JP2019048748A - Electrically conductive ceramics - Google Patents

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尚史 楠瀬
Hisafumi Kususe
尚史 楠瀬
幹男 谷島
Mikio Yajima
幹男 谷島
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Kagawa University NUC
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Kagawa University NUC
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Abstract

To provide electrically conductive ceramics which are dense and have excellent electrical conduction property.SOLUTION: The electrically conductive ceramics contain alumina and single layer carbon nanotubes, wherein the content of the single layer carbon nanotube is 0.05 vol.% or over and 0.7 vol.% or under and the volume resistivity thereof is 10Ω cm or over and 10Ω cm or under. Herein, the single layer carbon nanotubes have BET specific surface of 800 m/g or over. Moreover, the single layer carbon nanotubes have average diameter of 3 nm or over and 5 nm or under.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、導電性セラミックスに関するものである。   The present invention relates to conductive ceramics.

セラミックスは、耐摩耗性などの機械的特性、耐食性および耐熱性に優れている。そのため、セラミックスは、半導体・液晶デバイスの製造装置用部材やハードディスク軸受部品などへの応用が期待されている。   Ceramics are excellent in mechanical properties such as wear resistance, corrosion resistance and heat resistance. Therefore, the application of ceramics to members for manufacturing devices for semiconductors and liquid crystal devices, hard disk bearing parts, and the like is expected.

しかし、セラミックスは、通常、高い電気絶縁性を有している。そのため、セラミックスを半導体製造装置用部材等の静電対策が必要な部材に利用する場合には、セラミックスに電気伝導性を付与することが求められる。   However, ceramics usually have high electrical insulation. Therefore, in the case where the ceramic is used for a member requiring a countermeasure against static electricity such as a member for a semiconductor manufacturing apparatus, it is required to impart electrical conductivity to the ceramic.

そこで、例えば特許文献1では、アルミナと、カーボンナノホーンと、多層カーボンナノチューブとを複合化することにより、電気伝導性が改善された複合材料(導電性セラミックス)を提供している。   Therefore, for example, in Patent Document 1, a composite material (conductive ceramic) having improved electrical conductivity is provided by combining alumina, carbon nanohorns, and multi-walled carbon nanotubes.

特開2013−107807号公報JP, 2013-107807, A

しかし、上記従来の導電性セラミックスは、電気伝導性が十分ではなかった。また、上記従来の導電性セラミックスは、電気伝導性を高めるためにカーボンナノホーンおよび多層カーボンナノチューブを大量に配合しているため、密度が低く、強度が十分ではなかった。   However, the above-mentioned conventional conductive ceramics have insufficient electric conductivity. In addition, since the conventional conductive ceramics described above contain a large amount of carbon nanohorns and multi-walled carbon nanotubes in order to enhance the electrical conductivity, the density is low and the strength is not sufficient.

そこで、本発明は、緻密で、且つ、電気伝導性に優れる導電性セラミックスを提供することを目的とする。   Then, this invention aims at providing the electroconductive ceramics which are precise | minute and are excellent in electrical conductivity.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、アルミナに対して単層カーボンナノチューブを所定の割合で配合すれば、緻密で、且つ、電気伝導性に優れる導電性セラミックスが得られることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that if single-walled carbon nanotubes are mixed with alumina in a predetermined ratio, conductive ceramics that are compact and have excellent electrical conductivity can be obtained. It has been found that the present invention is complete.

即ち、この発明は、上記課題を有利に解決することを目的とするものであり、本発明の導電性セラミックスは、アルミナと、単層カーボンナノチューブとを含有し、前記単層カーボンナノチューブの含有割合が、0.05体積%以上0.7体積%以下であり、体積抵抗率が、10−2Ω・cm以上10Ω・cm以下であることを特徴とする。このように、単層カーボンナノチューブを上記割合で含有させ、体積抵抗率を上記範囲内にすれば、緻密で、且つ、電気伝導性に優れる導電性セラミックスを得ることができる。
なお、本発明において、「体積抵抗率」は、Van der Pauw法(体積抵抗率が10Ω・cm以下の場合)または直流三端子法(体積抵抗率が10Ω・cm超の場合)により室温(25℃)で測定することができる。
That is, the present invention aims to advantageously solve the above-mentioned problems, and the conductive ceramic of the present invention contains alumina and single-walled carbon nanotubes, and the content ratio of the single-walled carbon nanotubes The volume resistivity is 0.05 volume% or more and 0.7 volume% or less, and the volume resistivity is 10 −2 Ω · cm or more and 10 6 Ω · cm or less. As described above, when single-walled carbon nanotubes are contained in the above proportion and the volume resistivity is in the above range, it is possible to obtain a conductive ceramic which is dense and excellent in electric conductivity.
In the present invention, “volume resistivity” refers to the Van der Pauw method (when the volume resistivity is 10 3 Ω · cm or less) or the DC three-terminal method (when the volume resistivity is more than 10 3 Ω · cm) Can be measured at room temperature (25.degree. C.).

ここで、本発明の導電性セラミックスは、前記単層カーボンナノチューブのBET比表面積が800m/g以上であることが好ましい。BET比表面積が800m/g以上の単層カーボンナノチューブを使用すれば、導電性セラミックスの電気伝導性を良好に向上させることができる。
なお、本発明において、「BET比表面積」とは、BET法を用いて測定した窒素吸着比表面積を指す。
Here, in the conductive ceramic of the present invention, the BET specific surface area of the single-walled carbon nanotube is preferably 800 m 2 / g or more. If single-walled carbon nanotubes having a BET specific surface area of 800 m 2 / g or more are used, the electrical conductivity of the conductive ceramic can be favorably improved.
In the present invention, the "BET specific surface area" refers to the nitrogen adsorption specific surface area measured using the BET method.

