JP2019074766A - Mirror drive device and manufacturing method of the same - Google Patents

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Abstract

To secure a magnetic field acting on a drive coil, and attain miniaturization when the drive coil is arranged in a surface on an opposite side of a mirror in a movable part.SOLUTION: A mirror drive device 1 comprises: a support part 20; a movable part 22; a permanent magnet 10 that forms a magnetic field around the movable part 22; and a wire substrate 12 that is arranged between the support part 20 and the permanent magnet 10 in an opposing direction of a pair of principal surfaces of the movable part 22 so that the movable part 22 is located on an inner side when viewed from the opposing direction. The movable part 22 includes: a mirror arrangement part 36; a mirror 48 that is arranged on a side of the principal surface 36b; and a drive coil 46 that is arranged on a side of the principal surface 36a so as to face the permanent magnet 10. The support 20 has: a base 24 that is connected to a connection member 38; and a reinforcement part 26 that extends from the base 24 toward a side away from the permanent magnet 10 and the wire substrate 12. The drive coil 46 is connected to electrodes 56a to 56d by lead-out conductors 42a to 42d.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本開示は、ミラー駆動装置及びその製造方法に関する。   The present disclosure relates to a mirror drive device and a method of manufacturing the same.

近年、微小な大きさの機械的要素及び電子回路要素を融合したMEMS(Micro Electro Mechanical System)技術(マイクロマシン技術ともいう。)を用いたミラー駆動装置の研究が盛んに行われている。特許文献1,2は、電磁式のミラー駆動装置の一例を開示している。   2. Description of the Related Art In recent years, research on mirror drive devices using MEMS (Micro Electro Mechanical System) technology (also referred to as micromachine technology) in which mechanical elements of minute size and electronic circuit elements are fused has been actively conducted. Patent documents 1 and 2 disclose an example of an electromagnetic mirror drive device.

例えば、特許文献2が開示するミラー駆動装置は、支持部と、可動部と、ミラーと、駆動コイルと、一対の永久磁石とを備える。支持部は、連結部材を介して可動部を揺動可能に支持している。ミラーは、可動部の表面に配置されている。駆動コイルは、可動部において、ミラーと同じ側の表面かミラーとは反対側の面である裏面に配置されている。一対の永久磁石は、可動部の表面の法線方向に交差する方向において、可動部が間に位置するように配置されている。   For example, the mirror drive device disclosed in Patent Document 2 includes a support portion, a movable portion, a mirror, a drive coil, and a pair of permanent magnets. The support portion pivotally supports the movable portion via the connection member. The mirror is disposed on the surface of the movable part. The drive coil is disposed on the back surface which is the surface on the same side as the mirror or the surface opposite to the mirror in the movable portion. The pair of permanent magnets are disposed such that the movable portion is positioned therebetween in a direction intersecting the normal direction of the surface of the movable portion.

駆動コイルに電流が流れると、一対の永久磁石によって可動部の周囲に生じている磁場との相互作用により駆動コイルにローレンツ力が発生し、可動部が揺動する。可動部が揺動すると、可動部の表面に配置されているミラーの向きが変わるので、ミラーからの反射光の光路が変更される。このようなミラー駆動装置は、例えば、光通信用光スイッチや光スキャナなどに応用されている。   When current flows in the drive coil, Lorentz force is generated in the drive coil by interaction with the magnetic field generated around the movable part by the pair of permanent magnets, and the movable part swings. When the movable portion swings, the direction of the mirror disposed on the surface of the movable portion changes, so that the optical path of the reflected light from the mirror is changed. Such a mirror driving device is applied to, for example, an optical switch for optical communication, an optical scanner, and the like.

特開2002−040355号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-040355 特開平11−231252号公報JP-A-11-231252

駆動コイルが、可動部の裏面に配置されている場合、以下の利点が得られる。すなわち、可動部において駆動コイルがミラーと同じ側の表面に存在しなくなるので、(1)ミラーを大きく形成できると共に、(2)駆動コイルの凹凸の影響をミラーが受けず、平坦なミラーを形成できる。   When the drive coil is disposed on the back of the movable portion, the following advantages are obtained. That is, since the drive coil does not exist on the surface on the same side as the mirror in the movable portion, (1) the mirror can be formed large, and (2) the mirror is not affected by the unevenness of the drive coil, and a flat mirror is formed. it can.

ところで、特許文献2に記載のミラー駆動装置のように、可動部の表面の法線方向に交差する方向において、一対の永久磁石の間に可動部が配置されていると、永久磁石と、可動部に形成されている駆動コイルとの距離が大きくなる傾向にあり、駆動コイルに十分大きな磁界が作用し難い場合がある。そこで、永久磁石をより駆動コイルに近づけてより大きな磁界を駆動コイルに作用させたいという要望がある。そのため、可動部の表面の法線方向から見て支持部及び可動部に重なり合うように配置された一つの永久磁石を採用することが考えられる。この場合、当該法線方向において永久磁石と可動部とが隣り合うので、永久磁石が全体として駆動コイルに近づく。そのため、より大きな磁界が駆動コイルに作用しうる。   By the way, when the movable part is disposed between a pair of permanent magnets in the direction crossing the normal direction of the surface of the movable part as in the mirror driving device described in Patent Document 2, the permanent magnet and the movable part are movable. The distance to the drive coil formed in the portion tends to be large, and a sufficiently large magnetic field may not easily act on the drive coil. Therefore, there is a demand for bringing the permanent magnet closer to the drive coil and causing a larger magnetic field to act on the drive coil. Therefore, it is conceivable to adopt one permanent magnet disposed so as to overlap the support portion and the movable portion when viewed in the normal direction of the surface of the movable portion. In this case, since the permanent magnet and the movable portion are adjacent to each other in the normal direction, the permanent magnet as a whole approaches the drive coil. Therefore, a larger magnetic field can act on the drive coil.

一方で、ミラー駆動装置の小型化を図りたいという要望もある。しかしながら、上記のように、可動部の裏面に駆動コイルが配置され且つ当該法線方向から見て支持部及び可動部に重なり合うように一つの永久磁石が配置される場合には、次の理由により装置が大型化してしまう傾向にある。すなわち、駆動コイルに電力を供給してミラーを駆動するためには、ミラー駆動装置と、その外部に位置し且つ電源に接続された配線基板の電極とが、電気的に接続される必要がある。具体的には、駆動コイルの端部から支持部まで引き出し導体を敷設して、支持部のうち可動部の裏面と同じ側の面に配置された電極に当該引き出し導体を接続し、当該電極と配線基板の電極とを電気的に接続する必要がある。このような電気的な接続には、従来、ワイヤボンディングの手法が一般的に採用されているので、支持部に電極を設けるための領域を確保したり、支持部の近傍においてワイヤを配置するための空間を確保しなければならない。そうすると、支持部が必要以上に大きくなってしまうと共に、支持部の周囲に確保される空間により、ミラー駆動装置も全体として大型化してしまう。   On the other hand, there is also a demand to miniaturize the mirror drive device. However, as described above, when the drive coil is disposed on the back surface of the movable portion and one permanent magnet is disposed so as to overlap the support portion and the movable portion when viewed from the normal direction, for the following reasons. There is a tendency for the device to become larger. That is, in order to supply power to the drive coil to drive the mirror, it is necessary to electrically connect the mirror drive device to the electrode of the wiring board which is located outside and connected to the power supply. . Specifically, a lead conductor is laid from the end of the drive coil to the support portion, and the lead conductor is connected to an electrode disposed on the same side of the support portion as the back surface of the movable portion, It is necessary to electrically connect the electrodes of the wiring board. Conventionally, a wire bonding method has generally been adopted for such electrical connection. Therefore, in order to secure a region for providing an electrode in the support portion or to arrange a wire in the vicinity of the support portion Space for the Then, the support portion becomes larger than necessary, and the mirror drive device also becomes larger as a whole by the space secured around the support portion.

そこで、本開示は、可動部においてミラーとは反対側の面に駆動コイルが配置されている場合に、駆動コイルに作用する磁界を確保しつつ小型化を図ることが可能なミラー駆動装置及びその製造方法を説明する。   Therefore, in the present disclosure, when the drive coil is disposed on the surface on the opposite side to the mirror in the movable portion, the mirror drive device capable of achieving miniaturization while securing the magnetic field acting on the drive coil and the same The manufacturing method will be described.

本開示の一つの観点に係るミラー駆動装置は、枠状を呈する支持部と、支持部の内側に位置し且つ対向する第1及び第2の主面を有し、連結部材を介して支持部に揺動可能に支持された可動部と、第1及び第2の主面が対向する対向方向で支持部及び第2の主面と対向するように位置し、可動部の周囲に磁場を形成する磁性体と、枠状を呈しており、対向方向から見て可動部が内側に位置するように、対向方向で支持部と磁性体との間に配置されている配線基板とを備え、可動部は、第1及び第2の主面を含む基材と、第1の主面側に配置されたミラーと、磁性体と向かい合うように第2の主面側に配置された駆動コイルとを有し、支持部は、枠状を呈しており、連結部材と接続された基部と、枠状を呈しており、対向方向で磁性体及び配線基板から離れる方向に基部から延びている補強部と、基部のうち磁性体と対向する表面側で且つ対向方向から見て補強部と重なり合う位置に配置された電極とを有し、駆動コイルは、可動部から連結部材を経由して支持部へと延びている引き出し導体によって、電極と接続され、電極は、配線基板と電気的に接続されている。   A mirror drive device according to one aspect of the present disclosure includes a support having a frame shape, and first and second main surfaces located on the inner side of the support and opposed to each other, and the support via a coupling member. The movable portion supported so as to be pivotable, and the first and second principal surfaces are positioned to face the support portion and the second principal surface in the opposing direction, and a magnetic field is formed around the movable portion A movable magnetic body having a frame shape, and a wiring board disposed between the support portion and the magnetic body in the opposite direction so that the movable portion is located inside when viewed from the opposite direction, The portion includes a base including the first and second main surfaces, a mirror disposed on the first main surface, and a drive coil disposed on the second main surface so as to face the magnetic body. The support portion has a frame shape, a base portion connected to the connection member, and a frame shape, and the magnetic body and the wiring in the opposing direction The drive coil includes a reinforcing portion extending from the base in a direction away from the plate, and an electrode disposed on the surface of the base facing the magnetic body and in a position overlapping the reinforcing portion when viewed from the opposite direction. The electrode is connected to the electrode by a lead conductor extending from the movable portion to the support via the connecting member, and the electrode is electrically connected to the wiring substrate.

本開示の一つの観点に係るミラー駆動装置では、駆動コイルが、可動部から連結部材を経由して支持部へと延びている引き出し導体によって、基部のうち磁性体と対向する表面側に配置された電極と接続されていると共に、電極が、第1及び第2の主面の対向方向で支持部と磁性体との間に配置されている配線基板と電気的に接続されている。このように、支持部と磁性体との間に配線基板が存在することで、基部のうち磁性体と対向する表面側に配置された電極と配線基板との電気的な接続が図られる。従って、可動部においてミラーとは反対側の表面に駆動コイルが配置されている場合であっても、駆動コイルを外部と電気的に接続することが可能となる。   In the mirror drive device according to one aspect of the present disclosure, the drive coil is disposed on the surface side facing the magnetic body of the base by the lead conductor extending from the movable portion to the support portion via the coupling member. The electrode is connected with the wiring substrate, and the electrode is electrically connected with the wiring substrate disposed between the support portion and the magnetic body in the opposing direction of the first and second main surfaces. Thus, the presence of the wiring board between the support portion and the magnetic body makes it possible to electrically connect the electrode and the wiring board disposed on the surface side of the base facing the magnetic body. Therefore, even when the drive coil is disposed on the surface of the movable portion opposite to the mirror, the drive coil can be electrically connected to the outside.

本開示の一つの観点に係るミラー駆動装置では、磁性体が対向方向で第2の主面と対向している。そのため、対向方向において磁性体と可動部とが隣り合うので、可動部のうち第2の主面側に配置された駆動コイルに磁性体が全体として近づく。従って、駆動コイルに作用する磁界を確保することができる。   In the mirror drive device according to one aspect of the present disclosure, the magnetic body faces the second main surface in the facing direction. Therefore, since the magnetic body and the movable portion are adjacent to each other in the facing direction, the magnetic body as a whole approaches the drive coil disposed on the second main surface side of the movable portion. Therefore, the magnetic field acting on the drive coil can be secured.

本開示の一つの観点に係るミラー駆動装置では、第1及び第2の主面の対向方向から見て、配線基板が支持部と磁性体との間に配置され且つ可動部が配線基板の内側に位置している。そのため、支持部と磁性体との間に位置する配線基板が、可動部と磁性体とを離間させるスペーサとしても機能する。従って、可動部が揺動するための空間を配線基板によって確保することができる。加えて、配線基板が、駆動コイルに電気を供給する本来の機能と、スペーサとの機能を併せ持っているため、ミラー駆動装置の小型化を図ることができる。   In the mirror driving device according to one aspect of the present disclosure, the wiring substrate is disposed between the support portion and the magnetic body and the movable portion is on the inner side of the wiring substrate when viewed from the opposing direction of the first and second main surfaces. It is located in Therefore, the wiring board located between the support portion and the magnetic body also functions as a spacer for separating the movable portion and the magnetic body. Therefore, the space for swinging the movable portion can be secured by the wiring board. In addition, since the wiring board has both the function of supplying electricity to the drive coil and the function of the spacer, the mirror drive device can be miniaturized.

本開示の一つの観点に係るミラー駆動装置では、基部のうち磁性体と対向する表面側で且つ対向方向から見て補強部と重なり合う位置に、電極が配置されている。そのため、配線基板と駆動コイルとを電気的に接続する際に応力等が発生すると、主として、電極及び基部を介して補強部が当該応力等を受ける。従って、可動部がその応力等による影響を受け難くなる。   In the mirror drive device according to one aspect of the present disclosure, the electrode is disposed on the surface side of the base facing the magnetic body and at a position overlapping the reinforcing portion when viewed from the facing direction. Therefore, when a stress or the like occurs when the wiring substrate and the drive coil are electrically connected, the reinforcing portion mainly receives the stress or the like through the electrode and the base. Therefore, the movable portion is less susceptible to the stress and the like.

なお、本明細書において、「第1及び第2の主面の対向方向」とは、ミラー駆動装置の非駆動状態(駆動コイルに電流が流れていない非通電状態)での対向方向をいうものとする。ミラー駆動装置の非駆動状態においては、可動部の第2の主面と磁性体のうち当該第2の主面と向かい合う表面とは、ほぼ正対している。   In the present specification, "the opposing direction of the first and second main surfaces" means the opposing direction in the non-driven state (the non-energized state in which the current does not flow in the drive coil) of the mirror drive device. I assume. In the non-driven state of the mirror drive device, the second main surface of the movable portion and the surface of the magnetic body facing the second main surface substantially face each other.

配線基板は、磁性体のうち第2の主面と向かい合う表面上に配置されていてもよい。   The wiring board may be disposed on the surface of the magnetic body facing the second main surface.

対向方向において、基部及び前記補強部の厚さの合計は可動部の厚さよりも厚くてもよい。この場合、支持部の強度がより高まるので、配線基板と駆動コイルとを電気的に接続する際に応力等が発生しても、可動部がその応力等による影響をよりいっそう受け難くなる。   In the opposite direction, the sum of the thickness of the base and the reinforcing portion may be thicker than the thickness of the movable portion. In this case, since the strength of the support portion is further increased, even if a stress or the like occurs when the wiring substrate and the drive coil are electrically connected, the movable portion is further less affected by the stress or the like.

本開示の一つの観点に係るミラー駆動装置は、配線基板と支持部との間に配置されると共に、配線基板と電極とを接続するバンプ電極をさらに備えてもよい。この場合、磁性体と支持部との間にバンプ電極が存在するので、第2の主面と磁性体との離間距離がさらに大きくなる。従って、可動部が揺動する空間をさらに確保することができる。   The mirror drive device according to one aspect of the present disclosure may further include a bump electrode which is disposed between the wiring substrate and the support portion and which connects the wiring substrate and the electrode. In this case, since the bump electrode exists between the magnetic body and the support portion, the distance between the second main surface and the magnetic body is further increased. Therefore, the space in which the movable portion swings can be further secured.

基材は、第2の主面側に位置し且つ第2の主面に直交する方向から見てスパイラル状に延びている溝部を含み、駆動コイルは、溝部内に配置された第1の金属材料によって構成されると共に、主面に直交する方向から見てスパイラル状に巻回されていてもよい。   The base material includes a groove portion located on the second main surface side and extending in a spiral shape as viewed from the direction orthogonal to the second main surface, and the drive coil is a first metal disposed in the groove portion While being comprised by material, it may be spirally wound seeing from the direction orthogonal to the main surface.

可動部は、溝部の開口を覆うと共に、第1の金属材料の拡散を抑制する第2の金属材料で構成された被覆層と、第2の主面上及び被覆層上に配置された絶縁層とをさらに有してもよい。この場合、駆動コイルを構成する第1の金属材料が絶縁層に拡散し難くなっており、ショートの発生が防止される。従って、ショートによる導通不良を解消できる。これに伴い、高密度に巻回された駆動コイルが実現されるので、より大きなローレンツ力を駆動コイルに作用させ得る。その結果、ミラーの可動範囲が大きなミラー駆動装置を得ることができる。   The movable portion covers the opening of the groove portion and a covering layer made of a second metal material which suppresses diffusion of the first metal material, and an insulating layer disposed on the second major surface and on the covering layer And may be further included. In this case, the first metal material constituting the drive coil is difficult to diffuse into the insulating layer, and the occurrence of short circuit is prevented. Therefore, the conduction failure due to the short circuit can be eliminated. Along with this, a drive coil wound at high density is realized, so that a greater Lorentz force can be exerted on the drive coil. As a result, it is possible to obtain a mirror drive device in which the movable range of the mirror is large.

