JP2018163186A - Optical circuit board - Google Patents

Optical circuit board Download PDF

Info

Publication number
JP2018163186A
JP2018163186A JP2017058615A JP2017058615A JP2018163186A JP 2018163186 A JP2018163186 A JP 2018163186A JP 2017058615 A JP2017058615 A JP 2017058615A JP 2017058615 A JP2017058615 A JP 2017058615A JP 2018163186 A JP2018163186 A JP 2018163186A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pad
optical
clad layer
core
optical waveguide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017058615A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
義徳 中臣
Yoshinori Nakaomi
義徳 中臣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2017058615A priority Critical patent/JP2018163186A/en
Publication of JP2018163186A publication Critical patent/JP2018163186A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical circuit board with which an electronic apparatus can operate correctly.SOLUTION: The optical circuit board comprises: a wiring board 10 including a first pad 15 on a surface thereof; an optical waveguide 20 which includes a lower clad layer 21 positioned on the wiring board 10 surface including a region where the first pad 15 is located, a core 22 positioned above the lower clad layer 21, and an upper clad layer 23 with a flat top face, the core 22 including a reflection surface 26a; a via hole 24 positioned in the optical waveguide 20 and having a first pad 15 as bottom face; and an optical element 30 positioned on the optical waveguide 20, having a flat undersurface, including at least one of a light emission part 32 and a light receiving part 33 in a position facing the reflection surface 26a on the undersurface, and having a second pad 31 in a position facing the first pad 15. The undersurface of the optical element 30 and the top face of the upper clad layer 23 are in contact with each other, and the first pad 15 is fastened to the second pad 31 in the via hole 24 with a conductive material 16.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、光導波路を備える光回路基板に関するものである。   The present disclosure relates to an optical circuit board including an optical waveguide.

携帯型のゲーム機や通信機器に代表される電子機器の高機能化が進むに伴い、多くの情報を高速で伝送できる光導波路を備えた光回路基板の開発が進められている。なお、光回路基板は、配線基板と、配線基板上に設けられており、下部クラッド層、反射面を備えるコア、および上部クラッド層を有する光導波路と、光導波路上に実装された光学素子とを備えている。   Development of an optical circuit board having an optical waveguide capable of transmitting a large amount of information at a high speed has been promoted as electronic devices typified by portable game machines and communication devices have been advanced. The optical circuit board is provided on the wiring board, the optical waveguide having the lower clad layer, the core having the reflecting surface, and the upper clad layer, and the optical element mounted on the optical waveguide. It has.

特開2012−194401号公報JP 2012-194401 A

光回路基板では、光信号が光学素子と光導波路との間で伝送される。そのため、光導波路上に実装された光学素子が光導波路に対して傾いてしまうと、光損失が大きくなり光信号が正確に伝送されない場合がある。これにより、電子機器が正常に作動しない虞がある。   In the optical circuit board, an optical signal is transmitted between the optical element and the optical waveguide. Therefore, if the optical element mounted on the optical waveguide is inclined with respect to the optical waveguide, the optical loss may increase and the optical signal may not be transmitted accurately. Thereby, there exists a possibility that an electronic device may not operate | move normally.

本開示における光回路基板は、表面に複数の第1パッドを有する配線基板と、第1パッドが位置する領域を含む配線基板表面に位置する下部クラッド層、下部クラッド層上に位置しているコア、および下部クラッド層上にコアを被覆するように位置しており平坦な上面を有する上部クラッド層を有しており、コアが上面に対して斜め方向に延在する反射面を有する光導波路と、光導波路に位置しており第1パッドを底面とする複数のビアホールと、光導波路上に位置し、平坦な下面を有しており下面において反射面と対向する位置に発光部および受光部の少なくとも一方を備えるとともに、第1パッドと対向する位置に複数の第2パッドを有する光学素子とを備えており、光学素子の下面と上部クラッド層の上面とが互いに当接しており、第1パッドと第2パッドとが前記ビアホール内で導電材料により固着されていることを特徴とするものである。   An optical circuit board according to the present disclosure includes a wiring board having a plurality of first pads on the surface, a lower cladding layer located on the wiring board surface including a region where the first pads are located, and a core located on the lower cladding layer And an optical waveguide having a reflective surface that is positioned so as to cover the core on the lower cladding layer and has a flat upper surface, and the core extends obliquely with respect to the upper surface. A plurality of via holes located in the optical waveguide and having the first pad as a bottom surface, and located on the optical waveguide and having a flat lower surface, the light emitting unit and the light receiving unit are disposed at positions facing the reflecting surface on the lower surface. An optical element having at least one and having a plurality of second pads at positions facing the first pad, the lower surface of the optical element and the upper surface of the upper cladding layer being in contact with each other, It is characterized in that the pad and the second pad is fixed by a conductive material within the via hole.

