JP2019182800A - Manufacturing method of fluorine-containing methylthio substituted compound - Google Patents

Manufacturing method of fluorine-containing methylthio substituted compound Download PDF

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Koichi Mikami
幸一 三上
優 遠藤
Masaru Endo
優 遠藤
亘 戸谷
Wataru TOYA
亘 戸谷
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Abstract

To provide a manufacturing method of a fluorine-containing methylthio substituted compound using a novel fluorine-containing methylthio group introduction agent.SOLUTION: A fluorine-containing methylthio introduction agent consisting of a bis(fluorine-containing methyl) zinc complex represented by the formula (1) Zn(CFR)L(1), wherein R represents a hydrogen atom or a fluoro group, and L represents an amine ligand, octathiocan, and quaternary ammonium salt or copper (I) salt, and a compound represented by the formula (2) Q-CH-X (2), wherein Q represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group in which a carbon atom bound to CH-X in the formula has SPhybrid orbital, and X represents a halogeno group, are reacted to manufacture a compound represented by the formula (3) Q-CH-SCFR (3), wherein Q and R represent same meaning as above.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、新規の含フッ素メチルチオ置換化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a novel fluorine-containing methylthio-substituted compound.

トリフルオロメチルチオ基(CF3S−)およびジフルオロメチルチオ基(CHFS−)は、強力な電子求引性と高い脂溶性を有する官能基として、医薬品や農薬の部分構造としての重要性が高まっている。 Trifluoromethylthio group (CF 3 S-) and difluoromethylthio group (CHF 2 S-) are functional groups having strong electron withdrawing properties and high fat solubility, and are becoming increasingly important as partial structures of pharmaceuticals and agricultural chemicals. ing.

トリフルオロメチルチオ基を基質に導入する方法が種々知られている。例えば、非特許文献1は、ピペラジン中の2級アミノ基をトリフルオロメタンスルフェニルクロリド(CF3SCl)によってトリフルオロメチルチオ化したことを報告している。非特許文献2は、ビス(メチルスルホニル)アミン銀塩をCF3SClによってトリフルオロメチルチオ化したことを報告している。非特許文献3は、ベンゾイル(フェニルヨードニオ)(トリフルオロメタンスルホニル)メタニドを求電子的トリフルオロメチルチオ化試薬として用いることを開示している。非特許文献4は、N−(トリフルオロメチルチオ)フタルイミドを用いた触媒的トリフルオロメチルチオ化反応について報告している。 Various methods for introducing a trifluoromethylthio group into a substrate are known. For example, Non-Patent Document 1 reports that a secondary amino group in piperazine was trifluoromethylthiolated with trifluoromethanesulfenyl chloride (CF 3 SCl). Non-Patent Document 2 reports that bis (methylsulfonyl) amine silver salt was trifluoromethylthiolated with CF 3 SCl. Non-Patent Document 3 discloses the use of benzoyl (phenyliodonio) (trifluoromethanesulfonyl) methanide as an electrophilic trifluoromethylthiolation reagent. Non-Patent Document 4 reports a catalytic trifluoromethylthiolation reaction using N- (trifluoromethylthio) phthalimide.

Gupta et al., "(Trifluoromethyl)sulfeniy, (Trifluoromethyl)sulfinyl, and (Trifluoromethyl)sulfonyl Derivatives of Heterocyclic Amines" Inorg. Chem., Vol.24, No.14, 1985 2126-2129Gupta et al., "(Trifluoromethyl) sulfeniy, (Trifluoromethyl) sulfinyl, and (Trifluoromethyl) sulfonyl Derivatives of Heterocyclic Amines" Inorg. Chem., Vol.24, No.14, 1985 2126-2129 Blaschette et al. "N-Sulfenyl-dimesylamine und (1-Sulfeny-4-dimethylaminopyridinium)-dimesylamide: Synthese neuer Verbindungen und Anwendung als Sulfenylierungsreagenzien" Chemiker-Zeitung,115.Jahrgang (1991) Nr.2 61-64Blaschette et al. "N-Sulfenyl-dimesylamine und (1-Sulfeny-4-dimethylaminopyridinium) -dimesylamide: Synthese neuer Verbindungen und Anwendung als Sulfenylierungsreagenzien" Chemiker-Zeitung, 115. Jahrgang (1991) Nr. 2 61-64 Shibata et al. "Trifluoromethanesulfonyl Hypervalent Iodonium Ylide for Copper-Catalyzed Trifluoromethylthiolation of Enamines, Indoles, and β-Keto Esters" J. Am. Chem. Soc., 2013, 135 (24), pp 8782-8785Shibata et al. "Trifluoromethanesulfonyl Hypervalent Iodonium Ylide for Copper-Catalyzed Trifluoromethylthiolation of Enamines, Indoles, and β-Keto Esters" J. Am. Chem. Soc., 2013, 135 (24), pp 8782-8785 Rueping et al. "Direct Catalytic Trifluoromethylthiolation of Boronic Acids and Alkynes Employing Electrophilic Shelf-Stable N-(trifluoromethylthio)phthalimide" Angew. Chem. Int. Ed. Vol.53, pp1650-1653, 2014Rueping et al. "Direct Catalytic Trifluoromethylthiolation of Boronic Acids and Alkynes Employing Electrophilic Shelf-Stable N- (trifluoromethylthio) phthalimide" Angew. Chem. Int. Ed. Vol.53, pp1650-1653, 2014

