JP2019044153A - Active energy ray-curable composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は活性エネルギー線硬化性組成物に関する。 The present invention relates to an active energy ray curable composition.
光照射により表面を硬化させコーティングするいわゆるUVコーティングは、その作業性(速硬化性)や低VOC(揮発性有機化合物)化の観点から、コーティング剤や塗料、印刷インキ等適用範囲が広がりつつある。
一般にUVコーティング剤は、ラジカル重合性モノマー及び光ラジカル開始剤、並びに、用途に応じ着色剤及び添加剤を含有してなる。
着色剤は大別して顔料及び染料からなり、塗膜を着色させるために配合される。着色剤は、その色に応じた光吸収特性を持ち、硬化の際に用いる照射光の一部(又は大部分)を吸収して光が減衰されたり、照射光が遮蔽されたりするため、塗布された塗膜の深部にまで光が届かないことがある。
この問題を解決するために、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とチオキサントン骨格を有する光重合開始剤を使用することが提案されている(例えば特許文献1参照)。
The so-called UV coating, which cures and coats the surface by light irradiation, is expanding its application range such as coating agents, paints, and printing inks from the viewpoint of its workability (rapid curing) and low VOC (volatile organic compounds). .
Generally, UV coating agents comprise radically polymerizable monomers and photoradical initiators, and, depending on the application, colorants and additives.
The colorant is roughly divided into a pigment and a dye, and is blended to color the coating. The coloring agent has a light absorbing property according to the color, and absorbs a part (or a large part) of the irradiation light used in curing to attenuate the light or shield the irradiation light. Light may not reach the deep part of the coated film.
In order to solve this problem, it has been proposed to use a radically polymerizable compound, a cationically polymerizable compound, and a photopolymerization initiator having a thioxanthone skeleton (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、特許文献1に記載の発明はラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とチオキサントン骨格を有する光重合開始剤を使用するものであり、従来技術よりも少ないエネルギー照射量で硬化できる点においては改良されているが、紫外線を吸収しやすいカーボンブラックのような黒色顔料を配合したインキ組成においては硬化性が不足したり、硬化皺や縮みが発生したりするという問題がある。 However, the invention described in Patent Document 1 uses a radically polymerizable compound, a cationically polymerizable compound, and a photopolymerization initiator having a thioxanthone skeleton, and is improved in that it can be cured with an energy irradiation amount smaller than that of the prior art. However, in the ink composition containing a black pigment such as carbon black which easily absorbs ultraviolet rays, there is a problem that the curability is insufficient or a curing wrinkle or shrinkage occurs.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、照射光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚膜の場合でも、低エネルギー量で硬化可能な活性エネルギー線硬化性組成物を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide low energy even when a substance such as a coloring agent which attenuates or blocks irradiation light is present at a high concentration or in the case of a thick film. It is an object of the present invention to provide an active energy ray curable composition which can be cured in an amount.
本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、本発明に到達した。
即ち、本発明は、光ラジカル開始剤(A)と、酸発生剤(B)と、多官能(メタ)アクリレートモノマー(C1)と、エステル基を有さず脂環式骨格を有する炭素数5〜30の2官能エポキシモノマー(C2)と、炭素数5〜30のオキセタンモノマー(C3)と、着色剤(D)及び/又は金属酸化物粉末(E)とを含有する活性エネルギー線硬化性組成物(Z);前記の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)の硬化物である。
The present inventors arrived at the present invention as a result of earnestly examining to achieve the above object.
That is, in the present invention, the photoradical initiator (A), the acid generator (B), the polyfunctional (meth) acrylate monomer (C1), and an ester group-free alicyclic skeleton-containing 5 carbon atoms Active energy ray-curable composition containing at least one bifunctional epoxy monomer (C2), C5 to C30 oxetane monomer (C3), colorant (D) and / or metal oxide powder (E) Article (Z): A cured product of the above-mentioned active energy ray-curable composition (Z).
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)は、優れた硬化性を有し、かつ、硬化物は優れた基材密着性を有する。又、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)の硬化物は耐汚染性に優れる。 The active energy ray curable composition (Z) of the present invention has excellent curability, and the cured product has excellent substrate adhesion. Moreover, the hardened | cured material of the active energy ray curable composition (Z) of this invention is excellent in contamination resistance.
本発明における活性エネルギー線硬化性組成物(Z)は、光ラジカル開始剤(A)と、酸発生剤(B)と、多官能(メタ)アクリレートモノマー(C1)と、エステル基を有さず脂環式骨格を有する炭素数5〜30の2官能エポキシモノマー(C2)と、炭素数5〜30のオキセタンモノマー(C3)と、着色剤(D)及び/又は金属酸化物粉末(E)とを含有する。
なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」の表記は、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味し、「(メタ)アクリル」の表記は、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。
The active energy ray-curable composition (Z) in the present invention has no photo radical initiator (A), acid generator (B), polyfunctional (meth) acrylate monomer (C1), and no ester group. C5-C30 bifunctional epoxy monomer (C2) having an alicyclic skeleton, C5-C30 oxetane monomer (C3), colorant (D) and / or metal oxide powder (E) Contains
In the present invention, the expression "(meth) acrylate" means acrylate and / or methacrylate, and the expression "(meth) acrylic" means acrylic and / or methacryl.
本発明における光ラジカル開始剤(A)としては、ベンゾイン化合物(A−1)、アルキルフェノン化合物(A−2)、アントラキノン化合物(A−3)、チオキサントン化合物(A−4)、ケタール化合物(A−5)、ベンゾフェノン化合物(A−6)、ホスフィンオキサイド化合物(A−7)及びオキシムエステル化合物(A−8)等が挙げられる。 As a photo radical initiator (A) in this invention, a benzoin compound (A-1), an alkyl phenone compound (A-2), an anthraquinone compound (A-3), a thioxanthone compound (A-4), a ketal compound (A) -5), benzophenone compound (A-6), phosphine oxide compound (A-7), oxime ester compound (A-8) and the like.
ベンゾイン化合物(A−1)としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル及びベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。 Examples of the benzoin compound (A-1) include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether and benzoin isobutyl ether.
アルキルフェノン化合物(A−2)としては、アセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−フェニルプロパン−1−オン、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2W−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン等が挙げられる。 As the alkylphenone compound (A-2), acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl- Phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethyl Amino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1- Butanone, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2W-hydroxy-2-methyl-propi] Yl) - benzyl] phenyl} -2-methyl - propan-1-one, and the like.
アントラキノン化合物(A−3)としては、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−クロロアントラキノン及び2−アミルアントラキノン等が挙げられる。 Examples of the anthraquinone compound (A-3) include 2-ethyl anthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone, 2-chloroanthraquinone and 2-amyl anthraquinone.
チオキサントン化合物(A−4)としては、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン及び2−クロロチオキサントン等が挙げられる。 As a thioxanthone compound (A-4), 2,4-diethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone etc. are mentioned.
ケタール化合物(A−5)としては、アセトフェノンジメチルケタール及びベンジルジメチルケタール等が挙げられる。 Examples of the ketal compound (A-5) include acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal.
ベンゾフェノン化合物(A−6)としては、ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド及び4,4’−ビスメチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。 Examples of benzophenone compounds (A-6) include benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, and 4,4'-bismethylaminobenzophenone.
ホスフィンオキサイド化合物(A−7)としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス−(2、6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフォィンオキサイド及びビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。 As the phosphine oxide compound (A-7), 2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxy benzoyl) -2,4,4-trimethyl pentyl phosphine oxide and bis ( 2,4,6-trimethyl benzoyl) -phenyl phosphine oxide etc. are mentioned.
オキシムエステル化合物(A−8)としては、1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオン2−(O−ベンゾイルオキシム)及びエタノン−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)等が挙げられる。 As the oxime ester compound (A-8), 1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione 2- (O-benzoyloxime) and ethanone-1- [9-ethyl-6- (2) -Methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) and the like.
光ラジカル開始剤(A)の内、硬化性の観点から好ましいのは、アルキルフェノン化合物(A−2)、ホスフィンオキサイド化合物(A−7)であり、更に好ましいのは、α−ヒドロキシアルキルフェノン骨格を有する化合物、α−アミノアルキルフェノン骨格を有する化合物(以上、A−2)、ベンゾイル基を有するホスフィンオキサイド化合物(A−7)である。
光ラジカル開始剤(A)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
Among the photo radical initiators (A), preferred are the alkylphenone compounds (A-2) and phosphine oxide compounds (A-7) from the viewpoint of curability, and more preferred is the α-hydroxyalkylphenone skeleton A compound having an α-aminoalkylphenone skeleton (above, A-2), and a phosphine oxide compound (A-7) having a benzoyl group.
The photo radical initiator (A) may be used alone or in combination of two or more.
前記の光ラジカル開始剤(A)は、硬化性の観点から、アセトニトリル又はメタノール中で測定した波長405nmにおけるモル吸光係数(ε)が5〜1200ml/g・cmであることが好ましい。
εが、上記の好ましい範囲にある開始剤としては、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1[ε:280]、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン[ε:280]、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン[ε:7]、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド[ε:165]及びビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド[ε:899]等が挙げられる。
From the viewpoint of curability, the photo radical initiator (A) preferably has a molar absorption coefficient (ε) at a wavelength of 405 nm measured in acetonitrile or methanol of 5 to 1200 ml / g · cm.
As an initiator whose ε is in the above preferable range, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 [ε: 280], 2- (dimethylamino) -2 -[(4-Methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone [ε: 280], 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-) 2-Methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one [ε: 7], 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide [ε: 165] and bis (2,4,6 6-trimethyl benzoyl) -phenyl phosphine oxide [(epsilon): 899] etc. is mentioned.
本発明における酸発生剤(B)とは、活性光線、ラジカル又は熱により酸を発生する化合物を意味する。
前記の酸発生剤(B)としては、カチオン成分及びアニオン成分からなる酸発生剤等が挙げられる。
カチオン成分及びアニオン成分からなる酸発生剤としては、カチオン成分がスルホニウムである酸発生剤(B1)及びカチオン成分がヨードニウムである酸発生剤(B2)等が挙げられる。
The acid generator (B) in the present invention means a compound capable of generating an acid by an actinic ray, a radical or heat.
As said acid generator (B), the acid generator etc. which consist of a cation component and an anion component are mentioned.
As an acid generator which consists of a cation component and an anion component, an acid generator (B1) whose cation component is sulfonium, an acid generator (B2) whose cation component is iodonium, etc. are mentioned.
カチオン成分がスルホニウムである酸発生剤(B1)としては、下記一般式(1)又は下記一般式(2)で示される化合物等が挙げられる。 As an acid generator (B1) whose cation component is sulfonium, the compound etc. which are shown by following General formula (1) or following General formula (2) are mentioned.
一般式(1)又は(2)において、Ar1〜Ar7はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも1個有し、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基(α)で置換されていてもよい芳香族炭化水素基、又は、前記の基(α)で置換されていてもよい複素環基である。
なお、Ar1〜Ar4、Ar6及びAr7は1価の基、Ar5は2価の基である。
In the general formula (1) or (2), each of Ar 1 to Ar 7 independently has at least one benzene ring skeleton, and is a halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, a cyano group, a phenyl group, a naphthyl group An aromatic hydrocarbon group which may be substituted with at least one group (α) selected from the group consisting of a group, a phenoxy group and a phenylthio group, or a complex which may be substituted with the group (α) It is a ring group.
Ar 1 to Ar 4 , Ar 6 and Ar 7 are monovalent groups, and Ar 5 is a divalent group.
一般式(1)及び一般式(2)におけるAr1〜Ar7は、紫外〜可視光領域に吸収をもつ基である。
Ar1〜Ar7におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜4である。
ベンゼン環骨格を1個有する場合の例としては、ベンゼン、又はベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、キノリン、クマリン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基等が挙げられる。
ベンゼン環骨格を2個有する場合の例としては、ナフタレン、ビフェニル、フルオレン、又はジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、キサントン、キサンテン、チオキサントン、アクリジン、フェノチアジン及びチアントレン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基等が挙げられる。
ベンゼン環骨格3個有する場合の例としては、アントラセン、フェナントレン、ターフェニル、p−(チオキサンチルメルカプト)ベンゼン及びナフトベンゾチオフェン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基等が挙げられる。
ベンゼン環骨格4個有する場合の例としては、ナフタセン、ピレン、ベンゾアントラセン及びトリフェニレン等から水素原子を1個又は2個除いた残基等が挙げられる。
Ar 1 to Ar 7 in the general formula (1) and the general formula (2) are groups having absorption in the ultraviolet to visible light region.
