JP2019147720A - Getter material for insulation member and insulation member using same - Google Patents

Getter material for insulation member and insulation member using same Download PDF

Info

Publication number
JP2019147720A
JP2019147720A JP2018033791A JP2018033791A JP2019147720A JP 2019147720 A JP2019147720 A JP 2019147720A JP 2018033791 A JP2018033791 A JP 2018033791A JP 2018033791 A JP2018033791 A JP 2018033791A JP 2019147720 A JP2019147720 A JP 2019147720A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
getter material
glass
heat insulating
insulating member
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2018033791A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
大剛 小野寺
Taigo Onodera
大剛 小野寺
内藤 孝
Takashi Naito
内藤  孝
晃平 吉川
Kohei Yoshikawa
晃平 吉川
信一 立薗
Shinichi Tachizono
信一 立薗
圭 吉村
Kei Yoshimura
圭 吉村
裕司 橋場
Yuji Hashiba
裕司 橋場
貴弘 五十幡
Takahiro Isohata
貴弘 五十幡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2018033791A priority Critical patent/JP2019147720A/en
Publication of JP2019147720A publication Critical patent/JP2019147720A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Thermal Insulation (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)

Abstract

To provide a getter material that can be activated at 300°C or lower and can maintain the high gas capture characteristics even after gas release in the air atmosphere or in the sealing process.SOLUTION: The getter material for insulation member according to the present invention is characterized by having a metal phase composed of a metal or an alloy that melts at 300°C or less, and particles that are contained in the metal phase and composed of a metal or a metal oxide.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、断熱部材用ゲッター材、及びそれを用いた断熱部材に関する。   The present invention relates to a getter material for a heat insulating member and a heat insulating member using the same.

断熱部材用ゲッター材は、高い断熱性能が要求される建材用窓ガラスや業務用冷蔵庫、冷凍庫の扉、水筒や電気ポットの断熱層、自動車や船舶等の輸送設備用窓材に用いられ、断熱部材用ゲッター材はこれらの断熱性を維持するために使われる。近年、省エネルギー化、及びCO排出削減の世界的な潮流により断熱層の断熱性及び耐久性の向上が求められている。その中でも、法規制等による建造物の省エネルギー化が急速に進んでおり、断熱性能の優れた窓ガラスである真空複層ガラスの需要が高まっている。真空複層ガラスは、対向する板ガラスにより形成される空間(以下、間隙部という)を真空に排気することで気体による伝熱を抑制し、断熱性を高めた構造を有している。一方で、真空複層ガラスの長期使用により、そのガラス板、及び対向するガラス板を封止する封止材からガスが放出されることにより間隙部の真空度が低下し、断熱性が低下する問題がある。そこで、ガラス板、及び封止材からの放出ガスを捕捉し、断熱性を維持する目的で間隙部にゲッター材が設置されている。 Getter materials for heat insulation members are used for building material window glass, commercial refrigerators, freezer doors, water bottles and electric kettle insulation layers, and window materials for transportation equipment such as automobiles and ships that require high heat insulation performance. The member getter material is used to maintain these heat insulation properties. In recent years, improvement in heat insulation and durability of a heat insulation layer has been demanded by the global trend of energy saving and CO 2 emission reduction. Among them, the energy saving of buildings due to laws and regulations is rapidly progressing, and the demand for vacuum double glazing, which is a window glass with excellent heat insulation performance, is increasing. The vacuum double-glazed glass has a structure in which heat transfer by gas is suppressed by evacuating a space (hereinafter referred to as a gap) formed by opposing plate glasses to a vacuum, thereby improving heat insulation. On the other hand, due to the long-term use of the vacuum double-layer glass, the degree of vacuum in the gap portion is reduced due to the gas being released from the sealing material that seals the glass plate and the opposing glass plate, and the heat insulation is reduced. There's a problem. Therefore, a getter material is installed in the gap for the purpose of capturing gas released from the glass plate and the sealing material and maintaining heat insulation.

特許文献1には、減圧空間内のガスを吸着するゲッター材を有する真空複層ガラスが開示されておいる。ゲッター材としては、一般的な非蒸発型ゲッター材が用いられ、具体的には、Ti、Zr、Hf、V、Fe、Al、Cr、Nb、Ta、W、Mo、Ni、Mn、Yのうちの1種類以上の金属又は合金からなる多孔質焼結体等が用いられている。   Patent Document 1 discloses a vacuum double-glazed glass having a getter material that adsorbs a gas in a decompression space. As the getter material, a general non-evaporable getter material is used. Specifically, Ti, Zr, Hf, V, Fe, Al, Cr, Nb, Ta, W, Mo, Ni, Mn, Y A porous sintered body made of one or more of these metals or alloys is used.

国際公開第2016/017709号International Publication No. 2016/017709

特許文献1に開示されたゲッター材は、局所加熱等により活性化する必要があり、活性化温度が350℃以上である。   The getter material disclosed in Patent Document 1 needs to be activated by local heating or the like, and the activation temperature is 350 ° C. or higher.

製造効率の観点から、ゲッター材の活性化は、ガラスパネルの封止と同時に行えることが望まれている。しかしながら、高真空化による破損防止や安全、防犯等のため、パネルガラスには風冷強化処理等を施した、割れにくい強化ガラスの適用が要求されている。表面に圧縮強化層を形成することによって高強度化された強化ガラスは、約320℃以上の加熱温度で強化層が徐々に減少してしまう。このため、ガラスパネルの封止温度は300℃以下が望ましく、ガラスの封止温度に合わせて300℃以下で活性化できるゲッター材が望まれている。   From the viewpoint of manufacturing efficiency, it is desired that the getter material can be activated simultaneously with the sealing of the glass panel. However, in order to prevent breakage due to high vacuum, safety, crime prevention, etc., it is required to apply tempered glass that is subjected to air-cooling tempering treatment and the like and is hard to break. In the tempered glass that has been strengthened by forming a compression-strengthened layer on the surface, the tempered layer gradually decreases at a heating temperature of about 320 ° C. or higher. For this reason, the sealing temperature of a glass panel is desirably 300 ° C. or lower, and a getter material that can be activated at 300 ° C. or lower in accordance with the sealing temperature of glass is desired.

また、真空複層ガラスパネルは、仮焼成、本焼成の2段階で真空排気しながら封止する。製造効率の観点から仮焼成は大気雰囲気下で実施することが製造効率向上の観点から望ましい。しかしながら、現行のゲッター材では、大気雰囲気で仮焼成すると、温度上昇とともに活性化され、大気中のガス成分を捕捉してしまい、封止後のパネル内の放出ガスを捕捉することが困難になる虞がある。したがって、大気雰囲気での焼成工程を経ても活性を維持できるゲッター材が期待されている。   In addition, the vacuum multilayer glass panel is sealed while being evacuated in two stages of pre-baking and main baking. From the viewpoint of manufacturing efficiency, it is desirable from the viewpoint of improving manufacturing efficiency that the preliminary firing is performed in an air atmosphere. However, with the current getter material, when pre-baked in the air atmosphere, it is activated as the temperature rises and traps gas components in the air, making it difficult to trap the released gas in the panel after sealing. There is a fear. Therefore, a getter material that can maintain activity even after a firing process in an air atmosphere is expected.

そこで、本発明は300℃以下で活性化でき、かつ、大気雰囲気又は封止工程におけるガス放出を経ても、高いガス捕捉特性を維持できるゲッター材を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a getter material that can be activated at 300 ° C. or less and can maintain high gas trapping characteristics even after gas discharge in an atmospheric atmosphere or a sealing process.

上記課題を解決するため、本発明の要旨は以下のとおりである。
(1)300℃以下で融解する金属又は合金からなる金属相と、
前記金属相中に含まれ、金属又は金属酸化物からなる粒子と、を有することを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
(2)前記(1)に記載の断熱部材用ゲッター材であって、
前記粒子は、前記金属相に分散していることを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
(3)前記(1)又は(2)に記載の断熱部材用ゲッター材であって、
前記粒子はアルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物を含むことを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
(4)前記(3)に記載の断熱部材用ゲッター材であって、
前記粒子はLiOを含むことを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
(5)前記(1)〜(4)のいずれか一つに記載の断熱部材用ゲッター材であって、
前記金属相がSnを含むことを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
(6)前記(1)〜(5)のいずれか一つに記載の断熱部材用ゲッター材であって、
前記ゲッター材中の前記粒子の含有量は10体積%以上90体積%以下であることを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
(7)前記(1)〜(6)のいずれか一つに記載の断熱部材用ゲッター材であって、
薄膜状であることを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
(8)第1の基板と、前記第1の基板と対向する第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板の間の内部空間により構成される間隙部と、を備える断熱部材であって、
前記間隙部に、前記(1)〜(7)のいずれか一つに記載の断熱部材用ゲッター材を備えることを特徴とする断熱部材。
In order to solve the above problems, the gist of the present invention is as follows.
(1) a metal phase made of a metal or alloy that melts at 300 ° C. or lower;
A getter material for a heat insulating member, comprising: particles contained in the metal phase and made of metal or metal oxide.
(2) The getter material for a heat insulating member according to (1),
The getter material for a heat insulating member, wherein the particles are dispersed in the metal phase.
(3) The getter material for a heat insulating member according to (1) or (2),
The getter material for a heat insulating member, wherein the particles contain an alkali metal oxide or an alkaline earth metal oxide.
(4) The getter material for a heat insulating member according to (3),
The particles heat insulating member for a getter material which comprises a Li 2 O.
(5) The getter material for a heat insulating member according to any one of (1) to (4),
The getter material for a heat insulating member, wherein the metal phase contains Sn.
(6) The getter material for a heat insulating member according to any one of (1) to (5),
Content of the said particle | grains in the said getter material is 10 volume% or more and 90 volume% or less, The getter material for heat insulation members characterized by the above-mentioned.
(7) The getter material for a heat insulating member according to any one of (1) to (6),
A getter material for a heat insulating member, characterized by being in the form of a thin film.
(8) A heat insulation comprising: a first substrate; a second substrate facing the first substrate; and a gap formed by an internal space between the first substrate and the second substrate. A member,
A heat insulating member comprising the getter material for a heat insulating member according to any one of (1) to (7) in the gap portion.

