JP2018172623A - Uv-a absorber - Google Patents

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俊一 檜森
Shunichi Himori
俊一 檜森
修司 横山
Shuji Yokoyama
修司 横山
啓太 井内
Keita Inouchi
啓太 井内
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Kawasaki Kasei Chemicals Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a UV-A absorber that can block a blue light beam from a near-ultraviolet region, and a cut film.SOLUTION: The present invention provides a UV-A absorber, which is an anthracene compound represented by a formula (1) (R1 and R 2 independently represent C1-12 alkyl, C6-13 aryl, C1-13 alkoxy or C6-13 aryloxy; X and Y independently represent C1-8 alkyl).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、紫外線吸収剤に関し、特にUV−A領域の吸収性に優れた化合物及びUV−Aカットフィルムに関するものである。 The present invention relates to an ultraviolet absorber, and particularly to a compound having excellent absorbability in the UV-A region and a UV-A cut film.

地球に降り注ぐ太陽からの電磁放射には、電波、ミリメートル波、マイクロ波、赤外線、可視光線、紫外線(UV−AおよびUV−B)、X線およびガンマ線が含まれている。その中で、可視光線は波長が400nmから700nmの範囲であり、紫外線は10から400nmの範囲の光を称している。紫外線のうち、10から286nmまでの波長の光は地球のオゾン層が吸収してしまうため、地球に到達する紫外線は286nm以上の波長となる。一方、人間の健康や環境への影響の観点から、近紫外線帯域をUV−A、UV−B、UV−Cという分類が用いられている。一般に、波長が10から280nmのものをUV−C、波長が280から320nmのものをUV−B、そして波長が320から400nmのものをUV−Aと称している。このうち、先ほど述べたように、地球のオゾン層が最大286nmまでの波長を吸収してしまうため、UV−Cはこのオゾン層でほとんどカットされてしまい、地上には届かないが、オゾン層でカットされない286nmより長波長のUV−AとUV−Bは地上に届き、人体に影響を与えることとなる。  Electromagnetic radiation from the sun falling on the earth includes radio waves, millimeter waves, microwaves, infrared rays, visible rays, ultraviolet rays (UV-A and UV-B), X-rays and gamma rays. Among them, visible light has a wavelength in the range of 400 nm to 700 nm, and ultraviolet light refers to light in the range of 10 to 400 nm. Of the ultraviolet rays, light having a wavelength of 10 to 286 nm is absorbed by the ozone layer of the earth, so that the ultraviolet rays reaching the earth have a wavelength of 286 nm or more. On the other hand, from the viewpoint of influence on human health and the environment, the classification of near-ultraviolet band as UV-A, UV-B, and UV-C is used. In general, a wavelength of 10 to 280 nm is referred to as UV-C, a wavelength of 280 to 320 nm is referred to as UV-B, and a wavelength of 320 to 400 nm is referred to as UV-A. Of these, as mentioned earlier, the Earth's ozone layer absorbs wavelengths up to 286 nm, so UV-C is almost cut by this ozone layer and does not reach the ground. Uncut UV-A and UV-B longer than 286 nm reach the ground and affect the human body.

また、光のエネルギーは、波数に比例して大きくなるため、波長が短くなるほど人体に対する危険度が増大する。すなわち、可視光より紫外線は人体に与える影響が大きいといえる。UV−Bは、人体の皮膚の表皮層に作用するといわれており、この時、色素細胞がメラニンを生成し防御反応を取る。いわゆる日焼けである。一方、UV−Aは、UV−Bよりエネルギーは小さいが、波長が長いため皮膚の真皮層にまで作用し、蛋白質を変性させ、皮膚の弾性を失わせ老化を促進するといわれている。また、UV−Bによって生成されたメラニン色素を酸化させて褐色に変化させるともいわれている。 Further, since the energy of light increases in proportion to the wave number, the danger to the human body increases as the wavelength becomes shorter. That is, it can be said that ultraviolet rays have a greater influence on the human body than visible light. UV-B is said to act on the epidermis layer of human skin. At this time, pigment cells produce melanin and take a protective reaction. So-called sunburn. On the other hand, although UV-A has a smaller energy than UV-B, it is said to act on the dermis layer of the skin because of its long wavelength, denature proteins, lose skin elasticity and promote aging. It is also said that the melanin pigment produced by UV-B is oxidized to turn brown.

そして、このUV−Bによる皮膚の日焼け対策として、UV-Bをカットする日焼け止めクリームやフィルムなどが多く開発されている。しかし、波長の長いUV−Aの危険性は近年まで重要視されてこなかった。UV−Aによる皮膚の加齢、DNAへのダメージ、皮膚がんへのリスクはゼロではない。また、UV−Aは上述のようにUV−Bより波長が長いため、UV−Bより深く皮膚の中に浸透し、皮膚の張りを保つ弾性繊維を徐々に破壊し、張りの低下やしわを引き起こすといわれている。更に、UV−AはUV−Bと比べて、大気中での減衰が少なく、UV−Bの減少する冬期や朝夕でも比較的多く降り注いでいるといわれており、窓ガラスや車のウインドウ越しにも入り込む性質を持っている。よって、UV−Aの人体への影響は無視できないものとなってきている。 And many sunscreen creams, films, and the like that cut UV-B have been developed as measures against sunburn of the skin by UV-B. However, the danger of UV-A having a long wavelength has not been regarded as important until recently. The risk of aging skin, DNA damage, and skin cancer due to UV-A is not zero. In addition, since UV-A has a longer wavelength than UV-B as described above, it penetrates deeper into the skin than UV-B, and gradually breaks elastic fibers that keep the skin tight, reducing tension and wrinkles. It is said to cause. Furthermore, UV-A is less attenuated in the atmosphere than UV-B, and it is said that it is falling more and more in the winter and morning and evening when UV-B decreases. Also has the property of entering. Therefore, the influence of UV-A on the human body cannot be ignored.

そこで、このUV−A対策として、窓ガラスや車のウインドウにUV−A吸収剤を配合したり、皮膚につける日焼け止めクリームに配合したりされている。このUV−Aをカットする化合物としてベンゾトリアジン系、ベンゾフェノン系の紫外線吸収剤などが種々検討されている。例えば、特許文献1から3には、近紫外領域をカットするトリスアリール−s−トリアジン化合物が開示されている。しかし、当該文献に開示されている化合物は、350nm付近に吸収を有しているが、380から400nm付近の吸収は弱く、UV−Aの波長領域のすべてをカットできるものではなく、また、吸収波長が可視光領域を含むためか着色しており、実用的ではなかった。 Therefore, as a countermeasure against UV-A, a UV-A absorber is blended in a window glass or a car window, or is blended in a sunscreen cream to be applied to the skin. Various compounds such as benzotriazine-based and benzophenone-based ultraviolet absorbers have been studied as compounds that cut this UV-A. For example, Patent Documents 1 to 3 disclose trisaryl-s-triazine compounds that cut the near ultraviolet region. However, the compound disclosed in the document has an absorption around 350 nm, but the absorption around 380 to 400 nm is weak and cannot cut all of the wavelength region of UV-A. It was colored because the wavelength included the visible light region, and was not practical.

また、特許文献4には、UV−A領域にも吸収を持つ紫外線吸収剤として、チヌビン327(チヌビンはビー・エー・エス・エフ社の登録商標)、チヌビンP、およびCGL777などが開示されているが、これらの紫外線吸収剤はいずれも350nm付近に最大吸収を持つが、やはり380から400nm付近の吸収は弱いという欠点がある。よって、380から400nmの波長を効率的にカットできるUV−A吸収剤が望まれていた。 Patent Document 4 discloses Tinuvin 327 (Tinuvin is a registered trademark of BASF), Tinuvin P, CGL777, and the like as ultraviolet absorbers that also absorb in the UV-A region. Although these ultraviolet absorbers all have a maximum absorption around 350 nm, there is a disadvantage that the absorption around 380 to 400 nm is weak. Therefore, a UV-A absorber capable of efficiently cutting wavelengths from 380 to 400 nm has been desired.

更にまた、4−tert−ブチル−4’−メトキジベンゾイルメタンなどは380から400nm付近までのUV−Aをカットできる化合物として知られている(特許文献5他)。しかしながら、可視光領域の一部にも吸収をもつため、薄黄色く着色していたりしており、着色が許容される一部の用途に限定されるものであった。 Furthermore, 4-tert-butyl-4'-methoxydibenzoylmethane and the like are known as compounds capable of cutting UV-A from 380 to around 400 nm (Patent Document 5, etc.). However, since part of the visible light region also has absorption, it is colored pale yellow, and is limited to some uses where coloring is allowed.

特開平8−53427号公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-53427 特開平11−71356号公報JP-A-11-71356 特開2011−164286号公報JP 2011-164286 A 特開2009−523625号公報JP 2009-523625 A 特開2012−180290号公報JP 2012-180290 A

よって、本発明の目的は、UV−A領域の紫外線を吸収し、特に、380から400nmの波長範囲の紫外線を効率的に吸収して、遮光しつつ、可視光領域には吸収を持たず、可視光線に対して優れた透過性を有するUV−A吸収剤を提供することにある。 Therefore, the object of the present invention is to absorb ultraviolet rays in the UV-A region, in particular, efficiently absorb ultraviolet rays in the wavelength range of 380 to 400 nm and shield them, and have no absorption in the visible light region, An object of the present invention is to provide a UV-A absorber having excellent transparency to visible light.

本発明者等は、長年アントラセン化合物の構造とその特性について鋭意研究を続けてきた結果、特定の構造を有するアントラセン化合物が、UV−A領域の紫外線吸収性を有しており、特に380から400nmの波長範囲にその吸収ピークを有しており、優れたUV−A吸収剤として用いることができることを見出したものである。さらに当該化合物は、400nm以上にほとんど吸収を持たないことから無色であり、可視光線に対して優れた透過性を有する化合物である。 As a result of intensive studies on the structure and properties of anthracene compounds for many years, the present inventors have found that anthracene compounds having a specific structure have ultraviolet absorption in the UV-A region, particularly 380 to 400 nm. It has been found that the compound has an absorption peak in the wavelength range, and can be used as an excellent UV-A absorber. Furthermore, the compound is colorless because it has almost no absorption at 400 nm or more, and has excellent transparency to visible light.

すなわち、第一の発明は、下記一般式(1)で表されるアントラセン化合物を含有するUV−A吸収剤に存する。 That is, 1st invention exists in the UV-A absorber containing the anthracene compound represented by following General formula (1).

一般式(1)において、RとRは同一であっても異なっていても良く、炭素数1から12のアルキル基若しくは炭素数6から13のアリール基又は炭素数1から12のアルコキシ基若しくは炭素数6から13のアリールオキシ基を表し、X、Yは同一であっても異なっていてもよく、炭素数1から8のアルキル基を表す。 In General Formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different, and are an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. Alternatively, it represents an aryloxy group having 6 to 13 carbon atoms, and X and Y may be the same or different, and represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

第二の発明は、一般式(1)において、R、Rは炭素数7から12のアルキル基若しくは炭素数6から13のアリール基又は炭素数3から12のアルコキシ基若しくは炭素数6から13のアリールオキシ基であることを特徴とする、第一の発明に記載のUV−A吸収剤に存する。 According to a second invention, in the general formula (1), R 1 and R 2 are an alkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 3 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 carbon atoms. It exists in the UV-A absorber as described in 1st invention characterized by being 13 aryloxy groups.

第三の発明は、上記一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤、及びUV−B吸収剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物に存する。 3rd invention exists in the ultraviolet absorber composition characterized by containing the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the said General formula (1), and a UV-B absorber.

第四の発明は、上記一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤、及び上記一般式(1)で表されるアントラセン化合物以外のUV−A吸収剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物に存する。 4th invention contains UV-A absorber other than the anthracene compound represented by the said Formula (1), and the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the said General formula (1). It exists in the ultraviolet absorber composition characterized by these.

第五の発明は、上記一般式(1)において、R、Rは炭素数7から12のアルキル基若しくは炭素数6から13のアリール基又は炭素数3から12のアルコキシ基若しくは炭素数6から13のアリールオキシ基であることを特徴とする、第三の発明又は第四の発明に記載の紫外線吸収剤組成物に存する。 According to a fifth invention, in the general formula (1), R 1 and R 2 are an alkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 3 to 12 carbon atoms, or a carbon number 6 To the ultraviolet absorber composition according to the third or fourth aspect of the invention.

第六の発明は、第一の発明又は第二の発明に記載のUV−A吸収剤に、更に、ヒンダードアミン系安定剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物に存する。 6th invention exists in the ultraviolet absorber composition characterized by containing the hindered amine stabilizer further in the UV-A absorber as described in 1st invention or 2nd invention.

第七の発明は、第三の発明乃至第五の発明のいずれかひとつに記載の紫外線吸収剤組成物に、更に、ヒンダードアミン系安定剤を含有することを特徴とする紫外線吸収剤組成物に存する。 7th invention exists in the ultraviolet absorber composition characterized by containing the hindered amine stabilizer further in the ultraviolet absorber composition as described in any one of 3rd invention thru | or 5th invention. .

第八の発明は、第一の発明又は第二の発明に記載のUV−A吸収剤に、更に、酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーを含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物に存する。 An eighth invention is characterized in that the UV-A absorber described in the first invention or the second invention further contains an antioxidant and / or a singlet oxygen quencher. Present in the composition.

第九の発明は、第三の発明乃至第七の発明のいずれかひとつに記載の紫外線吸収剤組成物に、更に、酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーを含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物に存する。 A ninth invention is characterized in that the ultraviolet absorber composition according to any one of the third to seventh inventions further contains an antioxidant and / or a singlet oxygen quencher. In the ultraviolet absorber composition.

