JP2019102219A

JP2019102219A - Organic EL element

Info

Publication number: JP2019102219A
Application number: JP2017230353A
Authority: JP
Inventors: 嘉一坂口; Yoshito Sakaguchi
Original assignee: NEC Lighting Ltd
Current assignee: Hotalux Ltd
Priority date: 2017-11-30
Filing date: 2017-11-30
Publication date: 2019-06-24
Anticipated expiration: 2037-11-30
Also published as: JP7193828B2

Abstract

To provide an organic EL element capable of suppressing light emission from a light non-emitting surface side.SOLUTION: An organic EL element includes a first substrate, a first electrode, an organic EL layer, a second electrode and an antireflection layer. The organic EL layer includes a light-emitting layer. The first substrate, the first electrode, the organic EL layer and the second electrode are laminated successively. The first substrate is a substrate at a light emitting surface side. One of the first electrode and the second electrode is an anode and the other is a cathode. The first electrode is a transparent electrode, and the second electrode is disposed while being spaced in a surface direction of the organic EL layer. In the first substrate, the antireflection layer is disposed on a surface opposite to the first electrode.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、有機ＥＬ素子に関する。 The present invention relates to an organic EL element.

デザイン性の高い有機ＥＬ素子として、スリット状に発光する有機ＥＬ素子が知られている（特許文献１）。前記スリット状に発光する有機ＥＬ素子は、例えば、金属電極をスリット状に形成し、スリットとスリットとの間には電極を配置せず、有機膜のみとすることにより形成できる。これにより、スリット−スリット間が透明となり、非発光時には、前記スリット間を通して、前記素子の反対側（裏面側）が見えることになる。そして、発光時には、前記スリット部分が発光し、光の広がりにより、発光面側は、全体的に光っているように見える。 An organic EL element that emits light in a slit shape is known as an organic EL element having high designability (Patent Document 1). The organic EL element that emits light in the form of a slit can be formed, for example, by forming a metal electrode in the form of a slit and arranging only an organic film without disposing the electrode between the slit and the slit. Thereby, the space between the slits becomes transparent, and when light is not emitted, the opposite side (back side) of the element can be seen through the space between the slits. Then, at the time of light emission, the slit portion emits light, and due to the spread of light, the light emitting surface side appears to be entirely glowing.

特開２０１６−０６６４９１号公報JP, 2016-066491, A

一方、前記スリット状に発光する有機ＥＬ素子において、例えば、非発光面側は、前記有機ＥＬ素子の発光時においても、前記スリット間に電極が配置されないことから、ほとんど光っていないように見えると考えられている。しかしながら、実際は、例えば、前記有機ＥＬ素子の内部で反射した光等により、前記スリット間を通して光の漏れが生じ、これが原因で、前記非発光面側が光って見えるため、前記有機ＥＬ素子のデザイン性が損なわれる等の問題があるとの知見が、本発明者により得られた。 On the other hand, in the organic EL element that emits light in the form of a slit, for example, when the light emitting surface side does not have an electrode disposed between the slits even when the organic EL element emits light, It is considered. However, in practice, for example, light reflected inside the organic EL element causes light leakage through the slits, which causes the non-light emitting surface side to look shiny, so the design of the organic EL element The present inventor has found that there is a problem such as loss of

そこで、本発明は、例えば、スリット状に発光する有機ＥＬ素子において、前記非発光面側からの発光を抑制することを目的とする。 Then, this invention aims at suppressing the light emission from the said non-light-emission surface side, for example in the organic EL element which light-emits in slit shape.

前記目的を達成するために、本発明の有機ＥＬ素子は、
第１の基板と、第１の電極と、有機ＥＬ層と、第２の電極と、反射防止層とを含み、
前記有機ＥＬ層は、発光層を含み、
前記第１の基板と、前記第１の電極と、前記有機ＥＬ層と、前記第２の電極とが、この順序で積層されており、
前記第１の基板は、発光面側の基板であり、
前記第１の電極および前記第２の電極は、一方が陽極であり、他方が陰極であり、
前記第１の電極は、透明電極であり、
前記第２の電極は、前記有機ＥＬ層の面方向において間隔をあけて配置されており、
前記第１の基板において、前記第１の電極との対向面側に、前記反射防止層が配置されていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the organic EL device of the present invention is
A first substrate, a first electrode, an organic EL layer, a second electrode, and an antireflective layer,
The organic EL layer includes a light emitting layer,
The first substrate, the first electrode, the organic EL layer, and the second electrode are stacked in this order,
The first substrate is a substrate on the light emitting surface side,
One of the first electrode and the second electrode is an anode, and the other is a cathode.
The first electrode is a transparent electrode,
The second electrodes are spaced apart in the surface direction of the organic EL layer,
In the first substrate, the anti-reflection layer is disposed on the side opposite to the first electrode.

本発明によれば、例えば、スリット状に発光する有機ＥＬ素子において、前記非発光面側からの発光を抑制できる。 According to the present invention, for example, in an organic EL element which emits light in a slit shape, light emission from the non-light emitting surface side can be suppressed.

図１は、実施形態１における有機ＥＬ素子を横から見た模式図（断面図）である。FIG. 1 is a schematic view (cross-sectional view) of the organic EL element in Embodiment 1 viewed from the side. 図２は、実施形態１における有機ＥＬ素子を横から見た模式図（断面図）である。FIG. 2 is a schematic view (cross-sectional view) of the organic EL element in Embodiment 1 viewed from the side. 図３は、実施形態２における有機ＥＬ素子を横から見た模式図（断面図）である。FIG. 3 is a schematic view (cross-sectional view) of the organic EL element in Embodiment 2 as viewed from the side. 図４は、実施形態３における有機ＥＬ素子を横から見た模式図（断面図）である。FIG. 4 is a schematic view (cross-sectional view) of the organic EL element in Embodiment 3 as viewed from the side.

本発明の有機ＥＬ素子は、例えば、さらに、第２の基板を含み、
前記第１の基板と、前記反射防止層と、前記第１の電極と、前記有機ＥＬ層と、前記第２の電極と、前記第２の基板とが、この順で積層されており、
前記第１の基板は、透明基板であり、
前記第２の基板は、封止基板である。前記有機ＥＬ素子は、例えば、ボトムエミッションタイプである。 The organic EL device of the present invention further includes, for example, a second substrate,
The first substrate, the antireflective layer, the first electrode, the organic EL layer, the second electrode, and the second substrate are stacked in this order,
The first substrate is a transparent substrate,
The second substrate is a sealing substrate. The organic EL element is, for example, a bottom emission type.

本発明の有機ＥＬ素子は、例えば、さらに、第２の基板を含み、
前記第１の基板と、前記反射防止層と、前記第１の電極と、前記有機ＥＬ層と、前記第２の電極と、前記第２の基板とが、この順で積層されており、
前記第１の基板は、封止基板であり、
前記第２の基板は、透明基板である。前記有機ＥＬ素子は、例えば、トップエミッションタイプである。 The organic EL device of the present invention further includes, for example, a second substrate,
The first substrate, the antireflective layer, the first electrode, the organic EL layer, the second electrode, and the second substrate are stacked in this order,
The first substrate is a sealing substrate,
The second substrate is a transparent substrate. The organic EL element is, for example, a top emission type.

本発明の有機ＥＬ素子は、例えば、前記第２の電極が、スリット状またはグリッド状に配置されている。 In the organic EL element of the present invention, for example, the second electrode is arranged in a slit shape or a grid shape.

本発明の有機ＥＬ素子は、例えば、前記反射防止層が、光散乱層または光干渉層である。 In the organic EL element of the present invention, for example, the antireflective layer is a light scattering layer or a light interference layer.

本発明の有機ＥＬ素子は、例えば、前記反射防止層が、入射角調整層であり、
前記入射角調整層は、
前記第１の基板における、前記第１の電極との対向面側の表面層であり、
前記有機ＥＬ層からの光の入射角が、全反射の臨界角未満となる層である。 In the organic EL element of the present invention, for example, the antireflective layer is an incident angle adjusting layer,
The incident angle adjustment layer is
A surface layer on the side opposite to the first electrode on the first substrate,
It is a layer in which the incident angle of light from the organic EL layer is less than the critical angle of total reflection.

本発明の有機ＥＬ素子は、例えば、前記第１の基板の前記表面層は、複数の凹凸部を有し、前記凹凸部における凹部または凸部の形状が、円筒状または半球状である。 In the organic EL element of the present invention, for example, the surface layer of the first substrate has a plurality of concavo-convex portions, and the shape of the concave or convex portion in the concavo-convex portion is cylindrical or hemispherical.

本発明の有機ＥＬ素子は、例えば、さらに、反射防止層を含み、
前記第１の基板において、前記第１の電極との対向面とは反対面側に、前記反射防止層が配置されている。 The organic EL device of the present invention further includes, for example, an antireflective layer,
In the first substrate, the anti-reflection layer is disposed on the side opposite to the side facing the first electrode.

本発明の有機ＥＬ素子は、例えば、さらに、第２の基板と反射半透過層とを含み、
前記第１の基板と、前記反射防止層と、前記第１の電極と、前記有機ＥＬ層と、前記第２の電極と、前記第２の基板とが、この順で積層されており、前記第２の基板における、前記第２の電極との対向面に、前記反射半透過層が配置されている。 The organic EL device of the present invention further includes, for example, a second substrate and a reflective semitransmissive layer,
The first substrate, the antireflection layer, the first electrode, the organic EL layer, the second electrode, and the second substrate are stacked in this order, The reflective semi-transmissive layer is disposed on the surface of the second substrate facing the second electrode.

本発明の有機ＥＬ素子は、例えば、前記有機ＥＬ層において、前記発光層は、単層構造、または２層以上の積層構造である。 In the organic EL element of the present invention, for example, in the organic EL layer, the light emitting layer has a single layer structure or a laminated structure of two or more layers.

つぎに、本発明の実施形態について、図を用いて説明する。本発明は、下記の実施形態によって何ら限定および制限されない。なお、以下の図面において、同一部分には、同一符号を付している。各実施形態における説明は、それぞれ、互いを援用できる。さらに、各実施形態の構成は、特に言及がない限り、組合せ可能である。また、図面においては、説明の便宜上、各部の構造は適宜簡略化して示す部分があり、各部の寸法比等は、実際とは異なり、模式的に示す場合がある。 Next, an embodiment of the present invention will be described using the drawings. The present invention is not limited or limited at all by the following embodiments. In the following drawings, the same parts are denoted by the same reference numerals. The description in each embodiment can use each other. Furthermore, the configurations of the respective embodiments can be combined unless otherwise stated. Further, in the drawings, for convenience of explanation, the structure of each part may be appropriately simplified and shown, and the dimensional ratio of each part may be schematically shown differently from the actual one.