本発明によれば、300℃以下で活性化でき、かつ大気雰囲気又は封止工程におけるガス放出を経ても高いガス捕捉特性を維持できるゲッター材を提供できる。なお、上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the getter material which can be activated at 300 degrees C or less and can maintain a high gas capture characteristic even if it passes through the gas discharge | release in air | atmosphere atmosphere or a sealing process can be provided. Problems, configurations, and effects other than those described above will be clarified by the following description of the embodiments.

本発明の一実施形態に係る複層ガラスパネルの斜視図である。It is a perspective view of the multilayer glass panel which concerns on one Embodiment of this invention. 図1に係る複層ガラスパネルの断面図である。It is sectional drawing of the multilayer glass panel which concerns on FIG. 本実施形態に係るゲッター材の構成の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of a structure of the getter material which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るゲッター材の活性化の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of activation of the getter material which concerns on this embodiment. 一般的なガラス組成物のDTA曲線である。It is a DTA curve of a general glass composition. 本実施形態に係るゲッター材の大気焼成前後の結晶構造を示す図である。It is a figure which shows the crystal structure before and behind the air baking of the getter material which concerns on this embodiment. 実施例に係るゲッター材のガス捕捉特性を示す図である。It is a figure which shows the gas capture | acquisition characteristic of the getter material which concerns on an Example.

以下、図面等を用いて、本発明の実施形態について説明する。以下では、断熱部材として真空断熱複層ガラスパネルを例に説明するが、以下の説明は本発明の内容の具体例を示すものであり、本発明がこれらの説明に限定されるものではなく、本明細書に開示される技術的思想の範囲内において当業者による様々な変更及び修正が可能である。また、本発明を説明するための全図において、同一の機能を有するものは、同一の符号を付け、その繰り返しの説明は省略する場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Hereinafter, a vacuum heat insulating multilayer glass panel will be described as an example of a heat insulating member, but the following description shows specific examples of the contents of the present invention, and the present invention is not limited to these descriptions. Various changes and modifications can be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea disclosed in this specification. In all the drawings for explaining the present invention, components having the same function are denoted by the same reference numerals, and repeated description thereof may be omitted.

ゲッター材は、通常、大気中において酸化物や窒化物等で表面が覆われているため、常温ではガス捕捉特性は生じないが、そのゲッター材料を加熱すると表面に形成された酸化物や窒化物等が分解して、ゲッター材表面に大気に暴露されていない清浄な表面が露出することで真空中の気体分子を表面に取り込むことができ、ガス捕捉特性が生じることが知られている。一方で、ガラスパネルの製造タクト向上の観点から、ガラスパネル封止工程でゲッター材の活性化を同時に行う場合、加熱時に封止材に用いるガラスペースト及びガラス板から排出されるガス成分、又は大気焼成工程を経る場合は大気中のガス成分をゲッター材が捕捉してしまうため、真空封止時にガス捕捉特性を発揮できない課題がある。   Getter materials are usually covered with oxides or nitrides in the atmosphere, so gas trapping properties do not occur at room temperature, but oxides and nitrides formed on the surface when the getter material is heated It is known that gas molecules in a vacuum can be taken into the surface by decomposing the surface of the getter material and exposing a clean surface not exposed to the atmosphere to the surface of the getter material, resulting in gas trapping characteristics. On the other hand, from the viewpoint of improving the manufacturing tact of the glass panel, in the case of simultaneously activating the getter material in the glass panel sealing step, the gas component discharged from the glass paste and the glass plate used for the sealing material during heating, or the atmosphere When the firing process is performed, the getter material captures the gas component in the atmosphere, and thus there is a problem that the gas trapping characteristic cannot be exhibited during vacuum sealing.

本発明者らは、複層ガラスパネル内部の各材料からの放出ガスの種類及びその放出量を調査、検討した結果、複層ガラスパネルの周縁部を封止する封止材から放出されるCO、及び封止材とその他の各材料から放出される水分が、パネル内部の高真空を実現できない主原因であることを突き止めた。COと水分は封止する際の焼成過程にも放出され、また大気中に多量に存在するため、ゲッター材が封止過程ですでに活性化している状態、及び活性化後に速やかにガス成分と反応、捕捉する状態は好ましくないことを見出した。すなわち、少なくともCO及び水分を捕捉でき、封止過程を経ても活性を維持できるゲッター材を設置することで複層ガラスパネル内部の高真空化を維持できることを見出した。 As a result of investigating and investigating the types of gas released from each material inside the multilayer glass panel and the amount of the gas released, the present inventors have found CO released from the sealing material that seals the peripheral edge of the multilayer glass panel. 2 and the moisture released from the sealing material and other materials was found to be the main cause of the high vacuum inside the panel. CO 2 and moisture are also released in the firing process when sealing, and since they are present in large amounts in the atmosphere, the getter material has already been activated in the sealing process, and gas components immediately after activation It was found that the reaction and trapping state is unfavorable. That is, it has been found that a high vacuum inside the multilayer glass panel can be maintained by installing a getter material that can capture at least CO 2 and moisture and can maintain activity even after a sealing process.

図1に本発明の一実施形態に係る複層ガラスパネルの斜視図を、図2に図1の複層ガラスパネルの断面図を示す。複層ガラスパネルは、第1の基板101と、第1の基板101と空間を隔てて対向するように配置された第2の基板102と、第1の基板101と第2の基板102の間の内部空間により構成される間隙部105の周縁に設けられた封止部104と、間隙部105に配置されたゲッター材107と、を備える。第1の基板101と第2の基板102と封止部104により形成される間隙部105は真空状態である。なお、本明細書において真空状態とは、大気圧よりも減圧された状態をいう。間隙部105には複数のスペーサー103が配置されている。複層ガラスパネルの間隙部105は真空状態になっているため、大気圧と間隙部内の圧力差が生じるが、スペーサー103を配置することにより、間隙部105を維持することができる。   FIG. 1 is a perspective view of a multilayer glass panel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of the multilayer glass panel of FIG. The multi-layer glass panel includes a first substrate 101, a second substrate 102 arranged to face the first substrate 101 with a space therebetween, and between the first substrate 101 and the second substrate 102. The sealing part 104 provided in the periphery of the gap | interval part 105 comprised by this interior space, and the getter material 107 arrange | positioned at the gap | interval part 105 are provided. The gap 105 formed by the first substrate 101, the second substrate 102, and the sealing portion 104 is in a vacuum state. In this specification, the vacuum state refers to a state where the pressure is reduced from the atmospheric pressure. A plurality of spacers 103 are arranged in the gap portion 105. Since the gap portion 105 of the multilayer glass panel is in a vacuum state, a pressure difference between the atmospheric pressure and the gap portion is generated, but the gap portion 105 can be maintained by arranging the spacer 103.

間隙部105にゲッター材107を配置することにより、各種部材から放出されるCOガスや水分を捕捉できる。その結果、間隙部内の高真空を維持でき、複層ガラスパネルの断熱性を維持できる。 By disposing the getter material 107 in the gap portion 105, CO 2 gas and moisture released from various members can be captured. As a result, a high vacuum in the gap can be maintained, and the heat insulation of the multilayer glass panel can be maintained.