また、本発明の導電性セラミックスは、前記単層カーボンナノチューブの平均直径が3nm以上5nm以下であることが好ましい。平均直径が3nm以上5nm以下の単層カーボンナノチューブを使用すれば、導電性セラミックスの電気伝導性を良好に向上させることができる。
なお、本発明において、単層カーボンナノチューブの「平均直径」は、TEM(透過型電子顕微鏡)を使用し、無作為に選択した単層カーボンナノチューブ100本の直径(外径)を測定して求めることができる。
In the conductive ceramic of the present invention, the single-walled carbon nanotubes preferably have an average diameter of 3 nm or more and 5 nm or less. If single-walled carbon nanotubes having an average diameter of 3 nm or more and 5 nm or less are used, the electrical conductivity of the conductive ceramic can be favorably improved.
In the present invention, the “average diameter” of single-walled carbon nanotubes is determined by measuring the diameter (outer diameter) of 100 randomly selected single-walled carbon nanotubes using a TEM (transmission electron microscope). be able to.

また、本発明の導電性セラミックスは、鉄の含有量が5質量ppm以下であることが好ましい。鉄の含有量が5質量ppm以下であれば、導電性セラミックスを半導体製造装置用部材等として良好に使用し得る。
なお、本発明において、「鉄の含有量」は、ICP−AES(高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法)により測定することができる。
The conductive ceramic of the present invention preferably has an iron content of 5 mass ppm or less. If the content of iron is 5 mass ppm or less, the conductive ceramic can be favorably used as a member for a semiconductor manufacturing apparatus or the like.
In the present invention, “the iron content” can be measured by ICP-AES (high frequency inductively coupled plasma emission spectrometry).

本発明によれば、緻密で、且つ、電気伝導性に優れる導電性セラミックスが得られる。   According to the present invention, it is possible to obtain a conductive ceramic which is dense and excellent in electric conductivity.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
ここで、本発明の導電性セラミックスは、特に限定されることなく、例えば、半導体製造装置用部材や電子部品製造部材などとして用いられる。半導体製造装置用部品には、10Ω・cm以下、好ましくは10Ω・cm以上10Ω・cm以下の体積抵抗率が要求されるプラズマ処理用ステージ、10Ω・cm以下の体積抵抗率が要求される高周波発生用対向電極や発熱体などが含まれる。また、電子部品製造部材としては、静電気対策のため、つまり静電気の放電によるサンプルのダメージを防ぐために、10Ω・cm以下、好ましくは10Ω・cm以上10Ω・cm以下の体積抵抗率が要求される、電子部品を搬送する際の搬送レール部品や真空チャックなどが含まれる。そして、本発明の導電性セラミックスは、例えば後述する導電性セラミックスの製造方法を用いて製造することができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
Here, the conductive ceramic of the present invention is not particularly limited, and is used, for example, as a member for a semiconductor manufacturing apparatus or an electronic component manufacturing member. Parts for semiconductor manufacturing equipment: Stages for plasma treatment where volume resistivity of 10 6 Ω · cm or less, preferably 10 5 Ω · cm or more and 10 6 Ω · cm or less is required, Volume resistivity of 10 Ω · cm or less It includes the counter electrode for high frequency generation, the heating element, etc. Moreover, as an electronic component manufacturing member, in order to prevent static electricity, that is, to prevent damage to the sample due to electrostatic discharge, a volume resistance of 10 6 Ω · cm or less, preferably 10 5 Ω · cm or more and 10 6 Ω · cm or less Transport rail components for transporting electronic components, vacuum chucks, etc. And the electroconductive ceramics of this invention can be manufactured, for example using the manufacturing method of electroconductive ceramics mentioned later.

(導電性セラミックス)
本発明の導電性セラミックスは、アルミナと、単層カーボンナノチューブとを含有し、任意に、導電性セラミックスに配合し得る添加剤および鉄などの不純物を更に含有する。また、本発明の導電性セラミックスは、単層カーボンナノチューブの含有割合が0.05体積%以上0.7体積%以下であり、且つ、体積抵抗率が10−2Ω・cm以上10Ω・cm以下であることを特徴とする。
(Conductive ceramics)
The conductive ceramic of the present invention contains alumina and single-walled carbon nanotubes, and optionally further contains an additive such as an additive that can be blended in the conductive ceramic and an impurity such as iron. In the conductive ceramic of the present invention, the content ratio of single-walled carbon nanotubes is 0.05% by volume or more and 0.7% by volume or less, and the volume resistivity is 10 −2 Ω · cm or more and 10 6 Ω · It is characterized by being less than cm.

そして、本発明の導電性セラミックスでは、単層カーボンナノチューブを使用しているので、多層カーボンナノチューブを使用した場合と比較し、単層カーボンナノチューブの配合量が0.05体積%以上0.7体積%以下と少なくても、導電性セラミックスの電気伝導性を十分に高めることができる。従って、本発明の導電性セラミックスは、緻密で、且つ、電気伝導性に優れている。   And, in the conductive ceramic of the present invention, since single-walled carbon nanotubes are used, the blending amount of single-walled carbon nanotubes is 0.05 volume% or more and 0.7 volume as compared with the case where multi-walled carbon nanotubes are used. Even if it is as low as% or less, the electrical conductivity of the conductive ceramic can be sufficiently enhanced. Therefore, the conductive ceramic of the present invention is dense and excellent in electric conductivity.

<アルミナ>
アルミナは、導電性セラミックスの母材となる材料である。そして、導電性セラミックスは、アルミナを主成分として含んでいる。
なお、「主成分として含む」とは、含有割合が50体積%超であることを示す。そして、導電性セラミックス中のアルミナの含有割合は、蛍光X線分光分析法を用いて測定することができる。
<Alumina>
Alumina is a material to be a base material of conductive ceramics. The conductive ceramic contains alumina as a main component.
In addition, "it contains as a main component" shows that a content rate is more than 50 volume%. And the content rate of the alumina in electroconductive ceramics can be measured using a fluorescent X ray spectroscopy.

