JP2019077759A - Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate, resin sheet and printed wiring board - Google Patents

Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate, resin sheet and printed wiring board Download PDF

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Abstract

To provide a resin composition which exhibits excellent physical property not only in heat resistance but also in thermal conductivity, and a prepreg, a metal foil-clad laminate, a resin sheet and a printed wiring board using the same.SOLUTION: A resin composition contains at least a cyanate ester compound (A) represented by formula (I), and a maleimide compound (B). In the formula (I), Rto Reach independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and n represents an integer of 0 or more.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート及びプリント配線板等に関する。   The present invention relates to a resin composition, a prepreg, a metal foil-clad laminate, a resin sheet, a printed wiring board and the like.

近年、電子機器や通信機、パーソナルコンピューター等に広く用いられている半導体の高集積化、微細化はますます加速している。これに伴い、プリント配線板に用いられる半導体パッケージ用積層板に求められる諸特性はますます厳しいものとなっている。特に発熱に対するプリント配線板の放熱技術が求められるようになっている。これは、半導体の高機能化にともない、半導体から発生する熱量が大きくなっており、かつ高集積化や高密度実装化の影響により熱が内部に溜まりやすい構成になってきているためである。   In recent years, high integration and miniaturization of semiconductors widely used in electronic devices, communication devices, personal computers, etc. are accelerating. Along with this, various characteristics required for a laminate for a semiconductor package used for a printed wiring board are becoming increasingly severe. In particular, a heat dissipation technique for printed wiring boards against heat generation is required. This is because the amount of heat generated from the semiconductor increases as the semiconductor becomes higher functional, and the heat is easily accumulated inside due to the influence of high integration and high density mounting.

プリント配線板の絶縁層に用いられるエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂自体は、熱伝導率が比較的に低い。そこで、プリント配線板の熱伝導率を向上させるため、所定の粒径分布を有する混合フィラー(無機充填材)を熱硬化性樹脂に80〜95重量%配合することで硬化物の熱伝導率を3〜10W/mKにする熱伝導性樹脂組成物が提案されている(特許文献1参照)。   The thermosetting resin itself such as epoxy resin used for the insulating layer of the printed wiring board has a relatively low thermal conductivity. Therefore, in order to improve the thermal conductivity of the printed wiring board, the thermal conductivity of the cured product can be obtained by blending 80 to 95% by weight of the mixed filler (inorganic filler) having a predetermined particle size distribution into the thermosetting resin. A thermally conductive resin composition to be 3 to 10 W / mK has been proposed (see Patent Document 1).

しかしながら、上記特許文献1のように無機充填材を高充填すると、熱伝導率を向上させることはできるものの、熱硬化性樹脂の体積比率が少なくなるため成形性が悪化し、樹脂と無機充填材の間にクラックやボイドが発生しやすくなる等の問題を引き起こす。そのため、樹脂そのものの改良が求められている。   However, when the inorganic filler is highly filled as in Patent Document 1 described above, although the thermal conductivity can be improved, the volume ratio of the thermosetting resin decreases, so the formability deteriorates, and the resin and the inorganic filler Cause problems such as cracking and void formation. Therefore, improvement of the resin itself is required.

従来から、耐熱性や電気特性に優れるプリント配線板用樹脂として、シアン酸エステル化合物が知られており、近年シアン酸エステル化合物にエポキシ樹脂、マレイミド化合物等を併用した樹脂組成物が半導体プラスチックパッケージ用等の高機能のプリント配線板用材料等に幅広く使用されている。   Conventionally, cyanate ester compounds have been known as resins for printed wiring boards having excellent heat resistance and electrical properties, and in recent years, resin compositions in which an epoxy resin, a maleimide compound, etc. are used in combination with a cyanate ester compound are for semiconductor plastic packages Etc. are widely used for high performance printed wiring board materials etc.

プリント配線板材料等に広く使用されているシアン酸エステル化合物としては、例えば、ビスフェノールA型シアン酸エステル化合物と、他の熱硬化性樹脂等を用いた樹脂組成物が挙げられる。ビスフェノールA型シアン酸エステル化合物は、電気特性、機械特性、及び耐薬品性等の優れた特性を有しているが、耐熱性、低吸水性、吸湿耐熱性、及び難燃性においては不十分な場合がある。そのため、さらなる特性の向上を目的として、構造が異なる種々のシアン酸エステル化合物の検討が行われている。   As a cyanate ester compound widely used for printed wiring board materials etc., the resin composition which used the bisphenol A type cyanate ester compound and other thermosetting resins etc. is mentioned, for example. Bisphenol A type cyanate ester compounds have excellent properties such as electrical properties, mechanical properties, and chemical resistance, but are insufficient in heat resistance, low water absorption, hygroscopic heat resistance, and flame retardancy May be Therefore, studies of various cyanate ester compounds having different structures are being conducted for the purpose of further improving the properties.

ビスフェノールA型シアン酸エステル化合物と構造が異なる樹脂として、例えば、ノボラック型シアン酸エステル化合物がよく使用されている(特許文献2参照)。また、ノボラック型シアン酸エステル化合物とビスフェノールA型シアン酸エステル化合物とのプレポリマー化が提案されている(特許文献3参照)。さらにこれらを改良したものとして、ポリナフチレンエーテル構造を有するフェノール樹脂をシアネート化したシアン酸エルテル化合物が提案されている(特許文献4参照)。   As a resin having a structure different from that of the bisphenol A type cyanate ester compound, for example, a novolac type cyanate ester compound is often used (see Patent Document 2). In addition, prepolymerization of a novolac type cyanate ester compound and a bisphenol A type cyanate ester compound has been proposed (see Patent Document 3). Further, as a modification of these, a cyanate ether compound obtained by cyanating a phenol resin having a polynaphthylene ether structure has been proposed (see Patent Document 4).

特開2001−348488号公報JP 2001-348488 A 特開平11−124433号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 11-124433 gazette 特開2000−191776号公報JP 2000-191776 A 国際公開第2014/065422号International Publication No. 2014/065422

しかしながら、特許文献2〜4のシアン酸エルテル化合物は、耐熱性等の改善は見込まれるものの、熱伝導率の向上の観点からは、さらなる改善が求められている。   However, although the improvement of heat resistance etc. is anticipated, the further improvement is calculated | required from the viewpoint of the improvement of heat conductivity of the cyanate Ertel compound of patent documents 2-4.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、耐熱性のみならず熱伝導性においても優れた物性を発現する樹脂組成物、並びに、これを用いたプリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート及びプリント配線板等を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and a resin composition which exhibits excellent physical properties not only in heat resistance but also in heat conductivity, as well as a prepreg using the same, a metal foil-clad laminate, It aims at providing a resin sheet, a printed wiring board, etc.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した。その結果、フェニレンエーテルの繰り返し骨格を有する特定構造のシアン酸エステル化合物(A)とマレイミド化合物(B)とを併用することにより上記課題が達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventors diligently studied to solve the above problems. As a result, they have found that the above-mentioned problems can be achieved by using together the cyanate ester compound (A) having a specific structure having a repeating skeleton of phenylene ether and the maleimide compound (B), and have completed the present invention.

すなわち、本発明は以下の態様を包含する。
[1]下記式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)、及びマレイミド化合物(B)を少なくとも含有する、樹脂組成物。
(式中、R1〜R4は、各々独立に水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表し、nは0以上の整数を表す。)
That is, the present invention includes the following aspects.
[1] A resin composition containing at least a cyanate ester compound (A) represented by the following formula (I) and a maleimide compound (B).
(Wherein, R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and n represents an integer of 0 or more.)

[2]前記シアン酸エステル化合物(A)の含有量が、前記樹脂組成物中の樹脂固形分100質量部に対して、1〜90質量部である[1]に記載の樹脂組成物。
[3]充填材(C)をさらに含有する[1]又は[2]に記載の樹脂組成物。
[4]前記充填材(C)の含有量が、前記樹脂組成物中の樹脂固形分100質量部に対して、50〜1600質量部である[3]に記載の樹脂組成物。
[5]前記式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)以外のシアン酸エステル化合物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、オキセタン樹脂、ベンゾオキサジン化合物、及び重合可能な不飽和基を有する化合物よりなる群から選択される1種以上をさらに含有する[1]〜[4]のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
[2] The resin composition according to [1], wherein the content of the cyanate ester compound (A) is 1 to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content in the resin composition.
[3] The resin composition according to [1] or [2], further containing a filler (C).
[4] The resin composition according to [3], wherein the content of the filler (C) is 50 to 1600 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content in the resin composition.
[5] From a cyanate ester compound other than the cyanate ester compound (A) represented by the above formula (I), an epoxy resin, a phenol resin, an oxetane resin, a benzoxazine compound, and a compound having a polymerizable unsaturated group The resin composition as described in any one of [1]-[4] which further contains 1 or more types selected from the group which consists of.

[6]基材、及び前記基材に含浸又は塗布された、[1]〜[5]のいずれか一項に記載の樹脂組成物を少なくとも備える、プリプレグ。
[7]少なくとも1枚以上の[6]に記載のプリプレグ、及び前記プリプレグの片面又は両面に配された金属箔、を少なくとも備える、金属箔張積層板。
[8]支持体、及び前記支持体の表面に設けられた、[1]〜[5]のいずれか一項に記載の樹脂組成物を少なくとも備える、樹脂シート。
[9]絶縁層、及び前記絶縁層の表面に設けられた導体層を少なくとも備え、前記絶縁層が、[1]〜[5]のいずれか一項に記載の樹脂組成物を含む、プリント配線板。
[6] A prepreg comprising at least a substrate, and the resin composition according to any one of [1] to [5] impregnated or applied to the substrate.
[7] A metal foil-clad laminate, comprising at least one or more of the prepregs according to [6] and a metal foil disposed on one side or both sides of the prepreg.
[8] A resin sheet comprising at least a resin composition according to any one of [1] to [5], provided on a support and the surface of the support.
[9] A printed wiring comprising at least an insulating layer, and a conductor layer provided on the surface of the insulating layer, wherein the insulating layer includes the resin composition according to any one of [1] to [5]. Board.

本発明によれば、耐熱性及び熱伝導性において優れた物性バランスを発現する樹脂組成物、並びに、これを用いたプリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート及びプリント配線板等を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a resin composition that exhibits excellent physical property balance in heat resistance and thermal conductivity, and a prepreg, a metal foil-clad laminate, a resin sheet, a printed wiring board and the like using the same. it can.

合成例1のシアン酸エステル化合物(A)のIRスペクトルを示すチャートである。It is a chart which shows IR spectrum of the cyanate ester compound (A) of the synthesis example 1.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。   Hereinafter, although a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as "the present embodiment") will be described in detail, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made within the scope of the present invention. Is possible.

[樹脂組成物]
本実施形態の樹脂組成物は、下記式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)とマレイミド化合物(B)とを少なくとも含有する。このように構成されているため、本実施形態の樹脂組成物は、耐熱性及び熱伝導性において優れた物性バランスを発現することができる。
[Resin composition]
The resin composition of this embodiment contains at least a cyanate ester compound (A) represented by the following formula (I) and a maleimide compound (B). Since it is comprised in this way, the resin composition of this embodiment can express the physical property balance excellent in heat resistance and thermal conductivity.

(式中、R1〜R4は、各々独立に水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表し、nは0以上の整数を表す。) (Wherein, R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and n represents an integer of 0 or more.)

〔シアン酸エステル化合物(A)〕
本実施形態における樹脂組成物に含まれるシアン酸エステル化合物(A)としては、上記式(I)で表されるシアン酸エステル化合物である。シアン酸エステル化合物を用いた樹脂組成物は、硬化物とした際に、ガラス転移温度、熱伝導性、低熱膨張性、めっき密着性等に優れた特性を有する。
[Cyanate ester compound (A)]
The cyanate ester compound (A) contained in the resin composition in the present embodiment is a cyanate ester compound represented by the above formula (I). The resin composition using a cyanate ester compound has excellent properties of glass transition temperature, thermal conductivity, low thermal expansion, plating adhesion and the like when it is a cured product.

上記式(I)中、R1〜R4は、各々独立に水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表す。このアルキル基は、直鎖もしくは分枝の鎖状構造のいずれを有していてもよい。上記式(I)中のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。また、式(I)中のアルキル基は、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、メトキシ基、フェノキシ基等のアルコキシル基、又はシアノ基等で置換されていてもよい。 In the above formula (I), R 1 ~R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. The alkyl group may have either a linear or branched chain structure. A methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group is mentioned as a specific example of the alkyl group in the said Formula (I). The alkyl group in the formula (I) may be substituted by a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom, an alkoxyl group such as a methoxy group or a phenoxy group, or a cyano group.

上記式(I)中、nは0以上の整数を表し、好ましくは1〜6の整数である。上記式(I)で表される化合物は、nが異なる複数の化合物の混合物として、本実施形態の樹脂組成物に含まれていてもよい。   In said formula (I), n represents an integer greater than or equal to 0, Preferably it is an integer of 1-6. The compound represented by the said Formula (I) may be contained in the resin composition of this embodiment as a mixture of several compounds in which n differs.

上記式(I)中のOCN基及びR1〜R4は、任意の位置を選択できる。例えば、式(I)に示す2個の酸素原子が1,4位又は1,3位に結合しOCN基が2位、5位、又は6位に結合するベンゼントリイル基が挙げられる。 The OCN group and R 1 to R 4 in the above formula (I) can be selected at any position. For example, a benzenetriyl group in which two oxygen atoms shown in the formula (I) are bonded to the 1,4 or 1,3 position and an OCN group is bonded to the 2, 5, or 6 position can be mentioned.