The number of benzene ring skeletons in Ar 1 to Ar 7 is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 4.
Examples of the case of having one benzene ring skeleton include benzene or a residue obtained by removing one or two hydrogen atoms from a heterocyclic compound such as benzofuran, benzothiophene, indole, quinoline or coumarin.
Examples of two benzene rings include naphthalene, biphenyl, fluorene, or dibenzofuran, dibenzothiophene, xanthone, xanthene, thioxanthone, acridine, phenothiazine and thianthrene, and one or two hydrogen atoms. The residue etc. which were remove | excluded are mentioned.
Examples of three benzene rings include residues obtained by removing one or two hydrogen atoms from a heterocyclic compound such as anthracene, phenanthrene, terphenyl, p- (thioxanthylmercapto) benzene and naphthobenzothiophene. Etc.
Examples of the case of having four benzene ring skeletons include naphthacene, pyrene, benzoanthracene, triphenylene and the like, and residues and the like in which one or two hydrogen atoms are removed.
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられ、フッ素及び塩素が好ましい。 The halogen atom includes fluorine, chlorine, bromine and iodine, with fluorine and chlorine being preferred.
前記の炭素数1〜20のアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基及びシクロヘキシルカルボニル基等が挙げられる。 Examples of the above-mentioned acyl group having 1 to 20 carbon atoms include formyl group, acetyl group, propionyl group, isobutyryl group, valeryl group and cyclohexylcarbonyl group.
前記の炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−又はiso−プロピル基、n−、sec−又はtert−ブチル基、n−、iso−又はneo−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等が挙げられる。 As said C1-C20 alkyl group, a methyl group, an ethyl group, n- or iso-propyl group, n-, sec- or tert- butyl group, n-, iso- or neo-pentyl group, hexyl Groups, heptyl groups and octyl groups.
前記の炭素数1〜20のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−又はiso−プロポキシ基、n−、sec−又はtert−ブトキシ基、n−、iso−、又はneo−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基等が挙げられる。 As said C1-C20 alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, n- or iso-propoxy group, n-, sec- or tert- butoxy group, n-, iso- or neo-pentyloxy group And hexyloxy group, heptyloxy group and octyloxy group.
前記の炭素数1〜20のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n−又はiso−プロピルチオ基、n−、sec−又はtert−ブチルチオ基、n−、iso−又はneo−ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基及びオクチルチオ基等が挙げられる。 Examples of the above-mentioned alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms include methylthio group, ethylthio group, n- or iso-propylthio group, n-, sec- or tert-butylthio group, n-, iso- or neo-pentylthio group, hexylthio group And heptylthio and octylthio groups.
前記の炭素数1〜20のアルキルシリル基としては、トリアルキルシリル基(トリメチルシリル基及びトリイソプロピルシリル基等)等が挙げられる。 Examples of the alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms include trialkylsilyl groups (such as trimethylsilyl and triisopropylsilyl).
前記のAr1〜Ar7に置換する基(α)として、酸発生効率の観点から好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基及び炭素数1〜20のアシル基であり、更に好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のアルコキシ基、炭素数1〜15のアルキルチオ基及び炭素数1〜15のアシル基であり、特に好ましいのは、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10のアルキルチオ基及び炭素数1〜10のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。 As the group (α) to be substituted for Ar 1 to Ar 7 described above, halogen atoms, cyano groups, phenyl groups, naphthyl groups, phenoxy groups, phenylthio groups, and those having 1 to 20 carbon atoms are preferable from the viewpoint of acid generation efficiency It is an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms and an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a halogen atom, a cyano group, a phenyl group, 1 to 5 carbon atoms 15 alkyl groups, alkoxy groups having 1 to 15 carbon atoms, alkylthio groups having 1 to 15 carbon atoms and acyl groups having 1 to 15 carbon atoms, and halogen atoms and alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms are particularly preferred. An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, and an acyl group having 1 to 10 carbon atoms. The above alkyl moiety may be linear, branched or cyclic.
Ar1〜Ar4、Ar6及びAr7として、酸発生効率の観点から好ましくは、フェニル基、p−メチルフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、p−(チオキサンチルメルカプト)フェニル基及びm−クロロフェニル基である。 From the viewpoint of acid generation efficiency, Ar 1 to Ar 4 , Ar 6 and Ar 7 are preferably phenyl group, p-methylphenyl group, p-methoxyphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2, 4, 6 -Trimethylphenyl group, p- (thioxanthylmercapto) phenyl group and m-chlorophenyl group.
Ar5として、酸発生効率の観点から好ましくは、フェニレン基、2−又は3−メチルフェニレン基、2−又は3−メトキシフェニレン基、2−又は3−ブチルフェニレン基及び2−又は3−クロロフェニレン基である。 As Ar 5 , from the viewpoint of acid generation efficiency, preferably a phenylene group, a 2- or 3-methyl phenylene group, a 2- or 3-methoxy phenylene group, a 2- or 3-butyl phenylene group and a 2- or 3-chlorophenylene It is a group.
一般式(1)又は(2)において、(X1)−及び(X2)−は前記のアニオン成分を表す。
前記の(X1)−及び(X2)−としては、ハロゲン化物アニオン、水酸化物アニオン、チオシアナートアニオン、炭素数1〜4のジアルキルジチオカルバメートアニオン、炭酸アニオン、炭酸水素アニオン、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族カルボキシアニオン(安息香酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロアルキル酢酸アニオン及びフェニルグリオキシル酸アニオン等)、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族スルホキシアニオン(トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等)、6フッ化アンチモネートアニオン(SbF6 −)、ホスフィンアニオン[6フッ化ホスフィンアニオン(PF6 −)及び3フッ化トリス(パーフルオロエチル)ホスフィンアニオン(PF3(C2F5)3 −)等]及びボレートアニオン(テトラフェニルボレート及びブチルトリフェニルボレートアニオン等)等が挙げられる。
これらの内、硬化性の観点から好ましくは、ホスフィンアニオン、ハロゲンで置換された脂肪族スルホキシイオン及びボレートアニオンであり、更に好ましくはホスフィンアニオンであり、特に好ましくはPF6 −又はPF3(C2F5)3 −である。
In the general formula (1) or (2), (X 1) - representing a is the anion component - and (X 2).
As (X 1 ) − and (X 2 ) − described above, a halide anion, a hydroxide anion, a thiocyanate anion, a dialkyldithiocarbamate anion having 1 to 4 carbon atoms, a carbonate anion, a hydrogencarbonate anion, a halogen Aliphatic or aromatic carboxy anion which may be substituted (benzoic acid anion, trifluoroacetate anion, perfluoroalkyl acetate anion, phenylglyoxylate anion, etc.), aliphatic or aromatic sulfo which may be substituted by halogen Xyanion (trifluoromethanesulfonate anion, etc.), hexafluoride antimonate anion (SbF 6 − ), phosphine anion [hexafluoride phosphine anion (PF 6 − ) and trifluoride tris (perfluoroethyl) phosphine anion (PF 6 ) 3 (C 2 F 5) 3 -), etc.] and borate anion (tetraphenyl borate and butyl triphenyl borate anion), and the like.
Among these, from the viewpoint of curing, preferred are phosphine anions, aliphatic sulfoxion ions substituted with halogen and borate anions, more preferably phosphine anions, particularly preferably PF 6 − or PF 3 (C 2 F 5) 3 - a.
一般式(2)において、A1は、酸素原子又は硫黄原子である。酸発生効率の観点から好ましいのは、硫黄原子である。 In the general formula (2), A 1 is an oxygen atom or a sulfur atom. Preferred from the viewpoint of acid generation efficiency is a sulfur atom.
カチオン成分がスルホニウムである酸発生剤(B1)として、酸発生効率の観点から好ましくは、トリフェニルスルホニウム、トリ−p−トリルスルホニウム又は[p−(フェニルメルカプト)フェニル]ジフェニルスルホニウムをカチオン成分として有する化合物及び下記一般式(3)又は(4)で示される化合物であり、更に好ましくは[p−(フェニルメルカプト)フェニル]ジフェニルスルホニウムをカチオン成分として有する化合物、下記一般式(3)又は(4)で示される化合物である。
酸発生剤(B1)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
Preferably, triphenylsulfonium, tri-p-tolylsulfonium or [p- (phenylmercapto) phenyl] diphenylsulfonium is included as a cationic component from the viewpoint of acid generation efficiency as an acid generator (B1) in which the cationic component is sulfonium A compound and a compound represented by the following general formula (3) or (4), more preferably a compound having [p- (phenylmercapto) phenyl] diphenyl sulfonium as a cationic component, the following general formula (3) or (4) It is a compound shown by these.
As the acid generator (B1), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
一般式(3)及び一般式(4)における(X3)−〜(X4)−は前記のアニオン成分を表し、一般式(1)又は(2)における(X1)−又は(X2)−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。 (X 3 ) − to (X 4 ) − in the general formula (3) and the general formula (4) represent the above-mentioned anion component, and (X 1 ) − or (X 2 ) in the general formula (1) or (2) ) - it includes the same ones as exemplified as, preferable ones are also same.
前記のカチオン成分がヨードニウムである酸発生剤(B2)としては、下記一般式(5)で示される化合物等が挙げられる。 As an acid generator (B2) whose said cation component is iodonium, the compound etc. which are shown by following General formula (5) are mentioned.
一般式(5)において、Ar8〜Ar9は、それぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも1個有し、前記の基(α)で置換されていてもよい芳香族炭化水素基、又は、前記の基(α)で置換されていてもよい複素環基である。
なお、Ar8〜Ar9は1価の基である。
一般式(5)におけるAr8〜Ar9は、一般式(5)で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ar8〜Ar9におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜4であり、Ar8〜Ar9の具体例としては、一般式(1)又は一般式(2)のAr1〜Ar7として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものは炭素数1〜20のアルキル基で置換された芳香族炭化水素基である。
In the general formula (5), Ar 8 to Ar 9 each independently have at least one benzene ring skeleton and may be an aromatic hydrocarbon group which may be substituted by the above group (α), or It is a heterocyclic group which may be substituted by a group (α).
Ar 8 to Ar 9 are monovalent groups.
Ar 8 to Ar 9 in the general formula (5) are groups which make the compound represented by the general formula (5) absorb in the ultraviolet to visible light region.
The number of benzene ring skeletons in Ar 8 to Ar 9 is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and specific examples of Ar 8 to Ar 9 include general formula (1) or general formula (2) The same ones as those exemplified as Ar 1 to Ar 7 in the following can be mentioned, and a preferable one is an aromatic hydrocarbon group substituted by an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
一般式(5)において、(X5)−は、前記のアニオン成分を表し、一般式(1)又は(2)における(X1)−又は(X2)−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。 In the general formula (5), (X 5) - represents the anion component represented by the general formula (1) or (2) in (X 1) - or (X 2) - exemplified ones and the like as And the preferred ones are also the same.