第1の金属材料はCu又はAuであり、第2の金属材料はAl又はAlを含む合金であってもよい。第1の金属材料であるCu又はAuは、電気抵抗率が低い一方で比較的拡散しやすい材料であるが、被覆層の存在により、これらの材料の拡散を抑制できる。特に、被覆層を構成する第2の金属材料がAl又はAlを含む合金であるため、第1の金属材料の拡散が極めて良好に抑制される。そのため、駆動コイルの電機抵抗率を下げつつショートの発生を防止できる。   The first metal material may be Cu or Au, and the second metal material may be Al or an alloy containing Al. The first metal material, Cu or Au, is a material that has relatively low electrical resistivity but is relatively easy to diffuse, but the presence of the covering layer can suppress the diffusion of these materials. In particular, since the second metal material forming the covering layer is Al or an alloy containing Al, the diffusion of the first metal material is extremely well suppressed. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of a short circuit while reducing the electrical resistivity of the drive coil.

可動部は、溝部の開口を覆う絶縁層をさらに有してもよい。   The movable portion may further include an insulating layer covering the opening of the groove.

絶縁層を構成する材料はSiNであり、絶縁層の厚さは50nm以上であってもよい。この場合、駆動コイルを構成する金属材料の拡散が抑制される。   The material forming the insulating layer is SiN, and the thickness of the insulating layer may be 50 nm or more. In this case, the diffusion of the metal material constituting the drive coil is suppressed.

可動部は、基材のうちミラーが配置された部分を含むミラー配置部と、基材のうちミラー配置部の外周を囲む枠状の部分を含む外側部と、2つの駆動コイルとを有し、外側部は、連結部材を介して支持部に揺動可能に支持され、ミラー配置部は、連結部材と交差する方向に延びる他の連結部材を介して外側部に揺動可能に支持され、2つの駆動コイルはそれぞれ、第2の主面に直交する方向から見てスパイラル状に巻回され、2つの駆動コイルのうち一方の駆動コイルは、ミラー配置部のうち第2の主面側に配置され、2つの駆動コイルのうち他方の駆動コイルは、外側部のうち第2の主面側に配置され、磁性体のうち第2の主面に向かい合う側の表面には、当該表面に沿う方向において隣り合って並ぶS極及びN極からなる磁極の組が現れており、他方の駆動コイルは、磁極の組によって可動部の周囲に形成される磁界のうち磁束密度が略最大値を示す第1の領域に位置する部分を有してもよい。この場合、ミラー配置部は、連結部材と交差する方向に延びる他の連結部材を介して外側部に揺動可能に支持されているので、外側部とミラー配置部とは、異なる揺動軸に関して揺動する。そのため、ミラーの反射光を2次元的に走査することが可能となる。ところで、ミラーの反射光を2次元的に走査する際、反射光を第1の走査方向に沿って高速に走査するためにミラー配置部を素早く揺動させると共に、第1の走査方向と交差する第2の走査方向に沿って間欠的に反射光を走査するために外側部をミラー配置部よりも大きな振れ角で揺動させることが考えられる。このとき、上記のように、他方の駆動コイルが、第1及び第2の磁極の組によって可動部の周囲に形成される磁界のうち磁束密度が略最大値を示す第1の領域に位置する部分を有していると、外側部に配置される他方の駆動コイルに流す電流の大きさを小さくしつつ、当該他方の駆動コイルに作用するローレンツ力を大きくすることができる。従って、外側部の振れ角を大きくしつつ、低消費電力を図ることが可能となる。   The movable portion has a mirror placement portion including a portion on which the mirror is disposed in the base, an outer portion including a frame-like portion surrounding the outer periphery of the mirror placement portion on the base, and two drive coils. The outer portion is pivotally supported by the support portion via the coupling member, and the mirror placement portion is pivotally supported at the outer portion through another coupling member extending in a direction intersecting the coupling member. Each of the two drive coils is spirally wound as viewed in the direction orthogonal to the second main surface, and one of the two drive coils is on the side of the second main surface of the mirror arrangement portion. The other drive coil of the two drive coils is disposed on the side of the second main surface in the outer portion, and the surface of the magnetic body facing the second main surface is along the surface A set of magnetic poles consisting of south poles and north poles arranged side by side in the direction appears Cage, the other drive coils may have a portion located in a first region where the magnetic flux density of the magnetic field formed around the movable portion by pole pairs exhibits a substantially maximum value. In this case, since the mirror arrangement portion is swingably supported on the outer side portion through another connection member extending in the direction intersecting the connection member, the outer side portion and the mirror arrangement portion with respect to different swing axes Swing. Therefore, it is possible to two-dimensionally scan the reflected light of the mirror. By the way, when the reflected light of the mirror is two-dimensionally scanned, the mirror placement portion is quickly swung to scan the reflected light at high speed along the first scanning direction, and intersects the first scanning direction. In order to scan the reflected light intermittently along the second scanning direction, it is conceivable to swing the outer portion at a swing angle larger than that of the mirror placement portion. At this time, as described above, the other drive coil is located in the first region in which the magnetic flux density substantially shows the maximum value in the magnetic field formed around the movable portion by the set of the first and second magnetic poles. By including the portion, it is possible to increase the Lorentz force acting on the other drive coil while reducing the magnitude of the current supplied to the other drive coil disposed in the outer side. Therefore, low power consumption can be achieved while increasing the swing angle of the outer portion.

なお、本明細書において「略最大値」とは、最大値を上限とし、当該最大値の80%を下限とする範囲をいうものとする。また、「最大値」とは、可動部の位置において永久磁石が形成する磁界の磁束密度が最も大きな値をいうものとする。   In the present specification, “approximately maximum value” refers to a range having the maximum value as the upper limit and 80% of the maximum value as the lower limit. Further, the “maximum value” refers to the largest value of the magnetic flux density of the magnetic field formed by the permanent magnet at the position of the movable part.

磁性体は、所定の方向に沿ってハルバッハ配列を構成するように順に並ぶ第1〜第3の磁性部を有し、他方の駆動コイルは、第1の領域に位置している部分を有してもよい。この場合、ハルバッハ配列を構成する第1〜第3の磁性部により、他の駆動コイルの近傍における磁束密度がより大きくなる。   The magnetic body has first to third magnetic portions arranged in order to form a Halbach array along a predetermined direction, and the other drive coil has a portion located in the first region. May be In this case, the magnetic flux density in the vicinity of the other drive coil is further increased by the first to third magnetic parts constituting the Halbach arrangement.

磁性体は、対向方向と直交する第1の方向に沿って隣り合う第1及び第2の磁性部と、第1の方向に沿って隣り合う第3及び第4の磁性部と、対向方向及び第1の方向の双方に直交する第2の方向に沿って並ぶ第5及び第6の磁性部とを有し、第5及び第6の磁性部は、第2の磁性部と第3の磁性部との間に位置すると共に、第1の方向において第2及び第3の磁性部と隣り合い、第1、第3及び第5の磁性部の磁化の向きはいずれも、第1の主面側から第2の主面側に向かい、第2、第4及び第6の磁性部の磁化の向きはいずれも、第2の主面側から第1の主面側に向かい、他方の駆動コイルは、第1の領域に位置している部分を有してもよい。この場合、上記のような特定の状態に配列された第1〜第6の磁性部により、他の駆動コイルの近傍により大きな磁束密度を形成することができる。   The magnetic body includes: first and second magnetic portions adjacent along a first direction orthogonal to the opposite direction; third and fourth magnetic portions adjacent along the first direction; The fifth and sixth magnetic parts are arranged along a second direction orthogonal to both of the first directions, and the fifth and sixth magnetic parts are a second magnetic part and a third magnetic part. And adjacent to the second and third magnetic portions in the first direction, and the magnetization directions of the first, third and fifth magnetic portions are all on the first main surface. The direction of the magnetization of the second, fourth and sixth magnetic parts is from the side of the second main surface toward the side of the first main surface, and the other drive coil The may have a portion located in the first area. In this case, the first to sixth magnetic parts arranged in the specific state as described above can form a larger magnetic flux density in the vicinity of the other drive coils.

一方の駆動コイルは、第1の領域ではない第2の領域に位置している部分を有してもよい。ところで、ミラー配置部の共振周波数に対応する周波数の電流を一方の駆動コイルに流し、反射光を第1の走査方向に沿って高速に走査することがある。すなわち、ミラー配置部は共振によって揺動するので、ミラー配置部を揺動させるために一方の駆動コイルに大きなローレンツ力が作用しなくてもよい。この場合、一方の駆動コイルが第2の領域に位置している部分を有していると、他方の駆動コイルが第1の領域に位置しやすくなる。従って、当該他方の駆動コイルに作用するローレンツ力をさらに大きくすることができる。   One drive coil may have a portion located in a second area other than the first area. By the way, current of a frequency corresponding to the resonance frequency of the mirror placement portion may be supplied to one drive coil, and the reflected light may be scanned at high speed along the first scanning direction. That is, since the mirror placement part swings due to resonance, it is not necessary for the large Lorentz force to act on one of the drive coils in order to swing the mirror placement part. In this case, when one drive coil has a portion located in the second area, the other drive coil is likely to be located in the first area. Therefore, the Lorentz force acting on the other drive coil can be further increased.

本開示の他の観点に係るミラー駆動装置の製造方法は、枠状を呈する支持部と、支持部の内側に位置し且つ対向する第1及び第2の主面を有し、連結部材を介して支持部に揺動可能に支持された可動部とを備え、可動部は、第1及び第2の主面を含む基材と、第1の主面側に配置されたミラーと、第2の主面側に配置された駆動コイルとを有し、支持部は、枠状を呈しており、連結部材と接続された基部と、枠状を呈しており、第1及び第2の主面が対向する対向方向で第2の主面から第1の主面へと向かう方向に向けて基部から延びている補強部と、基部のうち補強部とは反対側に位置する表面側で且つ対向方向から見て補強部と重なり合う位置に配置された電極とを有し、駆動コイルは、可動部から連結部材を経由して支持部へと延びている引き出し導体によって、電極と接続された、ミラー構造体を用意することと、可動部の周囲に磁場を形成する磁性体が対向方向で支持部及び第2の主面と対向すると共に、枠状を呈する配線基板が対向方向から見て可動部の外側に位置し且つ対向方向で配線基板が支持部と磁性体との間に位置するように、ミラー構造体、磁性体及び配線基板を組み立て、電極を介して配線基板と駆動コイルとを電気的に接続することとを含む。   According to another aspect of the present disclosure, there is provided a method of manufacturing a mirror drive device including: a support having a frame shape; and first and second main surfaces located on the inner side of the support and opposed to each other. A movable portion rotatably supported by the support portion, the movable portion including a base including the first and second main surfaces, a mirror disposed on the first main surface, and a second And the support portion has a frame shape, and the base connected to the connecting member and the frame shape have the first and second main surfaces. A reinforcing portion extending from the base in a direction from the second main surface to the first main surface in the opposing direction in which the The driving coil extends from the movable portion to the support portion via the connecting member, and Preparing a mirror structure connected to the electrode by the lead conductor, and a magnetic body forming a magnetic field around the movable portion facing the support portion and the second main surface in the opposite direction, and in a frame shape Assembling the mirror structure, the magnetic body, and the wiring board such that the wiring board exhibiting the symbol is positioned outside the movable portion as viewed from the facing direction and the wiring board is positioned between the support portion and the magnetic body in the facing direction; Electrically connecting the wiring substrate and the drive coil via the electrodes.

本開示の他の観点に係るミラー駆動装置の製造方法では、可動部から連結部材を経由して支持部へと延びている引き出し導体によって、基部のうち補強部とは反対側に位置する表面側に配置された電極とが接続されており、この電極と、第1及び第2の主面が対向する対向方向で支持部と磁性体との間に位置する配線基板とを電気的に接続している。このように、支持部と磁性体との間に配線基板が存在することで、基部のうち補強部とは反対側に位置する表面側に配置された電極と配線基板との電気的な接続が図られる。従って、可動部においてミラーとは反対側の表面に駆動コイルが配置されている場合であっても、駆動コイルを外部と電気的に接続することが可能となる。   In the method of manufacturing a mirror drive device according to another aspect of the present disclosure, the surface side located on the opposite side to the reinforcing portion in the base by the lead conductor extending from the movable portion to the support via the coupling member. And the wiring substrate positioned between the support portion and the magnetic body in the opposing direction in which the first and second principal surfaces face each other. ing. Thus, by the presence of the wiring substrate between the support portion and the magnetic body, an electrical connection between the electrode and the wiring substrate disposed on the surface side opposite to the reinforcing portion in the base is obtained. It is possible. Therefore, even when the drive coil is disposed on the surface of the movable portion opposite to the mirror, the drive coil can be electrically connected to the outside.

本開示の他の観点に係るミラー駆動装置の製造方法では、磁性体が対向方向で第2の主面と対向している。そのため、対向方向において磁性体と可動部とが隣り合うので、可動部のうち第2の主面側に配置された駆動コイルに磁性体が全体として近づく。従って、駆動コイルに作用する磁界を確保することができる。   In the method of manufacturing a mirror drive device according to another aspect of the present disclosure, the magnetic body faces the second main surface in the facing direction. Therefore, since the magnetic body and the movable portion are adjacent to each other in the facing direction, the magnetic body as a whole approaches the drive coil disposed on the second main surface side of the movable portion. Therefore, the magnetic field acting on the drive coil can be secured.

本開示の他の観点に係るミラー駆動装置の製造方法では、第1及び第2の主面が対向する対向方向から見て、配線基板が対向方向から見て可動部の外側に位置し且つ対向方向で配線基板が支持部と磁性体との間に位置している。そのため、支持部と磁性体との間に位置する配線基板が、可動部と磁性体とを離間させるスペーサとしても機能する。従って、可動部が揺動するための空間を配線基板によって確保することができる。加えて、配線基板が、駆動コイルに電気を供給する本来の機能と、スペーサとの機能を併せ持っているため、ミラー駆動装置の小型化を図ることができる。   In the method of manufacturing a mirror drive device according to another aspect of the present disclosure, the wiring substrate is located outside the movable portion as viewed from the opposing direction and viewed from the opposing direction when the first and second main surfaces face each other. The wiring board is located between the support portion and the magnetic body in the direction. Therefore, the wiring board located between the support portion and the magnetic body also functions as a spacer for separating the movable portion and the magnetic body. Therefore, the space for swinging the movable portion can be secured by the wiring board. In addition, since the wiring board has both the function of supplying electricity to the drive coil and the function of the spacer, the mirror drive device can be miniaturized.

本開示の他の観点に係るミラー駆動装置の製造方法では、基部のうち磁性体と対向する表面側で且つ対向方向から見て補強部と重なり合う位置に、電極が配置されている。そのため、配線基板と駆動コイルとを電気的に接続する際に応力等が発生すると、主として、電極及び基部を介して補強部が当該応力等を受ける。従って、可動部がその応力等による影響を受け難くなる。   In the method of manufacturing a mirror drive device according to another aspect of the present disclosure, the electrode is disposed on the surface side of the base facing the magnetic body and at a position overlapping the reinforcing portion when viewed from the facing direction. Therefore, when a stress or the like occurs when the wiring substrate and the drive coil are electrically connected, the reinforcing portion mainly receives the stress or the like through the electrode and the base. Therefore, the movable portion is less susceptible to the stress and the like.

本開示の他の観点に係るミラー駆動装置の製造方法は、ミラー構造体を用意した後で且つ配線基板と駆動コイルとを電気的に接続する前に、磁性体の表面上の一部に配線基板を配置することをさらに含んでもよい。この場合、磁性体と支持部との間に配線基板が存在するので、第2の主面と磁性体との直線距離がより大きくなる。従って、可動部が揺動する空間を十分に確保することができる。また、この場合、ミラー駆動装置の製造にあたり、支持部が配線基板に重なるようにミラー構造体を配線基板上に載置すればよい。そのため、ミラー駆動装置の製造時に、強度の小さいミラーに負荷がほとんど作用しない。従って、ミラー駆動装置の製造過程においてミラーが破損し難くなるので、歩留まりを高くすることができる。   According to another aspect of the present disclosure, there is provided a method of manufacturing a mirror drive device, in which a wire is formed on a part of the surface of a magnetic body after preparing a mirror structure and before electrically connecting the wiring board and the drive coil. The method may further include disposing the substrate. In this case, since the wiring substrate exists between the magnetic body and the support portion, the linear distance between the second main surface and the magnetic body is further increased. Therefore, a space in which the movable portion swings can be sufficiently secured. Further, in this case, in the manufacture of the mirror drive device, the mirror structure may be mounted on the wiring substrate such that the support portion overlaps the wiring substrate. Therefore, at the time of manufacture of the mirror drive device, a load hardly acts on the mirror with small intensity. Therefore, since the mirror is less likely to be damaged in the manufacturing process of the mirror drive device, the yield can be increased.

本開示の他の観点に係るミラー駆動装置の製造方法は、ミラー構造体を用意した後で且つ配線基板と駆動コイルとを電気的に接続する前に、電極にバンプ電極を配置することをさらに含み、配線基板と駆動コイルとを電気的に接続する際には、バンプ電極を配線基板に接続することにより、ミラー構造体及びバンプ電極と、磁性体及び配線基板とを組み立ててもよい。この場合、磁性体と支持部との間にバンプ電極が存在するので、第2の主面と磁性体との離間距離がさらに大きくなる。従って、可動部が揺動する空間をさらに確保することができる。   A method of manufacturing a mirror drive device according to another aspect of the present disclosure further includes disposing a bump electrode on the electrode after preparing the mirror structure and before electrically connecting the wiring substrate and the drive coil. When the wiring substrate and the drive coil are electrically connected, the mirror structure and the bump electrode, and the magnetic body and the wiring substrate may be assembled by connecting the bump electrode to the wiring substrate. In this case, since the bump electrode exists between the magnetic body and the support portion, the distance between the second main surface and the magnetic body is further increased. Therefore, the space in which the movable portion swings can be further secured.