ここで、導電性セラミックスに含まれるアルミナとしては、α−アルミナ、γ−アルミナ、または、それらの混合物を用いることができる。中でも、導電性セラミックスに含まれるアルミナとしては、α−アルミナが好ましい。
なお、本発明の「アルミナ」には、ムライト(Al13Si)や、スピネル(MgAl)も含まれるものとする。
Here, as alumina contained in the conductive ceramic, α-alumina, γ-alumina, or a mixture thereof can be used. Among them, as alumina contained in the conductive ceramic, α-alumina is preferable.
The "alumina" in the present invention, mullite (Al 6 O 13 Si 2) and, spinel (MgAl 2 O 4) is also intended to be that contained.

<単層カーボンナノチューブ>
単層カーボンナノチューブ(以下「SWCNT」と称することがある。)としては、化学気相成長(CVD)法、アーク放電法、レーザー蒸発法などの任意の手法で合成したSWCNTを用いることができる。中でも、SWCNTとしては、カーボンナノチューブ製造用の触媒層を表面に有する基材上に原料化合物およびキャリアガスを供給し、化学的気相成長法(CVD法)によりCNTを合成する際に、系内に微量の酸化剤(触媒賦活物質)を存在させることで、触媒層の触媒活性を飛躍的に向上させるという方法(スーパーグロース法;国際公開第2006/011655号参照)を用いて製造した単層カーボンナノチューブが好ましい。
<Single-walled carbon nanotube>
As the single-walled carbon nanotube (hereinafter sometimes referred to as “SWCNT”), SWCNT synthesized by an arbitrary method such as a chemical vapor deposition (CVD) method, an arc discharge method, or a laser evaporation method can be used. Among them, as SWCNTs, when a raw material compound and a carrier gas are supplied onto a substrate having a catalyst layer for producing carbon nanotubes on the surface, and CNTs are synthesized by a chemical vapor deposition method (CVD method), Single layer produced by using the method (super growth method; see WO2006 / 011655) of dramatically improving the catalytic activity of the catalyst layer by the presence of a trace amount of an oxidizing agent (catalyst activating material) in the Carbon nanotubes are preferred.

ここで、SWCNTは、合成時の平均長さが300μm以上であることが好ましい。SWCNTの合成時の平均長さが300μm以上であれば、少ない配合量であっても導電性セラミックス中で導電パスを良好に形成し、導電性セラミックスの電気伝導性を十分に高めることができるからである。また、SWCNTの合成時の平均長さは、生産性等の観点から、600μm以下とすることができる。   Here, the SWCNTs preferably have an average length of 300 μm or more at the time of synthesis. If the average length at the time of synthesis of SWCNTs is 300 μm or more, the conductive path can be favorably formed in the conductive ceramic even with a small compounding amount, and the electrical conductivity of the conductive ceramic can be sufficiently enhanced. It is. In addition, the average length at the time of synthesis of SWCNT can be set to 600 μm or less from the viewpoint of productivity and the like.

また、導電性セラミックスに含まれているSWCNTは、平均直径が3nm以上5nm以下であることが好ましい。SWCNTの平均直径が上記範囲内であれば、導電性セラミックスの電気伝導性を良好に向上させることができるからである。   The SWCNTs contained in the conductive ceramic preferably have an average diameter of 3 nm or more and 5 nm or less. If the average diameter of the SWCNTs is within the above range, the electrical conductivity of the conductive ceramic can be favorably improved.

更に、導電性セラミックスに含まれているSWCNTは、平均直径(Av)に対する、直径の標準偏差(σ:標本標準偏差)に3を乗じた値(3σ)の比(3σ/Av)が0.20超0.60未満であることが好ましく、3σ/Avが0.25超であることがより好ましく、3σ/Avが0.50超であることが更に好ましい。3σ/Avが上記範囲内のSWCNTを使用すれば、導電性セラミックスの電気伝導性を良好に向上させることができるからである。
なお、SWCNTの平均直径(Av)および標準偏差(σ)は、SWCNTの製造方法や製造条件を変更することにより調整してもよいし、異なる製法で得られたSWCNTを複数種類組み合わせることにより調整してもよい。
Furthermore, SWCNT contained in the conductive ceramic has a ratio (3σ) of the standard deviation of diameter (σ: sample standard deviation) multiplied by 3 to the average diameter (Av) of 0. More than 20 and less than 0.60 is preferable, 3σ / Av is more preferably more than 0.25, and 3σ / Av is more preferably more than 0.50. The use of SWCNTs in the above range of 3σ / Av makes it possible to favorably improve the electrical conductivity of the conductive ceramic.
The average diameter (Av) and standard deviation (σ) of SWCNTs may be adjusted by changing the production method or production conditions of SWCNTs, or by combining a plurality of types of SWCNTs obtained by different production methods. You may

また、導電性セラミックスに含まれているSWCNTは、BET比表面積が800m/g以上であることが好ましい。SWCNTのBET比表面積が上記下限値以上であれば、導電性セラミックスの電気伝導性を良好に向上させることができるからである。なお、SWCNTのBET比表面積は、通常、2000m/g以下であり、1800m/g以下であることが好ましく、1600m/g以下であることがより好ましい。SWCNTのBET比表面積が上記上限値以下であれば、導電性セラミックス中でSWCNTを良好に分散させることができる。 The SWCNT contained in the conductive ceramic preferably has a BET specific surface area of 800 m 2 / g or more. If the BET specific surface area of the SWCNTs is equal to or more than the above lower limit value, the electrical conductivity of the conductive ceramic can be favorably improved. The BET specific surface area of the SWCNTs is usually 2000 m 2 / g or less, preferably 1800 m 2 / g or less, and more preferably 1600 m 2 / g or less. If the BET specific surface area of the SWCNTs is equal to or less than the above upper limit value, the SWCNTs can be favorably dispersed in the conductive ceramic.

