JP2018177976A - Benzotriazole (co)polymer, ultraviolet absorbing coating material containing the same, and film coated with the coating material - Google Patents

Benzotriazole (co)polymer, ultraviolet absorbing coating material containing the same, and film coated with the coating material Download PDF

Info

Publication number
JP2018177976A
JP2018177976A JP2017079708A JP2017079708A JP2018177976A JP 2018177976 A JP2018177976 A JP 2018177976A JP 2017079708 A JP2017079708 A JP 2017079708A JP 2017079708 A JP2017079708 A JP 2017079708A JP 2018177976 A JP2018177976 A JP 2018177976A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
benzotriazole
ultraviolet
group
polymer
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017079708A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
孝仁 〆野
孝仁 〆野
Takahito Shimeno
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Nakamura Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Nakamura Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Nakamura Chemical Co Ltd filed Critical Shin Nakamura Chemical Co Ltd
Priority to JP2017079708A priority Critical patent/JP2018177976A/en
Priority to KR1020197033431A priority patent/KR102345990B1/en
Priority to PCT/JP2018/015272 priority patent/WO2018190381A1/en
Priority to CN201880024882.1A priority patent/CN110546172B/en
Publication of JP2018177976A publication Critical patent/JP2018177976A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • C08F20/34Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F20/36Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/32Radiation-absorbing paints

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer having absorption in a wide ultraviolet wavelength region of 300-400 nm, while absorbing light in a short-wavelength visible light region up to around 450 nm.SOLUTION: A benzotriazole (co)polymer is obtained by polymerizing a starting material that contains a methoquinone-type benzotriazole monomer of the general formula in the figure. (In the formula, Rrepresents a hydrogen atom or an alkyl group; Rrepresents an alkyl group; and Rrepresents an acryloyloxyalkyl group or a methacryloyloxyalkyl group.)SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、紫外線吸収性能を有し、広範囲波長領域の紫外線と可視光短波長領域の光を吸収するベンゾトリアゾール系(共)重合体とそれを含む塗料およびその塗料がコーティングされたフィルムに関するものである。   The present invention relates to a benzotriazole (co) polymer having ultraviolet absorbing ability and absorbing ultraviolet light in a wide wavelength range and light in a visible short wavelength range, a paint containing the same, and a film coated with the paint It is.

従来より、紫外線の吸収および遮断、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出やブリードアウト防止、塗膜中での紫外線吸収成分の結晶化防止、塗膜の耐候性の向上、他の樹脂や配合材料との相溶性の向上を目的として紫外線吸収性の(共)重合体が用いられている。   Traditionally, absorption and blocking of ultraviolet light, prevention of elution and bleed out of ultraviolet light absorbing component from coating film, prevention of crystallization of ultraviolet light absorbing component in coating film, improvement of weather resistance of coating film, other resins and compounding materials Ultraviolet-absorbing (co) polymers are used for the purpose of improving the compatibility with these.

300nm〜360nm付近を中心とした比較的短い領域に紫外線吸収性を有するアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性単量体を1種または複数種含む単量体組成物を共重合してなるベンゾトリアゾール系共重合体が主に用いられている(例えば、特許文献1〜2)。   Benzotriazole formed by copolymerizing a monomer composition containing one or more kinds of alkanolphenol-type benzotriazole-based ultraviolet absorbing monomer having ultraviolet absorptivity in a relatively short range centered on about 300 nm to 360 nm The copolymer is mainly used (for example, patent documents 1-2).

アルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系共重合体では不十分であった比較的長い波長領域の400nm付近に吸収を有するものとしてセサモール型ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性単量体を1種または複数種含む単量体組成物を共重合してなるベンゾトリアゾール系共重合体が用いられている(例えば、特許文献3)。   A monomer containing one or more sesamol-type benzotriazole-based ultraviolet absorbing monomers as having absorption near 400 nm in a relatively long wavelength range, which was insufficient with alkanolphenol-type benzotriazole-based copolymers A benzotriazole copolymer obtained by copolymerizing a composition is used (for example, Patent Document 3).

これらのベンゾトリアゾール系紫外線吸収性単量体は、例えばディスプレイ表示装置において、偏光板保護フィルム等の光学フィルムに紫外線吸収剤を添加して、これら光学フィルムの変色を防止することなどに一般的に用いられている。また、反射防止フィルムに含まれる近赤外線吸収剤の紫外線による劣化を防ぐため、反射防止フィルムに紫外線吸収剤が添加されている。また、有機ELディスプレイの発光素子には、蛍光材料や燐光材料等の各種有機物が使用されており、これら有機物の紫外線による劣化を防ぐため、ディスプレイの表面フィルムなどに紫外線吸収剤が添加されている。   These benzotriazole-based ultraviolet absorbing monomers are generally used, for example, for preventing discoloration of optical films by adding an ultraviolet absorber to an optical film such as a polarizing plate protective film in a display device. It is used. Moreover, in order to prevent the deterioration by the ultraviolet ray of the near-infrared absorber contained in an antireflection film, the ultraviolet absorber is added to the antireflection film. In addition, various organic substances such as fluorescent materials and phosphorescent materials are used in the light emitting element of the organic EL display, and in order to prevent the deterioration of the organic substances by ultraviolet rays, an ultraviolet absorber is added to the surface film of the display. .

また、人体においては、紫外線によって皮膚や眼球が日焼けして、各種病気の原因になることがよく知られており、紫外線による眼球の各種病気を防ぐために、紫外線吸収剤を眼鏡レンズまたはコンタクトレンズに添加して、紫外線が目に達するのを防止することが一般的に行なわれている。   In the human body, it is well known that ultraviolet rays cause sunburn of the skin and eyes and causes various diseases. In order to prevent various diseases of the eyes due to ultraviolet rays, an ultraviolet absorber is used as a spectacle lens or a contact lens It is common practice to add to prevent ultraviolet light from reaching the eye.

くわえて近年では、太陽光のうち400nm以下の紫外線のみならず、400〜450nm程度の可視光短波長域の光も有機物や人体にダメージを与えることが指摘されており、上記の用途を含む特定の用途においては、可視光短波長域の光まで吸収できる光吸収剤が求められている。   In addition, in recent years, it has been pointed out that not only ultraviolet rays of 400 nm or less among sunlight but also light in the short wavelength region of visible light of about 400 to 450 nm will damage organic substances and the human body, including the above applications In the above applications, a light absorbing agent capable of absorbing light in the short wavelength range of visible light is required.

上記の各用途では、紫外線および可視光短波長域の光を効率よく吸収するための光吸収剤が提案されており、このような波長領域に吸収を持つ化合物として、例えば、特許文献4〜5に記載されているように、インドール誘導体、ピロリジン−アミド誘導体、キサントン誘導体が挙げられている。しかしながら、これらの化合物は一般的に耐光性が低く、太陽光にさらされることで劣化して光吸収能力が低下することから、長期間使用することができない。また、特許文献4〜5には耐光性の記載がない。   In each of the above applications, a light absorbing agent for efficiently absorbing ultraviolet light and light in a short wavelength range of visible light is proposed, and as a compound having absorption in such a wavelength range, for example, Patent Documents 4 to 5 As described in indole derivatives, pyrrolidine-amide derivatives, xanthone derivatives are mentioned. However, since these compounds generally have low light resistance, they are deteriorated by exposure to sunlight and their light absorbing ability is reduced, and thus they can not be used for a long time. Moreover, there is no description of light resistance in patent documents 4-5.

特許文献3の、一般に高耐光性として知られているセサモール型ベンゾトリアゾール系共重合体は紫外線および可視光短波長域の光を吸収できているが、420nm以上の吸収が弱く、また、300〜330nm付近の紫外線領域の吸収がやや弱い問題がある。   The sesamol-type benzotriazole-based copolymer generally known as high light resistance of Patent Document 3 can absorb ultraviolet light and light in the short wavelength range of visible light, but has a weak absorption at 420 nm or more, and 300 to 300 There is a problem that the absorption in the ultraviolet region around 330 nm is somewhat weak.

特開2006−021402号公報JP, 2006-021402, A

特開2006−264312号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-264312

特開2012−25811号公報JP, 2012-25811, A

特開2012−58643号公報JP 2012-58643 A

特開2007−284516号公報JP 2007-284516 A

これらの公報に記載されたアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系重合体およびセサモール型ベンゾトリアゾール系重合体は420〜450nmの可視光短波長領域に吸収性能を持たず、これらを用いた塗料およびその塗料がコーティングされたフィルムの可視光短波長領域遮断性能については不十分であった。   The alkanolphenol-type benzotriazole-based polymer and the sesamol-type benzotriazole-based polymer described in these publications do not have absorption capability in the visible short wavelength region of 420 to 450 nm, and a paint using these and a paint thereof are coated The visible light short wavelength region blocking performance of the film was insufficient.

また、塗料および、それがコーティングされたフィルムに可視光短波長領域400nm〜450nmの領域を吸収する単量体を添加し配合状態で使用したとしても、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出やブリードアウト、塗膜中での吸収成分の結晶化や他の配合材料との相溶性の問題があった。   In addition, even if a paint and a film coated with the same are added in a visible light short wavelength range of 400 nm to 450 nm and added in a compounded state, elution or bleeding of the UV absorbing component from the coating film is caused. There is a problem of out, crystallization of the absorbing component in the coating film and compatibility with other compounding materials.

そこで本発明における課題は、450nm付近までの可視光短波長領域の光を吸収しながら、広範囲の紫外線波長領域300〜400nmに吸収性能を持つベンゾトリアゾール系(共)重合体とそれを含む塗料およびその塗料をコーティングしたフィルムを提供することにある。   Then, the subject in the present invention is a benzotriazole (co) polymer having absorption performance in a wide ultraviolet wavelength range of 300 to 400 nm while absorbing light in the visible short wavelength range up to around 450 nm, a paint containing the same, It is in providing the film which coated the paint.