本発明の目的は、新規の含フッ素メチルチオ基導入剤を用いた含フッ素メチルチオ置換化合物の製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for producing a fluorine-containing methylthio-substituted compound using a novel fluorine-containing methylthio group-introducing agent.

上記目的を達成するために検討を重ねた結果、以下の態様を包含する本発明を完成するに至った。   As a result of repeated studies to achieve the above object, the present invention including the following aspects has been completed.

〔1〕式(1)
Zn(CFR) (1)
(式中、Rは、水素原子またはフルオロ基を示し、Lは、アミン系配位子を示す。)で表されるビス(含フッ素メチル)亜鉛錯体、オクタチオカン、および四級アンモニウム塩もしくは銅(I)塩からなる含フッ素メチルチオ基導入剤と、
式(2)
Q−CH−X (2)
(式中、Qは、式中のCH−Xと結合する炭素原子がSP混成軌道を有する炭素原子である、置換もしくは無置換の炭化水素基を示す。Xは、ハロゲノ基を示す。)で表される化合物を反応させて、
式(3)
Q−CH−SCFR (3)
(式中、QおよびRは上記と同様の意味を示す。)で表される化合物を製造する方法。
〔2〕アミン系配位子が、N,N’−ジメチルプロピレンウレアまたはテトラメチルエチレンジアミンである、上記の〔1〕に記載の方法。
[1] Formula (1)
Zn (CF 2 R) 2 L 2 (1)
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a fluoro group, and L represents an amine-based ligand.) A bis (fluorinated methyl) zinc complex, octathiocan, and a quaternary ammonium salt or copper ( I) a fluorine-containing methylthio group introducing agent comprising a salt;
Formula (2)
Q-CH 2 -X (2)
(Wherein, Q is a carbon atom bonded to the CH 2 -X in the formula is a carbon atom having a SP 2 hybrid orbital, .X showing a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, it shows a halogeno group. ) Is reacted,
Formula (3)
Q-CH 2 -SCF 2 R ( 3)
(Wherein Q and R have the same meanings as described above).
[2] The method according to [1] above, wherein the amine-based ligand is N, N′-dimethylpropyleneurea or tetramethylethylenediamine.

本発明の含フッ素メチルチオ基導入剤は、入手容易なハロゲン化炭化水素類と反応させることで、含フッ素メチルチオ化された炭化水素類を製造することができる。   The fluorine-containing methylthio group-introducing agent of the present invention can produce fluorine-containing methylthiolated hydrocarbons by reacting with easily available halogenated hydrocarbons.

〔含フッ素メチルチオ基導入剤〕
本発明の含フッ素メチルチオ基導入剤は、式(1)
Zn(CFR) (1)
(式中、Rは、水素原子またはフルオロ基を示し、Lはアミン系配位子を示す。)で表されるビス(含フッ素メチル)亜鉛錯体、オクタチオカン、および四級アンモニウム塩もしくは銅(I)塩からなる。
[Fluorine-containing methylthio group introduction agent]
The fluorine-containing methylthio group introducing agent of the present invention has the formula (1)
Zn (CF 2 R) 2 L 2 (1)
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a fluoro group, and L represents an amine-based ligand.) A bis (fluorinated methyl) zinc complex, octathiocan, and a quaternary ammonium salt or copper (I ) Made of salt.

本発明の式(1)で表されるビス(含フッ素メチル)亜鉛錯体は、有機溶剤中、ジアルキル亜鉛、トリフルオロメチルハライド若しくはジフルオロメチルハライド、およびアミン系配位子を、所定時間反応を行なった後、残渣を濾取または溶剤を留去することにより得られる固体を、ビス(含フッ素メチル)亜鉛錯体に不活性なジエチルエーテル等の溶剤で洗浄、乾燥することにより製造される。具体的な製造法は、非特許文献1に記載の方法を挙げることができる。   The bis (fluorinated methyl) zinc complex represented by the formula (1) of the present invention reacts a dialkylzinc, trifluoromethyl halide or difluoromethyl halide, and an amine-based ligand in an organic solvent for a predetermined time. Then, the solid obtained by filtering the residue or distilling off the solvent is produced by washing with a solvent such as diethyl ether inert to the bis (fluorinated methyl) zinc complex and drying. As a specific production method, the method described in Non-Patent Document 1 can be exemplified.