<第1の基板及び第2の基板>
複層ガラスパネルの第1の基板101、第2の基板102には、フロート板ガラス、型板ガラス、擦りガラス、強化ガラス、網入板ガラス、線入板ガラス等を用いることができる。これらを風冷強化処理あるいは化学強化処理してもよい。風冷強化処理あるいは化学強化処理された強化ガラスを用いることにより、スペーサーの数を低減することができる。熱伝導率の高い材料からなるスペーサーを用いる場合はスペーサーの数を低減することにより、断熱性が向上する。また、これらのガラスの種類は、安価なソーダライムガラスであることが好ましい。
<First substrate and second substrate>
As the first substrate 101 and the second substrate 102 of the multilayer glass panel, float plate glass, mold plate glass, rubbing glass, tempered glass, netted plate glass, lined plate glass, or the like can be used. These may be subjected to air cooling strengthening treatment or chemical strengthening treatment. The number of spacers can be reduced by using tempered glass that has been air-cooled or chemically strengthened. In the case of using a spacer made of a material having a high thermal conductivity, heat insulation is improved by reducing the number of spacers. Moreover, it is preferable that the kind of these glass is cheap soda-lime glass.

図2の複層ガラスパネルは、第2の基板102の表面に熱線反射膜106が積層されている。図2に示すように表面に熱線反射膜を積層した板ガラスを用いることもできる。   In the multilayer glass panel of FIG. 2, a heat ray reflective film 106 is laminated on the surface of the second substrate 102. As shown in FIG. 2, a plate glass having a heat ray reflective film laminated on its surface can be used.

<スペーサー>
スペーサー103は2つのガラス基板の空間を維持するために用いられる。スペーサーは、複層ガラスの板ガラスに比べ硬度が低く、かつ適切な圧縮強さを有する材料であれば特に限定されない。例えば、ガラス、金属、合金、鉄鋼、セラミックス、プラスチック等を用いることができる。断熱性の観点からは熱伝導率の低い材料を用いることが好ましい。
<Spacer>
The spacer 103 is used to maintain the space between the two glass substrates. The spacer is not particularly limited as long as the spacer has a lower hardness than the double-glazed plate glass and has a suitable compressive strength. For example, glass, metal, alloy, steel, ceramics, plastic, etc. can be used. From the viewpoint of heat insulation, it is preferable to use a material having low thermal conductivity.

スペーサー形状は特に限定されないが、例えば、円柱状、球状、線状、網状のスペーサーを用いることができる。   The spacer shape is not particularly limited. For example, a cylindrical, spherical, linear, or net-like spacer can be used.

スペーサーの大きさは、2つのガラス基板の空間部の厚みに合わせて選択することができる。例えば、2枚のガラス基板の間隔を200μmとしたい場合には、直径200μm程度のスペーサーを用いればよい。球状、線状、網状のスペーサーの配設する間隔は、200mm以下、好ましくは100mm以下、10mm以上とする。スペーサーの配設は、前述した間隔の範囲内であれば、規則的でも不規則的でも可能である。   The size of the spacer can be selected according to the thickness of the space between the two glass substrates. For example, when it is desired to set the distance between two glass substrates to 200 μm, a spacer having a diameter of about 200 μm may be used. The interval at which the spherical, linear, and reticulated spacers are disposed is 200 mm or less, preferably 100 mm or less, and 10 mm or more. The spacers can be arranged regularly or irregularly as long as the distance is within the above-mentioned range.

また、真空状態を有する適切な厚みの空間部を得るためには、スペーサーや封止部に粒径が整った球状ビーズ等を導入することが有効である。   In addition, in order to obtain a space portion having an appropriate thickness in a vacuum state, it is effective to introduce spherical beads having a uniform particle diameter in the spacer or the sealing portion.

<封止部>
封止部104は、低融点ガラスを含む封止材料により形成されていることが好ましい。封止材料には、低融点ガラスの他に、低熱膨張フィラー粒子や金属粒子等を含んでいてもよい。これらの材料と溶剤とを混合したペースト状の材料を第1の基板101又は第2の基板102の周縁にディスペンサー等で塗布し、乾燥後、仮焼成して用いることができる。また、このペースト状の材料をリボン状の箔の両面に塗布し、乾燥後、仮焼成した材料を封止材料として用いることもできる。
<Sealing part>
The sealing portion 104 is preferably formed of a sealing material containing low melting point glass. The sealing material may contain low thermal expansion filler particles, metal particles and the like in addition to the low melting point glass. A paste-like material in which these materials and a solvent are mixed can be applied to the periphery of the first substrate 101 or the second substrate 102 with a dispenser or the like, dried, and temporarily fired. Alternatively, the paste-like material may be applied to both sides of a ribbon-like foil, dried, and then temporarily fired, as a sealing material.

低融点ガラスとしては、酸化物ガラス(V)と酸化テルル(TeO)を含む無鉛の低融点ガラスを用いることができる。酸化バナジウムと酸化テルルを含むガラスは軟化点が低く、低温での気密封止が可能となるためである。なお、鉛系低融点ガラスは、RoHS指令の禁止物質に指定された鉛を多く含むために、環境上、真空断熱複層ガラスパネル等へ適用することは好ましくない。また、無鉛低融点ガラスは、さらに酸化銀(AgO)を含むことが好ましい。酸化バナジウムと酸化テルルに加え、さらに酸化銀を含む無鉛ガラスは、より軟化点が低い。そのため、より低温で気密封止することができる。封止温度の低温化は、急熱急冷が難しい真空断熱複層ガラスパネル等にとっては、製造タクトを短縮でき、しかも量産設備の導入投資費も削減できることから、安価に製造できるという利点がある。また、第1の基板と第2の基板に強化ガラスを適用できる利点もある。なお、本明細書において、低融点ガラスとは、軟化点が400℃以下であるガラスをいう。 As the low melting point glass, lead-free low melting point glass containing oxide glass (V 2 O 5 ) and tellurium oxide (TeO 2 ) can be used. This is because a glass containing vanadium oxide and tellurium oxide has a low softening point and can be hermetically sealed at a low temperature. In addition, since lead-based low melting glass contains a lot of lead specified as a prohibited substance of the RoHS Directive, it is not preferable to apply it to a vacuum heat insulating double-glazed glass panel or the like from an environmental viewpoint. The lead-free low-melting glass preferably further contains silver oxide (Ag 2 O). Lead-free glass containing silver oxide in addition to vanadium oxide and tellurium oxide has a lower softening point. Therefore, it can be hermetically sealed at a lower temperature. Lowering the sealing temperature has the advantage that it can be manufactured at low cost because it is possible to shorten the manufacturing tact and reduce the investment cost for introducing mass production equipment for a vacuum heat insulating double-glazed glass panel or the like that is difficult to rapidly heat and cool. There is also an advantage that tempered glass can be applied to the first substrate and the second substrate. In the present specification, the low melting point glass means a glass having a softening point of 400 ° C. or lower.

低融点ガラス中のVとTeOの合計量は、50モル%以上80モル%以下であることが好ましい。さらに、AgOを含む場合は、VとTeOとAgOの合計量は、70モル%以上であることが好ましく、80モル%以上98モル%以下であることがより好ましい。Vの含有量は、15モル%以上45モル%以下であることが好ましく、TeOの含有量は15モル%以上45モル%以下が好ましく、AgOの含有量は10モル%以上50モル%以下であることが好ましい。また、TeOの含有量はVに対してモル比で1〜2倍であることが好ましく、AgOの含有量はVに対してモル比で2倍以下であることが好ましい。 The total amount of V 2 O 5 and TeO 2 in the low-melting glass is preferably 50 mol% or more and 80 mol% or less. Further, when Ag 2 O is contained, the total amount of V 2 O 5 , TeO 2 and Ag 2 O is preferably 70 mol% or more, and more preferably 80 mol% or more and 98 mol% or less. . The content of V 2 O 5 is preferably 15 mol% or more and 45 mol% or less, the content of TeO 2 is preferably 15 mol% or more and 45 mol% or less, and the content of Ag 2 O is 10 mol%. It is preferable that it is 50 mol% or less. Further, the content of TeO 2 is from 1 to 2 times molar ratio to V 2 O 5, the content of Ag 2 O is 2 times or less in molar ratio with respect to V 2 O 5 It is preferable.

低融点ガラスには、KO、BaO、WO、MoO及びPのうちいずれか一種以上を30モル%以下で含んでいてもよい。KO、BaO、WO、MoO及びPのうちいずれか一種以上は、20モル%以下で含むことが好ましい。低融点ガラスには、さらに、追加成分としてFe、Al、Ga、In、Y、La、CeO、Er及びYbのうちいずれか一種以上を含んでもよい。これらの追加成分の含有量は、5モル%以下であることが好ましく、0.1以上3.0モル%以下であることが好ましい。 The low melting point glass may contain 30 mol% or less of any one or more of K 2 O, BaO, WO 3 , MoO 3 and P 2 O 5 . Any one or more of K 2 O, BaO, WO 3 , MoO 3, and P 2 O 5 are preferably included at 20 mol% or less. The low melting point glass further includes Fe 2 O 3 , Al 2 O 3 , Ga 2 O 3 , In 2 O 3 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , CeO 2 , Er 2 O 3 and Yb as additional components. Any one or more of 2 O 3 may be included. The content of these additional components is preferably 5 mol% or less, and preferably 0.1 or more and 3.0 mol% or less.

