JP2019086655A - Optical waveguide film attenuator and intensity adjustment method of optical signal - Google Patents

Optical waveguide film attenuator and intensity adjustment method of optical signal Download PDF

Info

Publication number
JP2019086655A
JP2019086655A JP2017214678A JP2017214678A JP2019086655A JP 2019086655 A JP2019086655 A JP 2019086655A JP 2017214678 A JP2017214678 A JP 2017214678A JP 2017214678 A JP2017214678 A JP 2017214678A JP 2019086655 A JP2019086655 A JP 2019086655A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
core portion
optical waveguide
waveguide film
optical signal
refractive index
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017214678A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
マヤンク,クマール,シング
Kumar Singh Mayank
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP2017214678A priority Critical patent/JP2019086655A/en
Publication of JP2019086655A publication Critical patent/JP2019086655A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

To attenuate light to a desired intensity in an optical waveguide film.SOLUTION: A long optical waveguide film attenuator is equipped with a lower clad layer, a pattern-shaped core portion provided on the lower clad layer, and an upper clad layer provided on the core portion. The core portion includes a part changing its refraction index. An optical signal intensity adjusting method for attenuating an optical signal to a desired intensity, includes a step of inputting an optical signal from one end of the core portion, and outputting an optical signal from the other end of the core portion, in the long optical waveguide film equipped with the lower clad layer, the pattern-shaped core portion including a part changing its refraction index, and the upper clad layer provided on the core portion.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光導波路フィルム減衰器および光信号の強度調整方法に関する。   The present invention relates to an optical waveguide film attenuator and a method of adjusting the intensity of an optical signal.

光導波路フィルムは、古典的な光ファイバーには無い種々の長所を有することから、次世代の伝送路として様々な検討が行われている。
例えば、特許文献1には、特定の物性や構造が規定されたポリイミド製のフィルムを、光導波路として用いる技術が開示されている。
また、特許文献2には、特定のチオール系化合物等を含む光導波路のコア形成用樹脂組成物、および、その組成物を用いて作成した光導波路が開示されている。
Since optical waveguide films have various advantages that classical optical fibers do not have, various studies have been conducted as next-generation transmission paths.
For example, Patent Document 1 discloses a technique in which a polyimide film having specific physical properties and structure defined therein is used as an optical waveguide.
In addition, Patent Document 2 discloses a resin composition for forming a core of an optical waveguide containing a specific thiol compound and the like, and an optical waveguide formed using the composition.

特開2003−103738号公報JP 2003-103738 A 特開2016−224196号公報JP, 2016-224196, A

光導波路フィルムは、基本的には光の伝送時の損失が少なければ少ないほど好ましい。よって、光導波路フィルムの開発の多くは、光の損失をより少なくすること、すなわち、光の吸収や散乱等をなるべく抑えることを意図して進められている。   Basically, the smaller the loss during light transmission, the better the light guide film is. Therefore, much of the development of optical waveguide films is intended to further reduce the loss of light, that is, to suppress absorption and scattering of light as much as possible.

しかし、光導波路フィルムを実用に供する際には、光の強度を適切に減衰させることが求められる場合がある。例えば、伝送された光を受光素子に入力する際、光の強度が強すぎる場合には、受光素子を破損させてしまうおそれがある。また、光の強度が強すぎると、光導波路フィルムから漏れ出る光により、意図しない受光素子が反応してしまう(誤作動してしまう)恐れもある。
つまり、長距離の光の伝送の為には、光の損失は少なければ少ないほどよいが、受光素子の近傍においては、光を適切に減衰させることが求められる場合がある。
However, when the optical waveguide film is put to practical use, it may be required to appropriately attenuate the light intensity. For example, when the transmitted light is input to the light receiving element, if the light intensity is too strong, the light receiving element may be damaged. In addition, when the intensity of light is too strong, there is a possibility that an unintended light receiving element may be reacted (incorrectly operated) by the light leaked from the optical waveguide film.
That is, for long-distance light transmission, the smaller the loss of light, the better. However, in the vicinity of the light receiving element, it may be required to appropriately attenuate the light.

しかしながら、本発明者が知る限り、光導波路フィルムの分野で、光を所望の強度に減衰させる実用的な技術は、これまで知られていなかった。   However, as far as the present inventor is aware, no practical technique for attenuating light to a desired intensity has been known in the field of light guide films.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものである。つまり、光導波路フィルムにおいて、光を所望の強度に減衰させることを目的の1つとする。   The present invention has been made in view of such circumstances. That is, one of the purposes is to attenuate light to a desired intensity in an optical waveguide film.

本発明者らは、鋭意検討の結果、以下に提供される発明をなし、上記課題を達成できることを見出した。   MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors found out that the said subject could be achieved, as a result of earnest examination, making the invention provided below.

本発明によれば、
下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に設けられたパターン状のコア部と、
前記コア部上に設けられた上部クラッド層とを備え、
前記コア部は、屈折率が変化する部分を含む、
長尺状の光導波路フィルム減衰器
が提供される。
According to the invention
Lower cladding layer,
A patterned core portion provided on the lower cladding layer;
And an upper cladding layer provided on the core portion,
The core portion includes a portion where the refractive index changes.
An elongated optical waveguide film attenuator is provided.

また、本発明によれば、
下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に設けられており、屈折率が変化する部分を含むパターン状のコア部と、前記コア部上に設けられた上部クラッド層とを備える長尺状の光導波路フィルムにおける、前記コア部の一端から光信号を入力し、前記コア部の他端から前記光信号を出力する工程を含み、
前記光信号を所望の強度に減衰させる、光信号の強度調整方法
が提供される。
Moreover, according to the present invention,
A long light guide comprising a lower cladding layer, a pattern core portion provided on the lower cladding layer and including a portion in which the refractive index changes, and an upper cladding layer provided on the core portion Including a step of inputting an optical signal from one end of the core portion in the waveguide film and outputting the optical signal from the other end of the core portion,
A method of adjusting the intensity of an optical signal is provided which attenuates the optical signal to a desired intensity.

本発明によれば、光導波路フィルムにおいて、光を所望の強度に減衰させることが可能となる。   According to the present invention, light can be attenuated to a desired intensity in an optical waveguide film.

本発明の第1実施形態の光導波路フィルム減衰器を説明する図である。It is a figure explaining the optical waveguide film attenuator of 1st Embodiment of this invention. 第1実施形態の変形例を説明する図である。It is a figure explaining the modification of a 1st embodiment. 第1実施形態の別の変形例を説明する図である。It is a figure explaining another modification of a 1st embodiment. 第1実施形態のさらに別の変形例を説明する図である。It is a figure explaining another modification of a 1st embodiment. 本発明の第1実施形態の光導波路フィルム減衰器の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the optical waveguide film attenuator of 1st Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
煩雑さを避けるため、(i)同一図面内に同一の構成要素が複数ある場合には、その1つのみに符号を付し、全てには符号を付さない場合や、(ii)特に図2以降において、図1と同様の構成要素に改めては符号を付さない場合などがある。
すべての図面は、あくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比などは、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In all the drawings, similar components are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as appropriate.
In order to avoid complexity, (i) when there is a plurality of identical components in the same drawing, only one of them is given a code and all of them are not given a code, or (ii) in particular In 2 and later, there is a case where the same component as that in FIG.
All drawings are for illustration only. The shapes, dimensional ratios, and the like of the respective members in the drawings do not necessarily correspond to real articles.