（実施形態１）
図１は、本実施形態における有機ＥＬ素子１を横から見た模式図（断面図）である。本実施形態の有機ＥＬ素子１は、ボトムエミッションタイプの有機ＥＬ素子であり、図１において、下方向が、有機ＥＬ素子１の本来の発光方向（発光面側）であり、上方向が、本来の非発光方向（非発光面側）である。 (Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic view (cross-sectional view) of the organic EL element 1 in the present embodiment as viewed from the side. The organic EL element 1 of the present embodiment is a bottom emission type organic EL element, and in FIG. 1, the downward direction is the original light emission direction (light emitting surface side) of the organic EL element 1, and the upward direction is originally In the non-emitting direction (non-emitting side).

図１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ素子１は、前記第１の基板である透明基板１０と、反射防止層１５と、前記第１の電極である陽極１１と、有機ＥＬ層１２と、前記第２の電極である陰極１３と、中間層１７と、前記第２の基板である封止基板１４とを含む。有機ＥＬ素子１は、透明基板１０上に、反射防止層１５と、陽極１１と、有機ＥＬ層１２と、陰極１３と、中間層１７と、封止基板１４とが、前記順序で積層されている。封止基板１４は、中間層１７を挟んで透明基板１０に対向して配置されている。有機ＥＬ層１２は、例えば、正孔注入層１２１と、正孔輸送層１２２と、発光層１２３と、電子輸送層１２４と、電子注入層１２５とを含み、これらが前記順序で積層されている。そして、本実施形態において、反射防止層１５は、透明基板１０の有機ＥＬ層１２との対向面（図１における上面）に配置されている。陰極１３は、後述するように、スリット状に間隔をあけて配置されている。なお、正孔注入層１２１、正孔輸送層１２２、電子輸送層１２４、電子注入層１２５、および中間層１７は、必須の構成要件ではなく、有機ＥＬ素子１に含まれてもよいし、含まれなくてもよい。 As shown in FIG. 1, the organic EL element 1 of the present embodiment includes the transparent substrate 10 which is the first substrate, the antireflection layer 15, the anode 11 which is the first electrode, and the organic EL layer 12. And a cathode 13 which is the second electrode, an intermediate layer 17, and a sealing substrate 14 which is the second substrate. In the organic EL element 1, the antireflection layer 15, the anode 11, the organic EL layer 12, the cathode 13, the intermediate layer 17, and the sealing substrate 14 are stacked in the above order on the transparent substrate 10. There is. The sealing substrate 14 is disposed to face the transparent substrate 10 with the intermediate layer 17 interposed therebetween. The organic EL layer 12 includes, for example, a hole injection layer 121, a hole transport layer 122, a light emitting layer 123, an electron transport layer 124, and an electron injection layer 125, and these are stacked in the above order . And in this embodiment, the reflection preventing layer 15 is arrange | positioned on the opposing surface (upper surface in FIG. 1) with the organic electroluminescent layer 12 of the transparent substrate 10. FIG. The cathodes 13 are arranged in the form of slits at intervals as described later. The hole injection layer 121, the hole transport layer 122, the electron transport layer 124, the electron injection layer 125, and the intermediate layer 17 are not essential constituent requirements, and may or may not be included in the organic EL element 1. It does not have to be.

有機ＥＬ素子１において、透明基板１０、陽極１１、正孔注入層１２１、正孔輸送層１２２、発光層１２３、電子輸送層１２４、電子注入層１２５、陰極１３、中間層１７、封止基板１４、および反射防止層１５の材料は、特に制限されず、公知の材料を用いることができる。 In the organic EL device 1, the transparent substrate 10, the anode 11, the hole injection layer 121, the hole transport layer 122, the light emitting layer 123, the electron transport layer 124, the electron injection layer 125, the cathode 13, the intermediate layer 17, the sealing substrate 14 The material of the antireflection layer 15 is not particularly limited, and known materials can be used.

透明基板１０は、有機ＥＬ素子１における発光層１２３の発光を透過させる透過率の高いものであることが好ましい。透明基板１０の形成材料としては、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、ソーダライムガラス、硼珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラス等のガラス；ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリイミド；ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル等のアクリル系樹脂；ポリエーテルサルフォン；ポリ炭酸エステル；等があげられる。透明基板１０の大きさ（長さおよび幅）は、特に制限されず、例えば、所望の有機ＥＬ素子１の大きさに応じて、適宜設定すればよい。透明基板１０の厚さも、特に制限されず、その形成材料、使用環境等に応じて、適宜設定でき、例えば、１ｍｍ以下である。 It is preferable that the transparent substrate 10 is a thing with a high transmittance | permeability which permeate | transmits light emission of the light emitting layer 123 in the organic EL element 1. As shown in FIG. As a forming material of the transparent substrate 10, for example, glass such as non-alkali glass, soda glass, soda lime glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, quartz glass, etc .; polyester such as polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate; polyimide; Acrylic resins such as methyl acid, polyethyl methacrylate, methyl polyacrylate and ethyl polyacrylate; polyether sulfone; polycarbonate ester; and the like. The size (length and width) of the transparent substrate 10 is not particularly limited, and may be set appropriately according to, for example, the desired size of the organic EL element 1. The thickness of the transparent substrate 10 is also not particularly limited, and can be appropriately set according to the forming material, the use environment, and the like, and is, for example, 1 mm or less.

本実施形態において、前記第１の電極である陽極１１は、透明電極である。前記透明電極を形成する材料としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等があげられる。 In the present embodiment, the anode 11 which is the first electrode is a transparent electrode. As a material which forms the said transparent electrode, an indium tin oxide (ITO) etc. are mention | raise | lifted, for example.

発光層１２３は、電極から注入された電子と正孔とを再結合させ、蛍光、燐光等を発光させる層である。発光層１２３は、発光材料を含む。前記発光材料は、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム錯体（Ａｌｑ_３）、ビスジフェニルビニルビフェニル（ＢＤＰＶＢｉ）、１，３−ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル−１，３，４−オキサジアゾールイル）フェニル（ＯＸＤ−７）、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペリレンテトラカルボン酸ジイミド（ＢＰＰＣ）、１，４ビス（Ｎ−ｐ−トリル−Ｎ−４−（４−メチルスチリル）フェニルアミノ）ナフタレン等の低分子化合物、または、ポリフェニレンビニレン系ポリマー等の高分子化合物等があげられる。 The light emitting layer 123 is a layer that recombines electrons and holes injected from the electrode and emits fluorescence, phosphorescence, and the like. The light emitting layer 123 contains a light emitting material. The light emitting material is, for example, tris (8-quinolinol) aluminum complex (Alq ₃ ), bisdiphenylvinylbiphenyl (BDPVBi), 1,3-bis (p-t-butylphenyl-1,3,4-oxadiazole ) Phenyl (OXD-7), N, N'-bis (2,5-di-t-butylphenyl) perylenetetracarboxylic acid diimide (BPPC), 1,4 bis (Np-tolyl-N-4) Examples thereof include low molecular weight compounds such as-(4-methylstyryl) phenylamino) naphthalene, and high molecular compounds such as polyphenylene vinylene polymers.

また、前記発光材料は、例えば、ホストとドーパントとの二成分系からなり、ホスト分子で生成した励起状態のエネルギーがドーパント分子へ移動してドーパント分子が発光する材料でもよい。このような発光材料は、具体的には、例えば、ホストのＡｌｑ_３等のキノリノール金属錯体に、ドーパントの４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）、２，３−キナクリドン等のキナクリドン誘導体、もしくは、３−（２’−ベンゾチアゾール）−７−ジエチルアミノクマリン等のクマリン誘導体をドープしたもの、ホストの電子輸送性材料であるビス（２−メチル−８−ヒドロキシキノリン）−４−フェニルフェノール−アルミニウム錯体に、ドーパントのペリレン等の縮合多環芳香族をドープしたもの、または、ホストの正孔輸送層材料である４，４’−ビス（ｍ−トリルフェニルアミノ）ビフェニル（ＴＰＤ）に、ドーパントのルブレン等をドープしたもの、ホストの４，４’−ビスカルバゾリルビフェニル（ＣＢＰ）、４，４’−ビス（９−カルバゾリル）−２，２’−ジメチルビフェニル（ＣＤＢＰ）等のカルバゾール化合物に、ドーパントの白金錯体、トリス−（２フェリニルピリジン）イリジウム錯体（Ｉｒ（ｐｐｙ）_３）、（ビス（４，６−ジ−フルオロフェニル）−ピリジネート−Ｎ，Ｃ２’）ピコリネートイリジウム錯体（ＦＩｒ（ｐｉｃ））、（ビス（２−（２’−ベンゾ（４，５−α）チエニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ２’）（アセチルアセトネート）イリジウム錯体（Ｂｔｐ_２Ｉｒ（ａｃａｃ））、Ｉｒ（ｐｉｃ）_３、Ｂｔ_２Ｉｒ（ａｃａｃ）等のイリジウム錯体をドープしたもの等があげられる。前記発光材料は、例えば、有機ＥＬ素子１の目的とする発光色に応じて、適宜選択できる。 The light emitting material may be, for example, a binary system of a host and a dopant, and a material in which energy of an excited state generated in a host molecule is transferred to the dopant molecule and the dopant molecule emits light. Such a light emitting material is specifically, for example, a quinolinol metal complex such as host Alq ₃ and a dopant 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran ( DCM), quinacridone derivatives such as 2,3-quinacridone, or coumarin derivatives such as 3- (2'-benzothiazole) -7-diethylamino coumarin, or bis (2-) which is an electron transport material of a host Methyl-8-hydroxyquinoline) -4-phenylphenol-aluminum complex doped with condensed polycyclic aromatic such as perylene as a dopant, or 4,4′-bis (hole transporting layer material of host) m-Tolylphenylamino) biphenyl (TPD) doped with a dopant such as rubrene, a host 4,4 ' Platinum complexes of tris- (2 ferrinyl pyridine) as a dopant for carbazole compounds such as -biscarbazolylbiphenyl (CBP) and 4,4'-bis (9-carbazolyl) -2,2'-dimethylbiphenyl (CDBP) ) Iridium complexes (Ir (ppy) ₃ ), (bis (4,6-di-fluorophenyl) -pyridinate-N, C2 ′) picolinate iridium complexes (FIr (pic)), (bis (2- (2 ′ -Benzo (4,5-α) thienyl) pyridinate-N, C2 ') (acetylacetonate) iridium complex (Btp ₂ Ir (acac)), Ir (pic) ₃ , Bt ₂ Ir (acac), etc. The light emitting material may be appropriately selected according to the target light emission color of the organic EL element 1, for example.