上記した式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。   The above-mentioned cyanate ester compounds (A) represented by the formula (I) can be used singly or in combination of two or more.

上記式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)は、従来公知の合成方法を適用して合成でき、その製造方法は特に限定されない。例えば、フェニレンエーテルの繰り返し骨格を有するフェノール樹脂と塩化シアンとを、アミン等の塩基の存在下で反応させ、ヒドロキシ基をシアネート化することでシアン酸エステル化合物(A)を得ることができる。なお、シアネート化における反応の進行度は、液体クロマトグラフィー又はIRスペクトル法等で分析することができる。また、得られたシアン酸エステル化合物(A)は、NMR等の公知の方法により同定することができ、その純度は、液体クロマトグラフィー又はIRスペクトル法等で分析することができる。さらに、ジシアンやジアルキルシアノアミド等の副生物や残存溶媒等の揮発成分は、ガスクロマトグラフィーで定量分析することができる。   The cyanate ester compound (A) represented by the above-mentioned formula (I) can be synthesized by applying a conventionally known synthesis method, and the production method thereof is not particularly limited. For example, a cyanate compound (A) can be obtained by reacting a phenol resin having a repeating skeleton of phenylene ether with cyanogen chloride in the presence of a base such as an amine to cyanate a hydroxy group. The degree of progress of the reaction in cyanation can be analyzed by liquid chromatography or IR spectroscopy. The obtained cyanate ester compound (A) can be identified by a known method such as NMR, and its purity can be analyzed by liquid chromatography or IR spectroscopy. Furthermore, byproducts such as dicyan and dialkyl cyanoamide and volatile components such as residual solvent can be quantitatively analyzed by gas chromatography.

本実施形態における上記式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)の含有量は、所望する特性に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、耐熱性及び熱伝導性の物性バランスをより向上させる観点から、樹脂固形分100質量部に対して、好ましくは1〜90質量部であり、より好ましくは10〜85質量部であり、さらに好ましくは20〜80質量部である。シアン酸エステル化合物(A)の含有量が上記範囲内であることにより、得られる硬化物の耐熱性及び熱伝導性がより向上する傾向にある。   The content of the cyanate ester compound (A) represented by the above formula (I) in the present embodiment can be appropriately set according to the desired characteristics, and is not particularly limited, but it is heat resistant and thermally conductive. From the viewpoint of further improving the physical property balance, it is preferably 1 to 90 parts by mass, more preferably 10 to 85 parts by mass, and still more preferably 20 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of resin solid content. . When the content of the cyanate ester compound (A) is in the above range, the heat resistance and the thermal conductivity of the obtained cured product tend to be further improved.

なお、本実施形態において、「樹脂固形分」とは、特に断りのない限り、本実施形態の樹脂組成物における、溶剤及び充填材を除いた成分をいい、「樹脂固形分100質量部」とは、本実施形態の樹脂組成物における溶剤及び充填材を除いた成分の合計が100質量部であることをいうものとする。   In the present embodiment, “resin solid content” refers to components excluding the solvent and the filler in the resin composition of the present embodiment, unless otherwise noted, and “100 parts by mass of resin solid content” The term "S" means that the total of components excluding the solvent and the filler in the resin composition of the present embodiment is 100 parts by mass.

〔マレイミド化合物(B)〕
マレイミド化合物としては、分子中に1個以上のマレイミド基を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、N−フェニルマレイミド、N−ヒドロキシフェニルマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、2,2−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)−フェニル}プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5−ジエチル−4−マレイミドフェニル)メタン、下記式(1)で表されるマレイミド化合物、下記式(2)で表されるマレイミド化合物、下記式(3)で表されるマレイミド化合物、これらマレイミド化合物のプレポリマー、若しくはマレイミド化合物とアミン化合物のプレポリマーが挙げられる。これらの中でも、2,2'−ビス{4−(4−マレイミドフェノキシ)−フェニル}プロパン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン及び下記式(1)で表されるマレイミド化合物、下記式(2)で表されるマレイミド化合物、下記式(3)で表されるマレイミド化合物からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。このようなマレイミド化合物(B)を含むことにより、得られる硬化物の物性バランスがより優れたものとなる傾向にある。同様の観点から、マレイミド化合物(B)が、下記式(1)で表されるマレイミド化合物、及び下記式(2)で表されるマレイミド化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含有することがより好ましい。
[Maleimide compound (B)]
The maleimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having one or more maleimide groups in the molecule, and examples thereof include N-phenyl maleimide, N-hydroxyphenyl maleimide, bis (4-maleimidophenyl) methane, and 2,2 -Bis {4- (4-maleimidophenoxy) -phenyl} propane, bis (3,5-dimethyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, bis ( 3,5-Diethyl-4-maleimidophenyl) methane, a maleimide compound represented by the following formula (1), a maleimide compound represented by the following formula (2), a maleimide compound represented by the following formula (3), and the like There may be mentioned prepolymers of maleimide compounds, or prepolymers of maleimide compounds and amine compounds. Among these, 2,2′-bis {4- (4-maleimidophenoxy) -phenyl} propane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane and the following formula (1) At least one selected from the group consisting of a maleimide compound, a maleimide compound represented by the following formula (2), and a maleimide compound represented by the following formula (3) is preferable. By containing such a maleimide compound (B), the physical property balance of the obtained cured product tends to be more excellent. From the same viewpoint, the maleimide compound (B) contains at least one selected from the group consisting of a maleimide compound represented by the following formula (1) and a maleimide compound represented by the following formula (2) Is more preferred.

ここで、式(1)中、R5は、各々独立して、水素原子又はメチル基を示し、好ましくは水素原子を示す。また、式(1)中、n1は1以上の整数を表し、好ましくは10以下の整数であり、より好ましくは7以下の整数である。上記式(1)で表されるマレイミド化合物は、n1が異なる複数の化合物の混合物として、本実施形態の樹脂組成物に含まれていてもよい。 Here, in Formula (1), each R 5 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, preferably a hydrogen atom. In the formula (1), n 1 represents an integer of 1 or more, preferably 10 or less, and more preferably 7 or less. Maleimide compound represented by the above formula (1), as a mixture of compounds n 1 are different, it may be included in the resin composition of the present embodiment.

(上記式(2)中、n2は1以上の整数を表し、好ましくは5以下の整数であり、より好ましくは4以下の整数であり、さらに好ましくは3以下の整数である。上記式(2)で表されるマレイミド化合物は、n2が異なる複数の化合物の混合物として、本実施形態の樹脂組成物に含まれていてもよい。) In the above formula (2), n 2 represents an integer of 1 or more, preferably 5 or less, more preferably 4 or less, and still more preferably 3 or less. The maleimide compound represented by 2) may be contained in the resin composition of this embodiment as a mixture of several compounds in which n 2 differs.)

(上記式(3)中、n3は1以上の整数を表し、好ましくは30以下の整数であり、より好ましくは20以下の整数であり、さらに好ましくは15以下の整数である。上記式(3)で表されるマレイミド化合物は、n3が異なる複数の化合物の混合物として、本実施形態の樹脂組成物に含まれていてもよい。) (In the above formula (3), n 3 represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 30 or less, more preferably an integer of 20 or less, and still more preferably an integer of 15 or less. The maleimide compound represented by 3) may be contained in the resin composition of this embodiment as a mixture of several compounds in which n 3 differs.)

上記したマレイミド化合物(B)は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。   The maleimide compounds (B) described above can be used singly or in combination of two or more.

本実施形態におけるマレイミド化合物(B)の含有量は、所望する特性に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、電気特性、耐熱性及び熱伝導性の物性バランスをより向上させる観点から、樹脂固形分100質量部に対して、好ましくは1〜90質量部であり、より好ましくは10〜85質量部であり、さらに好ましくは20〜80質量部である。マレイミド化合物(B)の含有量が上記範囲内であることにより、得られる硬化物の熱膨張率がより低下し、耐熱性がより向上する傾向にある。   The content of the maleimide compound (B) in the present embodiment can be appropriately set according to the desired characteristics, and is not particularly limited, but from the viewpoint of further improving the physical property balance of electrical characteristics, heat resistance and heat conductivity. The amount is preferably 1 to 90 parts by mass, more preferably 10 to 85 parts by mass, and still more preferably 20 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content. When the content of the maleimide compound (B) is in the above range, the thermal expansion coefficient of the obtained cured product is further reduced, and the heat resistance tends to be further improved.

本実施形態の樹脂組成物は、上記式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)以外のシアン酸エステル化合物(以降において、単に「シアン酸エステル化合物」と称する場合がある。)、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、オキタセン樹脂、ベンゾオキサジン化合物、及び重合可能な不飽和基を有する化合物よりなる群から選択される1種以上をさらに含有していてもよい。以下、これらの各成分について説明する。   The resin composition of the present embodiment is a cyanate ester compound other than the cyanate ester compound (A) represented by the above-mentioned formula (I) (hereinafter sometimes simply referred to as "cyanate ester compound"), It may further contain one or more selected from the group consisting of an epoxy resin, a phenol resin, an oxacene resin, a benzoxazine compound, and a compound having a polymerizable unsaturated group. Each of these components will be described below.

本実施形態の樹脂組成物に含まれてもよいシアン酸エステル化合物としては、シアナト基(シアン酸エステル基)で少なくとも1個置換された芳香族部分を分子内に有する化合物であれば、特に限定されない。シアン酸エステル化合物を用いた樹脂組成物は、硬化物とした際に、ガラス転移温度、低熱膨張性、めっき密着性等に優れた特性を有する。なお、上記式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)に該当するものは、ここで説明する併用可能なシアン酸エステル化合物には含まれない。   As a cyanate ester compound which may be contained in the resin composition of the present embodiment, a compound having an aromatic moiety substituted by at least one cyanato group (cyanate group) in the molecule is particularly limited. I will not. The resin composition using a cyanate ester compound has excellent properties of glass transition temperature, low thermal expansion, plating adhesion and the like when it is a cured product. In addition, the thing applicable to the cyanate ester compound (A) represented by said Formula (I) is not contained in the cyanate ester compound which can be used together demonstrated here.

シアン酸エステル化合物の例としては、以下に限定されないが、下記式(4)で表されるものが挙げられる。   Examples of cyanate ester compounds include, but are not limited to, those represented by the following formula (4).

上記式(4)中、Ar1は、ベンゼン環、ナフタレン環又は2つのベンゼン環が単結合したものを表す。Ar1が複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。Raは各々独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜4のアルコキシル基、炭素数1〜6のアルキル基と炭素数6〜12のアリール基とが結合された基を示す。Raにおける芳香環は置換基を有していてもよく、Ar1及びRaにおける置換基は任意の位置を選択できる。pはAr1に結合するシアナト基の数を示し、各々独立に1〜3の整数である。qはAr1に結合するRaの数を示し、Ar1がベンゼン環のときは4−p、ナフタレン環のときは6−p、2つのベンゼン環が単結合したもののときは8−pである。tは繰り返し数を示し、0〜50の範囲の整数であり、上記式(4)で表されるシアン酸エステル化合物は、tが異なる複数の化合物の混合物として、本実施形態の樹脂組成物に含まれていてもよい。Xは、複数ある場合は各々独立に、単結合、炭素数1〜50の2価の有機基(水素原子がヘテロ原子に置換されていてもよい。)、窒素数1〜10の2価の有機基(例えば−N−R−N−(ここでRは有機基を示す。))、カルボニル基(−CO−)、カルボキシ基(−C(=O)O−)、カルボニルジオキサイド基(−OC(=O)O−)、スルホニル基(−SO2−)、2価の硫黄原子又は2価の酸素原子のいずれかを示す。 In the above formula (4), Ar 1 represents a benzene ring, a naphthalene ring, or a single bond of two benzene rings. When there are a plurality of Ar 1 's , they may be the same or different. Ra each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 6 to 12 carbon atoms A group to which an aryl group is bonded is shown. The aromatic ring in Ra may have a substituent, and the substituent in Ar 1 and Ra can be selected at any position. p represents the number of cyanato groups bonded to Ar 1 and each is independently an integer of 1 to 3. q represents the number of Ra bound to Ar 1 , 4-p when Ar 1 is a benzene ring, 6-p when naphthalene ring, and 8-p when two benzene rings are singly bonded . t represents the number of repetitions, and is an integer in the range of 0 to 50. The cyanate ester compound represented by the above formula (4) is a mixture of a plurality of compounds different in t in the resin composition of the present embodiment. It may be included. In the case where there are a plurality of X's, each independently has a single bond, a divalent organic group having 1 to 50 carbon atoms (a hydrogen atom may be substituted with a hetero atom), or a divalent nitrogen having 1 to 10 carbons. Organic group (eg, -N-R-N- (wherein R represents an organic group)), carbonyl group (-CO-), carboxy group (-C (= O) O-), carbonyl dioxide group ( -OC (= O) O-), a sulfonyl group (-SO 2 -), represents any divalent sulfur atom or a divalent oxygen atom.