本開示の光回路基板によれば、光学素子と光導波路との間で光信号伝送の安定性が向上する。これにより、電子機器を正常に作動させることが容易な光回路基板を提供することができる。   According to the optical circuit board of the present disclosure, the stability of optical signal transmission is improved between the optical element and the optical waveguide. Accordingly, it is possible to provide an optical circuit board that can easily operate the electronic device normally.

図1は、本開示の光回路基板の第1実施形態の一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the first embodiment of the optical circuit board according to the present disclosure. 図2は、本開示の光回路基板の第2実施形態の一例を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the second embodiment of the optical circuit board according to the present disclosure. 図3は、本開示の光回路基板の要部を示す概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view illustrating a main part of the optical circuit board according to the present disclosure.

図1〜図3を基にして、本開示の光回路基板の実施形態の一例を説明する。第1実施形態である光回路基板Aは、配線基板10と、光導波路20と、光学素子30と、を備えている。配線基板10は、光導波路20および光学素子30を位置決めして固定し、光学素子30と外部(マザーボード等)とを電気的に接続する機能を有する。光導波路20を介して光学素子30と外部(光学装置等)との間で光信号が伝送される。光学素子30において光信号と電気信号との変換が行われる。   An example of an embodiment of the optical circuit board according to the present disclosure will be described with reference to FIGS. The optical circuit board A according to the first embodiment includes a wiring board 10, an optical waveguide 20, and an optical element 30. The wiring board 10 has a function of positioning and fixing the optical waveguide 20 and the optical element 30 and electrically connecting the optical element 30 and the outside (motherboard or the like). An optical signal is transmitted between the optical element 30 and the outside (such as an optical device) via the optical waveguide 20. The optical element 30 performs conversion between an optical signal and an electrical signal.

配線基板10は、絶縁基板11と配線導体12とを備えている。絶縁基板11は、コア用の絶縁層11aとビルドアップ用の絶縁層11bとを有している。コア用の絶縁層11aは、複数のスルーホール13を有している。コア用の絶縁層11aは、例えば、絶縁基板11の剛性を確保して平坦性を保持する等の機能を有する。コア用の絶縁層11aは、例えばガラスクロスにエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等を含浸した半硬化状態のプリプレグを、加熱しながら平坦にプレス加工することで形成される。   The wiring substrate 10 includes an insulating substrate 11 and a wiring conductor 12. The insulating substrate 11 has a core insulating layer 11a and a build-up insulating layer 11b. The core insulating layer 11 a has a plurality of through holes 13. The core insulating layer 11a has functions such as ensuring the rigidity of the insulating substrate 11 and maintaining flatness, for example. The core insulating layer 11a is formed, for example, by pressing a semi-cured prepreg in which a glass cloth is impregnated with an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, or the like, while pressing it flatly while heating.

ビルドアップ用の絶縁層11bは、複数のビアホール14を備えている。ビルドアップ用の絶縁層1bは、例えば、後で詳しく説明する配線導体12等の引き回し用スペースを確保する等の機能を有する。ビルドアップ用の絶縁層11bは、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂等を含む樹脂フィルムを、真空下でコア用の絶縁層11aに貼着して熱硬化することで形成される。   The buildup insulating layer 11 b includes a plurality of via holes 14. The build-up insulating layer 1b has a function of, for example, securing a routing space for the wiring conductor 12 and the like which will be described in detail later. The build-up insulating layer 11b is formed, for example, by sticking a resin film containing an epoxy resin, a polyimide resin, or the like to the core insulating layer 11a under vacuum and thermosetting the resin film.