上記の課題を解決するために本発明者は、紫外線吸収性のベンゾトリアゾール系共重合体、それを含む塗料、更にはその塗料をコーティングしたフィルムについて検討した結果、従来のベンゾトリアゾール系単量体とは異なる新規な分子構造を有するベンゾトリアゾール系単量体を含む原料単量体を重合または共重合してなるベンゾトリアゾール系(共)重合体を見出し、本発明に至った。   MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve said subject, as a result of examining this invention about the coating film which coated the ultraviolet absorption benzotriazole type copolymer, it, and the coating material, the conventional benzotriazole type monomer is obtained. We have found a benzotriazole-based (co) polymer formed by polymerizing or copolymerizing a raw material monomer containing a benzotriazole-based monomer having a novel molecular structure different from the above.

すなわち、本発明は、重合性単量体として一般式(1)で表されるメトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体を含む原料を重合してなるベンゾトリアゾール系紫外線吸収性重合体とすることを最も主要な特徴とする。   That is, according to the present invention, it is most preferable to use a benzotriazole-based ultraviolet-absorbing polymer formed by polymerizing a raw material containing a methoquinone-type benzotriazole-based monomer represented by the general formula (1) as a polymerizable monomer. It is the main feature.

Figure 2018177976

・・・・・一般式(1)
(式中、Rは水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。Rは炭素数1〜8のアルキル基を表す。Rはアルキル炭素数1〜2のアクリロイルオキシアルキル基、またはアルキル炭素数1〜2のメタクリロイルオキシアルキル基を表す。)
Figure 2018177976

......... General formula (1)
(Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R 2 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R 3 represents an acryloyloxyalkyl group having 1 to 2 alkyl carbon atoms, Or alkyl having 1 to 2 carbon atom methacryloyloxyalkyl groups).

なお、本明細書にいう“メトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体”とは、前記一般式(1)で表されるとおり、ベンゾトリアゾール環の2位の窒素原子にメタ位にアルコキシをもつフェノールを結合させた化合物からの誘導体であり、かつ該ベンゾトリアゾール環のベンゼン部位に導入したカルボキシル基に重合性2重結合を導入した分子構造をいう。   The term "methoquinone-type benzotriazole-based monomer" as used herein refers to a phenol having an alkoxy at the meta-position at the 2-position nitrogen atom of the benzotriazole ring as represented by the general formula (1). It is a derivative from the compound to which it couple | bonded, and the molecular structure which introduce | transduced the polymerizable double bond into the carboxyl group introduce | transduced into the benzene site of this benzotriazole ring is said.

さらには、前記重合性単量体として、更に一般式(2)〔化2〕で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体を原料に含むものであり、これを共重合してなるベンゾトリアゾール系紫外線吸収性重合体とすることが好ましい。   Furthermore, as the above-mentioned polymerizable monomer, an alkanolphenol-type benzotriazole-based monomer represented by the general formula (2) [Formula 2] is further contained as a raw material, and a benzo obtained by copolymerizing this It is preferable to set it as a triazole type ultraviolet-absorbing polymer.

Figure 2018177976

・・・・・一般式(2)
(式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、Rは炭素数1〜6の直鎖状または枝分かれ鎖状のアルキレン基を表し、Rは水素原子または炭素数1〜18の炭化水素基を表し、Rは水素原子、ハロゲン基、炭素数1〜8の炭化水素基、炭素数1〜4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表す)
Figure 2018177976

......... General formula (2)
(Wherein, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 6 represents a hydrogen atom or carbonized 1 to 18 carbon atoms) R 7 represents a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group or a nitro group)

なお、本明細書にいう“アルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体”とは、前記一般式(2)で表されるとおり、ベンゾトリアゾール環の2位の窒素原子にアルカノールフェノールを結合した化合物の誘導体であり、かつ該アルカノールフェノール部に重合性2重結合を導入した分子構造をいう。   The “alkanolphenol-type benzotriazole-based monomer” referred to in the present specification is a compound in which alkanolphenol is bonded to the nitrogen atom at the 2-position of the benzotriazole ring as represented by the general formula (2). A molecular structure which is a derivative and in which a polymerizable double bond is introduced to the alkanol phenol moiety.

前記一般式(1)で表されるメトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体は、最大吸収波長λmaxが310nmと380nm付近に2つあり、波長領域300〜450nmを包括する広い範囲の紫外線波長領域および可視光短波長領域に吸収スペクトルを有し、450nm付近までの可視光短波長吸収能力を有する。   The methoquinone type benzotriazole monomer represented by the above general formula (1) has two maximum absorption wavelengths λmax in the vicinity of 310 nm and 380 nm, and a wide range of ultraviolet wavelength range and visible range covering 300 to 450 nm wavelength range It has an absorption spectrum in the light short wavelength region, and has the ability to absorb visible light short wavelengths up to around 450 nm.

したがって、本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体およびそれを含む塗料およびそれがコーティングされたフィルムは、地上における太陽光の紫外線部分の分光放射照度分布に対応可能な300〜450nmの広範囲波長領域および可視光短波長領域の吸収性能に優れ、それを含む塗料およびその塗料がコーティングされたフィルムは、紫外線と可視光短波長の吸収性能および紫外線遮断性能に優れる。   Therefore, the benzotriazole-based (co) polymer of the present invention, the paint containing the same, and the film coated with the same have a wide wavelength range of 300 to 450 nm that can correspond to the spectral irradiance distribution of the ultraviolet portion of sunlight on the ground. The coating composition of the present invention is excellent in the absorption performance in the visible light short wavelength region, and the paint containing the same and the film coated with the coating are excellent in the absorption performance and the ultraviolet blocking performance of the ultraviolet light and the visible light short wavelength.

前記一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体は、現在、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性重合体に一般的に用いられている既存公知のベンゾトリアゾール系単量体であり、代表的な工業製品は2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾールである。最大吸収波長λmaxは338nm、250〜380nmを包括する範囲の紫外線吸収スペクトルを有するが、380nm以上の長波長領域の紫外線吸収能力は極端に低い。   The alkanolphenol-type benzotriazole-based monomer represented by the general formula (2) is an existing known benzotriazole-based monomer generally used for benzotriazole-based ultraviolet absorbing polymers at present. A typical industrial product is 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole. The maximum absorption wavelength λmax has an ultraviolet absorption spectrum in the range covering 338 nm and 250 to 380 nm, but the ultraviolet absorption ability in the long wavelength region of 380 nm or more is extremely low.

したがって、本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体の好ましい様態においては、原料単量体として一般式(1)〔化1〕で表されるメトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体および、前記一般式(2)〔化2〕で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体が含まれた原料単量体で共重合されることにより、250〜450nmのさらに広範囲の紫外線領域において吸収性能に優れ、それを含む塗料およびその塗料がコーティングされたフィルムは、紫外線吸収性能および紫外線遮断性能にいっそう優れる。   Therefore, in a preferred embodiment of the benzotriazole (co) polymer of the present invention, a methoquinone type benzotriazole monomer represented by the general formula (1) [Chemical formula 1] as a raw material monomer, and the above general formula (2) By the copolymerization with a raw material monomer containing an alkanolphenol type benzotriazole-based monomer represented by [Chemical formula 2], the absorption performance is excellent in a further broad ultraviolet region of 250 to 450 nm. The paint containing the same and the film coated with the paint are further excellent in the ultraviolet absorbing performance and the ultraviolet blocking performance.

また、本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体は、高分子であるが故にそれ自体で塗膜形成が可能である。したがって塗膜からの紫外線吸収成分の溶出やブリードアウトの問題が生じない。更に重合体を構成する紫外線吸収性単量体以外の単量体を適時選択し、共重合体とすることにより、高分子極性を自由に変化させることが可能になる。したがって、塗膜中での紫外線吸収成分の結晶化や、他の樹脂や配合材料との相溶性の問題が生じない。   In addition, the benzotriazole (co) polymer of the present invention is a polymer and therefore can form a coating film by itself. Therefore, there is no problem of elution or bleeding out of the UV absorbing component from the coating film. Furthermore, it is possible to freely change the polarity of the polymer by appropriately selecting a monomer other than the ultraviolet ray absorbing monomer constituting the polymer to make a copolymer. Therefore, there is no problem of crystallization of the UV absorbing component in the coating film or compatibility with other resins or compounding materials.

本発明実施例1の化合物の紫外線吸収スペクトルである。1 is an ultraviolet absorption spectrum of a compound of Example 1 of the present invention. 本発明実施例2の化合物の紫外線吸収スペクトルである。It is a ultraviolet-ray absorption spectrum of a compound of example 2 of the present invention. 本発明実施例3の化合物の紫外線吸収スペクトルである。It is an ultraviolet absorption spectrum of the compound of this invention Example 3. 本発明実施例4の化合物の紫外線吸収スペクトルである。It is an ultraviolet absorption spectrum of the compound of this invention Example 4. 比較例1の化合物の紫外線吸収スペクトルである。5 is an ultraviolet absorption spectrum of a compound of Comparative Example 1; 比較例2の化合物の紫外線吸収スペクトルである。7 is an ultraviolet absorption spectrum of a compound of Comparative Example 2.

以下に本発明の詳細を説明する。本発明のベンゾトリアゾール系紫外線吸収性重合体は前記一般式(1)で表されるメトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体を重合性単量体として含む原料を重合または共重合してなる。また、重合性単量体として更に前記一般式(2)で表されアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体を含む原料を共重合してなる。なお、上記原料には必要に応じてそれ以外の重合性単量体を含んでもよい。   The details of the present invention will be described below. The benzotriazole type ultraviolet absorbing polymer of the present invention is formed by polymerizing or copolymerizing a raw material containing the methoquinone type benzotriazole type monomer represented by the general formula (1) as a polymerizable monomer. Further, it is obtained by copolymerizing a raw material further represented by the general formula (2) and containing an alkanolphenol type benzotriazole type monomer as a polymerizable monomer. In addition, the said raw material may also contain another polymerizable monomer as needed.

前記一般式(1)で表されるメトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体は式中、Rで表される置換基が水素原子または炭素数1〜8のアルキル基で構成され、Rで表される置換基が炭素数1〜8のアルキル基で構成され、Rで表される置換基がアルキル炭素数1〜2のアクリロイルオキシアルキル基、またはアルキル炭素数1〜2のメタクリロイルオキシアルキル基で構成されるベンゾトリアゾール類である。 In the methoquinone type benzotriazole-based monomer represented by the above general formula (1), the substituent represented by R 1 is composed of a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and is represented by R 2 The substituent to be substituted is composed of an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the substituent represented by R 3 is an acryloyloxyalkyl group having 1 to 2 alkyl carbon atoms, or a methacryloyloxyalkyl group having 1 to 2 alkyl carbon atoms. And benzotriazoles.