前記のカチオン成分がヨードニウムである酸発生剤(B2)として、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−n−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−n−オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム2ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル−1,1,2,2−テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム2−(3テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル)−1,1−ジフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムN,N’−ビス(ノナフルオロ−n−ブタンスルホニル)イミデート、ジフェニルヨードニウムカンファースルホネート等のジフェニルヨードニウム塩;ビス(4tブチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムノナフルオロ−n−ブタンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムパーフルオロ−n−オクタンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム2−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル−1,1,2,2−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム2−(3−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル)−1,1−ジフルオロエタンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムN,N’−ビス(ノナフルオロ−n−ブタンスルホニル)イミデート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムカンファースルホネート等のビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム塩;4−メチルフェニル){4−(1−メチルエチル)フェニル}ヨードニウム・ヘキサフルオロホスフェート、(4−メチルフェニル){4−(2−メチルプロピル)フェニル}ヨードニウム・ヘキサフルオロホスフェート、[ビス(4−t−ブチルフェニル)]ヨードニウム・ヘキサフルオロホスフェート、[ビス(4−t−ブチルフェニル)]トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ヨードニウム・ヘキサフルオロホスフェート、[ビス(4−メトキシフェニル)]ヨードニウム及び[ビス(4−メトキシフェニル)]ヨードニウム・ヘキサフルオロホスフェート、(4−メチルフェニル){4−(1−メチルエチル)フェニル}ヨードニウム・トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、(4−メチルフェニル){4−(2−メチルプロピル)フェニル}ヨードニウム・トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、[ビス(4−t−ブチルフェニル)]ヨードニウム・トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、[ビス(4−t−ブチルフェニル)]トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ヨードニウム・トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、[ビス(4−メトキシフェニル)]ヨードニウム及び[ビス(4−メトキシフェニル)]ヨードニウム・トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート等が挙げられる。酸発生効率の観点から好ましいのは、(4−メチルフェニル){4−(1−メチルエチル)フェニル}ヨードニウム、(4−メチルフェニル){4−(2−メチルプロピル)フェニル}ヨードニウム、[ビス(4−t−ブチルフェニル)]ヨードニウム、[ビス(4−t−ブチルフェニル)]トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ヨードニウム、[ビス(4−メトキシフェニル)]ヨードニウム及び[ビス(4−メトキシフェニル)]ヨードニウムをカチオン成分として有する化合物であり、更に好ましいのは(4−メチルフェニル){4−(1−メチルエチル)フェニル}ヨードニウム、(4−メチルフェニル){4−(2−メチルプロピル)フェニル}ヨードニウム及び[ビス(4−t−ブチルフェニル)]ヨードニウムである。
上記のカチオン成分がヨードニウムである酸発生剤は、光以外に、反応熱による熱分解又はラジカル種との酸化還元反応による化学分解によって酸を発生させることができる。発生した酸は直ちにエポキシモノマーと反応し、カチオン重合が進行する。カチオン重合に伴って発生する反応熱により、さらに自触媒的にカチオン重合が促進される。
酸発生剤(B2)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
As the acid generator (B2) in which the cationic component is iodonium, diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate, diphenyliodonium nonafluoro-n-butanesulfonate, diphenyliodonium perfluoro-n-octanesulfonate, diphenyliodonium 2-bicyclo [2.2] .1] Hept-2-yl-1,1,2,2-tetrafluoroethanesulfonate, diphenyliodonium 2- (3 tetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] dodecanyl) -1,1 Diphenyliodonium salts such as difluoroethanesulfonate, diphenyliodonium N, N'-bis (nonafluoro-n-butanesulfonyl) imidate, diphenyliodonium camphorsulfonate, etc .; bis (4t butylphenyl) Iodonium trifluoromethanesulfonate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium nonafluoro-n-butanesulfonate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium perfluoro-n-octanesulfonate, bis (4-t-butylphenyl) Iodonium 2-bicyclo [2.2.1] hept-2-yl-1,1,2,2-tetrafluoroethanesulfonate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium 2- (3-tetracyclo [4.4] .0.12,5.17,10] dodecanyl) -1,1-difluoroethane sulfonate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium N, N'-bis (nonafluoro-n-butanesulfonyl) imidate, bis (4 -T-Butylphenyl) iodonium camphorsulfonate etc Bis (4-t-butylphenyl) iodonium salt; 4-methylphenyl) {4- (1-methylethyl) phenyl} iodonium hexafluorophosphate, (4-methylphenyl) {4- (2-methylpropyl) phenyl } Iodonium hexafluorophosphate, [bis (4-t-butylphenyl)] iodonium hexafluorophosphate, [bis (4-t-butylphenyl)] trifluoro [tris (perfluoroethyl)] iodonium hexafluorophosphate , [Bis (4-methoxyphenyl)] iodonium and [bis (4-methoxyphenyl)] iodonium hexafluorophosphate, (4-methylphenyl) {4- (1-methylethyl) phenyl} iodonium tris (pentafluoro) ethyl) Trifluorophosphate, (4-methylphenyl) {4- (2-methylpropyl) phenyl} iodonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, [bis (4-t-butylphenyl)] iodonium tris (pentafluoro) Ethyl) trifluorophosphate, [bis (4-t-butylphenyl)] trifluoro [tris (perfluoroethyl)] iodonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, [bis (4-methoxyphenyl)] iodonium and Examples include [bis (4-methoxyphenyl)] iodonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate and the like. (4-Methylphenyl) {4- (1-methylethyl) phenyl} iodonium, (4-methylphenyl) {4- (2-methylpropyl) phenyl} iodonium, [bis] are preferred from the viewpoint of acid generation efficiency. (4-t-butylphenyl) iodonium, [bis (4-t-butylphenyl)] trifluoro [tris (perfluoroethyl)] iodonium, [bis (4-methoxyphenyl)] iodonium and [bis (4- (phenylphenyl)] iodonium; It is a compound having methoxyphenyl)] iodonium as a cation component, more preferably (4-methylphenyl) {4- (1-methylethyl) phenyl} iodonium, (4-methylphenyl) {4- (2-methyl) Propyl) phenyl} iodonium and [bis (4-t-butylphenyl)] iodonium .
The acid generator wherein the cationic component is iodonium can generate an acid by thermal decomposition by heat of reaction or chemical decomposition by redox reaction with radical species, in addition to light. The generated acid immediately reacts with the epoxy monomer, and cationic polymerization proceeds. The heat of reaction generated in association with the cationic polymerization further promotes the cationic polymerization in an autocatalytic manner.
As the acid generator (B2), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
これら酸発生剤(B)のうち、硬化性の観点から好ましくはカチオン成分がヨードニウムである酸発生剤(B2)である。 Among these acid generators (B), preferred are acid generators (B2) in which the cationic component is iodonium from the viewpoint of curability.
多官能(メタ)アクリレートモノマー(C1)としては、2官能(メタ)アクリレートモノマー(C11)、3官能(メタ)アクリレートモノマー(C12)及び4官能以上の(メタ)アクリレートモノマー(C13)等が挙げられる。 Examples of the polyfunctional (meth) acrylate monomer (C1) include bifunctional (meth) acrylate monomer (C11), trifunctional (meth) acrylate monomer (C12) and tetrafunctional or higher (meth) acrylate monomer (C13). Be
前記のモノマー(C11)としては、2官能(メタ)アクリレートモノマー(C111)、2官能ウレタン(メタ)アクリレートモノマー(C112)、2官能ポリエステル(メタ)アクリレートモノマー(C113)が挙げられる。 As said monomer (C11), bifunctional (meth) acrylate monomer (C111), bifunctional urethane (meth) acrylate monomer (C112), and bifunctional polyester (meth) acrylate monomer (C113) are mentioned.
[2官能(メタ)アクリレートモノマー(C111)]、
前記のモノマーモノマー(C111)としては、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2,4−ジメチル−1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ブチルエチルプロパンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンメタノールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、オリゴエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2−エチル−2−ブチル−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、オリゴプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−エチル−2−ブチル−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート及びプロポキシ化エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
[Bifunctional (meth) acrylate monomer (C111)],
As the monomer monomer (C111), 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2,4-dimethyl-1 5, 5-Pentanediol di (meth) acrylate, butylethylpropanediol di (meth) acrylate, ethoxylated cyclohexanemethanol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, oligo ethylene glycol Di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 2-ethyl-2-butyl-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol dihydroxypivalate di (meth) acrylate Ethylene oxide modified bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide modified bisphenol F di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, oligopropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di ( Examples include meta) acrylate, 2-ethyl-2-butyl-propanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, and propoxylated ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate.
[2官能ウレタン(メタ)アクリレートモノマー(C112)]
前記のモノマー(C112)は、イソシアネートに、水酸基を有する(メタ)アクリル酸を反応させることにより得られる化合物であれば特に限定されず、例えば、2つのイソシアネート基を有する化合物1当量に対して水酸基を有する(メタ)アクリル酸2当量を触媒として金属系化合物(スズ化合物及びビスマス化合物等)存在下で反応させることによって得ることができる。
[Bifunctional urethane (meth) acrylate monomer (C112)]
The monomer (C112) is not particularly limited as long as it is a compound obtained by reacting a (meth) acrylic acid having a hydroxyl group with an isocyanate, for example, a hydroxyl group per equivalent of a compound having two isocyanate groups. These compounds can be obtained by reacting in the presence of a metal-based compound (such as a tin compound and a bismuth compound) using as a catalyst 2 equivalents of (meth) acrylic acid having
前記のモノマー(C112)の原料となるイソシアネートとしては特に限定されず、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI)、水添MDI、ポリメリックMDI、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート(XDI)、水添XDI、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート及び1,6,10−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。
また、上記イソシアネートとしては、ポリオール(エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、(ポリ)プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等)と、過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も用いることができる。
It does not specifically limit as an isocyanate used as a raw material of said monomer (C112), An isophorone diisocyanate, 2, 4- tolylene diisocyanate, 2, 6- tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4, 4'-diisocyanate (MDI), hydrogenated MDI, polymeric MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate , Tris (isocyanatophenyl) thiophosphate, tetramethylxylene diisocyanate and 1,6,10-undecanetriisocyanate And the like.
Moreover, as said isocyanate, the chain extension obtained by reaction of a polyol (Ethylene glycol, glycerol, sorbitol, (poly) propylene glycol, carbonate diol, polyether diol, polyester diol, polycaprolactone diol etc.) and excess isocyanate It is also possible to use the isocyanate compounds mentioned.
前記のモノマー(C112)の原料となる水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては特に限定されず、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、及び、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The (meth) acrylate having a hydroxyl group as a raw material of the monomer (C112) is not particularly limited, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate And 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and mono (meth) acrylate of a dihydric alcohol such as polyethylene glycol.
[2官能ポリエステル(メタ)アクリレートモノマー(C113)]
前記のモノマー(C113)は、ポリカルボン酸とポリオールの縮合によって得られる末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、ポリカルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
[Bifunctional polyester (meth) acrylate monomer (C113)]
The monomer (C113) is obtained by esterifying the hydroxyl group of a polyester oligomer having a hydroxyl group at the end obtained by condensation of a polycarboxylic acid and a polyol with (meth) acrylic acid, or adding an alkylene oxide to a polycarboxylic acid The terminal hydroxyl group of the resulting oligomer can be obtained by esterification with (meth) acrylic acid.
前記のモノマー(C113)の構成単位であるポリオールとしては、アルキレングリコール(エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブタンジオ−ル、ネオペンチルグリコール、1,4−ブテンジオール、1,5−ペンタンジオール及び1,6−ヘキサンジオール等)、アルキレンエーテルグリコール(ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等)、脂環式ジオール(1,4−シクロヘキサンジメタノール及び水素添加ビスフェノールA等)、ビスフェノール(ビスフェノールA、ビスフェノールF及びビスフェノールS等)、ビスフェノールのアルキレンオキサイド(エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド及びブチレンオキサイド等)付加物(平均付加モル数2〜8)及びグリセリン等が挙げられる。 As a polyol which is a structural unit of the said monomer (C113), alkylene glycol (Ethylene glycol, 1, 2- propylene glycol, 1, 3- propylene glycol, 1, 4- butanediol, neopentyl glycol, 1, 4) -Butenediol, 1,5-pentanediol and 1,6-hexanediol etc., alkylene ether glycol (diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol and polytetramethylene glycol etc.), alicyclic Diols (1,4-cyclohexanedimethanol and hydrogenated bisphenol A, etc.), bisphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.), bisphenol alkylene Kisaido (ethylene oxide, propylene oxide and butylene oxide, etc.) adducts (average addition molar number 2 to 8) and glycerin.