本開示に係るミラー駆動装置及びその製造方法によれば、可動部においてミラーとは反対側の表面に駆動コイルが配置されている場合に、駆動コイルに作用する磁界を確保しつつ小型化を図ることが可能となる。   According to the mirror drive device and the method of manufacturing the same according to the present disclosure, when the drive coil is disposed on the surface of the movable portion opposite to the mirror, miniaturization is achieved while securing the magnetic field acting on the drive coil. It becomes possible.

図1は、本実施形態に係るミラー駆動装置を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a mirror drive device according to the present embodiment. 図2は、本実施形態に係るミラー駆動装置を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a mirror drive device according to the present embodiment. 図3は、図2のII−II線断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line II-II of FIG. 図4は、永久磁石を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a permanent magnet. 図5は、配線基板の上面側を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing the upper surface side of the wiring substrate. 図6は、ミラー構造体の下面側を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing the lower surface side of the mirror structure. 図7は、図6のVII−VII線断面図である。7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII in FIG. 図8は、図6のVIII−VIII線断面図である。8 is a cross-sectional view taken along line VIII-VIII of FIG. 図9は、本実施形態に係るミラー駆動装置の製造工程の一部を説明するための図である。FIG. 9 is a view for explaining a part of the manufacturing process of the mirror drive device according to the present embodiment. 図10は、図9に続く工程を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for illustrating the process following FIG. 図11は、他の例に係る配線基板の上面側を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing the upper surface side of a wiring board according to another example. 図12は、他の例に係るミラー構造体の下面側を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing the lower surface side of a mirror structure according to another example. 図13は、他の例に係る配線基板の上面側を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing the upper surface side of a wiring board according to another example. 図14は、駆動コイルの近傍における他の構成例を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing another configuration example in the vicinity of the drive coil. 図15は、他の例に係るミラー構造体の上面側を示す平面図である。FIG. 15 is a plan view showing the upper surface side of a mirror structure according to another example. 図16は、他の例に係るミラー構造体の上面側を示す平面図である。FIG. 16 is a plan view showing the upper surface side of a mirror structure according to another example. 図17は、他の例に係るミラー構造体を備えるミラー駆動装置を示す斜視図である。FIG. 17 is a perspective view showing a mirror drive device provided with a mirror structure according to another example. 図18は、他の例に係る永久磁石を示す斜視図である。FIG. 18 is a perspective view showing a permanent magnet according to another example. 図19の(a)は、図18のXIXA−XIXA線断面を示し、図19の(b)は、図18のXIXA−XIXA線断面において、永久磁石によって可動部の周囲に形成される磁界の磁束密度の様子を示すグラフである。19A shows a cross section taken along line XIXA-XIXA of FIG. 18, and FIG. 19B shows a magnetic field formed around the movable portion by permanent magnets in the cross section taken along line XIXA-XIXA of FIG. It is a graph which shows the appearance of magnetic flux density. 図20の(a)は、図18のXXA−XXA線断面を示し、図20の(b)は、図18のXXA−XXA線断面において、永久磁石によって可動部の周囲に形成される磁界の磁束密度の様子を示すグラフである。FIG. 20A shows a cross section taken along line XXA-XXA of FIG. 18, and FIG. 20B shows a cross section taken along line XXA-XXA of FIG. It is a graph which shows the appearance of magnetic flux density. 図21の(a)は、図18のXXIA−XXIA線断面を示し、図21の(b)は、図18のXXIB−XXIB線断面を示す。(A) of FIG. 21 shows a cross section taken along line XXIA-XXIA of FIG. 18, and (b) of FIG. 21 shows a cross section taken along line XXIB-XXIB of FIG. 図22は、他の例に係る永久磁石を示す斜視図である。FIG. 22 is a perspective view showing a permanent magnet according to another example.

本発明の実施形態について図面を参照して説明するが、以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the following present embodiments are exemplifications for describing the present invention, and are not intended to limit the present invention to the following contents. In the description, the same elements or elements having the same function will be denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

ミラー駆動装置1は、図1〜図3に示されるように、永久磁石10と、配線基板12と、ミラー構造体14とを備える。永久磁石10、配線基板12及びミラー構造体14は、図1等に示されるZ軸方向(図1等における上下方向であり、以下では単に「Z軸方向」という。)において、この順で並んでいる。   The mirror drive device 1 is provided with the permanent magnet 10, the wiring board 12, and the mirror structure 14 as FIG. 1-FIG. 3 show. The permanent magnet 10, the wiring board 12 and the mirror structure 14 are arranged in this order in the Z-axis direction (vertical direction in FIG. 1 etc. and hereinafter simply referred to as "Z-axis direction") shown in FIG. It is.

永久磁石10は、図3及び図4に示されるように、矩形状を呈する平板である。永久磁石10は、後述する可動部22(後述する駆動コイル40,46)の周囲に磁場(磁界)を形成する。永久磁石10の厚さは、例えば2mm〜3mm程度に設定されてもよい。   The permanent magnet 10 is a flat plate having a rectangular shape as shown in FIGS. 3 and 4. The permanent magnet 10 forms a magnetic field (magnetic field) around movable parts 22 (driving coils 40 and 46 described later) described later. The thickness of the permanent magnet 10 may be set to, for example, about 2 mm to 3 mm.

永久磁石10は、矩形状を呈する一対の主面10a,10bを有する。すなわち、主面10a,10bは、Z軸方向から見て、Z軸方向に直交するX軸方向に沿って延びている一対の辺と、Z軸方向及びX軸方向の双方に直交するY軸方向に沿って延びている一対の辺とを有する。主面10a,10bは、平面状を呈している。永久磁石10の主面10a,10bの法線方向は、本実施形態においてZ軸方向と一致する。   The permanent magnet 10 has a pair of main surfaces 10a and 10b having a rectangular shape. That is, when viewed from the Z-axis direction, the main surfaces 10a and 10b are a pair of sides extending along the X-axis direction orthogonal to the Z-axis direction, and a Y-axis orthogonal to both the Z-axis direction and the X-axis direction And a pair of sides extending along the direction. The main surfaces 10a and 10b have a planar shape. The normal direction of the main surfaces 10a and 10b of the permanent magnet 10 coincides with the Z-axis direction in the present embodiment.

永久磁石10は、磁性部10A〜10Cを有する。図4に示されるように、磁性部10A,10Cはそれぞれ、永久磁石10においてその底面の対角線方向における一端側と他端側とに位置している。磁性部10Bは、磁性部10Aと磁性部10Cとの間に位置している。すなわち、磁性部10A〜10Cは、所定の方向においてこの順に並んでいる。   The permanent magnet 10 has magnetic parts 10A to 10C. As shown in FIG. 4, the magnetic parts 10A and 10C are respectively located on one end side and the other end side in the diagonal direction of the bottom of the permanent magnet 10. The magnetic portion 10B is located between the magnetic portion 10A and the magnetic portion 10C. That is, the magnetic parts 10A to 10C are arranged in this order in a predetermined direction.

磁性部10Aと磁性部10Bとが接する面により境界面10Dが形成されている。磁性部10Bと磁性部10Cとが接する面により境界面10Eが形成されている。境界面10D,10Eは、Z軸方向に略平行で且つ互いに略平行に延びている。境界面10D,10Eは、X軸方向及びY軸方向の双方に交差している。境界面10D,10Eは、例えば、X軸及びY軸がなす角を二等分する二等分線に直交してもよい。   A boundary surface 10D is formed by a surface where the magnetic portion 10A and the magnetic portion 10B are in contact with each other. A boundary surface 10E is formed by the surface where the magnetic portion 10B and the magnetic portion 10C are in contact with each other. The boundary surfaces 10D and 10E extend substantially parallel to the Z-axis direction and substantially parallel to each other. The boundary surfaces 10D and 10E intersect in both the X-axis direction and the Y-axis direction. The boundary surfaces 10D and 10E may be orthogonal to a bisector that bisects an angle formed by the X axis and the Y axis, for example.

図3に戻って、磁性部10Aは、互いに異なる極性の磁極10A1,10A2を有する。磁極10A1は、主面10a側に位置している。磁極10A2は、主面10b側に位置している。磁性部10Bは、互いに異なる極性の磁極10B1,10B2を有する。磁極10B1は、境界面10D側に位置している。磁極10B2は、境界面10E側に位置している。磁性部10Cは、互いに異なる極性の磁極10C1,10C2を有する。磁極10C1は、主面10b側に位置している。磁極10C2は、主面10a側に位置している。   Returning to FIG. 3, the magnetic portion 10A has magnetic poles 10A1 and 10A2 of different polarities. The magnetic pole 10A1 is located on the main surface 10a side. The magnetic pole 10A2 is located on the main surface 10b side. The magnetic portion 10B has magnetic poles 10B1 and 10B2 of different polarities. The magnetic pole 10B1 is located on the boundary surface 10D side. The magnetic pole 10B2 is located on the boundary surface 10E side. The magnetic portion 10C has magnetic poles 10C1 and 10C2 of different polarities. The magnetic pole 10C1 is located on the main surface 10b side. The magnetic pole 10C2 is located on the main surface 10a side.

本実施形態において、磁極10A1,10B1,10C1はS極である。一方、磁極10A2,10B2,10C2はN極である。そのため、磁性部10Aの内部には、主面10bから主面10aへと向かう反磁場が生じている。磁性部10Bの内部には、境界面10Eから境界面10Dへと向かう反磁場が生じている。磁性部10Cの内部には、主面10aから主面10bへと向かう反磁場が生じている。以上より、主面10aには、主面10aに沿う方向において隣り合って並ぶ磁極10B1(S極)と磁極10B2(N極)との組が現れている。   In the present embodiment, the magnetic poles 10A1, 10B1, and 10C1 are S poles. On the other hand, the magnetic poles 10A2, 10B2 and 10C2 are N poles. Therefore, a demagnetizing field is generated in the magnetic portion 10A from the major surface 10b to the major surface 10a. Inside the magnetic portion 10B, a demagnetizing field is generated from the interface 10E to the interface 10D. Inside the magnetic portion 10C, a demagnetizing field is generated from the major surface 10a to the major surface 10b. From the above, on the main surface 10a, a set of the magnetic pole 10B1 (S pole) and the magnetic pole 10B2 (N pole) arranged adjacent to each other in the direction along the main surface 10a appears.

隣り合う磁性部10A,10Bの間では、反磁場の向きが互いに直交している。隣り合う磁性部10B,10Cの間では、反磁場の向きが互いに直交している。磁性部10Bを間に置いて位置する磁性部10A,10Cでは、反磁場の向きが互いに反対である。このように、磁性部10A〜10Cは、ハルバッハ配列を構成している。従って、永久磁石10の主面10a側であって後述する可動部22の近傍には、磁界が集中的に形成されている。具体的には、永久磁石10の主面10a側であって磁極10B1と磁極10B2との組の境界近傍には、磁界が集中的に形成されている。磁極10B1と磁極10B2との組によって可動部22の周囲に形成される磁界の磁束密度は、磁極10B1と磁極10B2との組の境界近傍において略最大値を示し、当該境界から離れるにつれて小さくなる傾向にある。   The directions of the demagnetizing fields are orthogonal to each other between the adjacent magnetic parts 10A and 10B. The directions of the demagnetizing fields are orthogonal to each other between the adjacent magnetic parts 10B and 10C. In the magnetic parts 10A and 10C located with the magnetic part 10B in between, the directions of the demagnetizing fields are opposite to each other. Thus, the magnetic parts 10A to 10C constitute a Halbach arrangement. Therefore, a magnetic field is formed intensively on the main surface 10 a side of the permanent magnet 10 and in the vicinity of the movable portion 22 described later. Specifically, a magnetic field is formed intensively on the main surface 10a side of the permanent magnet 10 and in the vicinity of the boundary of the set of the magnetic pole 10B1 and the magnetic pole 10B2. The magnetic flux density of the magnetic field formed around the movable portion 22 by the combination of the magnetic pole 10B1 and the magnetic pole 10B2 shows a substantially maximum value near the boundary of the pair of the magnetic pole 10B1 and the magnetic pole 10B2 and tends to decrease as it goes away from the boundary It is in.

配線基板12は、例えば、フレキシブルプリント基板である。配線基板12は、図1、図3及び図5に示されるように、Z軸方向から見て矩形状の外形を有する枠状部材であり、中央部が開口された環状を呈している。配線基板12は、例えば接着剤によって永久磁石10の主面10a上に取り付けられている。配線基板12は、永久磁石10の主面10aにおいて永久磁石10の各辺に沿って延びている。すなわち、配線基板12は、永久磁石10の各辺に対応して、X軸方向に沿って延びている一対の第1の部分12aと、Y軸方向に沿って延びている一対の第2の部分12bとを有する(図5参照)。   The wiring board 12 is, for example, a flexible printed board. As shown in FIGS. 1, 3 and 5, the wiring board 12 is a frame-like member having a rectangular outer shape as viewed from the Z-axis direction, and has an annular shape with a central portion opened. The wiring substrate 12 is attached on the major surface 10 a of the permanent magnet 10 by, for example, an adhesive. The wiring substrate 12 extends along each side of the permanent magnet 10 on the major surface 10 a of the permanent magnet 10. That is, wiring board 12 includes a pair of first portions 12a extending along the X-axis direction and a pair of second portions extending along the Y-axis direction, corresponding to each side of permanent magnet 10. And a portion 12b (see FIG. 5).

一対の第2の部分12bのうち一方における表面12c上には、電極16a〜16dが配置されている。一対の第2の部分12bのうち他方における表面12c上には、電極18a〜18dが配置されている。電極16a〜16d,18a〜18dが配置されている第2の部分12bの表面12cは、第2の部分12bのうち永久磁石10の主面10aと対向する表面12d(図3参照)とは反対側の面、すなわち、ミラー構造体14と対向する面である。   Electrodes 16a to 16d are disposed on the surface 12c of one of the pair of second portions 12b. Electrodes 18a to 18d are disposed on the surface 12c of the other of the pair of second portions 12b. The surface 12c of the second portion 12b where the electrodes 16a to 16d and 18a to 18d are disposed is opposite to the surface 12d of the second portion 12b facing the major surface 10a of the permanent magnet 10 (see FIG. 3) It is a side surface, that is, a surface facing the mirror structure 14.

図5に戻って、電極16a〜16dは、後述する駆動コイル40,46と電気的に接続される。一方、電極18a〜18dは、高さ調整用のダミー電極であり、後述する駆動コイル40,46とは電気的に接続されない。   Returning to FIG. 5, the electrodes 16 a to 16 d are electrically connected to drive coils 40 and 46 described later. On the other hand, the electrodes 18a to 18d are dummy electrodes for height adjustment, and are not electrically connected to drive coils 40 and 46 described later.

ミラー構造体14は、図3に示されるように、支持部20と、可動部22とを有する。支持部20は、矩形状を呈する枠状部材であり、中央部が開口されている。支持部20の厚さは、例えば250μm〜300μm程度に設定されてもよい。   The mirror structure 14 has a support portion 20 and a movable portion 22 as shown in FIG. The support portion 20 is a frame-like member having a rectangular shape, and a central portion is opened. The thickness of the support portion 20 may be set to, for example, about 250 μm to 300 μm.

支持部20は、Z軸方向(永久磁石10の主面10aの法線方向)から見て、永久磁石10の主面10a及び配線基板12と重なり合っている。支持部20は、永久磁石10及び配線基板12と対向する側の表面20aと、表面20aよりも永久磁石10及び配線基板12から離れる側の表面20bとを有する。支持部20は、基部24と、補強部26とを含む。   The support portion 20 overlaps the main surface 10 a of the permanent magnet 10 and the wiring substrate 12 when viewed from the Z-axis direction (the normal direction of the main surface 10 a of the permanent magnet 10). The support portion 20 has a surface 20 a on the side facing the permanent magnet 10 and the wiring board 12 and a surface 20 b on the side farther from the permanent magnet 10 and the wiring board 12 than the surface 20 a. The support 20 includes a base 24 and a reinforcement 26.

基部24及び補強部26は共に、矩形状を呈する枠状部材であり、中央部が開口されている。基部24は、支持部20の表面20a側に位置している。基部24の厚さは、可動部22の厚さと略同一である。補強部26は、支持部20の表面20b側に位置している。すなわち、補強部26は、永久磁石10及び配線基板12から離れる側に向けて基部24から延びている。従って、Z軸方向において、支持部20の厚さ(基部24及び補強部26の厚さの合計)は、可動部22の厚さよりも厚い。基部24及び補強部26は共に、例えばSi(シリコン)で構成されてもよい。   The base portion 24 and the reinforcing portion 26 are both frame-like members having a rectangular shape, and the central portion is opened. The base 24 is located on the surface 20 a side of the support portion 20. The thickness of the base 24 is substantially the same as the thickness of the movable portion 22. The reinforcing portion 26 is located on the surface 20 b side of the support portion 20. That is, the reinforcing portion 26 extends from the base 24 toward the side away from the permanent magnet 10 and the wiring board 12. Therefore, in the Z-axis direction, the thickness of the support portion 20 (the sum of the thicknesses of the base portion 24 and the reinforcing portion 26) is larger than the thickness of the movable portion 22. Both the base 24 and the reinforcing portion 26 may be made of, for example, Si (silicon).

基部24の表面20a側には、絶縁層28が配置されている。すなわち、絶縁層28の表面が支持部20の表面20aをなしている。絶縁層28上には、図6に示されるように、配線基板12の電極16a〜16dと対応する位置に電極56a〜56dが配置されており、配線基板12の電極18a〜18dと対応する位置に電極58a〜58dが配置されている。電極58a〜58dは、高さ調整用のダミー電極であり、後述する駆動コイル40,46とは電気的に接続されない。電極56a〜56d,58a〜58dは、基部24(支持部20)のうち永久磁石10寄りの端部に位置している。   An insulating layer 28 is disposed on the surface 20 a side of the base 24. That is, the surface of the insulating layer 28 forms the surface 20 a of the support portion 20. As shown in FIG. 6, electrodes 56 a to 56 d are disposed on insulating layer 28 at positions corresponding to electrodes 16 a to 16 d of wiring board 12, and positions corresponding to electrodes 18 a to 18 d of wiring board 12. The electrodes 58a to 58d are disposed on the The electrodes 58a to 58d are dummy electrodes for height adjustment, and are not electrically connected to drive coils 40 and 46 described later. The electrodes 56a to 56d and 58a to 58d are located at the end of the base 24 (support portion 20) close to the permanent magnet 10.