封止材料中の無鉛低融点ガラスの含有量は、40体積%以上であることが好ましい。また、低融点ガラスは、封止後は非晶質を維持している必要はなく、結晶化していてもよい。   The content of the lead-free low melting point glass in the sealing material is preferably 40% by volume or more. The low melting point glass does not need to be kept amorphous after sealing, and may be crystallized.

低熱膨張フィラーとしては、負の熱膨張係数を有するものが好ましい。低熱膨張フィラー粒子を含むことによって、第1の基板、封止部、第2の基板の熱膨張差を低減し、より接合強度が高い封止部を得ることができる。負の熱膨張係数を有する低熱膨張フィラー粒子としては、リン酸タングステン酸ジルコニウム(Zr(WO)(PO)、酸化ニオブ(Nb)、β−ユークリプタイト(LiAlSiO)、石英ガラス(SiO)等を用いることができる。これらの低熱膨張フィラーの中でもリン酸タングステン酸ジルコニウム(Zr(WO)(PO)が好ましい。リン酸タングステン酸ジルコニウムは、酸化バナジウムと酸化テルルを含む無鉛低融点ガラスとのぬれ性が良好であるためである。気密性と接合強度の両立の観点から、封止材料中の低熱膨張フィラー粒子の含有量は10体積%以上45体積%以下であることが好ましい。 As the low thermal expansion filler, those having a negative thermal expansion coefficient are preferable. By including the low thermal expansion filler particles, a difference in thermal expansion between the first substrate, the sealing portion, and the second substrate can be reduced, and a sealing portion with higher bonding strength can be obtained. Examples of the low thermal expansion filler particles having a negative thermal expansion coefficient include zirconium tungstate phosphate (Zr 2 (WO 4 ) (PO 4 ) 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), β-eucryptite (LiAlSiO 4). ), Quartz glass (SiO 2 ), and the like. Among these low thermal expansion fillers, zirconium tungstate phosphate (Zr 2 (WO 4 ) (PO 4 ) 2 ) is preferable. This is because zirconium tungstate phosphate has good wettability with lead-free low-melting glass containing vanadium oxide and tellurium oxide. From the viewpoint of achieving both airtightness and bonding strength, the content of the low thermal expansion filler particles in the sealing material is preferably 10% by volume or more and 45% by volume or less.

金属粒子は、融点が300℃以下の低融点金属であることが好ましい。低融点金属としては、例えば、スズやスズ系合金を用いることができる。スズ系合金としては、銀、銅、亜鉛、アンチモンのいずれかを含む合金を好ましく用いることができる。断熱性と接合強度の観点から封止材料中の金属粒子の割合は10体積%以上70体積%以下であることが好ましい。   The metal particles are preferably a low melting point metal having a melting point of 300 ° C. or lower. As the low melting point metal, for example, tin or a tin-based alloy can be used. As the tin-based alloy, an alloy containing any of silver, copper, zinc, and antimony can be preferably used. From the viewpoint of heat insulation and bonding strength, the ratio of the metal particles in the sealing material is preferably 10% by volume or more and 70% by volume or less.

封止材料として、低融点ガラスを含むペーストをリボン状の箔の両面に塗布し、仮焼成した材料を用いる場合、リボン状の箔としては、金属箔を用いることができる。リボン状の箔の両面に低融点ガラスを含むペーストを塗布した材料を封止材料として用いることにより、封止材料に用いる低融点ガラスの量を低減することができる。その結果、低融点ガラスから放出されるガスの量を低減し、真空度を向上できる。   As a sealing material, when using the material which apply | coated the paste containing a low melting glass on both surfaces of a ribbon-shaped foil, and used the temporary baking, metal foil can be used as a ribbon-shaped foil. By using a material in which a paste containing low-melting glass is applied on both sides of a ribbon-like foil as a sealing material, the amount of low-melting glass used for the sealing material can be reduced. As a result, the amount of gas released from the low melting glass can be reduced and the degree of vacuum can be improved.

リボン状の金属箔としては、例えば、鉄−ニッケル系合金、鉄−ニッケル−クロム系合金、アルミニウム金属、アルミニウム系合金、及びこれらのクラッド材を用いることができる。   As the ribbon-like metal foil, for example, an iron-nickel alloy, an iron-nickel-chromium alloy, an aluminum metal, an aluminum alloy, and a clad material thereof can be used.

<ゲッター材>
図3に、本実施形態に係るゲッター材の構成の一例を模式的に表す断面図を示す。本実施形態に係るゲッター材は、300℃以下で融解する金属又は合金からなる金属相301と、金属相中に含まれ、金属又は金属酸化物からなる粒子302と、を含む。粒子302は、金属相301中に分散している。
<Getter material>
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of the configuration of the getter material according to this embodiment. The getter material according to the present embodiment includes a metal phase 301 made of a metal or an alloy that melts at 300 ° C. or less, and particles 302 that are contained in the metal phase and made of a metal or a metal oxide. The particles 302 are dispersed in the metal phase 301.

金属相301は、融点が300℃以下の金属又は合金からなる。具体的には、Sn(スズ)、Bi(ビスマス)、In(インジウム)、Sn(スズ)−In(インジウム)合金、Sn(スズ)−Bi(ビスマス)合金、Sn(スズ)−Zn(亜鉛)合金、Sn(スズ)−Ag(銀)合金、Sn(スズ)−Ag(銀)−Cu(銅)合金、Sn(スズ)−Zn(亜鉛)−Bi(ビスマス)合金、Sn(スズ)−Bi(ビスマス)−Ag(銀)合金、等を用いることができる。この金属相が特にガス捕捉特性を示す金属又は金属酸化物からなる粒子を覆うことで、封止プロセスにおける過剰な放出ガス、及び大気下プロセスにおける大気ガス成分との不要な反応を抑制し、封止後におけるガス捕捉特性を維持する機能を有する。なお、上記記載の材料以外でも融点が300℃以下の金属、及び合金であれば同様の効果を得ることができる。   The metal phase 301 is made of a metal or alloy having a melting point of 300 ° C. or lower. Specifically, Sn (tin), Bi (bismuth), In (indium), Sn (tin) -In (indium) alloy, Sn (tin) -Bi (bismuth) alloy, Sn (tin) -Zn (zinc) ) Alloy, Sn (tin) -Ag (silver) alloy, Sn (tin) -Ag (silver) -Cu (copper) alloy, Sn (tin) -Zn (zinc) -Bi (bismuth) alloy, Sn (tin) -Bi (bismuth) -Ag (silver) alloy, etc. can be used. This metal phase covers particles made of a metal or metal oxide that exhibits gas trapping properties in particular, thereby suppressing excessive reaction with excess gas released in the sealing process and atmospheric gas components in the atmospheric process. It has a function of maintaining gas trapping characteristics after stopping. In addition, the same effect can be acquired even if it is a metal and alloy whose melting | fusing point is 300 degrees C or less other than the said material.

金属又は金属酸化物からなる粒子302は、ガス捕捉特性を示す粒子であり、アルカリ金属酸化物、及びアルカリ土類金属酸化物の群より選択されたいずれか1種以上の金属酸化物であることが好ましい。具体的には、LiO、NaO、KO、RbO、CsO、MgO、CaO、SrO、BaO、等を用いることができる。この粒子が、放出されるCO、及び水分の捕捉に有効な成分であり、例えば、以下のような反応式(1)及び(2)により放出ガスを捕捉する。
LiO + CO → LiCO (1)
LiO + HO → 2LiOH (2)
この粒子を前述の金属相301で覆うことにより、封止の際のガス放出及び大気雰囲気下での封止プロセスにおける不要なガス捕捉を抑制し、封止後のガス捕捉特性を維持することができる。
The particle 302 made of a metal or metal oxide is a particle that exhibits gas trapping properties, and is one or more metal oxides selected from the group consisting of alkali metal oxides and alkaline earth metal oxides. Is preferred. Specifically, Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, Rb 2 O, Cs 2 O, MgO, CaO, SrO, BaO, or the like can be used. These particles are effective components for capturing released CO 2 and moisture. For example, the emitted gas is captured by the following reaction formulas (1) and (2).
Li 2 O + CO 2 → Li 2 CO 3 (1)
Li 2 O + H 2 O → 2LiOH (2)
By covering these particles with the above-described metal phase 301, it is possible to suppress gas release during sealing and unnecessary gas trapping in the sealing process in the atmosphere, and maintain gas trapping characteristics after sealing. it can.

図4に、熱処理後のゲッター材を模式的に表す断面図を示す。ゲッター材は、図3に示す粒子302が金属相301中に分散した状態から、熱処理により、図4に示すように金属相301を構成する金属又は合金の融解により、ゲッター成分である金属又は金属酸化物からなる粒子302が金属相301の少なくとも一方の表面に選択的に露出することによりガス捕捉特性を発揮すると考えられる。   FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the getter material after the heat treatment. The getter material is a metal or metal that is a getter component by heat treatment from the state in which the particles 302 shown in FIG. 3 are dispersed in the metal phase 301 and by melting the metal or alloy constituting the metal phase 301 as shown in FIG. It is considered that the gas trapping property is exhibited when the particles 302 made of an oxide are selectively exposed on at least one surface of the metal phase 301.

