JP2019082361A - Semiconductor device - Google Patents

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JP2019082361A JP2017209154A JP2017209154A JP2019082361A JP 2019082361 A JP2019082361 A JP 2019082361A JP 2017209154 A JP2017209154 A JP 2017209154A JP 2017209154 A JP2017209154 A JP 2017209154A JP 2019082361 A JP2019082361 A JP 2019082361A
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玄之 能川
Haruyuki Nokawa
玄之 能川
堀 元人
Motohito Hori
元人 堀
池田 良成
Yoshinari Ikeda
良成 池田
隆洋 田岡
Takahiro Taoka
隆洋 田岡
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Fuji Electric Co Ltd
Alps Alpine Co Ltd
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Fuji Electric Co Ltd
Alps Alpine Co Ltd
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Abstract

To provide a semiconductor device having a magnetoresistive sensor.SOLUTION: The semiconductor device comprises: a first semiconductor module; a first plate conductor electrically connected to the first semiconductor module; and a core loess magnetoresistive sensor. The first plate conductor includes a first main body part extending in a first predetermined direction, and a first bent part having one end coupled with one end of the first main body part and bent from the first main body part in a second direction different from the first direction. The magnetoresistive sensor is provided adjacent to a bent surface formed by the first main body part and the first bent part.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device.

従来、バスバーを有する半導体装置において、磁気抵抗センサをバスバーに近接して設けることにより、バスバーに流れる電流を検出することが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1 特開2014−061217号公報
Conventionally, in a semiconductor device having a bus bar, it is known to detect a current flowing through the bus bar by providing a magnetoresistive sensor in close proximity to the bus bar (see, for example, Patent Document 1).
Patent Document 1: Japanese Patent Application Publication No. 2014-061217

磁気抵抗センサの磁気検出感度を向上させることが望ましい。   It is desirable to improve the magnetic detection sensitivity of the magnetoresistive sensor.

本発明の第1の態様においては、第1半導体モジュールと、第1半導体モジュールと電気的に接続された第1板状導体と、コアレスの第1磁気抵抗センサとを備え、第1板状導体は、予め定められた第1方向に延伸する第1本体部と、一端が第1本体部の一端に連結され、第1本体部から第1方向と異なる第2方向に屈曲する第1屈曲部とを有し、第1磁気抵抗センサは、第1本体部と第1屈曲部とで形成される屈曲面に隣接して設けられる半導体装置を提供する。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a first plate-like conductor comprising a first semiconductor module, a first plate-like conductor electrically connected to the first semiconductor module, and a coreless first magnetoresistive sensor. A first body extending in a first predetermined direction, and a first bending portion having one end connected to one end of the first body and bent from the first body in a second direction different from the first direction The first magnetoresistive sensor provides a semiconductor device provided adjacent to a bending surface formed by the first main body and the first bending portion.

第1磁気抵抗センサは、屈曲面の内面側に設けられてよい。   The first magnetoresistive sensor may be provided on the inner surface side of the bending surface.

第1磁気抵抗センサは、屈曲面のうち第1屈曲部に隣接して設けられてよい。   The first magnetoresistive sensor may be provided adjacent to the first bending portion in the bending surface.

第1磁気抵抗センサは、屈曲面における第1本体部と第1屈曲部との境界を中心として、第1屈曲部の長さLを半径とした屈曲領域に設けられてよい。   The first magnetoresistive sensor may be provided in a bending region whose radius is the length L of the first bending portion around the boundary between the first main body portion and the first bending portion in the bending surface.

第1磁気抵抗センサは、第1半導体モジュールに備えられる第1半導体ユニットの上面を含む平面の外側にあってよい。   The first magnetoresistive sensor may be outside of a plane including the top surface of the first semiconductor unit provided in the first semiconductor module.

第1磁気抵抗センサは、第1半導体モジュールに備えられる第1半導体ユニットの側面を含む平面の外側にあってよい。   The first magnetoresistive sensor may be outside of a plane including the side surface of the first semiconductor unit provided in the first semiconductor module.

第1板状導体の屈曲角度が75°以上であってよい。   The bending angle of the first plate-like conductor may be 75 ° or more.

第1板状導体は、一端が、第1屈曲部の他端に接続され、第1方向に延伸する第2本体部を更に備えてよい。   The first plate-like conductor may further include a second main body portion having one end connected to the other end of the first bending portion and extending in the first direction.

第1磁気抵抗センサは、第1本体部と第1屈曲部と形成された屈曲面の内面側に設けられてよい。   The first magnetoresistive sensor may be provided on the inner surface side of the bending surface formed with the first main body portion and the first bending portion.

第1磁気抵抗センサは、第2本体部と第1屈曲部と形成された屈曲面の内面側に設けられてよい。   The first magnetoresistive sensor may be provided on the inner surface side of the bending surface formed with the second main body portion and the first bending portion.

半導体装置は、第2半導体モジュールと、第2半導体モジュールと電気的に接続され、第1方向に延伸した第3本体部と、一端が第3本体部に接続され、第1方向と異なる第3方向に延伸した第2屈曲部と、一端が第2屈曲部の他端に接続され、第1方向に延伸した第4本体部とを有する第2板状導体と、を更に備えてよい。第2本体部および第4本体部は、電気的に接続されてよい。   The semiconductor device is electrically connected to the second semiconductor module and the second semiconductor module, and has a third main body extending in the first direction and a third main body having one end connected to the third main body and different from the first direction. The second plate-like conductor may further include a second bent portion extending in the direction, and a fourth main body portion having one end connected to the other end of the second bent portion and extending in the first direction. The second body portion and the fourth body portion may be electrically connected.

第1磁気抵抗センサは、第1屈曲部と、第2本体部と、第2屈曲部と、第4本体部とで囲まれた領域の内側において、第1屈曲部に隣接して設けられてよい。   The first magnetoresistive sensor is provided adjacent to the first bending portion inside a region surrounded by the first bending portion, the second main portion, the second bending portion, and the fourth main portion. Good.

第1板状導体は、一端が、第1本体部の他端に接続され、第1本体部から第2方向に屈曲する第3屈曲部と、第3屈曲部の他端に接続され、第1方向に延伸する第5本体部とを更に備えてよい。   The first plate-like conductor has one end connected to the other end of the first main body portion, and is connected to the third bending portion bending in the second direction from the first main body portion and the other end of the third bending portion And a fifth body extending in one direction.

第1磁気抵抗センサは、第1屈曲部と、第1本体部と、第3屈曲部とで囲まれた領域の内側において、第1屈曲部に隣接して設けられてよい。   The first magnetoresistive sensor may be provided adjacent to the first bending portion inside a region surrounded by the first bending portion, the first main body portion, and the third bending portion.

半導体装置は、第1板状導体に隣接して設けられた樹脂部を更に備えてよい。第1磁気抵抗センサは、樹脂部に固定されていてよい。   The semiconductor device may further include a resin portion provided adjacent to the first plate-like conductor. The first magnetoresistive sensor may be fixed to the resin portion.

第1半導体モジュールは、SiC半導体であってよい。   The first semiconductor module may be a SiC semiconductor.

なお、上記の発明の概要は、本発明の特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。   The above summary of the invention does not enumerate all of the features of the present invention. In addition, a subcombination of these feature groups can also be an invention.

半導体モジュール300の上面側の斜視図の一例を示す。An example of the perspective view of the upper surface side of the semiconductor module 300 is shown. 半導体モジュール300の底面側の斜視図の一例を示す。An example of the perspective view of the bottom side of the semiconductor module 300 is shown. 半導体モジュール300が備える半導体ユニット10の一例を示す。An example of the semiconductor unit 10 with which the semiconductor module 300 is provided is shown. 図2の半導体モジュール300におけるA−A断面の一例を示す。An example of the AA cross section in the semiconductor module 300 of FIG. 2 is shown. 半導体装置100における磁気抵抗センサ30の配置の一例を示す。An example of arrangement | positioning of the magnetoresistive sensor 30 in the semiconductor device 100 is shown. 比較例に係るバスバー520の周囲に生じる磁場の向きを示す。The direction of the magnetic field generated around the bus bar 520 according to the comparative example is shown. 屈曲部24を有する板状導体20の周囲に生じる磁場の向きを示す。The direction of the magnetic field generated around the plate-like conductor 20 having the bending portion 24 is shown. 板状導体20の周囲に形成される屈曲領域Rbの一例を示す。An example of bending area | region Rb formed around the plate-shaped conductor 20 is shown. 磁気抵抗センサ30の配置の一例を示す。An example of arrangement | positioning of the magnetoresistive sensor 30 is shown. クランク形状を有する板状導体20の屈曲角度θの一例を示す。An example of the bending angle θ of the plate-like conductor 20 having a crank shape is shown. クランク形状を有する板状導体20の屈曲角度θの一例を示す。An example of the bending angle θ of the plate-like conductor 20 having a crank shape is shown. クランク形状を有する板状導体20の構成の一例を示す。An example of a structure of the plate-shaped conductor 20 which has a crank shape is shown. U字形状を有する板状導体20の構成の一例を示す。An example of a structure of the plate-shaped conductor 20 which has U shape is shown. 連結形状を有する板状導体20の構成の一例を示す。An example of a structure of the plate-shaped conductor 20 which has connection shape is shown. 連結形状を有する板状導体20の構成の一例を示す。An example of a structure of the plate-shaped conductor 20 which has connection shape is shown. 連結形状を有する板状導体20の周囲の磁場強度を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the magnetic field intensity around the plate-shaped conductor 20 which has connection shape. 磁気抵抗センサ30の配置の一例を示す。An example of arrangement | positioning of the magnetoresistive sensor 30 is shown. 板状導体20の形状の一例を示す。An example of the shape of the plate-like conductor 20 is shown. 半導体モジュール300の動作波形の一例を示す。An example of an operation waveform of semiconductor module 300 is shown.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。   Hereinafter, the present invention will be described through the embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention according to the claims. Moreover, not all combinations of features described in the embodiments are essential to the solution of the invention.

