JP2019011207A - Method for washing amorphous silica - Google Patents

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Abstract

To provide a method capable of washing an amorphous silica with efficiency in a short period of time by curtailing the amount of water used for washing.SOLUTION: There is provided a method for washing an amorphous silica with the use of a pressure adjustment container 1. The method comprises a water-absorption step (A) of supplying an amorphous silica 12 with water to give the amorphous silica 12 having absorbed water and (B) a step of subjecting the amorphous silica 12 having absorbed water simultaneously to pressurization in a pressurization chamber 2a and to depressurization in a depressurization chamber 2b to give a dehydrated amorphous silica. The pressure adjustment container 1 comprises amorphous silica-placing water permeation means (a perforated plate 10 and a filter cloth 11) that is capable of placing the amorphous silica 12 having absorbed water and that allows for the permeation of water contents; the pressurization chamber 2a arranged above the water-permeation means; and the depressurization chamber 2b arranged under the water-permeation means.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、非晶質シリカの洗浄方法に関する。   The present invention relates to a method for cleaning amorphous silica.

シリカには、天然シリカと合成シリカがある。天然シリカと合成シリカには、それぞれ、結晶質のものと非晶質のものがある。それゆえ、シリカは、種類が多く、多岐にわたる分野で利用されている。
例えば、非晶質合成シリカ(以下、「非晶質シリカ」という。)は、シリカ粒子の大きさを制御することができ、化学成分が安定的であり、かつ、反応性に優れていることから、医薬品、化粧品、複写機におけるトナー、及び印刷塗料等におけるフィラー材として利用されている。
また、99.99質量%以上の高純度の非晶質シリカは、半導体分野における原料や、化学機械研磨(CMP)材等に利用されている。
Silica includes natural silica and synthetic silica. Natural silica and synthetic silica are crystalline and amorphous, respectively. Therefore, there are many types of silica and they are used in various fields.
For example, amorphous synthetic silica (hereinafter referred to as “amorphous silica”) can control the size of silica particles, has a stable chemical component, and is excellent in reactivity. Therefore, it is used as a filler material in pharmaceuticals, cosmetics, toners in copying machines, printing paints and the like.
Further, high-purity amorphous silica of 99.99% by mass or more is used as a raw material in the semiconductor field, a chemical mechanical polishing (CMP) material, or the like.

非晶質シリカの製造方法の例としては、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸の中和反応によって製造する湿式法が挙げられる。湿式法にはゲル法と沈降法がある。沈降法は、中和反応時にシリカゲルが生成しないように、反応温度や反応液のpHを制御することで、非晶質シリカを粒子として析出及び沈降させる方法である。沈降法は、ろ過等の操作がゲル法に比べて容易であり、製造コストに優れている。
沈降法で得られた非晶質シリカは、ケイ酸アルカリ水溶液のケイ酸濃度および添加速度や、鉱酸濃度や、反応温度等の影響によって、多孔質の形態となる。
多孔質の非晶質シリカは、シリカ粒子の内部に、不純物を含む液を保水するため、ろ過や洗浄等が困難であるという問題があった。
多孔質の非晶質シリカの洗浄方法(シリカ粒子の内部に含まれる不純物を含む液を除去する方法)としては、例えば、多孔質の非晶質シリカを水(不純物をほとんど含まないもの)に浸漬して、シリカ粒子の内部に含まれる不純物を含む液を水と置換する方法が挙げられる。該方法は、シリカ粒子の内部からの不純物の拡散速度が遅いため、生産性が著しく低下したり、置換が不十分となる場合があった。
効率的に非晶質シリカを洗浄する方法として、特許文献1には、遠心分離機を用いて、非晶質シリカを洗浄する方法であって、遠心分離機の遠心力を1.0〜2.0Gに保ちながら、注水および非晶質シリカの洗浄を行う洗浄工程を含む、非晶質シリカの洗浄方法が記載されている。
As an example of the method for producing amorphous silica, there is a wet method for producing by a neutralization reaction between an aqueous alkali silicate solution and a mineral acid. The wet method includes a gel method and a sedimentation method. The sedimentation method is a method in which amorphous silica is precipitated and settled as particles by controlling the reaction temperature and the pH of the reaction solution so that silica gel is not generated during the neutralization reaction. In the sedimentation method, operations such as filtration are easier than the gel method, and the production cost is excellent.
The amorphous silica obtained by the precipitation method becomes a porous form due to the influence of the silicic acid concentration and the addition rate of the alkali silicate aqueous solution, the mineral acid concentration, the reaction temperature, and the like.
Porous amorphous silica has a problem that filtration, washing, and the like are difficult because a liquid containing impurities is retained inside silica particles.
As a method for cleaning porous amorphous silica (a method for removing a liquid containing impurities contained in silica particles), for example, porous amorphous silica is used in water (which contains almost no impurities). There is a method of immersing and replacing the liquid containing impurities contained in the silica particles with water. In this method, since the diffusion rate of impurities from the inside of the silica particles is slow, the productivity may be significantly lowered or the substitution may be insufficient.
As a method for efficiently washing amorphous silica, Patent Document 1 discloses a method for washing amorphous silica using a centrifuge, wherein the centrifugal force of the centrifuge is 1.0-2. A cleaning method for amorphous silica is described, which includes a cleaning step of performing water injection and cleaning of amorphous silica while maintaining 0.0 G.

特開2013−234103号公報JP 2013-234103 A

特許文献1に記載された洗浄方法では、シリカ内部に含まれる不純物を含む液の置換が不十分となったり、洗浄に用いられる水の量が大量になるという問題があった。
本発明の目的は、洗浄に用いられる水の量を削減し、短時間で効率よく非晶質シリカを洗浄することができる方法を提供することである。
In the cleaning method described in Patent Document 1, there is a problem that replacement of the liquid containing impurities contained in the silica becomes insufficient or the amount of water used for cleaning becomes large.
An object of the present invention is to provide a method capable of reducing the amount of water used for cleaning and cleaning amorphous silica efficiently in a short time.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、非晶質シリカに水を供給して、吸水した非晶質シリカを得た後、該吸水した非晶質シリカに対して、特定の圧力調整容器を用いて、加圧と減圧を同時に行って脱水するという洗浄方法によれば、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、以下の[1]〜[6]を提供するものである。
[1] 圧力調整容器を用いて、非晶質シリカを洗浄する方法であって、上記圧力調整容器が、吸水した非晶質シリカを載置するための非晶質シリカ載置用透水手段であって、上記吸水した非晶質シリカに含まれている水分を通過させることができるように構成されている非晶質シリカ載置用透水手段と、上記非晶質シリカ載置用透水手段の上方に設けられる、上記吸水した非晶質シリカを加圧気体で加圧するための加圧室と、上記非晶質シリカ載置用透水手段の下方に設けられる、上記吸水した非晶質シリカを減圧気体で減圧して、上記吸水した非晶質シリカに含まれている水分を回収するための減圧室を備えており、(A)非晶質シリカに水を供給して、吸水した非晶質シリカを得る吸水工程と、(B)上記吸水した非晶質シリカに対して、上記圧力調整容器を用いて、上記加圧室による加圧と、上記減圧室による減圧を同時に行い、脱水した非晶質シリカを得る脱水工程、を含むことを特徴とする非晶質シリカの洗浄方法。
[2] 工程(A)が、上記非晶質シリカ載置用透水手段の上に、上記非晶質シリカを載置した後、上記加圧室の内部に水を供給して、上記非晶質シリカを水中に浸漬させることによって行われる前記[1]に記載の非晶質シリカの洗浄方法。
[3] 上記減圧室で回収される水の電気伝導度が10mS/m以下になるまで、工程(A)および工程(B)を繰り返し行う前記[1]又は[2]に記載の非晶質シリカの洗浄方法。
[4] 上記非晶質シリカ載置用透水手段が、吸水した非晶質シリカを載置するための水分通過可能な板体、および、該板体の上に載置される、通気度(「JIS L 1096:2010 織物及び編物の生地試験方法」に規定される方法で測定した値)が0.3〜10cc/cm・sであるろ布を含む前記[1]〜[3]のいずれかに記載の非晶質シリカの洗浄方法。
[5] 工程(B)において、上記加圧室における加圧の程度が、2MPa以上であり、かつ、上記減圧室における減圧の程度が、0.03MPa以上である前記[1]〜[4]のいずれかに記載の非晶質シリカの洗浄方法。
[6] 上記非晶質シリカが、多孔質の沈降性シリカである前記[1]〜[5]のいずれかに記載の非晶質シリカの洗浄方法。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor supplied water to amorphous silica to obtain water-absorbed amorphous silica, and then, for the water-absorbed amorphous silica, The present invention has been completed by finding that the above object can be achieved by a cleaning method in which dehydration is performed by simultaneously applying pressure and pressure reduction using a specific pressure regulating container.
That is, the present invention provides the following [1] to [6].
[1] A method for washing amorphous silica using a pressure regulating container, wherein the pressure regulating container is a water permeable means for placing amorphous silica for placing the absorbed amorphous silica. The amorphous silica mounting water-permeable means configured to allow moisture contained in the absorbed amorphous silica to pass therethrough, and the amorphous silica mounting water-permeable means. A pressurized chamber for pressurizing the water-absorbed amorphous silica with a pressurized gas; and the water-absorbed amorphous silica provided below the water-permeable means for placing the amorphous silica. A decompression chamber is provided for recovering moisture contained in the absorbed amorphous silica by reducing the pressure with a reduced pressure gas, and (A) supplying amorphous water to the amorphous silica to absorb the amorphous Water absorption step for obtaining porous silica, and (B) the above absorbed amorphous silica A dehydration step of simultaneously depressurizing the pressure chamber and depressurizing the decompression chamber to obtain dehydrated amorphous silica using the pressure regulating container. Cleaning method.
[2] In the step (A), after placing the amorphous silica on the water-permeable means for placing the amorphous silica, water is supplied to the inside of the pressure chamber, and the amorphous The method for washing amorphous silica according to the above [1], which is performed by immersing the porous silica in water.
[3] The amorphous material according to [1] or [2], wherein the step (A) and the step (B) are repeated until the electric conductivity of water recovered in the decompression chamber becomes 10 mS / m or less. Silica cleaning method.
[4] The amorphous silica mounting water-permeable means has a plate that allows moisture to pass therethrough for mounting the amorphous silica that has absorbed water, and a ventilation rate that is mounted on the plate ( [1] to [3] above including a filter cloth having a value measured by the method defined in “JIS L 1096: 2010 Fabric and knitted fabric test method” of 0.3 to 10 cc / cm 2 · s. Any one of the washing | cleaning methods of the amorphous silica in any one.
[5] In the step (B), the degree of pressurization in the pressurizing chamber is 2 MPa or more, and the degree of depressurization in the decompression chamber is 0.03 MPa or more. [1] to [4] The method for cleaning amorphous silica according to any one of the above.
[6] The method for cleaning amorphous silica according to any one of [1] to [5], wherein the amorphous silica is porous precipitated silica.

