JP2019159154A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表示装置の生産効率の更なる向上を図る。【解決手段】本開示の表示装置は、表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、を有する矩形状の第１の基板を備え、前記第１の基板は、第１方向に延伸する第１の辺と第２の辺と、第２方向に延伸する第３の辺と第４の辺と、前記表示領域において前記第１方向および前記第２方向にマトリクス状に配置された複数の画素と、前記非表示領域において、前記第１の辺に沿って設けられた複数の第１のマークと、前記第２の辺に沿って設けられた複数の第２のマークと、を含み、前記複数の第１のマークと、前記複数の第２のマークとは、前記第３の辺の中心と前記第４の辺の中心を結ぶ線に対して、対称関係にある。【選択図】図１

Description

本発明は、表示装置に関する。

下記特許文献１における表示装置は、薄膜トランジスタ基板と、カラーフィルタ基板と、両基板を貼り合わせるシール部材と、を含む。カラーフィルタ基板は、表示領域に設けられたカラーフィルタを含み、表示領域の周囲は非表示領域となっている。カラーフィルタは、表示パネルの外形に合わせて形成されている。

特開２０１３−１５２３１０号公報

上記従来の構成では、生産効率の更なる向上が課題となっていた。即ち、上記従来の構成を実現するためには、それぞれサイズの異なる表示パネルの外形に合わせて各種マスクを個別に準備する必要があるため、生産効率の更なる向上が課題となっていた。

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、液晶表示装置の生産効率の更なる向上を図ることにある。

上記課題を解決するために、本開示に係る表示装置は、表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、を有する矩形状の第１の基板を備え、前記第１の基板は、第１方向に延伸する第１の辺と第２の辺と、第２方向に延伸する第３の辺と第４の辺と、前記表示領域において前記第１方向および前記第２方向にマトリクス状に配置された複数の画素と、前記非表示領域において、前記第１の辺に沿って設けられた複数の第１のマークと、前記第２の辺に沿って設けられた複数の第２のマークと、を含み、前記複数の第１のマークと、前記複数の第２のマークとは、前記第３の辺の中心と前記第４の辺の中心を結ぶ線に対して、対称関係にある。

本開示に係る表示装置によれば、生産効率の更なる向上を図ることが可能となる。

図１は第１の実施形態に係る表示装置の概略構成を示す模式的な平面図である。 図２は第１の実施形態に係る表示パネルのＴＦＴアレイの概略構成を示す模式的な平面図である。 図３は第１の実施形態に係る表示パネルの画素の構成を示す模式的な平面図である。 図４は図３のＢ−Ｂ´線における断面を示す断面図である。 図５は図３のＣ−Ｃ´線における断面を示す断面図である。 図６は第１の実施形態に係る表示装置の製造方法における基板貼り合せ工程後の状態を示す平面図である。 図７は図１のVII−VII線における断面を示す断面図である。 図８は図１のVIII−VIII線における断面を示す断面図である。 図９は図１のIX−IX線における断面を示す断面図である。 図１０は第１の実施形態に係る表示装置の製造方法における樹脂膜形成工程後の状態を示す断面図である。 図１１は図６のXI−XI線における断面を示す断面図である。 図１２は図６のXII−XII線における断面を示す断面図である。 図１３は図６のXIII−XIII線における断面を示す断面図である。 図１４は第１の実施形態に係る表示装置の製造方法における第３切断工程を説明するための図である。 図１５は本実施形態に係る表示装置の製造方法の他の実施例における基板貼り合せ工程後の状態を示す平面図である。 図１６は図１のＤ−Ｄ’線の断面を示す断面図である。 図１７は図１のＤ−Ｄ’線の断面を示す断面図である。 図１８は図１のＡ部を拡大した模式的な平面図である。 図１９は第１の実施形態の変形例に係る表示装置の概略構成を示す模式的な平面図である。 図２０は図１９のＦ部を拡大した模式的な平面図である。 図２１は図２０のＥ−Ｅ’線の断面を示す断面図である。 図２２は図２０のＥ−Ｅ’線の断面を示す断面図である。 図２３は図１９のＦ部を背面側から見て拡大した模式的な平面図である。 図２４は図１９のＦ部を背面側から見て拡大した模式的な平面図である。

［第１の実施形態］
以下、第１の実施形態について、図面を用いて説明する。

［液晶表示装置］
本開示の第１の実施形態における表示装置について、図面を用いて以下に説明する。なお、本実施形態においては、表示装置の例として液晶表示装置を用いて説明するが、本開示はこれに限定されず、例えば有機ＥＬディスプレイ等であってもよい。また、本実施形態では、ＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶表示装置を例に挙げるが、これに限定されず、例えばＣＯＦ（Chip On Film）方式又はＴＣＰ（Tape Carrier Package）方式の液晶表示装置であってもよい。

図１は、本実施形態に係る表示装置１の概略構成を示す平面図である。表示装置１は、表示パネル１０、ソースドライバＩＣ（Integrated Circuit）２０、ゲートドライバＩＣ３０、及び、バックライト（図示せず）を含んで構成されている。表示パネル１０は、複数のソース線と複数のゲート線を含む薄膜トランジスタ基板１００、カラーフィルタを含むカラーフィルタ基板２００、及び、両基板間に挟持された液晶層（図示せず）を含んでいる。

薄膜トランジスタ基板１００におけるソース辺（第４の辺）に沿った領域には、駆動回路としてのソースドライバＩＣ２０が搭載され、ゲート辺（第１の辺）に沿った領域には、駆動回路としてのゲートドライバＩＣ３０が搭載される。ソースドライバＩＣ２０及びゲートドライバＩＣ３０の数は限定されない。なお、本実施形態において、ソース辺に対向する辺を反ソース辺（第３の辺）とし、ゲート辺に対向する辺を反ゲート辺（第２の辺）とする。また、カラーフィルタ基板２００は、ゲート辺側に第５の辺、反ゲート辺側に第６の辺、ソース辺側に第７の辺、反ソース辺側に第８の辺を有する。

本実施形態においては、ゲートドライバＩＣ３０が搭載されるゲート辺のみならず、ゲートドライバＩＣ３０が搭載されない反ゲート辺においても、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００とが、平面視で重畳されない構成としている。より具体的には、カラーフィルタ基板２００側から見た平面視において、薄膜トランジスタ基板１００が、ゲート辺、及び反ゲート辺において露出する構成としている。

本実施形態においては、図１に示すように第１の辺であるゲート辺と、第２の辺である反ゲート辺とには、ゲート辺、反ゲート辺に沿って配置された複数の分断用のマークＭが設けられている。この分断用のマークＭは、後述する第１の切断工程、又は第２の切断工程において、カラーフィルタ基板２００、又は薄膜トランジスタ基板１００が、所望の分断ラインで切断されているか否かを確認する検査に用いる。

この複数のマークＭの内、図１に示す第１のマークＭ１は、ゲート辺に複数配置されており、第２のマークＭ２は、反ゲート辺に複数配置されている。複数の第１のマークＭ１と、複数の第２のマークＭ２とは、反ソース辺（第３の辺）の中心と、ソース辺（第４の辺）の中心を結ぶ線Ｌ１に対して、対称関係となるよう配置している。そして、対称関係にある第１のマークＭ１と第２のマークＭ２とを結ぶ線Ｌ２が、カラーフィルタ基板２００に設けられたカラーフィルタと、平面視で重畳する構成としている。これは、カラーフィルタと平面視で重畳する位置で、カラーフィルタ基板２００、薄膜トランジスタ基板１００の少なくとも一方を意図的に切断することを意味している。第１のマークＭ１の一つ（本実施形態においては、第１のマークＭ１Ａ）と、第２のマークＭ２の一つ（本実施形態においては、第２のマークＭ２Ａ）が、反ソース辺（第３の辺）と、平面視で重畳している。

