少なくすることができる。このマランゴニ乾燥を用いたガラス物品Pの乾燥の詳細については、後述する。   Therefore, when the holding cassette 60 is pulled up from the pure water W in the treatment tank 20 to the treatment liquid volatilizing unit 30 and moved into a gas atmosphere containing IPA vapor, the glass article P is dried using the Marangoni effect (Marangoni drying). Can be dried. Thereby, the pure water W can be removed from the surface of the glass article P. In addition, although the pure water W has a low impurity concentration, there are not a few particles or the like dispersed in the pure water W. If water stains occur during drying, these particles may remain on the glass surface. In addition, when water stains occur, easily eluted components such as alkali components and alkaline earth components of glass are eluted in water stains, and when these water stains are dried, the eluted components adhere to the glass surface. May happen. In this embodiment, since generation | occurrence | production of a water stain can be reduced, the particle | grains which remain | survive on a board | substrate can be decreased compared with the conventional method. Details of the drying of the glass article P using the Marangoni drying will be described later.

乾燥装置10は、ガラス物品Pが載置される保持カセット60を保持して処理室50内を昇降させる不図示のガイド手段を備えている。   The drying apparatus 10 includes guide means (not shown) that holds the holding cassette 60 on which the glass article P is placed and moves up and down the processing chamber 50.

処理室50の上端は、処理室50内に保持カセット60を出し入れするための搬入口となる。   The upper end of the processing chamber 50 becomes a carry-in port for taking in and out the holding cassette 60 in the processing chamber 50.

乾燥装置10は、保持カセット60を用いて、保持カセット60にガラス物品Pを載置した状態で、ガラス物品Pを槽本体21の純水W内に浸漬したり、ガラス物品Pを純水W中から処理液揮発部30に引き上げている。保持カセット60は、ガラス物品Pの主面とV字状溝621との間に残る純水Wを受け溝622に排出するので、ガラス物品PとV字状溝621との間に純水Wが溜まることを抑制することができる。これにより、ガラス物品PとV字状溝621との間に溜まった純水Wが、乾燥後にガラス物品Pの表面に広がることを抑制することができる。よって、乾燥装置10は、保持カセット60を用いることで、乾燥後のガラス物品Pの表面に水シミなどが発生することを抑制することができる。   The drying apparatus 10 uses the holding cassette 60 to immerse the glass article P in the pure water W of the tank body 21 in a state where the glass article P is placed on the holding cassette 60. The inside is pulled up from the inside to the treatment liquid volatilizing unit 30. Since the holding cassette 60 receives the pure water W remaining between the main surface of the glass article P and the V-shaped groove 621, the holding cassette 60 discharges the pure water W between the glass article P and the V-shaped groove 621. Can be prevented from accumulating. Thereby, it can suppress that the pure water W collected between the glass article P and the V-shaped groove | channel 621 spreads on the surface of the glass article P after drying. Therefore, the drying apparatus 10 can suppress the occurrence of water spots or the like on the surface of the glass article P after drying by using the holding cassette 60.

また、乾燥装置10は、IPA蒸気供給ノズル43により、純水Wの表面近傍に混合ガスGを吹き付け、純水Wの表面近傍にIPA蒸気の濃度が高い層を形成している。これにより、ガラス物品Pを純水W中から処理液揮発部30に移動させる際、マランゴニ乾燥により、ガラス物品Pの表面に付着している純水Wを除去することができるので、乾燥後のガラス物品Pの表面に水シミなどが残ることを抑制することができる。   Further, the drying apparatus 10 sprays the mixed gas G near the surface of the pure water W by the IPA vapor supply nozzle 43 to form a layer having a high IPA vapor concentration near the surface of the pure water W. Thereby, when moving the glass article P from the pure water W to the treatment liquid volatilizing unit 30, the pure water W adhering to the surface of the glass article P can be removed by Marangoni drying. It is possible to prevent water stains or the like from remaining on the surface of the glass article P.

なお、本実施形態では、処理液として、純水Wを使用しているが、これに限定されず他の溶媒を用いてもよい。   In this embodiment, pure water W is used as the treatment liquid, but the present invention is not limited to this, and other solvents may be used.

本実施形態では、マランゴニ効果を発生させる有機溶剤として、IPAを使用しているが、これに限定されず、表面張力を低下させる効果があり、水に対する溶解性の高い有機溶媒であればよい。   In this embodiment, IPA is used as the organic solvent that generates the Marangoni effect, but it is not limited to this, and any organic solvent that has an effect of reducing the surface tension and is highly soluble in water may be used.

<ガラス物品の乾燥方法>
次に、上記のような構成を有する乾燥装置10を用いて、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法について、以下に説明する。
<Drying method of glass article>
Next, the drying method of the glass article which concerns on one Embodiment using the drying apparatus 10 which has the above structures is demonstrated below.

図4は、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法の工程を示すフローチャートである。図4に示すように、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法は、ガラス物品Pを処理槽20内の純水W中に浸漬する工程(ステップS11)と、ガラス物品Pを純水Wから処理液揮発部30に移動して乾燥させる工程(ステップS12)とを含む。   FIG. 4 is a flowchart illustrating steps of a method for drying a glass article according to an embodiment. As shown in FIG. 4, the method for drying a glass article according to an embodiment includes a step of immersing the glass article P in the pure water W in the treatment tank 20 (step S <b> 11), and the glass article P from the pure water W. And moving to the treatment liquid volatilizing unit 30 and drying (step S12).

以下、各工程について図5〜図8に基づいて説明する。図5〜図8は、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法の一部を説明する図である。   Hereinafter, each process is demonstrated based on FIGS. 5-8 is a figure explaining a part of drying method of the glass article which concerns on one Embodiment.

ステップS11では、図5に示すように、処理槽20の槽本体21内が純水Wで予め満たされている状態で、ガラス物品Pを載置した保持カセット60を、槽本体21内の純水W中に浸漬する。   In step S <b> 11, as shown in FIG. 5, the holding cassette 60 on which the glass article P is placed in a state where the tank body 21 of the processing tank 20 is filled with pure water W in advance is replaced with pure water in the tank body 21. Immerse in water W.