本発明の非晶質シリカの洗浄方法によれば、1回の洗浄に用いられる水の量、及び、洗浄回数を減らして、洗浄に用いられる水の量を削減し、短時間で効率よく非晶質シリカを洗浄することができる。   According to the method for washing amorphous silica of the present invention, the amount of water used for one washing and the number of washings are reduced, the amount of water used for washing is reduced, and the amount of water used for washing is reduced efficiently in a short time. Crystalline silica can be washed.

本発明で用いる圧力調整容器の一例(非晶質シリカを収容したもの)を、該容器の略中央部分において鉛直方向に切断した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which cut | disconnected the example of the pressure regulation container (thing which accommodated the amorphous silica) used by this invention in the vertical direction in the approximate center part of this container. 図1に示す圧力調整容器(非晶質シリカを収容していないもの)において、ろ布を敷設していない状態で、図1中のX−X線の位置にて、水平方向に切断した場合に、切断面から下方の部分を上方から見た状態を示す断面図である。When the pressure regulating container shown in FIG. 1 (which does not contain amorphous silica) is cut in the horizontal direction at the position of line XX in FIG. 1 without laying the filter cloth. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state where a portion below the cut surface is viewed from above.

本発明の非晶質シリカの洗浄方法は、圧力調整容器を用いて、非晶質シリカを洗浄する方法であって、圧力調整容器が、吸水した非晶質シリカを載置するための非晶質シリカ載置用透水手段であって、吸水した非晶質シリカに含まれている水分を通過させることができるように構成されている非晶質シリカ載置用透水手段(例えば、複数の部材の組み合わせ)と、非晶質シリカ載置用透水手段の上方に設けられる、吸水した非晶質シリカを加圧気体で加圧するための加圧室と、非晶質シリカ載置用透水手段の下方に設けられる、吸水した非晶質シリカを減圧気体で減圧して、吸水した非晶質シリカに含まれている水分を回収するための減圧室を備えており、(A)非晶質シリカに水を供給して、吸水した非晶質シリカを得る吸水工程と、(B)吸水した非晶質シリカに対して、上記圧力調整容器を用いて、加圧室による加圧と、減圧室による減圧を同時に行い、脱水した非晶質シリカを得る脱水工程、を含むものである。   The method for washing amorphous silica according to the present invention is a method for washing amorphous silica using a pressure regulating container, wherein the pressure regulating container is used to mount amorphous silica that has absorbed water. Water-permeable means for placing silica, which is configured to allow moisture contained in the absorbed amorphous silica to pass therethrough (for example, a plurality of members) A pressurizing chamber for pressurizing the absorbed amorphous silica with a pressurized gas, and a water permeation means for placing amorphous silica. (A) Amorphous silica provided with a decompression chamber for recovering water contained in the absorbed amorphous silica by depressurizing the absorbed amorphous silica with a decompressed gas. A water-absorbing step of supplying amorphous water to obtain absorbed amorphous silica; Against water and amorphous silica using the pressure adjusting container, a pressurization by the pressurizing chamber, performs decompression chamber by vacuum at the same time, is intended to include dehydration step, to obtain the amorphous silica dehydrated.

[1.圧力調整容器]
以下、本発明で用いられる圧力調整容器の一例について、図1〜2を参照にしながら説明する。
本発明で用いられる圧力調整容器1は、容器本体2と、非晶質シリカ載置用透水手段(穴あき板10およびろ布11)と、蓋体3と、撹拌羽根4および振動付与部材(ノッカー)7、8からなる。
なお、撹拌羽根4および振動付与部材(ノッカー)7、8は、本発明において必須の部材ではなく、後述する脱泡または気泡生成抑制の方法を行う目的で任意に設置される部材である。撹拌羽根4および振動付与部材(ノッカー)7、8は、いずれか一方を設置してもよく、両方を設置してもよい。また、振動付与部材(ノッカー)7、8は、いずれか一方を設置してもよく、両方を設置してもよい。
圧力調整容器1の内部には、非晶質シリカ12が収容されている。圧力調整容器1の内部空間は、穴あき板10によって、加圧室2aと減圧室2bとに区分されている。加圧室2aは、蓋体3および容器本体2の一部(穴あき板10の上方の部分)によって形成されている。減圧室2bは、容器本体2の残部(穴あき板10の下方の部分)によって形成されている。
容器本体2は、減圧気体排出口6および排水口13を有する。蓋体3は、ヒンジ部9を軸にして容器本体2に対して回動可能に設けられている。蓋体3は、加圧気体を送入するための加圧気体流入口5を有している。また、蓋体3には、蓋体3の貫通孔に回転軸を挿入された状態で、撹拌羽根4が取り付けられている。
圧力調整容器1の形状は、特に限定されるものではないが、加圧および減圧を行うことから、略円柱状の部分を含むことが、耐久性の観点から好ましい。
本発明において、非晶質シリカ載置用透水手段(穴あき板10およびろ布11)は、吸水した非晶質シリカを載置するためのものであり、吸水した非晶質シリカに含まれている水分を通過させることができるように構成されている。また、非晶質シリカ載置用透水手段は、非晶質シリカの収率をより向上させる観点から、載置された非晶質シリカを通過させることなく、水分のみを通過させるものが好ましい。
非晶質シリカ載置用透水手段の例としては、図1に示すとおり、吸水した非晶質シリカを載置するための水分通過可能な穴あき板10、および、穴あき板10の上に載置される、通気度(「日本工業規格(本明細書中、「JIS」と称す。) L 1096:2010 織物及び編物の生地試験方法」に規定される方法で測定した値)が0.3〜10cc/cm・sであるろ布11を含むもの等が挙げられる。
穴あき板10は、ろ布11を支持することができ、かつ、水分の通過が可能なものであればよい。
[1. Pressure regulating container]
Hereinafter, an example of the pressure regulating container used in the present invention will be described with reference to FIGS.
The pressure regulating container 1 used in the present invention includes a container body 2, water-permeable means for placing amorphous silica (a perforated plate 10 and a filter cloth 11), a lid 3, a stirring blade 4, and a vibration imparting member ( Knocker) 7,8.
In addition, the stirring blade 4 and the vibration imparting members (knockers) 7 and 8 are not essential members in the present invention, but are members arbitrarily installed for the purpose of performing a defoaming method or a bubble generation suppression method described later. Either one or both of the stirring blade 4 and the vibration imparting members (knockers) 7 and 8 may be installed. Further, either one or both of the vibration imparting members (knockers) 7 and 8 may be installed.
Amorphous silica 12 is accommodated inside the pressure regulating container 1. The internal space of the pressure regulating container 1 is divided into a pressurizing chamber 2 a and a decompressing chamber 2 b by a perforated plate 10. The pressurizing chamber 2a is formed by the lid 3 and a part of the container body 2 (a portion above the perforated plate 10). The decompression chamber 2b is formed by the remaining part of the container body 2 (the part below the perforated plate 10).
The container body 2 has a decompressed gas discharge port 6 and a drain port 13. The lid 3 is provided so as to be rotatable with respect to the container body 2 with the hinge portion 9 as an axis. The lid 3 has a pressurized gas inlet 5 for feeding pressurized gas. In addition, the stirring blade 4 is attached to the lid 3 in a state in which the rotation shaft is inserted into the through hole of the lid 3.
Although the shape of the pressure regulation container 1 is not specifically limited, Since pressurization and pressure reduction are performed, it is preferable from a durable viewpoint that a substantially cylindrical part is included.
In the present invention, the water-permeable means for placing amorphous silica (perforated plate 10 and filter cloth 11) is for placing amorphous silica that has absorbed water, and is included in the amorphous silica that has absorbed water. It is configured to allow moisture to pass therethrough. Moreover, from the viewpoint of further improving the yield of amorphous silica, it is preferable that the water-permeable means for placing amorphous silica allows only moisture to pass through without passing the placed amorphous silica.
As an example of the water permeable means for placing amorphous silica, as shown in FIG. 1, on the perforated plate 10 through which moisture can be passed for placing the absorbed amorphous silica, and on the perforated plate 10 The air permeability (value measured by the method defined in “Japanese Industrial Standard (referred to as“ JIS ”in this specification) L 1096: 2010 Fabric testing method for woven fabrics and knitted fabrics”) is 0. The thing containing the filter cloth 11 which is 3-10cc / cm < 2 > s etc. is mentioned.
The perforated plate 10 may be any material that can support the filter cloth 11 and can pass moisture.