正孔注入層１２１を形成する材料としては、例えば、銅フタロシアニン（Ｃｕ−Ｐｃ）、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ、２−ＴＮＡＴＡ、およびＴＣＴＡ等のスターバースト型芳香族アミン等のアリールアミン誘導体、スピロ−ＴＡＤ、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサシアノ−１，４，５，８，９，１２−ヘキサアザトリフェニレン（ＨＡＴ−ＣＮ）、ならびに、正孔注入性有機材料に五酸化バナジウムや三酸化モリブデン等を化学ドーピングしたもの等があげられる。正孔輸送層１２２を形成する材料としては、例えば、ビス（ジ（ｐ−トリル）アミノフェニル）−１，１−シクロヘキサン、Ｎ,Ｎ’−ジフェニル−Ｎ−Ｎ−ビス（１−ナフチル）−１,１’−ビフェニル）−４,４’−ジアミン（α−ＮＰＤ）、４，４'−ビス（ｍ−トリルフェニルアミノ）ビフェニル（ＴＰＤ）、ＴＡＰＣ等のトリフェニルジアミン類、トリフェニルアミンをさらに多量化したＴＰＴＲ、ＴＰＴＥ、ＮＴＰＡ、スターバースト型芳香族アミン等があげられる。電子輸送層１２４を形成する材料としては、例えば、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（Ｂｕ−ＰＢＤ）、２，９‐ジメチル‐４，７‐ジフェニル‐１，１０‐フェナントロリン（ＢＣＰ）、１，３−ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル−１，３，４−オキサジアゾールイル）フェニル（ＯＸＤ−７）等のオキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、キノリノール系の金属錯体、トリフェニルジアミン誘導体等があげられる。電子注入層１２５を形成する材料としては、例えば、リチウムおよびセシウム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金属のフッ化物や酸化物、ならびに、マグネシウム銀、リチウムアルミニウム合金等があげられる。 As a material for forming the hole injection layer 121, for example, arylamine derivatives such as copper phthalocyanine (Cu-Pc), m-MTDATA, 2-TNATA, and star burst type aromatic amines such as TCTA, spiro-TAD, 2,3,6,7,10,11-Hexacyano-1,4,5,8,9,12-Hexaaza triphenylene (HAT-CN), and vanadium pentoxide and trioxide for hole injecting organic materials Chemical doping of molybdenum etc. is mentioned. As a material for forming the hole transport layer 122, for example, bis (di (p-tolyl) aminophenyl) -1,1-cyclohexane, N, N′-diphenyl-NN-bis (1-naphthyl)- 1,1′-biphenyl) -4,4′-diamine (α-NPD), 4,4′-bis (m-tolylphenylamino) biphenyl (TPD), triphenyldiamines such as TAPC, triphenylamine Furthermore, TPTR, TPTE, NTPA, a starburst type aromatic amine etc. which were multimerized are mention | raise | lifted. As a material for forming the electron transport layer 124, for example, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (Bu-PBD), 2, 9 -Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP), 1,3-bis (p-t-butylphenyl-1,3,4-oxadiazolyl) phenyl (OXD-7), etc. Oxadiazole derivatives, triazole derivatives, quinolinol metal complexes, triphenyldiamine derivatives and the like can be mentioned. Examples of the material for forming the electron injection layer 125 include alkali metals such as lithium and cesium, fluorides and oxides of alkaline earth metals such as calcium, magnesium silver, lithium aluminum alloy, and the like.

前記第２の電極である陰極１３は、例えば、金属（例えば、アルミニウム等）等の対向電極である。陰極１３は、間隔をあけて配置されている。陰極１３は、例えば、スリット状に間隔をあけて配置されている。スリット状の陰極１３の幅および前記間隙の幅は、特に制限されず、陰極１３の幅が、例えば、０．１〜５０００μｍ、１００〜３０００μｍ、２００〜２０００μｍであり、前記スリット状の間隙の幅が、例えば、２〜１００００μｍ、２００〜６０００μｍ、４００〜４０００μｍである。本実施形態において、陰極１３は、スリット状であり、間隔をあけて配置されている。陰極１３の形状は、前記スリット状には限定されず、例えば、グリッド状でもよい。この場合、前記グリッドの幅は、例えば、前記スリットの幅の条件を満たすことが好ましい。陰極１３は、例えば、間隔をあけて配置されている陰極１３が、互いに部分的に接続していてもよいし、未接続でもよい。 The cathode 13 which is the second electrode is, for example, a counter electrode such as metal (for example, aluminum etc.). The cathodes 13 are spaced apart. The cathodes 13 are arranged, for example, in the form of slits at intervals. The width of the slit-like cathode 13 and the width of the gap are not particularly limited, and the width of the cathode 13 is, for example, 0.1 to 5000 μm, 100 to 3000 μm, 200 to 2000 μm, and the width of the slit-like gap For example, 2 to 10000 μm, 200 to 6000 μm, and 400 to 4000 μm. In the present embodiment, the cathodes 13 are in the form of slits and are spaced apart. The shape of the cathode 13 is not limited to the slit shape, and may be, for example, a grid shape. In this case, the width of the grid preferably satisfies, for example, the width of the slit. In the cathodes 13, for example, the cathodes 13 spaced apart may be partially connected to each other or not connected.

中間層１７は、例えば、保護層、充填層、および接着層からなる群のうち少なくとも一つにより形成される層である。 The intermediate layer 17 is, for example, a layer formed by at least one of the group consisting of a protective layer, a filler layer, and an adhesive layer.

前記保護層は、有機ＥＬ素子１を保護する層である。前記保護層は、例えば、水および酸素等の浸入を防ぐため、ガスバリア性を有していることが好ましい。前記保護層を形成する材料としては、ガスバリア性、および光透過性の観点から、例えば、無機酸化膜、無機酸窒化膜、無機窒化膜、および無機フッ化膜等からなる群のうち少なくとも一つを使用できる。具体的には、例えば、シリコン酸窒化膜（ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ）、シリコン酸化膜（ＳｉＯ_２）、シリコン窒化膜（ＳｉＮ_ｘ）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、およびフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）等があげられる。前記保護層は、例えば、単層からなる層でもよく、複数の層からなる層でもよい。後者の場合、例えば、ガスバリア性を高めるために、複数の前記ガスバリア性の膜を積層できる。 The protective layer is a layer that protects the organic EL element 1. The protective layer preferably has gas barrier properties, for example, in order to prevent entry of water, oxygen and the like. The material for forming the protective layer is, for example, at least one selected from the group consisting of an inorganic oxide film, an inorganic oxynitride film, an inorganic nitride film, and an inorganic fluoride film from the viewpoint of gas barrier properties and light transmittance. Can be used. Specifically, for example, silicon oxynitride film (SiO _x N _y ), silicon oxide film (SiO ₂ ), silicon nitride film (SiN _x ), aluminum oxide (Al ₂ O ₃ ), titanium oxide (TiO ₂ ), And magnesium fluoride (MgF ₂ ) and the like. The protective layer may be, for example, a layer consisting of a single layer or a layer consisting of a plurality of layers. In the latter case, for example, in order to enhance the gas barrier properties, a plurality of the films having the gas barrier properties can be laminated.

フレキシブル性を有する有機ＥＬ素子１とする場合、前記保護層に可撓性をもたせるため、前記保護層には、さらに緩衝層を積層してもよい。前記緩衝層を形成する材料としては、透過性、可撓性、および熱安定性の観点から、例えば、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、アミド系樹脂、ウレタン系、およびオレフィン系樹脂、前記樹脂材料に無機材料のシリカ等を添加した有機−無機ハイブリッド材料、ならびに、塗布型のシリコン酸化膜等の無機材料があげられる。前記保護層および前記緩衝層は、例えば、交互に積層してもよい。 When it is set as the organic EL element 1 which has flexibility, in order to give flexibility to the said protective layer, you may further laminate | stack a buffer layer on the said protective layer. The material for forming the buffer layer is, for example, an epoxy resin, a silicone resin, an acrylic resin, an imide resin, an amide resin, a urethane resin, from the viewpoints of permeability, flexibility, and thermal stability. And inorganic resins such as an olefin-based resin, an organic-inorganic hybrid material obtained by adding silica or the like of an inorganic material to the resin material, and a coating type silicon oxide film. The protective layer and the buffer layer may be alternately stacked, for example.

前記充填層は、例えば、気体および樹脂等の充填材等を含む層である。前記気体は、例えば、窒素、アルゴン、およびネオン等の不活性ガス、ならびに希ガスである。前記樹脂は、例えば、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、アミド系樹脂、ウレタン系およびオレフィン系樹脂である。 The filler layer is, for example, a layer containing a filler such as gas and resin. The gases are, for example, inert gases such as nitrogen, argon and neon, and noble gases. The resin is, for example, an epoxy resin, a silicone resin, an acrylic resin, an imide resin, an amide resin, a urethane resin and an olefin resin.

前記接着層は、例えば、基板間の貼り合せ材を含む層である。前記貼り合せ材としては、例えば、エポキシ系、アクリル系およびシリコーン系の接着剤、ならびに粘着剤を用いたものがあげられる。 The adhesive layer is, for example, a layer including a bonding material between substrates. Examples of the bonding material include those using an epoxy-based, acrylic-based and silicone-based adhesive, and a pressure-sensitive adhesive.

中間層１７は、例えば、前記保護層、前記充填層、および前記接着層のいずれか１種類からなる層でもよく、いずれか２種類以上を組み合わせた積層構造の層でもよい。中間層１７が、例えば、前記保護層、前記充填層、および前記接着層の３層を含む前記積層構造である場合、各層の積層順は、特に制限されず、例えば、前記保護層、前記充填層、および前記接着層の順に積層できる。例えば、陽極１１、有機ＥＬ層１２、および陰極１３の有機層等に接する領域には、前記保護層が配置されていることが好ましい。前記保護層が配置されている場合、前記充填層は、配置されていても、いなくてもよい。また、例えば、前記有機層等に接する領域に、前記保護層が配置されず、前記充填層が配置されてもよい。前記保護層が配置されず、前記充填層が配置される形態は、例えば、照明分野で使用される。前記接着層は、例えば、前記保護層または前記充填層の上（前記保護層または前記充填層に接する領域であって、前記有機層等に接する領域とは反対側）に配置されている。 The intermediate layer 17 may be, for example, a layer composed of any one of the protective layer, the filling layer, and the adhesive layer, or may be a layer having a laminated structure in which any two or more are combined. In the case where the intermediate layer 17 is the laminated structure including, for example, three layers of the protective layer, the filler layer, and the adhesive layer, the lamination order of the layers is not particularly limited, and for example, the protective layer, the filler It is possible to laminate in the order of the layer and the adhesive layer. For example, the protective layer is preferably disposed in a region in contact with the anode 11, the organic EL layer 12, the organic layer of the cathode 13, and the like. When the protective layer is disposed, the filler layer may or may not be disposed. In addition, for example, the protective layer may not be disposed in a region in contact with the organic layer or the like, and the filling layer may be disposed. The form in which the protective layer is not disposed and the filling layer is disposed is used, for example, in the field of lighting. The adhesive layer is disposed, for example, on the protective layer or the filler layer (a region in contact with the protective layer or the filler layer and opposite to a region in contact with the organic layer or the like).