前記メトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体の具体的な物質名としては、2−メタクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート、2−アクリロイルオキシエチル 2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート、2−メタクリロイルオキシエチル 2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート等を挙げることができるが、前記具体例に限られるものではない。また、これらメトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体は1種類で用いることもできるし、2種類以上を用いることもできる。   As a specific substance name of the methoquinone type benzotriazole monomer, 2-methacryloyloxyethyl 2- (2-hydroxy-5-methoxyphenyl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate, 2-acryloyloxy Ethyl 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methoxyphenyl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate, 2-methacryloyloxyethyl 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-) Although methoxyphenyl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate etc. can be mentioned, it is not limited to the above-mentioned specific example. Further, these methoquinone type benzotriazole monomers can be used alone or in combination of two or more.

前記一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体は式中、R4で表される置換基がRは水素原子またはメチル基、Rで表される置換基が炭素数1〜6の直鎖状または枝分かれ鎖状のアルキレン基、Rで表される置換基が水素原子または炭素数1〜18の炭化水素基、Rで表される置換基が水素原子、ハロゲン基、炭素数1〜8の炭化水素基、炭素数1〜4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で構成されるベンゾトリアゾール類である。 In the alkanolphenol-type benzotriazole monomer represented by the general formula (2), in the formula, the substituent represented by R 4 is a hydrogen atom or a methyl group, and the substituent represented by R 5 is a carbon A linear or branched alkylene group of 1 to 6 ; a substituent represented by R 6 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms; a substituent represented by R 7 is a hydrogen atom; They are benzotriazoles constituted by a halogen group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group or a nitro group.

アルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体の具体的な物質名としては、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシメチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシメチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシプロピル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシプロピル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシブチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシブチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシヘキシル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−シアノ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−シアノ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−t−ブチル−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−t−ブチル−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−ニトロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−ニトロ−2H−ベンゾトリアゾールなどを挙ることができるが、前記具体例に限られるものではない。また、これらアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体は1種類で用いることもできるし、2種類以上を用いることもできる。   As a specific substance name of the alkanol phenol type benzotriazole monomer, 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- ( Acryloyloxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (acryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxypropyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (acryloyloxypropyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- ( Tacryloyloxybutyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (acryloyloxybutyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyhexyl) phenyl ] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (acryloyloxyhexyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3-t-butyl-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl] ] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3-t-butyl-5- (acryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl ] -5-Chloro-2H-benzotriazo , 2- [2-hydroxy-5- (acryloyloxyethyl) phenyl] -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-methoxy-2H -Benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (acryloyloxyethyl) phenyl] -5-methoxy-2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-cyano -2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (acryloyloxyethyl) phenyl] -5-cyano-2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl] -5 -T-Butyl-2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5 -(Acryloyloxyethyl) phenyl] -5-t-butyl-2H-benzotriazole, 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-nitro-2H-benzotriazole, 2- [2 Examples include -hydroxy-5- (acryloyloxyethyl) phenyl] -5-nitro-2H-benzotriazole and the like, but are not limited to the above specific examples. Moreover, these alkanol phenol type benzotriazole type monomers can also be used by one type, and can also use two or more types.

本発明のベンゾトリアゾール系共重合体では、その原料である重合性単量体として前記ベンゾトリアゾール系単量体以外の重合性単量体と共重合させてもよい。前記ベンゾトリアゾール系単量体と共重合させることのできるその他の重合性単量体は、特に制限されるものではなく、適宜選択して用いることができるが、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル類。ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピルエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート等の水酸基含有不飽和単量体が挙げられる。更にはグリシジル(メタ)アクリレート、オキセタン(メタ)アクリレート等のオキシド環含有不飽和単量体が挙げられる。更には(メタ)アクリルアミド、N,N’−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルロイルモルホリン、ビニルピリジン、ビニルイミダドール、N‐ビニルピロリドン等の含窒素不飽和単量体が挙げられる。更には塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン含有不飽和単量体が挙げられる。更にはスチレン、α−メチルスチレン等の芳香族不飽和単量体が挙げられる。更には(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有不飽和単量体が挙げられる。更にはビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸等のスルホン酸基含有不飽和単量体が挙げられる。更には2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−3−クロロプロピルアシッドホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニルリン酸等のリン酸基含有不飽和単量体が挙げられる。   The benzotriazole copolymer of the present invention may be copolymerized with a polymerizable monomer other than the above benzotriazole monomer as a polymerizable monomer which is a raw material of the copolymer. The other polymerizable monomers that can be copolymerized with the benzotriazole-based monomer are not particularly limited and can be appropriately selected and used, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (Meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate And (meth) acrylic acid alkyl esters such as nonyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate and stearyl (meth) acrylate. Examples include hydroxyl group-containing unsaturated monomers such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl ethyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate and caprolactone modified hydroxy (meth) acrylate. Further, oxide ring-containing unsaturated monomers such as glycidyl (meth) acrylate and oxetane (meth) acrylate can be mentioned. Furthermore, nitrogen-containing unsaturated compounds such as (meth) acrylamide, N, N'-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, (meth) acryloyl morpholine, vinylpyridine, vinylimidadol, N-vinylpyrrolidone and the like Monomers are mentioned. Furthermore, halogen-containing unsaturated monomers such as vinyl chloride and vinylidene chloride can be mentioned. Furthermore, aromatic unsaturated monomers such as styrene and α-methylstyrene can be mentioned. Further, carboxyl group-containing unsaturated monomers such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride and the like can be mentioned. Further, sulfonic acid group-containing unsaturated monomers such as vinyl sulfonic acid and styrene sulfonic acid can be mentioned. Furthermore, 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate, 2- (meth) acryloyloxypropyl acid phosphate, 2- (meth) acryloyloxy-3-chloropropyl acid phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phenyl phosphate And phosphoric acid group-containing unsaturated monomers.

前記のベンゾトリアゾール系単量体を含む原料の混合方法など、該原料を調整する方法には、公知の手法を用いることができ、特に限定されるものではない。   A known method can be used for the method of adjusting the raw material, such as the method of mixing the raw material containing the above-mentioned benzotriazole-based monomer, and the method is not particularly limited.

前記のベンゾトリアゾール系単量体を含む単量体組成物を共重合反応させる際の重合方法は従来公知の溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法等を採用することができ、特に限定されるものではない。   As the polymerization method for copolymerizing the monomer composition containing the above benzotriazole-based monomer, it is possible to adopt conventionally known solution polymerization method, emulsion polymerization method, suspension polymerization method, bulk polymerization method, etc. There is no particular limitation.

重合反応させる際に用いるラジカル重合開始剤としては特に制限されないが、例えば、2,2’−アゾビス−(4−メトキシ−2.4‐ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2’−アゾビス−(2−メチルプロピオネート)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド等のアゾ系ラジカル重合開始剤が挙げられる。更にはハイドロゲンパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジイソブチリルパーオキサイド、ビス(3,5,5−)トリメチルヘキサノイル)パーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルハイドロパーオキサイド、t−ブチル−α−クミルパーオキサイド、ジ−t−ブチル−α−クミルパーオキサイド、ジ−α−クミルパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス−(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート等の有機過酸化物系ラジカル重合開始剤が挙げられる。更には過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム等の過硫酸塩系ラジカル重合開始剤等が挙げられる。また重合開始剤の使用量も特に限定されるものではない。   The radical polymerization initiator to be used in the polymerization reaction is not particularly limited, and, for example, 2,2'-azobis- (4-methoxy-2.4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis- (2,2, 4-Dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2′-azobis- (2-methyl propionate), 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis- (2-methylbutyronitrile ), 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 1-[(1-cyano-1-methyl) Ethyl) azo] formamide, 2,2'-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2'-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide, etc. And hydrogen peroxide, dibenzoyl peroxide, dilauroyl peroxide, diisobutyryl peroxide, bis (3,5,5-) trimethylhexanoyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, and the like. Methyl isobutyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, methyl cyclohexanone peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethyl Butyl hydroperoxide, di-t-butyl hydroperoxide, t-butyl-α-cumyl peroxide, di-t-butyl-α-cumylper Oxide, di-α-cumyl peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, t-butylperoxide Organic peroxide based radical polymerization initiators such as oxyacetate, t-butylperoxybenzoate, bis- (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate and the like can be mentioned. Further, persulfate-based radical polymerization initiators such as potassium persulfate, ammonium persulfate, sodium persulfate and the like can be mentioned. The amount of polymerization initiator used is also not particularly limited.

乳化重合法等の水系重合法においては、還元剤として亜硫酸ナトリウム、L‐アスコルビン酸、ロンガリット等を用いることによりレドックス系開始剤としてもよい。   In the aqueous polymerization method such as the emulsion polymerization method, a redox initiator may be used by using sodium sulfite, L-ascorbic acid, Rongalite or the like as a reducing agent.

共重合反応をさせる際には必要に応じて連鎖移動剤、重合調整剤を用いてもよい。連鎖移動剤、重合調整剤としては、n−ドデシルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、β-メルカプトプロピオン酸メチル-3-メルカプトプロピオネート、2-エチルヘキシル-3-メルカプトプロピオネート、n-オクチル-3-メルカプトプロピオネート、メトキシブチル-3-メルカプトプロピオネート、ステアリル-3-メルカプトプロピオネート、チオグリコール酸、チオグリコール酸アンモニウム、チオグリコール酸モノエタノールアミン、アルファメチルスチレンダイマー等が挙げられるが特に限定されるものではい。また連鎖移動剤、重合調整剤の使用量も特に限定されるものではない。   When carrying out the copolymerization reaction, a chain transfer agent and a polymerization regulator may be used, if necessary. Chain transfer agents and polymerization regulators include n-dodecyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, methyl β-mercaptopropionate-3-mercaptopropionate, 2-ethylhexyl 3-mercaptopropionate, n-octyl-3 -Mercaptopropionate, methoxybutyl-3-mercaptopropionate, stearyl-3-mercaptopropionate, thioglycolic acid, ammonium thioglycollate, monoethanolamine thioglycollate, alpha methyl styrene dimer, etc. It is not particularly limited. Further, the amounts of chain transfer agent and polymerization regulator used are not particularly limited.

