JP2019181941A - Aluminum vapor deposition film laminate and its production method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、アルミニウム蒸着フィルムとプラスチックフィルムが押出ラミネート加工により接合されたフィルム積層体に関し、優れた密着性を有するとともに易引き裂き性を有するアルミニウム蒸着フィルム積層体およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a film laminate in which an aluminum vapor-deposited film and a plastic film are joined by extrusion laminating, and relates to an aluminum vapor-deposited film laminate having excellent adhesion and easy tearability, and a method for producing the same.
プラスチックフィルムの表面に金属や金属酸化物などの各種薄膜を形成した蒸着フィルムは、食品、医薬品、工業用品等の包装用途や、電化製品等の加飾用途、電子機器材料、建築材料等の各種用途に広く用いられている。特に金属蒸着フィルムは、ガスバリア性能、光線遮断性能、加飾性などに優れることから包装用途に広範に用いられており、製造コスト、生産性、ガスバリア性能で最もバランスの取れたアルミニウム蒸着フィルムが広範に用いられている。 Vapor-deposited films with various thin films such as metals and metal oxides formed on the surface of plastic films are used for packaging for food, pharmaceuticals, industrial products, etc., for decorative purposes such as electrical appliances, for electronic equipment materials, building materials, etc. Widely used in applications. In particular, metal vapor deposition films are widely used in packaging applications due to their excellent gas barrier performance, light blocking performance, and decorativeness. Aluminum vapor deposition films with the most balanced manufacturing cost, productivity, and gas barrier performance are widely used. It is used for.
ところで、アルミニウム蒸着フィルムを包装用途に使用するにあたり、表層材料やシーラントフィルムとの積層体とするが、フィルム積層体への加工方法として接着性溶融樹脂を用いた押出ラミネート法、二液硬化型ウレタン系接着剤を用いたドライラミネート法が広範に用いられており、製造コスト、生産性で有利な押出ラミネート法が好ましく用いられる。 By the way, when using an aluminum vapor-deposited film for packaging applications, a laminate with a surface layer material or a sealant film is used, but as a processing method for a film laminate, an extrusion laminating method using an adhesive molten resin, a two-component curable urethane A dry laminating method using an adhesive is widely used, and an extrusion laminating method advantageous in terms of manufacturing cost and productivity is preferably used.
押出ラミネート法においては、アルミニウム蒸着層と接着性溶融樹脂との密着性が課題である。また、アルミニウム蒸着層は、高湿度環境下において、大気中の水分と反応して水酸化物となるため、押出ラミネート法により積層された積層体において、金属光沢が失われるとともに、密着性、ガスバリア性能が低下する問題があった。 In the extrusion laminating method, the adhesion between the aluminum vapor deposition layer and the adhesive molten resin is a problem. In addition, since the aluminum vapor deposition layer reacts with moisture in the atmosphere to form a hydroxide in a high humidity environment, the laminated body laminated by the extrusion laminating method loses the metallic luster and has adhesion and gas barrier. There was a problem that performance deteriorated.
そのため、アルミニウム蒸着フィルムのアルミニウム蒸着層表面に、二液硬化型の耐水性コート層をさらに設けることで密着性を確保し、アルミニウムの水酸化物への変化を防止することができる（例えば、特許文献１を参照）。 Therefore, it is possible to ensure adhesion by further providing a two-component curable water-resistant coating layer on the surface of the aluminum vapor-deposited layer of the aluminum vapor-deposited film and prevent the change of aluminum to a hydroxide (for example, patents) Reference 1).
また、押出ラミネート法により、アルミニウム蒸着フィルムとプラスチックフィルムを貼り合わせる際、押し出される樹脂層の加熱溶融温度を高温にする方法やアルミニウム蒸着層と押し出される接着性樹脂層の間にアンカーコート層を設ける方法（例えば特許文献２を参照）、接着性樹脂に工夫を加えること（例えば特許文献３）が行われている。 In addition, when an aluminum vapor-deposited film and a plastic film are bonded together by an extrusion laminating method, an anchor coat layer is provided between the aluminum vapor-deposited layer and the extruded adhesive resin layer, or a method of increasing the heat melting temperature of the extruded resin layer. A method (for example, refer to Patent Document 2) and a technique for adding an adhesive resin (for example, Patent Document 3) are performed.
特許文献１の技術では、しかし、高コスト、生産性低下となる問題があった
特許文献２、特許文献３の技術では、しかしながら、押し出される樹脂層の加熱溶融温度を高温にすることにより、アルミニウム蒸着フィルムが熱収縮し、アルミニウム層にクラックが生じ、ガスバリア性能および金属光沢が低下するとともに、アルミニウム蒸着フィルムの基材フィルムとアルミニウム蒸着層間で剥離し、アルミニウム蒸着フィルムの基材フィルムとアルミニウム蒸着層間の密着性が低下する問題があった。アンカーコート層を設けようとすると、コストアップに繋がり、アンカーコート剤に含まれるイソシアネート系硬化剤が、硬化反応せずに押し出される樹脂層の添加物と反応してしまい、十分な密着性が得られない問題があった。
However, in the technique of Patent Document 1, there is a problem of high cost and low productivity. However, in the techniques of Patent Document 2 and Patent Document 3, aluminum is obtained by increasing the heating and melting temperature of the extruded resin layer. The vapor deposition film heat shrinks, cracks occur in the aluminum layer, gas barrier performance and metallic luster deteriorate, and the aluminum vapor deposition film peels off between the aluminum vapor deposition film base film and the aluminum vapor deposition layer. There was a problem that the adhesiveness of the resin deteriorated. Providing an anchor coat layer leads to an increase in cost, and the isocyanate-based curing agent contained in the anchor coat agent reacts with the additive of the resin layer that is extruded without curing reaction, thereby obtaining sufficient adhesion. There was a problem that was not possible.
一方、こういった積層体を用いた包装袋においては、開封するために切り口（ノッチ）から引き裂いた際に、直線的に容易に引き裂くことができ、意図しない方向に引き裂かれることで内容物が飛び散ったりこぼれたりすることがないことが要求されている。 On the other hand, in a packaging bag using such a laminate, when it is torn from a notch for opening, it can be easily torn in a straight line, and the contents are broken by tearing in an unintended direction. It is required that it does not scatter or spill.
本発明は、上記従来技術による問題点を解決することを目的とするものであり、アルミニウム蒸着フィルムにアンカーコート処理を行わなくても、押出ラミネート加工によりオレフィン樹脂層を介してプラスチックフィルムと強固に接合され、易引き裂き性を有するアルミニウム蒸着フィルム積層体およびその製造方法を提供する。 The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems caused by the prior art, and it can be firmly bonded to a plastic film via an olefin resin layer by extrusion laminating without performing an anchor coating treatment on an aluminum vapor-deposited film. Provided are an aluminum vapor-deposited film laminate bonded and easily tearable, and a method for producing the same.
上記課題を達成するため、本発明は以下の構成をとる。 In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.
基材プラスチックフィルム上にアンカー金属蒸着層を介して、金属アルミニウム層から酸化アルミニウム層へ連続的に組成変化する蒸着膜が積層されたアルミニウム蒸着フィルムの該蒸着面と、プラスチックフィルムとが、オレフィン樹脂層により接合されたアルミニウム蒸着フィルム積層体。 A vapor deposition surface of an aluminum vapor deposition film in which a vapor deposition film having a composition change continuously from a metal aluminum layer to an aluminum oxide layer is laminated on a base plastic film via an anchor metal vapor deposition layer, and the plastic film is an olefin resin. Aluminum vapor-deposited film laminate joined by layers.