ゲッター材の形状は特に限定されないが、断熱部材への設置の観点から薄膜状であることが好ましい。その薄膜の形状は、円盤状、短冊状、蛇腹状等、特に限定はされない。また、ゲッター材の厚みや大きさは、対向する板ガラスにより形成される間隙部に収まればよく、特に限定されるものではないが、窓ガラスの特性上、サッシに隠れる程度の大きさが好ましい。またその際、複層ガラスパネルに用いる各種部材から放出されるガスを十分に捕捉できる量のゲッター材を設置することが必要となる。   The shape of the getter material is not particularly limited, but is preferably a thin film from the viewpoint of installation on the heat insulating member. The shape of the thin film is not particularly limited, such as a disc shape, a strip shape, or a bellows shape. Further, the thickness and size of the getter material are not particularly limited as long as the thickness and size of the getter material are within the gap formed by the opposing glass plates, but are preferably large enough to be hidden by the sash because of the characteristics of the window glass. At that time, it is necessary to install an amount of getter material that can sufficiently capture the gas released from various members used in the multilayer glass panel.

ゲッター材に含まれる金属又は金属酸化物からなる粒子の含有量は、10体積%以上90体積%以下であることが好ましく、20体積%以上80体積%以下であることがさらに好ましい。10体積%以上とすることにより、所望のガス捕捉特性を得ることができる。また、90体積%以下とすることにより、金属又は金属酸化物からなる粒子を不要な放出ガス及び大気ガス成分から保護することができる。   The content of particles made of a metal or metal oxide contained in the getter material is preferably 10% by volume to 90% by volume, and more preferably 20% by volume to 80% by volume. By setting it as 10 volume% or more, a desired gas capture characteristic can be obtained. Moreover, the particle | grains which consist of a metal or a metal oxide can be protected from an unnecessary emitted gas and an atmospheric gas component by setting it as 90 volume% or less.

金属又は金属酸化物からなる粒子の粒子径は、10nm以上200μm以下が好ましく、100nm以上100μm以下がより好ましい。粒子の粒子径が10nm以上であることにより、熱処理の過程で金属相の表面に粒子が露出しやすくなり、高いガス捕捉特性を得ることができる。粒子の粒子径が200μm以下であることにより、金属相が粒子を覆うことができ、不要な放出ガス及び大気ガス成分から保護することができる。   The particle diameter of the particles made of metal or metal oxide is preferably 10 nm to 200 μm, more preferably 100 nm to 100 μm. When the particle diameter of the particles is 10 nm or more, the particles are easily exposed on the surface of the metal phase during the heat treatment, and high gas trapping characteristics can be obtained. When the particle diameter of the particles is 200 μm or less, the metal phase can cover the particles, and can be protected from unnecessary emitted gas and atmospheric gas components.

ゲッター材は、主にCO、及び水分を捕捉することを目的としているが、例えば、O、CO、N、H、NO、NO、等の放出ガスを捕捉する場合は、適宜、放出ガスに合わせたゲッター材と合わせて設置することができる。本発明のゲッター材と合わせて設置可能なゲッター材としては、例えば、Zr(ジルコニウム)とV(バナジウム)、Fe(鉄)等を含む合金、Ag(銀)、Zn(亜鉛)、Li(リチウム)、Mg(マグネシウム)、Na(ナトリウム)、K(カリウム)、Ti(チタン)、ゼオライト、NaTiO、LiTiO、NaZrO、LiZrO、CeO等が挙げられる。これらは、設置する種類の制限はなく、2種類以上合わせて設置してもよい。 The getter material is mainly intended to capture CO 2 and moisture. For example, when capturing released gases such as O 2 , CO, N 2 , H 2 , NO, NO 2 , etc., as appropriate. Can be installed together with getter material tailored to the released gas. Examples of the getter material that can be installed together with the getter material of the present invention include alloys containing Zr (zirconium) and V (vanadium), Fe (iron), Ag (silver), Zn (zinc), Li (lithium), and the like. ), Mg (magnesium), Na (sodium), K (potassium), Ti (titanium), zeolite, Na 2 TiO 3 , Li 2 TiO 3 , Na 2 ZrO 3 , Li 2 ZrO 3 , CeO 2 and the like. . There are no restrictions on the type of installation, and two or more types may be installed together.

ゲッター材は、その構造を維持するため、もしくは間隙部への設置を容易にするために、基材上に積層して成形してもよい。基材に特に制限はないが、300℃以下で融解しない材料が好ましく、例えば、Al(アルミニウム)、Cu(銅)、Au(金)、Ag(銀)、Zn(亜鉛)、Ti(チタン)、Fe(鉄)、Co(コバルト)、Ni(ニッケル)、等が挙げられる。   In order to maintain the structure of the getter material or to facilitate installation in the gap, the getter material may be laminated and molded on the base material. The base material is not particularly limited, but a material that does not melt at 300 ° C. or lower is preferable. For example, Al (aluminum), Cu (copper), Au (gold), Ag (silver), Zn (zinc), Ti (titanium) Fe (iron), Co (cobalt), Ni (nickel), and the like.

ゲッター材は、使用前に活性化のための処理が必要となる。活性化方法としては熱処理が挙げられる。熱処理温度は金属相の融点以上であればよく、特に制限はない。なお、金属相に用いる金属が融点にて融解することで清浄な金属面が露出し、各種ガス成分に対してガス捕捉特性を発現することができる。活性化の際の雰囲気にも特に制限はなく、大気雰囲気、不活性雰囲気、還元雰囲気、減圧雰囲気等で活性化してよい。複層ガラスパネルの封止の際の熱処理と同時に活性化することで、製造効率を上げることができる。   The getter material needs to be activated before use. An example of the activation method is heat treatment. The heat treatment temperature is not particularly limited as long as it is equal to or higher than the melting point of the metal phase. In addition, a clean metal surface is exposed when the metal used for the metal phase is melted at the melting point, and gas trapping characteristics can be expressed for various gas components. There is no restriction | limiting in particular also in the atmosphere in the case of activation, You may activate in an air atmosphere, an inert atmosphere, a reducing atmosphere, a reduced pressure atmosphere, etc. By activating simultaneously with the heat treatment at the time of sealing the multilayer glass panel, the production efficiency can be increased.

ゲッター材の構造、及び組成は、オージェ電子分光法や、X線光電子分光法、蛍光X線分析、X線回折分析、電子顕微鏡観察によって確認することができる。   The structure and composition of the getter material can be confirmed by Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy, fluorescent X-ray analysis, X-ray diffraction analysis, and electron microscope observation.

<複層ガラスパネルの製造方法>
本発明の一実施形態に係る複層ガラスパネルは、所定の間隔を隔てて対向配置された第1の基板及び第2の基板の周辺部を封止材料で封止して、第1の基板と第2の基板の間に密閉可能な間隙部を形成し、間隙部内を排気して真空状態とすることにより、製造することができる。具体的には、第1の基板に封止材料及びゲッター材を配置する工程と、第1基板と第2基板を重ね合わせ、固定する積層工程と、第1の基板と第2の基板を封止材料で封着する封止工程と、第1の基板と第2の基板の内部空間を排気する真空排気工程と、を備える。
<Manufacturing method of multi-layer glass panel>
A multilayer glass panel according to an embodiment of the present invention seals the first substrate and the peripheral portion of the second substrate, which are arranged to face each other at a predetermined interval, with a sealing material. It can be manufactured by forming a sealable gap between the first substrate and the second substrate and exhausting the gap into a vacuum state. Specifically, a step of disposing a sealing material and a getter material on the first substrate, a stacking step of stacking and fixing the first substrate and the second substrate, and sealing the first substrate and the second substrate. A sealing step of sealing with a stopping material, and a vacuum exhausting step of exhausting the internal space of the first substrate and the second substrate.

ペースト状の封止材料を用いた場合は、第1の基板に封止材料を塗布した後、仮焼成することにより封止材料を第1の基板上に配置する。リボン状の封止材料を用いた場合は、第1の基板上に封止材料を配置すればよい。   When a paste-like sealing material is used, the sealing material is disposed on the first substrate by applying the sealing material to the first substrate and then pre-baking. In the case where a ribbon-shaped sealing material is used, the sealing material may be disposed on the first substrate.

薄膜状のゲッター材を用いた場合は、第1基板に設置すればよい。設置箇所は特に限定しないが、窓ガラスの観点から、視界を遮らない箇所に設置することが好ましい。   When a thin-film getter material is used, it may be installed on the first substrate. Although the installation location is not particularly limited, it is preferably installed at a location that does not block the view from the viewpoint of the window glass.

積層工程では、第1の基板と、第2の基板を積層した後、複数のクリップ等で固定すればよい。クリップは、バネの耐熱性を考慮して、ステンレス材、インコネル材を用いるとよい。第2の基板には、表面に熱線反射膜を積層したものを用いてもよい。   In the stacking step, the first substrate and the second substrate may be stacked and then fixed with a plurality of clips or the like. In consideration of the heat resistance of the spring, the clip may be made of stainless steel or inconel. As the second substrate, a surface on which a heat ray reflective film is laminated may be used.