図1Aは、半導体モジュール300の上面側の斜視図の一例を示す。半導体モジュール300は、筐体200の内部に半導体チップを搭載している。半導体モジュール300は、電力変換装置を構成するインバータ装置に用いられるパワー半導体モジュールである。筐体200には、上面に複数の導電端子ピン110が設けられている。   FIG. 1A shows an example of a perspective view of the upper surface side of the semiconductor module 300. The semiconductor module 300 has a semiconductor chip mounted inside the housing 200. The semiconductor module 300 is a power semiconductor module used for an inverter device that constitutes a power conversion device. The housing 200 is provided with a plurality of conductive terminal pins 110 on the top surface.

図1Bは、半導体モジュール300の底面側の斜視図の一例を示す。半導体モジュール300は、筐体200の底面に放熱パターン120を備える。放熱パターン120は、半導体モジュール300が有する半導体チップで発生した熱を放熱する部材である。   FIG. 1B shows an example of a perspective view of the bottom side of the semiconductor module 300. The semiconductor module 300 is provided with a heat radiation pattern 120 on the bottom surface of the housing 200. The heat radiation pattern 120 is a member that radiates the heat generated in the semiconductor chip of the semiconductor module 300.

図1Aおよび図1Bにおいては半導体モジュール300の底面と平行な面をXY面とする。また、筐体200のおもて面の長手方向をX方向、短手方向をY方向とする。但し、短手方向がX方向であり、長手方向がY方向であってもよい。また、XY面と垂直な方向をZ方向とする。本明細書では、Z方向を高さ方向とみたて、半導体モジュール300の底面から、おもて面に向かう方向を上、おもて面から底部に向かう方向を下と称する場合がある。ただし上下の方向は重力方向とは必ずしも一致しない。また、各図に示したXYZ座標軸において、矢印を付した側を正側、逆側を負側とする。   In FIGS. 1A and 1B, a plane parallel to the bottom surface of the semiconductor module 300 is taken as an XY plane. Further, the longitudinal direction of the front surface of the housing 200 is taken as the X direction, and the short direction is taken as the Y direction. However, the short direction may be the X direction, and the longitudinal direction may be the Y direction. Further, a direction perpendicular to the XY plane is taken as a Z direction. In this specification, the Z direction may be referred to as the height direction, and the direction from the bottom surface of the semiconductor module 300 toward the front surface may be referred to as upward, and the direction from the front surface to the bottom may be referred to as downward. However, the vertical direction does not necessarily coincide with the gravity direction. Further, in the XYZ coordinate axes shown in the respective drawings, the side to which the arrow is attached is the positive side, and the opposite side is the negative side.

図2は、半導体モジュール300が備える半導体ユニット10の一例を示す。本例の半導体ユニット10は、2つの半導体ユニットを備える。一例において、半導体ユニット10は、積層基板130、積層基板130上に実装された半導体チップ132と導電部材133とを備えている。   FIG. 2 shows an example of the semiconductor unit 10 provided in the semiconductor module 300. The semiconductor unit 10 of this example includes two semiconductor units. In one example, the semiconductor unit 10 includes the laminated substrate 130, the semiconductor chip 132 mounted on the laminated substrate 130, and the conductive member 133.

積層基板130は、絶縁板136のおもて面に配線パターン138、裏面に放熱パターン120を備える。積層基板130は、配線パターン138に半導体チップ132を搭載している。1つの積層基板130の上面には、8つの半導体チップ132、および複数の導電部材133が実装されている。半導体チップ132や導電部材133の個数はこれに限られない。   The laminated substrate 130 has a wiring pattern 138 on the front surface of the insulating plate 136 and a heat radiation pattern 120 on the rear surface. In the laminated substrate 130, the semiconductor chip 132 is mounted on the wiring pattern 138. Eight semiconductor chips 132 and a plurality of conductive members 133 are mounted on the top surface of one laminated substrate 130. The number of semiconductor chips 132 and the conductive members 133 is not limited to this.

半導体チップ132は、SiCの半導体チップを備える。また、半導体チップ132は、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)およびFWD(Free Wheeling Diode)等の半導体チップを備えてよい。   The semiconductor chip 132 comprises a semiconductor chip of SiC. In addition, the semiconductor chip 132 may include semiconductor chips such as an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) and an FWD (Free Wheeling Diode).

導電部材133は、積層基板130の配線パターン138や半導体チップ132に実装されている。図2では、導電部材133は、ポスト電極である。但し、導電部材133は、ポスト電極に限らず、リードフレーム、ボンディングワイヤ等導電性の部材であればよい。   The conductive member 133 is mounted on the wiring pattern 138 of the laminated substrate 130 and the semiconductor chip 132. In FIG. 2, the conductive member 133 is a post electrode. However, the conductive member 133 is not limited to the post electrode, and may be a conductive member such as a lead frame or a bonding wire.

図3は、図2の半導体モジュール300におけるA−A断面の一例を示す。半導体モジュール300は、半導体ユニット10と、筐体200と、導電端子ピン110とを備える。なお、半導体モジュール300は、筐体200の代わりに、封止樹脂を備えてもよい。   FIG. 3 shows an example of an AA cross section in the semiconductor module 300 of FIG. The semiconductor module 300 includes the semiconductor unit 10, the housing 200, and the conductive terminal pin 110. The semiconductor module 300 may include a sealing resin instead of the housing 200.

半導体ユニット10は、積層基板130と、半導体チップ132と、導電部材133と、プリント基板134とを備える。半導体ユニット10は、半導体チップ132と、積層基板130、導電部材133、プリント基板134等の配線部材とからなるパワー半導体回路を構成する部分である。図2および図3に点線で、半導体ユニット10を示す。   The semiconductor unit 10 includes a laminated substrate 130, a semiconductor chip 132, a conductive member 133, and a printed substrate 134. The semiconductor unit 10 is a portion that constitutes a power semiconductor circuit including the semiconductor chip 132, and the wiring members such as the laminated substrate 130, the conductive member 133, and the printed substrate 134. The semiconductor unit 10 is shown by dotted lines in FIGS. 2 and 3.

プリント基板134は、導電部材133を介して半導体チップ132と積層基板130の配線パターン138とを接続する。プリント基板134は、導電部材133を介して半導体チップ132と別の半導体チップ132とを接続する。また、絶縁板136の配線パターン138は、半導体チップ132に接続されている。このようにして、半導体ユニット10は、半導体モジュール300の内部でパワー半導体回路を構成する。さらに、配線パターン138は、導電部材133を介して導電端子ピン110と半導体チップ132とを導通させる。   The printed circuit board 134 connects the semiconductor chip 132 and the wiring pattern 138 of the laminated substrate 130 via the conductive member 133. The printed circuit board 134 connects the semiconductor chip 132 to another semiconductor chip 132 via the conductive member 133. Also, the wiring pattern 138 of the insulating plate 136 is connected to the semiconductor chip 132. Thus, the semiconductor unit 10 configures a power semiconductor circuit inside the semiconductor module 300. Further, the wiring pattern 138 electrically connects the conductive terminal pin 110 and the semiconductor chip 132 via the conductive member 133.

図4は、半導体装置100における磁気抵抗センサ30の配置の一例を示す。半導体装置100は、半導体モジュール300と、板状導体20と、連結部29と、磁気抵抗センサ30とを備える。   FIG. 4 shows an example of the arrangement of the magnetoresistive sensor 30 in the semiconductor device 100. The semiconductor device 100 includes a semiconductor module 300, a plate-like conductor 20, a connecting portion 29, and a magnetoresistive sensor 30.

板状導体20は、導電性を有する板状のバスバーである。板状導体20は、半導体モジュール300と電気的に接続されている。また、板状導体20は、連結部29において導電端子ピン110と電気的に接続される。板状導体20には、予め定められた電流Iが流れる。本例では、電流Iが本体部22から屈曲部24に向けて流れる。板状導体20は、本体部22および屈曲部24を有する。   The plate-like conductor 20 is a plate-like bus bar having conductivity. The plate-like conductor 20 is electrically connected to the semiconductor module 300. Further, the plate-like conductor 20 is electrically connected to the conductive terminal pin 110 at the connecting portion 29. A predetermined current I flows through the plate-like conductor 20. In the present example, the current I flows from the main body 22 toward the bending portion 24. The plate-like conductor 20 has a main body portion 22 and a bending portion 24.

本体部22は、予め定められた第1方向に延伸する。本明細書では、第1方向をY軸方向として説明する。但し、本体部22が延伸する方向は本例に限られない。   The main body 22 extends in a first predetermined direction. In the present specification, the first direction is described as the Y-axis direction. However, the direction in which the main body portion 22 extends is not limited to this example.

連結部29は、本体部22を半導体モジュール300と連結させる。連結部29は、板状導体20を半導体モジュール300に固定し、半導体モジュール300の導電端子ピン110と板状導体20とを電気的に接続する。連結部29は、板状導体20を半導体モジュール300に固定し、半導体モジュール300と板状導体20とを電気的に接続できるものであれば、本例の構造に限定されない。   The connection portion 29 connects the main body portion 22 to the semiconductor module 300. The connecting portion 29 fixes the plate-like conductor 20 to the semiconductor module 300, and electrically connects the conductive terminal pin 110 of the semiconductor module 300 and the plate-like conductor 20. The connection part 29 fixes the plate-shaped conductor 20 to the semiconductor module 300, and if it can electrically connect the semiconductor module 300 and the plate-shaped conductor 20, it will not be limited to the structure of this example.

