JP2019184775A - Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method of electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image formation device, electrophotographic image formation method, and process cartridge - Google Patents
Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method of electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image formation device, electrophotographic image formation method, and process cartridge Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019184775A JP2019184775A JP2018074362A JP2018074362A JP2019184775A JP 2019184775 A JP2019184775 A JP 2019184775A JP 2018074362 A JP2018074362 A JP 2018074362A JP 2018074362 A JP2018074362 A JP 2018074362A JP 2019184775 A JP2019184775 A JP 2019184775A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- metal oxide
- oxide particles
- general formula
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
Description
本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、電子写真画像形成装置、電子写真画像形成方法及びプロセスカートリッジに関し、特に、長期間にわたる画像メモリーの発生や、画像欠陥の発生を防止することができる電子写真感光体等に関する。 The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a method for manufacturing an electrophotographic photosensitive member, an electrophotographic image forming apparatus, an electrophotographic image forming method, and a process cartridge, and in particular, prevents occurrence of image memory and image defects over a long period of time. The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor that can be used.
近年、電子写真方式の画像形成装置は性能が向上し、高精細かつ高感度となっている。また、使用されるトナーも小径化が進んでおり、画質の向上が期待されている。さらに、環境負荷の観点から低エネルギーを重視しており、より低負荷な現像プロセスが望まれている。
従来の現像プロセスにおいては、近接帯電やクリーニング前の除電、イレース光の照射を行っていたが、これらプロセスを変える、又は、無くす方向で進んでおり、従来の感光体のままでは、品質に問題が発生することが分かった。
特に、露光後の感光体の表面電位である露光電位Vi上昇による繰り返しメモリー(画像メモリー)が問題となっている。この問題を解決するために、中間層(下引き層、「UCL」ともいう。)の導電性を上げる方法がとられるのだが、導電性を上げると高電圧時にリークが発生しやすくなり、黒ポチやカブリと言った画像不良が発生してしまう。
In recent years, electrophotographic image forming apparatuses have improved performance, high definition and high sensitivity. In addition, the toner used has been reduced in diameter, and improvement in image quality is expected. Furthermore, low energy is emphasized from the viewpoint of environmental load, and a development process with lower load is desired.
In the conventional development process, proximity charging, static elimination before cleaning, and irradiation of erase light were performed. However, these processes have been changed or eliminated. Was found to occur.
In particular, repeated memory (image memory) has become a problem due to a surface potential of the photoreceptor after exposure potential V i increases. In order to solve this problem, a method of increasing the conductivity of the intermediate layer (also referred to as an undercoat layer or “UCL”) is used. Image defects such as spots and fog will occur.
この繰り返しメモリーと黒ポチ・カブリのトレードオフの関係に対して、例えば特許文献1では、中間層を2層にし、高導電層とブロッキング層の異なる機能を併せ持つ方法が提案されている。また、特許文献2では、電子輸送物質を中間層に添加するだけで、電気特性の安定化を図っている。 For example, Patent Document 1 proposes a method in which the intermediate layer has two layers and the highly conductive layer and the blocking layer have different functions with respect to the trade-off relationship between the repeated memory and the black spot / fog. Further, in Patent Document 2, the electrical characteristics are stabilized only by adding an electron transport material to the intermediate layer.
しかしながら、前記特許文献1の場合、中間層を2層構成とするので、中間層用塗布液を2度塗布する必要があり、既存の製造設備では、製造ラインの改造や製造時間の延長が必要であり、感光体のコストアップにつながってしまうという問題がある。
また、前記特許文献2の場合、フィラー(金属酸化物粒子)を使用していないため、導電性が上がらないという問題がある。
However, in the case of Patent Document 1, since the intermediate layer has a two-layer structure, it is necessary to apply the intermediate layer coating solution twice. With existing manufacturing equipment, it is necessary to modify the manufacturing line or extend the manufacturing time. Therefore, there is a problem that the cost of the photoconductor is increased.
Moreover, in the case of the said patent document 2, since the filler (metal oxide particle) is not used, there exists a problem that electroconductivity does not improve.
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、長期間にわたって画像メモリーの発生を防止することができるとともに、黒ポチやカブリ等の画像欠陥の発生を防止することができる電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、電子写真画像形成装置、電子写真画像形成方法及びプロセスカートリッジを提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems and situations, and a solution to the problem is to prevent the occurrence of image memory over a long period of time and to prevent the occurrence of image defects such as black spots and fog. An electrophotographic photosensitive member, a method for producing the electrophotographic photosensitive member, an electrophotographic image forming apparatus, an electrophotographic image forming method, and a process cartridge are provided.
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、中間層に、電子輸送性化合物による表面修飾金属酸化物粒子と、非表面修飾金属酸化物粒子と、を含有させることにより、長期間にわたって画像メモリーの発生を防止し、かつ、画像欠陥の発生を防止できる電子写真感光体等を提供することができることを見いだし本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
1.導電性支持体上に中間層及び感光層が積層されてなる電子写真感光体であって、
前記中間層が、電子輸送性化合物による表面修飾金属酸化物粒子と、非表面修飾金属酸化物粒子と、を含有することを特徴とする電子写真感光体。
In order to solve the above problems, the present inventor, in the process of examining the cause of the above problems, in the intermediate layer, the surface modified metal oxide particles by the electron transporting compound, and the non-surface modified metal oxide particles, It has been found that the inclusion thereof can provide an electrophotographic photosensitive member or the like that can prevent image memory from being generated over a long period of time and can prevent image defects from occurring.
That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.
1. An electrophotographic photoreceptor in which an intermediate layer and a photosensitive layer are laminated on a conductive support,
The electrophotographic photoreceptor, wherein the intermediate layer contains surface-modified metal oxide particles made of an electron-transporting compound and non-surface-modified metal oxide particles.
2.前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子が、スズ、チタン、亜鉛のいずれかの元素を含有することを特徴とする第1項に記載の電子写真感光体。 2. 2. The electrophotographic photosensitive member according to item 1, wherein the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles contain any element of tin, titanium, and zinc.
3.前記電子輸送性化合物が、下記一般式(ETM)で表される電子輸送性化合物であることを特徴とする第1項又は第2項に記載の電子写真感光体。
A−X ・・・一般式(ETM)
[上記一般式(ETM)において、Aは、電子輸送性化合物の母骨格を表し、下記一般式(1)〜(9)のいずれかで表される構造を有する化合物由来の母骨格を表す。Xは、−COOH、−Si(OCH3)3、−Si(OC2H5)3、又は−OHを表す。
また、Xは、下記一般式(1)〜(9)で表される化合物における置換基R(R1〜R50)のいずれかと結合しており、そのときの置換基Rは、炭素数1〜8のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のエーテル基又はエステル基を表す。]
一般式(5)中、R17及びR18は、各々独立に、水素原子、シアノ基及び置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基からなる群より選択される基であって、少なくともいずれか一方が、シアノ基又は置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基であり、R19〜R26は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基からなる群より選択される基である。Zは、炭素原子又は窒素原子である。
一般式(6)中、R27及びR28は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基及びニトロ基からなる群より選択される基である。pは、上記式(p1)〜式(p5)で表される4価の基のいずれかであって、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数6〜18のアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基からなる群より選択される少なくとも一つの置換基を有していてもよい。
一般式(7)及び一般式(8)中、R29、R30、R43及びR44は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数6〜18のアリール基、シアノ基及びニトロ基からなる群より選択される基であり、これらは互いに連結して環構造を有してもいてもよい。
一般式(7)中、R41及びR42は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子からなる群より選択される基である。
一般式(8)及び一般式(9)中、R45、R46及びR47〜R50は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基からなる群より選択される基である。
一般式(8)及び一般式(9)中、Q1〜Q12は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子である。]
3. 3. The electrophotographic photosensitive member according to item 1 or 2, wherein the electron transporting compound is an electron transporting compound represented by the following general formula (ETM).
AX: General formula (ETM)
[In the said general formula (ETM), A represents the mother frame | skeleton of an electron transport compound, and represents the mother frame | skeleton derived from the compound which has a structure represented by either of the following general formula (1)-(9). X represents -COOH, -Si (OCH 3) 3 , -Si (OC 2 H 5) 3, or -OH.
X is bonded to any one of the substituents R (R 1 to R 50 ) in the compounds represented by the following general formulas (1) to (9), and the substituent R at that time has 1 carbon atom. Represents an -8 alkylene group, an optionally substituted cycloalkylene group having 3 to 12 carbon atoms, and an optionally substituted ether group or ester group having 1 to 8 carbon atoms. ]
In General Formula (5), R 17 and R 18 are each independently a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a cyano group, and an optionally substituted alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms. And at least one of them is a cyano group or an optionally substituted alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 19 to R 26 each independently represents a hydrogen atom, a substituent From a group consisting of an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have an aryl group, an aryl group which may have a substituent, and an alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent. The group to be selected. Z is a carbon atom or a nitrogen atom.
In General Formula (6), R 27 and R 28 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted carbon number. From the group consisting of a 3-12 cycloalkyl group, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an optionally substituted aryl group, a cyano group, and a nitro group. The group to be selected. p is any of the tetravalent groups represented by the above formulas (p1) to (p5), and has an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and a substituent which may have a substituent. Selected from the group consisting of an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an optionally substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, and a hydroxy group. It may have at least one substituent.
In general formula (7) and general formula (8), R 29 , R 30 , R 43 and R 44 may each independently have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituent. A good cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an optionally substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a cyano group, and These are groups selected from the group consisting of nitro groups, and these may be linked to each other to have a ring structure.
In General Formula (7), R 41 and R 42 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted carbon number. It is a group selected from the group consisting of a 3-12 cycloalkyl group, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and a halogen atom.
In general formula (8) and general formula (9), R 45 , R 46 and R 47 to R 50 may each independently have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituent. A good cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an optionally substituted aryl group, a cyano group, a nitro group, and It is a group selected from the group consisting of a hydroxy group and a heteroaryl group which may have a substituent.
In General Formula (8) and General Formula (9), Q 1 to Q 12 are each independently a carbon atom or a nitrogen atom. ]
4.前記一般式(ETM)におけるAが、前記一般式(1)で表されるオキサジアゾール誘導体、前記一般式(4)で表せられるキノン系誘導体及び前記一般式(6)で表されるテトラカルボン酸ジイミド誘導体から選ばれる誘導体由来の母骨格を表すことを特徴とする第3項に記載の電子写真感光体。 4). A in the general formula (ETM) is an oxadiazole derivative represented by the general formula (1), a quinone derivative represented by the general formula (4), and a tetracarboxylic acid represented by the general formula (6). 4. The electrophotographic photoreceptor according to item 3, which represents a mother skeleton derived from a derivative selected from acid diimide derivatives.
5.前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子の数平均一次粒径が、5〜200nmの範囲内であることを特徴とする第1項から第4項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体。 5). The number average primary particle size of the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles is in the range of 5 to 200 nm, any one of items 1 to 4 The electrophotographic photoreceptor described in 1.
6.前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子の数平均一次粒径が、10〜100nmの範囲内であることを特徴とする第1項から第5項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体。 6). The number average primary particle size of the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles is in the range of 10 to 100 nm, any one of items 1 to 5 The electrophotographic photoreceptor described in 1.
7.前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子の数平均一次粒径が、10〜50nmの範囲内で、かつ、前記表面修飾金属酸化物粒子と、前記非表面修飾金属酸化物粒子とが、異なる粒径であることを特徴とする第1項から第6項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体。 7. The number average primary particle size of the surface modified metal oxide particles or the non-surface modified metal oxide particles is within a range of 10 to 50 nm, and the surface modified metal oxide particles and the non-surface modified metal oxide The electrophotographic photosensitive member according to any one of items 1 to 6, wherein the particles have different particle sizes.
8.前記表面修飾金属酸化物粒子が、電荷発生層側に偏在していることを特徴とする第1項から第7項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体。 8). The electrophotographic photoreceptor according to any one of items 1 to 7, wherein the surface-modified metal oxide particles are unevenly distributed on the charge generation layer side.
9.前記中間層が、硬化性樹脂層であることを特徴とする第1項から第8項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体。 9. The electrophotographic photosensitive member according to any one of Items 1 to 8, wherein the intermediate layer is a curable resin layer.
10.前記中間層が、下記一般式(Int)で表される構造を有する化合物、当該化合物以外のリン元素を含む化合物、又は、硫黄元素を含む化合物のいずれかに由来する化合物を、0.01ppm以上含有することを特徴とする第9項に記載の電子写真感光体。
11.第1項から第10項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体を製造する電子写真感光体の製造方法であって、
前記中間層を形成する工程が、400nm以上の波長の光で硬化させる可視光硬化工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
11. An electrophotographic photosensitive member manufacturing method for manufacturing the electrophotographic photosensitive member according to any one of items 1 to 10,
The method for producing an electrophotographic photoreceptor, wherein the step of forming the intermediate layer includes a visible light curing step of curing with light having a wavelength of 400 nm or more.
12.第1項から第10項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体を備えることを特徴とする電子写真画像形成装置。 12 An electrophotographic image forming apparatus comprising the electrophotographic photosensitive member according to any one of Items 1 to 10.
13.前記画像形成装置における帯電手段が、接触帯電方式のものであることを特徴とする第12項に記載の電子写真画像形成装置。 13. 13. The electrophotographic image forming apparatus according to item 12, wherein the charging means in the image forming apparatus is of a contact charging type.
14.第1項から第10項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体を用いることを特徴とする電子写真画像形成方法。 14 11. An electrophotographic image forming method using the electrophotographic photosensitive member according to any one of items 1 to 10.
15.第1項から第10項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。 15. A process cartridge comprising the electrophotographic photosensitive member according to any one of items 1 to 10.
本発明の上記手段により、長期間にわたって画像メモリーの発生を防止することができるとともに、黒ポチやカブリ等の画像欠陥の発生を防止することができる電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、電子写真画像形成装置、電子写真画像形成方法及びプロセスカートリッジを提供することができる。
本発明の効果の発現機構又は作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
接触帯電、いわゆる「イレースレス(erase less)クリーニング前除電レス)」のプロセス(転写後に光除電を行わないプロセス)において、従来の感光体では繰り返しメモリーが発生することが分かった。繰り返しメモリーは、帯チャートを複数枚(繰返し)印刷した後、全面ベタ画像を印刷すると、帯部が薄くなって現れる現象で、感光体上の露光電位Viの上昇が原因である。これは、露光後の負電荷の抜けが悪く、中間層に負電荷が溜まり、徐々に電荷発生層での正孔発生を妨げているためと推測している。
この仮説より、繰り返しメモリーに対する解決策としては、中間層の電気抵抗を下げ、導電性を上げれば良いのだが、導電性が高くなるとカブリ・黒ポチが発生する。黒ポチの原因は、局所的な露光前の感光体の帯電電位V0の低下等が原因と考えられ、中間層の導電性が高いと発生しやすくなることはよく知られている。カブリも同様の機構で局所的でなく、全体的な帯電性の低下が原因である。
従来の感光体では、カブリも黒ポチもメモリーも発生しない特定の範囲を狙った処方設計であったが、新しいプロセスでは対応が難しい。そこで、電子輸送性物質で表面修飾をした金属酸化物粒子を用いたところ、上記トレードオフの関係を解決することができた。
電子輸送性化合物を含有した中間層を持つ感光体は既に知られているが、2層構造であるため、2度塗布する必要があり、既存の製造設備では、製造ラインの改造や、製造時間の延長が必要であり、感光体のコストアップにつながってしまう。
According to the above-mentioned means of the present invention, the generation of an image memory can be prevented over a long period of time, and the occurrence of image defects such as black spots and fog can be prevented, and the method for producing an electrophotographic photoreceptor An electrophotographic image forming apparatus, an electrophotographic image forming method, and a process cartridge can be provided.
The expression mechanism or action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.
In the process of contact charging, the so-called “eraseless static elimination before cleaning” process (a process in which no photostatic elimination is performed after transfer), it has been found that the conventional photoreceptor repeatedly generates memory. Repeat memory, after a plurality of sheets (repeat) printed strip chart, printing a full solid image, a phenomenon appears as thin band part, is due to increase in the exposure potential V i on the photoreceptor. This is presumed to be because negative charges are poorly discharged after exposure, negative charges accumulate in the intermediate layer, and gradually prevent hole generation in the charge generation layer.
From this hypothesis, as a solution to repeated memory, it is sufficient to lower the electrical resistance of the intermediate layer and increase the conductivity, but fog and black spots occur when the conductivity increases. The cause of the black spots is considered to be a local decrease in the charging potential V 0 of the photosensitive member before exposure, and it is well known that it is likely to occur when the intermediate layer has high conductivity. The fog is caused by the same mechanism but not locally, and a decrease in the overall chargeability.
Conventional photoconductors have a prescription design aimed at a specific range where fog, black spots, and memory do not occur, but it is difficult to handle with a new process. Then, when the metal oxide particle surface-modified with the electron transport substance was used, the above trade-off relationship could be solved.
Photoconductors having an intermediate layer containing an electron transporting compound are already known, but since they have a two-layer structure, they need to be applied twice. Therefore, the cost of the photoconductor is increased.
そこで、鋭意検討した結果、電子輸送性化合物で表面修飾した金属酸化物粒子(表面修飾金属酸化物粒子)と、電子輸送性化合物で表面修飾をしない金属酸化物粒子(非表面修飾金属酸化物粒子)の両方を含有した塗布液を作製し、塗布したところ、一度の塗布で、内部的に2層に偏った層ができていた(電荷発生層側に表面修飾金属酸化物粒子が偏在し、導電性支持体側に非表面修飾金属酸化物粒子が偏在している。)。
このような構成が良い結果を生み出したメカニズムの詳細は解明されていないが、以下のような作用機構を考えている。
繰り返しメモリーと黒ポチ・カブリのトレードオフに対して、電子輸送性化合物含有層を組み込むことで解決できることは前述のとおりである。単純に、電子輸送性化合物で表面修飾した金属酸化物粒子を中間層に含有させるだけでは、中間層の導電性はあまり向上せず、露光電位Viの上昇を解決するに至らない。そこで、電子輸送性化合物で表面修飾していない金属酸化物粒子を併せて塗布すると、金属酸化物粒子表面の疎水化度等の違いから、成膜時には表面修飾金属酸化物粒子と非表面修飾金属酸化物粒子が膜内で偏在したためと推測している。
Therefore, as a result of intensive studies, metal oxide particles (surface-modified metal oxide particles) surface-modified with an electron-transporting compound and metal oxide particles (non-surface-modified metal oxide particles) that are not surface-modified with an electron-transporting compound When a coating solution containing both of the above was prepared and applied, a layer that was internally biased into two layers was formed by one coating (surface-modified metal oxide particles were unevenly distributed on the charge generation layer side, Non-surface-modified metal oxide particles are unevenly distributed on the conductive support side).
The details of the mechanism by which such a configuration has produced good results have not been elucidated, but the following mechanism of action is considered.
As described above, it is possible to solve the trade-off between repeated memory and black spots and fog by incorporating an electron transporting compound-containing layer. Simply, alone is contained the surface modified metal oxide particles in the electron-transporting compound to the intermediate layer, a conductive intermediate layer is not improved so much, it does not lead to the solution to increase the exposure potential V i. Therefore, if metal oxide particles that are not surface-modified with an electron transporting compound are applied together, the surface-modified metal oxide particles and the non-surface-modified metal are formed during film formation due to differences in the degree of hydrophobicity of the surface of the metal oxide particles. It is assumed that the oxide particles are unevenly distributed in the film.
さらに、通常、光励起により電荷発生層で発生した負電荷は、電子輸送性化合物で表面修飾した金属酸化物粒子であっても、金属酸化物粒子の導電性が十分高ければ、中間層中に負電荷をとどまることなく基体に排出されるが、熱励起などにより発生した意図しない負電荷は、金属酸化物粒子表面の電子輸送層に阻まれて金属酸化物粒子(フィラー)経由での基体への排出が難しくなり、電荷発生層内で再結合すると推測している。
つまり、電子輸送性化合物による金属酸化物粒子の表面修飾は、熱励起で発生した意図しない電荷を分離させないようにしていると推測している。電子輸送性化合物で表面修飾された金属酸化物粒子による層があるため、熱励起で発生した電荷はブロックされ(電荷発生層に留めておき)、さらに電荷輸送性化合物で表面修飾された金属酸化物粒子による層を通過(又は移動)した光励起による負電荷は、速やかに基体に排出されるような層とすることができる(すなわち、電荷輸送性化合物で表面修飾していない金属酸化物粒子による層があるおかげで露光電位Viの上昇が抑えられている)と考えている。
Further, the negative charge generated in the charge generation layer by photoexcitation is usually negative in the intermediate layer even if the metal oxide particles are surface-modified with an electron transporting compound if the conductivity of the metal oxide particles is sufficiently high. Although the electric charge is discharged to the substrate without staying, the unintended negative charge generated by thermal excitation is blocked by the electron transport layer on the surface of the metal oxide particle and is transferred to the substrate via the metal oxide particle (filler). It is assumed that the discharge becomes difficult and recombines in the charge generation layer.
That is, it is speculated that the surface modification of the metal oxide particles with the electron transporting compound prevents the unintended charges generated by thermal excitation from being separated. Since there is a layer of metal oxide particles that are surface-modified with an electron-transporting compound, the charge generated by thermal excitation is blocked (retained in the charge-generating layer), and the metal oxide is surface-modified with a charge-transporting compound The negative charge due to photoexcitation that has passed (or moved) through the layer due to the physical particles can be quickly discharged to the substrate (that is, due to the metal oxide particles not surface-modified with the charge transporting compound) It is considered that the increase in exposure potential V i is suppressed due to the presence of the layer).
また、電荷発生層の熱励起などによる電荷発生は、電荷発生層の劣化や結晶形状のバラつき(乱れ)、分散時の劣化、電荷発生層中の不純物等が原因で発生すると推測しており、電荷発生層の劣化を防ぐこともカブリ・黒ポチの抑制につながると考えて、さらに検討を進めた。
一般的には、ポリアミド樹脂や、熱硬化性樹脂などを用いて、熱で硬化させる中間層が多い。しかし、熱硬化性樹脂ではなく、光硬化性樹脂を用い、さらに、紫外線、電子線を用いた光硬化より、可視光(400〜800nm)で硬化した方が、電子輸送性化合物の劣化と、電荷発生層の感度低下を抑えられることが分かり、本発明の電子写真感光体の製造方法では、中間層を形成する工程において、400nm以上の波長の光で硬化させることとした。これは、熱硬化より光硬化の方が副反応が起こりにくいためと推測している。
In addition, it is estimated that charge generation due to thermal excitation of the charge generation layer occurs due to deterioration of the charge generation layer, variation in crystal shape (disturbance), deterioration during dispersion, impurities in the charge generation layer, Considering that preventing the deterioration of the charge generation layer also leads to suppression of fog and black spots, further investigations were made.
In general, there are many intermediate layers that are cured by heat using a polyamide resin, a thermosetting resin, or the like. However, rather than a thermosetting resin, a photo-curing resin is used, and further, curing with visible light (400 to 800 nm) rather than photo-curing using ultraviolet rays or an electron beam causes deterioration of the electron-transporting compound, It can be seen that the sensitivity reduction of the charge generation layer can be suppressed, and in the method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention, in the step of forming the intermediate layer, curing is performed with light having a wavelength of 400 nm or more. This is presumed that side reactions are less likely to occur in photocuring than in heat curing.
本発明の電子写真感光体は、導電性支持体上に中間層及び感光層が積層されてなる電子写真感光体であって、前記中間層が、電子輸送性化合物による表面修飾金属酸化物粒子と、非表面修飾金属酸化物粒子と、を含有することを特徴とする。
この特徴は、下記各実施形態に共通又は対応する技術的特徴である。
The electrophotographic photosensitive member of the present invention is an electrophotographic photosensitive member in which an intermediate layer and a photosensitive layer are laminated on a conductive support, and the intermediate layer includes surface-modified metal oxide particles made of an electron transporting compound and And non-surface-modified metal oxide particles.
This feature is a technical feature common to or corresponding to each of the following embodiments.
本発明の実施態様としては、前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子が、スズ、チタン、亜鉛のいずれかの元素を含有することが、電子輸送性の点で好ましい。 As an embodiment of the present invention, the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles preferably contain any element of tin, titanium, and zinc from the viewpoint of electron transport properties.
前記電子輸送性化合物が、前記一般式(ETM)で表される電子輸送性化合物であることが、金属酸化物粒子の表面処理の点で好ましい。 The electron transporting compound is preferably an electron transporting compound represented by the general formula (ETM) from the viewpoint of the surface treatment of the metal oxide particles.
