JP2018136574A - Fine-rugged sheet, illumination unit for display, and display - Google Patents

Fine-rugged sheet, illumination unit for display, and display Download PDF

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俊樹 岡安
Toshiki Okayasu
俊樹 岡安
道子 前田
Michiko Maeda
道子 前田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fine-rugged sheet for forming an illumination unit in combination with a point light source such as an LED light source, enabling higher front luminance, lower luminance unevenness, and appropriate viewing angles each with respect to a first direction and with respect to a second direction orthogonal to the first direction.SOLUTION: A fine-rugged sheet has a first surface or a wavy-rugged-pattern surface having an uneven-wavy pattern, and a second surface having a pentahedron pattern 12d or a pentahedron pattern 12d'. The pentahedron patterns include pentahedrons with a square or a rectangle bottom surface, arrayed repeatedly in two directions that are orthogonal to each other. A main diffusion direction of the wavy-rugged pattern and one direction of the two directions form an angle in a range from +20 degrees to -20 degrees.SELECTED DRAWING: Figure 20

Description

本発明は、表面微細凹凸シート、表示装置用照明ユニットおよび表示装置に関する。   The present invention relates to a surface fine uneven sheet, a lighting unit for a display device, and a display device.

近年、省電力かつ長寿命の光源として、発光ダイオード(以下、「LED」ともいう。)光源が広く普及している。該LED光源から発せられる光は、直進性が高く、ほとんど拡散しない。そのため、LED光源をたとえば表示装置用の照明ユニット等に使用する場合には、LED光源を線状、面状等に複数並べ、かつ、光拡散体と組み合わせて使用されることが多い。
光拡散体としては、たとえば、微細な波状の凹凸からなる凹凸パターンが表面に形成されたシート状の表面微細凹凸体等が知られている(特許文献1参照。)。
In recent years, light-emitting diode (hereinafter also referred to as “LED”) light sources are widely used as power-saving and long-life light sources. The light emitted from the LED light source is highly straight and hardly diffuses. Therefore, when the LED light source is used, for example, in an illumination unit for a display device, a plurality of LED light sources are often arranged in a linear shape, a planar shape, etc., and used in combination with a light diffuser.
As the light diffuser, for example, a sheet-like surface fine uneven body having a concave / convex pattern formed of fine wavy unevenness on the surface is known (see Patent Document 1).

特開2008−302591号公報JP 2008-302591 A

しかしながら最近では、表示装置の多様化に伴い、LED光源を用いた照明ユニットにおいて、種々の特性を満足することが求められるようになってきている。
たとえば、ゆるやかな曲面状に形成された自動車のフロントガラスに、走行速度などの画像情報を表示させる表示装置として、ヘッドアップディスプレイシステムがある。ヘッドアップディスプレイシステムにおいては、画像情報をフロントガラスに鮮明に表示させるために、正面輝度が優れていることや、輝度の面内均一性が優れており輝度ムラが抑制されていることが求められる。また、画像情報を良好に表示するためには、フロントガラスの上下方向と左右方向のそれぞれについて光を適切に拡散させるために、これら各方向の視野角を個別に制御する必要もある。
ところが、光を拡散させることは、正面輝度の低下につながる。そのため、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、適切な視野角を有する照明ユニットを構成することは難しい。
However, recently, with the diversification of display devices, it has been required to satisfy various characteristics in an illumination unit using an LED light source.
For example, there is a head-up display system as a display device that displays image information such as traveling speed on a windshield of an automobile formed in a gently curved shape. In the head-up display system, in order to display image information clearly on the windshield, it is required that the front luminance is excellent, the luminance in-plane uniformity is excellent, and the luminance unevenness is suppressed. . In addition, in order to display image information satisfactorily, it is necessary to individually control the viewing angle in each direction in order to appropriately diffuse light in the vertical direction and the horizontal direction of the windshield.
However, diffusing light leads to a decrease in front luminance. Therefore, it is difficult to configure a lighting unit that has excellent front luminance, uneven luminance, and an appropriate viewing angle.

本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、LED光源等の点光源と組み合わせて使用した場合に、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、一方向だけでなくこれと直交する方向においても、それぞれ適切な視野角を有する照明ユニットを構成できる表面微細凹凸シートと、該表面微細凹凸シートを用いた表示装置用照明ユニットと、該表示装置用照明ユニットを備えた表示装置の提供を目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and when used in combination with a point light source such as an LED light source, the front luminance is excellent, luminance unevenness is suppressed, and the direction orthogonal to this is not only one direction. The surface fine concavo-convex sheet that can constitute an illumination unit having an appropriate viewing angle, a display device illumination unit using the surface fine concavo-convex sheet, and a display device including the display device illumination unit are provided. Objective.

本発明は以下の構成を有する。
[1]一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有し、前記波状凹凸パターンが形成された部分に対応する他方の表面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シートであって、
前記線状凹凸パターンは、リニアフレネルレンズパターンまたはリニア三角プリズムパターンであり、
前記波状凹凸パターンの主拡散方向と、前記線状凹凸パターンの凸条部の延在方向との成す角度が±20°の範囲内である、表面微細凹凸シート。
[2]一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有し、前記波状凹凸パターンが形成された部分に対応する他方の表面の少なくとも一部に、底面が正方形または長方形からなる五面体が直交する二方向に沿って繰り返し形成された五面体パターンを有する表面微細凹凸シートであって、
前記波状凹凸パターンの主拡散方向と、前記五面体パターンの前記二方向のうちの一方の方向との成す角度が±20°の範囲内である、表面微細凹凸シート。
[3]一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有し、前記波状凹凸パターンが形成された部分に対応する他方の表面の少なくとも一部に同心円状凹凸パターンを有する、表面微細凹凸シート。
[4]一方の表面の少なくとも一部に線状凹凸パターンを有し、該線状凹凸パターン上の少なくとも一部に、不規則な波状凹凸パターンが形成された表面微細凹凸シートであって、
前記線状凹凸パターンは、リニアフレネルレンズパターンまたはリニア三角プリズムパターンであり、
前記波状凹凸パターンの主拡散方向と、前記線状凹凸パターンの凸条部の延在方向との成す角度が±20°の範囲内である、表面微細凹凸シート。
[5]一方の表面の少なくとも一部に、底面が正方形または長方形からなる五面体が、直交する二方向に沿って繰り返し形成された五面体パターンを有し、該五面体パターン上の少なくとも一部に、不規則な波状凹凸パターンが形成された表面微細凹凸シートであって、
前記波状凹凸パターンの主拡散方向と、前記五面体パターンの前記二方向のうちの一方の方向との成す角度が±20°の範囲内である、表面微細凹凸シート。
[6]複数の点光源が並んで形成される光源列からの光を屈折および拡散させる用途に使用される、[1]〜[5]のいずれかの表面微細凹凸シート。
[7][1]〜[6]の表面微細凹凸シートと、複数の点光源が並んで形成される光源列の少なくとも1列とを有し、
前記表面微細凹凸シートの前記波状凹凸パターンの前記主拡散方向と、前記光源列の前記点光源の配列方向との成す角度が±20°の範囲内である、表示装置用照明ユニット。 [8][7]の表示装置用照明ユニットを有する、表示装置。
The present invention has the following configuration.
[1] Surface fineness having an irregular wavy uneven pattern on at least a part of one surface and a linear uneven pattern on at least a part of the other surface corresponding to the part where the wavy uneven pattern is formed An uneven sheet,
The linear uneven pattern is a linear Fresnel lens pattern or a linear triangular prism pattern,
The surface fine concavo-convex sheet, wherein an angle formed between a main diffusion direction of the wavy concavo-convex pattern and an extending direction of the ridges of the linear concavo-convex pattern is within a range of ± 20 °.
[2] An irregular wave-shaped uneven pattern is formed on at least a part of one surface, and the bottom surface of the other surface corresponding to the part on which the wave-shaped uneven pattern is formed is a square or a rectangle. It is a surface fine uneven sheet having a pentahedral pattern that is repeatedly formed along two directions in which the plane is orthogonal,
The surface fine uneven sheet, wherein an angle formed between a main diffusion direction of the wavy uneven pattern and one of the two directions of the pentahedral pattern is within a range of ± 20 °.
[3] Surface fineness having an irregular wavy uneven pattern on at least a portion of one surface and a concentric uneven pattern on at least a portion of the other surface corresponding to the portion where the wavy uneven pattern is formed. Uneven sheet.
[4] A surface fine concavo-convex sheet having a linear concavo-convex pattern on at least a part of one surface, and having an irregular wavy concavo-convex pattern formed on at least a part of the linear concavo-convex pattern,
The linear uneven pattern is a linear Fresnel lens pattern or a linear triangular prism pattern,
The surface fine concavo-convex sheet, wherein an angle formed between a main diffusion direction of the wavy concavo-convex pattern and an extending direction of the ridges of the linear concavo-convex pattern is within a range of ± 20 °.
[5] At least a part of one surface has a pentahedron pattern in which a pentahedron whose bottom surface is a square or a rectangle is repeatedly formed along two orthogonal directions, and at least a part of the pentahedron pattern In addition, it is a surface fine uneven sheet on which an irregular wavy uneven pattern is formed,
The surface fine uneven sheet, wherein an angle formed between a main diffusion direction of the wavy uneven pattern and one of the two directions of the pentahedral pattern is within a range of ± 20 °.
[6] The surface fine uneven sheet according to any one of [1] to [5], which is used for the purpose of refracting and diffusing light from a light source array in which a plurality of point light sources are formed side by side.
[7] The surface fine concavo-convex sheet of [1] to [6], and at least one row of light source rows formed by arranging a plurality of point light sources,
An illumination unit for a display device, wherein an angle formed by the main diffusion direction of the wavy uneven pattern of the surface fine uneven sheet and an arrangement direction of the point light sources of the light source array is within a range of ± 20 °. [8] A display device having the illumination unit for display device according to [7].

本発明によれば、LED光源等の点光源と組み合わせて使用した場合に、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、一方向だけでなくこれと直交する方向においても、それぞれ適切な視野角を有する照明ユニットを構成できる表面微細凹凸シートと、該表面微細凹凸シートを用いた表示装置用照明ユニットと、該表示装置用照明ユニットを備えた表示装置を提供できる。   According to the present invention, when used in combination with a point light source such as an LED light source, the front luminance is excellent, luminance unevenness is suppressed, and each field of view is appropriate not only in one direction but also in a direction orthogonal thereto. The surface fine uneven sheet | seat which can comprise the illumination unit which has an angle | corner, the illumination unit for display apparatuses using this surface fine uneven sheet | seat, and the display apparatus provided with this illumination unit for display apparatuses can be provided.

第1実施形態例の表面微細凹凸シートを模式的に示す拡大斜視図である。It is an expansion perspective view which shows typically the surface fine unevenness | corrugation sheet | seat of the example of 1st Embodiment. 第1実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である(画像の左右方向の辺のフルスケールが500μmである。)。It is an optical microscope image of the wavy uneven | corrugated pattern formation surface of the surface fine unevenness | corrugation sheet of 1st Embodiment (The full scale of the edge | side of the left-right direction of an image is 500 micrometers). 第1実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の原子間力顕微鏡による三次元画像である(画像の各辺のフルスケールが200μmである。)。It is a three-dimensional image by the atomic force microscope of the wavy unevenness | corrugation pattern formation surface of the surface fine unevenness | corrugation sheet of 1st Embodiment (The full scale of each edge | side of an image is 200 micrometers). 第1実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンを示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the wavy uneven | corrugated pattern of the surface fine unevenness | corrugation sheet | seat of the example of 1st Embodiment. (a)リニアフレネルレンズパターンの縦断面図、(b)シリンドリカルレンズの縦断面図である。(A) A longitudinal sectional view of a linear Fresnel lens pattern, (b) A longitudinal sectional view of a cylindrical lens. リニアフレネルレンズパターンの作用について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the effect | action of a linear Fresnel lens pattern. 第1実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を示す概略構成図であり、(a)表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、(b)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)リニアフレネルレンズパターンの凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic block diagram which shows the structure of the illumination unit for display apparatuses of 1st Embodiment, (a) Schematic top view from the wavy uneven | corrugated pattern formation surface side of a surface fine uneven | corrugated sheet, (b) Wavy uneven pattern (1A) It is a side view which shows the side surface parallel to the sequence direction of a convex strip part, (c) The side view which shows a side surface parallel to the sequence direction of the convex strip part of a linear Fresnel lens pattern. 第2実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である(画像の左右方向の辺のフルスケールが300μmである。)。It is an optical microscope image of the wavy uneven | corrugated pattern formation surface of the surface fine unevenness | corrugation sheet of 2nd Embodiment (The full scale of the side of the left-right direction of an image is 300 micrometers). 第3実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である(画像の左右方向の辺のフルスケールが60μmである。)。It is an optical microscope image of the wavy uneven | corrugated pattern formation surface of the surface fine unevenness | corrugation sheet of 3rd Embodiment (The full scale of the edge | side of the left-right direction of an image is 60 micrometers). 第3実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンを示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the wavy uneven | corrugated pattern of the surface fine uneven | corrugated sheet of the example of 3rd Embodiment. 第4実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である(画像の左右方向の辺のフルスケールが300μmである。)。It is an optical microscope image of the wavy uneven | corrugated pattern formation surface of the surface fine unevenness | corrugation sheet of 4th Embodiment (The full scale of the edge | side of the left-right direction of an image is 300 micrometers). 第4実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンを示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the wavy uneven | corrugated pattern of the surface fine uneven | corrugated sheet of the example of 4th Embodiment. 第4実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンにおける凸部の平均高さを求める方法の説明図である。It is explanatory drawing of the method of calculating | requiring the average height of the convex part in the wavy uneven | corrugated pattern of the surface fine uneven | corrugated sheet of the example of 4th Embodiment. 第5実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である(画像の左右方向の辺のフルスケールが250μmである。)。It is an optical microscope image of the wavy uneven | corrugated pattern formation surface of the surface fine unevenness | corrugation sheet | seat of 5th Example (The full scale of the edge | side of the left-right direction of an image is 250 micrometers). (a)第5実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、(b)波状凹凸パターン(1−b)の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図である。(A) The schematic plan view from the wavy unevenness pattern formation surface side of the surface fine unevenness | corrugation sheet | seat of 5th Example, (b) The side surface parallel to the sequence direction of the protruding item | line part of a wavy unevenness pattern (1-b) is shown. It is a side view which shows a side view parallel to the arrangement direction of the convex line part of (c) wavy uneven | corrugated pattern (1A). 頂角一定型リニア三角プリズムパターンの作用について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the effect | action of a fixed vertex angle type linear triangular prism pattern. 第6実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を示す概略構成図であり、(a)表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、(b)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)頂角一定型リニア三角プリズムパターンの凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of the illumination unit for display apparatuses of 6th Example, (a) Schematic top view from the wavy uneven | corrugated pattern formation surface side of a surface fine uneven | corrugated sheet, (b) Wavy uneven pattern (1A) It is a side view which shows the side surface parallel to the arrangement direction of the protruding item | line part of this, (c) The side view which shows the side surface parallel to the arrangement direction of the protruding item | line part of a fixed vertex angle type linear triangular prism pattern. (a)頂角変動型リニア三角プリズムパターンの一例(パターン(A))について、凸条部の配列方向に平行な断面を示す縦断面図、(b)頂角変動型リニア三角プリズムパターンの他の一例(パターン(B))について、凸条部の配列方向に平行な断面を示す縦断面図、(c)頂角変動型リニア三角プリズムパターンの作用について説明する説明図である。(A) Longitudinal sectional view showing a cross section parallel to the arrangement direction of the ridges for an example (pattern (A)) of an apex angle variation type linear triangular prism pattern, (b) Other apex angle variation type linear triangular prism pattern It is a longitudinal cross-sectional view which shows a cross section parallel to the sequence direction of a protruding item | line about an example (pattern (B)), (c) It is explanatory drawing explaining the effect | action of a vertex angle | variation type | mold linear triangular prism pattern. 第11実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を示す概略構成図であり、(a)表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、(b)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)頂角変動型リニア三角プリズムパターン(パターン(B))の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of the illumination unit for display apparatuses of 11th Embodiment, (a) Schematic top view from the wavy uneven | corrugated pattern formation surface side of a surface fine uneven | corrugated sheet, (b) Wavy uneven | corrugated pattern (1A) It is a side view which shows the side surface parallel to the arrangement direction of the protruding item | line part of this, (c) The side view which shows the side surface parallel to the arrangement direction of the protruding item | line part of a vertex angle variation type | mold linear triangular prism pattern (pattern (B)). . (a)頂角変動型変形五面体パターンの五面体パターン形成面側からの平面図、(b)頂角変動型四角錐プリズムパターンの五面体パターン形成面側からの平面図、(c)頂角変動型変形五面体パターンの作用について説明する説明図である。(A) Plan view from the pentahedron pattern forming surface side of the apex angle variation type modified pentahedron pattern, (b) Plan view from the pentahedron pattern formation surface side of the apex angle variation type tetragonal pyramid prism pattern, (c) Top It is explanatory drawing explaining the effect | action of an angle variation type | mold deformation | transformation pentahedron pattern. 第16実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を示す概略構成図であり、(a)表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、(b)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の延在方向に平行な側面を示す側面図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of the illumination unit for display apparatuses of 16th Embodiment, (a) Schematic top view from the wavy uneven | corrugated pattern formation surface side of a surface fine uneven | corrugated sheet, (b) Wavy uneven | corrugated pattern (1A) It is a side view which shows the side surface parallel to the arrangement | sequence direction of a protruding item | line part, (c) The side view which shows a side surface parallel to the extending direction of the protruding item | line part of a wavy uneven | corrugated pattern (1A). (a)フレネルレンズパターンの縦断面図、(b)平凸レンズの縦断面図である。(A) Longitudinal section of Fresnel lens pattern, (b) Longitudinal section of plano-convex lens. フレネルレンズパターンの作用について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the effect | action of a Fresnel lens pattern. 第21実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を示す概略構成図であり、(a)表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、(b)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の延在方向に平行な側面を示す側面図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of the illumination unit for display apparatuses of 21st Example, (a) Schematic top view from the wavy uneven | corrugated pattern formation surface side of a surface fine uneven | corrugated sheet, (b) Wavy uneven | corrugated pattern (1A) It is a side view which shows the side surface parallel to the arrangement | sequence direction of a protruding item | line part, (c) The side view which shows a side surface parallel to the extending direction of the protruding item | line part of a wavy uneven | corrugated pattern (1A). リニアフレネルレンズパターンの作用について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the effect | action of a linear Fresnel lens pattern. 第26実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を示す概略構成図であり、(a)表面微細凹凸シートのパターン形成面側からの概略平面図、(b)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)リニアフレネルレンズパターンの凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of the illumination unit for display apparatuses of the example of 26th Embodiment, (a) Schematic top view from the pattern formation surface side of a surface fine uneven | corrugated sheet, (b) Convex | convexity of a wavy uneven | corrugated pattern (1A) It is a side view which shows the side parallel to the arrangement direction of a strip, (c) The side view which shows a side parallel to the arrangement direction of the convex strip of a linear Fresnel lens pattern. 頂角一定型リニア三角プリズムパターンの作用について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the effect | action of a fixed vertex angle type linear triangular prism pattern. 第27実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を示す概略構成図であり、(a)表面微細凹凸シートのパターン形成面側からの概略平面図、(b)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)頂角一定型リニア三角プリズムパターンの凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of the illumination unit for display apparatuses of 27th Example, (a) The schematic plan view from the pattern formation surface side of a surface fine unevenness | corrugation sheet, (b) Convex | convexity of a wavy unevenness | corrugation pattern (1A) It is a side view which shows the side surface parallel to the sequence direction of a strip part, (c) The side view which shows a side surface parallel to the sequence direction of the convex strip part of a fixed vertex angle type linear triangular prism pattern. 頂角変動型リニア三角プリズムパターンの作用について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the effect | action of a vertex angle | variation type | mold linear triangular prism pattern. 第28実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を示す概略構成図であり、(a)表面微細凹凸シートのパターン形成面側からの概略平面図、(b)波状凹凸パターン(1A)の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)頂角変動型リニア三角プリズムパターンの凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of the illumination unit for display apparatuses of 28th Embodiment, (a) Schematic top view from the pattern formation surface side of a surface fine uneven | corrugated sheet, (b) Convex | concave of a wavy uneven | corrugated pattern (1A) It is a side view which shows the side parallel to the arrangement | sequence direction of a strip | line part, (c) The side view which shows a side surface parallel to the arrangement | sequence direction of the convex strip | line part of a vertex angle | variation type linear triangular prism pattern.

本明細書および特許請求の範囲における各用語は、以下の内容を意味する。
「波状凹凸パターン形成面」とは、表面微細凹凸シートにおいて、不規則な波状凹凸パターンが形成された側の面を意味する。
「線状凹凸パターン形成面」とは、表面微細凹凸シートにおいて、線状凹凸パターンが形成された側の面を意味する。
「五面体パターン形成面」とは、表面微細凹凸シートにおいて、五面体パターンが形成された側の面を意味する。
「同心円状凹凸パターン形成面」とは、表面微細凹凸シートにおいて、同心円状凹凸パターンが形成された側の面を意味する。
また、単に「パターン形成面」といった場合、該「パターン形成面」とは、表面微細凹凸シートにおいて、波状凹凸パターンと線状凹凸パターン、または、波状凹凸パターンと五面体パターンとが共に形成されている面を意味する。
Each term in this specification and a claim means the following contents.
The “waved concavo-convex pattern forming surface” means the surface of the surface fine concavo-convex sheet on which the irregular wavy concavo-convex pattern is formed.
“Linear concavo-convex pattern forming surface” means the surface of the surface fine concavo-convex sheet on which the linear concavo-convex pattern is formed.
The “pentahedral pattern forming surface” means the surface on the side where the pentahedral pattern is formed in the surface fine uneven sheet.
The “concentric concavo-convex pattern forming surface” means the surface on the side where the concentric concavo-convex pattern is formed in the surface fine concavo-convex sheet.
In addition, when simply referring to the “pattern forming surface”, the “pattern forming surface” means that a wavy uneven pattern and a linear uneven pattern, or a wavy uneven pattern and a pentahedral pattern are formed on the surface fine uneven sheet. It means the surface.

「不規則な波状凹凸パターン」とは、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な少なくとも一つの面に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な微細な波状の凹凸形状であるパターンのことをいう。
たとえば、下記の〔1〕、〔2〕のパターンが挙げられる。
The `` irregular wavy uneven pattern '' means that the shape of the portion corresponding to the wavy uneven pattern in the cut surface obtained when cutting along at least one surface parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet, It refers to a pattern that is an irregular fine wavy uneven shape.
For example, the following patterns [1] and [2] can be mentioned.

〔1〕波状凹凸パターン形成面に沿って筋状に延びる複数の凸条部と、該複数の凸条部間の複数の凹条部とが、波状凹凸パターン形成面に沿う一方向に交互に繰り返されるパターンを少なくとも有し、以下の(a)および(b)の特徴を有するパターン(以下、「波状凹凸パターン(1)」ともいう。)。
なお、波状凹凸パターン(1)では、少なくとも、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部と凹条部とが交互に繰り返される上記一方向(以下、「凸条部の配列方向」ともいう。)に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な波状の凹凸形状となる。
[1] A plurality of ridges extending in a streak pattern along the wavy uneven pattern forming surface and a plurality of recessed portions between the plurality of protruding ridges alternately in one direction along the wavy uneven pattern forming surface A pattern having at least a repeated pattern and having the following characteristics (a) and (b) (hereinafter also referred to as “waved uneven pattern (1)”).
In the wavy uneven pattern (1), at least one direction parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet and the protrusions and the recesses being alternately repeated (hereinafter referred to as “the protrusions of the protrusions”). The shape of the portion corresponding to the wavy uneven pattern becomes an irregular wavy uneven shape on the cut surface obtained by cutting along the arrangement direction.

(a)各凸条部が蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部の稜線が蛇行し、隣接する凸条部の稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、1本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
(b)各凹条部が蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部の谷線が蛇行し、隣接する凹条部の谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、1本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
(A) Each protrusion is meandering and is not parallel to each other. That is, the ridge line of each ridge part meanders, and the space | interval of the ridge line of an adjacent protrusion part is not constant, but is changing continuously. However, it may include a portion where the interval between the ridge lines is constant. Further, one ridge line may be branched in the middle, or a plurality of ridge lines may be joined in the middle.
(B) The respective concave strips meander and are not parallel to each other. That is, the valley line of each groove part meanders, and the space | interval of the valley line of an adjacent groove part is not constant, but is changing continuously. However, a portion where the interval between the valley lines is partially constant may be included. Moreover, one trough line may branch on the way, or several trough lines may unite on the way.

波状凹凸パターン(1)では、上記切断面における各凸条部の縦断面形状(表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断される切断面における形状。)は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。   In the wavy uneven pattern (1), the vertical cross-sectional shape of each ridge in the cut surface (in the cut surface that is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet and cut along the arrangement direction of the ridges) Shape.) Are different from each other and are not uniform but irregular.

以上のような波状凹凸パターン(1)の不規則性により、該波状凹凸パターン(1)は、後述する主拡散方向だけでなく、該主拡散方向に対して直交する低拡散方向にも、適度に光を拡散させる。
また、詳しくは後述するが、波状凹凸パターン(1)は、1軸延伸フィルム(1軸方向収縮フィルム)からなる加熱収縮性樹脂フィルムを加熱収縮することにより形成されるパターンである。
Due to the irregularity of the wavy uneven pattern (1) as described above, the wavy uneven pattern (1) is suitable not only in the main diffusion direction described later but also in the low diffusion direction orthogonal to the main diffusion direction. Diffuse light.
Moreover, although mentioned later in detail, a wavy uneven | corrugated pattern (1) is a pattern formed by heat-shrinking the heat-shrinkable resin film which consists of a uniaxially stretched film (uniaxial direction shrink film).

〔2〕波状凹凸パターン形成面上に、特定の方向に沿わない微細な凹凸が形成されたパターン(以下、「波状凹凸パターン(2)ともいう。」)。
波状凹凸パターン(2)では、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な任意の方向に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な波状の凹凸形状となる。
波状凹凸パターン(2)では、上記切断面における各凸部の縦断面形状(表面微細凹凸シートの法線方向に平行な任意の方向に沿って切断される切断面における形状。)は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
[2] A pattern in which fine irregularities that do not follow a specific direction are formed on a wave-shaped irregular pattern forming surface (hereinafter also referred to as “wave-shaped irregular pattern (2)”).
In the wavy uneven pattern (2), the shape of the portion corresponding to the wavy uneven pattern on the cut surface obtained when cutting along an arbitrary direction parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet has an irregular wavy shape. It becomes the uneven shape.
In the wavy uneven pattern (2), the vertical cross-sectional shape of each convex portion on the cut surface (the shape on the cut surface cut along an arbitrary direction parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet) is different from each other. It is irregular and not uniform.

以上のような波状凹凸パターン(2)の不規則性により、該波状凹凸パターン(2)は、主拡散方向および低拡散方向に光を拡散させる。また、凹凸が上述のように特定の方向に沿わないため、主拡散方向と低拡散方向の拡散角度の差は小さい。
また、詳しくは後述するが、波状凹凸パターン(2)は、2軸延伸フィルム(2軸方向収縮フィルム)からなる加熱収縮性樹脂フィルムを加熱収縮することにより形成されるパターンである。
Due to the irregularity of the wavy uneven pattern (2) as described above, the wavy uneven pattern (2) diffuses light in the main diffusion direction and the low diffusion direction. Further, since the unevenness does not follow the specific direction as described above, the difference in the diffusion angle between the main diffusion direction and the low diffusion direction is small.
Moreover, although mentioned later in detail, a wavy uneven | corrugated pattern (2) is a pattern formed by heat-shrinking the heat-shrinkable resin film which consists of a biaxially stretched film (biaxial direction shrink film).

「線状凹凸パターン」とは、線状凹凸パターン形成面に沿って、蛇行せず直線状に、かつ、互いに平行に延在する微細な複数の凸条部と、該複数の凸条部間に直線状に延在する微細な複数の凹条部とが、線状凹凸パターン形成面に沿う一方向(以下、「凸条部の配列方向」ともいう。)に交互に繰り返されるパターンであり、リニアフレネルレンズパターンまたはリニア三角プリズムパターンを意味する。   "Linear concavo-convex pattern" refers to a plurality of fine ridges extending linearly in parallel with each other along the linear concavo-convex pattern forming surface, and between the plurality of ridges And a plurality of fine concave ridges extending linearly are alternately repeated in one direction along the linear concavo-convex pattern forming surface (hereinafter also referred to as “arrangement direction of ridges”). Means a linear Fresnel lens pattern or a linear triangular prism pattern.

「リニアフレネルレンズパターン」とは、同心円状に溝が形成された通常のフレネルレンズをシリンドリカルレンズに適用した公知のリニアフレネルレンズに基づくパターンである。   The “linear Fresnel lens pattern” is a pattern based on a known linear Fresnel lens in which a normal Fresnel lens having grooves concentrically formed is applied to a cylindrical lens.

「リニア三角プリズムパターン」とは、該リニア三角プリズムパターンを構成する各凸条部の縦断面形状(表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断される切断面における形状。)が、いずれも二等辺三角形または正三角形であるパターンを意味する。
「リニア三角プリズムパターン」のうち、各凸条部の上記縦断面形状における頂角が互いに同一であるものを「頂角一定型リニア三角プリズムパターン」という。
「リニア三角プリズムパターン」のうち、各凸条部同士で、上記縦断面形状における頂角が互いに異なっており、線状凹凸パターン形成面における両端側に位置する凸条部から中央側に位置する凸条部に向けて、徐々に頂角が大きくなっているものを「頂角変動型リニア三角プリズムパターン」という。各凸条部の頂角は、その延在方向に一定である。
なお、「頂角変動型リニア三角プリズムパターン」には、各凸条部の高さは互いに一定であるが、各凸条部同士で底部の幅(ピッチ)が一定でなく異なることにより、頂角が変動している形態(以下、「パターン(A)」という場合がある。図18(a)参照。)と、各凸条部の底部の幅(ピッチ)は互いに一定であるが、各凸条部同士で高さが一定でなく異なることにより、頂角が変動している形態(以下、「パターン(B)」という場合がある。図18(b)参照。)とがある。
“Linear triangular prism pattern” refers to the vertical cross-sectional shape of each ridge that constitutes the linear triangular prism pattern (parallel to the normal direction of the surface fine concavo-convex sheet and cut along the arrangement direction of the ridges) Is a shape that is an isosceles triangle or an equilateral triangle.
Among the “linear triangular prism patterns”, those having the same vertical angle in the vertical cross-sectional shape of each ridge portion are referred to as “constant vertical angle linear triangular prism pattern”.
Among the “linear triangular prism pattern”, the ridges in the vertical cross-sectional shape of the ridges are different from each other, and are located on the center side from the ridges located on both ends of the linear concavo-convex pattern forming surface. A pattern in which the apex angle gradually increases toward the ridge is referred to as “vertical angle variable linear triangular prism pattern”. The apex angle of each ridge is constant in its extending direction.
In the “vertical angle variation type linear triangular prism pattern”, the height of each ridge is constant, but the width (pitch) of the bottom is not constant between the ridges. The form in which the corners are fluctuating (hereinafter may be referred to as “pattern (A)”, see FIG. 18A) and the width (pitch) of the bottom of each ridge is constant. There is a form in which the apex angle fluctuates because the heights of the ridges are not constant but different (hereinafter, referred to as “pattern (B)”, see FIG. 18B).

「五面体パターン」とは、五面体パターン形成面上の直交する二方向に沿って、底面が正方形または長方形からなる多数の五面体が繰り返し形成されたパターンを意味する。多数の五面体の各底面は互いに辺を共有し、連なっている。
「五面体パターン」は、以下の(1)〜(3)のパターンを含む。
下記(2)の頂角変動型四角錐プリズムパターンと、下記(3)の頂角変動型変形五面体パターンとをまとめて、「頂角変動型五面体パターン」という。
(1)頂角一定型四角錐プリズムパターン:
多数の五面体が多数の四角錐のみからなり、各四角錐の縦断面形状における頂角が互いに同一である。なお、縦断面形状とは、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、上記直交する二方向のうちの一方向に沿い、かつ、各四角錐の頂点を通るように切断される切断面における形状と、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、上記直交する二方向のうちの他方向に沿い、かつ、各四角錐の頂点を通るように切断される切断面における形状とのことを意味する。頂角一定型四角錐プリズムパターンは、どちらの縦断面形状においても、各四角錐間で、頂角が互いに同一で、一定である。
(2)頂角変動型四角錐プリズムパターン:
多数の五面体が多数の四角錐のみからなり、各四角錐の縦断面形状における頂角が互いに異なっている。なお、縦断面形状とは、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、上記直交する二方向のうちの一方向に沿い、かつ、各四角錐の頂点を通るように切断される切断面における形状と、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、上記直交する二方向のうちの他方向に沿い、かつ、各四角錐の頂点を通るように切断される切断面における形状とのことを意味する。頂角変動型四角錐プリズムパターンは、どちらの縦断面形状においても、各四角錐間で、頂角が徐々に変動していて、一定ではない。
具体的には、直交する二方向のうちの一方向に沿って配置された四角錐において、外側に位置する四角錐から中央側に位置する四角錐に向けて、徐々に頂角が大きくなっている。かつ、直交する二方向のうちの他方向に沿って配置された四角錐において、外側に位置する四角錐から中央側に位置する四角錐に向けて、徐々に頂角が大きくなっている。
このパターンは、上記頂角変動型リニア三角プリズムパターンの上記パターン(A)を形成した後、該パターン(A)から、該パターン(A)とは凸条部の配列方向が直交し、かつ、該パターン(A)の反転形状であるパターン(A’)を切除することにより形成されるパターンである(図20(b)参照。)。そのため、各四角錐の高さは互いに一定であるが、各四角錐同士でピッチが一定でない。
(3)頂角変動型変形五面体パターン:
多数の五面体が四角錐と、四角錐以外の五面体からなる。ここで、四角錐以外の五面体とは、四角錐のように底面に対向する位置に頂点を有するのではなく、底面の一対の辺に平行な稜線(辺)を有する五面体である。以下、このような稜線を有する五面体のことを、「稜線型五面体」ともいう。
そして、各四角錐および稜線型五面体の縦断面形状における頂角が互いに異なっている。なお、縦断面形状とは、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、上記直交する二方向のうちの一方向に沿い、かつ、各四角錐の頂点および各稜線型五面体の稜線を通るように切断される切断面における形状と、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、上記直交する二方向のうちの他方向に沿い、かつ、各四角錐の頂点および各稜線型五面体の稜線を通るように切断される切断面における形状との両方を意味する。頂角変動型変形五面体パターンは、どちらの縦断面形状においても、各四角錐、各稜線型五面体間で、頂角が徐々に変動していて、一定ではない。
具体的には、直交する二方向のうちの一方向に沿って配置された四角錐および稜線型五面体において、外側に位置する四角錐および稜線型五面体から中央側に位置する四角錐および稜線型五面体に向けて、徐々に頂角が大きくなっている。かつ、直交する二方向のうちの他方向に沿って配置された四角錐および稜線型五面体において、外側に位置する四角錐および五面体から中央側に位置する四角錐および稜線型五面体に向けて、徐々に頂角が大きくなっている。
なお、稜線型五面体の縦断面形状は、その方向により、三角形である場合と台形である場合がある。台形である場合には、台形の2本の脚の上底側の延長線が交差する角度を「頂角」とみなす。
このパターンは、上記頂角変動型リニア三角プリズムパターンの上記パターン(B)を形成した後、該パターン(B)から、該パターン(B)とは凸条部の配列方向が直交し、かつ、該パターン(B)の反転形状であるパターン(B’)を切除することにより形成されるパターンである(図20(a)参照。)。そのため、各四角錐および稜線型五面体のピッチは互いに一定であるが、各四角錐および稜線型五面体同士で高さが一定でない。
なお、以上説明したパターンが形成された五面体パターン形成面には、上述の「頂角変動型四角錐プリズムパターン」が、面方向に沿って複数形成されていてもよい。すなわち、五面体パターン形成面を複数の領域に区切った場合に、各領域に上述の「頂角変動型四角錐プリズムパターン」がそれぞれ形成されていてもよい。
同様に、五面体パターン形成面には、上述の「頂角変動型変形五面体パターン」が、面方向に沿って複数形成されていてもよい。すなわち、五面体パターン形成面を複数の領域に区切った場合に、各領域に上述の「頂角変動型変形五面体パターン」がそれぞれ形成されていてもよい。
また、「頂角変動型五面体パターン」は、各四角錐および稜線型五面体のピッチも高さも一定でない形態であってもよい。
The “pentahedron pattern” means a pattern in which a large number of pentahedrons whose bottom surfaces are square or rectangular are repeatedly formed along two orthogonal directions on the pentahedron pattern forming surface. The bottom surfaces of a large number of pentahedrons share a side with each other and are connected.
The “pentahedral pattern” includes the following patterns (1) to (3).
The following (2) vertex angle variation type tetragonal pyramid prism pattern and the following (3) vertex angle variation type modified pentahedral pattern are collectively referred to as “apex angle variation type pentahedral pattern”.
(1) Constant apex angle type quadrangular pyramid prism pattern:
A large number of pentahedrons consist only of a large number of quadrangular pyramids, and the apex angles in the longitudinal sectional shape of each quadrangular pyramid are the same. Note that the longitudinal cross-sectional shape is a cut that is parallel to the normal direction of the surface fine unevenness sheet and that is cut along one of the two orthogonal directions and through the apex of each quadrangular pyramid. The shape on the surface and the shape on the cut surface that is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet and cut along the other direction of the two orthogonal directions and through the apex of each quadrangular pyramid It means that. The constant apex angle type quadrangular pyramid prism pattern has the same apex angle between the respective quadrangular pyramids and is constant in both longitudinal sectional shapes.
(2) Vertical angle variation type quadrangular pyramid prism pattern:
A large number of pentahedrons consist only of a large number of quadrangular pyramids, and the apex angles in the longitudinal sectional shape of each quadrangular pyramid are different from each other. Note that the longitudinal cross-sectional shape is a cut that is parallel to the normal direction of the surface fine unevenness sheet and that is cut along one of the two orthogonal directions and through the apex of each quadrangular pyramid. The shape on the surface and the shape on the cut surface that is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet and cut along the other direction of the two orthogonal directions and through the apex of each quadrangular pyramid It means that. The apex angle variation type quadrangular pyramid prism pattern is not constant because the apex angle gradually varies between the respective quadrangular pyramids in any of the longitudinal sectional shapes.
Specifically, in a quadrangular pyramid arranged along one of two orthogonal directions, the apex angle gradually increases from the quadrangular pyramid located on the outer side toward the quadrangular pyramid located on the center side. Yes. In addition, in the quadrangular pyramids arranged along other directions of the two orthogonal directions, the apex angle gradually increases from the quadrangular pyramid located on the outer side toward the quadrangular pyramid located on the center side.
After forming the pattern (A) of the apex angle variation type linear triangular prism pattern, the pattern (A) is orthogonal to the pattern (A) in the arrangement direction of the ridges, and This is a pattern formed by cutting out the pattern (A ′) which is the inverted shape of the pattern (A) (see FIG. 20B). Therefore, although the heights of the respective quadrangular pyramids are constant, the pitches are not constant among the respective quadrangular pyramids.
(3) Vertex angle variation type pentahedron pattern:
Many pentahedrons consist of a pyramid and a pentahedron other than the quadrangular pyramid. Here, the pentahedron other than the quadrangular pyramid is a pentahedron that does not have a vertex at a position facing the bottom surface like a quadrangular pyramid, but has ridge lines (sides) parallel to a pair of sides of the bottom surface. Hereinafter, a pentahedron having such a ridge line is also referred to as a “ridge line type pentahedron”.
And the apex angle in the longitudinal cross-sectional shape of each quadrangular pyramid and a ridge-line type pentahedron is mutually different. The vertical cross-sectional shape is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet and along one of the two orthogonal directions, and the apex of each quadrangular pyramid and the ridge line of each ridge line type pentahedron The shape of the cut surface that is cut so as to pass through and the normal direction of the surface fine uneven sheet and along the other of the two orthogonal directions, and the apex and each ridgeline of each quadrangular pyramid It means both the shape of the cut surface cut along the ridgeline of the mold pentahedron. The vertical angle variation type modified pentahedron pattern is not constant because the vertical angle gradually changes between each pyramid and each ridge line type pentahedron in any longitudinal cross-sectional shape.
Specifically, in the quadrangular pyramid and the ridgeline pentahedron arranged along one of the two orthogonal directions, the quadrangular pyramid and the ridgeline located on the center side from the quadrangular pyramid and the ridgeline pentahedron located outside. The apex angle gradually increases toward the mold pentahedron. And in the quadrangular pyramid and the ridgeline pentahedron arranged along the other direction of two orthogonal directions, the quadrangular pyramid and pentahedron located on the outer side are directed to the quadrangular pyramid and ridgeline pentahedron located on the center side. The apex angle gradually increases.
The vertical cross-sectional shape of the ridged pentahedron may be a triangle or a trapezoid depending on the direction. In the case of a trapezoid, the angle at which the extension lines on the upper bottom side of the two legs of the trapezoid intersect is regarded as the “vertical angle”.
After forming the pattern (B) of the apex angle variation type linear triangular prism pattern, the pattern (B) is orthogonal to the pattern (B) in the arrangement direction of the ridges, and This is a pattern formed by cutting out the pattern (B ′) which is the inverted shape of the pattern (B) (see FIG. 20A). Therefore, although the pitches of the respective quadrangular pyramids and the ridge line type pentahedron are constant, the heights of the respective quadrangular pyramids and ridge line type pentahedrons are not constant.
It should be noted that a plurality of the above-described “vertical angle variation type quadrangular pyramid prism patterns” may be formed along the surface direction on the pentahedral pattern forming surface on which the pattern described above is formed. That is, when the pentahedral pattern forming surface is divided into a plurality of regions, the above-described “vertical angle variation type quadrangular pyramid prism pattern” may be formed in each region.
Similarly, on the pentahedron pattern forming surface, a plurality of the above-mentioned “vertical angle variation-type deformed pentahedron patterns” may be formed along the surface direction. That is, when the pentahedron pattern forming surface is divided into a plurality of regions, the above-mentioned “vertical angle variation type modified pentahedron pattern” may be formed in each region.
Further, the “vertical angle variable pentahedron pattern” may be in a form in which the pitch and height of each quadrangular pyramid and ridge line type pentahedron are not constant.

「同心円状凹凸パターン」とは、同心円状凹凸パターン形成面上に、同心円状の凹環と凸環とが交互に形成されたパターンを意味する。
「同心円状凹凸パターン」には、通常の「フレネルレンズパターン」が含まれる。
「同心円状凹凸パターン」のうち、凸環の縦断面形状(表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、同心円の径方向に沿って切断される切断面における形状。)がいずれも二等辺三角形または正三角形であるものを「同心円状プリズムパターン」という。
The “concentric concavo-convex pattern” means a pattern in which concentric concave and convex rings are alternately formed on the concentric concavo-convex pattern forming surface.
The “concentric concavo-convex pattern” includes a normal “Fresnel lens pattern”.
Of the “concentric concavo-convex pattern”, the vertical cross-sectional shape of the convex ring (the shape on the cut surface parallel to the normal direction of the surface fine concavo-convex sheet and cut along the radial direction of the concentric circle) is two. Those which are equilateral triangles or equilateral triangles are called “concentric prism patterns”.

「同心円状プリズムパターン」のうち、各凸環の上記縦断面形状における頂角が互いに同一であるものを「頂角一定型同心円状プリズムパターン」という。
「同心円状プリズムパターン」のうち、各凸環同士で、上記縦断面形状における頂角が互いに異なっており、同心円状凹凸パターン形成面における外周側に位置する凸環から中央側に位置する凸環に向けて、徐々に頂角が大きくなっているものを「頂角変動型同心円状プリズムパターン」という。各凸環の頂角は、環方向(周方向)に一定である。
同心円状凹凸パターン形成面には、上述の「同心円状凹凸パターン」が、面方向に沿って複数形成されていてもよい。すなわち、同心円状凹凸パターン形成面を複数の領域に区切った場合に、各領域に上述の「同心円状凹凸パターン」がそれぞれ形成されていてもよい。
Among the “concentric prism patterns”, those having the same vertical angle in the vertical cross-sectional shape of each convex ring are called “constant vertex angle concentric prism patterns”.
Among the “concentric circular prism patterns”, the convex rings located on the center side from the convex rings located on the outer peripheral side of the concentric concave / convex pattern forming surface are different from each other in the vertical cross-sectional shape of the convex rings. The one with a gradually increasing apex angle is called “vertical angle variation type concentric prism pattern”. The apex angle of each convex ring is constant in the ring direction (circumferential direction).
A plurality of the above-mentioned “concentric uneven patterns” may be formed along the surface direction on the concentric uneven pattern forming surface. That is, when the concentric uneven pattern forming surface is divided into a plurality of regions, the above-mentioned “concentric uneven patterns” may be formed in each region.

「波状凹凸パターンの主拡散方向」とは、以下の方法で決定される方向である。
(1)拡散角度測定用として、一方の面が波状凹凸パターン形成面であり、他方の面が平滑な面(平滑面)であるサンプルシートを用意する。
(2)ゴニオメータ(たとえば、型式:GENESIA Gonio/FFP、ジェネシア社製)を用いて、上記サンプルシートの平滑面側から測定光を入射させ、波状凹凸パターン形成面からの透過散乱光を測定し、照度曲線を得る。
具体的には、サンプルシートから垂直に出射する光(出光角度=0°)の照度を1とした際の相対照度を、波状凹凸パターン形成面上のある方向(α方向)において、出光角度−90°から90°まで1°間隔で測定する。これによりα方向における照度曲線が得られる。
このような操作および照度曲線の作製を、波状凹凸パターン形成面において、α方向から1°ずらした方向(β方向)において行う。
ついで、このような操作および照度曲線の作製を、波状凹凸パターン形成面において、β方向から1°ずらした方向(γ方向)において行う。
このように相対照度を測定する方向を波状凹凸パターン形成面内で1°ずつずらし、1°毎の照度曲線を得る。これにより、合計180種の照度曲線が得られる。
(3)180種の各照度曲線のそれぞれにおいて、相対照度が0.5以上となる角度範囲を求める。その範囲が拡散角度である。たとえば、α方向について得られた照度曲線において、相対照度が0.5以上となる角度範囲が−13°〜+17°である場合には、α方向における拡散角度は、13°+17°=30°となる。
(4)180種の各方向について、上記のようにして拡散角度を求め、180種の拡散角度のうち、最も大きな拡散角度が得られた方向が、主拡散方向である。
(5)低拡散方向は、「主拡散方向に直交する方向」と定義する。
主拡散方向および低拡散方向は、いずれも、波状凹凸パターン形成面上の方向である。
The “main diffusion direction of the wavy uneven pattern” is a direction determined by the following method.
(1) For measuring the diffusion angle, a sample sheet is prepared in which one surface is a wavy uneven pattern forming surface and the other surface is a smooth surface (smooth surface).
(2) Using a goniometer (for example, model: GENESISIA Gonio / FFP, manufactured by Genesia), the measurement light is incident from the smooth surface side of the sample sheet, and the transmitted and scattered light from the wavy uneven pattern forming surface is measured. Get the illuminance curve.
Specifically, the relative illuminance when the illuminance of light emitted vertically from the sample sheet (light emission angle = 0 °) is set to 1 is the light emission angle− in a certain direction (α direction) on the wavy uneven pattern forming surface− Measure from 90 ° to 90 ° at 1 ° intervals. Thereby, an illuminance curve in the α direction is obtained.
Such an operation and preparation of the illuminance curve are performed in a direction (β direction) shifted by 1 ° from the α direction on the wavy uneven pattern forming surface.
Subsequently, such an operation and preparation of an illuminance curve are performed in a direction (γ direction) shifted by 1 ° from the β direction on the wavy uneven pattern forming surface.
In this way, the direction in which the relative illuminance is measured is shifted by 1 ° within the wavy uneven pattern forming surface to obtain an illuminance curve for each 1 °. Thereby, 180 kinds of illuminance curves are obtained in total.
(3) In each of the 180 types of illuminance curves, an angle range in which the relative illuminance is 0.5 or more is obtained. The range is the diffusion angle. For example, in the illuminance curve obtained in the α direction, when the angle range in which the relative illuminance is 0.5 or more is −13 ° to + 17 °, the diffusion angle in the α direction is 13 ° + 17 ° = 30. °.
(4) For each of the 180 types of directions, the diffusion angle is obtained as described above, and the direction in which the largest diffusion angle is obtained among the 180 types of diffusion angles is the main diffusion direction.
(5) The low diffusion direction is defined as “a direction orthogonal to the main diffusion direction”.
Both the main diffusion direction and the low diffusion direction are directions on the wavy uneven pattern forming surface.