本発明で用いるアミン系配位子としては、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、「DMF」と言うことがある。)、N,N’−ジメチルプロピレンウレア(以下、「DMPU」と言うことがある。)、およびテトラメチルエチレンジアミン(以下、「TMEDA」と言うことがある。)を挙げることができる。
好ましくは、DMPUまたはTMEDAである。
As the amine-based ligand used in the present invention, N, N-dimethylformamide (hereinafter sometimes referred to as “DMF”), N, N′-dimethylpropylene urea (hereinafter referred to as “DMPU”). And tetramethylethylenediamine (hereinafter sometimes referred to as “TMEDA”).
DMPU or TMEDA is preferable.

本発明で用いる四級アンモニウム塩は、以下の式(A)で表すことができる。
(A)
式(A)中、Rはそれぞれ独立に、C1〜8アルキル基またはベンジル基を示す。Xは、アニオンを示す。
C1〜8アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基などを挙げることができる。
アニオンとしては、フロライドアニオン、クロライドアニオン、ブロマイドアニオン、ヨージドアニオン、アセテートアニオン、ボレートアニオン、スルフェートアニオン、ホスフェートアニオン、チオシアナートアニオンなどを挙げることができる。
The quaternary ammonium salt used in the present invention can be represented by the following formula (A).
R 4 N + X (A)
In formula (A), each R independently represents a C1-8 alkyl group or a benzyl group. X represents an anion.
As C1-8 alkyl group, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n -A hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, etc. can be mentioned.
Examples of the anion include a fluoride anion, a chloride anion, a bromide anion, an iodide anion, an acetate anion, a borate anion, a sulfate anion, a phosphate anion, and a thiocyanate anion.

具体的には、テトラブチルアンモニウムアセテート、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムフロライド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラブチルアンモニウムチオシアナートなどを挙げることができる。   Specific examples include tetrabutylammonium acetate, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium fluoride, tetrabutylammonium iodide, and tetrabutylammonium thiocyanate.

本発明で用いる銅(I)塩としては、具体的には、酢酸銅(I)、臭化銅(I)、塩化銅(I)、沃化銅(I)、チオシアン酸銅(I)などを挙げることができる。   Specific examples of the copper (I) salt used in the present invention include copper acetate (I), copper (I) bromide, copper (I) chloride, copper (I) iodide, and copper (I) thiocyanate. Can be mentioned.

銅(I)塩を用いる場合は、さらに含窒素二座配位子を添加することができる。添加できる含窒素二座配位子は、銅(I)塩に二座配位する含窒素化合物であれば制限はない。具体的には、2,2’−ビピリジル、4,4’−t−ブチル−2,2’−ビピリジル、1,10−フェナントロリン、メチレンビスオキサゾリン、N,N’−テトラメチルエチレンジアミンなどが挙げられる。   When using a copper (I) salt, a nitrogen-containing bidentate ligand can be further added. The nitrogen-containing bidentate ligand that can be added is not limited as long as it is a nitrogen-containing compound that is bidentately coordinated to the copper (I) salt. Specifically, 2,2′-bipyridyl, 4,4′-t-butyl-2,2′-bipyridyl, 1,10-phenanthroline, methylenebisoxazoline, N, N′-tetramethylethylenediamine and the like can be mentioned. .

〔式(2)で表される化合物〕
本発明の原料となる化合物は、下記の式(2)で表される化合物である。
Q−CH−X (2)
[Compound represented by Formula (2)]
The compound used as the raw material of the present invention is a compound represented by the following formula (2).
Q-CH 2 -X (2)

Qは、式中のCH−Xと結合する炭素原子がSP混成軌道を有する炭素原子である、置換もしくは無置換の炭化水素基を示す。
Xは、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基を示す。
Q represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group in which the carbon atom bonded to CH 2 —X in the formula is a carbon atom having an SP 2 hybrid orbital.
X represents a halogeno group such as a fluoro group, a chloro group, a bromo group, or an iodo group.

SP混成軌道を有する炭素原子としては、カルボニル基の炭素原子、芳香族環内の炭素原子、ビニル基中の炭素原子などを挙げることができる。
このような炭素原子を有する炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などのC6〜10アリール基; スチリル基; ベンゾイル基などのC6〜10アリールカルボニル基; アセチル基、プロピオニル基などのC1〜6アルキルカルボニル基; アクリル基、メタクリル基などのC2〜6アルケニルカルボニル基; メトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基などのC1〜6アルコキシカルボニル基;などを挙げることができる。
Examples of the carbon atom having an SP 2 hybrid orbital include a carbon atom of a carbonyl group, a carbon atom in an aromatic ring, and a carbon atom in a vinyl group.
Examples of the hydrocarbon group having such a carbon atom include C6-10 aryl groups such as phenyl and naphthyl groups; styryl groups; C6-10 arylcarbonyl groups such as benzoyl groups; C1 such as acetyl groups and propionyl groups. -6 alkylcarbonyl groups; C2-6 alkenylcarbonyl groups such as acrylic groups and methacryl groups; C1-6 alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl groups and t-butoxycarbonyl groups; and the like.