溶液重合法において用いることができる溶媒としては、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ジメチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられるが特に限定されるものではい。また溶媒の使用量も特に限定されるものではない。   Examples of the solvent that can be used in the solution polymerization method include toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, dimethyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like, but are not particularly limited. Also, the amount of the solvent used is not particularly limited.

乳化重合法において用いることができる界面活性剤としては、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化セチルトリメチルアンモニウム、塩化オクタデシロキシプロピルトリメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリル酸アンモニウム、スチレン‐アクリル酸ナトリウム共重合体、スチレン‐アクリル酸アンモニウム共重合体、スチレン‐アルファメチルスチレン‐アクリル酸ナトリウム共重合体、スチレン‐アルファメチルスチレン‐アクリル酸アンモニウム共重合体、スチレン‐マレイン酸ナトリウム共重合体、スチレン‐マレイン酸アンモニウム共重合体、ポリビニルピロリドン等が挙げられるが特に限定されるものではい。また界面活性剤の使用量も特に限定されるものではない。   As surfactants which can be used in the emulsion polymerization method, sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, polyoxyethylene lauryl ether sodium acetate, polyoxyethylene lauryl ether ammonium acetate, polyoxyethylene lauryl ether sodium sulfate, polyoxyethylene lauryl ether Ammonium sulfate, sodium dodecyl benzene sulfonate, ammonium dodecyl benzene sulfonate, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl dodecyl ether, lauryl trimethyl ammonium chloride, Stearyl trimethyl ammonium chloride, cetyl chloride Ammonium, octadecyloxypropyl trimethyl ammonium chloride, distearyl dimethyl ammonium chloride, partially saponified polyvinyl alcohol, completely saponified polyvinyl alcohol, sodium polyacrylate, ammonium polyacrylate, styrene-sodium acrylate copolymer, styrene- Ammonium acrylate copolymer, styrene-alphamethylstyrene-sodium acrylate copolymer, styrene-alphamethylstyrene-ammonium acrylate copolymer, styrene-sodium maleate copolymer, styrene-ammonium maleate copolymer And polyvinyl pyrrolidone and the like, but are not particularly limited. The amount of surfactant used is also not particularly limited.

懸濁重合法において用いることができる分散剤としては、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウム、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレンオキシド等が挙げられるが特に限定されるものではい。また分散剤の使用量も特に限定されるものではない。   Examples of the dispersant that can be used in the suspension polymerization method include partially saponified polyvinyl alcohol, completely saponified polyvinyl alcohol, sodium polyacrylate, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyethylene oxide and the like, but are not particularly limited. . Further, the amount of the dispersant used is not particularly limited.

重合反応温度は、室温〜200℃の範囲が好ましく、40℃〜140℃の範囲がより好ましいが、これら範囲に特段限定されるものではない。反応時間は、特に限定されるものではなく、用いる単量体組成物の組成や重合開始剤の種類等に応じて、重合反応が完結するように適宜に条件設定を行えばよい。   The polymerization reaction temperature is preferably in the range of room temperature to 200 ° C., and more preferably in the range of 40 ° C. to 140 ° C., but is not particularly limited to these ranges. The reaction time is not particularly limited, and conditions may be appropriately set to complete the polymerization reaction according to the composition of the monomer composition to be used, the type of the polymerization initiator, and the like.

以上のように、本発明のベンゾトリアゾール系紫外線吸収性重合体は前記一般式(1)で表されるメトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体を重合性単量体として含む原料を(共)重合してなる構成である。さらに好ましくは、重合性単量体として一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体をさらに含む原料を(共)重合してなる構成である。即ち280〜400nmの波長領域全般に紫外線吸能力を有する紫外線吸収性単量体を含有する原料で(共)重合されたものであるので、280〜450nmの波長領域全般を包括する広い範囲の紫外線波長領域および可視光短波長領域に吸収を有し、450nm付近までの可視光短波長吸収能力を有する。   As described above, the benzotriazole ultraviolet absorbing polymer of the present invention is obtained by (co) polymerizing a raw material containing the methoquinone type benzotriazole monomer represented by the general formula (1) as a polymerizable monomer. Configuration. More preferably, it is the structure formed by (co) polymerizing the raw material which further contains the alkanol phenol type benzotriazole type monomer represented by General formula (2) as a polymerizable monomer. That is, since it is (co) polymerized with a raw material containing an ultraviolet absorbing monomer having an ultraviolet absorbing ability in the entire wavelength region of 280 to 400 nm, a wide range of ultraviolet light covering the entire wavelength region of 280 to 450 nm It has absorption in the wavelength range and the visible short wavelength range, and has the ability to absorb visible short wavelengths up to around 450 nm.

本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む塗料は、前記一般式(1)で表されるメトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体を含む原料を(共)重合してなるベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む構成である。さらに好ましくは、一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体をさらに含む上記原料を共重合してなるベンゾトリアゾール系共重合体を含む構成である。塗料の形態は水系塗料、溶剤系塗料、紫外線硬化性塗料、熱硬化性塗料、クリア塗料、顔料塗料、染料塗料などが挙げられるが特段限定されるものではない。また、塗料を構成するベンゾトリアゾール系(共)重合体以外の樹脂、溶媒、架橋剤、硬化剤、触媒、充填剤、レベリング剤、可塑剤、安定剤、染料、顔料などの材料は特に限定されるものではなく、適宜選択して用いることができる。   A paint containing a benzotriazole (co) polymer according to the present invention is a benzotriazole (co) obtained by (co) polymerizing a raw material containing a methoquinone type benzotriazole monomer represented by the general formula (1). A) containing a polymer. More preferably, the composition contains a benzotriazole-based copolymer obtained by copolymerizing the above-mentioned raw material which further contains an alkanolphenol-type benzotriazole-based monomer represented by the general formula (2). The form of the paint includes water-based paint, solvent-based paint, UV-curable paint, thermosetting paint, clear paint, pigment paint, dye paint and the like, but is not particularly limited. In addition, materials other than the benzotriazole (co) polymer constituting the paint, such as resins, solvents, crosslinking agents, curing agents, catalysts, fillers, leveling agents, plasticizers, stabilizers, dyes, pigments, etc., are particularly limited. It can be selected appropriately and used.

本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む塗料がコーティングされたフィルムは、前記一般式(1)で表されるメトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体を含む原料を(共)重合してなるベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む構成の塗料がコーティングされたフィルムである。さらに好ましくは、一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体をさらに含む原料を共重合してなるベンゾトリアゾール系共重合体を含む構成の塗料がコーティングされたフィルムである。フィルムの種類は、ポリエステル系フィルム、セルロース系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリスチレン系フィルム、塩化ビニル系フィルム、塩化ビニリデン系フィルム、ポリビニルアルコール系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリイミド系フィルムなどが挙げられるが、特段限定されるものではない。   A film coated with a paint containing the benzotriazole (co) polymer of the present invention is obtained by (co) polymerizing a raw material containing the methoquinone type benzotriazole monomer represented by the general formula (1). It is a film coated with a paint having a configuration containing a benzotriazole (co) polymer. More preferably, it is a film coated with a paint comprising a benzotriazole copolymer obtained by copolymerizing a raw material further containing an alkanolphenol type benzotriazole monomer represented by the general formula (2). . Types of films include polyester films, cellulose films, polyolefin films, polyamide films, polystyrene films, vinyl chloride films, vinylidene chloride films, polyvinyl alcohol films, polycarbonate films, polyimide films, etc. However, it is not particularly limited.

上記フィルムにベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む塗料をコーティングする方法としては、前記ベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む塗料をロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、ブレードコーター、ロッドーコーター、エアドクターコーター、カーテンコーター、ファウンテンコーター、キスコーター,スクリーンコーター、スピンコーター、キャスト塗工、スプレーコーター、電着塗工押し出しコーター、ラングミュア・ブロジェット(LB)法などにより塗工する方法が挙げられるが特段限定されるものではない。さらに、本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む塗膜の存在部位としては、フィルムの表面、裏面、両面、積層間などが挙げられるが特段限定されるものではない。   As a method of coating a paint containing a benzotriazole (co) polymer on the above film, a paint containing the above benzotriazole (co) polymer may be a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a knife coater, a blade coater, Rod coater, air doctor coater, curtain coater, fountain coater, kiss coater, screen coater, spin coater, cast coating, spray coating, electrodeposition coating extrusion coater, Langmuir-Blodgett (LB) method, etc. However, it is not particularly limited. Furthermore, as the existence site of the coating film containing the benzotriazole (co) polymer of the present invention, the front surface, back surface, both surfaces of the film, between layers, etc. may be mentioned, but it is not particularly limited.

以下、ベンゾトリアゾール系(共)重合体の実施例および比較例とそれを含む塗料および塗料がコーティングされたフィルムにより、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの様態に限定されるものではない。なお、合成例および実施例および比較例に記載の「%」は「重量%」を示し、「部」は「重量部」を示す。   The present invention will be described in more detail by the following examples and comparative examples of benzotriazole-based (co) polymers, and paints containing the same and films coated with the paints, but the present invention is limited to these embodiments. It is not a thing. In addition, "%" as described in a synthesis example and an Example and a comparative example shows "weight%", and "part" shows a "weight part."

