JP2018176058A - Manufacturing method of laminate - Google Patents

Manufacturing method of laminate Download PDF

Info

Publication number
JP2018176058A
JP2018176058A JP2017078423A JP2017078423A JP2018176058A JP 2018176058 A JP2018176058 A JP 2018176058A JP 2017078423 A JP2017078423 A JP 2017078423A JP 2017078423 A JP2017078423 A JP 2017078423A JP 2018176058 A JP2018176058 A JP 2018176058A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
laminate
solvent
substrate
roll coater
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017078423A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
廣瀬 淳一
Junichi Hirose
淳一 廣瀬
大介 成嶋
Daisuke Narishima
大介 成嶋
健太郎 白石
Kentaro Shiraishi
健太郎 白石
高野橋 寛朗
Hiroaki Takanohashi
寛朗 高野橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Corp filed Critical Asahi Kasei Corp
Priority to JP2017078423A priority Critical patent/JP2018176058A/en
Publication of JP2018176058A publication Critical patent/JP2018176058A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/52PV systems with concentrators

Landscapes

  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a laminate which has a good appearance with less striped thickness unevenness, and exhibits good antireflection performance.SOLUTION: A manufacturing method of a laminate having an antireflection film on at least one surface of a base material includes: a first process of forming a thin film by coating at least the one surface of the base material with a coating liquid containing metal oxide particles (A), polymer particles (B), and at least one kind of solvent (D) by a reverse roll coater; a second process of removing the solvent with warm air at 300°C or lower; and a third process of forming an air gap by baking at 500-700°C to form the antireflection film. A capillary number Ca is 1-80 where the capillary number is calculated by (the expression 1): Ca=μV/σ (in the expression, μ is viscosity of the coating liquid, σ is surface tension, V is a relative speed of a coating roll rotation speed (Vt) of the reverse roll coater with respect to a base material conveying speed (Vb)).SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、積層体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a laminate.

近年、世界的な温暖化現象により環境に対する意識が高まり、炭酸ガス等の温暖化ガスを発生しない新しいエネルギーシステムが関心を集めている。中でも、安全性や扱いやすさに優れることから、特に太陽電池が注目を浴びている。   In recent years, global awareness has raised environmental awareness, and new energy systems that do not generate carbon dioxide and other greenhouse gases are attracting attention. Among them, solar cells are particularly attracting attention because of their excellent safety and ease of handling.

太陽電池の出力を増加させるため、太陽電池カバーガラス表面に反射防止膜を形成させ、透過率を増加させる方法が知られている。   In order to increase the output of a solar cell, it is known to form an antireflective film on the surface of a solar cell cover glass to increase the transmittance.

例えば、特許文献1には、数珠状シリカを用いることで空孔を形成させる、防汚性に優れた反射防止膜が開示されている。
また、特許文献2には、塗膜中の有機成分を焼失させることで空孔を形成させる、防汚性に優れた反射防止膜が開示されている。
For example, Patent Document 1 discloses an antireflective film having excellent antifouling properties, in which pores are formed by using beaded silica.
In addition, Patent Document 2 discloses an anti-reflection film excellent in antifouling property, in which pores are formed by burning away an organic component in a coating film.

これら反射防止膜の形成方法としてロールコート法が知られている。ロールコート法は、所定方向に搬送される基材上に、コーティングロール表面のコーティング液を移行させることによって、基材上にコーティング液を塗布する方法である。
例えば、特許文献3には、均一な膜厚を有する金属酸化物膜を形成できるロールコート法として、所定方向に搬送される基材上に、リバースロールコータのコーティングロールによって金属化合物と有機溶媒とを含む塗料組成物を塗布し、焼成することで、金属酸化物膜を形成する方法が記載されている。さらに、特許文献3には、この塗料組成物について、金属化合物の濃度(酸化物換算)は0.1〜10質量%であり、粘度は0.1〜100mPa・sであり、コーティングロールの回転速度は2〜55m/分であり、基材の搬送速度は1〜30m/分であり、コーティングロールの回転速度は基材の搬送速度よりも速い方法が開示されている。
また、特許文献4には、粘度が1.0〜10.0mPa・sの塗布液を用い、基材上にこの塗布液を塗布する際のコーティングロールの回転速度を基材の搬送速度よりも遅くする、低反射膜付き物品の製造方法が提案されている。
The roll coating method is known as a formation method of these anti-reflective films. The roll coating method is a method of applying a coating liquid on a substrate by transferring the coating liquid on the surface of the coating roll on the substrate transported in a predetermined direction.
For example, Patent Document 3 discloses, as a roll coating method capable of forming a metal oxide film having a uniform film thickness, a metal compound and an organic solvent on a substrate transported in a predetermined direction by a coating roll of a reverse roll coater. A method of forming a metal oxide film by applying and baking a coating composition containing Further, in Patent Document 3, the concentration (in terms of oxide) of the metal compound is 0.1 to 10% by mass, the viscosity is 0.1 to 100 mPa · s, and the rotation of the coating roll is performed. The speed is 2 to 55 m / min, the transport speed of the substrate is 1 to 30 m / min, and the rotation speed of the coating roll is disclosed to be faster than the transport speed of the substrate.
Further, in Patent Document 4, using a coating solution having a viscosity of 1.0 to 10.0 mPa · s, the rotational speed of the coating roll when applying this coating solution on the substrate is higher than the transport speed of the substrate. A method for producing an article with a low reflection film, which slows down, has been proposed.

国際公開第2013/111783号International Publication No. 2013/111783 特開2015−108061号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-108601 特開平07−068219号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-068219 国際公開第2013/051620号International Publication No. 2013/051620

縞状の膜厚ムラが低減された良好な外観と、良好な反射防止性能を有する、積層体の新規な製造方法が求められている。
特に、塗料組成物の水分の含有量が3質量%を超えるような場合に、上述した従来の方法によって塗料組成物の粘度を低くしただけでは、塗膜の縞状の膜厚ムラを抑制し、良好な外観の塗膜を得るには十分とは言えなかった。
There is a need for a novel method of manufacturing a laminate, which has a good appearance with reduced stripe thickness unevenness and a good antireflective performance.
In particular, when the water content of the coating composition exceeds 3% by mass, only by decreasing the viscosity of the coating composition by the above-described conventional method, the streaked film thickness unevenness of the coating film is suppressed. It was not enough to obtain a coating film having a good appearance.

本発明は、基材上に、溶媒を含むコーティング液を均一でかつ膜厚ムラ無く塗装することができる、反射防止膜を有する積層体を製造するための新規な方法を提供することを第一の目的とする。
また、本発明は、基材上に、溶媒として3質量%を超える量の水を含むコーティング液を均一でかつ膜厚ムラ無く塗装することができる、反射防止膜を有する積層体を製造する方法を提供することを第二の目的とする。
The present invention is to provide a novel method for producing a laminate having an antireflective film, which can coat a coating liquid containing a solvent uniformly and without unevenness in film thickness on a substrate. The purpose of
Further, the present invention provides a method for producing a laminate having an antireflective film, which can be uniformly coated on a substrate with a coating liquid containing water in an amount of more than 3% by mass as a solvent without unevenness in film thickness. The second purpose is to provide

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、溶媒を含むコーティング液のキャピラリー数(Ca)を所定の範囲に制御することにより、縞状の膜厚ムラが低減された良好な外観と良好な反射防止性能を有する積層体が得られることを見出し、本発明を完成させた。
また、本発明者らは、溶媒を含むコーティング液のキャピラリー数(Ca)を所定の範囲に制御し、さらに場合によってリバースロールコーターの塗装ロール回転速度と基材の搬送速度との比率を所定の範囲に調整して塗装することにより、溶媒として3質量%を超える量の水を含むコーティング液を用いたときでも、縞状の膜厚ムラが低減された良好な外観と良好な反射防止性能を有する積層体が得られることを見出した。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have found that by controlling the capillary number (Ca) of the coating solution containing the solvent within a predetermined range, it is possible to reduce streaked film thickness unevenness. The inventors have found that a laminate having an appearance and good antireflective performance can be obtained, thus completing the present invention.
Also, the present inventors control the capillary number (Ca) of the coating solution containing the solvent within a predetermined range, and further, if necessary, the ratio of the coating roll rotation speed of the reverse roll coater to the transport speed of the substrate. By adjusting to a range and coating, even when using a coating liquid containing water in an amount of more than 3% by mass as a solvent, a good appearance and a good anti-reflection performance with reduced streaked film thickness unevenness are obtained. It has been found that a laminate having the above can be obtained.