前記一般式(ETM)におけるAが、前記一般式(1)で表されるオキサジアゾール誘導体、前記一般式(4)で表せられるキノン系誘導体、前記一般式(6)で表されるテトラカルボン酸ジイミド誘導体から選ばれる、少なくとも一つであることが、金属酸化物粒子の表面処理時の取り扱いが容易であり、熱励起で発生した電荷を有効にブロックできる点で好ましい。 A in the general formula (ETM) is an oxadiazole derivative represented by the general formula (1), a quinone derivative represented by the general formula (4), or a tetracarboxylic acid represented by the general formula (6). It is preferable that at least one selected from acid diimide derivatives is easy in handling during the surface treatment of the metal oxide particles and can effectively block charges generated by thermal excitation.
前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子の数平均一次粒径が、5〜200nmの範囲内であることが電子輸送性や分散性の点で好ましく、10〜100nmの範囲内であることがより好ましい。 The number average primary particle size of the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles is preferably in the range of 5 to 200 nm in terms of electron transport properties and dispersibility, and in the range of 10 to 100 nm. More preferably, it is within.
前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子の数平均一次粒径が、10〜50nmの範囲内で、かつ、前記表面修飾金属酸化物粒子と、前記非表面修飾金属酸化物粒子とが、異なる粒径であることが、導電性支持体に対する隠蔽力を向上させ、モアレ、干渉縞などを抑制し、異常画像の原因となるピンホールをなくすことができる点で好ましい。 The number average primary particle size of the surface modified metal oxide particles or the non-surface modified metal oxide particles is within a range of 10 to 50 nm, and the surface modified metal oxide particles and the non-surface modified metal oxide It is preferable that the particles have different particle diameters from the viewpoint of improving the concealing power to the conductive support, suppressing moire and interference fringes, and eliminating pinholes that cause abnormal images.
前記表面修飾金属酸化物粒子が、電荷発生層側に偏在していることが、電荷発生層で発生した熱励起などにより発生した意図しない負電荷の移動を妨げやすくなるので好ましい。 It is preferable that the surface-modified metal oxide particles are unevenly distributed on the charge generation layer side because unintentional movement of negative charges generated by thermal excitation generated in the charge generation layer can be easily prevented.
前記中間層が、硬化性樹脂層であることが、電荷輸送性化合物の劣化と、電荷発生層の感度低下を抑制できる点で好ましい。
また、前記中間層が、前記一般式(Int)で表される構造を有する化合物、当該化合物以外のリン元素を含む化合物、又は、硫黄元素を含む化合物のいずれかに由来する化合物を、0.01ppm以上含有することが、耐画像メモリー性及び耐摩耗性に優れる点で好ましい。
It is preferable that the intermediate layer is a curable resin layer in terms of suppressing deterioration of the charge transporting compound and a decrease in sensitivity of the charge generation layer.
In addition, a compound derived from any one of the compound in which the intermediate layer has a structure represented by the general formula (Int), a compound containing a phosphorus element other than the compound, or a compound containing a sulfur element is used. The content of 01 ppm or more is preferable from the viewpoint of excellent image memory resistance and wear resistance.
本発明の電子写真感光体の製造方法は、前記中間層を形成する工程が、400nm以上の波長の光で硬化させる可視光硬化工程を有することを特徴とする。これにより、電子輸送性化合物の劣化と、電荷発生層の感度低下を抑えることができ、画像メモリーの発生防止と、黒ポチやカブリ等の画像欠陥の発生防止により有効となる。 The method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention is characterized in that the step of forming the intermediate layer includes a visible light curing step of curing with light having a wavelength of 400 nm or more. As a result, deterioration of the electron transporting compound and reduction in sensitivity of the charge generation layer can be suppressed, which is effective in preventing the occurrence of image memory and the occurrence of image defects such as black spots and fog.
本発明の電子写真感光体は、電子写真画像形成装置に好適に用いられる。
本発明の画像形成装置における帯電手段が、接触帯電方式のものであることが、感光体の帯電均一性の点で好ましい。
The electrophotographic photoreceptor of the present invention is suitably used for an electrophotographic image forming apparatus.
The charging means in the image forming apparatus of the present invention is preferably of a contact charging type from the viewpoint of charging uniformity of the photoreceptor.
本発明の電子写真感光体は、電子写真画像形成方法に好適に用いられる。また、本発明の電子写真感光体は、プロセスカートリッジに好適に用いられる。 The electrophotographic photoreceptor of the present invention is suitably used for an electrophotographic image forming method. The electrophotographic photosensitive member of the present invention is preferably used for a process cartridge.
以下、本発明とその構成要素及び本発明を実施するための形態・態様について説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.
[本発明の電子写真感光体の概要]
本発明の電子写真感光体(以下、単に「感光体」ともいう。)は、導電性支持体上に中間層及び感光層の順に積層されてなる電子写真感光体であって、前記中間層が、電子輸送性化合物による表面修飾金属酸化物粒子と、非表面修飾金属酸化物粒子と、を含有することを特徴とする。
本発明の電子写真感光体は、導電性支持体上に、中間層、電荷発生層、電荷輸送層及び保護層がこの順に積層されてなり、電荷発生層及び電荷輸送層から感光層が構成されていることが好ましい。
[Outline of Electrophotographic Photosensitive Member of the Present Invention]
The electrophotographic photoreceptor of the present invention (hereinafter also simply referred to as “photoreceptor”) is an electrophotographic photoreceptor in which an intermediate layer and a photosensitive layer are laminated in this order on a conductive support, and the intermediate layer comprises And surface-modified metal oxide particles made of an electron transporting compound and non-surface-modified metal oxide particles.
In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, an intermediate layer, a charge generation layer, a charge transport layer and a protective layer are laminated in this order on a conductive support, and the photosensitive layer is composed of the charge generation layer and the charge transport layer. It is preferable.
[表面修飾金属酸化物粒子及び非表面修飾金属酸化物粒子]
本発明に係る表面修飾金属酸化物粒子又は非表面修飾金属酸化物粒子は、スズ、チタン、亜鉛のいずれかの元素を含有することが好ましい。
前記表面修飾金属酸化物粒子は、前記元素を含有する金属酸化物粒子に電子輸送性化合物による表面修飾が施されている。
[Surface-modified metal oxide particles and non-surface-modified metal oxide particles]
The surface-modified metal oxide particles or non-surface-modified metal oxide particles according to the present invention preferably contain any element of tin, titanium, and zinc.
In the surface-modified metal oxide particles, the metal oxide particles containing the element are surface-modified with an electron transporting compound.
本発明に係る電子輸送性化合物としては、下記一般式(ETM)で表される電子輸送性化合物であることが好ましい。
A−X ・・・一般式(ETM)
[上記一般式(ETM)において、Aは、電子輸送性化合物の母骨格を表し、下記一般式(1)〜(9)のいずれかで表される構造を有する化合物由来の母骨格を表す。Xは、−COOH、−Si(OCH3)3、−Si(OC2H5)3、又は−OHを表す。
また、Xは、下記一般式(1)〜(9)で表される化合物における置換基R(R1〜R50)のいずれかと結合しており、そのときの置換基Rは、炭素数1〜8のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のエーテル基又はエステル基を表す。]
The electron transporting compound according to the present invention is preferably an electron transporting compound represented by the following general formula (ETM).
AX: General formula (ETM)
[In the said general formula (ETM), A represents the mother frame | skeleton of an electron transport compound, and represents the mother frame | skeleton derived from the compound which has a structure represented by either of the following general formula (1)-(9). X represents -COOH, -Si (OCH 3) 3 , -Si (OC 2 H 5) 3, or -OH.
X is bonded to any one of the substituents R (R 1 to R 50 ) in the compounds represented by the following general formulas (1) to (9), and the substituent R at that time has 1 carbon atom. Represents an -8 alkylene group, an optionally substituted cycloalkylene group having 3 to 12 carbon atoms, and an optionally substituted ether group or ester group having 1 to 8 carbon atoms. ]
一般式(1)中、R1及びR2は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基、置換基を有していてもよいカルボニル基からなる群より選択される基である。Ar1は、置換基を有していてもよいアリーレン基である。
R1及びR2で表されるハロゲン原子としては、例えば、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)等が挙げられる。
R1及びR2で表されるカルボニル基としては、例えば、−C(=O)−ORb(ただし、Rbは1価の有機基)などの−C(=O)−Ra(ただし、Raは1価の有機基)等が挙げられる。
R1及びR2で有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基等が挙げられる。
また、Ar1で有していてもよい置換基としては、R1及びR2で有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
In general formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted carbon number. A cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, a halogen atom, an aryl group which may have a substituent, a cyano group, a nitro group and a hydroxy group, It is a group selected from the group consisting of a carbonyl group which may have a substituent. Ar 1 is an arylene group which may have a substituent.
Examples of the halogen atom represented by R 1 and R 2 include a chloro group (—Cl) and a bromo group (—Br).
Examples of the carbonyl group represented by R 1 and R 2 include —C (═O) —Ra (where Ra is a monovalent organic group) such as —C (═O) —ORb (where Ra is Monovalent organic group) and the like.
Examples of the substituent that R 1 and R 2 may have include an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, a hydroxy group, and an alkoxysilyl group.
As the substituent which may have at Ar 1, include those similar to the substituents that may have by R 1 and R 2.
一般式(2)中、R3及びR4は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基、置換基を有していてもよいカルボニル基からなる群より選択される基である。
R3及びR4で表されるハロゲン原子としては、例えば、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)等が挙げられる。
R3及びR4で表されるカルボニル基としては、例えば、−C(=O)−ORb(ただし、Rbは1価の有機基)などの−C(=O)−Ra(ただし、Raは1価の有機基)等が挙げられる。
R3及びR4で有していてもよい置換基としては、例えばアルキル基、アリール基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基等が挙げられる。
In General Formula (2), R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted carbon number. A cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, a halogen atom, an aryl group which may have a substituent, a cyano group, a nitro group and a hydroxy group, It is a group selected from the group consisting of a carbonyl group which may have a substituent.
Examples of the halogen atom represented by R 3 and R 4 include a chloro group (—Cl) and a bromo group (—Br).
Examples of the carbonyl group represented by R 3 and R 4 include —C (═O) —Ra (wherein Rb is a monovalent organic group) such as —C (═O) —ORb (where Ra is Monovalent organic group) and the like.
Examples of the substituent that R 3 and R 4 may have include an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, a hydroxy group, and an alkoxysilyl group.
一般式(3)中、R5〜R8は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基、置換基を有していてもよいカルボニル基からなる群より選択される基である。
R5〜R8で表されるハロゲン原子としては、例えば、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)等が挙げられる。
R5〜R8で表されるカルボニル基としては、例えば、−C(=O)−ORb(ただし、Rbは1価の有機基)などの−C(=O)−Ra(ただし、Raは1価の有機基)等が挙げられる。
R5〜R8で有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基等が挙げられる。
In General Formula (3), R 5 to R 8 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted carbon number. A cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, a halogen atom, an aryl group which may have a substituent, a cyano group, a nitro group and a hydroxy group, It is a group selected from the group consisting of a carbonyl group which may have a substituent.
Examples of the halogen atom represented by R 5 to R 8 include a chloro group (—Cl), a bromo group (—Br), and the like.
Examples of the carbonyl group represented by R 5 to R 8 include —C (═O) —Ra (where Ra is a monovalent organic group) such as —C (═O) —ORb (where Rb is Monovalent organic group) and the like.
Examples of the substituent that R 5 to R 8 may have include an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, a hydroxy group, and an alkoxysilyl group.
一般式(4)中、R9〜R16は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基、置換基を有していてもよいカルボニル基からなる群より選択される基である。
R9〜R16で表されるハロゲン原子としては、例えば、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)等が挙げられる。
R9〜R16で表されるカルボニル基としては、例えば、−C(=O)−ORb(ただし、Rbは1価の有機基)などの−C(=O)−Ra(ただし、Raは1価の有機基)等が挙げられる。
R9〜R16で有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基等が挙げられる。
In General Formula (4), R 9 to R 16 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted carbon number. A cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, a halogen atom, an aryl group which may have a substituent, a cyano group, a nitro group and a hydroxy group, It is a group selected from the group consisting of a carbonyl group which may have a substituent.
Examples of the halogen atom represented by R 9 to R 16 include a chloro group (—Cl) and a bromo group (—Br).
Examples of the carbonyl group represented by R 9 to R 16 include —C (═O) —Ra (where Ra is a monovalent organic group) such as —C (═O) —ORb (where Rb is Monovalent organic group) and the like.
Examples of the substituent that may be possessed by R 9 to R 16 include an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, a hydroxy group, and an alkoxysilyl group.
一般式(5)中、R17及びR18は、各々独立に、水素原子、シアノ基及び置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基からなる群より選択される基であって、少なくともいずれか一方が、シアノ基又は置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基である。
R19〜R26は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基からなる群より選択される基である。
Zは、炭素原子又は窒素原子である。
R17及びR18、R19〜R26で有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基等が挙げられる。
In General Formula (5), R 17 and R 18 are each independently a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a cyano group, and an optionally substituted alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms. And at least any one is a C1-C8 alkoxycarbonyl group which may have a cyano group or a substituent.
R 19 to R 26 each independently have a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an optionally substituted aryl group, or a substituent. Or a group selected from the group consisting of an alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms.
Z is a carbon atom or a nitrogen atom.
Examples of the substituent that may be contained in R 17 and R 18 and R 19 to R 26 include an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, a hydroxy group, and an alkoxysilyl group.
一般式(6)中、R27及びR28は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基及びニトロ基からなる群より選択される基である。
pは、上記式(p1)〜式(p5)で表される4価の基のいずれかであって、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数6〜18のアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基からなる群より選択される少なくとも一つの置換基を有していてもよい。
R27及びR28で表されるハロゲン原子としては、例えば、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)等が挙げられる。
R27及びR28及びpが有していてもよい置換基としては、例えばアルキル基、アリール基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基等が挙げられる。
In General Formula (6), R 27 and R 28 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted carbon number. From the group consisting of a 3-12 cycloalkyl group, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an optionally substituted aryl group, a cyano group, and a nitro group. The group to be selected.
p is any of the tetravalent groups represented by the above formulas (p1) to (p5), and has an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and a substituent which may have a substituent. Selected from the group consisting of an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an optionally substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, and a hydroxy group. It may have at least one substituent.
Examples of the halogen atom represented by R 27 and R 28 include a chloro group (—Cl) and a bromo group (—Br).
Examples of the substituent that R 27, R 28, and p may have include an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, a hydroxy group, and an alkoxysilyl group.
一般式(7)中、R29及びR30は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数6〜18のアリール基、シアノ基及びニトロ基からなる群より選択される基であり、これらは互いに連結して環構造を有してもいてもよい。
R31〜R40は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基、置換基を有していてもよいカルボニル基からなる群より選択される基である。
R41及びR42は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子からなる群より選択される基である。
R29、R30、R31〜R40、R41及びR42が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基等が挙げられる。
R31〜R40で表されるカルボニル基としては、例えば、−C(=O)−ORb(ただし、Rbは1価の有機基)などの−C(=O)−Ra(ただし、Raは1価の有機基)等が挙げられる。
R31〜R40 、R41及びR42で表されるハロゲン原子としては、例えば、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)等が挙げられる。
In General Formula (7), R 29 and R 30 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a substituent. A group selected from the group consisting of an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may have a group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent, a cyano group and a nitro group. These may be linked to each other to have a ring structure.
R 31 to R 40 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms. An optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an optionally substituted aryl group, a cyano group, a nitro group and a hydroxy group, Or a group selected from the group consisting of good carbonyl groups.
R 41 and R 42 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent And a group selected from the group consisting of an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent and a halogen atom.
Examples of the substituent that R 29 , R 30 , R 31 to R 40 , R 41, and R 42 may have include an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, a hydroxy group, and an alkoxysilyl group. .
Examples of the carbonyl group represented by R 31 to R 40 include —C (═O) —Ra (wherein Rb is a monovalent organic group) such as —C (═O) —ORb (where Ra is Monovalent organic group) and the like.
Examples of the halogen atom represented by R 31 to R 40 , R 41 and R 42 include a chloro group (—Cl) and a bromo group (—Br).
一般式(8)中、R43及びR44は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数6〜18のアリール基、シアノ基及びニトロ基からなる群より選択される基であり、これらは互いに連結して環構造を有してもいてもよい。
R45及びR46は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基からなる群より選択される基である。
Q1〜Q6は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子である。
R43、R44、R45及びR46が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基等が挙げられる。
R45及びR46で表されるハロゲン原子としては、例えば、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)等が挙げられる。
In General Formula (8), R 43 and R 44 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a substituent. A group selected from the group consisting of an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may have a group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent, a cyano group and a nitro group. These may be linked to each other to have a ring structure.
R 45 and R 46 each independently have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a substituent. From the group consisting of a good C1-C8 alkoxy group, a halogen atom, an optionally substituted aryl group, a cyano group, a nitro group and a hydroxy group, and an optionally substituted heteroaryl group The group to be selected.
Q 1 to Q 6 are each independently a carbon atom or a nitrogen atom.
Examples of the substituent that R 43 , R 44 , R 45 and R 46 may have include an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, a hydroxy group, and an alkoxysilyl group.
Examples of the halogen atom represented by R 45 and R 46 include a chloro group (—Cl) and a bromo group (—Br).
一般式(9)中、R47〜R50は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基からなる群より選択される基である。
Q7〜Q12は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子である。
R47〜R50が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基等が挙げられる。
R47〜R50で表されるハロゲン原子としては、例えば、クロロ基(−Cl)、ブロモ基(−Br)等が挙げられる。
In general formula (9), R 47 to R 50 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a substituent. An optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an optionally substituted aryl group, a cyano group, a nitro group and a hydroxy group, and optionally having a substituent. It is a group selected from the group consisting of heteroaryl groups.
Q 7 to Q 12 are each independently a carbon atom or a nitrogen atom.
Examples of the substituent that R 47 to R 50 may have include an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, a hydroxy group, and an alkoxysilyl group.
Examples of the halogen atom represented by R 47 to R 50 include a chloro group (—Cl) and a bromo group (—Br).
なお、前記一般式(1)、(2)で表される母骨格は、オキサジアゾール誘導体であり、前記一般式(3)、(4)で表される母骨格は、キノン系誘導体であり、前記一般式(5)で表される母骨格は、フルオレン系誘導体であり、前記一般式(6)で表される母骨格は、テトラカルボン酸ジイミド誘導体であり、前記一般式(7)〜(9)で表される母骨格は、シロール誘導体である。 In addition, the mother skeleton represented by the general formulas (1) and (2) is an oxadiazole derivative, and the mother skeleton represented by the general formulas (3) and (4) is a quinone derivative. The mother skeleton represented by the general formula (5) is a fluorene derivative, the mother skeleton represented by the general formula (6) is a tetracarboxylic acid diimide derivative, and the general formula (7) to The mother skeleton represented by (9) is a silole derivative.
前記一般式(ETM)におけるAが、前記一般式(1)で表されるオキサジアゾール誘導体、前記一般式(4)で表せられるキノン系誘導体及び前記一般式(6)で表されるテトラカルボン酸ジイミド誘導体から選ばれる誘電体由来母骨格を表すことが、入手、又は、表面処理時の取り扱いの点で好ましい。 A in the general formula (ETM) is an oxadiazole derivative represented by the general formula (1), a quinone derivative represented by the general formula (4), and a tetracarboxylic acid represented by the general formula (6). Representing a dielectric-derived mother skeleton selected from acid diimide derivatives is preferred in terms of availability or handling during surface treatment.
前記一般式(ETM)で表される電子輸送性化合物の具体例を下記に示す。
(一般式(1)、(2)で表されるオキサジアゾール誘導体の合成例)
前記一般式(1)で表されるオキサジアゾール誘導体は、例えば「Synthesis,1986,#5,p.411−413,Rekkas」や、「J.Org.Chem.,2009,74(16),pp6410−6413,Tomoya Mukaiら」などの文献に開示される方法によって合成することができる。
前記一般式(2)で表されるオキサジアゾール誘導体は、例えば「Tetrahedron Letters,2014,vol.55,#13,p.2065−2069,Yadav,Arvind K.ら」などの文献に開示される方法によって合成することができる。
(Synthesis Example of Oxadiazole Derivatives Represented by General Formulas (1) and (2))
Examples of the oxadiazole derivative represented by the general formula (1) include “Synthesis, 1986, # 5, p.411-413, Rekas”, “J. Org. Chem., 2009, 74 (16), pp6410-6413, Tomoya Mukai et al. "and the like.
The oxadiazole derivative represented by the general formula (2) is disclosed in documents such as “Tetrahedron Letters, 2014, vol. 55, # 13, p. It can be synthesized by the method.
(ETM101の合成例)
前記ETM101は、4−(3−Hydroxypropyl)benzonitrileを出発原料とし、ヒドロキシ基をベンジル基などで保護し、シアノ基をテトラゾール基に変換した後、これと3−シアノベンゾニトリルクロライドとをカップリングし、得られた物質のシアノ基を同様にテトラゾール基に変換し、その後、これと1−ナフトイルクロリドとをカップリングさせ、さらに、水添などの操作にてベンジル基などの保護基を脱保護することにより合成することができる。
(Synthesis example of ETM101)
The ETM101 uses 4- (3-Hydroxypropyl) benzonitrile as a starting material, protects the hydroxy group with a benzyl group, etc., converts the cyano group to a tetrazole group, and then couples this with 3-cyanobenzonitrile chloride. The cyano group of the obtained substance is converted to a tetrazole group in the same manner, and then this is coupled with 1-naphthoyl chloride, and further, a protecting group such as a benzyl group is deprotected by an operation such as hydrogenation. Can be synthesized.
(ETM102の合成例)
前記ETM102は、ビフェニル−4,4′−ジカルボン酸ジクロライド10質量部と4−(benzyloxy)benzohydrazide13.9質量部を無水ピリジン中で反応させ、反応混合物を純水に投入して沈澱を濾過し、この沈澱を希塩酸、純水で洗った後、メタノール/エタノール混合溶媒で再結晶化し、得られた針状結晶15質量部を、オキシ塩化リン812質量部中で還流反応させた後、オキシ塩化リンを留去させ、その後、反応生成物を水、メタノールでよく洗う。次いで、これをエタノール/トルエン混合溶媒で再結晶化する。得られた結晶を酢酸エチルやアルコール系の溶剤に溶解させ、水添などの操作にてベンジル基などの保護基を脱保護し、濃縮する。トルエン等の非極性溶媒に溶解させ、ethyl−5−chloro−5−oxopentanoateを滴下する。反応終了後、アルカリ性にし加水分解することで、ETM102を得ることができる。
(Synthesis example of ETM102)
In the ETM102, 10 parts by mass of biphenyl-4,4′-dicarboxylic acid dichloride and 13.9 parts by mass of 4- (benzoyloxy) benzohydrazide are reacted in anhydrous pyridine, the reaction mixture is poured into pure water, and the precipitate is filtered. The precipitate was washed with dilute hydrochloric acid and pure water, then recrystallized with a methanol / ethanol mixed solvent, and 15 parts by mass of the obtained needle-like crystals were refluxed in 812 parts by mass of phosphorus oxychloride, and then phosphorous oxychloride. Then, the reaction product is washed well with water and methanol. Subsequently, this is recrystallized with an ethanol / toluene mixed solvent. The obtained crystals are dissolved in ethyl acetate or an alcohol solvent, and a protecting group such as a benzyl group is deprotected and concentrated by an operation such as hydrogenation. It is dissolved in a nonpolar solvent such as toluene, and ethyl-5-chloro-5-oxopentanoate is added dropwise. ETM102 can be obtained by making it alkaline and hydrolyzing after completion | finish of reaction.
(ETM201の合成例)
前記ETM201は、4−methoxybenzohydrazideと4−methyl−1−naphthaldehydeとをカップリングし、得られた物質のメトキシ基を、水添、又はアルカリなどの操作にてフェノール基に変換。(4−クロロブチル)トリエトキシシランを当量滴下することにより、合成することができる。
(Synthesis example of ETM201)
The ETM201 couples 4-methoxybenzohydride and 4-methyl-1-naphthaldehyde, and converts the methoxy group of the obtained substance into a phenol group by hydrogenation or alkali operation. It can be synthesized by dropping an equivalent amount of (4-chlorobutyl) triethoxysilane.
(一般式(3)、(4)で表されるキノン系誘導体の合成例)
前記一般式(3)で表されるキノン系誘導体は、「Archiv der Pharmazie,1991,vol.324,#8p.491−495. Wurm et al.」に従って合成することができる。
前記一般式(4)で表されるキノン系誘導体は、「Tetrahedron Letters,1990,vol.31,#26,p.3771〜3774 Pandey et al.」に従って合成することができる。
(Synthesis example of quinone derivatives represented by general formulas (3) and (4))
The quinone derivative represented by the general formula (3) can be synthesized according to “Archiv der Pharmazie, 1991, vol. 324, # 8 p. 491-495. Wurm et al.”.