図3に示されるように、電極56a〜56dは、対応する電極16a〜16dに対してバンプ電極60によって電気的且つ物理的に接続されている。電極58a〜58dは、対応する電極18a〜18dに対してバンプ電極60によって電気的且つ物理的に接続されている。そのため、バンプ電極60は、配線基板12と支持部20との間に配置されている。   As shown in FIG. 3, the electrodes 56a to 56d are electrically and physically connected to the corresponding electrodes 16a to 16d by the bump electrode 60. The electrodes 58a to 58d are electrically and physically connected to the corresponding electrodes 18a to 18d by the bump electrode 60. Therefore, the bump electrode 60 is disposed between the wiring substrate 12 and the support portion 20.

基部24と補強部26との間には、絶縁層30が配置されている。補強部26の表面20b側には、絶縁層32が配置されている。すなわち、絶縁層32の表面が支持部20の表面20bをなしている。絶縁層28,30,32は、例えば二酸化ケイ素(SiO)で構成されていてもよい。 An insulating layer 30 is disposed between the base 24 and the reinforcing portion 26. An insulating layer 32 is disposed on the surface 20 b side of the reinforcing portion 26. That is, the surface of the insulating layer 32 forms the surface 20 b of the support portion 20. The insulating layers 28, 30, 32 may be made of, for example, silicon dioxide (SiO 2 ).

可動部22は、図1〜図3に示されるように、支持部20の内側(開口内)に位置している。可動部22は、永久磁石10側を向く一方の主面と、永久磁石10とは反対側を向く他方の主面とを有する。これらの一対の主面の対向方向は、ミラー駆動装置1の非駆動状態(後述する駆動コイル40,46に電流が流れていない非通電状態)において、Z軸方向と一致する。可動部22は、永久磁石10及び支持部20から離間している。可動部22は、Z軸方向から見て、配線基板12と重なり合っていない。従って、可動部22は、Z軸方向から見て、配線基板12の内側(開口内)に位置している。すなわち、配線基板12は、可動部22の外側に位置している。可動部22は、外側に位置する外側部34と、外側部34の内側に位置するミラー配置部36とを有する。   The movable portion 22 is located inside (within the opening) of the support portion 20 as shown in FIGS. 1 to 3. The movable portion 22 has one main surface facing the permanent magnet 10 and the other main surface facing the permanent magnet 10 on the opposite side. The opposing direction of the pair of main surfaces coincides with the Z-axis direction in the non-driven state of the mirror drive device 1 (the non-energized state in which no current flows through the drive coils 40 and 46 described later). The movable portion 22 is separated from the permanent magnet 10 and the support portion 20. The movable portion 22 does not overlap the wiring substrate 12 as viewed in the Z-axis direction. Therefore, the movable portion 22 is located inside (within the opening) of the wiring substrate 12 when viewed in the Z-axis direction. That is, the wiring board 12 is located outside the movable portion 22. The movable portion 22 has an outer portion 34 located outside and a mirror placement portion 36 located inside the outer portion 34.

外側部34は、矩形状を呈する平板状の枠状部材である。外側部34は、ミラー配置部36の外周を囲んでいる。外側部34は、永久磁石10側を向く主面34aと、永久磁石10とは反対側を向く主面34bとを有する。主面34aは、可動部22の一方の主面に含まれており、主面34bは、可動部22の他方の主面に含まれている。   The outer side part 34 is a flat frame-like member which exhibits a rectangular shape. The outer side portion 34 surrounds the outer periphery of the mirror placement portion 36. The outer portion 34 has a main surface 34 a facing the permanent magnet 10 and a main surface 34 b facing the opposite side of the permanent magnet 10. The major surface 34 a is included in one major surface of the movable portion 22, and the major surface 34 b is included in the other major surface of the movable portion 22.

外側部34は、図1、図2及び図6に示されるように、同一直線上に並ぶ一対の連結部材38を介して、支持部20の基部24に対し揺動可能に取り付けられている。すなわち、外側部34は、一対の連結部材38を介して、基部24(支持部20)に対して往復回転運動可能に支持されている。外側部34の揺動角は、例えば±5°〜±10°程度である。連結部材38は、本実施形態において直線状を呈している。   The outer portion 34 is pivotably attached to the base 24 of the support portion 20 via a pair of connecting members 38 aligned in a straight line, as shown in FIGS. 1, 2 and 6. That is, the outer side portion 34 is supported so as to be capable of reciprocating rotational movement with respect to the base portion 24 (support portion 20) via the pair of connecting members 38. The swing angle of the outer portion 34 is, for example, about ± 5 ° to ± 10 °. The connecting member 38 has a linear shape in the present embodiment.

図6に示されるように、外側部34の主面34a側には、駆動コイル40が配置されている。そのため、駆動コイル40は、永久磁石10の主面10aと向かい合っている。駆動コイル40は、主面34aの法線方向から見て、外側部34の主面34a側においてスパイラル状に複数周回巻回されている。駆動コイル40は、ハルバッハ配列をなす磁性部10A〜10B(磁極10B1と磁極10B2との組)によって可動部22の周囲に形成される磁界のうち磁束密度が略最大値を示す領域に位置している部分を有する。駆動コイル40の全体が、当該領域に位置していてもよい。   As shown in FIG. 6, the drive coil 40 is disposed on the main surface 34 a side of the outer portion 34. Therefore, the drive coil 40 faces the main surface 10 a of the permanent magnet 10. A plurality of drive coils 40 are spirally wound on the main surface 34 a side of the outer portion 34 as viewed in the normal direction of the main surface 34 a. Drive coil 40 is positioned in a region where the magnetic flux density has a substantially maximum value among magnetic fields formed around movable portion 22 by magnetic portions 10A to 10B (a set of magnetic pole 10B1 and magnetic pole 10B2) in a Halbach array. Part has. The entire drive coil 40 may be located in the area.

駆動コイル40の一端は、スパイラル状の駆動コイル40の外側に位置する。駆動コイル40の外側端部には、引き出し導体42aの一端が電気的に接続されている。引き出し導体42aの他端は、連結部材38及び支持部20の表面20a上を延び、電極56dに接続されている。   One end of the drive coil 40 is located outside the spiral drive coil 40. One end of a lead conductor 42 a is electrically connected to the outer end of the drive coil 40. The other end of the lead conductor 42a extends on the surface 20a of the connecting member 38 and the support portion 20 and is connected to the electrode 56d.

駆動コイル40の他端は、スパイラル状の駆動コイル40の内側に位置する。駆動コイル40の内側端部には、引き出し導体42bの一端が電気的に接続されている。引き出し導体42bの他端は、連結部材38及び支持部20の表面20a上を延び、電極56bに接続されている。   The other end of the drive coil 40 is located inside the spiral drive coil 40. One end of the lead conductor 42 b is electrically connected to the inner end of the drive coil 40. The other end of the lead conductor 42b extends on the surface 20a of the connecting member 38 and the support portion 20 and is connected to the electrode 56b.

ミラー配置部36は、矩形状を呈する平板である。ミラー配置部36は、永久磁石10側を向く主面36aと、永久磁石10とは反対側を向く主面36bとを有する。主面36aは、可動部22の一方の主面に含まれており、主面36bは、可動部22の他方の主面に含まれている。   The mirror placement portion 36 is a flat plate having a rectangular shape. The mirror placement portion 36 has a main surface 36 a facing the permanent magnet 10 and a main surface 36 b facing the opposite side of the permanent magnet 10. The major surface 36 a is included in one major surface of the movable portion 22, and the major surface 36 b is included in the other major surface of the movable portion 22.

ミラー配置部36は、図1、図2及び図6に示されるように、同一直線上に並ぶ一対の連結部材44を介して、外側部34に対し揺動可能に取り付けられている。すなわち、ミラー配置部36は、一対の連結部材44を介して、外側部34に対して往復回転運動可能に支持されている。ミラー配置部36の揺動角は、例えば±5°〜±10°程度である。連結部材44は、本実施形態において直線状を呈している。一対の連結部材44が並ぶ方向は、Z軸方向から見て、一対の連結部材38が並ぶ方向と略直交している。   As shown in FIGS. 1, 2 and 6, the mirror placement portion 36 is swingably attached to the outer portion 34 via a pair of connection members 44 aligned on the same straight line. That is, the mirror placement portion 36 is supported for reciprocal rotational movement with respect to the outer side portion 34 via the pair of connecting members 44. The swing angle of the mirror placement portion 36 is, for example, about ± 5 ° to ± 10 °. The connecting member 44 has a linear shape in the present embodiment. The direction in which the pair of connecting members 44 are arranged is substantially orthogonal to the direction in which the pair of connecting members 38 are arranged as viewed from the Z-axis direction.

図6に示されるように、ミラー配置部36の主面36a側には、駆動コイル46が配置されている。そのため、駆動コイル46は、永久磁石10の主面10aと向かい合っている。駆動コイル46は、主面36aの法線方向から見て、ミラー配置部36の主面36a側においてスパイラル状に複数周回巻回されている。   As shown in FIG. 6, the drive coil 46 is disposed on the main surface 36 a side of the mirror placement portion 36. Therefore, the drive coil 46 faces the main surface 10 a of the permanent magnet 10. A plurality of drive coils 46 are spirally wound on the main surface 36 a side of the mirror placement portion 36 as viewed in the normal direction of the main surface 36 a.

駆動コイル46の一端は、スパイラル状の駆動コイル46の外側に位置する。駆動コイル46の外側端部には、引き出し導体42cの一端が電気的に接続されている。引き出し導体42cの他端は、連結部材44、外側部34の主面34a上、連結部材38及び支持部20の表面20a上を延び、電極56cに接続されている。   One end of the drive coil 46 is located outside the spiral drive coil 46. One end of the lead conductor 42 c is electrically connected to the outer end of the drive coil 46. The other end of the lead conductor 42c extends on the connecting member 44, the major surface 34a of the outer portion 34, the connecting member 38 and the surface 20a of the support portion 20, and is connected to the electrode 56c.

駆動コイル46の他端は、スパイラル状の駆動コイル46の内側に位置する。駆動コイル46の内側端部には、引き出し導体42dの一端が電気的に接続されている。引き出し導体42dの他端は、連結部材44、外側部34の主面34a上、連結部材38及び支持部20の表面20a上を延び、電極56aに接続されている。   The other end of the drive coil 46 is located inside the spiral drive coil 46. One end of the lead conductor 42 d is electrically connected to the inner end of the drive coil 46. The other end of the lead conductor 42d extends on the connecting member 44, the major surface 34a of the outer portion 34, the connecting member 38 and the surface 20a of the support portion 20, and is connected to the electrode 56a.

図1〜図3に示されるように、ミラー配置部36の主面36b側には、ミラー48が配置されている。ミラー48は、金属薄膜により構成された光反射膜である。ミラー48を構成する金属材料としては、例えばアルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)が挙げられる。   As shown in FIGS. 1 to 3, the mirror 48 is disposed on the main surface 36 b side of the mirror placement portion 36. The mirror 48 is a light reflecting film made of a metal thin film. As a metal material which constitutes mirror 48, aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag) is mentioned, for example.

図3に示されるように、外側部34、ミラー配置部36及び連結部材38,44のうち永久磁石10に対向する側の表面には、絶縁層50が配置されている。すなわち、絶縁層50の表面が、外側部34の主面34aと、ミラー配置部36の主面36aとをなしている。外側部34、ミラー配置部36及び連結部材38,44のうち永久磁石10とは反対側を向く側の表面には、絶縁層52が配置されている。すなわち、絶縁層52の表面が、外側部34の主面34bと、ミラー配置部36の主面36bとをなしている。ミラー48のうちミラー配置部36の主面36bとは反対側を向く側の表面には、絶縁層54が配置されている。絶縁層50,52,54は、例えば二酸化ケイ素(SiO)で構成されていてもよい。 As shown in FIG. 3, an insulating layer 50 is disposed on the surface of the outer portion 34, the mirror placement portion 36, and the coupling members 38 and 44 on the side facing the permanent magnet 10. That is, the surface of the insulating layer 50 forms the major surface 34 a of the outer portion 34 and the major surface 36 a of the mirror placement portion 36. An insulating layer 52 is disposed on the surface of the outer side portion 34, the mirror placement portion 36, and the connection members 38 and 44 on the side facing the permanent magnet 10 side. That is, the surface of the insulating layer 52 forms the major surface 34 b of the outer portion 34 and the major surface 36 b of the mirror placement portion 36. An insulating layer 54 is disposed on the surface of the mirror 48 facing the side opposite to the main surface 36 b of the mirror placement portion 36. The insulating layers 50, 52, 54 may be made of, for example, silicon dioxide (SiO 2 ).

続いて、駆動コイル46の近傍の構造について、以下に説明する。駆動コイル40の近傍の構造は、駆動コイル46の近傍と同様であるので、その説明を省略する。   Subsequently, the structure in the vicinity of the drive coil 46 will be described below. The structure in the vicinity of the drive coil 40 is the same as that in the vicinity of the drive coil 46, so the description thereof will be omitted.

図7に示されるように、ミラー配置部36は、基材100と、駆動コイル46と、被覆層102と、絶縁層104とを有する。基材100は、ミラー配置部36の主面36a側の表面に、駆動コイル46に対応する形状を呈する溝部100aを有する。すなわち、溝部100aは、ミラー配置部36の主面36aの法線方向から見てスパイラル状に延びている。基材100の厚さは、例えば20μm〜60μm程度に設定されてもよい。   As shown in FIG. 7, the mirror placement portion 36 has a substrate 100, a drive coil 46, a covering layer 102, and an insulating layer 104. The base 100 has a groove 100 a having a shape corresponding to the drive coil 46 on the surface on the main surface 36 a side of the mirror placement portion 36. That is, the groove portion 100 a extends in a spiral shape as viewed from the normal direction of the main surface 36 a of the mirror placement portion 36. The thickness of the substrate 100 may be set to, for example, about 20 μm to 60 μm.

基材100のうちミラー配置部36の主面36a側の表面と、溝部100aの内壁面とには、絶縁層100bが配置されている。絶縁層100bは、基材100を熱酸化して得られる熱酸化膜である。絶縁層100bは、例えばSiO(酸化シリコン)で構成されてもよい。溝部100aの内壁面であって絶縁層100b上には、シード層100cが配置されている。すなわち、シード層100cは、絶縁層100bと駆動コイル46との間に位置している。シード層100cを構成する金属材料は、例えばTiNであってもよい。 The insulating layer 100 b is disposed on the surface of the base 100 on the main surface 36 a side of the mirror placement portion 36 and the inner wall surface of the groove 100 a. The insulating layer 100 b is a thermal oxide film obtained by thermally oxidizing the base material 100. The insulating layer 100b may be made of, for example, SiO 2 (silicon oxide). The seed layer 100c is disposed on the inner wall surface of the groove 100a and on the insulating layer 100b. That is, the seed layer 100 c is located between the insulating layer 100 b and the drive coil 46. The metal material constituting the seed layer 100c may be, for example, TiN.

溝部100a内で且つシード層100c上には、駆動コイル46を構成する金属材料が配置されている。当該金属材料としては、例えばCu又はAuが挙げられる。駆動コイル46の厚さは、例えば5μm〜10μm程度に設定されてもよい。   In the groove portion 100a and on the seed layer 100c, a metal material constituting the drive coil 46 is disposed. Examples of the metal material include Cu or Au. The thickness of the drive coil 46 may be set to, for example, about 5 μm to 10 μm.

被覆層102は、溝部100aの開口を覆うように、ミラー配置部36の主面36a側の表面上まで延びている。すなわち、被覆層102は、ミラー配置部36の主面36aの法線方向から見て、駆動コイル46のうちミラー配置部36の主面36a側の表面全体を覆うと共に、基材100のうち溝部100aの周囲を覆っている。   The covering layer 102 extends on the surface on the main surface 36 a side of the mirror placement portion 36 so as to cover the opening of the groove portion 100 a. That is, the cover layer 102 covers the entire surface of the drive coil 46 on the side of the main surface 36 a of the mirror arrangement portion 36 as viewed in the normal direction of the main surface 36 a of the mirror arrangement portion 36. It covers the perimeter of 100a.

被覆層102を構成する金属材料は、駆動コイル46を構成する金属材料の拡散を抑制する機能を有する。被覆層102を構成する金属材料としては、例えばAl又はAlを含む合金が挙げられる。Alを含む合金としては、例えば、Al−Si合金、Al−Cu合金、Al−Si−Cu合金が挙げられる。Al−Si合金の組成比は、例えば、Alが99%、Siが1%であってもよい。Al−Cu合金の組成比は、例えば、Alが99%、Cuが1%であってもよい。Al−Si−Cu合金の組成比は、例えば、Alが98%、Siが1%、Cuが1%であってもよい。被覆層102の厚さは、例えば1μm程度に設定されてもよい。   The metal material forming the covering layer 102 has a function of suppressing the diffusion of the metal material forming the drive coil 46. Examples of the metal material constituting the covering layer 102 include Al or an alloy containing Al. Examples of the alloy containing Al include an Al-Si alloy, an Al-Cu alloy, and an Al-Si-Cu alloy. The composition ratio of the Al-Si alloy may be, for example, 99% of Al and 1% of Si. The composition ratio of the Al-Cu alloy may be, for example, 99% of Al and 1% of Cu. The composition ratio of the Al-Si-Cu alloy may be, for example, 98% of Al, 1% of Si, and 1% of Cu. The thickness of the covering layer 102 may be set to, for example, about 1 μm.