前記アルミニウム蒸着フィルム積層体のプラスチックフィルムが積層された反対側に第２のプラスチックフィルムがオレフィン樹脂層により接合されたアルミニウム蒸着フィルム積層体。 The aluminum vapor deposition film laminated body by which the 2nd plastic film was joined by the olefin resin layer on the opposite side to which the plastic film of the said aluminum vapor deposition film laminated body was laminated | stacked.
オレフィン樹脂層がそれぞれのフィルムの長手方向に沿って押出ラミネート法により積層され、長手方向に沿ったＪＩＳＫ７１２８−１による引き裂き強度が１Ｎ以下である前記アルミニウム蒸着フィルム積層体。 The said aluminum vapor deposition film laminated body by which the olefin resin layer is laminated | stacked by the extrusion lamination method along the longitudinal direction of each film, and tear strength by JISK7128-1 along a longitudinal direction is 1 N or less.
長手方向に沿ったＪＩＳＫ７１２８−１による引き裂き強度試験において、１００ｍｍ長が引き裂かれた箇所における長手方向に沿った直線からの幅方向のずれが１０ｍｍ以内である前記アルミニウム蒸着フィルム積層体。 In the tear strength test according to JISK7121 along the longitudinal direction, the aluminum vapor-deposited film laminate in which the deviation in the width direction from the straight line along the longitudinal direction is within 10 mm at the location where the length of 100 mm is torn.
基材プラスチックフィルム上にアンカー金属蒸着層を介して、金属アルミニウム層から酸化アルミニウム層へ連続的に組成変化する蒸着膜を積層し、該蒸着膜が積層されたアルミニウム蒸着フィルム積層体の蒸着面とプラスチックフィルムとを押出ラミネート加工により接合するアルミニウム蒸着フィルム積層体の製造方法。 A vapor deposition film having a composition continuously changed from a metal aluminum layer to an aluminum oxide layer is laminated on a base plastic film via an anchor metal vapor deposition layer, and a vapor deposition surface of the aluminum vapor deposition film laminate on which the vapor deposition film is laminated; A method for producing an aluminum vapor-deposited film laminate in which a plastic film is joined by extrusion lamination.
本発明は、アンカーコートなしの押出ラミネート加工により、アルミニウム蒸着フィルムとプラスチックフィルムとが安定した密着性を有して接合されたアルミニウム蒸着フィルム積層体を提供する。 The present invention provides an aluminum vapor-deposited film laminate in which an aluminum vapor-deposited film and a plastic film are bonded with stable adhesion by extrusion lamination without an anchor coat.
本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体は、図１に示すように、アルミニウム蒸着フィルム１１の蒸着面とプラスチックフィルム１３が押出ラミネート法によりオレフィン樹脂層１２を介して接合された積層体である。また、本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体は、図２に示すように、上記アルミニウム蒸着フィルム積層体のプラスチックフィルム１３が積層された反対側に第２のプラスチックフィルム１４がオレフィン樹脂層１２により接合されたアルミニウム蒸着フィルム積層体とすることが好ましい。 The aluminum vapor deposition film laminated body of this invention is a laminated body by which the vapor deposition surface of the aluminum vapor deposition film 11 and the plastic film 13 were joined through the olefin resin layer 12 by the extrusion lamination method, as shown in FIG. Moreover, as shown in FIG. 2, the aluminum vapor deposition film laminated body of this invention has the 2nd plastic film 14 joined by the olefin resin layer 12 on the opposite side to which the plastic film 13 of the said aluminum vapor deposition film laminated body was laminated | stacked. It is preferable to set it as the aluminum vapor deposition film laminated body.
また、この積層体に用いられるアルミニウム蒸着フィルムは、図３に示すように、基材プラスチックフィルム２４の少なくとも一方の面に、アンカー金属蒸着層２３を介して、金属アルミニウム層２２から酸化アルミニウム層２１へ連続的に組成変化する蒸着膜が積層された構成を有す。 Moreover, as shown in FIG. 3, the aluminum vapor deposition film used for this laminated body is formed on at least one surface of the base plastic film 24 from the metal aluminum layer 22 to the aluminum oxide layer 21 via the anchor metal vapor deposition layer 23. It has a configuration in which vapor-deposited films whose composition changes continuously are stacked.
アルミニウム蒸着フィルムに用いられる基材プラスチックフィルムとしては、蒸着加工適性を有していれば特に限定されないが、代表的な例としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレン２，６−ナフタレートなどのポリエステル、ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、６ナイロン、１２ナイロンなどのポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリイミドなどの単独重合体または共重合体からなるフィルム、シートが挙げられる。好ましくは、蒸着加工適性により優れ、寸法安定性、耐熱性を有することが好ましい。本発明のアルミニウム蒸着フィルムに用いられる基材プラスチックフィルムは、経済性の点から二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好適に用いられる。 The base plastic film used for the aluminum vapor-deposited film is not particularly limited as long as it has vapor deposition processability, but typical examples include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polybutylene 2,6-naphthalate. Polyester such as polyester, polyvinyl alcohol, saponified ethylene / vinyl acetate copolymer, polyolefin such as polystyrene, polycarbonate, polyethylene and polypropylene, polyamide such as 6 nylon and 12 nylon, homopolymer such as polyamide, aromatic polyamide and polyimide Examples include films and sheets made of coalescence. Preferably, it is superior in suitability for vapor deposition processing, and has dimensional stability and heat resistance. As the base plastic film used for the aluminum vapor-deposited film of the present invention, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is preferably used from the viewpoint of economy.
また、これらの基材プラスチックフィルムの表面に、コロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、アンカーコート等の表面改質処理を施しても構わない。さらに、これらのプラスチックフィルムの厚さは、目的に応じ、蒸着加工適性、経済性の観点から、６〜２５０μｍの範囲で選択される。 Further, the surface of these base plastic films may be subjected to surface modification treatment such as corona treatment, flame treatment, plasma treatment, and anchor coating. Furthermore, the thickness of these plastic films is selected in the range of 6 to 250 μm depending on the purpose from the viewpoint of vapor deposition processability and economy.
本発明におけるアルミニウム蒸着フィルムは、基材プラスチックフィルム上にアンカー金属蒸着層を介して、金属アルミニウム層から酸化アルミニウム層へ連続的に組成変化する蒸着膜が積層されたものである。基材プラスチックフィルム上にアンカー金属蒸着層を形成する方法としては、特に限定されるものではないが、特定の金属をターゲットとしたスパッタリング方式によることが、一定量を安定的に形成することができ好ましい。なかでも、プレーナーマグネトロン方式のスパッタリング方式は大電力を投入しやすく、放電の安定性の点からより好ましい。 The aluminum vapor-deposited film in the present invention is obtained by laminating a vapor-deposited film whose composition changes continuously from a metal aluminum layer to an aluminum oxide layer via an anchor metal vapor-deposited layer on a base plastic film. The method for forming the anchor metal vapor deposition layer on the base plastic film is not particularly limited, but a certain amount can be stably formed by sputtering using a specific metal as a target. preferable. Among these, the planar magnetron sputtering method is more preferable from the viewpoint of discharge stability because it is easy to input a large electric power.
本発明におけるアンカー金属蒸着層の金属はマグネシウム、ケイ素、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、パラジウム、銀、錫、タンタル、タングステンなどから選ぶことができるが、経済性と上記スパッタリングでの蒸着のしやすさから銅が好ましい。 The metal of the anchor metal vapor deposition layer in the present invention is selected from magnesium, silicon, titanium, vanadium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, zirconium, niobium, molybdenum, palladium, silver, tin, tantalum, tungsten and the like. However, copper is preferable from the viewpoint of economy and the ease of vapor deposition by sputtering.