すなわち、本発明の諸態様は以下のとおりである。
〔1〕
基材の少なくとも片面に反射防止膜を有する積層体を製造する方法であって、
金属酸化物粒子(A)、重合体粒子(B)、及び少なくとも1種以上の溶媒(D)を含むコーティング液を、リバースロールコータで基材の少なくとも片面に塗布して薄膜を形成する第1の工程、
300℃以下の温風で溶媒を除去する第2の工程、ならびに
500〜700℃の温度で焼成して空隙を形成し、それによって反射防止膜を形成する第3の工程を有し、
(式1):Ca=μV/σ(式中、μ:コーティング液の粘度、σ:表面張力、V:リバースロールコータの塗装ロール回転速度(Vt)の基材搬送速度(Vb)に対する相対速度である。)によって算出されるキャピラリー数Caが1〜80である、
積層体の製造方法。
〔2〕
前記コーティング液が、数平均粒子径が1nm〜200nmの金属酸化物粒子(A)、数平均粒子径が10nm〜300nmの重合体粒子(B)、加水分解性珪素化合物(C)の加水分解物、及び溶媒(D)としての水を3重量%〜80質量%含むことを特徴とする、上記〔1〕項に記載の積層体の製造方法。
〔3〕
前記コーティング液の粘度が1〜10mPa.sかつ表面張力が15〜45mN/mであることを特徴とする、上記〔1〕又は〔2〕項に記載の積層体の製造方法。
〔4〕
前記リバースロールコータの塗装ロール回転速度(Vt)の基材搬送速度(Vb)に対する比Vt/Vbが0.2〜3.0であることを特徴とする、上記〔1〕乃至〔3〕項に記載の積層体の製造方法。
〔5〕
上記〔1〕乃至〔4〕項のいずれか一に記載の積層体の製造方法によって製造された、反射防止膜を有する積層体。
〔6〕
上記〔5〕項に記載の積層体を含む、太陽電池用カバーガラス。
〔7〕
上記〔5〕項に記載の積層体を含む、太陽熱発電用ミラー。
〔8〕
上記〔5〕項に記載の積層体を含む、建材用ガラス。
That is, the aspects of the present invention are as follows.
[1]
A method of producing a laminate having an antireflective film on at least one side of a substrate, the method comprising
A coating liquid containing metal oxide particles (A), polymer particles (B), and at least one or more solvents (D) is applied to at least one surface of a substrate by a reverse roll coater to form a thin film Process,
The second step of removing the solvent with hot air of 300 ° C. or less, and the third step of firing at a temperature of 500 to 700 ° C. to form a void, thereby forming an antireflective film,
(Formula 1): Ca = μV / σ (where, μ: viscosity of coating solution, σ: surface tension, V: relative speed of coating roll rotation speed (Vt) of reverse roll coater to substrate transport speed (Vb) The capillary number Ca calculated by the equation is 1 to 80,
Method of manufacturing a laminate.
[2]
The coating solution is a metal oxide particle (A) having a number average particle diameter of 1 nm to 200 nm, a polymer particle (B) having a number average particle diameter of 10 nm to 300 nm, and a hydrolyzate of a hydrolyzable silicon compound (C). And 3% by weight to 80% by weight of water as the solvent (D), the method for producing a laminate according to the above [1].
[3]
The viscosity of the coating solution is 1 to 10 mPa.s. and a surface tension of 15 to 45 mN / m. The method for producing a laminate according to the above [1] or [2].
[4]
[1] to [3], wherein the ratio Vt / Vb of the coating roll rotation speed (Vt) to the base material transfer speed (Vb) of the reverse roll coater is 0.2 to 3.0. The manufacturing method of the laminated body as described in-.
[5]
The laminated body which has an anti-reflective film manufactured by the manufacturing method of the laminated body as described in any one of said [1] thru | or [4] term.
[6]
The cover glass for solar cells containing the laminated body of the said [5] term.
[7]
The solar power generation mirror containing the laminated body of the said [5] term.
[8]
The glass for building materials containing the laminated body of the said [5] term.

本発明によれば、縞状の膜厚ムラが低減された良好な外観と、良好な反射防止性能とを有する積層体が得られる。
また、本発明の好ましい態様によれば、溶媒として3質量%を超える量の水を含むコーティング液を用いたときでも、縞状の膜厚ムラが低減された良好な外観と、良好な反射防止性能とを有する積層体が得られる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the laminated body which has the favorable external appearance in which the stripe-like film thickness nonuniformity was reduced, and the favorable antireflection performance is obtained.
Further, according to a preferred embodiment of the present invention, even when a coating liquid containing water in an amount of more than 3% by mass is used as a solvent, a good appearance with reduced streaked film thickness unevenness and a good reflection prevention A laminate having performance is obtained.

図1は、リバースロールコータの非限定的な一例を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing one non-limiting example of a reverse roll coater.

以下、本発明を実施するための形態について、詳細に説明する。
以下の実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜変形して実施できる。
なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及びそれに対応するメタクリレートの両方を意味する。また、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸及びそれに対応するメタクリル酸の両方を意味する。
Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described in detail.
The following embodiments are exemplifications for explaining the present invention, and are not intended to limit the present invention to the following contents. The present invention can be appropriately modified and implemented within the scope of the gist of the present invention.
In the present specification, “(meth) acrylate” means both an acrylate and a corresponding methacrylate. Also, "(meth) acrylic acid" means both acrylic acid and the corresponding methacrylic acid.

最初に、本発明に係る積層体の製造方法に用いられる諸要素について説明する。
〔基材〕
基材としては、限定されるわけではないが、ガラス、金属、樹脂、シリコーン等が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、無アルカリガラス、混合アルカリ系ガラス等が挙げられる。
太陽電池のカバーガラス用の基材としては、表面に凹凸をつけた梨地模様の型板ガラスが好ましい。前記ガラス(例えば型板ガラス)の材料としては、通常の窓ガラス等に用いられる青板ガラスよりも鉄の成分比が少なく、透明度が高い白板ガラスが好ましい。
First, various elements used in the method of manufacturing a laminate according to the present invention will be described.
〔Base material〕
The substrate includes, but is not limited to, glass, metal, resin, silicone and the like. Examples of the glass include soda lime glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, alkali-free glass, mixed alkali glass and the like.
As a base material for cover glass of a solar cell, a textured glass sheet having an uneven surface is preferable. As a material of the glass (for example, template glass), white plate glass having a smaller component ratio of iron and higher transparency than that of blue plate glass used for ordinary window glass and the like is preferable.

〔リバースロールコータ〕
リバースロールコータとしては、公知のいずれのものも用いることができる。
図1は、リバースロールコータの非限定的な一例を示す概略図である。
リバースロールコータは、所定方向に基材(例えば未強化ガラス)2を搬送する搬送ベルト3と、回転軸方向が搬送ベルト3の進行方向に直交するように、搬送ベルト3の上方に所定のギャップを設けて配置された、搬送ベルト3の進行方向とは反対方向に回転する塗装ロール4と、塗装ロール4に対して所定の押込み厚にて接するドクターロール5とを少なくとも備える。コーティング液1は、塗装ロール4とドクターロール5との間に供給される。塗装ロール4とドクターロール5とは一般的に接しているが、同速度で回転することもあるし、異なる速度で回転することもある。
図中、基材2の右にある矢印は基材の搬送方向を指し、塗装ロール4上にある矢印及びドクターロール5上にある矢印は、それぞれのロールの回転方向を指す。
[Reverse roll coater]
Any known reverse roll coater can be used.
FIG. 1 is a schematic view showing one non-limiting example of a reverse roll coater.
The reverse roll coater has a predetermined gap above the conveyance belt 3 so that the rotation axis direction is orthogonal to the traveling direction of the conveyance belt 3 and the conveyance belt 3 which conveys the base material (for example, non-tempered glass) 2 in a predetermined direction. And at least a doctor roll 5 in contact with the paint roll 4 at a predetermined pressing thickness. The coating solution 1 is supplied between the coating roll 4 and the doctor roll 5. The paint roll 4 and the doctor roll 5 are generally in contact with each other, but may rotate at the same speed or may rotate at different speeds.
In the figure, the arrow on the right of the substrate 2 points in the direction of transport of the substrate, and the arrow on the paint roll 4 and the arrow on the doctor roll 5 point in the direction of rotation of the respective roll.

好ましくは、リバースロールコータの運転条件はVt(塗装ロール回転速度)/Vb(基材搬送速度)が0.2〜3.0である。この比は、より好ましくは0.3〜1.5、さらに好ましくは0.4〜1.2である。他の実施形態において、この比は、0.2〜1.5、0.2〜1.2、0.3〜3.0、0.3〜1.2、0.4〜3.0、または0.4〜1.5であってもよい。
Vt/Vbが0.2以上であることによって、基材端部の外観を良好に保つことができる。Vt/Vbが3.0以下であることによって、ロール上のコーティング液が波打つことを抑制し、塗膜の外観を良好にすることができる。
Preferably, the operating conditions of the reverse roll coater are such that Vt (paint roll rotational speed) / Vb (substrate transfer speed) is 0.2 to 3.0. The ratio is more preferably 0.3 to 1.5, further preferably 0.4 to 1.2. In another embodiment, the ratio is 0.2-1.5, 0.2-1.2, 0.3-3.0, 0.3-1.2, 0.4-3.0, Or it may be 0.4 to 1.5.
By the Vt / Vb being 0.2 or more, the appearance of the substrate end can be kept good. When Vt / Vb is 3.0 or less, the coating liquid on the roll can be prevented from waving and the appearance of the coating can be improved.

さらに生産性の観点から、Vb(基材搬送速度)は4〜30m/分であることが好ましい。Vbは、より好ましくは5〜20m/分、さらに好ましくは5〜15m/分である。他の実施形態において、Vbは、4〜20m/分、4〜15m/分、または5〜30m/分であってもよい。Vb(基材搬送速度)が4m/分以上であることによって、高い生産性を達成することができる。Vbが30m/分以下であることによって、コーティング液の粘度が高い場合にもロール上のコーティング液が波打つことを抑制し、塗膜の外観を良好にすることができる。
リバースロールコータの塗装ロール回転速度(Vt)の基材搬送速度(Vb)に対する相対速度(V)は、相対速度(V)=Vt(塗装ロール回転速度)+Vb(基材搬送速度)で定義される。相対速度(V)は、好ましくは4.8〜120である。相対速度(V)は、より好ましくは、さらに好ましくは5.6〜66である。他の実施形態において、相対速度(V)は、4.8〜66または5.6〜120であってもよい。
Furthermore, it is preferable that Vb (base material conveyance speed) is 4-30 m / min from a viewpoint of productivity. Vb is more preferably 5 to 20 m / min, further preferably 5 to 15 m / min. In other embodiments, V b may be 4 to 20 m / min, 4 to 15 m / min, or 5 to 30 m / min. High productivity can be achieved by Vb (substrate conveyance speed) being 4 m / min or more. By setting Vb to 30 m / min or less, even when the viscosity of the coating liquid is high, the coating liquid on the roll can be prevented from waving and the appearance of the coating can be improved.
The relative speed (V) of the coating roll rotational speed (Vt) to the substrate transport speed (Vb) of the reverse roll coater is defined by the relative speed (V) = Vt (paint roll rotational speed) + Vb (substrate transport speed) Ru. The relative velocity (V) is preferably 4.8-120. The relative velocity (V) is more preferably 5.6 to 66. In other embodiments, the relative velocity (V) may be 4.8-66 or 5.6-120.

