JP2019179051A - Imaging apparatus, finder, and imaging system - Google Patents

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宏史 工藤
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Abstract

To provide an electric view finder which enables detection of an approach with substantially the same detection sensitivity.SOLUTION: An electronic view finder 400, which is removably attached to an imaging apparatus, includes: an eyepiece optical axis rotatable around an imaging apparatus; a dichroic mirror 406 dividing a detected light into a reflected light and a transmitting light; a movable mirror 407 guiding the reflected light substantially in parallel to the eyepiece optical axis; and an angle detector 409 detecting the angle of rotation of the eyepiece optical axis, the imaging apparatus changing at least one of the intensity of the detected light, the sensitivity of light reception of light receiving means, or the threshold value on the basis of the angle of rotation detected by the angle detector 409.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、一眼レフカメラ等の撮像装置、ファインダ、その制御方法及びプログラムに関する。   The present invention relates to an imaging apparatus such as a single-lens reflex camera, a finder, a control method thereof, and a program.

光学ビューファインダ、及び、背面表示部を有する一眼レフカメラ等の撮像装置には、撮像装置の外の対象物と光学ビューファインダとの近接状態を検出する近接検出システムが搭載されているものがある。近接検出システムにより、例えばユーザが光学ビューファインダを覗いている場合には、近接状態であると判定し、背面表示部を非表示にすることで省電力を実現している。   2. Description of the Related Art Some imaging apparatuses such as an optical viewfinder and a single-lens reflex camera having a rear display unit include a proximity detection system that detects a proximity state between an object outside the imaging apparatus and the optical viewfinder. . With the proximity detection system, for example, when the user is looking through the optical viewfinder, it is determined that the user is in the proximity state, and power saving is realized by hiding the rear display unit.

また、撮像装置に着脱可能であり、かつ、撮像装置に対して接眼光軸が回転可能な電子ビューファインダには、近接検出システムに用いられる発光素子及び受光素子を搭載したものがある。発光素子及び受光素子は、電子ビューファインダの接眼窓付近に設けられ、接眼光軸の回転に追従して移動する。撮像装置は、このような発光素子及び受光素子を用いることにより、対象物と電子ビューファインダとの近接状態を検出する。   Some electronic viewfinders that can be attached to and detached from the imaging apparatus and whose eyepiece optical axis can rotate with respect to the imaging apparatus are equipped with a light emitting element and a light receiving element used in the proximity detection system. The light emitting element and the light receiving element are provided in the vicinity of the eyepiece window of the electronic viewfinder, and move following the rotation of the eyepiece optical axis. The imaging apparatus detects the proximity state between the object and the electronic viewfinder by using such a light emitting element and a light receiving element.

特許文献1には、電子ビューファインダの接眼光軸の回転角度に応じて発光素子の光強度等を制御することにより、撮像装置本体に固定された発光素子及び受光素子により近接検出システムを実現する技術が開示されている。   In Patent Document 1, a proximity detection system is realized by a light emitting element and a light receiving element fixed to an imaging apparatus body by controlling the light intensity and the like of the light emitting element according to the rotation angle of the eyepiece optical axis of the electronic viewfinder. Technology is disclosed.

特開2011−164314号公報JP 2011-164314 A

特許文献1に開示された従来技術を用いることにより、電子ビューファインダに発光素子及び受光素子を搭載することなく、撮像装置の近接検出システムのみで電子ビューファインダの近接検出機能を実現することができるため、コストの増大を抑制できる。   By using the prior art disclosed in Patent Document 1, the proximity detection function of the electronic viewfinder can be realized only by the proximity detection system of the imaging apparatus without mounting the light emitting element and the light receiving element on the electronic viewfinder. Therefore, an increase in cost can be suppressed.

しかしながら、特許文献1に開示された従来技術では、電子ビューファインダの接眼光軸の回転角度に応じて発光素子の光強度等を制御するのみであるため、光学ビューファインダの近接検出機能の検出感度が一定ではなくなる課題がある。その結果、誤検出の発生頻度が増すおそれがある。   However, since the conventional technique disclosed in Patent Document 1 only controls the light intensity and the like of the light emitting element according to the rotation angle of the eyepiece optical axis of the electronic viewfinder, the detection sensitivity of the proximity detection function of the optical viewfinder There is a problem that is not constant. As a result, the frequency of occurrence of erroneous detection may increase.

そこで、本発明は、コストの増大を抑制しつつ、略一定の検出感度により光学ビューファインダ及び電子ビューファインダの近接検出を可能とすることを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to enable proximity detection of an optical viewfinder and an electronic viewfinder with substantially constant detection sensitivity while suppressing an increase in cost.

上記の目的を達成するために、本発明に係る撮像システムは、
撮像装置及び前記撮像装置に着脱可能な電子ビューファインダを有し、前記撮像装置は、光学ビューファインダと、検出光を発光する発光手段と、前記撮像装置の外の対象物により反射された前記検出光を受光する受光手段と、前記受光手段による受光結果が所定の閾値に基づいて、前記対象物が前記光学ビューファインダに近接しているか否かを判定する近接判定手段と、を有し、前記電子ビューファインダは、前記撮像装置に対して回転可能な接眼光軸と、前記検出光を反射光及び透過光に分割する光路分割手段と、前記反射光を前記接眼光軸と略平行に導く導光手段と、前記接眼光軸の回転角を検出する角度検出手段と、を有し、前記撮像装置は、前記角度検出手段によって検出された前記回転角に基づいて、前記検出光の強度、前記受光手段の受光感度、または、前記閾値の少なくともいずれか一つを変更する制御手段を有することを特徴とする。
In order to achieve the above object, an imaging system according to the present invention includes:
An imaging device and an electronic viewfinder that can be attached to and detached from the imaging device, wherein the imaging device is an optical viewfinder, a light emitting unit that emits detection light, and the detection reflected by an object outside the imaging device A light receiving unit that receives light; and a proximity determination unit that determines whether or not the object is close to the optical viewfinder based on a light reception result of the light receiving unit based on a predetermined threshold, The electronic viewfinder includes an eyepiece optical axis that is rotatable with respect to the imaging device, an optical path dividing unit that divides the detection light into reflected light and transmitted light, and a guide that guides the reflected light substantially parallel to the eyepiece optical axis. And an angle detection unit that detects a rotation angle of the eyepiece optical axis, and the imaging device is configured to detect the intensity of the detection light based on the rotation angle detected by the angle detection unit, Receiving sensitivity of the optical means, or characterized by having a control means for changing at least one of the threshold.