屈曲部24は、本体部22から、第1方向と異なる第2方向に屈曲する。屈曲部24は、Z軸方向に延伸している。本例の屈曲部24は、本体部22と直交する方向に屈曲しているが、本体部22に対して鋭角又は鈍角に屈曲していてもよい。板状導体20は、本体部22および屈曲部24を有することにより、半導体装置100の内部構造に応じた適当な形状に設計される。   The bending portion 24 bends from the main body portion 22 in a second direction different from the first direction. The bent portion 24 extends in the Z-axis direction. The bending portion 24 in this example is bent in the direction orthogonal to the main body portion 22, but may be bent at an acute angle or an obtuse angle with respect to the main body portion 22. The plate-like conductor 20 is designed in an appropriate shape according to the internal structure of the semiconductor device 100 by having the main body portion 22 and the bending portion 24.

磁気抵抗センサ30は、板状導体20と隣接して設けられる。磁気抵抗センサ30は、本体部22と屈曲部24とで形成される屈曲面に隣接して設けられる。本例の磁気抵抗センサ30は、屈曲面のうち屈曲部24と隣接して設けられる。磁気抵抗センサ30は、屈曲部24の近傍において隣接して設けられる場合であっても、屈曲部24とわずかな隙間が設けられてよい。即ち、磁気抵抗センサ30は、板状導体20との絶縁性が確保される範囲で、板状導体20と近接して設けられることが好ましい。本明細書において、屈曲面とは、予め定められた屈曲角度θで屈曲した面であり、本体部22および屈曲部24の2つの部材で構成される。屈曲面は、直角の屈曲角度θを有してもよく、鈍角の屈曲角度θを有してもよく、鋭角の屈曲角度θを有してもよい。   The magnetoresistive sensor 30 is provided adjacent to the plate conductor 20. The magnetoresistive sensor 30 is provided adjacent to a bending surface formed by the main body portion 22 and the bending portion 24. The magnetoresistive sensor 30 of this example is provided adjacent to the bending portion 24 in the bending surface. Even when the magnetoresistive sensor 30 is provided adjacent to the bending portion 24, a slight gap may be provided from the bending portion 24. That is, it is preferable that the magnetoresistive sensor 30 be provided in proximity to the plate conductor 20 as long as insulation with the plate conductor 20 is secured. In the present specification, the bending surface is a surface bent at a predetermined bending angle θ, and is configured by two members of the main body portion 22 and the bending portion 24. The bending surface may have a right angle of bending angle θ, an obtuse angle of bending angle θ, or an acute angle of bending angle θ.

本例の磁気抵抗センサ30は、磁束を集束して感度を高めるための磁気コアを有さないコアレスの磁気抵抗センサである。磁気抵抗センサ30は、磁気コアを有さないので小型化が可能であり、板状導体20の形状に応じて自由に配置できる。例えば、磁気抵抗センサ30は、AMR(Anisotropic Magneto Resistance)素子、GMR(Giant Magneto Resistance)素子およびTMR(Tunnel Magneto Resistance)素子等の高感度の磁気抵抗素子である。   The magnetoresistive sensor 30 of this example is a coreless magnetoresistive sensor which does not have a magnetic core for focusing magnetic flux and enhancing sensitivity. The magnetoresistive sensor 30 can be miniaturized because it does not have a magnetic core, and can be freely disposed in accordance with the shape of the plate-like conductor 20. For example, the magnetoresistive sensor 30 is a high-sensitivity magnetoresistive element such as an AMR (Anisotropic Magneto Resistance) element, a GMR (Giant Magneto Resistance) element, and a TMR (Tunnel Magneto Resistance) element.

磁気抵抗センサ30は、板状導体20に流れる電流Iにより生じた磁場を検出する。これにより、磁気抵抗センサ30は、板状導体20に流れる電流Iを検出する。磁気抵抗センサ30は、板状導体20に流れる電流Iにより発生する磁場の強度が高い位置に配置されるのが好ましい。磁気抵抗センサ30は、高い磁場強度の位置に配置されることにより、信号雑音比(SNR)を向上できる。例えば、磁気抵抗センサ30は、板状導体20に流れる電流Iを検出することにより、半導体装置100の短絡保護機能および過電流保護機能を実現する。   The magnetoresistive sensor 30 detects a magnetic field generated by the current I flowing through the plate conductor 20. Thereby, the magnetoresistive sensor 30 detects the current I flowing through the plate-like conductor 20. The magnetoresistive sensor 30 is preferably disposed at a position where the strength of the magnetic field generated by the current I flowing through the plate conductor 20 is high. The magnetoresistive sensor 30 can improve the signal-to-noise ratio (SNR) by being disposed at the position of high magnetic field strength. For example, the magnetoresistive sensor 30 realizes the short circuit protection function and the overcurrent protection function of the semiconductor device 100 by detecting the current I flowing through the plate conductor 20.

本例の磁気抵抗センサ30は、半導体ユニット10の上面12を含む平面の外側に設けられる。上面12を含む平面の外側とは、上面12を含む平面よりもZ軸方向の正側の領域であれば特に限定されない。即ち、上面12を含む平面の外側とは、半導体ユニット10の上方であっても、半導体ユニット10の上方から外れた位置であってもよい。磁気抵抗センサ30は、半導体ユニット10の漏れ磁場の影響を受けにくくなる。例えば、磁気抵抗センサ30は、半導体ユニット10の内部の電流経路に起因する磁界とのクロスカップリングによる影響が小さくなる。   The magnetoresistive sensor 30 of this example is provided outside the plane including the upper surface 12 of the semiconductor unit 10. The outside of the plane including the upper surface 12 is not particularly limited as long as it is a region on the positive side in the Z-axis direction with respect to the plane including the upper surface 12. That is, the outside of the plane including the upper surface 12 may be above the semiconductor unit 10 or at a position away from above the semiconductor unit 10. The magnetoresistive sensor 30 is less susceptible to the influence of the stray magnetic field of the semiconductor unit 10. For example, in the magnetoresistive sensor 30, the influence of the cross coupling with the magnetic field caused by the current path inside the semiconductor unit 10 is reduced.

なお、半導体ユニット10の上面12とは、実質的に、半導体ユニット10内で主電流等の比較的大きな電流が流れる回路の上面を指して良い。言い換えると、制御電流やセンス電流等の主電流と比較して小さな電流を流れる回路は、磁気抵抗センサ30に与える影響が小さいので、実質的に半導体ユニット10に含まれなくてよい。   The upper surface 12 of the semiconductor unit 10 may substantially indicate the upper surface of a circuit through which a relatively large current such as a main current flows in the semiconductor unit 10. In other words, a circuit which passes a small current as compared with the main current such as the control current and the sense current may not be substantially included in the semiconductor unit 10 since the influence on the magnetoresistive sensor 30 is small.

ここで、SiCの半導体チップは、SiCの結晶品質に起因する歩留り低下の問題があるので、Siの半導体チップよりも小型化される。本例の半導体装置100は、板状導体20に隣接して磁気抵抗センサ30を設けるので、半導体チップ132にセンストランジスタを設ける必要がなく、半導体チップ132を小型化できる。また、本例の半導体装置100は、半導体ユニット10の外部に設けるので、半導体ユニット10の内部回路による複雑な磁場のカップリングの影響を受けにくい。なお、本例では、半導体装置100が1つの磁気抵抗センサ30を有する場合について説明するが、半導体装置100は、複数の磁気抵抗センサ30を備えてもよい。   Here, the semiconductor chip of SiC is smaller than the semiconductor chip of Si because there is a problem of yield reduction due to the crystal quality of SiC. In the semiconductor device 100 of this example, since the magnetoresistive sensor 30 is provided adjacent to the plate-like conductor 20, it is not necessary to provide a sense transistor in the semiconductor chip 132, and the semiconductor chip 132 can be miniaturized. In addition, since the semiconductor device 100 of this example is provided outside the semiconductor unit 10, it is unlikely to be affected by the complex magnetic field coupling due to the internal circuit of the semiconductor unit 10. Although the case where the semiconductor device 100 includes one magnetoresistive sensor 30 is described in this example, the semiconductor device 100 may include a plurality of magnetoresistive sensors 30.

図5は、比較例に係るバスバー520の周囲に生じる磁場の向きを示す。バスバー520の周囲には、電流Iが流れる方向に対して、アンペールの右ねじの法則に応じた向きの磁場が生じる。本例では、バスバー520が屈曲部を有さずに、直線形状を有する場合について説明する。電流Iの流れる方向の右側の領域(即ち、バスバー520のZ軸方向の正側の領域)では紙面の奥向きの磁場が生じる。また、電流Iの流れる方向の左側の領域(即ち、バスバー520のZ軸方向の負側の領域)では紙面の手前向きに磁場が生じる。   FIG. 5 shows the direction of the magnetic field generated around the bus bar 520 according to the comparative example. Around the bus bar 520, a magnetic field is generated in a direction according to Ampere's right-handed screw law with respect to the direction in which the current I flows. In this example, the case where the bus bar 520 does not have a bend and has a linear shape will be described. In the region on the right side of the current I flowing direction (that is, the region on the positive side of the bus bar 520 in the Z-axis direction), a magnetic field is generated in the back of the paper. Further, in the region on the left side of the current I flowing direction (ie, the region on the negative side of the bus bar 520 in the Z-axis direction), a magnetic field is generated in the front of the paper.