The quinone derivative represented by the general formula (4) can be synthesized according to “Tetrahedron Letters, 1990, vol. 31, # 26, p. 3771 to 3774 Pandey et al.”.
(一般式(5)で表されるフルオレン誘導体の合成例)
(ETM501の合成例)
前記ETM501は、ニンヒドリン100質量部、ベンジルケトン118質量部をエタノールに添加し、還流するまで加熱し、還流している反応液に、水酸化カリウム9.5質量部を溶解させたメタノール溶液を1時間かけて滴下し、滴下後、還流撹拌を1時間行い、放冷して結晶を析出させ、結晶を濾別してメタノールで洗浄した後、アセトニトリルで再結晶化する。得られた結晶130質量部、アセチレンジカルボン酸ジメチル82.9質量部をフラスコに入れ、外温を160℃に設定し、反応液を加熱し、内温が130℃以上になってから2時間加熱撹拌した後、放冷し、析出した結晶を濾別し、得られた粗結晶にエタノール及びトルエンを加えて再結晶化する。得られた結晶155質量部、マロノニトリル45.7質量部をTHFに加え、外温−10℃で冷却した後、内温0℃±5℃で、四塩化炭素に溶解させた四塩化チタン328質量部を滴下し、そのままの温度で30分間撹拌した後、ピリジン274質量部を添加し、室温までゆっくり戻し、さらに加熱して還流させ、還流状態で8時間反応後、室温に戻してから純水に反応液を添加し、さらにトルエンを加えて、分液にてトルエン層を抽出し、トルエン層を希塩酸で洗浄後、水層のpHが中性になるまで水洗を行った後、減圧蒸留にてトルエン層を濃縮し、トルエン−エタノール混合溶液を加えて再結晶化し、得られた結晶を濾別し、再度、再結晶化し結晶を得る。得られた結晶を、トルエンやTHF等の有機溶媒に溶解させ、アルカリ性にして加水分解する。反応終了後、純水を加えて、分液にて有機層を抽出し、減圧蒸留にて有機層を濃縮し、トルエン等の非極性溶媒に溶解させ、Ethyl 4−chlorobutyrate 2.5当量を滴下する。反応終了後、アルカリ性にして加水分解することで、ETM501を得ることができる。
(Synthesis example of fluorene derivative represented by the general formula (5))
(Synthesis example of ETM501)
The ETM501 was prepared by adding 100 parts by mass of ninhydrin and 118 parts by mass of benzyl ketone to ethanol, heating to reflux, and adding a methanol solution in which 9.5 parts by mass of potassium hydroxide was dissolved in the refluxed reaction solution. The mixture is added dropwise over a period of time, followed by stirring under reflux for 1 hour. The mixture is allowed to cool to precipitate crystals. The crystals are separated by filtration, washed with methanol, and recrystallized with acetonitrile. Put 130 parts by mass of the obtained crystals and 82.9 parts by mass of dimethyl acetylenedicarboxylate in a flask, set the external temperature to 160 ° C., heat the reaction solution, and heat for 2 hours after the internal temperature reaches 130 ° C. or higher. After stirring, the mixture is allowed to cool, the precipitated crystals are filtered off, and ethanol and toluene are added to the resulting crude crystals for recrystallization. 155 parts by mass of the obtained crystal and 45.7 parts by mass of malononitrile were added to THF, cooled at an external temperature of −10 ° C., and then 328 parts by mass of titanium tetrachloride dissolved in carbon tetrachloride at an internal temperature of 0 ° C. ± 5 ° C. 274 parts by mass of pyridine, slowly returned to room temperature, further heated to reflux, reacted at reflux for 8 hours, returned to room temperature, then purified water The reaction solution is added to the solution, toluene is further added, and the toluene layer is extracted by liquid separation. The toluene layer is washed with dilute hydrochloric acid, washed with water until the pH of the aqueous layer becomes neutral, and then subjected to vacuum distillation. The toluene layer is concentrated, and a toluene-ethanol mixed solution is added for recrystallization. The obtained crystals are separated by filtration and recrystallized again to obtain crystals. The obtained crystal is dissolved in an organic solvent such as toluene or THF to make it alkaline and hydrolyze. After completion of the reaction, pure water is added, the organic layer is extracted by liquid separation, the organic layer is concentrated by distillation under reduced pressure, dissolved in a nonpolar solvent such as toluene, and 2.5 equivalents of Ethyl 4-chlorobutyrate is added dropwise. To do. ETM501 can be obtained by making it alkaline and hydrolyzing after completion | finish of reaction.
(一般式(6)で表されるテトラカルボン酸ジイミド誘導体の合成例)
前記一般式(6)で表されるテトラカルボン酸ジイミド誘導体は、例えば「Monatshefte fuer Chemie,1914,vol.35」などの文献に開示される方法によって合成することができる。
一般的には、テトラカルボン酸二無水物とアニリン誘導体とを、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒中において加熱撹拌して反応させた後、再結晶化し、その後、カラムクロマトグラフィーなどで精製、乾燥することによって、合成することができる。また、例えば、前記一般式(6)で表されるテトラカルボン酸ジイミド誘導体における基pがナフタレン環であるものは、特開2001−265031号公報や「J.Am.Chem.Soc.,120323(1)(1998)」、「Journal of Organic Chemistry,2007,vol.72、#19,p.7287〜7293」などに開示される方法によって合成することができる。具体的には、ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物誘導体と1,1−二置換ヒドラジン誘導体と、置換アミン誘導体とを溶媒の存在下、又は無溶媒下で、同時若しくは順次反応させることによって、合成することができる。
(Synthesis example of tetracarboxylic acid diimide derivative represented by the general formula (6))
The tetracarboxylic acid diimide derivative represented by the general formula (6) can be synthesized, for example, by a method disclosed in a literature such as “Monatshefter Chemie, 1914, vol. 35”.
In general, tetracarboxylic dianhydride and an aniline derivative are reacted by heating and stirring in an aprotic polar solvent such as dimethylformamide, then recrystallized, and then purified by column chromatography or the like. It can be synthesized by drying. Further, for example, those in which the group p in the tetracarboxylic acid diimide derivative represented by the general formula (6) is a naphthalene ring are disclosed in JP-A No. 2001-265031 and “J. Am. Chem. Soc., 120323 ( 1) (1998) "," Journal of Organic Chemistry, 2007, vol. 72, # 19, p. 7287-7293 "and the like. Specifically, a naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride derivative, a 1,1-disubstituted hydrazine derivative, and a substituted amine derivative are simultaneously used in the presence or absence of a solvent. Or it can synthesize | combine by making it react sequentially.
(ETM601の合成例)
前記ETM601は、ピロメリット酸二無水物300質量部と2−(トリフルオロメチル)アニリン 260質量部と、methyl 4−(4−aminophenyl)butanoate 300質量部をジメチルホルムアミド中において3時間還流下で加熱し、冷却した後、反応混合物を濾過し、沈殿をジメチルホルムアミドで洗浄し、さらにエーテルで洗浄し、乾燥し、得られた生成物を精製する。さらに、加水分解を行い、(3−クロロプロピル)トリメトキシシランを当量滴下することにより、合成することができる。
(Synthesis example of ETM601)
The ETM601 was prepared by heating 300 parts by mass of pyromellitic dianhydride, 260 parts by mass of 2- (trifluoromethyl) aniline, and 300 parts by mass of methyl 4- (4-aminophenyl) butanoate in dimethylformamide under reflux for 3 hours. After cooling, the reaction mixture is filtered and the precipitate is washed with dimethylformamide, further washed with ether and dried, and the resulting product is purified. Furthermore, it can synthesize | combine by hydrolyzing and dropping (3-chloropropyl) trimethoxysilane by an equivalent amount.
(ETM602の合成例)
前記ETM602で表される化合物は、前記ETM601の合成工程において、ピロメリト酸二無水物の代わりに3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用いるとともに、2−(トリフルオロメチル)アニリン260質量部の代わりに2,6−ジメチルアニリン180質量部とし、methyl 4−(4−aminophenyl)butanoate 300質量部の代わりに、4−(benzyloxy)−2,6−dimethylaniline 210質量部とし、(3−クロロプロピル)トリメトキシシランの代わりに、(4−クロロブチル)トリエトキシシランを用いたこと以外は同様の方法によって、合成することができる。
(Synthesis example of ETM602)
The compound represented by ETM602 uses 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride instead of pyromellitic dianhydride in the synthesis process of ETM601, and 2- (trifluoro Instead of 260 parts by weight of methyl) aniline, 180 parts by weight of 2,6-dimethylaniline was used, and instead of 300 parts by weight of methyl 4- (4-aminophenyl) butanoate, 210 parts by weight of 4- (benzyloxy) -2,6-dimethylylline And (4-chlorobutyl) triethoxysilane can be synthesized by the same method except that (4-chlorobutyl) triethoxysilane is used instead of (3-chloropropyl) trimethoxysilane.
(ETM603の合成例)
前記ETM603は、前記ETM601の合成工程において、ピロメリト酸二無水物の代わりにナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物を用いるとともに、2−(トリフルオロメチル)アニリン260質量部の代わりに1,2−ジメチルプロピルアミン160質量部とし、methyl 4−(4−aminophenyl)butanoate 300質量部の代わりに、2−(4−Aminocyclohexyl)ethanol 180質量部を用い、精製まで行ったこと以外は同様の方法によって、合成することができる。なお、前記ETM601で表される化合物の合成工程において行った加水分解とシリル化剤の滴下は行わない。
(Synthesis example of ETM603)
The ETM603 uses naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride instead of pyromellitic dianhydride in the synthesis step of the ETM601, and 260 parts by mass of 2- (trifluoromethyl) aniline. 1,2-dimethylpropylamine 160 parts by weight instead of methyl 4- (4-aminophenyl) butanoate 300 parts by weight 2- (4-Aminocyclohexyl) ethanol 180 parts by weight Except for the above, it can be synthesized by the same method. In addition, the hydrolysis and dripping of the silylating agent performed in the synthesis step of the compound represented by ETM601 are not performed.
(ETM604の合成例)
前記ETM604は、前記ETM601の合成工程において、ピロメリト酸二無水物の代わりにナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物を用いるとともに、2−(トリフルオロメチル)アニリン260質量部の代わりに、2−イソプロピルアニリン150質量部とし、methyl 4−(4−aminophenyl)butanoate 300質量部の代わりに、4−(benzyloxy)−2,6−dimethylaniline 180質量部とし、(3−クロロプロピル)トリメトキシシランの代わりに、(4−クロロブチル)トリエトキシシランを用いたこと以外は同様の方法によって、合成することができる。
(Synthesis example of ETM604)
The ETM604 uses naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride instead of pyromellitic dianhydride in the synthesis process of the ETM601, and 260 parts by mass of 2- (trifluoromethyl) aniline. Instead of 300 parts by weight of methyl 4- (4-aminophenyl) butanoate, 180 parts by weight of 4- (benzyloxy) -2,6-dimethylylline, instead of 300 parts by weight of methyl 4- (4-aminophenyl) butanoate, It can be synthesized by the same method except that (4-chlorobutyl) triethoxysilane is used instead of trimethoxysilane.
(ETM605の合成例)
前記ETM605は、前記ETM601の合成工程において、ピロメリト酸二無水物の代わりにペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水物を用いるとともに、2−(トリフルオロメチル)アニリン260質量部の代わりに、2,5−di−tert−butylaniline 180質量部とし、methyl 4−(4−aminophenyl)butanoate 300質量部の代わりに200質量部としたこと以外は同様の方法によって、合成することができる。
(Synthesis example of ETM605)
The ETM605 uses perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic dianhydride instead of pyromellitic dianhydride in the synthesis process of ETM601, and 260 parts by mass of 2- (trifluoromethyl) aniline. Can be synthesized by the same method except that 180 parts by mass of 2,5-di-tert-butylanline and 200 parts by mass instead of 300 parts by mass of methyl 4- (4-aminophenyl) butanoate. it can.
(一般式(7)〜(9)で表されるシロール誘導体の合成例)
前記一般式(7)〜一般式(9)で表されるシロール誘導体は、例えば(a)Science 1998,282,913頁−915頁、(b)J.Org.Chem.,2002,VOL.67,9392頁−9396頁、(c)J.Org.Chem.,2006,VOL.71,7826頁−7834頁、(d)J.Am.Chem.Soc.,VOL.124,No.1,2002,49頁−57頁、(e)WO2006/002731号公報、15頁、(f)J.C.S.,[Section]B,Pysical Organic 1996,733頁−735頁、(g)Chem. Lett.,1982,1195頁〜1198頁などの文献に開示される方法によって合成することができる。
(Synthesis example of silole derivatives represented by general formulas (7) to (9))
Examples of the silole derivatives represented by the general formula (7) to the general formula (9) include (a) Science 1998, 282, pages 913 to 915, and (b) J. Org. Org. Chem. , 2002, VOL. 67, 9392-9396, (c) J. MoI. Org. Chem. , 2006, VOL. 71, pages 7826-7834, (d) J. MoI. Am. Chem. Soc. , VOL. 124, no. 1, 2002, pages 49-57, (e) WO 2006/002731, page 15, (f) J. Am. C. S. [Section] B, Physical Organic 1996, pages 733-735, (g) Chem. Lett. , 1982, p. 1195 to p. 1198 and the like.
(ETM701の合成例)
前記ETM701は、「Chemistry−A European Journal,2000,vol.6,#9 p.1683−1692,Yamaguchi,Shigehiro et al.」に従って合成することができる。
(Synthesis example of ETM701)
The ETM 701 can be synthesized according to “Chemistry-A European Journal, 2000, vol. 6, # 9 p. 1683-1692, Yamaguchi, Shigehiro et al.”.
(ETM801の合成例)
前記ETM801は、特開2013−20996号公報に開示される方法に従って合成した3−(2−ブロモフェニル)ピリジン23.4質量部を酢酸に溶解し、30%過酸化水素113.4質量部を加え、95℃で5時間加熱撹拌し、反応液を減圧下で90%程度濃縮し、残渣に1%重曹水を加え、酢酸エチルで有機層を抽出し、飽和食塩水で有機層を3回洗浄し、有機層を減圧下で濃縮し、残渣にクロロホルムを加え、オキシ臭化リン43.0質量部を加え、加熱還流を3時間行い、溶媒及び過剰のオキシ臭化リンを減圧下で留去し、残渣をトルエンにて再結晶化する。得られた結晶25.0質量部を脱水エーテルに溶解し、内温を−75℃に冷却し、次いで1.6Mのn−ブチルリチウム/ヘキサン溶液75.1質量部を内温−70℃以下に保ちながらゆっくりと添加した後、2時間同温度下で撹拌し、その後、ジクロロジフェニルシラン21.2質量部を脱水エーテルに溶解した溶液を内温−65℃以下に保ちながらゆっくりと加えた。同温度で3時間撹拌した後、成り行きで室温まで加温し、さらに2時間撹拌を行った。反応終了後、溶媒を減圧下で留去し、残渣をメチレンクロリドーエタノール混合溶媒で再結晶化する。得られた結晶20.0質量部を酢酸に溶解し、30%過酸化水素67.6質量部を加え、95℃で5時間加熱撹拌し、反応液を減圧下で90%程度濃縮し、残渣に1%重曹水を加え、酢酸エチルで有機層を抽出し、飽和食塩水で有機層を3回洗浄し、有機層を減圧下で濃縮し、残渣にクロロホルムを加え、オキシ臭化リン25.6質量部を加え、加熱還流を3時間行い、溶媒及び過剰のオキシ臭化リンを減圧下で留去し、残渣をトルエンにて再結晶化する。得られた結晶23.0質量部をジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解し、アルコールでカルボキシ基を保護した、ethyl carbazole−3−carboxyloate 34.1質量部、ヨウ化銅23.3質量部、炭酸カリウム16.9質量部、L−proline1.3質量部を加え、窒素気流下、内温150℃で6時間加熱撹拌を行い、反応終了後、溶媒を減圧下で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒=ヘプタン:メチレンクロリド=9:1)にて精製する。さらに、トルエンやTHF等の有機溶媒に溶解させ、アルカリ性にして加水分解する。反応終了後、純水を加えて、分液にて有機層を抽出し、減圧蒸留にて有機層を濃縮し、トルエン等の非極性溶媒に溶解させ、Ethyl 4−chlorobutyrate 1.5当量を滴下する。反応終了後、アルカリ性にして加水分解することで、前記ETM801を合成することができる。
(Synthesis example of ETM801)
The ETM801 was prepared by dissolving 23.4 parts by mass of 3- (2-bromophenyl) pyridine synthesized in accordance with the method disclosed in JP2013-20996A and accumulating 113.4 parts by mass of 30% hydrogen peroxide. The mixture was heated and stirred at 95 ° C. for 5 hours, the reaction solution was concentrated about 90% under reduced pressure, 1% aqueous sodium bicarbonate was added to the residue, the organic layer was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was extracted three times with saturated brine. After washing, the organic layer was concentrated under reduced pressure, chloroform was added to the residue, 43.0 parts by mass of phosphorus oxybromide was added, the mixture was refluxed for 3 hours, and the solvent and excess phosphorus oxybromide were distilled off under reduced pressure. The residue is recrystallized from toluene. 25.0 parts by mass of the obtained crystals were dissolved in dehydrated ether, the internal temperature was cooled to −75 ° C., and then 75.1 parts by mass of 1.6M n-butyllithium / hexane solution was added to an internal temperature of −70 ° C. Then, the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours, and then a solution prepared by dissolving 21.2 parts by mass of dichlorodiphenylsilane in dehydrated ether was slowly added while maintaining the internal temperature at -65 ° C or lower. After stirring at the same temperature for 3 hours, the reaction was allowed to warm to room temperature, followed by further stirring for 2 hours. After completion of the reaction, the solvent is distilled off under reduced pressure, and the residue is recrystallized with a mixed solvent of methylene chloride ethanol. 20.0 parts by mass of the obtained crystals are dissolved in acetic acid, 67.6 parts by mass of 30% hydrogen peroxide are added, and the mixture is heated and stirred at 95 ° C. for 5 hours. 1% aqueous sodium bicarbonate was added, the organic layer was extracted with ethyl acetate, the organic layer was washed three times with saturated brine, the organic layer was concentrated under reduced pressure, chloroform was added to the residue, and
(ETM901の合成)
前記ETM901は、特開2013−20996号公報において合成例7として開示される方法に従って合成することができる。
(Synthesis of ETM901)
The ETM901 can be synthesized according to the method disclosed as Synthesis Example 7 in JP2013-20996A.
前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子の平均一次粒径は、5〜200nmの範囲内であることが、電子輸送性や分散性の点で好ましく、10〜100nmの範囲内であることがより好ましい。
また、前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子の平均一次粒径が、10〜50nmの範囲内で、かつ、前記表面修飾金属酸化物粒子と、前記非表面修飾金属酸化物粒子とが、異なる粒径であることが導電性支持体に対する隠蔽力を向上させ、モアレ、干渉縞などを抑制し、異常画像の原因となるピンホールをなくすことができる点で好ましい。
The average primary particle size of the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles is preferably in the range of 5 to 200 nm from the viewpoint of electron transport properties and dispersibility, and in the range of 10 to 100 nm. More preferably, it is within.
Further, the average primary particle size of the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles is within a range of 10 to 50 nm, and the surface-modified metal oxide particles and the non-surface-modified metal oxide It is preferable that the particle size of the object particles is different from that of improving the hiding power on the conductive support, suppressing moire and interference fringes, and eliminating pinholes that cause abnormal images.
前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子の数平均一次粒径は、走査型電子顕微鏡「JSM−7500F」(日本電子社製)により10万倍の拡大写真を撮影し、当該写真をスキャナーにより取り込んだ写真画像(凝集粒子は除いた)について、自動画像処理解析装置「LUZEX(登録商標) AP(ソフトウェアバージョン Ver.1.32)」(ニレコ社製)を使用して、前記表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子について2値化処理し、当該表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子の任意の100個についての水平方向フェレ径を算出し、その平均値を数平均一次粒径とした。
ここで、水平方向フェレ径とは、表面修飾金属酸化物粒子又は前記非表面修飾金属酸化物粒子の画像を2値化処理したときの外接長方形のx軸に平行な辺の長さをいう。
The number average primary particle size of the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles is taken by a scanning electron microscope “JSM-7500F” (manufactured by JEOL Ltd.) and is magnified 100,000 times. For a photographic image (excluding aggregated particles) captured by a scanner, using an automatic image processing analyzer “LUZEX (registered trademark) AP (software version Ver. 1.32)” (manufactured by Nireco), A binarization treatment is performed on the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles, and a horizontal ferret diameter for any 100 of the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles. And the average value was defined as the number average primary particle size.
Here, the horizontal ferret diameter refers to the length of the side parallel to the x axis of the circumscribed rectangle when the image of the surface modified metal oxide particles or the non-surface modified metal oxide particles is binarized.
また、前記表面修飾金属酸化物粒子は、電荷発生層側に偏在していることが、電荷発生層で発生した熱励起などにより発生した意図しない負電荷の移動を妨げやすくなるので好ましい。
ここで、本発明において、「偏在」とは、中間層の断面を観察し、中間層の厚さを表面側から3層に等分した際に、表面修飾金属酸化物粒子、又は、非表面修飾金属酸化物粒子の存在する割合が、中間層全体に表面修飾金属酸化物粒子、又は、非表面修飾金属酸化物粒子が存在する割合の平均割合の1.5倍以上の層が存在する状態をいう。すなわち、3等分した層のいずれか1層に、表面修飾金属酸化物粒子、又は、非表面修飾金属酸化物粒子が、表面修飾金属酸化物粒子全体、又は、非表面修飾金属酸化物粒子全体の50%以上含まれる状態をいう。言い換えれば、表面修飾金属酸化物粒子、又は、非表面修飾金属酸化物粒子の濃度の濃い部分が層状に中間層の中に存在している状態をいい、偏在しているか否かは、TEMやSEMなどによる断面観察によって検知することができる。また、表面修飾金属酸化物粒子と非表面修飾金属酸化物粒子の区別は、断面観察による粒径の違いやESCA測定による元素マッピング、ICPによる輪切り観察によっても確認し得る。
In addition, it is preferable that the surface-modified metal oxide particles are unevenly distributed on the charge generation layer side, because unintentional movement of negative charges generated by thermal excitation generated in the charge generation layer can be easily prevented.
Here, in the present invention, “unevenly distributed” means surface-modified metal oxide particles or non-surface when the cross section of the intermediate layer is observed and the thickness of the intermediate layer is equally divided into three layers from the surface side. A state in which the ratio of the modified metal oxide particles is 1.5 times or more of the average ratio of the ratio of the surface modified metal oxide particles or the non-surface modified metal oxide particles to the entire intermediate layer Say. That is, the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles are the entire surface-modified metal oxide particles or the whole non-surface-modified metal oxide particles in any one of the three divided layers. The state where 50% or more of is included. In other words, the surface-modified metal oxide particles or the non-surface-modified metal oxide particles having a high-concentration portion are present in a layered manner in the intermediate layer. It can detect by cross-sectional observation by SEM etc. Further, the distinction between surface-modified metal oxide particles and non-surface-modified metal oxide particles can be confirmed by a difference in particle diameter by cross-sectional observation, element mapping by ESCA measurement, and round slice observation by ICP.
[中間層]
本発明に係る中間層は、感光層で生成した電子を導電性支持体側へ輸送する機能(電子輸送機能)と、導電性支持体から感光層への正孔の注入を防止する機能(ブロッキング機能)を有するものであり、導電性支持体と有機感光層との間に接着機能とを付与するものである。
[Middle layer]
The intermediate layer according to the present invention has a function of transporting electrons generated in the photosensitive layer to the conductive support (electron transport function) and a function of preventing injection of holes from the conductive support to the photosensitive layer (blocking function). ) And provides an adhesive function between the conductive support and the organic photosensitive layer.
<中間層用バインダー樹脂>
本発明に係る中間層は、バインダー樹脂(以下、「中間層用バインダー樹脂」ともいう。)中に、本発明に係る表面修飾金属酸化物粒子及び非表面修飾金属酸化物粒子が含有されてなるものである。
中間層用バインダー樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等が挙げられる。本発明に係る中間層は、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂からなる硬化性樹脂層であることが好ましく、特に、光硬化性樹脂層であることが有機分子の劣化抑制や電荷発生層用塗布液への汚染抑制の点で好ましい。
<Binder resin for intermediate layer>
The intermediate layer according to the present invention contains the surface-modified metal oxide particles and the non-surface-modified metal oxide particles according to the present invention in a binder resin (hereinafter also referred to as “binder resin for intermediate layer”). Is.