第十の発明は、第一の発明又は第二の発明に記載のUV−A吸収剤を有効成分として含有するUV−Aカットフィルムに存する。 The tenth invention resides in a UV-A cut film containing the UV-A absorber described in the first invention or the second invention as an active ingredient.

第十一の発明は、第三の発明乃至第九の発明のいずれかひとつに記載の紫外線吸収剤組成物を有効成分として含有するUV−Aカットフィルムに存する。 The eleventh invention resides in a UV-A cut film containing as an active ingredient the ultraviolet absorbent composition according to any one of the third to ninth inventions.

第十二の発明は、ガラス基材、金属基材又は酸素バリアフィルム上に、第一の発明若しくは第二の発明に記載のUV-A吸収剤又は、第三の発明乃至第九の発明のいずれかひとつに記載の紫外線吸収剤組成物を含有する光重合性組成物を塗布し、該塗膜上に更に酸素バリアフィルムを被せたのち、光照射してフィルム状に重合硬化させた重合皮膜であることを特徴とする、UV−Aカットフィルムに存する。 The twelfth invention is the UV-A absorbent according to the first invention or the second invention or the third invention to the ninth invention on the glass substrate, metal substrate or oxygen barrier film. A polymerized film obtained by applying a photopolymerizable composition containing the ultraviolet absorbent composition according to any one of the above, and further covering the coated film with an oxygen barrier film, and then polymerizing and curing the film by irradiation with light. It exists in the UV-A cut film characterized by being.

第十三の発明は、酸素バリアフィルムの酸素透過度が、20℃、ドライ条件で100cm/(m・day・atm)以下である、第十二の発明に記載のUV−Aカットフィルムに存する。 The thirteenth invention is the UV-A cut film according to the twelfth invention, wherein the oxygen permeability of the oxygen barrier film is 100 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less at 20 ° C. under dry conditions. Exist.

第十四の発明は、UV−Aカットフィルムを含む積層体であって、該積層体が2つの高度酸素バリアフィルム層を有し、その高度酸素バリアフィルム層間に、第十の発明乃至第十三の発明のいずれかひとつに記載のUV−Aカットフィルムを含むことを特徴とする、UV−Aカットフィルム積層体に存する。 A fourteenth invention is a laminate including a UV-A cut film, the laminate having two advanced oxygen barrier film layers, and the tenth invention to tenth invention between the advanced oxygen barrier film layers. It exists in the UV-A cut film laminated body characterized by including the UV-A cut film as described in any one of three inventions.

第十五の発明は、UV−Aカットフィルムを含む積層体であって、該積層体がガラス基板と高度酸素バリアフィルム層を有し、そのガラス基板と高度酸素バリアフィルム層の間に、第十の発明乃至第十三の発明のいずれかひとつに記載のUV−Aカットフィルムを含むことを特徴とする、UV−Aカットフィルム積層体に存する。 A fifteenth aspect of the invention is a laminate including a UV-A cut film, the laminate having a glass substrate and a high oxygen barrier film layer. It exists in the UV-A cut film laminated body characterized by including the UV-A cut film as described in any one of 10th invention thru | or 13th invention.

第十六の発明は、高度酸素バリアフィルムの酸素透過度が、20℃、ドライ条件で10cm/(m・day・atm)以下である、第十四の発明又は第十五の発明に記載のUV−Aカットフィルム積層体に存する。 The sixteenth invention is the fourteenth invention or the fifteenth invention, wherein the oxygen permeability of the advanced oxygen barrier film is 10 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less at 20 ° C. under dry conditions. It exists in the described UV-A cut film laminated body.

本発明の特定の構造を有するアントラセン化合物は、UV−A領域の紫外線吸収性を有しており、特に380から400nmの波長範囲にその吸収極大が一つあり、優れたUV−A吸収剤として用いることができる。さらに当該化合物は、無色であり、可視光線に対して優れた透過性を有する化合物である。そして、当該化合物を含有する組成物及びフィルムも優れたUV−A吸収特性を示す。 The anthracene compound having a specific structure of the present invention has UV absorption in the UV-A region, and has one absorption maximum particularly in the wavelength range of 380 to 400 nm, and as an excellent UV-A absorber. Can be used. Further, the compound is colorless and has excellent permeability to visible light. And the composition and film containing the said compound also show the outstanding UV-A absorption characteristic.

本発明のUV−A吸収剤の一例である9,10−ビス(n−オクタノイルオキシ)アントラセン(AHQ−n−オクタノイル)のUV吸収曲線である。It is a UV absorption curve of 9,10-bis (n-octanoyloxy) anthracene (AHQ-n-octanoyl) which is an example of the UV-A absorber of this invention. 本発明のUV−A吸収剤の一例である9,10−ビス(フェノキシカルボニルオキシ)アントラセン(AHQ炭酸フェニル)のUV吸収曲線である。It is a UV absorption curve of 9,10-bis (phenoxycarbonyloxy) anthracene (AHQ phenyl carbonate) which is an example of the UV-A absorber of this invention. 実施例13と比較例5の耐光性試験テストサンプルの形状を示した図。The figure which showed the shape of the light resistance test test sample of Example 13 and Comparative Example 5. FIG.

<UV−A吸収剤>
本発明のUV−A吸収剤は、下記一般式(1)で表されるアントラセン化合物である。
<UV-A absorber>
The UV-A absorber of the present invention is an anthracene compound represented by the following general formula (1).

一般式(1)において、RとRは同一であっても異なっていても良く、炭素数1から12のアルキル基若しくは炭素数6から13のアリール基又は炭素数1から12のアルコキシ基若しくは炭素数6から13のアリールオキシ基を表し、X、Yは同一であっても異なっていてもよく、炭素数1から8のアルキル基を表す。 In General Formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different, and are an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. Alternatively, it represents an aryloxy group having 6 to 13 carbon atoms, and X and Y may be the same or different, and represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

とRで表される炭素数1から12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基等が挙げられ、炭素数6から13のアリール基としては、フェニル基、p−トリル基、m−トリル基、o−トリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。炭素数1から12のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基等が挙げられる。炭素数6から13のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフトキシ基、メチルナフトキシ基等が挙げられる。X又はYで表される炭素数1から8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 1 and R 2 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, and n-pentyl group. N-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, etc., and examples of the aryl group having 6 to 13 carbon atoms include , Phenyl group, p-tolyl group, m-tolyl group, o-tolyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, i-butoxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n -Heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, n-dodecyloxy group and the like. Examples of the aryloxy group having 6 to 13 carbon atoms include phenoxy group, tolyloxy group, naphthoxy group, and methylnaphthoxy group. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by X or Y include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, n-pentyl group, n -Hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, etc. are mentioned.

一般式(1)で表される化合物で、RとRが炭素数1から12のアルキル基である場合の具体例としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわち、X及びYが共に水素原子である場合の例としては、9,10−ビス(アセチルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(プロピオニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ブチリルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(i−ブチリルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ペンタノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ヘキサノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ヘプタノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−オクタノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(2−エチルヘキサノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ノナノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−デカノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ウンデカノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ドデカノイルオキシ)アントラセン等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1) when R 1 and R 2 are alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include the following compounds. That is, examples where X and Y are both hydrogen atoms include 9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 9,10-bis (propionyloxy) anthracene, and 9,10-bis (n-butyryloxy) anthracene. 9,10-bis (i-butyryloxy) anthracene, 9,10-bis (n-pentanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-hexanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-hepta) Noyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-octanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (2-ethylhexanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-nonanoyloxy) anthracene, 9,10- Bis (n-decanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-undecanoyl) Alkoxy) anthracene, 9,10-bis (n- dodecanoyloxy) anthracene, and the like.

次に、X及び/又はYがアルキル基である場合としては、2−メチル−9,10−ビス(アセチルオキシ)アントラセン,2−メチル−9,10−ビス(プロピオニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ブチリルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(i−ブチリルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ペンタノイルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ヘキサノイルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ヘプタノイルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−オクタノイルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(2−エチルヘキサノイルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ノナノイルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−デカノイルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ウンデカノイルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ドデカノイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(アセチルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(プロピオニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ブチリルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(i−ブチリルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ペンタノイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ヘキサノイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ヘプタノイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−オクタノイルオキシ)アントラセン,2−エチル−9,10−ビス(2−エチルヘキサノイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ノナノイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−デカノイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ウンデカノイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ドデカノイルオキシ)アントラセン等が挙げられる。 Next, when X and / or Y is an alkyl group, 2-methyl-9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (propionyloxy) anthracene, 2-methyl -9,10-bis (n-butyryloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (i-butyryloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-pentanoyloxy) anthracene, 2-methyl -9,10-bis (n-hexanoyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-heptanoyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-octanoyloxy) anthracene 2-methyl-9,10-bis (2-ethylhexanoyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-nona) Noyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-decanoyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-undecanoyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (N-dodecanoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (propionyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n -Butyryloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (i-butyryloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-pentanoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n -Hexanoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-heptanoyloxy) anthracene 2-ethyl-9,10-bis (n-octanoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (2-ethylhexanoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-nonanoyloxy) ) Anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-decanoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-undecanoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis ( n-dodecanoyloxy) anthracene and the like.

一般式(1)で表される化合物で、RとRが炭素数6から13のアリール基である場合の具体例としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわち、X及びYが共に水素原子である場合の例としては、9,10−ビス(ベンゾイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(4−メチルベンゾイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(2−ナフトイルオキシ)アントラセン等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1) where R 1 and R 2 are aryl groups having 6 to 13 carbon atoms include the following compounds. That is, examples in which both X and Y are hydrogen atoms include 9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 9,10-bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene, 9,10-bis (2- Naphthoyloxy) anthracene and the like.

次に、X及び/又はYがアルキル基である場合としては、2−メチル−9,10−ビス(ベンゾイルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(4−メチルベンゾイルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(2−ナフトイルオキシ)アントラセン、1−メチル−9,10−ビス(ベンゾイルオキシ)アントラセン、1−メチル−9,10−ビス(4−メチルベンゾイルオキシ)アントラセン、1−メチル−9,10−ビス(2−ナフトイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(ベンゾイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(4−エチル−ベンゾイルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(2−ナフトイルオキシ)アントラセン、1−エチル−9,10−ビス(ベンゾイルオキシ)アントラセン、1−エチル−9,10−ビス(4−エチル−ベンゾイルオキシ)アントラセン、1−エチル−9,10−ビス(2−ナフトイルオキシ)アントラセン等が挙げられる。 Next, when X and / or Y is an alkyl group, 2-methyl-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene 1-methyl-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (4-ethyl-benzoyloxy) ) Anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (ben Zoyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (4-ethyl-benzoyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene and the like.

一般式(1)で表される化合物で、RとRが炭素数1から12のアルコキシ基である場合の具体例としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわち、X及びYが共に水素原子である場合の例としては、9,10−ビス(メトキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(エトキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−プロポキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(i−プロポキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ブトキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ペントキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ヘキシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ヘプチルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−オクチルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(2−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ノニルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−デシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン,9,10−ビス(n−ウンデシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ドデシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1) when R 1 and R 2 are an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms include the following compounds. That is, examples where X and Y are both hydrogen atoms include 9,10-bis (methoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (ethoxycarbonyloxy) anthracene, and 9,10-bis (n-propoxy). Carbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (i-propoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-butoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-pentoxycarbonyloxy) anthracene, 9, 10-bis (n-hexyloxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-heptyloxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-octyloxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (2 -Ethylhexyloxycarbonyloxy ) Anthracene, 9,10-bis (n-nonyloxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-decyloxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-undecyloxycarbonyloxy) anthracene, 9 , 10-bis (n-dodecyloxycarbonyloxy) anthracene and the like.

次に、X及び/又はYがアルキル基である場合としては、2−メチル−9,10−ビス(メトキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(エトキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−プロポキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(i−プロポキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ブトキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ペントキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ヘキシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ヘプチルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−オクチルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(2−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ノニルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−デシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ウンデシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(n−ドデシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(メトキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(エトキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−プロポキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(i−プロポキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ブトキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ペントキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ヘキシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ヘプチルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−オクチルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(2−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ノニルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−デシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ウンデシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(n−ドデシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン等が挙げられる。 Next, when X and / or Y is an alkyl group, 2-methyl-9,10-bis (methoxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (ethoxycarbonyloxy) anthracene, -Methyl-9,10-bis (n-propoxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (i-propoxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-butoxycarbonyloxy) ) Anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-pentoxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-hexyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (N-Heptyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n -Octyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (2-ethylhexyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-nonyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl- 9,10-bis (n-decyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-undecyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-dodecyloxycarbonyl) Oxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (methoxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (ethoxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-propoxycarbonyl) Oxy) anthracene, 2-ethyl-9 10-bis (i-propoxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-butoxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-pentoxycarbonyloxy) anthracene, 2 -Ethyl-9,10-bis (n-hexyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-heptyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-octyl) Oxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (2-ethylhexyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-nonyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9, 10-bis (n-decyloxycarbonyloxy) an Spiral, 2-ethyl-9,10-bis (n- undecyloxy carbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n- dodecyloxy-carbonyloxy) anthracene, and the like.

一般式(1)で表される化合物で、RとRが炭素数6から13のアリール基である場合の具体例としては、例えば次の化合物が挙げられる。すなわち、X及びYが共に水素原子である場合の例としては、9,10−ビス(フェノキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(4−メチルフェノキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(2−ナフチルオキシカルボニルオキシ)アントラセン等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1) where R 1 and R 2 are aryl groups having 6 to 13 carbon atoms include the following compounds. That is, as an example in which both X and Y are hydrogen atoms, 9,10-bis (phenoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (4-methylphenoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis ( 2-naphthyloxycarbonyloxy) anthracene and the like.