本明細書中、「略」という用語は、特に明示的な説明の無い限りは、製造上の公差や組立て上のばらつき等を考慮した範囲を含むことを表す。
本明細書中、数値範囲の説明における「a〜b」との表記は、特に断らない限り、a以上b以下のことを表す。
In the present specification, the term "abbreviation" means including a range in which manufacturing tolerances, assembly variations, and the like are taken into consideration, unless explicitly described.
In the present specification, the notation “a to b” in the description of the numerical range indicates a or more and b or less unless otherwise specified.

(第1実施形態)
図1(a)は、光導波路フィルム減衰器1(以下、単に「減衰器1」とも記載する)を斜め上から俯瞰した図である。減衰器1は、一態様として、図1(a)におけるy方向に延びる長尺状である。
減衰器1は、下部クラッド層11を備えている。下部クラッド層11の上には、コア層13を設けることができる。コア層13は、コア部14と、側面クラッド部15とを含んでいる。具体的には、コア層13には、細長いパターン形状のコア部14が設けられている。また、コア部14の側面には、側面クラッド部15を隣接させることができる。コア層13の上面(コア部14および側面クラッド部15の上面)には、上部クラッド層12が存在している。
なお、説明のため、図1(a)において、上部クラッド層12は一部のみを示している。また、煩雑さを避けるため、図1(a)においては、後述する領域1および領域2は示していない。
First Embodiment
FIG. 1A is a perspective view of an optical waveguide film attenuator 1 (hereinafter also simply referred to as “attenuator 1”) obliquely from above. The attenuator 1 is an elongate form extended in the y direction in FIG. 1 (a) as one aspect | mode.
The attenuator 1 includes a lower cladding layer 11. The core layer 13 can be provided on the lower cladding layer 11. The core layer 13 includes a core portion 14 and a side cladding portion 15. Specifically, the core layer 13 is provided with a core portion 14 having an elongated pattern shape. In addition, the side surface cladding portion 15 can be adjacent to the side surface of the core portion 14. An upper cladding layer 12 is present on the top surface of the core layer 13 (the top surfaces of the core portion 14 and the side surface cladding portion 15).
Note that, for the sake of explanation, only a part of the upper cladding layer 12 is shown in FIG. Moreover, in order to avoid complexity, in FIG. 1A, region 1 and region 2 described later are not shown.

図1(b)は、図1(a)において、破線で囲った部分αを上面視した図である。ただし、コア部14のみを明示し、側面クラッド部15などの他の部位は表示を省略している。また、コア部14の中心線を一点鎖線で示している。   FIG. 1 (b) is a top view of a portion α surrounded by a broken line in FIG. 1 (a). However, only the core portion 14 is clearly shown, and other portions such as the side surface clad portion 15 are omitted. Moreover, the center line of the core part 14 is shown by the dashed-dotted line.

図1(b)に示されるように、コア部14は、屈折率nを有する領域1と、屈折率nとは異なる屈折率nを有する領域2とを備えることができる。つまり、コア部14は、屈折率が変化する部分を含むことができる(領域1と領域2の境界部が「屈折率が変化する部分」に該当する)。なお、以下の説明において、領域1と領域2の境界部を、単に「境界部」とも記載する。 As shown in FIG. 1 (b), the core unit 14 includes an area 1 having a refractive index n 1, can be provided with a region 2 having a different refractive index n 2 is the refractive index n 1. That is, the core portion 14 can include a portion in which the refractive index changes (the boundary between the region 1 and the region 2 corresponds to "a portion in which the refractive index changes"). In the following description, the boundary between the area 1 and the area 2 is also simply referred to as a “boundary”.

図1(b)に示されるように、領域1と領域2は、上面視において、「入れ子」状の多重構造となるようにする(屈折率の異なる領域を、入れ子状の多重構造とする)ことができる。この構造により、コア部14は、2以上の境界部を含むことができる。また、1点鎖線で示されているコア部14の中心線が、2以上の境界部と交わるようにすることができる。
念のために述べておくが、領域1と領域2の態様は、図1(b)に示される「入れ子」状に限定されるものではない。
As shown in FIG. 1 (b), the area 1 and the area 2 have a "nested" multi-layered structure in top view (areas of different refractive indices are made into a nested multi-layered structure) be able to. With this structure, the core portion 14 can include two or more boundaries. In addition, the center line of the core portion 14 indicated by a dashed dotted line can be made to intersect with two or more boundaries.
It should be noted that the aspect of the regions 1 and 2 is not limited to the “nested” shape shown in FIG. 1 (b).

なお、第1実施形態において、領域1は、側面クラッド部15と接していることが好ましい。また、領域1の屈折率nは、通常、下部クラッド層11、上部クラッド層12および側面クラッド部15の屈折率よりも大きいことが好ましい。これにより、コア部14と、下部クラッド層11、上部クラッド層12および側面クラッド部15の界面で光が全反射し、光が適切に伝送される。 In the first embodiment, the region 1 is preferably in contact with the side surface cladding portion 15. The refractive index n 1 of the region 1 is normally lower cladding layer 11 is preferably larger than the refractive index of the upper cladding layer 12 and the side clad portion 15. Thus, light is totally reflected at the interface between the core portion 14, the lower cladding layer 11, the upper cladding layer 12 and the side cladding portion 15, and the light is appropriately transmitted.

第1実施形態においては、コア部14が、屈折率が変化する部分(境界部)を含むことにより、コア部14に入射された光は減衰される。具体的には、コア部14の一端に入射された光の一部は、境界部で、反射したり、散乱したりする。つまり、入射光の一部は、直進せずに入射方向とは異なる方向に進む。これにより、コア部14の他端から出力される光の強度は減衰することとなる。   In the first embodiment, the light incident on the core portion 14 is attenuated by the core portion 14 including the portion (boundary portion) where the refractive index changes. Specifically, part of light incident on one end of the core portion 14 is reflected or scattered at the boundary portion. That is, part of the incident light travels in a direction different from the incident direction without traveling straight. Thereby, the intensity of the light output from the other end of the core portion 14 is attenuated.

「境界部での反射」については、光学の理論に基づき、より定量的に説明することができる。
例えば、光線が屈折率nの物質から屈折率nの物質に垂直入射する場合、その表面反射率Rrefは、理論上、以下の式で与えられる。
ref={(n−n)/(n+n)}
この式によれば、入射光のうち、Rrefに対応する割合は、直進せず、入射とは反対方向に反射される。つまり、伝送される光の強度は、Rrefに対応する割合だけ減衰することとなる。
The "reflection at the boundary" can be explained more quantitatively based on the theory of optics.
For example, when a ray is perpendicularly incident on the substance of refractive index n 2 of a material of refractive index n 1, the surface reflectance R ref is theoretically given by the following equation.
R ref = {(n 1- n 2 ) / (n 1 + n 2 )} 2
According to this equation, the proportion of the incident light corresponding to R ref does not travel straight but is reflected in the opposite direction to the incident light. That is, the intensity of the transmitted light is attenuated by a rate corresponding to R ref .