そして、上述したSWCNTの含有割合は、0.05体積%以上0.7体積%以下であることが必要であり、0.1体積%以上であることが好ましく、0.2体積%以上であることがより好ましい。SWCNTの含有割合が0.05体積%未満の場合、導電性セラミックスの電気伝導性を十分に向上させることができない。また、SWCNTの含有割合が0.7体積%超の場合、SWCNTの配合量の増加によって電気伝導性が向上する割合が低下する一方で、SWCNTの配合量の増加に起因して導電性セラミックスの密度が低下すると共に導電性セラミックス中の不純物量が増加する。   And the content rate of SWCNT mentioned above needs to be 0.05 volume% or more and 0.7 volume% or less, and it is preferable that it is 0.1 volume% or more, and is 0.2 volume% or more Is more preferred. If the content ratio of SWCNTs is less than 0.05% by volume, the electrical conductivity of the conductive ceramic can not be sufficiently improved. In addition, when the content ratio of SWCNTs is more than 0.7% by volume, while the ratio of improving the electrical conductivity decreases due to the increase of the compounding amount of SWCNTs, the conductive ceramics As the density decreases, the amount of impurities in the conductive ceramic increases.

なお、導電性セラミックスには、上述した単層カーボンナノチューブ以外に多層カーボンナノチューブが含まれていてもよいが、導電性セラミックスの緻密性および電気伝導性を高める観点からは、導電性セラミックスに含まれている全カーボンナノチューブ中に占める単層カーボンナノチューブの割合は90質量%以上であることが好ましい。   The conductive ceramic may contain multi-walled carbon nanotubes in addition to the single-walled carbon nanotubes described above, but from the viewpoint of enhancing the compactness and electrical conductivity of the conductive ceramic, it is included in the conductive ceramic. The proportion of single-walled carbon nanotubes in the total carbon nanotubes is preferably 90% by mass or more.

<添加剤>
導電性セラミックスが任意に含有し得る添加剤としては、特に限定されることなく、例えば、炭化ケイ素粒子、炭化ホウ素粒子、窒化ホウ素粒子、窒化チタン粒子、炭化チタン粒子、モナザイト粒子およびジルコン粒子等のアルミナ粒子以外のセラミック粒子;コバルト粒子、ニッケル粒子、銅粒子、チタニウム粒子、モリブデン粒子およびタングステン粒子等の金属粒子;並びに、安定化剤;などが挙げられる。
なお、導電性セラミックス中の添加剤の含有割合は、通常、30体積%以下である。
<Additives>
The additive that the conductive ceramic may optionally contain is not particularly limited, and examples thereof include silicon carbide particles, boron carbide particles, boron nitride particles, titanium nitride particles, titanium carbide particles, monazite particles, and zircon particles. Ceramic particles other than alumina particles; metal particles such as cobalt particles, nickel particles, copper particles, titanium particles, molybdenum particles and tungsten particles; and stabilizers.
The content ratio of the additive in the conductive ceramic is usually 30% by volume or less.

<不純物>
また、導電性セラミックスは、鉄などの不純物を含有し得る。具体的には、導電性セラミックスは、例えば、SWCNTの合成時に触媒として使用した鉄等の不純物を含有し得る。
<Impurity>
In addition, the conductive ceramic may contain impurities such as iron. Specifically, the conductive ceramic may contain, for example, impurities such as iron used as a catalyst at the time of synthesis of SWCNTs.

ここで、導電性セラミックスを半導体製造装置用部材等として使用する場合には、導電性セラミックス中の鉄の含有量は5質量ppm以下であることが好ましい。   Here, in the case where the conductive ceramic is used as a member for a semiconductor manufacturing apparatus or the like, the content of iron in the conductive ceramic is preferably 5 mass ppm or less.

<物性>
そして、本発明の導電性セラミックスは、体積抵抗率が所定の範囲内であることを必要とし、更に以下の物性を有していることが好ましい。
<Physical properties>
And, the conductive ceramic of the present invention needs to have a volume resistivity within a predetermined range, and preferably has the following physical properties.

[体積抵抗率]
導電性セラミックスの体積抵抗率は、10−2Ω・cm以上10Ω・cm以下である。体積抵抗率が上記数値範囲の上限値を超える場合、導電性セラミックスの電気伝導性を十分に確保することができない。また、体積抵抗率を上記数値範囲の下限値未満にする場合、SWCNT等の導電性物質を大量に配合する必要があるため、導電性セラミックスの密度を十分に高めることができない。
[Volume resistivity]
The volume resistivity of the conductive ceramic is 10 −2 Ω · cm or more and 10 6 Ω · cm or less. When the volume resistivity exceeds the upper limit value of the above numerical range, the electrical conductivity of the conductive ceramic can not be sufficiently secured. When the volume resistivity is less than the lower limit of the above numerical range, it is necessary to mix a large amount of a conductive substance such as SWCNT, so the density of the conductive ceramic can not be sufficiently increased.

[曲げ強度]
更に、導電性セラミックスは、曲げ強度が300MPa以上であることが好ましく、500MPa以上であることがより好ましく、900MPa以上であることが更に好ましい。曲げ強度が上記下限値以上であれば、導電性セラミックスの強度を十分に高めることができる。
なお、「曲げ強度」は、JIS R1601に準拠して測定することができる。
[Bending strength]
Furthermore, the conductive ceramic preferably has a flexural strength of 300 MPa or more, more preferably 500 MPa or more, and still more preferably 900 MPa or more. If the bending strength is at least the above lower limit value, the strength of the conductive ceramic can be sufficiently increased.
The "bending strength" can be measured in accordance with JIS R1601.

そして、導電性セラミックスの曲げ強度の大きさは、特に限定されることなく、例えばSWCNTの含有量や導電性セラミックスの製造条件などを調節することにより調整することができる。   And the magnitude | size of the bending strength of electroconductive ceramics is not specifically limited, For example, it can adjust by adjusting content of SWCNT, the manufacturing conditions of electroconductive ceramics, etc.