Examples of the intermediate layer binder resin include thermoplastic resins, thermosetting resins, and photocurable resins. The intermediate layer according to the present invention is preferably a curable resin layer made of a thermosetting resin or a photocurable resin. In particular, the photocurable resin layer is used for suppressing deterioration of organic molecules or for a charge generation layer. This is preferable in terms of suppressing contamination of the coating solution.
前記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリアクリル樹脂やスチレン・ブタジエン共重合体樹脂等のビニル系樹脂や、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ウレタンエラストマー樹脂、ポリアミド−シリコーン樹脂等の縮合系樹脂が挙げられる。
前記熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂などを好ましく用いることができる。本発明に好ましく用いられる熱硬化性樹脂の具体例としては、以下のものが挙げられる。
フェノール樹脂:プライオーフェン J−325(DIC社製)
エポキシ樹脂:U−33(アミコンジャパン社製)
メラミン樹脂:スーパーベッカミン L−121(DIC社製)
不飽和ポリエステル樹脂:バーノック D−160(日本ライヒ社製)
ポリイミド樹脂:ケルイミド 501(三井石油化学社製)
Examples of the thermoplastic resin include vinyl resins such as polyacrylic resins and styrene / butadiene copolymer resins, and condensation resins such as polyamide resins, polyester resins, polycarbonate resins, urethane elastomer resins, and polyamide-silicone resins. Can be mentioned.
As said thermosetting resin, a phenol resin, an epoxy resin, a melamine resin, an unsaturated polyester resin, a polyimide resin etc. can be used preferably, for example. Specific examples of the thermosetting resin preferably used in the present invention include the following.
Phenol resin: Priorofen J-325 (manufactured by DIC)
Epoxy resin: U-33 (Amicon Japan)
Melamine resin: Super Becamine L-121 (manufactured by DIC)
Unsaturated polyester resin: Barnock D-160 (manufactured by Nippon Reich)
Polyimide resin: Kerimide 501 (Mitsui Petrochemical Co., Ltd.)
前記光硬化性樹脂を構成する重合性化合物は、紫外線、電子線、可視光線等の活性線照射により重合(硬化)して、ポリスチレンや、ポリアクリレート等、一般に感光体のバインダー樹脂として用いられる樹脂となるモノマーが好適である。特に、400nm以上の波長の可視光を照射することにより硬化する樹脂であることが、電子輸送性化合物の劣化と、電荷発生層の感度低下を抑えることができ、画像メモリーの発生防止と、黒ポチやカブリ等の画像欠陥の発生防止により有効となる点で好ましい。
本発明に係る重合性化合物としては、高い耐久性を維持する観点から、架橋性の重合性化合物が好ましい。
架橋性の重合性化合物としては、具体的には、2個以上のラジカル重合性官能基を有する重合性化合物(以下、「多官能ラジカル重合性化合物」ともいう。)が挙げられる。
The polymerizable compound constituting the photocurable resin is a resin that is polymerized (cured) by irradiation with active rays such as ultraviolet rays, electron beams, and visible rays, and is generally used as a binder resin for photoconductors such as polystyrene and polyacrylate. Is preferred. In particular, a resin that cures when irradiated with visible light having a wavelength of 400 nm or more can suppress deterioration of the electron transporting compound and a decrease in sensitivity of the charge generation layer, prevent occurrence of image memory, This is preferable in that it is effective in preventing the occurrence of image defects such as spots and fog.
The polymerizable compound according to the present invention is preferably a crosslinkable polymerizable compound from the viewpoint of maintaining high durability.
Specific examples of the crosslinkable polymerizable compound include polymerizable compounds having two or more radical polymerizable functional groups (hereinafter also referred to as “polyfunctional radical polymerizable compounds”).
架橋性の重合性化合物としては、多官能ラジカル重合性化合物とともに、ラジカル重合性官能基を1個有する化合物(以下、「単官能ラジカル重合性化合物」ともいう。)を併用することもできる。単官能ラジカル重合性化合物を用いる場合においては、その割合は、バインダー樹脂を形成するためのモノマー全量に対して20質量%以下が好ましい。
ラジカル重合性官能基としては、例えば、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。
多官能ラジカル重合性化合物としては、少ない光量又は短い時間での硬化が可能であることから、ラジカル重合性官能基としてアクリロイル基(CH2=CHCO−)又はメタクリロイル基(CH2=CCH3CO−)を2個以上有するアクリル系モノマー又はこれらのオリゴマーであることが特に好ましい。したがって、樹脂としてはアクリル系モノマー又はそのオリゴマーにより形成されるアクリル系樹脂が好ましい。
本発明においては、多官能ラジカル重合性化合物は単独で用いても、混合して用いてもよい。また、これらの多官能ラジカル重合性化合物は、モノマーを用いてもよいが、オリゴマー化して用いてもよい。
As the crosslinkable polymerizable compound, a compound having one radical polymerizable functional group (hereinafter also referred to as “monofunctional radical polymerizable compound”) can be used in combination with the polyfunctional radical polymerizable compound. In the case of using a monofunctional radically polymerizable compound, the proportion is preferably 20% by mass or less based on the total amount of monomers for forming the binder resin.
Examples of the radical polymerizable functional group include a vinyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group.
Since the polyfunctional radical polymerizable compound can be cured in a small amount of light or in a short time, an acryloyl group (CH 2 ═CHCO—) or a methacryloyl group (CH 2 ═CCH 3 CO—) is used as the radical polymerizable functional group. ) Is particularly preferably an acrylic monomer having 2 or more) or oligomers thereof. Accordingly, the resin is preferably an acrylic resin formed from an acrylic monomer or an oligomer thereof.
In the present invention, the polyfunctional radically polymerizable compound may be used alone or in combination. In addition, these polyfunctional radical polymerizable compounds may use monomers, but may be used after oligomerization.
以下、多官能ラジカル重合性化合物の具体例を示す。
下記の例示化合物M1〜M15を示す化学式において、Rはアクリロイル基(CH2=CHCO−)を示し、R′はメタクリロイル基(CH2=CCH3CO−)を示す。
Hereinafter, specific examples of the polyfunctional radically polymerizable compound are shown.
In chemical formulas showing the following exemplary compounds M1 to M15, R represents an acryloyl group (CH 2 ═CHCO—), and R ′ represents a methacryloyl group (CH 2 ═CCH 3 CO—).
<重合開始剤>
本発明に係る中間層は、下記一般式(Int)で表される構造(フェニルフォスフィンオキサイド構造)を有する化合物、当該化合物以外のリン元素を含む化合物、又は、硫黄元素を含む化合物のいずれかに由来する化合物を、質量基準で0.01ppm以上含有することが好ましい。
すなわち、前記中間層に、重合開始剤として、一般式(Int)で表される構造を有する化合物、当該化合物以外のリン元素を含む化合物、又は、硫黄元素を含む化合物を用いた場合の、反応生成物や未反応物を0.01ppm以上含有することを意味する。
前記反応生成物や未反応物の測定方法としては、例えば、XPS測定(X線光電子分光法測定)を用いることができる。具体的に、XPS測定装置としては、サーモフィッシャーサイエンティフィック製、K−Alphaを使用し、測定は、X線源としてAlモノクロマチックX線を用い、加速電圧を7kV、エミッション電流を6mVに設定して実施し、計測する元素(リン元素、硫黄元素)について測定する。
The intermediate layer according to the present invention is either a compound having a structure (phenylphosphine oxide structure) represented by the following general formula (Int), a compound containing a phosphorus element other than the compound, or a compound containing a sulfur element It is preferable to contain 0.01 ppm or more of the compound derived from 1 by mass.
That is, a reaction when a compound having a structure represented by the general formula (Int), a compound containing a phosphorus element other than the compound, or a compound containing a sulfur element is used as the polymerization initiator for the intermediate layer. It means that 0.01 ppm or more of products and unreacted substances are contained.
For example, XPS measurement (X-ray photoelectron spectroscopy measurement) can be used as a method for measuring the reaction product and the unreacted product. Specifically, K-Alpha made by Thermo Fisher Scientific is used as the XPS measurement device, and measurement is performed using Al monochromatic X-ray as the X-ray source, acceleration voltage is set to 7 kV, and emission current is set to 6 mV. It implements and measures about the element (phosphorus element, sulfur element) to measure.
[上記一般式(Int)において、R101及びR102は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、ヒドロキシ基、カルボニル基からなる群より選択される基を表す。R101及びR102は、同じでも異なっていてもよい。] [In the above general formula (Int), R 101 and R 102 each independently have a hydrogen atom, a C 1-6 alkyl group which may have a substituent, or a substituent. The group selected from the group which consists of a C3-C6 cycloalkyl group, the aryl group which may have a substituent, a hydroxy group, and a carbonyl group is represented. R 101 and R 102 may be the same or different. ]
前記一般式(Int)で表される構造を有する化合物としては、下記に示す例示化合物が挙げられる。 Examples of the compound having a structure represented by the general formula (Int) include the following exemplified compounds.
なお、上記イルガキュアTPO(IrgTPO)と、イルガキュア819(Irg819)二つのうちでは、イルガキュア819の方が好ましい。 Of the two Irgacure TPO (IrgTPO) and Irgacure 819 (Irg819), Irgacure 819 is preferred.
また、前記硫黄元素を含有する重合開始剤としては、下記一般式(B)で表される構造を有するO−アシルオキシムであることが好ましい。 The polymerization initiator containing the elemental sulfur is preferably an O-acyl oxime having a structure represented by the following general formula (B).
一般式(B)中、R1及びR2は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基からなる群より選択される基である。
R3は、水素原子、置換基を有しても良い炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基、置換基を有していてもよいカルボニル基からなる群より選択される基である。
In general formula (B), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an optionally substituted carbon number. It is a group selected from the group consisting of 3 to 6 cycloalkyl groups and optionally substituted aryl groups.
R 3 may have a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituent. It is a group selected from the group consisting of a good aryl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group and a hydroxy group, and an optionally substituted carbonyl group.
上記一般式(B)で表される構造を有する化合物の具体例を以下に示す。
また、前記一般式(Int)で表される構造を有する化合物以外のリン元素を含有する化合物としては、特表2017−522364号公報に記載されている式Iの光重合開始剤等を挙げることができる。
また、本発明において、アシルフォスフィンオキサイドとO−アシルオキシムの2種類を含有することが好ましく、3種類以上を用いてもよく、各重合開始剤を単独で用いてもよい。
Examples of the compound containing a phosphorus element other than the compound having the structure represented by the general formula (Int) include a photopolymerization initiator of the formula I described in JP-T-2017-522364. Can do.
Moreover, in this invention, it is preferable to contain 2 types, an acyl phosphine oxide and O-acyl oxime, 3 or more types may be used and each polymerization initiator may be used independently.
また、重合開始剤としては、光重合開始剤であってもよいし、熱重合開始剤のいずれも使用することができる。
重合開始剤の添加割合は、重合性化合物100質量部に対して0.1〜20質量部の範囲内であることが好ましく、より好ましくは0.5〜10質量部の範囲内である。
Moreover, as a polymerization initiator, a photoinitiator may be sufficient and any of a thermal polymerization initiator can be used.
The addition ratio of the polymerization initiator is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by mass, more preferably in the range of 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
なお、前記O−アシルオキシムの重合開始剤の市販品としては、例えば、上記例示化合物B−1のイルガキュアOXE01や例示化合物B−40のイルガキュアOXE02(いずれもBASFジャパン社製)の他に、化合物中にジスルフィド構造を有するO−アシルオキシム系開始剤であるPBG−305やPBG−329(いずれも常州強力電子新材料社製)等が挙げられる。 In addition, as a commercial item of the polymerization initiator of the O-acyloxime, for example, Irgacure OXE01 of Exemplified Compound B-1 and Irgacure OXE02 of Exemplified Compound B-40 (both manufactured by BASF Japan Ltd.) Examples thereof include PBG-305 and PBG-329 (both manufactured by Changzhou Strong Electronic New Materials Co., Ltd.), which are O-acyloxime initiators having a disulfide structure.
また、前記中間層を形成するための溶剤としては、例えばブチルアミン、ニブレンジアミン、N,N−ジメチルボルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジ3キザン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、アセトフェノン、クロロホルム、ジクロルメタン、ジクロルエタン、トリクロルエタン等が挙げられる。
前記中間層は、この上に設けられる電荷発生層との接着性、及び感光体上に形成される画像の画質の調整等の機能を有し、かつ感光体上に付与される電荷の保持等の機能も有する。また、露光時、発生する一方のキャリアのアース(支持体側)への移動を阻害しないこと等も要請され、そのため、導電性支持体上に設けられる中間層の厚さは好ましくは10μm以下、さらに好ましくは0.1〜4μmの範囲内である。
Examples of the solvent for forming the intermediate layer include butylamine, nibrenediamine, N, N-dimethylboramide, acetone, methylethylketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, di3xan, ethyl acetate, butyl acetate, toluene, xylene. Acetophenone, chloroform, dichloromethane, dichloroethane, trichloroethane and the like.
The intermediate layer has functions such as adhesion to a charge generation layer provided thereon and adjustment of the image quality of an image formed on the photoreceptor, and retains the charge applied on the photoreceptor. It also has the function. In addition, it is also required not to inhibit the movement of one of the carriers generated during exposure to the ground (support side). Therefore, the thickness of the intermediate layer provided on the conductive support is preferably 10 μm or less. Preferably it exists in the range of 0.1-4 micrometers.
[導電性支持体]
導電性支持体は、中間層、感光層及び保護層を支持し、かつ、導電性を有する部材である。
導電性支持体の例には、金属製のドラム又はシートと、ラミネートされた金属箔を有するプラスチックフィルムと、蒸着された導電性物質の層を有するプラスチックフィルムと、導電性物質又は導電性物質及びバインダー樹脂からなる塗料を塗布してなる導電層を有する金属部材、プラスチックフィルム、又は紙と、が含まれる。
金属の例には、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛及びステンレス鋼が含まれる。
導電性物質の例には、上記金属、酸化インジウム及び酸化スズが含まれる。加工性、堅牢性及び軽量性の観点からは、上記金属は、アルミニウムであることが好ましい。
[Conductive support]
The conductive support is a member that supports the intermediate layer, the photosensitive layer and the protective layer and has conductivity.
Examples of conductive supports include a metal drum or sheet, a plastic film having a laminated metal foil, a plastic film having a deposited layer of conductive material, a conductive material or conductive material, and A metal member, a plastic film, or paper having a conductive layer formed by applying a paint made of a binder resin is included.
Examples of metals include aluminum, copper, chromium, nickel, zinc and stainless steel.
Examples of the conductive material include the metal, indium oxide, and tin oxide. From the viewpoint of processability, fastness, and lightness, the metal is preferably aluminum.
[感光層]
感光層は、後述する露光により所期の画像に対応する静電潜像を上記感光体の表面に形成するための層である。
感光層は、例えば、電荷発生層用のバインダー樹脂及び電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送層用のバインダー樹脂及び電荷輸送物質を含有する電荷輸送層との積層物により構成されうる。
[Photosensitive layer]
The photosensitive layer is a layer for forming an electrostatic latent image corresponding to an intended image on the surface of the photoreceptor by exposure described later.
The photosensitive layer can be composed of, for example, a laminate of a charge generation layer containing a binder resin for a charge generation layer and a charge generation material, and a charge transport layer containing a binder resin for the charge transport layer and a charge transport material. .
[電荷発生層]
電荷発生層用のバインダー樹脂としては、電荷発生層用のバインダー樹脂として用いられている公知の樹脂を使用することができる。
電荷発生層用のバインダー樹脂の例には、ホルマール樹脂、ブチラール樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性ブチラール樹脂及びフェノキシ樹脂が含まれる。電荷発生層用のバインダー樹脂は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。
[Charge generation layer]
As the binder resin for the charge generation layer, a known resin used as the binder resin for the charge generation layer can be used.
Examples of the binder resin for the charge generation layer include a formal resin, a butyral resin, a silicone resin, a silicone-modified butyral resin, and a phenoxy resin. The binder resin for the charge generation layer may be one kind or more.
電荷発生物質の例には、スーダンレッドやダイアンブルーなどのアゾ原料;ピレンキノンやアントアントロンなどのキノン化合物;キノシアニン化合物;ペリレン化合物;インジゴやチオインジゴなどのインジゴ化合物;ピランスロン、ジフタロイルピレン多環キノン化合物;及びフタロシアニン化合物が含まれる。電荷発生物質は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。 Examples of charge generation materials include azo raw materials such as Sudan Red and Diane Blue; quinone compounds such as pyrenequinone and anthanthrone; quinocyanine compounds; perylene compounds; indigo compounds such as indigo and thioindigo; Compounds; and phthalocyanine compounds. The charge generation material may be one kind or more.
フタロシアニン化合物は、中心金属を有していてもよいし、有していなくてもよい。当該中心金属の例には、Ti、Fe、V、Si、Pb、Al、Zn及びMgが含まれる。当該中心金属は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。電荷発生層の感度を高める観点から、フタロシアニン化合物は、中心金属としてTiを有するチタニルフタロシアニン化合物であることが好ましい。
また、上記観点から、当該チタニルフタロシアニン化合物は、CuKα線によるX線回折において、ブラッグ角(2θ±0.2)27.3°に最大ピークを有し、7.4°、9.7°及び24.2°に明瞭な回折ピークを有するY型チタニルフタロシアニン化合物、又はブラッグ角8.3°、24.7°、25.1°及び26.5°に明瞭な回折ピークを有する2,3−ブタンジオール付加体チタニルフタロシアニンであることが好ましい。
The phthalocyanine compound may or may not have a central metal. Examples of the central metal include Ti, Fe, V, Si, Pb, Al, Zn, and Mg. The central metal may be one kind or more. From the viewpoint of increasing the sensitivity of the charge generation layer, the phthalocyanine compound is preferably a titanyl phthalocyanine compound having Ti as a central metal.
From the above viewpoint, the titanyl phthalocyanine compound has a maximum peak at a Bragg angle (2θ ± 0.2) of 27.3 ° in X-ray diffraction using CuKα rays, and is 7.4 °, 9.7 °, and Y-type titanyl phthalocyanine compound having a clear diffraction peak at 24.2 °, or 2,3- having clear diffraction peaks at Bragg angles of 8.3 °, 24.7 °, 25.1 ° and 26.5 ° A butanediol adduct titanyl phthalocyanine is preferred.
電荷発生物質の含有量は、電荷発生層用のバインダー樹脂100質量部に対して20〜600質量部の範囲内であることが好ましく、50〜500質量部の範囲内であることがより好ましい。電荷発生物質の含有量が上記範囲内であれば、電荷発生物質の分散性を高め、電荷発生層の電気抵抗を低減することができる。結果として、感光体の使用に伴う残留電荷の増加がより抑制される。 The content of the charge generation material is preferably in the range of 20 to 600 parts by mass, more preferably in the range of 50 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin for the charge generation layer. If the content of the charge generation material is within the above range, the dispersibility of the charge generation material can be improved and the electric resistance of the charge generation layer can be reduced. As a result, an increase in residual charge accompanying use of the photoreceptor is further suppressed.
電荷発生層の厚さは、例えば、0.01〜2μmの範囲内が好ましく、0.15〜1.5μmの範囲内であることがより好ましい。電荷発生層の厚さは、電荷発生層用のバインダー樹脂の種類、並びに電荷発生物質の種類及び含有量に応じて適宜調整されうる。 For example, the thickness of the charge generation layer is preferably in the range of 0.01 to 2 μm, and more preferably in the range of 0.15 to 1.5 μm. The thickness of the charge generation layer can be appropriately adjusted according to the type of the binder resin for the charge generation layer and the type and content of the charge generation material.
[電荷輸送層]
電荷輸送層用のバインダー樹脂としては、電荷輸送層用のバインダー樹脂として用いられている公知の樹脂を使用することができる。電荷輸送層用のバインダー樹脂の例には、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、これらの樹脂の繰り返し単位のうち2以上を有する共重合樹脂などの絶縁性樹脂;及びポリ−N−ビニルカルバゾールなどの有機半導体が含まれる。電荷発生物質の分散性を高め、上記感光体の特性を高める観点からは、電荷輸送層用のバインダー樹脂は、ポリカーボネート樹脂であることが好ましい。電荷輸送層用のバインダー樹脂は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。
[Charge transport layer]
As the binder resin for the charge transport layer, a known resin used as the binder resin for the charge transport layer can be used. Examples of the binder resin for the charge transport layer include polystyrene resin, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl butyral resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin. , Silicone resins, melamine resins, insulating resins such as copolymer resins having two or more of the repeating units of these resins; and organic semiconductors such as poly-N-vinylcarbazole. From the viewpoint of enhancing the dispersibility of the charge generating material and enhancing the characteristics of the photoreceptor, the binder resin for the charge transport layer is preferably a polycarbonate resin. The binder resin for the charge transport layer may be one kind or more.
電荷輸送物質の例には、トリフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物及びブタジエン化合物が含まれる。電荷輸送物質は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。 Examples of charge transport materials include triphenylamine derivatives, hydrazone compounds, styryl compounds, benzidine compounds and butadiene compounds. One or more charge transport materials may be used.
電荷輸送物質の含有量は、電荷輸送層用のバインダー樹脂100質量部に対して10〜200質量部の範囲内であることが好ましい。 The content of the charge transport material is preferably in the range of 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin for the charge transport layer.
電荷輸送層の厚さは、10〜40μmの範囲内であることが好ましい。感光体の内部電場を強め、感光体の使用に伴う残留電荷の増加を抑制する観点から、電荷輸送層の厚さは、10〜20μmの範囲内であることがより好ましい。電荷輸送層の厚さは、電荷輸送層用のバインダー樹脂の種類、並びに電荷輸送物質の種類及び含有量に応じて適宜調整されうる。 The thickness of the charge transport layer is preferably in the range of 10 to 40 μm. The thickness of the charge transport layer is more preferably in the range of 10 to 20 μm from the viewpoint of increasing the internal electric field of the photoreceptor and suppressing an increase in residual charge associated with the use of the photoreceptor. The thickness of the charge transport layer can be appropriately adjusted according to the type of binder resin for the charge transport layer and the type and content of the charge transport material.
電荷輸送層は、必要に応じて他の成分を含有していてもよい。当該他の成分の例には、酸化防止剤、電子導電剤、安定剤、シリコーンオイルが含まれる。 The charge transport layer may contain other components as necessary. Examples of the other components include an antioxidant, an electronic conductive agent, a stabilizer, and silicone oil.
なお、本発明に係る感光層は、単層で構成されていてもよい。この場合、感光層は、例えば、上記感光層用のバインダー樹脂、上記電荷輸送物質及び上記電荷発生物質を含む単層物により構成されうる。
感光層の厚さは、10〜50μmの範囲内が好ましく、20〜40μmの範囲内であることがより好ましい。
The photosensitive layer according to the present invention may be composed of a single layer. In this case, the photosensitive layer can be composed of, for example, a single layer containing the binder resin for the photosensitive layer, the charge transport material, and the charge generation material.
The thickness of the photosensitive layer is preferably in the range of 10 to 50 μm, and more preferably in the range of 20 to 40 μm.
感光層が、単層で構成されている場合、感光層用のバインダー樹脂の例には、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、これらの樹脂のうち2以上を含む共重合体樹脂(例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂)、ポリ−ビニルカルバゾール樹脂、ポリアクリレート樹脂、スチレン−アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、及びスチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂、が含まれる。 When the photosensitive layer is composed of a single layer, examples of the binder resin for the photosensitive layer include polystyrene resin, polyethylene resin, polypropylene resin, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, and polyvinyl butyral resin. , Epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin, silicone resin, melamine resin, copolymer resin containing two or more of these resins (for example, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin) , Vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer resin), poly-vinyl carbazole resin, polyacrylate resin, styrene-acrylonitrile copolymer resin, polymethacrylic ester resin, and styrene-methacrylic ester copolymer Resin, including That.
[保護層]
保護層は、感光層を保護するための層である。
保護層は、感光層の上に配置されるとともに感光体の表面を構成する。保護層は、例えば、保護層用のバインダー樹脂と、保護層用の金属酸化物粒子と、保護層用の電荷輸送物質とを含む。
[Protective layer]
The protective layer is a layer for protecting the photosensitive layer.
The protective layer is disposed on the photosensitive layer and constitutes the surface of the photoreceptor. The protective layer includes, for example, a binder resin for the protective layer, metal oxide particles for the protective layer, and a charge transport material for the protective layer.
保護層用のバインダー樹脂としては、保護層用のバインダー樹脂として用いられている公知の樹脂を使用することができる。保護層用のバインダー樹脂の例には、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂及び塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が含まれる。保護層用のバインダー樹脂は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。 As the binder resin for the protective layer, a known resin used as the binder resin for the protective layer can be used. Examples of the binder resin for the protective layer include polyvinyl butyral resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin, silicone resin, acrylic resin, melamine resin, and vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Is included. The binder resin for the protective layer may be one kind or more.