本発明によれば、コストの増大を抑制しつつ、略一定の検出感度での光学ビューファインダ及び電子ビューファインダの近接検出を可能とすることにより、誤検知の少ない近接検出を可能とする。これにより、電子ビューファインダ及び背面表示部の表示の制御を適切に行うことができ、省電力及びユーザビリティ向上を実現した撮像システムを提供することが可能である。   According to the present invention, it is possible to perform proximity detection with few false detections by enabling proximity detection of an optical viewfinder and an electronic viewfinder with substantially constant detection sensitivity while suppressing an increase in cost. Thereby, it is possible to appropriately control the display of the electronic viewfinder and the rear display unit, and it is possible to provide an imaging system that realizes power saving and usability improvement.

実施形態に係るカメラ内部の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure inside the camera which concerns on embodiment. カメラ後方から見た近接検出ユニット付近の外観図である。It is an external view of the proximity detection unit vicinity seen from the camera back. EVF未装着時の近接検出システムの説明図である。It is explanatory drawing of the proximity detection system at the time of EVF non-wearing. EVFの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of EVF. EVF装着時(θ=0)の近接検出システムの説明図である。It is explanatory drawing of a proximity detection system at the time of EVF mounting | wearing ((theta) = 0). EVF装着時(θ≠0)の近接検出システムの説明図である。It is explanatory drawing of a proximity detection system at the time of EVF mounting | wearing ((theta) ≠ 0). EVF接眼光軸の角度に対する発光強度制御の例を示す図である。It is a figure which shows the example of light emission intensity control with respect to the angle of an EVF eyepiece optical axis. 撮影動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows imaging | photography operation | movement.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について説明する。   Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

図1は、本実施形態に係る撮像システムを構成する一眼レフカメラ(以下、カメラという)内部の概略構成を示す図である。   FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration inside a single-lens reflex camera (hereinafter referred to as a camera) constituting the imaging system according to the present embodiment.

図1に示すように、カメラ200には、レンズユニット100がマウント部のレンズ装着機構を介して着脱可能に取り付けられる。マウント部には、電気接点ユニット104が設けられている。カメラ200は、レンズユニット100と電気接点ユニット104を介して通信を行い、レンズユニット100内のフォーカスレンズ101を制御する。なお、図1には、レンズユニット100内のレンズとしてフォーカスレンズ101のみを示しているが、この他に変倍レンズや固定レンズが設けられる場合がある。   As shown in FIG. 1, the lens unit 100 is detachably attached to the camera 200 via a lens mounting mechanism of the mount portion. An electrical contact unit 104 is provided in the mount portion. The camera 200 communicates with the lens unit 100 via the electrical contact unit 104 to control the focus lens 101 in the lens unit 100. In FIG. 1, only the focus lens 101 is shown as the lens in the lens unit 100, but a variable power lens or a fixed lens may be provided in addition to this.

被写体からの光束は、レンズユニット100を介してカメラ200内のメインミラー201に導かれる。メインミラー201は、撮影光路内に光軸に対して斜めに配置されて、被写体からの光束を上方の光学ビューファインダ(以下、OVFという)210に導く第1の位置(図示した位置)と、撮影光路外に退避する第2の位置とに移動が可能である。   The luminous flux from the subject is guided to the main mirror 201 in the camera 200 through the lens unit 100. The main mirror 201 is disposed obliquely with respect to the optical axis in the photographing optical path, and guides a light beam from the subject to an upper optical viewfinder (hereinafter referred to as OVF) 210; It is possible to move to the second position where it is retracted out of the photographing optical path.

メインミラー201の中央部はハーフミラーになっており、メインミラー201が第1の位置の状態であるときには、被写体からの光束の一部が該ハーフミラー部を透過する。ハーフミラー部を透過した光束は、メインミラー201の背面側に設けられたサブミラー202で反射し、焦点検出装置203に導かれる。   The central part of the main mirror 201 is a half mirror, and when the main mirror 201 is in the first position, a part of the light beam from the subject passes through the half mirror part. The light beam that has passed through the half mirror part is reflected by the sub mirror 202 provided on the back side of the main mirror 201 and guided to the focus detection device 203.

一方、メインミラー201で反射した光束は、OVF210に導かれる。OVF210は、焦点検出板2101、OVF視野枠2102、OVF内表示部2103、ペンタプリズム2104、OVF接眼レンズ2105、及び、OVF接眼枠2106により構成される。メインミラー201で反射した光束は、撮像センサ224と光学的に共役な位置に配置された焦点検出板2101上に一次結像する。焦点検出板2101で拡散されて透過した光(被写体像)は、OVF視野枠2102を通過し、OVF内表示部2103を透過し、ペンタプリズム2104によって正立像に変換される。正立像は、OVF接眼レンズ2105によって拡大され、接眼枠2106を覗いた撮影者により観察される。   On the other hand, the light beam reflected by the main mirror 201 is guided to the OVF 210. The OVF 210 includes a focus detection plate 2101, an OVF field frame 2102, an OVF display unit 2103, a pentaprism 2104, an OVF eyepiece 2105, and an OVF eyepiece frame 2106. The light beam reflected by the main mirror 201 forms a primary image on a focus detection plate 2101 disposed at a position optically conjugate with the image sensor 224. The light (subject image) diffused and transmitted by the focus detection plate 2101 passes through the OVF field frame 2102, passes through the OVF display unit 2103, and is converted into an erect image by the pentaprism 2104. The erect image is magnified by the OVF eyepiece 2105 and is observed by a photographer looking into the eyepiece frame 2106.

OVF視野枠2102は、焦点検出板2101の近傍に配置されており、焦点検出板2101で拡散されて透過した光の周辺部を遮光することによって撮像センサ224で撮像される領域を撮影者に視認させる。   The OVF field frame 2102 is disposed in the vicinity of the focus detection plate 2101, and the area captured by the image sensor 224 is visually recognized by the photographer by shielding the periphery of the light diffused and transmitted by the focus detection plate 2101. Let

OVF内表示部2103は、焦点検出板2101の近傍に配置されており、焦点検出領域や絞り値やシャッタ速度等、カメラの各種撮影情報を表示し、これらの情報を被写体像に重畳させて接眼枠2106を覗いている撮影者に提示する。   The in-OVF display unit 2103 is disposed in the vicinity of the focus detection plate 2101 and displays various types of shooting information of the camera such as a focus detection area, an aperture value, and a shutter speed, and superimposes the information on the subject image to form an eyepiece. It is presented to the photographer looking through the frame 2106.

