JP2018524821A - モデルベースのホットスポットモニタリング - Google Patents
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Abstract
Description
本特許出願は、2015年5月8日に出願された、「モデルベースのホットスポットモニタリング」と題された、米国仮特許出願第62/158,618号の優先権を米国特許法第119条の下で主張し、該出願の内容を参照により本明細書に援用する。
例えば、図1に示すように、メモリ332に記憶されたプログラム命令334は、プロセッサ331にバス333を介して伝送されてもよい。プログラム命令334は、コンピュータ可読媒体(例えばメモリ332)に記憶される。典型的なコンピュータ可読媒体は、リードオンリーメモリ、ランダムアクセスメモリ、磁気もしくは光学ディスクまたは磁気テープを含む。
Claims (20)
- 測定システムであって、
ウェハ上の第1の複数の位置に配置された複数の計測ターゲットそれぞれを照明するように構成された照明源を備え、前記ウェハはさらに、第1の複数の位置とは異なるウェハ上の第2の複数の位置に複数のホットスポット構造を含み、前記ウェハは、半導体ウェハ製造シーケンスの中間プロセスステップの後に、照明源によって照明され、
測定システムはさらに、前記複数の計測ターゲットそれぞれの照明に応答した前記複数の計測ターゲットからの光量を検出して、検出された光量に基づいて測定データの量を生成するように構成された検出器と、
複数のホットスポット構造のホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値を、測定データの量とトレーニングされたホットスポット測定モデルに基づいて決定し、
プロセスツールに信号を通信して、それがプロセスツールに、ホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値に基づいて半導体ウェハ製造シーケンスの製造プロセスステップに関連するプロセスパラメータを調整させる、
ように構成されたコンピューティングシステムと、
を備えた測定システム。 - 請求項1に記載の測定システムであって、前記コンピューティングシステムがさらに、
前記ウェハ上の第2の複数の位置での複数のホットスポット構造の表示を受信し、
前記ウェハ上の第1の複数の位置での複数の計測ターゲットの表示を受信し、
中間プロセスステップを含み中間プロセスステップ以前の任意のプロセスステップに関連する1つ以上のプロセスパラメータに関連するプロセスウィンドウの表示を受信し、
プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおけるホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値を推定し、
プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおける複数の計測ターゲットそれぞれの測定に関連する測定データの量を決定し、
プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおけるホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの推定値および測定データの量に基づいてホットスポット測定モデルをトレーニングする、
ように構成される測定システム。 - 請求項2に記載の測定システムであって、ホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値を推定することは、ホットスポット構造に関して校正された半導体製造モデルのシミュレーションを含む、測定システム。
- 請求項2に記載の測定システムであって、ホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値を推定することは、プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおいて繰り返し製造されるホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの基準計測システムによる測定を含む、測定システム。
- 請求項2に記載の測定システムであって、前記中間プロセスステップに関連する前記1つ以上のプロセスパラメータは、リソグラフィフォーカスとリソグラフィドーズ量を含む、測定システム。
- 請求項2に記載の測定システムであって、前記複数の計測ターゲットそれぞれの測定に関連する測定データの量を決定することは、プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおいて繰り返し製造される複数の計測ターゲットの測定を含む、測定システム。
- 請求項2に記載の測定システムであって、さらに、半導体製造モデルのシミュレーションによって、プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれでの前記複数の計測ターゲットそれぞれを特徴付ける1つ以上のパラメータの値を推定することを含み、前記複数の計測ターゲットそれぞれの測定に関連する測定データの量の決定は、前記測定システムによる、前記複数の計測ターゲットそれぞれを特徴付ける1つ以上のパラメータの値での前記複数の計測ターゲットそれぞれの測定を特徴付ける計測ターゲット測定モデルのシミュレーションに基づく、測定システム。
- 請求項1に記載の測定システムであって、前記複数のホットスポット構造は比較的密な構造と比較的粗い構造を含む、測定システム。
- 請求項1に記載の測定システムであって、前記複数の計測ターゲットのうち少なくとも1つは実際のデバイス構造である、測定システム。
- 請求項9に記載の測定システムであって、前記複数の計測ターゲットはライン−スペース格子、FinFET構造、SRAMデバイス構造、フラッシュ構造およびDRAMメモリ構造のうちいずれかを含む、測定システム。
- 請求項1に記載の測定システムであって、前記ホットスポット測定モデルは、線形モデル、非線形モデル、多項式モデル、ニューラルネットワークモデル、サポートベクトルマシンモデル、決定木モデルおよびランダムフォレストモデルのうちいずれかである、測定システム。
- 請求項1に記載の測定システムであって、前記複数の計測ターゲットと前記複数のホットスポットターゲットは同じタイプの構造である、測定システム。
- 請求項1に記載の測定システムであって、前記複数の計測ターゲットそれぞれの照明と、前記複数の計測ターゲットそれぞれからの光の量の検出は、複数の異なる計測技法によって取得された測定を含む、測定システム。
- 測定システムであって、
ウェハ上の第1の複数の位置に配置された複数の計測ターゲットそれぞれを照明するように構成された照明源を備え、前記ウェハはさらに、第1の複数の位置とは異なるウェハ上の第2の複数の位置に複数のホットスポット構造を含み、前記ウェハは、半導体ウェハ製造シーケンスの中間プロセスステップの後に、照明源によって照明され、
前記測定システムはさらに、前記複数の計測ターゲットそれぞれの照明に応答した前記複数の計測ターゲットからの光量を検出して、検出された光量に基づいて測定データの量を生成するように構成された検出器と、