上記式(4)のRaにおけるアルキル基は、直鎖もしくは分枝の鎖状構造、及び、環状構造(例えばシクロアルキル基等)のいずれを有していてもよい。
また、式(4)におけるアルキル基及びRaにおけるアリール基中の水素原子は、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、メトキシ基、フェノキシ基等のアルコキシル基、又はシアノ基等で置換されていてもよい。
The alkyl group at Ra in the above formula (4) may have any of a linear or branched chain structure and a cyclic structure (for example, a cycloalkyl group etc.).
Furthermore, even if the hydrogen atom in the alkyl group in Formula (4) and the aryl group in Ra is substituted with a halogen atom such as a fluorine atom or chlorine atom, an alkoxyl group such as a methoxy group or a phenoxy group, or a cyano group Good.

アルキル基の具体例としては、以下に限定されないが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1−エチルプロピル基、2,2−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、及びトリフルオロメチル基等が挙げられる。   Specific examples of the alkyl group include, but are not limited to, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 1-ethylpropyl group, A 2, 2- dimethyl propyl group, a cyclopentyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, a trifluoromethyl group etc. are mentioned.

アリール基の具体例としては、以下に限定されないが、フェニル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、フェノキシフェニル基、エチルフェニル基、o−,m−又はp−フルオロフェニル基、ジクロロフェニル基、ジシアノフェニル基、トリフルオロフェニル基、メトキシフェニル基、及びo−,m−又はp−トリル基等が挙げられる。   Specific examples of the aryl group include, but are not limited to, phenyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, phenoxyphenyl group, ethylphenyl group, o-, m- or p-fluorophenyl group, dichlorophenyl group, dicyano A phenyl group, a trifluorophenyl group, a methoxyphenyl group, o-, m- or p-tolyl group etc. are mentioned.

アルコキシル基としては、以下に限定されないが、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、及びtert−ブトキシ基等が挙げられる。   As an alkoxyl group, although it is not limited to the following, for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group and the like can be mentioned.

上記式(4)のXにおける炭素数1〜50の2価の有機基の具体例としては、以下に限定されないが、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、トリメチルシクロヘキシレン基、ビフェニルイルメチレン基、ジメチルメチレン−フェニレン−ジメチルメチレン基、フルオレンジイル基、及びフタリドジイル基等が挙げられる。該2価の有機基中の水素原子は、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、メトキシ基、フェノキシ基等のアルコキシル基、シアノ基等で置換されていてもよい。   Specific examples of the divalent organic group having 1 to 50 carbon atoms in X in the above formula (4) include, but are not limited to, methylene group, ethylene group, trimethylene group, cyclopentylene group, cyclohexylene group, trimethyl Examples thereof include a cyclohexylene group, a biphenylyl methylene group, a dimethyl methylene-phenylene-dimethyl methylene group, a fluorenediyl group, and a phthalide diyl group. The hydrogen atom in the divalent organic group may be substituted by a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom, an alkoxyl group such as a methoxy group or a phenoxy group, a cyano group or the like.

上記式(4)のXにおける窒素数1〜10の2価の有機基の例としては、以下に限定されないが、イミノ基、ポリイミド基等が挙げられる。   Examples of the divalent organic group having 1 to 10 nitrogen atoms in X in the above formula (4) include, but are not limited to, an imino group, a polyimide group, and the like.

また、上記式(4)中のXの有機基として、例えば、下記式(5)又は下記式(6)で表される構造であるものが挙げられる。   Moreover, as an organic group of X in said Formula (4), what is a structure represented by following formula (5) or following formula (6) is mentioned, for example.

(上記式(5)中、Ar2はベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基又はビフェニルテトライル基を示し、uが2以上の場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rb、Rc、Rf、及びRgは各々独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、トリフルオロメチル基、又はフェノール性ヒドロキシ基を少なくとも1個有するアリール基を示す。Rd及び、Reは各々独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜4のアルコキシル基、又はヒドロキシ基のいずれか一種から選択される。uは0〜5の整数を示す。) (In the above formula (5), Ar 2 represents a benzenetetrayl group, a naphthalenetetrayl group or a biphenyltetrayl group, and when u is 2 or more, they may be the same or different from each other. Rb and Rc , Rf and Rg each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aryl group having at least one trifluoromethyl group, or a phenolic hydroxy group Each of Rd and Re is independently selected from any one kind of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a hydroxy group U is an integer of 0 to 5)

(式(6)中、Ar3はベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基又はビフェニルテトライル基を示し、vが2以上の場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ri、及びRjは各々独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、ベンジル基、炭素数1〜4のアルコキシル基、ヒドロキシ基、トリフルオロメチル基、又はシアナト基が少なくとも1個置換されたアリール基を示す。vは0〜5の整数を示すが、vが異なる化合物の混合物であってもよい。) (In the formula (6), Ar 3 represents a benzenetetrayl group, a naphthalenetetrayl group or a biphenyltetrayl group, and when v is 2 or more, they may be the same or different from each other. Ri and Rj Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a benzyl group, an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group, a trifluoromethyl group or a cyanato group And at least one substituted aryl group, wherein v represents an integer of 0 to 5, but may be a mixture of compounds different in v).

さらに、式(4)中のXとしては、下記式で表される2価の基が挙げられる。   Furthermore, as X in Formula (4), the bivalent group represented by a following formula is mentioned.

(上記式中、zは4〜7の整数を示す。Rkは各々独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を示す。) (In the above formula, z represents an integer of 4 to 7. R k independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)

式(5)のAr2及び式(6)のAr3の具体例としては、式(5)に示す2個の炭素原子、又は式(6)に示す2個の酸素原子が、1,4位又は1,3位に結合するベンゼンテトライル基、上記2個の炭素原子又は2個の酸素原子が4,4'位、2,4'位、2,2'位、2,3'位、3,3'位、又は3,4'位に結合するビフェニルテトライル基、及び、上記2個の炭素原子又は2個の酸素原子が、2,6位、1,5位、1,6位、1,8位、1,3位、1,4位、又は2,7位に結合するナフタレンテトライル基が挙げられる。 As specific examples of Ar 2 of Formula (5) and Ar 3 of Formula (6), two carbon atoms shown in Formula (5) or two oxygen atoms shown in Formula (6) are 1,4 Benzenetetrayl group bonded to the position or 1, 3 position, the above two carbon atoms or two oxygen atoms are 4, 4 ', 2, 4', 2, 2 ', 2, 3' And the biphenyltetrayl group bonded to the 3,3'-position or the 3,4'-position, and the above two carbon atoms or two oxygen atoms are 2,6, 1,5,1,6 And a naphthalenetetrayl group bonded to the 1, 8, 1, 3, 1, 4, or 2,7 position.

式(5)のRb、Rc、Rd、Re、Rf及びRg、並びに式(6)のRi、Rjにおけるアルキル基及びアリール基は、上記式(4)におけるものと同義である。   The alkyl group and aryl group in Rb, Rc, Rd, Re, Rf and Rg in Formula (5), and Ri and Rj in Formula (6) have the same meanings as in Formula (4) above.