封止基板１４は、有機ＥＬ素子１を封止する。封止基板１４を形成する材料としては、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス等の透明なガラス類、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＥＳ（ポリエーテルサルフォン）、ＰＩ（ポリイミド）、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）等のフィルム、シート類、ならびに樹脂基板等があげられる。 The sealing substrate 14 seals the organic EL element 1. Examples of materials for forming the sealing substrate 14 include transparent glasses such as non-alkali glass, soda glass, PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), PES (polyether sulfone), PI (polyimide) Films, sheets such as COP (cycloolefin polymer), and resin substrates.

本実施形態において、反射防止層１５は、透明基板１０の有機ＥＬ層１２との対向面（図１における上面）に配置されている。反射防止層１５は、透明基板１０の有機ＥＬ層１２との前記対向面に配置されており、その領域は、特に制限されず、例えば、前記対向面の全面に配置されていてもよく、前記対向面の一部に配置されていてもよい。 In the present embodiment, the antireflective layer 15 is disposed on the surface (upper surface in FIG. 1) of the transparent substrate 10 facing the organic EL layer 12. The antireflection layer 15 is disposed on the opposing surface of the transparent substrate 10 to the organic EL layer 12, and the region thereof is not particularly limited, and may be disposed on the entire surface of the opposing surface, for example. You may arrange | position to a part of opposing surface.

本実施形態によれば、陰極１３が前記スリット状の間隙を有する場合でも、例えば、以下の（Ｉ）および（II）の少なくとも一方の光が、陰極１３の前記間隙を通過することを抑制できる。
（Ｉ）発光層から出射し、有機ＥＬ素子における界面のうち発光層よりも陽極側の界面で反射した光
（II）発光層から出射し、陰極における有機ＥＬ層に面する側の界面で反射し、さらに、陽極側の界面で反射した光 According to the present embodiment, even when the cathode 13 has the slit-like gap, for example, light of at least one of the following (I) and (II) can be inhibited from passing through the gap of the cathode 13 .
(I) Light emitted from the light emitting layer and reflected at the interface closer to the anode than the light emitting layer among the interfaces of the organic EL element (II) emitted from the light emitting layer and reflected at the interface of the cathode facing the organic EL layer And light reflected from the interface on the anode side

前記（Ｉ）において、前記有機ＥＬ素子における界面のうち発光層よりも陽極側の界面とは、例えば、図１における陽極１１と透明基板１０との界面、および透明基板１０と大気との界面である。前記（II）において、前記陰極における有機ＥＬ層に面する側の界面とは、例えば、図１における陰極１３と有機ＥＬ層１２との界面である。また、前記陽極側の界面とは、例えば、図１における陽極１１と透明基板１０との界面、および透明基板１０と大気との界面である。 In the above (I), among the interfaces in the organic EL element, the interface closer to the anode than the light emitting layer is, for example, the interface between the anode 11 and the transparent substrate 10 in FIG. 1 and the interface between the transparent substrate 10 and the air. is there. In the above (II), the interface on the side facing the organic EL layer in the cathode is, for example, the interface between the cathode 13 and the organic EL layer 12 in FIG. The interface on the anode side is, for example, the interface between the anode 11 and the transparent substrate 10 in FIG. 1 and the interface between the transparent substrate 10 and the air.

本実施形態の有機ＥＬ素子１は、反射防止層１５を有するため、例えば、発光層１２３から出射した光が、陽極１１と透明基板１０との間で反射することを防止できる。具体的に、前記（Ｉ）および（II）の光の通過抑制について、図１を用いて説明する。 Since the organic EL element 1 of the present embodiment has the anti-reflection layer 15, for example, light emitted from the light emitting layer 123 can be prevented from being reflected between the anode 11 and the transparent substrate 10. Concretely, passage control of the said (I) and (II) light is demonstrated using FIG.

まず、前記（Ｉ）の光の場合について説明する。反射防止層１５が存在しない場合、図１における左端の実線の矢印に示すような、発光層１２３から出射し、有機ＥＬ素子１における界面のうち発光層１２３よりも陽極１１側の界面に到達した光は、図１における左端の破線の矢印に示すように、陽極１１側の前記界面で反射する。前記反射した光は、陰極１３の前記間隙を通過し、漏れ光として、有機ＥＬ素子の非発光方向に出射される。しかし、本実施形態の有機ＥＬ素子１は、反射防止層１５を有するため、前記実線の矢印に示すような、発光層１２３から出射し、陽極１１側の前記界面に到達した光は、反射防止層１５により反射が防止される。これにより、本実施形態の有機ＥＬ素子１は、発光層１２３から出射した光が前記界面（陽極１１と透明基板１０との間）で反射し、陰極１３の前記スリット状の間隙を通過することを抑制できる。したがって、本実施形態の有機ＥＬ素子１は、図１において左端の前記破線の矢印で示すような、光の漏れを抑制できる。 First, the case of the light of (I) will be described. When the antireflective layer 15 does not exist, the light is emitted from the light emitting layer 123 as shown by the solid line arrow at the left end in FIG. 1 and reaches the interface on the anode 11 side of the light emitting layer 123 among the interfaces in the organic EL element 1 Light is reflected at the interface on the side of the anode 11 as shown by the dashed arrow at the left end in FIG. The reflected light passes through the gap of the cathode 13 and is emitted as leaked light in the non-emission direction of the organic EL element. However, since the organic EL element 1 of the present embodiment has the anti-reflection layer 15, the light emitted from the light-emitting layer 123 and reaching the interface on the anode 11 side as shown by the solid arrow is anti-reflection The layer 15 prevents reflections. Thereby, in the organic EL element 1 of the present embodiment, light emitted from the light emitting layer 123 is reflected at the interface (between the anode 11 and the transparent substrate 10) and passes through the slit-like gap of the cathode 13. Can be suppressed. Therefore, the organic EL element 1 of the present embodiment can suppress light leakage as shown by the broken arrow at the left end in FIG. 1.

つぎに、前記（II）の光の場合について説明する。反射防止層１５が存在しない場合、図１の左から２番目の実線の矢印に示すような、発光層１２３から出射し、陰極１３における有機ＥＬ層１２に面する側の界面で反射し、さらに、陽極１１側の界面に到達した光は、図１の左から２番目の破線の矢印に示すように、陽極１１側の前記界面で反射する。前記反射した光は、陰極１３の前記間隙を通過し、漏れ光として、有機ＥＬ素子の非発光方向に出射される。しかし、本実施形態の有機ＥＬ素子１は、反射防止層１５を有するため、前記実線の矢印で示すような、陽極１１側の前記界面に到達した光は、反射防止層１５により反射が防止される。これにより、本実施形態の有機ＥＬ素子１は、発光層１２３から出射した光が、陰極１３における有機ＥＬ層１２に面する側の界面で反射し、さらに、陽極１１側の界面で反射し、陰極１３の前記スリット状の間隙を通過することを抑制できる。したがって、本実施形態の有機ＥＬ素子１は、図１において左から２番目の前記破線の矢印で示すような、光の漏れを抑制できる。 Next, the case of the light of (II) will be described. When the anti-reflection layer 15 is not present, the light is emitted from the light-emitting layer 123 as shown by the second solid arrow from the left in FIG. 1 and reflected at the interface of the cathode 13 facing the organic EL layer 12 The light reaching the interface on the anode 11 side is reflected at the interface on the anode 11 side as shown by the second broken arrow from the left in FIG. The reflected light passes through the gap of the cathode 13 and is emitted as leaked light in the non-emission direction of the organic EL element. However, since the organic EL element 1 of the present embodiment has the antireflective layer 15, the light reaching the interface on the side of the anode 11 as shown by the solid arrow is prevented from being reflected by the antireflective layer 15. Ru. Thereby, in the organic EL element 1 of the present embodiment, the light emitted from the light emitting layer 123 is reflected at the interface of the cathode 13 facing the organic EL layer 12 and is further reflected at the interface on the anode 11 side. Passage through the slit-like gap of the cathode 13 can be suppressed. Therefore, the organic EL element 1 of the present embodiment can suppress light leakage as shown by the second broken arrow from the left in FIG. 1.

本実施形態の有機ＥＬ素子１において、さらに、反射防止層１５は、例えば、透明基板１０の、有機ＥＬ層１２との対向面とは反対側の面（図２における下面）にも、配置されていることが好ましい。反射防止層１５は、例えば、透明基板１０における前記反対側の面に配置されており、その領域は、特に制限されず、例えば、前記反対側の面の全面に配置されていてもよく、前記反対側の面の一部に配置されていてもよい。 In the organic EL element 1 of the present embodiment, the antireflective layer 15 is also disposed, for example, on the surface of the transparent substrate 10 opposite to the surface facing the organic EL layer 12 (the lower surface in FIG. 2). Is preferred. The antireflection layer 15 is disposed, for example, on the opposite surface of the transparent substrate 10, and the region is not particularly limited, and may be disposed on the entire surface of the opposite surface, for example. It may be disposed on part of the opposite surface.

本実施形態の有機ＥＬ素子１は、例えば、透明基板１０の、前記対向面と、前記反対側の面との両面に、反射防止層１５を有する。これにより、例えば、陽極１１と透明基板１０との界面だけでなく、透明基板１０と大気との界面においても、発光層１２３から出射した光の反射を防止できる。そのため、非発光面から漏れる光を、さらに抑制できる。 The organic EL element 1 of the present embodiment, for example, has an anti-reflection layer 15 on both the opposite surface of the transparent substrate 10 and the opposite surface. Thus, for example, reflection of light emitted from the light emitting layer 123 can be prevented not only at the interface between the anode 11 and the transparent substrate 10 but also at the interface between the transparent substrate 10 and the air. Therefore, light leaking from the non-light emitting surface can be further suppressed.

本実施形態において、反射防止層１５は、例えば、光散乱層である。 In the present embodiment, the antireflection layer 15 is, for example, a light scattering layer.