配線導体12は、コア用の絶縁層11aの表面、ビルドアップ用の絶縁層11bの表面、スルーホール13の内部およびビアホール14の内部に位置している。スルーホール13の内部に位置する配線導体12は、コア用の絶縁層11aの上下表面に位置する配線導体12間を導通している。ビアホール14の内部に位置する配線導体12は、ビルドアップ用の絶縁層11bの表面に位置する配線導体12と、コア用の絶縁層11aの表面に位置する配線導体12間を導通している。配線導体12は、例えばセミアディティブ法やサブトラクティブ法により、銅めっき等の良導電性金属により形成されている。   The wiring conductor 12 is located on the surface of the core insulating layer 11 a, the surface of the build-up insulating layer 11 b, the inside of the through hole 13, and the inside of the via hole 14. The wiring conductor 12 positioned inside the through hole 13 is electrically connected between the wiring conductors 12 positioned on the upper and lower surfaces of the core insulating layer 11a. The wiring conductor 12 positioned inside the via hole 14 is electrically connected between the wiring conductor 12 positioned on the surface of the build-up insulating layer 11b and the wiring conductor 12 positioned on the surface of the core insulating layer 11a. The wiring conductor 12 is formed of a highly conductive metal such as copper plating by, for example, a semi-additive method or a subtractive method.

配線基板10は、上面に複数の第1パッド15を有している。第1パッド15は、後述する光学素子30の第2パッド31と、例えば半田等の導電材料16を介して接続される。また、配線基板10は、上面に複数の部品接続パッド17および下面に複数の基板接続パッド18を有している。部品接続パッド17は、例えば半導体素子等の電子部品Sが接続される。基板接続パッド18は、例えば外部回路基板(不図示)が接続される。第1パッド15、部品接続パッド17、および基板接続パッド18は、配線導体12の一部から成り、配線導体12の形成時に同時に形成される。   The wiring board 10 has a plurality of first pads 15 on the upper surface. The first pad 15 is connected to a second pad 31 of the optical element 30 to be described later via a conductive material 16 such as solder. Further, the wiring substrate 10 has a plurality of component connection pads 17 on the upper surface and a plurality of substrate connection pads 18 on the lower surface. The component connection pad 17 is connected to an electronic component S such as a semiconductor element. For example, an external circuit board (not shown) is connected to the board connection pad 18. The first pad 15, the component connection pad 17, and the board connection pad 18 are formed of a part of the wiring conductor 12 and are formed simultaneously with the formation of the wiring conductor 12.

光導波路20は、第1パッド15が位置する領域を含む配線基板10の上面に位置している。光導波路20は、下部クラッド層21、コア22、および上部クラッド層23を備えている。また、光導波路20は、第1パッド15を底面とする複数のビアホール24を有している。ビアホール24は、例えばレーザー加工により形成される。また、ビアホール24は、下部クラッド層21および上部クラッド層23を形成するときに、露光および現像により形成しても構わない。   The optical waveguide 20 is located on the upper surface of the wiring substrate 10 including the region where the first pad 15 is located. The optical waveguide 20 includes a lower clad layer 21, a core 22, and an upper clad layer 23. The optical waveguide 20 has a plurality of via holes 24 with the first pad 15 as a bottom surface. The via hole 24 is formed by, for example, laser processing. The via hole 24 may be formed by exposure and development when the lower clad layer 21 and the upper clad layer 23 are formed.

下部クラッド層21は、例えば10〜20μmの厚みを有する平坦な形状である。下部クラッド層21は、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂から成る感光性シートあるいは感光性ペーストを、配線基板10上に被着あるいは塗布した後、露光および現像により所定の形状に形成して熱硬化することで形成される。   The lower cladding layer 21 has a flat shape having a thickness of 10 to 20 μm, for example. The lower clad layer 21 is formed by, for example, applying a photosensitive sheet or a photosensitive paste made of epoxy resin or polyimide resin on the wiring substrate 10 and then forming it into a predetermined shape by exposure and development, followed by thermosetting. Formed with.