穴あき板10は、複数の孔10aを有する。孔10aの直径は、好ましくは1〜20mm、より好ましくは5〜15mmである。直径が1mm以上であれば、脱水に要する時間をより短くすることができる。直径が20mmを超える場合、ろ布11の支持が不十分となり、湾曲したろ布の周囲の隙間から、非晶質シリカが流出する場合がある。孔10aの個数は、孔10aの大きさによっても異なるが、脱水に要する時間をより短くする観点から、好ましくは10個以上、より好ましくは20個以上、さらに好ましくは30個以上、特に好ましくは50個以上である。
穴あき板10は、容器本体2に固着されていてもよく、容器本体2に対して脱着可能であってもよい。
The perforated plate 10 has a plurality of holes 10a. The diameter of the hole 10a is preferably 1 to 20 mm, more preferably 5 to 15 mm. If the diameter is 1 mm or more, the time required for dehydration can be further shortened. When the diameter exceeds 20 mm, the support of the filter cloth 11 becomes insufficient, and amorphous silica may flow out from the gap around the curved filter cloth. The number of holes 10a varies depending on the size of the hole 10a, but is preferably 10 or more, more preferably 20 or more, still more preferably 30 or more, particularly preferably from the viewpoint of shortening the time required for dehydration. 50 or more.
The perforated plate 10 may be fixed to the container body 2 and may be detachable from the container body 2.

ろ布11の通気度は、好ましくは0.3〜10cc/cm・s、より好ましくは0.4〜8cc/cm・s、さらに好ましくは0.8〜6cc/cm・s、特に好ましくは1〜4cc/cm・sである。該通気度が0.3cc/cm・s以上であれば、脱水性がより向上し、洗浄時間をより短くすることができる。該通気度が10cc/cm・s以下であれば、非晶質シリカ12がろ布11をより通過しにくくなり、非晶質シリカの収率をより向上させることができる。
上述した通気性を有するろ布11としては、セルロース繊維、ポリアミド繊維、ビニロン繊維、ポリエステル繊維、ポリオレフィン繊維(例えば、ポリプロピレン繊維、ポリエチレン繊維等)、レーヨン繊維、アラミド繊維等の有機繊維や、ガラス繊維、セラミック繊維、シリカ繊維、アルミナ繊維、ロックウール、スラグウール等の無機繊維等の繊維を用いた、織布または不織布からなるものが挙げられる。
ろ布11の形状は、シート状であってもよく、袋状(例えば、フレキシブルコンテナバッグ)であってもよい。袋状のろ布(図示せず)を使用する場合、袋状のろ布の内部に非晶質シリカを収容した後、袋状のろ布を穴あき板10の上面に載置する。
The air permeability of the filter cloth 11 is preferably 0.3 to 10 cc / cm 2 · s, more preferably 0.4 to 8 cc / cm 2 · s, still more preferably 0.8 to 6 cc / cm 2 · s, particularly Preferably, it is 1 to 4 cc / cm 2 · s. When the air permeability is 0.3 cc / cm 2 · s or more, the dehydrating property is further improved, and the cleaning time can be further shortened. When the air permeability is 10 cc / cm 2 · s or less, the amorphous silica 12 becomes more difficult to pass through the filter cloth 11, and the yield of amorphous silica can be further improved.
Examples of the air-permeable filter cloth 11 include cellulose fibers, polyamide fibers, vinylon fibers, polyester fibers, polyolefin fibers (for example, polypropylene fibers and polyethylene fibers), rayon fibers, aramid fibers, and other organic fibers, and glass fibers. , Woven fabric or non-woven fabric using fibers such as ceramic fibers, silica fibers, alumina fibers, rock wool, slag wool and other inorganic fibers.
The shape of the filter cloth 11 may be a sheet shape or a bag shape (for example, a flexible container bag). When a bag-shaped filter cloth (not shown) is used, after storing amorphous silica in the bag-shaped filter cloth, the bag-shaped filter cloth is placed on the upper surface of the perforated plate 10.

加圧室2aは、非晶質シリカ載置用透水手段(穴あき板10およびろ布11)の上方に設けられる。加圧室2aにおいて、吸水した非晶質シリカ12は、加圧気体流入口5から送入された加圧気体によって加圧される。
加圧気体は、シリカと反応しないものであればよく、例えば、空気、窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられる。中でも、コストの面から、空気が好ましい。なお、図1中、符号Aは、加圧気体が送入される方向を示す。
減圧室2bは、非晶質シリカ載置用透水手段(穴あき板10およびろ布11)の下方に設けられる。減圧室2bにおいて、吸水した非晶質シリカ12を減圧気体で減圧することで、吸水した非晶質シリカ12に含まれている水分を、減圧室2bの下部に設けられた排水口13から回収することができる。
ここで、減圧は、真空ポンプ等を使用して、減圧室2b内の気体を、減圧気体排出口6から排出することで行われる。なお、図1中、符号Bは、減圧気体が排出される方向を示す。
The pressurizing chamber 2a is provided above the water-permeable means for placing amorphous silica (the perforated plate 10 and the filter cloth 11). In the pressurizing chamber 2 a, the absorbed amorphous silica 12 is pressurized by the pressurized gas fed from the pressurized gas inlet 5.
The pressurized gas is not particularly limited as long as it does not react with silica, and examples thereof include air, nitrogen gas, and argon gas. Among these, air is preferable from the viewpoint of cost. In FIG. 1, symbol A indicates the direction in which the pressurized gas is fed.
The decompression chamber 2b is provided below the water-permeable means for placing amorphous silica (the perforated plate 10 and the filter cloth 11). In the decompression chamber 2b, the water-absorbed amorphous silica 12 is decompressed with a decompressed gas, whereby the water contained in the absorbed amorphous silica 12 is recovered from the drain port 13 provided at the lower portion of the decompression chamber 2b. can do.
Here, decompression is performed by discharging the gas in the decompression chamber 2b from the decompression gas discharge port 6 using a vacuum pump or the like. In FIG. 1, the symbol B indicates the direction in which the decompressed gas is discharged.

[2.非晶質シリカ]
次に、本発明の処理対象である非晶質シリカについて説明する。
本発明において、洗浄の対象となる非晶質シリカは、特に限定されず、多孔質のシリカであってもよく、多孔質ではないシリカであってもよい。中でも、多孔質のシリカは、多孔質ではないシリカに比べて、本発明の効果をより大きく発揮する点で好ましい。
非晶質シリカのBET比表面積は、本発明の洗浄に用いられる水の量を削減するという効果を十分に得る観点から、好ましくは400cm/g以上、より好ましくは450cm/g以上である。
多孔質のシリカとしては、例えば、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合する際に、ゲル状のシリカが生成しないように制御することで得られる粒子状の非晶質シリカ(以下、「沈降性シリカ」ともいう。)が挙げられる。
以下、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合して、沈降性シリカを得る方法について説明する。
[2. Amorphous silica]
Next, the amorphous silica which is a treatment target of the present invention will be described.
In the present invention, the amorphous silica to be cleaned is not particularly limited, and may be porous silica or non-porous silica. Among these, porous silica is preferable in that the effect of the present invention is exerted more than non-porous silica.
The BET specific surface area of the amorphous silica is preferably 400 cm 2 / g or more, more preferably 450 cm 2 / g or more from the viewpoint of sufficiently obtaining the effect of reducing the amount of water used for the cleaning of the present invention. .
As the porous silica, for example, when mixing an alkali silicate aqueous solution and a mineral acid, particulate amorphous silica (hereinafter referred to as “precipitating property”) obtained by controlling so that gel silica is not generated. Also referred to as “silica”).
Hereinafter, a method for obtaining precipitated silica by mixing an alkali silicate aqueous solution and a mineral acid will be described.