(導電性セラミックスの製造方法)
本発明の導電性セラミックスの製造方法の一例は、アルミナと、含有割合が0.05体積%以上0.7体積%以下の単層カーボンナノチューブとを含有する固体混合物を焼結する工程(焼結工程)を含み、任意に、焼結工程の前に、アルミナと、単層カーボンナノチューブと、分散媒とを含有するセラミックススラリー組成物を調製する工程(スラリー調製工程)、および、セラミックススラリー組成物から分散媒を除去して固体混合物を得る工程(固体混合物調製工程)を更に含む。
(Method of manufacturing conductive ceramics)
One example of the method for producing a conductive ceramic of the present invention is a step of sintering a solid mixture containing alumina and single-walled carbon nanotubes having a content ratio of 0.05% to 0.7% by volume (sintering (sintering) Preparing a ceramic slurry composition including alumina, single-walled carbon nanotubes, and a dispersion medium (slurry preparation process), and optionally including the process (A), and the ceramic slurry composition. And the step of obtaining the solid mixture (solid mixture preparation step).

<スラリー調製工程>
スラリー調製工程では、アルミナと、単層カーボンナノチューブと、分散媒とを含有し、任意に、添加剤および不純物を更に含有するセラミックススラリー組成物を調製する。
なお、セラミックススラリー組成物は、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の公知の分散剤を含んでいてもよい。
<Slurry preparation process>
In the slurry preparation step, a ceramic slurry composition is prepared, which contains alumina, single-walled carbon nanotubes, and a dispersion medium, and optionally further contains additives and impurities.
The ceramic slurry composition may contain a known dispersant such as sodium dodecylbenzene sulfonate.

ここで、アルミナ、単層カーボンナノチューブ、添加剤および不純物としては、本発明の導電性セラミックスに含有され得るものとして上述したものと同様のものが挙げられ、それらの好適例および含有割合も上記と同様である。   Here, as the alumina, the single-walled carbon nanotube, the additive and the impurity, the same as those described above as those which can be contained in the conductive ceramic of the present invention may be mentioned. It is similar.

また、分散媒としては、特に限定されることなく、水;メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、アミルアルコールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド系極性有機溶媒;トルエン、キシレン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン、パラジクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類;などを用いることができる。これらは1種類のみを単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。   Also, the dispersion medium is not particularly limited, and water; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, nonanol, decanol, Alcohols such as amyl alcohol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran; N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like Amide-based polar organic solvents; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, chlorobenzene, ortho-dichlorobenzene, para-dichlorobenzene and the like; and the like can be used. One of these may be used alone, or two or more may be mixed and used.

そして、セラミックススラリー組成物は、上述した成分を混合し、任意に分散処理を施すことにより、調製することができる。   And a ceramic slurry composition can be prepared by mixing the components mentioned above and performing a dispersion process arbitrarily.

ここで、上述した成分の混合は、任意の順序で行うことができる。中でも、セラミックススラリー組成物は、分散媒中にSWCNTを分散させてなる分散液を調製した後に、当該分散液にアルミナと任意の添加剤とを添加し、得られた混合液に対して任意に分散処理を施すことにより調製することが好ましい。   Here, mixing of the components mentioned above can be performed in arbitrary order. Among them, in the ceramic slurry composition, after preparing a dispersion liquid in which SWCNTs are dispersed in a dispersion medium, alumina and an arbitrary additive are added to the dispersion liquid, and an arbitrary mixed liquid is obtained. It is preferable to prepare by performing a dispersion process.

また、上記分散液および混合液の分散処理は、特に限定されることなく、例えば国際公開第2014/097626号や国際公開第2016/013219号などに記載されている方法を用いて行うことができる。   In addition, the dispersion treatment of the dispersion liquid and the mixture liquid is not particularly limited, and can be performed using, for example, the method described in WO 2014/097626 or WO 2016/013219. .

<固体混合物調製工程>
固体混合物調製工程では、スラリー調製工程で得たセラミックススラリー組成物から分散媒を除去し、アルミナと、含有割合が0.05体積%以上0.7体積%以下の単層カーボンナノチューブとを含有する固体混合物を得る。
<Solid mixture preparation process>
In the solid mixture preparation step, the dispersion medium is removed from the ceramic slurry composition obtained in the slurry preparation step, and alumina and single-walled carbon nanotubes having a content ratio of 0.05% to 0.7% by volume are contained. A solid mixture is obtained.

ここで、分散媒を除去する方法としては、公知の乾燥方法を採用できる。乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥法、熱風乾燥法、真空乾燥法、熱ロール乾燥法、赤外線照射法等が挙げられる。具体的には、分散媒の除去は、例えば600℃のアルゴン雰囲気下においてセラミックススラリー組成物を1時間加熱することにより実施することができる。
なお、分散媒の除去は、セラミックススラリー組成物に分散処理を施しつつ行ってもよい。具体的には、分散媒の全部または一部は、例えば、超音波湯浴中で超音波を照射しながらセラミックススラリー組成物を加熱することにより除去してもよい。
Here, as a method of removing the dispersion medium, a known drying method can be adopted. Examples of the drying method include a heat drying method, a hot air drying method, a vacuum drying method, a heat roll drying method, an infrared irradiation method and the like. Specifically, the removal of the dispersion medium can be carried out, for example, by heating the ceramic slurry composition under an argon atmosphere at 600 ° C. for 1 hour.
In addition, the removal of the dispersion medium may be performed while subjecting the ceramic slurry composition to a dispersion treatment. Specifically, all or part of the dispersion medium may be removed, for example, by heating the ceramic slurry composition while irradiating ultrasonic waves in an ultrasonic water bath.