上述のように、減衰器1において、コア部14は、2以上の境界部を含むことができる。
コア部14に含まれる境界部の数が多ければ多いほど、入射光の反射や散乱は多くなる。よって、光を大きく減衰させたい場合には、減衰器1の設計において境界部の数を増やすことが好ましい。また、別の見方としては、コア部14に含まれる境界部の数が適当に調整された減衰器1を設計することで、比較的容易に減衰器1の減衰率を調整することが可能である。
As mentioned above, in the attenuator 1, the core portion 14 can include two or more boundaries.
As the number of boundaries included in the core portion 14 increases, reflection and scattering of incident light increase. Therefore, when it is desired to attenuate light greatly, it is preferable to increase the number of boundaries in the design of the attenuator 1. Also, as another view, by designing the attenuator 1 in which the number of boundaries included in the core portion 14 is appropriately adjusted, it is possible to adjust the attenuation factor of the attenuator 1 relatively easily. is there.

また、上述のように、コア部14の中心線は、2以上の境界部と交わることができる。
図1(b)においては、コア部14の中心線は、8の境界部と交わっている。
コア部14の中を伝わる光の「強度分布」は、通常、コア部14の中心線付近が極大となる。よって、コア部14の中心線が2以上の境界部と交わることで、光の強度が大きい部分が境界部を通過することとなり、より効果的な光減衰が期待できる。
図1(b)に示される「入れ子」状の態様は、コア部14の中心線と交わる境界部の数を増やしやすい構造であることから、大きな光減衰を得やすいと考えられる。
In addition, as described above, the center line of the core portion 14 can intersect with two or more boundaries.
In FIG. 1 (b), the center line of the core portion 14 intersects with the boundary portion 8.
The “intensity distribution” of light traveling through the core portion 14 usually has a maximum near the center line of the core portion 14. Therefore, when the center line of the core portion 14 intersects with two or more boundaries, the portion with high light intensity passes through the boundaries, and more effective light attenuation can be expected.
The “nested” form shown in FIG. 1B is considered to be easy to obtain a large light attenuation because it is a structure that easily increases the number of boundaries crossing the center line of the core portion 14.

より具体的には、コア部14の中心線は、コア部14の一端から他端までの間で、2以上の境界部と交わっていることが好ましく、10〜100の境界部と交わっていることがより好ましく、20〜50の境界部と交わっていることがさらに好ましい。これらの数値範囲とすることで、コア部14の長さが短くとも十分な光減衰の効果を得ることができ、減衰器1のコンパクト化等の観点でも有効と考えられる。   More specifically, the center line of the core portion 14 preferably intersects two or more boundaries between one end and the other end of the core portion 14 and intersects the boundary portions of 10 to 100. More preferably, it intersects with the boundary of 20 to 50. By setting the value in these numerical ranges, a sufficient light attenuation effect can be obtained even if the length of the core portion 14 is short, and it is considered effective also from the viewpoint of downsizing the attenuator 1 and the like.

本実施形態において、屈折率nと屈折率nとの差の絶対値は、典型的には0.01〜1、好ましくは0.01〜0.5である。これら数値範囲とすることで、十分な光減衰が期待できる。また、公知の光導波路フィルムの材料、製造プロセス等を応用して比較的簡単に第1実施形態の減衰器1を製造できると期待される。
なお、屈折率nと屈折率nの大小関係は、前述のように、領域1が側面クラッド部15と接している場合には、通常、n>nである。
In this embodiment, the absolute value of the difference between the refractive index n 1 and the refractive index n 2, typically 0.01 to 1, preferably 0.01 to 0.5. With these numerical ranges, sufficient light attenuation can be expected. In addition, it is expected that the attenuator 1 of the first embodiment can be manufactured relatively easily by applying known materials of the optical waveguide film, manufacturing process and the like.
Incidentally, the magnitude relationship between the refractive index n 1 and the refractive index n 2, as described above, when the region 1 is in contact with the side cladding portions 15 is usually n 1> n 2.

ここで、「屈折率」とは、本実施形態の減衰器1で入力される光の波長における屈折率のことを意味する。言い方を変えると、屈折率nと屈折率nが「異なる」とは、本実施形態の減衰器1で入力される光の波長において、領域1の屈折率と領域2の屈折率が異なることを意味する。
本実施形態の減衰器1は、典型的には、波長400〜1700nmの光において、上記の屈折率の値を満たすように設計することができる。
Here, “refractive index” means the refractive index at the wavelength of light input by the attenuator 1 of the present embodiment. Stated differently, the refractive index n 1 and the refractive index n 2 is "different" in the wavelength of light input by the attenuator 1 of the present embodiment, the refractive index of the region 1 and region 2 having a refractive index different It means that.
The attenuator 1 of this embodiment can typically be designed to satisfy the above-mentioned value of refractive index in light of a wavelength of 400 to 1700 nm.

減衰器1は、コア部14中に、境界部が略一様に(略一定間隔で)存在するように設計されてもよい。また、境界部が「密」に存在する領域と、「疎」に存在する領域が存在するように設計されてもよい。すなわち、コア部14中において、境界部が「偏在」するような態様であってもよい。   The attenuator 1 may be designed such that boundaries in the core portion 14 exist substantially uniformly (at substantially constant intervals). Also, it may be designed such that there are areas where the boundaries are "dense" and areas where they are "sparse". That is, in the core portion 14, the boundary portion may be “locally distributed”.

より定量的に表現すると、一態様として、減衰器1は、コア部14の中心線の長さ(一端から他端まで)をL、コア部14の中心線と交わっている境界部の数をNとしたとき、コア部14の中心線と交わっている境界部のうちN/5より多くの境界部が、コア部14の長さL/10の領域内に存在するように設計することが好ましい。
境界部が、コア部14の長さ方向に「一様に」(一定間隔で)分布する場合には、コア部14の長さL/10の領域内にはN/10個の境界部が存在することとなる。上記は、コア部14中、境界部が、一様分布の場合よりも「2倍超の密度」((N/10)×2)で存在する領域が局所的にあること、そして、その表裏の関係として、境界部の存在が疎な領域もあることを意味する。
Expressing more quantitatively, in one aspect, the attenuator 1 has the length of the center line of the core portion 14 (from one end to the other end) L, and the number of boundaries intersecting the center line of the core portion 14 When N, it is designed such that a boundary portion more than N / 5 among the boundary portions intersecting the center line of the core portion 14 exists in the region of the length L / 10 of the core portion 14 preferable.
When the boundaries are distributed "uniformly" (at regular intervals) in the length direction of the core portion 14, N / 10 boundaries are present in the region of the length L / 10 of the core portion 14. It will exist. The above is that in the core portion 14, there is a local region where the boundary portion is present at “more than twice the density” (N / 10) × 2 than in the case of uniform distribution, and the front and back It means that the existence of the boundary part also has a sparse area as

