JP2018193359A

JP2018193359A - Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern

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Publication number: JP2018193359A
Application number: JP2018062579A
Authority: JP
Inventors: 達郎増山; Tatsuro Masuyama; 市川　幸司; Koji Ichikawa; 幸司市川
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2017-05-17
Filing date: 2018-03-28
Publication date: 2018-12-06
Anticipated expiration: 2038-03-28
Also published as: JP7077102B2

Abstract

To provide a resin and a resist composition capable of producing a resist pattern with good LER.SOLUTION: Provided is a compound represented by formula (I) [Ris H or methyl; Ris a C1-6 alkyl; Lis a single bond or a C1-3 alkanediyl; Lis a C1-3 alkanediyl; Ar is a substituted/unsubstituted C6-36 divalent aromatic hydrocarbon; Xis a group represented by one of formulae (X-2) to (X-5); ** is a bond with A; and Ais a single bond, a C1-24 divalent saturated hydrocarbon, or the like].SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、化合物、樹脂、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターンの製造方法等に関する。 The present invention relates to a compound, a resin, a resist composition, a method for producing a resist pattern using the resist composition, and the like.

特許文献１には、下記化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含有するレジスト組成物が記載されている。
特許文献２には、下記化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含有するレジスト組成物が記載されている。
Patent Document 1 describes a resist composition containing a resin having a structural unit derived from the following compound.
Patent Document 2 describes a resist composition containing a resin having a structural unit derived from the following compound.

特開２０１０−１２２５７９号公報JP 2010-122579 A 特開２０１２−０３２７６２号公報JP 2012-032762 A

本発明は、上記化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含有するレジスト組成物から形成されたレジストパターンよりも、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なレジストパターンを製造することができる化合物、該化合物に由来する構造単位を有する樹脂、及び該樹脂を含有するレジスト組成物を提供することを課題とする。 The present invention provides a compound capable of producing a resist pattern having better line edge roughness (LER) than a resist pattern formed from a resist composition containing a resin having a structural unit derived from the above compound, the compound It is an object of the present invention to provide a resin having a structural unit derived from the above and a resist composition containing the resin.

本発明は、以下の発明を含む。
［１］式（Ｉ）で表される化合物。
［式（Ｉ）中、
Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^２は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜３のアルカンジイル基を表す。
Ｌ^２は、炭素数１〜３のアルカンジイル基を表す。
Ａｒは、置換基を有していてもよい炭素数６〜３６の２価の芳香族炭化水素基を表す。
Ｘ^１は、式（Ｘ^１−２）〜式（Ｘ^１−５）のいずれかで表される基を表す。
（式（Ｘ^１−２）〜式（Ｘ^１−５）中、
＊、＊＊は結合手であり、＊＊はＡ^１との結合手を表す。）
Ａ¹は、単結合又は炭素数１〜２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。］
［２］Ａｒが、−ＯＲ^３（Ｒ^３は、炭素数１〜１２のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）を有する炭素数６〜３６の２価の芳香族炭化水素基である［１］記載の化合物。
［３］Ｘ^１が、式（Ｘ^１−３）で表される基又は式（Ｘ^１−４）で表される基である［１］又は［２］に記載の化合物。
［４］Ａｒが、フェニレン基である［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。
［５］［１］〜［４］のいずれかに記載の化合物に由来する構造単位を有する樹脂。
［６］さらに、酸不安定基を有する構造単位を含む［５］記載の樹脂。
［７］酸不安定基を有する構造単位が、式（ａ１−０）で表される構造単位、式（ａ１−１）で表される構造単位及び式（ａ１−２）で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも１つである［６］記載の樹脂。
［式（ａ１−０）、式（ａ１−１）及び式（ａ１−２）中、
Ｌ^a01、Ｌ^ａ１及びＬ^ａ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は^＊−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１−ＣＯ−Ｏ−を表し、ｋ１は１〜７のいずれかの整数を表し、＊は−ＣＯ−との結合手を表す。
Ｒ^a01、Ｒ^ａ４及びＲ^ａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^a02、Ｒ^a03及びＲ^a04は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
ｍ１は０〜１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は０〜１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は０〜３のいずれかの整数を表す。］
［８］［５］〜［７］のいずれか記載の樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。
［９］酸発生剤が、式（Ｂ１）で表される塩を含む［８］記載のレジスト組成物。
［式（Ｂ１）中、
Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｌ^ｂ１は、炭素数１〜２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｙは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）_２−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］
［１０］酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩をさらに含有する［８］又は［９］記載のレジスト組成物。
［１１］さらに、フッ素原子を有する構造単位を含む樹脂を含有する［８］〜［１０］のいずれかに記載のレジスト組成物。
［１２］（１）［８］〜［１１］のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程、
を含むレジストパターンの製造方法。 The present invention includes the following inventions.
[1] A compound represented by the formula (I).
[In the formula (I),
R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group.
R ² represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L ¹ represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.
L ² represents an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.
Ar represents a C6-C36 divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
X ¹ represents a group represented by any one of formulas (X ¹ -2) to (X ¹ -5).
(In the formula (X ¹ -2) to the formula (X ¹ -5),
*, ** denotes a bond, and ** represents a bond to ^{A 1.} )
A ¹ represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. . ]
[2] Ar represents —OR ³ (R ³ represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the alkyl group may be replaced by —O— or —CO—. The compound according to [1], which is a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms and having.
[3] ^{X 1} is A compound according to a group of the formula group or the formula represented by ^{^{(X 1 -3) (X 1}} -4) [1] or [2].
[4] The compound according to any one of [1] to [3], wherein Ar is a phenylene group.
[5] A resin having a structural unit derived from the compound according to any one of [1] to [4].
[6] The resin according to [5], further comprising a structural unit having an acid labile group.
[7] The structural unit having an acid labile group is a structural unit represented by the formula (a1-0), a structural unit represented by the formula (a1-1), or a structure represented by the formula (a1-2). The resin according to [6], which is at least one selected from the group consisting of units.
[In Formula (a1-0), Formula (a1-1) and Formula (a1-2),
L ^a01 , L ^a1 and L ^a2 each independently represent —O— or ^* —O— (CH ₂ ) _k1 —CO—O—, k1 represents any integer of 1 to 7, and * represents It represents a bond with —CO—.
R ^a01 , R ^a4 and R ^a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R ^a02 , R ^a03 and R ^a04 each independently ^represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
R ^a6 and R ^a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these.
m1 represents an integer of 0 to 14.
n1 represents any integer of 0 to 10.
n1 ′ represents any integer of 0 to 3. ]
[8] A resist composition comprising the resin according to any one of [5] to [7] and an acid generator.
[9] The resist composition according to [8], wherein the acid generator contains a salt represented by the formula (B1).
[In the formula (B1),
Q ^b1 and Q ^b2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
L ^b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. The hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents an optionally substituted methyl group or an optionally substituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and is included in the alicyclic hydrocarbon group − CH ₂ — may be replaced by —O—, —S (O) ₂ —, or —CO—.
Z ⁺ represents an organic cation. ]
[10] The resist composition according to [8] or [9], further comprising a salt that generates an acid having a lower acidity than an acid generated from an acid generator.
[11] The resist composition according to any one of [8] to [10], further comprising a resin containing a structural unit having a fluorine atom.
[12] (1) A step of applying the resist composition according to any one of [8] to [11] on a substrate,
(2) The process of drying the composition after application | coating and forming a composition layer,
(3) a step of exposing the composition layer;
(4) a step of heating the composition layer after exposure, and (5) a step of developing the composition layer after heating,
A method for producing a resist pattern including:

本発明の化合物に由来する構造単位を有する樹脂を使用したレジスト組成物を用いることにより、良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）でレジストパターンを製造することができる。 By using a resist composition using a resin having a structural unit derived from the compound of the present invention, a resist pattern can be produced with good line edge roughness (LER).

本明細書において、特筆しない限り、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート及びメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも一種」を意味する。「（メタ）アクリル酸」や「（メタ）アクリロイル」等の表記も、同様の意味を有する。「ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）−ＣＯ−」又は「ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯ−」を有する構造単位が例示されている場合には、双方の基を有する構造単位が同様に例示されているものとする。また、立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を包含する。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤（Ｅ）を除いた成分の合計を意味する。 In the present specification, unless otherwise specified, “(meth) acrylate” means “at least one selected from the group consisting of acrylate and methacrylate”. The notations such as “(meth) acrylic acid” and “(meth) acryloyl” have the same meaning. When structural units having “CH ₂ ═C (CH ₃ ) —CO—” or “CH ₂ ═CH—CO—” are exemplified, the structural units having both groups are also exemplified. Shall. Moreover, when a stereoisomer exists, all the stereoisomers are included.
In the present specification, the “solid content of the resist composition” means the total of components excluding the solvent (E) described later from the total amount of the resist composition.

〔式（Ｉ）で表される化合物〕
本発明は、式（Ｉ）で表される化合物（以下「化合物（Ｉ）」という場合がある）に関する。
［式（Ｉ）中、
Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^２は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜３のアルカンジイル基を表す。
Ｌ^２は、炭素数１〜３のアルカンジイル基を表す。
Ａｒは、置換基を有してもよい炭素数６〜３６の２価の芳香族炭化水素基を表す。
Ｘ^１は、式（Ｘ^１−２）〜式（Ｘ^１−５）のいずれかで表される基を表す。
（式（Ｘ^１−２）〜式（Ｘ^１−５）中、
＊、＊＊は結合手であり、＊＊はＬ^１との結合手を表す。）
Ａ¹は、単結合又は炭素数１〜２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。］ [Compound represented by formula (I)]
The present invention relates to a compound represented by formula (I) (hereinafter sometimes referred to as “compound (I)”).
[In the formula (I),
R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group.
R ² represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L ¹ represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.
L ² represents an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.
Ar represents a C6-C36 divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
X ¹ represents a group represented by any one of formulas (X ¹ -2) to (X ¹ -5).
(In the formula (X ¹ -2) to the formula (X ¹ -5),
*, ** is a bond, ** represents a bond to ^{L 1.} )
A ¹ represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. . ]

Ｒ^２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
Ｌ^１及びＬ^２のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group for R ² include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.
Examples of the alkanediyl group of L ¹ and L ² include a methylene group, an ethylene group, and a propanediyl group.

Ａｒの２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基等の炭素数６〜３６のアリーレン基が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、好ましくは炭素数６〜２４であり、より好ましくは炭素数６〜１８である。
Ａｒが有していてもよい置換基としては、−ＯＲ^３で表される基が挙げられる。ここで、Ｒ^３は、炭素数１〜１２のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。Ｒ^３のアルキル基としては、Ｒ^２のアルキル基と同様の基が挙げられる。
Ｒ^３のアルキル基に含まれる−ＣＨ_２−が、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わった基としては、ヒドロキシエチル基、エトキシエチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、アセトオキシ基等が挙げられる。 Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group for Ar include arylene groups having 6 to 36 carbon atoms such as a phenylene group, a naphthylene group, and an anthrylene group.
The aromatic hydrocarbon group preferably has 6 to 24 carbon atoms, and more preferably 6 to 18 carbon atoms.
Examples of the substituent that Ar may have include a group represented by —OR ³ . Here, R ³ represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the alkyl group may be replaced with —O— or —CO—. Examples of the alkyl group for R ³ include the same groups as the alkyl group for R ² .
Examples of the group in which —CH ₂ — contained in the alkyl group of R ³ is replaced by —O— or —CO— include a hydroxyethyl group, an ethoxyethyl group, a hydroxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, and an acetoxy group. Can be mentioned.

Ａ¹で表される２価の飽和炭化水素基としては、アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち２種以上を組み合わせたものでもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、ノナン−１，９−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、ウンデカン−１，１１−ジイル基、ドデカン−１，１２−ジイル基、トリデカン−１，１３−ジイル基、テトラデカン−１，１４−ジイル基、ペンタデカン−１，１５−ジイル基、ヘキサデカン−１，１６−ジイル基及びヘプタデカン−１，１７−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；
エタン−１，１−ジイル基、プロパン−１，１−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−２，２−ジイル基、ペンタン−２，４−ジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，４−ジイル基、２−メチルブタン−１，４−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；
シクロブタン−１，３−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロオクタン−１，５−ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の２価の脂環式飽和炭化水素基；
ノルボルナン−１，４−ジイル基、ノルボルナン−２，５−ジイル基、アダマンタン−１，５−ジイル基、アダマンタン−２，６−ジイル基等の多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。 Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by A ¹ include alkanediyl groups, monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon groups, and two or more of these groups. May be combined.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1 , 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group , Tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group Alkanediyl group;
Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- Branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Monocyclic 2 which is a cycloalkanediyl group such as cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclooctane-1,5-diyl group Valent alicyclic saturated hydrocarbon group;
Polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, adamantane-2,6-diyl group, etc. Groups and the like.

Ｒ^１は、メチル基であることが好ましい。
Ｒ^２は、メチル基、エチル基又はプロピル基であることが好ましく、メチル基、エチル基又はイソプロピル基であることがより好ましい。
Ｒ^３は、メチル基、エチル基、メトキシエチル基又はエトキシエチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
Ｌ^１は、単結合、メチレン基又はエチレン基であることが好ましく、単結合又はメチレン基であることがより好ましい。
Ｌ^２は、メチレン基、エチレン基又はプロパン−１，３−ジイル基であることが好ましく、エチレン基又はプロパン−１，３−ジイル基であることがより好ましい。
Ａｒは、置換基を有するフェニレン基であることが好ましく、−ＯＲ^３の置換基を有するフェニレン基であることがより好ましい。
Ｘ^１は、式（Ｘ^１−３）又は式（Ｘ^１−４）で表される基であることが好ましい。 R ¹ is preferably a methyl group.
R ² is preferably a methyl group, an ethyl group or a propyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group.
R ³ is preferably a methyl group, an ethyl group, a methoxyethyl group or an ethoxyethyl group, and more preferably a methyl group.
L ¹ is preferably a single bond, a methylene group or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.
L ² is preferably a methylene group, an ethylene group or a propane-1,3-diyl group, and more preferably an ethylene group or a propane-1,3-diyl group.
Ar is preferably a phenylene group having a substituent, and more preferably a phenylene group having a substituent of —OR ³ .
X ¹ is preferably a group represented by the formula (X ¹ -3) or the formula (X ¹ -4).

Ａ¹は、単結合、アルカンジイル基（但し、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）又はアルカンジイル基と脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせてなる基（但し、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、該脂環式飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−Ｓ（Ｏ）_２−に置き換わっていてもよい。）であることが好ましく、単結合又はアルカンジイル基と脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせてなる基（但し、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）であることがより好ましく、単結合又はアルカンジイル基とアダマンタンジイル基とを組み合わせてなる基（但し、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。）であることがさらに好ましく、単結合であることがさらにより好ましい。 A ¹ is a single bond, an alkanediyl group (however, —CH ₂ — contained in the alkanediyl group may be replaced by —O— or —CO—) or an alkanediyl group and alicyclic saturation. A group formed by combining with a hydrocarbon group (provided that —CH ₂ — contained in the alkanediyl group may be replaced by —O— or —CO—, and is contained in the alicyclic saturated hydrocarbon group; —CH ₂ — may preferably be replaced by —O—, —S—, —CO— or —S (O) ₂ —, and is a single bond or alkanediyl group and alicyclic saturation. A group formed by combining with a hydrocarbon group (provided that —CH ₂ — contained in the alkanediyl group may be replaced by —O— or —CO—) is more preferable. Alkanediyl group and adamantanediyl group It is more preferable that the group is a group formed by combining (wherein —CH ₂ — contained in the alkanediyl group may be replaced by —O— or —CO—), and more preferably a single bond. More preferred.

化合物（Ｉ）としては、例えば、下記に記載の化合物が挙げられる。
Examples of compound (I) include the compounds described below.

式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４２）で表される化合物において、式（Ｉ）のＲ^１に相当するメチル基が水素原子に置き換わった化合物も、化合物（Ｉ）の具体例として挙げることができる。なかでも、Ｘ^１が式（Ｘ^１−３）で表される基又は式（Ｘ^１−４）で表される基である化合物が好ましく、式（Ｉ−７）〜式（Ｉ−１８）、式（Ｉ−２５）〜式（Ｉ−３０）、式（Ｉ−３４）〜式（Ｉ−３９）で表される化合物が好ましく、特に式（Ｉ−７）〜式（Ｉ−１８）、式（Ｉ−３４）〜式（Ｉ−３９）で表される化合物がさらに好ましい。 In the compounds represented by formula (I-1) to formula (I-42), compounds in which the methyl group corresponding to R ¹ in formula (I) is replaced by a hydrogen atom are also given as specific examples of compound (I). be able to. Among these, compounds in which X ¹ is a group represented by the formula (X ¹ -3) or a group represented by the formula (X ¹ -4) are preferable, and the compounds represented by the formula (I-7) to the formula (I-18) The compounds represented by formula (I-25) to formula (I-30), formula (I-34) to formula (I-39) are preferred, and in particular, formula (I-7) to formula (I-18) The compounds represented by formulas (I-34) to (I-39) are more preferred.

＜化合物（Ｉ）の製造方法＞
Ｘ^１が式（Ｘ^１−３）又は式（Ｘ^１−４）で表される基であり、Ａ¹が単結合である化合物（Ｉ１）（但し、Ｘ^１１は単結合又は−ＣＯ−Ｏ−を表す）は、式（Ｉ１−ａ）で表される化合物と式（Ｉ１−ｂ）で表される化合物とを、触媒存在下、溶媒中で反応させることにより得ることができる。
（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。） <Method for Producing Compound (I)>
X ¹ is a group represented by the formula ^(X 1 -3) or Formula ^(X 1 -4), Compound A ¹ is a single bond (I1) ^{(where, X 11} is a single bond or a -CO-O Can be obtained by reacting the compound represented by the formula (I1-a) with the compound represented by the formula (I1-b) in a solvent in the presence of a catalyst.
(In the formula, all symbols have the same meaning as described above.)

触媒としては、カルボニルジイミダゾールなどが挙げられる。
溶媒としては、テトラヒドロフラン、メチルイソブチルケトン及びトルエンなどが挙げられる。
反応温度は通常０℃〜８０℃であり、反応時間は通常０．５時間〜２４時間である。
式（Ｉ１−ｂ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
Examples of the catalyst include carbonyldiimidazole.
Examples of the solvent include tetrahydrofuran, methyl isobutyl ketone and toluene.
The reaction temperature is usually from 0 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually from 0.5 hours to 24 hours.
Examples of the compound represented by the formula (I1-b) include a compound represented by the following formula, and can be easily obtained from the market.

式（Ｉ１−ａ）で表される化合物は、式（Ｉ１−ｃ）で表される化合物と式（Ｉ１−ｄ１）で表される化合物とを、溶媒中で反応させることにより得ることができる。
（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）
この反応における溶媒としては、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常０℃〜６０℃であり、反応時間は通常０．５時間〜２４時間である。 The compound represented by the formula (I1-a) can be obtained by reacting the compound represented by the formula (I1-c) with the compound represented by the formula (I1-d1) in a solvent. .
(In the formula, all symbols have the same meaning as described above.)
Examples of the solvent in this reaction include tetrahydrofuran, acetonitrile, and the like.
The reaction temperature is usually 0 ° C to 60 ° C, and the reaction time is usually 0.5 hours to 24 hours.

式（Ｉ１−ｃ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
Examples of the compound represented by the formula (I1-c) include compounds represented by the following formula, and can be easily obtained from the market.

式（Ｉ１−ｄ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
Examples of the compound represented by the formula (I1-d) include a compound represented by the following formula, and can be easily obtained from the market.

Ｘ^１が式（Ｘ^１−２）又は式（Ｘ^１−５）で表される基であり、Ａ¹が単結合である化合物（Ｉ２）（但し、Ｘ^１１は単結合又は−ＣＯ−Ｏ−を表す）は、式（Ｉ１−ａ）で表される化合物と式（Ｉ２−ｂ）で表される化合物とを、触媒存在下、溶媒中で反応させることにより得ることができる。
（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。） X ¹ is a group represented by the formula ^(X 1 -2) or Formula ^(X 1 -5), Compound A ¹ is a single bond (I2) ^{(where, X 11} is a single bond or a -CO-O Can be obtained by reacting the compound represented by the formula (I1-a) with the compound represented by the formula (I2-b) in a solvent in the presence of a catalyst.
(In the formula, all symbols have the same meaning as described above.)

触媒としては、ピリジン、Ｎ-メチル-ピロリジン、ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。
溶媒としては、テトラヒドロフラン、メチルイソブチルケトン及びトルエンなどが挙げられる。
反応温度は通常０℃〜８０℃であり、反応時間は通常０．５時間〜２４時間である。
式（Ｉ２−ｂ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
Examples of the catalyst include pyridine, N-methyl-pyrrolidine, dimethylaminopyridine and the like.
Examples of the solvent include tetrahydrofuran, methyl isobutyl ketone and toluene.
The reaction temperature is usually from 0 ° C to 80 ° C, and the reaction time is usually from 0.5 hours to 24 hours.
Examples of the compound represented by the formula (I2-b) include compounds represented by the following formula, and can be easily obtained from the market.

〔樹脂〕
本発明の樹脂は、化合物（Ｉ）に由来する構造単位（以下「構造単位（Ｉ）」という場合がある。）を含む樹脂（以下「樹脂（Ａ）」という場合がある。）である。樹脂（Ａ）は、化合物（Ｉ）のホモポリマーであってもよいし、構造単位（Ｉ）以外の構造単位を１以上含むポリマーであってもよい。構造単位（Ｉ）以外の構造単位としては、酸不安定基を有する構造単位（以下「構造単位(ａ１）」という場合がある）、酸不安定基を有する構造単位以外の構造単位であってハロゲン原子を有する構造単位（以下「構造単位（ａ４）」という場合がある）、酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ｓ）」という場合がある）、非脱離炭化水素基を有する構造単位（以下「構造単位（ａ５）」という場合がある）等が挙げられる。ここで、酸不安定基とは、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基）を形成する基を意味する。なかでも、樹脂（Ａ）は、構造単位（Ｉ）以外に、さらに酸不安定基を含有することが好ましく、構造単位（ａ１）を有することがより好ましい。
樹脂（Ａ）が酸不安定基を有する構造単位を含む場合（以下「樹脂（Ａ１）」という場合がある。）、本発明の樹脂（Ａ１）における構造単位（Ｉ）の含有率は、本発明の樹脂（Ａ１）の全構造単位の合計に対して、通常５〜９０モル％であり、好ましくは５〜６５モル％であり、より好ましくは１０〜５０モル％である。
樹脂（Ａ）が後述する式（ａ４）及び／又は（ａ５）で表される構造単位を含む場合（以下「樹脂（ＡＸ）」という場合がある。）、本発明の樹脂（ＡＸ）における構造単位（Ｉ）の含有率は、本発明の樹脂（ＡＸ）の全構造単位の合計に対して、好ましくは５〜７５モル％であり、より好ましくは１０〜７０モル％であり、さらに好ましくは１０〜６５モル％であり、特に好ましくは１０〜６０モル％である。〔resin〕
The resin of the present invention is a resin containing a structural unit derived from compound (I) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (I)”) (hereinafter sometimes referred to as “resin (A)”). Resin (A) may be a homopolymer of compound (I) or a polymer containing one or more structural units other than structural unit (I). The structural unit other than the structural unit (I) includes a structural unit having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a1)”), and a structural unit other than the structural unit having an acid labile group. A structural unit having a halogen atom (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a4)”), a structural unit having no acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (s)”), non-elimination carbonization And a structural unit having a hydrogen group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a5)”). Here, the acid labile group means a group having a leaving group and forming a hydrophilic group (for example, a hydroxy group or a carboxy group) by leaving the leaving group by contact with an acid. Especially, it is preferable that resin (A) contains an acid labile group other than structural unit (I), and it is more preferable to have structural unit (a1).
When the resin (A) contains a structural unit having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “resin (A1)”), the content of the structural unit (I) in the resin (A1) of the present invention is It is 5-90 mol% normally with respect to the sum total of all the structural units of resin (A1) of invention, Preferably it is 5-65 mol%, More preferably, it is 10-50 mol%.
When the resin (A) contains a structural unit represented by the formula (a4) and / or (a5) described later (hereinafter sometimes referred to as “resin (AX)”), the structure in the resin (AX) of the present invention The content of the unit (I) is preferably 5 to 75 mol%, more preferably 10 to 70 mol%, still more preferably with respect to the total of all structural units of the resin (AX) of the present invention. It is 10-65 mol%, Most preferably, it is 10-60 mol%.