前記光散乱層は、例えば、散乱材をバインダーに分散した分散材を用いて作製できる。前記散乱材および前記バインダーは、特に制限されず、例えば、屈折率に差がある組合せであり、具体的に、例えば、一方が、他方に対して相対的に高い屈折率であり、前記他方が、前記一方に対して相対的に低い屈折率である。前記屈折率の差は、特に制限されず、例えば、０．２を超える。 The light scattering layer can be produced, for example, using a dispersion material in which a scattering material is dispersed in a binder. The scattering material and the binder are not particularly limited, and are, for example, a combination having a difference in refractive index, specifically, for example, one has a relatively high refractive index with respect to the other, and the other has the other. The refractive index is relatively low with respect to the one. The difference in refractive index is not particularly limited, and is, for example, more than 0.2.

前記散乱材が、例えば、前記バインダーよりも低屈折率である場合、前記散乱材は、例えば、樹脂製の微粒子（ビーズともいう）が使用できる。前記樹脂は、特に制限されず、例えば、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、オレフィン樹脂等があげられる。前記散乱材が、例えば、前記バインダーよりも高屈折率である場合、前記散乱材は、例えば、金属または金属酸化物製の微粒子が使用できる。前記金属または金属酸化物は、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２）等があげられる。前記微粒子の大きさは、特に制限されず、直径が、例えば、０．０１〜１００μｍ、０．１〜５０μｍ、０．３〜５μｍである。また、前記バインダーは、特に制限されず、例えば、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメタクリルメタクリレート等のアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等があげられる。 For example, when the scattering material has a lower refractive index than the binder, for example, fine particles (also referred to as beads) made of resin can be used as the scattering material. The resin is not particularly limited, and examples thereof include silicone resin, acrylic resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, epoxy resin, and olefin resin. For example, when the scattering material has a refractive index higher than that of the binder, fine particles of metal or metal oxide can be used as the scattering material, for example. Examples of the metal or metal oxide include titanium oxide (TiO ₂ ) and the like. The size of the fine particles is not particularly limited, and the diameter is, for example, 0.01 to 100 μm, 0.1 to 50 μm, or 0.3 to 5 μm. Further, the binder is not particularly limited, and examples thereof include acrylic acid esters such as polycarbonate, polystyrene and polymethacrylic methacrylate, and methacrylic acid esters.

前記光散乱層は、前記発光層１２３から出射した光を、前記第１の電極である陽極１１を介して前記光散乱層に入射させる観点から、例えば、前記光散乱層の屈折率が、前記第１の電極と同じか、前記第１の電極よりも高いことが好ましい。前記光散乱層の屈折率を高く設定する場合、例えば、前記バインダーにナノ粒子を添加する。前記ナノ粒子の材料は、例えば、前記金属または金属酸化物等があげられ、具体例としては、例えば、ジルコニウム等があげられる。 The light scattering layer has, for example, a refractive index of the light scattering layer from the viewpoint of causing light emitted from the light emitting layer 123 to enter the light scattering layer through the anode 11 which is the first electrode. Preferably, it is the same as or higher than the first electrode. When the refractive index of the light scattering layer is set high, for example, nanoparticles are added to the binder. Examples of the material of the nanoparticles include the metals and metal oxides, and specific examples thereof include zirconium and the like.

前記光散乱層は、例えば、有機ＥＬ素子１の本来の発光方向への光の透過性、発光面側の外観等を考慮して、透明基板１０の全面に配置されてもよいし、透明基板１０に部分的に配置されてもよい。前記部分的に配置とは、例えば、透明基板１０上にて、島状、パターニングされた形状の配置等があげられる。前記光散乱層は、例えば、干渉縞が生じにくいため、対称性を有した微細なパターン形状とすることができる。 The light scattering layer may be disposed on the entire surface of the transparent substrate 10 in consideration of, for example, the light transmission in the original light emitting direction of the organic EL element 1, the appearance on the light emitting surface side, etc. 10 may be partially arranged. The partial arrangement includes, for example, the arrangement of an island shape, a patterned shape, and the like on the transparent substrate 10. The light scattering layer can have, for example, a fine pattern shape having symmetry because interference fringes are not easily generated.

前記光散乱層のヘイズ値は、特に制限されず、有機ＥＬ素子１の所望の光透過性、外観等に応じて適宜設定できる。前記ヘイズ値は、例えば、前記スリット間を通して有機ＥＬ素子１の反対側（裏面側）を見る際における視認性の観点から、例えば、１〜７０％、１〜５０％、１〜３０％が好ましい。 The haze value in particular of the said light-scattering layer is not restrict | limited, According to the desired light transmittance of the organic EL element 1, the external appearance, etc., it can set suitably. The haze value is preferably, for example, 1 to 70%, 1 to 50%, or 1 to 30% from the viewpoint of visibility when looking at the opposite side (back side) of the organic EL element 1 through the slits, for example. .

本実施形態において、反射防止層１５は、例えば、光干渉層でもよい。 In the present embodiment, the antireflection layer 15 may be, for example, a light interference layer.

前記光干渉層は、例えば、低屈折層と高屈折層との積層体があげられる。前記積層体は、例えば、低屈折材料の単層と、高屈折材料の単層とを、交互に積層することで作製できる。前記低屈折材料と、前記高屈折材料とは、特に制限されず、両者を比較した際に、両者が異なる屈折率の関係である。前記両者の屈折率の差は、特に制限されず、例えば、０．２を超える。具体例として、前記低屈折材料は、例えば、ＳｉＯ_２（屈折率＝１．４６）等があげられ、前記高屈折材料は、例えば、ＴｉＯ_２（屈折率＝２．４）等があげられる。前記光干渉層の光学的膜厚は、特に制限されず、例えば、１／４波長の奇数倍に設定できる。これにより、例えば、光干渉層の表面で反射した光と、透明基板１０（第１の基板）の表面で反射した光との間に、１／２波長分の光路差が生じることとなり、光同士が干渉し、光をより弱めることができる。 The light interference layer may be, for example, a laminate of a low refractive layer and a high refractive layer. The laminate can be produced, for example, by alternately laminating a single layer of low refractive material and a single layer of high refractive material. The low refractive material and the high refractive material are not particularly limited, and when they are compared, they have a relationship of different refractive index. The difference in refractive index between the two is not particularly limited, and is, for example, more than 0.2. As a specific example, the low refractive material is, for example, SiO ₂ (refractive index = 1.46) and the like, and the high refractive material is, for example, TiO ₂ (refractive index = 2.4) and the like. The optical film thickness of the light interference layer is not particularly limited, and can be set to, for example, an odd multiple of 1⁄4 wavelength. Thus, for example, an optical path difference corresponding to a half wavelength is generated between the light reflected on the surface of the light interference layer and the light reflected on the surface of the transparent substrate 10 (first substrate). Can interfere with each other and weaken the light more.

前記光干渉層は、例えば、光の位相も考慮して、前記低屈折層の光学的膜厚と前記高屈折層の光学的膜厚との比を設定してもよい。具体例として、前記光干渉層が、例えば、低屈折層と、高屈折層と、低屈折層とからなる三層構造の場合、各層の光学的膜厚比は、それぞれ、０．５／４λ（低屈折層）、１．０／４λ（高屈折層）、０．５／４λ（低屈折層）としてもよい。前記三層構造の場合、それぞれの材料は、例えば、Ａｌ_２Ｏ_３（屈折率＝１．６０）、ＺｒＯ_２（屈折率＝２．０）、ＭｇＦ_２（屈折率＝１．３８）の組み合わせ、ＳｉＯ_２（屈折率＝１．４６）、ＴｉＯ_２（屈折率＝２．４）、ＳｉＯ_２（屈折率＝１．４６）の組み合わせ等があげられる。なお、各屈折層の材料の組み合わせは、これらの組み合わせには限定されない。前記光干渉層は、例えば、単層でも複層でもよく、後者の場合、例えば、別の材料の組み合わせでもよい。 In the light interference layer, for example, the ratio of the optical thickness of the low refractive layer to the optical thickness of the high refractive layer may be set in consideration of the phase of light. As a specific example, in the case where the light interference layer has a three-layer structure including, for example, a low refractive layer, a high refractive layer, and a low refractive layer, the optical film thickness ratio of each layer is 0.5 / 4λ. (Low refractive layer), 1.0 / 4λ (high refractive layer), 0.5 / 4 λ (low refractive layer) may be used. In the case of the three-layer structure, each material is, for example, a combination of Al ₂ O ₃ (refractive index = 1.60), ZrO ₂ (refractive index = 2.0), MgF ₂ (refractive index = 1.38) And combinations of SiO ₂ (refractive index = 1.46), TiO ₂ (refractive index = 2.4), SiO ₂ (refractive index = 1.46), and the like. In addition, the combination of the material of each refractive layer is not limited to these combinations. The light interference layer may be, for example, a single layer or multiple layers, and in the latter case, it may be, for example, a combination of other materials.

前記光干渉層は、例えば、有機ＥＬ素子の本来の発光方向への光の透過性、発光面側の外観等を考慮して、透明基板１０の全面に配置されてもよいし、部分的に配置されてもよい。前記部分的に配置とは、例えば、透明基板１０上にて、島状、パターニングされた形状の配置等があげられ、前記形状は、対称性を有しても有さなくてもよい。 The light interference layer may be disposed on the entire surface of the transparent substrate 10 in consideration of, for example, the light transmission in the original light emitting direction of the organic EL element, the appearance on the light emitting surface side, etc. It may be arranged. The partial arrangement includes, for example, the arrangement of an island shape, a patterned shape, and the like on the transparent substrate 10, and the shape may or may not have symmetry.