<焼結工程>
焼結工程では、アルミナと、0.05体積%以上0.7体積%以下の単層カーボンナノチューブとを含有し、任意に、添加剤および不純物を更に含有する固体混合物を焼結して、体積抵抗率が10−2Ω・cm以上10Ω・cm以下の導電性セラミックスを得る。
<Sintering process>
In the sintering step, a solid mixture containing alumina and 0.05% to 0.7% by volume of single-walled carbon nanotubes, optionally further containing an additive and an impurity, is sintered to form a volume. A conductive ceramic having a resistivity of 10 −2 Ω · cm or more and 10 6 Ω · cm or less is obtained.

ここで、焼結は、特に限定されることなく、例えば真空減圧下または不活性ガス雰囲気下で、加圧焼結法または無加圧焼結法を用いて行うことができる。   Here, the sintering is not particularly limited, and can be performed using, for example, a pressure sintering method or a pressureless sintering method under a vacuum pressure reduction or an inert gas atmosphere.

そして、不活性ガスとしては、例えば、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス、ネオンガス等を用いることができる。   Then, as the inert gas, for example, nitrogen gas, helium gas, argon gas, neon gas or the like can be used.

また、焼結温度は、例えば、1300℃以上1500℃以下とすることができる。更に、焼結時間は、例えば、50分以上90分以下とすることができる。また、相対密度が低い焼結体でも、開気孔率が0%であれば、熱間静水圧プレス(HIP)焼結機を用い、温度1300℃〜1500℃、圧力150〜200MPaのアルゴン加圧下で、1時間焼結することにより、相対密度99.9%以上の緻密な焼結体を作製することができる。   Further, the sintering temperature can be, for example, 1300 ° C. or more and 1500 ° C. or less. Furthermore, the sintering time can be, for example, 50 minutes or more and 90 minutes or less. In addition, even in the case of a sintered body with a low relative density, if the open porosity is 0%, under argon pressure at a temperature of 1300 ° C. to 1500 ° C. and a pressure of 150 to 200 MPa using a hot isostatic press (HIP) sintering machine By sintering for 1 hour, a dense sintered body having a relative density of 99.9% or more can be produced.

以下、本発明について実施例に基づき具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
なお、実施例および比較例において、導電性セラミックスの鉄の含有量、曲げ強度、体積抵抗率および相対密度は、それぞれ以下の方法で測定した。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
In Examples and Comparative Examples, the content of iron in the conductive ceramic, the bending strength, the volume resistivity, and the relative density were measured by the following methods.

<鉄の含有量>
作製した焼結体(導電性セラミックス)を粉砕した。そして、密封テフロン(登録商標)容器に粉砕した焼結体0.5gを量り取り、(1+3)硫酸10mlを加え、容器を密閉して230℃で16時間かけて加圧酸分解し、放冷後、純水で100mlに希釈して分析試料とした。そして、ICP−AES(高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法)により前記分析試料中の鉄の量を測定し、焼結体(導電性セラミックス)中に含まれていた鉄の量を算出した。
<体積抵抗率>
作製した焼結体(導電性セラミックス)の両面を粒度#100および#800のダイアモンド砥石で研削して厚さ1mmにした後、中心部から正方形(10mm角)の試験片を切り出て測定試料とした。
そして、体積抵抗率が10Ω・cm以下の測定試料については、比抵抗/ホール測定システム(東陽テクニカ株式会社、Resi Test8308型)を使用し、Van der Pauw法により室温(25℃)で体積抵抗率を求めた。ここで、Van der Pauw法による体積抵抗率の算出は、厚さtの測定試料の周辺に4ヶ所の小さなオーミック抵抗を持たせ、4つの端子間で抵抗を計算してシート抵抗Rsを求めることにより、式:体積抵抗率ρ=Rs×tを用いて行うことができる。
なお、測定試料の体積抵抗率が10Ω・cm超の場合には、直径6mmの電極の周囲にガード電極を設けたエレクトロメータ(Keithley 6517A、測定ソフト6524)を使用し、直流三端子法により体積抵抗率を求めた。
<相対密度>
まず、作製した焼結体(導電性セラミックス)について、温度25℃の条件下、トルエン中で、アルキメデス法によりかさ密度を求めた。
また、温度25℃におけるアルミナ(Al)の理論密度3.97g/cmおよび単層カーボンナノチューブの理論密度2.0g/cmを用いて、配合割合から焼結体の理論密度を算出し、この理論密度に対する焼結体のかさ密度の割合として相対密度(=(かさ密度/理論密度)×100%)を算出した。
<曲げ強度>
作製した焼結体(導電性セラミックス)の室温(25℃)における曲げ強度σfの測定は、JIS R1601に準拠し、3点曲げ試験法により測定した。測定には島津製作所製のAG−C型万能試験機(オートグラフ)を使用し、スパン長さ30mm、クロスヘッドスピード0.5mm/分の条件で3点曲げ試験を行った。曲げ強度は次式により算出した。
σf=3P・L/(2b・d
σf:曲げ強度(Pa)
P:試験片が破断したときの最大荷重(N)
L:下部支点間距離(m)
b:試験片幅(m)
d:試験片厚さ(m)
<Content of iron>
The produced sintered body (conductive ceramic) was crushed. Then, 0.5 g of the crushed sintered body is weighed in a sealed Teflon (registered trademark) container, 10 ml of (1 + 3) sulfuric acid is added, the container is sealed, and pressure decomposition is performed at 230 ° C. for 16 hours. After that, it was diluted to 100 ml with pure water to make an analysis sample. Then, the amount of iron in the analysis sample was measured by ICP-AES (high frequency inductively coupled plasma emission spectrometry) to calculate the amount of iron contained in the sintered body (conductive ceramic).
<Volume resistivity>
After grinding both sides of the produced sintered body (conductive ceramic) with a diamond grindstone of grain size # 100 and # 800 to a thickness of 1 mm, a square (10 mm square) test piece is cut out from the central portion and a measurement sample And
And, for a measurement sample with a volume resistivity of 10 3 Ω · cm or less, the volume is measured at room temperature (25 ° C.) by the Van der Pauw method using a resistivity / hole measurement system (Toyo Technica Co., Ltd., Resi Test 8308 type) The resistivity was determined. Here, calculation of volume resistivity by Van der Pauw method is to obtain sheet resistance Rs by calculating resistance between four terminals by giving four small ohmic resistances around the measurement sample of thickness t. According to the equation: volume resistivity == Rs × t.
When the volume resistivity of the sample to be measured is more than 10 3 Ω · cm, an electrometer (Keithley 6517A, measurement software 6524) provided with a guard electrode around the electrode with a diameter of 6 mm is used, and the DC three-terminal method The volume resistivity was determined by
<Relative density>
First, the bulk density of the produced sintered body (conductive ceramic) was determined by the Archimedes method in toluene under the condition of a temperature of 25 ° C.
Further, by using the theoretical density 3.97 g / cm 3 and the theoretical density of 2.0 g / cm 3 of single-walled carbon nanotubes of alumina (Al 2 O 3) at a temperature 25 ° C., the theoretical density of the sintered body from the blending ratio The relative density (= (bulk density / theoretical density) × 100%) was calculated as the ratio of the bulk density of the sintered body to the theoretical density.
<Bending strength>
The measurement of the bending strength σf at room temperature (25 ° C.) of the produced sintered body (conductive ceramic) was measured by the three-point bending test method in accordance with JIS R1601. For measurement, a three-point bending test was performed under the conditions of a span length of 30 mm and a crosshead speed of 0.5 mm / min using an AG-C universal tester (Autograph) manufactured by Shimadzu Corporation. The bending strength was calculated by the following equation.
σ f = 3 PL / ( 2 b · d 2 )
σ f: bending strength (Pa)
P: Maximum load when the test piece breaks (N)
L: Distance between lower fulcrums (m)
b: Specimen width (m)
d: Specimen thickness (m)