絶縁層104は、基材100及び被覆層102の上面を覆うように配置されている。絶縁層104を構成する材料としては、例えば、SiO、SiN、TEOSが挙げられる。絶縁層104は、図3に示される絶縁層50と同一の要素である。 The insulating layer 104 is disposed to cover the upper surfaces of the substrate 100 and the covering layer 102. As a material for forming the insulating layer 104, for example, SiO 2, SiN, is TEOS and the like. The insulating layer 104 is the same element as the insulating layer 50 shown in FIG.

続いて、図8を参照して、駆動コイル40の内側端部と引き出し導体42bの一端との接続状態について説明する。駆動コイル40の外側端部と引き出し導体42aの一端との接続状態、駆動コイル46の外側端部と引き出し導体42cの一端との接続状態、及び駆動コイル46の内側端部と引き出し導体42dの一端との接続状態については、駆動コイル40の内側端部と引き出し導体42bの一端との接続状態と同様であるので、それらの説明を省略する。   Subsequently, with reference to FIG. 8, the connection state between the inner end of the drive coil 40 and one end of the lead conductor 42b will be described. The connection between the outer end of the drive coil 40 and one end of the lead conductor 42a, the connection between the outer end of the drive coil 46 and one end of the lead conductor 42c, and the inner end of the drive coil 46 and one end of the lead conductor 42d The connection state with is the same as the connection state between the inner end of the drive coil 40 and one end of the lead conductor 42b, and thus the description thereof is omitted.

図8に示されるように、引き出し導体42bの一端が接続される駆動コイル40の内側端部の上方は、絶縁層104によって覆われていない。すなわち、駆動コイル40の内側端部における被覆層102は、絶縁層104に形成された開口部104aを通じて外部に露出している。引き出し導体42bの一端は、この開口部104a内に埋め込まれており、被覆層102と物理的且つ電気的に接続される。引き出し導体42aの他の部分は、絶縁層104上に配置されている。   As shown in FIG. 8, the upper side of the inner end of the drive coil 40 to which one end of the lead conductor 42 b is connected is not covered by the insulating layer 104. That is, the covering layer 102 at the inner end of the drive coil 40 is exposed to the outside through the opening 104 a formed in the insulating layer 104. One end of the lead conductor 42 b is embedded in the opening 104 a and is physically and electrically connected to the covering layer 102. The other part of the lead conductor 42 a is disposed on the insulating layer 104.

続いて、図9及び図10を参照して、以上に説明したミラー駆動装置1の製造方法について説明する。   Subsequently, with reference to FIGS. 9 and 10, a method of manufacturing the mirror driving device 1 described above will be described.

まず、図9の(a)に示されるように、例えば300μm程度のシリコン貼り合わせ基板(いわゆる、SOI基板)を用意する。シリコン貼り合わせ基板は、基板200と、中間層202と、基板204とがこの順に接合されたものである。基板200の厚さは、例えば50μm程度である。中間層202は、シリコン酸化層からなる。中間層202の厚さは、例えば1μm程度である。基板204の厚さは、例えば250μm程度である。   First, as shown in FIG. 9A, for example, a silicon bonded substrate (so-called SOI substrate) of about 300 μm is prepared. The silicon bonded substrate is obtained by bonding the substrate 200, the intermediate layer 202, and the substrate 204 in this order. The thickness of the substrate 200 is, for example, about 50 μm. The intermediate layer 202 is made of a silicon oxide layer. The thickness of the intermediate layer 202 is, for example, about 1 μm. The thickness of the substrate 204 is, for example, about 250 μm.

基板204の表面には、熱酸化によりシリコン酸化膜206が形成されている。シリコン酸化膜206の厚さは、例えば0.5μm程度である。次に、基板200の表面に、溝部100aを形成する。溝部100aは、例えば、基板200の表面に所定パターンのマスクを形成し、続いて、当該マスクを介して基板200をエッチングすることにより形成される。   A silicon oxide film 206 is formed on the surface of the substrate 204 by thermal oxidation. The thickness of the silicon oxide film 206 is, for example, about 0.5 μm. Next, the groove 100 a is formed on the surface of the substrate 200. The groove portion 100 a is formed, for example, by forming a mask of a predetermined pattern on the surface of the substrate 200 and subsequently etching the substrate 200 through the mask.

次に、基板200の表面を熱酸化して、絶縁層100bを形成する。次に、溝部100aの内壁面であって絶縁層100b上には、シード層100cを形成する。シード層100cは、駆動コイル46を構成する金属材料に対して付着性を有する緻密な金属材料を、基材100(絶縁層100b)上にスパッタリングすることにより得られる。   Next, the surface of the substrate 200 is thermally oxidized to form the insulating layer 100 b. Next, a seed layer 100c is formed on the insulating layer 100b, which is an inner wall surface of the groove 100a. The seed layer 100c is obtained by sputtering a dense metal material having adhesiveness to the metal material constituting the drive coil 46 on the base 100 (insulating layer 100b).

次に、溝部100a内に駆動コイル46を形成する。具体的には、駆動コイル46は、ダマシン法により、シード層100c上に金属材料を埋め込むことにより得られる。溝部100a内に金属材料を埋め込むための手法としては、例えば、めっき、スパッタリング、CVDが挙げられる。溝部100a内に金属材料を配置した後に、化学機械研磨によって、基板200の表面(ミラー配置部36の主面36a側の表面)を平坦化してもよい。   Next, the drive coil 46 is formed in the groove 100a. Specifically, the drive coil 46 is obtained by embedding a metal material on the seed layer 100c by a damascene method. Examples of the method for embedding the metal material in the groove 100a include plating, sputtering, and CVD. After the metal material is disposed in the groove 100a, the surface of the substrate 200 (the surface on the main surface 36a side of the mirror placement portion 36) may be planarized by chemical mechanical polishing.

次に、溝部100aの開口を覆うように被覆層102を形成する。被覆層102は、例えばスパッタリング法又はCVD法により基板200の表面全体に金属材料を堆積し、続いて、パターニングすることにより得られる。   Next, the covering layer 102 is formed to cover the opening of the groove 100a. The covering layer 102 is obtained by depositing a metal material on the entire surface of the substrate 200 by, for example, a sputtering method or a CVD method, and then patterning the metal material.

続いて、図9の(b)に示されるように、絶縁層104を形成する。絶縁層104は、例えば、基板200の表面全体に絶縁材料を堆積した後、駆動コイル40,46の両端部に対応する部分をエッチングにより除去することにより得られる。次に、フォトリソグラフィにより絶縁層104上に引き出し導体42a〜42d及び電極56a〜56d,58a〜58dを形成する。このとき、駆動コイル40,46の両端部と、対応する引き出し導体42a〜42dの端部とが物理的且つ電気的に接続される。   Subsequently, as shown in FIG. 9B, the insulating layer 104 is formed. The insulating layer 104 is obtained, for example, by depositing an insulating material on the entire surface of the substrate 200 and then etching away portions corresponding to both ends of the drive coils 40 and 46. Next, lead conductors 42a to 42d and electrodes 56a to 56d and 58a to 58d are formed on the insulating layer 104 by photolithography. At this time, both ends of the drive coils 40 and 46 and the ends of the corresponding lead conductors 42a to 42d are physically and electrically connected.

続いて、図9の(c)に示されるように、基板200の所定部分を中間層202に至るまで異方性エッチングにより除去する。次に、基板200が除去されることにより中間層202のうち露出した部分を、ドライエッチングにより除去する。これにより、ミラー48及び絶縁層54以外の可動部22と、基部24、連結部材38,44とが形成される。このとき、絶縁層104が絶縁層28,50となると共に、中間層202が絶縁層30,52となる。   Subsequently, as shown in FIG. 9C, a predetermined portion of the substrate 200 is removed by anisotropic etching down to the intermediate layer 202. Next, the exposed portion of the intermediate layer 202 due to the removal of the substrate 200 is removed by dry etching. Thus, the movable portion 22 other than the mirror 48 and the insulating layer 54, the base 24 and the connecting members 38 and 44 are formed. At this time, the insulating layer 104 becomes the insulating layers 28 and 50, and the intermediate layer 202 becomes the insulating layers 30 and 52.

続いて、図10の(a)に示されるように、シリコン酸化膜206及び基板204の所定部分をエッチングにより除去する。これにより、補強部26が形成される。このとき、シリコン酸化膜206が絶縁層32となる。   Subsequently, as shown in FIG. 10A, predetermined portions of the silicon oxide film 206 and the substrate 204 are removed by etching. Thereby, the reinforcement part 26 is formed. At this time, the silicon oxide film 206 becomes the insulating layer 32.

続いて、図10の(b)に示されるように、絶縁層52上に、ミラー48及び絶縁層54を形成する。これにより、ミラー構造体14が形成される。次に、電極56a〜56d,58a〜58d上に、バンプ電極60をそれぞれ一つずつ接続する。   Subsequently, as shown in FIG. 10B, the mirror 48 and the insulating layer 54 are formed on the insulating layer 52. Thereby, the mirror structure 14 is formed. Next, one bump electrode 60 is connected on each of the electrodes 56a to 56d and 58a to 58d.

続いて、図10の(c)に示されるように、永久磁石10と、電極16a〜16d,18a〜18dが表面12cに配置された配線基板12とを用意する。次に、永久磁石10の主面10aと配線基板12の表面12dとが向かい合うように、配線基板12を永久磁石10上に接着剤で取り付ける。   Subsequently, as shown in (c) of FIG. 10, the permanent magnet 10 and the wiring board 12 on which the electrodes 16a to 16d and 18a to 18d are disposed on the surface 12c are prepared. Next, the wiring substrate 12 is attached on the permanent magnet 10 with an adhesive so that the main surface 10 a of the permanent magnet 10 and the surface 12 d of the wiring substrate 12 face each other.

次に、ミラー構造体14を永久磁石10及び配線基板12上に位置決めする。このとき、ミラー配置部36の主面36aは、永久磁石10の主面10aと向かい合う。支持部20の電極56a〜56dは、対応する配線基板12の電極16a〜16dとそれぞれ向かい合う。支持部20の電極58a〜58dは、対応する配線基板12の電極18a〜18dとそれぞれ向かい合う。従って、Z軸方向から見て、配線基板12は、支持部20と永久磁石10との間に位置するが、可動部22とは重なり合っていない。   Next, the mirror structure 14 is positioned on the permanent magnet 10 and the wiring substrate 12. At this time, the main surface 36 a of the mirror placement portion 36 faces the main surface 10 a of the permanent magnet 10. The electrodes 56a to 56d of the support portion 20 face the electrodes 16a to 16d of the corresponding wiring substrate 12, respectively. The electrodes 58a to 58d of the support portion 20 face the electrodes 18a to 18d of the corresponding wiring substrate 12, respectively. Therefore, when viewed in the Z-axis direction, the wiring board 12 is located between the support portion 20 and the permanent magnet 10 but does not overlap the movable portion 22.

次に、各バンプ電極60を電極16a〜16d,18a〜18dのそれぞれの上に載置して、各バンプ電極60と、対応する電極16a〜16d,18a〜18dとを接続する。これにより、駆動コイル40,46が、引き出し導体42a〜42d、電極56a〜56d,58a〜58d、バンプ電極60、及び電極16a〜16d,18a〜18dを介して、配線基板12と電気的に接続される。以上により、永久磁石10、配線基板12及びミラー構造体14が組み立てられ、ミラー駆動装置1が完成する。   Next, each bump electrode 60 is placed on each of the electrodes 16a to 16d and 18a to 18d to connect each bump electrode 60 with the corresponding electrodes 16a to 16d and 18a to 18d. Thereby, the drive coils 40 and 46 are electrically connected to the wiring substrate 12 through the lead conductors 42a to 42d, the electrodes 56a to 56d, 58a to 58d, the bump electrodes 60, and the electrodes 16a to 16d and 18a to 18d. Be done. By the above, the permanent magnet 10, the wiring board 12, and the mirror structure 14 are assembled, and the mirror drive device 1 is completed.

以上のような本実施形態では、永久磁石10がZ軸方向で主面34a,36aと対向している。そのため、Z軸方向において永久磁石10と可動部22とが隣り合うので、可動部22のうち主面34a,36a側に配置された駆動コイル40,46に永久磁石10が全体として近づく。従って、駆動コイル40,46に作用する磁界を十分に確保することができる。   In the present embodiment as described above, the permanent magnet 10 is opposed to the main surfaces 34a and 36a in the Z-axis direction. Therefore, since the permanent magnet 10 and the movable portion 22 are adjacent in the Z-axis direction, the permanent magnet 10 as a whole approaches the drive coils 40 and 46 disposed on the main surfaces 34 a and 36 a of the movable portion 22. Therefore, the magnetic field acting on the drive coils 40 and 46 can be sufficiently secured.

本実施形態では、駆動コイル40,46が、可動部22から連結部材38,44を経由して支持部20へと延びている引き出し導体42a〜42dによって、支持部20のうち永久磁石10寄りの端部に位置する電極56a〜56d,58a〜58dと接続されている。また、電極56a〜56d,58a〜58dが、Z軸方向から見て支持部20と永久磁石10との間に位置する配線基板12と電気的に接続されている。このように、支持部20と永久磁石10との間に配線基板12が存在することで、支持部20のうち永久磁石10寄りの端部(表面20a)に位置する電極56a〜56d,58a〜58dと配線基板12との電気的な接続が図られる。従って、可動部22においてミラー48とは反対側の表面(主面36a)に駆動コイル40,46が配置されている場合であっても、駆動コイル40,46を外部と電気的に接続することが可能となる。   In the present embodiment, the drive coils 40 and 46 are closer to the permanent magnet 10 in the support 20 by the lead conductors 42 a to 42 d extending from the movable part 22 to the support 20 via the connection members 38 and 44. The electrodes 56a to 56d and 58a to 58d located at the end are connected. Further, the electrodes 56 a to 56 d and 58 a to 58 d are electrically connected to the wiring substrate 12 positioned between the support portion 20 and the permanent magnet 10 when viewed in the Z-axis direction. Thus, the presence of the wiring substrate 12 between the support portion 20 and the permanent magnet 10 allows the electrodes 56a to 56d, 58a to 58d to be located at the end (surface 20a) of the support portion 20 near the permanent magnet 10. Electrical connection between 58 d and wiring board 12 is achieved. Therefore, even when the drive coils 40 and 46 are disposed on the surface (principal surface 36 a) of the movable portion 22 opposite to the mirror 48, the drive coils 40 and 46 are electrically connected to the outside. Is possible.

本実施形態では、Z軸方向から見て、配線基板12は、永久磁石10の主面10a上に配置されているが、可動部22とは重なり合っていない。そのため、支持部20と永久磁石10との間に位置する配線基板12が、可動部22と永久磁石10とを離間させるスペーサとしても機能する。従って、可動部22が揺動するための空間を配線基板12によって確保することができる。加えて、配線基板12が、駆動コイル40,46に電気を供給する本来の機能と、スペーサの機能とを併せ持っているため、ミラー駆動装置1の全体としての小型化を図ることができる。   In the present embodiment, the wiring substrate 12 is disposed on the major surface 10 a of the permanent magnet 10 as viewed in the Z-axis direction, but does not overlap the movable portion 22. Therefore, the wiring substrate 12 positioned between the support portion 20 and the permanent magnet 10 also functions as a spacer for separating the movable portion 22 and the permanent magnet 10 from each other. Therefore, the space for swinging the movable portion 22 can be secured by the wiring board 12. In addition, since the wiring board 12 has both the original function of supplying electricity to the drive coils 40 and 46 and the function of the spacer, it is possible to miniaturize the mirror drive device 1 as a whole.

永久磁石10のうちZ軸方向において支持部20と重なり合う部分を支持部20に向けて突出させることで、永久磁石10にスペーサとしての機能を付与することも考えられる。この場合、永久磁石10の形状が複雑となると共に、永久磁石10によって可動部22の周囲に形成される磁界が複雑となり、当該磁界のうち磁束密度が略最大値を示す領域に駆動コイル40を位置合わせすることが困難となる。しかしながら、本実施形態では、配線基板12がスペーサの機能を有しており、永久磁石10の主面10aが平面状を呈しているので、永久磁石10によって可動部22の周囲に形成される磁界のうち磁束密度が略最大値を示す領域を特定しやすくなる。従って、当該領域に駆動コイル40を位置合わせすることが容易となる。   It is also conceivable to impart the function as a spacer to the permanent magnet 10 by causing the portion overlapping the support portion 20 in the Z-axis direction of the permanent magnet 10 to protrude toward the support portion 20. In this case, the shape of the permanent magnet 10 is complicated, and the magnetic field formed around the movable portion 22 by the permanent magnet 10 is complicated, and the drive coil 40 is disposed in the region where the magnetic flux density shows a substantially maximum value. It becomes difficult to align. However, in the present embodiment, since the wiring substrate 12 has the function of a spacer and the main surface 10a of the permanent magnet 10 has a planar shape, the magnetic field formed around the movable portion 22 by the permanent magnet 10 In the above, it is easy to identify the region where the magnetic flux density shows the substantially maximum value. Therefore, it becomes easy to position the drive coil 40 in the area concerned.

本実施形態では、基部24のうち永久磁石10と対向する表面側で且つ対向方向から見て補強部26と重なり合う位置に、電極56a〜56d,58a〜58dが配置されている。そのため、配線基板12と駆動コイル40,46とを電気的に接続する際に応力等が発生すると、主として、電極56a〜56d,58a〜58d及び基部24を介して補強部26が当該応力等を受ける。従って、可動部22がその応力等による影響を受け難くなる。   In the present embodiment, the electrodes 56a to 56d and 58a to 58d are disposed on the surface side of the base 24 facing the permanent magnet 10 and at a position overlapping the reinforcing portion 26 when viewed from the facing direction. Therefore, when a stress or the like occurs when the wiring substrate 12 and the drive coils 40 and 46 are electrically connected, the reinforcing portion 26 mainly performs the stress or the like through the electrodes 56a to 56d and 58a to 58d and the base 24. receive. Therefore, the movable portion 22 is less susceptible to the stress and the like.