図6は、屈曲部24を有する板状導体20の周囲に生じる磁場の向きを示す。本例の板状導体20は、本体部22および屈曲部24を有する。この場合も、板状導体20の周囲には、電流Iが流れる方向に対して、アンペールの右ねじの法則に応じた向きの磁場が生じる。但し、本例では、本体部22で電流Iの流れる方向の右側の領域(即ち、本体部22のZ軸方向の正側の領域)と、屈曲部24で電流Iの流れる方向の右側の領域(即ち、屈曲部24のY軸方向の正側の領域)とが重なる領域がある。この領域では、本体部22および屈曲部24に流れる電流Iの両方から、紙面の奥向きの磁場が生じるので、磁場が強まる領域となる。   FIG. 6 shows the direction of the magnetic field generated around the plate-like conductor 20 having the bending portion 24. The plate-like conductor 20 of this example has a main body 22 and a bending portion 24. Also in this case, a magnetic field is generated around the plate-like conductor 20 according to Ampere's right-handed screw law with respect to the direction in which the current I flows. However, in this example, a region on the right side of the flow direction of the current I in the main body 22 (that is, a region on the positive side in the Z axis direction of the main body 22) and a region on the right side of the flow direction of the current I in the bending portion 24 There is a region where (that is, a region on the positive side in the Y-axis direction of the bending portion 24) overlaps. In this region, since the magnetic field in the back of the paper surface is generated from both of the current I flowing to the main body portion 22 and the bending portion 24, the magnetic field becomes stronger.

図7は、板状導体20の周囲に形成される屈曲領域Rbの一例を示す。本例の板状導体20は、本体部22および屈曲部24を有する。   FIG. 7 shows an example of a bending region Rb formed around the plate-like conductor 20. As shown in FIG. The plate-like conductor 20 of this example has a main body 22 and a bending portion 24.

強磁場領域Rsは、板状導体20に電流Iが流れた場合に、本体部22および屈曲部24に流れる電流Iにより生じる磁場が強め合う領域を示す。本例の強磁場領域Rsは、電流Iの流れる方向に対して、本体部22の右側(即ち、本体部22のZ軸方向の正側)であって、且つ、屈曲部24の右側(即ち、屈曲部24のY軸方向の正側)の領域である。   The strong magnetic field region Rs indicates a region where the magnetic fields generated by the current I flowing through the main body portion 22 and the bending portion 24 strengthen each other when the current I flows through the plate conductor 20. The strong magnetic field region Rs in this example is the right side of the main body 22 (i.e., the positive side in the Z axis direction of the main body 22) with respect to the direction in which the current I flows. , The positive side in the Y-axis direction of the bending portion 24).

弱磁場領域Rwは、板状導体20に電流Iが流れた場合に、本体部22または屈曲部24に流れる電流Iにより生じる磁場のうち、いずれか一方のみの影響を受ける領域を示す。本例の弱磁場領域Rwは、電流Iの流れる方向に対して、本体部22の左側(即ち、本体部22のZ軸方向の負側)であって、且つ、屈曲部24の右側(即ち、屈曲部24のY軸方向の正側)の領域である。   The weak magnetic field region Rw indicates a region affected by only one of the magnetic fields generated by the current I flowing through the main body 22 or the bending portion 24 when the current I flows through the plate conductor 20. The weak magnetic field region Rw in this example is the left side of the main body 22 (i.e., the negative side of the main body 22 in the Z-axis direction) with respect to the flow direction of the current I. , The positive side in the Y-axis direction of the bending portion 24).

屈曲領域Rbは、磁気抵抗センサ30を配置することにより、磁場を強め合う効果が得られる領域を指す。例えば、本例の屈曲領域Rbは、板状導体20の屈曲面の内面側(即ち、本体部22のZ軸方向の正側および屈曲部24のY軸方向の正側)の領域である。屈曲面の内面側とは、本体部22における屈曲面と、屈曲部24における屈曲面とのいずれにも対向する側を指す。例えば、本例の屈曲領域Rbは、屈曲面における本体部22と屈曲部24との境界を中心として、屈曲部24の長さLを半径とした円の内側の領域である。板状導体20に流れる電流Iにより生じる磁場の強度は、距離に反比例するので、屈曲領域Rbが長さLを半径とした円で示される。磁気抵抗センサ30は、屈曲領域Rbに配置されることにより、電流Iの検出感度を向上することができる。また、磁気抵抗センサ30が屈曲領域Rbに設けられるので、SNRが向上し、周波数特性およびゲイン特性が安定する。   The bending region Rb indicates a region where the magnetic field can be enhanced by arranging the magnetoresistive sensor 30. For example, the bending region Rb in this example is a region on the inner surface side of the bending surface of the plate-like conductor 20 (that is, the positive side in the Z-axis direction of the main body 22 and the positive side in the Y-axis direction of the bending portion 24). The inner surface side of the bending surface refers to the side facing both the bending surface of the main body portion 22 and the bending surface of the bending portion 24. For example, the bending region Rb in this example is a region inside a circle whose radius is the length L of the bending portion 24 with the boundary between the main body portion 22 and the bending portion 24 in the bending surface as the center. Since the strength of the magnetic field generated by the current I flowing through the plate conductor 20 is inversely proportional to the distance, the bending region Rb is indicated by a circle whose radius is the length L. The magnetoresistive sensor 30 can improve the detection sensitivity of the current I by being disposed in the bending region Rb. Further, since the magnetoresistive sensor 30 is provided in the bending region Rb, the SNR is improved, and the frequency characteristic and the gain characteristic are stabilized.

図8は、磁気抵抗センサ30の配置の一例を示す。本例の磁気抵抗センサ30は、半導体ユニット10の側面14を含む平面の外側に設けられる点で図4の場合と相違する。   FIG. 8 shows an example of the arrangement of the magnetoresistive sensor 30. As shown in FIG. The magnetoresistive sensor 30 of this example is different from the case of FIG. 4 in that the magnetoresistive sensor 30 is provided outside the plane including the side surface 14 of the semiconductor unit 10.

磁気抵抗センサ30は、半導体ユニット10の上面12を含む平面の外側に設けられる。また、磁気抵抗センサ30は、半導体ユニット10の側面14を含む平面の外側に設けられる。ここで、側面14を含む平面の外側とは、側面14が半導体ユニット10のY軸方向の負側の側面の場合、側面14を含む平面よりもY軸方向の負側の領域を指す。本例の磁気抵抗センサ30は、側面14を含む平面の外側に設けられることにより、半導体ユニット10の漏れ磁場の影響を受けにくい。これにより、磁気抵抗センサ30のSNRが向上し、センサの誤差が抑制される。本例の半導体装置100は、磁気抵抗センサ30を、上面12を含む平面の外側であって、且つ、側面14を含む平面の外側に設けるので、半導体ユニット10からの影響を更に受けにくくなる。   The magnetoresistive sensor 30 is provided outside the plane including the top surface 12 of the semiconductor unit 10. In addition, the magnetoresistive sensor 30 is provided outside the plane including the side surface 14 of the semiconductor unit 10. Here, when the side surface 14 is the side surface on the negative side in the Y-axis direction of the semiconductor unit 10, the outside of the plane including the side surface 14 refers to a region on the negative side in the Y-axis direction than the plane including the side surface 14. The magnetoresistive sensor 30 of this example is not susceptible to the influence of the stray magnetic field of the semiconductor unit 10 by being provided outside the plane including the side surface 14. Thereby, the SNR of the magnetoresistive sensor 30 is improved, and the error of the sensor is suppressed. In the semiconductor device 100 of this example, since the magnetoresistive sensor 30 is provided outside the plane including the upper surface 12 and outside the plane including the side surface 14, the semiconductor device 100 is further less susceptible to the influence of the semiconductor unit 10.

なお、半導体ユニット10の側面14とは、実質的に、半導体ユニット10内で主電流と制御電流等の比較的大きな電流が流れる回路の側面を指して良い。即ち、センス電流等の主電流と比較して小さな電流を流れる回路は、磁気抵抗センサ30に与える影響が小さいので、実質的に半導体ユニット10に含まれなくてよい。   The side surface 14 of the semiconductor unit 10 may substantially refer to a side surface of a circuit in which a relatively large current such as a main current and a control current flows in the semiconductor unit 10. That is, a circuit which passes a small current as compared with the main current such as the sense current may not be substantially included in the semiconductor unit 10 since the influence on the magnetoresistive sensor 30 is small.

また、本例の磁気抵抗センサ30は、屈曲部24に対して半導体ユニット10側の面に隣接して設けられる。この場合、板状導体20は、磁気抵抗センサ30が側面14を含む平面の外側に配置できるように、側面14を含む平面の外側に設けられた屈曲部24を有する。   Further, the magnetoresistive sensor 30 of the present example is provided adjacent to the surface on the semiconductor unit 10 side with respect to the bending portion 24. In this case, the plate-like conductor 20 has the bending portion 24 provided outside the plane including the side surface 14 so that the magnetoresistive sensor 30 can be disposed outside the plane including the side surface 14.

図9は、クランク形状を有する板状導体20の屈曲角度θの一例を示す。本例の板状導体20は、屈曲部24に接続された本体部22および本体部26により、クランク形状を構成している。本体部22は、第1本体部の一例である。本体部26は、第2本体部の一例である。   FIG. 9 shows an example of the bending angle θ of the plate-like conductor 20 having a crank shape. The plate-like conductor 20 of this example has a crank shape by the main body portion 22 and the main body portion 26 connected to the bending portion 24. The main body 22 is an example of a first main body. The main body 26 is an example of a second main body.