〔コーティング液〕
コーティング液を構成する各成分について説明する。
コーティング液は、金属酸化物粒子(A)、重合体粒子(B)及び少なくとも1種以上の溶媒(D)を含む。
前記金属酸化物粒子(A)の数平均粒子径(1次粒子と2次粒子との混合物であってもよいし、1次粒子、2次粒子何れかのみであってもよい)は、好ましくは1nm〜200nmであり、より好ましくは1nm〜100nmである。前記重合体粒子(B)の数平均粒子径(1次粒子と2次粒子との混合物であってもよいし、1次粒子、2次粒子何れかのみであってもよい)は、好ましくは10nm〜300nmであり、より好ましくは10nm〜200nmである。金属酸化物粒子(A)の数平均粒子径と重合体粒子(B)の数平均粒子径の和が50nm〜150nmであることがさらに好ましい。ここで、金属酸化物粒子(A)及び重合体粒子(B)の数平均粒子径は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。また、これらの数平均粒子径は、例えば、原料や乳化剤の濃度等により上記範囲に制御することができる。金属酸化物粒子(A)の数平均粒子径は、コーティング液中の値であるが、形成された反射防止膜においても通常維持されると考えられる。
一実施形態において、コーティング液における前記重合体粒子(B)に対する前記金属酸化物粒子(A)の質量比(A)/(B)(固形分換算)は、0.05/1以上1/1以下であることが好ましく、より好ましくは0.05/1以上0.5/1以下であり、さらに好ましくは0.1/1以上0.5/1以下である。
[Coating liquid]
Each component which comprises a coating liquid is demonstrated.
The coating liquid contains metal oxide particles (A), polymer particles (B) and at least one or more solvents (D).
The number average particle diameter (a mixture of primary particles and secondary particles, or only primary particles or secondary particles) of the metal oxide particles (A) may be preferably used. Is 1 nm to 200 nm, more preferably 1 nm to 100 nm. The number average particle diameter of the polymer particles (B) (may be a mixture of primary particles and secondary particles, or may be only primary particles or secondary particles) is preferably It is 10 nm to 300 nm, more preferably 10 nm to 200 nm. More preferably, the sum of the number average particle size of the metal oxide particles (A) and the number average particle size of the polymer particles (B) is 50 nm to 150 nm. Here, the number average particle diameter of metal oxide particle (A) and polymer particle (B) can be measured by the method as described in the Example mentioned later. Moreover, these number average particle diameters can be controlled to the above-mentioned range, for example, by the concentration of the raw material and the emulsifier. The number average particle size of the metal oxide particles (A) is a value in the coating solution, but it is considered that it is usually maintained in the formed antireflective film.
In one embodiment, the mass ratio (A) / (B) (solid content conversion) of the metal oxide particles (A) to the polymer particles (B) in the coating solution is 0.05 / 1 or more and 1/1. It is preferable that it is the following, More preferably, it is 0.05 / 1 or more and 0.5 / 1 or less, More preferably, it is 0.1 / 1 or more and 0.5 / 1 or less.

<金属酸化物粒子(A)>
金属酸化物粒子(A)としては、特に限定されないが、例えば、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛、スズ、インジウム、ガリウム、ゲルマニウム、アンチモン、モリブデンなどの酸化物が挙げられる。これらの金属酸化物は、2種以上を併用してもよい。光学特性、耐久性の点から、特にケイ素酸化物が好ましい。
金属酸化物粒子(A)は、コーティング液の原料として、例えば、粉体、分散液、及びゾル等の形態で使用される。ここで、分散液又はゾルとは、金属酸化物粒子(A)が、水及び/又は親水性有機溶媒中に0.01〜80質量%、好ましくは0.1〜50質量%の濃度で、一次粒子及び/又は二次粒子として分散されたものを意味する。親水性有機溶媒としては、例えば、エチレングリコール、ブチルセロソルブ、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エタノール、メタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド、ニトロベンゼン、N−メチルピロリドン等、さらにはこれらの2種以上の混合物が使用可能である。
ケイ素酸化物粒子の具体例としては、以下に限定されないが、例えば、日産化学工業株式会社製の「スノーテックス−OXS(登録商標)」、同社製「スノーテックス−O(登録商標)」同社製「スノーテックス−OL(登録商標)」及び同社製「スノーテックス−OYL(登録商標)」等が挙げられる。
<Metal oxide particles (A)>
Although it does not specifically limit as a metal oxide particle (A), For example, oxides, such as silicon, aluminum, titanium, a zirconium, zinc, tin, indium, a gallium, germanium, antimony, molybdenum, are mentioned. Two or more of these metal oxides may be used in combination. Silicon oxide is particularly preferred in view of optical properties and durability.
The metal oxide particles (A) are used as a raw material of the coating liquid, for example, in the form of powder, dispersion, sol and the like. Here, in the dispersion or sol, the metal oxide particles (A) are contained in water and / or a hydrophilic organic solvent at a concentration of 0.01 to 80% by mass, preferably 0.1 to 50% by mass. It means dispersed as primary particles and / or secondary particles. Examples of hydrophilic organic solvents include alcohols such as ethylene glycol, butyl cellosolve, n-propanol, isopropanol, n-butanol, ethanol and methanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and ethers such as tetrahydrofuran and dioxane. , Amides such as dimethylacetamide and dimethylformamide, dimethylsulfoxide, nitrobenzene, N-methylpyrrolidone and the like, and further, mixtures of two or more of these can be used.
Specific examples of silicon oxide particles include, but are not limited to, “Snowtex-OXS (registered trademark)” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., “Snowtex-O (registered trademark)” manufactured by the same. Examples include “Snowtex-OL (registered trademark)” and “Snowtex-OYL (registered trademark)” manufactured by the same company.

<重合体粒子(B)>
重合体粒子(B)を構成する重合体として、以下に限定されるものではないが、例えば、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリ(メタ)アクリレート系、ポリ(メタ)アクリレート−シリコーン系共重合体、ポリビニルアセテート系、ポリブタジエン系、ポリ塩化ビニル系、塩素化ポリプロピレン系、ポリエチレン系、ポリスチレン系、ポリスチレン−(メタ)アクリレート系共重合体、ロジン系誘導体、スチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコール付加物から構成される重合体が挙げられる。これらの重合体粒子(B)は、2種以上を併用してもよい。
<Polymer particles (B)>
Examples of the polymer constituting the polymer particles (B) include, but are not limited to, polyurethane-based, polyester-based, poly (meth) acrylate-based, and poly (meth) acrylate-silicone copolymers, for example. Polyvinyl acetate type, polybutadiene type, polyvinyl chloride type, chlorinated polypropylene type, polyethylene type, polystyrene type, polystyrene- (meth) acrylate type copolymer, rosin type derivative, alcohol adduct of styrene-maleic anhydride copolymer And polymers composed of Two or more of these polymer particles (B) may be used in combination.

重合体粒子(B)を構成する成分として加水分解性珪素化合物(b1)を含有することが好ましい。
加水分解性珪素化合物(b1)としては、式:SiWで表される化合物やその縮合生成物、及びシランカップリング剤等が使用可能である。
上記式:SiWにおいて、Wは炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基、炭素数1〜20のアセトキシ基、ハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜20のオキシム基、エノキシ基、アミノキシ基、アミド基から選ばれた少なくとも1種の基を表す。Rは、直鎖状又は分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、及び、置換されていないか又は炭素数1〜20のアルキル基若しくは炭素数1〜20のアルコキシ基若しくはハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基から選ばれる少なくとも1種の炭化水素基を表す。xは1以上4以下の整数であり、yは0以上3以下の整数である。また、x+y=4である。
シランカップリング剤とは、ビニル重合性基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基、又はイソシアネート基等の有機物と反応性を有する官能基が分子内に存在する化合物を意味する。
It is preferable to contain a hydrolysable silicon compound (b1) as a component which comprises polymer particle (B).
As the hydrolyzable silicon compound (b1), a compound represented by the formula: SiW x R y , a condensation product thereof, a silane coupling agent and the like can be used.
In the above formula: SiW x R y , W is an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a hydroxyl group, an acetoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a hydrogen atom, an oxime group having 1 to 20 carbon atoms, an enoxy group, an aminoxy And at least one group selected from an amido group. R represents a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, and an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a carbon number It represents at least one hydrocarbon group selected from an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which is substituted with a halogen atom. x is an integer of 1 or more and 4 or less, and y is an integer of 0 or more and 3 or less. Also, x + y = 4.
The silane coupling agent means a compound having a functional group having reactivity with an organic substance such as a vinyl polymerizable group, an epoxy group, an amino group, a methacryl group, a mercapto group or an isocyanate group in the molecule.