ケイ酸アルカリ水溶液とは、化学式中にケイ酸(SiO)を含む物質を含有するアルカリ性の水溶液をいい、その例としては、シリカ含有鉱物を原料として調製したケイ酸アルカリ水溶液、及び水ガラス等が挙げられる。
シリカ含有鉱物を原料として調製されるケイ酸アルカリ水溶液は、例えば、シリカ含有鉱物粉末とアルカリ水溶液を混合して、pHが11.5以上のアルカリ性スラリーを調製し、次いで、このpHを維持することによって、液分中のSi濃度が、好ましくは6.0質量%以上となるように、シリカ含有鉱物粉末中のSiを液分中に溶解させた後、このアルカリ性スラリーを固液分離することで得ることができる。
上記シリカ含有鉱物の例としては、珪藻土、珪質頁岩等が挙げられる。該シリカ含有鉱物はアルカリに対する溶解性が高いことが望ましい。
上記シリカ含有鉱物粉末は、例えば、珪質頁岩等のシリカ含有鉱物を粉砕装置で粉砕することで製造することができる。
粉砕装置の例としては、ジョークラッシャー、トップグラインダーミル、ボールミル、ジェットミル等が挙げられる。これらの装置は複数を組み合わせて用いてもよい。
また、上記シリカ含有鉱物(粉末状のもの、または、粉砕前のもの)に対して予め水洗および焼成の少なくともいずれか一方を行うことで、上記シリカ含有鉱物に含まれる不純物である粘土分および有機分を、除去してもよい。
Alkaline silicate aqueous solution refers to an alkaline aqueous solution containing a substance containing silicic acid (SiO 2 ) in the chemical formula. Examples thereof include an alkali silicate aqueous solution prepared from a silica-containing mineral as a raw material, water glass, and the like. Is mentioned.
For the alkali silicate aqueous solution prepared using silica-containing mineral as a raw material, for example, silica-containing mineral powder and alkaline aqueous solution are mixed to prepare an alkaline slurry having a pH of 11.5 or more, and then this pH is maintained. By dissolving Si in the silica-containing mineral powder in the liquid so that the Si concentration in the liquid is preferably 6.0% by mass or more, the alkaline slurry is subjected to solid-liquid separation. Can be obtained.
Examples of the silica-containing mineral include diatomaceous earth and siliceous shale. The silica-containing mineral is desirably highly soluble in alkali.
The silica-containing mineral powder can be produced, for example, by pulverizing a silica-containing mineral such as siliceous shale with a pulverizer.
Examples of the pulverizer include a jaw crusher, a top grinder mill, a ball mill, and a jet mill. These devices may be used in combination.
In addition, the silica-containing mineral (powdered or before pulverization) is subjected to at least one of water washing and firing in advance, so that the clay content and the organic matter contained in the silica-containing mineral are organic. Minutes may be removed.

上記アルカリ性スラリーの調製に用いられるアルカリ水溶液の例としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等が挙げられる。
上記アルカリ性スラリーのpHは、11.5以上、好ましくは12.5以上、より好ましくは13.0以上である。該pHが11.5未満であると、シリカを十分に溶解させることができず、シリカが固形分中に残存してしまうため、得られるシリカの収量が減少する。
シリカ含有鉱物を原料として調製したケイ酸アルカリ水溶液のSi濃度は、好ましくは6.0質量%以上、より好ましくは8.0質量%以上、特に好ましくは10.0質量%以上である。該濃度が6.0質量%以上であれば、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合した際に、シリカがゲル状で析出しにくくなることから、固液分離に要する時間を短くすることができると共に、得られるシリカの量をより大きくすることができる。
Examples of the alkaline aqueous solution used for the preparation of the alkaline slurry include a sodium hydroxide aqueous solution and a potassium hydroxide aqueous solution.
The pH of the alkaline slurry is 11.5 or higher, preferably 12.5 or higher, more preferably 13.0 or higher. When the pH is less than 11.5, the silica cannot be sufficiently dissolved, and the silica remains in the solid content, so that the yield of the resulting silica is reduced.
The Si concentration of the alkali silicate aqueous solution prepared using silica-containing mineral as a raw material is preferably 6.0% by mass or more, more preferably 8.0% by mass or more, and particularly preferably 10.0% by mass or more. When the concentration is 6.0% by mass or more, when the alkali silicate aqueous solution and the mineral acid are mixed, the silica is difficult to precipitate in a gel state, so that the time required for solid-liquid separation can be shortened. At the same time, the amount of silica obtained can be increased.

水ガラスとしては、市販のものを使用することができ、JIS規格により規定される1号、2号、3号の他に、各水ガラスメーカーで製造販売されるJIS規格外の製品も使用することができる。
水ガラスのSi濃度は、好ましくは11.0質量%以上、より好ましくは12.0質量%以上、特に好ましくは13.0質量%以上である。該濃度が11.0質量%以上であれば、水ガラスと鉱酸を混合した際に、シリカがゲル状で析出しにくくなることから、固液分離にかかる時間を短くすることができると共に、得られるシリカの量をより大きくすることができる。水ガラスのSi濃度の上限値は、特に限定されないが、好ましくは20質量%である。
なお、水ガラスのSi濃度が20質量%を超えると、ハンドリング性が悪くなる。この場合、水ガラスに加水して、Si濃度を20質量%以下に調整してもよい。
上述したケイ酸アルカリ水溶液(シリカ含有鉱物を原料として調製したもの、または、水ガラス)と、鉱酸を混合して、中和反応させることで、液分中のSiを非晶質シリカ(非ゲル状の沈降性シリカ)として得ることができる。
ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸の混合方法は、特に限定されないが、鉱酸にケイ酸アルカリ水溶液を添加する方法が好ましい。この場合、混合後の溶液のpHを1.0以下に保つことが好ましい。
As the water glass, commercially available ones can be used, and in addition to Nos. 1, 2, and 3 defined by the JIS standard, products other than the JIS standard manufactured and sold by each water glass manufacturer are also used. be able to.
The Si concentration of the water glass is preferably 11.0% by mass or more, more preferably 12.0% by mass or more, and particularly preferably 13.0% by mass or more. When the concentration is 11.0% by mass or more, when water glass and mineral acid are mixed, silica is difficult to precipitate in a gel state, so that the time required for solid-liquid separation can be shortened, The amount of silica obtained can be increased. Although the upper limit of Si concentration of water glass is not specifically limited, Preferably it is 20 mass%.
In addition, when Si concentration of water glass exceeds 20 mass%, handling property will worsen. In this case, the Si concentration may be adjusted to 20% by mass or less by adding water to water glass.
The above-mentioned alkali silicate aqueous solution (prepared from silica-containing mineral or water glass) and mineral acid are mixed and neutralized to convert Si in the liquid into amorphous silica (non-silica). Gel-like precipitated silica).
A method for mixing the alkali silicate aqueous solution and the mineral acid is not particularly limited, but a method of adding the alkali silicate aqueous solution to the mineral acid is preferable. In this case, it is preferable to keep the pH of the mixed solution at 1.0 or less.