保持カセット60を槽本体21内の純水W中に浸漬した後、IPA蒸気供給ノズル43から槽本体21内の純水Wの表面近傍と、外槽22の上部付近とに、IPA蒸気とN2ガスとを含む混合ガスGを供給する。これにより、純水Wの上方に処理液揮発部30が形成される。 After the holding cassette 60 is immersed in the pure water W in the tank main body 21, the IPA vapor and N are supplied to the vicinity of the surface of the pure water W in the tank main body 21 and the upper part of the outer tank 22 from the IPA vapor supply nozzle 43. A mixed gas G containing two gases is supplied. Thereby, the processing liquid volatilization part 30 is formed above the pure water W.

処理液揮発部30では、純水Wの表面近傍に向けて供給された混合ガスG中のIPA蒸気の一部は、純水Wの表面から純水Wへ溶け込んでいく。一方、外槽22の上部付近に供給された混合ガスGは、処理液揮発部30の上方から大気中に拡散する。   In the treatment liquid volatilizing unit 30, part of the IPA vapor in the mixed gas G supplied toward the vicinity of the surface of the pure water W is dissolved into the pure water W from the surface of the pure water W. On the other hand, the mixed gas G supplied to the vicinity of the upper part of the outer tub 22 diffuses into the atmosphere from above the treatment liquid volatilizing unit 30.

本実施形態では、IPA蒸気供給ノズル43から外槽22内に供給される混合ガスGのIPA濃度は、環境温度での飽和蒸気圧に近いことがより好ましい。混合ガスGのIPA濃度が、環境温度での飽和蒸気圧に近いと、後述するように、ガラス物品Pを純水Wから引き上げる際、ガラス物品Pの表面近くの純水WにIPAが吸収されても、純水Wの表面近傍にIPA蒸気の濃い層を安定して形成することができる。   In the present embodiment, the IPA concentration of the mixed gas G supplied from the IPA vapor supply nozzle 43 into the outer tank 22 is more preferably close to the saturated vapor pressure at the environmental temperature. When the IPA concentration of the mixed gas G is close to the saturated vapor pressure at the ambient temperature, as will be described later, when the glass article P is pulled up from the pure water W, IPA is absorbed by the pure water W near the surface of the glass article P. However, a thick layer of IPA vapor can be stably formed in the vicinity of the surface of the pure water W.

ステップS12では、図6に示すように、保持カセット60を槽本体21の純水Wから処理液揮発部30に移動させる。ステップS12では、ガラス物品Pをマランゴニ乾燥により乾燥させる。   In step S <b> 12, as shown in FIG. 6, the holding cassette 60 is moved from the pure water W in the tank body 21 to the treatment liquid volatilizing unit 30. In step S12, the glass article P is dried by Marangoni drying.

処理液揮発部30では、IPA蒸気供給ノズル43により、混合ガスGを純水Wの表面近傍と処理液揮発部30の上部とに吹き付けることで、下方(純水Wの表面付近)から上方(移動した後のカセットが保持される位置)にIPA蒸気の濃い層が形成される。そのため、槽本体21内の純水Wからガラス物品PがIPA蒸気を含むガス雰囲気中に引き上げられると、ガラス物品Pは引き上げ後、すぐにIPA蒸気の濃い層を通過することになる。そして、ガラス物品Pが純水Wから引き上げられる際、純水Wのガラス物品Pの表面における表面張力により、図7に示すように、ガラス物品Pの表面近くに薄い水膜WMが形成される。   In the treatment liquid volatilization unit 30, the IPA vapor supply nozzle 43 blows the mixed gas G to the vicinity of the surface of the pure water W and the upper part of the treatment liquid volatilization unit 30. A thick layer of IPA vapor is formed at the position where the cassette is held after movement. Therefore, when the glass article P is pulled up from the pure water W in the tank body 21 into a gas atmosphere containing IPA vapor, the glass article P immediately passes through the thick layer of IPA vapor after being pulled up. When the glass article P is pulled up from the pure water W, a thin water film WM is formed near the surface of the glass article P as shown in FIG. 7 due to the surface tension of the pure water W on the surface of the glass article P. .

IPAは、純水Wに溶解し易いが、基板に向かって吹きつけたIPAを含む蒸気が、基板に当たって下に向かうため、水膜WM付近のIPA濃度が特に濃くなる。そのため、図7に示すように、ガラス物品Pに近い純水Wの界面IのIPA濃度CIは、ガラス物品Pから遠い純水Wの界面IIのIPA濃度CIIよりも大きくなる(IPA濃度CI>IPA濃度CII)ので、界面Iの表面張力rIは、界面IIの表面張力rIIよりも小さくなる(表面張力rI<表面張力rII)。この表面張力の差により、ガラス物品Pが純水Wから引き上げられる際、純水Wの表面付近にはマランゴニ対流MGが発生する。   IPA is easily dissolved in pure water W, but the vapor containing IPA blown toward the substrate hits the substrate and travels downward, so that the IPA concentration in the vicinity of the water film WM becomes particularly high. Therefore, as shown in FIG. 7, the IPA concentration CI of the interface I of the pure water W close to the glass article P becomes larger than the IPA concentration CII of the interface II of the pure water W far from the glass article P (IPA concentration CI> Therefore, the surface tension rI of the interface I is smaller than the surface tension rII of the interface II (surface tension rI <surface tension rII). Due to the difference in surface tension, when the glass article P is pulled up from the pure water W, Marangoni convection MG is generated near the surface of the pure water W.

ガラス物品Pが純水Wから引き上げられる際に、ガラス物品Pの表面近くに形成される薄い水膜WMの表面にマランゴニ対流が発生することにより、ガラス物品Pの表面の純水Wはガラス物品Pの表面から離れ易くなる。なお、純度の低い純水を使用した場合、上述の通り、乾燥時に発生する水シミに起因して、純水W中に少なからず分散していた粒子がガラス物品Pの表面に残る場合などがある。本実施形態では、水シミの発生が抑えられるので、ガラス物品P上に残る粒子を少なくすることができる。   When Marangoni convection is generated on the surface of the thin water film WM formed near the surface of the glass article P when the glass article P is pulled up from the pure water W, the pure water W on the surface of the glass article P is converted into the glass article. It becomes easy to separate from the surface of P. In addition, when pure water with low purity is used, as described above, due to water spots generated at the time of drying, there are cases where particles dispersed in the pure water W remain on the surface of the glass article P. is there. In this embodiment, since generation | occurrence | production of a water spot is suppressed, the particle | grains which remain on the glass article P can be decreased.