このような炭化水素基は置換されていてもよい。「置換基」となりうる基を以下に例示する。
メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基などのC1〜6アルキル基;
ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基(アリル基)、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基などのC2〜6アルケニル基;
エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−メチル−2−プロピニル基などのC2〜6アルキニル基;
Such hydrocarbon groups may be substituted. Examples of groups that can be “substituents” are given below.
C1-6 such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl group An alkyl group;
Vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group (allyl group), 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, etc. A C2-6 alkenyl group of
C2-6 alkynyl groups such as ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-methyl-2-propynyl group;

シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、キュバニル基などのC3〜8シクロアルキル基;
フェニル基、ナフチル基などのC6〜10アリール基;
ベンジル基、フェネチル基などのC6〜10アリールC1〜6アルキル基;
3〜6員のヘテロシクリル基;
3〜6員のへテロシクリルC1〜6アルキル基;
A C3-8 cycloalkyl group such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cubanyl group;
A C6-10 aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group;
A C6-10 aryl C1-6 alkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group;
A 3-6 membered heterocyclyl group;
A 3-6 membered heterocyclyl C1-6 alkyl group;

メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−ブトキシ基、t−ブトキシ基などのC1〜6アルコキシ基;
フェノキシ基、ナフトキシ基などのC6〜10アリールオキシ基;
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などのC6〜10アリールC1〜6アルコキシ基;
チアゾリルオキシ基、ピリジルオキシ基などの5〜6員のヘテロアリールオキシ基;
チアゾリルメチルオキシ基、ピリジルメチルオキシ基などの5〜6員のヘテロアリールC1〜6アルキルオキシ基;
C1-6 alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, s-butoxy group, i-butoxy group, t-butoxy group;
C6-10 aryloxy groups such as phenoxy group and naphthoxy group;
A C6-10 aryl C1-6 alkoxy group such as a benzyloxy group or a phenethyloxy group;
5- to 6-membered heteroaryloxy group such as thiazolyloxy group and pyridyloxy group;
5- to 6-membered heteroaryl C1-6 alkyloxy group such as thiazolylmethyloxy group, pyridylmethyloxy group;

ホルミルオキシ基;
アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのC1〜6アルキルカルボニルオキシ基;
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、i−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基などのC1〜6アルコキシカルボニル基;
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、n−プロポキシカルボニルオキシ基、i−プロポキシカルボニルオキシ基、n−ブトキシカルボニルオキシ基、t−ブトキシカルボニルオキシ基などのC1〜6アルコキシカルボニルオキシ基;
Formyloxy group;
A C1-6 alkylcarbonyloxy group such as an acetyloxy group or a propionyloxy group;
C1-6 alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, i-propoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group;
A C1-6 alkoxycarbonyloxy group such as a methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, n-propoxycarbonyloxy group, i-propoxycarbonyloxy group, n-butoxycarbonyloxy group, t-butoxycarbonyloxy group;

フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基;
クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、1,2−ジクロロ−n−プロピル基、1−フルオロ−n−ブチル基、パーフルオロ−n−ペンチル基などのC1〜6ハロアルキル基;
トリフルオロメトキシ基、2−クロロ−n−プロポキシ基、2,3−ジクロロブトキシ基などのC1〜6ハロアルコキシ基;
Halogeno groups such as fluoro, chloro, bromo and iodo groups;
C1-6 haloalkyl groups such as chloromethyl group, chloroethyl group, trifluoromethyl group, 1,2-dichloro-n-propyl group, 1-fluoro-n-butyl group, perfluoro-n-pentyl group;
A C1-6 haloalkoxy group such as a trifluoromethoxy group, a 2-chloro-n-propoxy group, or a 2,3-dichlorobutoxy group;

ホルミルアミノ基;
アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、i−プロピルカルボニルアミノ基などのC1〜6アルキルカルボニルアミノ基;
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、n−プロポキシカルボニルアミノ基、i−プロポキシカルボニルアミノ基などのC1〜6アルコキシカルボニルアミノ基;
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、N−フェニル−N−メチルアミノカルボニル基などの無置換もしくは置換基を有するアミノカルボニル基;
Formylamino group;
A C1-6 alkylcarbonylamino group such as an acetylamino group, a propanoylamino group, a butyrylamino group, an i-propylcarbonylamino group;
A C1-6 alkoxycarbonylamino group such as a methoxycarbonylamino group, an ethoxycarbonylamino group, an n-propoxycarbonylamino group, an i-propoxycarbonylamino group;
An aminocarbonyl group having no substituent or a substituent such as an aminocarbonyl group, a dimethylaminocarbonyl group, a phenylaminocarbonyl group, an N-phenyl-N-methylaminocarbonyl group;

メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、i−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、i−ブチルチオ基、s−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基などのC1〜6アルキルチオ基;
トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基などのC1〜6ハロアルキルチオ基;
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、t−ブチルスルホニル基などのC1〜6アルキルスルホニル基;
トリフルオロメチルスルホニル基、2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル基などのC1〜6ハロアルキルスルホニル基;
C1-6 alkylthio groups such as methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, i-propylthio group, n-butylthio group, i-butylthio group, s-butylthio group, t-butylthio group;
A C1-6 haloalkylthio group such as a trifluoromethylthio group or a 2,2,2-trifluoroethylthio group;
A C1-6 alkylsulfonyl group such as a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a t-butylsulfonyl group;
A C1-6 haloalkylsulfonyl group such as a trifluoromethylsulfonyl group or a 2,2,2-trifluoroethylsulfonyl group;

トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基などのトリC1〜6アルキル置換シリル基;
トリフェニルシリル基などのトリC6〜10アリール置換シリル基;
シアノ基;ニトロ基;
A tri-C1-6 alkyl-substituted silyl group such as a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, or a t-butyldimethylsilyl group;
A tri-C6-10 aryl-substituted silyl group such as a triphenylsilyl group;
Cyano group; nitro group;

また、これらの「置換基」は、当該置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。その場合の置換基としては、C1〜6アルキル基、C1〜6ハロアルキル基、C1〜6アルコキシ基、C1〜6ハロアルコキシ基、ハロゲノ基、シアノ基、ニトロ基などを挙げることができる。   In these “substituents”, any hydrogen atom in the substituent may be substituted with a group having a different structure. In this case, examples of the substituent include a C1-6 alkyl group, a C1-6 haloalkyl group, a C1-6 alkoxy group, a C1-6 haloalkoxy group, a halogeno group, a cyano group, and a nitro group.

また、上記の「3〜6員のヘテロシクリル基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる1〜4個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。ヘテロシクリル基は、単環および多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。「3〜6員のヘテロシクリル基」としては、3〜6員の飽和ヘテロシクリル基、5〜6員のヘテロアリール基、5〜6員の部分不飽和ヘテロシクリル基などを挙げることができる。
3〜6員の飽和ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
5員のヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
6員のヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
In addition, the “3 to 6-membered heterocyclyl group” includes 1 to 4 heteroatoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom as ring constituent atoms. The heterocyclyl group may be monocyclic or polycyclic. In the polycyclic heterocyclyl group, when at least one ring is a hetero ring, the remaining ring may be a saturated alicyclic ring, an unsaturated alicyclic ring or an aromatic ring. Examples of the “3-6 membered heterocyclyl group” include a 3-6 membered saturated heterocyclyl group, a 5-6 membered heteroaryl group, a 5-6 membered partially unsaturated heterocyclyl group, and the like.
Examples of the 3-6 membered saturated heterocyclyl group include aziridinyl group, epoxy group, pyrrolidinyl group, tetrahydrofuranyl group, thiazolidinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, morpholinyl group, dioxolanyl group, dioxanyl group and the like.
Examples of 5-membered heteroaryl groups include pyrrolyl, furyl, thienyl, imidazolyl, pyrazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, triazolyl, oxadiazolyl, thiadiazolyl, tetrazolyl, etc. be able to.
Examples of the 6-membered heteroaryl group include a pyridyl group, a pyrazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyridazinyl group, and a triazinyl group.

〔式(3)で表される化合物〕
下記の式(3)で表される化合物は、本発明の製造方法によって得られる含フッ素メチルチオ置換化合物に該当する。
Q−CH−SCFR (3)
[Compound represented by Formula (3)]
The compound represented by the following formula (3) corresponds to the fluorine-containing methylthio-substituted compound obtained by the production method of the present invention.
Q-CH 2 -SCF 2 R ( 3)

式中、QおよびRは上記と同様の意味を示す。   In the formula, Q and R have the same meaning as described above.