本実施形態では、Z軸方向において、支持部20の厚さは可動部22の厚さよりも厚い。そのため、支持部20の強度がより高まるので、配線基板12と駆動コイル40,46とを電気的に接続する際に応力等が発生しても、可動部22がその応力等の影響をよりいっそう受け難くなる。従って、可動部22の破損を抑制することができる。   In the present embodiment, the thickness of the support portion 20 is larger than the thickness of the movable portion 22 in the Z-axis direction. Therefore, since the strength of the support portion 20 is further enhanced, even if a stress or the like occurs when the wiring substrate 12 and the drive coils 40 and 46 are electrically connected, the movable portion 22 is further influenced by the stress or the like. It becomes difficult to receive. Therefore, breakage of the movable portion 22 can be suppressed.

本実施形態では、バンプ電極60が、配線基板12と支持部20との間に配置されると共に、配線基板12の電極16a〜16d,18a〜18dと支持部20の電極56a〜56d,58a〜58dとを電気的に接続する。この場合、永久磁石10と支持部20との間にバンプ電極60が存在するので、ミラー配置部36の主面36aと永久磁石10との離間距離がさらに大きくなる。従って、可動部22が揺動する空間をさらに確保することができる。   In the present embodiment, the bump electrode 60 is disposed between the wiring substrate 12 and the support portion 20, and the electrodes 16a to 16d, 18a to 18d of the wiring substrate 12 and the electrodes 56a to 56d, 58a to 58b of the support portion 20. Electrically connect with 58 d. In this case, since the bump electrode 60 exists between the permanent magnet 10 and the support portion 20, the distance between the main surface 36a of the mirror placement portion 36 and the permanent magnet 10 is further increased. Therefore, a space in which the movable portion 22 swings can be further secured.

本実施形態では、被覆層102が、溝部100aの開口を覆っている。また、被覆層102を構成する金属材料が、駆動コイル46を構成する金属材料の拡散を抑制する機能を有する。そのため、駆動コイル40,46を構成する金属材料が絶縁層104に拡散し難くなっており、ショートの発生が防止される。従って、ショートによる導通不良を解消できる。これに伴い、高密度に巻回された駆動コイル40,46が実現されるので、より大きなローレンツ力を駆動コイル40,46に作用させ得る。その結果、ミラー48の可動範囲が大きなミラー駆動装置1を得ることができる。   In the present embodiment, the covering layer 102 covers the opening of the groove 100 a. In addition, the metal material forming the covering layer 102 has a function of suppressing the diffusion of the metal material forming the drive coil 46. Therefore, it is difficult for the metal material constituting the drive coils 40 and 46 to diffuse into the insulating layer 104, and the occurrence of short circuit is prevented. Therefore, the conduction failure due to the short circuit can be eliminated. Along with this, since the drive coils 40 and 46 wound in high density are realized, a larger Lorentz force can be applied to the drive coils 40 and 46. As a result, it is possible to obtain the mirror drive device 1 in which the movable range of the mirror 48 is large.

本実施形態では、駆動コイル46を構成する金属材料がCu又はAuであり、被覆層102を構成する金属材料はAl又はAlを含む合金である。Cu又はAuは、電気抵抗率が低い一方で比較的拡散しやすい材料であるが、被覆層102の存在により、これらの材料の拡散を抑制できる。特に、被覆層102を構成する金属材料がAl又はAlを含む合金であるため、Cu又はAuの拡散が極めて良好に抑制される。そのため、駆動コイル40,46の電機抵抗率を下げつつショートの発生を防止できる。   In the present embodiment, the metal material constituting the drive coil 46 is Cu or Au, and the metal material constituting the covering layer 102 is Al or an alloy containing Al. Although Cu or Au is a relatively easily diffused material while having a low electrical resistivity, the presence of the covering layer 102 can suppress the diffusion of these materials. In particular, since the metal material constituting the covering layer 102 is Al or an alloy containing Al, the diffusion of Cu or Au is extremely well suppressed. Therefore, the electrical resistivity of the drive coils 40 and 46 can be reduced and the occurrence of a short can be prevented.

本実施形態では、永久磁石10、配線基板12及びミラー構造体14を組み立てる前に、配線基板12を永久磁石10上に接着剤で取り付けている。この場合、ミラー駆動装置1の製造にあたり、支持部20が配線基板12に重なるようにミラー構造体14を配線基板12上に載置すればよい。そのため、ミラー駆動装置1の製造時に、強度の小さいミラー48に負荷がほとんど作用しない。従って、ミラー駆動装置1の製造過程においてミラー48が破損し難くなるので、歩留まりを高くすることができる。   In the present embodiment, the wiring substrate 12 is attached to the permanent magnet 10 with an adhesive before assembling the permanent magnet 10, the wiring substrate 12 and the mirror structure 14. In this case, in manufacturing the mirror driving device 1, the mirror structure 14 may be mounted on the wiring substrate 12 so that the support portion 20 overlaps the wiring substrate 12. Therefore, when the mirror driving device 1 is manufactured, the load hardly acts on the mirror 48 with small intensity. Accordingly, since the mirror 48 is less likely to be damaged in the manufacturing process of the mirror driving device 1, the yield can be increased.

本実施形態では、外側部34は、同一直線上に並ぶ一対の連結部材38を介して、支持部20の基部24に対し揺動可能に取り付けられており、ミラー配置部36は、同一直線上に並ぶ一対の連結部材44を介して、外側部34に対し揺動可能に取り付けられている。一対の連結部材44が並ぶ方向は、Z軸方向から見て、一対の連結部材38が並ぶ方向と略直交しているので、外側部34とミラー配置部36とは、異なる揺動軸に関して揺動する。そのため、ミラー48の反射光を2次元的に走査することが可能となる。   In the present embodiment, the outer portion 34 is swingably attached to the base 24 of the support portion 20 via a pair of connecting members 38 aligned in the same straight line, and the mirror placement portion 36 is in the same straight line It is swingably attached to the outer portion 34 via a pair of connecting members 44 aligned with each other. The direction in which the pair of connecting members 44 are arranged is substantially orthogonal to the direction in which the pair of connecting members 38 are arranged, as viewed from the Z-axis direction. Move. Therefore, it becomes possible to scan the reflected light of the mirror 48 two-dimensionally.

ところで、ミラー48の反射光を2次元的に走査する際、当該反射光を第1の走査方向に沿って高速に走査するためにミラー配置部36を素早く揺動させると共に、第1の走査方向と交差(例えば略直交)する第2の走査方向に沿って間欠的に当該反射光を走査するために外側部34をミラー配置部36よりも大きな振れ角で揺動させることが考えられる。このとき、本実施形態では、永久磁石10の主面10a側であって磁極10A1,10B1と磁極10B2,10C2との組によって可動部22の周囲に形成される磁界のうち磁束密度が略最大値を示す領域に位置する部分を有している。そのため、外側部34に配置される駆動コイル40に流す電流の大きさを小さくしつつ、駆動コイル40に作用するローレンツ力を大きくすることができる。従って、外側部34の振れ角を大きくしつつ、低消費電力を図ることが可能となる。   By the way, when the reflected light of the mirror 48 is two-dimensionally scanned, the mirror placement portion 36 is quickly swung to scan the reflected light at high speed along the first scanning direction, and the first scanning direction In order to scan the reflected light intermittently along the second scanning direction crossing (for example, substantially orthogonal to) the outer portion 34 is considered to be swung at a larger swing angle than the mirror placement portion 36. At this time, in the present embodiment, the magnetic flux density of the magnetic field formed on the main surface 10a side of the permanent magnet 10 and around the movable portion 22 by the combination of the magnetic poles 10A1 and 10B1 and the magnetic poles 10B2 and 10C2 has a substantially maximum value Has a portion located in the area shown. Therefore, it is possible to increase the Lorentz force acting on the drive coil 40 while reducing the magnitude of the current supplied to the drive coil 40 disposed in the outer portion 34. Therefore, low power consumption can be achieved while increasing the swing angle of the outer portion 34.

本実施形態では、Z軸方向から見て、駆動コイル40は、ハルバッハ配列を構成する磁性部10A〜10Cによって可動部22の周囲に形成される磁界のうち磁束密度が略最大値を示す上記領域に位置している部分を有している。そのため、ハルバッハ配列を構成する磁性部10A〜10Cにより、駆動コイル40の近傍における磁束密度がより大きくなる。   In the present embodiment, when viewed from the Z-axis direction, the drive coil 40 is in the above-described region where the magnetic flux density has a substantially maximum value among the magnetic fields formed around the movable portion 22 by the magnetic portions 10A to 10C forming the Halbach array. Has a portion located at Therefore, the magnetic flux density in the vicinity of the drive coil 40 is further increased by the magnetic portions 10A to 10C forming the Halbach arrangement.

以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の要旨の範囲内で種々の変形を上記の実施形態に加えてもよい。例えば、ミラー駆動装置1は、ダミー電極として機能する電極18a〜18d,58a〜58dを有していなくてもよい。この場合、例えば図11に示されるように、配線基板12の一方の第2の部分12bの表面12c上に2つの電極16a,16dが配置され、配線基板12の他方の第2の部分12bの表面12c上に2つの電極16b,16cが配置されていてもよい。このとき、支持部20の表面20aに配置される電極56a〜56dは、図12に示されるように、電極16a〜16dに対応する位置に配置される。このように、一方に偏ることなく電極18a〜18d,58a〜58dが配置されていると、ミラー構造体14を永久磁石10及び配線基板12上に配置するときに、ミラー構造体14が永久磁石10及び配線基板12に対して傾いてしまうことを抑制できる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail, you may add various deformation | transformation to said embodiment within the range of the summary of this invention. For example, the mirror drive device 1 may not have the electrodes 18a to 18d and 58a to 58d functioning as dummy electrodes. In this case, for example, as shown in FIG. 11, two electrodes 16a and 16d are disposed on the surface 12c of one second portion 12b of the wiring substrate 12, and the other second portion 12b of the wiring substrate 12 is Two electrodes 16b and 16c may be disposed on the surface 12c. At this time, the electrodes 56a to 56d disposed on the surface 20a of the support portion 20 are disposed at positions corresponding to the electrodes 16a to 16d, as shown in FIG. As described above, when the electrodes 18a to 18d and 58a to 58d are arranged without being biased to one side, the mirror structure 14 is a permanent magnet when the mirror structure 14 is disposed on the permanent magnet 10 and the wiring substrate 12 It can suppress that it inclines with respect to 10 and the wiring board 12.

図示はしていないが、配線基板12の一方の第1の部分12aの表面12c上に2つの電極16a,16dが配置され、配線基板12の他方の第1の部分12aの表面12c上に2つの電極16b,16cが配置されていてもよい。同じく図示はしていないが、配線基板12の各部分12a,12bのそれぞれに、電極16a〜16dが一つずつ配置されていてもよい。これらの場合にも、支持部20の表面20aに配置される電極56a〜56dは、電極16a〜16dに対応する位置に配置される。   Although not shown, two electrodes 16 a and 16 d are disposed on the surface 12 c of one first portion 12 a of the wiring substrate 12, and two electrodes 16 a and 16 d are disposed on the surface 12 c of the other first portion 12 a of the wiring substrate 12. Two electrodes 16b and 16c may be arranged. Similarly, although not shown, one of the electrodes 16 a to 16 d may be disposed on each of the portions 12 a and 12 b of the wiring substrate 12. Also in these cases, the electrodes 56a to 56d disposed on the surface 20a of the support portion 20 are disposed at positions corresponding to the electrodes 16a to 16d.

配線基板12の形状は、環状を呈していなくてもよい。例えば、図13に示されるように、配線基板12は、2つの部材12A,12Bで構成されていてもよい。図13の(a)に示される部材12A,12Bは共に、C字形状を呈する。図13の(b)に示される部材12A,12Bは共に、直線状を呈する。すなわち、本明細書において「枠状」とは、無端環状の枠部材そのもののみならず、当該無端環状の枠部材の少なくとも一部が切断された複数の部分からなる一組の部材も含む。枠状の配線基板12は、永久磁石10の周縁に沿って延びていてもよい。   The shape of the wiring board 12 may not have an annular shape. For example, as shown in FIG. 13, the wiring board 12 may be configured by two members 12A and 12B. Both members 12A and 12B shown in FIG. 13A have a C-shape. Both members 12A and 12B shown in (b) of FIG. 13 have a linear shape. That is, in the present specification, “frame-like” includes not only an endless annular frame member itself but also a set of members consisting of a plurality of portions obtained by cutting at least a part of the endless annular frame member. The frame-shaped wiring board 12 may extend along the periphery of the permanent magnet 10.

図13に示されるように、部材12Aの表面12c上には、電極16a〜16dが配置されている。部材12Bの表面12c上には、電極18a〜18dが配置されている。配線基板12が3つ以上の部材で構成されていてもよい。配線基板12が複数の部材で構成されている場合であっても、配線基板12は、支持部20と永久磁石10との間に位置しており、可動部22と永久磁石10との間には位置していない。これにより、可動部22と永久磁石10との間に可動部22が揺動するための空間を設けることができ、可動部22の揺動が配線基板12によって阻害されない。   As shown in FIG. 13, electrodes 16a to 16d are disposed on the surface 12c of the member 12A. Electrodes 18a to 18d are disposed on the surface 12c of the member 12B. The wiring board 12 may be composed of three or more members. Even when the wiring board 12 is formed of a plurality of members, the wiring board 12 is located between the support portion 20 and the permanent magnet 10, and between the movable portion 22 and the permanent magnet 10. Is not located. Thus, a space for swinging the movable portion 22 can be provided between the movable portion 22 and the permanent magnet 10, and the swing of the movable portion 22 is not inhibited by the wiring board 12.

図13に示される2つの部材12A,12Bは、可動部22の主面の対向方向(Z軸方向)に直交する一の方向(X軸方向)において並んでおり、Z軸方向及び一の方向(X軸方向)の双方に直交する他の方向(Y軸方向)において延びていてもよい。部材12A上に配置されている複数の電極16a〜16dと、部材12B上に配置されている複数の電極18a〜18dとは、X軸方向においてそれぞれ対向している。電極16a〜16dは、Y軸方向において並んでいる。電極18a〜18dはY軸方向において並んでいる。この場合も、一対の部材12A,12Bの間に可動部22が揺動するための空間を設けることができ、可動部22の揺動が配線基板12によって阻害されない。加えて、第1の方向において対となっている複数の電極16a〜16d,18a〜18dによって、支持部20がバランスよく支持される。X軸方向において対向し且つY軸方向に延びる一対の部分又は部材を有していれば、無端環状の枠部材の場合でも、当該無端環状の枠部材の少なくとも一部が切断された複数の部分からなる一組の部材の場合でも、当該効果を奏する。また、電極がダミー電極の場合でも、当該効果を奏する。   The two members 12A and 12B shown in FIG. 13 are arranged in one direction (X-axis direction) orthogonal to the opposing direction (Z-axis direction) of the main surface of the movable portion 22, and the Z-axis direction and one direction It may extend in another direction (Y-axis direction) orthogonal to both (X-axis direction). The plurality of electrodes 16a to 16d disposed on the member 12A and the plurality of electrodes 18a to 18d disposed on the member 12B are opposed to each other in the X-axis direction. The electrodes 16a to 16d are aligned in the Y-axis direction. The electrodes 18a to 18d are aligned in the Y-axis direction. Also in this case, a space for swinging the movable portion 22 can be provided between the pair of members 12A and 12B, and the swing of the movable portion 22 is not inhibited by the wiring board 12. In addition, the support portion 20 is supported in a well-balanced manner by the plurality of electrodes 16a to 16d and 18a to 18d which are paired in the first direction. If it has a pair of parts or members opposed in the X-axis direction and extending in the Y-axis direction, even in the case of an endless annular frame member, a plurality of portions in which at least a part of the endless annular frame member is cut Even in the case of a pair of members, the effect is exerted. In addition, even in the case where the electrode is a dummy electrode, the effect is exhibited.

配線基板12の他に、基部24や補強部26が枠状を呈していてもよいし、支持部20が全体として枠状を呈していてもよい。ここでいう「枠状」も、上記と同様に、無端環状の枠部材そのもののみならず、当該無端環状の枠部材の少なくとも一部が切断された複数の部分からなる一組の部材も含む。   In addition to the wiring substrate 12, the base portion 24 and the reinforcing portion 26 may have a frame shape, or the support portion 20 may have a frame shape as a whole. The “frame-like” referred to here also includes not only an endless annular frame member itself but also a set of members consisting of a plurality of portions in which at least a part of the endless annular frame member is cut.

駆動コイル40,46の近傍の構造に関して、例えば図14に示されるように、溝部100aの開口を被覆層102で覆う代わりに、基材100の表面全体を絶縁層106,108で覆うようにしてもよい。絶縁層106は、例えばSiNで構成されてもよい。絶縁層106の厚さは、例えば50nm程度以上に設定されてもよい。絶縁層106の厚さは、例えば500nm程度以下に設定されてもよい。この場合、絶縁層106によって、駆動コイル46を構成する金属材料の拡散が抑制される。絶縁層108は、例えばSiOで構成されていてもよい。絶縁層108の厚さは、例えば500nm以上に設定されてもよい。 With regard to the structure in the vicinity of the drive coils 40 and 46, for example, as shown in FIG. 14, instead of covering the opening of the groove 100a with the covering layer 102, the entire surface of the substrate 100 is covered with the insulating layer 106 and 108. It is also good. The insulating layer 106 may be made of, for example, SiN. The thickness of the insulating layer 106 may be set to, for example, about 50 nm or more. The thickness of the insulating layer 106 may be set to, for example, about 500 nm or less. In this case, the insulating layer 106 suppresses the diffusion of the metal material forming the drive coil 46. The insulating layer 108 may be made of, for example, SiO 2 . The thickness of the insulating layer 108 may be set to, for example, 500 nm or more.

