JP2019081711A - Method for producing aminosilanes - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、アミノシラン類の製造方法に関する。特に、従来よりも反応収率が向上したアミノシラン類の製造方法に関する。 The present invention relates to a method of producing aminosilanes. In particular, the present invention relates to a method for producing aminosilanes, in which the reaction yield is improved as compared with the prior art.
アミノシラン類はケイ素含有膜、例えば窒化ケイ素膜、酸化ケイ素膜、炭窒化ケイ素膜及び酸窒化ケイ素膜を含む誘電体膜の堆積に使用可能な前駆体として知られている。例えば、有機アミノシラン前駆体は原子層堆積（ＡＬＤ）、化学気相成長（ＣＶＤ）、プラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）、低圧化学気相成長（ＬＰＣＶＤ）及び常圧ＣＶＤなど様々な堆積プロセスで用いることができるが、これらのプロセスで用いるアミノシラン材料は高純度のものが求められる。特に近年の成膜温度の低温化に伴い、これらのアミノシラン材料の需要が増加している。 Aminosilanes are known as precursors that can be used to deposit dielectric films, including silicon-containing films, such as silicon nitride films, silicon oxide films, silicon carbonitride films and silicon oxynitride films. For example, organoaminosilane precursors can be used in various deposition processes such as atomic layer deposition (ALD), chemical vapor deposition (CVD), plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) and atmospheric pressure CVD. Although they can be used, aminosilane materials used in these processes are required to have high purity. In particular, the demand for these aminosilane materials is increasing along with the recent lowering of the film forming temperature.
高純度アミノシラン類を得る方法は、例えば、非特許文献１や特許文献１〜２に開示されている。溶媒としてはジエチルエーテルなどのエーテル類（非特許文献１）や、ｎ−ヘキサンなどの脂肪族系溶媒などを用いた例（特許文献１）が知られている。また、有機溶媒の不存在下でアミンとクロロシラン類を反応させる方法（特許文献２）等も知られている。 Methods for obtaining high purity aminosilanes are disclosed, for example, in Non-Patent Document 1 and Patent Documents 1 and 2. An example (patent document 1) using ethers (such as diethyl ether) (non-patent document 1) and aliphatic solvents such as n-hexane as a solvent is known. Also known is a method of reacting an amine with chlorosilanes in the absence of an organic solvent (Patent Document 2).
これらの反応では副生する塩化水素は、反応に用いる第２級アミンとの塩酸塩として、または予め反応系に加えた第３級アミンの塩酸塩として固定化される。続いて、これらアミン塩酸塩を濾過によって取り除くことによりアミノシランを取得している。しかしながら、これらの製法においては、使用する有機溶媒に対する前記アミン塩酸塩の溶解度が低いためスラリー流動性が悪化し、攪拌性が低下して均一な反応ができなくなるといった問題があった。また、前記アミン塩酸塩を含むスラリー反応液の濾過性が悪く、アミン塩酸塩粒子に多くのアミノシランが付着したままになって反応液からアミン塩酸塩を濾別するのが困難なため、収率が低下するといった問題があった。 Hydrogen chloride by-produced in these reactions is immobilized as a hydrochloride with a secondary amine used for the reaction, or as a hydrochloride of a tertiary amine previously added to the reaction system. Subsequently, these amine hydrochlorides are removed by filtration to obtain an aminosilane. However, in these production methods, since the solubility of the amine hydrochloride in the organic solvent to be used is low, the fluidity of the slurry is deteriorated, and there is a problem that the stirring property is lowered and the uniform reaction can not be performed. Moreover, the filterability of the slurry reaction solution containing the amine hydrochloride is poor, and it is difficult to filter out the amine hydrochloride from the reaction solution because a large amount of aminosilane remains attached to the amine hydrochloride particles. Was a problem.
上記問題を解決すべく特許文献３では、アミノシランの溶解性が高い炭化水素系溶媒と、副生するアミン塩酸塩の溶解度が高くハロゲン化物を溶かしにくい非プロトン性溶媒の混合溶媒を反応溶媒として用い、反応後に分液することでアミノシランとアミン塩酸塩を分離する方法が紹介されている。 In order to solve the above problems, Patent Document 3 uses, as a reaction solvent, a mixed solvent of a hydrocarbon-based solvent having high solubility of aminosilane and an aprotic solvent having high solubility of by-produced amine hydrochloride and high solubility of halide. A method of separating aminosilane and amine hydrochloride by separating after reaction is introduced.
しかしながら、特許文献３の方法では塩酸塩の濾過の負荷を低減できる代わりに、低い反応収率しか得られていない。本発明は、このような事情の下で考え出されたものであって、反応液からアミン塩酸塩の結晶を濾別する必要を無くすために複数の溶媒を用いて副生するアミン塩酸塩とクロロシラン類を分離するアミノシラン類製造方法において、反応収率を向上させることを目的とする。 However, the method of Patent Document 3 can reduce the load of filtration of hydrochloride, but can only obtain a low reaction yield. The present invention has been conceived under the circumstances as described above, wherein the amine hydrochloride is produced by using a plurality of solvents in order to eliminate the need for filtering off the crystals of amine hydrochloride from the reaction solution. An object of the present invention is to improve the reaction yield in an aminosilane production method for separating chlorosilanes.
本発明者は、上記の課題を解決するべく鋭意研究を行った結果、反応溶液中のクロロシラン濃度を特定の範囲にすることで反応収率が向上することを見出した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that the reaction yield is improved by setting the concentration of chlorosilane in the reaction solution to a specific range.
本発明によれば、複数の溶媒を用いてクロロシラン類と第２級アミンとを反応させるアミノシラン類の合成において、反応溶媒総量に対する原料クロロシラン類の割合が０．２〜０．８ｍｏｌ／Ｌであるアミノシラン類の製造方法を提供できる。 According to the present invention, in the synthesis of aminosilanes in which chlorosilanes and secondary amine are reacted using a plurality of solvents, the ratio of the raw material chlorosilanes to the total amount of reaction solvent is 0.2 to 0.8 mol / L. It is possible to provide a method for producing aminosilanes.