一定量のプログラムコードを記憶する非一時的コンピュータ可読媒体を備え、前記プログラムコードは、コンピューティングシステムによって実行された場合にコンピューティングシステムに、
複数のホットスポット構造のホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値を、測定データの量とトレーニングされたホットスポット測定モデルに基づいて決定させ、
プロセスツールに信号を通信して、それがプロセスツールに、ホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値に基づいて半導体ウェハ製造シーケンスの製造プロセスステップに関連するプロセスパラメータを調整させる、
測定システム。 - 請求項14に記載の測定システムであって、前記一定量のプログラムコードはさらに、前記コンピューティングシステムに、
前記ウェハ上の第2の複数の位置での複数のホットスポット構造の表示を受信させ、
前記ウェハ上の第1の複数の位置での複数の計測ターゲットの表示を受信させ、
中間プロセスステップを含み中間プロセスステップ以前の任意のプロセスステップに関連する1つ以上のプロセスパラメータに関連するプロセスウィンドウの表示を受信させ、
プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおけるホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値を推定させ、
プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおける複数の計測ターゲットそれぞれの測定に関連する測定データの量を決定させ、
プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおけるホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの推定値および測定データの量に基づいてホットスポット測定モデルをトレーニングさせる、
測定システム。 - 方法であって、
半導体ウェハ製造シーケンスの中間プロセスステップの後に測定システムにウェハを提供し、前記ウェハはさらに、ウェハ上の第1の複数の位置に複数のホットスポット構造と、前記第1の複数の位置とは異なるウェハ上の第2の複数の位置に複数の計測ターゲットを含み、
前記第2の複数の位置の前記複数の計測ターゲットを照明し、
前記複数の計測ターゲットそれぞれの照明に応答した前記複数の計測ターゲットそれぞれからの光量を検出して、検出された光量に基づいて測定データの量を生成し、
ホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値を、測定データの量とトレーニングされたホットスポット測定モデルに基づいて決定し、
ホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値に基づいて半導体ウェハ製造シーケンスの製造プロセスステップに関連するプロセスパラメータを調整する、
ことを含む方法。 - 請求項16に記載の方法であって、さらに、
前記ウェハ上の第1の複数の位置での複数のホットスポット構造の表示を受信し、
前記ウェハ上の第2の複数の位置での複数の計測ターゲットの表示を受信し、
中間プロセスステップを含み中間プロセスステップ以前の任意のプロセスステップに関連する1つ以上のプロセスパラメータに関連するプロセスウィンドウの表示を受信し、
プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおける複数のホットスポット構造のホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値を推定し、
プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおける複数の計測ターゲットそれぞれの測定に関連する測定データの量を決定し、
プロセスウィンドウ内の複数のプロセスポイントそれぞれにおけるホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの推定値および測定データの量に基づいてホットスポット測定モデルをトレーニングする、
ことを含む方法。 - 請求項17に記載の方法であって、前記ホットスポット構造を特徴付ける少なくとも1つのパラメータの値を推定することは、前記ホットスポット構造に関して校正された半導体製造モデルのシミュレーションを含む方法。
- 請求項17に記載の方法であって、前記中間プロセスステップに関連する前記1つ以上のプロセスパラメータは、リソグラフィフォーカスとリソグラフィードーズ量を含む方法。
- 請求項16に記載の方法であって、前記複数の計測ターゲットのうち少なくとも1つが実際のデバイス構造である方法。
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US10817999B2 (en) * | 2017-07-18 | 2020-10-27 | Kla Corporation | Image-based overlay metrology and monitoring using through-focus imaging |
US10445452B2 (en) * | 2017-10-04 | 2019-10-15 | Mentor Graphics Corporation | Simulation-assisted wafer rework determination |
US11022966B1 (en) * | 2017-12-15 | 2021-06-01 | Synopsys, Inc. | Method of modeling e-beam photomask manufacturing process using image-based artificial neural networks |
US10580673B2 (en) * | 2018-01-05 | 2020-03-03 | Kla Corporation | Semiconductor metrology and defect classification using electron microscopy |
US10714366B2 (en) * | 2018-04-12 | 2020-07-14 | Kla-Tencor Corp. | Shape metric based scoring of wafer locations |
US10872406B2 (en) | 2018-04-13 | 2020-12-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Hot spot defect detecting method and hot spot defect detecting system |
US10705514B2 (en) * | 2018-10-09 | 2020-07-07 | Applied Materials, Inc. | Adaptive chamber matching in advanced semiconductor process control |