アンカー金属蒸着層の金属を銅とした場合、その付着量は４０〜１２０ｎｇ／ｃｍ２の範囲とすることが好ましい。４０ｎｇ／ｃｍ２未満になると基材プラスチックフィルムと金属アルミニウム層の密着強度が不十分となることがある。また、１２０ｎｇ／ｃｍ２を超えるとプラズマ処理強度が強いため、基材プラスチックフィルムが劣化し、外観が問題となることがある。経済面からより好ましい付着量は４０〜８０ｎｇ／ｃｍ２の範囲である。 When the metal of an anchor metal vapor deposition layer is made into copper, it is preferable that the adhesion amount shall be the range of 40-120 ng / cm < 2 >. If it is less than 40 ng / cm 2, the adhesion strength between the base plastic film and the metal aluminum layer may be insufficient. On the other hand, if it exceeds 120 ng / cm 2 , since the plasma processing strength is strong, the base plastic film may be deteriorated and the appearance may become a problem. A more preferable adhesion amount from the economical aspect is in the range of 40 to 80 ng / cm 2 .
また、酸化アルミニウム層を積層するための方法は特に制限されるものではないが、金属アルミニウムを直接加熱して蒸発させ、酸素ガスとの反応により酸化アルミニウム層を形成する反応性蒸着法、酸素ガス雰囲気下でのイオンプレーティング法、酸化アルミニウムターゲットを用いたスパッタリング法、金属アルミニウムのターゲットを用い酸素ガスと反応させる反応性スパッタリング法、化学気相蒸着法などの公知の方法が使用できる。 The method for laminating the aluminum oxide layer is not particularly limited, but a reactive vapor deposition method in which metal aluminum is directly heated and evaporated to form an aluminum oxide layer by reaction with oxygen gas, oxygen gas Known methods such as an ion plating method in an atmosphere, a sputtering method using an aluminum oxide target, a reactive sputtering method in which a metal aluminum target is reacted with oxygen gas, and a chemical vapor deposition method can be used.
本発明において、基材プラスチックフィルム上にアンカー金属蒸着層を介して、金属アルミニウム層から酸化アルミニウム層へ連続的に組成変化する蒸着膜が積層されたアルミニウム蒸着フィルムとするには、酸化アルミニウム層を積層するための方法としては上記の方法のうち金属アルミニウムを直接加熱して蒸発させ、金属アルミニウム層を蒸着しながら、蒸着の後半において酸素ガスとの反応により酸化アルミニウム層を形成する反応性蒸着法を採用することが好ましい。 In the present invention, in order to obtain an aluminum vapor-deposited film in which a vapor-deposited film whose composition changes continuously from a metal aluminum layer to an aluminum oxide layer via an anchor metal vapor-deposited layer on a base plastic film, As a method for laminating, a reactive vapor deposition method in which, among the above methods, metal aluminum is directly heated to evaporate, and an aluminum oxide layer is formed by reaction with oxygen gas in the latter half of the vapor deposition while vapor deposition of the metal aluminum layer. Is preferably adopted.
本発明においては、例えば図４で示すように、真空槽内で基材プラスチックフィルムに連続的に金属アルミニウム層および酸化アルミニウム層を蒸着する真空蒸着装置３１を用いる。すなわち、真空装置内において、基材プラスチックフィルムロールを繰り出し軸３６から連続的に繰り出し、蒸着領域において、繰り出し側に設置されたプレーナーマグネトロン方式の放電電極３４によりアンカー金属層を蒸着し、巻取り側ガス導入部３５から酸素を供給しながら金属アルミニウム層、酸化アルミニウム層を連続的に組成変化する蒸着膜として順次形成する。 In the present invention, for example, as shown in FIG. 4, a vacuum vapor deposition device 31 is used that continuously deposits a metal aluminum layer and an aluminum oxide layer on a base plastic film in a vacuum chamber. That is, in the vacuum apparatus, the base plastic film roll is continuously fed from the feeding shaft 36, and in the vapor deposition region, the anchor metal layer is deposited by the planar magnetron type discharge electrode 34 installed on the feeding side, and the winding side The metal aluminum layer and the aluminum oxide layer are sequentially formed as a vapor deposition film whose composition changes continuously while supplying oxygen from the gas introduction part 35.
一般的に、基材プラスチックフィルム上に蒸着により形成された金属アルミニウム層の表面には、大気中の酸素等により１〜４ｎｍの厚さの自然酸化膜が形成されるが、本発明においては、反応性蒸着法などにより、酸化アルミニウム層を形成することが必要であり、かつこれらの蒸着層を連続的に組成変化する層として形成することにより、各蒸着層間の界面における剥離の懸念がなくなるため、安定した密着性を得ることが可能になる。 In general, a natural oxide film having a thickness of 1 to 4 nm is formed on the surface of a metal aluminum layer formed by vapor deposition on a base plastic film due to oxygen in the atmosphere, but in the present invention, It is necessary to form an aluminum oxide layer by a reactive vapor deposition method, etc., and by forming these vapor deposition layers as layers whose composition changes continuously, there is no fear of peeling at the interface between the vapor deposition layers. It becomes possible to obtain stable adhesion.
本発明におけるアルミニウム蒸着フィルムのアンカー金属蒸着量はプレーナーマグネトロン方式のスパッタリング方式の放電電圧とフィルム搬送速度によって制御することができ、酸化アルミニウム層の厚さと酸化の程度は、反応性蒸着においてはフィルム搬送速度、光学濃度、酸素供給量によって制御することができる。 The anchor metal deposition amount of the aluminum deposited film in the present invention can be controlled by the discharge voltage and film transport speed of the planar magnetron sputtering method, and the thickness of the aluminum oxide layer and the degree of oxidation are controlled by the film transport in the reactive deposition. It can be controlled by speed, optical density and oxygen supply.
酸化アルミニウム層の厚さは、Ｘ線光電子分光法やオージェ電子分光法によって得られたアルミニウムおよび酸素のスパッタ深さにおける組成分布（いわゆるデプスプロファイル）と透過型電子顕微鏡における蒸着膜厚測定との相関から算出することができ、前述のごとく８〜１５ｎｍの範囲であることが好ましく、蒸着加工適性、経済性の観点からさらに好ましくは８〜１２ｎｍの範囲である。酸化アルミニウム層の厚さが８ｎｍ未満であると、押出ラミネートによる接着性樹脂との密着性が不十分となることがある。酸化アルミニウム層の厚さが１５ｎｍを超えると、金属アルミニウムと酸化アルミニウムが混合した状態の層が厚くなり、色調が褐色となって、金属光沢が不十分となる場合がある。 The thickness of the aluminum oxide layer is the correlation between the composition distribution (so-called depth profile) at the sputtering depth of aluminum and oxygen obtained by X-ray photoelectron spectroscopy and Auger electron spectroscopy, and the deposited film thickness measurement in a transmission electron microscope. As described above, it is preferably in the range of 8 to 15 nm, and more preferably in the range of 8 to 12 nm from the viewpoint of vapor deposition process suitability and economy. When the thickness of the aluminum oxide layer is less than 8 nm, the adhesion with the adhesive resin by extrusion lamination may be insufficient. When the thickness of the aluminum oxide layer exceeds 15 nm, the layer in which metallic aluminum and aluminum oxide are mixed becomes thick, the color tone becomes brown, and the metallic luster may be insufficient.
