JP2018149538A - Molten slag processing method, silica raw material, high specific surface area silica, mesoporous silica and silica manufacturing method - Google Patents

Molten slag processing method, silica raw material, high specific surface area silica, mesoporous silica and silica manufacturing method Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a molten slag processing method capable of manufacturing highly functional silica from an inexpensive raw material.SOLUTION: An acid having a specific concentration is added to molten slag generated from an environmental energy facility, and then a dissolution treatment is performed thereto at a specific temperature, to thereby acquire an undissolved material. In this case, the undissolved material is processed under following conditions: the specified concentration of the acid is 3-12 N, the specific temperature is 20-100°C, a specific time is 10 minutes or longer, and such a mixing ratio is adopted that the 3-25 g molten slag is added to the 100 ml acid.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、特に環境エネルギー施設から発生する溶融スラグを原料とした、溶融スラグ処理方法、シリカ原料、高比表面積シリカ、メソポーラスシリカ、及びシリカ製造方法に関する。   The present invention particularly relates to a molten slag treatment method, a silica raw material, high specific surface area silica, mesoporous silica, and a silica production method using molten slag generated from an environmental energy facility as a raw material.

従来から、高比表面積シリカのシリカゲル、規則性多孔構造を持つメソポーラスシリカ(mesoporous silica)、ゼオライト(zeolite)等の高機能なシリカ組成物が、光学デバイス、触媒、吸着材料、薬物送達システム、コーティング、化粧品原料、生物学的分離、診断、ガスセンサー、分離膜、イオン交換材料、脱水、湿度調節等の各種用途に用いられている。また、これらの高機能なシリカ組成物は、いわゆるナノテクノロジーのための素材として注目されている。   Conventionally, high-functional silica compositions such as silica gel with high specific surface area silica, mesoporous silica having a regular porous structure, and zeolite are used in optical devices, catalysts, adsorbing materials, drug delivery systems, coatings. It is used in various applications such as cosmetic raw materials, biological separation, diagnosis, gas sensors, separation membranes, ion exchange materials, dehydration and humidity control. Moreover, these highly functional silica compositions are attracting attention as materials for so-called nanotechnology.

ここで、従来の高機能なシリカ組成物は、中間物質としてテトラエトキシシラン(Si(OC254、TEOS)、珪酸ソーダ等を使用して合成されていた。
たとえば、特許文献1には、従来のメソポーラスシリカの合成方法の一例が記載されている。
Here, the conventional highly functional silica composition was synthesized using tetraethoxysilane (Si (OC 2 H 5 ) 4 , TEOS), sodium silicate, or the like as an intermediate substance.
For example, Patent Document 1 describes an example of a conventional method for synthesizing mesoporous silica.

特開2010−120812号公報JP 2010-120812 A

しかしながら、従来、高機能なシリカ組成物の製造プロセスでは、高価な中間物質を経由して合成する必要があるため、コストが高かった。   However, conventionally, the process for producing a high-performance silica composition has been expensive because it has to be synthesized via an expensive intermediate material.

本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、安価な原料を基に高機能なシリカ組成物を取得可能な技術を提供し、上述の問題を解消することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a condition, and provides the technique which can acquire a highly functional silica composition based on an inexpensive raw material, and it aims at eliminating the above-mentioned problem.

本発明の溶融スラグ処理方法は、溶融スラグに対し、特定濃度の酸を加えて、特定温度で特定時間、溶解処理し、未溶解物を取得することを特徴とする。
本発明の溶融スラグ処理方法は、前記溶融スラグは、Si:Ca:Alの質量比が1:0.1〜7.0:0.2〜0.9であることを特徴とする。
本発明の溶融スラグ処理方法は、前記溶融スラグは、環境エネルギー施設から発生するスラグ及び/又は鉄鋼スラグであることを特徴とする。
本発明の溶融スラグ処理方法は、前記酸の前記特定濃度は、3〜12Nであり、前記特定温度は、20〜100℃であり、前記特定時間は、10分以上であり、100mLの前記酸に対して、前記溶融スラグを3〜25gとする混合比で加えられることを特徴とする。
本発明の溶融スラグ処理方法は、界面活性剤を加えた上で前記溶解処理を行い、前記溶解処理された前記未溶解物を焼成処理することを特徴とする。
本発明の溶融スラグ処理方法は、前記酸の前記特定濃度は、0.5〜4Nであり、前記特定温度は、20〜100℃であり、前記特定時間は、5時間以上であり、100mLの前記酸に対して、水を10〜50mL、前記溶融スラグを6〜25g、前記界面活性剤を2〜6gとする混合比で加えられることを特徴とする。
本発明の溶融スラグ処理方法は、前記酸の前記特定濃度は、11〜12Nであり、前記特定温度は、20〜100℃であり、前記特定時間は、5時間以上であり、8〜15mLの前記酸に対して、水を100mL、アルコール1〜10mL、前記溶融スラグを3〜10g、前記界面活性剤を1〜5gとする混合比で加えられることを特徴とする。
本発明の溶融スラグ処理方法は、前記酸は、塩酸であることを特徴とする。
本発明のシリカ原料は、前記溶融スラグ処理方法により製造されたことを特徴とする。
本発明の高比表面積シリカは、前記溶融スラグ処理方法により前記溶解処理された前記未溶解物であることを特徴とする。
本発明のメソポーラスシリカは、前記溶融スラグ処理方法により製造された前記焼成処理による生成物であることを特徴とする。
本発明のシリカ製造方法は、環境エネルギー施設から発生する溶融スラグに対し、特定濃度の酸を加えて、特定温度で溶解処理し、未溶解物を取得することを特徴とする。
The molten slag treatment method of the present invention is characterized in that an acid having a specific concentration is added to molten slag and dissolved at a specific temperature for a specific time to obtain an undissolved product.
In the molten slag treatment method of the present invention, the molten slag has a mass ratio of Si: Ca: Al of 1: 0.1 to 7.0: 0.2 to 0.9.
The molten slag treatment method of the present invention is characterized in that the molten slag is slag and / or steel slag generated from an environmental energy facility.
In the molten slag treatment method of the present invention, the specific concentration of the acid is 3 to 12 N, the specific temperature is 20 to 100 ° C., the specific time is 10 minutes or more, and 100 mL of the acid In contrast, the molten slag is added at a mixing ratio of 3 to 25 g.
The molten slag treatment method of the present invention is characterized in that the dissolution treatment is performed after adding a surfactant, and the undissolved material subjected to the dissolution treatment is fired.
In the molten slag treatment method of the present invention, the specific concentration of the acid is 0.5 to 4 N, the specific temperature is 20 to 100 ° C., the specific time is 5 hours or more, and 100 mL It is characterized by being added to the acid in a mixing ratio of 10 to 50 mL of water, 6 to 25 g of the molten slag, and 2 to 6 g of the surfactant.
In the molten slag treatment method of the present invention, the specific concentration of the acid is 11 to 12 N, the specific temperature is 20 to 100 ° C., the specific time is 5 hours or more, and 8 to 15 mL. It is characterized by being added to the acid in a mixing ratio of 100 mL of water, 1 to 10 mL of alcohol, 3 to 10 g of the molten slag, and 1 to 5 g of the surfactant.
The molten slag treatment method of the present invention is characterized in that the acid is hydrochloric acid.
The silica raw material of the present invention is manufactured by the molten slag treatment method.
The high specific surface area silica of the present invention is the undissolved material that has been subjected to the dissolution treatment by the molten slag treatment method.
The mesoporous silica of the present invention is a product produced by the firing treatment produced by the molten slag treatment method.
The silica production method of the present invention is characterized in that an acid of a specific concentration is added to molten slag generated from an environmental energy facility and dissolved at a specific temperature to obtain an undissolved product.

本発明によれば、環境エネルギー施設や製鉄施設等から発生する産業廃棄物等である安価な溶融スラグに対し、特定濃度の塩酸を加えて、特定温度で溶解処理し、未溶解物を取得することで、低コストで高機能なシリカ組成物が得られる溶融スラグ処理方法を提供することができる。   According to the present invention, a specific concentration of hydrochloric acid is added to inexpensive molten slag, which is industrial waste generated from environmental energy facilities, steel manufacturing facilities, etc., and dissolved at a specific temperature to obtain undissolved materials. Thus, it is possible to provide a molten slag treatment method capable of obtaining a high-performance silica composition at low cost.

本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法を含む反応のフローチャートである。It is a flowchart of reaction including the molten slag processing method concerning a first embodiment of the present invention. 本発明の実施例1に係る溶融スラグ及び比較例に係るクリスタルガラスのX線回折分析のグラフである。It is a graph of the X-ray diffraction analysis of the molten slag which concerns on Example 1 of this invention, and the crystal glass which concerns on a comparative example. 本発明の比較例に係る結晶性珪砂及び文献値の石英のX線回折分析のグラフである。It is a graph of the X-ray-diffraction analysis of the crystalline silica sand which concerns on the comparative example of this invention, and the quartz of a literature value. 本発明の実施例1に係るメソポーラスシリカの写真である。2 is a photograph of mesoporous silica according to Example 1 of the present invention. 本発明の第二実施形態に係る溶融スラグ処理方法を含む反応のフローチャートである。It is a flowchart of reaction including the molten slag processing method concerning a second embodiment of the present invention. 本発明の実施例2に係るゾル状液の写真である。It is a photograph of the sol-like liquid which concerns on Example 2 of this invention.