第1の基板、第2の基板のいずれかが排気口を有する場合は、封止工程後、真空排気工程を行う。封止工程では、積層、固定した一対の基板を封止材料の軟化点付近又はそれ以上の温度に加熱することにより気密封止した後、真空排気工程により排気口から内部空間を真空ポンプ等により真空排気する。排気口には排気管を接続しておき、排気管を介して排気した後、排気管を封着することにより、内部空間内を真空状態のまま維持することができる。なお、封着温度は封止材料に含まれるガラスの軟化点T付近から作業点Tの間の温度であることが好ましい。 When either the first substrate or the second substrate has an exhaust port, a vacuum exhaust process is performed after the sealing process. In the sealing process, the laminated and fixed pair of substrates are hermetically sealed by heating to a temperature near or above the softening point of the sealing material, and then the internal space is exhausted from the exhaust port by a vacuum pump or the like in the vacuum exhaust process. Evacuate. An exhaust pipe is connected to the exhaust port, and after exhausting through the exhaust pipe, the inside of the internal space can be maintained in a vacuum state by sealing the exhaust pipe. The sealing temperature is preferably the temperature between the vicinity of the softening point T s of the glass contained in the sealing material and the working point T w .

ここで、低融点ガラスの特性温度について説明する。図5に、ガラス組成物の示差熱分析(DTA)グラフの一例を示す。一般的にガラスのDTAは、粒径が数十μm程度のガラス粒子を用い、さらに標準試料として高純度のアルミナ(α−Al)粒子を用いて、大気中5℃/分の昇温速度で測定される。図5に示したように、第一吸熱ピークの開始温度、又は、ガラスから過冷却液体に移り変わる温度を転移点T、その吸熱ピーク温度、又は、ガラスの膨張が停止する点を屈伏点M、第二吸熱ピーク温度、又は、軟化し始める温度を軟化点T、ガラスが焼結体となる温度を焼結点Tsint、ガラスが融け出す温度を流動点T、溶融ガラスの成形に適した温度を作業点T、及び、結晶化による発熱ピークの開始温度を結晶化開始温度Tcryという。なお、それぞれの特性温度は、接線法によって求められる。 Here, the characteristic temperature of the low-melting glass will be described. FIG. 5 shows an example of a differential thermal analysis (DTA) graph of the glass composition. In general, DTA of glass uses glass particles having a particle size of about several tens of μm, and further uses high-purity alumina (α-Al 2 O 3 ) particles as a standard sample. Measured at temperature rate. As shown in FIG. 5, the starting temperature of the first endothermic peak or the temperature at which the glass transitions from the supercooled liquid is the transition point T g , the endothermic peak temperature, or the point at which the expansion of the glass stops is the yield point M. g , second endothermic peak temperature, or temperature at which softening starts, softening point T s , temperature at which the glass becomes a sintered body, sintering point T sint , temperature at which the glass melts pour point T f , molding of molten glass The temperature suitable for is called the working point T w , and the exothermic peak start temperature due to crystallization is called the crystallization start temperature T cry . In addition, each characteristic temperature is calculated | required by the tangent method.

また、T、M及びT等の特性温度は、ガラスの粘度によって定義され、Tは1013.3ポイズ、Mは1011.0ポイズ、Tは107.65ポイズ、Tsintは106ポイズ、Tは105ポイズ、Tは104ポイズに相当する温度である。 Also, the characteristic temperatures such as T g , M g and T s are defined by the viscosity of the glass, T g is 1013.3 poise, M g is 1011.0 poise, T s is 107.65 poise, T sint is 106 poise, T f is 105 poise, and T w is a temperature corresponding to 104 poise.

第1の基板及び第2の基板の両方とも排気口がない場合は、封止工程と真空排気工程を同時に行う。積層工程の前に、第1の基板上に封止部より高さのある柱部材を設置しておくとよい。柱部材は金属又は合金からなり、その融点は封止材料に含まれる低融点ガラスの流動点+20℃以下であることが好ましく、320℃以下であることがより好ましい。柱部材を構成する金属又は合金としては、具体的には、Bi、Sn、金スズ合金、亜鉛スズ合金、スズ銀共晶半田を用いることができる。真空装置内に、積層工程により固定された一対の基板を設置し、低融点ガラスの軟化点より高くガラス組成物の流動点より20℃高い温度以下の温度に加熱しながら排気する。本明細書において、軟化点付近の温度とは、軟化点±10℃の温度、流動点付近の温度とは、流動点±10℃の温度とする。温度プロセスは、低融点ガラスの軟化点以上柱部材の融点未満の温度である第一の温度まで昇温し、第一の温度で保持した後、柱部材の融点以上ガラス組成物の流動点+10℃以下の温度である第二の温度まで昇温し、前記第二の温度で保持することが好ましい。上述したような温度プロファイルとすることにより、封止材料と、柱部材が同時に潰れて、良好な封止状態を得ることができる。以上の方法によれば、基板に排気口を設ける工程、真空排気後に排気口を塞ぐ工程を減らすことができ、製造プロセスを簡易にできる。   When neither the first substrate nor the second substrate has an exhaust port, the sealing step and the vacuum exhaust step are performed simultaneously. Before the stacking step, a column member having a height higher than the sealing portion may be installed on the first substrate. The column member is made of a metal or an alloy, and the melting point thereof is preferably the pour point of the low melting point glass contained in the sealing material + 20 ° C. or less, and more preferably 320 ° C. or less. Specifically, Bi, Sn, gold-tin alloy, zinc-tin alloy, tin-silver eutectic solder can be used as the metal or alloy constituting the column member. A pair of substrates fixed by a laminating process is placed in a vacuum apparatus, and the substrate is evacuated while being heated to a temperature that is higher than the softening point of the low melting point glass and 20 ° C. higher than the pour point of the glass composition. In the present specification, the temperature near the softening point is defined as the temperature at the softening point ± 10 ° C, and the temperature near the pour point is defined as the temperature at the pour point ± 10 ° C. In the temperature process, the temperature is raised to the first temperature which is not less than the softening point of the low-melting glass and less than the melting point of the column member, and after holding at the first temperature, the pour point of the glass composition above the melting point of the column member +10 It is preferable that the temperature is raised to a second temperature which is a temperature equal to or lower than ° C. and held at the second temperature. By setting it as the temperature profile as mentioned above, a sealing material and a column member are crushed simultaneously, and a favorable sealing state can be obtained. According to the above method, the process of providing an exhaust port on the substrate and the process of closing the exhaust port after evacuation can be reduced, and the manufacturing process can be simplified.

次に、本発明の実施例を示して具体的に説明するが、本発明の技術的範囲はこれらに限定されるものではない。   Next, examples of the present invention will be described in detail, but the technical scope of the present invention is not limited thereto.

(実施例1)
<ゲッター材>
LiO粉末とSn粉末とをLiOが30体積%、Snが70体積%となるように秤量し、目視で均一になるまでメノウ乳鉢中で混合し、混合粉末を得た。その後、10mmφのダイスに0.04gの前記混合粉末を入れ、60MPaの圧力下、1分間保持し、薄膜状のゲッター材を製造した。このゲッター材のガス捕捉特性を熱重量測定法にて評価した。
Example 1
<Getter material>
Li 2 O powder and Sn powder were weighed so that Li 2 O was 30% by volume and Sn was 70% by volume, and mixed in an agate mortar until visually uniform to obtain a mixed powder. Thereafter, 0.04 g of the mixed powder was put into a 10 mmφ die and held for 1 minute under a pressure of 60 MPa to produce a thin-film getter material. The gas trapping properties of this getter material were evaluated by thermogravimetry.

<ゲッター材のガス捕捉特性評価>
ゲッター材は、複層ガラスパネルの間隙部や外部と隔離された密閉層で使用するものであるが、複層ガラスパネルに設置し、その他の部材が存在する中で、ゲッター材のみのガス捕捉特性を明確に評価することは難しい。そこで、本発明のゲッター材のガス捕捉特性、及びその効果を明確にするためにTG/DTA熱分析装置(TG/DTA 6200、セイコーインスツル社製)を用いた熱重量測定法にて、前述の低融点ガラスを用いた複層ガラスパネル作製時の封止時の熱処理条件を模擬し、その際の重量変化をガス捕捉及び脱離として、その効果を確認した。その際、試料セルには、アルミナセル(φ5.0mm、エポリードサービス、P/N SSC515D001)用いた。測定条件は、CO雰囲気下、室温で30分保持した後、室温から5℃/分で300℃まで一旦上昇させて30分間保持した後、室温まで自然冷却した。
<Evaluation of gas trapping characteristics of getter materials>
The getter material is used in the gap between the multi-layer glass panel and the sealed layer isolated from the outside. It is difficult to clearly evaluate the characteristics. Therefore, in order to clarify the gas trapping characteristics of the getter material of the present invention and the effect thereof, the above-described thermogravimetry using a TG / DTA thermal analyzer (TG / DTA 6200, manufactured by Seiko Instruments Inc.) The heat treatment conditions at the time of sealing at the time of producing a multi-layer glass panel using the low melting point glass were simulated, and the effect was confirmed by taking the weight change at that time as gas capture and desorption. At that time, an alumina cell (φ5.0 mm, Epolide Service, P / N SSC515D001) was used as a sample cell. Measurement conditions were as follows. After holding at room temperature for 30 minutes in a CO 2 atmosphere, the temperature was once increased from room temperature to 300 ° C. at 5 ° C./minute, held for 30 minutes, and then naturally cooled to room temperature.