上記式:SiWで表される化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキシシラン、n−ペンチルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘプチルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、2−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、2−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、2−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、3−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、3−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリn−プロポキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン類;ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−n−プロピルジメトキシシラン、ジ−n−プロピルジエトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジイソプロピルジエトキシシラン、ジ−n−ブチルジメトキシシラン、ジ−n−ブチルジエトキシシラン、ジ−n−ペンチルジメトキシシラン、ジ−n−ペンチルジエトキシシラン、ジ−n−ヘキシルジメトキシシラン、ジ−n−ヘキシルジエトキシシラン、ジ−n−ヘプチルジメトキシシラン、ジ−n−ヘプチルジエトキシシラン、ジ−n−オクチルジメトキシシラン、ジ−n−オクチルジエトキシシラン、ジ−n−シクロヘキシルジメトキシシラン、ジ−n−シクロヘキシルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン等のジアルコキシシラン類;トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等のモノアルコキシシラン類が挙げられる。
重合体粒子(B)を得るための重合原液における加水分解性珪素化合物(b1)の質量割合は、重合安定性の観点から、好ましくは0.01〜80質量%であり、より好ましくは0.1〜70質量%である。
Examples of the compound represented by the above formula: SiW x R y include, but are not limited to, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane, and tetra-n. Tetraalkoxysilanes such as -butoxysilane; methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyl Triethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, n-butyltriethoxysilane, n-pentyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-heptyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane Nyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, cyclohexyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-hydroxyethyltrimethoxysilane , 2-hydroxyethyltriethoxysilane, 2-hydroxypropyltrimethoxysilane, 2-hydroxypropyltriethoxysilane, 3-hydroxypropyltrimethoxysilane, 3 Hydroxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxy Silane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltri n-propoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltriisopropoxysilane, Trialkoxysilanes such as 3-ureidopropyltrimethoxysilane and 3-ureidopropyltriethoxysilane; dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane n-propyldiethoxysilane, diisopropyldimethoxysilane, diisopropyldiethoxysilane, di-n-butyldimethoxysilane, di-n-butyldiethoxysilane, di-n-pentyldimethoxysilane, di-n-pentyldiethoxysilane, Di-n-hexyldimethoxysilane, di-n-hexyldiethoxysilane, di-n-heptyldimethoxysilane, di-n-heptyldiethoxysilane, di-n-octyldimethoxysilane, di-n-octyldietone Dialkoxysilanes such as cis-silane, di-n-cyclohexyldimethoxysilane, di-n-cyclohexyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane; trimethylmethoxysilane, Monoalkoxysilanes such as trimethylethoxysilane can be mentioned.
The mass ratio of the hydrolyzable silicon compound (b1) in the polymerization stock solution for obtaining the polymer particles (B) is preferably 0.01 to 80 mass% from the viewpoint of polymerization stability, more preferably 0. It is 1 to 70% by mass.

重合体粒子(B)を構成するその他の成分として、ラジカル重合性の二重結合を有する反応性乳化剤が挙げられる。以下に限定されないが、例えば、スルホン酸基又はスルホネート基を有するビニル化合物、硫酸エステル基を有するビニル化合物、それらのアルカリ金属塩又はアンモニウム塩;ポリオキシエチレン等のノニオン基を有するビニル化合物;4級アンモニウム塩を有するビニル化合物が挙げられる。
スルホン酸基又はスルホネート基を有するビニル化合物の塩としては、以下に限定されないが、例えば、ラジカル重合性の二重結合を有し、且つスルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩である基により一部が置換された、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜4のアルキルエーテル基、炭素数2〜4のポリアルキルエーテル基、炭素数6又は10のアリール基及びコハク酸基からなる群から選ばれる置換基を有する化合物;スルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩である基が結合しているビニル基を有するビニルスルホネート化合物が挙げられる。
As another component which comprises polymer particle (B), the reactive emulsifier which has a radically polymerizable double bond is mentioned. Although not limited to the following, for example, a vinyl compound having a sulfonic acid group or a sulfonate group, a vinyl compound having a sulfate ester group, an alkali metal salt or ammonium salt thereof; a vinyl compound having a nonionic group such as polyoxyethylene; Mention may be made of vinyl compounds having an ammonium salt.
Examples of salts of vinyl compounds having a sulfonic acid group or a sulfonate group include, but are not limited to, groups having a radically polymerizable double bond and being an ammonium salt, sodium salt or potassium salt of a sulfonic acid group, for example Alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, alkyl ether group having 2 to 4 carbon atoms, polyalkyl ether group having 2 to 4 carbon atoms, aryl group having 6 or 10 carbon atoms, and succinic acid group partially substituted by A compound having a substituent selected from the group consisting of: a vinyl sulfonate compound having a vinyl group to which a group which is an ammonium salt, a sodium salt or a potassium salt of a sulfonic acid group is bonded.

反応性乳化剤としての、スルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩である基により一部が置換されたコハク酸基を有する化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アリルスルホコハク酸塩が挙げられる。また、市販品としては、エレミノールJS−2(商品名)(三洋化成(株)製)、ラテムルS−120、S−180A又はS−180(商品名)(花王(株)製)が挙げられる。
反応性乳化剤としての、スルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩である基により一部が置換された、炭素数2〜4のアルキルエーテル基又は炭素数2〜4のポリアルキルエーテル基を有する化合物としては、以下に限定されないが、例えば、アクアロンHS−10又はKH−1025(商品名)(第一工業製薬(株)製)、アデカリアソープSE−1025N又はSR−1025(商品名)(旭電化工業(株)製)が挙げられる。
The compound having a succinic acid group which is partially substituted by a group which is an ammonium salt, a sodium salt or a potassium salt of a sulfonic acid group as a reactive emulsifier is not limited to the following, for example, allyl Sulfosuccinate is mentioned. Moreover, as a commercial item, Eleminol JS-2 (trade name) (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.), Latemul S-120, S-180A or S-180 (trade name) (manufactured by Kao Corp.) can be mentioned. .
As a reactive emulsifier, an alkyl ether group having 2 to 4 carbon atoms or a polyalkyl ether group having 2 to 4 carbon atoms, which is partially substituted by a group that is an ammonium salt, sodium salt or potassium salt of sulfonic acid group As a compound which it has, although not limited to the following, for example, Aqualon HS-10 or KH-1025 (trade name) (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. product), Adekaria soap SE-1025N or SR-1025 (trade name) (Manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.).

反応性乳化剤としてのノニオン基を有するビニル化合物としては、以下に限定されるものではないが、例えば、α−〔1−〔(アリルオキシ)メチル〕−2−(ノニルフェノキシ)エチル〕−ω−ヒドロキシポリオキシエチレン(商品名:アデカリアソープNE−20、NE−30、NE−40等、旭電化工業(株)製)、ポリオキシエチレンアルキルプロペニルフェニルエーテル(商品名:アクアロンRN−10、RN−20、RN−30、RN−50等、第一製薬工業(株)製)が挙げられる。   Examples of the vinyl compound having a nonionic group as a reactive emulsifier include, but are not limited to, α- [1-[(allyloxy) methyl] -2- (nonylphenoxy) ethyl] -ω-hydroxy. Polyoxyethylene (trade name: Adekaria soap NE-20, NE-30, NE-40, etc., manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), polyoxyethylene alkyl propenyl phenyl ether (trade name: Aqualon RN-10, RN- 20, RN-30, RN-50, etc., manufactured by Daiichi Pharmaceutical Industry Co., Ltd.).

重合体粒子(B)を得るための重合原液における上述した反応性乳化剤の配合量は、重合原液の溶媒を除く全量(100質量部)に対して、10質量部以下であることが好ましく、0.001質量部以上5質量部以下であることがより好ましい。   The compounding amount of the reactive emulsifier described above in the polymer stock solution for obtaining the polymer particles (B) is preferably 10 parts by mass or less with respect to the total amount (100 parts by mass) of the polymer stock solution excluding the solvent, It is more preferable that the amount is equal to or more than .001 parts by mass and equal to or less than 5 parts by mass.

<加水分解性珪素化合物(C)の加水分解物>
一実施形態において、コーティング液は、重合体粒子(B)の重合に用いられる加水分解性珪素化合物とは区別して、加水分解性珪素化合物(C)の加水分解物(または加水分解縮合物)をさらに含むことができる。この成分は、コーティング液の溶媒(D)が水を含むときに用いることができる。加水分解については、特に限定されず、部分的な加水分解であっても、全体的な加水分解であってもよいが、全体的な加水分解であることが好ましい。加水分解性珪素化合物(C)は、特に限定されないが、重合体粒子(B)の重合に用いられる加水分解性珪素化合物と同様の化合物であってよい。これらの加水分解性珪素化合物(C)は、2種以上を併用してもよい。
加水分解性珪素化合物(C)としては、以下に限定されるものではないが、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキシシラン、n−ペンチルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘプチルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフロロプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、2−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、2−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、2−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、3−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、3−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリn−プロポキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン類が挙げられる。
<Hydrolyzate of Hydrolyzable Silicon Compound (C)>
In one embodiment, the coating liquid is a hydrolyzate (or hydrolytic condensate) of the hydrolyzable silicon compound (C) in distinction from the hydrolyzable silicon compound used for the polymerization of the polymer particles (B). It can further include. This component can be used when the solvent (D) of the coating solution contains water. The hydrolysis is not particularly limited, and may be partial hydrolysis or total hydrolysis, but it is preferable to be total hydrolysis. The hydrolyzable silicon compound (C) is not particularly limited, but may be the same compound as the hydrolyzable silicon compound used for polymerizing the polymer particles (B). Two or more of these hydrolyzable silicon compounds (C) may be used in combination.
Examples of the hydrolyzable silicon compound (C) include, but are not limited to, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-butoxysilane, etc. Tetraalkoxysilanes; methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, n-butyltriethoxysilane, n-pentyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-heptyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, vinyltrime Xylsilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, cyclohexyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3, 3,3-Trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-hydroxyethyltrimethoxysilane, 2- Hydroxyethyltriethoxysilane, 2-hydroxypropyltrimethoxysilane, 2-hydroxypropyltriethoxysilane, 3-hydroxypropyltrimethoxysilane, 3-hydroxypropyl Triethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (Meth) atacyloxypropyltriethoxysilane, 3- (Meth) acryloyloxypropyltri n-propoxysilane, 3- (Meth) acryloyloxypropyltriisopropoxysilane, 3-ureido Examples include trialkoxysilanes such as ropirtrimethoxysilane and 3-ureidopropyltriethoxysilane.