本実施形態の減衰器1は、このように、境界部を設ける位置を比較的自由に設計することが可能である。このことは、放熱の問題やクロストークの防止の観点などで有効と考えられる。具体的には、境界部で光が減衰することで熱が発生し、それを放熱する必要が生じる場合があるが、境界部を適切な位置に設計することで、熱がこもらず、効果的に放熱を行いやすくなることが期待できる。また、減衰器1を機器中に実装したときに、境界部が他の光導波路や光学素子等からできるだけ離れた位置となるように設計することで、境界部での光の反射により漏れ出る光の悪影響(クロストーク等)の低減が期待できる。   Thus, the attenuator 1 of the present embodiment can be designed relatively freely at the position where the boundary portion is provided. This is considered to be effective from the viewpoint of heat radiation and the prevention of crosstalk. Specifically, heat may be generated by light being attenuated at the boundary, and it may be necessary to dissipate the heat. However, by designing the boundary at an appropriate position, heat is not absorbed and it is effective. It can be expected that it will be easier to dissipate heat. In addition, when the attenuator 1 is mounted in a device, the light is leaked due to the reflection of light at the boundary by designing the boundary to be as far away from other optical waveguides and optical elements as possible. It can be expected to reduce the adverse effects (cross talk etc.) of

本実施形態の減衰器1は、一例として、コア部14の一端から光信号を入力し、コア部14の他端から光信号を出力したときに、光信号の減衰量が0.1dB以上、より好ましくは0.3dB以上であるようにすることができる。減衰量の上限については、特に無いが、実用上、例えば1dB以下、より具体的には0.5dB以下であることが好ましい。
本実施形態の減衰器1は、例えば、上述のようにコア部14中の境界部の数を増やすことで、このように光信号を大きく減衰させることができる。また、境界部の形状を工夫することで、光の散乱を増やして減衰量を大きくすることもできる。さらに、屈折率nと屈折率nの差を大きくして、前述のRrefの分子を大きくすることによっても、減衰量を大きくすることができると考えられる。
As an example, the attenuator 1 of the present embodiment receives an optical signal from one end of the core portion 14 and outputs an optical signal from the other end of the core portion 14, the attenuation amount of the optical signal is 0.1 dB or more More preferably, it can be 0.3 dB or more. The upper limit of the attenuation amount is not particularly limited, but for practical use, for example, 1 dB or less, more specifically 0.5 dB or less is preferable.
The attenuator 1 of the present embodiment can greatly attenuate the optical signal in this manner, for example, by increasing the number of boundaries in the core portion 14 as described above. In addition, by devising the shape of the boundary portion, it is possible to increase the amount of attenuation by increasing the scattering of light. Furthermore, by increasing the difference in refractive index n 2 and the refractive index n 1, by increasing the molecular of the above R ref, it is considered possible to increase the attenuation.

本実施形態において、コア部14は、減衰器1が光学素子等に接続されて実用に供される際に、光信号が伝送される部分である。別の言い方をすると、コア部14は、いわゆるダミーコアなどと呼ばれる、実際には光信号が伝送されないものには該当しない。本実施形態の減衰器1は、高強度の光信号が入射しそして通過する部分に、屈折率が異なる部分を設けていることが特徴である。   In the present embodiment, the core portion 14 is a portion to which an optical signal is transmitted when the attenuator 1 is connected to an optical element or the like and practically used. In other words, the core section 14 does not correspond to what is called a so-called dummy core or the like, in which no optical signal is actually transmitted. The attenuator 1 of the present embodiment is characterized in that a portion having a different refractive index is provided in a portion through which a high-intensity light signal is incident and passing.

本実施形態の減衰器1は、図1に示した要素以外の要素を含んでいてもよいことはいうまでもない。例えば、基材層や保護層などが設けられていてもよい。これら層があることで、外力に対する機械的強度を高めることができたり、ハンドリング性を向上させたりすることができる。   It goes without saying that the attenuator 1 of the present embodiment may include elements other than the elements shown in FIG. For example, a base material layer or a protective layer may be provided. With these layers, the mechanical strength against external force can be increased, and the handling property can be improved.

本実施形態の減衰器1の大きさは、特に限定されず、所望の減衰量や、組み込む電子機器の仕様等から適宜決定されてよい。
一態様として、減衰器1の厚みは、下部クラッド層11、コア層13および上部クラッド層12の部分が、通常5〜100μm(単位)程度、基材層や保護層がある場合はそれを含めて15〜300μm(単位)程度である。
また、減衰器1の長さについては、コア部14の中心線の長さ(コア部14の一端から他端までの長さ)が、通常50μm〜50cm(単位)程度である。
The size of the attenuator 1 of the present embodiment is not particularly limited, and may be appropriately determined from the desired attenuation amount, the specification of the electronic device to be incorporated, and the like.
In one embodiment, the thickness of the attenuator 1 is usually about 5 to 100 μm (unit) in the lower cladding layer 11, the core layer 13 and the upper cladding layer 12, and the base layer and the protective layer, if any. Is about 15 to 300 μm (unit).
Moreover, about the length of the attenuator 1, the length (the length from the one end of the core part 14 to the other end of the core part 14) of the core part 14 is about 50 micrometers-about 50 cm (unit) normally.

(第1実施形態の変形例)
図2は、第1実施形態の変形例を説明する図である。
この変形例は、図1(a)のαで囲われた部分、すなわち、境界部の態様が、前述の「入れ子」状ではなく、複数の円状の領域2がひし形状に並んでいることが特徴である。
このような態様も、前述の「入れ子」状の態様と同様、コア部14の中心線と交わる境界部の数を増やしやすい構造であることから、大きな光減衰を得やすい態様といえる。
(Modification of the first embodiment)
FIG. 2 is a view for explaining a modification of the first embodiment.
In this modification, the portion enclosed by α in FIG. 1A, that is, the aspect of the boundary portion is not the above-mentioned “nested” shape, but plural circular regions 2 are arranged in a diamond shape. Is a feature.
Such a mode is also a mode that can easily obtain large light attenuation because it has a structure in which the number of boundaries crossing the center line of the core portion 14 can be easily increased as in the above-described "nested" mode.

(第1実施形態の別の変形例)
図3は、第1実施形態の別の変形例(2例、図3(A)および図3(B))を説明する図である。
図3(A)の例では、図1(a)のαで囲われた部分を上面視したとき、コア部14の両側面の一部が領域2となっている。また、全てを図示してはいないが、領域2は、図3(A)の右側に延在しており、コア部14の端部まで延びている。
図3(B)の例でも、図1(a)のαで囲われた部分を上面視したとき、コア部14の両側面の一部が領域2となっている。ただし、図3(A)の例とは異なり、領域2は図の右側(あるいは左側)に延在はしておらず、αで囲われた部分のみに存在する。
(Another modification of the first embodiment)
FIG. 3 is a view for explaining another modification (two examples, FIG. 3A and FIG. 3B) of the first embodiment.
In the example of FIG. 3A, when the portion surrounded by α in FIG. 1A is viewed from the top, a part of both side surfaces of the core portion 14 is the region 2. Also, although not shown in the drawings, the region 2 extends to the right side of FIG. 3A and extends to the end of the core portion 14.
Also in the example of FIG. 3B, when the portion surrounded by α in FIG. 1A is viewed from the top, a part of both side surfaces of the core portion 14 is the region 2. However, unlike the example of FIG. 3A, the area 2 does not extend to the right side (or left side) of the figure, and exists only in the part surrounded by α.