上記式(4)で表されるシアナト置換芳香族化合物の具体例としては、以下に限定されないが、シアナトベンゼン、1−シアナト−2−,1−シアナト−3−,又は1−シアナト−4−メチルベンゼン、1−シアナト−2−,1−シアナト−3−,又は1−シアナト−4−メトキシベンゼン、1−シアナト−2,3−,1−シアナト−2,4−,1−シアナト−2,5−,1−シアナト−2,6−,1−シアナト−3,4−又は1−シアナト−3,5−ジメチルベンゼン、シアナトエチルベンゼン、シアナトブチルベンゼン、シアナトオクチルベンゼン、シアナトノニルベンゼン、2−(4−シアナフェニル)−2−フェニルプロパン(4−α−クミルフェノールのシアネート)、1−シアナト−4−シクロヘキシルベンゼン、1−シアナト−4−ビニルベンゼン、1−シアナト−2−又は1−シアナト−3−クロロベンゼン、1−シアナト−2,6−ジクロロベンゼン、1−シアナト−2−メチル−3−クロロベンゼン、シアナトニトロベンゼン、1−シアナト−4−ニトロ−2−エチルベンゼン、1−シアナト−2−メトキシ−4−アリルベンゼン(オイゲノールのシアネート)、メチル(4−シアナトフェニル)スルフィド、1−シアナト−3−トリフルオロメチルベンゼン、4−シアナトビフェニル、1−シアナト−2−又は1−シアナト−4−アセチルベンゼン、4−シアナトベンズアルデヒド、4−シアナト安息香酸メチルエステル、4−シアナト安息香酸フェニルエステル、1−シアナト−4−アセトアミノベンゼン、4−シアナトベンゾフェノン、1−シアナト−2,6−ジ−tert−ブチルベンゼン、1,2−ジシアナトベンゼン、1,3−ジシアナトベンゼン、1,4−ジシアナトベンゼン、1,4−ジシアナト−2−tert−ブチルベンゼン、1,4−ジシアナト−2,4−ジメチルベンゼン、1,4−ジシアナト−2,3,4−ジメチルベンゼン、1,3−ジシアナト−2,4,6−トリメチルベンゼン、1,3−ジシアナト−5−メチルベンゼン、1−シアナト又は2−シアナトナフタレン、1−シアナト4−メトキシナフタレン、2−シアナト−6−メチルナフタレン、2−シアナト−7−メトキシナフタレン、2,2'−ジシアナト−1,1'−ビナフチル、1,3−,1,4−,1,5−,1,6−,1,7−,2,3−,2,6−又は2,7−ジシアナトシナフタレン、2,2'−又は4,4'−ジシアナトビフェニル、4,4'−ジシアナトオクタフルオロビフェニル、2,4'−又は4,4'−ジシアナトジフェニルメタン、ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)エタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(2−シアナト−5−ビフェニルイル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)イソブタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)ペンタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)−3−メチルブタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)−2−メチルブタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)−2,2−ジメチルプロパン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)ペンタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)ヘキサン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−3−メチルブタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−4−メチルペンタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−3,3−ジメチルブタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)ヘキサン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)ヘプタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)オクタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2−メチルペンタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2−メチルヘキサン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2,2−ジメチルペンタン、4,4−ビス(4−シアナトフェニル)−3−メチルヘプタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2−メチルヘプタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2,2−ジメチルヘキサン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2,4−ジメチルヘキサン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2,2,4−トリメチルペンタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−シアナトフェニル)フェニルメタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)−1−フェニルエタン、ビス(4−シアナトフェニル)ビフェニルメタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−シアナト−3−イソプロピルフェニル)プロパン、1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−シアナトフェニル)シクロヘキサン、ビス(4−シアナトフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−シアナトフェニル)−2,2−ジクロロエチレン、1,3−ビス[2−(4−シアナトフェニル)−2−プロピル]ベンゼン、1,4−ビス[2−(4−シアナトフェニル)−2−プロピル]ベンゼン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、4−[ビス(4−シアナトフェニル)メチル]ビフェニル、4,4−ジシアナトベンゾフェノン、1,3−ビス(4−シアナトフェニル)−2−プロペン−1−オン、ビス(4−シアナトフェニル)エーテル、ビス(4−シアナトフェニル)スルフィド、ビス(4−シアナトフェニル)スルホン、4−シアナト安息香酸−4−シアナトフェニルエステル(4−シアナトフェニル−4−シアナトベンゾエート)、ビス−(4−シアナトフェニル)カーボネート、1,3−ビス(4−シアナトフェニル)アダマンタン、1,3−ビス(4−シアナトフェニル)−5,7−ジメチルアダマンタン、3,3−ビス(4−シアナトフェニル)イソベンゾフラン−1(3H)−オン(フェノールフタレインのシアネート)、3,3−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)イソベンゾフラン−1(3H)−オン(o−クレゾールフタレインのシアネート)、9,9'−ビス(4−シアナトフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2−シアナト−5−ビフェニルイル)フルオレン、トリス(4−シアナトフェニル)メタン、1,1,1−トリス(4−シアナトフェニル)エタン、1,1,3−トリス(4−シアナトフェニル)プロパン、α,α,α'−トリス(4−シアナトフェニル)−1−エチル−4−イソプロピルベンゼン、1,1,2,2−テトラキス(4−シアナトフェニル)エタン、テトラキス(4−シアナトフェニル)メタン、2,4,6−トリス(N−メチル−4−シアナトアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(N−メチル−4−シアナトアニリノ)−6−(N−メチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、ビス(N−4−シアナト−2−メチルフェニル)−4,4'−オキシジフタルイミド、ビス(N−3−シアナト−4−メチルフェニル)−4,4'−オキシジフタルイミド、ビス(N−4−シアナトフェニル)−4,4'−オキシジフタルイミド、ビス(N−4−シアナト−2−メチルフェニル)−4,4'−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタルイミド、トリス(3,5−ジメチル−4−シアナトベンジル)イソシアヌレート、2−フェニル−3,3−ビス(4−シアナトフェニル)フタルイミジン、2−(4−メチルフェニル)−3,3−ビス(4−シアナトフェニル)フタルイミジン、2−フェニル−3,3−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)フタルイミジン、1−メチル−3,3−ビス(4−シアナトフェニル)インドリン−2−オン、及び、2−フェニル−3,3−ビス(4−シアナトフェニル)インドリン−2−オンが挙げられる。   Specific examples of cyanato-substituted aromatic compounds represented by the above formula (4) include, but are not limited to, cyanatobenzene, 1-cyanato-2-1, 1-cyanato-3-, or 1-cyanato-4. -Methylbenzene, 1-cyanato-2-, 1-cyanato-3-, or 1-cyanato-4-methoxybenzene, 1-cyanato-2,3-, 1-cyanato-2,4-, 1-cyanato- 2,5-, 1-Cyanato-2,6-, 1-Cyanato-3,4- or 1-Cyanato-3,5-dimethylbenzene, Cyanatoethylbenzene, Cyanatobutylbenzene, Cyanatooctylbenzene, Cyanato Nonylbenzene, 2- (4-cyanaphenyl) -2-phenylpropane (cyanate of 4-α-cumylphenol), 1-cyanato-4-cyclohexylbenzene, 1-cyanato 4-vinylbenzene, 1-cyanato-2- or 1-cyanato-3-chlorobenzene, 1-cyanato-2,6-dichlorobenzene, 1-cyanato-2-methyl-3-chlorobenzene, cyanatonitrobenzene, 1-cyanato -4-nitro-2-ethylbenzene, 1-cyanato-2-methoxy-4-allylbenzene (cyanide of eugenol), methyl (4-cyanatophenyl) sulfide, 1-cyanato-3-trifluoromethylbenzene, 4- 4- Cyanatobiphenyl, 1-cyanato-2- or 1-cyanato-4-acetylbenzene, 4-cyanatobenzaldehyde, 4-cyanatobenzoic acid methyl ester, 4-cyanatobenzoic acid phenyl ester, 1-cyanato-4-acetamino Benzene, 4-cyanatobenzophenone, 1-cyanato-2 , 6-di-tert-butylbenzene, 1,2-dicyanatobenzene, 1,3-dicyanatobenzene, 1,4-dicyanatobenzene, 1,4-dicyanato-2-tert-butylbenzene, 1,4 -Dicyanato-2,4-dimethylbenzene, 1,4-dicyanato-2,3,4-dimethylbenzene, 1,3-dicyanato-2,4,6-trimethylbenzene, 1,3-dicyanato-5-methylbenzene 1-cyanato or 2-cyanatonaphthalene, 1-cyanato 4-methoxynaphthalene, 2-cyanato-6-methylnaphthalene, 2-cyanato-7-methoxynaphthalene, 2,2'-dicyanato-1,1'-binaphthyl 1,3-, 1,4-, 1, 5-, 1, 6-, 1, 7-, 2, 3-, 2, 6- or 2, 7-dicyanathosinaphthalene, 2, 2'- Or 4,4'-dicyanatobiphenyl, 4,4'-dicyanatooctafluorobiphenyl, 2,4'- or 4,4'-dicyanatodiphenylmethane, bis (4-cyanato-3,5-dimethylphenyl) methane, 1 1,1-bis (4-cyanatophenyl) ethane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis (4-cyanato) -3-Methylphenyl) propane, 2,2-bis (2-cyanato-5-biphenylyl) propane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-cyanato) 3,5-Dimethylphenyl) propane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) butane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) isobutane, 1,1-bis (4-cyano) Natophenyl) pentane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) -3-methylbutane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) -2-methylbutane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) 2,2-Dimethylpropane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) butane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) pentane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) hexane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) -3-methylbutane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) -4-methylpentane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) -3, 3-dimethylbutane, 3,3-bis (4-cyanatophenyl) hexane, 3,3-bis (4-cyanatophenyl) heptane, 3,3-bis (4-cyanatophenyl) octane, 3,3 -Bis ( -Cyanatophenyl) -2-methylpentane, 3,3-bis (4-cyanatophenyl) -2-methylhexane, 3,3-bis (4-cyanatophenyl) -2,2-dimethylpentane, 4 , 4-bis (4-cyanatophenyl) -3-methylheptane, 3,3-bis (4-cyanatophenyl) -2-methylheptane, 3,3-bis (4-cyanatophenyl) -2, 2-dimethylhexane, 3,3-bis (4-cyanatophenyl) -2,4-dimethylhexane, 3,3-bis (4-cyanatophenyl) -2,2,4-trimethylpentane, 2,2 -Bis (4-cyanatophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, bis (4-cyanatophenyl) phenylmethane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl)- 1-phenylethane, Bis (4-cyanatophenyl) biphenylmethane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-cyanato) 3-isopropylphenyl) propane, 1,1-bis (3-cyclohexyl-4-cyanatophenyl) cyclohexane, bis (4-cyanatophenyl) diphenylmethane, bis (4-cyanatophenyl) -2,2-dichloroethylene, 1,3-bis [2- (4-cyanatophenyl) -2-propyl] benzene, 1,4-bis [2- (4-cyanatophenyl) -2-propyl] benzene, 1,1-bis ( 4-Cyanatophenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 4- [bis (4-cyanatophenyl) methyl] biphenyl, 4,4-dicyl Natobenzophenone, 1,3-bis (4-cyanatophenyl) -2-propen-1-one, bis (4-cyanatophenyl) ether, bis (4-cyanatophenyl) sulfide, bis (4-cyanato) Phenyl) sulfone, 4-cyanatobenzoic acid-4-cyanatophenyl ester (4-cyanatophenyl-4-cyanatobenzoate), bis- (4-cyanatophenyl) carbonate, 1,3-bis (4-cyano) Anatophenyl) adamantane, 1,3-bis (4-cyanatophenyl) -5,7-dimethyladamantane, 3,3-bis (4-cyanatophenyl) isobenzofuran-1 (3H) -one (phenolphthalein) Cyanate), 3,3-bis (4-cyanato-3-methylphenyl) isobenzofuran-1 (3H) -one (o-creso) Cyanate of ruphthalein), 9,9'-bis (4-cyanatophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-cyanato-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (2-cyanato-5-biphenyl) (I) fluorene, tris (4-cyanatophenyl) methane, 1,1,1-tris (4-cyanatophenyl) ethane, 1,1,3-tris (4-cyanatophenyl) propane, α, α, α, α, α α'-tris (4-cyanatophenyl) -1-ethyl-4-isopropylbenzene, 1,1,2,2-tetrakis (4-cyanatophenyl) ethane, tetrakis (4-cyanatophenyl) methane, 2 , 4,6-Tris (N-methyl-4-cyanatoanilino) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (N-methyl-4-cyanatoanilino) -6- (N-methyl) Lino) -1,3,5-triazine, bis (N-4-cyanato-2-methylphenyl) -4,4'-oxydiphthalimide, bis (N-3-cyanato-4-methylphenyl) -4, 4'-oxydiphthalimide, bis (N-4-cyanatophenyl) -4,4'-oxydiphthalimide, bis (N-4-cyanato-2-methylphenyl) -4,4 '-(hexafluoroisopropyl) Phenyl) diphthalimide, tris (3,5-dimethyl-4-cyanatobenzyl) isocyanurate, 2-phenyl-3,3-bis (4-cyanatophenyl) phthalimidine, 2- (4-methylphenyl) -3 , 3-bis (4-cyanatophenyl) phthalimidine, 2-phenyl-3,3-bis (4-cyanato-3-methylphenyl) phthalimidine, 1-methyl-3,3- Scan (4-cyanatophenyl) indolin-2-one, and 2-phenyl-3,3-bis (4-cyanatophenyl) include indolin-2-one.

また、上記式(4)で表される化合物の別の具体例としては、以下に限定されないが、フェノールノボラック樹脂及びクレゾールノボラック樹脂(公知の方法により、フェノール、アルキル置換フェノール又はハロゲン置換フェノールと、ホルマリンやパラホルムアルデヒド等のホルムアルデヒド化合物とを、酸性溶液中で反応させたもの)、トリスフェノールノボラック樹脂(ヒドロキシベンズアルデヒドとフェノールとを酸性触媒の存在下に反応させたもの)、フルオレンノボラック樹脂(フルオレノン化合物と9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類を酸性触媒の存在下に反応させたもの)、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂及びビフェニルアラルキル樹脂(公知の方法により、Ar4−(CH2Y)2(Ar4はフェニル基を示し、Yはハロゲン原子を示す。以下、この段落において同様。)で表されるようなビスハロゲノメチル化合物とフェノール化合物とを酸性触媒若しくは無触媒で反応させたもの、Ar4−(CH2OR)2で表されるようなビス(アルコキシメチル)化合物とフェノール化合物とを酸性触媒の存在下に反応させたもの、又は、Ar4−(CH2OH)2で表されるようなビス(ヒドロキシメチル)化合物とフェノール化合物を酸性触媒の存在下に反応させたもの、あるいは、芳香族アルデヒド化合物とアラルキル化合物とフェノール化合物とを重縮合させたもの)、フェノール変性キシレンホルムアルデヒド樹脂(公知の方法により、キシレンホルムアルデヒド樹脂とフェノール化合物とを酸性触媒の存在下に反応させたもの)、変性ナフタレンホルムアルデヒド樹脂(公知の方法により、ナフタレンホルムアルデヒド樹脂とヒドロキシ置換芳香族化合物を酸性触媒の存在下に反応させたもの)、フェノール変性ジシクロペンタジエン樹脂、ポリナフチレンエーテル構造を有するフェノール樹脂(公知の方法により、フェノール性ヒドロキシ基を1分子中に2つ以上有する多価ヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性触媒の存在下に脱水縮合させたもの)等のフェノール樹脂を、上述と同様の方法によりシアネート化したもの等、並びにこれらのプレポリマー等が挙げられる。上記したシアン酸エステル化合物は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。 In addition, other specific examples of the compound represented by the above formula (4) include, but are not limited to, phenol novolac resin and cresol novolac resin (phenol, alkyl substituted phenol or halogen substituted phenol by a known method; Formaldehyde compounds such as formalin and paraformaldehyde are reacted in an acidic solution), trisphenol novolak resin (hydroxybenzaldehyde and phenol reacted in the presence of an acidic catalyst), fluorene novolac resin (fluorenone compound) And 9,9-bis (hydroxyaryl) fluorenes in the presence of an acidic catalyst), phenolaralkyl resin, cresolaralkyl resin, naphtholaralkyl resin and biphenylaralkyl resin (known methods) Ri, Ar 4 - (CH 2 Y ) 2 (. Ar 4 represents a phenyl group, Y represents a halogen atom and the same in this paragraph.) And bishalogenomethyl compounds represented by the phenol compound obtained by reacting an acidic catalyst or no catalyst, Ar 4 - (CH 2 oR) expressed by such bis 2 (alkoxymethyl) that a compound with a phenol compound is reacted in the presence of an acidic catalyst, or, Ar 4 - (CH 2 OH) bis (hydroxymethyl) as represented by two things compound and a phenol compound is reacted in the presence of an acidic catalyst, or an aromatic aldehyde compound and aralkyl compound with a phenol compound Polycondensed), phenol-modified xylene formaldehyde resin (xylene formaldehyde resin and phenol compound by a known method) (In the presence of an acidic catalyst), a modified naphthalene formaldehyde resin (a reaction of a naphthalene formaldehyde resin and a hydroxy-substituted aromatic compound in the presence of an acidic catalyst by a known method), a phenol-modified dicyclopentadiene Resin, Phenolic resin having a polynaphthylene ether structure (in which a multivalent hydroxynaphthalene compound having two or more phenolic hydroxy groups in one molecule is dehydrated and condensed by a known method in the presence of a basic catalyst) And the like, and those obtained by cyanating the phenolic resin by the same method as described above, and prepolymers of these. The above-mentioned cyanate ester compounds can be used singly or in combination of two or more.

上述したシアン酸エステル化合物の中でも、ビスフェノールA型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールE型シアン酸エステル化合物、ビスフェノールF型シアン酸エステル化合物等のビスフェノール型シアン酸エステル化合物、ナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物、及びフェノールノボラック型シアン酸エステル化合物が好ましい。すなわち、本実施形態において、シアン酸エステル化合物が、ビスフェノール型シアン酸エステル化合物、ナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物、及びフェノールノボラック型シアン酸エステル化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。さらに、シアン酸エステル化合物が、ナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物、及びジアリルビスフェノールA型シアン酸エステルからなる群より選択される少なくとも1種を含むことがより好ましい。とりわけ、下記式(7)で示されるナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物、又は下記式(8)で表されるジアリルビスフェノールA型シアン酸エステル化合物が好適に用いられる。   Among the above-mentioned cyanate ester compounds, bisphenol A type cyanate ester compounds, bisphenol E type cyanate ester compounds, bisphenol F type cyanate ester compounds such as bisphenol F type cyanate ester compounds, naphthol aralkyl type cyanate ester compounds, and Phenolic novolac type cyanate ester compounds are preferred. That is, in the present embodiment, the cyanate ester compound includes at least one selected from the group consisting of a bisphenol-type cyanate ester compound, a naphthol aralkyl-type cyanate ester compound, and a phenol novolac-type cyanate ester compound. preferable. Furthermore, it is more preferable that the cyanate ester compound includes at least one selected from the group consisting of naphthol aralkyl type cyanate ester compounds and diallyl bisphenol A type cyanate ester. In particular, a naphthol aralkyl type cyanate ester compound represented by the following formula (7) or a diallyl bisphenol A type cyanate ester compound represented by the following formula (8) is preferably used.

(式(7)中、Rは、各々独立に水素原子又はメチル基を示す。nは1以上50以下の整数を示す。上記式(7)で表されるナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物は、nが異なる複数の化合物の混合物として、本実施形態の樹脂組成物に含まれていてもよい。) (In formula (7), R respectively independently shows a hydrogen atom or a methyl group. N shows an integer of 1 or more and 50 or less. The naphthol aralkyl type cyanate ester compound represented by the said formula (7) is It may be contained in the resin composition of this embodiment as a mixture of a plurality of compounds in which n is different.)

(式(8)中、R1〜R3は、各々独立に水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表す。) (In formula (8), R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.)