〈構造単位（ａ１）〉
構造単位（ａ１）は、酸不安定基を有するモノマー（以下「モノマー（ａ１）」という場合がある）から導かれる。
樹脂（Ａ）に含まれる酸不安定基は、式（１）で表される基（以下、基（１）とも記す）及び／又は式（２）で表される基（以下、基（２）とも記す）が好ましい。
［式（１）中、Ｒ^a1〜Ｒ^a3は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ｒ^a1及びＲ^a2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基を形成する。
ｍａ及びｎａは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｍａ及びｎａの少なくとも一方は１を表す。
＊は結合手を表す。］
［式（２）中、Ｒ^ａ１’及びＲ^ａ２’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、Ｒ^ａ３’は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表すか、Ｒ^ａ２’及びＲ^ａ３’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに炭素数３〜２０の複素環基を形成し、該炭化水素基及び該複素環基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置き換わってもよい。
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎａ’は、０又は１を表す。
＊は結合手を表す。］ <Structural unit (a1)>
The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “monomer (a1)”).
The acid labile group contained in the resin (A) is a group represented by formula (1) (hereinafter also referred to as group (1)) and / or a group represented by formula (2) (hereinafter referred to as group (2). )) Is preferred.
[In the formula (1), R ^{a1 to} R ^a3 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a combination of these, or R ^a1 and R ^a2 are bonded to each other to form an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.
ma and na each independently represents 0 or 1, and at least one of ma and na represents 1.
* Represents a bond. ]
[In formula (2), R ^{a1 ′} and R ^{a2 ′} each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R ^{a3 ′} represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. R ^{a2 ′} and R ^{a3 ′} are bonded to each other to form a heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded and X, and are included in the hydrocarbon group and the heterocyclic group − CH ₂ — may be replaced by —O— or —S—.
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
na ′ represents 0 or 1.
* Represents a bond. ]

Ｒ^a1〜Ｒ^a3におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
Ｒ^a1〜Ｒ^a3における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等が挙げられる。Ｒ^a1〜Ｒ^a3の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは３〜１６である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられる。
好ましくは、ｍａは０であり、ｎａは１である。
Ｒ^a1及びＲ^a2が互いに結合して脂環式炭化水素基を形成する場合の−Ｃ（Ｒ^a1）（Ｒ^a2）（Ｒ^a3）としては、下記の基が挙げられる。脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数３〜１２である。＊は−Ｏ−との結合手を表す。
^Examples of the alkyl group in R ^{a1 to} R ^a3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group.
The alicyclic hydrocarbon group in R ^{a1 to} R ^a3 may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following group (* represents a bond). Carbon number of the alicyclic hydrocarbon group of R ^{a1 to} R ^a3 is preferably 3 to 16.
Examples of the group in which an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group are combined include, for example, methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, methylnorbornyl group, cyclohexylmethyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornyl An ethyl group etc. are mentioned.
Preferably, ma is 0 and na is 1.
Examples of —C (R ^a1 ) (R ^a2 ) (R ^a3 ) when R ^a1 and R ^a2 are bonded to each other to form an alicyclic hydrocarbon group include the following groups. The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 12 carbon atoms. * Represents a bond with -O-.

Ｒ^ａ１’〜Ｒ^ａ３’における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ｒ^ａ１〜Ｒ^ａ３で挙げた基と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｐ−アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６−ジエチルフェニル基、２−メチル−６−エチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基、ベンジル基等のアラルキル基、フェニルシクロヘキシル基等のアリール−シクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒ^ａ２’及びＲ^ａ３’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに形成する２価の複素環基としては、下記の基が挙げられる。＊は、結合手を表す。
Ｒ^ａ１’及びＲ^ａ２’のうち、少なくとも１つは水素原子であることが好ましい。
ｎａ’は、好ましくは０である。 Examples of the hydrocarbon group in R ^{a1 ′} to R ^{a3 ′} include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.
Examples of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group include the same groups as those described for R ^{a1 to} R ^a3 .
The aromatic hydrocarbon group includes phenyl, naphthyl, anthryl, p-methylphenyl, p-tert-butylphenyl, p-adamantylphenyl, tolyl, xylyl, cumenyl, mesityl, biphenyl. Group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group, aryl group such as 2-methyl-6-ethylphenyl group, and the like.
Examples of the combined group include a group obtained by combining the above-described alkyl group and alicyclic hydrocarbon group, an aralkyl group such as a benzyl group, and an aryl-cyclohexyl group such as a phenylcyclohexyl group.
^{Examples of the} divalent heterocyclic group formed together with the carbon atom to which R ^{a2 ′} and R ^{a3 ′} are bonded to each other and X, and X include the following groups. * Represents a bond.
Of R ^{a1 ′} and R ^{a2 ′} , at least one is preferably a hydrogen atom.
na ′ is preferably 0.

基（１）としては、以下の基が挙げられる。
式（１）においてＲ^a1〜Ｒ^a3がアルキル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。当該基としては、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基が好ましい。
式（１）において、Ｒ^a1、Ｒ^a2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマンチル基を形成し、Ｒ^a3がアルキル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。
式（１）において、Ｒ^a1及びＲ^a2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ｒ^a3がアダマンチル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。
基（１）としては、具体的には以下の基が挙げられる。＊は結合手を表す。
Examples of the group (1) include the following groups.
In the formula (1), R ^{a1 to} R ^a3 are alkyl groups, ma = 0, and na = 1. As the group, a tert-butoxycarbonyl group is preferable.
In formula (1), R ^a1 and R ^a2 together with the carbon atom to which they are bonded form an adamantyl group, R ^a3 is an alkyl group, ma = 0 and na = 1 .
In the formula (1), R ^a1 and R ^a2 are each independently an alkyl group, R ^a3 is an adamantyl group, ma = 0, and na = 1.
Specific examples of the group (1) include the following groups. * Represents a bond.

基（２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。＊は結合手を表す。
Specific examples of the group (2) include the following groups. * Represents a bond.

モノマー（ａ１）は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーである。 The monomer (a1) is preferably a monomer having an acid labile group and an ethylenically unsaturated bond, more preferably a (meth) acrylic monomer having an acid labile group.

酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数５〜２０の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー（ａ１）に由来する構造単位を有する樹脂（Ａ）をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。 Among the (meth) acrylic monomers having an acid labile group, those having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms are preferable. If the resin (A) having a structural unit derived from the monomer (a1) having a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group is used in the resist composition, the resolution of the resist pattern can be improved.

基（１）を有する（メタ）アクリル系モノマーに由来する構造単位として、好ましくは、式（ａ１−０）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１−０）という場合がある。）、式（ａ１−１）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１−１）という場合がある。）又は式（ａ１−２）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１−２）という場合がある。）が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
［式（ａ１−０）、式（ａ１−１）及び式（ａ１−２）中、
Ｌ^a01、Ｌ^ａ１及びＬ^ａ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は^＊−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１−ＣＯ−Ｏ−を表し、ｋ１は１〜７のいずれかの整数を表し、＊は−ＣＯ−との結合手を表す。
Ｒ^a01、Ｒ^ａ４及びＲ^ａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^a02、Ｒ^a03及びＲ^a04は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
ｍ１は０〜１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は０〜１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は０〜３のいずれかの整数を表す。］ The structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having the group (1) is preferably a structural unit represented by the formula (a1-0) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (a1-0)). , A structural unit represented by formula (a1-1) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (a1-1)) or a structural unit represented by formula (a1-2) (hereinafter structural unit (a1- 2) in some cases). These may be used alone or in combination of two or more.
[In Formula (a1-0), Formula (a1-1) and Formula (a1-2),
L ^a01 , L ^a1 and L ^a2 each independently represent —O— or ^* —O— (CH ₂ ) _k1 —CO—O—, k1 represents any integer of 1 to 7, and * represents It represents a bond with —CO—.
R ^a01 , R ^a4 and R ^a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R ^a02 , R ^a03 and R ^a04 each independently ^represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
R ^a6 and R ^a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these.
m1 represents an integer of 0 to 14.
n1 represents any integer of 0 to 10.
n1 ′ represents any integer of 0 to 3. ]

Ｒ^a01、Ｒ^a4及びＲ^a5は、好ましくはメチル基である。
Ｌ^a01、Ｌ^ａ１及びＬ^ａ２は、好ましくは酸素原子又は＊−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ０１−ＣＯ−Ｏ−であり（但し、ｋ０１は、好ましくは１〜４のいずれかの整数、より好ましくは１である。）、より好ましくは酸素原子である。
Ｒ^a02、Ｒ^a03、Ｒ^a04、Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７におけるアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式（１）のＲ^ａ１〜Ｒ^ａ３で挙げた基と同様の基が挙げられる。
Ｒ^a02、Ｒ^a03、及びＲ^a04におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは１〜６であり、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは１〜６であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
Ｒ^a02、Ｒ^a03及びＲ^a04の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは５〜１２であり、より好ましくは５〜１０である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、１８以下であることが好ましい。
Ｒ^a02及びＲ^a03は、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒ^a04は、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数５〜１２の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは１〜６であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
ｍ１は、好ましくは０〜３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１は、好ましくは０〜３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１’は好ましくは０又は１である。 R ^a01 , R ^a4 and R ^a5 are preferably methyl groups.
L ^a01 , L ^a1 and L ^a2 are preferably an oxygen atom or * —O— (CH ₂ ) _k01 —CO—O— (where k01 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably Is 1.), more preferably an oxygen atom.
Examples of the alkyl group, alicyclic hydrocarbon group, and a combination thereof in R ^a02 , R ^a03 , R ^a04 , R ^a6, and R ^a7 are the same as those ^exemplified for R ^{a1 to} R ^a3 in formula (1). Groups.
The carbon number of the alkyl group in R ^a02 , R ^a03 and R ^a04 is preferably 1 to 6, more preferably a methyl group or an ethyl group, and still more preferably a methyl group.
The carbon number of the alkyl group in R ^a6 and R ^a7 is preferably 1 to 6, more preferably a methyl group, an ethyl group, or an isopropyl group, and still more preferably an ethyl group or an isopropyl group.
Carbon number of the alicyclic hydrocarbon group of R ^a02 , R ^a03 and R ^a04 is preferably 5 to 12, more preferably 5 to 10.
The group in which the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group are combined preferably has a total carbon number of 18 or less in combination of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group.
R ^a02 and R ^a03 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group.
R ^a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group, or an adamantyl group.
The carbon number of the alkyl group in R ^a6 and R ^a7 is preferably 1 to 6, more preferably a methyl group, an ethyl group, or an isopropyl group, and still more preferably an ethyl group or an isopropyl group.
m1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 1.
n1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 1.
n1 ′ is preferably 0 or 1.

構造単位（ａ１−０）としては、例えば、式（ａ１−０−１）〜式（ａ１−０−１２）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１−０）におけるＲ^ａ０１に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１−０−１）〜式（ａ１−０−１０）のいずれかで表される構造単位が好ましい。
As the structural unit (a1-0), for example, R ^a01 in the structural unit represented by any of the formulas (a1-0-1) to (a1-0-12) and the structural unit (a1-0) Examples include a structural unit in which a corresponding methyl group is replaced with a hydrogen atom, and a structural unit represented by any one of formulas (a1-0-1) to (a1-0-10) is preferable.

構造単位（ａ１−１）としては、例えば、特開２０１０−２０４６４６号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式（ａ１−１−１）〜式（ａ１−１−４）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１−１）におけるＲ^ａ４に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式（ａ１−１−１）〜式（ａ１−１−４）のいずれかで表される構造単位がより好ましい。
As a structural unit (a1-1), the structural unit derived from the monomer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-204646 is mentioned, for example. Especially, the methyl group corresponding to R ^a4 in the structural unit represented by any one of the formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) and the structural unit (a1-1) was replaced with a hydrogen atom. A structural unit is preferable, and a structural unit represented by any one of formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) is more preferable.

構造単位（ａ１−２）としては、式（ａ１−２−１）〜式（ａ１−２−６）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１−２）におけるＲ^ａ５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１−２−２）、式（ａ１−２−５）及び式（ａ１−２−６）が好ましい。
The structural unit (a1-2) corresponds to the structural unit represented by any one of the formulas (a1-2-1) to (a1-2-6) and R ^a5 in the structural unit (a1-2). Examples include a structural unit in which a methyl group is replaced with a hydrogen atom, and the formula (a1-2-2), the formula (a1-2-5), and the formula (a1-2-6) are preferable.

樹脂（Ａ）が構造単位（ａ１−０）及び／又は構造単位（ａ１−１）及び／又は構造単位（ａ１−２）を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、
通常１０〜９５モル％であり、好ましくは１５〜７０モル％であり、より好ましくは１５〜６５モル％であり、さらに好ましくは２０〜６０モル％であり、さらにより好ましくは２０〜５５モル％である。 When the resin (A) includes the structural unit (a1-0) and / or the structural unit (a1-1) and / or the structural unit (a1-2), the total content thereof is the total structure of the resin (A). For units
Usually, it is 10-95 mol%, Preferably it is 15-70 mol%, More preferably, it is 15-65 mol%, More preferably, it is 20-60 mol%, More preferably, it is 20-55 mol% It is.

構造単位（ａ１）において基（２）を有する構造単位としては、式（ａ１−４）で表される構造単位（以下、「構造単位（ａ１−４）」という場合がある。）が挙げられる。
［式（ａ１−４）中、
Ｒ^a32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^a33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜４のアルキルカルボニル基、炭素数２〜４のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
ｌａは０〜４のいずれかの整数を表す。ｌａが２以上である場合、複数のＲ^a33は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｒ^a34及びＲ^a35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、Ｒ^a36は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表すか、Ｒ^a35及びＲ^a36は互いに結合してそれらが結合する−Ｃ−Ｏ−とともに炭素数２〜２０の２価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該２価の炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置き換わってもよい。］ Examples of the structural unit having the group (2) in the structural unit (a1) include a structural unit represented by the formula (a1-4) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a1-4)”). .
[In the formula (a1-4),
R ^a32 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R ^a33 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, acryloyl An oxy group or a methacryloyloxy group is represented.
la represents an integer of 0 to 4. When la is 2 or more, the plurality of R ^a33 may be the same as or different from each other.
R ^a34 and R ^a35 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R ^a36 may represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, R ^a35 and R ^a36 are bonded to each other Together with —C—O— to which they are bonded to form a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the hydrocarbon group and the divalent hydrocarbon group is — O- or -S- may be substituted. ]

Ｒ^a32及びＲ^a33におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
Ｒ^a32及びＲ^a33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
Ｒ^a34、Ｒ^a35及びＲ^a36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせた基が挙げられ、アルキル基及び脂環式炭化水素基としては、Ｒ^a02、Ｒ^a03、Ｒ^a04、Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基と同様の基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｐ−アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６−ジエチルフェニル基、２−メチル−６−エチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基、ベンジル基等のアラルキル基、フェニルシクロヘキシル基等のアリール−シクロヘキシル基等が挙げられる。特に、Ｒ^a36としては、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。 ^Examples of the alkyl group in R ^a32 and R ^a33 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and further preferably a methyl group.
Examples of the halogen atom in R ^a32 and R ^a33 include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1 , 2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3 , 4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, etc. Is mentioned.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, and a hexyloxy group. Especially, a C1-C4 alkoxy group is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is further more preferable.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.
Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a butyryloxy group.
As the hydrocarbon group for R ^a34, R ^a35 and R ^a36, an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and a group formed by combining these are exemplified, as the alkyl group and alicyclic hydrocarbon groups ^Includes the same groups as the alkyl group and alicyclic hydrocarbon group in R ^a02 , R ^a03 , R ^a04 , R ^a6 and R ^a7 .
The aromatic hydrocarbon group includes phenyl, naphthyl, anthryl, p-methylphenyl, p-tert-butylphenyl, p-adamantylphenyl, tolyl, xylyl, cumenyl, mesityl, biphenyl. Group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group, aryl group such as 2-methyl-6-ethylphenyl group, and the like.
Examples of the combined group include a group obtained by combining the above-described alkyl group and alicyclic hydrocarbon group, an aralkyl group such as a benzyl group, and an aryl-cyclohexyl group such as a phenylcyclohexyl group. In particular, as R ^a36 , an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these Is mentioned.

式（ａ１−４）において、Ｒ^a32としては、水素原子が好ましい。
Ｒ^a33としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
ｌａとしては、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
Ｒ^a34は、好ましくは、水素原子である。
Ｒ^a35は、好ましくは、炭素数１〜１２のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒ^a36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基であり、より好ましくは、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基又は炭素数７〜１８のアラルキル基である。Ｒ^a36におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ｒ^a36における芳香族炭化水素基は、炭素数６〜１０のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。 In formula (a1-4), R ^a32 is preferably a hydrogen atom.
R ^a33 is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methoxy group or an ethoxy group, and further preferably a methoxy group.
As la, 0 or 1 is preferable, and 0 is more preferable.
R ^a34 is preferably a hydrogen atom.
R ^a35 is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group, more preferably a methyl group or an ethyl group.
The hydrocarbon group for R ^a36 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof. A group to be formed, more preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. The alkyl group and alicyclic hydrocarbon group in R ^a36 are preferably unsubstituted. The aromatic hydrocarbon group for R ^a36 is preferably an aromatic ring having an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.

構造単位（ａ１−４）としては、例えば、特開２０１０−２０４６４６号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式（ａ１−４−１）〜式（ａ１−４−８）でそれぞれ表される構造単位及び構造単位（ａ１−４）におけるＲ^a32に相当する水素原子がメチル基に置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式（ａ１−４−１）〜式（ａ１−４−５）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。
As a structural unit (a1-4), the structural unit derived from the monomer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-204646 is mentioned, for example. Preferably, hydrogen atom corresponding to R ^a32 in equation (a1-4-1) represented respectively to Formula (a1-4-8) structural units and structural units (a1-4) is replaced by a methyl group structure And more preferably, structural units represented by formula (a1-4-1) to formula (a1-4-5), respectively.

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１−４）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位の合計に対して、５〜６０モル％であることが好ましく、５〜５０モル％であることがより好ましく、１０〜４０モル％であることがさらに好ましく、１５〜４０モル％であることが一層好ましい。 When resin (A) has a structural unit (a1-4), it is preferable that the content rate is 5-60 mol% with respect to the sum total of all the structural units of resin (A), and 5-50 It is more preferably mol%, more preferably 10 to 40 mol%, still more preferably 15 to 40 mol%.

基（２）を有する（メタ）アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式（ａ１−５）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ１−５）」という場合がある）も挙げられる。
式（ａ１−５）中、
Ｒ^a8は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Ｚ^a1は、単結合又は＊−（ＣＨ₂）_h3−ＣＯ−Ｌ⁵⁴−を表し、ｈ３は１〜４のいずれかの整数を表し、＊は、Ｌ⁵¹との結合手を表す。
Ｌ⁵¹、Ｌ⁵²、Ｌ⁵³及びＬ⁵⁴は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。
ｓ１は、１〜３のいずれかの整数を表す。
ｓ１’は、０〜３のいずれかの整数を表す。 Examples of the structural unit derived from the (meth) acrylic monomer having the group (2) include a structural unit represented by the formula (a1-5) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a1-5)”). It is done.
In formula (a1-5),
R ^a8 represents a C 1-6 alkyl group optionally having a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom.
Z ^a1 represents a single bond or * — (CH ₂ ) _h3 —CO—L ⁵⁴ —, h3 represents an integer of 1 to 4, and * represents a bond to L ⁵¹ .
L ⁵¹ , L ⁵² , L ⁵³ and L ⁵⁴ each independently represent —O— or —S—.
s1 represents any integer of 1 to 3.
s1 ′ represents any integer of 0 to 3.

ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式（ａ１−５）においては、Ｒ^a8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が好ましい。
Ｌ⁵¹は、酸素原子が好ましい。
Ｌ⁵²及びＬ⁵³のうち、一方が−Ｏ−であり、他方が−Ｓ−であることが好ましい。
ｓ１は、１が好ましい。
ｓ１’は、０〜２のいずれかの整数が好ましい。
Ｚ^a1は、単結合又は＊−ＣＨ₂−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom, and a fluorine atom is preferable.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, fluoromethyl and trifluoro A methyl group is mentioned.
In formula (a1-5), R ^a8 is preferably a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
L ⁵¹ is preferably an oxygen atom.
Of L ⁵² and L ⁵³ , one is preferably —O— and the other is preferably —S—.
s1 is preferably 1.
s1 ′ is preferably an integer of 0 to 2.
Z ^a1 is preferably a single bond or * —CH ₂ —CO—O—.

構造単位（ａ１−５）としては、例えば、特開２０１０−６１１１７号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式（ａ１−５−１）〜式（ａ１−５−４）でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式（ａ１−５−１）又は式（ａ１−５−２）で表される構造単位がより好ましい。
As a structural unit (a1-5), the structural unit derived from the monomer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-611117 is mentioned, for example. Among these, structural units each represented by formula (a1-5-1) to formula (a1-5-4) are preferable, and are represented by formula (a1-5-1) or formula (a1-5-2). A structural unit is more preferable.

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１−５）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１〜５０モル％が好ましく、３〜４５モル％がより好ましく、５〜４０モル％がさらに好ましく、５〜３０モル％がさらにより好ましい。 When resin (A) has a structural unit (a1-5), the content rate is preferable 1-50 mol% with respect to all the structural units of resin (A), and 3-45 mol% is more preferable. 5 to 40 mol% is more preferable, and 5 to 30 mol% is even more preferable.

構造単位（ａ１）としては、例えば、式（ａ１−０Ｘ）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１−０Ｘ）という場合がある。）も挙げられる。
［式（ａ１−０Ｘ）中、
Ｒ^ｘ１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^ｘ２及びＲ^ｘ３は、それぞれ独立に、炭素数１〜６の飽和炭化水素基を表す。
Ａｒ^ｘ１は、炭素数６〜３６の芳香族炭化水素基を表す。］ As the structural unit (a1), for example, a structural unit represented by the formula (a1-0X) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (a1-0X)) may also be mentioned.
[In the formula (a1-0X),
R ^x1 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R ^x2 and R ^x3 each independently represent a saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
Ar ^x1 represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms. ]

Ｒ^ｘ２及びＲ^ｘ３の飽和炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらの組合せることにより形成される基が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 Examples of the saturated hydrocarbon group for R ^x2 and R ^x3 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, and a group formed by a combination thereof.
Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group and the like.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic, and examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.

Ａｒ^ｘ１の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基等の炭素数６〜３６のアリール基が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、好ましくは炭素数６〜２４であり、より好ましくは炭素数６〜１８であり、さらに好ましくは、フェニル基である。 Examples of the aromatic hydrocarbon group represented by Ar ^x1 include aryl groups having 6 to 36 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, and an anthryl group.
The aromatic hydrocarbon group preferably has 6 to 24 carbon atoms, more preferably 6 to 18 carbon atoms, and still more preferably a phenyl group.

Ａｒ^ｘ１は、好ましくは炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基であり、より好ましくはフェニル基又はナフチル基であり、さらに好ましくは、フェニル基である。
Ｒ^ｘ１、Ｒ^ｘ２及びＲ^ｘ３は、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。 Ar ^x1 is preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, more preferably a phenyl group or a naphthyl group, and still more preferably a phenyl group.
R ^x1 , R ^x2 and R ^x3 are each independently preferably a methyl group or an ethyl group, and more preferably a methyl group.

構造単位（ａ１−０Ｘ）としては、以下に記載の構造単位及び構造単位（ａ１−０Ｘ）におけるＲ^ｘ１に相当するメチル基が水素原子に置き換わった化合物が挙げられる。構造単位（ａ１−０Ｘ）は、構造単位（ａ１−０Ｘ−１）〜構造単位（ａ１−０Ｘ−３）であることが好ましい。
Examples of the structural unit (a1-0X) include compounds in which the methyl group corresponding to R ^x1 in the structural unit and structural unit (a1-0X) described below is replaced with a hydrogen atom. The structural unit (a1-0X) is preferably a structural unit (a1-0X-1) to a structural unit (a1-0X-3).

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１−０Ｘ）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）における全モノマーに対して、５〜６０モル％であることが好ましく、５〜５０モル％であることがより好ましく、１０〜４０モル％であることがさらに好ましい。
樹脂（Ａ）は、構造単位（ａ１−０Ｘ）を２種以上含有していてもよい。 When resin (A) has a structural unit (a1-0X), it is preferable that the content rate is 5-60 mol% with respect to all the monomers in resin (A), and is 5-50 mol%. More preferably, it is more preferably 10 to 40 mol%.
The resin (A) may contain two or more structural units (a1-0X).