次に、X及び/又はYがアルキル基である場合としては、2−メチル−9,10−ビス(フェノキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(4−メチルフェノキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−メチル−9,10−ビス(2−ナフトイルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、1−メチル−9,10−ビス(フェノキシカルボニルオキシ)アントラセン、1−メチル−9,10−ビス(4−メチルフェノキシカルボニルオキシ)アントラセン、1−メチル−9,10−ビス(2−ナフチルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(フェノキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(4−メチルフェノキシカルボニルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ビス(2−ナフチルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、1−エチル−9,10−ビス(フェノキシカルボニルオキシ)アントラセン、1−エチル−9,10−ビス(4−メチルフェノキシカルボニルオキシ)アントラセン、1−エチル−9,10−ビス(2−ナフチルオキシカルボニルオキシ)アントラセン等が挙げられる。 Next, when X and / or Y is an alkyl group, 2-methyl-9,10-bis (phenoxycarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (4-methylphenoxycarbonyloxy) Anthracene, 2-methyl-9,10-bis (2-naphthoyloxycarbonyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (phenoxycarbonyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (4- Methylphenoxycarbonyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (2-naphthyloxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (phenoxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10- Bis (4-methylphenoxycarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl Ru-9,10-bis (2-naphthyloxycarbonyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (phenoxycarbonyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (4-methylphenoxycarbonyloxy) Anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (2-naphthyloxycarbonyloxy) anthracene and the like can be mentioned.

上記一般式(1)で表されるアントラセン化合物は、対応する9,10−ジヒドロキシアントラセン化合物を公知の方法でアシル化又は置換カルボニル化することにより製造することができる。 The anthracene compound represented by the general formula (1) can be produced by acylating or carbonylating the corresponding 9,10-dihydroxyanthracene compound by a known method.

上記化合物の中でも、380nmから400nmの波長の光の吸収性特性の良さと合成が容易で高純度で得られ、白色性が高いという点で、9,10−ビス(プロピオニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ブチリルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(i−ブチリルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−バレリルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(i−バレリルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ヘキサノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−へプタノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−オクタノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(2−エチルヘキサノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ノナノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ラウロイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(メトキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(エトキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−プロポキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(i−プロポキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(n−ブトキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(i−ブトキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(2−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(フェノキシカルボニルオキシ)アントラセンが好ましく、更に白色度が高いという点で、9,10−ビス(n−オクタノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(2−エチルヘキサノイルオキシ)アントラセン、9,1 0−ビス(n−プロポキシカルポニルオキシ)アントラセン、9,1 0−ビス(i―プロポキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,1 0−ビス(n―ブトキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,1 0−ビス(i―ブトキシカルボニルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(フェノキシカルボニルオキシ)アントラセンが好ましい。特に、9,10−ビス(n−オクタノイルオキシ)アントラセン、9,10−ビス(2−エチルヘキサノイルオキシ)アントラセンが好ましい。 Among the above-mentioned compounds, 9,10-bis (propionyloxy) anthracene, 9, 10-bis (n-butyryloxy) anthracene, 9,10-bis (i-butyryloxy) anthracene, 9,10-bis (n-valeryloxy) anthracene, 9,10-bis (i-valeryloxy) anthracene, 9,10- Bis (n-hexanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-heptanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-octanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (2-ethylhexanoyloxy) Anthracene, 9,10-bis (n-nonanoyloxy) anthracene, 9,10-bis ( -Lauroyloxy) anthracene, 9,10-bis (methoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (ethoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-propoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis ( i-propoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-butoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (i-butoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (2-ethylhexyloxycarbonyloxy) anthracene 9,10-bis (phenoxycarbonyloxy) anthracene is preferred, and 9,10-bis (n-octanoyloxy) anthracene and 9,10-bis (2-ethylhexanoyloxy) are more preferable in terms of high whiteness. Ant Sen, 9,10-bis (n-propoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (i-propoxycarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-butoxycarbonyloxy) anthracene, 9,1 0-bis (i-butoxycarbonyloxy) anthracene and 9,10-bis (phenoxycarbonyloxy) anthracene are preferred. In particular, 9,10-bis (n-octanoyloxy) anthracene and 9,10-bis (2-ethylhexanoyloxy) anthracene are preferable.

本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物は、320nmから400nmの波長範囲にいくつかの吸収ピークを持ち、当該波長領域の少なくとも一部の光線を吸収
して、その強度を低減することが可能な化合物である。特に、380から400nmに強い吸収ピークを持ち、従来の紫外線吸収剤ではカットしづらかった波長の光を低減することができることが特徴である。また、通常は、当該可視光に近い波長域の光線をカットすると光の黄味が強くなるという問題があるが、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物を用いるとその問題が軽減されるという特徴を有する。
The anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention has several absorption peaks in the wavelength range of 320 nm to 400 nm, and absorbs at least a part of light in the wavelength region to reduce its intensity. Is a possible compound. In particular, it has a strong absorption peak from 380 to 400 nm and is characterized by being able to reduce light having a wavelength that is difficult to cut with conventional ultraviolet absorbers. Further, usually, there is a problem that the yellowishness of light becomes strong when light rays in a wavelength range close to the visible light are cut. However, when the anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention is used, the problem arises. It has the feature of being reduced.

この詳細は明らかではないが、一般式(1)で表されるアントラセン化合物は紫外線領域のカット機能を有しているが、当該領域の光をカットしたにも関わらず黄味が強くならないのは、可視光領域に吸収をほとんど持たないという点と、当該アントラセン化合物が光を吸収した後、一部の励起されたアントラセン化合物が吸光スペクトルとは鏡像関係にある蛍光スペクトルを可視光領域に発光するため、いわゆる蛍光増白作用を持つため、黄色味が強くなるという問題を軽減することを可能にしていると考えられる。 Although this detail is not clear, the anthracene compound represented by the general formula (1) has a function of cutting the ultraviolet region, but the yellowness does not become strong even though the light in the region is cut. The point that it has almost no absorption in the visible light region, and after the anthracene compound absorbs light, some excited anthracene compounds emit in the visible light region a fluorescence spectrum that is mirror image Therefore, it is considered that it has a so-called fluorescent whitening effect, and therefore it is possible to alleviate the problem that the yellowness becomes strong.

<紫外線吸収剤組成物−1>
本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物の特徴のひとつは、320nmから400nmのUV−Aの波長範囲のみに吸収を持ち、280nmから320nmのUV−Bの波長範囲及び、400nm以上の可視光の波長範囲に吸収をほとんど持たないことである。よって、UV−Bの波長範囲の光もカットしたい場合は、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤と公知のUV−B吸収剤を併用し、UV−A、UV−Bの両方をカットする紫外線吸収剤組成物として用いることができる。
<Ultraviolet absorber composition-1>
One of the characteristics of the anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention is that it absorbs only in the wavelength range of 320 to 400 nm of UV-A and has a wavelength range of 280 to 320 nm in UV-B and 400 nm or more. It has almost no absorption in the visible light wavelength range. Therefore, when it is desired to cut light in the wavelength range of UV-B, a UV-A absorber that is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention and a known UV-B absorber are used in combination. It can be used as an ultraviolet absorber composition that cuts both -A and UV-B.

本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤と併用することができるUV−B吸収剤としては、UV−B波長領域に吸収を持つ化合物であれば特に限定されないが、以下のものが挙げられる。例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー社製「チヌビンP」)、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー社製「チヌビン320」)、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール(チバガイギー社製「チヌビン326」)、2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、エチル−4−イソプロピルシンナメート、メチル−2,5−ジイソプロピルシンナメート、エチル−2,4−ジイソプロピルシンナメート、2−エチルヘキシル−p−メトキシシンナメート、シクロヘキシル−p−メトキシシンナメート、エチル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート、2−エチルヘキシル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート、グリセリルモノ−2−エチルヘキサノイル−ジパラメトキシシンナメート等の桂皮酸系紫外線吸収剤、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4’−メチルベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシ−3−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸モノグリセリンエステル、N,N−ジプロポキシパラアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジエトキシパラアミノ安息香酸エチルエステル等のパラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤、アミルサリシレート、メンチルサリシレート、ホモメンチルサリシレート、オクチルサリシレート、フェニルサリシレート、ベンジルサリシレート、p−イソプロパノールフェニルサリシレート等のサリチル酸系紫外線吸収剤、3−(4−メチルベンジリデン)カンファー、3−ベンジリデン−d1−カンファー、ウロカニン酸、ウロカニン酸エチルエステル、オクチルトリアゾン、4−メトキシ−4’−t−ブチルジベンゾイルメタン等の紫外線吸収剤が挙げられる。これらのUV−B領域の紫外線吸収剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The UV-B absorber that can be used in combination with the UV-A absorber that is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention is particularly limited as long as it is a compound having absorption in the UV-B wavelength region. Although not, the following may be mentioned. For example, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole (“Tinuvin P” manufactured by Ciba Geigy), 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzo Triazole ("Tinuvin 320" manufactured by Ciba Geigy), 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole ("Cinuvin 326" manufactured by Ciba Geigy), 2- Benzotriazole ultraviolet absorbers such as (3,5-di-t-butyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, ethyl-4-isopropylcinnamate, methyl-2,5-diisopropylcinnamate, ethyl -2,4-diisopropylcinnamate, 2-ethylhexyl-p-methoxycinnamate, cyclohex Ru-p-methoxycinnamate, ethyl-α-cyano-β-phenylcinnamate, 2-ethylhexyl-α-cyano-β-phenylcinnamate, glyceryl mono-2-ethylhexanoyl-diparamethoxycinnamate, etc. Cinnamic acid UV absorber, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetra Benzophenone series such as hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-4'-methylbenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 4-hydroxy-3-carboxybenzophenone UV absorber, para-aminobenzoic acid Acid monoglycerin ester, N, N-dipropoxyparaaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-diethoxyparaaminobenzoic acid ethyl ester and other paraaminobenzoic acid UV absorbers, amyl salicylate, menthyl salicylate, homomenthyl salicylate, octyl salicylate , Salicylic acid ultraviolet absorbers such as phenyl salicylate, benzyl salicylate, p-isopropanol phenyl salicylate, 3- (4-methylbenzylidene) camphor, 3-benzylidene-d1-camphor, urocanic acid, urocanic acid ethyl ester, octyltriazone, Examples include ultraviolet absorbers such as 4-methoxy-4′-t-butyldibenzoylmethane. These ultraviolet absorbers in the UV-B region can be used singly or in combination of two or more.

UV−B吸収剤を併用する場合のUV−B吸収剤の使用量は任意に設定できるが、その使用量は、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤とUV−B吸収剤の質量比で1対0.1から1対5の割合で用いることが好ましい。 The amount of UV-B absorber used in combination with the UV-B absorber can be arbitrarily set, but the amount used is UV-A absorption which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention. It is preferable to use it in the ratio of 1 to 0.1 to 1 to 5 by mass ratio of the agent and the UV-B absorber.

<紫外線吸収剤組成物−2>
また、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤と他の公知のUV−A吸収剤を併用することも可能である。公知のUV−A吸収剤と本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤を併用することにより、特に、公知のUV−A吸収剤ではカットし難かった380nmから400nmの光のカット率を向上させることができる。
<Ultraviolet absorber composition-2>
Moreover, it is also possible to use together the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by General formula (1) of this invention, and another well-known UV-A absorber. By using a known UV-A absorber in combination with a UV-A absorber that is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention, in particular, the known UV-A absorber was difficult to cut at 380 nm. Therefore, the cut rate of 400 nm light can be improved.

本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤と併用することができる他のUV−A吸収剤としては、特に限定されないが、以下のものが挙げられる。例えば、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオン酸2−エチルヘキシル、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル]−6−(2,4−ジブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−(4,6−ビス−{2−ヒドロキシ−4−[1−(6−メチル−ヘプチルオキシカルボニル)−エトキシ]−フェニル}−[1,3,5]トリアジン−2−イル)−3−ヒドロキシ−フェノキシ]−プロピオン酸 6−メチル−ヘプチル エステルなどが挙げられる。これらのUV−A領域の紫外線吸収剤は1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Although it does not specifically limit as another UV-A absorber which can be used together with the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by General formula (1) of this invention, The following are mentioned. For example, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 4-tert-butyl-4'-methoxydibenzoylmethane, diethylaminohydroxybenzoyl hexyl benzoate, dimethoxybenzylidenedioxoimidazolidinepropionate 2-ethylhexyl, methylenebisbenzotriazolyl Tetramethylbutylphenol, bisethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine, 2,4-bis [2-hydroxy-4-butoxyphenyl] -6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2- [4- (4,6-bis- {2-hydroxy-4- [1- (6-methyl-heptyloxycarbonyl) -ethoxy] -phenyl}-[1,3,5] triazin-2-yl)- 3-hydroxy-phenoxy] -propi Phosphate 6-methyl - heptyl ester. These ultraviolet absorbers in the UV-A region can be used alone or in combination of two or more.

本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物以外のUV−A吸収剤を併用する場合、当該UV−A吸収剤の使用量は任意に設定できるが、その使用量は、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤と一般式(1)で表されるアントラセン化合物以外のUV−A吸収剤の質量比で1対0.1から1対5の割合で用いることが好ましい。 When the UV-A absorber other than the anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention is used in combination, the amount of the UV-A absorber used can be arbitrarily set. The mass ratio of the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) and the UV-A absorber other than the anthracene compound represented by the general formula (1) is 1 to 0.1 to 1 to 5 It is preferable to use in the ratio.