本発明のアミノシラン類の製造方法において、さらに、第３級アミンを添加し、前記第３級アミンの添加量が、好ましくは、前記クロロシラン類に対して１．０〜１５ｍｏｌ％である。 In the method for producing aminosilanes of the present invention, a tertiary amine is further added, and the addition amount of the tertiary amine is preferably 1.0 to 15 mol% with respect to the chlorosilanes.
本発明のアミノシラン類の製造方法において、好ましくは、さらに添加する第３級アミンがトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミンおよびトリオクチルアミンからなる群より選択される少なくとも一種である。 In the method for producing aminosilanes of the present invention, preferably, the tertiary amine to be further added is at least one selected from the group consisting of trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine and trioctylamine.
本発明の対象は、一般式（１）: The subject of the present invention is a compound of the general formula (1):
(R1)4-nSiCln （１）
［式中、ｎは１〜３の整数であり、R1は一価の有機基または水素原子であって、ｎが１または２のとき、複数のR1は同一であっても異なっていてもよい。］で表されるクロロシラン類を一般式（２）:
(R 1 ) 4-n SiCl n (1)
[Wherein, n is an integer of 1 to 3, R 1 is a monovalent organic group or a hydrogen atom, and when n is 1 or 2, a plurality of R 1 are identical or different It is also good. Chlorosilanes represented by the general formula (2):
(R2)(R3)NH （２）
［式中、R2およびR3は、同一または異なって、一価の有機基であるか、または、R2とR3とは、それらが結合する窒素原子と一緒になって環状アミンを形成してもよい。］で表される非環状または環状のアミンを反応させることにより製造する方法である。
(R 2 ) (R 3 ) NH (2)
[Wherein R 2 and R 3 are the same or different and are monovalent organic groups, or R 2 and R 3 together with the nitrogen atom to which they are attached form a cyclic amine] You may It is a method of producing by reacting an acyclic or cyclic amine represented by the formula].
R1で示される一価の有機基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ならびに１または複数の水素がハロゲンに置換されたアルキル基およびアリール基などが挙げられる。これらの基は炭素原子の一部が窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、硫黄原子で置換されていてもよい。
R2およびR3で示される一価の有機基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ならびに１または複数の水素がハロゲンに置換されたアルキル基およびアリール基が挙げられる。
The monovalent organic group represented by R 1 includes an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkyl group and an aryl group in which one or more hydrogens are substituted by halogen, and the like. In these groups, part of carbon atoms may be substituted by nitrogen atom, oxygen atom, silicon atom or sulfur atom.
The monovalent organic group represented by R 2 and R 3 includes an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, and an alkyl group and an aryl group in which one or more hydrogens are substituted by halogen.
一般式（１）で表されるクロロシラン類と、一般式（２）で表される環状もしくは非環状のアミンとの反応式として、前記クロロシラン類に対して過剰量のアミンが存在する場合の概略的な反応式を示す。 Outline of the case where an excess amount of amine is present relative to the chlorosilanes as a reaction formula of the chlorosilanes represented by the general formula (1) and the cyclic or non-cyclic amine represented by the general formula (2) Shows a typical reaction formula.
(R1)4-nSiCln ＋(R2)(R3)NH → (R1)4-nSi(N(R2)(R3))n ＋ (R2)(R3)NH・HCl (R 1 ) 4-n SiCl n + (R 2 ) (R 3 ) NH → (R 1 ) 4-n Si (N (R 2 ) (R 3 )) n + (R 2 ) (R 3 ) NH・ HCl
本発明に用いることができるクロロシラン類には、具体的にモノクロロシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、エチルトリクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、トリエチルクロロシラン、ｎ−プロピルトリクロロシラン、イソプロピルトリクロロシラン、ｎ−ブチルトリクロロシラン、イソブチルトリクロロシラン、ｓｅｃ−ブチルトリクロロシラン、ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロシラン、ｎ−ヘキシルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、エチニルトリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ベンジルトリクロロシラン、３−クロロプロピルトリクロロシラン、３，３，３−トリフルオロプロピトリクロロシラン、３−メタクリロキシプロピルトリクロロシラン、３−アクリロキシプロピルトリクロロシラン、２−シアノエチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルプロピルジクロロシラン、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロシラン、メチル−ｎ−ヘキシルジクロロシラン、シクロヘキシルメチルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、２−シアノエチルメチルジクロロシラン、メチル−イソプロポキシジクロロシラン、メチル−ｔｅｒｔ−ブトキシジクロロシラン、ジ−ｎ−プロピルジクロロシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロシラン、ジシクロペンチルジクロロシラン、ジシクロヘキシルジクロロシラン、ジアリルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、トリメチルクロロシラン、イソプロピルジメチルクロロシラン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、トリイソプロピルクロロシラン、トリシクロヘキシルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン、ジメチルエトキシクロロシランなどが挙げられるが、生成物の精製容易性の観点から、ジクロロシラン、トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシランが好ましい。 Specific examples of chlorosilanes that can be used in the present invention include monochlorosilane, dichlorosilane, trichlorosilane, tetrachlorosilane, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, ethyltrichlorosilane, diethyldichlorosilane, triethylchlorosilane, n -Propyltrichlorosilane, isopropyltrichlorosilane, n-butyltrichlorosilane, isobutyltrichlorosilane, sec-butyltrichlorosilane, tert-butyltrichlorosilane, n-hexyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, vinyltrichlorosilane, ethynyltrichlorosilane, allyl Trichlorosilane, phenyltrichlorosilane, benzyltrichlorosilane, 3-chloropropyl triclo Silane, 3,3,3-trifluoropropitrichlorosilane, 3-methacryloxypropyltrichlorosilane, 3-acryloxypropyltrichlorosilane, 2-cyanoethyltrichlorosilane, methyldichlorosilane, dimethyldichlorosilane, methylpropyldichlorosilane, methyl- tert-Butyldichlorosilane, methyl-n-hexyldichlorosilane, cyclohexylmethyldichlorosilane, methylvinyldichlorosilane, allylmethyldichlorosilane, methylphenyldichlorosilane, 2-cyanoethylmethyldichlorosilane, methyl-isopropoxydichlorosilane, methyl- tert-Butoxydichlorosilane, di-n-propyldichlorosilane, di-tert-butyldichlorosilane, dicyclopentyldichlorosila , Dicyclohexyldichlorosilane, diallyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, dimethylchlorosilane, trimethylchlorosilane, isopropyldimethylchlorosilane, tert-butyldimethylchlorosilane, triethylchlorosilane, triisopropylchlorosilane, tricyclohexylchlorosilane, triphenylchlorosilane, dimethylethoxychlorosilane, etc. However, dichlorosilane, trichlorosilane, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and trimethylchlorosilane are preferred from the viewpoint of the ease of purification of the product.