焦点検出板2101で拡散されて透過した光の一部は、測光レンズ221を透過し、測光センサ222上に二次結像して、測光センサ222が受光する。   A part of the light diffused and transmitted by the focus detection plate 2101 passes through the photometric lens 221, forms a secondary image on the photometric sensor 222, and the photometric sensor 222 receives the light.

メインミラー201が第2の位置にアップした際には、サブミラー202もメインミラー201に対して折り畳まれて撮影光路外に退避する。これにより、レンズユニット100からの光束は、機械シャッタであるフォーカルプレーンシャッタ223を通過し、撮像センサ224に至る。フォーカルプレーンシャッタ223は、撮像センサ224に入射する光量を制限する。撮像センサ224は、電気信号を出力するCCDセンサやCMOSセンサ等の光電変換素子により構成され、レンズユニット100により形成された被写体像を光電変換して画像を生成する。   When the main mirror 201 is raised to the second position, the sub mirror 202 is also folded with respect to the main mirror 201 and retracted out of the photographing optical path. Thereby, the light beam from the lens unit 100 passes through the focal plane shutter 223 which is a mechanical shutter and reaches the image sensor 224. The focal plane shutter 223 limits the amount of light incident on the image sensor 224. The imaging sensor 224 includes a photoelectric conversion element such as a CCD sensor or a CMOS sensor that outputs an electrical signal, and generates an image by photoelectrically converting the subject image formed by the lens unit 100.

カメラ200は、カメラ全体の制御を司るCPU225を有する。CPU225は、電気接点ユニット104を介して、レンズユニット100内のレンズ制御回路103と通信を行う。レンズ制御回路103は、CPU225からの信号に応じてレンズ駆動機構102を制御し、フォーカスレンズ101を光軸方向に駆動してピント合わせを行う。レンズ駆動機構102は、ステッピングモータを駆動源として有する。   The camera 200 has a CPU 225 that controls the entire camera. The CPU 225 communicates with the lens control circuit 103 in the lens unit 100 via the electrical contact unit 104. The lens control circuit 103 controls the lens driving mechanism 102 in accordance with a signal from the CPU 225, and drives the focus lens 101 in the optical axis direction to perform focusing. The lens driving mechanism 102 has a stepping motor as a driving source.

また、CPU225には、記憶手段であるEEPROM226が接続されている。EEPROM226は、カメラを制御する上で調整が必要なパラメータや、カメラ個体の識別を行うための固有の情報であるカメラID(識別)情報や、カメラの製造工程において取得された撮影に関するパラメータの調整値等を記憶している。   The CPU 225 is connected to an EEPROM 226 which is a storage unit. The EEPROM 226 adjusts parameters that need to be adjusted to control the camera, camera ID (identification) information that is unique information for identifying the individual camera, and parameters related to shooting acquired in the camera manufacturing process. The value etc. are memorized.

また、CPU225には、撮影者が意思をカメラに伝えるための不図示の操作検出部が接続されている。操作検出部は、レリーズボタンや選択ボタン等の操作を検出する。   The CPU 225 is connected to an operation detection unit (not shown) for the photographer to communicate his intention to the camera. The operation detection unit detects operations such as a release button and a selection button.

背面表示部227は、撮像センサ224で撮像された画像や撮影者が設定する項目等を表示するための表示装置であり、一般にはカラーの液晶表示素子により構成される。CPU225に接続される不図示の表示制御部は、背面表示部227、OVF内表示部2103の表示を制御する。   The rear display unit 227 is a display device for displaying an image captured by the image sensor 224, items set by the photographer, and the like, and is generally configured by a color liquid crystal display element. A display control unit (not shown) connected to the CPU 225 controls the display of the rear display unit 227 and the OVF display unit 2103.

後述する近接検出ユニット230及びアクセサリベース240は、不図示の電気接点及び接続線によりCPU225に接続されている。   A proximity detection unit 230 and an accessory base 240, which will be described later, are connected to the CPU 225 by electrical contacts and connection lines (not shown).

図2は、カメラ後方から見た近接検出ユニット付近の外観図である。   FIG. 2 is an external view of the vicinity of the proximity detection unit viewed from the rear of the camera.

近接検出ユニット230は、発光素子2301、受光素子2302及び遮光板2303により構成される。CPU225の制御により発光素子2301は赤外域の波長の検出光を発光する。検出光は、カメラ200の外の後述する対象物300で反射され、その反射光は、受光素子2302により受光される。遮光板2303は、発光素子2301から射出した検出光を受光素子2302が直接受光しないように遮光する。   The proximity detection unit 230 includes a light emitting element 2301, a light receiving element 2302, and a light shielding plate 2303. Under the control of the CPU 225, the light emitting element 2301 emits detection light having a wavelength in the infrared region. The detection light is reflected by an object 300 described later outside the camera 200, and the reflected light is received by the light receiving element 2302. The light shielding plate 2303 shields the detection light emitted from the light emitting element 2301 from being directly received by the light receiving element 2302.

図3は、EVF未装着時の近接検出システムの説明図である。   FIG. 3 is an explanatory diagram of the proximity detection system when the EVF is not installed.

対象物300は、所定の反射率であり、かつ、入射光に関係なく全方向に均一な強度で入射光を拡散反射するものとする。EVF未装着時の発光素子2301の発光強度をPとし、受光量をEとする。発光素子2301から対象物300までの距離Dが、D≦Dの場合に近接判定され、D>Dの場合に近接判定されないように設計され、製造工程において、判定の閾値が調整される。また、D=DのときのOVF接眼枠2106から対象物300までの距離をD’とし、受光素子2302の受光量をEとする。 The object 300 has a predetermined reflectivity and diffusely reflects incident light with uniform intensity in all directions regardless of incident light. The light emission intensity of the light emitting element 2301 when the EVF is not attached is P 0 , and the amount of received light is E. The distance D from the light emitting element 2301 to the object 300 is designed so that proximity determination is performed when D ≦ D 0 and proximity determination is not performed when D> D 0 , and the determination threshold is adjusted in the manufacturing process. . In addition, the distance from the OVF eyepiece frame 2106 to the object 300 when D = D 0 is D ′ 0 and the amount of light received by the light receiving element 2302 is E 0 .