コア22は、四角形状の断面を有しており、例えば30〜40μmの厚みを有する細い帯状である。コア22は、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂から成る感光性シートを、真空状態で下部クラッド層21上に被着して露光および現像により帯状に形成した後、熱硬化することで形成される。コア22形成用の感光性シートを形成する樹脂の屈折率は、下部クラッド層21および上部クラッド層23形成用の感光性シートやペーストを構成する樹脂の屈折率よりも大きいものを用いる。   The core 22 has a rectangular cross section, and is a thin strip having a thickness of 30 to 40 μm, for example. The core 22 is formed by, for example, applying a photosensitive sheet made of an epoxy resin or a polyimide resin on the lower clad layer 21 in a vacuum state, forming it in a strip shape by exposure and development, and then thermosetting it. The refractive index of the resin forming the photosensitive sheet for forming the core 22 is larger than the refractive index of the resin forming the photosensitive sheet or paste for forming the lower cladding layer 21 and the upper cladding layer 23.

コア22は、第1反射面26aおよび第2反射面26bを有している。第1反射面26aおよび第2反射面26bは、上部クラッド層23の上面から下部クラッド層21の下面にかけて斜め方向に延在する切断面により構成される。第1反射面26aの上方には、光学素子30が位置している。第1反射面26aは、光学素子30から発光された光信号の向きを変更してコア22に光信号を伝送させる。あるいは、コア22を伝送してきた光信号の向きを変更して光学素子30に光信号を受光させる。また、第2反射面26bの上方には、光ファイバFが接続されたコネクタCが位置している。第2反射面26bは、コネクタCから伝送された光信号の向きを変更してコア22に光信号を伝送させる。あるいは、コア22を伝送してきた光信号の向きを変更してコネクタCに光信号を伝送させる。   The core 22 has a first reflecting surface 26a and a second reflecting surface 26b. The first reflecting surface 26 a and the second reflecting surface 26 b are constituted by cut surfaces extending in an oblique direction from the upper surface of the upper cladding layer 23 to the lower surface of the lower cladding layer 21. The optical element 30 is located above the first reflecting surface 26a. The first reflecting surface 26 a changes the direction of the optical signal emitted from the optical element 30 and transmits the optical signal to the core 22. Alternatively, the direction of the optical signal transmitted through the core 22 is changed to cause the optical element 30 to receive the optical signal. Further, the connector C to which the optical fiber F is connected is located above the second reflecting surface 26b. The second reflecting surface 26b changes the direction of the optical signal transmitted from the connector C and causes the core 22 to transmit the optical signal. Alternatively, the direction of the optical signal transmitted through the core 22 is changed, and the optical signal is transmitted to the connector C.

なお、コア22の中心軸と第1反射面26aおよび第2反射面26bの中心位置とは一致しており、この中心軸と中心位置とを基準にして光信号が伝送される。ここで、中心軸とは、四角形状のコア22の断面の1対の対角線が交わる位置を指す。また、中心位置とは、四角形状の第1反射面26aおよび第2反射面26bの1対の対角線が交わる位置を指す。第1反射面26aおよび第2反射面26bは、例えば光導波路20の直上から斜め方向にレーザー光を照射してコア22を切断することにより形成される。あるいは、光導波路20の直上から斜め方向にブレードを切り込ませることにより形成しても構わない。コア22を切断した後は、例えばプラズマ処理やブラスト処理等により表面処理を行っても構わない。   Note that the central axis of the core 22 coincides with the central positions of the first reflecting surface 26a and the second reflecting surface 26b, and an optical signal is transmitted with reference to the central axis and the central position. Here, the central axis refers to a position where a pair of diagonal lines of the cross section of the rectangular core 22 intersect. The center position refers to a position where a pair of diagonal lines of the quadrangular first reflecting surface 26a and the second reflecting surface 26b intersect. The first reflecting surface 26a and the second reflecting surface 26b are formed by, for example, cutting the core 22 by irradiating laser light obliquely from directly above the optical waveguide 20. Alternatively, it may be formed by cutting a blade in an oblique direction from directly above the optical waveguide 20. After the core 22 is cut, surface treatment may be performed by, for example, plasma treatment or blast treatment.