図１に示すように、この複数の第１のマークＭ１の中心位置ＣＰ１、及び複数の第２のマークＭ２の中心位置ＣＰ２は、ソースドライバＩＣ２０が配置された第４の辺であるソース辺よりも、第３の辺である反ソース辺に近い側に配置されている。なお、複数の第１のマークＭ１の中心位置は、例えば、行方向、列方向をＸ、Ｙ座標とした場合における、各第１のマークＭ１の位置の平均値によって求めることができる。同様に、複数の第２のマークＭ２の中心位置は、例えば、行方向、列方向をＸ、Ｙ座標とした場合における、各第２のマークＭ２の位置の平均値によって求めることができる。反ソース辺は、後述する第１の切断工程、第２の切断工程において、カラーフィルタ基板２００、又は薄膜トランジスタ基板１００が切断される辺である。即ち、複数の分断用のマークＭの内の少なくとも一部は、第１の切断工程、第２の切断工程が行われる反ソース辺（第３の辺）に近い側に配置されている。なお、この反ソース辺（第３の辺）には、上述したとおり、駆動回路としてのゲートドライバＩＣ３０が配置されており、当該ゲートドライバＩＣ３０は、複数の第１のマークＭ１の内、第４の辺であるソース辺に最も近い第１のマークＭ１（本実施形態においては、第１のマークＭ１Ｂ）と、ソース辺との間に配置されている。

この分断用のマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）は、例えば、金属膜からなり、薄膜トランジスタ基板１００に配置されるソース線、又はゲート線を形成する工程において、これらソース線、ゲート線を形成するのに用いる材料を用いて、ソース線、又はゲート線の形成と同時に形成してもよい。

図１６は、本実施形態に係る、図１のＤ−Ｄ’線の断面を示す断面図であり、図１７は、本実施形態における他の実施例に係る、図１のＤ−Ｄ’線の断面を示す断面図である。

図１６に示す例では、ゲート線１２が配置された層において、ゲート線１２と分離して配置された金属膜として、上述した分断用のマークＭを形成している。ゲート線１２は、ゲート辺に沿う領域において引き回され、図１に示したゲートドライバＩＣ３０に接続される。ゲート線１２と同層に、ゲート線１２と同じ金属材料を用いて分断用のマークＭを形成することにより、ゲート線１２の形成工程と同じ工程でマークＭを形成することができるため、生産性に優れている。

図１７に示す例では、ソース線１１（図８を参照）が配置された層において、ソース線１１と同じ金属膜を用いて、上述した分断用のマークＭを形成している。ソース線１１と同層に、ソース線１１と同じ金属材料を用いて分断用のマークＭを形成することにより、分断用のマークＭをソース線１１の形成工程で同時に形成することができるため、生産性に優れている。

また、マークＭとして、このような金属膜を用いる構成とすることにより、金属膜の反射を目視で確認することができるため、視認性の観点からも望ましい。

ゲート辺、又は反ゲート辺に並べて配置された、複数の分断用のマークＭは所定間隔で配置してもよい。例えば、複数の第１のマークＭ１、第２のマークＭ２は、相互に第１の距離をあけて配置されている。この第１の距離は、薄膜トランジスタ基板１００に設けられた複数のゲート線の配置間隔である第２の距離に応じて決定する。例えば、第１の距離を、ゲート線の配置間隔である第２の距離の整数倍に設定すれば、その整数個の画素の間隔で第１のマークＭ１、第２のマークＭ２を配置することができる。このような構成とすることにより、所望の画素数に応じて、分断ラインを決定することができ、当該分断ラインで切断した際に、所望のラインで切断ができたか否の検査を、第１のマークＭ１、第２のマークＭ２を用いて行うことができる。

図１８は、図１のＡ部を拡大した模式的な平面図である。図１８に示すように分断用のマークＭは、例えば二つの三角形の頂点を対向させて配置させて様なマークであってもよい。更に、図１８に示すように、ゲート辺、又は反ゲート辺において、各辺に沿う方向に、このマークＭと離間して配置された目盛Ｓを設けることが望ましい。このような目盛Ｓを設けることにより、第１の切断工程、又は第２の切断工程において、実際の切断ラインと所望の切断ラインとの間にずれが生じたような場合、ゲート辺、反ゲート辺それぞれにおいてどれだけのずれが生じているのかを確認することができる。その結果として、ゲート辺、反ゲート辺のずれ量に応じて、切断ラインの再調整を行うことができる。なお、第１のマークＭ１の近傍には、第１のマークＭ１と離間して第１の目盛Ｓ１が配置され、第２のマークＭ２の近傍には、第２のマークＭ２と離間して第２の目盛Ｓ２が配置されている。

なお、この目盛Ｓは、例えば、金属膜からなり、薄膜トランジスタ基板１００に配置されるソース線、又はゲート線を形成する工程において、これらソース線、ゲート線を形成するのに用いる材料を用いて、ソース線、又はゲート線の形成と同時に形成してもよい。

なお、上述した例においては、薄膜トランジスタ基板１００の端辺に分断用のマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）を形成する例を説明したが、カラーフィルタ基板２００の端辺に分断用のマークＭを形成してもよい。その場合は、例えばブラックマトリクス２２２と同じ層に、ブラックマトリクス２２２と同じ材料を用いて、分断用のマークＭを形成すれば、生産性が高く好ましい。

表示パネル１０は、ブラックマトリクス額縁領域４０と、平面視でブラックマトリクス額縁領域４０の外周側に配置されたカラーフィルタ素子層非形成領域４１と、平面視でブラックマトリクス額縁領域４０の内周側に配置された表示領域４２と、平面視で表示領域４２よりも反ソース辺側（反ソース辺に沿う領域）に配置された黒画像表示領域４３と、平面視で黒画像表示領域４３よりも更に反ソース辺側（反ソース辺に沿う領域）に配置されたＴＦＴ（thin film transistor）アレイ非形成領域４４と、を含む。ここで、カラーフィルタ素子層非形成領域４１、黒画像表示領域４３、及びＴＦＴアレイ非形成領域４４は、非表示領域である。

ブラックマトリクス額縁領域４０とは、カラーフィルタ基板２００において、ガラス基板とオーバコート層とに挟持されたブラックマトリクス２２２（図７、８を参照）が額縁形状に形成され、これが平面視で重畳する領域である。本実施形態においては、ブラックマトリクス額縁領域４０が、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺に沿うように配置されているが、反ソース辺に沿うようには配置されておらず、反ソース辺においては、その両端部のみに配置されている。

カラーフィルタ素子層非形成領域４１とは、カラーフィルタ基板２００において、カラーフィルタ２０６及びブラックマトリクス２２２を含むカラーフィルタ素子層２２０（図７、８を参照）が形成されていない部位と平面視で重畳する領域であり、画像を表示することができない領域である。本実施形態においては、カラーフィルタ素子層非形成領域４１が、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺に沿うように配置されているが、反ソース辺に沿うようには配置されておらず、反ソース辺においては、その両端部のみに配置されている。

本実施形態においては、このカラーフィルタ素子層非形成領域４１における、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との間に、第２のシール部材３１０Ｂを配置し、両基板を貼り合わせる構成としている。従って、ソース辺、ゲート辺、及び反ゲート辺においては、第２のシール部材３１０Ｂとカラーフィルタ２０６とが平面視で重畳されない。

表示領域４２とは、カラーフィルタ基板２００において、カラーフィルタ２０６及びブラックマトリクス２２２を含むカラーフィルタ素子層２２０と平面視で重畳する領域であり、ソースドライバＩＣ２０からデータ信号、及びゲートドライバＩＣ３０からゲート信号を制御することにより、所望の映像を表示することが可能な領域である。表示領域４２は、行方向、及び列方向に、マトリクス状に配置された複数の画素を含んでいる。

ＴＦＴアレイ非形成領域４４とは、薄膜トランジスタ基板１００において、図２を用いて後述するＴＦＴアレイ２２が形成されていない部位と平面視で重畳する領域であり、画像を表示することができない領域である。なお、ＴＦＴアレイ非形成領域の一部において、ソース線やゲート線の一部が含まれている構成としても構わない。