上記実施形態では、直線状の連結部材38を一例に説明したが、連結部材38の構成はこれに限られず、他の形状であってもよい。連結部材38の他の例として、蛇行形状を呈する連結部材38を図15〜図17に示す。ここで、図16に示されるように、連結部材44は、外側部34に向けてX軸方向に沿って直線状に延び、二叉に分岐した後に、Y軸方向に沿って延びていてもよい。この場合、X軸方向における連結部材44の長さを短くすることができる。   Although the linear connecting member 38 has been described as an example in the above embodiment, the configuration of the connecting member 38 is not limited to this, and may be another shape. As another example of the connection member 38, the connection member 38 which exhibits a serpentine shape is shown in FIGS. Here, as shown in FIG. 16, the connecting member 44 linearly extends along the X-axis direction toward the outer portion 34, and after being bifurcated, extends along the Y-axis direction. Good. In this case, the length of the connecting member 44 in the X-axis direction can be shortened.

図17に示されるように、外側部34の主面34b上に一対の梁部材62が配置されていてもよい。梁部材62は、図17において、Z軸方向から見て、一対の連結部材44が並ぶ方向(一対の連結部材38が並ぶ直線と直交する直線)に沿って延びる突条である。梁部材62の高さは、補強部26の高さと同等となるように設定してもよい。この場合、ミラー配置部36の揺動によって外側部34に生ずる荷重が梁部材62によって支持されるので、外側部34に生ずる撓みを抑制することができる。その結果、外側部34の強度の向上が図られる。なお、外側部34の強度向上を図ることができれば、梁部材62の形状は突条のように細長くなくてもよい。すなわち、梁部材62は、一対の連結部材44が並ぶ方向において外側部34の一端近傍から他端近傍まで延びていなくてもよい。例えば、一対の連結部材44が並ぶ方向において、複数の梁部材62が互いに離間した状態で並んでいてもよい。   As shown in FIG. 17, a pair of beam members 62 may be disposed on the major surface 34 b of the outer portion 34. The beam member 62 is a protrusion extending along a direction in which the pair of connecting members 44 are arranged (a straight line orthogonal to a straight line in which the pair of connecting members 38 are arranged) when viewed in the Z-axis direction in FIG. The height of the beam member 62 may be set to be equal to the height of the reinforcing portion 26. In this case, since the load generated on the outer side portion 34 by the swinging of the mirror placement portion 36 is supported by the beam member 62, it is possible to suppress the deflection generated on the outer side portion 34. As a result, the strength of the outer portion 34 can be improved. The shape of the beam member 62 may not be as thin as a protrusion if the strength of the outer portion 34 can be improved. That is, the beam member 62 may not extend from the vicinity of one end of the outer portion 34 to the vicinity of the other end in the direction in which the pair of connecting members 44 are arranged. For example, in the direction in which the pair of connecting members 44 are arranged, the plurality of beam members 62 may be arranged in a mutually separated state.

永久磁石10の主面10a側であって可動部22の近傍に磁界を集中的に形成することができれば、永久磁石10がハルバッハ配列を構成する磁性部10A〜10Cによって構成されていなくてもよい。他の例に係る永久磁石10について、図18〜図21を参照して説明する。他の例に係る永久磁石10は、磁性部10F〜10Lを有する。   As long as the magnetic field can be formed intensively on the main surface 10a side of the permanent magnet 10 and in the vicinity of the movable portion 22, the permanent magnet 10 does not have to be constituted by the magnetic portions 10A to 10C forming the Halbach arrangement. . The permanent magnet 10 which concerns on another example is demonstrated with reference to FIGS. 18-21. The permanent magnet 10 according to another example has magnetic parts 10F to 10L.

磁性部10Fと磁性部10Gとは、可動部22の主面の対向方向(Z軸方向)と直交する第1の方向(X軸方向)に沿って隣り合っている。磁性部10Kと磁性部10Lとは、当該第1の方向(X軸方向)に沿って隣り合っている。磁性部10H,10J,10Iは、当該対向方向及び当該第1の方向の双方に直交する第2の方向(Y軸方向)に沿って隣り合うように、この順に並んでいる。   The magnetic portion 10F and the magnetic portion 10G are adjacent to each other along a first direction (X-axis direction) orthogonal to the opposing direction (Z-axis direction) of the main surface of the movable portion 22. The magnetic portion 10K and the magnetic portion 10L are adjacent to each other along the first direction (X-axis direction). The magnetic portions 10H, 10J, and 10I are arranged in this order so as to be adjacent to each other along a second direction (Y-axis direction) orthogonal to both the facing direction and the first direction.

磁性部10H〜10Jは、当該第1の方向において、磁性部10Gと磁性部10Kとの間に位置すると共に、磁性部10Gと磁性部10Kとによって挟持されている。従って、磁性部10H〜10Jは、当該第1の方向において磁性部10G,10Kと隣り合っている。   The magnetic units 10H to 10J are located between the magnetic unit 10G and the magnetic unit 10K in the first direction, and are sandwiched by the magnetic unit 10G and the magnetic unit 10K. Therefore, the magnetic parts 10H to 10J are adjacent to the magnetic parts 10G and 10K in the first direction.

磁性部10Fと磁性部10Gとが接する面により境界面10Mが形成されている。磁性部10Gと磁性部10H〜10Jとが接する面により境界面10Nが形成されている。磁性部10Hと磁性部10Jとが接する面により境界面10Oが形成されている。磁性部10Iと磁性部10Jとが接する面により境界面10Pが形成されている。磁性部10Kと磁性部10H〜10Jとが接する面により境界面10Qが形成されている。磁性部10Kと磁性部10Lとが接する面により境界面10Rが形成されている。境界面10M,10N,10Q,10Rは、X軸方向に略直交している。境界面10O,10Pは、Y軸方向に略直交している。   A boundary surface 10M is formed by the surface where the magnetic portion 10F and the magnetic portion 10G are in contact with each other. A boundary surface 10N is formed by a surface where the magnetic portion 10G and the magnetic portions 10H to 10J are in contact with each other. A boundary surface 10O is formed by a surface where the magnetic portion 10H and the magnetic portion 10J are in contact with each other. A boundary surface 10P is formed by the surface where the magnetic portion 10I and the magnetic portion 10J are in contact with each other. A boundary surface 10Q is formed by the surfaces where the magnetic portions 10K and the magnetic portions 10H to 10J are in contact with each other. A boundary surface 10R is formed by a surface where the magnetic portion 10K and the magnetic portion 10L are in contact with each other. The boundary surfaces 10M, 10N, 10Q, and 10R are substantially orthogonal to the X-axis direction. The boundary surfaces 10O and 10P are substantially orthogonal to the Y-axis direction.

磁性部10Fは、図19の(a)及び図21に示されるように、互いに異なる極性の磁極10F1,10F2を有する。磁極10F1は、N極であり、主面10a側に位置している。磁極10F2は、S極であり、主面10b側に位置している。すなわち、磁性部10Fの磁化の向きは、主面10b側から主面10a側に向かっている。   As shown in (a) of FIG. 19 and FIG. 21, the magnetic portion 10F has magnetic poles 10F1 and 10F2 of different polarities. The magnetic pole 10F1 is an N pole and is located on the main surface 10a side. The magnetic pole 10F2 is a south pole and is located on the main surface 10b side. That is, the direction of magnetization of the magnetic portion 10F is directed from the main surface 10b side to the main surface 10a side.

磁性部10Gは、図19の(a)及び図21に示されるように、互いに異なる極性の磁極10G1,10G2を有する。磁極10G1は、S極であり、主面10a側に位置している。磁極10G2は、N極であり、主面10b側に位置している。すなわち、磁性部10Gの磁化の向きは、主面10a側から主面10b側に向かっている。   The magnetic portion 10G has magnetic poles 10G1 and 10G2 of mutually different polarities, as shown in (a) of FIG. 19 and FIG. The magnetic pole 10G1 is a south pole and is located on the main surface 10a side. The magnetic pole 10G2 is an N pole and is located on the main surface 10b side. That is, the direction of magnetization of the magnetic portion 10G is from the main surface 10a side to the main surface 10b side.

磁性部10Hは、図20の(a)及び図21の(b)に示されるように、互いに異なる極性の磁極10H1,10H2を有する。磁極10H1は、S極であり、主面10a側に位置している。磁極10H2は、N極であり、主面10b側に位置している。すなわち、磁性部10Hの磁化の向きは、主面10a側から主面10b側に向かっている。   As shown in (a) of FIG. 20 and (b) of FIG. 21, the magnetic portion 10H has magnetic poles 10H1 and 10H2 of different polarities. The magnetic pole 10H1 is a south pole and is located on the main surface 10a side. The magnetic pole 10H2 is an N pole and is located on the main surface 10b side. That is, the direction of the magnetization of the magnetic portion 10H is from the main surface 10a side to the main surface 10b side.

磁性部10Iは、図20の(a)及び図21の(a)に示されるように、互いに異なる極性の磁極10I1,10I2を有する。磁極10I1は、N極であり、主面10a側に位置している。磁極10I2は、S極であり、主面10b側に位置している。すなわち、磁性部10Iの磁化の向きは、主面10b側から主面10a側に向かっている。   As shown in (a) of FIG. 20 and (a) of FIG. 21, the magnetic portion 10I has magnetic poles 10I1 and 10I2 of different polarities. The magnetic pole 10I1 is an N pole and is located on the main surface 10a side. The magnetic pole 10I2 is a south pole and is located on the main surface 10b side. That is, the magnetization direction of the magnetic portion 10I is directed from the main surface 10b side to the main surface 10a side.

磁性部10Jは、図19の(a)及び図20の(a)に示されるように、着磁されていない。そのため、磁性部10J内において磁気モーメントが打ち消し合い、磁性部10Jにおける磁化が略0となっている。   The magnetic portion 10J is not magnetized as shown in (a) of FIG. 19 and (a) of FIG. Therefore, the magnetic moments cancel each other in the magnetic portion 10J, and the magnetization in the magnetic portion 10J is substantially zero.

磁性部10Kは、図19の(a)及び図21に示されるように、互いに異なる極性の磁極10K1,10K2を有する。磁極10K1は、N極であり、主面10a側に位置している。磁極10K2は、S極であり、主面10b側に位置している。すなわち、磁性部10Kの磁化の向きは、主面10b側から主面10a側に向かっている。   The magnetic portion 10K has magnetic poles 10K1 and 10K2 of different polarities, as shown in (a) of FIG. 19 and FIG. The magnetic pole 10K1 is an N pole and is located on the main surface 10a side. The magnetic pole 10K2 is a south pole and is located on the main surface 10b side. That is, the direction of magnetization of the magnetic portion 10K is directed from the main surface 10b side to the main surface 10a side.

磁性部10Lは、図19の(a)及び図21に示されるように、互いに異なる極性の磁極10L1,10L2を有する。磁極10L1は、S極であり、主面10a側に位置している。磁極10L2は、N極であり、主面10b側に位置している。すなわち、磁性部10Lの磁化の向きは、主面10a側から主面10b側に向かっている。   The magnetic portion 10L has the magnetic poles 10L1 and 10L2 of different polarities, as shown in (a) of FIG. 19 and FIG. The magnetic pole 10L1 is a south pole and is located on the main surface 10a side. The magnetic pole 10L2 is an N pole and is located on the main surface 10b side. That is, the magnetization direction of the magnetic portion 10L is directed from the main surface 10a side to the main surface 10b side.

以上より、主面10aには、第1の方向において隣り合って並ぶ磁極10F1(N極)と磁極10G1(S極)との組が現れている。主面10aには、第1の方向において隣り合って並ぶ磁極10K1(N極)と磁極10L1(S極)との組が現れている。そのため、永久磁石10の主面10a側であって可動部22の近傍には、磁界が集中的に形成されている。当該磁界における磁束密度は、図19の(b)に示されるように、第1の方向(X軸方向)において、永久磁石10の主面10a側であって磁極10F1と磁極10G1との組の境界(境界面10M)近傍と、永久磁石10の主面10a側であって磁極10K1と磁極10L1との組の境界(境界面10R)近傍とで特に大きく、これらの境界から離れるにつれて小さくなる傾向にある。また、当該磁界における磁束密度は、図20の(b)に示されるように、第2の方向(Y軸方向)において、永久磁石10の主面10a側であって磁極10H1と磁極10I1との間(磁性部10J)で特に大きく、磁性部10Jから離れるにつれて小さくなる傾向にある。   From the above, on the main surface 10a, a set of the magnetic pole 10F1 (N pole) and the magnetic pole 10G1 (S pole) aligned in the first direction adjacent to each other appears. On the main surface 10a, a set of a magnetic pole 10K1 (N pole) and a magnetic pole 10L1 (S pole) arranged adjacent to each other in the first direction appears. Therefore, a magnetic field is formed intensively on the main surface 10 a side of the permanent magnet 10 and in the vicinity of the movable portion 22. The magnetic flux density in the magnetic field is the main surface 10a side of the permanent magnet 10 in the first direction (X-axis direction) as shown in (b) of FIG. 19 and a set of the magnetic pole 10F1 and the magnetic pole 10G1. It tends to be particularly large in the vicinity of the boundary (boundary surface 10M) and in the vicinity of the boundary (boundary surface 10R) of the pair of the magnetic pole 10K1 and the magnetic pole 10L1 on the main surface 10a side of the permanent magnet 10 It is in. The magnetic flux density in the magnetic field is the main surface 10a side of the permanent magnet 10 in the second direction (Y-axis direction) as shown in (b) of FIG. 20, and the magnetic pole 10H1 and the magnetic pole 10I1 are In particular, the distance between the magnetic portions 10J and the distance between the magnetic portions 10J increases.

上記の他の例に係る永久磁石10を用いた場合も、駆動コイル40は、磁性部10F〜10Lによって可動部22の周囲に形成される磁界のうち磁束密度が略最大値を示す第1の領域に位置している部分を有する。そのため、特定の状態に配列された磁性部10F〜10Lにより、駆動コイル40の近傍により大きな磁束密度を形成することができる。   Also in the case where the permanent magnet 10 according to the other example described above is used, the drive coil 40 is a first magnetic flux density having a substantially maximum value among magnetic fields formed around the movable portion 22 by the magnetic portions 10F to 10L. It has a portion located in the area. Therefore, a magnetic flux density larger in the vicinity of the drive coil 40 can be formed by the magnetic portions 10F to 10L arranged in a specific state.

一方、上記の他の例に係る永久磁石10を用いた場合、駆動コイル46は、上記第1の領域ではない第2の領域に位置している部分を有する。換言すると、駆動コイル46は、対向方向から見て、境界面10Mと境界面10Rとの間に位置している。ミラー配置部36の共振周波数に対応する周波数の電流を駆動コイル46に流し、反射光を第1の走査方向に沿って高速に走査する場合には、ミラー配置部36は共振によって揺動するので、ミラー配置部36を揺動させるために駆動コイル46に大きなローレンツ力が作用しなくてもよい。そのため、駆動コイル46が上記第2の領域に位置している部分を有していると、駆動コイル40が上記第1の領域に位置しやすくなる。従って、駆動コイル40に作用するローレンツ力をさらに大きくすることができる。   On the other hand, when the permanent magnet 10 according to the other example described above is used, the drive coil 46 has a portion located in the second area other than the first area. In other words, the drive coil 46 is located between the interface 10M and the interface 10R when viewed from the opposite direction. When a current of a frequency corresponding to the resonance frequency of the mirror placement portion 36 is supplied to the drive coil 46 and the reflected light is scanned at high speed along the first scanning direction, the mirror placement portion 36 oscillates due to resonance. The large Lorentz force may not act on the drive coil 46 in order to swing the mirror placement portion 36. Therefore, when the drive coil 46 has a portion located in the second area, the drive coil 40 can be easily located in the first area. Therefore, the Lorentz force acting on the drive coil 40 can be further increased.

上記の他の例に係る永久磁石10は、着磁されていない磁性部10Jを有していたが、図22に示されるように、当該磁性部10Jを有していなくてもよい。この場合、磁性部10Hと磁性部10Iとは、第2の方向(Y軸方向)に沿って隣り合っており、磁性部10Hと磁性部10Iとが接する面により境界面10Sが形成されている。   Although the permanent magnet 10 which concerns on said other example had the magnetic part 10J which is not magnetized, it is not necessary to have the said magnetic part 10J, as FIG. 22 shows. In this case, the magnetic portion 10H and the magnetic portion 10I are adjacent along the second direction (Y-axis direction), and the boundary surface 10S is formed by the surface where the magnetic portion 10H and the magnetic portion 10I are in contact with each other. .

ミラー48の形状は、円形でもよいし、多角形(例えば、四角形や八角形)でもよい。   The shape of the mirror 48 may be circular or polygonal (for example, square or octagonal).

バンプ電極60の形状は、例えば、球状、半球状、柱状、錐体状、これらが部分的に切除された形状であってもよい。   The shape of the bump electrode 60 may be, for example, a spherical shape, a hemispherical shape, a columnar shape, a conical shape, or a shape in which these are partially cut away.

強磁性体やフェリ磁性体を着磁して永久磁石10を得てもよい。   The permanent magnet 10 may be obtained by magnetizing a ferromagnetic material or a ferrimagnetic material.

配線基板12は、支持部20と永久磁石10との間に配置されていれば、永久磁石10の主面10aに直接載置されていなくてもよい。この場合でも、支持部20と永久磁石10との間に位置する配線基板12が、可動部22と永久磁石10とを離間させるスペーサとして機能する。従って、可動部22が揺動するための空間を配線基板12によって確保することができる。   The wiring substrate 12 may not be directly mounted on the major surface 10 a of the permanent magnet 10 as long as the wiring substrate 12 is disposed between the support portion 20 and the permanent magnet 10. Also in this case, the wiring board 12 located between the support portion 20 and the permanent magnet 10 functions as a spacer for separating the movable portion 22 and the permanent magnet 10 from each other. Therefore, the space for swinging the movable portion 22 can be secured by the wiring board 12.