<第一実施形態>
図1に示すように、本発明者らは、環境エネルギー施設や製鉄施設等から発生する副産物である溶融スラグの有効活用について鋭意研究を行っていた。この溶融スラグは、非晶質を含むことによって反応性に富んでいた。このため、この溶融スラグを可溶化してケイ酸に精製し、重合、乾燥、塩基処理、酸処理等を行って、高比表面積シリカ(シリカゲル)、テトラアルコキシシラン等の有機ケイ素の原料として用いることが可能であることが分かった。
本発明者らは、この研究を更に進め、鋭意実験を繰り返したところ、溶融スラグに特定濃度の酸を加え、特定温度で溶解処理を行うことで、シリカ多孔質を得ることができるという、当業者に予測がつかない反応が起こることを見いだした。これは、溶融スラグに含まれる重金属を含む各種金属成分が除去されて、ケイ素の骨格が残るためであると考えられる。更に、この反応を修正し、界面活性剤を加えて反応させるだけで、特徴的な構造をもつメソポーラスシリカも合成することが可能であった。これらの反応を、図1の太線で示す。
すなわち、本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法は、溶融スラグを原料とすることで、中間物質を経由せずに、直接、高比表面積シリカやメソポーラスシリカ等の高機能なシリカ組成物を製造することができるという顕著な効果が得られる。
<First embodiment>
As shown in FIG. 1, the present inventors have conducted intensive research on the effective use of molten slag, which is a by-product generated from environmental energy facilities, steel manufacturing facilities, and the like. This molten slag was rich in reactivity due to containing amorphous. For this reason, this molten slag is solubilized and purified to silicic acid, and polymerized, dried, base-treated, acid-treated, etc., and used as a raw material for organic silicon such as high specific surface area silica (silica gel) and tetraalkoxysilane. It turns out that it is possible.
The present inventors further advanced this research and repeated earnest experiments. As a result, a silica porous material can be obtained by adding a specific concentration of acid to molten slag and performing a dissolution treatment at a specific temperature. I found out that there was an unpredictable reaction to the contractor. This is presumably because various metal components including heavy metals contained in the molten slag are removed, leaving a silicon skeleton. Furthermore, it was possible to synthesize mesoporous silica having a characteristic structure simply by correcting this reaction and reacting it by adding a surfactant. These reactions are indicated by the bold lines in FIG.
That is, the molten slag treatment method according to the first embodiment of the present invention uses a molten slag as a raw material, and directly uses a high-functional silica composition such as high specific surface area silica or mesoporous silica without going through an intermediate substance. The remarkable effect that a thing can be manufactured is acquired.

具体的に説明すると、本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法は、環境エネルギー施設や製鉄施設等から発生する溶融スラグに対し、特定濃度の酸を加えて、特定温度で特定時間、溶解処理し、未溶解物を取得することを特徴とする。
また、本発明の第一実施形態に係るシリカ製造方法は、上述の溶融スラグ処理方法と同様に、環境エネルギー施設や製鉄施設等から発生する溶融スラグに対し、特定濃度の酸を加えて、特定温度で溶解処理し、未溶解物を取得することを特徴とする。
Specifically, the molten slag treatment method according to the first embodiment of the present invention adds a specific concentration of acid to the molten slag generated from an environmental energy facility or a steelmaking facility, for a specific time at a specific temperature, Dissolving treatment is performed to obtain an undissolved material.
In addition, the silica production method according to the first embodiment of the present invention is specified by adding a specific concentration of acid to molten slag generated from an environmental energy facility, a steelmaking facility, or the like, similar to the molten slag treatment method described above. Dissolving treatment is performed at a temperature to obtain an undissolved product.

ここで、本実施形態の環境エネルギー施設は、例えば、都市ごみ清掃工場、下水汚泥焼却設等である。また、本実施形態の環境エネルギー施設は、例えば、都市ごみ等の一般廃棄物、産業廃棄物、下水汚泥等(以下、単に「ゴミ」と称する。)を熱分解した後、発生ガスを燃焼するとともに、灰や不燃物等を溶融するガス化溶融施設であってもよい。ガス化溶融施設はゴミを熱分解、ガス化して燃焼させ、灰、不燃物等を溶融する施設であり、従来のごみ焼却施設のように灰等を別途処理する必要がないため、効率的にゴミを処理可能である。また、燃焼時の熱を用いて、発電や温水の供給を行うようなガス化溶融施設も存在する。このガス化溶融施設としては、ゴミの熱分解と溶融を一体で行うシャフト炉式、分離して行うキルン式や流動床式であってもよい。なお、ガス化溶融施設以外の焼却施設により焼却した灰を、別途、溶融固化して、下記の溶融スラグとして用いることも可能である。   Here, the environmental energy facility of the present embodiment is, for example, a municipal waste cleaning factory, a sewage sludge incinerator, or the like. In addition, the environmental energy facility of this embodiment, for example, pyrolyzes general waste such as municipal waste, industrial waste, sewage sludge (hereinafter simply referred to as “garbage”), and then burns the generated gas. In addition, it may be a gasification melting facility that melts ash, incombustibles, and the like. The gasification and melting facility is a facility that pyrolyzes, gasifies and burns trash and melts ash, incombustibles, etc., and there is no need to separately process ash etc. unlike conventional waste incineration facilities. Garbage can be processed. There are also gasification and melting facilities that use heat generated during combustion to generate power and supply hot water. The gasification and melting facility may be a shaft furnace type that integrally performs thermal decomposition and melting of garbage, a kiln type that performs separation, or a fluidized bed type. Note that the ash incinerated by an incineration facility other than the gasification melting facility can be separately melted and solidified and used as the following molten slag.

また、本実施形態の環境エネルギー施設から発生する溶融スラグは、ゴミの灰分を1,200℃以上の高温下で融液の状態にした後、任意の方式で冷却、固化した組成物であってもよい。また、本実施形態の溶融スラグの種類は、ゴミの種類、溶融炉の形式等によって区別される。具体的には、上述の融液を水等の冷却媒体と直接又は間接的に接触させて急速に冷却させて得られるガラス質で細粒状又は砂状である急冷スラグ、融液をコンベア又は容器に受け、大気中又は保温室で冷却させた徐冷スラグ、焼却灰を高温火炎中に噴射して溶融状態にして表面張力により球状にした溶融スラグ、還元雰囲気中で酸化鉄等の金属を分離して取り出された溶融スラグ等であってもよい。
また、本実施形態の溶融スラグとして、一般廃棄物、下水汚泥、又はそれらの焼却灰を溶融固化したコンクリート用溶融スラグ骨材である、JIS A 5031規格の溶融スラグを用いることも可能である。また、本実施形態の溶融スラグとして、一般廃棄物、下水汚泥、又はそれらの焼却灰を溶融固化した道路用溶融スラグである、JIS A 5032規格の溶融スラグを用いることも可能である。
In addition, the molten slag generated from the environmental energy facility of the present embodiment is a composition in which the ash content of the garbage is melted at a high temperature of 1,200 ° C. or higher and then cooled and solidified by an arbitrary method. Also good. In addition, the type of molten slag of the present embodiment is distinguished by the type of garbage, the type of melting furnace, and the like. Specifically, the above-mentioned melt is brought into direct or indirect contact with a cooling medium such as water and rapidly cooled to rapidly cool the glassy fine granular or sandy slag, and the melt is conveyed to a conveyor or container. Slowly cooled slag that has been cooled in the atmosphere or in a greenhouse, incinerated ash is injected into a high-temperature flame, molten slag is made spherical by surface tension, and metals such as iron oxide are separated in a reducing atmosphere It may be a molten slag taken out.
In addition, as the molten slag of the present embodiment, it is also possible to use JIS A 5031 standard molten slag which is a molten slag aggregate for concrete obtained by melting and solidifying general waste, sewage sludge, or incinerated ash thereof. Further, as the molten slag of the present embodiment, it is also possible to use JIS A 5032 standard molten slag which is a molten slag for roads obtained by melting and solidifying general waste, sewage sludge, or incinerated ash thereof.

ここで、本実施形態においては、これらの溶融スラグのうち、特に、非晶質(非結晶質、ガラス質、アモルファス)を含むものを用いることで、反応性を高めることができるため、好適である。このような非晶質の溶融スラグにより、後述する酸処理で金属質を溶融させた後でケイ素の骨格を残すことができ、高比表面積シリカを生成させたり、メソポーラスシリカを精製させたりする際に、十分な反応性を得ることが可能である。
このように溶融スラグが非晶質であることは、例えば、下記の実施例で示したように、X線回折分析で結晶由来の回折線が検出されない、又は、特定の閾値以下であることを検出することで、当業者に判別可能である。
なお、本実施形態においては、溶融スラグであれば、ある程度結晶化させた徐冷スラグを用いることも可能である。
Here, in the present embodiment, among these molten slags, in particular, by using an amorphous (non-crystalline, glassy, amorphous) containing slag, the reactivity can be increased, which is preferable. is there. Such amorphous molten slag can leave a silicon skeleton after melting the metallic material by the acid treatment described later, when producing high specific surface area silica or purifying mesoporous silica. In addition, sufficient reactivity can be obtained.
Thus, the fact that the molten slag is amorphous means that, for example, as shown in the following examples, the diffraction line derived from the crystal is not detected by the X-ray diffraction analysis, or is below a specific threshold value. By detecting, it can be distinguished by those skilled in the art.
In the present embodiment, slow-cooled slag that has been crystallized to some extent can be used as long as it is molten slag.