本実施形態においては、このＴＦＴアレイ非形成領域４４における、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との間に、第１のシール部材３１０Ａを配置し、両基板を貼り合わせる構成としている。ＴＦＴアレイ非形成領域４４においても、カラーフィルタ基板２００においてはカラーフィルタ２０６（図９を参照）が存在するため、第１のシール部材３１０Ａとカラーフィルタ２０６とが平面視で重畳される。なお、図１に示すように、反ソース辺に沿う領域において、第１のシール部材３１０Ａは、ＴＦＴアレイ非形成領域４４から、カラーフィルタ素子層非形成領域４１の端部にまで延伸し、第２のシール部材３１０Ｂと接触している。

更に、本実施形態においては、反ソース辺に沿う領域において、第１のシール部材３１０Ａと並走する第３のシール部材３１０Ｃを設ける構成としている。この第３のシール部材３１０Ｃについても、ＴＦＴアレイ非形成領域４４から、カラーフィルタ素子層非形成領域４１の端部にまで延伸し、第２のシール部材３１０Ｂと接触する構成としている。

なお、シール部材が配置された領域においては、配向膜を形成することができないため、このＴＦＴアレイ非形成領域４４においては、バックライトの光が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４から抜け出やすい構成となっている。そのため、ＴＦＴアレイ非形成領域４４の表示面側には、例えば黒色の遮光テープ４０２（図９を参照）などを貼り付けることにより、バックライトの光が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４から漏れ出ない構成とすることが望ましい。

黒画像表示領域４３とは、カラーフィルタ基板２００に形成されたカラーフィルタ２０６及びブラックマトリクス２２２を含むカラーフィルタ素子層２２０（図９を参照）と、薄膜トランジスタ基板１００に形成されたＴＦＴアレイ２２とが平面視で重畳する領域であり、常に黒色の画像を表示する領域である。黒画像表示領域４３が、常に黒色の画像を表示することにより、上述したＴＦＴアレイ非形成領域４４における、遮光テープ４０２（図９を参照）の貼り付け精度の高低によらず、例えばきれいな直線状に、黒色を表示することが可能となる。また、表示領域４２側とＴＦＴアレイ非形成領域４４の間に、黒画像表示領域４３を設けることにより、バックライトの光が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４から漏れ出るのを抑制することができる。

図１に示すように、本実施形態においては、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面と、カラーフィルタ基板２００の端面とが、平面視で重畳されない構成としている。より具体的には、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面が、カラーフィルタ基板２００の端面よりも外側に配置されており、カラーフィルタ基板２００側からの平面視で、薄膜トランジスタ基板１００の表面が露出する構成としている。

なお、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面が、カラーフィルタ基板２００の端面よりも内側に配置されており、薄膜トランジスタ基板１００側からの平面視で、カラーフィルタ基板２００の表面が露出する構成としてもよい。また、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面が、カラーフィルタ基板２００の端面と平面視で重畳する構成としてもよい。

図７は、図１のVII−VII線における断面を示す断面図であり、ゲート辺近傍における断面を示す。図８は、図１のVIII−VIII線における断面を示す断面図であり、ソース辺近傍における断面を示す。図９は、図１のIX−IX線における断面を示す断面図であり、反ソース辺近傍における断面を示す。

図７、８、９に示すように、薄膜トランジスタ基板１００は、第１のガラス基板１０３と、第１のガラス基板１０３の表示面側に形成された薄膜トランジスタ素子層１２０と、第１のガラス基板１０３の背面側に形成された第１の偏光板１３０と、を含んでいる。

図７に示すように、ゲート辺に沿う領域における、カラーフィルタ素子層非形成領域４１よりもゲート辺に近い領域において、薄膜トランジスタ素子層１２０の表示面側に第１の端子部３１Ａが設けられている。第１の端子部３１ＡはゲートドライバＩＣ３０に電気的に接続されている。図８に示すように、ソース辺に沿う領域における、カラーフィルタ素子層非形成領域４１よりもソース辺に近い領域において、薄膜トランジスタ素子層１２０の表示面側に第２の端子部３１Ｂが設けられている。第２の端子部３１ＢはソースドライバＩＣ２０に電気的に接続されている。

図９に示すように、反ソース辺に沿う領域においては、カラーフィルタ基板２００の端面から、カラーフィルタ２０６の一部が露出している。即ち、平面視で、カラーフィルタ基板２００の端面が、カラーフィルタ２０６の端面と重畳する構成としている。

図７、８、９に示すように、カラーフィルタ基板２００は、第２のガラス基板２０３と、第２のガラス基板２０３の背面側に形成されたカラーフィルタ素子層２２０と、カラーフィルタ素子層２２０の背面側に形成されたオーバコート層２２３と、第２のガラス基板２０３の表示面側に形成された第２の偏光板２３０と、を含んでいる。カラーフィルタ素子層２２０は、カラーフィルタ２０６とブラックマトリクス２２２とを含む。

図７、８、９に示すように、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との間には液晶層３００が配置されており、液晶層３００の周囲には第１のシール部材３１０Ａ、第２のシール部材３１０Ｂ、第３のシール部材３１０Ｃが形成されている。具体的には、図７、８、及び図１において示したように、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺に沿う領域においては、液晶層３００の周囲に第２のシール部材３１０Ｂが形成されており、図９、及び図１において示したように、反ソース辺に沿う領域においては、液晶層３００の周囲に第１のシール部材３１０Ａと、第１のシール部材３１０Ａに沿うように配置された第３のシール部材３１０Ｃとが形成されている。

図７、８に示すように、ゲート辺、ソース辺に沿う領域においては、カラーフィルタ基板２００の端辺がカラーフィルタ素子層非形成領域４１となっている。これに対して、図９に示すように、反ソース辺に沿う領域においては、カラーフィルタ基板２００の端辺においても、カラーフィルタ素子層２２０が形成されている。そのため、反ソース辺に沿う領域における薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との距離ｄ１（図９を参照）は、ソース辺、ゲート辺に沿う領域における薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との距離ｄ２（図７、８を参照）よりも、カラーフィルタ素子層２２０の膜厚に応じて、小さくなっている。なお、反ゲート辺に沿う領域においても、ゲート辺、ソース辺と同様にカラーフィルタ基板２００の端辺がカラーフィルタ素子層非形成領域４１となっている。そのため、反ゲート辺に沿う領域における薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との距離は、ゲート辺、ソース辺と同様に距離ｄ２となる。

更に、本実施形態においては、図９に示すように、薄膜トランジスタ基板１００内にＴＦＴアレイ２２（図２を参照）が形成されていないＴＦＴアレイ非形成領域４４において、カラーフィルタ基板２００の表示面側に、例えば黒色の遮光テープ４０２を貼り付けている。遮光テープ４０２が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４の表示面側に配置された構成とすることにより、バックライトの光が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４の表示面側から漏れ出るのを抑制することができる。

更に、図１０に示す例においては、カラーフィルタ基板２００の端面を覆う樹脂膜４０１を設けている。カラーフィルタ基板２００の端面から、カラーフィルタ素子層２２０が露出されてしまう構成とした場合、表示装置１外からの水分の浸入により、カラーフィルタ素子層２２０に含まれるブラックマトリクス２２２が膨潤してしまう可能性がある。しかし、本実施形態においては、樹脂膜４０１が、カラーフィルタ基板２００の端面を覆う構成とすることにより、水分等が、カラーフィルタ素子層２２０に浸入するのを抑制することができる。その結果として、カラーフィルタ素子層２２０に含まれるブラックマトリクス２２２が膨潤することを抑制し、カラーフィルタ基板２００から第１のシール部材３１０Ａが剥がれる可能性を低減することができる。なお、樹脂膜４０１が、カラーフィルタ基板２００の端面のみならず、薄膜トランジスタ素子層１２０の端面も覆う構成としてもよい。

なお、図１を用いて上述したように、本実施形態においては、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面と、カラーフィルタ基板２００の端面とが、平面視で重畳されない構成としている。このような構成とすることにより、樹脂膜４０１を塗布しやすく、且つ樹脂膜４０１の留まりを良くすることができる。