〔1.ベンゾトリアゾール系単量体の合成〕
(合成例1)
[化合物(a);2−メタクリロイルオキシエチル 2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレートの合成]

Figure 2018177976

・・・化合物(a) [1. Synthesis of benzotriazole-based monomer]
Synthesis Example 1
[Compound (a): Synthesis of 2-methacryloyloxyethyl 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methoxyphenyl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate]
Figure 2018177976

... Compound (a)

200mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、水100ml、炭酸ナトリウム6.5g(0.061モル)、4−アミノ−3−ニトロ安息香酸20.0g(0.110モル)を入れて溶解させ、36%亜硝酸ナトリウム水溶液22.7g(0.118モル)を加えた。この溶液を500mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、水100ml、62.5%硫酸43.0g(0.274モル)を入れて混合し、3〜7℃に冷却したものに滴下し、同温度で2時間撹拌してジアゾニウム塩水溶液を得た。1000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、2−tert−ブチル−4−メトキシフェノール18.0g(0.100モル)、イソプロピルアルコール10ml、水140mlを入れて混合し、ジアゾニウム塩水溶液を5〜10℃で滴下し、5〜10℃で2時間撹拌した後に、10〜15℃で12時間撹拌し、2−tert−ブチル−6−(4−カルボキシ−2−ニトロフェニルアゾ)−4−メトキシフェノールのスラリー液を得た。32%水酸化ナトリウム水溶液27.8g(0.222モル)、イソプロピルアルコール200mlを加え、70℃で下層の水層を分離して除去した。32%水酸化ナトリウム水溶液30.0g(0.222モル)、水200ml、ハイドロキノン0.4gを加え、60%ヒドラジン一水和物6.0g(0.072モル)を40〜50℃で1時間かけて滴下し、同温度で2時間撹拌させた。62.5%硫酸でpH4に調整し、生成した沈殿物をろ過、水洗、乾燥し、5−カルボキシ−2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール N−オキシドを23.6g得た。   A 200-ml four-necked flask is equipped with a condenser with ball, thermometer and stirrer, and 100 ml of water, 6.5 g (0.061 mol) of sodium carbonate, 20.0 g of 4-amino-3-nitrobenzoic acid (0.110) Mol) was added and dissolved, and 22.7 g (0.118 mol) of a 36% aqueous solution of sodium nitrite was added. Attach this solution to a 500 ml four-necked flask, attach a ball condenser, thermometer, and stirrer, add 100 ml of water, 43.0 g (0.274 mol) of 62.5% sulfuric acid, and mix to 3-7 ° C. It was added dropwise to the cooled one and stirred at the same temperature for 2 hours to obtain an aqueous diazonium salt solution. Attach a beaded condenser, a thermometer and a stirrer to a 1000 ml four-necked flask, add 18.0 g (0.100 mol) of 2-tert-butyl-4-methoxyphenol, 10 ml of isopropyl alcohol and 140 ml of water and mix. After adding an aqueous solution of diazonium salt dropwise at 5 to 10 ° C. and stirring at 5 to 10 ° C. for 2 hours, the solution is stirred at 10 to 15 ° C. for 12 hours, 2-tert-butyl-6- (4-carboxy-2-nitro) A slurry of phenylazo) -4-methoxyphenol was obtained. 27.8 g (0.222 mol) of a 32% aqueous sodium hydroxide solution and 200 ml of isopropyl alcohol were added, and the lower aqueous layer was separated and removed at 70 ° C. Add 30.0 g (0.222 mol) of a 32% aqueous solution of sodium hydroxide, 200 ml of water, and 0.4 g of hydroquinone, and add 6.0 g (0.072 mol) of 60% hydrazine monohydrate at 40 to 50 ° C. for 1 hour The mixture was added dropwise and allowed to stir at the same temperature for 2 hours. The pH is adjusted to 4 with 62.5% sulfuric acid, and the precipitate formed is filtered, washed with water, dried and 5-carboxy-2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methoxyphenyl) -2H-benzotriazole 23.6 g of N-oxide were obtained.

500mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−カルボキシ−2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール N−オキシドを23.6g(0.066モル)、イソプロピルアルコール100ml、水100ml、32%水酸化ナトリウム水溶液24.0g(0.192モル)を入れて、70〜80℃で二酸化チオ尿素12.0g(0.111モル)を3時間かけて加えた。同温度で1時間撹拌し、下層の水層を分液して除去し、62.5%硫酸でpH4に調整し、生成した沈殿物をろ過、水洗、乾燥して、5−カルボキシ−2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを20.3g得た。   Attach a beaded condenser, thermometer, and stirrer to a 500 ml four-necked flask, and attach 5-carboxy-2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methoxyphenyl) -2H-benzotriazole N-oxide Add 23.6 g (0.066 mol), 100 ml of isopropyl alcohol, 100 ml of water, 24.0 g (0.192 mol) of 32% aqueous sodium hydroxide solution, and add 12.0 g (0. 111 mol) were added over 3 hours. The mixture is stirred at the same temperature for 1 hour, the lower aqueous layer is separated and removed, adjusted to pH 4 with 62.5% sulfuric acid, and the formed precipitate is filtered, washed with water and dried to give 5-carboxy-2- 20.3 g of (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methoxyphenyl) -2H-benzotriazole was obtained.

300mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−カルボキシ−2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを20.3g(0.059モル)、トルエン100ml、塩化チオニル13.0g(0.109モル)、N,N−ジメチルホルムアミド2.0mlを入れて、60〜70℃で3時間撹拌した。減圧で溶媒を回収し、トルエン100ml、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル14.0g(0.108モル)、ピリジン8.3g(0.105モル)を加え、60〜70℃で1時間撹拌した。水20ml、62.5%硫酸9.0g(0.057モル)を加えて、60〜70℃で下層の水層を分液して除去し、さらに水20mlを加えて、60〜70℃で下層の水層を分液して除去し、減圧でトルエンを回収して、イソプロピルアルコール90mlを加えて、生成した沈殿物をろ過、洗浄、乾燥して、粗結晶を23.1g得た。この粗結晶をイソプロピルアルコールで再結晶して、化合物(a)を22.2g得た。収率49%(2−tert−ブチル−4−メトキシフェノールから)であった。   Attach a beaded condenser, thermometer, and stirrer to a 300 ml four-necked flask, and 20.3 g of 5-carboxy-2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methoxyphenyl) -2H-benzotriazole (0.059 mol), 100 ml of toluene, 13.0 g (0.109 mol) of thionyl chloride, and 2.0 ml of N, N-dimethylformamide were added and stirred at 60 to 70 ° C. for 3 hours. The solvent was recovered under reduced pressure, 100 ml of toluene, 14.0 g (0.108 mol) of 2-hydroxyethyl methacrylate and 8.3 g (0.105 mol) of pyridine were added, and the mixture was stirred at 60 to 70 ° C. for 1 hour. 20 ml of water and 9.0 g (0.057 mol) of 62.5% sulfuric acid are added, the lower aqueous layer is separated and removed at 60 to 70 ° C., and 20 ml of water is further added to obtain 60 ° to 70 ° C. The lower aqueous layer was separated and removed, toluene was recovered under reduced pressure, 90 ml of isopropyl alcohol was added, and the formed precipitate was filtered, washed and dried to obtain 23.1 g of crude crystals. The crude crystals were recrystallized with isopropyl alcohol to obtain 22.2 g of compound (a). The yield was 49% (from 2-tert-butyl-4-methoxyphenol).

また、HPLC分析により、化合物(a)の純度を測定した。
<測定条件>
装置:L−2130((株)日立ハイテクノロジーズ製)
使用カラム:SUMIPAX ODS A−212 6.0×150mm 5μm
カラム温度:40℃
移動相: メタノール/水=95/5(リン酸3ml/L)
流速:1.0ml/min
検出:UV250nm
<測定結果>
HPLC面百純度98.5%
In addition, the purity of the compound (a) was measured by HPLC analysis.
<Measurement conditions>
Device: L-2130 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation)
Column used: SUMIPAX ODS A-212 6.0 × 150 mm 5 μm
Column temperature: 40 ° C
Mobile phase: Methanol / water = 95/5 (phosphoric acid 3 ml / L)
Flow rate: 1.0 ml / min
Detection: UV 250 nm
<Measurement result>
HPLC surface purity 98.5%

また、化合物(a)のNMR測定を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。測定条件は次のとおりである。
<測定条件>
装置:JEOL JNM−AL300
共振周波数:300MHz(1H−NMR)
溶媒:クロロホルム−d
1H−NMRの内部標準物質として、テトラメチルシランを用い、ケミカルシフト値はδ値(ppm)、カップリング定数はHertzで示した。またsはsinglet、dはdoublet、mはmultipletの略とする。以下の実施例においても同様である。なお、以下の実施例2〜6も本実施例と同様の測定条件でNMR測定を行った。得られたNMRスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ=11.44(s,1H,phenol−OH),8.73(s,1H,benzotriazol−H),8.13(d,1H,J=9.0Hz,benzotriazol−H),7.98(d,1H,J=11.1Hz,benzotriazol−H),7.82(s,1H,phenol−H),7.05(s,1H,phenol−H),6.18(s,1H,C=CH−H),5.62(s,1H,C=CH−H),4.65(m,2H,methacryloyl−O−CH−H),4.56(m,2H,benzotriazol−CO−O−CH−H),3.93(s,3H,phenol−O−CH−H),1.98(s,3H,CH=C−CH−H),1.56(s,9H,tert−butyl−H)
Further, as a result of conducting NMR measurement of the compound (a), the result of supporting the above-mentioned structure was obtained. The measurement conditions are as follows.
<Measurement conditions>
Device: JEOL JNM-AL300
Resonance frequency: 300 MHz (1H-NMR)
Solvent: chloroform-d
As an internal standard substance of 1 H-NMR, tetramethylsilane was used, a chemical shift value was indicated by δ value (ppm), and a coupling constant was indicated by Hertz. Also, s is a singlet, d is a doublet, and m is an abbreviation of multiplet. The same applies to the following embodiments. In the following Examples 2 to 6, NMR measurement was performed under the same measurement conditions as in this example. The contents of the obtained NMR spectrum are as follows.
δ = 11.44 (s, 1 H, phenol-OH), 8.73 (s, 1 H, benzotriazol-H), 8.13 (d, 1 H, J = 9.0 Hz, benzotriazol-H), 7.98 (D, 1 H, J = 11.1 Hz, benzotriazol-H), 7.82 (s, 1 H, phenol-H), 7.05 (s, 1 H, phenol-H), 6.18 (s, 1 H, C = CH 2 -H), 5.62 (s, 1H, C = CH 2 -H), 4.65 (m, 2H, methacryloyl-O-CH 2 -H), 4.56 (m, 2H, benzotriazol-CO-O-CH 2 -H), 3.93 (s, 3H, phenol-O-CH 3 -H), 1.98 (s, 3H, CH 2 = C-CH 3 -H), 1 .56 (s, 9H, tert-b utyl-H)

(合成例2)
[化合物(b);2−メタクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレートの合成]

Figure 2018177976
・・・化合物(b) (Composition example 2)
[Compound (b): Synthesis of 2-methacryloyloxyethyl 2- (2-hydroxy-5-methoxyphenyl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate]
Figure 2018177976
... Compound (b)

2−tert−ブチル−4−メトキシフェノールを4−メトキシフェノールとした以外は合成例1と同様にして、化合物(b)を収率5%(4−メトキシフェノールから)で得た。融点は94℃、最大吸収波長λmaxは309.8nmおよび373.2nmであり、その波長のモル吸光係数εはそれぞれ14700、13100であった。   Compound (b) was obtained in a yield of 5% (from 4-methoxyphenol) in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 2-tert-butyl-4-methoxyphenol was changed to 4-methoxyphenol. The melting point was 94 ° C., the maximum absorption wavelengths λmax were 309.8 nm and 373.2 nm, and the molar absorption coefficients ε of the wavelengths were 14700 and 13100, respectively.