本実施形態において、反射防止層１５は、例えば、入射角調整層でもよい。前記入射角調整層は、前記有機ＥＬ層１２から、透明基板１０へ入射する光の入射角が、全反射の臨界角未満となる層である。前記入射角調整層は、例えば、透明基板１０（第１の基板）における、前記第１の電極との対向面側の表面層であり、具体例として、前記表面層は、複数の凹凸部を有する。前記凹部または凸部の形状は、特に制限されず、例えば、円筒状、または半球状である。具体的には、前記形状は、基板平面に対して垂直な方向（上下方向）から見た場合に、縦および横の長さが等しい形状でもよいし、一方の長さが他方よりも長い形状でもよい。前記上下方向から見た場合に、例えば、前記形状が前記円筒状である場合、前記形状は、長方形であり、前記形状が前記半球状である場合、前記形状は、円である。また、前記形状は、前記上下方向における断面が、例えば、弧状であり、具体的には、例えば、半円、扇形等である。前記凹凸部は、前記表面層において、有機ＥＬ層１２側に凸状でも、凹状（有機ＥＬ層１２とは反対側に凸状）でもよい。前記入射角調整層の形成材料は、特に制限されず、例えば、透明基板１０と同じでもよいし、異なってもよいが、好ましくは同じである。前記凹凸部は、光の干渉を低減するため、例えば、規則性を持たないように配置することが好ましい。 In the present embodiment, the antireflection layer 15 may be, for example, an incident angle adjustment layer. The incident angle adjustment layer is a layer in which the incident angle of light incident on the transparent substrate 10 from the organic EL layer 12 is less than the critical angle of total reflection. The incident angle adjustment layer is, for example, a surface layer on the transparent substrate 10 (first substrate) facing the first electrode, and as a specific example, the surface layer includes a plurality of uneven portions. Have. The shape of the recess or the protrusion is not particularly limited, and is, for example, cylindrical or hemispherical. Specifically, when viewed in a direction (vertical direction) perpendicular to the plane of the substrate, the shape may have the same vertical and horizontal lengths, or one of the lengths is longer than the other. May be. When viewed from the vertical direction, for example, when the shape is the cylindrical shape, the shape is a rectangle, and when the shape is the hemispherical shape, the shape is a circle. Further, in the shape, the cross section in the vertical direction is, for example, an arc shape, and specifically, for example, a semicircle, a sector, or the like. The uneven portion may be convex on the side of the organic EL layer 12 or concave (convex on the side opposite to the organic EL layer 12) in the surface layer. The forming material of the incident angle adjusting layer is not particularly limited, and may be, for example, the same as or different from the transparent substrate 10, but is preferably the same. The uneven portion is preferably arranged, for example, so as not to have regularity in order to reduce light interference.

前記凹凸部の大きさ、前記凹凸部間のピッチ（間隔）は、特に制限されず、大きさが、例えば、５〜１００μｍ、５〜５０μｍ、１０〜２０μｍ、ピッチが、例えば、０〜１００μｍ、０〜５０μｍ、５〜２０μｍである。 The size of the uneven portion and the pitch (interval) between the uneven portions are not particularly limited, and the size is, for example, 5 to 100 μm, 5 to 50 μm, 10 to 20 μm, and the pitch is, for example, 0 to 100 μm. It is 0 to 50 μm and 5 to 20 μm.

前記入射角調整層の形成方法は、特に制限されず、例えば、フォトリソグラフィ法により感光性レジストの形状を制御する、フォトエッチング法により所望の形状にエッチングを行う、および、アディティブ法により形状を構築する等の方法により形成できる。 The method of forming the incident angle adjustment layer is not particularly limited. For example, the shape of the photosensitive resist is controlled by photolithography, etching is performed by a photoetching method to a desired shape, and the shape is constructed by an additive method And the like.

前記全反射の臨界角は、特に制限されず、例えば、３８°〜６０°、４３°〜５５°、４８°〜５０°である。 The critical angle of the total reflection is not particularly limited, and is, for example, 38 ° to 60 °, 43 ° to 55 °, or 48 ° to 50 °.

前記入射角調整層は、例えば、有機ＥＬ素子の本来の発光方向への光の透過性、発光面側の外観等を考慮して、透明基板１０の全面に配置されてもよいし、部分的に配置されてもよい。前記部分的に配置とは、例えば、透明基板１０上にて、島状、パターニングされた形状等の配置があげられる。 The incident angle adjustment layer may be disposed on the entire surface of the transparent substrate 10 in consideration of, for example, the light transmission in the original light emitting direction of the organic EL element, the appearance on the light emitting surface side, etc. It may be located at The partial arrangement includes, for example, the arrangement of islands, patterned shapes, and the like on the transparent substrate 10.

有機ＥＬ素子１において、陰極１３の前記スリット状の間隙の下部分（以下、間隙の下部分ともいう）には、例えば、図１に示すように、陽極１１および有機ＥＬ層１２等の層（以下、有機層等ともいう。）が配置されている。本実施形態の有機ＥＬ素子は、これには限定されない。その他の形態の一例を、図２に示す。図２は、陰極１３の前記間隙の下部分に、前記有機層等が未配置の有機ＥＬ素子１を示す図である。図２に示すように、有機ＥＬ素子１において、陰極１３の前記間隙の下部分には、前記有機層等が未配置でもよいし、部分的に配置されてもよいし、前記有機層等のうち一部の層が、全体または部分的に配置されてもよい。前記間隙の下部分に前記有機層等が配置されない場合、前記間隙の下部分は、例えば、前述の中間層１７と同様の層が配置されていることが好ましい。前記間隙の下部分に前記有機層等を配置しない場合、例えば、非発光時に、前記有機層等において、光の吸収による着色が生じにくいため、前記間隙がより透明となる。このため、前記スリット（前記間隙）間を通して有機ＥＬ素子１の反対側（裏面側）を見る場合に、好ましい。 In the lower portion (hereinafter, also referred to as the lower portion of the gap) of the slit-like gap of the cathode 13 in the organic EL element 1, for example, as shown in FIG. Hereinafter, it is also called an organic layer etc.). The organic EL element of the present embodiment is not limited to this. An example of another form is shown in FIG. FIG. 2 is a view showing the organic EL element 1 in which the organic layer and the like are not disposed in the lower part of the gap of the cathode 13. As shown in FIG. 2, in the organic EL element 1, the organic layer or the like may not be disposed or may be partially disposed in the lower portion of the gap of the cathode 13, or the organic layer or the like Some of the layers may be disposed wholly or partially. When the organic layer or the like is not disposed in the lower portion of the gap, it is preferable that the lower portion of the gap be, for example, the same layer as the intermediate layer 17 described above. When the organic layer or the like is not disposed in the lower portion of the gap, for example, when the light is not emitted, coloration due to light absorption is unlikely to occur in the organic layer or the like, so the gap becomes more transparent. For this reason, it is preferable when looking at the opposite side (back side) of the organic EL element 1 through the space between the slits (the gaps).

陰極１３の前記間隙の下部分に、前記有機層等が配置されない場合、陽極１１は、例えば、ベタ膜形成（一面形成）されていてもよいし、図２に示すように、パターン形成されていてもよい。前記パターン形成は、例えば、陰極１３の前記間隙の形状に対応してもよいし、対応しなくてもよい。前記パターンは、例えば、前記スリット状および前記グリッド状である。陽極１１が前記パターン形成されることにより、例えば、陽極１１と、透明基板１０との界面による光の反射を抑制できる。例えば、陽極１１が未配置の部分において、中間層１７と透明基板１０との界面での光の反射は、陽極１１と透明基板１０との界面での光の反射と比較し、より小さくなるため、光を、より多く、本来の光の方向に出射できる。また、陽極１１が前記一面形成されている場合、例えば、専用のエッチング工程が不要となり、プロセス負荷を軽減できる。この場合も、反射防止層１５の配置場所は、透明基板１０の有機ＥＬ層１２との対向面（図２における上面）である。具体的には、反射防止層１５は、例えば、透明基板１０の有機ＥＬ層１２との対向面（図２における上面）に配置されている。反射防止層１５は、例えば、透明基板１０の有機ＥＬ層１２との前記対向面に配置されており、その領域は、特に制限されず、例えば、前記対向面の全面に配置されていてもよく、前記対向面の一部に配置されていてもよい。 When the organic layer or the like is not disposed in the lower portion of the gap of the cathode 13, for example, the anode 11 may be formed as a solid film (formed on one side) or patterned as shown in FIG. 2. May be The pattern formation may or may not correspond to, for example, the shape of the gap of the cathode 13. The pattern is, for example, the slit and the grid. The pattern formation of the anode 11 can suppress, for example, the reflection of light at the interface between the anode 11 and the transparent substrate 10. For example, in the portion where the anode 11 is not disposed, the light reflection at the interface between the intermediate layer 17 and the transparent substrate 10 is smaller compared to the light reflection at the interface between the anode 11 and the transparent substrate 10 , More light can be emitted in the direction of the original light. Moreover, when the anode 11 is formed on the one side, for example, a dedicated etching process is not necessary, and the process load can be reduced. Also in this case, the arrangement position of the antireflective layer 15 is the surface (upper surface in FIG. 2) of the transparent substrate 10 facing the organic EL layer 12. Specifically, the antireflection layer 15 is disposed, for example, on the surface (upper surface in FIG. 2) of the transparent substrate 10 facing the organic EL layer 12. The anti-reflection layer 15 is disposed, for example, on the opposite surface of the transparent substrate 10 to the organic EL layer 12, and the region is not particularly limited, and may be disposed on the entire surface of the opposite surface, for example. , May be disposed on a part of the facing surface.

陰極１３の前記間隙の下部分に、前記有機層等のうち、一部の層が配置される場合、例えば、前記間隙の下部分に、陽極１１が配置されず、有機ＥＬ層１２のみが配置されてもよい。前記間隙の下部分に、有機ＥＬ層１２が配置されることにより、例えば、有機ＥＬ層１２が絶縁膜の役割を果たす。そのため、有機ＥＬ素子１について、例えば、さらに、短絡防止、およびダークスポットの抑制等が可能であり、これによって、有機ＥＬ素子１の信頼性がより向上する。また、この場合、有機ＥＬ層１２は、例えば、ベタ膜形成（一面形成）できるため、有機ＥＬ層１２を、パターニング形成する場合と比較し、例えば、プロセス負荷をより小さくできる。 When a part of the organic layer or the like is disposed in the lower portion of the gap of the cathode 13, for example, the anode 11 is not disposed in the lower portion of the gap, and only the organic EL layer 12 is disposed. It may be done. By arranging the organic EL layer 12 in the lower portion of the gap, for example, the organic EL layer 12 plays a role of an insulating film. Therefore, for the organic EL element 1, for example, short circuit prevention, dark spot suppression and the like can be further performed, whereby the reliability of the organic EL element 1 is further improved. Further, in this case, since the organic EL layer 12 can be formed, for example, as a solid film (formed on one side), the process load can be further reduced, for example, as compared with the case where the organic EL layer 12 is formed by patterning.