また、本実施形態では、混合ガスGを、IPA蒸気供給ノズル43により、純水Wの表面近傍に供給して、純水Wの表面近傍にIPA蒸気の濃い層を形成しているので、IPAの使用量を抑えることができる。   In the present embodiment, the mixed gas G is supplied to the vicinity of the surface of the pure water W by the IPA vapor supply nozzle 43 to form a thick layer of IPA vapor near the surface of the pure water W. Can be reduced.

本実施形態では、保持カセット60を純水Wから引き上げて、純水Wからガス雰囲気である処理液揮発部30に移動する時の保持カセット60の引き上げ速度(移動速度)V1は、0.1〜10mm/秒が好ましく、2.0〜6.0mm/秒がより好ましく、2.0〜2.5mm/秒がさらに好ましい。引き上げ速度V1が上記範囲内であれば、ガラス物品Pの表面近くに形成される薄い水膜の表面にマランゴニ対流を安定して発生させることができる。これにより、ガラス物品Pから純水Wを除去して、ガラス物品Pの乾燥を安定して行なうことができるので、ガラス物品Pの表面に水シミなどが発生することを抑えることができる。   In the present embodiment, when the holding cassette 60 is lifted from the pure water W and moved from the pure water W to the treatment liquid volatilizing unit 30 that is a gas atmosphere, the pulling speed (moving speed) V1 of the holding cassette 60 is 0.1. 10 to 10 mm / second is preferable, 2.0 to 6.0 mm / second is more preferable, and 2.0 to 2.5 mm / second is more preferable. When the pulling speed V1 is within the above range, Marangoni convection can be stably generated on the surface of a thin water film formed near the surface of the glass article P. Thereby, since the pure water W can be removed from the glass article P and the glass article P can be stably dried, the occurrence of water stains on the surface of the glass article P can be suppressed.

また、本実施形態では、保持カセット60のV字状溝621と接触しているガラス物品Pの表面の接触部の近傍を純水Wから引き上げる時の保持カセット60の引き上げ速度(移動速度)V2は、上記引き上げ速度V1よりも遅くすることが好ましい。引き上げ速度V2としては、例えば、0.1〜5.0mm/秒が好ましく、0.5〜0.6mm/秒がより好ましい。引き上げ速度V2が上記範囲内であれば、ガラス物品Pの表面とV字状溝621との接触部に純水Wが残って、乾燥時に分散してしまうのをより確実に抑えることができる。これにより、ガラス物品Pの主面に水シミが発生することをより安定して抑えることができる。なお、接触部の近傍とは、ガラス物品PがV字状溝621と接触している表面とその周辺領域をいい、ガラス物品Pの大きさや、ガラス物品PがV字状溝621と接触している面積に応じて異なる。   In the present embodiment, the pulling speed (moving speed) V2 of the holding cassette 60 when pulling up the vicinity of the contact portion on the surface of the glass article P that is in contact with the V-shaped groove 621 of the holding cassette 60 from the pure water W. Is preferably slower than the pulling speed V1. The pulling speed V2 is, for example, preferably 0.1 to 5.0 mm / second, and more preferably 0.5 to 0.6 mm / second. When the pulling speed V2 is within the above range, it is possible to more reliably suppress the pure water W from remaining at the contact portion between the surface of the glass article P and the V-shaped groove 621 and being dispersed during drying. Thereby, it is possible to more stably suppress the occurrence of water spots on the main surface of the glass article P. The vicinity of the contact portion refers to the surface where the glass article P is in contact with the V-shaped groove 621 and its peripheral region. The size of the glass article P and the glass article P are in contact with the V-shaped groove 621. It depends on the area that you have.

ガラス物品Pを、図8に示すように、純水Wから完全に引き上げた後、ガラス物品Pをさらに乾燥させてもよい。ガラス物品Pの乾燥は、自然乾燥でもよいし、加熱装置を用いて行なってもよい。ガラス物品Pの乾燥は、槽本体21の外側であれば、処理室50内でもよいし、処理室50の外側でもよい。ガラス物品Pの乾燥後、ガス供給部40の運転を停止する。   The glass article P may be further dried after the glass article P is completely pulled up from the pure water W as shown in FIG. The glass article P may be dried by natural drying or by using a heating device. The glass article P may be dried inside the processing chamber 50 or outside the processing chamber 50 as long as it is outside the tank body 21. After the glass article P is dried, the operation of the gas supply unit 40 is stopped.

また、本実施形態では、ガラス物品Pの全体を純水Wから完全に引き上げた後に、処理液揮発部30に保持した状態で、混合ガスGをIPA蒸気供給ノズル43から外槽22に所定時間(例えば、数分間)供給して、ガス雰囲気を維持することが好ましい。これにより、ガラス物品Pの表面とV字状溝621との接触部の近傍に残った純水Wが前記接触部からガラス物品Pの主面に広がることを抑制しながら、僅かに残った純水Wを受け溝622に落とすことができる。その結果、前記接触部から純水Wを除去することができる。そのため、処理液揮発部30からガラス物品Pと保持カセット60が外槽22の上方まで引き上げられても純水Wがガラス物品Pの主面に広がることがなくなる。   Further, in the present embodiment, after the entire glass article P is completely pulled up from the pure water W, the mixed gas G is transferred from the IPA vapor supply nozzle 43 to the outer tub 22 for a predetermined time while being held in the treatment liquid volatilizing unit 30. It is preferable to supply (for example, several minutes) and to maintain a gas atmosphere. As a result, the pure water W remaining in the vicinity of the contact portion between the surface of the glass article P and the V-shaped groove 621 is suppressed from spreading from the contact portion to the main surface of the glass article P, while remaining slightly The water W can be dropped into the receiving groove 622. As a result, pure water W can be removed from the contact portion. Therefore, even if the glass article P and the holding cassette 60 are pulled up from the treatment liquid volatilizing unit 30 to the upper side of the outer tub 22, the pure water W does not spread on the main surface of the glass article P.