(実施例2)
熱重量測定の際の測定雰囲気を大気雰囲気に変えたことを除いて実施例1と同様の手順で実施した。
(Example 2)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the measurement atmosphere at the time of thermogravimetry was changed to an air atmosphere.

(実施例3)
ゲッター材の組成をLiOが20体積%、Snが80体積%に変えたことを除いて実施例1と同様の手順で実施した。
(Example 3)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the composition of the getter material was changed to 20% by volume of Li 2 O and 80% by volume of Sn.

(実施例4)
ゲッター材の組成をLiOが10体積%、Snが90体積%に変えたことを除いて実施例1と同様の手順で実施した。
(Example 4)
The procedure of Example 1 was followed except that the composition of the getter material was changed to 10% by volume of Li 2 O and 90% by volume of Sn.

(実施例5)
ゲッター材の組成をLiOが50体積%、Snが50体積%に変えたことを除いて実施例1と同様の手順で実施した。
(Example 5)
The procedure of Example 1 was followed except that the composition of the getter material was changed to 50% by volume of Li 2 O and 50% by volume of Sn.

(実施例6)
ゲッター材の組成をLiOが70体積%、Snが30体積%に変えたことを除いて実施例1と同様の手順で実施した。
(Example 6)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the composition of the getter material was changed to 70% by volume of Li 2 O and 30% by volume of Sn.

(実施例7)
ゲッター材の組成をLiOが80体積%、Snが20体積%に変えたことを除いて実施例1と同様の手順で実施した。
(Example 7)
The procedure of Example 1 was followed except that the composition of the getter material was changed to 80% by volume of Li 2 O and 20% by volume of Sn.

(実施例8)
ゲッター材の組成をLiOが90体積%、Snが10体積%に変えたことを除いて実施例1と同様の手順で実施した。
(Example 8)
The procedure of Example 1 was followed except that the composition of the getter material was changed to 90% by volume of Li 2 O and 10% by volume of Sn.

(比較例1)
ゲッター材の種類をZr系の合金ゲッターに変えたことを除いて実施例1と同様の手順で実施した。
(Comparative Example 1)
The procedure was the same as in Example 1 except that the type of getter material was changed to a Zr-based alloy getter.

(比較例2)
ゲッター材の種類をLiOのみに変えたことを除いて実施例1と同様の手順で実施した。
(Comparative Example 2)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the type of getter material was changed to Li 2 O only.

図6に、X線回折測定による実施例1の熱重量測定前後の結晶構造変化を示す。X線回折測定の測定条件は、測定範囲:2θ=10〜80°、測定幅:0.02°、管電圧:48kV、管電流:25mAとした。熱重量測定前のX線回折パターンでは、特にSnに由来する2θ=30.7°、32.1°付近に鋭いピークを持っているのに対し、熱重量測定後のX線回折パターンではSnに由来する2θ=30.7°、32.1°がほぼ消失し、LiOに由来する2θ=33.7°のピークが顕著に現れていることから、ガラス封止工程を模擬した熱処理によりゲッター材内部のLiOが表面に露出したことが証明された。 In FIG. 6, the crystal structure change before and after the thermogravimetric measurement of Example 1 by X-ray diffraction measurement is shown. The measurement conditions for the X-ray diffraction measurement were a measurement range: 2θ = 10 to 80 °, a measurement width: 0.02 °, a tube voltage: 48 kV, and a tube current: 25 mA. The X-ray diffraction pattern before thermogravimetric measurement has a sharp peak especially at 2θ = 30.7 °, near 32.1 ° derived from Sn, whereas the X-ray diffraction pattern after thermogravimetric measurement shows Sn. Since 2θ = 30.7 ° derived from 23.2 ° substantially disappears and a peak of 2θ = 33.7 ° derived from Li 2 O appears prominently, heat treatment simulating the glass sealing step It was proved that Li 2 O inside the getter material was exposed on the surface.

図7に、実施例1と実施例2の熱重量測定結果を示す。はじめの300℃までの昇温過程において、実施例1は実施例2と比較し、240℃付近から急激に重量増加が観測された。これは、実施例1ではCO雰囲気下で測定しているため、Snによるガス捕捉が生じず、LiOによるCOガス捕捉の重量増加のみが検出されており、Snが融解することによりLiOがゲッター材表面に露出し、COガスを捕捉したことに起因している。この結果から、実施例1及び実施例2において、Snの融点以下の低温ではLiOは活性化せずに不要なガス捕捉が抑制され、高温にて、活性化し、その後も活性を維持していることが証明された。 In FIG. 7, the thermogravimetric measurement result of Example 1 and Example 2 is shown. In the first temperature rising process up to 300 ° C., the weight of Example 1 was rapidly increased from around 240 ° C. as compared with Example 2. This is because measurement was performed in a CO 2 atmosphere in Example 1, so that gas capture by Sn did not occur, only an increase in the weight of CO 2 gas capture by Li 2 O was detected, and Sn melts. This is because Li 2 O is exposed on the surface of the getter material and captures the CO 2 gas. From this result, in Example 1 and Example 2, at a low temperature below the melting point of Sn, Li 2 O is not activated and unnecessary gas trapping is suppressed, activated at a high temperature, and maintained active thereafter. Proved to be.

表1に、実施例1から8、及び比較例1と2の熱重量測定結果を示す。本発明の効果は次の3点での重量変化から算出したゲッター材の反応率から確認できる。すなわち、(1)はじめの大気雰囲気下での室温保持、(2)その後の300℃までの昇温過程、(3)300℃での30分間保持である。なお、反応率は重量増加分をCOとの反応量とし、そのモル量のLiOのモル量に対する比率とした。また、比較例1の反応率は、事前にCO雰囲気下で300℃まで昇温した際の反応率に対する比率とした。この反応率の合計値が低いほど実際の複層ガラスの封止工程で、不要なガスの捕捉を抑制し、封止後もガス捕捉特性を維持できることを示す。 Table 1 shows the thermogravimetric measurement results of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2. The effect of the present invention can be confirmed from the reaction rate of the getter material calculated from the weight change at the following three points. That is, (1) room temperature holding in the first atmospheric atmosphere, (2) subsequent temperature raising process up to 300 ° C., and (3) holding at 300 ° C. for 30 minutes. Incidentally, the reaction rate is a weight increase a reaction amount between CO 2, and the ratio of the molar amount of Li 2 O of the molar quantity. Further, the reaction rate of Comparative Example 1 was a ratio of the reaction rate in advance and the temperature was raised to 300 ° C. under a CO 2 atmosphere. It shows that the trapping of unnecessary gas can be suppressed and the gas trapping property can be maintained after sealing in the actual sealing step of the multilayer glass as the total value of the reaction rate is lower.

Figure 2019147720
Figure 2019147720

比較例1では、(1)の室温でのCO雰囲気下ではほとんど反応は見られないが、昇温過程(2)で99%の反応率上昇が見られた後、300℃保持過程(3)では、ほぼ反応率の上昇が見られなかった。すなわち、昇温過程で活性化しガス捕捉したことでガス捕捉が飽和し、その後はガス捕捉効果が失われたと考えられ、複層ガラスパネルの封止工程の際に出る放出ガス、及びCOを含む大気雰囲気での封止工程を経て活性化した状態を維持できないことがわかった。また、比較例2では、はじめのCO雰囲気下ですでに反応しており、その後も反応率の上昇が見られ、不要なガス成分を捕捉し、ガス捕捉特性が低下することが明らかとなった。一方で、実施例1から8では、CO雰囲気下(1)での反応率の上昇は、いずれも0.01%とほぼ反応しておらず、不要なガスの捕捉が抑制されていることがわかった。また、昇温過程(2)を経た300℃保持過程(3)においても反応率は1.0%以下であり、ガス捕捉によるガス捕捉特性の低下が抑制できたことが明らかとなった。これらの結果から、本発明により複層ガラスパネルの封止過程における放出ガス、及び大気雰囲気下での熱処理プロセスを経てもガス捕捉特性を維持できることが証明された。 In Comparative Example 1, almost no reaction was observed in the CO 2 atmosphere at room temperature of (1), but after a 99% reaction rate increase was observed in the temperature raising process (2), the temperature was maintained at 300 ° C. (3 ) Showed almost no increase in response rate. That is, it is considered that gas trapping is saturated by activating and trapping gas in the temperature rising process, and then the gas trapping effect is lost, and the released gas and CO 2 emitted during the sealing process of the multilayer glass panel are reduced. It was found that the activated state could not be maintained through the sealing step in the air atmosphere. Further, in Comparative Example 2, it has already reacted in the first CO 2 atmosphere, and after that, the reaction rate is increased, and it is clear that unnecessary gas components are trapped and gas trapping characteristics are deteriorated. It was. On the other hand, in Examples 1 to 8, the increase in the reaction rate under the CO 2 atmosphere (1) is almost not reacted with 0.01%, and the trapping of unnecessary gas is suppressed. I understood. Moreover, also in the 300 degreeC holding | maintenance process (3) which passed through the temperature rising process (2), the reaction rate was 1.0% or less, and it became clear that the fall of the gas capture characteristic by gas capture could be suppressed. From these results, it was proved by the present invention that the gas trapping characteristics can be maintained even after the gas emitted during the sealing process of the multi-layer glass panel and the heat treatment process in the atmosphere.