図２は、表示パネル１０におけるＴＦＴアレイ２２の概略構成を示す平面図（等価回路図）である。ＴＦＴアレイ２２は、第１方向（例えば列方向）に延在する複数のソース線１１と、第２方向（例えば行方向）に延在する複数のゲート線１２とを含む。各ソース線１１と各ゲート線１２との各交差部には、薄膜トランジスタ１３が設けられている。各ソース線１１はソースドライバＩＣ２０（図１を参照）に電気的に接続されており、各ゲート線１２はゲートドライバＩＣ３０（図１を参照）に電気的に接続されている。また、ＴＦＴアレイ２２は、各ソース線１１と各ゲート線１２との各交差部に対応して、マトリクス状（行方向及び列方向）に配置された複数の画素１４と、画素１４ごとに配置された複数の画素電極１５と、複数の画素１４に共通する共通電極１６とを含む。

各ソース線１１には、ソースドライバＩＣ２０からデータ信号（データ電圧）が供給され、各ゲート線１２には、ゲートドライバＩＣ３０からゲート信号（ゲートオン電圧、ゲートオフ電圧）が供給される。共通電極１６には、コモンドライバ（図示せず）から共通電圧Ｖｃｏｍが供給される。ゲート信号のオン電圧（ゲートオン電圧）がゲート線１２に供給されると、ゲート線１２に接続された薄膜トランジスタ１３がオンし、薄膜トランジスタ１３に接続されたソース線１１を介して、データ電圧が画素電極１５に供給される。画素電極１５に供給されたデータ電圧と、共通電極１６に供給された共通電圧Ｖｃｏｍとの差により電界が生じる。この電界により液晶を駆動してバックライトの光の透過率を制御することによって画像表示を行う。なお、カラー表示を行う場合は、例えばストライプ状に配置された赤色、緑色、青色のカラーフィルタを、各画素１４に対応するように配置し、画素電極１５に接続されたソース線１１に、所望のデータ電圧を供給することによりカラー画像表示を実現する。

図３は、画素１４の構成を示す平面図である。図４は、図３のＢ−Ｂ´線における断面を示す断面図であり、図５は、図３のＣ−Ｃ´線における断面を示す断面図である。図３、４、５を参照しつつ、表示パネル１０の具体的な構成について説明する。

図３において、隣り合う２本のソース線１１と、隣り合う２本のゲート線１２とで区画された領域が１つの画素１４に相当する。各画素１４には、薄膜トランジスタ１３が設けられている。図３に示すように、薄膜トランジスタ１３は、絶縁膜１２１（図４を参照）上に形成された半導体層１７と、半導体層１７上に形成されたドレイン電極１８及びソース電極１９とを含んで構成されている。ドレイン電極１８はソース線１１に電気的に接続されており、ソース電極１９はスルーホール２１を介して画素電極１５に電気的に接続されている。

各画素１４には、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極１５が形成されている。画素電極１５は、複数の開口部（スリット）を有しており、ストライプ状に形成されている。各画素１４に共通して、表示領域全体にＩＴＯ等の透明導電膜からなる１つの共通電極１６が形成されている。なお、共通電極１６における、スルーホール２１及び薄膜トランジスタ１３のソース電極１９に重なる領域には、画素電極１５とソース電極１９とを電気的に接続させるための開口部が形成されている。

図４及び図５に示すように、表示パネル１０は、背面側に配置された薄膜トランジスタ基板１００と、表示面側に配置されたカラーフィルタ基板２００と、薄膜トランジスタ基板１００及びカラーフィルタ基板２００の間に介在する液晶層３００と、を含んでいる。

図５に示すように、薄膜トランジスタ基板１００では、第１のガラス基板１０３の表示面側に第１の拡散防止層１０４を介してゲート線１２が形成され、ゲート線１２を覆うように絶縁膜１２１が形成されている。また、図４に示すように、絶縁膜１２１の表示面側にはソース線１１が形成されており、ソース線１１を覆うように絶縁膜１２２が形成されている。絶縁膜１２２の表示面側には共通電極１６が形成され、共通電極１６を覆うように絶縁膜１２３が形成されている。絶縁膜１２３の表示面側には画素電極１５が形成され、画素電極１５を覆うように第１の配向膜１２４が形成されている。第１のガラス基板１０３の背面側には、第１の偏光板１３０が形成されている。

カラーフィルタ基板２００では、第２のガラス基板２０３の背面側に第２の拡散防止層２０４を介してカラーフィルタ素子層２２０が形成されている。カラーフィルタ素子層２２０は、ブラックマトリクス２２２及びカラーフィルタ２０６（例えば、赤色カラーフィルタ２０６ｒ、緑色カラーフィルタ２０６ｇ、青色カラーフィルタ２０６ｂ）を含む。そして、カラーフィルタ素子層２２０の背面側を覆うようにオーバコート層２２３が形成されている。オーバコート層２２３の背面側には第２の配向膜２２４が形成されている。第２のガラス基板２０３の表示面側には、第２の偏光板２３０が形成されている。

液晶層３００には、液晶３０１が封入されている。液晶３０１は、誘電率異方性が負のネガ型液晶であってもよいし、誘電率異方性が正のポジ型液晶であってもよい。

第１の配向膜１２４、第２の配向膜２２４は、ラビング配向処理が施された配向膜であってもよいし、光配向処理が施された光配向膜であってもよい。

画素１４を構成する各部の積層構造は、図４及び図５の構成に限定されるものではなく、周知の構成を適用することができる。また本実施形態においては、表示装置１が、ＩＰＳ（In Plane Switching）方式の構成を有する例を示したが、表示装置１の構成は、上記構成に限定されない。

なお、本実施形態においては、反ソース辺を切断するため、第１の辺としてのゲート辺、及び第２の辺としての反ゲート辺において、分断用のマークＭを形成する例を示したが、反ゲート辺を切断する場合は、第１の辺をソース辺、第２の辺を反ソース辺とし、ソース辺と反ソース辺とに分断用のマークＭを形成してもよい。

［変形例］
なお、上述した実施例においては、第１の辺であるゲート辺、及び第２の辺である反ゲート辺において、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００とが、平面視で重畳されない構成を例示したが、薄膜トランジスタ基板１００の第１の辺と、カラーフィルタ基板２００の第５の辺と、が平面視で重畳する、又は、薄膜トランジスタ基板１００の第２の辺と、カラーフィルタ基板２００の第６の辺と、が平面視で重畳する構成や、薄膜トランジスタ基板１００の第１の辺と、カラーフィルタ基板２００の第５の辺と、が平面視で重畳し、且つ、薄膜トランジスタ基板１００の第２の辺と、カラーフィルタ基板２００の第６の辺と、が平面視で重畳する構成においても、本開示は有効である。

本変形例においては、以下、図１９から図２４を用いて、ゲート辺、反ゲート辺において、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００とが、平面視で重畳する構成について説明する。即ち、薄膜トランジスタ基板１００の第１の辺と、カラーフィルタ基板２００の第５の辺と、が平面視で重畳し、且つ、薄膜トランジスタ基板１００の第２の辺と、カラーフィルタ基板２００の第６の辺と、が平面視で重畳する構成について説明する。

図１９は、本実施形態の変形例に係る液晶表示装置の概略構成を示す模式的な平面図である。

本変形例では、図１９に示すように、第４の辺に、ソースドライバＩＣ２０、ゲートドライバＩＣ３０の双方を配置しており、第１の辺、及び第２の辺で、薄膜トランジスタ基板１００、及びカラーフィルタ基板２００が、平面視で重畳する構成としている。

本変形例では、分断用の第３のマークＭ３、及び第４のマークＭ４を、カラーフィルタ基板２００に設ける構成としている。カラーフィルタ基板２００の第５の辺には、複数の第３のマークＭ３を配置しており、第６の辺には、複数の第４のマークＭ４を配置している。カラーフィルタ基板２００に設ける第３のマークＭ３、第４のマークＭ４としては、例えばカラーフィルタ素子層２２０に含まれたブラックマトリクス２２２を用いることができる。ブラックマトリクス２２２は、可視光をほとんど透過しないため、視認性の観点からも望ましい。複数の第３のマークＭ３と、複数の第４のマークＭ４とは、第７の辺の中心と第８の辺の中心を結ぶ線Ｌに対して、対称関係にある。