〔含フッ素メチルチオ置換化合物の製造方法〕
本発明で用いる含フッ素メチルチオ基導入剤は、上記の式(1)で表されるビス(含フッ素メチル)亜鉛錯体、オクタチオカン、および四級アンモニウム塩もしくは銅(I)塩
からなる。
含フッ素メチルチオ基導入剤は、反応系内で含フッ素メチルチオ基導入剤を構成する化合物が共存している状態であれば、目的とする含フッ素メチルチオ置換化合物を製造することができる。
そのため、含フッ素メチルチオ基導入剤を構成する化合物を反応系中であらかじめ混合するだけでよい。
[Method for producing fluorine-containing methylthio-substituted compound]
The fluorine-containing methylthio group introducing agent used in the present invention comprises a bis (fluorinated methyl) zinc complex represented by the above formula (1), octathiocan, and a quaternary ammonium salt or copper (I) salt.
If the fluorine-containing methylthio group introducing agent is in a state where the compounds constituting the fluorine-containing methylthio group introducing agent coexist in the reaction system, the target fluorine-containing methylthio-substituted compound can be produced.
Therefore, it is only necessary to previously mix the compound constituting the fluorine-containing methylthio group introducing agent in the reaction system.

用いる化合物の使用量は、以下のとおりである。
ビス(含フッ素メチル)亜鉛錯体の使用量は、原料の式(2)で表される化合物1モルに対して、例えば、1.0〜4.0モルの範囲が挙げられ、好ましくは、2.0〜3.2モルの範囲である。
オクタチオカンの使用量は、ビス(含フッ素メチル)亜鉛錯体1モルに対して、例えば、1.0〜2.0モルの範囲が挙げられ、好ましくは、1.0〜1.2モルの範囲である。
四級アンモニウム塩または銅(I)塩の使用量は、式(2)で表される化合物1モルに対して、例えば、0.1〜1.0モルの範囲が挙げられ、好ましくは、0.2〜0.5モルの範囲である。
銅(I)塩を用いる際にさらに含窒素二座配位子を添加する場合、含窒素二座配位子の使用量は、銅(I)塩1モルに対して、例えば、1.0〜2.0モルの範囲が挙げられ、好ましくは、1.0〜1.2モルの範囲である。
The amount of the compound used is as follows.
The amount of the bis (fluorinated methyl) zinc complex used is, for example, in the range of 1.0 to 4.0 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (2) of the raw material, preferably 2 The range is from 0.0 to 3.2 mol.
The amount of octathiocan used is, for example, in the range of 1.0 to 2.0 mol, preferably in the range of 1.0 to 1.2 mol, with respect to 1 mol of the bis (fluorinated methyl) zinc complex. is there.
The amount of the quaternary ammonium salt or copper (I) salt to be used is, for example, in the range of 0.1 to 1.0 mol, preferably 0, per 1 mol of the compound represented by the formula (2). The range is from 2 to 0.5 mol.
When a nitrogen-containing bidentate ligand is further added when using the copper (I) salt, the amount of the nitrogen-containing bidentate ligand used is, for example, 1.0 mol per 1 mol of the copper (I) salt. The range of -2.0 mol is mentioned, Preferably, it is the range of 1.0-1.2 mol.

反応は、原料となる式(2)で表される化合物が、液体であれば溶媒を用いなくても行うことができるが、操作性を考慮すると、反応は有機溶媒中で行うことが好ましい。該有機溶媒は、式(2)で表される化合物に対して不活性なものであれば特に限定はされない。例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル(製品名:ジグライム)、テトラヒドロフラン(略名:THF)などのエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン(略名:DCE)などのハロゲン化炭化水素類;ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド(略名:DMF)、N,N’−ジメチルプロピレンウレア(略名:DMPU)、ヘキサメチルリン酸トリアミド(略名:HMPA)などの非プロトン極性溶媒を挙げることができる。
用いられる有機溶媒の量は、式(2)で表される化合物1重量部に対して10〜500重量部である。
The reaction can be performed without using a solvent if the compound represented by the formula (2) as a raw material is liquid, but considering the operability, the reaction is preferably performed in an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited as long as it is inert to the compound represented by the formula (2). For example, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether (product name: diglyme), tetrahydrofuran (abbreviation: THF); halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane (abbreviation: DCE) Aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane and octane; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N, N-dimethylformamide (abbreviation: DMF), N, N′-dimethylpropylene Aprotic polar solvents such as urea (abbreviation: DMPU) and hexamethylphosphoric triamide (abbreviation: HMPA) can be given.
The amount of the organic solvent used is 10 to 500 parts by weight with respect to 1 part by weight of the compound represented by the formula (2).

反応は、含フッ素メチルチオ基導入剤を構成する化合物と式(2)で表される化合物との混合溶液を調製し、これを40℃〜80℃にて6時間〜24時間撹拌して行うことができる。ビス(含フッ素メチル)亜鉛錯体の安定性を考慮すれば、反応温度は50℃〜70℃の範囲で行うことが好ましい。また、反応系は不活性ガス雰囲気下とすることが好ましい。
反応終了後、定法に従って精製することによって、所望純度のジフルオロメチル置換化合物を得ることができる。
The reaction is carried out by preparing a mixed solution of the compound constituting the fluorine-containing methylthio group introducing agent and the compound represented by the formula (2), and stirring the mixture at 40 ° C. to 80 ° C. for 6 to 24 hours. Can do. Considering the stability of the bis (fluorinated methyl) zinc complex, the reaction temperature is preferably in the range of 50 ° C to 70 ° C. The reaction system is preferably an inert gas atmosphere.
After completion of the reaction, a difluoromethyl-substituted compound having a desired purity can be obtained by purification according to a conventional method.