本発明に用いることができる第２級アミンには、具体的にジメチルアミン、ジエチルアミン、エチルメチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、メチル−ｎ−プロピルアミン、エチル−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、メチルイソプロピルアミン、エチルイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、エチル−ｎ−ブチルアミン、エチル−ｎ−ブチルアミン、ｎ−プロピル−ｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、メチルイソブチルアミン、エチルイソブチルアミン、ｎ−プロピルイソブチルアミン、イソプロピルイソブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジシクロヘキサシルアミン、ジ−３，３，３−トリフルオロエチルアミン、ジアリルアミン、ジ−２−メトキシエチルアミン、ジフェニルアミン、ジ−ｐ−クロロフェニルアミン、ピロロジン、ピペリジン、モルフォリンなどが挙げられるが、生成物の精製容易性の観点から、ジメチルアミン、ジエチルアミン、エチルメチルアミンが好ましい。 Specifically, secondary amines which can be used in the present invention include dimethylamine, diethylamine, ethylmethylamine, di-n-propylamine, methyl-n-propylamine, ethyl-n-propylamine and diisopropylamine. Methyl isopropylamine, ethyl isopropylamine, di-n-butylamine, ethyl n-butylamine, ethyl n-butylamine, n-propyl n-butylamine, diisobutylamine, methyl isobutylamine, ethyl isobutylamine, n-propyl isobutylamine , Isopropylisobutylamine, di-sec-butylamine, di-tert-butylamine, dicyclohexacilamine, di-3,3,3-trifluoroethylamine, diallylamine, di-2-methoxyethylamine, diphe Triethanolamine, di -p- chlorophenyl amine, Pirorojin, piperidine, and the like morpholine and the like, from the viewpoint of purification ease of the product, dimethylamine, diethylamine, ethyl methylamine preferred.
本発明に用いることができる第３級アミンには、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルプロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジメチル−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ブチルオクチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミンなどが挙げられる。また第３級アミンには、１分子に複数のアミノ基が含まれていてもよく、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラメチルジアミノメタン、トリエチレンジアミンなどが挙げられる。その中でも、入手容易性の観点からトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミンが好適に用いられる。 Tertiary amines which can be used in the present invention include trimethylamine, triethylamine, dimethylethylamine, methyldiethylamine, dimethylpropylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, dimethyl-n-butylamine Di-n-butyloctylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine, tri-n-octylamine and the like. In the tertiary amine, one molecule may contain a plurality of amino groups, N, N, N ', N'- tetramethylethylenediamine, N, N, N', N'- tetramethyldiamino Methane, triethylenediamine and the like can be mentioned. Among them, trimethylamine, triethylamine, tri-n-butylamine and tri-n-octylamine are preferably used from the viewpoint of easy availability.
本発明の方法により製造されるアミノシラン類には、具体的にジメチルアミノシラン、ビス（ジメチルアミノ）シラン、トリス（ジメチルアミノ）シラン、テトラ（ジメチルアミノ）シラン、ジエチルアミノシラン、ビス（ジエチルアミノ）シラン、トリス（ジエチルアミノ）シラン、ジイソプロピルアミノシラン、エチルメチルアミノシラン、ビス（エチルメチルアミノ）シラン、トリメチル（ジメチルアミノ）シラン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、トリス（ジメチルアミノ）メチルシラン、トリメチル（ジエチルアミノ）シラン、ビス（ジエチルアミノ）ジメチルシラン、トリス（ジエチルアミノ）メチルシラン、などが挙げられるが、生成物の精製容易性の観点から、ビス（ジメチルアミノ）シラン、トリス（ジメチルアミノ）シラン、ジイソプロピルアミノシラン、ビス（ジエチルアミノ）シラン、トリメチル（ジメチルアミノ）シランが好ましい。この他に、クロロシランと第１級アミンが反応してＳｉ−Ｎ―Ｓｉ結合を有する化合物や、あるいは（−Ｓｉ−Ｎ−）3の構造を有するような六員環化合物の製造にも本特許製法は利用可能である。 Specific examples of aminosilanes produced by the method of the present invention include dimethylaminosilane, bis (dimethylamino) silane, tris (dimethylamino) silane, tetra (dimethylamino) silane, diethylaminosilane, bis (diethylamino) silane and tris. (Diethylamino) silane, diisopropylaminosilane, ethylmethylaminosilane, bis (ethylmethylamino) silane, trimethyl (dimethylamino) silane, bis (dimethylamino) dimethylsilane, tris (dimethylamino) methylsilane, trimethyl (diethylamino) silane, bis ( Diethylamino) dimethylsilane, tris (diethylamino) methylsilane, etc. may be mentioned, but from the viewpoint of easiness of purification of the product, bis (dimethylamino) silane, tris (dimethyla) Roh) silane, diisopropylaminosilane, bis (diethylamino) silane, trimethyl (dimethylamino) silane are preferred. In addition to this, this patent also applies to the production of a compound having a Si-N-Si bond by reaction between chlorosilane and a primary amine, or a six-membered ring compound having a structure of (-Si-N-) 3 . Manufacturing methods are available.