ケイ酸アルカリ水溶液と混合される鉱酸の例としては、塩酸、硫酸、及び硝酸等が挙げられる。中でも、材料にかかるコストを低減する観点から、硫酸が好ましい。
鉱酸の濃度は、ケイ酸アルカリ水溶液との中和反応により、非ゲル状の沈降性シリカが析出すればよく、好ましくは20体積%以上、より好ましくは22体積%以上、特に好ましくは25体積%以上である。該濃度が20質量%以上であれば、ゲル状のシリカの生成を防ぐことができる。鉱酸の濃度の上限値は、特に限定されないが、取り扱い性等の観点から、例えば、50体積%である。
沈降性シリカを析出させる際の温度(析出温度)は、特に限定されないが、例えば、5〜30℃である。
上記中和反応によって得られた非晶質シリカ(沈降性シリカ)は、多孔質のものである。該非晶質シリカのマクロ細孔径は、通常、50〜100μmである。また、該非晶質シリカのナノ細孔径は、通常、0.1〜5nmである。
Examples of the mineral acid mixed with the alkali silicate aqueous solution include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and the like. Among these, sulfuric acid is preferable from the viewpoint of reducing the cost of the material.
The concentration of the mineral acid may be such that non-gelled precipitated silica is precipitated by a neutralization reaction with an aqueous alkali silicate solution, preferably 20% by volume or more, more preferably 22% by volume or more, particularly preferably 25% by volume. % Or more. If this density | concentration is 20 mass% or more, the production | generation of gel-like silica can be prevented. The upper limit of the concentration of the mineral acid is not particularly limited, but is, for example, 50% by volume from the viewpoint of handleability and the like.
The temperature (precipitation temperature) when precipitating the precipitated silica is not particularly limited, but is, for example, 5 to 30 ° C.
The amorphous silica (precipitating silica) obtained by the neutralization reaction is porous. The macropore diameter of the amorphous silica is usually 50 to 100 μm. The nanopore diameter of the amorphous silica is usually 0.1 to 5 nm.

非晶質シリカの粒度は、特に限定されるものではないが、好ましくは10μm以上、2mm以下、より好ましくは25μm以上、1mm以下、特に好ましくは50μm以上、750μm以下である。該粒度が10μm以上であれば、脱水を行う際のろ布の目詰まりがより起こりにくくなり、脱水の効率やシリカの収率の低下を防ぐことができる。該粒度が2mm以下であれば、シリカ粒子の内部に水が浸透する時間をより短くすることができ、本発明の洗浄の効率をより向上させることができる。
非晶質シリカの粒度は、非晶質シリカの製造条件の変更や、非晶質シリカの粉砕によって、調整することができる。粉砕方法は、特に限定されるものではないが、得られた非晶質シリカを本発明の方法で洗浄することを考慮すると、非晶質シリカは、未乾燥の状態で粉砕してもよい。この場合の粉砕方法として、例えば、プレス粉砕や湿式粉砕が挙げられる。
The particle size of the amorphous silica is not particularly limited, but is preferably 10 μm or more and 2 mm or less, more preferably 25 μm or more and 1 mm or less, and particularly preferably 50 μm or more and 750 μm or less. If the particle size is 10 μm or more, clogging of the filter cloth during dehydration is less likely to occur, and the efficiency of dehydration and the decrease in the yield of silica can be prevented. If the particle size is 2 mm or less, the time for water to penetrate into the silica particles can be shortened, and the cleaning efficiency of the present invention can be further improved.
The particle size of the amorphous silica can be adjusted by changing the production conditions of the amorphous silica or by pulverizing the amorphous silica. The pulverization method is not particularly limited, but in consideration of washing the obtained amorphous silica by the method of the present invention, the amorphous silica may be pulverized in an undried state. Examples of the pulverization method in this case include press pulverization and wet pulverization.

[3.非晶質シリカの洗浄方法]
以下、上述した圧力調整容器を用いて、非晶質シリカを洗浄する方法について、工程ごとに詳しく説明する。
[工程(A):吸水工程]
本工程は、非晶質シリカ12に水を供給して、吸水した非晶質シリカ12を得る工程である。
水を供給して、吸水した非晶質シリカ12を得る方法としては、非晶質シリカ載置用透水手段(穴あき板10およびろ布11)の上に、非晶質シリカ12を載置した後、加圧室2aの内部に水を供給して、上記非晶質シリカを水中に浸漬させる方法が好ましい。
水の供給量は、非晶質シリカ12が十分に浸漬される量であればよいが、シリカ粒子の内部に含まれる不純物を含む液と、水を十分に置換する観点からは、水の液面から非晶質シリカ12からなる層の上面までの深さ(水の層の厚み)が、好ましくは6mm以上、より好ましくは8mm以上、特に好ましくは10mm以上となる量である。また、該水の供給量は、洗浄に用いられる水の量を削減する観点からは、好ましくは30mm以下、より好ましくは25mm以下、特に好ましくは20mm以下となる量である。
[3. Method for cleaning amorphous silica]
Hereinafter, the method for washing amorphous silica using the pressure regulating container described above will be described in detail for each step.
[Step (A): Water absorption step]
In this step, water is supplied to the amorphous silica 12 to obtain absorbed amorphous silica 12.
As a method of obtaining amorphous silica 12 that has absorbed water by supplying water, the amorphous silica 12 is placed on the permeable means for placing the amorphous silica (the perforated plate 10 and the filter cloth 11). After that, a method of supplying water into the pressurizing chamber 2a and immersing the amorphous silica in water is preferable.
The supply amount of water may be an amount that allows the amorphous silica 12 to be sufficiently immersed, but from the viewpoint of sufficiently replacing the liquid containing impurities contained in the silica particles and the water, The depth from the surface to the upper surface of the layer made of amorphous silica 12 (the thickness of the water layer) is preferably 6 mm or more, more preferably 8 mm or more, and particularly preferably 10 mm or more. Further, the amount of water supplied is preferably 30 mm or less, more preferably 25 mm or less, and particularly preferably 20 mm or less from the viewpoint of reducing the amount of water used for cleaning.

非晶質シリカ12を水中に浸漬する時間は、特に限定されるものではないが、洗浄に用いる水の量を削減し、本発明の洗浄の効率を向上させる観点から、好ましくは2〜15分間、より好ましくは3〜10分間、特に好ましくは4〜8分間である。浸漬時間が2分間以上であれば、洗浄回数をより少なくすることができる。浸漬時間が15分間を超えると、非晶質シリカから水中への不純物の溶出量が頭打ちとなり、本発明の洗浄方法全体の効率が低下することがある。   The time for immersing the amorphous silica 12 in water is not particularly limited, but is preferably 2 to 15 minutes from the viewpoint of reducing the amount of water used for washing and improving the washing efficiency of the present invention. More preferably, it is 3 to 10 minutes, and particularly preferably 4 to 8 minutes. If the immersion time is 2 minutes or more, the number of washings can be reduced. When the immersion time exceeds 15 minutes, the amount of impurities eluted from the amorphous silica into the water reaches a peak, and the efficiency of the entire cleaning method of the present invention may be reduced.

供給される水の種類は、洗浄後の非晶質シリカの純度や、経済性を考慮して、適宜選択すればよく、例えば、工業用水、イオン交換水および蒸留水等が挙げられる。本発明において、吸水工程および脱水工程を複数回繰り返す場合、経済性の観点から、繰り返しの回数に応じて、使用する水の種類を変更してもよい。具体的には、工業用水を用いて、吸水工程及び脱水工程を複数回(例えば、4回)繰り返した後、工業用水に代えてイオン交換水を用いて、吸水工程及び脱水工程を複数回(例えば、2回)繰り返してもよい。
また、脱水工程の後、回収された水の電気伝導度(後述)を測定し、得られた測定結果によって、使用する水の種類を変更してもよい。具体的には、減圧室2bから回収された水の電気伝導度が特定の数値以下(例えば、100mS/m以下)となった場合、使用する水の種類を、工業用水からイオン交換水に変更してもよい。
The type of water to be supplied may be appropriately selected in consideration of the purity of the amorphous silica after washing and economic efficiency, and examples thereof include industrial water, ion-exchanged water, and distilled water. In this invention, when repeating a water absorption process and a dehydration process in multiple times, you may change the kind of water to be used according to the frequency | count of repetition from an economical viewpoint. Specifically, the water absorption step and the dehydration step are repeated a plurality of times (for example, four times) using industrial water, and then the water absorption step and the dehydration step are performed a plurality of times using ion-exchanged water instead of the industrial water ( For example, it may be repeated twice.
In addition, after the dehydration step, the electrical conductivity (described later) of the collected water may be measured, and the type of water used may be changed according to the obtained measurement result. Specifically, when the electrical conductivity of the water recovered from the decompression chamber 2b is less than a specific value (for example, 100 mS / m or less), the type of water used is changed from industrial water to ion-exchanged water. May be.