図１において、有機ＥＬ素子１は、前記第１の基板である透明基板１０側に、第１の電極である陽極１１が配置され、前記第２の基板である封止基板１４側に、第２の電極である陰極１３が配置されている。本実施形態の有機ＥＬ素子１は、これには制限されず、例えば、陽極１１と陰極１３とが、前記順序とは逆に積層されている形態であってもよい。この形態において、有機ＥＬ素子１は、例えば、前記第１の基板である透明基板１０と、反射防止層１５と、前記第１の電極である陰極１３と、有機ＥＬ層１２と、前記第２の電極である陽極１１と、前記第２の基板である封止基板１４とを含む。この場合、有機ＥＬ素子１は、透明基板１０上に、反射防止層１５と、陰極１３と、有機ＥＬ層１２と、陽極１１と、中間層１７と、封止基板１４とが、前記順序で積層されている。有機ＥＬ層１２は、例えば、電子注入層１２５と、電子輸送層１２４と、発光層１２３と、正孔輸送層１２２と、正孔注入層１２１とを含み、これらが前記順序で積層されている。陰極１３は、例えば、ＭｇＡｇ合金等の透明性を有する電極を用いることができる。また、陽極１１が、例えば、スリット状に間隔をあけて配置されている。 In FIG. 1, in the organic EL element 1, the anode 11 which is a first electrode is disposed on the transparent substrate 10 side which is the first substrate, and the organic EL element 1 is arranged on the sealing substrate 14 which is the second substrate. A cathode 13 which is a second electrode is disposed. The organic EL element 1 of the present embodiment is not limited to this, and may be, for example, a form in which the anode 11 and the cathode 13 are stacked in the reverse order. In this embodiment, the organic EL element 1 includes, for example, the transparent substrate 10 as the first substrate, the antireflection layer 15, the cathode 13 as the first electrode, the organic EL layer 12, and the second electrode. And a sealing substrate 14 which is the second substrate. In this case, the organic EL element 1 comprises, on the transparent substrate 10, the antireflection layer 15, the cathode 13, the organic EL layer 12, the anode 11, the intermediate layer 17, and the sealing substrate 14 in the above order It is stacked. The organic EL layer 12 includes, for example, an electron injection layer 125, an electron transport layer 124, a light emitting layer 123, a hole transport layer 122, and a hole injection layer 121, and these are stacked in the above order . For the cathode 13, for example, an electrode having transparency such as a MgAg alloy can be used. Further, the anodes 11 are arranged, for example, in the form of slits at intervals.

（実施形態２）
本実施形態の有機ＥＬ素子は、例えば、前記発光層が２層以上の積層構造であり（図示せず）、さらに、例えば、入射する光の一部を透過し、一部を反射する、反射半透過層を有する。図３は、本実施形態における有機ＥＬ素子２を横から見た模式図（断面図）である。図３において、下方向が、有機ＥＬ素子２の本来の発光方向（発光面側）であり、上方向が、本来の非発光方向（非発光面側）である。本実施形態の有機ＥＬ素子２は、前記発光層が２層以上の積層構造であり、且つ、反射半透過層１６を有する以外は、前記実施形態１の有機ＥＬ素子１と同様である。 Second Embodiment
In the organic EL element of the present embodiment, for example, the light emitting layer has a laminated structure of two or more layers (not shown), and further, for example, a part of incident light is transmitted and a part is reflected It has a semipermeable layer. FIG. 3 is a schematic view (cross-sectional view) of the organic EL element 2 in the present embodiment as viewed from the side. In FIG. 3, the downward direction is the original light emitting direction (light emitting surface side) of the organic EL element 2, and the upper direction is the original non-light emitting direction (non light emitting surface side). The organic EL device 2 of the present embodiment is the same as the organic EL device 1 of the first embodiment except that the light emitting layer has a laminated structure of two or more layers and has the reflective semi-transmissive layer 16.

有機ＥＬ素子２において、反射半透過層１６は、例えば、図３に示すように、封止基板１４の有機ＥＬ層１２との対向面（図３における下面）に配置されている。反射半透過層１６の形成材料は、特に制限されず、公知のものが使用でき、例えば、金属、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯＮ等の誘電体膜が使用できる。 In the organic EL element 2, for example, as shown in FIG. 3, the reflective semitransmissive layer 16 is disposed on the surface (lower surface in FIG. 3) of the sealing substrate 14 facing the organic EL layer 12. The material for forming the reflective semitransparent layer 16 is not particularly limited, and any known material can be used. For example, dielectric films such as metal, SiO ₂ , Al ₂ O ₃ , and SiON can be used.

本実施形態によれば、陰極１３が前記スリット状の間隙を有する場合でも、例えば、さらに、以下の（III）の光が、陰極１３の前記間隙を通過することを抑制できる。
（III）発光層から陰極方向に出射した光 According to the present embodiment, even when the cathode 13 has the slit-like gap, for example, light of the following (III) can be further suppressed from passing through the gap of the cathode 13.
(III) Light emitted from the light emitting layer toward the cathode

有機ＥＬ素子において、例えば、発光層が単層構造の場合、前記発光層と陰極との間隔が、数十ｎｍ程度であると、前記（III）の光は、問題になりにくい。他方、例えば、マルチユニット素子、タンデム素子等と称される、前記発光層が厚み方向に複数積層された構造の有機ＥＬ素子においては、前記（III）の光の影響が考えられ、漏れ光として、有機ＥＬ素子の本来の非発光方向に出射される場合がある。 In the organic EL element, for example, when the light emitting layer has a single layer structure, the light of (III) hardly causes a problem when the distance between the light emitting layer and the cathode is about several tens of nm. On the other hand, for example, in an organic EL element having a structure in which a plurality of light emitting layers are stacked in the thickness direction, such as a multi-unit element or a tandem element, the influence of the light of (III) can be considered. The light may be emitted in the original non-emission direction of the organic EL element.

本実施形態の有機ＥＬ素子２は、例えば、封止基板１４の有機ＥＬ層１２との前記対向面に、入射する光の一部を透過し、一部を反射する、反射半透過層１６を有するため、例えば、発光層１２３から陰極１３方向に出射した光が、陰極１３の前記スリット状の間隙を通過することを抑制できる。具体的に、前記（III）の光の通過抑制について、図３を用いて説明する。 In the organic EL element 2 of the present embodiment, for example, a part of the incident light is transmitted to the opposite surface of the sealing substrate 14 with the organic EL layer 12, and a part of the incident light is reflected, and the reflection semitransparent layer 16 Since it has, it can suppress that the light radiate | emitted from the light emitting layer 123 to the direction of the cathode 13 passes the said slit-shaped clearance gap of the cathode 13, for example. Specifically, the suppression of the passage of light of (III) will be described with reference to FIG.

反射半透過層１６が存在しない場合、図３における右端の上向き実線の矢印に示すような、発光層１２３から陰極１３方向に出射した光は、図３における右端の上向き破線の矢印に示すように、陰極１３の前記スリット状の間隙を通過する。前記通過した光は、漏れ光として、有機ＥＬ素子の非発光方向に出射される。しかし、本実施形態の有機ＥＬ素子２は、反射半透過層１６を有するため、前記右端の上向き実線の矢印に示すような、発光層１２３から陰極１３方向に出射した光は、図３における右端の下向き実線の矢印に示すように、反射半透過層１６により反射される。これにより、本実施形態の有機ＥＬ素子２は、発光層１２３から陰極１３方向に出射した光が、陰極１３の前記スリット状の間隙を通過することを抑制できる。したがって、本実施形態の有機ＥＬ素子２は、さらに、図３において前記破線の矢印で示すような、光の漏れを抑制できる。 When the reflective semi-transmissive layer 16 is not present, light emitted from the light emitting layer 123 toward the cathode 13 as shown by the upward solid arrow at the right end in FIG. 3 is as shown by the upward dashed arrow at the right end in FIG. , Through the slit-like gap of the cathode 13. The light that has passed through is emitted in the non-emission direction of the organic EL element as leaked light. However, since the organic EL element 2 of the present embodiment has the reflective semi-transmissive layer 16, light emitted from the light emitting layer 123 toward the cathode 13 as shown by the upward solid arrow at the right end is the right end in FIG. The light is reflected by the reflective semitransparent layer 16 as shown by the downward solid arrow. Thereby, the organic EL element 2 of this embodiment can suppress that light emitted from the light emitting layer 123 toward the cathode 13 passes through the slit-like gap of the cathode 13. Therefore, the organic EL element 2 of the present embodiment can further suppress light leakage as shown by the broken arrow in FIG. 3.

本実施形態の有機ＥＬ素子２は、例えば、マルチユニット素子、タンデム素子等の、発光層が複数積層された構造に適している。 The organic EL element 2 of the present embodiment is suitable for, for example, a structure in which a plurality of light emitting layers such as a multi-unit element and a tandem element are stacked.

（実施形態３）
図４は、本実施形態における有機ＥＬ素子を横から見た模式図（断面図）である。本実施形態の有機ＥＬ素子３は、トップエミッションタイプの有機ＥＬ素子であり、図４において、上方向が、有機ＥＬ素子３の本来の発光方向（発光面側）であり、下方向が、本来の非発光方向（非発光面側）である。本実施形態の有機ＥＬ素子３は、ボトムエミッションタイプであることに代えて、トップエミッションタイプである以外は、前記実施形態１の有機ＥＬ素子１と同様である。 (Embodiment 3)
FIG. 4 is a schematic view (cross-sectional view) of the organic EL element in the present embodiment as viewed from the side. The organic EL element 3 of the present embodiment is a top emission type organic EL element. In FIG. 4, the upper direction is the original light emitting direction (light emitting surface side) of the organic EL element 3, and the lower direction is originally In the non-emitting direction (non-emitting side). The organic EL element 3 of the present embodiment is the same as the organic EL element 1 of the first embodiment except that it is a top emission type instead of being a bottom emission type.

図４（Ａ）に示すように、本実施形態の有機ＥＬ素子３Ａは、前記第１の基板である封止基板３４と、反射防止層３５と、前記第１の電極である陰極３３と、有機ＥＬ層３２と、前記第２の電極である陽極３１と、中間層３７と、前記第２の基板である透明基板３０とを含む。有機ＥＬ素子３Ａは、例えば、透明基板３０上に、中間層３７と、陽極３１と、有機ＥＬ層３２と、陰極３３と、反射防止層３５と、封止基板３４とが、前記順序で積層されている。有機ＥＬ層３２は、例えば、正孔注入層３２１と、正孔輸送層３２２と、発光層３２３と、電子輸送層３２４と、電子注入層３２５とを含み、これらが前記順序で積層されている。そして、本実施形態において、反射防止層３５は、封止基板３４の有機ＥＬ層３２との対向面（図４における下面）に配置されている。陽極３１は、スリット状に間隔をあけて配置されている。なお、正孔注入層３２１と、正孔輸送層３２２と、電子輸送層３２４と、電子注入層３２５と、中間層３７とは、必須の構成要件ではなく、有機ＥＬ素子３に含まれてもよいし、含まれなくてもよい。 As shown in FIG. 4A, the organic EL element 3A of the present embodiment includes the sealing substrate 34 which is the first substrate, the antireflective layer 35, and the cathode 33 which is the first electrode, It includes an organic EL layer 32, an anode 31 which is the second electrode, an intermediate layer 37, and a transparent substrate 30 which is the second substrate. In the organic EL element 3A, for example, the intermediate layer 37, the anode 31, the organic EL layer 32, the cathode 33, the antireflective layer 35, and the sealing substrate 34 are stacked in the above order on the transparent substrate 30. It is done. The organic EL layer 32 includes, for example, a hole injection layer 321, a hole transport layer 322, a light emitting layer 323, an electron transport layer 324, and an electron injection layer 325, and these are stacked in the above order . And in this embodiment, the reflection preventing layer 35 is arrange | positioned at the opposing surface (lower surface in FIG. 4) with the organic electroluminescent layer 32 of the sealing substrate 34. As shown in FIG. The anodes 31 are arranged in the form of slits at intervals. The hole injection layer 321, the hole transport layer 322, the electron transport layer 324, the electron injection layer 325, and the intermediate layer 37 are not essential components but may be included in the organic EL element 3. It does not have to be included.