上部クラッド層23は、下部クラッド層21の上面に位置しており、コア22を被覆している。上部クラッド層23は、コア22上方において、例えば10〜20μmの厚みを有しており、平坦な上面を有している。上部クラッド層23の上面において、後述する光学素子30の発光部32もしくは受光部33と対向する領域の表面の粗さは、算術平均粗さRa=10nm以下であれば、光信号が乱反射して拡散することを低減するのに有利である。また、これ以外の領域の表面の粗さは、算術平均粗さRa=30〜100nmであれば、例えば光学素子30を樹脂で封止する場合に、樹脂と上部クラッド層23の上面との密着強度を向上させることが可能になり、光学素子を外部環境から確実に保護することに有利である。   The upper clad layer 23 is located on the upper surface of the lower clad layer 21 and covers the core 22. The upper clad layer 23 has a thickness of, for example, 10 to 20 μm above the core 22 and has a flat upper surface. On the upper surface of the upper cladding layer 23, if the roughness of the surface of a region facing the light emitting part 32 or the light receiving part 33 of the optical element 30 described later is an arithmetic average roughness Ra = 10 nm or less, the optical signal is irregularly reflected. It is advantageous to reduce diffusion. Further, if the surface roughness of the other region is an arithmetic average roughness Ra = 30 to 100 nm, for example, when the optical element 30 is sealed with a resin, the resin and the upper surface of the upper cladding layer 23 are in close contact with each other. The strength can be improved, which is advantageous for reliably protecting the optical element from the external environment.

上部クラッド層23は、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂から成る感光性シートあるいは感光性ペーストを、下部クラッド層21およびコア22を被覆するように被着あるいは塗布して露光および現像した後、熱硬化することで形成される。上部クラッド層23の厚みは、10〜20μmであっても構わない。   The upper clad layer 23 is thermally cured after being coated or coated with a photosensitive sheet or paste made of, for example, an epoxy resin or a polyimide resin so as to cover the lower clad layer 21 and the core 22, exposed and developed. Is formed. The thickness of the upper clad layer 23 may be 10 to 20 μm.

上部クラッド層23の上面は、凹部25を備えていても構わない。凹部25には、例えば後述する光学素子30の発光部32もしくは受光部33が位置する。凹部25は、例えばレーザー加工により形成される。凹部25の底面の粗さは、算術平均粗さRa=10nm以下であれば、光信号が乱反射して拡散することを低減するのに有利である。凹部25の開口径は、光学素子30の発光部32もしくは受光部33の外径よりも10〜20μm程度大きく形成しても構わない。これにより、光学素子30の実装に有利である。   The upper surface of the upper cladding layer 23 may include a recess 25. For example, a light emitting portion 32 or a light receiving portion 33 of the optical element 30 described later is located in the concave portion 25. The recess 25 is formed by laser processing, for example. If the roughness of the bottom surface of the recess 25 is an arithmetic average roughness Ra = 10 nm or less, it is advantageous for reducing the diffuse reflection of the optical signal. The opening diameter of the recess 25 may be formed to be about 10 to 20 μm larger than the outer diameter of the light emitting part 32 or the light receiving part 33 of the optical element 30. This is advantageous for mounting the optical element 30.

光学素子30は、例えば垂直共振器面発光レーザーやフォトダイオード等が挙げられる。光学素子30は、平坦な下面を有している。光学素子30は、下面において第1反射面26aと対向する位置に発光部32および受光部33の少なくとも一方を有している。また、光学素子30は、下面において第1パッド15と対向する位置に第2パッド31を有している。光学素子30は、その平坦な下面と上部クラッド層23の平坦な上面とが互いに当接した状態で、光導波路20上に位置している。第2パッド31と第1パッド15とは、ビアホール24内で例えば半田等の導電材料16により固着されている。   Examples of the optical element 30 include a vertical cavity surface emitting laser and a photodiode. The optical element 30 has a flat lower surface. The optical element 30 has at least one of the light emitting unit 32 and the light receiving unit 33 at a position facing the first reflecting surface 26a on the lower surface. The optical element 30 has a second pad 31 at a position facing the first pad 15 on the lower surface. The optical element 30 is located on the optical waveguide 20 with its flat lower surface and the flat upper surface of the upper cladding layer 23 in contact with each other. The second pad 31 and the first pad 15 are fixed inside the via hole 24 with a conductive material 16 such as solder.