(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であれば、公知のものを適宜使用することができ、その種類は特に限定されない。具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、アラルキルノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格変性ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ポリオール型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、グリシジルアミン、グリシジルエステル、ブタジエン等の二重結合をエポキシ化した化合物、水酸基含有シリコーン樹脂類とエピクロルヒドリンとの反応により得られる化合物等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂のなかでは、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂が難燃性、耐熱性の面で好ましい。これらのエポキシ樹脂は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Epoxy resin)
As an epoxy resin, if it is an epoxy resin which has 2 or more epoxy groups in 1 molecule, a well-known thing can be used suitably, The kind in particular is not limited. Specifically, bisphenol A epoxy resin, bisphenol E epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, bisphenol A novolac epoxy resin, glycidyl ester epoxy resin, aralkyl novolac Epoxy resin, biphenylaralkyl epoxy resin, naphthalene ether epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, polyfunctional phenol epoxy resin, naphthalene epoxy resin, anthracene epoxy resin, naphthalene skeleton modified novolak epoxy resin, phenolaralkyl Type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, alicyclic type Carboxy resin, a polyol type epoxy resins, phosphorus-containing epoxy resin, glycidyl amine, glycidyl ester, compounds of the double bonds epoxidized butadiene, etc., a compound obtained by a reaction of a hydroxyl-group-containing silicon resin with epichlorohydrin. Among these epoxy resins, biphenylaralkyl type epoxy resins, naphthylene ether type epoxy resins, polyfunctional phenol type epoxy resins, and naphthalene type epoxy resins are preferable in view of flame retardancy and heat resistance. These epoxy resins can be used singly or in combination of two or more.

(フェノール樹脂)
フェノール樹脂としては、1分子中に2個以上のヒドロキシ基を有するフェノール樹脂であれば、一般に公知のものを使用できる。その具体例としては、ビスフェノールA型フェノール樹脂、ビスフェノールE型フェノール樹脂、ビスフェノールF型フェノール樹脂、ビスフェノールS型フェノール樹脂、フェノールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック型フェノール樹脂、グリシジルエステル型フェノール樹脂、アラルキルノボラック型フェノール樹脂、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、クレゾールノボラック型フェノール樹脂、多官能フェノール樹脂、ナフトール樹脂、ナフトールノボラック樹脂、多官能ナフトール樹脂、アントラセン型フェノール樹脂、ナフタレン骨格変性ノボラック型フェノール樹脂、フェノールアラルキル型フェノール樹脂、ナフトールアラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、ビフェニル型フェノール樹脂、脂環式フェノール樹脂、ポリオール型フェノール樹脂、リン含有フェノール樹脂、水酸基含有シリコーン樹脂類等が挙げられるが、特に限定されるものではない。これらのフェノール樹脂の中では、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、ナフトールアラルキル型フェノール樹脂、リン含有フェノール樹脂、水酸基含有シリコーン樹脂が難燃性の点で好ましい。これらのフェノール樹脂は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Phenol resin)
As the phenol resin, generally known phenol resins can be used as long as they have two or more hydroxy groups in one molecule. Specific examples thereof include bisphenol A type phenol resin, bisphenol E type phenol resin, bisphenol F type phenol resin, bisphenol S type phenol resin, phenol novolac resin, bisphenol A novolac type phenol resin, glycidyl ester type phenol resin, aralkyl novolac type Phenol resin, biphenylaralkyl type phenol resin, cresol novolac type phenol resin, polyfunctional phenol resin, naphthol resin, naphthol novolac resin, polyfunctional naphthol resin, anthracene type phenol resin, naphthalene skeleton modified novolac type phenol resin, phenolaralkyl type phenol resin Naphthol aralkyl type phenol resin, dicyclopentadiene type phenol resin, biphenyl type phenol resin Nord resins, alicyclic phenolic resins, polyol-type phenolic resin, a phosphorus-containing phenol resin, a hydroxyl group-containing silicone resins and the like, but is not particularly limited. Among these phenol resins, biphenylaralkyl type phenol resins, naphtholaralkyl type phenol resins, phosphorus-containing phenol resins, and hydroxyl group-containing silicone resins are preferable in view of flame retardancy. These phenol resins can be used singly or in combination of two or more.

(オキセタン樹脂)
オキセタン樹脂としては、一般に公知のものを使用できる。例えば、オキセタン、2−メチルオキセタン、2,2−ジメチルオキセタン、3−メチルオキセタン、3,3−ジメチルオキセタン等のアルキルオキセタン、3−メチル−3−メトキシメチルオキセタン、3,3−ジ(トリフルオロメチル)パーフルオキセタン、2−クロロメチルオキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、ビフェニル型オキセタン、OXT−101(東亞合成製商品名)、OXT−121(東亞合成製商品名)等が挙げられるが、特に限定されるものではない。これらのオキセタン樹脂は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Oxetane resin)
As the oxetane resin, those generally known can be used. For example, alkyl oxetanes such as oxetane, 2-methyl oxetane, 2,2-dimethyl oxetane, 3-methyl oxetane, 3, 3-dimethyl oxetane, 3-methyl-3-methoxymethyl oxetane, 3, 3-di (trifluoro) Methyl) perfluoxetane, 2-chloromethyl oxetane, 3, 3-bis (chloromethyl) oxetane, biphenyl type oxetane, OXT-101 (trade name of Toho Gosei Co., Ltd.), OXT-121 (trade name of Toho Gosei Co., Ltd.), etc. Although it may be mentioned, it is not particularly limited. These oxetane resins can be used alone or in combination of two or more.

(ベンゾオキサジン化合物)
ベンゾオキサジン化合物としては、1分子中に2個以上のジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物であれば、一般に公知のものを用いることができる。例えば、ビスフェノールA型ベンゾオキサジンBA−BXZ(小西化学製商品名)ビスフェノールF型ベンゾオキサジンBF−BXZ(小西化学製商品名)、ビスフェノールS型ベンゾオキサジンBS−BXZ(小西化学製商品名)、P−d型ベンゾオキサジン(四国化成工業製商品名)、F−a型ベンゾオキサジン(四国化成工業製商品名)等が挙げられるが、特に限定されるものではない。これらのベンゾオキサジン化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Benzoxazine compound)
As the benzoxazine compound, generally known compounds can be used as long as they are compounds having two or more dihydrobenzoxazine rings in one molecule. For example, bisphenol A type benzoxazine BA-BXZ (trade name of Konishi Chemical) bisphenol F type benzooxazine BF-BXZ (trade name of Konishi Chemical), bisphenol S type benzooxazine BS-BXZ (trade name of Konishi Chemical), P Examples thereof include d-type benzoxazine (trade name of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) and F-a type benzoxazine (trade name of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), but are not particularly limited. These benzoxazine compounds can be used singly or in combination of two or more.

(重合可能な不飽和基を有する化合物)
重合可能な不飽和基を有する化合物としては、一般に公知のものを使用できる。例えば、エチレン、プロピレン、スチレン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル等のビニル化合物、メチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の1価又は多価アルコールの(メタ)アクリレート類、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型エポキシ(メタ)アクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレート類、及びベンゾシクロブテン樹脂、が挙げられるが、特に限定されるものではない。なお、上記「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びそれに対応するメタクリレートを包含する概念である。これらの不飽和基を有する化合物は、1種又は2種以上混合して用いることができる。
(Compound having a polymerizable unsaturated group)
As compounds having a polymerizable unsaturated group, generally known compounds can be used. For example, vinyl compounds such as ethylene, propylene, styrene, divinylbenzene and divinylbiphenyl, methyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, (Meth) acrylates of monohydric or polyhydric alcohols such as trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenol Epoxy (meth) acrylates such as A-type epoxy (meth) acrylate, bisphenol F-type epoxy (meth) acrylate and the like, and benzocyclobutene resin But it is not particularly limited. In addition, the said "(meth) acrylate" is the concept containing an acrylate and the methacrylate corresponding to it. The compound which has these unsaturated groups can be used 1 type or in mixture of 2 or more types.

上述した式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)以外のシアン酸エステル化合物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、オキタセン樹脂、ベンゾオキサジン化合物、及び重合可能な不飽和基を有する化合物よりなる群から選択される1種以上の成分の含有量は、所望する特性に応じて適宜設定することができ、特に限定されない。例えば、樹脂固形分100質量部に対して、これらの合計で1〜50質量部が好ましく、より好ましくは2〜30質量部であり、さらに好ましくは3〜20質量部である。   A group comprising a cyanate ester compound other than the cyanate ester compound (A) represented by the above-mentioned formula (I), an epoxy resin, a phenol resin, an oxacene resin, a benzoxazine compound, and a compound having a polymerizable unsaturated group The content of one or more components selected from the above can be appropriately set according to the desired characteristics, and is not particularly limited. For example, the total of 1 to 50 parts by mass is preferable, more preferably 2 to 30 parts by mass, and still more preferably 3 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content.

〔充填材(C)〕
本実施形態の樹脂組成物は、熱膨張特性、寸法安定性、難燃性、熱伝導率、電気特性等の観点から、充填材(C)をさらに含有することが好ましい。充填材(C)としては、公知のものを適宜使用することができ、その種類は特に限定されない。特に、積層板用途において一般に使用されている充填材を、充填材(C)として好適に用いることができる。充填材(C)の具体例としては、以下に限定されないが、天然シリカ、溶融シリカ、合成シリカ、アモルファスシリカ、アエロジル、中空シリカ等のシリカ類、ホワイトカーボン、チタンホワイト、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム等の酸化物、窒化ホウ素、凝集窒化ホウ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム加熱処理品(水酸化アルミニウムを加熱処理し、結晶水の一部を減じたもの)、ベーマイト、水酸化マグネシウム等の金属水和物、酸化モリブデンやモリブデン酸亜鉛等のモリブデン化合物、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、アルミナ、クレー、カオリン、タルク、焼成クレー、焼成カオリン、焼成タルク、マイカ、E−ガラス、A−ガラス、NE−ガラス、C−ガラス、L−ガラス、D−ガラス、S−ガラス、M−ガラスG20、ガラス短繊維(Eガラス、Tガラス、Dガラス、Sガラス、Qガラス等のガラス微粉末類を含む。)、中空ガラス、球状ガラス等無機系の充填材(C)の他、スチレン型、ブタジエン型、アクリル型等のゴムパウダー、コアシェル型のゴムパウダー、並びにシリコーンレジンパウダー、シリコーンゴムパウダー、シリコーン複合パウダー等有機系の充填材(C)等が挙げられる。これらの中でも、シリカ、水酸化アルミニウム、ベーマイト、酸化マグネシウム及び水酸化マグネシウムからなる群から選択される1種又は2種以上が好適である。これらの充填材(C)は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
[Filler (C)]
The resin composition of the present embodiment preferably further contains a filler (C) from the viewpoint of thermal expansion characteristics, dimensional stability, flame retardancy, thermal conductivity, electrical characteristics, and the like. A well-known thing can be used suitably as a filler (C), The kind is not specifically limited. In particular, fillers generally used in laminate applications can be suitably used as the filler (C). Specific examples of the filler (C) include, but are not limited to, natural silica, fused silica, synthetic silica, amorphous silica, aerosils, silicas such as hollow silica, white carbon, titanium white, zinc oxide, magnesium oxide, Oxides such as zirconium oxide, boron nitride, agglomerated boron nitride, silicon nitride, aluminum nitride, barium sulfate, aluminum hydroxide, aluminum hydroxide heat-treated products (aluminum hydroxide is heat-treated to reduce part of crystal water ), Metal hydrates such as boehmite and magnesium hydroxide, molybdenum compounds such as molybdenum oxide and zinc molybdate, zinc borate, zinc stannate, alumina, clay, kaolin, talc, calcined clay, calcined kaolin, calcined talc , Mica, E-glass, A-glass, NE-glass, C-gala , L-glass, D-glass, S-glass, M-glass G20, short glass fibers (including glass fine powders such as E glass, T glass, D glass, S glass, Q glass, etc.), hollow glass, In addition to spherical glass and other inorganic fillers (C), organic powders such as styrene-, butadiene- and acrylic-type rubber powders, core-shell rubber powders, silicone resin powders, silicone rubber powders and silicone composite powders. Materials (C) etc. may be mentioned. Among these, one or more selected from the group consisting of silica, aluminum hydroxide, boehmite, magnesium oxide and magnesium hydroxide are preferable. These fillers (C) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

本実施形態の樹脂組成物における充填材(C)の含有量は、所望する特性に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、樹脂組成物の成形性等の観点から、樹脂固形分を100質量部とした場合、50〜1600質量部が好ましく、より好ましくは50〜750質量部であり、さらに好ましくは50〜300質量部であり、特に好ましくは50〜200質量部である。   The content of the filler (C) in the resin composition of the present embodiment can be appropriately set according to the desired characteristics, and is not particularly limited, but from the viewpoint of the moldability of the resin composition, etc., the resin solid content When it is 100 parts by mass, 50 to 1600 parts by mass is preferable, more preferably 50 to 750 parts by mass, still more preferably 50 to 300 parts by mass, and particularly preferably 50 to 200 parts by mass.

ここで充填材(C)を樹脂組成物に含有させるにあたり、シランカップリング剤や湿潤分散剤を併用することが好ましい。   Here, when the filler (C) is contained in the resin composition, it is preferable to use a silane coupling agent or a wetting and dispersing agent in combination.