コーティング液に加えられる金属酸化物粒子(A)(固形分換算)と加水分解性珪素化合物(C)との質量比は、特に限定されないが、通常(C)/(A)=100/100〜1000/100であってよく、典型的には200/100〜800/100であってよい。   The mass ratio of the metal oxide particles (A) (in terms of solid content) to the hydrolyzable silicon compound (C) to be added to the coating solution is not particularly limited, but usually (C) / (A) = 100/100 to It may be 1000/100 and may typically be 200/100 to 800/100.

<溶媒(D)>
溶媒(D)は少なくとも1種以上の溶媒である。中でも水を含む場合はコーティング液中に3重量%〜80質量%が好ましく、より好ましくは4重量%〜50質量%、さらに好ましくは5重量%〜30質量%である。他の実施形態において、水を含む場合のその割合は、3重量%〜50質量%、3重量%〜30質量%、4重量%〜80質量%、4重量%〜30質量%、5重量%〜80質量%、または5重量%〜50質量%であってもよい。水が3重量%以上であることにより、乾燥性が適当な範囲に制御されて、固形分の変動が小さく膜厚の制御が容易になる。水が80質量%以下であることにより、乾燥が過剰に遅くなることが防止され、生産性が保持されうる。
水以外の溶媒としては、特に限定されないが、例えば、金属酸化物粒子(A)に関連して上述した親水性有機溶媒が挙げられる。
<Solvent (D)>
The solvent (D) is at least one or more solvents. Among them, when water is contained, it is preferably 3% by weight to 80% by weight, more preferably 4% by weight to 50% by weight, and still more preferably 5% by weight to 30% by weight. In another embodiment, the proportion of water is 3% to 50%, 3% to 30%, 4% to 80%, 4% to 30%, 5% by weight. It may be 80% by mass, or 5% by mass to 50% by mass. When the content of water is 3% by weight or more, the drying property is controlled to an appropriate range, and the variation of the solid content is small, and the control of the film thickness becomes easy. When the amount of water is 80% by mass or less, drying can be prevented from being excessively delayed, and productivity can be maintained.
Although it does not specifically limit as solvents other than water, For example, the hydrophilic organic solvent mentioned above in connection with metal oxide particle (A) is mentioned.

コーティング液は、以下の任意の添加剤成分を更に含んでよい。追加的な添加剤成分の非限定的な例としては、例えば、光安定剤、紫外線吸収剤、増粘剤、レベリング剤、チクソ化剤、消泡剤、凍結安定剤、艶消し剤、架橋反応触媒、顔料、硬化触媒、架橋剤、充填剤、皮張り防止剤、分散剤、湿潤剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レオロジーコントロール剤、成膜助剤、防錆剤、染料、可塑剤、潤滑剤、還元剤、防腐剤、防黴剤、消臭剤、黄変防止剤、静電防止剤又は帯電調整剤等の1種または複数種が挙げられる。これらの添加剤成分としては、公知のいずれのものであってもよい。   The coating solution may further contain the following optional additive components. Non-limiting examples of additional additive components include, for example, light stabilizers, UV absorbers, thickeners, leveling agents, thixotropic agents, antifoam agents, freeze stabilizers, matting agents, crosslinking reactions Catalysts, pigments, curing catalysts, crosslinking agents, fillers, anti-skinning agents, dispersants, wetting agents, antioxidants, UV absorbers, rheology control agents, film forming aids, rust inhibitors, dyes, plasticizers, One or more of lubricants, reducing agents, preservatives, fungicides, deodorants, anti-yellowing agents, antistatic agents, charge control agents and the like can be mentioned. As these additive components, any of known ones may be used.

〔積層体の製造方法〕
(第1の工程)
<コーティング液の調製方法>
一実施形態において、コーティング液は、上述した金属酸化物粒子(A)、重合体粒子(B)、少なくとも1種以上の溶媒(D)、及び必要に応じて上述した加水分解性珪素化合物(C)、その他の添加剤成分を混合することにより得ることができる。
一般に水を含むコーティング液を調製する際は、コーティング液中に含まれる各成分をそれぞれ水で希釈後に混合する方法、水の中に各成分を混合する方法、および予め各成分を混合後、水で希釈する方法などが挙げられる。混合法としては、例えば、40℃未満で10分以上撹拌する工程を含んでよい。
[Method of manufacturing laminate]
(First step)
<Preparation method of coating liquid>
In one embodiment, the coating liquid comprises the metal oxide particles (A) described above, the polymer particles (B), at least one or more solvents (D), and, if necessary, the hydrolyzable silicon compound (C) And other additive components can be obtained by mixing.
In general, when preparing a coating solution containing water, each component contained in the coating solution is diluted with water and then mixed, a method of mixing each component in water, and after mixing each component in advance, water And dilution methods. The mixing method may include, for example, a step of stirring at less than 40 ° C. for 10 minutes or more.

<リバースロールコータによる塗装方法>
上述したリバースロールコータにより、基材上にコーティング液を塗布して薄膜を得ることができる。薄膜の厚みは、後述する空隙含有層の膜厚が好ましい範囲になるように調整することが望ましい。
<Coating method by reverse roll coater>
The coating liquid can be applied on the substrate by the reverse roll coater described above to obtain a thin film. It is desirable to adjust the thickness of the thin film so that the film thickness of the void-containing layer described later falls within a preferable range.

コーティング液の(式1)より求められるキャピラリー数(Ca)は、0.1〜80、好ましくは0.5〜30、さらに好ましくは1〜5である。他の実施形態において、キャピラリー数(Ca)は、0.1〜30、0.1〜5、0.5〜80、0.5〜5、1〜80または1〜30であってもよい。キャピラリー数が0,1以上であることにより、十分な膜厚制御が可能になり、80以下であることにより、ロール状でコーティング液が波打つことが抑制され、膜厚ムラのない良好な外観を得ることが可能になる。
コーティング液の粘度(25℃)は、好ましくは1〜10mPa.s,より好ましくは1〜6mPa.s、さらに好ましくは1〜4mPa.sである。粘度が1mPa.s以上であることにより、十分な膜厚制御が可能になり、10mPa.s以下であることにより、ロール状でコーティング液が波打つことが抑制され、膜厚ムラのない良好な外観を得ることが可能になる。
コーティング液の表面張力(25℃)は15〜45mN/m、好ましくは10〜35mN/m、さらに好ましくは18〜28mN/mである。他の実施形態において、表面張力(25℃)は、15〜35mN/m、15〜28mN/m、10〜45mN/m、10〜〜28mN/m、18〜45mN/m、または18〜35mN/mであってもよい。表面張力が15mN/m以上であることにより、十分な膜厚の制御が可能になり、45mN/m以下であることにより、均一な塗膜を得ることが容易になる。
コーティング液の(式1)より求められるキャピラリー数(Ca)は、相対速度Vが一定の場合には、粘度と表面張力で制御することができる。
表面張力を制御する方法として、非プロトン性溶媒の添加、メタンスルホン酸などの有機酸添加による制御、重合体粒子(B)の表面極性基として1価又は2価のカルボキシル基やスルホン酸基、リン酸基、スルホベタイン基などの導入による制御が可能である。非プロトン性溶媒としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
The capillary number (Ca) calculated | required from (Formula 1) of a coating liquid is 0.1-80, Preferably it is 0.5-30, More preferably, it is 1-5. In other embodiments, the capillary number (Ca) may be 0.1-30, 0.1-5, 0.5-80, 0.5-5, 1-80 or 1-30. When the number of capillaries is 0.1 or more, sufficient film thickness control becomes possible, and when it is 80 or less, the coating liquid in the form of a roll is suppressed from being wavy, and a good appearance without film thickness unevenness is obtained. It will be possible to get.
The viscosity (25 ° C.) of the coating solution is preferably 1 to 10 mPa.s. s, more preferably 1 to 6 mPa. s, more preferably 1 to 4 mPa.s. s. Viscosity is 1 mPa. By being more than s, sufficient film thickness control becomes possible, and 10 mPa.s. By being less than or equal to s, it is possible to suppress the coating liquid from waving in a roll shape, and it is possible to obtain a good appearance without film thickness unevenness.
The surface tension (25 ° C.) of the coating solution is 15 to 45 mN / m, preferably 10 to 35 mN / m, and more preferably 18 to 28 mN / m. In other embodiments, the surface tension (25 ° C.) is 15 to 35 mN / m, 15 to 28 mN / m, 10 to 45 mN / m, 10 to 28 mN / m, 18 to 45 mN / m, or 18 to 35 mN / It may be m. When the surface tension is 15 mN / m or more, sufficient control of the film thickness becomes possible, and when 45 mN / m or less, it becomes easy to obtain a uniform coating film.
The capillary number (Ca) obtained from (Formula 1) of the coating liquid can be controlled by viscosity and surface tension when the relative velocity V is constant.
As a method of controlling surface tension, addition of an aprotic solvent, control by addition of an organic acid such as methanesulfonic acid, monovalent or divalent carboxyl group or sulfonic acid group as surface polar group of polymer particles (B), Control by introduction of a phosphate group, sulfobetaine group, etc. is possible. Examples of the aprotic solvent include, but are not limited to, acetone, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide and the like.