図3(A)および図3(B)に示されるような形態は、コア部14の中心線付近(光強度が通常一番強い)に境界部が無いため、図1や図2に示された実施形態に比べると、光減衰の大きさ自体は小さいかもしれない。しかし、このことは、裏を返せば、光強度の細かな調整がやりやすいというメリットとなる。また、図3(A)や図3(B)のような形態は、図1や図2の形態に比べて構造が単純であり、より製造が容易である等のメリットも期待される。   The configuration as shown in FIGS. 3A and 3B is shown in FIGS. 1 and 2 because there is no boundary near the center line of the core portion 14 (the light intensity is usually the strongest). The magnitude of the light attenuation itself may be small compared to the previous embodiments. However, if this is reversed, it has the advantage that it is easy to make fine adjustments in light intensity. Further, the configuration as shown in FIGS. 3A and 3B has a simpler structure than the configuration of FIGS. 1 and 2 and is expected to have merits such as easier manufacturing.

(第1実施形態のさらに別の変形例)
図4は、第1実施形態のさらに別の変形例を説明する図である。
この変形例においては、コア部14中に、第1実施形態で説明した「入れ子」状の構造が、3つ含まれていることが特徴である。
この変形例ように、複数の境界部を含んでいる、光を減衰させる特定構造(以下、単に「特定構造」ともいう。この変形例では、「入れ子」状の構造)が、コア部14中に3つ含まれると、特定構造が1つの場合に比べて、単純計算で3倍の光減衰を得ることができる。一般化すると、特定構造1つあたりの減衰率がx[dB]であれば、コア部14中に特定構造をn個設けることで、nx[dB]の光減衰が可能な減衰器1を容易に設計することができる。また、別の観点としては、コア部14に含まれる特定構造の数を調整することで、減衰器1の減衰率を比較的簡便に調整することができる。
(Still another modification of the first embodiment)
FIG. 4 is a diagram for explaining yet another modification of the first embodiment.
This variation is characterized in that the core portion 14 includes three “nested” structures described in the first embodiment.
As in this modification, a specific structure for attenuating light, which includes a plurality of boundaries (hereinafter, also simply referred to as a "specific structure". In this modification, a "nested" structure) is formed in core portion 14. In the case of three in, three times light attenuation can be obtained by simple calculation as compared with the case of one specific structure. In general, if the attenuation factor per specific structure is x [dB], providing n specific structures in the core portion 14 facilitates the attenuator 1 capable of nx [dB] light attenuation. Can be designed. Further, as another aspect, by adjusting the number of specific structures included in the core portion 14, the attenuation rate of the attenuator 1 can be adjusted relatively easily.

(減衰器1の製造方法)
本実施形態の減衰器1の製造方法について説明する。
減衰器1は、公知の光導波路フィルムの製造で知られている材料やプロセスを適宜適用または応用する等により製造することができる。
(Method of manufacturing attenuator 1)
A method of manufacturing the attenuator 1 of the present embodiment will be described.
The attenuator 1 can be manufactured by appropriately applying or applying materials and processes known in the manufacture of known optical waveguide films.

光導波路フィルムの製造方法としては、リアクティブイオンエッチング法、複製法、直接露光法、フォトリソグラフィ法、フォトアドレス法などが知られており、本実施形態の減衰器1を製造するにあたっては、これらのいずれかの方法を適用または応用してもよいし、また、これら以外の方法を用いてもよい。しかし、これらの方法の中でも、特に「フォトアドレス法」を適用また応用することが好ましい。
より具体的には、本実施形態の減衰器1は、例えば以下の方法で製造することができる。
As a method of producing an optical waveguide film, a reactive ion etching method, a copying method, a direct exposure method, a photolithography method, a photoaddressing method, etc. are known, and when producing the attenuator 1 of this embodiment, Any of the methods described above may be applied or applied, or methods other than these may be used. However, among these methods, it is particularly preferable to apply and apply the "photo addressing method".
More specifically, the attenuator 1 of the present embodiment can be manufactured, for example, by the following method.

まず、図5(a)に示すように、下部クラッド層11の上面に接するように、コア層13を形成する。
また、コア層13は、コア層13を形成するためのワニスを下部クラッド層11の上面に塗布し、そのワニスを硬化(固化)することで形成することができる。
コア層13や下部クラッド層11を構成する材料は、典型的には、ポリマー(例えばポリノルボルネン系のポリマー)、モノマー、当該モノマーの反応(例えば、重合反応または架橋反応)を開始させる触媒前駆体、当該触媒前駆体の活性化温度(モノマーに反応を生じさせる温度)を低下させる助触媒、などを適宜含むものである。
First, as shown in FIG. 5A, the core layer 13 is formed to be in contact with the upper surface of the lower cladding layer 11.
The core layer 13 can be formed by applying a varnish for forming the core layer 13 on the upper surface of the lower cladding layer 11 and curing (solidifying) the varnish.
The materials constituting the core layer 13 and the lower cladding layer 11 are typically a polymer (for example, a polymer of polynorbornene type), a monomer, and a catalyst precursor for initiating a reaction (for example, a polymerization reaction or a crosslinking reaction) of the monomer. And a cocatalyst which lowers the activation temperature (the temperature at which the monomer is caused to react) of the catalyst precursor, and the like.

次に、図5(b)に示すように露光工程を行う。すなわち、フォトマスク100を用い、コア層13の特定の部分に選択的に光照射を行う。なお、ここでの「光照射」とは、可視光、紫外光、赤外光、X線、レーザ光等に限らず、電子線などであってもよい。
コア層13に含まれる助触媒は、光照射により、反応(結合)または分解して、カチオン(プロトンまたは他の陽イオン)と、弱配位アニオン(WCA)と、を遊離(発生)する。これらのカチオンまたは弱配位アニオンは、触媒前駆体の分子構造に変化(分解)を生じさせ、触媒前駆体の活性化温度を低下させる。
Next, an exposure process is performed as shown in FIG. That is, light irradiation is selectively performed on a specific portion of the core layer 13 using the photomask 100. Here, the “light irradiation” is not limited to visible light, ultraviolet light, infrared light, X-ray, laser light and the like, and may be electron beam and the like.
The co-catalyst contained in the core layer 13 is reacted (bonded) or decomposed by light irradiation to liberate (generate) a cation (proton or other cation) and a weakly coordinating anion (WCA). These cations or weakly coordinating anions cause a change (decomposition) in the molecular structure of the catalyst precursor and lower the activation temperature of the catalyst precursor.