前記のモノマー(C113)の構成単位であるポリカルボン酸としては、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバンチン酸、アゼライン酸、マロン酸、n−ドデセニルコハク酸、イソドデセニルコハク酸、n−ドデシルコハク酸、イソドデシルコハク酸、n−オクテニルコハク酸、イソオクテニルコハク酸、n−オクチルコハク酸、イソオクチルコハク酸及びアコニット酸、並びに、これらの酸の無水物又は低級アルキルエステル等が挙げられる。 Examples of the polycarboxylic acid which is a constituent unit of the monomer (C113) include maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, sevantic acid, Azelaic acid, malonic acid, n-dodecenylsuccinic acid, isododecenylsuccinic acid, n-dodecylsuccinic acid, isododecylsuccinic acid, n-octenylsuccinic acid, isooctenylsuccinic acid, n-octylsuccinic acid, isooctylsuccinic acid and aconite Acids and anhydrides or lower alkyl esters of these acids and the like can be mentioned.
[3官能(メタ)アクリレートモノマー(C12)]
前記のモノマー(C12)としては、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスルトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ((メタ)アクリロイルオキシプロピル)エーテル、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールの炭素数2〜3のアルキレンオキサイド1〜30モル付加物のトリ(メタ)アクリレート、エトキシ化グリセリントリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート及びエトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート等が挙げられる。
[Trifunctional (meth) acrylate monomer (C12)]
As the monomer (C12), trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, alkylene oxide modified tri (meth) acrylate of trimethylolpropane, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipenta Erythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri ((meth) acryloyloxypropyl) ether, sorbitol tri (meth) acrylate, tri (2 to 30 moles of a C2-C3 alkylene oxide adduct of pentaerythritol, tri (tri) Meta) acrylate, ethoxylated glycerin tri (meth) acrylate, propionic acid dipentaerythritol tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri Acrylate and the like ethoxylated isocyanuric acid triacrylate.
[4官能以上の(メタ)アクリレートモノマー(C13)]
前記のモノマー(C13)としては、4官能以上の(メタ)アクリレートモノマー(C131)及び4官能以上のウレタン(メタ)アクリレートモノマー(C132)等が挙げられる。
[A tetrafunctional or higher (meth) acrylate monomer (C13)]
Examples of the monomer (C13) include tetrafunctional or higher (meth) acrylate monomers (C131) and tetrafunctional or higher urethane (meth) acrylate monomers (C132).
[4官能以上の(メタ)アクリレートモノマー(C131)]
前記のモノマー(C131)としては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールの炭素数2〜3のアルキレンオキサイド1〜11モル付加物のテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
[Tetrafunctional or higher (meth) acrylate monomer (C131)]
Examples of the monomer (C131) include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, and propionate dipentaerythritol tetra (meth) ) Acrylate, tetra (meth) acrylate of 1 to 11 moles adduct of C 2 -C 3 alkylene oxide of pentaerythritol, sorbitol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) Acrylate, sorbitol hexa (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like can be mentioned.
[4官能以上のウレタン(メタ)アクリレートモノマー(C132)]
前記のモノマー(C132)は、U−6LPA、UA−1100H、U−15HA(以上、新中村化学工業(株)製)、UN−3320HA、UN−3320HC、UN−3320HS、UN−904、UN−906S、UN−901T、UN−905、UN−952(以上、根上工業(株)製)、UA−306H、UA−306T、UA−306I、UA−510H(以上、共栄社化学(株)製)等として、市場から入手することができる。
[Tetrafunctional or higher urethane (meth) acrylate monomer (C132)]
The above-mentioned monomer (C132) is U-6LPA, UA-1100H, U-15HA (above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. product), UN-3320HA, UN-3320HC, UN-3320HS, UN-904, UN- 906S, UN-901T, UN-905, UN-952 (above, made by Negami Kogyo Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, UA-510H (above, made by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), etc. It can be obtained from the market.
前記の(メタ)アクリレートモノマー(C1)はラジカル重合速度が大きく、反応熱が大きいことが好ましい。ラジカル重合速度が大きいと、少量のラジカル種でも硬化できる。また、反応熱が大きいと、カチオン重合反応を触媒できることから、硬化が促進される。そのため、(メタ)アクリレートモノマー(C1)は官能基密度が高いことが望ましい。
また、着色剤(D)及び/又は金属酸化物粉末(E)等の物質が高濃度で存在する場合、光が深部まで届かないため、表面付近でのみ硬化が起こり、深部(内部)での硬化が困難である。深部(内部)が未硬化である場合、基材と樹脂界面での接着力が低下するため、基材密着性が低下する。
前記の(メタ)アクリレートモノマー(C1)の内、上記の観点(硬化性、基材密着性及び耐汚染性)から好ましいのは、(C12)及び(C13)であり、更に好ましいのは(C131)である。
前記の多官能(メタ)アクリレートモノマー(C1)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
The (meth) acrylate monomer (C1) preferably has a high radical polymerization rate and a large reaction heat. If the radical polymerization rate is high, even small amounts of radical species can be cured. In addition, when the heat of reaction is large, the cationic polymerization reaction can be catalyzed, thereby accelerating the curing. Therefore, it is desirable that the (meth) acrylate monomer (C1) has a high functional group density.
In addition, when a substance such as coloring agent (D) and / or metal oxide powder (E) is present at a high concentration, light does not reach the deep part, so curing occurs only near the surface and in the deep part (internal) Hardening is difficult. When the deep part (inner part) is uncured, the adhesion at the interface between the base and the resin is lowered, so that the base adhesion is lowered.
Among the above-mentioned (meth) acrylate monomers (C1), preferred from the above-mentioned viewpoints (curability, adhesion to a substrate and stain resistance) are (C12) and (C13), and more preferred is (C131) ).
The above-mentioned polyfunctional (meth) acrylate monomers (C1) may be used alone or in combination of two or more.
本発明における多官能(メタ)アクリレートモノマー(C1)の重量平均分子量(以下、Mwと略記することがある)は、硬化性の観点から200〜50,000であることが好ましい。
本発明におけるMwは、THFを溶剤として用い、ポリオキシプロピレングリコールを標準物質としてゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定される。サンプル濃度は0.25重量%、カラム固定相はTSKgel SuperH2000、TSKgel SuperH3000、TSKgel SuperH4000(いずれも東ソー株式会社製)を各1本連結したもの、カラム温度は40℃とすればよい。
The weight average molecular weight (hereinafter sometimes abbreviated as Mw) of the polyfunctional (meth) acrylate monomer (C1) in the present invention is preferably 200 to 50,000 from the viewpoint of curability.
Mw in the present invention is measured by gel permeation chromatography using THF as a solvent and polyoxypropylene glycol as a standard substance. The sample concentration may be 0.25% by weight, the column stationary phase may be one each of TSKgel SuperH2000, TSKgel SuperH3000, and TSKgel SuperH4000 (all manufactured by Tosoh Corp.) connected, and the column temperature may be 40 ° C.
エステル基を有さず脂環式骨格を有する炭素数5〜30の2官能エポキシモノマー(C2)としては、ノルボルナジエンジオキシド、ジペンテンジオキシド、ビニルシクロヘキセンジオキシド、5,6−エポキシ−4,7−メサノ−1−オキサスピロ−(2,5)−オクタン、リモネンジオキシド、下記一般式(6)で表される化合物及び下記一般式(7)で表される化合物等が挙げられる。 As a C5-C30 bifunctional epoxy monomer (C2) which does not have an ester group and has an alicyclic skeleton, norbornadiene dioxide, dipentene dioxide, vinylcyclohexene dioxide, 5, 6-epoxy-4, 7 -Mesano-1-oxaspiro- (2,5) -octane, limonene dioxide, a compound represented by the following general formula (6), a compound represented by the following general formula (7), and the like.
一般式(6)及び一般式(7)中、R1〜R26はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜18の炭化水素基又は炭素数1〜18のアルコキシ基である。 In the general formula (6) and the general formula (7), R 1 to R 26 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group or an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms having 1 to 18 carbon atoms.
前記の炭素数1〜18の炭化水素基中の炭素原子は酸素原子で置換されていてもよく、水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。
前記の炭素数1〜18のアルコキシ基中の炭素原子は酸素原子で置換されていてもよく、水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。
R1〜R26の内、硬化性の観点から好ましくは、水素原子、ハロゲン原子及び炭素数1〜4の炭化水素基(メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基等)であり、更に好ましくは水素原子である。
The carbon atom in the said C1-C18 hydrocarbon group may be substituted by the oxygen atom, and the hydrogen atom may be substituted by the halogen atom.
The carbon atom in the said C1-C18 alkoxy group may be substituted by the oxygen atom, and the hydrogen atom may be substituted by the halogen atom.
Among R 1 to R 26 , hydrogen atoms, halogen atoms and hydrocarbon groups having 1 to 4 carbon atoms (such as methyl, ethyl, propyl and butyl groups) are preferable from the viewpoint of curability, more preferably Is a hydrogen atom.
また、一般式(6)及び一般式(7)中、a〜hはそれぞれ独立に、0〜4の整数である。
また、一般式(6)において、硬化性の観点から、a、b、c及びdの組み合わせとして好ましくは(a=1、b=0、c=1、d=0)、(a=1、b=1、c=1、d=0)、(a=1、b=1、c=2、d=0)、(a=1、b=1、c=1、d=1)又は(a=2、b=1、c=2、d=1)であり、更に好ましくは(a=1、b=0、c=1、d=0)、(a=1、b=1、c=1、d=0)又は(a=1、b=1、c=1、d=1)であり、特に好ましくは(a=1、b=1、c=1、d=0)である。
また、一般式(7)において、硬化性の観点から、e、f、g及びhの組み合わせとして好ましくは(e=1、f=1、g=0、h=1)、(e=1、f=1、g=1、h=1)又は(e=1、f=2、g=1、h=1)であり、更に好ましくは(e=1、f=1、g=0、h=1)である。
Further, in the general formula (6) and the general formula (7), a to h are each independently an integer of 0 to 4.
Further, in the general formula (6), from the viewpoint of curability, the combination of a, b, c and d is preferably (a = 1, b = 0, c = 1, d = 0), (a = 1, b = 1, c = 1, d = 0), (a = 1, b = 1, c = 2, d = 0), (a = 1, b = 1, c = 1, d = 1) or a = 2, b = 1, c = 2, d = 1), and more preferably (a = 1, b = 0, c = 1, d = 0), (a = 1, b = 1, c) = 1, d = 0) or (a = 1, b = 1, c = 1, d = 1), particularly preferably (a = 1, b = 1, c = 1, d = 0) .
Further, in the general formula (7), from the viewpoint of curability, a combination of e, f, g and h is preferably (e = 1, f = 1, g = 0, h = 1), (e = 1, f = 1, g = 1, h = 1) or (e = 1, f = 2, g = 1, h = 1), more preferably (e = 1, f = 1, g = 0, h = 1).
一般式(6)で表される化合物としては、3a,4,7,7a−テトラヒドロインデンジオキシド等が挙げられる。
一般式(7)で表される化合物としては、ジシクロペンタジエンジオキシド等が挙げられる。
As a compound represented by General formula (6), 3a, 4, 7, 7a- tetrahydro indendi oxide etc. are mentioned.
As a compound represented by General formula (7), a dicyclopentadiene dioxide etc. are mentioned.
一般式(6)で表される化合物及び一般式(7)で表される化合物は、国際公開第2014/175129号に記載の方法等で合成することができる。 The compounds represented by the general formula (6) and the compounds represented by the general formula (7) can be synthesized by the method described in WO 2014/175129, and the like.
エポキシ化合物によるカチオン重合において、エポキシモノマーは官能基密度が高く、かつエステル基、ウレタン基、ウレア基、アミノ基のような高極性基を持たないことが望ましい。官能基密度が高いと、開始反応速度が大きくなり、また、高極性基を持たないと、連鎖移動反応が起きにくくなるためである。 In cationic polymerization with an epoxy compound, it is desirable that the epoxy monomer has a high functional group density and does not have a highly polar group such as an ester group, a urethane group, a urea group, or an amino group. If the functional group density is high, the initiation reaction rate will be high, and if it does not have a highly polar group, chain transfer reaction will be difficult to occur.
エポキシモノマーの官能基密度[x](ミリモル/g)は下記計算式(1)により算出できる。
[x]=(a0×c0/M0+a1×c1/M1+・・・
+ai×ci/Mi+・・・+an×cn/Mn)×10 (1)
上記式(1)中、a0、a1、・・・ai、・・・anは、エポキシモノマーを構成するエポキシ基含有化合物各成分(以下各成分と略記)の重量%、c0、c1、・・・ci、・・・cnは、各成分中のエポキシ基の数、M0、M1、・・・Mi、・・・Mnは、各成分の分子量を表す。
The functional group density [x] (mmol / g) of the epoxy monomer can be calculated by the following formula (1).