本発明によるアミノシラン類の製造方法は、（ａ）クロロシランとアミンとを、溶媒中で反応させてアミノシラン類を合成する合成工程、および（ｂ）上記合成工程を経た後に得られた溶液に含まれる不純物を、分液操作により除去する分液工程を含む。
本発明の製造方法において「不純物」とは、対象の生成物であるアミノシラン類以外の物質であり、特に、反応により副生されたアミン塩酸塩および未反応アミンなどをいう。
The method for producing aminosilanes according to the present invention is included in the synthesis step of reacting (a) chlorosilane and amine in a solvent to synthesize aminosilanes, and (b) the solution obtained after the above synthesis step. It includes a separation step in which impurities are removed by a separation operation.
In the production method of the present invention, the term "impurity" refers to a substance other than the target product, aminosilanes, and particularly refers to amine hydrochloride by-produced by reaction, unreacted amine and the like.
本発明によるアミノシラン類の製造方法に用いる溶媒として、対象の生成物であるアミノシラン類の溶解性が高い炭化水素系溶媒、および、副生するアミン塩酸塩の溶解度が高く、かつ、ハロゲン化物の溶解性が低い非プロトン性溶媒の２種類の溶媒を用いる。前記炭化水素系溶媒と前記非プロトン性溶媒は非相溶である。
ここで、物質Ａの溶解性が高い溶媒とは、物質Ａを１．０ｇ／Ｌ以上溶解する溶媒を意味し、物質Ａの溶解性が低いとは、物質Ａを０．１ｇ／Ｌ未満しか溶解しない溶媒を意味する。
As a solvent used in the method for producing aminosilanes according to the present invention, a hydrocarbon solvent having high solubility of the target product, aminosilanes, and high solubility of by-produced amine hydrochloride and dissolution of halide Two solvents of low protic aprotic solvents are used. The hydrocarbon solvent and the aprotic solvent are incompatible.
Here, the solvent in which the solubility of the substance A is high means a solvent which dissolves the substance A at 1.0 g / L or more, and the low solubility of the substance A means only less than 0.1 g / L of the substance A It means a solvent which does not dissolve.
すなわち、上記炭化水素系溶媒は、対象の生成物であるアミノシラン類と混和するが、副生するアミン塩酸塩を０．１ｇ／Ｌ未満しか溶解しない。一方、上記非プロトン性溶媒は、副生するアミン塩酸塩を１．０ｇ／Ｌ以上溶解する。 That is, the above-mentioned hydrocarbon solvent is miscible with the target product, aminosilanes, but dissolves less than 0.1 g / L of amine hydrochloride by-produced. On the other hand, the above aprotic solvent dissolves 1.0 g / L or more of amine hydrochloride by-produced.
上記炭化水素系溶媒と上記非プロトン性溶媒とは相溶しないため、反応後の溶液を静置すれば、二層に分離する。副生したアミン塩酸塩を溶解する溶媒層を廃棄し、対象の生成物であるアミノシラン類を溶解する溶媒層のみを採取し、そこから、溶媒を除去すれば、対象の生成物であるアミノシラン類を高い収率で得ることができる。 Since the hydrocarbon solvent and the aprotic solvent are not compatible with each other, the solution after the reaction separates into two layers when left to stand. Discard the solvent layer that dissolves the by-produced amine hydrochloride, collect only the solvent layer that dissolves the target product, aminosilanes, and remove the solvent from it to obtain the target product, aminosilanes. Can be obtained in high yield.
本発明のアミノシラン類の製造方法によれば、選択的にアミノシラン類を溶解する良溶媒と、アミノシラン類を溶解しない貧溶媒とを用いる液−液分離によりアミノシラン類を抽出するので、従来の固−液分離のように、固体のアミノ塩酸塩から液体のアミノシラン類溶液を分離する必要がないので、高い収率で、アミノシラン類を得ることができる。 According to the method for producing aminosilanes of the present invention, aminosilanes are extracted by liquid-liquid separation using a good solvent which selectively dissolves aminosilanes and a poor solvent which does not dissolve aminosilanes. As it is not necessary to separate the liquid aminosilane solution from the solid amino hydrochloride as in liquid separation, aminosilanes can be obtained in high yield.
本発明に用いることができる炭化水素系溶媒種には、具体的にヘキサン、ヘプタン、ノナン、デカン、シクロヘキサンあるいはこれらの混合物などが挙げられるが、入手容易性の観点からからヘキサン、ヘプタンが好ましい。 Specific examples of the hydrocarbon-based solvent species that can be used in the present invention include hexane, heptane, nonane, decane, cyclohexane, and mixtures thereof. From the viewpoint of availability, hexane and heptane are preferable.
本発明に用いることができる非プロトン性溶媒種には、ニトリル系溶媒種、アミド系溶媒種、エーテル系溶媒種が挙げられる。より具体的には、ニトリル系溶媒種には、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル、ピバロニトリルなどが挙げられ、アミド系溶媒種には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドやＮ−メチルピロリドンなどが挙げられ、エーテル系溶媒には、ジオキサンなどが挙げられる。
これらの溶媒は、反応後蒸留操作により再生し繰り返し使用することができる。
Examples of aprotic solvent species that can be used in the present invention include nitrile solvent species, amide solvent species, and ether solvent species. More specifically, nitrile solvents include acetonitrile, propionitrile, benzonitrile, pivalonitrile and the like, and amide solvents include N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like. Examples of the ether solvents include dioxane and the like.
These solvents can be regenerated after the reaction by distillation operation and used repeatedly.
本発明によるアミノシラン類の製造方法の工程（ａ）では、クロロシランと第２級アミン及び第３級アミンとを、炭化水素系溶媒のみに溶解すること；非プロトン性溶媒のみに溶解すること；および、炭化水素系溶媒と非プロトン性溶媒の二成分系溶媒に溶解することのいずれの場合でも適用可能である。 In step (a) of the process for producing aminosilanes according to the present invention, dissolving chlorosilane and secondary amine and tertiary amine only in hydrocarbon solvent; dissolving only in aprotic solvent; It is applicable in any case of dissolving in a binary solvent of a hydrocarbon solvent and an aprotic solvent.