また、本実施形態の溶融スラグとして、製鉄施設から発生する鉄鋼スラグ等の石炭等を燃焼させて得られるスラグを用いることも可能である。
本実施形態の鉄鋼スラグとしては、高炉スラグ及び製鋼スラグのいずれも使用可能である。この高炉スラグは、銑鉄製造工程で発生するスラグであり、高炉内に鉄鉱石、コークス、石灰石等の原料を装入し熱風を送ることで還元された溶銑から分離されたものである。この高炉スラグは、CaO、SiO2、Al23を主成分としており、セメントに似た化学組成である。また、この高炉スラグとしては、高炉徐冷スラグ、高炉水砕スラグ等を用いることが可能である。また、製鋼スラグとしては、製鋼工程において発生するスラグであり、転炉スラグ、電気炉スラグ等を用いることが可能である。転炉スラグは、転炉で酸化精錬の際に生じた酸化物と精錬材から生じるスラグである。この転炉スラグは、CaO、SiO2、Al23を主成分とするものの、高炉スラグよりCaOが多く、水溶液が強いアルカリ性を示す。また、電気炉スラグは、電気炉において炉内雰囲気を酸化性に変化させる際に発生する酸化スラグ、還元性に変化させる際に発生する還元スラグ等を用いることが可能である。
Moreover, it is also possible to use the slag obtained by burning coal etc., such as steel slag generated from an iron manufacturing facility, as molten slag of this embodiment.
As steel slag of this embodiment, both blast furnace slag and steelmaking slag can be used. This blast furnace slag is slag generated in the pig iron manufacturing process, and is separated from the hot metal reduced by charging raw materials such as iron ore, coke and limestone into the blast furnace and sending hot air. This blast furnace slag is mainly composed of CaO, SiO 2 and Al 2 O 3 and has a chemical composition similar to cement. Moreover, as this blast furnace slag, blast furnace slow cooling slag, blast furnace granulated slag, etc. can be used. The steelmaking slag is slag generated in the steelmaking process, and converter slag, electric furnace slag, and the like can be used. Converter slag is slag produced from oxides and refining materials produced during oxidation refining in a converter. Although this converter slag is mainly composed of CaO, SiO 2 , and Al 2 O 3 , it contains more CaO than blast furnace slag, and the aqueous solution exhibits strong alkalinity. Further, as the electric furnace slag, it is possible to use oxidized slag generated when the furnace atmosphere is changed to oxidizing in the electric furnace, reduced slag generated when changing the reducing atmosphere to reducing, or the like.

また、本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法は、溶融スラグは、Si:Ca:Alの質量比が1:0.1〜7:0.2〜0.9の特定質量比であることを特徴とする。この特定質量比は、好ましくは、Si:Ca:Alの質量比が1:0.1〜2.1:0.2〜0.9、より好ましくは。1:0.1〜1.5:0.2〜0.9であることを特徴とする。
このような構成比の溶融スラグを用いることにより、環境エネルギー施設から発生する廃棄物である溶融スラグを酸処理するだけで、産業上有用な高比表面積シリカやメソポーラスシリカ等の高機能シリカを得ることができる。
また、鉄鋼スラグ等からでも、産業上有用な高比表面積シリカやメソポーラスシリカ等の高機能シリカを得ることができる。すなわち、本実施形態の溶融スラグとして、Si比率が高いスラグだけでなく、Si:Ca:Alの質量比のうち、Caが多くSi含有量が少なめの高炉スラグ等でも、高比表面積シリカやメソポーラスシリカ等を取得可能である。また、高炉スラグ等でも、後述する第二実施形態のゾル状液を得ることができる。
なお、本実施形態の溶融スラグの代替として、Si:Ca:Alの質量比が特定質量比であり、非晶質であるケイ酸塩を含む粒子も用いることが可能である。たとえば、火山灰、廃ガラスを用いた発泡ガラス粒子等を用いることも可能である。
Moreover, as for the molten slag processing method which concerns on 1st embodiment of this invention, molten slag is mass ratio of Si: Ca: Al by specific mass ratio of 1: 0.1-7: 0.2-0.9. It is characterized by being. The specific mass ratio is preferably a mass ratio of Si: Ca: Al of 1: 0.1 to 2.1: 0.2 to 0.9, and more preferably. It is characterized by being 1: 0.1-1.5: 0.2-0.9.
By using molten slag having such a composition ratio, industrially useful high-functional silica such as high specific surface area silica and mesoporous silica can be obtained simply by acid treatment of molten slag, which is waste generated from environmental energy facilities. be able to.
Further, industrially useful high-functional silica such as high specific surface area silica and mesoporous silica can be obtained from steel slag and the like. That is, as the molten slag of the present embodiment, not only slag having a high Si ratio, but also blast furnace slag having a high Ca content and a low Si content in a mass ratio of Si: Ca: Al, high specific surface area silica or mesoporous Silica and the like can be obtained. Moreover, the sol-like liquid of 2nd embodiment mentioned later can be obtained also with blast furnace slag etc.
In addition, as an alternative to the molten slag of the present embodiment, it is also possible to use particles containing an amorphous silicate having a specific mass ratio of Si: Ca: Al. For example, volcanic ash, foamed glass particles using waste glass, or the like can be used.

また、本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法は、酸の特定濃度は、3〜12Nであり、特定温度は、20〜100℃であり、特定時間は、10分以上であり、100mLの酸に対して、溶融スラグを3〜25gとする混合比で加えられることが好適である。
また、本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法は、酸として、金属を溶解させ、ケイ素の骨格を残すような性質のある酸を用いることが可能である。具体的には、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、塩素酸、臭素酸、ヨウ素酸、オキソ酸、フルオロ錯体の遊離酸等の強酸を用いてもよい。また、一般的な強酸以外の酸を用いることも可能である。
これらの酸のうち、特に、塩酸を用いることで、上述の性質の高機能シリカを容易に得ることができ、廃液処理等も容易になる。また、酸が塩酸である場合、特定濃度については、3N以上であれば、塩酸の飽和濃度である12Nまで、問題なく用いることが可能である。
なお、本実施形態において、酸の濃度を、規定度(N)=価数×モル数として示す。
Moreover, as for the molten slag processing method which concerns on 1st embodiment of this invention, the specific density | concentration of an acid is 3-12N, specific temperature is 20-100 degreeC, specific time is 10 minutes or more, It is preferable that 100 mL of acid is added at a mixing ratio of 3 to 25 g of molten slag.
In the molten slag treatment method according to the first embodiment of the present invention, an acid having a property of dissolving a metal and leaving a silicon skeleton can be used as the acid. Specifically, for example, a strong acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, chloric acid, bromic acid, iodic acid, oxo acid, or free acid of a fluoro complex may be used. It is also possible to use acids other than general strong acids.
Among these acids, in particular, by using hydrochloric acid, highly functional silica having the above-mentioned properties can be easily obtained, and waste liquid treatment and the like can be facilitated. Further, when the acid is hydrochloric acid, the specific concentration can be used without any problem up to 12N which is the saturated concentration of hydrochloric acid if it is 3N or more.
In the present embodiment, the acid concentration is expressed as normality (N) = valence number × mol number.

また、本発明の第一実施形態に係る高比表面積シリカは、上述の溶融スラグ処理方法により処理された未溶解物であることを特徴とする。
すなわち、上述のような条件で溶解処理をするように構成することで、下記で説明するように、溶解処理後の未溶解物を高比表面積シリカとして取得することが可能となる。
Moreover, the high specific surface area silica which concerns on 1st embodiment of this invention is the undissolved material processed by the above-mentioned molten slag processing method, It is characterized by the above-mentioned.
That is, by performing the dissolution treatment under the above-described conditions, it becomes possible to obtain the undissolved material after the dissolution treatment as high specific surface area silica as described below.

ここで、特定温度が20℃より低い、酸の濃度が3N未満、及び/又は、特定時間が10分未満である場合、溶融反応が十分進まず、溶解処理後の未溶解物のSiO2含有量が低くなる。逆に、酸の濃度、特定時間、特定温度が上がるにつれて、未溶解物のSiO2含有量が高くなる。また、100mLの酸に対して、溶融スラグが3g未満であると、未溶解物の収量が低くなる。また、溶液/溶融スラグの比(Liquid/Slag、以下、単に「L/S」と記載する。)は大きくなるにつれて、未溶解物のSiO2含有量が高くなる。
また、後述の実施例で示すように、未溶解物を高比表面積シリカとして取得する際の酸として、例えば、塩酸を用いた場合、特定濃度は、4N程度、特定温度は、80℃程度、特定時間は120〜240分、L/Sは100:3程度であることが、SiO2含有量が高い未溶解物が得られ、高比表面積が高く高品質な高比表面積シリカを得られるため最も好適である。
Here, when the specific temperature is lower than 20 ° C., the acid concentration is less than 3N, and / or the specific time is less than 10 minutes, the melting reaction does not proceed sufficiently and the SiO 2 content of the undissolved material after the dissolution treatment The amount is lower. Conversely, as the acid concentration, specific time, and specific temperature increase, the SiO 2 content of the undissolved product increases. Moreover, the yield of undissolved material will become low that molten slag is less than 3 g with respect to 100 mL of acid. Further, as the ratio of the solution / molten slag (Liquid / Slag, hereinafter simply referred to as “L / S”) increases, the SiO 2 content of the undissolved material increases.
In addition, as shown in the examples described later, for example, when hydrochloric acid is used as an acid when obtaining an undissolved material as high specific surface area silica, the specific concentration is about 4N, the specific temperature is about 80 ° C, Since the specific time is 120 to 240 minutes and L / S is about 100: 3, an undissolved material having a high SiO 2 content can be obtained, and a high specific surface area silica having a high high specific surface area and high quality can be obtained. Most preferred.