[X] = (a 0 × c 0 / M 0 + a 1 × c 1 / M 1 +...
+ A i × c i / M i +... + A n × c n / M n ) × 10 (1)
In the above formula (1), a 0 , a 1 ,... A i ,... A n represent the weight percentage of each component of the epoxy group-containing compound constituting the epoxy monomer (hereinafter abbreviated as each component), c 0 , c 1, ··· c i, ··· c n is the number of epoxy groups in the components, M 0, M 1, ··· M i, ··· M n , the molecular weight of each component Represent.
前記のエポキシモノマー(C2)の内、硬化性及び基材密着性及び耐汚染性の観点から好ましくは、一般式(6)で表される化合物及び一般式(7)で表される化合物であり、更に好ましくは3a,4,7,7a−テトラヒドロインデンジオキシド、1,3a,4,6a−テトラヒドロペンタレンジオキシド、ジシクロペンタジエンジオキシド及び1−メチルジシクロペンタジエンジオキシドである。
前記のエポキシモノマー(C2)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
Among the above-mentioned epoxy monomers (C2), preferred are the compounds represented by the general formula (6) and the compounds represented by the general formula (7) from the viewpoints of curability, adhesion to a substrate and stain resistance. And more preferably 3a, 4,7,7a-tetrahydroindendioxide, 1,3a, 4,6a-tetrahydropentadioxide, dicyclopentadiene dioxide and 1-methyldicyclopentadiene dioxide.
The epoxy monomers (C2) may be used alone or in combination of two or more.
炭素数5〜30のオキセタンモノマー(C3)としては、単官能オキセタンモノマー(C31)、2官能オキセタンモノマー(C32)及び3官能以上のオキセタンモノマー(C33)等が挙げられる。 As a C5-C30 oxetane monomer (C3), a monofunctional oxetane monomer (C31), a bifunctional oxetane monomer (C32), a trifunctional or more than trifunctional oxetane monomer (C33), etc. are mentioned.
[単官能オキセタンモノマー(C31)]
前記(C31)としては、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(商品名「OXT−101」、東亞合成(株)製)、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタン(商品名「OXT−212」、東亞合成(株)製)、3−エチル−3−フェノキシメチルオキセタン(商品名「OXT−211」、東亞合成(株)製)、3−エチル−3−シクロヘキソキシメチルオキセタン(商品名「OXT−213」、東亞合成(株)製)、3−エチル−3−アクリロキシメチルオキセタン(商品名「OXE−10」、大阪有機化学工業(株)製)及び3−エチル−3−メタクリロキシメチルオキセタン(商品名「ETERNACOLL OXMA」、宇部興産(株)製)等が挙げられる。
[Monofunctional oxetane monomer (C31)]
Examples of (C31) include 3-ethyl-3-hydroxymethyl oxetane (trade name “OXT-101”, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane (product Name "OXT-212", manufactured by Toagosei Co., Ltd., 3-ethyl-3-phenoxymethyl oxetane (trade name "OXT-211", manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 3-ethyl-3-cyclohexoxymethyl Oxetane (trade name "OXT-213", manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 3-ethyl-3-acryloxymethyl oxetane (trade name "OXE-10", manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and 3-ethyl -3- methacryloxymethyl oxetane (trade name "ETERNACOLL OXMA", manufactured by Ube Industries, Ltd.) and the like.
[2官能オキセタンモノマー(C32)]
前記(C32)としては、ポリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、エチレンオキサイド(以下、EOと略記することがある)変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、プロピレンオキシド(以下、POと略記することがある)変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、PO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノールFビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン(商品名「OXT−121」、東亞合成(株)製)、3−エチル−3{[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]メチル}オキセタン(商品名「OXT−221」、東亞合成(株)製)、4,4’ −ビス[3−エチル−(3−オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル(商品名「ETERNACOLL OXBP」、宇部興産(株)製)、ジ(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシエチルアジピン酸(商品名「アジピン酸ビスオキセタン」、宇部興産(株)製)、ビス(3−エチルオキセタン−3−イルメチル)カーボネート(商品名「ジオキセタンカーボネート」、宇部興産(株)製)及びテレフタル酸ビス−(3−エチル−オキセタン−3−イルメチル)エステル(商品名「OXTP」、宇部興産(株)製)等が挙げられる。
[Bifunctional oxetane monomer (C32)]
Examples of (C32) include polyethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ethylene oxide (hereinafter sometimes abbreviated as EO) modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether Propylene oxide (hereinafter sometimes abbreviated as PO) modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, EO modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, PO Modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, EO modified bisphenol F bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl methoxy) ) Methyl] benzene (brand name "OX “-121”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 3-ethyl-3 {[(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] methyl} oxetane (trade name “OXT-221”, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 4,4'-bis [3-ethyl- (3-oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl (trade name "ETERNACOLL OXBP", manufactured by Ube Industries, Ltd.), di (3-ethyl-3-oxetanyl) methoxyethyl adipine Acid (trade name "bis adipate oxetane", manufactured by Ube Industries, Ltd.), bis (3-ethyl oxetane-3-ylmethyl) carbonate (trade name "dioxetane carbonate", manufactured by Ube Industries, Ltd.) and bis terephthalate -(3-ethyl-oxetan-3-ylmethyl) ester (brand name "OXTP", Ube Industries, Ltd. product) etc. are mentioned.
[3官能以上のオキセタンモノマー(C33)]
前記(C33)としては、ペンタエリスリトールトリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル等が挙げられる。
開環反応によるカチオン重合において、モノマーはエポキシモノマーとオキセタンモノマーを併用することが望ましい。エポキシモノマーは開始反応速度が大きいが、成長反応速度が小さく、連鎖移動反応速度が大きい。オキセタンモノマーは、開始反応速度が非常に小さいが、成長反応速度が大きく、連鎖移動反応速度も小さい。そのため、エポキシモノマーとオキセタンモノマーを併用することで、開環反応によるカチオン重合速度を飛躍的に高めることができ、少量の酸でも重合が進行する。そのため、オキセタンモノマーは、官能基密度が大きいことが望ましい。
前記のオキセタンモノマー(C3)の内、硬化性及び基材密着性及び耐汚染性の観点から好ましくは(C31)及び(C32)であり、更に好ましいのは(C32)である。
前記のオキセタンモノマー(C3)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
[Trifunctional or higher oxetane monomer (C33)]
As (C33) above, pentaerythritol tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol hexakis (3-ethyl-3-oxetanyl) Methyl) ether, dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone modified dipentaerythritol hexakis (3-ethyl-3) -Oxetanylmethyl) ether, caprolactone modified with dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ditrimethylolpropane tetrakis (3-ethyl-3-o Setanirumechiru) ether and the like.
In the cationic polymerization by the ring opening reaction, it is desirable that the monomer be used in combination with an epoxy monomer and an oxetane monomer. Epoxy monomers have a high initiation reaction rate, but a low growth reaction rate and a high chain transfer reaction rate. The oxetane monomer has a very low initiation reaction rate, but a high growth reaction rate and a low chain transfer reaction rate. Therefore, by using an epoxy monomer and an oxetane monomer in combination, it is possible to dramatically increase the cationic polymerization rate by the ring-opening reaction, and the polymerization proceeds even with a small amount of acid. Therefore, it is desirable that the oxetane monomer have a high functional group density.
Among the oxetane monomers (C3), preferred are (C31) and (C32) from the viewpoints of curability, adhesion to a substrate, and stain resistance, and more preferred is (C32).
The above-mentioned oxetane monomers (C3) may be used alone or in combination of two or more.
着色剤(D)としては、従来、塗料及びインキ等に使用されている等の顔料(無機顔料及び有機顔料等)及び染料等が挙げられる。 Examples of the colorant (D) include pigments (inorganic pigments and organic pigments, etc.) and dyes, such as those conventionally used in paints and inks.
無機顔料としては、黄鉛、亜鉛黄、紺青、硫酸バリウム、カドミウムレッド、酸化チタン、亜鉛華、ベンガラ、アルミナ、炭酸カルシウム、群青、カーボンブラック、グラファイト及びチタンブラック等が挙げられる。 Examples of the inorganic pigment include yellow lead, zinc yellow, bitumen, barium sulfate, cadmium red, titanium oxide, zinc oxide, bengala, alumina, calcium carbonate, ultramarine blue, carbon black, graphite and titanium black.
有機顔料としては、β−ナフトール、β−オキシナフトエ酸アニリド、アセト酢酸アニリド、ピラゾロン等の溶性アゾ顔料、β−ナフトール、β−オキシナフトエ酸、β−オキシナフトエ酸アニリド、アセト酢酸アニリドモノアゾ、アセト酢酸アニリドジスアゾ、ピラゾロン等の不溶性アゾ顔料、銅フタロシニンブルー、ハロゲン化銅フタロシアニンブルー、スルホン化銅フタロシアニンブルー、金属フリーフタロシアニン等のフタロシアニン顔料、イソシンドリノン、キナクリドン、ジオキサンジン、ペリノン及びペリレン等の多環式又は複素環式化合物が挙げられる。 Examples of organic pigments include soluble azo pigments such as β-naphthol, β-hydroxynaphthoic acid anilide, acetoacetic acid anilide and pyrazolone, β-naphthol, β-oxynaphthoic acid, β-oxynaphthoic acid anilide, acetoacetic acid anilide monoazo and acetoacetate Insoluble azo pigments such as anilide anilide disazo and pyrazolone, phthalocyanine pigments such as copper phthalocyanine blue, copper phthalocyanine blue halide, sulfonated copper phthalocyanine blue, metal free phthalocyanine, etc Polycyclic or heterocyclic compounds may be mentioned.
染料の具体例として、イエロー染料としては、カップリング成分としてフェノール、ナフトール、アニリン、ピラゾロン、ピリドン若しくは開鎖型活性メチレン化合物を有するアリール又はヘテリルアゾ染料、カップリング成分として開鎖型活性メチレン化合物を有するアゾメチン染料、ベンジリデン染料及びモノメチンオキソノール染料等のメチン染料、ナフトキノン染料及びアントラキノン染料等のキノン系染料等、キノフタロン染料、ニトロ、ニトロソ染料、アクリジン染料並びにアクリジノン染料等が挙げられる。 Specific examples of the dye include, as a yellow dye, an aryl or heterylazo dye having phenol, naphthol, aniline, pyrazolone, pyridone or an open chain active methylene compound as a coupling component, and an azomethine dye having an open chain active methylene compound as a coupling component And methine dyes such as benzylidene dyes and monomethine oxonol dyes; quinone dyes such as naphthoquinone dyes and anthraquinone dyes; quinophthalone dyes, nitro, nitroso dyes, acridine dyes, acridinone dyes and the like.
マゼンタ染料としては、カップリング成分としてフェノール、ナフトール、アニリン、ピラゾロン、ピリドン、ピラゾロトリアゾール、閉環型活性メチレン化合物若しくはヘテロ環(ピロール、イミダゾール、チオフェン及びチアゾール等)を有するアリール又はヘテリルアゾ染料、カップリング成分としてピラゾロン又はピラゾロトリアゾールを有するアゾメチン染料、アリーリデン染料、スチリル染料、メロシアニン染料及びオキソノール染料等のメチン染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料及びキサンテン染料等のカルボニウム染料、ナフトキノン、アントラキノン及びアントラピリドン等のキノン染料並びにジオキサジン染料等の縮合多環染料等を挙げられる。 As magenta dyes, aryl or heterylazo dyes having phenol, naphthol, aniline, pyrazolone, pyridone, pyrazolotriazole, ring-closing active methylene compounds or heterocyclic rings (such as pyrrole, imidazole, thiophene and thiazole) as coupling components, coupling Azomethine dyes, arylidene dyes, styryl dyes, merocyanine dyes and methine dyes such as oxonol dyes having pyrazolone or pyrazolotriazole as components, carbonium dyes such as diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes and xanthene dyes, naphthoquinones, anthraquinones and anthrapyridones, etc. And condensed polycyclic dyes such as dioxazine dyes.