特に、本実施形態の減衰器1の製造においては、図5(b)のβに示すように、フォトマスク100に、領域1および領域2に対応するパターンを設けておく。こうすることで、比較的簡単に、最終的に領域1および領域2を含むコア部14を備えた減衰器1を得ることができる(図5(c)のγ参照)。   In particular, in the manufacture of the attenuator 1 of the present embodiment, as shown by β in FIG. 5B, the photomask 100 is provided with a pattern corresponding to the region 1 and the region 2. By doing this, it is possible to obtain the attenuator 1 having the core portion 14 finally including the region 1 and the region 2 relatively easily (see γ in FIG. 5 (c)).

次に、コア層13を加熱する。コア層13の加熱によって触媒前駆体が活性化してモノマーの反応(例えば、重合反応または架橋反応)を開始させる。モノマーの反応が進行すると、光が照射された領域内のモノマー濃度が徐々に低下するとともに、モノマーとポリマーとの反応物の濃度が徐々に上昇する。この結果、光が照射された領域内の屈折率は小さくなる(当該反応物の寄与が大きくなるため)。一方、光が照射されなかった領域では、当該領域から光が照射された領域にモノマーが拡散することにより、モノマー濃度が徐々に低下する。この結果、光が照射されなかった領域の屈折率は大きくなる(ポリマーの寄与が大きくなるため)。   Next, the core layer 13 is heated. The heating of the core layer 13 activates the catalyst precursor to initiate the reaction (for example, the polymerization reaction or the crosslinking reaction) of the monomer. As the reaction of the monomer proceeds, the concentration of the monomer in the region irradiated with light gradually decreases, and the concentration of the reactant of the monomer and the polymer gradually increases. As a result, the refractive index in the area irradiated with light decreases (because the contribution of the reactant increases). On the other hand, in the region where the light was not irradiated, the monomer concentration is gradually reduced by the diffusion of the monomer from the region to the region where the light is irradiated. As a result, the refractive index of the area not irradiated with light is increased (because the contribution of the polymer is increased).

このようにして、光が照射された領域が、側面クラッド部15およびコア部14中の領域2となる。一方、光が照射されなかった領域は、コア部14中の領域1となる(図5(c)、領域1および領域2についてはγに示す)。
このような製造方法(フォトアドレス法の適用また応用)によれば、本実施形態の減衰器1は、製造が比較的簡便であるというメリットが期待できる。つまり、コア部14中に屈折率が異なる部分を設ける別途のプロセスを設けずとも、コア部14の形成と同時に、そのコア部14の中に屈折率が異なる部分を設けることができるから、製造が簡便と言える。
Thus, the region irradiated with the light becomes the region 2 in the side surface cladding portion 15 and the core portion 14. On the other hand, the area not irradiated with the light becomes the area 1 in the core portion 14 (FIG. 5 (c), the area 1 and the area 2 are indicated by γ).
According to such a manufacturing method (application or application of the photo addressing method), the attenuator 1 of the present embodiment can be expected to have an advantage of being relatively easy to manufacture. That is, even without providing a separate process for providing a portion having a different refractive index in the core portion 14, it is possible to provide a portion having a different refractive index in the core portion 14 simultaneously with the formation of the core portion 14. Is simple.

上記の加熱、そして放冷の後、コア層13(光照射および加熱によりコア部14および側面クラッド部15が形成されている)の上に上部クラッド層12を形成する。上部クラッド層12を構成する材料としては、下部クラッド層11と同様のものが挙げられる。
以上のようにして減衰器1を製造することができる。
After the above heating and cooling, the upper cladding layer 12 is formed on the core layer 13 (the core portion 14 and the side cladding portion 15 are formed by light irradiation and heating). As a material which comprises the upper cladding layer 12, the thing similar to the lower cladding layer 11 is mentioned.
The attenuator 1 can be manufactured as described above.

上記の製造方法に適用可能な材料、プロセス等については、特開2013−210597号公報の0193段落以降の記載なども参考とされたい。   About the material applicable to said manufacturing method, a process, etc., the description of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-210597, 0193 or subsequent ones should also be referred to.

なお、上記の方法(フォトアドレス法)で減衰器1を製造する場合、領域1と領域2の間で、屈折率は不連続には変化せず、連続的に変化すると考えられる。
この理由はいくつか考えられる。例えば、前述のように、屈折率変化は、光が照射されなかった領域から光が照射された領域へのモノマーの「拡散」が関係しているところ、拡散には「勾配」があるため、コア層13中でのモノマー量は連続的に変化することが理由として考えられる。また、光の回折現象により、フォトマスク100で遮光されている部分にも若干の光が照射されることも、屈折率が連続的に変化する理由の1つと考えられる。
When the attenuator 1 is manufactured by the above-mentioned method (photo addressing method), it is considered that the refractive index does not change discontinuously but changes continuously between the region 1 and the region 2.
There are several possible reasons for this. For example, as mentioned above, where there is a "gradient" in diffusion, where the change in refractive index involves the "diffusion" of the monomer from the area that was not illuminated to the area that was illuminated. It is considered that the amount of monomers in the core layer 13 changes continuously. In addition, it is considered that one reason why the refractive index changes continuously is that a part of the light shielded by the photomask 100 is irradiated with some light due to the light diffraction phenomenon.

領域1と領域2の間で、屈折率が連続的に変化する場合、屈折率nおよびnは、領域1と領域2それぞれにおいて、他の領域から十分離れており、屈折率が略一定となっている部分の屈折率と定義することができる。また、領域1と領域2の境界部は、屈折率が(n+n)/2となる部分と定義することができる。 When the refractive index changes continuously between the region 1 and the region 2, the refractive indexes n 1 and n 2 are sufficiently separated from the other regions in the region 1 and the region 2 respectively, and the refractive index is substantially constant. It can be defined as the refractive index of the portion where Further, the boundary between the region 1 and the region 2 can be defined as a portion where the refractive index is (n 1 + n 2 ) / 2.

一方、フォトアドレス法以外の製造方法、例えば、リアクティブイオンエッチング法、複製法、直接露光法、フォトリソグラフィ法などで、本実施形態の減衰器1を製造した場合には、通常、領域1と領域2の間で、屈折率は不連続に変化するものと考えられる。   On the other hand, when the attenuator 1 of this embodiment is manufactured by a manufacturing method other than the photo addressing method, for example, a reactive ion etching method, a replication method, a direct exposure method, a photolithography method, etc. Between the regions 2, the refractive index is considered to change discontinuously.

(光信号の強度調整方法)
本実施形態の光信号の強度調整方法は、下部クラッド層11と、下部クラッド層11上に設けられており、屈折率が変化する部分を含むパターン状のコア部14と、コア部14上に設けられた上部クラッド層12とを備える長尺状の光導波路フィルムにおける、コア部14の一端から光信号を入力し、コア部14の他端から光信号を出力する工程を含む、光信号を所望の強度に減衰させる(例えば0.1dB以上、好ましくは0.3dB以上減衰させる)方法である。なお、ここでの「減衰」とは、屈折率が変化する部分を含まない参照光導波路に対する光の減衰のことを言う。
(How to adjust the light signal intensity)
The method of adjusting the intensity of an optical signal according to the present embodiment is provided on the lower cladding layer 11 and the lower cladding layer 11 and on the core portion 14 in the form of a pattern including the portion where the refractive index changes. In an elongated optical waveguide film including the provided upper cladding layer 12, an optical signal is input, including the step of inputting an optical signal from one end of the core portion 14 and outputting the optical signal from the other end of the core portion 14. It is a method of attenuating to a desired intensity (for example, attenuating by 0.1 dB or more, preferably 0.3 dB or more). Here, “attenuation” refers to the attenuation of light with respect to a reference optical waveguide that does not include a portion where the refractive index changes.