101 第1の基板
102 第2の基板
103 スペーサー
104 封止材料(封止部)
105 間隙部
106 熱線反射膜
107 ゲッター材
301 金属層
302 金属酸化物層
101 First substrate 102 Second substrate 103 Spacer 104 Sealing material (sealing part)
105 gap portion 106 heat ray reflective film 107 getter material 301 metal layer 302 metal oxide layer

Claims (8)

300℃以下で融解する金属又は合金からなる金属相と、
前記金属相中に含まれ、金属又は金属酸化物からなる粒子と、を有することを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
A metal phase composed of a metal or an alloy that melts at 300 ° C. or lower;
A getter material for a heat insulating member, comprising: particles contained in the metal phase and made of metal or metal oxide.
請求項1に記載の断熱部材用ゲッター材であって、
前記粒子は、前記金属相に分散していることを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
The getter material for a heat insulating member according to claim 1,
The getter material for a heat insulating member, wherein the particles are dispersed in the metal phase.
請求項1又は2に記載の断熱部材用ゲッター材であって、
前記粒子はアルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物を含むことを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
A getter material for a heat insulating member according to claim 1 or 2,
The getter material for a heat insulating member, wherein the particles contain an alkali metal oxide or an alkaline earth metal oxide.
請求項3に記載の断熱部材用ゲッター材であって、
前記粒子はLiOを含むことを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
The getter material for a heat insulating member according to claim 3,
The particles heat insulating member for a getter material which comprises a Li 2 O.
請求項1〜4のいずれか一項に記載の断熱部材用ゲッター材であって、
前記金属相がSnを含むことを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
A getter material for a heat insulating member according to any one of claims 1 to 4,
The getter material for a heat insulating member, wherein the metal phase contains Sn.
請求項1〜5のいずれか一項に記載の断熱部材用ゲッター材であって、
前記ゲッター材中の前記粒子の含有量は10体積%以上90体積%以下であることを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
A getter material for a heat insulating member according to any one of claims 1 to 5,
Content of the said particle | grains in the said getter material is 10 volume% or more and 90 volume% or less, The getter material for heat insulation members characterized by the above-mentioned.
請求項1〜6のいずれか一項に記載の断熱部材用ゲッター材であって、
薄膜状であることを特徴とする断熱部材用ゲッター材。
A getter material for a heat insulating member according to any one of claims 1 to 6,
A getter material for a heat insulating member, characterized by being in the form of a thin film.
第1の基板と、前記第1の基板と対向する第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板の間の内部空間により構成される間隙部と、を備える断熱部材であって、
前記間隙部に、請求項1〜7のいずれか一項に記載の断熱部材用ゲッター材を備えることを特徴とする断熱部材。
A heat insulating member comprising: a first substrate; a second substrate facing the first substrate; and a gap formed by an internal space between the first substrate and the second substrate. And
The heat insulation member provided with the getter material for heat insulation members as described in any one of Claims 1-7 in the said gap | interval part.
JP2018033791A 2018-02-27 2018-02-27 Getter material for insulation member and insulation member using same Pending JP2019147720A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018033791A JP2019147720A (en) 2018-02-27 2018-02-27 Getter material for insulation member and insulation member using same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018033791A JP2019147720A (en) 2018-02-27 2018-02-27 Getter material for insulation member and insulation member using same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2019147720A true JP2019147720A (en) 2019-09-05

Family

ID=67849100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018033791A Pending JP2019147720A (en) 2018-02-27 2018-02-27 Getter material for insulation member and insulation member using same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2019147720A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020255974A1 (en) * 2019-06-17 2020-12-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 Glass panel unit, method for producing glass panel unit, composite getter material and getter paste

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11509037A (en) * 1996-02-09 1999-08-03 サエス ゲッタース ソチエタ ペル アツィオニ Combination material for low temperature triggering of getter material activation and getter body or device containing same
JP2007239904A (en) * 2006-03-09 2007-09-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Information apparatus
JP2015509827A (en) * 2011-12-27 2015-04-02 サエス・ゲッターズ・エッセ・ピ・ア Getter device containing a combination of getter materials
JP2015524380A (en) * 2012-07-31 2015-08-24 ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション Vacuum insulated glass (VIG) window unit including hybrid getter and method of manufacturing the same
WO2016017709A1 (en) * 2014-07-30 2016-02-04 旭硝子株式会社 Production method of vacuum multilayer glass, and vacuum multilayer glass
JP2017137955A (en) * 2016-02-04 2017-08-10 凸版印刷株式会社 Jacket material for vacuum heat insulation material and vacuum heat insulation material using the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11509037A (en) * 1996-02-09 1999-08-03 サエス ゲッタース ソチエタ ペル アツィオニ Combination material for low temperature triggering of getter material activation and getter body or device containing same
JP2007239904A (en) * 2006-03-09 2007-09-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Information apparatus
JP2015509827A (en) * 2011-12-27 2015-04-02 サエス・ゲッターズ・エッセ・ピ・ア Getter device containing a combination of getter materials
JP2015524380A (en) * 2012-07-31 2015-08-24 ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション Vacuum insulated glass (VIG) window unit including hybrid getter and method of manufacturing the same
WO2016017709A1 (en) * 2014-07-30 2016-02-04 旭硝子株式会社 Production method of vacuum multilayer glass, and vacuum multilayer glass
JP2017137955A (en) * 2016-02-04 2017-08-10 凸版印刷株式会社 Jacket material for vacuum heat insulation material and vacuum heat insulation material using the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020255974A1 (en) * 2019-06-17 2020-12-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 Glass panel unit, method for producing glass panel unit, composite getter material and getter paste
JPWO2020255974A1 (en) * 2019-06-17 2020-12-24
JP2023002623A (en) * 2019-06-17 2023-01-10 パナソニックIpマネジメント株式会社 Glass panel unit and method for manufacturing glass panel unit
JP7266254B2 (en) 2019-06-17 2023-04-28 パナソニックIpマネジメント株式会社 GLASS PANEL UNIT AND GLASS PANEL UNIT MANUFACTURING METHOD
JP7466130B2 (en) 2019-06-17 2024-04-12 パナソニックIpマネジメント株式会社 Glass panel unit and method for manufacturing the glass panel unit

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6256480B2 (en) Insulating member, low melting point glass composition, and sealing material paste
JP6565700B2 (en) Multi-layer glass and method for producing the same
KR102017353B1 (en) Vanadium-based frit materials and methods of making the same
US11643867B2 (en) Gas trapping member and vacuum heat insulation equipment
WO2010016318A1 (en) Sealing glass
WO2018207435A1 (en) Double glazing and method for manufacturing same
CN110550867B (en) Lead-free glass composition, and glass composite material, glass paste and sealed structure each comprising same
JP2014509295A (en) Frit material mainly composed of vanadium and method for producing the same
EP2804841B1 (en) Coefficient of thermal expansion filler for vanadium-based frit materials and/or methods of making and/or using the same
KR100984753B1 (en) Process for melting glass
JP6946750B2 (en) Vacuum insulation member and its manufacturing method
JP2019147720A (en) Getter material for insulation member and insulation member using same
JP2004067406A (en) Frit for sealing of metal vacuum vessel having dual structure, and metal vacuum vessel having dual structure
JP6958600B2 (en) Vacuum insulated double glazing panel
KR102391704B1 (en) glass panel
KR101941716B1 (en) Vanadium-based frit materials and methods of making the same
WO2022195734A1 (en) Material for capturing gas and kit for manufacturing vacuum insulation member
JP7375804B2 (en) Lead-free low-melting glass compositions, low-melting glass composites, glass pastes and applied products
JP2022063452A (en) Glass panel and production method and production apparatus of the same
JP4072603B2 (en) Manufacturing method of bonding glass, vacuum hermetic container using bonding glass, and manufacturing method thereof
JP2000239042A (en) Frit for crt

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200318

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210126

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210720