なお、本明細書において、平滑とは、JIS B0601に記載の方法により測定される中心線平均粗さが0.1μm以下であることをいう。   In this specification, the term “smooth” means that the center line average roughness measured by the method described in JIS B0601 is 0.1 μm or less.

以下の各実施形態例の表面微細凹凸シートは、不規則な波状凹凸パターンと、線状凹凸パターン、五面体パターンまたは同心円状凹凸パターンとを有している。
そのため、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向だけでなくこれと直交する低拡散方向においても、それぞれ適切な視野角を有する照明ユニットを構成できる。該照明ユニットは、ヘッドアップディスプレイシステム等の表示装置用の照明ユニットとして、好適に使用される。
また、各実施形態例の表面微細凹凸シートは、後述するように、1枚構成である。そのため、複数枚のシートを用いずに、1枚のみで視野角確保効果、輝度ムラ解消効果、正面輝度向上効果を奏することができ、取扱性、照明ユニットの薄型化にも優れる。
The surface fine concavo-convex sheet of each embodiment described below has an irregular wavy concavo-convex pattern and a linear concavo-convex pattern, a pentahedral pattern or a concentric concavo-convex pattern.
Therefore, it is possible to configure an illumination unit that is excellent in front luminance, has reduced luminance unevenness, and has an appropriate viewing angle not only in the main diffusion direction but also in the low diffusion direction orthogonal thereto. The illumination unit is preferably used as an illumination unit for a display device such as a head-up display system.
Moreover, the surface fine uneven sheet | seat of each embodiment is a 1 sheet structure so that it may mention later. Therefore, the viewing angle ensuring effect, the luminance unevenness eliminating effect, and the front luminance improving effect can be achieved with only one sheet without using a plurality of sheets, and the handling property and the thinning of the lighting unit are excellent.

表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成する際に、各実施形態例の表面微細凹凸シートのうち、どの実施形態例のシートを選択するかは、その表示装置に求められる主拡散方向および低拡散方向の視野角や、これら視野角のバランス、正面輝度、さらには輝度ムラ抑制の要求の程度等に応じて、決定できる。   When configuring the illumination unit for a display device and the display device, which of the embodiment examples of the surface fine uneven sheet of each embodiment is selected depends on the main diffusion direction and low diffusion required for the display device. It can be determined according to the viewing angle of the direction, the balance of these viewing angles, the front luminance, and the degree of demand for suppressing luminance unevenness.

以下の第1〜第5実施形態例は、一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有し、他方の表面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、リニアフレネルレンズパターンを有する表面微細凹凸シートに関する。
第1〜第5実施形態例では、互いに、波状凹凸パターンが異なる。
The following first to fifth embodiment examples have an irregular wavy uneven pattern on at least a part of one surface, and a linear Fresnel lens pattern as a linear uneven pattern on at least a part of the other surface. The present invention relates to a surface fine uneven sheet.
In the first to fifth embodiments, the wavy uneven patterns are different from each other.

以下の第6〜第15実施形態例は、一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有し、他方の表面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、リニア三角プリズムパターンを有する表面微細凹凸シートに関する。
これらのうち、第6〜第10実施形態例のリニア三角プリズムパターンは、「頂角一定型リニア三角プリズムパターン」であり、第11〜第15実施形態例のリニア三角プリズムパターンは、「頂角変動型リニア三角プリズムパターン」である。「頂角変動型リニア三角プリズムパターン」には、上述のように、パターン(A)とパターン(B)とがあるが、いずれも用いることができる。
第6〜第10実施形態例では、互いに、波状凹凸パターンが異なる。第11〜第15実施形態例では、互いに、波状凹凸パターンが異なる。
The following sixth to fifteenth embodiments have an irregular wavy uneven pattern on at least a part of one surface, and a linear triangular prism pattern as a linear uneven pattern on at least a part of the other surface. The present invention relates to a surface fine uneven sheet.
Among these, the linear triangular prism pattern of the sixth to tenth embodiment examples is a “constant apex linear triangular prism pattern”, and the linear triangular prism pattern of the eleventh to fifteenth embodiment examples is “vertical angle”. "Variable linear triangular prism pattern". As described above, the “vertical angle variation linear triangular prism pattern” includes the pattern (A) and the pattern (B), and any of them can be used.
In the sixth to tenth embodiments, the wavy uneven patterns are different from each other. In the 11th to 15th embodiments, the wavy uneven patterns are different from each other.

以下の第16〜第20実施形態例は、一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有し、他方の表面の少なくとも一部に、五面体パターンとして、頂角変動型変形五面体パターンを有する表面微細凹凸シートに関する。
なお、第16〜第20実施形態例では、頂角変動型変形五面体パターンが形成された例を示したが、該頂角変動型変形五面体パターンの代わりに、頂角変動型四角錐プリズムパターンが形成されていてもよい。また、頂角変動型変形五面体パターンの代わりに、頂角一定型四角錐プリズムパターンが形成されていてもよい。しかしながら、後述するように、第16〜第20実施形態例では、点光源からの光を集光レンズを通さずに入射させている。集光レンズを通さない場合、入射する光の入射角は場所による差が大きい。その点からは、頂角変動型変形五面体パターンまたは頂角変動型四角錐プリズムパターンが、輝度ムラを充分に抑制できる点等で好ましい。頂角一定型四角錐プリズムパターンは、集光レンズを用いている、たとえば第1〜5実施形態例において、リニアフレネルレンズパターンの代わりに採用してもよい。
第16〜第20実施形態例では、互いに、波状凹凸パターンが異なる。
The following sixteenth to twentieth embodiment examples have an irregular wavy uneven pattern on at least a portion of one surface, and a pentagonal variation type deformation pattern 5 as a pentahedral pattern on at least a portion of the other surface. The present invention relates to a surface fine uneven sheet having a face pattern.
In the sixteenth to twentieth embodiments, an example in which the apex angle variation deformed pentahedron pattern is formed is shown. Instead of the apex angle variation type deformable pentahedron pattern, the apex angle variation type pentagonal prism is used. A pattern may be formed. Further, a constant apex angle type quadrangular pyramid prism pattern may be formed instead of the apex angle variation type modified pentahedron pattern. However, as will be described later, in the sixteenth to twentieth embodiments, light from a point light source is incident without passing through a condenser lens. When the condensing lens is not passed, the incident angle of incident light varies greatly depending on the location. From this point, the apex angle variation type modified pentahedron pattern or the apex angle variation type tetragonal pyramid prism pattern is preferable in that brightness unevenness can be sufficiently suppressed. The constant apex angle type quadrangular pyramid prism pattern may employ a condensing lens, for example, in the first to fifth embodiments, instead of the linear Fresnel lens pattern.
In the sixteenth to twentieth embodiments, the wavy uneven patterns are different from each other.

なお、第16〜20実施形態例では、一方の表面の全面に波状凹凸パターンが形成され、他方の表面の全面に五面体パターンが形成されているが、一方の表面と他方の表面においてそれぞれパターンが形成されている領域は、少なくとも一部が互いに対応し、重なりあう位置に形成されていればよい。一方の表面および他方の表面の全面に、それぞれが形成されていなくてよい。   In the sixteenth to twentieth embodiments, a wavy uneven pattern is formed on the entire surface of one surface, and a pentahedral pattern is formed on the entire surface of the other surface, but the patterns are formed on one surface and the other surface, respectively. It is only necessary that at least a part of the region where the is formed corresponds to each other and is overlapped. Each may not be formed on the entire surface of one surface and the other surface.

以下の第21〜第25実施形態例は、一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有し、他方の表面の少なくとも一部に、同心円状凹凸パターンとして、フレネルレンズパターンを有する表面微細凹凸シートに関する。フレネルレンズパターンは、不規則な波状凹凸パターンが形成された部分に対応するように、形成される。波状凹凸パターンは、一方の表面の一部に形成され、全面に形成されていなくてもよい。
なお、第21〜第25実施形態例では、フレネルレンズパターンが形成された例を示したが、フレネルレンズパターンの代わりに、頂角変動型同心円状プリズムパターンまたは頂角一定型同心円状プリズムパターンが形成されていてもよい。しかしながら、後述するように、第21〜第25実施形態例では、点光源からの光を集光レンズを通さずに入射させている。集光レンズを通さない場合、入射する光の入射角は場所による差が大きい。その点からは、フレネルレンズパターンまたは頂角変動型同心円状プリズムパターンが、輝度ムラを充分に抑制できる点等で好ましい。頂角一定型同心円状プリズムパターンは、集光レンズを用いている、たとえば第1〜5実施形態例において、リニアフレネルレンズパターンの代わりに採用してもよい。
第21〜第25実施形態例では、互いに、波状凹凸パターンが異なる。
The following 21st to 25th embodiments have an irregular wavy uneven pattern on at least a part of one surface and a Fresnel lens pattern as a concentric uneven pattern on at least a part of the other surface. It relates to a surface fine uneven sheet. The Fresnel lens pattern is formed so as to correspond to a portion where the irregular wavy uneven pattern is formed. The wavy uneven pattern is formed on a part of one surface and may not be formed on the entire surface.
In the 21st to 25th embodiments, an example in which a Fresnel lens pattern is formed has been shown. It may be formed. However, as will be described later, in the 21st to 25th embodiments, the light from the point light source is incident without passing through the condenser lens. When the condensing lens is not passed, the incident angle of incident light varies greatly depending on the location. From this point, a Fresnel lens pattern or a vertex angle variation type concentric prism pattern is preferable in that brightness unevenness can be sufficiently suppressed. The constant apex angle type concentric prism pattern may employ a condensing lens, for example, in the first to fifth embodiments, instead of the linear Fresnel lens pattern.
In the 21st to 25th embodiments, the wavy uneven patterns are different from each other.

以下の第26〜28実施形態例は、一方の表面の少なくとも一部に線状凹凸パターンを有し、該線状凹凸パターン上の少なくとも一部に、不規則な波状凹凸パターンが形成された表面微細凹凸シートに関する。波状凹凸パターンは、一方の表面の一部に形成され、全面に形成されていなくてもよい。
第26〜28実施形態例では、互いに、線状凹凸パターンが異なり、線状凹凸パターンとして、第26実施形態例ではリニアフレネルレンズパターンが形成され、第27実施形態例では頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成され、第28実施形態例では頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成されている。
なお、第26〜第28実施形態例では、製造の容易性等の点から、線状凹凸パターン上に波状凹凸パターンが形成されている形態を示した。しかしながら、目的等に応じて、線状凹凸パターンの代わりに、五面体パターンを形成し、その上に波状凹凸パターンが形成されていてもよいし、線状凹凸パターンの代わりに、同心円状凹凸パターンを形成し、その上に波状凹凸パターンが形成されていてもよい。
In the following twenty-sixth to twenty-eighth embodiment examples, a surface having a linear concavo-convex pattern on at least a part of one surface and an irregular wavy concavo-convex pattern formed on at least a part of the linear concavo-convex pattern It relates to a fine uneven sheet. The wavy uneven pattern is formed on a part of one surface and may not be formed on the entire surface.
In the twenty-sixth to twenty-eighth embodiment examples, the linear concavo-convex patterns are different from each other, and as the linear concavo-convex pattern, a linear Fresnel lens pattern is formed in the twenty-sixth embodiment example, and in the twenty-seventh embodiment example, a constant vertex angle type linear triangle A prism pattern is formed, and in the twenty-eighth embodiment, an apex angle variation type linear triangular prism pattern is formed.
In the twenty-sixth to twenty-eighth embodiments, the form in which the wavy uneven pattern is formed on the linear uneven pattern is shown in terms of ease of manufacture and the like. However, depending on the purpose, a pentahedral pattern may be formed instead of the linear uneven pattern, and a wavy uneven pattern may be formed thereon, or a concentric uneven pattern instead of the linear uneven pattern. And a wavy uneven pattern may be formed thereon.

以下の各例では、表面微細凹凸シートとして1層構造のものを示しているが、表面微細凹凸シートは1層構造のものに限定されず、2層以上からなる多層構造でもよい。   In each of the following examples, the surface fine uneven sheet has a one-layer structure, but the surface fine uneven sheet is not limited to a single layer structure, and may have a multilayer structure including two or more layers.

<第1〜第5実施形態例>
〔第1実施形態例〕
図1は、本実施形態例の表面微細凹凸シートを模式的に示す斜視図である。
図示例の表面微細凹凸シート10Aは、透明な樹脂から構成される1層構造のシートであり、一方の表面が波状凹凸パターン形成面11であり、他方の表面が、リニアフレネルレンズパターン12Aが形成された線状凹凸パターン形成面12とされている。そして、波状凹凸パターンの主拡散方向と、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの延在方向との成す角度(以下、「交差角度」ともいう。)が、波状凹凸パターンを平面視した場合において、±20°の範囲内、すなわち、−20°〜+20°とされている。 図1の例においては、波状凹凸パターンの主拡散方向と、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの延在方向のいずれもが、図中矢印Aで示す方向(A方向)であって、これらの成す角度が0°(平行)である。
<First to Fifth Embodiments>
[First Embodiment]
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a surface fine uneven sheet according to this embodiment.
The surface fine concavo-convex sheet 10A in the illustrated example is a sheet having a single layer structure made of a transparent resin, one surface is a wavy concavo-convex pattern forming surface 11, and the other surface is a linear Fresnel lens pattern 12A The line-shaped uneven pattern forming surface 12 is formed. The angle formed between the main diffusion direction of the wavy uneven pattern and the extending direction of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A (hereinafter also referred to as “intersection angle”) is a plan view of the wavy uneven pattern. In the range of ± 20 °, that is, −20 ° to + 20 °. In the example of FIG. 1, both the main diffusion direction of the wavy uneven pattern and the extending direction of the convex portion 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A are directions (A direction) indicated by an arrow A in the figure, The angle formed by these is 0 ° (parallel).

詳しくは後述するが、波状凹凸パターンは、主に、視野角確保効果、輝度ムラ解消効果を奏し、リニアフレネルレンズパターン12Aは、主に、正面輝度向上効果を奏する。   As will be described in detail later, the wavy uneven pattern mainly has a viewing angle ensuring effect and a luminance unevenness eliminating effect, and the linear Fresnel lens pattern 12A mainly has a front luminance improving effect.

[波状凹凸パターン]
第1実施形態例の表面微細凹凸シート10Aは、波状凹凸パターン形成面11に、先に説明した波状凹凸パターン(1)に該当する波状凹凸パターン(1A)が形成されている。
図2は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像であり、図3は、波状凹凸パターン形成面の原子間力顕微鏡による三次元画像である。 図4は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン(1A)を示すものであって、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン(1A)の凸条部の配列方向に沿って切断した縦断面図である。
図4に示すように、凸条部11aの上記縦断面形状は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。また、各凸条部11aの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。また、各凸条部11aの上記縦断面形状において、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降している。また、各凸条部11aは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部11aの延在方向(筋状に延びている方向)に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部11aにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、隣り合う凸条部11a間の各凹条部において、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
[Wavy uneven pattern]
In the surface fine concavo-convex sheet 10 </ b> A of the first embodiment, the undulating concavo-convex pattern (1 </ b> A) corresponding to the undulating concavo-convex pattern (1) described above is formed on the undulating concavo-convex pattern forming surface 11.
FIG. 2 is an optical microscope image of a wavy uneven pattern forming surface of the surface fine uneven sheet of this embodiment example, and FIG. 3 is a three-dimensional image of the wavy uneven pattern forming surface by an atomic force microscope. FIG. 4 shows a wavy uneven pattern (1A) of the surface fine uneven sheet according to the present embodiment, which is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet and is a convex line of the wave uneven pattern (1A). It is the longitudinal cross-sectional view cut | disconnected along the sequence direction of a part.
As shown in FIG. 4, the said longitudinal cross-sectional shape of the protruding item | line part 11a is mutually different, and is not uniform but irregular. In addition, the vertical cross-sectional shape of each ridge portion 11a is a tapered shape in which each of the ridges 11a is tapered from the proximal end side toward the distal end side, and the distal end is rounded. Moreover, in the vertical cross-sectional shape of each protruding line portion 11a, the line connecting the distal end side and the proximal end side is smoothly and continuously lowered from the distal end side toward the proximal end side. In addition, each ridge 11a has at least one of the above-described vertical cross-sectional shape and its area changed along the extending direction of the ridge 11a (direction extending in a streak shape), It is not constant.
Moreover, in each protruding item | line part 11a, the height of a ridgeline is not constant, but has the height difference which changes continuously. However, the part which does not have a height difference partially may be included.
Moreover, in each concave line part between the adjacent convex line parts 11a, the height of a trough line is not constant, but has a height difference which changes continuously. However, the part which does not have a height difference partially may be included.

波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの平均ピッチは、1〜50μmであることが好ましく、5〜30μmであることがより好ましく、8〜20μmであることがより好ましい。平均ピッチが上記範囲の下限値以上であると、表面微細凹凸シート10Aを容易に製造できる。平均ピッチが上記範囲の上限値以下であると、表面微細凹凸シート10Aを照明装置に使用した場合に、波状凹凸パターン(1A)が好ましくない輝線として視認されにくい。また、平均ピッチが上記範囲内であると、主拡散方向に充分な拡散角度を示す。
なお、平均ピッチは、図2のような、凸条部11aが20本以上含まれる波状凹凸パターン形成面11の平面画像を得て、隣り合う凸条部11aの20本分について、凸条部11aの配列方向に沿う長さを5箇所測定し、測定値の平均値を20で割ることにより求めることができる。
また、平均ピッチは、次の方法でも求められる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面11の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル(例えば、tiff形式等。)に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、たとえば特開2008−302591号公報(特許第4683011号公報)等に記載されており、これを参照できる。なお、該公報の段落[0024]にも記載のとおり、当該方法で求められる最頻ピッチと、上記平均ピッチは、同等に扱うことができる。以下、各実施形態例においても同様である。
The average pitch of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is preferably 1 to 50 μm, more preferably 5 to 30 μm, and more preferably 8 to 20 μm. When the average pitch is not less than the lower limit of the above range, the surface fine uneven sheet 10A can be easily produced. When the average pitch is less than or equal to the upper limit of the above range, when the surface fine uneven sheet 10A is used in a lighting device, the wavy uneven pattern (1A) is difficult to be visually recognized as an undesirable bright line. Further, when the average pitch is within the above range, a sufficient diffusion angle is exhibited in the main diffusion direction.
In addition, as for average pitch, as shown in FIG. 2, the planar image of the wavy uneven | corrugated pattern formation surface 11 in which 20 or more of the protruding item | line parts 11a are contained is obtained, and it is protruding item | line part about 20 of adjacent protruding item | line parts 11a. It can be obtained by measuring the length along the arrangement direction of 11a at five locations and dividing the average value of the measured values by 20.
The average pitch can also be obtained by the following method.
That is, the upper surface of the wavy uneven pattern forming surface 11 is photographed with an optical microscope or an electron microscope, the image is converted into a grayscale file (for example, tiff format), and then the image of the grayscale file is Fourier transformed. Then, the pitch is obtained by image analysis of the Fourier transform image. This method is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-302591 (Japanese Patent No. 4683011), and the like can be referred to. As described in paragraph [0024] of the publication, the most frequent pitch obtained by the method and the average pitch can be handled equally. The same applies to each embodiment below.

波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの平均ピッチに対する平均高さの比、すなわちアスペクト比(平均高さ/平均ピッチ)は、0.05〜3.0であることが好ましく、0.1〜2.0であることがより好ましく、0.3〜1.0であることがさらに好ましい。アスペクト比が上記範囲の下限値以上であると、波状凹凸パターン(1A)により視野角確保効果、輝度ムラ解消効果が充分に得られる。アスペクト比が上記範囲の上限値以下であると、波状凹凸パターン(1A)を容易に形成できる。   The ratio of the average height to the average pitch of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A), that is, the aspect ratio (average height / average pitch) is preferably 0.05 to 3.0, 0.1 It is more preferable that it is -2.0, and it is further more preferable that it is 0.3-1.0. When the aspect ratio is at least the lower limit of the above range, the viewing angle ensuring effect and the luminance unevenness eliminating effect are sufficiently obtained by the wavy uneven pattern (1A). When the aspect ratio is not more than the upper limit of the above range, the wavy uneven pattern (1A) can be easily formed.

凸条部11aの平均高さは次のように求める。
たとえばミクロトームを用いて、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断した切断面を有する薄片サンプルを得て、該薄片サンプルの切断面の光学顕微鏡画像を得る。そして、該光学顕微鏡画像の切断面から、ランダムに50個の凸条部を選択し、これら各凸条部の高さHを求める。
具体的には、図4に示すように、1つの凸条部11aの頂部Tと該凸条部11aの一方側に位置する凹条部の底部B1との垂直距離をLiとし、該凸条部11aの頂部Tと該凸条部11aの他方側に位置する凹条部の底部B2との垂直距離をRiとした場合に、H=(Li+Ri)/2で求められるのが、その凸条部11aの高さである。
このようにして求めた50個の凸条部の高さの平均値が「凸条部の平均高さ」である。
The average height of the ridges 11a is obtained as follows.
For example, using a microtome, a thin piece sample having a cut surface parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet and cut along the arrangement direction of the ridges is obtained, and an optical microscope of the cut surface of the thin sample is obtained. Get an image. Then, 50 ridges are randomly selected from the cut surface of the optical microscope image, and the height H of each ridge is obtained.
Specifically, as shown in FIG. 4, the vertical distance between the top T of one ridge 11a and the bottom B1 of the ridge located on one side of the ridge 11a is Li, and the ridge When the vertical distance between the top portion T of the portion 11a and the bottom B2 of the concave portion located on the other side of the convex portion 11a is Ri, it is obtained by H = (Li + Ri) / 2. It is the height of the part 11a.
The average value of the heights of the 50 ridges thus obtained is the “average height of the ridges”.

本実施形態例の表面微細凹凸シート10Aにおいて、波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができ、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な方向(図1中のA方向)である。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば10°以上であることが好ましく、15°以上であることがより好ましい。また、たとえば40°以下であることが好ましく、30°以下であることがより好ましい。
一方、主拡散方向に対して直交する方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さく、かつ、たとえば2°以上であることが好ましい。また、たとえば15°以下であることが好ましい。
主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、凸条部の平均ピッチ、アスペクト比(平均高さ/平均ピッチ)等を調整すること等により制御できる。
In the surface fine concavo-convex sheet 10A of the present embodiment example, the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A) can be obtained by the method described above, and in the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A). It is a parallel direction (A direction in FIG. 1).
The diffusion angle in the main diffusion direction can be adjusted as appropriate, but is preferably 10 ° or more, for example, and more preferably 15 ° or more. For example, it is preferably 40 ° or less, and more preferably 30 ° or less.
On the other hand, the direction orthogonal to the main diffusion direction is a “low diffusion direction” with a low diffusion angle.
The diffusion angle in the low diffusion direction can be adjusted as appropriate, but is preferably smaller than the diffusion angle in the main diffusion direction and, for example, 2 ° or more. For example, it is preferably 15 ° or less.
The diffusion angle in the main diffusion direction and the diffusion angle in the low diffusion direction can be controlled by adjusting the average pitch of the protrusions, the aspect ratio (average height / average pitch), and the like.

主拡散方向の拡散角度と、低拡散方向の拡散角度とがそれぞれ上記範囲内の波状凹凸パターン(1A)であれば、該パターンが形成されたシートに光を入射させた際に、主拡散方向に光が充分に拡散しつつ低拡散方向にも光が拡散する。そのため、このような波状凹凸パターン(1A)は、主拡散方向および低拡散方向のそれぞれについての視野角確保効果に優れるとともに、LED光源、レーザー光源等の直進性の高い光源を照明装置等に用いた際の輝度ムラ解消効果にも優れる。   If the diffusion angle in the main diffusion direction and the diffusion angle in the low diffusion direction are each in the wavy uneven pattern (1A) within the above range, when the light is incident on the sheet on which the pattern is formed, the main diffusion direction The light diffuses in the low diffusion direction while the light is sufficiently diffused. Therefore, such a wavy uneven pattern (1A) is excellent in the effect of securing the viewing angle in each of the main diffusion direction and the low diffusion direction, and uses a light source having high straightness such as an LED light source and a laser light source for an illumination device or the like. Excellent brightness unevenness elimination effect.

[線状凹凸パターン(リニアフレネルレンズパターン)]
図5(a)は、リニアフレネルレンズパターン12Aを説明する図であって、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの配列方向に沿って切断した縦断面図である。リニアフレネルレンズは、図5(b)に示すシリンドリカルレンズの凸レンズの領域を分割することにより、厚みを減らしつつ、凸レンズと同様のレンズ効果を奏するようにしたものである。
リニアフレネルレンズパターン12Aにおいて、凸レンズの領域を分割している分割線の方向は、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの延在方向に相当する。
[Linear uneven pattern (Linear Fresnel lens pattern)]
Fig.5 (a) is a figure explaining 12 A of linear Fresnel lens patterns, Comprising: It is the longitudinal cross-sectional view cut | disconnected along the sequence direction of the convex part 12a of 12 A of linear Fresnel lens patterns. The linear Fresnel lens has the same lens effect as the convex lens while reducing the thickness by dividing the convex lens region of the cylindrical lens shown in FIG. 5B.
In the linear Fresnel lens pattern 12A, the direction of the dividing line that divides the convex lens region corresponds to the extending direction of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A.

リニアフレネルレンズパターン12Aの作用について、図6を用いて説明する。
図6は、一方の面がリニアフレネルレンズパターン12Aが形成された面(図6中下側の面)であり、他方の面が平滑面13であるシートである。このシートのリニアフレネルレンズパターン12Aに対して、集光レンズ20を通して、たとえばLED光源、レーザー光源等の点光源21からの光を入射させた場合、光の進行ベクトルのうち、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの配列方向(図中m方向)とリニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向(図中n方向)とからなる面内成分は、リニアフレネルレンズパターン形成面の法線方向(図中n方向)と平行になるように屈折し、図6中Xで示す矢印のように、平滑面13から出射する。すなわち、光の向きが正面に向けて立ち上がる。リニアフレネルレンズパターン12Aは、このような集光機能により正面輝度向上効果を奏する。
リニアフレネルレンズパターン12Aは、たとえば、後述するリニア三角プリズムパターンに比べて、より集光機能が高く、正面輝度向上効果により優れる。また、光の向きを揃えやすく、光のロスも少ない。また、輝度ムラと正面輝度の両立効果にも優れる。
The operation of the linear Fresnel lens pattern 12A will be described with reference to FIG.
FIG. 6 is a sheet in which one surface is a surface on which the linear Fresnel lens pattern 12 </ b> A is formed (the lower surface in FIG. 6) and the other surface is a smooth surface 13. When light from a point light source 21 such as an LED light source or a laser light source is incident on the linear Fresnel lens pattern 12A of this sheet through the condenser lens 20, the linear Fresnel lens pattern 12A among the light traveling vectors. The in-plane component consisting of the arrangement direction of the ridges 12a (m direction in the figure) and the normal direction of the linear Fresnel lens pattern 12A formation surface (n direction in the figure) The light is refracted so as to be parallel to (n direction in the figure), and is emitted from the smooth surface 13 as indicated by an arrow X in FIG. That is, the direction of light rises toward the front. The linear Fresnel lens pattern 12A has an effect of improving the front luminance by such a light collecting function.
For example, the linear Fresnel lens pattern 12A has a higher light condensing function than the linear triangular prism pattern described later, and is more excellent in the front luminance improvement effect. In addition, it is easy to align the direction of light and there is little loss of light. Moreover, it is excellent also in the effect of coexistence of luminance unevenness and front luminance.

リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aのピッチ、凸条部12aの先端面12a’の傾斜角度等は、集光レンズ20から出射する光の照射角に応じて設計される。すなわち、集光レンズ20から出射した光の好ましくは全光線について、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの配列方向とリニアフレネルレンズ12A形成面の法線方向を含む面内成分が、リニアフレネルレンズ形成面の法線方向に平行になるように屈折して平滑面13から出射するように、設計されることが好ましい。   The pitch of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A, the inclination angle of the tip surface 12a 'of the ridges 12a, and the like are designed according to the irradiation angle of the light emitted from the condenser lens 20. That is, the in-plane component including the arrangement direction of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A and the normal direction of the surface on which the linear Fresnel lens 12A is formed is preferably the linear Fresnel for all the light emitted from the condenser lens 20 It is preferably designed to be refracted so as to be parallel to the normal direction of the lens forming surface and to exit from the smooth surface 13.

集光レンズ20から出射する光の照射角は、2〜50°であることが好ましく、5〜40°がより好ましく、10〜30°がさらに好ましい。該照射角が上記範囲の下限値以上であると、集光レンズ20から出射した光の広がりが充分であり、表面微細凹凸シート10Aから出射する光の輝度ムラが解消される。該照射角が上記範囲の上限値以下であると、集光レンズ20から出射した光の進行ベクトルのうち、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの配列方向とリニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向とからなる面内成分を、リニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向と平行になるように屈折させる効果を充分に有し、正面輝度向上効果に優れる。   The irradiation angle of the light emitted from the condenser lens 20 is preferably 2 to 50 °, more preferably 5 to 40 °, and still more preferably 10 to 30 °. When the irradiation angle is equal to or greater than the lower limit of the above range, the light emitted from the condenser lens 20 is sufficiently spread, and the luminance unevenness of the light emitted from the surface fine uneven sheet 10A is eliminated. When the irradiation angle is equal to or less than the upper limit of the above range, out of the traveling vectors of the light emitted from the condenser lens 20, the arrangement direction of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A and the linear Fresnel lens pattern 12A formation surface The in-plane component composed of the normal direction is sufficiently refracted so as to be parallel to the normal direction of the surface on which the linear Fresnel lens pattern 12A is formed, and the front luminance improvement effect is excellent.

リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aのピッチは、上述のとおり、適宜設計されるが、たとえば5〜500μmであることが好ましい。該ピッチが上記範囲の下限値以上であると、リニアフレネルレンズパターン12Aを良好に形成でき、上記範囲の上限値以下であると、表面微細凹凸シート10Aを照明装置に使用した場合に、リニアフレネルレンズパターン12Aが好ましくない輝線として視認されにくい。   The pitch of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A is appropriately designed as described above, but is preferably 5 to 500 μm, for example. When the pitch is equal to or greater than the lower limit value of the above range, the linear Fresnel lens pattern 12A can be formed satisfactorily, and when the pitch is equal to or smaller than the upper limit value of the above range, when the surface fine uneven sheet 10A is used in a lighting device, The lens pattern 12A is difficult to be visually recognized as an undesirable bright line.

[表面微細凹凸シート]
本実施形態例の表面微細凹凸シート10Aは、波状凹凸パターンの主拡散方向(図1中のA方向)と、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が、波状凹凸パターンを平面視した場合において、±20°の範囲内である。
そのため、本実施形態例の表面微細凹凸シート10Aを、複数の点光源が並んで形成される光源列と特定の位置関係になるように組み合わせて使用した場合には、後述するように、波状凹凸パターンによる視野角確保効果および輝度ムラ解消効果と、リニアフレネルレンズパターン12Aによる正面輝度向上効果が得られる。その結果、上述のような光源列を使用した場合に顕著になりやすい、点光源が有る位置と、点光源間の光源の無い位置との輝度の差(輝度ムラ)を抑制しつつ、正面輝度の低下も抑えることができる。また、視野角確保効果も得ることができる。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。
[Surface micro uneven sheet]
The surface fine concavo-convex sheet 10A of the present embodiment example is an angle formed between the main diffusion direction of the wavy concavo-convex pattern (A direction in FIG. 1) and the extending direction of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A, that is, The crossing angle is within a range of ± 20 ° when the wavy uneven pattern is viewed in plan.
Therefore, when the surface fine unevenness sheet 10A of the present embodiment is used in combination with a light source array formed by arranging a plurality of point light sources so as to have a specific positional relationship, as will be described later, the wavy unevenness The effect of securing the viewing angle by the pattern and the effect of eliminating the uneven brightness and the effect of improving the front brightness by the linear Fresnel lens pattern 12A are obtained. As a result, front luminance is suppressed while suppressing the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source is present and the position where there is no light source between the point light sources, which is likely to be noticeable when the light source array as described above is used. Can also be suppressed. In addition, a viewing angle securing effect can be obtained. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

表面微細凹凸シート10Aの厚みは、接触式膜厚計で測定した厚みとして、20〜5000μmの範囲が好ましく、50〜3000μmがより好ましい。
表面微細凹凸シート10Aの材質については、後述する。
The thickness of the surface fine uneven sheet 10A is preferably in the range of 20 to 5000 μm, more preferably 50 to 3000 μm, as the thickness measured with a contact-type film thickness meter.
The material of the surface fine uneven sheet 10A will be described later.

[表面微細凹凸シートの製造方法]
本実施形態例の1層構造の表面微細凹凸シート10Aは、たとえば、以下の製造方法(A)により製造できる。また、多層構造の表面微細凹凸シートは、たとえば、以下の製造方法(B)により製造できる。また、製造方法(A)の一部と製造方法(B)の一部とを組み合わせた方法によっても製造できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン(1A)の形成には、特開2008−302591号公報(特許第4683011号公報)等を参照できる。
[Method for manufacturing surface uneven surface sheet]
10 A of surface fine unevenness | corrugation sheets of 1 layer structure of this embodiment example can be manufactured with the following manufacturing methods (A), for example. Moreover, the surface fine uneven sheet | seat of a multilayer structure can be manufactured with the following manufacturing methods (B), for example. Moreover, it can manufacture also by the method which combined a part of manufacturing method (A) and a part of manufacturing method (B).
In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-302591 (Patent No. 4683011) and the like can be referred to for the formation of the wavy uneven pattern (1A) of the present embodiment example.

(製造方法(A))
製造方法(A)は、以下の工程(a1)、工程(a2)および工程(a3)を有する。 工程(a1):
波状凹凸パターン(1A)の転写形状(反転形状)を表面に有する原版(W)を製造する工程(a1)。
工程(a2):
リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造する工程(a2)。
工程(a3):
原版(W)の上記転写形状が形成された面と、原版(L1)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1A)が形成され、他方の面にリニアフレネルレンズパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る工程(a3)。
(Manufacturing method (A))
The production method (A) includes the following steps (a1), (a2), and (a3). Step (a1):
A step (a1) of producing an original plate (W) having a transfer shape (inverted shape) of the wavy uneven pattern (1A) on the surface.
Step (a2):
A step (a2) of producing an original plate (L1) having a linear Fresnel lens pattern transfer shape (inverted shape) on its surface.
Step (a3):
A wavy uneven pattern (on one surface) is formed on one surface by an injection molding method in which a resin is injected between the surface of the original plate (W) where the transfer shape is formed and the surface of the original plate (L1) where the transfer shape is formed. A step (a3) of obtaining a surface fine uneven sheet in which 1A) is formed and a linear Fresnel lens pattern is formed on the other surface.

工程(a1):
工程(a1)としては、たとえば、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑で少なくとも1種の樹脂から構成される硬質層を少なくとも1層積層させて、積層フィルムを得る工程(a1−1)と、積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、表面に波状凹凸パターン(1A)が形成された凹凸パターン形成シートを得る工程(a1−2)と、該凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面にニッケル等の金属を堆積させた後に剥離し、波状凹凸パターン(1A)の転写形状が転写された原版(W)を得る工程(a1−3)とを有する工程等が挙げられる。
なお、硬質層は、加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させる温度条件下で軟化しない層である。軟化しないとは、硬質層のヤング率が100MPa以上であることを意味する。
Step (a1):
As the step (a1), for example, at least one hard layer having a smooth surface and composed of at least one kind of resin is laminated on one surface of the heat-shrinkable resin film to obtain a laminated film (a1-1). ) And a process of obtaining a concavo-convex pattern-forming sheet in which the hard layer is deformed by being folded by heating the laminated film and shrinking the heat-shrinkable resin film to form a wavy concavo-convex pattern (1A) on the surface ( a1-2) and a step of obtaining a master (W) on which a transfer shape of the wavy uneven pattern (1A) is transferred after depositing a metal such as nickel on the surface of the hard layer side of the uneven pattern forming sheet And a process having (a1-3).
In addition, a hard layer is a layer which does not soften under the temperature conditions which shrink | contract a heat-shrinkable resin film. Not softening means that the Young's modulus of the hard layer is 100 MPa or more.

工程(a1−1):
加熱収縮性樹脂フィルムとは、80〜180℃の温度で加熱した際、特定の方向に収縮(シュリンク)するフィルムのことを意味する。このようなフィルムとしては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニリデン系シュリンクフィルムなどを用いることができる。また、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン樹脂、フッ素樹脂、ABS樹脂、ポリアミド、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィンなどの樹脂から構成されるフィルムも挙げられる。
耐熱性の点では、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルムが好ましい。
本実施形態例では、加熱収縮性樹脂フィルムとして、1軸延伸フィルムを用いる。1軸延伸は、縦延伸、横延伸のいずれであってもよい。
Step (a1-1):
The heat-shrinkable resin film means a film that shrinks (shrinks) in a specific direction when heated at a temperature of 80 to 180 ° C. As such a film, for example, a polyethylene terephthalate shrink film, a polystyrene shrink film, a polyolefin shrink film, a polyvinyl chloride shrink film, a polyvinylidene chloride shrink film, or the like can be used. Moreover, the film comprised from resins, such as silicone resins, such as polydimethylsiloxane, fluororesin, ABS resin, polyamide, an acrylic resin, a polycarbonate, and polycycloolefin, is also mentioned.
From the viewpoint of heat resistance, a polyethylene terephthalate shrink film and a polystyrene shrink film are preferred.
In this embodiment, a uniaxially stretched film is used as the heat-shrinkable resin film. Uniaxial stretching may be either longitudinal stretching or lateral stretching.

加熱収縮性樹脂フィルムは、延伸倍率1.1〜15倍で延伸されていることが好ましく、1.3〜10倍で延伸されていることがより好ましい。
また、加熱収縮性樹脂フィルムとしては、収縮率が20〜90%のフィルムが好ましく、30〜80%のフィルムがより好ましい。収縮率が前記下限値以上であれば、凹凸パターン形成シートをより容易に製造できる。収縮率が上限値を超える加熱収縮性樹脂フィルムは製造が困難である。
The heat-shrinkable resin film is preferably stretched at a stretch ratio of 1.1 to 15 times, more preferably 1.3 to 10 times.
Moreover, as a heat-shrinkable resin film, a film with a shrinkage rate of 20 to 90% is preferable, and a film with 30 to 80% is more preferable. If the shrinkage rate is equal to or higher than the lower limit value, the uneven pattern forming sheet can be more easily produced. It is difficult to produce a heat-shrinkable resin film having a shrinkage rate exceeding the upper limit.

本明細書において、収縮率とは、下記で定義される。
(収縮率[%])={(収縮前の長さ)−(収縮後の長さ)}×100/(収縮前の長さ)(ただし、長さは加熱収縮性樹脂フィルムの収縮方向の長さである。)
In the present specification, the shrinkage rate is defined as follows.
(Shrinkage [%]) = {(Length before shrinkage) − (Length after shrinkage)} × 100 / (Length before shrinkage) (However, the length is the shrinkage direction of the heat shrinkable resin film Length.)

加熱収縮性樹脂フィルムは、硬質層を容易に形成できることから、表面が平滑であることが好ましい。   Since the heat-shrinkable resin film can easily form a hard layer, the surface is preferably smooth.

加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂(以下、「樹脂L」ともいう。)のガラス転移温度Tgは、−40〜200℃であることが好ましく、60〜150℃であることがより好ましい。ガラス転移温度は示差熱分析等により測定できる。ガラス転移温度Tgが上記範囲内であれば、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。すなわち、Tgが上記範囲内であれば、樹脂Lから構成される加熱収縮性樹脂フィルムを80〜180℃の温度で加熱収縮させることができるため、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。 The glass transition temperature Tg 1 of a resin constituting the heat-shrinkable resin film (hereinafter also referred to as “resin L”) is preferably −40 to 200 ° C., and more preferably 60 to 150 ° C. The glass transition temperature can be measured by differential thermal analysis or the like. When the glass transition temperature Tg 1 is within the above range, the uneven pattern forming sheet can be more easily produced. That is, if Tg 1 is within the above range, the heat-shrinkable resin film composed of the resin L can be heat-shrinked at a temperature of 80 to 180 ° C., and thus a concavo-convex pattern forming sheet can be produced more easily.

加熱収縮性樹脂フィルムの厚みは30〜500μmであることが好ましい。上記範囲内であれば、破れにくく薄型化もできる。なお、厚みは、得られた凹凸パターン形成シートをシート面に対して垂直に切った断面(縦断面)の顕微鏡写真から、10カ所以上無作為に抽出して、加熱収縮性樹脂フィルムの厚さを測定した際の、得られた各数値の平均値である。   The thickness of the heat-shrinkable resin film is preferably 30 to 500 μm. If it is in the above-mentioned range, it is hard to break and can be thinned. The thickness of the heat-shrinkable resin film was randomly extracted from 10 or more micrographs of a cross section (longitudinal cross section) obtained by cutting the obtained uneven pattern forming sheet perpendicularly to the sheet surface. It is the average value of each obtained numerical value when measuring.

樹脂Lのヤング率は、加熱収縮させる工程(a1−2)の温度、すなわち、80〜180℃の温度範囲において、0.01〜100MPaであることが好ましく、0.1〜10MPaであることがより好ましい。樹脂Lのヤング率が前記下限値以上であれば、実用上使用可能な硬さであり、前記上限値以下であれば、硬質層が変形する際に同時に追従して変形可能な軟らかさである。   The Young's modulus of the resin L is preferably 0.01 to 100 MPa and preferably 0.1 to 10 MPa in the temperature of the step (a1-2) for heat shrinking, that is, in the temperature range of 80 to 180 ° C. More preferred. If the Young's modulus of the resin L is equal to or higher than the lower limit value, it is a practically usable hardness, and if it is equal to or lower than the upper limit value, it is soft enough to follow and deform simultaneously when the hard layer is deformed. .

上述のようなTgおよびヤング率を有する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂およびポリ塩化ビニル系樹脂等が挙げられ、これらの1種以上を好適に使用できる。 Examples of the resin having Tg 1 and Young's modulus as described above include polyethylene terephthalate resin, polystyrene resin, and polyvinyl chloride resin, and one or more of these can be suitably used.

硬質層を構成する樹脂(以下、「樹脂M」ともいう。)としては、たとえば、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体などの1種以上を使用できる。   As the resin constituting the hard layer (hereinafter also referred to as “resin M”), for example, one or more of acrylic resin, styrene-acrylic copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, and the like can be used.

樹脂Mは、凹凸パターン形成シートを容易に形成できる点では、樹脂Mのガラス転移温度Tg2Mと樹脂Lのガラス転移温度Tgとの差(Tg2M−Tg)が10℃以上であることが好ましく、15℃以上であることがより好ましく、20℃以上であることが特に好ましい。 Resin M is such that the difference between the glass transition temperature Tg 2M of resin M and the glass transition temperature Tg 1 of resin L (Tg 2M −Tg 1 ) is 10 ° C. or higher in that an uneven pattern forming sheet can be easily formed. Is more preferable, 15 ° C. or higher is more preferable, and 20 ° C. or higher is particularly preferable.

樹脂Mのガラス転移温度Tg2Mは、40〜400℃の範囲内にあることが好ましく、80〜250℃の範囲内にあることがより好ましい。Tg2Mが前記範囲内であれば、凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
樹脂Mのヤング率は、加熱収縮させる工程(a1−2)の温度(80〜180℃)において、0.01〜300GPaの範囲内にあることが好ましく、0.1〜10GPaの範囲内にあることがより好ましい。樹脂Mのヤング率が上記下限値以上であれば、波状凹凸パターン(1A)の形状を維持するのに充分な硬さであり、上限値以下であれば、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。
The glass transition temperature Tg 2M of the resin M is preferably in the range of 40 to 400 ° C., and more preferably in the range of 80 to 250 ° C. If Tg 2M is within the above range, the uneven pattern forming sheet can be easily produced.
The Young's modulus of the resin M is preferably in the range of 0.01 to 300 GPa and preferably in the range of 0.1 to 10 GPa at the temperature (80 to 180 ° C.) of the step (a1-2) for heat shrinking. It is more preferable. If the Young's modulus of the resin M is not less than the above lower limit value, the hardness is sufficient to maintain the shape of the wavy uneven pattern (1A). it can.

硬質層の厚さは、0.05μmを超え10.0μm以下とすることが好ましく、0.5〜3.0μmとすることがより好ましい。硬質層の厚さを上記範囲にすることにより、光拡散性の点で、波状凹凸パターン(1A)の平均ピッチが適切な範囲となる。   The thickness of the hard layer is preferably more than 0.05 μm and not more than 10.0 μm, and more preferably 0.5 to 3.0 μm. By setting the thickness of the hard layer in the above range, the average pitch of the wavy uneven pattern (1A) becomes an appropriate range in terms of light diffusibility.

硬質層の厚さは連続的に変化していても構わない。硬質層の厚さが連続的に変化している場合には、工程(a1−2)後に形成される波状凹凸パターン(1A)のピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。   The thickness of the hard layer may be continuously changed. When the thickness of the hard layer is continuously changed, the pitch and depth of the wavy uneven pattern (1A) formed after the step (a1-2) are continuously changed.