本体部26は、本体部22と同一の方向に延伸している。本体部26および本体部22は、共にY軸方向に延伸している。屈曲部24は、一端が本体部22に接続され、他端が本体部26に接続されている。本体部22と本体部26は、屈曲部24から見た時に、Y軸方向の正負逆側に延伸している。   The main body portion 26 extends in the same direction as the main body portion 22. The main body portion 26 and the main body portion 22 both extend in the Y-axis direction. One end of the bending portion 24 is connected to the main body portion 22, and the other end is connected to the main body portion 26. The main body portion 22 and the main body portion 26 extend in the positive / negative opposite side in the Y-axis direction when viewed from the bending portion 24.

屈曲角度θは、本体部22と屈曲部24の屈曲する度合いを示す。本例の屈曲角度θは、90°である。屈曲角度θが大きい程、本体部22に対して屈曲部24が大きく屈曲する。本例の屈曲角度θは90°であるため、本体部22および屈曲部24が直交する。本例の磁気抵抗センサ30は、屈曲領域Rbにおいて、屈曲部24に隣接して設けられる。   The bending angle θ indicates the degree of bending of the main body portion 22 and the bending portion 24. The bending angle θ in this example is 90 °. The larger the bending angle θ, the larger the bending portion 24 bends with respect to the main body portion 22. Since the bending angle θ in this example is 90 °, the main body 22 and the bending portion 24 are orthogonal to each other. The magnetoresistive sensor 30 of this example is provided adjacent to the bending portion 24 in the bending region Rb.

図10は、クランク形状を有する板状導体20の屈曲角度θの一例を示す。本例は、屈曲角度θ≧90°の場合である。即ち、本例の板状導体20は、本体部22と屈曲部24の屈曲する度合いが大きい。この場合、屈曲領域Rbと本体部22および屈曲部24との距離がそれぞれ近づくので、屈曲領域Rbで生じる磁場の強度が強くなる。これにより、磁気抵抗センサ30は、磁場の検出感度を向上できる。   FIG. 10 shows an example of the bending angle θ of the plate-like conductor 20 having a crank shape. In this example, the bending angle θ ≧ 90 °. That is, in the plate-like conductor 20 of this example, the degree of bending of the main body portion 22 and the bending portion 24 is large. In this case, since the distance between the bending region Rb and the main body portion 22 and the bending portion 24 approaches, respectively, the strength of the magnetic field generated in the bending region Rb becomes strong. Thereby, the magnetoresistive sensor 30 can improve the detection sensitivity of a magnetic field.

例えば、屈曲角度θは、75°≦θ≦150°であってよく、75°≦θ≦135°であってよく、90°≦θ≦120°であってよい。屈曲角度θを大きくすることにより、磁気抵抗センサ30と本体部22および屈曲部24との距離を近くできるので、磁場強度を向上させやすくなる。但し、屈曲角度θを大きくし過ぎると、互いに打ち消し合う磁束が生じることにより信号強度が低下する場合がある。   For example, the bending angle θ may be 75 ° ≦ θ ≦ 150 °, 75 ° ≦ θ ≦ 135 °, and 90 ° ≦ θ ≦ 120 °. By increasing the bending angle θ, the distance between the magnetoresistive sensor 30 and the main body 22 and the bending portion 24 can be reduced, so that the magnetic field strength can be easily improved. However, if the bending angle θ is too large, the signal strength may decrease due to the generation of magnetic fluxes that cancel each other.

なお、本例では、クランク形状を有する板状導体20の屈曲角度θについて説明したが、図4および図8で示したL字形状を有する板状導体20の屈曲角度θについても同様に屈曲角度θ≧90°としてもよい。また、L字形状を有する板状導体20の屈曲角度θは、屈曲角度θ≦90°であってもよい。   In this example, although the bending angle θ of the plate-like conductor 20 having a crank shape has been described, the bending angle θ of the plate-like conductor 20 having the L shape shown in FIGS. 4 and 8 is similarly made. It may be θ9090 °. Further, the bending angle θ of the L-shaped plate-like conductor 20 may be a bending angle θ ≦ 90 °.

図11は、クランク形状を有する板状導体20の構成の一例を示す。本例の板状導体20は、本体部22と、屈曲部24と、本体部26とを備える。本例の板状導体20は、屈曲部24に接続された本体部22および本体部26により、クランク形状を構成している。本例の屈曲角度θは、90°である。本体部22は、第1本体部の一例である。本体部26は、第2本体部の一例である。本体部22は、半導体ユニット10に連結されてよい。   FIG. 11 shows an example of the configuration of a plate-like conductor 20 having a crank shape. The plate-like conductor 20 of the present example includes a main body portion 22, a bending portion 24, and a main body portion 26. The plate-like conductor 20 of this example has a crank shape by the main body portion 22 and the main body portion 26 connected to the bending portion 24. The bending angle θ in this example is 90 °. The main body 22 is an example of a first main body. The main body 26 is an example of a second main body. The main body 22 may be coupled to the semiconductor unit 10.

板状導体20は、強磁場領域Rs1および強磁場領域Rs2の2つの強磁場領域Rsを形成する。強磁場領域Rs1は、電流Iの流れる方向に対して、本体部22および屈曲部24の右側の領域(即ち、本体部22のZ軸方向の正側の領域および屈曲部24のY軸方向の正側の領域)である。本例の強磁場領域Rs1は、本体部22と屈曲部24で形成される屈曲面の内面側の領域である。強磁場領域Rs2は、電流Iの流れる方向に対して、屈曲部24および本体部26の左側の領域(即ち、本体部22のZ軸方向の正側の領域および屈曲部24のY軸方向の負側の領域)である。本例の強磁場領域Rs2は、屈曲部24と本体部26で形成される屈曲面の内面側の領域である。このように、板状導体20がクランク形状を有することにより、磁気抵抗センサ30の配置の自由度が向上する。   The plate-like conductor 20 forms two strong magnetic field regions Rs of a strong magnetic field region Rs1 and a strong magnetic field region Rs2. The strong magnetic field region Rs1 is a region on the right side of the main body 22 and the bending portion 24 with respect to the current I flowing direction (ie, a region on the positive side of the main body 22 in the Z axis direction and the Y axis direction of the bending portion 24 Area on the positive side). The strong magnetic field region Rs1 of the present example is a region on the inner surface side of the bending surface formed by the main body portion 22 and the bending portion 24. The strong magnetic field region Rs2 is a region on the left side of the bending portion 24 and the main body portion 26 with respect to the flowing direction of the current I (that is, a region on the positive side in the Z axis direction of the main body portion 22 and the Y axis direction of the bending portion 24 Negative region). The strong magnetic field region Rs2 in the present example is a region on the inner surface side of the bending surface formed by the bending portion 24 and the main body portion 26. Thus, the plate-like conductor 20 having a crank shape improves the degree of freedom in the arrangement of the magnetoresistive sensor 30.

図12は、U字形状を有する板状導体20の構成の一例を示す。本例の板状導体20は、本体部22と、屈曲部24と、本体部26とを備える。本例の板状導体20は、屈曲部24に接続された本体部22および本体部26により、U字形状を構成している。即ち、本例の板状導体20は、本体部26が屈曲部24に対してY軸方向の正側に延伸している点で、図11のクランク形状の場合と相違する。本例の屈曲角度θは、90°である。本体部22は、第1本体部の一例である。本体部26は、第2本体部の一例である。   FIG. 12 shows an example of the configuration of a plate-like conductor 20 having a U-shape. The plate-like conductor 20 of the present example includes a main body portion 22, a bending portion 24, and a main body portion 26. The plate-like conductor 20 of the present example has a U-shape by the main body 22 and the main body 26 connected to the bending portion 24. That is, the plate-like conductor 20 of this example is different from the case of the crank shape in FIG. 11 in that the main body portion 26 extends on the positive side in the Y-axis direction with respect to the bending portion 24. The bending angle θ in this example is 90 °. The main body 22 is an example of a first main body. The main body 26 is an example of a second main body.

板状導体20は、U字形状で囲んだ領域に強磁場領域Rsを形成する。強磁場領域Rsは、電流Iの流れる方向に対して、本体部22、屈曲部24および本体部26の右側の領域(即ち、本体部22のZ軸方向の正側の領域、屈曲部24のY軸方向の正側の領域、および本体部26のZ軸方向の負側の領域)である。本例の強磁場領域Rsは、本体部22と屈曲部24と本体部26とで形成される屈曲面の内面側の領域である。このように、板状導体20がU字形状を有することにより、磁気抵抗センサ30の配置の自由度が向上する。また、磁気抵抗センサ30をU字形状の内側に配置する場合、板状導体20によって周囲のノイズ等から磁気抵抗センサ30が保護される。   The plate-like conductor 20 forms a strong magnetic field region Rs in a region surrounded by a U-shape. The strong magnetic field region Rs is a region on the right side of the main body 22, the bending portion 24 and the main body 26 with respect to the direction in which the current I flows (that is, a positive side region of the main body 22 in the Z axis direction A region on the positive side in the Y-axis direction and a region on the negative side in the Z-axis direction of the main body portion 26). The strong magnetic field region Rs in this example is a region on the inner surface side of a bending surface formed by the main body portion 22, the bending portion 24 and the main body portion 26. As described above, the U-shaped plate-like conductor 20 improves the degree of freedom in the arrangement of the magnetoresistive sensor 30. Further, when the magnetoresistive sensor 30 is disposed inside the U-shape, the magnetoresistive sensor 30 is protected by the plate-like conductor 20 from the noise and the like in the surroundings.