この方法における、下部クラッド層11、上部クラッド層12、コア部14等の具体的態様は、第1実施形態において説明したとおりである。
第1実施形態において説明したように、コア部14が含む境界部の数を多くしたり少なくしたり、かつ/または、コア部14が含む特定構造の数を多くしたり少なくしたりする設計により、光信号の強度を所望の強度にすることができる。
Specific aspects of the lower cladding layer 11, the upper cladding layer 12, the core portion 14 and the like in this method are as described in the first embodiment.
As described in the first embodiment, it is designed to increase or decrease the number of boundaries included in the core portion 14 and / or increase or decrease the number of specific structures included in the core portion 14. The intensity of the light signal can be made the desired intensity.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, these are the illustrations of this invention, and various structures other than the above can be employ | adopted. Furthermore, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications, improvements, and the like within the scope in which the object of the present invention can be achieved are included in the present invention.

本発明の実施態様を、実施例に基づき詳細に説明する。なお、本発明は実施例に限定されるものではない。   Embodiments of the present invention will be described in detail based on examples. The present invention is not limited to the examples.

[例1]
図1に示したような「入れ子」状の構造αを有する減衰器1を、フォトアドレス法により作製した。作製においては、構造α中の領域1と領域2の屈折率の差の絶対値が0.01以上1以下となるように、露光量などを適切に調整した。
また、構造αを有さない以外は減衰器1と同様の参照光導波路を、フォトアドレス法により作製した。
コア部14の幅はいずれも40μmとした。
コア部14の長さ(およびはコア部14の中心線の長さL)はいずれも40mmとした。
構造αは、コア部14の中心線と交わるように、3個、等間隔に形成した。これにより、コア部14の中心線が、コア部14の一端から他端までの間で、24個の境界部と交わるようにした。
[Example 1]
An attenuator 1 having a “nested” structure α as shown in FIG. 1 was produced by a photo-addressing method. In preparation, the exposure dose and the like were appropriately adjusted so that the absolute value of the difference in refractive index between the region 1 and the region 2 in the structure α would be 0.01 or more and 1 or less.
Further, a reference optical waveguide similar to the attenuator 1 except that the structure α was not provided was manufactured by a photo addressing method.
The width of each core portion 14 was 40 μm.
The length of the core portion 14 (and the length L of the center line of the core portion 14) was 40 mm.
Three structures α were formed at equal intervals so as to intersect the center line of the core portion 14. Thus, the center line of the core portion 14 intersects the 24 boundaries between one end and the other end of the core portion 14.

作製した減衰器1のコア部14の一端から、波長850nmの光を入射させた。そして、コア部14の他端から光を出射させた。入射光の強度Pinと出射光の強度Poutから、以下の数式
10×Log10(Pin/Pout
に基づき、減衰器1の参照光導波路に対する減衰量(dB)を計算した。結果、0.4dBの光減衰が確認された。
Light having a wavelength of 850 nm was incident from one end of the core portion 14 of the produced attenuator 1. Then, light was emitted from the other end of the core portion 14. From the intensity P in of the incident light and the intensity P out of the emitted light, the following formula 10 × Log 10 (P in / P out )
The attenuation (dB) to the reference optical waveguide of attenuator 1 was calculated based on As a result, an optical attenuation of 0.4 dB was confirmed.

[例2]
例1において、3個の構造αを、コア部14中に等間隔に形成するのではなく、3個の構造αを、コア部14の一端から50mm内に形成し、コア部14の残りの50mmの領域には屈折率が異なる領域を形成しなかった以外は、例1と同様にして減衰器1を作製した。
この場合も、例1とほぼ同様の(誤差範囲程度で同じ)光減衰を得ることができた。
これにより、本実施形態の減衰器1は、境界部を設ける位置を比較的自由に設計することが可能であり、設計の自由度が高いことが示された。
[Example 2]
In Example 1, three structures α are not formed at equal intervals in the core portion 14, but three structures α are formed within 50 mm from one end of the core portion 14, and the remaining portions of the core portion 14 are Attenuator 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that a region having a different refractive index was not formed in the 50 mm region.
Also in this case, it was possible to obtain light attenuation substantially the same as in Example 1 (the same as the error range).
As a result, it was shown that the attenuator 1 of the present embodiment can be designed relatively freely in the position where the boundary portion is provided, and the design freedom is high.

[例3]
例1において、6個の構造αをコア部14中に等間隔に形成した以外は、例1と同様にして減衰器1を作製した。
この場合、例1のほぼ2倍の光減衰を得ることができた。
これにより、減衰器1の減衰率を簡便に調整し、所望の光減衰を得ることが可能なことが示された。
[Example 3]
Attenuator 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that six structures α were formed at equal intervals in core portion 14 in Example 1.
In this case, almost twice the light attenuation as in Example 1 could be obtained.
Thus, it has been shown that the attenuation factor of the attenuator 1 can be easily adjusted to obtain a desired light attenuation.

1 光導波路フィルム減衰器(減衰器)
11 下部クラッド層
12 上部クラッド層
13 コア層
14 コア部
15 側面クラッド部
100 フォトマスク
1 Optical Waveguide Film Attenuator (Attenuator)
11 lower clad layer 12 upper clad layer 13 core layer 14 core portion 15 side clad portion 100 photomask

Claims (9)