また、HPLC分析により、化合物(b)の純度を測定した。
<測定条件>
装置:L−2130((株)日立ハイテクノロジーズ製)
使用カラム:Inertsil ODS−3 4.6×150mm 5μm
カラム温度:25℃
移動相: アセトニトリル/水=9/1(リン酸3ml/L)
流速:1.0ml/min
検出:UV250nm
<測定結果>
HPLC面百純度93.4%
The purity of compound (b) was also measured by HPLC analysis.
<Measurement conditions>
Device: L-2130 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation)
Column used: Inertsil ODS-3 4.6 × 150 mm 5 μm
Column temperature: 25 ° C
Mobile phase: acetonitrile / water = 9/1 (phosphoric acid 3 ml / L)
Flow rate: 1.0 ml / min
Detection: UV 250 nm
<Measurement result>
HPLC surface purity 93.4%

また、化合物(b)のNMR測定を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。得られたNMRスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ=10.71(s,1H,phenol−OH),8.73(s,1H,benzotriazole−H),8.12(d,1H,J=9.6Hz,benzotriazole−H),7.98(d,1H,J=9.6Hz,benzotriazole−H),7.15(m,3H,phenol−H),6.18(s,1H,C=CH−H),5.62(s,1H,C=CH−H),4.65(m,2H,methacryloyl−O−CH−H),4.57(m,2H,benzotriazole−CO−O−CH−H),3.89(s,3H,phenol−O−CH−H),1.98(s,3H,CH=C−CH−H)
Further, as a result of NMR measurement of the compound (b), the result of supporting the above-mentioned structure was obtained. The contents of the obtained NMR spectrum are as follows.
δ = 10.71 (s, 1 H, phenol-OH), 8. 73 (s, 1 H, benzotriazole-H), 8.12 (d, 1 H, J = 9.6 Hz, benzotriazole-H), 7.98 (d, 1H, J = 9.6Hz , benzotriazole-H), 7.15 (m, 3H, phenol-H), 6.18 (s, 1H, C = CH 2 -H), 5.62 (s , 1H, C = CH 2 -H), 4.65 (m, 2H, methacryloyl-O-CH 2 -H), 4.57 (m, 2H, benzotriazole-CO-O-CH 2 -H), 3 .89 (s, 3H, phenol- O-CH 3 -H), 1.98 (s, 3H, CH 2 = C-CH 3 -H)

〔2.ベンゾトリアゾール系単量体市販品〕
アルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体は市販品の2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール(大塚化学 RUVA−93)を用いた。以下、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾールを「化合物(c)」と記す。
[2. Benzotriazole monomer commercial product]
As the alkanolphenol-type benzotriazole-based monomer, commercially available 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole (Otsuka Chemical RUVA-93) was used. Hereinafter, 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole is referred to as “compound (c)”.

〔3.セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体市販品〕
セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は市販品の2−[2−(6-ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−2H−1,2,3ベンゾトリアゾール−5−イル]エチル=メタクリレート(シプロ化成 R26)を用いた。以下、2−[2−(6-ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−2H−1,2,3ベンゾトリアゾール−5−イル]エチル=メタクリレートを「化合物(d)」と記す。
〔4.ベンゾトリアゾール系(共)重合体の合成〕
[3. Cesamol type benzotriazole monomer commercially available product]
The sesamol type benzotriazole monomer is a commercially available 2- [2- (6-hydroxy-1,3-benzodioxol-5-yl) -2H-1,2,3 benzotriazol-5-yl]. Ethyl methacrylate (Sipro Chemical R26) was used. Hereinafter, 2- [2- (6-hydroxy-1,3-benzodioxol-5-yl) -2H-1,2,3 benzotriazol-5-yl] ethyl methacrylate is referred to as “compound (d)”. It is written.
[4. Synthesis of benzotriazole (co) polymer]

(実施例1)
四つ口フラスコにジムロート冷却器、水銀温時計、窒素ガス吹き込み管、攪拌装置を取り付け、単量体組成物としての化合物(a)20部、メチルメタクリレート(以下、「MMA」と記す。)20部、および、溶媒としてのメチルエチルケトン(以下、「MEK」と記す。)60部、および、重合開始剤としての2,2’‐アゾビス‐メチルブチロニトリル(以下、「AMBN」と記す。)1.5部を入れて、攪拌しながら窒素ガス流量10ml/minで1時間フラスコ内を窒素置換後に、反応液温度80〜86℃で10時間還流状態にて重合反応を行った。重合反応終了後、紫外線吸収性共重合体溶液101.5部を得た。
Example 1
A four-necked flask is equipped with a Dimroth condenser, a mercury thermometer, a nitrogen gas blowing tube, a stirrer, and 20 parts of a compound (a) as a monomer composition, methyl methacrylate (hereinafter referred to as "MMA") 20 Part, and 60 parts of methyl ethyl ketone (hereinafter referred to as "MEK") as a solvent, and 2,2'-azobis-methylbutyro nitrile (hereinafter referred to as "AMBN") 1 as a polymerization initiator After putting 5 parts into the flask and substituting nitrogen in the flask for 1 hour at a nitrogen gas flow rate of 10 ml / min while stirring, the polymerization reaction was carried out under reflux at a reaction solution temperature of 80 to 86 ° C. for 10 hours. After completion of the polymerization reaction, 101.5 parts of an ultraviolet absorbing copolymer solution was obtained.

(実施例2)
実施例1における単量体組成物を化合物(a)20部、MMA8部、スチレン(以下、「St」と記す。)、および2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下、「HEMA」と記す。)8部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
(Example 2)
20 parts of compound (a), 8 parts of MMA, styrene (hereinafter referred to as "St"), and 8 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as "HEMA") of the monomer composition in Example 1 The same polymerization reaction procedure as in Example 1 was carried out except using the above, to obtain a UV-absorbing copolymer solution.

(実施例3)
実施例1における単量体組成物を化合物(a)10部、化合物(c)10部、シクロヘキシルメタクリレート(以下、「CHMA」と記す。)18部、および1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジルメタクリレート(以下、「HALS」と記す。)2部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
(Example 3)
The monomer composition in Example 1 is 10 parts of compound (a), 10 parts of compound (c), 18 parts of cyclohexyl methacrylate (hereinafter referred to as "CHMA"), and 1,2,2,6,6- The same polymerization reaction procedure as in Example 1 was carried out except that 2 parts of pentamethyl piperidyl methacrylate (hereinafter referred to as "HALS") was used, to obtain a UV-absorbing copolymer solution.

(実施例4)
実施例1における単量体組成物を化合物(b)1部、およびMMA19部とし、溶媒としてのMEKを80部、重合開始剤としてのAMBNを0.8部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
(Example 4)
Example 1 is the same as Example 1 except that the monomer composition in Example 1 is 1 part of compound (b) and 19 parts of MMA, 80 parts of MEK as a solvent, and 0.8 parts of AMBN as a polymerization initiator. The following polymerization reaction procedure was carried out to obtain a UV-absorbing copolymer solution.

(比較例1)
実施例1における単量体組成物を化合物(c)20部、MMA20部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
(Comparative example 1)
The same polymerization reaction procedure as in Example 1 was carried out except that the monomer composition in Example 1 was changed to 20 parts of compound (c) and 20 parts of MMA, to obtain a UV-absorbing copolymer solution.

(比較例2)
実施例1における単量体組成物を化合物(d)20部、MMA20部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
(Comparative example 2)
The same polymerization reaction procedure as in Example 1 was carried out except that the monomer composition in Example 1 was changed to 20 parts of compound (d) and 20 parts of MMA, to obtain a UV-absorbing copolymer solution.

〔4.評価〕
上記の実施例1〜実施例4、比較例1および2により得られた紫外線吸収性共重合体溶液の不揮発分、溶液粘度、分子量、および紫外線吸収性共重合体の最大吸収波長λmax、紫外線吸収スペクトルを測定した。さらに紫外線吸収性共重合体を含む塗料を作製し、これをポリエステルフィルムにコーティングしたコーティングフィルムを作製し、昇華転写印刷に用いられる染料の保護性能確認を目的とした紫外線遮断機能確認試験、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出、ブリードアウト、結晶化、配合材料相溶性の確認試験を実施した。
[4. Evaluation]
Nonvolatile content, solution viscosity, molecular weight, and maximum absorption wavelength λmax of ultraviolet absorbing copolymer, ultraviolet light absorption of the ultraviolet absorbing copolymer solution obtained by the above Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 The spectrum was measured. Furthermore, a coating film is prepared by coating a polyester film with a coating containing an ultraviolet absorbing copolymer, and a coating film is prepared, and an ultraviolet blocking function confirmation test for the purpose of confirming the protective performance of dyes used in sublimation transfer printing, Elution, bleeding out, crystallization of the UV absorbing component from the above, and a confirmation test of the compatibility of the blended materials were conducted.