感光体の耐久性の観点からは、保護層用のバインダー樹脂は、ラジカル重合性モノマーを含むラジカル重合性組成物の重合硬化物であることが好ましい。この場合、ラジカル重合性組成物は、保護層用の金属酸化物粒子及び保護層用の電荷輸送物質をさらに含んでいてもよい。 From the viewpoint of durability of the photoreceptor, the binder resin for the protective layer is preferably a polymerization cured product of a radical polymerizable composition containing a radical polymerizable monomer. In this case, the radically polymerizable composition may further contain metal oxide particles for the protective layer and a charge transport material for the protective layer.
ラジカル重合性モノマーは、2以上のラジカル重合性官能基を有する。当該ラジカル重合性官能基は、(メタ)アクリロイル基であることが好ましい。(メタ)アクリロイル基を有する上記ラジカル重合性モノマーの例には、前記中間層用バインダー樹脂で説明した前記式M1〜M15で表される化合物が含まれる。 The radical polymerizable monomer has two or more radical polymerizable functional groups. The radical polymerizable functional group is preferably a (meth) acryloyl group. Examples of the radical polymerizable monomer having a (meth) acryloyl group include the compounds represented by the formulas M1 to M15 described for the intermediate layer binder resin.
保護層の電気抵抗を適切に調整して画質安定性を高めるとともに、保護層の強度を高める観点からは、保護層は、保護層用の金属酸化物粒子を含むことが好ましい。 From the viewpoint of improving the image quality stability by appropriately adjusting the electrical resistance of the protective layer and increasing the strength of the protective layer, the protective layer preferably includes metal oxide particles for the protective layer.
保護層用の金属酸化物粒子を構成する金属酸化物の例には、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ(酸化アルミニウム)、シリカ(酸化ケイ素)、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化マグネシウム、酸化鉛、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化コバルト、酸化銅、酸化マンガン、酸化セレン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウム、スズがドープされた酸化インジウム、アンチモンがドープされた酸化スズ及び酸化ジルコニウムが含まれる。保護層用の金属酸化物粒子は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。保護層用の金属酸化物粒子が、2種以上である場合には、当該金属酸化物粒子は、固溶体であってもよいし、融着体であってもよい。 Examples of metal oxides constituting the metal oxide particles for the protective layer include titanium oxide, zinc oxide, alumina (aluminum oxide), silica (silicon oxide), tin oxide, antimony oxide, indium oxide, bismuth oxide, oxidation Magnesium, lead oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, cobalt oxide, copper oxide, manganese oxide, selenium oxide, iron oxide, zirconium oxide, germanium oxide, niobium oxide, molybdenum oxide, vanadium oxide, tin-doped indium oxide, antimony Are doped with tin oxide and zirconium oxide. The metal oxide particles for the protective layer may be one kind or more. When there are two or more kinds of metal oxide particles for the protective layer, the metal oxide particles may be a solid solution or a fusion product.
保護層用の金属酸化物粒子の数平均一次粒径は、例えば、1〜300nmの範囲内であることが好ましく、3〜100nmの範囲内であることがより好ましい。保護層用の金属酸化物粒子の数平均一次粒径は、中間層用の金属酸化物粒子の数平均一次粒径と同様の方法により測定されうる。 For example, the number average primary particle size of the metal oxide particles for the protective layer is preferably in the range of 1 to 300 nm, and more preferably in the range of 3 to 100 nm. The number average primary particle size of the metal oxide particles for the protective layer can be measured by the same method as the number average primary particle size of the metal oxide particles for the intermediate layer.
保護層用の金属酸化物粒子の含有量は、例えば、保護層中のバインダー樹脂100体積部に対して5〜100体積部の範囲内であることが好ましく、15〜30体積部の範囲内であることがより好ましい。保護層用の金属酸化物粒子の含有量が上記範囲内であることは、保護層の強度、画質安定性及び成膜性を高める観点から好ましい。 The content of the metal oxide particles for the protective layer is, for example, preferably in the range of 5 to 100 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the binder resin in the protective layer, and in the range of 15 to 30 parts by volume. More preferably. It is preferable that the content of the metal oxide particles for the protective layer is within the above range from the viewpoint of improving the strength, image quality stability, and film formability of the protective layer.
保護層用の金属酸化物粒子の分散性を高める観点から、保護層用の金属酸化物粒子は、表面処理剤により表面処理されていることが好ましい。保護層の強度をより高める観点から、当該表面処理剤は、上記ラジカル重合性モノマーと反応しうる反応性官能基を有することが好ましい。当該反応性官能基は、ラジカル反応性官能基であることが好ましい。
当該ラジカル反応性官能基は、(メタ)アクリロイル基であることが好ましい。
表面処理剤の例には、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、無機酸化物、フッ素変性シリコーンオイル、フッ素系界面活性剤及びフッ素系グラフトポリマーが含まれる。表面処理剤は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。
From the viewpoint of improving the dispersibility of the metal oxide particles for the protective layer, the metal oxide particles for the protective layer are preferably surface-treated with a surface treatment agent. From the viewpoint of further increasing the strength of the protective layer, the surface treatment agent preferably has a reactive functional group capable of reacting with the radical polymerizable monomer. The reactive functional group is preferably a radical reactive functional group.
The radical reactive functional group is preferably a (meth) acryloyl group.
Examples of the surface treatment agent include a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an inorganic oxide, a fluorine-modified silicone oil, a fluorine-based surfactant, and a fluorine-based graft polymer. The surface treatment agent may be one kind or more.
表面処理剤は、(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤であることが好ましい。(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤の例には、下記式S−1〜S−34で表される化合物が含まれる。 The surface treatment agent is preferably a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group. Examples of the silane coupling agent having a (meth) acryloyl group include compounds represented by the following formulas S-1 to S-34.
S−1:CH2=CHSi(CH3)(OCH3)2
S−2:CH2=CHSi(OCH3)3
S−3:CH2=CHSiCl3
S−4:CH2=CHCOO(CH2)2Si(CH3)(OCH3)2
S−5:CH2=CHCOO(CH2)2Si(OCH3)3
S−6:CH2=CHCOO(CH2)2Si(OC2H5)(OCH3)2
S−7:CH2=CHCOO(CH2)3Si(OCH3)3
S−8:CH2=CHCOO(CH2)2Si(CH3)Cl2
S−9:CH2=CHCOO(CH2)2SiCl3
S−10:CH2=CHCOO(CH2)3Si(CH3)Cl2
S−11:CH2=CHCOO(CH2)3SiCl3
S−12:CH2=C(CH3)COO(CH2)2Si(CH3)(OCH3)2
S−13:CH2=C(CH3)COO(CH2)2Si(OCH3)3
S−14:CH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(CH3)(OCH3)2
S−15:CH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3
S−16:CH2=C(CH3)COO(CH2)2Si(CH3)Cl2
S−17:CH2=C(CH3)COO(CH2)2SiCl3
S−18:CH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(CH3)Cl2
S−19:CH2=C(CH3)COO(CH2)3SiCl3
S−20:CH2=CHSi(C2H5)(OCH3)2
S−21:CH2=C(CH3)Si(OCH3)3
S−22:CH2=C(CH3)Si(OC2H5)3
S−23:CH2=CHSi(OCH3)3
S−24:CH2=C(CH3)Si(CH3)(OCH3)2
S−25:CH2=CHSi(CH3)Cl2
S−26:CH2=CHCOOSi(OCH3)3
S−27:CH2=CHCOOSi(OC2H5)3
S−28:CH2=C(CH3)COOSi(OCH3)3
S−29:CH2=C(CH3)COOSi(OC2H5)3
S−30:CH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OC2H5)3
S-1: CH 2 = CHSi (CH 3) (OCH 3) 2
S-2: CH 2 = CHSi (OCH 3) 3
S-3: CH 2 = CHSiCl 3
S-4: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (CH 3) (OCH 3) 2
S-5: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (OCH 3) 3
S-6: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (OC 2 H 5) (OCH 3) 2
S-7: CH 2 = CHCOO (CH 2) 3 Si (OCH 3) 3
S-8: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (CH 3) Cl 2
S-9: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 SiCl 3
S-10: CH 2 = CHCOO (CH 2) 3 Si (CH 3) Cl 2
S-11: CH 2 = CHCOO (CH 2 ) 3 SiCl 3
S-12: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 2 Si (CH 3) (OCH 3) 2
S-13: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 2 Si (OCH 3) 3
S-14: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 3 Si (CH 3) (OCH 3) 2
S-15: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 3 Si (OCH 3) 3
S-16: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 2 Si (CH 3) Cl 2
S-17: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 2 SiCl 3
S-18: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 3 Si (CH 3) Cl 2
S-19: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 3 SiCl 3
S-20: CH 2 = CHSi (C 2 H 5) (OCH 3) 2
S-21: CH 2 = C (CH 3) Si (OCH 3) 3
S-22: CH 2 = C (CH 3) Si (OC 2 H 5) 3
S-23: CH 2 = CHSi (OCH 3) 3
S-24: CH 2 = C (CH 3) Si (CH 3) (OCH 3) 2
S-25: CH 2 = CHSi (CH 3) Cl 2
S-26: CH 2 = CHCOOSi (OCH 3) 3
S-27: CH 2 = CHCOOSi (OC 2 H 5) 3
S-28: CH 2 = C (CH 3) COOSi (OCH 3) 3
S-29: CH 2 = C (CH 3) COOSi (OC 2 H 5) 3
S-30: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 3 Si (OC 2 H 5) 3
保護層用の金属酸化物粒子に対する表面処理剤の処理量は、例えば、保護層用の金属酸化物粒子100質量部に対して0.1〜100質量部の範囲内であることが好ましい。
上記処理量は、上記保護層用の金属酸化物粒子の数平均一次粒径及び表面処理剤の種類に応じて適宜調整されうる。
It is preferable that the processing amount of the surface treating agent with respect to the metal oxide particles for the protective layer is, for example, in the range of 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles for the protective layer.
The amount of the treatment can be appropriately adjusted according to the number average primary particle size of the metal oxide particles for the protective layer and the type of the surface treatment agent.
保護層用の金属酸化物粒子の表面が、上記表面処理剤により表面処理されている場合には、保護層中の金属酸化物粒子の表面には、表面処理剤の反応後の成分が、担持されている。保護層用の金属酸化物粒子の表面処理は、公知の方法により行われうる。 When the surface of the metal oxide particles for the protective layer is surface-treated with the surface treatment agent, the component after the reaction of the surface treatment agent is supported on the surface of the metal oxide particles in the protective layer. Has been. The surface treatment of the metal oxide particles for the protective layer can be performed by a known method.
保護層は、画像メモリーの発生をより抑制する観点から、保護層用の電荷輸送物質を含むことが好ましい。
保護層用の電荷輸送物質は、保護層に電荷輸送能を付与する化合物である。保護層用の電荷輸送物質は、当該機能を発揮できればよく、公知の化合物から適宜選択されうる。例えば、保護層が、上記ラジカル重合性組成物の紫外線による重合硬化膜により構成されている場合には、保護層用の電荷輸送物質は、紫外線に対して吸収が小さいか、又は紫外線を吸収しない化合物であることが好ましい。
保護層用の電荷輸送物質は、下記一般式(CTM)で表される化合物であることが好ましい。
The protective layer preferably contains a charge transport material for the protective layer from the viewpoint of further suppressing the generation of image memory.
The charge transport material for the protective layer is a compound that imparts charge transport capability to the protective layer. The charge transport material for the protective layer is only required to exhibit the function, and can be appropriately selected from known compounds. For example, when the protective layer is composed of a polymerized and cured film of the above radical polymerizable composition by ultraviolet rays, the charge transport material for the protective layer has little absorption with respect to ultraviolet rays or does not absorb ultraviolet rays. A compound is preferred.
The charge transport material for the protective layer is preferably a compound represented by the following general formula (CTM).
上記一般式(CTM)において、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜7のアルキル基、又は炭素原子数1〜7のアルコキシ基を表す。
k、p及びnは、1〜5の整数を表し、かつ、mは1〜4の整数を表す。k、p、m及びnが2以上である場合は、複数の基は互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。
In the above general formula (CTM), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms. To express.
k, p, and n represent the integer of 1-5, and m represents the integer of 1-4. When k, p, m and n are 2 or more, the plurality of groups may be the same as or different from each other.
上記一般式(CTM)で表される電荷輸送物質の例には、下記式CTM−1〜CTM−22で表される化合物が含まれる。 Examples of the charge transport material represented by the general formula (CTM) include compounds represented by the following formulas CTM-1 to CTM-22.
保護層用の電荷輸送物質の含有量は、例えば、上記保護層用のバインダー樹脂100質量部に対して、20〜100質量部の範囲内であり、40〜70質量部の範囲内であることがより好ましい。
保護層用の電荷輸送物質の含有量が20質量部以上であることは、所期の電気特性を得て、画像メモリーの発生を抑制する観点から好ましい。保護層用の電荷輸送物質の含有量が100質量部以下であることは、所期の膜強度を得る観点から好ましい。保護層用の電荷輸送物質の含有量は、保護層の所期の膜強度及び電気特性に応じて適宜調整されうる。
The content of the charge transport material for the protective layer is, for example, in the range of 20 to 100 parts by mass and in the range of 40 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin for the protective layer. Is more preferable.
It is preferable that the content of the charge transport material for the protective layer is 20 parts by mass or more from the viewpoint of obtaining desired electrical characteristics and suppressing the occurrence of image memory. The content of the charge transport material for the protective layer is preferably 100 parts by mass or less from the viewpoint of obtaining desired film strength. The content of the charge transport material for the protective layer can be appropriately adjusted according to the intended film strength and electrical characteristics of the protective layer.
保護層は、必要に応じて他の成分を含有していてもよい。当該他の成分の例には、滑剤粒子及び酸化防止剤が含まれる。 The protective layer may contain other components as necessary. Examples of such other components include lubricant particles and antioxidants.
滑剤粒子の例には、フッ素樹脂粒子が含まれる。当該フッ素樹脂粒子を構成するフッ素樹脂の例には、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、六フッ化塩化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂及びこれらの共重合体が含まれる。
フッ素樹脂は、四フッ化エチレン樹脂又はフッ化ビニリデン樹脂であることが好ましい。滑剤粒子は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。
Examples of the lubricant particles include fluororesin particles. Examples of the fluororesin constituting the fluororesin particle include tetrafluoroethylene resin, trifluoroethylene chloride resin, hexafluorochloroethylene propylene resin, vinyl fluoride resin, vinylidene fluoride resin, difluoride dichloride. Ethylene resins and copolymers thereof are included.
The fluororesin is preferably a tetrafluoroethylene resin or a vinylidene fluoride resin. The lubricant particles may be one kind or more.
滑剤粒子の数平均一次平均粒径は、0.01〜1μmの範囲内であることが好ましく、0.05〜0.5μmの範囲内であることがより好ましい。 The number average primary average particle diameter of the lubricant particles is preferably in the range of 0.01 to 1 μm, and more preferably in the range of 0.05 to 0.5 μm.
滑剤粒子の含有量は、保護層用のバインダー樹脂100質量部に対して5〜70質量部の範囲内の割合で含有されることが好ましく、10〜60質量部の範囲内であることがより好ましい。 The content of the lubricant particles is preferably contained at a ratio in the range of 5 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin for the protective layer, and more preferably in the range of 10 to 60 parts by mass. preferable.
保護層の厚さは、例えば、0.2〜10μmの範囲内であることが好ましく、0.5〜6μmの範囲内であることがより好ましい。 For example, the thickness of the protective layer is preferably in the range of 0.2 to 10 μm, and more preferably in the range of 0.5 to 6 μm.
[感光体の製造方法]
本発明の電子写真感光体の製造方法は、前記中間層を形成する工程が、400nm以上の波長の光で硬化させる可視光硬化工程を有することを特徴とする。
具体的には、(A)表面修飾金属酸化物粒子及び非表面修飾金属酸化物粒子を形成する工程、(B)前記表面修飾金属酸化物粒子及び非表面修飾金属酸化物粒子を用いて、導電性支持体上に中間層を形成する工程と、(C)中間層上に感光層を形成する工程と、(D)感光層上に保護層を形成する工程とを有する。
[Method for producing photoreceptor]
The method for producing an electrophotographic photosensitive member of the present invention is characterized in that the step of forming the intermediate layer includes a visible light curing step of curing with light having a wavelength of 400 nm or more.
Specifically, (A) a step of forming surface-modified metal oxide particles and non-surface-modified metal oxide particles, and (B) conductive using the surface-modified metal oxide particles and non-surface-modified metal oxide particles. A step of forming an intermediate layer on the conductive support, (C) a step of forming a photosensitive layer on the intermediate layer, and (D) a step of forming a protective layer on the photosensitive layer.
(A)表面修飾金属酸化物粒子及び非表面修飾金属酸化物粒子の形成工程
表面修飾金属酸化物粒子は、金属酸化物粒子に対して、前記電子輸送性化合物で表面修飾することにより形成することができる。
具体的には、スズ、チタン、亜鉛のいずれかの元素を含有する金属酸化物粒子、電子輸送性化合物及び有機溶媒を撹拌混合した後、所定温度で分散し、減圧蒸留により有機溶媒を分離除去し、得られた乾燥物を加熱することにより電子輸送性化合物による表面修飾を行うことができる。
(A) Step of forming surface-modified metal oxide particles and non-surface-modified metal oxide particles The surface-modified metal oxide particles are formed by surface-modifying the metal oxide particles with the electron transporting compound. Can do.
Specifically, metal oxide particles containing any element of tin, titanium, and zinc, an electron transporting compound, and an organic solvent are stirred and mixed, then dispersed at a predetermined temperature, and the organic solvent is separated and removed by distillation under reduced pressure. And the surface modification by an electron transport compound can be performed by heating the obtained dried material.
(B)中間層を形成する工程
中間層は、例えば、中間層用バインダー樹脂を溶媒に溶解又は分散させ、次いで、本発明に係る表面修飾金属酸化物粒子及び非表面修飾金属酸化物粒子を均質に分散させて分散液を得、この分散液を静置後、濾過して中間層形成用塗布液を調製し、この中間層形成用塗布液を導電性支持体の表面に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を硬化することにより形成することができる。
(B) Step of forming the intermediate layer For example, the intermediate layer is obtained by dissolving or dispersing the binder resin for the intermediate layer in a solvent, and then homogenizing the surface-modified metal oxide particles and the non-surface-modified metal oxide particles according to the present invention. A dispersion liquid is obtained by dispersing the dispersion liquid, and the dispersion liquid is allowed to stand, followed by filtration to prepare a coating liquid for forming an intermediate layer. The coating liquid for forming an intermediate layer is applied to the surface of the conductive support to form a coating film. Can be formed by curing the coating film.
中間層の形成に用いられる溶媒としては、中間層用バインダー樹脂を溶解させることができ、かつ、表面修飾金属酸化物粒子及び非表面修飾金属酸化物粒子の良好な分散性が得られるものであればよい。
また、保存性や表面修飾金属酸化物粒子及び非表面修飾金属酸化物粒子の分散性を向上させるために、助溶媒を併用してもよい。
助溶媒としては、例えばベンジルアルコール、トルエン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。
The solvent used for the formation of the intermediate layer is one that can dissolve the binder resin for the intermediate layer and can obtain good dispersibility of the surface-modified metal oxide particles and the non-surface-modified metal oxide particles. That's fine.
In order to improve the storage stability and the dispersibility of the surface-modified metal oxide particles and the non-surface-modified metal oxide particles, a co-solvent may be used in combination.
Examples of the cosolvent include benzyl alcohol, toluene, cyclohexanone, and tetrahydrofuran.
表面修飾金属酸化物粒子及び非表面修飾金属酸化物粒子の分散手段としては、超音波分散機、ビーズミル、ボールミル、サンドミル及びホモミキサーなどを用いることができる。 As a means for dispersing the surface-modified metal oxide particles and the non-surface-modified metal oxide particles, an ultrasonic disperser, a bead mill, a ball mill, a sand mill, a homomixer, or the like can be used.
中間層形成用塗布液における中間層用バインダー樹脂の濃度は、中間層の層厚や塗布方法によっても異なるが、例えば中間層用バインダー樹脂100質量部に対する溶媒の使用量が100〜3000質量部の範囲内であることが好ましく、より好ましくは500〜2000質量部の範囲内である。 Although the density | concentration of the binder resin for intermediate | middle layers in the coating liquid for intermediate | middle layer formation changes also with the layer thickness and coating method of an intermediate | middle layer, the usage-amount of the solvent with respect to 100 mass parts of binder resins for intermediate | middle layers is 100-3000 mass parts, for example. It is preferably within the range, more preferably within the range of 500 to 2000 parts by mass.
中間層形成用塗布液の塗布方法としては、特に限定されないが、例えば、浸漬塗布法、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、ビームコーティング法、スライドホッパー法などが挙げられる。
中間層形成用塗布液の塗布膜を硬化させるための方法の例には、当該塗布膜への活性光線の照射、及び上記塗布膜の加熱が含まれる。
活性光線の上記塗布膜への照射は、例えば、ラジカル反応性成分のラジカル反応によって中間層を形成する公知の条件で行うことが可能である。特に、本発明では、前記塗布膜を400nm以上の波長の可視光線を照射して硬化させることが好ましい。
The method for applying the intermediate layer forming coating solution is not particularly limited, and examples thereof include a dip coating method, a spray coating method, a spinner coating method, a bead coating method, a blade coating method, a beam coating method, and a slide hopper method. .
Examples of the method for curing the coating film of the coating liquid for forming the intermediate layer include irradiation of actinic rays to the coating film and heating of the coating film.
Irradiation of the actinic ray to the coating film can be performed under known conditions for forming an intermediate layer by radical reaction of a radical reactive component, for example. In particular, in the present invention, the coating film is preferably cured by irradiation with visible light having a wavelength of 400 nm or more.
活性光線の照射エネルギーや照射時間などは、使用される光源の種類や光源の出力、保護層を形成するためのラジカル反応性官能基の種類などに応じて適宜設定されうる。活性光線の照射エネルギーは、5〜500mJ/cm2の範囲内であることが好ましく、5〜100mJ/cm2の範囲内であることがより好ましい。また、照射時間は、0.1秒〜10分であることが好ましく、0.1秒〜5分であることがより好ましい。 The irradiation energy, irradiation time, and the like of actinic rays can be appropriately set according to the type of light source used, the output of the light source, the type of radical reactive functional group for forming the protective layer, and the like. Irradiation energy of active rays is preferably in the range of 5~500mJ / cm 2, and more preferably in a range of 5 to 100 mJ / cm 2. Moreover, it is preferable that irradiation time is 0.1 second-10 minutes, and it is more preferable that it is 0.1 second-5 minutes.
活性光線の光源の種類の例には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、フラッシュ(パルス)キセノン、紫外線LEDが含まれる。活性光線の光源の出力は、0.1〜5kWの範囲内であることが好ましく、0.5〜3kWの範囲内であることがより好ましい。活性光線の種類の例には、可視光、紫外線、電子線、X線及びガンマ線が含まれる。活性光線の波長は、400nm以上の可視光であることが好ましい。 Examples of types of actinic light sources include low pressure mercury lamps, medium pressure mercury lamps, ultra high pressure mercury lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, xenon lamps, flash (pulse) xenon, and ultraviolet LEDs. The output of the active light source is preferably in the range of 0.1 to 5 kW, and more preferably in the range of 0.5 to 3 kW. Examples of the types of actinic rays include visible light, ultraviolet rays, electron beams, X-rays, and gamma rays. The wavelength of the active light is preferably visible light of 400 nm or more.
中間層の厚さは、0.5〜5μmの範囲内であることが好ましい。
中間層の厚さが0.5μm以上であれば、導電性支持体の表面全体を十分に被覆することができるため、導電性支持体からの正孔の注入を十分にブロックすることができ、この結果、黒ポチ、カブリなど画像欠陥の発生をより抑制することができる。一方、中間層の厚さが5μm以下であれば、電気抵抗を適切にでき、十分な電子輸送性が得られ、この結果、濃度ムラの発生をより抑制することができる。
The thickness of the intermediate layer is preferably in the range of 0.5 to 5 μm.
If the thickness of the intermediate layer is 0.5 μm or more, the entire surface of the conductive support can be sufficiently covered, so that the injection of holes from the conductive support can be sufficiently blocked, As a result, the occurrence of image defects such as black spots and fog can be further suppressed. On the other hand, if the thickness of the intermediate layer is 5 μm or less, the electrical resistance can be made appropriate and sufficient electron transport properties can be obtained, and as a result, the occurrence of density unevenness can be further suppressed.