EP3654103A1 (en) * | 2018-11-14 | 2020-05-20 | ASML Netherlands B.V. | Method for obtaining training data for training a model of a semicondcutor manufacturing process |
EP3663855A1 (en) * | 2018-12-04 | 2020-06-10 | ASML Netherlands B.V. | Sem fov fingerprint in stochastic epe and placement measurements in large fov sem devices |
CN109585483B (zh) * | 2018-12-04 | 2021-05-04 | 上海华力微电子有限公司 | 一种处理半导体晶圆的方法 |
US11520321B2 (en) * | 2019-12-02 | 2022-12-06 | Kla Corporation | Measurement recipe optimization based on probabilistic domain knowledge and physical realization |
TWI733365B (zh) * | 2020-03-10 | 2021-07-11 | 瑞昱半導體股份有限公司 | 晶圓測試機台及訓練人工智慧模型以測試晶圓的方法 |
CN113406464A (zh) * | 2020-03-17 | 2021-09-17 | 瑞昱半导体股份有限公司 | 晶圆测试机台及训练人工智能模型以测试晶圆的方法 |
US11521874B2 (en) * | 2020-09-30 | 2022-12-06 | Kla Corporation | Systems and methods for determining measurement location in semiconductor wafer metrology |
US11429091B2 (en) * | 2020-10-29 | 2022-08-30 | Kla Corporation | Method of manufacturing a semiconductor device and process control system for a semiconductor manufacturing assembly |
CN112685889B (zh) * | 2020-12-24 | 2022-04-29 | 武汉大学 | 用于检测系统缺陷的简化测试结构设计方法 |
CN113674235B (zh) * | 2021-08-15 | 2023-10-10 | 上海立芯软件科技有限公司 | 一种基于主动熵采样和模型校准的低代价光刻热点检测方法 |
CN115629579B (zh) * | 2022-10-13 | 2023-11-07 | 南京天洑软件有限公司 | 一种cstr系统的控制方法及装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004158478A (ja) * | 2002-11-01 | 2004-06-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体デバイスの製造方法及びその製造システム |
US20140297211A1 (en) * | 2013-03-27 | 2014-10-02 | Kla-Tencor Corporation | Statistical model-based metrology |
US20140316730A1 (en) * | 2013-04-19 | 2014-10-23 | Kla-Tencor Corporation | On-device metrology |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5608526A (en) | 1995-01-19 | 1997-03-04 | Tencor Instruments | Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system |
US6734967B1 (en) | 1995-01-19 | 2004-05-11 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system |
US5859424A (en) | 1997-04-08 | 1999-01-12 | Kla-Tencor Corporation | Apodizing filter system useful for reducing spot size in optical measurements and other applications |
US6324298B1 (en) | 1998-07-15 | 2001-11-27 | August Technology Corp. | Automated wafer defect inspection system and a process of performing such inspection |
US6429943B1 (en) | 2000-03-29 | 2002-08-06 | Therma-Wave, Inc. | Critical dimension analysis with simultaneous multiple angle of incidence measurements |
US6891610B2 (en) | 2000-09-20 | 2005-05-10 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining an implant characteristic and a presence of defects on a specimen |
US6895075B2 (en) | 2003-02-12 | 2005-05-17 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | X-ray reflectometry with small-angle scattering measurement |
AU2002360738A1 (en) | 2001-12-19 | 2003-07-09 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Parametric profiling using optical spectroscopic systems |
US6816570B2 (en) | 2002-03-07 | 2004-11-09 | Kla-Tencor Corporation | Multi-technique thin film analysis tool |
AU2003290752A1 (en) * | 2002-11-12 | 2004-06-03 | Fei Company | Defect analyzer |
US7478019B2 (en) | 2005-01-26 | 2009-01-13 | Kla-Tencor Corporation | Multiple tool and structure analysis |