本発明におけるアルミニウム蒸着フィルムの光学濃度は、遮光性、経済性の観点から１．５〜３．５の範囲が好ましい。光学濃度とは、特定の測定波長におけるアルミニウム蒸着ポリエステルフィルムの透過率をＴ（％）としたときに、ｌｏｇ（１００（％）／Ｔ（％））で計算される値である。 The optical density of the aluminum vapor-deposited film in the present invention is preferably in the range of 1.5 to 3.5 from the viewpoints of light shielding properties and economy. The optical density is a value calculated by log (100 (%) / T (%)), where T (%) is the transmittance of the aluminum-deposited polyester film at a specific measurement wavelength.
本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体において、アルミニウム蒸着フィルムの蒸着面とラミネートされるプラスチックフィルムに特に制限はなく、代表的な例としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレン２，６−ナフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンからなるフィルムが挙げられる。これらのフィルムには必要に応じて印刷が施され、該印刷面とアルミニウム蒸着フィルムの蒸着面がラミネートされる。この場合には、アルミニウム蒸着フィルムの基材プラスチックフィルム側にはシーラントフィルムとして、未延伸のポリオレフィン系フィルムがラミネートされる。また、本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体において、最内層のシーラントフィルムとして、未延伸のポリオレフィンフィルムなどが、アルミニウム蒸着フィルムの蒸着面とラミネートされることもある。この場合は、アルミニウム蒸着フィルムの基材プラスチックフィルム側に直接印刷が施されたり、印刷が施された他のプラスチックフィルムがラミネートされたりすることで使用される。 In the aluminum vapor-deposited film laminate of the present invention, the plastic film laminated with the vapor-deposited surface of the aluminum vapor-deposited film is not particularly limited, and typical examples include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polybutylene 2,6- Examples thereof include films made of polyester such as naphthalate, polyolefin such as polyethylene and polypropylene. These films are printed as necessary, and the printed surface and the deposited surface of the aluminum deposited film are laminated. In this case, an unstretched polyolefin film is laminated as a sealant film on the base plastic film side of the aluminum vapor-deposited film. Moreover, in the aluminum vapor deposition film laminated body of this invention, an unstretched polyolefin film etc. may be laminated with the vapor deposition surface of an aluminum vapor deposition film as a sealant film of the innermost layer. In this case, it is used by printing directly on the base plastic film side of the aluminum vapor-deposited film or by laminating another plastic film on which printing has been performed.
押出ラミネート加工に使用されるオレフィン樹脂層となる押出樹脂としては、アルミニウム蒸着フィルムの蒸着面とラミネートされるプラスチックフィルムに密着し、両者を強固に接合できるものであれば、特に制限はなく、密着性、外観、経済性によっても異なるが、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・メタクリル酸共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、マレイン酸変性のポリオレフィン樹脂などのオレフィン樹脂が用いられる。本発明においては、酸成分の分解が少なく、アルミニウム蒸着薄膜層へのダメージが低いポリエチレンがより好ましく用いられる。押出ラミネートする条件としては、一般的な押出ラミネート条件で良く、必要に応じて、オゾン処理、コロナ処理を施しても構わない。本発明においてはアンカーコート処理を行うことなく強固な接合が達成できるが、より強固な接合を目的にアンカーコート処理を行うことを排除するものではない。これらオレフィン樹脂層の厚さは、５〜１５μｍの範囲で設計される。 The extruded resin used as the olefin resin layer for extrusion laminating is not particularly limited as long as it adheres closely to the vapor-deposited surface of the aluminum vapor-deposited film and the plastic film to be laminated. Olefin resins such as polyethylene, polypropylene, ethylene / methacrylic acid copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, and maleic acid-modified polyolefin resin are used, depending on the properties, appearance, and economy. In the present invention, polyethylene with less decomposition of the acid component and low damage to the aluminum deposited thin film layer is more preferably used. As conditions for extrusion lamination, general extrusion lamination conditions may be used, and ozone treatment or corona treatment may be performed as necessary. In the present invention, strong bonding can be achieved without carrying out anchor coating treatment, but it does not exclude performing anchor coating treatment for the purpose of stronger bonding. The thickness of these olefin resin layers is designed in the range of 5 to 15 μm.
本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体において、蒸着膜とオレフィン樹脂層との密着強度は１Ｎ／１５ｍｍ以上であることが好ましい。密着強度が１Ｎ／１５ｍｍ未満であると、使用時に剥離が発生しやすく、後で述べる引き裂き強度が上昇したり、直線的に引き裂くことが困難となったりする場合があり、用途や積層体の構成が制限されることがある。好ましくは１．１Ｎ／１５ｍｍ以上である。 In the aluminum vapor deposition film laminate of the present invention, the adhesion strength between the vapor deposition film and the olefin resin layer is preferably 1 N / 15 mm or more. If the adhesion strength is less than 1 N / 15 mm, peeling is likely to occur during use, and the tear strength described later may increase or it may be difficult to tear linearly. May be limited. Preferably it is 1.1 N / 15mm or more.
本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体のより好ましい具体的態様を以下説明する。 The more preferable specific aspect of the aluminum vapor deposition film laminated body of this invention is demonstrated below.
本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体は、基材プラスチックフィルムが好ましくは、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであり、プラスチックフィルムが無延伸ポリプロピレン系フィルムまたは無延伸ポリエチレン系フィルムである。すなわち、アルミニウム蒸着フィルム（二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム／蒸着層）／オレフィン樹脂層／無延伸ポリプロピレン系フィルムまたは無延伸ポリエチレン系フィルムの構成である。 In the aluminum vapor-deposited film laminate of the present invention, the base plastic film is preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, and the plastic film is an unstretched polypropylene film or unstretched polyethylene film. That is, it is the structure of an aluminum vapor deposition film (biaxially stretched polyethylene terephthalate film / deposition layer) / olefin resin layer / unstretched polypropylene film or unstretched polyethylene film.
また、本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体は、好ましくは、上記アルミニウム蒸着フィルム積層体の無延伸ポリプロピレン系フィルムまたは無延伸ポリエチレン系フィルムが積層された面の反対側に、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムまたは二軸延伸ポリプロピレンフィルムがオレフィン樹脂層により接合されたアルミニウム蒸着フィルム積層体である。すなわち、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムまたは二軸延伸ポリプロピレンフィルム／オレフィン樹脂層／アルミニウム蒸着フィルム（二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム／蒸着層）／オレフィン樹脂層／無延伸ポリプロピレン系フィルムまたは無延伸ポリエチレン系フィルムの構成である。 The aluminum vapor-deposited film laminate of the present invention is preferably a biaxially-oriented polyethylene terephthalate film or a biaxially-stretched polyethylene terephthalate film on the opposite side of the surface of the aluminum vapor-deposited film laminate on which the unstretched polypropylene film or unstretched polyethylene film is laminated. It is the aluminum vapor deposition film laminated body with which the biaxially stretched polypropylene film was joined by the olefin resin layer. That is, biaxially stretched polyethylene terephthalate film or biaxially stretched polypropylene film / olefin resin layer / aluminum deposited film (biaxially stretched polyethylene terephthalate film / deposited layer) / olefin resin layer / unstretched polypropylene film or unstretched polyethylene film. It is a configuration.