シアン染料としては、インドアニリン染料及びインドフェノール染料等のアゾメチン染料、シアニン染料、オキソノール染料及びメロシアニン染料等のポリメチン染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料及びキサンテン染料等のカルボニウム染料、フタロシアニン染料、アントラキノン染料、カップリング成分としてフェノール、ナフトール、アニリン、ピロロピリミジノン若しくはピロロトリアジノンを有するアリール又はヘテリルアゾ染料(C.I.ダイレクトブルー14等)並びにインジゴ・チオインジゴ染料を挙げられる。
着色剤(D)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
As cyan dyes, azomethine dyes such as indoaniline dyes and indophenol dyes, polymethine dyes such as cyanine dyes, oxonol dyes and merocyanine dyes, carbonium dyes such as diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes and xanthene dyes, phthalocyanine dyes, anthraquinone dyes And aryl or heterylazo dyes (such as CI Direct Blue 14) having phenol, naphthol, aniline, pyrrolopyrimidinone or pyrrolotriazinone as coupling components, and indigo thioindigo dyes.
The colorant (D) may be used alone or in combination of two or more.
着色剤(D)の粒子径は、塗膜の鮮映性の観点から、平均粒子径として好ましくは0.01μm〜2.0μmであり、更に好ましくは0.01μm〜1.0μmである。 The particle size of the colorant (D) is preferably 0.01 μm to 2.0 μm, and more preferably 0.01 μm to 1.0 μm, as an average particle size from the viewpoint of the sharpness of the coating film.
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)は、金属酸化物粉末(E)を含有することにより、セラミック電子部品のグリーンシート形成及び電極層形成に使用することができる。
金属酸化物粉末(E)としては、上記着色剤(D)に挙げられたものを除く、Si、Mg、Al、Ti、Zr、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Sn及びZnの酸化物を含む粒子が挙げられる。
具体的には、酸化アルミニウム、チタン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、酸化ニオブ及びチタン酸ジルコン酸鉛等が挙げられる。
金属酸化物粉末(E)の形状としては、球状の粒子及び針状の粒子等が挙げられる。
金属酸化物粉末(E)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
The active energy ray curable composition (Z) of the present invention can be used for forming a green sheet and forming an electrode layer of a ceramic electronic component by containing the metal oxide powder (E).
As the metal oxide powder (E), Si, Mg, Al, Ti, Zr, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Sn, except for those mentioned as the above-mentioned colorant (D) The particle | grains containing the oxide of Zn are mentioned.
Specific examples thereof include aluminum oxide, barium titanate, calcium zirconate, niobium oxide and lead zirconate titanate.
Examples of the shape of the metal oxide powder (E) include spherical particles and needle-like particles.
The metal oxide powder (E) may be used alone or in combination of two or more.
金属酸化物粉末(E)の粒子径は、誘電率の観点から、好ましくは平均粒子径として0.01μm〜2.0μmであり、更に好ましくは0.01μm〜1.0μmである。 The particle size of the metal oxide powder (E) is preferably 0.01 μm to 2.0 μm as an average particle size, more preferably 0.01 μm to 1.0 μm, from the viewpoint of dielectric constant.
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)は、前記の(A)、(B)、(C1)、(C2)、(C3)、(D)及び(E)以外に、その他の添加剤を含有していてもよい。
その他の添加剤としては、分散剤(F)、増感剤(G)及び溶剤等が挙げられる。
The active energy ray-curable composition (Z) of the present invention contains other additives in addition to the components (A), (B), (C1), (C2), (C3), (D) and (E). It may contain an agent.
Other additives include dispersant (F), sensitizer (G), solvent and the like.
分散剤(F)としては、ビックケミー社製分散剤(Anti−Terra−U、Disperbyk−101,103、106、110、161、162、164、166、167、168,170、174、182、184又は2020等)、味の素ファインテクノ社製分散剤(アジスパーPB711、PB821、PB814、PN411及びPA111等)、ルーブリゾール社製分散剤(ソルスパーズ5000、12000、32000、33000、36000及び39000等)が挙げられる。
分散剤(F)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
As a dispersing agent (F), the dispersing agent (Anti-Terra-U, Disperbyk-101,106,110,161,162,164,167,168,170,174,182,184 or the product made by BIC Chemie company or 2020 etc.), Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. dispersants (Adisper PB711, PB821, PB814, PN411 and PA111 etc.), Lubrizol Co., Ltd. dispersants (Solspase 5000, 12000, 32000, 33000, 36000 and 39000 etc.).
The dispersant (F) may be used alone or in combination of two or more.
本発明における増感剤(G)としては、アントラセン、チオキサントン、ベンゾフェノンチオキサントン、フェノチアゼン及びぺリレン等が挙げられる。
なかでも、アントラセンは、カチオン重合開始剤と併用することで、飛躍的に光感度を向上させることができることから好ましい。
アントラセンの増感剤としては、ジエキシアントラセン(商品名「UVS−1101」、川崎化成工業(株)製)、ジプロポキシアントラセン(商品名「UVS−1221」、川崎化成工業(株)製)、ジブトキシアントラセン(商品名「UVS−1331」、川崎化成工業(株)製)が挙げられる。
増感剤(G)の内、溶解性、硬化性の観点から好ましいのは、ジブトキシアントラセンである。
増感剤(G)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
As the sensitizer (G) in the present invention, anthracene, thioxanthone, benzophenone thioxanthone, phenothiazine, perylene and the like can be mentioned.
Among them, anthracene is preferable because it can dramatically improve the photosensitivity by using it in combination with a cationic polymerization initiator.
As a sensitizer for anthracene, it is possible to use diexianthracene (trade name “UVS-1101”, manufactured by Kawasaki Kasei Kogyo Co., Ltd.), dipropoxy anthracene (trade name “UVS-1221”, manufactured by Kawasaki Kasei Kogyo Co., Ltd.), Dibutoxyanthracene (trade name "UVS-1331" manufactured by Kawasaki Kasei Kogyo Co., Ltd.) can be mentioned.
Among the sensitizers (G), dibutoxyanthracene is preferred from the viewpoint of solubility and curability.
As the sensitizer (G), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
前記のモノマー(C1)の重量割合は、硬化性の観点から、前記のモノマー(C1)、前記のモノマー(C2)及び前記のモノマー(C3)の合計重量に基づき、好ましくは29〜95重量%であり、更に好ましくは50〜90重量%であり、特に好ましくは50〜75重量%である。
前記のモノマー(C2)の重量割合は、硬化性の観点から、前記のモノマー(C1)、前記のモノマー(C2)及び前記のモノマー(C3)の合計重量に基づき、好ましくは1〜30重量%であり、更に好ましくは1〜10重量%である。
前記のモノマー(C3)の重量割合は、硬化性の観点から、前記のモノマー(C1)、前記のモノマー(C2)及び前記のモノマー(C3)の合計重量に基づき、好ましくは4〜70重量%であり、更に好ましくは5〜50重量%であり、特に好ましくは20〜50重量%である。
The weight ratio of the monomer (C1) is preferably 29 to 95% by weight based on the total weight of the monomer (C1), the monomer (C2) and the monomer (C3) from the viewpoint of curability. More preferably, it is 50 to 90% by weight, and particularly preferably 50 to 75% by weight.
The weight ratio of the monomer (C2) is preferably 1 to 30% by weight based on the total weight of the monomer (C1), the monomer (C2) and the monomer (C3) from the viewpoint of curability. More preferably, it is 1 to 10% by weight.
The weight ratio of the monomer (C3) is preferably 4 to 70% by weight based on the total weight of the monomer (C1), the monomer (C2) and the monomer (C3) from the viewpoint of curability. More preferably, it is 5 to 50% by weight, and particularly preferably 20 to 50% by weight.
前記の光ラジカル開始剤(A)の重量割合は、硬化性の観点から、前記のモノマー(C1)の重量に基づき、好ましくは1〜30重量%であり、更に好ましくは5〜20重量%である。 The weight ratio of the photo radical initiator (A) is preferably 1 to 30% by weight, more preferably 5 to 20% by weight based on the weight of the monomer (C1) from the viewpoint of curability. is there.
前記の酸発生剤(B)の重量割合は、硬化性の観点から、前記のモノマー(C2)及び前記のモノマー(C3)の合計重量に基づき、好ましくは1〜30重量%であり、更に好ましくは5〜20重量%である。 The weight ratio of the acid generator (B) is preferably 1 to 30% by weight based on the total weight of the monomer (C2) and the monomer (C3) from the viewpoint of curability, more preferably Is 5 to 20% by weight.
前記の着色剤(D)及び前記の金属酸化物粉末(E)の合計重量の割合は、着色性及び機械的物性の観点から、活性エネルギー線硬化性組成物(Z)の重量に基づき、好ましくは1〜60重量%であり、更に好ましくは1〜30重量%である。 The proportion of the total weight of the colorant (D) and the metal oxide powder (E) is preferably based on the weight of the active energy ray-curable composition (Z) from the viewpoint of colorability and mechanical properties. Is 1 to 60% by weight, more preferably 1 to 30% by weight.
前記の分散剤(F)の重量割合は、前記の着色剤(D)及び金属酸化物粉末(E)の分散性の観点から、前記の着色剤(D)及び金属酸化物粉末(E)の合計重量に基づき、好ましくは1〜90重量%であり、更に好ましくは5〜80重量%である。 The weight ratio of the dispersant (F) is determined by using the colorant (D) and the metal oxide powder (E) from the viewpoint of the dispersibility of the colorant (D) and the metal oxide powder (E). It is preferably 1 to 90% by weight, more preferably 5 to 80% by weight, based on the total weight.
前記の増感剤(G)の重量割合は、硬化性の観点から、前記のモノマー(C1)、前記のモノマー(C2)及び前記のモノマー(C3)の合計重量に基づき、好ましくは0.1〜10重量%であり、更に好ましくは0.5〜5重量%である。 The weight ratio of the sensitizer (G) is preferably 0.1 based on the total weight of the monomer (C1), the monomer (C2) and the monomer (C3) from the viewpoint of curability. It is 10 wt%, more preferably 0.5 to 5 wt%.
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)の製造方法は、特に限定はされない。
例えば、前記の光ラジカル開始剤(A)と、前記の酸発生剤(B)と、前記のモノマー(C1)と、前記のモノマー(C2)と、前記のモノマー(C3)と、前記の着色剤(D)及び/又は前記の金属酸化物粉末(E)と、必要に応じて前記の分散剤(F)と、増感剤(G)とを、20〜80℃の温度範囲で、公知の機械的混合方法(メカニカルスターラー及びマグネティックスターラー等を用いる方法)を用いることによって均一混合することで、製造することができる。
The method for producing the active energy ray-curable composition (Z) of the present invention is not particularly limited.
For example, the photo radical initiator (A), the acid generator (B), the monomer (C1), the monomer (C2), the monomer (C3), and the color Agent (D) and / or the above-mentioned metal oxide powder (E), and, if necessary, the above-mentioned dispersant (F) and sensitizer (G) in a temperature range of 20 to 80 ° C. It can manufacture by mixing uniformly by using the mechanical mixing method (The method of using a mechanical stirrer, a magnetic stirrer, etc.).
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)は、360nm〜830nmの活性光線の照射で光硬化できるため、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等(UV・EB硬化技術の最新動向、ラドテック研究会編、シーエムシー出版、138頁、2006)が使用できる。
活性光線の照射時及び/又は照射後に酸発生剤から発生した酸を拡散させる目的で、加熱を行ってもよい。
加熱温度は、好ましくは30℃〜200℃であり、更に好ましくは35℃〜150℃、特に好ましくは40℃〜120℃である。
The active energy ray-curable composition (Z) of the present invention can be photocured by irradiation with actinic rays of 360 nm to 830 nm, and therefore, other than high pressure mercury lamps generally used, super high pressure mercury lamps, metal halide lamps and high power Metal halide lamps and the like (latest trends in UV / EB curing technology, edited by Rad Tech Research Association, CMC Publishing, p. 138, 2006) can be used.
Heating may be performed in order to diffuse the acid generated from the acid generator during and / or after irradiation with actinic radiation.
The heating temperature is preferably 30 ° C to 200 ° C, more preferably 35 ° C to 150 ° C, and particularly preferably 40 ° C to 120 ° C.