<光安定剤>
本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤、または本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物には、更に光安定剤を含有することができる。
<Light stabilizer>
The UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention, or the UV absorber which contains the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention The composition may further contain a light stabilizer.

光安定剤をさらに含有することにより、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤の光による分解を抑制して、その安定性を高めることができる。 By further containing a light stabilizer, decomposition of the UV-A absorber, which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention, by light can be suppressed, and its stability can be enhanced.

用いられる光安定剤としては、特に限定されないが、ヒンダードアミン系安定剤が好ましい。ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルステアレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルステアレート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルベンゾエート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1,5,8,12−テトラキス〔2,4−ビス(N−ブチル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イル〕−1,5,8,12−テトラアザドデカン、1,5,8,12−テトラキス〔2,4−ビス(N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イル〕−1,5,8,12−テトラアザドデカン、1,6,11−トリス〔2,4−ビス(N−ブチル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イルアミノウンデカン、1,6,11−トリス〔2,4−ビス(N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イルアミノウンデカン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケート、ビス(1−ウンデシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)カーボネート、1,6−ジアミノヘキサンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジン及びN,N−ジブチルアミンと4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの縮合物等のヒンダードアミン化合物が挙げられる。 The light stabilizer used is not particularly limited, but a hindered amine stabilizer is preferable. Examples of the hindered amine light stabilizer include 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl stearate, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl stearate, and 2,2,6. , 6-tetramethyl-4-piperidylbenzoate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 1,5,8,12-tetrakis [2,4-bis (N-butyl-N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) amino) -s-triazin-6-yl]- 1,5,8,12-tetraazadodecane, 1,5,8,12-tetrakis [2,4-bis (N-butyl-N- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) Amino) -s-to Azin-6-yl] -1,5,8,12-tetraazadodecane, 1,6,11-tris [2,4-bis (N-butyl-N- (2,2,6,6-tetramethyl) -4-piperidyl) amino) -s-triazin-6-ylaminoundecane, 1,6,11-tris [2,4-bis (N-butyl-N- (1,2,2,6,6-pentamethyl) -4-piperidyl) amino) -s-triazin-6-ylaminoundecane, bis (1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) sebacate, bis (1-undecyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) carbonate, 1,6-diaminohexane and 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine and N, N-dibutylamine and 4 -Butylamino- , 2,6,6-hindered amine compounds of condensates of tetramethyl piperidine.

光安定剤の含有量は任意に設定できるが、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤又は一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物に対して質量比で1対0.1から1対5の割合で用いることが好ましい。 Although the content of the light stabilizer can be arbitrarily set, the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention or the UV- which is an anthracene compound represented by the general formula (1). It is preferably used in a mass ratio of 1 to 0.1 to 1 to 5 with respect to the ultraviolet absorber composition containing the A absorber.

<酸化防止剤、一重項酸素クエンチャー>
本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤、または本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物には、更に酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーを含有することができる。
<Antioxidant, singlet oxygen quencher>
The UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention, or the UV absorber which contains the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention The composition can further contain an antioxidant and / or a singlet oxygen quencher.

本発明で用いられる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、ペンタエリスリトール系酸化防止剤等を挙げることができる。 Examples of the antioxidant used in the present invention include phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, and pentaerythritol antioxidants.

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、α−トコフェロール、ブチルヒドロキシトルエン、シナピルアルコール、ビタミンE、ヒドロキシフェニルプロピオネート系化合物、ヒドロキシベンジル系化合物、チオフェノール系化合物、アルカンジイルフェノール系化合物等を挙げることができる。   Examples of phenolic antioxidants include α-tocopherol, butylhydroxytoluene, sinapyl alcohol, vitamin E, hydroxyphenylpropionate compounds, hydroxybenzyl compounds, thiophenol compounds, alkanediylphenol compounds, and the like. be able to.

ヒドロキシフェニルプロピオネート系化合物の具体例としては、3,9−ビス[2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニロキシ〕−1,1−ジメチルエトキシ]−2,4,8,10−テロラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリエチレングリコール-ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ-ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラキス[メチレン−3−(3,5'−ジ−t−ブチル−4'−ヒドロキシフェニルプロピオネート)]メタン等を挙げることができる。 Specific examples of hydroxyphenylpropionate compounds include 3,9-bis [2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethoxy. ] -2,4,8,10-terolaoxaspiro [5.5] undecane, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate ], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadec -[3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, tetrakis [methylene-3- (3,5′-di-tert-butyl-4′-hydroxyphenylpropionate)] methane Etc.

ヒドロキシベンジル系化合物の具体例としては、1,3,5,−トリメチル−2,4,6,−トリス(3',5'−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1,3,5−トリス(4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−イソシアヌレイト等を挙げることができる。   Specific examples of hydroxybenzyl compounds include 1,3,5, -trimethyl-2,4,6, -tris (3 ′, 5′-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 1,3. , 5-tris (4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, 1,3,5-tris (4-t-butyl-3) -Hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) -isocyanurate and the like.

チオフェノール系化合物の具体例としては、4,4'−チオビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、 チオメチルフェノール系化合物の具体例としては、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール等を挙げることができる。   Specific examples of thiophenol compounds include 4,4′-thiobis (6-tert-butyl-3-methylphenol), and specific examples of thiomethylphenol compounds include 2,4-bis [(octylthio) methyl. ] -O-cresol etc. can be mentioned.

アルカンジイルフェノール系化合物の具体例としては、N,N'−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4'−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン等を挙げることができる。   Specific examples of alkanediylphenol compounds include N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 2,2′-methylenebis (4-methyl). -6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) ) Butane and the like.

リン系酸化防止剤の具体例としては、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリス(ノニルフェニル)ホスフェート、2−エチルフェニルジフェニルホスフェート、3,9−ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチル−1−フェニルオキシ)(2−エチルヘキシルオキシ)ホスホラス、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェピン、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、4,4'−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニルジトリデシル)ホスファイト、オクタデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−デシロキシ−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4'−ジイルビスホスフォナイト、ビス[2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)−6−メチルフェニル]エチルエステル、ホスフォン酸等を挙げることができる。 Specific examples of phosphorus antioxidants include triphenyl phosphite, trisnonylphenyl phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate. , Triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, tris (nonylphenyl) phosphate, 2-ethylphenyldiphenyl phosphate, 3,9-bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy) -2,4 8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, diisodecylpentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, 2,2′-methyle Bis (4,6-di-t-butyl-1-phenyloxy) (2-ethylhexyloxy) phosphorus, 6- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2 , 4,8,10-tetra-t-butyldibenz [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine, triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, 4,4 ′ -Butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenylditridecyl) phosphite, octadecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 -Oxide, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro- 9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-decyloxy-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, tris (2,4-di-t-butylphenyl) ) Phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (2,6-di-t-butylphenyl) phosphite, 2, 2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4′-diylbisphosphonite Bis [2,4-bis (1,1-dimethylethyl) -6-methylphenyl] ethyl ester, phosphonic acid, etc. be able to.

イオウ系酸化防止剤としては、例えば、チオプロピオネート系化合物、メルカプトベンズイミダゾール系化合物を挙げることができる。チオプロピオネート系化合物の具体例としては、2,2−ビス({[3−(ドデシルチオ)プロピオニル]オキシ}メチル)−1,3−プロパンジイル−ビス[3−(ドデシルチオ)プロピオナート]、ジラウリル−3,3'−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3'−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3'−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)等を挙げることができる。メルカプトベンズイミダゾール系化合物の具体例としては、2−メルカプトベンズイミダゾール等を挙げることができる。 Examples of the sulfur-based antioxidant include thiopropionate compounds and mercaptobenzimidazole compounds. Specific examples of thiopropionate compounds include 2,2-bis ({[3- (dodecylthio) propionyl] oxy} methyl) -1,3-propanediyl-bis [3- (dodecylthio) propionate], dilauryl. −3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol tetrakis (3-laurylthiopropionate), etc. Can be mentioned. Specific examples of mercaptobenzimidazole compounds include 2-mercaptobenzimidazole.

フェノール構造を有する酸化防止剤の市販品としては、例えばアデカスタブAO−20、同AO−30、同AO−40、同AO−50、同AO−60、同AO−70、同AO−80、同AO−330(以上、ADEKA社)、sumilizerGM、同GS、同MDP−S、同BBM−S、同WX−R、同GA−80(以上、住友化学社)、IRGANOX1010、同1035、同1076、同1098、同1135、同1330、同1726、同1425WL、同1520L、同245、同259、同3114、同565、IRGAMOD295(以上、ビー・エー・エス・エフ社)、ヨシノックスBHT、同BB、同2246G、同425、同250、同930、同SS、同TT、同917、同314(以上、エーピーアイコーポレーション社)等が挙げられる。 Examples of commercially available antioxidants having a phenol structure include ADK STAB AO-20, AO-30, AO-40, AO-50, AO-60, AO-70, AO-80, and AO-80. AO-330 (above, ADEKA), sumilizer GM, GS, MDP-S, BBM-S, WX-R, GA-80 (above, Sumitomo Chemical), IRGANOX 1010, 1035, 1076, 1098, 1135, 1330, 1726, 1425WL, 1520L, 245, 259, 3114, 565, IRGAMOD295 (above, BSF Corporation), Yoshinox BHT, BB, 2246G, 425, 250, 930, SS, TT, 917, 314 (above, API Corporation) Deployment Co., Ltd.), and the like.

本発明で用いることができる一重項酸素クエンチャーとしては、一重項状態の酸素からのエネルギー移動により一重項酸素を失活させ得る化合物であれば用いることができる。本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物は、UV−Aを吸収する能カを有するが、UV−Aを吸収した励起状態のアントラセン化合物が、系内に酸素が存在するときにはその酸素と反応して一重項酸素を生成し、その一重項酸素により、アントラセン化合物及び/又は他の添加物を分解する可能性がある。その反応を防ぐ目的で、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物を含有するUV−A吸収剤には、一重項酸素クエンチャーを含有することが好ましい。 As the singlet oxygen quencher that can be used in the present invention, any compound that can deactivate singlet oxygen by energy transfer from singlet state oxygen can be used. The anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention has the ability to absorb UV-A, but when an anthracene compound in an excited state that has absorbed UV-A is present in the system, It can react with oxygen to produce singlet oxygen, which can decompose anthracene compounds and / or other additives. For the purpose of preventing the reaction, the UV-A absorber containing the anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention preferably contains a singlet oxygen quencher.

一重項酸素クエンチャーとしては、例えば、テトラメチルエチレン、シクロペンテン、シクロヘキセン、2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン、1,3−シクロペンタジエン、α−テルピネン等のエチレン性化合物;ジエチルアミン、トリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロオクタン(DABCO)、N−エチルイミダゾール、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(3−メチルフェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン、N−イソプロピルカルバゾール、N−フェニルカルバゾール等のアミン類;ナフタレン、ジメチルナフタレン、ピレン、クリセン、ペリレン、コロネン、テトラセン、ペンタセン、ルブレン、3,4−ベンゾフルオランスレン、2,3−ベンゾフルオレン、1,12−ベンゾペリレン、3,4−ベンゾピレン、4,5−ベンゾピレン、及びこれらのアルキル置換体等の縮合多環芳香族化合物;1,3−ジフェニルイソベンゾフラン、1,2,3,4−テトラフェニル−1,3−シクロペンタジエン、ペンタフェニルシクロペンタジエン等の芳香族化合物等を挙げることができる。 Examples of the singlet oxygen quencher include ethylenic compounds such as tetramethylethylene, cyclopentene, cyclohexene, 2,5-dimethyl-2,4-hexadiene, 1,3-cyclopentadiene, α-terpinene; diethylamine, triethylamine, 1,4-diazabicyclooctane (DABCO), N-ethylimidazole, N, N′-diphenyl-N, N′-di (3-methylphenyl) -1,1′-biphenyl-4,4′-diamine Amines such as N-isopropylcarbazole and N-phenylcarbazole; naphthalene, dimethylnaphthalene, pyrene, chrysene, perylene, coronene, tetracene, pentacene, rubrene, 3,4-benzofluoranthrene, 2,3-benzofluorene, 1,12-benzoperylene, 3,4- Condensed polycyclic aromatic compounds such as nzopyrene, 4,5-benzopyrene, and alkyl-substituted products thereof; 1,3-diphenylisobenzofuran, 1,2,3,4-tetraphenyl-1,3-cyclopentadiene, penta And aromatic compounds such as phenylcyclopentadiene.

更に、一重項酸素クエンチャーとして、硫黄原子を有する化合物を配位子とする金属錯体を挙げることができる。このような一重項酸素クエンチャーとしては、例えば、ビスジチオ−α−ジケトン、ビスフェニルジチオール、及びチオビスフェノールを配位子とする、ニッケル錯体、コバルト錯体、銅錯体、マンガン錯体、白金錯体等の遷移金属キレート化合物を挙げることができる。遷移金属キレート化合物の具体例としては、例えば、ビス(ジチオベンジル)ニッケル、ビス(4−ジメチルアミノジチオベンジル)ニッケル、ビス(ジチオビアセチル)ニッケル、ビス(ジブチルジチオカルバミン酸)ニッケル、ビス(オクチルフェニル)サルファイドニッケル、ビス(1,2−ジチオフェノレート)ニッケル テトラブチルアンモニウム塩、ビス(チオカテコール)ニッケル テトラブチルアンモニウム塩、ビス(4,4'−ジ−tert−ブチル−ジチオベンジル)ニッケル、ビス(4,4'−ジイソプロピルジチオベンジル)ニッケル、4−N,N−ジエチルスルファモイル−1,2−ベンゼンジチオールニッケル及びその誘導体が挙げられる。コバルト、銅、マンガン、白金錯体についても同様の化合物を挙げることができる。 Furthermore, examples of the singlet oxygen quencher include metal complexes having a sulfur atom-containing compound as a ligand. Examples of such a singlet oxygen quencher include transitions of nickel complexes, cobalt complexes, copper complexes, manganese complexes, platinum complexes, etc. having bisdithio-α-diketone, bisphenyldithiol, and thiobisphenol as ligands. Mention may be made of metal chelate compounds. Specific examples of the transition metal chelate compound include, for example, bis (dithiobenzyl) nickel, bis (4-dimethylaminodithiobenzyl) nickel, bis (dithiobiacetyl) nickel, bis (dibutyldithiocarbamate) nickel, and bis (octylphenyl). ) Sulfide nickel, bis (1,2-dithiophenolate) nickel tetrabutylammonium salt, bis (thiocatechol) nickel tetrabutylammonium salt, bis (4,4′-di-tert-butyl-dithiobenzyl) nickel, bis (4,4′-diisopropyldithiobenzyl) nickel, 4-N, N-diethylsulfamoyl-1,2-benzenedithiolnickel and its derivatives. The same compound can be mentioned about cobalt, copper, manganese, and a platinum complex.