硬質層を設け、積層フィルムを得る方法としては、樹脂Mを含む硬質層形成用塗料を加熱収縮性樹脂フィルムに連続的に塗工し、乾燥する方法が挙げられる。
硬質層形成用塗料の調製方法としては、トルエン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等の1種以上の溶媒で、樹脂Mを希釈する方法等が挙げられる。硬質層形成用塗料の固形分濃度(樹脂Mの濃度:硬質層形成用塗料の質量(100質量%)に対して、該塗料中の溶媒が揮発した後に残る固形分の質量の比率)は、塗料の総質量に対して1〜15質量%であることが好ましく、5〜10質量%であることがより好ましい。
Examples of a method for providing a hard film by providing a hard layer include a method in which a hard layer-forming coating material containing resin M is continuously applied to a heat-shrinkable resin film and dried.
Examples of the method for preparing the hard layer forming coating include a method in which the resin M is diluted with one or more solvents such as toluene, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. The solid content concentration of the hard layer forming paint (concentration of the resin M: the ratio of the solid content remaining after the solvent in the paint volatilizes to the mass of the hard layer forming paint (100% by mass)) is: It is preferable that it is 1-15 mass% with respect to the total mass of a coating material, and it is more preferable that it is 5-10 mass%.

塗料の塗工方法としては、たとえば、エアナイフコーティング、ロールコーティング、ブレードコーティング、メイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、キャストコーティング、カーテンコーティング、ダイスロットコーティング、ゲートロールコーティング、サイズプレスコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等が挙げられる。   Examples of paint coating methods include air knife coating, roll coating, blade coating, Mayer bar coating, gravure coating, spray coating, cast coating, curtain coating, die slot coating, gate roll coating, size press coating, spin coating, Examples include dip coating.

乾燥方法としては、熱風、赤外線等を用いた加熱乾燥法が挙げられる。
加熱収縮性樹脂フィルムへの樹脂溶液の乾燥塗工量は、1〜10g/mにすることが好ましい。上記範囲内であれば、硬質層の厚みを上記好ましい範囲にとすることができ、硬質層に、波状凹凸パターン(1A)を形成しやすい。
Examples of the drying method include a heat drying method using hot air, infrared rays, or the like.
The dry coating amount of the resin solution on the heat-shrinkable resin film is preferably 1 to 10 g / m 2 . If it is in the said range, the thickness of a hard layer can be made into the said preferable range, and it will be easy to form a wavy uneven | corrugated pattern (1A) in a hard layer.

工程(a1−2):
工程(a1−2)では、工程(a1−1)で得られた積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、表面に波状凹凸パターン(1A)と同じパターンが形成された凹凸パターン形成シートを得る。
工程(a1−2)では、30%以上の収縮率で収縮させることが好ましい。収縮率を30%以上にすると、収縮不足の部分(たとえば凹凸が充分に形成されない部分、アスペクト比が充分には大きくない部分等。)を小さくすることができる。一方、収縮率を大きくし過ぎると、得られる凹凸パターン形成シートの面積が小さくなり、歩留まりが低下するため、収縮率の上限は80%が好ましい。
Step (a1-2):
In the step (a1-2), the laminated film obtained in the step (a1-1) is heated to shrink the heat-shrinkable resin film, so that the hard layer is deformed so as to be folded, and a wavy uneven pattern is formed on the surface. The uneven | corrugated pattern formation sheet in which the same pattern as (1A) was formed is obtained.
In the step (a1-2), it is preferable to contract at a contraction rate of 30% or more. When the shrinkage rate is 30% or more, it is possible to reduce a portion where shrinkage is insufficient (for example, a portion where unevenness is not sufficiently formed, a portion where the aspect ratio is not sufficiently large, etc.). On the other hand, if the shrinkage rate is increased too much, the area of the resulting concavo-convex pattern forming sheet becomes small and the yield decreases, so the upper limit of the shrinkage rate is preferably 80%.

積層フィルムを加熱する方法としては、熱風、蒸気、熱水または遠赤外線中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱風または遠赤外線に通す方法が好ましい。   Examples of the method of heating the laminated film include a method of passing it through hot air, steam, hot water, or far infrared rays. Among them, a method of passing through hot air or far infrared rays is preferable because it can be uniformly shrunk.

加熱収縮性樹脂フィルムを熱収縮させる際の加熱温度は、使用する加熱収縮性樹脂フィルムの種類、目的とする凹凸パターン形成シートの凸条部の平均ピッチやアスペクト比に応じて適宜設定することが好ましい。
具体的には、該加熱温度は、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Lのガラス転移温度Tg以上の温度にすることが好ましい。Tg以上の温度で熱収縮させると、波状凹凸パターン(1A)を容易に形成できる。
また、該加熱温度は、(樹脂Mのガラス転移温度Tg2M+15℃)未満であることが好ましい。
The heating temperature when the heat-shrinkable resin film is heat-shrinkable can be appropriately set according to the type of heat-shrinkable resin film to be used, the average pitch of the ridges of the target concavo-convex pattern forming sheet, and the aspect ratio. preferable.
Specifically, the heating temperature is preferably a temperature equal to or higher than the glass transition temperature Tg 1 of the resin L constituting the heat-shrinkable resin film. When heat shrinking at a temperature of Tg 1 or higher, the wavy uneven pattern (1A) can be easily formed.
Moreover, it is preferable that this heating temperature is less than (the glass transition temperature Tg2M + 15 degreeC of the resin M).

工程(a1−2)の好適な一例としては、上述の工程(a1−1)で得られた積層フィルムを好ましくは80〜180℃、より好ましくは120〜170℃の熱風の中を通過させることにより、加熱収縮性フィルムと硬質層とを変形させて、凹凸パターン形成シートを得る工程であることが好ましい。
積層フィルムを加熱する時間は、1〜3分間が好ましく、1〜2分間がより好ましい。熱風の風速は、1〜10m/sが好ましく、2〜5m/sがより好ましい。
As a suitable example of the step (a1-2), the laminated film obtained in the above step (a1-1) is preferably passed through hot air at 80 to 180 ° C., more preferably 120 to 170 ° C. Thus, it is preferable that the heat-shrinkable film and the hard layer are deformed to obtain a concave / convex pattern forming sheet.
The time for heating the laminated film is preferably 1 to 3 minutes, and more preferably 1 to 2 minutes. The wind speed of the hot air is preferably 1 to 10 m / s, and more preferably 2 to 5 m / s.

工程(a1−3):
工程(a1−3)は、上述の工程(a1−2)で得られた凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面に、たとえばニッケル等の金属を公知の電気鋳造法等で堆積させ、その後、該金属を剥離し、波状凹凸パターン(1A)の転写形状(反転形状)が転写された金属製の原版(W)を得る工程である。
Step (a1-3):
In the step (a1-3), a metal such as nickel is deposited by a known electroforming method or the like on the surface of the hard layer side of the uneven pattern forming sheet obtained in the above step (a1-2), and then In this step, the metal is peeled off to obtain a metal original plate (W) on which the transfer shape (inverted shape) of the wavy uneven pattern (1A) is transferred.

なお、耐熱性等の観点からは、原版(W)の材質はニッケル等の金属が好適であるが、樹脂等であってもよい。また、原版(W)は、波状凹凸パターン(1A)の転写形状(反転形状)を有しているものであればよく、上記のような転写を2回以上繰り返して得たもの等であってもよい。   In addition, from the viewpoint of heat resistance and the like, the material of the original plate (W) is preferably a metal such as nickel, but may be a resin or the like. Further, the original plate (W) may be any one having a transfer shape (reversal shape) of the wavy uneven pattern (1A), and obtained by repeating the transfer as described above twice or more. Also good.

工程(a2):
工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより、リニアフレネルレンズパターンの転写形状を表面に有する原版(L1)を製造する工程である。該転写形状は、製造する表面微細凹凸シートにおけるリニアフレネルレンズパターンの反転形状である。また、原版(L1)は、リニアフレネルレンズパターンの転写形状を有しているものであればよく、切削加工により形成されたパターンをさらに1回以上転写して得たもの等であってもよい。
Step (a2):
Step (a2) is a step of manufacturing an original plate (L1) having a transfer shape of a linear Fresnel lens pattern on the surface by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool). The transferred shape is an inverted shape of the linear Fresnel lens pattern in the surface fine uneven sheet to be manufactured. Further, the original plate (L1) may be any one having a linear Fresnel lens pattern transfer shape, and may be obtained by further transferring a pattern formed by cutting one or more times. .

工程(a3):
工程(a3)では、原版(W)の上記転写形状が形成された面と、原版(L1)の上記転写形状が形成された面との間に、公知の射出成形法により透明な樹脂を射出する。これにより、一方の面に波状凹凸パターン(1A)が形成され、他方の面にリニアフレネルレンズパターンが形成された1層構造の本実施形態例の表面微細凹凸シートが得られる。
射出する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド(例:ナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6−12、ナイロン6−66等。)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート(PC)、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等の1種以上を使用できる。
Step (a3):
In the step (a3), a transparent resin is injected by a known injection molding method between the surface of the original plate (W) where the transfer shape is formed and the surface of the original plate (L1) where the transfer shape is formed. To do. Thereby, the surface fine uneven sheet | seat of this embodiment example of the 1 layer structure by which the wavy uneven | corrugated pattern (1A) was formed in one surface, and the linear Fresnel lens pattern was formed in the other surface is obtained.
Examples of the resin to be injected include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), cyclic polyolefin, modified polyolefin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polyamide (example) : Nylon 6, nylon 46, nylon 66, nylon 610, nylon 612, nylon 11, nylon 12, nylon 6-12, nylon 6-66, etc.), polyimide, polyamideimide, polycarbonate (PC), poly- (4- Methylpentene-1), ionomer, acrylic resin, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), butadiene-styrene copolymer, polyoxymethylene Polyesters such as polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polycyclohexane terephthalate (PCT), polyether, polyether ketone (PEK), Polyetheretherketone (PEEK), polyetherimide, polyacetal (POM), polyphenylene oxide, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, aromatic polyester (liquid crystal polymer), polytetrafluoroethylene, Polyvinylidene fluoride, other fluororesins, styrene, polyolefin, polyvinyl chloride, polyurethane, polyester , Polyamide-based, polybutadiene-based, trans-polyisoprene-based, fluoro-rubber-based, chlorinated polyethylene-based thermoplastic elastomers, epoxy resins, phenol resins, urea resins, melamine resins, unsaturated polyesters, silicone resins, urethane resins 1 or more types can be used.

(製造方法(B))
表面微細凹凸シートが多層構造である場合には、たとえば電離放射線硬化性樹脂を用いたナノインプリント法を用いた方法により製造できる。
具体的には、上記工程(a1−1)および工程(a1−2)と同様にして、表面に波状凹凸パターン(1A)と同じパターンが形成された凹凸パターン形成シートを得る。ついで、該凹凸パターン形成シートにおける波状凹凸パターン(1A)が形成された面に、離型剤を含む未硬化の透明な電離放射線硬化性樹脂を例えば3〜30μmの厚さに収まるように、Tダイコーター、ロールコーター、バーコーターなどのコーターで塗布し、その上に、PET等の基材を配置する。そして、電離放射線を照射して硬化させた後、凹凸パターン形成シートを剥離して、波状凹凸パターン(1A)の転写形状(反転形状)が形成された、電離放射線硬化性樹脂硬化物と基材とからなる1次転写品(スタンパ)を得る。
(Manufacturing method (B))
When the surface fine concavo-convex sheet has a multilayer structure, it can be produced by a method using a nanoimprint method using an ionizing radiation curable resin, for example.
Specifically, in the same manner as in the step (a1-1) and the step (a1-2), a concavo-convex pattern forming sheet having the same pattern as the wavy concavo-convex pattern (1A) on the surface is obtained. Next, on the surface of the concavo-convex pattern forming sheet on which the wavy concavo-convex pattern (1A) is formed, an uncured transparent ionizing radiation curable resin containing a release agent is accommodated in a thickness of, for example, 3 to 30 μm. Coating is performed with a coater such as a die coater, roll coater, or bar coater, and a substrate such as PET is disposed thereon. And after irradiating with ionizing radiation and hardening, the uneven | corrugated pattern formation sheet was peeled, and the ionized radiation curable resin hardened | cured material and base material in which the transfer shape (inverted shape) of the wavy uneven pattern (1A) was formed. A primary transfer product (stamper) consisting of

一方、PET等を材料とする透明な基材を別途用意し、その片面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗布する。ここで塗布する厚さは、上記1次転写品における波状凹凸パターン(1A)の転写形状の凹凸を充分に覆える厚さとする。そして、塗布された未硬化の電離放射線硬化性樹脂の層に対して、上記1次転写品における波状凹凸パターン(1A)の転写形状が形成された面を押し当て、その状態のまま、電離放射線を照射して硬化させた後、1次転写品を剥離する。
このように1次転写品をスタンパとして使用することにより、PETを材料とする透明な基材と、その片面上に形成された透明な電離放射線硬化性樹脂硬化物の層から構成される2層構造のシートが得られる。電離放射性硬化性樹脂硬化物の層の表面には、波状凹凸パターン(1A)が形成されている。なお、ここでのスタンパとしては、1次転写品に限定されず、転写をさらに繰り返して得たものであってもよい。
On the other hand, a transparent base material made of PET or the like is separately prepared, and an uncured ionizing radiation curable resin is applied to one surface thereof. The thickness applied here is set to a thickness that sufficiently covers the unevenness of the transfer shape of the wavy uneven pattern (1A) in the primary transfer product. Then, the surface of the primary transfer product on which the transfer shape of the wavy uneven pattern (1A) is formed is pressed against the applied uncured ionizing radiation curable resin layer, and the ionizing radiation is maintained in that state. After being cured by irradiation, the primary transfer product is peeled off.
As described above, by using the primary transfer product as a stamper, two layers composed of a transparent base material made of PET and a layer of a transparent cured ionizing radiation curable resin formed on one surface thereof. A sheet of structure is obtained. On the surface of the layer of the ionized radiation curable resin cured product, a wavy uneven pattern (1A) is formed. Here, the stamper is not limited to the primary transfer product, but may be obtained by further repeating the transfer.

電離放射線としては、一般には紫外線および電子線を意味することが多いが、本明細書においては、可視光線、X線、イオン線等も含む。   In general, the ionizing radiation often means ultraviolet rays and electron beams, but in the present specification, visible rays, X-rays, ion rays and the like are also included.

一方、上記工程(a2)と同様に、リニアフレネルレンズパターンの転写形状を表面に有する原版(L1)を製造する。
ついで、上記で得られた2層構造のシートの電離放射線硬化性樹脂硬化物の層が形成されていない側の面に、未硬化の透明な電離放射線硬化性樹脂をリニアフレネルレンズパターンの転写形状を充分に覆える厚さで塗布する。そして、塗布された未硬化の電離放射線硬化性樹脂の層に対して、先に得られた原版(L1)のリニアフレネルレンズパターンの転写形状を有する面を押し当て、その状態のまま、電離放射線を照射して硬化させた後、原版(L1)を剥離する。電離放射線の照射は、原版(L1)の設けられていない側から行う。
このように原版(L1)をスタンパとして使用することにより、PET等を材料とする透明な基材の他方の面に、リニアフレネルレンズパターンを形成できる。その結果、波状凹凸パターン(1A)を有する電離放射性硬化性樹脂硬化物から構成される層、PET等の基材、リニアフレネルレンズパターンを有する電離放射性硬化性樹脂硬化物から構成される層、がこの順で形成された3層構造の表面微細凹凸シートが得られる。なお、ここでのスタンパとしては、原版(L1)に限定されず、原版(L1)におけるリニアフレネルレンズパターの転写をさらに繰り返して得たものであってもよい。
On the other hand, as in the step (a2), an original plate (L1) having a transfer shape of the linear Fresnel lens pattern on the surface is manufactured.
Next, an uncured transparent ionizing radiation curable resin is transferred to a linear Fresnel lens pattern transfer shape on the surface of the two-layered sheet obtained above where the layer of cured ionizing radiation curable resin is not formed. Apply to a thickness sufficient to cover. And the surface which has the transfer shape of the linear Fresnel lens pattern of the original plate (L1) obtained previously is pressed against the applied uncured ionizing radiation curable resin layer, and the ionizing radiation remains in that state. After being cured by irradiation, the original plate (L1) is peeled off. Irradiation with ionizing radiation is performed from the side where the original plate (L1) is not provided.
Thus, by using the original plate (L1) as a stamper, a linear Fresnel lens pattern can be formed on the other surface of a transparent base material made of PET or the like. As a result, a layer composed of a cured ionizing radiation curable resin having a wavy uneven pattern (1A), a base material such as PET, a layer composed of a cured ionizing radiation curable resin having a linear Fresnel lens pattern, A three-layer surface fine uneven sheet formed in this order is obtained. Note that the stamper here is not limited to the original (L1), and may be obtained by further repeating the transfer of the linear Fresnel lens pattern on the original (L1).

未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル/アクリレート、ポリエン/アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる1種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性である場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。   Uncured ionizing radiation curable resins include epoxy acrylate, epoxidized oil acrylate, urethane acrylate, unsaturated polyester, polyester acrylate, polyether acrylate, vinyl / acrylate, polyene / acrylate, silicon acrylate, polybutadiene, and polystyrylmethyl methacrylate. 1 type selected from monomers such as prepolymers such as aliphatic acrylate, alicyclic acrylate, aromatic acrylate, hydroxyl group-containing acrylate, allyl group-containing acrylate, glycidyl group-containing acrylate, carboxy group-containing acrylate, halogen-containing acrylate, etc. The thing containing the above component is mentioned. The uncured ionizing radiation curable resin is preferably diluted with a solvent or the like. A fluorine resin, a silicone resin, or the like may be added to the uncured ionizing radiation curable resin. When the uncured ionizing radiation curable resin is ultraviolet curable, it is preferable to add a photopolymerization initiator such as acetophenones and benzophenones to the uncured ionizing radiation curable resin.

また、電離放射線硬化性樹脂の代わりに、例えば、未硬化のメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等の熱可塑性樹脂を用いて転写を行ってもよく、転写できる限り、その具体的方法、転写する材料に制限はない。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば液状の未硬化の熱硬化性樹脂を塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、転写対象の面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。
Also, instead of ionizing radiation curable resin, transfer is performed using, for example, thermosetting resin such as uncured melamine resin, urethane resin or epoxy resin, or thermoplastic resin such as acrylic resin, polyolefin or polyester. As long as transfer is possible, the specific method and material to be transferred are not limited.
In the case of using a thermosetting resin, for example, a method of applying a liquid uncured thermosetting resin and curing by heating can be mentioned. When using a thermoplastic resin, a sheet of thermoplastic resin is used, There may be mentioned a method of heating and softening while pressing against the surface of the transfer object and then cooling.

スタンパによる転写の具体的な方法については、たとえば、特開2012−022292号公報等を参照できる。   For a specific method of transfer using a stamper, for example, JP 2012-022292 A can be referred to.

(その他の方法)
表面微細凹凸シートは、たとえば、上記製造方法(A)の一部と、上記製造方法(B)の一部とを適宜組み合わせた方法によっても製造できる。たとえば、上記工程(a1−2)により、表面に波状凹凸パターン(1A)が形成された凹凸パターン形成シートを得る。一方、製造方法(B)において説明したように、PET等の基材の片面に、電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなり、表面にリニアフレネルレンズパターンを有する層を備えた積層体を製造する。そして、一方の表面に波状凹凸パターン(1A)が位置し、他方の表面にリニアフレネルレンズパターンが位置するように、凹凸パターン形成シートと、積層体とを貼り合せる。このような方法でも、表面微細凹凸シートを製造できる。
(Other methods)
A surface fine uneven sheet | seat can be manufactured also by the method of combining suitably a part of said manufacturing method (A), and a part of said manufacturing method (B), for example. For example, the uneven | corrugated pattern formation sheet in which the wavy uneven | corrugated pattern (1A) was formed in the surface by the said process (a1-2) is obtained. On the other hand, as explained in the production method (B), a laminate comprising a cured material of an ionizing radiation curable resin on one surface of a substrate such as PET and having a layer having a linear Fresnel lens pattern on the surface is produced. . And the uneven | corrugated pattern formation sheet and a laminated body are bonded so that a wavy uneven | corrugated pattern (1A) may be located in one surface, and a linear Fresnel lens pattern may be located in the other surface. Even by such a method, a surface fine uneven sheet can be produced.

[表示装置用照明ユニットおよび表示装置]
図7は、本実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を示す概略構成図であり、図7(a)は、表面微細凹凸シート10Aの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、(b)は波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの配列方向に平行な側面を示す側面図である。
[Lighting unit for display device and display device]
FIG. 7: is a schematic block diagram which shows the structure of the illumination unit for display apparatuses of this embodiment example, FIG. 7 (a) is a schematic plan view from the wavy uneven | corrugated pattern formation surface side of 10 A of surface fine uneven | corrugated sheets, b) is a side view showing a side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A), and (c) a side view showing a side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A. It is.

図示例の表示装置用照明ユニットは、表面微細凹凸シート10Aと、複数の点光源(図示例では3つ。)21が一直線状に並んで形成される1列の光源列21Aと、各点光源21から出射された光を集光する、各点光源21毎に設けられた複数の集光レンズ(図示例では、点光源の数と同じ3つ。)20とを有する。そして、表面微細凹凸シート10Aの波状凹凸パターンの主拡散方向と、光源列21Aの点光源21の配列方向との成す角度が、図7(a)のように平面視した場合において、±20°の範囲内とされている。この例では、波状凹凸パターンの主拡散方向と、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの延在方向と、光源列21Aの点光源21の配列方向とがいずれも図7中A方向であり、互いに平行となっている。
また、表面微細凹凸シート10Aの線状凹凸パターン形成面12(リニアフレネルレンズパターン12Aが形成されている面)側に、光源列21Aが配置されており、各点光源21から出射した光は集光レンズ20で集光された後、線状凹凸パターン形成面12から入射し、波状凹凸パターン(1A)が形成された波状凹凸パターン形成面11から出射するようになっている。
The illumination unit for display device in the illustrated example includes a surface fine uneven sheet 10A, a single light source array 21A in which a plurality of point light sources (three in the illustrated example) 21 are formed in a straight line, and each point light source. And a plurality of condensing lenses (three in the illustrated example, the same as the number of point light sources) 20 provided for each point light source 21. When the angle formed between the main diffusion direction of the wavy uneven pattern of the surface fine uneven sheet 10A and the arrangement direction of the point light sources 21 of the light source array 21A is a plan view as shown in FIG. It is within the range. In this example, the main diffusion direction of the wavy uneven pattern, the extending direction of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A, and the arrangement direction of the point light sources 21 of the light source array 21A are all in the A direction in FIG. , Parallel to each other.
Further, a light source array 21A is arranged on the surface of the surface fine uneven sheet 10A on the linear uneven pattern forming surface 12 (surface on which the linear Fresnel lens pattern 12A is formed), and the light emitted from each point light source 21 is collected. After being condensed by the optical lens 20, the light is incident from the linear concave / convex pattern forming surface 12 and is emitted from the corrugated concave / convex pattern forming surface 11 on which the wavy concave / convex pattern (1 </ b> A) is formed.

波状凹凸パターンの主拡散方向と、光源列21Aの点光源21の配列方向との成す角度は、±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°(すなわち、平行。)であることがさらに好ましい。また、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの延在方向と、光源列21Aの点光源21の配列方向との成す角度は、図7(a)のように平面視した場合において、±20°の範囲内が好ましく、±10°の範囲内がより好ましく、±5°の範囲内がさらに好ましく、0°(すなわち、平行。)であることが最も好ましい。   The angle formed between the main diffusion direction of the wavy uneven pattern and the arrangement direction of the point light sources 21 of the light source array 21A is preferably within ± 10 °, more preferably within ± 5 °, and 0 ° (that is, parallel). More preferably, Further, the angle formed between the extending direction of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A and the arrangement direction of the point light sources 21 of the light source array 21A is ± 20 in a plan view as shown in FIG. Within the range of °, preferably within the range of ± 10 °, more preferably within the range of ± 5 °, and most preferably 0 ° (that is, parallel).

このような表示装置用照明ユニットにおいて、各点光源21から出射した光は、それぞれが集光レンズ20で集光され、リニアフレネルレンズパターン12Aが形成された線状凹凸パターン形成面12に入射する。そして、先に図6を用いて説明したように、光の進行ベクトルのうち、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aの配列方向と、リニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向(表面微細凹凸シートの法線方向)とからなる面内成分は、リニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向と平行になるように屈折する。
このように屈折した光は、表面微細凹凸シート10Aの内部を透過し、波状凹凸パターン形成面11から出射する。そして、光の進行ベクトルのうち、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向に対応する方向であるため、主に屈折により、表面微細凹凸シート10Aの法線方向に平行な成分や、該法線方向から傾いた成分等、種々の角度の成分となる。一方、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの延在方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターンの低拡散方向に対応する方向であるため、主に法線方向に平行な成分となる。
表面微細凹凸シート10Aの法線方向に平行な光は、正面輝度の向上に寄与する。また、波状凹凸パターン形成面11側からみて、点光源21と点光源21の間等の光源が存在しない部分において、表面微細凹凸シート10Aの法線方向に平行な光が生じることにより、輝度ムラ解消効果が得られる。また、表面微細凹凸シート10Aの法線方向から傾いた成分は、視野角の拡大に寄与する。
このように本実施形態例の表示装置用照明ユニットは、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向および低拡散方向に適切な視野角を有する。
In such a display device illumination unit, the light emitted from each point light source 21 is collected by the condenser lens 20 and is incident on the linear uneven pattern forming surface 12 on which the linear Fresnel lens pattern 12A is formed. . As described above with reference to FIG. 6, among the light traveling vectors, the arrangement direction of the ridges 12 a of the linear Fresnel lens pattern 12 A and the normal direction (surface fineness) of the surface on which the linear Fresnel lens pattern 12 A is formed. The in-plane component consisting of the concave and convex sheet is refracted so as to be parallel to the normal direction of the surface on which the linear Fresnel lens pattern 12A is formed.
The light refracted in this way passes through the inside of the surface fine concavo-convex sheet 10 </ b> A and exits from the wavy concavo-convex pattern forming surface 11. And among the traveling vectors of light, the component parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is the direction corresponding to the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). Mainly due to refraction, it becomes a component of various angles such as a component parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10A and a component inclined from the normal direction. On the other hand, the component parallel to the extending direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is a component mainly parallel to the normal direction because this direction corresponds to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern. It becomes.
The light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10A contributes to the improvement of the front luminance. Further, when viewed from the wavy uneven pattern forming surface 11 side, luminance unevenness is caused by light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10A in a portion where no light source exists such as between the point light source 21 and the point light source 21. A cancellation effect is obtained. Moreover, the component inclined from the normal direction of the surface fine uneven sheet 10A contributes to the expansion of the viewing angle.
As described above, the illumination unit for display device according to the present embodiment is excellent in front luminance, uneven luminance is suppressed, and has an appropriate viewing angle in the main diffusion direction and the low diffusion direction.

特に、表面微細凹凸シート10Aの波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向と、光源列21Aの点光源21の配列方向とが±20°の範囲内であるため、点光源21の配列方向の拡散角度が大きくなる。これにより、点光源21が有る位置と、点光源21間の光源が無い位置とにおける輝度の差(輝度ムラ)を効果的に抑制できる。一方で、輝度ムラ抑制の要求が大きくない場合が多い、点光源21の配列方向と直交する方向については、波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向を対応させて拡散角度を適度に抑制することによって、拡散角度を高めることによる輝度の低下を抑制できる。   In particular, since the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A) of the surface fine uneven sheet 10A and the array direction of the point light sources 21 of the light source array 21A are within a range of ± 20 °, diffusion in the array direction of the point light sources 21 The angle increases. Thereby, the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source 21 is present and the position where there is no light source between the point light sources 21 can be effectively suppressed. On the other hand, for the direction orthogonal to the arrangement direction of the point light sources 21 in many cases where the demand for suppressing luminance unevenness is not large, the diffusion angle is appropriately suppressed by corresponding to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). Therefore, it is possible to suppress a decrease in luminance due to increasing the diffusion angle.

表面微細凹凸シート10Aのどちらの面側に光源列21Aを配置するかは、目的に応じて設定できる。波状凹凸パターン(1A)が光源列21A側と反対の側にあると、輝度ムラ解消効果および正面輝度向上効果が高く、波状凹凸パターン(1A)が光源列21A側にあると、視野角確保効果が高い。   Which surface side of the surface fine uneven sheet 10A the light source row 21A is arranged can be set according to the purpose. When the wavy uneven pattern (1A) is on the side opposite to the light source array 21A side, the luminance unevenness eliminating effect and the front luminance improving effect are high, and when the wavy uneven pattern (1A) is on the light source array 21A side, the viewing angle securing effect is achieved. Is expensive.

なお、図7においては、表示装置用照明ユニットが具備する電源部、制御部、電源部および制御部を収納する筐体等の図示は省略している。
また、この例では、表示装置用照明ユニットの有する光源列21Aは1列であるが、2列以上であってもよい。また、少なくとも1列の光源列があれば、光源列外に、点光源が存在していてもよい。
また、たとえば、点光源が縦横に複数ずつ並んでいる場合には、縦の列および横の列のいずれか一方の配列方向と、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの主拡散方向との成す角度が、上記範囲内であればよい。
In FIG. 7, illustration of a power supply unit, a control unit, a power supply unit, and a housing for housing the control unit included in the display device illumination unit is omitted.
Further, in this example, the light source row 21A included in the display unit illumination unit is one row, but may be two or more rows. Further, if there is at least one light source array, a point light source may exist outside the light source array.
Also, for example, when a plurality of point light sources are arranged vertically and horizontally, the angle formed by the arrangement direction of either the vertical column or the horizontal column and the main diffusion direction of the wavy uneven pattern of the surface fine uneven sheet However, what is necessary is just to be in the said range.

本実施形態例の表示装置用照明ユニットは、上述のとおり、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向および低拡散方向に適切な視野角を有する。そのため、たとえば、ゆるやかな曲面状に形成された自動車のフロントガラスに、走行速度などの画像情報を鮮明に、かつ上下方向および左右方向に拡散させつつ表示させる必要があるヘッドアップディスプレイシステム等の表示装置への使用に適している。   As described above, the illumination unit for display device according to the present embodiment has excellent front luminance, suppresses uneven luminance, and has an appropriate viewing angle in the main diffusion direction and the low diffusion direction. Therefore, for example, a display such as a head-up display system that needs to display image information such as traveling speed clearly and vertically in the vertical and horizontal directions on the windshield of a car that is gently curved. Suitable for use on equipment.

〔第2実施形態例〕
図8は、第2実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。
第2実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンが、上述の波状凹凸パターン(1)に該当するパターンではなく、上述の波状凹凸パターン(2)(すなわち、特定の方向に沿わない凹凸が形成されたパターン)に該当する波状凹凸パターン(2A)である点のみで、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと異なる。
表面微細凹凸シートの他方の面には、線状凹凸パターンとしてリニアフレネルレンズパターンが形成されている点等、その他の点は第1実施形態例と同様である。そして、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[Second Embodiment]
FIG. 8 is an optical microscopic image of the wavy uneven pattern forming surface of the surface fine uneven sheet of the second embodiment.
In the surface fine concavo-convex sheet of the second embodiment, the undulating concavo-convex pattern formed on the undulating concavo-convex pattern forming surface is not a pattern corresponding to the undulating concavo-convex pattern (1), but the undulating concavo-convex pattern (2) described above. This is different from the surface fine concavo-convex sheet of the first embodiment only in that it is a wavy concavo-convex pattern (2A) corresponding to (a pattern in which concavo-convex not along a specific direction is formed).
Other points such as a linear Fresnel lens pattern formed as a linear uneven pattern on the other surface of the surface fine uneven sheet are the same as those in the first embodiment. And the surface fine uneven sheet | seat of this embodiment example can comprise the illumination unit for display apparatuses, and a display apparatus similarly to the surface fine uneven sheet | seat of 1st Embodiment.

第2実施形態例の表面微細凹凸シートが有する波状凹凸パターン(2A)は、図8に示すように、波状凹凸パターン形成面に沿って折れ曲がりながら、特定の方向に沿わずに延びる複数の凸条部と、該複数の凸条部間の複数の凹条部とにより形成されている。凸条部は、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。また、各凹条部は、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。   As shown in FIG. 8, the wavy uneven pattern (2A) of the surface fine uneven sheet of the second embodiment is bent along the wavy uneven pattern forming surface, and a plurality of ridges extending without following a specific direction. And a plurality of concave portions between the plurality of convex portions. The height of the ridge line is not constant, and the ridge has a height difference that changes continuously. However, the part which does not have a height difference partially may be included. In addition, the height of the valley line is not constant, and each concave line has a height difference that changes continuously. However, the part which does not have a height difference partially may be included.

波状凹凸パターン(2)の凸条部の平均ピッチおよびアスペクト比等の好ましい範囲、求め方等は、第1実施形態例と同様である。
なお、平均ピッチは、次の方法で求めることが好適である。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル(例えば、tiff形式等。)に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、たとえば特開2008−279597号公報の段落[0002]等に記載されており、これを参照できる。
A preferable range such as an average pitch and an aspect ratio of the ridges of the wavy uneven pattern (2), how to obtain the same, and the like are the same as in the first embodiment.
The average pitch is preferably obtained by the following method.
That is, the upper surface of the wavy uneven pattern forming surface is photographed with an optical microscope or an electron microscope, the image is converted into a grayscale file (eg, tiff format), and then the image of the grayscale file is Fourier transformed. Then, the pitch is obtained by image analysis of the Fourier transform image. This method is described, for example, in paragraph [0002] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-279597, and can be referred to.

波状凹凸パターン(2A)は、上述のように、特定の方向に沿わない凹凸が形成されたパターンであり、光拡散性の異方性が弱められている。そのため、第1実施形態例と比較すると、波状凹凸パターンの主拡散方向と低拡散方向とにおける拡散角度の差は小さい。しかしながら、波状凹凸パターン(2A)の主拡散方向と、線状凹凸パターンの凸条部の延在方向との成す角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である点等は、第1実施形態例と同様である。   As described above, the wavy uneven pattern (2A) is a pattern in which unevenness that does not follow a specific direction is formed, and anisotropy of light diffusibility is weakened. Therefore, compared with the first embodiment, the difference in diffusion angle between the main diffusion direction and the low diffusion direction of the wavy uneven pattern is small. However, the angle formed between the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (2A) and the extending direction of the ridges of the linear uneven pattern is within a range of ± 20 ° when the wavy uneven pattern is viewed in plan, etc. Is the same as in the first embodiment.

主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば10°以上であることが好ましく、15°以上であることがより好ましい。また、たとえば40°以下であることが好ましく、30°以下であることがより好ましい。
一方、低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さく、かつ、たとえば5°以上であることが好ましく、7°以上であることがより好ましい。また、たとえば30°以下であることが好ましく、17°以下であることがより好ましい。
第2実施形態例の波状凹凸パターンの主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、上記平均ピッチ、アスペクト比等を調整すること等により制御できる。
第2実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第1実施形態例の表面微細凹凸シート10Aと同程度である。
The diffusion angle in the main diffusion direction can be adjusted as appropriate, but is preferably 10 ° or more, for example, and more preferably 15 ° or more. For example, it is preferably 40 ° or less, and more preferably 30 ° or less.
On the other hand, the diffusion angle in the low diffusion direction can be adjusted as appropriate, but is smaller than the diffusion angle in the main diffusion direction, and is preferably 5 ° or more, for example, and more preferably 7 ° or more. For example, it is preferably 30 ° or less, and more preferably 17 ° or less.
The diffusion angle in the main diffusion direction and the diffusion angle in the low diffusion direction of the wavy uneven pattern of the second embodiment can be controlled by adjusting the average pitch, the aspect ratio, and the like.
The preferable thickness and the like of the surface fine uneven sheet of the second embodiment are about the same as those of the surface fine uneven sheet 10A of the first embodiment.

第2実施形態例の表面微細凹凸シートは、1層構造でも、2層以上の多層構造であってもよい。
また、第2実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第1実施形態例と同様の方法で製造できる。ただし、第2実施形態例では、工程(a1−1)において、加熱収縮性樹脂フィルムとして、2軸延伸フィルムを用いる。2軸延伸フィルムを用いることにより、図8に示すような特定の方向に沿わない凹凸が形成される。また、使用する2軸延伸フィルムの縦延伸倍率および横延伸倍率を調整し、縦収縮率および横収縮率を調整することにより、主拡散方向の拡散角度と、低拡散方向の拡散角度とのバランスが適宜調整された波状凹凸パターン(2A)を形成できる。縦収縮率および横収縮率の好ましい各範囲は、各々、第1実施形態例における収縮率の好ましい範囲と同じである。加熱収縮性樹脂フィルムの材質(樹脂L)、収縮率、樹脂Lのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第1実施形態例と同様である。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン(2A)の形成には、特開2008−304651号公報(特許第5098450号公報)等を参照できる。
The surface fine uneven sheet of the second embodiment may have a single layer structure or a multilayer structure of two or more layers.
Moreover, the surface fine uneven sheet | seat of 2nd Embodiment can be manufactured with the method similar to the 1st Embodiment schematically. However, in the second embodiment, a biaxially stretched film is used as the heat-shrinkable resin film in the step (a1-1). By using a biaxially stretched film, the unevenness | corrugation which does not follow a specific direction as shown in FIG. 8 is formed. Moreover, the balance between the diffusion angle in the main diffusion direction and the diffusion angle in the low diffusion direction is adjusted by adjusting the longitudinal stretching ratio and the lateral stretching ratio of the biaxially stretched film to be used and adjusting the longitudinal shrinkage ratio and the lateral shrinkage ratio. Can be formed as appropriate. Each preferable range of the longitudinal shrinkage rate and the lateral shrinkage rate is the same as the preferred range of the shrinkage rate in the first embodiment. Preferred embodiments and ranges such as the material (resin L), shrinkage rate, glass transition temperature of resin L, and Young's modulus of the heat-shrinkable resin film are the same as in the first embodiment.
In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-304651 (Japanese Patent No. 5098450) and the like can be referred to for the formation of the wavy uneven pattern (2A) of this embodiment example.

〔第3実施形態例〕
図9は、第3実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第3実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第1実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン(1)に該当する。
[Third embodiment]
FIG. 9 is an optical microscopic image of the wavy uneven pattern forming surface of the surface fine uneven sheet of the third embodiment. The wavy uneven pattern formed on the wavy uneven pattern forming surface of the surface fine uneven sheet of the third embodiment corresponds to the previously described wavy uneven pattern (1), as in the first embodiment.

第3実施形態例の表面微細凹凸シートにおける波状凹凸パターンは、波状凹凸パターン(1)に該当するが、第1実施形態例の波状凹凸パターン(1A)は、図4に示したように、凸条部11aの縦断面形状において、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降しているのに対して、本実施形態例の波状凹凸パターン(1B)は、図10に示すように、凸条部11bの縦断面形状において、先端側(頂部)と基端側とを結ぶ線が、微細な多数の凹凸を有する微細凹凸状である点で、第1実施形態例の表面微細凹凸シート10Aと異なる。微細な多数の凹凸は、後述の波状凹凸パターン(1−a)によるものである。
第3実施形態例の表面微細凹凸シートにおいても、表面微細凹凸シートの他方の面には、線状凹凸パターンとしてリニアフレネルレンズパターンが形成されている点等、その他の点は第1実施形態例と同様である。そして、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、先に説明した表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
The wavy uneven pattern in the surface fine uneven sheet of the third embodiment corresponds to the wavy uneven pattern (1), but the wavy uneven pattern (1A) of the first embodiment is convex as shown in FIG. In the longitudinal cross-sectional shape of the strip portion 11a, the line connecting the distal end side and the proximal end side smoothly and continuously descends from the distal end side to the proximal end side, whereas the wavy shape of the present embodiment example As shown in FIG. 10, the concavo-convex pattern (1B) is a fine concavo-convex shape in which the line connecting the tip side (top) and the base end side in the vertical cross-sectional shape of the ridge portion 11b has a large number of concavo-convex shapes. In a certain point, it differs from the surface fine uneven sheet | seat 10A of 1st Embodiment. Many fine unevenness | corrugations are based on the below-mentioned wavy unevenness | corrugation pattern (1-a).
Also in the surface fine uneven sheet of the third embodiment, other points such as a linear Fresnel lens pattern formed as a linear uneven pattern on the other surface of the surface fine uneven sheet are the same as in the first embodiment. It is the same. And the surface fine uneven sheet | seat of this embodiment example can comprise the illumination unit for display apparatuses and display apparatus which were demonstrated previously similarly to the surface fine uneven sheet | seat of 1st Embodiment.

図10に示すように、波状凹凸パターン(1B)は、凸条部32aと凹条部32bとから構成される波状凹凸パターン(1A)と、その上に形成された、凸条部33aと凹条部33bとから構成される別の微細な波状凹凸パターン(1−a)により形成されている。 波状凹凸パターン(1−a)は、筋状に延びる複数の凸条部33aと、該複数の凸条部33a間の複数の凹条部33bとが一方向に交互に繰り返されるパターンであって、波状凹凸パターン(1A)の凸条部32aの配列方向と、波状凹凸パターン(1−a)の凸条部33aの配列方向とはほぼ同じ方向である。   As shown in FIG. 10, the wavy uneven pattern (1B) includes a wavy uneven pattern (1A) composed of a protruding line part 32a and a recessed line part 32b, and a protruding line part 33a and a recessed line formed thereon. It is formed by another fine wavy uneven pattern (1-a) composed of the strip portion 33b. The wavy uneven pattern (1-a) is a pattern in which a plurality of ridges 33a extending in a streak pattern and a plurality of ridges 33b between the plurality of ridges 33a are alternately repeated in one direction. The arrangement direction of the ridges 32a of the wavy uneven pattern (1A) and the arrangement direction of the ridges 33a of the wavy uneven pattern (1-a) are substantially the same direction.

波状凹凸パターン(1−a)は、以下の特徴を有する。
(a’)各凸条部33aが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部33aの稜線が蛇行し、隣接する凸条部33aの稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、1本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
(b’)各凹条部33bが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部33bの谷線が蛇行し、隣接する凹条部33bの谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、1本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
The wavy uneven pattern (1-a) has the following characteristics.
(A ′) Each protruding line portion 33a meanders and is not parallel to each other. That is, the ridge line of each convex line part 33a meanders, and the space | interval of the ridge line of the adjacent convex line part 33a is not constant, but is changing continuously. However, it may include a portion where the interval between the ridge lines is constant. Further, one ridge line may be branched in the middle, or a plurality of ridge lines may be joined in the middle.
(B ′) The respective concave stripe portions 33b meander and are not parallel to each other. That is, the valley line of each concave line part 33b meanders, and the space | interval of the valley line of the adjacent concave line part 33b is not constant, but is changing continuously. However, a portion where the interval between the valley lines is partially constant may be included. Moreover, one trough line may branch on the way, or several trough lines may unite on the way.

また、波状凹凸パターン(1−a)では、各凸条部33aの縦断面形状(表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断される切断面における形状。)は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
また、各凸条部33aの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。なお、波状凹凸パターン(1−a)は、各凸条部33aの上記縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線は、滑らかであり、先端側から基端側に向けて連続的に下降している。また、各凸条部33aは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部33aの延在方向(筋状に延びている方向)に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部33aにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、各凹条部33bにおいて、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
Further, in the wavy uneven pattern (1-a), the longitudinal cross-sectional shape of each protruding line portion 33a (the cut surface that is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet and is cut along the arrangement direction of the protruding line portions) Are different from each other and are not uniform but irregular.
In addition, the vertical cross-sectional shape of each protrusion 33a is a tapered shape that becomes thinner from the proximal end side toward the distal end side, and the distal end is rounded. The wavy uneven pattern (1-a) has a smooth line between the distal end side and the proximal end side in the vertical cross-sectional shape of each ridge portion 33a, and is continuous from the distal end side toward the proximal end side. It has fallen to. In addition, each ridge 33a has at least one of the above-described vertical cross-sectional shape and its area changed along the extending direction of the ridge 33a (direction extending in a streak), It is not constant.
Moreover, in each protruding item | line part 33a, the height of a ridgeline is not constant, but has a height difference which changes continuously. However, the part which does not have a height difference partially may be included.
Moreover, in each recessed line part 33b, the height of a trough line is not constant, but has a height difference which changes continuously. However, the part which does not have a height difference partially may be included.

凸条部32aの平均ピッチおよびアスペクト比の好ましい範囲、求め方等は、第1実施形態例で説明したとおりである。   The preferred range and method of obtaining the average pitch and aspect ratio of the ridges 32a are as described in the first embodiment.

波状凹凸パターン(1−a)の凸条部33aの平均ピッチは、0.3〜2.0μmであることが好ましく、0.4〜1.0μmであることがより好ましく、0.5〜0.8μmであることがさらに好ましい。平均ピッチが上記範囲内であると、光拡散性が損なわれない。
凸条部33aの平均ピッチは、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの平均ピッチと同様の方法で求めることができる。すなわち、隣り合う凸条部33aが20本以上含まれる平面画像を得て、凸条部33aの20本分について、凸条部33aの配列方向に沿う長さを5箇所測定し、測定値の平均値を20で割ることにより求められる。
また、平均ピッチは、次の方法でも求められる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル(例えば、tiff形式等。)に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、最頻ピッチの求め方として、たとえば国際公開第2014/002850号等に記載されており、これを参照できる。最頻ピッチと平均ピッチは、同等に扱うことができる。
The average pitch of the ridges 33a of the wavy uneven pattern (1-a) is preferably 0.3 to 2.0 μm, more preferably 0.4 to 1.0 μm, and 0.5 to 0 More preferably, it is 8 μm. When the average pitch is within the above range, the light diffusibility is not impaired.
The average pitch of the ridges 33a can be obtained by the same method as the average pitch of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A). That is, a planar image including 20 or more adjacent ridges 33a is obtained, and for 20 of the ridges 33a, five lengths along the arrangement direction of the ridges 33a are measured, It is obtained by dividing the average value by 20.
The average pitch can also be obtained by the following method.
That is, the upper surface of the wavy uneven pattern forming surface is photographed with an optical microscope or an electron microscope, the image is converted into a grayscale file (eg, tiff format), and then the image of the grayscale file is Fourier transformed. Then, the pitch is obtained by image analysis of the Fourier transform image. This method is described, for example, in International Publication No. 2014/002850 as a method for obtaining the most frequent pitch, and this can be referred to. The most frequent pitch and the average pitch can be handled equally.

波状凹凸パターン(1−a)の凸条部33aの平均ピッチに対する平均高さの比、すなわちアスペクト比(平均高さ/平均ピッチ)は、0.25〜0.35であることが好ましく、0.28〜0.33であることがさらに好ましい。アスペクト比が上記範囲内であると、光拡散性が損なわれない。   The ratio of the average height to the average pitch of the ridges 33a of the wavy uneven pattern (1-a), that is, the aspect ratio (average height / average pitch) is preferably 0.25 to 0.35. More preferably, it is 28-0.33. When the aspect ratio is within the above range, the light diffusibility is not impaired.