また、構造単位（ａ１）としては、以下の構造単位も挙げられる。
In addition, examples of the structural unit (a1) include the following structural units.

樹脂（Ａ）が上記構造単位を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、５〜６０モル％が好ましく、５〜５０モル％がより好ましく、１０〜４０モル％がさらに好ましい。 When resin (A) contains the said structural unit, the content rate is preferable with respect to all the structural units of resin (A), 5-60 mol% is more preferable, 5-50 mol% is more preferable, 10-40 mol % Is more preferable.

樹脂（Ａ）は、さらに、構造単位（ｓ）以外の構造単位、例えば、構造単位（ａ４）、構造単位（ａ５）及び／又はその他の当該分野で公知のモノマーに由来する構造単位等を含有していてもよい。 The resin (A) further contains a structural unit other than the structural unit (s), such as the structural unit (a4), the structural unit (a5) and / or a structural unit derived from other monomers known in the art. You may do it.

〈構造単位（ｓ）〉
構造単位（ｓ）を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位（ｓ）としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ２）」という場合がある）及び／又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ３）」という場合がある）を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。 <Structural unit (s)>
As the monomer for deriving the structural unit (s), a monomer having no acid labile group known in the resist field can be used.
The structural unit (s) preferably has a hydroxy group or a lactone ring. A structure having a hydroxy group and having no acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2)”) and / or a lactone ring and having no acid labile group If a resin having a unit (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a3)”) is used in the resist composition of the present invention, the resolution of the resist pattern and the adhesion to the substrate can be improved.

〈構造単位（ａ２）〉
構造単位（ａ２）が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、電子線又はＥＵＶ（超紫外光）等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位（ａ２）として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）を用いることが好ましい。また、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）等を用いる場合には、構造単位（ａ２）として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）が好ましく、後述する構造単位（ａ２−１）を用いることがより好ましい。構造単位（ａ２）としては、１種を単独で含んでいてもよく、２種以上を含んでいてもよい。 <Structural unit (a2)>
The hydroxy group contained in the structural unit (a2) may be an alcoholic hydroxy group or a phenolic hydroxy group.
When a resist pattern is produced from the resist composition of the present invention, when a high energy beam such as a KrF excimer laser (248 nm), an electron beam or EUV (ultra-ultraviolet light) is used as an exposure light source, the structural unit (a2) It is preferable to use the structural unit (a2) having a phenolic hydroxy group. In the case of using an ArF excimer laser (193 nm) or the like, the structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group is preferable as the structural unit (a2), and the structural unit (a2-1) described later is more used. preferable. As a structural unit (a2), 1 type may be included independently and 2 or more types may be included.

構造単位（ａ２）においてフェノール性ヒドロキシ基有する構造単位としては式（ａ２−Ａ）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２−Ａ）」という場合がある）が挙げられる。
［式（ａ２−Ａ）中、
Ｒ^a50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^a51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜４のアルキルカルボニル基、炭素数２〜４のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａ^a50は、単結合又は^＊−Ｘ^a51−（Ａ^a52−Ｘ^a52）_nｂ−を表し、＊は−Ｒ^a50が結合する炭素原子との結合手を表す。
Ａ^a52は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
Ｘ^a51及びＸ^a52は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−を表す。
ｎｂは、０又は１を表す。
ｍｂは０〜４のいずれかの整数を表す。ｍｂが２以上のいずれかの整数である場合、複数のＲ^a51は互いに同一であっても異なってもよい。］ Examples of the structural unit having a phenolic hydroxy group in the structural unit (a2) include a structural unit represented by the formula (a2-A) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2-A)”).
[In the formula (a2-A),
R ^a50 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R ^a51 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, acryloyl An oxy group or a methacryloyloxy group is represented.
A ^a50 represents a single bond or ^* —X ^a51 — (A ^a52 —X ^a52 ) _nb —, and * represents a bond to the carbon atom to which —R ^a50 is bonded.
A ^a52 each independently represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
X ^a51 and X ^a52 each independently represent —O—, ^—CO —O— or —O—CO—.
nb represents 0 or 1.
mb represents an integer of 0 to 4. When mb is any integer of 2 or more, the plurality of ^Ra51s may be the same as or different from each other. ]

Ｒ^a50におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
Ｒ^a50におけるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
Ｒ^a50は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
Ｒ^a51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
Ｒ^a51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が挙げられる。炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
Ｒ^a51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ｒ^a51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
Ｒ^a51は、メチル基が好ましい。 ^Examples of the halogen atom for R ^a50 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
^Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom in R ^a50 include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2, 3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group and perfluoro A hexyl group is mentioned.
R ^a50 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
^Examples of the alkyl group for R ^a51 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.
^Examples of the alkoxy group for R ^a51 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group. A C1-C4 alkoxy group is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is more preferable.
^Examples of the alkylcarbonyl group for R ^a51 include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.
^Examples of the alkylcarbonyloxy group for R ^a51 include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a butyryloxy group.
R ^a51 is preferably a methyl group.

^＊−Ｘ^a51−（Ａ^a52−Ｘ^a52）_nb−としては、^＊−Ｏ−、^＊−ＣＯ−Ｏ−、^＊−Ｏ−ＣＯ−、^＊−ＣＯ−Ｏ−Ａ^a52−ＣＯ−Ｏ−、^＊−Ｏ−ＣＯ−Ａ^a52−Ｏ−、^＊−Ｏ−Ａ^a52−ＣＯ−Ｏ−、^＊−ＣＯ−Ｏ−Ａ^a52−Ｏ−ＣＯ−、^＊−Ｏ−ＣＯ−Ａ^a52−Ｏ−ＣＯ−、が挙げられる。なかでも、^＊−ＣＯ−Ｏ−、^＊−ＣＯ−Ｏ−Ａ^a52−ＣＯ−Ｏ−又は^＊−Ｏ−Ａ^a52−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。 ^* -X ^a51- (A ^a52 -X ^a52 ) _nb- includes ^* -O-, ^* -CO-O-, ^* -O-CO-, ^* -CO-O-A ^a52 -CO-O-, ^* —O—CO—A ^a52 —O—, ^* —O—A ^a52 —CO—O—, ^* —CO—O—A ^a52 —O—CO—, ^* —O—CO—A ^a52 —O—CO -. Of these, ^* —CO—O—, ^* —CO—O—A ^a52 —CO—O— or ^* —O—A ^a52 —CO—O— is preferable.

アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，４−ジイル基及び２−メチルブタン−１，４−ジイル基等が挙げられる。
Ａ^a52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。 Examples of alkanediyl groups include methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane- 1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group and 2 -Methylbutane-1,4-diyl group etc. are mentioned.
A ^a52 is preferably a methylene group or an ethylene group.

Ａ^a50は、単結合、^＊−ＣＯ−Ｏ−又は^＊−ＣＯ−Ｏ−Ａ^a52−ＣＯ−Ｏ−であることが好ましく、単結合、^＊−ＣＯ−Ｏ−又は^＊−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ₂−ＣＯ−Ｏ−であることがより好ましく、単結合又は^＊−ＣＯ−Ｏ−であることがさらに好ましい。 A ^a50 is preferably a single bond, ^* —CO—O— or ^* —CO—O—A ^a52 —CO—O—, and is preferably a single bond, ^* —CO—O— or ^* —CO—O—CH. _2- CO-O- is more preferable, and a single bond or ^* -CO-O- is more preferable.

ｍｂは０、１又は２が好ましく、０又は１がより好ましく、０が特に好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のｏ−位又はｐ−位に結合することが好ましく、ｐ−位に結合することがより好ましい。 mb is preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.
The hydroxy group is preferably bonded to the o-position or p-position of the benzene ring, and more preferably bonded to the p-position.

構造単位（ａ２−Ａ）としては、特開２０１０−２０４６３４号公報、特開２０１２−１２５７７号公報に記載されているモノマー由来の構造単位が挙げられる。 Examples of the structural unit (a2-A) include structural units derived from monomers described in JP2010-204634A and JP2012-12577A.

構造単位（ａ２−Ａ）としては、式（ａ２−２−１）〜式（ａ２−２−４）で表される構造単位及び、式（ａ２−２−１）〜式（ａ２−２−４）で表される構造単位において構造単位（ａ２−Ａ）におけるＲ^ａ５０に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。構造単位（ａ２−Ａ）は、式（ａ２−２−１）で表される構造単位、式（ａ２−２−３）で表される構造単位及び式（ａ２−２−１）で表される構造単位又は式（ａ２−２−３）で表される構造単位において、構造単位（ａ２−Ａ）におけるＲ^ａ５０に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。
As the structural unit (a2-A), structural units represented by formula (a2-2-1) to formula (a2-2-4) and formula (a2-2-1) to formula (a2-2-2) In the structural unit represented by 4), a structural unit in which a methyl group corresponding to R ^a50 in the structural unit (a2-A) is replaced with a hydrogen atom can be mentioned. The structural unit (a2-A) is represented by the structural unit represented by the formula (a2-2-1), the structural unit represented by the formula (a2-2-3), and the formula (a2-2-1). In the structural unit represented by formula (a2-2-3), the methyl group corresponding to R ^a50 in the structural unit (a2-A) is preferably a structural unit in which a hydrogen atom is replaced.

樹脂（Ａ）中に構造単位（ａ２−Ａ）が含まれる場合の構造単位（ａ２−Ａ）の含有率は、全構造単位に対して、好ましくは５〜８０モル％であり、より好ましくは１０〜７０モル％であり、さらに好ましくは１５〜６５モル％であり、さらにより好ましくは２０〜６５モル％である。 When the structural unit (a2-A) is contained in the resin (A), the content of the structural unit (a2-A) is preferably 5 to 80 mol%, more preferably based on all structural units. It is 10-70 mol%, More preferably, it is 15-65 mol%, More preferably, it is 20-65 mol%.

構造単位（ａ２）においてアルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては、式（ａ２−１）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２−１）」という場合がある。）が挙げられる。
式（ａ２−１）中、
Ｌ^a3は、−Ｏ−又は^＊−Ｏ−（ＣＨ₂）_k2−ＣＯ−Ｏ−を表し、
ｋ２は１〜７のいずれかの整数を表す。＊は−ＣＯ−との結合手を表す。
Ｒ^a14は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^a15及びＲ^a16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
ｏ１は、０〜１０のいずれかの整数を表す。 Examples of the structural unit having an alcoholic hydroxy group in the structural unit (a2) include a structural unit represented by the formula (a2-1) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2-1)”).
In formula (a2-1),
L ^a3 represents —O— or ^* —O— (CH ₂ ) _k2 —CO—O—,
k2 represents any integer of 1 to 7. * Represents a bond with -CO-.
R ^a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R ^a15 and R ^a16 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxy group.
o1 represents an integer of 0 to 10.

式（ａ２−１）では、Ｌ^a3は、好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ₂）_f1−ＣＯ−Ｏ−であり（前記ｆ１は、１〜４のいずれかの整数を表す）、より好ましくは−Ｏ−である。
Ｒ^a14は、好ましくはメチル基である。
Ｒ^a15は、好ましくは水素原子である。
Ｒ^a16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
ｏ１は、好ましくは０〜３のいずれかの整数、より好ましくは０又は１である。 In the formula (a2-1), L ^a3 is preferably —O—, —O— (CH ₂ ) _f1 —CO—O— (wherein f1 represents an integer of 1 to 4). More preferably, it is —O—.
R ^a14 is preferably a methyl group.
R ^a15 is preferably a hydrogen atom.
R ^a16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxy group.
o1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 1.

構造単位（ａ２−１）としては、例えば、特開２０１０−２０４６４６号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式（ａ２−１−１）〜式（ａ２−１−６）のいずれかで表される構造単位が好ましく、式（ａ２−１−１）〜式（ａ２−１−４）のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式（ａ２−１−１）又は式（ａ２−１−３）で表される構造単位がさらに好ましい。
As a structural unit (a2-1), the structural unit derived from the monomer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-204646 is mentioned, for example. A structural unit represented by any one of formula (a2-1-1) to formula (a2-1-6) is preferred, and any one of formula (a2-1-1) to formula (a2-1-4) The structural unit represented is more preferable, and the structural unit represented by the formula (a2-1-1) or the formula (a2-1-3) is more preferable.

樹脂（Ａ）が構造単位（ａ２−１）を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常１〜４５モル％であり、好ましくは１〜４０モル％であり、より好ましくは１〜３５モル％であり、さらに好ましくは２〜２０モル％であり、さらにより好ましくは２〜１０モル％である。 When resin (A) contains a structural unit (a2-1), the content rate is 1-45 mol% normally with respect to all the structural units of resin (A), Preferably it is 1-40 mol%. Yes, more preferably 1 to 35 mol%, still more preferably 2 to 20 mol%, and even more preferably 2 to 10 mol%.

〈構造単位（ａ３）〉
構造単位（ａ３）が有するラクトン環は、β−プロピオラクトン環、γ−ブチロラクトン環、δ−バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ−ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ−ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環（例えば下式（ａ３−２）で表される構造単位）が挙げられる。 <Structural unit (a3)>
The lactone ring of the structural unit (a3) may be a monocycle such as a β-propiolactone ring, γ-butyrolactone ring, or δ-valerolactone ring, or a condensed ring of a monocyclic lactone ring and another ring. But you can. Preferably, a γ-butyrolactone ring, an adamantanelactone ring, or a bridged ring containing a γ-butyrolactone ring structure (for example, a structural unit represented by the following formula (a3-2)) is used.

構造単位（ａ３）は、好ましくは、式（ａ３−１）、式（ａ３−２）、式（ａ３−３）又は式（ａ３−４）で表される構造単位である。これらの１種を単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
［式（ａ３−１）、式（ａ３−２）、式（ａ３−３）及び式（ａ３−４）中、
Ｌ^ａ４、Ｌ^ａ５及びＬ^ａ６は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は^＊−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ３−ＣＯ−Ｏ−（ｋ３は１〜７のいずれかの整数を表す。）で表される基を表す。
Ｌ^ａ７は、−Ｏ−、^＊−Ｏ−Ｌ^ａ８−Ｏ−、^＊−Ｏ−Ｌ^ａ８−ＣＯ−Ｏ−、^＊−Ｏ−Ｌ^ａ８−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ａ９−ＣＯ−Ｏ−又は^＊−Ｏ−Ｌ^ａ８−Ｏ−ＣＯ−Ｌ^ａ９−Ｏ−を表す。
Ｌ^ａ８及びＬ^ａ９は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊はカルボニル基との結合手を表す。
Ｒ^ａ１８、Ｒ^ａ１９及びＲ^ａ２０は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^ａ２４は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Ｒ^ａ２１は炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒ^ａ２２、Ｒ^ａ２３及びＲ^ａ２５は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を表す。
ｐ１は０〜５のいずれかの整数を表す。
ｑ１は、０〜３のいずれかの整数を表す。
ｒ１は、０〜３のいずれかの整数を表す。
ｗ１は、０〜８のいずれかの整数を表す。
ｐ１、ｑ１、ｒ１及び／又はｗ１が２以上のとき、複数のＲ^ａ２１、Ｒ^ａ２２、Ｒ^ａ２３及び／又はＲ^ａ２５は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。］ The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3), or the formula (a3-4). These 1 type may be contained independently and 2 or more types may be contained.
[In Formula (a3-1), Formula (a3-2), Formula (a3-3) and Formula (a3-4),
L ^a4 , L ^a5 and L ^a6 are each independently represented by —O— or ^* —O— (CH ₂ ) _k3 —CO—O— (k3 represents any integer of 1 to 7). Represents a group.
L ^a7 is —O—, ^* —O—L ^a8 —O—, ^* —O—L ^a8 —CO—O—, ^* —O—L ^a8 —CO—O—L ^a9 —CO—O— or ^* —O—L ^a8 —O—CO—L ^a9 —O— is represented.
L ^a8 and L ^a9 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
* Represents a bond with a carbonyl group.
R ^a18 , R ^a19 and R ^a20 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R ^a24 represents a C 1-6 alkyl group ^optionally having a halogen atom, a hydrogen atom, or a halogen atom.
R ^a21 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
R ^a22 , R ^a23 and R ^a25 each independently represent a carboxy group, a cyano group or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
p1 represents any integer of 0 to 5.
q1 represents any integer of 0 to 3.
r1 represents any integer of 0 to 3.
w1 represents an integer of 0 to 8.
When p1, q1, r1 and / or w1 is 2 or more, a plurality of R ^a21 , R ^a22 , R ^a23 and / or R ^a25 may be the same as or different from each other. ]

Ｒ^a21、Ｒ^a22、Ｒ^a23及びＲ^a25における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基が挙げられる。
Ｒ^ａ２４におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ^ａ２４におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
Ｒ^ａ２４におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ−ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ−ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。 Examples of the aliphatic hydrocarbon group in R ^a21 , R ^a22 , R ^a23 and R ^a25 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group. It is done.
Examples of the halogen atom for R ^a24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
^Examples of the alkyl group in R ^a24 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group, and preferably have 1 to 4 carbon atoms. And more preferably a methyl group or an ethyl group.
Examples of the alkyl group having a halogen atom in R ^a24 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluoro group. A hexyl group, a trichloromethyl group, a tribromomethyl group, a triiodomethyl group, etc. are mentioned.

Ｌ^ａ８及びＬ^ａ９におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，４−ジイル基及び２−メチルブタン−１，４−ジイル基等が挙げられる。 ^Examples of the alkanediyl group in ^La8 and ^La9 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and a pentane-1,5. -Diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1, 4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group, etc. are mentioned.

式（ａ３−１）〜式（ａ３−３）において、Ｌ^ａ４〜Ｌ^ａ６は、それぞれ独立に、好ましくは−Ｏ−又は、＊−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ３−ＣＯ−Ｏ−において、ｋ３が１〜４のいずれかの整数である基、より好ましくは−Ｏ−及び、＊−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＯ−Ｏ−、さらに好ましくは酸素原子である。
Ｒ^ａ１８〜Ｒ^ａ２１は、好ましくはメチル基である。
Ｒ^ａ２２及びＲ^ａ２３は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
ｐ１、ｑ１及びｒ１は、それぞれ独立に、好ましくは０〜２のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。 In the formula (a3-1) to the formula (a3-3), L ^{a4 to} L ^a6 are each independently, preferably —O— or * —O— (CH ₂ ) _k3 —CO—O—, Is a group of any one of 1 to 4, more preferably —O— and * —O—CH ₂ —CO—O—, still more preferably an oxygen atom.
R ^{a18 to} R ^a21 are preferably methyl groups.
R ^a22 and R ^a23 are each independently preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
p1, q1 and r1 are each independently preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1.

式（ａ３−４）において、Ｒ^ａ２４は、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒ^ａ２５は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
Ｌ^ａ７は、好ましくは−Ｏ−又は^＊−Ｏ−Ｌ^ａ８−ＣＯ−Ｏ−であり、より好ましくは−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−Ｃ_２Ｈ_４−ＣＯ−Ｏ−である。
ｗ１は、好ましくは０〜２のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
式（ａ３−４）としては、式（ａ３−４）’が挙げられる。
（式中、Ｒ^ａ２４、Ｌ^ａ７は、上記と同じ意味を表す。） In formula (a3-4), R ^a24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group. It is.
R ^a25 is preferably a carboxy group, a cyano group, or a methyl group.
L ^a7 is preferably —O— or ^* —O—L ^a8 —CO—O—, more preferably —O—, —O—CH ₂ —CO—O— or —O—C ₂ H ₄ —. CO-O-.
w1 is preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.
Examples of the formula (a3-4) include a formula (a3-4) ′.
(Wherein R ^a24 and L ^a7 represent the same meaning as described above.)

構造単位（ａ３）としては、特開２０１０−２０４６４６号公報に記載されたモノマー、特開２０００−１２２２９４号公報に記載されたモノマー、特開２０１２−４１２７４号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位（ａ３）としては、式（ａ３−１−１）、式（ａ３−１−２）、式（ａ３−２−１）、式（ａ３−２−２）、式（ａ３−３−１）、式（ａ３−３−２）及び式（ａ３−４−１）〜式（ａ３−４−１２）のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式（ａ３−１）〜式（ａ３−４）におけるＲ^ａ１８、Ｒ^ａ１９、Ｒ^ａ２０及びＲ^a24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましい。 As the structural unit (a3), a monomer derived from JP2010-204646, a monomer described in JP2000-122294A, a structure derived from a monomer described in JP2012-41274A Units are listed. As the structural unit (a3), the formula (a3-1-1), the formula (a3-1-2), the formula (a3-2-1), the formula (a3-2-2), the formula (a3-3) 1), a structural unit represented by any one of formula (a3-3-2) and formula (a3-4-1) to formula (a3-4-12), and the structural unit represented by formula (a3-1) ) To a structural unit in which a methyl group corresponding to R ^a18 , R ^a19 , R ^a20 and R ^a24 in formula (a3-4) is replaced with a hydrogen atom.

樹脂（Ａ）が構造単位（ａ３）を含む場合、その合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常５〜７０モル％であり、好ましくは１０〜６５モル％であり、より好ましくは１０〜６０モル％である。
また、構造単位（ａ３−１）、構造単位（ａ３−２）、構造単位（ａ３−３）又は構造単位（ａ３−４）の含有率は、それぞれ、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、５〜６０モル％が好ましく、５〜５０モル％がより好ましく、１０〜５０モル％がさらに好ましい。 When the resin (A) includes the structural unit (a3), the total content is usually 5 to 70 mol%, preferably 10 to 65 mol%, based on all the structural units of the resin (A). More preferably, it is 10-60 mol%.
Moreover, the content rate of a structural unit (a3-1), a structural unit (a3-2), a structural unit (a3-3), or a structural unit (a3-4) is respectively with respect to all the structural units of resin (A). 5 to 60 mol% is preferable, 5 to 50 mol% is more preferable, and 10 to 50 mol% is more preferable.

〈構造単位（ａ４）〉
構造単位（ａ４）としては、以下の構造単位が挙げられる。
［式（ａ４）中、
Ｒ⁴¹は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ⁴²は、炭素数１〜２４のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯに置き換わっていてもよい。］
Ｒ⁴²で表される飽和炭化水素基は、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。 <Structural unit (a4)>
Examples of the structural unit (a4) include the following structural units.
[In the formula (a4),
R ⁴¹ represents a hydrogen atom or a methyl group.
R ⁴² represents a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom having 1 to 24 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO. ]
Saturated hydrocarbon groups represented by R ⁴² is a chain hydrocarbon group and monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group, and, and a group formed by combining these.

鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
組み合わせにより形成される基としては、１以上のアルキル基又は１以上のアルカンジイル基と、１以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基、−脂環式炭化水素基−アルキル基、−アルカンジイル基−脂環式炭化水素基−アルキル基等が挙げられる。 The chain hydrocarbon group includes methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl and octadecyl. Can be mentioned. Examples of the monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group; a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups: And polycyclic alicyclic hydrocarbon groups such as (* represents a bond).
Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups and one or more alicyclic hydrocarbon groups, -alkanediyl group- An alicyclic hydrocarbon group, -alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group and the like can be mentioned.

構造単位（ａ４）としては、式（ａ４−０）、式（ａ４−１）、式（ａ４−２）、式（ａ４−３）及び式（ａ４−４）からなる群から選択される少なくとも１つで表される構造単位が挙げられる。
［式（ａ４−０）中、
Ｒ^5ａは、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ^4ａは、単結合又は炭素数１〜４のアルカンジイル基を表す。
Ｌ^3ａは、炭素数１〜８のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数３〜１２のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
Ｒ⁶は、水素原子又はフッ素原子を表す。］ The structural unit (a4) is at least selected from the group consisting of formula (a4-0), formula (a4-1), formula (a4-2), formula (a4-3), and formula (a4-4). A structural unit represented by one is mentioned.
[In the formula (a4-0),
R ^5a represents a hydrogen atom or a methyl group.
L ^4a represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L ^3a represents a perfluoroalkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms or a perfluorocycloalkanediyl group having 3 to 12 carbon atoms.
R ⁶ represents a hydrogen atom or a fluorine atom. ]

Ｌ^4ａにおけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタン−１，１−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基及び２−メチルプロパン−１，２−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。 As the alkanediyl group in L ^4a, a linear alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, an ethane-1,1-diyl group, Examples include branched alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group. It is done.