シランカップリング剤としては、一般に無機物の表面処理に用いられるものを好適に用いることができ、その種類は特に限定されない。シランカップリング剤として、具体的には、以下に限定されないが、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシラン等のアミノシラン系、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシシラン系、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルートリ(β−メトキシエトキシ)シラン等のビニルシラン系、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩等のカチオニックシラン系、並びにフェニルシラン系のシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   As a silane coupling agent, what is generally used for the surface treatment of an inorganic substance can be used suitably, The kind in particular is not limited. Specific examples of the silane coupling agent include, but are not limited to, aminosilanes such as, but not limited to, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-glycide Epoxysilanes such as xylpropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinylsilanes such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyl-tri (β-methoxyethoxy) silane, N Cationic silanes such as -β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride and the like, as well as silane coupling agents based on phenylsilanes. The silane coupling agent can be used singly or in combination of two or more.

また、湿潤分散剤としては、一般に塗料用に用いられているものを好適に用いることができ、その種類は特に限定されない。湿潤分散剤としては、好ましくは、共重合体ベースの湿潤分散剤が用いられ、市販品であってもよい。市販品の具体例としては、以下に限定されないが、ビックケミー・ジャパン(株)製のDisperbyk−110、111、161、180、BYK−W996、BYK−W9010、BYK−W903、BYK−W940等が挙げられる。湿潤分散剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Moreover, as a wetting and dispersing agent, what is generally used for paints can be used suitably, The kind in particular is not limited. As the wetting and dispersing agent, a copolymer-based wetting and dispersing agent is preferably used, and may be a commercially available product. Specific examples of the commercially available product include, but are not limited to, Disperbyk-110, 111, 161, 180, BYK-W 996, BYK-W 9010, BYK-W 903, BYK-W 940 and the like manufactured by Big Chemie Japan Ltd. Be The wetting and dispersing agents can be used alone or in combination of two or more.

(硬化促進剤)
また、本実施形態の樹脂組成物は、必要に応じて、硬化速度を適宜調節するための硬化促進剤を含有していてもよい。この硬化促進剤としては、シアン酸エステル化合物やエポキシ樹脂等の硬化促進剤として一般に使用されているものを好適に用いることができ、その種類は特に限定されない。硬化促進剤の具体例としては、オクチル酸亜鉛、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、アセチルアセトン鉄、オクチル酸ニッケル、オクチル酸マンガン等の有機金属塩類、フェノール、キシレノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、オクチルフェノール、ノニルフェノール等のフェノール化合物、1−ブタノール、2−エチルヘキサノール等のアルコール類、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール類及びこれらのイミダゾール類のカルボン酸若しくはその酸無水類の付加体等の誘導体、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、4−メチル−N,N−ジメチルベンジルアミン等のアミン類、ホスフィン系化合物、ホスフィンオキサイド系化合物、ホスホニウム塩系化合物、ダイホスフィン系化合物等のリン化合物、エポキシ−イミダゾールアダクト系化合物、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシカーボネート等の過酸化物、又はアゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、N,N-ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。硬化促進剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Hardening accelerator)
Moreover, the resin composition of this embodiment may contain the hardening accelerator for adjusting a hardening speed suitably, as needed. As this hardening accelerator, what is generally used as hardening accelerators, such as a cyanate ester compound and an epoxy resin, can be used suitably, The kind is not specifically limited. Specific examples of the curing accelerator include zinc octylate, zinc naphthenate, cobalt naphthenate, copper naphthenate, iron acetylacetonate, nickel octylate, organic acid salts such as manganese octylate, phenol, xylenol, cresol, resorcinol, catechol Phenol compounds such as octylphenol and nonylphenol, alcohols such as 1-butanol and 2-ethylhexanol, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, Imidazoles such as 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole and the like; Derivatives such as carboxylic acids of imidazoles or adducts of acid anhydrides thereof, amines such as dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4-methyl-N, N-dimethylbenzylamine, phosphine compounds, phosphine oxide compounds, Phosphorus compounds such as phosphonium salt compounds and diphosphine compounds, epoxy-imidazole adduct compounds, benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, diisopropyl peroxy carbonate, di-2-ethylhexyl Peroxides such as peroxy carbonate, or azo compounds such as azobisisobutyronitrile, N, N-dimethylaminopyridine and the like can be mentioned. The curing accelerator can be used singly or in combination of two or more.

(他の添加剤)
さらに、本実施形態の樹脂組成物は、所期の特性が損なわれない範囲において、他の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂及びそのオリゴマー、エラストマー類等の種々の高分子化合物、難燃性化合物、並びに各種添加剤等を併用することができる。これらは一般に使用されているものであれば、特に限定されるものではない。難燃性化合物の具体例としては、以下に限定されないが、4,4'−ジブロモビフェニル等の臭素化合物、リン酸エステル、リン酸メラミン、リン含有エポキシ樹脂、メラミン及びベンゾグアナミン等の窒素化合物、オキサジン環含有化合物、並びに、シリコーン系化合物等が挙げられる。また、各種添加剤としては、以下に限定されないが、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光重合開始剤、蛍光増白剤、光増感剤、染料、顔料、増粘剤、流動調整剤、滑剤、消泡剤、分散剤、レベリング剤、光沢剤、重合禁止剤等が挙げられる。これらは、所望に応じて1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Other additives)
Furthermore, the resin composition of the present embodiment can be used in various polymer compounds such as other thermosetting resins, thermoplastic resins and their oligomers, elastomers, and flame retardant compounds as long as the desired properties are not impaired. And various additives etc. can be used in combination. These are not particularly limited as long as they are generally used. Specific examples of the flame retardant compound include, but are not limited to, bromine compounds such as 4,4'-dibromobiphenyl, phosphate esters, melamine phosphates, phosphorus-containing epoxy resins, nitrogen compounds such as melamine and benzoguanamine, oxazines Examples thereof include ring-containing compounds and silicone compounds. Moreover, as various additives, although it is not limited to the following, for example, an ultraviolet light absorber, an antioxidant, a photopolymerization initiator, a fluorescent whitening agent, a photosensitizer, a dye, a pigment, a thickener, a flow control agent Lubricants, antifoaming agents, dispersants, leveling agents, brighteners, polymerization inhibitors and the like. These can be used singly or in combination of two or more, as desired.

(有機溶剤)
なお、本実施形態の樹脂組成物は、必要に応じて、有機溶剤を含有することができる。この場合、本実施形態の樹脂組成物は、上述した各種樹脂成分の少なくとも一部、好ましくは全部が有機溶剤に溶解又は相溶した態様(溶液又はワニス)として用いることができる。有機溶剤としては、上述した各種樹脂成分の少なくとも一部、好ましくは全部を溶解又は相溶可能なものであれば、公知のものを適宜用いることができ、その種類は特に限定されるものではない。有機溶剤の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセロソルブ系溶媒、乳酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、ヒドロキシイソ酪酸メチル等のエステル系溶媒、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類等の極性溶剤類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等の無極性溶剤が挙げられる。これらの有機溶剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Organic solvent)
In addition, the resin composition of this embodiment can contain the organic solvent as needed. In this case, the resin composition of the present embodiment can be used as an aspect (solution or varnish) in which at least part, preferably all, of the various resin components described above are dissolved or compatible with the organic solvent. As the organic solvent, known solvents can be appropriately used so long as at least a part, preferably all of the various resin components described above can be dissolved or compatible, and the type thereof is not particularly limited. . Specific examples of the organic solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, cellosolve solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and isoamyl acetate And ester solvents such as ethyl lactate, methyl methoxypropionate and methyl hydroxyisobutyrate; polar solvents such as amides such as dimethylacetamide and dimethylformamide; and nonpolar solvents such as aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. Be These organic solvents can be used singly or in combination of two or more.

本実施形態の樹脂組成物は、常法にしたがって調製することができ、本実施形態におけるシアン酸エステル化合物(A)及びマレイミド化合物(B)並びに上述したその他の任意成分を均一に含有する樹脂組成物が得られる方法であれば、その調製方法は特に限定されない。例えば、本実施形態におけるシアン酸エステル化合物(A)及びマレイミド化合物(B)並びに上述したその他の任意成分を溶剤に順次配合し、十分に撹拌することで本実施形態の樹脂組成物を容易に調製することができる。   The resin composition of the present embodiment can be prepared according to a conventional method, and has a resin composition uniformly containing the cyanate ester compound (A) and maleimide compound (B) in the present embodiment and the other optional components described above. The preparation method is not particularly limited as long as it is a method by which a substance is obtained. For example, the resin composition of the present embodiment is easily prepared by sequentially blending the cyanate ester compound (A) and the maleimide compound (B) in the present embodiment and the other optional components described above in a solvent and sufficiently stirring. can do.

なお、樹脂組成物の調製時に、各成分を均一に溶解或いは分散させるための公知の処理(撹拌、混合、混練処理等)を行うことができる。例えば、充填材(C)の均一分散にあたり、適切な撹拌能力を有する撹拌機を付設した撹拌槽を用いて撹拌分散処理を行うことで、樹脂組成物に対する分散性が高められる。上記の撹拌、混合、混練処理は、例えば、ボールミル、ビーズミル等の混合を目的とした装置、または、公転・自転型の混合装置等の公知の装置を用いて適宜行うことができる。   In addition, at the time of preparation of a resin composition, the well-known process (stirring, mixing, kneading process etc.) for dissolving or disperse | distributing each component uniformly can be performed. For example, when uniformly dispersing the filler (C), the dispersibility with respect to the resin composition is enhanced by performing the stirring and dispersing treatment using a stirring tank provided with a stirrer having an appropriate stirring ability. The above-mentioned stirring, mixing, and kneading processing can be appropriately performed using, for example, a device intended for mixing such as a ball mill and a bead mill, or a known device such as a rotation and rotation type mixing device.

本実施形態の樹脂組成物は、プリプレグ、金属箔張積層板、プリント配線板、及び半導体パッケージの構成材料として用いることができる。例えば、本実施形態の樹脂組成物を溶剤に溶解させた溶液を基材に含浸又は塗布し乾燥することでプリプレグを得ることができる。   The resin composition of the present embodiment can be used as a constituent material of a prepreg, a metal foil-clad laminate, a printed wiring board, and a semiconductor package. For example, a prepreg can be obtained by impregnating or coating a base material with a solution in which the resin composition of the present embodiment is dissolved in a solvent, and drying.

また、基材として剥離可能なプラスチックフィルムを用い、本実施形態の樹脂組成物を溶剤に溶解させた溶液を、そのプラスチックフィルムに塗布し乾燥することでビルドアップ用フィルム又はドライフィルムソルダーレジストを得ることができる。ここで、溶剤は、20℃〜150℃の温度で1〜90分間乾燥することで乾燥できる。また、本実施形態の樹脂組成物は溶剤を乾燥しただけの未硬化の状態で使用することもできるし、必要に応じて半硬化(Bステージ化)の状態にして使用することもできる。   In addition, a film obtained by dissolving the resin composition of the present embodiment in a solvent is applied to the plastic film and dried using the peelable plastic film as a substrate to obtain a build-up film or dry film solder resist. be able to. Here, the solvent can be dried by drying at a temperature of 20 ° C. to 150 ° C. for 1 to 90 minutes. Moreover, the resin composition of this embodiment can also be used in the unhardened state which dried the solvent, and can also be used in the state of semi-hardening (B stage formation) as needed.

以下、本実施形態のプリプレグについて詳述する。本実施形態のプリプレグは、基材と、該基材に含浸又は塗布された上記樹脂組成物とを有するものである。本実施形態のプリプレグの製造方法は、本実施形態の樹脂組成物と基材とを組み合わせてプリプレグを製造する方法であれば、特に限定されない。具体的には、本実施形態の樹脂組成物を基材に含浸又は塗布させた後、120〜220℃の乾燥機中で、2〜15分程度乾燥させる方法等によって半硬化させることで、本実施形態のプリプレグを製造することができる。このとき、基材に対する樹脂組成物の付着量、すなわち半硬化後のプリプレグの総量に対する樹脂組成物の含有量(充填材(C)を含む。)は、20〜99質量%の範囲であることが好ましい。   Hereinafter, the prepreg of the present embodiment will be described in detail. The prepreg of the present embodiment has a substrate and the above-described resin composition impregnated or coated on the substrate. The method for producing the prepreg of the present embodiment is not particularly limited as long as it is a method of producing a prepreg by combining the resin composition of the present embodiment and a substrate. Specifically, after impregnating or applying the resin composition of the present embodiment to a substrate, the resin composition is semi-cured by a method such as drying in a dryer at 120 to 220 ° C. for about 2 to 15 minutes, etc. The prepreg of the embodiment can be manufactured. At this time, the adhesion amount of the resin composition to the substrate, that is, the content of the resin composition (including the filler (C)) with respect to the total amount of the semi-cured prepreg is in the range of 20 to 99% by mass. Is preferred.