混合ガスGをIPA蒸気供給ノズル43から外槽22に供給して、ガス雰囲気を維持する際、混合ガスGは、対向する2つのIPA蒸気供給ノズル43により、ガラス物品Pの表面と保持カセット60のV字状溝621との接触部の近傍を挟むように吹き付けられることが好ましい。これにより、前記接触部から純水Wをより確実に除去することができる。   When the mixed gas G is supplied from the IPA vapor supply nozzle 43 to the outer tub 22 and the gas atmosphere is maintained, the mixed gas G is brought into contact with the surface of the glass article P and the holding cassette 60 by the two IPA vapor supply nozzles 43 facing each other. It is preferably sprayed so as to sandwich the vicinity of the contact portion with the V-shaped groove 621. Thereby, the pure water W can be more reliably removed from the contact portion.

前記接触部から純水Wを除去した後、乾燥されたガラス物品Pは、外槽22の上方まで引き上げられ、外部に搬送される。これにより、ガラス物品Pの乾燥処理は終了する。   After removing the pure water W from the contact portion, the dried glass article P is pulled up above the outer tub 22 and conveyed to the outside. Thereby, the drying process of the glass article P is completed.

このようにして得られたガラス物品Pは、その表面に付着して残る粒子の数(粒子数)を減少させることができる。得られたガラス物品Pの表面に残る粒子数は、例えば、1μm以上の粒子の数を約1個/cm2以下に減少させることができる。 The glass article P obtained in this way can reduce the number of particles (particle number) remaining attached to the surface. As for the number of particles remaining on the surface of the obtained glass article P, for example, the number of particles of 1 μm or more can be reduced to about 1 / cm 2 or less.

このように、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法は、純水Wの表面近傍にIPA蒸気を吹き付け、ガラス物品Pが載置された保持カセット60を純水W中から処理液揮発部30に引き上げる際、ガラス物品Pの表面近くの純水Wの表面にマランゴニ対流を生じさせている。これにより、純水Wがガラス物品Pの表面に広がることを抑制することができる。   As described above, in the method for drying a glass article according to an embodiment, IPA vapor is blown near the surface of the pure water W, and the holding cassette 60 on which the glass article P is placed is removed from the pure water W into the treatment liquid volatilizing unit 30. When pulling up, the Marangoni convection is generated on the surface of the pure water W near the surface of the glass article P. Thereby, it can suppress that the pure water W spreads on the surface of the glass article P.

よって、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法によれば、残留した純水Wに起因して、ガラス物品Pの表面に水シミが発生することを抑制することができ、結果として純水W中に分散している粒子がガラス物品Pの表面に付着することを防ぐことができる。   Therefore, according to the drying method of the glass article which concerns on one Embodiment, it can suppress that a water spot generate | occur | produces on the surface of the glass article P resulting from the remaining pure water W, As a result, pure water W It is possible to prevent the particles dispersed therein from adhering to the surface of the glass article P.

また、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法は、所定の形状で構成された溝62を有する保持カセット60を用いて、ガラス物品Pを純水W中から処理液揮発部30に移動させている。そのため、上記の通り、ガラス物品PとV字状溝621との間に純水Wが溜まることを抑制することができるので、ガラス物品PとV字状溝621との間に溜まった純水Wに起因して、乾燥後のガラス物品Pの表面に水シミなどが発生することを抑制することができる。   Moreover, the drying method of the glass article which concerns on one Embodiment moves the glass article P from the pure water W to the process liquid volatilization part 30 using the holding cassette 60 which has the groove | channel 62 comprised by the predetermined shape. Yes. Therefore, as described above, since the pure water W can be suppressed from being accumulated between the glass article P and the V-shaped groove 621, the pure water collected between the glass article P and the V-shaped groove 621. It is possible to suppress the occurrence of water spots or the like on the surface of the glass article P after drying due to W.

また、ガラス物品の乾燥方法として、マランゴニ乾燥やIPA蒸気乾燥法などがある。通常マランゴニ乾燥では、処理室50は密閉空間とし、槽本体21の上方を全てIPA濃度が高い層にする必要がある。そのため、装置は大型化し、装置構成は複雑となる。また、IPA蒸気乾燥法を用いる場合、槽本体21の外側からIPA蒸気を槽本体21内に供給している。また、槽本体21の外周に加熱装置を設け、槽本体21の上方にIPAの漏洩防止用の冷却管を設けている。そのため、IPAの使用量も多く、装置構成は複雑となり、コスト負担も大きい。これに対し、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法は、処理液揮発部30のみにIPA濃度が高い層を形成しており、処理室50内の全体をIPA濃度が高い層とする必要はない。よって、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法によれば、IPAの使用量を、例えば、IPA蒸気乾燥法の場合の半分以下程度にまで低減することができるので、製造コストを低減することができる。   Examples of the method for drying glass articles include Marangoni drying and IPA vapor drying. Normally, in Marangoni drying, the processing chamber 50 needs to be a sealed space, and the upper part of the tank body 21 needs to be a layer having a high IPA concentration. Therefore, the apparatus becomes large and the apparatus configuration becomes complicated. Further, when the IPA vapor drying method is used, IPA vapor is supplied into the tank body 21 from the outside of the tank body 21. A heating device is provided on the outer periphery of the tank body 21, and a cooling pipe for preventing IPA leakage is provided above the tank body 21. Therefore, the amount of IPA used is large, the device configuration is complicated, and the cost burden is large. On the other hand, in the method for drying a glass article according to an embodiment, a layer having a high IPA concentration is formed only in the processing liquid volatilizing unit 30, and the entire processing chamber 50 needs to be a layer having a high IPA concentration. Absent. Therefore, according to the method for drying a glass article according to an embodiment, the amount of IPA used can be reduced to, for example, about half or less of that in the case of the IPA vapor drying method, so that the manufacturing cost can be reduced. it can.