不揮発分はアルミ皿に得られた紫外線吸収性共重合体溶液を0.5g秤量し、100℃で1時間乾燥、更に150℃で5時間乾燥後の残留樹脂量から算出した。   The nonvolatile content was calculated from the amount of residual resin after weighing 0.5 g of the obtained ultraviolet absorbing copolymer solution in an aluminum pan, drying at 100 ° C. for 1 hour, and further drying at 150 ° C. for 5 hours.

粘度はEH型粘度計(東機産業(株) TV‐22)を用い、25℃における溶液粘度を測定した。   The viscosity was measured for the solution viscosity at 25 ° C. using an EH viscometer (TV-22, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).

分子量はGPCシステムHLC−8320GPC EcoSEC(東ソー株式会社)を用い、溶離液をテトラヒドロフラン、分離カラムをTSKgelGMHXL−L(東ソー株式会社)として、ポリスチレン検量線を用いたポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、多分散度(Mw/Mn)を測定した。   The molecular weight is the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene using a polystyrene calibration curve, using a GPC system HLC-8320GPC EcoSEC (Tosoh Corp.), the eluent as tetrahydrofuran, and the separation column as TSKgel GMHXL-L (Tosoh Corp.) The number average molecular weight (Mn) and the polydispersity (Mw / Mn) were measured.

最大吸収波長λmax、紫外線吸収スペクトルは、得られた紫外線吸収性共重合体溶液を減圧乾燥にて脱溶剤した後に、濃度40ppmクロロホルム溶液とし、分光光度計(日立ハイテクノロジーズ(株) U‐3900H)を用いて測定した。   The maximum absorption wavelength λmax and the ultraviolet absorption spectrum were obtained by removing the solvent from the obtained ultraviolet absorbing copolymer solution by drying under reduced pressure, and then using a 40 ppm chloroform solution as a spectrophotometer (Hitachi High-Technologies Corporation U-3900H) It measured using.

紫外線遮断機能試験は、実施例1〜実施例3、比較例1および2で得られた紫外線吸収性共重合体溶液を用いて、紫外線吸性共重合体含有塗料を作製し、その塗料のコーティングフィルムによる昇華転写印刷に用いられる染料の紫外線吸収遮断性能を確認した。以下に手順を記す。   In the ultraviolet ray blocking function test, an ultraviolet ray absorbing copolymer-containing paint is prepared using the ultraviolet ray absorbing copolymer solution obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, and the coating of the paint is carried out The ultraviolet absorption blocking performance of the dye used for sublimation transfer printing with a film was confirmed. The procedure is described below.

実施例1〜実施例3、比較例1および2で得られた紫外線吸収性共重合体溶液10部にトルエン5部、およびMEK5部を加え、紫外線吸収性共重合体を含む塗料を作製し、ガラス板(TP技研、厚さ2mm)にバーコーター#20で上記の塗料を塗布した後、80℃で1分間乾燥後、更に100℃で30秒間乾燥させ、紫外線吸収性共重合体を含むコーティングフィルムを得た。膜厚計(FILMETRICS F20)を用いた紫外線吸収性共重合体を含む塗膜の膜厚はそれぞれおよそ3μであった。   5 parts of toluene and 5 parts of MEK were added to 10 parts of the ultraviolet absorbing copolymer solution obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 to prepare a paint containing the ultraviolet absorbing copolymer, The above paint is applied to a glass plate (TP Giken, thickness 2 mm) with a bar coater # 20, dried at 80 ° C. for 1 minute, and further dried at 100 ° C. for 30 seconds, and a coating containing an ultraviolet absorbing copolymer I got a film. The film thickness of the coating film containing the ultraviolet absorbing copolymer using a film thickness meter (FILMETRICS F20) was about 3 μ.

次いで、市販の昇華転写方式コンパクトフォトプリンター(Canon SELPHY CP600)使用されているイエロー染料、シアン染料、マゼンダ染料、3色の転写フィルムを得た。これをJISK5701‐1:2000に準じて転写フィルムの染料の紫外線照射による劣化を、キセノンウェザーメーター(スガ試験機 SX−75)を用いて放射照度180W、ブラックパネル温度63±3℃、紫外線100時間連続照射。この結果より、染料の退色劣化を耐紫外線機能評価基準とした。   Subsequently, a yellow dye, a cyan dye, a magenta dye, and a transfer film of three colors used in a commercially available sublimation transfer type compact photo printer (Canon SELPHY CP600) were obtained. The deterioration of the dye of the transfer film due to ultraviolet irradiation according to JIS K 5701-1: 2000, irradiance 180 W, black panel temperature 63 ± 3 ° C, ultraviolet light 100 hours using a xenon weather meter (Suga Test Instruments SX-75) Continuous irradiation. From this result, the color degradation of the dye was used as the evaluation standard for the resistance to ultraviolet rays.

同様にして染料の転写フィルムを用い、前記で作製したそれぞれの紫外線吸収性共重合体を含む塗料がコーティングされたガラス板で転写フィルムを保護し、同様にJISK5701‐1:2000に準じて染料の紫外線退色劣化を確認した。評価は退色の目視確認での程度を考慮して5段階とし、レベル5は変化無し、レベル4は僅かなインク退色が確認出来る、レベル3はインク退色が確認出来る、レベル4は殆どインク退色、レベル1はインク分解消失とした。   Similarly, using a dye transfer film, the transfer film is protected with a glass plate coated with the coating material containing each of the ultraviolet absorbing copolymers prepared above, and in the same manner as described in JIS K5701-1: 2000. The ultraviolet color fading was confirmed. The evaluation was made in 5 steps in consideration of the degree of visual observation of fading. Level 5: no change, level 4: slight ink fading can be confirmed, level 3: ink fading can be confirmed, level 4: almost ink fading, Level 1 was ink decomposition loss.

塗膜からの紫外線吸収成分の溶出、ブリードアウト、結晶化、配合材料相溶性の塗膜状態の変化確認試験は前記で作製したそれぞれの紫外線吸収性共重合体を含む塗料がコーティングされたフィルムの経時変化を光学顕微鏡用いて観察した。評価はフィルム作製から1ヵ月間の塗膜状態の目視感応評価とした。   Elution of the UV absorbing component from the coating film, bleeding out, crystallization, change in the coating material compatibility of the mixed material confirmatory tests were made of the film coated with the coating containing the respective UV absorbing copolymer prepared above The change over time was observed using an optical microscope. The evaluation was a visual sensitivity evaluation of the coating state for one month after film preparation.

前記の実施例1〜実施例4、比較例1および2より得られた紫外線吸性共重合体溶液の不揮発分、分子量、最大吸収波長λmax、波長領域300nm,360nm,400nm,420nm,450nmにおける吸光度、紫外線遮断機能試験評価結果、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出、ブリードアウト、結晶化、配合材料相溶性の塗膜状態の変化確認試験結果を表1に紫外線吸収スペクトルを図1〜図6に示した。   Nonvolatile content, molecular weight, maximum absorption wavelength λmax, absorbance at wavelength regions 300 nm, 360 nm, 400 nm, 420 nm, and 450 nm of the ultraviolet absorbing copolymer solution obtained from the above Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 Evaluation results of UV blocking function test, elution of UV absorbing component from coating film, bleeding out, crystallization, change of coating film status of mixed material compatibility test results Table 1 shows UV absorption spectrum Figure 1-Figure 6 It was shown to.

Figure 2018177976
Figure 2018177976

表1中の記号の意味は次の通りである。
「化合物(a)」:2−メタクリロイルオキシエチル 2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート
「化合物(b)」:2−メタクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−5−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート
「化合物(c)」:2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール
「化合物(d)」: 2−[2−(6-ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−2H−1,2,3ベンゾトリアゾール−5−イル]エチル=メタクリレート
「MMA」:メチルメタクリレート
「St」:スチレン
「HEMA」:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
「CHMA」:シクロヘキシルメタクリレート
「HALS」:4‐メタクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン
「AMBN」:2,2’‐アゾビス‐メチルブチロニトリル
「MEK」:メチルエチルケトン
The meanings of the symbols in Table 1 are as follows.
"Compound (a)": 2-methacryloyloxyethyl 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methoxyphenyl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate "Compound (b)": 2-methacryloyl Oxyethyl 2- (2-hydroxy-5-methoxyphenyl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate "Compound (c)": 2- [2-hydroxy-5- (methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H- Benzotriazole "Compound (d)": 2- [2- (6-hydroxy-1,3-benzodioxol-5-yl) -2H-1,2,3 benzotriazol-5-yl] ethyl methacrylate "MMA": methyl methacrylate "St": styrene "HEMA": 2-hydroxyethyl methacrylate "CHMA": cyclohexyl methacrylate "HALS": 4-methacryloyloxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine "AMBN": 2,2'-azobis-methylbutyronitrile "MEK": methyl ethyl ketone

実施例1〜4の結果から明らかなように、本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体は、地上における太陽から到達する太陽光放射照度分布の紫外線波長領域300nm〜400nmに対する広範囲な紫外線吸収波長領域を有する。また、有機物や人体にダメージを与えることが指摘されている400〜450nm程度の可視光短波長域の吸収を有する。従って、これを用いた塗料およびその塗料がコーティングされたフィルムも300nm〜450nmの広範囲な紫外線および可視光短波長の吸収波長領域を有する。よって紫外線吸収遮断保護材料として用いると、非常に高いレベルで保護対象物を紫外線から保護することができることがわかった。また、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出やブリードアウト、塗膜中での紫外線吸収成分の結晶化や他の配合材料との相溶性の問題も生じないことも分かった。   As is clear from the results of Examples 1 to 4, the benzotriazole-based (co) polymer of the present invention has a wide range of ultraviolet absorption wavelengths to the ultraviolet wavelength range of 300 nm to 400 nm of the sunlight irradiance distribution reached from the sun on the ground. It has an area. Moreover, it has absorption of the visible light short wavelength area | region of about 400-450 nm which is pointed out that it gives damage to organic substance and a human body. Accordingly, the paint using the same and the film coated with the paint also have a broad ultraviolet and visible short wavelength absorption wavelength range of 300 nm to 450 nm. Therefore, it has been found that when used as a UV absorbing and shielding protective material, it is possible to protect an object to be protected from UV light at a very high level. It was also found that there were no problems of elution or bleeding out of the UV absorbing component from the coating, crystallization of the UV absorbing component in the coating or compatibility with other compounding materials.