また、従来、メソポーラスシリカは、高価な有機ケイ素を用いて合成されていたため、利用が限定的であった。
これに対して、本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法は、界面活性剤を加えた上で溶解処理を行い、未溶解物を焼成処理することを特徴とする。
また、本発明の第一実施形態に係るメソポーラスシリカは、上述の溶融スラグ処理方法により製造された焼成処理による生成物であることを特徴とする。
このように構成することで、環境エネルギー施設や製鉄施設等から発生する廃棄物である溶融スラグから、中間物質を経ることなく直接メソポーラスシリカを合成することができる。これにより、製造コストが下がり、メソポーラスシリカの利用拡大につながる。
Conventionally, mesoporous silica has been synthesized using expensive organic silicon, and thus its use has been limited.
On the other hand, the molten slag treatment method according to the first embodiment of the present invention is characterized in that a dissolution treatment is performed after adding a surfactant, and an undissolved material is fired.
In addition, the mesoporous silica according to the first embodiment of the present invention is a product obtained by a firing treatment manufactured by the above-described molten slag treatment method.
By comprising in this way, mesoporous silica can be directly synthesize | combined from the molten slag which is a waste generated from an environmental energy facility, a steel manufacturing facility, etc., without passing through an intermediate substance. This reduces manufacturing costs and leads to increased use of mesoporous silica.

また、本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法は、酸の特定濃度は、0.5〜4Nであり、特定温度は、20〜100℃であり、特定時間は、5時間以上であり、100mLの酸に対して、水を10〜50mL、溶融スラグを6〜25g、界面活性剤を2〜6gとする混合比で加えられることを特徴とする。
このような条件で溶解処理をするように構成することで、溶解処理後の未溶解物を直径2〜50nmの「メソポーラス」の細孔を備えた高品質なメソポーラスシリカとして取得することが可能となる。ここで、上述のような条件以外である場合、メソポーラスシリカとしての品質が確保できない可能性がある。
また、この場合も、酸として、金属を溶解させ、ケイ素の骨格を残すような性質のある酸を用いることが可能である。
より具体的には、後述の実施例で示すように、未溶解物をメソポーラスシリカとして取得する際の一例として塩酸を用いた場合、特定濃度は、2N程度、特定温度は、20〜25℃程度の室温で特定時間として20時間攪拌した後、80℃程度で特定時間として20時間攪拌してもよい。この際、120mL程度の塩酸について、水30mL程度に、4.0gの溶融スラグを加える。また、界面活性剤としては、Pluronic P123を4.0〜5.0g程度用いることが好適である。また、焼成処理の温度は、550℃で4時間程度等、当業者に一般的な、界面活性剤を分解させる条件であってもよい。これにより、高品質なメソポーラスシリカを得られるため最も好適である。
Moreover, as for the molten slag processing method which concerns on 1st embodiment of this invention, the specific concentration of an acid is 0.5-4N, specific temperature is 20-100 degreeC, and specific time is 5 hours or more. Yes, with respect to 100 mL of acid, water is added in a mixing ratio of 10 to 50 mL, molten slag of 6 to 25 g, and surfactant of 2 to 6 g.
By performing the dissolution treatment under such conditions, it is possible to obtain the undissolved material after the dissolution treatment as high-quality mesoporous silica having pores of “mesoporous” having a diameter of 2 to 50 nm. Become. Here, when the conditions are other than those described above, the quality of mesoporous silica may not be ensured.
Also in this case, it is possible to use an acid having a property of dissolving a metal and leaving a silicon skeleton as the acid.
More specifically, as shown in the examples below, when hydrochloric acid is used as an example of obtaining an undissolved material as mesoporous silica, the specific concentration is about 2N, and the specific temperature is about 20 to 25 ° C. After stirring at room temperature for 20 hours as the specified time, stirring may be performed at about 80 ° C. for 20 hours as the specified time. At this time, about 120 mL of hydrochloric acid, 4.0 g of molten slag is added to about 30 mL of water. As the surfactant, it is preferable to use about 4.0 to 5.0 g of Pluronic P123. Further, the temperature of the baking treatment may be conditions generally used by those skilled in the art for decomposing the surfactant, such as about 550 ° C. for about 4 hours. This is most preferable because high-quality mesoporous silica can be obtained.

また、本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法は、酸の特定濃度は、11〜12Nであり、特定温度は、20〜100℃であり、特定時間は、5時間以上であり、8〜15mLの酸に対して、水を100mL、アルコール1〜10mL、溶融スラグを3〜10g、界面活性剤を1〜5gとする混合比で加えられることを特徴とする。このような条件で溶解処理をするように構成することで、溶解処理後の未溶解物を、窒素ガス吸着法によって求めたBET比表面積は、800m2/gである高品質なメソポーラスシリカとして取得することが可能となる。ここで、上述のような条件以外である場合、メソポーラスシリカとしての品質が確保できない可能性がある。
また、この場合も、酸として、金属を溶解させ、ケイ素の骨格を残すような性質のある酸を用いることが可能である。
より具体的には、後述の実施例で示すように、未溶解物をメソポーラスシリカとして取得する際の他の一例として塩酸を用いた場合、特定濃度は、水100mLに対して、10〜12mL程度の12Nの濃塩酸、7.0〜8.0mL程度の1−ブタノール、100℃程度の特定温度において、5.0gの溶融スラグを加え、特定時間として20時間攪拌してもよい。また、界面活性剤としては、Pluronic F127を2.0〜3.0g程度用いることが好適である。また、焼成処理の温度は、550℃で4時間程度等、当業者に一般的な条件であってもよい。これにより、高品質なメソポーラスシリカを得られるため最も好適である。なお、この反応においても、ブタノールの他にも、炭化水素の水素原子をヒドロキシ基で置き換えた各種アルコールを用いることが可能である。
Moreover, as for the molten slag processing method which concerns on 1st embodiment of this invention, the specific density | concentration of an acid is 11-12N, specific temperature is 20-100 degreeC, specific time is 5 hours or more, It is characterized by being added to 8 to 15 mL of acid in a mixing ratio of 100 mL of water, 1 to 10 mL of alcohol, 3 to 10 g of molten slag, and 1 to 5 g of surfactant. By configuring so as to perform the dissolution treatment under such conditions, the undissolved material after the dissolution treatment is obtained as high-quality mesoporous silica having a BET specific surface area of 800 m 2 / g obtained by the nitrogen gas adsorption method. It becomes possible to do. Here, when the conditions are other than those described above, the quality of mesoporous silica may not be ensured.
Also in this case, it is possible to use an acid having a property of dissolving a metal and leaving a silicon skeleton as the acid.
More specifically, as shown in the examples below, when hydrochloric acid is used as another example when obtaining an undissolved material as mesoporous silica, the specific concentration is about 10 to 12 mL with respect to 100 mL of water. 12N concentrated hydrochloric acid, 7.0-8.0 mL of 1-butanol, and a specific temperature of about 100 ° C., 5.0 g of molten slag may be added and stirred for a specific time of 20 hours. As the surfactant, it is preferable to use about 2.0 to 3.0 g of Pluronic F127. Moreover, the temperature of a baking process may be conditions common to those skilled in the art, such as about 4 hours at 550 degreeC. This is most preferable because high-quality mesoporous silica can be obtained. In this reaction, in addition to butanol, it is possible to use various alcohols in which hydrocarbon hydrogen atoms are replaced with hydroxy groups.

また、上述のように、本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法の溶融スラグは、既存のシリカ原料より安価である。このため、本発明の第一実施形態に係る溶融スラグ処理方法で製造されたメソポーラスシリカは、従来より製造コストを下げることができ、メソポーラスシリカの利用拡大につながる。   Moreover, as above-mentioned, the molten slag of the molten slag processing method which concerns on 1st embodiment of this invention is cheaper than the existing silica raw material. For this reason, the mesoporous silica manufactured by the molten slag processing method according to the first embodiment of the present invention can reduce the manufacturing cost as compared with the conventional case, leading to the expanded use of mesoporous silica.