リバースロールコータの塗装ロール回転速度(Vt)と基材搬送速度(Vb)の比Vt/Vbは0.2〜3.0とすることにより、キャピラリー数を制御しつつ、コーティング液を生産性良く、均一に塗布することができる。比Vt/Vbが0.2以上であることにより、塗布の生産性を高く保つことができる。また、比Vt/Vbが3.0以下であることにより、ロール上のコーティング液が波打つことを抑制し、縞状の膜厚ムラの発生を防止することができる。   By setting the ratio Vt / Vb of the coating roll rotation speed (Vt) to the substrate conveyance speed (Vb) of the reverse roll coater to 0.2 to 3.0, the number of capillaries is controlled, and the coating liquid can be made productive It can be applied uniformly. When the ratio Vt / Vb is 0.2 or more, the productivity of coating can be kept high. In addition, when the ratio Vt / Vb is 3.0 or less, the coating liquid on the roll can be prevented from being corrugated, and the occurrence of stripe film thickness unevenness can be prevented.

(第2の工程)
上述した(第1の工程)により得られた薄膜を300℃以下の温風で、薄膜に含まれる溶媒を除去する。この工程により、実質的に全ての溶媒を除去することが好ましく、全ての溶媒を除去することがより好ましい。
第2の工程において、薄膜の溶媒を除去する乾燥温度は、300℃以下とする。この乾燥温度は、10〜120℃以下であることが好ましく、18〜60℃以下であることがより好ましい。他の実施形態において、この乾燥温度は、10〜300℃以下、10〜60℃以下、18〜300℃以下、または18〜120℃以下であってもよい。本工程で、300℃以下で乾燥させることにより、緻密なコーティング組成物層が形成され、外観が良好になる傾向にある。また、10℃以上で乾燥させることにより、生産性に優れる傾向にある。
本工程は、公知の温風送出機のいずれを用いてもよい。温風の温度は、温風送出口の直近にて温度計を用いて計測することができる。また、本工程における温風として、300℃以下の複数の温度のものを所定期間において用いてもよい。
(Second step)
The solvent contained in the thin film is removed with a hot air of 300 ° C. or lower for the thin film obtained in the above (first step). It is preferable to remove substantially all the solvent by this step, and it is more preferable to remove all the solvent.
In the second step, the drying temperature for removing the solvent of the thin film is set to 300 ° C. or less. The drying temperature is preferably 10 to 120 ° C. or less, more preferably 18 to 60 ° C. or less. In other embodiments, the drying temperature may be 10-300 ° C. or less, 10-60 ° C. or less, 18-300 ° C. or less, or 18-120 ° C. or less. By drying at 300 ° C. or lower in this step, a dense coating composition layer is formed, and the appearance tends to be good. Moreover, it exists in the tendency to be excellent in productivity by drying above 10 degreeC.
This process may use any of the known hot air delivery machines. The temperature of the hot air can be measured by using a thermometer in the immediate vicinity of the hot air delivery port. Moreover, you may use the thing of several temperature 300 degrees C or less in a predetermined period as a warm air in this process.

(第3の工程)
本実施形態における第3の工程においては、薄膜に含まれる重合体粒子(B)を500〜800℃の温度で焼成して除去し、基材上に、空隙含有層である反射防止層を有する積層体を形成する。この工程により、実質的に全ての重合体粒子(B)を除去することが好ましく、全ての重合体粒子(B)を除去することがより好ましい。
上記温度は、好ましくは600〜800℃が好ましく、より好ましくは650〜800℃である。他の実施形態において、上記温度は、500〜750℃、600〜750℃、または650〜750℃であってもよい。500℃以上で焼成させると、均一に空隙が形成され、十分な反射防止性能を得ることができる。800℃以下で焼成させることにより、形成された空隙が収縮により減少することが抑制され、十分な反射防止性能を保持することができる。
本工程の焼成手段は、公知のいずれのものを用いてもよい。特に限定されないが、焼成は、例えば、電気炉中で焼成を行うことができる。また、本工程の焼成温度として、500〜800℃の範囲の複数の温度を所定期間において用いてもよい。
(Third step)
In the third step in the present embodiment, the polymer particles (B) contained in the thin film are fired and removed at a temperature of 500 to 800 ° C., and an antireflection layer which is a void containing layer is provided on the substrate. Form a laminate. It is preferable to remove substantially all the polymer particles (B) by this process, and it is more preferable to remove all the polymer particles (B).
The temperature is preferably 600 to 800 ° C, and more preferably 650 to 800 ° C. In other embodiments, the temperature may be 500-750 ° C, 600-750 ° C, or 650-750 ° C. When the firing is performed at 500 ° C. or higher, voids are uniformly formed, and sufficient antireflection performance can be obtained. By baking at 800 ° C. or less, reduction of the formed voids due to shrinkage can be suppressed, and sufficient antireflection performance can be maintained.
Any known baking means may be used in this step. Although it does not specifically limit, baking can bake in an electric furnace, for example. Moreover, you may use several temperature of the range of 500-800 degreeC in a predetermined period as a calcination temperature of this process.

〔積層体〕
一実施形態において、積層体は、上述した(第1の工程)〜(第3の工程)を経て得られる。
積層体は、基材とその基材の少なくとも片面上に形成された空隙含有層である反射防止層とを具備する。
[Laminate]
In one embodiment, the laminate is obtained through the above-described (first step) to (third step).
The laminate comprises a substrate and an antireflective layer which is a void-containing layer formed on at least one side of the substrate.

(積層体の膜厚)
一実施形態において、積層体の空隙含有層の膜厚は、十分な反射防止性能を生じさせる観点から、50nm以上1000nm以下であることが好ましく、80nm以上200nm以下であることがより好ましく、80nm以上150nm以下であることがさらに好ましい。他の実施形態において、空隙含有層の膜厚は、50nm以上200nm以下、50nm以上150nm以下、または80nm以上1000nm以下であってもよい。膜厚が50nm以上であることにより、空隙含有層の強度が十分に保たれる傾向にあり、膜厚が1000nm以下であることで、反射防止性能が均一な積層体が得られる傾向にある。
(Film thickness of laminate)
In one embodiment, the thickness of the void-containing layer of the laminate is preferably 50 nm or more and 1000 nm or less, more preferably 80 nm or more and 200 nm or less, and more preferably 80 nm or more, from the viewpoint of causing sufficient antireflection performance. More preferably, it is 150 nm or less. In another embodiment, the thickness of the void-containing layer may be 50 nm or more and 200 nm or less, 50 nm or more and 150 nm or less, or 80 nm or more and 1000 nm or less. When the film thickness is 50 nm or more, the strength of the void-containing layer tends to be sufficiently maintained, and when the film thickness is 1000 nm or less, a laminate having uniform antireflection performance tends to be obtained.

膜厚が上記のような範囲にある積層体を得るためには、空隙含有層を形成するためのコーティング液の固形分の濃度を調整すればよい。コーティング液の固形分濃度は、0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜7質量%であり、さらに好ましくは1〜6質量%である。他の実施形態において、コーティング液の固形分濃度は、0.1〜7質量%、0.1〜6質量%、0.5〜10質量%、0.5〜6質量%、1〜10質量%、または1〜7質量%であってよい。   In order to obtain a laminate having a film thickness in the above range, the concentration of the solid content of the coating liquid for forming the void-containing layer may be adjusted. The solid content concentration of the coating liquid is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 7% by mass, and still more preferably 1 to 6% by mass. In another embodiment, the solid content concentration of the coating liquid is 0.1 to 7% by mass, 0.1 to 6% by mass, 0.5 to 10% by mass, 0.5 to 6% by mass, or 1 to 10%. %, Or 1 to 7% by mass.

また、ロールコータの基材搬送速度、塗装ロール回転速度を調整することで空隙含有層の膜厚を調整することも可能である。
空隙含有層の膜厚は、断面の電子顕微鏡観察での測定(ランダムに選択した5箇所の値の平均)によって、または、光学エリプソメーターや反射分光膜厚計での空隙含有層の干渉による反射光の測定値を用いた計算によって、求めることが可能である。後者の場合は、計算値を平均膜厚とみなす。
Moreover, it is also possible to adjust the film thickness of a space | gap content layer by adjusting the base-material conveyance speed of a roll coater, and a coating roll rotational speed.
The film thickness of the void-containing layer is measured by electron microscopic observation of a cross section (average of five randomly selected values) or reflection due to interference of the void-containing layer with an optical ellipsometer or reflection spectrophotometer. It can be determined by calculation using measured values of light. In the latter case, the calculated value is regarded as the average film thickness.

〔積層体の用途〕
上記積層体は、反射防止性能に優れているため、太陽電池、太陽熱発電用ミラー、建材、自動車等、屋外で長期間使用される積層体として好適に用いることができるが、これらの用途に限定されるわけではない。
[Use of laminate]
The above-mentioned laminate can be suitably used as a laminate used for a long time outdoors, such as a solar cell, a mirror for solar thermal power generation, a building material, an automobile, etc., because it is excellent in anti-reflection performance. It does not mean that

以下では、具体的な実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例及び比較例によって何ら限定されるものではない。
後述する合成例、実施例及び比較例における、各種の物性及び評価は下記の方法で測定及び評価した。
Hereinafter, the present invention will be more specifically described with reference to specific examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples and comparative examples.
Various physical properties and evaluations in synthesis examples, examples and comparative examples described later were measured and evaluated by the following methods.

(1)数平均粒子径の測定
動的光散乱式粒度分布測定装置UPA−UZ152(日機装株式会社製)を用いて、金属酸化物粒子(A)及び重合体粒子(B)の数平均粒子径を評価した。
(1) Measurement of Number Average Particle Size The number average particle size of metal oxide particles (A) and polymer particles (B) using a dynamic light scattering type particle size distribution measuring apparatus UPA-UZ152 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) Was evaluated.