本実施形態において、陽極３１は、スリット状に間隔をあけて配置されている。陽極３１の形状は、前記スリット状には限定されず、例えば、グリッド状に配置されていてもよい。この場合、前記グリッドの幅は、例えば、前述の、前記スリット状の間隙の幅の条件を満たすことが好ましい。陽極３１は、例えば、間隔をあけて配置されている陽極３１が、互いに部分的に接続していてもよいし、未接続でもよい。 In the present embodiment, the anodes 31 are arranged in the form of slits at intervals. The shape of the anode 31 is not limited to the slit shape, and may be arranged, for example, in a grid shape. In this case, the width of the grid preferably satisfies, for example, the width of the slit-like gap described above. For example, the anodes 31 spaced apart may be partially connected to each other, or may not be connected.

本実施形態において、陰極３３は、例えば、ＭｇＡｇ合金等の透明性を有する電極を用いることができる。 In the present embodiment, as the cathode 33, for example, an electrode having transparency such as a MgAg alloy can be used.

有機ＥＬ素子３Ａは、例えば、駆動電圧が低く、発光効率も高いため、有機ＥＬディスプレイ等に適している。 The organic EL element 3A is suitable, for example, for an organic EL display and the like because the driving voltage is low and the light emission efficiency is also high.

図４（Ａ）において、有機ＥＬ素子３Ａは、前記第１の基板である透明基板３０側に、第２の電極である陽極３１が配置され、前記第２の基板である封止基板３４側に、第１の電極である陰極３３が配置されている。本実施形態の有機ＥＬ素子３は、これには制限されず、例えば、図４（Ｂ）に示すように、成膜の順番を逆積みとした形態であってもよい。図４（Ｂ）に示す有機ＥＬ素子３Ｂは、前記第２の基板である透明基板３０と、中間層３７と、前記第２の電極である陰極３３と、有機ＥＬ層３２と、前記第１の電極である陽極３１と、反射防止層３５と、前記第１の基板である封止基板３４とを含む。この場合、例えば、透明基板３０上に、中間層３７と、陰極３３と、有機ＥＬ層３２と、陽極３１と、反射防止層３５と、封止基板３４とが、前記順序で積層されている。有機ＥＬ層３２は、例えば、電子注入層３２５と、電子輸送層３２４と、発光層３２３と、正孔輸送層３２２と、正孔注入層３２１とを含み、これらが前記順序で積層されている。有機ＥＬ素子３Ｂは、例えば、照明分野等において使用される。 In FIG. 4A, in the organic EL element 3A, the anode 31 as a second electrode is disposed on the transparent substrate 30 side as the first substrate, and the sealing substrate 34 side as the second substrate is disposed. A cathode 33, which is a first electrode, is disposed. The organic EL element 3 of the present embodiment is not limited to this, and for example, as shown in FIG. 4 (B), the film forming order may be reversed. The organic EL element 3B shown in FIG. 4B includes the transparent substrate 30 which is the second substrate, the intermediate layer 37, the cathode 33 which is the second electrode, the organic EL layer 32, and the first electrode. And an antireflective layer 35, and a sealing substrate 34 which is the first substrate. In this case, for example, on the transparent substrate 30, the intermediate layer 37, the cathode 33, the organic EL layer 32, the anode 31, the antireflective layer 35, and the sealing substrate 34 are stacked in the above order . The organic EL layer 32 includes, for example, an electron injection layer 325, an electron transport layer 324, a light emitting layer 323, a hole transport layer 322, and a hole injection layer 321, and these are stacked in the above order . The organic EL element 3B is used, for example, in the field of lighting and the like.

有機ＥＬ素子３Ｂにおいて、陰極３３は、間隔をあけて配置されている。陰極３３の形状は、例えば、スリット状であり、間隔をあけて配置されている。陰極３３の形状は、前記スリット状には限定されず、例えば、グリッド状でもよい。この場合、前記グリッドの幅は、例えば、前述の、前記スリットの幅の条件を満たすことが好ましい。陰極３３は、例えば、間隔をあけて配置されている陰極３３が、互いに部分的に接続していてもよいし、未接続でもよい。陽極３１および陰極３３の形成材料は、前記実施形態１の説明を援用できる。また、反射防止層３５は、有機ＥＬ素子３Ａと同様に、封止基板３４の有機ＥＬ層３２との対向面（図４における下面）に配置されている。 In the organic EL element 3B, the cathodes 33 are arranged at intervals. The shape of the cathode 33 is, for example, a slit and is spaced apart. The shape of the cathode 33 is not limited to the slit shape, and may be, for example, a grid shape. In this case, the width of the grid preferably satisfies, for example, the condition of the width of the slit described above. For example, the cathodes 33 spaced apart may be partially connected to each other or may not be connected. The description of the said Embodiment 1 can be used for the formation material of the anode 31 and the cathode 33. FIG. Moreover, the anti-reflection layer 35 is arrange | positioned at the opposing surface (lower surface in FIG. 4) with the organic electroluminescent layer 32 of the sealing substrate 34 similarly to the organic electroluminescent element 3A.

本実施形態の有機ＥＬ素子３は、さらに、例えば、反射半透過層３６を有してもよい。この場合、反射半透過層３６は、透明基板３０の有機ＥＬ層３２との対向面（図４における上面）に配置されている。 The organic EL element 3 of the present embodiment may further have, for example, a reflective semi-transmissive layer 36. In this case, the reflective semi-transmissive layer 36 is disposed on the surface (upper surface in FIG. 4) of the transparent substrate 30 facing the organic EL layer 32.

（実施形態４）
本発明の有機ＥＬ照明装置は、前記本発明の有機ＥＬ素子を含むことを特徴とし、その他の構成は、なんら制限されない。本発明の有機ＥＬ照明装置によれば、非発光面側からの発光を抑制できる。 (Embodiment 4)
The organic EL lighting device of the present invention is characterized by including the organic EL element of the present invention, and the other constitution is not limited at all. According to the organic EL lighting device of the present invention, light emission from the non-light emitting surface side can be suppressed.

以上、実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明のスコープ内で当業者が理解しうる様々な変更をできる。 Although the present invention has been described above with reference to the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments. The configurations and details of the present invention can be modified in various ways that can be understood by those skilled in the art within the scope of the present invention.

本発明によれば、有機ＥＬ素子における非発光面側からの発光を抑制できる。このため、本発明によれば、例えば、デザイン性の高い有機ＥＬ素子を提供できる。 According to the present invention, light emission from the non-light emitting surface side in the organic EL element can be suppressed. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide, for example, an organic EL element having high designability.

１、２、３有機ＥＬ素子
１０、３０透明基板
１１、３１陽極
１２、３２有機ＥＬ層
１２１、３２１正孔注入層
１２２、３２２正孔輸送層
１２３、３２３発光層
１２４、３２４電子輸送層
１２５、３２５電子注入層
１３、３３陰極
１４、３４封止基板
１５、３５反射防止層
１６、３６反射半透過層
１７、３７中間層 1, 2, 3 organic EL elements 10, 30 transparent substrates 11, 31 anodes 12, 32 organic EL layers 121, 321 hole injection layers 122, 322 hole transport layers 123, 323 light emitting layers 124, 324 electron transport layers 125, 325 electron injection layer 13, 33 cathode 14, 34 sealing substrate 15, 35 antireflective layer 16, 36 reflective semitransparent layer 17, 37 intermediate layer

Claims

A first substrate, a first electrode, an organic EL layer, a second electrode, and an antireflective layer,
The organic EL layer includes a light emitting layer,
The first substrate, the first electrode, the organic EL layer, and the second electrode are stacked in this order,
The first substrate is a substrate on the light emitting surface side,
One of the first electrode and the second electrode is an anode, and the other is a cathode.
The first electrode is a transparent electrode,
The second electrodes are spaced apart in the surface direction of the organic EL layer,
The organic EL device according to claim 1, wherein the anti-reflection layer is disposed on a surface of the first substrate facing the first electrode.

And further comprising a second substrate,
The first substrate, the antireflective layer, the first electrode, the organic EL layer, the second electrode, and the second substrate are stacked in this order,
The first substrate is a transparent substrate,
The organic EL device according to claim 1, wherein the second substrate is a sealing substrate.

And further comprising a second substrate,
The first substrate, the antireflective layer, the first electrode, the organic EL layer, the second electrode, and the second substrate are stacked in this order,
The first substrate is a sealing substrate,
The organic EL device according to claim 1, wherein the second substrate is a transparent substrate.

The organic EL device according to any one of claims 1 to 3, wherein the second electrode is arranged in a slit shape or a grid shape.

The organic EL device according to any one of claims 1 to 4, wherein the antireflective layer is a light scattering layer or a light interference layer.

The antireflective layer is an incident angle adjusting layer,
The incident angle adjustment layer is
A surface layer on the side opposite to the first electrode on the first substrate,
The organic EL device according to any one of claims 1 to 4, which is a layer in which the incident angle of light from the organic EL layer is less than the critical angle of total reflection.

The organic EL device according to claim 6, wherein the surface layer of the first substrate has a plurality of concavo-convex portions, and the shape of the concave or convex portion in the concavo-convex portion is cylindrical or hemispherical.

Furthermore, it contains an antireflective layer,
The organic EL device according to any one of claims 1 to 7, wherein the anti-reflection layer is disposed on the first substrate at a side opposite to the side facing the first electrode.

Furthermore, it includes a second substrate and a reflective semitransparent layer,
The first substrate, the antireflective layer, the first electrode, the organic EL layer, the second electrode, the reflective semitransparent layer, and the second substrate in this order Are stacked at
The organic EL element according to any one of claims 1 to 8, wherein the reflective semi-transmissive layer is disposed on a surface of the second substrate facing the second electrode.

The organic EL element according to any one of claims 1 to 9, wherein in the organic EL layer, the light emitting layer has a single layer structure or a laminated structure of two or more layers.