さらに、本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体は好ましくは、基材プラスチックフィルムが二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであり、プラスチックフィルムが二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムまたは二軸延伸ポリプロピレンフィルムであり、第２のプラスチックフィルムが無延伸ポリプロピレン系フィルムまたは無延伸ポリエチレン系フィルムであるアルミニウム蒸着フィルム積層体である。すなわち二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムまたは二軸延伸ポリプロピレンフィルム／オレフィン樹脂層／アルミニウム蒸着フィルム（蒸着層／二軸延伸ポリエチレンフィルム）／オレフィン樹脂層／無延伸ポリプロピレン系フィルムまたは無延伸ポリエチレン系フィルムの構成である。 Further, in the aluminum vapor-deposited film laminate of the present invention, preferably, the base plastic film is a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, the plastic film is a biaxially stretched polyethylene terephthalate film or a biaxially stretched polypropylene film, and the second plastic It is an aluminum vapor deposition film laminated body whose film is an unstretched polypropylene film or an unstretched polyethylene film. That is, in the configuration of biaxially stretched polyethylene terephthalate film or biaxially stretched polypropylene film / olefin resin layer / aluminum vapor deposited film (deposited layer / biaxially stretched polyethylene film) / olefin resin layer / unstretched polypropylene film or unstretched polyethylene film. is there.
これらのアルミニウム蒸着フィルム積層体において、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚さは９〜１８μｍの範囲が好ましい。二軸延伸ポリプロピレンフィルムの厚さは１５〜３０μｍの範囲が好ましい。 In these aluminum vapor-deposited film laminates, the biaxially stretched polyethylene terephthalate film preferably has a thickness of 9 to 18 μm. The thickness of the biaxially stretched polypropylene film is preferably in the range of 15 to 30 μm.
上記の無延伸ポリプロピレン系フィルムとは、ポリプロピレンを主成分としエチレン、ブテンなどと共重合したポリプロピレン系ランダム共重合体や、ブロック共重合体が好ましく用いられる。また無延伸ポリエチレン系フィルムとは、高圧法低密度ポリエチレンや直鎖状低密度ポリエチレンが好ましく用いられる。これらの厚さは２０〜１００μｍの範囲のものがシール強度と経済性のバランスにより選択される。 As the unstretched polypropylene film, a polypropylene random copolymer obtained by copolymerizing polypropylene as a main component with ethylene, butene, or a block copolymer is preferably used. As the unstretched polyethylene film, high-pressure low-density polyethylene or linear low-density polyethylene is preferably used. These thicknesses are selected in the range of 20 to 100 μm depending on the balance between seal strength and economy.
本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体は、上記好ましい態様において、長手方向に沿ったＪＩＳＫ７１２８−１による引き裂き強度が１Ｎ以下であることが、引き裂きを容易とするため好ましい。 In the above preferred embodiment, the aluminum vapor-deposited film laminate of the present invention preferably has a tear strength of 1 N or less according to JIS K7128-1 along the longitudinal direction in order to facilitate tearing.
また、本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体は、上記ＪＩＳＫ７１２８−１に従って１００ｍｍ長が引き裂かれた箇所における長手方向に沿った直線からの幅方向のずれが１０ｍｍ以内であることが、思わぬ方向に引き裂けてトラブルとならないために好ましい。 Further, the aluminum vapor-deposited film laminate of the present invention is torn in an unexpected direction that the deviation in the width direction from the straight line along the longitudinal direction at the location where the length of 100 mm is torn is in accordance with JIS K7128-1. This is preferable because it does not cause trouble.
以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。なお、実施例及び比較例中の物性は,次のようにして測定した。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated, this invention is not necessarily limited to these. The physical properties in Examples and Comparative Examples were measured as follows.
（１）押出ラミネート
（積層体１）
押出ラミネート機の第１給紙側にアルミニウム蒸着フィルム、第２給紙側に厚さ２０μｍの二軸延伸ポリプロピレンフィルムをセットし、Ｔダイから低密度ポリエチレン樹脂（住友化学（株）「スミカセン」（登録商標）Ｌ４２０）を樹脂温度３００℃で厚さ７μｍとなるように押出し、ニップロールによりこれら両フィルムで挟み込んで接合し、アルミニウム蒸着フィルムの蒸着面側に二軸延伸ポリプロピレンフィルムを積層した積層体１を作製成した。
(1) Extruded laminate (Laminate 1)
An aluminum vapor deposition film is set on the first paper feed side of the extrusion laminating machine, and a 20 μm thick biaxially stretched polypropylene film is set on the second paper feed side. A low density polyethylene resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd. “Sumikasen”) ( (Registered Trademark) L420) extruded at a resin temperature of 300 ° C. to a thickness of 7 μm, sandwiched between these films by a nip roll and joined, and a laminate 1 in which a biaxially oriented polypropylene film is laminated on the vapor deposition surface side of the aluminum vapor deposition film Was made.
（積層体２）
押出ラミネート機の第１給紙側に積層体１、第２給紙側に厚さ４０μｍの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム（トーセロ社製ＦＣＳ）をセットし、Ｔダイから低密度ポリエチレン樹脂（住友化学（株）「スミカセン」（登録商標）Ｌ４２０）を樹脂温度３００℃で厚さ７μｍとなるように押出し、ニップロールによりこれら両フィルムで挟み込んで接合し、積層体１の基材プラスチックフィルム側に直鎖状低密度ポリエチレンフィルムを積層した積層体２を作成した。
(Laminate 2)
A laminate 1 is set on the first paper feed side of the extrusion laminator, and a linear low density polyethylene film (FCS manufactured by Tosero Co., Ltd.) having a thickness of 40 μm is set on the second paper feed side. Chemical Co., Ltd. “Sumikasen” (registered trademark) L420) was extruded to a thickness of 7 μm at a resin temperature of 300 ° C., and sandwiched between these two films by a nip roll and joined together. A laminate 2 in which a chain low density polyethylene film was laminated was prepared.
（積層体３）
押出ラミネート機の第１給紙側にアルミニウム蒸着フィルム、第２給紙側に厚さ４０μｍの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム（トーセロ社製ＦＣＳ）をセットし、Ｔダイから低密度ポリエチレン樹脂（住友化学（株）「スミカセン」（登録商標）Ｌ４２０）を樹脂温度３００℃で厚さ７μｍとなるように押出し、ニップロールによりこれら両フィルムで挟み込んで接合し、アルミニウム蒸着フィルムの蒸着面側に直鎖状低密度ポリエチレンフィルムを積層した積層体３を作製成した。
(Laminate 3)
An aluminum vapor deposition film is set on the first paper feed side of the extrusion laminator, and a linear low density polyethylene film (FCS manufactured by Tosero Co., Ltd.) having a thickness of 40 μm is set on the second paper feed side. Chemical Co., Ltd. “Sumikasen” (registered trademark) L420) was extruded at a resin temperature of 300 ° C. to a thickness of 7 μm, sandwiched between these films by a nip roll, joined, and linear on the vapor deposition surface side of the aluminum vapor deposition film A laminate 3 in which low density polyethylene films were laminated was produced.
（積層体４）
押出ラミネート機の第１給紙側に上記積層体３、第２給紙側に厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムをセットし、Ｔダイから低密度ポリエチレン樹脂（住友化学（株）「スミカセン」（登録商標）Ｌ４２０）を樹脂温度３００℃で厚さ７μｍとなるように押出し、ニップロールによりこれら両フィルムで挟み込んで接合し、積層体３の基材プラスチックフィルム側に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを積層した積層体４を作成した。
(Laminate 4)
The laminate 3 is set on the first paper feed side of the extrusion laminator and the biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm is set on the second paper feed side. A low density polyethylene resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd. (Registered trademark) L420) is extruded at a resin temperature of 300 ° C. to a thickness of 7 μm, and is sandwiched between these two films by a nip roll and joined, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is placed on the base plastic film side of the laminate 3. A laminated body 4 was prepared.