以下に、実施例を示して、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は、下記の実施例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In addition, this invention is not limited by the following Example.

実施例1
2−((トリフルオロメチルチオ)メチル)ナフタレンの製造
Example 1
Preparation of 2-((trifluoromethylthio) methyl) naphthalene

室温、アルゴン雰囲気下、撹拌子を備えた反応容器中に、Zn(CF(DMPU)(96mg、0.2mmol)、オクタチオカン(6.4mg、0.2mmol)、テトラブチルアンモニウムアセテート(12.0mg、0.04mmol)、ジクロロエタン(1.0mL)、および2−ブロモメチルナフタレン(22mg、0.1mmol)を入れた。
その後、得られた混合物を70℃にて6時間撹拌し、トリエチルアミン(1mL)を加えて反応を停止させた。反応停止後、さらに70℃にて1時間撹拌し、水(5mL)を加えた。有機層を分離後、残る水層をさらにエーテル(5mL)で3回分液処理した。エーテル層と有機層を合わせてブライン(10mL)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。トリフルオロメチルベンゼンを内部標準に19FNMRで決定した粗収率は82%であった。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(溶媒:ペンタン)にて生成し、目的物(84%、20.3mg)を得た。
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 7.85-7.82(m, 4H), 7.51-7.42(m, 3H), 4.29(s, 2H).
19F-NMR(282MHz, CDCl3) δ -41.5(s, 3F).
In a reaction vessel equipped with a stir bar at room temperature under an argon atmosphere, Zn (CF 3 ) 2 (DMPU) 2 (96 mg, 0.2 mmol), octathiocan (6.4 mg, 0.2 mmol), tetrabutylammonium acetate ( 12.0 mg, 0.04 mmol), dichloroethane (1.0 mL), and 2-bromomethylnaphthalene (22 mg, 0.1 mmol) were added.
Then, the obtained mixture was stirred at 70 ° C. for 6 hours, and triethylamine (1 mL) was added to stop the reaction. After stopping the reaction, the mixture was further stirred at 70 ° C. for 1 hour, and water (5 mL) was added. After separating the organic layer, the remaining aqueous layer was further subjected to liquid separation treatment with ether (5 mL) three times. The ether layer and the organic layer were combined, washed with brine (10 mL), and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product. The crude yield determined by 19 FNMR using trifluoromethylbenzene as an internal standard was 82%. The crude product was produced by silica gel chromatography (solvent: pentane) to obtain the desired product (84%, 20.3 mg).
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.85-7.82 (m, 4H), 7.51-7.42 (m, 3H), 4.29 (s, 2H).
19 F-NMR (282 MHz, CDCl 3 ) δ -41.5 (s, 3F).

同様の方法により以下の化合物を製造した。   The following compounds were produced by the same method.

トリフルオロメチルチオメチルベンゼン
粗収率:83%、単離収率:81%
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 7.36-7.30(m, 5H), 4.12(s, 2H).
19F-NMR(282MHz, CDCl3) δ -41.7(s, 3F).
Trifluoromethylthiomethylbenzene Crude yield: 83%, isolated yield: 81%
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.36-7.30 (m, 5H), 4.12 (s, 2H).
19 F-NMR (282 MHz, CDCl 3 ) δ -41.7 (s, 3F).

4−t−ブチル−(トリフルオロメチルチオ)メチルベンゼン
粗収率:57%、単離収率:57%
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 7.37(d, J=8.4Hz, 2H), 7.27(d, J=7.9Hz, 2H), 4.11(s, 2H), 1.32(s, 9H).
19F-NMR(282MHz, CDCl3) δ -41.7(s, 3F).
4-t-butyl- (trifluoromethylthio) methylbenzene Crude yield: 57%, isolated yield: 57%
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.37 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.27 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 4.11 (s, 2H), 1.32 (s, 9H).
19 F-NMR (282 MHz, CDCl 3 ) δ -41.7 (s, 3F).

2−トリフルオロメチルチオ−4’−(トリフルオロメチル)アセトフェノン
粗収率:51%、単離収率:42%
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 8.07(d, J=8.0Hz, 2H), 7.79(d, J=8.2Hz, 2H), 4.50(s, 2H).
19F-NMR(282MHz, CDCl3) δ -41.4(s, 3F, SCF3), -63.0(s, 3F, CF3).
2-trifluoromethylthio-4 ′-(trifluoromethyl) acetophenone Crude yield: 51%, isolated yield: 42%
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 8.07 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.79 (d, J = 8.2 Hz, 2H), 4.50 (s, 2H).
19 F-NMR (282 MHz, CDCl 3 ) δ -41.4 (s, 3F, SCF 3 ), -63.0 (s, 3F, CF 3 ).