Ｌ^3ａにおけるペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパン−１，１−ジイル基、ペルフルオロプロパン−１，３−ジイル基、ペルフルオロプロパン−１，２−ジイル基、ペルフルオロプロパン−２，２−ジイル基、ペルフルオロブタン−１，４−ジイル基、ペルフルオロブタン−２，２−ジイル基、ペルフルオロブタン−１，２−ジイル基、ペルフルオロペンタン−１，５−ジイル基、ペルフルオロペンタン−２，２−ジイル基、ペルフルオロペンタン−３，３−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−１，６−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−２，２−ジイル基、ペルフルオロヘキサン−３，３−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−１，７−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−２，２−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−３，４−ジイル基、ペルフルオロヘプタン−４，４−ジイル基、ペルフルオロオクタン−１，８−ジイル基、ペルフルオロオクタン−２，２−ジイル基、ペルフルオロオクタン−３，３−ジイル基、ペルフルオロオクタン−４，４−ジイル基等が挙げられる。
Ｌ^3ａにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。 As the perfluoroalkanediyl group in L ^3a , a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group, a perfluoropropane-1,1-diyl group, a perfluoropropane-1,3-diyl group, a perfluoropropane-1,2-diyl group, a perfluoropropane -2,2-diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,2-diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane -2,2-diyl group, perfluoropentane-3,3-diyl group, perfluorohexane-1,6-diyl group, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane -1,7-diyl group, perfluorohe Tan-2,2-diyl group, perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane-2,2-diyl group, perfluoro Examples include an octane-3,3-diyl group and a perfluorooctane-4,4-diyl group.
^Examples of the perfluorocycloalkanediyl group in L ^3a include a perfluorocyclohexanediyl group, a perfluorocyclopentanediyl group, a perfluorocycloheptanediyl group, and a perfluoroadamantanediyl group.

Ｌ^4ａは、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは、単結合、メチレン基である。
Ｌ^3ａは、好ましくは炭素数１〜６のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数１〜３のペルフルオロアルカンジイル基である。 L ^4a is preferably a single bond, a methylene group or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.
L ^3a is preferably a C 1-6 perfluoroalkanediyl group, more preferably a C 1-3 perfluoroalkanediyl group.

構造単位（ａ４−０）としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位（ａ４−０）におけるＲ^５ａに相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
As the structural unit (a4-0), a structural unit in which the methyl group corresponding to R ^5a in the structural unit shown below and the structural unit (a4-0) in the structural unit shown below is replaced with a hydrogen atom can be mentioned.

［式（ａ４−１）中、
Ｒ^a41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^a42は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
Ａ^a41は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルカンジイル基又は式（ａ−ｇ１）で表される基を表す。ただし、Ａ^ａ４１及びＲ^ａ４２のうち少なくとも１つは、置換基としてフッ素原子を有する。
〔式（ａ−ｇ１）中、
ｓは０又は１を表す。
Ａ^a42及びＡ^a44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜５の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ａ^a43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜５の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^a41及びＸ^a42は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−を表す。
ただし、Ａ^a42、Ａ^a43、Ａ^a44、Ｘ^a41及びＸ^a42の炭素数の合計は７以下である。〕
＊は結合手であり、右側の＊が−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^a42との結合手である。］ [In the formula (a4-1),
R ^a41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R ^a42 represents a C1-C20 saturated hydrocarbon group which may have a substituent, and —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by —O— or —CO—. May be.
A ^a41 represents an ^optionally substituted alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms or a group represented by the formula (a-g1). However, at least one of A ^a41 and R ^a42 has a fluorine atom as a substituent.
[In the formula (a-g1),
s represents 0 or 1.
A ^a42 and A ^a44 each independently represent a ^C 1-5 divalent saturated hydrocarbon group which may have a substituent.
A ^a43 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
X ^a41 and X ^a42 each independently represent —O—, —CO—, ^—CO —O— or —O—CO—.
However, the total number of carbon atoms of A ^a42 , A ^a43 , A ^a44 , X ^a41 and X ^a42 is 7 or less. ]
* Is a bond, and * on the right side is a bond with —O—CO—R ^a42 . ]

Ｒ^a42における飽和炭化水素基としては、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。 ^Examples of the saturated hydrocarbon group for R ^a42 include a chain hydrocarbon group, a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.

Ｒ^a42が有する置換基として、ハロゲン原子又は式（ａ−ｇ３）で表される基を有していてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。
［式（ａ−ｇ３）中、
Ｘ^a43は、酸素原子、カルボニル基、＊−Ｏ−ＣＯ−又は＊−ＣＯ−Ｏ−を表す（＊はＲ^a42との結合手を表す。）を表す。
Ａ^a45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜１７の脂肪族炭化水素基を表す。
＊は結合手を表す。］
ただし、Ｒ^a42−Ｘ^a43−Ａ^a45において、Ｒ^a42がハロゲン原子を有しない場合は、Ａ^a45は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する炭素数１〜１７の脂肪族炭化水素基を表す。 R ^a42 may have a halogen atom or a group represented by the formula (a-g3) as a substituent. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, Preferably it is a fluorine atom.
[In the formula (a-g3),
X ^a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, * ^—O —CO— or * —CO—O— (* represents a bond to R ^a42 ).
A ^a45 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
* Represents a bond. ]
However, in R ^a42 —X ^a43 —A ^a45 , when R ^a42 does not have a halogen atom, A ^a45 represents a C ^1-17 aliphatic hydrocarbon group having at least one halogen atom.

Ａ^a45における脂肪族炭化水素基としては、チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式の脂環式炭化水素基；並びにデカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。
^Examples of the aliphatic hydrocarbon group for A ^{a45 include til} group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group and Alkyl groups such as octadecyl group; monocyclic alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group; and decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups: And polycyclic alicyclic hydrocarbon groups such as (* represents a bond).

Ｒ^a42は、ハロゲン原子を有していてもよい飽和炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び／又は式（ａ−ｇ３）で表される基を有する飽和炭化水素基がより好ましい。
Ｒ^a42がハロゲン原子を有する飽和炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が１〜６のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒ^a42が、式（ａ−ｇ３）で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、式（ａ−ｇ３）で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ｒ^a42の総炭素数は、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましい。式（ａ−ｇ３）で表される基を置換基として有する場合、その数は１個が好ましい。 R ^a42 is preferably a saturated hydrocarbon group which may have a halogen atom, more preferably an alkyl group having a halogen atom and / or a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3).
When R ^a42 is a saturated hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, still more preferably 1 to 1 carbon atoms. 6 perfluoroalkyl group, particularly preferably a C 1-3 perfluoroalkyl group. Examples of the perfluoroalkyl group include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a perfluoroheptyl group, and a perfluorooctyl group. Examples of the perfluorocycloalkyl group include a perfluorocyclohexyl group.
When R ^a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3), including the number of carbons contained in the group represented by the formula (a-g3), the total carbon of R ^a42 The number is preferably 15 or less, and more preferably 12 or less. When it has a group represented by the formula (a-g3) as a substituent, the number is preferably 1.

Ｒ^a42が式（ａ−ｇ３）で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、Ｒ^a42は、さらに好ましくは式（ａ−ｇ２）で表される基である。
［式（ａ−ｇ２）中、
Ａ^a46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜１７の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^a44は、＊−Ｏ−ＣＯ−又は＊−ＣＯ−Ｏ−を表す（＊はＡ^a46との結合手を表す。）を表す。
Ａ^a47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜１７の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Ａ^a46、Ａ^a47及びＸ^a44の炭素数の合計は１８以下であり、Ａ^a46及びＡ^a47のうち、少なくとも一方は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する。
＊はカルボニル基との結合手を表す。］ When R ^a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3), R ^a42 is more preferably a group represented by the formula (a-g2).
[In the formula (a-g2),
A ^a46 represents a C ^1-17 divalent saturated hydrocarbon group which may have a halogen atom.
X ^a44 represents * ^—O —CO— or * —CO—O— (* represents a bond to A ^a46 ).
A ^a47 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
However, the total number of carbon atoms of A ^a46 , A ^a47, and X ^a44 is 18 or less, and at least one of A ^a46 and A ^a47 has at least one halogen atom.
* Represents a bond with a carbonyl group. ]

Ａ^a46の飽和炭化水素基の炭素数は１〜６が好ましく、１〜３がより好ましい。
Ａ^a47の脂肪族炭化水素基の炭素数は４〜１５が好ましく、５〜１２がより好ましく、Ａ^a47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。 1-6 are preferable and, as for carbon number of the saturated hydrocarbon group of ^Aa46 , 1-3 are more preferable.
4-15 are preferable, as for carbon number of the aliphatic hydrocarbon group of A ^<a47> , 5-12 are more preferable, and A ^<a47> has a more preferable cyclohexyl group or an adamantyl group.

式（ａ−ｇ２）で表される基の好ましい構造は、以下の構造である（＊はカルボニル基との結合手である）。
A preferable structure of the group represented by the formula (a-g2) is the following structure (* is a bond with a carbonyl group).

Ａ^a41におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，２−ジイル基、１−メチルブタン−１，４−ジイル基、２−メチルブタン−１，４−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
Ａ^a41の表すアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１〜６のアルコキシ基等が挙げられる。
Ａ^a41は、好ましくは炭素数１〜４のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数２〜４のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。 As the alkanediyl group in ^Aa41 , a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, a hexane-1,6-diyl group Linear alkanediyl group such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, Examples include branched alkanediyl groups such as 2-methylbutane-1,4-diyl group.
^Examples of the substituent in the alkanediyl group represented by A ^a41 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
A ^a41 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and still more preferably an ethylene group.

式（ａ−ｇ１）で表される基におけるＡ^ａ４２、Ａ^ａ４３及びＡ^ａ４４の表す２価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環の２価の脂環式炭化水素基、並びに、アルカンジイル基及び２価の脂環式炭化水素基を組合せることにより形成される基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、１−メチルプロパン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，２−ジイル基等が挙げられる。
Ａ^ａ４２、Ａ^ａ４３及びＡ^ａ４４の表す２価の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１〜６のアルコキシ基等が挙げられる。
ｓは、０であることが好ましい。 The divalent saturated hydrocarbon group represented by A ^a42 , A ^a43 and A ^{a44 in} the group represented by the formula (a-g1) includes a linear or branched alkanediyl group and a monocyclic divalent alicyclic group. Examples thereof include a hydrocarbon group and a group formed by combining an alkanediyl group and a divalent alicyclic hydrocarbon group. Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, 1-methylpropane-1,3-diyl group, Examples include 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group.
^Examples of the substituent of the divalent saturated hydrocarbon group represented by A ^a42 , A ^a43 and A ^a44 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
s is preferably 0.

式（ａ−ｇ２）で表される基において、Ｘ^a42が−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、＊及び＊＊はそれぞれ結合手を表わし、＊＊が−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^a42との結合手である。
In the group represented by the formula (a-g2), ^{examples of the} group in which X ^a42 is —O—, ^—CO— , ^—CO —O— or —O—CO— include the following groups. In the following examples, * and ** each represent a bond, and ** is a bond with —O—CO—R ^a42 .

式（ａ４−１）で表される構造単位としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の式（ａ４−１）で表される構造単位におけるＲ^a41に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
As the structural unit represented by the formula (a4-1), a methyl group corresponding to R ^a41 in the structural unit shown below and the structural unit represented by the formula (a4-1) in the following structural unit is a hydrogen atom. Examples include structural units that have been replaced.

式（ａ４−１）で表される構造単位としては、式（ａ４−２）で表される構造単位が好ましい。
［式（ａ４−２）中、
Ｒ^f5は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ⁴⁴は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
Ｒ^f6は、炭素数１〜２０のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ⁴⁴及びＲ^f6の合計炭素数の上限は２１である。］ As the structural unit represented by the formula (a4-1), a structural unit represented by the formula (a4-2) is preferable.
[In the formula (a4-2),
R ^f5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L ⁴⁴ represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the alkanediyl group may be replaced with —O— or —CO—.
R ^f6 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
However, the upper limit of the total number of carbon atoms of L ⁴⁴ and R ^f6 are 21. ]

Ｌ⁴⁴のアルカンジイル基は、Ｌ^4ａで例示したものと同様の基が挙げられる。
Ｒ^f6の飽和炭化水素基は、Ｒ⁴²で例示したものと同様の基が挙げられる。
Ｌ⁴⁴におけるアルカンジイル基としては、炭素数２〜４のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。 Alkanediyl group of L ⁴⁴ include the same groups as those exemplified with L ^4a.
Examples of the saturated hydrocarbon group for R ^f6 include the same groups as those exemplified for R ⁴² .
The alkanediyl group for L ⁴⁴ is preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and more preferably an ethylene group.

式（ａ４−２）で表される構造単位としては、例えば、式（ａ４−１−１）〜式（ａ４−１−１１）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位（ａ４−２）におけるＲ^f５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式（ａ４−２）で表される構造単位として挙げられる。 Examples of the structural unit represented by formula (a4-2) include structural units represented by formula (a4-1-1) to formula (a4-1-11), respectively. A structural unit in which a methyl group corresponding to R ^f5 in the structural unit (a4-2) is replaced with a hydrogen atom is also exemplified as the structural unit represented by the formula (a4-2).

［式（ａ４−３）中、
Ｒ^f7は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ⁵は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
Ａ^f13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^f12は、＊−Ｏ−ＣＯ−又は＊−ＣＯ−Ｏ−を表す（＊はＡ^f13との結合手を表す。）を表す。
Ａ^f14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表す。
但し、Ａ^f13及びＡ^f14の少なくとも１つは、フッ素原子を有し、Ｌ⁵、Ａ^f13及びＡ^f14の合計炭素数の上限は２０である。］ [In the formula (a4-3),
R ^f7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L ⁵ represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
A ^f13 represents a C 1-18 divalent saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom.
X ^f12 represents * —O—CO— or * —CO—O— (* represents a bond to A ^f13 ).
A ^f14 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a fluorine atom.
However, at least one of A ^f13 and A ^f14 has a fluorine atom, and the upper limit of the total carbon number of L ⁵ , A ^f13 and A ^f14 is 20. ]

Ｌ⁵におけるアルカンジイル基としては、Ｌ^4ａのアルカンジイル基で例示したものと同様の基が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group in L ⁵ include the same groups as those exemplified for the alkanediyl group of L ^4a .

Ａ^f13におけるフッ素原子を有していてもよい２価の飽和炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子を有していてもよい２価の鎖式飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい２価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイル基である。
フッ素原子を有していてもよい２価の鎖式炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基；ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい２価の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。 The divalent saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom in A ^f13 preferably has a divalent chain saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom and a fluorine atom. A divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, more preferably a perfluoroalkanediyl group.
Examples of the divalent chain hydrocarbon group which may have a fluorine atom include alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propanediyl group, butanediyl group and pentanediyl group; difluoromethylene group, perfluoroethylene group, perfluoro Examples thereof include perfluoroalkanediyl groups such as propanediyl group, perfluorobutanediyl group and perfluoropentanediyl group.
The divalent alicyclic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic group include a cyclohexanediyl group and a perfluorocyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic group include an adamantanediyl group, a norbornanediyl group, and a perfluoroadamantanediyl group.

Ａ^f14の飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい飽和炭化水素基は、Ｒ^a42で例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペルフルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチルメチル基等が好ましい。 As the saturated hydrocarbon group for A ^{f14 and} the saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom, the same groups as those exemplified for R ^a42 can be mentioned. Among them, trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, Fluorination of 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, heptyl group, perfluoroheptyl group, octyl group and perfluorooctyl group Alkyl group, cyclopropylmethyl group, cyclopropyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, Fluorocyclohexyl group, adamantyl group, adamantylmethyl group, adamantyl dimethyl group, norbornyl group, norbornylmethyl group, perfluoro adamantyl group, a perfluoroalkyl adamantylmethyl group and the like are preferable.

式（ａ４−３）において、Ｌ⁵は、エチレン基が好ましい。
Ａ^f13の２価の飽和炭化水素基は、炭素数１〜６の２価の鎖式炭化水素基及び炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数２〜３の２価の鎖式炭化水素基がさらに好ましい。
Ａ^f14の飽和炭化水素基は、炭素数３〜１２の鎖式炭化水素基及び炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数３〜１０の鎖式炭化水素基及び炭素数３〜１０の脂環式炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Ａ^f14は、好ましくは炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、シクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。 In formula (a4-3), L ⁵ is preferably an ethylene group.
The divalent saturated hydrocarbon group for A ^f13 is preferably a group containing a divalent chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms. 2-3 divalent chain hydrocarbon groups are more preferred.
The saturated hydrocarbon group for A ^f14 is preferably a group containing a chain hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and a chain hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. And a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms is more preferable. Among them, A ^f14 is preferably a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group, and an adamantyl group.

式（ａ４−３）で表される構造単位としては、例えば、式（ａ４−１’−１）〜式（ａ４−１’−１１）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位（ａ４−３）におけるＲ^f７に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式（ａ４−３）で表される構造単位として挙げられる。 Examples of the structural unit represented by formula (a4-3) include structural units represented by formula (a4-1′-1) to formula (a4-1′-11), respectively. A structural unit in which a methyl group corresponding to R ^f7 in the structural unit (a4-3) is replaced with a hydrogen atom is also exemplified as the structural unit represented by the formula (a4-3).

構造単位（ａ４）としては、式（ａ４−４）で表される構造単位も挙げられる。
［式（ａ４−４）中、
Ｒ^f21は、水素原子又はメチル基を表す。
Ａ^f21は、−（ＣＨ₂）_j1−、−（ＣＨ₂）_j2−Ｏ−（ＣＨ₂）_j3−又は−（ＣＨ₂）_j4−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ₂）_j5−を表す。
ｊ１〜ｊ５は、それぞれ独立に、１〜６のいずれかの整数を表す。
Ｒ^f22は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の飽和炭化水素基を表す。］ Examples of the structural unit (a4) include a structural unit represented by the formula (a4-4).
[In the formula (a4-4),
R ^f21 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A ^f21 represents — (CH ₂ ) _j1 —, — (CH ₂ ) _j2 —O— (CH ₂ ) _j3 — or — (CH ₂ ) _j4 —CO—O— (CH ₂ ) _j5 —.
j1 to j5 each independently represents an integer of 1 to 6.
R ^f22 represents a C 1-10 saturated hydrocarbon group having a fluorine atom. ]

Ｒ^f22の飽和炭化水素基は、Ｒ⁴²で表される飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。Ｒ^f22は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数１〜１０の脂環式炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数１〜６のアルキル基がさらに好ましい。 ^Examples of the saturated hydrocarbon group for R ^{f22 include} the same saturated hydrocarbon groups represented by R ⁴² . R ^f22 is preferably a ^C 1-10 alkyl group having a fluorine atom or a C 1-10 alicyclic hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a C 1-10 alkyl group having a fluorine atom. Preferably, the C1-C6 alkyl group which has a fluorine atom is further more preferable.

式（ａ４−４）においては、Ａ^f21としては、−（ＣＨ₂）_ｊ1−が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 In formula (A4-4), as the ^{_{A f21, - (CH 2)}} j1 - , more preferably an ethylene group or a methylene group, more preferably a methylene group.

式（ａ４−４）で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び以下の式で表される構造単位において、構造単位（ａ４−４）におけるＲ^f21に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
As the structural unit represented by the formula (a4-4), for example, in the following structural unit and the structural unit represented by the following formula, a methyl group corresponding to R ^f21 in the structural unit (a4-4) is hydrogen. Examples include structural units replaced by atoms.

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ４）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１〜２０モル％が好ましく、２〜１５モル％がより好ましく、３〜１０モル％がさらに好ましい。 When the resin (A) has a structural unit (a4), the content is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 2 to 15 mol%, based on all structural units of the resin (A). More preferably, it is 10 mol%.

〈構造単位（ａ５）〉
構造単位（ａ５）が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位（ａ５）は、脂環式炭化水素基を有する基が好ましい。
構造単位（ａ５）としては、例えば、式（ａ５−１）で表される構造単位が挙げられる。
［式（ａ５−１）中、
Ｒ⁵¹は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ⁵²は、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
Ｌ⁵⁵は、単結合又は炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。］ <Structural unit (a5)>
Examples of the non-elimination hydrocarbon group included in the structural unit (a5) include groups having a linear, branched, or cyclic hydrocarbon group. Among these, the structural unit (a5) is preferably a group having an alicyclic hydrocarbon group.
As a structural unit (a5), the structural unit represented by a formula (a5-1) is mentioned, for example.
[In the formula (a5-1),
R ⁵¹ represents a hydrogen atom or a methyl group.
R ⁵² represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. .
L ⁵⁵ represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. . ]

Ｒ⁵²における脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び２−エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、３−メチルアダマンチル基などが挙げられる。
Ｒ⁵²は、好ましくは、無置換の炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。 The alicyclic hydrocarbon group for R ⁵² may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include an adamantyl group and a norbornyl group.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group and 2 -Alkyl groups, such as an ethylhexyl group, are mentioned.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a substituent include a 3-methyladamantyl group.
R ⁵² is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and more preferably an adamantyl group, a norbornyl group, or a cyclohexyl group.

Ｌ⁵⁵における２価の飽和炭化水素基としては、２価の鎖式飽和炭化水素基及び２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは２価の鎖式飽和炭化水素基である。
２価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
２価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。 Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L ⁵⁵ include a divalent chain saturated hydrocarbon group and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, preferably a divalent chain saturated hydrocarbon group. .
Examples of the divalent chain saturated hydrocarbon group include alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propanediyl group, butanediyl group and pentanediyl group.
The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include cycloalkanediyl groups such as cyclopentanediyl group and cyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include an adamantanediyl group and a norbornanediyl group.

Ｌ⁵⁵の表す２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−が、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わった基としては、例えば、式（Ｌ１−１）〜式（Ｌ１−４）で表される基が挙げられる。下記式中、＊は酸素原子との結合手を表す。
Examples of the group in which —CH ₂ — contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L ⁵⁵ is replaced by —O— or —CO— include those represented by formulas (L1-1) to (L1-4): And the group represented. In the following formula, * represents a bond with an oxygen atom.

式（Ｌ１−１）中、
Ｘ^x1は、＊−Ｏ−ＣＯ−又は＊−ＣＯ−Ｏ−を表す（＊はＬ^x１との結合手を表す。）。
Ｌ^x1は、炭素数１〜１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^x2は、単結合又は炭素数１〜１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ^x1及びＬ^x2の合計炭素数は、１６以下である。 In formula (L1-1),
X ^x1 represents * —O—CO— or * —CO—O— (* represents a bond to L ^x1 ).
L ^x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
L ^x2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
However, the total carbon number of L ^x1 and L ^x2 is 16 or less.

式（Ｌ１−２）中、
Ｌ^x3は、炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^x4は、単結合又は炭素数１〜１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ^x3及びＬ^x4の合計炭素数は、１７以下である。 In formula (L1-2),
L ^x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms.
L ^x4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
However, the total carbon number of L ^x3 and L ^x4 is 17 or less.

式（Ｌ１−３）中、
Ｌ^x5は、炭素数１〜１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^x6及びＬ^x7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１〜１４の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ^x5、Ｌ^x6及びＬ^x7の合計炭素数は、１５以下である。 In formula (L1-3),
L ^x5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
L ^x6 and L ^x7 each independently represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
However, the total carbon number of L ^x5 , L ^x6 and L ^x7 is 15 or less.

式（Ｌ１−４）中、
Ｌ^x8及びＬ^x9は、単結合又は炭素数１〜１２の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｗ^x1は、炭素数３〜１５の２価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ^x8、Ｌ^x9及びＷ^x1の合計炭素数は、１５以下である。 In formula (L1-4),
L ^x8 and L ^x9 represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
W ^x1 represents a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
However, the total carbon number of L ^x8 , L ^x9 and W ^x1 is 15 or less.

Ｌ^x1は、好ましくは、炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌ^x2は、好ましくは、単結合又は炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合である。
Ｌ^x3は、好ましくは、炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌ^x4は、好ましくは、単結合又は炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌ^x5は、好ましくは、炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌ^x6は、好ましくは、単結合又は炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌ^x7は、好ましくは、単結合又は炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌ^x8は、好ましくは、単結合又は炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｌ^x9は、好ましくは、単結合又は炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｗ^x1は、好ましくは、炭素数３〜１０の２価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。 L ^x1 is preferably a C 1-8 divalent aliphatic saturated hydrocarbon group, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L ^x2 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond.
L ^x3 is preferably a C 1-8 divalent aliphatic saturated hydrocarbon group.
L ^x4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L ^x5 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L ^x6 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L ^x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L ^x8 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
L ^x9 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
W ^x1 is preferably a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantanediyl group.