また、非晶質シリカ12からなる層の内部に気泡が巻き込まれた場合、シリカ粒子の表面に付着した気泡によって、シリカ粒子と水との接触性が低下し、シリカ粒子の内部に含まれる不純物を含む液と、水との置換が不十分となる。この結果、洗浄回数が増え、水の使用量が増大する。
非晶質シリカ12からなる層の内部に気泡が巻き込まれることを防ぐ方法(脱泡または気泡生成抑制の方法)としては、水の供給速度が小さくなるように制御する方法や、水を供給した後、撹拌羽根4を用いて撹拌を行う方法や、容器本体2の外部に振動付与体(ノッカー)7、8を設置して、容器本体2をタッピングする(振動を与える)方法や、超音波振動処理を行なう方法や、減圧処理を行なう方法等が挙げられる。
また、洗浄時間をより短くする観点から、非晶質シリカを水中に浸漬させる前に、固液分離(例えば、減圧脱水)を行い、非晶質シリカの内部に含まれる不純物を含む液を、ある程度除去してもよい。
Further, when bubbles are involved in the layer made of amorphous silica 12, the contact between the silica particles and water is reduced by the bubbles attached to the surface of the silica particles, and impurities contained in the silica particles Replacement of the liquid containing water with water becomes insufficient. As a result, the number of cleanings increases and the amount of water used increases.
As a method for preventing bubbles from being entrained in the layer made of amorphous silica 12 (method for defoaming or suppressing bubble generation), a method for controlling the water supply rate to be reduced, or water was supplied. Thereafter, a method of performing stirring using the stirring blade 4, a method of placing vibration imparting bodies (knockers) 7 and 8 outside the container body 2, and tapping (giving vibration) the container body 2, an ultrasonic wave A method of performing a vibration treatment, a method of performing a pressure reduction treatment, and the like can be mentioned.
Further, from the viewpoint of shortening the washing time, before immersing amorphous silica in water, solid-liquid separation (for example, dehydration under reduced pressure) is performed, and a liquid containing impurities contained in amorphous silica is obtained. It may be removed to some extent.

[工程(B):脱水工程]
本工程は、工程(A)で得られた吸水した非晶質シリカに対して、圧力調整容器1を用いて、加圧室2aによる加圧と、減圧室2bによる減圧を同時に行い、脱水した非晶質シリカを得る工程である。
加圧は、加圧気体流入口5から、加圧気体を送入することで行われる。加圧の程度(加圧後の圧力から加圧前の圧力を差し引いた値)は、好ましくは2MPa以上、より好ましくは2.5〜8MPa、さらに好ましくは3〜7MPa、特に好ましくは3.5〜6MPaである。加圧の程度が2MPa以上であれば、洗浄時間をより短くし、洗浄回数を減らすことができる。
減圧は、減圧室2b内の気体を、減圧気体排出口6を通じて吸引することで行われる。減圧の程度(減圧前の圧力から減圧後の圧力を差し引いた値)は、好ましくは0.03MPa以上、より好ましくは0.05MPa以上、特に好ましくは0.08MPa以上である。減圧の程度が0.03MPa以上であれば、洗浄時間をより短くし、洗浄回数を減らすことができる。
本発明では、加圧と減圧を同時に行うことで、洗浄時間を短くすることができ、かつ、洗浄回数を減らして、洗浄に用いられる水の量を減らすことができる。
加圧室2aにおける圧力と減圧室2bにおける圧力の差(加圧の程度の数値と減圧の程度の数値の合計)は、好ましくは1MPa以上、より好ましくは2MPa以上、特に好ましくは3MPa以上である。該差が1MPa以上であれば、洗浄時間をより短くし、洗浄回数を減らすことができる。
また、水中に沈積している非晶質シリカ12が水中に舞い上がったり、水面が波立つことで、非晶質シリカ12からなる層に気泡が巻き込まれることを防ぐ観点から、加圧および減圧を同時に行う前に、減圧のみを、好ましくは10〜60秒間、より好ましくは20〜40秒間予め行ってもよい。
[Step (B): Dehydration step]
In this step, the water-absorbed amorphous silica obtained in the step (A) was dehydrated by simultaneously applying pressure in the pressurizing chamber 2a and depressurizing in the depressurizing chamber 2b using the pressure regulating container 1. This is a step of obtaining amorphous silica.
Pressurization is performed by sending pressurized gas from the pressurized gas inlet 5. The degree of pressurization (a value obtained by subtracting the pressure before pressurization from the pressure after pressurization) is preferably 2 MPa or more, more preferably 2.5 to 8 MPa, still more preferably 3 to 7 MPa, and particularly preferably 3.5. ~ 6 MPa. If the degree of pressurization is 2 MPa or more, the cleaning time can be shortened and the number of cleanings can be reduced.
The decompression is performed by sucking the gas in the decompression chamber 2 b through the decompression gas discharge port 6. The degree of pressure reduction (a value obtained by subtracting the pressure after pressure reduction from the pressure before pressure reduction) is preferably 0.03 MPa or more, more preferably 0.05 MPa or more, and particularly preferably 0.08 MPa or more. If the degree of depressurization is 0.03 MPa or more, the cleaning time can be shortened and the number of cleanings can be reduced.
In the present invention, by performing pressurization and pressure reduction simultaneously, the cleaning time can be shortened, and the number of times of cleaning can be reduced to reduce the amount of water used for cleaning.
The difference between the pressure in the pressurizing chamber 2a and the pressure in the decompression chamber 2b (the sum of the value of the degree of pressurization and the value of the degree of depressurization) is preferably 1 MPa or more, more preferably 2 MPa or more, and particularly preferably 3 MPa or more. . If the difference is 1 MPa or more, the cleaning time can be shortened and the number of cleanings can be reduced.
Further, from the viewpoint of preventing air bubbles from being entrained in the layer made of amorphous silica 12 due to the amorphous silica 12 deposited in the water soaring in the water or the water surface rippling, pressurization and depressurization are performed. Before performing simultaneously, only decompression may be performed in advance, preferably for 10 to 60 seconds, more preferably for 20 to 40 seconds.

上記工程(A)及び工程(B)は、減圧室で回収される水の電気伝導度が特定の数値以下となるまで、繰り返し行ってもよい。このように工程(A)及び工程(B)を繰り返すことで、十分に洗浄された非晶質シリカを得ることができる。上記特定の数値は、高純度の非晶質シリカを得る観点から、好ましくは100mS/m以下、より好ましくは50mS/m以下、特に好ましくは20mS/m以下である。   The above step (A) and step (B) may be repeated until the electrical conductivity of the water recovered in the decompression chamber becomes a specific numerical value or less. By repeating step (A) and step (B) in this manner, sufficiently washed amorphous silica can be obtained. The specific numerical value is preferably 100 mS / m or less, more preferably 50 mS / m or less, and particularly preferably 20 mS / m or less from the viewpoint of obtaining high-purity amorphous silica.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[非晶質シリカの製造]
Si濃度が13.5質量%である水ガラス(水ガラス3号、東ソー産業社製 JIS規格品)を、濃度が25体積%である硫酸(工業用硫酸、五陽商会社製)に滴下し、析出温度を20℃に保ちながら、多孔質の非晶質シリカ(沈降性シリカ)を析出させた。なお、水ガラスと硫酸の混合物のpHは、滴下終了時まで1.0以下に保った。得られた非晶質シリカは、ブレーン比表面積が480cm/gであり、不純物を含む液分を70質量%の割合で含む湿潤非晶質シリカであった。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[Production of amorphous silica]
Water glass (water glass No. 3, manufactured by Tosoh Sangyo Co., Ltd., JIS standard product) having a Si concentration of 13.5% by mass was dropped onto sulfuric acid (industrial sulfuric acid, manufactured by Goyo Trading Company) having a concentration of 25% by volume. While maintaining the precipitation temperature at 20 ° C., porous amorphous silica (precipitated silica) was precipitated. The pH of the mixture of water glass and sulfuric acid was kept at 1.0 or less until the end of dropping. The obtained amorphous silica was a wet amorphous silica having a Blaine specific surface area of 480 cm 2 / g and containing a liquid component containing impurities at a ratio of 70% by mass.