また、工程（ａ）では、最初に第２級アミン及び第３級アミンを有機溶媒に溶解させて、そこにクロロシラン類を加えていく方法、あるいは、クロロシラン類及び第３級アミンを有機溶媒に溶解させて、そこに第２級アミンを加えていく方法、のいずれでも本反応には適用可能である。クロロシラン類をフラスコ等の反応器に入れる際は、クロロシラン類を蒸気として入れても液として入れてもよく、蒸気としてクロロシラン類を入れる場合は窒素やアルゴンなどの不活性ガスを同伴させて入れることもできる。 In step (a), a method of first dissolving secondary amine and tertiary amine in an organic solvent and adding chlorosilanes thereto, or using chlorosilanes and a tertiary amine as an organic solvent Any method of dissolving and adding a secondary amine thereto is applicable to this reaction. When chlorosilanes is introduced into a reactor such as a flask, chlorosilanes may be introduced as a vapor or a liquid, and when chlorosilanes is introduced as a vapor, an inert gas such as nitrogen or argon may be entrained and introduced. You can also.
クロロシラン類、クロロシラン類反応物、アミノシラン生成物の加水分解を回避するため、反応系は全て無水条件で行うことが望ましく、使用するすべての原料中の水分量を０〜５０００質量ｐｐｍ、好ましくは０〜４００質量ｐｐｍの範囲にして反応を行う。また、反応装置は加熱乾燥および減圧、窒素やアルゴンなどの不活性ガス置換を行うことで乾燥されたものを用いることが望ましい。 In order to avoid hydrolysis of chlorosilanes, chlorosilanes reaction products and aminosilane products, it is desirable to carry out all reaction systems under anhydrous conditions, and the water content in all the raw materials used is 0 to 5000 mass ppm, preferably 0. The reaction is carried out in the range of ̃400 mass ppm. In addition, it is desirable to use a reactor dried by heating and drying under reduced pressure, and inert gas substitution such as nitrogen or argon.
工程（ａ）の反応溶媒総量に対する原料クロロシラン類の割合は０．２〜０．８ｍｏｌ／Ｌであり、収率向上の観点からは０．３〜０．７ｍｏｌ／Ｌであることが好ましい。 The ratio of the raw material chlorosilanes to the total amount of the reaction solvent in step (a) is 0.2 to 0.8 mol / L, and preferably 0.3 to 0.7 mol / L from the viewpoint of improving the yield.
クロロシラン類と第２級アミンの反応では１モルのクロロシランに対して化学両論量以上の量の第２級アミンを添加するのが反応収率向上の観点から望まれるが、経済的な観点から、化学両論量の１〜２倍の範囲で行うのが好ましい。 In the reaction of chlorosilanes and a secondary amine, it is desirable from the viewpoint of improving the reaction yield to add an amount of the secondary amine of a stoichiometric amount or more to 1 mole of chlorosilane, but from the economic point of view, It is preferable to carry out in the range of 1 to 2 times the stoichiometric amount.
第３級アミンの添加量についてはクロロシラン類に対して１．０〜１５ｍｏｌ％、好ましくは１．０〜１０ｍｏｌ％添加することが、収率向上の点で望ましい。 The addition amount of tertiary amine is desirably 1.0 to 15 mol%, preferably 1.0 to 10 mol%, with respect to chlorosilanes, from the viewpoint of yield improvement.
反応は発熱反応であるため、反応温度は低温で行うことが好まれるが、低すぎると収率低下のおそれがあるため、−５℃〜６０℃、好ましくは０℃〜４０℃の範囲で行われる。冷却方法は反応器ジャケットまたはこれと同様の手段を用いた方法で保温することが望ましい。 Since the reaction is an exothermic reaction, it is preferable to carry out the reaction temperature at a low temperature, but if it is too low, the yield may be reduced. It will be. As a cooling method, it is desirable to keep warm by a method using a reactor jacket or similar means.
炭化水素系溶媒種と非プロトン性溶媒種の混合比は一意的に決まるものではないが、炭化水素系溶媒種／非プロトン性溶媒種の混合比は１/１０〜９/１０、好ましくは２/５〜４/５で行うことがアミン塩酸塩を効率よく除去でき、かつ、容積効率を低下させない観点で望ましい。 Although the mixing ratio of hydrocarbon solvent species to aprotic solvent species is not determined uniquely, the mixing ratio of hydrocarbon solvent species to aprotic solvent species is 1/10 to 9/10, preferably 2 It is desirable from the viewpoint of efficient removal of amine hydrochloride and reduction of volumetric efficiency not to carry out at 5/5 to 4/5.
工程（ｂ）では反応器内の粗生成物から副生するアミン塩酸塩を除去する。分液工程ではアミノシラン類の分解を抑えるために乾燥した不活性ガス下で、例えば窒素またはアルゴン下で行うことが望ましい。アミン塩酸塩の溶解性を向上させる観点から反応液を加温してもよい。分液温度は一意的に決まるものではないが、１０℃から使用溶媒の沸点まで適用可能である。２０℃〜６５℃の範囲で行うのが好ましい。 In step (b), by-produced amine hydrochloride is removed from the crude product in the reactor. In the separation step, it is desirable to carry out under a dry inert gas, for example under nitrogen or argon, in order to suppress the decomposition of aminosilanes. The reaction solution may be heated from the viewpoint of improving the solubility of the amine hydrochloride. The liquid separation temperature is not uniquely determined but can be applied from 10 ° C. to the boiling point of the used solvent. It is preferred to carry out in the range of 20 ° C-65 ° C.
本発明のアミノシラン類の製造方法によれば、炭化水素系溶媒種と非プロトン性溶媒種の複数の溶媒を用い、かつ、反応溶媒総量に対する原料クロロシラン類の割合を０．２〜０．８ｍｏｌ／Ｌとするので、従来の方法よりも、高い収率でアミノシラン類を得ることができる。 According to the method for producing aminosilanes of the present invention, a plurality of solvents of hydrocarbon solvents and aprotic solvents are used, and the ratio of the raw material chlorosilanes to the total amount of reaction solvents is 0.2 to 0.8 mol / Since L is used, aminosilanes can be obtained in a higher yield than conventional methods.
以下、実施例を具体的に説明する。また、それぞれ特記しない限りは、水分を含んだ空気に触れない環境、本実施例では窒素雰囲気下で実施した。 Examples will be specifically described below. Moreover, unless it mentions separately, respectively, it implemented in the environment which does not touch the air containing moisture, and a nitrogen atmosphere in a present Example.
実施例１（ビス（ジエチルアミノ）シランの合成）
吹込み管、温度計、冷却管、モーター攪拌機をセットした１Ｌフラスコにジエチルアミン２９．３ｇ（０．４０ｍｏｌ）とトリエチルアミン９１.０ｍｇ（０．９０ｍｍｏｌ）、ヘプタン１００ｍＬ、アセニトリル２００ｍＬを仕込み、０℃まで冷却した。０℃で保温、攪拌しながら、ジクロロシランのガスを９．１ｇ（０．０９０ｍｏｌ）導入すると、白煙が生じると共に白色の塩を生じた。ジクロロシラン添加後、４０℃で２時間保温した。その後、６５℃に保った。反応液はアセトニトリル相とヘプタン相に分離するので、アセトニトリル相を分液分離させ、分離したアセトニトリル相に含まれるビス（ジエチルアミノ）シランをヘプタン１００ｍＬで再抽出すると、合計で１３．４ｇ（収率８５％）のビス（ジエチルアミノ）シランを含むヘプタン溶液を得た。上記の結果を表１にまとめた。
この粗ビス（ジエチルアミノ）シラン溶液を蒸留することで、ビス（ジエチルアミノ）シラン含有液からヘプタンを除去し、濃縮した最終生成物を高純度で得た。蒸留後のＧＣ分析では９９．６面積％の純度を有していた。
Example 1 (Synthesis of bis (diethylamino) silane)
Charge 29.3 g (0.40 mol) of diethylamine, 91.0 mg (0.90 mmol) of triethylamine, 100 mL of heptane, 200 mL of acetonitrile to a 1 L flask set with a blow tube, thermometer, condenser, and motor stirrer, and cool to 0 ° C. did. When 9.1 g (0.090 mol) of dichlorosilane gas was introduced while maintaining the temperature at 0 ° C. and stirring, white smoke was produced and a white salt was produced. After the addition of dichlorosilane, the mixture was kept at 40 ° C. for 2 hours. Thereafter, it was kept at 65 ° C. The reaction solution is separated into an acetonitrile phase and a heptane phase, so the acetonitrile phase is separated and the bis (diethylamino) silane contained in the separated acetonitrile phase is re-extracted with 100 mL of heptane to obtain 13.4 g in total (yield 85). %) Was obtained a heptane solution containing bis (diethylamino) silane. The above results are summarized in Table 1.
The crude bis (diethylamino) silane solution was distilled to remove heptane from the bis (diethylamino) silane-containing solution to obtain a concentrated final product with high purity. GC analysis after distillation had a purity of 99.6 area%.
実施例２（ビス（ジエチルアミノ）シランの合成）
吹込み管、温度計、冷却管、モーター攪拌機をセットした１Ｌフラスコにジエチルアミン５７．８ｇ（０．７９ｍｏｌ）とトリエチルアミン１８２.０ｍｇ（１．８０ｍｍｏｌ）、ヘプタン１００ｍＬ、アセニトリル２００ｍＬを仕込み、０℃まで冷却した。０℃で保温、攪拌しながら、ジクロロシランのガスを１８．２ｇ（０．１８０ｍｏｌ）導入すると、白煙が生じると共に白色の塩を生じた。ジクロロシラン添加後、４０℃で２時間保温した。その後、６５℃に加温した。反応液はアセトニトリル相とヘプタン相に分離するので、アセトニトリル相を分液分離させ、分離したアセトニトリル相に含まれるビス（ジエチルアミノ）シランをヘプタン１００ｍＬで再抽出すると、合計で２６．３ｇ（収率８４％）のビス（ジエチルアミノ）シランを含むヘプタン溶液を得た。上記の結果を表１にまとめた。
この粗ビス（ジエチルアミノ）シラン溶液を蒸留することで、ビス（ジエチルアミノ）シラン含有液からヘプタンを除去し、濃縮した最終生成物を高純度で得た。
Example 2 (Synthesis of bis (diethylamino) silane)
Charge 57.8 g (0.79 mol) of diethylamine, 182.0 mg (1.80 mmol) of triethylamine, 100 mL of heptane, 200 mL of acetonitrile into a 1-L flask equipped with a blow tube, thermometer, condenser, and motor stirrer, and cool to 0 ° C. did. When 18.2 g (0.180 mol) of dichlorosilane gas was introduced while keeping it warm at 0 ° C. and stirring, white smoke was produced and a white salt was produced. After the addition of dichlorosilane, the mixture was kept at 40 ° C. for 2 hours. Thereafter, it was heated to 65 ° C. The reaction solution is separated into an acetonitrile phase and a heptane phase, so the acetonitrile phase is separated and the bis (diethylamino) silane contained in the separated acetonitrile phase is re-extracted with 100 mL of heptane, and a total of 26.3 g (yield 84). %) Was obtained a heptane solution containing bis (diethylamino) silane. The above results are summarized in Table 1.
The crude bis (diethylamino) silane solution was distilled to remove heptane from the bis (diethylamino) silane-containing solution to obtain a concentrated final product with high purity.