(実施例1〜5および比較例1〜3)
長尺の単層カーボンナノチューブ(ゼオンナノテクノロジー社製、ZEONANO SG101、平均直径:4nm、平均長さ:400μm、BET比表面積:1150m/g)を0.35質量%含むメチルエチルケトン分散液を準備した。
そして、得られる焼結体(導電性セラミックス)中に含まれる単層カーボンナノチューブの量が表1に示す割合になるように秤量したメチルエチルケトン分散液をエチルアルコール150mLに添加した後、超音波ホモジナイザー(IKA社製、U200S control)を用いて、出力50%で5分間超音波を照射して分散処理をし、分散液を得た。
次に、得られた分散液に対してアルミナ粉末(大明化学工業株式会社製、TM−DAR、平均粒子径:0.1μm)35gを添加し、得られた混合液に対して更に超音波分散処理を上記と同じ超音波ホモジナイザーを用いて出力80%で5分間行った。
そして、得られたセラミックススラリー組成物について、ロータリーエバポレーターを用いて超音波湯浴(株式会社エヌエスディ製、超音波洗浄機US−5KS)中で超音波照射(周波数:38kHz、出力:180W)しながらエチルアルコールおよびメチルエチルケトンを蒸発させた後、更に50℃の乾燥機中で12時間保持して完全に溶媒を除去し、アルミナと単層カーボンナノチューブとを含有する固体混合物を得た。
最後に、得られた固体混合物を、直径30mmのカーボンモールドに10g導入し、多目的高温炉(富士電波社製、ハイマルチ5000)を使用し、アルゴンガス雰囲気中でホットプレス焼結して厚さ約4mmの焼結体(導電性セラミックス)を得た。なお、ホットプレス焼結は、10−2Pa以下の真空減圧下で温度1100℃まで昇温させ、その後、温度1100℃で圧力30MPaの一軸加圧を加えた後、アルゴンガスを導入し、1400℃まで昇温して1時間保持することにより行った。
そして、作製した焼結体(導電性セラミックス)の鉄の含有量、体積抵抗率および相対密度を測定した。
また、曲げ強度測定用に、得られた固体混合物を、直径45mmのカーボンモールドに26g導入し、上記と同様の手順で焼結体(導電性セラミックス)を得た。そして、作製した焼結体(導電性セラミックス)の曲げ強度を測定した。
結果を表1に示す。
(Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3)
A methyl ethyl ketone dispersion containing 0.35% by mass of long single-walled carbon nanotubes (Zeon Nano Technology, ZEONANO SG101, average diameter: 4 nm, average length: 400 μm, BET specific surface area: 1150 m 2 / g) was prepared .
Then, after adding the methyl ethyl ketone dispersion measured so that the amount of single-walled carbon nanotubes contained in the obtained sintered body (conductive ceramic) becomes the ratio shown in Table 1 to 150 mL of ethyl alcohol, an ultrasonic homogenizer ( An ultrasonic wave was applied at an output of 50% for 5 minutes using U200S control (manufactured by IKA Co., Ltd.) to carry out dispersion treatment to obtain a dispersion.
Next, 35 g of alumina powder (TM-DAR, average particle size: 0.1 μm, manufactured by Daimei Chemical Industries, Ltd.) is added to the obtained dispersion, and ultrasonic dispersion is further performed on the obtained mixture The treatment was carried out for 5 minutes at an output of 80% using the same ultrasonic homogenizer as above.
Then, the obtained ceramic slurry composition is subjected to ultrasonic irradiation (frequency: 38 kHz, output: 180 W) in an ultrasonic water bath (ultrasonic cleaning machine US-5KS, manufactured by NSD Co., Ltd.) using a rotary evaporator. While evaporating the ethyl alcohol and methyl ethyl ketone, the solvent was completely removed by further holding in a dryer at 50 ° C. for 12 hours to obtain a solid mixture containing alumina and single-walled carbon nanotubes.
Finally, 10 g of the obtained solid mixture is introduced into a carbon mold with a diameter of 30 mm, and hot pressed and sintered in an argon gas atmosphere using a multipurpose high temperature furnace (manufactured by Fuji Electric Wave Co., Ltd., Hi-Multi 5000) A sintered body (conductive ceramic) of about 4 mm was obtained. In hot-press sintering, the temperature is raised to a temperature of 1100 ° C. under a vacuum reduced pressure of 10 −2 Pa or less, thereafter uniaxial pressure of 30 MPa is applied at a temperature of 1100 ° C., and argon gas is introduced. The temperature was raised to ° C. and held for 1 hour.
Then, the iron content, volume resistivity and relative density of the produced sintered body (conductive ceramic) were measured.
Further, for the measurement of bending strength, 26 g of the obtained solid mixture was introduced into a carbon mold of 45 mm in diameter, and a sintered body (conductive ceramic) was obtained in the same procedure as described above. Then, the bending strength of the produced sintered body (conductive ceramic) was measured.
The results are shown in Table 1.