したがって、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法によれば、ガラス物品Pの表面に水シミや粒子などを殆ど残さずに乾燥させることができる。そのため、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法により得られるガラス物品Pは、カメラレンズやプリズムなどの光学部品、フォトマスク用ガラス基板などの半導体製造装置用のガラス部材、ハードディスク用ガラス基板、半導体製造プロセス用の支持ガラス基板、ウェハレベルパッケージによる素子の小型化が有効なMEMSなどのカバーガラス、CISなどのイメージセンサ用のカバーガラス、ガラスインターポーザ(GIP)の穴開け基板、または半導体バックグラインド用の支持ガラスなどとして好適に利用することができる。   Therefore, according to the method for drying a glass article according to an embodiment, the glass article P can be dried with almost no water spots or particles remaining on the surface thereof. Therefore, the glass article P obtained by the method for drying a glass article according to an embodiment includes an optical component such as a camera lens and a prism, a glass member for a semiconductor manufacturing apparatus such as a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a hard disk, and a semiconductor. Support glass substrate for manufacturing process, cover glass for MEMS etc. that can effectively reduce the size of the device by wafer level package, cover glass for image sensor such as CIS, glass interposer (GIP) perforated substrate, or semiconductor back grind It can be suitably used as a supporting glass.

なお、本実施形態では、ガラス物品Pを保持カセット60に載置した状態で、ガラス物品Pの純水Wへの浸漬および純水Wからの取出しを行なっているが、これに限定されない。例えば、保持カセット60が、支持部61と、支持部61が載置されるカセット部とが別々に構成されている場合、保持カセット60のカセット部を予め槽本体21内の純水W中に浸漬しておく。そして、ガラス物品Pを純水W中に浸漬する際、支持部61に支持されたガラス物品Pを純水W中に浸漬しておいた保持カセット60のカセット部に載置する。そして、ガラス物品Pを純水Wから取り出す際、ガラス物品Pを保持カセット60のカセット部に載置した状態で純水Wから引き上げるようにしてもよい。   In the present embodiment, the glass article P is immersed in the pure water W and taken out from the pure water W with the glass article P placed on the holding cassette 60. However, the present invention is not limited to this. For example, when the holding cassette 60 is configured so that the support portion 61 and the cassette portion on which the support portion 61 is placed are configured separately, the cassette portion of the holding cassette 60 is placed in the pure water W in the tank body 21 in advance. Immerse. When the glass article P is immersed in the pure water W, the glass article P supported by the support portion 61 is placed on the cassette portion of the holding cassette 60 that has been immersed in the pure water W. And when taking out the glass article P from the pure water W, you may make it pull up from the pure water W in the state which mounted the glass article P in the cassette part of the holding | maintenance cassette 60. FIG.

<洗浄乾燥装置>
次に、一実施形態に係る乾燥方法が用いられる乾燥装置を備えた洗浄乾燥装置について説明する。図9は、一実施形態に係る乾燥方法が用いられる乾燥装置を備えた洗浄乾燥装置の一例を示す概略構成図である。図9に示すように、洗浄乾燥装置100は、洗浄部110と、リンス部120、乾燥部130とを有する。なお、乾燥部130は、上記の乾燥装置10が用いられる。また、図9では、ガラス物品Pは保持カセット60に載置した状態で洗浄部110および乾燥部130に搬送アーム140で搬送される。
<Washing and drying equipment>
Next, a cleaning / drying apparatus including a drying apparatus in which the drying method according to the embodiment is used will be described. FIG. 9 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a cleaning / drying apparatus including a drying apparatus in which the drying method according to the embodiment is used. As illustrated in FIG. 9, the cleaning / drying apparatus 100 includes a cleaning unit 110, a rinse unit 120, and a drying unit 130. The drying unit 130 is the drying device 10 described above. In FIG. 9, the glass article P is transported to the cleaning unit 110 and the drying unit 130 by the transport arm 140 while being placed on the holding cassette 60.

(洗浄部)
洗浄部110は、ガラス物品Pを保持カセット60に載置した状態で洗浄する装置である。洗浄部110は、従来より公知の洗浄方法を用いてガラス物品Pを洗浄することができる。洗浄方法として、例えば、シャワー洗浄、浸漬洗浄、スクラブ洗浄、蒸気洗浄、またはスピン洗浄などを用いることができる。これらの洗浄は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
(Washing part)
The cleaning unit 110 is a device that cleans the glass article P in a state of being placed on the holding cassette 60. The cleaning unit 110 can clean the glass article P using a conventionally known cleaning method. As a cleaning method, for example, shower cleaning, immersion cleaning, scrub cleaning, steam cleaning, or spin cleaning can be used. These washings may be used alone or in combination of two or more.

シャワー洗浄としては、例えば、高圧スプレー洗浄、超音波シャワー洗浄などを用いることができる。   As shower cleaning, for example, high-pressure spray cleaning, ultrasonic shower cleaning, or the like can be used.

浸漬洗浄としては、例えば、超音波洗浄、噴流洗浄、バブリング洗浄、または流水洗浄などを用いることができる。これらのうち、本実施形態においては、浸漬洗浄を用いることが好ましい。浸漬洗浄の中でも、洗浄したガラス基板の生産性の観点から、超音波洗浄を用いることが好ましい。   As the immersion cleaning, for example, ultrasonic cleaning, jet cleaning, bubbling cleaning, or running water cleaning can be used. Among these, in this embodiment, it is preferable to use immersion cleaning. Among the immersion cleaning, ultrasonic cleaning is preferably used from the viewpoint of productivity of the cleaned glass substrate.

超音波洗浄は、公知の超音波装置を用いて行われる。超音波洗浄を行う場合、溶液中にガラス物品Pを浸漬した状態で、前記超音波装置を作動させて、溶液に超音波を照射する。溶液に超音波を照射して溶液を振動させることで、ガラス物品Pに付着しているゴミなどが除去される。   The ultrasonic cleaning is performed using a known ultrasonic device. When performing the ultrasonic cleaning, the ultrasonic device is operated with the glass article P immersed in the solution to irradiate the solution with ultrasonic waves. By irradiating the solution with ultrasonic waves and vibrating the solution, dust and the like attached to the glass article P are removed.

溶液は、アルカリ系洗剤を含む溶液などが用いられるが、特に限定されない。溶液を用いる場合、アルカリ系洗剤を含む溶液中でガラス物品Pを超音波振動子112により超音波洗浄することが好ましい。   As the solution, a solution containing an alkaline detergent is used, but it is not particularly limited. When using a solution, it is preferable to ultrasonically clean the glass article P with the ultrasonic vibrator 112 in a solution containing an alkaline detergent.

超音波洗浄を行う場合、超音波の周波数は、20kHz〜3MHzであることが好ましく、28kHz〜800kHzであることがより好ましく、38kHz〜78kHzが特に好ましい。超音波の周波数が上記範囲内であれば、ガラス物品Pの表面に付着している粒子などを除去することができる。   When performing ultrasonic cleaning, the ultrasonic frequency is preferably 20 kHz to 3 MHz, more preferably 28 kHz to 800 kHz, and particularly preferably 38 kHz to 78 kHz. If the frequency of the ultrasonic wave is within the above range, particles adhering to the surface of the glass article P can be removed.

また、超音波の出力は、適切な範囲内に抑える必要がある。超音波の出力が強すぎるとガラスにダメージを与え、欠陥の原因となる。一方、超音波の出力が弱すぎると、付着している粒子を取り除くことができない。出力の適正な範囲はガラスによっても異なるが、例えば音圧計を用いて測定を行った際に、5〜100%程度が好ましい場合がある。超音波の出力が適切な範囲内であれば、ガラス物品Pの表面にキズなど損傷が生じることを抑制することができると共に、ガラス物品Pの表面に付着している粒子などを除去することができる。   Moreover, it is necessary to suppress the output of the ultrasonic wave within an appropriate range. If the output of the ultrasonic wave is too strong, it will damage the glass and cause defects. On the other hand, if the output of the ultrasonic wave is too weak, the adhered particles cannot be removed. The appropriate range of output varies depending on the glass, but when measured using a sound pressure meter, for example, about 5 to 100% may be preferable. If the output of the ultrasonic wave is within an appropriate range, it is possible to suppress damage such as scratches on the surface of the glass article P and to remove particles attached to the surface of the glass article P. it can.

(リンス部)
リンス部120は、洗浄部110で、溶液としてアルカリ系洗剤を含む溶液を用いた場合、リンス部120でガラス物品Pに残っているアルカリ系洗剤を純水などでリンスする装置である。これにより、ガラス物品Pに残っているアルカリ系洗剤を洗い流すことができるので、ガラス物品Pがガラス物品Pに付着して残っているアルカリ系洗剤の残渣により損傷することを抑えることができる。
(Rinse section)
The rinse part 120 is an apparatus that rinses the alkaline detergent remaining in the glass article P with pure water or the like in the rinse part 120 when the cleaning part 110 uses a solution containing an alkaline detergent as the solution. Thereby, since the alkaline detergent remaining on the glass article P can be washed away, the glass article P can be prevented from being damaged by the residue of the alkaline detergent remaining on the glass article P.

(乾燥部)
乾燥部130は、リンス部120で、リンスしたガラス物品Pを乾燥する。乾燥部130は、上記の乾燥装置10が用いられるため、説明は省略する。
(Drying part)
The drying unit 130 dries the glass article P rinsed by the rinsing unit 120. The drying unit 130 uses the drying device 10 described above, and thus a description thereof is omitted.

洗浄乾燥装置100は、洗浄部110と、乾燥部130とを別々に設けた装置でもよいし、洗浄部110と乾燥部130とを一体化した装置でもよい。洗浄乾燥装置100が、洗浄部110と乾燥部130とを一体化した装置である場合、洗浄乾燥装置100は、例えば、1つの閉空間内に、洗浄部110と乾燥部130とを有した構成としてもよい。洗浄部110および乾燥部130は、例えば、上方が開放されつつ、全体としては閉空間とすると共に、開放された上方部を保持カセットが移動する構成としてもよい。   The cleaning / drying apparatus 100 may be an apparatus in which the cleaning unit 110 and the drying unit 130 are provided separately, or may be an apparatus in which the cleaning unit 110 and the drying unit 130 are integrated. When the cleaning / drying apparatus 100 is an apparatus in which the cleaning unit 110 and the drying unit 130 are integrated, the cleaning / drying apparatus 100 includes, for example, the cleaning unit 110 and the drying unit 130 in one closed space. It is good. For example, the cleaning unit 110 and the drying unit 130 may be configured as a closed space as a whole while the upper part is opened, and the holding cassette may move in the opened upper part.

<洗浄乾燥方法>
次に、上記のような構成を有する洗浄乾燥装置100を用いたガラス物品Pの洗浄乾燥方法について、以下に説明する。
<Washing and drying method>
Next, a method for cleaning and drying the glass article P using the cleaning and drying apparatus 100 having the above configuration will be described below.

図10は、洗浄乾燥方法の工程を示すフローチャートである。図10に示すように、洗浄乾燥方法は、ガラス物品Pを洗浄する工程(ステップS21)と、ガラス物品Pのリンスを行う工程(ステップS22)と、ガラス物品Pを乾燥する工程(ステップS23)とを含む。以下、各工程について説明する。   FIG. 10 is a flowchart showing the steps of the cleaning / drying method. As shown in FIG. 10, the cleaning and drying method includes a step of cleaning the glass article P (step S21), a step of rinsing the glass article P (step S22), and a step of drying the glass article P (step S23). Including. Hereinafter, each step will be described.

ステップS21では、上記の洗浄部110で説明した通り、従来より公知の洗浄方法を用いてガラス物品Pを洗浄することができる。   In step S21, the glass article P can be cleaned using a conventionally known cleaning method as described in the cleaning unit 110.

ステップS22では、上記のリンス部120で説明した通り、従来より公知のリンス方法を用いて洗浄したガラス物品Pをすすぐことができる。リンス方法として、例えば、シャワー洗浄、浸漬洗浄、スクラブ洗浄、蒸気洗浄、または、スピン洗浄などを用いることができる。これらのリンス方法は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   In step S22, the glass article P that has been cleaned using a conventionally known rinsing method can be rinsed, as described in the rinse section 120 above. As the rinsing method, for example, shower cleaning, immersion cleaning, scrub cleaning, steam cleaning, or spin cleaning can be used. These rinsing methods may be used singly or in combination of two or more.

特に、ステップS21の洗浄で、溶液としてアルカリ系洗剤を含む溶液を用いた場合、ガラス物品Pに残っているアルカリ系洗剤を洗い流すことができるので、ガラス物品Pに付着して残っているアルカリ系洗剤の残渣により、ガラス物品Pが損傷することを抑えることができる。また、ステップS21で除去しきれなかった、ガラス物品Pの表面に付着している粒子などを除去することができる。   In particular, when a solution containing an alkaline detergent is used as the solution in the cleaning in step S21, the alkaline detergent remaining on the glass article P can be washed away. It can suppress that the glass article P is damaged by the residue of a detergent. Moreover, the particles adhering to the surface of the glass article P, which could not be removed in step S21, can be removed.

ステップS23では、洗浄したガラス物品Pを乾燥させる。ステップS23では、図4に示す一実施形態に係る乾燥方法が用いられるので、ここでは、説明は省略する。   In step S23, the cleaned glass article P is dried. In step S23, since the drying method according to the embodiment shown in FIG. 4 is used, the description thereof is omitted here.

乾燥されたガラス物品Pは、外槽22の上方まで引き上げて、外部に取り出す。これにより、ガラス物品Pの洗浄乾燥処理は、終了する。   The dried glass article P is pulled up above the outer tub 22 and taken out to the outside. Thereby, the cleaning / drying process of the glass article P is completed.

一実施形態に係るガラス物品Pの乾燥方法は、特に、ガラス物品Pの洗浄後(例えば、ガラス物品Pを純水W中に浸漬させてガラス物品Pの表面の汚れを除去する工程の後)の乾燥方法として好適に用いることができる。上述した洗浄乾燥装置100は、乾燥装置10を備えているので、洗浄したガラス物品Pを乾燥装置10において一実施形態に係る乾燥方法を用いて乾燥することで、水シミや粒子などの残っていないガラス物品を得ることができる。また、洗浄部110において、ガラス物品Pを洗浄する際、超音波洗浄を所定の条件で行うことで、ガラス物品Pにキズなどの損傷が生じることをより抑制することができるので、より信頼性の高いガラス物品を提供することができる。   The method for drying the glass article P according to the embodiment is particularly after the glass article P is washed (for example, after the step of immersing the glass article P in the pure water W to remove dirt on the surface of the glass article P). The drying method can be suitably used. Since the washing / drying apparatus 100 described above includes the drying apparatus 10, water stains and particles remain by drying the washed glass article P using the drying method according to the embodiment in the drying apparatus 10. No glass article can be obtained. Further, when the glass article P is cleaned in the cleaning unit 110, it is possible to further suppress damage such as scratches on the glass article P by performing ultrasonic cleaning under predetermined conditions, so that more reliability is provided. High glass article can be provided.

以上の通り、実施形態を説明したが、上記実施形態は、例として提示したものであり、上記実施形態により本発明が限定されるものではない。上記実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の組み合わせ、省略、置き換え、変更などを行うことが可能である。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。   As described above, the embodiment has been described. However, the embodiment is presented as an example, and the present invention is not limited to the embodiment. The above-described embodiment can be implemented in various other forms, and various combinations, omissions, replacements, changes, and the like can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.

(例1)
ガラス物品として、直径200mm、板厚0.5mmの円形のガラス基板を用いた。ガラス物品は、図2および図3に示すようなV字状溝621および受け溝622を備えた溝62を有する保持カセット60に載置した。保持カセット60に載置したガラス物品を処理液(スピードファムクリーンシステム株式会社製 CSC−102B 1% 水溶液)に浸漬した状態で、ガラス物品に超音波を照射し、ガラス物品に付着していた汚れを除去した。その後、ガラス物品を、複数回、異なる純水槽内の純水に浸漬して引き上げる操作を繰り返し行い、処理液に含まれる洗剤を除去した。その後、ガラス物品を、再度、純水に浸漬した。そして、ガラス物品を純水の中から引き上げた際、IPA蒸気と窒素ガスの混合ガスを用いて、ガラス物品を乾燥させた。このとき、ガラス物品を純水から引き上げて、純水からガス雰囲気に移動する時のガラス物品の引き上げ速度V1を約5.0mm/秒とした。保持カセット60のV字状溝621と接触しているガラス物品Pの表面の接触部の近傍を純水から引き上げた時のガラス物品の引き上げ速度V2を約0.6mm/秒とした。乾燥後のガラス物品に、暗室で集光灯に当てて目視で観察したところ、ガラス物品上に粒子はほとんど確認されなかった。
(Example 1)
As the glass article, a circular glass substrate having a diameter of 200 mm and a plate thickness of 0.5 mm was used. The glass article was placed on a holding cassette 60 having a groove 62 with a V-shaped groove 621 and a receiving groove 622 as shown in FIGS. The glass article placed on the holding cassette 60 is immersed in a treatment liquid (CSC-102B 1% aqueous solution manufactured by Speed Fam Clean System Co., Ltd.), and the glass article is irradiated with ultrasonic waves, and the dirt adhered to the glass article. Was removed. Thereafter, the operation of immersing and lifting the glass article in pure water in different pure water tanks was repeated a plurality of times to remove the detergent contained in the treatment liquid. Thereafter, the glass article was immersed again in pure water. And when the glass article was pulled out of the pure water, the glass article was dried using a mixed gas of IPA vapor and nitrogen gas. At this time, the glass article was pulled up from the pure water, and the glass article pulling speed V1 when moving from the pure water to the gas atmosphere was about 5.0 mm / second. The glass article pulling speed V2 when the vicinity of the contact portion on the surface of the glass article P that is in contact with the V-shaped groove 621 of the holding cassette 60 was pulled up from pure water was about 0.6 mm / sec. When the glass article after drying was visually observed by applying it to a condenser lamp in a dark room, almost no particles were confirmed on the glass article.

(例2)
例1において、IPA蒸気は用いなかったこと以外、例1と同様にして行った。乾燥後のガラス物品を目視で観察したところ、ガラス物品上に粒子が多数確認された。
(Example 2)
Example 1 was performed in the same manner as Example 1 except that no IPA vapor was used. When the glass article after drying was visually observed, many particles were confirmed on the glass article.

(例3)
例1において、ガラス物品として、直径65mmの円形のガラス基板を用いたこと以外、例1と同様にして行った。乾燥後のガラス物品を目視で観察したところ、ガラス物品上に粒子は確認されなかった。また、高感度外観検査機を用いて乾燥後のガラス物品を観察したところ、欠点個数は13個/枚(0.4個/cm2)であった。
(Example 3)
In Example 1, it carried out like Example 1 except having used the circular glass substrate with a diameter of 65 mm as a glass article. When the glass article after drying was visually observed, no particles were observed on the glass article. Moreover, when the glass article after drying was observed using a high-sensitivity appearance inspection machine, the number of defects was 13 pieces / piece (0.4 pieces / cm 2 ).

(例4)
例3において、IPA蒸気は用いず、受け溝622(図2および図3参照)を有さない保持カセットを使用したこと以外、例3と同様にして行った。乾燥後のガラス物品を目視で観察したところ、ガラス物品上に多数の水シミが確認された。また、高感度外観検査機を用いて乾燥後のガラス物品を観察したところ、欠点個数は74個/枚(2.5個/cm2)であった。
(Example 4)
In Example 3, the same procedure as in Example 3 was performed, except that no IPA vapor was used and a holding cassette having no receiving groove 622 (see FIGS. 2 and 3) was used. When the glass article after drying was visually observed, many water spots were confirmed on the glass article. Moreover, when the glass article after drying was observed using a high-sensitivity appearance inspection machine, the number of defects was 74 pieces / piece (2.5 pieces / cm 2 ).

(例5)
例3において、受け溝622(図2および図3参照)を有さない保持カセットを使用したこと以外、例3と同様にして行った。乾燥後のガラス物品を目視で観察したところ、多数の水シミが確認された。
(Example 5)
Example 3 was performed in the same manner as Example 3 except that a holding cassette having no receiving groove 622 (see FIGS. 2 and 3) was used. When the glass article after drying was visually observed, a large number of water spots were confirmed.

10 乾燥装置
20 処理槽
21 槽本体
22 外槽
30 処理液揮発部
40 ガス供給部
50 処理室
60 保持カセット
61 支持部
62 溝
621 V字状溝
622 受け溝
100 洗浄乾燥装置
110 洗浄部
130 乾燥部
W 純水
P ガラス物品
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Drying apparatus 20 Processing tank 21 Tank main body 22 Outer tank 30 Processing liquid volatilization part 40 Gas supply part 50 Processing chamber 60 Holding cassette 61 Support part 62 Groove 621 V-shaped groove 622 Receiving groove 100 Cleaning drying apparatus 110 Cleaning part 130 Drying part W Pure water P Glass article

Claims (5)

ガラス物品を、V字状溝を有した板に、前記V字状溝の底部および前記底部から下方に伸びる受け溝が形成された保持カセットに載置した状態で処理液に浸漬する工程と、
前記ガラス物品が載置された状態で前記保持カセットを、前記処理液からイソプロピルアルコールの蒸気を含むガス雰囲気中に移動しながら前記ガラス物品の表面に付着している前記処理液を除去する工程と、
を含むことを特徴とするガラス物品の乾燥方法。
A step of immersing the glass article in a processing liquid in a state where the glass article is placed on a plate having a V-shaped groove and a holding cassette in which a receiving groove extending downward from the bottom of the V-shaped groove and the bottom is formed;
Removing the treatment liquid adhering to the surface of the glass article while moving the holding cassette from the treatment liquid into a gas atmosphere containing isopropyl alcohol vapor while the glass article is placed; ,
A method for drying a glass article, comprising:
前記ガス雰囲気を、前記イソプロピルアルコールの蒸気と不活性ガスとを含む混合ガスを用いて形成し、
前記混合ガスを、前記処理液と前記ガス雰囲気との界面付近に吹き付ける請求項1に記載のガラス物品の乾燥方法。
The gas atmosphere is formed using a mixed gas containing the isopropyl alcohol vapor and an inert gas,
The method for drying a glass article according to claim 1, wherein the mixed gas is sprayed near an interface between the treatment liquid and the gas atmosphere.
前記ガス雰囲気を、前記イソプロピルアルコールの蒸気と不活性ガスとを含む混合ガスを用いて形成し、
前記ガス雰囲気中に前記ガラス物品が移動した後、前記保持カセットと接触している前記ガラス物品の接触部近傍に前記混合ガスを複数個所から挟むように吹き付ける請求項1または2に記載のガラス物品の乾燥方法。
The gas atmosphere is formed using a mixed gas containing the isopropyl alcohol vapor and an inert gas,
3. The glass article according to claim 1, wherein after the glass article moves in the gas atmosphere, the mixed gas is sprayed from a plurality of locations in the vicinity of a contact portion of the glass article that is in contact with the holding cassette. Drying method.
前記ガラス物品の全体を前記処理液から前記ガス雰囲気中に移動した後も、前記混合ガスを用いて前記ガス雰囲気を維持する請求項2または3に記載のガラス物品の乾燥方法。   The method for drying a glass article according to claim 2 or 3, wherein the gas atmosphere is maintained using the mixed gas even after the entire glass article has been moved from the treatment liquid into the gas atmosphere. 前記保持カセットと接触している前記ガラス物品の表面の接触部の近傍を前記処理液から前記ガス雰囲気中に移動する時の前記ガラス物品の移動速度を、前記ガラス物品の他の部分を前記処理液から前記ガス雰囲気中に移動する時の移動速度よりも遅くする請求項1〜4の何れか一項に記載のガラス物品の乾燥方法。   The movement speed of the glass article when moving from the treatment liquid into the gas atmosphere in the vicinity of the contact portion on the surface of the glass article that is in contact with the holding cassette, and the other part of the glass article is treated. The drying method of the glass article as described in any one of Claims 1-4 made slower than the moving speed at the time of moving in the said gas atmosphere from a liquid.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022240232A1 (en) * 2021-05-13 2022-11-17 삼성전자 주식회사 Glass drying apparatus

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