波状凹凸パターン(1−a)のアスペクト比Aは、凸条部33aの平均高さ/平均ピッチで求められる値であって、概略、第1実施形態例において説明した波状凹凸パターン(1A)のアスペクト比と同様の方法で求められる。
すなわち、図10において、波状凹凸パターン(1−a)の凸条部33aの高さは、両隣の2つの凹条部33bの底部から、凸条部33aの頂部までの距離の和の1/2である。ここで、凹条部33bの底から凸条部33aの頂部までの距離は、凸条部32aの頂部と、凹条部32bを結ぶ線に平行であり、かつ、凸条部33aの頂部を通過する仮想線に対して垂直方向の距離である。すなわち、波状凹凸パターン(1−a)を形成する凸条部33aの高さは、凸条部33aに対して一方側の凹条部33bの底部から計測した凸条部33aの高さをL、他方側の凹条部33bの底部から計測した高さをRとした際に、b=(L+R)/2となる。このようにして各凸条部33aの高さbを求める。そして、50個の凸条部33aの高さRを測定し、それらの高さを平均して平均高さを求める。
The aspect ratio A 1 wavy concavo-convex pattern (1-a) may be a value determined by the average height / average pitch of the convex portion 33a, schematic, wavy uneven pattern described in the first embodiment (1A) It is calculated | required by the method similar to the aspect-ratio.
In other words, in FIG. 10, the height of the ridge 33a of the wavy uneven pattern (1-a) is 1 / of the sum of the distances from the bottom of the two adjacent ridges 33b to the top of the ridge 33a. 2. Here, the distance from the bottom of the concave strip portion 33b to the top portion of the convex strip portion 33a is parallel to the line connecting the top portion of the convex strip portion 32a and the concave strip portion 32b, and the top portion of the convex strip portion 33a. This is the distance in the direction perpendicular to the imaginary line passing through. That is, the height of the ridge 33a forming the wavy uneven pattern (1-a) is the height of the ridge 33a measured from the bottom of the concave ridge 33b on one side with respect to the ridge 33a. When the height measured from the bottom of the concave portion 33b on the other side is R s , b s = (L s + R s ) / 2. In this way, the height b s of each ridge 33a is obtained. Then, the height RS of the 50 ridges 33a is measured, and the average height is obtained by averaging the heights.

本実施形態例の表面微細凹凸シートにおいて、波状凹凸パターンの主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができ、波状凹凸パターン(1A)の凸条部32aの配列方向にほぼ平行な図10中A方向である。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば10°以上であることが好ましく、15°以上であることがより好ましい。また、たとえば40°以下であることが好ましく、30°以下であることがより好ましい。
一方、主拡散方向に対して垂直な低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さく、かつ、たとえば2°以上であることが好ましい。また、15°以下であることが好ましい。
In the surface fine concavo-convex sheet of this embodiment, the main diffusion direction of the wavy uneven pattern can be obtained by the method described above, and is a diagram substantially parallel to the arrangement direction of the ridges 32a of the wavy uneven pattern (1A). 10 in the A direction.
The diffusion angle in the main diffusion direction can be adjusted as appropriate, but is preferably 10 ° or more, for example, and more preferably 15 ° or more. For example, it is preferably 40 ° or less, and more preferably 30 ° or less.
On the other hand, the diffusion angle in the low diffusion direction perpendicular to the main diffusion direction can be adjusted as appropriate, but is preferably smaller than the diffusion angle in the main diffusion direction and, for example, 2 ° or more. Moreover, it is preferable that it is 15 degrees or less.

主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、波状凹凸パターン(1A)および(1−a)それぞれの凸条部11b,33aの平均ピッチ、アスペクト比(平均高さ/平均ピッチ)等を調整すること等により制御できる。
第3実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。
The diffusion angle in the main diffusion direction and the diffusion angle in the low diffusion direction are the average pitch and the aspect ratio (average height / average pitch) of the ridges 11b and 33a of the wavy uneven patterns (1A) and (1-a) It can be controlled by adjusting.
The preferable thickness etc. of the surface fine unevenness | corrugation sheet of 3rd Embodiment are comparable as the surface fine unevenness | corrugation sheet of 1st Embodiment.

第3実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第1実施形態例の表面微細凹凸シート10Aと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a1−1)では、硬質層を形成するために使用する硬質層形成用塗料として、硬質層を形成するための樹脂を2種類(以下、「樹脂M1」および「樹脂N1」という。)使用する。このように2種類の樹脂を使用することにより、波状凹凸パターン(1A)および(1−a)から構成される波状凹凸パターン(1B)を形成できる。 また、本実施形態例の波状凹凸パターン(1B)の形成には、国際公開第2014/002850号等を参照できる。
The surface fine concavo-convex sheet of the third embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet 10A of the first embodiment.
However, in the above-described step (a1-1), two types of resins for forming the hard layer (hereinafter referred to as “resin M1” and “resin N1”) are used as the hard layer forming paint used for forming the hard layer. "). By using two kinds of resins in this way, a wavy uneven pattern (1B) composed of the wavy uneven patterns (1A) and (1-a) can be formed. In addition, International Publication No. 2014/002850 can be referred to for the formation of the wavy uneven pattern (1B) of the present embodiment example.

加熱収縮性樹脂フィルムとしては、1軸延伸フィルムを用いる。その材質(樹脂L)、収縮率、樹脂Lのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第1実施形態例と同様である。   A uniaxially stretched film is used as the heat-shrinkable resin film. Preferred modes and ranges such as the material (resin L), shrinkage rate, glass transition temperature of resin L, Young's modulus and the like are the same as those in the first embodiment.

硬質層の形成に用いる樹脂M1および樹脂N1としては、各々、たとえば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。   Examples of the resin M1 and the resin N1 used for forming the hard layer include polyvinyl alcohol, polystyrene, acrylic resin, styrene-acrylic copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Polycarbonate, polyethersulfone, fluororesin and the like can be used.

樹脂M1および樹脂N1は、波状凹凸パターン(1B)の形成しやすさの点から、ガラス転移温度が互いに異なることが好ましく、具体的には、樹脂M1のガラス転移温度Tg2Mが樹脂N1のガラス転移温度Tg2Nよりも高いことが好ましい。さらには、(樹脂M1のガラス転移温度Tg2M)−(樹脂N1のガラス転移温度Tg2N)が10℃以上であることが好ましく、12℃以上であることがより好ましい。
一方、Tg2M−Tg2Nが20℃以下であることが好ましく、18℃以下であることがより好ましい。すなわち、樹脂M1のガラス転移温度Tg2Mと、樹脂N1のガラス転移温度Tg2Nとの差は、10〜20℃であることが好ましい。より好ましくは、12〜18℃である。
Resin M1 and resins N1 from the viewpoint of forming easiness wavy uneven pattern (1B), preferably a glass transition temperature are different from each other, specifically, glass having a glass transition temperature Tg 2M resin N1 resin M1 It is preferable that the transition temperature is higher than Tg 2N . Furthermore, (glass transition temperature Tg 2M of resin M1) − (glass transition temperature Tg 2N of resin N1) is preferably 10 ° C. or higher, and more preferably 12 ° C. or higher.
On the other hand, it is preferable that Tg 2M -Tg 2N is 20 ° C. or less, more preferably 18 ° C. or less. That is, the difference between the glass transition temperature Tg 2M of the resin M1 and the glass transition temperature Tg 2N of the resin N1 is preferably 10 to 20 ° C. More preferably, it is 12-18 degreeC.

波状凹凸パターン(1B)の形成しやすさの点から、樹脂M1のガラス転移温度Tg2Mと樹脂L1のガラス転移温度Tgとの差(Tg2M−Tg)、樹脂N1のガラス転移温度Tg2Nと樹脂L1のガラス転移温度Tgとの差(Tg2N−Tg)が共に10℃以上であることが好ましく、15℃以上であることがより好ましく、20℃以上であることが特に好ましい。 From the viewpoint of forming easiness wavy uneven pattern (1B), the difference between the glass transition temperature Tg 1 of the glass transition temperature Tg 2M resin L1 of resin M1 (Tg 2M -Tg 1), the glass transition temperature Tg of the resin N1 The difference (Tg 2N −Tg 1 ) between 2N and the glass transition temperature Tg 1 of the resin L1 is preferably 10 ° C. or higher, more preferably 15 ° C. or higher, and particularly preferably 20 ° C. or higher. .

樹脂M1および樹脂N1のガラス転移温度Tg2M,Tg2Nは共に40〜400℃の範囲内にあることが好ましく、80〜250℃の範囲内にあることがより好ましい。Tg2M,Tg2Nが上記範囲内であれば、より容易に波状凹凸パターン(1B)を形成できる。 Both the glass transition temperatures Tg 2M and Tg 2N of the resin M1 and the resin N1 are preferably in the range of 40 to 400 ° C., and more preferably in the range of 80 to 250 ° C. When Tg 2M and Tg 2N are within the above ranges, the corrugated uneven pattern (1B) can be more easily formed.

樹脂M1および樹脂N1のヤング率は、工程(a1−2)の温度、すなわち80〜180℃において、0.01〜300GPaの範囲内にあることが好ましく、0.1〜10GPaの範囲内にあることがより好ましい。樹脂M1および樹脂N1のヤング率が上記範囲の下限値以上であれば、波状凹凸パターン(1B)の形状を維持するのに充分な硬さであり、ヤング率が上記範囲の上限値以下であれば、より容易に波状凹凸パターン(1B)を形成できる。   The Young's modulus of the resin M1 and the resin N1 is preferably in the range of 0.01 to 300 GPa and in the range of 0.1 to 10 GPa at the temperature of the step (a1-2), that is, 80 to 180 ° C. It is more preferable. If the Young's modulus of the resin M1 and the resin N1 is equal to or higher than the lower limit of the above range, the hardness is sufficient to maintain the shape of the wavy uneven pattern (1B), and the Young's modulus is equal to or lower than the upper limit of the above range. In this case, the wavy uneven pattern (1B) can be formed more easily.

硬質層の厚さは、第1実施形態例と同じ範囲が好ましく、厚さが連続的に変化していても構わない点も同様である。
硬質層を設ける方法としては、硬質層形成用塗料として、樹脂M1および樹脂N1を含む塗料を使用する点以外は、第1実施形態例と同様である。
The thickness of the hard layer is preferably in the same range as in the first embodiment, and the same is true in that the thickness may change continuously.
The method of providing the hard layer is the same as that of the first embodiment except that a paint containing the resin M1 and the resin N1 is used as the hard layer forming paint.

なお、上記製造方法において、波状凹凸パターン(1B)の特性(ピッチ、アスペクト比等。)は、たとえば樹脂M1と樹脂N1の配合比率、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率を調整することで制御できる(たとえば、国際公開第2014/002850号等参照。)。   In the above manufacturing method, the characteristics (pitch, aspect ratio, etc.) of the wavy uneven pattern (1B) can be controlled, for example, by adjusting the blending ratio of the resin M1 and the resin N1 and the shrinkage rate of the heat-shrinkable resin film. (For example, see International Publication No. 2014/002850 etc.).

〔第4実施形態例〕
図11は、第4実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第4実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第1実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン(1)に該当する。
図12は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン(1C)を示すものであって、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン(1C)の凸条部の配列方向に沿って切断した縦断面図である。
[Fourth Embodiment]
FIG. 11 is an optical microscopic image of the wavy uneven pattern forming surface of the surface fine uneven sheet of the fourth embodiment. The wavy uneven pattern formed on the wavy uneven pattern forming surface of the surface fine uneven sheet of the fourth embodiment corresponds to the previously described wavy uneven pattern (1), as in the first embodiment.
FIG. 12 shows a wavy uneven pattern (1C) of the surface fine uneven sheet according to the present embodiment, which is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet and has a convex line of the wave uneven pattern (1C). It is the longitudinal cross-sectional view cut | disconnected along the sequence direction of a part.

第4実施形態例の表面微細凹凸シートにおける波状凹凸パターン(1C)は、上述のとおり、波状凹凸パターン(1)に該当するが、第1実施形態例の波状凹凸パターン(1A)は、図4に示したように、凸条部の縦断面形状11aにおいて、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降しているのに対して、本実施形態例の波状凹凸パターン(1C)は、図12に示すように、凸条部42aの縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線の途中に、外方に突出する複数の凸部43がランダムに形成されている点で、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと異なる。凸部43は、凹条部42b上や凸条部42aの頂部上に形成されていてもよい。
表面微細凹凸シートの他方の面には、線状凹凸パターンとしてリニアフレネルレンズパターンが形成されている点等、その他の点は第1実施形態例と同様である。そして、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
The wavy uneven pattern (1C) in the surface fine uneven sheet of the fourth embodiment corresponds to the wavy uneven pattern (1) as described above, but the wavy uneven pattern (1A) of the first embodiment is shown in FIG. As shown in Fig. 4, in the longitudinal cross-sectional shape 11a of the ridge portion, the line connecting the distal end side and the proximal end side descends smoothly and continuously from the distal end side toward the proximal end side. As shown in FIG. 12, the wavy uneven pattern (1C) of the present embodiment has a plurality of protrusions projecting outward in the middle of the line connecting the distal end side and the proximal end side in the longitudinal cross-sectional shape of the protruding strip portion 42a. This is different from the surface fine concavo-convex sheet of the first embodiment in that the convex portions 43 are randomly formed. The convex part 43 may be formed on the concave line part 42b or the top part of the convex line part 42a.
Other points such as a linear Fresnel lens pattern formed as a linear uneven pattern on the other surface of the surface fine uneven sheet are the same as those in the first embodiment. And the illumination unit for display apparatuses and a display apparatus can be comprised similarly to the surface fine unevenness | corrugation sheet | seat of 1st Embodiment.

波状凹凸パターン(1C)は、凸条部42aおよび凹条部42bによる波状凹凸パターン(1A)とその上にランダムに形成された多数の凸部43とからなり、波状凹凸パターン(1A)は、主拡散方向への拡散を主に担い、該波状凹凸パターン(1A)上に形成された凸部43は、該波状凹凸パターン(1A)による光拡散性の異方性を適度に弱め、低拡散方向の拡散角度を増加させる作用を奏する。
主拡散方向の拡散角度は、たとえば18°以上、好ましくは23°以上、より好ましくは25°以上である。主拡散方向の拡散角度の上限は、特に制限はないが、たとえば30°である。低拡散方向の拡散角度は、たとえば4°以上、好ましくは8°以上、より好ましくは10°以上である。低拡散方向の拡散角度の上限値は、特に制限はないが、たとえば20°である。
なお、本実施形態例では、波状凹凸パターン(1A)上に凸部43が形成された態様が示されているが、凸部の代わりに凹部が形成されていてもよく、凹部も凸部と同じ作用を奏する。
The wavy uneven pattern (1C) is composed of a wavy uneven pattern (1A) formed by the protrusions 42a and the recesses 42b and a large number of protrusions 43 randomly formed thereon, and the wavy uneven pattern (1A) Mainly responsible for diffusion in the main diffusion direction, the convex portion 43 formed on the wavy uneven pattern (1A) moderately weakens the anisotropy of light diffusibility due to the wavy uneven pattern (1A), and low diffusion It has the effect of increasing the directional diffusion angle.
The diffusion angle in the main diffusion direction is, for example, 18 ° or more, preferably 23 ° or more, more preferably 25 ° or more. The upper limit of the diffusion angle in the main diffusion direction is not particularly limited, but is, for example, 30 °. The diffusion angle in the low diffusion direction is, for example, 4 ° or more, preferably 8 ° or more, more preferably 10 ° or more. The upper limit value of the diffusion angle in the low diffusion direction is not particularly limited, but is 20 °, for example.
In the present embodiment, a mode in which the convex portion 43 is formed on the wavy uneven pattern (1A) is shown. However, a concave portion may be formed instead of the convex portion, and the concave portion is also a convex portion. Has the same effect.

凸条部42aの平均ピッチおよびアスペクト比の好ましい範囲、求め方等は、第1実施形態例で説明したとおりである。   The preferred range and method of obtaining the average pitch and aspect ratio of the ridges 42a are as described in the first embodiment.

波状凹凸パターン(1A)上に形成された凸部43の平均径は、1〜10μmが好ましく、3〜8μmがより好ましく、4〜6μmがさらに好ましい。
凸部の平均径Dは、図11のような平面画像において、20個の凸部43を任意に選択し、波状凹凸パターン(1A)の凸条部42aの配列方向に沿って、各凸部43の径(凸条部42aの配列方向に沿う最大長さ)を測定した各値を平均することで求められる。
平均径Dは、次の方法で求めることもできる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル(例えば、tiff形式等。)に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析により求める。この方法は、最頻径の求め方として、たとえば特開2014−206728号公報(特許第5660235号公報)に記載されており、これを参照できる。平均径と最頻径は、同等に扱うことができる。
1-10 micrometers is preferable, as for the average diameter of the convex part 43 formed on the wavy uneven | corrugated pattern (1A), 3-8 micrometers is more preferable, and 4-6 micrometers is more preferable.
As for the average diameter D of the protrusions, 20 protrusions 43 are arbitrarily selected in the planar image as shown in FIG. It calculates | requires by averaging each value which measured the diameter (maximum length along the sequence direction of the protruding item | line part 42a) of 43. FIG.
The average diameter D can also be obtained by the following method.
That is, the upper surface of the wavy uneven pattern forming surface is photographed with an optical microscope or an electron microscope, the image is converted into a grayscale file (eg, tiff format), and then the image of the grayscale file is Fourier transformed. And obtained by image analysis of a Fourier transform image. This method is described, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-206728 (Japanese Patent No. 5660235) as a method for obtaining the mode diameter, and this can be referred to. The average diameter and the mode diameter can be treated equally.

波状凹凸パターン(1A)の凸条部42aの平均ピッチ、凸部43の平均径をそれぞれ上記範囲内で調整することにより、主拡散方向および低拡散方向それぞれの拡散角度を適度に制御できる。   By adjusting the average pitch of the protrusions 42a of the wavy uneven pattern (1A) and the average diameter of the protrusions 43 within the above ranges, the diffusion angles in the main diffusion direction and the low diffusion direction can be appropriately controlled.

凸条部42aの平均高さは、3〜7μmが好ましく、4〜6μmがより好ましい。凸条部42aの平均高さが上記範囲であると、光拡散性が充分に得られる。   3-7 micrometers is preferable and, as for the average height of the convex part 42a, 4-6 micrometers is more preferable. If the average height of the ridges 42a is within the above range, sufficient light diffusibility can be obtained.

本実施形態例において、凸条部42aの平均高さは、以下のように測定、定義される。 まず、図12のような縦断面図を得て、凸部43が存在していない部分の凸条部42aの断面図から、該凸条部42aの高さHを求める。具体的には、凸条部42aの高さHは、該凸条部42aの頂部Tと該凸条部42aの一方側に位置する凹条部42bの底部B11との垂直距離をH1とし、該凸条部42aの頂部Tと該凸条部42aの他方側に位置する凹条部42bの底部B21との垂直距離をH2とした場合に、H=(H1+H2)/2で求められる。
このような計測を凸部43が存在していない凸条部42aの50箇所に対して行い、50のデータの平均値を「凸条部の平均高さ」と定義する。
In the present embodiment example, the average height of the ridge 42a is measured and defined as follows. First, a vertical cross-sectional view as shown in FIG. 12 is obtained, and the height H of the ridge 42a is obtained from the cross-sectional view of the ridge 42a where the protrusion 43 does not exist. Specifically, the height H of the ridge 42a is defined as a vertical distance H1 between the top T of the ridge 42a and the bottom B11 of the recess 42b located on one side of the ridge 42a, When the vertical distance between the top T of the ridge 42a and the bottom B21 of the ridge 42b located on the other side of the ridge 42a is H2, it is obtained by H = (H1 + H2) / 2.
Such a measurement is performed on 50 portions of the ridge 42a where the protrusion 43 does not exist, and the average value of the 50 data is defined as “average height of the ridge”.

一方、凸部43の平均高さは、0.5〜3μmが好ましく、より好ましくは1〜2μmである。凸部43の平均高さが上記範囲であると、波状凹凸パターンの光拡散性の異方性を適度に弱めることができ、主拡散方向および低拡散方向の両方の拡散角度を制御しやすい。   On the other hand, the average height of the convex portions 43 is preferably 0.5 to 3 μm, more preferably 1 to 2 μm. When the average height of the convex portions 43 is within the above range, the light diffusion anisotropy of the wavy uneven pattern can be moderately weakened, and the diffusion angles in both the main diffusion direction and the low diffusion direction can be easily controlled.

本実施形態例において、凸部43の平均高さは、以下のように測定、定義される。
まず、図12のような断面図を得て、波状の凹凸パターン(1A)に由来する形状と、凸部43に由来する形状とに波形分離する。なお、波形分離は、波状凹凸パターン(1A)に由来する形状をサインカーブとして行う。ついで、図12の断面図から、波状凹凸パターン(1A)に由来する形状を差し引き、図13に示すように、凸部43に由来する形状のみの断面図を得る。そして、図13の断面図において、凸部43の高さH’を、H’=(H1’+H2’)/2として求める。H1’は、図13の断面図において、凸部43の頂部T’と該凸部43の一方側のベースラインLαとの垂直距離であり、H2’は、凸部43の頂部T’と該凸部43の他方側のベースラインLβとの垂直距離である。
このような計測を50個の凸部43に対して行い、50のデータの平均値を「凸部の平均高さ」と定義する。
In the present embodiment example, the average height of the convex portion 43 is measured and defined as follows.
First, a sectional view as shown in FIG. 12 is obtained, and the waveform is separated into a shape derived from the wavy uneven pattern (1 </ b> A) and a shape derived from the convex portion 43. In the waveform separation, the shape derived from the wavy uneven pattern (1A) is used as a sine curve. Then, the shape derived from the wavy uneven pattern (1A) is subtracted from the cross-sectional view of FIG. 12 to obtain a cross-sectional view of only the shape derived from the convex portion 43 as shown in FIG. Then, in the cross-sectional view of FIG. 13, the height H ′ of the convex portion 43 is obtained as H ′ = (H1 ′ + H2 ′) / 2. In the cross-sectional view of FIG. 13, H1 ′ is a vertical distance between the top portion T ′ of the convex portion 43 and the base line Lα on one side of the convex portion 43, and H2 ′ is the top portion T ′ of the convex portion 43 and the top portion T ′. This is a vertical distance from the base line Lβ on the other side of the convex portion 43.
Such measurement is performed on 50 convex portions 43, and an average value of 50 data is defined as "average height of convex portions".

波状凹凸パターン形成面における凸部43の占有面積割合は、30〜70%が好ましく、より好ましくは40〜60%、さらに好ましくは45〜55%である。凸部43の占有面積割合が上記範囲であると、波状凹凸パターン(1A)の光拡散性の異方性を適度に弱めることができ、主拡散方向および低拡散方向の両方の拡散角度を上記範囲に制御しやすい。   The occupation area ratio of the protrusions 43 on the wavy uneven pattern forming surface is preferably 30 to 70%, more preferably 40 to 60%, and still more preferably 45 to 55%. When the occupation area ratio of the convex portion 43 is within the above range, the light diffusible anisotropy of the wavy uneven pattern (1A) can be moderately weakened, and the diffusion angles in both the main diffusion direction and the low diffusion direction can be set as described above. Easy to control to range.

波状凹凸パターン形成面における凸部43の占有面積割合γ(%)は、以下のように測定、定義される。
まず、図11のような光学顕微鏡画像を得て、視野全体の面積S2(例えば縦0.4〜1.6mm、横0.5〜2mm)中に認められる凸部43の個数nを数え、視野全体において、n個の凸部43によって占有されている面積S1=nrπを求める。占有面積割合γ(%)は以下の式により求められる。
γ(%)=S1×100/S2(ただし、式中のrは、凸部の平均径の1/2(すなわち半径)である。)
The occupied area ratio γ (%) of the convex portion 43 on the wavy uneven pattern forming surface is measured and defined as follows.
First, an optical microscope image as shown in FIG. 11 is obtained, and the number n of the convex portions 43 recognized in the area S2 of the entire visual field (for example, 0.4 to 1.6 mm in length and 0.5 to 2 mm in width) is counted. In the entire field of view, the area S1 = nr 2 π occupied by the n convex portions 43 is obtained. The occupied area ratio γ (%) is obtained by the following formula.
γ (%) = S1 × 100 / S2 (where r in the formula is ½ (ie, radius) of the average diameter of the convex portions)

本実施形態例の表面微細凹凸シートにおいて、波状凹凸パターンの主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができ、波状凹凸パターン(1A)の凸条部42aの配列方向にほぼ平行な図12中A方向である。一方、主拡散方向に対して垂直な方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。   In the surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment, the main diffusion direction of the wavy concavo-convex pattern can be obtained by the method described above, and is a diagram substantially parallel to the arrangement direction of the ridges 42a of the wavy concavo-convex pattern (1A). 12 in the A direction. On the other hand, the direction perpendicular to the main diffusion direction is a “low diffusion direction” with a low diffusion angle.

主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、波状凹凸パターン(1A)の凸条部42aの平均ピッチ、平均高さ、凸部43の平均径、平均高さ、占有面積等を調整すること等により制御できる。
第4実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。
The diffusion angle in the main diffusion direction and the diffusion angle in the low diffusion direction adjust the average pitch, average height, average diameter, average height, occupied area, etc. of the convex portions 42a of the wavy uneven pattern (1A). It can be controlled by doing.
The preferable thickness etc. of the surface fine unevenness | corrugation sheet of 4th Embodiment are comparable as the surface fine unevenness | corrugation sheet of 1st Embodiment.

第4実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a1−1)において、硬質層を形成するために使用する硬質層形成用塗料として、硬質層を形成するための樹脂Mとともに粒子を含有する塗料を用いる点で異なる。粒子を用いることにより、凸部43を有する波状凹凸パターン(1A)を形成できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン(1C)の形成には、特開2014−206728号公報(特許第5660235号公報)を参照できる。
The surface fine concavo-convex sheet of the fourth embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the first embodiment.
However, in the above-mentioned process (a1-1), it differs in that the paint containing particles is used together with the resin M for forming the hard layer as the hard layer forming paint used for forming the hard layer. By using the particles, the wavy uneven pattern (1A) having the convex portions 43 can be formed.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-206728 (Japanese Patent No. 5660235) can be referred to for the formation of the wavy uneven pattern (1C) of the present embodiment.

加熱収縮性樹脂フィルムとしては、1軸延伸フィルムを用いる。その材質(樹脂L)、収縮率、樹脂Lのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第1実施形態例と同様である。
硬質層やその材質(樹脂M)、樹脂Mのガラス転移温度およびヤング率等も、第1実施形態例と同様である。
A uniaxially stretched film is used as the heat-shrinkable resin film. Preferred modes and ranges such as the material (resin L), shrinkage rate, glass transition temperature of resin L, Young's modulus and the like are the same as those in the first embodiment.
The hard layer, its material (resin M), the glass transition temperature and Young's modulus of the resin M are the same as in the first embodiment.

粒子を構成する材料には、樹脂Lのガラス転移温度Tgより10℃高い温度未満では、熱により粒子形状が変化しない材料の1種以上を用いることができる。
例えば、粒子を構成する材料が、ガラス転移温度を有する樹脂およびガラス転移温度を有する無機材料からなる群から選ばれる1種以上である場合、そのガラス転移温度Tgが、樹脂Mのガラス転移温度Tg2Mと同様の条件を満たすこと、すなわち、(Tg−Tg)が10℃以上となるように選択されることが必要であり、(Tg−Tg)が20℃以上がより好ましく、30℃以上が更に好ましい。(Tg−Tg1)が10℃以上であると、上述の加工温度において、粒子が変形した溶融したりしない。
As the material constituting the particles, one or more materials whose particle shape is not changed by heat can be used at a temperature lower than 10 ° C. higher than the glass transition temperature Tg 1 of the resin L.
For example, when the material constituting the particles is one or more selected from the group consisting of a resin having a glass transition temperature and an inorganic material having a glass transition temperature, the glass transition temperature Tg 3 is the glass transition temperature of the resin M. It is necessary to satisfy the same conditions as Tg 2M , that is, (Tg 3 −Tg 1 ) should be selected to be 10 ° C. or higher, and (Tg 3 −Tg 1 ) is more preferably 20 ° C. or higher. 30 ° C. or higher is more preferable. When (Tg 3 −Tg 1) is 10 ° C. or higher, the particles are not deformed and melted at the above processing temperature.

粒子を構成する材料が、ガラス転移温度を有さない材料、例えば内部架橋型樹脂などである場合には、そのビカット軟化温度(JIS K7206に規定)が、上述の条件を満たすこと、すなわち、樹脂Lのガラス転移温度より10℃以上高いことが好ましく、20℃以上高いことが好ましく、30℃以上高いことがより好ましい。   When the material constituting the particles is a material that does not have a glass transition temperature, such as an internally cross-linked resin, the Vicat softening temperature (as defined in JIS K7206) satisfies the above-described condition, that is, the resin It is preferably 10 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher, and more preferably 30 ° C. or higher than the glass transition temperature of L.

本明細書において、ガラス転移温度Tgについての好ましい温度範囲などの記載は、粒子がガラス転移温度を有さず、ビカット軟化温度を有する材料からなる場合、そのビカット軟化温度にも該当するものとする。
さらに、粒子を構成する材料としては、ガラス転移温度、ビカット軟化温度が測定できないものであっても、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Lのガラス転移温度Tgより10℃高い温度未満において、熱により粒子形状が変化しない材料であれば、使用可能である。
In the present specification, the description of the preferable temperature range and the like for the glass transition temperature Tg 3 also corresponds to the Vicat softening temperature when the particles are made of a material having a Vicat softening temperature without the glass transition temperature. To do.
Furthermore, as the material constituting the particles, even if the glass transition temperature and Vicat softening temperature cannot be measured, at a temperature lower than 10 ° C. higher than the glass transition temperature Tg 1 of the resin L constituting the heat-shrinkable resin film, Any material that does not change its particle shape due to heat can be used.

Tgは、40〜400℃であることが好ましく、80〜250℃であることがより好ましい。Tgが40℃以上であれば、工程(a1−2)の温度を室温またはそれ以上にすることができて有用であり、Tgが400℃を超えるような粒子を使用することは、経済性の面から必要性に乏しい。 Tg 3 is preferably 40 to 400 ° C, and more preferably 80 to 250 ° C. If Tg 3 is 40 ° C. or higher, it is useful that the temperature of step (a1-2) can be room temperature or higher, and it is economical to use particles whose Tg 3 exceeds 400 ° C. There is little need in terms of sex.

粒子を構成する樹脂としては、そのガラス転移温度Tg(またはビカット軟化点。)が上述の条件を満たすように、加熱収縮性樹脂フィルムの種類等に応じて選択され、例えば、アクリル系熱可塑性樹脂粒子、ポリスチレン系熱可塑性樹脂粒子、アクリル系架橋型樹脂粒子、ポリスチレン系架橋型樹脂粒子などが挙げられる。また、無機材料としては、ガラスビーズなどが挙げられる。
粒子の粒径dは、形成される硬質層の厚みtより大きいことが必要であり、硬質層の厚みtに応じて設定される。また、凸部43の平均径が、上述の好適な範囲となるように、適宜設定される。好ましい粒径dは、例えば、5〜10μmで、より好ましくは5〜8μmである。
The resin constituting the particles is selected according to the type of the heat-shrinkable resin film so that the glass transition temperature Tg 3 (or Vicat softening point) satisfies the above-described conditions, for example, acrylic thermoplastic Examples thereof include resin particles, polystyrene-based thermoplastic resin particles, acrylic cross-linked resin particles, and polystyrene cross-linked resin particles. Examples of the inorganic material include glass beads.
The particle diameter d of the particles needs to be larger than the thickness t of the hard layer to be formed, and is set according to the thickness t of the hard layer. Moreover, the average diameter of the convex part 43 is suitably set so that it may become the above-mentioned suitable range. The preferable particle diameter d is, for example, 5 to 10 μm, and more preferably 5 to 8 μm.

工程(a1−1)においては、硬質層形成用塗料として、樹脂Mおよび粒子を含む塗料を使用し、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、厚みt’が0.05μmを超え、10μm以下である硬質層を形成する。この時点での硬質層は、折り畳むように変形していない。すなわち、厚みt’は変形前の硬質層の厚さである。
硬質層は、このように硬質層形成用塗料を加熱収縮性樹脂フィルムに直接塗工して設ける代わりに、あらかじめ作製した硬質層(樹脂M中に粒子が分散してなるフィルム)を加熱収縮性フィルムに積層する方法で設けてもよい。
In the step (a1-1), a paint containing resin M and particles is used as the hard layer forming paint, and the thickness t ′ exceeds 0.05 μm and is 10 μm or less on one side of the heat-shrinkable resin film. A hard layer is formed. The hard layer at this point is not deformed to fold. That is, the thickness t ′ is the thickness of the hard layer before deformation.
Instead of providing the hard layer coating directly on the heat-shrinkable resin film as described above, the hard layer is obtained by heating a hard layer (a film in which particles are dispersed in the resin M) that is heat-shrinkable. You may provide by the method of laminating | stacking on a film.

樹脂Mおよび粒子を構成する樹脂としては、それぞれすでに例示したものを使用できるが、樹脂Mのガラス転移温度Tg2Mと、粒子のガラス転移温度Tgとが、樹脂Lのガラス転移温度Tgよりも10℃以上高くなるように各材質を選択し、組み合わせることが重要である。このようにそれぞれの材質を選択したうえで、厚みt’が0.05μmを超え10μm以下である硬質層を加熱収縮性樹脂フィルムの片面に設けると、次の工程(a1−2)を経ることにより、凸条部42aの平均ピッチ、平均高さが上記範囲の波状凹凸パターン(1C)が形成されやすい。 As the resin M and the resin constituting the particles, those already exemplified can be used. However, the glass transition temperature Tg 2M of the resin M and the glass transition temperature Tg 3 of the particles are more than the glass transition temperature Tg 1 of the resin L. It is important to select and combine the materials so that the temperature is 10 ° C. or higher. Thus, after selecting each material, when the hard layer whose thickness t 'exceeds 0.05 micrometer and is 10 micrometers or less is provided in the single side | surface of a heat-shrinkable resin film, it passes through the following process (a1-2). As a result, the wavy uneven pattern (1C) having the average pitch and average height of the ridges 42a in the above range is easily formed.

本実施形態例において、硬質層形成用塗料中の樹脂Mの好ましい固形分濃度の範囲は、第1実施形態例と同様である。粒子の量は、樹脂Mの正味量100質量部に対して、10〜50質量部であることが好ましく、20〜30質量部であることがより好ましい。このような範囲であると、形成される凸部43の占有面積割合を上述の好適な範囲内に制御することができる。   In the present embodiment example, the preferred solid content concentration range of the resin M in the hard layer forming coating material is the same as that in the first embodiment example. The amount of the particles is preferably 10 to 50 parts by mass and more preferably 20 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the net amount of the resin M. Within such a range, the occupation area ratio of the convex portions 43 to be formed can be controlled within the above-described preferable range.

なお、塗工する硬質層の厚みt’は、0.05μmを超え10μm以下の範囲内であれば、連続的に変化していても構わない。その場合、変形工程により形成される凸条部42aのピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。硬質層の厚みt’は、次の工程(a1−2)を経てもほとんど変化せす、t’=tと考えることができる。
硬質層の厚さが薄いほど、また、硬質層のヤング率が低いほど、波状凹凸パターン(1A)の平均ピッチが小さくなり、また、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率が高いほど、凸条部42aの高さが大きくなる。したがって、これらの条件を調整すれば、波状凹凸パターン(1A)の凸条部42aのピッチおよび高さを所望の値に制御できる。
The thickness t ′ of the hard layer to be applied may be continuously changed as long as it is in the range of more than 0.05 μm and not more than 10 μm. In that case, the pitch and depth of the ridges 42a formed by the deformation process are continuously changed. The thickness t ′ of the hard layer can be considered as t ′ = t, which changes almost even after the next step (a1-2).
The thinner the hard layer is, the lower the Young's modulus of the hard layer is, the smaller the average pitch of the wavy uneven pattern (1A) is, and the higher the contraction rate of the heat-shrinkable resin film is, The height of 42a becomes large. Therefore, by adjusting these conditions, the pitch and height of the ridges 42a of the wavy uneven pattern (1A) can be controlled to desired values.

工程(a1−1)以外は、第1実施形態例と同様に行う。   Except for the step (a1-1), the same procedure as in the first embodiment is performed.

〔第5実施形態例〕
図14は、第5実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第5実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第1実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン(1)に該当する。
[Fifth Embodiment]
FIG. 14 is an optical microscopic image of the wavy uneven pattern forming surface of the surface fine uneven sheet of the fifth embodiment. The wavy uneven pattern formed on the wavy uneven pattern forming surface of the surface fine uneven sheet of the fifth embodiment corresponds to the waved uneven pattern (1) described above, as in the first embodiment.

第5実施形態例の表面微細凹凸シートにおける波状凹凸パターン(1D)は、上述の波状凹凸パターン(1A)に加えて、別の波状凹凸パターン(1−b)を有する。
図15(a)は、第5実施形態例の表面微細凹凸シート10Dについて、法線方向から観察した様子を示す模式的な平面図、図15(b)は、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、後述の波状凹凸パターン(1−b)の凸条部11cの配列方向に平行な側面を示す側面図、図15(c)は、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11dの配列方向に平行な側面の側面図である。
波状凹凸パターン(1A)における凸条部11dの配列方向と、波状凹凸パターン(1−b)における凸条部11cの配列方向とは、ほぼ直交し、これらの配列方向のなす角度は、波状凹凸パターンを平面視した場合において90±10°の範囲内である。
The wavy uneven pattern (1D) in the surface fine uneven sheet of the fifth embodiment example has another wavy uneven pattern (1-b) in addition to the above-described wavy uneven pattern (1A).
FIG. 15A is a schematic plan view showing the surface fine concavo-convex sheet 10D of the fifth embodiment as observed from the normal direction, and FIG. 15B is the normal direction of the surface fine concavo-convex sheet. And FIG. 15C is a side view showing a side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 11c of the wavy uneven pattern (1-b) described later, and FIG. 15C is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet. Moreover, it is a side view of the side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 11d of the wavy uneven pattern (1A).
The arrangement direction of the ridges 11d in the wavy uneven pattern (1A) and the arrangement direction of the ridges 11c in the wavy uneven pattern (1-b) are substantially orthogonal, and the angle formed by these arrangement directions is the wavy unevenness. When the pattern is viewed in plan, it is within the range of 90 ± 10 °.

表面微細凹凸シート10Dの他方の面には、線状凹凸パターンとしてリニアフレネルレンズパターン12Aが形成されている点等、その他の点は第1実施形態例と同様である。そして、第1実施形態例の表面微細凹凸シート10Aと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シート10Dも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。   Other points, such as a linear Fresnel lens pattern 12A formed as a linear concavo-convex pattern on the other surface of the surface fine concavo-convex sheet 10D, are the same as in the first embodiment. And the surface fine unevenness | corrugation sheet | seat 10D of this embodiment example can comprise the illumination unit for display apparatuses, and a display apparatus similarly to 10 A of surface fine unevenness | corrugation sheets of 1st Embodiment.

波状凹凸パターン(1D)は、凸条部11dと凸条部11cとが互いにほぼ直交(±10°の範囲内)しているパターン、すなわち、波状凹凸パターン(1A)と波状凹凸パターン(1−b)とが重畳したパターンであるため、光拡散性の異方性が弱められており、波状凹凸パターンの主拡散方向と低拡散方向とにおける拡散角度の差は小さい傾向にある。   The wavy uneven pattern (1D) is a pattern in which the ridges 11d and the ridges 11c are substantially orthogonal to each other (within a range of ± 10 °), that is, the wavy uneven pattern (1A) and the wavy uneven pattern (1- Since b) is a superimposed pattern, the light diffusion anisotropy is weakened, and the difference in diffusion angle between the main diffusion direction and the low diffusion direction of the wavy uneven pattern tends to be small.

波状凹凸パターン(1−b)は、波状凹凸パターン(1A)と同様に、以下の特徴を有する。
(a’)各凸条部11cが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部11cの稜線が蛇行し、隣接する凸条部11cの稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、1本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
(b’)各凹条部11eが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部11eの谷線が蛇行し、隣接する凹条部11eの谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、1本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
Similar to the wavy uneven pattern (1A), the wavy uneven pattern (1-b) has the following characteristics.
(A ′) Each ridge 11c meanders and is not parallel to each other. That is, the ridge line of each protruding line part 11c meanders, and the space | interval of the ridge line of the adjacent protruding line part 11c is not constant, but is changing continuously. However, it may include a portion where the interval between the ridge lines is constant. Further, one ridge line may be branched in the middle, or a plurality of ridge lines may be joined in the middle.
(B ′) Each concave line portion 11e meanders and is not parallel to each other. That is, the valley line of each concave line part 11e meanders, and the space | interval of the valley line of the adjacent concave line part 11e is not constant, but is changing continuously. However, a portion where the interval between the valley lines is partially constant may be included. Moreover, one trough line may branch on the way, or several trough lines may unite on the way.

また、波状凹凸パターン(1−b)において、各凸条部11cの縦断面形状(表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部11cの配列方向に沿って切断される切断面における形状。)は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
また、各凸条部11cの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。なお、波状凹凸パターン(1−b)は、各凸条部11cの上記縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線は、滑らかであり、先端側から基端側に向けて連続的に下降している。また、各凸条部11cは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部11cの延在方向(筋状に延びている方向)に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部11cにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、各凹条部11eにおいて、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
Further, in the wavy uneven pattern (1-b), the longitudinal cross-sectional shape of each protrusion 11c (cut parallel to the normal direction of the surface fine unevenness sheet and cut along the arrangement direction of the protrusions 11c. Are different from each other and are not uniform, but irregular.
The vertical cross-sectional shape of each ridge portion 11c is a tapered shape that becomes thinner from the proximal end side toward the distal end side, and the distal end is rounded. The wavy uneven pattern (1-b) has a smooth line connecting the distal end side and the proximal end side in the longitudinal cross-sectional shape of each protrusion 11c, and is continuous from the distal end side to the proximal end side. It has fallen to. In addition, each ridge 11c has at least one of the above-described vertical cross-sectional shape and the area thereof changed along the extending direction of the ridge 11c (direction extending in a line shape), It is not constant.
Moreover, in each protruding item | line part 11c, the height of a ridgeline is not constant, but has a height difference which changes continuously. However, the part which does not have a height difference partially may be included.
Moreover, in each concave line part 11e, the height of a trough line is not constant, but has the height difference which changes continuously. However, the part which does not have a height difference partially may be included.

波状凹凸パターン(1D)を構成している波状凹凸パターン(1A)の凸条部11dの平均ピッチおよびアスペクト比の求め方等は、第1実施形態例で説明したとおりであり、波状凹凸パターン(1−b)の凸条部11cについても同様である。波状凹凸パターン(1A)および(1−b)の平均ピッチおよびアスペクト比は、適宜調整できるが、波状凹凸パターン(1A)よりも波状凹凸パターン(1−b)の方が、小さいことが好ましい。   The method for obtaining the average pitch and aspect ratio of the ridges 11d of the wavy uneven pattern (1A) constituting the wavy uneven pattern (1D) is as described in the first embodiment, and the wavy uneven pattern ( The same applies to the protrusion 1c of 1-b). The average pitch and aspect ratio of the wavy uneven pattern (1A) and (1-b) can be adjusted as appropriate, but the wavy uneven pattern (1-b) is preferably smaller than the wavy uneven pattern (1A).

たとえば本実施形態例においては、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11dの平均ピッチは、5〜50μmであることが好ましく、10〜40μmであることがより好ましく、15〜30μmであることがさらに好ましい。平均ピッチが上記範囲の下限以上であると、表面微細凹凸シートを容易に製造できる。平均ピッチが上記範囲の上限値以下であると、表面微細凹凸シートを照明装置に使用した場合に、波状凹凸パターン(1A)が好ましくない輝線として視認されにくい。
一方、波状凹凸パターン(1−b)の凸条部11cの平均ピッチは、1〜25μmであることが好ましく、3〜20μmであることがより好ましく、5〜15μmであることがさらに好ましい。平均ピッチが上記範囲内であると、表面微細凹凸シート10Dを容易に製造できる。
For example, in the present embodiment, the average pitch of the ridges 11d of the wavy uneven pattern (1A) is preferably 5 to 50 μm, more preferably 10 to 40 μm, and 15 to 30 μm. Further preferred. When the average pitch is not less than the lower limit of the above range, the surface fine uneven sheet can be easily produced. When the average pitch is less than or equal to the upper limit of the above range, the wavy uneven pattern (1A) is difficult to be visually recognized as an undesirable bright line when the surface fine uneven sheet is used in a lighting device.
On the other hand, the average pitch of the ridges 11c of the wavy uneven pattern (1-b) is preferably 1 to 25 μm, more preferably 3 to 20 μm, and further preferably 5 to 15 μm. When the average pitch is within the above range, the surface fine uneven sheet 10D can be easily manufactured.

波状凹凸パターン(1A)および(1−b)の各凸条部11c,11dのアスペクト比は、それぞれ、0.1〜1.0であることが好ましく、0.2〜0.8であることがより好ましく、0.3〜0.6であることがさらに好ましい。
波状凹凸パターン(1A)のアスペクト比が、上記範囲の下限値以上であると、波状凹凸パターン(1A)により視野角確保効果、輝度ムラ解消効果が充分に得られ、上記範囲の上限値以下であると、波状凹凸パターン(1A)を容易に形成できる。波状凹凸パターン(1−b)のアスペクト比が上記範囲内であると、光拡散性が損なわれない。
The aspect ratios of the ridges 11c and 11d of the wavy uneven patterns (1A) and (1-b) are each preferably 0.1 to 1.0, and preferably 0.2 to 0.8. Is more preferable, and it is further more preferable that it is 0.3-0.6.
When the aspect ratio of the wavy uneven pattern (1A) is equal to or higher than the lower limit value of the above range, the wavy uneven pattern (1A) can sufficiently obtain a viewing angle ensuring effect and a luminance unevenness eliminating effect, and below the upper limit value of the above range. If it exists, a wavy uneven | corrugated pattern (1A) can be formed easily. When the aspect ratio of the wavy uneven pattern (1-b) is within the above range, the light diffusibility is not impaired.

本実施形態例の表面微細凹凸シート10Dにおいて、波状凹凸パターンの主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができる。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば10°以上であることが好ましく、たとえば15°以上であることがより好ましい。また、たとえば40°以下であることが好ましく、たとえば30°以下であることがより好ましい。
一方、主拡散方向に対して垂直な方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。
低拡散方向における光の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さく、かつ、たとえば2°以上であることが好ましい。また、15°以下であることが好ましい。
In the surface fine uneven sheet 10D of the present embodiment, the main diffusion direction of the wavy uneven pattern can be obtained by the method described above.
The diffusion angle in the main diffusion direction can be adjusted as appropriate, but is preferably 10 ° or more, for example, and more preferably 15 ° or more. Moreover, it is preferable that it is 40 degrees or less, for example, and it is more preferable that it is 30 degrees or less, for example.
On the other hand, the direction perpendicular to the main diffusion direction is a “low diffusion direction” with a low diffusion angle.
The light diffusion angle in the low diffusion direction can be adjusted as appropriate, but is preferably smaller than the diffusion angle in the main diffusion direction and, for example, 2 ° or more. Moreover, it is preferable that it is 15 degrees or less.

主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、波状凹凸パターン(1A)および(1−b)それぞれの凸条部11c,11dの平均ピッチ、アスペクト比(平均高さ/平均ピッチ)等を調整すること等により制御できる。
第5実施形態例の表面微細凹凸シート10Dの好ましい厚み等は、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。
The diffusion angle in the main diffusion direction and the diffusion angle in the low diffusion direction are the average pitch, aspect ratio (average height / average pitch) of the ridges 11c and 11d of the wavy uneven patterns (1A) and (1-b), etc. It can be controlled by adjusting.
A preferable thickness or the like of the surface fine uneven sheet 10D of the fifth embodiment is about the same as that of the surface fine uneven sheet of the first embodiment.