本発明において、酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーは、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。また、光安定剤と合わせて使用することもできる。 In the present invention, the antioxidant and / or singlet oxygen quencher can be used alone or in admixture of two or more. It can also be used in combination with a light stabilizer.

酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーの含有量は任意に設定できるが、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤又は一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物に対して質量比で1対0.1から1対5の割合で用いることが好ましい。 Although content of antioxidant and / or singlet oxygen quencher can be set arbitrarily, it is represented by UV-A absorber or general formula (1) which is an anthracene compound represented by general formula (1) of the present invention. It is preferable to use it by the ratio of 1: 0.1 to 1: 5 by mass ratio with respect to the ultraviolet absorber composition containing the UV-A absorber which is an anthracene compound.

<UV−Aカットフィルムの調製>
本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤又は本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物を含有する紫外線吸収剤組成物は、そのまま他の化合物と混合して、または溶媒と混合してあるいはペースト状にして用いることができる。例えば、PMMAやABS等の樹脂へ、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤又は本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物を含有する紫外線吸収剤組成物を練り込んだり、樹脂とともに溶媒に溶解又は分散させて添加したりして、UV−Aカット効果を持つプレート、シートやフィルム等として用いることができる。更にまた、重合性化合物中に本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤又は本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物を含有する紫外線吸収剤組成物を配合した後、当該重合性化合物を熱又は光重合することにより、UV−A吸収剤を含有する硬化物、特にフィルム状物とすることもできる。
<Preparation of UV-A cut film>
The UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention or the ultraviolet absorber composition containing the anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention is used as it is with other compounds. It can be used as a paste or mixed with a solvent or mixed with a solvent. For example, UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention or an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention to a resin such as PMMA or ABS It can be used as a plate, sheet, film or the like having a UV-A cut effect by kneading the absorbent composition or adding it by dissolving or dispersing it in a solvent together with a resin. Furthermore, the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention or the anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention in the polymerizable compound. After blending the composition, the polymerizable compound may be heat or photopolymerized to obtain a cured product containing the UV-A absorber, particularly a film.

フィルム状とする場合には、簡便性、透明性の高さから光重合硬化が好ましい。すなわち、発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤又は本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物を含有する紫外線吸収剤組成物及び必要であれば光重合開始剤を光重合性化合物に添加し、光重合性組成物を調製して、当該光重合性組成物に光エネルギーを照射することにより、重合硬化させる方法である。 In the case of a film, photopolymerization and curing are preferable because of simplicity and transparency. That is, the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the invention or the ultraviolet absorber composition containing the anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention, and if necessary. In this method, a photopolymerization initiator is added to a photopolymerizable compound to prepare a photopolymerizable composition, and the photopolymerizable composition is polymerized and cured by irradiation with light energy.

<光重合性組成物>
当該光重合性組成物は、光カチオン重合性組成物であっても、光ラジカル重合性組成物であってもよい。
<Photopolymerizable composition>
The photopolymerizable composition may be a photocationic polymerizable composition or a photoradical polymerizable composition.

<光重合開始剤>
本発明の光重合性組成物に用いられる光重合開始剤について説明する。光重合開始剤としては、オニウム塩、ベンジルメチルケタール系光重合開始剤、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤、α−アミノフェノン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、ビイミダゾール系光重合開始剤などが挙げられる。
<Photopolymerization initiator>
The photoinitiator used for the photopolymerizable composition of this invention is demonstrated. Photopolymerization initiators include onium salts, benzylmethyl ketal photopolymerization initiators, α-hydroxyalkylphenone photopolymerization initiators, α-aminophenone photopolymerization initiators, acylphosphine oxide photopolymerization initiators, and oximes. Examples thereof include ester photopolymerization initiators and biimidazole photopolymerization initiators.

まず初めに、オニウム塩としては、通常スルホニウム塩またはヨードニウム塩が使用される。スルホニウム塩としては、アリールスルホニウム塩が好ましく、S,S,S’、S’−テトラフェニル−S,S’−(4,4’−チオジフェニル)ジスルホニウム ビスヘキサフルオロフォスフェート、ジフェニル−4−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートが挙げられ、例えば、サンアプロ社製 商品名:CPI−100P、ビー・エ−・エス・エフ社製 商品名:イルガキュア270(イルガキュアは、ビー・エー・エス・エフ社の登録商標)を用いることが出来る。一方、ヨードニウム塩としては、アリールヨードニウム塩が好ましく、4−イソブチルフェニル−4’−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−イソプロピルフェニル−4’−メチルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレートが挙げられ、例えばビー・エ−・エス・エフ社製、商品名:イルガキュア250又は、ソルベイジャパン社製、商品名:PHOTOINITIATOR2074を用いることが出来る。 First, as the onium salt, a sulfonium salt or an iodonium salt is usually used. As the sulfonium salt, arylsulfonium salts are preferable, and S, S, S ′, S′-tetraphenyl-S, S ′-(4,4′-thiodiphenyl) disulfonium bishexafluorophosphate, diphenyl-4- Examples thereof include phenylthiophenylsulfonium hexafluorophosphate and triphenylsulfonium hexafluorophosphate. For example, product name: CPI-100P, manufactured by BSF Corporation, product name: Irgacure 270 (Irgacure is B・ Registered trademark of ASF Corporation). On the other hand, as the iodonium salt, aryl iodonium salt is preferable, 4-isobutylphenyl-4′-methylphenyliodonium hexafluorophosphate, bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, 4-isopropylphenyl-4′-methylphenyl Examples thereof include iodonium tetrakispentafluorophenylborate. For example, trade name: Irgacure 250, or Solvay Japan, trade name: PHOTOINITIATOR 2074, manufactured by BSFS, Inc. can be used.

ベンジルメチルケタール系ラジカル重合開始剤としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名「イルガキュア651」ビー・エー・エス・エフ社製)等が挙げられる。α−ヒドロキシアルキルフェノン系ラジカル重合開始剤としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(商品名「イルガキュア1173」ビー・エー・エス・エフ社製)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名「イルガキュア184」ビー・エー・エス・エフ社製)、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(商品名「イルガキュア2959」ビー・エー・エス・エフ社製)、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−1−オン(商品名「イルガキュア127」ビー・エー・エス・エフ社製)が挙げられる。 Examples of the benzylmethyl ketal-based radical polymerization initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (trade name “Irgacure 651” manufactured by BAS Corporation). As the α-hydroxyalkylphenone-based radical polymerization initiator, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (trade name “Irgacure 1173” manufactured by BSF Corporation), 1-hydroxy Cyclohexyl phenyl ketone (trade name “Irgacure 184” manufactured by BSF Corporation), 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1- ON (trade name “Irgacure 2959” manufactured by BASF), 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl -1-one (trade name “Irgacure 127” manufactured by BSF Corporation) is exemplified.

また、アセトフェノン系ラジカル重合開始剤であるアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−エトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−メトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−イソプロポキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−イソブトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ベンジル系ラジカル重合開始剤であるベンジル、4,4’−ジメトキシベンジル、アントラキノン系ラジカル重合開始剤である2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−フェノキシアントラキノン、2−(フェニルチオ)アントラキノン、2−(ヒドロキシエチルチオ)アントラキノン等も用いることができる。 Further, acetophenone radical polymerization initiators such as acetophenone, 2-hydroxy-2-phenylacetophenone, 2-ethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methoxy-2-phenylacetophenone, 2-isopropoxy-2-phenylacetophenone, 2 -Isobutoxy-2-phenylacetophenone, benzyl radical polymerization initiator benzyl, 4,4'-dimethoxybenzyl, anthraquinone radical polymerization initiator 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-phenoxyanthraquinone 2- (phenylthio) anthraquinone, 2- (hydroxyethylthio) anthraquinone, and the like can also be used.

<重合性化合物>
次に、重合性化合物について説明する。重合性化合物としては、カチオン重合性化合物、ラジカル重合性化合物のどちらも用いることができる。まず初めに、カチオン重合性化合物である場合を説明する。
<Polymerizable compound>
Next, the polymerizable compound will be described. As the polymerizable compound, either a cationic polymerizable compound or a radical polymerizable compound can be used. First, the case of a cationically polymerizable compound will be described.

本発明に使用することができる光カチオン重合性化合物としてはエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物が挙げられる。エポキシ化合物として一般的なものは脂環式エポキシ化合物、エポキシ変性シリコーン、芳香族グリシジル化合物である。脂環式エポキシ化合物としては3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ダイセル社製セロキサイド2021P、セロキサイドは株式会社ダイセルの登録商標)、1,2−エポキ−4−ビニルシクロヘキサン(ダイセル社製セロキサイド2000)、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられ、この中でも、特に3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートを用いることが好ましい。芳香族グリシジル化合物としては2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパンが挙げられる。ビニルエーテル化合物としてはメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル等が挙げられる。又、エポキシ変性シリコーンとしては、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のUV−9300を用いることが出来る。 Examples of the photocationically polymerizable compound that can be used in the present invention include epoxy compounds and vinyl ether compounds. Common epoxy compounds are alicyclic epoxy compounds, epoxy-modified silicones, and aromatic glycidyl compounds. As the alicyclic epoxy compound, 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Delcel's Celoxide 2021P, Celoxide is a registered trademark of Daicel Corporation), 1,2-epoxy-4- Examples include vinylcyclohexane (Celoxide 2000 manufactured by Daicel Corporation), bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, among which 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate is particularly used. Is preferred. Examples of the aromatic glycidyl compound include 2,2'-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane. Examples of the vinyl ether compound include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether and the like. As the epoxy-modified silicone, UV-9300 manufactured by Momentive Performance Materials Japan GK can be used.

次に、重合性化合物がラジカル重合性化合物である場合を説明する。 Next, the case where the polymerizable compound is a radical polymerizable compound will be described.

光ラジカル重合性化合物としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等の二重結合を有する有機化合物を用いることができる。これらのラジカル重 合性化合物のうち、フィルム形成能等の面から、アクリル酸エステルやメタクリル酸エステル(以下、両者をあわせて「(メタ)アクリル酸エステル」という)が好ましい。(メタ)アクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリ ル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、シリコーン樹脂アクリレート、イミドアクリレート等が挙げられる。これらの光ラジカル重合性化合物は、単一化合物でも二種以上の混合物であっても良い。 As the photoradical polymerizable compound, for example, an organic compound having a double bond such as styrene, vinyl acetate, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, acrylic acid ester, and methacrylic acid ester can be used. . Of these radically polymerizable compounds, acrylic acid esters and methacrylic acid esters (hereinafter referred to as “(meth) acrylic acid esters” together) are preferable from the viewpoint of film forming ability and the like. (Meth) acrylic acid esters include methyl acrylate, butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, methyl methacrylate, butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetra Examples include ethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polybutadiene acrylate, polyol acrylate, polyether acrylate, silicone resin acrylate, and imide acrylate. . These radical photopolymerizable compounds may be a single compound or a mixture of two or more.

一般式(1)に表されるアントラセン化合物と光重合開始剤を別々に重合性化合物に添加することも可能であるが、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤又は一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物と光重合開始剤をあらかじめ混合した後に、重合性化合物に添加することも可能である。 Although it is possible to separately add the anthracene compound represented by the general formula (1) and the photopolymerization initiator to the polymerizable compound, the UV- which is the anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention. It is also possible to add to the polymerizable compound after pre-mixing the ultraviolet absorber composition containing the UV-A absorber, which is an A-absorber or an anthracene compound represented by the general formula (1), and a photopolymerization initiator. It is.

本発明の光カチオン重合性組成物又は光ラジカル重合性組成物における一般式(1)に表されるアントラセン化合物の使用量は、重合性化合物100部に対して 0.001重量部以上、5重量部未満の範囲、好ましくは0.01重量部以上、3重量部未満である。0.001重量部未満だとUV−A遮断効果が乏しく、一方、5重量部以上だと光重合させて得られる重合物の物性を悪化させるため好ましくない。 The amount of the anthracene compound represented by the general formula (1) in the photocationically polymerizable composition or the radically polymerizable composition of the present invention is 0.001 part by weight or more and 5 parts by weight with respect to 100 parts of the polymerizable compound. The range is less than 1 part, preferably 0.01 parts by weight or more and less than 3 parts by weight. If it is less than 0.001 part by weight, the UV-A blocking effect is poor, whereas if it is more than 5 parts by weight, the physical properties of the polymer obtained by photopolymerization are deteriorated, which is not preferable.