実施例３（ビス（ジエチルアミノ）シランの合成）
吹込み管、温度計、冷却管、モーター攪拌機をセットした１Ｌフラスコにジエチルアミン２９．３ｇ（０．４０ｍｏｌ）、ヘプタン１００ｍＬ、アセニトリル２００ｍＬを仕込み、０℃まで冷却した。０℃で保温、攪拌しながら、ジクロロシランのガスを９．１ｇ（０．０９０ｍｏｌ）導入すると、白煙が生じると共に白色の塩を生じた。ジクロロシラン添加後、４０℃で２時間保温した。その後、６５℃に加温した。反応液はアセトニトリル相とヘプタン相に分離するので、アセトニトリル相を分液分離させ、分離したアセトニトリル相に含まれるビス（ジエチルアミノ）シランをヘプタン１００ｍＬで再抽出すると、合計で１２．５ｇ（収率８０％）のビス（ジエチルアミノ）シランを含むヘプタン溶液を得た。
この粗ビス（ジエチルアミノ）シラン溶液を蒸留することで、ビス（ジエチルアミノ）シラン含有液からヘプタンを除去し、濃縮した最終生成物を高純度で得た。
Example 3 (Synthesis of bis (diethylamino) silane)
Into a 1-L flask equipped with a blowing tube, a thermometer, a cooling tube and a motor stirrer, 29.3 g (0.40 mol) of diethylamine, 100 mL of heptane and 200 mL of acetonitrile were charged, and cooled to 0 ° C. When 9.1 g (0.090 mol) of dichlorosilane gas was introduced while maintaining the temperature at 0 ° C. and stirring, white smoke was produced and a white salt was produced. After the addition of dichlorosilane, the mixture was kept at 40 ° C. for 2 hours. Thereafter, it was heated to 65 ° C. The reaction solution is separated into an acetonitrile phase and a heptane phase, so the acetonitrile phase is separated and the bis (diethylamino) silane contained in the separated acetonitrile phase is re-extracted with 100 mL of heptane to obtain a total of 12.5 g (yield 80 %) Was obtained a heptane solution containing bis (diethylamino) silane.
The crude bis (diethylamino) silane solution was distilled to remove heptane from the bis (diethylamino) silane-containing solution to obtain a concentrated final product with high purity.
実施例４（ビス（ジエチルアミノ）シランの合成）
吹込み管、温度計、冷却管、モーター攪拌機をセットした１Ｌフラスコにジエチルアミン２９．３ｇ（０．４０ｍｏｌ）とトリエチルアミン４５５.４ｍｇ（０．４５ｍｍｏｌ）、ヘプタン１００ｍＬ、アセニトリル２００ｍＬを仕込み、０℃まで冷却した。０℃で保温、攪拌しながら、ジクロロシランのガスを９．１ｇ（０．０９０ｍｏｌ）導入すると、白煙が生じると共に白色の塩を生じた。ジクロロシラン添加後、４０℃で２時間保温した。その後、６５℃に加温した。反応液はアセトニトリル相とヘプタン相に分離するので、アセトニトリル相を分液分離させ、分離したアセトニトリル相に含まれるビス（ジエチルアミノ）シランをヘプタン１００ｍＬで再抽出すると、合計で１３．３ｇ（収率８５％）のビス（ジエチルアミノ）シランを含むヘプタン溶液を得た。
この粗ビス（ジエチルアミノ）シラン溶液を蒸留することで、ビス（ジエチルアミノ）シラン含有液からヘプタンを除去し、濃縮した最終生成物を高純度で得た。
Example 4 (Synthesis of bis (diethylamino) silane)
Charge 29.3 g (0.40 mol) of diethylamine, 455.4 mg (0.45 mmol) of triethylamine, 100 mL of heptane and 200 mL of acetonitrile to a 1-L flask equipped with a blow tube, thermometer, condenser, and motor stirrer, and cool to 0 ° C. did. When 9.1 g (0.090 mol) of dichlorosilane gas was introduced while maintaining the temperature at 0 ° C. and stirring, white smoke was produced and a white salt was produced. After the addition of dichlorosilane, the mixture was kept at 40 ° C. for 2 hours. Thereafter, it was heated to 65 ° C. The reaction solution is separated into an acetonitrile phase and a heptane phase, so the acetonitrile phase is separated and the bis (diethylamino) silane contained in the separated acetonitrile phase is re-extracted with 100 mL of heptane to obtain 13.3 g in total (yield 85). %) Was obtained a heptane solution containing bis (diethylamino) silane.
The crude bis (diethylamino) silane solution was distilled to remove heptane from the bis (diethylamino) silane-containing solution to obtain a concentrated final product with high purity.
実施例５（ビス（ジエチルアミノ）シランの合成）
吹込み管、温度計、冷却管、モーター攪拌機をセットした１Ｌフラスコにジエチルアミン２９．３ｇ（０．４０ｍｏｌ）とトリエチルアミン１８.２ｍｇ（０．１８ｍｍｏｌ）、ヘプタン１００ｍＬ、アセニトリル２００ｍＬを仕込み、０℃まで冷却した。０℃で保温、攪拌しながら、ジクロロシランのガスを９．１ｇ（０．０９０ｍｏｌ）導入すると、白煙が生じると共に白色の塩を生じた。ジクロロシラン添加後、４０℃で２時間保温した。その後、６５℃に加温した。反応液はアセトニトリル相とヘプタン相に分離するので、アセトニトリル相を分液分離させ、分離したアセトニトリル相に含まれるビス（ジエチルアミノ）シランをヘプタン１００ｍＬで再抽出すると、合計で１２．７ｇ（収率８１％）のビス（ジエチルアミノ）シランを含むヘプタン溶液を得た。
この粗ビス（ジエチルアミノ）シラン溶液を蒸留することで、ビス（ジエチルアミノ）シラン含有液からヘプタンを除去し、濃縮した最終生成物を高純度で得た。
Example 5 (Synthesis of bis (diethylamino) silane)
Charge 29.3 g (0.40 mol) of diethylamine, 18.2 mg (0.18 mmol) of triethylamine, 100 mL of heptane and 200 mL of acetonitrile to a 1-L flask equipped with a blow tube, thermometer, condenser and motor stirrer, and cool to 0 ° C. did. When 9.1 g (0.090 mol) of dichlorosilane gas was introduced while maintaining the temperature at 0 ° C. and stirring, white smoke was produced and a white salt was produced. After the addition of dichlorosilane, the mixture was kept at 40 ° C. for 2 hours. Thereafter, it was heated to 65 ° C. The reaction solution is separated into an acetonitrile phase and a heptane phase, so the acetonitrile phase is separated and the bis (diethylamino) silane contained in the separated acetonitrile phase is re-extracted with 100 mL of heptane, and a total of 12.7 g (yield 81). %) Was obtained a heptane solution containing bis (diethylamino) silane.