本実施形態のプリプレグを製造する際に用いる基材としては、各種プリント配線板材料に用いられている公知のものであってもよい。そのような基材としては、例えば、Eガラス、Dガラス、Lガラス、Sガラス、Tガラス、Qガラス、UNガラス、NEガラス、球状ガラス等のガラス繊維、クォーツ等のガラス以外の無機繊維、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル等の有機繊維、液晶ポリエステル等の織布が挙げられるが、これらに特に限定されるものではない。基材の形状としては、織布、不織布、ロービング、チョップドストランドマット、及びサーフェシングマット等が知られており、これらのいずれであってもよい。基材は、1種を単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。織布の中では、特に超開繊処理や目詰め処理を施した織布が、寸法安定性の観点から好適である。さらに、エポキシシラン処理、又はアミノシラン処理等のシランカップリング剤等で表面処理したガラス織布は吸湿耐熱性の観点から好ましい。また、液晶ポリエステル織布は、電気特性の面から好ましい。さらに、基材の厚さは、特に限定されないが、積層板用途であれば、0.01〜0.2mmの範囲が好ましい。   As a base material used when manufacturing the prepreg of this embodiment, the well-known thing used for various printed wiring board materials may be used. As such a substrate, for example, glass fibers such as E glass, D glass, L glass, S glass, T glass, Q glass, UN glass, NE glass, spherical glass, inorganic fibers other than glass such as quartz, Examples thereof include organic fibers such as polyimide, polyamide and polyester, and woven fabrics such as liquid crystal polyester, but are not particularly limited thereto. As the shape of the substrate, woven fabrics, non-woven fabrics, rovings, chopped strand mats, surfacing mats and the like are known, and any of these may be used. A base material can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types as appropriate. Among the woven fabrics, in particular, woven fabrics which have been subjected to super-opening treatment and filling treatment are preferable from the viewpoint of dimensional stability. Furthermore, a glass woven fabric surface-treated with a silane coupling agent such as epoxysilane treatment or aminosilane treatment is preferable from the viewpoint of moisture absorption heat resistance. In addition, a liquid crystal polyester woven fabric is preferable from the viewpoint of electrical characteristics. Furthermore, the thickness of the substrate is not particularly limited, but in the case of laminated plate applications, the range of 0.01 to 0.2 mm is preferable.

本実施形態の金属箔張積層板は、少なくとも1枚以上積層された上述のプリプレグと、そのプリプレグの片面又は両面に配された金属箔とを有するものである。具体的には、前述のプリプレグ1枚に対して、又はプリプレグを複数枚重ねたものに対して、その片面又は両面に銅やアルミニウム等の金属箔を配置して、積層成形することにより作製することができる。ここで用いられる金属箔は、プリント配線板材料に用いられているものであれば、特に限定されないが、圧延銅箔及び電解銅箔等の銅箔が好ましい。また、金属箔の厚さは、特に限定されないが、2〜70μmであると好ましく、3〜35μmであるとより好ましい。成形条件としては、通常のプリント配線板用積層板及び多層板の作製時に用いられる手法を採用できる。例えば、多段プレス機、多段真空プレス機、連続成形機、又はオートクレーブ成形機等を用い、温度180〜350℃、加熱時間100〜300分、面圧20〜100kg/cm2の条件で積層成形することにより本実施形態の金属箔張積層板を製造することができる。また、上記のプリプレグと、別途作製した内層用の配線板とを組み合わせて積層成形することにより、多層板を作製することもできる。多層板の製造方法としては、例えば、上述したプリプレグ1枚の両面に35μmの銅箔を配置し、上記条件にて積層形成した後、内層回路を形成し、この回路に黒化処理を実施して内層回路板を形成する。さらに、この内層回路板と上記のプリプレグとを交互に1枚ずつ配置し、さらに最外層に銅箔を配置して、上記条件にて好ましくは真空下で積層成形する。こうして、多層板を作製することができる。 The metal foil-clad laminate of this embodiment has the above-described prepreg on which at least one or more sheets are laminated, and a metal foil disposed on one side or both sides of the prepreg. Specifically, a metal foil such as copper or aluminum is disposed on one side or both sides of one prepreg or a laminate of a plurality of prepregs, and the laminate is formed by molding. be able to. The metal foil used here is not particularly limited as long as it is used for a printed wiring board material, but a copper foil such as a rolled copper foil and an electrolytic copper foil is preferable. The thickness of the metal foil is not particularly limited, but is preferably 2 to 70 μm, and more preferably 3 to 35 μm. As a molding condition, a method used at the time of producing a laminate for a general printed wiring board and a multilayer board can be adopted. For example, using a multi-stage press, multi-stage vacuum press, continuous molding machine, autoclave molding machine, etc., laminate molding is carried out under conditions of temperature 180 to 350 ° C., heating time 100 to 300 minutes, and surface pressure 20 to 100 kg / cm 2 Thus, the metal foil-clad laminate of the present embodiment can be manufactured. A multilayer board can also be produced by laminating and molding the above-mentioned prepreg and a wiring board for the inner layer prepared separately. As a method of manufacturing a multilayer board, for example, copper foils of 35 μm are disposed on both sides of one of the prepregs described above, and laminated under the above conditions, an inner layer circuit is formed, and the circuit is blackened. Forming an inner layer circuit board. Further, the inner layer circuit board and the above-mentioned prepreg are alternately arranged one by one, and a copper foil is further arranged as the outermost layer, and laminated and formed preferably under vacuum under the above conditions. Thus, a multilayer board can be produced.

本実施形態の金属箔張積層板は、さらにパターン形成することにより、プリント配線板として好適に用いることができる。プリント配線板は、常法に従って製造することができ、その製造方法は特に限定されない。以下、プリント配線板の製造方法の一例を示す。まず、上述した金属箔張積層板を用意する。次に、金属箔張積層板の表面にエッチング処理を施して内層回路を形成することにより、内層基板を作製する。この内層基板の内層回路表面に、必要に応じて接着強度を高めるための表面処理を施し、次いで、その内層回路表面に上述したプリプレグを所要枚数重ねる。さらに、その外側に外層回路用の金属箔を積層し、加熱加圧して一体成形する。このようにして、内層回路と外層回路用の金属箔との間に、基材及び樹脂組成物の硬化物からなる絶縁層が形成された多層の積層板が製造される。次いで、この多層の積層板にスルーホールやバイアホール用の穴あけ加工を施した後、この穴の壁面に内層回路と外層回路用の金属箔とを導通させるめっき金属皮膜を形成する。さらに、外層回路用の金属箔にエッチング処理を施して外層回路を形成することで、プリント配線板が製造される。   The metal foil-clad laminate of this embodiment can be suitably used as a printed wiring board by further forming a pattern. The printed wiring board can be manufactured according to a conventional method, and the manufacturing method is not particularly limited. Hereinafter, an example of the manufacturing method of a printed wiring board is shown. First, the metal foil-clad laminate described above is prepared. Next, the surface of the metal foil-clad laminate is subjected to etching to form an inner circuit, whereby an inner substrate is produced. If necessary, the inner layer circuit surface of the inner layer substrate is subjected to a surface treatment to increase the adhesive strength, and then, the required number of the above-described prepregs is superimposed on the inner layer circuit surface. Furthermore, a metal foil for the outer layer circuit is laminated on the outer side, and heat and pressure are integrally molded. In this manner, a multilayer laminate is produced in which an insulating layer composed of a cured product of the base material and the resin composition is formed between the inner layer circuit and the metal foil for the outer layer circuit. Then, after drilling the through holes and via holes in the multilayer laminate, a plated metal film is formed on the wall surfaces of the holes so that the inner layer circuit and the outer layer circuit metal foil are conducted. Furthermore, the printed wiring board is manufactured by etching the metal foil for the outer layer circuit to form the outer layer circuit.

上記の製造例で得られるプリント配線板は、絶縁層と、この絶縁層の表面に形成された導体層とを有し、絶縁層が上述した本実施形態の樹脂組成物を含む構成となる。すなわち、上述した本実施形態のプリプレグ(基材及びこれに含浸又は塗布された本実施形態の樹脂組成物)、上述した本実施形態の金属箔張積層板の樹脂組成物の層(本実施形態の樹脂組成物からなる層)が、本実施形態の樹脂組成物を含む絶縁層から構成されることになる。   The printed wiring board obtained in the above-mentioned production example has an insulating layer and a conductor layer formed on the surface of the insulating layer, and the insulating layer contains the resin composition of the present embodiment described above. That is, the prepreg (the base material and the resin composition of the present embodiment impregnated or coated with the same) of the present embodiment described above, the layer of the resin composition of the metal foil-clad laminate of the present embodiment described above (the present embodiment The layer consisting of the resin composition of (1) is comprised from the insulating layer containing the resin composition of this embodiment.

本実施形態の樹脂シートは、支持体と、その支持体の表面に配された、上記樹脂組成物層(積層シート)を備えている。本実施形態の樹脂シートは、積層シートとして用いることができ、また、支持体を取り除いた樹脂組成物層のみ(単層シート)としても用いることができる。すなわち、本実施形態の樹脂シートは、少なくとも、本実施形態の樹脂組成物を有するものである。この積層シートは、上記の樹脂組成物を溶剤に溶解させた溶液を支持体に塗布し乾燥することで得ることができる。ここで用いる支持体としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体フィルム、並びにこれらのフィルムの表面に離型剤を塗布した離型フィルム、ポリイミドフィルム等の有機系のフィルム基材、銅箔、アルミ箔等の導体箔、ガラス板、SUS板、FRP等の板状の無機系のフィルムが挙げられる。塗布方法としては、例えば、上記の樹脂組成物を溶剤に溶解させた溶液を、バーコーター、ダイコーター、ドクターブレード、ベーカーアプリケーター等で支持体上に塗布することで、支持体と樹脂組成物層が一体となった積層シートを作製する方法が挙げられる。また、塗布後、さらに乾燥して得られる樹脂シートから支持体を剥離又はエッチングすることで、単層シートを得ることもできる。なお、上記の本実施形態の樹脂組成物を溶剤に溶解又は相溶させた溶液を、シート状のキャビティを有する金型内に供給し乾燥する等してシート状に成形することで、支持体を用いることなく単層シートを得ることもできる。   The resin sheet of the present embodiment includes a support and the above-mentioned resin composition layer (laminated sheet) disposed on the surface of the support. The resin sheet of the present embodiment can be used as a laminated sheet, and can also be used only as a resin composition layer from which a support has been removed (a single-layer sheet). That is, the resin sheet of this embodiment has at least the resin composition of this embodiment. The laminated sheet can be obtained by applying a solution obtained by dissolving the above resin composition in a solvent to a support and drying. The support used herein is not particularly limited. For example, a polyethylene film, a polypropylene film, a polycarbonate film, a polyethylene terephthalate film, an ethylene tetrafluoroethylene copolymer film, and a surface of these films are coated with a release agent. An organic film substrate such as a mold release film and a polyimide film, a conductor foil such as copper foil and aluminum foil, a glass plate, a SUS plate, and a plate-like inorganic film such as FRP. As a coating method, for example, a solution obtained by dissolving the above resin composition in a solvent is coated on a support by a bar coater, a die coater, a doctor blade, a baker applicator or the like to obtain a support and a resin composition layer. There is a method of producing a laminated sheet in which Moreover, a single layer sheet can also be obtained by peeling or etching a support body from the resin sheet obtained by drying after application | coating. Incidentally, a solution obtained by dissolving or dissolving the resin composition of the present embodiment in a solvent is supplied into a mold having a sheet-like cavity and dried to form a sheet, thereby forming a support. A single layer sheet can also be obtained without using

なお、本実施形態の樹脂シート又は単層シートの作製において、溶剤を除去する際の乾燥条件は、特に限定されないが、20℃〜200℃の温度で1〜90分間乾燥させることが好ましい。20℃以上であると樹脂組成物中への溶剤の残存をより防止でき、200℃以下であると樹脂組成物の硬化の進行を抑制することができる。また、本実施形態の樹脂シート又は単層シートにおける樹脂層の厚さは、本実施形態の樹脂組成物の溶液の濃度と塗布厚さにより調整することができ、特に限定されない。ただし、その厚さは0.1〜500μmであると好ましい。樹脂層の厚さが500μm以下であると、乾燥時に溶剤がさらに残り難くなる。   In addition, in preparation of the resin sheet or single layer sheet of this embodiment, although the drying conditions at the time of removing a solvent are not specifically limited, It is preferable to make it dry at the temperature of 20 degreeC-200 degreeC for 1 to 90 minutes. When the temperature is 20 ° C. or more, the remaining of the solvent in the resin composition can be further prevented, and when the temperature is 200 ° C. or less, the progress of curing of the resin composition can be suppressed. Moreover, the thickness of the resin layer in the resin sheet or single layer sheet of this embodiment can be adjusted with the density | concentration of the solution of the resin composition of this embodiment, and application | coating thickness, and it does not specifically limit. However, the thickness is preferably 0.1 to 500 μm. When the thickness of the resin layer is 500 μm or less, the solvent is less likely to remain at the time of drying.

以下、本実施形態を実施例及び比較例を用いてさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これらにより何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例における各種の製造条件や評価結果の値は、本発明の実施態様における好ましい上限値又は好ましい下限値としての意味をもつものであり、好ましい範囲は前記した上限又は下限の値と、下記実施例の値又は実施例同士の値との組み合わせで規定される範囲であってもよい。   Hereinafter, the present embodiment will be more specifically described using examples and comparative examples. However, the present invention is not limited at all by these. The values of various manufacturing conditions and evaluation results in the following examples have meanings as preferable upper limit values or preferable lower limit values in the embodiment of the present invention, and the preferable range is the value of the upper limit or the lower limit described above. And a range defined by a combination of the values of the following examples or the values of the examples.