下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に設けられたパターン状のコア部と、
前記コア部上に設けられた上部クラッド層とを備え、
前記コア部は、屈折率が変化する部分を含む、
長尺状の光導波路フィルム減衰器。
Lower cladding layer,
A patterned core portion provided on the lower cladding layer;
And an upper cladding layer provided on the core portion,
The core portion includes a portion where the refractive index changes.
Long optical waveguide film attenuator.
請求項1に記載の光導波路フィルム減衰器であって、
前記コア部の中に、屈折率nを有する領域1と、屈折率nとは異なる屈折率nを有する領域2とを備え、前記領域1と前記領域2の境界部が、前記屈折率が変化する部分に相当する光導波路フィルム減衰器。
An optical waveguide film attenuator according to claim 1, wherein
In said core portion, a region 1 having a refractive index n 1, and a region 2 having a different refractive index n 2 is the refractive index n 1, a boundary portion of the region 1 and the region 2 is the refraction Optical waveguide film attenuator corresponding to the part where the rate changes.
請求項2に記載の光導波路フィルム減衰器であって、
前記コア部は前記境界部を2以上含む光導波路フィルム減衰器。
An optical waveguide film attenuator according to claim 2, wherein
The optical waveguide film attenuator, wherein the core portion includes two or more of the boundary portions.
請求項3に記載の光導波路フィルム減衰器であって、
前記コア部の中心線が、2以上の前記境界部と交わっている光導波路フィルム減衰器。
An optical waveguide film attenuator according to claim 3, wherein
An optical waveguide film attenuator, wherein a center line of the core intersects two or more of the boundaries.
請求項4に記載の光導波路フィルム減衰器であって、
前記コア部の中心線の長さをL、前記コア部の中心線と交わっている境界部の数をNとしたとき、
前記コア部の中心線と交わっている境界部のうちN/5より多くの境界部が、前記コア部の長さL/10の領域内に存在している光導波路フィルム減衰器。
5. The optical waveguide film attenuator according to claim 4, wherein
Assuming that the length of the center line of the core portion is L and the number of boundaries intersecting the center line of the core portion is N,
The optical waveguide film attenuator according to claim 1, wherein more than N / 5 of the boundaries intersecting with the center line of the core portion exist in a region of a length L / 10 of the core portion.
請求項2〜5のいずれか1項に記載の光導波路フィルム減衰器であって、
前記屈折率nと、前記屈折率nとの差の絶対値が、0.01以上1以下である光導波路フィルム減衰器。
An optical waveguide film attenuator according to any one of claims 2 to 5, wherein
Wherein the refractive index n 1, the absolute value of the difference between the refractive index n 2 is an optical waveguide film attenuator is 0.01 or more and 1 or less.
請求項1〜6のいずれか1項に記載の光導波路フィルム減衰器であって、
前記コア部の一端から光信号を入力し、前記コア部の他端から前記光信号を出力したときに、光信号の減衰量が0.3dB以上である光導波路フィルム減衰器。
The optical waveguide film attenuator according to any one of claims 1 to 6, wherein
An optical waveguide film attenuator, wherein the optical signal is input from one end of the core portion and the optical signal is output from the other end of the core portion, and the attenuation amount of the optical signal is 0.3 dB or more.
下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に設けられており、屈折率が変化する部分を含むパターン状のコア部と、前記コア部上に設けられた上部クラッド層とを備える長尺状の光導波路フィルムにおける、前記コア部の一端から光信号を入力し、前記コア部の他端から前記光信号を出力する工程を含み、
前記光信号を所望の強度に減衰させる、光信号の強度調整方法。
A long light guide comprising a lower cladding layer, a pattern core portion provided on the lower cladding layer and including a portion in which the refractive index changes, and an upper cladding layer provided on the core portion Including a step of inputting an optical signal from one end of the core portion in the waveguide film and outputting the optical signal from the other end of the core portion,
A method of adjusting the intensity of an optical signal, wherein the optical signal is attenuated to a desired intensity.
請求項8に記載の光信号の強度調整方法であって、
前記光信号の強度を0.3dB以上減衰させる、光信号の強度調整方法。
9. The method for adjusting the intensity of an optical signal according to claim 8, wherein
A method of adjusting the intensity of an optical signal, wherein the intensity of the optical signal is attenuated by 0.3 dB or more.
JP2017214678A 2017-11-07 2017-11-07 Optical waveguide film attenuator and intensity adjustment method of optical signal Pending JP2019086655A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017214678A JP2019086655A (en) 2017-11-07 2017-11-07 Optical waveguide film attenuator and intensity adjustment method of optical signal

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017214678A JP2019086655A (en) 2017-11-07 2017-11-07 Optical waveguide film attenuator and intensity adjustment method of optical signal

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2019086655A true JP2019086655A (en) 2019-06-06

Family

ID=66762968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017214678A Pending JP2019086655A (en) 2017-11-07 2017-11-07 Optical waveguide film attenuator and intensity adjustment method of optical signal

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2019086655A (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020018507A1 (en) * 1999-10-19 2002-02-14 Deacon David A.G. Channel-switched tunable laser for dwdm communications
JP2005189525A (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Nippon Electric Glass Co Ltd Optically attenuating optical waveguide material and its manufacturing method
JP2006513458A (en) * 2002-08-02 2006-04-20 ウルトラドッツ・インコーポレイテッド Quantum dots, nanocomposites with quantum dots, optical devices with quantum dots, and related manufacturing methods
JP2012225952A (en) * 2011-04-14 2012-11-15 Sumitomo Bakelite Co Ltd Optical waveguide, opto-electric hybrid substrate and electronic apparatus
JP2015087660A (en) * 2013-10-31 2015-05-07 住友ベークライト株式会社 Optical waveguide, opto-electric hybrid substrate, and electronic apparatus

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020018507A1 (en) * 1999-10-19 2002-02-14 Deacon David A.G. Channel-switched tunable laser for dwdm communications
JP2006513458A (en) * 2002-08-02 2006-04-20 ウルトラドッツ・インコーポレイテッド Quantum dots, nanocomposites with quantum dots, optical devices with quantum dots, and related manufacturing methods
JP2005189525A (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Nippon Electric Glass Co Ltd Optically attenuating optical waveguide material and its manufacturing method
JP2012225952A (en) * 2011-04-14 2012-11-15 Sumitomo Bakelite Co Ltd Optical waveguide, opto-electric hybrid substrate and electronic apparatus
JP2015087660A (en) * 2013-10-31 2015-05-07 住友ベークライト株式会社 Optical waveguide, opto-electric hybrid substrate, and electronic apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5739474B2 (en) Designed to achieve low loss at the intersection region of optical waveguides
JP6102133B2 (en) Optical waveguide, optical wiring component, optical waveguide module, and electronic device
JP5199060B2 (en) Crossed waveguide
KR20110057169A (en) Optical waveguide, optical interconnection, opto-electric hybrid board, and electronic device
KR20110053264A (en) Dielectric waveguide intersection with reduced losses
JP5169639B2 (en) Optical waveguide
US20130156162A1 (en) X-ray waveguide and x-ray waveguide system
US20110299661A1 (en) X-ray waveguide
Yamashita et al. Fabrication of light-induced self-written waveguides with a W-shaped refractive index profile
JP2019086655A (en) Optical waveguide film attenuator and intensity adjustment method of optical signal
JP2013036893A (en) X-ray optical system
JPWO2005071451A1 (en) Optical device and photonic crystal slab manufacturing method
TW569041B (en) Reflection-grid optical waveguide-path type and its production method
JP2013174839A (en) Optical waveguide, optical wiring component and electronic apparatus
JP2004279789A (en) Multilayered optical wiring substrate
US10698157B2 (en) Methods of forming waveguides utilizing temperature control
Mensov et al. On the efficiency of optical joining of fibres in a photopolymerisable composition
JP3885671B2 (en) Planar waveguide type diffraction grating element manufacturing method
JP2015108819A (en) Optical waveguide and method for manufacturing optical waveguide
JP2004219998A (en) Optical circuit
US11962351B2 (en) Multilayer photonic devices with metastructured layers
JP2005195754A (en) Method of manufacturing optical waveguide, and the optical waveguide
JP6101790B2 (en) Optical coupling device and method of manufacturing the same
JP2017083874A (en) Optical waveguide, optical wiring component, and electronic apparatus
JP6108667B2 (en) Optical waveguide, optical wiring components and electronic equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201002

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210630

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210706

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20220104