The crude bis (diethylamino) silane solution was distilled to remove heptane from the bis (diethylamino) silane-containing solution to obtain a concentrated final product with high purity.
実施例６（ビス（ジエチルアミノ）シランの合成）
吹込み管、温度計、冷却管、モーター攪拌機をセットした１Ｌフラスコにジエチルアミン２９．３ｇ（０．４０ｍｏｌ）とトリエチルアミン９１０.７ｍｇ（９．００ｍｍｏｌ）、ヘプタン１００ｍＬ、アセニトリル２００ｍＬを仕込み、０℃まで冷却した。０℃で保温、攪拌しながら、ジクロロシランのガスを９．１ｇ（０．０９０ｍｏｌ）導入すると、白煙が生じると共に白色の塩を生じた。ジクロロシラン添加後、４０℃で２時間保温した。その後、６５℃に加温した。反応液はアセトニトリル相とヘプタン相に分離するので、アセトニトリル相を分液分離させ、分離したアセトニトリル相に含まれるビス（ジエチルアミノ）シランをヘプタン１００ｍＬで再抽出すると、合計で１３．３ｇ（収率８５％）のビス（ジエチルアミノ）シランを含むヘプタン溶液を得た。
この粗ビス（ジエチルアミノ）シラン溶液を蒸留することで、ビス（ジエチルアミノ）シラン含有液からヘプタンを除去し、濃縮した最終生成物を高純度で得た。
Example 6 (Synthesis of bis (diethylamino) silane)
Charge 29.3 g (0.40 mol) of diethylamine, 910.7 mg (9.00 mmol) of triethylamine, 100 mL of heptane and 200 mL of acetonitrile to a 1-L flask equipped with a blow tube, thermometer, condenser, and motor stirrer, and cool to 0 ° C. did. When 9.1 g (0.090 mol) of dichlorosilane gas was introduced while maintaining the temperature at 0 ° C. and stirring, white smoke was produced and a white salt was produced. After the addition of dichlorosilane, the mixture was kept at 40 ° C. for 2 hours. Thereafter, it was heated to 65 ° C. The reaction solution is separated into an acetonitrile phase and a heptane phase, so the acetonitrile phase is separated and the bis (diethylamino) silane contained in the separated acetonitrile phase is re-extracted with 100 mL of heptane to obtain 13.3 g in total (yield 85). %) Was obtained a heptane solution containing bis (diethylamino) silane.
The crude bis (diethylamino) silane solution was distilled to remove heptane from the bis (diethylamino) silane-containing solution to obtain a concentrated final product with high purity.
比較例１（ビス（ジエチルアミノ）シランの合成）
吹込み管、温度計、冷却管、モーター攪拌機をセットした１Ｌフラスコにジエチルアミン１４．６ｇ（０．２０ｍｏｌ）とトリエチルアミン４５.５ｍｇ（１．８０ｍｍｏｌ）、ヘプタン１００ｍＬ、アセニトリル２００ｍＬを仕込み、０℃まで冷却した。０℃で保温、攪拌しながら、ジクロロシランのガスを４．５ｇ（０．０４５ｍｏｌ）導入すると、白煙が生じると共に白色の塩を生じた。ジクロロシラン添加後、４０℃で２時間保温した。その後、６５℃に加温した。反応液はアセトニトリル相とヘプタン相に分離するので、アセトニトリル相を分液分離させ、分離したアセトニトリル相に含まれるビス（ジエチルアミノ）シランをヘプタン１００ｍＬで再抽出すると、合計で６．１ｇ（収率７７％）のビス（ジエチルアミノ）シランを含むヘプタン溶液を得た。
この粗ビス（ジエチルアミノ）シラン溶液を蒸留することで、ビス（ジエチルアミノ）シラン含有液からヘプタンを除去し、濃縮した最終生成物を高純度で得た。
Comparative Example 1 (Synthesis of Bis (diethylamino) silane)
Charge 14.6 g (0.20 mol) of diethylamine, 45.5 mg (1.80 mmol) of triethylamine, 100 mL of heptane, 200 mL of acetonitrile into a 1 L flask set with a blow tube, thermometer, condenser, and motor stirrer, and cool to 0 ° C. did. When 4.5 g (0.045 mol) of dichlorosilane gas was introduced while maintaining the temperature at 0 ° C. and stirring, white smoke was produced and a white salt was produced. After the addition of dichlorosilane, the mixture was kept at 40 ° C. for 2 hours. Thereafter, it was heated to 65 ° C. The reaction solution is separated into an acetonitrile phase and a heptane phase, so the acetonitrile phase is separated, and the bis (diethylamino) silane contained in the separated acetonitrile phase is re-extracted with 100 mL of heptane to obtain a total of 6.1 g (yield 77 %) Was obtained a heptane solution containing bis (diethylamino) silane.
The crude bis (diethylamino) silane solution was distilled to remove heptane from the bis (diethylamino) silane-containing solution to obtain a concentrated final product with high purity.
表１および図１から理解できるように、第３級アミンのクロロシラン類に対する添加量が１．０〜１５ｍｏｌ％であれば、安定して高い収率でアミノシランを得ることができる。また、表１および図２から理解できるように、反応溶媒総量に対する原料クロロシラン類の割合が０．２〜０．８ｍｏｌ／Ｌの範囲であれば、安定して高い収率でアミノシランを得ることができる。 As can be understood from Table 1 and FIG. 1, when the addition amount of the tertiary amine to the chlorosilanes is 1.0 to 15 mol%, aminosilane can be stably obtained in a high yield. Further, as can be understood from Table 1 and FIG. 2, when the ratio of the raw material chlorosilanes to the total amount of the reaction solvent is in the range of 0.2 to 0.8 mol / L, aminosilane can be stably obtained in high yield. it can.
誘電体膜の堆積に使用可能な前駆体として知られるアミノシラン類を高い収率で得ることができるので、アミノシラン材料の需要増加に大きく貢献する。 The ability to obtain aminosilanes known as precursors that can be used for depositing dielectric films in high yields contributes significantly to the increased demand for aminosilane materials.
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