図13は、連結形状を有する板状導体20の構成の一例を示す。本例の板状導体20は、連結した板状導体20aおよび板状導体20bを有する。板状導体20aおよび板状導体20bは、それぞれクランク形状を有する。本例の半導体装置100は、半導体ユニット10aおよび半導体ユニット10bを備える。半導体ユニット10aは、第1半導体ユニットの一例である。半導体ユニット10bは、第2半導体モジュールの一例である。   FIG. 13 shows an example of the configuration of a plate-like conductor 20 having a connection shape. The plate-like conductor 20 of this example has the plate-like conductor 20a and the plate-like conductor 20b connected. The plate-like conductor 20a and the plate-like conductor 20b each have a crank shape. The semiconductor device 100 of this example includes a semiconductor unit 10a and a semiconductor unit 10b. The semiconductor unit 10a is an example of a first semiconductor unit. The semiconductor unit 10 b is an example of a second semiconductor module.

板状導体20aは、本体部22aと、屈曲部24aと、本体部26aとを有する。本体部22aは、第1本体部の一例である。屈曲部24aは、第1屈曲部の一例である。本体部26aは、第2本体部の一例である。板状導体20aには、電流Iaが流れる。   The plate-like conductor 20a has a main body 22a, a bending portion 24a, and a main body 26a. The main body 22 a is an example of a first main body. The bending portion 24 a is an example of a first bending portion. The main body 26 a is an example of a second main body. A current Ia flows through the plate conductor 20a.

本体部22aは、予め定められた第1方向に延伸する。本体部22aは、Y軸方向の正側に延伸している。本体部22aは、半導体ユニット10aと電気的に接続されている。   The main body 22 a extends in a first predetermined direction. The main body 22 a extends on the positive side in the Y-axis direction. The main body 22a is electrically connected to the semiconductor unit 10a.

屈曲部24aは、本体部22aと異なる第2方向に延伸する。本例の屈曲部24aは、Z軸方向の正側に延伸している。本例の屈曲部24aは、一端が本体部22aに接続され、他端が本体部26aの一端に接続されている。   The bending portion 24 a extends in a second direction different from the main portion 22 a. The bent portion 24a of this example extends on the positive side in the Z-axis direction. One end of the bending portion 24a in this example is connected to the main body portion 22a, and the other end is connected to one end of the main body portion 26a.

本体部26aは、本体部22aと同一の方向に延伸する。本体部26aは、Y軸方向の正側に延伸している。本例の本体部26aは、本体部22aよりも短い。但し、本体部26aの長さは、半導体ユニット10aの配置等に応じて適宜変更されてよい。   The main body portion 26a extends in the same direction as the main body portion 22a. The main body portion 26 a extends on the positive side in the Y-axis direction. The main body portion 26a of this example is shorter than the main body portion 22a. However, the length of the main body portion 26a may be appropriately changed according to the arrangement of the semiconductor unit 10a and the like.

板状導体20bは、本体部22bと、屈曲部24bと、本体部26bとを有する。本体部22bは、第3本体部の一例である。屈曲部24bは、第2屈曲部の一例である。本体部26bは、第4本体部の一例である。板状導体20bには、電流Ibが流れる。   The plate-like conductor 20b has a main body portion 22b, a bending portion 24b, and a main body portion 26b. The main body 22 b is an example of a third main body. The bending portion 24 b is an example of a second bending portion. The main body 26 b is an example of a fourth main body. A current Ib flows through the plate conductor 20b.

本体部22bは、予め定められた第1方向に延伸する。本体部22bは、Y軸方向の負側に延伸している。本体部22bは、半導体ユニット10bと電気的に接続されている。   The main body 22b extends in a first predetermined direction. The main body 22b extends on the negative side in the Y-axis direction. The main body 22 b is electrically connected to the semiconductor unit 10 b.

屈曲部24bは、本体部22bと異なる第3方向に延伸する。屈曲部24bは、Z軸方向の正側に延伸している。本例の屈曲部24bは、一端が本体部22bに接続され、他端が本体部26bの一端に接続されている。   The bending portion 24 b extends in a third direction different from the main portion 22 b. The bent portion 24 b extends on the positive side in the Z-axis direction. One end of the bending portion 24b in this example is connected to the main body portion 22b, and the other end is connected to one end of the main body portion 26b.

本体部26bは、本体部22bと同一の方向に延伸する。本体部26bは、Y軸方向の負側に延伸している。本例の本体部26bは、本体部22bよりも短い。但し、本体部26bの長さは、半導体ユニット10bの配置等に応じて適宜変更されてよい。   The main body portion 26 b extends in the same direction as the main body portion 22 b. The main body portion 26 b extends on the negative side in the Y-axis direction. The main body portion 26 b of this example is shorter than the main body portion 22 b. However, the length of the main body portion 26b may be appropriately changed according to the arrangement of the semiconductor unit 10b or the like.

外部接続ボード40は、板状導体20aおよび板状導体20bに電気的に接続されている。外部接続ボード40は、本体部26aおよび本体部26bに連結されている。外部接続ボード40には、板状導体20aから電流Iaが入力され、板状導体20bから電流Ibが入力される。   The external connection board 40 is electrically connected to the plate conductor 20a and the plate conductor 20b. The external connection board 40 is connected to the main body 26a and the main body 26b. The current Ia is input to the external connection board 40 from the plate conductor 20a, and the current Ib is input from the plate conductor 20b.

なお、板状導体20aおよび板状導体20bは、外部接続ボード40に依らず、直接接続されることで互いに電気的に接続されていてもよい。この際、本体部26aの他端と、本体部26bの他端とが、接続されている。接続された板状導体20aおよび板状導体20bは、ハット形状を有する。   The plate-like conductor 20 a and the plate-like conductor 20 b may be electrically connected to each other by being directly connected without using the external connection board 40. At this time, the other end of the main body portion 26a and the other end of the main body portion 26b are connected. The plate-like conductor 20a and the plate-like conductor 20b connected have a hat shape.

磁気抵抗センサ30aは、半導体ユニット10aの上面12aを含む平面の外側であって、且つ、半導体ユニット10aの側面14aを含む平面の外側に設けられる。これにより、磁気抵抗センサ30aは、半導体ユニット10aの漏れ磁場により生じる雑音磁場の影響を避けることができる。また、磁気抵抗センサ30aは、屈曲部24aよりも半導体ユニット10a側の屈曲領域Rbに設けられる。これにより、磁気抵抗センサ30aは、電流Iaにより生じる高強度の磁場を検出する。   The magnetoresistive sensor 30a is provided outside the plane including the top surface 12a of the semiconductor unit 10a and outside the plane including the side surface 14a of the semiconductor unit 10a. Thereby, the magnetoresistive sensor 30a can avoid the influence of the noise magnetic field generated by the stray magnetic field of the semiconductor unit 10a. Further, the magnetoresistive sensor 30a is provided in a bending region Rb closer to the semiconductor unit 10a than the bending portion 24a. Thereby, the magnetoresistive sensor 30a detects a high intensity magnetic field generated by the current Ia.

磁気抵抗センサ30bは、半導体ユニット10bの上面12bを含む平面の外側であって、且つ、半導体ユニット10bの側面14bを含む平面の外側に設けられる。これにより、磁気抵抗センサ30bは、半導体ユニット10bの漏れ磁場により生じる雑音磁場の影響を避けることができる。また、磁気抵抗センサ30bは、屈曲部24bよりも半導体ユニット10b側の屈曲領域Rbに設けられる。これにより、磁気抵抗センサ30bは、電流Ibにより生じる高強度の磁場を検出する。   The magnetoresistive sensor 30b is provided outside the plane including the top surface 12b of the semiconductor unit 10b and outside the plane including the side surface 14b of the semiconductor unit 10b. Thereby, the magnetoresistive sensor 30b can avoid the influence of the noise magnetic field generated by the stray magnetic field of the semiconductor unit 10b. Further, the magnetoresistive sensor 30 b is provided in the bending region Rb closer to the semiconductor unit 10 b than the bending portion 24 b. Thereby, the magnetoresistive sensor 30b detects a high intensity magnetic field generated by the current Ib.

磁気抵抗センサ30は、板状導体20aおよび板状導体20bの両側に設けられている。但し、磁気抵抗センサ30は、板状導体20aおよび板状導体20bのいずれか一方に設けられてもよい。電流をセンシングしたい半導体モジュールに対して、適宜選択可能である。   The magnetoresistive sensor 30 is provided on both sides of the plate conductor 20a and the plate conductor 20b. However, the magnetoresistive sensor 30 may be provided on any one of the plate conductor 20 a and the plate conductor 20 b. It can select suitably with respect to the semiconductor module which wants to sense an electric current.

図14は、連結形状を有する板状導体20の構成の一例を示す。本例の半導体装置100は、磁気抵抗センサ30を設ける領域が図13の場合と相違する。   FIG. 14 shows an example of the configuration of the plate-like conductor 20 having a connection shape. The semiconductor device 100 of this example differs from the case of FIG. 13 in the area where the magnetoresistive sensor 30 is provided.