式（Ｌ１−１）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
As group represented by a formula (L1-1), the bivalent group shown below is mentioned, for example.

式（Ｌ１−２）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
As group represented by a formula (L1-2), the bivalent group shown below is mentioned, for example.

式（Ｌ１−３）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
As group represented by a formula (L1-3), the bivalent group shown below is mentioned, for example.

式（Ｌ１−４）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。
As group represented by a formula (L1-4), the bivalent group shown below is mentioned, for example.

Ｌ⁵⁵は、好ましくは、単結合又は式（Ｌ１−１）で表される基である。 L ⁵⁵ is preferably a group represented by a single bond or the formula (L1-1).

構造単位（ａ５−１）としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位（ａ５−１）におけるＲ⁵¹に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。
樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ５）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１〜３０モル％が好ましく、２〜２０モル％がより好ましく、３〜１５モル％がさらに好ましい。 Examples of the structural unit (a5-1) include structural units in which a methyl group corresponding to R ⁵¹ in the structural unit shown below and the structural unit (a5-1) in the structural unit shown below is replaced with a hydrogen atom.
When the resin (A) has the structural unit (a5), the content is preferably 1 to 30 mol%, more preferably 2 to 20 mol%, based on all structural units of the resin (A). More preferred is ˜15 mol%.

＜構造単位（ＩＩ）＞
樹脂（Ａ）は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位（以下、「構造単位（ＩＩ）という場合がある）を含有してもよい。構造単位（ＩＩ）としては、具体的には特開２０１６−７９２３５号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。 <Structural unit (II)>
The resin (A) may further contain a structural unit that decomposes upon exposure to generate an acid (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (II)”). Is a structural unit described in JP-A-2016-79235, which is a structural unit having a sulfonate group or carboxylate group and an organic cation in the side chain, or a structural unit having a sulfonio group and an organic anion in the side chain. Preferably there is.

側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位は、式（ＩＩ−２−Ａ’）で表される構造単位であることが好ましい。
［式（ＩＩ−２−Ａ’）中、
Ｘ^ＩＩＩ３は、炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
Ａ^ｘ１は、炭素数１〜８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
ＲＡ⁻は、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
Ｒ^ＩＩＩ３は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ＺＡ^＋は、有機カチオンを表す。］ The structural unit having a sulfonate group or carboxylate group and an organic cation in the side chain is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A ′).
[In the formula (II-2-A ′)
X ^III3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by —O—, —S— or —CO—. The hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, or a hydroxy group.
A ^x1 represents an alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
RA ^- represents a sulfonate or carboxylate groups.
R ^III3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
ZA ⁺ represents an organic cation. ]

Ｒ^ＩＩＩ３で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
Ｒ^ＩＩＩ３で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、Ｒ^ａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ａ^ｘ１で表される炭素数１〜８のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、エタン−１，１−ジイル基、プロパン−１，１−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−２，２−ジイル基、ペンタン−２，４−ジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，４−ジイル基、２−メチルブタン−１，４−ジイル基等が挙げられる。 Examples of the halogen atom represented by R ^III3 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R ^III3 , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R ^a8 and The same can be mentioned.
Examples of the alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by A ^x1 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and a pentane-1,5-diyl group. Hexane-1,6-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2, 4-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group, etc. Can be mentioned.

Ｘ^ＩＩＩ３で表される炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これらの組み合わせてあってもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、ノナン−１，９−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、ウンデカン−１，１１−ジイル基、ドデカン−１，１２−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；ブタン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，４−ジイル基、２−メチルブタン−１，４−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；シクロブタン−１，３−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロオクタン−１，５−ジイル基等のシクロアルカンジイル基；ノルボルナン−１，４−ジイル基、ノルボルナン−２，５−ジイル基、アダマンタン−１，５−ジイル基、アダマンタン−２，６−ジイル基等の２価の多環式脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。 Examples of the divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by ^XIII3 include a linear or branched alkanediyl group, a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. These may be combined.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1 , 6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group , Linear alkanediyl groups such as dodecane-1,12-diyl group; butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group Branched alkanediyl groups such as pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group; cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1 , 4-diyl group, Cycloalkanediyl group such as looctane-1,5-diyl group; norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, adamantane-2,6-diyl group Bivalent polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups and the like.

飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−が、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＯ−で置き換わったものとしては、例えば式（Ｘ１）〜式（Ｘ５３）で表される２価の基が挙げられる。ただし、飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−が、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＯ−で置き換わる前の炭素数はそれぞれ１７以下である。下記式において、＊はＡ^ｘ１との結合手を表す。
Examples of the group in which —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced by —O—, —S—, or —CO— include divalent groups represented by formula (X1) to formula (X53), for example. Can be mentioned. However, the number of carbon atoms before —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with —O—, —S—, or —CO— is 17 or less. In the following formulas, * represents a bond to ^{A x1.}

Ｘ³は、２価の炭素数１〜１６の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ⁴は、２価の炭素数１〜１５の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ⁵は、２価の炭素数１〜１３の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ⁶は、２価の炭素数１〜１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ⁷は、３価の炭素数１〜１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ⁸は、２価の炭素数１〜１３の飽和炭化水素基を表す。 X ³ represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
X ⁴ represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
X ⁵ represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.
X ⁶ represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X ⁷ represents a trivalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X ⁸ represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.

ＺＡ⁺で表される有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、例えば有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、有機ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオンなどが挙げられ、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。
式（ＩＩ−２−Ａ’）中のＺＡ^＋は、後述の酸発生剤（Ｂ１）におけるカチオンＺ^＋と同様のものが挙げられる。 Examples of organic cations represented by ZA ⁺ include organic onium cations such as organic sulfonium cations, organic iodonium cations, organic ammonium cations, organic benzothiazolium cations, and organic phosphonium cations, and organic sulfonium cations and organic iodonium cations. Are preferred, and arylsulfonium cations are more preferred.
Examples of ZA ^{+ in} formula (II-2-A ′) include the same as cation Z ⁺ in the acid generator (B1) described later.

式（ＩＩ−２−Ａ’）で表される構造単位は、式（ＩＩ−２−Ａ）で表される構造単位であることが好ましい。
［式（ＩＩ−２−Ａ）中、
Ｒ^ＩＩＩ３、Ｘ^ＩＩＩ３及びＺＡ^＋は、上記と同じ意味を表す。
Ｚは、０〜６のいずれかの整数を表す。
Ｒ^ＩＩＩ２及びＲ^ＩＩ４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲ^ＩＩＩ２及びＲ^ＩＩＩ４は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Ｑ^ａ及びＱ^ｂは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。］ The structural unit represented by the formula (II-2-A ′) is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A).
[In the formula (II-2-A),
R ^III3 , X ^III3 and ZA ⁺ represent the same meaning as described above.
Z represents an integer of 0 to 6.
R ^III2 and R ^II4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group, and when z is 2 or more, the plurality of R ^III2 and R ^III4 are the same as each other It may be different or different.
Q ^a and Q ^b each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group. ]

Ｒ^ＩＩＩ２、Ｒ^ＩＩＩ４、Ｑ^ａ及びＱ^ｂで表される炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基としては、後述のＱ^ｂ１で表される炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基と同じものが挙げられる。 ^{Examples of} the C 1-6 perfluoroalkyl group represented by R ^III2 , R ^III4 , Q ^a and Q ^b include the same as the C 1-6 perfluoroalkyl group represented by Q ^b1 described later. .

式（ＩＩ−２−Ａ）で表される構造単位は、式（ＩＩ−２−Ａ−１）で表される構造単位であることが好ましい。
［式（ＩＩ−２−Ａ−１）中、
Ｒ^ＩＩＩ２、Ｒ^ＩＩＩ３、Ｒ^ＩＩＩ４、Ｑ^a、Ｑ^b、ｚ及びＺＡ^＋は、上記と同じ意味を表す。
Ｒ^ＩＩＩ５は、炭素数１〜１２の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^Ｉ２は、炭素数１〜１１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。］ The structural unit represented by the formula (II-2-A) is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A-1).
[In the formula (II-2-A-1)
R ^III2 , R ^III3 , R ^III4 , Q ^a , Q ^b , z and ZA ⁺ represent the same meaning as described above.
R ^III5 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
X ^I2 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 11 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by —O—, —S— or —CO—. The hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom or a hydroxy group. ]

Ｒ^ＩＩＩ５で表される炭素数１〜１２の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
Ｘ^Ｉ２で表される２価の飽和炭化水素基としては、Ｘ^ＩＩＩ３で表される２価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。 Examples of the saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms represented by R ^III5 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, Examples thereof include linear or branched alkyl groups such as heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group and dodecyl group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by X ^I2, are the same as those of the divalent saturated hydrocarbon group represented by X ^III3.

式（ＩＩ−２−Ａ−１）で表される構造単位としては、式（ＩＩ−２−Ａ−２）で表される構造単位がさらに好ましい。
［式（ＩＩ−２−Ａ−２）中、
Ｒ^ＩＩＩ３、Ｒ^ＩＩＩ５及びＺＡ^＋は、上記と同じ意味を表す。
ｍ及びｎは、互いに独立に、１又は２を表す。］ As the structural unit represented by the formula (II-2-A-1), a structural unit represented by the formula (II-2-A-2) is more preferable.
[In the formula (II-2-A-2),
R ^III3 , R ^III5 and ZA ⁺ represent the same meaning as described above.
m and n each independently represent 1 or 2. ]

式（ＩＩ−２−Ａ’）で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び国際公開第２０１２／０５００１５号記載の構造単位が挙げられる。ＺＡ^＋は、有機カチオンを表す。
Examples of the structural unit represented by the formula (II-2-A ′) include the following structural units and the structural units described in International Publication No. 2012/050015. ZA ⁺ represents an organic cation.

側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位は、式（ＩＩ−１−１）で表される構造単位であることが好ましい。
［式（ＩＩ−１−１）中、
Ａ^ＩＩ１は、単結合又は２価の連結基を表す。
Ｒ^ＩＩ１は、炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ^ＩＩ２及びＲ^ＩＩ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１８の炭化水素基を表し、Ｒ^ＩＩ２及びＲ^ＩＩ３は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成していてもよい。
Ｒ^II4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ａ⁻は、有機アニオンを表す。］
Ｒ^ＩＩ１で表される炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
Ｒ^ＩＩ２及びＲ^ＩＩ３で表される炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
Ｒ^II4で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
Ｒ^II4で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、Ｒ^ａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ａ^ＩＩ１で表される２価の連結基としては、例えば、炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基が挙げられ、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。具体的には、Ｘ^ＩＩＩ３で表される炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。 The structural unit having a sulfonio group and an organic anion in the side chain is preferably a structural unit represented by the formula (II-1-1).
[In the formula (II-1-1),
A ^II1 represents a single bond or a divalent linking group.
R ^II1 represents a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R ^II2 and R ^II3 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and R ^II2 and R ^II3 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded.
R ^II4 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
A ⁻ represents an organic anion. ]
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms represented by R ^II1 include a phenylene group and a naphthylene group.
Examples of the hydrocarbon group represented by R ^II2 and R ^II3 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these.
Examples of the halogen atom represented by R ^II4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R ^II4 , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R ^a8 ; The same can be mentioned.
Examples of the divalent linking group represented by A ^II1 include a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the divalent saturated hydrocarbon group is: -O-, -S- or -CO- may be substituted. Specifically, the same thing as a C1-C18 bivalent saturated hydrocarbon group represented by ^XIII3 is mentioned.

式（^ＩＩ１−１）中のカチオンを含む構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。
^{Examples of the} structural unit containing a cation in formula ( ^II1-1 ) include the structural units represented below.

Ａ⁻で表される有機アニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。Ａ⁻で表される有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、後述する式（Ｂ１）で表される塩に含まれるアニオンであることがより好ましい。 A ^- The organic anion represented by a sulfonic acid anion, sulfonyl imide anion, methide anion and a carboxylate anion, and the like. A ^- organic anion represented by the sulfonate anion are preferable, and as a sulfonate anion, more preferably an anion contained in the salt represented by the formula (B1) to be described later.

Ａ⁻で表されるスルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。
A ^- The sulfonyl imide anions represented by, the following may be mentioned.

スルホニルメチドアニオンとしては、以下のもの等が挙げられる。
Examples of the sulfonylmethide anion include the following.

カルボン酸アニオンとしては、以下のもの等が挙げられる。
Examples of the carboxylate anion include the following.

式（ＩＩ−１−１）で表される構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。
Examples of the structural unit represented by the formula (II-1-1) include the structural units represented below.

樹脂（Ａ）中に、構造単位（ＩＩ）を含有する場合の構造単位（ＩＩ）の含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、好ましくは１〜２０モル％であり、より好ましくは２〜１５モル％であり、さらに好ましくは３〜１０モル％である。 When the structural unit (II) is contained in the resin (A), the content of the structural unit (II) is preferably 1 to 20 mol% with respect to the total structural units of the resin (A). Preferably it is 2-15 mol%, More preferably, it is 3-10 mol%.

樹脂（Ａ）は、好ましくは構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ１）とからなる樹脂、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ１）と構造単位（ｓ）とからなる樹脂、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ１）と構造単位（ｓ）と構造単位（ａ４）及び／又は構造単位（ａ５）とからなる樹脂、構造単位（Ｉ）のみからなる樹脂、あるいは、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ４）のみからなる樹脂であり、より好ましくは、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ１）と構造単位（ｓ）とからなる樹脂、構造単位（Ｉ）のみからなる樹脂、あるいは、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ４）と構造単位（ａ５）とのみからなる樹脂、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ４）とのみからなる樹脂である。 The resin (A) is preferably a resin composed of the structural unit (I) and the structural unit (a1), a resin composed of the structural unit (I), the structural unit (a1), and the structural unit (s), and the structural unit (I ), The structural unit (a1), the structural unit (s), the structural unit (a4) and / or the structural unit (a5), the resin composed only of the structural unit (I), or the structural unit (I) A resin comprising only the structural unit (a4), more preferably a resin comprising the structural unit (I), the structural unit (a1) and the structural unit (s), a resin comprising only the structural unit (I), or A resin comprising only the structural unit (I), the structural unit (a4) and the structural unit (a5), and a resin comprising only the structural unit (I) and the structural unit (a4).

構造単位（ａ１）は、好ましくは構造単位（ａ１−０）、構造単位（ａ１−１）及び構造単位（ａ１−２）（好ましくはシクロヘキシル基、及びシクロペンチル基を有する該構造単位）からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは構造単位（ａ１−０）、構造単位（ａ１−１）及び構造単位（ａ１−２）（好ましくはシクロヘキシル基、又はシクロペンチル基を有する該構造単位）からなる群から選ばれる少なくとも二種である。
構造単位（ｓ）は、好ましくは構造単位（ａ２）及び構造単位（ａ３）からなる群から選ばれる少なくとも一種である。構造単位（ａ２）は、好ましくは式（ａ２−１）で表される構造単位である。構造単位（ａ３）は、好ましくは式（ａ３−１）で表される構造単位、式（ａ３−２）で表される構造単位及び式（ａ３−４）で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。 The structural unit (a1) is preferably a group consisting of the structural unit (a1-0), the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group and a cyclopentyl group). More preferably selected from the structural unit (a1-0), the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group or a cyclopentyl group). At least two selected from the group consisting of
The structural unit (s) is preferably at least one selected from the group consisting of the structural unit (a2) and the structural unit (a3). The structural unit (a2) is preferably a structural unit represented by the formula (a2-1). The structural unit (a3) is preferably a group consisting of a structural unit represented by the formula (a3-1), a structural unit represented by the formula (a3-2), and a structural unit represented by the formula (a3-4). Is at least one selected from

樹脂（Ａ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を導くモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）によって製造することができる。樹脂（Ａ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは２，０００以上（より好ましくは２，５００以上、さらに好ましくは３，０００以上）、５０，０００以下（より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは１５，０００以下）である。
本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーは、実施例に記載の分析条件により測定することができる。 Each structural unit constituting the resin (A) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, radical polymerization method) using a monomer that derives these structural units. be able to. The content rate of each structural unit which resin (A) has can be adjusted with the usage-amount of the monomer used for superposition | polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, more preferably 3,000 or more), 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, more preferably 15,000 or less).
In this specification, the weight average molecular weight is a value determined by gel permeation chromatography. Gel permeation chromatography can be measured by the analytical conditions described in the examples.

〔レジスト組成物〕
本発明のレジスト組成物は、樹脂（Ａ）と、レジスト分野で公知の酸発生剤（以下「酸発生剤（Ｂ）」という場合がある）を含有することが好ましい。
本発明のレジスト組成物は、さらに、樹脂（Ａ）以外の樹脂を含有していることが好ましい。
本発明のレジスト組成物は、酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩等のクエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）を含有することが好ましく、溶剤（以下「溶剤（Ｅ）」という場合がある）を含有することが好ましい。 [Resist composition]
The resist composition of the present invention preferably contains a resin (A) and an acid generator known in the resist field (hereinafter sometimes referred to as “acid generator (B)”).
The resist composition of the present invention preferably further contains a resin other than the resin (A).
The resist composition of the present invention preferably contains a quencher such as a salt that generates an acid having a lower acidity than an acid generated from an acid generator (hereinafter sometimes referred to as “quencher (C)”). And a solvent (hereinafter sometimes referred to as “solvent (E)”).

＜樹脂（Ａ）以外の樹脂＞
樹脂（Ａ）以外の樹脂としては、構造単位（Ｉ）を含まない樹脂であればよい。このような樹脂としては、例えば、樹脂（Ａ）から構造単位（Ｉ）を除いた樹脂（以下「樹脂（Ａ２）」という場合がある）、構造単位（ａ４）と構造単位（ａ５）とのみからなる樹脂（以下、樹脂（Ｘ）という場合がある）等が挙げられる。 <Resin other than resin (A)>
The resin other than the resin (A) may be any resin that does not contain the structural unit (I). Examples of such a resin include a resin obtained by removing the structural unit (I) from the resin (A) (hereinafter sometimes referred to as “resin (A2)”), the structural unit (a4), and the structural unit (a5) only. And the like (hereinafter sometimes referred to as “resin (X)”).

樹脂（Ｘ）としては、なかでも、構造単位（ａ４）を含む樹脂（ただし、構造単位（Ｉ）を含まない）が好ましい。
樹脂（Ｘ）において、構造単位（ａ４）の含有率は、樹脂（Ｘ）の全構造単位の合計に対して、３０モル％以上であることが好ましく、４０モル％以上であることがより好ましく、４５モル％以上であることがさらに好ましい。
樹脂（Ｘ）がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位（ａ１）、構造単位（ａ２）、構造単位（ａ３）及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、樹脂（Ｘ）は、構造単位（ａ４）及び／又は構造単位（ａ５）のみからなる樹脂であることが好ましい。 Among them, the resin (X) is preferably a resin containing the structural unit (a4) (however, it does not contain the structural unit (I)).
In the resin (X), the content of the structural unit (a4) is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more with respect to the total of all the structural units of the resin (X). More preferably, it is 45 mol% or more.
Examples of the structural unit that the resin (X) may further include a structural unit derived from the structural unit (a1), the structural unit (a2), the structural unit (a3), and other known monomers. Especially, it is preferable that resin (X) is resin which consists only of a structural unit (a4) and / or a structural unit (a5).

樹脂（Ｘ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）によって製造することができる。樹脂（Ｘ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ａ２）及び樹脂（Ｘ）の重量平均分子量は、それぞれ独立して、好ましくは６，０００以上（より好ましくは７，０００以上）、８０，０００以下（より好ましくは６０，０００以下）である。樹脂（Ａ２）及び樹脂（Ｘ）の重量平均分子量の測定手段は、樹脂（Ａ）の場合と同様である。
本発明のレジスト組成物が、樹脂（Ａ２）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、通常、１〜２５００質量部（より好ましくは１０〜１０００質量部）である。
また、レジスト組成物が樹脂（Ｘ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１〜６０質量部であり、より好ましくは１〜５０質量部であり、さらに好ましくは１〜４０質量部であり、特に好ましくは１〜３０質量部であり、特に好ましくは１〜８質量部である。 Each structural unit constituting the resin (X) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (for example, radical polymerization method) using a monomer that derives these structural units. can do. The content rate of each structural unit which resin (X) has can be adjusted with the usage-amount of the monomer used for superposition | polymerization.
The weight average molecular weights of the resin (A2) and the resin (X) are preferably independently 6,000 or more (more preferably 7,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less). is there. The measurement means of the weight average molecular weight of resin (A2) and resin (X) is the same as that of resin (A).
When the resist composition of the present invention contains a resin (A2), the content is usually 1 to 2500 parts by mass (more preferably 10 to 1000 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the resin (A). is there.
Moreover, when a resist composition contains resin (X), the content becomes like this. Preferably it is 1-60 mass parts with respect to 100 mass parts of resin (A), More preferably, it is 1-50 mass parts. More preferably, it is 1-40 mass parts, Most preferably, it is 1-30 mass parts, Most preferably, it is 1-8 mass parts.

本発明のレジスト組成物において樹脂（Ａ）が、構造単位（Ｉ）のみを含む樹脂又は構造単位（Ｉ）以外に酸不安定基を有する構造単位を含まない樹脂である場合、樹脂（Ａ）以外の樹脂を併用することが好ましく、酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂及び／又はフッ素原子を有する構造単位を含む樹脂を併用することがより好ましく、樹脂（Ａ２）及び／又は樹脂（Ｘ）を併用することがさらに好ましい。 When the resin (A) in the resist composition of the present invention is a resin containing only the structural unit (I) or a resin containing no structural unit having an acid labile group other than the structural unit (I), the resin (A) It is preferable to use a resin other than the above, more preferably a resin containing a structural unit having an acid labile group and / or a resin containing a structural unit having a fluorine atom, and a resin (A2) and / or a resin ( More preferably, X) is used in combination.

レジスト組成物における樹脂（Ａ）の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、８０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、９０〜９９質量％がより好ましい。また、樹脂（Ａ）以外の樹脂を含む場合は、樹脂（Ａ）と樹脂（Ａ）以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、８０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、９０〜９９質量％がより好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。 The content of the resin (A) in the resist composition is preferably 80% by mass or more and 99% by mass or less, and more preferably 90-99% by mass with respect to the solid content of the resist composition. Moreover, when resin other than resin (A) is included, the total content rate of resin other than resin (A) and resin (A) is 80 mass% or more and 99 mass% with respect to solid content of a resist composition. The following is preferable, and 90 to 99% by mass is more preferable. The solid content of the resist composition and the resin content relative thereto can be measured by a known analysis means such as liquid chromatography or gas chromatography.

＜酸発生剤（Ｂ）＞
酸発生剤（Ｂ）は、非イオン系又はイオン系のいずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤としては、スルホネートエステル類（例えば２−ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、Ｎ−スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン４−スルホネート）、スルホン類（例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン）等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニウムカチオンを含むオニウム塩（例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩）が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。 <Acid generator (B)>
The acid generator (B) may be either nonionic or ionic. Examples of the nonionic acid generator include sulfonate esters (for example, 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphthoquinone 4-sulfonate), sulfones (for example, disulfone, Ketosulfone, sulfonyldiazomethane) and the like. Typical examples of the ionic acid generator include onium salts containing onium cations (for example, diazonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts, and iodonium salts). Examples of the anion of the onium salt include a sulfonate anion, a sulfonylimide anion, and a sulfonylmethide anion.

酸発生剤（Ｂ）としては、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３８号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号、米国特許第３，７７９，７７８号、米国特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３９１４４０７号、欧州特許第１２６，７１２号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤（Ｂ）は、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the acid generator (B), JP-A-63-26653, JP-A-55-164824, JP-A-62-69263, JP-A-63-146038, JP-A-63-163452, Kaisho 62-153853, JP 63-146029, U.S. Pat. No. 3,779,778, U.S. Pat. No. 3,849,137, German Patent 3914407, European Patent 126,712, etc. The compound which generate | occur | produces an acid by the radiation as described in 1 can be used. Moreover, you may use the compound manufactured by the well-known method. Two or more acid generators (B) may be used in combination.

酸発生剤（Ｂ）は、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式（Ｂ１）で表される塩（以下「酸発生剤（Ｂ１）」という場合がある。）である。
［式（Ｂ１）中、
Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｌ^ｂ１は、炭素数１〜２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｙは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）_２−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ The acid generator (B) is preferably a fluorine-containing acid generator, more preferably a salt represented by the formula (B1) (hereinafter sometimes referred to as “acid generator (B1)”).
[In the formula (B1),
Q ^b1 and Q ^b2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
L ^b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. The hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents an optionally substituted methyl group or an optionally substituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and is included in the alicyclic hydrocarbon group − CH ₂ — may be replaced by —O—, —S (O) ₂ —, or —CO—.
Z ⁺ represents an organic cation. ]

Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２の表すペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ−ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ−ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、ともにフッ素原子であることがより好ましい。 ^Examples of the perfluoroalkyl group represented by Q ^b1 and Q ^b2 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group, and A perfluorohexyl group etc. are mentioned.
Q ^b1 and Q ^b2 are each independently preferably a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and more preferably a fluorine atom.