また、本発明の第一実施形態に係るシリカ原料は、上述の溶融スラグ処理方法により製造されたことを特徴とする。
具体的には、上述の溶融スラグ処理方法により溶融スラグを基に合成された高比表面積シリカ又はメソポーラスシリカ等を含む未溶解物は、上述のように可溶化してケイ酸に精製し、重合、乾燥、塩基処理、酸処理等を行って、高比表面積シリカゲル、有機ケイ素、メソポーラスシリカ等のシリカ原料として加工することが可能である。これにより、廃棄物である溶融スラグを有効に活用することが可能である。
この際、本実施形態のシリカ原料は、メタノール等と反応させて、分子内にSi−C結合を備えたシリコーン樹脂等の有機ケイ素素材の原料として用いることも可能である。すなわち、上述のシリカ原料は、有機ケイ素であるテトラアルコキシシランとして、テトラメトキシシラン(オルトケイ酸テトラメチル、TMOS)、テトラエトキシシラン(オルトケイ酸テトラエチル、TEOS)等を容易に合成することも可能である。
Moreover, the silica raw material which concerns on 1st embodiment of this invention was manufactured by the above-mentioned molten slag processing method, It is characterized by the above-mentioned.
Specifically, undissolved material containing high specific surface area silica or mesoporous silica synthesized based on molten slag by the above-described molten slag treatment method is solubilized and purified to silicic acid as described above, and polymerized. It can be processed as a silica raw material such as high specific surface area silica gel, organic silicon, mesoporous silica by drying, base treatment, acid treatment and the like. Thereby, it is possible to effectively utilize the molten slag as waste.
At this time, the silica raw material of the present embodiment can also be used as a raw material for an organic silicon material such as a silicone resin having Si—C bonds in the molecule by reacting with methanol or the like. That is, the silica raw material described above can easily synthesize tetramethoxysilane (tetramethyl orthosilicate, TMOS), tetraethoxysilane (tetraethyl orthosilicate, TEOS), etc. as tetraalkoxysilane which is organic silicon. .

具体的には、本実施形態のテトラメトキシシランは、例えば、上述のシリカ原料として、メタノール、有機脱水剤としてアセトンジメチルアセタール(2,2−ジメトキシプロパン)、水酸化カリウムを加え、二酸化炭素をオートクレーブ内が2MPa以上になるよう充填して密封し、オートクレーブ内で攪拌しつつ240℃程度まで加熟し、24時間以上反応させることで合成可能となる。
また、本実施形態のテトラエトキシシランは、例えば、上述のシリカ原料とエタノールに、触媒として少量の水酸化カリウム、脱水剤として固体状無機物質であるモレキュラーシーブを加えて加熱し反応させることで合成することも可能である。この際、触媒として加えた水酸化カリウムは、シリカの分解すなわちケイ素−酸素結合の切断を促進する。また、無機脱水剤であるモレキュラーシーブは、反応によって生成した水を吸着して、反応系から取り除き、反応が逆方向に戻ってしまうことを防ぐ。
Specifically, the tetramethoxysilane of the present embodiment includes, for example, methanol as the silica raw material, acetone dimethyl acetal (2,2-dimethoxypropane) and potassium hydroxide as the organic dehydrating agent, and carbon dioxide in an autoclave. It is filled and sealed so that the inside becomes 2 MPa or more, ripened to about 240 ° C. while stirring in an autoclave, and allowed to react for 24 hours or more, thereby enabling synthesis.
Moreover, the tetraethoxysilane of this embodiment is synthesized by adding a small amount of potassium hydroxide as a catalyst and molecular sieve, which is a solid inorganic substance as a dehydrating agent, to the silica raw material and ethanol described above, followed by heating and reaction. It is also possible to do. At this time, potassium hydroxide added as a catalyst promotes the decomposition of silica, that is, the breaking of the silicon-oxygen bond. Further, the molecular sieve that is an inorganic dehydrating agent adsorbs water generated by the reaction and removes it from the reaction system to prevent the reaction from returning in the reverse direction.

また、本実施形態のシリカ原料は、他の有機ケイ素素材として使用可能である。
本実施形態のシリカ原料は、例えば、有機ケイ素を化学メーカーの素材原料として各種の製品等に混入したり、加工用の原材料として使用したりすることが可能である。
より具体的には、例えば、上述のシリカ原料を、クレンザー等の研磨材の鉱物原料の代替として使用可能である。シリカ原料は、重金属や塩素分、硫黄分等が少ないために、良好な研磨剤として用いることが可能である。
また、上述のシリカ原料は、次世代エコタイヤ等のようにゴムや各種プラスチックへの添加剤として用いることも可能である。
また、上述のシリカ原料は、珪藻土の代替の建築材料として、保温材や耐火材等にも用いることが可能である。
また、上述のシリカ原料は、農薬等を含む各種化学物質のキャリアー(担体)として使用することも可能である。
また、上述のシリカ原料は、自動車用部材、太陽光発電用部材、化粧品、家電製品、宇宙航空用材料、シーリング材等の各種用途に好適に用いることができる。
Moreover, the silica raw material of this embodiment can be used as another organosilicon raw material.
The silica raw material of this embodiment can mix organic silicon in various products etc. as a raw material raw material of a chemical manufacturer, for example, or can use it as a raw material for a process.
More specifically, for example, the above-described silica raw material can be used as an alternative to a mineral raw material for an abrasive such as a cleanser. The silica raw material can be used as a good abrasive because it contains few heavy metals, chlorine, sulfur and the like.
Moreover, the above-mentioned silica raw material can also be used as an additive to rubbers and various plastics, such as next-generation eco tires.
Moreover, the above-mentioned silica raw material can be used also as a heat insulating material, a refractory material, etc. as an alternative building material of diatomaceous earth.
The silica raw material described above can also be used as a carrier for various chemical substances including agricultural chemicals.
Moreover, the above-mentioned silica raw material can be used suitably for various uses, such as a member for motor vehicles, a member for photovoltaic power generation, cosmetics, a household appliance, an aerospace material, and a sealing material.

<第二実施形態>
次に、図5によれば、本発明者らは、上述の第一実施形態と同様の溶融スラグを処理する処理方法において、各種条件を変更して鋭意実験を行った。すると、低酸濃度領域での処理により、ゾル状液が得られることを見出した。このゾル状液(コロイド溶液)は、上述の第一実施形態の未溶解物と同様にシリカ原料として好適に用いることができる。すなわち、本実施形態のゾル状液から、第一実施形態と同様の未溶解物と同様の未溶解ゲルを製造し、高比表面積シリカのシリカゲルを容易に合成可能となる。
さらに、本実施形態のゾル状液を製造する際に、必要な酸の濃度が低くなるため、使用する酸の量を減らすことができ、耐食性に求められる水準も低くなるため、コストを低減できる。また、ゾル状液は、液体のため、保存や搬送が容易となる。
<Second embodiment>
Next, according to FIG. 5, the present inventors conducted earnest experiments by changing various conditions in the same processing method for processing molten slag as in the first embodiment described above. Then, it discovered that the sol-like liquid was obtained by the process in a low acid concentration area | region. This sol-like liquid (colloid solution) can be suitably used as a silica raw material in the same manner as the undissolved material of the first embodiment described above. That is, an undissolved gel similar to the undissolved material similar to that of the first embodiment is produced from the sol-like liquid of this embodiment, and silica gel of high specific surface area silica can be easily synthesized.
Further, when the sol-like liquid of this embodiment is produced, the concentration of the necessary acid is reduced, so that the amount of acid to be used can be reduced, and the level required for corrosion resistance is also reduced, thereby reducing the cost. . Further, since the sol-like liquid is a liquid, it can be easily stored and transported.

具体的には、本発明の第二実施形態に係る溶融スラグ処理方法は、溶融スラグに対し、特定濃度の酸を加えて、特定温度で特定時間、溶解処理し、ゾル状液を取得することを特徴とする。
この際に、本実施形態の酸の特定濃度は、0.1〜3Nであり、特定温度は、20〜100℃であり、特定時間は、10分以上であり、100mLの酸に対して、溶融スラグを3〜25gとする混合比で加えられることが好適である。
ここで、本実施形態の酸の特定濃度が0.1N未満だと、溶融スラグを十分、溶解できない。また、逆に、3Nより大きいと、第一実施形態の未溶解物を取得する際に溶け出すのと同時に、さらに酸が触媒となりゲル化が進行して、再度未溶解物が生じ、ゾル状液を生じなくなる。
また、溶解処理した後、条件によっては、僅かに未溶解物が残ることがあり、これらは濾紙やフィルター等により濾過して、この未溶解物を除去することが好適である。
図6に、後述する実施例2で製造したゾル状液の外観を示す。
Specifically, in the molten slag treatment method according to the second embodiment of the present invention, a specific concentration of acid is added to the molten slag, and a dissolution treatment is performed at a specific temperature for a specific time to obtain a sol-like liquid. It is characterized by.
At this time, the specific concentration of the acid of this embodiment is 0.1 to 3N, the specific temperature is 20 to 100 ° C., the specific time is 10 minutes or more, and for 100 mL of acid, It is preferable that the molten slag is added at a mixing ratio of 3 to 25 g.
Here, when the specific concentration of the acid of this embodiment is less than 0.1 N, the molten slag cannot be sufficiently dissolved. On the other hand, if it is larger than 3N, it dissolves when the undissolved material of the first embodiment is obtained, and at the same time, the acid acts as a catalyst and the gelation proceeds, resulting in the undissolved material again, No liquid is produced.
In addition, after dissolution treatment, undissolved substances may remain slightly depending on conditions, and it is preferable to remove these undissolved substances by filtering them with a filter paper or a filter.
FIG. 6 shows the appearance of the sol-like liquid produced in Example 2 described later.