第5実施形態例の表面微細凹凸シート10Dは、概略、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a1)のうちの工程(a1−1)のみ異なる。
すなわち、第1実施形態例の工程(a1−1)では、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑な硬質層を積層させるが、本実施形態例の製造方法における工程(a1−1)では、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面に波状凹凸パターン(1−b)が形成された硬質層を形成する。硬質層の形成には、未硬化の透明な電離放射線硬化性樹脂を用いる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン(1D)の形成には、特開2012−252149号公報(特許第5637074号公報)等を参照できる。
The surface fine concavo-convex sheet 10D of the fifth embodiment can be manufactured roughly by the same manufacturing method as the surface fine concavo-convex sheet of the first embodiment.
However, only the step (a1-1) of the above-described steps (a1) is different.
That is, in the step (a1-1) of the first embodiment, a hard layer having a smooth surface is laminated on one side of the heat-shrinkable resin film. However, the step (a1-1) in the manufacturing method of the present embodiment. Then, the hard layer by which the wavy uneven | corrugated pattern (1-b) was formed in the surface is formed in the single side | surface of a heat-shrinkable resin film. For the formation of the hard layer, an uncured transparent ionizing radiation curable resin is used.
For the formation of the wavy uneven pattern (1D) of the present embodiment, reference can be made to JP 2012-252149 A (Patent No. 5673704) and the like.

以下に本実施形態例における工程(a1−1)を説明する。
加熱収縮性樹脂フィルムとしては、1軸延伸フィルムを用いる。その材質(樹脂L)、収縮率、樹脂Lのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第1実施形態例と同様である。加熱収縮性樹脂フィルムとしては、透光性(透明)のものを用いる。 ついで、ダイコーター、ロールコーター、バーコーター等のコーターで、未硬化の電離放射線硬化性樹脂のうちの1種以上を加熱収縮性樹脂フィルムの片面に塗工し、塗工層を形成する。そして、表面に波状凹凸パターン(1−b)の転写形状を有するスタンパを用意し、該スタンパを塗工層に押し当て、その状態のまま、加熱収縮性樹脂フィルム側から電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂を硬化させ、硬化層を形成する。その後、スタンパを剥離する。
この際、スタンパにおける凸条部の延在方向と、加熱収縮性樹脂フィルムの加熱収縮の方向とが一致するように、スタンパを押し当てる。
これにより、加熱収縮性フィルムの片面に、波状凹凸パターン(1−b)が形成された硬質層を有する積層フィルムが得られる。
The step (a1-1) in the present embodiment will be described below.
A uniaxially stretched film is used as the heat-shrinkable resin film. Preferred modes and ranges such as the material (resin L), shrinkage rate, glass transition temperature of resin L, Young's modulus and the like are the same as those in the first embodiment. As the heat-shrinkable resin film, a translucent (transparent) film is used. Next, one or more of uncured ionizing radiation curable resins are coated on one surface of the heat-shrinkable resin film with a coater such as a die coater, a roll coater, or a bar coater to form a coating layer. Then, a stamper having a transfer shape of the wavy uneven pattern (1-b) is prepared on the surface, the stamper is pressed against the coating layer, and in that state, irradiated with ionizing radiation from the heat-shrinkable resin film side, The ionizing radiation curable resin is cured to form a cured layer. Thereafter, the stamper is peeled off.
At this time, the stamper is pressed so that the extending direction of the ridges in the stamper coincides with the direction of heat shrinkage of the heat-shrinkable resin film.
Thereby, the laminated | multilayer film which has a hard layer in which the wavy uneven | corrugated pattern (1-b) was formed in the single side | surface of a heat-shrinkable film are obtained.

未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、第1実施形態例の製造方法(B)で例示したものを好適に使用できるが、なかでも、硬化後のガラス転移温度が、加熱収縮性樹脂フィルムを構成している樹脂Lよりも10℃以上高く、また、ヤング率が0.01〜300GPa、好ましくは0.1〜10GPaの樹脂が好適である。
硬質層の厚さは、0.5μmを超え、20μm以下とすることが好ましく、1〜10μmがより好ましい。
ガラス転移温度およびヤング率が上記の条件を満たし、かつ、硬質層の厚さが上記範囲内であれば、本実施形態例における波状凹凸パターン(1A)の平均ピッチを上記範囲内に調整しやすい。硬質層の厚さが上記範囲の下限値未満であると、波状凹凸パターン(1A)の平均ピッチが小さくなり過ぎる傾向にあり、上記範囲の上限値を超えると、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮が阻害され、波状凹凸パターン(1A)が良好に形成されない傾向にある。
As the uncured ionizing radiation curable resin, those exemplified in the production method (B) of the first embodiment can be suitably used. In particular, the glass transition temperature after curing is a heat shrinkable resin film. A resin having a temperature higher by 10 ° C. or more than the constituent resin L and a Young's modulus of 0.01 to 300 GPa, preferably 0.1 to 10 GPa is suitable.
The thickness of the hard layer is preferably more than 0.5 μm and not more than 20 μm, and more preferably 1 to 10 μm.
If the glass transition temperature and Young's modulus satisfy the above conditions and the thickness of the hard layer is within the above range, the average pitch of the wavy uneven pattern (1A) in this embodiment can be easily adjusted within the above range. . When the thickness of the hard layer is less than the lower limit of the above range, the average pitch of the wavy uneven pattern (1A) tends to be too small. When the upper limit of the above range is exceeded, the heat shrinkable resin film shrinks. It is obstructed and the wavy uneven pattern (1A) tends not to be formed well.

なお、電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性である場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。   The ionizing radiation curable resin is preferably diluted with a solvent or the like. Moreover, you may add a fluororesin, a silicone resin, etc. to uncured ionizing radiation curable resin. When the uncured ionizing radiation curable resin is ultraviolet curable, it is preferable to add a photopolymerization initiator such as acetophenones and benzophenones to the uncured ionizing radiation curable resin.

また、電離放射線硬化性樹脂の代わりに、例えば、未硬化のメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等の熱可塑性樹脂を用いて転写を行ってもよく、転写できる限り、その具体的方法、転写する材料に制限はない。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば液状の未硬化の熱硬化性樹脂を塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、転写対象の面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。
Also, instead of ionizing radiation curable resin, transfer is performed using, for example, thermosetting resin such as uncured melamine resin, urethane resin or epoxy resin, or thermoplastic resin such as acrylic resin, polyolefin or polyester. As long as transfer is possible, the specific method and material to be transferred are not limited.
In the case of using a thermosetting resin, for example, a method of applying a liquid uncured thermosetting resin and curing by heating can be mentioned. When using a thermoplastic resin, a sheet of thermoplastic resin is used, There may be mentioned a method of heating and softening while pressing against the surface of the transfer object and then cooling.

工程(a1−1)の後、第1実施形態例と同様にして工程(a1−2)を行い、加熱収縮性フィルムを収縮させることにより、表面に、波状凹凸パターン(1D)が形成された凹凸パターン形成シートを得る。   After the step (a1-1), the step (a1-2) was performed in the same manner as in the first embodiment, and the heat-shrinkable film was contracted to form a wavy uneven pattern (1D) on the surface. An uneven pattern forming sheet is obtained.

ついで、第1実施形態例と同様にして工程(a1−3)を行い、波状凹凸パターン(1D)の転写形状が転写された原版(W)を得る。   Next, the step (a1-3) is performed in the same manner as in the first embodiment to obtain an original (W) to which the transfer shape of the waved uneven pattern (1D) is transferred.

硬質層の厚さが薄いほど、また、硬質層のヤング率が低いほど、波状凹凸パターン(1A)の平均ピッチが小さくなり、また、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率が高いほど、凸条部11dの高さが大きくなる。したがって、これらの条件を調整すれば、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11dのピッチおよび高さを所望の値に制御できる。   The thinner the hard layer is, the lower the Young's modulus of the hard layer is, the smaller the average pitch of the wavy uneven pattern (1A) is, and the higher the contraction rate of the heat-shrinkable resin film is, The height of 11d increases. Therefore, by adjusting these conditions, it is possible to control the pitch and height of the ridges 11d of the wavy uneven pattern (1A) to desired values.

なお、表面に波状凹凸パターン(1−b)の転写形状を有するスタンパは、第1実施形態例における工程(a1)と同様の手法で製造できる。また、たとえば特開2012−252149号公報(特許第5637074号公報)を参照できる。
工程(a1−1)以外は、第1実施形態例と同様に行う。
Note that the stamper having the transfer shape of the wavy uneven pattern (1-b) on the surface can be manufactured by the same method as the step (a1) in the first embodiment. Further, for example, JP 2012-252149 A (Japanese Patent No. 5673704) can be referred to.
Except for the step (a1-1), the same procedure as in the first embodiment is performed.

<第6〜第15実施形態例>
〔第6実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第1実施形態例と異なっている。
<Sixth to Fifteenth Embodiments>
[Sixth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is only that a linear vertex concavo-convex linear triangular prism pattern is formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the first embodiment.

[波状凹凸パターン]
本実施形態例では、第1実施形態例と同様の波状凹凸パターン(1A)が形成されている。
[Wavy uneven pattern]
In the present embodiment example, a wavy uneven pattern (1A) similar to that of the first embodiment example is formed.

[線状凹凸パターン(頂角一定型リニア三角プリズムパターン)]
図16は、一方の面が頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bが形成された面(図16中下側の面)であり、他方の面が平滑面13であるシートの断面図である。
本実施形態例の表面微細凹凸シートの線状凹凸パターン形成面に設けられた頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bは、図16に示すように、凸条部12bの縦断面形状(表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断される切断面における形状。)が、いずれも、頂角が図中下方を向く二等辺三角形となっている。
[Linear concavo-convex pattern (linear triangle prism pattern with fixed vertex angle)]
FIG. 16 is a cross-sectional view of a sheet in which one surface is a surface (the lower surface in FIG. 16) on which the constant apex angle type linear triangular prism pattern 12 </ b> B is formed and the other surface is the smooth surface 13.
As shown in FIG. 16, the vertical vertex type linear triangular prism pattern 12B provided on the surface of the surface fine concavo-convex sheet forming surface of the surface fine concavo-convex sheet according to the present embodiment has a vertical cross-sectional shape (surface fine concavo-convex shape). The shape on the cut surface that is parallel to the normal direction of the sheet and cut along the arrangement direction of the ridges) is an isosceles triangle whose apex angle faces downward in the figure.

図16を用いて、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの作用について、説明する。
頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bに対して、集光レンズ20を通して、たとえばLED光源、レーザー光源等の点光源21からの光を入射させた場合、光の進行ベクトルのうち、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの配列方向(図中m方向)と頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向(図中n方向)とからなる面内成分は、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの頂角を適切に制御することにより、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向(図中n方向)とほぼ±10°以内の角度をなすように屈折し、平滑面13から出射する。すなわち、光の向きがほぼ正面に向けて立ち上がる。頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bは、このような集光機能により正面輝度向上効果を奏する。
The operation of the constant vertex angle type linear triangular prism pattern 12B will be described with reference to FIG.
When light from a point light source 21 such as an LED light source or a laser light source is made incident on the linear triangle prism pattern 12B with a constant vertex angle through the condenser lens 20, for example, a constant vertex angle type among light traveling vectors. The in-plane component consisting of the arrangement direction of the ridges 12b of the linear triangular prism pattern 12B (m direction in the figure) and the normal direction (n direction in the figure) of the surface on which the linear triangle prism pattern 12B is formed is constant. By appropriately controlling the apex angle of the ridges 12b of the constant angle linear triangular prism pattern 12B, approximately ± 10 ° from the normal direction (n direction in the figure) of the surface on which the constant angle linear linear prism pattern 12B is formed. The light is refracted so as to form an angle within the range and exits from the smooth surface 13. That is, the direction of light rises almost toward the front. The fixed vertex angle type linear triangular prism pattern 12B has an effect of improving the front luminance by such a light collecting function.

頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bのピッチ、二等辺三角形の頂角の大きさ等は、集光レンズ20から出射する光の照射角に応じて設計される。すなわち、集光レンズ20から出射した光の好ましくは全光線について、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの配列方向と頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向とからなる面内成分が、頂角一定型リニア三角プリズムパターン形成面の法線方向とほぼ±10°以内の角度をなすように屈折して平滑面13から出射するように、設計されることが好ましい。   The pitch of the ridges 12b of the linear vertex prism pattern 12B with a fixed vertex angle, the size of the vertex angle of the isosceles triangle, and the like are designed according to the irradiation angle of the light emitted from the condenser lens 20. That is, for all of the light emitted from the condenser lens 20, preferably the entire ray, the direction in which the ridges 12 b of the constant vertex angle linear triangular prism pattern 12 B are arranged and the normal direction of the surface on which the constant vertex angle linear triangular prism pattern 12 B is formed. Is designed to be refracted and emitted from the smooth surface 13 so as to form an angle within about ± 10 ° with respect to the normal direction of the surface of the linear triangle prism pattern forming surface with a constant apex angle. Is preferred.

たとえば、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの好ましいピッチは、第1実施形態例にて説明したリニアフレネルレンズパターン12Aと同様の範囲である。   For example, the preferred pitch of the ridges 12b of the constant vertex angle type linear triangular prism pattern 12B is in the same range as the linear Fresnel lens pattern 12A described in the first embodiment.

集光レンズ20から出射する光の照射角は、2〜50°であることが好ましく、5〜40°がより好ましく、10〜30°がさらに好ましい。該照射角が上記範囲の下限値以上であると、集光レンズ20から出射した光の広がりが充分であり、表面微細凹凸シートから出射する光の輝度ムラが解消される。該照射角が上記範囲の上限値以下であると、集光レンズ20から出射した光の進行ベクトルのうち、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの配列方向と頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向とからなる面内成分を、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの法線方向とほぼ±10°以内の角度をなすように屈折させる効果を充分に有し、正面輝度向上効果に優れる。   The irradiation angle of the light emitted from the condenser lens 20 is preferably 2 to 50 °, more preferably 5 to 40 °, and still more preferably 10 to 30 °. When the irradiation angle is equal to or greater than the lower limit of the above range, the light emitted from the condenser lens 20 is sufficiently spread, and the uneven brightness of the light emitted from the surface fine uneven sheet is eliminated. If the irradiation angle is equal to or less than the upper limit of the above range, out of the traveling vectors of the light emitted from the condenser lens 20, the arrangement direction of the ridges 12b of the constant apex angle type linear triangular prism pattern 12B and the constant apex angle type A sufficient effect of refracting an in-plane component composed of the normal direction of the surface on which the linear triangular prism pattern 12B is formed so as to form an angle within approximately ± 10 ° with respect to the normal direction of the linear triangular prism pattern 12B having a constant apex angle. And has an excellent front luminance improvement effect.

[表面微細凹凸シート]
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が、波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。
そのため、本実施形態例の表面微細凹凸シートを、第1実施形態例と同様に、複数の点光源が並んで形成される光源列と特定の位置関係になるように組み合わせて使用した場合には、波状凹凸パターンによる視野角確保効果および輝度ムラ解消効果と、頂角一定型リニア三角プリズムパターンによる正面輝度向上効果が得られる。その結果、上述のような光源列を使用した場合に顕著になりやすい、点光源が有る位置と、点光源間の光源の無い位置との輝度の差(輝度ムラ)を抑制しつつ、正面輝度の低下も抑えることができる。また、視野角確保効果も得ることができる。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。
[Surface micro uneven sheet]
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example has an undulating angle formed by the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and the extending direction of the ridges 12b of the constant apex linear triangular prism pattern 12B. When the concavo-convex pattern is viewed in plan, it is within a range of ± 20 °.
Therefore, when the surface fine uneven sheet of the present embodiment example is used in combination with a light source array formed by arranging a plurality of point light sources in a specific positional relationship as in the first embodiment example. Thus, a viewing angle ensuring effect and luminance unevenness eliminating effect by the wavy uneven pattern, and a front luminance improving effect by the constant apex angle type linear triangular prism pattern are obtained. As a result, front luminance is suppressed while suppressing the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source is present and the position where there is no light source between the point light sources, which is likely to be noticeable when the light source array as described above is used. Can also be suppressed. In addition, a viewing angle securing effect can be obtained. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、1層構造でも、2層以上からなる多層構造でもよい。また、好ましい厚みは、第1実施形態例と同様である。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment may have a single layer structure or a multilayer structure composed of two or more layers. The preferred thickness is the same as that in the first embodiment.

[表面微細凹凸シートの製造方法]
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角一定型リニア三角プリズムパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L2)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)の上記転写形状が形成された面と、原版(L2)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1A)が形成され、他方の面に頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L2)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第1実施形態例と同様に行う。
[Method for manufacturing surface uneven surface sheet]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the first embodiment.
However, in the step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the transfer shape (reversal shape) of the linear Fresnel lens pattern on the surface, the transfer shape (reversal shape) of the constant vertex angle type linear triangular prism pattern. Is produced on the surface (L2). The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In step (a3), an injection molding method in which a resin is injected between the surface of the original plate (W) on which the transfer shape is formed and the surface of the original plate (L2) on which the transfer shape is formed, A surface fine uneven sheet having a wavy uneven pattern (1A) formed on one surface and a constant apex angle type linear triangular prism pattern formed on the other surface is obtained.
In the manufacturing method (B), the original plate (L2) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the first embodiment.

[表示装置用照明ユニットおよび表示装置]
図17は、本実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を示す概略構成図であり、図17(a)は、表面微細凹凸シート10Eの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、図17(b)は波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な側面を示す側面図、図17(c)は頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの配列方向に平行な側面を示す側面図である。
[Lighting unit for display device and display device]
FIG. 17 is a schematic configuration diagram illustrating the configuration of the illumination unit for display device according to the present embodiment, and FIG. 17 (b) is a side view showing a side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A), and FIG. It is a side view which shows the side surface parallel to a direction.

図示例の表示装置用照明ユニットは、表面微細凹凸シートとして本実施形態例のものを備えている以外は、第1実施形態例と同様の構成を有し、好ましい形態も同様である。   The illumination unit for display device in the illustrated example has the same configuration as that of the first embodiment except that the surface fine uneven sheet includes the surface fine unevenness sheet, and the preferred embodiment is also the same.

このような表示装置用照明ユニットにおいても、第1実施形態例の場合と同様に、各点光源21から出射した光は、それぞれが集光レンズ20で集光され、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bが形成された線状凹凸パターン形成面12に入射する。そして、先に図16を用いて説明したように、光の進行ベクトルのうち、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの配列方向と、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向(表面微細凹凸シートの法線方向)とからなる面内成分は、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向とほぼ±10°以内の角度をなすように屈折する。
このように屈折した光は、表面微細凹凸シート10Eの内部を透過し、波状凹凸パターン形成面11から出射する。そして、光の進行ベクトルのうち、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向(図17中A方向)に対応する方向であるため、主に屈折により、表面微細凹凸シート10Eの法線方向に平行な成分や、該法線方向から傾いた成分等、種々の角度の成分となる。一方、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの延在方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向に対応する方向であるため、主に法線方向に平行な成分となる。
表面微細凹凸シート10Eの法線方向に平行な光は、正面輝度の向上に寄与する。また、波状凹凸パターン形成面11側からみて、点光源21と点光源21の間等の光源が存在しない部分において、表面微細凹凸シート10Eの法線方向に平行な光が生じることにより、輝度ムラ解消効果が得られる。また、表面微細凹凸シート10Eの法線方向から傾いた成分は、視野角の拡大に寄与する。
このように本実施形態例の表示装置用照明ユニットは、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向および低拡散方向に適切な視野角を有する。
In such a display device illumination unit as well, in the same way as in the first embodiment, the light emitted from each point light source 21 is condensed by the condensing lens 20 and is a linear vertex prism with a fixed apex angle. The light enters the linear uneven pattern forming surface 12 on which the pattern 12B is formed. Then, as described above with reference to FIG. 16, among the light traveling vectors, the arrangement direction of the ridges 12 b of the constant vertex angle type linear triangular prism pattern 12 B and the formation of the constant vertex angle type linear triangular prism pattern 12 B. The in-plane component composed of the normal direction of the surface (the normal direction of the surface fine uneven sheet) forms an angle within approximately ± 10 ° with the normal direction of the surface on which the constant vertex angle type linear triangular prism pattern 12B is formed. Refract.
The light refracted in this way passes through the inside of the surface fine uneven sheet 10E and is emitted from the waved uneven pattern forming surface 11. Of the light traveling vectors, the component parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is in the main diffusion direction (A direction in FIG. 17) of the wavy uneven pattern (1A). Since the directions correspond to each other, the refraction is mainly caused by refraction, and thus components of various angles such as a component parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10E and a component inclined from the normal direction. On the other hand, the component parallel to the extending direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is mainly in the normal direction because this direction corresponds to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). It becomes a parallel component.
The light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10E contributes to the improvement of the front luminance. Further, when viewed from the wavy uneven pattern forming surface 11 side, brightness unevenness is caused by light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10E occurring in a portion where no light source exists such as between the point light source 21 and the point light source 21. A cancellation effect is obtained. Moreover, the component which inclined from the normal line direction of the surface fine uneven | corrugated sheet | seat 10E contributes to expansion of a viewing angle.
As described above, the illumination unit for display device according to the present embodiment is excellent in front luminance, uneven luminance is suppressed, and has an appropriate viewing angle in the main diffusion direction and the low diffusion direction.

特に、表面微細凹凸シート10Eの波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向と、光源列21Aの点光源21の配列方向とが図17(a)のように平面視した場合において±20°の範囲内であるため、点光源21の配列方向の拡散角度が大きくなる。これにより、点光源21が有る位置と、点光源21間の光源が無い位置とにおける輝度の差(輝度ムラ)を効果的に抑制できる。一方で、輝度ムラ抑制の要求が大きくない場合が多い、点光源21の配列方向と直交する方向については、波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向を対応させて拡散角度を適度に抑制することによって、拡散角度を高めることによる輝度の低下を抑制できる。   In particular, when the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A) of the surface fine uneven sheet 10E and the arrangement direction of the point light sources 21 of the light source array 21A are viewed in plan as shown in FIG. Therefore, the diffusion angle in the arrangement direction of the point light sources 21 increases. Thereby, the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source 21 is present and the position where there is no light source between the point light sources 21 can be effectively suppressed. On the other hand, for the direction orthogonal to the arrangement direction of the point light sources 21 in many cases where the demand for suppressing luminance unevenness is not large, the diffusion angle is appropriately suppressed by corresponding to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). Therefore, it is possible to suppress a decrease in luminance due to increasing the diffusion angle.

本施形態例の表示装置用照明ユニットは、このような特性を有するため、ゆるやかな曲面状に形成された自動車のフロントガラスに、走行速度などの画像情報を拡散させつつ鮮明に表示させるヘッドアップディスプレイシステム等の表示装置への使用に適している。   Since the lighting unit for display device of this embodiment has such characteristics, it is a head-up that clearly displays image information such as traveling speed on the windshield of an automobile formed in a gently curved shape while diffusing image information. Suitable for use in display devices such as display systems.

表面微細凹凸シート10Eのどちらの面側に光源列21Aを配置するかは、目的に応じて設定できる。波状凹凸パターン(1A)が光源列21A側と反対の側にあると、輝度ムラ解消効果および正面輝度向上効果が高く、波状凹凸パターン(1A)が光源列21A側にあると、視野角確保効果が高い。   Which side of the surface fine uneven sheet 10E the light source row 21A is arranged can be set according to the purpose. When the wavy uneven pattern (1A) is on the side opposite to the light source array 21A side, the luminance unevenness eliminating effect and the front luminance improving effect are high, and when the wavy uneven pattern (1A) is on the light source array 21A side, the viewing angle securing effect is achieved. Is expensive.

〔第7実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第2実施形態例と異なっている。第2実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[Seventh embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is only that a linear vertex concavo-convex linear triangular prism pattern is formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the second embodiment. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the second embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display unit illumination unit and a display device.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角一定型リニア三角プリズムパターンの凸条部の延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example also has an undulating concavo-convex pattern in which the angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and the extending direction of the ridges of the linear triangle prism pattern having a constant apex angle, that is, the intersection angle When seen in a plan view, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第2実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角一定型リニア三角プリズムパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L2)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。 そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(2A)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L2)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(2A)が形成され、他方の面に頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L2)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第2実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the second embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the linear Fresnel lens pattern transfer shape (reversal shape) on the surface, the fixed vertex angle type linear triangular prism pattern transfer shape (reversal) A master (L2) having a shape) on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool). In step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (2A) is formed) and the transfer shape of the original plate (L2) are formed. The surface fine concavo-convex sheet in which a wave-like concavo-convex pattern (2A) is formed on one surface and a constant apex linear triangular prism pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L2) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
The other points are the same as in the second embodiment.

〔第8実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第3実施形態例と異なっている。第3実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[Eighth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is only that a linear vertex concavo-convex linear triangular prism pattern is formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the third embodiment. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the third embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角一定型リニア三角プリズムパターンの凸条部の延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example also has an undulating concavo-convex pattern in which the angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and the extending direction of the ridges of the linear triangle prism pattern having a constant apex angle, that is, the intersection angle When seen in a plan view, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第3実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角一定型リニア三角プリズムパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L2)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。 そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1B)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L2)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1B)が形成され、他方の面に頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L2)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第3実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the third embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the linear Fresnel lens pattern transfer shape (reversal shape) on the surface, the fixed vertex angle type linear triangular prism pattern transfer shape (reversal) A master (L2) having a shape) on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool). In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1B) is formed) and the transfer shape of the original plate (L2) are formed. The surface fine concavo-convex sheet in which the wave-like concavo-convex pattern (1B) is formed on one surface and the constant vertex angle type linear triangular prism pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L2) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the third embodiment.

〔第9実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第4実施形態例と異なっている。第4実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[Ninth Embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is only that a linear vertex concavo-convex linear triangular prism pattern is formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the fourth embodiment. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the fourth embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角一定型リニア三角プリズムパターンの凸条部の延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example also has an undulating concavo-convex pattern in which the angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and the extending direction of the ridges of the linear triangle prism pattern having a constant apex angle, that is, the intersection angle When seen in a plan view, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第4実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角一定型リニア三角プリズムパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L2)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。 そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1C)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L2)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1C)が形成され、他方の面に頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L2)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第4実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the fourth embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the linear Fresnel lens pattern transfer shape (reversal shape) on the surface, the fixed vertex angle type linear triangular prism pattern transfer shape (reversal) A master (L2) having a shape) on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool). In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1C) is formed) and the transfer shape of the original plate (L2) are formed. A surface fine concavo-convex sheet in which a wavy concavo-convex pattern (1C) is formed on one surface and a constant apex angle type linear triangular prism pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L2) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the fourth embodiment.

〔第10実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第5実施形態例と異なっている。第5実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[Tenth Embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is only that a linear vertex concavo-convex linear triangular prism pattern is formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the fifth embodiment. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the fifth embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角一定型リニア三角プリズムパターンの凸条部の延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example also has an undulating concavo-convex pattern in which the angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and the extending direction of the ridges of the linear triangle prism pattern having a constant apex angle, that is, the intersection angle When seen in a plan view, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第5実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角一定型リニア三角プリズムパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L2)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。 そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1D)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L2)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1D)が形成され、他方の面に頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L2)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第5実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the fifth embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the linear Fresnel lens pattern transfer shape (reversal shape) on the surface, the fixed vertex angle type linear triangular prism pattern transfer shape (reversal) A master (L2) having a shape) on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool). In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1D) is formed) and the transfer shape of the original plate (L2) are formed. A surface fine concavo-convex sheet in which a wave-like concavo-convex pattern (1D) is formed on one surface and a constant vertex angle type linear triangular prism pattern is formed on the other surface by an injection molding method of injecting resin between the two surfaces Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L2) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
The other points are performed in the same manner as in the fifth embodiment.

〔第11実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第1実施形態例と異なっている。
「頂角変動型リニア三角プリズムパターン」には、上述のとおり、パターン(A)とパターン(B)とがある。パターン(A)は、図18(a)に示すように、各凸条部12cの高さHaは互いに等しく一定であるが、各凸条部12c同士で底部の幅(凸条部の配列方向に沿う底部の長さ。ピッチに相当。)が異なることにより、頂角(θ<θ<θ<θ)が異なり、頂角が一定ではなく変動している形態である。パターン(B)は、図18(b)に示すように、各凸条部12cの幅Wbは互いに等しくピッチは一定であるが、各凸条部12c同士でその高さが異なることにより、頂角(θ<θ<θ<θ)が異なり、頂角が一定ではなく変動している形態である。第11〜15実施形態例では、いずれのパターンも採用できるが、図18(c)、図19においては、パターン(B)を示している。
[Eleventh embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is only in that a vertex angle variation type linear triangular prism pattern is formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the first embodiment.
As described above, the “vertical angle variation linear triangular prism pattern” includes the pattern (A) and the pattern (B). In the pattern (A), as shown in FIG. 18 (a), the heights Ha of the ridges 12c are equal and constant, but the widths of the bottoms of the ridges 12c (arrangement direction of the ridges). The apex angle (θ 1234 ) is different, and the apex angle is not constant but varies. In the pattern (B), as shown in FIG. 18 (b), the widths Wb of the ridges 12c are equal to each other and the pitch is constant, but the heights of the ridges 12c are different. The angles (θ 1234 ) are different, and the apex angle is not constant but fluctuates. In any of the 11th to 15th embodiments, any pattern can be adopted, but in FIG. 18C and FIG. 19, the pattern (B) is shown.

[波状凹凸パターン]
本実施形態例では、第1実施形態例と同様の波状凹凸パターン(1A)が形成されている。
[Wavy uneven pattern]
In the present embodiment example, a wavy uneven pattern (1A) similar to that of the first embodiment example is formed.

[線状凹凸パターン(頂角変動型リニア三角プリズムパターン)]
図18(c)は、一方の面が頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cが形成された面(図18(c)中下側の面)であり、他方の面が平滑面13であるシートの断面図である。図18(c)では、パターン(B)の頂角変動型リニア三角プリズムパターンを図示している。
本実施形態例の表面微細凹凸シートの線状凹凸パターン形成面に設けられた頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cは、図18(c)に示すように、凸条部12cの縦断面形状(表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断される切断面における形状。)が、いずれも二等辺三角形となっている。凸条部12c同士で、上記縦断面形状における頂角が互いに異なっており、線状凹凸パターン形成面12における両端側に位置する凸条部12cから中央側に位置する凸条部12cに向けて、徐々に頂角が大きくなっている。
[Linear uneven pattern (vertical angle variation type linear triangular prism pattern)]
FIG. 18C shows a sheet in which one surface is a surface (vertical surface in FIG. 18C) on which the apex angle variation linear triangular prism pattern 12C is formed, and the other surface is the smooth surface 13. FIG. FIG. 18C illustrates a vertex angle variation type linear triangular prism pattern of the pattern (B).
As shown in FIG. 18 (c), the vertical angle variation type linear triangular prism pattern 12C provided on the surface of the surface fine concavo-convex sheet on the surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment has a longitudinal sectional shape ( The shape of the cut surface that is parallel to the normal direction of the surface fine concavo-convex sheet and cut along the arrangement direction of the ridges is an isosceles triangle. The ridges 12c have different vertical angles in the longitudinal cross-sectional shape, and from the ridges 12c located on both ends of the linear concavo-convex pattern forming surface 12 toward the ridges 12c located on the center side. The apex angle is gradually increasing.

図18(c)を用いて、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの作用について、説明する。
頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cに対して、集光レンズ20を通して、たとえばLED光源、レーザー光源等の点光源21からの光を入射させた場合、光の進行ベクトルのうち、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cの配列方向(図中m方向)と頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向(図中n方向)とからなる面内成分は、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向(図中n方向)と平行になるように屈折し、平滑面13から出射する。すなわち、光の向きがほぼ正面に向けて立ち上がる。頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cは、このような集光機能により正面輝度向上効果を奏する。
With reference to FIG. 18C, the operation of the apex angle variation linear triangular prism pattern 12C will be described.
When light from a point light source 21 such as an LED light source or a laser light source is made incident on the vertex angle variation type linear triangular prism pattern 12C through the condenser lens 20, the vertex angle variation type among the light traveling vectors. The in-plane component consisting of the arrangement direction of the ridges 12c of the linear triangular prism pattern 12C (m direction in the figure) and the normal direction (n direction in the figure) of the surface on which the vertical angle variation linear triangular prism pattern 12C is formed is The light is refracted so as to be parallel to the normal direction (the n direction in the drawing) of the surface on which the angle-variable linear triangular prism pattern 12C is formed, and is emitted from the smooth surface 13. That is, the direction of light rises almost toward the front. The vertex angle variation type linear triangular prism pattern 12C has an effect of improving the front luminance by such a condensing function.

頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cのピッチ、頂角の変動の度合い等は、集光レンズ20から出射する光の照射角に応じて設計される。すなわち、集光レンズ20から出射した光の好ましくは全光線について、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cの配列方向と頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向とからなる面内成分が、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向と平行になるように屈折して平滑面13から出射するように、設計されることが好ましい。   The pitch of the ridges 12c of the apex angle variation type linear triangular prism pattern 12C, the degree of the apex angle variation, and the like are designed according to the irradiation angle of the light emitted from the condenser lens 20. That is, for all of the light emitted from the condenser lens 20, preferably, the direction of arrangement of the ridges 12c of the apex angle varying linear triangular prism pattern 12C and the normal direction of the surface on which the apex angle varying linear triangular prism pattern 12C is formed. It is preferable that the in-plane component consisting of is refracted so as to be parallel to the normal direction of the surface on which the apex angle variation type linear triangular prism pattern 12C is formed and is emitted from the smooth surface 13.

頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cの好ましいピッチは、たとえば、第1実施形態例にて説明したリニアフレネルレンズパターンと同様の範囲である。   A preferable pitch of the ridges 12c of the apex-variable linear triangular prism pattern 12C is, for example, in the same range as the linear Fresnel lens pattern described in the first embodiment.

集光レンズ20から出射する光の照射角は、2〜50°であることが好ましく、5〜40°がより好ましく、10〜30°がさらに好ましい。該照射角が上記範囲の下限値以上であると、集光レンズ20から出射した光の広がりが充分であり、表面微細凹凸シートから出射する光の輝度ムラが解消される。該照射角が上記範囲の上限値以下であると、集光レンズ20から出射した光の進行ベクトルのうち、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cの配列方向と頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向とからなる面内成分を、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向とほぼ平行になるように屈折させる効果を充分に有し、正面輝度向上効果に優れる。   The irradiation angle of the light emitted from the condenser lens 20 is preferably 2 to 50 °, more preferably 5 to 40 °, and still more preferably 10 to 30 °. When the irradiation angle is equal to or greater than the lower limit of the above range, the light emitted from the condenser lens 20 is sufficiently spread, and the uneven brightness of the light emitted from the surface fine uneven sheet is eliminated. When the irradiation angle is not more than the upper limit of the above range, out of the traveling vectors of the light emitted from the condenser lens 20, the arrangement direction of the ridges 12 c of the apex angle varying linear triangular prism pattern 12 C and the apex angle variation type It has a sufficient effect of refracting an in-plane component consisting of the normal direction of the linear triangular prism pattern 12C forming surface so as to be substantially parallel to the normal direction of the apex angle varying linear triangular prism pattern 12C forming surface, Excellent front brightness improvement effect.

[表面微細凹凸シート]
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cの延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。
そのため、本実施形態例の表面微細凹凸シートを、第1実施形態例と同様に、複数の点光源が並んで形成される光源列と特定の位置関係になるように組み合わせて使用した場合には、波状凹凸パターンによる視野角確保効果および輝度ムラ解消効果と、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cによる正面輝度向上効果が得られる。その結果、上述のような光源列を使用した場合に顕著になりやすい、点光源が有る位置と、点光源間の光源の無い位置との輝度の差(輝度ムラ)を抑制しつつ、正面輝度の低下も抑えることができる。また、視野角確保効果も得ることができる。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。
[Surface micro uneven sheet]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example has an undulating undulation, which is an angle formed by the main diffusion direction of the wavy uneven pattern and the extending direction of the protruding portion 12c of the apex-variable linear triangular prism pattern 12C. When the pattern is viewed in plan, it is within a range of ± 20 °.
Therefore, when the surface fine uneven sheet of the present embodiment example is used in combination with a light source array formed by arranging a plurality of point light sources in a specific positional relationship as in the first embodiment example. Thus, a viewing angle ensuring effect and luminance unevenness eliminating effect by the wavy uneven pattern and a front luminance improving effect by the apex angle variation type linear triangular prism pattern 12C are obtained. As a result, front luminance is suppressed while suppressing the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source is present and the position where there is no light source between the point light sources, which is likely to be noticeable when the light source array as described above is used. Can also be suppressed. In addition, a viewing angle securing effect can be obtained. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、1層構造でも、2層以上からなる多層構造でもよい。また、好ましい厚みは、第1実施形態例と同様である。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment may have a single layer structure or a multilayer structure composed of two or more layers. The preferred thickness is the same as that in the first embodiment.

[表面微細凹凸シートの製造方法]
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L3)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)の上記転写形状が形成された面と、原版(L3)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1A)が形成され、他方の面に頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L3)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第1実施形態例と同様に行う。
[Method for manufacturing surface uneven surface sheet]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the first embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the transfer shape (inverted shape) of the linear Fresnel lens pattern on the surface, the transfer shape (vertical angle variable linear triangular prism pattern 12C ( An original (L3) having a reverse shape) on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In step (a3), an injection molding method in which a resin is injected between the surface of the original plate (W) on which the transfer shape is formed and the surface of the original plate (L3) on which the transfer shape is formed, A surface fine uneven sheet having a wavy uneven pattern (1A) formed on one surface and an apex angle varying linear triangular prism pattern formed on the other surface is obtained.
In the manufacturing method (B), the original plate (L3) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the first embodiment.

[表示装置用照明ユニットおよび表示装置]
図19は、本実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を概略的に示す図である。図19(a)は、表面微細凹凸シート10Fの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、図19(b)は波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な側面を示す側面図、図19(c)は頂角変動型リニア三角プリズムパターン(パターン(B))12Cの凸条部12cの配列方向に平行な側面を示す側面図である。
[Lighting unit for display device and display device]
FIG. 19 is a diagram schematically showing a configuration of a display unit illumination unit according to the present embodiment. FIG. 19A is a schematic plan view from the side of the wavy uneven pattern forming surface of the surface fine uneven sheet 10F, and FIG. FIG. 19C is a side view showing a side surface parallel to the arrangement direction of the ridge portions 12c of the apex angle variation type linear triangular prism pattern (pattern (B)) 12C.

図示例の表示装置用照明ユニットは、表面微細凹凸シート10Fとして本実施形態例のものを備えている以外は、第1実施形態例と同様の構成を有し、好ましい形態も同様である。   The illumination unit for display device in the illustrated example has the same configuration as that of the first embodiment except that the surface fine uneven sheet 10F includes the embodiment of the present embodiment, and the preferred embodiment is also the same.

このような表示装置用照明ユニットにおいても、第1実施形態例の場合と同様に、各点光源から出射した光は、それぞれが集光レンズ20で集光され、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cが形成された線状凹凸パターン形成面12に入射する。そして、先に図18(c)を用いて説明したように、光の進行ベクトルのうち、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cの配列方向と、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向(表面微細凹凸シートの法線方向)とからなる面内成分は、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向と平行になるように屈折する。
このように屈折した光は、表面微細凹凸シート10Fの内部を透過し、波状凹凸パターン形成面11から出射する。そして、光の進行ベクトルのうち、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向(図19中A方向)に対応する方向であるため、主に屈折により、表面微細凹凸シート10Fの法線方向に平行な成分や、該法線方向から傾いた成分等、種々の角度の成分となる。一方、波状凹凸パターンの凸条部11aの延在方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向に対応する方向であるため、主に法線方向に平行な成分となる。
表面微細凹凸シート10Fの法線方向に平行な光は、正面輝度の向上に寄与する。また、波状凹凸パターン形成面11側からみて、点光源21と点光源21の間等の光源が存在しない部分において、表面微細凹凸シート10Fの法線方向に平行な光が生じることにより、輝度ムラ解消効果が得られる。また、表面微細凹凸シート10Fの法線方向から傾いた成分は、視野角の拡大に寄与する。
このように本実施形態例の表示装置用照明ユニットは、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向および低拡散方向に適切な視野角を有する。
In such a display unit illumination unit as well, in the same way as in the first embodiment, the light emitted from each point light source is condensed by the condenser lens 20, and the vertex angle variation linear triangular prism pattern is obtained. 12C is incident on the linear concave / convex pattern forming surface 12 formed thereon. Then, as described above with reference to FIG. 18C, the arrangement direction of the ridges 12 c of the apex angle variation type linear triangular prism pattern 12 </ b> C and the apex angle variation type linear triangular prism among the light traveling vectors. The in-plane component consisting of the normal direction of the pattern 12C forming surface (the normal direction of the surface fine uneven sheet) is refracted so as to be parallel to the normal direction of the apex angle varying linear triangular prism pattern 12C forming surface.
The light refracted in this way passes through the inside of the surface fine concavo-convex sheet 10 </ b> F and exits from the wave-like concavo-convex pattern forming surface 11. Of the light traveling vectors, the component parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is in the main diffusion direction (A direction in FIG. 19) of the wavy uneven pattern (1A). Since it is a corresponding direction, it becomes a component of various angles, such as a component parallel to the normal line direction of the surface fine uneven sheet | seat 10F, and a component inclined from this normal line mainly by refraction. On the other hand, the component parallel to the extending direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern is a component mainly parallel to the normal direction because this direction corresponds to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). It becomes.
The light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10F contributes to the improvement of the front luminance. Further, when viewed from the wavy uneven pattern forming surface 11 side, brightness unevenness is caused by light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10F in a portion where there is no light source such as between the point light source 21 and the point light source 21. A cancellation effect is obtained. Moreover, the component inclined from the normal line direction of the surface fine uneven | corrugated sheet | seat 10F contributes to expansion of a viewing angle.
As described above, the illumination unit for display device according to the present embodiment is excellent in front luminance, uneven luminance is suppressed, and has an appropriate viewing angle in the main diffusion direction and the low diffusion direction.

特に、表面微細凹凸シート10Fの波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向と、光源列21Aの点光源21の配列方向とが、図19(a)のように平面視した場合において、±20°の範囲内であるため、点光源21の配列方向の拡散角度が大きくなる。これにより、点光源21が有る位置と、点光源21間の光源が無い位置とにおける輝度の差(輝度ムラ)を効果的に抑制できる。一方で、輝度ムラ抑制の要求が大きくない場合が多い、点光源21の配列方向と直交する方向については、波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向を対応させて拡散角度を適度に抑制することによって、拡散角度を高めることによる輝度の低下を抑制できる。
本施形態例の表示装置用照明ユニットは、このような特性を有するため、ゆるやかな曲面状に形成された自動車のフロントガラスに、走行速度などの画像情報を拡散させつつ鮮明に表示させるヘッドアップディスプレイシステム等の表示装置への使用に適している。
In particular, when the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A) of the surface fine uneven sheet 10F and the arrangement direction of the point light sources 21 of the light source array 21A are viewed in plan as shown in FIG. Therefore, the diffusion angle in the arrangement direction of the point light sources 21 becomes large. Thereby, the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source 21 is present and the position where there is no light source between the point light sources 21 can be effectively suppressed. On the other hand, for the direction orthogonal to the arrangement direction of the point light sources 21 in many cases where the demand for suppressing luminance unevenness is not large, the diffusion angle is appropriately suppressed by corresponding to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). Therefore, it is possible to suppress a decrease in luminance due to increasing the diffusion angle.
Since the lighting unit for display device of this embodiment has such characteristics, it is a head-up that clearly displays image information such as traveling speed on the windshield of an automobile formed in a gently curved shape while diffusing image information. Suitable for use in display devices such as display systems.

表面微細凹凸シート10Fのどちらの面側に光源列21Aを配置するかは、目的に応じて設定できる。波状凹凸パターン(1A)が光源列21A側と反対の側にあると、輝度ムラ解消効果および正面輝度向上効果が高く、波状凹凸パターン(1A)が光源列21A側にあると、視野角確保効果が高い。
また、頂角一定型リニア三角プリズムパターンに比べて、頂角変動型リニア三角プリズムパターンを採用すると、輝度ムラと正面輝度の両立効果に優れる傾向にある。
Which side of the surface fine uneven sheet 10F the light source row 21A is arranged can be set according to the purpose. When the wavy uneven pattern (1A) is on the side opposite to the light source array 21A side, the luminance unevenness eliminating effect and the front luminance improving effect are high, and when the wavy uneven pattern (1A) is on the light source array 21A side, the viewing angle securing effect is achieved. Is expensive.
In addition, when the apex angle variation type linear triangular prism pattern is adopted as compared with the constant apex angle type linear triangular prism pattern, the effect of coexistence of luminance unevenness and front luminance tends to be excellent.

〔第12実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第2実施形態例と異なっている。第2実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[Twelfth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is only in that a vertex angle variation type linear triangular prism pattern is formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the second embodiment. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the second embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display unit illumination unit and a display device.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角変動型リニア三角プリズムパターンの凸条部の延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment also has an undulating concavo-convex pattern in which the angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and the extending direction of the ridges of the apex angle-changing linear triangular prism pattern, that is, the intersection angle When seen in a plan view, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第2実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角変動型リニア三角プリズムパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L3)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。 そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(2A)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L3)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(2A)が形成され、他方の面に頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L3)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第2実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the second embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the linear Fresnel lens pattern transfer shape (reversal shape) on the surface, the transfer shape (reversal of the vertical angle variable linear triangular prism pattern) is performed. A master (L3) having a shape on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool). Then, in the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (2A) is formed) and the transfer shape of the original plate (L3) are formed. The surface fine concavo-convex sheet in which the wavy concavo-convex pattern (2A) is formed on one surface and the apex angle variation type linear triangular prism pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L3) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
The other points are the same as in the second embodiment.

〔第13実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第3実施形態例と異なっている。第3実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[Thirteenth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is only in that a vertex angle variation type linear triangular prism pattern is formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the third embodiment. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the third embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角変動型リニア三角プリズムパターンの凸条部の延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment also has an undulating concavo-convex pattern in which the angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and the extending direction of the ridges of the apex angle-changing linear triangular prism pattern, that is, the intersection angle When seen in a plan view, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第3実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角変動型リニア三角プリズムパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L3)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。 そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1B)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L3)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1B)が形成され、他方の面に頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L3)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第3実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the third embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the linear Fresnel lens pattern transfer shape (reversal shape) on the surface, the transfer shape (reversal of the vertical angle variable linear triangular prism pattern) is performed. A master (L3) having a shape on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool). In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1B) is formed) and the transfer shape of the original plate (L3) are formed. The surface fine concavo-convex sheet in which the wavy concavo-convex pattern (1B) is formed on one surface and the apex angle variation type linear triangular prism pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L3) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the third embodiment.