磁気抵抗センサ30aは、半導体ユニット10aの上面12aを含む平面の外側であって、且つ、半導体ユニット10aの側面14aを含む平面の外側に設けられる。これにより、磁気抵抗センサ30aは、半導体ユニット10aの漏れ磁場により生じる雑音磁場の影響を避けることができる。また、磁気抵抗センサ30aは、屈曲部24aと、本体部26aと、屈曲部24bと、本体部26bとで囲まれた領域の内側において、屈曲部24aに隣接して設けられている。即ち、磁気抵抗センサ30aは、屈曲部24aに対して半導体ユニット10aと反対側の屈曲領域Rbに設けられる。これにより、磁気抵抗センサ30aは、電流Iaにより生じる高強度の磁場を検出する。また、本例の磁気抵抗センサ30は、板状導体20で囲まれた領域の内側に設けられるので、板状導体20によって周囲のノイズ等から保護される。本例の磁気抵抗センサ30aは、第1磁気抵抗センサの一例である。   The magnetoresistive sensor 30a is provided outside the plane including the top surface 12a of the semiconductor unit 10a and outside the plane including the side surface 14a of the semiconductor unit 10a. Thereby, the magnetoresistive sensor 30a can avoid the influence of the noise magnetic field generated by the stray magnetic field of the semiconductor unit 10a. The magnetoresistive sensor 30a is provided adjacent to the bending portion 24a inside the area surrounded by the bending portion 24a, the main body portion 26a, the bending portion 24b, and the main body portion 26b. That is, the magnetoresistive sensor 30a is provided in the bending region Rb on the opposite side to the semiconductor unit 10a with respect to the bending portion 24a. Thereby, the magnetoresistive sensor 30a detects a high intensity magnetic field generated by the current Ia. Further, since the magnetoresistive sensor 30 of the present example is provided inside the area surrounded by the plate-like conductor 20, the plate-like conductor 20 protects the magnetoresistive sensor 30 from noise and the like in the periphery. The magnetoresistive sensor 30a of this example is an example of a first magnetoresistive sensor.

磁気抵抗センサ30bは、半導体ユニット10bの上面12bを含む平面の外側であって、且つ、半導体ユニット10bの側面14bを含む平面の外側に設けられる。これにより、磁気抵抗センサ30bは、半導体ユニット10bの漏れ磁場により生じる雑音磁場の影響を避けることができる。また、磁気抵抗センサ30bは、屈曲部24aと、本体部26aと、屈曲部24bと、本体部26bとで囲まれた領域の内側において、屈曲部24bに隣接して設けられている。即ち、磁気抵抗センサ30bは、屈曲部24bに対して半導体ユニット10bと反対側の屈曲領域Rbに設けられる。これにより、磁気抵抗センサ30bは、電流Ibにより生じる高強度の磁場を検出する。本例の磁気抵抗センサ30bは、第2磁気抵抗センサの一例である。   The magnetoresistive sensor 30b is provided outside the plane including the top surface 12b of the semiconductor unit 10b and outside the plane including the side surface 14b of the semiconductor unit 10b. Thereby, the magnetoresistive sensor 30b can avoid the influence of the noise magnetic field generated by the stray magnetic field of the semiconductor unit 10b. The magnetoresistive sensor 30b is provided adjacent to the bending portion 24b inside the area surrounded by the bending portion 24a, the main body portion 26a, the bending portion 24b, and the main body portion 26b. That is, the magnetoresistive sensor 30b is provided in the bending region Rb on the opposite side to the semiconductor unit 10b with respect to the bending portion 24b. Thereby, the magnetoresistive sensor 30b detects a high intensity magnetic field generated by the current Ib. The magnetoresistive sensor 30 b of this example is an example of a second magnetoresistive sensor.

図15は、連結形状を有する板状導体20の周囲の磁場強度を説明するための図である。連結形状を有する板状導体20では、屈曲部24および本体部26で囲まれた領域に、強磁場領域Rsおよび弱磁場領域Rwの両方を有する。   FIG. 15 is a diagram for explaining the magnetic field strength around the plate-like conductor 20 having the connection shape. The plate-like conductor 20 having the coupling shape has both the strong magnetic field region Rs and the weak magnetic field region Rw in the region surrounded by the bending portion 24 and the main body portion 26.

強磁場領域Rs3は、屈曲部24および本体部26で囲まれた領域において、電流Iaにより生じる磁場が互いに強め合う領域である。即ち、屈曲部24および本体部26で囲まれた領域では、屈曲部24aおよび本体部26aに流れる電流Iaにより、互いに強め合う方向の磁場が生じている。   The strong magnetic field region Rs3 is a region in which the magnetic fields generated by the current Ia intensify each other in a region surrounded by the bending portion 24 and the main body portion 26. That is, in the region surrounded by the bending portion 24 and the main body portion 26, a magnetic field in a direction of mutually strengthening is generated by the current Ia flowing through the bending portion 24a and the main body portion 26a.

強磁場領域Rs4は、屈曲部24および本体部26で囲まれた領域において、電流Ibにより生じる磁場が互いに強め合う領域である。即ち、屈曲部24および本体部26で囲まれた領域では、屈曲部24bおよび本体部26bに流れる電流Ibにより、互いに強め合う方向の磁場が生じている。   The strong magnetic field region Rs4 is a region in which magnetic fields generated by the current Ib intensify each other in a region surrounded by the bending portion 24 and the main body portion 26. That is, in the region surrounded by the bending portion 24 and the main body portion 26, a magnetic field in a direction of mutually strengthening is generated by the current Ib flowing through the bending portion 24b and the main body portion 26b.

弱磁場領域Rw3は、屈曲部24および本体部26で囲まれた領域において、屈曲部24aおよび本体部26aに流れる電流Iaにより生じる磁場と、屈曲部24bおよび本体部26bに流れる電流Ibにより生じる磁場とが互いに打ち消し合う領域である。   In the weak magnetic field region Rw3, in the region surrounded by the bending portion 24 and the main body portion 26, the magnetic field generated by the current Ia flowing to the bending portion 24a and the main body portion 26a and the magnetic field generated by the current Ib flowing to the bending portion 24b and the main body portion 26b Is an area where the two cancel each other out.

弱磁場領域Rw4は、屈曲部24および本体部26で囲まれていない領域である。弱磁場領域Rw4は、屈曲領域Rbではないので、磁場強度が弱められる。   The weak magnetic field region Rw4 is a region not surrounded by the bending portion 24 and the main body portion 26. Since the weak magnetic field region Rw4 is not the bending region Rb, the magnetic field strength is weakened.

図16は、磁気抵抗センサ30の配置の一例を示す。本例の半導体装置100は、樹脂部50を備える。   FIG. 16 shows an example of the arrangement of the magnetoresistive sensor 30. As shown in FIG. The semiconductor device 100 of this example includes a resin unit 50.

樹脂部50は、半導体ユニット10および板状導体20の周囲を覆う。例えば、樹脂部50は、エポキシ樹脂等の絶縁材料である。特に、半導体ユニット10が高温で動作するSiCデバイスである場合、樹脂部50の材料は高温に耐えることが望ましい。   The resin portion 50 covers the periphery of the semiconductor unit 10 and the plate-like conductor 20. For example, the resin portion 50 is an insulating material such as an epoxy resin. In particular, when the semiconductor unit 10 is a SiC device operating at a high temperature, it is desirable that the material of the resin portion 50 withstand the high temperature.

磁気抵抗センサ30は、屈曲部24に隣接して設けられる。本例の磁気抵抗センサ30は、樹脂部50に固定されることにより、屈曲部24に隣接する位置に配置されている。   The magnetoresistive sensor 30 is provided adjacent to the bending portion 24. The magnetoresistive sensor 30 of the present example is disposed at a position adjacent to the bending portion 24 by being fixed to the resin portion 50.

図17は、板状導体20の形状の一例を示す。本例の板状導体20は、複数の屈曲部24を有する。板状導体20は、凹部形状を有する。   FIG. 17 shows an example of the shape of the plate-like conductor 20. As shown in FIG. The plate-like conductor 20 of this example has a plurality of bent portions 24. The plate-like conductor 20 has a recess shape.

板状導体20は、本体部22と、屈曲部24と、本体部26と、屈曲部27と、本体部28とを有する。本例において、本体部22は、第1本体部の一例である。本体部26は、第2本体部の一例である。本体部28は、第5本体部の一例である。屈曲部24は、第1屈曲部の一例である。屈曲部27は、第3屈曲部の一例である。   The plate-like conductor 20 has a main body portion 22, a bending portion 24, a main body portion 26, a bending portion 27, and a main body portion 28. In the present example, the main body 22 is an example of a first main body. The main body 26 is an example of a second main body. The main body 28 is an example of a fifth main body. The bending portion 24 is an example of a first bending portion. The bending portion 27 is an example of a third bending portion.

屈曲部27は、一端が、本体部22の他端に接続され、本体部22から第2方向に屈曲する。また、屈曲部27は、他端が本体部28に接続されている。   One end of the bending portion 27 is connected to the other end of the main body portion 22, and the bending portion 27 bends in the second direction from the main body portion 22. In addition, the other end of the bending portion 27 is connected to the main body portion 28.

本体部28は、一端が、屈曲部27の他端に接続され、Y軸方向に延伸する。本体部28は、他端が外部接続ボード40に接続されてよい。   One end of the main body portion 28 is connected to the other end of the bending portion 27 and extends in the Y-axis direction. The main body portion 28 may be connected to the external connection board 40 at the other end.

磁気抵抗センサ30は、屈曲部24と、本体部22と、屈曲部27とで囲まれた領域の内側に設けられる。即ち、磁気抵抗センサ30は、屈曲部24と、本体部22と、屈曲部27とで形成された凹部に配置される。また、磁気抵抗センサ30は、樹脂部50に固定され、屈曲部24に隣接して設けられる。   The magnetoresistive sensor 30 is provided inside a region surrounded by the bending portion 24, the main body portion 22 and the bending portion 27. That is, the magnetoresistive sensor 30 is disposed in the recess formed by the bending portion 24, the main body portion 22 and the bending portion 27. The magnetoresistive sensor 30 is fixed to the resin portion 50 and provided adjacent to the bending portion 24.