Ｌ^ｂ１における２価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち２種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、ノナン−１，９−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、ウンデカン−１，１１−ジイル基、ドデカン−１，１２−ジイル基、トリデカン−１，１３−ジイル基、テトラデカン−１，１４−ジイル基、ペンタデカン−１，１５−ジイル基、ヘキサデカン−１，１６−ジイル基及びヘプタデカン−１，１７−ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；
エタン−１，１−ジイル基、プロパン−１，１−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−２，２−ジイル基、ペンタン−２，４−ジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、２−メチルプロパン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，４−ジイル基、２−メチルブタン−１，４−ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；
シクロブタン−１，３−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、シクロオクタン−１，５−ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の２価の脂環式飽和炭化水素基；
ノルボルナン−１，４−ジイル基、ノルボルナン−２，５−ジイル基、アダマンタン−１，５−ジイル基、アダマンタン−２，６−ジイル基等の多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。 Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L ^b1 include a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and these It may be a group formed by combining two or more of the groups.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1 , 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group , Tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group Alkanediyl group;
Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- Branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group;
Monocyclic 2 which is a cycloalkanediyl group such as cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclooctane-1,5-diyl group Valent alicyclic saturated hydrocarbon group;
Polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, adamantane-2,6-diyl group, etc. Groups and the like.

Ｌ^ｂ１で表される２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−が−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わった基としては、例えば、式（ｂ１−１）〜式（ｂ１−３）のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式（ｂ１−１）〜式（ｂ１−３）及びそれらの具体例である式（ｂ１−４）〜式（ｂ１−１１）において、＊は−Ｙとの結合手を表す。 Examples of the group in which —CH ₂ — contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L ^b1 is replaced by —O— or —CO— include, for example, formula (b1-1) to formula (b1-3) Or a group represented by any of the above. In formulas (b1-1) to (b1-3) and formulas (b1-4) to (b1-11), which are specific examples thereof, * represents a bond with -Y.

［式（ｂ１−１）中、
Ｌ^ｂ２は、単結合又は炭素数１〜２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^ｂ３は、単結合又は炭素数１〜２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ２とＬ^ｂ３との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１−２）中、
Ｌ^ｂ４は、単結合又は炭素数１〜２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^ｂ５は、単結合又は炭素数１〜２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ４とＬ^ｂ５との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１−３）中、
Ｌ^ｂ６は、単結合又は炭素数１〜２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
Ｌ^ｂ７は、単結合又は炭素数１〜２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ６とＬ^ｂ７との炭素数合計は、２３以下である。］ [In the formula (b1-1),
L ^b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L ^b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated —CH ₂ — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—.
However, the total number of carbon atoms of L ^b2 and L ^b3 is 22 or less.
In formula (b1-2),
L ^b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L ^b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated —CH ₂ — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—.
However, the total number of carbon atoms of L ^b4 and L ^b5 is 22 or less.
In formula (b1-3),
L ^b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
L ^b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated —CH ₂ — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—.
However, the total number of carbon atoms of L ^b6 and L ^b7 is 23 or less. ]

式（ｂ１−１）〜式（ｂ１−３）においては、飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−が−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
２価の飽和炭化水素基としては、Ｌ^ｂ１の２価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。 In the formulas (b1-1) to (b1-3), when —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with —O— or —CO—, the number of carbons before the replacement is changed to the saturated carbon group. The carbon number of the hydrogen group.
Examples of the divalent saturated hydrocarbon group include the same divalent saturated hydrocarbon group of L ^b1.

Ｌ^ｂ２は、好ましくは単結合である。
Ｌ^ｂ３は、好ましくは炭素数１〜４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ４は、好ましくは炭素数１〜８の２価の飽和炭化水素基であり、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^ｂ５は、好ましくは単結合又は炭素数１〜８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ６は、好ましくは単結合又は炭素数１〜４の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^ｂ７は、好ましくは単結合又は炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。 L ^b2 is preferably a single bond.
L ^b3 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L ^b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L ^b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L ^b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L ^b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, —CH ₂ — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—.

Ｌ^ｂ１で表される２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−が−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わった基としては、式（ｂ１−１）又は式（ｂ１−３）で表される基が好ましい。 The group in which —CH ₂ — contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L ^b1 is replaced by —O— or —CO— is represented by the formula (b1-1) or the formula (b1-3). Preferred are the groups

式（ｂ１−１）としては、式（ｂ１−４）〜式（ｂ１−８）でそれぞれ表される基が挙げられる。
［式（ｂ１−４）中、
Ｌ^ｂ８は、単結合又は炭素数１〜２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式（ｂ１−５）中、
Ｌ^ｂ９は、炭素数１〜２０の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１０は、単結合又は炭素数１〜１９の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ９及びＬ^ｂ１０の合計炭素数は２０以下である。
式（ｂ１−６）中、
Ｌ^ｂ１１は、炭素数１〜２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１２は、単結合又は炭素数１〜２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ１１及びＬ^ｂ１２の合計炭素数は２１以下である。
式（ｂ１−７）中、
Ｌ^ｂ１３は、炭素数１〜１９の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１４は、単結合又は炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１５は、単結合又は炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ１３〜Ｌ^ｂ１５の合計炭素数は１９以下である。
式（ｂ１−８）中、
Ｌ^ｂ１６は、炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１７は、炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１８８は、単結合又は炭素数１〜１７の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ１６〜Ｌ^ｂ１８の合計炭素数は１９以下である。］ Examples of formula (b1-1) include groups represented by formula (b1-4) to formula (b1-8).
[In the formula (b1-4),
L ^b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
In formula (b1-5),
^Lb9 represents a C1-C20 bivalent saturated hydrocarbon group.
L ^b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. .
However, the total carbon number of L ^b9 and L ^b10 is 20 or less.
In formula (b1-6),
L ^b11 represents a C1-C21 divalent saturated hydrocarbon group.
L ^b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. .
However, the total carbon number of L ^b11 and L ^b12 is 21 or less.
In formula (b1-7),
L ^b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms.
L ^b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L ^b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. .
However, the total carbon number of L ^{b13 to} L ^b15 is 19 or less.
In formula (b1-8),
L ^b16 represents a C1-C18 divalent saturated hydrocarbon group.
L ^b17 represents a C1- ^C18 divalent saturated hydrocarbon group.
L ^b188 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group. .
However, the total carbon number of L ^{b16 to} L ^b18 is 19 or less. ]

Ｌ^ｂ８は、好ましくは炭素数１〜４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ９は、好ましくは炭素数１〜８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１０は、好ましくは単結合又は炭素数１〜１９の２価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数１〜８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１１は、好ましくは炭素数１〜８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１２は、好ましくは単結合又は炭素数１〜８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１３は、好ましくは炭素数１〜１２の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１４は、好ましくは単結合又は炭素数１〜６の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１５は、好ましくは単結合又は炭素数１〜１８の２価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数１〜８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１６は、好ましくは炭素数１〜１２の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１７は、好ましくは炭素数１〜６の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１８は、好ましくは単結合又は炭素数１〜１７の２価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数１〜４の２価の飽和炭化水素基である。 L ^b8 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L ^b9 is preferably a C 1-8 divalent saturated hydrocarbon group.
L ^b10 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L ^b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L ^b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L ^b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L ^b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L ^b15 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L ^b16 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L ^b17 is preferably a ^C 1-6 divalent saturated hydrocarbon group.
L ^b18 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

式（ｂ１−３）としては、式（ｂ１−９）〜式（ｂ１−１１）でそれぞれ表される基が挙げられる。
式（ｂ１−９）中、
Ｌ^b19は、単結合又は炭素数１〜２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^b20は、単結合又は炭素数１〜２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^b19及びＬ^b20の合計炭素数は２３以下である。
式（ｂ１−１０）中、
Ｌ^b21は、単結合又は炭素数１〜２１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^b22は、単結合又は炭素数１〜２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^b23は、単結合又は炭素数１〜２１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^b21、Ｌ^b22及びＬ^b23の合計炭素数は２１以下である。
式（ｂ１−１１）中、
Ｌ^b24は、単結合又は炭素数１〜２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^b25は、炭素数１〜２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^b26は、単結合又は炭素数１〜２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^b24、Ｌ^b25及びＬ^b26の合計炭素数は２１以下である。 Examples of formula (b1-3) include groups represented by formula (b1-9) to formula (b1-11), respectively.
In formula (b1-9),
L ^b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L ^b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. Also good. —CH ₂ — contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with —O— or —CO—, and a hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L ^b19 and L ^b20 is 23 or less.
In formula (b1-10),
L ^b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to ²¹ carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L ^b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L ^b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to ²¹ carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. Also good. —CH ₂ — contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with —O— or —CO—, and a hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L ^b21 , L ^b22 and L ^b23 is 21 or less.
In formula (b1-11),
L ^b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L ^b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L ^b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. Also good. —CH ₂ — contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with —O— or —CO—, and a hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxy group.
However, L ^b24, the total number of carbon atoms of L ^b25 and L ^b26 is 21 or less.

なお、式（ｂ１−９）から式（ｂ１−１１）においては、飽和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。 In formulas (b1-9) to (b1-11), when a hydrogen atom contained in a saturated hydrocarbon group is substituted with an alkylcarbonyloxy group, the number of carbon atoms before the substitution is changed to the saturated hydrocarbon group. The number of carbons.

アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group, and an adamantylcarbonyloxy group.

式（ｂ１−４）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-4) include the following.

式（ｂ１−５）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-5) include the following.

式（ｂ１−６）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-6) include the following.

式（ｂ１−７）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-7) include the following.

式（ｂ１−８）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-8) include the following.

式（ｂ１−２）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-2) include the following.

式（ｂ１−９）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-9) include the following.

式（ｂ１−１０）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-10) include the following.

式（ｂ１−１１）で表される基としては、以下のものが挙げられる。
Examples of the group represented by the formula (b1-11) include the following.

Ｙで表される脂環式炭化水素基としては、式（Ｙ１）〜式（Ｙ１１）、式（Ｙ３６）〜式（Ｙ３８）で表される基が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−が−Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）_２−又は−ＣＯ−で置き換わる場合、その数は１つでもよいし、２以上でもよい。そのような基としては、式（Ｙ１２）〜式（Ｙ３５）、式（Ｙ３９）、式（Ｙ４０）で表される基が挙げられる。 Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y include groups represented by formulas (Y1) to (Y11) and formulas (Y36) to (Y38).
When —CH ₂ — contained in the alicyclic hydrocarbon group represented by Y is replaced by —O—, —S (O) ₂ — or —CO—, the number may be one, or two or more. Good. Examples of such a group include groups represented by formula (Y12) to formula (Y35), formula (Y39), and formula (Y40).

Ｙとしては、好ましくは式（Ｙ１）〜式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１））、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）のいずれかで表される基であり、より好ましくは式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ１６）、式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１））、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基であり、さらに好ましくは式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ３０））、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基である。
Ｙが式（Ｙ２８）〜式（Ｙ３５）等のスピロ環である場合には、２つの酸素原子間のアルカンジイル基は、１以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていないのが好ましい。 Y is preferably a group represented by any one of formula (Y1) to formula (Y20), formula (Y30), formula (Y31)), formula (Y39) or formula (Y40), and more preferably A group represented by formula (Y11), formula (Y15), formula (Y16), formula (Y20), formula (Y30), formula (Y31)), formula (Y39) or formula (Y40), and more preferably Is a group represented by formula (Y11), formula (Y15), formula (Y30)), formula (Y39) or formula (Y40).
When Y is a spiro ring such as formula (Y28) to formula (Y35), the alkanediyl group between two oxygen atoms preferably has one or more fluorine atoms. Of the alkanediyl groups contained in the ketal structure, the methylene group adjacent to the oxygen atom is preferably not substituted with a fluorine atom.

Ｙで表されるメチル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数３〜１６の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基又は−（ＣＨ_２）_ｊａ−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^ｂ１基（式中、Ｒ^ｂ１は、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数３〜１６の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基を表す。ｊａは、０〜４のいずれかの整数を表す）等が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１６の脂環式炭化水素基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基、炭素数７〜２１のアラルキル基、炭素数２〜４のアルキルカルボニル基、グリシジルオキシ基又は−（ＣＨ_２）_ｊａ−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^ｂ１基（式中、Ｒ^ｂ１は、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数３〜１６の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基を表す。ｊａは、０〜４のいずれかの整数を表す）等が挙げられる。 Examples of the substituent for the methyl group represented by Y include a halogen atom, a hydroxy group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group, or-( CH ₂ ) _ja —O—CO—R ^b1 group (wherein R ^b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, or an aromatic group having 6 to 18 carbon atoms). Represents a hydrocarbon group, and ja represents an integer of 0 to 4).
Examples of the substituent for the alicyclic hydrocarbon group represented by Y include a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydroxy group, and an alicyclic group having 3 to 16 carbon atoms. A hydrocarbon group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, a glycidyloxy group or-( CH ₂ ) _ja —O—CO—R ^b1 group (wherein R ^b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, or an aromatic group having 6 to 18 carbon atoms). Represents a hydrocarbon group, and ja represents an integer of 0 to 4).

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｐ−アダマンチルフェニル基；トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６−ジエチルフェニル基、２−メチル−６−エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, an adamantyl group, and the like.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include phenyl group, naphthyl group, anthryl group, p-methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, p-adamantylphenyl group; tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group. , Aryl groups such as biphenyl group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl, and the like.
Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, and nonyl. Group, decyl group, undecyl group, dodecyl group and the like.
Examples of the alkyl group substituted with a hydroxy group include hydroxyalkyl groups such as a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group.
Examples of the alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, decyloxy group and dodecyloxy group.
Examples of the aralkyl group include benzyl group, phenethyl group, phenylpropyl group, naphthylmethyl group, and naphthylethyl group.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.

Ｙとしては、以下のものが挙げられる。
Examples of Y include the following.

Ｙは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基であり、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又はアダマンチル基を構成する−ＣＨ_２−は−ＣＯ−、−Ｓ（Ｏ）_２−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。Ｙは、さらに好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基、オキソアダマンチル基又は下記で表される基である。
Y is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, more preferably an adamantyl group which may have a substituent, and the alicyclic carbonization —CH ₂ — constituting the hydrogen group or adamantyl group may be replaced by —CO—, —S (O) ₂ — or —CO—. Y is more preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, an oxoadamantyl group, or a group represented by the following.

式（Ｂ１）で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、式（Ｂ１−Ａ−１）〜式（Ｂ１−Ａ−５５）で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン（Ｂ１−Ａ−１）」等という場合がある。〕が好ましく、式（Ｂ１−Ａ−１）〜式（Ｂ１−Ａ−４）、式（Ｂ１−Ａ−９）、式（Ｂ１−Ａ−１０）、式（Ｂ１−Ａ−２４）〜式（Ｂ１−Ａ−３３）、式（Ｂ１−Ａ−３６）〜式（Ｂ１−Ａ−４０）、式（Ｂ１−Ａ−４７）〜式（Ｂ１−Ａ−５５）のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。 The sulfonate anion in the salt represented by the formula (B1) is an anion represented by the formula (B1-A-1) to the formula (B1-A-55) [hereinafter, anion (B1 -A-1) "or the like. ] Is preferable, Formula (B1-A-1)-Formula (B1-A-4), Formula (B1-A-9), Formula (B1-A-10), Formula (B1-A-24)-Formula (B1-A-33), Formula (B1-A-36) to Formula (B1-A-40), Formula (B1-A-47) to Formula (B1-A-55) An anion is more preferable.

ここで、Ｒ^ｉ２〜Ｒ^ｉ７は、互いに独立に、例えば、炭素数１〜４のアルキル基、好ましくはメチル基又はエチル基である。Ｒ^ｉ８は、例えば、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数５〜１２の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。Ｌ^Ａ４は、単結合又は炭素数１〜４のアルカンジイル基である。
Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２は、上記と同じ意味を表す。
式（Ｂ１）で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、具体的には、特開２０１０−２０４６４６号公報に記載されたアニオンが挙げられる。 Here, R ^{i2 to} R ⁱ⁷ are each independently, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group. R ⁱ⁸ is formed by, for example, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a combination thereof. More preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group. L ^A4 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Q ^b1 and Q ^b2 represent the same meaning as described above.
Specific examples of the sulfonate anion in the salt represented by the formula (B1) include the anions described in JP 2010-204646 A.

好ましい式（Ｂ１）で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、式（Ｂ１ａ−１）〜式（Ｂ１ａ−３４）でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。
Examples of the sulfonate anion in the salt represented by Formula (B1) include anions represented by Formula (B1a-1) to Formula (B1a-34), respectively.

なかでも、式（Ｂ１ａ−１）〜式（Ｂ１ａ−３）及び式（Ｂ１ａ−７）〜式（Ｂ１ａ−１６）、式（Ｂ１ａ−１８）、式（Ｂ１ａ−１９）、式（Ｂ１ａ−２２）〜式（Ｂ１ａ−３４）のいずれかで表されるアニオンが好ましい。 Especially, Formula (B1a-1)-Formula (B1a-3) and Formula (B1a-7)-Formula (B1a-16), Formula (B1a-18), Formula (B1a-19), Formula (B1a-22) ) To (B1a-34) are preferable.

Ｚ^＋の有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。具体的には、式（ｂ２−１）〜式（ｂ２−４）のいずれかで表されるカチオン（以下、式番号に応じて「カチオン（ｂ２−１）」等という場合がある。）が挙げられる。 Examples of the organic cation of Z ⁺ include an organic onium cation, an organic sulfonium cation, an organic iodonium cation, an organic ammonium cation, a benzothiazolium cation, and an organic phosphonium cation. Among these, an organic sulfonium cation and an organic iodonium cation are preferable, and an arylsulfonium cation is more preferable. Specifically, a cation represented by any one of formulas (b2-1) to (b2-4) (hereinafter may be referred to as “cation (b2-1)” or the like depending on the formula number). Can be mentioned.

式（ｂ２−１）〜式（ｂ２−４）において、
Ｒ^b4〜Ｒ^b6は、それぞれ独立に、炭素数１〜３０の鎖式炭化水素基、炭素数３〜３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜３６の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基、炭素数２〜４のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Ｒ^b4とＲ^b5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＯ−に置き換わってもよい。
Ｒ^b7及びＲ^b8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１〜１２のアルコキシ基を表す。
ｍ２及びｎ２は、それぞれ独立に０〜５のいずれかの整数を表す。
ｍ２が２以上のとき、複数のＲ^b7は同一でも異なってもよく、ｎ２が２以上のとき、複数のＲ^b8は同一でも異なってもよい。
Ｒ^b9及びＲ^b10は、それぞれ独立に、炭素数１〜３６の鎖式炭化水素基又は炭素数３〜３６の脂環式炭化水素基を表す。
Ｒ^b9とＲ^b10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＯ−に置き換わってもよい。
Ｒ^b11は、水素原子、炭素数１〜３６の鎖式炭化水素基、炭素数３〜３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ^b12は、炭素数１〜１２の鎖式炭化水素基、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素に含まれる水素原子は、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数１〜１２のアルコキシ基又は炭素数１〜１２のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
Ｒ^b11とＲ^b12とは、互いに結合してそれらが結合する−ＣＨ−ＣＯ−を含めて環を形成していてもよく、該環に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＯ−に置き換わってもよい。
Ｒ^b13〜Ｒ^b18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１〜１２のアルコキシ基を表す。
Ｌ^b31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
ｏ２、ｐ２、ｓ２、及びｔ２は、それぞれ独立に、０〜５のいずれかの整数を表す。
ｑ２及びｒ２は、それぞれ独立に、０〜４のいずれかの整数を表す。
ｕ２は０又は１を表す。
ｏ２が２以上のとき、複数のＲ^b13は同一又は相異なり、ｐ２が２以上のとき、複数のＲ^b14は同一又は相異なり、ｑ２が２以上のとき、複数のＲ^b15は同一又は相異なり、ｒ２が２以上のとき、複数のＲ^b16は同一又は相異なり、ｓ２が２以上のとき、複数のＲ^b17は同一又は相異なり、ｔ２が２以上のとき、複数のＲ^b18は同一又は相異なる。 In formula (b2-1) to formula (b2-4),
R ^{b4 to} R ^b6 each independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms, The hydrogen atom contained in the chain hydrocarbon group is a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. The hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group which may be substituted is a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms or a glycidyloxy group. The hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
R ^b4 and R ^b5 may combine with each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and —CH ₂ — contained in the ring is —O—, —S— or -CO- may be substituted.
R ^b7 and R ^b8 each independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
m2 and n2 each independently represents an integer of 0 to 5.
When m2 is 2 or more, the plurality of R ^b7 may be the same or different, and when n2 is 2 or more, the plurality of R ^b8 may be the same or different.
R ^b9 and R ^b10 each independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms.
R ^b9 and R ^b10 may be bonded together to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and —CH ₂ — contained in the ring is —O—, —S— or -CO- may be substituted.
R ^b11 represents a hydrogen atom, a chain hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R ^b12 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and is included in the chain hydrocarbon. The hydrogen atom may be substituted with an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group is an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or 1 to 1 carbon atoms. It may be substituted with 12 alkylcarbonyloxy groups.
R ^b11 and R ^b12 may be bonded to each other to form a ring including —CH—CO— to which they are bonded, and —CH ₂ — contained in the ring is —O—, —S -Or -CO- may be substituted.
R ^{b13 to} R ^b18 each independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
L ^b31 represents a sulfur atom or an oxygen atom.
o2, p2, s2, and t2 each independently represents an integer of 0 to 5.
q2 and r2 each independently represents an integer of 0 to 4.
u2 represents 0 or 1.
When o2 is 2 or more, multiple R ^b13 are the same or different, when p2 is 2 or more, multiple R ^b14 are the same or different, and when q2 is 2 or more, multiple R ^b15 are the same or different , When r2 is 2 or more, a plurality of R ^b16 are the same or different, when s2 is 2 or more, a plurality of R ^b17 are the same or different, and when t2 is 2 or more, a plurality of R ^b18 are the same or different Different.

脂肪族炭化水素基とは、鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基を表す。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び２−エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。
特に、Ｒ^b9〜Ｒ^b12の鎖式炭化水素基は、好ましくは炭素数１〜１２である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。
特に、Ｒ^b9〜Ｒ^b12の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数３〜１８、より好ましくは炭素数４〜１２である。 An aliphatic hydrocarbon group represents a chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of chain hydrocarbon groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl and 2-ethylhexyl alkyl groups. Can be mentioned.
In particular, the chain hydrocarbon group of R ^{b9 to} R ^b12 preferably has 1 to 12 carbon atoms.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic, and the monocyclic alicyclic hydrocarbon group may be a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclo group. Examples thereof include cycloalkyl groups such as heptyl group, cyclooctyl group and cyclodecyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group, and the following groups.
In particular, the alicyclic hydrocarbon group of R ^{b9 to} R ^b12 preferably has 3 to 18 carbon atoms, more preferably 4 to 12 carbon atoms.

水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、２−メチルアダマンタン−２−イル基、２−エチルアダマンタン−２−イル基、２−イソプロピルアダマンタン−２−イル基、メチルノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好ましくは２０以下である。 Examples of the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a 2-methyladamantan-2-yl group, and a 2-ethyladamantan-2-yl group. , 2-isopropyladamantan-2-yl group, methylnorbornyl group, isobornyl group and the like. In the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group, the total number of carbon atoms of the alicyclic hydrocarbon group and the aliphatic hydrocarbon group is preferably 20 or less.

芳香族炭化水素基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ｐ−エチルフェニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｐ−シクロへキシルフェニル基、ｐ−アダマンチルフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、２，６−ジエチルフェニル基、２−メチル−６−エチルフェニル基等のアリール基が挙げられる。
なお、芳香族炭化水素基に、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基が含まれる場合は、炭素数１〜１８の鎖式炭化水素基及び炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基が好ましい。
水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、ｐ−メトキシフェニル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された鎖式炭化水素基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。 As aromatic hydrocarbon group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group , Aryl groups such as a biphenylyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, a 2,6-diethylphenyl group, and a 2-methyl-6-ethylphenyl group.
In addition, when the aromatic hydrocarbon group includes a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, the chain hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and the alicyclic hydrocarbon having 3 to 18 carbon atoms. Groups are preferred.
Examples of the aromatic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an alkoxy group include a p-methoxyphenyl group.
Examples of the chain hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aromatic hydrocarbon group include aralkyl groups such as a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a trityl group, a naphthylmethyl group, and a naphthylethyl group.