このように、本開示の光回路基板Aは、光学素子30の平坦な下面と上部クラッド層23の平坦な上面とが互いに当接しているとともに、第2パッド31と第1パッド15とをビアホール24内で固着させている。このため、光学素子30が、光導波路20に対して傾いてしまうことを低減できる。これにより、発光部32もしくは受光部33と第1反射面26aとの位置精度の保持が容易になる。その結果、光学素子30と光導波路20との間で正確に光信号を伝送することが可能になり、電子機器が正常に作動可能な光回路基板Aを提供することができる。   Thus, in the optical circuit board A of the present disclosure, the flat lower surface of the optical element 30 and the flat upper surface of the upper cladding layer 23 are in contact with each other, and the second pad 31 and the first pad 15 are connected to the via hole. 24 is fixed. For this reason, it is possible to reduce the tilt of the optical element 30 with respect to the optical waveguide 20. Thereby, it becomes easy to maintain the positional accuracy between the light emitting unit 32 or the light receiving unit 33 and the first reflecting surface 26a. As a result, it is possible to accurately transmit an optical signal between the optical element 30 and the optical waveguide 20, and it is possible to provide the optical circuit board A in which the electronic apparatus can operate normally.

ところで、光学素子30は、図2に示す第2実施形態のように、その下面から突出した発光部32および受光部33の少なくとも一方を有している場合がある。このような場合には、突出した発光部32もしくは受光部33が、上部クラッド層23の上面に位置する凹部25内に位置するようにする。このようにすることで、光学素子30が、その平坦な下面と上部クラッド層23の平坦な上面とを互いに当接する状態で光導波路20上に位置することができる。なお、発光部32もしくは受光部33は、例えば平面視で四角形状をしている。   By the way, the optical element 30 may have at least one of the light emission part 32 and the light-receiving part 33 which protruded from the lower surface like 2nd Embodiment shown in FIG. In such a case, the protruding light emitting part 32 or light receiving part 33 is located in the recess 25 located on the upper surface of the upper cladding layer 23. By doing so, the optical element 30 can be positioned on the optical waveguide 20 in a state where the flat lower surface and the flat upper surface of the upper cladding layer 23 are in contact with each other. The light emitting unit 32 or the light receiving unit 33 has, for example, a quadrangular shape in plan view.

これにより、発光部32もしくは受光部33と第1反射面26aとの位置精度を保持することが容易になる。その結果、光学素子30と光導波路20との間で正確に光信号を伝送することが可能になり、電子機器が正常に作動可能な光回路基板Bを提供することができる。また、発光部32もしくは受光部33が凹部25内に位置することで、発光部32もしくは受光部33と第1反射面26aとの間隔が小さくなるため光信号の拡散防止にも有利であり、光学素子30と光導波路20との間でより正確に光信号を伝送することができる。   Thereby, it becomes easy to maintain the positional accuracy between the light emitting unit 32 or the light receiving unit 33 and the first reflecting surface 26a. As a result, an optical signal can be accurately transmitted between the optical element 30 and the optical waveguide 20, and the optical circuit board B in which the electronic device can operate normally can be provided. Further, since the light emitting unit 32 or the light receiving unit 33 is located in the recess 25, the distance between the light emitting unit 32 or the light receiving unit 33 and the first reflecting surface 26a is reduced, which is advantageous for preventing diffusion of the optical signal. An optical signal can be more accurately transmitted between the optical element 30 and the optical waveguide 20.

なお、本開示は、上述の実施形態の一例に限定されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。例えば、本例においては凹部25の開口径が、発光部32もしくは受光部33の外径よりも10〜20μm程度大きい場合を示したが、3〜5μm程度であっても構わない。これにより、光学素子30の実装性が低下する虞はあるものの、光学素子30の下面から突出した発光部32もしくは受光部33および凹部25を、光学素子30と光導波路20との位置決め手段としても活用することで、両者の位置精度の向上に資することができる。   Note that the present disclosure is not limited to the above-described exemplary embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present disclosure. For example, in this example, the case where the opening diameter of the recess 25 is about 10 to 20 μm larger than the outer diameter of the light emitting unit 32 or the light receiving unit 33 is shown, but it may be about 3 to 5 μm. Thereby, although the mountability of the optical element 30 may be lowered, the light emitting part 32 or the light receiving part 33 and the concave part 25 protruding from the lower surface of the optical element 30 can be used as positioning means for the optical element 30 and the optical waveguide 20. By utilizing it, it can contribute to the improvement of the positional accuracy of both.