図4は、EVFの概略構成を示す図である。図4(a)は内部の断面図であり、図4(b)は外観の側面図である。   FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of the EVF. FIG. 4A is a sectional view of the inside, and FIG. 4B is a side view of the appearance.

EVF400は、EVFベース401によって、カメラ200のアクセサリベース240に着脱可能に取り付けられ、かつ、電気接続される。EVF内表示部402は、カラーの液晶表示素子により構成されており、CPU225の制御に基づいて画像を表示する。EVF内表示部402の画像は、EVF接眼レンズ403により拡大され、EVF接眼枠404を覗いている撮影者に観察される。EVF接眼レンズ403の光軸を、EVF接眼光軸という。EVFヘッド405は、EVF内表示部402、EVF接眼レンズ403及びEVF接眼枠404により、構成され、撮影者が手動で回転させることができる。   The EVF 400 is detachably attached to and electrically connected to the accessory base 240 of the camera 200 by the EVF base 401. The in-EVF display unit 402 is composed of a color liquid crystal display element, and displays an image based on the control of the CPU 225. The image on the EVF display unit 402 is magnified by the EVF eyepiece lens 403 and is observed by a photographer looking into the EVF eyepiece frame 404. The optical axis of the EVF eyepiece lens 403 is referred to as an EVF eyepiece optical axis. The EVF head 405 includes an EVF display unit 402, an EVF eyepiece lens 403, and an EVF eyepiece frame 404, and can be manually rotated by a photographer.

ダイクロイックミラー406は、発光素子2301から射出した検出光のうち、低波長側を透過し、高波長側を反射する。ダイクロイックミラー406により透過された検出光は、対象物300で拡散反射され、ダイクロイックミラー406を再び透過し、受光素子2302に受光される。ダイクロイックミラー406により反射された検出光は、可動ミラー407により反射され、EVF接眼光軸と略平行に進行し、対象物300で拡散反射される。その後、対象物300で拡散反射された光は、可動ミラー407及びダイクロイックミラー406により再び反射され、受光素子2302に受光される。   The dichroic mirror 406 transmits the low wavelength side of the detection light emitted from the light emitting element 2301 and reflects the high wavelength side. The detection light transmitted by the dichroic mirror 406 is diffusely reflected by the object 300, passes through the dichroic mirror 406 again, and is received by the light receiving element 2302. The detection light reflected by the dichroic mirror 406 is reflected by the movable mirror 407, travels substantially parallel to the EVF eyepiece optical axis, and is diffusely reflected by the object 300. Thereafter, the light diffusely reflected by the object 300 is reflected again by the movable mirror 407 and the dichroic mirror 406 and received by the light receiving element 2302.

ギア408は、撮影者がEVFヘッド405を回転させる際の動力を可動ミラー407に伝達し、可動ミラー407を回転させる。可動ミラー407の回転方向は、EVFヘッド405と同方向であり、かつ、可動ミラー407の回転角は、EVFヘッド405の回転角かつEVF接眼光軸の回転角θの1/2である。可動ミラー407で反射された検出光を、EVF接眼光軸と略平行とするためである。   The gear 408 transmits the power when the photographer rotates the EVF head 405 to the movable mirror 407 and rotates the movable mirror 407. The rotation direction of the movable mirror 407 is the same as that of the EVF head 405, and the rotation angle of the movable mirror 407 is ½ of the rotation angle of the EVF head 405 and the rotation angle θ of the EVF eyepiece optical axis. This is because the detection light reflected by the movable mirror 407 is substantially parallel to the EVF eyepiece optical axis.

EVF角度検出器409は、EVF接眼光軸の回転角θを検出し、CPU225に回転角θの情報を送信する。   The EVF angle detector 409 detects the rotation angle θ of the EVF eyepiece optical axis and transmits information on the rotation angle θ to the CPU 225.

図5は、θ=0のときのEVF装着時の近接検出システムの説明図である。   FIG. 5 is an explanatory diagram of the proximity detection system when the EVF is mounted when θ = 0.

は、発光素子2301からダイクロイックミラー406までの距離である。dは、ダイクロイックミラー406から対象物300までの距離である。dは、ダイクロイックミラー406から可動ミラー407までの距離である。dは、可動ミラー407から対象物300までの距離である。不図示のDは、発光素子2301から発光され、ダイクロイックミラー406で透過した検出光(以下、透過検出光という。)が対象物300に到達するまでの経路の合計の長さである。不図示のDは、発光素子2301から発光され、ダイクロイックミラー406で反射した後に可動ミラー407で反射した検出光(以下、反射検出光という。)が対象物300に至るまでの経路の合計の長さである。D’は、OVF接眼枠2106から対象物300までの距離である。D’は、EVF接眼枠404から対象物300までの距離である。D及びDは、以下の式で表される。 d 1 is the distance from the light emitting element 2301 to the dichroic mirror 406. d 2 is the distance from the dichroic mirror 406 to the object 300. d 3 is the distance from the dichroic mirror 406 to the movable mirror 407. d 4 is the distance from the movable mirror 407 to the object 300. D 1 ( not shown) is the total length of the path until detection light (hereinafter referred to as transmission detection light) emitted from the light emitting element 2301 and transmitted by the dichroic mirror 406 reaches the object 300. D 2 ( not shown) is emitted from the light emitting element 2301, is reflected by the dichroic mirror 406, and then reflected by the movable mirror 407 (hereinafter, referred to as reflected detection light) is a total path to the object 300. Length. D ′ 1 is the distance from the OVF eyepiece frame 2106 to the object 300. D ′ 2 is the distance from the EVF eyepiece frame 404 to the object 300. D 1 and D 2 is expressed by the following equation.

=d+d
=d+d+d
ここで、受光素子2302の受光感度が一定の場合、検出光の発光強度に対する受光素子2302の受光量は、発光素子2301から対象物300までの距離の2乗に反比例して減衰する。
D 1 = d 1 + d 2
D 2 = d 1 + d 3 + d 4
Here, when the light receiving sensitivity of the light receiving element 2302 is constant, the amount of light received by the light receiving element 2302 with respect to the emission intensity of the detection light attenuates in inverse proportion to the square of the distance from the light emitting element 2301 to the object 300.