〔合成例1〕フェニレンエーテル骨格を有するシアン酸エステル化合物(A)(NOCN)の合成
フェニレンエーテル骨格を有するフェノール樹脂(DIC(株)製、EXB−9600)300g(OH基換算3.75mol)、及びトリエチルアミン580.8g(5.74mol、前記ヒドロキシ基1molに対して1.53mol)を、ジクロロメタン1800gに溶解させ、これを溶液1とした。
塩化シアン380.4g(6.19mol、前記ヒドロキシ基1molに対して1.65mol)、ジクロロメタン887.5g、36%塩酸569.7g(5.63mol、前記ヒドロキシ基1モルに対して1.5モル)、及び水2800gの混合溶液に、撹拌下、液温−2〜−0.5℃に保ちながら、溶液1を100分かけて注下した。溶液1の注下終了後、同温度にて30分撹拌した後、トリエチルアミン227.7g(2.25mol、前記ヒドロキシ基1molに対して0.6mol)をジクロロメタン230gに溶解させた溶液(溶液2)を、40分かけて注下した。溶液2の注下終了後、同温度にて30分撹拌して反応を完結させた。
その後反応液を静置して有機相と水相を分離した。得られた有機相を、0.1N塩酸2Lにより洗浄した後、水2000gで7回洗浄した。水洗7回目の廃水の電気伝導度は50μS/cmであり、水による洗浄により、除けるイオン性化合物は十分に除けられたことを確認した。
水洗後の有機相を減圧下で濃縮し、最終的に90℃で1時間濃縮乾固させて目的とするシアン酸エステル化合物NOCN(黒紫色粘性物)197gを得た。得られたNOCNのIRスペクトルは2250cm-1にシアン酸エステル基の吸収を示し、且つ、ヒドロキシ基の吸収は示さなかった。得られたNOCNのIRチャート、及び原料として用いたEXB−9600のIRチャートを、図1に示す。
Synthesis Example 1 Synthesis of Cyanate Ester Compound (A) (NOCN) Having a Phenylene Ether Skeleton 300 g of a phenol resin having a phenylene ether skeleton (manufactured by DIC Corporation, EXB-9600) (3.75 mol in terms of OH group), And 580.8 g (5.74 mol, 1.53 mol with respect to 1 mol of the hydroxy group) of triethylamine were dissolved in 1800 g of dichloromethane, and this was used as a solution 1.
380.4 g (6.19 mol, 1.65 mol relative to 1 mol of the hydroxy group) of cyanogen chloride, 887.5 g of dichloromethane, 569.7 g (5.63 mol, 36 mol of hydrochloric acid), 1.5 mol per 1 mol of the hydroxy group And a solution of 2800 g of water were poured over 100 minutes while maintaining the solution temperature -2 to -0.5 ° C under stirring. After completion of the pouring of Solution 1, after stirring for 30 minutes at the same temperature, a solution in which 227.7 g (2.25 mol, 0.6 mol per 1 mol of the hydroxy group) of triethylamine was dissolved in 230 g of dichloromethane (solution 2) Was poured over 40 minutes. After completion of pouring of solution 2, the reaction was completed by stirring for 30 minutes at the same temperature.
Thereafter, the reaction solution was allowed to stand to separate the organic phase and the aqueous phase. The obtained organic phase was washed with 2 L of 0.1 N hydrochloric acid and then washed seven times with 2000 g of water. The electric conductivity of the seventh washing with water was 50 μS / cm, and washing with water confirmed that the removable ionic compounds were sufficiently removed.
The organic phase after washing with water was concentrated under reduced pressure and finally concentrated to dryness at 90 ° C. for 1 hour to obtain 197 g of the objective cyanate ester compound NOCN (black-purple viscous substance). The IR spectrum of the obtained NOCN showed absorption of a cyanate ester group at 2250 cm -1 and no absorption of a hydroxy group. The IR chart of the obtained NOCN and the IR chart of EXB-9600 used as a raw material are shown in FIG.

(実施例1)
合成例1のシアン酸エステル化合物(A)(NOCN、シアネート基当量108g/eq.)50.0質量部、ノボラック型マレイミド化合物(大和化成工業社製、BMI−2300、不飽和イミド基当量186g/eq.)50.0質量部、エポキシシラン処理された溶融シリカ(アドマテックス製、SC2050MB)100.0質量部、2,4,5−Triphenylimidazole(東京化成工業(株)製)0.5質量部、オクチル酸亜鉛(日本化学産業(株)製)0.10質量部をメチルエチルケトンに混合して、実施例1のワニスを得た。
得られた実施例1のワニスを厚さ0.1mmのEガラスクロスに含浸塗工し、乾燥機(耐圧防爆型スチーム乾燥機、(株)高杉製作所製))を用いて165℃、5分加熱乾燥し、樹脂組成物46質量%の実施例1のプリプレグを得た。このプリプレグ8枚を重ね、両面に12μm銅箔(3EC−M3−VLP、三井金属鉱業(株)製)を配置し、圧力40kg/cm2、温度220℃で80分間真空プレスを行い、厚さ0.8mmの実施例1の12μm銅張り積層板を得た。
Example 1
50.0 parts by mass of cyanate ester compound (A) (NOCN, cyanate group equivalent 108 g / eq.) Of Synthesis Example 1, novolac type maleimide compound (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., BMI-2300, unsaturated imide group equivalent 186 g /) eq.) 50.0 parts by mass, 100.0 parts by mass of fused silica treated with epoxysilane (manufactured by Admatex, SC2050MB), 0.5 parts by mass of 2,4,5-Triphenylimidazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 0.10 parts by mass of zinc octylate (manufactured by Nippon Chemical Industrial Co., Ltd.) was mixed with methyl ethyl ketone to obtain the varnish of Example 1.
The obtained varnish of Example 1 is impregnated and coated on an E glass cloth having a thickness of 0.1 mm, and the temperature is 165 ° C. for 5 minutes using a dryer (explosion-proof steam dryer, manufactured by Takasugi Seisakusho Co., Ltd.) It heat-dried and the prepreg of Example 1 of 46 mass% of resin compositions was obtained. Eight prepregs are stacked, 12 μm copper foil (3EC-M3-VLP, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) is placed on both sides, and vacuum pressing is performed at a pressure of 40 kg / cm 2 and a temperature of 220 ° C. for 80 minutes. A 12 μm copper-clad laminate of Example 1 of 0.8 mm was obtained.

(比較例1)
合成例1のシアン酸エステル化合物(A)に代えて、ノボラック型シアン酸エステル化合物(Primaset PT-30、ロンザジャパン(株)製、シアネート基当量124g/eq.)を用いる以外は、実施例1と同様にして、比較例1のワニスを得た。
得られた比較例1のワニスを厚さ0.1mmのEガラスクロスに含浸塗工し、乾燥機(耐圧防爆型スチーム乾燥機、(株)高杉製作所製))を用いて165℃、5分加熱乾燥し、樹脂組成物46質量%の比較例1のプリプレグを得た。このプリプレグ8枚を重ね、両面に12μm銅箔(3EC−M3−VLP、三井金属鉱業(株)製)を配置し、圧力40kg/cm2、温度220℃で80分間真空プレスを行い、厚さ0.8mmの比較例1の12μm銅張り積層板を得た。
(Comparative example 1)
Example 1 except using a novolak type cyanate ester compound (Primaset PT-30, manufactured by Lonza Japan Co., Ltd., cyanate group equivalent 124 g / eq.) In place of the cyanate ester compound (A) of Synthesis Example 1 The varnish of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in the above.
The varnish of Comparative Example 1 obtained is impregnated and coated on an E glass cloth having a thickness of 0.1 mm, and the temperature is 165 ° C. for 5 minutes using a dryer (explosion-proof steam dryer, Takasugi Seisakusho Co., Ltd.). It heat-dried and the prepreg of the comparative example 1 of 46 mass% of resin compositions was obtained. Eight prepregs are stacked, 12 μm copper foil (3EC-M3-VLP, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) is placed on both sides, and vacuum pressing is performed at a pressure of 40 kg / cm 2 and a temperature of 220 ° C. for 80 minutes. A 12 μm copper-clad laminate of Comparative Example 1 of 0.8 mm was obtained.

〔銅張り積層板の評価〕
得られた銅張り積層板を用いて、以下の評価を行った。
(1)耐熱性評価
得られた絶縁層厚さ0.8mmの銅箔張積層板をダイシングソーでサイズ12.7×30mmに切断後、表面の銅箔をエッチングにより除去し、測定用サンプルを得た。この測定用サンプルを用い、JIS C6481に準拠して動的粘弾性分析装置(TAインスツルメント製)でDMA法により、貯蔵弾性率E'、損失弾性率E''を測定し、E''及びtanδ(=E''/E')のピークの値をそれぞれガラス転移温度として耐熱性を評価した。
[Evaluation of copper-clad laminates]
The following evaluation was performed using the obtained copper-clad laminate.
(1) Heat resistance evaluation The obtained copper foil-clad laminate having an insulation layer thickness of 0.8 mm is cut to a size of 12.7 × 30 mm with a dicing saw, and the copper foil on the surface is removed by etching to obtain a sample for measurement. Obtained. Using this sample for measurement, the storage elastic modulus E ′ and the loss elastic modulus E ′ ′ are measured by the DMA method according to JIS C6481 with a dynamic viscoelastic analyzer (manufactured by TA Instruments), E ′ ′ The heat resistance was evaluated by setting the peak value of and tanδ (= E ′ ′ / E ′) as the glass transition temperature.

(2)熱伝導率
得られた絶縁層厚さ0.8mmの銅箔張積層板表面の銅箔をエッチングにより除去し、測定用サンプルを得た。得られたサンプルの密度を測定し、また、比熱をDSC(TA Instrumen Q100型)により測定し、さらに、キセノンフラッシュアナライザ(Bruker:LFA447 Nanoflash)により熱拡散率を測定した。次いで、厚み方向の熱伝導率を以下の式から算出した。
熱伝導率(W/m・K)=密度(kg/m3)×比熱(kJ/kg・K)×熱拡散率(m2/s)×1000
(2) Thermal conductivity The copper foil on the surface of the obtained copper foil-clad laminate having an insulating layer thickness of 0.8 mm was removed by etching to obtain a measurement sample. The density of the obtained sample was measured, the specific heat was measured by DSC (TA Instrumen Q100), and the thermal diffusivity was measured by a xenon flash analyzer (Bruker: LFA 447 Nanoflash). Next, the thermal conductivity in the thickness direction was calculated from the following equation.
Thermal conductivity (W / m · K) = density (kg / m 3 ) × specific heat (kJ / kg · K) × thermal diffusivity (m 2 / s) × 1000

本発明の樹脂組成物は、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート、プリント配線板等の材料として、産業上の利用可能性を有する。   The resin composition of the present invention has industrial applicability as a material such as a prepreg, a metal foil-clad laminate, a resin sheet, a printed wiring board and the like.

Claims (9)

下記式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)、及び
マレイミド化合物(B)
を少なくとも含有する、樹脂組成物。
(式中、R1〜R4は、各々独立に水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表し、nは0以上の整数を表す。)
Cyanate ester compound (A) represented by the following formula (I), and maleimide compound (B)
The resin composition containing at least.
(Wherein, R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and n represents an integer of 0 or more.)
前記シアン酸エステル化合物(A)の含有量が、前記樹脂組成物中の樹脂固形分100質量部に対して、1〜90質量部である
請求項1に記載の樹脂組成物。
The resin composition according to claim 1, wherein the content of the cyanate ester compound (A) is 1 to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content in the resin composition.
充填材(C)をさらに含有する
請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
The resin composition according to claim 1, further comprising a filler (C).
前記充填材(C)の含有量が、前記樹脂組成物中の樹脂固形分100質量部に対して、50〜1600質量部である
請求項3に記載の樹脂組成物。
The resin composition according to claim 3, wherein the content of the filler (C) is 50 to 1600 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content in the resin composition.
前記式(I)で表されるシアン酸エステル化合物(A)以外のシアン酸エステル化合物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、オキセタン樹脂、ベンゾオキサジン化合物、及び重合可能な不飽和基を有する化合物よりなる群から選択される1種以上をさらに含有する
請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
From the group consisting of a cyanate ester compound other than the cyanate ester compound (A) represented by the formula (I), an epoxy resin, a phenol resin, an oxetane resin, a benzoxazine compound, and a compound having a polymerizable unsaturated group The resin composition according to any one of claims 1 to 4, further comprising one or more selected.
基材、及び
前記基材に含浸又は塗布された、請求項1〜5のいずれか一項に記載の樹脂組成物
を少なくとも備える、プリプレグ。
A prepreg, comprising: a substrate; and the resin composition according to any one of claims 1 to 5, which is impregnated or applied to the substrate.
少なくとも1枚以上の請求項6に記載のプリプレグ、及び
前記プリプレグの片面又は両面に配された金属箔、
を少なくとも備える、金属箔張積層板。
A prepreg according to claim 6, at least one sheet, and a metal foil disposed on one side or both sides of the prepreg,
A metal foil-clad laminate, comprising at least:
支持体、及び
前記支持体の表面に設けられた、請求項1〜5のいずれか一項に記載の樹脂組成物
を少なくとも備える、樹脂シート。
A resin sheet comprising at least a resin composition according to any one of claims 1 to 5, provided on a support and the surface of the support.
絶縁層、及び前記絶縁層の表面に設けられた導体層を少なくとも備え、
前記絶縁層が、請求項1〜5のいずれか一項に記載の樹脂組成物を含む、
プリント配線板。
At least an insulating layer, and a conductor layer provided on the surface of the insulating layer,
The said insulating layer contains the resin composition as described in any one of Claims 1-5,
Printed wiring board.
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