〔第14実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第4実施形態例と異なっている。第4実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[14th Embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is only in that a vertex angle variation type linear triangular prism pattern is formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the fourth embodiment. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the fourth embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角変動型リニア三角プリズムパターンの凸条部の延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment also has an undulating concavo-convex pattern in which the angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and the extending direction of the ridges of the apex angle-changing linear triangular prism pattern, that is, the intersection angle When seen in a plan view, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第4実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角変動型リニア三角プリズムパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L3)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。 そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1C)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L3)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1C)が形成され、他方の面に頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L3)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第4実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the fourth embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the linear Fresnel lens pattern transfer shape (reversal shape) on the surface, the transfer shape (reversal of the vertical angle variable linear triangular prism pattern) is performed. A master (L3) having a shape on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool). In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1C) is formed) and the transfer shape of the original plate (L3) are formed. A surface fine concavo-convex sheet in which a wave-like concavo-convex pattern (1C) is formed on one surface and an apex variation linear triangular prism pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L3) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the fourth embodiment.

〔第15実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、線状凹凸パターンとして、頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第5実施形態例と異なっている。第5実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[Fifteenth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is only in that a vertex angle variation type linear triangular prism pattern is formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the fifth embodiment. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the fifth embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角一定型リニア三角プリズムパターンの凸条部の延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example also has an undulating concavo-convex pattern in which the angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and the extending direction of the ridges of the linear triangle prism pattern having a constant apex angle, that is, the intersection angle When seen in a plan view, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第5実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角変動型リニア三角プリズムパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L3)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。 そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1D)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L3)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1D)が形成され、他方の面に頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L3)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第5実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the fifth embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the linear Fresnel lens pattern transfer shape (reversal shape) on the surface, the transfer shape (reversal of the vertical angle variable linear triangular prism pattern) is performed. A master (L3) having a shape on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool). In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1D) is formed) and the transfer shape of the original plate (L3) are formed. A surface fine concavo-convex sheet in which a wavy concavo-convex pattern (1D) is formed on one surface and an apex angle variation type linear triangular prism pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L3) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
The other points are performed in the same manner as in the fifth embodiment.

<第16〜第20実施形態例>
〔第16実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、五面体パターンとして、頂角変動型変形五面体パターンが形成されている点のみで、第1実施形態例と異なっている。
「頂角変動型変形五面体パターン」は、上述のとおり、頂角変動型リニア三角プリズムパターンのパターン(B)を形成した後、該パターン(B)から、該パターン(B)とは凸条部の配列方向が直交し、かつ、該パターン(B)の反転形状であるパターン(B’)を切除することにより形成されるパターンである。
図20(a)に、頂角変動型変形五面体パターンを説明するための平面図を示す。
図20(a)に示すように、頂角変動型変形五面体パターンは、各五面体12dの底面はいずれも同じ大きさの正方形であるが、各五面体12d同士でその高さが異なることにより、頂角が異なり(θ10<θ20<θ30)、頂角が一定ではなく変動している形態である。五面体12dには、四角錐12d’と、稜線型五面体12d”とが混在している。
図20(b)は、頂角変動型四角錐プリズムパターンを説明するための平面図である。第16〜20実施形態例では、五面体パターンとして、このような頂角変動型四角錐プリズムパターンも採用できる。頂角変動型四角錐プリズムパターンは、図20(b)に示すように、五面体として四角錐12d’のみを備え、稜線型五面体を有していない。各四角錐12d’の高さはいずれも同じで一定であるが、各四角錐同士12d’同士でその底面(正方形または長方形の辺の長さ)が異なることにより、頂角が異なり(θ10<θ20<θ30)、頂角が一定ではなく変動している形態である。
<16th to 20th Embodiment>
[Sixteenth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example is only a point where the apex angle variation type modified pentahedral pattern is formed as a pentahedral pattern on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. This is different from the first embodiment.
As described above, the “vertical angle variation type pentahedron pattern” is formed by forming the pattern (B) of the vertical angle variation type linear triangular prism pattern, and then, from the pattern (B), the pattern (B) is a ridge. This is a pattern formed by cutting out the pattern (B ′) which is an inverted shape of the pattern (B) in which the arrangement directions of the parts are orthogonal.
FIG. 20A is a plan view for explaining the apex angle variation type modified pentahedron pattern.
As shown in FIG. 20 (a), in the vertex angle variation type pentahedron pattern, the bottom surface of each pentahedron 12d is a square having the same size, but the heights of the pentahedrons 12d are different from each other. Therefore, the apex angle is different (θ 102030 ), and the apex angle is not constant but fluctuates. In the pentahedron 12d, a quadrangular pyramid 12d ′ and a ridge line type pentahedron 12d ″ are mixed.
FIG. 20B is a plan view for explaining the apex angle variation type quadrangular pyramid prism pattern. In the sixteenth to twentieth embodiment examples, such a vertex angle changing type quadrangular pyramid prism pattern can also be adopted as the pentahedron pattern. As shown in FIG. 20B, the apex-variable quadrangular pyramid prism pattern includes only a quadrangular pyramid 12d ′ as a pentahedron and does not have a ridge-line pentahedron. The heights of the respective quadrangular pyramids 12d ′ are the same and constant, but the apex angles are different (θ 102030 ), in which the apex angle is not constant but fluctuates.

[波状凹凸パターン]
本実施形態例では、第1実施形態例と同様の波状凹凸パターン(1A)が形成されている。
[Wavy uneven pattern]
In the present embodiment example, a wavy uneven pattern (1A) similar to that of the first embodiment example is formed.

[五面体パターン(頂角変動型変形五面体パターン)]
図20(c)は、一方の面が頂角変動型変形五面体パターン12Dが形成された面(図20(c)中下側の面)であり、他方の面が平滑面13であるシートの断面図である。
本実施形態例の表面微細凹凸シートに設けられた頂角変動型変形五面体パターン12Dは、上述のとおり、五面体パターン形成面上の直交する二方向に沿って、多数の五面体12dが形成されたパターンであり、上記直交する二方向のそれぞれの方向において、各五面体12d同士で、上記縦断面形状における頂角が互いに異なっている。そして、各方向において、五面体パターン形成面における外側に位置する五面体12dから中央側に位置する五面体12dに向けて、徐々に頂角が大きくなっている。
表面微細凹凸シートの他方の表面(波状凹凸パターン形成面とは反対側の面)において、頂角変動型変形五面体パターン12Dは、後に図21に示すように、複数並べて設けられていてもよい。
[Pentahedral pattern (vertical angle variation type modified pentahedral pattern)]
FIG. 20C is a sheet in which one surface is a surface (a lower surface in FIG. 20C) on which the apex angle variation type modified pentahedral pattern 12D is formed, and the other surface is the smooth surface 13. FIG.
As described above, the vertex angle variation-type deformed pentahedron pattern 12D provided on the surface fine uneven sheet of the present embodiment is formed by a large number of pentahedrons 12d along two orthogonal directions on the pentahedron pattern forming surface. In each of the two orthogonal directions, each pentahedron 12d has a different apex angle in the longitudinal cross-sectional shape. In each direction, the apex angle gradually increases from the pentahedron 12d located on the outer side of the pentahedron pattern forming surface toward the pentahedron 12d located on the center side.
On the other surface of the surface fine uneven sheet (the surface opposite to the wavy uneven pattern forming surface), a plurality of apex angle variation type modified pentahedral patterns 12D may be provided side by side as shown in FIG. .

図20(c)を用いて、頂角変動型変形五面体パターン12Dの作用について、説明する。
頂角変動型変形五面体パターン12Dに対して、たとえばLED光源、レーザー光源等の点光源21からの光を集光レンズを通さずに入射させた場合、光の進行ベクトルのうち、頂角変動型変形五面体パターン12Dにおける各五面体12dの配列方向である、上記二方向それぞれと頂角変動型変形五面体パターン12D形成面の法線方向(図中n方向)とからなる2平面の面内成分は、頂角変動型変形五面体パターン12D形成面の法線方向(図中n方向)と平行になるように屈折し、平滑面13から出射する。すなわち、光の向きがほぼ正面に向けて立ち上がる。頂角変動型変形五面体パターン12Dは、このような集光機能により正面輝度向上効果を奏する。
また、頂角変動型変形五面体パターン12Dによれば、このように集光レンズ20を通さずに、点光源からの光をそのまま入射させ、立ち上げることができる。そのため、本実施形態例によれば、表示装置用照明ユニットを構成するにあたって部材点数を減らすことができるとともに、薄型化が可能となる。
With reference to FIG. 20C, the operation of the apex angle variation type modified pentahedral pattern 12D will be described.
When light from a point light source 21 such as an LED light source or a laser light source is incident on the apex angle variation type deformed pentahedron pattern 12D without passing through the condenser lens, the apex angle variation of the light traveling vector is changed. The two plane surfaces that are the arrangement directions of the pentahedrons 12d in the mold deformation pentahedron pattern 12D and each of the above two directions and the normal direction (the n direction in the figure) of the apex angle variation type pentahedron pattern 12D formation surface. The inner component is refracted so as to be parallel to the normal direction (n direction in the drawing) of the surface on which the apex angle variation type deformable pentahedral pattern 12D is formed, and is emitted from the smooth surface 13. That is, the direction of light rises almost toward the front. The vertex angle variation type pentahedron pattern 12D has an effect of improving the front luminance by such a light collecting function.
Further, according to the apex angle variation type modified pentahedron pattern 12D, the light from the point light source can be incident as it is without passing through the condensing lens 20, and can be started up. Therefore, according to the present embodiment, the number of members can be reduced and the thickness can be reduced in configuring the display unit illumination unit.

頂角変動型変形五面体パターン12Dの五面体12dのピッチ、頂角の変動の度合い等は、光の照射角に応じて設計される。すなわち、点光源21からの光の好ましくは全光線(点光源から出射する光の照射角は標準的には120°(=±60°)であるため、プラス方向の0〜60°と、マイナス方向の0〜60°の全光線)について、上記二方向それぞれと頂角変動型変形五面体パターン12D形成面の法線方向とからなる2平面の面内成分が、頂角変動型変形五面体パターン12D形成面の法線方向と平行になるように屈折して平滑面13から出射するように、設計されることが好ましい。   The pitch of the pentahedron 12d of the deformed pentahedron pattern 12D, the degree of variation of the apex angle, and the like are designed according to the irradiation angle of light. That is, preferably all of the light from the point light source 21 (the irradiation angle of the light emitted from the point light source is typically 120 ° (= ± 60 °), so that it is minus 0-60 ° in the plus direction and minus. 2 plane in-plane components consisting of the above two directions and the normal direction of the surface on which the apex angle variation deformed pentahedron pattern 12D is formed are the apex angle variation deformable pentahedron. It is preferably designed so as to be refracted so as to be parallel to the normal direction of the surface on which the pattern 12D is formed and to exit from the smooth surface 13.

たとえば、頂角変動型変形五面体パターン12Dの直交する上記二方向それぞれにおける好ましいピッチ(頂点間隔)は、5〜500μmであることが好ましい。該ピッチが上記範囲の下限値以上であると、頂角変動型変形五面体パターン12Dを良好に形成でき、上記範囲の上限値以下であると、表面微細凹凸シートを照明装置に使用した場合に、頂角変動型変形五面体パターン12Dの五面体12dの各頂部が好ましくない輝点として視認されにくい。   For example, it is preferable that a preferable pitch (vertex interval) in each of the two orthogonal directions of the vertex angle variation type pentahedral pattern 12D is 5 to 500 μm. When the pitch is not less than the lower limit of the above range, the apex angle variation type deformed pentahedral pattern 12D can be satisfactorily formed, and when the pitch is not more than the upper limit of the above range, the surface fine uneven sheet is used for a lighting device. In addition, each apex of the pentahedron 12d of the vertex angle variation type deformed pentahedron pattern 12D is difficult to be visually recognized as an undesirable bright spot.

[表面微細凹凸シート]
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角変動型変形五面体パターン12Dにおける五面体12dの配列方向(上記二方向)のうちの一方の方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。
そのため、本実施形態例の表面微細凹凸シートを、第1実施形態例と同様に、複数の点光源が並んで形成される光源列と特定の位置関係になるように組み合わせて使用した場合には、波状凹凸パターンによる視野角確保効果および輝度ムラ解消効果と、頂角変動型変形五面体パターン12Dによる正面輝度向上効果が得られる。その結果、上述のような光源列を使用した場合に顕著になりやすい、点光源が有る位置と、点光源間の光源の無い位置との輝度の差(輝度ムラ)を抑制しつつ、正面輝度の低下も抑えることができる。また、視野角確保効果も得ることができる。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。
[Surface micro uneven sheet]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment is formed by the main diffusion direction of the wavy concavo-convex pattern and one of the arrangement directions (the above two directions) of the pentahedron 12d in the apex-variable deformable pentahedral pattern 12D. The angle, that is, the crossing angle is within a range of ± 20 ° when the wavy uneven pattern is viewed in plan.
Therefore, when the surface fine uneven sheet of the present embodiment example is used in combination with a light source array formed by arranging a plurality of point light sources in a specific positional relationship as in the first embodiment example. The effect of ensuring the viewing angle and the effect of eliminating the uneven brightness by the wavy uneven pattern and the effect of improving the front brightness by the deformed pentahedron pattern 12D of the apex angle variation are obtained. As a result, front luminance is suppressed while suppressing the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source is present and the position where there is no light source between the point light sources, which is likely to be noticeable when the light source array as described above is used. Can also be suppressed. In addition, a viewing angle securing effect can be obtained. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、1層構造でも、2層以上からなる多層構造でもよい。また、好ましい厚みは、第1実施形態例と同様である。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment may have a single layer structure or a multilayer structure composed of two or more layers. The preferred thickness is the same as that in the first embodiment.

[表面微細凹凸シートの製造方法]
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角変動型変形五面体パターン12Dの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L4)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1A)の転写形状が形成されている。)の上記転写形状が形成された面と、原版(L4)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1A)が形成され、他方の面に頂角変動型変形五面体パターン12Dが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L4)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第1実施形態例と同様に行う。
[Method for manufacturing surface uneven surface sheet]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the first embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the transfer shape (inverted shape) of the linear Fresnel lens pattern on the surface, the transfer shape (vertical angle variation type pentahedron pattern 12D ( An original plate (L4) having a reverse shape on the surface is manufactured. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In the step (a3), the surface of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1A) is formed) and the transfer shape of the original plate (L4) are formed. A surface fine pattern in which a wavy uneven pattern (1A) is formed on one surface and an apex angle variation-type deformed pentahedral pattern 12D is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between the two surfaces. An uneven sheet is obtained.
In the manufacturing method (B), the original plate (L4) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the first embodiment.

[表示装置用照明ユニットおよび表示装置]
図21は、本実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を概略的に示す図である。図21(a)は、表面微細凹凸シート10Gの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、図21(b)は波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な側面を示す側面図、図21(c)は波状凹凸パターン(1A)の凸条部の延在方向に平行な側面を示す側面図である。この例では、頂角変動型変形五面体パターン12Dは、頂角変動型変形五面体パターン12D、12D、12Dの3つで構成されている。
[Lighting unit for display device and display device]
FIG. 21 is a diagram schematically illustrating the configuration of the illumination unit for display device according to the present embodiment. FIG. 21A is a schematic plan view from the side of the wavy uneven pattern forming surface of the surface fine uneven sheet 10G, and FIG. 21B shows a side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern 1A. FIG. 21C is a side view showing a side surface parallel to the extending direction of the ridges of the wavy uneven pattern (1A). In this example, the apex angle variation type deformed pentahedron pattern 12D includes three apex angle variation type deformable pentahedron patterns 12D 1 , 12D 2 , and 12D 3 .

図示例の表示装置用照明ユニットは、表面微細凹凸シートとして本実施形態例のものを備えている以外は、第1実施形態例と同様の構成を有し、好ましい形態も同様である。   The illumination unit for display device in the illustrated example has the same configuration as that of the first embodiment except that the surface fine uneven sheet includes the surface fine unevenness sheet, and the preferred embodiment is also the same.

このような表示装置用照明ユニットにおいては、各点光源21から出射した光は、それぞれ、頂角変動型変形五面体パターン12Dが形成された面に入射する。そして、先に図20(c)を用いて説明したように、光の進行ベクトルのうち、頂角変動型変形五面体パターン12Dの五面体12dの配列方向である、上記二方向それぞれと頂角変動型変形五面体パターン12D形成面の法線方向(表面微細凹凸シートの法線方向)とからなる2平面の面内成分は、頂角変動型変形五面体パターン12D形成面の法線方向と平行になるように屈折する。
このように屈折した光は、表面微細凹凸シート10Gの内部を透過し、波状凹凸パターン形成面11から出射する。そして、光の進行ベクトルのうち、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向(図21中A方向)に対応する方向であるため、主に屈折により、表面微細凹凸シート10Gの法線方向に平行な成分や、該法線方向から傾いた成分等、種々の角度の成分となる。一方、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの延在方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向に対応する方向であるため、主に法線方向に平行な成分となる。
表面微細凹凸シート10Gの法線方向に平行な光は、正面輝度の向上に寄与する。また、波状凹凸パターン形成面11側からみて、点光源21と点光源21の間等の光源が存在しない部分において、表面微細凹凸シート10Gの法線方向に平行な光が生じることにより、輝度ムラ解消効果が得られる。また、表面微細凹凸シート10Gの法線方向から傾いた成分は、視野角の拡大に寄与する。
このように本実施形態例の表示装置用照明ユニットは、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向および低拡散方向に適切な視野角を有する。
In such a display device illumination unit, the light emitted from each point light source 21 is incident on the surface on which the apex angle variation type modified pentahedral pattern 12D is formed. Then, as described above with reference to FIG. 20C, the above two directions and the apex angle, which are the arrangement directions of the pentahedron 12d of the apex angle variation type deformable pentahedron pattern 12D, among the light traveling vectors. The two plane in-plane components composed of the normal direction of the variable deformation pentahedron pattern 12D forming surface (the normal direction of the surface fine irregularities sheet) are the normal direction of the vertical angle variable pentahedral pattern 12D forming surface and Refracts to be parallel.
The light refracted in this way passes through the inside of the surface fine uneven sheet 10G and is emitted from the waved uneven pattern forming surface 11. In the light traveling vector, the component parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is in the main diffusion direction (A direction in FIG. 21) of the wavy uneven pattern (1A). Since the directions correspond to each other, components of various angles such as a component parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10G and a component inclined from the normal direction are mainly formed by refraction. On the other hand, the component parallel to the extending direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is mainly in the normal direction because this direction corresponds to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). It becomes a parallel component.
The light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10G contributes to the improvement of the front luminance. In addition, when viewed from the wavy uneven pattern forming surface 11 side, luminance unevenness is caused by light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10G occurring in a portion where no light source exists such as between the point light source 21 and the point light source 21. A cancellation effect is obtained. Moreover, the component inclined from the normal line direction of the surface fine uneven sheet | seat 10G contributes to expansion of a viewing angle.
As described above, the illumination unit for display device according to the present embodiment is excellent in front luminance, uneven luminance is suppressed, and has an appropriate viewing angle in the main diffusion direction and the low diffusion direction.

特に、表面微細凹凸シート10Gの波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向と、光源列21Aの点光源21の配列方向とが、図21(a)のように平面視した場合において、±20°の範囲内であるため、点光源21の配列方向の拡散角度が大きくなる。これにより、点光源21が有る位置と、点光源21間の光源が無い位置とにおける輝度の差(輝度ムラ)を効果的に抑制できる。一方で、輝度ムラ抑制の要求が大きくない場合が多い、点光源21の配列方向と直交する方向については、波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向を対応させて拡散角度を適度に抑制することによって、拡散角度を高めることによる輝度の低下を抑制できる。
本施形態例の表示装置用照明ユニットは、このような特性を有するため、ゆるやかな曲面状に形成された自動車のフロントガラスに、走行速度などの画像情報を拡散させつつ鮮明に表示させるヘッドアップディスプレイシステム等の表示装置への使用に適している。
In particular, when the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A) of the surface fine uneven sheet 10G and the arrangement direction of the point light sources 21 of the light source array 21A are viewed in plan as shown in FIG. Therefore, the diffusion angle in the arrangement direction of the point light sources 21 becomes large. Thereby, the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source 21 is present and the position where there is no light source between the point light sources 21 can be effectively suppressed. On the other hand, for the direction orthogonal to the arrangement direction of the point light sources 21 in many cases where the demand for suppressing luminance unevenness is not large, the diffusion angle is appropriately suppressed by corresponding to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). Therefore, it is possible to suppress a decrease in luminance due to increasing the diffusion angle.
Since the lighting unit for display device of this embodiment has such characteristics, it is a head-up that clearly displays image information such as traveling speed on the windshield of an automobile formed in a gently curved shape while diffusing image information. Suitable for use in display devices such as display systems.

表面微細凹凸シート10Gのどちらの面側に光源列21Aを配置するかは、目的に応じて設定できる。波状凹凸パターン(1A)が光源列21A側と反対の側にあると、輝度ムラ解消効果および正面輝度向上効果が高く、波状凹凸パターン(1A)が光源列21A側にあると、視野角確保効果が高い。   Which surface side of the surface fine uneven sheet 10G the light source row 21A is arranged can be set according to the purpose. When the wavy uneven pattern (1A) is on the side opposite to the light source array 21A side, the luminance unevenness eliminating effect and the front luminance improving effect are high, and when the wavy uneven pattern (1A) is on the light source array 21A side, the viewing angle ensuring effect Is expensive.

〔第17実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、頂角変動型変形五面体パターンが形成されている点のみで、第2実施形態例と異なっている。第2実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。ただし、第16実施形態例で説明したように、頂角変動型変形五面体パターンは、集光レンズ20を通さずに、点光源からの光をそのまま入射させ、立ち上げることができる。そのため、本実施形態例では、集光レンズを使用しない方が好ましい。また、集光レンズを使用しないと、表示装置用照明ユニットを構成するにあたって部材点数を減らすことができるとともに、薄型化が可能となる。
[Example 17 embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example is the second embodiment example only in that the apex angle variation type deformed pentahedron pattern is formed on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. Is different. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the second embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display unit illumination unit and a display device. However, as explained in the sixteenth embodiment, the apex-variable deformable pentahedron pattern can be launched by allowing the light from the point light source to enter without passing through the condenser lens 20. Therefore, in the present embodiment example, it is preferable not to use a condensing lens. Moreover, when a condensing lens is not used, the number of members can be reduced and the thickness can be reduced when configuring the display unit illumination unit.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角変動型変形五面体パターンの上記二方向のうちの一方の方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment also has an angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and one of the above two directions of the apex angle variation type deformable pentahedral pattern, that is, the intersection angle is undulating undulation. When the pattern is viewed in plan, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第2実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角変動型変形五面体パターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L4)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(2A)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L4)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(2A)が形成され、他方の面に頂角変動型変形五面体パターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L4)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第2実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the second embodiment.
However, in the above-mentioned step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the transfer shape (reversal shape) of the linear Fresnel lens pattern on the surface, the transfer shape (reversal of the vertex angle variation type pentahedron pattern) A master (L4) having a shape on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (2A) is formed) and the transfer shape of the original plate (L4) are formed. The surface fine concavo-convex sheet in which the wavy concavo-convex pattern (2A) is formed on one surface and the apex angle variation type modified pentahedral pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L4) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
The other points are the same as in the second embodiment.

〔第18実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、頂角変動型変形五面体パターンが形成されている点のみで、第3実施形態例と異なっている。第3実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。ただし、第16実施形態例で説明したように、頂角変動型変形五面体パターンは、集光レンズ20を通さずに、点光源からの光をそのまま入射させ、立ち上げることができる。そのため、本実施形態例では、集光レンズを使用しない方が好ましい。また、集光レンズを使用しないと、表示装置用照明ユニットを構成するにあたって部材点数を減らすことができるとともに、薄型化が可能となる。
[Eighteenth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example is the third embodiment example only in that the apex angle variation type deformed pentahedron pattern is formed on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. Is different. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the third embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device. However, as explained in the sixteenth embodiment, the apex-variable deformable pentahedron pattern can be launched by allowing the light from the point light source to enter without passing through the condenser lens 20. Therefore, in the present embodiment example, it is preferable not to use a condensing lens. Moreover, when a condensing lens is not used, the number of members can be reduced and the thickness can be reduced when configuring the display unit illumination unit.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角変動型変形五面体パターンの上記二方向のうちの一方の方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment also has an angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and one of the above two directions of the apex angle variation type deformable pentahedral pattern, that is, the intersection angle is undulating undulation. When the pattern is viewed in plan, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第3実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角変動型変形五面体パターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L4)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1B)の転写形状が形成されている。)の上記転写形状が形成された面と、原版(L4)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1B)が形成され、他方の面に頂角変動型変形五面体パターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L4)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第3実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the third embodiment.
However, in the above-mentioned step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the transfer shape (reversal shape) of the linear Fresnel lens pattern on the surface, the transfer shape (reversal of the vertex angle variation type pentahedron pattern) A master (L4) having a shape on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In the step (a3), the surface of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1B) is formed) and the transfer shape of the original plate (L4) are formed. The surface fine unevenness in which a wave-like uneven pattern (1B) is formed on one surface and an apex angle variation type deformed pentahedral pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which resin is injected between Get a sheet.
In the manufacturing method (B), the original plate (L4) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the third embodiment.

〔第19実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、頂角変動型変形五面体パターンが形成されている点のみで、第4実施形態例と異なっている。第4実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。ただし、第16実施形態例で説明したように、頂角変動型変形五面体パターンは、集光レンズ20を通さずに、点光源からの光をそのまま入射させ、立ち上げることができる。そのため、本実施形態例では、集光レンズを使用しない方が好ましい。また、集光レンズを使用しないと、表示装置用照明ユニットを構成するにあたって部材点数を減らすことができるとともに、薄型化が可能となる。
[Nineteenth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example is the fourth embodiment example only in that the apex angle variation type deformed pentahedron pattern is formed on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. Is different. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the fourth embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device. However, as explained in the sixteenth embodiment, the apex-variable deformable pentahedron pattern can be launched by allowing the light from the point light source to enter without passing through the condenser lens 20. Therefore, in the present embodiment example, it is preferable not to use a condensing lens. Moreover, when a condensing lens is not used, the number of members can be reduced and the thickness can be reduced when configuring the display unit illumination unit.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角変動型変形五面体パターンの上記二方向のうちの一方の方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment also has an angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and one of the above two directions of the apex angle variation type deformable pentahedral pattern, that is, the intersection angle is undulating undulation. When the pattern is viewed in plan, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第4実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角変動型変形五面体パターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L4)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1C)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L4)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1C)が形成され、他方の面に頂角変動型変形五面体パターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L4)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第4実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the fourth embodiment.
However, in the above-mentioned step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the transfer shape (reversal shape) of the linear Fresnel lens pattern on the surface, the transfer shape (reversal of the vertex angle variation type pentahedron pattern) A master (L4) having a shape on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1C) is formed) and the transfer shape of the original plate (L4) are formed. A surface fine concavo-convex sheet in which a wavy concavo-convex pattern (1C) is formed on one surface and an apex angle variation type deformed pentahedral pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L4) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the fourth embodiment.

〔第20実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、頂角変動型変形五面体パターンが形成されている点のみで、第5実施形態例と異なっている。第5実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。ただし、第16実施形態例で説明したように、頂角変動型変形五面体パターンは、集光レンズ20を通さずに、点光源からの光をそのまま入射させ、立ち上げることができる。そのため、本実施形態例では、集光レンズを使用しない方が好ましい。また、集光レンズを使用しないと、表示装置用照明ユニットを構成するにあたって部材点数を減らすことができるとともに、薄型化が可能となる。
[Example of 20th embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is the fifth embodiment example only in that the apex angle variation type deformed pentahedron pattern is formed on at least a part of the surface opposite to the wavy uneven pattern forming surface. Is different. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the fifth embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device. However, as explained in the sixteenth embodiment, the apex-variable deformable pentahedron pattern can be launched by allowing the light from the point light source to enter without passing through the condenser lens 20. Therefore, in the present embodiment example, it is preferable not to use a condensing lens. Moreover, when a condensing lens is not used, the number of members can be reduced and the thickness can be reduced when configuring the display unit illumination unit.

本実施形態例の表面微細凹凸シートも、波状凹凸パターンの主拡散方向と、頂角変動型変形五面体パターンの上記二方向のうちの一方の方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。   The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment also has an angle between the main diffusion direction of the undulating concavo-convex pattern and one of the above two directions of the apex angle variation type deformable pentahedral pattern, that is, the intersection angle is undulating undulation. When the pattern is viewed in plan, it is within a range of ± 20 °. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第5実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、頂角変動型変形五面体パターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L4)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1D)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L4)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1D)が形成され、他方の面に頂角変動型変形五面体パターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L4)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第5実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the fifth embodiment.
However, in the above-mentioned step (a2), instead of manufacturing the original plate (L1) having the transfer shape (reversal shape) of the linear Fresnel lens pattern on the surface, the transfer shape (reversal of the vertex angle variation type pentahedron pattern) A master (L4) having a shape on the surface is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1D) is formed) and the transfer shape of the original plate (L4) are formed. A surface fine uneven sheet in which a wavy uneven pattern (1D) is formed on one surface and an apex angle variation type deformed pentahedral pattern is formed on the other surface by an injection molding method in which a resin is injected between the two surfaces Get.
In the manufacturing method (B), the original plate (L4) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
The other points are performed in the same manner as in the fifth embodiment.

<第21〜第25実施形態例>
〔第21実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、同心円状凹凸パターンであるフレネルレンズパターンが形成されている点のみで、第1実施形態例と異なっている。
<21st to 25th Embodiment>
[Example of 21st embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example is the first embodiment only in that a Fresnel lens pattern which is a concentric concavo-convex pattern is formed on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. It is different from the example.

[波状凹凸パターン]
本実施形態例では、第1実施形態例と同様の波状凹凸パターン(1A)が形成されている。
[Wavy uneven pattern]
In the present embodiment example, a wavy uneven pattern (1A) similar to that of the first embodiment example is formed.

[同心円状凹凸パターン(フレネルレンズパターン)]
図22(a)は、フレネルレンズパターン12Eの厚み方向に沿う断面図である。フレネルレンズは、図22(b)の平凸レンズの領域を分割したものであって、平凸レンズと同様のレンズ効果を有し、厚みを減らすことが可能とされたものである。
表面微細凹凸シートの他方の表面(波状凹凸パターン形成面とは反対側の面)において、フレネルレンズパターン12Eは、後に図24に示すように、複数並べて設けられていてもよい。
[Concentric uneven pattern (Fresnel lens pattern)]
FIG. 22A is a cross-sectional view along the thickness direction of the Fresnel lens pattern 12E. The Fresnel lens is obtained by dividing the plano-convex lens region of FIG. 22B, has the same lens effect as the plano-convex lens, and can be reduced in thickness.
A plurality of Fresnel lens patterns 12E may be provided side by side as shown in FIG. 24 later on the other surface of the fine surface uneven sheet (surface opposite to the wave-shaped uneven pattern forming surface).

図23を用いて、フレネルレンズパターン12Eの作用について、説明する。図23は、一方の面がフレネルレンズパターン12Eが形成された同心円状凹凸パターン形成面(図23中下側の面)であり、他方の面が平滑面13であるシートの断面図である。
フレネルレンズパターン12Eに対して、たとえばLED光源、レーザー光源等の点光源21からの光を集光レンズを通さずに入射させた場合、光の進行ベクトルが、フレネルレンズパターン12Eの法線方向(図中n方向)と平行になるように屈折し、平滑面13から出射する。すなわち、光の向きがほぼ正面に向けて立ち上がる。フレネルレンズパターン12Eは、このような集光機能により正面輝度向上効果を奏する。
また、フレネルレンズパターン12Eによれば、このように集光レンズ20を通さずに、点光源からの光をそのまま入射させ、立ち上げることができる。そのため、本実施形態例によれば、表示装置用照明ユニットを構成するにあたって部材点数を減らすことができるとともに、薄型化が可能となる。
The operation of the Fresnel lens pattern 12E will be described with reference to FIG. FIG. 23 is a cross-sectional view of a sheet in which one surface is a concentric uneven pattern forming surface (lower surface in FIG. 23) on which a Fresnel lens pattern 12E is formed, and the other surface is a smooth surface 13.
When light from a point light source 21 such as an LED light source or a laser light source is incident on the Fresnel lens pattern 12E without passing through a condensing lens, the traveling vector of the light is the normal direction of the Fresnel lens pattern 12E ( The light is refracted so as to be parallel to the n direction in FIG. That is, the direction of light rises almost toward the front. The Fresnel lens pattern 12E has an effect of improving the front luminance by such a light collecting function.
Further, according to the Fresnel lens pattern 12E, the light from the point light source can be incident as it is without passing through the condensing lens 20 as described above, and can be started up. Therefore, according to the present embodiment, the number of members can be reduced and the thickness can be reduced in configuring the display unit illumination unit.

フレネルレンズパターン12Eの凸環12eのピッチ、凸環12eの先端面12e’の傾斜角度等は、光の照射角に応じて設計される。すなわち、点光源からの光の好ましくは全光線(点光源から出射する光の照射角は標準的には120°(=±60°)であるため、プラス方向の0〜60°と、マイナス方向の0〜60°の全光線)について、フレネルレンズパターン12Eの法線方向と平行になるように屈折して平滑面13から出射するように、設計されることが好ましい。   The pitch of the convex ring 12e of the Fresnel lens pattern 12E, the inclination angle of the tip surface 12e 'of the convex ring 12e, and the like are designed according to the light irradiation angle. That is, preferably all the light from the point light source (the irradiation angle of the light emitted from the point light source is typically 120 ° (= ± 60 °), so that the positive direction is 0 to 60 ° and the negative direction. Are preferably refracted so as to be parallel to the normal direction of the Fresnel lens pattern 12E and emitted from the smooth surface 13.

たとえば、フレネルレンズパターン12Eの好ましいピッチ(凸環同士の頂部の径に沿う方向の間隔)は、5〜500μmであることが好ましい。該ピッチが上記範囲の下限値以上であると、フレネルレンズパターン12Eを良好に形成でき、上記範囲の上限値以下であると、表面微細凹凸シートを照明装置に使用した場合に、フレネルレンズパターン12Eが好ましくない輝線として視認されにくい。   For example, the preferable pitch of the Fresnel lens pattern 12E (the distance in the direction along the top diameter of the convex rings) is preferably 5 to 500 μm. When the pitch is equal to or higher than the lower limit value of the above range, the Fresnel lens pattern 12E can be formed satisfactorily. Is not easily recognized as an undesirable bright line.

[表面微細凹凸シート]
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、一方の表面の少なくとも一部に波状凹凸パターンが形成され、波状凹凸パターンが形成された部分に対応する他方の表面の少なくとも一部に同心円状凹凸パターンとしてフレネルレンズパターン12Eが形成されている。
そのため、本実施形態例の表面微細凹凸シートを、第1実施形態例と同様に、複数の点光源が並んで形成される光源列21Aと特定の位置関係になるように組み合わせて使用した場合には、波状凹凸パターンによる視野角確保効果および輝度ムラ解消効果と、フレネルレンズパターン12Eによる正面輝度向上効果が得られる。その結果、上述のような光源列を使用した場合に顕著になりやすい、点光源が有る位置と、点光源間の光源の無い位置との輝度の差(輝度ムラ)を抑制しつつ、正面輝度の低下も抑えることができる。また、視野角確保効果も得ることができる。
[Surface micro uneven sheet]
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example has a wavy concavo-convex pattern formed on at least a part of one surface, and a concentric concavo-convex pattern formed on at least a part of the other surface corresponding to the part where the wavy concavo-convex pattern is formed. A Fresnel lens pattern 12E is formed.
Therefore, when the surface fine uneven sheet of the present embodiment example is used in combination with the light source array 21A in which a plurality of point light sources are formed side by side in a specific positional relationship, similarly to the first embodiment example. Provides a viewing angle ensuring effect and luminance unevenness eliminating effect by the wavy uneven pattern and a front luminance improving effect by the Fresnel lens pattern 12E. As a result, front luminance is suppressed while suppressing the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source is present and the position where there is no light source between the point light sources, which is likely to be noticeable when the light source array as described above is used. Can also be suppressed. In addition, a viewing angle securing effect can be obtained.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、1層構造でも、2層以上からなる多層構造でもよい。また、好ましい厚みは、第1実施形態例と同様である。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment may have a single layer structure or a multilayer structure composed of two or more layers. The preferred thickness is the same as that in the first embodiment.

[表面微細凹凸シートの製造方法]
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、フレネルレンズパターン12Eの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L5)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1A)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L5)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1A)が形成され、他方の面にフレネルレンズパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。 また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L5)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第1実施形態例と同様に行う。
[Method for manufacturing surface uneven surface sheet]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the first embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing the original (L1) having the transfer shape (reversal shape) of the linear Fresnel lens pattern on the surface, the transfer shape (reversal shape) of the Fresnel lens pattern 12E is changed to the surface. The original plate (L5) is prepared. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1A) is formed) and the transfer shape of the original plate (L5) are formed. The surface fine concavo-convex sheet in which the wavy concavo-convex pattern (1A) is formed on one surface and the Fresnel lens pattern is formed on the other surface is obtained by an injection molding method in which a resin is injected between the two surfaces. In the manufacturing method (B), the original plate (L5) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the first embodiment.

[表示装置用照明ユニットおよび表示装置]
図24は、本実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を概略的に示す図である。図24(a)は、表面微細凹凸シート10Hの波状凹凸パターン形成面11側からの概略平面図、図24(b)は波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な側面を示す側面図、図24(c)は波状凹凸パターン(1A)の凸条部の延在方向に平行な側面を示す側面図である。この例では、フレネルレンズパターン12Eは、フレネルレンズパターン12E、12E、12Eの3つで構成されている。
[Lighting unit for display device and display device]
FIG. 24 is a diagram schematically showing a configuration of a display unit illumination unit according to the present embodiment. FIG. 24A is a schematic plan view from the side of the wavy uneven pattern forming surface 11 of the surface fine uneven sheet 10H, and FIG. FIG. 24 (c) is a side view showing a side surface parallel to the extending direction of the ridges of the wavy uneven pattern (1A). In this example, the Fresnel lens pattern 12E includes three Fresnel lens patterns 12E 1 , 12E 2 , and 12E 3 .

図示例の表示装置用照明ユニットは、表面微細凹凸シートとして本実施形態例のものを備えている以外は、第1実施形態例と同様の構成を有し、好ましい形態も同様である。   The illumination unit for display device in the illustrated example has the same configuration as that of the first embodiment except that the surface fine uneven sheet includes the surface fine unevenness sheet, and the preferred embodiment is also the same.

このような表示装置用照明ユニットにおいては、各点光源21から出射した光は、それぞれ、フレネルレンズパターン12Eが形成された同心円状凹凸パターン形成面に入射する。そして、先に図23を用いて説明したように、光の進行は、フレネルレンズパターン12Eの法線方向(表面微細凹凸シートの法線方向)と平行となるように屈折する。
このように屈折した光は、表面微細凹凸シート10Hの内部を透過し、波状凹凸パターン形成面11から出射する。そして、光の進行ベクトルのうち、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向(図24中A方向)に対応する方向であるため、主に屈折により、表面微細凹凸シート10Hの法線方向に平行な成分や、該法線方向から傾いた成分等、種々の角度の成分となる。一方、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの延在方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向に対応する方向であるため、主に法線方向に平行な成分となる。
表面微細凹凸シート10Hの法線方向に平行な光は、正面輝度の向上に寄与する。また、波状凹凸パターン形成面11側からみて、点光源21と点光源21の間等の光源が存在しない部分において、表面微細凹凸シート10Hの法線方向に平行な光が生じることにより、輝度ムラ解消効果が得られる。また、表面微細凹凸シート10Hの法線方向から傾いた成分は、視野角の拡大に寄与する。
このように本実施形態例の表示装置用照明ユニットは、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向および低拡散方向に適切な視野角を有する。
In such an illumination unit for display device, the light emitted from each point light source 21 is incident on the concentric uneven pattern forming surface on which the Fresnel lens pattern 12E is formed. Then, as described above with reference to FIG. 23, the light is refracted so as to be parallel to the normal direction of the Fresnel lens pattern 12E (the normal direction of the surface fine uneven sheet).
The light refracted in this way passes through the inside of the surface fine uneven sheet 10H and is emitted from the waved uneven pattern forming surface 11. Of the light traveling vectors, the component parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is in the main diffusion direction (direction A in FIG. 24) of the wavy uneven pattern (1A). Since the directions correspond to each other, the refraction mainly becomes components of various angles such as a component parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10H and a component inclined from the normal direction. On the other hand, the component parallel to the extending direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is mainly in the normal direction because this direction corresponds to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). It becomes a parallel component.
The light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10H contributes to the improvement of the front luminance. Further, when viewed from the wavy uneven pattern forming surface 11 side, luminance unevenness is caused by light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10H in a portion where there is no light source such as between the point light source 21 and the point light source 21. A cancellation effect is obtained. Moreover, the component inclined from the normal line direction of the surface fine uneven sheet | seat 10H contributes to expansion of a viewing angle.
As described above, the illumination unit for display device according to the present embodiment is excellent in front luminance, uneven luminance is suppressed, and has an appropriate viewing angle in the main diffusion direction and the low diffusion direction.

特に、表面微細凹凸シート10Hの波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向と、光源列21Aの点光源21の配列方向とが、図24(a)のように平面視した場合において、±20°の範囲内であるため、点光源21の配列方向の拡散角度が大きくなる。これにより、点光源21が有る位置と、点光源21間の光源が無い位置とにおける輝度の差(輝度ムラ)を効果的に抑制できる。一方で、輝度ムラ抑制の要求が大きくない場合が多い、点光源21の配列方向と直交する方向については、波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向を対応させて拡散角度を適度に抑制することによって、拡散角度を高めることによる輝度の低下を抑制できる。
本施形態例の表示装置用照明ユニットは、このような特性を有するため、ゆるやかな曲面状に形成された自動車のフロントガラスに、走行速度などの画像情報を拡散させつつ鮮明に表示させるヘッドアップディスプレイシステム等の表示装置への使用に適している。
In particular, when the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A) of the surface fine uneven sheet 10H and the arrangement direction of the point light sources 21 of the light source array 21A are viewed in plan as shown in FIG. Therefore, the diffusion angle in the arrangement direction of the point light sources 21 becomes large. Thereby, the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source 21 is present and the position where there is no light source between the point light sources 21 can be effectively suppressed. On the other hand, for the direction orthogonal to the arrangement direction of the point light sources 21 in many cases where the demand for suppressing luminance unevenness is not large, the diffusion angle is appropriately suppressed by corresponding to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). Therefore, it is possible to suppress a decrease in luminance due to increasing the diffusion angle.
Since the lighting unit for display device of this embodiment has such characteristics, it is a head-up that clearly displays image information such as traveling speed on the windshield of an automobile formed in a gently curved shape while diffusing image information. Suitable for use in display devices such as display systems.

表面微細凹凸シート10Hのどちらの面側に光源列21Aを配置するかは、目的に応じて設定できる。波状凹凸パターン(1A)が光源列21A側と反対の側にあると、輝度ムラ解消効果および正面輝度向上効果が高く、波状凹凸パターン(1A)が光源列21A側にあると、視野角確保効果が高い。
また、頂角変動型五面体パターンに比べて、フレネルレンズパターンを採用すると、輝度ムラと正面輝度の両立効果に優れる傾向にある。
Which surface side of the surface fine uneven sheet 10H the light source row 21A is arranged can be set according to the purpose. When the wavy uneven pattern (1A) is on the side opposite to the light source array 21A side, the luminance unevenness eliminating effect and the front luminance improving effect are high, and when the wavy uneven pattern (1A) is on the light source array 21A side, the viewing angle securing effect is achieved. Is expensive.
In addition, when the Fresnel lens pattern is adopted as compared with the apex variation type pentahedron pattern, it tends to be excellent in the effect of coexistence of luminance unevenness and front luminance.

〔第22実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、フレネルレンズパターンが形成されている点のみで、第2実施形態例と異なっている。第2実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。ただし、第21実施形態例で説明したように、フレネルレンズパターンは、集光レンズ20を通さずに、点光源からの光をそのまま入射させ、立ち上げることができる。そのため、本実施形態例では、集光レンズを使用しない方が好ましい。また、集光レンズを使用しないと、表示装置用照明ユニットを構成するにあたって部材点数を減らすことができるとともに、薄型化が可能となる。
[Twenty-second embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example is different from the second embodiment only in that a Fresnel lens pattern is formed on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the second embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display unit illumination unit and a display device. However, as described in the twenty-first embodiment, the Fresnel lens pattern can be launched by allowing light from a point light source to enter without passing through the condenser lens 20. Therefore, in the present embodiment example, it is preferable not to use a condensing lens. Moreover, when a condensing lens is not used, the number of members can be reduced and the thickness can be reduced when configuring the display unit illumination unit.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第2実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、フレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L5)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(2A)の転写形状が形成されている。)の転写形状が形成された面と、原版(L5)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(2A)が形成され、他方の面にフレネルレンズパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。 また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L5)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第2実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the second embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing an original plate (L1) having a linear Fresnel lens pattern transfer shape (reverse shape) on the surface, the Fresnel lens pattern transfer shape (reverse shape) is provided on the surface. A master plate (L5) is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In the step (a3), the surface on which the transfer shape of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (2A) is formed) and the transfer shape of the original plate (L5) are formed. By using an injection molding method in which a resin is injected between the two surfaces, a surface fine uneven sheet having a wavy uneven pattern (2A) formed on one surface and a Fresnel lens pattern formed on the other surface is obtained. In the manufacturing method (B), the original plate (L5) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
The other points are the same as in the second embodiment.

〔第23実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、フレネルレンズパターンが形成されている点のみで、第3実施形態例と異なっている。第3実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。ただし、第21実施形態例で説明したように、フレネルレンズパターンは、集光レンズ20を通さずに、点光源からの光をそのまま入射させ、立ち上げることができる。そのため、本実施形態例では、集光レンズを使用しない方が好ましい。また、集光レンズを使用しないと、表示装置用照明ユニットを構成するにあたって部材点数を減らすことができるとともに、薄型化が可能となる。
[23rd Embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is different from the third embodiment example only in that a Fresnel lens pattern is formed on at least a part of the surface opposite to the wave-like concavo-convex pattern forming surface. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the third embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device. However, as described in the twenty-first embodiment, the Fresnel lens pattern can be launched by allowing light from a point light source to enter without passing through the condenser lens 20. Therefore, in the present embodiment example, it is preferable not to use a condensing lens. Moreover, when a condensing lens is not used, the number of members can be reduced and the thickness can be reduced when configuring the display unit illumination unit.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第3実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、フレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L5)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1B)の転写形状が形成されている。)の上記転写形状が形成された面と、原版(L5)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1B)が形成され、他方の面にフレネルレンズパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L5)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第3実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the third embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing an original plate (L1) having a linear Fresnel lens pattern transfer shape (reverse shape) on the surface, the Fresnel lens pattern transfer shape (reverse shape) is provided on the surface. A master plate (L5) is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In the step (a3), the surface of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1B) is formed) and the transfer shape of the original plate (L5) are formed. The surface fine concavo-convex sheet having the corrugated concavo-convex pattern (1B) formed on one surface and the Fresnel lens pattern formed on the other surface is obtained by an injection molding method in which a resin is injected between the surface.
In the manufacturing method (B), the original plate (L5) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the third embodiment.

〔第24実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、フレネルレンズパターンが形成されている点のみで、第4実施形態例と異なっている。第4実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。ただし、第21実施形態例で説明したように、フレネルレンズパターンは、集光レンズ20を通さずに、点光源からの光をそのまま入射させ、立ち上げることができる。そのため、本実施形態例では、集光レンズを使用しない方が好ましい。また、集光レンズを使用しないと、表示装置用照明ユニットを構成するにあたって部材点数を減らすことができるとともに、薄型化が可能となる。
[Twenty-fourth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is different from the fourth embodiment only in that a Fresnel lens pattern is formed on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the fourth embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device. However, as described in the twenty-first embodiment, the Fresnel lens pattern can be launched by allowing light from a point light source to enter without passing through the condenser lens 20. Therefore, in the present embodiment example, it is preferable not to use a condensing lens. Moreover, when a condensing lens is not used, the number of members can be reduced and the thickness can be reduced when configuring the display unit illumination unit.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第4実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、フレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L5)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1C)の転写形状が形成されている。)の上記転写形状が形成された面と、原版(L5)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1C)が形成され、他方の面にフレネルレンズパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L5)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第4実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the fourth embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing an original plate (L1) having a linear Fresnel lens pattern transfer shape (reverse shape) on the surface, the Fresnel lens pattern transfer shape (reverse shape) is provided on the surface. A master plate (L5) is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In the step (a3), the surface of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1C) is formed) and the transfer shape of the original plate (L5) are formed. The surface fine concavo-convex sheet having the corrugated concavo-convex pattern (1C) formed on one surface and the Fresnel lens pattern formed on the other surface is obtained by an injection molding method in which a resin is injected between the surface.
In the manufacturing method (B), the original plate (L5) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
Other points are the same as in the fourth embodiment.

〔第25実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面とは反対側の面の少なくとも一部に、フレネルレンズパターンが形成されている点のみで、第5実施形態例と異なっている。第5実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。ただし、第21実施形態例で説明したように、フレネルレンズパターンは、集光レンズ20を通さずに、点光源からの光をそのまま入射させ、立ち上げることができる。そのため、本実施形態例では、集光レンズを使用しない方が好ましい。また、集光レンズを使用しないと、表示装置用照明ユニットを構成するにあたって部材点数を減らすことができるとともに、薄型化が可能となる。
[Twenty-fifth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example is different from the fifth embodiment only in that a Fresnel lens pattern is formed on at least a part of the surface opposite to the wavy concavo-convex pattern forming surface. Similarly to the surface fine uneven sheet according to the fifth embodiment, the surface fine uneven sheet according to this embodiment can also constitute a display device illumination unit and a display device. However, as described in the twenty-first embodiment, the Fresnel lens pattern can be launched by allowing light from a point light source to enter without passing through the condenser lens 20. Therefore, in the present embodiment example, it is preferable not to use a condensing lens. Moreover, when a condensing lens is not used, the number of members can be reduced and the thickness can be reduced when configuring the display unit illumination unit.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第5実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程(a2)では、リニアフレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L1)を製造することに代えて、フレネルレンズパターンの転写形状(反転形状)を表面に有する原版(L5)を製造する。工程(a2)は、金属板等の板材の表面に、バイト(切削工具)で切削加工することにより行える。
そして、工程(a3)では、原版(W)(波状凹凸パターン(1D)の転写形状が形成されている。)の上記転写形状が形成された面と、原版(L5)の上記転写形状が形成された面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、一方の面に波状凹凸パターン(1D)が形成され、他方の面にフレネルレンズパターンが形成された表面微細凹凸シートを得る。
また、製造方法(B)では、原版(L1)に代えて、原版(L5)をスタンパとして使用する。
その他の点は、第5実施形態例と同様に行う。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be manufactured roughly by the same production method as the surface fine concavo-convex sheet of the fifth embodiment.
However, in the above-described step (a2), instead of manufacturing an original plate (L1) having a linear Fresnel lens pattern transfer shape (reverse shape) on the surface, the Fresnel lens pattern transfer shape (reverse shape) is provided on the surface. A master plate (L5) is produced. The step (a2) can be performed by cutting the surface of a plate material such as a metal plate with a cutting tool (cutting tool).
In the step (a3), the surface of the original plate (W) (the transfer shape of the wavy uneven pattern (1D) is formed) and the transfer shape of the original plate (L5) are formed. The surface fine concavo-convex sheet having the wavy concavo-convex pattern (1D) formed on one surface and the Fresnel lens pattern formed on the other surface is obtained by an injection molding method in which a resin is injected between the surface.
In the manufacturing method (B), the original plate (L5) is used as a stamper instead of the original plate (L1).
The other points are performed in the same manner as in the fifth embodiment.

<第26〜28実施形態例>
〔第26実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、一方の表面の少なくとも一部に線状凹凸パターンとしてリニアフレネルレンズパターンが形成され、該線状凹凸パターン上の少なくとも一部に、不規則な波状凹凸パターンとして、第1実施形態例と同様の波状凹凸パターン(1A)が形成されている。他方の表面は、平滑面である。そして、波状凹凸パターンの主拡散方向と、線状凹凸パターンの凸条部の延在方向との成す角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。
<Examples of 26th to 28th embodiments>
[Twenty-sixth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example has a linear Fresnel lens pattern formed as a linear concavo-convex pattern on at least a part of one surface, and an irregular wavy concavo-convex pattern on at least a part of the linear concavo-convex pattern. As a result, the same wavy uneven pattern (1A) as in the first embodiment is formed. The other surface is a smooth surface. The angle between the main diffusion direction of the wavy uneven pattern and the extending direction of the ridges of the linear uneven pattern is within a range of ± 20 ° when the wavy uneven pattern is viewed in plan.

なお、波状凹凸パターンとしては、第1実施形態例と同様の波状凹凸パターン(1A)に代えて、第4実施形態例と同様の波状凹凸パターン(1C)が形成されていてもよい。本実施形態例において、波状凹凸パターンとしては、製造の容易性等の点から、波状凹凸パターン(1A)および(1C)が好ましい。
しかしながら、目的等に応じて、波状凹凸パターン(2A)、(1B)、(1D)を採用してもよい。ただし、波状凹凸パターン(2A)を採用した場合には、該パターンは特定の方向に沿わない凹凸が形成されたパターンであるため、組み合わせるリニアフレネルレンズパターンの効果を弱めてしまう傾向にある。そのため、製造の容易性、目的等に応じて、波状凹凸パターンの種類を選択することが好ましい。
In addition, as a wavy uneven | corrugated pattern, it replaces with the wavy uneven | corrugated pattern (1A) similar to 1st Embodiment, and the wavy uneven | corrugated pattern (1C) similar to 4th Embodiment may be formed. In the present embodiment, the waved uneven pattern is preferably the waved uneven pattern (1A) or (1C) from the viewpoint of ease of manufacture.
However, the wavy uneven patterns (2A), (1B), and (1D) may be employed depending on the purpose and the like. However, when the wavy uneven pattern (2A) is employed, since the pattern is a pattern in which unevenness that does not follow a specific direction is formed, the effect of the combined linear Fresnel lens pattern tends to be weakened. Therefore, it is preferable to select the type of wavy uneven pattern according to the ease of manufacture, purpose, and the like.

また、本実施形態例の表面微細凹凸シートは、詳しくは後述するが、概略、以下の工程により製造できる。
すなわち、まず、加熱収縮性樹脂フィルムの一方の表面に、リニアフレネルレンズパターンが形成された電離放射線硬化性樹脂硬化物から構成される硬質層が設られ、リニアフレネルレンズパターンの凸条部の延在方向と加熱収縮性樹脂フィルムの加熱収縮の方向とが一致している積層フィルムを製造する。そして、該積層フィルムを加熱収縮することにより、本実施形態例の表面微細凹凸シートが得られる。
このように、あらかじめリニアフレネルレンズパターンが形成された硬質層を折り畳むように変形することにより、リニアフレネルレンズパターン上に不規則な波状凹凸パターンが形成されたパターンを形成できる。
また、このようにして得られた表面微細凹凸シートを原版として使用し、そのパターン形成面を偶数回転写することによっても、本実施形態例の表面微細凹凸シートが得られる。
Moreover, although the surface fine uneven sheet | seat of this embodiment example is mentioned later in detail, it can manufacture roughly by the following processes.
That is, first, on one surface of the heat-shrinkable resin film, a hard layer composed of a cured ionizing radiation curable resin having a linear Fresnel lens pattern is provided, and the protrusions of the linear Fresnel lens pattern are extended. A laminated film in which the orientation direction and the direction of heat shrinkage of the heat-shrinkable resin film coincide is manufactured. And the surface fine uneven | corrugated sheet | seat of this embodiment is obtained by heat shrinking this laminated | multilayer film.
As described above, by deforming the hard layer on which the linear Fresnel lens pattern is formed in advance so as to be folded, a pattern in which an irregular wavy uneven pattern is formed on the linear Fresnel lens pattern can be formed.
The surface fine uneven sheet of this embodiment can also be obtained by using the surface fine uneven sheet thus obtained as an original plate and transferring the pattern forming surface an even number of times.

第1実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。本実施形態例の表示装置用照明ユニットおよび表示装置においては、後述するように、平滑面側に、光源列21Aを配置することが好ましい。   Similarly to the surface fine uneven sheet according to the first embodiment, the surface fine uneven sheet according to the present embodiment can constitute a display device illumination unit and a display device. In the display device illumination unit and the display device of the present embodiment, it is preferable to arrange the light source array 21A on the smooth surface side as described later.

波状凹凸パターン(1A)の凸条部の平均ピッチおよびアスペクト比の好ましい範囲、求め方等は、第1実施形態例で説明したとおりである。   The preferred range and method of obtaining the average pitch and aspect ratio of the ridges of the wavy uneven pattern (1A) are as described in the first embodiment.

本実施形態例におけるリニアフレネルレンズパターンの作用について、図25を用いて説明する。なお、リニアフレネルレンズパターンの作用については、すでに図6を用いて説明しているとおりであり、図6と図25とでは、光が入射する面が異なるが、どちらから入射しても作用は同じである。
図25は、一方の面がリニアフレネルレンズパターン12Aが形成された面(図25中上側の面)であり、他方の面が平滑面13であるシートを示す。このシートの平滑面に対して、集光レンズ20を通して、たとえばLED光源、レーザー光源等の点光源からの光を入射させた場合、光の進行ベクトルのうち、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部の配列方向(図中m方向)とリニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向(図中n方向)とからなる面内成分は、リニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向(図中n方向)と平行になるように屈折し、平滑面13から出射する。すなわち、光の向きが正面に向けて立ち上がる。リニアフレネルレンズパターン12Aは、このような集光機能により正面輝度向上効果を奏する。
The operation of the linear Fresnel lens pattern in this embodiment will be described with reference to FIG. Note that the operation of the linear Fresnel lens pattern has already been described with reference to FIG. 6, and FIG. 6 and FIG. 25 have different light incident surfaces. The same.
FIG. 25 shows a sheet in which one surface is the surface on which the linear Fresnel lens pattern 12A is formed (the upper surface in FIG. 25) and the other surface is the smooth surface 13. When light from a point light source such as an LED light source or a laser light source is incident on the smooth surface of the sheet through the condensing lens 20, the convex stripe portion of the linear Fresnel lens pattern 12 </ b> A among the light traveling vectors. The in-plane component consisting of the arrangement direction (m direction in the figure) and the normal direction (n direction in the figure) of the linear Fresnel lens pattern 12A formation surface is the normal direction (n in the figure) of the linear Fresnel lens pattern 12A formation surface Refracted so as to be parallel to (direction), and exits from the smooth surface 13. That is, the direction of light rises toward the front. The linear Fresnel lens pattern 12A has an effect of improving the front luminance by such a light collecting function.

本実施形態例の表面微細凹凸シートでは、平滑面側から光を入射させることが、波状凹凸パターンによる輝度ムラ解消効果が大きくなる点で好ましい。   In the surface fine concavo-convex sheet of this embodiment, it is preferable that light is incident from the smooth surface side because the effect of eliminating luminance unevenness due to the wavy concavo-convex pattern is increased.

リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aのピッチ、凸条部12aの先端面12a’の傾斜角度等は、集光レンズ20から出射する光の照射角に応じて設計される。すなわち、第1実施形態例の場合と同様に、集光レンズ20から出射した光の好ましくは全光線について、凸条部12aの配列方向とリニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向とからなる面内成分が、リニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向と平行になるように屈折して平滑面13から出射するように、設計されることが好ましい。
たとえば、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部12aのピッチは、5〜500μmであることが好ましく、5〜100μmであることがより好ましい。該ピッチが上記範囲内であれば、リニアフレネルレンズパターン12Aを形成しやすい。
The pitch of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A, the inclination angle of the tip surface 12a ′ of the ridges 12a, and the like are designed according to the irradiation angle of the light emitted from the condenser lens 20. That is, as in the case of the first embodiment, preferably all the light emitted from the condenser lens 20 is composed of the arrangement direction of the ridges 12a and the normal direction of the linear Fresnel lens pattern 12A formation surface. It is preferably designed so that the in-plane component is refracted and emitted from the smooth surface 13 in parallel with the normal direction of the surface on which the linear Fresnel lens pattern 12A is formed.
For example, the pitch of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern 12A is preferably 5 to 500 μm, and more preferably 5 to 100 μm. If the pitch is within the above range, the linear Fresnel lens pattern 12A can be easily formed.

集光レンズ20から出射する光の照射角は、2〜50°であることが好ましく、5〜40°がより好ましく、10〜30°がさらに好ましい。該照射角が上記範囲の下限値以上であると、集光レンズ20から出射した光の広がりが充分であり、表面微細凹凸シートから出射する光の輝度ムラが解消される。該照射角が上記範囲の上限値以下であると、集光レンズ20から出射した光の進行ベクトルのうち、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部の配列方向とリニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向とからなる面内成分を、リニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向と平行になるように屈折させる効果を充分に有し、正面輝度向上効果に優れる。   The irradiation angle of the light emitted from the condenser lens 20 is preferably 2 to 50 °, more preferably 5 to 40 °, and still more preferably 10 to 30 °. When the irradiation angle is equal to or greater than the lower limit of the above range, the light emitted from the condenser lens 20 is sufficiently spread, and the uneven brightness of the light emitted from the surface fine uneven sheet is eliminated. When the irradiation angle is equal to or less than the upper limit of the above range, among the traveling vectors of the light emitted from the condenser lens 20, the arrangement direction of the ridges of the linear Fresnel lens pattern 12A and the method of forming the linear Fresnel lens pattern 12A It has a sufficient effect of refracting the in-plane component consisting of the linear direction so as to be parallel to the normal direction of the surface on which the linear Fresnel lens pattern 12A is formed, and is excellent in the front luminance improvement effect.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターンの主拡散方向と、リニアフレネルレンズパターンの凸条部の延在方向との成す角度、すなわち、交差角度が波状凹凸パターンを平面視した場合において±20°の範囲内である。
そのため、本実施形態例の表面微細凹凸シートを、第1実施形態例と同様に、複数の点光源が並んで形成される光源列と特定の位置関係になるように組み合わせて使用した場合には、波状凹凸パターンによる視野角確保効果および輝度ムラ解消効果と、リニアフレネルレンズパターン12Aによる正面輝度向上効果が得られる。その結果、上述のような光源列を使用した場合に顕著になりやすい、点光源が有る位置と、点光源間の光源の無い位置との輝度の差(輝度ムラ)を抑制しつつ、正面輝度の低下も抑えることができる。また、視野角確保効果も得ることができる。交差角度は±10°の範囲内が好ましく、±5°の範囲内がより好ましく、0°であることがさらに好ましい。
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example is an angle formed by the main diffusion direction of the wavy concavo-convex pattern and the extending direction of the ridges of the linear Fresnel lens pattern, that is, when the crossing angle is a plan view of the wavy concavo-convex pattern In the range of ± 20 °.
Therefore, when the surface fine uneven sheet of the present embodiment example is used in combination with a light source array formed by arranging a plurality of point light sources in a specific positional relationship as in the first embodiment example. The effect of ensuring the viewing angle and the effect of eliminating the uneven brightness by the wavy uneven pattern and the effect of improving the front brightness by the linear Fresnel lens pattern 12A are obtained. As a result, front luminance is suppressed while suppressing the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source is present and the position where there is no light source between the point light sources, which is likely to be noticeable when the light source array as described above is used. Can also be suppressed. In addition, a viewing angle securing effect can be obtained. The crossing angle is preferably within a range of ± 10 °, more preferably within a range of ± 5 °, and further preferably 0 °.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、1層構造でも、2層以上からなる多層構造でもよい。また、好ましい厚みは、第1実施形態例と同様である。   The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment may have a single layer structure or a multilayer structure composed of two or more layers. The preferred thickness is the same as that in the first embodiment.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、たとえば、以下の工程(x1)および工程(x2)を有する製造方法(X)により製造できる。
工程(x1):
加熱収縮性樹脂フィルムの一方の表面に、リニアフレネルレンズパターンが形成された硬質層が設られ、リニアフレネルレンズパターンの凸条部の延在方向と加熱収縮性樹脂フィルムの加熱収縮の方向とが一致している積層フィルムを得る工程。
工程(x2):
積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、リニアフレネルレンズパターン上に波状凹凸パターン(1A)が形成された表面微細凹凸シートを得る工程。
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment can be produced, for example, by a production method (X) having the following step (x1) and step (x2).
Step (x1):
A hard layer having a linear Fresnel lens pattern is provided on one surface of the heat-shrinkable resin film, and the extending direction of the ridges of the linear Fresnel lens pattern and the direction of heat-shrinkage of the heat-shrinkable resin film are The process of obtaining the laminated film which corresponds.
Step (x2):
A process of obtaining a surface fine concavo-convex sheet having a wavy concavo-convex pattern (1A) formed on a linear Fresnel lens pattern by deforming the hard layer by folding the heat-shrinkable resin film by heating the laminated film. .

また、製造方法(X)においては、上述の工程(x1)および工程(x2)の後に、工程(x3)および工程(x4)を行ってもよい。
工程(x3):
工程(x2)で得られた表面微細凹凸シートにおけるパターン形成面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗布しその上に、PET等の基材を配置する。ついで、電離放射線を照射して硬化させた後、表面微細凹凸シートを剥離し、リニアフレネルレンズパターン上に波状凹凸パターンが形成された凹凸形状の転写形状(反転形状)が形成された1次転写品(スタンパ)を得る工程。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は、例えば3〜30μmの厚さに収まるように、Tダイコーター、ロールコーター、バーコーターなどのコーターで塗布する。
なお、工程(x3)では、工程(x2)で得られた表面微細凹凸シートにおけるパターン形成面に、たとえばニッケル等の金属を公知の電気鋳造法等で堆積させ、その後、該金属を剥離し、リニアフレネルレンズパターン上に波状凹凸パターンが形成された凹凸形状の転写形状(反転形状)が形成された金属製の1次転写品(スタンパ)を得てもよい。
工程(x4):
PET等を材料とする透明な基材を別途用意し、その片面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗布し、塗布された未硬化の電離放射線硬化性樹脂の層に対して、工程(x3)で得られた1次転写品の上記転写形状が形成された面を押し当て、その状態のままで、電離放射線を照射して硬化させた後、1次転写品を剥離する工程。ここで未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗布する厚さは、上記1次転写品における凹凸形状の転写形状の凹凸を充分に覆える厚さとする。
In the production method (X), the step (x3) and the step (x4) may be performed after the step (x1) and the step (x2).
Step (x3):
An uncured ionizing radiation curable resin is applied to the pattern forming surface of the surface fine uneven sheet obtained in the step (x2), and a substrate such as PET is disposed thereon. Next, after irradiating with ionizing radiation and curing, the surface fine concavo-convex sheet is peeled off, and the primary transfer in which the concavo-convex transfer shape (reversal shape) in which the wavy concavo-convex pattern is formed on the linear Fresnel lens pattern is formed. A process of obtaining a product (stamper). The uncured ionizing radiation curable resin is applied by a coater such as a T-die coater, a roll coater, or a bar coater so as to be within a thickness of, for example, 3 to 30 μm.
In the step (x3), a metal such as nickel is deposited on the pattern forming surface of the surface fine uneven sheet obtained in the step (x2) by a known electroforming method, and then the metal is peeled off. A metal primary transfer product (stamper) in which a concavo-convex transfer shape (reversal shape) in which a wavy concavo-convex pattern is formed on a linear Fresnel lens pattern may be obtained.
Step (x4):
Separately prepare a transparent base material made of PET or the like, apply an uncured ionizing radiation curable resin on one side, and apply the process (on the uncured ionizing radiation curable resin layer) a step of pressing the surface of the primary transfer product obtained in x3) on which the above-mentioned transfer shape is formed, irradiating and curing with ionizing radiation in that state, and then peeling the primary transfer product. Here, the thickness of applying the uncured ionizing radiation curable resin is set to a thickness that sufficiently covers the unevenness of the uneven transfer shape in the primary transfer product.

このように1次転写品をスタンパとして使用することにより、PET等を材料とする透明な基材と、その片面上に形成された透明な電離放射線硬化性樹脂硬化物の層との2層から構成される表面微細凹凸シートが得られる。なお、スタンパには、1次転写品に限定されず、転写をさらに繰り返して得たものであってもよい。
また、工程(x3)で、金属製の1次転写品(スタンパ)を得て、該スタンパの転写形状が形成された面と、金属製の平滑面との間に、樹脂を射出する射出成形法により、リニアフレネルレンズパターン上に波状凹凸パターン(1A)が形成された表面微細凹凸シートを得ることもできる。
As described above, by using the primary transfer product as a stamper, a transparent base material made of PET or the like and a transparent ionizing radiation curable resin cured material layer formed on one surface thereof are used. A structured surface fine uneven sheet is obtained. The stamper is not limited to the primary transfer product, and may be obtained by further repeating the transfer.
Further, in step (x3), a metal primary transfer product (stamper) is obtained, and injection molding is performed in which a resin is injected between the surface on which the transfer shape of the stamper is formed and the metal smooth surface. By the method, it is also possible to obtain a surface fine uneven sheet in which a wavy uneven pattern (1A) is formed on a linear Fresnel lens pattern.

工程(x1)では、加熱収縮性樹脂フィルムとして、1軸延伸フィルムを用いる。その材質(樹脂L)、収縮率、樹脂のガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第1実施形態例と同様である。加熱収縮性樹脂フィルムとしては、透光性(透明)のものを用いる。
ついで、ダイコーター、ロールコーター、バーコーター等のコーターで、未硬化の透明な電離放射線硬化性樹脂のうちの1種以上を加熱収縮性樹脂フィルムの片面に塗工し、塗工層を形成する。そして、表面にリニアフレネルレンズパターンの転写形状を有するスタンパを用意し、該スタンパを塗工層に押し当て、その状態のまま、加熱収縮性樹脂フィルム側から電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂を硬化させ、硬化層を形成する。その後、スタンパを剥離する。
この際、スタンパにおける凸条部の延在方向と、加熱収縮性樹脂フィルムの加熱収縮の方向とが一致するように、スタンパを押し当てる。
これにより、加熱収縮性フィルムの片面に、リニアフレネルレンズパターンが形成された硬質層を有する積層フィルムが得られる。
なお、第4実施形態例で説明した波状凹凸パターン(1C)を形成する場合には、未硬化の透明な電離放射線硬化性樹脂に、第4実施形態例で説明した粒子を配合すればよい。
In the step (x1), a uniaxially stretched film is used as the heat-shrinkable resin film. Preferred modes and ranges such as the material (resin L), shrinkage rate, glass transition temperature of resin, Young's modulus and the like are the same as those in the first embodiment. As the heat-shrinkable resin film, a translucent (transparent) film is used.
Next, with a coater such as a die coater, roll coater, or bar coater, one or more of uncured transparent ionizing radiation curable resins are coated on one side of the heat-shrinkable resin film to form a coating layer. . Then, prepare a stamper having a linear Fresnel lens pattern transfer shape on the surface, press the stamper against the coating layer, and in that state, irradiate ionizing radiation from the heat-shrinkable resin film side, and ionizing radiation curable The resin is cured to form a cured layer. Thereafter, the stamper is peeled off.
At this time, the stamper is pressed so that the extending direction of the ridges in the stamper coincides with the direction of heat shrinkage of the heat-shrinkable resin film.
Thereby, the laminated film which has the hard layer in which the linear Fresnel lens pattern was formed in the single side | surface of a heat-shrinkable film is obtained.
In addition, what is necessary is just to mix | blend the particle | grains demonstrated in the 4th Embodiment example with uncured transparent ionizing radiation curable resin, when forming the waveform uneven | corrugated pattern (1C) demonstrated in the 4th Embodiment example.

未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、第1実施形態例の製造方法(B)で例示したものを好適に使用できるが、なかでも、硬化後のガラス転移温度が、加熱収縮性樹脂フィルムを構成している樹脂Lよりも10℃以上高く、また、ヤング率が0.01〜300GPa、好ましくは0.1〜10GPaの樹脂が好適である。
硬化層の厚さは、0.5μmを超え、20μm以下とすることが好ましく、1〜10μmがより好ましい。
ガラス転移温度およびヤング率が上記の条件を満たし、かつ、硬化層の厚さが上記範囲内であれば、本実施形態例における波状凹凸パターン(1A)の平均ピッチを上記範囲内に調整しやすい。硬化層の厚さが上記範囲の下限値以下であると、波状凹凸パターン(1A)の平均ピッチが小さくなり過ぎる傾向にあり、上記範囲の上限値を超えると、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮が阻害され、波状凹凸パターン(1A)が良好に形成されない傾向にある。
As the uncured ionizing radiation curable resin, those exemplified in the production method (B) of the first embodiment can be suitably used. In particular, the glass transition temperature after curing is a heat shrinkable resin film. A resin having a temperature higher by 10 ° C. or more than the constituent resin L and a Young's modulus of 0.01 to 300 GPa, preferably 0.1 to 10 GPa is suitable.
The thickness of the cured layer is preferably more than 0.5 μm and not more than 20 μm, and more preferably 1 to 10 μm.
If the glass transition temperature and Young's modulus satisfy the above conditions and the thickness of the cured layer is within the above range, the average pitch of the wavy uneven pattern (1A) in this embodiment can be easily adjusted within the above range. . When the thickness of the cured layer is less than or equal to the lower limit of the above range, the average pitch of the wavy uneven pattern (1A) tends to be too small, and when the upper limit of the above range is exceeded, the heat shrinkable resin film shrinks. It is obstructed and the wavy uneven pattern (1A) tends not to be formed well.

なお、電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性である場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。   The ionizing radiation curable resin is preferably diluted with a solvent or the like. Moreover, you may add a fluororesin, a silicone resin, etc. to uncured ionizing radiation curable resin. When the uncured ionizing radiation curable resin is ultraviolet curable, it is preferable to add a photopolymerization initiator such as acetophenones and benzophenones to the uncured ionizing radiation curable resin.

また、電離放射線硬化性樹脂の代わりに、例えば、未硬化のメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等の熱可塑性樹脂を用いて転写を行ってもよく、転写できる限り、その具体的方法、転写する材料に制限はない。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば液状の未硬化の熱硬化性樹脂を塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、転写対象の面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。
Also, instead of ionizing radiation curable resin, transfer is performed using, for example, thermosetting resin such as uncured melamine resin, urethane resin or epoxy resin, or thermoplastic resin such as acrylic resin, polyolefin or polyester. As long as transfer is possible, the specific method and material to be transferred are not limited.
In the case of using a thermosetting resin, for example, a method of applying a liquid uncured thermosetting resin and curing by heating can be mentioned. When using a thermoplastic resin, a sheet of thermoplastic resin is used, There may be mentioned a method of heating and softening while pressing against the surface of the transfer object and then cooling.

なお、表面にリニアフレネルレンズパターンの転写形状を有するスタンパは、第1実施形態例における工程(a2)と同様にして、製造できる。   A stamper having a linear Fresnel lens pattern transfer shape on the surface can be manufactured in the same manner as in step (a2) in the first embodiment.

[表示装置用照明ユニットおよび表示装置]
図26は、本実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を概略的に示す図である。図26(a)は、表面微細凹凸シート10Iのパターン形成面側からの概略平面図、図26(b)は波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な側面を示す側面図、図26(c)はリニアフレネルレンズパターンの凸条部12aの配列方向に平行な側面を示す側面図である。
[Lighting unit for display device and display device]
FIG. 26 is a diagram schematically showing a configuration of a display unit illumination unit according to the present embodiment. FIG. 26 (a) is a schematic plan view from the pattern forming surface side of the surface fine uneven sheet 10I, and FIG. 26 (b) is a side view showing a side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A). FIG. 26C is a side view showing a side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 12a of the linear Fresnel lens pattern.

図示例の表示装置用照明ユニットは、表面微細凹凸シートとして本実施形態例のものを備えている以外は、第1実施形態例と同様の構成を有し、好ましい形態も同様である。   The illumination unit for display device in the illustrated example has the same configuration as that of the first embodiment except that the surface fine uneven sheet includes the surface fine unevenness sheet, and the preferred embodiment is also the same.

このような表示装置用照明ユニットにおいても、第1実施形態例の場合と同様に、各点光源から出射した光は、それぞれが集光レンズ20で集光され、平滑面13に入射する。そして、先に図25を用いて説明したように、光の進行ベクトルのうち、リニアフレネルレンズパターン12Aの凸条部の配列方向とリニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向とからなる面内成分は、リニアフレネルレンズパターン12A形成面の法線方向と平行になるように屈折する。
このように屈折した光は、表面微細凹凸シート10Iの内部を透過し、平滑面13から出射する。そして、光の進行ベクトルのうち、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向(図26中A方向)に対応する方向であるため、主に屈折により、表面微細凹凸シート10Iの法線方向に平行な成分や、該法線方向から傾いた成分等、種々の角度の成分となる。一方、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの延在方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向に対応する方向であるため、主に法線方向に平行な成分となる。
表面微細凹凸シートの法線方向に平行な光は、正面輝度の向上に寄与する。また、パターン形成面側からみて、点光源21と点光源21の間等の光源が存在しない部分において、表面微細凹凸シート10Iの法線方向に平行な光が生じることにより、輝度ムラ解消効果が得られる。また、表面微細凹凸シート10Iの法線方向から傾いた成分は、視野角の拡大に寄与する。
このように本実施形態例の表示装置用照明ユニットは、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向および低拡散方向に適切な視野角を有する。
In such a display device illumination unit, as in the case of the first embodiment, the light emitted from each point light source is collected by the condenser lens 20 and enters the smooth surface 13. Then, as described above with reference to FIG. 25, the in-plane consisting of the arrangement direction of the ridges of the linear Fresnel lens pattern 12A and the normal direction of the surface on which the linear Fresnel lens pattern 12A is formed out of the light traveling vector. The component is refracted so as to be parallel to the normal direction of the surface on which the linear Fresnel lens pattern 12A is formed.
The light refracted in this manner passes through the inside of the surface fine unevenness sheet 10 </ b> I and exits from the smooth surface 13. In the light traveling vector, the component parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is in the main diffusion direction (A direction in FIG. 26) of the wavy uneven pattern (1A). Since the directions correspond to each other, the refraction mainly becomes a component of various angles such as a component parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10I and a component inclined from the normal direction due to refraction. On the other hand, the component parallel to the extending direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is mainly in the normal direction because this direction corresponds to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). It becomes a parallel component.
The light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet contributes to the improvement of the front luminance. In addition, when viewed from the pattern forming surface side, light that is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10I is generated in a portion where no light source exists such as between the point light source 21 and the point light source 21, thereby having an effect of eliminating luminance unevenness. can get. Moreover, the component inclined from the normal line direction of the surface fine uneven sheet | seat 10I contributes to expansion of a viewing angle.
As described above, the illumination unit for display device according to the present embodiment is excellent in front luminance, uneven luminance is suppressed, and has an appropriate viewing angle in the main diffusion direction and the low diffusion direction.

特に、表面微細凹凸シート10Iの波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向と、光源列21Aの点光源の配列方向とが図26(a)のように平面視した場合において、±20°の範囲内であるため、点光源21の配列方向の拡散角度が大きくなる。これにより、点光源21が有る位置と、点光源21間の光源が無い位置とにおける輝度の差(輝度ムラ)を効果的に抑制できる。一方で、輝度ムラ抑制の要求が大きくない場合が多い、点光源21の配列方向と直交する方向については、波状凹凸パターンの低拡散方向を対応させて拡散角度を適度に抑制することによって、拡散角度を高めることによる輝度の低下を抑制できる。
本施形態例の表示装置用照明ユニットは、このような特性を有するため、ゆるやかな曲面状に形成された自動車のフロントガラスに、走行速度などの画像情報を拡散させつつ鮮明に表示させるヘッドアップディスプレイシステム等の表示装置への使用に適している。
In particular, when the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A) of the surface fine uneven sheet 10I and the arrangement direction of the point light sources of the light source array 21A are viewed in plan as shown in FIG. Therefore, the diffusion angle in the arrangement direction of the point light sources 21 increases. Thereby, the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source 21 is present and the position where there is no light source between the point light sources 21 can be effectively suppressed. On the other hand, for the direction orthogonal to the arrangement direction of the point light sources 21 in many cases where the demand for suppressing luminance unevenness is not large, the diffusion angle is appropriately suppressed by corresponding to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern. It is possible to suppress a decrease in luminance caused by increasing the angle.
Since the lighting unit for display device of this embodiment has such characteristics, it is a head-up that clearly displays image information such as traveling speed on the windshield of an automobile formed in a gently curved shape while diffusing image information. Suitable for use in display devices such as display systems.

〔第27実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、パターン形成面に、リニアフレネルレンズパターンに代えて、第6実施形態例で説明した頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第26実施形態例と異なっている。第26実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[Twenty-seventh embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example is the only point that the pattern forming surface is formed with the constant apex angle type linear triangular prism pattern described in the sixth embodiment instead of the linear Fresnel lens pattern. 26 different from the embodiment example. Similarly to the surface fine uneven sheet of the twenty-sixth embodiment, the surface fine uneven sheet of the present embodiment example can constitute a display device illumination unit and a display device.

波状凹凸パターン(1A)の凸条部の平均ピッチおよびアスペクト比の好ましい範囲、求め方等は、第1実施形態例で説明したとおりである。   The preferred range and method of obtaining the average pitch and aspect ratio of the ridges of the wavy uneven pattern (1A) are as described in the first embodiment.

本実施形態例における頂角一定型リニア三角プリズムパターンの作用について、図27を用いて説明する。なお、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの作用については、すでに図16を用いて説明しているとおりであり、図16と図27とでは、光が入射する面が異なるが、どちらから入射しても作用は同じである。
図27は、一方の面が頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bが形成された面(図27中上側の面)であり、他方の面が平滑面13であるシートを示す。このシートの平滑面13に対して、集光レンズ20を通して、たとえばLED光源、レーザー光源等の点光源21からの光を入射させた場合、光の進行ベクトルのうち、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの配列方向(図中m方向)と頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向(図中n方向)とからなる面内成分は、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向(図中n方向)と±10°の範囲内となるように屈折し、平滑面13から出射する。すなわち、光の向きが正面に向けて立ち上がる。頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bは、このような集光機能により正面輝度向上効果を奏する。
The operation of the constant apex angle type linear triangular prism pattern in this embodiment will be described with reference to FIG. Note that the operation of the fixed vertex angle type linear triangular prism pattern 12B has already been described with reference to FIG. 16, and in FIG. 16 and FIG. 27, the light incident surface is different. But the action is the same.
FIG. 27 shows a sheet in which one surface is a surface (an upper surface in FIG. 27) on which the fixed vertex angle type linear triangular prism pattern 12 </ b> B is formed and the other surface is the smooth surface 13. When light from a point light source 21 such as an LED light source or a laser light source is made incident on the smooth surface 13 of the sheet through a condenser lens 20, a constant vertex angle type linear triangular prism among the light traveling vectors. The in-plane component consisting of the direction of arrangement of the ridges 12b of the pattern 12B (m direction in the figure) and the normal direction (n direction in the figure) of the surface on which the fixed triangular prism prism pattern 12B is formed is a constant vertical angle type. The light is refracted so as to be within a range of ± 10 ° from the normal direction (n direction in the figure) of the surface on which the linear triangular prism pattern 12B is formed, and is emitted from the smooth surface 13. That is, the direction of light rises toward the front. The fixed vertex angle type linear triangular prism pattern 12B has an effect of improving the front luminance by such a light collecting function.

本実施形態例の表面微細凹凸シートでは、図27に示すように、平滑面13側から光を入射させることが、波状凹凸パターンによる輝度ムラ解消効果が大きくなる点で好ましい。   In the surface fine concavo-convex sheet of this embodiment, as shown in FIG. 27, it is preferable that light is incident from the smooth surface 13 side in terms of increasing the luminance unevenness eliminating effect due to the wavy concavo-convex pattern.

頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bのピッチ等は、集光レンズ20から出射する光の照射角に応じて設計される。すなわち、第6実施形態例の場合と同様に、集光レンズ20から出射した光の好ましくは全光線について、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの配列方向と頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向)とからなる面内成分が、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向と±10°以内になるように屈折して平滑面13から出射するように、設計されることが好ましい。
たとえば、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bのピッチは、5〜500μmであることが好ましく、5〜100μmであることがより好ましい。該ピッチが上記範囲内であれば、頂角一定型リニア三角プリズムパターンを形成しやすい。
The pitch or the like of the ridges 12b of the fixed vertex angle type linear triangular prism pattern 12B is designed according to the irradiation angle of the light emitted from the condenser lens 20. That is, as in the case of the sixth embodiment, the arrangement direction of the ridges 12b of the linear vertex prism pattern 12B and the constant vertex angle type of the light emitted from the condenser lens 20, preferably all light rays, are preferable. The in-plane component consisting of the linear triangular prism pattern 12B forming surface) is refracted so as to be within ± 10 ° with respect to the normal direction of the constant triangular apex linear triangular prism pattern 12B forming surface 13 It is preferably designed to exit from.
For example, the pitch of the ridges 12b of the constant vertex angle type linear triangular prism pattern 12B is preferably 5 to 500 μm, and more preferably 5 to 100 μm. If the pitch is within the above range, a constant vertex angle type linear triangular prism pattern can be easily formed.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第26実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法(X)で製造できる。また、第26実施形態例で説明した射出成形法を採用してもよい。
ただし、上述の工程(x1)では、表面にリニアフレネルレンズパターンが形成された硬質層を形成することに代えて、頂角一定型リニア三角プリズムパターンが形成された硬質層を形成する。
表面に頂角一定型リニア三角プリズムパターンの転写形状を有するスタンパは、第6実施形態例における工程(a2)と同様にして、製造できる。
その他の点は、第26実施形態例と同様である。
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example can be manufactured roughly by the same production method (X) as the surface fine concavo-convex sheet of the twenty-sixth embodiment example. Further, the injection molding method described in the twenty-sixth embodiment may be employed.
However, in the above-described step (x1), instead of forming the hard layer having the linear Fresnel lens pattern formed on the surface, the hard layer having the constant apex angle type linear triangular prism pattern is formed.
A stamper having the transfer shape of the linear triangle prism pattern having a constant apex angle on the surface can be manufactured in the same manner as in the step (a2) in the sixth embodiment.
Other points are the same as in the twenty-sixth embodiment.

[表示装置用照明ユニットおよび表示装置]
図28は、本実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を概略的に示す図である。図28(a)は、表面微細凹凸シート10Jのパターン形成面側からの概略平面図、(b)は波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)は頂角一定型リニア三角プリズムパターンの凸条部12bの配列方向に平行な側面を示す側面図である。
[Lighting unit for display device and display device]
FIG. 28 is a diagram schematically showing a configuration of a display unit illumination unit according to the present embodiment. FIG. 28A is a schematic plan view from the pattern forming surface side of the surface fine uneven sheet 10J, and FIG. (C) is a side view showing a side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 12b of the constant vertex angle type linear triangular prism pattern.

図示例の表示装置用照明ユニットは、表面微細凹凸シートとして本実施形態例のものを備えている以外は、第1実施形態例と同様の構成を有し、好ましい形態も同様である。   The illumination unit for display device in the illustrated example has the same configuration as that of the first embodiment except that the surface fine uneven sheet includes the surface fine unevenness sheet, and the preferred embodiment is also the same.

このような表示装置用照明ユニットにおいても、第1実施形態例の場合と同様に、各点光源から出射した光は、それぞれが集光レンズ20で集光され、平滑面13に入射する。そして、先に図27を用いて説明したように、光の進行ベクトルのうち、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12Bの凸条部12bの配列方向と頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向とからなる面内成分は、頂角一定型リニア三角プリズムパターン12B形成面の法線方向(表面微細凹凸シートの法線方向)と±10°以内となるように屈折する。
このように屈折した光は、表面微細凹凸シート10Jの内部を透過し、平滑面13から出射する。そして、光の進行ベクトルのうち、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向(図28中A方向)に対応する方向であるため、主に屈折により、表面微細凹凸シート10Jの法線方向に平行な成分や、該法線方向から傾いた成分等、種々の角度の成分となる。一方、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの延在方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向に対応する方向であるため、主に法線方向に平行な成分となる。
表面微細凹凸シート10Jの法線方向に平行な光は、正面輝度の向上に寄与する。また、波状凹凸パターン形成面側からみて、点光源と点光源の間等の光源が存在しない部分において、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な光が生じることにより、輝度ムラ解消効果が得られる。また、表面微細凹凸シート10Jの法線方向から傾いた成分は、視野角の拡大に寄与する。
このように本実施形態例の表示装置用照明ユニットは、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向および低拡散方向に適切な視野角を有する。
In such a display device illumination unit, as in the case of the first embodiment, the light emitted from each point light source is collected by the condenser lens 20 and enters the smooth surface 13. Then, as described above with reference to FIG. 27, of the traveling vectors of light, the arrangement direction of the ridges 12b of the constant vertex angle type linear triangular prism pattern 12B and the surface on which the constant vertex angle type linear triangular prism pattern 12B is formed. The in-plane component consisting of the normal direction is refracted so as to be within ± 10 ° with respect to the normal direction (normal direction of the surface fine concavo-convex sheet) of the surface on which the fixed vertical angle linear triangular prism pattern 12B is formed.
The light refracted in this way passes through the inside of the surface fine unevenness sheet 10 </ b> J and exits from the smooth surface 13. Of the traveling vector of light, the component parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is in the main diffusion direction (A direction in FIG. 28) of the wavy uneven pattern (1A). Since the directions correspond to each other, the components mainly have various angles such as a component parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10J and a component inclined from the normal direction due to refraction. On the other hand, the component parallel to the extending direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is mainly in the normal direction because this direction corresponds to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). It becomes a parallel component.
The light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10J contributes to the improvement of the front luminance. In addition, when viewed from the wavy uneven pattern forming surface side, light that is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet is generated in a portion where no light source exists, such as between a point light source and a point light source. It is done. Moreover, the component inclined from the normal line direction of the surface fine uneven sheet | seat 10J contributes to expansion of a viewing angle.
As described above, the illumination unit for display device according to the present embodiment is excellent in front luminance, uneven luminance is suppressed, and has an appropriate viewing angle in the main diffusion direction and the low diffusion direction.

特に、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向と、光源列21Aの点光源の配列方向とが図28(a)のように平面視した場合において、±20°の範囲内であるため、点光源21の配列方向の拡散角度が大きくなる。これにより、点光源21が有る位置と、点光源21間の光源が無い位置とにおける輝度の差(輝度ムラ)を効果的に抑制できる。一方で、輝度ムラ抑制の要求が大きくない場合が多い、点光源21の配列方向と直交する方向については、波状凹凸パターンの低拡散方向を対応させて拡散角度を適度に抑制することによって、拡散角度を高めることによる輝度の低下を抑制できる。
本施形態例の表示装置用照明ユニットは、このような特性を有するため、ゆるやかな曲面状に形成された自動車のフロントガラスに、走行速度などの画像情報を拡散させつつ鮮明に表示させるヘッドアップディスプレイシステム等の表示装置への使用に適している。
In particular, the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A) of the surface fine uneven sheet and the arrangement direction of the point light sources in the light source array 21A are within a range of ± 20 ° when viewed in plan as shown in FIG. Therefore, the diffusion angle in the arrangement direction of the point light sources 21 is increased. Thereby, the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source 21 is present and the position where there is no light source between the point light sources 21 can be effectively suppressed. On the other hand, for the direction orthogonal to the arrangement direction of the point light sources 21 in many cases where the demand for suppressing luminance unevenness is not large, the diffusion angle is appropriately suppressed by corresponding to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern. It is possible to suppress a decrease in luminance caused by increasing the angle.
Since the lighting unit for display device of this embodiment has such characteristics, it is a head-up that clearly displays image information such as traveling speed on the windshield of an automobile formed in a gently curved shape while diffusing image information. Suitable for use in display devices such as display systems.

〔第28実施形態例〕
本実施形態例の表面微細凹凸シートは、パターン形成面に、リニアフレネルレンズパターンに代えて、第11実施形態例で説明したものと同様の頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成されている点のみで、第26実施形態例と異なっている。第26実施形態例の表面微細凹凸シートと同様に、本実施形態例の表面微細凹凸シートも、表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成できる。
[Twenty-eighth embodiment]
The surface fine concavo-convex sheet of the present embodiment example has a vertex angle variation type linear triangular prism pattern similar to that described in the eleventh embodiment example instead of the linear Fresnel lens pattern on the pattern forming surface. However, this is different from the twenty-sixth embodiment. Similarly to the surface fine uneven sheet of the twenty-sixth embodiment, the surface fine uneven sheet of the present embodiment example can constitute a display device illumination unit and a display device.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第26実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法(X)で製造できる。また、第26実施形態例で説明した射出成形法を採用してもよい。
ただし、上述の工程(x1)では、リニアフレネルレンズパターンを表面に有する硬質層を形成することに代えて、頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成された硬質層を形成する。
その他の点は、第26実施形態例と同様である。
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example can be manufactured roughly by the same production method (X) as the surface fine concavo-convex sheet of the twenty-sixth embodiment example. Further, the injection molding method described in the twenty-sixth embodiment may be employed.
However, in the above-described step (x1), instead of forming a hard layer having a linear Fresnel lens pattern on the surface, a hard layer on which an apex angle varying linear triangular prism pattern is formed is formed.
Other points are the same as in the twenty-sixth embodiment.

波状凹凸パターン(1A)の凸条部の平均ピッチおよびアスペクト比の好ましい範囲、求め方等は、第1実施形態例で説明したとおりである。   The preferred range and method of obtaining the average pitch and aspect ratio of the ridges of the wavy uneven pattern (1A) are as described in the first embodiment.