(2)全光線透過率の測定
後述する実施例及び比較例で製造した積層体の試験板について、AOPTEK製分光透過率計ST−100を用いて380〜1100nmの全光線透過率を測定した。
空隙含有層のない試験板(ガラス)の全光線透過率に対し、1.5%以上全光線透過率が高ければ、反射防止性能を有していると判断した。
(2) Measurement of total light transmittance About the test plate of the laminated body manufactured by the Example and comparative example mentioned later, the total light transmittance of 380-1100 nm was measured using spectral transmittance meter ST-100 made from AOPTEK.
When the total light transmittance was 1.5% or more relative to the total light transmittance of the test plate (glass) having no void containing layer, it was judged to have anti-reflection performance.

(3)粘度の測定
音叉型振動式粘度計(アーアンドディ株式会社製SV−10)を用いて25℃の環境下で、コーティング液の粘度を測定した。
(3) Measurement of Viscosity The viscosity of the coating liquid was measured under an environment of 25 ° C. using a tuning fork type vibration viscometer (SV-10 manufactured by A & D Co., Ltd.).

(4)表面張力の測定
表面張力計(協和界面科学株式会社製 DY−500)を用いて25℃の環境下で、コーティング液の表面張力を測定した。
(4) Measurement of Surface Tension The surface tension of the coating solution was measured under a 25 ° C. environment using a surface tension meter (DY-500 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

(5)塗膜外観
積層体の外観を蛍光灯に照らして目視で観察し膜厚ムラに由来する縞状(あるいは帯状)の色目の変化を評価した。縞状の色目変化とは、膜厚が異なることで例えば紫色の部分と緑色の部分が縞状(あるいは帯状)に目視で観察できることを指す。
○:外観良好(縞状の色目変化が無く積層体全面が均一な色目を有する。)
△:外観がほぼ良好(極細い縞状の色目変化が観察される。)
×:外観異常(縞状の色目変化がはっきりと観察される。)
(5) Coating film appearance The appearance of the laminate was visually observed in light of a fluorescent lamp to evaluate the change in stripe-like (or band-like) color originating in the film thickness unevenness. The stripe-like color change means that, for example, the purple part and the green part can be visually observed in the form of stripes (or bands) because the film thickness is different.
○: good appearance (no streaks of color change and the entire surface of the laminate has uniform color)
Δ: The appearance is almost good (very fine streaks of color change are observed)
X: appearance abnormality (striped color change is clearly observed)

〔合成例〕
以下では、後述する実施例及び比較例において用いた重合体粒子(B)の合成例を記載する。
Synthesis Example
Below, the synthesis example of the polymer particle (B) used in the Example and comparative example which are mentioned later is described.

(合成例1)重合体粒子(B−1)水分散体の合成
還流冷却器、滴下槽、温度計及び撹拌装置を有する反応器に、イオン交換水1600g、及びドデシルベンゼンスルホン酸7gを投入した後、撹拌しながら80℃に加温して混合液(1)を得た。
コア層の原料としてジメチルジメトキシシラン130g及びフェニルトリメトキシシラン100gを混合して混合液(2)を得た。上記混合液(1)に、この混合液(2)を、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて滴下して混合液(3)を得た。
その後、反応容器中の温度が80℃の状態で混合液(3)を約1時間撹拌した。
次に、シェル層の原料としてアクリル酸ブチル130g、テトラエトキシシラン200g、フェニルトリメトキシシラン100g、及び3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン10gを混合して混合液(4)を得た。また、ジエチルアクリルアミド140g、アクリル酸3g、反応性乳化剤(商品名「アデカリアソープSR−1025」、旭電化(株)製、固形分25質量%水溶液)13g、過硫酸アンモニウムの2質量%水溶液40g、及びイオン交換水1900gを混合して混合液(5)を得た。上記混合液(3)に、この混合液(4)と混合液(5)とを、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて同時に滴下して混合物(6)を得た。
さらに熱養生として、反応容器中の温度が80℃の状態で混合物(6)を約2時間撹拌した。その後、混合物(6)にテトラエトキシシラン400gを、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約30分かけて滴下して混合液(7)を得た。
さらに熱養生として、反応容器中の温度が80℃の状態で混合物(7)を約2時間撹拌した。その後、混合物(7)を室温まで冷却し、100メッシュの金網で濾過し、精製水で濃度を調整して数平均粒子径90nmの重合体粒子(B−1)の水分散体(固形分10質量%)を得た。
Synthesis Example 1 Synthesis of Polymer Particles (B-1) Aqueous Dispersion In a reactor having a reflux condenser, a dropping tank, a thermometer and a stirrer, 1600 g of ion exchanged water and 7 g of dodecylbenzenesulfonic acid were charged. Thereafter, the mixture was heated to 80 ° C. with stirring to obtain a mixture (1).
As a raw material of the core layer, 130 g of dimethyldimethoxysilane and 100 g of phenyltrimethoxysilane were mixed to obtain a liquid mixture (2). The mixture (2) was added dropwise to the above mixture (1) over about 2 hours while maintaining the temperature in the reaction vessel at 80 ° C. to obtain a mixture (3).
Thereafter, the mixture (3) was stirred for about 1 hour at a temperature of 80 ° C. in the reaction vessel.
Next, 130 g of butyl acrylate, 200 g of tetraethoxysilane, 100 g of phenyltrimethoxysilane, and 10 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane were mixed as a raw material for the shell layer to obtain a liquid mixture (4). In addition, 140 g of diethyl acrylamide, 3 g of acrylic acid, 13 g of a reactive emulsifier (trade name "Adecaria soap SR-1025", made by Asahi Denka Co., Ltd., 25 mass% solid content aqueous solution), 40 g of a 2 mass% aqueous solution of ammonium persulfate, And 1900 g of deionized water were mixed to obtain a liquid mixture (5). The mixture (4) and the mixture (5) are simultaneously added dropwise to the mixture (3) over about 2 hours while maintaining the temperature in the reaction vessel at 80 ° C. Obtained.
Furthermore, as heat curing, the mixture (6) was stirred for about 2 hours at a temperature of 80 ° C. in the reaction vessel. Thereafter, 400 g of tetraethoxysilane was added dropwise to the mixture (6) over about 30 minutes while maintaining the temperature in the reaction vessel at 80 ° C. to obtain a mixture (7).
Furthermore, as heat curing, the mixture (7) was stirred for about 2 hours at a temperature of 80 ° C. in the reaction vessel. Thereafter, the mixture (7) is cooled to room temperature, filtered through a 100 mesh wire mesh, and the concentration is adjusted with purified water to obtain an aqueous dispersion of polymer particles (B-1) having a number average particle diameter of 90 nm (solid content 10 Mass%) was obtained.

〔実施例1〕
重合体粒子(B)として前記(合成例1)で合成した重合体エマルジョン粒子(B−1)の水分散体を用いた。
球状のシリカ微粒子(A)の原料として、平均粒子径5nmの水分散コロイダルシリカ(商品名「スノーテックスOXS」、日産化学工業(株)製、固形分10質量%)を用いた。
加水分解性珪素化合物(C)としてテトラエトキシシラン(信越化学工業(株)製)を用いた。
水にシリカ微粒子(A)、重合体粒子(B)、加水分解性珪素化合物(C)を表1に記載の固形分質量比(A)/(B)/(C)となるよう加え、室温で3時間撹拌し、加水分解性珪素化合物(C)を加水分解させた。その後、コーティング液中の水分量が50質量%、ジメチルスルホキシドが3質量%となるように、ジメチルスルホキシドとエタノールを加えて調整し、撹拌し、固形分3質量%のコーティング液を得た。
Example 1
An aqueous dispersion of the polymer emulsion particles (B-1) synthesized in the above (Synthesis example 1) was used as the polymer particles (B).
As a raw material of the spherical silica fine particles (A), water-dispersed colloidal silica having an average particle diameter of 5 nm (trade name "Snowtex OXS" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content 10% by mass) was used.
Tetraethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product) was used as a hydrolysable silicon compound (C).
Add fine particles of silica (A), polymer particles (B) and hydrolyzable silicon compound (C) to water so that the solid content mass ratio (A) / (B) / (C) described in Table 1 can be obtained at room temperature. The mixture was stirred for 3 hours to hydrolyze the hydrolyzable silicon compound (C). Thereafter, dimethylsulfoxide and ethanol were added to adjust the amount of water in the coating solution to be 50% by mass and dimethylsulfoxide to be 3% by mass, and the mixture was stirred to obtain a coating solution having a solid content of 3% by mass.

基材(10cm×10cmの白板エンボスガラス:旭硝子製Solite、全光線透過率91.7%)の平滑面側に、上記コーティング組成物を、リバースロールコータ(都ローラー社製リバースロールコータ)で塗布した後、20℃の温風で1分間乾燥し、薄膜(F−1)を有する試験板を得た後に、さらに電気炉中で700℃、3分間焼成し、急冷した後に平均膜厚100nmの空隙含有層を有する積層体の試験板(G−1)を得た。ここでの空隙含有層の膜厚は、断面の電子顕微鏡観察でランダムに選択した5箇所の値の平均である。   The above coating composition is applied to the smooth surface side of a substrate (10 cm × 10 cm white plate embossed glass: Solite manufactured by Asahi Glass, total light transmittance 91.7%) with a reverse roll coater (reverse roll coater manufactured by Tokyo Roller Co., Ltd.) After drying, it was dried with warm air at 20 ° C for 1 minute to obtain a test plate having a thin film (F-1), and then fired for 3 minutes at 700 ° C in an electric furnace and quenched after quenching. The test board (G-1) of the laminated body which has a space | gap content layer was obtained. The film thickness of the void-containing layer here is an average of five values randomly selected by electron microscope observation of the cross section.