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び２−エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, decyloxy group and dodecyloxy group.
Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
As the alkylcarbonyloxy group, methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, tert-butylcarbonyloxy group, pentylcarbonyloxy group Hexylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, 2-ethylhexylcarbonyloxy group and the like.

Ｒ^b4とＲ^b5とが互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、炭素数３〜１８の環が挙げられ、好ましくは炭素数４〜１８の環である。また、硫黄原子を含む環は、３員環〜１２員環が挙げられ、好ましくは３員環〜７員環であり、例えば下記の環が挙げられる。
The ring formed by combining R ^b4 and R ^b5 together with the sulfur atom to which they are bonded is monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated or unsaturated. The ring may be Examples of the ring include a ring having 3 to 18 carbon atoms, and a ring having 4 to 18 carbon atoms is preferable. Moreover, the ring containing a sulfur atom includes a 3-membered ring to a 12-membered ring, preferably a 3-membered ring to a 7-membered ring, and examples thereof include the following rings.

Ｒ^b9とＲ^b10とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、３員環〜１２員環が挙げられ、好ましくは３員環〜７員環である。例えば、チオラン−１−イウム環（テトラヒドロチオフェニウム環）、チアン−１−イウム環、１，４−オキサチアン−４−イウム環等が挙げられる。
Ｒ^b11とＲ^b12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、３員環〜１２員環が挙げられ、好ましくは３員環〜７員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。 The ring formed by combining R ^b9 and R ^b10 may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated rings. This ring includes a 3-membered ring to a 12-membered ring, preferably a 3-membered ring to a 7-membered ring. Examples thereof include a thiolane-1-ium ring (tetrahydrothiophenium ring), a thian-1-ium ring, and a 1,4-oxathian-4-ium ring.
The ring formed by ^combining R ^b11 and R ^b12 may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated rings. This ring includes a 3-membered ring to a 12-membered ring, preferably a 3-membered ring to a 7-membered ring. Examples thereof include an oxocycloheptane ring, an oxocyclohexane ring, an oxonorbornane ring, and an oxoadamantane ring.

カチオン（ｂ２−１）〜カチオン（ｂ２−４）の中でも、好ましくは、カチオン（ｂ２−１）である。 Among the cation (b2-1) to cation (b2-4), the cation (b2-1) is preferable.

カチオン（ｂ２−１）としては、以下のカチオンが挙げられる。
Examples of the cation (b2-1) include the following cations.

カチオン（ｂ２−２）としては、以下のカチオン等が挙げられる。
Examples of the cation (b2-2) include the following cations.

カチオン（ｂ２−３）としては、以下のカチオン等が挙げられる。
Examples of the cation (b2-3) include the following cations.

カチオン（ｂ２−４）としては、以下のカチオンが等挙げられる。
Examples of the cation (b2-4) include the following cations.

酸発生剤（Ｂ）は、上述のスルホン酸アニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。酸発生剤（Ｂ）としては、好ましくは式（Ｂ１ａ−１）〜式（Ｂ１ａ−３）及び式（Ｂ１ａ−７）〜式（Ｂ１ａ−１６）、式（Ｂ１ａ−１８）、式（Ｂ１ａ−１９）、式（Ｂ１ａ−２２）〜式（Ｂ１ａ−３４）のいずれかで表されるアニオンと、カチオン（ｂ２−１）又はカチオン（ｂ２−３）との組合せが挙げられる。 The acid generator (B) is a combination of the above-described sulfonate anion and the above-mentioned organic cation, and these can be arbitrarily combined. The acid generator (B) is preferably a formula (B1a-1) to a formula (B1a-3) and a formula (B1a-7) to a formula (B1a-16), a formula (B1a-18), a formula (B1a- 19), a combination of an anion represented by any one of formulas (B1a-22) to (B1a-34) and a cation (b2-1) or a cation (b2-3).

酸発生剤（Ｂ）としては、好ましくは式（Ｂ１−１）〜式（Ｂ１−４８）でそれぞれ表されるものが挙げられる、中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式（Ｂ１−１）〜式（Ｂ１−３）、式（Ｂ１−５）〜式（Ｂ１−７）、式（Ｂ１−１１）〜式（Ｂ１−１４）、式（Ｂ１−１７）、式（Ｂ１−２０）〜式（Ｂ１−２６）、式（Ｂ１−２９）、式（Ｂ１−３１）〜式（Ｂ１−４８）で表されるものがとりわけ好ましい。
Preferred examples of the acid generator (B) include those represented by formulas (B1-1) to (B1-48). Among them, those containing an arylsulfonium cation are preferred, and the formula (B1-1) ~ Formula (B1-3), Formula (B1-5) ~ Formula (B1-7), Formula (B1-11) ~ Formula (B1-14), Formula (B1-17), Formula (B1-20) ~ The compounds represented by formula (B1-26), formula (B1-29), formula (B1-31) to formula (B1-48) are particularly preferable.

本発明のレジスト組成物においては、酸発生剤の含有率は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上４０質量部以下、より好ましくは３質量部以上３５質量部以下である。本発明のレジスト組成物は、酸発生剤（Ｂ）の１種を単独で含有してもよく、複数種を含有していてもよい。 In the resist composition of the present invention, the content of the acid generator is preferably 1 part by mass or more and 40 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or more and 35 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin (A). It is. The resist composition of the present invention may contain one kind of acid generator (B) alone or may contain plural kinds.

＜溶剤（Ｅ）＞
溶剤（Ｅ）の含有率は、レジスト組成物中、通常９０質量％以上９９．９質量％以下であり、好ましくは９２質量％以上９９質量％以下であり、より好ましくは９４質量％以上９９質量％以下である。溶剤（Ｅ）の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。 <Solvent (E)>
The content of the solvent (E) is usually 90% by mass or more and 99.9% by mass or less, preferably 92% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 94% by mass or more and 99% by mass in the resist composition. % Or less. The content rate of a solvent (E) can be measured by well-known analysis means, such as a liquid chromatography or a gas chromatography, for example.

溶剤（Ｅ）としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン等の環状エステル類；等を挙げることができる。溶剤（Ｅ）の１種を単独で使用してもよく、２種以上を使用してもよい。 Examples of the solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate and ethyl pyruvate Esters such as acetone, methyl isobutyl ketone, ketones such as 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone; and the like. One kind of the solvent (E) may be used alone, or two or more kinds may be used.

＜クエンチャー（Ｃ）＞
クエンチャー（Ｃ）としては、塩基性の含窒素有機化合物、及び酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩が挙げられる。クエンチャー（Ｃ）の含有量は、レジスト組成物の固形分量を基準に、０．０１〜５質量％程度であることが好ましい。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。 <Quencher (C)>
Examples of the quencher (C) include a basic nitrogen-containing organic compound and a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B). The content of the quencher (C) is preferably about 0.01 to 5% by mass based on the solid content of the resist composition.
Examples of the basic nitrogen-containing organic compound include amines and ammonium salts. Examples of amines include aliphatic amines and aromatic amines. Aliphatic amines include primary amines, secondary amines and tertiary amines.

アミンとしては、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、２−，３−又は４−メチルアニリン、４−ニトロアニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔２−（２−メトキシエトキシ）エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジメチルジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、２，２’−メチレンビスアニリン、イミダゾール、４−メチルイミダゾール、ピリジン、４−メチルピリジン、１，２−ジ（２−ピリジル）エタン、１，２−ジ（４−ピリジル）エタン、１，２−ジ（２−ピリジル）エテン、１，２−ジ（４−ピリジル）エテン、１，３−ジ（４−ピリジル）プロパン、１，２−ジ（４−ピリジルオキシ）エタン、ジ（２−ピリジル）ケトン、４，４’−ジピリジルスルフィド、４，４’−ジピリジルジスルフィド、２，２’−ジピリジルアミン、２，２’−ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリン等の芳香族アミンが挙げられ、より好ましくは２，６−ジイソプロピルアニリンが挙げられる。 Examples of the amine include 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-, 3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N, N-dimethylaniline, diphenylamine, hexylamine, Heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, tri Heptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, methyldibutylamine, methyldipentylamine, methyldihexylamine, Rudicyclohexylamine, methyldiheptylamine, methyldioctylamine, methyldinonylamine, methyldidecylamine, ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, ethyldioctylamine, ethyldinonylamine, ethyl Didecylamine, dicyclohexylmethylamine, tris [2- (2-methoxyethoxy) ethyl] amine, triisopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4′-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyldiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-diethyldiphenylmethane, 2,2′-methylenebisaniline, imidazole, 4- Tyrimidazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2-di (2-pyridyl) ethane, 1,2-di (4-pyridyl) ethane, 1,2-di (2-pyridyl) ethene, 1,2- Di (4-pyridyl) ethene, 1,3-di (4-pyridyl) propane, 1,2-di (4-pyridyloxy) ethane, di (2-pyridyl) ketone, 4,4′-dipyridyl sulfide, 4 , 4′-dipyridyl disulfide, 2,2′-dipyridylamine, 2,2′-dipicolylamine, bipyridine and the like, preferably aromatic amines such as diisopropylaniline, more preferably 2,6- Diisopropylaniline is mentioned.

アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、３−（トリフルオロメチル）フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。 As ammonium salts, tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, 3- (trifluoromethyl) phenyltrimethyl Ammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate, choline and the like can be mentioned.

酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、酸解離定数（ｐＫａ）で示される。酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常−３＜ｐＫａの塩であり、好ましくは−１＜ｐＫａ＜７の塩であり、より好ましくは０＜ｐＫａ＜５の塩である。
酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、特開２０１５−１４７９２６号公報記載の式（Ｄ）で表される塩（以下、「弱酸分子内塩（Ｄ）」という場合がある。）、並びに特開２０１２−２２９２０６号公報、特開２０１２−６９０８号公報、特開２０１２−７２１０９号公報、特開２０１１−３９５０２号公報及び特開２０１１−１９１７４５号公報記載の塩が挙げられる。酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩として好ましくは、弱酸分子内塩（Ｄ）である。
The acidity in a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) is indicated by an acid dissociation constant (pKa). The salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) is a salt in which the acid dissociation constant of the acid generated from the salt is usually -3 <pKa, preferably -1 < A salt having a pKa <7, more preferably a salt having a 0 <pKa <5.
Examples of the salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator (B) include a salt represented by the following formula and a salt represented by the formula (D) described in JP-A-2015-147926. (Hereinafter, also referred to as “weak acid inner salt (D)”), JP 2012-229206 A, JP 2012-6908 A, JP 2012-72109 A, JP 2011-39502 A. And salts described in JP-A-2011-191745. The salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) is preferably a weak acid inner salt (D).

弱酸分子内塩（Ｄ）としては、以下の塩が挙げられる。
Examples of the weak acid inner salt (D) include the following salts.

レジスト組成物がクエンチャー（Ｃ）を含有する場合、クエンチャー（Ｃ）の含有率は、レジスト組成物の固形分中、通常、０．０１〜５質量％であり、好ましく０．０１〜３質量％である。 When the resist composition contains the quencher (C), the content of the quencher (C) is usually 0.01 to 5% by mass in the solid content of the resist composition, preferably 0.01 to 3%. % By mass.

〈その他の成分〉
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分（以下「その他の成分（Ｆ）」という場合がある。）を含有していてもよい。その他の成分（Ｆ）に特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。 <Other ingredients>
The resist composition of the present invention may contain components other than the above components (hereinafter sometimes referred to as “other components (F)”) as necessary. The other component (F) is not particularly limited, and additives known in the resist field, such as sensitizers, dissolution inhibitors, surfactants, stabilizers, dyes, and the like can be used.

〈レジスト組成物の調製〉
本発明のレジスト組成物は、本発明の樹脂（Ａ）及び酸発生剤（Ｂ）、並びに、必要に応じて、樹脂（Ａ２）、樹脂（Ｘ）、クエンチャー（Ｃ）、溶剤（Ｅ）及びその他の成分（Ｆ）を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、１０〜４０℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤（Ｅ）に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、０．５〜２４時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径０．００３〜０．２μｍ程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。 <Preparation of resist composition>
The resist composition of the present invention comprises the resin (A) and acid generator (B) of the present invention, and if necessary, the resin (A2), the resin (X), the quencher (C), and the solvent (E). And other components (F) can be mixed. The mixing order is arbitrary and is not particularly limited. The temperature at the time of mixing can select an appropriate temperature from 10-40 degreeC according to the kind etc. of resin etc., the solubility with respect to solvents (E), such as resin. An appropriate mixing time can be selected from 0.5 to 24 hours depending on the mixing temperature. The mixing means is not particularly limited, and stirring and mixing can be used.
After mixing each component, it is preferable to filter using a filter having a pore size of about 0.003 to 0.2 μm.

〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
（１）本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程を含む。 <Method for producing resist pattern>
The method for producing a resist pattern of the present invention comprises:
(1) The process of apply | coating the resist composition of this invention on a board | substrate,
(2) The process of drying the composition after application | coating and forming a composition layer,
(3) a step of exposing the composition layer;
(4) a step of heating the composition layer after exposure, and (5) a step of developing the composition layer after heating.

レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成されていてもよい。 The resist composition can be applied onto the substrate by a commonly used apparatus such as a spin coater. Examples of the substrate include an inorganic substrate such as a silicon wafer. Before applying the resist composition, the substrate may be washed, or an antireflection film or the like may be formed on the substrate.

塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること（いわゆるプリベーク）により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、５０〜２００℃であることが好ましく、加熱時間は、１０〜１８０秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、１〜１．０×１０⁵Ｐａ程度であることが好ましい。 By drying the composition after coating, the solvent is removed and a composition layer is formed. Drying is performed, for example, by evaporating the solvent using a heating device such as a hot plate (so-called pre-baking), or using a decompression device. The heating temperature is preferably 50 to 200 ° C., and the heating time is preferably 10 to 180 seconds. Moreover, it is preferable that the pressure at the time of drying under reduced pressure is about 1-1.0 * 10 < ⁵ > Pa.

得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）、Ｆ₂エキシマレーザ（波長１５７ｎｍ）のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源（ＹＡＧ又は半導体レーザ等）からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光（ＥＵＶ）を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。 The obtained composition layer is usually exposed using an exposure machine. The exposure machine may be an immersion exposure machine. Exposure light sources include those that emit laser light in the ultraviolet region such as KrF excimer laser (wavelength 248 nm), ArF excimer laser (wavelength 193 nm), F ₂ excimer laser (wavelength 157 nm), solid-state laser light source (YAG or semiconductor laser) Etc.) Using various lasers such as those that convert wavelength of laser light from the laser and emit harmonic laser light in the far-ultraviolet region or vacuum ultraviolet region, those that irradiate electron beams or extreme ultraviolet light (EUV), etc. Can do. In this specification, the irradiation of these radiations may be collectively referred to as “exposure”. At the time of exposure, exposure is usually performed through a mask corresponding to a required pattern. When the exposure light source is an electron beam, exposure may be performed by direct drawing without using a mask.

露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理（いわゆるポストエキスポジャーベーク）を行う。加熱温度は、通常５０〜２００℃程度、好ましくは７０〜１５０℃程度である。 The composition layer after exposure is subjected to heat treatment (so-called post-exposure baking) in order to promote the deprotection reaction in the acid labile group. The heating temperature is usually about 50 to 200 ° C, preferably about 70 to 150 ° C.

加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は、例えば、５〜６０℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、５〜３００秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。 The heated composition layer is usually developed using a developer using a developing device. Examples of the developing method include a dipping method, a paddle method, a spray method, and a dynamic dispensing method. The development temperature is preferably 5 to 60 ° C., for example, and the development time is preferably 5 to 300 seconds, for example. A positive resist pattern or a negative resist pattern can be produced by selecting the type of developer as follows.

本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや（２−ヒドロキシエチル）トリメチルアンモニウムヒドロキシド（通称コリン）の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。 When producing a positive resist pattern from the resist composition of the present invention, an alkaline developer is used as the developer. The alkaline developer may be various alkaline aqueous solutions used in this field. Examples thereof include an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide and (2-hydroxyethyl) trimethylammonium hydroxide (commonly called choline). The alkali developer may contain a surfactant.
It is preferable to wash the resist pattern with ultrapure water after development, and then remove the water remaining on the substrate and the pattern.

本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液（以下「有機系現像液」という場合がある）を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン等のケトン溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル溶剤；酢酸ブチル等のエステル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤；アニソール等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、９０質量％以上１００質量％以下が好ましく、９５質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び／又は２−ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び２−ヘプタノンの合計含有率は、５０質量％以上１００質量％以下が好ましく、９０質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び／又は２−ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。 In the case of producing a negative resist pattern from the resist composition of the present invention, a developer containing an organic solvent as a developer (hereinafter sometimes referred to as “organic developer”) is used.
Organic solvents contained in the organic developer include ketone solvents such as 2-hexanone and 2-heptanone; glycol ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; ester solvents such as butyl acetate; glycols such as propylene glycol monomethyl ether Examples include ether solvents; amide solvents such as N, N-dimethylacetamide; aromatic hydrocarbon solvents such as anisole.
In the organic developer, the content of the organic solvent is preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less, and still more preferably only the organic solvent.
Among them, the organic developer is preferably a developer containing butyl acetate and / or 2-heptanone. In the organic developer, the total content of butyl acetate and 2-heptanone is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 90% by mass to 100% by mass, and substantially butyl acetate and / or 2 -More preferred is heptanone alone.
The organic developer may contain a surfactant. The organic developer may contain a trace amount of water.
At the time of development, the development may be stopped by substituting a solvent of a different type from the organic developer.

現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。 It is preferable to wash the developed resist pattern with a rinse solution. The rinsing liquid is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, and an alcohol solvent or an ester solvent is preferable.
After the cleaning, it is preferable to remove the rinse solution remaining on the substrate and the pattern.

〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、ＫｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ＡｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物として好適であり、電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物としてより好適であり、半導体の微細加工に有用である。 <Application>
The resist composition of the present invention is suitable as a resist composition for KrF excimer laser exposure, a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure, or a resist composition for EUV exposure. Yes, it is more suitable as a resist composition for electron beam (EB) exposure or a resist composition for EUV exposure, and is useful for fine processing of semiconductors.

実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「％」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで下記条件により求めた値である。
装置：ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ型（東ソー社製）
カラム：TSKgel Multipore H_XL-M x 3 + guardcolumn（東ソー社製）
溶離液：テトラヒドロフラン
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：ＲＩ検出器
カラム温度：４０℃
注入量：１００μｌ
分子量標準：標準ポリスチレン（東ソー社製） The present invention will be described more specifically with reference to examples. In the examples, “%” and “parts” representing the content or amount used are based on mass unless otherwise specified.
The weight average molecular weight is a value determined by gel permeation chromatography under the following conditions.
Apparatus: HLC-8120GPC type (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: TSKgel Multipore H _XL -M x 3 + guardcolumn (manufactured by Tosoh Corporation)
Eluent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 100 μl
Molecular weight standard: Standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation)

また、化合物の構造は、質量分析（ＬＣはＡｇｉｌｅｎｔ製１１００型、ＭＡＳＳはＡｇｉｌｅｎｔ製ＬＣ／ＭＳＤ型）を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子イオンピークの値を「ＭＡＳＳ」で示す。 Moreover, the structure of the compound was confirmed by measuring molecular ion peaks using mass spectrometry (LC: Model 1100 manufactured by Agilent, MASS: LC / MSD manufactured by Agilent). In the following examples, the value of this molecular ion peak is indicated by “MASS”.

実施例１：式（Ｉ−８）で表される化合物の合成
式（Ｉ−８−ａ）で表される化合物８．２２部及びテトラヒドロフラン３０部を添加し、２３℃で３０分間攪拌した後、５℃まで冷却した。得られた混合溶液に、式（Ｉ−８−ｂ）で表される化合物４．９６部及びテトラヒドロフラン４４．６４部の混合溶液を添加し、さらに、２３℃で４時間攪拌した。得られた反応マスに、５％塩酸１６．９９部及び酢酸エチル５０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水４５部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を４回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮マスをカラム（シリカゲル６０Ｎ（球状、中性）１００−２１０μｍ；関東化学（株）製、展開溶媒：ｎ−ヘプタン／酢酸エチル＝５／１）分取することにより、式（Ｉ−８−ｃ）で表される化合物３．７９部を得た。
式（Ｉ−８−ｄ）で表される化合物２．６７部及びテトラヒドロフラン３０部を添加し、２３℃で３０分間攪拌した後、カルボニルジイミダゾール２．９２部を仕込み、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、６０℃で２時間撹拌した。得られた反応物に、式（Ｉ−８−ｃ）で表される化合物３．７２部を添加し、さらに、６０℃で２時間撹拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応マスに、酢酸エチル５０部及びイオン交換水３０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を４回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮マスをカラム（シリカゲル６０Ｎ（球状、中性）１００−２１０μｍ；関東化学（株）製、展開溶媒：ｎ−ヘプタン／酢酸エチル＝５／１）分取することにより、式（Ｉ−８）で表される化合物４．１８部を得た。
ＭＡＳＳ：３３７．２［Ｍ＋Ｈ］^＋ Example 1: Synthesis of compound represented by formula (I-8)
8.22 parts of the compound represented by the formula (I-8-a) and 30 parts of tetrahydrofuran were added, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then cooled to 5 ° C. To the obtained mixed solution, a mixed solution of 4.96 parts of the compound represented by the formula (I-8-b) and 44.64 parts of tetrahydrofuran was added, and the mixture was further stirred at 23 ° C. for 4 hours. To the obtained reaction mass, 16.99 parts of 5% hydrochloric acid and 50 parts of ethyl acetate were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out an organic layer. 45 parts of ion-exchanged water was added to the collected organic layer and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out the organic layer. This washing operation was repeated 4 times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mass is separated by a column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 5/1). This gave 3.79 parts of the compound represented by the formula (I-8-c).
2.67 parts of a compound represented by the formula (I-8-d) and 30 parts of tetrahydrofuran were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, 2.92 parts of carbonyldiimidazole was added and stirred at 23 ° C. for 1 hour. Then, the mixture was further stirred at 60 ° C. for 2 hours. To the obtained reaction product, 3.72 parts of the compound represented by the formula (I-8-c) was added, and the mixture was further stirred at 60 ° C for 2 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mass, 50 parts of ethyl acetate and 30 parts of ion exchange water were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out the organic layer. This washing operation was repeated 4 times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mass is separated by a column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 5/1). As a result, 4.18 parts of a compound represented by the formula (I-8) was obtained.
MASS: 337.2 [M + H] ⁺

実施例２：式（Ｉ−１４）で表される化合物の合成
式（Ｉ−１４−ｄ）で表される化合物３．７２部及びテトラヒドロフラン３０部を添加し、２３℃で３０分間攪拌した後、カルボニルジイミダゾール２．９２部を仕込み、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、６０℃で２時間撹拌した。得られた反応物に、式（Ｉ−８−ｃ）で表される化合物３．７２部を添加し、さらに、６０℃で２時間撹拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応マスに、酢酸エチル５０部及びイオン交換水３０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を４回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮マスをカラム（シリカゲル６０Ｎ（球状、中性）１００−２１０μｍ；関東化学（株）製、展開溶媒：ｎ−ヘプタン／酢酸エチル＝５／１）分取することにより、式（Ｉ−１４）で表される化合物５．２２部を得た。
ＭＡＳＳ：３９５．２［Ｍ＋Ｈ］^＋ Example 2: Synthesis of compound represented by formula (I-14)
After adding 3.72 parts of a compound represented by the formula (I-14-d) and 30 parts of tetrahydrofuran and stirring at 23 ° C. for 30 minutes, 2.92 parts of carbonyldiimidazole was added and stirred at 23 ° C. for 1 hour. Then, the mixture was further stirred at 60 ° C. for 2 hours. To the obtained reaction product, 3.72 parts of the compound represented by the formula (I-8-c) was added, and the mixture was further stirred at 60 ° C for 2 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mass, 50 parts of ethyl acetate and 30 parts of ion exchange water were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out the organic layer. This washing operation was repeated 4 times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mass is separated by a column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 5/1). This gave 5.22 parts of the compound represented by the formula (I-14).
MASS: 395.2 [M + H] ⁺