本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体は、従来吸収が難しかった太陽光の紫外線領域のうち、太陽光の紫外線部分の分光放射照度分布に対応可能な300〜400nmの広範囲な波長領域を吸収することができ、かつ有機物や人体にダメージを与えることが指摘されている400〜450nm程度の可視光短波長域の吸収できる材料である。また従来知られている250nm〜380nmの紫外線領域を吸収するベンゾトリアゾール系単量体をさらに原料単量体として用いて共重合させて得られる本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体では、さらなる広範囲の紫外線領域において吸収性能に優れる。またこれを塗料にしてコーティングすることもできる。したがって、紫外線および可視光短波長域の光で劣化する材料や人体の保護に好適に用いることが出来、なかでも、ディスプレイ用光学フィルム、眼鏡レンズ等に好適に利用できる。   The benzotriazole-based (co) polymer of the present invention absorbs a wide wavelength range of 300 to 400 nm, which can correspond to the spectral irradiance distribution of the ultraviolet portion of sunlight, out of the ultraviolet range of sunlight which has been difficult to absorb conventionally It is a material that can be absorbed in the visible light short wavelength range of about 400 to 450 nm, which is pointed out to cause damage to organic substances and the human body. Further, in the benzotriazole (co) polymer of the present invention obtained by further copolymerizing a conventionally known benzotriazole monomer absorbing a UV region of 250 nm to 380 nm as a raw material monomer, Excellent absorption performance in a wide range of ultraviolet light. It can also be coated as a paint. Therefore, it can be suitably used for protection of materials that deteriorate with ultraviolet light and light in the short wavelength range of visible light and the human body, and in particular, it can be suitably used for optical films for displays, spectacle lenses and the like.

Claims (4)

重合性単量体として一般式(1)で表されるメトキノン型ベンゾトリアゾール系単量体を含む原料を重合してなることを特徴とするベンゾトリアゾール系(共)重合体。
Figure 2018177976
・・・・・一般式(1)
(式中、Rは水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。Rは炭素数1〜8のアルキル基を表す。Rはアルキル炭素数1〜2のアクリロイルオキシアルキル基、またはアルキル炭素数1〜2のメタクリロイルオキシアルキル基を表す。)
A benzotriazole (co) polymer obtained by polymerizing a raw material containing a methoquinone type benzotriazole monomer represented by the general formula (1) as a polymerizable monomer.
Figure 2018177976
......... General formula (1)
(Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R 2 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R 3 represents an acryloyloxyalkyl group having 1 to 2 alkyl carbon atoms, Or alkyl having 1 to 2 carbon atom methacryloyloxyalkyl groups).
前記重合性単量体として、更に一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体を含む、請求項1記載のベンゾトリアゾール系共重合体。
Figure 2018177976
・・・・・一般式(2)
(式中、Rは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜6の直鎖状または枝分かれ鎖状のアルキレン基を表す。Rは水素原子または炭素数1〜18の炭化水素基を表す。Rは水素原子、ハロゲン基、炭素数1〜8の炭化水素基、炭素数1〜4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表す。)
The benzotriazole-based copolymer according to claim 1, further comprising an alkanolphenol-type benzotriazole-based monomer represented by the general formula (2) as the polymerizable monomer.
Figure 2018177976
......... General formula (2)
(Wherein, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 5 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. R 6 represents a hydrogen atom or carbonization having 1 to 18 carbon atoms. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group or a nitro group)
請求項1または請求項2記載のベンゾトリアゾール系(共)重合体を含有する紫外線吸収性塗料。   An ultraviolet absorbing paint comprising the benzotriazole (co) polymer according to claim 1 or 2. 請求項3記載の紫外線吸収性塗料がコーティングされているフィルム。   A film coated with the ultraviolet absorbing paint according to claim 3.
JP2017079708A 2017-04-13 2017-04-13 Benzotriazole (co)polymer, ultraviolet absorbing coating material containing the same, and film coated with the coating material Pending JP2018177976A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017079708A JP2018177976A (en) 2017-04-13 2017-04-13 Benzotriazole (co)polymer, ultraviolet absorbing coating material containing the same, and film coated with the coating material
KR1020197033431A KR102345990B1 (en) 2017-04-13 2018-04-11 UV-absorbing paint and film coated with the paint
PCT/JP2018/015272 WO2018190381A1 (en) 2017-04-13 2018-04-11 Ultraviolet absorbing coating materil and film coated with said coating material
CN201880024882.1A CN110546172B (en) 2017-04-13 2018-04-11 Ultraviolet absorbing coating material and film coated with the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017079708A JP2018177976A (en) 2017-04-13 2017-04-13 Benzotriazole (co)polymer, ultraviolet absorbing coating material containing the same, and film coated with the coating material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018177976A true JP2018177976A (en) 2018-11-15

Family

ID=63792596

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017079708A Pending JP2018177976A (en) 2017-04-13 2017-04-13 Benzotriazole (co)polymer, ultraviolet absorbing coating material containing the same, and film coated with the coating material

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2018177976A (en)
KR (1) KR102345990B1 (en)
CN (1) CN110546172B (en)
WO (1) WO2018190381A1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020147719A (en) * 2019-03-15 2020-09-17 東洋インキScホールディングス株式会社 Molding resin composition and molding
JP2021080318A (en) * 2019-11-14 2021-05-27 国立大学法人福井大学 Benzotriazole copolymer and ultraviolet absorber including the same
WO2024071136A1 (en) * 2022-09-27 2024-04-04 日本製紙株式会社 Hard coating film

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1965042A1 (en) * 1969-12-27 1971-07-15 Konishiroku Photo Ind Light-sensitive, color photographic recording material
JP2683007B2 (en) * 1987-03-03 1997-11-26 アイオーラブ・コーポレーシヨン Benzotriazole compound, copolymer thereof and ultraviolet absorbing composition
JP4118261B2 (en) 2004-07-07 2008-07-16 大日本印刷株式会社 Protective layer thermal transfer film
JP2006264312A (en) 2005-02-28 2006-10-05 Nippon Shokubai Co Ltd Ultraviolet absorptive polymer for high light-fastness recording material
US20070218218A1 (en) * 2006-03-20 2007-09-20 Konica Minolta Opto, Inc. Cellulose acylate optical film, producing method thereof, polarizing plate and liquid crystal display using the same
JP4997816B2 (en) 2006-04-14 2012-08-08 東洋インキScホールディングス株式会社 UV blocking resin composition and use thereof
US20100104775A1 (en) * 2007-04-10 2010-04-29 Takayuki Suzuki Ultraviolet absorbing polymer, cellulose ester optical film, method of producing cellulose ester optical film, polarizing plate and liquid crystal display
JPWO2008126700A1 (en) * 2007-04-10 2010-07-22 コニカミノルタオプト株式会社 Optical film, polarizing plate, liquid crystal display device, and ultraviolet absorbing polymer
JP2009114430A (en) * 2007-10-17 2009-05-28 Konica Minolta Opto Inc Method for manufacturing optical film, optical film, polarizing plate and display
JP5576734B2 (en) * 2010-07-21 2014-08-20 新中村化学工業株式会社 UV-absorbing benzotriazole-based (co) polymer, paint containing the same, and film coated with the paint
JP5650963B2 (en) 2010-09-13 2015-01-07 タレックス光学工業株式会社 Shading lens for protective glasses
JP6093949B2 (en) * 2013-01-29 2017-03-15 新中村化学工業株式会社 Benzotriazole derivative compounds and polymers thereof

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020147719A (en) * 2019-03-15 2020-09-17 東洋インキScホールディングス株式会社 Molding resin composition and molding
JP7293753B2 (en) 2019-03-15 2023-06-20 東洋インキScホールディングス株式会社 Molding resin composition and molding
JP2021080318A (en) * 2019-11-14 2021-05-27 国立大学法人福井大学 Benzotriazole copolymer and ultraviolet absorber including the same
JP7362049B2 (en) 2019-11-14 2023-10-17 国立大学法人福井大学 Benzotriazole copolymer and ultraviolet absorber using the same
WO2024071136A1 (en) * 2022-09-27 2024-04-04 日本製紙株式会社 Hard coating film

Also Published As

Publication number Publication date
WO2018190381A1 (en) 2018-10-18
CN110546172A (en) 2019-12-06
KR102345990B1 (en) 2021-12-30
KR20190132534A (en) 2019-11-27
CN110546172B (en) 2022-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5576734B2 (en) UV-absorbing benzotriazole-based (co) polymer, paint containing the same, and film coated with the paint
US10919868B2 (en) Benzotriazole derivative compound
US10676447B2 (en) Benzotriazole derivative compound and the use thereof
JP6777401B2 (en) Optical film
US8329775B2 (en) Visible light absorbers for ophthalmic lens materials
KR102345990B1 (en) UV-absorbing paint and film coated with the paint
CN106990472A (en) Optical laminate
KR102320539B1 (en) Benzotriazole-based (co)polymer, UV-absorbing paint containing the same, and a film coated with the paint
JP6863735B2 (en) Light-absorbing compounds, and polymer compositions, polymer films, and cured films containing the compounds.
KR20170041802A (en) Additive for imparting ultraviolet absorptivity and/or high refractive index to matrix, and resin member using same
US20200181363A1 (en) Blue light blocking system containing pyrazoline or/and phenylacrylic compounds
JP2008013746A (en) Optical adhesive, optical adhesive sheet and optical filter
EP2843025A1 (en) Photochromic curable composition
JP6856843B2 (en) Method for producing benzotriazole derivative compound
KR102526413B1 (en) High-energy visible light absorbing resin composition and sheet manufactured therefrom
WO2022059544A1 (en) Ultraviolet absorber, resin composition, cured object, optical member, method for producing ultraviolet absorber, and compound