図２０は、図１９のＦ部を拡大した模式的な平面図であり、本変形例に係る分断用のマークの一例を示す。

本変形例では、図２０に示すように、端辺領域４１Ａにおいて、ブラックマトリクス２２２からなる分断用のマークＭを配置している。この端辺領域４１Ａは、カラーフィルタ基板２００の第５の辺に沿った領域であり、第５の辺とブラックマトリクス額縁領域４０との間の領域である。第５の辺、第６の辺に沿って延伸する端辺領域４１Ａと、カラーフィルタ２０６との間には、このブラックマトリクス額縁領域４０の一部が配置されている。本変形例においては、この端辺領域４１Ａにおいて、分断用のマークＭ（第３のマークＭ３、第４のマークＭ４）としてのブラックマトリクス２２２を配置している。本変形例では、端辺領域４１Ａの限られたスペース内でマークＭを形成する必要があるため、マークＭの形状は、図１８に示した形状と異なり、ブラックマトリクス額縁領域４０側に底辺を有する三角形状としている。

なお、この第３のマークＭ３、第４のマークＭ４とブラックマトリクス額縁領域４０との間には、図２０に示すように、隙間を設けておくことが望ましい。このような構成とすることにより、端辺側から第３のマークＭ３、第４のマークＭ４が腐食するようなことがあっても、この腐食が、ブラックマトリクス額縁領域４０にまで伝わってしまうのを抑制することができる。

また、図２０に示すように、第５の辺、又は第６の辺において、各辺に沿う方向に、このマークＭと離間して配置された目盛Ｓを設けることが望ましい。このような目盛Ｓを設けることにより、第１の切断工程、又は第２の切断工程において、実際の切断ラインと所望の切断ラインとの間でずれが生じたような場合、ゲート辺、反ゲート辺それぞれにおいてどれだけのずれが生じているのかを確認することができる。その結果として、ゲート辺、反ゲート辺のずれ量に応じて、切断ラインの再調整を行うことができる。この目盛Ｓについても、マークＭ（第３のマークＭ３、第４のマークＭ４）と同様に、ブラックマトリクス２２２を用いて形成することができる。

なお、マークＭが、カラーフィルタ基板２００の端辺領域４１Ａに設けられた、ブラックマトリクス２２２のみならず、薄膜トランジスタ基板１００に設けられた金属膜を含む構成としてもよい。また、薄膜トランジスタ基板１００に設けられた、マークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）は、カラーフィルタ基板２００の端辺領域４１Ａに設けられた、マークＭ（第３のマークＭ３、第４のマークＭ４）と、平面視で重畳するよう形成してもよい。

図２３は、図１９のＦ部を背面側から見て拡大した模式的な平面図である。図２３に示すように、本変形例においては、金属膜からなるマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）が、薄膜トランジスタ基板１００の第１の辺、及び第２の辺に複数設けられている。第１の辺に設けられた複数の第１のマークＭ１の少なくとも一部は、カラーフィルタ基板２００の端辺領域４１Ａと平面視で重畳しており、第２のマークＭ２の少なくとも一部も同様に、カラーフィルタ基板２００の端辺領域４１Ａと平面視で重畳している。

更に本実施形態においては、端辺領域４１Ａに対してゲート辺または反ゲート辺と逆側に配置された金属膜ＭＦと、マークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）と、の間に隙間を設けている。このような構成とすることにより、端辺側からマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）が腐食するようなことがあっても、この腐食が、金属膜ＭＦにまで伝わってしまうのを抑制することができる。

また、図２３に示すように、第５の辺、又は第６の辺において、各辺に沿う方向に、このマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）と離間して配置された目盛Ｓを設けることが望ましい。このような目盛Ｓを設けることにより、第１の切断工程、又は第２の切断工程において、実際の切断ラインと所望の切断ラインとの間でずれが生じたような場合、ゲート辺、反ゲート辺それぞれにおいてどれだけのずれが生じているのかを確認することができる。その結果として、ゲート辺、反ゲート辺のずれ量に応じて、切断ラインの再調整を行うことができる。この目盛Ｓについても、マークＭと同様に、金属膜を用いて形成することができる。

なお、薄膜トランジスタ基板１００に設ける第１のマークＭ１、第２のマークＭ２の形状と、カラーフィルタ基板２００に設ける第３のマークＭ３、第４のマークＭ４の形状とは、あえて異ならせておくことが望ましい。図２４は、図１９のＦ部を背面側から見て拡大した模式的な平面図であり、第１のマークＭ１と第３のマークＭ３とを重ねて表示した図である。例えば、所望の分断ラインで切断されているか否かを確認する検査を、背面側から行う場合は、薄膜トランジスタ基板１００に設ける第１のマークＭ１を第３のマークＭ３よりも小さく形成しておく。逆に、所望の分断ラインで切断されているか否かを確認する検査を、表示面側から行う場合は、カラーフィルタ基板２００に設ける第３のマークＭ３を第１のマークＭ１よりも小さく形成しておく。このような構成とすることにより、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００とが、ずれて貼り合わされていないかについても検査することが可能となる。

図２１は、本変形例に係る、図２０のＥ−Ｅ’線の断面を示す断面図であり、図２２は、本変形例における他の実施例に係る、図２０のＥ−Ｅ’線の断面を示す断面図である。

図２１に示す例では、ゲート線１２が配置された層において、ゲート線１２と分離して配置された金属膜として、分断用のマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）を形成している。分断用のマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）をゲート線１２の形成工程で同時に形成することができるため、生産性に優れている。また、図２２に示す例では、ソース線１１（図８を参照）が配置された層において、ソース線１１と同じ金属膜を用いて、上述した分断用のマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）を形成している。分断用のマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）をソース線１１の形成工程で同時に形成することができるため、生産性に優れている。

なお、図２０を用いて説明した目盛Ｓについても、マークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）と同様に、薄膜トランジスタ基板１００に設けられた金属膜と、カラーフィルタ基板２００に設けられたブラックマトリクス２２２と、を含む構成としてもよい。

なお、上述した例においては、薄膜トランジスタ基板１００、カラーフィルタ基板２００の双方に、マークＭを設ける構成を例示したが、薄膜トランジスタ基板１００のみにマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２）を設ける構成としてもよく、カラーフィルタ基板２００のみにマークＭ（第３のマークＭ３、第４のマークＭ４）を設ける構成としてもよい。

［液晶表示装置の製造方法］
次に、本実施形態に係る表示装置１の製造方法について説明する。表示装置１の製造方法は、複数のソース線と複数のゲート線を含む薄膜トランジスタ基板１００を準備する薄膜トランジスタ基板準備工程（第１基板準備工程）と、カラーフィルタを含むカラーフィルタ基板２００を準備するカラーフィルタ基板準備工程（第２基板準備工程）と、薄膜トランジスタ基板１００及びカラーフィルタ基板２００を、第１のシール部材３１０Ａを用いて貼り合せる基板貼り合わせ工程と、カラーフィルタ基板２００を表示パネル１０ごとに切断する第１切断工程と、薄膜トランジスタ基板１００を表示パネル１０ごとに切断する第２切断工程と、端子部（第１の端子部３１Ａ、第２の端子部３１Ｂ）を露出させる第３切断工程等を含んでいる。

図６は、基板貼り合せ工程後の状態を示す平面図である。図１１は、図６のXI−XI線における断面を示す断面図であり、ゲート辺に沿った領域の断面を示す。図１２は、図６のXII−XII線における断面を示す断面図であり、ソース辺に沿った領域の断面を示す。図１３は、図６のXIII−XIII線における断面を示す断面図であり、反ソース辺に沿った領域の断面を示す。図６に示す例では、第１の切断線ＣＬ１においてカラーフィルタ基板２００を切断し、第２の切断線ＣＬ２において薄膜トランジスタ基板１００を切断することにより、２枚の表示パネル１０（第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂ）を製造する工程を示している。

図１１、１２に示すように、薄膜トランジスタ基板準備工程では、先ず、第１のガラス基板１０３（マザーガラス）の表示面側に、薄膜トランジスタ素子層１２０を形成する。薄膜トランジスタ素子層１２０には、図４及び図５等に示した、各構成部材（ソース線１１、ゲート線１２、薄膜トランジスタ１３、画素電極１５、共通電極１６、絶縁膜１２１、絶縁膜１２３等）が含まれる。

本実施形態においては、この薄膜トランジスタ素子層１２０に含まれる、ソース線１１、又はゲート線１２を形成する際に、図１６、１７、２１、２２を用いて上述した分断用のマークＭ（第１のマークＭ１、第２のマークＭ２、第３のマークＭ３、及び第４のマークＭ４）を形成する。

次に、薄膜トランジスタ素子層１２０の表示面側において第１の端子部３１Ａ、第２の端子部３１Ｂを形成する。第１の端子部３１Ａ、第２の端子部３１Ｂは、後述する基板貼り合わせ工程で、第２のシール部材３１０Ｂを形成する領域よりも端辺側に形成する。以上の工程により、薄膜トランジスタ基板１００が製造される。

なお、薄膜トランジスタ基板準備工程において、薄膜トランジスタ基板１００のＴＦＴアレイ２２は、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂに応じた形状に形成し、２つのＴＦＴアレイ２２が互いに電気的に絶縁された構成としてもよく、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂの双方を覆う一枚のＴＦＴアレイ２２を形成してもよい。本実施形態においては、ＴＦＴアレイ２２を、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂに応じた形状に形成するため、図１３に示すように、薄膜トランジスタ基板１００内においてＴＦＴアレイ２２が形成されないＴＦＴアレイ非形成領域４４が設けられる。なお、このＴＦＴアレイ非形成領域４４においても、一部のソース線１１やゲート線１２が含まれる構成としてもよい。

カラーフィルタ基板準備工程では、先ず、第２のガラス基板２０３（マザーガラス）の背面側に、カラーフィルタ素子層２２０を形成する。カラーフィルタ素子層２２０には、図４及び図５等に示した、各構成部材（カラーフィルタ２０６、ブラックマトリクス２２２等）が含まれる。

ここで、図１９から図２２を用いて上述した変形例に示す構成においては、端辺領域４１Ａの一部にもブラックマトリクス２２２を形成し、図１９に示したような分断用のマークＭを端辺領域４１Ａに配置する。

ここで、本実施形態においては、カラーフィルタ素子層２２０を、表示パネル１０の形状によらず、図６に示したカラーフィルタ素子層形成領域４５にカラーフィルタ素子層２２０を形成している。そのため、各表示パネル１０（第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂ）の形状に合わせて、個別にマスクを準備する必要がなく、予め作成した１枚のマスクを用いて、カラーフィルタ素子層２２０を形成することが可能となる。なお、本実施形態においては、図６に示すように、表示パネル１０の数に合わせて、２つのカラーフィルタ素子層形成領域４５を設ける例を説明するが、図１５に示すように、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂに跨る１つのカラーフィルタ素子層形成領域４５を設ける方法としてもよい。更には、カラーフィルタ基板２００全面に、カラーフィルタ素子層形成領域４５を設ける方法としてもよい。

その後、図１１、１２に示すように、カラーフィルタ素子層２２０の背面側を覆うように、オーバコート層２２３を形成する。以上の工程により、カラーフィルタ基板２００が製造される。

基板貼り合わせ工程では、先ず、図１１、１２に示すように、カラーフィルタ基板準備工程を経て製造されたカラーフィルタ基板２００のオーバコート層２２３の背面側に第２のシール部材３１０Ｂを塗布するとともに、図１３に示すように、第１のシール部材３１０Ａを塗布する。ここで、図６、１１、１２に示すように、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂにおける、ソース辺、ゲート辺、及び反ゲート辺に沿う領域においては、第２のシール部材３１０Ｂをカラーフィルタ素子層非形成領域４１に塗布する、第２シール部材配置工程を行う。そのため、第２のシール部材３１０Ｂは、カラーフィルタ２０６と平面視で重畳されない。一方、図６、１３に示すように、第１の切断線ＣＬ１にて切断された後に反ソース辺となる領域においては、第１のシール部材３１０Ａを平面視でカラーフィルタ素子層２２０と重畳するように塗布する。即ち、後述する切断工程でカラーフィルタ基板２００を切断する第１の切断線ＣＬ１に沿って、カラーフィルタ素子層２２０に含まれるカラーフィルタ２０６と、平面視で重畳されるよう、第１のシール部材３１０Ａを塗布する。また、その際、図１１、１２、１３に示すように、カラーフィルタ基板２００と薄膜トランジスタ基板１００との間隔を調整する複数のスペーサ３０２を、カラーフィルタ基板２００と薄膜トランジスタ基板１００との間に配置しておく。

その後、カラーフィルタ基板２００のオーバコート層２２３の背面側に液晶３０１を滴下する。次に、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００とを貼り合わせ、紫外線を照射し第１のシール部材３１０Ａ、第２のシール部材３１０Ｂを硬化させる。なお、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００を貼り合わせた後、液晶３０１を第１のシール部材３１０Ａ、第２のシール部材３１０Ｂに囲われた領域内に注入する方法としても構わない。

本実施形態においては、上述したとおり、ＴＦＴアレイ２２を、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂに応じた形状に、電気的に絶縁された状態で形成する。そのため、図１５に示すように、２つの表示パネル１０（第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂ）に跨る１つのカラーフィルタ素子層形成領域４５を設ける方法とした場合、一つのカラーフィルタ素子層形成領域４５が、薄膜トランジスタ基板１００において相互に電気的に絶縁された複数のＴＦＴアレイ２２の形成領域と対向することとなる。即ち、基板貼り合わせ工程において、一つのカラーフィルタ素子層２２０形成領域が、第１の表示パネル１０ＡにおけるＴＦＴアレイ２２、及び第２の表示パネル１０ＢにおけるＴＦＴアレイ２２と対向することとなる。

更に、本実施形態においては、図６に示すように、反ソース辺に沿う領域に、第１のシール部材３１０Ａと並走する第３のシール部材３１０Ｃを塗布する第３シール部材配置工程を行う。第３のシール部材３１０Ｃは、第１の表示パネル１０Ａにおいて、第１のシール部材３１０Ａよりも内側に形成する。

第１切断工程では、上述した基板貼り合せ工程後に、カラーフィルタ基板２００を第１の表示パネル１０Ａと第２の表示パネル１０Ｂとに分離し、第２切断工程では、薄膜トランジスタ基板１００を第１の表示パネル１０Ａ、及び第２の表示パネル１０Ｂの形状に合わせて切断する。

本実施形態においては、カラーフィルタ基板２００を、図６に示す第１の切断線ＣＬ１で切断する第１切断工程を行い、カラーフィルタ素子層２２０の形状を、予め形成していたカラーフィルタ素子層形成領域４５よりも、ゲート辺の長さが短い矩形状とする。

ここで、図６に示すように、第１の切断線ＣＬ１は、ゲート辺に設けた一つの分断用の第１のマークＭ１と、反ゲート辺に設けた一つの分断用の第２のマークＭ２と重畳しており、且つこの第１の切断線ＣＬ１が、カラーフィルタ素子層２２０と平面視で重畳している。なお、第１の切断線ＣＬ１と第２の切断線ＣＬ２とが異なる場合は、それぞれの切断線に合わせて、複数のマークＭを配置しておいてもよいが、図６においては、図示の便宜上、第１の切断線ＣＬ１と重畳するマークＭのみを表示している。

また、薄膜トランジスタ基板１００を、図６に示す第２の切断線ＣＬ２で切断する第２切断工程を行う。なお、第１切断工程と第２切断工程は同時に行ってもよく、別工程としてもよい。切断方法としては、例えば、図６に示した第１の切断線ＣＬ１、第２の切断線ＣＬ２に沿って、赤外線レーザ、赤外ランプなどを用いた赤外線照射を行う、あるいは第１の切断線ＣＬ１、第２の切断線ＣＬ２に沿ってカッター等により切断する。この第１の切断工程により、複数の第１のマークＭ１の内の一つ、複数の第２のマークＭ２の内の一つ、及びカラーフィルタ基板２００の反ソース辺が平面視で重畳する。また、第２の切断工程により、複数の第１のマークＭ１の内の一つ、複数の第２のマークＭ２の内の一つ、及び薄膜トランジスタ基板１００の反ソース辺が平面視で重畳する。

図１３は、図６のXIII−XIII断面図であり、反ソース辺に沿った領域の断面を示す。図１３に示すように、第１の切断線ＣＬ１を面内に含む第１の切断面ＣＳ１において、カラーフィルタ基板２００からカラーフィルタ２０６が露出される。

また、本実施形態においては、ＴＦＴアレイ２２を、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂに応じた形状に形成しているため、図１３に示すように、薄膜トランジスタ素子層１２０に含まれるソース線１１、ゲート線１２が、第２の切断線ＣＬ２から露出されない構成としている。なお、薄膜トランジスタ基板１００がＴＦＴアレイ２２を有さないＴＦＴアレイ非形成領域４４においても、ソース線、ゲート線１２の一部が含まれる構成としても構わない。

なお、上述した薄膜トランジスタ基板準備工程において、ＴＦＴアレイ２２を第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂ双方を覆う一枚のＴＦＴアレイとして形成した場合、第２の切断線ＣＬ２と、ソース線１１、ゲート線１２の少なくとも一部とが、平面視で重畳し、第２の切断線ＣＬ２を含む第２の切断面ＣＳ２から、薄膜トランジスタ素子層１２０に含まれるソース線１１、ゲート線１２の内の少なくとも一方が露出される構成となる。

なお、図１３に示す例においては、カラーフィルタ基板２００を切断する第１の切断面ＣＳ１と、薄膜トランジスタ基板１００を切断する第２の切断面ＣＳ２とが異なる切断面である例を示しているが、第１の切断面ＣＳ１と第２の切断面ＣＳ２とを同一の切断面とする製造方法としてもよい。ただし、後述する樹脂膜形成工程を行うことを考慮すると、第１の切断面ＣＳ１と第２の切断面ＣＳ２とは、異なる切断面とすることが望ましい。

図１４は、カラーフィルタ基板２００を第１の切断線ＣＬ１で切断する第１切断工程を行った後、薄膜トランジスタ基板１００を第２の切断線ＣＬ２で切断する第２切断工程を行う前の状態を示す平面図である。図１４を用いて、第３切断工程について説明する。第３切断工程では、図１４に示すように、カラーフィルタ基板２００における平面視で第１の端子部３１Ａ、第２の端子部３１Ｂに重なる部分を除去する。具体的には、ゲート辺に沿った第３の切断線ＣＬ３においてカラーフィルタ基板２００を切断することにより、ゲートドライバＩＣ３０が搭載される第１の端子部３１Ａを露出させる。また、ソース辺に沿った第４の切断線ＣＬ４おいてカラーフィルタ基板２００を切断することにより、ソースドライバＩＣ２０が搭載される第２の端子部３１Ｂを露出させる。

ここで、図１４に示すように、第１の表示パネル１０Ａと第２の表示パネル１０Ｂとは隣り合い、且つ第１の表示パネル１０Ａのゲート辺が配置される側に、第２の表示パネル１０Ｂの反ゲート辺が配置され、第１の表示パネル１０Ａの反ゲート辺が配置される側に、第２の表示パネル１０Ｂのゲート辺が配置される構成となっている。そのため、第３の切断線ＣＬ３でカラーフィルタ基板２００を切断する際に、ゲートドライバＩＣ３０が搭載されない、第１の表示パネル１０Ａの反ゲート辺、及び第２の表示パネル１０Ｂの反ゲート辺についても切断することとなる。その結果として、図１において示したように、ゲートドライバＩＣ３０が搭載されない反ゲート辺においても、カラーフィルタ基板２００の端面と薄膜トランジスタ基板１００の端面とが、平面視で重畳されない構成となる。

なお、第３切断工程は、薄膜トランジスタ基板１００を第２の切断線ＣＬ２で切断する第２切断工程の後に行ってもよい。

図９は、遮光テープ貼り付け工程がなされた状態を示す断面図である。遮光テープ貼り付け工程では、図９に示すように、ＴＦＴアレイが形成されていないＴＦＴアレイ非形成領域４４における、カラーフィルタ基板２００の表示面側に、例えば黒色の遮光テープ４０２を貼り付ける。遮光テープ４０２をＴＦＴアレイ非形成領域４４におけるカラーフィルタ基板２００の表示面側に貼り付けることにより、バックライトの光が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４の表示面側に漏れ出るのを抑制することができる。

図１０は、樹脂膜形成工程がなされた状態を示す断面図である。樹脂膜形成工程では、図１０に示したように、カラーフィルタ基板２００の切断面である第１の切断面ＣＳ１を覆う樹脂膜４０１を塗布する。樹脂膜４０１が、第１の切断面ＣＳ１を覆うことにより、水分がカラーフィルタ素子層２２０に浸入するのを抑制することができる。なお、樹脂膜４０１が、カラーフィルタ基板２００の端面のみならず、薄膜トランジスタ素子層１２０の端面も覆う構成としてもよい。

この樹脂材塗布工程を行う場合を考慮すると、第１切断工程、及び第２切断工程において上述した通り、第１の切断面ＣＳ１と、薄膜トランジスタ基板１００の切断面である第２の切断面ＣＳ２とは、異なる切断面とすることが望ましい。第１の切断面ＣＳ１と第２の切断面ＣＳ２とが異なる切断面であるほうが、樹脂膜４０１を塗布しやすく、且つ樹脂膜４０１の留まりが良いためである。

以上の工程を経て、表示装置１が製造される。上記製造方法によれば、カラーフィルタ基板準備工程において、表示パネル１０（第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂ）の形状によらず、予め準備した１枚のマスクを用いてカラーフィルタ素子層２２０を形成することができるため、各表示パネル１０の形状に合わせてマスクを個別に準備することなく、カラーフィルタ素子層２２０を形成することが可能となる。その結果として、生産効率の更なる向上が可能となる。

また、第１の辺、第２の辺に沿って複数の分断用のマークＭを形成することにより、上述した第１の切断工程、又は第２の切断工程において、カラーフィルタ基板２００、又は薄膜トランジスタ基板１００が、所望の分断ラインで切断されているか否かを確認することができる。

更に、上述した目盛Ｓを設けることにより、第１の切断工程、又は第２の切断工程において、実際の切断ラインと所望の切断ラインとの間で、ずれが生じたような場合、第１の辺、第２の辺それぞれにおいてどれだけのずれが生じているのかを確認することができる。その結果として、第１の辺、第２の辺のずれ量に応じて、切断ラインの再調整を行うことができる。

なお、本実施形態においては、矩形状の表示パネル１０を形成する例を用いて説明したが、表示パネル１０の形状は矩形状に限定されず、例えば湾曲状の辺を有する形状としても構わない。

以上、第１の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で上記実施形態から当業者が適宜変更した形態も本発明の技術的範囲に含まれることは言うまでもない。また、上述した製造工程は、適宜その順序を変えてもよく、本実施形態において説明した順序に限定される必要はない。

１ 表示装置、１０ 表示パネル、１０Ａ 第１の表示パネル、１０Ｂ 第２の表示パネル、１１ ソース線、１２ ゲート線、１３ 薄膜トランジスタ、１４ 画素、１５ 画素電極、１６ 共通電極、１７ 半導体層、１８ ドレイン電極、１９ ソース電極、２０ ソースドライバＩＣ、２１ スルーホール、２２ ＴＦＴアレイ、３０ ゲートドライバＩＣ、３１Ａ 第１の端子部、３１Ｂ 第２の端子部、４０ ブラックマトリクス額縁領域、４１ カラーフィルタ素子層非形成領域、４１Ａ 端辺領域、４２ 表示領域、４３ 黒画像表示領域、４４ ＴＦＴアレイ非形成領域、４５ カラーフィルタ素子層形成領域、１００ 薄膜トランジスタ基板、１０３ 第１のガラス基板、１０４ 第１の拡散防止層、１２０ 薄膜トランジスタ素子層、１２１ 絶縁膜、１２２ 絶縁膜、１２３ 絶縁膜、１２４ 第１の配向膜、１３０ 第１の偏光板、２００ カラーフィルタ基板、２０３ 第２のガラス基板、２０４ 第２の拡散防止層、２０６ カラーフィルタ、２０６ｒ 赤色カラーフィルタ、２０６ｇ 緑色カラーフィルタ、２０６ｂ 青色カラーフィルタ、２２０ カラーフィルタ素子層、２２２ ブラックマトリクス、２２３ オーバコート層、２２４ 第２の配向膜、２３０ 第２の偏光板、３００ 液晶層、３０１ 液晶、３０２ スペーサ、３１０Ａ 第１のシール部材、３１０Ｂ 第２のシール部材、３１０Ｃ 第３のシール部材、４０１ 樹脂膜、４０２ 遮光テープ、ＣＬ１ 第１の切断線、ＣＬ２ 第２の切断線、ＣＬ３ 第３の切断線、ＣＬ４ 第４の切断線、ＣＳ１ 第１の切断面、ＣＳ２ 第２の切断面、ｄ１ 距離、ｄ２ 距離、Ｍ マーク、Ｍ１ 第１のマーク、Ｍ２ 第２のマーク、Ｍ３ 第３のマーク、Ｍ４ 第４のマーク、Ｓ 目盛、Ｓ１ 第１の目盛、Ｓ２ 第２の目盛、Ｌ 線、Ｌ１ 線、Ｌ２ 線、ＭＦ 金属膜。

Claims (18)

1. 表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、を有する矩形状の第１の基板を備え、
   前記第１の基板は、
   第１方向に延伸する第１の辺、第２の辺と、
   第２方向に延伸する第３の辺、第４の辺と、
   前記表示領域において、前記第１方向および前記第２方向にマトリクス状に配置された複数の画素と、
   前記非表示領域において、前記第１の辺に沿って設けられた複数の第１のマークと、前記第２の辺に沿って設けられた複数の第２のマークと、を含み、
   前記複数の第１のマークと、前記複数の第２のマークとは、前記第３の辺の中心と前記第４の辺の中心を結ぶ線に対して、対称関係にある、
   表示装置。
2. 前記第１の基板は、
   前記表示領域に形成されたカラーフィルタと、
   前記非表示領域の少なくとも一部に形成されたブラックマトリクスと、を更に含み、
   前記複数の第１のマークおよび前記複数の第２のマークの少なくとも一方は、ブラックマトリクスで形成されている、
   請求項１に記載の表示装置。
3. 前記第１の基板と対向する第２の基板を更に含み、
   前記第２の基板は、カラーフィルタを有し、
   前記対称関係にある、前記複数の第１のマークの一つと、前記複数の第２のマークの一つとを結ぶ直線は、平面視で前記カラーフィルタと重畳された、
   請求項１に記載の表示装置。
4. 前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置された液晶層を更に含み、
   前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置されるとともに、平面視で前記液晶層の周囲の少なくとも一部を囲うシール部材を更に含み、
   前記第３の辺に沿う領域において、前記シール部材と、前記カラーフィルタとが、平面視で重畳された、
   請求項３に記載の表示装置。
5. 前記第１の基板は、前記複数の画素を駆動する第１の駆動回路を更に含み、
   前記第１の駆動回路は、前記非表示領域の前記第４の辺に沿った領域に配置され、
   前記複数の第１のマークの中心位置は、前記第４の辺よりも前記第３の辺に近い位置に配置された、
   請求項１に記載の表示装置。
6. 前記第１の基板は、前記複数の画素を駆動する第２の駆動回路を更に含み、
   前記第２の駆動回路は、前記複数の第１のマークのうち、前記第４の辺に最も近い一つのマークと、前記第４の辺との間に配置されている、
   請求項５に記載の表示装置。
7. 前記複数の第１のマークの一つと、前記複数の第２のマークの一つとが、前記第３の辺と平面視で重畳している、
   請求項１に記載の表示装置。
8. 前記第１のマーク、前記第２のマークの内の少なくとも一つは、前記第１の基板に設けられた金属膜を含む、
   請求項１に記載の表示装置。
9. 前記第１の基板は、複数のソース線を更に含み、
   前記第１のマーク、前記第２のマークの内の少なくとも一つは、前記ソース線が配置された層と同じ層に配置され、前記ソース線と同じ材料の金属膜からなる、
   請求項８に記載の表示装置。
10. 前記第１の基板は、複数のゲート線を更に含み、
    前記第１のマーク、前記第２のマークの内の少なくとも一つは、前記ゲート線が配置された層と同じ層に配置され、前記ゲート線と同じ材料の金属膜からなる、
    請求項８に記載の表示装置。
11. 前記第１の基板と対向する第２の基板を更に含み、
    前記第２の基板は、
    カラーフィルタと、
    前記第１方向に延伸する第５の辺と、
    前記第５の辺に沿って延伸する端辺領域と、
    前記端辺領域に沿って延伸し、前記端辺領域と前記カラーフィルタとの間に形成されたブラックマトリクスと、を含み、
    前記第１の辺と、前記第５の辺とは、平面視において重畳され、
    前記第２の基板の前記端辺領域と、前記第１の基板の前記複数の第１のマークの少なくとも一部が平面視で重畳している、
    請求項１に記載の表示装置。
12. 前記第１の基板と対向する第２の基板を更に含み、
    前記第２の基板は、
    第１方向に延伸する第５の辺と第６の辺と、
    第２方向に延伸する第７の辺と第８の辺と、
    前記第５の辺に沿って設けられた複数の第３のマークと、
    前記第６の辺に沿って設けられた複数の第４のマークと、
    を含み、
    前記第１の辺と前記第５の辺とは平面視において重畳され、
    前記第２の辺と前記第６の辺とは平面視において重畳され、
    前記複数の第３のマークと、前記複数の第４のマークとは、前記第７の辺の中心と前記第８の辺の中心を結ぶ線に対して、対称関係にある、
    請求項１に記載の表示装置。
13. 前記第１の基板と対向する第２の基板を更に含み、
    前記第２の基板は、
    カラーフィルタと、
    前記第５の辺に沿って延伸する端辺領域と、
    前記端辺領域に沿って延伸し、前記端辺領域と前記カラーフィルタとの間に形成されたブラックマトリクスと、を含み、
    前記第２の基板の前記端辺領域に、前記複数の第３のマークが設けられている、
    請求項１２に記載の表示装置。
14. 前記複数の第１のマークと、前記複数の第３のマークとは、平面視で重畳する、
    請求項１２に記載の表示装置。
15. 前記第１の基板は、複数のゲート線を更に含み、
    前記複数の第１のマークは、相互に第１の距離をあけて配置されており、
    前記複数のゲート線は、互いに第２の距離をあけて配置され、
    前記第１の距離は、前記第２の距離の整数倍である、
    請求項１に記載の表示装置。
16. 前記第１の辺において、前記第１の辺に沿う方向に前記複数の第１のマークのそれぞれの間に離間して配置された第１の目盛と、
    前記第２の辺において、前記第２の辺に沿う方向に前記複数の第２のマークのそれぞれの間に離間して配置された第２の目盛と、
    を更に含む、
    請求項１に記載の表示装置。
17. 前記第１の目盛、前記第２の目盛の内の少なくとも一方は、前記第１の基板に設けられた金属膜を含む、
    請求項１６に記載の表示装置。
18. 前記第１の目盛、前記第２の目盛の内の少なくとも一方は、前記第２の基板に設けられたブラックマトリクスを含む、
    請求項１６に記載の表示装置。
    
    

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