合成例１：式（ＩＸ−１）で表される化合物の合成
式（ＩＸ−１−ａ）で表される化合物６．８２部及びテトラヒドロフラン３０部を添加し、２３℃で３０分間攪拌した後、５℃まで冷却した。得られた混合溶液に、式（ＩＸ−１−ｂ）で表される化合物４．１８部及びテトラヒドロフラン３７．６２部の混合溶液を添加し、さらに、２３℃で４時間攪拌した。得られた反応マスに、５％塩酸１６．９９部及び酢酸エチル５０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水４５部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を４回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮マスをカラム（シリカゲル６０Ｎ（球状、中性）１００−２１０μｍ；関東化学（株）製、展開溶媒：ｎ−ヘプタン／酢酸エチル＝５／１）分取することにより、式（ＩＸ−１−ｃ）で表される化合物４．８２部を得た。
ＭＡＳＳ：１６３．１［Ｍ＋Ｈ］^＋
式（ＩＸ−１−ｃ）で表される化合物２．９３部及びテトラヒドロフラン３０部を添加し、２３℃で３０分間攪拌した後、５℃まで冷却した。得られた混合溶液に、ピリジン２．２８部及びN-メチル-ピロリジン２．１５部を添加した後、式（ＩＸ−１−ｄ）で表される化合物１．５１部を添加し、さらに、２３℃で４時間攪拌した。得られた反応マスに、酢酸エチル３０部及び１０％炭酸カリウム水溶液１０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層に５％シュウ酸水溶液１０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。回収された有機層にイオン交換水３０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を４回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮マスをカラム（シリカゲル６０Ｎ（球状、中性）１００−２１０μｍ；関東化学（株）製、展開溶媒：ｎ−ヘプタン／酢酸エチル＝５／１）分取することにより、式（ＩＸ−１）で表される化合物１．０１部を得た。
ＭＡＳＳ：２３１．１［Ｍ＋Ｈ］^＋ Synthesis Example 1: Synthesis of compound represented by formula (IX-1)
6.82 parts of a compound represented by the formula (IX-1-a) and 30 parts of tetrahydrofuran were added, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then cooled to 5 ° C. To the obtained mixed solution, a mixed solution of 4.18 parts of the compound represented by the formula (IX-1-b) and 37.62 parts of tetrahydrofuran was added, and the mixture was further stirred at 23 ° C. for 4 hours. To the obtained reaction mass, 16.99 parts of 5% hydrochloric acid and 50 parts of ethyl acetate were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out an organic layer. 45 parts of ion-exchanged water was added to the collected organic layer and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out the organic layer. This washing operation was repeated 4 times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mass is separated by a column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 5/1). As a result, 4.82 parts of a compound represented by the formula (IX-1-c) was obtained.
MASS: 163.1 [M + H] ⁺
2.93 parts of the compound represented by the formula (IX-1-c) and 30 parts of tetrahydrofuran were added, stirred at 23 ° C. for 30 minutes, and then cooled to 5 ° C. After adding 2.28 parts of pyridine and 2.15 parts of N-methyl-pyrrolidine to the obtained mixed solution, 1.51 parts of a compound represented by the formula (IX-1-d) are added, and Stir at 23 ° C. for 4 hours. To the obtained reaction mass, 30 parts of ethyl acetate and 10 parts of a 10% potassium carbonate aqueous solution were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out the organic layer. 10 parts of 5% oxalic acid aqueous solution was added to the collected organic layer and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out the organic layer. 30 parts of ion-exchanged water was added to the collected organic layer and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out the organic layer. This washing operation was repeated 4 times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mass is separated by a column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 5/1). As a result, 1.01 part of a compound represented by the formula (IX-1) was obtained.
MASS: 231.1 [M + H] ⁺

実施例３：式（Ｉ−１６）で表される化合物の合成
式（Ｉ−１６−ｄ）で表される化合物３．７２部及びテトラヒドロフラン３０部を添加し、２３℃で３０分間攪拌した後、カルボニルジイミダゾール２．９２部を仕込み、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、６０℃で２時間撹拌した。得られた反応物に、式（ＩＸ−１−ｃ）で表される化合物２．９２部を添加し、さらに、６０℃で２時間撹拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応マスに、酢酸エチル５０部及びイオン交換水３０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を４回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮マスをカラム（シリカゲル６０Ｎ（球状、中性）１００−２１０μｍ；関東化学（株）製、展開溶媒：ｎ−ヘプタン／酢酸エチル＝５／１）分取することにより、式（Ｉ−１６）で表される化合物４．１２部を得た。
ＭＡＳＳ：３５１．２［Ｍ＋Ｈ］^＋ Example 3: Synthesis of compound represented by formula (I-16)
After adding 3.72 parts of a compound represented by the formula (I-16-d) and 30 parts of tetrahydrofuran and stirring at 23 ° C. for 30 minutes, 2.92 parts of carbonyldiimidazole was added and stirred at 23 ° C. for 1 hour. Then, the mixture was further stirred at 60 ° C. for 2 hours. To the obtained reaction product, 2.92 parts of a compound represented by the formula (IX-1-c) was added, and the mixture was further stirred at 60 ° C. for 2 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mass, 50 parts of ethyl acetate and 30 parts of ion exchange water were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out the organic layer. This washing operation was repeated 4 times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mass is separated by a column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 5/1). This gave 4.12 parts of the compound represented by the formula (I-16).
MASS: 351.2 [M + H] ⁺

実施例４：式（Ｉ−３５）で表される化合物の合成
式（Ｉ−８−ｄ）で表される化合物２．６７部及びテトラヒドロフラン３０部を添加し、２３℃で３０分間攪拌した後、カルボニルジイミダゾール２．９２部を仕込み、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、６０℃で２時間撹拌した。得られた反応物に、式（Ｉ−３５−ｃ）で表される化合物３．７２部を添加し、さらに、６０℃で２時間撹拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応マスに、酢酸エチル５０部及びイオン交換水３０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を４回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮マスをカラム（シリカゲル６０Ｎ（球状、中性）１００−２１０μｍ；関東化学（株）製、展開溶媒：ｎ−ヘプタン／酢酸エチル＝５／１）分取することにより、式（Ｉ−３５）で表される化合物３．６８部を得た。
ＭＡＳＳ：３３７．２［Ｍ＋Ｈ］^＋ Example 4: Synthesis of compound represented by formula (I-35)
2.67 parts of a compound represented by the formula (I-8-d) and 30 parts of tetrahydrofuran were added, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 30 minutes. Then, 2.92 parts of carbonyldiimidazole was added and stirred at 23 ° C. for 1 hour. Then, the mixture was further stirred at 60 ° C. for 2 hours. To the obtained reaction product, 3.72 parts of a compound represented by the formula (I-35-c) was added, and the mixture was further stirred at 60 ° C. for 2 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mass, 50 parts of ethyl acetate and 30 parts of ion exchange water were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out the organic layer. This washing operation was repeated 4 times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mass is separated by a column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 5/1). This gave 3.68 parts of the compound represented by the formula (I-35).
MASS: 337.2 [M + H] ⁺

実施例５：式（Ｉ−３８）で表される化合物の合成
式（Ｉ−１４−ｄ）で表される化合物３．７２部及びテトラヒドロフラン３０部を添加し、２３℃で３０分間攪拌した後、カルボニルジイミダゾール２．９２部を仕込み、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、６０℃で２時間撹拌した。得られた反応物に、式（Ｉ−３５−ｃ）で表される化合物３．７２部を添加し、さらに、６０℃で２時間撹拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応マスに、酢酸エチル５０部及びイオン交換水３０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を４回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、濃縮マスをカラム（シリカゲル６０Ｎ（球状、中性）１００−２１０μｍ；関東化学（株）製、展開溶媒：ｎ−ヘプタン／酢酸エチル＝５／１）分取することにより、式（Ｉ−３８）で表される化合物４．５２部を得た。
ＭＡＳＳ：３９５．２［Ｍ＋Ｈ］^＋ Example 5: Synthesis of compound represented by formula (I-38)
After adding 3.72 parts of a compound represented by the formula (I-14-d) and 30 parts of tetrahydrofuran and stirring at 23 ° C. for 30 minutes, 2.92 parts of carbonyldiimidazole was added and stirred at 23 ° C. for 1 hour. Then, the mixture was further stirred at 60 ° C. for 2 hours. To the obtained reaction product, 3.72 parts of a compound represented by the formula (I-35-c) was added, and the mixture was further stirred at 60 ° C. for 2 hours, and then cooled to 23 ° C. To the obtained reaction mass, 50 parts of ethyl acetate and 30 parts of ion exchange water were added and stirred at 23 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation to take out the organic layer. This washing operation was repeated 4 times. The obtained organic layer is concentrated, and the concentrated mass is separated by a column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 μm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane / ethyl acetate = 5/1). This gave 4.52 parts of the compound represented by the formula (I-38).
MASS: 395.2 [M + H] ⁺

樹脂の合成
樹脂の合成において使用した化合物（モノマー）を下記に示す。
以下、これらのモノマーを式番号に応じて「モノマー（ａ１−１−１）」等という。 Resin Synthesis The compounds (monomers) used in the resin synthesis are shown below.
Hereinafter, these monomers are referred to as “monomer (a1-1-1)” according to the formula number.

実施例６〔樹脂Ａ１の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ１−４−２）、モノマー（ａ１−１−３）、モノマー（ａ１−２−６）及びモノマー（Ｉ−８）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ１−４−２）：モノマー（ａ１−１−３）：モノマー（ａ１−２−６）：モノマー（Ｉ−８）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１ｍｏｌ％及び３ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。その後、重合反応液に、ｐ−トルエンスルホン酸水溶液を加え、６時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のｎ−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．９×１０^３である樹脂Ａ１を収率５５％で得た。この樹脂Ａ１は、以下の構造単位を有するものである。
Example 6 [Synthesis of Resin A1]
As the monomer, monomer (a1-4-2), monomer (a1-1-3), monomer (a1-2-6) and monomer (I-8) were used, and the molar ratio [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-6): monomer (I-8)] in a ratio of 37: 25: 20: 18, and this monomer mixture. In addition, 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone was mixed with respect to the total mass of all monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added at 1 mol% and 3 mol%, respectively, with respect to the total monomer amount, and these were added at about 73 ° C. for about 5%. Heated for hours. Thereafter, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours, followed by liquid separation. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and recovered to obtain Resin A1 having a weight average molecular weight of about 6.9 × 10 ³ in a yield of 55%. This resin A1 has the following structural units.

実施例７〔樹脂Ａ２の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ１−４−２）、モノマー（ａ１−１−３）、モノマー（ａ１−２−６）及びモノマー（Ｉ−１４）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ１−４−２）：モノマー（ａ１−１−３）：モノマー（ａ１−２−６）：モノマー（Ｉ−１４）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１ｍｏｌ％及び３ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。その後、重合反応液に、ｐ−トルエンスルホン酸水溶液を加え、６時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のｎ−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．６×１０^３である樹脂Ａ２を収率６２％で得た。この樹脂Ａ２は、以下の構造単位を有するものである。
Example 7 [Synthesis of Resin A2]
As the monomer, the monomer (a1-4-2), the monomer (a1-1-3), the monomer (a1-2-6) and the monomer (I-14) were used, and their molar ratio [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-6): monomer (I-14)] in a ratio of 37: 25: 20: 18, and this monomer mixture. In addition, 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone was mixed with respect to the total mass of all monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added at 1 mol% and 3 mol%, respectively, with respect to the total monomer amount, and these were added at about 73 ° C. for about 5%. Heated for hours. Thereafter, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours, followed by liquid separation. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and recovered to obtain Resin A2 having a weight average molecular weight of about 6.6 × 10 ³ in a yield of 62%. This resin A2 has the following structural units.

実施例８〔樹脂Ａ３の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ１−４−２）、モノマー（ａ１−１−３）、モノマー（ａ１−２−６）及びモノマー（Ｉ−１６）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ１−４−２）：モノマー（ａ１−１−３）：モノマー（ａ１−２−６）：モノマー（Ｉ−１６）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１ｍｏｌ％及び３ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。その後、重合反応液に、ｐ−トルエンスルホン酸水溶液を加え、６時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のｎ−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．２×１０^３である樹脂Ａ３を収率６５％で得た。この樹脂Ａ３は、以下の構造単位を有するものである。
Example 8 [Synthesis of Resin A3]
As the monomer, monomer (a1-4-2), monomer (a1-1-3), monomer (a1-2-6) and monomer (I-16) were used, and the molar ratio [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-6): monomer (I-16)] in a ratio of 37: 25: 20: 18, and this monomer mixture. In addition, 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone was mixed with respect to the total mass of all monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added at 1 mol% and 3 mol%, respectively, with respect to the total monomer amount, and these were added at about 73 ° C. for about 5%. Heated for hours. Thereafter, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours, followed by liquid separation. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and recovered to obtain Resin A3 having a weight average molecular weight of about 6.2 × 10 ³ with a yield of 65%. This resin A3 has the following structural units.

実施例９〔樹脂Ａ４の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ１−４−２）、モノマー（ａ１−１−３）、モノマー（ａ１−２−６）及びモノマー（Ｉ−３５）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ１−４−２）：モノマー（ａ１−１−３）：モノマー（ａ１−２−６）：モノマー（Ｉ−３５）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１ｍｏｌ％及び３ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。その後、重合反応液に、ｐ−トルエンスルホン酸水溶液を加え、６時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のｎ−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．５×１０^３である樹脂Ａ４を収率５２％で得た。この樹脂Ａ４は、以下の構造単位を有するものである。
Example 9 [Synthesis of Resin A4]
As the monomer, monomer (a1-4-2), monomer (a1-1-3), monomer (a1-2-6) and monomer (I-35) were used, and the molar ratio [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-6): monomer (I-35)] in a ratio of 37: 25: 20: 18, and this monomer mixture. In addition, 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone was mixed with respect to the total mass of all monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added at 1 mol% and 3 mol%, respectively, with respect to the total monomer amount, and these were added at about 73 ° C. for about 5%. Heated for hours. Thereafter, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours, followed by liquid separation. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and recovered to obtain a resin A4 having a weight average molecular weight of about 6.5 × 10 ³ in a yield of 52%. This resin A4 has the following structural units.

実施例１０〔樹脂Ａ５の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ１−４−２）、モノマー（ａ１−１−３）、モノマー（ａ１−２−６）及びモノマー（Ｉ−３８）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ１−４−２）：モノマー（ａ１−１−３）：モノマー（ａ１−２−６）：モノマー（Ｉ−３８）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１ｍｏｌ％及び３ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。その後、重合反応液に、ｐ−トルエンスルホン酸水溶液を加え、６時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のｎ−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．３×１０^３である樹脂Ａ５を収率５９％で得た。この樹脂Ａ５は、以下の構造単位を有するものである。
Example 10 [Synthesis of Resin A5]
As the monomer, monomer (a1-4-2), monomer (a1-1-3), monomer (a1-2-6) and monomer (I-38) were used, and the molar ratio [monomer (a1-4-2) ): Monomer (a1-1-3): monomer (a1-2-6): monomer (I-38)] in a ratio of 37: 25: 20: 18, and this monomer mixture. In addition, 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone was mixed with respect to the total mass of all monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added at 1 mol% and 3 mol%, respectively, with respect to the total monomer amount, and these were added at about 73 ° C. for about 5%. Heated for hours. Thereafter, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours, followed by liquid separation. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, followed by filtration and recovery to obtain Resin A5 having a weight average molecular weight of about 6.3 × 10 ³ in a yield of 59%. This resin A5 has the following structural units.

合成例２〔樹脂ＡＸ１の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ１−４−２）及びモノマー（ＩＸ−１）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ１−４−２）：モノマー（ＩＸ−１）〕が、３６：６４の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１ｍｏｌ％及び３ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。その後、重合反応液に、ｐ−トルエンスルホン酸水溶液を加え、６時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のｎ−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．９×１０^３である樹脂ＡＸ１を収率６５％で得た。この樹脂ＡＸ１は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 2 [Synthesis of Resin AX1]
As the monomer, monomer (a1-4-2) and monomer (IX-1) are used, and the molar ratio [monomer (a1-4-2): monomer (IX-1)] is a ratio of 36:64. Furthermore, 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone was mixed into this monomer mixture with respect to the total mass of all monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added at 1 mol% and 3 mol%, respectively, with respect to the total monomer amount, and these were added at about 73 ° C. for about 5%. Heated for hours. Thereafter, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours, followed by liquid separation. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, followed by filtration and recovery to obtain Resin AX1 having a weight average molecular weight of about 6.9 × 10 ³ in a yield of 65%. This resin AX1 has the following structural units.

合成例３〔樹脂ＡＸ２の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ１−４−２）及びモノマー（ＩＸ−２）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ１−４−２）：モノマー（ＩＸ−２）〕が、３６：６４の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１ｍｏｌ％及び３ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。その後、重合反応液に、ｐ−トルエンスルホン酸水溶液を加え、６時間攪拌した後、分液した。回収された有機層を、大量のｎ−ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．７×１０^３である樹脂ＡＸ２を収率８６％で得た。この樹脂ＡＸ２は、以下の構造単位を有するものである。
Synthesis Example 3 [Synthesis of Resin AX2]
As the monomer, the monomer (a1-4-2) and the monomer (IX-2) are used, and the molar ratio [monomer (a1-4-2): monomer (IX-2)] becomes a ratio of 36:64. Furthermore, 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone was mixed into this monomer mixture with respect to the total mass of all monomers. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile and azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added at 1 mol% and 3 mol%, respectively, with respect to the total monomer amount, and these were added at about 73 ° C. for about 5%. Heated for hours. Thereafter, a p-toluenesulfonic acid aqueous solution was added to the polymerization reaction solution, and the mixture was stirred for 6 hours, followed by liquid separation. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, which was filtered and recovered to obtain a resin AX2 having a weight average molecular weight of about 6.7 × 10 ³ in a yield of 86%. This resin AX2 has the following structural units.

＜レジスト組成物の調製＞
表１に示す各成分を混合して溶解することにより得られた混合物を孔径０．２μｍのフッ素樹脂製フィルターで濾過し、レジスト組成物を調製した。 <Preparation of resist composition>
A mixture obtained by mixing and dissolving the components shown in Table 1 was filtered through a fluororesin filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a resist composition.

＜樹脂＞
Ａ１〜Ａ５、ＡＸ１、ＡＸ２：樹脂Ａ１〜樹脂Ａ５、樹脂ＡＸ１、樹脂ＡＸ２
＜酸発生剤（Ｂ）＞
Ｂ１−４３：式（Ｂ１−４３）で表される塩（特開２０１６−４７８１５号公報の実施例に従って合成）
＜クエンチャー（Ｃ）＞
Ｃ１：特開２０１１−３９５０２号公報記載の方法で合成
＜溶剤＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４００部
プロピレングリコールモノメチルエーテル１５０部
γ−ブチロラクトン５部 <Resin>
A1 to A5, AX1, AX2: Resin A1 to Resin A5, Resin AX1, Resin AX2
<Acid generator (B)>
B1-43: a salt represented by the formula (B1-43) (synthesized according to Examples in JP-A-2016-47815)
<Quencher (C)>
C1: synthesized by the method described in JP2011-39502A
<Solvent>
Propylene glycol monomethyl ether acetate 400 parts Propylene glycol monomethyl ether 150 parts γ-butyrolactone 5 parts

（レジスト組成物の電子線露光評価）
６インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて９０℃で６０秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が０．０４μｍとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表１の「PB」欄に示す温度で６０秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔（株）日立製作所製の「ＨＬ−８００Ｄ５０ｋｅＶ」〕を用い、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパターンを直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表１の「PEB」欄に示す温度で６０秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で６０秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
得られたレジストパターン（ラインアンドスペースパターン）を走査型電子顕微鏡で観察し、６０ｎｍのラインアンドスペースパターンのライン幅とスペース幅とが１：１となる露光量を実効感度とした。 (Electron beam exposure evaluation of resist composition)
A 6-inch silicon wafer was treated on a direct hot plate with hexamethyldisilazane at 90 ° C. for 60 seconds. This silicon wafer was spin-coated with a resist composition so that the film thickness of the composition layer was 0.04 μm. Thereafter, the composition layer was formed by pre-baking on a direct hot plate for 60 seconds at the temperature shown in the “PB” column of Table 1. A line-and-space pattern was directly drawn on the composition layer formed on the wafer using an electron beam drawing machine ("HL-800D 50 keV" manufactured by Hitachi, Ltd.) while changing the exposure stepwise. .
After exposure, post exposure baking is performed for 60 seconds on the hot plate at the temperature shown in the “PEB” column of Table 1, and then paddle development is performed for 60 seconds with an aqueous 2.38 mass% tetramethylammonium hydroxide solution. A resist pattern was obtained.
The obtained resist pattern (line and space pattern) was observed with a scanning electron microscope, and the exposure amount at which the line width and space width of the 60 nm line and space pattern were 1: 1 was defined as effective sensitivity.

ラインエッジラフネス評価（ＬＥＲ）：実効感度で製造されたレジストパターンの側壁面の凹凸の振れ幅を走査型電子顕微鏡で測定し、ラインエッジラフネスを求めた。その結果を表２に示す。 Line edge roughness evaluation (LER): The width of unevenness on the side wall surface of a resist pattern manufactured with effective sensitivity was measured with a scanning electron microscope to determine line edge roughness. The results are shown in Table 2.

本発明の化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含有するレジスト組成物は、得られるレジストパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）に優れるため、半導体の微細加工に好適であり、産業上極めて有用である。 A resist composition containing a resin having a structural unit derived from the compound of the present invention is excellent in line edge roughness (LER) of the resulting resist pattern, and thus is suitable for fine processing of semiconductors and is extremely useful industrially. .

Claims

A compound represented by formula (I).
[In the formula (I),
R ¹ represents a hydrogen atom or a methyl group.
R ² represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L ¹ represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.
L ² represents an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.
Ar represents a C6-C36 divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
X ¹ represents a group represented by any one of formulas (X ¹ -2) to (X ¹ -5).
(In the formula (X ¹ -2) to the formula (X ¹ -5),
*, ** denotes a bond, and ** represents a bond to ^{A 1.} )
A ¹ represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. . ]

Ar represents —OR ³ (R ³ represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the alkyl group may be replaced by —O— or —CO—). The compound according to claim 1, which is a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms.

X ¹ is A compound according to claim 1 or 2, a group represented by the formula radical or formula represented by ^{^{(X 1 -3) (X 1}} -4).

The compound according to any one of claims 1 to 3, wherein Ar is a phenylene group.

Resin which has a structural unit derived from the compound in any one of Claims 1-4.

The resin according to claim 5, further comprising a structural unit having an acid labile group.

The structural unit having an acid labile group is composed of a structural unit represented by formula (a1-0), a structural unit represented by formula (a1-1), and a structural unit represented by formula (a1-2). The resin according to claim 6, which is at least one selected from the group.
[In Formula (a1-0), Formula (a1-1) and Formula (a1-2),
L ^a01 , L ^a1 and L ^a2 each independently represent —O— or ^* —O— (CH ₂ ) _k1 —CO—O—, k1 represents any integer of 1 to 7, and * represents It represents a bond with —CO—.
R ^a01 , R ^a4 and R ^a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R ^a02 , R ^a03 and R ^a04 each independently ^represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
R ^a6 and R ^a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these.
m1 represents an integer of 0 to 14.
n1 represents any integer of 0 to 10.
n1 ′ represents any integer of 0 to 3. ]

A resist composition comprising the resin according to claim 5 and an acid generator.

The resist composition according to claim 8, wherein the acid generator contains a salt represented by the formula (B1).
[In the formula (B1),
Q ^b1 and Q ^b2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
L ^b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH ₂ — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—. The hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents an optionally substituted methyl group or an optionally substituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and is included in the alicyclic hydrocarbon group − CH ₂ — may be replaced by —O—, —S (O) ₂ —, or —CO—.
Z ⁺ represents an organic cation. ]

The resist composition according to claim 8 or 9, further comprising a salt that generates an acid having a lower acidity than an acid generated from an acid generator.

Furthermore, the resist composition in any one of Claims 8-10 containing resin containing the structural unit which has a fluorine atom.

(1) The process of apply | coating the resist composition in any one of Claims 8-11 on a board | substrate,
(2) The process of drying the composition after application | coating and forming a composition layer,
(3) a step of exposing the composition layer;
(4) a step of heating the composition layer after exposure, and (5) a step of developing the composition layer after heating,
A method for producing a resist pattern including: