JP2018144360A - Mold manufacturing method, article manufacturing method and article - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mold manufacturing method which has excellent productivity and can obtain a mold which can obtain an article having excellent anti-reflection performance and anti-glare performance, to provide an article manufacturing method which can obtain an article having excellent anti-reflection performance and anti-glare performance, and to provide an article having excellent anti-reflection performance and anti-glare performance.SOLUTION: A mold manufacturing method includes a step (a) to a step (f) successively and uses the same kind of processing liquid through the step (a) to the step (f). The step (a): a step for immersing an aluminum substrate in the processing liquid. The step (b): a first oxide film formation step for anodizing the aluminum substrate to form an oxide film having pores. The step (c): an oxide film removal step for removing a part of the oxide film. The step (d): a second oxide film formation step for anodizing the aluminum substrate under a constant voltage to form an oxide film having pores. The step (e): a pore diameter enlargement processing step for removing a part of the oxide film to enlarge the diameters of the pores. The step (f): a step for successively repeating the step (d) and the step (e).SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、モールドの製造方法、物品の製造方法及び物品に関する。   The present invention relates to a mold manufacturing method, an article manufacturing method, and an article.

近年、微細加工技術の進歩により、成形体の表面にナノスケールの微細凹凸構造を付与することが可能となった。特に、モスアイ(Moth−Eye)構造と呼ばれる微細凹凸構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に増大していくことで、有効な反射防止機能を発現することが知られている。   In recent years, it has become possible to impart a nanoscale fine concavo-convex structure to the surface of a molded body due to advances in microfabrication technology. In particular, a fine uneven structure called a moth-eye structure is known to exhibit an effective antireflection function by continuously increasing from the refractive index of air to the refractive index of a material. .

このように、可視光波長以下の周期の微細凹凸構造、即ち、モスアイ構造を表面に有する物品は、反射防止性能を発現することから、その有用性が注目されている。また、モスアイ構造は、反射防止性能の他にも、ロータス効果と呼ばれる撥水機能のように構造由来の機能が発現することから、ナノスケールの微細凹凸構造を産業上に利用する検討が盛んに行われている。   As described above, an article having a fine concavo-convex structure having a period of less than or equal to the wavelength of visible light, that is, a moth-eye structure on the surface exhibits antireflection performance, and thus has attracted attention for its usefulness. In addition to anti-reflective performance, the moth-eye structure expresses functions derived from the structure, such as a water repellent function called the Lotus effect. Has been done.

成形体の表面に微細凹凸構造を付与する技術は様々あるが、モールドの表面に形成された微細凹凸構造を、成形体本体の表面に転写する方法は、成形体の表面に微細凹凸構造を付与するための工程数が少なく、かつ、簡便であるため、工業生産に適している。微細凹凸構造を表面に有する大面積のモールドを簡便に製造する方法として、アルミニウム基材を陽極酸化することによって複数の細孔を有する酸化皮膜(陽極酸化ポーラスアルミナ)を利用する方法が注目されている。   There are various techniques for imparting a fine relief structure to the surface of a molded body, but the method for transferring the fine relief structure formed on the surface of the mold to the surface of the molded body gives a fine relief structure to the surface of the molded body. This is suitable for industrial production because it requires only a small number of steps and is simple. As a method for easily producing a large-area mold having a fine concavo-convex structure on the surface, a method utilizing an oxide film (anodized porous alumina) having a plurality of pores by anodizing an aluminum base material has attracted attention. Yes.

アルミニウム基材を陽極酸化することによって複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する方法として、例えば、特許文献1〜4に開示されている方法が挙げられる。   Examples of a method for forming an oxide film having a plurality of pores by anodizing an aluminum substrate include methods disclosed in Patent Documents 1 to 4.

国際公開2008/001847号パンフレットInternational Publication No. 2008/001847 Pamphlet 国際公開2011/046114号パンフレットInternational Publication No. 2011-046114 Pamphlet 国際公開2014/092048号パンフレットInternational Publication No. 2014/092048 特開2009−221562号公報JP 2009-221562 A

しかしながら、特許文献1〜4に開示されている方法は、工程ごとに異なる処理液を用いているため、1つの反応槽中で複数の工程を行うことができず、生産性に劣ると共に、すべて処理液に対応した重厚な製造設備を設計しなければならないという課題を有する。また、工程ごとに異なる処理液を用いることで、ナノオーダーの凹凸構造の形成・制御は可能であるものの、マイクロオーダーの凹凸構造の形成・制御は困難で、防眩性に優れる物品を得ることが困難であるという課題を有する。   However, since the methods disclosed in Patent Documents 1 to 4 use different treatment liquids for each process, a plurality of processes cannot be performed in one reaction tank, and productivity is inferior. There is a problem that a heavy manufacturing facility corresponding to the processing liquid must be designed. In addition, by using different processing liquids for each process, it is possible to form and control nano-order concavo-convex structures, but it is difficult to form and control micro-order concavo-convex structures, and to obtain articles with excellent antiglare properties. Has the problem of being difficult.

そこで、本発明は、これらの課題を解決し、生産性に優れ、得られるモールドを用いて得られる物品の反射防止性能、防眩性に優れるモールドの製造方法を提供することにある。
また、本発明は、得られる物品の反射防止性能、防眩性に優れる物品の製造方法を提供することにある。
更に、本発明は、反射防止性能、防眩性に優れる物品を提供することにある。
Then, this invention solves these subjects, and is providing the manufacturing method of the mold which is excellent in productivity, and is excellent in the antireflection performance of the article | item obtained using the mold obtained, and anti-glare property.
Moreover, this invention is providing the manufacturing method of the articles | goods which are excellent in the antireflection performance and anti-glare property of the articles | goods obtained.
Furthermore, the present invention is to provide an article excellent in antireflection performance and antiglare property.

本発明は、以下の態様を有する。
[1]下記工程(a)〜工程(f)を順次含み、下記工程(a)〜工程(f)における処理液を同種の液体とする、モールドの製造方法。
工程(a):処理液中にアルミニウム基材を浸漬する工程。
工程(b):アルミニウム基材を陽極酸化して細孔を有する酸化皮膜を形成する第1の酸化皮膜形成工程。
工程(c):酸化皮膜の一部を除去する酸化皮膜除去工程。
工程(d):アルミニウム基材を定電圧で陽極酸化して細孔を有する酸化皮膜を形成する第2の酸化皮膜形成工程。
工程(e):酸化皮膜の一部を除去して細孔の孔径を拡大処理する孔径拡大処理工程。
工程(f):前記工程(d)と前記工程(e)とを交互に繰り返す工程。
[2]処理液が、複数の酸を混合したものである、[1]に記載のモールドの製造方法。
[3]複数の酸が、シュウ酸及びリン酸を含む、[2]に記載のモールドの製造方法。
[4]工程(c)において、残存する酸化皮膜の下部に凹部を形成する、[1]〜[3]のいずれかに記載のモールドの製造方法。
[5][1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法で得られたモールドの表面に形成された複数の細孔からなる微細凹凸構造を、物品の表面に転写する、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法。
[6][1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法で得られたモールドの表面に形成された複数の細孔からなる微細凹凸構造の反転構造を有する、微細凹凸構造を表面に有する物品。
The present invention has the following aspects.
[1] A method for producing a mold, which includes the following steps (a) to (f) in sequence, wherein the treatment liquid in the following steps (a) to (f) is the same kind of liquid.
Step (a): A step of immersing the aluminum substrate in the treatment liquid.
Step (b): a first oxide film forming step of forming an oxide film having pores by anodizing an aluminum substrate.
Step (c): An oxide film removing step for removing a part of the oxide film.
Step (d): a second oxide film forming step of forming an oxide film having pores by anodizing an aluminum substrate at a constant voltage.
Step (e): A pore diameter enlargement treatment step in which part of the oxide film is removed to enlarge the pore diameter.
Step (f): A step of alternately repeating the step (d) and the step (e).
[2] The method for producing a mold according to [1], wherein the treatment liquid is a mixture of a plurality of acids.
[3] The method for producing a mold according to [2], wherein the plurality of acids include oxalic acid and phosphoric acid.
[4] The method for producing a mold according to any one of [1] to [3], wherein in the step (c), a recess is formed in a lower portion of the remaining oxide film.
[5] A fine concavo-convex structure for transferring a fine concavo-convex structure comprising a plurality of pores formed on the surface of a mold obtained by the production method according to any one of [1] to [4] to the surface of an article A method for manufacturing an article having a surface thereof.
[6] A fine concavo-convex structure having an inverted structure of the fine concavo-convex structure composed of a plurality of pores formed on the surface of the mold obtained by the production method according to any one of [1] to [4] The article you have.

本発明のモールドの製造方法は、生産性に優れ、得られるモールドを用いて得られる物品の反射防止性能、防眩性に優れる。
また、本発明の物品の製造方法は、得られる物品の反射防止性能、防眩性に優れる。
更に、本発明の物品は、反射防止性能、防眩性に優れる。
The mold manufacturing method of the present invention is excellent in productivity and excellent in antireflection performance and antiglare property of an article obtained using the obtained mold.
Moreover, the manufacturing method of the articles | goods of this invention is excellent in the antireflection performance and anti-glare property of the articles | goods obtained.
Furthermore, the article of the present invention is excellent in antireflection performance and antiglare property.

本発明のモールドの製造方法における工程の一例を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the process in the manufacturing method of the mold of this invention. 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造装置を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows the manufacturing apparatus of the articles | goods which have a fine concavo-convex structure on the surface. 微細凹凸構造を表面に有する物品の一例を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the article | item which has a fine concavo-convex structure on the surface.

(モールドの製造方法)
本発明のモールドの製造方法は、下記工程(a)〜工程(f)を順次含み、下記工程(a)〜工程(f)における処理液を同種の液体とする。
工程(a):処理液中にアルミニウム基材を浸漬する工程。
工程(b):アルミニウム基材を陽極酸化して細孔を有する酸化皮膜を形成する第1の酸化皮膜形成工程。
工程(c):酸化皮膜の一部を除去する酸化皮膜除去工程。
工程(d):アルミニウム基材を定電圧で陽極酸化して細孔を有する酸化皮膜を形成する第2の酸化皮膜形成工程。
工程(e):酸化皮膜の一部を除去して細孔の孔径を拡大処理する孔径拡大処理工程。
工程(f):前記工程(d)と前記工程(e)とを交互に繰り返す工程。
(Mold manufacturing method)
The mold manufacturing method of the present invention sequentially includes the following steps (a) to (f), and the processing liquid in the following steps (a) to (f) is the same kind of liquid.
Step (a): A step of immersing the aluminum substrate in the treatment liquid.
Step (b): a first oxide film forming step of forming an oxide film having pores by anodizing an aluminum substrate.
Step (c): An oxide film removing step for removing a part of the oxide film.
Step (d): a second oxide film forming step of forming an oxide film having pores by anodizing an aluminum substrate at a constant voltage.
Step (e): A pore diameter enlargement treatment step in which part of the oxide film is removed to enlarge the pore diameter.
Step (f): A step of alternately repeating the step (d) and the step (e).

(処理液)
処理液は、工程(a)〜工程(f)の各工程の目的を達成するものであれば限定されない。処理液は、工程(a)〜工程(f)の各工程の目的を達成することから、複数の酸が好ましく、酸化皮膜の形成に寄与する酸(以下、「第1の酸」ということがある)と、酸化皮膜を溶解、即ち、酸化皮膜に形成された細孔を拡大するエッチングに有用な酸(以下、「第2の酸」ということがある)とを組み合わせたものが好ましい。
(Processing liquid)
A process liquid will not be limited if the objective of each process of a process (a)-a process (f) is achieved. Since the treatment liquid achieves the purpose of each step (a) to step (f), a plurality of acids are preferable, and an acid that contributes to the formation of an oxide film (hereinafter referred to as “first acid”). And an acid useful for etching that dissolves the oxide film, that is, enlarges the pores formed in the oxide film (hereinafter sometimes referred to as “second acid”).

工程(a)及び工程(b)における処理液の目的は、陽極酸化により細孔を有する酸化皮膜を形成することである。
工程(c)における処理液の目的は、酸化皮膜の一部を除去することである。
工程(d)における処理液の目的は、陽極酸化により細孔を有する酸化皮膜を形成することである。
工程(e)における処理液の目的は、酸化皮膜の一部を除去し、酸化皮膜に形成された細孔を拡大することである。
工程(f)における処理液の目的は、工程(d)と工程(e)と同様である。
The purpose of the treatment liquid in step (a) and step (b) is to form an oxide film having pores by anodic oxidation.
The purpose of the treatment liquid in the step (c) is to remove a part of the oxide film.
The purpose of the treatment liquid in the step (d) is to form an oxide film having pores by anodic oxidation.
The purpose of the treatment liquid in step (e) is to remove part of the oxide film and enlarge the pores formed in the oxide film.
The purpose of the treatment liquid in the step (f) is the same as in the step (d) and the step (e).

酸としては、例えば、硫酸、リン酸、シュウ酸、マロン酸、酒石酸、コハク酸、リンゴ酸、クエン酸等が挙げられる。
第1の酸としては、例えば、シュウ酸、硫酸等が挙げられる。
第2の酸としては、例えば、リン酸等が挙げられる。
Examples of the acid include sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, malonic acid, tartaric acid, succinic acid, malic acid, citric acid and the like.
Examples of the first acid include oxalic acid and sulfuric acid.
Examples of the second acid include phosphoric acid.

複数の酸は、アルミニウム基材の表面に規則性の高い細孔が形成されやすく、細孔の形状の制御が容易で、後述する第2の凹部を形成することができ、クロムフリーとすることができることから、シュウ酸とリン酸の組み合わせが好ましい。   The plurality of acids are easy to form highly regular pores on the surface of the aluminum base, easy to control the shape of the pores, can form the second recess described later, and should be chromium-free. Therefore, a combination of oxalic acid and phosphoric acid is preferable.

複数の酸の組成は、第1の酸と第2の酸の種類を決めた後に、陽極酸化時(工程(b)、工程(d)、工程(f))の温度に応じてそれぞれの酸の濃度を決めることが好ましい。
複数の酸の組成と温度は、陽極酸化時の細孔の深化とエッチング時の細孔径の拡大速度に影響を与える。第2の酸の濃度を高くしたり、処理液の温度を高くしたりすると、エッチング時の細孔径の拡大速度が速くなり、短時間で細孔を拡大することができる。一方、細孔径の拡大速度が速くなる分、細孔径の制御が困難となる。したがって、アルミニウム基材の表面に、所望の形状、所望の細孔径を有する細孔を形成させるためには、複数の酸の組成と温度を制御することが重要である。
After determining the types of the first acid and the second acid, the composition of the plurality of acids is determined depending on the temperature at the time of anodization (step (b), step (d), step (f)). It is preferable to determine the concentration of.
The composition and temperature of the plurality of acids affect the depth of pores during anodization and the speed of expansion of the pore diameter during etching. If the concentration of the second acid is increased or the temperature of the treatment liquid is increased, the expansion speed of the pore diameter at the time of etching is increased, and the pores can be expanded in a short time. On the other hand, control of the pore diameter becomes difficult as the expansion speed of the pore diameter increases. Therefore, it is important to control the composition and temperature of a plurality of acids in order to form pores having a desired shape and a desired pore diameter on the surface of the aluminum substrate.

第1の酸がシュウ酸であり、第2の酸がリン酸であり、陽極酸化時の処理液の温度が4℃以上20℃未満の場合、処理液中のシュウ酸の濃度は、0.05mol/l〜1mol/lが好ましく、0.2mol/l〜0.7mol/lがより好ましい。処理液中のシュウ酸の濃度が0.05mol/l以上であると、安定して電流が流れ、安定して細孔を形成することができる。また、処理液中のシュウ酸の濃度が1mol/l以下であると、電流値が高くなり過ぎず、酸化皮膜の表面が粗くなることを抑制することができる。
第1の酸がシュウ酸であり、第2の酸がリン酸であり、陽極酸化時の処理液の温度が4℃以上20℃未満の場合、処理液中のリン酸の濃度は、0.05mol/l〜3mol/lが好ましく、0.1mol/l〜2mol/lがより好ましい。処理液中のリン酸の濃度が0.05mol/l以上であると、酸化皮膜の溶解が十分速く、モールドの生産性に優れる。また、処理液中のリン酸の濃度が3mol/l以下であると、酸化皮膜の除去速度と細孔径の拡大速度とを制御しやすい。
When the first acid is oxalic acid, the second acid is phosphoric acid, and the temperature of the treatment liquid during anodization is 4 ° C. or higher and lower than 20 ° C., the concentration of oxalic acid in the treatment liquid is 0. 05 mol / l to 1 mol / l is preferable, and 0.2 mol / l to 0.7 mol / l is more preferable. When the concentration of oxalic acid in the treatment liquid is 0.05 mol / l or more, a current flows stably and pores can be stably formed. Further, when the concentration of oxalic acid in the treatment liquid is 1 mol / l or less, the current value does not become too high, and the surface of the oxide film can be prevented from becoming rough.
When the first acid is oxalic acid, the second acid is phosphoric acid, and the temperature of the treatment liquid during anodization is 4 ° C. or higher and lower than 20 ° C., the concentration of phosphoric acid in the treatment liquid is 0.00. 05 mol / l to 3 mol / l is preferable, and 0.1 mol / l to 2 mol / l is more preferable. When the concentration of phosphoric acid in the treatment liquid is 0.05 mol / l or more, the dissolution of the oxide film is sufficiently fast and the mold productivity is excellent. Further, when the concentration of phosphoric acid in the treatment liquid is 3 mol / l or less, it is easy to control the removal rate of the oxide film and the expansion rate of the pore diameter.

第1の酸がシュウ酸であり、第2の酸がリン酸であり、陽極酸化時の処理液の温度が20℃以上35℃未満の場合、処理液中のシュウ酸の濃度は、0.05mol/l〜1mol/lが好ましく、0.1mol/l〜0.5mol/lがより好ましい。処理液中のシュウ酸の濃度が0.05mol/l以上であると、安定して電流が流れ、安定して細孔を形成することができる。また、処理液中のシュウ酸の濃度が1mol/l以下であると、電流値が高くなり過ぎず、酸化皮膜の表面が粗くなることを抑制することができる。
第1の酸がシュウ酸であり、第2の酸がリン酸であり、陽極酸化時の処理液の温度が20℃以上35℃未満の場合、処理液中のリン酸の濃度は、0.02mol/l〜2.5mol/lが好ましく、0.05mol/l〜1.5mol/lがより好ましい。処理液中のリン酸の濃度が0.02mol/l以上であると、酸化皮膜の溶解が十分速く、モールドの生産性に優れる。また、処理液中のリン酸の濃度が2.5mol/l以下であると、酸化皮膜の除去速度と細孔径の拡大速度とを制御しやすい。
When the first acid is oxalic acid, the second acid is phosphoric acid, and the temperature of the treatment liquid during anodic oxidation is 20 ° C. or higher and lower than 35 ° C., the concentration of oxalic acid in the treatment liquid is 0. 05 mol / l to 1 mol / l is preferable, and 0.1 mol / l to 0.5 mol / l is more preferable. When the concentration of oxalic acid in the treatment liquid is 0.05 mol / l or more, a current flows stably and pores can be stably formed. Further, when the concentration of oxalic acid in the treatment liquid is 1 mol / l or less, the current value does not become too high, and the surface of the oxide film can be prevented from becoming rough.
When the first acid is oxalic acid, the second acid is phosphoric acid, and the temperature of the treatment solution during anodization is 20 ° C. or more and less than 35 ° C., the concentration of phosphoric acid in the treatment solution is 0. 02 mol / l to 2.5 mol / l is preferable, and 0.05 mol / l to 1.5 mol / l is more preferable. When the concentration of phosphoric acid in the treatment liquid is 0.02 mol / l or more, dissolution of the oxide film is sufficiently fast and the mold productivity is excellent. Further, when the concentration of phosphoric acid in the treatment liquid is 2.5 mol / l or less, it is easy to control the removal rate of the oxide film and the expansion rate of the pore diameter.

第1の酸が硫酸であり、第2の酸がリン酸であり、陽極酸化時の処理液の温度が30℃以下の場合、処理液中の硫酸の濃度は、0.05mol/l〜0.7mol/lが好ましい。処理液中の硫酸の濃度が0.05mol/l以上であると、安定して電流が流れ、安定して細孔を形成することができる。また、処理液中の硫酸の濃度が0.7mol/l以下であると、電流値が高くなり過ぎず、定電圧を維持することができる。
第1の酸が硫酸であり、第2の酸がリン酸であり、陽極酸化時の処理液の温度が30℃以下の場合、処理液中のリン酸の濃度は、0.02mol/l〜3mol/lが好ましい。処理液中のリン酸の濃度が0.02mol/l以上であると、酸化皮膜の溶解が十分速く、モールドの生産性に優れる。また、処理液中のリン酸の濃度が3mol/l以下であると、酸化皮膜の除去速度と細孔径の拡大速度とを制御しやすい。
When the first acid is sulfuric acid, the second acid is phosphoric acid, and the temperature of the treatment liquid during anodization is 30 ° C. or lower, the concentration of sulfuric acid in the treatment liquid is 0.05 mol / l to 0 0.7 mol / l is preferred. When the concentration of sulfuric acid in the treatment liquid is 0.05 mol / l or more, a current flows stably and pores can be stably formed. Further, when the concentration of sulfuric acid in the treatment liquid is 0.7 mol / l or less, the current value does not become too high, and a constant voltage can be maintained.
When the first acid is sulfuric acid, the second acid is phosphoric acid, and the temperature of the treatment liquid during anodization is 30 ° C. or lower, the concentration of phosphoric acid in the treatment liquid is 0.02 mol / l to 3 mol / l is preferred. When the concentration of phosphoric acid in the treatment liquid is 0.02 mol / l or more, dissolution of the oxide film is sufficiently fast and the mold productivity is excellent. Further, when the concentration of phosphoric acid in the treatment liquid is 3 mol / l or less, it is easy to control the removal rate of the oxide film and the expansion rate of the pore diameter.

第1の酸と第2の酸との混合比率は、アルミニウム基材の表面に規則性の高い細孔が形成されやすく、細孔の形状の制御が容易であることから、0.5:99.5〜90:10(質量比)が好ましく、0.7:99.3〜80:20(質量比)がより好ましい。   The mixing ratio of the first acid and the second acid is 0.5: 99 because pores with high regularity are easily formed on the surface of the aluminum base and the shape of the pores is easily controlled. 0.5 to 90:10 (mass ratio) is preferable, and 0.7: 99.3 to 80:20 (mass ratio) is more preferable.

工程(a)〜工程(f)の各工程で処理液として同種の液体を用いることで、アルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する陽極酸化工程、酸化皮膜の一部を除去する酸化皮膜除去工程、酸化皮膜に形成された細孔を拡大するエッチング工程のすべて工程を、1つの反応槽中で行うことができるため、製造設備が簡略化されると共に、モールドの生産性に優れる。
ここで、同種の液体を用いるとは、例えば、シュウ酸とリン酸とを混合したものを処理液として用いる場合、工程(a)〜工程(f)のいずれの工程においても、シュウ酸とリン酸とを混合したものを処理液として用いることをいう。
An anodic oxidation process for forming an oxide film on the surface of the aluminum base by using the same kind of liquid as the treatment liquid in each of the steps (a) to (f), and an oxide film removal for removing a part of the oxide film Since all the processes of the process and the etching process of enlarging the pores formed in the oxide film can be performed in one reaction tank, the manufacturing equipment is simplified and the productivity of the mold is excellent.
Here, the same kind of liquid is used, for example, when a mixture of oxalic acid and phosphoric acid is used as a treatment liquid, oxalic acid and phosphorus are used in any of the steps (a) to (f). It means using what mixed the acid as a processing liquid.

(工程(a))
工程(a)は、処理液中にアルミニウム基材を浸漬する工程である。
(Process (a))
Step (a) is a step of immersing the aluminum substrate in the treatment liquid.

アルミニウム基材の形状としては、例えば、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。これらのアルミニウム基材の形状の中でも、微細凹凸構造を表面に有する物品の生産性に優れることから、ロール状、円管状が好ましく、ロール状がより好ましい。   Examples of the shape of the aluminum base material include a roll shape, a circular tube shape, a flat plate shape, and a sheet shape. Among the shapes of these aluminum substrates, a roll shape and a circular tube shape are preferable, and a roll shape is more preferable because of excellent productivity of an article having a fine concavo-convex structure on the surface.

アルミニウム基材は、表面を平滑にするために、研磨されることが好ましい。
研磨方法としては、例えば、機械研磨、化学研磨、化学機械研磨、羽布研磨、電解研磨等が挙げられる。これらの研磨方法は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの研磨方法の中でも、加工後の平滑性に優れることから、機械研磨、化学機械研磨が好ましく、化学機械研磨がより好ましい。
The aluminum substrate is preferably polished in order to smooth the surface.
Examples of the polishing method include mechanical polishing, chemical polishing, chemical mechanical polishing, robe polishing, and electrolytic polishing. One of these polishing methods may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Among these polishing methods, mechanical polishing and chemical mechanical polishing are preferable, and chemical mechanical polishing is more preferable because of excellent smoothness after processing.

アルミニウム基材は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、陽極酸化の前に予め脱脂処理されることが好ましい。   Since the oil used when processing the aluminum base material into a predetermined shape may adhere, it is preferable that the aluminum base material is degreased in advance before anodizing.

アルミニウム基材のアルミニウムの純度は、アルミニウム基材100質量%中、97質量%〜99.9質量%が好ましく、99.5質量%〜99.9質量%がより好ましい。アルミニウムの純度が97質量%以上であると、陽極酸化した際に不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの微細凹凸構造が形成されることを抑制し、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下することを抑制することができる。また、アルミニウムの純度が99.9質量%以下であると、アルミニウム基材が柔らか過ぎることなく、加工性に優れる。   97 mass%-99.9 mass% are preferable in 100 mass% of aluminum base materials, and the purity of aluminum of an aluminum base material has more preferable 99.5 mass%-99.9 mass%. When the purity of aluminum is 97% by mass or more, it is possible to suppress the formation of a fine concavo-convex structure having a size that scatters visible light due to segregation of impurities when anodized, and the rule of pores obtained by anodization It can suppress that property falls. Further, when the purity of aluminum is 99.9% by mass or less, the aluminum base material is not too soft and excellent in workability.

アルミニウム基材の強度を高め、加工性を向上させるため、アルミニウム基材中に微量のマグネシウムを含有させることが好ましい。アルミニウム基材のマグネシウムの純度は、アルミニウム基材100質量%中、0.1質量%〜3質量%が好ましく、0.1質量%〜0.5質量%がより好ましい。   In order to increase the strength of the aluminum substrate and improve the workability, it is preferable to contain a trace amount of magnesium in the aluminum substrate. 0.1 mass%-3 mass% are preferable in 100 mass% of aluminum base materials, and the purity of magnesium of an aluminum base material has more preferable 0.1 mass%-0.5 mass%.

(工程(b))
工程(b)は、アルミニウム基材を陽極酸化して細孔を有する酸化皮膜を形成する第1の酸化皮膜形成工程である。即ち、工程(b)は、処理液中でアルミニウム基材の陽極酸化を行う工程である。アルミニウム基材の表面の一部又は全部を処理液に浸漬して陽極酸化を行うことによって、処理液に浸漬した部分に酸化皮膜を形成することができる。
(Process (b))
Step (b) is a first oxide film forming step of forming an oxide film having pores by anodizing the aluminum base material. That is, the step (b) is a step of anodizing the aluminum substrate in the treatment liquid. By immersing a part or all of the surface of the aluminum substrate in the treatment liquid and performing anodization, an oxide film can be formed on the portion immersed in the treatment liquid.

工程(b)におけるアルミニウム基材の表面の酸化皮膜の厚さは、後述する工程(c)における酸化皮膜の除去時に、アルミニウム基材の表面の機械加工の痕は十分に除かれ、結晶粒界の段差が視認できるほど大きくなく、機械加工由来のマクロな凹凸が成形体の表面へ転写するのを回避できることから、0.5μm〜10μmが好ましい。
酸化皮膜の厚さは、電解放出型走査電子顕微鏡等で観察することができる。
The thickness of the oxide film on the surface of the aluminum substrate in the step (b) is such that when the oxide film is removed in the step (c) described later, the machining marks on the surface of the aluminum substrate are sufficiently removed, and the grain boundary Are not so large as to be visually recognized, and it is possible to avoid transferring macro unevenness derived from machining to the surface of the molded body.
The thickness of the oxide film can be observed with a field emission scanning electron microscope or the like.

工程(b)におけるアルミニウム基材の表面の酸化皮膜の厚さは、陽極酸化にて消費される合計の電気量に比例する。合計の電気量や電圧ごとに消費される電気量の比を調整することで、酸化皮膜の厚さと初期陽極酸化で形成される酸化皮膜の厚さの比を制御することができる。   The thickness of the oxide film on the surface of the aluminum substrate in the step (b) is proportional to the total amount of electricity consumed in the anodic oxidation. By adjusting the ratio of the total amount of electricity and the amount of electricity consumed for each voltage, the ratio between the thickness of the oxide film and the thickness of the oxide film formed by the initial anodic oxidation can be controlled.

工程(b)におけるアルミニウム基材に印加する電圧は、30V〜180Vが好ましく、40V〜100Vがより好ましい。工程(b)におけるアルミニウム基材に印加する電圧が40V以上であると、細孔の間隔が100nm以上の酸化皮膜を、簡便に形成することができる。工程(b)におけるアルミニウム基材に印加する電圧が180V以下であると、処理液を低温に維持したり、アルミニウム基材の背面に冷却液を噴射したりする必要がなく、簡便な装置で陽極酸化することができる。   The voltage applied to the aluminum substrate in the step (b) is preferably 30V to 180V, more preferably 40V to 100V. When the voltage applied to the aluminum substrate in the step (b) is 40 V or more, an oxide film having a pore interval of 100 nm or more can be easily formed. When the voltage applied to the aluminum substrate in step (b) is 180 V or less, there is no need to maintain the treatment liquid at a low temperature or to inject a cooling liquid onto the back surface of the aluminum substrate, and the anode can be used with a simple device. Can be oxidized.

工程(b)におけるアルミニウム基材に印加する電圧は、最初から最後まで一定でもよく、途中で変化させてもよいが、陽極酸化で得られる細孔の規則性に優れることから、途中で変化させることが好ましい。途中で電圧を変化させる場合、段階的に電圧を変化させてもよく、連続的に電圧を変化させてもよい。   The voltage applied to the aluminum substrate in the step (b) may be constant from the beginning to the end, and may be changed in the middle, but is changed in the middle because of the excellent regularity of the pores obtained by anodization. It is preferable. When changing the voltage in the middle, the voltage may be changed stepwise or the voltage may be changed continuously.

工程(b)においてアルミニウム基材に電圧を印加した直後の電流密度が10mA/cm以下となる場合、40V以上の最高電圧を最初から印加してもよく、40V未満の電圧で初期の陽極酸化を行い、段階的に又は連続的に電圧を上昇させ、最終的に電圧を40V〜180Vの範囲となるよう調整してもよい。
ここで、最高電圧とは、工程(b)における電圧の最高値を意味し、工程(b)の終了時の電圧と一致する。
When the current density immediately after applying a voltage to the aluminum substrate in step (b) is 10 mA / cm 2 or less, a maximum voltage of 40 V or more may be applied from the beginning, and initial anodization at a voltage of less than 40 V To increase the voltage stepwise or continuously, and finally adjust the voltage to be in the range of 40V to 180V.
Here, the maximum voltage means the maximum value of the voltage in the step (b) and coincides with the voltage at the end of the step (b).

工程(b)において段階的に電圧を上昇させる場合、一定時間同じ電圧で保持してもよく、一時的に電圧を低下させてもよい。一定時間は、1分〜10分が好ましい。一時的に電圧を低下させる場合、一時的に電圧が0Vになってもよいが、陽極酸化の途中で電圧が0Vになると、陽極にかかっていた電場が解消されるため、途中で電圧が0Vになった後に電圧を上昇させて再度電場をかけたとき、アルミニウム基材と酸化皮膜が部分的に剥離して、酸化皮膜の厚さが不均一になることがある。そのため、途中で電圧が0Vにならないように陽極酸化を行うことが好ましい。   When increasing the voltage stepwise in the step (b), the voltage may be held for a certain period of time, or the voltage may be temporarily decreased. The certain time is preferably 1 to 10 minutes. When the voltage is temporarily reduced, the voltage may be temporarily 0 V. However, when the voltage becomes 0 V during the anodic oxidation, the electric field applied to the anode is eliminated, so the voltage is 0 V in the middle. When the voltage is increased and the electric field is applied again, the aluminum base material and the oxide film may be partially separated, and the thickness of the oxide film may become uneven. Therefore, it is preferable to perform anodic oxidation so that the voltage does not become 0 V in the middle.

工程(b)において連続的に電圧を上昇させる場合、電圧の昇圧速度は、0.05V/s〜5V/sが好ましい。電圧の昇圧速度が0.05V/s以上であると、電圧上昇時に酸化皮膜が厚くなり過ぎることを抑制することができる。また、電圧の昇圧速度が5V/s以下であると、アルミニウム基材に流れる電流密度が瞬間的に増大することで発生するヤケを抑制することができる。   When the voltage is continuously increased in the step (b), the voltage boosting speed is preferably 0.05 V / s to 5 V / s. When the voltage boosting rate is 0.05 V / s or more, it is possible to prevent the oxide film from becoming too thick when the voltage is increased. Further, when the voltage boosting speed is 5 V / s or less, it is possible to suppress the burn that occurs due to an instantaneous increase in the current density flowing through the aluminum base material.

工程(b)において任意の電圧から任意の電圧へ昇圧する場合、瞬時に昇圧してもよく、徐々に昇圧してもよい。その電圧の昇圧速度は、0.05V/s〜5V/sが好ましい。電圧の昇圧速度が0.05V/s以上であると、電圧上昇時に酸化皮膜が厚くなり過ぎることを抑制することができる。また、電圧の昇圧速度が5V/s以下であると、アルミニウム基材に流れる電流密度が瞬間的に増大することで発生するヤケを抑制することができる。   When boosting from an arbitrary voltage to an arbitrary voltage in the step (b), the voltage may be increased instantaneously or gradually. The voltage boosting speed is preferably 0.05 V / s to 5 V / s. When the voltage boosting rate is 0.05 V / s or more, it is possible to prevent the oxide film from becoming too thick when the voltage is increased. Further, when the voltage boosting speed is 5 V / s or less, it is possible to suppress the burn that occurs due to an instantaneous increase in the current density flowing through the aluminum base material.

工程(b)におけるアルミニウム基材に電圧を印加して陽極酸化を行う時間は、アルミニウム基材の表面の酸化皮膜の厚さを0.5μm〜10μmに制御することができることから、3秒〜1800秒が好ましく、30秒〜1000秒がより好ましい。   The time for applying the voltage to the aluminum base material in the step (b) and performing the anodic oxidation is 3 seconds to 1800 since the thickness of the oxide film on the surface of the aluminum base material can be controlled to 0.5 μm to 10 μm. Second is preferable, and 30 seconds to 1000 seconds is more preferable.

(工程(c))
工程(c)は、酸化皮膜の一部を除去する酸化皮膜除去工程である。酸化皮膜の一部を除去するためには、アルミニウム基材に電圧を実質的に印加せず、アルミニウム基材を処理液に浸漬したまま保持すればよい。工程(b)の後に電圧の印加を中断して、同じ反応槽中で、複数の酸を混合した処理液にアルミニウム基材を保持することで、工程(b)で形成された酸化皮膜の一部を溶解、除去することができる。
本発明において、「電圧を実質的に印加しない」とは、アルミニウム基材に印加する電圧を0Vとすることだけでなく、アルミニウム基材に電流が流れず酸化皮膜の形成が進まない程度まで電圧を低下させることを含む。
(Process (c))
Step (c) is an oxide film removing step for removing a part of the oxide film. In order to remove a part of the oxide film, a voltage is not substantially applied to the aluminum substrate, and the aluminum substrate may be held while being immersed in the treatment liquid. After the step (b), the application of voltage is interrupted, and the aluminum substrate is held in the treatment liquid in which a plurality of acids are mixed in the same reaction tank, thereby allowing one of the oxide films formed in the step (b). Part can be dissolved and removed.
In the present invention, “substantially no voltage” means not only that the voltage applied to the aluminum substrate is 0 V, but also that the voltage does not flow to the aluminum substrate and the formation of the oxide film does not proceed. Including lowering.

工程(c)における保持時間は、5分〜400分が好ましい。工程(c)における保持時間が5分以上であると、工程(b)において形成された酸化皮膜を十分に除去することができる。また、工程(c)における保持時間が400分以下であると、工程(b)で形成した規則的な構造の破損を抑制することができ、ヘイズが高くなり過ぎず物品の視認性に優れ、モールドの生産性に優れる。   The holding time in the step (c) is preferably 5 minutes to 400 minutes. When the holding time in step (c) is 5 minutes or longer, the oxide film formed in step (b) can be sufficiently removed. In addition, when the holding time in the step (c) is 400 minutes or less, the regular structure formed in the step (b) can be prevented from being damaged, and the haze is not too high and the visibility of the article is excellent. Excellent mold productivity.

工程(c)における保持時間が100分未満の場合、後述する第2の凹部の形成を抑制することができ、物品の透明性、反射防止性能に優れる。   When the holding time in the step (c) is less than 100 minutes, the formation of the second recess described later can be suppressed, and the transparency and antireflection performance of the article are excellent.

工程(c)における保持時間が100分以上の場合、後述する第2の凹部が形成されるため、物品の防眩性、反射防止性能に優れる。   In the case where the holding time in the step (c) is 100 minutes or longer, a second concave portion described later is formed, and thus the article has excellent antiglare property and antireflection performance.

第2の凹部の形成過程を、以下に説明する。
工程(b)において形成された酸化皮膜を溶解、除去することにより、酸化皮膜底部にピンホールが形成され、アルミニウム基材と処理液が接触し、アルミニウムを溶解し始め、細孔より大きいサイズの第2の凹部が形成される。このとき、処理液の酸化皮膜の溶解速度がアルミニウム基材の溶解速度より大きい場合、酸化皮膜がすべて除去される前に、第2の凹部が形成される。
The formation process of the second recess will be described below.
By dissolving and removing the oxide film formed in the step (b), a pinhole is formed at the bottom of the oxide film, the aluminum base material and the treatment liquid come into contact with each other, the aluminum starts to dissolve, and has a size larger than the pores. A second recess is formed. At this time, when the dissolution rate of the oxide film of the treatment liquid is higher than the dissolution rate of the aluminum base material, the second recess is formed before the oxide film is completely removed.

(工程(d))
工程(d)は、アルミニウム基材を定電圧で陽極酸化して細孔を有する酸化皮膜を形成する第2の酸化皮膜形成工程である。即ち、工程(d)は、処理液中でアルミニウム基材の陽極酸化を行う工程である。アルミニウム基材の表面の一部又は全部を処理液に浸漬して陽極酸化を行うことによって、処理液に浸漬した部分に酸化皮膜を形成することができる。
(Process (d))
Step (d) is a second oxide film forming step of forming an oxide film having pores by anodizing an aluminum substrate at a constant voltage. That is, the step (d) is a step of anodizing the aluminum substrate in the treatment liquid. By immersing a part or all of the surface of the aluminum substrate in the treatment liquid and performing anodization, an oxide film can be formed on the portion immersed in the treatment liquid.

工程(d)におけるアルミニウム基材の表面の酸化皮膜の厚さは、0.01μm〜0.4μmが好ましい。工程(d)におけるアルミニウム基材の表面の酸化皮膜の厚さが0.01μm以上であると、物品の反射防止性能に優れる。また、工程(d)におけるアルミニウム基材の表面の酸化皮膜の厚さが0.4μm以下であると、モールドと物品との離型性に優れる。
酸化皮膜の厚さは、電解放出型走査電子顕微鏡等で観察することができる。
The thickness of the oxide film on the surface of the aluminum substrate in the step (d) is preferably 0.01 μm to 0.4 μm. When the thickness of the oxide film on the surface of the aluminum substrate in the step (d) is 0.01 μm or more, the article has excellent antireflection performance. Moreover, it is excellent in the mold release property of a mold and articles | goods in the process (d) that the thickness of the oxide film on the surface of the aluminum base material is 0.4 micrometer or less.
The thickness of the oxide film can be observed with a field emission scanning electron microscope or the like.

工程(d)におけるアルミニウム基材の表面の酸化皮膜の厚さは、陽極酸化にて消費される合計の電気量に比例する。合計の電気量や電圧ごとに消費される電気量の比を調整することで、酸化皮膜の厚さと初期陽極酸化で形成される酸化皮膜の厚さの比を制御することができる。   The thickness of the oxide film on the surface of the aluminum substrate in the step (d) is proportional to the total amount of electricity consumed in the anodic oxidation. By adjusting the ratio of the total amount of electricity and the amount of electricity consumed for each voltage, the ratio between the thickness of the oxide film and the thickness of the oxide film formed by the initial anodic oxidation can be controlled.

工程(d)におけるアルミニウム基材に印加する電圧は、30V〜180Vが好ましく、40V〜120Vがより好ましい。工程(d)におけるアルミニウム基材に印加する電圧が40V以上であると、細孔の間隔が100nm以上の酸化皮膜を、簡便に形成することができる。工程(d)におけるアルミニウム基材に印加する電圧が180V以下であると、処理液を低温に維持したり、アルミニウム基材の背面に冷却液を噴射したりする必要がなく、簡便な装置で陽極酸化することができる。   The voltage applied to the aluminum substrate in the step (d) is preferably 30V to 180V, and more preferably 40V to 120V. When the voltage applied to the aluminum substrate in the step (d) is 40 V or more, an oxide film having a pore interval of 100 nm or more can be easily formed. When the voltage applied to the aluminum substrate in the step (d) is 180 V or less, it is not necessary to maintain the treatment liquid at a low temperature or to inject the cooling liquid onto the back surface of the aluminum substrate, and the anode can be used with a simple apparatus. Can be oxidized.

工程(d)におけるアルミニウム基材に印加する電圧は、最初から最後まで一定でもよく、途中で変化させてもよいが、細孔の深さを制御することができることから、最初から最後まで一定とすることが好ましい。途中で電圧を変化させる場合、段階的に電圧を変化させてもよく、連続的に電圧を変化させてもよい。   The voltage applied to the aluminum substrate in the step (d) may be constant from the beginning to the end or may be changed in the middle. However, since the depth of the pores can be controlled, the voltage is constant from the beginning to the end. It is preferable to do. When changing the voltage in the middle, the voltage may be changed stepwise or the voltage may be changed continuously.

工程(d)においてアルミニウム基材に電圧を印加した直後の電流密度が10mA/cm以下となる場合、40V以上の最高電圧を最初から印加してもよく、40V未満の電圧で初期の陽極酸化を行い、段階的に又は連続的に電圧を上昇させ、最終的に電圧を40V〜180Vの範囲となるよう調整してもよい。
ここで、最高電圧とは、工程(d)における電圧の最高値を意味し、工程(d)の終了時の電圧と一致する。
When the current density immediately after applying a voltage to the aluminum substrate in step (d) is 10 mA / cm 2 or less, the highest voltage of 40 V or more may be applied from the beginning, and the initial anodic oxidation at a voltage of less than 40 V To increase the voltage stepwise or continuously, and finally adjust the voltage to be in the range of 40V to 180V.
Here, the maximum voltage means the maximum value of the voltage in the step (d) and coincides with the voltage at the end of the step (d).

工程(d)において段階的に電圧を上昇させる場合、一定時間同じ電圧で保持してもよく、一時的に電圧を低下させてもよい。一定時間は、1分〜10分が好ましい。一時的に電圧を低下させる場合、一時的に電圧が0Vになってもよいが、陽極酸化の途中で電圧が0Vになると、陽極にかかっていた電場が解消されるため、途中で電圧が0Vになった後に電圧を上昇させて再度電場をかけたとき、アルミニウム基材と酸化皮膜が部分的に剥離して、酸化皮膜の厚さが不均一になることがある。そのため、途中で電圧が0Vにならないように陽極酸化を行うことが好ましい。   When increasing the voltage stepwise in the step (d), the voltage may be maintained for a certain period of time, or the voltage may be temporarily decreased. The certain time is preferably 1 to 10 minutes. When the voltage is temporarily reduced, the voltage may be temporarily 0 V. However, when the voltage becomes 0 V during the anodic oxidation, the electric field applied to the anode is eliminated, so the voltage is 0 V in the middle. When the voltage is increased and the electric field is applied again, the aluminum base material and the oxide film may be partially separated, and the thickness of the oxide film may become uneven. Therefore, it is preferable to perform anodic oxidation so that the voltage does not become 0 V in the middle.

工程(d)において連続的に電圧を上昇させる場合、電圧の昇圧速度は、0.05V/s〜5V/sが好ましい。電圧の昇圧速度が0.05V/s以上であると、電圧上昇時に酸化皮膜が厚くなり過ぎることを抑制することができる。また、電圧の昇圧速度が5V/s以下であると、アルミニウム基材に流れる電流密度が瞬間的に増大することで発生するヤケを抑制することができる。   When the voltage is continuously increased in the step (d), the voltage boosting speed is preferably 0.05 V / s to 5 V / s. When the voltage boosting rate is 0.05 V / s or more, it is possible to prevent the oxide film from becoming too thick when the voltage is increased. Further, when the voltage boosting speed is 5 V / s or less, it is possible to suppress the burn that occurs due to an instantaneous increase in the current density flowing through the aluminum base material.

工程(d)において任意の電圧から任意の電圧へ昇圧する場合、瞬時に昇圧してもよく、徐々に昇圧してもよい。その電圧の昇圧速度は、0.05V/s〜5V/sが好ましい。電圧の昇圧速度が0.05V/s以上であると、電圧上昇時に酸化皮膜が厚くなり過ぎることを抑制することができる。また、電圧の昇圧速度が5V/s以下であると、アルミニウム基材に流れる電流密度が瞬間的に増大することで発生するヤケを抑制することができる。   When boosting from an arbitrary voltage to an arbitrary voltage in step (d), the voltage may be increased instantaneously or gradually. The voltage boosting speed is preferably 0.05 V / s to 5 V / s. When the voltage boosting rate is 0.05 V / s or more, it is possible to prevent the oxide film from becoming too thick when the voltage is increased. Further, when the voltage boosting speed is 5 V / s or less, it is possible to suppress the burn that occurs due to an instantaneous increase in the current density flowing through the aluminum base material.

工程(d)におけるアルミニウム基材に電圧を印加して陽極酸化を行う時間は、アルミニウム基材の表面の酸化皮膜の厚さを0.01μm〜0.4μmに制御することができることから、3秒〜600秒が好ましく、5秒〜120秒がより好ましい。   The time for applying the voltage to the aluminum substrate in the step (d) and performing the anodic oxidation is 3 seconds because the thickness of the oxide film on the surface of the aluminum substrate can be controlled to 0.01 μm to 0.4 μm. ˜600 seconds are preferable, and 5 seconds to 120 seconds are more preferable.

(工程(e))
工程(e)は、酸化皮膜の一部を除去して細孔の孔径を拡大処理する孔径拡大処理工程である。酸化皮膜の一部を除去して細孔の孔径を拡大処理するためには、アルミニウム基材に電圧を実質的に印加せず、アルミニウム基材を処理液に浸漬したまま保持すればよい。工程(d)の後に電圧の印加を中断して、同じ反応槽中で、複数の酸を混合した処理液にアルミニウム基材を保持することで、工程(d)で形成された酸化皮膜の一部を溶解、除去し、細孔の孔径を拡大することができる。
(Process (e))
Step (e) is a pore diameter expansion treatment step in which a part of the oxide film is removed to enlarge the pore diameter. In order to remove a part of the oxide film and enlarge the pore diameter, the voltage may not be substantially applied to the aluminum substrate, and the aluminum substrate may be kept immersed in the treatment liquid. After the step (d), the application of voltage is interrupted, and the aluminum base material is held in a treatment liquid in which a plurality of acids are mixed in the same reaction tank, whereby one of the oxide films formed in the step (d). The portion can be dissolved and removed, and the pore diameter can be enlarged.

工程(e)における保持温度は、細孔径の拡大速度を制御することができ、細孔を簡便にテーパー形状とすることができることから、5℃〜40℃が好ましく、10℃〜35℃がより好ましい。   The holding temperature in the step (e) is preferably 5 ° C. to 40 ° C., more preferably 10 ° C. to 35 ° C., since the expansion rate of the pore diameter can be controlled and the pores can be easily tapered. preferable.

処理液中の第2の酸の濃度が0.05mol/l以上0.5mol/l未満で、工程(e)における保持温度が20℃未満の場合、工程(e)における保持時間は、30分〜200分が好ましく、45分〜180分が好ましい。工程(e)における保持時間が30分以上であると、細孔をテーパー形状とすることができる。また、工程(e)における保持時間が200分以下であると、モールドの生産性に優れる。
処理液中の第2の酸の濃度が0.05mol/l以上0.5mol/l未満で、工程(e)における保持温度が20℃以上35℃未満の場合、工程(e)における保持時間は、30分〜180分が好ましく、45分〜160分が好ましい。工程(e)における保持時間が30分以上であると、細孔をテーパー形状とすることができる。また、工程(e)における保持時間が180分以下であると、モールドの生産性に優れる。
When the concentration of the second acid in the treatment liquid is 0.05 mol / l or more and less than 0.5 mol / l and the holding temperature in step (e) is less than 20 ° C., the holding time in step (e) is 30 minutes. -200 minutes are preferable and 45 minutes -180 minutes are preferable. If the holding time in step (e) is 30 minutes or longer, the pores can be tapered. Moreover, it is excellent in productivity of a mold in the holding time in a process (e) being 200 minutes or less.
When the concentration of the second acid in the treatment liquid is 0.05 mol / l or more and less than 0.5 mol / l and the holding temperature in the step (e) is 20 ° C. or more and less than 35 ° C., the holding time in the step (e) is 30 minutes to 180 minutes are preferable, and 45 minutes to 160 minutes are preferable. If the holding time in step (e) is 30 minutes or longer, the pores can be tapered. Moreover, it is excellent in productivity of a mold in the holding time in a process (e) being 180 minutes or less.

処理液中の第2の酸の濃度が0.5mol/l以上で、工程(e)における保持温度が20℃未満の場合、工程(e)における保持時間は、15分〜200分が好ましく、30分〜120分が好ましい。工程(e)における保持時間が15分以上であると、細孔をテーパー形状とすることができる。また、工程(e)における保持時間が200分以下であると、モールドの生産性に優れる。
処理液中の第2の酸の濃度が0.5mol/l以上で、工程(e)における保持温度が20℃以上35℃未満の場合、工程(e)における保持時間は、5分〜120分が好ましく、10分〜100分が好ましい。工程(e)における保持時間が5分以上であると、細孔をテーパー形状とすることができる。また、工程(e)における保持時間が120分以下であると、モールドの生産性に優れる。
When the concentration of the second acid in the treatment liquid is 0.5 mol / l or more and the holding temperature in step (e) is less than 20 ° C., the holding time in step (e) is preferably 15 minutes to 200 minutes, 30 minutes to 120 minutes is preferable. If the holding time in step (e) is 15 minutes or longer, the pores can be tapered. Moreover, it is excellent in productivity of a mold in the holding time in a process (e) being 200 minutes or less.
When the concentration of the second acid in the treatment liquid is 0.5 mol / l or more and the holding temperature in step (e) is 20 ° C. or higher and lower than 35 ° C., the holding time in step (e) is 5 minutes to 120 minutes. 10 minutes to 100 minutes is preferable. If the holding time in step (e) is 5 minutes or longer, the pores can be tapered. Moreover, it is excellent in productivity of a mold in the holding time in a process (e) being 120 minutes or less.

(工程(f))
工程(f)は、工程(d)と工程(e)とを交互に繰り返す工程である。
(Process (f))
Step (f) is a step of alternately repeating step (d) and step (e).

繰り返し回数は、細孔を滑らかなテーパー形状にすることができ、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の反射防止性能に優れることから、3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。また、繰り返し回数は、モールドの生産性に優れることから、10回以下が好ましい。
工程(f)の最後は、細孔の孔径が連続的に変化するテーパー形状を形成することができ、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の反射防止性能に優れることから、工程(d)の細孔径拡大処理で終わることが好ましい。
The number of repetitions is preferably 3 times or more, more preferably 5 times or more, because the pores can be formed into a smooth taper shape and the antireflection performance of an article having a fine uneven structure obtained on the surface is excellent. The number of repetitions is preferably 10 times or less because of excellent mold productivity.
At the end of the step (f), a taper shape in which the pore diameter continuously changes can be formed, and the antireflection performance of an article having a fine uneven structure obtained on the surface is excellent. It is preferable to end with the pore diameter expansion treatment.

(図1)
図1は、本発明のモールドの製造方法における工程の一例を示す模式的断面図である。以下、図1を用いて本発明のモールドの製造方法を具体的に説明するが、本発明のモールドの製造方法は、図1に示す工程に限定されるものではない。
(Figure 1)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of steps in the method for producing a mold of the present invention. Hereinafter, although the manufacturing method of the mold of this invention is demonstrated concretely using FIG. 1, the manufacturing method of the mold of this invention is not limited to the process shown in FIG.

まず、機械加工されたアルミニウム基材10を処理液に浸漬させ(工程(a))、電圧を印加し、アルミニウム基材10の表面を陽極酸化して酸化皮膜14を形成させる(工程(b))。工程(b)の初期形成される細孔12は、規則性が低くランダムに細孔12が発生するが、長時間陽極酸化を行うと、細孔12が深くなるに従って、徐々に細孔12の配列周期の規則性が高くなっていく。これにより、図1(A)に示すように、アルミニウム基材10の表面に、規則性が高く配列した複数の細孔12を有する酸化皮膜14を形成することができる。工程(b)の後に、細孔12がランダムに発生した細孔上部の酸化皮膜14の少なくとも一部を除去する(工程(c))。ここで、前述した条件とすることで、除去と同時に酸化皮膜14の底部に第2の凹部が形成される。これにより、図1(B)に示すように、アルミニウム基材10の表面に、規則性が高く配列した細孔発生点16を形成することができる。
次に、処理液に浸漬させたまま、細孔発生点16が形成されたアルミニウム基材10に電圧を印加する(工程(d))。これにより、図1(C)に示すように、アルミニウム基材10が陽極酸化されて、複数の細孔12を有する酸化皮膜14が再び形成される。そして、アルミニウム基材10への電圧の印加を中断し、処理液に浸漬させたままアルミニウム基材10を保持する(工程(e))。これにより、図1(D)に示すように、形成された酸化皮膜14の一部が除去されて、細孔12の孔径が拡大する。
その後、処理液に浸漬させたまま、電圧を印加する工程(d)と、電圧の印加を中断して保持する工程(e)とを交互に繰り返す(工程(f))。これにより、図1(E)に示すように、細孔12の形状を開口部から深さ方向に孔径が連続的に収縮するテーパー形状とすることができる。その結果、周期的な複数の細孔12からなる酸化皮膜14がアルミニウム基材10の表面に形成されたモールド18を得ることができる。
このように、工程(a)〜工程(f)の各工程で同種の処理液を用いるので、アルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する陽極酸化工程、酸化皮膜の一部を除去する酸化皮膜除去工程、酸化皮膜に形成された細孔を拡大するエッチング工程のすべて工程を、1つの反応槽中で行うことができ、製造設備が簡略化されると共に、モールドの生産性に優れる。
First, the machined aluminum substrate 10 is immersed in a treatment liquid (step (a)), a voltage is applied, and the surface of the aluminum substrate 10 is anodized to form an oxide film 14 (step (b)). ). The pores 12 initially formed in the step (b) have low regularity and the pores 12 are randomly generated. When anodization is performed for a long time, the pores 12 gradually become deeper as the pores 12 become deeper. The regularity of the array period increases. Thereby, as shown in FIG. 1A, an oxide film 14 having a plurality of pores 12 arranged with high regularity can be formed on the surface of the aluminum base 10. After the step (b), at least a part of the oxide film 14 above the pores in which the pores 12 are randomly generated is removed (step (c)). Here, the second recess is formed at the bottom of the oxide film 14 simultaneously with the removal under the above-described conditions. Thereby, as shown in FIG. 1 (B), the pore generation points 16 arranged with high regularity can be formed on the surface of the aluminum base 10.
Next, a voltage is applied to the aluminum substrate 10 on which the pore generation points 16 are formed while being immersed in the treatment liquid (step (d)). Thereby, as shown in FIG. 1C, the aluminum substrate 10 is anodized, and the oxide film 14 having the plurality of pores 12 is formed again. And the application of the voltage to the aluminum base material 10 is interrupted, and the aluminum base material 10 is hold | maintained, being immersed in a process liquid (process (e)). Thereby, as shown in FIG. 1D, a part of the formed oxide film 14 is removed, and the pore diameter of the pores 12 is enlarged.
Thereafter, the step (d) of applying a voltage while being immersed in the treatment liquid and the step (e) of interrupting and holding the application of the voltage are alternately repeated (step (f)). Thereby, as shown in FIG.1 (E), the shape of the pore 12 can be made into the taper shape which a hole diameter shrink | contracts continuously in a depth direction from an opening part. As a result, it is possible to obtain a mold 18 in which an oxide film 14 composed of a plurality of periodic pores 12 is formed on the surface of the aluminum substrate 10.
As described above, since the same kind of treatment liquid is used in each of the steps (a) to (f), an anodic oxidation step for forming an oxide film on the surface of the aluminum base, and an oxide film for removing a part of the oxide film All the steps of the removal step and the etching step of enlarging the pores formed in the oxide film can be performed in one reaction tank, the manufacturing equipment is simplified and the productivity of the mold is excellent.

(モールドの凹部)
細孔(第1の凹部)の形状としては、例えば、略円錐形状、角錐形状、釣鐘形状、円柱形状等が挙げられる。これらの細孔の形状の中でも、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の反射防止性能に優れることから、円錐形状、角錐形状、釣鐘形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましく、円錐形状、角錐形状、釣鐘形状がより好ましい。
(Mold recess)
Examples of the shape of the pore (first concave portion) include a substantially conical shape, a pyramid shape, a bell shape, and a cylindrical shape. Among these pore shapes, the anti-reflective performance of the article having the fine concavo-convex structure obtained on the surface is excellent, so that the shape in the direction perpendicular to the depth direction, such as a cone shape, a pyramid shape, a bell shape, etc. A shape in which the hole cross-sectional area continuously decreases from the outermost surface in the depth direction is preferable, and a conical shape, a pyramid shape, and a bell shape are more preferable.

隣接する細孔(第1の凹部)間の平均間隔は、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の反射防止性能に優れることから、可視光線の波長以下、即ち、400nm以下が好ましく、380nm以下がより好ましい。   The average distance between adjacent pores (first recesses) is preferably less than the wavelength of visible light, that is, 400 nm or less, since it is excellent in the antireflection performance of an article having a fine uneven structure obtained on the surface. Is more preferable.

隣接する細孔(第1の凹部)間の平均間隔は、20nm〜300nmが好ましく、80nm〜200nmがより好ましい。隣接する細孔間の平均間隔が20nm以上であると、細孔を転写して凸部を形成する場合に凸部を形成しやすい。また、隣接する細孔間の平均間隔が300nm以下であると、細孔間隔を大きくするための電圧を抑制することができ、陽極酸化ポーラスアルミナを工業的に製造しやすい。   The average distance between adjacent pores (first recesses) is preferably 20 nm to 300 nm, and more preferably 80 nm to 200 nm. When the average interval between adjacent pores is 20 nm or more, the projections are easily formed when the projections are formed by transferring the pores. Moreover, the voltage for enlarging a pore space | interval can be suppressed as the average space | interval between adjacent pores is 300 nm or less, and it is easy to manufacture anodized porous alumina industrially.

本明細書において、隣接する細孔間の平均間隔は、電子顕微鏡を用いて、隣接する細孔間の間隔(細孔の中心から隣接する細孔の中心までの距離)を無作為に10点(但し、第2の凹部が存在しない場所)測定し、これらの値を平均した値とする。   In this specification, the average interval between adjacent pores is 10 points at random by using an electron microscope to determine the interval between adjacent pores (the distance from the center of the pore to the center of the adjacent pore). (However, the place where the second concave portion does not exist) is measured, and these values are averaged.

細孔(第1の凹部)の平均深さは、60nm〜400nmが好ましく、90nm〜350nmがより好ましい。細孔の平均深さが60nm以上であると、最低反射率や特定波長の反射率の上昇を抑制することができ、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の反射防止性能に優れる。また、細孔の平均深さが400nm以下であると、細孔を形成しやすく、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の耐擦傷性に優れる。   The average depth of the pores (first recesses) is preferably 60 nm to 400 nm, and more preferably 90 nm to 350 nm. When the average depth of the pores is 60 nm or more, an increase in the minimum reflectance or the reflectance at a specific wavelength can be suppressed, and the antireflection performance of an article having a fine uneven structure on the surface is excellent. Further, when the average depth of the pores is 400 nm or less, the pores are easily formed, and the article having the fine concavo-convex structure obtained on the surface is excellent in scratch resistance.

本明細書において、細孔の平均深さは、電子顕微鏡を用いて、細孔の最底部と細孔間に存在する凸部の最頂部との間の垂直距離を無作為に10点測定し、これらの値を平均した値とする。   In this specification, the average depth of the pores is determined by randomly measuring the vertical distance between the bottom of the pores and the top of the convex portions existing between the pores using an electron microscope at 10 points. These values are averaged.

細孔のアスペクト比(細孔の平均深さ/隣接する細孔間の平均間隔)は、0.8〜5.0が好ましく、1.2〜4.0がより好ましく、1.5〜3.0が更に好ましい。細孔のアスペクト比が0.8以上であると、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の反射防止性能に優れる。また、細孔のアスペクト比が5.0以下であると、細孔を形成しやすく、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の耐擦傷性に優れる。   The aspect ratio of pores (average depth of pores / average interval between adjacent pores) is preferably 0.8 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, and 1.5 to 3 0.0 is more preferable. When the aspect ratio of the pores is 0.8 or more, the antireflection performance of an article having a fine uneven structure on the surface is excellent. Further, when the aspect ratio of the pores is 5.0 or less, the pores are easily formed, and the article having the fine concavo-convex structure obtained on the surface is excellent in scratch resistance.

第2の凹部を形成する場合、第2の凹部の平均直径は、0.5μm〜50μmが好ましく、1μm〜30μmがより好ましい。第2の凹部の平均直径が0.5μm以上であると、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の防眩性に優れる。また、第2の凹部の平均直径が50μm以下であると、ヘイズが高くなり過ぎず物品の視認性に優れる。   When forming the second recess, the average diameter of the second recess is preferably 0.5 μm to 50 μm, and more preferably 1 μm to 30 μm. When the average diameter of the second concave portion is 0.5 μm or more, the antiglare property of the article having the fine concavo-convex structure obtained on the surface is excellent. In addition, when the average diameter of the second recess is 50 μm or less, the haze is not excessively increased and the visibility of the article is excellent.

本明細書において、第2の凹部の平均直径は、レーザー顕微鏡を用いて、第2の凹部を無作為に10点抽出し、その開口部の最長の長さ測定し、これらの値を平均した値とする。   In the present specification, the average diameter of the second concave portion is obtained by randomly extracting 10 points of the second concave portion using a laser microscope, measuring the longest length of the opening, and averaging these values. Value.

第2の凹部を形成する場合、第2の凹部の平均深さは、0.1μm〜3.0μmが好ましく、0.3μm〜1.5μmがより好ましい。第2の凹部の平均深さが0.1μm以上であると、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の防眩性に優れる。また、第2の凹部の平均深さが3.0μm以下であると、ヘイズが高くなり過ぎず物品の視認性に優れる。   When forming the second recess, the average depth of the second recess is preferably 0.1 μm to 3.0 μm, and more preferably 0.3 μm to 1.5 μm. When the average depth of the second recess is 0.1 μm or more, the antiglare property of the article having the obtained fine uneven structure on the surface is excellent. In addition, when the average depth of the second recess is 3.0 μm or less, the haze is not excessively increased and the visibility of the article is excellent.

本明細書において、第2の凹部の平均深さは、レーザー顕微鏡を用いて、第2の凹部の最底部と開口部との間の垂直距離を無作為に10点測定し、これらの値を平均した値とする。   In this specification, the average depth of the second recess is determined by randomly measuring 10 vertical distances between the bottom and the opening of the second recess using a laser microscope. The average value.

第2の凹部のアスペクト比(第2の凹部の平均深さ/第2の凹部の平均直径)は、0.02〜3が好ましく、0.1〜2がより好ましい。第2の凹部のアスペクト比が0.02以上であると、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の防眩性に優れる。また、第2の凹部のアスペクト比が3以下であると、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の機械強度に優れる。   The aspect ratio of the second recess (average depth of the second recess / average diameter of the second recess) is preferably 0.02 to 3, and more preferably 0.1 to 2. When the aspect ratio of the second recess is 0.02 or more, the antiglare property of the article having the fine concavo-convex structure obtained on the surface is excellent. Moreover, when the aspect ratio of the second recess is 3 or less, the mechanical strength of an article having the obtained fine uneven structure on the surface is excellent.

(微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法)
本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法は、物品の生産性に優れることから、本発明のモールドの製造方法で得られたモールドの表面に硬化性組成物を供給し、硬化性組成物を硬化させて物品を得る方法が好ましい。具体的には、物品の生産性に優れることから、本発明のモールドの製造方法で得られたモールドの表面に硬化性組成物を、モールドと基材との間に挟み、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて物品を得る方法が好ましい。
(Manufacturing method of article having fine concavo-convex structure on its surface)
Since the method for producing an article having the fine concavo-convex structure on the surface thereof according to the present invention is excellent in the productivity of the article, a curable composition is supplied to the surface of the mold obtained by the method for producing a mold of the present invention, and the curability is increased. A method of curing the composition to obtain an article is preferred. Specifically, since it is excellent in the productivity of the article, a curable composition is sandwiched between the mold and the base material on the surface of the mold obtained by the method for producing a mold of the present invention, and active energy rays are added to this. A method of obtaining an article by irradiating is cured.

(基材)
基材の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリスチレン、メチルメタクリレート−スチレン共重合体等のスチレン樹脂;セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース樹脂;ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂;ポリアミド樹脂;ポリイミド樹脂;ポリエーテルスルフォン樹脂;ポリスルフォン樹脂;ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、脂環式ポリオレフィン等のポリオレフィン樹脂;ポリ塩化ビニル等の塩化ビニル樹脂;ポリビニルアセタール樹脂;ポリエーテルケトン樹脂;ポリウレタン樹脂;ガラス等が挙げられる。これらの基材の材料の中でも、光透過性、取り扱い性に優れることから、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂が好ましく、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂がより好ましい。
(Base material)
Examples of the base material include acrylic resins such as polymethyl methacrylate; polycarbonate resins; styrene resins such as polystyrene and methyl methacrylate-styrene copolymers; cellulose resins such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose acetate butyrate; Polyester resin such as polyethylene terephthalate; Polyamide resin; Polyimide resin; Polyether sulfone resin; Polysulfone resin; Polyolefin resin such as polypropylene, polymethylpentene, and alicyclic polyolefin; Vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride; Polyvinyl acetal resin; Polyetherketone resin; polyurethane resin; glass and the like. Among these materials for the base material, acrylic resin, polycarbonate resin, polyester resin, and cellulose resin are preferable, and polyester resin and cellulose resin are more preferable because of excellent light transmittance and handling properties.

基材の形態としては、例えば、フィルム、シート等の公知の形態等が挙げられる。これらの基材の形態の中でも、物品の生産性、取り扱い性に優れることから、フィルム、シートが好ましい。   Examples of the form of the substrate include known forms such as a film and a sheet. Among these forms of base materials, films and sheets are preferred because of excellent product productivity and handleability.

基材の製造方法としては、例えば、射出成形法、押出成形法、キャスト成形法等の公知の製造方法等が挙げられる。これらの基材の製造方法の中でも、生産性に優れることから、押出成形法、キャスト成形法が好ましい。   As a manufacturing method of a base material, well-known manufacturing methods, such as an injection molding method, an extrusion molding method, a cast molding method, etc. are mentioned, for example. Among these methods for producing a substrate, an extrusion molding method and a cast molding method are preferable because of excellent productivity.

基材の表面には、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性を改良する目的として、コーティング処理、コロナ処理等が施されていてもよい。   The surface of the base material may be subjected to coating treatment, corona treatment, etc. for the purpose of improving properties such as adhesion, antistatic properties, scratch resistance, and weather resistance.

硬化性組成物の硬化物と基材との屈折率差は、硬化性組成物の硬化物の層と基材との界面における光の反射を抑制することができ、反射防止性能等の光学性能に優れることから、0.3以下が好ましく、0.1以下がより好ましい。   The refractive index difference between the cured product of the curable composition and the substrate can suppress light reflection at the interface between the cured product layer of the curable composition and the substrate, and optical performance such as antireflection performance. Is preferably 0.3 or less, more preferably 0.1 or less.

(硬化性組成物)
硬化性組成物は、物品の生産性に優れることから、活性エネルギー線により硬化する組成物が好ましい。
活性エネルギー線としては、例えば、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)等が挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、硬化性組成物の硬化性に優れることから、紫外線、電子線が好ましく、紫外線がより好ましい。
(Curable composition)
Since the curable composition is excellent in the productivity of an article, a composition that is cured by active energy rays is preferable.
Examples of the active energy rays include visible light, ultraviolet rays, electron beams, plasma, heat rays (infrared rays, etc.) and the like. Among these active energy rays, ultraviolet rays and electron beams are preferred, and ultraviolet rays are more preferred because of the excellent curability of the curable composition.

硬化性組成物は、重合性化合物、重合開始剤、及び、必要に応じて、他の添加剤を含むことが好ましい。   It is preferable that a curable composition contains a polymeric compound, a polymerization initiator, and another additive as needed.

(重合性化合物)
重合性化合物としては、例えば、分子中にラジカル重合性結合及びカチオン重合性結合の少なくとも1種を含むモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。これらの重合性化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Polymerizable compound)
Examples of the polymerizable compound include monomers, oligomers, reactive polymers, and the like that include at least one of a radical polymerizable bond and a cationic polymerizable bond in the molecule. These polymerizable compounds may be used alone or in combination of two or more.

ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、例えば、単官能モノマー、多官能モノマー等が挙げられる。   Examples of the monomer having a radical polymerizable bond include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.

単官能モノマーとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート誘導体;(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリロニトリル;スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体;(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの単官能モノマーの中でも、硬化性組成物の硬化物と基材との密着性に優れることから、アルキル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートが好ましく、アルキルアクリレート、N,N−ジメチルアクリルアミド、2−ヒドロキシエチルアクリレートがより好ましい。
本明細書において、(メタ)アクリルは、アクリル、メタクリル又はその両方をいう。
Examples of the monofunctional monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) Acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, 2-hydroxy (Meth) acrylate derivatives such as til (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate and 2-ethoxyethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid; (meth) acrylonitrile; styrene Styrene derivatives such as α-methylstyrene; (meth) acrylamide derivatives such as (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, etc. Is mentioned. These monofunctional monomers may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these monofunctional monomers, alkyl (meth) acrylate, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) is excellent because of excellent adhesion between the cured product of the curable composition and the substrate. Acrylate is preferable, and alkyl acrylate, N, N-dimethylacrylamide, and 2-hydroxyethyl acrylate are more preferable.
In this specification, (meth) acryl refers to acryl, methacryl or both.

多官能モノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、1,2−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)エタン、1,4−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート等の三官能モノマー;コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸の縮合反応混合物、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート等の四官能以上のモノマー;二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの多官能モノマーの中でも、硬化性組成物の硬化物の機械強度に優れることから、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートが好ましく、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレートがより好ましい。   Examples of the polyfunctional monomer include ethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di (meth) acrylate, and triethylene glycol di ( (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol Di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxy Toxiphenyl) propane, 2,2-bis (4- (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl) propane, 1,2-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ethane, 1,4-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) butane, dimethyloltricyclodecane di (meth) acrylate, ethylene oxide adduct of bisphenol A di (meth) acrylate, propylene oxide addition of bisphenol A Bifunctional monomers such as di (meth) acrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate di (meth) acrylate, divinylbenzene, methylenebisacrylamide; pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) Trifunctional monomers such as acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate; succinic acid / Trimethylolethane / acrylic acid condensation reaction mixture, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythrole hexa (meth) acrylate, dipentaerystol penta (meth) acrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol hexa (meth) Tetrafunctional or higher functional groups such as acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, etc. Monomers above: bifunctional or higher urethane acrylates, bifunctional or higher polyester acrylates, and the like. These polyfunctional monomers may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these polyfunctional monomers, since the mechanical strength of the cured product of the curable composition is excellent, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate are preferred, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate , Ethylene oxide modified dipentaerythritol hexaacrylate, polyethylene glycol diacrylate Ri preferred.

カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマー等が挙げられる。これらのカチオン重合性結合を有するモノマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらのカチオン重合性結合を有するモノマーの中でも、硬化性組成物の反応性に優れることから、エポキシ基を有するモノマーが好ましい。   Examples of the monomer having a cationic polymerizable bond include monomers having an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolyl group, a vinyloxy group, and the like. These monomers having a cationic polymerizable bond may be used alone or in combination of two or more. Among these monomers having a cationic polymerizable bond, a monomer having an epoxy group is preferable because the reactivity of the curable composition is excellent.

カチオン重合性結合を有するモノマーの具体例としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールAポリプロピレンオキサイド2モル付加物ジグリシジルエーテル、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、2−エチルヘキシルオキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3{[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]メチル}オキセタン、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル等が挙げられる。これらのカチオン重合性結合を有するモノマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the monomer having a cationic polymerizable bond include, for example, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl ether. Neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol A polypropylene oxide 2 mol adduct diglycidyl ether, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 2-ethylhexyl Xetane, xylylenebisoxetane, 3-ethyl-3 {[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl} oxetane, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether Etc. These monomers having a cationic polymerizable bond may be used alone or in combination of two or more.

オリゴマー又は反応性ポリマーとしては、例えば、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性基を有する上述のモノマーの単独又は共重合ポリマー等が挙げられる。これらのオリゴマー又は反応性ポリマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the oligomer or reactive polymer include unsaturated polyesters such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, epoxy ( Examples thereof include a meth) acrylate, a urethane (meth) acrylate, a cationic polymerization type epoxy compound, a homopolymer or a copolymer of the above-described monomer having a radical polymerizable group in the side chain. These oligomers or reactive polymers may be used alone or in combination of two or more.

重合性化合物の組み合わせは、硬化性組成物の反応性に優れることから、ラジカル重合性結合を有するモノマー同士の組み合わせ、ラジカル重合性結合を有するモノマーとカチオン重合性結合を有するモノマーとの組み合わせが好ましく、ラジカル重合性結合を有するモノマー同士の組み合わせがより好ましい。   Since the combination of the polymerizable compounds is excellent in the reactivity of the curable composition, a combination of monomers having a radical polymerizable bond, a combination of a monomer having a radical polymerizable bond and a monomer having a cationic polymerizable bond is preferable. A combination of monomers having a radical polymerizable bond is more preferable.

(重合開始剤)
硬化性組成物の硬化の際に光硬化反応を用いる場合、重合開始剤として光重合開始剤を用いるとよい。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの光重合開始剤の中でも、硬化性組成物の硬化性に優れることから、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドが好ましく、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドがより好ましい。
(Polymerization initiator)
When using a photocuring reaction in the case of hardening of a curable composition, it is good to use a photoinitiator as a polymerization initiator.
Examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, α, α-dimethoxy- α-phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy- Carbonyl compounds such as cyclohexyl phenyl ketone; sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine And acyl phosphine oxides such as bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide. These photoinitiators may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these photopolymerization initiators, since the curability of the curable composition is excellent, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2, 4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide are preferred, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) ) -Phenylphosphine oxide is more preferred.

硬化性組成物の硬化の際に熱硬化反応を用いる場合、重合開始剤として熱重合開始剤を用いるとよい。
熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物;前記有機過酸化物にN,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチル−p−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。これらの熱重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの熱重合開始剤の中でも、反応温度が適度であることから、有機過酸化物、アゾ系化合物が好ましく、アゾ系化合物がより好ましい。
When a thermosetting reaction is used in curing the curable composition, a thermal polymerization initiator may be used as the polymerization initiator.
Examples of the thermal polymerization initiator include methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butyl peroxy octoate, t-butyl peroxybenzoate, lauroyl. Organic peroxides such as peroxides; Azo compounds such as azobisisobutyronitrile; Redox in which the organic peroxides are combined with amines such as N, N-dimethylaniline and N, N-dimethyl-p-toluidine A polymerization initiator etc. are mentioned. These thermal polymerization initiators may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these thermal polymerization initiators, an organic peroxide and an azo compound are preferable because the reaction temperature is moderate, and an azo compound is more preferable.

重合開始剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、0.1質量部〜10質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が0.1質量部以上であると、重合が進行しやすい。また、重合開始剤の含有量が10質量%以下であると、硬化物の機械強度に優れ、硬化物の着色を抑制することができる。   As for content of a polymerization initiator, 0.1 mass part-10 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of polymeric compounds. When the content of the polymerization initiator is 0.1 parts by mass or more, the polymerization is likely to proceed. Moreover, it is excellent in the mechanical strength of hardened | cured material as content of a polymerization initiator is 10 mass% or less, and coloring of hardened | cured material can be suppressed.

(他の添加剤)
硬化性組成物は、重合性化合物、重合開始剤以外に、必要に応じて、他の添加剤を含んでもよい。
他の添加剤としては、例えば、離型剤、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物、帯電防止剤、防汚性向上のためのフッ素化合物等の添加剤、微粒子、少量の溶媒等が挙げられる。これらの他の添加剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Other additives)
The curable composition may contain other additives as necessary in addition to the polymerizable compound and the polymerization initiator.
Other additives include, for example, release agents, non-reactive polymers, active energy ray sol-gel reactive compositions, antistatic agents, additives such as fluorine compounds for improving antifouling properties, fine particles, small amounts of A solvent etc. are mentioned. These other additives may be used alone or in combination of two or more.

(離型剤)
硬化性組成物は、連続転写性を向上することができることから、離型剤を含むことが好ましい。
離型剤は、硬化性組成物の硬化物とモールド表面との離型性を向上するものであり、硬化性組成物との相溶性があれば、特に限定されない。
(Release agent)
Since the curable composition can improve continuous transferability, it preferably contains a release agent.
A mold release agent improves the mold release property of the hardened | cured material of a curable composition, and a mold surface, and if it has compatibility with a curable composition, it will not specifically limit.

離型剤としては、例えば、(ポリ)オキシアルキレンアルキルリン酸化合物、リン酸エステル系化合物、フッ素含有化合物、シリコーン系化合物、長鎖アルキル基を有する化合物、固形ワックス(ポリアルキレンワックス、アミドワックス、テフロン(商品名)パウダー等)等が挙げられる。これらの離型剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの離型剤の中でも、離型性に優れることから、(ポリ)オキシアルキレンアルキルリン酸化合物が好ましい。   Examples of the release agent include (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compounds, phosphate ester compounds, fluorine-containing compounds, silicone compounds, compounds having a long-chain alkyl group, solid wax (polyalkylene wax, amide wax, Teflon (trade name) powder, etc.). These mold release agents may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these release agents, a (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound is preferable because of excellent release properties.

硬化性組成物中の離型剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、0.01質量部〜1質量部が好ましく、0.05質量部〜0.5質量部がより好ましく、0.05質量部〜0.1質量部が更に好ましい。硬化性組成物中の離型剤の含有量が0.01質量部以上であると、硬化物とモールドとの離型性に優れる。また、1質量部以下であると、得られる物品の性能の低下を抑制することができる。   The content of the release agent in the curable composition is preferably 0.01 parts by mass to 1 part by mass, more preferably 0.05 parts by mass to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound. 0.05 parts by mass to 0.1 parts by mass is more preferable. When the content of the release agent in the curable composition is 0.01 parts by mass or more, the release property between the cured product and the mold is excellent. Moreover, the fall of the performance of the articles | goods obtained as it is 1 mass part or less can be suppressed.

(非反応性のポリマー)
硬化性組成物は、硬化物の分子量を制御することができることから、非反応性のポリマーを含むことが好ましい。
非反応性のポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。これらの非反応性のポリマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの非反応性のポリマーの中でも、(メタ)アクリル系モノマーの硬化物と屈折率が近いことから、アクリル樹脂が好ましい。
(Non-reactive polymer)
The curable composition preferably contains a non-reactive polymer because the molecular weight of the cured product can be controlled.
Examples of the non-reactive polymer include acrylic resins, styrene resins, polyurethane, cellulose resins, polyvinyl butyral, polyester, and thermoplastic elastomers. These non-reactive polymers may be used alone or in combination of two or more. Among these non-reactive polymers, an acrylic resin is preferable because it has a refractive index close to that of a cured product of a (meth) acrylic monomer.

(活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物)
硬化性組成物は、硬化物の機械強度に優れることから、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含むことが好ましい。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、例えば、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。これらの活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Active energy ray sol-gel reactive composition)
Since the curable composition is excellent in the mechanical strength of the cured product, the curable composition preferably contains an active energy ray sol-gel reactive composition.
Examples of the active energy ray sol-gel reactive composition include alkoxysilane compounds and alkylsilicate compounds. These active energy ray sol-gel reactive compositions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

アルコキシシラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−t−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。これらのアルコキシシラン化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the alkoxysilane compound include tetramethoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-t-butoxysilane, and methyltriethoxy. Examples include silane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylpropoxysilane, and trimethylbutoxysilane. These alkoxysilane compounds may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

アルキルシリケート化合物としては、例えば、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、n−プロピルシリケート、n−ブチルシリケート、n−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。これらのアルキルシリケート化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the alkyl silicate compound include methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n-propyl silicate, n-butyl silicate, n-pentyl silicate, acetyl silicate and the like. These alkyl silicate compounds may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

(撥水性・親水性)
微細凹凸構造を表面に有する物品は、ロータス効果により、その表面が疎水性の材料から形成されていれば超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られる。
(Water repellent / hydrophilic)
Articles having a fine concavo-convex structure on the surface can obtain super water repellency if the surface is made of a hydrophobic material due to the lotus effect, and super hydrophilic if the surface is made of a hydrophilic material. Is obtained.

微細凹凸構造を表面に有する物品の表面に撥水性を付与する(具体的には、微細凹凸構造と水との接触角を90°以上とする)場合、その表面が疎水性の材料で形成される。
疎水性の材料の原料は、撥水性に優れることから、フッ素含有化合物、シリコーン系化合物が好ましい。
When imparting water repellency to the surface of an article having a fine concavo-convex structure on the surface (specifically, when the contact angle between the fine concavo-convex structure and water is 90 ° or more), the surface is formed of a hydrophobic material. The
The raw material for the hydrophobic material is preferably a fluorine-containing compound or a silicone compound because of excellent water repellency.

微細凹凸構造を表面に有する物品に親水性を付与する(具体的には、微細凹凸構造と水との接触角を25°以下とする)場合、その表面が親水性の材料で形成される。
親水性の材料の原料は、親水性に優れることから、少なくとも親水性モノマーを含むことが好ましく、耐擦傷性、耐水性付与に優れることから、更に架橋可能な多官能モノマーを含むことがより好ましい。親水性モノマーと架橋可能な多官能モノマーとは、同一であってもよく異なっていてもよい。
具体的には、親水性の材料の原料は、耐擦傷性に優れることから、4官能以上の多官能(メタ)アクリレート、2官能以上の親水性(メタ)アクリレート、必要に応じて、単官能モノマーを含むことが好ましい。
When hydrophilicity is imparted to an article having a fine concavo-convex structure on its surface (specifically, the contact angle between the fine concavo-convex structure and water is 25 ° or less), the surface is formed of a hydrophilic material.
The raw material of the hydrophilic material preferably includes at least a hydrophilic monomer because it is excellent in hydrophilicity, and more preferably includes a cross-linkable polyfunctional monomer because it is excellent in scratch resistance and water resistance. . The hydrophilic monomer and the crosslinkable polyfunctional monomer may be the same or different.
Specifically, since the raw material of the hydrophilic material is excellent in scratch resistance, a polyfunctional (meth) acrylate having 4 or more functions, a hydrophilic (meth) acrylate having 2 or more functions, and a monofunctional as necessary. It is preferable to include a monomer.

硬化性組成物の具体的な組成等は、例えば、特開2013−175733号公報、特開2015−129947号公報に記載された組成等が挙げられる。   Specific examples of the curable composition include the compositions described in JP2013-175733A and JP2015-129947A.

硬化性組成物の粘度は、微細凹凸構造への硬化性組成物の追随性に優れることから、10000mPa・s以下が好ましく、5000mPa・s以下がより好ましく、2000mPa・s以下が更に好ましい。
本明細書において、硬化性組成物の粘度は、回転式E型粘度計を用い、25℃にて測定した値とする。
The viscosity of the curable composition is preferably 10,000 mPa · s or less, more preferably 5000 mPa · s or less, and even more preferably 2000 mPa · s or less because the curable composition has excellent followability to a fine concavo-convex structure.
In this specification, the viscosity of the curable composition is a value measured at 25 ° C. using a rotary E-type viscometer.

(微細凹凸構造を表面に有する物品の製造装置)
本発明のモールドの製造方法で得られたモールドの表面に硬化性組成物を、モールドと基材との間に挟み、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて物品を得る方法は、物品の生産性に優れることから、図2に示す製造装置を用いることが好ましい。
図2は、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造装置を示す模式的断面図である。以下、図2を用いて微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を説明するが、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法は、図2に限定されるものではない。
(Manufacturing apparatus for articles having a fine concavo-convex structure on the surface)
A method for obtaining an article by sandwiching a curable composition on the surface of a mold obtained by the method for producing a mold of the present invention between a mold and a base material and irradiating it with an active energy ray to cure the article, Therefore, it is preferable to use the manufacturing apparatus shown in FIG.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an apparatus for manufacturing an article having a fine relief structure on the surface. Hereinafter, although the manufacturing method of the article | item which has a fine concavo-convex structure on the surface is demonstrated using FIG. 2, the manufacturing method of the article | item which has a fine concavo-convex structure on the surface is not limited to FIG.

図2に示す製造装置用いた微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法は、以下の通りである。
表面に微細凹凸構造の反転構造を設けたロール状のモールド20と、ロール状のモールド20の回転に同期してロール状のモールド20の表面に沿って移動する帯状の基材42との間に、タンク22から硬化性組成物38を供給する。ロール状のモールド20と、空気圧シリンダ24によってニップ圧が調整されたニップロール26との間で、基材42と硬化性組成物38とをニップし、硬化性組成物38を、基材42とロール状のモールド20との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状のモールド20の凹部内に充填する。ロール状のモールド20の外側に設置された活性エネルギー線照射装置28から、基材42を通して硬化性組成物38に活性エネルギー線を照射し、硬化性組成物38を硬化させることによって、ロール状のモールド20の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層44を形成する。
剥離ロール30により、表面に硬化樹脂層44が形成された基材42をロール状のモールド20から剥離することによって、微細凹凸構造を表面に有する物品40が得られる。
A method for manufacturing an article having a fine concavo-convex structure on the surface using the manufacturing apparatus shown in FIG. 2 is as follows.
Between the roll-shaped mold 20 provided with the reverse structure of the fine concavo-convex structure on the surface and the belt-shaped base material 42 that moves along the surface of the roll-shaped mold 20 in synchronization with the rotation of the roll-shaped mold 20. The curable composition 38 is supplied from the tank 22. The base material 42 and the curable composition 38 are nipped between the roll-shaped mold 20 and the nip roll 26 whose nip pressure is adjusted by the pneumatic cylinder 24, and the curable composition 38 is transferred to the base material 42 and the roll. At the same time, it is filled in the recesses of the roll-shaped mold 20. By irradiating the curable composition 38 with the active energy ray from the active energy ray irradiating device 28 installed outside the roll-shaped mold 20 through the base material 42 and curing the curable composition 38, A cured resin layer 44 to which the fine uneven structure on the surface of the mold 20 is transferred is formed.
By peeling the base material 42 having the cured resin layer 44 formed on the surface from the roll-shaped mold 20 by the peeling roll 30, an article 40 having a fine concavo-convex structure on the surface is obtained.

活性エネルギー線照射装置としては、例えば、ケミカルランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極紫外線ランプ、可視光ハロゲンランプ、キセノンランプ、紫外線LED等が挙げられる。これらの活性エネルギー線照射装置の中でも、発熱を抑制することができることから、無電極紫外線ランプ、紫外線LEDが好ましい。   Examples of the active energy ray irradiation device include a chemical lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an electrodeless ultraviolet lamp, a visible light halogen lamp, a xenon lamp, and an ultraviolet LED. Among these active energy ray irradiation apparatuses, an electrodeless ultraviolet lamp and an ultraviolet LED are preferable because heat generation can be suppressed.

光照射エネルギー量は、100mJ/cm〜10000mJ/cmが好ましく、200mJ/cm〜5000mJ/cmがより好ましい。光照射エネルギー量が100mJ/cm以上であると、硬化性組成物の硬化性に優れる。また、光照射エネルギー量が10000mJ/cm以下であると、硬化物の着色を抑制することができる。 Irradiation energy amount is preferably 100mJ / cm 2 ~10000mJ / cm 2 , 200mJ / cm 2 ~5000mJ / cm 2 is more preferable. When the light irradiation energy amount is 100 mJ / cm 2 or more, the curability of the curable composition is excellent. Moreover, coloring of hardened | cured material can be suppressed as light irradiation energy amount is 10000 mJ / cm < 2 > or less.

(微細凹凸構造を表面に有する物品)
本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法により、例えば、図3に示す微細凹凸構造を表面に有する物品が得られる。以下、図3を用いて本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法により得られる微細凹凸構造を表面に有する物品を説明するが、本発明の微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法により得られる微細凹凸構造を表面に有する物品は、図3に限定されるものではない。
(Articles with fine concavo-convex structure on the surface)
By the method for manufacturing an article having the fine uneven structure on the surface of the present invention, for example, an article having the fine uneven structure shown in FIG. 3 on the surface is obtained. Hereinafter, the article having the fine concavo-convex structure on the surface obtained by the method for producing the article having the fine concavo-convex structure of the present invention on the surface will be described with reference to FIG. The article having a fine relief structure on the surface obtained by the method is not limited to FIG.

図3は、微細凹凸構造を表面に有する物品の一例を示す模式的断面図である。図3に示す微細凹凸構造を表面に有する物品40は、基材42上に硬化樹脂層44を有し、硬化樹脂層44は、複数の凸部46を有する。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of an article having a fine relief structure on the surface. 3 has a cured resin layer 44 on a substrate 42, and the cured resin layer 44 has a plurality of convex portions 46.

(微細凹凸構造を表面に有する物品の凸部)
第1の凸部の形状としては、例えば、略円錐形状、角錐形状、釣鐘形状、円柱形状等が挙げられる。これらの第1の凸部の形状の中でも、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の反射防止性能に優れることから、円錐形状、角錐形状、釣鐘形状等のように、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最頂部から深さ方向に連続的に増加する形状が好ましく、円錐形状、角錐形状、釣鐘形状がより好ましい。
第1の凸部は、微細な複数の第1の凸部が合一して1つの凸部となったものであってもよい。
本明細書において、第1の凸部は、前述した細孔(第1の凹部)を転写した凸部とする。
(Convex part of article having fine uneven structure on the surface)
Examples of the shape of the first convex portion include a substantially conical shape, a pyramid shape, a bell shape, and a cylindrical shape. Among the shapes of these first convex portions, since the antireflective performance of the article having the fine concavo-convex structure obtained on the surface is excellent, it is orthogonal to the height direction, such as a cone shape, a pyramid shape, a bell shape, etc. A shape in which the cross-sectional area of the convex portion continuously increases in the depth direction from the top is preferable, and a conical shape, a pyramid shape, and a bell shape are more preferable.
The first convex portion may be one in which a plurality of fine first convex portions are united to form one convex portion.
In this specification, let the 1st convex part be the convex part which transferred the pore (1st crevice) mentioned above.

隣接する第1の凸部間の平均間隔は、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の反射防止性能に優れることから、可視光線の波長以下、即ち、400nm以下が好ましく、380nm以下がより好ましい。   The average distance between the adjacent first convex portions is excellent in the antireflection performance of the article having the resulting fine concavo-convex structure on the surface, and is therefore not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm, and more preferably not more than 380 nm. .

隣接する第1の凸部間の平均間隔は、20nm〜300nmが好ましく、80nm〜200nmがより好ましい。隣接する第1の凸部間の平均間隔が20nm以上であると、細孔を転写して凸部を形成する場合に凸部を形成しやすい。また、隣接する第1の凸部間の平均間隔が300nm以下であると、細孔間隔を大きくするための電圧を抑制することができ、陽極酸化ポーラスアルミナを工業的に製造しやすい。   The average distance between adjacent first convex portions is preferably 20 nm to 300 nm, and more preferably 80 nm to 200 nm. When the average interval between the adjacent first convex portions is 20 nm or more, the convex portions are easily formed when the fine portions are transferred to form the convex portions. Moreover, the voltage for enlarging a pore space | interval can be suppressed as the average space | interval between adjacent 1st convex parts is 300 nm or less, and it is easy to manufacture anodized porous alumina industrially.

本明細書において、隣接する第1の凸部間の平均間隔は、電子顕微鏡を用いて、隣接する第1の凸部間の間隔(第1の凸部の中心から隣接する第1の凸部の中心までの距離)を無作為に10点(但し、第2の凸部が存在しない場所)測定し、これらの値を平均した値とする。   In this specification, the average interval between the adjacent first convex portions is the interval between the adjacent first convex portions (the first convex portion adjacent from the center of the first convex portion using an electron microscope). 10 points (however, the place where the second convex portion does not exist) is measured at random, and the values are averaged.

第1の凸部の平均高さは、60nm〜400nmが好ましく、90nm〜350nmがより好ましい。第1の凸部の平均高さが60nm以上であると、最低反射率や特定波長の反射率の上昇を抑制することができ、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の反射防止性能に優れる。また、第1の凸部の平均高さが400nm以下であると、細孔を形成しやすく、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の耐擦傷性に優れる。   The average height of the first protrusions is preferably 60 nm to 400 nm, and more preferably 90 nm to 350 nm. When the average height of the first protrusions is 60 nm or more, an increase in the minimum reflectance and the reflectance at a specific wavelength can be suppressed, and the antireflection performance of an article having a fine uneven structure on the surface is excellent. . In addition, when the average height of the first protrusions is 400 nm or less, pores are easily formed, and the article having a fine uneven structure on the surface is excellent in scratch resistance.

本明細書において、第1の凸部の平均高さは、電子顕微鏡を用いて、第1の凸部の最頂部と第1の凸部間に存在する凹部の最底部との間の垂直距離を無作為に10点測定し、これらの値を平均した値とする。   In this specification, the average height of the first convex portion is the vertical distance between the top of the first convex portion and the bottom of the concave portion existing between the first convex portions using an electron microscope. 10 points are measured at random, and these values are averaged.

第1の凸部のアスペクト比(第1の凸部の平均高さ/隣接する第1の凸部間の平均間隔)は、0.8〜5.0が好ましく、1.2〜4.0がより好ましく、1.5〜3.0が更に好ましい。第1の凸部のアスペクト比が0.8以上であると、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の反射防止性能に優れる。また、第1の凸部のアスペクト比が5.0以下であると、細孔を形成しやすく、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の耐擦傷性に優れる。   The aspect ratio of the first protrusions (average height of the first protrusions / average interval between adjacent first protrusions) is preferably 0.8 to 5.0, and 1.2 to 4.0. Is more preferable, and 1.5 to 3.0 is even more preferable. When the aspect ratio of the first convex portion is 0.8 or more, the antireflection performance of an article having the obtained fine uneven structure on the surface is excellent. Further, when the aspect ratio of the first convex portion is 5.0 or less, pores are easily formed, and the article having the fine concavo-convex structure obtained on the surface is excellent in scratch resistance.

第2の凸部を形成する場合、第2の凸部の平均直径は、0.5μm〜50μmが好ましく、1μm〜30μmがより好ましい。第2の凸部の平均直径が0.5μm以上であると、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の防眩性に優れる。また、第2の凸部の平均直径が50μm以下であると、ヘイズが高くなり過ぎず物品の視認性に優れる。
本明細書において、第2の凸部は、前述した第2の凹部を転写した凸部とする。
In the case of forming the second convex portion, the average diameter of the second convex portion is preferably 0.5 μm to 50 μm, and more preferably 1 μm to 30 μm. When the average diameter of the second protrusions is 0.5 μm or more, the antiglare property of the article having the fine uneven structure obtained on the surface is excellent. In addition, when the average diameter of the second convex portion is 50 μm or less, the haze is not excessively increased and the visibility of the article is excellent.
In the present specification, the second convex portion is a convex portion obtained by transferring the above-described second concave portion.

本明細書において、第2の凸部の平均直径は、レーザー顕微鏡を用いて、第2の凸部を無作為に10点抽出し、その開口部の最長の長さ測定し、これらの値を平均した値とする。   In this specification, the average diameter of the second convex portion is obtained by randomly extracting 10 points of the second convex portion using a laser microscope, measuring the longest length of the opening, and calculating these values. The average value.

第2の凸部を形成する場合、第2の凸部の平均高さは、0.1μm〜3.0μmが好ましく、0.3μm〜1.5μmがより好ましい。第2の凸部の平均高さが0.1μm以上であると、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の防眩性に優れる。また、第2の凸部の平均高さが3.0μm以下であると、ヘイズが高くなり過ぎず物品の視認性に優れる。   When forming the second convex portion, the average height of the second convex portion is preferably 0.1 μm to 3.0 μm, and more preferably 0.3 μm to 1.5 μm. When the average height of the second protrusions is 0.1 μm or more, the antiglare property of the article having the resulting fine uneven structure on the surface is excellent. In addition, when the average height of the second convex portions is 3.0 μm or less, the haze is not excessively increased and the visibility of the article is excellent.

本明細書において、第2の凸部の平均高さは、レーザー顕微鏡を用いて、第2の凸部の最頂部と第2の凸部間に存在する凹部の最底部との間の垂直距離を無作為に10点測定し、これらの値を平均した値とする。   In this specification, the average height of the second convex portion is the vertical distance between the top of the second convex portion and the bottom of the concave portion existing between the second convex portions using a laser microscope. 10 points are measured at random, and these values are averaged.

第2の凸部のアスペクト比(第2の凸部の平均深さ/第2の凸部の平均直径)は、0.02〜3が好ましく、0.1〜2がより好ましい。第2の凸部のアスペクト比が0.02以上であると、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の防眩性に優れる。また、第2の凸部のアスペクト比が3以下であると、得られる微細凹凸構造を表面に有する物品の機械強度に優れる。   The aspect ratio of the second convex part (average depth of the second convex part / average diameter of the second convex part) is preferably 0.02 to 3, and more preferably 0.1 to 2. When the aspect ratio of the second convex portion is 0.02 or more, the antiglare property of the article having the fine concavo-convex structure obtained on the surface is excellent. In addition, when the aspect ratio of the second convex portion is 3 or less, the mechanical strength of an article having the obtained fine uneven structure on the surface is excellent.

微細凹凸構造を表面に有する物品の表面に撥水性を付与する場合、微細凹凸構造と水との接触角は、水汚れが付着しにくく、着氷を抑制することができることから、90°以上が好ましく、110°以上がより好ましく、120°以上が更に好ましい。   When water repellency is imparted to the surface of an article having a fine concavo-convex structure, the contact angle between the fine concavo-convex structure and water is less than 90 ° because water stains are difficult to adhere and icing can be suppressed. Preferably, it is 110 ° or more, more preferably 120 ° or more.

微細凹凸構造を表面に有する物品の表面に親水性を付与する場合、微細凹凸構造と水との接触角は、水洗いができ、油汚れが付着しにくいことから、25°以下が好ましく、23°以下がより好ましく、21°以上が更に好ましい。また、微細凹凸構造を表面に有する物品の表面に親水性を付与する場合、微細凹凸構造と水との接触角は、微細凹凸構造の変形や反射率の上昇を抑制することができることから、3°以上が好ましい。   When imparting hydrophilicity to the surface of an article having a fine concavo-convex structure on the surface, the contact angle between the fine concavo-convex structure and water is preferably 25 ° or less, because it can be washed with water and oil stains are less likely to adhere, The following is more preferable, and 21 ° or more is more preferable. In addition, when imparting hydrophilicity to the surface of an article having a fine concavo-convex structure on the surface, the contact angle between the fine concavo-convex structure and water can suppress deformation of the fine concavo-convex structure and an increase in reflectance. It is preferably at least °.

(用途)
微細凹凸構造を表面に有する物品は、反射防止性能、防眩性能、撥水性能、親水性能等の種々の性能を有する。
微細凹凸構造を表面に有する物品がシート状又はフィルム状の場合、反射防止膜として、例えば、テレビ、携帯電話のディスプレイ等の画像表示装置、展示パネル、メーターパネル等の対象物の表面に貼り付けたり、インサート成形したりして用いることができる。また、撥水性能を活かして、風呂場の窓や鏡、太陽電池部材、自動車のミラー、看板、メガネのレンズ等、雨、水、蒸気等に曝されるおそれのある対象物の部材としても用いることができる。
微細凹凸構造を表面に有する物品が立体形状の場合、用途に応じた形状の透明基材を用いて反射防止物品を製造しておき、これを上記対象物の表面を構成する部材として用いることもできる。
対象物が画像表示装置である場合、その表面に限らず、その前面板に対して、微細凹凸構造を表面に有する物品を貼り付けてもよいし、前面板そのものを、微細凹凸構造を表面に有する物品から構成することもできる。例えば、イメージを読み取るセンサーアレイに取り付けられたロッドレンズアレイの表面、FAX、複写機、スキャナ等のイメージセンサーのカバーガラス、複写機の原稿を置くコンタクトガラス等に、微細凹凸構造を表面に有する物品を用いても構わない。また、可視光通信等の光通信機器の光受光部分等に、微細凹凸構造を表面に有する物品を用いることによって、信号の受信感度を向上させることもできる。
また、上述した用途以外にも、例えば、光導波路、レリーフホログラム、光学レンズ、偏光分離素子等の光学用途、細胞培養シート等の用途にも用いることができる。
(Use)
Articles having a fine concavo-convex structure on the surface have various performances such as antireflection performance, antiglare performance, water repellency performance, and hydrophilic performance.
When an article having a fine concavo-convex structure on the surface is in the form of a sheet or film, it is attached to the surface of an object such as an image display device such as a television or a mobile phone display, an exhibition panel, a meter panel, etc. Or insert molding. In addition, taking advantage of its water-repellent performance, it can also be used as a member for objects that may be exposed to rain, water, steam, etc., such as bathroom windows and mirrors, solar cell members, automobile mirrors, signboards, and glasses lenses. Can be used.
When an article having a fine concavo-convex structure on its surface is a three-dimensional shape, an antireflection article is manufactured using a transparent substrate having a shape according to the application, and this can be used as a member constituting the surface of the object. it can.
When the object is an image display device, not only the surface thereof, but also an article having a fine concavo-convex structure on the surface may be attached to the front plate, or the front plate itself may be attached to the surface with the fine concavo-convex structure. It can also be comprised from the article which has. For example, an article having a fine concavo-convex structure on the surface of a rod lens array attached to a sensor array for reading an image, a cover glass of an image sensor such as a FAX, a copying machine or a scanner, or a contact glass for placing an original of a copying machine May be used. Further, by using an article having a fine concavo-convex structure on the surface of a light receiving portion of an optical communication device such as visible light communication, signal reception sensitivity can be improved.
In addition to the above-described uses, for example, it can also be used for optical uses such as optical waveguides, relief holograms, optical lenses, and polarization separation elements, and for cell culture sheets.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these Examples.

(モールドの凹部・物品の凸部の測定)
実施例・比較例で得られたモールドの第1の凹部の平均間隔・平均深さ、実施例・比較例で得られた物品の第1の凸部の平均間隔・平均高さを、電解放出型走査電子顕微鏡(機種名「JSM−6701F」、日本電子(株)製)を用い、加速電圧3.0kVの条件で、無作為に10点測定し、これらの値を平均した値とした。
(Measurement of mold recesses and article protrusions)
The average interval and the average depth of the first concave portions of the molds obtained in the examples and comparative examples, and the average interval and the average height of the first convex portions of the articles obtained in the examples and comparative examples are electrolytically discharged. Using a scanning electron microscope (model name “JSM-6701F”, manufactured by JEOL Ltd.), 10 points were measured randomly under the condition of an acceleration voltage of 3.0 kV, and these values were averaged.

実施例・比較例で得られたモールドの第2の凹部の平均直径・平均深さ、実施例・比較例で得られた物品の第2の凸部の平均直径・平均高さを、レーザー顕微鏡(機種名「VK−X100」、(株)島津製作所製)を用い、無作為に10点測定し、これらの値を平均した値とした。   The average diameter and average depth of the second concave portions of the molds obtained in the examples and comparative examples, and the average diameter and average height of the second convex portions of the articles obtained in the examples and comparative examples were measured with a laser microscope. (Model name “VK-X100”, manufactured by Shimadzu Corporation) was used to randomly measure 10 points and average these values.

(反射率測定)
実施例・比較例で得られた物品を、JIS Z8722に準拠し、分光光度計(機種名「UV−2450」、(株)島津製作所製)を用い、反射率を3点測定し、これらの値を平均した値を測定値とし、下記評価基準にて評価した。
A:反射率が1.00未満であった。
B:反射率が1.00以上であった。
(Reflectance measurement)
In accordance with JIS Z8722, the spectrophotometer (model name “UV-2450”, manufactured by Shimadzu Corporation) was used to measure the reflectance of the articles obtained in the examples and comparative examples, and these items were measured. A value obtained by averaging the values was taken as a measured value, and evaluated according to the following evaluation criteria.
A: The reflectance was less than 1.00.
B: The reflectance was 1.00 or more.

(ヘイズ測定)
実施例・比較例で得られた物品を、ISO13468−1に準拠し、ヘイズメーター(機種名「NDH2000」、日本電色工業(株)製)を用い、ヘイズを3点測定し、これらの値を平均した値を測定値とし、下記評価基準にて評価した。
A:ヘイズが1.0以上30.0以下であった。
B:ヘイズが1.0未満又は30.0超であった。
(Haze measurement)
Based on ISO13468-1, the articles obtained in Examples and Comparative Examples were measured at three points using a haze meter (model name “NDH2000”, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). A value obtained by averaging was used as a measured value, and evaluated according to the following evaluation criteria.
A: The haze was 1.0 or more and 30.0 or less.
B: The haze was less than 1.0 or more than 30.0.

(防眩性評価)
実施例・比較例で得られた物品に対し、輝度8000cd/mの蛍光灯を45°の方向から照射し、−45°の方向から反射像を目視にて観察し、下記評価基準にて評価した。
A:蛍光灯の輪郭をほぼ視認することができない。
B:蛍光灯の輪郭を明確に視認することができる。
(Anti-glare evaluation)
The articles obtained in the examples and comparative examples were irradiated with a fluorescent lamp having a luminance of 8000 cd / m 2 from a direction of 45 °, and a reflected image was visually observed from the direction of −45 °, and the following evaluation criteria were used. evaluated.
A: The outline of the fluorescent lamp cannot be almost visually recognized.
B: The outline of the fluorescent lamp can be clearly seen.

[実施例1]
(モールドの製造)
アルミニウムを外径205mm、内径155mm、幅350mmの円筒状に切断し、被加工面の算術平均粗さRaが0.03μm以下となるように表面に鏡面切削加工を行い、その後、被加工面の算術平均粗さRaが0.002μm以下となるように表面に鏡面研磨加工を行い、円筒状のアルミニウム基材を得た。
[Example 1]
(Mold production)
Aluminum is cut into a cylindrical shape having an outer diameter of 205 mm, an inner diameter of 155 mm, and a width of 350 mm, and the surface is subjected to mirror cutting so that the arithmetic average roughness Ra of the processed surface is 0.03 μm or less. The surface was mirror-polished so that the arithmetic average roughness Ra was 0.002 μm or less to obtain a cylindrical aluminum substrate.

次いで、0.1mol/lのシュウ酸水溶液と1.0mol/lのリン酸水溶液とを混合した処理液を温度23℃に調温し、これに得られたアルミニウム基材を浸漬させた。(工程(a))
次いで、アルミニウム基材を40Vで600秒間陽極酸化し、アルミニウム基材の表面に細孔を有する酸化皮膜を形成した。(工程(b))
次いで、表面に酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材への電圧の印加を中断し、処理液中に120分間保持させて酸化皮膜を溶解、除去し、陽極酸化の細孔発生点となる窪みを露出させると共に、第2の凹部を形成させた。
次いで、アルミニウム基材を40Vで60秒間陽極酸化し、アルミニウム基材の表面に細孔を有する酸化皮膜を形成した。(工程(d))
次いで、表面に酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材への電圧の印加を中断し、処理液中に25分間保持させて酸化皮膜の一部を溶解、除去すると共に、酸化皮膜の孔径を拡大させた。(工程(e))
次いで、工程(d)と工程(e)とを更に交互に4回繰り返し、最後に工程(e)を行った。(工程(f))
尚、工程(a)〜工程(f)のすべて工程を、同じ反応槽で行った。また、工程(d)と工程(e)は、各合計5回行った。
Subsequently, the processing liquid which mixed 0.1 mol / l oxalic acid aqueous solution and 1.0 mol / l phosphoric acid aqueous solution was temperature-controlled at 23 degreeC, and the aluminum base material obtained by this was immersed. (Process (a))
Next, the aluminum substrate was anodized at 40 V for 600 seconds to form an oxide film having pores on the surface of the aluminum substrate. (Process (b))
Next, the application of voltage to the aluminum base material having an oxide film formed on the surface is interrupted, and the oxide film is dissolved and removed by holding it in the treatment liquid for 120 minutes to form a pit that becomes a pore generation point of anodic oxidation. While exposing, the 2nd recessed part was formed.
Next, the aluminum substrate was anodized at 40 V for 60 seconds to form an oxide film having pores on the surface of the aluminum substrate. (Process (d))
Next, the application of voltage to the aluminum base material with an oxide film formed on the surface is interrupted, and the oxide film is held for 25 minutes to dissolve and remove part of the oxide film, and the pore diameter of the oxide film is enlarged. It was. (Process (e))
Next, the step (d) and the step (e) were repeated alternately four times, and finally the step (e) was performed. (Process (f))
In addition, all the processes of process (a)-process (f) were performed in the same reaction tank. Moreover, the process (d) and the process (e) were each performed 5 times in total.

その後、アルミニウム基材を脱イオン水で洗浄し、更に表面の水分をエアーブローで除去し、略円錐形状、即ち、テーパー形状の細孔を有する酸化皮膜が形成されたロール状のモールドを得た。
得られたモールドは、第1の凹部の平均間隔100nm、第1の凹部の平均深さ200nm、第2の凹部の平均直径1.5μm、第2の凹部の平均深さ1.5μmであった。
Thereafter, the aluminum substrate was washed with deionized water, and the water on the surface was further removed by air blowing to obtain a roll-shaped mold in which an oxide film having substantially conical shape, that is, tapered pores was formed. .
The obtained mold had an average interval between the first recesses of 100 nm, an average depth of the first recesses of 200 nm, an average diameter of the second recesses of 1.5 μm, and an average depth of the second recesses of 1.5 μm. .

(硬化性組成物の調製)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート25質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート25質量部、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート25質量部、ポリエチレングリコールジアクリレート25質量部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン1質量部、ビス(2,4,6,−トリメチルベンゾイル)?フェニルフォスフィンオキサイド0.5質量及びポリオキシエチレンアルキル(12〜15)エーテルリン酸0.1質量部を混合し、硬化性組成物を得た。
(Preparation of curable composition)
25 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 25 parts by mass of pentaerythritol triacrylate, 25 parts by mass of ethylene oxide-modified dipentaerythritol hexaacrylate, 25 parts by mass of polyethylene glycol diacrylate, 1 part by mass of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, bis (2 , 4,6, -trimethylbenzoyl)? Phenylphosphine oxide and 0.1 part by mass of polyoxyethylene alkyl (12-15) ether phosphoric acid were mixed to obtain a curable composition.

(物品の製造)
得られたロール状のモールドを、図2に示す製造装置に設置した。ロール状のモールドと、ロール状のモールドの回転(速度7m/分)に同期してロール状のモールドの表面に沿って移動する帯状の基材(商品名「A4300」、東洋紡(株)製、ポリエチレンテレフタレートフィルム)との間に、タンクから得られた硬化性組成物を供給する。ロール状のモールドと、空気圧シリンダによってニップ圧が調整されたニップロールとの間で、基材と硬化性組成物とをニップし、硬化性組成物を、基材とロール状のモールドとの間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状のモールドの凹部内に充填する。ロール状のモールドの外側に設置された紫外線照射装置(出力240W/cm)から、基材を通して硬化性組成物に紫外線を照射し、硬化性組成物を硬化させることによって、ロール状のモールドの表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層を形成する。
剥離ロールにより、表面に硬化樹脂層が形成された基材をロール状のモールドから剥離することによって、微細凹凸構造を表面に有する物品が得られた。
得られた物品は、第1の凸部の平均間隔100nm、第1の凸部の平均高さ200nm、第2の凸部の平均直径1.5μm、第2の凸部の平均高さ1.5μmであった。
得られた物品の評価結果を、表2に示す。
(Manufacture of goods)
The obtained roll-shaped mold was installed in the manufacturing apparatus shown in FIG. Roll-shaped mold and belt-shaped base material (trade name “A4300”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) that moves along the surface of the roll-shaped mold in synchronization with the rotation of the roll-shaped mold (speed 7 m / min) The curable composition obtained from the tank is supplied between the polyethylene terephthalate film). The substrate and the curable composition are nipped between the roll-shaped mold and the nip roll whose nip pressure is adjusted by the pneumatic cylinder, and the curable composition is placed between the substrate and the roll-shaped mold. At the same time, it is filled in the recesses of the roll-shaped mold. The surface of the roll-shaped mold is obtained by irradiating the curable composition with ultraviolet rays through a substrate from an ultraviolet irradiation device (output 240 W / cm) installed outside the roll-shaped mold to cure the curable composition. The cured resin layer to which the fine uneven structure is transferred is formed.
An article having a fine concavo-convex structure on the surface was obtained by peeling the substrate having a cured resin layer formed on the surface from the roll-shaped mold with a peeling roll.
The obtained article has an average interval between the first protrusions of 100 nm, an average height of the first protrusions of 200 nm, an average diameter of the second protrusions of 1.5 μm, an average height of the second protrusions of 1. It was 5 μm.
Table 2 shows the evaluation results of the obtained articles.

[実施例2〜4]
工程(a)〜工程(f)の条件を表1のように変更した以外は、実施例1と同様に操作を行い、微細凹凸構造を表面に有する物品を得た。
得られた物品の評価結果を、表2に示す。
[Examples 2 to 4]
Except having changed the conditions of process (a)-process (f) like Table 1, it operated similarly to Example 1 and obtained the article | item which has a fine uneven structure on the surface.
Table 2 shows the evaluation results of the obtained articles.

[比較例1]
工程(a)における処理液の温度を15.7℃に調温、工程(a)〜工程(b)で用いた処理液を0.3mol/lのシュウ酸水溶液、工程(c)で用いた処理液を1.8質量%のクロム酸水溶液と6質量%のリン酸水溶液とを混合した水溶液、工程(c)における処理液の温度を70℃に調温した以外は、実施例1と同様に操作を行い、微細凹凸構造を表面に有する物品を得た。
得られた物品は、第1の凸部の平均間隔100nm、第1の凸部の平均高さ200nm、で、第2の凸部は存在しなかった。
尚、工程(a)〜工程(b)で用いた反応槽と、工程(c)で用いた反応槽と、工程(d)〜工程(f)で用いた反応槽とで、それぞれ異なる反応槽を用いた。
得られた物品の評価結果を、表2に示す。
[Comparative Example 1]
The temperature of the treatment liquid in step (a) was adjusted to 15.7 ° C., and the treatment liquid used in steps (a) to (b) was used in 0.3 mol / l oxalic acid aqueous solution, step (c). The treatment liquid was the same as in Example 1 except that the aqueous solution obtained by mixing the 1.8% by mass chromic acid aqueous solution and the 6% by mass phosphoric acid aqueous solution and the temperature of the treatment liquid in step (c) was adjusted to 70 ° C. Then, an article having a fine concavo-convex structure on the surface was obtained.
The obtained article had an average interval between the first protrusions of 100 nm and an average height of the first protrusions of 200 nm, and no second protrusions were present.
It should be noted that the reaction vessels used in the steps (a) to (b), the reaction vessels used in the step (c), and the reaction vessels used in the steps (d) to (f) are different from each other. Was used.
Table 2 shows the evaluation results of the obtained articles.

実施例1〜4におけるモールドの製造は、同じ反応槽で行うことができるのに対し、比較例1におけるモールドの製造は、工程によって用いる処理液が異なるので、同じ反応槽で行うことができなかった。
また、実施例1〜4で得られた物品は、第1の凸部と第2の凸部とを有するため、反射防止性能、防眩性に優れた。一方、比較例1で得られた物品は、工程(c)において第2の凹部を形成されず、第1の凸部のみを有するため、反射防止性能に優れるものの、防眩性に劣った。
The molds in Examples 1 to 4 can be manufactured in the same reaction tank, whereas the molds in Comparative Example 1 cannot be manufactured in the same reaction tank because the treatment liquid used varies depending on the process. It was.
Moreover, since the articles | goods obtained in Examples 1-4 had the 1st convex part and the 2nd convex part, they were excellent in antireflection performance and anti-glare property. On the other hand, the article obtained in Comparative Example 1 was not formed with the second concave portion in the step (c) and had only the first convex portion, and thus was excellent in antireflection performance, but was inferior in antiglare property.

10 アルミニウム基材
12 細孔
14 酸化皮膜
16 細孔発生点
18 モールド
20 ロール状のモールド
22 タンク
24 空気圧シリンダ
26 ニップロール
28 活性エネルギー線照射装置
30 剥離ロール
38 硬化性組成物
40 微細凹凸構造を表面に有する物品
42 基材
44 硬化樹脂層
46 凸部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Aluminum base material 12 Pore 14 Oxide film 16 Pore generation | occurrence | production point 18 Mold 20 Roll-shaped mold 22 Tank 24 Pneumatic cylinder 26 Nip roll 28 Active energy ray irradiation apparatus 30 Peeling roll 38 Curable composition 40 With fine uneven structure on the surface Article 42 Base Material 44 Cured Resin Layer 46 Projection

Claims (6)

下記工程(a)〜工程(f)を順次含み、下記工程(a)〜工程(f)における処理液を同種の液体とする、モールドの製造方法。
工程(a):処理液中にアルミニウム基材を浸漬する工程。
工程(b):アルミニウム基材を陽極酸化して細孔を有する酸化皮膜を形成する第1の酸化皮膜形成工程。
工程(c):酸化皮膜の一部を除去する酸化皮膜除去工程。
工程(d):アルミニウム基材を定電圧で陽極酸化して細孔を有する酸化皮膜を形成する第2の酸化皮膜形成工程。
工程(e):酸化皮膜の一部を除去して細孔の孔径を拡大処理する孔径拡大処理工程。
工程(f):前記工程(d)と前記工程(e)とを交互に繰り返す工程。
The manufacturing method of a mold which includes the following process (a)-process (f) sequentially, and makes the process liquid in the following process (a)-process (f) the same kind of liquid.
Step (a): A step of immersing the aluminum substrate in the treatment liquid.
Step (b): a first oxide film forming step of forming an oxide film having pores by anodizing an aluminum substrate.
Step (c): An oxide film removing step for removing a part of the oxide film.
Step (d): a second oxide film forming step of forming an oxide film having pores by anodizing an aluminum substrate at a constant voltage.
Step (e): A pore diameter enlargement treatment step in which part of the oxide film is removed to enlarge the pore diameter.
Step (f): A step of alternately repeating the step (d) and the step (e).
処理液が、複数の酸を混合したものである、請求項1に記載のモールドの製造方法。   The method for producing a mold according to claim 1, wherein the treatment liquid is a mixture of a plurality of acids. 複数の酸が、シュウ酸及びリン酸を含む、請求項2に記載のモールドの製造方法。   The method for producing a mold according to claim 2, wherein the plurality of acids includes oxalic acid and phosphoric acid. 工程(c)において、残存する酸化皮膜の下部に凹部を形成する、請求項1〜3のいずれかに記載のモールドの製造方法。   The method for producing a mold according to claim 1, wherein in the step (c), a concave portion is formed in a lower portion of the remaining oxide film. 請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法で得られたモールドの表面に形成された複数の細孔からなる微細凹凸構造を、物品の表面に転写する、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法。   An article having a fine concavo-convex structure on the surface thereof, wherein the fine concavo-convex structure comprising a plurality of pores formed on the surface of the mold obtained by the production method according to claim 1 is transferred to the surface of the article. Manufacturing method. 請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法で得られたモールドの表面に形成された複数の細孔からなる微細凹凸構造の反転構造を有する、微細凹凸構造を表面に有する物品。
An article having a fine concavo-convex structure on the surface, having an inverted structure of the fine concavo-convex structure comprising a plurality of pores formed on the surface of the mold obtained by the production method according to claim 1.
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