次に、θ=0のとき、EVF装着時に、EVF未装着時と同等の検出感度によりOVF及びEVFの近接検出をするための方法について説明する。本実施形態では、発光素子2301の発光強度Pを制御することを一例として説明する。すなわち、Pを制御することにより、D’=D’=D’のときに、受光量EがE=Eとなることを達成する。 Next, when θ = 0, a method for detecting proximity of OVF and EVF with the same detection sensitivity as when EVF is not mounted will be described. In the present embodiment, controlling the light emission intensity P of the light emitting element 2301 will be described as an example. That is, by controlling P, it is achieved that the received light amount E becomes E = E 0 when D ′ 1 = D ′ 2 = D ′ 0 .

まず、θ=0、D’=D’=D’のときの透過検出光と反射検出光の受光量が等しくなるように、透過率D /(D +D )、反射率D /(D +D )のダイクロイックミラー406を用いる。 First, the transmittance D 1 2 / (D 1 2 + D 2 2 ) so that the received light amounts of the transmission detection light and the reflection detection light when θ = 0 and D ′ 1 = D ′ 2 = D ′ 0 are equal. A dichroic mirror 406 having a reflectance D 1 2 / (D 1 2 + D 2 2 ) is used.

θ=0のときの発光強度PをPとすると、D’=D’=D’となるときの受光量Eは以下の式で表される。 If the light emission intensity P when θ = 0 is P 0 , the received light amount E when D ′ 1 = D ′ = D ′ 0 is expressed by the following equation.

E=E×(D +D )/(D +D
そのため、発光強度P及び発光ゲインgを
P=g×P
g=(D +D )/(D +D
と制御すると、E=Eとなり、EVF未装着時と同等の検出感度によりOVF及びEVFの近接検出をすることができる。
E = E 0 × (D 1 2 + D 0 2 ) / (D 1 2 + D 2 2 )
Therefore, the light emission intensity P and the light emission gain g are set to P = g × P 0.
g = (D 1 2 + D 2 2 ) / (D 1 2 + D 0 2 )
, E = E 0 , and the proximity detection of OVF and EVF can be performed with the same detection sensitivity as when EVF is not mounted.

図6は、θ≠0のときのEVF装着時の近接検出システムの説明図である。   FIG. 6 is an explanatory diagram of the proximity detection system when the EVF is mounted when θ ≠ 0.

図6(a)は、対象物300がOVF接眼光軸に正対する場合の説明図であり、OVFの近接検出システムを示す。   FIG. 6A is an explanatory diagram in the case where the object 300 faces the OVF eyepiece optical axis, and shows an OVF proximity detection system.

EVF装着時に、EVF未装着時と同等の検出感度によりOVFの近接検出をするために満たすべき条件は、D’=D’のときに、受光量EがE=Eとなることである。θ=0の場合と同様に、D及びDから、本条件を満たす発光ゲインgを算出する。 EVF when mounted, the conditions to be satisfied in order to proximity detection of the OVF by the detection sensitivity equivalent to EVF is not mounted, when the D '1 = D' 0, that the received light amount E is E = E 0 is there. As in the case of θ = 0, the light emission gain g 1 that satisfies this condition is calculated from D 1 and D 2 .

図6(b)は、対象物300がEVF接眼光軸に正対する場合の説明図であり、EVFの近接検出システムを示す。   FIG. 6B is an explanatory diagram in the case where the object 300 faces the EVF eyepiece optical axis, and shows an EVF proximity detection system.

EVF装着時に、EVF未装着時と同等の検出感度によりEVFの近接検出をするために満たすべき条件は、D’=D’のときに、受光量EがE=Eとなることである。θ=0の場合と同様に、D及びDから、本条件を満たす発光ゲインgを算出する。 EVF when mounted, the conditions to be satisfied in order to proximity detection of the EVF by the detection sensitivity equivalent to EVF is not mounted, when the D '2 = D' 0, that the received light amount E is E = E 0 is there. As in the case of θ = 0, the light emission gain g 2 that satisfies this condition is calculated from D 1 and D 2 .

図7は、EVF接眼光軸の角度に対する発光強度制御の例を示す図である。グラフの横軸は、EVF接眼光軸の角度θであり、縦軸は、発光ゲインgである。発光ゲインは、以下の式で表される。   FIG. 7 is a diagram illustrating an example of emission intensity control with respect to the angle of the EVF eyepiece optical axis. The horizontal axis of the graph is the angle θ of the EVF eyepiece optical axis, and the vertical axis is the light emission gain g. The light emission gain is expressed by the following equation.

g=g+g
なお、D=70mm、D’=60mmとし、また、θ=0のとき、d=5mm、d=65mm、d=10mm、d=65mmとした。
g = g 1 + g 2
D 0 = 70 mm, D ′ 0 = 60 mm, and when θ = 0, d 1 = 5 mm, d 2 = 65 mm, d 3 = 10 mm, and d 4 = 65 mm.

上記の通りにパラメータ設定をし、かつ、発光強度Pを図7で示すgを用いて制御すると、EVF装着時に、EVF未装着時とほぼ同等の検出感度によりOVF及びEVFの近接検出をすることが可能となる。   When parameters are set as described above and the emission intensity P is controlled using g shown in FIG. 7, proximity detection of OVF and EVF can be performed with the detection sensitivity almost the same as when EVF is not installed when EVF is installed. Is possible.

EVF装着時とEVF未装着時の検出感度の誤差は、上記のパラメータによって変化する。本実施形態では、後述する撮影モードに関わらず同じ発光ゲインgを用いる場合について説明したが、検出感度の誤差が大きい場合には、撮影モードによって異なる発光ゲインgを用いても良い。   The error in detection sensitivity when the EVF is mounted and when the EVF is not mounted varies depending on the above parameters. In the present embodiment, the case where the same light emission gain g is used regardless of the photographing mode described later has been described, but when the detection sensitivity error is large, a different light emission gain g may be used depending on the photographing mode.

図8は、撮影動作を示すフローチャートである。   FIG. 8 is a flowchart showing the photographing operation.

ステップS01で、カメラの電源がONになると、ステップS02に移る。カメラの電源がONになるまで、ステップS01が繰り返される。   When the camera is turned on in step S01, the process proceeds to step S02. Step S01 is repeated until the camera is turned on.