また、本実施形態のゾル状液のコロイド状のシリカの粒子径は、3〜50nmであることを特徴とする。ここで、本実施形態においては、動的光散乱法で測定した際の第一ピークのデータを粒子径として用いてもよい。
このように、非常に微細であり表面積が大きいため、反応性が高まり、各種反応に容易に用いることができる。
なお、粒子径が3〜50nmより大きい粒子は、未溶解物であるため、上述のように濾過して除去することができる。また、シリカ以外のCa、Al、P、その他の金属イオン等は、各種処理により除去することが可能である。
Moreover, the particle diameter of the colloidal silica of the sol-like liquid of this embodiment is 3 to 50 nm. Here, in the present embodiment, data of the first peak measured by the dynamic light scattering method may be used as the particle diameter.
Thus, since it is very fine and has a large surface area, the reactivity is increased and it can be easily used for various reactions.
In addition, since the particle diameter larger than 3-50 nm is an undissolved substance, it can be filtered and removed as described above. Further, Ca, Al, P other than silica, other metal ions, and the like can be removed by various treatments.

また、本実施形態の溶融スラグは、第一実施形態と同様に環境エネルギー施設や製鉄施設等から発生する溶融スラグを用いることができる。また、本実施形態の酸も、第一実施形態と同様の各種酸を用いることができ、特に塩酸を用いることが好適である。
また、本実施形態のゾル溶液は、上述の第一実施形態と同様に、シリカ原料として用いることができる。また、テトラメトキシシラン等の合成、他の有機ケイ素素材等を含む各種用途に用いることも可能である。
Moreover, the molten slag of this embodiment can use the molten slag generated from an environmental energy facility, a steelmaking facility, etc. similarly to 1st embodiment. Moreover, the acid of this embodiment can also use various acids similar to the first embodiment, and hydrochloric acid is particularly preferable.
Moreover, the sol solution of this embodiment can be used as a silica raw material similarly to the above-mentioned first embodiment. It can also be used for various applications including synthesis of tetramethoxysilane and other organic silicon materials.

次に図面に基づき本発明を実施例によりさらに説明するが、以下の具体例は本発明を限定するものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further based on drawing, the following specific examples do not limit this invention.

(溶融スラグの種類)
以下の実験において、環境エネルギー施設から発生する溶融スラグとして、都市ごみ清掃工場のキルン式のガス化溶融施設から取得した急冷スラグ(水砕スラグ)である「Hスラグ」、「Kスラグ」の二種類の溶融スラグを用いた。このHスラグ、Kスラグとも、Si:Ca:Alの質量比は、1:0.1〜1.5:0.2〜0.9であり、上述の実施形態で示した特定質量比に含まれていた。
また、比較例として酸化鉛を21%含む、クリスタルガラス及び結晶性の珪砂を用いた。
(Type of molten slag)
In the following experiments, two types of “H slag” and “K slag”, which are quenching slags (granulated slag) obtained from kiln-type gasification melting facilities of municipal waste incineration plants, as molten slag generated from environmental energy facilities. Different types of molten slag were used. In both the H slag and the K slag, the mass ratio of Si: Ca: Al is 1: 0.1 to 1.5: 0.2 to 0.9, and is included in the specific mass ratio shown in the above embodiment. It was.
As a comparative example, crystal glass and crystalline silica sand containing 21% of lead oxide were used.

(X線回折(XRD)定性分析)
Hスラグ、クリスタルガラスを試料とし、前処理として各試料を粉砕し、X線回折分析(島津製作所製、XRD−6100)を行った。測定条件は、X線管球:Cu(1.54060Å)、管電圧:40.0kV、管電流:30.0mA、測定範囲:5.0000〜70.0000°、ステップ幅:0.0200°、計数時間:0.60秒、スリットDS:1.00°、SS:1.00°、RS:0.30mmである。
(X-ray diffraction (XRD) qualitative analysis)
H slag and crystal glass were used as samples, each sample was pulverized as a pretreatment, and X-ray diffraction analysis (manufactured by Shimadzu Corporation, XRD-6100) was performed. Measurement conditions are: X-ray tube: Cu (1.54060 mm), tube voltage: 40.0 kV, tube current: 30.0 mA, measurement range: 5.0000 to 70.000 °, step width: 0.0200 °, Counting time: 0.60 seconds, slit DS: 1.00 °, SS: 1.00 °, RS: 0.30 mm.

図2によれば、上グラフがHスラグ、下グラフがクリスタルガラスのX線回折分析の結果を示すグラフである。両方とも、結晶由来の回折線は検出しなかったことから、非結晶の状態であると考えられる。
図3によれば、上グラフが石英の理論値(文献値)を示すX線回折分析のグラフ、下が比較例で用いた結晶性の珪砂のX線回折分析のグラフである。この珪砂では、石英と同様の結晶性であるエビデンスを示す、結晶由来の回折線を検出した。
According to FIG. 2, the upper graph is a graph showing the results of X-ray diffraction analysis of H slag and the lower graph of crystal glass. In both cases, diffraction lines derived from crystals were not detected, and thus are considered to be in an amorphous state.
According to FIG. 3, the upper graph is a graph of X-ray diffraction analysis showing the theoretical value (document value) of quartz, and the lower graph is a graph of X-ray diffraction analysis of crystalline quartz sand used in the comparative example. In this silica sand, a crystal-derived diffraction line showing evidence of crystallinity similar to that of quartz was detected.

(SiO2濃縮試験)
ここで、Hスラグ、Kスラグ、及びクリスタルガラスについて、特定濃度の塩酸を加えて、特定温度で特定時間、溶解処理し、取得した未溶解物のSiO2純度について計測するSiO2濃縮試験を行った。それぞれ、塩酸の濃度、特定時間(分)、特定温度(℃)、L/Sを変化させた場合のSiO2純度(wt%)の変化を計測した結果を下記に示す。
表1はHスラグの結果、表2はKスラグの結果、表3はクリスタルガラスの結果である。条件0が試験サンプル中のSiO2(wt%)(無処理)を示し、条件1以降は、サンプルを溶解処理して得られた(溶解後に再度固化した)固体分中のSiO2含有量である。
なお、Kスラグ、クリスタルガラスで試験を行った条件は、下記の表において、SiO2(wt%)のデータがある箇所である。
(SiO 2 concentration test)
Here, H 2 slag, K slag, and crystal glass were added with a specific concentration of hydrochloric acid, dissolved at a specified temperature for a specified time, and a SiO 2 concentration test was performed to measure the SiO 2 purity of the obtained undissolved material. It was. The results of measuring the change in SiO 2 purity (wt%) when the concentration of hydrochloric acid, specific time (minutes), specific temperature (° C.), and L / S are changed are shown below.
Table 1 shows the results for H slag, Table 2 shows the results for K slag, and Table 3 shows the results for crystal glass. Condition 0 indicates SiO 2 (wt%) (no treatment) in the test sample, and conditions 1 and after are the SiO 2 content in the solid content obtained by dissolving the sample (solidified again after dissolution). is there.
Incidentally, the conditions tested in K slag, crystal glass, in the table below, is the point where the data of SiO 2 (wt%).

Figure 2018149538
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Figure 2018149538
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Figure 2018149538
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結果として、比較例のクリスタルガラスにおいては、塩酸の濃度、特定時間、特定温度を変化させても、SiO2含有量は、ほぼ変わらなかった。
これに対して、Hスラグ、Kスラグ等の溶融スラグでは、塩酸の濃度、特定時間、特定温度を上昇させるにつれて、SiO2含有量(純度)が高くなっていた。また、L/Sは大きくなるにつれて、SiO2含有量は高くなっていた。また、Hスラグ、Kスラグでは、同様の結果が得られた。これより、SiO2含有量を高めるための最適な条件を求めることができた。
As a result, in the crystal glass of the comparative example, even when the concentration of hydrochloric acid, the specific time, and the specific temperature were changed, the SiO 2 content was not substantially changed.
In contrast, in molten slag such as H slag and K slag, the SiO 2 content (purity) increased as the concentration of hydrochloric acid, specific time, and specific temperature were increased. Further, as L / S increased, the SiO 2 content increased. Similar results were obtained with H slag and K slag. From this, the optimum conditions for increasing the SiO 2 content could be obtained.

(溶融スラグを原料とする高比表面積シリカの合成例)
上述のSiO2濃縮試験の結果を基に、減圧下、80℃で乾燥した溶融スラグ(Si:Ca:Alの質量比、1:1.2:0.2)3.0gに4Nの塩酸を加え、80℃で2時間攪拌した。室温まで冷却した後、淡黄色の固体を吸引ろ過により回収し、50mLの蒸留水で二回、洗浄を行った。得られた固体を120℃で4時間乾燥し、高比表面積シリカ1.5gを得た。
蛍光エックス線分析(島津製作所社製、EDX1800HS)によって求めたSiO2純度は、88%であった。窒素ガス吸着法(マイクロトラック・ベル社BELSORP−mini)によって求めたBET比表面積は、643m2/gであった。
なお、HスラグとKスラグとで、同様の結果が得られた。以下の試験でも同様であった。
(Synthesis example of high specific surface area silica using molten slag as raw material)
Based on the result of the SiO 2 concentration test described above, 4N hydrochloric acid was added to 3.0 g of molten slag (Si: Ca: Al mass ratio, 1: 1.2: 0.2) dried at 80 ° C. under reduced pressure. In addition, the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, a pale yellow solid was collected by suction filtration and washed twice with 50 mL of distilled water. The obtained solid was dried at 120 ° C. for 4 hours to obtain 1.5 g of high specific surface area silica.
The SiO 2 purity determined by fluorescent X-ray analysis (manufactured by Shimadzu Corporation, EDX1800HS) was 88%. The BET specific surface area determined by a nitrogen gas adsorption method (Microtrac Bell BELSORP-mini) was 643 m 2 / g.
Similar results were obtained with H slag and K slag. The same was true for the following tests.