(C)感光層を形成する工程
感光層を形成する工程は、中間層上に電荷発生層を形成する工程と、当該電荷発生層上に電荷輸送層を形成する工程とを含む。
(C) Step of forming photosensitive layer The step of forming the photosensitive layer includes a step of forming a charge generation layer on the intermediate layer and a step of forming a charge transport layer on the charge generation layer.
まず、電荷発生層形成用塗布液を調製する。次いで、電荷発生層形成用塗布液を中間層上に塗布して、中間層上に電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成する。次いで、当該塗膜を乾燥させることにより電荷発生層を形成する。 First, a coating solution for forming a charge generation layer is prepared. Next, the charge generation layer forming coating solution is applied onto the intermediate layer to form a charge generation layer forming coating solution on the intermediate layer. Next, the charge generation layer is formed by drying the coating film.
電荷発生層形成用塗布液は、例えば、公知の溶剤に、上記電荷発生層用のバインダー樹脂や上記電荷発生物質などのなどの上記電荷発生層用の材料を分散させることで調製されうる。 The coating solution for forming the charge generation layer can be prepared, for example, by dispersing a material for the charge generation layer such as the binder resin for the charge generation layer or the charge generation material in a known solvent.
電荷発生層形成用塗布液に使用される溶剤は、上記成分の分散性と中間層への塗布性とに応じて、適宜選択されうる。
電荷発生層形成用塗布液に使用される溶剤の例には、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジエチレングリコール ジメチルエーテル、2−メトキシ
エタノール、2−エトキシエタノール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸t−ブチル、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロエタン及びトリクロロエタンが含まれる。溶剤は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。
The solvent used in the charge generation layer forming coating solution may be appropriately selected according to the dispersibility of the above components and the coating property to the intermediate layer.
Examples of the solvent used in the coating solution for forming the charge generation layer include methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, acetophenone, tetrahydrofuran, dioxolane, diethylene glycol dimethyl ether, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, butanol, Ethyl acetate, t-butyl acetate, toluene, chlorobenzene, dichloroethane and trichloroethane are included. The solvent may be one kind or more.
電荷発生物質の分散手段は、公知の分散装置から適宜選択されうる。電荷発生物質の分散手段の例は、中間層用の酸化チタン粒子の分散手段の例と同じである。 The means for dispersing the charge generating material can be appropriately selected from known dispersing devices. An example of the means for dispersing the charge generation material is the same as the example of the means for dispersing the titanium oxide particles for the intermediate layer.
電荷発生層形成用塗布液の塗布方法は、電荷発生層形成用塗布液の組成に応じて公知の塗布方法から適宜選択されうる。電荷発生層形成用塗布液の塗布方法の例は、上記中間層形成用塗布液の塗布方法の例と同じである。 The coating method of the charge generation layer forming coating solution can be appropriately selected from known coating methods according to the composition of the charge generation layer forming coating solution. The example of the coating method of the charge generation layer forming coating solution is the same as the example of the coating method of the intermediate layer forming coating solution.
電荷発生層形成用塗布液の塗膜の乾燥方法は、溶剤の種類や、電荷発生層の所期の厚さなどに応じて適宜選択されうる。電荷発生層形成用塗布液の塗膜の乾燥方法の例は、上記中間層形成用塗布液の塗膜の乾燥方法の例と同じである。 The method for drying the coating film of the coating solution for forming the charge generation layer can be appropriately selected according to the type of solvent, the desired thickness of the charge generation layer, and the like. The example of the drying method of the coating film of the charge generation layer forming coating solution is the same as the example of the drying method of the coating film of the intermediate layer forming coating solution.
次いで、電荷発生層上に電荷輸送層を形成する。具体的には、まず、電荷輸送層用塗布液を調製する。次いで、電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に塗布して、電荷発生層上に電荷輸送層用塗布液の塗膜を形成する。最後に、当該塗膜を乾燥させることにより電荷輸送層を形成することができる。 Next, a charge transport layer is formed on the charge generation layer. Specifically, first, a charge transport layer coating solution is prepared. Next, the charge transport layer coating solution is applied onto the charge generation layer to form a coating film of the charge transport layer coating solution on the charge generation layer. Finally, the charge transport layer can be formed by drying the coating film.
電荷輸送層用塗布液は、例えば、公知の溶剤に、上記電荷輸送層用のバインダー樹脂や上記電荷輸送物質などの上記電荷輸送層用の材料を分散させることで調製されうる。電荷輸送層用塗布液に使用される溶剤の例は、電荷発生層形成用塗布液に使用される溶剤の例と同じである。 The charge transport layer coating solution can be prepared, for example, by dispersing the charge transport layer material such as the charge transport layer binder resin or the charge transport material in a known solvent. Examples of the solvent used in the charge transport layer coating solution are the same as those of the solvent used in the charge generation layer forming coating solution.
電荷輸送層用塗布液の塗布方法は、電荷輸送層用塗布液の組成に応じて公知の塗布方法から適宜選択されうる。電荷輸送層用塗布液の塗布方法の例は、中間層形成用塗布液の塗布方法の例と同じである。 The coating method for the charge transport layer coating solution may be appropriately selected from known coating methods according to the composition of the charge transport layer coating solution. The example of the coating method of the charge transport layer coating solution is the same as the example of the coating method of the intermediate layer forming coating solution.
電荷輸送層用塗布液の塗膜の乾燥方法は、溶剤の種類や上記電荷輸送層の所期の厚さなどに応じて適宜選択されうる。電荷輸送層用塗布液の塗膜の乾燥方法の例は、上記中間層形成用塗布液の塗膜の乾燥方法の例と同じである。 The method for drying the coating film of the charge transport layer coating solution can be appropriately selected according to the type of solvent, the desired thickness of the charge transport layer, and the like. The example of the drying method of the coating film of the charge transport layer coating solution is the same as the example of the drying method of the coating film of the intermediate layer forming coating solution.
(D)保護層を形成する工程
保護層を形成する工程は、電荷輸送層上に保護層を形成する。具体的には、まず、保護層形成用塗布液を調製する。次いで、保護層形成用塗布液を電荷輸送層上に塗布して、電荷輸送層上に保護層形成用塗布液の塗膜を形成する。最後に、当該塗膜を硬化させることにより保護層を形成する。
(D) The process of forming a protective layer The process of forming a protective layer forms a protective layer on a charge transport layer. Specifically, first, a coating liquid for forming a protective layer is prepared. Subsequently, the coating liquid for protective layer formation is apply | coated on a charge transport layer, and the coating film of the coating liquid for protective layer formation is formed on a charge transport layer. Finally, a protective layer is formed by curing the coating film.
保護層形成用塗布液は、例えば、公知の溶剤に、上記ラジカル重合性モノマーや、上記保護層用の金属酸化物粒子、上記保護層用の電荷輸送物質などの保護層用の材料を分散させることで調製されうる。 The coating liquid for forming the protective layer is prepared by, for example, dispersing the material for the protective layer such as the radical polymerizable monomer, the metal oxide particles for the protective layer, or the charge transport material for the protective layer in a known solvent. Can be prepared.
保護層形成用塗布液に使用される溶剤の例には、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、t−ブタノール、sec−ブタノール、ベンジルアルコール、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ピリジン及びジエチルアミンが含まれる。上記溶剤は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。 Examples of solvents used in the coating solution for forming the protective layer include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, t-butanol, sec-butanol, benzyl alcohol, toluene, xylene, dichloromethane, and methyl ethyl ketone. , Cyclohexane, ethyl acetate, butyl acetate, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, tetrahydrofuran, 1,3-dioxane, 1,3-dioxolane, pyridine and diethylamine. The solvent may be one kind or more.
保護層用の材料の分散手段の例は、中間層用の酸化チタン粒子の分散手段の分散手段の例と同じである。保護層形成用塗布液の塗布方法の例は、中間層形成用塗布液の塗布方法の例と同じである。 The example of the dispersion | distribution means of the material for protective layers is the same as the example of the dispersion | distribution means of the dispersion means of the titanium oxide particle for intermediate | middle layers. The example of the coating method of the protective layer forming coating solution is the same as the example of the coating method of the intermediate layer forming coating solution.
保護層形成用塗布液は、本実施形態の効果が得られる範囲において、上記成分以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。当該他の成分の例には、ラジカル重合開始剤が含まれる。当該ラジカル重合開始剤は、熱重合開始剤であってもよいし、光重合開始剤であってもよい。当該重合開始剤は、光重合開始剤であることが好ましい。 The coating liquid for forming a protective layer may further contain other components than the above components as long as the effect of the present embodiment is obtained. Examples of the other components include a radical polymerization initiator. The radical polymerization initiator may be a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator. The polymerization initiator is preferably a photopolymerization initiator.
光重合開始剤の例には、ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニル−ケトン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1,2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−2−モルフォリノ(4−メチルチオフェニル)プロパン−1−オン、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシムなどのアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾインエーテル系光重合開始剤;ベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2−ベンゾイルナフタレン、4−ベンゾイルビフェニル、4−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、1,4−ベンゾイルベンゼンなどのベンゾフェノン系光重合開始剤;及び2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントンなどのチオキサントン系光重合開始剤が含まれる。 Examples of photopolymerization initiators include diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1,2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, Acetophenone-based or ketal-based photopolymerization initiators such as 2-methyl-2-morpholino (4-methylthiophenyl) propan-1-one and 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether Benzoin ether photopolymerization initiators such as benzoin isopropyl ether; benzophenone, 4-hydroxybenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 2-benzoylnaphthalene, 4-benzoylbiphenyl, 4-benzoylphenyl ether, acrylated benzophenone, 1,4 -Benzophenone photopolymerization initiators such as benzoylbenzene; and thioxanthone photopolymerization initiation such as 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone Agent is included.
光重合開始剤のほかの例には、エチルアントラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、9,10−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、及びイミダゾール系化合物が含まれる。 Other examples of photopolymerization initiators include ethyl anthraquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylethoxyphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) Phenylphosphine oxide, bis (2,4-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, methylphenylglyoxyester, 9,10-phenanthrene, acridine compound, triazine compound, and imidazole compound included.
重合開始剤は、1種であってもよいし、それ以上であってもよい。重合開始剤の含有量は、上記ラジカル重合性モノマー100質量部に対して0.1〜20質量部の範囲内であり、0.5〜10質量部の範囲内であることが好ましい。 The polymerization initiator may be one kind or more. The content of the polymerization initiator is in the range of 0.1 to 20 parts by mass and preferably in the range of 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable monomer.
保護層形成用塗布液の塗膜を硬化させるための方法の例には、当該塗膜への活性光線の照射、及び上記塗膜の加熱が含まれる。活性光線の上記塗膜への照射は、例えば、ラジカル反応性成分のラジカル反応によって保護層を形成する公知の条件で行うことが可能である。 Examples of the method for curing the coating film of the coating liquid for forming the protective layer include irradiation of actinic rays to the coating film and heating of the coating film. Irradiation of the active ray to the coating film can be performed, for example, under known conditions for forming a protective layer by radical reaction of a radical reactive component.
活性光線の照射エネルギーや照射時間などは、使用される光源の種類や光源の出力、保護層を形成するためのラジカル反応性官能基の種類などに応じて適宜設定されうる。活性光線の照射エネルギーは、5〜500mJ/cm2の範囲内であることが好ましく、5〜100mJ/cm2の範囲内であることがより好ましい。また、照射時間は、0.1秒〜10分であることが好ましく、0.1秒〜5分であることがより好ましい。 The irradiation energy, irradiation time, and the like of actinic rays can be appropriately set according to the type of light source used, the output of the light source, the type of radical reactive functional group for forming the protective layer, and the like. Irradiation energy of active rays is preferably in the range of 5~500mJ / cm 2, and more preferably in a range of 5 to 100 mJ / cm 2. Moreover, it is preferable that irradiation time is 0.1 second-10 minutes, and it is more preferable that it is 0.1 second-5 minutes.
活性光線の光源の種類の例には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、フラッシュ(パルス)キセノン、紫外線LEDが含まれる。活性光線の光源の出力は、0.1〜5kWの範囲内であることが好ましく、0.5〜3kWの範囲内であることがより好ましい。活性光線の種類の例には、可視光、紫外線、電子線、X線及びガンマ線が含まれる。活性光線の波長は、250〜400nm(紫外光)であることが好ましい。 Examples of types of actinic light sources include low pressure mercury lamps, medium pressure mercury lamps, ultra high pressure mercury lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, xenon lamps, flash (pulse) xenon, and ultraviolet LEDs. The output of the active light source is preferably in the range of 0.1 to 5 kW, and more preferably in the range of 0.5 to 3 kW. Examples of the types of actinic rays include visible light, ultraviolet rays, electron beams, X-rays, and gamma rays. The wavelength of the actinic ray is preferably 250 to 400 nm (ultraviolet light).
最後に、保護層形成用塗布液の塗膜を乾燥し、上記塗膜を硬化させることによって、上記保護層を形成する。保護層形成用塗布液の塗膜の乾燥方法の例は、中間層形成用塗布液の塗膜の乾燥方法と同じである。
以上のようにして、感光体を製造することができる。
Finally, the protective layer is formed by drying the coating film of the coating liquid for forming the protective layer and curing the coating film. The example of the drying method of the coating film of the coating liquid for protective layer formation is the same as the drying method of the coating film of the coating liquid for intermediate | middle layer formation.
As described above, the photoreceptor can be manufactured.
[電子写真画像形成方法及び電子写真画像形成装置]
本発明の電子写真画像形成装置は、上述した本発明の電子写真感光体を用いることを特徴とする。また、本発明の電子写真画像形成装置は、上述した本発明の電子写真感光体を具備していることを特徴とする。
具体的に、本発明の電子写真画像形成装置は、本発明の電子写真感光体を具備し、帯電プロセス、露光プロセス、現像プロセス及び転写プロセスを有することが好ましい。
[Electrophotographic image forming method and electrophotographic image forming apparatus]
The electrophotographic image forming apparatus of the present invention uses the above-described electrophotographic photosensitive member of the present invention. In addition, an electrophotographic image forming apparatus of the present invention includes the above-described electrophotographic photosensitive member of the present invention.
Specifically, the electrophotographic image forming apparatus of the present invention preferably includes the electrophotographic photosensitive member of the present invention and has a charging process, an exposure process, a developing process, and a transfer process.
以下に、本発明の電子写真感光体を用いた電子写真画像形成装置とともに電子写真画像形成方法について説明する。図1は、本発明の実施形態の一例を示すフルカラーの電子写真画像形成装置の断面構成図である。なお、以下の説明において、感光体1Y、1M、1C及び1Bkに本発明の電子写真感光体が用いられているものとする。
Hereinafter, an electrophotographic image forming method using the electrophotographic photoreceptor of the present invention and an electrophotographic image forming method will be described. FIG. 1 is a cross-sectional configuration diagram of a full-color electrophotographic image forming apparatus showing an example of an embodiment of the present invention. In the following description, it is assumed that the electrophotographic photoreceptor of the present invention is used for the
このカラー画像形成装置は、タンデム型カラー画像形成装置と称せられるもので、4組の画像形成ユニット10Y、10M、10C及び10Bkと、無端ベルト状中間転写体ユニット7aと、給紙手段21及び定着手段24とから成る。画像形成装置の本体Aの上部には、原稿画像読み取り装置SCが配置されている。
This color image forming apparatus is called a tandem type color image forming apparatus, and includes four sets of
イエロー色の画像を形成する画像形成ユニット10Yは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1Yの周囲に配置された帯電手段(帯電プロセス)2Y、露光手段(露光プロセス)3Y、現像手段(現像プロセス)4Y、一次転写手段(転写プロセス)としての一次転写ローラー5Y及びクリーニング手段6Yを有する。マゼンタ色の画像を形成する画像形成ユニット10Mは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1M、帯電手段2M、露光手段3M、現像手段4M、一次転写手段としての一次転写ローラー5M及びクリーニング手段6Mを有する。シアン色の画像を形成する画像形成ユニット10Cは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1C、帯電手段2C、露光手段3C、現像手段4C、一次転写手段としての一次転写ローラー5C及びクリーニング手段6Cを有する。黒色画像を形成する画像形成ユニット10Bkは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1Bk、帯電手段2Bk、露光手段3Bk、現像手段4Bk、一次転写手段としての一次転写ローラー5Bk及びクリーニング手段6Bkを有する。
An
前記4組の画像形成ユニット10Y、10M、10C及び10Bkは、感光体1Y、1M、1C又は1Bkを中心に、帯電手段2Y、2M、2C又は2Bkと、露光手段3Y、3M、3C又は3Bkと、現像手段4Y、4M、4C又は4Bk及び感光体1Y、1M、1C又は1Bkをクリーニングするクリーニング手段6Y、6M、6C又は6Bkより構成されている。
The four sets of
前記画像形成ユニット10Y、10M、10C及び10Bkは、感光体1Y、1M、1C又は1Bkに、それぞれ形成するトナー画像の色が異なるだけで、同じ構成であり、画像形成ユニット10Yを例にして詳細に説明する。
The
画像形成ユニット10Yは、像形成体である感光体1Yの周囲に、帯電手段2Y(以下、「帯電器2Y」ともいう。)、露光手段3Y、現像手段4Y及びクリーニング手段6Yを配置し、感光体1Y上にイエロー(Y)のトナー画像を形成するものである。また、本実施の形態においては、この画像形成ユニット10Yのうち、少なくとも感光体1Y、帯電手段2Y、現像手段4Y及びクリーニング手段6Yを一体化するように設けている。
The
帯電手段2Yは、感光体1Yに対して一様な電位を与える手段であって、接触帯電ローラー方式、コロナ放電型等の非接触帯電方式、ブラシ帯電方式などが含まれる。これらの中では、感光体と当接する接触帯電ローラーが用いられることが好ましい。
このような接触帯電ローラー(帯電器2Y)は、例えば、感光体1Yの表面に接触して設けられた帯電ローラーと、帯電ローラーに電圧を印加する電源とからなる。帯電ローラーは、例えば、導電性支持体上に抵抗調整層が形成されてなるものである。
The charging
Such a contact charging roller (
露光手段3Yは、帯電器2Yによって一様な電位を与えられた感光体1Y上に、画像信号(イエロー)に基づいて露光を行い、イエローの画像に対応する静電潜像を形成する手段であって、この露光手段3Yとしては、感光体1Yの軸方向にアレイ状に発光素子を配列したLEDと結像素子(商品名:セルフォック(登録商標)レンズ)とから構成されるもの又はレーザー光学系などが用いられる。
The
現像手段4Yは、例えば、マグネットを内蔵し現像剤を保持して回転する現像スリーブ及び感光体と、この現像スリーブとの間に直流及び交流バイアス電圧又は直流若しくは交流バイアス電圧を印加する電圧印加装置よりなるものである。 The developing means 4Y includes, for example, a developing sleeve and a photosensitive member that have a built-in magnet and rotate while holding the developer, and a voltage applying device that applies a DC and AC bias voltage or a DC or AC bias voltage between the developing sleeve and the developing sleeve. It is made up of.
無端ベルト状中間転写体ユニット7aは、複数のローラーにより巻回され、回動可能に支持された半導電性エンドレスベルト状の第2の像担持体としての無端ベルト状中間転写体70を有する。
The endless belt-shaped intermediate
画像形成ユニット10Y、10M、10C及び10Bkより形成された各色の画像は、一次転写手段としての一次転写ローラー5Y、5M、5C及び5Bkにより、回動する無端ベルト状中間転写体70上に逐次転写されて、合成されたカラー画像が形成される。給紙カセット20内に収容された転写材(定着された最終画像を担持する支持体:例えば普通紙、透明シート等)としての転写材Pは、給紙手段21により給紙され、複数の中間ローラー22A、22B、22C、22D及びレジストローラー23を経て、二次転写手段としての二次転写ローラー5bに搬送され、転写材P上に二次転写してカラー画像が一括転写される。カラー画像が転写された転写材Pは、定着手段24により定着処理され、排紙ローラー25に挟持されて機外の排紙トレイ26上に載置される。ここで、中間転写体や転写材等の感光体上に形成されたトナー画像の転写支持体を総称して転写媒体という。
Each color image formed by the
一方、二次転写手段としての二次転写ローラー5bにより転写材Pにカラー画像を転写した後、転写材Pを曲率分離した無端ベルト状中間転写体70は、クリーニング手段6bにより残留トナーが除去される。
On the other hand, after the color image is transferred to the transfer material P by the
画像形成処理中、一次転写ローラー5Bkは常時、感光体1Bkに当接している。他の一次転写ローラー5Y、5M及び5Cはカラー画像形成時にのみ、それぞれ対応する感光体1Y、1M又は1Cに当接する。
During the image forming process, the primary transfer roller 5Bk is always in contact with the photoreceptor 1Bk. The other
二次転写ローラー5bは、ここを転写材Pが通過して二次転写が行われる時にのみ、無端ベルト状中間転写体70に当接する。
The
また、画像形成装置の本体Aから筐体8を支持レール82L及び82Rを介して引き出し可能にしてある。
Further, the
筐体8は、画像形成ユニット10Y、10M、10C及び10Bkと、無端ベルト状中間転写体ユニット7aとから成る。
The
画像形成ユニット10Y、10M、10C及び10Bkは、垂直方向に縦列配置されている。感光体1Y、1M、1C及び1Bkの図示左側方には無端ベルト状中間転写体ユニット7aが配置されている。無端ベルト状中間転写体ユニット7aは、ローラー71、72、76、73及び74を巻回して回動可能な無端ベルト状中間転写体70、一次転写ローラー5Y、5M、5C、5Bk及びクリーニング手段6bとから成る。
The
<除電工程>
なお、従来、電子写真画像形成装置においては、転写後に光照射による除電工程を行うことができる構成のものがあり、この工程を行う除電手段(光除電装置)としては、蛍光灯、LED等が使用される。また除電工程で用いる光は、強度としては露光光の3倍以上の露光エネルギーを有する光である場合が多い。
しかしながら、本発明の感光体を採用した電子写真画像形成装置においては、上記除電手段を用いなくても、長期間にわたる耐メモリー性と、黒ポチ、カブリ等の画像欠陥の発生の防止を両立できるため、除電手段を有さない構成とすることができる。このように光除電装置を有さない構成とした場合、画像形成装置の省スペース化、低コスト化を実現することが可能であり、感光体への光ダメージ低減にもつながるため好ましい。
<Static elimination process>
Conventionally, some electrophotographic image forming apparatuses have a configuration capable of performing a static elimination process by light irradiation after transfer, and examples of the static elimination means (photo static elimination apparatus) that perform this process include fluorescent lamps, LEDs, and the like. used. In addition, the light used in the static elimination process is often light having an exposure energy that is at least three times that of the exposure light.
However, in the electrophotographic image forming apparatus employing the photoreceptor of the present invention, it is possible to achieve both long-term memory resistance and prevention of image defects such as black spots and fog without using the above-mentioned charge eliminating means. Therefore, it can be set as the structure which does not have a static elimination means. Thus, it is preferable to use a configuration that does not include an optical charge eliminating device, because it is possible to realize space saving and cost reduction of the image forming apparatus, and to reduce light damage to the photoconductor.
<プロセスカートリッジ>
本発明の電子写真画像形成装置としては、本発明の電子写真感光体と、上述の帯電手段(帯電器)、露光手段(露光器)、現像手段(現像器)又はクリーニング手段(クリーニング器)の少なくとも一つとを一体として有したプロセスカートリッジ(画像形成ユニット)として構成し、この画像形成ユニットを電子写真画像形成装置本体に対して出し入れ可能(着脱自在)に構成されていることが好ましい。また、帯電手段、露光手段、現像手段の他、転写手段(転写器)、分離手段(分離器)の少なくとも一つを感光体とともに一体として有したプロセスカートリッジ(画像形成ユニット)を形成し、装置本体に着脱自在の単一画像形成ユニットとし、装置本体のレールなどの案内手段を用いて着脱自在の構成としても良い。
<Process cartridge>
The electrophotographic image forming apparatus of the present invention includes the electrophotographic photosensitive member of the present invention and the above-described charging means (charging device), exposure means (exposure device), developing means (developing device), or cleaning means (cleaning device). It is preferable to configure as a process cartridge (image forming unit) integrally including at least one, and to configure this image forming unit so that it can be inserted into and removed from the electrophotographic image forming apparatus main body (detachable). In addition to a charging unit, an exposure unit, a developing unit, a process cartridge (image forming unit) having at least one of a transfer unit (transfer unit) and a separation unit (separator) together with a photosensitive member is formed. A single image forming unit that is detachably attached to the main body may be used, and a structure that is detachable using guide means such as a rail of the apparatus main body may be used.
本発明の電子写真画像形成装置は電子写真複写機、レーザープリンター、LEDプリンター及び液晶シャッター式プリンター等の電子写真画像形成装置一般に適応するが、さらに、電子写真技術を応用したディスプレイ、記録、軽印刷、製版及びファクシミリ等の装置にも幅広く適用することができる。 The electrophotographic image forming apparatus of the present invention is generally applicable to electrophotographic image forming apparatuses such as electrophotographic copying machines, laser printers, LED printers, and liquid crystal shutter printers, but also displays, recording, and light printing using electrophotographic technology. It can also be widely applied to apparatuses such as plate making and facsimile.