このように、半導体装置100は、コアレスの磁気抵抗センサ30を用いることにより、磁気抵抗センサ30を板状導体20に隣接させて自由に配置できる。本例の半導体装置100は、磁気抵抗センサ30の配置の自由度および配線の自由度が大きいので、小型化を実現できる。   Thus, the semiconductor device 100 can freely arrange the magnetoresistive sensor 30 adjacent to the plate conductor 20 by using the coreless magnetoresistive sensor 30. The semiconductor device 100 of this example has a large degree of freedom in the arrangement of the magnetoresistive sensor 30 and in the wiring, so that miniaturization can be realized.

図18は、半導体モジュール300の動作波形の一例を示す。縦軸は電流[A]を示し、横軸は任意の時間を示す。本例の半導体モジュール300は、波形Aで示される電流が流れた場合に、波形Bおよび波形Cで示される2つの磁気抵抗センサから得られる波形Dを出力する。この場合、半導体モジュール300は、波形Aが300Aを超えた時点で、波形Eで示される短絡波形を出力する。このように、半導体モジュール300は、短絡から半導体ユニット10を保護する。   FIG. 18 shows an example of operation waveforms of the semiconductor module 300. The vertical axis shows current [A], and the horizontal axis shows arbitrary time. The semiconductor module 300 of this example outputs the waveform D obtained from the two magnetoresistive sensors shown by the waveform B and the waveform C when the current shown by the waveform A flows. In this case, the semiconductor module 300 outputs the short circuit waveform indicated by the waveform E when the waveform A exceeds 300A. Thus, the semiconductor module 300 protects the semiconductor unit 10 from a short circuit.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It is apparent to those skilled in the art that various changes or modifications can be added to the above embodiment. It is also apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such alterations or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

10・・・半導体ユニット、12・・・上面、14・・・側面、20・・・板状導体、22・・・本体部、24・・・屈曲部、26・・・本体部、27・・・屈曲部、28・・・本体部、29・・・連結部、30・・・磁気抵抗センサ、40・・・外部接続ボード、50・・・樹脂部、100・・・半導体装置、110・・・導電端子ピン、120・・・放熱パターン、130・・・積層基板、132・・・半導体チップ、133・・・導電部材、134・・・プリント基板、136・・・絶縁板、138・・・配線パターン、200・・・筐体、300・・・半導体モジュール、520・・・バスバー DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Semiconductor unit, 12 ... Upper surface, 14 ... Side surface, 20 ... Plate-shaped conductor, 22 ... Main-body part, 24 ... Bending part, 26 ... Main-body part, 27 · · Bending section, 28 · · · body section, 29 · · · · · · · · · · · · magnetoresistive sensor, 40 · · · external connection board, 50 · · · resin section, 100 · · · semiconductor devices, 110 ... Conductive terminal pins, 120: Heat radiation pattern, 130: Multilayer substrate, 132: Semiconductor chip, 133: Conductive member, 134: Printed substrate, 136: Insulating plate, 138 ... Wiring pattern, 200 ... Case, 300 ... Semiconductor module, 520 ... Bus bar

Claims (16)

第1半導体モジュールと、
前記第1半導体モジュールと電気的に接続された第1板状導体と、
コアレスの第1磁気抵抗センサと
を備え、
前記第1板状導体は、
予め定められた第1方向に延伸する第1本体部と、
一端が前記第1本体部の一端に連結され、前記第1本体部から前記第1方向と異なる第2方向に屈曲する第1屈曲部と
を有し、
前記第1磁気抵抗センサは、前記第1本体部と前記第1屈曲部とで形成される屈曲面に隣接して設けられる
半導体装置。
A first semiconductor module,
A first plate-shaped conductor electrically connected to the first semiconductor module;
And a coreless first magnetoresistive sensor;
The first plate conductor is
A first main body extending in a first predetermined direction;
A first bending portion connected at one end to the one end of the first body portion and bent in a second direction different from the first direction from the first body portion;
The first magnetoresistive sensor is provided adjacent to a bending surface formed by the first main body portion and the first bending portion. Semiconductor device.
前記第1磁気抵抗センサは、前記屈曲面の内面側に設けられる
請求項1に記載の半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1, wherein the first magnetoresistive sensor is provided on an inner surface side of the bending surface.
前記第1磁気抵抗センサは、前記屈曲面のうち前記第1屈曲部に隣接して設けられる
請求項1又は2に記載の半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1, wherein the first magnetoresistive sensor is provided adjacent to the first bending portion in the bending surface.
前記第1磁気抵抗センサは、前記屈曲面における前記第1本体部と前記第1屈曲部との境界を中心として、前記第1屈曲部の長さLを半径とした屈曲領域に設けられる
請求項1から3のいずれか一項に記載の半導体装置。
The first magnetoresistive sensor is provided in a bending region whose radius is the length L of the first bending portion, centering on the boundary between the first main body portion and the first bending portion in the bending surface. The semiconductor device according to any one of 1 to 3.
前記第1磁気抵抗センサは、前記第1半導体モジュールに備えられる第1半導体ユニットの上面を含む平面の外側にある
請求項1から4のいずれか一項に記載の半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 4, wherein the first magnetoresistive sensor is outside a plane including an upper surface of a first semiconductor unit provided in the first semiconductor module.
前記第1磁気抵抗センサは、前記第1半導体モジュールに備えられる第1半導体ユニットの側面を含む平面の外側にある
請求項1から5のいずれか一項に記載の半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 5, wherein the first magnetoresistive sensor is outside a plane including a side surface of a first semiconductor unit provided in the first semiconductor module.
前記第1板状導体の屈曲角度が75°以上である
請求項1から6のいずれか一項に記載の半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 6, wherein a bending angle of the first plate-like conductor is 75 ° or more.
前記第1板状導体は、一端が、前記第1屈曲部の他端に接続され、前記第1方向に延伸する第2本体部を更に備え、
前記第1本体部は、前記第1半導体モジュールに連結されている
請求項1から7のいずれか一項に記載の半導体装置。
The first plate-like conductor further includes a second main body portion having one end connected to the other end of the first bending portion and extending in the first direction,
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 7, wherein the first main body portion is coupled to the first semiconductor module.
前記第1磁気抵抗センサは、前記第1本体部と前記第1屈曲部と形成された屈曲面の内面側に設けられる
請求項8に記載の半導体装置。
The semiconductor device according to claim 8, wherein the first magnetoresistive sensor is provided on an inner surface side of a bending surface formed with the first main body portion and the first bending portion.
前記第1磁気抵抗センサは、前記第2本体部と前記第1屈曲部と形成された屈曲面の内面側に設けられる
請求項8に記載の半導体装置。
The semiconductor device according to claim 8, wherein the first magnetoresistive sensor is provided on an inner surface side of a bending surface formed with the second main body portion and the first bending portion.
第2半導体モジュールと、
前記第2半導体モジュールと電気的に接続され、前記第1方向に延伸した第3本体部と、一端が前記第3本体部に接続され、前記第1方向と異なる第3方向に延伸した第2屈曲部と、一端が前記第2屈曲部の他端に接続され、前記第1方向に延伸した第4本体部とを有する第2板状導体と、
を更に備え、
前記第2本体部および前記第4本体部は、電気的に接続されている
請求項8に記載の半導体装置。
A second semiconductor module,
A third body portion electrically connected to the second semiconductor module and extending in the first direction, and an end portion connected to the third body portion, and extending in a third direction different from the first direction A second plate-like conductor having a bending portion, and a fourth body portion having one end connected to the other end of the second bending portion and extending in the first direction;
And further
The semiconductor device according to claim 8, wherein the second main body portion and the fourth main body portion are electrically connected.
前記第1磁気抵抗センサは、前記第1屈曲部と、前記第2本体部と、前記第2屈曲部と、前記第4本体部とで囲まれた領域の内側において、前記第1屈曲部に隣接して設けられる
請求項11に記載の半導体装置。
The first magnetoresistive sensor is provided on the first bending portion inside a region surrounded by the first bending portion, the second main portion, the second bending portion, and the fourth main portion. The semiconductor device according to claim 11, provided adjacently.
前記第1板状導体は、
一端が、前記第1本体部の他端に接続され、前記第1本体部から前記第2方向に屈曲する第3屈曲部と、
前記第3屈曲部の他端に接続され、前記第1方向に延伸する第5本体部と
を更に備える
請求項1から8のいずれか一項に記載の半導体装置。
The first plate conductor is
A third bending portion connected at one end to the other end of the first body portion and bent in the second direction from the first body portion;
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 8, further comprising: a fifth main body portion connected to the other end of the third bending portion and extending in the first direction.
前記第1磁気抵抗センサは、前記第1屈曲部と、前記第1本体部と、前記第3屈曲部とで囲まれた領域の内側において、前記第1屈曲部に隣接して設けられる
請求項13に記載の半導体装置。
The first magnetoresistive sensor is provided adjacent to the first bending portion inside a region surrounded by the first bending portion, the first main body portion, and the third bending portion. The semiconductor device of Claim 13.
前記第1板状導体に隣接して設けられた樹脂部を更に備え、
前記第1磁気抵抗センサは、前記樹脂部に固定されている
請求項1から14のいずれか一項に記載の半導体装置。
It further comprises a resin portion provided adjacent to the first plate-like conductor,
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 14, wherein the first magnetoresistive sensor is fixed to the resin portion.
前記第1半導体モジュールは、SiC半導体チップを備える
請求項1から15のいずれか一項に記載の半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 15, wherein the first semiconductor module comprises a SiC semiconductor chip.
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