(溶融スラグを原料とするメソポーラスシリカの合成例1)
メソポーラスシリカの合成例として、常温で、水30mL、2規定塩酸120mLの混合液に界面活性剤(BASF社製、Pluronic P123(PEO20−PPO68−PEO20))を4.0g加えて攪拌した。その溶液に、溶融スラグ(Si:Ca:Alの質量比、1:1.2:0.2)6.0gを加えて、室温(約25℃)で20時間攪拌した後、80℃で20時間攪拌した。得られた白色の固体を吸引ろ過により回収した。得られた固体を550℃で4時間加熱して焼成処理したところ、2.50gのシリカを得た。
エックス線回折(ブルカー社製、D8−Advance)によれば、0.94°にピークを持っていた。
(Synthesis example 1 of mesoporous silica using molten slag as a raw material)
As an example of synthesis of mesoporous silica, 4.0 g of a surfactant (Pluronic P123 (PEO 20 -PPO 68 -PEO 20 ) manufactured by BASF) was added to a mixed solution of 30 mL of water and 120 mL of 2N hydrochloric acid at room temperature and stirred. . To the solution, 6.0 g of molten slag (Si: Ca: Al mass ratio, 1: 1.2: 0.2) was added and stirred for 20 hours at room temperature (about 25 ° C.). Stir for hours. The resulting white solid was collected by suction filtration. The obtained solid was baked by heating at 550 ° C. for 4 hours to obtain 2.50 g of silica.
According to X-ray diffraction (Bruker, D8-Advanced), it had a peak at 0.94 °.

図4に、このメソポーラスシリカの合成例の電子顕微鏡写真を示す。規則的な「メソポーラス」の細孔を備えた柱状の構造体がスパゲッティ状に折り重なっていることが分かる。   FIG. 4 shows an electron micrograph of a synthesis example of this mesoporous silica. It can be seen that columnar structures with regular “mesoporous” pores are folded into spaghetti.

(溶融スラグを原料とするメソポーラスシリカの合成例2)
次に、別のメソポーラスシリカの合成例として、常温で、水100mLに濃塩酸10.8mL、1−ブタノール7.6mLの混合液に界面活性剤(BASF社製、Pluronic F127)を2.1g加えて攪拌した。その溶液に、溶融スラグ(Si:Ca:Alの質量比、1:1.2:0.2)5.0gを加えて、100℃で20時間攪拌した。室温まで冷却した後、白色の固体を吸引ろ過により回収した。得られた固体(5.75g)の内、2.0gを550℃で4時間加熟して、焼成処理した。最終的に、0.685gのシリカを得た。エックス線回折(ブルカー社製、D8−Advance)によれば、0.71°にピークを持っていた。窒素ガス吸着法(マイクロトラック・ベル社製、BELSORP−mini)によって求めたBET比表面積は、833m2/gであった。
(Synthesis example 2 of mesoporous silica using molten slag as a raw material)
Next, as another synthesis example of mesoporous silica, 2.1 g of a surfactant (Pluronic F127, manufactured by BASF) was added to a mixed solution of concentrated hydrochloric acid 10.8 mL and 1-butanol 7.6 mL in 100 mL of water at room temperature. And stirred. To the solution, 5.0 g of molten slag (Si: Ca: Al mass ratio, 1: 1.2: 0.2) was added and stirred at 100 ° C. for 20 hours. After cooling to room temperature, a white solid was collected by suction filtration. Of the obtained solid (5.75 g), 2.0 g was ripened at 550 ° C. for 4 hours and calcined. Finally, 0.685 g of silica was obtained. According to X-ray diffraction (Bruker, D8-Advanced), it had a peak at 0.71 °. The BET specific surface area determined by a nitrogen gas adsorption method (manufactured by Microtrac Bell, BELSORP-mini) was 833 m 2 / g.

(比較例のクリスタルガラスを原料とする酸処理結果)
上述の比較例のクリスタルガラス(Si:Ca:Alの質量比、1:0.046:0.0018)3.0gに、4Nの塩酸を加え、80℃で2時間攪拌した。室温まで冷却した後、淡黄色の固体を吸引ろ過により回収し、50mLの蒸留水で二回、洗浄を行った。得られた固体を120℃で4時間乾燥し、酸処理クリスタルガラス2.8gを得た。窒素ガス吸着法(マイクロトラック・ベル社製、BELSORP−mini)によって求めたBET比表面積は、0.04m2/gであり、低比表面積であった。
すなわち、結果として、上述の溶融スラグのSi:Ca:Alの特定質量比から外れている、比較例のクリスタルガラスでは、シリカ濃度の向上が無いことに加え、酸で処理しても高比表面積にならなかった。
(Results of acid treatment using crystal glass of comparative example as raw material)
4N hydrochloric acid was added to 3.0 g of the above-described comparative crystal glass (mass ratio of Si: Ca: Al, 1: 0.046: 0.0018), and stirred at 80 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, a pale yellow solid was collected by suction filtration and washed twice with 50 mL of distilled water. The obtained solid was dried at 120 ° C. for 4 hours to obtain 2.8 g of acid-treated crystal glass. The BET specific surface area determined by the nitrogen gas adsorption method (BELSORP-mini, manufactured by Microtrack Bell) was 0.04 m 2 / g, which was a low specific surface area.
That is, as a result, in the crystal glass of the comparative example, which deviates from the specific mass ratio of Si: Ca: Al in the above-mentioned molten slag, in addition to no improvement in the silica concentration, a high specific surface area even when treated with acid Did not become.

(比較例の結晶性の珪砂を原料とする酸処理結果)
上述の比較例の結晶性の珪砂(Si:Ca:Alの質量比、1:0.1:0.2)3.0gに4Nの塩酸を加え、80℃で2時間攪拌した。室温まで冷却した後、淡黄色の固体を吸引ろ過により回収し、50mLの蒸留水で二回、洗浄を行った。得られた固体を120℃で4時間乾燥し、酸処理結晶性珪砂2.7gを得た。窒素ガス吸着法(マイクロトラック・ベル社製、BELSORP−mini)によって求めたBET比表面積は、14m2/gであり、低比表面積であった。
すなわち、結果として、上述の溶融スラグのSi:Ca:Alの特定質量比の範囲に含まれても、結晶性である珪砂を酸で処理した場合、高比表面積にならなかった。
(Acid treatment result using crystalline silica sand of comparative example as raw material)
4N hydrochloric acid was added to 3.0 g of crystalline quartz sand (Si: Ca: Al mass ratio, 1: 0.1: 0.2) of the above comparative example, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, a pale yellow solid was collected by suction filtration and washed twice with 50 mL of distilled water. The obtained solid was dried at 120 ° C. for 4 hours to obtain 2.7 g of acid-treated crystalline silica sand. The BET specific surface area determined by a nitrogen gas adsorption method (BELSORP-mini, manufactured by Microtrack Bell) was 14 m 2 / g, which was a low specific surface area.
That is, as a result, even when the molten slag was included in the range of the specific mass ratio of Si: Ca: Al, when the silica sand that was crystalline was treated with an acid, it did not have a high specific surface area.

(溶融スラグを原料として合成した高比表面積シリカからのテトラメトキシシランの合成例)
追加の実験として、磁気攪拌子を入れた20mL容積のSUS製オートクレーブ(日東高圧社製)に、溶融スラグを原料として合成した高比表面積シリカ1.8g、メタノール5.5g、有機脱水剤としてアセトンジメチルアセタール(2,2−ジメトキシプロパン)2.6g、水酸化カリウム0.02gを加え、25℃の温度下でボンベから二酸化炭素を、圧力計(スウェージロックFST社製、PGI−50M−MG10)が示す圧力でオートクレーブ内が2MPaになるよう充填して10分間攪拌しながら保持し、密封した。その後、オートクレーブ内を1200rpmで攪拌しつつ240℃まで加熟し、24時間反応させた。冷却後、残存する二酸化炭素を放出し、反応混合物をガスクロマトグラフィー(島津製作所製、GC−2014ATF/SPL)により分析した。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は64%であった。
(Synthesis example of tetramethoxysilane from high specific surface area silica synthesized from molten slag as raw material)
As an additional experiment, a SUS autoclave (manufactured by Nitto Koatsu Co., Ltd.) having a volume of 20 mL containing a magnetic stir bar was synthesized with 1.8 g of high specific surface area silica synthesized from molten slag as a raw material, 5.5 g of methanol, and acetone as an organic dehydrating agent. 2.6 g of dimethyl acetal (2,2-dimethoxypropane) and 0.02 g of potassium hydroxide were added, carbon dioxide was discharged from a cylinder at a temperature of 25 ° C., and a pressure gauge (manufactured by Swagelok FST, PGI-50M-MG10) The autoclave was filled to 2 MPa at the indicated pressure, and was held for 10 minutes while stirring and sealed. Thereafter, the inside of the autoclave was aged to 240 ° C. with stirring at 1200 rpm, and reacted for 24 hours. After cooling, the remaining carbon dioxide was released, and the reaction mixture was analyzed by gas chromatography (manufactured by Shimadzu Corporation, GC-2014ATF / SPL). The yield of tetramethoxysilane based on silicon dioxide was 64%.