Figure 2019048748
Figure 2019048748

表1より、実施例1〜5では、緻密で、且つ、電気伝導性に優れる導電性セラミックスが得られることが分かる。   From Table 1, in Examples 1-5, it turns out that it is precise | minute and the electroconductive ceramic which is excellent in electrical conductivity is obtained.

(実施例6)
アルミナ粉末として、平均粒子径が0.1μmのアルミナ粉末(大明化学工業株式会社製、TM−DAR、平均粒子径:0.1μm)と、平均粒子径が3μmのアルミナ粉末(住友化学株式会社、AA−3、平均粒子径:3μm)との混合物(TM−DAR:AA−3(体積比)=50:50)35gを使用した以外は比較例3と同様にして焼結体(導電性セラミックス)を調製した。
そして、作製した焼結体(導電性セラミックス)の鉄の含有量、体積抵抗率、相対密度および曲げ強度を測定した。結果を表2に示す。
(Example 6)
Alumina powder having an average particle size of 0.1 μm (TM-DAR manufactured by Daimei Chemical Industries, Ltd., average particle size: 0.1 μm) as alumina powder, and alumina powder having an average particle size of 3 μm (Sumitomo Chemical Co., Ltd. A sintered body (conductive ceramic) in the same manner as in Comparative Example 3 except that 35 g of a mixture of AA-3 and an average particle size of 3 μm (TM-DAR: AA-3 (volume ratio) = 50: 50) was used. Were prepared.
Then, the iron content, volume resistivity, relative density and bending strength of the produced sintered body (conductive ceramic) were measured. The results are shown in Table 2.

Figure 2019048748
Figure 2019048748

表2より、実施例6では緻密で導電性に優れた焼結体が得られることが分かる。   From Table 2, it can be seen that in Example 6, a compact sintered body having excellent conductivity can be obtained.

(実施例7〜9)
それぞれ実施例1,2,4と同様にして固体混合物を作製した。
そして、得られた固体混合物10gを直径10mmの金型に入れて、10MPaの一軸加圧力で成形した後に、冷間静水圧プレス機を用いて200MPaの圧力で加圧して焼結用の圧粉体を作製した。得られた圧粉体をBN坩堝に入れて、アルゴン雰囲気中、温度1400℃で1時間常圧焼結を行った。
そして、作製した焼結体(導電性セラミックス)の鉄の含有量、体積抵抗率、相対密度および曲げ強度を測定した。結果を表3に示す。

Figure 2019048748
(Examples 7 to 9)
Solid mixtures were prepared in the same manner as in Examples 1, 2 and 4, respectively.
Then, 10 g of the obtained solid mixture is put in a mold with a diameter of 10 mm and molded with a uniaxial pressure of 10 MPa, and then pressed with a cold isostatic press at a pressure of 200 MPa to sinter powder The body was made. The obtained green compact was put into a BN crucible, and pressureless sintering was performed at a temperature of 1400 ° C. for 1 hour in an argon atmosphere.
Then, the iron content, volume resistivity, relative density and bending strength of the produced sintered body (conductive ceramic) were measured. The results are shown in Table 3.
Figure 2019048748

表3より、常圧焼結においても緻密で導電性に優れた焼結体が得られることが分かる。   It can be seen from Table 3 that a sintered body which is compact and excellent in conductivity can be obtained also in pressureless sintering.

本発明によれば、緻密で、且つ、電気伝導性に優れる導電性セラミックスが得られる。   According to the present invention, it is possible to obtain a conductive ceramic which is dense and excellent in electric conductivity.

Claims (4)

アルミナと、単層カーボンナノチューブとを含有し、
前記単層カーボンナノチューブの含有割合が、0.05体積%以上0.7体積%以下であり、
体積抵抗率が、10−2Ω・cm以上10Ω・cm以下である、導電性セラミックス。
Containing alumina and single-walled carbon nanotubes,
The content ratio of the single-walled carbon nanotube is 0.05% by volume or more and 0.7% by volume or less,
Electroconductive ceramics whose volume resistivity is 10 <-2 > ohm * cm or more and 10 < 6 > ohm * cm or less.
前記単層カーボンナノチューブのBET比表面積が800m/g以上である、請求項1に記載の導電性セラミックス。 The conductive ceramic according to claim 1, wherein a BET specific surface area of the single-walled carbon nanotube is 800 m 2 / g or more. 前記単層カーボンナノチューブの平均直径が3nm以上5nm以下である、請求項1または2に記載の導電性セラミックス。   The conductive ceramics according to claim 1 or 2 whose mean diameter of said single-walled carbon nanotube is 3 nm or more and 5 nm or less. 鉄の含有量が5質量ppm以下である、請求項1〜3の何れかに記載の導電性セラミックス。   Electroconductive ceramics in any one of Claims 1-3 whose content of iron is 5 mass ppm or less.
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