本発明の光カチオン重合性組成物又は光ラジカル重合性組成物における光重合開始剤の使用量は、重合性化合物100部に対して0.005重量部以上、10重量部未満の範囲、好ましくは0.01重量部以上、5重量部未満である。0.005重量部未満だと光重合性組成物を光重合させるのに時間がかかってしまい、一方10重量部以上だと光重合させて得られる重合物の硬度が低下し、重合物の物性を悪化させるため好ましくない。 The amount of the photopolymerization initiator used in the photocationic polymerizable composition or the photoradical polymerizable composition of the present invention is in the range of 0.005 parts by weight or more and less than 10 parts by weight, preferably 100 parts by weight of the polymerizable compound. 0.01 parts by weight or more and less than 5 parts by weight. If it is less than 0.005 parts by weight, it takes time to photopolymerize the photopolymerizable composition. On the other hand, if it is more than 10 parts by weight, the hardness of the polymer obtained by photopolymerization decreases, and the physical properties of the polymer are reduced. This is not preferable because of worsening

<溶剤>
本発明の光重合性組成物は、一般に基材の上に薄く塗布して用いられるため、塗工性が良好となるとの観点から、更に、溶剤を含んでもよい。もちろん、無溶剤でも問題はない。溶剤は、上述した各成分を溶解することができるものであれば特に限定されない。例えば、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノンのようなケトン類;プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、イソプロピルアルコール(IPA)のようなアルコール;シクロヘキサンのようなシクロアルカン;トルエン、キシレン、ベンジルアルコールのような芳香族炭化水素化合物が挙げられる。なかでも、溶解性、乾燥性や塗装性に優れるという観点から、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、MIBKが好ましい。溶剤は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
<Solvent>
Since the photopolymerizable composition of the present invention is generally used by being thinly coated on a substrate, it may further contain a solvent from the viewpoint of improving the coatability. Of course, there is no problem even without solvent. A solvent will not be specifically limited if it can melt | dissolve each component mentioned above. For example, ketones such as methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone; alcohols such as propylene glycol monomethyl ether (PGME) and isopropyl alcohol (IPA); cycloalkanes such as cyclohexane; toluene, xylene, Aromatic hydrocarbon compounds such as benzyl alcohol can be mentioned. Of these, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and MIBK are preferred from the viewpoint of excellent solubility, drying properties, and paintability. A solvent can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

本発明においては、溶剤を用いる場合のその含有量は、塗工性の観点から、光重合性組成物の全量中、0.1〜85質量%であるのが好ましい。 In the present invention, the content in the case of using a solvent is preferably 0.1 to 85% by mass in the total amount of the photopolymerizable composition from the viewpoint of coatability.

<レベリング剤>
本発明の組成物は、溶剤を含む場合、更に、レベリング剤を含むのが好ましい。もちろん、無添加でも問題はない。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤、アクリル系レベリング剤、ビニル系レベリング剤、フッ素系レベリング剤等が挙げられる。これらのうち、重合皮膜の均一性を高め、結果として、重合皮膜の透明性が良好となるという理由から、アクリル系レベリング剤を用いるのが好ましい。
<Leveling agent>
When the composition of the present invention contains a solvent, it preferably further contains a leveling agent. Of course, there is no problem even if it is not added. Examples of the leveling agent include silicone leveling agents, acrylic leveling agents, vinyl leveling agents, and fluorine leveling agents. Among these, it is preferable to use an acrylic leveling agent because the uniformity of the polymer film is improved and as a result, the transparency of the polymer film is improved.

本発明においては、任意のレベリング剤の含有量は、塗工性の観点から、光重合性組成物の全量中、0.01〜3質量%であるのが好ましい。 In this invention, it is preferable that content of arbitrary leveling agents is 0.01-3 mass% in the whole quantity of a photopolymerizable composition from a viewpoint of coating property.

<フィルムの調製>
本発明のUV−Aカットフィルムは、基材上に上記光重合性組成物を塗布し、光を照射することにより重合硬化させ重合皮膜を形成することにより製造することができる。
<Preparation of film>
The UV-A cut film of this invention can be manufactured by apply | coating the said photopolymerizable composition on a base material, polymerizing and hardening by irradiating light, and forming a polymer film.

<基材>
基材としては特に限定されず、その構成材料としては、例えば、プラスチック、ゴム、ガラス、金属、セラミック等が挙げられる。ここで、プラスチックは、熱重合性樹脂および熱可塑性樹脂のいずれであってもよく、その具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、シクロオレフィン系重合体(単独重合体、共重合体、水素添加物を含む。例えば、COPやCOC)、ポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA樹脂)、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、アセテート樹脂、ABS樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。また、上記基材は、例えば、コロナ処理のような表面処理がなされていてもよい。また、上記基材の形態は特に限定されないが、フィルム状であるのが好ましい。これらの中で、ガラス基材、金属基材又は酸素バリアフィルムを基材とすることが好ましい。これらの酸素非透過性の基材を用い、更に、酸素バリアフィルを被せることにより、本発明のUV−A吸収剤を含有する光重合性組成物を安定的にフィルム状とすることができる。
<Base material>
It does not specifically limit as a base material, As a constituent material, plastics, rubber | gum, glass, a metal, a ceramic etc. are mentioned, for example. Here, the plastic may be either a thermopolymerizable resin or a thermoplastic resin. Specific examples thereof include polyethylene terephthalate (PET), cycloolefin polymer (homopolymer, copolymer, hydrogenated). For example, COP and COC), polymethyl methacrylate resin (PMMA resin), polycarbonate resin, polystyrene resin, acrylonitrile / styrene copolymer resin, polyvinyl chloride resin, acetate resin, ABS resin, polyester resin, polyamide resin, etc. Is mentioned. The base material may be subjected to a surface treatment such as a corona treatment. The form of the substrate is not particularly limited, but is preferably a film. Among these, it is preferable to use a glass substrate, a metal substrate, or an oxygen barrier film as a substrate. By using these oxygen-impermeable substrates and further covering with an oxygen barrier fill, the photopolymerizable composition containing the UV-A absorber of the present invention can be stably formed into a film.

上述した方法で調製した光重合性組成物を基材上に塗布し、硬化させ、基材上に重合性皮膜を形成する。 The photopolymerizable composition prepared by the above-described method is applied onto a substrate and cured to form a polymerizable film on the substrate.

基材および重合皮膜の厚さは特に制限されないが、基材の厚さは50〜300μm程度であるのが好ましく、重合皮膜の厚さは0.1〜100μm程度であるのが好ましい。 The thickness of the substrate and the polymer film is not particularly limited, but the thickness of the substrate is preferably about 50 to 300 μm, and the thickness of the polymer film is preferably about 0.1 to 100 μm.

例えば、フィルム状の基材上に、本発明の光重合性組成物を塗工し、乾燥し、紫外線を照射する工程を有する方法が挙げられる。ここで、本発明の光重合性組成物を基材上に塗工する方法は特に限定されず、例えば、はけ塗り、流し塗り、浸漬塗り、スプレー塗り、スピンコート等の公知の塗布方法を採用できる。また、塗工後に乾燥させる温度は、20〜110℃であるのが好ましい。 For example, the method which has the process of apply | coating the photopolymerizable composition of this invention on a film-form base material, drying, and irradiating an ultraviolet-ray is mentioned. Here, the method for coating the photopolymerizable composition of the present invention on the substrate is not particularly limited. For example, a known coating method such as brush coating, flow coating, dip coating, spray coating, spin coating or the like is used. Can be adopted. Moreover, it is preferable that the temperature dried after coating is 20-110 degreeC.

また、本発明の光重合性組成物を重合させる際に使用する紫外線の照射量(積算光量)として、速重合性、作業性の観点から、10〜1000mJ/cmが好ましい。紫外線を照射するために使用する装置は特に制限されない。例えば、次のような従来公知のものが挙げられる。このようにして調製した膜に、250〜500nmの波長範囲を含む紫外線を1〜1000mW/cm程度の強さで光照射することにより光重合物を得ることができる。用いる光源としてはメタルハライドランプ、キセノンランプ、405nmUV−LED、395nmUV−LED、385nmUV−LED、365nmUV−LED、青色LED、白色LED、フュージョン社製のDバルブ、Vバルブ等が挙げられる。また、太陽光で光重合することも可能である。また、重合させるに際し加熱を併用してもよい。中でも、特に405nmUV−LED,395nmUV−LEDが好ましい。 Moreover, as an irradiation amount (integrated light quantity) of the ultraviolet rays used when polymerizing the photopolymerizable composition of the present invention, 10 to 1000 mJ / cm 2 is preferable from the viewpoint of fast polymerization and workability. The apparatus used for irradiating ultraviolet rays is not particularly limited. For example, the following conventionally known ones can be mentioned. A photopolymer can be obtained by irradiating the thus prepared film with ultraviolet light having a wavelength range of 250 to 500 nm at an intensity of about 1 to 1000 mW / cm 2 . Examples of the light source used include a metal halide lamp, a xenon lamp, a 405 nm UV-LED, a 395 nm UV-LED, a 385 nm UV-LED, a 365 nm UV-LED, a blue LED, a white LED, a D bulb and a V bulb manufactured by Fusion. Photopolymerization with sunlight is also possible. Moreover, you may use a heating together in making it superpose | polymerize. Among these, 405 nm UV-LED and 395 nm UV-LED are particularly preferable.

本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤を含有する光重合性組成物において、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物は紫外線を吸収するにもかかわらず、紫外線を用いた光重合を阻害せず、速やかに重合硬化する点も優れている。 In the photopolymerizable composition containing the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention, the anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention absorbs ultraviolet rays. Nevertheless, photopolymerization using ultraviolet rays is not hindered and it is excellent in that it is rapidly polymerized and cured.

本発明の光重合性組成物を光重合するときに、基材上に塗布・乾燥した光重合性組成物上に酸素バリアフィルムをかぶせたのち、光照射してフィルム状に重合硬化させることが好ましい。光照射時に酸素が存在すると光重合反応中に活性酸素が生成し本発明のUV−A吸収剤を分解する反応が一部進行する可能性がある。そこで、塗布した光重合性組成物上に酸素バリアフィルムを被せることにより、該分解反応を防ぐことができる。 When photopolymerizing the photopolymerizable composition of the present invention, an oxygen barrier film is placed on the photopolymerizable composition that has been coated and dried on a substrate, and then polymerized and cured by irradiation with light. preferable. If oxygen is present at the time of light irradiation, active oxygen is generated during the photopolymerization reaction, and a reaction for decomposing the UV-A absorbent of the present invention may partially proceed. Therefore, the decomposition reaction can be prevented by covering the applied photopolymerizable composition with an oxygen barrier film.

光重合性組成物の上に被せる酸素バリアフィルムとしては、20℃ドライ条件で、酸素透過度100cm/(m・day・atm)以下であることが好ましい。 The oxygen barrier film to be placed on the photopolymerizable composition preferably has an oxygen permeability of 100 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less under dry conditions at 20 ° C.

酸素透過度は、フィルムの素材によって異なるが、フィルムの厚みの影響も受ける。よって、酸素透過度100cm/(m・day・atm)以下のフィルムとしては、例えば、エチレン含有率56%のエチレン−ビニルアルコール共重合物であれば、1μm程度のものも使用可能である。ポリエチレンテレフタレートは10μm以上、ナイロン6であれば20μm以上の膜厚のフィルムが挙げられる。 The oxygen permeability varies depending on the material of the film, but is also affected by the thickness of the film. Therefore, as a film having an oxygen permeability of 100 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, for example, an ethylene-vinyl alcohol copolymer having an ethylene content of 56% can be used having a thickness of about 1 μm. . Polyethylene terephthalate is 10 μm or more, and nylon 6 is a film having a thickness of 20 μm or more.

<UV−Aカットフィルム>
本発明のUV−A吸収剤を含むUV−Aカットフィルムは、使用条件によっては、時間の経過とともに、そのUV−Aカット能力が低下する場合がある。このUV−Aカット能力の低下は、UV−A吸収剤に光で励起された活性酸素が接触して、酸化反応などによりUV−A吸収剤の一部分解することなどに由来すると考えられる。
<UV-A cut film>
The UV-A cut film containing the UV-A absorber of the present invention may have a reduced UV-A cut ability with the passage of time depending on use conditions. This decrease in the UV-A cut ability is considered to be caused by the active oxygen excited by light coming into contact with the UV-A absorber and partial decomposition of the UV-A absorber by an oxidation reaction or the like.

そこで、本発明のUV−Aフィルムの長期安定性を高めるために、UV−Aフィルムを光透過度が高く酸素バリア性の優れた高度酸素バリアフィルムでカバーすることが好ましい。 Therefore, in order to increase the long-term stability of the UV-A film of the present invention, it is preferable to cover the UV-A film with a high oxygen barrier film having high light transmittance and excellent oxygen barrier properties.

その一つ方法として、本発明のUV−Aカットフィルムを2つの高度酸素バリアフィルム層によってサンドイッチした積層構造とすることが好ましい。 As one of the methods, a laminated structure in which the UV-A cut film of the present invention is sandwiched between two highly oxygen barrier film layers is preferable.

またもう一つ方法として、本発明のUV−Aカットフィルムの一方をガラス基板とし、他方を高度酸素バリアフィルム層とし、この両者によりサンドイッチされた積層構造とすることが好ましい。 As another method, it is preferable that one of the UV-A cut films of the present invention is a glass substrate and the other is a highly oxygen barrier film layer, and a laminated structure sandwiched between the two is used.

このような積層構造とすることにより、本発明のUV−A吸収剤が紫外線照射下において、酸素と接触することが避けられ、長期に安定的にUV−Aカット能力を持続することが可能となる。 By adopting such a laminated structure, the UV-A absorbent of the present invention can be prevented from coming into contact with oxygen under ultraviolet irradiation, and the UV-A cutting ability can be stably maintained for a long time. Become.