また、本例では配線基板10が、ソルダーレジスト層を有していない一例を示したが、配線基板10が、絶縁基板11の上面および下面の両方またはいずれか片方の面に、部品接続パッド17や基板接続パッド18を露出する開口部を備えるソルダーレジスト層を有していても構わない。これにより、例えば半導体素子Sを実装する際の熱処理により、配線導体12が受けるダメージを軽減できる。   Further, in this example, the wiring board 10 has an example in which the solder resist layer is not provided. However, the wiring board 10 is disposed on both or one of the upper surface and the lower surface of the insulating substrate 11 and the component connection pad 17. Alternatively, a solder resist layer having an opening for exposing the substrate connection pad 18 may be provided. Thereby, the damage which the wiring conductor 12 receives by the heat processing at the time of mounting the semiconductor element S can be reduced, for example.

さらに、本例では、上部クラッド層23の上面が、光学素子30の下面から突出する発光部32もしくは受光部33に対向する領域に、凹部25を有する一例を示したが、光学素子30の下面が別の突出部位を有している場合には、上部クラッド層23の上面が、この突出部位に対向する領域にさらに別の凹部を有していても構わない。これにより、光学素子30が、下面の突出部位の有無にかかわらずに、光学素子30の平坦な下面と上部クラッド層23の平坦な上面とを互いに当接する状態で光導波路20上に位置することができる。   Furthermore, in this example, an example in which the upper surface of the upper cladding layer 23 has the recess 25 in the region facing the light emitting portion 32 or the light receiving portion 33 protruding from the lower surface of the optical element 30 is shown. May have another protrusion, the upper surface of the upper clad layer 23 may have another recess in a region facing the protrusion. Thereby, the optical element 30 is positioned on the optical waveguide 20 in a state where the flat lower surface of the optical element 30 and the flat upper surface of the upper clad layer 23 are in contact with each other regardless of the presence or absence of the protruding portion on the lower surface. Can do.

10 配線基板
15 第1パッド
16 導電材料
20 光導波路
21 下部クラッド層
22 コア
23 上部クラッド層
24 ビアホール
26a 反射面
30 光学素子
31 第2パッド
32 発光部
33 受光部
A、B 光回路基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Wiring board 15 1st pad 16 Conductive material 20 Optical waveguide 21 Lower clad layer 22 Core 23 Upper clad layer 24 Via hole 26a Reflecting surface 30 Optical element 31 2nd pad 32 Light-emitting part 33 Light-receiving part A, B Optical circuit board

Claims (2)

表面に複数の第1パッドを有する配線基板と、
前記第1パッドが位置する領域を含む前記配線基板表面に位置する下部クラッド層、該下部クラッド層上に位置しているコア、および前記下部クラッド層上に前記コアを被覆するように位置しており平坦な上面を有する上部クラッド層を有しており、前記コアが前記上面に対して斜め方向に延在する反射面を有する光導波路と、
該光導波路に位置しており前記第1パッドを底面とする複数のビアホールと、
前記光導波路上に位置し、平坦な下面を有しており該下面において前記反射面と対向する位置に発光部および受光部の少なくとも一方を備えるとともに、前記第1パッドと対向する位置に複数の第2パッドを有する光学素子と、を備えており、
前記光学素子の下面と前記上部クラッド層の上面とが互いに当接しており、前記第1パッドと前記第2パッドとが前記ビアホール内で導電材料により固着されていることを特徴とする光回路基板。
A wiring board having a plurality of first pads on the surface;
A lower clad layer located on the surface of the wiring substrate including a region where the first pad is located, a core located on the lower clad layer, and a core located on the lower clad layer An optical waveguide having an upper cladding layer having a flat upper surface, the core having a reflective surface extending obliquely with respect to the upper surface;
A plurality of via holes located in the optical waveguide and having the first pad as a bottom surface;
Located on the optical waveguide and having a flat lower surface, the lower surface includes at least one of a light emitting unit and a light receiving unit at a position facing the reflective surface, and a plurality of positions at a position facing the first pad. An optical element having a second pad,
An optical circuit board, wherein a lower surface of the optical element and an upper surface of the upper clad layer are in contact with each other, and the first pad and the second pad are fixed by a conductive material in the via hole. .
前記光導波路が前記上部クラッド層の上面においてさらに凹部を有しており、前記発光部および受光部の少なくとも一方が、前記下面から突出しているとともに、前記凹部内に位置していることを特徴とする請求項1に記載の光回路基板。   The optical waveguide further has a recess on the upper surface of the upper clad layer, and at least one of the light emitting portion and the light receiving portion protrudes from the lower surface and is located in the recess. The optical circuit board according to claim 1.
JP2017058615A 2017-03-24 2017-03-24 Optical circuit board Pending JP2018163186A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017058615A JP2018163186A (en) 2017-03-24 2017-03-24 Optical circuit board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017058615A JP2018163186A (en) 2017-03-24 2017-03-24 Optical circuit board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018163186A true JP2018163186A (en) 2018-10-18