ステップS02で、CPU225は、アクセサリベース240からの情報に基づいて、EVF400がカメラ200に装着されているか否かを判定する。EVF400がカメラ200に装着されている場合、ステップS03に移る。一方、EVF400がカメラ200に装着されていない場合、ステップS04に移る。   In step S <b> 02, the CPU 225 determines whether the EVF 400 is attached to the camera 200 based on information from the accessory base 240. When the EVF 400 is attached to the camera 200, the process proceeds to step S03. On the other hand, if the EVF 400 is not attached to the camera 200, the process proceeds to step S04.

ステップS03で、EVF角度検出器409は、EVF接眼光軸の回転角θを検出する。EVF角度検出器409によって検出されたEVF接眼光軸の回転角θの情報は、EVFベース401及びアクセサリベース240を経由して、CPU225に送信される。EVF接眼光軸の回転角θの情報がCPU225に送信されると、ステップS04に移る。   In step S03, the EVF angle detector 409 detects the rotation angle θ of the EVF eyepiece optical axis. Information on the rotation angle θ of the EVF eyepiece optical axis detected by the EVF angle detector 409 is transmitted to the CPU 225 via the EVF base 401 and the accessory base 240. When the information about the rotation angle θ of the EVF eyepiece optical axis is transmitted to the CPU 225, the process proceeds to step S04.

ステップS04で、CPU225は、発光素子2301の発光強度Pを決定する。EVF400がカメラ200に装着されている場合、CPU225は、発光強度PをP=g×Pに決定する。ただし、発光ゲインgは、CPU225が受信したEVF接眼光軸の回転角θ、及び、EEPROM226に保存された図7の曲線により決定される。一方、EVF400がカメラ200に装着されていない場合、CPU225は、発光強度PをP=Pに決定する。発光強度Pが決定されると、ステップS05に移る。 In step S04, the CPU 225 determines the light emission intensity P of the light emitting element 2301. If EVF400 is attached to the camera 200, CPU 225 determines the light emission intensity P to P = g × P 0. However, the light emission gain g is determined by the rotation angle θ of the EVF eyepiece optical axis received by the CPU 225 and the curve of FIG. 7 stored in the EEPROM 226. On the other hand, if the EVF400 is not attached to the camera 200, CPU 225 determines the light emission intensity P to P = P 0. When the light emission intensity P is determined, the process proceeds to step S05.

ステップS05で、CPU225は、撮影モードの判定をする。撮影者によって不図示の撮影モード変更ボタンが押されない場合、CPU225は、OVF撮影モードであると判定し、ステップS06に移る。一方、撮影者によって不図示の撮影モード変更ボタンが押された場合、CPU225は、LV(ライブビュー)撮影モードであると判定し、ステップS10に移る。   In step S05, the CPU 225 determines the shooting mode. When the photographing mode change button (not shown) is not pressed by the photographer, the CPU 225 determines that the OVF photographing mode is set, and proceeds to step S06. On the other hand, when a shooting mode change button (not shown) is pressed by the photographer, the CPU 225 determines that the shooting mode is the LV (live view) shooting mode, and proceeds to step S10.

ステップS06で、背面表示部227は、各種撮影情報を表示する。背面表示部227が各種撮影情報を表示すると、ステップS07に移る。   In step S06, the rear display unit 227 displays various types of shooting information. When the rear display unit 227 displays various shooting information, the process proceeds to step S07.

ステップS07で、CPU225は近接検出をする。検出光は、発光素子2301により発光強度Pで発光され、対象物300で反射され、受光素子2302により受光される。受光素子2302による受光量Eが、閾値Eに対して、E≧Eの場合、CPU225は近接状態であると判定し、ステップS08に移る。一方、E<Eの場合、CPU225は近接状態でないと判定し、ステップS16に移る。 In step S07, the CPU 225 performs proximity detection. The detection light is emitted by the light emitting element 2301 with the emission intensity P, reflected by the object 300, and received by the light receiving element 2302. If the amount of light E received by the light receiving element 2302 is E ≧ E 0 with respect to the threshold value E 0 , the CPU 225 determines that it is in the proximity state, and proceeds to step S 08. On the other hand, if E <E 0, the CPU 225 determines that it is not in the proximity state, and proceeds to step S16.

ステップS08で、背面表示部227は、非表示となる。背面表示部227が非表示となると、ステップS09に移る。   In step S08, the rear display unit 227 is not displayed. When the rear display unit 227 is not displayed, the process proceeds to step S09.

ステップS09で、OVF内表示部2103は、各種撮影情報を表示する。OVF内表示部2103が各種撮影情報を表示すると、ステップS16に移る。   In step S09, the OVF display unit 2103 displays various types of shooting information. When the in-OVF display unit 2103 displays various types of shooting information, the process proceeds to step S16.

ステップS10で、CPU225の制御下、ミラーアップ動作が行われる。メインミラー201及びサブミラー202が第2の位置に退避すると、ステップS11に移る。   In step S10, a mirror up operation is performed under the control of the CPU 225. When the main mirror 201 and the sub mirror 202 are retracted to the second position, the process proceeds to step S11.

ステップS11で、背面表示部227は、撮像センサ224で撮像された画像、及び、各種撮影情報を表示する。背面表示部227が表示すると、ステップS12に移る。   In step S <b> 11, the rear display unit 227 displays an image captured by the imaging sensor 224 and various types of shooting information. When the rear display unit 227 displays, the process proceeds to step S12.

ステップS12で、ステップS02と同様に、CPU225は、アクセサリベース240からの情報に基づいて、EVF400がカメラ200に装着されているか否かを判定する。EVF400がカメラ200に装着されている場合、ステップS13に移る。一方、EVF400がカメラ200に装着されていない場合、ステップS16に移る。   In step S <b> 12, as in step S <b> 02, the CPU 225 determines whether the EVF 400 is attached to the camera 200 based on information from the accessory base 240. When the EVF 400 is attached to the camera 200, the process proceeds to step S13. On the other hand, if the EVF 400 is not attached to the camera 200, the process proceeds to step S16.

ステップS13で、ステップS07と同様に、CPU225は近接検出をする。E≧Eの場合、CPU225は近接状態であると判定し、ステップS14に移る。一方、E<Eの場合、CPU225は近接状態でないと判定し、ステップS16に移る。 In step S13, as in step S07, the CPU 225 performs proximity detection. If E ≧ E 0, the CPU 225 determines that it is in the proximity state, and proceeds to step S14. On the other hand, if E <E 0, the CPU 225 determines that it is not in the proximity state, and proceeds to step S16.