用いられる高度酸素バリアフィルムとしては、酸素透過度が、10cm/(m・day・atm)以下であることが好ましい。より好ましくは、1cm/(m・day・atm)以下、より好ましくは、0.1cm/(m・day・atm)以下である。酸素透過度は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。 The high oxygen barrier film used preferably has an oxygen permeability of 10 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. More preferably, it is 1 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, and more preferably 0.1 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. The lower the oxygen permeability, the better, and the higher the total light transmittance in the visible light region, the better.

このような高度酸素バリアフィルムとしては、高分子フィルムの表面に無機酸化物から成る薄膜を真空蒸着法又はプラズマ化学気相成長(CVD)法等の真空プロセスで形成してバリア層を設けたものが一般的である。フィルム状のガラスも用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムやナイロンフィルムの上にアルミナや酸化珪素などの蒸着層を設けたものなどが挙げられる。 As such an advanced oxygen barrier film, a thin film made of an inorganic oxide is formed on the surface of a polymer film by a vacuum process such as a vacuum deposition method or a plasma chemical vapor deposition (CVD) method, and a barrier layer is provided. Is common. Film glass can also be used. For example, what provided the vapor deposition layer, such as an alumina and a silicon oxide, on a polyethylene terephthalate film or a nylon film, etc. are mentioned.

本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤又は本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤を含有する紫外線吸収剤組成物を含有する重合性組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、例えば、充填剤、老化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、接着性付与剤、アンチブロック剤、分散剤、酸化防止剤、消泡剤、艶消し剤、界面活性剤、消泡剤、増粘剤、滑剤、可塑剤、撥水剤、染料、顔料のような添加剤を更に含有することができる。 UV absorber composition containing UV-A absorber which is an anthracene compound represented by general formula (1) of the present invention or UV-A absorber which is an anthracene compound represented by general formula (1) of the present invention In the polymerizable composition containing the product, as long as the object of the present invention is not impaired, for example, a filler, an anti-aging agent, an antistatic agent, a flame retardant, an adhesion imparting agent, an anti-blocking agent, a dispersant, an oxidation agent. An additive such as an inhibitor, an antifoaming agent, a matting agent, a surfactant, an antifoaming agent, a thickener, a lubricant, a plasticizer, a water repellent, a dye, and a pigment can be further contained.

以下に、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定さ
れない。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.

<UVスペクトルの測定>
測定試料溶液は、測定試料をアセトニトリル(和光純薬)に濃度が10ppmとなるように添加し、完全に溶解することにより調製した。該試料溶液を光路長1cmの石英セルに気泡が生じないように約八分目の高さまで入れ、UV2600(島津製作所製)にセットして、UVスペクトルを測定した。
<Measurement of UV spectrum>
The measurement sample solution was prepared by adding the measurement sample to acetonitrile (Wako Pure Chemical Industries) to a concentration of 10 ppm and completely dissolving it. The sample solution was put in a quartz cell having an optical path length of 1 cm to a height of about the eighth minute so as not to generate bubbles, set in UV2600 (manufactured by Shimadzu Corporation), and UV spectrum was measured.

(実施例1〜8)
表1に記載のUV−A吸収剤を測定試料として測定試料溶液を調製し、それぞれのUVスペクトルを測定し、390nmと400nmにおける吸光度を表1に記載した。
(Examples 1-8)
A measurement sample solution was prepared using the UV-A absorber shown in Table 1 as a measurement sample, the respective UV spectra were measured, and the absorbance at 390 nm and 400 nm was shown in Table 1.

(比較例1、2)
比較例として、公知の紫外線吸収剤であるチヌビンP、チヌビン326を実施例と同様にしてUVスペクトルを測定して、390nmと400nmにおける吸光度を表2に記載した。
(Comparative Examples 1 and 2)
As a comparative example, UV spectra were measured for known UV absorbers Tinuvin P and Tinuvin 326 in the same manner as in the Examples, and the absorbance at 390 nm and 400 nm is shown in Table 2.

実施例1〜9と比較例1、2、及び表1と表2を比較することにより明らかなように、本発明の一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤は、390nmの吸光度が大きく、390nm前後の光をよく吸収することがわかる。一方、400nmの吸光度は小さく、可視光部に吸収はほとんどないことがわかる。この点は、図1、図2の実施例1、実施例4の化合物のUVスペクトルを見ても明らかである。一方、従来から用いられている紫外線吸収剤であるチヌビンP及びチヌビン326は、390nmの吸光度は小さく、380nmから400nmの光を十分カットできないことがわかる。 As is clear by comparing Examples 1 to 9 with Comparative Examples 1 and 2 and Tables 1 and 2, the UV-A absorber which is an anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention is: It can be seen that the absorbance at 390 nm is large and the light around 390 nm is well absorbed. On the other hand, the absorbance at 400 nm is small, indicating that there is almost no absorption in the visible light region. This point is also apparent from the UV spectra of the compounds of Example 1 and Example 4 in FIGS. On the other hand, it can be seen that the conventionally used ultraviolet absorbers Tinuvin P and Tinuvin 326 have a low absorbance at 390 nm and cannot sufficiently cut light from 380 nm to 400 nm.

(実施例9)
<カチオン系硬化フィルムの調製>
UV−A吸収剤として、9,10−ビス(オクタノイルオキシ)アントラセン(OcA)を1部、光重合開始剤としてイルガキュア250を2部、重合性化合物としてセロキサイド2021Pを100部、溶剤としてメチルエチルケトンを30部、レベリング剤としてアクリル系レベリング剤(BYK361N、ビックケミー・ジャパン社製)0.1部を撹拌下混合し、光カチオン重合性組成物を調製した。
Example 9
<Preparation of cationic cured film>
As UV-A absorber, 1 part of 9,10-bis (octanoyloxy) anthracene (OcA), 2 parts of Irgacure 250 as photopolymerization initiator, 100 parts of Celoxide 2021P as polymerizable compound, and methyl ethyl ketone as solvent 30 parts and 0.1 part of an acrylic leveling agent (BYK361N, manufactured by Big Chemie Japan) as a leveling agent were mixed with stirring to prepare a photocationically polymerizable composition.

上記のようにして得られた各光重合性組成物をTACフィルム(厚さ100μm)上にバーコーターを用いて乾燥後の膜厚で18μmとなるよう塗布し、これにサンダー社製の395nmLED−UVを用いて照射(照射条件:照射強度3,6mW/cm)して光重合性組成物を重合させ、積層体を作製した。 Each photopolymerizable composition obtained as described above was applied onto a TAC film (thickness 100 μm) using a bar coater so that the film thickness after drying was 18 μm, and 395 nm LED- manufactured by Thunder Co., Ltd. was applied thereto. Irradiation was performed using UV (irradiation conditions: irradiation intensity 3, 6 mW / cm 2 ) to polymerize the photopolymerizable composition, thereby preparing a laminate.

(評価)
製造したフィルムを用いて以下の評価を行った。結果を第3表に示す。
(Evaluation)
The following evaluation was performed using the manufactured film. The results are shown in Table 3.

<フィルムの395nmUV−LED光のカット率>
上述のとおり製造したフィルムに、装置としてサンダー社製395nmUV−LEDを照射し、その395nmのフィルム透過後の照度をウシオ電機社製 紫外線照度計 UNI−METER UIT−101、受光器はUVD−405PDを用いて測定し、395nmにおける透過率(%)を測定した。測定結果を下記式に当てはめて積層体の395nmの波長の光のカット率を算出した。
<Cutting ratio of 395 nm UV-LED light of film>
The film manufactured as described above is irradiated with a 395 nm UV-LED manufactured by Thunder as an apparatus, and the illuminance after transmission through the film of 395 nm is UV illuminance meter UNI-METER UIT-101 manufactured by USHIO INC., And the receiver is UVD-405PD. The transmittance (%) at 395 nm was measured. The measurement result was applied to the following formula to calculate the cut rate of light having a wavelength of 395 nm of the laminate.

(実施例10および比較例3)
UV−A吸収剤、光重合開始剤及び重合性化合物を下記表3の各成分とし、表3に示す組成(質量部)で、実施例9と同様にして撹拌機を用いて混合し、光重合性組成物を調製した。そして実施例9と同様に得られた光重合性組成物を重合させ、積層体を作成し、実施例9と同様に重合皮膜の395nmの光のカット率を測定し、その結果を表3に記載した。
(Example 10 and Comparative Example 3)
A UV-A absorber, a photopolymerization initiator, and a polymerizable compound were used as the respective components shown in Table 3 below, and the compositions (parts by mass) shown in Table 3 were mixed using a stirrer in the same manner as in Example 9 to produce light. A polymerizable composition was prepared. Then, the photopolymerizable composition obtained in the same manner as in Example 9 was polymerized to prepare a laminate, and the cut rate of 395 nm light of the polymer film was measured in the same manner as in Example 9, and the results are shown in Table 3. Described.

(実施例11)
<ラジカル系硬化フィルムの調製>
UV−A吸収剤として、9,10−ビス(オクタノイルオキシ)アントラセン(OcA)を1部、光重合開始剤としてイルガキュア1173を5部、重合性化合物としてビスコート400を100部、溶剤としてメチルエチルケトンを30部、レベリング剤としてアクリル系レベリング剤(BYK361N、ビックケミー・ジャパン社製)0.1部を撹拌下混合し、光ラジカル重合性組成物を調製し、実施例9と同様の方法でUV-Aカットフィルムを製造し、実施例9と同様の方法で、評価し、その結果を表4に記載した。
(Example 11)
<Preparation of radical cured film>
As UV-A absorber, 1 part 9,10-bis (octanoyloxy) anthracene (OcA), 5 parts Irgacure 1173 as photopolymerization initiator, 100 parts biscoat 400 as polymerizable compound, and methyl ethyl ketone as solvent 30 parts, 0.1 part of an acrylic leveling agent (BYK361N, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) as a leveling agent was mixed with stirring to prepare a photoradical polymerizable composition, and UV-A was prepared in the same manner as in Example 9. Cut films were produced and evaluated in the same manner as in Example 9, and the results are shown in Table 4.

(実施例12および比較例4)
UV−A吸収剤、光重合開始剤及び重合性化合物を下記表4の各成分とし、表4に示す組成(質量部)で、実施例10と同様にして撹拌機を用いて混合し、光重合性組成物を調製した。そして実施例10と同様に得られた光重合性組成物を重合させ、積層体を作成し、実施例10と同様に重合皮膜の395nmUV−LED光のカット率を測定し、その結果を表4に記載した。
(Example 12 and Comparative Example 4)
A UV-A absorber, a photopolymerization initiator, and a polymerizable compound were used as the components shown in Table 4 below, and the compositions (parts by mass) shown in Table 4 were mixed using a stirrer in the same manner as in Example 10 to produce light. A polymerizable composition was prepared. And the photopolymerizable composition obtained by carrying out similarly to Example 10 was polymerized, a laminated body was created, the cut rate of 395 nm UV-LED light of a polymeric film was measured similarly to Example 10, and the result was shown in Table 4 It was described in.

実施例9から12と比較例3、4及び表3、4に示す結果から明らかなように、本発明の一般式(1)で表すアントラセン化合物を配合したフィルムの395nmのカット率は、一般的なUV吸収剤であるチヌビンPを配合して調製したフィルムに比べ、395nmのカット率は非常に高く、本発明のUV−A吸収剤を含有するフィルムのUV−Aカット機能、特に395nmの波長のカット機能が優れていることがわかる。 As is apparent from the results shown in Examples 9 to 12 and Comparative Examples 3 and 4 and Tables 3 and 4, the cut rate at 395 nm of the film containing the anthracene compound represented by the general formula (1) of the present invention is general. Compared with a film prepared by blending tinuvin P, which is a novel UV absorber, the cut rate at 395 nm is very high, and the UV-A cut function of the film containing the UV-A absorber of the present invention, particularly the wavelength of 395 nm It can be seen that the cutting function is excellent.

[実施例13]
<UV−A吸収剤の安定化>
UV−A吸収剤は一重項酸素が共存することで分解されるが、一重項酸素が共存しないように一重項酸素を生成する酸素を除去することでUV−A吸収剤の安定化することができる。
[Example 13]
<Stabilization of UV-A absorber>
The UV-A absorber is decomposed by the coexistence of singlet oxygen, but the UV-A absorber can be stabilized by removing the oxygen that generates singlet oxygen so that the singlet oxygen does not coexist. it can.

UV−A吸収剤として9,10−ビス(オクタノイルオキシ)アントラセン(OcA)を1−メチル−2−ピロリドン(東京化成社製)に1wt%溶解させ、この溶液をステンレスカップに入れた。このステンレスカップを酸素濃度0.1ppm以下のグローブボックスの中に投入し、ステンレスカップ内の溶液をグローブボックス内の雰囲気ガスで20mL/分の速度でバブリングを実施し、溶液内の酸素を完全に追い出した。このステンレスカップにPETフィルムと石英ガラスで蓋をし、酸素不透過性の袋(ハイバリア彊美人、クリロン化成社製)の中に投入し、併せて袋内部に侵入してくる微量酸を除去できるように酸素吸収剤としてセキュール(ニッソーファイン社製、セキュールはニッソーファイン社の登録商標)を投入した。この袋をヒートシーリングで完全に密封し、グローブボックスから取り出した(図3左)。 As a UV-A absorber, 1 wt% of 9,10-bis (octanoyloxy) anthracene (OcA) was dissolved in 1-methyl-2-pyrrolidone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and this solution was put in a stainless steel cup. This stainless steel cup is put into a glove box with an oxygen concentration of 0.1 ppm or less, and the solution in the stainless steel cup is bubbled with the atmospheric gas in the glove box at a rate of 20 mL / min. Kicked out. This stainless steel cup can be covered with PET film and quartz glass and placed in an oxygen-impermeable bag (High Barrier Bijin, manufactured by Krillon Kasei Co., Ltd.) to remove trace acids entering the bag. Thus, Secure (manufactured by Nisso Fine, Secur is a registered trademark of Nisso Fine) was used as an oxygen absorbent. The bag was completely sealed with heat sealing and taken out of the glove box (left side of FIG. 3).