（２）ラミネート強度
上記（１）で作成した、押出ラミネート積層体１から、幅１５ｍｍ、長さ１５０ｍｍに切断したカットサンプルを作製し、(株)オリエンテック製「テンシロン」（ＲＴＧ−１２１０）を使用して、アルミニウム蒸着フィルムと二軸延伸ポリプロピレンフィルムをＴ型剥離法により、引張速度：５０ｍｍ／ｍｉｎで剥離し、ラミネート強度を測定した。
(2) Laminate strength A cut sample cut to a width of 15 mm and a length of 150 mm was prepared from the extruded laminate 1 produced in (1) above, and “Tensilon” (RTG-1210) manufactured by Orientec Co., Ltd. The aluminum vapor-deposited film and the biaxially stretched polypropylene film were peeled off at a tensile rate of 50 mm / min by a T-type peeling method, and the laminate strength was measured.
（３）蒸着膜厚
アルミニウム蒸着フィルムをマイクロサンプリング法でサンプリング後、収束イオンビーム加工装置（日立製作所製 ＦＢ−２０００）を用いて薄膜化を行った。その後、サンプル保護のため、炭素およびタングステン保護膜を形成した。このサンプルを電界放出形透過電子顕微鏡（日立製作所製 ＨＦ−２２００、以下ＴＥＭと称する）で観察し、観察写真より倍率を勘案して全蒸着膜厚を計算した。
(3) Vapor deposition film thickness After sampling an aluminum vapor deposition film with the microsampling method, it thinned using the focused ion beam processing apparatus (FB-2000 by Hitachi, Ltd.). Thereafter, a carbon and tungsten protective film was formed to protect the sample. This sample was observed with a field emission transmission electron microscope (HF-2200 manufactured by Hitachi, Ltd., hereinafter referred to as TEM), and the total deposited film thickness was calculated in consideration of the magnification from the observation photograph.
（４）金属アルミニウム膜および酸化アルミニウム膜の膜厚
全自動走査型Ｘ線光電子分光分析装置（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製Ｑｕａｎｔｅｒａ ＳＸＭ、以下ＸＰＳと称する）を用いて、Ｘ線源ＡｌＫα、Ｘ線出力２５．１Ｗ、光電子取り出し角４５°で表面分析を行った。アルミニウム蒸着フィルムの蒸着面側から、Ａｒイオンを用いて、Ａｒイオンエネルギー１ｋｅＶでスパッタを行ない、一定スパッタ時間毎に炭素、酸素、アルミニウムの元素について狭域光電子スペクトル測定を行い、Ｃ１ｓ、Ｏ１ｓ、Ａｌ２ｐの狭域光電子ピーク面積強度比と相対感度係数から各元素の組成比を算出し、以下の方法に基づき深さ方向の組成分布を求めた。
(4) Film thickness of metal aluminum film and aluminum oxide film Using a fully automatic scanning X-ray photoelectron spectrometer (Quantera SXM, hereinafter referred to as XPS) manufactured by Physical Electronics, X-ray source AlKα, X-ray output 25. Surface analysis was performed at 1 W and a photoelectron take-off angle of 45 °. Sputtering is performed from the vapor deposition surface side of the aluminum vapor-deposited film using Ar ions at an Ar ion energy of 1 keV, and narrow-area photoelectron spectra are measured for carbon, oxygen, and aluminum elements at constant sputtering times. C 1s , O 1s The composition ratio of each element was calculated from the narrow area photoelectron peak area intensity ratio of Al 2p and the relative sensitivity coefficient, and the composition distribution in the depth direction was determined based on the following method.
まず、基材プラスチックフィルム側の炭素濃度に着目し、炭素濃度のピーク濃度の中間（１／２）濃度に対応したスパッタ時間を蒸着層と基材プラスチックフィルムの界面に到達したスパッタ時間と見なした。なお界面のアンカー金属層に由来する信号は小さく、無視した。（３）項のＴＥＭ観察による全蒸着膜厚と、上記界面に対応するスパッタ時間を関係付け、スパッタ時間に対応したスパッタ深さを計算した。 First, paying attention to the carbon concentration on the substrate plastic film side, the sputtering time corresponding to the intermediate (1/2) concentration of the peak concentration of carbon concentration is regarded as the sputtering time reaching the interface between the vapor deposition layer and the substrate plastic film. did. The signal derived from the anchor metal layer at the interface was small and ignored. The total film thickness obtained by TEM observation in (3) was related to the sputtering time corresponding to the interface, and the sputtering depth corresponding to the sputtering time was calculated.
次に、酸化アルミニウム層中の酸素濃度に着目し、酸素濃度のピーク濃度の中間（１／２）濃度に対応したスパッタ時間から算出したスパッタ深さを酸化アルミニウム層と金属アルミニウム層の界面と見なした。 Next, paying attention to the oxygen concentration in the aluminum oxide layer, the sputtering depth calculated from the sputtering time corresponding to the intermediate (1/2) concentration of the peak concentration of oxygen concentration is regarded as the interface between the aluminum oxide layer and the metal aluminum layer. I did it.
（５）銅蒸着層量（ｎｇ／ｃｍ２）
アルミニウム蒸着フィルムより、１０ｃｍ角に切断したカットサンプルを作成し、カットサンプルを硝酸２０ｍｌに２４時間浸漬した後、得られた溶液の銅の吸光度（波長３２４．８ｎｍ）を原子吸光分光光度計（島津製作所社製 ＡＡ−６３００タイプ）で測定して、銅の溶解量（濃度）が分かっている標準サンプルを検量線として、銅蒸着層量を算出した。これらの算出を異なる４枚のカットサンプルを使用して行い、得られた値の平均値を銅蒸着層量（ｎｇ／ｃｍ２）とした。
(5) Copper deposition layer amount (ng / cm 2 )
A cut sample cut to 10 cm square was prepared from an aluminum vapor-deposited film, and the cut sample was immersed in 20 ml of nitric acid for 24 hours, and then the absorbance (wavelength 324.8 nm) of the obtained solution was measured by an atomic absorption spectrophotometer (Shimadzu). AA-6300 type manufactured by Seisakusho Co., Ltd.) was used, and the amount of the deposited copper layer was calculated using a standard sample in which the amount of copper dissolved (concentration) was known as a calibration curve. These calculations were performed using four different cut samples, and the average value obtained was defined as the copper deposition layer amount (ng / cm 2 ).
（６）外観（金属光沢）
外観を目視し、金属光沢の確認をした。明るい金属光沢のものを合格（○）とし、やや褐色がかって、くすんでいるが実用レベルの金属光沢のものを△、金属光沢のないものを×とした。
(6) Appearance (metallic luster)
The appearance was visually confirmed and the metallic luster was confirmed. A bright metallic luster was accepted (O), a slightly brownish and dull but practical metallic luster was evaluated as △, and a non-metallic luster was rated as x.
（７）積層体の引き裂き強度
ＪＩＳＫ７１２８−１：１９９８に準拠し、積層体２、３、４から長手方向１５０ｍｍ×幅方向５０ｍｍの長方形サンプルを切り出し、株式会社オリエンテック製「テンシロン」（ＲＴＧ−１２１０）を使用して２００ｍｍ／ｍｉｎの速度で、ＭＤ方向に引き裂き試験を行った。この測定を５回繰り返し、その平均値を求めた。
(7) Tear Strength of Laminate In accordance with JIS K7128-1: 1998, a rectangular sample measuring 150 mm in the longitudinal direction and 50 mm in the width direction was cut out from the laminates 2, 3, and 4, and “Tensilon” (RTG-1210) manufactured by Orientec Corporation. ) Was used to perform a tear test in the MD direction at a speed of 200 mm / min. This measurement was repeated 5 times, and the average value was obtained.