ステップS14で、ステップS08と同様に、背面表示部227は、非表示となる。背面表示部227が非表示となると、ステップS15に移る。   In step S14, as in step S08, the rear display unit 227 is not displayed. When the rear display unit 227 is not displayed, the process proceeds to step S15.

ステップS15で、EVF内表示部402は、撮像センサ224で撮像された画像、及び、各種撮影情報を表示する。EVF内表示部402が表示すると、ステップS16に移る。   In step S15, the EVF display unit 402 displays an image captured by the image sensor 224 and various types of shooting information. When the in-EVF display unit 402 displays, the process proceeds to step S16.

ステップS16で、CPU225は、撮影者によってレリーズボタンが半押しされたか(SW1がONか)否かを判定する。レリーズボタンが半押しされた場合、ステップS16に移る。一方、レリーズボタンが半押しされない場合、ステップS05に移る。   In step S16, the CPU 225 determines whether or not the release button has been half-pressed by the photographer (SW1 is ON). If the release button is pressed halfway, the process proceeds to step S16. On the other hand, if the release button is not pressed halfway, the process proceeds to step S05.

ステップS17で、CPU225の制御のもと、焦点調整動作が行われる。焦点調整動作は、位相差検出方式により焦点検出装置203が取得した被写体像の出力信号に基づいて、被写体に対して自動的にフォーカスレンズ101を合焦位置に駆動することにより行われる。焦点調整動作が完了すると、ステップS18に移る。   In step S17, a focus adjustment operation is performed under the control of the CPU 225. The focus adjustment operation is performed by automatically driving the focus lens 101 to the focus position with respect to the subject based on the output signal of the subject image acquired by the focus detection device 203 by the phase difference detection method. When the focus adjustment operation is completed, the process proceeds to step S18.

ステップS18で、CPU225の制御のもと、露出制御動作が行われる。露出制御動作は、測光センサ222が取得した被写体像の出力信号に基づいて、レンズユニット100内の不図示の開口絞りの制御値、フォーカルプレーンシャッタ204のシャッタ速度制御値、または、撮像センサ205の受光感度等が設定される。露出制御動作が完了すると、ステップS19に移る。   In step S18, an exposure control operation is performed under the control of the CPU 225. The exposure control operation is performed based on the output signal of the subject image acquired by the photometric sensor 222, the control value of an aperture stop (not shown) in the lens unit 100, the shutter speed control value of the focal plane shutter 204, or the image sensor 205. The light receiving sensitivity is set. When the exposure control operation is completed, the process proceeds to step S19.

ステップS19で、CPU225は、撮影者によってレリーズボタンが全押しされたか(SW2がONか)否かを確認する。レリーズボタンが全押しされたことを確認すると、ステップS20に移る。レリーズボタンが全押しされたことが確認されるまで、ステップS19が繰り返される。   In step S19, the CPU 225 confirms whether or not the release button has been fully pressed by the photographer (whether SW2 is ON). If it is confirmed that the release button has been fully pressed, the process proceeds to step S20. Step S19 is repeated until it is confirmed that the release button has been fully pressed.

ステップS20で、CPU225の制御のもと、撮影動作が行われる。CPU225は、不図示のシャッタ制御部、絞り駆動部、撮像センサ制御部に各々信号を送信する。撮像センサ205はレンズユニット100によって投影された被写体像を光電変換し、アナログ信号を出力する。撮像センサ205に出力されたアナログ信号は、不図示の撮像センサ制御部及び画像処理部により処理され、撮影画像が生成される。撮影動作が完了すると、カメラの全体フローは完了する。   In step S20, a photographing operation is performed under the control of the CPU 225. The CPU 225 transmits signals to a shutter control unit, a diaphragm driving unit, and an image sensor control unit (not shown). The image sensor 205 photoelectrically converts the subject image projected by the lens unit 100 and outputs an analog signal. The analog signal output to the image sensor 205 is processed by an image sensor control unit and an image processing unit (not shown), and a captured image is generated. When the shooting operation is completed, the entire camera flow is completed.

以上のように、発光素子2301の発光強度Pを、EVF接眼光軸の回転角θに応じて所定の制御をすることにより、コストの増大を抑制しつつ、略一定の検出感度により光学ビューファインダ及び電子ビューファインダの近接検出が可能である。   As described above, the light intensity P of the light emitting element 2301 is controlled in accordance with the rotation angle θ of the EVF eyepiece optical axis, thereby suppressing an increase in cost and an optical viewfinder with a substantially constant detection sensitivity. In addition, proximity detection of the electronic viewfinder is possible.

以上、本発明を実施形態と共に説明したが、上記実施形態は本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。   Although the present invention has been described together with the embodiments, the above-described embodiments are merely examples of implementation in carrying out the present invention, and the technical scope of the present invention is interpreted in a limited manner by these. It must not be. That is, the present invention can be implemented in various forms without departing from the technical idea or the main features thereof.

例えば上記実施形態では、発光素子2301の発光強度Pを制御することにより、略一定の検出感度により光学ビューファインダ及び電子ビューファインダの近接検出することについて説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されず、発光素子2301の発光強度Pではなく、受光素子2302の受光感度または受光量の判定の閾値Eを制御することによっても達成可能である。 For example, in the above embodiment, the proximity detection of the optical viewfinder and the electronic viewfinder with the substantially constant detection sensitivity by controlling the light emission intensity P of the light emitting element 2301 has been described. However, the present invention is not limited to this, and can be achieved by controlling not the light emission intensity P of the light emitting element 2301 but the threshold value E 0 for determining the light receiving sensitivity or the light receiving amount of the light receiving element 2302.

(その他の実施形態)
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
(Other embodiments)
The present invention supplies a program that realizes one or more functions of the above-described embodiments to a system or apparatus via a network or a storage medium, and one or more processors in a computer of the system or apparatus read and execute the program This process can be realized. It can also be realized by a circuit (for example, ASIC) that realizes one or more functions.

100 レンズユニット、200 カメラ、
210 光学ビューファインダ(OVF)、230 近接検出ユニット、
2301 発光素子、2302 受光素子、300 対象物、
400 電子ビューファインダ(EVF)、406 ダイクロイックミラー、
407 可動ミラー、409 角度検出器
100 lens units, 200 cameras,
210 optical viewfinder (OVF), 230 proximity detection unit,
2301 Light emitting element, 2302 Light receiving element, 300 Object,
400 electronic viewfinder (EVF), 406 dichroic mirror,
407 Movable mirror, 409 Angle detector

Claims (5)

撮像装置(200)及び前記撮像装置に着脱可能な電子ビューファインダ(400)を有する撮像システムであって、
前記撮像装置は、
光学ビューファインダ(210)と、
検出光を発光する発光手段(2301)と、
前記撮像装置の外の対象物(300)により反射された前記検出光を受光する受光手段(2302)と、
前記受光手段による受光結果が所定の閾値に基づいて、前記対象物が前記光学ビューファインダに近接しているか否かを判定する近接判定手段と、
を有し、
前記電子ビューファインダは、
前記撮像装置に対して回転可能な接眼光軸と、
前記検出光を反射光及び透過光に分割する光路分割手段(406)と、
前記反射光を前記接眼光軸と平行に導く導光手段(407)と、
前記接眼光軸の回転角を検出する角度検出手段と、
を有し、
前記撮像装置は、前記角度検出手段(409)によって検出された前記回転角に基づいて、前記検出光の強度、前記受光手段の受光感度、または、前記閾値の少なくともいずれか一つを変更する制御手段を有することを特徴とする撮像システム。
An imaging system having an imaging device (200) and an electronic viewfinder (400) detachable from the imaging device,
The imaging device
An optical viewfinder (210);
A light emitting means (2301) for emitting detection light;
A light receiving means (2302) for receiving the detection light reflected by the object (300) outside the imaging device;
Proximity determination means for determining whether or not the object is close to the optical viewfinder based on a light reception result by the light receiving means based on a predetermined threshold;
Have
The electronic viewfinder is
An eyepiece optical axis rotatable with respect to the imaging device;
Optical path dividing means (406) for dividing the detection light into reflected light and transmitted light;
Light guiding means (407) for guiding the reflected light in parallel with the eyepiece optical axis;
Angle detection means for detecting a rotation angle of the eyepiece optical axis;
Have
The imaging apparatus controls to change at least one of the intensity of the detection light, the light receiving sensitivity of the light receiving means, or the threshold based on the rotation angle detected by the angle detecting means (409). An imaging system comprising means.
前記導光手段は、前記回転角に応じて回転するミラーであることを特徴とする請求項1に記載の撮像システム。   The imaging system according to claim 1, wherein the light guiding unit is a mirror that rotates according to the rotation angle. 前記光路分割手段は、ダイクロイックミラー、偏光ビームスプリッタ、ハーフミラーのいずれかであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の撮像システム。   The imaging system according to claim 1, wherein the optical path dividing unit is any one of a dichroic mirror, a polarization beam splitter, and a half mirror. 電子ビューファインダを着脱保持可能な撮像装置であって、
前記撮像装置は、
光学ビューファインダと、
検出光を発光する発光手段と、
前記撮像装置の外の対象物により反射された前記検出光を受光する受光手段と、
前記受光手段による受光結果が所定の閾値に基づいて、前記対象物が前記光学ビューファインダに近接しているか否かを判定する近接判定手段と、
を有し、
前記電子ビューファインダは、
前記撮像装置に対して回転可能な接眼光軸と、
前記検出光を反射光及び透過光に分割する光路分割手段と、
前記反射光を前記接眼光軸と平行に導く導光手段と、
前記接眼光軸の回転角を検出する角度検出手段と、
を有し、
前記撮像装置は、前記角度検出手段によって検出された前記回転角に基づいて、前記検出光の強度、前記受光手段の受光感度、または、前記閾値の少なくともいずれか一つを変更する制御手段を有することを特徴とする撮像装置。
An imaging device capable of detachably holding an electronic viewfinder,
The imaging device
An optical viewfinder,
A light emitting means for emitting detection light;
A light receiving means for receiving the detection light reflected by an object outside the imaging device;
Proximity determination means for determining whether or not the object is close to the optical viewfinder based on a light reception result by the light receiving means based on a predetermined threshold;
Have
The electronic viewfinder is
An eyepiece optical axis rotatable with respect to the imaging device;
Optical path dividing means for dividing the detection light into reflected light and transmitted light;
A light guiding means for guiding the reflected light in parallel with the eyepiece optical axis;
Angle detection means for detecting a rotation angle of the eyepiece optical axis;
Have
The imaging apparatus includes a control unit that changes at least one of the intensity of the detection light, the light reception sensitivity of the light receiving unit, or the threshold value based on the rotation angle detected by the angle detection unit. An imaging apparatus characterized by that.
撮像装置に着脱可能であり、かつ、前記撮像装置に対して回転可能な接眼光軸を有する電子ビューファインダであって、
前記撮像装置は、
光学ビューファインダと、
検出光を発光する発光手段と、
前記撮像装置の外の対象物により反射された前記検出光を受光する受光手段と、
前記受光手段による受光結果が所定の閾値に基づいて、前記対象物が前記光学ビューファインダに近接しているか否かを判定する近接判定手段と、
を有し、
前記電子ビューファインダは、
前記検出光を反射光及び透過光に分割する光路分割手段と、
前記反射光を前記接眼光軸と平行に導く導光手段と、
前記接眼光軸の回転角を検出する角度検出手段と、
を有し、
前記撮像装置は、前記角度検出手段によって検出された前記回転角に基づいて、前記検出光の強度、前記受光手段の受光感度、または、前記閾値の少なくともいずれか一つを変更する制御手段を有することを特徴とする電子ビューファインダ。
An electronic viewfinder that is detachable from an imaging device and has an eyepiece optical axis that is rotatable with respect to the imaging device,
The imaging device
An optical viewfinder,
A light emitting means for emitting detection light;
A light receiving means for receiving the detection light reflected by an object outside the imaging device;
Proximity determination means for determining whether or not the object is close to the optical viewfinder based on a light reception result by the light receiving means based on a predetermined threshold;
Have
The electronic viewfinder is
Optical path dividing means for dividing the detection light into reflected light and transmitted light;
A light guiding means for guiding the reflected light in parallel with the eyepiece optical axis;
Angle detection means for detecting a rotation angle of the eyepiece optical axis;
Have
The imaging apparatus includes a control unit that changes at least one of the intensity of the detection light, the light reception sensitivity of the light receiving unit, or the threshold value based on the rotation angle detected by the angle detection unit. An electronic viewfinder characterized by that.
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