これを耐光性試験機(アトラス・サンテストCPS+,東洋精機社製)に投入し、4時間光を照射した。その後、光照射前後の9,10−ビス(オクタノイルオキシ)アントラセン(OcA)の量を高速液体クロマトグラフィで定量し、9,10−ビス(オクタノイルオキシ)アントラセン(OcA)の残存割合を算出した。その結果を表5に示す。 This was put into a light resistance tester (Atlas Suntest CPS +, manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) and irradiated with light for 4 hours. Thereafter, the amount of 9,10-bis (octanoyloxy) anthracene (OcA) before and after light irradiation was quantified by high performance liquid chromatography, and the residual ratio of 9,10-bis (octanoyloxy) anthracene (OcA) was calculated. . The results are shown in Table 5.

〔比較例5〕
9,10−ビス(オクタノイルオキシ)アントラセン(OcA)を1−メチル−2−ピロリドン(東京化成社製)に1wt%溶解させ、この溶液をステンレスカップに入れた。空気中で、このステンレスカップにPETフィルムと石英ガラスで蓋をし、酸素不透過性の袋(ハイバリア彊美人、クリロン化成社製)の中に投入し、袋をヒートシーリングで完全に密封した(図3右)。この他は実施例13と同様な操作を実施した。その結果を表5に示す。
[Comparative Example 5]
1,10-bis (octanoyloxy) anthracene (OcA) was dissolved in 1 wt% in 1-methyl-2-pyrrolidone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and this solution was put in a stainless steel cup. In the air, this stainless steel cup is covered with PET film and quartz glass, put into an oxygen-impermeable bag (High Barrier Bijin, manufactured by Krillon Kasei Co., Ltd.), and the bag is completely sealed with heat sealing ( Figure 3 right). Otherwise, the same operation as in Example 13 was performed. The results are shown in Table 5.

表5を見て分かるように、実施例13では酸素が系内から除去されている為、一重項酸素が生成されない。その為、UV−A吸収剤が一重合酸素によって分解されないことを示している。一方、比較例5では酸素が系内に存在している為、酸素が励起され、これにより生じた一重項酸素によってUV−A吸収剤が分解されていることが分かる。従って、酸素または一重項酸を除去することでUV−A吸収剤が安定して存在でき、UV−Aを吸収することができることを示している。   As can be seen from Table 5, in Example 13, singlet oxygen is not generated because oxygen is removed from the system. Therefore, it shows that the UV-A absorber is not decomposed by monopolymerized oxygen. On the other hand, in Comparative Example 5, since oxygen is present in the system, it is found that oxygen is excited and the UV-A absorber is decomposed by the singlet oxygen generated thereby. Therefore, it is shown that the UV-A absorber can exist stably by removing oxygen or singlet acid and can absorb UV-A.

(実施例14)
UV−A吸収剤として9,10−ビス(オクタノイルオキシ)アントラセン(OcA)を1−メチル−2−ピロリドン(東京化成社製)に1wt%添加し、酸化防止剤としてIRGANOX1010(ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、BASF社製、IRGANOXはBASF社の登録商標)を5wt%添加した。この溶液をステンレスカップに入れ、PETフィルムと石英ガラスで蓋をした。これを耐光性試験機(アトラス・サンテストCPS+,東洋精機社製)に投入し、4時間光を照射した。その後、光照射前後の9,10−ビス(オクタノイルオキシ)アントラセン(OcA)の量を高速液体クロマトグラフィで定量し、9,10−ビス(オクタノイルオキシ)アントラセン(OcA)の残存割合を算出した。その結果を表6に示す。
(Example 14)
1 wt% of 9,10-bis (octanoyloxy) anthracene (OcA) as a UV-A absorber was added to 1-methyl-2-pyrrolidone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and IRGANOX 1010 (pentaerythritol tetrakis [ 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], manufactured by BASF, IRGANOX is a registered trademark of BASF) was added at 5 wt%. This solution was put in a stainless steel cup and covered with a PET film and quartz glass. This was put into a light resistance tester (Atlas Suntest CPS +, manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) and irradiated with light for 4 hours. Thereafter, the amount of 9,10-bis (octanoyloxy) anthracene (OcA) before and after light irradiation was quantified by high performance liquid chromatography, and the residual ratio of 9,10-bis (octanoyloxy) anthracene (OcA) was calculated. . The results are shown in Table 6.

(実施例15)
実施例14においてIRGANOX1010の代わりにアデカスタブAO−80(3,9−ビス[2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニロキシ〕−1,1−ジメチルエトキシ]−2,4,8,10−テロラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、ADEKA社製、アデカスタブはADEKA社の登録商標)を5wt%添加した他は同様の操作を行った。その結果を表6に示す。
(Example 15)
In Example 14, instead of IRGANOX 1010, ADK STAB AO-80 (3,9-bis [2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethyl Ethoxy] -2,4,8,10-terolaoxaspiro [5.5] undecane, manufactured by ADEKA, Adeka Stub is a registered trademark of ADEKA), and the same operation was performed. The results are shown in Table 6.

〔比較例6〕
実施例14においてIRGANOX1010を添加しなかった他は同様の操作を行った。その結果を表6に示す。
[Comparative Example 6]
The same operation was performed except that IRGANOX 1010 was not added in Example 14. The results are shown in Table 6.

表6を見て分かるように、実施例14および15では酸化防止剤によって酸素がトラップされているので、一重項酸素によってUV−A吸収剤が分解されないことを示している。一方比較例6では酸化防止剤が添加されていない為、発生した一重項酸素によってUV−A吸収剤が分解されていることを示している。従って、一重項酸素を発生させない酸化防止剤を用いることで、UV−A吸収剤を安定して存在させることができることを示している。 As can be seen from Table 6, in Examples 14 and 15, oxygen is trapped by the antioxidant, which indicates that the UV-A absorber is not decomposed by singlet oxygen. On the other hand, in Comparative Example 6, since the antioxidant is not added, it is shown that the UV-A absorber is decomposed by the generated singlet oxygen. Therefore, it is shown that the UV-A absorber can be stably present by using an antioxidant that does not generate singlet oxygen.




Claims (16)

下記一般式(1)で表されるアントラセン化合物を有効成分として含有するUV−A吸収剤。
(一般式(1)において、RとRは同一であっても異なっていても良く、炭素数1から12のアルキル基若しくは炭素数6から13のアリール基又は炭素数1から12のアルコキシ基若しくは炭素数6から13のアリールオキシ基を表し、X、Yは同一であっても異なっていてもよく、炭素数1から8のアルキル基を表す。)
The UV-A absorber which contains the anthracene compound represented by following General formula (1) as an active ingredient.
(In General Formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different, and are an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. A group or an aryloxy group having 6 to 13 carbon atoms, X and Y may be the same or different and each represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.)
一般式(1)において、R、Rは炭素数7から12のアルキル基若しくは炭素数6から13のアリール基又は炭素数3から12のアルコキシ基若しくは炭素数6から13のアリールオキシ基であることを特徴とする、請求項1に記載のUV−A吸収剤。 In the general formula (1), R 1 and R 2 are an alkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 3 to 12 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 13 carbon atoms. The UV-A absorber according to claim 1, characterized in that it is. 下記一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤及びUV−B吸収剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。
(一般式(1)において、RとRは同一であっても異なっていても良く、炭素数1から12のアルキル基若しくは炭素数6から13のアリール基又は炭素数1から12のアルコキシ基若しくは炭素数6から13のアリールオキシ基を表し、X、Yは同一であっても異なっていてもよく、炭素数1から8のアルキル基を表す。)
The ultraviolet absorber composition characterized by containing the UV-A absorber and UV-B absorber which are anthracene compounds represented by following General formula (1).
(In General Formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different, and are an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. A group or an aryloxy group having 6 to 13 carbon atoms, X and Y may be the same or different and each represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.)
下記一般式(1)で表されるアントラセン化合物であるUV−A吸収剤と、下記一般式(1)で表されるアントラセン化合物以外のUV−A吸収剤、を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。
(一般式(1)において、RとRは同一であっても異なっていても良く、炭素数1から12のアルキル基若しくは炭素数6から13のアリール基又は炭素数1から12のアルコキシ基若しくは炭素数6から13のアリールオキシ基を表し、X、Yは同一であっても異なっていてもよく、炭素数1から8のアルキル基を表す。)
It contains a UV-A absorber that is an anthracene compound represented by the following general formula (1) and a UV-A absorber other than the anthracene compound represented by the following general formula (1), Ultraviolet absorber composition.
(In General Formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different, and are an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. A group or an aryloxy group having 6 to 13 carbon atoms, X and Y may be the same or different and each represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.)
一般式(1)において、R、Rは炭素数7から12のアルキル基若しくは炭素数6から13のアリール基又は炭素数3から12のアルコキシ基若しくは炭素数6から13のアリールオキシ基であることを特徴とする、請求項3又は4に記載の紫外線吸収剤組成物。 In the general formula (1), R 1 and R 2 are an alkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 3 to 12 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 13 carbon atoms. The ultraviolet absorbent composition according to claim 3, wherein the ultraviolet absorbent composition is provided. 請求項1又は請求項2に記載のUV−A吸収剤に、更に、ヒンダードアミン系安定剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。 A UV-A absorber according to claim 1 or 2, further comprising a hindered amine stabilizer. 請求項3乃至5のいずれか一項に記載の紫外線吸収剤組成物に、更に、ヒンダードアミン系安定剤を含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。 6. An ultraviolet absorbent composition, further comprising a hindered amine stabilizer in the ultraviolet absorbent composition according to any one of claims 3 to 5. 請求項1又は請求項2に記載のUV−A吸収剤に、更に、酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーを含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。 The UV-A absorber according to claim 1 or 2, further comprising an antioxidant and / or a singlet oxygen quencher. 請求項3乃至7のいずれか一項に記載の紫外線吸収剤組成物に、更に、酸化防止剤及び/又は一重項酸素クエンチャーを含有することを特徴とする、紫外線吸収剤組成物。 The ultraviolet absorbent composition according to any one of claims 3 to 7, further comprising an antioxidant and / or a singlet oxygen quencher. 請求項1又は請求項2に記載のUV−A吸収剤を有効成分として含有するUV−Aカットフィルム。 The UV-A cut film which contains the UV-A absorber of Claim 1 or Claim 2 as an active ingredient. 請求項3乃至9のいずれか一項に記載の紫外線吸収剤組成物を有効成分として含有するUV−Aカットフィルム。 The UV-A cut film which contains the ultraviolet absorber composition as described in any one of Claims 3 thru | or 9 as an active ingredient. ガラス基材、金属基材又は酸素バリアフィルム上に、請求項1若しくは2に記載のUV-A吸収剤又は、請求項3乃至9のいずれか一項に記載の紫外線吸収剤組成物を含有する光重合性組成物を塗布し、該塗膜上に更に酸素バリアフィルムを被せたのち、光照射してフィルム状に重合硬化させた重合皮膜であることを特徴とする、UV-Aカットフィルム。 The UV-A absorber according to claim 1 or 2 or the ultraviolet absorber composition according to any one of claims 3 to 9 is contained on a glass substrate, a metal substrate or an oxygen barrier film. A UV-A cut film, which is a polymerized film obtained by applying a photopolymerizable composition and further covering an oxygen barrier film on the coating film and then polymerizing and curing the film by irradiation with light. 酸素バリアフィルムの酸素透過度が、20℃、ドライ条件で100cm/(m・day・atm)以下である、請求項12に記載のUV−Aカットフィルム。 The UV-A cut film according to claim 12, wherein the oxygen permeability of the oxygen barrier film is 100 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less at 20 ° C. under dry conditions. UV−Aカットフィルムを含む積層体であって、該積層体が2つの高度酸素バリアフィルム層を有し、その高度酸素バリアフィルム層間に、請求項10乃至13のいずれか1項に記載のUV−Aカットフィルムを含むことを特徴とする、UV−Aカットフィルム積層体。 It is a laminated body containing a UV-A cut film, Comprising: This laminated body has two high oxygen barrier film layers, Between the high oxygen barrier film layers, UV of any one of Claims 10 thru | or 13 A UV-A cut film laminate comprising an A cut film. UV−Aカットフィルムを含む積層体であって、該積層体がガラス基板と高度酸素バリアフィルム層を有し、そのガラス基板と高度酸素バリアフィルム層の間に、請求項10乃至13のいずれか1項に記載のUV−Aカットフィルムを含むことを特徴とする、UV−Aカットフィルム積層体。 It is a laminated body containing a UV-A cut film, Comprising: This laminated body has a glass substrate and a high oxygen barrier film layer, Between the glass substrate and a high oxygen barrier film layer, any one of Claims 10 thru | or 13 The UV-A cut film laminated body characterized by including the UV-A cut film of Claim 1. 高度酸素バリアフィルムの酸素透過度が、20℃、ドライ条件で10cm/(m・day・atm)以下である、請求項14又は15に記載のUV−Aカットフィルム積層体。



16. The UV-A cut film laminate according to claim 14, wherein the oxygen permeability of the advanced oxygen barrier film is 10 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less at 20 ° C. under dry conditions.



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