なお、本発明を適用可能な実施形態は、上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。 The embodiments to which the present invention can be applied are not limited to the above-described embodiments, and can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り、「質量部」又は「質量%」を表す。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless there is particular notice, "mass part" or "mass%" is represented.
<金属酸化物粒子1の作製>
数平均一次粒径が50nmであるアナターゼ型酸化チタン「JA−1」(テイカ社製)500質量部、表面修飾剤:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン「KBM−503」(信越化学工業社製)65質量部、トルエン1500質量部を撹拌混合した後、ビーズミルにより、ミル滞留時間25分間、温度35℃で湿式解砕処理を行い、得られたスラリーから、減圧蒸留によりトルエンを分離除去した。得られた乾燥物を120℃で2時間加熱することにより、表面修飾剤の焼き付けを行った。その後、ピンミルにより粉砕し、有機処理されたアナターゼ型酸化チタンよりなる金属酸化物粒子1(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)を得た。
<Preparation of metal oxide particles 1>
500 parts by mass of anatase-type titanium oxide “JA-1” (manufactured by Teika) having a number average primary particle size of 50 nm, surface modifier: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane “KBM-503” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) After 65 parts by mass and 1500 parts by mass of toluene were stirred and mixed, wet crushing was performed at a temperature of 35 ° C. for 25 minutes with a bead mill, and toluene was separated and removed from the resulting slurry by distillation under reduced pressure. The obtained dried product was heated at 120 ° C. for 2 hours, so that the surface modifier was baked. Thereafter, metal oxide particles 1 (non-surface-modified metal oxide particles not surface-modified with an electron-transporting compound) made of anatase-type titanium oxide, which was pulverized by a pin mill, were obtained.
<金属酸化物粒子2の作製>
前記金属酸化物粒子1の作製において、アナターゼ型酸化チタンの代わりに、数平均一次粒径が35nmであるルチル型酸化チタン「MT−500SA」(テイカ社製)を用いたこと以外は同様にして、有機処理されたルチル型酸化チタンよりなる金属酸化物粒子2(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)を得た。
<Preparation of metal oxide particles 2>
In the production of the metal oxide particles 1, a rutile type titanium oxide “MT-500SA” (manufactured by Teica) having a number average primary particle size of 35 nm was used instead of anatase type titanium oxide. Thus, metal oxide particles 2 (non-surface-modified metal oxide particles not surface-modified with an electron transporting compound) made of organically treated rutile titanium oxide were obtained.
<金属酸化物粒子3の作製>
前記金属酸化物粒子1の作製において、アナターゼ型酸化チタンの代わりに、数平均一次粒径が15nmであるルチル型酸化チタン「MT−100SA」(テイカ社製)を用いたこと以外は同様にして、有機処理されたルチル型酸化チタンよりなる金属酸化物粒子3(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)を得た。
<Preparation of metal oxide particles 3>
In the production of the metal oxide particles 1, a rutile type titanium oxide “MT-100SA” (manufactured by Teika) having a number average primary particle size of 15 nm was used instead of the anatase type titanium oxide. Thus, metal oxide particles 3 (non-surface-modified metal oxide particles not surface-modified with an electron transporting compound) made of organically treated rutile-type titanium oxide were obtained.
<金属酸化物粒子4の作製>
前記金属酸化物粒子1の作製において、数平均一次粒径が35nmの酸化チタンの代わりに、数平均一次粒径が5nmの酸化チタンを用いたこと以外は同様にして、有機処理されたルチル型酸化チタンよりなる金属酸化物粒子4(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)を得た。
<Preparation of metal oxide particles 4>
In the production of the metal oxide particles 1, an organically treated rutile type was used except that titanium oxide having a number average primary particle size of 5 nm was used instead of titanium oxide having a number average primary particle size of 35 nm. Metal oxide particles 4 (non-surface-modified metal oxide particles not surface-modified with an electron transporting compound) made of titanium oxide were obtained.
<金属酸化物粒子5の作製>
前記金属酸化物粒子1の作製において、数平均一次粒径が35nmの酸化チタンの代わりに、数平均一次粒径が200nmの酸化チタンを用いたこと以外は同様にして、有機処理されたルチル型酸化チタンよりなる金属酸化物粒子5(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)を得た。
<Preparation of metal oxide particles 5>
In the production of the metal oxide particles 1, an organically treated rutile type was used in the same manner except that titanium oxide having a number average primary particle size of 200 nm was used instead of titanium oxide having a number average primary particle size of 35 nm. Metal oxide particles 5 (non-surface-modified metal oxide particles not surface-modified with an electron transporting compound) made of titanium oxide were obtained.
<金属酸化物粒子6の作製>
前記金属酸化物粒子2の作製において、表面修飾剤として3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの代わりに、メチルハイドロジェンポリシロキサン「MHPS」(信越化学工業社製)を用いたこと以外は同様にして、有機処理されたルチル型酸化チタンよりなる金属酸化物粒子6(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)を得た。
<Preparation of metal oxide particles 6>
In the production of the metal oxide particles 2, the same procedure was performed except that methylhydrogenpolysiloxane “MHPS” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used instead of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane as a surface modifier. Thus, metal oxide particles 6 (non-surface-modified metal oxide particles not surface-modified with an electron transporting compound) made of organically treated rutile-type titanium oxide were obtained.
<金属酸化物粒子7の作製>
前記金属酸化物粒子2の作製において、数平均一次粒径が35nmの酸化チタンの代わりに、数平均一次粒径が100nmの酸化チタンを用いたこと以外は同様にして、有機処理されたルチル型酸化チタンよりなる金属酸化物粒子7(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)を得た。
<Preparation of metal oxide particles 7>
In the production of the metal oxide particles 2, an organically treated rutile type was used in the same manner except that titanium oxide having a number average primary particle size of 100 nm was used instead of titanium oxide having a number average primary particle size of 35 nm. Metal oxide particles 7 (non-surface modified metal oxide particles not surface-modified with an electron transporting compound) made of titanium oxide were obtained.
<金属酸化物粒子8の作製>
前記金属酸化物粒子4の作製において、ルチル型酸化チタンの代わりに、数平均一次粒径が5nmの酸化スズ「CIK」(ナノテック社製)を用いたこと以外は同様にして、有機処理された酸化スズよりなる金属酸化物粒子8(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)を得た。
<Preparation of
In the production of the metal oxide particles 4, organic treatment was performed in the same manner except that tin oxide “CIK” (manufactured by Nanotech) having a number average primary particle size of 5 nm was used instead of rutile titanium oxide. Metal oxide particles 8 (non-surface modified metal oxide particles not surface-modified with an electron transporting compound) made of tin oxide were obtained.
<金属酸化物粒子9の作製>
前記金属酸化物粒子2の作製において、ルチル型酸化チタンの代わりに、数平均一次粒径が20nmの酸化亜鉛「FZO−50」(石原産業社製)を用いたこと以外は同様にして、有機処理された酸化スズよりなる金属酸化物粒子9(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)を得た。
<Preparation of metal oxide particles 9>
In the production of the metal oxide particles 2, an organic material was used in the same manner except that zinc oxide “FZO-50” (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) having a number average primary particle size of 20 nm was used instead of rutile titanium oxide. Metal oxide particles 9 (non-surface-modified metal oxide particles not surface-modified with an electron transporting compound) made of treated tin oxide were obtained.
<金属酸化物粒子10〜14の作製>
金属酸化物粒子10〜14は、金属酸化物粒子1〜3及び8〜9における表面修飾剤の処理を行う前の微粒子(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)である。なお、各金属粒子は、KBM−503などの有機物による表面処理を行わなくても、無機物による表面修飾を行った微粒子を用いる。ここでいう無機物による表面修飾とは、通常、市販の金属酸化物粒子は水への分散性などの機能を向上(又は失活)させるため、アルミナや水酸化アルミニウム、シリカなどの無機物で処理されており、このような無機物による処理のことをいう。
<Preparation of metal oxide particles 10-14>
The
<金属酸化物粒子15の作製>
前記金属酸化物粒子2の作製において、数平均一次粒径が35nmの酸化チタンの代わりに、数平均一次粒径が300nmの酸化チタンを用いたこと以外は同様にして、有機処理されたルチル型酸化チタンよりなる金属酸化物粒子15(電子輸送性化合物で表面修飾されていない非表面修飾金属酸化物粒子)を得た。
なお、下記表Iに示す数平均一次粒径は、各表面修飾剤で表面修飾する前の母体の金属酸化物粒子の数平均一次粒径を示しているが、表面修飾前と表面修飾後では、粒径が変わるほどの変化はなく、これらの数平均一次粒径は同様の値となる。
<Preparation of metal oxide particles 15>
In the production of the metal oxide particles 2, an organically treated rutile type was used except that titanium oxide having a number average primary particle size of 300 nm was used instead of titanium oxide having a number average primary particle size of 35 nm. Metal oxide particles 15 (non-surface-modified metal oxide particles not surface-modified with an electron transporting compound) made of titanium oxide were obtained.
The number average primary particle size shown in Table I below shows the number average primary particle size of the base metal oxide particles before surface modification with each surface modifier, but before and after surface modification. The number average primary particle size is not changed so much that the particle size is changed.
<金属酸化物粒子2e1の作製>
前記金属酸化物微粒子2を200質量部、電子輸送性化合物として前記ETM101を65質量部、2−ブタノール 1500質量部を撹拌混合した後、循環式超音波ホモジナイザー「RUS−600TCVP」(株式会社日本精機製作所製、19.5kHz、600W)を用いて循環流量40L/H、0.5時間、温度35℃分散し、1μmのフィルターを通したのち、減圧蒸留により2−ブタノールを分離除去した。得られた乾燥物を120℃で2時間加熱することにより、電子輸送性化合物である表面修飾剤の焼き付けを行った。その後、ピンミルにより粉砕し、電子輸送性化合物(ETM)で表面修飾された金属酸化物粒子2e1を得た。
<Preparation of metal oxide particles 2e1>
200 parts by mass of the metal oxide fine particles 2 and 65 parts by mass of the ETM101 as an electron transporting compound and 1500 parts by mass of 2-butanol were stirred and mixed, and then a circulating ultrasonic homogenizer “RUS-600TCVP” The product was dispersed at a circulating flow rate of 40 L / H for 0.5 hours at a temperature of 35 ° C. using a 19.5 kHz, manufactured by Seisakusho, and passed through a 1 μm filter. The obtained dried product was heated at 120 ° C. for 2 hours, thereby baking the surface modifier as an electron transporting compound. Then, it grind | pulverized with the pin mill and obtained the metal oxide particle 2e1 surface-modified with the electron transport compound (ETM).
<金属酸化物粒子2e2〜2e8の作製>
前記金属酸化物微粒子2e1の作製において、電子輸送性化合物であるETM101を下記の表IIのとおりに変更したこと以外は同様にして、電子輸送性化合物で表面修飾された金属酸化物微粒子2e2〜2e8を得た。
<Preparation of metal oxide particles 2e2 to 2e8>
In the production of the metal oxide fine particles 2e1, the metal oxide fine particles 2e2 to 2e8 surface-modified with the electron transport compound were similarly obtained except that ETM101, which is an electron transport compound, was changed as shown in Table II below. Got.
<金属酸化物粒子6e2の作製>
前記金属酸化物粒子2e2の作製において、金属酸化物粒子2の代わりに、金属酸化物粒子6を用いたこと以外は同様にして、電子輸送性化合物で表面修飾された金属酸化物粒子6e2を得た。
<Preparation of metal oxide particles 6e2>
Similarly to the production of the metal oxide particles 2e2, except that the metal oxide particles 6 were used instead of the metal oxide particles 2, the metal oxide particles 6e2 surface-modified with an electron transporting compound were obtained. It was.
<金属酸化物粒子6e7の作製>
前記金属酸化物粒子2e7の作製において、金属酸化物粒子2の代わりに、金属酸化物粒子6を用いたこと以外は同様にして、電子輸送性化合物で表面修飾された金属酸化物粒子6e7を得た。
<Preparation of metal oxide particles 6e7>
In the production of the metal oxide particles 2e7, metal oxide particles 6e7 surface-modified with an electron transporting compound were obtained in the same manner except that the metal oxide particles 6 were used instead of the metal oxide particles 2. It was.
<金属酸化物粒子7e5の作製>
前記金属酸化物微粒子2e5の作製において、金属酸化物粒子2の代わりに、金属酸化物粒子7を用いたこと以外は同様にして、電子輸送性化合物で表面修飾された金属酸化物微粒子7e5を得た。
<Preparation of metal oxide particles 7e5>
In the production of the metal oxide fine particles 2e5, metal oxide fine particles 7e5 surface-modified with an electron transporting compound are obtained in the same manner except that the metal oxide particles 7 are used instead of the metal oxide particles 2. It was.
<金属酸化物粒子12e5の作製>
前記金属酸化物粒子2e5の作製において、金属酸化物粒子2の代わりに、金属酸化物粒子12を用いたこと以外は同様にして、電子輸送性化合物で表面修飾された金属酸化物微粒子12e5を得た。
<Preparation of metal oxide particles 12e5>
In the production of the metal oxide particles 2e5, metal oxide particles 12e5 whose surface is modified with an electron transporting compound are obtained in the same manner except that the metal oxide particles 12 are used instead of the metal oxide particles 2. It was.
<金属酸化物粒子13e7の作製>
前記金属酸化物粒子2e7の作製において、金属酸化物粒子2の代わりに、金属酸化物微粒子13を用いたこと以外は同様にして、電子輸送性化合物で表面修飾された金属酸化物粒子13e7を得た。
<Preparation of metal oxide particles 13e7>
In the production of the metal oxide particles 2e7, the metal oxide particles 13e7 surface-modified with an electron transporting compound were obtained in the same manner except that the metal oxide fine particles 13 were used instead of the metal oxide particles 2. It was.
<金属酸化物粒子14e7の作製>
前記金属酸化物粒子2e7の作製において、金属酸化物粒子2の代わりに、金属酸化物粒子14を用いたこと以外は同様にして、電子輸送性化合物で表面修飾された金属酸化物粒子14e7を得た。
なお、下記表IIに示す数平均一次粒径は、各電子輸送性化合物(ETM)で表面修飾する前の母体の金属酸化物粒子の数平均一次粒径を示しているが、表面修飾前と表面修飾後では、粒径が変わるほどの変化はなく、これらの数平均一次粒径は同様の値となる。
<Preparation of metal oxide particles 14e7>
In the production of the metal oxide particles 2e7, the metal oxide particles 14e7 whose surface was modified with an electron transporting compound were obtained in the same manner except that the metal oxide particles 14 were used instead of the metal oxide particles 2. It was.
The number average primary particle size shown in Table II below indicates the number average primary particle size of the base metal oxide particles before surface modification with each electron transporting compound (ETM). After the surface modification, there is no change that changes the particle size, and the number average primary particle size is the same value.
<感光体1の作製>
(1)導電性支持体の準備
円筒形アルミニウム支持体の表面を切削加工し、導電性支持体を準備した。
(2−1)中間層1の形成(熱硬化性樹脂の場合)
フェノール樹脂ブライオーフェン J−325(DIC社製)
10質量部
金属酸化物粒子1(ETM処理なし金属酸化物粒子、非表面修飾金属酸化物粒子)
21質量部
金属酸化物粒子2e1(ETM処理あり金属酸化物粒子、表面修飾金属酸化物粒子)
11質量部
n−プロピルアルコール 200質量部
からなる中間層1用組成物を混合し、分散機としてビーズミルにより、ミル滞留時間10時間として分散させた。そして、この溶液を一昼夜静置した後、濾過することにより、中間層形成用塗布液を得た。濾過は、濾過フィルターとして、公称濾過精度が5μmのリジメッシュフィルター(日本ポール社製)を用いて、50kPaの圧力下で行った。このようにして得られた中間層形成用塗布液を、洗浄した導電性支持体の外周面に浸漬塗布法で塗布し、140℃で30分間乾燥することにより、乾燥膜厚2μmの中間層1を形成した。
<Preparation of Photoreceptor 1>
(1) Preparation of conductive support The surface of a cylindrical aluminum support was cut to prepare a conductive support.
(2-1) Formation of the intermediate layer 1 (in the case of a thermosetting resin)
Phenol resin briofen J-325 (manufactured by DIC)
10 parts by mass Metal oxide particles 1 (Metal oxide particles without ETM treatment, non-surface-modified metal oxide particles)
21 parts by mass of metal oxide particles 2e1 (metal oxide particles with ETM treatment, surface-modified metal oxide particles)
11 parts by mass n-propyl alcohol A composition for intermediate layer 1 consisting of 200 parts by mass was mixed and dispersed by a bead mill as a disperser with a mill residence time of 10 hours. And after leaving this solution still for a whole day and night, the coating liquid for intermediate | middle layer formation was obtained by filtering. Filtration was performed under a pressure of 50 kPa using a rigid mesh filter (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a nominal filtration accuracy of 5 μm as a filtration filter. The intermediate layer-forming coating solution thus obtained is applied to the outer peripheral surface of the washed conductive support by a dip coating method and dried at 140 ° C. for 30 minutes, whereby an intermediate layer 1 having a dry film thickness of 2 μm is obtained. Formed.
(3)電荷発生層の形成
電荷発生物質 24質量部
(Cu−Kα特性X線回折スペクトル測定で8.3°、24.7°、25.1°、26.5°に明確なピークを有するチタニルフタロシアニン及び(2R,3R)−2,3−ブタンジオールの1:1付加体と、未付加のチタニルフタロシアニンの混晶)
ポリビニルブチラール樹脂「エスレックBL−1(積水化学社製)
12質量部
3−メチル−2−ブタノン/シクロヘキサノン=4/1(V/V)
400質量部
からなる電荷発生層用組成物を混合し、循環式超音波ホモジナイザー「RUS−600TCVP(株式会社日本精機製作所製)」を19.5kHz,600Wにて循環流量40L/Hで0.5時間にわたって分散することにより、電荷発生層塗布液を調製した。
この電荷発生層塗布液を浸漬塗布法によって中間層上に塗布して、乾燥膜厚0.3μmの電荷発生層を形成した。
(3) Formation of charge generation layer
Polyvinyl butyral resin "ESREC BL-1 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
12 parts by mass 3-methyl-2-butanone / cyclohexanone = 4/1 (V / V)
A charge generation layer composition composed of 400 parts by mass was mixed, and a circulating ultrasonic homogenizer “RUS-600TCVP (manufactured by Nippon Seiki Seisakusho)” was 0.5 at 19.5 kHz, 600 W at a circulation flow rate of 40 L / H. A charge generation layer coating solution was prepared by dispersing over time.
This charge generation layer coating solution was applied onto the intermediate layer by a dip coating method to form a charge generation layer having a dry film thickness of 0.3 μm.
(4)電荷輸送層の形成
下記原料を混合して溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
電荷輸送物質:4,4′−ジメチル−4″−(β−フェニルスチリル)トリフェニルアミン) 225質量部
電荷輸送層用バインダー樹脂:ポリカーボネート樹脂「Z300」(三菱ガス化学社製) 300質量部
酸化防止剤:「Irganox1010」(BASFジャパン社製)
6質量部
溶媒:テトラヒドロフラン 1600質量部
溶媒:トルエン 400質量部
レベリング剤:シリコーンオイル「KF−54」(信越化学工業社製)
1質量部
上記電荷発生層上に、この電荷輸送層形成用塗布液を浸漬コーティング法により塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥し、層厚20μmの電荷輸送層を形成し、感光体1を得た。
(4) Formation of charge transport layer The following raw materials were mixed and dissolved to prepare a charge transport layer forming coating solution.
Charge transport material: 4,4′-dimethyl-4 ″-(β-phenylstyryl) triphenylamine) 225 parts by mass Binder resin for charge transport layer: polycarbonate resin “Z300” (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) Inhibitor: “Irganox 1010” (manufactured by BASF Japan)
6 parts by mass Solvent: Tetrahydrofuran 1600 parts by mass Solvent: 400 parts by mass of toluene Leveling agent: Silicone oil “KF-54” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
1 part by mass On the charge generation layer, the charge transport layer forming coating solution is applied by a dip coating method to form a coating film, and the coating film is dried to form a charge transport layer having a thickness of 20 μm. Photoconductor 1 was obtained.
<感光体2〜5及び7〜9の作製>
前記感光体1の作製において、中間層1をそれぞれ下記のような方法で形成した中間層2〜5及び7〜9に変更した以外は同様にして感光体2〜5及び7〜9を作製した。
<Production of photoconductors 2 to 5 and 7 to 9>
Photoconductors 2 to 5 and 7 to 9 were prepared in the same manner except that the intermediate layer 1 was changed to intermediate layers 2 to 5 and 7 to 9 formed by the following methods in the preparation of the photoconductor 1, respectively. .
(2−2)中間層2〜5及び7〜9の形成(熱硬化性樹脂の場合)
前記中間層1の形成において、添加する金属酸化物粒子(非表面修飾金属酸化物粒子、表面修飾金属酸化物粒子)を下記表IIIに示すとおりに変えたこと以外は同様の方法で形成した。
(2-2) Formation of intermediate layers 2-5 and 7-9 (in the case of thermosetting resin)
The intermediate layer 1 was formed by the same method except that the metal oxide particles to be added (non-surface-modified metal oxide particles, surface-modified metal oxide particles) were changed as shown in Table III below.
<感光体6及び18の作製>
前記感光体1の作製において、中間層1をそれぞれ下記のような方法で形成した中間層6及び18に変更した以外は同様にして感光体6及び18を作製した。
<Production of photoconductors 6 and 18>
Photosensitive members 6 and 18 were prepared in the same manner as in the preparation of the photosensitive member 1, except that the intermediate layer 1 was changed to the intermediate layers 6 and 18 formed by the following methods, respectively.
(2−3)中間層6及び18の形成(熱可塑性樹脂の場合)
中間層用バインダー樹脂:下記式(N−1)で表されるポリアミド樹脂(N−1)100質量部を、エタノール/n−プロピルアルコール/テトラヒドロフラン(体積比45/20/35)の混合溶媒1700質量部に加えて、20℃で撹拌混合した。この溶液に、金属酸化物粒子6を97質量部及び金属酸化物粒子2e5を226質量部添加し、ビーズミルにより、ミル滞留時間5時間として分散させた。そして、この溶液を一昼夜静置した後、濾過することにより、中間層形成用塗布液を得た。濾過は、濾過フィルターとして、公称濾過精度が5μmのリジメッシュフィルター(日本ポール社製)を用いて、50kPaの圧力下で行った。このようにして得られた中間層形成用塗布液を、洗浄した導電性支持体の外周面に浸漬塗布法で塗布し、120℃で30分間乾燥することにより、乾燥膜厚2μmの中間層6を形成した。
また、中間層18も、添加する金属酸化物粒子を下記表IIIに示すとおりに変えたこと以外は同様の方法で形成した。
Binder resin for intermediate layer: 100 mass parts of polyamide resin (N-1) represented by the following formula (N-1) is mixed with 1700 ethanol / n-propyl alcohol / tetrahydrofuran (volume ratio 45/20/35). In addition to parts by mass, the mixture was stirred and mixed at 20 ° C. 97 parts by mass of metal oxide particles 6 and 226 parts by mass of metal oxide particles 2e5 were added to this solution, and dispersed by a bead mill with a mill residence time of 5 hours. And after leaving this solution still for a whole day and night, the coating liquid for intermediate | middle layer formation was obtained by filtering. Filtration was performed under a pressure of 50 kPa using a rigid mesh filter (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a nominal filtration accuracy of 5 μm as a filtration filter. The intermediate layer-forming coating solution thus obtained is applied to the outer peripheral surface of the washed conductive support by a dip coating method and dried at 120 ° C. for 30 minutes. Formed.
The intermediate layer 18 was also formed in the same manner except that the metal oxide particles to be added were changed as shown in Table III below.
<感光体10〜17、19及び20の作製>
前記感光体1の作製において、中間層1をそれぞれ下記のような方法で形成した中間層10〜17、19及び20に変更した以外は同様にして感光体10〜17、19及び20を作製した。
<Production of
Photoconductors 10-17, 19 and 20 were produced in the same manner except that the intermediate layer 1 was changed to intermediate layers 10-17, 19 and 20 formed by the following methods in the production of the photoreceptor 1, respectively. .