Family

ID=63860028

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017058615A Pending JP2018163186A (en) 2017-03-24 2017-03-24 Optical circuit board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2018163186A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020086169A (en) * 2018-11-27 2020-06-04 京セラ株式会社 Optical waveguide and optical circuit substrate
WO2021106378A1 (en) * 2019-11-28 2021-06-03 京セラ株式会社 Optical element mounting module

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010277060A (en) * 2009-04-27 2010-12-09 Kyocera Corp Optical transmission line, optical transmission substrate, and optical module
US20150338589A1 (en) * 2012-11-22 2015-11-26 International Business Machines Corporation Via for electrical contact passing through layers of optical waveguide in multilayer structure including electrical substrate and laminated layers of optical waveguide
JP2016206377A (en) * 2015-04-21 2016-12-08 新光電気工業株式会社 Optical waveguide device and method of manufacturing the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010277060A (en) * 2009-04-27 2010-12-09 Kyocera Corp Optical transmission line, optical transmission substrate, and optical module
US20150338589A1 (en) * 2012-11-22 2015-11-26 International Business Machines Corporation Via for electrical contact passing through layers of optical waveguide in multilayer structure including electrical substrate and laminated layers of optical waveguide
JP2016206377A (en) * 2015-04-21 2016-12-08 新光電気工業株式会社 Optical waveguide device and method of manufacturing the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020086169A (en) * 2018-11-27 2020-06-04 京セラ株式会社 Optical waveguide and optical circuit substrate
WO2021106378A1 (en) * 2019-11-28 2021-06-03 京セラ株式会社 Optical element mounting module
JPWO2021106378A1 (en) * 2019-11-28 2021-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100720854B1 (en) Photoelectric wiring board, packaging board, and photoelectric wiring board producing method
US8041159B2 (en) Optical/electrical hybrid substrate and method of manufacturing the same
US7596289B2 (en) Optical/electrical hybrid substrate
US9201203B2 (en) Photoelectric composite substrate and method of manufacturing the same
US9310575B2 (en) Manufacturing method of opto-electric hybrid flexible printed circuit board and opto-electric hybrid flexible printed circuit board
JP7032942B2 (en) Optical waveguide and optical circuit board
US10168495B1 (en) Optical waveguide and optical circuit board
US9459391B2 (en) Optical printed circuit board and method for manufacturing the same
JP2001196643A (en) Chip carrier for mounting light/electric element and mounting method thereof, light/electric wiring board and manufacturing method thereof, and mounting board
TWI693437B (en) Optical waveguide and optical circuit substrate
JP2018163186A (en) Optical circuit board
JP2020101623A (en) Optical module structure
JP5593390B2 (en) Optical printed circuit board and manufacturing method thereof
JP2013228467A (en) Opto-electric hybrid flexible print circuit board and manufacturing method thereof
JP2020086169A (en) Optical waveguide and optical circuit substrate
JP4304764B2 (en) Optical / electrical wiring board, manufacturing method, and mounting board
JP2019029389A (en) Optical circuit board
JP2011128435A (en) Optical waveguide substrate
JP2016118594A (en) Method for manufacturing polymer optical waveguide having positioning structure, polymer optical waveguide manufactured thereby, and optical module using the same
JP7027091B2 (en) Optical waveguide and optical circuit board
KR20130064647A (en) Optical printed circuit board and fabricating method of the same
JP2011137892A (en) Optical transmission substrate and optical module
KR20110060610A (en) Printed circuit board assembly
JP2004146621A (en) Photoelectric printed board and its manufacturing method
JP2016118593A (en) Method for manufacturing polymer optical waveguide having positioning structure, polymer optical waveguide manufactured thereby, and optical module using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20191111

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200928

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20201006

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210329