[実施例1]
穴あき板10の上面全体にろ布(通気度:1.3cc/cm・s)11を載置してなる圧力調整容器1(φ1,500mm×高さ500mm;図1〜2参照)に、上記湿潤非晶質シリカ80kgを投入した。次いで、真空ポンプを用いて、減圧室2b内を減圧の程度が0.1MPaとなるように減圧しながら、30秒間減圧脱水を行った。
減圧脱水終了後、非晶質シリカ12からなる層の表面から水面までの高さが10mmとなるように、工業用水(図示せず)65kgを投入した。次いで、振動付与部材(ノッカー)7、8を用いて、タッピング操作(容器本体2に衝撃を加えること)を行って脱泡処理を行なった後、静置した状態で、工業用水中に非晶質シリカ12を5分間浸漬した。
浸漬後、真空ポンプを用いて、減圧室2b内を減圧の程度が0.1MPaとなるように減圧しながら30秒間脱水を行った後(表1中、「プレ減圧」と示す。)、さらに、減圧を維持しつつ、加圧気体流入口5から、加圧空気を送入して、加圧室2a内を加圧の程度(加圧後の圧力と加圧前の圧力の差)が4MPaとなるように加圧して、非晶質シリカ12を脱水した。
脱水に要した時間は10分間(表1中、(a)の「浸漬の後の脱水時間(分)」の「減圧及び加圧」参照)であった。脱水の終了後、脱水によって回収した水の電気伝導度を測定し、該電気伝導度が100mS/m以下になるまで、工業用水を用いて上述した浸漬〜脱水の終了までの操作(表1中、「a」と示す。)を繰り返し実施したところ、4回目の繰り返し後に回収した水において、電気伝導度が100mS/m以下となった。
その後、工業用水の代わりにイオン交換水を使用して、脱水によって回収した水の電気伝導度が10mS/m以下となるまで、2回、上述した浸漬〜脱水の終了までの操作(表1中、「b」と示す。)を繰り返し、湿潤シリカ77.4kgを得た。洗浄に使用した水の総量は、湿潤シリカ1kgあたり5.04kgであった。
[Example 1]
A pressure regulating container 1 (φ1,500 mm × height 500 mm; see FIGS. 1 and 2) in which a filter cloth (air permeability: 1.3 cc / cm 2 · s) 11 is placed on the entire upper surface of the perforated plate 10. 80 kg of the wet amorphous silica was added. Next, using a vacuum pump, vacuum dehydration was performed for 30 seconds while reducing the pressure in the vacuum chamber 2b so that the pressure was reduced to 0.1 MPa.
After dehydration under reduced pressure, 65 kg of industrial water (not shown) was added so that the height from the surface of the layer made of amorphous silica 12 to the water surface was 10 mm. Next, the tapping operation (applying an impact to the container body 2) is performed using the vibration imparting members (knockers) 7 and 8 to perform defoaming treatment, and then, in a state of standing, amorphous in industrial water. Silica 12 was immersed for 5 minutes.
After the immersion, dehydration was performed for 30 seconds while reducing the pressure in the vacuum chamber 2b to 0.1 MPa using a vacuum pump (shown as “pre-depressurization” in Table 1), and further. While maintaining the reduced pressure, pressurized air is fed from the pressurized gas inlet 5, and the degree of pressurization (the difference between the pressure after pressurization and the pressure before pressurization) is increased in the pressurization chamber 2a. The amorphous silica 12 was dehydrated by pressurizing to 4 MPa.
The time required for dehydration was 10 minutes (see “Decompression and pressurization” in “Dehydration time after immersion (minute)” in (a) in Table 1). After the completion of the dehydration, the electrical conductivity of the water recovered by the dehydration is measured, and the operation from the above-described immersion to the end of the dehydration using industrial water until the electrical conductivity becomes 100 mS / m or less (in Table 1 In the water collected after the fourth repetition, the electrical conductivity was 100 mS / m or less.
Thereafter, using ion-exchanged water instead of industrial water, the operation from the above-described immersion to the end of the dehydration was repeated twice until the electrical conductivity of the water recovered by dehydration became 10 mS / m or less (in Table 1). , Indicated as “b”), and 77.4 kg of wet silica was obtained. The total amount of water used for washing was 5.04 kg per kg wet silica.

[実施例2]
通気度が0.5cc/cm・sであるろ布を使用し、かつ、加圧室2a内を加圧の程度が5MPaとなるように加圧する以外は実施例1と同様にして、脱水によって回収した水の電気伝導度が100mS/m以下になるまで、工業用水を用いて実施例1と同様の操作を繰り返した。その結果、脱水に要した時間は15分間であり、上記操作の繰り返し回数は、4回であった。
その後、工業用水の代わりにイオン交換水を使用して、脱水によって回収した水の電気伝導度が10mS/m以下となるまで、2回、同様の操作を繰り返し、湿潤シリカ76.5kgを得た。洗浄に使用した水の総量は、湿潤シリカ1kgあたり5.10kgであった。
[Example 2]
Dehydration in the same manner as in Example 1 except that a filter cloth having an air permeability of 0.5 cc / cm 2 · s is used and the inside of the pressurizing chamber 2a is pressurized so that the degree of pressurization becomes 5 MPa. The same operation as in Example 1 was repeated using industrial water until the electrical conductivity of the water recovered by the above was 100 mS / m or less. As a result, the time required for dehydration was 15 minutes, and the number of repetitions of the above operation was 4.
Thereafter, using ion-exchanged water instead of industrial water, the same operation was repeated twice until the electric conductivity of the water recovered by dehydration became 10 mS / m or less, to obtain 76.5 kg of wet silica. . The total amount of water used for washing was 5.10 kg per kg of wet silica.

[実施例3]
通気度が5cc/cm・sであるろ布を使用し、非晶質シリカの浸漬時間を7分間とし、かつ、加圧室2a内を加圧の程度が3MPaとなるように加圧する以外は実施例1と同様にして、脱水によって回収した水の電気伝導度が100mS/m以下になるまで、工業用水を用いて、実施例1と同様の操作を繰り返した。脱水に要した時間は7分間であり、上記操作の繰り返し回数は4回であった。
その後、工業用水の代わりにイオン交換水を使用して、脱水によって回収した電気伝導度が10mS/m以下となるまで、2回、同様の操作を繰り返し、湿潤シリカ74.3kgを得た。洗浄に使用した水の総量は、湿潤シリカ1kgあたり5.25kgであった。
[Example 3]
Other than using a filter cloth having an air permeability of 5 cc / cm 2 · s, setting the immersion time of amorphous silica to 7 minutes, and pressurizing the inside of the pressurizing chamber 2a to a degree of pressurization of 3 MPa. In the same manner as in Example 1, the same operation as in Example 1 was repeated using industrial water until the electrical conductivity of the water recovered by dehydration was 100 mS / m or less. The time required for dehydration was 7 minutes, and the above operation was repeated four times.
Thereafter, ion exchange water was used instead of industrial water, and the same operation was repeated twice until the electric conductivity recovered by dehydration became 10 mS / m or less, to obtain 74.3 kg of wet silica. The total amount of water used for washing was 5.25 kg / kg wet silica.

[比較例1]
上記湿潤非晶質シリカ80kgを、遠心分離機(タナベウィルテック社製、商品名「CO−42型」)に投入し、遠心分離機の回転数を45rpmに、遠心力を1.5Gに保ちながら、注水ノズルにより工業用水を110kg投入して、洗浄を行った。洗浄に要した時間は480秒間であった。
洗浄後、遠心分離機の回転数を950rpmまで増大させて、500Gの遠心力を利用して、560秒間の脱水を行った。洗浄および脱水に要した時間の合計は17.3分間であった。脱水の終了後、脱水によって回収した水の電気伝導度を測定し、該電気伝導度が100mS/m以下になるまで、工業用水を用いて上述した洗浄および脱水を繰り返したところ、繰り返し回数が8回で、脱水によって回収した水の電気伝導度が100mS/m以下となった。
その後、工業用水の代わりにイオン交換水を使用して、脱水によって回収した水の電気伝導度が10mS/m以下となるまで、2回、同様の操作を繰り返し、湿潤シリカ75.4kgを得た。洗浄に使用した水の総量は、湿潤シリカ1kgあたり14.59kgであった。
[Comparative Example 1]
80 kg of the wet amorphous silica is put into a centrifuge (trade name “CO-42 type” manufactured by Tanabe Wiltech Co., Ltd.), and the rotation speed of the centrifuge is kept at 45 rpm and the centrifugal force is kept at 1.5 G. However, 110 kg of industrial water was supplied by a water injection nozzle to perform cleaning. The time required for washing was 480 seconds.
After washing, the rotation speed of the centrifuge was increased to 950 rpm, and dehydration was performed for 560 seconds using a centrifugal force of 500G. The total time required for washing and dehydration was 17.3 minutes. After completion of dehydration, the electrical conductivity of the water recovered by dehydration was measured, and the above washing and dehydration was repeated using industrial water until the electrical conductivity reached 100 mS / m or less. The electrical conductivity of the water recovered by dehydration became 100 mS / m or less.
Then, using ion-exchanged water instead of industrial water, the same operation was repeated twice until the electric conductivity of the water recovered by dehydration became 10 mS / m or less, to obtain 75.4 kg of wet silica. . The total amount of water used for washing was 14.59 kg per kg wet silica.

[比較例2]
非晶質シリカ12を浸漬した後、減圧を行わず、加圧室2a内を加圧の程度が4.1MPaとなるように加圧する(表1中、「加圧のみ」と示す。)以外は実施例1と同様にして、脱水によって回収した水の電気伝導度が100mS/m以下になるまで、工業用水を用いて、実施例1と同様の操作を繰り返した。脱水に要した時間は20分間であり、上記操作の繰り返し回数は5回であった。
その後、工業用水の代わりにイオン交換水を使用して、脱水によって回収した水の電気伝導度が10mS/m以下となるまで、2回、同様の操作を繰り返し、湿潤シリカ76.5kgを得た。洗浄に使用した水の総量は、湿潤シリカ1kgあたり5.95kgであった。
[Comparative Example 2]
After immersing the amorphous silica 12, no pressure reduction is performed, and the inside of the pressurizing chamber 2a is pressurized so that the degree of pressurization is 4.1 MPa (shown as “pressurization only” in Table 1). In the same manner as in Example 1, the same operation as in Example 1 was repeated using industrial water until the electrical conductivity of the water recovered by dehydration was 100 mS / m or less. The time required for dehydration was 20 minutes, and the above operation was repeated 5 times.
Thereafter, using ion-exchanged water instead of industrial water, the same operation was repeated twice until the electric conductivity of the water recovered by dehydration became 10 mS / m or less, to obtain 76.5 kg of wet silica. . The total amount of water used for washing was 5.95 kg / kg wet silica.