(高炉スラグを原料とする高比表面積シリカの合成)
高炉スラグ(Si:Ca:Alの質量比、1:2.1:0.28)3.2gに、4mol/L(4N)の塩酸100mLを加え、80℃で2時間攪拌した。室温まで冷却した後、淡黄色の固体を吸引ろ過により回収し、50mLの蒸留水で二回、洗浄を行った。得られた固体を120℃で4時間乾燥し、高比表面積シリカ1.1gを得た。
蛍光エックス線分析(島津製作所社製、EDX1800HS)によって求めたSiO2純度は、97%であった。窒素ガス吸着法(マイクロトラック・ベル社製、BELSORP−mini)によって求めたBET比表面積は、789m2/gであった。
(Synthesis of high specific surface area silica from blast furnace slag)
To 3.2 g of blast furnace slag (mass ratio of Si: Ca: Al, 1: 2.1: 0.28) was added 100 mL of 4 mol / L (4N) hydrochloric acid, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, a pale yellow solid was collected by suction filtration and washed twice with 50 mL of distilled water. The obtained solid was dried at 120 ° C. for 4 hours to obtain 1.1 g of high specific surface area silica.
The SiO2 purity determined by fluorescent X-ray analysis (Shimadzu Corporation EDX1800HS) was 97%. The BET specific surface area determined by the nitrogen gas adsorption method (manufactured by Microtrac Bell, BELSORP-mini) was 789 m 2 / g.

(ゾル状液の合成)
(実験例1)
溶融スラグ(Si:Ca:Alの質量比、1:0.43:0.36)3gに、1mol/L(1N)の塩酸を100mL加え、80℃で30分攪拌した。室温まで冷却し、シリカのゾル状液を得た。動的光散乱法(マルバーン社製、ゼータサイダーナノS)で分析した、ゾル状液中に含まれるコロイド状のシリカの粒子径は、11.7nmであった。
(Synthesis of sol-like liquid)
(Experimental example 1)
100 mL of 1 mol / L (1N) hydrochloric acid was added to 3 g of molten slag (mass ratio of Si: Ca: Al, 1: 0.43: 0.36), and stirred at 80 ° C. for 30 minutes. After cooling to room temperature, a silica sol-like liquid was obtained. The particle diameter of the colloidal silica contained in the sol-like liquid analyzed by a dynamic light scattering method (Zeta Cider Nano S, manufactured by Malvern) was 11.7 nm.

(実験例2)
溶融スラグ(Si:Ca:Alの質量比、1:0.65:0.28)3gに、0.60mol/Lの塩酸を100mL加え、80℃で30分攪拌した。室温まで冷却し、微量に残る不溶な成分をろ過して取り除くことにより、シリカのゾル状液を得た。動的光散乱法(マルバーン社製、ゼータサイダーナノS)で分析した、ゾル状液中に含まれるコロイド状のシリカの粒子径は、15.7nmであった。
(Experimental example 2)
100 mL of 0.60 mol / L hydrochloric acid was added to 3 g of molten slag (mass ratio of Si: Ca: Al, 1: 0.65: 0.28), and the mixture was stirred at 80 ° C. for 30 minutes. By cooling to room temperature and removing insoluble components remaining in trace amounts by filtration, a silica sol-like liquid was obtained. The particle diameter of the colloidal silica contained in the sol-like liquid analyzed by a dynamic light scattering method (Zeta Cider Nano S, manufactured by Malvern, Inc.) was 15.7 nm.

(実験例3)
高炉スラグ(Si:Ca:Alの質量比、1:2.1:0.28)3gに、2mol/Lの塩酸を100mL加え、80℃で30分攪拌した。室温まで冷却し、微量に残る不溶な成分をろ過することで取り除くことにより、シリカのゾル状液を得た。動的光散乱法(マルバーン社製、ゼータサイダーナノS)で分析した、ゾル状液中に含まれるコロイド状のシリカの粒子径は、4.8nmであった。
(Experimental example 3)
100 mL of 2 mol / L hydrochloric acid was added to 3 g of blast furnace slag (mass ratio of Si: Ca: Al, 1: 2.1: 0.28), and stirred at 80 ° C. for 30 minutes. By cooling to room temperature and removing insoluble components remaining in a trace amount by filtration, a silica sol-like liquid was obtained. The particle diameter of the colloidal silica contained in the sol-like liquid analyzed by a dynamic light scattering method (Zeta Cider Nano S, manufactured by Malvern) was 4.8 nm.

本発明の溶融スラグ処理方法は、環境エネルギー施設から発生する溶融スラグから有用な高比表面積シリカ、メタポーラスシリカ、その他のシリカ原料等を製造することができ、産業上利用することができる。   The molten slag treatment method of the present invention can produce useful high specific surface area silica, metaporous silica, other silica raw materials and the like from molten slag generated from environmental energy facilities, and can be utilized industrially.

Claims (12)

溶融スラグに対し、
特定濃度の酸を加えて、特定温度で特定時間、溶解処理し、
未溶解物を取得する
ことを特徴とする溶融スラグ処理方法。
For molten slag,
Add a specific concentration of acid, dissolve at a specific temperature for a specific time,
A method for treating molten slag, comprising obtaining undissolved material.
前記溶融スラグは、
Si:Ca:Alの質量比が1:0.1〜7.0:0.2〜0.9である
ことを特徴とする請求項1に記載の溶融スラグ処理方法。
The molten slag is
The mass ratio of Si: Ca: Al is 1: 0.1-7.0: 0.2-0.9. The molten slag processing method of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
前記溶融スラグは、
環境エネルギー施設から発生するスラグ及び/又は鉄鋼スラグである
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の溶融スラグ処理方法。
The molten slag is
It is slag and / or steel slag which generate | occur | produce from an environmental energy facility. The molten slag processing method of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.
前記酸の前記特定濃度は、3〜12Nであり、
前記特定温度は、20〜100℃であり、
前記特定時間は、10分以上であり、
100mLの前記酸に対して、前記溶融スラグを3〜25gとする混合比で加えられる
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の溶融スラグ処理方法。
The specific concentration of the acid is 3-12N;
The specific temperature is 20 to 100 ° C.,
The specific time is 10 minutes or more,
The molten slag treatment method according to any one of claims 1 to 3, wherein the molten slag is added in a mixing ratio of 3 to 25 g with respect to 100 mL of the acid.
界面活性剤を加えた上で前記溶解処理を行い、
前記溶解処理された前記未溶解物を焼成処理する
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の溶融スラグ処理方法。
Perform the dissolution process after adding a surfactant,
The molten slag treatment method according to any one of claims 1 to 3, wherein the undissolved material subjected to the dissolution treatment is subjected to a firing treatment.
前記酸の前記特定濃度は、0.5〜4Nであり、
前記特定温度は、20〜100℃であり、
前記特定時間は、5時間以上であり、
100mLの前記酸に対して、水を10〜50mL、前記溶融スラグを6〜25g、前記界面活性剤を2〜6gとする混合比で加えられる
ことを特徴とする請求項5に記載の溶融スラグ処理方法。
The specific concentration of the acid is 0.5-4N,
The specific temperature is 20 to 100 ° C.,
The specific time is 5 hours or more,
The molten slag according to claim 5, which is added at a mixing ratio of 10 to 50 mL of water, 6 to 25 g of the molten slag, and 2 to 6 g of the surfactant with respect to 100 mL of the acid. Processing method.
前記酸の前記特定濃度は、11〜12Nであり、
前記特定温度は、20〜100℃であり、
前記特定時間は、5時間以上であり、
8〜15mLの前記酸に対して、水を100mL、アルコール1〜10mL、前記溶融スラグを3〜10g、前記界面活性剤を1〜5gとする混合比で加えられる
ことを特徴とする請求項5に記載の溶融スラグ処理方法。
The specific concentration of the acid is 11-12N;
The specific temperature is 20 to 100 ° C.,
The specific time is 5 hours or more,
The water is added at a mixing ratio of 100 mL, 1 to 10 mL of alcohol, 3 to 10 g of the molten slag, and 1 to 5 g of the surfactant, with respect to 8 to 15 mL of the acid. A method for treating molten slag as described in 1. above.
前記酸は、塩酸である
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の溶融スラグ処理方法。
The molten slag treatment method according to any one of claims 1 to 7, wherein the acid is hydrochloric acid.
請求項1乃至8のいずれか1項に記載の溶融スラグ処理方法により製造された
ことを特徴とするシリカ原料。
A silica raw material produced by the molten slag treatment method according to any one of claims 1 to 8.
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の溶融スラグ処理方法により前記溶解処理された前記未溶解物である
ことを特徴とする高比表面積シリカ。
The high specific surface area silica, which is the undissolved material that has been subjected to the dissolution treatment by the molten slag treatment method according to any one of claims 1 to 4.
請求項5乃至8のいずれか1項に記載の溶融スラグ処理方法により製造された前記焼成処理による生成物である
ことを特徴とするメソポーラスシリカ。
A mesoporous silica, which is a product obtained by the firing treatment produced by the molten slag treatment method according to any one of claims 5 to 8.
環境エネルギー施設から発生する溶融スラグに対し、
特定濃度の酸を加えて、特定温度で溶解処理し、
未溶解物を取得する
ことを特徴とするシリカ製造方法。
For molten slag generated from environmental energy facilities,
Add a specific concentration of acid, dissolve at a specific temperature,
A method for producing silica, which comprises obtaining an undissolved material.
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