（８）積層体の直線カット性
上記引き裂き強度の測定の際、最初の切込みを起点に長手方向に直線を描いておき、引き裂き開始位置から１００ｍｍの位置における引き裂き箇所における直線からのＴＤ方向のズレを測定し、５サンプルの平均値で以下の判定を行った。
○：ズレが６ｍｍ未満。
△：ズレが６ｍｍ以上１０ｍｍ未満
×：ズレが１０ｍｍ以上
（実施例１）
アルミニウム蒸着フィルムの基材プラスチックフィルムとして、厚さ１２μｍ、幅２０４０ｍｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製“ルミラー”（登録商標）Ｐ６０、以下ＰＥＴフィルムと称する）を使用した。連続式真空蒸着機（（株）アルバック製）を用い、フィルム繰出部と蒸着部の間に、銅をターゲットとするプレーナーマグネトロン方式の放電電極を設置し、高周波電源（周波数６０ｋＨｚ）により供給された電圧をかけることで、プラズマを発生させ、フィルム上に８０ｎｇ／ｃｍ２の銅蒸着層を形成した。さらにその上に高周波誘導加熱方式で加熱したるつぼから金属アルミニウムを蒸発させ、ＰＥＴフィルムを速度４２０ｍ／ｍｉｎで巻出し、巻き取り側ガス導入部より酸素ガスを６．６Ｌ／ｍｉｎ導入し、金属アルミニウム層、酸化アルミニウム層を連続的に蒸着した。この際、蒸着機中でのインラインの光学濃度計を用いて、光学濃度が２．５となるように、金属アルミニウム蒸発量を調整した。
(8) Straight line cut property of the laminate When measuring the above tear strength, a straight line is drawn in the longitudinal direction starting from the first cut, and the deviation in the TD direction from the straight line at the tear point at a position 100 mm from the tear start position. Was measured, and the following determination was made with an average value of 5 samples.
○: Deviation is less than 6 mm.
Δ: Deviation is 6 mm or more and less than 10 mm ×: Deviation is 10 mm or more (Example 1)
A biaxially stretched polyethylene terephthalate film (“Lumirror” (registered trademark) P60 manufactured by Toray Industries, Inc., hereinafter referred to as “PET film”) having a thickness of 12 μm and a width of 2040 mm was used as the base plastic film of the aluminum vapor deposition film. Using a continuous vacuum vapor deposition machine (manufactured by ULVAC, Inc.), a planar magnetron type discharge electrode targeting copper was installed between the film feeding part and the vapor deposition part, and supplied by a high frequency power source (frequency 60 kHz). By applying a voltage, plasma was generated, and an 80 ng / cm 2 copper vapor deposition layer was formed on the film. Further, metal aluminum is evaporated from a crucible heated by a high frequency induction heating method, the PET film is unwound at a speed of 420 m / min, and oxygen gas is introduced at 6.6 L / min from the take-up side gas introduction part. A layer and an aluminum oxide layer were continuously deposited. At this time, the amount of metal aluminum evaporated was adjusted using an inline optical densitometer in a vapor deposition machine so that the optical density was 2.5.
（実施例２）
実施例１において、巻き取り側ガス導入部より酸素ガスを４．２Ｌ／ｍｉｎ導入した。他の条件は実施例１と同じとして、金属アルミニウム層、酸化アルミニウム層を連続的に蒸着した。
(Example 2)
In Example 1, 4.2 L / min of oxygen gas was introduced from the winding side gas introduction part. Other conditions were the same as in Example 1, and a metal aluminum layer and an aluminum oxide layer were continuously deposited.
（実施例３）
実施例１において、巻き取り側ガス導入部より酸素ガスを８．９Ｌ／ｍｉｎ導入した。他の条件は実施例１と同じとして、金属アルミニウム層、酸化アルミニウム層を連続的に蒸着した。
(Example 3)
In Example 1, 8.9 L / min of oxygen gas was introduced from the winding side gas introduction part. Other conditions were the same as in Example 1, and a metal aluminum layer and an aluminum oxide layer were continuously deposited.
（実施例４）
実施例１において、ＰＥＴフィルム上に４０ｎｇ／ｃｍ２の銅蒸着層を形成した。他の条件は実施例１と同じとして、金属アルミニウム層、酸化アルミニウム層を連続的に蒸着した。
Example 4
In Example 1, a 40 ng / cm 2 copper vapor deposition layer was formed on a PET film. Other conditions were the same as in Example 1, and a metal aluminum layer and an aluminum oxide layer were continuously deposited.
（実施例５）
実施例１において、ＰＥＴフィルム上に１２０ｎｇ／ｃｍ２の銅蒸着層を形成した。他の条件は実施例１と同じとして、金属アルミニウム層、酸化アルミニウム層を連続的に蒸着した。
(Example 5)
In Example 1, a 120 ng / cm 2 copper vapor deposition layer was formed on a PET film. Other conditions were the same as in Example 1, and a metal aluminum layer and an aluminum oxide layer were continuously deposited.
（実施例６）
実施例１と同様に、巻き取り側ガス導入部より酸素ガスを２．４Ｌ／ｍｉｎ導入した。他の条件は実施例１と同じとして、金属アルミニウム層、酸化アルミニウム層を連続的に蒸着した。
(Example 6)
In the same manner as in Example 1, 2.4 L / min was introduced from the winding side gas introduction part. Other conditions were the same as in Example 1, and a metal aluminum layer and an aluminum oxide layer were continuously deposited.
（実施例７）
実施例１と同様に、巻き取り側ガス導入部より酸素ガスを１１．４Ｌ／ｍｉｎ導入した。他の条件は実施例１と同じとして、金属アルミニウム層、酸化アルミニウム層を連続的に蒸着した。
(Example 7)
In the same manner as in Example 1, 11.4 L / min of oxygen gas was introduced from the take-up side gas introduction part. Other conditions were the same as in Example 1, and a metal aluminum layer and an aluminum oxide layer were continuously deposited.
（比較例１）
実施例１において、ＰＥＴフィルム上に銅蒸着層を形成せず、酸素ガスを導入せずに、金属アルミニウム層を蒸着した。この際、蒸着機中でのインラインの光学濃度計を用いて、光学濃度が２．５となるようにアルミニウム蒸発量を調整した。アルミニウム蒸着フィルムの蒸着層表面には、大気中の酸素と反応した酸化アルミニウム層が形成され、その薄膜層の膜厚は３．１ｎｍであった。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a metal aluminum layer was deposited without forming a copper deposition layer on the PET film and without introducing oxygen gas. At this time, the amount of evaporated aluminum was adjusted using an in-line optical densitometer in a vapor deposition machine so that the optical density was 2.5. On the surface of the vapor deposition layer of the aluminum vapor deposition film, an aluminum oxide layer reacted with oxygen in the atmosphere was formed, and the thickness of the thin film layer was 3.1 nm.