US7567351B2 (en) | 2006-02-02 | 2009-07-28 | Kla-Tencor Corporation | High resolution monitoring of CD variations |
US7904845B2 (en) * | 2006-12-06 | 2011-03-08 | Kla-Tencor Corp. | Determining locations on a wafer to be reviewed during defect review |
US8194968B2 (en) * | 2007-01-05 | 2012-06-05 | Kla-Tencor Corp. | Methods and systems for using electrical information for a device being fabricated on a wafer to perform one or more defect-related functions |
US7567353B2 (en) * | 2007-03-28 | 2009-07-28 | Tokyo Electron Limited | Automated process control using optical metrology and photoresist parameters |
US8260034B2 (en) * | 2008-01-22 | 2012-09-04 | International Business Machines Corporation | Multi-modal data analysis for defect identification |
US9710903B2 (en) * | 2008-06-11 | 2017-07-18 | Kla-Tencor Corp. | System and method for detecting design and process defects on a wafer using process monitoring features |
US8930156B2 (en) * | 2008-07-21 | 2015-01-06 | Kla-Tencor Corporation | Metrology through use of feed forward feed sideways and measurement cell re-use |
US7929667B1 (en) | 2008-10-02 | 2011-04-19 | Kla-Tencor Corporation | High brightness X-ray metrology |
US9240254B2 (en) | 2011-09-27 | 2016-01-19 | Revera, Incorporated | System and method for characterizing a film by X-ray photoelectron and low-energy X-ray fluorescence spectroscopy |
US8434030B1 (en) | 2012-01-05 | 2013-04-30 | United Microelectronics Corporation | Integrated circuit design and fabrication method by way of detecting and scoring hotspots |
US10801975B2 (en) | 2012-05-08 | 2020-10-13 | Kla-Tencor Corporation | Metrology tool with combined X-ray and optical scatterometers |
US10013518B2 (en) | 2012-07-10 | 2018-07-03 | Kla-Tencor Corporation | Model building and analysis engine for combined X-ray and optical metrology |
US9581430B2 (en) | 2012-10-19 | 2017-02-28 | Kla-Tencor Corporation | Phase characterization of targets |
US10769320B2 (en) | 2012-12-18 | 2020-09-08 | Kla-Tencor Corporation | Integrated use of model-based metrology and a process model |
US9291554B2 (en) | 2013-02-05 | 2016-03-22 | Kla-Tencor Corporation | Method of electromagnetic modeling of finite structures and finite illumination for metrology and inspection |
US9222895B2 (en) | 2013-02-25 | 2015-12-29 | Kla-Tencor Corp. | Generalized virtual inspector |
US9355208B2 (en) * | 2013-07-08 | 2016-05-31 | Kla-Tencor Corp. | Detecting defects on a wafer |
US10935893B2 (en) | 2013-08-11 | 2021-03-02 | Kla-Tencor Corporation | Differential methods and apparatus for metrology of semiconductor targets |
US9612541B2 (en) * | 2013-08-20 | 2017-04-04 | Kla-Tencor Corporation | Qualifying patterns for microlithography |
US20150120220A1 (en) | 2013-10-29 | 2015-04-30 | Kla-Tencor Corporation | Detecting IC Reliability Defects |
-
2016
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004158478A (ja) * | 2002-11-01 | 2004-06-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体デバイスの製造方法及びその製造システム |
US20140297211A1 (en) * | 2013-03-27 | 2014-10-02 | Kla-Tencor Corporation | Statistical model-based metrology |
US20140316730A1 (en) * | 2013-04-19 | 2014-10-23 | Kla-Tencor Corporation | On-device metrology |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
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