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)の基材への塗布方法としては、公知のコーティング法(スピンコート、ロールコート及びスプレーコート等)及び公知の印刷法(平版印刷、カルトン印刷、金属印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷及びグラビア印刷等)を適用できる。また、微細液滴を連続して吐出するインクジェット方式の塗布にも適用できる。 As a method of applying the active energy ray-curable composition (Z) of the present invention to a substrate, known coating methods (spin coat, roll coat, spray coat etc.) and known printing methods (lithography, carton printing, Metal printing, offset printing, screen printing, gravure printing, etc. can be applied. Further, the present invention can also be applied to the application of an ink jet method in which fine droplets are continuously discharged.
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)は、少エネルギー量でも高着色剤濃度で厚膜硬化可能であるため、コーティング剤、インキ(UV印刷インキ及びUVインクジェット印刷インキ等)、塗料、接着剤及びセラミック電子部品製造用の材料として極めて有用である。 The active energy ray-curable composition (Z) of the present invention is capable of thick film curing with a small amount of energy and high colorant concentration, so it can be used as a coating agent, ink (UV printing ink, UV inkjet printing ink, etc.), paint, It is extremely useful as a material for producing adhesives and ceramic electronic components.
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto.
製造例1:酸発生剤(B1−2){化学式(8)で表される化合物}の製造
ジフェニルスルホキシド12.1重量部、ジフェニルスルフィド9.3重量部及びメタンスルホン酸43.0重量部を撹拌しながら、これに無水酢酸7.9重量部を滴下し、40〜50℃で5時間反応させた後、室温(約25℃)まで冷却し、この反応溶液を20重量%トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸カリウム水溶液121重量部中に投入し、室温で1時間撹拌して、黄色の粘調な油状物が析出した。この油状物を酢酸エチルにて抽出し、有機層を水で数回洗浄した後、有機層から溶剤を留去し、得られた残渣にトルエンを加えて溶解した後、ヘキサンを加え、10℃で1時間撹拌した後に静置した。1時間後、溶液は2層に分離したため、上層を分液によって除去した。残渣にヘキサンを加え、室温でよく混合すると淡黄色の結晶が析出した。これを濾別し、減圧乾燥して、目的とする酸発生剤(B1−2)48重量部を得た。
Production Example 1: Production of Acid Generator (B1-2) {Compound Represented by Chemical Formula (8)} 12.1 parts by weight of diphenyl sulfoxide, 9.3 parts by weight of diphenyl sulfide and 43.0 parts by weight of methanesulfonic acid While stirring, 7.9 parts by weight of acetic anhydride is added dropwise thereto, reacted at 40 to 50 ° C. for 5 hours, cooled to room temperature (about 25 ° C.), and this reaction solution is 20% by weight of tris (pentafluoro) The mixture was poured into 121 parts by weight of an aqueous solution of (ethyl) potassium trifluoroborate, and stirred at room temperature for 1 hour to precipitate a yellow viscous oil. The oil is extracted with ethyl acetate, and the organic layer is washed with water several times, and then the solvent is distilled off from the organic layer, and toluene is added to the obtained residue to dissolve it, and then hexane is added to the residue. After stirring for 1 hour, the mixture was allowed to stand. After 1 hour, the solution separated into two layers, so the upper layer was removed by separation. Hexane was added to the residue and mixed well at room temperature to precipitate pale yellow crystals. The resultant was separated by filtration and dried under reduced pressure to obtain 48 parts by weight of the target acid generator (B1-2).
製造例2:酸発生剤(B2−1){化学式(9)で表される化合物}の製造 Production Example 2: Production of Acid Generator (B2-1) {Compound Represented by Chemical Formula (9)}
トルエン[東京化成工業(株)製]6.5重量部、イソプロピルベンゼン[東京化成(株)製]8.1重量部、ヨウ化カリウム[東京化成工業(株)製]5.4重量部及び無水酢酸20重量部を酢酸70重量部に溶解させ、10℃まで冷却し、温度を10±2℃に保ちながら、濃硫酸12重量部と酢酸15重量部の混合溶液を1時間かけて滴下した。25℃まで昇温し、24時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル50重量部を加え、水で3回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にトリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸カリウム118重量部を水100重量部に溶解させた水溶液を加え、25℃で20時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル500重量部を加え、水で3回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とする酸発生剤(B2−1)5.0重量部を得た。 6.5 parts by weight of toluene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 8.1 parts by weight of isopropylbenzene (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.), 5.4 parts by weight of potassium iodide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 20 parts by weight of acetic anhydride was dissolved in 70 parts by weight of acetic acid, cooled to 10 ° C., and a mixed solution of 12 parts by weight of concentrated sulfuric acid and 15 parts by weight of acetic acid was dropped over 1 hour while maintaining the temperature at 10 ± 2 ° C. . The temperature was raised to 25 ° C. and stirred for 24 hours. Thereafter, 50 parts by weight of diethyl ether was added to the reaction solution, and the mixture was washed three times with water, and diethyl ether was distilled off under reduced pressure. To the residue was added an aqueous solution of 118 parts by weight of potassium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate dissolved in 100 parts by weight of water, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 20 hours. Thereafter, 500 parts by weight of ethyl acetate was added to the reaction solution, the reaction solution was washed three times with water, and the organic solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 5.0 parts by weight of the target acid generator (B2-1).
製造例3:3a,4,7,7a−テトラヒドロインデンジオキシド(C2−1)の製造
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたSUS製反応容器に3a,4,7,7a−テトラヒドロインデン[東京化成工業(株)製]120重量部、酢酸エチル480重量部を仕込み、過酢酸濃度30重量%の酢酸エチル溶液1,270重量部を3時間かけて滴下した。滴下中は反応温度が30℃を保つように調節した。滴下終了後、3時間反応温度を30℃に保ち、エポキシ化反応を終了した。反応液を室温まで冷却後、20重量%水酸化ナトリウム水溶液1200重量部を加え、1時間撹拌後、30分静置し、分液することにより、未反応の過酢酸及び副生成物の酢酸を除去した。蒸留装置を用いて酢酸エチルを留去した後、3a,4,7,7a−テトラヒドロインデンジオキシド(C2−1)152重量部を得た。
Production Example 3: Production of 3a, 4,7,7a-tetrahydro indendioxide (C2-1) In a SUS reaction vessel equipped with a cooling pipe, a stirring device, and a thermometer, 3a, 4,7,7a-tetrahydroindene [ 120 parts by weight of Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. and 480 parts by weight of ethyl acetate were charged, and 1,270 parts by weight of an ethyl acetate solution having a peracetic acid concentration of 30% by weight was added dropwise over 3 hours. The reaction temperature was adjusted to maintain 30 ° C. during the addition. After completion of the dropwise addition, the reaction temperature was maintained at 30 ° C. for 3 hours to complete the epoxidation reaction. After cooling the reaction solution to room temperature, 1200 parts by weight of a 20 wt% aqueous sodium hydroxide solution is added, stirred for 1 hour, allowed to stand for 30 minutes, and separated to separate unreacted peracetic acid and acetic acid by-product Removed. After distilling off ethyl acetate using a distillation apparatus, 152 parts by weight of 3a, 4, 7, 7a-tetrahydro indendioxide (C2-1) was obtained.
製造例4:ジシクロペンタジエンジオキシド(C2−2)の製造
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器にジシクロペンタジエン[東京化成工業(株)製]132重量部、酢酸エチル480重量部を仕込み、過酢酸濃度30重量%の酢酸エチル溶液1,270重量部を3時間かけて滴下した。滴下中は反応温度が30℃を保つように調節した。滴下終了後、3時間反応温度を30℃に保ち、エポキシ化反応を終了した。反応液を室温まで冷却後、20重量%水酸化ナトリウム水溶液1200重量部を加え、1時間撹拌後、30分静置し、分液することにより、未反応の過酢酸及び副生成物の酢酸を除去した。蒸留装置を用いて酢酸エチルを留去した後、ジシクロペンタジエンジオキシド(C2−2)164重量部を得た。
Production Example 4: Production of dicyclopentadiene dioxide (C2-2) 132 parts by weight of dicyclopentadiene [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.] in a glass reaction vessel equipped with a cooling pipe, a stirrer, and a thermometer, ethyl acetate 480 parts by weight was charged, and 1,270 parts by weight of an ethyl acetate solution having a peracetic acid concentration of 30% by weight was dropped over 3 hours. The reaction temperature was adjusted to maintain 30 ° C. during the addition. After completion of the dropwise addition, the reaction temperature was maintained at 30 ° C. for 3 hours to complete the epoxidation reaction. After cooling the reaction solution to room temperature, 1200 parts by weight of a 20 wt% aqueous sodium hydroxide solution is added, stirred for 1 hour, allowed to stand for 30 minutes, and separated to separate unreacted peracetic acid and acetic acid by-product Removed. After distilling off ethyl acetate using a distillation apparatus, 164 parts by weight of dicyclopentadiene dioxide (C2-2) was obtained.
<実施例1〜45、比較例1〜5>
表1に記載の(A)〜(G)を、表1に記載の配合組成(重量部)に従って、配合し、20℃で均一に混合後、ヤマト科学(株)製ウルトラディスパーサーを用いて周速23m/s(回転数:10,000rpm)で撹拌し、実施例1〜45の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)及び比較例1〜5の比較用活性エネルギー線硬化性組成物を得た。
<Examples 1 to 45, Comparative Examples 1 to 5>
(A) to (G) listed in Table 1 are compounded according to the blending composition (parts by weight) listed in Table 1 and uniformly mixed at 20 ° C., using an Ultra Disperser manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd. The active energy ray-curable composition (Z) of Examples 1 to 45 and the comparative active energy ray-curable composition of Comparative Examples 1 to 5 were stirred at a circumferential speed of 23 m / s (rotational speed: 10,000 rpm). Obtained.
次に、得られた各活性エネルギー線硬化性組成物(Z)を、表面処理を施した厚さ100μmのPETフィルム[商品名「コスモシャインA4300」、東洋紡(株)製]に、アプリケーターを用いて硬化後の膜厚が30μmとなるように塗布して、順風乾燥機(タバイエスペック(株)製)を用いて、80℃で1分間加熱し、溶剤を乾燥させた。大気雰囲気下及び室温で、ベルトコンベア式UV照射装置[アイグラフィックス(株)製「ECS−151U」]にて露光量500mJ/cm2で硬化し、評価用硬化物を得た。
上記の硬化物を、以下の評価方法(1)〜(3)に従って、評価した。評価結果を表1〜2に示す。
Next, using an applicator, a 100 μm-thick PET film (trade name “Cosmo Shine A4300”, Toyobo Co., Ltd. product) which has been subjected to surface treatment for each active energy ray curable composition (Z) obtained. The coating was applied so that the film thickness after curing was 30 μm, and the solvent was dried by heating at 80 ° C. for 1 minute using a normal air drier (manufactured by Tabai Espec Corp.). It was cured at an exposure amount of 500 mJ / cm 2 with a belt conveyor type UV irradiation apparatus (“ECS-151U” manufactured by I-Graphics Co., Ltd.) under an air atmosphere and at room temperature to obtain a cured product for evaluation.
The cured product was evaluated according to the following evaluation methods (1) to (3). The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
<評価方法>
(1)塗膜外観及び指触試験[硬化性の評価]
上記評価用硬化物を目視及び指触により硬化性を評価し、以下の基準で評価した。
<評価基準>
◎:硬化皺がなく、タック性なし
○:硬化皺あるが、タック性なし
△:少なくとも1部が硬化するが、タック性あり
×:未硬化
<Evaluation method>
(1) Coating film appearance and finger touch test [Evaluation of curability]
The cured product for evaluation was evaluated for curability by visual observation and finger touch, and was evaluated according to the following criteria.
<Evaluation criteria>
:: no curing wrinkles, no tackiness ○: curing wrinkles but no tackiness Δ: at least 1 part cures but tackiness ×: not cured
(2)基材密着性[基材密着性の評価]
JIS K 5600−5−6に準拠し、上記評価用硬化物を2mm×2mmの碁盤目(10×10=100マス)にクロスカットし、この上に付着テープを張り付けて、引き剥し、100マス中、剥離せず密着しているマス目の個数を、目視で数え、以下の基準で評価した。
<評価基準>
◎:100/100
○:99/100〜90/100
△:89/100〜50/100
×:49/100〜0/100
(2) Adhesion to substrate [Evaluation of adhesion to substrate]
According to JIS K 5600-5-6, the cured product for evaluation is cross-cut into 2 mm × 2 mm grids (10 × 10 = 100 squares), an adhesive tape is stuck on this, and peeled off, 100 squares The number of squares in close contact without peeling was counted visually and evaluated according to the following criteria.