ベンジル 2−(トリフルオロメチルチオ)アセテート
粗収率:52%、単離収率:49%
1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ 7.89-7.35(m, 5H), 5.21(s, 2H), 3.71(s, 2H).
19F-NMR(282MHz, CDCl3) δ -42.7(s, 3F).
Benzyl 2- (trifluoromethylthio) acetate Crude yield: 52%, isolated yield: 49%
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.89-7.35 (m, 5H), 5.21 (s, 2H), 3.71 (s, 2H).
19 F-NMR (282 MHz, CDCl 3 ) δ -42.7 (s, 3F).

実施例2
2−(ジフルオロメチルチオ)−4’−メトキシアセトフェノンの製造
Example 2
Production of 2- (difluoromethylthio) -4′-methoxyacetophenone

室温下、撹拌子を備えた反応容器中に、オクタチオカン(9.6mg、0.3mmol)、沃化銅(3.8mg、0.02mmol)、1,10−フェナントロリン(3.6mg、0.02mmol)、2−ブロモ−4’−メトキシアセトフェノン(23mg、0.1mmol)、およびZn(CFH)(TMEDA)(0.30〜0.40Mジクロロエタン溶液、0.8〜1.0mL、0.3mmol)を入れた。
その後、得られた混合物を50℃にて6時間撹拌し、水(5mL)を加えて反応を停止させた。反応停止後、エーテル(5mL)で分液処理し、水層はさらにエーテル(5mL)で3回分液処理した。エーテル層はブライン(10mL)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。トリフルオロメチルベンゼンを内部標準に19FNMRで決定した粗収率は41%であった。
19F-NMR (282 MHz, C6D6) δ -94.6 (d, J =56.0 Hz, 2F).
In a reaction vessel equipped with a stir bar at room temperature, octathiocan (9.6 mg, 0.3 mmol), copper iodide (3.8 mg, 0.02 mmol), 1,10-phenanthroline (3.6 mg, 0.02 mmol). ), 2-bromo-4′-methoxyacetophenone (23 mg, 0.1 mmol), and Zn (CF 2 H) 2 (TMEDA) 2 (0.30 to 0.40 M dichloroethane solution, 0.8 to 1.0 mL, 0.3 mmol) was added.
Then, the obtained mixture was stirred at 50 ° C. for 6 hours, and water (5 mL) was added to stop the reaction. After stopping the reaction, liquid separation treatment was performed with ether (5 mL), and the aqueous layer was further subjected to liquid separation treatment with ether (5 mL) three times. The ether layer was washed with brine (10 mL) and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product. The crude yield determined by 19 FNMR using trifluoromethylbenzene as an internal standard was 41%.
19 F-NMR (282 MHz, C 6 D 6 ) δ -94.6 (d, J = 56.0 Hz, 2F).

Claims (2)

式(1)
Zn(CFR) (1)
(式中、Rは、水素原子またはフルオロ基を示し、Lは、アミン系配位子を示す。)で表されるビス(含フッ素メチル)亜鉛錯体、オクタチオカン、および四級アンモニウム塩もしくは銅(I)塩からなる含フッ素メチルチオ基導入剤と、
式(2)
Q−CH−X (2)
(式中、Qは、式中のCH−Xと結合する炭素原子がSP混成軌道を有する炭素原子である、置換もしくは無置換の炭化水素基を示す。Xは、ハロゲノ基を示す。)で表される化合物を反応させて、
式(3)
Q−CH−SCFR (3)
(式中、QおよびRは上記と同様の意味を示す。)で表される化合物を製造する方法。
Formula (1)
Zn (CF 2 R) 2 L 2 (1)
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a fluoro group, and L represents an amine-based ligand.) A bis (fluorinated methyl) zinc complex, octathiocan, and a quaternary ammonium salt or copper ( I) a fluorine-containing methylthio group introducing agent comprising a salt;
Formula (2)
Q-CH 2 -X (2)
(Wherein, Q is a carbon atom bonded to the CH 2 -X in the formula is a carbon atom having a SP 2 hybrid orbital, .X showing a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, it shows a halogeno group. ) Is reacted,
Formula (3)
Q-CH 2 -SCF 2 R ( 3)
(Wherein Q and R have the same meanings as described above).
アミン系配位子が、N,N’−ジメチルプロピレンウレアまたはテトラメチルエチレンジアミンである、請求項1に記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the amine-based ligand is N, N'-dimethylpropyleneurea or tetramethylethylenediamine.
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