[比較例3]
非晶質シリカ12を浸漬した後、減圧室2b内を減圧の程度が0.1MPaとなるように減圧しながら(表1中、「減圧のみ」と示す。)非晶質シリカ12を脱水する以外は実施例1と同様にして、脱水によって回収した水の電気伝導度が100mS/m以下になるまで、工業用水を用いて、実施例1と同様の操作を繰り返した。脱水に要した時間は33分間であり、上記操作の繰り返し回数は6回であった。
その後、工業用水の代わりにイオン交換水を使用して、脱水によって回収した水の電気伝導度が10mS/m以下となるまで、2回、同様の操作を繰り返し、湿潤シリカ77.8kgを得た。洗浄に使用した水の総量は、湿潤シリカ1kgあたり6.68kgであった。
洗浄に要した合計時間、合計水量、及び非晶質シリカの収率を表1に示す。
[Comparative Example 3]
After the amorphous silica 12 is immersed, the amorphous silica 12 is dehydrated while reducing the pressure in the vacuum chamber 2b so that the degree of pressure reduction is 0.1 MPa (indicated as “depressurized only” in Table 1). Except for the above, the same operation as in Example 1 was repeated using industrial water until the electrical conductivity of the water recovered by dehydration was 100 mS / m or less in the same manner as in Example 1. The time required for dehydration was 33 minutes, and the above operation was repeated six times.
Thereafter, using ion-exchanged water instead of industrial water, the same operation was repeated twice until the electric conductivity of the water recovered by dehydration became 10 mS / m or less, to obtain 77.8 kg of wet silica. . The total amount of water used for washing was 6.68 kg per kg of wet silica.
Table 1 shows the total time required for washing, the total amount of water, and the yield of amorphous silica.

Figure 2019011207
Figure 2019011207

表1から、本発明の非晶質シリカの洗浄方法(実施例1〜3)によれば、遠心分離機を用いて洗浄した場合(比較例1)や、加圧のみを行って洗浄を行った場合(比較例2)や、減圧のみを行った場合(比較例3)と比べて、洗浄時間を短くすることができ、かつ、洗浄に用いられる合計の水量を減らすことができることがわかる。
特に、実施例1と比較例2を比較すると、圧力差の数値が同じ(4.1MPa)であっても、加圧と減圧を同時に行う場合(実施例1)の方が、加圧のみを行う場合(比較例2)と比べて、洗浄回数、及び、洗浄に用いられる合計の水量(表1中の「合計水量」)を減らすことができることがわかる。
From Table 1, according to the washing | cleaning method (Examples 1-3) of the amorphous silica of this invention, when wash | cleaning using a centrifuge (comparative example 1), performing only a pressurization and performing washing | cleaning It can be seen that the cleaning time can be shortened and the total amount of water used for cleaning can be reduced as compared with the case where the pressure is reduced (Comparative Example 2) and the case where only decompression is performed (Comparative Example 3).
In particular, when Example 1 and Comparative Example 2 are compared, even when the numerical value of the pressure difference is the same (4.1 MPa), when pressure and pressure reduction are performed simultaneously (Example 1), only the pressure is It can be seen that the number of times of washing and the total amount of water used for washing (“total amount of water” in Table 1) can be reduced as compared with the case of performing (Comparative Example 2).

1 圧力調整容器
2 容器本体
2a 加圧室
2b 減圧室
3 蓋体
4 撹拌羽根
5 加圧気体流入口
6 減圧気体排出口
7、8 振動付与部材(ノッカー)
9 ヒンジ部
10 穴あき板
10a 孔
11 ろ布
12 非晶質シリカ
13 排水口
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pressure regulation container 2 Container body 2a Pressurization chamber 2b Decompression chamber 3 Cover body 4 Stirring blade 5 Pressurization gas inflow port 6 Decompression gas discharge port 7, 8 Vibration imparting member (knocker)
9 Hinge part 10 Perforated plate 10a Hole 11 Filter cloth 12 Amorphous silica 13 Drain port

Claims (6)

圧力調整容器を用いて、非晶質シリカを洗浄する方法であって、
上記圧力調整容器が、吸水した非晶質シリカを載置するための非晶質シリカ載置用透水手段であって、上記吸水した非晶質シリカに含まれている水分を通過させることができるように構成されている非晶質シリカ載置用透水手段と、上記非晶質シリカ載置用透水手段の上方に設けられる、上記吸水した非晶質シリカを加圧気体で加圧するための加圧室と、上記非晶質シリカ載置用透水手段の下方に設けられる、上記吸水した非晶質シリカを減圧気体で減圧して、上記吸水した非晶質シリカに含まれている水分を回収するための減圧室を備えており、
(A)非晶質シリカに水を供給して、吸水した非晶質シリカを得る吸水工程と、
(B)上記吸水した非晶質シリカに対して、上記圧力調整容器を用いて、上記加圧室による加圧と、上記減圧室による減圧を同時に行い、脱水した非晶質シリカを得る脱水工程、
を含むことを特徴とする非晶質シリカの洗浄方法。
A method of washing amorphous silica using a pressure regulating container,
The pressure regulating container is a water-permeable means for placing amorphous silica for placing the absorbed amorphous silica, and allows moisture contained in the absorbed amorphous silica to pass therethrough. The amorphous silica placing water-permeable means configured as described above, and a pressure for pressurizing the water-absorbed amorphous silica, which is provided above the amorphous silica placing water-permeable means, with a pressurized gas. The water-absorbed amorphous silica is recovered by depressurizing the water-absorbed amorphous silica provided under the pressure chamber and the water-permeable means for placing the amorphous silica with a reduced-pressure gas. Equipped with a decompression chamber for
(A) a water absorption step of supplying water to amorphous silica to obtain absorbed amorphous silica;
(B) A dehydration step of obtaining dehydrated amorphous silica by simultaneously applying pressure in the pressurizing chamber and depressurizing in the decompression chamber to the absorbed amorphous silica using the pressure regulating container. ,
A method for cleaning amorphous silica, comprising:
工程(A)が、上記非晶質シリカ載置用透水手段の上に、上記非晶質シリカを載置した後、上記加圧室の内部に水を供給して、上記非晶質シリカを水中に浸漬させることによって行われる請求項1に記載の非晶質シリカの洗浄方法。   In step (A), after placing the amorphous silica on the water-permeable means for placing the amorphous silica, water is supplied to the inside of the pressurizing chamber to The method for washing amorphous silica according to claim 1, wherein the method is performed by immersing in water. 上記減圧室で回収される水の電気伝導度が10mS/m以下になるまで、工程(A)および工程(B)を繰り返し行う請求項1又は2に記載の非晶質シリカの洗浄方法。   The method for cleaning amorphous silica according to claim 1 or 2, wherein the step (A) and the step (B) are repeated until the electric conductivity of water recovered in the decompression chamber becomes 10 mS / m or less. 上記非晶質シリカ載置用透水手段が、吸水した非晶質シリカを載置するための水分通過可能な板体、および、該板体の上に載置される、通気度(「JIS L 1096:2010 織物及び編物の生地試験方法」に規定される方法で測定した値)が0.3〜10cc/cm・sであるろ布を含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の非晶質シリカの洗浄方法。 The water permeation means for placing the amorphous silica is a plate that allows moisture to pass through to place the absorbed amorphous silica, and the air permeability (“JIS L”) placed on the plate. 1096: 2010 The value measured by the method prescribed in "Fabric and knitted fabric test method" is 0.3 to 10 cc / cm 2 · s. A method for cleaning an amorphous silica. 工程(B)において、上記加圧室における加圧の程度が、2MPa以上であり、かつ、上記減圧室における減圧の程度が、0.03MPa以上である請求項1〜4のいずれか1項に記載の非晶質シリカの洗浄方法。   5. The process according to claim 1, wherein in the step (B), the degree of pressurization in the pressurization chamber is 2 MPa or more, and the degree of decompression in the decompression chamber is 0.03 MPa or more. A method for cleaning an amorphous silica as described. 上記非晶質シリカが、多孔質の沈降性シリカである請求項1〜5のいずれか1項に記載の非晶質シリカの洗浄方法。   The method for cleaning amorphous silica according to any one of claims 1 to 5, wherein the amorphous silica is porous precipitated silica.
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