<Evaluation criteria>
:: 100/100
○: 99/100 to 90/100
:: 89/100 to 50/100
X: 49/100 to 0/100
(3)耐汚染性
黒、青、赤のマジックインキ(登録商標)大型[寺西化学工業(株)製]を用いて長さ4〜5cmの直線を描いて23℃の恒温室に24時間保管した。次いで、石油ベンジンとエタノールとを同質量部混合した溶剤を脱脂綿に十分にしみこませ、圧迫しながら描写した直線を1回ふき取った。このとき塗膜に残留するインキの様子を汚染性として評価した。
◎:痕跡なし
○:かすかに痕跡はあるが、元の線の形状が判別できない。
△:薄く痕跡があり、元の線の形状が判別できる。
×:明確に痕跡が残っている。
(3) Contamination resistance A black, blue, red Magic Ink (registered trademark) large-sized [made by Terasai Chemical Industry Co., Ltd.] is used to draw a straight line 4-5 cm in length and store in a constant temperature room at 23 ° C for 24 hours did. Subsequently, a solvent in which petroleum benzine and ethanol were mixed in equal parts by mass was sufficiently impregnated into the absorbent cotton, and the drawn straight line was wiped once while being compressed. At this time, the state of the ink remaining in the coating film was evaluated as contamination.
◎: No trace ○: There is a trace, but the shape of the original line can not be determined.
Fair: There is a thin trace, and the shape of the original line can be determined.
X: There is clearly a trace left.
表1〜2中の略号は以下のとおり。
<光ラジカル開始剤(A)>
(A−1):ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド[商品名「IRGACURE 819」、BASF(株)製、ε:899]
(A−2):2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド[商品名「IRGACURE TPO」、BASF(株)製、ε:165]
(A−3):2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン[商品名「IRGACURE 127」、BASF(株)製、ε:7]
(A−4):2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン[商品名「IRGACURE 379EG」、BASF(株)製、ε:280]
The abbreviations in Tables 1 and 2 are as follows.
<Photo radical initiator (A)>
(A-1): bis (2,4,6-trimethyl benzoyl) -phenyl phosphine oxide [trade name “IRGACURE 819”, manufactured by BASF Corp., ε: 899]
(A-2): 2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide [brand name "IRGACURE TPO", BASF Co., Ltd. product, (epsilon): 165]
(A-3): 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one [trade name "IRGACURE 127" “BASF Co., Ltd., ε: 7”
(A-4): 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone [trade name “IRGACURE 379 EG”, BASF Co., Ltd., ε: 280]
<酸発生剤(B)>
(B1−1):ジフェニル4−チオフェノキシフェニルスルホニウム・ヘキサフルオロホスフェート[商品名「CPI−110P」、サンアプロ(株)製]
(B1−2):ジフェニル4−チオフェノキシフェニルスルホニウム・トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート
(B2−1):4−メチルフェニル−4−(1−メチルエチル)フェニルヨードニウム・トリ(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート
(B2−2):4−メチルフェニル−4−(1−メチルエチル)フェニルヨードニウム・ヘキサフルオロホスフェート[商品名「IRGACURE 250」、BASF(株)製]
<Acid Generator (B)>
(B1-1): Diphenyl 4-thiophenoxyphenylsulfonium hexafluorophosphate (trade name "CPI-110P", manufactured by San Apro Co., Ltd.)
(B1-2): Diphenyl 4-thiophenoxyphenylsulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate (B2-1): 4-methylphenyl-4- (1-methylethyl) phenyliodonium tri (pentafluoroethyl) ) Trifluorophosphate (B2-2): 4-methylphenyl-4- (1-methylethyl) phenyliodonium hexafluorophosphate [trade name "IRGACURE 250", manufactured by BASF Corp.]
<(メタ)アクリレートモノマー(C1)>
(C1−1):ペンタエリスリトールテトラアクリレート[商品名「ネオマー EA−300」、三洋化成工業(株)製、Mw:352]
(C1−2):ジペンタエリスリトールペンタアクリレート[商品名「ネオマー DA−600」、三洋化成工業(株)製、Mw:524]
(C1−3):エトキシ化(4)ペンタエリスリトールテトラアクリレート[商品名「SR494」、サートマー(株)製]
(C1−4):ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート[商品名「AD−TMP」、新中村化学工業(株)製]
<エポキシモノマー(C2)>
(C2−3):リモネンジオキシド[商品名「LDO」、巴化学工業(株)製]
(C2−4):ビニルシクロヘキセンジオキシド[商品名「ビニルシクロヘキセンジオキシド」、Sigma−Aldrich(株)製]
(比C2−1):3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート[商品名「セロキサイド2021P」、(株)ダイセル製]
(比C2−2):1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル[商品名「デナコール Ex−212」、ナガセケムテックス(株)製]
<オキセタンモノマー(C3)>
(C3−1):3−エチル−3{[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]メチル}オキセタン[商品名「OXT−221」、東亞合成(株)製]
(C3−2):1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン[商品名「OXT−121」、東亞合成(株)製]
(C3−3):3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン[商品名「OXT−101」、東亞合成(株)製]
(C3−4):3−エチル−3−フェノキシメチルオキセタン[商品名「OXT−211」、東亞合成(株)製]
<(Meth) acrylate monomer (C1)>
(C1-1): pentaerythritol tetraacrylate [trade name “NEOMER EA-300”, Sanyo Chemical Industries, Ltd., Mw: 352]
(C1-2): dipentaerythritol pentaacrylate [trade name "Neomer DA-600", Sanyo Chemical Industries, Ltd., Mw: 524]
(C1-3): Ethoxylated (4) Pentaerythritol tetraacrylate [trade name "SR494", manufactured by Sartomer Corporation]
(C1-4): Ditrimethylolpropane tetraacrylate (trade name "AD-TMP", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
<Epoxy monomer (C2)>
(C2-3): limonene dioxide [trade name "LDO", manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.]
(C2-4): vinylcyclohexene dioxide [trade name "vinylcyclohexene dioxide", manufactured by Sigma-Aldrich Inc.]
(Ratio C2-1): 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexane carboxylate (trade name "Ceroxide 2021 P", manufactured by Daicel Corporation)
(Ratio C2-2): 1,6-hexanediol diglycidyl ether [trade name "Denacol Ex-212", Nagase ChemteX Co., Ltd. product]
<Oxetane Monomer (C3)>
(C3-1): 3-ethyl-3 {[(3-ethyl oxetan-3-yl) methoxy] methyl} oxetane [trade name "OXT-221", manufactured by Toagosei Co., Ltd.]
(C3-2): 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene [trade name “OXT-121”, manufactured by Toagosei Co., Ltd.]
(C3-3): 3-ethyl-3-hydroxymethyl oxetane [trade name "OXT-101", manufactured by Toagosei Co., Ltd.]
(C3-4): 3-ethyl-3-phenoxymethyl oxetane [trade name "OXT-211", manufactured by Toagosei Co., Ltd.]
<着色剤(D)>
(D−1):平均一次粒子径56nmのカーボンブラック[商品「Special Black 250」、デグサ(株)製)
(D−2):平均一次粒子径150nmのカーボンブラックのMEK分散液[商品「MHIブラック♯273」、御国色素(株)製、固形分濃度:18重量%)
<金属酸化物粉末(E)>
(E−1):平均一次粒子径240nmの酸化チタン粒子[商品名「PF−736」、石原産業(株)製]
<分散剤(F)>
(F−1):高分子分散剤(酸価:15mgKOH/g、重量平均分子量:3,900)[商品名「Solsperse 32000」、Lubrizol(株)製]
(F−2):高分子分散剤(酸価:45mgKOH/g、アミン価:0mgKOH/g、重量平均分子量約50,000)[商品名「Solsperse 36000」、Lubrizol(株)製]
<増感剤(G)>
(G−1):9,10−ジブトキシアントラセン[商品面「アントラキュア UVS−1331」、川崎化成工業(株)製]
<Colorant (D)>
(D-1): carbon black having an average primary particle diameter of 56 nm (product "Special Black 250", manufactured by Degussa Co., Ltd.)
(D-2): MEK dispersion of carbon black having an average primary particle diameter of 150 nm [Product “MHI Black # 273, manufactured by Mikuni Dye Co., Ltd., solid content concentration: 18% by weight]
<Metal oxide powder (E)>
(E-1): Titanium oxide particles having an average primary particle diameter of 240 nm (trade name "PF-736", manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
<Dispersing agent (F)>
(F-1): polymeric dispersant (acid value: 15 mg KOH / g, weight average molecular weight: 3, 900) [trade name "Solsperse 32000", manufactured by Lubrizol Corporation]
(F-2): Polymeric dispersant (acid value: 45 mg KOH / g, amine value: 0 mg KOH / g, weight average molecular weight about 50,000) [trade name "Solsperse 36000", manufactured by Lubrizol Corporation]
<Sensitizer (G)>
(G-1): 9, 10-dibutoxyanthracene [Product side "Antracure UVS-1331", manufactured by Kawasaki Kasei Kogyo Co., Ltd.]
表1〜2の結果から、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)は、比較例の比較用活性エネルギー線硬化性組成物と比較して、硬化性に優れる。
また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)の硬化物は、比較例の比較用活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物と比較して、基材密着性に優れており、深部硬化性も十分であることがわかる。また、耐汚染性にも優れることがわかる。
耐汚染性のメカニズムは、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物の塗膜表面が微細な凹凸構造をしており、ハスの葉が示す超撥水性能(ロータス効果)と同様の効果が発現したものと推定している。
微細な凹凸構造は、塗膜表面と塗膜内部の硬化速度差に起因する、体積収縮速度差によるものである。通常の方法では硬化速度差が大きく、粗大な凹凸構造ができるので、ロータス効果は発現しない。一方、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物では、硬化速度差が小さく、ロータス効果を示すのに理想的な微細な凹凸構造ができると推定している。
From the results of Tables 1 and 2, the active energy ray-curable composition (Z) of the present invention is excellent in the curability as compared with the comparative active energy ray-curable composition of the comparative example.
In addition, the cured product of the active energy ray curable composition (Z) of the present invention is excellent in substrate adhesion as compared to the cured product of the comparative active energy ray curable composition of the comparative example, and the deep portion It is understood that the curability is also sufficient. Moreover, it turns out that it is excellent also in contamination resistance.
The mechanism of the stain resistance is the same as that of the super water repellent performance (Lotus effect) exhibited by the lotus leaf, in which the coating film surface of the cured product of the active energy ray curable composition of the present invention has a fine uneven structure. It is estimated that the effect is manifested.
The fine concavo-convex structure is due to the volume contraction rate difference due to the curing rate difference between the coating surface and the inside of the coating. In the ordinary method, the difference in curing speed is large, and a coarse uneven structure is formed, so the Lotus effect is not expressed. On the other hand, in the active energy ray curable composition of the present invention, it is estimated that the curing speed difference is small, and a fine uneven structure ideal to show the Lotus effect can be formed.
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(Z)は、着色剤及び/又は金属酸化物を含有しているが、厚膜の場合であっても、活性エネルギー線照射時の硬化性に優れ、硬化させてなる硬化物は、基材密着性に優れることから、コーティング剤、インキ(UV印刷インキ及びUVインクジェット印刷インキ等)、塗料、接着剤及びセラミック電子部品製造用の材料として極めて有用である。
The active energy ray curable composition (Z) of the present invention contains a colorant and / or a metal oxide, but even in the case of a thick film, it has excellent curability at the time of active energy ray irradiation, A cured product obtained by curing is extremely useful as a material for producing coating agents, inks (UV printing inks and UV inkjet printing inks, etc.), paints, adhesives and ceramic electronic parts since it is excellent in substrate adhesion. .
Claims (7)
A cured product of the active energy ray curable composition according to any one of claims 1 to 6.
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