本実施形態例における頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの作用について、図29を用いて説明する。なお、頂角変動型リニア三角プリズムパターンの作用については、すでに図18(c)を用いて説明しているとおりであり、図18(c)と図29とでは、光が入射する面が異なるが、どちらから入射しても作用は同じである。
図29は、一方の面が頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成された面(図29中上側の面)であり、他方の面が平滑面13であるシートを示す。このシートの平滑面13に対して、集光レンズ20を通して、たとえばLED光源、レーザー光源等の点光源からの光を入射させた場合、光の進行ベクトルのうち、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cの配列方向と頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの法線方向とからなる面内成分は、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向と平行になるように屈折し、平滑面から出射する。すなわち、光の向きが正面に向けて立ち上がる。頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cは、このような集光機能により正面輝度向上効果を奏する。
The operation of the apex angle varying linear triangular prism pattern 12C in this embodiment will be described with reference to FIG. The operation of the apex angle variation type linear triangular prism pattern has already been described with reference to FIG. 18C, and FIG. 18C and FIG. 29 have different light incident surfaces. However, the action is the same regardless of which is incident.
FIG. 29 shows a sheet in which one surface is a surface (an upper surface in FIG. 29) on which the apex angle variation type linear triangular prism pattern is formed and the other surface is the smooth surface 13. When light from a point light source such as an LED light source or a laser light source is made incident on the smooth surface 13 of the sheet through a condenser lens 20, an apex angle variation type linear triangular prism pattern among the light traveling vectors. The in-plane component formed by the arrangement direction of the 12C ridges 12c and the normal direction of the apex angle varying linear triangular prism pattern 12C is parallel to the normal direction of the apex angle varying linear triangular prism pattern 12C forming surface. The light is refracted and emitted from a smooth surface. That is, the direction of light rises toward the front. The vertex angle variation type linear triangular prism pattern 12C has an effect of improving the front luminance by such a condensing function.

本実施形態例の表面微細凹凸シートでは、図29に示すように、平滑面側から光を入射させることが、波状凹凸パターンによる輝度ムラ解消効果が大きくなる点で好ましい。   In the surface fine uneven sheet of the present embodiment example, as shown in FIG. 29, it is preferable that light is incident from the smooth surface side because the effect of eliminating luminance unevenness due to the wavy uneven pattern is increased.

頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cのピッチ等は、集光レンズ20から出射する光の照射角に応じて設計される。すなわち、第11実施形態例の場合と同様に、集光レンズ20から出射した光の好ましくは全光線について、頂角変動型リニア三角プリズムパターンの凸条部の配列方向と頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの法線方向とからなる面内成分が、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向と平行になるように屈折して平滑面13から出射するように、設計されることが好ましい。
たとえば、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cのピッチは、5〜500μmであることが好ましく、5〜100μmであることがより好ましい。該ピッチが上記範囲内であれば、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cを形成しやすい。
The pitch or the like of the ridges 12c of the apex angle varying linear triangular prism pattern 12C is designed according to the irradiation angle of the light emitted from the condenser lens 20. That is, as in the case of the eleventh embodiment, the arrangement direction of the ridges of the apex angle varying linear triangular prism pattern and the apex angle varying linear triangle are preferably set for all the light emitted from the condenser lens 20. The in-plane component consisting of the normal direction of the prism pattern 12C is refracted so as to be parallel to the normal direction of the surface on which the apex angle variation type linear triangular prism pattern 12C is formed and is emitted from the smooth surface 13. It is preferable.
For example, the pitch of the ridges 12c of the apex-variable linear triangular prism pattern 12C is preferably 5 to 500 μm, and more preferably 5 to 100 μm. When the pitch is within the above range, the apex angle variation type linear triangular prism pattern 12C can be easily formed.

本実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第26実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法(X)で製造できる。また、第26実施形態例で説明した射出成形法を採用してもよい。
ただし、上述の工程(x1)では、表面にリニアフレネルレンズパターンが形成された硬質層を形成することに代えて、頂角変動型リニア三角プリズムパターンが形成された硬質層を形成する。
表面に頂角変動型リニア三角プリズムパターンの転写形状を有するスタンパは、第11実施形態例における工程(a2)と同様にして、製造できる。
その他の点は、第26実施形態例と同様である。
The surface fine concavo-convex sheet of this embodiment example can be manufactured roughly by the same production method (X) as the surface fine concavo-convex sheet of the twenty-sixth embodiment example. Further, the injection molding method described in the twenty-sixth embodiment may be employed.
However, in the above-mentioned step (x1), instead of forming the hard layer having the linear Fresnel lens pattern formed on the surface, the hard layer having the apex angle varying linear triangular prism pattern is formed.
The stamper having the transfer shape of the apex angle variation type linear triangular prism pattern on the surface can be manufactured in the same manner as the step (a2) in the eleventh embodiment.
Other points are the same as in the twenty-sixth embodiment.

[表示装置用照明ユニットおよび表示装置]
図30は、本実施形態例の表示装置用照明ユニットの構成を概略的に示す図である。図30(a)は、表面微細凹凸シートのパターン形成面側からの概略平面図、(b)は波状凹凸パターン(1A)の凸条部12aの配列方向に平行な側面を示す側面図、(c)は頂角変動型リニア三角プリズムパターンの凸条部12cの配列方向に平行な側面を示す側面図である。
[Lighting unit for display device and display device]
FIG. 30 is a diagram schematically showing a configuration of a display unit illumination unit according to the present embodiment. 30A is a schematic plan view from the pattern forming surface side of the surface fine uneven sheet, and FIG. 30B is a side view showing a side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 12a of the wavy uneven pattern 1A. c) is a side view showing a side surface parallel to the arrangement direction of the ridges 12c of the apex angle variation type linear triangular prism pattern.

図示例の表示装置用照明ユニットは、表面微細凹凸シートとして本実施形態例のものを備えている以外は、第1実施形態例と同様の構成を有し、好ましい形態も同様である。   The illumination unit for display device in the illustrated example has the same configuration as that of the first embodiment except that the surface fine uneven sheet includes the surface fine unevenness sheet, and the preferred embodiment is also the same.

このような表示装置用照明ユニットにおいても、第1実施形態例の場合と同様に、各点光源から出射した光は、それぞれが集光レンズ20で集光され、平滑面13に入射する。そして、先に図29を用いて説明したように、光の進行ベクトルのうち、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの凸条部12cの配列方向と頂角変動型リニア三角プリズムパターン12Cの法線方向(表面微細凹凸シートの法線方向)とからなる面内成分は、頂角変動型リニア三角プリズムパターン12C形成面の法線方向(表面微細凹凸シートの法線方向)と平行になるように屈折する。
このように屈折した光は、表面微細凹凸シート10Kの内部を透過し、平滑面13から出射する。そして、光の進行ベクトルのうち、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの配列方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向(図30中A方向)に対応する方向であるため、主に屈折により、表面微細凹凸シート10Kの法線方向に平行な成分や、該法線方向から傾いた成分等、種々の角度の成分となる。一方、波状凹凸パターン(1A)の凸条部11aの延在方向に平行な成分は、この方向が波状凹凸パターン(1A)の低拡散方向に対応する方向であるため、主に法線方向に平行な成分となる。
表面微細凹凸シート10Kの法線方向に平行な光は、正面輝度の向上に寄与する。また、パターン形成面側からみて、点光源と点光源の間等の光源が存在しない部分において、表面微細凹凸シート10Kの法線方向に平行な光が生じることにより、輝度ムラ解消効果が得られる。また、表面微細凹凸シート10Kの法線方向から傾いた成分は、視野角の拡大に寄与する。
このように本実施形態例の表示装置用照明ユニットは、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向および低拡散方向に適切な視野角を有する。
In such a display device illumination unit, as in the case of the first embodiment, the light emitted from each point light source is collected by the condenser lens 20 and enters the smooth surface 13. Then, as described above with reference to FIG. 29, among the light traveling vectors, the arrangement direction of the ridges 12c of the apex angle varying linear triangular prism pattern 12C and the apex angle varying linear triangular prism pattern 12C method The in-plane component consisting of the line direction (the normal direction of the surface fine uneven sheet) is parallel to the normal direction (the normal direction of the surface fine uneven sheet) of the surface on which the apex angle variation linear triangular prism pattern 12C is formed. Refracts into.
The light refracted in this way is transmitted through the surface fine uneven sheet 10 </ b> K and emitted from the smooth surface 13. Of the traveling vector of light, the component parallel to the arrangement direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is in the main diffusion direction (A direction in FIG. 30) of the wavy uneven pattern (1A). Since the directions correspond to each other, the refraction mainly becomes components of various angles such as a component parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10K and a component inclined from the normal direction. On the other hand, the component parallel to the extending direction of the ridges 11a of the wavy uneven pattern (1A) is mainly in the normal direction because this direction corresponds to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A). It becomes a parallel component.
The light parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10K contributes to the improvement of the front luminance. Further, when viewed from the pattern forming surface side, light that is parallel to the normal direction of the surface fine uneven sheet 10K is generated in a portion where there is no light source such as between the point light source and the point light source, thereby obtaining a luminance unevenness eliminating effect. . Moreover, the component inclined from the normal line direction of the surface fine uneven sheet | seat 10K contributes to expansion of a viewing angle.
As described above, the illumination unit for display device according to the present embodiment is excellent in front luminance, uneven luminance is suppressed, and has an appropriate viewing angle in the main diffusion direction and the low diffusion direction.

特に、表面微細凹凸シート10Kの波状凹凸パターン(1A)の主拡散方向と、光源列21Aの点光源の配列方向とが図30(a)のように平面視した場合において、±20°の範囲内であるため、点光源21の配列方向の拡散角度が大きくなる。これにより、点光源21が有る位置と、点光源21間の光源が無い位置とにおける輝度の差(輝度ムラ)を効果的に抑制できる。一方で、輝度ムラ抑制の要求が大きくない場合が多い、点光源21の配列方向と直交する方向については、波状凹凸パターンの低拡散方向を対応させて拡散角度を適度に抑制することによって、拡散角度を高めることによる輝度の低下を抑制できる。
本施形態例の表示装置用照明ユニットは、このような特性を有するため、ゆるやかな曲面状に形成された自動車のフロントガラスに、走行速度などの画像情報を拡散させつつ鮮明に表示させるヘッドアップディスプレイシステム等の表示装置への使用に適している。
In particular, when the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (1A) of the surface fine uneven sheet 10K and the arrangement direction of the point light sources of the light source array 21A are viewed in plan as shown in FIG. Therefore, the diffusion angle in the arrangement direction of the point light sources 21 increases. Thereby, the difference in luminance (brightness unevenness) between the position where the point light source 21 is present and the position where there is no light source between the point light sources 21 can be effectively suppressed. On the other hand, for the direction orthogonal to the arrangement direction of the point light sources 21 in many cases where the demand for suppressing luminance unevenness is not large, the diffusion angle is appropriately suppressed by corresponding to the low diffusion direction of the wavy uneven pattern. It is possible to suppress a decrease in luminance caused by increasing the angle.
Since the lighting unit for display device of this embodiment has such characteristics, it is a head-up that clearly displays image information such as traveling speed on the windshield of an automobile formed in a gently curved shape while diffusing image information. Suitable for use in display devices such as display systems.

なお、第26〜第28実施形態例では、製造の容易性等の点から、線状凹凸パターン上に波状凹凸パターンが形成されている形態を示した。しかしながら、目的等に応じて、線状凹凸パターンの代わりに、五面体パターンを形成し、その上に波状凹凸パターンが形成されていてもよい。その場合には、波状凹凸パターンの主拡散方向と、五面体パターンの前記二方向のうちの一方の方向との成す角度を±20°の範囲内とする。
また、線状凹凸パターンの代わりに、同心円状凹凸パターンを形成し、その上に波状凹凸パターンが形成されていてもよい。
In the twenty-sixth to twenty-eighth embodiments, the form in which the wavy uneven pattern is formed on the linear uneven pattern is shown in terms of ease of manufacture and the like. However, depending on the purpose or the like, a pentahedral pattern may be formed instead of the linear uneven pattern, and a wavy uneven pattern may be formed thereon. In that case, an angle formed by the main diffusion direction of the wavy uneven pattern and one of the two directions of the pentahedral pattern is set within a range of ± 20 °.
Further, instead of the linear uneven pattern, a concentric uneven pattern may be formed, and a wavy uneven pattern may be formed thereon.

<作用効果>
以上、各実施形態例を示して説明したように、本発明の表面微細凹凸シートによれば、不規則な波状凹凸パターンと、線状凹凸パターン、五面体パターンまたは同心円状凹凸パターンとを有しているため、正面輝度に優れ、輝度ムラが抑制され、かつ、主拡散方向だけでなくこれと直交する低拡散方向においても、それぞれ適切な視野角を有する照明ユニットを構成できる。
特に、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの主拡散方向と、光源列の点光源の配列方向とが、波状凹凸パターンを平面視した場合において、±20°の範囲内であるため、点光源の配列方向の拡散角度が大きくなる。これにより、点光源が有る位置と、点光源間の光源が無い位置とにおける輝度の差(輝度ムラ)を効果的に抑制できる。一方で、輝度ムラ抑制の要求が大きくない場合が多い、点光源の配列方向と直交する方向については、波状凹凸パターンの低拡散方向を対応させて拡散角度を適度に抑制することによって、拡散角度を高めることによる輝度の低下を抑制できる。
また、各実施形態例の表面微細凹凸シートは、1枚構成である。そのため、別体からなる複数枚のシートを用いずに、1枚のみで視野角確保効果、輝度ムラ解消効果、正面輝度向上効果を奏することができ、取扱性、照明ユニットの薄型化にも優れる。
表示装置用照明ユニットおよび表示装置を構成する際に、各実施形態例の表面微細凹凸シートのうち、どの実施形態例のシートを選択するかは、その表示装置に求められる主拡散方向および低拡散方向の視野角や、これら視野角のバランス、正面輝度、さらには輝度ムラ抑制の要求の程度等に応じて、決定できる。
<Effect>
As described above, as described with reference to each embodiment, according to the surface fine uneven sheet according to the present invention, it has an irregular wavy uneven pattern, a linear uneven pattern, a pentahedral pattern, or a concentric uneven pattern. Therefore, it is possible to configure an illumination unit that has excellent front luminance, suppresses luminance unevenness, and has an appropriate viewing angle not only in the main diffusion direction but also in the low diffusion direction orthogonal thereto.
In particular, since the main diffusion direction of the wavy uneven pattern of the surface fine uneven sheet and the arrangement direction of the point light sources of the light source array are within a range of ± 20 ° when the wavy uneven pattern is viewed in plan view, The diffusion angle in the arrangement direction increases. Thereby, the difference in luminance (luminance unevenness) between the position where the point light source is present and the position where there is no light source between the point light sources can be effectively suppressed. On the other hand, for the direction perpendicular to the arrangement direction of the point light sources, in many cases, the demand for luminance unevenness suppression is not large, by appropriately suppressing the diffusion angle by corresponding the low diffusion direction of the wavy uneven pattern, the diffusion angle It is possible to suppress a decrease in luminance due to an increase in.
Moreover, the surface fine uneven sheet | seat of each embodiment is a 1 sheet structure. Therefore, it is possible to achieve a viewing angle securing effect, a luminance unevenness eliminating effect, and a front luminance improving effect with only one sheet without using a plurality of separate sheets, and it is excellent in handling and thinning of the lighting unit. .
When configuring the illumination unit for a display device and the display device, which of the embodiment examples of the surface fine uneven sheet of each embodiment is selected depends on the main diffusion direction and low diffusion required for the display device. It can be determined according to the viewing angle of the direction, the balance of these viewing angles, the front luminance, and the degree of demand for suppressing luminance unevenness.

以下、本発明について、実施例を例示して具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.

(実施例1)
[波状凹凸パターンのニッケル2次原版]
下記塗工液(1)をポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルム(東洋紡株式会社製「SC-807」、厚さ:30μm、ガラス転移温度Tg=75℃)の片面に、塗工乾燥後の硬質層の厚みt’が4μmになるようにバーコーター (メイヤーバー♯22)により塗工し、積層シートを得た。
Example 1
[Nickel secondary master with wavy uneven pattern]
The following coating liquid (1) was applied to one side of a polyethylene terephthalate uniaxial heat-shrinkable film (“SC-807” manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness: 30 μm, glass transition temperature Tg 1 = 75 ° C.) after coating and drying. Coating was performed with a bar coater (Meyer bar # 22) so that the thickness t ′ of the hard layer was 4 μm to obtain a laminated sheet.

塗工液(1):
アクリル樹脂A(ガラス転移温度Tg2M=128℃)をトルエンに加え、固形分濃度12質量%の塗工液(1)を得た。なお、上記アクリル樹脂Aは固形分濃度23質量%であるが、本例での質量比および濃度は、正味量(固形分量)で計算した値である。以下の例についても、正味量で計算している。
Coating liquid (1):
Acrylic resin A (glass transition temperature Tg 2M = 128 ° C.) was added to toluene to obtain a coating liquid (1) having a solid content concentration of 12% by mass. In addition, although the said acrylic resin A is solid content concentration 23 mass%, the mass ratio and density | concentration in this example are the values calculated by the net amount (solid content amount). The following examples are also calculated with the net amount.

次いで、該積層シートを熱風式オーブンを用いて125℃で1分間加熱することにより、ポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルムを、加熱前の長さの55%に熱収縮させ(変形率として45%)、硬質層を折り畳むように変形させた。これにより、波状の凹凸パターンが層の表面に形成された波状凹凸パターンシート(原版)を得た。形成された波状凹凸パターンは、波状凹凸パターン(1A)であり、その凸条部は、それぞれが略平行であるが蛇行して、不規則に形成されていた。
また、フーリエ変換画像の画像解析により求めた凸条部の平均ピッチは、17μmであり、段落[0039]に記載の方法で求めた平均高さは、6μmであった。
次いで、得られた波状凹凸パターンシート(原版)の表面に、ニッケル電気鋳造法にて、ニッケルを500μmの厚さになるように堆積させた。ついで、堆積させたニッケルを波状凹凸パターンシート(原版)から剥離し、表面に波状凹凸パターンシートの波状凹凸が転写されたニッケル2次原版を得た。
Next, the laminated sheet is heated at 125 ° C. for 1 minute using a hot air oven to heat-shrink the polyethylene terephthalate uniaxial heat-shrinkable film to 55% of the length before heating (45% deformation rate). ), The hard layer was deformed to be folded. Thus, a wavy uneven pattern sheet (original) having a wavy uneven pattern formed on the surface of the layer was obtained. The formed wavy uneven pattern was a wavy uneven pattern (1A), and the ridges were meandering but irregularly formed, although each was substantially parallel.
The average pitch of the ridges determined by image analysis of the Fourier transform image was 17 μm, and the average height determined by the method described in paragraph [0039] was 6 μm.
Next, nickel was deposited to a thickness of 500 μm on the surface of the obtained wavy uneven pattern sheet (original plate) by nickel electroforming. Next, the deposited nickel was peeled off from the corrugated uneven pattern sheet (original plate) to obtain a nickel secondary original plate in which the corrugated unevenness of the corrugated uneven pattern sheet was transferred to the surface.

[線状凹凸パターンの原版]
射出成形用金型に、焦点距離25mm、ピッチ0.1mmのリニアフレネルレンズパターンの反転パターンを、横(凸条部の延在方向)55mm×縦(凸条部の配列方向)25mmの範囲に切削により形成し、線状凹凸パターンを形成するための射出成形用金型(原版)を得た。
[Original of linear uneven pattern]
An inversion pattern of a linear Fresnel lens pattern with a focal length of 25 mm and a pitch of 0.1 mm is applied to an injection mold in a range of 55 mm in the horizontal direction (extension direction of the ridges) × 25 mm in the vertical direction (arrangement direction of the ridges). An injection mold (original) was formed by cutting to form a linear concavo-convex pattern.

[表面微細凹凸シート]
前記波状凹凸パターンのニッケル2次原版を、前記線状凹凸パターンの反転パターンが形成された射出成形機の金型に、互いの凹凸パターンが対向するように、また、波状凹凸パターンの主拡散方向(段落[0023]で説明した方法で決定。)と線状凹凸パターンの凸条部の延在方向とが平行になるように組込み、アクリル樹脂の射出成形を行い、表面微細凹凸シート(射出成形品)を得た。
得られた射出成形品は、横55mm×縦25mm×厚さ2mmの直方体であり、一対の55mm×25mmの面のうちの一面にニッケル2次原版の表面凹凸が転写された波状凹凸パターンが形成され、他面に射出成形用金型の表面凹凸が転写された線状凹凸パターンが形成されていた。また、波状凹凸パターンの主拡散方向および線状凹凸パターンの凸条部の延在方向は、横方向と平行であった。
[Surface micro uneven sheet]
The nickel secondary original plate of the wavy uneven pattern is arranged so that the uneven pattern faces the mold of the injection molding machine in which the reverse pattern of the linear uneven pattern is formed, and the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (Determined by the method described in paragraph [0023].) And the extending direction of the ridges of the linear concavo-convex pattern are incorporated in parallel, injection molding of acrylic resin is performed, and the surface fine concavo-convex sheet (injection molding Product).
The obtained injection-molded product is a rectangular parallelepiped having a width of 55 mm × length of 25 mm × thickness of 2 mm, and a wavy uneven pattern in which the surface unevenness of the nickel secondary original is transferred to one surface of a pair of 55 mm × 25 mm surfaces As a result, a linear concavo-convex pattern in which the surface concavo-convex of the injection mold was transferred was formed on the other surface. Further, the main diffusion direction of the wavy uneven pattern and the extending direction of the ridges of the linear uneven pattern were parallel to the lateral direction.

(実施例2)
[波状凹凸パターンのニッケル2次原版]
下記塗工液(2)をポリエチレンテレフタレート二軸方向加熱収縮性フィルム(三菱樹脂株式会社製「PX−40S」、厚さ:25μm、ガラス転移温度Tg=75℃)の片面に、 塗工乾燥後の硬質層の厚みt’が4μmになるようにバーコーター (メイヤーバー♯22)により塗工し、積層シートを得た。
(Example 2)
[Nickel secondary master with wavy uneven pattern]
The following coating liquid (2) was coated on one side of a polyethylene terephthalate biaxial heat-shrinkable film ("PX-40S" manufactured by Mitsubishi Plastics Co., Ltd., thickness: 25 μm, glass transition temperature Tg 1 = 75 ° C). The subsequent hard layer was coated with a bar coater (Meyer bar # 22) so that the thickness t ′ was 4 μm to obtain a laminated sheet.

塗工液(2):
アクリル樹脂B(ガラス転移温度Tg2M=100℃)をトルエンに加え、固形分濃度10質量%の塗工液(2)を得た。
Coating liquid (2):
Acrylic resin B (glass transition temperature Tg 2M = 100 ° C.) was added to toluene to obtain a coating liquid (2) having a solid content concentration of 10% by mass.

次いで、該積層シートを熱風式オーブンを用いて95℃で1分間加熱することにより、ポリエチレンテレフタレート二軸方向加熱収縮性フィルムを一方向において、加熱前の長さの50%に熱収縮させ(変形率として50%)、一方向に略直交する他方向において、加熱前の長さの85%に熱収縮させ(変形率として15%)、硬質層を折り畳むように変形させた。これにより、波状の凹凸パターンが層の表面に形成された波状凹凸パターンシート(原版)を得た。形成された波状凹凸パターンは、波状凹凸パターン(2A)であり、形成された凸条部は、それぞれが蛇行して、特定の方向に沿わず、不規則に形成されていた。
また、フーリエ変換画像の画像解析により求めた凸条部の平均ピッチは、20μmであり、段落[0039]に記載の方法で求めた平均高さは、6μmであった。
次いで、得られた波状凹凸パターンシート(原版)の表面に、ニッケル電気鋳造法にて、ニッケルを500μmの厚さになるように堆積させた。ついで、堆積させたニッケルを波状凹凸パターンシート(原版)から剥離し、表面に波状凹凸パターンシートの波状凹凸が転写されたニッケル2次原版を得た。
Next, the laminated sheet is heated at 95 ° C. for 1 minute using a hot air oven to heat-shrink the polyethylene terephthalate biaxial heat-shrinkable film in one direction to 50% of the length before heating (deformation) 50%), and in the other direction substantially orthogonal to one direction, it was thermally shrunk to 85% of the length before heating (15% as the deformation rate) and deformed so that the hard layer was folded. Thus, a wavy uneven pattern sheet (original) having a wavy uneven pattern formed on the surface of the layer was obtained. The formed wavy uneven pattern was a wavy uneven pattern (2A), and the formed ridges meandered and were irregularly formed not along a specific direction.
The average pitch of the ridges determined by image analysis of the Fourier transform image was 20 μm, and the average height determined by the method described in paragraph [0039] was 6 μm.
Next, nickel was deposited to a thickness of 500 μm on the surface of the obtained wavy uneven pattern sheet (original plate) by nickel electroforming. Next, the deposited nickel was peeled off from the corrugated uneven pattern sheet (original plate) to obtain a nickel secondary original plate in which the corrugated unevenness of the corrugated uneven pattern sheet was transferred to the surface.

[線状凹凸パターンの原版]
実施例1と同様にして、線状凹凸パターンを形成するための射出成形用金型(原版)を得た。
[Original of linear uneven pattern]
In the same manner as in Example 1, an injection mold (original plate) for forming a linear uneven pattern was obtained.

[表面微細凹凸シート]
前記波状凹凸パターンのニッケル2次原版を、前記線状凹凸パターンの反転パターンが形成された射出成形機の金型に、互いの凹凸パターンが対向するように、また、波状凹凸パターンの主拡散方向(段落[0023]で説明した方法で決定。)と線状凹凸パターンの凸条部の延在方向とが平行になるように組込み、アクリル樹脂の射出成形を行い、表面微細凹凸シート(射出成形品)を得た。
得られた射出成形品は、横55mm×縦25mm×厚さ2mmの直方体であり、一対の55mm×25mmの面のうちの一面にニッケル2次原版の表面凹凸が転写された波状凹凸パターンが形成され、他面に射出成形用金型の表面凹凸が転写された線状凹凸パターンが形成されていた。また、波状凹凸パターンの主拡散方向および線状凹凸パターンの凸条部の延在方向は、横方向と平行であった。
[Surface micro uneven sheet]
The nickel secondary original plate of the wavy uneven pattern is arranged so that the uneven pattern faces the mold of the injection molding machine in which the reverse pattern of the linear uneven pattern is formed, and the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (Determined by the method described in paragraph [0023].) And the extending direction of the ridges of the linear concavo-convex pattern are incorporated in parallel, injection molding of acrylic resin is performed, and the surface fine concavo-convex sheet (injection molding Product).
The obtained injection-molded product is a rectangular parallelepiped having a width of 55 mm × length of 25 mm × thickness of 2 mm, and a wavy uneven pattern in which the surface unevenness of the nickel secondary original is transferred to one surface of a pair of 55 mm × 25 mm surfaces As a result, a linear concavo-convex pattern in which the surface concavo-convex of the injection mold was transferred was formed on the other surface. Further, the main diffusion direction of the wavy uneven pattern and the extending direction of the ridges of the linear uneven pattern were parallel to the lateral direction.

(実施例3)
[波状凹凸パターンのニッケル2次原版]
下記塗工液(3)をポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルム(東洋紡株式会社製「SC807」、厚さ:30μm、ガラス転移温度Tg=75℃)の片面に、 塗工乾燥後の硬質層の厚みt’が4μmになるようにバーコーター(メイヤーバー♯22)により塗工し、積層シートを得た。
(Example 3)
[Nickel secondary master with wavy uneven pattern]
The following coating liquid (3) is applied to one side of a polyethylene terephthalate uniaxial heat shrinkable film (“SC807” manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness: 30 μm, glass transition temperature Tg 1 = 75 ° C.), and the hard layer after coating and drying The laminated sheet was obtained by coating with a bar coater (Meyer bar # 22) such that the thickness t ′ of the film was 4 μm.

塗工液(3):
アクリル樹脂A(ガラス転移温度Tg2M=128℃)と、粒径dが5μmであるアクリル系架橋型樹脂粒子(積水化成品工業株式会社製「SSX105」、ビカット軟化温度200℃以上)とを、固形分質量比90:10で混合し、トルエンに加え、固形分濃度7.7質量%の塗工液(3)を得た。
Coating liquid (3):
Acrylic resin A (glass transition temperature Tg 2M = 128 ° C.) and acrylic cross-linked resin particles having a particle diameter d of 5 μm (“SSX105” manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., Vicat softening temperature 200 ° C. or higher) It mixed by solid content mass ratio 90:10, and in addition to toluene, the coating liquid (3) with a solid content density | concentration of 7.7 mass% was obtained.

次いで、該積層シートを熱風式オーブンを用いて125℃で1分間加熱することにより、ポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルムを一軸方向において、加熱前の長さの60%に熱収縮させ(変形率として40%)、硬質層を折り畳むように変形させた。これにより、波状の凹凸パターンと、その上に形成された多数の凸部とを有する波状凹凸パターンが硬質層の表面に形成された波状凹凸パターンシート(原版)を得た。また、形成された波状凹凸パターンは、波状凹凸パターン(1C)であり波状の凸条部がそれぞれ略平行であるが蛇行して不規則に形成され、凸条部上および隣り合う凸条部間に、外方に突出する複数の凸部がランダムに形成されていた。
また、フーリエ変換画像の画像解析により求めた凸条部の平均ピッチ、凸部の平均径は、それぞれ17μm、5μmであった。また、段落[0125]および段落[0127]に記載の方法で求めた凸条部の平均高さおよび凸部の平均高さは、それぞれ4μm、1.5μmであった。
次いで、得られた波状凹凸パターンシート(原版)の表面に、ニッケル電気鋳造法にて、ニッケルを500μmの厚さになるように堆積させた。ついで、堆積させたニッケルを波状凹凸パターンシート(原版)から剥離し、表面に波状凹凸パターンシートの波状凹凸が転写されたニッケル2次原版を得た。
Next, the laminated sheet is heated in a hot air oven at 125 ° C. for 1 minute to heat-shrink the polyethylene terephthalate uniaxial heat-shrinkable film to 60% of the length before heating in the uniaxial direction (deformation rate). 40%), the hard layer was deformed to be folded. As a result, a wavy uneven pattern sheet (original plate) was obtained in which a wavy uneven pattern having a wavy uneven pattern and a number of convex portions formed thereon was formed on the surface of the hard layer. Further, the formed wavy uneven pattern is a wavy uneven pattern (1C), and the wavy protruding portions are substantially parallel to each other, but meandered and irregularly formed, and on the protruding portions and between adjacent protruding portions. In addition, a plurality of convex portions protruding outward are randomly formed.
Moreover, the average pitch of the protrusions and the average diameter of the protrusions determined by image analysis of the Fourier transform image were 17 μm and 5 μm, respectively. Moreover, the average height of the protrusions and the average height of the protrusions determined by the methods described in Paragraph [0125] and Paragraph [0127] were 4 μm and 1.5 μm, respectively.
Next, nickel was deposited to a thickness of 500 μm on the surface of the obtained wavy uneven pattern sheet (original plate) by nickel electroforming. Next, the deposited nickel was peeled off from the corrugated uneven pattern sheet (original plate) to obtain a nickel secondary original plate in which the corrugated unevenness of the corrugated uneven pattern sheet was transferred to the surface.

[線状凹凸パターンの原版]
実施例1と同様にして、線状凹凸パターンを形成するための射出成形用金型(原版)を得た。
[Original of linear uneven pattern]
In the same manner as in Example 1, an injection mold (original plate) for forming a linear uneven pattern was obtained.

[表面微細凹凸シート]
前記波状凹凸パターンのニッケル2次原版を、前記線状凹凸パターンの反転パターンが形成された射出成形機の金型に、互いの凹凸パターンが対向するように、また、波状凹凸パターンの主拡散方向(段落[0023]で説明した方法で決定。)と線状凹凸パターンの凸条部の延在方向とが平行になるように組込み、アクリル樹脂の射出成形を行い、表面微細凹凸シート(射出成形品)を得た。
得られた射出成形品は、横55mm×縦25mm×厚さ2mmの直方体であり、一対の55mm×25mmの面のうちの一面にニッケル2次原版の表面凹凸が転写された波状凹凸パターンが形成され、他面に射出成形用金型の表面凹凸が転写された線状凹凸パターンが形成されていた。また、波状凹凸パターンの主拡散方向および線状凹凸パターンの凸条部の延在方向は、横方向と平行であった。
[Surface micro uneven sheet]
The nickel secondary original plate of the wavy uneven pattern is arranged so that the uneven pattern faces the mold of the injection molding machine in which the reverse pattern of the linear uneven pattern is formed, and the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (Determined by the method described in paragraph [0023].) And the extending direction of the ridges of the linear concavo-convex pattern are incorporated in parallel, injection molding of acrylic resin is performed, and the surface fine concavo-convex sheet (injection molding Product).
The obtained injection-molded product is a rectangular parallelepiped having a width of 55 mm × length of 25 mm × thickness of 2 mm, and a wavy uneven pattern in which the surface unevenness of the nickel secondary original is transferred to one surface of a pair of 55 mm × 25 mm surfaces As a result, a linear concavo-convex pattern in which the surface concavo-convex of the injection mold was transferred was formed on the other surface. Further, the main diffusion direction of the wavy uneven pattern and the extending direction of the ridges of the linear uneven pattern were parallel to the lateral direction.

(比較例1)
[波状凹凸パターンのニッケル2次原版]
実施例1と同様の方法により、波状凹凸パターンのニッケル2次原版を得た。
(Comparative Example 1)
[Nickel secondary master with wavy uneven pattern]
In the same manner as in Example 1, a nickel secondary original plate having a wavy uneven pattern was obtained.

[線状凹凸パターンの原版]
射出成形用金型に、レンズピッチ0.5mmおよびレンズ半径0.5mmのレンチキュラーレンズパターンの反転パターンを切削により形成し、線状凹凸パターンを形成するための射出成形用金型(原版)を得た。
[Original of linear uneven pattern]
A reversal pattern of a lenticular lens pattern with a lens pitch of 0.5 mm and a lens radius of 0.5 mm is formed by cutting on an injection mold to obtain an injection mold (original) for forming a linear uneven pattern. It was.

[表面微細凹凸シート]
前記波状凹凸パターンのニッケル2次原版を、前記線状凹凸パターンの反転パターンが形成された射出成形機の金型に、互いの凹凸パターンが対向するように、また、波状凹凸パターンの主拡散方向(段落[0023]で説明した方法で決定。)とレンチキュラーレンズパターンの凸条部の延在方向とが平行になるように組込み、アクリル樹脂の射出成形を行い、表面微細凹凸シート(射出成形品)を得た。
得られた射出成形品は、横55mm×縦25mm×厚さ2mmの直方体であり、一対の55mm×25mmの面のうちの一面に波状凹凸パターンが形成され、他面にレンチキュラーレンズパターンが形成されていた。また、波状凹凸パターンの主拡散方向およびレンチキュラーレンズパターンの凸条部の延在方向は、横方向と平行であった。
[Surface micro uneven sheet]
The nickel secondary original plate of the wavy uneven pattern is arranged so that the uneven pattern faces the mold of the injection molding machine in which the reverse pattern of the linear uneven pattern is formed, and the main diffusion direction of the wavy uneven pattern (Determined by the method described in paragraph [0023]) and the lenticular lens pattern so as to be parallel to the extending direction of the ridges, injection molding of acrylic resin, surface fine uneven sheet (injection molded product) )
The obtained injection-molded product is a rectangular parallelepiped having a width of 55 mm × length of 25 mm × thickness of 2 mm. A wavy uneven pattern is formed on one surface of a pair of 55 mm × 25 mm surfaces, and a lenticular lens pattern is formed on the other surface. It was. Further, the main diffusion direction of the wavy uneven pattern and the extending direction of the ridges of the lenticular lens pattern were parallel to the lateral direction.

(比較例2)
[表面微細凹凸シート]
実施例1の波状凹凸パターンの代わりに実施例2の波状凹凸パターンを使用する以外は、比較例1と同様の方法により、表面微細凹凸シート(射出成形品)を得た。
(Comparative Example 2)
[Surface micro uneven sheet]
A surface fine uneven sheet (injection molded product) was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the wavy uneven pattern of Example 2 was used instead of the wavy uneven pattern of Example 1.

(比較例3)
[表面微細凹凸シート]
実施例1の波状凹凸パターンの代わりに実施例3の波状凹凸パターンを使用する以外は、比較例1と同様の方法により、表面微細凹凸シート(射出成形品)を得た。
(Comparative Example 3)
[Surface micro uneven sheet]
A surface fine uneven sheet (injection-molded product) was obtained by the same method as in Comparative Example 1 except that the wavy uneven pattern of Example 3 was used instead of the wavy uneven pattern of Example 1.

(評価)
上記の各例で得られた波状凹凸パターンシート(原版)の主拡散方向および低拡散方向の拡散角度を表1に示す。
拡散角度は、段落[0023]に記載の方法に従い算出した。
(Evaluation)
Table 1 shows the diffusion angles in the main diffusion direction and the low diffusion direction of the wavy uneven pattern sheet (original plate) obtained in each of the above examples.
The diffusion angle was calculated according to the method described in paragraph [0023].

また、上記の各例で得られた表面微細凹凸シートを、図7に示した形態の、ヘッドアップディスプレイシステム等の表示装置への使用に適した表示装置用照明ユニットに組み込んだ場合の正面輝度、正面輝度ムラ、視野角を測定した。
その測定結果を表1に示す。
In addition, the front luminance when the surface fine uneven sheet obtained in each of the above examples is incorporated in a display device illumination unit suitable for use in a display device such as a head-up display system in the form shown in FIG. Front luminance unevenness and viewing angle were measured.
The measurement results are shown in Table 1.

ここで、表示装置用照明ユニットは、表面微細凹凸シートと、3個の白色発光ダイオード光源が一直線状に並んで形成される光源列と、各白色発光ダイオード光源から出射された光を集光する、各白色発光ダイオード光源毎に設けられた3個の集光レンズとを有する。
ここで、白色発光ダイオードの照射角は120°であり、各白色発光ダイオード同士の中心間距離は10mmであり、集光レンズから表面微細凹凸シートまでの距離は25mmであり、集光レンズを通過後の白色発光ダイオード光源からの出射光の照射角は50°である。
そして、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの主拡散方向と、線状凹凸パターンの凸条部の延在方向と、光源列の白色発光ダイオード光源の配列方向とがいずれも平行である。
また、表面微細凹凸シートの線状凹凸パターン形成面側に、光源列が配置されており、各白色発光ダイオード光源から出射した光は集光レンズで集光された後、線状凹凸パターン形成面から入射し、波状凹凸パターン形成面から出射するようになっている。
正面輝度、正面輝度ムラ、視野角の測定は、輝度計(TOPCON社製「UA−1000」)を用いて実施した。
Here, the display unit illumination unit condenses the light emitted from each white light emitting diode light source, the surface fine uneven sheet, the light source row formed by aligning the three white light emitting diode light sources in a straight line. And three condenser lenses provided for each white light emitting diode light source.
Here, the irradiation angle of the white light emitting diode is 120 °, the distance between the centers of the white light emitting diodes is 10 mm, and the distance from the condensing lens to the surface fine uneven sheet is 25 mm, and passes through the condensing lens. The irradiation angle of the emitted light from the subsequent white light emitting diode light source is 50 °.
The main diffusion direction of the wavy uneven pattern of the surface fine uneven sheet, the extending direction of the ridges of the linear uneven pattern, and the arrangement direction of the white light emitting diode light sources in the light source array are all parallel.
In addition, a light source array is disposed on the surface of the surface fine concavo-convex sheet on the side of the linear concavo-convex pattern, and the light emitted from each white light-emitting diode light source is condensed by a condenser lens, and then the linear concavo-convex pattern formation surface Is emitted from the surface on which the wavy uneven pattern is formed.
The front luminance, front luminance unevenness, and viewing angle were measured using a luminance meter (“UA-1000” manufactured by TOPCON).

正面輝度は、実施例1の表面微細凹凸シートを前記表示装置用照明ユニットに使用した場合の正面輝度(cd/m)を100%としたときの相対値で示した。90%以上の輝度であれば十分な輝度が得られたと判断できる。
正面輝度ムラは、前記表示装置用照明ユニットの、前記光源列の各光源の中心を通り光源列の配列方向と平行な直線上の正面輝度分布を測定し、その(最小値/最大値)×100(%)が50%以上であれば十分な輝度ムラ解消効果が得られたと判断した。
視野角は、前記表示装置用照明ユニットの中心の「正面輝度」、「主拡散方向に斜め15°傾けた時の輝度」、「低拡散方向に斜め7.5°傾けた時の輝度」をそれぞれ測定し、(「主拡散方向に斜め15°傾けた時の輝度」/「正面輝度」)×100(%)および(「低拡散方向に斜め7.5°傾けた時の輝度」/「正面輝度」)×100(%)がいずれも20%以上であれば、十分な視野角が得られたと判断した。
The front luminance was expressed as a relative value when the front luminance (cd / m 2 ) when the surface fine uneven sheet of Example 1 was used for the display device illumination unit was 100%. If the luminance is 90% or more, it can be determined that sufficient luminance is obtained.
The front luminance unevenness is measured by measuring a front luminance distribution on a straight line passing through the center of each light source of the light source array and parallel to the arrangement direction of the light source array of the illumination unit for display device, and (minimum value / maximum value) × When 100 (%) was 50% or more, it was judged that a sufficient luminance unevenness eliminating effect was obtained.
The viewing angle is the “front luminance” at the center of the display unit illumination unit, “brightness when tilted by 15 ° diagonally in the main diffusion direction”, and “luminance when tilted by 7.5 ° diagonally in the low diffusion direction”. Measured respectively ("luminance when tilted obliquely 15 ° in the main diffusion direction" / "frontal luminance") x 100 (%) and ("luminance when tilted obliquely 7.5 ° in the low diffusion direction" / " It was judged that a sufficient viewing angle was obtained when the front luminance “) × 100 (%) was 20% or more.

波状凹凸パターンと組み合わせるパターンとして、リニアフレネルレンズパターンを採用した各実施例によれば、正面輝度、輝度ムラ抑制効果、適切な視野角(主拡散方向および低拡散方向)のいずれをもバランスよく備えていた。
リニアフレネルレンズパターンに代えて、レンチキュラーレンズパターンを備えていた各比較例によれば、低拡散方向の拡散角度が大きく、そのため、正面輝度が低下した。
According to each embodiment adopting a linear Fresnel lens pattern as a pattern combined with a wavy uneven pattern, the front luminance, the luminance unevenness suppressing effect, and the appropriate viewing angle (main diffusion direction and low diffusion direction) are provided in a well-balanced manner. It was.
According to each comparative example provided with a lenticular lens pattern instead of the linear Fresnel lens pattern, the diffusion angle in the low diffusion direction was large, and thus the front luminance was lowered.

10A,10D,10E,10F,10G,10H,10I,10J,10K:表面微細凹凸シート
11:波状凹凸パターン形成面
12A:リニアフレネルレンズパターン
12B:頂角一定型リニア三角プリズムパターン
12C:頂角変動型リニア三角プリズムパターン
12D:頂角変動型変形五面体パターン
12E:フレネルレンズパターン
10A, 10D, 10E, 10F, 10G, 10H, 10I, 10J, 10K: Surface fine unevenness sheet 11: Wavy unevenness pattern forming surface 12A: Linear Fresnel lens pattern 12B: Constant apex angle type linear triangular prism pattern 12C: Vertical angle variation Type linear triangular prism pattern 12D: vertical angle variation type modified pentahedral pattern 12E: Fresnel lens pattern

Claims (7)

一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有し、前記波状凹凸パターンが形成された部分に対応する他方の表面の少なくとも一部に、底面が正方形または長方形からなる五面体が、直交する二方向に沿って繰り返し形成された五面体パターンを有する表面微細凹凸シートであって、
前記波状凹凸パターンの主拡散方向と、前記五面体パターンの前記二方向のうちの一方の方向との成す角度が±20°の範囲内である、表面微細凹凸シート。
At least a part of one surface has an irregular wavy uneven pattern, and at least a part of the other surface corresponding to the portion where the wavy uneven pattern is formed, a pentahedron whose bottom surface is a square or a rectangle, It is a surface fine uneven sheet having a pentahedral pattern formed repeatedly along two orthogonal directions,
The surface fine uneven sheet, wherein an angle formed between a main diffusion direction of the wavy uneven pattern and one of the two directions of the pentahedral pattern is within a range of ± 20 °.
一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有し、前記波状凹凸パターンが形成された部分に対応する他方の表面の少なくとも一部に、同心円状凹凸パターンであるフレネルレンズパターンを有する、表面微細凹凸シート。   At least part of one surface has an irregular wavy uneven pattern, and at least a part of the other surface corresponding to the part where the wavy uneven pattern is formed has a Fresnel lens pattern that is a concentric uneven pattern. , Surface fine uneven sheet. 一方の表面の少なくとも一部に線状凹凸パターンを有し、該線状凹凸パターン上の少なくとも一部に、不規則な波状凹凸パターンが形成された表面微細凹凸シートであって、
前記線状凹凸パターンは、リニアフレネルレンズパターンまたはリニア三角プリズムパターンであり、
前記波状凹凸パターンの主拡散方向と、前記線状凹凸パターンの凸条部の延在方向との成す角度が±20°の範囲内である、表面微細凹凸シート。
A surface fine concavo-convex sheet having a linear concavo-convex pattern on at least a part of one surface, and an irregular wavy concavo-convex pattern formed on at least a part of the linear concavo-convex pattern
The linear uneven pattern is a linear Fresnel lens pattern or a linear triangular prism pattern,
The surface fine concavo-convex sheet, wherein an angle formed between a main diffusion direction of the wavy concavo-convex pattern and an extending direction of the ridges of the linear concavo-convex pattern is within a range of ± 20 °.
一方の表面の少なくとも一部に、底面が正方形または長方形からなる五面体が、直交する二方向に沿って繰り返し形成された五面体パターンを有し、該五面体パターン上の少なくとも一部に、不規則な波状凹凸パターンが形成された表面微細凹凸シートであって、
前記波状凹凸パターンの主拡散方向と、前記五面体パターンの前記二方向のうちの一方の方向との成す角度が±20°の範囲内である、表面微細凹凸シート。
At least a part of one surface has a pentahedron pattern in which a bottom surface is a square or a rectangle and is repeatedly formed along two orthogonal directions. It is a surface fine uneven sheet on which a regular wavy uneven pattern is formed,
The surface fine uneven sheet, wherein an angle formed between a main diffusion direction of the wavy uneven pattern and one of the two directions of the pentahedral pattern is within a range of ± 20 °.
複数の点光源が並んで形成される光源列からの光を屈折および拡散させる用途に使用される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の表面微細凹凸シート。   The surface fine uneven sheet | seat as described in any one of Claims 1-4 used for the use which refracts and diffuses the light from the light source row | line | column formed with a some point light source located in a line. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の表面微細凹凸シートと、複数の点光源が並んで形成される光源列の少なくとも1列とを有し、
前記表面微細凹凸シートの前記波状凹凸パターンの主拡散方向と、前記光源列の前記点光源の配列方向との成す角度が±20°の範囲内である、表示装置用照明ユニット。
The surface fine concavo-convex sheet according to any one of claims 1 to 5 and at least one row of light source rows formed by arranging a plurality of point light sources,
An illumination unit for a display device, wherein an angle formed between a main diffusion direction of the wavy uneven pattern of the surface fine uneven sheet and an arrangement direction of the point light sources of the light source array is within a range of ± 20 °.
前記請求項6に記載の表示装置用照明ユニットを有する、表示装置。   A display device comprising the display device illumination unit according to claim 6.
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