ミラー駆動装置1の製造過程において、駆動コイル40,46を形成した後にミラー48を形成してもよい。   In the manufacturing process of the mirror drive device 1, the mirror 48 may be formed after the drive coils 40 and 46 are formed.

ミラー駆動装置1の製造過程において、上記実施形態とは異なる順序で、永久磁石10、配線基板12及びミラー構造体14を組み立ててもよい。例えば、まず、得られたミラー構造体14の電極56a〜56d,58a〜58d上に、バンプ電極60をそれぞれ一つずつ接続する。次に、永久磁石10に取り付けられていない配線基板12を用意して、配線基板12の電極16a〜16d,18a〜18dと各バンプ電極60とをそれぞれ接続する。次に、配線基板12の表面12dを、永久磁石10の主面10aと接着剤等で接続する。   In the manufacturing process of the mirror drive device 1, the permanent magnet 10, the wiring board 12 and the mirror structure 14 may be assembled in an order different from that of the above embodiment. For example, first, one bump electrode 60 is connected on each of the electrodes 56 a to 56 d and 58 a to 58 d of the obtained mirror structure 14. Next, the wiring substrate 12 not attached to the permanent magnet 10 is prepared, and the electrodes 16 a to 16 d and 18 a to 18 d of the wiring substrate 12 are connected to the respective bump electrodes 60 respectively. Next, the surface 12 d of the wiring substrate 12 is connected to the major surface 10 a of the permanent magnet 10 with an adhesive or the like.

電極16a〜16d,18a〜18dと電極56a〜56d,58a〜58dとの電気的な接続は、バンプ電極60に限られず、例えば導電性接着フィルムを用いてもよい。   The electrical connection between the electrodes 16a to 16d and 18a to 18d and the electrodes 56a to 56d and 58a to 58d is not limited to the bump electrode 60. For example, a conductive adhesive film may be used.

1…ミラー駆動装置、10…永久磁石、10A〜10C…磁性部、10a,10b…主面、12…配線基板、14…ミラー構造体、16a〜16d…電極、18a〜18d…電極、20…支持部、22…可動部、24…基部、26…補強部、36…ミラー配置部、36a,36b…主面、38,44…連結部材、40,46…駆動コイル、42a〜42d…引き出し導体、48…ミラー、56a〜56d…電極、58a〜58d…電極、60…バンプ電極、100…基材、100a…溝部、102…被覆層、104…絶縁層。

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Mirror drive device, 10 ... Permanent magnet, 10A-10C ... Magnetic part, 10a, 10b ... Principal surface, 12 ... Wiring board, 14 ... Mirror structure, 16a-16d ... Electrode, 18a-18d ... Electrode, 20 ... Support part 22 movable part 24 base part 26 reinforcement part 36 mirror arrangement part 36a, 36b main surface 38, 44 connection member 40, 46 drive coil 42a to 42d lead conductor , 48: mirror, 56a to 56d: electrode, 58a to 58d: electrode, 60: bump electrode, 100: base material, 100a: groove portion, 102: coating layer, 104: insulating layer.

Claims (16)

枠状を呈する支持部と、
前記支持部の内側に位置し且つ対向する第1及び第2の主面を有し、連結部材を介して前記支持部に揺動可能に支持された可動部と、
前記第1及び第2の主面が対向する対向方向で前記支持部及び前記第2の主面と対向するように位置し、前記可動部の周囲に磁場を形成する磁性体と、
枠状を呈しており、前記対向方向から見て前記可動部が内側に位置するように、前記対向方向で前記支持部と前記磁性体との間に配置されている配線基板とを備え、
前記可動部は、
前記第1及び第2の主面を含む基材と、
前記第1の主面側に配置されたミラーと、
前記磁性体と向かい合うように前記第2の主面側に配置された駆動コイルとを有し、
前記支持部は、
枠状を呈しており、前記連結部材と接続された基部と、
枠状を呈しており、前記対向方向で前記磁性体及び前記配線基板から離れる方向に前記基部から延びている補強部と、
前記基部のうち前記磁性体と対向する表面側で且つ前記対向方向から見て前記可動部を間において向かい合うように配置された第1及び第2の電極とを有し、
前記補強部と、前記基部と、前記第1の電極と、前記配線基板と、前記磁性体とは前記対向方向においてこの順に重なり合うように配置されていると共に、前記補強部と、前記基部と、前記第2の電極と、前記配線基板と、前記磁性体とは前記対向方向においてこの順に重なり合うように配置されており、
前記駆動コイルは、前記可動部から前記連結部材を経由して前記支持部へと延びている引き出し導体によって、前記第1及び第2の電極のうち少なくとも一方と電気的に接続され、
前記第1及び第2の電極は、前記配線基板と電気的且つ物理的に接続されている、ミラー駆動装置。
A frame-shaped support portion,
A movable portion having first and second main surfaces located inside and opposite to the support portion, and pivotally supported by the support portion via a coupling member;
A magnetic body positioned so as to face the support portion and the second main surface in an opposite direction in which the first and second main surfaces face each other, and forming a magnetic field around the movable portion;
And a wiring substrate disposed between the support portion and the magnetic body in the opposing direction so that the movable portion is inward when viewed from the opposing direction.
The movable portion is
A substrate including the first and second main surfaces;
A mirror disposed on the first main surface side;
A drive coil disposed on the second main surface side so as to face the magnetic body,
The support portion is
A base having a frame shape and connected to the connection member;
A reinforcing portion having a frame shape and extending from the base in a direction away from the magnetic body and the wiring board in the opposing direction;
It has a first and a second electrode arranged on the surface side of the base facing the magnetic body and facing the movable portion as viewed from the facing direction.
The reinforcing portion, the base portion, the first electrode, the wiring board, and the magnetic body are disposed to overlap in this order in the opposing direction, and the reinforcing portion, the base portion, The second electrode, the wiring board, and the magnetic body are arranged to overlap in this order in the facing direction,
The drive coil is electrically connected to at least one of the first and second electrodes by a lead conductor extending from the movable portion to the support portion via the connection member.
The mirror drive device, wherein the first and second electrodes are electrically and physically connected to the wiring substrate.
前記配線基板は、前記磁性体のうち前記第2の主面と向かい合う表面上に配置されている、請求項1に記載のミラー駆動装置。   The mirror drive device according to claim 1, wherein the wiring substrate is disposed on a surface of the magnetic body facing the second main surface. 前記対向方向において、前記基部及び前記補強部の厚さの合計は前記可動部の厚さよりも厚い、請求項1又は2に記載のミラー駆動装置。   The mirror drive device according to claim 1 or 2, wherein in the opposite direction, the total thickness of the base and the reinforcing portion is larger than the thickness of the movable portion. 前記配線基板と前記支持部との間に配置されると共に、前記配線基板と前記第1及び第2の電極とを接続するバンプ電極をさらに備える、請求項1〜3のいずれか一項に記載のミラー駆動装置。   The bump electrode which is arrange | positioned between the said wiring board and the said support part, and connects the said wiring board and the said, 1st and 2nd electrode is further provided in any one of Claims 1-3. Mirror drive. 前記基材は、前記第2の主面側に位置し且つ前記第2の主面に直交する方向から見てスパイラル状に延びている溝部を含み、
前記駆動コイルは、前記溝部内に配置された第1の金属材料によって構成されると共に、前記第2の主面に直交する方向から見てスパイラル状に巻回されている、請求項1〜4のいずれか一項に記載のミラー駆動装置。
The base material includes a groove portion located on the second main surface side and extending in a spiral shape as viewed from a direction orthogonal to the second main surface,
5. The drive coil according to claim 1, wherein the drive coil is formed of a first metal material disposed in the groove, and is spirally wound as viewed in a direction orthogonal to the second main surface. The mirror drive device according to any one of the above.
前記可動部は、
前記溝部の開口を覆うと共に、前記第1の金属材料の拡散を抑制する第2の金属材料で構成された被覆層と、
前記第2の主面上及び前記被覆層上に配置された絶縁層とをさらに有する、請求項5に記載のミラー駆動装置。
The movable portion is
A covering layer made of a second metal material which covers the opening of the groove and suppresses the diffusion of the first metal material;
The mirror drive device according to claim 5, further comprising: an insulating layer disposed on the second major surface and the covering layer.
前記第1の金属材料はCu又はAuであり、
前記第2の金属材料はAl又はAlを含む合金である、請求項6に記載のミラー駆動装置。
The first metal material is Cu or Au,
The mirror drive device according to claim 6, wherein the second metal material is Al or an alloy containing Al.
前記可動部は、前記溝部の開口を覆う絶縁層をさらに有する、請求項5又は6に記載のミラー駆動装置。   The mirror drive device according to claim 5, wherein the movable portion further includes an insulating layer covering an opening of the groove portion. 前記絶縁層を構成する材料はSiNであり、
前記絶縁層の厚さは50nm以上である、請求項8に記載のミラー駆動装置。
The material constituting the insulating layer is SiN,
The mirror drive device according to claim 8, wherein a thickness of the insulating layer is 50 nm or more.
前記可動部は、
前記基材のうち前記ミラーが配置された部分を含むミラー配置部と、
前記基材のうち前記ミラー配置部の外周を囲む枠状の部分を含む外側部と、
2つの前記駆動コイルとを有し、
前記外側部は、前記連結部材を介して前記支持部に揺動可能に支持され、
前記ミラー配置部は、前記連結部材と交差する方向に延びる他の連結部材を介して前記外側部に揺動可能に支持され、
2つの前記駆動コイルはそれぞれ、前記第2の主面に直交する方向から見てスパイラル状に巻回され、
2つの前記駆動コイルのうち一方の駆動コイルは、前記ミラー配置部のうち前記第2の主面側に配置され、
2つの前記駆動コイルのうち他方の駆動コイルは、前記外側部のうち前記第2の主面側に配置され、
前記磁性体のうち前記第2の主面に向かい合う側の表面には、当該表面に沿う方向において隣り合って並ぶS極及びN極からなる磁極の組が現れており、
前記他方の駆動コイルは、前記磁極の組によって前記可動部の周囲に形成される磁界のうち磁束密度が略最大値を示す第1の領域に位置する部分を有する、請求項1〜9のいずれか一項に記載のミラー駆動装置。
The movable portion is
A mirror placement portion including a portion of the substrate on which the mirror is disposed;
An outer portion including a frame-like portion surrounding the outer periphery of the mirror placement portion in the base material;
And two said drive coils,
The outer portion is swingably supported by the support portion via the connection member,
The mirror arrangement portion is swingably supported on the outer portion through another connection member extending in a direction intersecting the connection member,
Each of the two drive coils is spirally wound as viewed in a direction orthogonal to the second main surface,
One drive coil of the two drive coils is disposed on the side of the second main surface of the mirror arrangement portion,
The other drive coil of the two drive coils is disposed on the second main surface side of the outer side,
On the surface of the magnetic body on the side facing the second main surface, a pair of magnetic poles consisting of an S pole and an N pole arranged adjacent to each other in the direction along the surface appears.
10. The other drive coil according to any one of claims 1 to 9, wherein a portion of the magnetic field formed around the movable portion by the set of magnetic poles has a portion located in a first region where the magnetic flux density exhibits a substantially maximum value. The mirror drive device according to any one of the preceding claims.
前記磁性体は、所定の方向に沿ってハルバッハ配列を構成するように順に並ぶ第1〜第3の磁性部を有し、
前記他方の駆動コイルは、前記第1の領域に位置している部分を有する、請求項10に記載のミラー駆動装置。
The magnetic body has first to third magnetic portions arranged in order to form a Halbach arrangement along a predetermined direction,
The mirror drive device according to claim 10, wherein the other drive coil has a portion located in the first area.
前記磁性体は、前記対向方向と直交する第1の方向に沿って隣り合う第1及び第2の磁性部と、前記第1の方向に沿って隣り合う第3及び第4の磁性部と、前記対向方向及び前記第1の方向の双方に直交する第2の方向に沿って並ぶ第5及び第6の磁性部とを有し、
前記第5及び第6の磁性部は、前記第2の磁性部と前記第3の磁性部との間に位置すると共に、前記第1の方向において前記第2及び第3の磁性部と隣り合い、
前記第1、第3及び第5の磁性部の磁化の向きはいずれも、前記第1の主面側から前記第2の主面側に向かい、
前記第2、第4及び第6の磁性部の磁化の向きはいずれも、前記第2の主面側から前記第1の主面側に向かい、
前記他方の駆動コイルは、前記第1の領域に位置している部分を有する、請求項10に記載のミラー駆動装置。
The magnetic body includes first and second magnetic portions adjacent along a first direction orthogonal to the opposing direction, and third and fourth magnetic portions adjacent along the first direction. And fifth and sixth magnetic portions aligned along a second direction orthogonal to both the opposing direction and the first direction,
The fifth and sixth magnetic portions are located between the second magnetic portion and the third magnetic portion, and are adjacent to the second and third magnetic portions in the first direction. ,
The magnetization directions of the first, third and fifth magnetic parts are all directed from the first main surface side to the second main surface side,
The magnetization directions of the second, fourth and sixth magnetic parts are all directed from the second main surface side to the first main surface side,
The mirror drive device according to claim 10, wherein the other drive coil has a portion located in the first area.
前記一方の駆動コイルは、前記第1の領域ではない第2の領域に位置している部分を有する、請求項12に記載のミラー駆動装置。   The mirror drive device according to claim 12, wherein the one drive coil has a portion located in a second area other than the first area. 枠状を呈する配線基板を用意することと、
枠状を呈する支持部と、前記支持部の内側に位置し且つ対向する第1及び第2の主面を有し、連結部材を介して前記支持部に揺動可能に支持された可動部とを備え、前記可動部は、前記第1及び第2の主面を含む基材と、前記第1の主面側に配置されたミラーと、前記第2の主面側に配置された駆動コイルとを有し、前記支持部は、枠状を呈しており、前記連結部材と接続された基部と、枠状を呈しており、前記第1及び第2の主面が対向する対向方向で前記第2の主面から前記第1の主面へと向かう方向に向けて前記基部から延びている補強部と、前記基部のうち前記補強部とは反対側に位置する表面側で且つ前記対向方向から見て前記可動部を間において向かい合うように配置された第1及び第2の電極とを有し、前記駆動コイルは、前記可動部から前記連結部材を経由して前記支持部へと延びている引き出し導体によって、前記第1及び第2の電極のうち少なくとも一方と電気的に接続された、ミラー構造体を用意することと、
前記可動部の周囲に磁場を形成する磁性体を用意することと、
前記磁性体が前記対向方向で前記支持部及び前記第2の主面と対向して配置され、前記補強部と、前記基部と、前記第1の電極と、前記配線基板と、前記磁性体とが前記対向方向においてこの順に重なり合って配置され、前記補強部と、前記基部と、前記第2の電極と、前記配線基板と、前記磁性体とが前記対向方向においてこの順に重なり合って配置されるように、前記ミラー構造体、前記磁性体及び前記配線基板を組み立て、前記第1及び第2の電極を前記配線基板と電気的且つ物理的に接続することとを含む、ミラー駆動装置の製造方法。
Preparing a wiring board having a frame shape;
A frame-shaped support portion, and a movable portion having first and second main surfaces located on the inner side of the support portion and opposed to each other and swingably supported by the support portion via a connection member The movable portion includes a base including the first and second main surfaces, a mirror disposed on the first main surface, and a drive coil disposed on the second main surface. And the support portion is in the shape of a frame, and is in the shape of a frame connected to the base connected to the connection member, in the opposing direction in which the first and second main surfaces are opposed. A reinforcing portion extending from the base in a direction from the second main surface toward the first main surface, and a surface side of the base opposite to the reinforcing portion and in the opposite direction And the first and second electrodes disposed to face each other with the movable portion facing each other as viewed from Providing a mirror structure electrically connected to at least one of the first and second electrodes by a lead conductor extending from the movable portion to the support portion via the connection member; ,
Preparing a magnetic body that forms a magnetic field around the movable portion;
The magnetic body is disposed to face the support portion and the second main surface in the facing direction, and the reinforcing portion, the base, the first electrode, the wiring board, and the magnetic body Are disposed so as to overlap in this order in the opposing direction, and the reinforcing portion, the base, the second electrode, the wiring board, and the magnetic body are arranged so as to overlap in this opposing direction in this order A method of manufacturing a mirror drive device including assembling the mirror structure, the magnetic body, and the wiring board, and electrically and physically connecting the first and second electrodes to the wiring board.
前記ミラー構造体を用意した後で且つ前記配線基板と前記駆動コイルとを電気的に接続する前に、前記磁性体の表面上の一部に前記配線基板を配置することをさらに含む、請求項14に記載の方法。   After preparing the mirror structure and before electrically connecting the wiring substrate and the drive coil, the method further includes disposing the wiring substrate on a part of the surface of the magnetic body. The method according to 14. 前記ミラー構造体を用意した後で且つ前記配線基板と前記駆動コイルとを電気的に接続する前に、前記第1及び第2の電極にバンプ電極を配置することをさらに含み、
前記配線基板と前記駆動コイルとを電気的に接続する際には、前記バンプ電極を前記配線基板に接続することにより、前記ミラー構造体及び前記バンプ電極と、前記磁性体及び前記配線基板とを組み立てる、請求項14又は15に記載の方法。

The method further includes disposing a bump electrode on the first and second electrodes after preparing the mirror structure and before electrically connecting the wiring substrate and the drive coil.
When the wiring substrate and the drive coil are electrically connected, the mirror structure and the bump electrode, the magnetic body, and the wiring substrate are connected by connecting the bump electrode to the wiring substrate. The method according to claim 14 or 15, which is assembled.

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