このとき薄膜(F−1)中の組成比は、コーティング液中の固形分換算で計算した各成分の質量比率と同様に、実質的に(A)/(B)/(C’)=15/100/60になると考えられる。
なお、ここでの(A)は、上記乾燥後に得られる薄膜(F−1)中のシリカ微粒子(A)の質量比率であり、(B)は、上記乾燥後に得られる薄膜(F−1)中の重合体粒子(B)の質量比率であり、(C’)は、上記乾燥後に得られる薄膜(F−1)中の加水分解性珪素化合物(C)の加水分解縮合物(C’)の質量比率である。
得られた積層体の試験板(G−1)の評価結果を表1に示す。
表1における「ロール速度Vt」は、リバースロールコータの塗装ロールの回転速度を意味する。
At this time, the composition ratio in the thin film (F-1) is substantially equal to (A) / (B) / (C ′) = 15, similarly to the mass ratio of each component calculated in terms of solid content in the coating liquid. It is considered to be / 100/60.
Here, (A) is the mass ratio of the silica fine particles (A) in the thin film (F-1) obtained after the above drying, and (B) is the thin film (F-1) obtained after the above drying The mass ratio of polymer particles (B) in the mixture, and (C ′) is the hydrolysis condensate (C ′) of the hydrolyzable silicon compound (C) in the thin film (F-1) obtained after the above drying Mass ratio of
The evaluation results of the test plate (G-1) of the obtained laminate are shown in Table 1.
"Roll speed Vt" in Table 1 means the rotation speed of the coating roll of a reverse roll coater.

〔実施例2〜3、比較例1〜4〕
コーティング液中の組成比と製造条件を表1に示すとおり変更して、〔実施例1〕と同様にして積層体の試験板を得た。
得られた積層体の試験板の評価結果を表1に示す。
[Examples 2 to 3, Comparative Examples 1 to 4]
The composition ratio in the coating solution and the production conditions were changed as shown in Table 1, and a test plate of a laminate was obtained in the same manner as in [Example 1].
The evaluation results of the test plate of the obtained laminate are shown in Table 1.

表1に示すように、実施例1〜3における積層体の試験板は、優れた外観と反射防止性能を有することが分かった。   As shown in Table 1, it was found that the test plates of the laminates in Examples 1 to 3 have excellent appearance and antireflection performance.

一方、比較例1〜4における積層体の試験板は、外観に劣り反射防止性能が十分とは言えなかった。   On the other hand, the test plates of the laminates in Comparative Examples 1 to 4 were inferior in appearance and the antireflective performance was not sufficient.

本明細書及び特許請求の範囲で使用される量、百分率または比率、及び他の数値を表す全ての数は、全ての場合において、用語「約」によって修飾されているものとして理解されるべきである。したがって、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される数値パラメーターは、得ようとする望ましい特性に応じて変化し得る近似値である。   All quantities, percentages or proportions used in the present specification and claims, and all numbers representing other numerical values, are to be understood in all cases as being modified by the term "about". is there. Accordingly, the numerical parameters set forth in the specification and appended claims are approximations that may vary depending upon the desired properties sought to be obtained.

本発明の製造方法によって得られる積層体は、外観、反射防止性に優れているため、太陽電池、太陽熱発電用ミラー、建材、自動車等、の反射防止性能が求められる部材として好適に用いることができる。   Since the laminate obtained by the manufacturing method of the present invention is excellent in appearance and reflection preventing property, it is suitably used as a member for which the reflection preventing performance of a solar cell, a solar power generation mirror, a building material, an automobile, etc. it can.

1:コーティング液
2:基材(例えば未強化ガラス)
3:搬送ベルト
4:塗装ロール
5:ドクターロール
1: Coating liquid 2: Substrate (for example, untempered glass)
3: Conveying belt 4: Paint roll 5: Doctor roll

Claims (8)

基材の少なくとも片面に反射防止膜を有する積層体を製造する方法であって、
金属酸化物粒子(A)、重合体粒子(B)、及び少なくとも1種以上の溶媒(D)を含むコーティング液を、リバースロールコータで基材の少なくとも片面に塗布して薄膜を形成する第1の工程、
300℃以下の温風で溶媒を除去する第2の工程、ならびに
500〜800℃の温度で焼成して空隙を形成し、それによって反射防止膜を形成する第3の工程を有し、
(式1):Ca=μV/σ(式中、μ:コーティング液の粘度、σ:表面張力、V:リバースロールコータの塗装ロール回転速度(Vt)の基材搬送速度(Vb)に対する相対速度である。)によって算出されるキャピラリー数Caが1〜80である、
積層体の製造方法。
A method of producing a laminate having an antireflective film on at least one side of a substrate, the method comprising
A coating liquid containing metal oxide particles (A), polymer particles (B), and at least one or more solvents (D) is applied to at least one surface of a substrate by a reverse roll coater to form a thin film Process,
The second step of removing the solvent with a hot air of 300 ° C. or less, and the third step of firing at a temperature of 500 to 800 ° C. to form a void, thereby forming an antireflective film,
(Formula 1): Ca = μV / σ (where, μ: viscosity of coating solution, σ: surface tension, V: relative speed of coating roll rotation speed (Vt) of reverse roll coater to substrate transport speed (Vb) The capillary number Ca calculated by the equation is 1 to 80,
Method of manufacturing a laminate.
前記コーティング液が、数平均粒子径が1nm〜200nmの金属酸化物粒子(A)、数平均粒子径が10nm〜300nmの重合体粒子(B)、加水分解性珪素化合物(C)の加水分解物、及び溶媒(D)としての水を3重量%〜80質量%含むことを特徴とする、請求項1に記載の積層体の製造方法。   The coating solution is a metal oxide particle (A) having a number average particle diameter of 1 nm to 200 nm, a polymer particle (B) having a number average particle diameter of 10 nm to 300 nm, and a hydrolyzate of a hydrolyzable silicon compound (C). And 3% by weight to 80% by weight of water as a solvent (D), the method for producing a laminate according to claim 1. 前記コーティング液の粘度が1〜10mPa.sかつ表面張力が15〜45mN/mであることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の積層体の製造方法。   The viscosity of the coating solution is 1 to 10 mPa.s. The method for producing a laminate according to claim 1 or 2, wherein s and surface tension are 15 to 45 mN / m. 前記リバースロールコータの塗装ロール回転速度(Vt)の基材搬送速度(Vb)に対する比Vt/Vbが0.2〜3.0であることを特徴とする、請求項1乃至請求項3に記載の積層体の製造方法。   The ratio Vt / Vb of the coating roll rotation speed (Vt) to the base material transfer speed (Vb) of the reverse roll coater is 0.2 to 3.0. Method of producing a laminate. 請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の積層体の製造方法によって製造された、反射防止膜を有する積層体。   The laminated body which has an anti-reflective film manufactured by the manufacturing method of the laminated body as described in any one of Claim 1 thru | or 4. 請求項5に記載の積層体を含む、太陽電池用カバーガラス。   The cover glass for solar cells containing the laminated body of Claim 5. 請求項5に記載の積層体を含む、太陽熱発電用ミラー。   A solar power generation mirror comprising the laminate according to claim 5. 請求項5に記載の積層体を含む、建材用ガラス。
The glass for building materials containing the laminated body of Claim 5.
JP2017078423A 2017-04-11 2017-04-11 Manufacturing method of laminate Pending JP2018176058A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017078423A JP2018176058A (en) 2017-04-11 2017-04-11 Manufacturing method of laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017078423A JP2018176058A (en) 2017-04-11 2017-04-11 Manufacturing method of laminate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018176058A true JP2018176058A (en) 2018-11-15

Family

ID=64281991

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017078423A Pending JP2018176058A (en) 2017-04-11 2017-04-11 Manufacturing method of laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2018176058A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114744068A (en) * 2022-03-30 2022-07-12 天津南玻节能玻璃有限公司 Photovoltaic building integrated assembly and preparation method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114744068A (en) * 2022-03-30 2022-07-12 天津南玻节能玻璃有限公司 Photovoltaic building integrated assembly and preparation method thereof
CN114744068B (en) * 2022-03-30 2024-03-19 天津南玻节能玻璃有限公司 Photovoltaic building integrated assembly and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11781037B2 (en) High-durability antifogging coating film and coating composition
US11041076B2 (en) Highly durable antifogging coating film and coating composition
JP6081929B2 (en) Coating composition and antireflection film
JP6326199B2 (en) Optical coating film, method for producing optical coating film, and antireflection film
JP6820354B2 (en) Coating composition, antireflection film and its manufacturing method, laminate, and solar cell module
JP7360274B2 (en) Highly durable anti-fog coatings and coating compositions
JP6573445B2 (en) Optical coating film, method for producing optical coating film, and antireflection film
JP2018176058A (en) Manufacturing method of laminate
JP2016115927A (en) Coating film for solar cell
JP6426975B2 (en) Coating composition and method for producing optical coating film
JP2015018230A (en) Precursor for forming optical coating, optical coating, and method of producing optical coating
JP6437243B2 (en) Optical coating film, method for producing optical coating film, and antireflection film
JPWO2019065772A1 (en) Coating composition, laminate, solar cell module, and method for producing laminate
JP7026446B2 (en) Anti-fog coating and coating composition
JP6794151B2 (en) Coating film, method for producing coating film, and coating composition
JP6425964B2 (en) Optical coating film and antireflective film
JP2016184023A (en) Coating film for solar cell cover glass and method for producing the same
JP2016219545A (en) Coating film for solar cell
JP7328829B2 (en) Coating composition and anti-fogging coating
JP6917764B2 (en) Polymer particle aqueous dispersion and coating film
JP5599635B2 (en) Functional coating
JP2016199660A (en) Coating composition, antireflection film and method of producing antireflection film
JP6457866B2 (en) Coating film for solar cell and method for producing the same
JP2017114950A (en) Coating film and method for producing coating film
JPWO2018221739A1 (en) Coating composition and method for producing laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200123

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20201126

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20201125

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210520