（比較例２）
実施例１において、ＰＥＴフィルム上に８０ｎｇ／ｃｍ２の銅蒸着層を形成し、酸素ガスを導入せずに、金属アルミニウム層を蒸着した。金属蒸着フィルムのアルミニウム蒸着薄膜層表面には、大気中の酸素と反応した酸化アルミニウム薄膜層が形成され、その薄膜層の膜厚は３．１ｎｍであった。
(Comparative Example 2)
In Example 1, a copper vapor deposition layer of 80 ng / cm 2 was formed on a PET film, and a metal aluminum layer was vapor deposited without introducing oxygen gas. On the surface of the aluminum vapor-deposited thin film layer of the metal vapor-deposited film, an aluminum oxide thin film layer reacted with oxygen in the atmosphere was formed, and the film thickness of the thin film layer was 3.1 nm.
（比較例３）
実施例１において、ＰＥＴフィルム上に銅蒸着層を形成せず、巻取り側ガス導入部より酸素ガスを６．６Ｌ／ｍｉｎ導入し、反応性蒸着により金属アルミニウム層および酸化アルミニウム層を連続的に蒸着した。
(Comparative Example 3)
In Example 1, a copper vapor deposition layer was not formed on the PET film, but oxygen gas was introduced at 6.6 L / min from the winding side gas introduction portion, and the metal aluminum layer and the aluminum oxide layer were continuously formed by reactive vapor deposition. Vapor deposited.
上記のようにして作製した各アルミニウム蒸着フィルムに、前記（１）で説明した押出ラミネートにより、アルミニウム蒸着フィルム積層体１〜４を作成した。積層体１によりそのラミネート強度を、積層体２〜４により引き裂き強度と直線カット性を評価した。評価結果を表１、表２、表３、表４に示す。 The aluminum vapor deposition film laminated bodies 1-4 were created by the extrusion lamination demonstrated by said (1) to each aluminum vapor deposition film produced as mentioned above. The laminate 1 was evaluated for the laminate strength, and the laminates 2 to 4 were evaluated for the tear strength and the linear cut property. The evaluation results are shown in Table 1, Table 2, Table 3, and Table 4.
表１に示されるように実施例１から５のアルミニウム蒸着フィルム積層体は、銅蒸着量が４０〜１２０ｎｇ／ｃｍ２および酸化アルミニウム層の厚さが８〜１５ｎｍの範囲にあり、ラミネート剥離界面が蒸着膜（ＡＬ）と低密度ポリエチレン樹脂（ＰＥ）間であり、ラミネート強度も１Ｎ／１５ｍｍ以上で安定したラミネート強度を有するアルミニウム蒸着フィルム積層体であった。 As shown in Table 1, the aluminum vapor-deposited film laminates of Examples 1 to 5 have a copper vapor deposition amount of 40 to 120 ng / cm 2 and an aluminum oxide layer thickness of 8 to 15 nm, and a laminate peeling interface. Between the vapor deposition film (AL) and the low density polyethylene resin (PE), the laminate strength was 1 N / 15 mm or more, and the aluminum vapor deposition film laminate had a stable laminate strength.
実施例６では酸化アルミニウム蒸着層が薄いため、ラミネート強度が若干低めながら実用レベルであった。実施例７では酸化アルミニウム蒸着層が厚いためやや褐色がかった金属外観であったが実用レベルであった。 In Example 6, since the aluminum oxide vapor deposition layer was thin, the laminate strength was at a practical level while being slightly reduced. In Example 7, since the aluminum oxide deposition layer was thick, the metal appearance was slightly brownish, but it was at a practical level.
表２に示されるように、比較例１ではアンカー金属蒸着層がなく、比較例２では、本発明における金属アルミニウム層から酸化アルミニウム層へ連続的に組成変化する蒸着膜が積層されたものではなく、金属アルミニウム層表面に約３ｎｍの厚さの自然酸化膜が確認された。いずれもラミネート強度が不十分なものとなった。 As shown in Table 2, Comparative Example 1 does not have an anchor metal vapor deposition layer, and Comparative Example 2 does not have a vapor deposition film in which the composition changes continuously from the metal aluminum layer to the aluminum oxide layer in the present invention. A natural oxide film having a thickness of about 3 nm was confirmed on the surface of the metal aluminum layer. In all cases, the laminate strength was insufficient.
比較例３では、ＰＥＴフィルム上にアンカー金属蒸着層を有していないためＰＥＴフィルムと金属アルミニウム層の密着が悪くＰＥＴ／蒸着膜（ＡＬ）間で剥離してしまいラミネート強度が不十分なものとなった。 In Comparative Example 3, since there is no anchor metal vapor deposition layer on the PET film, the adhesion between the PET film and the metal aluminum layer is poor, and peeling occurs between the PET / vapor deposition film (AL) and the laminate strength is insufficient. became.
本発明のアルミニウム蒸着フィルム積層体は、引き裂き強度が低く、直線カット性も優れたものとなった。 The aluminum vapor-deposited film laminate of the present invention has a low tear strength and an excellent linear cut property.
１１：アルミニウム蒸着フィルム
１２：オレフィン樹脂層
１３：プラスチックフィルム
１４：第２のプラスチックフィルム
２１：酸化アルミニウム層
２２：金属アルミニウム層
２３：アンカー金属（銅）蒸着層
２４：基材プラスチックフィルム
３１：真空蒸着装置
３２：冷却ドラム
３３：蒸発源
３４：プレーナーマグネトロン方式の放電電極
３５：巻取り側ガス導入部
３６：繰り出し軸
３７：巻き取り軸
３８：基材プラスチックフィルム
11: Aluminum vapor deposition film 12: Olefin resin layer 13: Plastic film 14: Second plastic film 21: Aluminum oxide layer 22: Metal aluminum layer 23: Anchor metal (copper) vapor deposition layer 24: Base plastic film 31: Vacuum vapor deposition Device 32: Cooling drum 33: Evaporation source 34: Planar magnetron type discharge electrode 35: Winding side gas introduction part 36: Feeding shaft 37: Winding shaft 38: Base plastic film
Claims (10)
A vapor deposition film having a composition continuously changed from a metal aluminum layer to an aluminum oxide layer is laminated on a base plastic film via an anchor metal vapor deposition layer, and a vapor deposition surface of the aluminum vapor deposition film laminate on which the vapor deposition film is laminated; A method for producing an aluminum vapor-deposited film laminate in which a plastic film is joined by extrusion lamination.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018067985 | 2018-03-30 | ||
| JP2018067985 | 2018-03-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019181941A true JP2019181941A (en) | 2019-10-24 |
| JP7320366B2 JP7320366B2 (en) | 2023-08-03 |
Family
ID=68338957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019063270A Active JP7320366B2 (en) | 2018-03-30 | 2019-03-28 | ALUMINUM VAPOR FILM LAMINATE AND PRODUCTION METHOD THEREOF |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7320366B2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020241621A1 (en) * | 2019-05-31 | 2020-12-03 | 東洋紡株式会社 | Transparent gas barrier film and method for producing same |
| WO2022265596A1 (en) * | 2021-06-15 | 2022-12-22 | Oezerden Naci Tamer | Thermal insulating shrink film with metallized reflective surface |
| WO2024000804A1 (en) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | 扬州纳力新材料科技有限公司 | High-weldability composite current collector and preparation method therefor |
| WO2024145834A1 (en) * | 2023-01-04 | 2024-07-11 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | Aluminum-based conductive film and preparation method therefor, current collector, electrode sheet, and device |
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| JP2017177544A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 東レフィルム加工株式会社 | Gas barrier aluminum vapor-deposited film |
-
2019
- 2019-03-28 JP JP2019063270A patent/JP7320366B2/en active Active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7320366B2 (en) | 2023-08-03 |
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