(2−4)中間層10〜17、19及び20の形成(可視光硬化性樹脂の場合)
金属酸化物粒子10(ETM処理なし金属酸化物粒子、非表面修飾金属酸化物粒子)
80質量部
金属酸化物粒子2e7(ETM処理あり金属酸化物粒子、表面修飾金属酸化物粒子)
25質量部
前記例示化合物M1(トリメチロールプロパントリメタクリレート)(サートマー社製) 100質量部
A−2(イルガキュア819)(BASFジャパン社製) 2質量部
B−1(イルガキュアOXE01)(BASFジャパン社製)8質量部
2−ブタノール 400質量部
からなる中間層10用組成物を混合し、分散機としてビーズミルにより、ミル滞留時間3時間として分散させた。この溶液を、公称濾過精度が5μmのリジメッシュフィルター(日本ポール社製)を濾過フィルターとして用いて、50kPaの圧力下で濾過を行った。このようにして得られた中間層形成用塗布液を、洗浄した導電性支持体の外周面に浸漬塗布法で塗布し、キセノンランプ(又はメタルハライドランプ)を用いて1分間照射後、120℃で30分間乾燥することにより、乾燥膜厚2μmの中間層10を形成した。
また、中間層11〜17、19及び20も、添加する金属酸化物粒子を下記表IIIに示すとおりに変えたこと以外は同様の方法で形成した。
(2-4) Formation of intermediate layers 10-17, 19 and 20 (in the case of visible light curable resin)
Metal oxide particles 10 (metal oxide particles without ETM treatment, non-surface modified metal oxide particles)
80 parts by mass of metal oxide particles 2e7 (metal oxide particles with ETM treatment, surface-modified metal oxide particles)
25 parts by mass The exemplified compound M1 (trimethylolpropane trimethacrylate) (manufactured by Sartomer) 100 parts by mass A-2 (Irgacure 819) (made by BASF Japan) 2 parts by mass B-1 (Irgacure OXE01) (made by BASF Japan) ) 8 parts by mass 2-butanol The composition for
The intermediate layers 11 to 17, 19 and 20 were also formed in the same manner except that the metal oxide particles to be added were changed as shown in Table III below.
<感光体aの作製:比較例>
前記感光体1の作製において、中間層1を下記のような方法で形成した中間層aに変更した以外は同様にして感光体aを作製した。
(2−5)中間層aの形成
前記式(N−1)で表されるポリアミド樹脂(N−1)100質量部を、エタノール/n−プロピルアルコール/テトラヒドロフラン(体積比45/20/35)の混合溶媒1700質量部に加え、20℃で撹拌混合し、この溶液に、金属酸化物粒子3を97質量部及び金属酸化物粒子6を226質量部添加し、ビーズミルにより、ミル滞留時間5時間として分散させた。この溶液を一昼夜静置した後、日本ポール社製のリジメッシュ5μmフィルターを使用して50kPaの圧力下で濾過することにより、中間層a用塗布液を調製した。
このようにして得られた中間層a用塗布液を、洗浄した導電性支持体の外周面に浸漬塗布法で塗布し、120℃で30分間乾燥することにより、乾燥膜厚3μmの中間層aを形成した。
<Preparation of Photoreceptor a: Comparative Example>
Photoreceptor a was produced in the same manner as in the production of photoreceptor 1 except that intermediate layer 1 was changed to intermediate layer a formed by the following method.
(2-5) Formation of Intermediate Layer a 100 parts by mass of the polyamide resin (N-1) represented by the formula (N-1) was added to ethanol / n-propyl alcohol / tetrahydrofuran (volume ratio 45/20/35). In addition to 1700 parts by mass of the above mixed solvent, the mixture was stirred and mixed at 20 ° C., 97 parts by mass of metal oxide particles 3 and 226 parts by mass of metal oxide particles 6 were added to this solution, and the mill residence time was 5 hours by a bead mill. As dispersed. The solution was allowed to stand for a whole day and night, and then filtered under a pressure of 50 kPa using a rigid mesh 5 μm filter manufactured by Nippon Pole Co., thereby preparing an intermediate layer a coating solution.
The intermediate layer a thus obtained is applied to the outer peripheral surface of the washed conductive support by a dip coating method and dried at 120 ° C. for 30 minutes, whereby an intermediate layer a having a dry film thickness of 3 μm is obtained. Formed.
<感光体bの作製:比較例>
前記感光体aの作製において、金属酸化物粒子3を97質量部から300質量部に変更し、金属酸化物粒子6を除いた以外は、同様の方法で感光体bを作製した。
<Preparation of Photoreceptor b: Comparative Example>
Photoreceptor b was produced in the same manner as in the production of photoconductor a, except that metal oxide particle 3 was changed from 97 parts by mass to 300 parts by mass and metal oxide particle 6 was removed.
<感光体cの作製:比較例>
前記感光体bの作製において、金属酸化物粒子3の代わりに、金属酸化物粒子6e2を用いたこと以外は同様にして、感光体cを作製した。
<Preparation of Photoreceptor c: Comparative Example>
Photoreceptor c was produced in the same manner as in the production of photoconductor b, except that metal oxide particles 6e2 were used instead of metal oxide particles 3.
<感光体dの作製:比較例>
前記感光体aの作製において、中間層aを下記のような方法で形成した中間層dに変更した以外は同様にして、感光体dを作製した。
(2−6)中間層dの形成
前記中間層1の形成において、金属酸化物粒子1、及び、金属酸化物粒子2e1を、金属酸化物粒子15に変え、かつ、30質量部に変更した以外は、同様にして中間層dを作製した。
<Preparation of Photoreceptor d: Comparative Example>
Photoreceptor d was prepared in the same manner as in preparation of photoreceptor a, except that intermediate layer a was changed to intermediate layer d formed by the following method.
(2-6) Formation of intermediate layer d In the formation of the intermediate layer 1, the metal oxide particles 1 and the metal oxide particles 2e1 were changed to the metal oxide particles 15 and changed to 30 parts by mass. In the same manner, an intermediate layer d was produced.
<感光体eの作製:比較例>
前記感光体cの作製において、下記のような方法で形成した中間層eに変更した以外は同様にして、感光体eを作製した。
(2−7)中間層eの形成
前記中間層10の作製において、金属酸化物粒子10、及び、金属酸化物粒子2e7を、金属酸化物粒子6e7に変え、かつ、95質量部に変更した以外は、同様にして中間層eを作製した。
<Preparation of Photoreceptor e: Comparative Example>
A photoconductor e was prepared in the same manner as in the production of the photoconductor c, except that the intermediate layer e was formed by the following method.
(2-7) Formation of intermediate layer e In preparation of the
<感光体fの作製:比較例>
前記感光体bの作製において、さらに下記ETM−Aを15質量部添加したこと以外は同様にして、感光体fを作製した。
<Preparation of Photoreceptor f: Comparative Example>
A photoconductor f was prepared in the same manner as in the photoconductor b except that 15 parts by mass of the following ETM-A was further added.
なお、前記ETM−Aは、特許第4807838号公報に開示される方法に従って合成することができる。 The ETM-A can be synthesized according to the method disclosed in Japanese Patent No. 4807838.
[評価]
<耐久試験>
フルカラー複写機(bizhub(登録商標)C658;コニカミノルタ株式会社)のプリント速度を80枚/分に改造したフルカラー複写機を準備した。このフルカラー複写機に上記で得られた各感光体を搭載して、温度30℃、湿度85%RH環境下で、画像面積比率20%の文字画像をA4横送りにおいて各500万枚連続で印刷(耐久後)して、耐久試験を行った。耐久試験前(初期)及び耐久試験後に、画像メモリー、黒ポチ及びカブリについての評価を行った。
[Evaluation]
<Durability test>
A full-color copying machine in which the printing speed of a full-color copying machine (bizhub (registered trademark) C658; Konica Minolta Co., Ltd.) was modified to 80 sheets / min was prepared. Each full-color copier is loaded with each of the photoconductors obtained above, and printing is performed continuously for 5 million sheets of text images with an image area ratio of 20% in an A4 landscape feed at a temperature of 30 ° C and a humidity of 85% RH. (After endurance) and the endurance test was conducted. Image memory, black spots and fog were evaluated before (initial) and after the durability test.
(画像メモリーの評価)
前記耐久試験の前後に、温度10℃、15%RHの環境下で、ベタ黒像及びベタ白像が混在した画像を10枚連続してプリントし、続いて均一なハーフトーン画像をプリントし、このハーフトーン画像中におけるベタ黒像及びベタ白像の履歴の発生、すなわちメモリーの発生を目視で観察し、以下の評価基準に従って評価した。
《評価基準》
R5:ハーフトーン画像においてメモリーが観察されない(合格)
R4:軽微なメモリーが稀に観察されるが実用上問題ないレベル(合格)
R3:軽微なメモリーが観察されるが実用上問題ないレベル(合格)
R2:明確なメモリーが稀に観察され、実用上問題となるレベル(不合格)
R1:明確なメモリーが観察される(不合格)
(Evaluation of image memory)
Before and after the endurance test, 10 images of a solid black image and a solid white image were continuously printed in an environment of a temperature of 10 ° C. and 15% RH, and then a uniform halftone image was printed. The occurrence of a solid black image and a solid white image in the halftone image, ie, the occurrence of memory, was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria.
"Evaluation criteria"
R5: Memory is not observed in the halftone image (pass)
R4: Slight memory is observed rarely, but there is no practical problem (pass)
R3: Level at which slight memory is observed but no problem in practical use (pass)
R2: Level where clear memory is rarely observed and causes practical problems (fail)
R1: Clear memory is observed (failed)
(カブリ評価)
前記耐久試験の前後に、それぞれ、画像が形成されていない転写材「PODグロスコート」(A3サイズ、100g/m2)(王子製紙社製)を、ブラックの位置まで搬送し、グリッド電圧−800V、現像バイアス−650Vの条件で、無地画像(白ベタ画像)を形成し、得られた転写材上のカブリの有無を目視で観察した。同様に、グリッド電圧−800V、現像バイアス−650Vの条件で、黄色ベタ画像を形成し、得られた転写材上のカブリの有無を目視で観察した。そして、以下の評価基準に従って評価した。
《評価基準》
R5:白ベタ画像及び黄ベタ画像のいずれにおいてもカブリが観察されない(合格)
R4:白ベタ画像及び黄ベタ画像のいずれか一方において、拡大すると僅かにカブリが観察されるが、実用上問題ないレベル(合格)
R3:白ベタ画像及び黄ベタ画像のいずれにおいても拡大するとカブリが観察されるが、実用上問題ないレベル(合格)
R2:白ベタ画像及び黄ベタ画像のいずれか一方において、目視で僅かにカブリが観察される(不合格)
R1:白ベタ画像及び黄ベタ画像のいずれか一方において、カブリが目立って観察される(不合格)
(Fog evaluation)
Before and after the endurance test, a transfer material “POD gloss coat” (A3 size, 100 g / m 2 ) (manufactured by Oji Paper Co., Ltd.), on which no image was formed, was transported to the black position, and the grid voltage was −800V. A solid image (white solid image) was formed under the condition of development bias of −650 V, and the presence or absence of fog on the obtained transfer material was visually observed. Similarly, a yellow solid image was formed under conditions of a grid voltage of −800 V and a developing bias of −650 V, and the presence or absence of fog on the obtained transfer material was visually observed. And it evaluated according to the following evaluation criteria.
"Evaluation criteria"
R5: No fogging is observed in any of the white solid image and the yellow solid image (pass).
R4: In either one of the white solid image and the yellow solid image, a slight fog is observed when the image is enlarged, but there is no practical problem (pass).
R3: Although fog is observed when enlarged in both the white solid image and the yellow solid image, the level is acceptable for practical use (pass)
R2: Slight fogging is visually observed in either one of the white solid image and the yellow solid image (failure).
R1: fog is conspicuously observed in either one of the white solid image and the yellow solid image (failed)
(黒ポチ評価)
前記耐久試験の前後に、温度30℃、湿度80%RHの環境下において、転写材:「A3/PODグロスコート(A3サイズ、100g/m2)」(王子製紙社製)上に、グリッド電圧−900V、現像バイアス−720Vの条件で、無地画像(白ベタ画像)を形成し、得られた転写材上の10cm×10cmの範囲における直径0.1mm以上の黒点発生数をカウントし、以下の評価基準により評価した。
《評価基準》
R5:10cm×10cmの範囲に直径0.1mm以上の黒点が観測されない(合格)
R4:10cm×10cmの範囲に直径0.1mm以上の黒点が1〜2個(合格)
R3:10cm×10cmの範囲に直径0.1mm以上の黒点が3〜99個(合格)
R2:10cm×10cmの範囲に直径0.1mm以上の黒点が10〜99個(不合格)
R1:10cm×10cmの範囲に直径0.1mm以上の黒点が100個以上(不合格)
(Black spot evaluation)
Before and after the endurance test, a grid voltage was applied on a transfer material: “A3 / POD gloss coat (A3 size, 100 g / m 2 )” (manufactured by Oji Paper Co., Ltd.) in an environment of a temperature of 30 ° C. and a humidity of 80% RH. A solid image (white solid image) was formed under the conditions of −900 V and development bias of −720 V, and the number of black spots with a diameter of 0.1 mm or more in the range of 10 cm × 10 cm on the obtained transfer material was counted. Evaluation was based on the evaluation criteria.
"Evaluation criteria"
R5: No black spot with a diameter of 0.1 mm or more is observed in the range of 10 cm × 10 cm (pass)
R4: 1 to 2 black spots with a diameter of 0.1 mm or more in a range of 10 cm × 10 cm (pass)
R3: 3 to 99 black spots with a diameter of 0.1 mm or more in a range of 10 cm × 10 cm (pass)
R2: 10 to 99 black spots with a diameter of 0.1 mm or more in a range of 10 cm × 10 cm (failed)
R1: 100 or more black spots with a diameter of 0.1 mm or more in the range of 10 cm × 10 cm (failed)
(絶縁破壊評価)
高温高湿下(温度30℃、湿度80%RH)及び低温低湿下(温度10℃、湿度20%RH)において、感光体の電荷リークによる絶縁破壊の発生の有無を評価した。
《評価基準》
○:高温高湿下又は低温低湿下においても電荷リークによる絶縁破壊が発生しない
×:高温高湿下又は低温低湿下においても電荷リークによる絶縁破壊が発生(実用上問題あり)
(Dielectric breakdown evaluation)
The presence or absence of dielectric breakdown due to charge leakage of the photoreceptor was evaluated under high temperature and high humidity (
"Evaluation criteria"
○: Dielectric breakdown due to charge leakage does not occur even under high temperature and high humidity or low temperature and low humidity ×: Dielectric breakdown due to charge leakage occurs even under high temperature and high humidity or low temperature and low humidity (practical problem)
上記結果に示されるように、本発明の感光体を用いた場合、比較例の感光体に比べて、長期間にわたる画像メモリー、カブリ、黒ポチ及び絶縁破壊を防止することができることが分かる。
なお、本発明の感光体の中間層について、前記XPS測定を上述した条件で行ったところ、前記一般式(Int)で表される構造を有する化合物及び硫黄元素を含む化合物に由来する化合物を、0.01ppm以上含有していることを確認した。
また、本発明の感光体について、中間層の断面を上述した方法によって観察したところ、表面修飾金属酸化物粒子が、電荷発生層側に偏在していることを確認できた。
As shown in the above results, it can be seen that when the photoconductor of the present invention is used, image memory, fog, black spots, and dielectric breakdown over a long period of time can be prevented as compared with the photoconductor of the comparative example.
In addition, about the intermediate | middle layer of the photoreceptor of this invention, when the said XPS measurement was performed on the conditions mentioned above, the compound derived from the compound which has a structure represented by the said general formula (Int), and the compound containing a sulfur element, It was confirmed that the content was 0.01 ppm or more.
Moreover, when the cross section of the intermediate layer was observed by the above-described method for the photoreceptor of the present invention, it was confirmed that the surface-modified metal oxide particles were unevenly distributed on the charge generation layer side.
1Y、1M、1C、1Bk 感光体
2Y、2M、2C、2Bk 帯電手段
3Y、3M、3C、3Bk 露光手段
4Y、4M、4C、4Bk 現像手段
6Y、6M、6C、6Bk クリーニング手段
10Y、10M、10C、10Bk 画像形成ユニット
1Y, 1M, 1C,
Claims (15)
前記中間層が、電子輸送性化合物による表面修飾金属酸化物粒子と、非表面修飾金属酸化物粒子と、を含有することを特徴とする電子写真感光体。 An electrophotographic photoreceptor in which an intermediate layer and a photosensitive layer are laminated on a conductive support,
The electrophotographic photoreceptor, wherein the intermediate layer contains surface-modified metal oxide particles made of an electron-transporting compound and non-surface-modified metal oxide particles.
A−X ・・・一般式(ETM)
[上記一般式(ETM)において、Aは、電子輸送性化合物の母骨格を表し、下記一般式(1)〜(9)のいずれかで表される構造を有する化合物由来の母骨格を表す。Xは、−COOH、−Si(OCH3)3、−Si(OC2H5)3、又は−OHを表す。
また、Xは、下記一般式(1)〜(9)で表される化合物における置換基R(R1〜R50)のいずれかと結合しており、そのときの置換基Rは、炭素数1〜8のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のエーテル基又はエステル基を表す。]
一般式(5)中、R17及びR18は、各々独立に、水素原子、シアノ基及び置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基からなる群より選択される基であって、少なくともいずれか一方が、シアノ基又は置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基であり、R19〜R26は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基からなる群より選択される基である。Zは、炭素原子又は窒素原子である。
一般式(6)中、R27及びR28は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基及びニトロ基からなる群より選択される基である。pは、上記式(p1)〜式(p5)で表される4価の基のいずれかであって、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数6〜18のアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基からなる群より選択される少なくとも一つの置換基を有していてもよい。
一般式(7)及び一般式(8)中、R29、R30、R43及びR44は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数6〜18のアリール基、シアノ基及びニトロ基からなる群より選択される基であり、これらは互いに連結して環構造を有してもいてもよい。
一般式(7)中、R41及びR42は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子からなる群より選択される基である。
一般式(8)及び一般式(9)中、R45、R46及びR47〜R50は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基からなる群より選択される基である。
一般式(8)及び一般式(9)中、Q1〜Q12は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子である。] The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the electron transporting compound is an electron transporting compound represented by the following general formula (ETM).
AX: General formula (ETM)
[In the said general formula (ETM), A represents the mother frame | skeleton of an electron transport compound, and represents the mother frame | skeleton derived from the compound which has a structure represented by either of the following general formula (1)-(9). X represents -COOH, -Si (OCH 3) 3 , -Si (OC 2 H 5) 3, or -OH.
X is bonded to any one of the substituents R (R 1 to R 50 ) in the compounds represented by the following general formulas (1) to (9), and the substituent R at that time has 1 carbon atom. Represents an -8 alkylene group, an optionally substituted cycloalkylene group having 3 to 12 carbon atoms, and an optionally substituted ether group or ester group having 1 to 8 carbon atoms. ]
In General Formula (5), R 17 and R 18 are each independently a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a cyano group, and an optionally substituted alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms. And at least one of them is a cyano group or an optionally substituted alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 19 to R 26 each independently represents a hydrogen atom, a substituent From a group consisting of an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have an aryl group, an aryl group which may have a substituent, and an alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent. The group to be selected. Z is a carbon atom or a nitrogen atom.
In General Formula (6), R 27 and R 28 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted carbon number. From the group consisting of a 3-12 cycloalkyl group, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an optionally substituted aryl group, a cyano group, and a nitro group. The group to be selected. p is any of the tetravalent groups represented by the above formulas (p1) to (p5), and has an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and a substituent which may have a substituent. Selected from the group consisting of an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an optionally substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, and a hydroxy group. It may have at least one substituent.
In general formula (7) and general formula (8), R 29 , R 30 , R 43 and R 44 may each independently have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituent. A good cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an optionally substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a cyano group, and These are groups selected from the group consisting of nitro groups, and these may be linked to each other to have a ring structure.
In General Formula (7), R 41 and R 42 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted carbon number. It is a group selected from the group consisting of a 3-12 cycloalkyl group, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and a halogen atom.
In general formula (8) and general formula (9), R 45 , R 46 and R 47 to R 50 may each independently have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituent. A good cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom, an optionally substituted aryl group, a cyano group, a nitro group, and It is a group selected from the group consisting of a hydroxy group and a heteroaryl group which may have a substituent.
In General Formula (8) and General Formula (9), Q 1 to Q 12 are each independently a carbon atom or a nitrogen atom. ]
前記中間層を形成する工程が、400nm以上の波長の光で硬化させる可視光硬化工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 An electrophotographic photosensitive member manufacturing method for manufacturing the electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 10,
The method for producing an electrophotographic photoreceptor, wherein the step of forming the intermediate layer includes a visible light curing step of curing with light having a wavelength of 400 nm or more.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018074362A JP2019184775A (en) | 2018-04-09 | 2018-04-09 | Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method of electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image formation device, electrophotographic image formation method, and process cartridge |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018074362A JP2019184775A (en) | 2018-04-09 | 2018-04-09 | Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method of electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image formation device, electrophotographic image formation method, and process cartridge |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019184775A true JP2019184775A (en) | 2019-10-24 |
Family
ID=68340273
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018074362A Pending JP2019184775A (en) | 2018-04-09 | 2018-04-09 | Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method of electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image formation device, electrophotographic image formation method, and process cartridge |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2019184775A (en) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04195063A (en) * | 1990-11-28 | 1992-07-15 | Konica Corp | Photosensitive body |
JPH06236060A (en) * | 1993-01-19 | 1994-08-23 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic sensitive material |
JPH07140693A (en) * | 1993-11-18 | 1995-06-02 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic photoreceptor |
JP2010072018A (en) * | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and electrophotographic device having electrophotographic photoreceptor |
JP2010175740A (en) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus and process cartridge for image forming apparatus |
JP2013097300A (en) * | 2011-11-04 | 2013-05-20 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
JP2014126702A (en) * | 2012-12-26 | 2014-07-07 | Konica Minolta Inc | Electrophotographic photoreceptor |
JP2016109844A (en) * | 2014-12-05 | 2016-06-20 | 株式会社リコー | Electrophotographic photoreceptor, image formation device, and process cartridge |
-
2018
- 2018-04-09 JP JP2018074362A patent/JP2019184775A/en active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04195063A (en) * | 1990-11-28 | 1992-07-15 | Konica Corp | Photosensitive body |
JPH06236060A (en) * | 1993-01-19 | 1994-08-23 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic sensitive material |
JPH07140693A (en) * | 1993-11-18 | 1995-06-02 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic photoreceptor |
JP2010072018A (en) * | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and electrophotographic device having electrophotographic photoreceptor |
JP2010175740A (en) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus and process cartridge for image forming apparatus |
JP2013097300A (en) * | 2011-11-04 | 2013-05-20 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
JP2014126702A (en) * | 2012-12-26 | 2014-07-07 | Konica Minolta Inc | Electrophotographic photoreceptor |
JP2016109844A (en) * | 2014-12-05 | 2016-06-20 | 株式会社リコー | Electrophotographic photoreceptor, image formation device, and process cartridge |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2012123238A (en) | Electrophotographic photoreceptor | |
JP6413999B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member and image forming apparatus | |
US9958796B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor, image forming method, and image forming apparatus | |
JP6354352B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, electrophotographic image forming apparatus and process cartridge | |
JP5915396B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, electrophotographic image forming method, and electrophotographic image forming apparatus | |
JP6398926B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, and image forming apparatus and image forming method using the same | |
JP6720750B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method thereof, and electrophotographic image forming apparatus | |
CN107229195B (en) | Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus using the same, and image forming method | |
JP2018097278A (en) | Image forming apparatus and process cartridge | |
JP6447254B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member and electrophotographic image forming apparatus | |
JP6384111B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member and electrophotographic image forming apparatus | |
JP2018025707A (en) | Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image forming apparatus, and process cartridge | |
JP2019184775A (en) | Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method of electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image formation device, electrophotographic image formation method, and process cartridge | |
JP6089916B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus | |
JP6922679B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, manufacturing method of electrophotographic photosensitive member, electrophotographic image forming method and electrophotographic image forming apparatus | |
JP2013254136A (en) | Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image forming method, and electrophotographic image forming apparatus | |
JP2016142975A (en) | Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and image forming method | |
JP6135604B2 (en) | Method for producing electrophotographic photosensitive member | |
JP7230376B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, process cartridge and image forming method | |
JP7207111B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image forming method and electrophotographic image forming apparatus | |
JP2018077300A (en) | Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing electrophotographic photoreceptor and electrophotographic cartridge | |
JP2020086043A (en) | Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image formation method, and electrophotographic image formation device | |
JP2017111273A (en) | Electrophotographic photoreceptor and method for manufacturing the same | |
JP6946845B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, manufacturing method of electrophotographic photosensitive member and image forming apparatus | |
JP2020201383A (en) | Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic image forming method, and electrophotographic image forming apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201217 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210825 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210921 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220315 |